JP2003261491A - Dicyclic compound and method for producing the same - Google Patents

Dicyclic compound and method for producing the same

Info

Publication number
JP2003261491A
JP2003261491A JP2002061774A JP2002061774A JP2003261491A JP 2003261491 A JP2003261491 A JP 2003261491A JP 2002061774 A JP2002061774 A JP 2002061774A JP 2002061774 A JP2002061774 A JP 2002061774A JP 2003261491 A JP2003261491 A JP 2003261491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituent
formula
ring
atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002061774A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4166024B2 (en
Inventor
Keisuke Suzuki
鈴木  啓介
Toshiyuki Hamura
季之 羽村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Science and Technology Agency
Original Assignee
Japan Science and Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Science and Technology Corp filed Critical Japan Science and Technology Corp
Priority to JP2002061774A priority Critical patent/JP4166024B2/en
Publication of JP2003261491A publication Critical patent/JP2003261491A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4166024B2 publication Critical patent/JP4166024B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently and simply obtain various multi-substituted biaryl compounds including compounds having large steric hindrances around the biaryl axes. <P>SOLUTION: A method for producing the biaryl compound represented by formula (1) (R<SP>1</SP>to R<SP>4</SP>are each identically or differently H, a hydrocarbon group, or the like; the ring A is an aromatic ring which may have one or more substituents) comprises reacting a cyclobutenone derivative represented by formula (2) with a ring represented by formula (3) (M is a monovalent or divalent metal, or the like) and then thermally refluxing the obtained reaction mixture. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多置換2環式化合
物を製造する方法に関し、より詳しくは、アルケニルシ
クロブテンの熱的な環拡大反応を利用することによって
簡便に多置換ビアリール類を製造する方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a polysubstituted bicyclic compound, and more specifically, a polysubstituted biaryl compound can be easily produced by utilizing a thermal ring expansion reaction of alkenylcyclobutene. On how to do.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ビアリ
ール結合を持つ化合物は天然に数多く存在し、重要な薬
理活性を持つものも少なくない。また、軸不斉ビアリー
ル化合物は不斉識別や不斉合成に繁用されている。これ
までのビアリール合成法は、ビアリール軸周辺、特に
2,2'−位や6,6'−位で立体障害の大きい化合物の
合成においては、収率、反応条件などの点で一般性に乏
しかった。
BACKGROUND OF THE INVENTION Many compounds having a biaryl bond exist in nature and many have important pharmacological activity. In addition, axially chiral biaryl compounds are often used for asymmetric identification and asymmetric synthesis. The conventional biaryl synthesis methods are not very general in terms of yield and reaction conditions in the synthesis of compounds having large steric hindrance around the biaryl axis, especially at the 2,2′-position and the 6,6′-position. It was

【0003】従って、ビアリール軸周辺の立体障害の大
きい化合物を含め、様々な多置換ビアリール類を効率
的、かつ、簡便に得る合成方法の提供が望まれていた。
Therefore, it has been desired to provide a synthetic method for efficiently and conveniently obtaining various polysubstituted biaryls including compounds having large steric hindrance around the biaryl axis.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の発明者らは、ア
ルケニルシクロブテン誘導体の熱的な環拡大反応を利用
することにより、ビアリール軸周辺の立体障害の大きい
化合物を含め、様々な多置換ビアリール類を効率的、か
つ簡便に得ることを見出し、また、当該方法は、ビアリ
ール類に限らず、広く2環式化合物の合成にも応用がき
くことを見出し、本発明を完成させた。
The inventors of the present invention utilize a thermal ring-expansion reaction of an alkenylcyclobutene derivative to obtain various polysubstituted compounds including compounds with large steric hindrance around the biaryl axis. The inventors have found that biaryls can be obtained efficiently and simply, and have found that the method can be widely applied not only to biaryls but also to the synthesis of bicyclic compounds, and completed the present invention.

【0005】即ち、本発明の第1態様では、下記式
(1)で示される2環式化合物が提供される。
That is, the first aspect of the present invention provides a bicyclic compound represented by the following formula (1).

【化9】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基;
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1
式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキ
ル基を示す。);置換基を有していてもよいアリールチ
オ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよい
6〜C18アリール基を示す。);置換基を有していて
もよいアルキルスルホニル基(−SO23、式中、Y3
は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示
す。);置換基を有していてもよいアリールスルホニル
基(−SO24、式中、Y 4は置換基を有していてもよ
いC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又はハロ
ゲン原子であり、ただし、R1及びR2は、互いに架橋し
てC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前
記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲ
ルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式
中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)
で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していても
よく、A環は置換基を有していてもよい芳香環を示
す。]
[Chemical 9] [In the formula, R1, R2, R3And RFourAre independent of each other
Standing, identical or different, with a hydrogen atom; having a substituent
May be C1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
Good C1~ C20Alkoxy group; even if it has a substituent
Good C6~ C20Aryloxy group; having a substituent
Optionally an amino group; a silyl group which may have a substituent;
Alkylthio group which may have a substituent (-SY1,
In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20Archi
Represents a radical. ); Aryl which may have a substituent
O group (-SY2, In the formula, Y2May have a substituent
C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Good alkylsulfonyl group (-SO2Y3, In the formula, Y3
Is C which may have a substituent1~ C20Indicates an alkyl group
You ); Arylsulfonyl which may have a substituent
Group (-SO2YFour, In the formula, Y FourMay have a substituent
I C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group; or halo
Gen atom, provided that R1And R2Cross linked to each other
CFour~ CTenIt may form a saturated ring or an unsaturated ring,
The ring is composed of oxygen atom, sulfur atom, silicon atom, tin atom,
A rumanium atom or a group represented by the formula -N (B)-(formula
Where B is a hydrogen atom or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. )
May be interrupted by, and may have a substituent
Well, ring A represents an aromatic ring which may have a substituent.
You ]

【0006】また、本発明の第2態様では、下記式
(2)で示されるシクロブテノン誘導体と、
In a second aspect of the present invention, a cyclobutenone derivative represented by the following formula (2):

【化10】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基;
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1
式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキ
ル基を示す。);置換基を有していてもよいアリールチ
オ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよい
6〜C18アリール基を示す。);置換基を有していて
もよいアルキルスルホニル基(−SO23、式中、Y3
は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示
す。);置換基を有していてもよいアリールスルホニル
基(−SO24、式中、Y 4は置換基を有していてもよ
いC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又はハロ
ゲン原子であり、ただし、R1及びR2は、互いに架橋し
てC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前
記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲ
ルマニウム原子又は式−N(B)−で示される基(式
中、Bは水素原子又はC1〜C10炭化水素基である。)
で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していても
よい。]下記式(3)で示される環と
[Chemical 10] [In the formula, R1, R2, R3And RFourAre independent of each other
Standing, identical or different, with a hydrogen atom; having a substituent
May be C1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
Good C1~ C20Alkoxy group; even if it has a substituent
Good C6~ C20Aryloxy group; having a substituent
Optionally an amino group; a silyl group which may have a substituent;
Alkylthio group which may have a substituent (-SY1,
In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20Archi
Represents a radical. ); Aryl which may have a substituent
O group (-SY2, In the formula, Y2May have a substituent
C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Good alkylsulfonyl group (-SO2Y3, In the formula, Y3
Is C which may have a substituent1~ C20Indicates an alkyl group
You ); Arylsulfonyl which may have a substituent
Group (-SO2YFour, In the formula, Y FourMay have a substituent
I C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group; or halo
Gen atom, provided that R1And R2Cross linked to each other
CFour~ CTenIt may form a saturated ring or an unsaturated ring,
The ring is composed of oxygen atom, sulfur atom, silicon atom, tin atom,
A rumanium atom or a group represented by the formula -N (B)-(formula
Where B is a hydrogen atom or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. )
May be interrupted by, and may have a substituent
Good. ] With a ring represented by the following formula (3)

【化11】 [式中、A環は置換基を有していてもよい芳香環を示
し、Mは周期表第2族の金属のハロゲン化物、又は周期
表第1族の金属を示す。]を反応させ、反応混合物を得
る工程と、前記反応混合物を加熱還流する工程とを含む
ことを特徴とする下記式(1)に示される2環式化合物
の製造方法が提供される。
[Chemical 11] [In the formula, A ring represents an aromatic ring which may have a substituent, and M represents a metal halide of Group 2 of the periodic table or a metal of Group 1 of the periodic table. ] Is reacted to obtain a reaction mixture, and a step of heating and refluxing the reaction mixture is provided, and a method for producing a bicyclic compound represented by the following formula (1) is provided.

【化12】 [式中、R1、R2、R3、R4及びA環は、上記と同義を
示す。]
[Chemical 12] [In formula, R < 1 >, R < 2 >, R < 3 >, R < 4 > and A ring are synonymous with the above. ]

【0007】本発明の第2態様において、前記反応が、
保護基付与剤存在下で行われることが好ましく、前記保
護基付与剤が、エステル化剤、アシル化剤、アルキル化
剤又はシリル化剤であることが更に好ましい。
In a second aspect of the invention, the reaction is
It is preferably carried out in the presence of a protecting group-providing agent, and more preferably the protecting group-providing agent is an esterifying agent, an acylating agent, an alkylating agent or a silylating agent.

【0008】また、本発明の第2態様において、Mが、
リチウム又はハロゲン化マグネシウムであることが好ま
しい。
In the second aspect of the present invention, M is
It is preferably lithium or magnesium halide.

【0009】また、本発明の第1態様及び第2態様にお
いて、下記式
In the first and second aspects of the present invention, the following formula

【化13】 [式中、A環は、上記と同義を示す。]で示される部分
構造が、下記式
[Chemical 13] [In the formula, the ring A has the same meaning as described above. ] Is a partial structure represented by the following formula

【化14】 [式中、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ互
いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を
有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有し
ていてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有して
いてもよいC6〜C 20アリールオキシ基;置換基を有し
ていてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリ
ル基;置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−S
1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20
アルキル基を示す。);置換基を有していてもよいアリ
ールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していて
もよいC6〜C18アリール基を示す。);置換基を有し
ていてもよいアルキルスルホニル基(−SO23、式
中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル
基を示す。);置換基を有していてもよいアリールスル
ホニル基(−SO24、式中、Y4は置換基を有してい
てもよいC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又
はハロゲン原子であり、ただし、R5及びR6、R6及び
7、R7及びR8、並びに、R8及びR9は、それぞれ、
互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成し
てもよく、前記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原子、
スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(B)−で示さ
れる基(式中、Bは水素原子又はC1〜C1 0炭化水素基
である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有
していてもよい。]であることが好ましい。この場合、
5、R6、R7、R8およびR9が、それぞれ互いに独立
し、同一または異なって、水素原子;置換基を有してい
てもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していても
よいC1〜C20アルコキシ基;又は置換基を有していて
もよいアミノ基であることが好ましい。
[Chemical 14] [In the formula, RFive, R6, R7, R8And R9Are each
Independently, the same or different, a hydrogen atom;
C which may have1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
May be C1~ C20Alkoxy group; having a substituent
May be C6~ C 20Aryloxy group; having a substituent
Optionally substituted amino group; optionally substituted silyl group
Group; an alkylthio group which may have a substituent (-S
Y1, In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20
Indicates an alkyl group. ); An ant optionally having a substituent
Group (-SY2, In the formula, Y2Has a substituent
Good C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Optionally alkylsulfonyl group (-SO2Y3,formula
Medium, Y3Is C which may have a substituent1~ C20Alkyl
Indicates a group. ); Arylsulu which may have a substituent
Honyl group (-SO2YFour, In the formula, YFourHas a substituent
May be C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group;
Is a halogen atom, provided that RFiveAnd R6, R6as well as
R7, R7And R8, And R8And R9Respectively,
Crosslinked to each other CFour~ CTenForming a saturated or unsaturated ring
The ring may have an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom,
Tin atom, germanium atom or represented by the formula -N (B)-
(Wherein B is a hydrogen atom or C1~ C1 0Hydrocarbon group
Is. ) And have a substituent.
You may have. ] Is preferred. in this case,
RFive, R6, R7, R8And R9But each is independent of each other
And have the same or different hydrogen atom; a substituent
May be C1~ C20Hydrocarbon group; even if it has a substituent
Good C1~ C20Alkoxy group; or having a substituent
It is preferably an amino group.

【0010】また、本発明の第1態様及び第2態様にお
いて、R1、R2、R3およびR4が、それぞれ互いに独立
し、同一または異なって、水素原子;C1〜C20アルキ
ル基;C6〜C18アリール基;C1〜C20アルコキシ基;
置換基を有していてもよいシリル基;又はハロゲン原子
であることが好ましい。
In the first and second aspects of the present invention, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently of the same or different and each is a hydrogen atom; a C 1 -C 20 alkyl group. ; C 6 -C 18 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy groups;
It is preferably a silyl group which may have a substituent; or a halogen atom.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の第1態様では、下記式
(1)で示される2環式化合物が提供される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In a first aspect of the present invention, a bicyclic compound represented by the following formula (1) is provided.

【化15】 [式中、R1、R2、R3、R4及びA環は、上記の意味を
有する。]
[Chemical 15] [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and A ring have the above meanings. ]

【0012】R1、R2、R3およびR4は、それぞれ互い
に独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有
していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有して
いてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有してい
てもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有して
いてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル
基;置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY
1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20
ルキル基を示す。);置換基を有していてもよいアリー
ルチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していても
よいC6〜C18アリール基を示す。);置換基を有して
いてもよいアルキルスルホニル基(−SO 23、式中、
3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を
示す。);置換基を有していてもよいアリールスルホニ
ル基(−SO24、式中、Y4は置換基を有していても
よいC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;ハロゲ
ン原子である。
R1, R2, R3And RFourAre each other
Independently of each other, the same or different, a hydrogen atom;
C which may be1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
May be C1~ C20Alkoxy group; having a substituent
May be C6~ C20Aryloxy group; having a substituent
Optionally substituted amino group; optionally substituted silyl
Group; an alkylthio group which may have a substituent (-SY
1, In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20A
Indicates a rukyl group. ); An aryl which may have a substituent
Ruthio group (-SY2, In the formula, Y2Has a substituent
Good C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Alkylsulfonyl group (-SO 2Y3, In the formula,
Y3Is C which may have a substituent1~ C20Alkyl group
Show. ); Aryl sulfonyl which may have a substituent
Group (-SO2YFour, In the formula, YFourHas a substituent
Good C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group; halogen
Atom.

【0013】本明細書において、「C1〜C20炭化水素
基」の炭化水素基は、飽和若しくは不飽和の非環式であ
ってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよ
い。C1〜C20炭化水素基が非環式の場合には、線状で
もよいし、枝分かれでもよい。「C1〜C20炭化水素
基」には、C1〜C20アルキル基、C2〜C20アルケニル
基、C2〜C20アルキニル基、C4〜C20アルキルジエニ
ル基、C6〜C18アリール基、C6〜C20アルキルアリー
ル基、C6〜C20アリールアルキル基、C4〜C2 0シクロ
アルキル基、C4〜C20シクロアルケニル基、(C3〜C
10シクロアルキル)C1〜C10アルキル基などが含まれ
る。
In the present specification, the hydrocarbon group of "C 1 -C 20 hydrocarbon group" may be saturated or unsaturated acyclic, or saturated or unsaturated cyclic. Good. When the C 1 -C 20 hydrocarbon group is acyclic, it may be linear or branched. The "C 1 -C 20 hydrocarbon group", C 1 -C 20 alkyl group, C 2 -C 20 alkenyl group, C 2 -C 20 alkynyl group, C 4 -C 20 alkadienyl group, C 6 ~ C 18 aryl group, C 6 -C 20 alkylaryl group, C 6 -C 20 arylalkyl group, C 4 ~C 2 0 cycloalkyl group, C 4 -C 20 cycloalkenyl group, (C 3 -C
10 cycloalkyl) C 1 -C 10 alkyl groups and the like are included.

【0014】本明細書において、「C1〜C20アルキル
基」は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、
1〜C6アルキル基であることが更に好ましい。アルキ
ル基の例としては、制限するわけではないが、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec
−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ド
デカニル等を挙げることができる。本明細書において、
「C2〜C20アルケニル基」は、C2〜C10アルケニル基
であることが好ましく、C2〜C6アルケニル基であるこ
とが更に好ましい。アルケニル基の例としては、制限す
るわけではないが、ビニル、アリル、プロペニル、イソ
プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル
アリル、2−ブテニル等を挙げることができる。本明細
書において、「C2〜C20アルキニル基」は、C2〜C10
アルキニル基であることが好ましく、C2〜C6アルキニ
ル基であることが更に好ましい。アルキニル基の例とし
ては、制限するわけではないが、エチニル、2−プロピ
ニル、2−ブチニル等を挙げることができる。本明細書
において、「C4〜C20アルキルジエニル基」は、C4
10アルキルジエニル基であることが好ましく、C4
6アルキルジエニル基であることが更に好ましい。ア
ルキルジエニル基の例としては、制限するわけではない
が、1,3−ブタジエニル等を挙げることができる。
In the present specification, the "C 1 -C 20 alkyl group" is preferably C 1 -C 10 alkyl group,
And more preferably a C 1 -C 6 alkyl group. Examples of alkyl groups include, but are not limited to, methyl,
Ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec
-Butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecanyl and the like can be mentioned. In this specification,
"C 2 -C 20 alkenyl group" is preferably C 2 -C 10 alkenyl group, more preferably a C 2 -C 6 alkenyl group. Examples of alkenyl groups include, but are not limited to, vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methylallyl, 2-butenyl and the like. In the present specification, “C 2 -C 20 alkynyl group” means C 2 -C 10
It is preferably an alkynyl group, and more preferably a C 2 -C 6 alkynyl group. Examples of alkynyl groups include, but are not limited to, ethynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, and the like. In the present specification, "C 4 -C 20 alkyldienyl group", C 4 ~
It is preferably a C 10 alkyldienyl group, C 4 ~
More preferably, it is a C 6 alkyldienyl group. Examples of alkyldienyl groups include, but are not limited to, 1,3-butadienyl and the like.

【0015】本明細書において、「C6〜C18アリール
基」は、C6〜C10アリール基であることが好ましい。
アリール基の例としては、制限するわけではないが、フ
ェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、インデニル、ビ
フェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げるこ
とができる。本明細書において、「C6〜C20アルキル
アリール基」は、C6〜C12アルキルアリール基である
ことが好ましい。アルキルアリール基の例としては、制
限するわけではないが、o−トリル、m−トリル、p−
トリル、2,3−キシリル、2,4−キシリル、2,5
−キシリル、o−クメニル、m−クメニル、p−クメニ
ル、メシチル等を挙げることができる。本明細書におい
て、「C6〜C20アリールアルキル基」は、C6〜C12
リールアルキル基であることが好ましい。アリールアル
キル基の例としては、制限するわけではないが、ベンジ
ル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、2,2
−ジフェニルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェ
ニルブチル、5−フェニルペンチル等を挙げることがで
きる。本明細書において、「C4〜C20シクロアルキル
基」は、C4〜C10シクロアルキル基であることが好ま
しい。シクロアルキル基の例としては、制限するわけで
はないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チル、シクロヘキシル等を挙げることができる。本明細
書において、「C4〜C20シクロアルケニル基」は、C4
〜C10シクロアルケニル基であることが好ましい。シク
ロアルケニル基の例としては、制限するわけではない
が、シクロプロペニル、シクロブテニル、2−シクロペ
ンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル、3
−シクロヘキセン−1−イル等を挙げることができる。
In the present specification, the "C 6 -C 18 aryl group" is preferably C 6 -C 10 aryl group.
Examples of aryl groups include, but are not limited to, phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, indenyl, biphenylyl, anthryl, phenanthryl and the like. In the present specification, the “C 6 -C 20 alkylaryl group” is preferably C 6 -C 12 alkylaryl group. Examples of alkylaryl groups include, but are not limited to, o-tolyl, m-tolyl, p-
Trilyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5
-Xylyl, o-cumenyl, m-cumenyl, p-cumenyl, mesityl and the like can be mentioned. In the present specification, the “C 6 -C 20 arylalkyl group” is preferably C 6 -C 12 arylalkyl group. Examples of arylalkyl groups include, but are not limited to, benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, 2,2.
-Diphenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl and the like can be mentioned. In the present specification, the “C 4 -C 20 cycloalkyl group” is preferably C 4 -C 10 cycloalkyl group. Examples of cycloalkyl groups include, but are not limited to, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like. In the present specification, the “C 4 -C 20 cycloalkenyl group” means C 4
It is preferably a C 10 cycloalkenyl group. Examples of cycloalkenyl groups include, but are not limited to, cyclopropenyl, cyclobutenyl, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl, 3
-Cyclohexen-1-yl etc. can be mentioned.

【0016】本明細書において、「C1〜C20アルコキ
シ基」は、C1〜C10アルコキシ基であることが好まし
く、C1〜C6アルコキシ基であることが更に好ましい。
アルコキシ基の例としては、制限するわけではないが、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチル
オキシ等がある。
In the present specification, the "C 1 -C 20 alkoxy group" is preferably C 1 -C 10 alkoxy group, and more preferably C 1 -C 6 alkoxy group.
Examples of alkoxy groups include, but are not limited to,
Examples include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy and pentyloxy.

【0017】本明細書において、「C6〜C20アリール
オキシ基」は、C6〜C10アリールオキシ基であること
が好ましい。アリールオキシ基の例としては、制限する
わけではないが、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビ
フェニルオキシ等を挙げることができる。
In the present specification, the "C 6 -C 20 aryloxy group" is preferably C 6 -C 10 aryloxy group. Examples of aryloxy groups include, but are not limited to, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy and the like.

【0018】本明細書において、「アルキルチオ基(−
SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C
20アルキル基を示す。)」及び「アルキルスルホニル基
(−SO23、式中、Y3は置換基を有していてもよい
1〜C20アルキル基を示す。)」において、Y1及びY
3は、C1〜C10アルキル基であることが好ましく、C1
〜C6アルキル基であることが更に好ましい。アルキル
基の例としては、制限するわけではないが、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデ
カニル等を挙げることができる。
In the present specification, "alkylthio group (-
SY 1 , wherein Y 1 is a C 1 -C which may have a substituent.
20 represents an alkyl group. ) ”And“ alkylsulfonyl group (—SO 2 Y 3 , in which Y 3 represents a C 1 to C 20 alkyl group which may have a substituent) ”, Y 1 and Y
3 is preferably a C 1 -C 10 alkyl group, C 1
More preferably, it is a C 6 alkyl group. Examples of alkyl groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-
Butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, dodecanyl and the like can be mentioned.

【0019】本明細書において、「アリールチオ基(−
SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C
18アリール基を示す。)」及び「アリールスルホニル基
(−SO24、式中、Y4は置換基を有していてもよい
6〜C18アリール基を示す。)」において、Y2及びY
4は、C6〜C10アリール基であることが好ましい。アリ
ール基の例としては、制限するわけではないが、フェニ
ル、1−ナフチル、2−ナフチル、インデニル、ビフェ
ニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることが
できる。
In the present specification, "arylthio group (-
SY 2 , wherein Y 2 is a C 6 -C which may have a substituent.
18 Indicates an aryl group. ) ”And“ arylsulfonyl group (—SO 2 Y 4 , in which Y 4 represents a C 6 to C 18 aryl group which may have a substituent) ”, Y 2 and Y
4 is preferably a C 6 -C 10 aryl group. Examples of aryl groups include, but are not limited to, phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, indenyl, biphenylyl, anthryl, phenanthryl and the like.

【0020】R1、R2、R3およびR4で示される「C1
〜C20炭化水素基」、「C1〜C20アルコキシ基」、
「C6〜C20アリールオキシ基」、「アミノ基」、「シ
リル基」、「アルキルチオ基」、「アリールチオ基」、
「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」
には、置換基が導入されていてもよい。この置換基とし
ては、例えば、C1〜C10炭化水素基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、
インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等)、C1
10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ブトキシ等)、C6〜C10アリールオキシ基
(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニ
ルオキシ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などを
挙げることができる。この場合、置換基は、置換可能な
位置に1個以上導入されていてもよく、好ましくは1個
〜4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上であ
る場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよ
い。
"C 1 represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4
-C 20 hydrocarbon group "," C 1 -C 20 alkoxy group "
"C 6 -C 20 aryloxy group", "amino group", "silyl group", "alkylthio group", "arylthio group",
"Alkylsulfonyl group", "arylsulfonyl group"
Into, a substituent may be introduced. Examples of this substituent include a C 1 to C 10 hydrocarbon group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, naphthyl,
Indenyl, tolyl, xylyl, benzyl, etc.), C 1-
C 10 alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6 to C 10 aryloxy group (eg, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy, etc.), amino group, hydroxyl group, halogen atom (eg, fluorine) , Chlorine, bromine, iodine) or a silyl group. In this case, one or more substituents may be introduced at the substitutable position, and preferably one to four substituents may be introduced. When the number of substituents is 2 or more, each substituent may be the same or different.

【0021】本明細書において、「置換基を有していて
もよいアミノ基」の例としては、制限するわけではない
が、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフ
ェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
In the present specification, examples of the "amino group which may have a substituent (s)" include, but are not limited to, amino, dimethylamino, methylamino, methylphenylamino, phenylamino and the like. .

【0022】本明細書において、「置換基を有していて
もよいシリル基」の例としては、制限するわけではない
が、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキ
シシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリ
ル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメ
チルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチ
ルメトキシフェニル等がある。
In the present specification, examples of the "silyl group which may have a substituent (s)" include, but are not limited to, trimethylsilyl, triethylsilyl, trimethoxysilyl, triethoxysilyl, diphenylmethylsilyl, Examples include triphenylsilyl, triphenoxysilyl, dimethylmethoxysilyl, dimethylphenoxysilyl, and methylmethoxyphenyl.

【0023】本発明において、R1及びR2は、互いに架
橋してC4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよ
い。これらの置換基が形成する環は、4員環〜16員環
であることが好ましく、4員環〜12員環であることが
更に好ましい。この環は、ベンゼン環等の芳香族環あっ
てもよいし、脂肪族環であってもよい。また、これらの
置換基が形成する環に、更に単数又は複数の環が形成さ
れていてもよい。前記飽和環または不飽和環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
または式―N(B)―で示される基(式中、Bは水素原
子またはC1〜C20炭化水素基である。)で中断されて
いてもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環はヘテロ
環であってもよい。かつ、置換基を有していてもよい。
不飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよい。
Bは,水素原子またはC1〜C10炭化水素基であること
が好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水素基である
ことが更に好ましく、Bは水素原子、C1〜C3アルキル
基、フェニル基またはベンジル基であることが更になお
好ましい。この飽和環又は不飽和環は、置換基を有して
いてもよく、例えば、C1〜C10炭化水素基(例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等)、C1〜C10
ルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ等)、C6〜C1 0アリールオキシ基(例え
ば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキ
シ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例えば、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などの置換基
が導入されていてもよい。
In the present invention, R 1 and R 2 may be bridged with each other to form a C 4 -C 20 saturated ring or unsaturated ring. The ring formed by these substituents is preferably a 4-membered ring to a 16-membered ring, more preferably a 4-membered ring to a 12-membered ring. This ring may be an aromatic ring such as a benzene ring or an aliphatic ring. Further, the ring formed by these substituents may further have a single ring or a plurality of rings. The saturated ring or unsaturated ring is an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 20 carbon atom). It is a hydrogen group.) That is, the saturated ring or unsaturated ring may be a heterocycle. Moreover, it may have a substituent.
The unsaturated ring may be an aromatic ring such as a benzene ring.
B is preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 7 hydrocarbon group, and B is a hydrogen atom or a C 1 to C 3 alkyl group. Still more preferably, it is a phenyl group or a benzyl group. This saturated ring or unsaturated ring may have a substituent, for example, a C 1 to C 10 hydrocarbon group (for example,
Methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), C 1 -C 10 alkoxy group (e.g., methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6 ~C 1 0 aryloxy group (e.g., phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy Etc.), an amino group, a hydroxyl group, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine), or a substituent such as a silyl group may be introduced.

【0024】本発明において、R1、R2、R3およびR4
は、それぞれ互いに独立し、同一または異なって、水素
原子;C1〜C20アルキル基;C6〜C18アリール基;C
1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいシリ
ル基;又はハロゲン原子であることが好ましく、水素原
子;C1〜C10アルキル基;C6〜C10アリール基;C 1
〜C10アルコキシ基;置換基を有していてもよいシリル
基;又はハロゲン原子であることが更に好ましい。R1
及びR2は、それぞれ互いに独立し、同一または異なっ
て、水素原子;C1〜C10アルキル基又はC6〜C10アリ
ール基であることが好ましく、水素原子、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブ
チル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル又はフェ
ニルであることが更に好ましい。R3は、C1〜C10アル
キル基、C6〜C18アリール基又は置換基を有していて
もよいシリル基であることが好ましく、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブ
チル、tert−ブチル、フェニル、トリメチルシリル
又はトリエチルシリルであることが更に好ましい。R4
は、ハロゲン原子であることが好ましく、塩素であるこ
とが更に好ましい。
In the present invention, R1, R2, R3And RFour
Are, independently of each other, the same or different,
Atom; C1~ C20Alkyl group; C6~ C18Aryl group; C
1~ C20Alkoxy group; Sili which may have a substituent
Group; or a halogen atom, preferably hydrogen atom
Child; C1~ CTenAlkyl group; C6~ CTenAryl group; C 1
~ CTenAlkoxy group; Silyl which may have a substituent
More preferably, it is a group; or a halogen atom. R1
And R2Are independent of each other and are the same or different
And hydrogen atom; C1~ CTenAlkyl group or C6~ CTenAnts
Group, preferably a hydrogen atom, methyl or ethyl.
Ru, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-bu
Tyl, tert-butyl, pentyl, hexyl or phen
More preferably, it is nil. R3Is C1~ CTenAl
Kill group, C6~ C18Having an aryl group or a substituent
Is preferably a silyl group such as methyl or ethyl.
Ru, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-bu
Tyl, tert-butyl, phenyl, trimethylsilyl
Alternatively, triethylsilyl is more preferable. RFour
Is preferably a halogen atom and chlorine.
And are more preferable.

【0025】上記式(1)中、A環は、置換基を有して
いてもよい芳香環である。
In the above formula (1), ring A is an aromatic ring which may have a substituent.

【0026】本明細書において、「芳香環」とは、単環
式芳香環、多環式芳香環等を挙げることができる。「単
環式芳香環」としては、ベンゼン環、5員又は6員の複
素環を挙げることができる。「5員又は6員の複素環」
としては、フラン、チオフェン、ピロール、ピラン、チ
オピラン、ピリジン、チアゾール、イミダゾール、ピリ
ミジン、1,3,5−トリアジン等を挙げることができ
る。「多環式芳香環」としては、多環式芳香族炭化水
素、多環式複素芳香環を挙げることができる。「多環式
芳香族炭化水素」としては、ビフェニル、トリフェニ
ル、ナフタレン、インデン、アントラセン、フェナント
レン等を挙げることができる。「多環式複素芳香環」と
しては、インドール、キノリン、プリン等を挙げること
ができる。
In the present specification, examples of the "aromatic ring" include a monocyclic aromatic ring and a polycyclic aromatic ring. Examples of the "monocyclic aromatic ring" include a benzene ring, a 5-membered or a 6-membered heterocyclic ring. "5- or 6-membered heterocycle"
Examples thereof include furan, thiophene, pyrrole, pyran, thiopyran, pyridine, thiazole, imidazole, pyrimidine, 1,3,5-triazine and the like. Examples of the "polycyclic aromatic ring" include polycyclic aromatic hydrocarbons and polycyclic heteroaromatic rings. Examples of the "polycyclic aromatic hydrocarbon" include biphenyl, triphenyl, naphthalene, indene, anthracene, phenanthrene and the like. Examples of the "polycyclic heteroaromatic ring" include indole, quinoline, purine and the like.

【0027】A環で示される「芳香環」には、置換基が
導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、
1〜C10炭化水素基(例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等)、C1〜C10アルコキシ基(例えば、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、C6
〜C10アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、ナ
フチルオキシ、ビフェニルオキシ等)、アミノ基、水酸
基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素)又はシリル基などを挙げることができる。この場
合、置換基は、置換可能な位置に1個以上導入されてい
てもよく、好ましくは1個〜4個導入されていてもよ
い。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一で
あっても異なっていてもよい。
A substituent may be introduced into the "aromatic ring" represented by ring A. As this substituent, for example,
C 1 -C 10 hydrocarbon group (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), C 1 -C 10 alkoxy group (e.g.,
Methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6
To C 10 aryloxy groups (eg, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy, etc.), amino groups, hydroxyl groups, halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine) or silyl groups. In this case, one or more substituents may be introduced at the substitutable position, and preferably one to four substituents may be introduced. When the number of substituents is 2 or more, each substituent may be the same or different.

【0028】本発明において、A環を含む部分構造In the present invention, a partial structure containing ring A

【化16】 は、下記式[Chemical 16] Is the following formula

【化17】 [式中、R5、R6、R7、R8およびR9は、上記の意味
を有する。]であることが好ましい。R5、R6、R7
8およびR9は、それぞれ互いに独立し、同一または異
なって、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C
20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20
ルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリ
ールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置
換基を有していてもよいシリル基;置換基を有していて
もよいアルキルチオ基(−SY1、式中、Y1は置換基を
有していてもよいC1〜C20アルキル基を示す。);置
換基を有していてもよいアリールチオ基(−SY2、式
中、Y2は置換基を有していてもよいC6〜C18アリール
基を示す。);置換基を有していてもよいアルキルスル
ホニル基(−SO23、式中、Y3は置換基を有してい
てもよいC1〜C20アルキル基を示す。);置換基を有
していてもよいアリールスルホニル基(−SO24、式
中、Y 4は置換基を有していてもよいC6〜C18アリール
基を示す。);水酸基;又はハロゲン原子である。
[Chemical 17] [In the formula, RFive, R6, R7, R8And R9Means the above
Have. ] Is preferred. RFive, R6, R7,
R8And R9Are the same or different
And a hydrogen atom; C which may have a substituent1~ C
20Hydrocarbon group; C which may have a substituent1~ C20A
Lucoxy group; C which may have a substituent6~ C20Ants
Group; oxy group; optionally substituted amino group;
A silyl group which may have a substituent; which has a substituent
Good alkylthio group (-SY1, In the formula, Y1Is a substituent
C which may have1~ C20Indicates an alkyl group. );
Arylthio group which may have a substituent (-SY2,formula
Medium, Y2Is C which may have a substituent6~ C18Aryl
Indicates a group. ); Alkyl sulfone which may have a substituent
Honyl group (-SO2Y3, In the formula, Y3Has a substituent
May be C1~ C20Indicates an alkyl group. ); With a substituent
Optionally substituted arylsulfonyl group (-SO2YFour,formula
Medium, Y FourIs C which may have a substituent6~ C18Aryl
Indicates a group. ); A hydroxyl group; or a halogen atom.

【0029】R5、R6、R7、R8およびR9で示される
「C1〜C20炭化水素基」、「C1〜C20アルコキシ
基」、「C6〜C20アリールオキシ基」、「アミノ
基」、「シリル基」、「アルキルチオ基」、「アリール
チオ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスル
ホニル基」には、置換基が導入されていてもよい。この
置換基としては、例えば、C1〜C10炭化水素基(例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナ
フチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル
等)、C1〜C10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、C6〜C10アリー
ルオキシ基(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキ
シ、ビフェニルオキシ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲ
ン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシ
リル基などを挙げることができる。この場合、置換基
は、置換可能な位置に1個以上導入されていてもよく、
好ましくは1個〜4個導入されていてもよい。置換基数
が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異な
っていてもよい。
"C 1 -C 20 hydrocarbon group", "C 1 -C 20 alkoxy group" and "C 6 -C 20 aryloxy group" represented by R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 ",""Aminogroup","silylgroup","alkylthiogroup","arylthiogroup","alkylsulfonylgroup","arylsulfonylgroup" may have a substituent introduced. Examples of this substituent include a C 1 to C 10 hydrocarbon group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, naphthyl, indenyl, tolyl, xylyl, benzyl, etc.), a C 1 to C 10 alkoxy group (eg, , Methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy), C 6 -C 10 aryloxy groups (eg, phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy, etc.), amino groups, hydroxyl groups, halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine). ) Or a silyl group. In this case, one or more substituents may be introduced at substitutable positions,
Preferably, 1 to 4 may be introduced. When the number of substituents is 2 or more, each substituent may be the same or different.

【0030】本発明において、R5及びR6、R6及び
7、R7及びR8、並びに、R8及びR9は、それぞれ、
互いに架橋してC4〜C10飽和環又は不飽和環を形成し
てもよい。これらの置換基が形成する環は、4員環〜1
6員環であることが好ましく、4員環〜12員環である
ことが更に好ましい。この環は、ベンゼン環等の芳香族
環あってもよいし、脂肪族環であってもよい。また、こ
れらの置換基が形成する環に、更に単数又は複数の環が
形成されていてもよい。前記飽和環または不飽和環は、
酸素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウ
ム原子または式―N(B)―で示される基(式中、Bは
水素原子またはC1〜C20炭化水素基である。)で中断
されていてもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環は
ヘテロ環であってもよい。かつ、置換基を有していても
よい。不飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であっても
よい。Bは,水素原子またはC1〜C10炭化水素基であ
ることが好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水素基
であることが更に好ましく、Bは水素原子、C1〜C3
ルキル基、フェニル基またはベンジル基であることが更
になお好ましい。この飽和環又は不飽和環は、置換基を
有していてもよく、例えば、C1〜C10炭化水素基(例
えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル等)、C1
10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ブトキシ等)、C6〜C1 0アリールオキシ基
(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニ
ルオキシ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などの
置換基が導入されていてもよい。
In the present invention, R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , and R 8 and R 9 are respectively
C 4 -C 10 may form a saturated or unsaturated ring crosslinked with each other. The ring formed by these substituents is a 4-membered ring to 1
A 6-membered ring is preferred, and a 4-membered to 12-membered ring is more preferred. This ring may be an aromatic ring such as a benzene ring or an aliphatic ring. Further, the ring formed by these substituents may further have a single ring or a plurality of rings. The saturated ring or unsaturated ring is
Suspended with an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a tin atom, a germanium atom or a group represented by the formula —N (B) — (wherein B is a hydrogen atom or a C 1 to C 20 hydrocarbon group). May be. That is, the saturated ring or unsaturated ring may be a heterocycle. Moreover, it may have a substituent. The unsaturated ring may be an aromatic ring such as a benzene ring. B is preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 10 hydrocarbon group, more preferably a hydrogen atom or a C 1 to C 7 hydrocarbon group, and B is a hydrogen atom or a C 1 to C 3 alkyl group. Still more preferably, it is a phenyl group or a benzyl group. This saturated ring or unsaturated ring may have a substituent, for example, a C 1 to C 10 hydrocarbon group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), C 1 to
C 10 alkoxy group (e.g., methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), C 6 -C 1 0 aryl group (e.g., phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy, etc.), an amino group, a hydroxyl group, a halogen atom (e.g., Fluorine, chlorine, bromine, iodine) or a substituent such as a silyl group may be introduced.

【0031】本発明において、R5、R6、R7、R8およ
びR9が、それぞれ互いに独立し、同一または異なっ
て、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20
化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコ
キシ基;又は置換基を有していてもよいアミノ基である
ことが好ましく、水素原子;置換基を有していてもよい
1〜C10炭化水素基;置換基を有していてもよいC1
10アルコキシ基;又は置換基を有していてもよいアミ
ノ基であることがより好ましく、水素原子、置換基を有
していてもよいC1〜C10炭化水素基又は置換基を有し
ていてもよいC1〜C10アルコキシ基であることが更に
好ましく、水素原子、メチル、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ又はブトキシであることが特に好ましい。ま
た、本発明において、R5及びR6、R6及びR7、R7
びR8、又は、R8及びR9が、互いに架橋して芳香環を
形成していることが好ましく、ベンゼン環を形成してい
ることがより好ましい。
In the present invention, R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently of the same or different and are a hydrogen atom; C 1 -C 20 which may have a substituent. Hydrocarbon group; C 1 -C 20 alkoxy group optionally having substituent group; or amino group optionally having substituent group, hydrogen atom; optionally having substituent group good C 1 -C 10 hydrocarbon radical; an optionally substituted C 1 ~
C 10 alkoxy group; or an amino group which may have a substituent is more preferable, and a hydrogen atom, a C 1 -C 10 hydrocarbon group which may have a substituent or a substituent It is more preferably a C 1 -C 10 alkoxy group which may be present, and particularly preferably a hydrogen atom, methyl, methoxy, ethoxy, propoxy or butoxy. Further, in the present invention, it is preferable that R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 or R 8 and R 9 are cross-linked with each other to form an aromatic ring. Is more preferably formed.

【0032】本発明の第2態様では、本発明の第1態様
にかかる2環式化合物の製造方法の一態様が提供され、
下記式(2)で示されるシクロブテノン誘導体と、下記
式(3)で示される環とを反応させ、反応混合物を得る
工程と、前記反応混合物を加熱還流する工程とを含むこ
とを特徴とする下記式(1)に示される2環式化合物の
製造方法が提供される。
In a second aspect of the present invention, there is provided one aspect of a method for producing a bicyclic compound according to the first aspect of the present invention,
A method comprising: reacting a cyclobutenone derivative represented by the following formula (2) with a ring represented by the following formula (3) to obtain a reaction mixture; and heating the reaction mixture under reflux. Provided is a method for producing a bicyclic compound represented by formula (1).

【化18】 [式中、R1、R2、R3、R4、M及びA環は、上記と同
義を示す。]
[Chemical 18] [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , M and A rings have the same meanings as described above. ]

【0033】本発明の第2態様において、下記式(2)
で示されるシクロブテノン誘導体が用いられる。
In the second embodiment of the present invention, the following formula (2)
The cyclobutenone derivative represented by is used.

【化19】 [式中、R1、R2、R3及びR4は、上記の意味を有す
る。]
[Chemical 19] [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the above meanings. ]

【0034】上記式(2)中のR1、R2、R3及びR
4は、本発明の第1態様で、上記式(1)中のR1
2、R3及びR4において説明したのと同様である。
R 1 , R 2 , R 3 and R in the above formula (2)
4 is a first embodiment of the present invention, wherein R 1 in the above formula (1),
It is the same as described for R 2 , R 3 and R 4 .

【0035】上記式(2)で示されるシクロブテノン誘
導体は、公知の方法で合成することができ、例えば、ア
ルキンとジクロロケテンとを[2+2]環付加反応を利
用して得られたシクロブテン類に対して、ビニルリチウ
ム、ビニルマグネシウムハライド等の求核剤を作用させ
ることにより得ることができる。
The cyclobutenone derivative represented by the above formula (2) can be synthesized by a known method. For example, cyclobutenes obtained by utilizing a [2 + 2] cycloaddition reaction of alkyne and dichloroketene are added. Then, it can be obtained by acting a nucleophile such as vinyllithium or vinylmagnesium halide.

【0036】本発明の第2態様において、下記式(3)
で示される環が用いられる。
In the second aspect of the present invention, the following formula (3)
The ring shown by is used.

【化20】 [式中、M及びA環は、上記の意味を有する。][Chemical 20] [In the formula, M and A rings have the above-mentioned meanings. ]

【0037】上記式(3)中、A環は、本発明の第1態
様で、上記式(1)中において説明したのと同様であ
る。
In the above formula (3), the ring A is the same as described in the above formula (1) in the first aspect of the present invention.

【0038】上記式(3)中、Mは、周期表第2族の金
属のハロゲン化物、又は周期表第1族の金属を示す。M
としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属;MgX(Xはハロゲン原子)等を挙げ
ることができ、なかでも、リチウム、MgX(Xはハロ
ゲン原子)であることが好ましい。
In the above formula (3), M represents a halide of a metal of Group 2 of the periodic table or a metal of Group 1 of the periodic table. M
Examples thereof include alkali metals such as lithium, sodium and potassium; MgX (X is a halogen atom) and the like. Of these, lithium and MgX (X is a halogen atom) are preferable.

【0039】上記式(3)で示される環の量は、シクロ
ブテノン誘導体(2)1モルに対し、1モル〜10モル
であり、好ましくは1モル〜3モルであり、更に好まし
くは1モル〜2モルである。
The amount of the ring represented by the above formula (3) is 1 mol to 10 mols, preferably 1 mol to 3 mols, and more preferably 1 mols to 1 mol of the cyclobutenone derivative (2). 2 mol.

【0040】本発明の第2態様にかかる2環式化合物の
製造方法において、上記式(2)で示されるシクロブテ
ノン誘導体と上記式(3)で示される環との反応は、上
記式(2)で示されるシクロブテノン誘導体中の酸素原
子を保護する観点から、保護基付与剤存在下で行うこと
が好ましい。このような保護基付与剤としては、エステ
ル化剤、アシル化剤、アルキル化剤、シリル化剤等を挙
げることができる。「エステル化剤」としては、ハロゲ
ン化エステル等を挙げることができ、特に、クロロギ酸
メチルを好ましく挙げることができる。「アシル化剤」
としては、例えば、ハロゲン化アシル、カルボン酸無水
物等を挙げることができ、特に、ベンゾイルクロリドを
好ましく挙げることができる。「アルキル化剤」として
は、例えば、ハロゲン化アルキル、スルホン酸アルキ
ル、硫酸ジアルキル、エポキシド等を挙げることがで
き、特に、メチルトリフラートを好ましく挙げることが
できる。「シリル化剤」としては、例えば、ハロゲン化
シリル、シリルトリフラートを挙げることができ、特
に、塩化トリメチルシリルを好ましく挙げることができ
る。本発明において、保護基付与剤としては、エステル
化剤又はアシル化剤を用いることが好ましく、クロロギ
酸メチル、ベンゾイルクロリドを用いることが更に好ま
しい。
In the method for producing a bicyclic compound according to the second aspect of the present invention, the reaction between the cyclobutenone derivative represented by the above formula (2) and the ring represented by the above formula (3) is carried out by the above formula (2). From the viewpoint of protecting the oxygen atom in the cyclobutenone derivative represented by, it is preferable to carry out in the presence of a protecting group-providing agent. Examples of the protecting group-providing agent include esterifying agents, acylating agents, alkylating agents, silylating agents, and the like. Examples of the "esterifying agent" include halogenated esters, and particularly preferably methyl chloroformate. "Acylating agent"
Examples thereof include acyl halides, carboxylic acid anhydrides, and the like, with benzoyl chloride being particularly preferable. Examples of the “alkylating agent” include alkyl halides, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, epoxides, and the like, and particularly preferably methyl triflate. Examples of the “silylating agent” include silyl halide and silyl triflate, and particularly preferable is trimethylsilyl chloride. In the present invention, it is preferable to use an esterifying agent or an acylating agent as the protective group-providing agent, and it is more preferable to use methyl chloroformate or benzoyl chloride.

