JP5454764B2 - Method for producing biaryl compounds - Google Patents
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Description
本発明は、ビアリール化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a biaryl compound.
ビアリール誘導体は天然に多く存在し、また、触媒、医薬品、機能性材料等の製造中間体としても有用である。しかし、ビアリール化合物は多数の置換様式をもつため、その置換位置の選択的な合成は困難であった。現存する置換ビアリール化合物の合成法としては、既存のビアリール骨格への求電子置換反応(例えば、非特許文献1参照。)や、遷移金属触媒によるクロスカップリング反応(例えば、非特許文献2参照。)が挙げられる。
しかしながら、上記非特許文献1、2に記載された技術により得られるビアリール誘導体は限定的であるといった課題がある。 However, there is a problem that the biaryl derivatives obtained by the techniques described in Non-Patent Documents 1 and 2 are limited.
そこで、本発明は、上記課題を鑑み、様々な置換様式をもつビアリール化合物を効率的、かつ、簡便に得る製造方法を提供することを目的とする。 Then, in view of the said subject, this invention aims at providing the manufacturing method which obtains the biaryl compound which has various substitution modes efficiently and simply.
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、ルテニウム触媒の存在下、容易に合成可能な様々な置換基を有するエンイン化合物のタンデム閉環エンインメタセシス/閉環オレフィンメタセシス反応を行なうことによって、様々なビアリール化合物が製造できることを見いだした。 As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have conducted a tandem ring-closing enyne metathesis / ring-closing olefin metathesis reaction of an ene-in compound having various substituents that can be easily synthesized in the presence of a ruthenium catalyst. It has been found that various biaryl compounds can be produced.
即ち、本発明の第一の態様は、下記一般式(1)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(2)で表される環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(3)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
上記一般式(1)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、R13及びR14、並びに、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(2)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基,置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(3)中、R3、R4、R6〜R10、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), R 3, R 4, R 6 ~R 10, R 12 ~R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, a substituent which may have a C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, substituted An optionally substituted silyl group, an optionally substituted alkylthio group (-SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), also an optionally substituted arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), have a substituent which may alkylsulfonyl group (-SO 2 Y 3, in the formula, Y 3 represents a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), an arylsulfonyl optionally having substituent group (-SO 2 Y 4, wherein , Y 4 represents a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. Also, R 3 and R 4, R 4 and R 6, R 6 and R 7, R 7 and R 8, R 9 and R 10, R 10 and R 12, R 12 and R 13, and R 13 and R 14 May be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated ring or unsaturated ring, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or —N ( B) -. group (wherein B represented by may be interrupted by a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group), and may have a substituent.
また、本発明の第二の態様は、下記一般式(4)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて一般式(5)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(4)中、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
また、上記一般式(5)中、R3、R4、R7〜R10、R13、R14、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R4、R7〜R10、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 Further, in the above general formula (5), R 3, R 4, R 7 ~R 10, R 13, R 14, are hydrogen atoms, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, which may have a substituent C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent A silyl group which may have, and an alkylthio group which may have a substituent (—SY 1 , wherein Y 1 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent. ), An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent), and may have a substituent. Arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 , R 4 , R 7 to R 10 , R 13 , and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 13 and R 14 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
また、本発明の第三の態様は、下記一般式(6)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させ、下記一般式(7)で表される環状化合物を発生させ、更に加熱分解、又は酸若しくは塩基存在下で反応させて、下記一般式(8)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお、上記一般式(6)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお、上記一般式(7)中、R3〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(8)中、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the above general formula (8), R 3 to R 5 , R 7 to R 9 , and R 11 to R 14 are a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, and a substituent. Yes it may have a group C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent An optionally substituted silyl group and an optionally substituted alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 to C 20 alkyl group). , An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted aryl a sulfonyl group (-SO 2 Y 4 In the formula, Y 4 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 to R 5 , R 7 to R 9 , and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
また本発明の第四の態様は、下記一般式(9)で表されるジエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式(10)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(9)中、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお、上記一般式(10)中、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (10), R 3 to R 5 , R 8 , R 9 , and R 12 to R 14 are a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, which may have a substituent C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent A silyl group which may have, and an alkylthio group which may have a substituent (—SY 1 , wherein Y 1 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent. ), An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent), and may have a substituent. Arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 represents a C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent), a hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 to R 5 , R 8 , R 9 and R 12 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom that may have a substituent.
また本発明の第五の態様は、下記一般式(11)で表されるエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることで、一般式(12)で表される環状化合物を発生させ、このものを加熱分解、あるいは酸もしくは塩基存在下で反応させる下記一般式(13)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(11)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお、上記一般式(12)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(13)中、R3、R5〜R11 、R13、R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11 、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (13), R 3 , R 5 to R 11 , R 13 , and R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, and a substituent. and C 1 optionally -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, substituted An optionally substituted silyl group, an optionally substituted alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), a substituent. An arylthio group (-SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), may have a substituent An alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group ( -SO 2 Y 4, In, Y 4 represents a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 , R 5 to R 11 , R 13 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 11 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
また本発明の第六の態様は、下記一般式(14)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(15)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(14)中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11 、R14〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(15)中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R6〜R11、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (15), R 3 , R 6 to R 11 and R 14 may have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4, in the formula, Y 4 May have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 , R 6 to R 11 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
また、本発明の第七の態様は、下記一般式(16)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(17)で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(18)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(16)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。)
上記一般式(17)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R13は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(18)中、R3〜R6、R8、R10〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (18), R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent. which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent have good arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), an alkyl which may have a substituent A sulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (— SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 8 , R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are Each may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, in the case of said rings, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a formula —N (B ) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
また本発明の第八の態様は、一般式(19)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(20)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
上記一般式(19)中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子;硫黄原子;又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
上記一般式(20)中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子;硫黄原子;又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (20), R 3 ~R 6 , R 11 ~R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, which may have a substituent good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4: in the formula, Y 4 Have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are each cross-linked and C 4 to C 10 saturated. A ring or an unsaturated ring may be formed, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is A hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group.) And may have a substituent. X is an oxygen atom; a sulfur atom; or a nitrogen atom that may have a substituent.
また本発明の第九の態様は、下記一般式(21)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(22)で表される環状化合物を発生させ、さらに加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(23)で表わされるビアリール化合物を製造する方法である。
上記一般式(21)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(22)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(23)中、R3、R5〜R11、R13、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11、R13、R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (23), R 3, R 5 ~R 11, R 13, R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, optionally having a substituent which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group which may have a substituent amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl A group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group or a halogen atom. R 3 , R 5 to R 11 , R 13 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 11 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
また本発明の第十の態様は、下記一般式(24)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(25)表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(24)中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(25)中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the above general formula (25), R 3 , R 6 to R 11 and R 14 may have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4, in the formula, Y 4 May have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 1 to R 3 , R 6 to R 11 , and R 14 to R 16 are independent of each other and may be the same or different. Also, R 1 and R 2 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 15 and R 16 are cross-linked with each other to form C 4 to C 10. A saturated ring or an unsaturated ring may be formed. In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B Is a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group.) And may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
また本発明の第十一の態様は、下記一般式(26)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(27)で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(28)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(26)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(27)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(28)中、R3〜R6、R8、R10〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the above general formula (28), R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent. which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent have good arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), an alkyl which may have a substituent A sulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (— SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 8 , R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are Each may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, in the case of said rings, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a formula —N (B ) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
また本発明の第十二の態様は、下記一般式(29)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(30)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
なお上記一般式(29)中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(30)中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (30), R 3 to R 6 and R 11 to R 14 each have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, or a substituent. which may C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent silyl group, which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group (-SO 2 Y 3, in the formula, Y 3 represents a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), which may have a substituent arylsulfonyl group (-SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 15 and R 16 are cross-linked with each other. C 4 to C 10 may form a saturated or unsaturated ring, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
以上、本発明により、様々な置換様式をもつビアリール化合物を効率的、かつ、簡便に得る製造方法を提供することができる。 As described above, the present invention can provide a production method for efficiently and simply obtaining biaryl compounds having various substitution modes.
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.
(第一の実施形態)
本発明の第一の実施形態は、下記一般式(1)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(2)で表される環状化合物を発生させ、更に、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(3)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the first embodiment of the present invention, an enyne represented by the following general formula (1) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (2), Furthermore, it is a method for producing a biaryl compound represented by the following general formula (3) by thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
上記一般式(1)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、R13及びR14、並びに、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(2)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基,置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(3)中、R3、R4、R6〜R10、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR12、R12及びR13、並びにR13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される基(ここでBは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (3), R 3, R 4, R 6 ~R 10, R 12 ~R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, a substituent which may have a C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, substituted An optionally substituted silyl group, an optionally substituted alkylthio group (-SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), also an optionally substituted arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), have a substituent which may alkylsulfonyl group (-SO 2 Y 3, in the formula, Y 3 represents a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), an arylsulfonyl optionally having substituent group (-SO 2 Y 4, wherein , Y 4 represents a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. Also, R 3 and R 4, R 4 and R 6, R 6 and R 7, R 7 and R 8, R 9 and R 10, R 10 and R 12, R 12 and R 13, and R 13 and R 14 May be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated ring or unsaturated ring, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or —N ( B) -. group (wherein B represented by may be interrupted by a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group), and may have a substituent.
ここで、本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20炭化水素基」の炭化水素基は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。C1〜C20炭化水素基が非環式の場合には、線状でもよいし、枝分かれしたものでもよい。「C1〜C20炭化水素基」にはC1〜C20アルキル基、C2〜C20アルケニル基、C2〜C20アルキニル基、C4〜C20アルキルジエニル基、C6〜C20アリール基、C6〜C20アルキルアリール基、C6〜C20アリールアルキル基、C3〜C20シクロアルキル基、C3〜C20シクロアルケニル基、(C3〜C10シクロアルキル)C1〜C20アルキル基などが含まれる。 In the present specification and claims, the hydrocarbon group of the “C 1 -C 20 hydrocarbon group” may be a saturated or unsaturated acyclic group, or a saturated or unsaturated ring. It may be a formula. When the C 1 to C 20 hydrocarbon group is acyclic, it may be linear or branched. "C 1 -C 20 hydrocarbon group" in the C 1 -C 20 alkyl group, C 2 -C 20 alkenyl group, C 2 -C 20 alkynyl group, C 4 -C 20 alkadienyl group, C 6 -C 20 aryl group, C 6 -C 20 alkylaryl group, C 6 -C 20 arylalkyl group, C 3 -C 20 cycloalkyl group, C 3 -C 20 cycloalkenyl group, (C 3 ~C 10 cycloalkyl) C etc. 1 -C 20 alkyl group.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20アルキル基」は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、C1〜C6アルキル基であることがさらに好ましい。アルキル基の例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, "C 1 -C 20 alkyl group" is preferably C 1 -C 10 alkyl group, more preferably a C 1 -C 6 alkyl group. Examples of alkyl groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecanyl and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C2〜C20アルケニル基」は、C2〜C10アルケニル基であることが好ましく、C2〜C6アルケニル基であることがさらに好ましい。アルケニル基の例としては、制限するわけではないが、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチルアリル、2−ブテニル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, "C 2 -C 20 alkenyl group" is preferably C 2 -C 10 alkenyl group, more preferably a C 2 -C 6 alkenyl group. Examples of alkenyl groups include, but are not limited to, vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methylallyl, 2-butenyl and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C2〜C20アルキニル基」は、C2〜C10アルキニル基であることが好ましく、C2〜C6アルキニル基であることがさらに好ましい。アルキニル基の例としては、制限するわけではないが、エチニル、2−プロピニル、2−ブチニル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 2 -C 20 alkynyl group” is preferably C 2 -C 10 alkynyl group, and more preferably C 2 -C 6 alkynyl group. Examples of alkynyl groups include, but are not limited to, ethynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C4〜C20アルキルジエニル基」は、C4〜C10アルキルジエニル基であることが好ましく、C4〜C6アルキルジエニル基であることがさらに好ましい。アルキルジエニル基の例としては、制限するわけではないが、1、3−ブタジエニル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, "C 4 -C 20 alkyldienyl group" is preferably C 4 -C 10 alkadienyl group, are C 4 -C 6 alkadienyl group More preferably. Examples of alkyldienyl groups include, but are not limited to, 1,3-butadienyl.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アリール基」は、C6〜C10アリール基であることが好ましい。アリール基の例としては、制限するわけではないが、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 6 -C 20 aryl group” is preferably a C 6 -C 10 aryl group. Examples of the aryl group include, but are not limited to, phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, indenyl, biphenylyl, anthryl, phenanthryl and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アルキルアリール基」は、C6〜C12アルキルアリール基であることが好ましい。アルキルアリール基の例としては、制限するわけではないが、o−トリル、m−トリル、p−トリル、2,3−キシリル、o−クメニル、m−クメニル、p−クメニル、メシチル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 6 -C 20 alkylaryl group” is preferably a C 6 -C 12 alkylaryl group. Examples of alkylaryl groups include, but are not limited to, o-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, o-cumenyl, m-cumenyl, p-cumenyl, mesityl, and the like. Can do.
本明細書及び特許請求の範囲において,「C6〜C20アリールアルキル基」は、C6〜C12アリールアルキル基であることが好ましい。アリールアルキル基の例としては、制限するわけではないが、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、2、2−ジフェニルメチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペンチル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 6 -C 20 arylalkyl group” is preferably a C 6 -C 12 arylalkyl group. Examples of arylalkyl groups include, but are not limited to, benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, 2,2-diphenylmethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenyl Examples include phenylbutyl and 5-phenylpentyl.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C3〜C20シクロアルキル基」は、C3〜C10シクロアルキル基であることが好ましい。シクロアルキル基の例としては、制限するわけではないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 3 -C 20 cycloalkyl group” is preferably a C 3 -C 10 cycloalkyl group. Examples of cycloalkyl groups include, but are not limited to, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C3〜C20シクロアルケニル基」は、C3〜C10シクロアルケニル基であることが好ましい。シクロアルケニル基の例としては、制限するわけではないが、シクロプロペニル、シクロブテニル、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル、3−シクロヘキセン−1−イル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 3 -C 20 cycloalkenyl group” is preferably a C 3 -C 10 cycloalkenyl group. Examples of cycloalkenyl groups include, but are not limited to, cyclopropenyl, cyclobutenyl, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl, 3-cyclohexen-1-yl, and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C1〜C20アルコキシ基」は、C1〜C10アルコキシ基であることが好ましく、C1〜C6アルコキシ基であることがさらに好ましい。アルコキシ基の例としては、制限するわけではないが、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ等がある。 In the present specification and claims, the “C 1 -C 20 alkoxy group” is preferably a C 1 -C 10 alkoxy group, and more preferably a C 1 -C 6 alkoxy group. Examples of alkoxy groups include, but are not limited to, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「C6〜C20アリールオキシ基」は、C6〜C10アリールオキシ基であることが好ましい。アリールオキシ基の例としては、制限するわけではないが、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニリルオキシ等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “C 6 -C 20 aryloxy group” is preferably a C 6 -C 10 aryloxy group. Examples of aryloxy groups include, but are not limited to, phenyloxy, naphthyloxy, biphenylyloxy, and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、「アルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)」及び「アルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)」において、Y1及びY3は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、C1〜C6アルキル基であることが更に好ましい。アルキル基の例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。 In the present specification and claims, “alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group)” and “alkylsulfonyl” In the group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group) ”, Y 1 and Y 3 are C 1 -C 10 alkyl. it is preferably a group, more preferably a C 1 -C 6 alkyl group. Examples of alkyl groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecanyl and the like.
また本明細書及び特許請求の範囲において、R1〜R16で示される「C1〜C20炭化水素基」、「C1〜C20アルコキシ基」、「C6〜C20アリールオキシ基」、「アミノ基」、「シリル基」、「アルキルチオ基」、「アリールチオ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」には、置換基が導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、C1〜C10炭化水素基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等)、C1〜C10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、C6〜C10アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等)アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などを挙げる事ができる。この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上導入されていてもよく、好ましくは1個〜6個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。 Further, in the present specification and claims, “C 1 -C 20 hydrocarbon group”, “C 1 -C 20 alkoxy group”, “C 6 -C 20 aryloxy group” represented by R 1 to R 16 , “Amino group”, “silyl group”, “alkylthio group”, “arylthio group”, “alkylsulfonyl group”, and “arylsulfonyl group” may have a substituent introduced therein. Examples of the substituent include a C 1 to C 10 hydrocarbon group (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, naphthyl, indenyl, tolyl, xylyl, benzyl, etc.), a C 1 to C 10 alkoxy group (for example, , Methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6 -C 10 aryloxy groups (eg, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy, etc.) amino groups, hydroxyl groups, halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine) Or a silyl group etc. can be mentioned. In this case, one or more substituents may be introduced at substitutable positions, and preferably 1 to 6 substituents may be introduced. When the number of substituents is 2 or more, each substituent may be the same or different.
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「置換基を有していてもよいアミノ基」の例としては、制限するわけではないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。 In the present specification and claims, examples of the “optionally substituted amino group” include, but are not limited to, amino, dimethylamino, methylamino, methylphenylamino, phenyl There are amino and the like.
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「置換基を有していてもよいシリル基」の例としては、制限するわけではないが、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニル等がある。 Further, in the present specification and claims, examples of “optionally substituted silyl group” include, but are not limited to, trimethylsilyl, triethylsilyl, trimethoxysilyl, triethoxysilyl, Examples include diphenylmethylsilyl, triphenylsilyl, triphenoxysilyl, dimethylmethoxysilyl, dimethylphenoxysilyl, methylmethoxyphenyl, and the like.
