JP5520525B2 - Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method - Google Patents

Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method Download PDF

Info

Publication number
JP5520525B2
JP5520525B2 JP2009146004A JP2009146004A JP5520525B2 JP 5520525 B2 JP5520525 B2 JP 5520525B2 JP 2009146004 A JP2009146004 A JP 2009146004A JP 2009146004 A JP2009146004 A JP 2009146004A JP 5520525 B2 JP5520525 B2 JP 5520525B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
absorption liquid
liquid
gas
absorption
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009146004A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011000543A (en
Inventor
照雄 杉谷
洋一 安田
和仁 市原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chiyoda Corp
Original Assignee
Chiyoda Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chiyoda Corp filed Critical Chiyoda Corp
Priority to JP2009146004A priority Critical patent/JP5520525B2/en
Publication of JP2011000543A publication Critical patent/JP2011000543A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5520525B2 publication Critical patent/JP5520525B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、排煙(燃焼排ガス)中のSOxを除去する脱硫装置および脱硫装置に導入される排ガスを冷却する排ガスの冷却方法に関する。 The present invention relates to a desulfurization apparatus that removes SO x in flue gas (combustion exhaust gas) and an exhaust gas cooling method that cools exhaust gas introduced into the desulfurization apparatus.

例えば、火力発電所等の燃焼排ガスとしての排煙を生じる設備においては、亜硫酸ガス(SO2)等の硫黄酸化物(SOx)を含む排煙による大気汚染を防止するために排煙の脱硫装置が設けられている。
このような、排煙の脱硫装置の一種として、排ガス中に含まれる亜硫酸ガス(SO2)を、石灰石(CaCO3)を溶解または懸濁した水溶液(亜硫酸ガス中和剤スラリー溶液)からなる吸収液と接触させて、吸収液中に反応吸収するものが広く知られている(例えば、特許文献1参照)。
For example, in a facility that generates flue gas as combustion exhaust gas, such as a thermal power plant, desulfurization of flue gas is performed to prevent air pollution caused by flue gas containing sulfur oxides (SO x ) such as sulfurous acid gas (SO 2 ). A device is provided.
As one type of such flue gas desulfurization apparatus, sulfurous acid gas contained in the exhaust gases (SO 2), limestone aqueous solution dissolved or suspended (CaCO 3) (sulfurous acid gas neutralizing agent slurry solution) absorption Those which are brought into contact with a liquid and react and absorb in the absorbing liquid are widely known (for example, see Patent Document 1).

図2は、従来のこの種の脱硫装置の主要部の構成を示す。この脱硫装置の主要部をなす吸収塔1は、上部空間内に、上下方向に間隔をおいて配された上段デッキ3と下段デッキ2を有する。これらデッキ2、3は、吸収塔1の内部空間を気密に画成する隔壁として設けられており、下段デッキ2の下側空間が吸収液貯留部(貯留槽)4、上段デッキ3と下段デッキ2間の空間が排ガス導入部6、上段デッキ3の上側空間が排ガス導出部8となっている。吸収液貯留部4の内部には、石灰石の水性スラリーからなる吸収液Kが所定の液面レベルで貯留されている。また、排ガス導入部6には、吸収塔1内に排ガスを導入する入口ダクト5が接続され、排ガス導出部8には、吸収塔1内の処理済み排ガスを外部に導出する出口ダクト7が接続されている。また、入口ダクト5には、吸収液Kの一部をポンプ13によって冷却ライン11から循環供給し、導入されてくる排ガスに吸収液を冷却水として噴霧して冷却するためのスプレーノズル16を備えたガス冷却部17が設けられている。   FIG. 2 shows the configuration of the main part of this type of conventional desulfurization apparatus. The absorption tower 1 that forms the main part of this desulfurization apparatus has an upper deck 3 and a lower deck 2 that are spaced apart in the vertical direction in the upper space. These decks 2 and 3 are provided as partition walls that hermetically define the internal space of the absorption tower 1, and the lower space of the lower deck 2 is the absorbent storage section (storage tank) 4, the upper deck 3, and the lower deck The space between the two is an exhaust gas introduction part 6, and the upper space of the upper deck 3 is an exhaust gas discharge part 8. Inside the absorption liquid storage section 4, an absorption liquid K made of an aqueous slurry of limestone is stored at a predetermined liquid level. In addition, an inlet duct 5 for introducing exhaust gas into the absorption tower 1 is connected to the exhaust gas introduction section 6, and an outlet duct 7 for extracting processed exhaust gas in the absorption tower 1 to the outside is connected to the exhaust gas outlet section 8. Has been. In addition, the inlet duct 5 is provided with a spray nozzle 16 for circulating and supplying a part of the absorbing liquid K from the cooling line 11 by the pump 13 and spraying the absorbing liquid as cooling water on the introduced exhaust gas for cooling. A gas cooling unit 17 is provided.

前記下段デッキ2には多数の開口が分散的に穿設されており、各開口には、下段デッキ2の下面に垂下されたスパージャパイプ(ガス分散管)9の上端部が接続されている。スパージャパイプ9は、下方に延出し、下端部が吸収液貯留部4内の吸収液K中に挿入されており、吸収液Kの液面下において排ガスを噴出して分散するようになっている。   A number of openings are formed in the lower deck 2 in a distributed manner, and the upper ends of sparger pipes (gas dispersion pipes) 9 that are suspended from the lower surface of the lower deck 2 are connected to the openings. The sparger pipe 9 extends downward, and the lower end portion is inserted into the absorbing liquid K in the absorbing liquid storage section 4 so that the exhaust gas is jetted and dispersed under the surface of the absorbing liquid K. .

また、下段デッキ2と上段デッキ3間には、吸収液貯留部4の吸収液の液面より上の上部空間4aを排ガス導出部8側に連通させるガスライザ10が、排ガス導入部6を貫通する形で設けられている。さらに、吸収液貯留部4の底部側には、酸化用空気を噴出させる空気の供給管と、吸収液Kを攪拌するための攪拌機が設けられ、前記供給管の基端側は、空気を圧送するためのブロアに接続されている。
また、吸収塔1には、補給用の吸収液(吸収剤としての石灰石)を吸収塔1内に供給するための供給ラインが接続されている。
また、後述のようにガスライザ10の表面に付着する石膏や、ガスライザ10からスパージャパイプ9に落下した石膏の塊りを洗い流すために、スパージャパイプ9の上にスプレーノズル18が配置されるとともに、ガスライザ10の周囲にスプレーノズル19が配置されている。そして、これらスプレーノズル18,19には、配管を介して後述のように吸収液から石膏を分離した際のろ液が供給されて、間欠的に噴霧される。
Further, between the lower deck 2 and the upper deck 3, a gas riser 10 that communicates the upper space 4 a above the liquid level of the absorbent in the absorbent reservoir 4 with the exhaust gas outlet 8 passes through the exhaust gas inlet 6. It is provided in the form. Further, an air supply pipe for ejecting oxidizing air and a stirrer for stirring the absorption liquid K are provided on the bottom side of the absorption liquid storage section 4, and the base end side of the supply pipe is pumped with air. It is connected to the blower.
The absorption tower 1 is connected to a supply line for supplying a replenishing absorption liquid (limestone as an absorbent) into the absorption tower 1.
In addition, a spray nozzle 18 is disposed on the sparger pipe 9 in order to wash out gypsum adhering to the surface of the gas riser 10 and a lump of gypsum dropped from the gas riser 10 to the sparger pipe 9 as will be described later. A spray nozzle 19 is arranged around 10. And the filtrate at the time of isolate | separating gypsum from an absorbing solution is supplied to these spray nozzles 18 and 19 through piping, and it sprays intermittently.

以上の構成の吸収塔1においては、供給管を介して吸収液K中に酸素(空気)を供給しつつ、入口ダクト5から排ガスを排ガス導入部6に圧送すると、当該排ガスが、各スパージャパイプ9の下端部の噴出孔から噴出し、吸収液Kと激しく混合して、液相連続のジェットバブリング層を形成する。この際、攪拌機を回転させて吸収液Kを攪拌すると共に、供給管から供給された酸化用空気を当該供給管の先端部のノズルから吸収液K中に連続的に供給する。これにより、前記ジェットバブリング層において高効率な気液接触が行われ、SO2+CaCO3+1/2O2+H2O→CaSO4・2H2O↓+CO2↑で示されるように、排ガス中に含まれる亜硫酸ガス(SO2)が酸化されると共に、吸収液K中の石灰石によって中和される反応が行われて、前記亜硫酸ガスが吸収・除去される。このようにして、脱硫された排ガスは、ガスライザ10から排ガス導出部8及び出口ダクト7を経て煙突から外部に排気される。 In the absorption tower 1 having the above-described configuration, when exhaust gas is pumped from the inlet duct 5 to the exhaust gas introduction unit 6 while supplying oxygen (air) into the absorption liquid K through the supply pipe, the exhaust gas is converted into each sparger pipe. 9 is ejected from the ejection hole at the lower end of 9 and mixed vigorously with the absorbing liquid K to form a liquid phase continuous jet bubbling layer. At this time, the agitator is rotated to stir the absorbing liquid K, and the oxidizing air supplied from the supply pipe is continuously supplied into the absorbing liquid K from the nozzle at the tip of the supply pipe. As a result, highly efficient gas-liquid contact is performed in the jet bubbling layer, and it is contained in the exhaust gas as shown by SO 2 + CaCO 3 + 1 / 2O 2 + H 2 O → CaSO 4 .2H 2 O ↓ + CO 2 ↑ As the sulfurous acid gas (SO 2 ) is oxidized, a reaction that is neutralized by the limestone in the absorbent K is performed, and the sulfurous acid gas is absorbed and removed. Thus, the desulfurized exhaust gas is exhausted from the chimney to the outside through the gas riser 10, the exhaust gas outlet 8 and the outlet duct 7.

