JP5500186B2 - Coil component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、コイル部品及びその製造方法に関し、特に、コイル導体を内蔵する薄膜コモンモードフィルタの構造及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a coil component and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a structure of a thin film common mode filter incorporating a coil conductor and a manufacturing method thereof.

近年、高速な信号伝送インターフェースとしてUSB2.0規格やIEEE1394規格が広く普及し、パーソナルコンピュータやデジタルカメラなど数多くのデジタル機器に用いられている。これらのインターフェースでは一対の信号線を用いて差動信号(ディファレンシャル信号)を伝送する差動伝送方式が採用されており、従来のシングルエンド伝送方式よりも高速な信号伝送が実現されている。   In recent years, the USB 2.0 standard and the IEEE 1394 standard have become widespread as high-speed signal transmission interfaces, and are used in many digital devices such as personal computers and digital cameras. These interfaces employ a differential transmission method in which a differential signal (differential signal) is transmitted using a pair of signal lines, and signal transmission at a higher speed than the conventional single-ended transmission method is realized.

高速差動伝送路上のノイズを除去するためのフィルタにはコモンモードフィルタが広く使用されている。コモンモードフィルタは、一対の信号線を伝わる信号の差動成分に対するインピーダンスが低く、同相成分(コモンモードノイズ)に対するインピーダンスが高いという特性を有している。そのため、一対の信号線上にコモンモードフィルタを挿入することにより、ディファレンシャルモード信号を実質的に減衰させることなくコモンモードノイズを遮断することができる。   A common mode filter is widely used as a filter for removing noise on the high-speed differential transmission line. The common mode filter has a characteristic that impedance for a differential component of a signal transmitted through a pair of signal lines is low and impedance for a common-mode component (common mode noise) is high. Therefore, by inserting a common mode filter on a pair of signal lines, common mode noise can be blocked without substantially attenuating the differential mode signal.

図8は、従来の表面実装型コモンモードフィルタの構造を示す略分解斜視図である。   FIG. 8 is a schematic exploded perspective view showing the structure of a conventional surface mount type common mode filter.

図8に示すように、従来のコモンモードフィルタ1は、互いに磁気結合された一対のコイル導体5,6を含む薄膜コイル層2と、薄膜コイル層2の上下に設けられたフェライトからなる磁性基板3,4とを備えている。コイル導体5,6の端部は外部端子電極7a〜7dにそれぞれ接続されており、外部端子電極7a〜7dは磁性基板3,4の側面及び上下面に形成されている。通常、外部端子電極7a〜7dは磁性基板の表面へのスパッタリングやめっきにより形成される。   As shown in FIG. 8, a conventional common mode filter 1 includes a thin film coil layer 2 including a pair of coil conductors 5 and 6 magnetically coupled to each other, and a magnetic substrate made of ferrite provided above and below the thin film coil layer 2. 3 and 4 are provided. End portions of the coil conductors 5 and 6 are connected to the external terminal electrodes 7a to 7d, respectively, and the external terminal electrodes 7a to 7d are formed on the side surfaces and the upper and lower surfaces of the magnetic substrates 3 and 4, respectively. Usually, the external terminal electrodes 7a to 7d are formed by sputtering or plating on the surface of the magnetic substrate.

特許文献1には、コモンモードフィルタの端子電極構造が開示されている。このコモンモードフィルタの端子電極は、部品の表面にAgを含む導電性ペーストを塗布し、或いはスパッタリングや蒸着等でAg膜を形成した後、このAg膜上に湿式電解めっき処理を行って、Niの金属膜をさらに形成している。   Patent Document 1 discloses a terminal electrode structure of a common mode filter. The terminal electrode of this common mode filter is formed by applying a conductive paste containing Ag on the surface of a component, or forming an Ag film by sputtering or vapor deposition, and performing wet electrolytic plating on the Ag film. The metal film is further formed.

また、特許文献2には、シリコン基板上に絶縁層、コイル導体を含むコイル層、コイル導体に電気的に接続された外部電極を薄膜形成技術で順次形成し、全体として直方体状の外形を有するコモンモードチョークコイルが開示されている。このコモンモードチョークコイルにおいて、外部電極は絶縁層の上面(実装面)に広がって形成されている。また、内部電極端子は、複数の導電層が積層された多層構造の電極として構成されている。   Further, in Patent Document 2, an insulating layer, a coil layer including a coil conductor, and an external electrode electrically connected to the coil conductor are sequentially formed on a silicon substrate by a thin film forming technique, and have a rectangular parallelepiped outer shape as a whole. A common mode choke coil is disclosed. In this common mode choke coil, the external electrode is formed so as to spread over the upper surface (mounting surface) of the insulating layer. The internal electrode terminal is configured as an electrode having a multilayer structure in which a plurality of conductive layers are stacked.

特表WO2006/073029号公報Special table WO2006 / 073029 特開2007−53254号公報JP 2007-53254 A

図8に示した従来のコモンモードフィルタ1は、薄膜コイル層を2つの磁性基板で挟み込んだ構造であるため、コモンモードフィルタの磁気特性が高く、高周波特性に優れるだけでなく、機械的強度も高いという特長を有している。しかしながら、従来のコモンモードフィルタの構造は、上下にフェライトからなる磁性基板を使用しており、フェライト基板はあまり薄くすると割れやすいことから薄型化が困難であり、さらに2つの磁性基板を重ねることで肉厚となり、低背化されたチップ部品として提供することが難しかった。また、高価な磁性材料を多量に使用するため製造コストが高く、使用用途によってはフィルタ性能が過剰スペックであるという問題もある。   Since the conventional common mode filter 1 shown in FIG. 8 has a structure in which a thin film coil layer is sandwiched between two magnetic substrates, the magnetic characteristics of the common mode filter are high and not only excellent in high frequency characteristics, but also in mechanical strength. It has the feature of being high. However, the structure of the conventional common mode filter uses a magnetic substrate made of ferrite at the top and bottom, and if the ferrite substrate is too thin, it is difficult to reduce the thickness because it is prone to cracking. It was difficult to provide a chip component with a reduced thickness due to the increased thickness. In addition, since a large amount of expensive magnetic material is used, the manufacturing cost is high, and there is a problem that the filter performance is excessively speci? C depending on the intended use.

また、従来のコモンモードフィルタは、個々のチップ部品の表面に微小な端子電極をスパッタリング等で形成するものであるため、端子電極を高精度に形成することが非常に難しいという問題がある。さらに、特許文献2に記載のコモンモードチョークコイルでは、何層にも重ねた導体層によって内部電極端子を形成しているため、不良電極が形成される確率が高く、また電極形成のための工数の増加により製造コストが増加するという問題がある。   In addition, since the conventional common mode filter forms minute terminal electrodes on the surface of each chip component by sputtering or the like, there is a problem that it is very difficult to form the terminal electrodes with high accuracy. Furthermore, in the common mode choke coil described in Patent Document 2, since the internal electrode terminals are formed by the conductor layers stacked in layers, the probability that a defective electrode is formed is high, and the man-hours for forming the electrodes are high. There is a problem in that the manufacturing cost increases due to the increase in the number of.

したがって、本発明の目的は、所望のフィルタ性能を確保しつつ小型化且つ低背化され、低コストで製造可能なコイル部品を提供することにある。また、本発明の目的は、そのようなコイル部品を容易且つ低コストで製造することが可能な製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a coil component that can be manufactured at a low cost while being reduced in size and height while ensuring desired filter performance. Moreover, the objective of this invention is providing the manufacturing method which can manufacture such a coil component easily and at low cost.