また、本明細書及び特許請求の範囲において、R1〜R16で示される置換基は互いに架橋してC4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよい。これらの置換基が形成する環は、4員環〜12員環であることが好ましく、4員環〜6員環であることが更に好ましい。この環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよいし、脂肪族環であってもよい。また、これらの置換基が形成する環に、更に単数又は複数の環が形成されていてもよい。前記飽和環又は不飽和環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は−N(B)−で示される(Bは水素原子またはC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていてもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環はヘテロ環であってもよい。かつ、置換基を有していてもよい。不飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよい。Bは、水素原子またはC1〜C10炭化水素基であることが好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水素基であることが更に好ましく、Bは水素原子、C1〜C3アルキル基、フェニル基又はベンジル基であることが更になお好ましい。この飽和環又は不飽和環は、置換基を有していてもよく、例えば、C1〜C10炭化水素基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル基)、C1〜C10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、C6〜C10アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などの置換基が導入されていてもよい。 In the present specification and claims, substituents represented by R 1 to R 16 may be bridged with each other to form a C 4 to C 20 saturated ring or an unsaturated ring. The ring formed by these substituents is preferably a 4- to 12-membered ring, more preferably a 4- to 6-membered ring. This ring may be an aromatic ring such as a benzene ring or an aliphatic ring. One or more rings may be further formed on the ring formed by these substituents. It said saturated ring or unsaturated ring, oxygen atom, sulfur atom, silicon atom, tin atom, germanium atom or -N (B) - is a hydrogen atom or a C 1 is (B represented by -C 20 hydrocarbon group. ) May be interrupted. That is, the saturated ring or unsaturated ring may be a heterocyclic ring. And you may have a substituent. The unsaturated ring may be an aromatic ring such as a benzene ring. B is preferably a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom or a C 1 -C 7 hydrocarbon group, B is a hydrogen atom, C 1 -C 3 alkyl group Still more preferably, it is a phenyl group or a benzyl group. This saturated ring or unsaturated ring may have a substituent, for example, a C 1 to C 10 hydrocarbon group (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl group), a C 1 to C 10 alkoxy group ( For example, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6 -C 10 aryloxy groups (eg, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy etc.), amino groups, hydroxyl groups, halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, Substituents such as iodine) or silyl groups may be introduced.
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「芳香環」とは、単環式芳香環、多環式芳香環をあげることができる。「単環式芳香環」としては、ベンゼン環、5員又は6員の複素環を挙げることができる。「5員又は6員の複素環」としては、フラン、チオフェン、ピロ−ル、ピラン、チオピラン、ピリジン、チアゾ−ル、イミダゾ−ル、ピリミジン、1、3、5−トリアジン等を挙げることができる。「多環式芳香族環」としては、多環式芳香族炭化水素、多環式複素芳香族環を挙げることができる。「多環式複素炭化水素」としては、ビフェニル、トリフェニル、ナフタレン、インデン、アントラセン、フェナントレン等を挙げることができる。「多環式複素芳香環」としては、インド−ル、キノリン、プリン等を挙げることができる。 In the present specification and claims, the “aromatic ring” includes a monocyclic aromatic ring and a polycyclic aromatic ring. Examples of the “monocyclic aromatic ring” include a benzene ring, a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring. Examples of the “5-membered or 6-membered heterocycle” include furan, thiophene, pyrrole, pyran, thiopyran, pyridine, thiazol, imidazole, pyrimidine, 1,3,5-triazine and the like. . Examples of the “polycyclic aromatic ring” include a polycyclic aromatic hydrocarbon and a polycyclic heteroaromatic ring. Examples of the “polycyclic heterohydrocarbon” include biphenyl, triphenyl, naphthalene, indene, anthracene, phenanthrene and the like. Examples of the “polycyclic heteroaromatic ring” include indol, quinoline, purine and the like.
また、本実施形態において「ルテニウム又はモリブデン触媒」とは、ルテニウム又はモリブデン化合物と、ホスフィン配位子、カルベン配位子、アルコキシ配位子、又はハロゲン配位子とを有する触媒をあらわす。具体例としては、特に限定されないが、ベンジリデンビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ジクロロルテニウムや(1、3−ビス−(2、4、6−トリメチルフェニル)−2−イミダゾリジニリデン)ジクロロ(フェニルメチレン)−(トリシクロヘキシルホスフィン)ジクロロルテニウム等が挙げられる。 In the present embodiment, the “ruthenium or molybdenum catalyst” refers to a catalyst having a ruthenium or molybdenum compound and a phosphine ligand, carbene ligand, alkoxy ligand, or halogen ligand. Specific examples include, but are not limited to, benzylidenebis (tricyclohexylphosphine) dichlororuthenium and (1,3-bis- (2,4,6-trimethylphenyl) -2-imidazolidinylidene) dichloro (phenylmethylene)- (Tricyclohexylphosphine) dichlororuthenium and the like.
(第二の実施形態)
また、本発明の第二の実施形態は、下記一般式(4)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて一般式(5)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the second embodiment of the present invention, a biaryl compound represented by the general formula (5) is produced by reacting a dienein represented by the following general formula (4) in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. Is the way.