他方、亜硫酸ガス(SO2)を酸化・中和することによって吸収液中に生成した石膏(CaSO4・2H2O)は、結晶成長して粗大粒子化することにより吸収液石膏スラリーとなり、たとえば、吸収液中の石膏濃度が所定の濃度に達した際に、スラリーポンプによって吸収塔1から抜き出されて、母液(ろ液)と石膏とに分離される。そして、分離されたろ液は、補給用の吸収液として一旦スラリー槽内に貯留され、吸収液貯留部4内の液面レベル計の出力に応じて、補給用の吸収液が供給ラインを通して吸収塔1内に供給される。
また、蒸発等により減少する吸収液貯留部4の水分を補給するために工業用水等の水が補給水として吸収塔1内に供給されるが、上記ガス冷却部17において、補給水もスプレーノズル14から噴霧され、導入される排ガスを冷却してから吸収塔1に流入し、最終的に吸収液貯留部4に至るようになっている。
On the other hand, gypsum (CaSO 4 .2H 2 O) produced in the absorption liquid by oxidizing and neutralizing sulfurous acid gas (SO 2 ) becomes an absorption liquid gypsum slurry by crystal growth and coarse particles, When the gypsum concentration in the absorption liquid reaches a predetermined concentration, it is extracted from the absorption tower 1 by a slurry pump and separated into mother liquor (filtrate) and gypsum. The separated filtrate is once stored in the slurry tank as a replenishing absorption liquid, and the replenishing absorption liquid passes through the supply line in accordance with the output of the liquid level meter in the absorption liquid storage section 4. 1 is supplied.
In addition, industrial water or the like is supplied as make-up water into the absorption tower 1 in order to replenish the water in the absorption liquid storage section 4 that decreases due to evaporation or the like. The exhaust gas sprayed and introduced from 14 is cooled and then flows into the absorption tower 1, and finally reaches the absorption liquid storage section 4.

このような吸収塔1を用いた排煙脱硫装置によれば、吸収液中に酸化用空気を供給しつつ攪拌機によって攪拌し、さらに排ガスを各スパージャパイプ9の下端から噴出させて、吸収液と液相連続のジェットバブリング層を形成させているので、排ガス中の亜硫酸ガス(SO2)の吸収・酸化・中和・石膏晶析の全工程を1つの槽で遂行することができ、極めて高率に亜硫酸ガスを除去することができるという利点がある。 According to the flue gas desulfurization apparatus using the absorption tower 1 as described above, stirring is performed by a stirrer while supplying oxidizing air into the absorbing liquid, and exhaust gas is ejected from the lower end of each sparger pipe 9 to Since the liquid-phase continuous jet bubbling layer is formed, all the steps of absorption, oxidation, neutralization and gypsum crystallization of sulfurous acid gas (SO 2 ) in the exhaust gas can be performed in one tank, which is extremely high There is an advantage that sulfurous acid gas can be removed at a high rate.

特開平8−206435号公報JP-A-8-206435

ところで、上述の脱硫装置においては、上述のように入口ダクトのガス冷却部に石膏を含むスラリー状の吸収液を循環供給するとともに、この吸収液(循環液)をスプレーノズルにより噴霧することで、吸収塔に導入される排ガスの増湿および冷却を行っている。
なお、吸収塔内の部材には、排ガスや吸収液が金属に対して腐食性を示すことから、例えば、合成樹脂を用いたFRP(繊維強化プラスチック)あるいは炭素鋼に合成樹脂をライニング(ガラスフレークライニング)したものが多く用いられており、高温の排ガスがそのまま導入されると、FRP製あるいはガラスフレークライニング製の部材が熱による影響を受けてしまうので、排ガスの冷却が必要となる。
また、高温の排ガスが導入されることによる水分の蒸発により吸収塔内に吸収液内の石膏に基づく石膏スケールが発生するが、吸収液の噴霧により冷却とともに排ガスが増湿され、石膏スケールの発生が防止される。
By the way, in the above-mentioned desulfurization apparatus, while supplying the slurry-like absorption liquid containing gypsum to the gas cooling part of the inlet duct as described above, and spraying this absorption liquid (circulation liquid) with a spray nozzle, Humidification and cooling of the exhaust gas introduced into the absorption tower is performed.
In addition, since the exhaust gas and the absorbing liquid are corrosive to the metal in the members in the absorption tower, for example, FRP (fiber reinforced plastic) using synthetic resin or synthetic resin is lined with carbon steel (glass flakes). Many linings are used, and if high-temperature exhaust gas is introduced as it is, the FRP or glass flared lining members are affected by heat, so it is necessary to cool the exhaust gas.
In addition, the evaporation of moisture due to the introduction of high-temperature exhaust gas generates a gypsum scale based on the gypsum in the absorption liquid in the absorption tower. Is prevented.

しかし、冷却に用いられる吸収液には、多くの粒子状の石膏が含まれていることから、排ガス導入時に排ガス導入部のガスライザの表面に、噴霧された吸収液に含まれる石膏が付着してしまうという問題があった。   However, since the absorption liquid used for cooling contains a lot of particulate gypsum, the gypsum contained in the sprayed absorption liquid adheres to the surface of the gas riser of the exhaust gas introduction part when introducing the exhaust gas. There was a problem that.

また、例えば、火力発電所等で長期に渡って連続運転が行われた場合に、吸収塔内のメンテナンスを行うことが困難であり、脱硫装置を長期に連続的に使用を続けることにより、ガスライザ表面に付着した石膏がだんだん厚くなり、例えば、自重で塊りとなった石膏がガスライザ表面から剥がれ落ちることがあった。この場合にガスライザの下側の下デッキには、スパージャパイプの上端開口が縦横に配列されるとともに、各スパージャパイプが比較的近接して多数配置された状態となっていることから、落下した石膏の塊により、1つもしくは複数のスパージャパイプの開口が塞がれてしまう可能性があった。また、石膏の塊がスパージャパイプ内に落下した後に完全に落下しきれずにスパージャパイプ内で止まってしまいスパージャパイプが部分的に詰った状態となる場合があった。   In addition, for example, when continuous operation is performed for a long time at a thermal power plant or the like, it is difficult to perform maintenance in the absorption tower, and by continuously using the desulfurization apparatus for a long time, the gas riser The gypsum adhering to the surface gradually became thicker. For example, gypsum that had become agglomerated under its own weight sometimes peeled off from the gas riser surface. In this case, the upper deck openings of the sparger pipes are arranged vertically and horizontally on the lower deck on the lower side of the gas riser, and a large number of the sparger pipes are arranged relatively close to each other. There is a possibility that the opening of one or a plurality of sparger pipes may be blocked by the lump. Further, after the gypsum lump has fallen into the sparger pipe, it could not be completely dropped and stopped in the sparger pipe, resulting in a partially clogged sparger pipe.

このように排ガス導入部側の開口が石膏で塞がれてしまったり、内部に石膏が詰まったりしたスパージャパイプが長期の連続使用で増加すると、排ガスを吸収液に導入可能なスパージャパイプが減少することになる。これにより、導入される排ガスの圧力損失が大きくなり、排ガスを導入するファンのランニングコストの増加を招くことになる。
そこで、例えば、上述のように、スパージャパイプの上やガスライザの周囲に、スプレーノズルを配置し、上述の石膏を分離した際のろ液を噴霧することが行われる場合があった。
In this way, if the number of sparger pipes where the opening on the side of the exhaust gas inlet is clogged with gypsum or gypsum clogged inside increases with long-term continuous use, the number of sparger pipes that can introduce exhaust gas into the absorbent decreases It will be. As a result, the pressure loss of the introduced exhaust gas increases, and the running cost of the fan that introduces the exhaust gas increases.
Therefore, for example, as described above, there are cases where a spray nozzle is disposed on the sparger pipe or around the gas riser and the filtrate obtained when the above-mentioned gypsum is separated is sprayed.

しかし、ろ液の量には、限りがあるため、ろ液を連続的に噴霧できず、間欠的に噴霧していたことから、ガスライザの周囲に付着する石膏を十分に除去することができず、やはり、厚くなった石膏がスパージャパイプの上端開口に落下する虞があった。
また、ろ液をスパージャパイプ上に噴霧してもそれが間欠的で液量が少ないことから、スパージャパイプの上や内部に落下した石膏を完全に洗い流すことができず、スパージャパイプの詰まりを解消するのには不十分なものであった。
なお、吸収液貯留部における吸収液の液面は、略一定となるように管理されており、例えば、蒸発量等により失われる水分量より多くの工業用水をスプレーノズルから噴霧するようなことはできない。
However, because the amount of filtrate is limited, the filtrate could not be sprayed continuously, and because it was sprayed intermittently, the gypsum adhering around the gas riser could not be removed sufficiently. After all, there was a possibility that the thickened plaster might fall into the upper end opening of the sparger pipe.
Moreover, even if the filtrate is sprayed onto the sparger pipe, it is intermittent and the amount of liquid is low, so the plaster that falls on or inside the sparger pipe cannot be completely washed away, eliminating the clogging of the sparger pipe. It was not enough to do.
In addition, the liquid level of the absorbing liquid in the absorbing liquid storage part is managed to be substantially constant, for example, spraying more industrial water from the spray nozzle than the amount of water lost due to the evaporation amount, etc. Can not.

すなわち、吸収液貯留部において、吸収液の液面が高くなると、スパージャパイプの下端部の液面下となる部分が長くなり、排ガスを吸収液内に噴出させるのに大きな圧力が必要となってしまう。また、吸収液の液面が低くなると、スパージャパイプの下端部の液面下となる部分が短くなり、排ガスと吸収液との気液接触が不十分となって脱硫率の低下を招く虞があった。したがって、吸収液貯留部の吸収液の液面を一定に保持する必要がある。   That is, when the liquid level of the absorbing liquid becomes high in the absorbing liquid storage part, the part below the liquid level at the lower end of the sparger pipe becomes long, and a large pressure is required to eject the exhaust gas into the absorbing liquid. End up. In addition, when the liquid level of the absorbing liquid is lowered, the portion below the liquid level at the lower end of the sparger pipe is shortened, and the gas-liquid contact between the exhaust gas and the absorbing liquid may be insufficient, leading to a decrease in the desulfurization rate. there were. Therefore, it is necessary to keep the liquid level of the absorbent in the absorbent reservoir.

本発明は、前記事情に鑑みて為されたもので、吸収液を循環使用して排ガスを冷却するものとしても、ガス分散管が詰まることがない脱硫装置および排ガスの冷却方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a desulfurization apparatus and an exhaust gas cooling method in which a gas dispersion pipe is not clogged even when an exhaust liquid is circulated and cooled to exhaust gas. Objective.

前記目的を達成するために、請求項1に記載の脱硫装置は、排ガスから硫黄酸化物を吸収する脱硫用吸収液が貯留された吸収液貯留部と、当該吸収液貯留部の上に当該吸収液貯留部と分離して設けられ、排ガスが導入される排ガス導入部と、当該排ガス導入部の底部から前記吸収液貯留部の吸収液内に延出し、導入された排ガスを前記吸収液貯留部の吸収液内に噴出して分散させる複数のガス分散管と、前記吸収液貯留部に連通するとともに前記排ガス導入部と分離して設けられ、前記吸収液から放出された脱硫処理済みの排ガスを導出する排ガス導出部と、前記吸収液貯留部の前記吸収液の液面より上の上部空間と前記排ガス導出部とを前記排ガス導入部を貫通して連通させるガスライザとを備えた脱硫装置であって、
前記排ガス導入部内の前記ガス分散管より上側に設けられ、排ガスを冷却するために前記吸収液を前記ガス分散管側に連続的に噴霧する吸収液用スプレーノズルと、当該吸収液用スプレーノズルに前記吸収液貯留部の吸収液を供給する吸収液供給手段とを備え、
前記ガス分散管が、前記排ガス導入部の底部に分散して配置され、
各吸収液用スプレーノズルの吸収液の噴霧範囲を合わせた範囲内に前記ガス分散管の略全てが入るように、各吸収液用スプレーノズルが前記ガス分散管の配置に対応して配置され、
前記ガス導入部を貫通する前記ガスライザの表面に付着した石膏が前記ガス分散管上に落下した場合に、前記ガス分散管を詰まらせることなく前記石膏を流すために、前記吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズルに供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm 3 とし、
かつ,各吸収液用スプレーノズルにおける噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm 2 とすることを特徴とする。
In order to achieve the object, the desulfurization apparatus according to claim 1 includes an absorption liquid storage part in which an absorption liquid for desulfurization that absorbs sulfur oxide from exhaust gas is stored, and the absorption on the absorption liquid storage part. An exhaust gas introduction part that is provided separately from the liquid storage part and into which the exhaust gas is introduced, and extends from the bottom of the exhaust gas introduction part into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, and the introduced exhaust gas is supplied to the absorption liquid storage part A plurality of gas dispersion pipes to be jetted and dispersed in the absorption liquid, and the exhaust liquid storage section, and separated from the exhaust gas introduction section and provided with desulfurized exhaust gas discharged from the absorption liquid. A desulfurization apparatus comprising: an exhaust gas deriving unit for deriving; and a gas riser that allows the upper space above the liquid level of the absorbing liquid in the absorption liquid storage unit and the exhaust gas deriving unit to communicate with each other through the exhaust gas introducing unit. And
An absorption liquid spray nozzle that is provided above the gas dispersion pipe in the exhaust gas introduction section and continuously sprays the absorption liquid on the gas dispersion pipe side in order to cool the exhaust gas; and the absorption liquid spray nozzle An absorbent supply means for supplying the absorbent in the absorbent reservoir,
The gas dispersion pipes are distributed and arranged at the bottom of the exhaust gas introduction part;
Each absorption liquid spray nozzle is arranged in correspondence with the arrangement of the gas dispersion pipe so that substantially all of the gas dispersion pipe falls within the range in which the absorption range of the absorption liquid of each absorption liquid spray nozzle is combined,
When the gypsum adhering to the surface of the gas riser penetrating the gas introduction part falls on the gas dispersion pipe, each of the absorption liquid supply means is allowed to flow the gypsum without clogging the gas dispersion pipe. The liquid amount of the absorbing liquid supplied and sprayed to the absorbing liquid spray nozzle is 0.5 to 3.0 l / Nm 3 in terms of the liquid gas ratio to the amount of exhaust gas introduced ,
And, characterized by a spray pressure in the spray nozzles for each absorbing solution and 0.5~2.0kgf / cm 2.

請求項2に記載の脱硫装置は、請求項1に記載の発明において、前記排ガス導入部に外部から排ガスを導入するダクト内に前記吸収液貯留部に補給するための補給水を噴霧して導入される排ガスを冷却する補給水噴霧冷却機構が設けられていることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, the desulfurization apparatus according to the first aspect of the invention is introduced by spraying makeup water for replenishing the absorption liquid storage section into a duct for introducing the exhaust gas from the outside into the exhaust gas introduction section. A replenishment water spray cooling mechanism for cooling the exhaust gas is provided.

請求項3に記載の排ガスの冷却方法は、排ガスから硫黄酸化物を吸収する脱硫用吸収液が貯留された吸収液貯留部と、当該吸収液貯留部の上に当該吸収液貯留部と分離して設けられ、排ガスが導入される排ガス導入部と、当該排ガス導入部の底部から前記吸収液貯留部の吸収液内に延出し、導入された排ガスを前記吸収液貯留部の吸収液内に噴出して分散させる複数のガス分散管と、前記吸収液貯留部に連通するとともに前記排ガス導入部と分離して設けられ、前記吸収液から放出された脱硫処理済みの排ガスを導出する排ガス導出部と、前記吸収液貯留部の前記吸収液の液面より上の上部空間と前記排ガス導出部とを前記排ガス導入部を貫通して連通させるガスライザとを備えた脱硫装置で行われる排ガスの冷却方法であって、
前記脱硫装置は、前記排ガス導入部内の前記ガス分散管より上側に設けられ、排ガスを冷却するために前記吸収液を噴霧する吸収液用スプレーノズルと、当該吸収液用スプレーノズルに前記吸収液貯留部の吸収液を供給する吸収液供給手段とを有し、かつ、前記脱硫装置では、前記ガス分散管が、前記排ガス導入部の底部に分散して配置され、各吸収液用スプレーノズルの吸収液の噴霧範囲を合わせた範囲内に前記ガス分散管の略全てが入るように、各吸収液用スプレーノズルが前記ガス分散管の配置に対応して配置され、
前記吸収液を前記吸収液用スプレーノズルから前記ガス分散管側に連続的に噴霧し、
この噴霧に際し、前記ガス導入部を貫通する前記ガスライザの表面に付着した石膏が前記ガス分散管上に落下した場合に、前記ガス分散管を詰まらせることなく前記石膏を流すために、前記吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズルに供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm 3 とし、
かつ,各吸収液用スプレーノズルにおける噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm 2 とすることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for cooling an exhaust gas, wherein an absorption liquid storage part storing an absorption liquid for desulfurization that absorbs sulfur oxide from the exhaust gas is separated from the absorption liquid storage part on the absorption liquid storage part. An exhaust gas introduction part into which the exhaust gas is introduced and the bottom part of the exhaust gas introduction part extending into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, and the introduced exhaust gas is jetted into the absorption liquid of the absorption liquid storage part A plurality of gas dispersion pipes to be dispersed, and an exhaust gas derivation unit that communicates with the absorption liquid storage unit and that is provided separately from the exhaust gas introduction unit, and that derives desulfurized exhaust gas discharged from the absorption liquid; An exhaust gas cooling method performed in a desulfurization apparatus including a gas riser that connects an upper space above the liquid level of the absorption liquid in the absorption liquid storage section and the exhaust gas outlet section through the exhaust gas introduction section. There,
The desulfurization device is provided above the gas dispersion pipe in the exhaust gas introduction unit, and sprays the absorption liquid to cool the exhaust gas, and stores the absorption liquid in the absorption liquid spray nozzle. And an absorption liquid supply means for supplying the absorption liquid of the portion , and in the desulfurization apparatus, the gas dispersion pipe is arranged dispersedly at the bottom of the exhaust gas introduction section, and the absorption nozzles absorb the absorption liquid. Each absorbing liquid spray nozzle is arranged corresponding to the arrangement of the gas dispersion pipe so that substantially all of the gas dispersion pipe falls within the range in which the spray range of the liquid is combined,
The absorption liquid is continuously sprayed from the absorption liquid spray nozzle to the gas dispersion pipe side,
In this spraying, when the gypsum adhering to the surface of the gas riser penetrating the gas introduction part falls on the gas dispersion pipe, the absorbent liquid is used to flow the gypsum without clogging the gas dispersion pipe. The liquid amount of the absorbing liquid supplied from the supply means to each absorbing liquid spray nozzle and sprayed is 0.5 to 3.0 l / Nm 3 in terms of the liquid gas ratio to the amount of exhaust gas introduced ,
And, characterized by a spray pressure in the spray nozzles for each absorbing solution and 0.5~2.0kgf / cm 2.

請求項4に記載の排ガスの冷却方法は、請求項3に記載の発明において、前記脱硫装置の前記排ガス導入部に外部から排ガスを導入するダクト内に補給水噴霧冷却機構を設け、
当該補給水噴霧冷却機構が前記吸収液貯留部に補給するための補給水を噴霧して導入される排ガスを冷却することを特徴とする。
The exhaust gas cooling method according to claim 4 is the invention according to claim 3 , wherein a supply water spray cooling mechanism is provided in a duct for introducing exhaust gas from the outside to the exhaust gas introduction part of the desulfurization device,
The replenishing water spray cooling mechanism cools the exhaust gas introduced by spraying replenishing water for replenishing the absorption liquid storage section.

請求項1および請求項3に記載の発明においては、排ガスを冷却するためのスプレーノズルが排ガス導入部に外部から排ガスを導入する入口ダクト部分ではなく、ガス導入部内のガス分散管の上側に配置されている。このスプレーノズルからは循環使用される吸収液が噴霧されるようになっている。
したがって、循環使用される吸収液を噴霧する液量が多くなっても、吸収液貯留部における吸収液の液面高さへの影響がほとんどないことから、ガス分散管に十分な液量で連続的に吸収液を噴霧することが可能となる。
In the first and third aspects of the invention, the spray nozzle for cooling the exhaust gas is disposed not above the inlet duct portion for introducing the exhaust gas into the exhaust gas introduction portion but above the gas dispersion pipe in the gas introduction portion. Has been. The spray nozzle is sprayed with an absorption liquid to be circulated.
Therefore, even if the amount of liquid sprayed for circulation is increased, there is almost no effect on the liquid level of the liquid absorption in the absorption liquid storage part. Therefore, it is possible to spray the absorbing liquid.

これにより、排ガスが確実に増湿および冷却される。
また、ガス分散管部分に吸収液を噴霧しているので、入口ダクト部分で吸収液を噴霧した場合よりも、吸収液貯留部と排ガス導出部との連通部分(例えば、ガスライザ外表面)での石膏の付着を減少させることができる。
As a result, the exhaust gas is reliably humidified and cooled.
Further, since the absorbing liquid is sprayed on the gas dispersion pipe portion, the communicating portion (for example, the outer surface of the gas riser) between the absorbing liquid storage portion and the exhaust gas outlet portion is larger than the case where the absorbing liquid is sprayed on the inlet duct portion. Gypsum adhesion can be reduced.

また、長期の連続使用により、ガスライザに石膏が付着するとともに、石膏が厚くなって塊の状態でガス分散管部分に落下して、ガス分散管の上端開口を塞いだり、ガス分散管内部に詰まった状態となったりしても、常時、十分な液量で吸収液がガス分散管に向けて連続的に噴霧されているので、塊りとなった石膏であっても洗い流すことが可能となり、ガス分散管が詰まって圧力損失が生じるのを防止することができる。   In addition, due to continuous use for a long time, gypsum adheres to the gas riser, and the gypsum thickens and falls into the gas dispersion pipe part in a lump state to block the top opening of the gas dispersion pipe or clog the inside of the gas dispersion pipe Even if it is in a wet state, the absorption liquid is always sprayed continuously toward the gas dispersion tube with a sufficient amount of liquid, so it is possible to wash even plastered gypsum, It is possible to prevent the gas dispersion pipe from being clogged and causing pressure loss.

また、略全てのガス分散管に吸収液が噴霧されるが、噴霧する吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm3とすることで、十分な液量で排ガスの増湿冷却を行うことが可能となるとともにガス分散管の石膏による詰まりを洗い流すことが可能となり、かつ、吸収液の循環に係る動力のコストが高くなるのを防止することができる。
また、この際に、吸収液用スプレーノズルにおける噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm2(ゲージ圧である)とすることにより、確実に吸収液を微小な液滴として所定範囲に噴霧して、排ガスの増湿冷却やガス分散管における石膏の除去を行うことができるとともに、吸収液の循環に必要な動力のコストが高くなるのを防止することができる。
Moreover , the absorption liquid is sprayed on almost all gas dispersion pipes, but it is sufficient that the liquid volume of the sprayed absorption liquid is 0.5 to 3.0 l / Nm3 in terms of the liquid gas ratio to the amount of exhaust gas introduced. It is possible to increase the cooling of exhaust gas with a small amount of liquid, to wash off clogging of gas dispersion pipes with gypsum, and to prevent the cost of power related to the circulation of absorption liquid from increasing. Can do.
At this time, by setting the spray pressure at the spray nozzle for absorbing liquid to 0.5 to 2.0 kgf / cm 2 (which is a gauge pressure), the absorbing liquid is surely sprayed as a fine droplet within a predetermined range. Thus, the exhaust gas can be cooled and humidified and gypsum can be removed from the gas dispersion pipe, and the cost of power required for circulating the absorbing liquid can be prevented from increasing.

請求項2および請求項4に記載の発明においては、排ガス導入部に外部から排ガスを導入するダクト内に前記吸収液貯留部に補給するための補給水を噴霧して導入される排ガスを冷却するので、上述の吸収液用スプレーノズルで噴霧された液体に接触する前の排ガスの温度を低下させることができ、ダクトから排ガスが導入される部分の温度が高くなりすぎるのを防止することができる。
すなわち、吸収液用スプレーノズルから噴霧される吸収液により、排ガス導入部のガス分散管より少し上の位置では、排ガスが十分に冷却されるが、それより上の部分では、冷却が不十分となる虞があり、ダクト部分で冷却を行うことで、排ガス導入部の上部の温度を確実に許容範囲内に収めることができる。なお、冷却に補給水を用いることで噴霧可能な液量が少なくなるが、従来のように排ガス導入部内で石膏がとなるのを抑制することができる。
In the invention according to claim 2 and claim 4 , the exhaust gas introduced by spraying the replenishment water for replenishing the absorption liquid storage portion into the duct for introducing the exhaust gas from the outside to the exhaust gas introduction portion is cooled. Therefore, the temperature of the exhaust gas before coming into contact with the liquid sprayed by the above-described absorbing liquid spray nozzle can be reduced, and the temperature of the portion where the exhaust gas is introduced from the duct can be prevented from becoming too high. .
In other words, the absorption liquid sprayed from the absorption liquid spray nozzle sufficiently cools the exhaust gas at a position slightly above the gas dispersion pipe of the exhaust gas introduction section, but in the portion above it, the cooling is insufficient. There is a possibility that the temperature of the upper part of the exhaust gas introduction part can be surely kept within an allowable range by cooling the duct part. In addition, although the liquid quantity which can be sprayed decreases by using replenishment water for cooling, it can suppress that gypsum becomes a lump in an exhaust gas introduction part like the past.

本発明によれば、石膏の粒子を多く含む吸収液を使用し、当該吸収液内にガス分散管により排ガスを噴出させる脱硫装置において、吸収液を使用して排ガスの冷却を行っても、固まった石膏によりガス分散管が詰まるのを防止することができる。   According to the present invention, in a desulfurization apparatus that uses an absorption liquid containing a large amount of gypsum particles and ejects exhaust gas into the absorption liquid through a gas dispersion pipe, the absorption liquid is used to cool the exhaust gas. It is possible to prevent the gas dispersion pipe from being clogged with gypsum.

本発明の実施の形態に係る脱硫装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the desulfurization apparatus which concerns on embodiment of this invention. 従来の脱硫装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the conventional desulfurization apparatus.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。
図1は本発明の実施の形態の脱硫装置を示す概略図である。
この例の脱硫装置の特徴は、排ガスの冷却機構および冷却方法にあり、その他の構成および作用は前述した従来の構成および作用と同様であるため、以下においては、この実施の形態の特徴部分について主に言及し、それ以外の部分については、図2と同一の符号を付して簡潔に説明するに留める。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view showing a desulfurization apparatus according to an embodiment of the present invention.
The desulfurization apparatus of this example is characterized by the exhaust gas cooling mechanism and cooling method, and the other configurations and functions are the same as those of the conventional configuration and functions described above. Therefore, in the following, the features of this embodiment will be described. Mainly mentioned, the other parts will be simply described with the same reference numerals as in FIG.

図1に示すように、脱硫装置の吸収塔内は、従来の脱硫装置と同様に、上下二段にデッキ2,3が設けられることにより、上下3層に分けられ、下段デッキ2の下側が吸収液貯留部4とされている。また、下段デッキ2と上段デッキ3との間が排ガス導入部6とされ、上段デッキ3の上側が排ガス導出部8とされている。
また、排ガス導入部6には、入口ダクト5が接続され、排ガス導出部8には、出口ダクト7が接続されている。
As shown in FIG. 1, the inside of the absorption tower of the desulfurization apparatus is divided into upper and lower three layers by providing decks 2 and 3 in two upper and lower stages, as in the conventional desulfurization apparatus. The absorption liquid storage unit 4 is provided. Further, an exhaust gas introduction unit 6 is provided between the lower deck 2 and the upper deck 3, and an upper side of the upper deck 3 is an exhaust gas deriving unit 8.
In addition, an inlet duct 5 is connected to the exhaust gas introduction part 6, and an outlet duct 7 is connected to the exhaust gas outlet part 8.

下段デッキ2には、上端部が下段デッキ2上の排ガス導入部6に突出した状態で、下端部が下段デッキ2の下側の吸収液貯留部4の吸収液Kの液面レベルの下側まで延出したスパージャパイプ9が設けられている。
また、下段デッキ2の下面側から上段デッキ3の上面側までガスライザ10が設けられ、ガスライザ10により吸収液貯留部4の吸収液Kの液面より上側の上部空間4aと排ガス導出部8とが連通されている。
なお、図示していないが、従来と同様に、吸収液に酸素を供給する機構と、吸収剤を供給する機構と、吸収液を抜き出して石膏等の固形分を吸収液から分離するための固液分離機構等を備えている。
The lower deck 2 has an upper end projecting from the exhaust gas introduction section 6 on the lower deck 2, and a lower end is below the liquid level of the absorbent K in the absorbent storage section 4 below the lower deck 2. A sparger pipe 9 extending up to is provided.
In addition, a gas riser 10 is provided from the lower surface side of the lower deck 2 to the upper surface side of the upper deck 3. It is communicated.
Although not shown in the figure, as in the prior art, a mechanism for supplying oxygen to the absorbent, a mechanism for supplying the absorbent, and a solid for extracting the absorbent and separating solids such as gypsum from the absorbent. A liquid separation mechanism is provided.

この例の脱硫装置においては、排ガス導入部6の入口ダクト5に、補給水を噴霧して入口ダクト5を介して外部から導入される排ガスを冷却する補給水噴霧冷却機構21が設けられている。当該補給水噴霧冷却機構21には、例えば、工業用水や上述の固液分離で分離されたろ液が補給水として供給され、補給水用スプレーノズル22から噴霧される。補給水噴霧冷却機構21から噴霧可能な液量は、吸収液貯留部4における吸収液の液面レベルをほぼ一定に維持するために制限されるが、排ガスの温度を樹脂としては耐熱性を有する吸収塔内部のFRP製またはフレークライニング製の部材に影響を与える温度より低くすることが可能となっている。   In the desulfurization apparatus of this example, a replenishment water spray cooling mechanism 21 that sprays replenishment water and cools the exhaust gas introduced from the outside through the entrance duct 5 is provided on the inlet duct 5 of the exhaust gas introduction unit 6. . The makeup water spray cooling mechanism 21 is supplied with, for example, industrial water or the filtrate separated by the above-described solid-liquid separation as makeup water, and is sprayed from the makeup water spray nozzle 22. The amount of liquid that can be sprayed from the makeup water spray cooling mechanism 21 is limited in order to maintain the liquid level of the absorbing liquid in the absorbing liquid storage unit 4 substantially constant, but the exhaust gas temperature has heat resistance as a resin. It is possible to make the temperature lower than the temperature that affects the member made of FRP or the flame lining inside the absorption tower.

また、この例においては、入口ダクト5に従来の吸収液を噴霧することにより排ガスを冷却するガス冷却部が設けられておらず、入口ダクト5で冷却に吸収液が用いられることがなく、入口ダクト5では、排ガスの冷却には補給水だけが用いられる。
なお、排ガスの処理装置において、導入される排ガスと導出される排ガスとの間で熱交換して、導入される排ガスの温度を低下させ、導出される処理済みの排ガスの温度を上昇させる熱交換器が用いられる場合があり、当該熱交換器を設けることにより、導入される排ガスの温度を吸収塔内のFRP製またはフレークライニング製の部材に影響を与えないレベルの温度に低下できる場合には、補給水噴霧冷却機構21を設けない構成としてもよい。
Further, in this example, there is no gas cooling part for cooling the exhaust gas by spraying the conventional absorption liquid on the inlet duct 5, and no absorption liquid is used for cooling in the inlet duct 5. In the duct 5, only makeup water is used for cooling the exhaust gas.
In the exhaust gas treatment apparatus, heat exchange is performed between the introduced exhaust gas and the derived exhaust gas to reduce the temperature of the introduced exhaust gas and increase the temperature of the treated exhaust gas to be derived. When the temperature of the exhaust gas to be introduced can be lowered to a level that does not affect the FRP or flake lining members in the absorption tower by providing the heat exchanger Further, a configuration in which the makeup water spray cooling mechanism 21 is not provided may be employed.

上述のように吸収塔内に導入可能な水分量は、吸収液貯留部4における吸収液の液面レベルをほぼ一定に維持するために制限されるので、補給水噴霧冷却機構21を設けない構成とすることにより、補給水を他の用途に用いることが可能となる。
例えば、出口ダクト7には、ミストエリミネータが設けられ、脱硫済みの排ガスに同伴する微小液滴が除去されるが、当該ミストエリミネータの洗浄用に補給水を用いることで、ミストエリミネータが汚れるのを防止し、メンテナンスに必要な作業を軽減することが可能となる。
As described above, the amount of water that can be introduced into the absorption tower is limited in order to maintain the liquid level of the absorption liquid in the absorption liquid storage unit 4 to be substantially constant. By doing so, it becomes possible to use makeup water for other purposes.
For example, the outlet duct 7 is provided with a mist eliminator to remove minute droplets accompanying the desulfurized exhaust gas. However, the use of makeup water for cleaning the mist eliminator prevents the mist eliminator from becoming dirty. It is possible to prevent and reduce the work required for maintenance.

ここで、スパージャパイプ9は、排ガス導入部6の底部となる下段デッキ2において、下段デッキ2の略全体となる主要部に縦横(前後左右)にそれぞれ複数ずつ互いに略等間隔で並んで配置されており、全体では多数のスパージャパイプ9が配置されている。例えば、略1m2範囲内に20本以上のスパージャパイプ9が配置されており、排ガス量とそれに対応する下段デッキ2の面積にもよるが、全体として数百本以上のスパージャパイプ9が下段デッキ2に略均等に分散配置されている。 Here, in the lower deck 2 that is the bottom of the exhaust gas introduction section 6, a plurality of sparger pipes 9 are arranged in the main section that is substantially the entire lower deck 2 vertically and horizontally (front and rear, left and right), and arranged at substantially equal intervals. As a whole, a large number of sparger pipes 9 are arranged. For example, 20 or more sparger pipes 9 are arranged within a range of about 1 m 2 , and depending on the amount of exhaust gas and the area of the lower deck 2 corresponding thereto, several hundred or more sparger pipes 9 as a whole are arranged in the lower deck. 2 are distributed substantially evenly.

また、略所定数ごとのスパージャパイプ9毎に、ガスライザ10が配置されている。ガスライザ10は、スパージャパイプ9より、大きな断面積に形成されており、ガスライザ10の配置位置には、スパージャパイプ9を配置できないので、ガスライザ10の部分では、ガスライザ10を逃げるようにスパージャパイプ9の縦横の配置間隔が広くなっている。   Moreover, the gas riser 10 is arrange | positioned for every sparger pipe 9 for every predetermined number. The gas riser 10 is formed to have a larger cross-sectional area than the sparger pipe 9, and the sparger pipe 9 cannot be arranged at the arrangement position of the gas riser 10. The vertical and horizontal intervals are wide.

但し、所定面積毎(単位面積毎)のスパージャパイプ9の配置数は略同じとなっており、所定面積毎に略同数のスパージャパイプ9が配置されている。
なお、排ガス導入部6から排ガスを効率的に吸収液貯留部4の吸収液内に導入して分散できるようになっていれば、スパージャパイプ9をどのように配置してもいいが、下段デッキ2のスパージャパイプ9が配置される範囲内においては、所定面積毎に略同数のスパージャパイプ9が配置される。
However, the number of sparger pipes 9 arranged for each predetermined area (per unit area) is substantially the same, and the same number of sparger pipes 9 is arranged for each predetermined area.
Note that the sparger pipe 9 may be arranged in any way as long as the exhaust gas can be efficiently introduced into the absorption liquid in the absorption liquid storage section 4 from the exhaust gas introduction section 6 and dispersed. Within the range where the two sparger pipes 9 are arranged, approximately the same number of sparger pipes 9 are arranged for each predetermined area.

また、ガスライザ10も縦横に複数ずつ並んで配置されており、所定面積毎に略同数のガスライザ10が配置されているが、下段デッキ2におけるガスライザ10の配置数は、スパージャパイプ9の配置数より少なくなっている。なお、ガスライザ10は、吸収液貯留部4の吸収液の液面より上の気体層部分から上段デッキ3の上側の排ガス導出部8まで大きな圧力損失を生じることなく、円滑に脱硫済みの排ガスを流すことができれば、その数や配置を自由に設定することができる。   Further, a plurality of gas risers 10 are arranged side by side in the vertical and horizontal directions, and approximately the same number of gas risers 10 are arranged for each predetermined area. It is running low. The gas riser 10 is configured to remove the exhaust gas that has been smoothly desulfurized without causing a large pressure loss from the gas layer portion above the liquid level of the absorption liquid in the absorption liquid storage section 4 to the exhaust gas discharge section 8 above the upper deck 3. If it can flow, the number and arrangement can be freely set.

上述のようにスパージャパイプ9とガスライザ10が配置された排ガス導入部6には、吸収液貯留部4との間で循環して使用される吸収液を用いて当該排ガス導入部6に導入された排ガスを冷却する排ガス冷却機構が設けられている。   As described above, the exhaust gas introduction part 6 in which the sparger pipe 9 and the gas riser 10 are arranged is introduced into the exhaust gas introduction part 6 using an absorption liquid that is circulated between the absorption liquid storage part 4 and used. An exhaust gas cooling mechanism for cooling the exhaust gas is provided.

排ガス冷却機構は、排ガス導入部6の底部となる下段デッキ2に上端部を突出させた状態で配置されるスパージャパイプ9より上に配置される吸収液用スプレーノズル31と、当該吸収液用スプレーノズル31に吸収液を流出させるための吸収液用配管32と、吸収液貯留部4から吸収液を吸入して、前記吸収液用配管32を介して吸収液をスプレーノズル31に供給する吸収液ポンプ33とを備える。   The exhaust gas cooling mechanism includes an absorption liquid spray nozzle 31 disposed above a sparger pipe 9 disposed in a state where the upper end portion projects from the lower deck 2 serving as the bottom of the exhaust gas introduction section 6, and the absorption liquid spray. Absorption liquid 32 for allowing the absorption liquid to flow out to the nozzle 31 and the absorption liquid that sucks the absorption liquid from the absorption liquid reservoir 4 and supplies the absorption liquid to the spray nozzle 31 via the absorption liquid pipe 32. And a pump 33.

これら吸収液用配管32および吸収液ポンプ33が、吸収液用スプレーノズル31に前記吸収液貯留部4の吸収液を供給する吸収液供給手段となる。
そして、吸収液用スプレーノズル31は、吸収液を微小な液滴として概略円錐状に広がるように噴霧するものであり、吸収液用スプレーノズル31からの距離に応じた径を有する概略円状の範囲に吸収液を噴霧するものである。
The absorption liquid pipe 32 and the absorption liquid pump 33 serve as absorption liquid supply means for supplying the absorption liquid in the absorption liquid storage section 4 to the absorption liquid spray nozzle 31.
The absorbing liquid spray nozzle 31 sprays the absorbing liquid as fine droplets so as to spread in a substantially conical shape, and has a substantially circular shape having a diameter corresponding to the distance from the absorbing liquid spray nozzle 31. The absorbent is sprayed onto the area.

吸収液用スプレーノズル31は、下段デッキ2に配置された略全てのスパージャパイプ9に直接的に噴霧された吸収液の液滴が当たるように、下段デッキ2上に分散されて配置されている。
この例では、吸収液用スプレーノズル31は、スパージャパイプ9の配置に対応して、縦横に略等間隔に複数が並んで配置されている。
The absorbing liquid spray nozzles 31 are distributed and arranged on the lower deck 2 so that the liquid droplets of the absorbing liquid sprayed directly on almost all the sparger pipes 9 arranged on the lower deck 2 are hit. .
In this example, a plurality of spray nozzles 31 for absorbing liquid are arranged side by side at substantially equal intervals in the vertical and horizontal directions corresponding to the arrangement of the sparger pipe 9.

また、互いに隣り合う吸収液用スプレーノズル31は、当該吸収液用スプレーノズル31の高さ位置からスパージャパイプ9の高さ位置までの距離に対応する噴霧範囲の半径より近い距離で配置されている。
すなわち、スパージャパイプ9より上に配置された吸収液用スプレーノズル31は、隣合う吸収液用スプレーノズル31の噴霧範囲の一部が互いに重なるようになっている。
Further, the adsorbing liquid spray nozzles 31 adjacent to each other are arranged at a distance closer to the radius of the spraying range corresponding to the distance from the height position of the absorbing liquid spray nozzle 31 to the height position of the sparger pipe 9. .
In other words, the absorption liquid spray nozzles 31 arranged above the sparger pipe 9 are configured such that a part of the spray range of the adjacent absorption liquid spray nozzles 31 overlaps.

これにより、下段デッキ2のスパージャパイプ9が設けられる範囲内においては、下段デッキ2上のほとんどの部分が吸収液用スプレーノズル31のいずれかの噴霧範囲に含まれることになり、略全てのスパージャパイプ9が吸収液用スプレーノズル31の噴霧範囲内に配置されることになる。
例えば、スパージャパイプ9が上述のように略1m2範囲内に20本ずつ程度配置され、ガスライザ10が略1m2範囲内もしくはそれより少し広い範囲内に1本ずつ程度配置され、吸収液用スプレーノズル31もガスライザ10と略同様に略1m2範囲内もしくはそれより少し広い範囲内に1本ずつ程度配置される。
As a result, within the range in which the sparger pipe 9 of the lower deck 2 is provided, most of the portion on the lower deck 2 is included in any of the spray ranges of the spray nozzle 31 for absorbing liquid, and almost all of the sparger. The pipe 9 is disposed within the spray range of the absorbing liquid spray nozzle 31.
For example, sparger pipe 9 is much arranged one by twenty within approximately 1 m 2 range, as described above, Gasuraiza 10 is disposed extent one by one in a slightly larger range or than approximately 1 m 2 range, spray absorption solution As with the gas riser 10, the nozzles 31 are also arranged approximately one by one in a range of about 1 m 2 or a little wider than that.

そして、ガスライザ10と吸収液用スプレーノズル31は、それぞれ縦横に略等間隔で並んで配置されるが、縦横の方向のうちの一方の縦方向では、ガスライザ10の列と、吸収液用スプレーノズル31の列とがそれぞれ重なるように配置され、各縦方向の列においては、ガスライザ10と吸収液用スプレーノズル31とが1個ずつ交互に配置されている。   The gas riser 10 and the absorbent spray nozzle 31 are arranged side by side at substantially equal intervals in the vertical and horizontal directions. In one of the vertical and horizontal directions, the row of the gas risers 10 and the absorbent spray nozzle 31 columns are arranged so as to overlap each other, and in each vertical column, the gas risers 10 and the absorbent spray nozzles 31 are alternately arranged one by one.

縦横のうちの他方の横方向においては、ガスライザ10の列と、吸収液用スプレーノズル31の列とがそれぞれ重ならないように配置され、ガスライザ10の列では、ガスライザ10だけが一列に並んで配置され、吸収液用スプレーノズル31の列では、吸収液用スプレーノズル31だけが一列に並んで配置され、ガスライザ10の列と、吸収液用スプレーノズル31の列とが交互に配置されている。   In the other of the vertical and horizontal directions, the rows of gas risers 10 and the rows of spray nozzles 31 for absorbing liquid do not overlap each other. In the rows of gas risers 10, only the gas risers 10 are arranged in a row. In the row of the absorbing liquid spray nozzles 31, only the absorbing liquid spray nozzles 31 are arranged in a line, and the rows of the gas risers 10 and the rows of the absorbing liquid spray nozzles 31 are alternately arranged.

なお、吸収液用スプレーノズル31は、ガスライザ10どうしの間となる位置に配置され、かつ、上述のように略全てのスパージャパイプ9が吸収液用スプレーノズル31の噴霧範囲に含まれるようになっていれば、吸収液用スプレーノズル31の配置がどのようになっていてもよいし、ガスライザ10と略一対一で対応するように配置される必要はない。   The absorbing liquid spray nozzle 31 is arranged at a position between the gas risers 10, and almost all the sparger pipes 9 are included in the spraying range of the absorbing liquid spray nozzle 31 as described above. If so, the arrangement of the spray nozzle 31 for absorbing liquid may be any, and it is not necessary to be arranged so as to substantially correspond to the gas riser 10 on a one-to-one basis.

また、吸収液用スプレーノズル31は、吸収液が石膏スラリーであるため、耐摩耗性が高く、かつ、詰まりにくいものを用いる必要があり、例えば、セラミック製のスプレーノズルや、金属製のスプレーノズルの内部側がセラミックとなった二重構造のスプレーノズルを用いることが好ましい。また、スラリー用に比較的孔径(最も内径の狭い部分の径)の大きなスプレーノズルを使用することが好ましい。また、スプレーノズルのサイズとして、接続用の雄ねじ部分の外径もしくは雌ネジ部分の内径が25mm〜40mmのノズルを用いることが好ましい。前記サイズが25mmより小さいと、スプレーノズルの通過口径が小さくなり石膏による閉塞の恐れがあり、前記サイズが40mm以上だと、スプレーノズルの数が少なくなることにより、吸収液が十分に分散されず排ガスの冷却が不十分となる虞があるとともに、後述の洗浄能力が不十分になる虞がある。   Further, since the absorbent liquid spray nozzle 31 is a gypsum slurry, it is necessary to use an absorbent liquid that is highly wear-resistant and difficult to clog. For example, a ceramic spray nozzle or a metal spray nozzle It is preferable to use a spray nozzle having a double structure in which the inner side is ceramic. Further, it is preferable to use a spray nozzle having a relatively large pore diameter (diameter of the narrowest inner diameter) for the slurry. Moreover, it is preferable to use the nozzle whose outer diameter of the external thread part for a connection or internal diameter of an internal thread part is 25 mm-40 mm as a size of a spray nozzle. If the size is smaller than 25 mm, the passage diameter of the spray nozzle becomes small and there is a risk of clogging with gypsum. If the size is 40 mm or more, the number of spray nozzles decreases, so that the absorbing liquid is not sufficiently dispersed. There is a possibility that cooling of the exhaust gas may be insufficient, and a cleaning ability described later may be insufficient.

上述の吸収液用配管32は、例えば、下段デッキ2上で、スパージャパイプ9より高い位置に、互いに平行で等間隔に並んだ状態、すなわち、ストライプ状に配置されている。
そして、吸収液用配管32に吸収液用スプレーノズル31が取り付けられている。上述のようにストライプ状に配置された吸収液用配管32に略等間隔に吸収液用スプレーノズル31の取付部が設けられ、当該取付部に吸収液用スプレーノズル31が取り付けられている。
The above-described absorbent liquid pipes 32 are, for example, arranged on the lower deck 2 at a position higher than the sparger pipe 9 and in parallel with each other at equal intervals, that is, in a stripe shape.
The absorbent liquid spray nozzle 31 is attached to the absorbent liquid pipe 32. As described above, the absorbing liquid spray nozzles 31 are attached to the absorbing liquid pipes 32 arranged in stripes at substantially equal intervals, and the absorbing liquid spray nozzles 31 are attached to the attaching parts.

また、取付部は、枝管として、上述のように配置される吸収液用配管32から略水平方向に沿って直角に延出しているものとしてもよい。また、枝管としての取付部は、吸収液用配管32から左右両方向に延出するものとしてもよいし、左右いずれか一方だけに延出するものとしてもよい。また、取付部が吸収液用配管32から左右両方向に延出する場合に、略同じ位置から左右に延出しても良いし、互い違いに異なる位置から延出するものとしてもよい。   Further, the attachment portion may be a branch pipe that extends at right angles along the substantially horizontal direction from the absorbent liquid pipe 32 arranged as described above. Moreover, the attachment part as a branch pipe is good also as what extends in the right-and-left both directions from the piping 32 for absorption liquids, and good also as what extends to either one of right and left. Further, when the attachment portion extends from the absorbent liquid pipe 32 in both the left and right directions, it may extend from substantially the same position to the left and right, or may alternately extend from different positions.

また、吸収液用配管32や、枝管状の取付部をガスライザ10に支持させる構造もしくは、補助的にガスライザ10に支持させる構造としてもよい。
そして、以上のような脱硫装置(の排ガス冷却機構)においては、吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズル31に供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比(体積比)で0.5〜3.0l/Nm3としている。
Moreover, it is good also as a structure where the gas riser 10 supports the absorption liquid pipe 32 and the branch tubular attachment part, or a structure where the gas riser 10 supports the absorption liquid pipe 10 in an auxiliary manner.
In the desulfurization apparatus (exhaust gas cooling mechanism) as described above, the liquid gas with respect to the amount of exhaust gas introduced from the absorbing liquid supply means to the absorbing liquid spray nozzles 31 to be introduced and sprayed. The ratio (volume ratio) is 0.5 to 3.0 l / Nm 3 .

ここで、全ての吸収液用スプレーノズル31から噴霧される吸収液の液量全体と脱硫装置に導入さえる排ガス量との液ガス比、0.5/Nm3より少ないと、例えば、各吸収液用スプレーノズル31における噴霧圧が後述する範囲内より低くなってしまう。そこで、各吸収液用スプレーノズル31の噴霧圧を後述の範囲内とするためには、配置可能な吸収液用スプレーノズル31の数が少なくなってしまう。
なお、基本的には、導入される排ガス量に基づいて、スパージャパイプ9の数および配置や、下段デッキ2の面積(スパージャパイプが配置される面積)が決まるので、噴霧される吸収液量の排ガス量に対する液ガス比で、単位面積当たりもしくはスパージャパイプ9当たりの吸収液用スプレーノズル31の数が決まることになる。
Here, if the liquid-gas ratio between the total amount of the absorbing liquid sprayed from all the absorbing liquid spray nozzles 31 and the amount of exhaust gas introduced into the desulfurization apparatus is less than 0.5 / Nm 3 , for example, each absorbing liquid The spray pressure in the spray nozzle 31 for use will become lower than the range mentioned later. Therefore, in order to set the spray pressure of each spray nozzle 31 for absorbing liquid within the range described later, the number of spray nozzles 31 for absorbing liquid that can be arranged is reduced.
Basically, the number and arrangement of the sparger pipes 9 and the area of the lower deck 2 (area where the sparger pipes are arranged) are determined based on the amount of exhaust gas to be introduced. The number of the spray nozzles 31 for absorbing liquid per unit area or per sparger pipe 9 is determined by the ratio of the liquid gas to the amount of exhaust gas.

ここで、スパージャパイプ9から噴霧される吸収液は、排ガスの冷却に使用されるだけではなく、後述のようにガスライザ10の表面に付着した石膏が塊となって落下した場合のスパージャパイプ9の詰まりを防止するようになっている。
すなわち、スパージャパイプ9から吸収液を噴霧しているので、従来ほどではないが、ガスライザ10や排ガス導入部の内壁面に石膏が付着する虞があり、長い期間の経過に伴ない付着した石膏が厚くなって従来と同様に落下する虞がある。
Here, the absorbing liquid sprayed from the sparger pipe 9 is not only used for cooling the exhaust gas, but also the sparger pipe 9 when gypsum adhering to the surface of the gas riser 10 falls as a lump as will be described later. It is designed to prevent clogging.
That is, since the absorbing liquid is sprayed from the sparger pipe 9, there is a possibility that gypsum adheres to the inner wall surface of the gas riser 10 or the exhaust gas introduction part, and the adhering gypsum with the elapse of a long period of time is less There is a risk that it will become thick and fall as usual.

この場合に、スパージャパイプ9上の吸収液用スプレーノズル31から連続的に常時吸収液が噴霧されていることで、塊りとなった石膏を洗い流すことが可能となり、スパージャパイプの詰まりを解消することができる。
しかし、スパージャパイプ9からの吸収液の噴霧圧が低すぎたり、スパージャパイプ9の単位面積当たりの配置数が少なすぎたりすると、スパージャパイプ9を詰まらせる石膏を洗い流すことが困難になる虞がある。特に、吸収液の噴霧される量がスパージャパイプ9によって大きく異なるような場合に、吸収液の噴霧される量が相対的に少ないスパージャパイプが詰まったままとなる可能性がある。
In this case, since the absorbing liquid is continuously sprayed from the absorbing liquid spray nozzle 31 on the sparger pipe 9, it becomes possible to wash away the gypsum that has become a mass, and the clogging of the sparger pipe is eliminated. be able to.
However, if the spray pressure of the absorbing liquid from the sparger pipe 9 is too low or the number of arrangements per unit area of the sparger pipe 9 is too small, it may be difficult to wash away the plaster that clogs the sparger pipe 9. . In particular, when the amount of the absorbing liquid sprayed varies greatly depending on the sparger pipe 9, the sparger pipe with the relatively small amount of the absorbing liquid sprayed may remain clogged.

そこで、上述のように噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5l/Nm3以上とする必要がある。
また、噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で3.0l/Nm3より大きくした場合に、必要以上に液量が多くなるとともに、吸収液用ポンプ33にかかる動力費が多くなり非効率的でコストの上昇を招くことになる。
Therefore, it is necessary that the liquid amount of the absorbing liquid sprayed as described above is 0.5 l / Nm 3 or more in terms of the liquid gas ratio with respect to the amount of exhaust gas introduced.
Further, when the liquid amount of the absorbed liquid to be sprayed is larger than 3.0 l / Nm 3 in terms of the liquid gas ratio with respect to the amount of exhaust gas introduced, the liquid amount increases more than necessary and the absorption liquid pump 33 is applied. The power cost increases, resulting in inefficiency and cost increase.

より効率的かつ低コストに脱硫装置を作動させるためには、2.0l/Nm3以下とすることが好ましく、さらに、1.0l/Nm3以下とすることが好ましい。
この例では、各吸収液用スプレーノズル31における噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm2としている。
噴霧圧を0.5kgf/cm2より小さくすると、スプレーとしての噴霧が十分に行われず、噴霧される液滴が大きすぎたり、噴霧範囲が狭くなってしまう虞が有り、それに基づいて排ガスの冷却が不十分になったり、上述の落下した石膏の塊りの洗浄能力が不十分になってしまう虞がある。
In order to operate the desulfurization apparatus more efficiently and at low cost, it is preferably 2.0 l / Nm 3 or less, and more preferably 1.0 l / Nm 3 or less.
In this example, the spray pressure in each spray nozzle 31 for absorbing liquid is set to 0.5 to 2.0 kgf / cm 2 .
If the spray pressure is less than 0.5 kgf / cm 2 , spraying as a spray is not performed sufficiently, and there is a risk that the sprayed droplets may be too large or the spray range may be narrowed. May be insufficient, or the above-mentioned ability to clean the dropped gypsum lump may be insufficient.

また、噴霧圧が2.0kgf/cm2以上だと、昇圧のために前記吸収液用ポンプ33の動力費の増加を招き、ランニングコストが高くなってしまう。
より効率的かつ低コストに脱硫装置を作動させる上では、噴霧圧を1.0kgf/cm2以下とすることが好ましい。
On the other hand, if the spray pressure is 2.0 kgf / cm 2 or higher, the power cost of the absorbing liquid pump 33 increases due to the pressure increase, and the running cost becomes high.
In order to operate the desulfurization apparatus more efficiently and at low cost, the spray pressure is preferably set to 1.0 kgf / cm 2 or less.

以上のような脱硫装置においては、脱硫装置が動作中の場合に、吸収液用スプレーノズル31から吸収液が噴霧される。そして、吸収液用スプレーノズル31の配置を上述のようにするとともに、吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズル31に供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm3とし、吸収液用スプレーノズル31における噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm2とすることで、排ガス導入部6において、排ガスを十分に増湿冷却することが可能となる。 In the desulfurization apparatus as described above, the absorbing liquid is sprayed from the absorbing liquid spray nozzle 31 when the desulfurizing apparatus is in operation. Then, the arrangement of the absorption liquid spray nozzle 31 is set as described above, and the liquid amount of the absorption liquid supplied from the absorption liquid supply means to the respective absorption liquid spray nozzles 31 and sprayed is liquid with respect to the exhaust gas amount introduced. By setting the gas ratio to 0.5 to 3.0 l / Nm 3 and the spray pressure in the spray nozzle 31 for absorbing liquid to 0.5 to 2.0 kgf / cm 2 , the exhaust gas introduction section 6 has sufficient exhaust gas. It is possible to cool with increased humidity.

さらに、ガスライザ10や排ガス導入部6の内壁面に付着した石膏が落下してスパージャパイプ9を詰まらせるような状態となっても、上述の液量と噴霧圧で吸収液が連続的に噴霧されることで、落下した石膏を洗い流すことが可能となる。
また、吸収液用スプレーノズル31は、略全てのスパージャパイプ9が噴霧範囲に入るように配置されているので、略全てのスパージャパイプ9の石膏による詰まりを解消することが可能であり、期間の経過に伴なって詰まっているスパージャパイプ9が増加するのを防止することができる。
Furthermore, even if the gypsum adhering to the inner wall surface of the gas riser 10 or the exhaust gas introduction unit 6 falls and clogs the sparger pipe 9, the absorbing liquid is continuously sprayed with the above-described liquid amount and spray pressure. This makes it possible to wash away the dropped plaster.
Moreover, since the spray nozzle 31 for absorption liquid is arrange | positioned so that substantially all the sparger pipes 9 may enter into the spraying range, it is possible to eliminate clogging of almost all of the sparger pipes 9 due to the plaster. It is possible to prevent an increase in the number of sparger pipes 9 that are clogged with progress.

また、吸収液貯留部4の吸収液を吸収液用ポンプ33で吸入して抜き出しても、再び、排ガス導入部6で噴霧されてから吸収液貯留部4に戻ることになり、吸収液用スプレーノズル31から噴霧する吸収液の液量を多くしても、吸収液貯留部4における吸収液の液面レベルが大きく変化することがない。よって、上述のように排ガスの冷却と、落下した石膏の洗浄に十分なる液量を吸収液用スプレーノズルから噴霧することができる。   Further, even if the absorption liquid in the absorption liquid storage section 4 is sucked and extracted by the absorption liquid pump 33, it is sprayed again by the exhaust gas introduction section 6 and then returns to the absorption liquid storage section 4. Even if the amount of the absorbing liquid sprayed from the nozzle 31 is increased, the liquid level of the absorbing liquid in the absorbing liquid storage unit 4 does not change greatly. Therefore, as described above, the amount of liquid sufficient for cooling the exhaust gas and washing the dropped gypsum can be sprayed from the absorbing liquid spray nozzle.

また、従来、スパージャパイプ9およびガスライザ10に補給水を間欠的に噴霧していたスプレーノズルでは、間欠動作させるためのオンオフ弁が必要となるが、本発明の吸収液用スプレーノズル31は作動中は常時吸収液を噴霧しているので、オンオフ弁を必要とせずコストの低減を図ることができる。   Conventionally, the spray nozzle that sprays makeup water intermittently onto the sparger pipe 9 and the gas riser 10 requires an on / off valve for intermittent operation, but the absorbent spray nozzle 31 of the present invention is in operation. Since the absorption liquid is always sprayed, the on-off valve is not required and the cost can be reduced.

K 吸収液
1 吸収塔
2 下段デッキ
3 上段デッキ
4 吸収液貯留部
5 入口ダクト(ダクト)
6 排ガス導入部
8 排ガス導出部
9 スパージャパイプ(ガス分散管)
31 吸収液用スプレーノズル
32 吸収液用配管(吸収液供給手段)
33 吸収液用ポンプ(吸収液供給手段)
K Absorbent 1 Absorber 2 Lower deck 3 Upper deck 4 Absorbent reservoir 5 Inlet duct (duct)
6 Exhaust gas introduction part 8 Exhaust gas extraction part 9 Sparger pipe (gas dispersion pipe)
31 Absorption liquid spray nozzle 32 Absorption liquid piping (absorption liquid supply means)
33 Absorption liquid pump (absorption liquid supply means)

Claims (4)

排ガスから硫黄酸化物を吸収する脱硫用吸収液が貯留された吸収液貯留部と、当該吸収液貯留部の上に当該吸収液貯留部と分離して設けられ、排ガスが導入される排ガス導入部と、当該排ガス導入部の底部から前記吸収液貯留部の吸収液内に延出し、導入された排ガスを前記吸収液貯留部の吸収液内に噴出して分散させる複数のガス分散管と、前記吸収液貯留部に連通するとともに前記排ガス導入部と分離して設けられ、前記吸収液から放出された脱硫処理済みの排ガスを導出する排ガス導出部と、前記吸収液貯留部の前記吸収液の液面より上の上部空間と前記排ガス導出部とを前記排ガス導入部を貫通して連通させるガスライザとを備えた脱硫装置であって、
前記排ガス導入部内の前記ガス分散管より上側に設けられ、排ガスを冷却するために前記吸収液を前記ガス分散管側に連続的に噴霧する吸収液用スプレーノズルと、当該吸収液用スプレーノズルに前記吸収液貯留部の吸収液を供給する吸収液供給手段とを備え、
前記ガス分散管が、前記排ガス導入部の底部に分散して配置され、
各吸収液用スプレーノズルの吸収液の噴霧範囲を合わせた範囲内に前記ガス分散管の略全てが入るように、各吸収液用スプレーノズルが前記ガス分散管の配置に対応して配置され、
前記ガス導入部を貫通する前記ガスライザの表面に付着した石膏が前記ガス分散管上に落下した場合に、前記ガス分散管を詰まらせることなく前記石膏を流すために、前記吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズルに供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm 3 とし、
かつ,各吸収液用スプレーノズルにおける噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm 2 とすることを特徴とする脱硫装置。
An absorption liquid storage part in which an absorption liquid for desulfurization that absorbs sulfur oxide from the exhaust gas is stored, and an exhaust gas introduction part that is provided separately from the absorption liquid storage part on the absorption liquid storage part and into which the exhaust gas is introduced A plurality of gas dispersion pipes extending from the bottom of the exhaust gas introduction part into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, and jetting and dispersing the introduced exhaust gas into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, An exhaust gas deriving unit that communicates with the absorption liquid storage unit and is provided separately from the exhaust gas introduction unit and derives the desulfurized exhaust gas discharged from the absorption liquid; and the liquid of the absorption liquid in the absorption liquid storage unit A desulfurization apparatus comprising a gas riser that communicates the upper space above the surface and the exhaust gas outlet through the exhaust gas inlet ,
An absorption liquid spray nozzle that is provided above the gas dispersion pipe in the exhaust gas introduction section and continuously sprays the absorption liquid on the gas dispersion pipe side in order to cool the exhaust gas; and the absorption liquid spray nozzle An absorbent supply means for supplying the absorbent in the absorbent reservoir,
The gas dispersion pipes are distributed and arranged at the bottom of the exhaust gas introduction part;
Each absorption liquid spray nozzle is arranged in correspondence with the arrangement of the gas dispersion pipe so that substantially all of the gas dispersion pipe falls within the range in which the absorption range of the absorption liquid of each absorption liquid spray nozzle is combined,
When the gypsum adhering to the surface of the gas riser penetrating the gas introduction part falls on the gas dispersion pipe, each of the absorption liquid supply means is allowed to flow the gypsum without clogging the gas dispersion pipe. The liquid amount of the absorbing liquid supplied and sprayed to the absorbing liquid spray nozzle is 0.5 to 3.0 l / Nm 3 in terms of the liquid gas ratio to the amount of exhaust gas introduced ,
And desulfurization apparatus characterized by the spray pressure at the spray nozzle for each absorbing solution and 0.5~2.0kgf / cm 2.
前記排ガス導入部に外部から排ガスを導入するダクト内に前記吸収液貯留部に補給するための補給水を噴霧して導入される排ガスを冷却する補給水噴霧冷却機構が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の脱硫装置。 The exhaust gas introduction part is provided with a supplementary water spray cooling mechanism for cooling the exhaust gas introduced by spraying the supplementary water for replenishing the absorption liquid storage part into a duct for introducing the exhaust gas from the outside. The desulfurization apparatus according to claim 1 . 排ガスから硫黄酸化物を吸収する脱硫用吸収液が貯留された吸収液貯留部と、当該吸収液貯留部の上に当該吸収液貯留部と分離して設けられ、排ガスが導入される排ガス導入部と、当該排ガス導入部の底部から前記吸収液貯留部の吸収液内に延出し、導入された排ガスを前記吸収液貯留部の吸収液内に噴出して分散させる複数のガス分散管と、前記吸収液貯留部に連通するとともに前記排ガス導入部と分離して設けられ、前記吸収液から放出された脱硫処理済みの排ガスを導出する排ガス導出部と、前記吸収液貯留部の前記吸収液の液面より上の上部空間と前記排ガス導出部とを前記排ガス導入部を貫通して連通させるガスライザとを備えた脱硫装置で行われる排ガスの冷却方法であって、
前記脱硫装置は、前記排ガス導入部内の前記ガス分散管より上側に設けられ、排ガスを冷却するために前記吸収液を噴霧する吸収液用スプレーノズルと、当該吸収液用スプレーノズルに前記吸収液貯留部の吸収液を供給する吸収液供給手段とを有し、かつ、前記脱硫装置では、前記ガス分散管が、前記排ガス導入部の底部に分散して配置され、各吸収液用スプレーノズルの吸収液の噴霧範囲を合わせた範囲内に前記ガス分散管の略全てが入るように、各吸収液用スプレーノズルが前記ガス分散管の配置に対応して配置され、
前記吸収液を前記吸収液用スプレーノズルから前記ガス分散管側に連続的に噴霧し、
この噴霧に際し、前記ガス導入部を貫通する前記ガスライザの表面に付着した石膏が前記ガス分散管上に落下した場合に、前記ガス分散管を詰まらせることなく前記石膏を流すために、前記吸収液供給手段から各吸収液用スプレーノズルに供給されて噴霧される吸収液の液量を導入される排ガス量に対する液ガス比で0.5〜3.0l/Nm 3 とし、
かつ,各吸収液用スプレーノズルにおける噴霧圧を0.5〜2.0kgf/cm 2 とすることを特徴とする排ガスの冷却方法。
An absorption liquid storage part in which an absorption liquid for desulfurization that absorbs sulfur oxide from the exhaust gas is stored, and an exhaust gas introduction part that is provided separately from the absorption liquid storage part on the absorption liquid storage part and into which the exhaust gas is introduced A plurality of gas dispersion pipes extending from the bottom of the exhaust gas introduction part into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, and jetting and dispersing the introduced exhaust gas into the absorption liquid of the absorption liquid storage part, An exhaust gas deriving unit that communicates with the absorption liquid storage unit and is provided separately from the exhaust gas introduction unit and derives the desulfurized exhaust gas discharged from the absorption liquid; and the liquid of the absorption liquid in the absorption liquid storage unit An exhaust gas cooling method performed in a desulfurization apparatus comprising a gas riser that communicates the upper space above the surface and the exhaust gas outlet part through the exhaust gas introduction part ,
The desulfurization device is provided above the gas dispersion pipe in the exhaust gas introduction unit, and sprays the absorption liquid to cool the exhaust gas, and stores the absorption liquid in the absorption liquid spray nozzle. And an absorption liquid supply means for supplying the absorption liquid of the portion , and in the desulfurization apparatus, the gas dispersion pipe is arranged dispersedly at the bottom of the exhaust gas introduction section, and the absorption nozzles absorb the absorption liquid. Each absorbing liquid spray nozzle is arranged corresponding to the arrangement of the gas dispersion pipe so that substantially all of the gas dispersion pipe falls within the range in which the spray range of the liquid is combined,
The absorption liquid is continuously sprayed from the absorption liquid spray nozzle to the gas dispersion pipe side,
In this spraying, when the gypsum adhering to the surface of the gas riser penetrating the gas introduction part falls on the gas dispersion pipe, the absorbent liquid is used to flow the gypsum without clogging the gas dispersion pipe. The liquid amount of the absorbing liquid supplied from the supply means to each absorbing liquid spray nozzle and sprayed is 0.5 to 3.0 l / Nm 3 in terms of the liquid gas ratio to the amount of exhaust gas introduced ,
And exhaust gas cooling method characterized by the spray pressure and 0.5~2.0kgf / cm 2 in the spray nozzle for each absorbing solution.
前記脱硫装置の前記排ガス導入部に外部から排ガスを導入するダクト内に補給水噴霧冷却機構を設け、
当該補給水噴霧冷却機構が前記吸収液貯留部に補給するための補給水を噴霧して導入される排ガスを冷却することを特徴とする請求項3に記載の排ガスの冷却方法
A makeup water spray cooling mechanism is provided in a duct for introducing exhaust gas from the outside to the exhaust gas introduction part of the desulfurization apparatus,
4. The exhaust gas cooling method according to claim 3 , wherein the makeup water spray cooling mechanism cools the exhaust gas introduced by spraying makeup water for replenishing the absorption liquid reservoir. 5.
JP2009146004A 2009-06-19 2009-06-19 Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method Expired - Fee Related JP5520525B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009146004A JP5520525B2 (en) 2009-06-19 2009-06-19 Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009146004A JP5520525B2 (en) 2009-06-19 2009-06-19 Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011000543A JP2011000543A (en) 2011-01-06
JP5520525B2 true JP5520525B2 (en) 2014-06-11

Family

ID=43558967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009146004A Expired - Fee Related JP5520525B2 (en) 2009-06-19 2009-06-19 Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5520525B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108744904A (en) * 2018-07-20 2018-11-06 江苏安纳泰环保科技有限公司 A kind of desulfurization waste gas purification apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6215503B1 (en) * 2017-06-09 2017-10-18 三菱日立パワーシステムズ株式会社 Spray pipe and desulfurization apparatus provided with the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01159027A (en) * 1987-09-16 1989-06-22 Chiyoda Corp Method and apparatus for treating exhaust gas
JP4616142B2 (en) * 1994-06-13 2011-01-19 千代田化工建設株式会社 Gas dispersion pipe for gas-liquid contact, gas-liquid contact method and apparatus using the same, and exhaust gas treatment method and apparatus
JP3727086B2 (en) * 1995-04-28 2005-12-14 千代田化工建設株式会社 Wet flue gas desulfurization method and apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108744904A (en) * 2018-07-20 2018-11-06 江苏安纳泰环保科技有限公司 A kind of desulfurization waste gas purification apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011000543A (en) 2011-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100548447C (en) A kind of spray column and operation method thereof that is used for flue gas desulfurization
KR20160088261A (en) Wet scrubber nozzle system and method of use for cleaning a process gas
US20100077925A1 (en) Wet flue-gas desulfurization equipment
JP2015073990A (en) Method and apparatus for wet desulfurization spray towers
TWI629089B (en) Exhaust gas desulfurization device
US8377174B2 (en) Gas sparger for supplying oxidation gas to a wet scrubber
JP6730024B2 (en) Liquid screen dust remover and flue gas desulfurizer
JP2023025270A (en) Exhaust gas treatment method and exhaust gas treatment equipment
JP5520525B2 (en) Desulfurization apparatus and exhaust gas cooling method
CN107433113A (en) A kind of desulphurization denitration absorption tower
KR101278171B1 (en) Method and device for separation of sulphur dioxide from a gas
TWI513501B (en) Exhaust gas treatment device
JP3621159B2 (en) Exhaust gas treatment method and apparatus
JP7094117B2 (en) Water treatment tank and desulfurization equipment
JP5660771B2 (en) Exhaust gas treatment equipment
CN101306313A (en) Flue gas wet desulfurization absorption oxidation device
JP2004237258A (en) Wet type flue gas desulfurization equipment
CN201279436Y (en) High-efficiency desulfurization dust collector
JPH1133352A (en) Absorption tower for flue gas desulfurization equipment
CN106000066A (en) Absorbing tower with air introducing device
CN106256776A (en) There is aeration and the seawater equipment of mixing recovery automatically
JPH1190170A (en) Flue gas desulfurizer and its method
CN116808803B (en) Desulfurization system
CN107921361A (en) Flue gas desulfurization with seawater absorbers combination
JP3590856B2 (en) Exhaust gas desulfurization method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121029

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130501

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130617

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140401

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140407

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5520525

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S303 Written request for registration of pledge or change of pledge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S303 Written request for registration of pledge or change of pledge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303

S803 Written request for registration of cancellation of provisional registration

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees