JP5513047B2 - Electronic device and method for manufacturing electronic device - Google Patents

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JP5513047B2 JP2009215174A JP2009215174A JP5513047B2 JP 5513047 B2 JP5513047 B2 JP 5513047B2 JP 2009215174 A JP2009215174 A JP 2009215174A JP 2009215174 A JP2009215174 A JP 2009215174A JP 5513047 B2 JP5513047 B2 JP 5513047B2
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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本発明は、電子機器に用いられる電子デバイス及び電子デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic device used in an electronic apparatus and a method for manufacturing the electronic device.

従来、携帯用通信機器や電子計算機等の電子機器を構成する電子部品の一つとして、圧電デバイスなどの電子デバイスが用いられる。
ここで、従来の電子デバイスとして、圧電デバイスの一つである圧電振動子を例に説明する。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic device such as a piezoelectric device is used as one of electronic components that constitute an electronic device such as a portable communication device or an electronic computer.
Here, as a conventional electronic device, a piezoelectric vibrator, which is one of piezoelectric devices, will be described as an example.

従来の圧電振動子は、部品素子である圧電振動素子と素子搭載部材と蓋部材とから主に構成され、部品素子である圧電振動素子が搭載された素子搭載部材と蓋部材とが接合され、部品素子である圧電振動素子が気密封止された構造となっている。   The conventional piezoelectric vibrator is mainly composed of a piezoelectric vibration element that is a component element, an element mounting member, and a lid member, and the element mounting member on which the piezoelectric vibration element that is a component element is mounted and the lid member are joined. The piezoelectric vibration element which is a component element is hermetically sealed.

部品素子である圧電振動素子は、圧電片と励振電極と引き回し電極とから主に構成されている。
圧電片は、圧電材料からなり、例えば、矩形形状の平板に設けられている。
励振電極は、2つ一対となっており、圧電片の両主面にそれぞれ一つずつ設けられている。一方の励振電極は、圧電片の一方の主面に設けられている。他方の励振電極は、圧電片の他方の主面であって、一方の励振電極と対向する位置に設けられている。
引き回し電極は、2つ一対となっている。また、引き回し電極は、一方の端部が所定の励振電極に接続しおり、他方の端部が、所定の励振電極が設けられた圧電片の主面と対向する主面であって、圧電片の一方の短辺側に設けられている。つまり、一方の引き回し電極は、一方の端部が一方の励振電極と接続しており、他方の端部が圧電片の他方の主面であって、圧電片の一方の短辺側に設けられている。同様に、他方の引き回し電極は、一方の端部が他方の励振電極と接続しており、他方の端部が圧電片の一方の主面であって、圧電片の一方の短辺側に設けられている。
A piezoelectric vibration element as a component element is mainly composed of a piezoelectric piece, an excitation electrode, and a lead-out electrode.
The piezoelectric piece is made of a piezoelectric material, and is provided on, for example, a rectangular flat plate.
Two pairs of excitation electrodes are provided, one on each main surface of the piezoelectric piece. One excitation electrode is provided on one main surface of the piezoelectric piece. The other excitation electrode is provided on the other main surface of the piezoelectric piece and at a position facing the one excitation electrode.
There are two pairs of routing electrodes. The routing electrode has one end connected to a predetermined excitation electrode, and the other end is a main surface opposite to the main surface of the piezoelectric piece provided with the predetermined excitation electrode. It is provided on one short side. That is, one routing electrode has one end connected to one excitation electrode, the other end is the other main surface of the piezoelectric piece, and is provided on one short side of the piezoelectric piece. ing. Similarly, the other lead-out electrode has one end connected to the other excitation electrode, and the other end is one main surface of the piezoelectric piece and is provided on one short side of the piezoelectric piece. It has been.

素子搭載部材は、例えば、プラスチックが主に用いられ、矩形形状の平板に設けられる。また、素子搭載部材は、一方の主面に部品素子が搭載される部品素子搭載パッドが設けられ、他方の主面に外部接続端子が設けられている。
部品素子搭載パッドは、例えば、2つ一対で設けられ、素子搭載部材の一方の主面であって、素子搭載部材の一方の短辺側に2個並んで設けられている。この部品素子搭載パッドには、この部品素子搭載パッドと部品素子である圧電振動素子に設けられた引き回し電極とが、導電性接着剤により固定されて、部品素子である圧電振動素子が搭載される。
外部接続端子は、例えば、4つ設けられ、素子搭載部材の他方の主面の4隅に一つずつ設けられる。この所定の2つの外部接続端子は、部品素子搭載パッドと電気的に接続されている。
従って、素子搭載部材は、一方の主面に部品素子である圧電振動素子が搭載されており、他方の主面に外部接続端子が設けられている。
For example, plastic is mainly used as the element mounting member, and the element mounting member is provided on a rectangular flat plate. The element mounting member has a component element mounting pad on which a component element is mounted on one main surface, and an external connection terminal on the other main surface.
For example, two component element mounting pads are provided, and two component element mounting pads are provided side by side on one short side of the element mounting member on one main surface of the element mounting member. On this component element mounting pad, the component element mounting pad and a lead electrode provided on the piezoelectric vibration element as the component element are fixed by a conductive adhesive, and the piezoelectric vibration element as the component element is mounted. .
For example, four external connection terminals are provided, one at each of the four corners of the other main surface of the element mounting member. The two predetermined external connection terminals are electrically connected to the component element mounting pads.
Accordingly, the element mounting member has a piezoelectric vibration element as a component element mounted on one main surface, and an external connection terminal provided on the other main surface.

蓋部材は、例えば、ガラスなどが主に用いられている。
また、蓋部材は、蓋本体部と蓋壁部とから主に構成されている。ここで、蓋部材は、蓋部材の一方の主面に枠形状の蓋壁部が設けられて、一方の主面に部品素子用凹部空間が設けられる。
この蓋部材は、素子搭載部材と接合されて、この部品素子用凹部空間内に部品素子である圧電振動素子を気密封止する役割を果たす。
For example, glass is mainly used as the lid member.
The lid member is mainly composed of a lid body part and a lid wall part. Here, the lid member is provided with a frame-shaped lid wall portion on one main surface of the lid member, and a concave portion space for component elements is provided on one main surface.
The lid member is joined to the element mounting member, and serves to hermetically seal the piezoelectric vibration element as the component element in the component element recess space.

ここで、この圧電振動子は、例えば、樹脂により、部品素子が搭載された素子搭載部材と蓋部材とが接合されている。
樹脂は、蓋部材と部品素子が搭載された素子搭載部材との間に介在している。また、樹脂は、素子搭載部材の一方の主面の外周縁部に環状となるように塗布され、素子搭載部材と蓋部材とで挟まれた状態で硬化され、素子搭載部材と蓋部材とを接合している(例えば、特許文献1参照)。
Here, in the piezoelectric vibrator, for example, an element mounting member on which a component element is mounted and a lid member are bonded with resin.
The resin is interposed between the lid member and the element mounting member on which the component elements are mounted. The resin is applied to the outer peripheral edge of one main surface of the element mounting member so as to form an annular shape, and is cured while being sandwiched between the element mounting member and the lid member. It joins (for example, refer patent document 1).

また、この圧電振動子は、例えば、陽極接合により、蓋部材と部品素子が搭載されている素子搭載部材とが接合されている。
このような圧電振動子は、素子搭載部材の外周縁部に設けられた環状の第一の接合金属層と蓋部材の外周縁部に設けられた環状の第二の接合金属層とが陽極接合により接合され、蓋部材と素子搭載部材とが接合される。
このような圧電振動子は、部品素子搭載工程、封止工程、個片化工程とから主に構成されている。
In addition, in this piezoelectric vibrator, the lid member and the element mounting member on which the component elements are mounted are bonded by, for example, anodic bonding.
In such a piezoelectric vibrator, an annular first bonding metal layer provided on the outer peripheral edge of the element mounting member and an annular second bonding metal layer provided on the outer peripheral edge of the lid member are anodic bonded. The lid member and the element mounting member are joined together.
Such a piezoelectric vibrator is mainly composed of a component element mounting step, a sealing step, and an individualization step.

部品素子搭載工程は、素子搭載部材となる部分が複数、設けられている素子搭載部材ウエハの一方の主面に部品素子を搭載する工程である。   The component element mounting step is a step of mounting a component element on one main surface of an element mounting member wafer provided with a plurality of portions serving as element mounting members.

封止工程は、素子搭載部材ウエハと蓋部材ウエハとを陽極接合により接合する工程である。
素子搭載部材ウエハは、複数の素子搭載部材となる部分が設けられ、この素子搭載部材となる部分に部品素子が搭載されている。また、素子搭載部材ウエハは、素子搭載部材となる部分の外周縁部に環状の第一の接合金属層が設けられている。
蓋部材ウエハは、複数の蓋部材設けられている。また、蓋部材ウエハは、蓋部材となる部分の一方の主面に部品素子部用凹空間とその外周縁部に環状の第二の接合金属層とが設けられている。
封止工程では、蓋部材となる部分に設けられた部品素子用凹部空間を部品素子側に向けられ、素子搭載部材ウエハに設けられた第一の接合金属層と蓋部材ウエハに設けられた第二の接合金属層とが対向する位置に設けて、陽極接合により接合される。つまり、封止工程は、陽極接合により素子搭載部材ウエハと蓋部材ウエハとが接合され、部品素子が素子搭載部材となる部分と蓋部材となる部分とで気密封止される。
The sealing step is a step of bonding the element mounting member wafer and the lid member wafer by anodic bonding.
The element mounting member wafer is provided with a part to be a plurality of element mounting members, and component elements are mounted on the part to be the element mounting member. In addition, the element mounting member wafer is provided with an annular first bonding metal layer on the outer peripheral edge of the portion serving as the element mounting member.
The lid member wafer is provided with a plurality of lid members. Further, the lid member wafer is provided with a component element portion concave space on one main surface of a portion to be a lid member and an annular second bonding metal layer on an outer peripheral edge portion thereof.
In the sealing step, the component element recess space provided in the portion to be the lid member is directed to the component element side, and the first bonding metal layer provided on the element mounting member wafer and the first provided on the lid member wafer The two bonding metal layers are provided at positions facing each other and bonded by anodic bonding. In other words, in the sealing step, the element mounting member wafer and the lid member wafer are bonded by anodic bonding, and the component element is hermetically sealed between the portion serving as the element mounting member and the portion serving as the lid member.

