JP5511181B2 - Manufacturing method of optical element head - Google Patents

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Description

本発明は、受光素子または発光素子が列状に複数配列された光学素子ヘッドの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical element head in which a plurality of light receiving elements or light emitting elements are arranged in a line.

電子写真プリンタ等の露光手段として用いられるプリントヘッドは、例えば、所定パターンの配線導体が被着されているプリント基板の上面に、複数個のLEDアレイが配置された構造を有している。例えばプリントヘッドでは、前記LEDアレイの各LED素子に外部からの印画信号に基づいて所定の電力を印加し、LED素子を個々に選択的に発光させるとともに、該発光した光をレンズを介して外部の感光体ドラム上に照射させ、感光体ドラムの表面に所定の潜像を形成する。   A print head used as exposure means for an electrophotographic printer or the like has, for example, a structure in which a plurality of LED arrays are arranged on an upper surface of a printed board on which a predetermined pattern of wiring conductors are attached. For example, in a print head, a predetermined power is applied to each LED element of the LED array based on a print signal from the outside, and the LED elements are selectively emitted individually, and the emitted light is externally transmitted through a lens. Then, a predetermined latent image is formed on the surface of the photosensitive drum.

従来では、プリント基板の上面へLEDアレイを配置する際、例えば下記特許文献1に記載されているように、プリント基板の上面に接着剤を配置し、この接着剤にLEDアレイを押圧した状態で接着剤を加熱硬化させることで、プリント基板の上面にLEDアレイを接合していた。従来では、このように、プリント基板の上面に、LEDアレイを比較的強固に、また比較的高い位置精度で結合するために、プリント基板の上面とLEDアレイとの間隙に十分な量の接着剤を配置し、LEDアレイをプリント基板の側に加圧しながら接合していた。
特開平9−095010号公報
Conventionally, when an LED array is arranged on the upper surface of a printed board, an adhesive is arranged on the upper surface of the printed board as described in, for example, Patent Document 1 below, and the LED array is pressed against the adhesive. The LED array was bonded to the upper surface of the printed circuit board by heating and curing the adhesive. Conventionally, a sufficient amount of adhesive in the gap between the upper surface of the printed circuit board and the LED array in order to bond the LED array to the upper surface of the printed circuit board relatively firmly and with relatively high positional accuracy. The LED array was bonded to the side of the printed circuit board while being pressed.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-095010

近年、プリントヘッドに要求される画質の高まりに応じて、複数のLED素子の配置位置の間隔を比較的小さくするために、隣接するLEDアレイの間隔を比較的狭くすることが要求されている。隣接するLEDアレイの間隔を比較的小さくした場合、当然、各LEDアレイの端面同士の間隙が狭くなる。この場合、プリント基板上面に配された接着剤が、この端面の間隙を濡れ上がり、LEDアレイに設けられたLED素子やワイヤボンディングパッドに到達し易くなるといった問題があった。接着剤がLED素子に到達した場合、LED素子の発光がこの接着剤に遮られたり、素子が破壊されるといった不良が生じる場合もあり、また、接着剤がワイヤボンディングパッドに到達すると、ボンディング不良が発生する場合もあり、プリントヘッド自体の不良へとつながる。本発明は、かかる課題を解決することを目的とする。   In recent years, in accordance with an increase in image quality required for a print head, in order to make the interval between the arrangement positions of a plurality of LED elements relatively small, it is required to make the interval between adjacent LED arrays relatively small. When the interval between adjacent LED arrays is made relatively small, naturally the gap between the end faces of each LED array becomes narrow. In this case, there is a problem that the adhesive disposed on the upper surface of the printed circuit board wets the gap between the end surfaces and easily reaches the LED elements and wire bonding pads provided in the LED array. If the adhesive reaches the LED element, the LED element's light emission may be blocked by the adhesive or the element may be damaged. If the adhesive reaches the wire bonding pad, bonding failure may occur. May occur, leading to a failure of the print head itself. The present invention aims to solve this problem.

本発明に係る光学素子ヘッドの製造方法では、基板の上面に、熱重合性を有する基剤および特定の波長範囲の光を受けて前記基剤の重合反応を進行させる光重合開始剤を含んでなる接合剤を介して、複数の光学素子アレイを特定方向に間隙を介して配列する工程と、前記間隙内の前記接合剤に前記光学素子アレイの上面側から前記特定波長範囲の光を照射することによって前記間隙内の前記接合剤の少なくとも上端面を光重合する工程と、前記間隙内の前記接合剤に光を照射した後に、前記接合剤全体を加熱することによって前記接合剤全体を熱重合する工程と、を有することを特徴としている。
In the method of manufacturing an optical element head according to the present invention, a base having thermal polymerization property and a photopolymerization initiator that proceeds with a polymerization reaction of the base by receiving light in a specific wavelength range are included on the upper surface of the substrate. A step of arranging a plurality of optical element arrays through a gap in a specific direction via a bonding agent, and irradiating the bonding agent in the gap with light in the specific wavelength range from the upper surface side of the optical element array A step of photopolymerizing at least an upper end surface of the bonding agent in the gap; and after irradiating the bonding agent in the gap with light, the entire bonding agent is heated to polymerize the entire bonding agent. And a step of performing.

本発明の光学素子ヘッドの製造方法によれば、少ない手間、コストで、基板と光学素子アレイとを接合剤によって比較的強固に結合させるとともに、接合剤が光学素子アレイの上面に到達することが抑制される光学素子ヘッドを製造することができる。   According to the method for manufacturing an optical element head of the present invention, the bonding agent can reach the upper surface of the optical element array while bonding the substrate and the optical element array relatively firmly with the bonding agent with less labor and cost. A suppressed optical element head can be manufactured.

図1は、本発明の実施形態に係る光学素子ヘッドXの構成を表す概略図であり、(a)は平面図であり、(b)はIb−Ib線に沿った断面図である。光学素子ヘッドXは、光学素子アレイ10と、基板20と、接合部材30とを備えている。   1A and 1B are schematic views showing the configuration of an optical element head X according to an embodiment of the present invention, where FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line Ib-Ib. The optical element head X includes an optical element array 10, a substrate 20, and a bonding member 30.

光学素子アレイ10は光学素子11および土台基板12を含んで構成されており、本実施形態では、さらにワイヤボンディング用パッド13を含んでいる。本実施形態では、複数の光学素子アレイ10は矢印AB方向に沿って配置されている。また、本実施形態における光学素子アレイ10は、上面10a(土台基板12の上面)と、下面10b(土台基板12の下面)と、端面10c(土台基板12の端面)とを含む直方体状であるが、このような形状に限られない。光学素子11は、照射対象に向けて光を照射するものであり、本実施形態では矢印AB方向に沿って複数配列されている。また、光源素子11としては、例えばLED素子、EL素子などが挙げられるが、中でも低消費電力化および低ノイズ化の観点からLED素子とするのが好ましい。土台基板12は、その上面に複数の光学素子11を実装するものである。ワイヤボンディング用パッド13は、光学素子11に印画信号を伝達するものであり、光学素子11と電気的に接続されている。また、本実施形態では、ワイヤボンディング用パッド13は土台基板12の上面に実装されている。   The optical element array 10 includes an optical element 11 and a base substrate 12, and further includes a wire bonding pad 13 in this embodiment. In the present embodiment, the plurality of optical element arrays 10 are arranged along the arrow AB direction. The optical element array 10 according to the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape including an upper surface 10a (an upper surface of the base substrate 12), a lower surface 10b (a lower surface of the base substrate 12), and an end surface 10c (an end surface of the base substrate 12). However, it is not limited to such a shape. The optical element 11 irradiates light toward the irradiation target, and in the present embodiment, a plurality of optical elements 11 are arranged along the arrow AB direction. Examples of the light source element 11 include an LED element and an EL element. Among these, an LED element is preferable from the viewpoint of reducing power consumption and noise. The base substrate 12 has a plurality of optical elements 11 mounted on the upper surface thereof. The wire bonding pad 13 transmits a printing signal to the optical element 11 and is electrically connected to the optical element 11. In the present embodiment, the wire bonding pad 13 is mounted on the upper surface of the base substrate 12.

基板20は、光学素子アレイ10を実装するものである。基板20の構成材料としては、如何なる材料であってもよいが、絶縁性の観点から、ガラスエポキシ樹脂等の電気絶縁性樹脂で構成するのが好ましい。本実施形態では、基板20の上面20aに光学素子アレイ10が配置されている。また、本実施形態において基板20の形状は直方体状であるが、このような形状には限られない。   The substrate 20 is for mounting the optical element array 10. The constituent material of the substrate 20 may be any material, but is preferably made of an electrically insulating resin such as a glass epoxy resin from the viewpoint of insulation. In the present embodiment, the optical element array 10 is disposed on the upper surface 20 a of the substrate 20. In the present embodiment, the substrate 20 has a rectangular parallelepiped shape, but is not limited to such a shape.

接合部材30は、隣り合う光学素子アレイ10同士および光学素子アレイ10と基板20とを接合するものである。本実施形態において、接合部材30は、隣り合う光学素子アレイ10の第1間隙K1および光学素子アレイ10の下面10bと基板20の上面20aとの第2間隙K2に配置されている。また、第1間隙K1における接合部材30の上端面31aを含む露光部31には光重合部が含まれる。また、本実施形態では、上端面31aは光学素子アレイ10の上面10aより下側(矢印D方向)に位置する。また、基板0の上面0aにおける光学素子アレイからのはみ出し部32には熱重合部が含まれている。ここで、熱重合とは加熱することによる重合をいい、熱重合部とは主として熱重合している部分をいう。光重合とは特定波長を受けることによる重合をいい、光重合部とは主として光重合している部分をいう。光重合は、光の照射により光重合開始剤からラジカル種が生成し、発生したラジカル種がモノマー(単量体)もしくはオリゴマー(低重合体)と次々に重合することで成長し、ポリマー(重合体)になるという過程を経る。そのため、第1間隙K1における接合部材30の露光部31の光重合部は、重合体にラジカル種を構成する元素を他の部分に比較して多く含んでいる。重合前の接合部材30は、例えば熱重合性を有する基剤に、特定の波長範囲の光を受けて基剤の重合反応を進行させる光重合開始剤を添加させて構成される。熱重合性を有する基剤は、例えばウレタンアクリレ−ト系、エポキシアクリレ−ト系、エステルアクリレ−ト系、アクリレ−ト系モノマーもしくはオリゴマーなどが挙げられる。また、光重合開始剤は、例えばジエトキシアセトフェノン、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾフェノンなどが挙げられる。
The joining member 30 joins the optical element arrays 10 adjacent to each other and the optical element array 10 and the substrate 20. In the present embodiment, the bonding member 30 is disposed in the first gap K1 between the adjacent optical element arrays 10 and the second gap K2 between the lower surface 10b of the optical element array 10 and the upper surface 20a of the substrate 20. The exposure unit 31 including the upper end surface 31a of the bonding member 30 in the first gap K1 includes a photopolymerization unit. In the present embodiment, the upper end surface 31 a is located below (in the direction of arrow D) the upper surface 10 a of the optical element array 10. Further, the protruding portion 32 a from the optical element array on the upper surface 20 a of the substrate 20 includes a thermal polymerization portion. Here, the thermal polymerization refers to polymerization by heating, and the thermal polymerization portion refers to a portion that is mainly thermally polymerized. Photopolymerization refers to polymerization by receiving a specific wavelength, and the photopolymerization part refers mainly to a photopolymerized part. In photopolymerization, radical species are generated from a photopolymerization initiator by irradiation with light, and the generated radical species are successively polymerized with a monomer (monomer) or oligomer (low polymer) to grow. Through the process of becoming a merger. Therefore, the photopolymerization part of the exposure part 31 of the joining member 30 in the first gap K1 contains more elements that constitute radical species in the polymer than other parts. The bonding member 30 before polymerization is configured by adding, for example, a photopolymerization initiator that receives light in a specific wavelength range and advances a polymerization reaction of the base to a base having thermal polymerization properties. Examples of the base having thermal polymerizability include urethane acrylates, epoxy acrylates, ester acrylates, acrylate monomers and oligomers. Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, isopropyl benzoin ether, and benzophenone.

本実施形態に係る光学素子ヘッドXは、光学素子アレイ10と基板20との接合の強固化および光学素子アレイの高密度化を図るとともに、接合部材30に起因する光学素子アレイ10の機能の低下を抑制するうえで好適である。   The optical element head X according to the present embodiment enhances the bonding between the optical element array 10 and the substrate 20 and increases the density of the optical element array, and reduces the function of the optical element array 10 caused by the bonding member 30. It is suitable for suppressing the above.

本発明の実施形態に係る光学素子ヘッドXの製造方法について説明する。図2は、光学素子ヘッドXの製造方法のフローチャートである。   A method for manufacturing the optical element head X according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a flowchart of the manufacturing method of the optical element head X.

初めに、特定方向に沿って配列された複数の光学素子11が上面10aに配置された光学素子アレイ10を作製する。具体的には、例えば半導体基板などからなる土台基板12の表面に、例えばMOCVD法等を用いて複数の半導体層を積層した後、エッチング工程および電極形成工程等を施す(ステップS101)。その後、土台基板12を例えばダイシング加工し、複数の光学素子アレイ10を切り出す。この際、ダイシング加工におけるダイシングブレードの角度を調節することで、図3(a)に示すように、光学素子アレイ10の端面10cを、光学素子アレイ10の上面10a(土台基板12の上面)の側から、光学素子アレイ10の下面10b(土台基板12の下面)の側に近づくにしたがって、光源素子アレイ10の中心位置(矢印AB方向の中心位置)に近づく斜面としてもよい。このような構成によると、後述の接合剤30の濡れ上がりを低減できる。また、図3(b)に示すように、光学素子アレイ10の下面10bに溝部M1を設けてもよい。このような構成によると、後述の接合剤30が特定方向に沿って拡がった一部が溝部に浸入することで、特定方向に沿って拡がる領域が抑制される。   First, an optical element array 10 in which a plurality of optical elements 11 arranged along a specific direction are arranged on the upper surface 10a is manufactured. Specifically, for example, a plurality of semiconductor layers are stacked on the surface of the base substrate 12 made of, for example, a semiconductor substrate by using, for example, the MOCVD method, and then an etching process, an electrode formation process, and the like are performed (step S101). Thereafter, the base substrate 12 is diced, for example, and a plurality of optical element arrays 10 are cut out. At this time, by adjusting the angle of the dicing blade in the dicing process, as shown in FIG. 3A, the end surface 10c of the optical element array 10 is placed on the upper surface 10a of the optical element array 10 (the upper surface of the base substrate 12). It is good also as the slope which approaches the center position (center position of arrow AB direction) of the light source element array 10 as it approaches the lower surface 10b (lower surface of the base substrate 12) side of the optical element array 10 from the side. According to such a configuration, wetting of the bonding agent 30 described later can be reduced. Further, as shown in FIG. 3B, a groove M1 may be provided on the lower surface 10b of the optical element array 10. According to such a structure, the area | region which spreads along a specific direction is suppressed because the below-mentioned bonding agent 30 permeate | transmits into a groove part partially.

次に、図4(a)に示すように、ガラスエポキシ樹脂等からなる基板20を用意し、流動性を有する接合剤30を基板20の上面20aの所定位置に塗布する(ステップS102)。ここで所定位置とは、光学素子アレイ10が配列される部分に対応する部分領域である。また、図4(b)および(c)に示すように、基板20の上面20aにおける光学素子アレイ10の下面10bに対応する部位に溝部M2を設けてもよい。このような構成によると、接合剤30が特定方向に沿って拡がった一部が溝部M2に浸入することで、特定方向に沿って拡がる領域が抑制される。   Next, as shown in FIG. 4A, a substrate 20 made of glass epoxy resin or the like is prepared, and a bonding agent 30 having fluidity is applied to a predetermined position on the upper surface 20a of the substrate 20 (step S102). Here, the predetermined position is a partial region corresponding to a portion where the optical element array 10 is arranged. Further, as shown in FIGS. 4B and 4C, a groove M2 may be provided in a portion corresponding to the lower surface 10b of the optical element array 10 on the upper surface 20a of the substrate 20. According to such a structure, the area | region which expands along a specific direction is suppressed because the part which the bonding agent 30 expanded along the specific direction permeates into the groove part M2.

次に、基板20の上面20aに塗布された接合剤30上に、複数の光学素子アレイ10を特定方向に沿って並べて配置する(ステップS103)。この際、複数の光学素子アレイ10における各端面10cの間隙は、所定の大きさに設定されている。また、光学素子アレイ10を配置すると、図5(a)に示すように、接合剤30の一部が、光学素子アレイ10の下面10bと基板20の上面20aとの間隙から隣り合う光学素子アレイ10同士の間隙に浸入し、毛細管現象により間隙を濡れ上る。   Next, a plurality of optical element arrays 10 are arranged side by side along a specific direction on the bonding agent 30 applied to the upper surface 20a of the substrate 20 (step S103). At this time, the gap between the end faces 10c in the plurality of optical element arrays 10 is set to a predetermined size. In addition, when the optical element array 10 is arranged, as shown in FIG. 5A, a part of the bonding agent 30 is adjacent to the gap between the lower surface 10b of the optical element array 10 and the upper surface 20a of the substrate 20. It penetrates into the gap between 10 and wets the gap by capillary action.

次に、図5(b)に示すように、隣り合う光学素子アレイ10同士の間隙に、光(特定波長の範囲の光)を照射し、毛細管現象によって間隙に浸入した接合剤30の一部を硬化(重合)させる(ステップS104)。この際、公知の光照射源を用い、光学素子アレイ10の上面10aの側(矢印C方向側)から光を照射する。光学素子アレイ10の上面10aに比較的近い部分に維持された接合剤30の上端面近傍は、この光の照射によって光重合されて硬化される。これにより、複数の光学素子アレイ10の端面10c同士が各間隙に設けられたこの光重合部によって接合される。この状態では、接合剤30は露光部31および非露光部32から構成される。露光部31とは十分に光が照射された部分であって、光重合部を含む部分をいい、非露光部32とは、光の照射が弱い部分をいう。   Next, as shown in FIG. 5B, a part of the bonding agent 30 is irradiated with light (light in a specific wavelength range) to the gap between the adjacent optical element arrays 10 and enters the gap by capillary action. Is cured (polymerized) (step S104). At this time, light is irradiated from the upper surface 10a side (arrow C direction side) of the optical element array 10 using a known light irradiation source. The vicinity of the upper end surface of the bonding agent 30 maintained in a portion relatively close to the upper surface 10a of the optical element array 10 is photopolymerized and cured by this light irradiation. Thereby, the end surfaces 10c of the plurality of optical element arrays 10 are joined by the photopolymerization portion provided in each gap. In this state, the bonding agent 30 includes the exposed portion 31 and the non-exposed portion 32. The exposed portion 31 is a portion that has been sufficiently irradiated with light and refers to a portion that includes a photopolymerization portion, and the non-exposed portion 32 refers to a portion that is weakly irradiated with light.

次に、図6(b)に示すように、隣り合う光学素子アレイ10が露光部31を介して接合された状態で、光学素子アレイ10を基板20に押圧しながら露光部31および非露光部32を加熱して、接合剤30全体を硬化(重合)させる(ステップS105)。光学素子アレイ10を基板20に押圧することで、非露光部30は光学素子アレイ素子10の下面10cと基板20の上面20aとの間隙に、比較的高い均一性をもって分布される。そのため、この状態で加熱することで、基板20と光学素子アレイ10とは比較的高い強度で接合される。また、押圧によって、光学素子アレイ10の位置が固定されるため、加熱に伴う非露光部32の流動による微小な位置変動が抑制され、光源素子アレイ10の上面10aひいては光学素子11の位置が比較的高い精度で設定される。この際、隣り合う光学素子アレイ10同士の間隙における露光部31が、間隙を濡れ上がる非露光部32を堰き止め、光学素子アレイ10の上面10aの側への非露光部32の進行を抑制する。したがって、押圧しながら加熱した場合であっても非露光部32が光学素子アレイ10の上面10aに到達することなく、光学素子アレイ10と基板20とが高い精度で接合される。また、光学素子アレイ10を基板20に押圧する際、図6(a)に示すように、非露光部32の一部32aが基板20の上面20aにおける光学素子アレイ30に対応する部位から流出する。   Next, as illustrated in FIG. 6B, the exposure unit 31 and the non-exposure unit are pressed while pressing the optical element array 10 against the substrate 20 in a state where the adjacent optical element arrays 10 are bonded via the exposure unit 31. 32 is heated to cure (polymerize) the entire bonding agent 30 (step S105). By pressing the optical element array 10 against the substrate 20, the non-exposure portions 30 are distributed with a relatively high uniformity in the gap between the lower surface 10 c of the optical element array element 10 and the upper surface 20 a of the substrate 20. Therefore, by heating in this state, the substrate 20 and the optical element array 10 are bonded with a relatively high strength. Further, since the position of the optical element array 10 is fixed by the pressing, a minute position variation due to the flow of the non-exposure portion 32 due to heating is suppressed, and the position of the upper surface 10a of the light source element array 10 and the position of the optical element 11 is compared. Set with high accuracy. At this time, the exposure part 31 in the gap between the adjacent optical element arrays 10 blocks the non-exposure part 32 that wets the gap and suppresses the progression of the non-exposure part 32 toward the upper surface 10a of the optical element array 10. . Therefore, even when heated while pressing, the non-exposed portion 32 does not reach the upper surface 10a of the optical element array 10, and the optical element array 10 and the substrate 20 are bonded with high accuracy. Further, when the optical element array 10 is pressed against the substrate 20, as shown in FIG. 6A, a part 32 a of the non-exposure portion 32 flows out from a portion corresponding to the optical element array 30 on the upper surface 20 a of the substrate 20. .

本実施形態の光学素子ヘッドXは、以上のように製造すればよい。なお、基板20の上面20aに接合剤30を塗布し、塗布した接合剤30の上に光学素子アレイ10を配置することに限定されず、例えば、光学素子アレイ10の下面10bに接合剤30を塗布し、この光学素子アレイ10を、接合剤30を介して基板20の上面20aに配置してもよい。   The optical element head X of the present embodiment may be manufactured as described above. The bonding agent 30 is applied to the upper surface 20a of the substrate 20, and the optical element array 10 is not limited to be disposed on the applied bonding agent 30. For example, the bonding agent 30 is applied to the lower surface 10b of the optical element array 10. The optical element array 10 may be applied and disposed on the upper surface 20 a of the substrate 20 via the bonding agent 30.

本実施形態に係る光学素子ヘッドXの製造方法は、上述の工程を経ることで製造される。そのため、光学素子アレイ10同士の間隔を狭くし、さらに多量の接合剤30を塗布した場合であっても、接合剤30が光学素子アレイの上面に濡れ上がることが抑制された光学素子ヘッドを製造することができる。   The manufacturing method of the optical element head X according to this embodiment is manufactured through the above-described steps. Therefore, an optical element head is manufactured in which the distance between the optical element arrays 10 is narrowed, and even when a large amount of the bonding agent 30 is applied, the bonding agent 30 is prevented from getting wet on the upper surface of the optical element array. can do.

したがって、光学素子ヘッドXは、光学素子アレイ10と基板20との接合の強固化および光学素子アレイの高密度化を図るとともに、接合部材30に起因する光学素子アレイ10の機能の低下を抑制するうえで好適である。   Therefore, the optical element head X aims to strengthen the bonding between the optical element array 10 and the substrate 20 and increase the density of the optical element array, and suppress the deterioration of the function of the optical element array 10 caused by the bonding member 30. It is suitable in the above.

図7は、本発明に係る光学素子ヘッドXを備えるプリンタYの概略構成を表す断面図である。プリンタYは、光学素子ヘッドXと、感光体ドラム40と、現像装置50と、転写ベルト60と、レジストローラ対70と、定着ローラ対80とを備えている。   FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a printer Y including the optical element head X according to the present invention. The printer Y includes an optical element head X, a photosensitive drum 40, a developing device 50, a transfer belt 60, a registration roller pair 70, and a fixing roller pair 80.

感光体ドラム40は、光学素子ヘッドXからの光により潜像を形成することが可能であり、形成された潜像により記録紙に印画することができる。本実施形態における感光体ドラム40は、光学素子ヘッドXの下方(矢印C方向)に所定の距離だけ離間するように配置されている。また、本実施形態では、複数の感光体ドラム40が矢印EF方向に配列している。感光体ドラム40は、アルミニウム金属等から成る円筒状基体の外表面にアモルファスシリコンなどの無機半導体や有機半導体から成る光導電層を被着させた構造を有している。   The photosensitive drum 40 can form a latent image with light from the optical element head X, and can print on a recording sheet with the formed latent image. In this embodiment, the photosensitive drum 40 is disposed below the optical element head X (in the direction of arrow C) so as to be separated by a predetermined distance. In the present embodiment, a plurality of photosensitive drums 40 are arranged in the direction of arrow EF. The photosensitive drum 40 has a structure in which a photoconductive layer made of an inorganic semiconductor such as amorphous silicon or an organic semiconductor is deposited on the outer surface of a cylindrical base made of aluminum metal or the like.

現像装置50は感光体ドラム40に形成された潜像をトナーによってトナー像として可視像可するものである。本実施形態では現像装置50は各感光体ドラム40の周囲に設けられている。   The developing device 50 allows the latent image formed on the photosensitive drum 40 to be visible as a toner image with toner. In the present embodiment, the developing device 50 is provided around each photosensitive drum 40.

転写ベルト60は、感光体ドラム40上のトナー像を記録用紙に転写する役割を担っており、本実施形態では感光体ドラム40の下方(矢印C方向)に配置されている。   The transfer belt 60 plays a role of transferring the toner image on the photosensitive drum 40 onto a recording sheet, and is disposed below the photosensitive drum 40 (in the direction of arrow C) in the present embodiment.

レジストローラ対70は、記録紙を転写ベルト60上に搬送するための役割を担っており、本実施形態では矢印F方向側に配置されている。   The registration roller pair 70 plays a role in conveying the recording paper onto the transfer belt 60 and is arranged on the arrow F direction side in this embodiment.

定着ローラ対80は、写された記録用紙を転写ベルト60から受け取り定着処理を行う役割を担っており、本実施形態では矢印E方向側に配置されている。   The fixing roller pair 80 plays a role of receiving the transferred recording paper from the transfer belt 60 and performing a fixing process, and is arranged on the arrow E direction side in the present embodiment.

プリンタYでは、矢印EF方向に配置された複数の光学素子ヘッドXにより、それぞれに対応する感光体ドラム40に潜像が形成され、この潜像が現像のプロセスを経てトナー像となり、このトナー像がレジストローラ対70から給紙された記録用紙に複写され、複写された記録用紙は定着ローラ対80に送られ、トナー像を記録用紙に定着されることによって所定の画像が記録される。   In the printer Y, a plurality of optical element heads X arranged in the direction of the arrow EF form latent images on the corresponding photosensitive drums 40, and the latent images become toner images through a development process. Is copied onto a recording sheet fed from the registration roller pair 70, and the copied recording sheet is sent to the fixing roller pair 80, and a predetermined image is recorded by fixing the toner image on the recording sheet.

プリンタYは光学素子ヘッドXを備えている。そのため、光学素子アレイ10の同士の間隙において接合部材30の濡れ上がりが抑制されていることから、当該間隙に対応する感光体ドラムの部位でも良好な潜像を形成できる。したがって、プリンタYは品質の高い画像を提供できる。   The printer Y includes an optical element head X. Therefore, since the wetting of the bonding member 30 is suppressed in the gap between the optical element arrays 10, a good latent image can be formed even on the portion of the photosensitive drum corresponding to the gap. Therefore, the printer Y can provide a high-quality image.

以上、本発明の具体的な実施形態を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。   The specific embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to this.

本発明の実施形態に係る光学素子ヘッドの構成を表す概略図であり、(a)は平面図であり、(b)はIb−Ibに沿った断面図である。It is the schematic showing the structure of the optical element head which concerns on embodiment of this invention, (a) is a top view, (b) is sectional drawing along Ib-Ib. 図1に示す光学素子ヘッドの製造方法のフローチャートである。It is a flowchart of the manufacturing method of the optical element head shown in FIG. 図1に示す光学素子ヘッドにおける光学素子アレイの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the optical element array in the optical element head shown in FIG. (a)は図1に示す光学素子ヘッドの製造方法を説明する概略図であり、接合剤を塗布する工程を示す断面図である。(b)は図1に示す光学素子ヘッドにおける基板の変形例を示す断面図である。(c)は(b)の基板の平面図である。(A) is the schematic explaining the manufacturing method of the optical element head shown in FIG. 1, and is sectional drawing which shows the process of apply | coating a bonding agent. (B) is sectional drawing which shows the modification of the board | substrate in the optical element head shown in FIG. (C) is a top view of the board | substrate of (b). 図1に示す光学素子ヘッドの製造方法を説明する概略図であり、(a)は光学素子アレイを基板に配置する工程を示す断面図であり、(b)は接合剤に光を照射する工程を示す断面図である。It is the schematic explaining the manufacturing method of the optical element head shown in FIG. 1, (a) is sectional drawing which shows the process of arrange | positioning an optical element array to a board | substrate, (b) is the process of irradiating light to a bonding agent. FIG. 図1に示す光学素子ヘッドの製造方法を説明する概略図であり、(a)は接合剤を加熱する工程を示す平面図であり、(b)は接合剤を加熱する工程を示すIVb−IVb線に沿った断面図である。It is the schematic explaining the manufacturing method of the optical element head shown in FIG. 1, (a) is a top view which shows the process of heating a bonding agent, (b) is IVb-IVb which shows the process of heating a bonding agent. It is sectional drawing along a line. 図1に示す光学素子ヘッドを備えるプリンタの概略構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing schematic structure of a printer provided with the optical element head shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

X 光学素子ヘッド
Y プリンタ
10 光学素子アレイ
11 光学素子
12 土台基板
20 基板
30 接合部材、接合剤
40 感光体ドラム
50 現像装置
60 転写ベルト
70 レジストローラ対
80 定着ベルト
X optical element head Y printer 10 optical element array 11 optical element 12 base substrate 20 substrate 30 bonding member, bonding agent 40 photosensitive drum 50 developing device 60 transfer belt 70 registration roller pair 80 fixing belt

Claims (7)

基板の上面に、熱重合性を有する基剤および特定の波長範囲の光を受けて前記基剤の重合反応を進行させる光重合開始剤を含んでなる接合剤を介して、複数の光学素子アレイを特定方向に間隙を介して配列する工程と、
前記間隙内の前記接合剤に前記光学素子アレイの上面側から前記特定の波長範囲の光を照射することによって前記間隙内の前記接合剤の少なくとも上端面を光重合する工程と、
前記間隙内の前記接合剤に光を照射した後に、前記接合剤全体を加熱することによって前記接合剤全体を熱重合する工程と、を有することを特徴とする光学素子ヘッドの製造方法。
A plurality of optical element arrays on the upper surface of the substrate via a bonding agent comprising a base having thermal polymerizability and a photopolymerization initiator that receives light in a specific wavelength range and advances a polymerization reaction of the base. Arranging them through a gap in a specific direction;
Photopolymerizing at least the upper end surface of the bonding agent in the gap by irradiating the bonding agent in the gap with light in the specific wavelength range from the upper surface side of the optical element array;
And a step of thermally polymerizing the entire bonding agent by irradiating the bonding agent in the gap with light and then heating the entire bonding agent .
前記接合剤を熱重合する工程において、前記光学素子アレイを基板の上面に押圧することを特徴とする、請求項1に記載の光学素子ヘッドの製造方法。 2. The method of manufacturing an optical element head according to claim 1, wherein, in the step of thermally polymerizing the bonding agent, the optical element array is pressed against the upper surface of the substrate. 前記接合剤を熱重合する工程において、前記間隙内の前記接合剤の上端面は前記光学素子アレイの上面より下側に位置していることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学素子ヘッドの製造方法。 3. The optical according to claim 1, wherein, in the step of thermally polymerizing the bonding agent, an upper end surface of the bonding agent in the gap is positioned below an upper surface of the optical element array. Manufacturing method of element head. 前記基板の上面における前記光学素子アレイの下面に対応する部位に、凹状の溝部が設けられていることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の光学素子ヘッドの製造方法。 4. The method of manufacturing an optical element head according to claim 1, wherein a concave groove is provided in a portion corresponding to the lower surface of the optical element array on the upper surface of the substrate. 5. 前記光学素子アレイの下面に凹状の溝部が設けられていることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の光学素子ヘッドの製造方法。 5. The method of manufacturing an optical element head according to claim 1, wherein a concave groove is provided on a lower surface of the optical element array. 前記凹状の溝部は、少なくとも前記光学素子アレイに対応する範囲にわたって、前記特定方向に直交する方向に連続していることを特徴とする、請求項4または5に記載の光学素子ヘッドの製造方法。 6. The method of manufacturing an optical element head according to claim 4, wherein the concave groove is continuous in a direction orthogonal to the specific direction over at least a range corresponding to the optical element array. 前記光学素子アレイの端面は、上側から下側に近づくにつれて前記光学素子アレイの前記特定方向における中心位置に近づく斜面領域を備えることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の光学素子ヘッドの製造方法。 The optical device according to any one of claims 1 to 6, wherein an end surface of the optical element array includes a slope region that approaches a center position in the specific direction of the optical element array as approaching from the upper side to the lower side. Manufacturing method of element head.
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