JP5461808B2 - 有機電界発光素子およびチオフェン化合物 - Google Patents

Description

本発明は、有機電界発光素子およびチオフェン化合物に関する。

従来、無機電界発光素子は、例えば、バックライトなどのパネル型光源として使用されてきたが、該発光素子を駆動させるには、交流の高電圧が必要である。最近になり、発光材料に有機材料を用いた有機電界発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子：有機ＥＬ素子）が開発された（非特許文献１）。

有機電界発光素子は、発光性有機化合物を含む薄膜を、陽極と陰極間に挟持された構造を有し、該薄膜に電子および正孔（ホール）を注入して、再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、この励起子が失活する際に放出される光を利用して発光する素子である。有機電界発光素子は、数Ｖ〜数十Ｖ程度の直流の低電圧で、発光が可能であり、また発光性有機化合物の種類を選択することにより、種々の色（例えば、赤色、青色、緑色）の発光が可能である。このような特徴を有する有機電界発光素子は、種々の発光素子、表示素子等への応用が期待されている。しかしながら、一般に、発光輝度が低く、実用上充分ではない。

発光輝度を向上させる方法として、例えば、発光層として、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムをホスト化合物、クマリン誘導体、ピラン誘導体をゲスト化合物（ドーパント）として用いた有機電界発光素子が提案されている（非特許文献２）。

また、発光層として、例えば、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（４−フェニルフェノラート）アルミニウムをホスト化合物、アクリドン誘導体（例えば、Ｎ−メチル−２−メトキシアクリドン）をゲスト化合物として用いた有機電界発光素子が提案されている（特許文献１）。しかしながら、これらの発光素子も充分な発光輝度を有しているとは言い難い。

黄赤〜赤色に発光する有機電界発光素子として、発光層に、例えば、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸−ビス（２'，６'−ジイソプロピルアニリド）を用いた素子が提案されている（特許文献２および特許文献３）。しかしながら、該有機電界発光素子も充分な発光輝度を有しているとは言い難い。現在では、一層高輝度に発光する有機電界発光素子が望まれている。
Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，５１、９１３（１９８７） Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６５、３６１０（１９８９） 特開平８−６７８７３号公報 特開平２−１８９８９０号公報 特開平２−１９６８８５号公報

本発明の課題は、発光効率に優れ、高輝度に発光する有機電界発光素子および該素子に適したチオフェン化合物を提供することである。

本発明者等は、有機電界発光素子、および該素子に適した化合物に関して鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、
［１］一対の電極間に、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層を少なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子、

（式中、Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表す）
［２］一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層が、正孔注入輸送層である［１］記載の有機電界発光素子、
［３］一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層が、発光層である［１］記載の有機電界発光素子、
［４］一対の電極間に、さらに、電子注入輸送層を有する前記［１］〜［３］のいずれか一つに記載の有機電界発光素子、に関するものである。

さらに、
［５］一般式（１）で表される化合物に関するものである。

（式中、Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表す）
［６］一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）の何れかで表される［５］記載の化合物に関するものである。

［式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁〜Ａ₂₈はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアミノ基、ホウ素含有基、あるいはスズ含有基を表す］
［７］ホウ素含有基、あるいはスズ含有基がそれぞれ、一般式（Ｒ−１）または一般式（Ｒ−２）である前記［６］記載の化合物に、関するものである。

（式中、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、さらにＲ₁とＲ₂が結合して、直鎖、分岐または環状のアルキレン基、あるいは置換または未置換のアリーレン基を形成していてもよい）

（式中、Ｒ₃〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す）

本発明により、発光輝度が大きく、保存安定性に優れた有機電界発光素子、および該素子に適したチオフェン化合物を提供することが可能になった。

以下、本発明に関して詳細に説明する。

本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間に、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層を少なくとも一層挟持してなるものである。

（式中、Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表す）
一般式（１）で表される化合物において、
Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す。

尚、本明細書において、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの複素環式芳香族基を表し、より好ましくは、炭素環式芳香族基を表す。

また、アリール基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは前記炭素数４〜３０のハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、置換または未置換のアミノ基で置換されていてもよいアリール基などが挙げられる。

一般式（１）で表される化合物において、より好ましくは、Ｘ₁〜Ｘ₄は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数２〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数４〜３０の置換または未置換のアリール基、炭素数４〜３０の置換または未置換のアリールオキシ基、あるいは炭素数５〜３０の置換または未置換のアラルキル基を表す。

一般式（１）における、Ｘ₁ 〜Ｘ₄の具体例としては、例えば、水素原子、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、
例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、ｎ−ノニル基、２，２−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチル−４−ヘプチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、１−ヘキシルヘプチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−エイコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル基、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、
例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、ｎ−ヘキシルオキシメチル基、（２−エチルブチルオキシ）メチル基、ｎ−オクチルオキシメチル基、ｎ−デシルオキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−ｎ−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−ｎ−ペンチルオキシエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシエチル基、２−（２'−エチルブチルオキシ）エチル基、２−ｎ−ヘプチルオキシエチル基、２−ｎ−オクチルオキシエチル基、２−（２'−エチルヘキシルオキシ）エチル基、２−ｎ−デシルオキシエチル基、２−ｎ−ドデシルオキシエチル基、２−ｎ−テトラデシルオキシエチル基、２−シクロヘキシルオキシエチル基、２−メトキシプロピル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ｎ−プロポキシプロピル基、３−イソプロポキシプロピル基、３−ｎ−ブトキシプロピル基、３−ｎ−ペンチルオキシプロピル基、３−ｎ−ヘキシルオキシプロピル基、３−（２'−エチルブトキシ）プロピル基、３−ｎ−オクチルオキシプロピル基、３−（２'−エチルヘキシルオキシ）プロピル基、３−ｎ−デシルオキシプロピル基、３−ｎ−ドデシルオキシプロピル基、３−ｎ−テトラデシルオキシプロピル基、３−シクロヘキシルオキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、４−ｎ−プロポキシブチル基、４−イソプロポキシブチル基、４−ｎ−ブトキシブチル基、４−ｎ−ヘキシルオキシブチル基、４−ｎ−オクチルオキシブチル基、４−ｎ−デシルオキシブチル基、４−ｎ−ドデシルオキシブチル基、５−メトキシペンチル基、５−エトキシペンチル基、５−ｎ−プロポキシペンチル基、５−ｎ−ペンチルオキシペンチル基、６−メトキシヘキシル基、６−エトキシヘキシル基、６−イソプロポキシヘキシル基、６−ｎ−ブトキシヘキシル基、６−ｎ−ヘキシルオキシヘキシル基、６−ｎ−デシルオキシヘキシル基、４−メトキシシクロヘキシル基、７−メトキシヘプチル基、７−エトキシヘプチル基、７−イソプロポキシヘプチル基、８−メトキシオクチル基、８−エトキシオクチル基、９−メトキシノニル基、９−エトキシノニル基、１０−メトキシデシル基、１０−エトキシデシル基、１０−ｎ−ブトキシデシル基、１１−メトキシウンデシル基、１１−エトキシウンデシル基、１２−メトキシドデシル基、１２−エトキシドデシル基、１２−イソプロポキシドデシル基、１４−メトキシテトラデシル基、テトラヒドロフルフリル基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、
例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ｎ−ペンチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−ｎ−ヘプチルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ウンデシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−ｎ−テトラデシルフェニル基、４−ｎ−ヘキサデシルフェニル基、４−ｎ−オクタデシルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、５−インダニル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−５−ナフチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−６−ナフチル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘプチルオキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−ノニルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ウンデシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキサデシルオキシフェニル基、４−ｎ−オクタデシルオキシフェニル基、
２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、２−メトキシ−５−メチルフェニル基、３−メトキシ−４−メチルフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、２−クロロ−４−メチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、２−クロロ−４−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−フルオロフェニル基、３−メトキシ−４−クロロフェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、４−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、２−フェニルフェニル基、４−（４'−メチルフェニル）フェニル基、４−（４'−メトキシフェニル）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、４−エトキシ−１−ナフチル基、６−ｎ−ブチル−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−エトキシ−２−ナフチル基、
１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、２−テトラセニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、２−フリル基、２−チエニル基、５−ｎ−プロピル−２−チエニル基、５−ｎ−ブチル−２−チエニル基、５−ｎ−ヘキシル−２−チエニル基、５−ｎ−オクチル−チエニル基、５−ｎ−デシル−２−チエニル基、５−ｎ−トリデシル−２−チエニル基、５−フェニル−２−チエニル基、５−（２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ブチル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ヘキシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−デシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、３−チエニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、
４−アミノフェニル基、３−アミノフェニル基、２−アミノフェニル基、４−（Ｎ−メチルアミノ）フェニル基、３−（Ｎ−メチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−エチルアミノ）フェニル基、２−（Ｎ−イソプロピルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）フェニル基、２−（Ｎ−ｎ−ブチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−ｎ−オクチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−ｎ−ドデシルアミノ）フェニル基、４−Ｎ−ベンジルアミノフェニル基、４−Ｎ−フェニルアミノフェニル基、２−Ｎ−フェニルアミノフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）フェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ヘキシルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−１−ナフチル基、４−ピロリジノフェニル基、４−ピペリジノフェニル基、４−モルフォリノフェニル基、４−ピロリジノ−１−ナフチル基、
４−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェニルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−メチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（３'−メチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−エチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−ｎ−ヘキシルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−メトキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−エトキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−ｎ−ブトキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（４'−ｎ−ヘキシルオキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（１'−ナフチル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ，Ｎ−ジ（２'−ナフチル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３'−メチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−メチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−オクチルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−メトキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−エトキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−ｎ−ヘキシルオキシフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−フルオロフェニル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（１'−ナフチル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（２'−ナフチル）アミノ〕フェニル基、４−〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４'−フェニルフェニル）アミノ〕フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）−１−ナフチル基、６−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）−２−ナフチル基、４−（Ｎ−カルバゾリル）フェニル基、４−（Ｎ−フェノキサジニル）フェニル基などの置換または未置換のアリール基を挙げることができる。

Ｘ₁〜Ｘ₄は、より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数２〜１６の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは炭素数６〜２０の置換または未置換のアリール基である。

一般式（１）で表される化合物において、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアミノ基で置換されていてもチオフェン環を表す。

より好ましくは、環Ａは、Ｘ₁ 〜Ｘ₄で例示したハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数２〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数１〜２０の置換アミノ基で置換されていてもよいチオフェン環を表す。

環Ａのチオフェン環は、好ましくは、２位と３位で縮環したチオフェン環、あるいは３位と４位で縮環したチオフェン環である。

一般式（１）で表される化合物において、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表し、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアミノ基で置換されていてもよいベンゼン環、あるいは、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアミノ基で置換されていてもよいチオフェン環を表す。

より好ましくは、環Ｂは、Ｘ₁ 〜Ｘ₄で例示したハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数２〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数１〜２０の置換アミノ基で置換されていてもよいベンゼン環、あるいはＸ₁ 〜Ｘ₄で例示したハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数２〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数１〜２０の置換アミノ基で置換されていてもよいチオフェン環を表す。

環Ｂのベンゼン環はオルト位で縮環したベンゼン環であり、チオフェン環は、好ましくは、２位と３位で縮環したチオフェン環、あるいは３位と４位で縮環したチオフェン環である。

一般式（１）で表される化合物は、環Ａおよび環Ｂの種別、および縮環の形態に応じて、以下の一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）の何れかで表される。

［式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁〜Ａ₂₈はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す］
また、一般式（１）を製造する上での中間体、例えば、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）の何れかで表される化合物において、Ａ₁〜Ａ₂₈で表される基の少なくとも１つが反応性基、例えば、−Ｂ（ＯＨ）₂などのようなＳｕｚｕｋｉカップリング反応に有効なホウ素含有基［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）を参考にすることができる］、例えば、−ＳｎＲ₃（Ｒはアルキル基を表す）などのようなＳｔｉｌｌｅカップリング反応に有効なスズ含有基［例えば、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０１、４９９２（１９７９）、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２４、６４６３（２００２）を参考にすることができる］は有用な化合物である。

より好ましい反応性基としては、例えば、一般式（Ｒ−１）および一般式（Ｒ−２）で表される基である。

（式中、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、さらにＲ₁とＲ₂が結合して、直鎖、分岐または環状のアルキレン基、あるいは置換または未置換のアリーレン基を形成していてもよい）

（式中、Ｒ₃〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す）
一般式（Ｒ−１）で表さるホウ素含有基において、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、さらにＲ₁とＲ₂が結合して直鎖、分岐または環状のアルキレン基、あるいは置換または未置換のアリーレン基を形成していてもよく、好ましくは、水素原子、炭素数１〜８の直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいはＲ₁とＲ₂が結合して炭素数２〜１０の直鎖、分岐または環状のアルキレン基、あるいは炭素数６〜１６の置換または未置換のアリーレン基を表し、より好ましくは、水素原子を表す。

Ｒ₁およびＲ₂の直鎖、分岐または環状のアルキル基の具体例としては、Ｘ₁ 〜Ｘ₄で例示した直鎖、分岐または環状のアルキル基を例示することができる。

また、Ｒ₁とＲ₂が互いに結合して、直鎖、分岐または環状のアルキレン基を表す場合、そのアルキレン基の具体例としては、例えば１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基、２，３−ブチレン基、２−メチル−２，３−ブチレン基、２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，２−ジメチル−１，３−ブチレン基、２，２，３−トリメチル−１，３−ブチレン基、２，４−ペンチレン基、２−メチル−２，４−ペンチレン基、２，４−ジメチル−２，４−ペンチレン基、２，４，３，３−テトラメチル−２，４−ペンチレン基などの直鎖、分岐または環状のアルキレン基を例示することができる。

Ｒ₁とＲ₂が結合して置換または未置換のアリーレン基を表す場合、そのアリーレン基の具体例としては、例えば、１，２−フェニレン基、４−ｔｅｒｔ-ブチル−１，２−フェニレン基、４−フェニル−１，２−フェニレン基、４，５−ジメチル−１，２−フェニレン基、１，２−ナフチレン基、２，３−ナフチレン基などの置換または未置換のアリーレン基を例示することができる。

一般式（Ｒ−２）で表さるスズ含有基において、Ｒ₃〜Ｒ₅は、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、好ましくは、炭素数１〜８の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。

Ｒ₃〜Ｒ₅の直鎖、分岐または環状のアルキル基の具体例としては、Ｘ₁ 〜Ｘ₄で例示した直鎖、分岐または環状のアルキル基を例示することができる。

ホウ素含有基、またはスズ含有基である化合物としては、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が、一般式（Ｒ−１）または一般式（Ｒ−２）で表される基であることがより好ましい。

本発明の有機電界発光素子においては、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種使用することが特徴であり、例えば、一般式（１）で表される化合物を発光成分として発光層に用いると、従来にはない、高輝度で耐久性に優れた緑〜黄赤色に発光する有機電界発光素子を提供することが可能となる。また、他の発光成分と組み合わせて発光層を形成すると、高輝度で耐久性に優れた白色に発光する有機電界発光素子も提供することが可能となる。

本発明に係る一般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明に係る一般式（１）で表される化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。

すなわち、例えば、一般式（２）、一般式（３）または一般式（４）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１０７、１７４（２００７）に記載の方法を参考にすることができる］。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄、環Ａおよび環Ｂは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₁〜Ｚ₅はハロゲン原子を表す）〕
一般式（２）〜一般式（４）において、Ｚ₁〜Ｚ₅で表されるハロゲン原子は、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。

尚、一般式（２）で表される化合物は、例えば、一般式（５）で表される化合物に、例えば、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下、一般式（６）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄、環Ａおよび環Ｂは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₁およびＺ₆はハロゲン原子を表す）〕
一般式（５）および一般式（６）において、Ｚ₁およびＺ₆で表されるハロゲン原子は、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。

尚、一般式（３）で表される化合物は、例えば、一般式（７）で表される化合物に、例えば、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下、一般式（８）および一般式（９）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄、環Ａおよび環Ｂは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₂、Ｚ₃、Ｚ₇およびＺ₈はハロゲン原子を表す）〕
一般式（７）〜一般式（９）において、Ｚ₂、Ｚ₃、Ｚ₇およびＺ₈で表されるハロゲン原子は、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。

尚、一般式（４）で表される化合物は、例えば、一般式（１０）で表される化合物に、例えば、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下、一般式（１１）および一般式（１２）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄、環Ａおよび環Ｂは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₄、Ｚ₅、Ｚ₉およびＺ₁₀はハロゲン原子を表す）〕
一般式（１０）〜一般式（１２）において、Ｚ₄、Ｚ₅、Ｚ₉およびＺ₁₀で表されるハロゲン原子は、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。

また、Ｚ₁〜Ｚ₅がハロゲン原子である一般式（２）〜一般式（４）で表される化合物は、Ｚ₁〜Ｚ₅が水素原子である化合物と、例えば、ハロゲン化剤（例えば、臭素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド）を作用させて製造することもできる。

さらに、具体例を挙げて、一般式（１）で表される化合物の製造方法を説明する。

例えば、一般式（１−Ａ）で表される化合物は、一般式（２−Ａ１）または一般式（２−Ａ２）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１０７、１７４（２００７）に記載の方法を参考にすることができる］。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁ 〜Ａ₆は一般式（１−Ａ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₁はハロゲン原子を表す）〕
例えば、一般式（１−Ｂ）で表される化合物は、一般式（３−Ｂ１）または一般式（３−Ｂ２）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₇ 〜Ａ₁₀は一般式（１−Ｂ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₂およびＺ₃はハロゲン原子を表す）〕
例えば、一般式（１−Ｃ）で表される化合物は、一般式（４−Ｃ１）または一般式（４−Ｃ２）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁₁ 〜Ａ₁₄は一般式（１−Ｃ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₄およびＺ₅はハロゲン原子を表す）〕
例えば、一般式（１−Ｄ）で表される化合物は、一般式（２−Ｄ）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁₅ 〜Ａ₂₀は一般式（１−Ｄ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₁はハロゲン原子を表す）〕
例えば、一般式（１−Ｅ）で表される化合物は、一般式（３−Ｅ１）、一般式（３−Ｅ２）、一般式（４−Ｅ１）または一般式（４−Ｅ２）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₂₁ 〜Ａ₂₄は一般式（１−Ｅ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₂〜Ｚ₅はハロゲン原子を表す）〕
例えば、一般式（１−Ｆ）で表される化合物は、一般式（３−Ｆ）または一般式（４−Ｆ）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₂₅ 〜Ａ₂₈は一般式（１−Ｆ）の場合と同じ意味を表し、Ｚ₂〜Ｚ₅はハロゲン原子を表す）〕
尚、本発明に係る一般式（１）で表される化合物は、それ自体公知の方法に従って、置換基の変換により、所望の置換基を有する化合物へと変換することができる。

一般式（１）で表される化合物において、例えば、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がアルキル基またはアルコキシアルキル基で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が水素原子またはハロゲン原子である化合物に、アルキルリチウム（例えば、ｎ−ＢｕＬｉ）を作用させてリチウム塩を製造した後に、例えば、アルキルハライド、アルキルトシレート、アルコキシアルキルハライド、アルコキシアルキルトシレートを作用させて製造することができる。

また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がアルキル基またはアルコキシアルキル基で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子である化合物に、金属マグネシウムを作用させてグリニヤール試薬を製造した後に、例えば、アルキルハライド、アルキルトシレート、アルコキシアルキルハライド、アルコキシアルキルトシレートを作用させて製造することができる。

一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がアリール基で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が、例えば、一般式（Ｒ−１）で表されるホウ酸化合物に、アリールハライドをパラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。

また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がアリール基で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が、例えば、一般式（Ｒ−２）で表されるトリアルキルスス化合物に、アリールハライドをパラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０１、４９９２（１９７９）、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２４、６４６３（２００２）に記載の方法を参考にすることができる］。

一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がアミノ基または置換アミノ基で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子である化合物に、アンモニアまたは置換アミン化合物を、銅紛またはパラジウム触媒（例えば、酢酸パラジウム）および塩基（例えば、炭酸カリウム、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＮａ）の存在下で作用させることにより製造することができる。

尚、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が水素原子である化合物に、ハロゲン化剤（例えば、臭素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド、Ｎ−フルオロベンゼンスルフォアミド）を作用させて製造することができる。

また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が水素原子である化合物に、アルキルリチウム（例えば、ｎ−ＢｕＬｉ）を作用させてリチウム塩を製造した後に、ハロゲン化剤を作用させて製造することができる。

一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、Ａ₁〜Ａ₂₈で表される基の少なくとも１つがホウ素含有基、またはスズ含有基である化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。

すなわち、例えば、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が、一般式（Ｒ−１）で表される化合物において、Ｒ₁およびＲ₂がアルキル基である化合物は、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が水素原子またはハロゲン原子である化合物に、アルキルリチウム（例えば、ｎ−ＢｕＬｉ）を作用させてリチウム塩を製造した後に、一般式（Ｒ−１Ａ）で表されるトリアルキルホウ酸を作用させて製造することができる。

また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が一般式（Ｒ−１）で表される化合物において、Ｒ₁およびＲ₂がアルキル基である化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子である化合物に、金属マグネシウムを作用させてグリニヤール試薬を製造した後に、一般式（Ｒ−１Ａ）で表されるトリアルキルホウ酸を作用させて製造することができる。

（式中、Ｒ₀、Ｒ₁₀、およびＲ₂₀はアルキル基を表す）
尚、また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が一般式（Ｒ−１）で表される化合物において、Ｒ₁およびＲ₂が水素原子である化合物は、例えば、Ｒ₁およびＲ₂がアルキル基である化合物を加水分解することにより製造することができる。

例えば、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が一般式（Ｒ−１）で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子である化合物に、パラジウム触媒の存在下、一般式（Ｒ−１Ｂ）で表される化合物を作用させて製造することができる。

〔式中、Ｒ₁ およびＲ₂は一般式（Ｒ−１）の場合と同じ意味を表す）〕
一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、例えば、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が一般式（Ｒ−２）で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が水素原子またはハロゲン原子である化合物に、アルキルリチウム（例えば、ｎ−ＢｕＬｉ）を作用させてリチウム塩を製造した後に、一般式（Ｒ−２Ａ）で表されるトリアルキルスズハライド化合物を作用させて製造することができる。

また、一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）において、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈が一般式（Ｒ−２）で表される化合物は、Ａ₁、Ａ₇、Ａ₉、Ａ₁₁、Ａ₁₄、Ａ₁₅、Ａ₁₆、Ａ₂₁、Ａ₂₂、Ａ₂₃、Ａ₂₅、Ａ₂₆、Ａ₂₇またはＡ₂₈がハロゲン原子である化合物に、金属マグネシウムを作用させてグリニヤール試薬を製造した後に、一般式（Ｒ−２Ａ）で表されるトリアルキルスズハライドを作用させて製造することができる。

〔式中、Ｒ₃ 〜Ｒ₅は一般式（Ｒ−２）の場合と同じ意味を表し、Ｚはハロゲン原子を表す）〕
尚、一般式（１）で表される化合物は、場合により使用した溶媒（例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒）との溶媒和を形成した型で製造されることがあるが、本発明の有機電界発光素子には、一般式（１）で表される化合物の無溶媒和物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができる。

一般式（１）で表される化合物を、有機電界発光素子に使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ましいことである。

有機電界発光素子は、通常、一対の電極間に、少なくとも１種の発光成分を含有する発光層を、少なくとも一層挟持してなるものである。発光層に使用する化合物の正孔注入および正孔輸送、電子注入および電子輸送の各機能レベルを考慮し、所望に応じて、正孔注入輸送成分を含有する正孔注入輸送層および／または電子注入輸送成分を含有する電子注入輸送層を設けることもできる。

例えば、発光層に使用する化合物の正孔注入機能、正孔輸送機能および／または電子注入機能、電子輸送機能が良好な場合には、発光層が正孔注入輸送層および／または電子注入輸送層を兼ねた型の素子の構成とすることができる。勿論、場合によっては、正孔注入輸送層および電子注入輸送層の両方の層を設けない型の素子（一層型の素子）の構成とすることもできる。

また、正孔注入輸送層、電子注入輸送層および発光層のそれぞれの層は、一層構造であっても多層構造であってもよく、正孔注入輸送層および電子注入輸送層は、それぞれの層において、注入機能を有する層と輸送機能を有する層を別々に設けて構成することもできる。

本発明の有機電界発光素子において、一般式（１）で表される化合物は、正孔注入輸送成分、発光成分または電子注入輸送成分に用いることが好ましく、正孔注入輸送成分または発光成分に用いることがより好ましく、発光成分に用いることが特に好ましい。本発明の有機電界発光素子においては、一般式（１）で表される化合物は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

本発明の有機電界発光素子の構成としては、特に限定するものではなく、例えば、（Ａ）陽極／正孔注入輸送層／発光層／電子注入輸送層／陰極型素子（図１）、（Ｂ）陽極／正孔注入輸送層／発光層／陰極型素子（図２）、（Ｃ）陽極／発光層／電子注入輸送層／陰極型素子（図３）、（Ｄ）陽極／発光層／陰極型素子（図４）などを挙げることができる。

さらには、発光層を電子注入輸送層で挟み込んだ型の素子である（Ｅ）陽極／正孔注入輸送層／電子注入輸送層／発光層／電子注入輸送層／陰極型素子（図５）とすることもできる。（Ｄ）型の素子構成としては、発光成分を一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子は勿論であるが、さらには、例えば、（Ｆ）正孔注入輸送成分、発光成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子（図６）、（Ｇ）正孔注入輸送成分および発光成分を混合させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子（図７）、（Ｈ）発光成分および電子注入輸送成分を混合させた一層形態で一対の電極間に挟持させた型の素子（図８）がある。

本発明の有機電界発光素子は、これらの素子構成に限るものではなく、それぞれの型の素子において、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層を複数層設けたりすることができる。また、それぞれの型の素子において、正孔注入輸送層と発光層との間に、正孔注入輸送成分と発光成分の混合層および／または発光層と電子注入輸送層との間に、発光成分と電子注入輸送成分の混合層を設けることもできる。

より好ましい有機電界発光素子の構成は、（Ａ）型素子、（Ｂ）型素子、（Ｃ）型素子、（Ｅ）型素子、（Ｆ）型素子、（Ｇ）型素子または（Ｈ）型素子であり、さらに好ましくは、（Ａ）型素子、（Ｂ）型素子、（Ｃ）型素子または（Ｆ）型素子である。

本発明の有機電界発光素子としては、例えば、（図１）に示す（Ａ）陽極／正孔注入輸送層／発光層／電子注入輸送層／陰極型素子について説明する。（図１）において、１は基板、２は陽極、３は正孔注入輸送層、４は発光層、５は電子注入輸送層、６は陰極、７は電源を示す。

本発明の有機電界発光素子は、基板１に支持されていることが好ましく、基板としては、特に限定するものではないが、透明ないし半透明であることが好ましく、例えば、ガラス板、透明プラスチックシート（例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのシート）、半透明プラスチックシート、石英、透明セラミックスあるいはこれらを組み合わせた複合シートからなるものを挙げることができる。さらに、基板に、例えば、カラーフィルター膜、色変換膜、誘電体反射膜を組み合わせて、発光色をコントロールすることもできる。

陽極２としては、比較的仕事関数の大きい金属、合金または電気電導性化合物を電極物質として使用することが好ましい。陽極に使用する電極物質としては、例えば、金、白金、銀、銅、コバルト、ニッケル、パラジウム、バナジウム、タングステン、酸化錫、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）、ポリチオフェン、ポリピロールなどを挙げることができる。これらの電極物質は、単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。陽極は、これらの電極物質を、例えば、蒸着法、スパッタリング法等の方法により、基板の上に形成することができる。また、陽極は一層構造であってもよく、あるいは多層構造であってもよい。陽極のシート電気抵抗は、好ましくは、数百Ω／□以下、より好ましくは、５〜５０Ω／□程度に設定する。陽極の厚みは、使用する電極物質の材料にもよるが、一般に、５〜１０００ｎｍ程度、より好ましくは、１０〜５００ｎｍ程度に設定する。

正孔注入輸送層３は、陽極からの正孔（ホール）の注入を容易にする機能、および注入された正孔を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。正孔注入輸送層は、一般式（１）で表される化合物および／または他の正孔注入輸送機能を有する化合物（例えば、フタロシアニン誘導体、トリアリールメタン誘導体、トリアリールアミン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体など）を少なくとも１種用いて形成することができる。尚、正孔注入輸送機能を有する化合物は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

本発明において用いる他の正孔注入輸送機能を有する化合物としては、トリアリールアミン誘導体（例えば、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（４"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニル、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニル、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メトキシフェニル）アミノ〕ビフェニル、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（１"−ナフチル）アミノ〕ビフェニル、３，３'−ジメチル−４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニル、１，１−ビス〔４'−[ Ｎ，Ｎ−ジ（４"−メチルフェニル）アミノ] フェニル〕シクロヘキサン、９，１０−ビス〔Ｎ−（４'−メチルフェニル）−Ｎ−（４"−ｎ−ブチルフェニル）アミノ〕フェナントレン、３，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）−６−フェニルフェナントリジン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス〔４"，４"'−ビス[ Ｎ'，Ｎ'−ジ（４−メチルフェニル）アミノ] ビフェニル−４−イル〕アニリン、Ｎ，Ｎ'−ビス〔４−（ジフェニルアミノ）フェニル〕−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−１，３−ジアミノベンゼン、Ｎ，Ｎ'−ビス〔４−（ジフェニルアミノ）フェニル〕−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−１，４−ジアミノベンゼン、５，５"−ビス〔４−（ビス[ ４−メチルフェニル] アミノ）フェニル〕−２，２'：５'，２"−ターチオフェン、１，３，５−トリス（ジフェニルアミノ）ベンゼン、４，４'，４"−トリス（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン、４，４'，４"−トリス〔Ｎ−（３"'−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン、４，４'，４"−トリス〔Ｎ，Ｎ−ビス（４"'−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル−４""−イル）アミノ〕トリフェニルアミン、１，３，５−トリス〔Ｎ−（４'−ジフェニルアミノフェニル）−Ｎ−フェニルアミノベンゼンなど）、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体がより好ましい。

一般式（１）で表される化合物と他の正孔注入輸送機能を有する化合物を併用する場合、正孔注入輸送層中に占める一般式（１）で表される化合物の割合は、好ましくは、０．１質量％以上、より好ましくは、０．１〜９９．９質量％程度、さらに好ましくは、１〜９９質量％程度に調製する。

発光層４は、正孔および電子の注入機能、それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を生成させる機能を有する化合物を含有する層である。

発光層は、一般式（１）で表される化合物および／または他の発光機能を有する化合物（例えば、アクリドン誘導体、キナクリドン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、多環芳香族化合物〔例えば、ルブレン、アントラセン、テトラセン、ピレン、ペリレン、クリセン、デカシクレン、コロネン、テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、１，４−ビス（９'−エチニルアントラセニル）ベンゼン、４，４'−ビス（９"−エチニルアントラセニル）ビフェニル〕、トリアリールアミン誘導体〔例えば、正孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物を挙げることができる〕、有機金属錯体〔例えば、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（１０−ベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム、２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾールの亜鉛塩、２−（２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールの亜鉛塩、４−ヒドロキシアクリジンの亜鉛塩、３−ヒドロキシフラボンの亜鉛塩、５−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、５−ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩〕、スチルベン誘導体〔例えば、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン、４，４'−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル、４，４'−ビス[ （１，１，２−トリフェニル）エテニル] ビフェニル〕、
クマリン誘導体〔例えば、クマリン１、クマリン６、クマリン７、クマリン３０、クマリン１０６、クマリン１３８、クマリン１５１、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３０７、クマリン３１１、クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン３３８、クマリン３４３、クマリン５００〕、ピラン誘導体〔例えば、ＤＣＭ１、ＤＣＭ２〕、オキサゾン誘導体〔例えば、ナイルレッド〕、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ピラジン誘導体、ケイ皮酸エステル誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリビフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリターフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリナフチレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体など）を、少なくとも１種用いて形成することができる。

本発明の有機電界発光素子においては、発光層に一般式（１）で表される化合物を含有していることが好ましい。一般式（１）で表される化合物と他の発光機能を有する化合物を併用する場合、発光層中に占める一般式（１）で表される化合物の割合は、好ましくは、０．００１〜９９．９９９質量％程度、より好ましくは、０．０１〜９９．９９質量％程度、さらに好ましくは、０．１〜９９．９質量％程度に調製する。

本発明において用いる他の発光機能を有する化合物としては、発光性有機金属錯体またはトリアリールアミン誘導体がより好ましい。例えば、Ｊ．Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ., ６５、３６１０ （１９８９）、特開平５−２１４３３２号公報に記載のように、発光層をホスト化合物とゲスト化合物（ドーパント）とより構成することもできる。一般式（１）で表される化合物を、ホスト化合物として用いて発光層を形成することができ、さらには、ゲスト化合物として用いて発光層を形成することもできる。

一般式（１）で表される化合物を、ゲスト化合物として用いて発光層を形成する場合、ホスト化合物としては、発光性有機金属錯体、または前記トリアリールアミン誘導体はより好ましい。この場合、発光性有機金属錯体またはトリアリールアミン誘導体に対して、一般式（１）で表される化合物を、好ましくは、０．００１〜４０質量％程度、より好ましくは、０．０１〜３０質量％程度、特に好ましくは、０．１〜２０質量％程度使用する。

一般式（１）で表される化合物と併用する発光性有機金属錯体としては、特に限定するものではないが、発光性有機アルミニウム錯体が好ましく、置換または未置換の８−キノリノラート配位子を有する発光性有機アルミニウム錯体がより好ましい。好ましい発光性有機金属錯体としては、例えば、一般式（ａ）〜一般式（ｃ）で表される発光性有機アルミニウム錯体を挙げることができる。

（Ｑ）₃ −Ａｌ （ａ）
（式中、Ｑは置換または未置換の８−キノリノラート配位子を表す）
（Ｑ）₂ −Ａｌ−Ｏ−Ｌ （ｂ）
（式中、Ｑは置換８−キノリノラート配位子を表し、Ｏ−Ｌはフェノラート配位子であり、Ｌはフェニル部分を含む炭素数６〜２４の炭化水素基を表す）
（Ｑ）₂ −Ａｌ−Ｏ−Ａｌ−（Ｑ）₂ （ｃ）
（式中、Ｑは置換８−キノリノラート配位子を表す）
発光性有機金属錯体の具体例としては、例えば、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム、トリス（３，４−ジメチル−８−キノリノラート）アルミニウム、トリス（４，５−ジメチル−８−キノリノラート）アルミニウム、トリス（４，６−ジメチル−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（フェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２−メチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（３−メチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（４−メチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（３−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（４−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，３−ジメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，６−ジメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（３，４−ジメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（３，５−ジメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，６−ジフェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，４，６−トリフェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，４，６−トリメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２，４，５，６−テトラメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２−ナフトラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）（２−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）（３−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）（４−フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）（３，５−ジメチルフェノラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノラート）アルミニウム、
ビス（２−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−４−エチル−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２−メチル−４−エチル−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−４−メトキシ−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２−メチル−４−メトキシ−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウム−μ−オキソ−ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウムなどを挙げることができる。勿論、発光性有機金属錯体は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

また、一般式（１）で表される化合物と併用するトリアリールアミン誘導体としては、特に限定するものではないが、例えば、正孔注入輸送機能を有する化合物として前述した化合物を例示することができ、勿論、トリアリールアミン誘導体は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

電子注入輸送層５は、陰極からの電子の注入を容易にする機能、そして注入された電子を輸送する機能を有する化合物を含有する層である。電子注入輸送層は、一般式（１）で表される化合物および／または他の電子注入輸送機能を有する化合物（例えば、有機金属錯体〔例えば、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム、ビス（１０−ベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム、５−ヒドロキシフラボンのベリリウム塩、５−ヒドロキシフラボンのアルミニウム塩〕、オキサジアゾール誘導体〔例えば、１，３−ビス〔５'−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２'−イル〕ベンゼン〕、トリアゾール誘導体〔例えば、３−（４'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４"−ビフェニル）−１，２，４−トリアゾール〕、トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体など）を少なくとも１種用いて形成することができる。

一般式（１）で表される化合物と他の電子注入輸送機能を有する化合物を併用する場合、電子注入輸送層中に占める一般式（１）で表される化合物の割合は、好ましくは、０．１〜４０質量％程度に調製する。本発明においては、一般式（１）で表される化合物と有機金属錯体〔例えば、前記一般式（ａ）〜一般式（ｃ）で表される化合物〕を併用して、電子注入輸送層を形成することは好ましい。

陰極６としては、比較的仕事関数の小さい金属、合金または電気電導性化合物を電極物質として使用することが好ましい。陰極に使用する電極物質としては、例えば、リチウム、リチウム−インジウム合金、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、カルシウム、マグネシウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、インジウム、ルテニウム、チタニウム、マンガン、イットリウム、アルミニウム、アルミニウム−リチウム合金、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウム−マグネシウム合金、グラファイト薄膜等を挙げることができる。これらの電極物質は、単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

陰極は、これらの電極物質を、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等の方法により、電子注入輸送層の上に形成することができる。また、陰極は一層構造であってもよく、あるいは多層構造であってもよい。尚、陰極のシート電気抵抗は、数百Ω／□以下に設定するのが好ましい。陰極の厚みは、使用する電極物質の材料にもよるが、一般に、５〜１０００ｎｍ程度、より好ましくは、１０〜５００ｎｍ程度に設定する。尚、有機電界発光素子の発光を効率よく取り出すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極が、透明ないし半透明であることが好ましく、一般に、発光光の透過率が７０％以上となるように陽極の材料、厚みを設定することがより好ましい。

また、本発明の有機電界発光素子においては、その少なくとも一層中に、一重項酸素クエンチャーが含有されていてもよい。

一重項酸素クエンチャーとしては、特に限定するものではなく、例えば、ルブレン、ニッケル錯体、ジフェニルイソベンゾフランなどが挙げられ、特に好ましくは、ルブレンである。一重項酸素クエンチャーが含有されている層としては、特に限定するものではないが、好ましくは、発光層または正孔注入輸送層であり、より好ましくは、正孔注入輸送層である。尚、例えば、正孔注入輸送層に一重項酸素クエンチャーを含有させる場合、正孔注入輸送層中に均一に含有させてもよく、正孔注入輸送層と隣接する層（例えば、発光層、発光機能を有する電子注入輸送層）の近傍に含有させてもよい。一重項酸素クエンチャーの含有量としては、含有される層（例えば、正孔注入輸送層）を構成する全体量の０．０１〜５０質量％、好ましくは、０．０５〜３０質量％、より好ましくは、０．１〜２０質量％である。

正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層の形成方法に関しては、特に限定するものではなく、例えば、真空蒸着法、イオン化蒸着法、溶液塗布法（例えば、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、バーコート法、ロールコート法、ラングミュア・ブロゼット法、インクジェット法など）により薄膜を形成することにより作製することができる。

真空蒸着法により、各層を形成する場合、真空蒸着の条件は、特に限定するものではないが、１０^-3Ｐａ程度以下の真空下で、５０〜６００℃程度のボート温度（蒸着源温度）、−５０〜３００℃程度の基板温度で、０．００５〜５０ｎｍ／ｓｅｃ程度の蒸着速度で実施することが好ましい。

この場合、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層等の各層は、真空下で、連続して形成することにより、諸特性に一層優れた有機電界発光素子を製造することができる。真空蒸着法により、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層等の各層を、複数の化合物を用いて形成する場合、化合物を入れた各ボートを個別に温度制御して、共蒸着することが好ましい。

溶液塗布法により、各層を形成する場合、各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂等を、溶媒に溶解、または分散させて塗布液とする。正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層の各層に使用しうるバインダー樹脂としては、例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリエチレンエーテル、ポリプロピレンエーテル、ポリフェニレンオキサイド、ポリエーテルスルフォン、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体等の高分子化合物が挙げられる。バインダー樹脂は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。

溶液塗布法により、各層を形成する場合、各層を形成する成分あるいはその成分とバインダー樹脂等を、適当な有機溶媒（例えば、ヘキサン、オクタン、デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、１−メチルナフタレン等の炭化水素系溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶媒、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、例えば、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルフォキサイド等の極性溶媒）および／または水に溶解、または分散させて塗布液とし、各種の塗布法により、薄膜を形成することができる。

尚、分散する方法としては、特に限定するものではないが、例えば、ボールミル、サンドミル、ペイントシェーカー、アトライター、ホモジナイザー等を用いて微粒子状に分散することができる。塗布液の濃度に関しては、特に限定するものではなく、実施する塗布法により、所望の厚みを作製するに適した濃度範囲に設定することができ、一般には、０．１〜５０質量％程度、好ましくは、１〜３０質量％程度の溶液濃度である。尚、バインダー樹脂を使用する場合、その使用量に関しては、特に限定するものではないが、一般には、各層を形成する成分に対して（一層型の素子を形成する場合には、各成分の総量に対して）、５〜９９．９質量％程度、好ましくは、１０〜９９質量％程度、より好ましくは、１５〜９０質量％程度に設定する。

正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層の膜厚に関しては、特に限定するものではないが、一般に、５ｎｍ〜５μｍ程度に設定することが好ましい。尚、作製した素子に対し、酸素や水分等との接触を防止する目的で、保護層（封止層）を設けたり、また素子を、例えば、パラフィン、流動パラフィン、シリコンオイル、フルオロカーボン油、ゼオライト含有フルオロカーボン油などの不活性物質中に封入して保護することができる。

保護層に使用する材料としては、例えば、有機高分子材料（例えば、フッ素化樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリパラキシレン、ポリエチレン、ポリフェニレンオキサイド）、無機材料（例えば、ダイヤモンド薄膜、アモルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、金属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物）、さらには光硬化性樹脂などを挙げることができ、保護層に使用する材料は、単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。保護層は、一層構造であってもよく、また多層構造であってもよい。

また、電極に保護膜として、例えば、金属酸化膜（例えば、酸化アルミニウム膜）、金属フッ化膜を設けることもできる。また、例えば、陽極の表面に、例えば、有機リン化合物、ポリシラン、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体（例えば、銅フタロシアニン）、カーボンから成る界面層（中間層）を設けることもできる。さらに、電極、例えば、陽極はその表面を、例えば、酸、アンモニア／過酸化水素、あるいはプラズマで処理して使用することもできる。

本発明の有機電界発光素子は、一般に、直流駆動型の素子として使用されるが、パルス駆動型または交流駆動型の素子としても使用することができる。尚、印加電圧は、一般に、２〜３０Ｖ程度である。

本発明の有機電界発光素子は、例えば、パネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の標識、各種のセンサーなどに使用することができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、勿論、本発明はこれらに限定されるものではない。

（実施例１） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニルを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で７５ｎｍの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。次いで、その上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムと例示化合物番号５の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１００：２．０）し、発光層とした。次に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、５６ｍＡ／ｃｍ²の電流が流れた。輝度２５４０ｃｄ／ｍ² の黄緑色の発光が確認された。

（実施例２〜１６） 有機電界発光素子の作製
実施例１において、発光層の形成に際して、例示化合物番号５の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号１７の化合物（実施例２）、例示化合物番号２４の化合物（実施例３）、例示化合物番号３２の化合物（実施例４）、例示化合物番号４５の化合物（実施例５）、例示化合物番号４８の化合物(実施例６)、例示化合物番号５０の化合物（実施例７）、例示化合物番号５４の化合物（実施例８）、例示化合物番号５６の化合物（実施例９）、例示化合物番号７７の化合物（実施例１０）、例示化合物番号９０の化合物（実施例１１）、例示化合物番号９６の化合物（実施例１２）、例示化合物番号１４５の化合物（実施例１３）、例示化合物番号１５６の化合物（実施例１４）、例示化合物番号１６２の化合物（実施例１５）、例示化合物番号１７５の化合物（実施例１６）を使用した以外は、実施例１に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。それぞれの素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、黄緑色〜赤色の発光が確認された。さらにその特性を調べ、結果を表１に示した。

（比較例１）
実施例１において、発光層の形成に際して、例示化合物番号５の化合物を使用せずに、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムだけを用いて、５０ｎｍの厚さに蒸着し、発光層とした以外は、実施例１に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、緑色の発光が確認された。さらにその特性を調べ、結果を表１に示した。

（比較例２）
実施例１において、発光層の形成に際して、例示化合物番号５の化合物を使用する代わりに、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸−ビス（２'，６'−ジイソプロピルアニリド）を使用した以外は、実施例１に記載の方法により有機電界発光素子を作製した。この素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、黄赤色の発光が確認された。さらにその特性を調べ、結果を表１に示した。

（実施例１７） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニルを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で７５ｎｍの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。次いで、その上に、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（２−フェニルフェノラート）アルミニウムと例示化合物番号４８の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１００：０．５）し、発光層とした。次に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。
さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、５８ｍＡ／ｃｍ²の電流が流れた。輝度２２８０ｃｄ／ｍ²の黄赤色の発光が確認された。

（実施例１８） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（１"−ナフチル）アミノ〕ビフェニルを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で７５ｎｍの厚さに蒸着し、正孔注入輸送層とした。次いで、その上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムと例示化合物番号１５６の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で５０ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１００：１．０）し、発光層とした。
次いで、その上に、１，３−ビス〔５'−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２'−イル〕ベンゼンを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１４Ｖの直流電圧を印加したところ、４７ｍＡ／ｃｍ² の電流が流れた。輝度２２６０ｃｄ／ｍ² の黄赤色の発光が確認された。

（実施例１９） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、４，４'，４"−トリス〔Ｎ−（３"'−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミンを、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに蒸着し、第一正孔注入輸送層とした。次いで、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（１"−ナフチル）アミノ〕ビフェニルと例示化合物番号１７５の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで、２０ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１００：２．０）し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層とした。次に、その上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１５Ｖの直流電圧を印加したところ、６５ｍＡ／ｃｍ² の電流が流れた。輝度３１７０ｃｄ／ｍ² の黄赤色の発光が確認された。

（実施例２０） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、４，４'，４"−トリス〔Ｎ−（３"'−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミンを、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃ で５０ｎｍの厚さに蒸着し、第一正孔注入輸送層とした。次いで、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（１"−ナフチル）アミノ〕ビフェニルと例示化合物番号１５７の化合物を、異なる蒸着源から、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で、２０ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１００：３．０）し、第二正孔注入輸送層を兼ねた発光層とした。次に、その上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層とした。さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１５Ｖの直流電圧を印加したところ、６５ｍＡ／ｃｍ²の電流が流れた。輝度３２２０ｃｄ／ｍ² の黄赤色の発光が確認された。

（実施例２１） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した。次に、ＩＴＯ透明電極上に、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール（重量平均分子量１５００００）、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（青色の発光成分）、クマリン６〔"３−（２'−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン"（緑色の発光成分）〕、および例示化合物番号１６２の化合物を、それぞれ質量比１００：５：３：２の割合で含有する３質量％ジクロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、厚さ４００ｎｍの発光層を形成した。次に、この発光層を有するガラス基板を、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。さらに、発光層の上に、３−（４'−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４"−ビフェニル）−１，２，４−トリアゾールを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２０ｎｍの厚さに蒸着した後、さらにその上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で３０ｎｍの厚さに蒸着し電子注入輸送層とした
さらにその上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１２Ｖの直流電圧を印加したところ、７４ｍＡ／ｃｍ²の電流が流れた。輝度１２５０ｃｄ／ｍ²の白色の発光が確認された。

（実施例２２） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した。次に、ＩＴＯ透明電極上に、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール（重量平均分子量１５００００）、１，３−ビス〔５'−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２'−イル〕ベンゼンおよび例示化合物番号１６５の化合物を、それぞれ質量比１００：３０：２の割合で含有する３質量％ジクロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により厚さ３００ｎｍの発光層を形成した。次に、この発光層を有するガラス基板を、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１５Ｖの直流電圧を印加したところ、７６ｍＡ／ｃｍ² の電流が流れた。輝度１１５０ｃｄ／ｍ² の黄赤色の発光が確認された。

（実施例２３） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。その基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した。次に、ＩＴＯ透明電極上に、ポリカーボネート（重量平均分子量５００００）、４，４'−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３"−メチルフェニル）アミノ〕ビフェニル、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムおよび例示化合物番号６５の化合物を、それぞれ質量比１００：４０：６０：１の割合で含有する３質量％ジクロロエタン溶液を用いて、ディップコート法により、３００ｎｍの厚さの発光層を形成した。次に、この発光層を有するガラス基板を、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。さらに、発光層の上に、マグネシウムと銀を、蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃ で２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。作製した有機電界発光素子に、乾燥雰囲気下、１５Ｖの直流電圧を印加したところ、６６ｍＡ／ｃｍ² の電流が流れた。輝度１０８０ｃｄ／ｍ² の黄赤色の発光が確認された。

（実施例２４） 有機電界発光素子の作製
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を有するガラス基板を、中性洗剤、アセトン、エタノールを用いて超音波洗浄した。この基板を窒素ガスを用いて乾燥し、さらにＵＶ／オゾン洗浄した後、蒸着装置の基板ホルダーに固定した後、蒸着槽を３×１０^-5Ｐａに減圧した。まず、ＩＴＯ透明電極上に、ポリ（チオフェン−２，５−ジイル）を蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで、２０ｎｍの厚さに蒸着し、第１正孔注入輸送層を形成した。
次いで、例示化合物番号１７０の化合物を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５５ｎｍの厚さに蒸着し、第２正孔注入輸送層を形成した。次に、その上に、トリス（８−キノリノラート）アルミニウムを蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで５０ｎｍの厚さに蒸着し、電子注入輸送層を兼ね備えた発光層を形成した。さらに、その上に、マグネシウムと銀を蒸着速度０．２ｎｍ／ｓｅｃで２００ｎｍの厚さに共蒸着（質量比１０：１）して陰極とし、有機電界発光素子を作製した。尚、蒸着は、蒸着槽の減圧状態を保ったまま実施した。作製した有機電界発光素子に直流電圧を印加し、乾燥雰囲気下、６Ｖの直流電圧を印加したところ、１０ｍＡ／ｃｍ²の電流が流れた。輝度５４０ｃｄ／ｍ²の緑色の発光が確認された。

（実施例２５） 例示化合物１の製造

化合物１−１（３−（３−チエニル）フルオランテン）の製造
３−ブロモフルオランテン（２．９５ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）、３−チオフェンボロン酸（２．８２ｇ，２２．０ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（８．５５ｇ，８０．７ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１００ｍＬ）、エタノール（２５ｍＬ）および水（２５ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（３９３ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱還流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、化合物１−１（３−（３−チエニル）フルオランテン）の結晶（２．７２ｇ，９．５６ｍｍｏｌ、収率：９１％）を得た。

化合物１−２（［３−（２−ブロモ）チエニル］フルオランテン）の製造
化合物１−１（１．７３ｇ，６．０８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモサクシイミド（４．８ｇ，２６．８ｍｍｏｌ）を室温で加えて、２４時間撹拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（８００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して固体を得た（１．４９ｇ，５．２８ｍｍｏｌ、収率：８７％）。

化合物１−３の製造
化合物１−２（１．４９ｇ，５．２８ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．８２ｇ，６．４４ｍｍｏｌ）の混合物にＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこに酢酸パラジウム（１１６ｍｇ，０．５２８ｍｍｏｌ）を加えて１５０℃にて１５時間加熱した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で処理した。トルエンを減圧留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１−３の赤紫色結晶（７２８ｍｇ，２．５９ｍｍｏｌ、収率：４９％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝２８２）及び元素分析（Ｃ：８５．０、Ｈ：３．６）より同定した。

（実施例２６）

化合物２−１の製造
実施例２５で得られた化合物１−３（１．４１ｇ，５．００ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（７００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（８．９９ｇ，５．０５ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（８００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して目的物である化合物２−１の固体を得た（１．４８ｇ，４．１０ｍｍｏｌ、収率：８２％）。

（実施例２７）

化合物３−１の製造
実施例２６で得られた化合物２−１（１３．６ｇ，３７．６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２００ｍＬに溶解し、−７０℃に冷却した。１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液２９ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、−１０℃まで昇温した。再び−７０℃まで冷却し、ボロン酸トリメチルエステル１２．５ｍＬ無水テトラヒドロフラン溶液を徐々に滴下した。−７０℃にて２時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。一晩放置後、１０％塩酸水溶液５０ｍＬを加えて攪拌し、トルエンで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、トルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで化合物３−１を得た（８．８４ｇ，２７．１ｍｍｏｌ、収率７２％）。

（実施例２８）

化合物４−１の製造
実施例２６で得られた化合物２−１（１．４４ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン溶液１００ｍＬに溶解し、マグネシウム（削り状）（０．２４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を装入して２時間環流させた。この溶液を氷冷し、臭化トリメチルスズ（２．４３ｇ，１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに２４時間環流させた。反応混合物を氷冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を終了させた。溶媒を留去し、トルエン（２００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過で取り除いた後、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノールで洗浄し、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して固体を得た（５３４ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ、収率：３０％）。

（実施例２９） 例示化合物２の製造

化合物５−１の製造
実施例２６で得られた化合物２−１（１．４４ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン溶液１６０ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却した。これに、１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液５ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、室温に昇温しつつ１時間撹拌した。この溶液を再度−７８℃に冷却し、ここにメチルブロマイド（０．９４ｇ，１０ｍｍｏｌ）をシリンジで加えた。室温で８時間撹拌後、水処理し、ジクロロメタンで抽出（３００ｍＬ×２）した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／ジクロロメタン＝４：１）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をトルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで目的物の化合物５−１（例示化合物２）を得た（１．１３ｇ，３．８０ｍｍｏｌ、収率：９５％）。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝２９６）及び元素分析（Ｃ：８５．１、Ｈ：４．０）より同定した。

（実施例３０〜実施例３２）
実施例２９においてメチルブロマイドを使用する代わりに、ブチルブロマイド（実施例３０）、オクチルブロマイド（実施例３１）、３−ブトキシプロピルブロマイド（実施例３２）を使用した以外は実施例５に記載の方法により、例示化合物５（実施例３０）、例示化合物６（実施例３１）、例示化合物２５（実施例３２）を製造した。

得られた化合物は、実施例３０に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３３８）及び元素分析（Ｃ：８５．１、Ｈ：５．３）、実施例３１に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３９４）及び元素分析（Ｃ：８５．２、Ｈ：６．６）、実施例３２に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３９６）及び元素分析（Ｃ：８１．６、Ｈ：６．０、Ｏ：４．０）より同定した。

（実施例３３） 例示化合物１７の製造

化合物６−１の製造
実施例２６で得られた化合物２−１（１．４８ｇ，４．１０ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（５４８ｍｇ，４．５０ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（３．３３ｇ，３１．５ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（８０ｍＬ）、エタノール（２０ｍＬ）および水（２０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（１９７ｍｇ，０．１７０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（１５０ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物６−１（１．３１ｇ，３．６５ｍｍｏｌ、収率：８９％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３５８）及び元素分析（Ｃ：８７．１、Ｈ：３．８）より同定した。

（実施例３４） 例示化合物１８の製造
実施例３３においてフェニルボロン酸を使用する代わりに、２−ナフタレンボロン酸を使用した以外は実施例３３に記載の方法により、目的物である例示化合物１８を製造した（１．３９ｇ，３．４０ｍｍｏｌ、収率８３％）。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４０８）及び元素分析（Ｃ：８８．０、Ｈ：３．９）より同定した。

（実施例３５） 例示化合物２４の製造

化合物７−２の製造
実施例２５において３−ブロモフルオランテンを使用する代わりに、化合物７−１を使用した以外は、実施例２５に記載の方法により、化合物７−２（３．６７ｇ，８．４０ｍｍｏｌ、収率：８４％）を得た。

化合物７−３の製造
実施例２５において化合物１−１を使用する代わりに、化合物７−２を使用した以外は、実施例２５に記載の方法により、化合物７−３（３．７２ｇ，７．２２ｍｍｏｌ、収率：８６％）を得た。

化合物７−４の製造
実施例２５において化合物１−２を使用する代わりに、化合物７−３を使用した以外は、実施例２５に記載の方法により、化合物７−４を（１．７３ｇ，３．９７ｍｍｏｌ、収率：５５％）を得た。

化合物７−５の製造
化合物７−４（１．７３ｇ，３．９７ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（７００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（３．１４ｇ，１７．６ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（１０００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物７−５の固体を得た（１．２９ｇ，２．１８ｍｍｏｌ、収率：５５％）。

化合物７−６の製造
実施例３３において化合物２−１を使用する代わりに、化合物７−５を使用した以外は、実施例３３に記載の方法により、化合物７−６を得た（１．０８ｇ，１．８５ｍｍｏｌ、収率：８５％）。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５８６）及び元素分析（Ｃ：９０．０、Ｈ：４．４）より同定した。

（実施例３６） 例示化合物２９の製造

化合物７−１（１，５−ビス（３−チエニル）ナフタレン）の製造
１，５−ジブロモナフタレン（３．００ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）、３−チオフェンボロン酸（２．８２ｇ，２２．０ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（８．５５ｇ，８０．７ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１００ｍＬ）、エタノール（２５ｍＬ）および水（２５ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３９３ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱還流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、化合物７−１（１，５−ビス（３−チエニル）ナフタレン）の結晶（２．７３ｇ，９．３５ｍｍｏｌ、収率：８９％）を得た。

化合物７−２（１，５−ビス［３−（２−ブロモ）チエニル］ナフタレン）の製造
化合物７−１（８８９ｍｇ，３．０４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２．４ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を室温で加えて、２４時間撹拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、エーテル（４００ｍＬ）に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物７−２の固体を得た（１．１９ｇ，２．６４ｍｍｏｌ、収率：８７％）。

化合物７−３の製造
化合物７−２（１．１９ｇ，２．６４ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．８２ｇ，６．４４ｍｍｏｌ）の混合物にＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこに酢酸パラジウム（１１６ｍｇ，０．５２８ｍｍｏｌ）を加えて１５０℃にて１５時間加熱した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で処理した。トルエンを減圧留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物７−３の赤紫色結晶（３０５ｍｇ，１．０６ｍｍｏｌ、収率：４０％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝２８８）及び元素分析（Ｃ：７４．８、Ｈ：２．８）より同定した。

（実施例３７）

化合物８−１の製造
実施例３６で得られた化合物７−３（１．７３ｇ，６．００ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（７００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２．１６ｇ，１２．１２ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（８００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物８−１の固体を得た（２．０９ｇ，４．６８ｍｍｏｌ、収率：７８％）。

（実施例３８）

化合物９−１の製造
実施例３７で得られた化合物８−１（８．４ｇ，１８．８ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２００ｍＬに溶解し、−７０℃に冷却した。１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液２９ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、−１０℃まで昇温した。再び−７０℃まで冷却し、ボロン酸トリメチルエステル１２．５ｍＬ脱水ＴＨＦ溶液を徐々に滴下した。−７０℃にて２時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。一晩放置後、１０％塩酸水溶液５０ｍＬを加えて攪拌し、トルエンで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、トルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで化合物９−１を得た（４．７３ｇ，１２．６ｍｍｏｌ、収率６７％）。

（実施例３９）

化合物１０−１の製造
実施例３７で得られた化合物８−１（１．７８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン溶液１００ｍＬに溶解し、マグネシウム（削り状）（０．２４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を装入して２時間環流させた。この溶液を氷冷し、臭化トリメチルスズ（２．４３ｇ，１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに２４時間環流させた。反応混合物を氷冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を終了させた。溶媒を留去し、トルエン（２００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過で取り除いた後、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノールで洗浄し、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して固体を得た（８８４ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ、収率：３６％）。

（実施例４０）

化合物１０−１の製造
実施例３７で得られた化合物８−１（１．７８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン溶液１６０ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却した。これに、１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液１０ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、室温に昇温しつつ１時間撹拌した。この溶液を再度−７８℃に冷却し、ここにメチルブロマイド（１．８８ｇ，２０ｍｍｏｌ）をシリンジで加えた。徐々に室温まで昇温し、室温で１時間撹拌後、水処理し、ジクロロメタンで抽出（３００ｍＬ×２）した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／ジクロロメタン＝４：１）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をトルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで目的物の化合物１０−１（例示化合物３１）を得た（１．２０ｇ，３．８０ｍｍｏｌ、収率：９５％）。
得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３１６）及び元素分析（Ｃ：７５．８、Ｈ：３．９）より同定した。

（実施例４１〜実施例４３）
実施例４０においてメチルブロマイドを使用する代わりに、エチルブロマイド（実施例４１）、ヘキシルブロマイド（実施例４２）、オクチルブロマイド（実施例４３）、を使用した以外は、実施例１５に記載の方法により、目的物である例示化合物３２（実施例４１）、例示化合物３４（実施例４２）、例示化合物３５（実施例４３）を製造した。

得られた化合物は、実施例４１に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３４４）及び元素分析（Ｃ：７６．５、Ｈ：４．６）、実施例４２に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４５６）及び元素分析（Ｃ：７８．８、Ｈ：７．０）、実施例４３に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５１２）及び元素分析（Ｃ：７９．６、Ｈ：７．５）より同定した。

（実施例４４） 例示化合物４５の製造

化合物１１−１の製造
実施例３７で得られた化合物８−１（１．７８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．０９ｇ，９．００ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．６６ｇ，６３．０ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１６０ｍＬ）、エタノール（４０ｍＬ）および水（４０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（３９４ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（３００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１１−１（１．４５ｇ，３．２８ｍｍｏｌ、収率：８２％）を得た。

（実施例４５〜実施例５５）
実施例４４においてフェニルボロン酸を使用する代わりに、１−ナフタレンボロン酸（実施例４５）、２−ナフタレンボロン酸（実施例４６）、２−フェニル−５−チオフェンボロン酸（実施例４７）、４−ヘキシルフェニルボロン酸（実施例４８）、、３、５−ジメチルフェニルボロン酸（実施例５０）、４−フルオロフェニルボロン酸（実施例５１）、３−フルオロフェニルボロン酸（実施例５２）、４−メトキシフェニルボロン酸（実施例５３）、４−プロピルオキシフェニルボロン酸（実施例５４）、４−オクチルオキシフェニルボロン酸（実施例５５）を使用した以外は、実施例４４に記載の方法により、目的物である例示化合物４７（実施例４５）、例示化合物４８（実施例４６）、例示化合物４９（実施例４７）、例示化合物５０（実施例４８）、例示化合物５２（実施例５０）、例示化合物５３（実施例５１）、例示化合物５４（実施例５２）、例示化合物５６（実施例５３）、例示化合物５７（実施例５４）、例示化合物５８（実施例５５）を製造した。

得られた化合物は、実施例４５に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５４０）及び元素分析（Ｃ：８４．４、Ｈ：３．７）、実施例４６に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５４０）及び元素分析（Ｃ：８４．０、Ｈ：３．８）、実施例４７に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６０４）及び元素分析（Ｃ：７５．５、Ｈ：３．２）、実施例４８に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５５２）及び元素分析（Ｃ：８２．４、Ｈ：５．８）、実施例５０に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４９６）及び元素分析（Ｃ：８２．２、Ｈ：４．８）、実施例５１に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４７６）及び元素分析（Ｃ：７５．６、Ｈ：２．９）、実施例５２に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４７６）及び元素分析（Ｃ：７５．８、Ｈ：３．０）、実施例５３に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５００）及び元素分析（Ｃ：７６．７、Ｈ：４．０、Ｏ：６．４）、実施例５４に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５５６）及び元素分析（Ｃ：７７．５、Ｈ：５．０、Ｏ：５．７）、実施例５５に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６９６）及び元素分析（Ｃ：７９．１、Ｈ：６．９、Ｏ：４．６）より同定した。

（実施例５６） 例示化合物７３の製造

化合物１２−１の製造
１，４−ジブロモナフタレン（３．００ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）、３−チオフェンボロン酸（２．８２ｇ，２２．０ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（８．５５ｇ，８０．７ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１００ｍＬ）、エタノール（２５ｍＬ）および水（２５ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３９３ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱還流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、化合物１２−１（１，４−ビス（３−チエニル）ナフタレン）の結晶（２．６１g，８．９３ｍｍｏｌ、収率：８５％）を得た。

化合物１２−２の製造
化合物１２−１（８８９ｍｇ，３．０４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２．４ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を室温で加えて、２４時間撹拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、エーテル（４００ｍＬ）に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物３−２の固体を得た（１．１２ｇ，２．４９ｍｍｏｌ、収率：８２％）。

化合物１２−３の製造
化合物１２−２（１．１２ｇ，２．４９ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．４３ｇ，６．０７ｍｍｏｌ）の混合物にＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこに酢酸パラジウム（１０９ｍｇ，０．４９８ｍｍｏｌ）を加えて１５０℃にて１５時間加熱した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で処理した。トルエンを減圧留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１−４の赤紫色結晶（３０２ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ、収率：４２％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝２８８）及び元素分析（Ｃ：７４．７、Ｈ：２．９）より同定した。

（実施例５７）

化合物１３−１の製造
実施例３１で得られた化合物１２−３（１．７３ｇ，６．００ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（７００ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２．１６ｇ，１２．１２ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（８００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物１３−の固体を得た（２．１４ｇ，４．８０ｍｍｏｌ、収率：８０％）。

（実施例５８）

化合物１４−１の製造
実施例５７で得られた化合物１３−１（４．４６ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン１１０ｍＬに溶解し、−７０℃に冷却した。１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液３０ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、−１０℃まで昇温した。再び−７０℃まで冷却し、ボロン酸トリメチルエステル６．７ｍＬ脱水ＴＨＦ溶液を徐々に滴下した。−７０℃にて２時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。一晩放置後、１０％塩酸水溶液３０ｍＬを加えて攪拌し、トルエンで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、トルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで化合物１４−１を得た（２．２９ｇ，６．１０ｍｍｏｌ、収率６１％）。

（実施例５８）

化合物１５−１の製造
実施例５７で得られた化合物１３−１（１．４４ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン溶液１００ｍＬに溶解し、マグネシウム（削り状）（０．２４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を装入して２時間環流させた。この溶液を氷冷し、臭化トリメチルスズ（２．４３ｇ，１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに２４時間環流させた。反応混合物を氷冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を終了させた。溶媒を留去し、トルエン（２００ｍＬ）に溶解させ、これを水（２００ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過で取り除いた後、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノールで洗浄し、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して固体を得た（７８６ｍｇ，１．２８ｍｍｏｌ、収率：３２％）。

（実施例５９） 例示化合物７５の製造

化合物１６−１の製造
実施例５７で得られた化合物１３−１（１．７８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン１６０ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却した。これに、１．６Ｍブチルリチウムヘキサン溶液１０ｍＬを滴下し、−４０℃で３０分間攪拌後、室温に昇温しつつ１時間撹拌した。この溶液を再度−７８℃に冷却し、ここにメチルブロマイド（１．８８g，２０．０ｍｍｏｌ）をシリンジで加えた。徐々に室温まで昇温し、室温で１時間撹拌後、水処理し、ジクロロメタンで抽出（３００mL×２）した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いた後、溶媒を留去して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／ジクロロメタン＝４：１）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をトルエン／ヘキサンから結晶化、ろ過・乾燥することで目的物の化合物１６−１を得た（１．１４ｇ，３．６０ｍｍｏｌ、収率：９０％）。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３１６）及び元素分析（Ｃ：７５．９、Ｈ：３．８）より同定した。

（実施例６０〜実施例６２）
実施例５９においてメチルブロマイドを使用する代わりに、エチルブロマイド（実施例６０）、ブチルブロマイド（実施例６１）、ヘキシルブロマイド（実施例６２）、オクチルブロマイド（実施例６３）を使用した以外は、実施例５９に記載の方法により、目的物である例示化合物７６（実施例６０）、例示化合物７７（実施例６１）、例示化合物７８（実施例６２）を製造した。

得られた化合物は、実施例６０に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝３４４）及び元素分析（Ｃ：７６．５、Ｈ：４．６）、実施例６１に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４００）及び元素分析（Ｃ：７７．８、Ｈ：６．０）、実施例６２に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４５６）及び元素分析（Ｃ：７８．７、Ｈ：７．０）より同定した。

（実施例６３）

化合物１７−１の製造
実施例５７で得られた化合物１３−１（１．７８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．０９ｇ，９．００ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．６６ｇ，６３．０ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１６０ｍＬ）、エタノール（４０ｍＬ）および水（４０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（３９４ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（３００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１７−１（１．４１ｇ，３．２０ｍｍｏｌ、収率：８０％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４４０）及び元素分析（Ｃ：８１．８、Ｈ：３．６）より同定した。

（実施例６４〜実施例７４）
実施例６３においてフェニルボロン酸を使用する代わりに、４−ビフェニルボロン酸（実施例６４）、４−メチルフェニルボロン酸（実施例６５）、２−ナフタレンボロン酸（実施例６６）、２−ヘキシル−５−チオフェンボロン酸（実施例６７）、４−ヘキシルフェニルボロン酸（実施例６８）、４−ヘプチルフェニルボロン酸（実施例６９）、３、５−ジメチルフェニルボロン酸（実施例７０）、４−フルオロフェニルボロン酸（実施例７１）、４−メトキシフェニルボロン酸（実施例７２）、４−プロピルオキシフェニルボロン酸（実施例７３）、４−ヘプチルオキシフェニルボロン酸（実施例７４）を使用した以外は、実施例６３に記載の方法により、目的物である例示化合物９０（実施例６４）、例示化合物９１（実施例６５）、例示化合物９２（実施例６６）、例示化合物９３（実施例６７）、例示化合物９４（実施例６８）、例示化合物９５（実施例６９）、例示化合物９６（実施例７０）、例示化合物９７（実施例７１）、例示化合物１００（実施例７２）、例示化合物１０１（実施例７３）、例示化合物１０２（実施例７４）を製造した。

得られた化合物は、実施例６４に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５９２）及び元素分析（Ｃ：８５．０、Ｈ：４．０）、実施例６５に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４６８）及び元素分析（Ｃ：８２．０、Ｈ：４．１）、実施例６６に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５４０）及び元素分析（Ｃ：８４．２、Ｈ：３．７）、実施例６７に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６２０）及び元素分析（Ｃ：７３．５、Ｈ：５．９）、実施例６８に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５５２）及び元素分析（Ｃ：８２．４、Ｈ：５．８）、実施例６９に関してはＦＤ−ＭＳ側定（ｍ/Ｚ＝６３６）及び元素分析（Ｃ：８２．５、Ｈ：６．８）、実施例７０に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４９６）及び元素分析（Ｃ：８２．２、Ｈ：４．５）、実施例７１に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝４７６）及び元素分析（Ｃ：７５．５、Ｈ：３．０）、実施例７２に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５００）及び元素分析（Ｃ：７６．８、Ｈ：３．９、Ｏ：６．４）、実施例７３に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５５６）及び元素分析（Ｃ：７７．５、Ｈ：５．０、Ｏ：５．８）、実施例７４に関してはＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６６８）及び元素分析（Ｃ：７９．０、Ｈ：６．７、Ｏ：４．８）より同定した。

（実施例７５） 例示化合物１４５の製造

化合物１８−１の製造
１，５−ナフタレンジボロン酸（８６３ｍｇ，４．００ｍｍｏｌ）、３，４−ジブロモチオフェン（１．１６ｇ，４．８０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ビスパラジウム（Pd2(dba)3）（８２７ｍg，０．８０ｍｍｏｌ）、トリシクロヘキシルホスフィン（４４７ｍg，１．６０ｍｍｏｌ）およびジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）（４ｍＬ）の混合物にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０mL）を装入して、窒素雰囲気下、１５５℃で４８時間加熱した。反応混合物を放冷して室温に戻し、ジクロロメタン（１００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を１０重量％塩化水素水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１８−１（９２２ｍg，３．２０ｍｍｏｌ、収率：８０％）を得た。

化合物１８−２の製造
化合物１８−１（９２２ｍg，３．２０ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００ｍＬ）溶液にＮ−ブロモコハク酸イミド（１．１６g，６．５ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（４００ｍＬ）に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物１８−２の固体を得た（１．５１ｇ，２．５０ｍｍｏｌ、収率：７８％）。

化合物１８−３の製造
化合物１８−２（１．５１ｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．３４ｇ，１１．００ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．８７ｇ，６５．０ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１６０ｍＬ）、エタノール（４０ｍＬ）および水（４０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（４０６ｍｇ，０．３５０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（３００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物１８−３（１．１８ｇ，２．００ｍｍｏｌ、収率：８０％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５９２）及び元素分析（Ｃ：８５．１、Ｈ：４．０）より同定した。

（実施例７６） 例示化合物１５７の製造

化合物１９−１の製造
実施例３７で得られた化合物４−１（６．５ｇ，１４．５ｍｍｏｌ）、ジフェニルアミン（４．９ｇ，２９ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．０８５ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、トリ-tert-ブチルホスフィン（０．０２５ｇ，１．２５ｍｍｏｌ）、ナトリウム−tert−ブトキシド（２．８ｇ，２９ｍｍｏｌ）のキシレン（８０ｍＬ）溶液を１１０℃で６時間攪拌した。冷却後、メタノール（３００ｍＬ）を添加し、析出する粗生成物をろ取し、アセトニトリル（４００ｍＬ）溶液にけん濁した。３０分還流した後、析出する粗結晶をろ別した。乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、トルエンで再結晶することで目的物である化合物１９−１の結晶を得た（６．５ｇ，１０．４ｍｍｏｌ、収率７２％）。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６２３）及び元素分析（Ｃ：８１．０、Ｈ：４．３、Ｎ：４．４）より同定した。

（実施例７７） 例示化合物１６５の製造
実施例７６において化合物４−１を使用する代わりに化合物８−１を使用し、ジフェニルアミンを使用する代わりに３−メチルジフェニルアミンを使用する以外は、実施例７６に記載の方法により、化合物８−１を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝６５０）及び元素分析（Ｃ：８１．２、Ｈ：４．７、Ｎ：４．３）より同定した。

実施例７８） 例示化合物１６２の製造

化合物２０−１の製造
実施例３８で得られた化合物９−１（１．５０ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−３‘−メチル−トリフェニルアミン（３．０４ｇ，９．００ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６．６６ｇ，６３．０ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１６０ｍＬ）、エタノール（４０ｍＬ）および水（４０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（３９４ｍｇ，０．３４０ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（３００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物２０−１（２．５０ｇ，３．１２ｍｍｏｌ、収率：７８％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝８０３）及び元素分析（Ｃ：８３．８、Ｈ：４．７、Ｎ：３．４）より同定した。

（実施例７９） 例示化合物１７０の製造
実施例７８において化合物９−１を使用する代わりに、化合物１４−１を使用し、４−ブロモ−３’−メチル−トリフェニルアミンを使用する代わりに４−ブロモトリフェニルアミンを使用する以外は、実施例７９に記載の方法により、例示化合物１７０を製造した。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝７７５）及び元素分析（Ｃ：８３．６、Ｈ：４．５、Ｎ：３．６）より同定した。

（実施例８０） 例示化合物１５６の製造
実施例７８において化合物９−１を使用する代わりに化合物３−１を使用し、４−ブロモ−３’−メチル−トリフェニルアミンを使用する代わりに４−ブロモトリフェニルアミンを使用する以外は、実施例７９に記載の方法により、例示化合物１５６を製造した。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝５２５）及び元素分析（Ｃ：８６．８、Ｈ：４．４、Ｎ：２．６）より同定した。

（実施例８１）

化合物２１−１の製造
フルオランテン−３−ボロン酸（９８４ｍｇ，４．００ｍｍｏｌ）、３，４−ジブロモチオフェン（１．１６ｇ，４．８０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ビスパラジウム（Pd2(dba)3）（８２７ｍg，０．８０ｍｍｏｌ）、トリシクロヘキシルホスフィン（４４７ｍg，１．６０ｍｍｏｌ）およびジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）（４ｍＬ）の混合物にＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０mL）を装入して、窒素雰囲気下、１５５℃で４８時間加熱した。反応混合物を放冷して室温に戻し、ジクロロメタン（１００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を１０重量％塩化水素水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物２１−１（９４８ｍg，３．３６ｍｍｏｌ、収率：８４％）を得た。

化合物２１−２の製造
化合物２１−１（９４８ｍg，３．３６ｍｍｏｌ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００ｍＬ）溶液にＮ−ブロモコハク酸イミド（１．２１g，６．８０ｍｍｏｌ）を室温にて加えて、２４時間攪拌した。溶媒の大半をロータリーエバポレータによって留去し、トルエン（４００ｍＬ）に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体を温かいヘキサン、エタノールで洗浄した後、ジクロロメタン−メタノールで再沈殿して化合物２１−２の固体を得た（１．１６ｇ，２．６５ｍｍｏｌ、収率：７９％）。

化合物２１−３の製造
化合物２１−２（１．１６ｇ，２．６５ｍｍｏｌ）、トリフェニルアミン−４−ボロン酸（１．８８ｇ，６．５０ｍｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（３．４４ｇ，３２．５ｍｍｏｌ）の混合物にトルエン（１００ｍＬ）、エタノール（３０ｍＬ）および水（３０ｍＬ）を加えて溶解させ、そこにテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（２０３ｍｇ，０．１７５ｍｍｏｌ）を装入して、窒素雰囲気下、２４時間加熱環流した。反応混合物を放冷して室温に戻し、トルエン（２００ｍＬ）で希釈して、分離した有機層を２N水酸化カリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過によって取り除いたあと、溶媒を留去して粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタン）で処理した。溶媒を留去した後、得られた固体をエタノール／ジクロロメタン混合溶媒から再結晶し、目的物である化合物２１−３（１．６９ｇ，２．２０ｍｍｏｌ、収率：８３％）を得た。

得られた化合物は、ＦＤ−ＭＳ測定（ｍ/Ｚ＝７６９）及び元素分析（Ｃ：８７．５、Ｈ：４．７、Ｎ：３．５）より同定した。

本発明の有機電界発光素子は、発光輝度およびその安定性に優れており、例えば、パネル型光源、各種の発光素子、各種の表示素子、各種の標識、各種のセンサーなどに使用することができる。

有機電界発光素子の一例（Ａ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｂ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｃ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｄ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｅ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｆ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｇ）の概略構造図である。 有機電界発光素子の一例（Ｈ）の概略構造図である。

符号の説明

１：基板
２：陽極
３：正孔注入輸送層
３ａ：正孔注入輸送成分
４：発光層
４ａ：発光成分
５：電子注入輸送層
５"：電子注入輸送層
５ａ：電子注入輸送成分
６：陰極
７：電源

Claims (7)

1. 一対の電極間に、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層を少なくとも一層挟持してなる有機電界発光素子。
   

   

   （式中、Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表す）
2. 一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層が、正孔注入輸送層である請求項１記載の有機電界発光素子。
3. 一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有する層が、発光層である請求項１記載の有機電界発光素子。
4. 一対の電極間に、さらに、電子注入輸送層を有する請求項１〜３の何れか一項記載の有機電界発光素子。
5. 一般式（１）で表される化合物。
   

   

   （式中、Ｘ₁〜Ｘ₄はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、環Ａは置換または未置換のチオフェン環を表し、環Ｂは置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のチオフェン環を表す）
6. 一般式（１−Ａ）〜一般式（１−Ｆ）の何れかで表される請求項５記載の化合物。
   

   

   

   

   

   

   

   ［式中、Ｘ₁ 〜Ｘ₄は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ａ₁〜Ａ₂₈はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアミノ基、ホウ素含有基、あるいはスズ含有基を表す］
7. ホウ素含有基、あるいはスズ含有基がそれぞれ、一般式（Ｒ−１）または一般式（Ｒ−２）である請求項６記載の化合物。
   

   

   （式中、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ独立に、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、さらにＲ₁とＲ₂が結合して、直鎖、分岐または環状のアルキレン基、あるいは置換または未置換のアリーレン基を形成していてもよい）
   

   

   （式中、Ｒ₃〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す）

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