個片化工程は、蓋部材ウエハと部品素子が搭載された素子搭載部材ウエハとが接合された状態で個々の圧電振動子となるように個片化する工程である(例えば、特許文献2参照)。   The singulation process is a process of dividing into individual piezoelectric vibrators in a state where the lid member wafer and the element mounting member wafer on which the component elements are mounted are joined (see, for example, Patent Document 2). ).

特開2005−209790号公報JP 2005-209790 A 特開平5−121985号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-121985

従来の電子デバイスは、素子搭載部材に設けられた外部接続端子の所定の一つと蓋部材が、電気的に接続されておらず、また、蓋部材が不導体であるガラスから主に構成されている。このため、従来の電子デバイスは、従来の電子デバイスと外部との摩擦で生じた静電気等により、蓋部材に電荷が蓄積され、部品素子と蓋部材との浮遊容量が安定しなくなる恐れがある。
従って、従来の電子デバイスは、部品素子と蓋部材との浮遊容量が安定しないため、その従来の電子デバイスの電気的特性が悪化する恐れがある。特に、従来の電子デバイスが、圧電デバイスの場合、部品素子と蓋部材との浮遊容量が安定しないために、その周波数が不安定になる恐れがある。
In the conventional electronic device, a predetermined one of the external connection terminals provided on the element mounting member and the lid member are not electrically connected, and the lid member is mainly composed of a non-conductive glass. Yes. For this reason, in the conventional electronic device, electric charges are accumulated in the lid member due to static electricity generated by friction between the conventional electronic device and the outside, and the stray capacitance between the component element and the lid member may not be stabilized.
Accordingly, in the conventional electronic device, since the stray capacitance between the component element and the lid member is not stable, the electrical characteristics of the conventional electronic device may be deteriorated. In particular, when the conventional electronic device is a piezoelectric device, the stray capacitance between the component element and the lid member is not stable, so that the frequency may become unstable.

また、従来の電子デバイスは、素子搭載部材と蓋部材とが陽極接合により接合され、部品素子が素子搭載部材と蓋部材とで気密封止されている。そのため、従来の電子デバイスは、陽極接合する際に接合する際に、蓋部材や素子搭載部材からガスが発生する恐れがある。従って、従来の電子デバイスは、このガスが部品素子に吸着し、その従来の電子デバイスの電気的特性が悪化する恐れがある。特に、従来の電子デバイスが圧電デバイスの場合、部品素子である圧電振動素子にガスが付着し、その周波数が不安定になる恐れがある。   In the conventional electronic device, the element mounting member and the lid member are joined by anodic bonding, and the component elements are hermetically sealed by the element mounting member and the lid member. Therefore, the conventional electronic device may generate gas from the lid member or the element mounting member when the anode is joined. Therefore, in the conventional electronic device, this gas is adsorbed by the component elements, and the electrical characteristics of the conventional electronic device may be deteriorated. In particular, when the conventional electronic device is a piezoelectric device, gas may adhere to the piezoelectric vibration element, which is a component element, and the frequency may become unstable.

従来の電子デバイスの製造方法は、素子搭載部材に設けられた外部接続端子と蓋部材とが電気的に接続されていないので、蓋部材となる部分が複数設けられた蓋部材ウエハを取り扱っている段階で、外部との摩擦で生じた静電気等により蓋部材ウエハに電荷が蓄積され、電荷が蓄積されたままの状態で従来の電子デバイスが製造される。
このため、従来の電子デバイスの製造方法は、従来の電子デバイスの蓋部材に電荷が蓄積されたままの状態となっており、部品素子と蓋部材との間の浮遊容量が安定していない恐れがあるので、電気的特性が悪化して不良が増加し、生産性が悪くなる恐れがある。
In the conventional method for manufacturing an electronic device, since the external connection terminal provided on the element mounting member and the lid member are not electrically connected, the lid member wafer having a plurality of portions serving as the lid member is handled. In the stage, charges are accumulated on the lid member wafer due to static electricity generated by friction with the outside, and the conventional electronic device is manufactured with the charges accumulated.
For this reason, in the conventional method for manufacturing an electronic device, electric charges are still accumulated in the lid member of the conventional electronic device, and the stray capacitance between the component element and the lid member may not be stable. Therefore, there is a possibility that the electrical characteristics are deteriorated, the number of defects is increased, and the productivity is deteriorated.

そこで、本発明では、蓋部材と部品素子との浮遊容量を安定させ、電気的特性が悪化しない電子デバイスと、生産性の良いこの電子デバイスの製造方法を提供することを課題とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide an electronic device in which the stray capacitance between the lid member and the component element is stabilized and the electrical characteristics are not deteriorated, and a method for manufacturing the electronic device with high productivity.

前記課題を解決するため、本願発明は、基板部と、前記基板部の一方の主面の縁部に設けられた枠部と、前記枠部の一方の主面に設けられた接続パッドと、前記基板部の他方の主面に設けられた複数の外部接続端子が備わる素子搭載部材と、前記素子搭載部材に搭載される部品素子と、非導電性材料からなり、前記枠部の一方の主面上に配置され、前記素子搭載部材に搭載された前記部品素子を気密に封止する蓋部材と、前記素子搭載部材の一方の主面と蓋部材との間に介在し、前記素子搭載部材と前記蓋部材とを接合して、前記部品素子が搭載されている空間を気密封止する樹脂と、を備えており、前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面とは反対側の主面には金属膜が設けられており、前記蓋部材の前記接続パッドに対応する位置には、前記蓋体の厚み方向に貫通する貫通孔が設けられており、前記貫通孔内には、前記金属膜と導通する導電材が充填されており、前記金属膜と前記素子搭載部材に設けられた所定の一つの前記外部接続端子とが、前記導電材と前記接続パッドとを介して電気的に接続されていることを特徴とする電子デバイスである。 In order to solve the above problems, the present invention includes a substrate portion, a frame portion provided at an edge portion of one main surface of the substrate portion, a connection pad provided on one main surface of the frame portion, An element mounting member provided with a plurality of external connection terminals provided on the other main surface of the substrate part, a component element mounted on the element mounting member, and a non-conductive material, and one main part of the frame part A lid member disposed on the surface and hermetically sealing the component element mounted on the element mounting member; and the element mounting member interposed between one main surface of the element mounting member and the lid member. And a resin that hermetically seals the space in which the component elements are mounted, and is opposite to the main surface of the lid member that faces the element mounting member. A metal film is provided on the main surface, and the position corresponding to the connection pad of the lid member Has a through-hole penetrating in the thickness direction of the lid, and the through-hole is filled with a conductive material that is electrically connected to the metal film, and is provided in the metal film and the element mounting member. The predetermined one external connection terminal is electrically connected through the conductive material and the connection pad.

前記課題を解決するため、前記金属膜が前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面にも設けられており、前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面に設けられた前記金属膜がゲッター材からなることを特徴とする。 In order to solve the above problem, the metal film is provided on a main surface of the lid member facing the element mounting member, and the metal provided on the main surface of the lid member facing the element mounting member. The film is made of a getter material.

前記課題を解決するため、後述する接続パッドに対応する位置に貫通孔が設けられている蓋部材となる部分が複数設けられた蓋部材ウエハの一方の主面に金属膜を設ける金属膜形成工程と、基板部と、前記基板部の一方の主面の縁部に設けられた枠部と、前記基板部の他方の主面に設けられた複数の外部接続端子と、前記枠部の一方の主面に設けられ前記外部接続端子のうちの所定の一つと導通する接続パッドとが備わる素子搭載部材となる部分が複数設けられている素子搭載部材ウエハに、部品素子を前記素子搭載部材となる部分毎に搭載する部品素子搭載工程と、前記素子搭載部ウエハに、前記蓋部材ウエハを、前記蓋部材ウエハの他方の主面を前記素子搭載部ウエハ側に向けつつ、各々の前記貫通孔が対応する前記接続パッドと対向するように配置し、前記素子搭載部材ウエハと前記蓋部材ウエハとを樹脂を用いて接合させ、前記部品素子が搭載されている夫々の空間を気密封止する封止工程と、各々の前記貫通孔に導電材を充填し、前記金属膜と、素子搭載部材となる部分毎の前記外部接続端子のうちの所定の一つとを、前記導電材及び前記接続パッドを介して導通させる導電工程と、前記蓋部材ウエハと前記素子搭載部材ウエハとが接合された状態で個々の電子デバイスに個片化する個片化工程と、からなることを特徴とする電子デバイスの製造方法であるIn order to solve the above-mentioned problem, a metal film forming step of providing a metal film on one main surface of a lid member wafer provided with a plurality of portions to be lid members provided with through holes at positions corresponding to connection pads described later A substrate portion, a frame portion provided on an edge of one main surface of the substrate portion, a plurality of external connection terminals provided on the other main surface of the substrate portion, and one of the frame portions the external connecting element mounting member wafer predetermined one connection pads and the element mounting member included a portion of conduction is provided with a plurality of terminals provided on the main surface, the component element becomes the element mounting member The component element mounting step for mounting each part , the cover member wafer on the element mount portion wafer, the other main surface of the cover member wafer facing the element mount portion wafer, Opposing to the corresponding connection pad Place manner, said element mounting member wafer and the lid member wafer is bonded with the resin, and a sealing step of hermetically sealing the respective spaces in which the component elements are mounted, each said through-hole of filled with conductive material, and the metal film, and Rushirubeden step to conduct a predetermined one of said external connection terminals of each portion to be the element mounting member, through the conductive material and the connection pads, An electronic device manufacturing method comprising: an individualization step of individualizing into individual electronic devices in a state where the lid member wafer and the element mounting member wafer are bonded.

このような電子デバイスは、蓋部材に設けられた金属膜が、貫通孔に充填された導電材及び接続パッドを介して、所定の一つの外部接続端子と電気的に接続されている。
従って、このような電子デバイスは、この所定の一つの外部接続端子をグラウンドと電気的に接続することで、蓋部材をグラウンドと同電位にすることができ、蓋部材と部品素子との浮遊容量を一定とすることができる。このため、このような電子デバイスは、蓋部材と部品素子との浮遊容量の影響を抑えることができ、電気的特性を安定させることができる。
In such an electronic device, a metal film provided on the lid member is electrically connected to one predetermined external connection terminal via a conductive material and a connection pad filled in the through hole.
Therefore, in such an electronic device, the lid member can be set to the same potential as the ground by electrically connecting the predetermined one external connection terminal to the ground, and the stray capacitance between the lid member and the component element can be set. Can be made constant. For this reason, such an electronic device can suppress the influence of the stray capacitance between the lid member and the component element, and can stabilize the electrical characteristics.

また、このような電子デバイスは、部品素子側の蓋部材の主面に設けられた金属膜がゲッター材からなっている。
従って、このような電子デバイスは、部品素子が封止される蓋部材と素子搭載部材とで挟まれた空間内に、素子搭載部材、蓋部材、部品素子等から放出されたガスをゲッター材である金属膜に吸着させることができる。
つまり、このような電子デバイスは、素子搭載部材、蓋部材、部品素子等から放出されたガスが、部品素子に付着することを防ぐことができる。このため、このような電子デバイスは、部品素子に放出されたガスが付着することを防ぐことができるので、部品素子にガスが付着したために生じる電子デバイスの電気的特性の悪化を防ぐことができる。
Further, in such an electronic device, the metal film provided on the main surface of the lid member on the component element side is made of a getter material.
Therefore, in such an electronic device, the gas released from the element mounting member, the lid member, the component element, etc. is obtained by the getter material in the space between the lid member and the element mounting member in which the component element is sealed. It can be adsorbed on a certain metal film.
That is, such an electronic device can prevent gas emitted from the element mounting member, the lid member, the component element, and the like from adhering to the component element. For this reason, since such an electronic device can prevent the released gas from adhering to the component element, it can prevent deterioration of the electrical characteristics of the electronic device caused by the gas adhering to the component element. .

このような電子デバイスの製造方法は、蓋部材に設けられた金属膜と所定の一つの外部接続端子とが、電気的に接続されている状態の電子デバイスを製造することができる。
従って、このような電子デバイスの製造方法は、蓋部材に設けられた金属膜の電位を一定とすることで、部品素子と蓋部材との間の浮遊容量を安定している電子デバイスの製造が可能となる。
つまり、このような電子デバイスの製造方法は、部品素子と蓋部材との浮遊容量を安定させた電子デバイスを製造することが可能なので、浮遊容量による電子デバイスの電気的特性の悪化を減少させることができ、生産性を向上させることができる。
Such an electronic device manufacturing method can manufacture an electronic device in a state in which a metal film provided on the lid member and a predetermined external connection terminal are electrically connected.
Therefore, in such a method for manufacturing an electronic device, the electric potential of the metal film provided on the lid member is made constant so that the electronic device that stabilizes the stray capacitance between the component element and the lid member can be manufactured. It becomes possible.
In other words, such an electronic device manufacturing method can manufacture an electronic device in which the stray capacitance between the component element and the lid member is stabilized, thereby reducing the deterioration of the electrical characteristics of the electronic device due to the stray capacitance. And productivity can be improved.

本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの一例を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows an example of the electronic device which concerns on 1st embodiment of this invention. (a)は、図1のA−A断面図であり、(b)は、図1のB−B断面図である。(A) is AA sectional drawing of FIG. 1, (b) is BB sectional drawing of FIG. (a)は、金属膜形成工程前の状態の一例を示す概念図であり、(b)は、金属膜形成工程後の状態の一例を示す概念図である。(A) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a metal film formation process, (b) is a conceptual diagram which shows an example of the state after a metal film formation process. (a)は、部品素子搭載工程前の状態の一例を示す概念図であり、(b)は、部品素子搭載工程後の状態の一例を示す概念図である。(A) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a component element mounting process, (b) is a conceptual diagram which shows an example of the state after a component element mounting process. (a)は、封止工程前の状態の一例を示す概念図であり、(b)は、封止工程後の状態の一例を示す概念図である。(A) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a sealing process, (b) is a conceptual diagram which shows an example of the state after a sealing process. 個片化工程後の状態の一例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows an example of the state after an individualization process. (a)は、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの中央部での断面図であり、(b)は、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの貫通孔部での断面図である。(A) is sectional drawing in the center part of the electronic device which concerns on 2nd embodiment of this invention, (b) is in the through-hole part of the electronic device which concerns on 2nd embodiment of this invention. It is sectional drawing. 本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスに用いられる蓋部材の一例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows an example of the cover member used for the electronic device which concerns on 2nd embodiment of this invention.

次に、本発明を実施するための最良の形態について説明する。なお、各図面において、各構成要素の状態をわかりやすくするために誇張して図示している。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described. In each drawing, the state of each component is exaggerated for easy understanding.

(第一の実施形態)
本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスについて説明する。なお、電子デバイスを圧電振動子として説明する。
図1は、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの一例を示す分解斜視図である。図2(a)は、図1のA−A断面図である。図2(b)は、図1のB−B断面図である。
(First embodiment)
An electronic device according to a first embodiment of the present invention will be described. The electronic device will be described as a piezoelectric vibrator.
FIG. 1 is an exploded perspective view showing an example of an electronic device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

本発明の第一の実施形態に係る電子デバイス100は、図1に示すように、部品素子である圧電振動素子130と、この部品素子である圧電振動素子130を搭載する素子搭載部材110と、部品素子である圧電振動素子130を素子搭載部材110とで封止する蓋部材120と、素子搭載部材110と蓋部材120との間に介在し素子搭載部材110と蓋部材120とを接合させる樹脂Jと、から主に構成されている。   As shown in FIG. 1, the electronic device 100 according to the first embodiment of the present invention includes a piezoelectric vibration element 130 that is a component element, an element mounting member 110 that mounts the piezoelectric vibration element 130 that is the component element, A lid member 120 that seals the piezoelectric vibration element 130 that is a component element with the element mounting member 110, and a resin that is interposed between the element mounting member 110 and the lid member 120 and joins the element mounting member 110 and the lid member 120. J is mainly composed of.

部品素子である圧電振動素子130は、図1に示すように、圧電片131と励振電極132と引き回し電極133とから主に構成されている。   As shown in FIG. 1, the piezoelectric vibration element 130 that is a component element mainly includes a piezoelectric piece 131, an excitation electrode 132, and a lead-out electrode 133.

圧電片131は、圧電材料が主に用いられ、例えば、図1に示すように、矩形形状の平板に形成されている。   The piezoelectric piece 131 is mainly made of a piezoelectric material, and is formed, for example, as a rectangular flat plate as shown in FIG.

励振電極132は、図2(a)に示すように、2つ一対となっており、圧電片131の両主面にそれぞれ設けられている。
一方の励振電極132は、図1及び図2(a)に示すように、圧電片131の一方の主面の中央部に設けられている。他方の励振電極132は、図2(a)に示すように、圧電片131の他方の主面であって、一方の励振電極132と対向する位置に設けられている。
As shown in FIG. 2A, the excitation electrode 132 is a pair of two, and is provided on both main surfaces of the piezoelectric piece 131.
One excitation electrode 132 is provided at the center of one main surface of the piezoelectric piece 131 as shown in FIGS. 1 and 2A. As shown in FIG. 2A, the other excitation electrode 132 is provided on the other main surface of the piezoelectric piece 131 and at a position facing the one excitation electrode 132.

引き回し電極133は、図2(b)に示すように、2つ一対となっている。
また、引き回し電極133は、一方の端部が所定の励振電極132と接続されている。また、引き回し電極133は、他方の端部が所定の励振電極132が設けられた圧電片131の主面と対向する主面であって、圧電片131の一方の端部に位置するように設けられている。
つまり、一方の引き回し電極133は、図2(a)に示すように、一方の端部が一方の励振電極132と接続されている。また、一方の引き回し電極133は、他方の端部が圧電片131の他方の主面であって、圧電片131の一方の短辺側に位置するように設けられている。
また、他方の引き回し電極133は、一方の端部が他方の励振電極132と接続されている。また、他方の引き回し電極133は、他方の端部が圧電片131の一方の主面であって、圧電片131の一方の短辺側に位置するように設けられている。
As shown in FIG. 2B, the routing electrodes 133 form a pair.
In addition, one end of the routing electrode 133 is connected to a predetermined excitation electrode 132. Further, the routing electrode 133 is provided so that the other end is a main surface facing the main surface of the piezoelectric piece 131 provided with the predetermined excitation electrode 132 and is located at one end of the piezoelectric piece 131. It has been.
That is, one lead electrode 133 has one end connected to one excitation electrode 132 as shown in FIG. One lead-out electrode 133 is provided so that the other end is the other main surface of the piezoelectric piece 131 and is located on one short side of the piezoelectric piece 131.
The other routing electrode 133 has one end connected to the other excitation electrode 132. The other routing electrode 133 is provided so that the other end is one main surface of the piezoelectric piece 131 and is located on one short side of the piezoelectric piece 131.

部品素子である圧電振動素子130は、図2(a)及び図2(b)に示すように、引き回し電極133が、後述する素子搭載部材110の部品素子搭載パッドPに、例えば、導電性接着剤Dで固定されて搭載される。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the piezoelectric vibrating element 130 as a component element has, for example, a conductive adhesive layer 133 attached to a component element mounting pad P of the element mounting member 110 to be described later. Fixed with agent D and mounted.

素子搭載部材110は、図1に示すように、基板部110aと枠部110bとから主に構成されている。   As shown in FIG. 1, the element mounting member 110 is mainly composed of a substrate portion 110a and a frame portion 110b.

基板部110aは、図1に示すように、矩形形状の平板に設けられている。また、基板部110aは、一方の主面に2つ一対の部品素子搭載パッドPが設けられている。また、基板部110aは、図2(a)及び図2(b)に示すように、他方の主面に複数の外部接続端子Gが設けられている。   As shown in FIG. 1, the substrate portion 110 a is provided on a rectangular flat plate. The substrate part 110a is provided with two pairs of component element mounting pads P on one main surface. Further, as shown in FIG. 2A and FIG. 2B, the substrate portion 110a is provided with a plurality of external connection terminals G on the other main surface.

部品素子搭載パッドPは、2つ一対となっており、基板部110aの一方の主面に設けられている。ここで、部品素子搭載パッドPは、例えば、図1に示すように、基板部110aの一方の短辺側に2つ並んで設けられている。   The component element mounting pads P form a pair, and are provided on one main surface of the board part 110a. Here, as shown in FIG. 1, for example, two component element mounting pads P are provided side by side on one short side of the board portion 110a.

外部接続端子Gは、例えば、4つ設けられている。外部接続端子Gは、基板部110aの他方の主面の4隅に一つずつ設けられている。
ここで、所定の2つの外部接続端子Gは、2つ一対の部品素子搭載パッドPと電気的に接続されている。また、所定の2つの外部接続端子Gは、信号出力端子の機能を備えている。
また、所定の他の一つの外部接続端子Gは、後述する枠部110bに設けられている接続パッドSと電気的に接続されている。また、この所定の他の一つの外部接続端子Gは、グラウンド端子の機能を備えている。
For example, four external connection terminals G are provided. One external connection terminal G is provided at each of the four corners of the other main surface of the substrate portion 110a.
Here, the two predetermined external connection terminals G are electrically connected to two pairs of component element mounting pads P. The two predetermined external connection terminals G have a function of a signal output terminal.
The other predetermined external connection terminal G is electrically connected to a connection pad S provided on a frame part 110b described later. Further, the predetermined other one external connection terminal G has a function of a ground terminal.

枠部110bは、図1に示すように、矩形形状の平板であって、枠形状に設けられている。
また、枠部110bは、図1に示すように、一方の主面であって、4隅の内の一つに接続パッドSが設けられている。この接続パッドSは、所定の他の一つの外部接続端子Gと電気的に接続された状態となっている。
As shown in FIG. 1, the frame part 110b is a rectangular flat plate and is provided in a frame shape.
Further, as shown in FIG. 1, the frame part 110 b is one main surface, and a connection pad S is provided at one of the four corners. The connection pad S is in a state of being electrically connected to one other predetermined external connection terminal G.

素子搭載部材110は、図1に示すように、基板部110aの一方の主面と枠部110bの他方の主面とが対向するように設けられる。また、素子搭載部材110は、図1に示すように、基板部110aの一方の主面に枠形状の枠部110bが設けられて、一方の主面に部品素子用凹部空間111が設けられている。
また、素子搭載部材110は、図1に示すように、一方の主面に設けられた部品素子用凹部空間111の底面に、2つ一対の部品素子搭載パッドPが設けられている。
また、素子搭載部材110は、図1に示すように、部品素子用凹部空間111が設けられた一方の主面であって、4隅の内の一つに接続パッドSが設けられている。また、素子搭載部材110は、他方の主面の4隅に一つずつ外部接続端子Gが設けられている。
また、素子搭載部材110は、部品素子搭載パッドPと所定の2つの外部接続端子Gとが電気的に接続されており、接続パッドSと所定の他の一つの外部接続端子Gとが電気的に接続された状態となっている。
As shown in FIG. 1, the element mounting member 110 is provided so that one main surface of the substrate portion 110a and the other main surface of the frame portion 110b face each other. Further, as shown in FIG. 1, the element mounting member 110 has a frame-shaped frame portion 110b provided on one main surface of the substrate portion 110a, and a component element recessed space 111 provided on one main surface. Yes.
In addition, as shown in FIG. 1, the element mounting member 110 is provided with two pairs of component element mounting pads P on the bottom surface of the component element recess space 111 provided on one main surface.
Further, as shown in FIG. 1, the element mounting member 110 is one main surface provided with the component element recess space 111, and a connection pad S is provided in one of the four corners. The element mounting member 110 is provided with external connection terminals G one by one at the four corners of the other main surface.
In the element mounting member 110, the component element mounting pad P and two predetermined external connection terminals G are electrically connected, and the connection pad S and one predetermined other external connection terminal G are electrically connected. It is in a connected state.

蓋部材120は、例えば、非導電性材料であるシリコンが用いられている。なお、ここでは蓋部材120にシリコンが用いられている場合について説明しているが、例えば、ガラス、水晶、プラスチック等の非導電性材料のいずれか一つから選択して用いてもよい。
また、蓋部材120は、図1に示すように、矩形形状の平板に設けられている。
また、蓋部材120は、図2(b)に示すように、一方の主面から他方の主面に向かって貫通孔Hが設けられており、この貫通孔Hに導電材DZが埋め込まれている。
また、蓋部材120は、図1及び図2(a)、図2(b)に示すように、方の主面に金属膜Kが設けられている。
For example, silicon that is a nonconductive material is used for the lid member 120. Although the case where silicon is used for the lid member 120 is described here, for example, any one of non-conductive materials such as glass, crystal, and plastic may be selected and used.
The lid member 120 is provided on a rectangular flat plate as shown in FIG.
Further, as shown in FIG. 2B, the cover member 120 has a through hole H provided from one main surface to the other main surface, and the conductive material DZ is embedded in the through hole H. Yes.
Further, as shown in FIGS. 1, 2 (a), and 2 (b), the lid member 120 is provided with a metal film K on its main surface.

貫通孔Hは、例えば、図1に示すように、蓋部材120の4隅の内にの一つに設けられている。また、貫通孔Hは、図1及び図3(b)に示すように、接続パッドSと対向する位置に設けられている。
また、貫通孔Hには、導電材DZが埋め込まれている。
The through-hole H is provided in one of the four corners of the lid member 120 as shown in FIG. Moreover, the through-hole H is provided in the position facing the connection pad S, as shown in FIG.1 and FIG.3 (b).
Further, a conductive material DZ is embedded in the through hole H.

導電材DZは、例えば、導電性接着剤が用いられる。この導電材DZは、蓋部材120に設けられた貫通孔Hに埋め込まれている。
つまり、導電材DZは、貫通孔Hに埋め込まれているので、蓋部材120の一方の主面側の貫通孔Hの開口部と蓋部材120の他方の主面側の貫通孔Hの開口部とを接続する、内部配線の役割を果たす。
なお、ここでは、導電材DZが導電性接着剤である場合について説明しているが、蓋部材120の一方の主面側の貫通孔Hの開口部と蓋部材120の他方の主面側の貫通孔Hの開口部とが、電気的に接続することができれば、例えば、半田、又は、銅などの導電性の金属であってもよい。
For example, a conductive adhesive is used for the conductive material DZ. This conductive material DZ is embedded in a through hole H provided in the lid member 120.
That is, since the conductive material DZ is embedded in the through hole H, the opening of the through hole H on the one main surface side of the lid member 120 and the opening of the through hole H on the other main surface side of the lid member 120. It plays the role of internal wiring.
Here, the case where the conductive material DZ is a conductive adhesive is described, but the opening of the through hole H on one main surface side of the lid member 120 and the other main surface side of the lid member 120 are described. As long as the opening of the through hole H can be electrically connected, for example, a conductive metal such as solder or copper may be used.

金属膜Kは、蓋部材120の一方の主面に設けられている。また、金属膜Kは、蓋部材120に設けられた貫通孔Hの開口部にかかるように設けられている。ここで、金属膜Kは、例えば、図1に示すように、貫通孔Hの開口部にかかるように、蓋部材120の一方の主面の全面に設けられている。
なお、ここでは、金属膜Kが蓋部材120の一方の主面に設けられている場合について説明しているが、蓋部材120の一方の主面及び貫通孔Hの内部に設けてもよい。
なお、ここでは、金属膜Kが蓋部材120の一方の主面の全面に設けられている場合について説明しているが、蓋部材120に電荷が蓄積されることを防ぐことができれば、例えば、蓋部材120の一方の主面に設けられた金属膜Kを圧電振動素子130と重なる位置に設けてもよい。この場合は、金属膜Kが貫通孔Hの開口部にかかるように設けられる。また、例えば、圧電振動素子130の位置と対応するように、蓋部材120の他方の主面、つまり、蓋部材120の圧電振動素子130側の主面に設けてもよい。つまり、金属膜Kを圧電振動素子130の圧電振動素子130側の主面であって、圧電振動素子130の主面と対向する位置に設けてもよい。この場合は、金属膜Kが貫通孔Hの開口部にかかるように設けられる。
The metal film K is provided on one main surface of the lid member 120. Further, the metal film K is provided so as to cover the opening of the through hole H provided in the lid member 120. Here, for example, as shown in FIG. 1, the metal film K is provided on the entire surface of one main surface of the lid member 120 so as to cover the opening of the through hole H.
In addition, although the case where the metal film K is provided on one main surface of the lid member 120 is described here, the metal film K may be provided on one main surface of the lid member 120 and the inside of the through hole H.
In addition, although the case where the metal film K is provided on the entire surface of one main surface of the lid member 120 is described here, if it is possible to prevent charge from being accumulated in the lid member 120, for example, The metal film K provided on one main surface of the lid member 120 may be provided at a position overlapping the piezoelectric vibration element 130. In this case, the metal film K is provided so as to cover the opening of the through hole H. Further, for example, it may be provided on the other main surface of the lid member 120, that is, the main surface of the lid member 120 on the piezoelectric vibration element 130 side so as to correspond to the position of the piezoelectric vibration element 130. In other words, the metal film K may be provided on the main surface of the piezoelectric vibration element 130 on the piezoelectric vibration element 130 side, at a position facing the main surface of the piezoelectric vibration element 130. In this case, the metal film K is provided so as to cover the opening of the through hole H.

蓋部材130は、一方の主面に設けられた金属膜Kが、導電材DZと電気的に接続された状態となっている。
また、蓋部材130は、図1及び図2(a),図2(b)に示すように、後述する樹脂Jにより、金属膜Kが設けられていない他方の主面が、接続パッドSが設けられた素子搭載部材110の一方の主面と接合されている。
The lid member 130 is in a state in which the metal film K provided on one main surface is electrically connected to the conductive material DZ.
Further, as shown in FIGS. 1, 2 (a), and 2 (b), the lid member 130 has a connection pad S formed on the other main surface on which the metal film K is not provided by a resin J described later. It is joined to one main surface of the provided element mounting member 110.

樹脂Jは、図2(a)及び図2(b)に示すように、素子搭載部材110と蓋部材120との間に介在している。また、樹脂Jは、例えば、図1に示すように、素子搭載部材110の一方の主面の縁部であって、接続パッドSにかからない位置に、環状に設けられている。
樹脂Jは、例えば、素子搭載部材110の一方の主面に塗布されて、素子搭載部材110と蓋部材120とが挟まれた状態で硬化することで、素子搭載部材110と蓋部材120とを接合させている。
As shown in FIGS. 2A and 2B, the resin J is interposed between the element mounting member 110 and the lid member 120. Further, for example, as shown in FIG. 1, the resin J is provided in an annular shape at a position on one of the main surfaces of the element mounting member 110 and not on the connection pad S.
For example, the resin J is applied to one main surface of the element mounting member 110 and is cured in a state where the element mounting member 110 and the lid member 120 are sandwiched between the element mounting member 110 and the lid member 120. It is made to join.

このような第一の実施形態に係る電子デバイス100は、樹脂Jにより、接続パッドSが設けられた素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材120の他方の主面とが接合され、素子搭載部材110に搭載された部品素子である圧電振動素子130が、素子搭載部材110と蓋部材120とで気密封止された状態となっている。
また、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイス100は、蓋部材120の一方の主面に設けられた金属膜Kと所定の他の一つの外部接続端子Gとが、貫通孔Hに埋め込まれた導電材DZと接続パッドSとを介して、電気的に接続されている。
つまり、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイス100は、所定の他の一つの外部接続端子Gをグラウンドに接続することで、蓋部材120をグラウンドと同電位にすることができ、部品素子である圧電振動素子130と蓋部材120との間の浮遊容量を一定とすることができる。このため、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイス100は、部品素子である圧電振動素子130と蓋部材120との間の浮遊容量を一定とすることができるので、この浮遊容量による影響を抑えることができ、電気的特性を安定させることができる。
In the electronic device 100 according to the first embodiment, the resin J joins one main surface of the element mounting member 110 provided with the connection pads S and the other main surface of the lid member 120 to form an element. The piezoelectric vibration element 130, which is a component element mounted on the mounting member 110, is hermetically sealed with the element mounting member 110 and the lid member 120.
Further, in the electronic device 100 according to the first embodiment of the present invention, the metal film K provided on one main surface of the lid member 120 and the predetermined other external connection terminal G are formed in the through hole H. It is electrically connected via the embedded conductive material DZ and the connection pad S.
That is, in the electronic device 100 according to the first embodiment of the present invention, the lid member 120 can be set to the same potential as the ground by connecting one other predetermined external connection terminal G to the ground. The stray capacitance between the piezoelectric vibration element 130 that is an element and the lid member 120 can be made constant. For this reason, since the electronic device 100 according to the first embodiment of the present invention can make the stray capacitance between the piezoelectric vibration element 130 that is a component element and the lid member 120 constant, the influence of this stray capacitance. Can be suppressed, and electrical characteristics can be stabilized.

次に、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、金属膜形成工程、部品素子搭載工程、封止工程、導電工程、個片化工程、から主に構成されている。
図3(a)は、金属膜形成工程前の状態の一例を示す概念図である。図3(b)は、金属膜形成工程後の状態の一例を示す概念図である。図4(a)は、部品素子搭載工程前の状態の一例を示す概念図である。図4(b)は、部品素子搭載工程後の状態の一例を示す概念図である。図5(a)は、封止工程前の状態の一例を示す概念図である。図5(b)は、封止工程後の状態の一例を示す概念図である。図6は、個片化工程後の状態の一例を示す概念図である。
Next, an electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention will be described.
The electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention mainly includes a metal film forming step, a component element mounting step, a sealing step, a conductive step, and an individualization step.
Fig.3 (a) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a metal film formation process. FIG. 3B is a conceptual diagram showing an example of a state after the metal film forming step. Fig.4 (a) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a component element mounting process. FIG. 4B is a conceptual diagram showing an example of a state after the component element mounting process. Fig.5 (a) is a conceptual diagram which shows an example of the state before a sealing process. FIG.5 (b) is a conceptual diagram which shows an example of the state after a sealing process. FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating an example of a state after the singulation process.

(金属膜形成工程)
金属膜形成工程は、図3(a)及び図3(b)に示すように、貫通孔Hが設けられている蓋部材120となる部分が、複数、設けられた蓋部材ウエハWHの主面に、金属膜Kを設ける工程である。
(Metal film forming process)
In the metal film forming step, as shown in FIGS. 3A and 3B, the main surface of the lid member wafer WH provided with a plurality of portions to be the lid member 120 provided with the through holes H is provided. In this step, the metal film K is provided.

蓋部材ウエハWHは、例えば、シリコンが用いられている。なお、ここでは、蓋部材ウエハWHがシリコンからなる場合について説明しているが、例えば、ガラス、水晶、プラスチック等の非導電性材料のいずれか一つから選択して用いてもよい。
蓋部材ウエハWHは、図3(a)に示すように、複数の蓋部材120となる部分が設けられている。
蓋部材120となる部分は、図3(a)に示すように、矩形形状の平板となっており、4隅の内の一つに貫通孔Hが設けられている。
この貫通孔Hは、例えば、ドライエッチングにより形成されている。なお、ここでは、貫通孔Hがドライエッチングにより形成される場合について説明しているが、例えば、サンドブラストにより形成してもよい。また、例えば、ウエットエッチング等の化学反応を用いた化学加工により形成してもよい。
For example, silicon is used for the lid member wafer WH. Although the case where the lid member wafer WH is made of silicon has been described here, for example, any one of non-conductive materials such as glass, crystal, and plastic may be used.
As shown in FIG. 3A, the lid member wafer WH is provided with portions to be a plurality of lid members 120.
As shown in FIG. 3A, the portion to be the lid member 120 is a rectangular flat plate, and a through hole H is provided in one of the four corners.
The through hole H is formed by dry etching, for example. Although the case where the through hole H is formed by dry etching is described here, it may be formed by, for example, sand blasting. Further, for example, it may be formed by chemical processing using a chemical reaction such as wet etching.

金属膜形成工程では、金属膜Kが、例えば、スパッタを用いて形成される。なお、金属膜Kは、例えば、蒸着機やめっき等により形成してもよい。
金属膜形成工程では、例えば、図3(b)に示すように、金属膜Kが貫通孔Hの開口部とかかるように、蓋部材120となる部分の一方の主面の全面に設けられる。
なお、ここでは、金属膜Kが、図3(b)に示すように、蓋部材110となる部分の一方の主面のみに設けられている場合について図示しているが、例えば、蓋部材ウエハWHの一方の主面の全面に形成してもよい。
なお、金属膜形成工程では、後述する導電工程に於いて、導電材DZと貫通孔H内の面との接着強度を上げるために、例えば、金属膜Kに用いられる金属からなる金属層を貫通孔H内の面に設けてもよい。
In the metal film forming step, the metal film K is formed using, for example, sputtering. The metal film K may be formed by, for example, a vapor deposition machine or plating.
In the metal film forming step, for example, as shown in FIG. 3B, the metal film K is provided on the entire surface of one main surface of the portion that becomes the lid member 120 so as to cover the opening of the through hole H.
Here, as shown in FIG. 3B, the case where the metal film K is provided only on one main surface of the portion that becomes the lid member 110 is illustrated, but for example, the lid member wafer You may form in the whole surface of one main surface of WH.
In the metal film forming step, in order to increase the adhesive strength between the conductive material DZ and the surface in the through hole H in the conductive step described later, for example, a metal layer made of metal used for the metal film K is penetrated. You may provide in the surface in the hole H.

(部品素子搭載工程)
部品素子搭載工程は、図4(a)及び図4(b)に示すように、一方の主面側に設けられた部品素子搭載パッドPと接続パッドSを備え、他方の主面側に複数の外部接続端子Gを備えた素子搭載部材110となる部分が複数設けられている素子搭載部材ウエハWTに、部品素子130を搭載する工程である。
(Component element mounting process)
As shown in FIGS. 4A and 4B, the component element mounting process includes component element mounting pads P and connection pads S provided on one main surface side, and a plurality of components on the other main surface side. This is a step of mounting the component element 130 on the element mounting member wafer WT provided with a plurality of portions to be the element mounting member 110 having the external connection terminals G.

素子搭載部材ウエハWTは、図4(a)に示すように、複数の素子搭載部材110となる部分が設けられている。   As shown in FIG. 4A, the element mounting member wafer WT is provided with a portion to be a plurality of element mounting members 110.

この素子搭載部材110となる部分は、図4(a)に示すように、一方の主面に部品素子用凹部空間111と接続パッドSとが設けられている。また、部品素子用凹部空間111の底面には、部品素子搭載パッドPが設けられている。また、素子搭載部材110となる部分は、他方の主面に複数の外部接続端子Gが設けられている。   As shown in FIG. 4A, the part to be the element mounting member 110 is provided with a component element recessed space 111 and a connection pad S on one main surface. A component element mounting pad P is provided on the bottom surface of the component element recess space 111. In addition, the part to be the element mounting member 110 is provided with a plurality of external connection terminals G on the other main surface.

部品素子は、前述したように圧電振動素子130である。
部品素子である圧電振動素子130は、図4(a)に示すように、圧電片131と励振電極132と引き回し電極133とから主に構成されている。
The component element is the piezoelectric vibration element 130 as described above.
As shown in FIG. 4A, the piezoelectric vibration element 130 that is a component element is mainly composed of a piezoelectric piece 131, an excitation electrode 132, and a lead-out electrode 133.

部品素子搭載工程では、図4(a)及び図4(b)に示すように、素子搭載部材110となる部分に設けられた部品素子搭載パッドPに、部品素子である圧電振動素子130に設けられた引き回し電極133が、例えば、導電性接着剤(図示せず)により固定され搭載される。
従って、部品素子搭載工程では、部品素子である圧電振動素子130に設けられた2つ一対の励振電極132と所定の2つの外部接続端子Gとが、所定の引き回し電極133と所定の部品素子搭載パッドPとを介し電気的に接続された状態となる。
In the component element mounting step, as shown in FIG. 4A and FIG. 4B, the component vibration element 130 which is a component element is provided on the component element mounting pad P provided in the portion to be the element mounting member 110. The drawn routing electrode 133 is fixed and mounted by, for example, a conductive adhesive (not shown).
Accordingly, in the component element mounting step, the two pairs of excitation electrodes 132 and the predetermined two external connection terminals G provided on the piezoelectric vibration element 130 as the component element are connected to the predetermined lead-out electrode 133 and the predetermined component element mounting. It is in a state of being electrically connected via the pad P.

(封止工程)
封止工程は、図5(a)及び図5(b)に示すように、前記部品素子130が前記素子搭載部材110となる部分に搭載されている前記素子搭載部材ウエハWTと前記蓋部材ウエハWHとを樹脂Jを用いて接合させる工程である。
(Sealing process)
In the sealing step, as shown in FIGS. 5A and 5B, the element mounting member wafer WT and the lid member wafer on which the component element 130 is mounted on the portion to become the element mounting member 110 are used. This is a step of bonding WH with resin J.

素子搭載部材ウエハWTは、前述したように、複数の素子搭載部材110となる部分が複数設けられている。
素子搭載部材ウエハWTは、図5(a)に示すように、素子搭載部材110となる部品素子用凹部空間111の底面に設けられた部品素子搭載パッドPに、部品素子である圧電振動素子130に設けられた引き回し電極133が、例えば、導電性接着剤(図示せず)により、固定されて搭載されている。
As described above, the element mounting member wafer WT is provided with a plurality of portions to be the plurality of element mounting members 110.
As shown in FIG. 5A, the element mounting member wafer WT has a piezoelectric vibration element 130 as a component element on a component element mounting pad P provided on the bottom surface of the component element recess space 111 to be the element mounting member 110. The lead-out electrode 133 provided on is fixed and mounted by, for example, a conductive adhesive (not shown).

蓋部材ウエハWHは、前述したように、複数の蓋部材120となる部分が複数設けられている。
また、蓋部材ウエハWHは、図5(a)に示すように、蓋部材120となる部分に設けられた貫通孔Hにかかるように、一方の主面に金属膜Kが設けられている。
As described above, the lid member wafer WH is provided with a plurality of portions to be the plurality of lid members 120.
Further, as shown in FIG. 5A, the lid member wafer WH is provided with a metal film K on one main surface so as to cover a through hole H provided in a portion that becomes the lid member 120.

まず、封止工程では、図5(a)に示すように、硬化前の樹脂Jが、素子搭載部材110となる部分の一方の主面の縁部であって環状に設けられる。また、硬化前の樹脂Jは、接続パッドSと接触しないように設けられている。
次に、封止工程では、素子搭載部材ウエハWTの一方の主面と蓋部材ウエハWHの他方の主面とで硬化前の樹脂Jを挟んだ状態で、樹脂Jを硬化させ、素子搭載部材ウエハWTの一方の主面と蓋部材ウエハWHの他方の主面とを接合させる。このとき、蓋部材ウエハWHに設けられたHと素子搭載部材WTに設けられた接続パッドSとは対向する位置に設けられている。
つまり、封止工程では、素子搭載部材ウエハWTの一方の主面と蓋部材ウエハWHの他方の主面とが樹脂Jにより接合され、素子搭載部材ウエハWTの一方の主面に設けられた部品素子用凹部111内に搭載された部品素子である圧電振動素子130が封止される。
また、このとき、素子搭載部材110となる部分の一方の主面に設けられた接続パッドSが、蓋部材ウエハWHに設けられた貫通孔Hの底面となる。
First, in the sealing step, as shown in FIG. 5A, the resin J before curing is provided in an annular shape on the edge of one main surface of the portion to be the element mounting member 110. Further, the resin J before curing is provided so as not to contact the connection pad S.
Next, in the sealing step, the resin J is cured in a state where the uncured resin J is sandwiched between one main surface of the element mounting member wafer WT and the other main surface of the lid member wafer WH, and the element mounting member One main surface of wafer WT and the other main surface of lid member wafer WH are joined. At this time, H provided on the lid member wafer WH and the connection pads S provided on the element mounting member WT are provided at positions facing each other.
That is, in the sealing process, one main surface of the element mounting member wafer WT and the other main surface of the lid member wafer WH are joined by the resin J, and the component provided on one main surface of the element mounting member wafer WT. The piezoelectric vibration element 130 which is a component element mounted in the element recess 111 is sealed.
At this time, the connection pad S provided on one main surface of the portion to be the element mounting member 110 becomes the bottom surface of the through hole H provided in the lid member wafer WH.

(導電工程)
導電工程は、前記貫通孔Hに導電材DZを充填する工程である。
(Conductive process)
The conductive process is a process of filling the through hole H with the conductive material DZ.

貫通孔Hは、蓋部材ウエハWHの蓋部材120に設けられている。
蓋部材ウエハWHは、部品素子である圧電振動素子130が部品素子用凹部空間111内に搭載されている素子搭載部材ウエハWTと樹脂Jにより接合されている。
このとき、前述したように、素子搭載部材110となる部分の一方の主面に設けられた接続パッドSが貫通孔Hの底面となっている。
The through hole H is provided in the lid member 120 of the lid member wafer WH.
The lid member wafer WH is bonded to the element mounting member wafer WT in which the piezoelectric vibration element 130 which is a component element is mounted in the component element recess space 111 by the resin J.
At this time, as described above, the connection pad S provided on one main surface of the portion to be the element mounting member 110 is the bottom surface of the through hole H.

導電工程では、導電材DZとして、例えば、導電性接着剤を用いる場合、底面が接続パッドSとなっている貫通孔Hに導電材DZである導電性接着剤を硬化する前の状態で埋め込むように充填し、硬化させる。
従って、導電工程では、蓋部材120の一方の主面に設けられた金属膜Kと貫通孔Hの底面に相当する素子搭載部材110に設けられた接続パッドSとが、硬化前の状態で貫通孔Hに充填され硬化した導電材DZである導電性接着剤を介して、電気的に接続された状態にすることができる。
In the conductive process, for example, when a conductive adhesive is used as the conductive material DZ, the conductive adhesive as the conductive material DZ is embedded in the through hole H whose bottom surface is the connection pad S in a state before curing. Fill and cure.
Therefore, in the conductive process, the metal film K provided on one main surface of the lid member 120 and the connection pads S provided on the element mounting member 110 corresponding to the bottom surface of the through hole H penetrate in a state before curing. The conductive material DZ filled and hardened in the holes H can be electrically connected via a conductive adhesive.

