JP5471006B2 - Light irradiation device - Google Patents
Light irradiation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5471006B2 JP5471006B2 JP2009105089A JP2009105089A JP5471006B2 JP 5471006 B2 JP5471006 B2 JP 5471006B2 JP 2009105089 A JP2009105089 A JP 2009105089A JP 2009105089 A JP2009105089 A JP 2009105089A JP 5471006 B2 JP5471006 B2 JP 5471006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- light
- lamp
- source unit
- lamps
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/7005—Production of exposure light, i.e. light sources by multiple sources, e.g. light-emitting diodes [LED] or light source arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
Description
本発明は、半導体素子やプリント基板、液晶基板などの製造用の露光装置に用いる光照射装置に関し、特に複数灯のランプを備えた光照射装置に関する。 The present invention relates to a light irradiation apparatus used for an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor element, a printed circuit board, a liquid crystal substrate, and the like, and more particularly to a light irradiation apparatus including a plurality of lamps.
半導体素子やプリント基板、液晶表示基板の露光装置に用いられる光源として、主に数kWから数10kWの大型の超高圧水銀ランプが用いられてきた。これらのランプは信頼性も高く以前から用いられている。
近年、液晶表示基板やプリント基板の大面積化が進み、それに伴って露光装置においても光照射領域の拡大が望まれており、露光用光源も大型化が要求されている。
As a light source used in an exposure apparatus for a semiconductor element, a printed circuit board, and a liquid crystal display substrate, a large ultrahigh pressure mercury lamp of several kW to several tens of kW has been mainly used. These lamps have high reliability and have been used for a long time.
In recent years, liquid crystal display substrates and printed circuit boards have been increased in area, and accordingly, the exposure apparatus has been required to expand the light irradiation area, and the exposure light source is also required to be enlarged.
その対策として、例えば特許文献1のように、複数のランプとそのランプから放射される光を反射する反射鏡(集光鏡)で光源を構成する光照射装置が提案されている。
図5に、従来技術として、特許文献1に記載された光照射装置の構成を示す。
光源10として2灯のランプ1a,1b及び2枚の集光鏡2a,2bが使用される。集光鏡2a,2bは楕円集光鏡であり、各々の第2焦点fが一致するように配置される。なお、集光鏡2a,2bは、反射した出射する開口が上向きになるように配置される。
As a countermeasure, for example, as disclosed in Patent Document 1, a light irradiation device is proposed in which a light source is configured by a plurality of lamps and reflecting mirrors (condensing mirrors) that reflect light emitted from the lamps.
FIG. 5 shows a configuration of a light irradiation apparatus described in Patent Document 1 as a conventional technique.
As the
図6は図5に示した光源10の構成を示す図である。同図に示すように、集光鏡2a,2bは、開口部を含む一部が、集光鏡2a,2bの光軸Lに対して斜めに切り取られ、この切り取った切断面Sが互いに平行で集光鏡2a,2bの第2焦点fを共有するように配置されている。このように、複数の光源を並べる装置において、集光鏡の一部を切り欠いて並べるのは、光照射面8におけるコリメーション角(視角)を大きくすることなく、光の利用効率を上げて、光照射面8の照度を高くすることができるからである。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of the
図5に戻り、光源10からの光は、第1平面鏡3で折り返され、集光鏡2a,2bの第2焦点fの位置に置かれたインテグレータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4により光照射面8での照度分布が均一になるように調整された光は、シャッタ5を介し、第2平面鏡6で折り返され、コリメータレンズ7で中心光線が平行になって光照射面8に照射される。
最近では、さらに広い領域を高い照度で照射するため、特許文献2のように、4灯のランプを備えた露光用光源も提案されている。
Returning to FIG. 5, the light from the
Recently, in order to irradiate a wider area with high illuminance, an exposure light source including four lamps has been proposed as in
図7は、4灯のランプを備えた光照射装置においてランプと集光鏡の配置の一例を示す図であり、図8は、図7のように4灯のランプを配置した場合の光源部10の全体の構成を示す図である。
図7に示すように、4灯のランプ1a,1b,1c,1d(以下総称してランプ1と表記することもある)は、それぞれ図中点線で示す四角形の頂点に配置され、各ランプから放射される光を反射する4枚の集光鏡2a,2b,2c,2d(以下総称して集光鏡2と表記することもある)もまたその周りに配置される。
FIG. 7 is a diagram showing an example of the arrangement of the lamp and the condensing mirror in the light irradiation apparatus provided with four lamps, and FIG. 8 is a light source section in the case where four lamps are arranged as shown in FIG. 10 is a diagram illustrating an overall configuration of FIG.
As shown in FIG. 7, four
集光鏡2a,2b,2c,2dは、ガラスの表面に所望の波長の紫外線のみを反射するように多層膜を蒸着したものであり、所望の波長以外の光は透過する。そのため、図8に示すように、集光鏡2の背後に金属製のカバー30を設け、集光鏡2を透過した光が光照射装置の中で迷光となるのを防ぐ。
また、光源部10は、ランプ1と集光鏡2およびそのカバー30を支持するフレーム40、そしてそれら全体を支持するベースプレート50を備える。
The
Further, the
ランプは長時間点灯すると照度が低下するので、定期的に交換する必要がある。また、反射鏡も消耗品ではないが、反射面に汚れやキズが生じた場合は交換する必要がある。
ところが、複数灯のランプを使用する光照射装置は、上記したように、もともとより広い光照射領域を高い照度で照射することを目的に構成したものであるため、使用するランプは電力の大きい大型のランプであり、したがってその集光鏡も大きくなり、開口径は例えば1m程度になる。
そのため、4灯のランプを使用する光照射装置の、例えば図8に示すような光源部の大きさは、1辺が2m以上のものになる。
When the lamp is lit for a long time, the illuminance decreases, so it must be replaced periodically. Further, although the reflecting mirror is not a consumable item, it needs to be replaced when the reflecting surface is soiled or scratched.
However, as described above, the light irradiation device using a plurality of lamps is originally configured to irradiate a wider light irradiation region with high illuminance. Therefore, the condensing mirror is also large, and the aperture diameter is about 1 m, for example.
Therefore, the size of the light source unit as shown in FIG. 8, for example, of the light irradiation device using four lamps is 2 m or more on one side.
このような場合、光源部のランプや集光鏡の交換といった保守作業を、光照射装置の内部にて行なおうとすると、作業者は、装置の外側からはランプに手が届かないので、装置の内部に潜り込み、内部を行き来して作業することになる。
しかし、装置内部を行き来することは作業性が悪く、また交換する部品以外の部品を傷つけないように気をつけなくてはならず、作業自体も難しくなる。
そこで、保守作業を少しでも容易にするためには、光源部を光照射装置の内部から外に取り出して行うことが考えられるが、それには次のような問題がある。
In such a case, if maintenance work such as replacement of the lamp of the light source unit or the condenser mirror is performed inside the light irradiation device, the worker cannot reach the lamp from the outside of the device. I will go inside and work back and forth.
However, going back and forth inside the apparatus is not workable, and care must be taken not to damage parts other than the parts to be replaced, and the work itself becomes difficult.
Therefore, in order to make maintenance work as easy as possible, it is conceivable that the light source unit is taken out from the inside of the light irradiation device. However, there are the following problems.
光源部を光照射装置の内部から外に出すのであれば、図8に示すように、光源部のベースプレート50に引き出し案内(ガイドレール)60を取り付け、光照射装置の本体から光源部を引き出すことが考えられる。
図9は、4灯のランプを備えた光源部を光照射装置から引き出した状態を示す図である。同図において、ランプは2灯しか描かれていないが、図の奥にもう2灯ある。
しかし、このように構成した光源部10は大変に重くなる。例えば、集光鏡2は上記したようにガラス製であり、集光鏡だけでも4つ合わせて50kgを超える。これらに金属(アルミ)製のカバー30を取り付けた上に、全体がたわまないように支持するフレーム40とベースプレート50が必要である。
If the light source unit is taken out from the inside of the light irradiation device, as shown in FIG. 8, a drawer guide (guide rail) 60 is attached to the
FIG. 9 is a diagram illustrating a state where a light source unit including four lamps is pulled out from the light irradiation device. In the figure, only two lamps are drawn, but there are two more lamps in the back of the figure.
However, the
特に、4つの集光鏡2a,2b,2c,2dは第2焦点位置fが一致するように設けられており、各集光鏡の焦点位置がずれると所望の光学性能が得られなくなる。そのため、太くて頑丈なフレームと、そのフレームを支持する厚くたわまないベースプレートが必要である。
さらに、1辺が2m以上の光源部においてランプや集光鏡の交換作業を行う場合、2,3人の作業者が光源部の上に乗って作業することも考えられるので、フレームやベースプレートはそれに耐えうる構造を有さなければならない。
以上のような種々の条件を考慮すると、光源部全体の重量はおよそ1000kg(1トン)からそれ以上になる。1トンもの重量物を、光源部の1辺に相当する2mの長さで光照射装置内から引き出すことは、引き出し後のオーバーハングした光源部によるモーメント(図9中太い矢印で示す)も非常に大きくなり、これを支持する引き出し案内(ガイドレール)60の選定も含めて現実的ではない。
In particular, the four
In addition, when a lamp or condenser mirror is exchanged in a light source section with a side of 2 m or more, it is conceivable that two or three workers are working on the light source section. It must have a structure that can withstand it.
Considering the various conditions as described above, the weight of the entire light source unit is about 1000 kg (1 ton) or more. Pulling out 1 ton of heavy objects from the light irradiation device with a length of 2 m corresponding to one side of the light source unit is also very momentous due to the overhanging light source unit after extraction (indicated by a thick arrow in FIG. 9). This is not realistic, including the selection of a drawer guide (guide rail) 60 that supports this.
また、たとえ引き出せたとしても、それだけの重量物が移動するのであるから、光照射装置全体のバランスが崩れてしまうことがある。これを防ぐためには、カウンターウエイトを設ける必要があり、光照射装置は、ますます大型化重量化する。
本発明は、上記の問題点に鑑み、4灯のランプを備える光照射装置において、ランプや集光鏡の交換などの光源部の保守が容易にできるような構造を提供することを目的とする。
Moreover, even if it can be withdrawn, the amount of heavy material moves, so the balance of the entire light irradiation device may be lost. In order to prevent this, it is necessary to provide a counterweight, and the light irradiation device becomes larger and heavier.
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a structure capable of facilitating maintenance of a light source unit such as replacement of a lamp and a condensing mirror in a light irradiation apparatus including four lamps. .
本発明においては、上記課題を次のようにして解決する。
4灯のランプと、上記ランプのそれぞれの周囲に設けられ各ランプからの光を反射する4つの反射鏡とを備え、上記4灯のランプが四角形の頂点になるように配置された光照射装置において、
上記四角形の第1の頂点に配置された第1のランプと該第1のランプからの光を反射する第1の反射鏡と、上記第1の頂点の隣の第2の頂点に配置された第2のランプと該第2のランプからの光を反射する第2の反射鏡とを一組とした第1の光源ユニットを水平な第1の方向に引き出す第1の引き出し案内と、
上記四角形の第3の頂点に配置された第3のランプと該第3のランプからの光を反射する第3の反射鏡と、上記第3の頂点の隣の第4の頂点に配置された第4のランプと該第4のランプからの光を反射する第4の反射鏡とを一組とした第2の光源ユニットを水平でありかつ上記第1の方向とは反対の第2の方向に引き出す第2の引き出し案内とを備えており、水平面において相反する方向に引き出す
ことを特徴とする光照射装置とする。
そして、上記反射鏡は楕円集光鏡であり、隣の集光鏡に面する90°方向の2ヶ所が切り欠かれていることを特徴とする光照射装置とする。
In the present invention, the above problems are solved as follows.
A light irradiation device including four lamps and four reflecting mirrors provided around each of the lamps and reflecting the light from each lamp, and arranged so that the four lamps are at the vertices of a square. In
A first lamp disposed at a first vertex of the quadrangle; a first reflector for reflecting light from the first lamp; and a second vertex adjacent to the first vertex. A first pull-out guide for pulling out a first light source unit in a horizontal first direction as a set of a second lamp and a second reflecting mirror that reflects light from the second lamp ;
A third lamp disposed at the third vertex of the quadrangle, a third reflector for reflecting light from the third lamp, and a fourth vertex adjacent to the third vertex; A second direction of the second light source unit, which is a set of a fourth lamp and a fourth reflecting mirror that reflects light from the fourth lamp, is horizontal and is opposite to the first direction. A second pull-out guide that pulls out in the opposite direction in the horizontal plane
It is set as the light irradiation apparatus characterized by this.
The reflecting mirror is an elliptical condensing mirror, and two light emitting devices are cut out at 90 ° facing the adjacent condensing mirror.
本発明において、以下の効果を得ることができる。
光源部をランプ2灯ずつの二組に分割するので、1つの組が支持する集光鏡は2枚となり、4枚を一組とする場合に比べて、集光鏡の重さは半分になる。集光鏡の重さが半分になると、その分フレームを細くでき、またベースプレートも薄くできる。
したがって、一体として引き出す2灯一組の重量は、4灯全体を引き出す場合の重量の半分より軽くなる。また、引き出す長さも半分になるので、オーバーハングの量も少なくなり、引き出し案内(ガイドレール)の選定もできるようになり、光源部を引き出す構造が可能となる。
また、2灯を一組として左右対称に引き出すので、両方引き出せば、一方の組が他方の組のカウンターウエイトとしてはたらき、光照射装置のバランスも崩れない。
In the present invention, the following effects can be obtained.
Since the light source section is divided into two sets of two lamps each, the number of collecting mirrors supported by one set is two, and the weight of the collecting mirror is halved compared to the case of four sets as one set. Become. When the weight of the condenser mirror is halved, the frame can be made thinner and the base plate can be made thinner.
Therefore, the weight of a set of two lights drawn out as a unit is lighter than half of the weight when the whole four lights are drawn out. In addition, since the length to be pulled out is halved, the amount of overhang is reduced, the pull-out guide (guide rail) can be selected, and the light source part can be pulled out.
Since the two lights are pulled out symmetrically as one set, if both are pulled out, one set serves as a counterweight for the other set, and the balance of the light irradiation device is not lost.
図1は、本発明の光照射装置の概略構成を示す図である。なお、図5と同じ構成のものについては同じ番号を付している。
光源10として4灯のランプと、各ランプからの光を反射する4枚の反射鏡が使用される。なお、同図においては、2灯のランプ1a,1bと反射鏡2a,2bのみが示されているが、実際には、2灯のランプ1a,1bの図面奥側に、残りの2灯のランプ(第3ランプ1cと第4のランプ1d)と、それらの集光鏡2c,2dが取り付けられている。
4枚の反射鏡は楕円集光鏡であり、各々の第2焦点fが一致するように配置されている。また、集光鏡は、反射した光を出射する開口が上向きになるように、下側から支持する支持部材(不図示)により支持されている。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a light irradiation apparatus of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected about the thing of the same structure as FIG.
As the
The four reflecting mirrors are elliptical condensing mirrors, and are arranged so that the second focal points f coincide with each other. Further, the condenser mirror is supported by a support member (not shown) that is supported from the lower side so that the opening for emitting the reflected light faces upward.
4枚の反射鏡は、図6において示したように、コリメーション角(視角)を大きくすることなく光の利用効率を上げて、光照射面での照度を高くするために、ランプが互いに接近できるように、隣の集光鏡に面する90°方向の2ヶ所が切り欠かれて配置されている。
図1において、4灯のランプと集光鏡を備えた光源10からの光は、第1平面鏡3で折り返され、第2焦点位置に置かれたインテグレータレンズ4に入射する。
インテグレータレンズ4により光照射面8での照度分布が均一になるように調整された光は、シャッタ5を介し、第2平面鏡6で折り返され、コリメータレンズ7で中心光線が平行になって光照射面8に照射される。
As shown in FIG. 6, the four reflecting mirrors allow the lamps to approach each other in order to increase the light use efficiency without increasing the collimation angle (viewing angle) and increase the illuminance on the light irradiation surface. As described above, two portions in the 90 ° direction facing the adjacent condenser mirror are cut out and arranged.
In FIG. 1, light from a
The light adjusted so that the illuminance distribution on the
4灯のランプと集光鏡を備えた光源10は、2灯のランプを一組とした第1の光源ユニット11と、他2灯のランプを一組とした第2の光源ユニット12に分けられ、各ユニットに対して引き出し案内(ガイドレール)60が取り付けられている。ガイドレール60の伸びる方向は、第1の光源ユニット11と第2の光源ユニット12では相反する方向である。
図2は、本発明の光照射装置の光源部の斜視図である。なお、同図は、第1の光源ユニット11を、ガイドレール60に沿って引き出す途中の状態を示している。
The
FIG. 2 is a perspective view of the light source unit of the light irradiation apparatus of the present invention. The figure shows a state in the middle of pulling out the first
同図に示すように、4灯のランプを備えた光源部10は、反射鏡2の背後を覆うカバー30、カバー30をはじめランプ1や集光鏡2等を支持するフレーム40、またそれらを支持するベースプレート50が、それぞれ二分割されて第1の光源ユニット11と第2の光源ユニット12を構成し、両ユニットのそれぞれに引き出し案内(ガイドレール)60が取り付けられ、両者は相反する方向に光照射装置から引き出される。即ち、光源部は、光源ユニットを引き出す方向に対して直交する方向に二分割される。
As shown in the figure, the
このように光源部を二分割すると、各光源ユニットが支持する集光鏡は2枚になり集光鏡の重量は半減する。集光鏡を支持するフレーム40は、両集光鏡の第2焦点位置がずれないように支持しなければならないが、従来に比べて集光鏡の重さが半分になるので、その分フレームを細くできる。フレームが細くなると、全体を支持するベースプレート50も薄くできるので、光源ユニット全体が軽量化する。
このようにして、2灯一組の光源ユニットの重量は、4灯全体を引き出す場合に想定される光源部の重量の半分以下になる。実際には、光源ユニット上に作業者が乗ることも考慮しても400kg程度となる。4灯全体を一式として引き出す場合の重量が1トン以上なので、その半分の重量よりも軽い。
When the light source unit is divided into two in this way, the number of condensing mirrors supported by each light source unit is two, and the weight of the condensing mirrors is halved. The
In this way, the weight of the light source unit of a set of two lamps is less than half of the weight of the light source unit assumed when the entire four lamps are pulled out. Actually, the weight is about 400 kg even if an operator takes on the light source unit. When we pull out all four lights as a set, the weight is more than 1 ton, so it is lighter than half of it.
さらに、光源ユニットを引き出す長さは、集光鏡1枚分の1mとなり、これは4灯を引き出す場合の半分である。
このように、光源ユニットも軽量化し、かつ引き出す長さも短かくなるので、光源ユニットが光照射装置に対してオーバーハングする量も少なくなり、ガイドレールに加わるモーメントも著しく減少する。この程度の重量と引き出し長さであれば、使用できるガイドレールは存在し、引き出し構造を設計製造することができる。
Further, the length of pulling out the light source unit is 1 m for one condenser mirror, which is half of the case of pulling out four lamps.
As described above, the light source unit is also reduced in weight and the length of the light source unit is reduced, so that the amount of the light source unit overhanging the light irradiation device is reduced, and the moment applied to the guide rail is significantly reduced. With such a weight and a drawer length, there are guide rails that can be used, and a drawer structure can be designed and manufactured.
図3は、第1と第2の光源ユニットを光照射装置から引き出した状態を示す図である。
光照射装置には、光源ユニット取り出し口70が形成されており、光照射装置稼動時(ランプ点灯時)には、外装カバーが取り付けられている。そして両光源ユニット11,12が光照射装置の内部から引き出される際には、光源ユニット取り出し口70の部分の外装カバーが取外される。
なお、同図は、両光源ユニット11,12を図中左右方向に引き出しているが、手前奥方向に引き出すようにしても良い。光照射装置の周囲に確保できる空間に応じて、どちらの方向に引き出すか決めればよい。
FIG. 3 is a diagram illustrating a state where the first and second light source units are pulled out from the light irradiation device.
A light
In the figure, the two
光源ユニット11,12を引き出す長さ、即ちガイドレール60の長さは、両ユニットで同じ長さとする。
このようにすれば、左右対称に光源ユニットを引き出すことになる。両光源ユニットの重量は基本的には等しいので、図中太い矢印で示すように、両方の光源ユニットを引き出した時、一方の光源ユニットが他方の光源ユニットのカウンターウエイトとしてはたらき、光照射装置のバランスも崩れない。
このようにして光源部を光照射装置の外に引き出せば、保守作業者は、光源ユニットの、装置に面する側以外の三方の周辺から手を伸ばして作業ができる。これにより、ランプや集光鏡の交換等の保守作業が容易に行える。
The length for pulling out the
In this way, the light source unit is pulled out symmetrically. Since the weights of both light source units are basically the same, as shown by the thick arrows in the figure, when both light source units are pulled out, one light source unit acts as a counterweight for the other light source unit, Balance is not lost.
If the light source unit is pulled out of the light irradiation device in this way, the maintenance worker can work by extending his hands from the three sides of the light source unit other than the side facing the device. As a result, maintenance work such as replacement of the lamp and condenser mirror can be easily performed.
なお、上記実施例においては、光源部の4灯のランプを正方形の頂点になるように配置した場合について説明した。しかし、光照射領域の形状によっては、4灯のランプを長方形の頂点になるように配置する方が光の利用効率が良い場合がある。
図4は、4灯のランプを長方形の頂点になるように配置した場合において、光源部を分割して引き出す方向を示す図である。図4(a)は、長方形の頂点になるように配置した4灯のランプを上から見た図であり、図4(b)と図4(c)は、図4(a)のようにランプを配置した光源部を二分割して引き出す方向を示す図である。
In the above embodiment, the case where the four lamps of the light source unit are arranged so as to be square apexes has been described. However, depending on the shape of the light irradiation area, it may be more efficient to use the light by arranging the four lamps so as to be at the top of the rectangle.
FIG. 4 is a diagram illustrating a direction in which the light source unit is divided and pulled out when four lamps are arranged so as to have a rectangular apex. FIG. 4 (a) is a view of four lamps arranged so as to be at the top of a rectangle as seen from above, and FIG. 4 (b) and FIG. 4 (c) are as shown in FIG. 4 (a). It is a figure which shows the direction which draws out the light source part which has arrange | positioned the lamp | halt in two.
図4(a)のように4灯のランプを長方形の頂点になるように配置した場合も、上記実施例と同様に、光源部は、光源ユニットを引き出す方向に対して直交する方向に二分割される。
分割の方法は、図4(b)のように長辺の方向に二分割する方法と、図4(c)のように短辺の方向に二分割する方法が考えられるが、いずれでも良く、分割した光源ユニットを引き出す空間(スペース)が確保できる方向に分割すればよい。
ただし、引き出し案内(ガイドレール)にかかる負荷を少しでも少なくするためには、光照射装置に対する光源ユニットのオーバーハング量が少なくなる方向に引き出すようにすることが望ましい。
As shown in FIG. 4A, when the four lamps are arranged so as to have a rectangular apex, the light source unit is divided into two in the direction orthogonal to the direction in which the light source unit is pulled out, as in the above embodiment. Is done.
As a dividing method, a method of dividing into two in the direction of the long side as shown in FIG. 4B and a method of dividing into two in the direction of the short side as shown in FIG. 4C can be considered. What is necessary is just to divide | segment in the direction which can ensure the space (space) which pulls out the divided | segmented light source unit.
However, in order to reduce the load applied to the pull-out guide (guide rail) as much as possible, it is desirable to pull out the light source unit with respect to the light irradiation device in a direction in which the amount of overhang is reduced.
1,1a,1b,1c,1d ランプ
2,2a,2b,2c,2d 集光鏡
3 第1平面鏡
4 インテグレータレンズ
5 シャッタ
6 第2平面鏡
7 コリメータレンズ
8 光照射面
10 光源部
11 第1の光源ユニット
12 第2の光源ユニット
30 カバー
40 フレーム
50 ベースプレート
60 引き出し案内(ガイドレール)
70 光源ユニット取り出し口
f 集光鏡の第2焦点
L 光軸
S 切断面
1, 1a, 1b, 1c,
70 Light source unit outlet f Second focal point L of the condensing mirror Optical axis S Cut surface
Claims (2)
上記四角形の第1の頂点に配置された第1のランプと該第1のランプからの光を反射する第1の反射鏡と、上記第1の頂点の隣の第2の頂点に配置された第2のランプと該第2のランプからの光を反射する第2の反射鏡とを一組とした第1の光源ユニットを水平な第1の方向に引き出す第1の引き出し案内と、
上記四角形の第3の頂点に配置された第3のランプと該第3のランプからの光を反射する第3の反射鏡と、上記第3の頂点の隣の第4の頂点に配置された第4のランプと該第4のランプからの光を反射する第4の反射鏡とを一組とした第2の光源ユニットを水平でありかつ上記第1の方向とは反対の第2の方向に引き出す第2の引き出し案内とを備えており、水平面において相反する方向に引き出す
ことを特徴とする光照射装置。 A light irradiation device including four lamps and four reflecting mirrors provided around each of the lamps and reflecting the light from each lamp, and arranged so that the four lamps are at the vertices of a square. In
A first lamp disposed at a first vertex of the quadrangle; a first reflector for reflecting light from the first lamp; and a second vertex adjacent to the first vertex. A first pull-out guide for pulling out a first light source unit in a horizontal first direction as a set of a second lamp and a second reflecting mirror that reflects light from the second lamp;
A third lamp disposed at the third vertex of the quadrangle, a third reflector for reflecting light from the third lamp, and a fourth vertex adjacent to the third vertex; A second direction of the second light source unit, which is a set of a fourth lamp and a fourth reflecting mirror that reflects light from the fourth lamp, is horizontal and is opposite to the first direction. A light irradiation apparatus comprising: a second pull-out guide that is pulled out in a direction opposite to the horizontal plane .
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009105089A JP5471006B2 (en) | 2009-04-23 | 2009-04-23 | Light irradiation device |
TW099106465A TWI459156B (en) | 2009-04-23 | 2010-03-05 | Light irradiation device |
KR1020100021315A KR101373993B1 (en) | 2009-04-23 | 2010-03-10 | Light irradiation device |
CN201010166082.9A CN101872133B (en) | 2009-04-23 | 2010-04-23 | Illuminating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009105089A JP5471006B2 (en) | 2009-04-23 | 2009-04-23 | Light irradiation device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010256531A JP2010256531A (en) | 2010-11-11 |
JP5471006B2 true JP5471006B2 (en) | 2014-04-16 |
Family
ID=42997070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009105089A Expired - Fee Related JP5471006B2 (en) | 2009-04-23 | 2009-04-23 | Light irradiation device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5471006B2 (en) |
KR (1) | KR101373993B1 (en) |
CN (1) | CN101872133B (en) |
TW (1) | TWI459156B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020118817A (en) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | ウシオ電機株式会社 | Patterning device |
JP7253798B2 (en) * | 2019-11-18 | 2023-04-07 | フェニックス電機株式会社 | LAMP HOLDING CASSETTE AND LIGHT SOURCE FOR EXPOSURE DEVICE USING THE SAME |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002258212A (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ricoh Co Ltd | Lighting system for projector |
JP2004079254A (en) * | 2002-08-13 | 2004-03-11 | Canon Inc | Light source equipment and exposure device |
US7070301B2 (en) * | 2003-11-04 | 2006-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Side reflector for illumination using light emitting diode |
JP5184767B2 (en) * | 2006-09-04 | 2013-04-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Exposure equipment |
JP4749299B2 (en) * | 2006-09-28 | 2011-08-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of display panel substrate |
CN201047512Y (en) * | 2007-04-07 | 2008-04-16 | 上海向隆电子科技有限公司 | LED module |
JP4879085B2 (en) * | 2007-05-17 | 2012-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Exposure equipment |
JP2009231719A (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Topcon Corp | Method and device for holding elliptical mirror used for exposure device |
-
2009
- 2009-04-23 JP JP2009105089A patent/JP5471006B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-05 TW TW099106465A patent/TWI459156B/en not_active IP Right Cessation
- 2010-03-10 KR KR1020100021315A patent/KR101373993B1/en active IP Right Grant
- 2010-04-23 CN CN201010166082.9A patent/CN101872133B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201039071A (en) | 2010-11-01 |
JP2010256531A (en) | 2010-11-11 |
CN101872133B (en) | 2015-03-25 |
KR101373993B1 (en) | 2014-03-12 |
TWI459156B (en) | 2014-11-01 |
CN101872133A (en) | 2010-10-27 |
KR20100117017A (en) | 2010-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101602373B1 (en) | Spectral purity filter, radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
JP2012195064A5 (en) | ||
TWI576612B (en) | Light irradiation apparatus and drawing apparatus | |
US8917380B2 (en) | Lithographic apparatus and method | |
JP2006514441A5 (en) | ||
CN105814662A (en) | Radiation source, metrology apparatus, lithographic system and device manufacturing method | |
US20150253679A1 (en) | Lithographic Method and Apparatus | |
JP2014534643A5 (en) | ||
KR20210088765A (en) | Illumination optical system, exposure method and device manufacturing method | |
JP5639745B2 (en) | Laser exposure equipment | |
JP5471006B2 (en) | Light irradiation device | |
TW201017345A (en) | Collector assembly, radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
JP4328320B2 (en) | Light source for exposure | |
KR20120081843A (en) | Using the euv plasma generation device | |
JP6499658B2 (en) | Micro mirror array | |
JP2010091846A (en) | Projection display device | |
JP2008242238A (en) | Exposure apparatus | |
TW201610607A (en) | Illumination optical assembly for a projection exposure apparatus | |
EP3279555B1 (en) | Lens for light source, illumination device, and display device | |
JP5266660B2 (en) | Projection display | |
JP5567973B2 (en) | Illumination optics | |
JP5157961B2 (en) | Light source device | |
JP7035376B2 (en) | Polarized light irradiation device and polarized light irradiation method | |
JP7462005B1 (en) | Beam splitters and optical devices | |
JP6270579B2 (en) | Reflective liquid crystal display |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120327 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140120 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5471006 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |