JP5482096B2 - Constant current generation circuit, integrated circuit device, and electronic device - Google Patents

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本発明は、定電流生成回路、積回路装置及び電子機器等に関する。 The present invention includes a constant current generating circuit, and Integrated Circuit device, an electronic instrument, and the like.

従来より、アナログ回路の動作に必要な基準電圧を生成する回路として、バンドギャップリファレンス回路と呼ばれる回路が知られている。このバンドギャップリファレンス回路の従来技術としては、例えば特許文献1に開示される技術がある。また、異なるしきい値電圧を有するN型のトランジスターを直列接続して基準電圧を生成する回路の従来技術としては、例えば特許文献2に開示される技術がある。   Conventionally, a circuit called a bandgap reference circuit is known as a circuit that generates a reference voltage necessary for the operation of an analog circuit. As a prior art of this bandgap reference circuit, for example, there is a technique disclosed in Patent Document 1. Further, as a conventional technique of a circuit for generating a reference voltage by connecting N-type transistors having different threshold voltages in series, there is a technique disclosed in Patent Document 2, for example.

バンドギャップリファレンス回路を用いて、温度バラツキが少ない定電流を生成するには、例えばIC(集積回路装置)の外付け部品として温度非依存の抵抗を設ける手法や、バンドギャップリファレンス回路をベースとして定電流生成回路を構成する手法が考えられる。   In order to generate a constant current with little temperature variation using a bandgap reference circuit, for example, a method of providing a temperature-independent resistor as an external component of an IC (integrated circuit device) or a bandgap reference circuit is used as a base. A method of configuring a current generation circuit is conceivable.

しかしながら、外付け部品の抵抗を用いる手法では、部品数が増加してコスト増を招くという問題がある。またバンドギャップリファレンス回路をベースとした定電流生成回路は、精度はそこそこであるが、回路規模が大きくなるという問題がある。   However, the technique using the resistance of the external parts has a problem that the number of parts increases and the cost increases. Moreover, the constant current generation circuit based on the bandgap reference circuit has the accuracy, but has a problem that the circuit scale becomes large.

特開2003−173212号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-173212 特開昭56−108258号公報JP-A-56-108258

本発明の幾つかの態様によれば、精度の高い定電流を生成できる定電流生成回路、積回路装置及び電子機器等を提供できる。

According to some aspects of the present invention, the constant current generating circuit capable of generating a highly accurate constant current, it is possible to provide the Integrated Circuit device, an electronic instrument, and the like.

本発明の一態様は、第1のトランジスターと、前記第1のトランジスターとはゲート電極の導電性が異なる第2のトランジスターと、前記第1のトランジスターと前記第2のトランジスターとの仕事関数差電圧に対応する電圧が印加される第1の抵抗とを含み、前記仕事関数差電圧は負の温度特性を有し、前記第1の抵抗の抵抗値は負の温度特性を有し、前記第1の抵抗に流れる電流に対応する定電流を生成する定電流生成回路に関係する。   One embodiment of the present invention is a work function difference voltage between a first transistor, a second transistor having a gate electrode conductivity different from that of the first transistor, and the first transistor and the second transistor. The work function difference voltage has a negative temperature characteristic, and the resistance value of the first resistor has a negative temperature characteristic, and the first resistance is applied with a voltage corresponding to the first resistance. The present invention relates to a constant current generation circuit that generates a constant current corresponding to the current flowing through the resistor.

本発明の一態様では、第1、第2のトランジスターは導電性が異なるゲート電極を有し、これにより仕事関数差電圧が生成される。そして、この仕事関数差電圧に対応する電圧(仕事関数差電圧そのもの或いは仕事関数差電圧を含むオフセット電圧)が第1の抵抗に印加され、第1の抵抗に流れる電流に対応する定電流(第1の抵抗に流れる電流のカレントミラー電流或いは当該電流そのもの)が生成される。この場合に仕事関数差電圧は負の温度特性を有し、第1の抵抗の抵抗値は負の温度特性を有する。従って、温度が上昇して仕事関数差電圧が減少すると、第1の抵抗の抵抗値も減少し、温度が減少して仕事関数差電圧が上昇すると、第1の抵抗の抵抗値も上昇する。従って、第1の抵抗に流れる電流の温度依存性を減少させることができ、精度の高い定電流を生成することが可能になる。   In one embodiment of the present invention, the first and second transistors have gate electrodes having different conductivities, whereby a work function difference voltage is generated. A voltage corresponding to the work function difference voltage (the work function difference voltage itself or an offset voltage including the work function difference voltage) is applied to the first resistor, and a constant current (first voltage) corresponding to the current flowing through the first resistor. Current mirror current of the current flowing through the resistor 1 or the current itself) is generated. In this case, the work function difference voltage has a negative temperature characteristic, and the resistance value of the first resistor has a negative temperature characteristic. Accordingly, when the temperature rises and the work function difference voltage decreases, the resistance value of the first resistor also decreases. When the temperature decreases and the work function difference voltage increases, the resistance value of the first resistor also increases. Therefore, the temperature dependence of the current flowing through the first resistor can be reduced, and a constant current with high accuracy can be generated.

また本発明の一態様では、前記第1のトランジスター、前記第2のトランジスターが第1の差動トランジスター、第2の差動トランジスターとして設けられる差動部と、前記第1の抵抗と、前記第1の抵抗に直列に設けられる駆動トランジスターとを有する出力部とを含み、前記差動部の第1の差動入力端子が、第1の基準電圧に設定され、前記駆動トランジスターと前記第1の抵抗との間の接続ノードの信号が、前記差動部の第2の差動入力端子に帰還され、前記差動部の出力ノードにより前記駆動トランジスターが制御されてもよい。   In one embodiment of the present invention, the first transistor, the second transistor is a first differential transistor, a differential portion provided as a second differential transistor, the first resistor, And an output unit having a drive transistor provided in series with one resistor, wherein a first differential input terminal of the differential unit is set to a first reference voltage, and the drive transistor and the first transistor A signal at a connection node to the resistor may be fed back to the second differential input terminal of the differential unit, and the drive transistor may be controlled by the output node of the differential unit.

このようにすれば、駆動トランジスターと第1の抵抗との間の接続ノードの信号が、差動部に帰還されて、駆動トランジスターが制御される。従って、例えば電源電圧変動等があった場合にも、接続ノードの信号による帰還制御が行われるため、定電流のバラツキの低減等を図れる。   In this way, the signal at the connection node between the drive transistor and the first resistor is fed back to the differential section, and the drive transistor is controlled. Therefore, for example, even when there is a power supply voltage fluctuation or the like, feedback control is performed by the signal of the connection node, so that variation in constant current can be reduced.

また本発明の一態様では、前記差動部は、前記第1のトランジスター及び前記第2のトランジスターと第1の電源ノードとの間に設けられる電流源と、前記第1のトランジスター及び前記第2のトランジスターと第2の電源ノードとの間に設けられるカレントミラー回路を含んでもよい。   In the aspect of the invention, the differential unit may include a current source provided between the first transistor and the second transistor and a first power supply node, the first transistor, and the second transistor. A current mirror circuit provided between the first transistor and the second power supply node may be included.

このようにすれば、第1、第2のトランジスター、電流源及びカレントミラー回路を有する差動部による帰還制御が可能になる。   In this way, feedback control can be performed by the differential unit having the first and second transistors, the current source, and the current mirror circuit.

また本発明の一態様では、前記電流源は、ゲート電極が第2の基準電圧に設定されるデプレッション型の第3のトランジスターと、前記第3のトランジスターと前記第1の電源ノードとの間に設けられる第2の抵抗を含んでもよい。   In one embodiment of the present invention, the current source includes a depletion-type third transistor whose gate electrode is set to a second reference voltage, and the third transistor and the first power supply node. A second resistor may be included.

このようにすれば、電流源のテール電流生成のための基準電圧を生成する回路を不要にすることができ、電流パスの本数を減らすことが可能になる。   In this way, a circuit for generating a reference voltage for generating a tail current of the current source can be eliminated, and the number of current paths can be reduced.

また本発明の一態様では、前記第1のトランジスター及び前記第3のトランジスターは、デプレッション型のN型トランジスターであり、前記第1の基準電圧及び前記第2の基準電圧は、前記第1の電源ノードの電圧であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the first transistor and the third transistor are depletion type N-type transistors, and the first reference voltage and the second reference voltage are the first power source and the second power source, respectively. It may be the voltage of the node.

このようにすれば、デプレッション型のN型の第1、第3のトランジスターのゲート電極に第1の電源ノードの電圧を印加することで、これらのトランジスターに電流を流すことが可能になる。   In this way, by applying the voltage of the first power supply node to the gate electrodes of the depletion-type N-type first and third transistors, it is possible to pass a current through these transistors.

また本発明の一態様では、前記第3のトランジスターのしきい値電圧は負の温度特性を有し、前記第2の抵抗の抵抗値は正の温度特性を有してもよい。   In one embodiment of the present invention, the threshold voltage of the third transistor may have a negative temperature characteristic, and the resistance value of the second resistor may have a positive temperature characteristic.

このようにすれば、電流源に流れるテール電流の温度依存性を減少できる。   In this way, the temperature dependence of the tail current flowing through the current source can be reduced.

また本発明の一態様では、前記第1の抵抗は、ポリシリコン層により形成されるポリ抵抗であり、前記第2の抵抗は、Nウェルにより形成されるNウェル抵抗であり、前記Nウェル抵抗である前記第2の抵抗の形成領域上に、前記ポリ抵抗である前記第1の抵抗がレイアウト配置されてもよい。   In the aspect of the invention, the first resistor may be a poly resistor formed by a polysilicon layer, the second resistor may be an N well resistor formed by an N well, and the N well resistor The first resistor that is the poly resistor may be laid out on the formation region of the second resistor that is.

このようにすれば、1つの領域を用いて、第1の抵抗と第2の抵抗の両方をレイアウト配置できるようになるため、レイアウト効率を向上できる。   In this way, both the first resistor and the second resistor can be laid out using one region, so that the layout efficiency can be improved.

また本発明の一態様では、前記第1の抵抗は、温度特性が異なる複数の抵抗素子を含んでもよい。   In the aspect of the invention, the first resistor may include a plurality of resistance elements having different temperature characteristics.

このようにすれば、第1の抵抗の温度特性として、各抵抗素子の単体では得られない温度特性を得ることが可能になる。   In this way, it is possible to obtain a temperature characteristic that cannot be obtained by a single resistance element as the temperature characteristic of the first resistor.

また本発明の一態様では、前記第1の抵抗は、直列接続された複数の抵抗ユニットを含み、前記複数の抵抗ユニットの各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子及びスイッチ素子を有し、前記各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで前記第1の抵抗の抵抗値が可変に設定されてもよい。   In one aspect of the present invention, the first resistor includes a plurality of resistance units connected in series, and each resistance unit of the plurality of resistance units includes a resistance element and a switch element connected in parallel. The resistance value of the first resistor may be variably set by turning on / off the switch element of each resistor unit.

このようにすれば、生成される定電流の値を可変に設定したり、定電流値のバラツキ調整等が可能になる。   In this way, it is possible to variably set the value of the generated constant current, or to adjust the variation of the constant current value.

また本発明の一態様では、前記各抵抗ユニットは、第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子とは温度特性が異なる第2の抵抗素子を含み、前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵抗値の抵抗比が、前記複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定されてもよい。   In the aspect of the invention, each of the resistance units includes a first resistance element and a second resistance element having a temperature characteristic different from that of the first resistance element, and the resistance value of the first resistance element. The resistance ratio of the resistance values of the second resistance elements may be set to the same ratio among the plurality of resistance units.

このようにすれば、定電流値の可変設定やバラツキ調整と定電流値の温度依存性の低減を両立して実現できるようになる。   By doing so, it becomes possible to realize both the variable setting and variation adjustment of the constant current value and the reduction of the temperature dependence of the constant current value.

また本発明の一態様では、第3の抵抗を含み、前記第1の抵抗に流れる電流に対応する電流を前記第3の抵抗に流すことで定電圧を更に生成してもよい。   In one embodiment of the present invention, a constant voltage may be further generated by including a third resistor, and causing a current corresponding to a current flowing through the first resistor to flow through the third resistor.

このようにすれば、定電流生成回路で生成された電流を利用して定電圧を生成することが可能になる。   This makes it possible to generate a constant voltage using the current generated by the constant current generation circuit.

また本発明の一態様では、前記第3の抵抗は、温度特性が異なる複数の抵抗素子を含んでもよい。   In the aspect of the invention, the third resistor may include a plurality of resistance elements having different temperature characteristics.

このようにすれば、第3の抵抗の温度特性として、各抵抗素子の単体では得られない温度特性を得ることが可能になる。   In this way, it is possible to obtain a temperature characteristic that cannot be obtained by a single resistor element as the temperature characteristic of the third resistor.

また本発明の一態様では、前記第3の抵抗は、直列接続された複数の抵抗ユニットを含み、前記複数の抵抗ユニットの各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子及びスイッチ素子を有し、前記各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで前記第3の抵抗の抵抗値が可変に設定され、生成される定電圧が可変に設定されてもよい。   In the aspect of the invention, the third resistor includes a plurality of resistance units connected in series, and each resistance unit of the plurality of resistance units includes a resistance element and a switch element connected in parallel. The resistance value of the third resistor may be variably set by turning on / off the switch element of each resistor unit, and the generated constant voltage may be variably set.

このようにすれば、生成される定電圧の値を可変に設定したり、定電圧値のバラツキ調整等が可能になる。   In this way, it is possible to variably set the value of the generated constant voltage, or to adjust the variation of the constant voltage value.

また本発明の一態様では、前記各抵抗ユニットは、第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子とは温度特性が異なる第2の抵抗素子を含み、前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵抗値の抵抗比が、前記複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定されてもよい。   In the aspect of the invention, each of the resistance units includes a first resistance element and a second resistance element having a temperature characteristic different from that of the first resistance element, and the resistance value of the first resistance element. The resistance ratio of the resistance values of the second resistance elements may be set to the same ratio among the plurality of resistance units.

このようにすれば、定電圧値の可変設定やバラツキ調整と定電圧値の温度依存性の低減を両立して実現できるようになる。   In this way, it becomes possible to realize both the variable setting and variation adjustment of the constant voltage value and the reduction of the temperature dependence of the constant voltage value.

また本発明の他の態様は、直列接続された複数の抵抗ユニットを含み、前記複数の抵抗ユニットの各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子及びスイッチ素子を有し、前記各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで抵抗値が可変に設定され、前記各抵抗ユニットは、第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子とは温度特性が異なる第2の抵抗素子を含み、前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵抗値の抵抗比が、前記複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定される抵抗回路に関係する。   Another aspect of the present invention includes a plurality of resistance units connected in series, and each resistance unit of the plurality of resistance units includes a resistance element and a switch element connected in parallel, and the switch of each resistance unit The resistance value is variably set by turning on and off the element, and each resistance unit includes a first resistance element and a second resistance element having a temperature characteristic different from that of the first resistance element, The resistance ratio between the resistance value of the first resistance element and the resistance value of the second resistance element is related to a resistance circuit set to the same ratio among the plurality of resistance units.

本発明の他の態様によれば、抵抗回路は、直列接続された複数の抵抗ユニットにより構成される。そして、各抵抗ユニットにおいて抵抗素子と並列接続されたスイッチ素子がオン・オフされることで、抵抗値が可変に設定される。そして各抵抗ユニットは、温度特性が異なる第1、第2の抵抗素子を含み、その抵抗比が、複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定される。これにより、抵抗値の可変設定やバラツキ調整と抵抗値の温度依存性の低減を両立して実現できるようになる。   According to another aspect of the present invention, the resistance circuit includes a plurality of resistance units connected in series. The resistance value is variably set by turning on / off the switching element connected in parallel with the resistance element in each resistance unit. Each resistance unit includes first and second resistance elements having different temperature characteristics, and the resistance ratio is set to the same ratio among the plurality of resistance units. As a result, variable setting of the resistance value, variation adjustment, and reduction of the temperature dependency of the resistance value can be realized at the same time.

また本発明の他の態様は、上記のいずれかに記載の定電流生成回路を含む集積回路装置に関係する。   Another aspect of the invention relates to an integrated circuit device including any one of the constant current generation circuits described above.

また本発明の他の態様は、上記に記載の抵抗回路を含む集積回路装置に関係する。   Another aspect of the present invention relates to an integrated circuit device including the resistor circuit described above.

また本発明の他の態様は、上記に記載の集積回路装置を含む電子機器に関係する。   Another aspect of the invention relates to an electronic apparatus including the integrated circuit device described above.

本実施形態の定電流生成回路の原理的な構成例。The example of a fundamental structure of the constant current generation circuit of this embodiment. 本実施形態の定電流生成回路の構成例。2 is a configuration example of a constant current generation circuit according to the present embodiment. 本実施形態の定電流生成回路の詳細な構成例。3 is a detailed configuration example of a constant current generation circuit according to the present embodiment. 本実施形態の定電流生成回路に用いられる電流源の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the current source used for the constant current generation circuit of this embodiment. 仕事関数差電圧の説明図。Explanatory drawing of a work function difference voltage. 抵抗値の温度特性の例。Example of temperature characteristics of resistance value. 定電流生成回路の各ノードの温度依存性を示す図。The figure which shows the temperature dependence of each node of a constant current generation circuit. 定電流生成回路の第1の比較例の構成例。The structural example of the 1st comparative example of a constant current generation circuit. 定電流の温度依存性の比較図。Comparison diagram of temperature dependence of constant current. 定電流生成回路の第2の比較例の構成例。The structural example of the 2nd comparative example of a constant current generation circuit. 図11(A)、図11(B)は定電流の温度依存性の比較図。FIGS. 11A and 11B are comparison diagrams of temperature dependence of constant current. 図12(A)、図12(B)はテール電流の温度依存性の比較図。12A and 12B are comparison diagrams of the temperature dependence of the tail current. 図13(A)、図13(B)はテール電流値のバラツキの比較図。FIGS. 13A and 13B are comparative diagrams of variations in tail current values. 図14(A)、図14(B)は抵抗のレイアウト配置例。14A and 14B show examples of the layout of resistors. 図15(A)〜図15(C)は異なる温度特性の抵抗素子を用いる手法の説明図。FIGS. 15A to 15C are explanatory diagrams of a technique using resistance elements having different temperature characteristics. 図16(A)、図16(B)は複数の抵抗ユニットで抵抗を構成する手法の説明図。FIG. 16A and FIG. 16B are explanatory diagrams of a method of configuring a resistor with a plurality of resistor units. 本実施形態の変形例の構成例。The structural example of the modification of this embodiment. 集積回路装置の構成例。2 shows a configuration example of an integrated circuit device. 電子機器の構成例。Configuration example of an electronic device.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお以下に説明する本実施形態は特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The present embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are indispensable as means for solving the present invention. Not necessarily.

1.構成
図1に本実施形態の定電流生成回路(電流生成回路、基準電流生成回路)の原理的な構成例を示す。
1. Configuration FIG. 1 shows a principle configuration example of a constant current generation circuit (current generation circuit, reference current generation circuit) of the present embodiment.

本実施形態の定電流生成回路は、第1のトランジスターTA1と第2のトランジスターTA2と抵抗RA1を含む。ここでトランジスターTA2は、トランジスターTA1とはゲート電極の導電性が異なるトランジスターになっている。例えばトランジスターTA1のゲート電極がN型である場合には、トランジスターTA2のゲート電極はP型になる。そしてTA1は例えばデプレッション型のN型トランジスター(NMOSトランジスター)になり、TA2は例えばエンハンスメント型のN型トランジスターになる。例えばトランジスターTA1とTA2は、基板の不純物濃度やチャネルの不純物濃度は同じであるが、ゲート電極の導電性が異なっており、ゲート電極の不純物濃度が異なっている。   The constant current generation circuit of the present embodiment includes a first transistor TA1, a second transistor TA2, and a resistor RA1. Here, the transistor TA2 is a transistor having a different gate electrode conductivity from the transistor TA1. For example, when the gate electrode of the transistor TA1 is N-type, the gate electrode of the transistor TA2 is P-type. TA1 is, for example, a depletion type N-type transistor (NMOS transistor), and TA2 is, for example, an enhancement type N-type transistor. For example, the transistors TA1 and TA2 have the same substrate impurity concentration and channel impurity concentration, but have different gate electrode conductivity and different gate electrode impurity concentrations.

具体的には、MOSトランジスターのしきい値電圧は、Vth=φMS−QSS/COX+2φ+Q/COXと表すことができる。ここでφMSは、ゲート電極と基板(Pウェル)の仕事関数差であり、QSSは酸化膜内の固定電荷であり、COXはゲート酸化膜の単位面積当たりの容量であり、φはフェルミ準位であり、Qは空乏層内の電荷である。トランジスターTA1のN型ゲート電極の不純物濃度やトランジスターTA2のP型ゲート電極の不純物濃度の設定により、トランジスターTA1のしきい値電圧は例えば−0.2V〜−0.5V程度に設定でき、トランジスターTA2のしきい値電圧は例えば0.5V〜0.8V程度に設定できる。 Specifically, the threshold voltage of the MOS transistor can be expressed as Vth = φ MS −Q SS / C OX + 2φ F + Q D / C OX . Here, φ MS is a work function difference between the gate electrode and the substrate (P well), Q SS is a fixed charge in the oxide film, C OX is a capacity per unit area of the gate oxide film, and φ F Is the Fermi level, and Q D is the charge in the depletion layer. By setting the impurity concentration of the N-type gate electrode of the transistor TA1 and the impurity concentration of the P-type gate electrode of the transistor TA2, the threshold voltage of the transistor TA1 can be set to about −0.2 V to −0.5 V, for example. Can be set to about 0.5V to 0.8V, for example.

そして図1では、トランジスターTA1、TA2の仕事関数差電圧VWD(しきい値電圧差)に対応する電圧(VWDそのもの或いはVWDから得られる電圧)が、第1の抵抗RA1に印加される。例えば抵抗RA1の両端の電圧差がVWDに設定される。そして本実施形態の定電流生成回路は、抵抗RA1に流れる電流IA1に対応する定電流IREF(IA1のカレントミラー電流やIA1そのもの)を生成する。   In FIG. 1, a voltage (VWD itself or a voltage obtained from VWD) corresponding to the work function difference voltage VWD (threshold voltage difference) of the transistors TA1 and TA2 is applied to the first resistor RA1. For example, the voltage difference between both ends of the resistor RA1 is set to VWD. The constant current generation circuit of this embodiment generates a constant current IREF (the current mirror current of IA1 or IA1 itself) corresponding to the current IA1 flowing through the resistor RA1.

この場合に仕事関数差電圧VWDは負の温度特性を有し、抵抗RA1の抵抗値は負の温度特性を有する。従って、生成される定電流(基準電流)IREFの温度特性を、フラットな特性に近づけることが可能になる。   In this case, the work function difference voltage VWD has a negative temperature characteristic, and the resistance value of the resistor RA1 has a negative temperature characteristic. Therefore, the temperature characteristic of the generated constant current (reference current) IREF can be brought close to a flat characteristic.

例えば温度(環境温度)が高温になると、抵抗RA1に印加される仕事関数差電圧VWDは減少し、抵抗RA1の抵抗値も減少する。従って、高温になっても、抵抗RA1に流れる電流IA1は一定に保たれ、定電流IREFの温度特性をフラットにできる。   For example, when the temperature (environment temperature) becomes high, the work function difference voltage VWD applied to the resistor RA1 decreases, and the resistance value of the resistor RA1 also decreases. Therefore, even when the temperature becomes high, the current IA1 flowing through the resistor RA1 is kept constant, and the temperature characteristic of the constant current IREF can be made flat.

また温度が低温になると、抵抗RA1に印加される仕事関数差電圧VWDは増加し、抵抗RA1の抵抗値も増加する。従って、低温になっても、抵抗RA1に流れる電流IA1は一定に保たれ、定電流IREFの温度特性をフラットにできる。   When the temperature becomes low, the work function difference voltage VWD applied to the resistor RA1 increases, and the resistance value of the resistor RA1 also increases. Therefore, even when the temperature is low, the current IA1 flowing through the resistor RA1 is kept constant, and the temperature characteristic of the constant current IREF can be made flat.

このように本実施形態の定電流生成回路によれば、簡素な構成でフラットな温度特性の定電流を生成できる。   Thus, according to the constant current generation circuit of the present embodiment, a constant current having a flat temperature characteristic can be generated with a simple configuration.

即ち、このような温度補償を行う場合には、正の温度特性を有する回路素子と負の温度特性を有する回路素子を用意し、これらの正の温度特性と負の温度特性の相殺によりフラットな温度特性を得る手法が一般的である。   That is, when performing such temperature compensation, a circuit element having a positive temperature characteristic and a circuit element having a negative temperature characteristic are prepared, and a flatness is obtained by canceling out the positive temperature characteristic and the negative temperature characteristic. A technique for obtaining temperature characteristics is common.

これに対して本実施形態では、抵抗に流れる電流については、印加電圧の上昇時に抵抗値も上昇させ、印加電圧の減少時に抵抗値も減少させることで、電流値を一定に保つことができる点に着目している。このため本実施形態では図1に示すように、負の温度特性を有する仕事関数差電圧VWDと、同じく負の温度特性を有する抵抗RA1を用意する。そして仕事関数差電圧VWDを抵抗RA1に印加することで定電流を生成する。このようにすれば、あたかも仕事関数差電圧VWDの負の温度特性と抵抗RA1の負の温度特性を相殺させたかのようにして、フラットな温度特性の定電流を得ることが可能になる。   On the other hand, in the present embodiment, the current value flowing through the resistor can be kept constant by increasing the resistance value when the applied voltage is increased and decreasing the resistance value when the applied voltage is decreased. Is focused on. Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 1, a work function difference voltage VWD having a negative temperature characteristic and a resistor RA1 having the same negative temperature characteristic are prepared. A constant current is generated by applying the work function difference voltage VWD to the resistor RA1. In this way, it is possible to obtain a constant current with a flat temperature characteristic as if the negative temperature characteristic of the work function difference voltage VWD and the negative temperature characteristic of the resistor RA1 are offset.

図2に本実施形態の定電流生成回路の詳細な構成例を示す。図2の定電流生成回路は、差動部DFと出力部QBを含む。   FIG. 2 shows a detailed configuration example of the constant current generation circuit of this embodiment. The constant current generation circuit of FIG. 2 includes a differential unit DF and an output unit QB.

差動部DFには、トランジスターTA1とTA2が、第1、第2の差動トランジスターとして設けられる。例えばトランジスターTA1のゲート電極が、差動部DFの非反転入力端子(広義には第1の差動入力端子)になり、トランジスターTA2のゲート電極が、差動部DFの反転入力端子(広義には第2の差動入力端子)になる。   In the differential section DF, transistors TA1 and TA2 are provided as first and second differential transistors. For example, the gate electrode of the transistor TA1 becomes a non-inverting input terminal (first differential input terminal in a broad sense) of the differential section DF, and the gate electrode of the transistor TA2 becomes an inverting input terminal (in a broad sense) of the differential section DF. Is a second differential input terminal).

また出力部QBは、抵抗RA1と、抵抗RA1に直列に設けられる駆動トランジスターTDR(PMOSトランジスター)を含む。即ちP型の駆動トランジスターTDRと抵抗RA1はVDDとVSSの間に直列に設けられる。   The output unit QB includes a resistor RA1 and a drive transistor TDR (PMOS transistor) provided in series with the resistor RA1. That is, the P-type driving transistor TDR and the resistor RA1 are provided in series between VDD and VSS.

そして図2では、差動部DFの非反転入力端子(第1の差動入力端子)が、第1の基準電圧VRF1に設定される。また出力部QBの駆動トランジスターTDRと抵抗RA1との間の接続ノードNA4の信号(電圧)が、差動部DFの反転入力端子(第2の差動入力端子)に帰還される。そして差動部DFの出力ノードNA1により駆動トランジスターTDRが制御される。例えば差動部DFの出力ノードNA1により駆動トランジスターTDRのゲート電極を制御することで、抵抗RA1に流れる電流IA1が制御される。   In FIG. 2, the non-inverting input terminal (first differential input terminal) of the differential section DF is set to the first reference voltage VRF1. The signal (voltage) at the connection node NA4 between the driving transistor TDR of the output unit QB and the resistor RA1 is fed back to the inverting input terminal (second differential input terminal) of the differential unit DF. The drive transistor TDR is controlled by the output node NA1 of the differential section DF. For example, the current IA1 flowing through the resistor RA1 is controlled by controlling the gate electrode of the driving transistor TDR by the output node NA1 of the differential section DF.

図2の構成によれば、抵抗RA1には、仕事関数差電圧VWDに対応する電圧が印加される。そして仕事関数差電圧VWDは負の温度特性を有し、抵抗RA1の抵抗値も負の温度特性を有するため、抵抗RA1に流れる電流IA1の温度依存性を低減できる。従って、よりフラットな温度特性の定電流IREFの生成が可能になる。   According to the configuration of FIG. 2, a voltage corresponding to the work function difference voltage VWD is applied to the resistor RA1. Since the work function difference voltage VWD has negative temperature characteristics and the resistance value of the resistor RA1 also has negative temperature characteristics, the temperature dependence of the current IA1 flowing through the resistor RA1 can be reduced. Accordingly, it is possible to generate a constant current IREF having a flatter temperature characteristic.

また図2の構成では、ノードNA4の電圧が差動部DFに帰還されて、駆動トランジスターTDRのゲート電極が制御される。従って、例えば電源電圧変動や製造プロセスバラツキ等があった場合にも、ノードNA4の信号による帰還制御が行われることで、定電流IREFのバラツキを低減できる。   In the configuration of FIG. 2, the voltage at the node NA4 is fed back to the differential section DF, and the gate electrode of the drive transistor TDR is controlled. Therefore, for example, even when there is a power supply voltage fluctuation or a manufacturing process variation, the feedback control is performed by the signal of the node NA4, whereby the variation of the constant current IREF can be reduced.

なお図2において、差動部DFの非反転入力端子(正極端子)は、その端子電圧が高くなるとノードNA4の電圧が高くなる端子である。また反転入力端子(負極端子)は、その端子電圧が高くなるとノードNA4の電圧が低くなる端子である。   In FIG. 2, the non-inverting input terminal (positive terminal) of the differential section DF is a terminal whose voltage at the node NA4 increases as the terminal voltage increases. The inverting input terminal (negative electrode terminal) is a terminal at which the voltage at the node NA4 decreases as the terminal voltage increases.

図3に本実施形態の定電流生成回路の更に詳細な構成例を示す。図3では差動部DFが、電流源ISAと、第1、第2の差動トランジスターとなるトランジスターTA1、TA2と、カレントミラー回路を構成するトランジスターTA4、TA5を含む。ここで電流源ISAは、トランジスターTA1、TA2とVSSノード(広義には第1の電源ノード)との間に設けられる。トランジスターTA1、TA2は、そのゲート電極の導電性が異なり、これらのトランジスターTA1、TA2のしきい値電圧の差が仕事関数差電圧VWDになる。P型のトランジスターTA4、TA5により構成されるカレントミラー回路は、トランジスターTA1、TA2とVDDノード(広義には第2の電源ノード)との間に設けられる。   FIG. 3 shows a more detailed configuration example of the constant current generation circuit of this embodiment. In FIG. 3, the differential section DF includes a current source ISA, transistors TA1 and TA2 that are first and second differential transistors, and transistors TA4 and TA5 that form a current mirror circuit. Here, the current source ISA is provided between the transistors TA1 and TA2 and the VSS node (first power supply node in a broad sense). The transistors TA1 and TA2 have different gate electrode conductivities, and the difference between the threshold voltages of the transistors TA1 and TA2 becomes the work function difference voltage VWD. A current mirror circuit including P-type transistors TA4 and TA5 is provided between the transistors TA1 and TA2 and the VDD node (second power supply node in a broad sense).

出力部QBは、直列に設けられる駆動トランジスターTDR及び抵抗RA1と、直列に設けられるトランジスターTA6及びTA7を含む。そして駆動トランジスターTDRと抵抗RA1の間の接続ノードNA4の信号が、差動部DFのトランジスターTA2のゲート電極である反転入力端子(第2の差動入力端子)に入力されて帰還される。また差動部DFのトランジスターTA1のゲート電極である非反転入力端子(第1の差動入力端子)には、基準電圧VRF1が設定される。ここで例えばVRF1=VSSである。   The output unit QB includes a drive transistor TDR and a resistor RA1 provided in series, and transistors TA6 and TA7 provided in series. A signal at the connection node NA4 between the driving transistor TDR and the resistor RA1 is input to the inverting input terminal (second differential input terminal) which is the gate electrode of the transistor TA2 of the differential section DF and fed back. The reference voltage VRF1 is set to the non-inverting input terminal (first differential input terminal) that is the gate electrode of the transistor TA1 of the differential section DF. Here, for example, VRF1 = VSS.

また差動部DFのトランジスターTA1とTA4の間の出力ノードNA1の信号により、出力部QBのP型のトランジスターTDR、TA6のゲート電極が制御される。ここでトランジスターTDRとTA6のトランジスター比(W/L)の設定により、抵抗RA1に流れる電流IA1と定電流IREFの電流比が設定される。   The gate electrodes of the P-type transistors TDR and TA6 of the output unit QB are controlled by the signal of the output node NA1 between the transistors TA1 and TA4 of the differential unit DF. Here, the ratio of the current IA1 flowing through the resistor RA1 and the constant current IREF is set by setting the transistor ratio (W / L) of the transistors TDR and TA6.

そしてN型のトランジスターTA7は、そのゲートとドレインがノードNA5に接続され、ノードNA5からのバイアス電圧VBSが、集積回路装置の各アナログ回路に供給される。各アナログ回路は、このバイアス電圧VBSを用いることで、定電流IREFに対応する定電流を得ることができる。   The N-type transistor TA7 has its gate and drain connected to the node NA5, and the bias voltage VBS from the node NA5 is supplied to each analog circuit of the integrated circuit device. Each analog circuit can obtain a constant current corresponding to the constant current IREF by using the bias voltage VBS.

また図3の回路では、ノードNA4の信号がトランジスターTA2のゲート電極に帰還されている。従って、VRF1=VSS=0Vであるとすると、ノードNA4の電圧が仕事関数差電圧VWDになるように、差動部DFの出力ノードNA1により駆動トランジスターTDRのゲート電極が帰還制御される。従って、電源電圧変動等があった場合にも、精度の高い定電流IREFを生成できる。   In the circuit of FIG. 3, the signal at the node NA4 is fed back to the gate electrode of the transistor TA2. Therefore, assuming that VRF1 = VSS = 0V, the gate electrode of the driving transistor TDR is feedback-controlled by the output node NA1 of the differential section DF so that the voltage of the node NA4 becomes the work function difference voltage VWD. Therefore, the constant current IREF with high accuracy can be generated even when the power supply voltage fluctuates.

図4は、図3の電流源ISAの具体的な構成例を示す図である。図4では、電流源ISAは、第3のトランジスターTA3と第2の抵抗RA2を含む。トランジスターTA3は、そのゲート電極がVSS(広義には第2の基準電圧)に設定されるデプレッション型のトランジスター(NMOSトランジスター)である。抵抗RA2は、トランジスターTA3とVSS(第1の電源ノード)との間に設けられる抵抗である。   FIG. 4 is a diagram showing a specific configuration example of the current source ISA of FIG. In FIG. 4, the current source ISA includes a third transistor TA3 and a second resistor RA2. The transistor TA3 is a depletion type transistor (NMOS transistor) whose gate electrode is set to VSS (second reference voltage in a broad sense). The resistor RA2 is a resistor provided between the transistor TA3 and VSS (first power supply node).

例えばトランジスターTA3のしきい値電圧の上昇等によりTA3に流れるテール電流ITLが小さくなると、TA3のソースノードの電圧が低くなる。そしてTA3のソースノードの電圧が低くなると、TA3のゲート・ソース間電圧は大きくなるため、TA3に流れる電流を大きくする方向に働き、これによりTA3に流れるテール電流ITLが一定に保たれる。   For example, when the tail current ITL flowing through TA3 decreases due to an increase in the threshold voltage of the transistor TA3, the voltage at the source node of TA3 decreases. When the voltage at the source node of TA3 is lowered, the voltage between the gate and source of TA3 is increased, so that the current flowing through TA3 is increased, whereby the tail current ITL flowing through TA3 is kept constant.

一方、トランジスターTA3のしきい値電圧の減少等によりTA3に流れるテール電流ITLが大きくなると、TA3のソースノードの電圧が高くなる。そしてTA3のソースノードの電圧が高くなると、TA3のゲート・ソース間電圧は小さくなるため、TA3に流れるテール電流ITLを小さくする方向に働き、これによりTA3に流れるテール電流ITLが一定に保たれる。   On the other hand, when the tail current ITL flowing through TA3 increases due to a decrease in the threshold voltage of the transistor TA3, the voltage at the source node of TA3 increases. When the voltage at the source node of TA3 increases, the voltage between the gate and the source of TA3 decreases, so that the tail current ITL flowing through TA3 is reduced, and the tail current ITL flowing through TA3 is kept constant. .

このように図4の構成の電流源ISAでは、自己完結的に電流を生成し電圧を発生する構成になっており、ソースに設けられたソース抵抗RA2により回路的に負帰還がかかる構成になっている。従って、トランジスターTA3や抵抗RA2にバラツキが生じた場合にも、生成されるテール電流ITLのバラツキはTA3やRA2のバラツキよりも小さくなるため、安定したテール電流の生成が可能になる。   As described above, the current source ISA having the configuration shown in FIG. 4 has a configuration in which a current is generated in a self-contained manner to generate a voltage, and a negative feedback is applied in a circuit by the source resistor RA2 provided in the source. ing. Therefore, even when variations occur in the transistor TA3 and the resistor RA2, the variation in the generated tail current ITL is smaller than the variation in the TA3 and RA2, so that a stable tail current can be generated.

また図4では、トランジスターTA1とTA3は、デプレッション型のN型トランジスターとなっている。そして、トランジスターTA1のゲート電極に設定される第1の基準電圧とトランジスターTA3のゲート電極に設定される第2の基準電圧は共に、VSSの電圧(第1の電源ノードの電圧。グラウンド電圧)になっている。即ちTA1とTA3はデプレッション型のN型トランジスターであるため、そのゲート電極にVSSが設定されても電流が流れる。従って、トランジスターTA1とTA3のゲート電極をVSSに設定すれば済み、これらのゲート電極に設定される基準電圧の生成回路を別に用意する必要がないため、電流パスの本数を減らすことができる。即ち基準電圧生成回路の電流パスの分だけ電流パスの本数を減らすことができるため、低消費電力化を図れる。   In FIG. 4, the transistors TA1 and TA3 are depletion type N-type transistors. The first reference voltage set for the gate electrode of the transistor TA1 and the second reference voltage set for the gate electrode of the transistor TA3 are both set to the voltage VSS (voltage of the first power supply node, ground voltage). It has become. That is, since TA1 and TA3 are depletion type N-type transistors, a current flows even when VSS is set to the gate electrode. Therefore, it is only necessary to set the gate electrodes of the transistors TA1 and TA3 to VSS, and it is not necessary to separately provide a reference voltage generation circuit set for these gate electrodes, so that the number of current paths can be reduced. That is, since the number of current paths can be reduced by the number of current paths of the reference voltage generation circuit, power consumption can be reduced.

そして後述するように、トランジスターTA3のしきい値電圧は負の温度特性を有し、抵抗RA2の抵抗値は正の温度特性を有する。例えば抵抗RA2はNウェルにより形成されるNウェル抵抗であり、このNウェル抵抗は正の温度特性を有する。従って、温度が上がると、トランジスターTA3のしきい値電圧が減少する一方で、抵抗RA2の抵抗値は増加するため、電流源ISAに流れるテール電流ITLはほぼ一定に保たれる。また温度が下がると、トランジスターTA3のしきい値電圧が増加する一方で、抵抗RA2の抵抗値は減少するため、電流源ISAに流れるテール電流ITLはほぼ一定に保たれる。従って、テール電流ITLの温度特性をフラットな特性に近づけることが可能になる。   As will be described later, the threshold voltage of the transistor TA3 has a negative temperature characteristic, and the resistance value of the resistor RA2 has a positive temperature characteristic. For example, the resistor RA2 is an N well resistor formed by an N well, and this N well resistor has a positive temperature characteristic. Therefore, when the temperature rises, the threshold voltage of the transistor TA3 decreases, while the resistance value of the resistor RA2 increases. Therefore, the tail current ITL flowing through the current source ISA is kept substantially constant. When the temperature decreases, the threshold voltage of the transistor TA3 increases while the resistance value of the resistor RA2 decreases. Therefore, the tail current ITL flowing through the current source ISA is kept substantially constant. Therefore, the temperature characteristic of the tail current ITL can be brought close to a flat characteristic.

即ち、抵抗RA2により負帰還をかける構成だけでは、温度バラツキまでは低減できないが、トランジスターTA3に負の温度特性を持たせる一方で、抵抗RA2に正の温度特性を持たせることで、温度バラツキの低減についても実現できるようになる。   That is, only the configuration in which negative feedback is applied by the resistor RA2 cannot reduce the temperature variation, but the transistor TA3 has a negative temperature characteristic, while the resistor RA2 has a positive temperature characteristic, so that the temperature variation is reduced. Reduction can also be realized.

図5は仕事関数差電圧を説明するためのバンド図である。図5に示すように、非反転入力端子側のトランジスターTA1のN型ゲート電極とPウェルとの仕事関数と、反転入力端子側のトランジスターTA2のP型ゲート電極とPウェルとの仕事関数の差が、仕事関数差電圧VWDになる。   FIG. 5 is a band diagram for explaining the work function difference voltage. As shown in FIG. 5, the difference between the work function of the N-type gate electrode and the P well of the transistor TA1 on the non-inverting input terminal side and the work function of the P-type gate electrode and the P well of the transistor TA2 on the inverting input terminal side. Becomes the work function difference voltage VWD.

なお、差動部DFの非反転入力端子と反転入力端子の間のオフセット電圧(第1、第2の差動入力端子間のオフセット電圧)は、図5のような仕事関数差電圧以外により設定してもよい。例えばトランジスターTA1(第1の差動トランジスター)のW/L比(電流供給能力)と、トランジスターTA2(第2の差動トランジスター)のW/L比を異ならせてオフセット電圧を設定してもよい。或いは、カレントミラー回路を構成する第1のカレントミラー用トランジスターTA4のW/L比と、カレントミラー回路を構成する第2のカレントミラー用トランジスターTA5のW/L比を異ならせることで、オフセット電圧が設定してもよい。   Note that the offset voltage between the non-inverting input terminal and the inverting input terminal of the differential section DF (the offset voltage between the first and second differential input terminals) is set other than the work function difference voltage as shown in FIG. May be. For example, the offset voltage may be set by changing the W / L ratio (current supply capability) of the transistor TA1 (first differential transistor) and the W / L ratio of the transistor TA2 (second differential transistor). . Alternatively, the offset voltage can be changed by making the W / L ratio of the first current mirror transistor TA4 constituting the current mirror circuit different from the W / L ratio of the second current mirror transistor TA5 constituting the current mirror circuit. May be set.

このように仕事関数差電圧VWDの設定に加えて、差動トランジスターやカレントミラー用トランジスターのW/L比(電流供給能力)も設定すれば、抵抗RA1に印加される電圧の微調整等が可能になる。例えば仕事関数差電圧VWDが0.9V程度であり、抵抗RA1に対して1Vの電圧を印加したい場合には、1.0Vと0.9Vの差分である0.1Vの電圧を、差動トランジスターやカレントミラー用トランジスターのW/L比を異ならせる調整により設定する。こうすることで抵抗RA1の印加電圧を調整して、定電流IREFの調整等を行うことが可能になる。   If the W / L ratio (current supply capability) of the differential transistor and the current mirror transistor is set in addition to the work function difference voltage VWD, the voltage applied to the resistor RA1 can be finely adjusted. become. For example, when the work function difference voltage VWD is about 0.9 V and a voltage of 1 V is to be applied to the resistor RA1, a voltage of 0.1 V, which is the difference between 1.0 V and 0.9 V, is applied to the differential transistor. Or by adjusting the W / L ratio of the current mirror transistor to be different. This makes it possible to adjust the voltage applied to the resistor RA1 and adjust the constant current IREF.

図6は、各種抵抗素子の抵抗値の温度特性を示す図である。図6において、抵抗素子RMRP、RPP、RNPは、ポリシリコン層で形成されるポリ抵抗である。RMRPは、例えばシート抵抗値が数Kオーム程度のポリ抵抗である。RPPはP型の不純物がドープされたポリ抵抗であり、RNPはN型の不純物がドープされたポリ抵抗である。図6に示すように、これらのポリ抵抗の抵抗値は温度が上昇するにつれて低くなり、負の温度特性を有する。本実施形態では、このように負の温度特性を有するポリ抵抗を、出力部QBの抵抗RA1として用いる。具体的には例えば仕事関数差電圧VWDの温度特性に近い抵抗素子RMRPを抵抗RA1として用いる。   FIG. 6 is a diagram illustrating temperature characteristics of resistance values of various resistance elements. In FIG. 6, resistance elements RMRP, RPP, and RNP are poly resistors formed of a polysilicon layer. RMRP is a poly resistor having a sheet resistance value of about several K ohms, for example. RPP is a poly resistor doped with a P-type impurity, and RNP is a poly resistor doped with an N-type impurity. As shown in FIG. 6, the resistance values of these poly resistors become lower as the temperature rises and have negative temperature characteristics. In the present embodiment, a poly resistor having such a negative temperature characteristic is used as the resistor RA1 of the output unit QB. Specifically, for example, a resistance element RMRP close to the temperature characteristic of the work function difference voltage VWD is used as the resistor RA1.

また図6に示すように、仕事関数差電圧VWDも負の温度特性を有する。従って、図1等で説明したように、負の温度特性を有する抵抗RA1に対して、負の温度特性を有する仕事関数差電圧VWDを印加することで、抵抗RA1に流れる電流IA1の温度特性をフラットにできる。具体的には例えば仕事関数差電圧VWDの温度特性に近い温度特性を有する抵抗素子を抵抗RA1として用い、この抵抗RA1に対して、図1〜図4等で説明した回路により仕事関数差電圧VWDを印加する。これにより定電流生成回路により生成される定電流IREFの温度特性もフラットにすることが可能になる。   As shown in FIG. 6, the work function difference voltage VWD also has a negative temperature characteristic. Therefore, as described with reference to FIG. 1 and the like, by applying the work function difference voltage VWD having a negative temperature characteristic to the resistor RA1 having a negative temperature characteristic, the temperature characteristic of the current IA1 flowing through the resistor RA1 is changed. Can be flat. Specifically, for example, a resistance element having a temperature characteristic close to the temperature characteristic of the work function difference voltage VWD is used as the resistor RA1, and the work function difference voltage VWD is applied to the resistor RA1 by the circuits described with reference to FIGS. Is applied. As a result, the temperature characteristic of the constant current IREF generated by the constant current generation circuit can be made flat.

図7は、図4の定電流生成回路の各ノードNA1、NA2、NA4の電圧レベルの温度特性や、電流IA1の温度特性を示すシミュレーション結果である。   FIG. 7 shows simulation results showing the temperature characteristics of the voltage levels of the nodes NA1, NA2 and NA4 of the constant current generation circuit of FIG. 4 and the temperature characteristics of the current IA1.

図7に示すように、温度が上昇するとノードNA1の電圧は上昇する。ノードNA1の電圧が上昇すると、NA1の電圧がゲート電極に入力されるP型の駆動トランジスターTDRのドレインのノードNA4の電圧は、図7に示すように減少する。即ち図4の定電流生成回路では、ノードNA4の電圧が仕事関数差電圧VWDに対応する電圧(オフセット電圧)に等しくなるように、フィードバック制御される。そして図6に示すように仕事関数差電圧VWDは負の温度特性を有するため、仕事関数差電圧VWDに対応するノードNA4の電圧は、負の温度特性を有する。即ち、温度が上昇するとノードNA4の電圧は減少する。そして図6に示すように抵抗RA1を構成するポリ抵抗は負の温度特性を有し、温度が上昇すると抵抗値は減少する。従って、温度が上昇しても、抵抗RA1に流れる電流IA1の値は図7に示すようにほとんど変化せず、フラットな温度特性の定電流を生成できる。   As shown in FIG. 7, when the temperature rises, the voltage at the node NA1 rises. When the voltage at the node NA1 rises, the voltage at the node NA4 at the drain of the P-type drive transistor TDR into which the voltage at the NA1 is input to the gate electrode decreases as shown in FIG. That is, in the constant current generation circuit of FIG. 4, feedback control is performed so that the voltage of the node NA4 becomes equal to the voltage (offset voltage) corresponding to the work function difference voltage VWD. Since the work function difference voltage VWD has negative temperature characteristics as shown in FIG. 6, the voltage at the node NA4 corresponding to the work function difference voltage VWD has negative temperature characteristics. That is, when the temperature rises, the voltage at the node NA4 decreases. As shown in FIG. 6, the poly resistor constituting the resistor RA1 has a negative temperature characteristic, and the resistance value decreases as the temperature rises. Therefore, even if the temperature rises, the value of the current IA1 flowing through the resistor RA1 hardly changes as shown in FIG. 7, and a constant current having a flat temperature characteristic can be generated.

2.本実施形態と比較例との比較
図8に定電流生成回路の第1の比較例を示す。この第1の比較例はバンドギャップリファレンス回路をベースとした定電流生成回路である。
2. Comparison between the present embodiment and a comparative example FIG. 8 shows a first comparative example of the constant current generating circuit. This first comparative example is a constant current generating circuit based on a band gap reference circuit.

図8においてバイポーラーBP1、BP2のベース・エミッタ間電圧をVBE1、VBE2とし、これらの電圧差をΔVBE=VBE1−VBE2とする。すると、図8では、VBE1=I1・R2、I0・R1+VBE2=I1・R2が成立する。従って、定電流は、IREF=I1+I0=VBE1/R2+ΔVBE/R1と表される。そしてVBEは負の温度特性を有し、ΔVBEは正の温度特性を有するため、抵抗R1、R2の抵抗値を調整することで、定電流IREFの温度特性を、ある程度、フラットに設定することが可能になる。しかしながら、R1、R2の抵抗値自体も温度特性を有するため、定電流IREFの温度特性を理論通りに調整することは難しい。   In FIG. 8, the base-emitter voltages of the bipolar BP1 and BP2 are VBE1 and VBE2, and the voltage difference between them is ΔVBE = VBE1−VBE2. Then, in FIG. 8, VBE1 = I1 · R2 and I0 · R1 + VBE2 = I1 · R2 are established. Therefore, the constant current is expressed as IREF = I1 + I0 = VBE1 / R2 + ΔVBE / R1. Since VBE has a negative temperature characteristic and ΔVBE has a positive temperature characteristic, the temperature characteristic of the constant current IREF can be set flat to some extent by adjusting the resistance values of the resistors R1 and R2. It becomes possible. However, since the resistance values of R1 and R2 also have temperature characteristics, it is difficult to adjust the temperature characteristics of the constant current IREF as theoretically.

図9は、図4の定電流生成回路で生成される定電流と図8の比較例で生成される定電流の温度依存性(温度特性)を比較した図である。図9から明らかなように、本実施形態の定電流生成回路は、図8の比較例に比べて、よりフラットな温度特性の定電流を生成できる。また図4の本実施形態と図8の比較例を比べれば明らかなように、本実施形態によれば、図8の比較例に比べて小規模な回路で精度の高い定電流生成回路を実現できる。   FIG. 9 is a graph comparing the temperature dependence (temperature characteristics) of the constant current generated by the constant current generation circuit of FIG. 4 and the constant current generated by the comparative example of FIG. As is clear from FIG. 9, the constant current generation circuit of this embodiment can generate a constant current having a flatter temperature characteristic as compared with the comparative example of FIG. As is clear from the comparison between the present embodiment of FIG. 4 and the comparative example of FIG. 8, according to the present embodiment, a constant current generating circuit with higher accuracy is realized with a smaller circuit than the comparative example of FIG. it can.

図10に定電流生成回路の第2の比較例を示す。この第2の比較例は、図4に比べて、電流源ISAの構成が異なる。なお、本発明の定電流生成回路は図10に示すような構成であってもよい。   FIG. 10 shows a second comparative example of the constant current generation circuit. This second comparative example differs from the configuration of FIG. 4 in the configuration of the current source ISA. Note that the constant current generating circuit of the present invention may be configured as shown in FIG.

図10の比較例では、トランジスターTG1、TG2により構成される基準電圧生成回路REFGにより基準電圧VRが生成される。そしてこの基準電圧VRがトランジスターTG3のゲート電極に入力されることで、電流源ISAでのテール電流が生成される。   In the comparative example of FIG. 10, the reference voltage VR is generated by the reference voltage generation circuit REFG configured by the transistors TG1 and TG2. The reference voltage VR is input to the gate electrode of the transistor TG3, thereby generating a tail current in the current source ISA.

図10の比較例では、基準電圧生成回路REFGでの電流IRGの電流パスの分だけ、図4に比べて電流パスの本数が多くなる。従って、消費電流が大きくなってしまう。これに対して図4の定電流生成回路では、図10に比べて電流パスの本数を少なくできるため、低消費電力化を図れる。   In the comparative example of FIG. 10, the number of current paths is increased compared to FIG. 4 by the amount of the current path of the current IRG in the reference voltage generation circuit REFG. Therefore, current consumption increases. On the other hand, the constant current generation circuit of FIG. 4 can reduce the number of current paths as compared with FIG.

図11(A)、図11(B)は、図4の定電流生成回路で生成される定電流と図10の比較例で生成される定電流の温度依存性や電源電圧依存性を比較した図である。図12(A)、図12(B)は、図4の定電流生成回路で生成されるテール電流と図10の比較例で生成されるテール電流の温度依存性や電源電圧依存性を比較した図である。   11A and 11B compare the temperature dependence and power supply voltage dependence of the constant current generated by the constant current generation circuit of FIG. 4 and the constant current generated by the comparative example of FIG. FIG. 12A and 12B compare the temperature dependence and power supply voltage dependence of the tail current generated by the constant current generation circuit of FIG. 4 and the tail current generated by the comparative example of FIG. FIG.

なお図11(A)〜図12(B)では、図4の電流源ISAの抵抗RA2が、正の温度特性を有するNウェル抵抗である場合と、フラットな温度特性を有するポリ抵抗である場合を、比較して示している。   11A to 12B, the resistor RA2 of the current source ISA in FIG. 4 is an N-well resistor having a positive temperature characteristic and a poly resistor having a flat temperature characteristic. Are shown in comparison.

図12(A)に示すように、デプレッション型のトランジスターTA3及びNウェルの抵抗RA2で電流源ISAを構成した図4の定電流生成回路では、テール電流ITLの温度特性をほぼフラットにすることができる。従って、温度変動によるテール電流ITLの変動を抑制できる。   As shown in FIG. 12A, in the constant current generating circuit of FIG. 4 in which the current source ISA is configured by the depletion type transistor TA3 and the N-well resistor RA2, the temperature characteristic of the tail current ITL can be made almost flat. it can. Therefore, fluctuations in the tail current ITL due to temperature fluctuations can be suppressed.

これに対して、図10の比較例のように電流源を構成すると、テール電流ITLの温度特性はフラットにならず、温度変動によってテール電流ITLも変動してしまう。抵抗RA2を、ポリ抵抗で構成した場合も同様である。   On the other hand, when a current source is configured as in the comparative example of FIG. 10, the temperature characteristics of the tail current ITL are not flat, and the tail current ITL also varies due to temperature variations. The same applies when the resistor RA2 is formed of a poly resistor.

また図12(B)に示すように、デプレッション型のトランジスターTA3及び抵抗RA2で電流源ISAを構成した図4の定電流生成回路では、電源電圧が変化した場合にもテール電流ITLをほぼ一定に保てる。従って、電源電圧変動によるテール電流ITLの変動を抑制できる。これは抵抗RA2を、ポリ抵抗で構成した場合も同様である。   As shown in FIG. 12B, in the constant current generating circuit of FIG. 4 in which the current source ISA is configured by the depletion type transistor TA3 and the resistor RA2, the tail current ITL is made substantially constant even when the power supply voltage changes. I can keep it. Therefore, the fluctuation of the tail current ITL due to the fluctuation of the power supply voltage can be suppressed. The same applies to the case where the resistor RA2 is formed of a poly resistor.

これに対して、図10の比較例のように電流源を構成すると、電源電圧が変化した場合に、テール電流ITLも変化してしまう。従って、電源電圧変動によるテール電流ITLの変動を抑制できず、この点において図4の構成の方が有利となる。   On the other hand, when a current source is configured as in the comparative example of FIG. 10, when the power supply voltage changes, the tail current ITL also changes. Therefore, fluctuations in the tail current ITL due to fluctuations in the power supply voltage cannot be suppressed, and the configuration in FIG. 4 is more advantageous in this respect.

図13(A)は、図4の定電流生成回路で生成されるテール電流と図10の比較例で生成されるテール電流のバラツキを比較したヒストグラムである。図13(A)ではモンテカルロ法を用いてヒストグラムを作成している。また図13(B)にテール電流の平均値、最大値、最小値、分散を示す。   FIG. 13A is a histogram comparing the tail current generated by the constant current generating circuit of FIG. 4 with the tail current generated by the comparative example of FIG. In FIG. 13A, a histogram is created using the Monte Carlo method. FIG. 13B shows the average value, maximum value, minimum value, and variance of the tail current.

図13(A)に示すように、図4の定電流生成回路によれば、抵抗によるフィードバックのため、トランジスターのしきい値電圧のバラツキやゲート長寸法のバラツキなどの製造プロセス変動に起因するテール電流のバラツキを抑制できる。従って、精度の高いテール電流の生成が可能になる。   As shown in FIG. 13A, according to the constant current generation circuit of FIG. 4, the tail due to variations in the manufacturing process such as variations in the threshold voltage of the transistors and variations in the gate length due to feedback due to resistance. Variations in current can be suppressed. Therefore, it is possible to generate a tail current with high accuracy.

3.レイアウト配置
図14(A)、図14(B)に抵抗のレイアウト配置例を示す。図14(A)は平面図であり、図14(B)は断面図である。
3. Layout Arrangement FIGS. 14A and 14B show examples of resistor layout arrangement. FIG. 14A is a plan view, and FIG. 14B is a cross-sectional view.

図4では、出力部QBの抵抗RA1については、負の温度特性を有するポリ抵抗で形成する一方で、差動部DFの電流源ISAの抵抗RA2については、正の温度特性を有するNウェル抵抗で形成する。このようにすることで、定電流IREFや電流源ISAのテール電流ITLの温度特性をフラットにすることが可能になる。   In FIG. 4, the resistor RA1 of the output unit QB is formed of a poly resistor having a negative temperature characteristic, while the resistor RA2 of the current source ISA of the differential unit DF is an N well resistor having a positive temperature characteristic. Form with. By doing so, it becomes possible to flatten the temperature characteristics of the constant current IREF and the tail current ITL of the current source ISA.

一方、定電流生成回路の消費電力を低減するためには、差動部DFや出力部QBに流れる電流ITL、IA1、IREFの電流値を小さくする必要があり、これらの電流値を小さくするためには、抵抗RA1、RA2の抵抗値を大きくする必要がある。   On the other hand, in order to reduce the power consumption of the constant current generating circuit, it is necessary to reduce the current values of the currents ITL, IA1, and IREF flowing through the differential unit DF and the output unit QB, and to reduce these current values. Therefore, it is necessary to increase the resistance values of the resistors RA1 and RA2.

しかしながら、抵抗RA1、RA2の抵抗値を大きくしようとすると、抵抗RA1、RA2のレイアウト面積が大きくなってしまい、集積回路装置の大規模化を招く。   However, if the resistance values of the resistors RA1 and RA2 are to be increased, the layout areas of the resistors RA1 and RA2 are increased, leading to an increase in the scale of the integrated circuit device.

そこで本実施形態では図14(A)、図14(B)に示すレイアウト手法を採用している。   Therefore, in the present embodiment, the layout method shown in FIGS. 14A and 14B is adopted.

即ち図14(A)において、図4の抵抗RA1は、ポリシリコン層により形成されるポリ抵抗になっており、抵抗RA2は、Nウェルにより形成されるNウェル抵抗になっている。そして図14(A)に示すように、Nウェル抵抗である抵抗RA2の形成領域上に、ポリ抵抗である抵抗RA1をレイアウト配置する。即ち、Nウェル抵抗である抵抗RA2とポリ抵抗である抵抗RA1が、平面視においてオーバーラップするようにレイアウト配置される。   That is, in FIG. 14A, the resistor RA1 in FIG. 4 is a poly resistor formed by a polysilicon layer, and the resistor RA2 is an N well resistor formed by an N well. Then, as shown in FIG. 14A, a resistor RA1 that is a poly resistor is laid out on the formation region of the resistor RA2 that is an N well resistor. In other words, the resistor RA2 that is an N-well resistor and the resistor RA1 that is a poly resistor are laid out so as to overlap in plan view.

具体的には、図14(A)において抵抗RA1は複数のポリ抵抗ユニットにより構成される。即ち、複数のポリ抵抗ユニットが蛇状に配置され、隣り合うポリ抵抗ユニットは、メタル配線及びコンタクトを介して接続される。そして抵抗RA1の一端はタップTPP1になり、他端はタップTPP2になる。図4を例にとれば、タップTPP1にはノードNA4が接続され、タップTPP2にはVSSが接続される。   Specifically, in FIG. 14A, the resistor RA1 is composed of a plurality of poly resistor units. That is, a plurality of poly resistance units are arranged in a snake shape, and adjacent poly resistance units are connected via metal wiring and contacts. One end of the resistor RA1 becomes a tap TPP1, and the other end becomes a tap TPP2. Taking FIG. 4 as an example, node NA4 is connected to tap TPP1, and VSS is connected to tap TPP2.

また抵抗RA2は複数のNウェル抵抗ユニットにより構成される。即ち、複数のNウェル抵抗ユニットが蛇状に配置され、隣り合うNウェル抵抗ユニットは、メタル配線及びコンタクトを介して接続される。そして抵抗RA2の一端はタップTPN1になり、他端はタップTPN2になる。図4を例にとれば、タップTPN1にはトランジスターTA3のソースが接続され、タップTPN2にはVSSが接続される。なおポリ抵抗やNウェル抵抗のレイアウト配置は図14(A)に限定されず、種々の変形実施が可能である。   The resistor RA2 is composed of a plurality of N-well resistor units. That is, a plurality of N-well resistance units are arranged in a snake shape, and adjacent N-well resistance units are connected via metal wiring and contacts. One end of the resistor RA2 becomes a tap TPN1, and the other end becomes a tap TPN2. Taking FIG. 4 as an example, the source of the transistor TA3 is connected to the tap TPN1, and VSS is connected to the tap TPN2. Note that the layout of the poly resistors and the N well resistors is not limited to that shown in FIG. 14A, and various modifications can be made.

また図14(A)では、各ポリ抵抗ユニットはその長手方向が紙面に対して横方向(第1の方向)になるように配置され、Nウェル抵抗ユニットはその長手方向が紙面に対して縦方向(第1の方向に直交する第2の方向)になるように配置されている。このようにすれば、タップTPP1及びTPP2の取り出し場所と、タップTPN1及びTPN2の取り出し場所を、別の場所にできるため、信号配線のレイアウトを簡素化・効率化できる。   In FIG. 14A, the poly resistance units are arranged so that the longitudinal direction thereof is in the lateral direction (first direction) with respect to the paper surface, and the N well resistance units are arranged with the longitudinal direction perpendicular to the paper surface. It arrange | positions so that it may become a direction (2nd direction orthogonal to a 1st direction). In this way, the tap TPP1 and TPP2 take-out location and the taps TPN1 and TPN2 take-out location can be made different, so that the signal wiring layout can be simplified and made more efficient.

図14(A)、図14(B)の手法によれば、集積回路装置の1つの領域を用いて、抵抗RA1とRA2の両方をレイアウト配置できる。従って、レイアウト効率を向上でき、集積回路装置の小面積化を図れる。   14A and 14B, both the resistors RA1 and RA2 can be laid out using one region of the integrated circuit device. Therefore, the layout efficiency can be improved and the area of the integrated circuit device can be reduced.

また図14(A)、図14(B)では、1つの領域に2つの抵抗RA1、RA2を配置できるため、各抵抗の抵抗値を高くするために各抵抗のレイアウト面積が大きくなっても、全体のレイアウト面積の増加については最小限に抑えることができる。従って、各抵抗の抵抗値を大きくして回路の低消費電力化を図ることも容易になる。   14A and 14B, since two resistors RA1 and RA2 can be arranged in one region, even if the layout area of each resistor is increased in order to increase the resistance value of each resistor, The increase in the overall layout area can be minimized. Therefore, it is easy to reduce the power consumption of the circuit by increasing the resistance value of each resistor.

特に本実施形態では、抵抗RA2をNウェル抵抗で形成すれば、その上に別の回路素子をレイアウト配置できる点に着目している。そして図4の回路では、負の温度特性の抵抗RA1と正の温度特性の抵抗RA2の両方が必要になっている。そこで、正の温度特性の抵抗RA2についてはNウェル抵抗で実現し、負の温度特性の抵抗RA1についてはポリ抵抗で実現し、Nウェル抵抗の上にポリ抵抗を形成することで、レイアウト面積のコンパクト化を図る。   In particular, in the present embodiment, attention is paid to the point that if the resistor RA2 is formed of an N-well resistor, another circuit element can be laid out thereon. In the circuit of FIG. 4, both a negative temperature characteristic resistor RA1 and a positive temperature characteristic resistor RA2 are required. Therefore, the positive temperature characteristic resistor RA2 is realized by an N well resistor, the negative temperature characteristic resistor RA1 is realized by a poly resistor, and a poly resistor is formed on the N well resistor, thereby reducing the layout area. Achieving compactness.

この場合に、Nウェル抵抗とポリ抵抗を同じ場所にレイアウト配置することで、一方の抵抗からの電圧により他方の抵抗の抵抗値が変動してしまうおそれもある。しかしながら、Nウェル抵抗については、その精度は重視されておらず、その抵抗値が高ければ十分であるため、ポリ抵抗からの電圧による抵抗値変動はそれほど問題にならない。一方、ポリ抵抗については、その抵抗値を高くして行くと、その上下の素子からの電圧による抵抗値の変動の影響を、より受けやすくなる。しかしながら、図4のNウェル抵抗RA2に印加される電圧は0Vに近いため、ポリ抵抗への悪影響はそれほど問題にならないという利点がある。   In this case, if the N-well resistor and the poly resistor are laid out in the same place, the resistance value of the other resistor may be changed by the voltage from one resistor. However, the accuracy of the N-well resistor is not emphasized, and it is sufficient that the resistance value is high. Therefore, the resistance value fluctuation due to the voltage from the poly resistor is not a problem. On the other hand, when the resistance value of the poly resistor is increased, the resistance of the resistance value due to the voltage from the upper and lower elements becomes more susceptible. However, since the voltage applied to the N-well resistor RA2 in FIG. 4 is close to 0V, there is an advantage that the adverse effect on the poly resistor is not so problematic.

4.抵抗の構成
負の温度特性の仕事関数差電圧VWDを負の温度特性の抵抗RA1に印加することでフラットな温度特性の定電流を生成する場合に、仕事関数差電圧VWDの負の温度特性と、抵抗RA1の負の温度特性を、なるべく近づけることが望ましい。また、場合によっては、温度上昇にしたがって電流値が増える正の温度特性の定電流が必要な場合もある。
4). Configuration of Resistance When a constant current having a flat temperature characteristic is generated by applying a work function difference voltage VWD having a negative temperature characteristic to a resistor RA1 having a negative temperature characteristic, the negative temperature characteristic of the work function difference voltage VWD It is desirable to make the negative temperature characteristic of the resistor RA1 as close as possible. In some cases, a constant current having a positive temperature characteristic in which the current value increases as the temperature rises may be required.

そこで抵抗RA1を、温度特性が異なる複数の抵抗素子を含むように構成してもよい。例えば図15(A)では、抵抗RA1は、抵抗素子RMRPとRNPを直列に接続することで構成されている。そして図6に示すように抵抗素子RMRPとRNPは、その温度特性が互いに異なっている。   Therefore, the resistor RA1 may be configured to include a plurality of resistance elements having different temperature characteristics. For example, in FIG. 15A, the resistor RA1 is configured by connecting resistance elements RMRP and RNP in series. As shown in FIG. 6, the temperature characteristics of the resistance elements RMRP and RNP are different from each other.

このような温度特性が異なる抵抗素子RMRPとRNPにより抵抗RA1を構成すれば、各抵抗素子RMRP、RNPの単体では得られない温度特性を得ることが可能になる。これにより、生成される定電流の温度特性を、よりフラットにしたり、或いは、正の温度特性や負の温度特性を有する定電流の生成が可能になる。   If the resistor RA1 is composed of the resistor elements RMRP and RNP having different temperature characteristics, it becomes possible to obtain temperature characteristics that cannot be obtained by each of the resistor elements RMRP and RNP. As a result, the temperature characteristics of the generated constant current can be made flatter, or a constant current having a positive temperature characteristic or a negative temperature characteristic can be generated.

なお図15(A)では、抵抗素子RMRPとRNPを1対1のブレンド率でブレンドしているが、例えば図15(B)のように抵抗素子RMRPとRNPを2対1のブレンド率でブレンドしてもよい。即ち、抵抗素子の抵抗値のブレンド率は任意である。また図15(A)、図15(B)では2種類の抵抗素子で抵抗RA1を構成する例について示しているが、図15(C)に示すように、3種類以上の抵抗素子で抵抗RA1を構成してもよい。   In FIG. 15A, the resistance elements RMRP and RNP are blended at a blend ratio of 1: 1, but for example, as shown in FIG. 15B, the resistance elements RMRP and RNP are blended at a blend ratio of 2: 1. May be. That is, the blend ratio of the resistance value of the resistance element is arbitrary. 15A and 15B show an example in which the resistor RA1 is configured by two types of resistance elements. As shown in FIG. 15C, the resistor RA1 is configured by three or more types of resistance elements. May be configured.

また図16(A)に示すように、抵抗RA1が、直列接続された複数の抵抗ユニットRU1〜RU4を含むように構成してもよい。図16(A)では、RU1〜RU4の各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子RMRP及びスイッチ素子SWを有している。そして各抵抗ユニットのスイッチ素子SWがオン・オフされることで抵抗RA1の抵抗値が可変に設定される。これにより、生成される定電流の値を可変に設定したり、製造プロセス変動等による定電流値のバラツキを調整することなどが可能になる。なお抵抗ユニットの個数は4個には限定されず任意である。   As shown in FIG. 16A, the resistor RA1 may include a plurality of resistor units RU1 to RU4 connected in series. In FIG. 16A, each resistance unit of RU1 to RU4 includes a resistance element RMRP and a switch element SW connected in parallel. The resistance value of the resistor RA1 is variably set by turning on / off the switch element SW of each resistor unit. As a result, it is possible to variably set the value of the constant current to be generated, or to adjust variations in the constant current value due to manufacturing process fluctuations. The number of resistance units is not limited to four and is arbitrary.

例えば定電流値を可変に設定する場合には、図示しない制御回路からの信号によりRU1〜RU4の各抵抗ユニットのスイッチ素子SWをオン又はオフに設定すればよい。或いは、ヒューズ回路や不揮発性メモリなどの初期値設定回路からの信号に基づいて、各抵抗ユニットのスイッチ素子SWをオン又はオフに設定するようにしてもよい。このようにすれば、製造プロセス変動に起因する定電流値のバラツキを調整することが可能になる。   For example, when the constant current value is variably set, the switch element SW of each resistance unit of RU1 to RU4 may be set to on or off by a signal from a control circuit (not shown). Alternatively, based on a signal from an initial value setting circuit such as a fuse circuit or a nonvolatile memory, the switch element SW of each resistance unit may be set to ON or OFF. In this way, it is possible to adjust the variation in the constant current value caused by the manufacturing process variation.

また図16(B)に示すように、RU1〜RU4の各抵抗ユニットに、第1の抵抗素子RMRPと、第1の抵抗素子RMRPとは温度特性が異なる第2の抵抗素子RNPを設けるようにしてもよい。そしてこの場合には、第1の抵抗素子RMRPの抵抗値と第2の抵抗素子RNPの抵抗値の抵抗比を、複数の抵抗ユニットRU1〜RU4の間で同一比に設定することが望ましい。例えば図16(B)では、RMRPとRNPの抵抗値の抵抗比が2対1になるように設定している。   Further, as shown in FIG. 16B, the first resistance element RMRP and the second resistance element RNP having a temperature characteristic different from that of the first resistance element RMRP are provided in each resistance unit of RU1 to RU4. May be. In this case, it is desirable to set the resistance ratio between the resistance value of the first resistance element RMRP and the resistance value of the second resistance element RNP to the same ratio among the plurality of resistance units RU1 to RU4. For example, in FIG. 16B, the resistance ratio of the resistance values of RMRP and RNP is set to be 2: 1.

このようにすれば、各抵抗ユニットのスイッチ素子SWをオン又はオフにすることで、抵抗RA1の全体の抵抗値が変化した場合にも、抵抗RA1の全体としての温度特性については変化せずに固定されるようになる。従って、RA1の抵抗値の可変設定やバラツキ調整とRA1の抵抗値の安定した温度特性を両立して実現することが可能になり、定電流値の可変設定やバラツキ調整と定電流値の温度依存性の減少を両立できる。   In this way, even when the entire resistance value of the resistor RA1 is changed by turning on or off the switch element SW of each resistor unit, the temperature characteristic of the resistor RA1 as a whole remains unchanged. It becomes fixed. Accordingly, it is possible to realize both variable setting and variation adjustment of the resistance value of RA1 and stable temperature characteristics of the resistance value of RA1, and variable setting of variation of the constant current value and variation adjustment and temperature dependence of the constant current value. The reduction of sex can be achieved at the same time.

例えば図16(B)において、RU1〜RU4の全ての抵抗ユニットのスイッチ素子SWがオフに設定される状態を第1の設定状態とし、RU4のスイッチ素子SWのみがオンに設定される状態を第2の設定状態とする。そして各抵抗ユニットの抵抗値をRとすると、第1の設定状態の抵抗値は4Rとなり、第2の設定状態の抵抗値は3Rになり、RA1の抵抗値が可変に設定される。そしてこの場合にも、第1の設定状態での抵抗素子RMRPとRNPの全体的なブレンド率は2対1であり、第2の設定状態での抵抗素子RMRPとRNPの全体的なブレンド率も2対1になる。従って、第1の設定状態での抵抗値の温度特性と第2の設定状態での抵抗値の温度特性を同じにすることができ、抵抗RA1の抵抗値の可変設定やバラツキ調整とRA1の抵抗値の安定した温度特性を両立して実現できる。   For example, in FIG. 16B, the state where the switch elements SW of all the resistance units RU1 to RU4 are set to OFF is the first setting state, and the state where only the switch element SW of RU4 is set to ON is the first setting state. 2 is set. When the resistance value of each resistance unit is R, the resistance value in the first setting state is 4R, the resistance value in the second setting state is 3R, and the resistance value of RA1 is variably set. Also in this case, the overall blend ratio of the resistance elements RMRP and RNP in the first setting state is 2 to 1, and the overall blend ratio of the resistance elements RMRP and RNP in the second setting state is also Two to one. Therefore, the temperature characteristic of the resistance value in the first setting state and the temperature characteristic of the resistance value in the second setting state can be made the same, and the variable setting of the resistance value of the resistor RA1 and the variation adjustment and the resistance of the RA1 can be adjusted. It is possible to achieve both temperature characteristics with stable values.

なお図16(B)のような抵抗比を固定した抵抗素子の構成手法は、本実施形態で説明したような定電流生成回路の抵抗には限定されず、様々な回路の抵抗に対して適用できる。また抵抗比は図16(B)のような2対1には限定されず、各抵抗ユニットでの抵抗素子の個数も3個以上であってもよい。   Note that the configuration method of the resistance element having a fixed resistance ratio as shown in FIG. 16B is not limited to the resistance of the constant current generation circuit as described in this embodiment, and is applied to the resistance of various circuits. it can. The resistance ratio is not limited to 2 to 1 as shown in FIG. 16B, and the number of resistance elements in each resistance unit may be three or more.

5.定電圧の生成
図17に本実施形態の変形例の構成例を示す。図17が図4と異なるのは、図17では出力部QBが第3の抵抗RA3を更に含み、抵抗RA1に流れる電流IA1に対応する電流IA2を抵抗RA3に流すことで、定電圧VREGを更に生成する点である。
5. Generation of Constant Voltage FIG. 17 shows a configuration example of a modification of the present embodiment. FIG. 17 differs from FIG. 4 in that the output unit QB further includes a third resistor RA3 in FIG. 17, and the constant voltage VREG is further increased by flowing a current IA2 corresponding to the current IA1 flowing in the resistor RA1 to the resistor RA3. It is a point to generate.

具体的には出力部QBは、VDDとVSSの間に直列に設けられたトランジスターTA8と抵抗RA3を含む。そしてP型のトランジスターTA8のゲート電極は、差動部DFの出力ノードNA1により制御される。   Specifically, the output unit QB includes a transistor TA8 and a resistor RA3 provided in series between VDD and VSS. The gate electrode of the P-type transistor TA8 is controlled by the output node NA1 of the differential section DF.

この構成によれば、トランジスターTDRとTA8のW/L比で設定される定電流IA2が抵抗RA3に流れるようになる。これにより、IA2の電流値をI2とし、RA3の抵抗値をR3とした場合に、出力ノードNA6にはVREG=I2×R3の定電圧が出力されるようになる。従って、集積回路装置の各アナログ回路に対して、定電流IREFのみならず定電圧VREGについても供給することが可能になる。特に抵抗RA3を可変抵抗にすることで、様々な電圧値の定電圧VREGを、集積回路装置の各アナログ回路に供給できる。   According to this configuration, the constant current IA2 set by the W / L ratio of the transistors TDR and TA8 flows through the resistor RA3. As a result, when the current value of IA2 is I2 and the resistance value of RA3 is R3, a constant voltage of VREG = I2 × R3 is output to the output node NA6. Therefore, not only the constant current IREF but also the constant voltage VREG can be supplied to each analog circuit of the integrated circuit device. In particular, by making the resistor RA3 a variable resistor, the constant voltage VREG having various voltage values can be supplied to each analog circuit of the integrated circuit device.

また図17の抵抗RA3についても、抵抗RA2と同様に、図15(A)〜図15(C)で説明したように温度特性が異なる複数の抵抗素子を含むように構成してもよい。例えば抵抗RA3を、温度特性が異なる抵抗素子RMRPとRNPを直列接続することで構成したり、RMRPとRPPとRNPを直列接続することで構成してもよい。   Also, the resistor RA3 of FIG. 17 may be configured to include a plurality of resistor elements having different temperature characteristics as described in FIGS. 15A to 15C, similarly to the resistor RA2. For example, the resistor RA3 may be configured by connecting resistance elements RMRP and RNP having different temperature characteristics in series, or by connecting RMRP, RPP, and RNP in series.

或いは、図16(A)に示すように、抵抗RA3が、直列接続された複数の抵抗ユニットRU1〜RU4を含むように構成してもよい。この場合には、各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子RMRP及びスイッチ素子SWを有する。そしてRU1〜RU4の各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで抵抗RA3の抵抗値が可変に設定され、生成される定電圧が可変に設定される。このようにすることで、様々な電圧値の定電圧VREGを集積回路装置の各アナログ回路に対して供給できる。なお、複数の定電圧を供給する場合には、トランジスターTA8及び抵抗RA3からなる回路を、複数個、設ければよい。   Alternatively, as shown in FIG. 16A, the resistor RA3 may include a plurality of resistor units RU1 to RU4 connected in series. In this case, each resistance unit has a resistance element RMRP and a switch element SW connected in parallel. The resistance value of the resistor RA3 is variably set by turning on / off the switch elements of the respective resistance units RU1 to RU4, and the generated constant voltage is variably set. In this way, the constant voltage VREG having various voltage values can be supplied to each analog circuit of the integrated circuit device. Note that when a plurality of constant voltages are supplied, a plurality of circuits including the transistor TA8 and the resistor RA3 may be provided.

また図16(B)に示すように、抵抗RA3を構成する各抵抗ユニットに、第1の抵抗素子RMRPと、RMRPとは温度特性が異なる第2の抵抗素子RNPを含ませてもよい。そして、抵抗素子RMRPの抵抗値と抵抗素子RNPの抵抗値の抵抗比が、複数の抵抗ユニットRU1〜RU4の間で同一比に設定されるようにする。このようにすれば、抵抗RA3の抵抗値の可変設定やバラツキ調整とRA3の抵抗値の安定した温度特性を両立して実現することが可能になる。   Further, as shown in FIG. 16B, each resistance unit constituting the resistor RA3 may include a first resistance element RMRP and a second resistance element RNP having a temperature characteristic different from that of the RMRP. The resistance ratio between the resistance value of the resistance element RMRP and the resistance value of the resistance element RNP is set to the same ratio among the plurality of resistance units RU1 to RU4. In this way, it is possible to achieve both variable setting and variation adjustment of the resistance value of the resistor RA3 and stable temperature characteristics of the resistance value of the RA3.

6.集積回路装置
次に本実施形態の定電流生成回路が適用される集積回路装置の例について説明する。図18は、集積回路装置がRFの無線通信用ICである場合の構成例である。この集積回路装置は、受信回路30、復調回路36、送信回路40、変調回路46、クロック生成回路48、制御回路50、定電流生成回路60を含む。
6). Integrated Circuit Device Next, an example of an integrated circuit device to which the constant current generating circuit of this embodiment is applied will be described. FIG. 18 shows a configuration example when the integrated circuit device is an RF wireless communication IC. The integrated circuit device includes a reception circuit 30, a demodulation circuit 36, a transmission circuit 40, a modulation circuit 46, a clock generation circuit 48, a control circuit 50, and a constant current generation circuit 60.

受信回路30は、低ノイズアンプLNA、ミキサー32、フィルター部34を含む。低ノイズアンプLNAは、アンテナANTから入力されるRFの受信信号を低ノイズで増幅する処理を行う。ミキサー32は、増幅後の受信信号と、クロック生成回路48からのローカル信号(局所周波数信号)のミキシング(混合)処理を行って、ダウンコンバージョンを実行する。フィルター部34は、ダウンコンバージョン後の受信信号のフィルター処理を行う。具体的には、フィルター部34は、複素フィルターなどで実現されるバンドパスのフィルター処理を行い、イメージ除去を行いながらベースバンド信号を抽出する。   The receiving circuit 30 includes a low noise amplifier LNA, a mixer 32, and a filter unit 34. The low noise amplifier LNA performs processing for amplifying an RF reception signal input from the antenna ANT with low noise. The mixer 32 performs a down conversion by performing a mixing process of the amplified received signal and the local signal (local frequency signal) from the clock generation circuit 48. The filter unit 34 performs a filtering process on the received signal after the down conversion. Specifically, the filter unit 34 performs bandpass filter processing realized by a complex filter or the like, and extracts a baseband signal while performing image removal.

復調回路36は、受信回路30からの信号に基づいて復調処理を行う。例えば送信側においてFSK(周波数シフトキーイング)で変調された信号の復調処理を行い、復調後の受信信号を制御回路50に出力する。   The demodulation circuit 36 performs demodulation processing based on the signal from the reception circuit 30. For example, demodulation processing of a signal modulated by FSK (frequency shift keying) is performed on the transmission side, and the demodulated reception signal is output to the control circuit 50.

変調回路46は、制御回路50からの送信信号の変調処理を行う。例えば送信信号をFSKで変調し、変調後の送信信号を送信回路40に出力する。そして送信回路40は、パワーアンプPAにより増幅した送信信号をアンテナANTに対して出力する。   The modulation circuit 46 performs modulation processing on the transmission signal from the control circuit 50. For example, the transmission signal is modulated by FSK, and the modulated transmission signal is output to the transmission circuit 40. Then, the transmission circuit 40 outputs the transmission signal amplified by the power amplifier PA to the antenna ANT.

クロック生成回路48は、VCO(電圧制御発振器)などにより構成されるPLL回路を有し、各種のクロック信号やミキサー32へのローカル信号等を生成する。   The clock generation circuit 48 includes a PLL circuit configured by a VCO (voltage controlled oscillator) or the like, and generates various clock signals, local signals to the mixer 32, and the like.

制御回路50(ロジック回路)は、集積回路装置の全体の制御や、ベースバンドでのデジタル処理などを実行する。また制御回路50は、例えばリンク層回路52やホストI/F(インターフェース)54を有し、リンク層のプロトコル処理や、外部のホストとのインターフェース処理などを実行する。   The control circuit 50 (logic circuit) performs overall control of the integrated circuit device, digital processing in the baseband, and the like. The control circuit 50 includes, for example, a link layer circuit 52 and a host I / F (interface) 54, and executes link layer protocol processing, interface processing with an external host, and the like.

定電流生成回路60は、図1〜図4等で説明した本実施形態の定電流生成回路であり、受信回路30、送信回路40、クロック生成回路48などの集積回路装置内の各アナログ回路に対して定電流を供給する。そして各アナログ回路は、供給された定電流を用いて、信号増幅処理、信号検出処理、或いは信号フィルタリング処理などの各種のアナログ処理を行う。   The constant current generation circuit 60 is the constant current generation circuit according to the present embodiment described with reference to FIGS. 1 to 4 and the like. In contrast, a constant current is supplied. Each analog circuit performs various types of analog processing such as signal amplification processing, signal detection processing, or signal filtering processing, using the supplied constant current.

このようにすれば、各アナログ回路は、本実施形態の定電流生成回路60で生成された安定した温度特性の定電流を用いて、アナログ処理を行うことができるため、アナログ処理の特性の向上を図れる。また定電流生成回路60として例えば図4の構成を採用すれば、電流パスの本数を減らすことができるため、例えば待機時等における電力の消費を最小限に抑えることが可能になる。   In this way, each analog circuit can perform analog processing using the constant current having a stable temperature characteristic generated by the constant current generation circuit 60 of the present embodiment, so that the characteristics of the analog processing are improved. Can be planned. If the configuration of FIG. 4 is employed as the constant current generation circuit 60, for example, the number of current paths can be reduced, so that power consumption during standby can be minimized.

なお本実施形態の定電流生成回路が適用される集積回路装置は、図18のような無線通信用ICには限定されず、様々なタイプの集積回路装置に適用できる。例えばセンサーからのセンサー信号から所望信号を検出する検出装置にも適用できる。このような検出装置としては、振動子を用いて角速度情報や加速度情報などの物理量を検出する装置などがある。   Note that the integrated circuit device to which the constant current generation circuit of this embodiment is applied is not limited to the wireless communication IC as shown in FIG. 18, and can be applied to various types of integrated circuit devices. For example, the present invention can be applied to a detection device that detects a desired signal from a sensor signal from a sensor. Examples of such a detection device include a device that detects a physical quantity such as angular velocity information and acceleration information using a vibrator.

7.電子機器
図19に本実施形態の集積回路装置310を含む電子機器の構成例を示す。この電子機器は、アンテナANT、集積回路装置310、ホスト320、検出装置330、センサー340、電源部350を含む。なお本実施形態の電子機器は図19の構成に限定されず、その構成要素の一部(例えば検出装置、センサー、電源部等)を省略したり、他の構成要素(例えば操作部、出力部)を追加するなどの種々の変形実施が可能である。
7). Electronic Device FIG. 19 shows a configuration example of an electronic device including the integrated circuit device 310 of this embodiment. The electronic device includes an antenna ANT, an integrated circuit device 310, a host 320, a detection device 330, a sensor 340, and a power supply unit 350. Note that the electronic apparatus according to the present embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. Various modifications such as addition of) are possible.

集積回路装置310は、図18のような回路構成で実現される無線回路装置であり、アンテナANTからの信号の受信処理や、アンテナANTへの信号の送信処理を行う。ホスト320は、電子機器の全体の制御を行ったり、集積回路装置310や検出装置330の制御を行う。検出装置330は、センサー340(物理量トランスデューサ)からのセンサー信号に基づいて種々の検出処理(物理量の検出処理)を行う。例えばセンサー信号から所望信号を検出する処理を行って、A/D変換後のデジタルデータをホスト320に出力する。センサー340は、例えば煙センサー、光センサー、人感センサー、圧力センサー、生体センサー、ジャイロセンサーなどである。電源部350は、集積回路装置310、ホスト320、検出装置330等に電源を供給するものであり、例えば乾電池(丸形乾電池等)やバッテリーなどにより電源を供給する。   The integrated circuit device 310 is a wireless circuit device realized with a circuit configuration as shown in FIG. 18, and performs a signal reception process from the antenna ANT and a signal transmission process to the antenna ANT. The host 320 controls the entire electronic device, and controls the integrated circuit device 310 and the detection device 330. The detection device 330 performs various detection processes (physical quantity detection processes) based on sensor signals from the sensor 340 (physical quantity transducer). For example, processing for detecting a desired signal from the sensor signal is performed, and the digital data after A / D conversion is output to the host 320. The sensor 340 is, for example, a smoke sensor, an optical sensor, a human sensor, a pressure sensor, a biological sensor, a gyro sensor, or the like. The power supply unit 350 supplies power to the integrated circuit device 310, the host 320, the detection device 330, and the like.

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語(第1の差動入力端子、第2の差動入力端子、第1の電源ノード、第2の電源ノード等)と共に記載された用語(非反転入力端子、反転入力端子、VSSノード、VDDノード等)は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また定電流生成回路、集積回路装置、電子機器の構成、動作も本実施形態で説明したものに限定に限定されず、種々の変形実施が可能である。   Although the present embodiment has been described in detail as described above, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Accordingly, all such modifications are intended to be included in the scope of the present invention. For example, in the specification or the drawings, it is described at least once together with different terms having a broader meaning or the same meaning (first differential input terminal, second differential input terminal, first power supply node, second power supply node, etc.). The terminology used (non-inverting input terminal, inverting input terminal, VSS node, VDD node, etc.) can be replaced with the different terminology anywhere in the specification or the drawings. The configurations and operations of the constant current generation circuit, the integrated circuit device, and the electronic device are not limited to those described in this embodiment, and various modifications can be made.

TA1、TA2 第1、第2のトランジスター、TDR 駆動トランジスター、
RA1、RA2、RA3 第1、第2、第3の抵抗、ISA 電流源、
DF 差動部、QB 出力部、RMRP、RNP、RPP 抵抗素子、
RU1〜RU4 抵抗ユニット、
30 受信回路、32 ミキサー、34 フィルター部、
36 復調回路、40 送信回路、46 変調回路、48 クロック生成回路、
50 制御回路、52 リンク層回路、54 ホストI/F、60 定電流生成回路、
310 集積回路装置、320 ホスト、330 検出装置、
340 センサー、350 電源部
TA1, TA2 first and second transistors, TDR drive transistors,
RA1, RA2, RA3 First, second, third resistor, ISA current source,
DF differential section, QB output section, RMRP, RNP, RPP resistance element,
RU1-RU4 resistance unit,
30 receiving circuit, 32 mixer, 34 filter section,
36 demodulation circuit, 40 transmission circuit, 46 modulation circuit, 48 clock generation circuit,
50 control circuit, 52 link layer circuit, 54 host I / F, 60 constant current generation circuit,
310 integrated circuit device, 320 host, 330 detection device,
340 sensor, 350 power supply

Claims (11)

第1のトランジスターと、前記第1のトランジスターとはゲート電極の導電性が異なる第2のトランジスターとが、第1の差動トランジスター、第2の差動トランジスターとして設けられ、第1の差動入力端子及び第2の差動入力端子を有する差動部と、
前記第1のトランジスターと前記第2のトランジスターとの仕事関数差電圧に対応する電圧が印加される第1の抵抗と、前記第1の抵抗に直列に設けられる駆動トランジスターとを有する出力部とを含み、
前記出力部は、
前記第1の抵抗の抵抗値が、負の温度特性を有し、
前記第1の抵抗に流れる電流に対応する定電流を生成し、
前記駆動トランジスターと前記第1の抵抗との間の接続ノードの信号が、前記第2の差動入力端子に帰還され、
前記差動部の出力ノードにより前記駆動トランジスターが制御され、
前記差動部は、
前記仕事関数差電圧が、負の温度特性を有し、
前記第1の差動入力端子が、第1の基準電圧に設定され、
前記第1のトランジスター及び前記第2のトランジスターと第1の電源ノードとの間に設けられる電流源と、
前記第1のトランジスター及び前記第2のトランジスターと第2の電源ノードとの間に設けられるカレントミラー回路を含み、
前記電流源は、
ゲート電極が第2の基準電圧に設定されるデプレッション型の第3のトランジスターと、
前記第3のトランジスターと前記第1の電源ノードとの間に設けられる第2の抵抗を含み、
前記第3のトランジスターのしきい値電圧は負の温度特性を有し、
前記第2の抵抗の抵抗値は正の温度特性を有し、
前記第1の抵抗は、ポリシリコン層により形成されるポリ抵抗であり、
前記第2の抵抗は、Nウェルにより形成されるNウェル抵抗であり、
前記Nウェル抵抗である前記第2の抵抗の形成領域上に、前記ポリ抵抗である前記第1の抵抗がレイアウト配置されることを特徴とする定電流生成回路。
A first transistor and a second transistor having a different gate electrode conductivity from the first transistor are provided as a first differential transistor and a second differential transistor, and a first differential input is provided. A differential section having a terminal and a second differential input terminal;
An output unit including a first resistor to which a voltage corresponding to a work function difference voltage between the first transistor and the second transistor is applied; and a driving transistor provided in series with the first resistor. Including
The output unit is
The resistance value of the first resistor has a negative temperature characteristic;
Generating a constant current corresponding to the current flowing through the first resistor ;
A signal at a connection node between the driving transistor and the first resistor is fed back to the second differential input terminal,
The driving transistor is controlled by an output node of the differential unit,
The differential unit is
The work function difference voltage has a negative temperature characteristic;
The first differential input terminal is set to a first reference voltage;
A current source provided between the first transistor and the second transistor and a first power supply node;
A current mirror circuit provided between the first transistor and the second transistor and a second power supply node;
The current source is
A depletion type third transistor whose gate electrode is set to the second reference voltage;
A second resistor provided between the third transistor and the first power supply node;
The threshold voltage of the third transistor has a negative temperature characteristic,
The resistance value of the second resistor has a positive temperature characteristic,
The first resistor is a poly resistor formed by a polysilicon layer;
The second resistor is an N well resistor formed by an N well,
The constant current generating circuit, wherein the first resistor, which is the poly resistor, is laid out on the formation region of the second resistor, which is the N well resistor .
請求項において、
前記第1のトランジスター及び前記第3のトランジスターは、デプレッション型のN型トランジスターであり、
前記第1の基準電圧及び前記第2の基準電圧は、前記第1の電源ノードの電圧であることを特徴とする定電流生成回路。
In claim 1 ,
The first transistor and the third transistor are depletion type N-type transistors,
The constant current generation circuit, wherein the first reference voltage and the second reference voltage are voltages of the first power supply node.
請求項1又は2において、
前記第1の抵抗は、温度特性が異なる複数の抵抗素子を含むことを特徴とする定電流生成回路。
In claim 1 or 2 ,
The constant current generation circuit, wherein the first resistor includes a plurality of resistance elements having different temperature characteristics.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
前記第1の抵抗は、直列接続された複数の抵抗ユニットを含み、
前記複数の抵抗ユニットの各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子及びスイッチ素子を有し、
前記各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで前記第1の抵抗の抵抗値が可変に設定されること特徴とする定電流生成回路。
In any one of Claims 1 thru | or 3 ,
The first resistor includes a plurality of resistance units connected in series,
Each resistance unit of the plurality of resistance units has a resistance element and a switch element connected in parallel,
A constant current generating circuit, wherein a resistance value of the first resistor is variably set by turning on / off a switch element of each resistor unit.
請求項において、
前記各抵抗ユニットは、第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子とは温度特性が異なる第2の抵抗素子を含み、
前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵抗値の抵抗比が、前記複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定されることを特徴とする定電流生成回路。
In claim 4 ,
Each of the resistance units includes a first resistance element and a second resistance element having a temperature characteristic different from that of the first resistance element,
A constant current generation circuit, wherein a resistance ratio of a resistance value of the first resistance element and a resistance value of the second resistance element is set to the same ratio among the plurality of resistance units.
請求項1乃至のいずれかにおいて、
第3の抵抗を含み、
前記第1の抵抗に流れる電流に対応する電流を前記第3の抵抗に流すことで定電圧を更に生成することを特徴とする定電流生成回路。
In any one of Claims 1 thru | or 5 ,
Including a third resistor;
A constant current generating circuit, wherein a constant voltage is further generated by causing a current corresponding to a current flowing through the first resistor to flow through the third resistor.
請求項において、
前記第3の抵抗は、温度特性が異なる複数の抵抗素子を含むことを特徴とする定電流生成回路。
In claim 6 ,
The constant current generation circuit, wherein the third resistor includes a plurality of resistance elements having different temperature characteristics.
請求項6又は7において、
前記第3の抵抗は、直列接続された複数の抵抗ユニットを含み、
前記複数の抵抗ユニットの各抵抗ユニットは、並列接続された抵抗素子及びスイッチ素子を有し、
前記各抵抗ユニットのスイッチ素子がオン・オフされることで前記第3の抵抗の抵抗値が可変に設定され、生成される定電圧が可変に設定されること特徴とする定電流生成回路。
In claim 6 or 7 ,
The third resistor includes a plurality of resistance units connected in series,
Each resistance unit of the plurality of resistance units has a resistance element and a switch element connected in parallel,
A constant current generation circuit, wherein the resistance value of the third resistor is variably set by turning on and off the switch element of each resistance unit, and the generated constant voltage is variably set.
請求項において、
前記各抵抗ユニットは、第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子とは温度特性が異なる第2の抵抗素子を含み、
前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵抗値の抵抗比が、前記複数の抵抗ユニットの間で同一比に設定されることを特徴とする定電流生成回路。
In claim 8 ,
Each of the resistance units includes a first resistance element and a second resistance element having a temperature characteristic different from that of the first resistance element,
A constant current generation circuit, wherein a resistance ratio of a resistance value of the first resistance element and a resistance value of the second resistance element is set to the same ratio among the plurality of resistance units.
請求項1乃至のいずれかに記載の定電流生成回路を含むことを特徴とする集積回路装置。 Integrated circuit device which comprises a constant current generating circuit according to any one of claims 1 to 9. 請求項10に記載の集積回路装置を含むことを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the integrated circuit device according to claim 10 .
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