JP5495008B2 - EXPOSURE CONTROL DEVICE AND EXPOSURE CONTROL METHOD - Google Patents

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JP5495008B2 JP2009163278A JP2009163278A JP5495008B2 JP 5495008 B2 JP5495008 B2 JP 5495008B2 JP 2009163278 A JP2009163278 A JP 2009163278A JP 2009163278 A JP2009163278 A JP 2009163278A JP 5495008 B2 JP5495008 B2 JP 5495008B2
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本発明は、可視光および赤外光での撮影を同時に行なう際に、可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようにする露光量制御装置および露光量制御方法に関する。   The present invention relates to an exposure amount control apparatus and an exposure amount control method for obtaining preferable exposure for both a visible light system and an infrared light system when photographing with visible light and infrared light is performed simultaneously.

特許文献1、特許文献2に記載されているように、1台で可視光での撮像と赤外光での撮像とを行なえるようにした撮像装置が知られており、監視カメラ等に用いられている。このような撮像装置では、夕刻のように少し暗い撮影条件の下でも、被写体を明瞭に映すことができる赤外光での撮影と、被写体のカラー情報を得ることができる可視光による撮影とを同時に行なうことができる。   As described in Patent Document 1 and Patent Document 2, there is known an imaging apparatus that can perform imaging with visible light and imaging with infrared light by one unit, and is used for a monitoring camera or the like. It has been. In such an imaging device, shooting under infrared light that can clearly show a subject even under a slightly dark shooting condition such as in the evening, and shooting with visible light that can obtain color information of the subject. Can be done at the same time.

撮像装置では、撮像の際に被写体の明るさに応じた露出制御が行なわれる。露出制御は主として絞り値とシャッター速度とで定められるEV値を調整することで行なわれる。一般に、撮像素子の可視光に対する感度と赤外光に対する感度とは異なり、また、被写体における可視光の反射率と赤外光の反射率も異なるため、可視光についての適正露出と赤外光についての適正露出は一致しないことが多い。このため、一方に適正露出を与えるように露出制御した場合に、他方が露光不足になったり飽和したりする場合があるという問題がある。   In the imaging apparatus, exposure control according to the brightness of the subject is performed during imaging. Exposure control is performed mainly by adjusting the EV value determined by the aperture value and the shutter speed. In general, the sensitivity of the image sensor to visible light and the sensitivity to infrared light are different, and the reflectance of visible light and infrared light of the subject are also different. Often the proper exposure does not match. For this reason, there is a problem that when exposure control is performed so as to give appropriate exposure to one side, the other side may be underexposed or saturated.

双方が適正露出で撮像を行なうためには、可視光撮像系と赤外光撮像系とで独立に露出制御を行なうことが好ましい。特許文献1には、異なる波長帯の光量を制御できる絞り機構を用いることで、可視光系と赤外光系とで絞り値を独立に制御することが記載されている。また、特許文献2には、分光光学系の後段に可視光用と赤外光用の独立した絞り機構を設けることが記載されている。このように、可視光系と赤外光系とで絞り値を独立に制御することで、可視光系、赤外光系とも良好な撮像結果を得ることができる。   In order for both to capture images with appropriate exposure, it is preferable to perform exposure control independently between the visible light imaging system and the infrared light imaging system. Patent Document 1 describes that an aperture value can be independently controlled in a visible light system and an infrared light system by using a diaphragm mechanism that can control light amounts in different wavelength bands. Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228561 describes that independent diaphragm mechanisms for visible light and infrared light are provided at the subsequent stage of the spectroscopic optical system. In this way, by controlling the aperture value independently for the visible light system and the infrared light system, good imaging results can be obtained for both the visible light system and the infrared light system.

特開2002−369049号公報JP 2002-369049 A 特開2005−4181号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-4181

近年、撮像装置では、撮像素子から電荷を取り出す時間をコントロールすることでシャッター速度を変化させる電子シャッター方式が広く採用されており、可視光系と赤外光系とでシャッター速度を独立に制御することはコストアップを招くことなく容易に行なうことができる。   2. Description of the Related Art In recent years, an electronic shutter system that changes the shutter speed by controlling the time to extract charge from the image sensor has been widely adopted in image pickup apparatuses, and the shutter speed is controlled independently between the visible light system and the infrared light system. This can be easily performed without increasing the cost.

しかしながら、可視光系と赤外光系とで絞りを独立に制御するためには特許文献1に記載されているように異なる波長帯の光量を制御できる絞り機構を用いたり、特許文献2に記載されているように複数の絞り機構を設けたりする必要があり、構成が複雑になって撮像装置のコストアップを招くことになる。特許文献2には、絞りを1つだけ用いる構成についても触れられているが、好ましい露出を得るための制御については記載されていない。   However, in order to control the diaphragm independently between the visible light system and the infrared light system, a diaphragm mechanism capable of controlling the light amounts in different wavelength bands as described in Patent Document 1 is used, or described in Patent Document 2. As described above, it is necessary to provide a plurality of aperture mechanisms, which complicates the configuration and increases the cost of the imaging apparatus. Patent Document 2 also mentions a configuration using only one stop, but does not describe control for obtaining a preferable exposure.

また、近年、監視カメラ用の撮影光学系として、絞りの開閉を外部から電気的に制御できる自動絞りレンズが広く流通している。このような自動絞りレンズを可視光と赤外光とで撮像を行なえる撮像装置にも利用できることは産業上好ましいと考えられる。   In recent years, an automatic aperture lens that can electrically control the opening / closing of the aperture from the outside has been widely distributed as an imaging optical system for surveillance cameras. It is considered industrially preferable that such an automatic aperture lens can be used for an imaging apparatus capable of imaging with visible light and infrared light.

しかし、一般に自動絞りレンズは、露出制御を行なう際に現在の絞り値や開放絞り値、絞り込み値等の情報を取得することができず、また、絞り値を直接設定することができない場合が多い。このため、簡易な構成で、可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得ることが一層困難となっている。   However, in general, an automatic aperture lens cannot acquire information such as the current aperture value, the wide aperture value, and the aperture value when performing exposure control, and often cannot set the aperture value directly. . For this reason, it is more difficult to obtain preferable exposure for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration.

そこで、本発明は、可視光および赤外光での撮影を同時に行なう際に、現在の絞り値情報が取得できない場合であっても簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようにすることを目的とする。   Therefore, the present invention provides a preferable exposure for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration even when the current aperture value information cannot be acquired when photographing with visible light and infrared light is performed simultaneously. It aims to be obtained.

上記課題を解決するため、本発明の第1の態様である露光量制御装置は、絞り値情報を取得できない絞り手段を介して入射する入射光から分光された可視光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する可視光撮像手段、および前記入射光から分光された赤外光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する赤外光撮像手段のそれぞれについて露出評価値を算出し、算出された露出評価値と、この露出評価値に係る前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段のそれぞれの前記露光時間とに基づいて前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを設定する露出条件判定手段と、前記設定された組合せに係る前記絞り手段の変化量にしたがって前記絞り手段を制御する絞り制御手段と、前記設定された組合せに係る前記可視光撮像手段の露光時間に基づいて、前記可視光撮像手段の露光時間を設定する可視光系露光時間設定手段と、前記設定された組合せに係る前記赤外光撮像手段の露光時間に基づいて、前記赤外光撮像手段の露光時間を設定する赤外光系露光時間設定手段とを備えたことを特徴とする。
In order to solve the above-described problem, an exposure amount control apparatus according to the first aspect of the present invention is configured to receive and set visible light separated from incident light incident through a diaphragm unit that cannot obtain aperture value information. An exposure evaluation value is calculated for each of a visible light imaging unit that captures images according to time and an infrared light imaging unit that receives infrared light dispersed from the incident light and images according to a set exposure time. Based on the exposure evaluation value and the exposure time of each of the visible light imaging means and the infrared light imaging means related to the exposure evaluation value, and the change amount of the aperture means, the visible light imaging means, and the infrared light An exposure condition determining means for setting a combination with an exposure time of each of the optical imaging means, and an aperture control for controlling the aperture means in accordance with a change amount of the aperture means according to the set combination. And means, based on the exposure time of the visible light imaging means according to a combination of the set, a visible light system exposure time setting means for setting the exposure time of the visible light imaging means, the according to the combination of the set Infrared light exposure time setting means for setting the exposure time of the infrared light imaging means based on the exposure time of the infrared light imaging means.

ここで、前記露出条件判定手段は、算出した前記露出評価値に基づいて、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の少なくとも一方が適正露出となる前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを選択対象として抽出し、その選択対象の中からいずれかの組合せを選択して設定することができる。   Here, the exposure condition determination unit is configured to change the amount of change of the diaphragm unit and the visible light so that at least one of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit has appropriate exposure based on the calculated exposure evaluation value. A combination with the exposure time of each of the imaging means and the infrared light imaging means can be extracted as a selection target, and any combination can be selected and set from the selection targets.

このとき、前記露出条件判定手段は、前記絞り手段の絞り状態が開放側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の開放側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外し、前記絞り手段の絞り状態が絞り込み側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の絞り込み側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外することができる。   At this time, when the exposure condition determination unit detects that the aperture state of the aperture unit has reached the aperture limit on the open side, the combination relating to the change amount on the open side of the aperture unit is excluded from the selection target. When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the aperture side, the combination relating to the amount of change on the aperture side of the aperture means can be excluded from the selection target.

また、前記露出条件判定手段は、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがある場合には、その適正露出となる組合せの中からいずれかの組合せを選択して設定し、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがない場合には、前記可視光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せと、前記赤外光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せのうち、より絞り込み側の変化量に係る組合せを選択して設定することができる。   Further, the exposure condition determination means, when there is a combination in which both the visible light imaging means and the infrared light imaging means have proper exposure in the extracted combination, If any combination is selected and set from among the combinations and the visible light imaging means and the infrared light imaging means are not properly exposed in the extracted combination, the visible light is selected. Among the combinations related to the most open change amount among the combinations in which the imaging unit has proper exposure, and among the combinations related to the most open amount change in the combination in which the infrared light image pickup unit has proper exposure, A combination related to the amount of change on the narrowing side can be selected and set.

上記課題を解決するため、本発明の第2の態様である露光量制御方法は、絞り値情報を取得できない絞り手段を介して入射する入射光から分光された可視光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する可視光撮像手段、および前記入射光から分光された赤外光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する赤外光撮像手段のそれぞれについて露出評価値を算出し、算出された露出評価値と、この露出評価値に係る前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段のそれぞれの前記露光時間とに基づいて前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを設定する露出条件判定ステップと、前記設定された組合せに係る前記絞り手段の変化量にしたがって前記絞り手段を制御する絞り制御ステップと、前記設定された組合せに係る前記可視光撮像手段の露光時間に基づいて、前記可視光撮像手段の露光時間を設定する可視光系露光時間設定ステップと、前記設定された組合せに係る前記赤外光撮像手段の露光時間に基づいて、前記赤外光撮像手段の露光時間を設定する赤外光系露光時間設定ステップとを有することを特徴とする。


In order to solve the above-described problem, an exposure amount control method according to a second aspect of the present invention is configured to receive visible light spectrally separated from incident light incident through a diaphragm unit that cannot obtain aperture value information. An exposure evaluation value is calculated for each of a visible light imaging unit that captures images according to time and an infrared light imaging unit that receives infrared light dispersed from the incident light and images according to a set exposure time. Based on the exposure evaluation value and the exposure time of each of the visible light imaging means and the infrared light imaging means related to the exposure evaluation value, and the change amount of the aperture means, the visible light imaging means, and the infrared light An exposure condition determining step for setting a combination with the exposure time of each optical imaging means, and an aperture for controlling the aperture means according to the amount of change of the aperture means for the set combination. A control step, based on the exposure time the visible light imaging means according to the set combination, a visible light system exposure time setting step of setting an exposure time of the visible light imaging means, according to the combination of the set on the basis of the exposure time of the infrared light imaging means, and having an infrared optical system exposure time setting step of setting an exposure time of said infrared light imaging means.


ここで、前記露出条件判定ステップは、算出した前記露出評価値に基づいて、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の少なくとも一方が適正露出となる前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを選択対象として抽出し、その選択対象の中からいずれかの組合せを選択して設定することができる。   Here, in the exposure condition determination step, based on the calculated exposure evaluation value, the amount of change of the diaphragm unit and the visible light in which at least one of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit has appropriate exposure A combination with the exposure time of each of the imaging means and the infrared light imaging means can be extracted as a selection target, and any combination can be selected and set from the selection targets.

このとき、前記露出条件判定ステップは、前記絞り手段の絞り状態が開放側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の開放側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外し、前記絞り手段の絞り状態が絞り込み側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の絞り込み側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外することができる。   At this time, when the exposure condition determining step detects that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the open side, the combination relating to the change amount on the open side of the aperture means is excluded from the selection target. When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the aperture side, the combination relating to the amount of change on the aperture side of the aperture means can be excluded from the selection target.

また、前記露出条件判定ステップは、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがある場合には、その適正露出となる組合せの中からいずれかの組合せを選択して設定し、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがない場合には、前記可視光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せと、前記赤外光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せのうち、より絞り込み側の変化量に係る組合せを選択して設定することができる。   In the exposure condition determination step, when there is a combination in which both the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit have appropriate exposure in the extracted combination, the combination of the appropriate exposure is determined. If any combination is selected and set from among the combinations and the visible light imaging means and the infrared light imaging means are not properly exposed in the extracted combination, the visible light is selected. Among the combinations related to the most open change amount among the combinations in which the imaging unit has proper exposure, and among the combinations related to the most open amount change in the combination in which the infrared light image pickup unit has proper exposure, A combination related to the amount of change on the narrowing side can be selected and set.

本発明によれば、可視光および赤外光での撮影を同時に行なう際に、現在の絞り値情報が取得できない場合であっても簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようになる。   According to the present invention, when photographing with visible light and infrared light is performed at the same time, even if the current aperture value information cannot be obtained, the visible light system and the infrared light system have preferable exposure with a simple configuration. It will be obtained.

本実施形態に係る撮像装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the imaging device which concerns on this embodiment. 光源毎の波長に対する相対強度の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the relative intensity with respect to the wavelength for every light source. CCDの波長に対する相対感度の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the relative sensitivity with respect to the wavelength of CCD. EV値表を示す図である。It is a figure which shows EV value table. 本実施形態の露出制御処理の流れを説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the flow of the exposure control processing of this embodiment. 絞りとシャッター速度の組合せ候補の抽出を説明する図である。It is a figure explaining extraction of the combination candidate of an aperture and shutter speed. 絞りとシャッター速度の組合せ候補の補正を説明する図である。It is a figure explaining correction | amendment of the combination candidate of an aperture stop and shutter speed. 組合せ設定の第1の方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the 1st method of a combination setting. 組合せ設定の第2の方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the 2nd method of a combination setting. 組合せ設定の第1の方法による設定結果の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the setting result by the 1st method of a combination setting. 組合せ設定の第2の方法による設定結果の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the setting result by the 2nd method of combination setting.

本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明を適用した撮像装置の構成を示すブロック図である。本撮像装置は、1台で可視光での撮影と赤外光での撮影とを同時に行なえるようにしており、可視光を受光する撮像素子と赤外光を受光する撮像素子を独立して備えるとともに、共通の絞り機構を1つ備えている。この撮像装置では、絞り機構を可視光系と赤外光系とで別々に設けずに、共通させることで構成を簡易にし、コストアップを防いでいる。   Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of an imaging apparatus to which the present invention is applied. This image pickup apparatus is capable of simultaneously shooting with visible light and shooting with infrared light, and the image pickup device for receiving visible light and the image pickup device for receiving infrared light are independently provided. And one common aperture mechanism. In this imaging apparatus, the configuration is simplified by preventing the increase in cost by providing a common aperture mechanism for the visible light system and the infrared light system instead of providing them separately.

本図に示すように、撮像装置10は、レンズと入射光量を調節する絞り機構12とを有する撮影光学系11と、入射光を可視光と赤外光に分離する分光光学系13と、分離された可視光を受光する、シャッター速度を調節可能な可視光撮像部14と、分離された赤外光を受光する、シャッター速度を調節可能な赤外光撮像部15と、可視光撮像部14が出力する可視光系信号に対する処理を行ない、可視光映像信号を生成する可視光系信号処理部16と、赤外光撮像部15が出力する赤外光系信号に対する処理を行ない、赤外光映像信号を生成する赤外光系信号処理部17と、シャッター速度と絞りとで定まる露出を制御する露出制御部18と、絞り機構12を駆動する絞り駆動部19とを備えている。   As shown in the figure, the imaging apparatus 10 includes a photographing optical system 11 having a lens and a diaphragm mechanism 12 that adjusts the amount of incident light, a spectroscopic optical system 13 that separates incident light into visible light and infrared light, and separation. The visible light imaging unit 14 that can receive the visible light and can adjust the shutter speed, the infrared light imaging unit 15 that can receive the separated infrared light and the shutter speed can be adjusted, and the visible light imaging unit 14 Performs processing on the visible light signal output from the infrared light, performs processing on the infrared light signal output from the visible light signal processing unit 16 that generates the visible light video signal, and the infrared light imaging unit 15, and transmits infrared light. An infrared light signal processing unit 17 that generates a video signal, an exposure control unit 18 that controls exposure determined by a shutter speed and an aperture, and an aperture drive unit 19 that drives the aperture mechanism 12 are provided.

撮影光学系11は、自動絞りレンズを採用している。自動絞りレンズでは、絞り機構12の現在の絞り値を取得することができない。すなわち、現在の絞り値が、例えば、F5.6であるとかF11であるとかという情報を取得することができない。このため、絞り駆動部19は、制御電圧にしたがって絞り機構12を相対的に開閉する動作を行なう。   The photographing optical system 11 employs an automatic aperture lens. With the automatic aperture lens, the current aperture value of the aperture mechanism 12 cannot be acquired. That is, it is not possible to acquire information about whether the current aperture value is, for example, F5.6 or F11. For this reason, the aperture drive unit 19 performs an operation to relatively open and close the aperture mechanism 12 according to the control voltage.

具体的には、現在印加されている制御電圧よりも高い電圧が印加されると、現在よりも閉じるように絞り機構12を駆動し、現在印加されている制御電圧よりも低い電圧が印加されると、現在よりも開くように絞り機構12を駆動する。このとき、制御電圧と絞り値との関係は、絞り機構12の形状やNDフィルタ併用の有無等によって異なり、直線的な特性になるとは限らない。また、絞りが開放側あるいは絞り込み側の限界に達した場合には、制御電圧を低くあるいは高く変化させても、それ以上の開閉は行なわれない。   Specifically, when a voltage higher than the currently applied control voltage is applied, the diaphragm mechanism 12 is driven to close more than the current voltage, and a voltage lower than the currently applied control voltage is applied. Then, the aperture mechanism 12 is driven so as to open more than the present. At this time, the relationship between the control voltage and the aperture value varies depending on the shape of the aperture mechanism 12, the presence or absence of the ND filter, and the like, and does not always have a linear characteristic. Further, when the aperture reaches the limit on the open side or the aperture side, no further opening / closing is performed even if the control voltage is changed low or high.

本実施形態において、撮影光学系11および絞り機構12を駆動する絞り駆動部19は、一般的なDCアイリスとしており、現在の絞り値に加え、開放絞り値、最小絞り値等の情報を電気的に得ることができないものとする。   In the present embodiment, the aperture drive unit 19 that drives the photographing optical system 11 and the aperture mechanism 12 is a general DC iris, and in addition to the current aperture value, information such as the maximum aperture value and the minimum aperture value is electrically stored. Shall not be obtained.

なお、多くのDCアイリスでは、絞り駆動部19に印加する制御電圧が0.5Vで絞り開放、4.5Vで絞り最小となるように設計されているが、例えば、0.7Vで絞り開放、3.3Vで絞り最小となるようなDCアイリスも存在する。このため、制御電圧に基づいて、絞りが限界に達したかどうかの判断ができる場合とできない場合とがある。   Many DC irises are designed such that the control voltage applied to the aperture drive unit 19 is 0.5 V when the aperture is open and 4.5 V when the aperture is minimum. There is also a DC iris that has a minimum aperture at 3.3V. For this reason, there are cases where it can be determined whether or not the aperture has reached the limit based on the control voltage.

また、開放絞り値、最小絞り値については、キャリブレーションシステム等を用いることにより取得できるようになるが、本発明は、開放絞り値、最小絞り値を取得できる場合にも取得できない場合にも適用することができる。   In addition, the aperture value and the minimum aperture value can be acquired by using a calibration system or the like. However, the present invention is applicable to cases where the aperture value and the minimum aperture value can be acquired or cannot be acquired. can do.

分光光学系13は、ダイクロイックミラーや色分離プリズム等を用いることができる。本実施形態では、波長700nmを境界として分光するようにする。   The spectroscopic optical system 13 can use a dichroic mirror, a color separation prism, or the like. In the present embodiment, the light is dispersed with a wavelength of 700 nm as a boundary.

可視光撮像部14および赤外光撮像部15は、CCD、CMOS等の受光素子と周辺回路とを備え、可視光撮像部14は少なくとも可視光領域に感度を有し、赤外光撮像部15は少なくとも赤外光領域に感度を有するものとする。また、可視光撮像部14および赤外光撮像部15は、例えば、撮像素子から電荷を取り出す時間をコントロールすることでシャッター速度を変化させる電子シャッター方式を用いることができる。   The visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 include a light receiving element such as a CCD or CMOS and a peripheral circuit. The visible light imaging unit 14 has sensitivity in at least a visible light region, and the infrared light imaging unit 15. Is sensitive to at least the infrared region. In addition, the visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 can use, for example, an electronic shutter system that changes the shutter speed by controlling the time for taking out charges from the imaging device.

可視光系信号処理部16および赤外光系信号処理部17は、γ補正、輝度信号処理、色信号処理、エンコード等の一般的な信号処理を行なうことで映像信号を生成する。   The visible light signal processing unit 16 and the infrared light signal processing unit 17 generate a video signal by performing general signal processing such as γ correction, luminance signal processing, color signal processing, and encoding.

露出制御部18は、可視光撮像部14および赤外光撮像部15それぞれについて適正露出条件を判定する露出条件判定部20と、それぞれについての適正露出条件に基づいて、絞り機構12の絞りを制御する絞り制御部23と、可視光撮像部14におけるシャッター速度を設定する可視光系シャッター速度設定部21と、赤外光撮像部15におけるシャッター速度を設定する赤外光系シャッター速度設定部22とを備えている。   The exposure control unit 18 controls the aperture of the aperture mechanism 12 based on the exposure condition determination unit 20 that determines appropriate exposure conditions for each of the visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 and the appropriate exposure conditions for each. A diaphragm control unit 23 that performs the visible light imaging unit 14, a visible light system shutter speed setting unit 21 that sets the shutter speed, and an infrared light system shutter speed setting unit 22 that sets the shutter speed in the infrared light imaging unit 15. It has.

露出条件判定部20は、既存の測光方式、例えば、全面平均測光を用いて露出条件を判定することができる。もちろん、中央部重点測光、多分割測光等を用いてもよい。全面平均測光では、全画面の平均輝度を算出し、あらかじめ定められた適正露光時の輝度値との比をとり、この値の2を底とする対数値をもって露出評価値とする。ここで、適正露光時の輝度値は、アナログ値であれば50IRE、デジタル8ビットの場合は118/255を用いることができる。   The exposure condition determination unit 20 can determine the exposure condition using an existing photometry method, for example, overall average photometry. Of course, center-weighted metering, multi-segment metering, or the like may be used. In the entire surface average metering, the average luminance of the entire screen is calculated, and a ratio with a predetermined luminance value at the time of proper exposure is calculated, and a logarithmic value with this value 2 as the base is used as the exposure evaluation value. Here, the luminance value at the time of proper exposure can be 50 IRE for an analog value, and 118/255 for a digital 8-bit.

例えば、平均輝度値がデジタル59/255である場合は、上述の算出法により露出評価値は−1となる。この値は測光時の絞り値とシャッター速度から得られるEV値に対して、適正露出になるように補正すべきEV値と等価である。しかしながら、本実施形態では、測光時の絞り値を取得することができないため、適正EV値の絶対値を得ることができず、適正EV値に対する補正値(=露出評価値)のみが得られることになる。   For example, when the average luminance value is digital 59/255, the exposure evaluation value is −1 by the above calculation method. This value is equivalent to the EV value to be corrected so as to obtain an appropriate exposure with respect to the EV value obtained from the aperture value and the shutter speed at the time of photometry. However, in this embodiment, since the aperture value at the time of metering cannot be obtained, the absolute value of the proper EV value cannot be obtained, and only the correction value (= exposure evaluation value) for the proper EV value can be obtained. become.

また、露出条件判定部20は、絞り機構12の絞り状態が限界に達したことを判定するために、直前の露出評価値を記憶する評価値記憶部20aを備えている。すなわち、シャッター速度一定のまま、絞り駆動部19に印加する制御電圧を変化させた場合の露出評価値が直前の露出評価値から変化しない場合には、絞り機構12の絞り状態が限界に達したと判定することができる。なお、制御電圧値によって絞り機構12の絞り状態が限界に達したことを判断できる場合には、評価値記憶部20aは不要である。   Further, the exposure condition determination unit 20 includes an evaluation value storage unit 20a that stores the previous exposure evaluation value in order to determine that the aperture state of the aperture mechanism 12 has reached the limit. That is, when the exposure evaluation value when the control voltage applied to the aperture drive unit 19 is changed from the previous exposure evaluation value while the shutter speed is constant, the aperture state of the aperture mechanism 12 reaches the limit. Can be determined. Note that the evaluation value storage unit 20a is not necessary when it can be determined from the control voltage value that the aperture state of the aperture mechanism 12 has reached the limit.

ここで、図2に示す光源毎の波長に対する相対強度例のグラフから分かるように、可視光と赤外光の強度分布は、光源の種類によって大きく異なる。なお、図2は、太陽光(図2(a))、蛍光灯(図2(b))、白熱灯蛍光灯(図2(c))のそれぞれについて波長に対する相対強度例を示している。   Here, as can be seen from the graph of the relative intensity example with respect to the wavelength for each light source shown in FIG. 2, the intensity distribution of the visible light and the infrared light greatly varies depending on the type of the light source. In addition, FIG. 2 has shown the relative intensity example with respect to a wavelength about each of sunlight (FIG. 2 (a)), a fluorescent lamp (FIG.2 (b)), and an incandescent lamp fluorescent lamp (FIG.2 (c)).

また、図3に示すCCDの波長に対する相対感度例のグラフから分かるように、波長に対する感度分布はCCDの種類によって大きく異なる。なお、図3は、異なる種類のCCD1(図3(a))、CCD2(図3(b))について、波長に対する相対感度例を示している。   Further, as can be seen from the graph of the relative sensitivity example with respect to the wavelength of the CCD shown in FIG. 3, the sensitivity distribution with respect to the wavelength greatly varies depending on the kind of the CCD. FIG. 3 shows an example of relative sensitivity with respect to wavelength for different types of CCD 1 (FIG. 3A) and CCD 2 (FIG. 3B).

以上の特性から、可視光と赤外光とを同時に記録する場合に、一方に適正露出を与えるように露出制御した場合に、他方が露光不足になったり飽和したりする場合が起こり得る。特に、露出オーバーになって飽和してしまうと、いわゆる白飛び状態となって後の画像処理によっても救うことができなくなってしまう。この露光不足や飽和の傾向は図2、図3に示したように光源の種類や撮像素子の感度によって変わってくるため、一律に制御することはできない。そこで、本実施形態では以下に示すような露出制御を行なうようにする。   From the above characteristics, in the case of simultaneously recording visible light and infrared light, when exposure control is performed so as to give appropriate exposure to one, the other may be underexposed or saturated. In particular, if it becomes overexposed and becomes saturated, it becomes a so-called whiteout state and cannot be saved by subsequent image processing. This tendency of underexposure and saturation varies depending on the type of light source and the sensitivity of the image sensor as shown in FIGS. 2 and 3, and therefore cannot be controlled uniformly. Therefore, in the present embodiment, the following exposure control is performed.

まず、撮像装置10の露出可能範囲について説明する。図4(a)は、公知のEV値表であり、撮像装置10の露出可能範囲は、図4(b)の網掛け部分であるとする。すなわち、可能な絞り値は、開放側絞り値F2.0、絞込み側絞り値F22とした。また、高速側のシャッター速度を1/4000秒、低速側のシャッター速度を1/60秒とした。撮像装置10は、これらの可能な絞り値とシャッター速度の組合せで露出制御を行なう。ただし、上述のように絞り値については、その値を取得することはできない。   First, the exposure possible range of the imaging device 10 will be described. FIG. 4A is a known EV value table, and the exposure possible range of the imaging apparatus 10 is assumed to be the shaded portion of FIG. 4B. That is, the possible aperture values are the open side aperture value F2.0 and the aperture side aperture value F22. Also, the shutter speed on the high speed side was set to 1/4000 seconds, and the shutter speed on the low speed side was set to 1/60 seconds. The imaging device 10 performs exposure control with a combination of these possible aperture values and shutter speeds. However, as described above, the aperture value cannot be acquired.

次に、図5のフローチャートを参照して、本実施形態における露出制御処理について説明する。まず、撮像に際し、露出条件判定部20が可視光撮像部14および赤外光撮像部15の露出評価値を算出する(S101)。露出評価値の算出は、上述の手順によって行なうことができる。すなわち、現在の絞り機構12の絞りと、現在の可視光撮像部14のシャッター速度で測光を行ない、可視光撮像部14の露出評価値を算出する。また、現在の絞り機構12の絞りと、現在の赤外光撮像部15のシャッター速度で測光を行ない、赤外光撮像部15の露出評価値を算出する。   Next, exposure control processing in the present embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. First, at the time of imaging, the exposure condition determination unit 20 calculates exposure evaluation values of the visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 (S101). The exposure evaluation value can be calculated by the above-described procedure. That is, photometry is performed with the current aperture mechanism 12 and the current shutter speed of the visible light imaging unit 14 to calculate the exposure evaluation value of the visible light imaging unit 14. Further, photometry is performed with the current aperture of the aperture mechanism 12 and the current shutter speed of the infrared light imaging unit 15 to calculate the exposure evaluation value of the infrared light imaging unit 15.

次に、露出条件判定部20は、算出された露出評価値に基づいて、可視光系と赤外光系のそれぞれについて、適正露出を与える絞りとシャッター速度との組合せおよびその周辺の組合せを組合せ候補として抽出する(S102)。ここで、絞りは現在の絞りに対する相対値で表わし、シャッター速度は絶対値で表わすものとする。   Next, based on the calculated exposure evaluation value, the exposure condition determination unit 20 combines a combination of an aperture and a shutter speed that give appropriate exposure and a combination of the surroundings for each of the visible light system and the infrared light system. A candidate is extracted (S102). Here, the aperture is expressed as a relative value with respect to the current aperture, and the shutter speed is expressed as an absolute value.

例えば、露出評価値を算出した際の可視光系のシャッター速度が1/1000で、露出評価値が±0であり、赤外光系のシャッター速度が1/1000で、露出評価値が−2であったときの組合せ候補の抽出について図6(a)を参照して説明する。この場合、可視光系と赤外光系との差は2EVである。   For example, when the exposure evaluation value is calculated, the visible light system shutter speed is 1/1000, the exposure evaluation value is ± 0, the infrared light system shutter speed is 1/1000, and the exposure evaluation value is −2. The extraction of combination candidates in the case of FIG. 6 will be described with reference to FIG. In this case, the difference between the visible light system and the infrared light system is 2 EV.

まず、可視光系について説明する。可視光系では、シャッター速度1/1000で露出評価値が±0であるため、絞りを変化させないとすると、シャッター速度は1/1000のままで適正露出が得られることになる。また、絞りを現在より1EV開くとすると、シャッター速度は1/2000で適正露出が得られる。同様に、絞りを2EV開くとすると、シャッター速度は1/4000で適正露出が得られる。しかし、絞りを3EV開くとすると、シャッター速度は1/8000で適正露出が得られるが、シャッター速度の上限が1/4000であるため、適正露出は得られず、露出評価値は+1になる。   First, the visible light system will be described. In the visible light system, the exposure evaluation value is ± 0 at a shutter speed of 1/1000. Therefore, if the aperture is not changed, a proper exposure can be obtained with the shutter speed remaining at 1/1000. If the aperture is opened by 1 EV from the present, the shutter speed is 1/2000 and a proper exposure can be obtained. Similarly, if the aperture is opened by 2 EV, the shutter speed is 1/4000 and a proper exposure is obtained. However, if the aperture is opened by 3 EV, the shutter speed is 1/8000 and appropriate exposure is obtained. However, since the upper limit of the shutter speed is 1/4000, appropriate exposure cannot be obtained and the exposure evaluation value is +1.

逆に、絞りを現在より1EV閉じるとすると、シャッター速度は1/500で適正露出が得られる。同様に、絞りを2EV閉じるとすると、シャッター速度は1/250で適正露出が得られ、絞りを3EV閉じるとすると、シャッター速度は1/125で適正露出が得られ、絞りを4EV閉じるとすると、シャッター速度は1/60で適正露出が得られることになる。   On the contrary, if the aperture is closed by 1 EV from the present time, the shutter speed is 1/500 and appropriate exposure can be obtained. Similarly, if the aperture is closed by 2 EV, the shutter speed is 1/250 and appropriate exposure is obtained. If the aperture is closed by 3 EV, the shutter speed is 1/125 and appropriate exposure is obtained, and if the aperture is closed by 4 EV, A proper exposure can be obtained at a shutter speed of 1/60.

次に、赤外光系について説明する。赤外光系では、シャッター速度1/1000で露出評価値が−2であるため、絞りを変化させないとすると、シャッター速度は2段遅くした1/250で適正露出が得られることになる。また、絞りを現在より1EV開くとすると、シャッター速度は1/500で適正露出が得られる。同様に、絞りを2EV開くとすると、シャッター速度は1/1000で適正露出が得られ、絞りを3EV開くとすると、シャッター速度は1/2000で適正露出が得られる。   Next, an infrared light system will be described. In the infrared light system, the exposure evaluation value is −2 at a shutter speed of 1/1000. Therefore, if the aperture is not changed, a proper exposure can be obtained at 1/250, which is two steps slower than the shutter speed. If the aperture is opened by 1 EV from the present time, the shutter speed is 1/500 and appropriate exposure can be obtained. Similarly, when the aperture is opened by 2 EV, a proper exposure is obtained at a shutter speed of 1/1000, and when the aperture is opened by 3 EV, an appropriate exposure is obtained at a shutter speed of 1/2000.

逆に、絞りを現在より1EV閉じるとすると、シャッター速度は1/125で適正露出が得られる。同様に、絞りを2EV閉じるとすると、シャッター速度は1/60で適正露出が得られる。しかし、絞りを3EV閉じるとすると、シャッター速度は1/30で適正露出が得られるが、シャッター速度の下限が1/60であるため、適正露出は得られず、露出評価値は−1になる。同様に、絞りを4EV閉じるとすると、シャッター速度は1/60で、露出評価値は−2となる。   On the contrary, if the aperture is closed by 1 EV from the present time, the shutter speed is 1/125 and a proper exposure can be obtained. Similarly, if the aperture is closed by 2 EV, the shutter speed is 1/60 and appropriate exposure is obtained. However, if the aperture is closed by 3 EV, the shutter speed is 1/30 and a proper exposure is obtained, but the lower limit of the shutter speed is 1/60, so the proper exposure cannot be obtained and the exposure evaluation value is -1. . Similarly, if the aperture is closed by 4 EV, the shutter speed is 1/60 and the exposure evaluation value is −2.

別の例として、露出評価値を算出した際の可視光系のシャッター速度が1/1000で、露出評価値が+1であり、赤外光系のシャッター速度が1/500で、露出評価値が−5であったときの組合せ候補の抽出について図6(b)を参照して説明する。この場合、可視光系と赤外光系との差は6EVである。   As another example, when the exposure evaluation value is calculated, the visible light system shutter speed is 1/1000, the exposure evaluation value is +1, the infrared light system shutter speed is 1/500, and the exposure evaluation value is The extraction of the combination candidate when it is −5 will be described with reference to FIG. In this case, the difference between the visible light system and the infrared light system is 6 EV.

まず、可視光系について説明する。可視光系では、シャッター速度が1/1000で露出評価値が+1であるため、絞りを変化させないとすると、シャッター速度は1段速くした1/2000で適正露出が得られることになる。また、絞りを現在より1EV開くとすると、シャッター速度は1/4000で適正露出が得られる。しかし、シャッター速度の上限が1/4000であるため、絞りを2EV開くとすると、露出評価値は+1になり、絞りを3EV開くとすると、露出評価値は+2になり、絞りを4EV開くとすると、露出評価値は+3になり、絞りを5EV開くとすると、露出評価値は+4になる。   First, the visible light system will be described. In the visible light system, the shutter speed is 1/1000 and the exposure evaluation value is +1. Therefore, if the aperture is not changed, a proper exposure can be obtained at 1/2000, where the shutter speed is increased by one step. If the aperture is opened by 1 EV from the present, the shutter speed is 1/4000 and a proper exposure can be obtained. However, since the upper limit of the shutter speed is 1/4000, if the aperture is opened by 2 EV, the exposure evaluation value becomes +1. If the aperture is opened by 3 EV, the exposure evaluation value becomes +2, and if the aperture is opened by 4 EV. The exposure evaluation value is +3, and when the aperture is opened by 5 EV, the exposure evaluation value is +4.

逆に、絞りを現在より1EV閉じるとすると、シャッター速度は1/1000で適正露出が得られる。同様に、絞りを2EV閉じるとすると、シャッター速度は1/500で適正露出が得られることになる。   On the contrary, if the aperture is closed by 1 EV from the present time, the shutter speed is 1/1000 and a proper exposure can be obtained. Similarly, if the aperture is closed by 2 EV, the shutter speed is 1/500 and appropriate exposure can be obtained.

次に、赤外光系について説明する。赤外光系では、シャッター速度が1/1000で露出評価値が−5であるため、絞りを変化させないとすると、シャッター速度は5段遅くした1/15で適正露出が得られることになる。しかし、シャッター速度の下限は1/60であるため、露出評価値は−2となる。また、絞りを現在より1EV開くとすると、シャッター速度1/60で露出評価値−1となる。そして、絞りを現在より2EV開くとすると、シャッター速度1/60で適正露出が得られることになる。同様に、絞りを3EV開くとすると、シャッター速度は1/125で適正露出が得られ、絞りを4EV開くとすると、シャッター速度は1/250で適正露出が得られ、絞りを5EV開くとすると、シャッター速度は1/500で適正露出が得られる。   Next, an infrared light system will be described. In the infrared light system, the shutter speed is 1/1000 and the exposure evaluation value is −5. Therefore, if the aperture is not changed, appropriate exposure can be obtained at 1/15 with the shutter speed reduced by 5 steps. However, since the lower limit of the shutter speed is 1/60, the exposure evaluation value is −2. If the aperture is opened by 1 EV from the present time, the exposure evaluation value is -1 at a shutter speed of 1/60. If the aperture is opened by 2 EV from the present time, a proper exposure can be obtained at a shutter speed of 1/60. Similarly, when the aperture is opened by 3 EV, the shutter speed is 1/125 and proper exposure is obtained. When the aperture is opened by 4 EV, the shutter speed is 1/250 and appropriate exposure is obtained, and when the aperture is opened by 5 EV, Proper exposure is obtained at a shutter speed of 1/500.

逆に、絞りを現在より1EV閉じるとすると、シャッター速度1/60で露出評価値−3となり、絞りを2EV閉じるとすると、シャッター速度1/60で露出評価値−4となる。   Conversely, if the aperture is closed by 1 EV from the present, the exposure evaluation value is -3 at the shutter speed 1/60, and if the aperture is closed by 2 EV, the exposure evaluation value is -4 at the shutter speed 1/60.

以上に示したように適正露出を与える絞りとシャッター速度との組合せおよび周辺の組合せを組合せ候補として抽出すると、露出条件判定部20は、絞り機構12が開放側あるいは絞り込み側で絞り限界の状態にあるかどうかを判定する(S103)。   As described above, when the combination of the aperture and shutter speed giving the appropriate exposure and the peripheral combination are extracted as combination candidates, the exposure condition determination unit 20 brings the aperture mechanism 12 into the aperture limit state on the open side or the aperture side. It is determined whether or not there is (S103).

絞り駆動部19に印加する制御電圧によって絞り機構12が絞り限界であることを判別できる場合には、制御電圧に基づいて絞り限界の状態にあるかどうかを判定する。例えば、撮影光学系11の特性情報が既知であり、制御電圧が0.5Vで開放、4.5Vで最小絞り込みとなる撮影光学系11であれば、制御電圧が0.5Vあるいは4.5Vであるかによって絞り限界を判定することができる。   When it can be determined that the aperture mechanism 12 is at the aperture limit by the control voltage applied to the aperture drive unit 19, it is determined whether the aperture mechanism is in the aperture limit state based on the control voltage. For example, if the characteristic information of the photographic optical system 11 is known, the control voltage is 0.5V or 4.5V if the photographic optical system 11 is open when the control voltage is 0.5V and the minimum aperture is 4.5V. The aperture limit can be determined depending on whether there is any.

撮影光学系11の特性情報が得られず、制御電圧によって絞り機構12が絞り限界であることを判別できない場合には、評価値記憶部20aに記憶した直前の露出評価値と、最新に算出した露出評価値とを比較することによって、絞り機構12が開放側あるいは絞り込み側で絞り限界の状態であるかどうかを判定することができる。   When the characteristic information of the photographing optical system 11 is not obtained and it is not possible to determine that the diaphragm mechanism 12 is at the diaphragm limit by the control voltage, the latest exposure evaluation value stored in the evaluation value storage unit 20a and the latest calculation are calculated. By comparing with the exposure evaluation value, it can be determined whether or not the aperture mechanism 12 is in the aperture limit state on the open side or the aperture side.

具体的には、絞り機構12を開放側に制御したにもかかわらず、露出評価値が変化していない場合には、開放側の絞り限界に達していると判定することができる。逆に、絞り機構12を絞り込み側に制御したにもかかわらず、露出評価値が変化していない場合には、絞り込み側の絞り限界に達していると判定することができる。なお、この判定は、直前の露出評価値が評価値記憶部20aに記憶されている場合に有効である。このため、制御の開始時においてはこの判定は行なわない。   Specifically, if the exposure evaluation value does not change despite the aperture mechanism 12 being controlled to the open side, it can be determined that the aperture limit on the open side has been reached. On the contrary, if the exposure evaluation value does not change even though the aperture mechanism 12 is controlled to the aperture side, it can be determined that the aperture limit on the aperture side has been reached. This determination is effective when the previous exposure evaluation value is stored in the evaluation value storage unit 20a. For this reason, this determination is not performed at the start of control.

絞り限界に達している場合には、取り得ない組合せ候補を除外することで、抽出した組合せ候補を補正する(S104)。例えば、図6(a)に示した例の場合に、絞りが開放側の限界に達している場合には、図7(a)の網掛け部分に示すように、開放側の組合せを候補から除く補正を行なう。逆に、絞りが絞り込み側の限界に達している場合には、図7(b)の網掛け部分に示すように、絞り込み側の組合せを候補から除く補正を行なう。絞り限界に達していない場合には、これらの補正は不要である。   If the aperture limit has been reached, the extracted combination candidates are corrected by excluding combinations that cannot be obtained (S104). For example, in the case of the example shown in FIG. 6A, when the aperture reaches the limit on the open side, the combination on the open side is selected from the candidates as shown in the shaded portion in FIG. Exclude correction. On the other hand, when the aperture reaches the limit on the narrowing side, as shown in the shaded portion in FIG. 7B, correction for removing the combination on the narrowing side from the candidates is performed. If the aperture limit has not been reached, these corrections are not necessary.

そして、露出条件判定部20は、残った組合せ候補の中から、1つの組合せを選択して設定する(S105)。本実施形態では、組合せの設定方法として、第1の方法と第2の方法とを説明する。   Then, the exposure condition determination unit 20 selects and sets one combination from the remaining combination candidates (S105). In the present embodiment, a first method and a second method will be described as a combination setting method.

まず、図8のフローチャートを参照して、組合せ設定の第1の方法について説明する。組合せ設定の第1の方法では、可視光系、赤外光系とも露出評価値±0の適正露出の組合せ候補があるかどうかを判断する(S201)。   First, the first method of combination setting will be described with reference to the flowchart of FIG. In the first combination setting method, it is determined whether there is an appropriate exposure combination candidate with an exposure evaluation value ± 0 in both the visible light system and the infrared light system (S201).

その結果、両系とも適正露出の組合せがある場合(S201:Yes)には、両系とも適正露出の組合せの中からいずれかの組合せを設定する(S202)。ここで、両系とも適正露出の組合せのどの組合せを採用するかは、状況や撮像装置10の監視目的等に応じて決定することができる。   As a result, when there is a combination of appropriate exposures in both systems (S201: Yes), either combination is set from among the combinations of appropriate exposures in both systems (S202). Here, which combination of the proper exposures is adopted for both systems can be determined according to the situation, the monitoring purpose of the imaging apparatus 10 and the like.

例えば、監視対象が奥行きの広い範囲である場合には、被写界深度が深くなるように、両系とも適正露出の組合せの中で絞り込み側の組合せを設定することができる。また、監視対象物の動きが速い場合には被写体ブレを防ぐために、両系とも適正露出の組合せの中で開放側の組合せを設定することができる。これらの組合せは、可視光系、赤外光系とも露出評価値±0となるため、簡易な構成で可視光系、赤外光系とも適正な露出を得ることができる。   For example, when the monitoring target is in a wide depth range, the combination on the narrowing-down side can be set in the combination of appropriate exposure in both systems so that the depth of field is deep. Further, when the movement of the monitoring object is fast, in order to prevent subject blurring, it is possible to set a combination on the open side among the combinations of appropriate exposures for both systems. Since these combinations have an exposure evaluation value ± 0 for both the visible light system and the infrared light system, appropriate exposure can be obtained for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration.

一方、両系とも適正露出の組合せがない場合(S201:No)には、可視光系、赤外光系それぞれの適正露出の最小相対F値(開放側)のうち、大きい方(絞り込み側)の相対F値を含む組合せを設定する(S203)。この組合せは、いずれか一方の系が適正露出となり、他方の系が飽和を防ぎなるべく明るくなるような露出となるため、簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得ることができる。   On the other hand, when there is no combination of proper exposures in both systems (S201: No), the larger one of the minimum relative F values (open side) of the proper exposure of each of the visible light system and the infrared light system (the narrowing side) A combination including the relative F value is set (S203). In this combination, either one of the systems is exposed properly, and the other system is exposed as brightly as possible to prevent saturation. Therefore, it is possible to obtain preferable exposure for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration. it can.

例えば、図10(a)に示したような組合せ候補で第1の方法を適用した場合について説明する。本図の例では、2EV開から2EV閉までの組合せ候補において両系とも適正露出となっている。このため、2EV開から2EV閉までのいずれの組合せも設定することができる。   For example, a case where the first method is applied with the combination candidates as shown in FIG. 10A will be described. In the example of this figure, in the combination candidates from 2EV open to 2EV close, both systems have appropriate exposure. Therefore, any combination from 2EV open to 2EV close can be set.

また、図10(b)に示したような組合せ候補で第1の方法を適用した場合について説明する。本図の例では、両系とも適正露出の組合せ候補がない。そして、可視光系において適正露出の最小相対F値は1EV開である。一方、赤外光系において適正露出の最小相対F値は5EV開以下である。このため、絞り込み側(相対F値の大きい方)の1EV開を含む組合せを設定する。   Further, the case where the first method is applied with the combination candidates as shown in FIG. 10B will be described. In the example of this figure, there is no combination candidate for proper exposure in both systems. In the visible light system, the minimum relative F value for proper exposure is 1 EV. On the other hand, the minimum relative F value for proper exposure in an infrared light system is 5 EV or less. For this reason, a combination including 1 EV opening on the narrowing side (the one with a larger relative F value) is set.

次に、図9のフローチャートを参照して、組合せ設定の第2の方法について説明する。組合せ設定の第2の方法でも、可視光系、赤外光系とも露出評価値±0の適正露出の組合せ候補があるかどうかを判断する(S301)。   Next, the second method for setting the combination will be described with reference to the flowchart of FIG. Also in the second combination setting method, it is determined whether there is a combination candidate of appropriate exposure with an exposure evaluation value ± 0 in both the visible light system and the infrared light system (S301).

その結果、両系とも適正露出の組合せ候補がある場合(S301:Yes)には、両系とも適正露出の組合せの中から、最も相対F値の大きい(絞り込み側)絞り値を含む組合せを設定する(S302)。絞り値設定の第2の方法では、適正露出の範囲内で可能な限り絞り込むことによって、レンズ収差の影響を低減することができる。特に、屈折率の小さい赤外光側のレンズ収差の影響を抑止し、先鋭度の高い映像を得ることができる。   As a result, when there is a combination candidate of appropriate exposure for both systems (S301: Yes), a combination including an aperture value having the largest relative F value (narrowing side) is selected from the combinations of appropriate exposure for both systems. (S302). In the second method of setting the aperture value, the influence of lens aberration can be reduced by narrowing as much as possible within the range of appropriate exposure. In particular, the influence of lens aberration on the infrared light side having a small refractive index can be suppressed, and an image with high sharpness can be obtained.

一方、両系とも適正露出の組合せ候補がない場合(S301:No)には、第1の方法と同様に、可視光系、赤外光系それぞれの適正露出の最小F値(開放側)のうち、大きい方(絞り込み側)の相対F値を含む組合せを設定する(S303)。この組合せは、いずれか一方の系が適正露出となり、他方の系が飽和を防ぎなるべく明るくなるような露出となるため、簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得ることができる。   On the other hand, when there is no combination candidate for appropriate exposure in both systems (S301: No), the minimum F value (open side) of the appropriate exposure for each of the visible light system and the infrared light system is the same as in the first method. Among them, the combination including the larger relative F value (narrowing side) is set (S303). In this combination, either one of the systems is exposed properly, and the other system is exposed as brightly as possible to prevent saturation. Therefore, it is possible to obtain preferable exposure for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration. it can.

例えば、図11(a)に示したような組合せで第2の方法を適用した場合について説明する。本図の例では、2EV開から2EV閉までの組合せ候補において両系とも適正露出となっている。このため、最も絞り込み側の2EV閉を設定する。   For example, a case where the second method is applied in a combination as shown in FIG. In the example of this figure, in the combination candidates from 2EV open to 2EV close, both systems have appropriate exposure. For this reason, 2EV close on the most narrow side is set.

また、図11(b)に示したような組合せで第2の方法を適用した場合について説明する。本図の例では、両系とも適正露出の組合せ候補がない。そして、可視光系において適正露出の最小相対F値は1EV開である。一方、赤外光系において適正露出の最小相対F値は5EV開以下である。このため、絞り込み側(相対F値の大きい方)の1EV開を含む組合せを設定する。   Further, a case where the second method is applied in a combination as shown in FIG. In the example of this figure, there is no combination candidate for proper exposure in both systems. In the visible light system, the minimum relative F value for proper exposure is 1 EV. On the other hand, the minimum relative F value for proper exposure in an infrared light system is 5 EV or less. For this reason, a combination including 1 EV opening on the narrowing side (the one with a larger relative F value) is set.

図5のフローチャートの説明に戻って、上述の手順によって組合せが設定されると、可視光系、赤外光系のそれぞれについて設定された組合せに対応したシャッター速度を設定する(S106)。   Returning to the description of the flowchart of FIG. 5, when the combination is set by the above-described procedure, the shutter speed corresponding to the combination set for each of the visible light system and the infrared light system is set (S106).

また、設定された組合せに対応した方向に絞りを駆動する(S107)。ここで、撮影光学系11の特性情報が既知あるいは特定でき、相対絞り値に基づいて絞り値を制御できる場合には、設定された組合せに対応した絞り値に直接変化させる。一方、撮影光学系11の特性情報が得られない場合には、例えば、0.1V等の所定の制御電圧で絞り駆動部19を駆動させる。   Further, the diaphragm is driven in the direction corresponding to the set combination (S107). Here, when the characteristic information of the photographic optical system 11 is known or can be specified and the aperture value can be controlled based on the relative aperture value, the aperture value corresponding to the set combination is directly changed. On the other hand, when the characteristic information of the photographic optical system 11 cannot be obtained, the diaphragm drive unit 19 is driven with a predetermined control voltage such as 0.1 V, for example.

そして、設定したシャッター速度と、変化後の絞りとで可視光系と赤外光系との撮像を同時に実行する(S108)。そして、この時の可視光撮像部14および赤外光撮像部15の露出評価値を算出する(S109)。この結果、算出された両系の露出評価値が、上記の手順にしたがって設定された組合せの露出評価値に収束している場合(S110:Yes)には、可視光系、赤外光系とも好ましい露出が得られており、制御を終了する。   Then, the visible light system and the infrared light system are simultaneously imaged with the set shutter speed and the aperture after the change (S108). Then, the exposure evaluation values of the visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 at this time are calculated (S109). As a result, when the calculated exposure evaluation values of both systems converge to the exposure evaluation value of the combination set according to the above procedure (S110: Yes), both the visible light system and the infrared light system The preferred exposure has been obtained and the control ends.

一方、算出された両系の露出評価値が、設定された組合せの露出評価値に収束していない場合(S110:No)には、最新の露出評価値を評価値記憶部20aに記憶させ(S111)、処理(S102)以降の処理を、露出評価値が収束するまで繰り返し行なう。ただし、制御電圧に基づいて絞り限界の状態にあるかどうかを判定できる場合には、評価値記憶部20aへの露出評価値の記憶は不要である。   On the other hand, when the calculated exposure evaluation values of both systems have not converged to the set combination exposure evaluation values (S110: No), the latest exposure evaluation values are stored in the evaluation value storage unit 20a ( Steps S111) and subsequent steps (S102) are repeated until the exposure evaluation value converges. However, if it is possible to determine whether or not the aperture limit is reached based on the control voltage, it is not necessary to store the exposure evaluation value in the evaluation value storage unit 20a.

なお、露出評価値が収束していない場合、処理の繰り返し毎に組合せ候補を抽出して設定し直すのではなく、設定した組合せを固定したまま、絞りを段階的に変化させて露出評価値を収束させるようにしてもよい。この場合は、収束させる途中で絞りが限界に達したことを検出したときに、最新の露出評価値で組合せ候補を再抽出し、再設定するようにする。   If the exposure evaluation value has not converged, instead of extracting and resetting the combination candidates every time the process is repeated, the exposure evaluation value is changed by changing the aperture step by step while keeping the set combination fixed. You may make it converge. In this case, when it is detected that the aperture has reached the limit during the convergence, the combination candidates are re-extracted with the latest exposure evaluation value and reset.

以上説明したように、単独の絞り機構12を備えた撮像装置10は、可視光撮像部14、赤外光撮像部15の双方に適正な露出を与える絞りとシャッター速度を可能な限り設定するようにし、双方に適正な露出を与える絞りとシャッター速度が得られない場合には、いずれか一方に適正露出を与え、他方が飽和を防ぎ、なるべく明るくなるような露出とすることで、現在の絞り値情報が取得できない場合であっても簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようにしている。   As described above, the imaging apparatus 10 including the single aperture mechanism 12 sets the aperture and shutter speed that give appropriate exposure to both the visible light imaging unit 14 and the infrared light imaging unit 15 as much as possible. If the aperture and shutter speed that give the right exposure to both sides cannot be obtained, give the appropriate exposure to one of them, and prevent the other from becoming saturated and make the exposure as bright as possible. Even if the value information cannot be acquired, it is possible to obtain preferable exposure for both the visible light system and the infrared light system with a simple configuration.

10…撮像装置
11…撮影光学系
12…絞り機構
13…分光光学系
14…可視光撮像部
15…赤外光撮像部
16…可視光系信号処理部
17…赤外光系信号処理部
18…露出制御部
19…絞り駆動部
20…露出条件判定部
20a…評価値記憶部
21…可視光系シャッター速度設定部
22…赤外光系シャッター速度設定部
23…絞り制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Imaging device 11 ... Imaging optical system 12 ... Aperture mechanism 13 ... Spectral optical system 14 ... Visible light imaging part 15 ... Infrared light imaging part 16 ... Visible light system signal processing part 17 ... Infrared light system signal processing part 18 ... Exposure control unit 19 ... Aperture drive unit 20 ... Exposure condition determination unit 20a ... Evaluation value storage unit 21 ... Visible light system shutter speed setting unit 22 ... Infrared light system shutter speed setting unit 23 ... Aperture control unit

Claims (8)

絞り値情報を取得できない絞り手段を介して入射する入射光から分光された可視光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する可視光撮像手段、および前記入射光から分光された赤外光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する赤外光撮像手段のそれぞれについて露出評価値を算出し、算出された露出評価値と、この露出評価値に係る前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段のそれぞれの前記露光時間とに基づいて前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを設定する露出条件判定手段と、
前記設定された組合せに係る前記絞り手段の変化量にしたがって前記絞り手段を制御する絞り制御手段と、
前記設定された組合せに係る前記可視光撮像手段の露光時間に基づいて、前記可視光撮像手段の露光時間を設定する可視光系露光時間設定手段と、
前記設定された組合せに係る前記赤外光撮像手段の露光時間に基づいて、前記赤外光撮像手段の露光時間を設定する赤外光系露光時間設定手段とを備えたことを特徴とする露光量制御装置。
Visible light imaging means for receiving visible light spectrally separated from incident light incident through an aperture means that cannot obtain aperture value information and imaging in accordance with a set exposure time, and infrared light spectrally separated from the incident light An exposure evaluation value is calculated for each of the infrared light imaging means that receives light and images according to the set exposure time, the calculated exposure evaluation value, and the visible light imaging means and the infrared light related to the exposure evaluation value An exposure condition determination unit that sets a combination of the amount of change of the aperture unit and the exposure time of each of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit based on the exposure time of each of the imaging unit;
Aperture control means for controlling the aperture means according to the amount of change of the aperture means according to the set combination;
Based on the exposure time of the visible light imaging means according to a combination of the set, a visible light system exposure time setting means for setting the exposure time of the visible light imaging means,
Infrared light exposure time setting means for setting the exposure time of the infrared light imaging means based on the exposure time of the infrared light imaging means related to the set combination. Quantity control device.
請求項1に記載の露光量制御装置であって、
前記露出条件判定手段は、算出した前記露出評価値に基づいて、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の少なくとも一方が適正露出となる前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを選択対象として抽出し、その選択対象の中からいずれかの組合せを選択して設定することを特徴とする露光量制御装置。
The exposure amount control apparatus according to claim 1,
The exposure condition determining unit is configured to determine, based on the calculated exposure evaluation value, the amount of change of the aperture unit that causes at least one of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit to have proper exposure, the visible light imaging unit, and An exposure amount control apparatus characterized by extracting a combination with an exposure time of each of the infrared light imaging means as a selection target, and selecting and setting any combination from the selection targets.
請求項2に記載の露光量制御装置であって、
前記露出条件判定手段は、
前記絞り手段の絞り状態が開放側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の開放側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外し、
前記絞り手段の絞り状態が絞り込み側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の絞り込み側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外することを特徴とする露光量制御装置。
The exposure amount control apparatus according to claim 2,
The exposure condition determining means includes
When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the open side, the combination relating to the amount of change on the open side of the aperture means is excluded from the selection target,
When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the aperture side, the exposure amount control apparatus is characterized by excluding a combination related to the amount of change on the aperture side of the aperture means from the selection target. .
請求項2に記載の露光量制御装置であって、
前記露出条件判定手段は、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがある場合には、その適正露出となる組合せの中からいずれかの組合せを選択して設定し、
前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがない場合には、前記可視光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せと、前記赤外光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せのうち、より絞り込み側の変化量に係る組合せを選択して設定することを特徴とする露光量制御装置。
The exposure amount control apparatus according to claim 2,
The exposure condition determining means, when there is a combination in which both the visible light imaging means and the infrared light imaging means have proper exposure in the extracted combinations, Select and set any combination,
When there is no combination in which the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit both have proper exposure among the extracted combinations, the combination that makes the visible light imaging unit have proper exposure is the most open. The combination related to the amount of change on the narrower side is selected and set from among the combinations related to the amount of change on the side and the combination related to the amount of change on the most open side among the combinations in which the infrared light imaging means has the proper exposure. An exposure amount control apparatus.
絞り値情報を取得できない絞り手段を介して入射する入射光から分光された可視光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する可視光撮像手段、および前記入射光から分光された赤外光を受光し設定された露光時間にしたがって撮像する赤外光撮像手段のそれぞれについて露出評価値を算出し、算出された露出評価値と、この露出評価値に係る前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段のそれぞれの前記露光時間とに基づいて前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを設定する露出条件判定ステップと、
前記設定された組合せに係る前記絞り手段の変化量にしたがって前記絞り手段を制御する絞り制御ステップと、
前記設定された組合せに係る前記可視光撮像手段の露光時間に基づいて、前記可視光撮像手段の露光時間を設定する可視光系露光時間設定ステップと、
前記設定された組合せに係る前記赤外光撮像手段の露光時間に基づいて、前記赤外光撮像手段の露光時間を設定する赤外光系露光時間設定ステップとを有することを特徴とする露光量制御方法。
Visible light imaging means for receiving visible light spectrally separated from incident light incident through an aperture means that cannot obtain aperture value information and imaging in accordance with a set exposure time, and infrared light spectrally separated from the incident light An exposure evaluation value is calculated for each of the infrared light imaging means that receives light and images according to the set exposure time, the calculated exposure evaluation value, and the visible light imaging means and the infrared light related to the exposure evaluation value An exposure condition determination step for setting a combination of the amount of change of the diaphragm unit and the exposure time of each of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit based on the exposure time of each of the imaging unit;
An aperture control step for controlling the aperture means in accordance with the amount of change of the aperture means according to the set combination;
Based on the exposure time of the visible light imaging means according to a combination of the set, a visible light system exposure time setting step of setting an exposure time of the visible light imaging means,
Based on the exposure time of the infrared light imaging means according to a combination of the set, an exposure amount and having an infrared optical system exposure time setting step of setting an exposure time of said infrared light imaging means Control method.
請求項5に記載の露光量制御方法であって、
前記露出条件判定ステップは、算出した前記露出評価値に基づいて、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の少なくとも一方が適正露出となる前記絞り手段の変化量と前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段それぞれの露光時間との組合せを選択対象として抽出し、その選択対象の中からいずれかの組合せを選択して設定することを特徴とする露光量制御方法。
The exposure amount control method according to claim 5,
In the exposure condition determination step, based on the calculated exposure evaluation value, the amount of change of the aperture unit that causes at least one of the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit to have proper exposure, the visible light imaging unit, An exposure amount control method comprising: extracting a combination with an exposure time of each of the infrared light imaging means as a selection target, and selecting and setting any combination from the selection targets.
請求項6に記載の露光量制御方法であって、
前記露出条件判定ステップは、
前記絞り手段の絞り状態が開放側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の開放側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外し、
前記絞り手段の絞り状態が絞り込み側の絞り限界に達したことを検出した場合は、前記絞り手段の絞り込み側の変化量に係る組合せを前記選択対象から除外することを特徴とする露光量制御方法。
The exposure amount control method according to claim 6,
The exposure condition determination step includes
When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the open side, the combination relating to the amount of change on the open side of the aperture means is excluded from the selection target,
When it is detected that the aperture state of the aperture means has reached the aperture limit on the aperture side, the exposure amount control method is characterized in that a combination related to the amount of change on the aperture side of the aperture means is excluded from the selection target. .
請求項6に記載の露光量制御方法であって、
前記露出条件判定ステップは、前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがある場合には、その適正露出となる組合せの中からいずれかの組合せを選択して設定し、
前記抽出した組合せの中に、前記可視光撮像手段および前記赤外光撮像手段の両方が適正露出となる組合せがない場合には、前記可視光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せと、前記赤外光撮像手段が適正露出となる組合せの中で最も開放側の変化量に係る組合せのうち、より絞り込み側の変化量に係る組合せを選択して設定することを特徴とする露光量制御方法。
The exposure amount control method according to claim 6,
In the exposure condition determination step, when there is a combination in which both the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit have appropriate exposure in the extracted combination, the exposure condition determination step includes Select and set any combination,
When there is no combination in which the visible light imaging unit and the infrared light imaging unit both have proper exposure among the extracted combinations, the combination that makes the visible light imaging unit have proper exposure is the most open. The combination related to the amount of change on the narrower side is selected and set from among the combinations related to the amount of change on the side and the combination related to the amount of change on the most open side among the combinations in which the infrared light imaging means has the proper exposure. An exposure amount control method comprising:
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