なお上記一般式(4)中、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R4、R7〜R10、R13〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
また、上記一般式(5)中、R3、R4、R7〜R10、R13、R14、は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R4、R7〜R10、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R7及びR8、R9及びR10、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 Further, in the above general formula (5), R 3, R 4, R 7 ~R 10, R 13, R 14, are hydrogen atoms, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, which may have a substituent C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent A silyl group which may have, and an alkylthio group which may have a substituent (—SY 1 , wherein Y 1 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent. ), An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent), and may have a substituent. Arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 , R 4 , R 7 to R 10 , R 13 , and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 13 and R 14 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
(第三の実施形態)
また、本発明の第三の実施形態は、下記一般式(6)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させ、下記一般式(7)で表される環状化合物を発生させ、更に加熱分解、又は酸若しくは塩基存在下で反応させて、下記一般式(8)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the third embodiment of the present invention, an enyne represented by the following general formula (6) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (7). And a biaryl compound represented by the following general formula (8) by further thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
なお、上記一般式(6)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお、上記一般式(7)中、R3〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(8)中、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the above general formula (8), R 3 to R 5 , R 7 to R 9 , and R 11 to R 14 are a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, and a substituent. Yes it may have a group C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent An optionally substituted silyl group and an optionally substituted alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 to C 20 alkyl group). , An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted aryl a sulfonyl group (-SO 2 Y 4 In the formula, Y 4 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 to R 5 , R 7 to R 9 , and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
(第四の実施形態)
また本発明の第四の実施形態は、下記一般式(9)で表されるジエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式(10)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
According to a fourth embodiment of the present invention, there is provided a biaryl compound represented by the general formula (10), wherein the dienein represented by the following general formula (9) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. It is a method of manufacturing.
なお上記一般式(9)中、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R5、R8、R9、R12〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお、上記一般式(10)中、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5、R8、R9、R12〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子、又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (10), R 3 to R 5 , R 8 , R 9 , and R 12 to R 14 are a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, which may have a substituent C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a substituent A silyl group which may have, and an alkylthio group which may have a substituent (—SY 1 , wherein Y 1 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent. ), An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), has a substituent An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent), and may have a substituent. Arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 represents a C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent), a hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 to R 5 , R 8 , R 9 and R 12 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom that may have a substituent.
(第五の実施形態)
また本発明の第五の実施形態は、下記一般式(11)で表されるエンインを、ルテニウムもしくはモリブデン触媒の存在下で反応させることで、一般式(12)で表される環状化合物を発生させ、このものを加熱分解、あるいは酸もしくは塩基存在下で反応させる下記一般式(13)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the fifth embodiment of the present invention, a cyclic compound represented by the general formula (12) is generated by reacting an enyne represented by the following general formula (11) in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. And a biaryl compound represented by the following general formula (13) is produced by thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
なお上記一般式(11)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお、上記一般式(12)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(13)中、R3、R5〜R11 、R13、R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11 、R13、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (13), R 3 , R 5 to R 11 , R 13 , and R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, and a substituent. and C 1 optionally -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, substituted An optionally substituted silyl group, an optionally substituted alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), a substituent. An arylthio group (-SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), may have a substituent An alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group ( -SO 2 Y 4, In, Y 4 represents a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), A hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 , R 5 to R 11 , R 13 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 11 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
(第六の実施形態)
また本発明の第六の実施形態は、下記一般式(14)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(15)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the sixth embodiment of the present invention, a diarylyne represented by the following general formula (14) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to produce a biaryl compound represented by the following general formula (15). Is the method.
なお上記一般式(14)中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11 、R14〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(15)中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R6〜R11、R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (15), R 3 , R 6 to R 11 and R 14 may have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4, in the formula, Y 4 May have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 , R 6 to R 11 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) May be interrupted and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
(第七の実施形態)
また、本発明の第七の実施形態は、下記一般式(16)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(17)で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(18)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the seventh embodiment of the present invention, an enyne represented by the following general formula (16) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (17). And a biaryl compound represented by the following general formula (18) is produced by thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
なお上記一般式(16)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。)
上記一般式(17)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R13は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(18)中、R3〜R6、R8、R10〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子であある。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (18), R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent. which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent have good arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), an alkyl which may have a substituent A sulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (— SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 8 , R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are Each may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, in the case of said rings, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a formula —N (B ) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
(第八の実施形態)
また本発明の第八の実施形態は、一般式(19)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(20)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
The eighth embodiment of the present invention is a method for producing a biaryl compound represented by the following general formula (20) by reacting a dienein represented by the general formula (19) in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. It is.
上記一般式(19)中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子;硫黄原子;又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
上記一般式(20)中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子;硫黄原子;又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (20), R 3 ~R 6 , R 11 ~R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, which may have a substituent good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4: in the formula, Y 4 Have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are each cross-linked and C 4 to C 10 saturated. A ring or an unsaturated ring may be formed, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is A hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group.) And may have a substituent. X is an oxygen atom; a sulfur atom; or a nitrogen atom that may have a substituent.
(第九の実施形態)
また本発明の第九の実施形態は、下記一般式(21)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(22)で表される環状化合物を発生させ、さらに加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(23)で表わされるビアリール化合物を製造する方法である。
In the ninth embodiment of the present invention, an enyne represented by the following general formula (21) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (22). And a method for producing a biaryl compound represented by the following general formula (23) by further thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
上記一般式(21)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(22)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
上記一般式(23)中、R3、R5〜R11、R13、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3、R5〜R11、R13、R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR5、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R11及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the general formula (23), R 3, R 5 ~R 11, R 13, R 14 is a hydrogen atom, which may have a substituent C 1 -C 20 hydrocarbon group, optionally having a substituent which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group which may have a substituent amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl A group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group or a halogen atom. R 3 , R 5 to R 11 , R 13 and R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 11 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
(第十の実施形態)
また本発明の第十の実施形態は、下記一般式(24)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(25)表されるビアリール化合物を製造する方法である。
The tenth embodiment of the present invention is a method for producing a biaryl compound represented by the following general formula (25) by reacting dienein represented by the following general formula (24) in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. It is.
なお上記一般式(24)中、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(25)中、R3、R6〜R11、R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R3、R6〜R11、R14〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R1及びR2、R6及びR7、R7及びR8、R9及びR10、R10及びR11、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the above general formula (25), R 3 , R 6 to R 11 and R 14 may have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. good C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, a silyl group, which may have a substituent , which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, wherein, Y 1 is. showing a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent), have a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 to C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group ( —SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), and optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4, in the formula, Y 4 May have a substituent represents an C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 1 to R 3 , R 6 to R 11 , and R 14 to R 16 are independent of each other and may be the same or different. Also, R 1 and R 2 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 15 and R 16 are cross-linked with each other to form C 4 to C 10. A saturated ring or an unsaturated ring may be formed. In the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B Is a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group.) And may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
(第十一の実施形態)
また本発明の第十一の実施形態は、下記一般式(26)で表されるエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(27)で表される環状化合物を発生させ、さらに、加熱分解又は酸若しくは塩基存在下で反応させて下記一般式(28)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the eleventh embodiment of the present invention, an enyne represented by the following general formula (26) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (27). And a biaryl compound represented by the following general formula (28) is further produced by thermal decomposition or reaction in the presence of an acid or a base.
なお上記一般式(26)中、R1〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(27)中、R3〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。
なお上記一般式(28)中、R3〜R6、R8、R10〜R14は水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R8、R10〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R6及びR8、R10及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。 In the above general formula (28), R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent. which may be C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent a silyl group which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent have good arylthio group (-SY 2, in the formula, Y 2 is a good C 6 -C 20 aryl group which may have a substituent.), an alkyl which may have a substituent A sulfonyl group (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylsulfonyl group (— SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 , R 8 and R 10 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 6 and R 8 , R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are Each may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, in the case of said rings, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a formula —N (B ) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent.
(第十二の実施形態)
また本発明の第十二の実施形態は、下記一般式(29)で表されるジエンインを、ルテニウム又はモリブデン触媒の存在下で反応させて下記一般式(30)で表されるビアリール化合物を製造する方法である。
In the twelfth embodiment of the present invention, a biaryl compound represented by the following general formula (30) is produced by reacting a dienein represented by the following general formula (29) in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst. It is a method to do.
なお上記一般式(29)中、R1〜R6、R11〜R16は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R1〜R6、R11〜R16はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。
なお上記一般式(30)中、R3〜R6、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基又はハロゲン原子である。また、R3〜R6、R11〜R14はそれぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよい窒素原子である。 In the general formula (30), R 3 to R 6 and R 11 to R 14 each have a hydrogen atom, a C 1 to C 20 hydrocarbon group that may have a substituent, or a substituent. which may C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent C 6 -C 20 aryloxy group, an optionally substituted amino group, which may have a substituent silyl group, which may have a substituent alkylthio group (-SY 1, in the formula, Y 1 is a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), a substituent An optionally substituted arylthio group (—SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), an optionally substituted alkylsulfonyl group (-SO 2 Y 3, in the formula, Y 3 represents a good C 1 -C 20 alkyl group which may have a substituent.), which may have a substituent arylsulfonyl group (-SO 2 Y 4 , where Y 4 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group), a hydroxyl group or a halogen atom. R 3 to R 6 and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 15 and R 16 are cross-linked with each other. C 4 to C 10 may form a saturated or unsaturated ring, and in the case of the ring, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom, or a group represented by the formula —N (B) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 -C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent. X is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom which may have a substituent.
次に、上記実施形態一乃至十二に係るビアリール化合物を製造する方法について説明する。 Next, a method for producing the biaryl compound according to Embodiments 1 to 12 will be described.
(第一の製造条件)
まず、上記一般式(1)、(6)、(11)、(16)、(21)、(26)で表される原料をルテニウム触媒又はモリブデン触媒存在下の存在下に反応させ、それぞれ上記一般式(2)、(7)、(12)、(17)、(22)、(27)で表される環状化合物を発生させた後に、(2)、(7)、(12)、(17)、(22)、(27)に対して脱離処理することで、それぞれ一般式(3)、(8)、(13)、(18)、(23)、(28)で表されるビアリール化合物を得ることができる。
(First manufacturing condition)
First, the raw materials represented by the general formulas (1), (6), (11), (16), (21), and (26) are reacted in the presence of a ruthenium catalyst or a molybdenum catalyst, After generating the cyclic compound represented by the general formula (2), (7), (12), (17), (22), (27), (2), (7), (12), ( 17), (22), and (27) are desorbed and expressed by general formulas (3), (8), (13), (18), (23), and (28), respectively. Biaryl compounds can be obtained.
本製造方法において、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒はそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてルテニウム触媒又はモリブデン触媒の使用量は原料に対し通常0.00001モル倍以上、通常1モル倍以下、好ましくは0.2モル倍以下である。また、脱離反応に用いる酸もしくは塩基もそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてこれらの使用量は原料に対し通常0.00001モル倍以上、通常100モル倍以下、好ましくは0.2モル倍以下である。 In this production method, the ruthenium catalyst or the molybdenum catalyst may be used as it is, or may be supported on a substance that does not dissolve in the solvent used for the reaction, such as carbon, silica, or alumina. In such a reaction, the amount of the ruthenium catalyst or molybdenum catalyst used is usually 0.00001 mol times or more, usually 1 mol times or less, preferably 0.2 mol times or less, relative to the raw material. In addition, the acid or base used for the elimination reaction may be used as it is, or may be supported on a substance that does not dissolve in the solvent used for the reaction, such as carbon, silica, or alumina. In such a reaction, the amount used is usually 0.00001 mol times or more, usually 100 mol times or less, preferably 0.2 mol times or less, relative to the raw material.
またこの反応は、通常、有機溶媒中で行なわれる。有機溶媒としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、1、4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの含ハロゲン溶媒などが挙げられる。
溶媒はそれぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いられ、その使用量は原料に対して通常は1重量倍以上2000重量倍以下、好ましくは5重量倍以上500重量倍以下程度である。
This reaction is usually performed in an organic solvent. Examples of organic solvents include aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, diethyl ether, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, Examples thereof include ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, and halogen-containing solvents such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane.
The solvents are used alone or in combination of two or more, and the amount used is usually 1 to 2000 times, preferably 5 to 500 times, the raw material.
上記反応は空気下でおこなってもよいし、窒素やエチレンガス雰囲気下で行ってもよい。そのガス圧は、通常は1気圧以上500気圧以下、好ましくは1気圧以上5気圧以下程度である。 The above reaction may be performed in air or in an atmosphere of nitrogen or ethylene gas. The gas pressure is usually about 1 to 500 atmospheres, preferably about 1 to 5 atmospheres.
上記反応は、−78℃以上200℃以下の温度範囲で行われることが好ましく、より好ましくは0℃以上150℃以下の温度範囲、さらに好ましくは20℃以上100℃以下の温度範囲である。 The above reaction is preferably performed in a temperature range of −78 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and further preferably 20 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
また上記反応の反応時間は特に限定されないが、好ましくは1分以上24時間以下、さらに好ましくは10分以上12時間以下である。 The reaction time for the above reaction is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 10 minutes to 12 hours.
そしてこの反応終了後、生成した上記一般式(3)、(8)、(13)、(18)、(23)、(28)で表わされるビアリール化合物は、例えば、溶媒を留去することにより、反応マスから取り出すことができる。また、得られたビアリール化合物は、必要に応じて再結晶等の手段を施すことにより、更に精製することもできる。 And after completion | finish of this reaction, the produced | generated biaryl compound represented by the said General formula (3), (8), (13), (18), (23), (28) is obtained by distilling a solvent off, for example. Can be removed from the reaction mass. In addition, the obtained biaryl compound can be further purified by applying a means such as recrystallization as necessary.
また、本反応において、原料、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒、及び溶媒は任意の順序で加えることができる。 In this reaction, the raw material, the ruthenium catalyst or molybdenum catalyst, and the solvent can be added in any order.
(第二の製造条件)
次に、一般式(4)、(9)、(14)、(19)、(24)、(29)で表される原料をルテニウム触媒存在下又はモリブデン触媒存在下に反応させ、。それぞれ一般式(5)、(10)、(15)、(20)、(25)、(30)で表されるビアリール化合物を得る製造方法について説明する。
(Second manufacturing condition)
Next, the raw materials represented by the general formulas (4), (9), (14), (19), (24), and (29) are reacted in the presence of a ruthenium catalyst or a molybdenum catalyst. Production methods for obtaining biaryl compounds represented by the general formulas (5), (10), (15), (20), (25), and (30) will be described.
本製造方法において、ルテニウム触媒又はモリブデン触媒はそのまま用いてもよいし、反応に使用する溶媒に溶解しない物質、例えば炭素、シリカ、アルミナなどに担持してもよい。かかる反応においてルテニウム触媒又はモリブデン触媒の使用量は原料に対し通常0.00001モル倍以上、通常1モル倍以下、好ましくは0.2モル倍以下である。 In this production method, the ruthenium catalyst or the molybdenum catalyst may be used as it is, or may be supported on a substance that does not dissolve in the solvent used for the reaction, such as carbon, silica, or alumina. In such a reaction, the amount of the ruthenium catalyst or molybdenum catalyst used is usually 0.00001 mol times or more, usually 1 mol times or less, preferably 0.2 mol times or less, relative to the raw material.
また本反応は、通常、有機溶媒中で行なわれる。有機溶媒としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、1、4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの含ハロゲン溶媒などが挙げられる。
溶媒はそれぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いられ、その使用量は原料に対して通常は1重量倍以上2000重量倍以下、好ましくは5重量倍以上500重量倍以下程度である。
This reaction is usually performed in an organic solvent. Examples of organic solvents include aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, diethyl ether, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, Examples thereof include ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, and halogen-containing solvents such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane.
The solvents are used alone or in combination of two or more, and the amount used is usually 1 to 2000 times, preferably 5 to 500 times, the raw material.
また、本反応は空気下でおこなってもよいし、窒素やエチレンガス雰囲気下で行ってもよい。そのガス圧は、通常は1気圧以上500気圧以下、好ましくは1気圧以上5気圧以下程度である。 In addition, this reaction may be performed under air or in an atmosphere of nitrogen or ethylene gas. The gas pressure is usually about 1 to 500 atmospheres, preferably about 1 to 5 atmospheres.
また、本反応の反応温度の範囲は−78℃以上200℃以下であることが好ましく、より好ましくは0℃以上150℃以下、さらに好ましくは20℃以上100℃以下である。 The reaction temperature range of this reaction is preferably −78 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and further preferably 20 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
また、本反応の反応時間は特に限定されないが、好ましくは1分以上24時間以下、さらに好ましくは10分以上12時間以下である。 The reaction time for this reaction is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 10 minutes to 12 hours.
また本反応終了後、生成したビアリール化合物(5)、(10)、(15)、(20)、(25)、(30)は、例えば、溶媒を留去することにより、反応マスから取り出すことができる。また、得られたビアリール化合物は、必要に応じて再結晶等の手段を施すことにより、更に精製することもできる。 After the completion of this reaction, the produced biaryl compounds (5), (10), (15), (20), (25), and (30) are removed from the reaction mass by, for example, distilling off the solvent. Can do. In addition, the obtained biaryl compound can be further purified by applying a means such as recrystallization as necessary.
なお本反応において、原料、ルテニウム触媒、及び溶媒は任意の順序で加えることができる。 In this reaction, the raw material, the ruthenium catalyst, and the solvent can be added in any order.
以下、本発明の効果の確認として、具体的な実施を行った。以下具体的に説明する。 Hereinafter, specific confirmation was performed as confirmation of the effects of the present invention. This will be specifically described below.
(実施例1)
窒素雰囲気下において、1−(5−fluoro−2−((6−(1−hydroxybut−3−enyl)benzo[d][1,3]dioxol−5−yl) ethynyl)phenyl)but−3−en−1−ol (59.0 mg, 0.155 mmol)のトルエン(27 mL)懸濁液を50度で10分間加熱することで均一溶液とした後、室温まで冷却した。反応容器にグラブス触媒第二世代(10.2 mg, 0.012 mmol)を添加し、80度で2時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、パラトルエンスルホン酸(2.4 mg, 0.014 mmol)を加え1時間撹拌した。減圧下、反応液から溶媒を留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィ−(ヘキサン/ジクロロメタン = 1/1)を用いて精製し、目的の5−(6−fluoronaphthalen−1−yl)naphtho[2,3−d][1,3]dioxole (41.2mg, 84%)を得た。なお融点、NMRデ−タ、及びHRMSデ−タは、以下のようであった。
Example 1
1- (5-fluoro-2-((6- (1-hydroxybut-3-enyl) benzo [d] [1,3] dioxol-5-yl) ethynyl) phenyl) but-3- A suspension of en-1-ol (59.0 mg, 0.155 mmol) in toluene (27 mL) was heated to 50 ° C. for 10 minutes, and then cooled to room temperature. Grubbs catalyst second generation (10.2 mg, 0.012 mmol) was added to the reaction vessel and stirred at 80 degrees for 2 hours. Then, the reaction liquid was cooled to room temperature, paratoluenesulfonic acid (2.4 mg, 0.014 mmol) was added, and it stirred for 1 hour. The solvent was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography (hexane / dichloromethane = 1/1) to obtain the desired 5- (6-fluoronaphthalen-1-yl) naphtho. [2,3-d] [1,3] dioxole (41.2 mg, 84%) was obtained. The melting point, NMR data, and HRMS data were as follows.
mp 215−218 °C; 1H
NMR (CDCl3)・・5.95 (s, 2H), 6.59 (s, 1H),
7.06 (ddd, J = 9.2, 8.2, 2.5 Hz, 1H), 7.21 (s, 1H), 7.31 (dd, J =
7.0, 1.2 Hz, 1H), 7.37 (dd, J = 9.5, 5.8 Hz, 1H), 7.41−7.44 (m, 2H), 7.53 (dd, J = 9.8, 2.8 Hz, 1H), 7.59 (t, J
= 7.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.2 Hz,
1H); 13C NMR (CDCl3)・・101.02, 102.65,
104.04, 111.03 (d, J = 20.1 Hz), 116.28 (d, J = 25.1 Hz), 123.94,
126.37, 126.57, 126.89 (d, J = 2.0 Hz), 127.05, 127.20 (d, J =
5.0 Hz), 129.12 (d, J = 9.0 Hz), 129.77, 129.82, 130.70, 134.46 (d, J
= 9.1 Hz), 137.24, 139.00, 147.49, 147.84, 160.57 (d, J = 245.5 Hz);
HRMS (FAB) calcd for C21H13FO2 (M+)
316.0900, found 316.0912.
NMR (CDCl 3 ) ・ 5.95 (s, 2H), 6.59 (s, 1H),
7.06 (ddd, J = 9.2, 8.2, 2.5 Hz, 1H), 7.21 (s, 1H), 7.31 (dd, J =
7.0, 1.2 Hz, 1H), 7.37 (dd, J = 9.5, 5.8 Hz, 1H), 7.41−7.44 (m, 2H), 7.53 (dd, J = 9.8, 2.8 Hz, 1H), 7.59 (t, J
= 7.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.2 Hz,
1H); 13 C NMR (CDCl 3 ) ... 101.02, 102.65,
104.04, 111.03 (d, J = 20.1 Hz), 116.28 (d, J = 25.1 Hz), 123.94,
126.37, 126.57, 126.89 (d, J = 2.0 Hz), 127.05, 127.20 (d, J =
5.0 Hz), 129.12 (d, J = 9.0 Hz), 129.77, 129.82, 130.70, 134.46 (d, J
= 9.1 Hz), 137.24, 139.00, 147.49, 147.84, 160.57 (d, J = 245.5 Hz);
HRMS (FAB) calcd for C 21 H 13 FO 2 (M + )
316.0900, found 316.0912.
本発明は、ビアリール化合物の製造方法として、産業上の利用可能性がある。
The present invention has industrial applicability as a method for producing a biaryl compound.
Claims (12)
、R7〜R9、R11〜R14は、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基、置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基、置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(−SO2Y3、式中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(−SO2Y4、式中、Y4は置換基を有していてもよいC6〜C20アリール基を示す。)、水酸基、又はハロゲン原子である。また、R3〜R5 、R7〜R9、R11〜R14は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。また、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR7、R7及びR8、R9及びR11、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。) The enyne represented by the following general formula (6) is reacted in the presence of a ruthenium or molybdenum catalyst to generate a cyclic compound represented by the following general formula (7), followed by thermal decomposition, or in the presence of an acid or base. To produce a biaryl compound represented by the following general formula (8).
, R 7 to R 9 and R 11 to R 14 are a hydrogen atom, an optionally substituted C 1 to C 20 hydrocarbon group, and an optionally substituted C 1 to C 20 alkoxy. Group, a C 6 to C 20 aryloxy group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, a silyl group which may have a substituent, and a substituent. An optionally substituted alkylthio group (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group), an optionally substituted arylthio group (— SY 2 , wherein Y 2 represents an optionally substituted C 6 -C 20 aryl group.), An optionally substituted alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , formula In the formula, Y 3 represents an optionally substituted C 1 -C 20 alkyl group.), An optionally substituted arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 Has a substituent There shows a C 6 -C 20 aryl group.), A hydroxyl group, or a halogen atom. R 3 to R 5 , R 7 to R 9 , and R 11 to R 14 are independent of each other and may be the same or different. R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 11 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 are , respectively, in the case of C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring, wherein said ring crosslinked to each other, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, tin atom, germanium atom or the formula -N ( B) — may be interrupted by a group represented by the formula (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent. )
また、R1〜R6、R11〜R16は、それぞれ互いに独立し、同一であっても異なっていてもよい。またR1及びR2、R3及びR4、R4及びR5、R5及びR6、R11及びR12、R12及びR13、R13及びR14、R15及びR16は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環の場合は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。また、Xは、酸素原子;硫黄原子;又は置換基を有していてもよい窒素原子である。)
R 1 to R 6 and R 11 to R 16 are independent of each other and may be the same or different. R 1 and R 2 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 15 and R 16 are Each may be bridged with each other to form a C 4 to C 10 saturated or unsaturated ring, in the case of said rings, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a formula —N (B ) — (Wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group) and may have a substituent. X is an oxygen atom; a sulfur atom; or a nitrogen atom that may have a substituent. )
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