なお、ここでは、導電材DZである場合について説明しているが、蓋部材120の一方の主面側の貫通孔Hの開口部と蓋部材120の他方の主面側の貫通孔Hの開口部とが、電気的に接続することができれば、例えば、半田、又は、銅などの導電性の金属であってもよい。   In addition, although the case where it is the electrically conductive material DZ is demonstrated here, the opening part of the through-hole H of the one main surface side of the cover member 120 and the opening of the through-hole H of the other main surface side of the cover member 120 are demonstrated. As long as the part can be electrically connected, it may be, for example, solder or a conductive metal such as copper.

(個片化工程)
個片化工程は、図6に示すように、前記蓋部材ウエハWHと前記素子搭載部材ウエハWTとが接合された状態で個々の電子デバイス100に個片化する工程である。
(Individualization process)
As illustrated in FIG. 6, the singulation process is a process of singulating into individual electronic devices 100 in a state where the lid member wafer WH and the element mounting member wafer WT are bonded.

蓋部材ウエハWHは、複数の蓋部材120となる部分が設けられている。
素子搭載部材ウエハWTは、複数の素子搭載部材110となる部分が設けられている。また、素子搭載部材ウエハWTは、一方の主面に設けられた部品素子用凹部空間111内に、部品素子である圧電振動素子130が設けられている。
また、素子搭載部材ウエハWTは、一方の主面と蓋部材ウエハWHの他方の主面とが樹脂Jにより接合され、部品素子である圧電振動素子130を封止している。
The lid member wafer WH is provided with portions to be a plurality of lid members 120.
The element mounting member wafer WT is provided with portions to be a plurality of element mounting members 110. In addition, the element mounting member wafer WT is provided with a piezoelectric vibration element 130 which is a component element in a concave portion 111 for component elements provided on one main surface.
Further, in the element mounting member wafer WT, one main surface and the other main surface of the lid member wafer WH are joined by the resin J to seal the piezoelectric vibration element 130 which is a component element.

個片化工程では、蓋部材ウエハWHと素子搭載部材ウエハWTが上記のように接合された状態で、個々の電子デバイス100となるように、例えば、ワイヤソーが用いられて切断される。
なお、ここでは、ワイヤソーを用いて個片化している場合について説明しているが、個々の電子デバイスに切断することができれば、例えば、ダイシング装置であってもよい。
In the individualization step, for example, a wire saw is used to cut the lid member wafer WH and the element mounting member wafer WT so that the individual electronic devices 100 are formed.
In addition, although the case where it separated into pieces using a wire saw is demonstrated here, if it can be cut | disconnected to each electronic device, a dicing apparatus may be used, for example.

このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、蓋部材120となる部分に設けられた貫通孔Hに硬化前の状態で導電材DZを埋め込み硬化させることで、蓋部材120となる部分に設けられた金属膜Kと外部接続端子Gとが電気的に接続された状態とすることができる。
従って、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、蓋部材120に設けられた金属膜Kの電位を一定とすることができ、部品素子である圧電振動素子130と蓋部材120との間の浮遊容量が安定した電子デバイスの製造が可能となる。
つまり、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、部品素子である圧電振動素子130と蓋部材120との浮遊容量を安定した電子デバイスを製造することができるので、浮遊容量による電子デバイスの電気的特性の悪化を減少させることができ、生産性を向上させることができる。
Such a method of manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention includes a method in which a conductive material DZ is embedded and cured in a through-hole H provided in a portion to be a lid member 120 in a state before being cured. The metal film K provided on the portion to be the member 120 and the external connection terminal G can be in an electrically connected state.
Therefore, in the electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, the potential of the metal film K provided on the lid member 120 can be made constant, and the piezoelectric vibration element 130 which is a component element. The electronic device with a stable stray capacitance between the cover member 120 and the lid member 120 can be manufactured.
That is, the electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention can manufacture an electronic device with stable stray capacitance between the piezoelectric vibrating element 130 and the lid member 120 as component elements. Deterioration of electrical characteristics of the electronic device due to stray capacitance can be reduced, and productivity can be improved.

(第二の実施形態)
本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスについて説明する。なお、電子デバイスを、圧電振動子として説明する。
図7(a)は、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの中央部での断面図である。図7(b)は、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの貫通孔部での断面図である。図8は、蓋部材の状態の一例を示す概念図である。
本発明の第二の実施形態に係る電子デバイス200は、図7(a)及び図7(b)に示すように、金属膜Kが蓋部材220の部品素子側の主面に設けられている点で第一の実施形態と異なる。
(Second embodiment)
An electronic device according to a second embodiment of the present invention will be described. The electronic device will be described as a piezoelectric vibrator.
FIG. 7A is a cross-sectional view at the center of the electronic device according to the second embodiment of the present invention. FIG.7 (b) is sectional drawing in the through-hole part of the electronic device which concerns on 2nd embodiment of this invention. FIG. 8 is a conceptual diagram showing an example of the state of the lid member.
In the electronic device 200 according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 7A and 7B, the metal film K is provided on the main surface of the lid member 220 on the component element side. This is different from the first embodiment.

蓋部材220は、例えば、非導電性材料であるシリコンが用いられている。なお、ここでは蓋部材220にシリコンが用いられている場合について説明しているが、例えば、ガラス、水晶、プラスチック等の非導電性材料のいずれか一つから選択して用いてもよい。
また、蓋部材220は、図7(a)及び図8に示すように、矩形形状の平板に設けられている。
また、蓋部材220は、図7(a)及び図8に示すように、一方の主面から他方の主面に向かって貫通孔Hが設けられており、この貫通孔Hに導電材DZが埋め込まれている。
また、蓋部材220は、部品素子である圧電振動素子130側の主面に金属膜Kが設けられている。
The lid member 220 is made of, for example, silicon that is a non-conductive material. Although the case where silicon is used for the lid member 220 is described here, for example, any one of non-conductive materials such as glass, crystal, and plastic may be used.
The lid member 220 is provided on a rectangular flat plate as shown in FIGS.
Further, as shown in FIGS. 7A and 8, the lid member 220 has a through hole H provided from one main surface to the other main surface, and the conductive material DZ is provided in the through hole H. Embedded.
The lid member 220 is provided with a metal film K on the main surface on the side of the piezoelectric vibration element 130 which is a component element.

貫通孔Hは、例えば、図8に示すように、蓋部材220の4隅の内の一つに設けられている。この貫通孔Hは、図7(b)に示すように、素子搭載部材110に設けられた接続パッドSと対向する位置に設けられている。また、この貫通孔Hは、図7(b)に示すように、この開口部が接続パッドSより小さい大きさとなっている。
また、貫通孔Hには、例えば、図7(b)に示すように、導電材DZが埋め込まれている。
For example, as shown in FIG. 8, the through hole H is provided in one of the four corners of the lid member 220. As shown in FIG. 7B, the through hole H is provided at a position facing the connection pad S provided in the element mounting member 110. Further, the opening H has a size smaller than the connection pad S as shown in FIG. 7B.
Further, for example, as shown in FIG. 7B, a conductive material DZ is embedded in the through hole H.

導電材DZは、例えば、導電性接着剤が用いられる。この導電材DZである導電性接着剤は、図7(b)に示すように、蓋部材220に設けられた貫通孔Hに埋め込まれている。
つまり、この導電材DZである導電性接着剤は、貫通孔Hに埋め込まれているので、蓋部材220の一方の主面側の貫通孔Hの開口部と蓋部材220の他方の主面側の貫通孔Hの開口部とを電気的に接続する、内部配線の役割を果たす。
なお、ここでは、導電材DZが導電性接着剤である場合について説明しているが、蓋部材220の一方の主面側の貫通孔Hの開口部と蓋部材220の他方の主面側の貫通孔Hの開口部とが、電気的に接続することができれば、例えば、半田、又は、銅などの導電性の金属であってもよい。
For example, a conductive adhesive is used for the conductive material DZ. The conductive adhesive as the conductive material DZ is embedded in the through hole H provided in the lid member 220 as shown in FIG.
That is, since the conductive adhesive as the conductive material DZ is embedded in the through hole H, the opening of the through hole H on the one main surface side of the lid member 220 and the other main surface side of the lid member 220. It plays the role of an internal wiring that electrically connects the opening of the through hole H.
Here, the case where the conductive material DZ is a conductive adhesive is described, but the opening of the through hole H on one main surface side of the lid member 220 and the other main surface side of the lid member 220 are described. As long as the opening of the through hole H can be electrically connected, for example, a conductive metal such as solder or copper may be used.

金属膜Kは、導電性材料であって、ゲッター材が用いられている。ここで、ゲッター材は、例えば、チタンとする。
金属膜Kは、部品素子である圧電振動素子130側の蓋部材220の主面に設けられている。ここで、部品素子である圧電振動素子130側の蓋部材220の主面を蓋部材220の他方の主面とする。
また、金属膜Kは、蓋部材220に設けられた貫通孔Hにかかるように設けられている。
また、金属膜Kは、部品素子である圧電振動素子130の主面と対向する位置に設けられており、部品素子である圧電振動素子130の主面より大きい大きさとなっている。
The metal film K is a conductive material, and a getter material is used. Here, the getter material is, for example, titanium.
The metal film K is provided on the main surface of the lid member 220 on the piezoelectric vibration element 130 side which is a component element. Here, the main surface of the lid member 220 on the piezoelectric vibration element 130 side which is a component element is set as the other main surface of the lid member 220.
Further, the metal film K is provided so as to cover the through hole H provided in the lid member 220.
In addition, the metal film K is provided at a position facing the main surface of the piezoelectric vibration element 130 that is a component element, and is larger than the main surface of the piezoelectric vibration element 130 that is a component element.

つまり、本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は、図7(a)及び図7(b)に示すように、蓋部材220の他方の主面と素子搭載部材110の一方の主面とが樹脂Jにより接合されたとき、他方の主面に設けられた金属膜Kと素子搭載部材110の一方の主面に設けられた接続パッドSとが導電材DZを介して、電気的に接続された状態となる。   That is, in the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 7A and 7B, the other main surface of the lid member 220 and one main surface of the element mounting member 110 are used. When the surfaces are joined by the resin J, the metal film K provided on the other main surface and the connection pads S provided on one main surface of the element mounting member 110 are electrically connected via the conductive material DZ. It will be connected to.

本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は、他方の主面に金属膜Kが設けられた蓋部材220と一方の主面に接続パッドSが設けられた素子搭載部材110とが樹脂Jにより接合され、蓋部材220に設けられた貫通孔Hに埋め込まれた導電材DZにより、金属膜Kと接続パッドSとが電気的に接続された状態となっている。従って、本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は第一の実施形態と同じ効果を奏する。   In the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention, the lid member 220 provided with the metal film K on the other main surface and the element mounting member 110 provided with the connection pad S on one main surface are made of resin. The metal film K and the connection pad S are electrically connected by the conductive material DZ joined by J and embedded in the through hole H provided in the lid member 220. Therefore, the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention has the same effect as the first embodiment.

また、本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は、蓋部材220の部品素子側の主面に設けられた金属膜Kがゲッター材からなっている。
従って、本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は、部品素子である圧電振動素子130が封止される蓋部材220と素子搭載部材110とで挟まれた空間内に、素子搭載部材110、蓋部材220、部品素子である圧電振動素子130等から放出されたガスをゲッター材である金属膜Kに吸着させることができる。
つまり、本発明の第二の実施形態に係る圧電デバイス200は、素子搭載部材110、蓋部材220、部品素子である圧電振動素子130等から放出されたガスが部品素子である圧電振動素子130に付着することを防ぐことができる。このため、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイス200は、部品素子である圧電振動素子130に放出されたガスが付着することを防ぐことができるので、部品素子である圧電振動素子130にガスが付着することによる電子デバイス200の電気的特性の悪化を防ぐことができる。
In the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention, the metal film K provided on the main surface of the lid member 220 on the component element side is made of a getter material.
Therefore, the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention includes an element mounting member in a space sandwiched between the lid member 220 and the element mounting member 110 in which the piezoelectric vibration element 130 as a component element is sealed. 110, the lid member 220, the gas emitted from the piezoelectric vibration element 130 as a component element, and the like can be adsorbed to the metal film K as a getter material.
That is, in the piezoelectric device 200 according to the second embodiment of the present invention, the gas released from the element mounting member 110, the lid member 220, the piezoelectric vibration element 130 as a component element, and the like is transferred to the piezoelectric vibration element 130 as a component element. It can be prevented from adhering. For this reason, the electronic device 200 according to the second embodiment of the present invention can prevent the released gas from adhering to the piezoelectric vibration element 130 which is a component element, and thus the piezoelectric vibration element 130 which is a component element. It is possible to prevent the electrical characteristics of the electronic device 200 from deteriorating due to the adhesion of gas.

なお、ここでは、金属膜が蓋部材の一方の主面、又は、他方の主面にのみ設けられた場合について説明したが、金属膜が蓋部材の両主面に設けられていてもよい。   Here, the case where the metal film is provided only on one main surface of the lid member or the other main surface has been described, but the metal film may be provided on both main surfaces of the lid member.

なお、ここでは、部品素子が圧電振動素子の場合について説明しているが、圧電振動素子と集積回路素子を部品素子とした圧電発振器でもよい。   Here, although the case where the component element is a piezoelectric vibration element has been described, a piezoelectric oscillator having a piezoelectric vibration element and an integrated circuit element as component elements may be used.

なお、部品素子が、圧電振動素子の場合について説明しているが、集積回路素子、チップコンデンサ等であってもよい。   Although the case where the component element is a piezoelectric vibration element has been described, an integrated circuit element, a chip capacitor, or the like may be used.

100,200 電子デバイス
110 素子搭載部材
111 部品素子用凹部空間
P 部品素子搭載パッド
S 接続パッド
G 外部接続端子
130 圧電振動素子
131 圧電片
132 励振電極
133 引き回し電極
120,220 蓋部材
H 貫通孔
J 樹脂
K 金属膜
D 導電性接着剤
100, 200 Electronic device 110 Element mounting member 111 Component element recess space P Component element mounting pad S Connection pad G External connection terminal 130 Piezoelectric vibration element 131 Piezoelectric piece 132 Excitation electrode 133 Lead electrode 120, 220 Lid member H Through hole J Resin K metal film D conductive adhesive

Claims (3)

基板部と、前記基板部の一方の主面の縁部に設けられた枠部と、前記枠部の一方の主面に設けられた接続パッドと、前記基板部の他方の主面に設けられた複数の外部接続端子が備わる素子搭載部材と、
前記素子搭載部材に搭載される部品素子と、
非導電性材料からなり、前記枠部の一方の主面上に配置され、前記素子搭載部材に搭載された前記部品素子を気密に封止する蓋部材と、
前記素子搭載部材の一方の主面と蓋部材との間に介在し、前記素子搭載部材と前記蓋部材とを接合して、前記部品素子が搭載されている空間を気密に封止する樹脂と、
を備えており、
前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面とは反対側の主面には金属膜が設けられており、
前記蓋部材の前記接続パッドに対応する位置には、前記蓋体の厚み方向に貫通する貫通孔が設けられており、
前記貫通孔内には、前記金属膜と導通する導電材が充填されており、
前記金属膜と前記素子搭載部材に設けられた所定の一つの前記外部接続端子とが、前記導電材と前記接続パッドとを介して電気的に接続されている
ことを特徴とする電子デバイス。
A substrate portion; a frame portion provided at an edge of one main surface of the substrate portion; a connection pad provided on one main surface of the frame portion; and a second main surface of the substrate portion. An element mounting member provided with a plurality of external connection terminals;
Component elements mounted on the element mounting member;
A lid member made of a non-conductive material, disposed on one main surface of the frame portion , and hermetically sealing the component element mounted on the element mounting member;
A resin interposed between one main surface of the element mounting member and the lid member, and joining the element mounting member and the lid member to hermetically seal a space in which the component element is mounted; ,
With
A metal film is provided on the main surface of the lid member opposite to the main surface facing the element mounting member,
A through-hole penetrating in the thickness direction of the lid body is provided at a position corresponding to the connection pad of the lid member,
The through hole is filled with a conductive material that is electrically connected to the metal film,
The electronic device, wherein the metal film and a predetermined one of the external connection terminals provided on the element mounting member are electrically connected via the conductive material and the connection pad.
前記金属膜が前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面にも設けられており、
前記蓋部材の前記素子搭載部材と対向する主面に設けられた前記金属膜がゲッター材からなる
ことを特徴とする請求項1の電子デバイス。
The metal film is also provided on the main surface of the lid member facing the element mounting member,
The electronic device according to claim 1, wherein the metal film provided on a main surface of the lid member facing the element mounting member is made of a getter material.
後述する接続パッドに対応する位置に貫通孔が設けられている蓋部材となる部分が複数設けられた蓋部材ウエハの一方の主面に金属膜を設ける金属膜形成工程と、
基板部と、前記基板部の一方の主面の縁部に設けられた枠部と、前記基板部の他方の主面に設けられた複数の外部接続端子と、前記枠部の一方の主面に設けられ前記外部接続端子のうちの所定の一つと導通する接続パッドとが備わる素子搭載部材となる部分が複数設けられている素子搭載部材ウエハに、部品素子を前記素子搭載部材となる部分毎に搭載する部品素子搭載工程と、
前記素子搭載部ウエハに、前記蓋部材ウエハを、前記蓋部材ウエハの他方の主面を前記素子搭載部ウエハ側に向けつつ、各々の前記貫通孔が対応する前記接続パッドと対向するように配置し、前記素子搭載部材ウエハと前記蓋部材ウエハとを樹脂を用いて接合し、前記部品素子が搭載されている夫々の空間を気密に封止する封止工程と、
各々の前記貫通孔に導電材を充填し、前記金属膜と、素子搭載部材となる部分毎の前記外部接続端子のうちの所定の一つとを、前記導電材及び前記接続パッドを介して導通させる導電工程と、
前記蓋部材ウエハと前記素子搭載部材ウエハとが接合された状態で個々の電子デバイスに個片化する個片化工程と、
からなることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
A metal film forming step of providing a metal film on one main surface of the lid member wafer provided with a plurality of portions to be lid members provided with through holes at positions corresponding to connection pads described later;
A substrate portion; a frame portion provided at an edge of one main surface of the substrate portion; a plurality of external connection terminals provided on the other main surface of the substrate portion; and one main surface of the frame portion. A component element is provided on a device mounting member wafer provided with a plurality of component mounting members provided with a connection pad that is electrically connected to a predetermined one of the external connection terminals. The component element mounting process to be mounted on,
The lid member wafer is arranged on the element mounting portion wafer such that each through hole faces the corresponding connection pad while the other main surface of the lid member wafer faces the element mounting portion wafer side. And sealing the element mounting member wafer and the lid member wafer using a resin, and hermetically sealing each space in which the component elements are mounted,
Each through-hole is filled with a conductive material, and the metal film and a predetermined one of the external connection terminals for each portion to be an element mounting member are electrically connected via the conductive material and the connection pad. A conductive process;
A singulation process for separating the lid member wafer and the element mounting member wafer into individual electronic devices in a bonded state;
An electronic device manufacturing method comprising:
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