上記課題を解決するため、本発明によるコイル部品は、磁性セラミック材料からなる磁性基板と、前記磁性基板の一方の主面に形成されたコイル導体を含む薄膜コイル層と、前記薄膜コイル層の主面に形成されたバンプ電極と、前記バンプ電極の形成位置を除いた前記薄膜コイル層の前記主面に形成された絶縁樹脂層とを備え、前記バンプ電極は前記コイル導体と平面視にて重なる部分を有することを特徴としている。   In order to solve the above problems, a coil component according to the present invention includes a magnetic substrate made of a magnetic ceramic material, a thin film coil layer including a coil conductor formed on one main surface of the magnetic substrate, and a main component of the thin film coil layer. A bump electrode formed on the surface, and an insulating resin layer formed on the main surface of the thin film coil layer excluding the formation position of the bump electrode, the bump electrode overlapping the coil conductor in plan view It is characterized by having a part.

本発明によれば、一方の磁性基板が省略された薄型なコイル部品を低コストで提供することができる。また、外部端子電極としてバンプ電極を用いているので従来よりも高精度に電極を形成できる。また、バンプ電極の周囲に絶縁樹脂層が設けられているので、バンプ電極を補強することができ、バンプ電極の剥離等を防止することができる。さらに、バンプ電極の一部がコイル導体と平面視にて重なることから、コイル部品の小型化を図ることができる。   According to the present invention, a thin coil component in which one of the magnetic substrates is omitted can be provided at a low cost. In addition, since the bump electrode is used as the external terminal electrode, the electrode can be formed with higher accuracy than in the past. Moreover, since the insulating resin layer is provided around the bump electrode, the bump electrode can be reinforced and peeling of the bump electrode can be prevented. Further, since a part of the bump electrode overlaps with the coil conductor in a plan view, the coil component can be downsized.

本発明において、前記絶縁樹脂層と接する前記バンプ電極の側面は、エッジのない曲面形状を有することが好ましい。絶縁樹脂層は、バンプ電極を形成した後に軟化した樹脂を流し込むことにより形成されるが、バンプ電極の側面にエッジの効いたコーナー部があるとバンプ電極の周囲に流動性のある絶縁樹脂がうまく入り込めず、気泡を抱き易い。しかし、バンプ電極の側面が湾曲面である場合には、粘性のある樹脂が隅々まで行き渡るので、気泡を含まない高品質な樹脂層を形成することができる。しかも、絶縁樹脂層とバンプ電極との密着性が高まるので、バンプ電極に対する補強力を高めることができる。   In the present invention, it is preferable that a side surface of the bump electrode in contact with the insulating resin layer has a curved shape without an edge. The insulating resin layer is formed by pouring a softened resin after the bump electrode is formed, but if there is a corner with an edge on the side surface of the bump electrode, a fluid insulating resin is successfully formed around the bump electrode. It does not enter and it is easy to hold bubbles. However, when the side surface of the bump electrode is a curved surface, the viscous resin spreads to every corner, so that a high-quality resin layer containing no bubbles can be formed. In addition, since the adhesion between the insulating resin layer and the bump electrode is increased, the reinforcing force for the bump electrode can be increased.

本発明において、前記絶縁樹脂層は磁性粉含有樹脂材料からなり、前記コイル導体は、互いに磁気結合する第1及び第2のスパイラルパターンを含み、前記第1及び第2のスパイラルパターンはコモンモードフィルタを構成していることが好ましい。これによれば、絶縁樹脂層が磁性材料を含むことから、磁性基板と絶縁樹脂層との間に挟まれたコモンモードフィルタの磁気結合を高めることができる。   In the present invention, the insulating resin layer is made of a resin material containing magnetic powder, and the coil conductor includes first and second spiral patterns that are magnetically coupled to each other, and the first and second spiral patterns are common mode filters. It is preferable to constitute. According to this, since the insulating resin layer includes the magnetic material, the magnetic coupling of the common mode filter sandwiched between the magnetic substrate and the insulating resin layer can be enhanced.

また、上記課題を解決するため、本発明によるコイル部品の製造方法は、磁性セラミック材料からなる磁性基板の一方の主面にコイル導体を含む薄膜コイル層を形成する工程と前記薄膜コイル層の主面に露出する前記コイル導体の端子電極上にバンプ電極をめっきにより形成する工程と、前記バンプ電極が形成された前記薄膜コイル層の前記主面に絶縁樹脂のペーストを充填し、前記ペーストを硬化させることにより、前記バンプ電極の周囲に絶縁樹脂層を形成する工程と、前記絶縁樹脂層の上面を研磨又は研削して前記バンプ電極の上面を露出させる工程とを備えることを特徴としている。   In order to solve the above problems, a method for manufacturing a coil component according to the present invention includes a step of forming a thin film coil layer including a coil conductor on one main surface of a magnetic substrate made of a magnetic ceramic material, and a main component of the thin film coil layer. Forming a bump electrode on the terminal electrode of the coil conductor exposed on the surface by plating; filling the main surface of the thin film coil layer on which the bump electrode is formed with an insulating resin paste; and curing the paste In this case, the method includes a step of forming an insulating resin layer around the bump electrode, and a step of polishing or grinding the upper surface of the insulating resin layer to expose the upper surface of the bump electrode.

本発明によれば、従来使用していた上下の磁性基板の一方を省略し、その代わりに絶縁樹脂層を形成していることから、コイル部品を簡易且つ低コストで製造することができる。また、端子電極としてバンプ電極を用い、バンプ電極をめっきにより形成しているので、外部電極の加工精度を高めることができる。また、バンプ電極の周囲が絶縁樹脂層で囲まれているので、バンプ電極を補強することができる。   According to the present invention, one of the upper and lower magnetic substrates used conventionally is omitted, and the insulating resin layer is formed instead. Therefore, the coil component can be manufactured easily and at low cost. Moreover, since the bump electrode is used as the terminal electrode and the bump electrode is formed by plating, the processing accuracy of the external electrode can be increased. Further, since the periphery of the bump electrode is surrounded by the insulating resin layer, the bump electrode can be reinforced.

本発明においては、前記磁性セラミック材料からなるウェハー上に前記コイル部品を複数形成する工程と、前記複数のコイル部品を個片化する工程とを備えることが好ましい。この場合において、前記ウェハー上に形成された複数のコイル部品を個片化した後、各コイル部品の外表面をバレル研磨してエッジを除去する工程と、前記各コイル部品の表面に露出するバンプ電極の表面をめっきする工程をさらに備えることが好ましい。本発明によれば、外部端子電極を容易に形成することができ、さらにチップ欠け等の破損が生じにくいコイル部品を製造することができる。   In the present invention, it is preferable to include a step of forming a plurality of the coil components on a wafer made of the magnetic ceramic material, and a step of dividing the plurality of coil components into individual pieces. In this case, after a plurality of coil parts formed on the wafer are separated into pieces, a step of barrel-polishing the outer surface of each coil part to remove edges, and bumps exposed on the surface of each coil part It is preferable to further comprise a step of plating the surface of the electrode. According to the present invention, it is possible to easily form an external terminal electrode and to manufacture a coil component that is less susceptible to damage such as chip chipping.

本発明において、前記ウェハー上の前記複数のコイル部品を個片化する工程は、前記バンプ電極上を通過する位置でダイシングする工程を含むことが好ましい。こうした場合には、コイル部品の側面にバンプ電極が露出するので、実装時の半田フィレットを形成でき、半田の固着強度を高めることができる。   In the present invention, it is preferable that the step of dividing the plurality of coil components on the wafer includes a step of dicing at a position passing over the bump electrode. In such a case, since the bump electrode is exposed on the side surface of the coil component, a solder fillet at the time of mounting can be formed, and the fixing strength of the solder can be increased.

本発明において、前記ウェハー上の前記複数のコイル部品を個片化する工程は、前記バンプ電極の外側を通過する位置でダイシングする工程を含むことが好ましい。本発明によれば、コイル部品の側面にバンプ電極が露出しないので、実装時に半田フィレットが形成されないコイル部品を提供することができる。したがって、省スペースでの実装が可能であり、高密度実装を実現することができる。   In the present invention, it is preferable that the step of dividing the plurality of coil components on the wafer includes a step of dicing at a position passing through the outside of the bump electrode. According to the present invention, since the bump electrode is not exposed on the side surface of the coil component, it is possible to provide a coil component in which no solder fillet is formed during mounting. Therefore, space-saving mounting is possible, and high-density mounting can be realized.

本発明によれば、所望のフィルタ性能を確保しつつ小型化且つ低背化され、低コストで製造可能なコイル部品を提供することができる。また、本発明によれば、そのようなコイル部品を容易且つ低コストで製造することが可能な製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a coil component that can be manufactured at a low cost while being reduced in size and height while ensuring desired filter performance. Moreover, according to this invention, the manufacturing method which can manufacture such a coil component easily and at low cost can be provided.

本発明の第1の実施の形態によるコイル部品100の概観構造を示す略斜視図であり、実装面が上向きの状態を示している。It is a schematic perspective view which shows the general | schematic structure of the coil component 100 by the 1st Embodiment of this invention, and the mounting surface has shown the state facing upward. コイル部品100の層構造を詳細に示す略分解斜視図である。3 is a schematic exploded perspective view showing a layer structure of a coil component 100 in detail. FIG. コイル部品100の導体パターンの平面的な位置関係を示す平面図である。3 is a plan view showing a planar positional relationship of a conductor pattern of a coil component 100. FIG. コイル部品100の製造方法の一例を示すフローチャートである。3 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing a coil component 100. 多数のコイル部品100が形成されたダイシング前の磁性ウェハーの構成を示す略平面図である。It is a schematic plan view showing a configuration of a magnetic wafer before dicing on which a large number of coil components 100 are formed. 本発明の第2の実施の形態によるコイル部品200の概観構造を示す略斜視図であり、実装面が上向きの状態を示している。It is a schematic perspective view which shows the general-view structure of the coil component 200 by the 2nd Embodiment of this invention, and has shown the state in which the mounting surface is facing upward. 多数のコイル部品200が形成されたダイシング前の磁性ウェハーの構成を示す略平面図である。It is a schematic plan view showing a configuration of a magnetic wafer before dicing on which a large number of coil components 200 are formed. 従来のコモンモードフィルタの構造を示す略分解斜視図である。It is a substantially exploded perspective view which shows the structure of the conventional common mode filter.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるコイル部品100の概観構造を示す略斜視図であり、実装面が上向きの状態を示している。   FIG. 1 is a schematic perspective view showing an overview structure of the coil component 100 according to the first embodiment of the present invention, and shows a state in which the mounting surface faces upward.

図1に示すように、本実施形態によるコイル部品100はコモンモードフィルタであって、磁性基板11と、磁性基板11の一方の主面(上面)に設けられたコモンモードフィルタ素子を含む薄膜コイル層12と、薄膜コイル層12の主面(上面)に設けられた第1〜第4のバンプ電極13a〜13dと、バンプ電極13a〜13dの形成位置を除いた薄膜コイル層12の主面に設けられた磁性樹脂層14とを備えている。図示のように、コイル部品100は略直方体状の表面実装型チップ部品であり、第1〜第4のバンプ電極13a〜13dは、磁性基板11、薄膜コイル層12及び磁性樹脂層14からなる積層体の外周面に露出するように形成されている。このうち、第1及び第2のバンプ電極13a,13bは積層体の長手方向と直交する第1の側面10aから露出しており、第3及び第4のバンプ電極13c,13dは第1の側面10aと対向する第2の側面10bから露出している。なお、実装時には上下反転し、バンプ電極13a〜13d側を下向きにして使用することは言うまでもない。本明細書においては説明の便宜上、図1に示す実装面が上向きの状態を基準にして上下方向を定義し、磁性樹脂層14の露出面をコイル部品100の上面とする。   As shown in FIG. 1, the coil component 100 according to the present embodiment is a common mode filter, and includes a magnetic substrate 11 and a thin film coil including a common mode filter element provided on one main surface (upper surface) of the magnetic substrate 11. The main surface of the thin film coil layer 12 excluding the formation position of the layer 12, the first to fourth bump electrodes 13a to 13d provided on the main surface (upper surface) of the thin film coil layer 12, and the bump electrodes 13a to 13d. And a magnetic resin layer 14 provided. As shown in the drawing, the coil component 100 is a substantially rectangular parallelepiped surface-mounted chip component, and the first to fourth bump electrodes 13 a to 13 d are laminated layers including a magnetic substrate 11, a thin film coil layer 12, and a magnetic resin layer 14. It is formed so as to be exposed on the outer peripheral surface of the body. Among these, the 1st and 2nd bump electrodes 13a and 13b are exposed from the 1st side surface 10a orthogonal to the longitudinal direction of a laminated body, and the 3rd and 4th bump electrodes 13c and 13d are 1st side surfaces. It is exposed from the second side face 10b opposite to 10a. Needless to say, it is turned upside down at the time of mounting, and the bump electrodes 13a to 13d are used facing downward. In this specification, for convenience of explanation, the vertical direction is defined with reference to the state in which the mounting surface shown in FIG. 1 faces upward, and the exposed surface of the magnetic resin layer 14 is defined as the upper surface of the coil component 100.

磁性基板11は、コイル部品100の機械的強度を確保すると共に、コモンモードフィルタの閉磁路としての役割を果たすものである。磁性基板11の材料としては例えば焼結フェライト等の磁性セラミック材料を用いることができる。特に限定されるものではないが、チップサイズが1.0×1.25×0.56(mm)であるとき、磁性基板11の厚さは0.55〜0.6mm程度とすることができる。   The magnetic substrate 11 secures the mechanical strength of the coil component 100 and serves as a closed magnetic circuit for the common mode filter. As the material of the magnetic substrate 11, for example, a magnetic ceramic material such as sintered ferrite can be used. Although not particularly limited, when the chip size is 1.0 × 1.25 × 0.56 (mm), the thickness of the magnetic substrate 11 can be about 0.55 to 0.6 mm. .

薄膜コイル層12は、磁性基板11と磁性樹脂層14との間に設けられたコモンモードフィルタ素子を含む層である。詳細は後述するが、薄膜コイル層12は絶縁層と導体パターンとを交互に積層して形成された多層構造を有している。このように、本実施形態によるコイル部品100はいわゆる薄膜タイプであって、磁性コアに導線を巻回した構造を有する巻線タイプとは区別されるものである。   The thin film coil layer 12 is a layer including a common mode filter element provided between the magnetic substrate 11 and the magnetic resin layer 14. As will be described in detail later, the thin film coil layer 12 has a multilayer structure formed by alternately laminating insulating layers and conductor patterns. As described above, the coil component 100 according to the present embodiment is a so-called thin film type, and is distinguished from a winding type having a structure in which a conducting wire is wound around a magnetic core.

磁性樹脂層14は、コイル部品100の実装面(底面)を構成する層であり、磁性基板11と共に薄膜コイル層12を保護すると共に、コイル部品100の閉磁路としての役割を果たすものである。ただし、磁性樹脂層14の機械的強度は磁性基板11よりも小さいため、強度面では補助的な役割を果たす程度である。磁性樹脂層14としては、フェライト粉を含有するエポキシ樹脂(複合フェライト)を用いることができる。特に限定されるものではないが、チップサイズが1.0×1.25×0.6(mm)であるとき、磁性樹脂層14の厚さは0.08〜0.1mm程度とすることができる。   The magnetic resin layer 14 is a layer constituting the mounting surface (bottom surface) of the coil component 100, and protects the thin film coil layer 12 together with the magnetic substrate 11 and plays a role as a closed magnetic circuit of the coil component 100. However, since the mechanical strength of the magnetic resin layer 14 is smaller than that of the magnetic substrate 11, it has an auxiliary role in terms of strength. As the magnetic resin layer 14, an epoxy resin (composite ferrite) containing ferrite powder can be used. Although not particularly limited, when the chip size is 1.0 × 1.25 × 0.6 (mm), the thickness of the magnetic resin layer 14 may be about 0.08 to 0.1 mm. it can.

図2は、コイル部品100の層構造を詳細に示す略分解斜視図である。   FIG. 2 is a schematic exploded perspective view showing the layer structure of the coil component 100 in detail.

図2に示すように、薄膜コイル層12は、磁性基板11側から磁性樹脂層14側に向かって順に積層された第1〜第4の絶縁層15a〜15dと、第2の絶縁層15b上に形成された第1のスパイラル導体16及び端子電極24a〜24dと、第1の絶縁層15a上に形成された第2のスパイラル導体17及び端子電極24a〜24dと、第3の絶縁層15c上に形成された第1及び第2の引き出し導体20,21及び端子電極24a〜24dと、第4の絶縁層15d上に形成された端子電極24a〜24dとを備えている。   As shown in FIG. 2, the thin film coil layer 12 includes first to fourth insulating layers 15a to 15d, which are stacked in order from the magnetic substrate 11 side to the magnetic resin layer 14 side, and the second insulating layer 15b. The first spiral conductor 16 and terminal electrodes 24a to 24d formed on the first insulating layer 15a, the second spiral conductor 17 and terminal electrodes 24a to 24d formed on the first insulating layer 15a, and the third insulating layer 15c. The first and second lead conductors 20 and 21 and the terminal electrodes 24a to 24d formed on the first insulating layer 15 and the terminal electrodes 24a to 24d formed on the fourth insulating layer 15d are provided.

第1〜第4の絶縁層15a〜15dは、異なる層に設けられた導体パターン間を絶縁すると共に、導体パターンが形成される平面の平坦性を確保する役割を果たす。特に、第1の絶縁層15aは、磁性基板11の表面の凹凸を吸収し、導体パターンの加工精度を高める役割を果たす。絶縁層15a〜15dの材料としては、電気的及び磁気的な絶縁性に優れ、加工の容易な樹脂を用いることが好ましく、特に限定されるものではないが、ポリイミド樹脂やエポキシ樹脂を用いることができる。   The first to fourth insulating layers 15a to 15d serve to insulate between conductor patterns provided in different layers and to ensure flatness of a plane on which the conductor patterns are formed. In particular, the first insulating layer 15a plays a role of absorbing irregularities on the surface of the magnetic substrate 11 and increasing the processing accuracy of the conductor pattern. As a material for the insulating layers 15a to 15d, it is preferable to use a resin that is excellent in electrical and magnetic insulation and easy to process, and is not particularly limited, but a polyimide resin or an epoxy resin is used. it can.

第1のスパイラル導体16の内周端は、絶縁層15cを貫通する第1のコンタクトホール導体18及び第1の引き出し導体20を介して、第1の端子電極24aに接続されている。また、第1のスパイラル導体16の外周端は、第3の引き出し導体22を介して第3の端子電極24cに接続されている。   The inner peripheral end of the first spiral conductor 16 is connected to the first terminal electrode 24a through the first contact hole conductor 18 and the first lead conductor 20 that penetrate the insulating layer 15c. The outer peripheral end of the first spiral conductor 16 is connected to the third terminal electrode 24 c through the third lead conductor 22.

第2のスパイラル導体17の内周端は、絶縁層15c及び15bを貫通する第2のコンタクトホール導体19及び第2の引き出し導体21を介して、第2の端子電極24bに接続されている。また、第2のスパイラル導体17の外周端は、第4の引き出し導体23を介して第4の端子電極24dに接続されている。   The inner peripheral end of the second spiral conductor 17 is connected to the second terminal electrode 24b through a second contact hole conductor 19 and a second lead conductor 21 that penetrate the insulating layers 15c and 15b. The outer peripheral end of the second spiral conductor 17 is connected to the fourth terminal electrode 24 d through the fourth lead conductor 23.

第1及び第2のスパイラル導体16,17は共に同一の平面形状を有しており、しかも平面視で同じ位置に設けられている。第1及び第2のスパイラル導体16,17は完全に重なり合っていることから、両者の間には強い磁気結合が生じている。以上の構成により、薄膜コイル層12内の導体パターンはコモンモードフィルタを構成している。   Both the first and second spiral conductors 16 and 17 have the same planar shape, and are provided at the same position in plan view. Since the first and second spiral conductors 16 and 17 are completely overlapped, a strong magnetic coupling is generated between them. With the above configuration, the conductor pattern in the thin film coil layer 12 forms a common mode filter.

第1及び第2のスパイラル導体16,17の外形は共に円形スパイラルである。円形スパイラル導体は高周波での減衰が少ないため、高周波用インダクタンスとして好ましく用いることができる。なお、本実施形態においては、第2の引き出し導体21が第1の引き出し導体20と共通の絶縁層15c上に設けられているが、第1の引き出し導体20と異なる絶縁層上に設けられていてもよい。さらに、本発明においては、第1及び第2のスパイラル導体16,17と第1及び第2の引き出し導体18,19の上下関係は特に限定されず、どのような位置関係であってもかまわない。   The outer shapes of the first and second spiral conductors 16 and 17 are both circular spirals. Since the circular spiral conductor has little attenuation at high frequency, it can be preferably used as an inductance for high frequency. In the present embodiment, the second lead conductor 21 is provided on the insulating layer 15 c shared with the first lead conductor 20, but is provided on an insulating layer different from the first lead conductor 20. May be. In the present invention, the vertical relationship between the first and second spiral conductors 16 and 17 and the first and second lead conductors 18 and 19 is not particularly limited, and any positional relationship may be used. .

第1〜第4の絶縁層15a〜15dの中央領域であって第1及び第2のスパイラル導体16,17の内側には、第1〜第4の絶縁層15a〜15dを貫通する開口25が設けられており、開口25の内部には、磁路を形成するための磁性コア26が形成されている。磁性コア26の材料としては、磁性樹脂層14と同一の材料である磁性粉含有樹脂(複合フェライト)を用いることが好ましい。   An opening 25 penetrating the first to fourth insulating layers 15a to 15d is formed in the central region of the first to fourth insulating layers 15a to 15d and inside the first and second spiral conductors 16 and 17. A magnetic core 26 for forming a magnetic path is formed inside the opening 25. As the material of the magnetic core 26, it is preferable to use a magnetic powder-containing resin (composite ferrite) which is the same material as the magnetic resin layer 14.

絶縁層15d上には第1〜第4のバンプ電極13a〜13dがそれぞれ設けられている。第1のバンプ電極13aは端子電極24aに接続され、第2のバンプ電極13bは端子電極24bに接続され、第3のバンプ電極13cは端子電極24cに接続され、第4のバンプ電極13dは端子電極24dに接続されている。なお、本明細書において「バンプ電極」とは、フリップチップボンダーを用いてCu,Au等の金属ボールを熱圧着することにより形成されるものとは異なり、めっき処理により形成された厚膜めっき電極を意味する。バンプ電極の厚さは、磁性樹脂層14の厚さと同等かそれ以上であり、0.08〜0.1mm程度とすることができる。すなわち、バンプ電極13a〜13dの厚さは薄膜コイル層12内の導体パターンよりも厚く、特に、薄膜コイル層12内の導体パターンの5倍以上の厚さを有している。   First to fourth bump electrodes 13a to 13d are provided on the insulating layer 15d, respectively. The first bump electrode 13a is connected to the terminal electrode 24a, the second bump electrode 13b is connected to the terminal electrode 24b, the third bump electrode 13c is connected to the terminal electrode 24c, and the fourth bump electrode 13d is a terminal It is connected to the electrode 24d. In the present specification, the “bump electrode” is a thick film plating electrode formed by a plating process, different from the one formed by thermocompression bonding of metal balls such as Cu and Au using a flip chip bonder. Means. The thickness of the bump electrode is equal to or greater than the thickness of the magnetic resin layer 14 and can be about 0.08 to 0.1 mm. That is, the thickness of the bump electrodes 13 a to 13 d is thicker than the conductor pattern in the thin film coil layer 12, and particularly has a thickness five times or more that of the conductor pattern in the thin film coil layer 12.

第1〜第4のバンプ電極13a〜13dが形成された第4の絶縁層15d上には磁性樹脂層14が形成されている。磁性樹脂層14はバンプ電極13a〜13dの周囲を埋めるように設けられている。   A magnetic resin layer 14 is formed on the fourth insulating layer 15d on which the first to fourth bump electrodes 13a to 13d are formed. The magnetic resin layer 14 is provided so as to fill the periphery of the bump electrodes 13a to 13d.

図3は、薄膜コイル層12内の導体パターンとバンプ電極13a〜13dとの位置関係を示す略平面図である。   FIG. 3 is a schematic plan view showing the positional relationship between the conductor pattern in the thin film coil layer 12 and the bump electrodes 13a to 13d.

図3に示すように、第1及び第2のスパイラル導体16,17は、平面視にて完全に重なり合っているので、両者の間には強い磁気結合が生じている。また、本実施形態においては、第1〜第4のバンプ電極13a〜13dの一部がスパイラル導体16,17と重なっている。プリント基板への半田実装を確実にするためには、バンプ電極13a〜13dの実装面側の面積をある程度確保しなければならないが、バンプ電極13a〜13dがスパイラル導体16,17と重なるように配置した場合には、チップ面積を大きくすることなく電極面積を確保することができる。もちろん、バンプ電極13a〜13dがスパイラル導体16,17と重ならないように構成することも可能であるが、その場合にはチップ部品が大型化することになる。   As shown in FIG. 3, since the first and second spiral conductors 16 and 17 are completely overlapped in a plan view, strong magnetic coupling occurs between them. In the present embodiment, part of the first to fourth bump electrodes 13 a to 13 d overlaps with the spiral conductors 16 and 17. In order to ensure solder mounting on the printed circuit board, it is necessary to secure a certain area on the mounting surface side of the bump electrodes 13a to 13d, but the bump electrodes 13a to 13d are arranged so as to overlap the spiral conductors 16 and 17. In this case, the electrode area can be secured without increasing the chip area. Of course, it is possible to configure the bump electrodes 13a to 13d so as not to overlap the spiral conductors 16 and 17, but in this case, the chip component becomes large.

また図示のように、磁性樹脂層14と接するバンプ電極13a〜13dの側面13eは、エッジのない曲面形状であることが好ましい。詳細は後述するが、磁性樹脂層14は、バンプ電極13を形成した後、複合フェライトのペーストを流し込むことにより形成されるが、このときバンプ電極13a〜13dの側面13eにエッジの効いたコーナー部があるとバンプ電極の周囲にペーストが完全に充填されず、気泡を含む状態となりやすい。しかし、バンプ電極13a〜13dの側面が湾曲面である場合には、流動性のある樹脂が隅々まで行き渡るので、気泡を含まない緻密な絶縁樹脂層を形成することができる。しかも、磁性樹脂層14とバンプ電極13a〜13dとの密着性が高まるので、バンプ電極13a〜13dに対する補強性を高めることができる。   Further, as shown in the drawing, the side surfaces 13e of the bump electrodes 13a to 13d that are in contact with the magnetic resin layer 14 are preferably curved surfaces having no edges. As will be described in detail later, the magnetic resin layer 14 is formed by pouring a composite ferrite paste after forming the bump electrode 13. At this time, a corner portion having an edge on the side surface 13 e of the bump electrodes 13 a to 13 d is formed. If there is, the paste is not completely filled around the bump electrodes, and bubbles are likely to be included. However, when the side surfaces of the bump electrodes 13a to 13d are curved surfaces, the fluid resin spreads to every corner, so that a dense insulating resin layer that does not contain bubbles can be formed. In addition, since the adhesion between the magnetic resin layer 14 and the bump electrodes 13a to 13d is increased, the reinforcement to the bump electrodes 13a to 13d can be enhanced.

以上説明したように、本実施形態によるコイル部品100は、薄膜コイル層12の片側にのみ磁性基板11が設けられ、反対側の絶縁基板が省略され、その代わりに磁性樹脂層14が設けられているので、薄型なチップ部品を低コストで提供することができる。また、磁性樹脂層14と同等な肉厚を有するバンプ電極13a〜13dを設けたことにより、チップ部品の側面や上下面に外部電極面を形成する工程を省略することができ、外部電極を容易且つ高精度に形成することができる。さらに、本実施形態によれば、バンプ電極13a〜13dの一部がコイル導体パターンと平面視にて重なるように設けられていることから、チップ部品の小型化を図ることができる。   As described above, in the coil component 100 according to the present embodiment, the magnetic substrate 11 is provided only on one side of the thin film coil layer 12, the insulating substrate on the opposite side is omitted, and the magnetic resin layer 14 is provided instead. Therefore, a thin chip part can be provided at low cost. Further, by providing the bump electrodes 13a to 13d having the same thickness as the magnetic resin layer 14, the step of forming the external electrode surface on the side surface and the upper and lower surfaces of the chip component can be omitted, and the external electrode can be easily formed. In addition, it can be formed with high accuracy. Furthermore, according to this embodiment, since a part of bump electrode 13a-13d is provided so that it may overlap with a coil conductor pattern by planar view, size reduction of a chip component can be achieved.

次に、コイル部品100の製造方法について詳細に説明する。   Next, the manufacturing method of the coil component 100 will be described in detail.

図4は、コイル部品100の製造方法を示すフローチャートである。また、図5は、多数のコイル部品100が形成された磁性ウェハーの構成を示す略平面図である。   FIG. 4 is a flowchart showing a method for manufacturing the coil component 100. FIG. 5 is a schematic plan view showing the configuration of a magnetic wafer on which a large number of coil components 100 are formed.

図4及び図5に示すように、コイル部品100の製造では、一枚の大きな磁性基板(磁性ウェハー)上に多数のコモンモードフィルタ素子(コイル導体パターン)を形成した後、各素子を個別に切断することにより多数のチップ部品を製造する量産プロセスが実施される。そのため、まず磁性ウェハーを用意し、(ステップS11)、磁性ウェハーの表面に多数のコモンモードフィルタ素子がレイアウトされた薄膜コイル層12を形成する(ステップS12)。   As shown in FIGS. 4 and 5, in the manufacture of the coil component 100, after forming a large number of common mode filter elements (coil conductor patterns) on a single large magnetic substrate (magnetic wafer), each element is individually manufactured. A mass production process for producing a large number of chip parts by cutting is performed. Therefore, a magnetic wafer is first prepared (step S11), and a thin film coil layer 12 in which a number of common mode filter elements are laid out is formed on the surface of the magnetic wafer (step S12).

薄膜コイル層12はいわゆる薄膜工法によって形成される。ここで、薄膜工法とは、感光性樹脂を塗布し、これを露光及び現像して絶縁層を形成した後、絶縁層の表面に導体パターンを形成する工程を繰り返すことにより、絶縁層及び導体層が交互に形成された多層膜を形成する方法である。以下、薄膜コイル層12の形成工程について詳細に説明する。   The thin film coil layer 12 is formed by a so-called thin film construction method. Here, the thin film method is a method in which a photosensitive resin is applied, exposed and developed to form an insulating layer, and then a process of forming a conductive pattern on the surface of the insulating layer is repeated, whereby the insulating layer and the conductive layer are formed. Is a method of forming a multilayer film in which are alternately formed. Hereafter, the formation process of the thin film coil layer 12 is demonstrated in detail.

薄膜コイル層12の形成では、まず絶縁層15aを形成した後、絶縁層15a上に第2のスパイラル導体17及び端子電極24a〜24dを形成する。次に、絶縁層15a上に絶縁層15bを形成した後、絶縁層15b上に第1のスパイラル導体16及び端子電極24a〜24dを形成し、さらに絶縁層15bを貫通するコンタクトホール導体19を形成する。次に、絶縁層15b上に絶縁層15cを形成した後、絶縁層15c上に引き出し導体20,21及び端子電極24a〜24dを形成し、さらに絶縁層15cを貫通するコンタクトホール導体18,19をそれぞれ形成する。最後に、絶縁層15dを形成した後、端子電極24a〜24dを形成する。   In the formation of the thin film coil layer 12, the insulating layer 15a is first formed, and then the second spiral conductor 17 and the terminal electrodes 24a to 24d are formed on the insulating layer 15a. Next, after forming the insulating layer 15b on the insulating layer 15a, the first spiral conductor 16 and the terminal electrodes 24a to 24d are formed on the insulating layer 15b, and the contact hole conductor 19 penetrating the insulating layer 15b is formed. To do. Next, after forming an insulating layer 15c on the insulating layer 15b, lead conductors 20 and 21 and terminal electrodes 24a to 24d are formed on the insulating layer 15c, and contact hole conductors 18 and 19 penetrating the insulating layer 15c are formed. Form each one. Finally, after the insulating layer 15d is formed, the terminal electrodes 24a to 24d are formed.

ここで、各絶縁層15a〜15dは、下地面に感光性樹脂をスピンコートし、これを露光及び現像することにより形成することができる。特に、絶縁層16b〜16dは開口25を有する絶縁層として形成され、絶縁層15b,15cはコンタクトホール導体18,19を有する絶縁層として形成される。また、導体パターンの材料としてはCu等を用いることができ、蒸着法又はスパッタリングにより導体層を形成した後、これをパターニングすることにより形成することができる。   Here, each of the insulating layers 15a to 15d can be formed by spin-coating a photosensitive resin on the base surface, and exposing and developing it. In particular, the insulating layers 16 b to 16 d are formed as insulating layers having openings 25, and the insulating layers 15 b and 15 c are formed as insulating layers having contact hole conductors 18 and 19. Moreover, Cu etc. can be used as a material of a conductor pattern, and after forming a conductor layer by a vapor deposition method or sputtering, it can form by patterning this.

次に、絶縁層15d上にバンプ電極13(13a〜13d)を形成する(ステップS13)。バンプ電極13の形成方法は、まず端子電極24a〜24dが露出した絶縁層15dの全面にCu膜を無電解めっきにより形成する。その後、シートレジストを貼り付け、露光及び現像することにより、バンプ電極を形成すべき位置にあるシートレジストを選択的に除去し、絶縁基板15d上の端子電極24a〜24dを含む電極形成領域を露出させる。この露出領域に、肉厚なバンプ電極13a〜13dを電気めっきにより形成する。その後、シートレジストを除去し、全面をエッチングすることにより不要なCu膜を除去し、バンプ電極13を端子電極24a〜24dの上方にのみ残すことにより、略柱状のバンプ電極13が完成する。このとき、図5に示すように、略柱状のバンプ電極13は、チップ部品の長手方向に隣接する2つのチップ部品に共通の電極として形成される。バンプ電極13は後述のダイシングによって2分割され、これにより各素子に対応する個別のバンプ電極13a〜13dが形成される。   Next, bump electrodes 13 (13a to 13d) are formed on the insulating layer 15d (step S13). The bump electrode 13 is formed by first forming a Cu film on the entire surface of the insulating layer 15d where the terminal electrodes 24a to 24d are exposed by electroless plating. Thereafter, a sheet resist is pasted, exposed and developed to selectively remove the sheet resist at the position where the bump electrode is to be formed, exposing the electrode forming region including the terminal electrodes 24a to 24d on the insulating substrate 15d. Let Thick bump electrodes 13a to 13d are formed in this exposed region by electroplating. Thereafter, the sheet resist is removed, the entire surface is etched, the unnecessary Cu film is removed, and the bump electrode 13 is left only above the terminal electrodes 24a to 24d, whereby the substantially columnar bump electrode 13 is completed. At this time, as shown in FIG. 5, the substantially columnar bump electrode 13 is formed as an electrode common to two chip components adjacent in the longitudinal direction of the chip component. The bump electrode 13 is divided into two parts by dicing described later, whereby individual bump electrodes 13a to 13d corresponding to each element are formed.

次に、バンプ電極13が形成された磁性ウェハー上に複合フェライトのペーストを充填し、硬化させて、磁性樹脂層14を形成する(ステップS14)。このとき、磁性樹脂層14を確実に形成するため多量のペーストが充填され、これによりバンプ電極13は樹脂内に埋没した状態となる。そのため、バンプ電極13の上面が露出するまで磁性樹脂層14を研磨して所定の厚さにすると共に表面を平滑化する(ステップS15)。さらに、磁性ウェハーについても所定の厚さとなるように研磨する(ステップS16)。その後、磁性ウェハーのダイシングによって各コモンモードフィルタ素子を個片化(チップ化)し、図1に示すチップ部品を作製する(ステップS17)。このとき、図5に示すように、チップ部品の長手方向(Y方向)と直交する方向(X方向)に延びる切断ラインC1はバンプ電極13の中央を通過し、得られたバンプ電極13a〜13dの切断面は、コイル部品100の側面に露出することになる。バンプ電極13a〜13dの側面は実装時において半田フィレットの形成面となるので、半田実装時の固着強度を高めることができる。   Next, the magnetic wafer on which the bump electrodes 13 are formed is filled with a composite ferrite paste and cured to form the magnetic resin layer 14 (step S14). At this time, in order to reliably form the magnetic resin layer 14, a large amount of paste is filled, whereby the bump electrode 13 is buried in the resin. Therefore, the magnetic resin layer 14 is polished to a predetermined thickness until the upper surface of the bump electrode 13 is exposed, and the surface is smoothed (step S15). Further, the magnetic wafer is also polished so as to have a predetermined thickness (step S16). Thereafter, each common mode filter element is separated (chiped) by dicing the magnetic wafer to produce the chip component shown in FIG. 1 (step S17). At this time, as shown in FIG. 5, the cutting line C1 extending in the direction (X direction) orthogonal to the longitudinal direction (Y direction) of the chip component passes through the center of the bump electrode 13, and the obtained bump electrodes 13a to 13d are obtained. The cut surface is exposed on the side surface of the coil component 100. Since the side surfaces of the bump electrodes 13a to 13d become solder fillet forming surfaces during mounting, the fixing strength during solder mounting can be increased.

次に、チップ部品100のバレル研磨を行ってエッジを除去した後(ステップS18)、電気めっきを行い(ステップS19)、薄膜コイル層12の側面に露出する端子電極24a〜24dとバンプ電極13a〜13dとが完全に一体化された平滑な電極面を形成し、これにより図1に示すバンプ電極13a〜13dが完成する。このように、チップ部品の外表面をバレル研磨することによりチップ欠け等の破損が生じにくいコイル部品を製造することができる。また、チップ部品の外周面に露出するバンプ電極3a〜13dの表面をめっき処理するため、バンプ電極13a〜13dの表面を平滑面とすることができる。   Next, after barrel-polishing the chip component 100 to remove the edges (step S18), electroplating is performed (step S19), and the terminal electrodes 24a to 24d and the bump electrodes 13a to 13 exposed on the side surfaces of the thin film coil layer 12 are performed. A smooth electrode surface that is completely integrated with 13d is formed, whereby bump electrodes 13a to 13d shown in FIG. 1 are completed. As described above, by barrel polishing the outer surface of the chip component, it is possible to manufacture a coil component that is unlikely to be damaged such as chip chipping. Moreover, since the surface of bump electrode 3a-13d exposed to the outer peripheral surface of a chip component is plated, the surface of bump electrode 13a-13d can be made into a smooth surface.

以上説明したように、本実施形態によるコイル部品100の製造方法は、従来において使用していた上下の磁性基板の一方を省略し、その代わりに絶縁樹脂層を形成することから、コイル部品を簡易且つ低コストで製造することができる。また、バンプ電極の周囲に樹脂を充填しているので、バンプ電極を補強することができ、バンプ電極の剥離等を防止することができる。また、本実施形態によるコモンモードフィルタの製造方法は、バンプ電極をめっきにより形成しているので、例えばスパッタリングで形成する場合よりも加工精度の高く安定した外部端子電極を提供することができる。   As described above, the manufacturing method of the coil component 100 according to the present embodiment omits one of the upper and lower magnetic substrates used in the past, and forms an insulating resin layer instead, thereby simplifying the coil component. And it can manufacture at low cost. Further, since the resin is filled around the bump electrode, the bump electrode can be reinforced and peeling of the bump electrode can be prevented. Moreover, since the bump electrode is formed by plating in the method for manufacturing the common mode filter according to the present embodiment, it is possible to provide a stable external terminal electrode with higher processing accuracy than when formed by sputtering, for example.

図6は、本発明の第2の実施形態によるコイル部品200の構造を示す略概観斜視図である。また、図7は、多数のコイル部品200が形成された磁性ウェハーの構成を示す略平面図である。   FIG. 6 is a schematic perspective view showing the structure of the coil component 200 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a schematic plan view showing the configuration of a magnetic wafer on which a large number of coil components 200 are formed.

図6及び図7に示すように、このコイル部品200の特徴は、バンプ電極27の側面がチップ部品の外周面から露出せず、バンプ電極27の上面のみが露出している点にある。そのため、コイル部品200の製造では、バンプ電極27は各素子の実装領域の内側に形成される。また、磁性ウェハー上に形成された多数のコモンモードフィルタ素子をダイシングにより個片化する際、切断ラインC1はバンプ電極27a〜27dの外側を通過する。本実施形態によれば、バンプ電極27a〜27dの側面がコイル部品200の側面に露出しないので、実装時の半田フィレットが形成されない外部端子電極を提供することができる。したがって、省スペースでの実装が可能であり、高密度実装を実現できる。また、磁性ウェハーのダイシングの際にバンプ電極27が切断対象とならず、磁性ウェハー及び樹脂層のみが切断対象となるので、ダイシングも容易となる。   As shown in FIGS. 6 and 7, the coil component 200 is characterized in that the side surface of the bump electrode 27 is not exposed from the outer peripheral surface of the chip component, and only the upper surface of the bump electrode 27 is exposed. Therefore, in the manufacture of the coil component 200, the bump electrode 27 is formed inside the mounting area of each element. When a large number of common mode filter elements formed on the magnetic wafer are separated by dicing, the cutting line C1 passes outside the bump electrodes 27a to 27d. According to this embodiment, since the side surfaces of the bump electrodes 27a to 27d are not exposed to the side surfaces of the coil component 200, it is possible to provide an external terminal electrode in which no solder fillet is formed during mounting. Therefore, space-saving mounting is possible and high-density mounting can be realized. In addition, the bump electrode 27 is not a cutting target when dicing the magnetic wafer, and only the magnetic wafer and the resin layer are cutting targets, so that dicing is also facilitated.

以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、それらも本発明に包含されるものであることは言うまでもない。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Needless to say, it is included in the present invention.

例えば、上記実施形態においては、磁性ウェハー上に薄膜コイル層及び磁性樹脂層を形成し、ダイシングによって個片化し、さらにバレル研磨した後に電気めっきしているが、本発明はこの方法に限らず、ダイシング前のウェハーに無電解めっき処理を施した後、ダイシングを行ってもよい。   For example, in the above embodiment, a thin film coil layer and a magnetic resin layer are formed on a magnetic wafer, separated by dicing, and further electroplated after barrel polishing, but the present invention is not limited to this method, Dicing may be performed after the electroless plating treatment is performed on the wafer before dicing.

また、上記実施形態においては、薄膜コイル層12の主面に複合フェライトからなる磁性樹脂層14を形成しているが、磁性を有しない単なる絶縁樹脂層を形成してもよい。また、コイル部品として薄膜コモンモードフィルタを例に挙げたが、本発明はコイル導体層の上下を磁性基板で挟み込むタイプの各種コイル部品に適用可能である。   Moreover, in the said embodiment, although the magnetic resin layer 14 which consists of composite ferrite is formed in the main surface of the thin film coil layer 12, you may form the simple insulating resin layer which does not have magnetism. Moreover, although the thin film common mode filter has been exemplified as the coil component, the present invention is applicable to various types of coil components in which the upper and lower sides of the coil conductor layer are sandwiched between magnetic substrates.

また、上記実施形態においては、磁性コア26を設けているが、本発明において磁性コア26は必須でない。ただし、磁性コア26は磁性樹脂層14と同一材料で形成することができるので、開口25を形成しさえすれば、特別な工程を経由することなく、磁性コア26と磁性樹脂層14とを同時に形成することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the magnetic core 26 is provided, the magnetic core 26 is not essential in this invention. However, since the magnetic core 26 can be formed of the same material as that of the magnetic resin layer 14, the magnetic core 26 and the magnetic resin layer 14 can be simultaneously formed without going through a special process as long as the opening 25 is formed. Can be formed.

10a,10b 積層体(コイル部品)の側面
11 磁性基板
12 薄膜コイル層
13,13a〜13d バンプ電極
14 磁性樹脂層
15,15a〜15d 絶縁層
16 第1のスパイラル導体
17 第2のスパイラル導体
18 第1のコンタクトホール導体
19 第2のコンタクトホール導体
20〜23 引き出し導体
24,24a-24d 端子電極
25 開口
26 磁性コア
27 バンプ電極
100 コイル部品
200 コイル部品
10a, 10b Side surface of laminated body (coil component) 11 Magnetic substrate 12 Thin film coil layers 13, 13a-13d Bump electrode 14 Magnetic resin layers 15, 15a-15d Insulating layer 16 First spiral conductor 17 Second spiral conductor 18 First One contact hole conductor 19 Second contact hole conductors 20 to 23 Lead conductors 24, 24a-24d Terminal electrode 25 Opening 26 Magnetic core 27 Bump electrode 100 Coil component 200 Coil component

Claims (17)

磁性セラミック材料からなる磁性基板と、
前記磁性基板の一方の主面に形成されたコイル導体を含む薄膜コイル層と、
前記薄膜コイル層の主面に形成されたバンプ電極と、
前記バンプ電極の形成位置を除いた前記薄膜コイル層の前記主面に形成された絶縁樹脂層とを備え、
前記バンプ電極は、めっきにより形成された厚膜電極であり、
前記バンプ電極の厚さは、前記薄膜コイル層内の導体パターンよりも厚いことを特徴とするコイル部品。
A magnetic substrate made of magnetic ceramic material;
A thin film coil layer including a coil conductor formed on one main surface of the magnetic substrate;
Bump electrodes formed on the main surface of the thin film coil layer;
An insulating resin layer formed on the main surface of the thin film coil layer excluding the formation position of the bump electrode;
The bump electrode is a thick film electrode formed by plating ,
The coil component, wherein the bump electrode is thicker than the conductor pattern in the thin film coil layer .
前記バンプ電極の側面の一部は露出しており、前記側面の残りの部分は前記絶縁樹脂層に覆われている、請求項1に記載のコイル部品。The coil component according to claim 1, wherein a part of a side surface of the bump electrode is exposed and a remaining part of the side surface is covered with the insulating resin layer. 前記バンプ電極は、前記薄膜コイル層内の前記導体パターンの5倍以上の厚さを有することを特徴とする請求項1又は2に記載のコイル部品。   3. The coil component according to claim 1, wherein the bump electrode has a thickness of five times or more of the conductor pattern in the thin film coil layer. 前記バンプ電極の厚さは、0.08mm以上0.1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のコイル部品。   4. The coil component according to claim 1, wherein a thickness of the bump electrode is not less than 0.08 mm and not more than 0.1 mm. 5. 前記バンプ電極は、前記絶縁樹脂層と同等かそれ以上の厚さを有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコイル部品。   5. The coil component according to claim 1, wherein the bump electrode has a thickness equal to or greater than that of the insulating resin layer. 前記絶縁樹脂層と接する前記バンプ電極の側面がエッジのない曲面形状を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のコイル部品。   6. The coil component according to claim 1, wherein a side surface of the bump electrode in contact with the insulating resin layer has a curved surface shape without an edge. 前記絶縁樹脂層は磁性粉含有樹脂材料からなり、
前記コイル導体は、互いに磁気結合する第1及び第2のスパイラル導体を含み、前記第1及び第2のスパイラル導体はコモンモードフィルタを構成していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のコイル部品。
The insulating resin layer is made of a magnetic powder-containing resin material,
The coil conductor includes first and second spiral conductors that are magnetically coupled to each other, and the first and second spiral conductors constitute a common mode filter. The coil component according to claim 1.
前記第1及び第2のスパイラル導体の内側に設けられた磁性コアをさらに備え、
前記磁性コアは、前記絶縁樹脂層と同一の材料で同時に形成されたものであることを特徴とする請求項7に記載のコイル部品。
A magnetic core provided inside the first and second spiral conductors;
The coil component according to claim 7, wherein the magnetic core is formed of the same material as that of the insulating resin layer at the same time.
磁性セラミック材料からなる磁性基板の一方の主面にコイル導体を含む薄膜コイル層を形成する工程と
前記薄膜コイル層の主面に露出する前記コイル導体の端子電極上に、前記薄膜コイル層内の導体パターンよりも厚いバンプ電極をめっきにより形成する工程と、
前記バンプ電極が形成された前記薄膜コイル層の前記主面に絶縁樹脂のペーストを充填し、前記ペーストを硬化させることにより、前記バンプ電極の周囲に絶縁樹脂層を形成する工程と、
前記絶縁樹脂層の上面を研磨又は研削して前記バンプ電極の上面を露出させる工程と
前記バンプ電極の側面の一部を露出させる工程とを備えることを特徴とするコイル部品の製造方法。
Forming a thin film coil layer including a coil conductor on one main surface of a magnetic substrate made of a magnetic ceramic material; and on the terminal electrode of the coil conductor exposed on the main surface of the thin film coil layer, Forming a bump electrode thicker than the conductor pattern by plating;
Filling the main surface of the thin film coil layer on which the bump electrode is formed with an insulating resin paste, and curing the paste to form an insulating resin layer around the bump electrode;
Polishing or grinding the upper surface of the insulating resin layer to expose the upper surface of the bump electrode ;
And a step of exposing a part of the side surface of the bump electrode .
前記バンプ電極は、前記薄膜コイル層内の前記導体パターンの5倍以上の厚さを有することを特徴とする請求項9に記載のコイル部品の製造方法。   10. The method of manufacturing a coil component according to claim 9, wherein the bump electrode has a thickness of five times or more the conductor pattern in the thin film coil layer. 前記バンプ電極の厚さは、0.08mm以上0.1mm以下であることを特徴とする請求項9又は10に記載のコイル部品の製造方法。   The thickness of the said bump electrode is 0.08 mm or more and 0.1 mm or less, The manufacturing method of the coil components of Claim 9 or 10 characterized by the above-mentioned. 前記バンプ電極は、前記絶縁樹脂層と同等かそれ以上の厚さを有することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。   The method for manufacturing a coil component according to claim 9, wherein the bump electrode has a thickness equal to or greater than that of the insulating resin layer. 前記薄膜コイル層を形成する工程は、互いに磁気結合する第1及び第2のスパイラル導体を形成する工程と、前記第1及び第2のスパイラル導体の内側に設けられた磁性コアを形成する工程とを含み、
前記磁性コアは、前記絶縁樹脂層と同一の材料で同時に形成されることを特徴とする請求項9乃至12のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。
The step of forming the thin film coil layer includes a step of forming first and second spiral conductors that are magnetically coupled to each other, and a step of forming a magnetic core provided inside the first and second spiral conductors. Including
The method of manufacturing a coil component according to claim 9, wherein the magnetic core is formed of the same material as the insulating resin layer at the same time.
前記磁性セラミック材料からなるウェハー上に前記コイル部品を複数形成する工程と、前記複数のコイル部品を個片化する工程とを備えることを特徴とする請求項9乃至13のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。   14. The method according to claim 9, comprising a step of forming a plurality of the coil components on a wafer made of the magnetic ceramic material, and a step of dividing the plurality of coil components into individual pieces. Manufacturing method of coil parts. 前記ウェハー上に形成された複数のコイル部品を個片化した後、各コイル部品の外表面をバレル研磨してエッジを除去する工程と、
前記各コイル部品の表面に露出するバンプ電極の表面をめっきする工程をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載のコイル部品の製造方法。
After separating the plurality of coil parts formed on the wafer into pieces, removing the edges by barrel polishing the outer surface of each coil part;
The method of manufacturing a coil component according to claim 14, further comprising a step of plating the surface of the bump electrode exposed on the surface of each coil component.
前記ウェハー上の前記複数のコイル部品を個片化する工程は、前記バンプ電極上を通過する位置でダイシングする工程を含み、当該ダイシングによって前記バンプ電極の側面の一部が露出することを特徴とする請求項15に記載のコイル部品の製造方法。 The step of dividing the plurality of coil components on the wafer includes a step of dicing at a position passing over the bump electrode, and a part of the side surface of the bump electrode is exposed by the dicing. The method for manufacturing a coil component according to claim 15. 前記ウェハー上の前記複数のコイル部品を個片化する工程は、前記バンプ電極の外側を通過する位置でダイシングする工程を含むことを特徴とする請求項15に記載のコイル部品の製造方法。   The method for manufacturing a coil component according to claim 15, wherein the step of dividing the plurality of coil components on the wafer includes a step of dicing at a position passing outside the bump electrode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101352631B1 (en) * 2013-11-28 2014-01-17 김선기 Stacked common mode filter for high-frequency
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JP6911583B2 (en) * 2017-06-30 2021-07-28 Tdk株式会社 Laminated electronic components

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2976049B2 (en) * 1992-07-27 1999-11-10 株式会社村田製作所 Multilayer electronic components
JPH0757936A (en) * 1993-08-12 1995-03-03 Koa Corp High frequency coil and production thereof
JPH113836A (en) * 1997-06-11 1999-01-06 Murata Mfg Co Ltd Laminated electronic part
JP2000232018A (en) * 1999-02-09 2000-08-22 Tokin Corp Chip type electronic parts and its manufacture
JP2001023822A (en) * 1999-07-07 2001-01-26 Tdk Corp Laminated ferrite chip inductor array and manufacture thereof
JP2005093547A (en) * 2003-09-12 2005-04-07 Murata Mfg Co Ltd High frequency coil and its manufacturing method
JP4752280B2 (en) * 2005-02-08 2011-08-17 カシオ計算機株式会社 Chip-type electronic component and manufacturing method thereof
JP4844045B2 (en) * 2005-08-18 2011-12-21 Tdk株式会社 Electronic component and manufacturing method thereof
JP2007242800A (en) * 2006-03-07 2007-09-20 Tdk Corp Common mode filter

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