【0041】保護基付与剤の量は、シクロブテノン誘導
体(2)1モルに対し、1モル〜10モルであり、好ま
しくは1モル〜5モルであり、更に好ましくは1.5モ
ル〜3モルである。
The amount of the protective group-providing agent is 1 mol to 10 mol, preferably 1 mol to 5 mol, and more preferably 1.5 mol to 3 mol, per 1 mol of the cyclobutenone derivative (2). is there.

【0042】本発明の第2態様において、2環式化合物
は、典型的には、上記式(3)で示される環の溶液に、
上記式(2)で示されるシクロブテノン誘導体、必要に
応じて保護基付与剤をそれぞれ添加し、反応混合物を得
る。続いてこの反応混合物を加熱還流することによって
上記式(1)で示される2環式化合物を生成する。環
(3)は単離されたものを用いる必要はなく、溶液中で
調製された環(3)をそのまま用いても良い。
In the second embodiment of the present invention, the bicyclic compound is typically added to a solution of the ring represented by the above formula (3),
The cyclobutenone derivative represented by the above formula (2) and, if necessary, a protecting group-providing agent are respectively added to obtain a reaction mixture. Subsequently, the reaction mixture is heated under reflux to produce the bicyclic compound represented by the above formula (1). The ring (3) does not need to be isolated, and the ring (3) prepared in the solution may be used as it is.

【0043】本発明の第2態様において、保護基付与剤
を用いた場合は、シクロブテノン誘導体(2)と環
(3)とを反応させることにより、下記に示される反応
機構に従って中間体(4)、中間体(5)を得(以下、
この工程を「第1工程」ともいう。)、更に得られた反
応混合物を加熱還流することにより中間体(6)を経て
最終生成物である2環式化合物(1)が得られる(以
下、この工程を「第2工程」ともいう。)と考えられ
る。
In the second embodiment of the present invention, when a protecting group-providing agent is used, the cyclobutenone derivative (2) is reacted with the ring (3) to give an intermediate (4) according to the reaction mechanism shown below. , Intermediate (5) is obtained (hereinafter,
This step is also referred to as "first step". ), And further by heating and refluxing the obtained reaction mixture, the final product, the bicyclic compound (1), is obtained through the intermediate (6) (hereinafter, this step is also referred to as “second step”). )it is conceivable that.

【化21】 [式中、R1、R2、R3、R4、M及びA環は、上記の意
味を有する。R10は、保護基付与剤によって付与された
エステル基、アシル基、アルキル基又はシリル基を示
す。]
[Chemical 21] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , M and A rings have the above meanings. R 10 represents an ester group, an acyl group, an alkyl group or a silyl group provided by a protecting group-providing agent. ]

【0044】なお、上記反応機構は仮説に過ぎず、本発
明は上記反応機構に限定されるものではない。
The above reaction mechanism is only a hypothesis, and the present invention is not limited to the above reaction mechanism.

【0045】本発明の第2態様の第1工程において、反
応は、好ましくは−100℃〜150℃の温度範囲で行
われ、特に好ましくは−80℃〜80℃の温度範囲、更
に好ましくは−80℃〜40℃の温度範囲で行われる。
In the first step of the second aspect of the present invention, the reaction is preferably carried out in the temperature range of -100 ° C to 150 ° C, particularly preferably -80 ° C to 80 ° C, and further preferably- It is performed in a temperature range of 80 ° C to 40 ° C.

【0046】本発明の第2態様の第1工程において、溶
媒としては、上記式(3)で示される環を溶解すること
ができる溶媒が好ましい。溶媒は、脂肪族又は芳香族の
有機溶媒が用いられる。エーテル系溶媒、例えばテトラ
ヒドロフラン又はジエチルエーテル;塩化メチレンのよ
うなハロゲン化炭化水素;o−ジクロロベンゼンのよう
なハロゲン化芳香族炭化水素;N,N−ジメチルホルム
アミド等のアミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキ
シド;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素が用いら
れる。
In the first step of the second aspect of the present invention, the solvent is preferably a solvent capable of dissolving the ring represented by the above formula (3). As the solvent, an aliphatic or aromatic organic solvent is used. Ethereal solvents such as tetrahydrofuran or diethyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride; halogenated aromatic hydrocarbons such as o-dichlorobenzene; amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide; Aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene are used.

【0047】本発明の第2態様の第2工程において、加
熱還流は、好ましくは80℃〜300℃の温度範囲で行
われ、特に好ましくは100℃〜250℃の温度範囲、
更に好ましくは120℃〜200℃の温度範囲で行われ
る。また、加熱還流時間は、好ましくは1時間〜150
時間の温度範囲で行われ、特に好ましくは1時間〜10
0時間の温度範囲、更に好ましくは2時間〜50時間の
温度範囲で行われる。
In the second step of the second aspect of the present invention, the heating under reflux is preferably carried out in the temperature range of 80 ° C to 300 ° C, particularly preferably in the temperature range of 100 ° C to 250 ° C.
More preferably, it is carried out in the temperature range of 120 ° C to 200 ° C. The heating reflux time is preferably 1 hour to 150.
It is carried out in a temperature range of time, particularly preferably 1 hour to 10 hours.
It is carried out in a temperature range of 0 hour, more preferably in a temperature range of 2 hours to 50 hours.

【0048】本発明の第2態様の第2工程において、溶
媒としては、第1工程で得られた反応混合物を溶解する
ことができる溶媒が好ましい。溶媒は、キシレン、メシ
チレン、ピリジン、2,6−ルチジン、o−ジクロロベ
ンゼン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、1−ブタ
ノール等を単独で又は組み合わせて用いることができ、
キシレン−ピリジン溶液、メシチレン−ピリジン溶液、
メシチレン−ルチジン溶液を用いることが好ましい。
In the second step of the second aspect of the present invention, the solvent is preferably a solvent capable of dissolving the reaction mixture obtained in the first step. As the solvent, xylene, mesitylene, pyridine, 2,6-lutidine, o-dichlorobenzene, dimethyl sulfoxide (DMSO), 1-butanol and the like can be used alone or in combination,
Xylene-pyridine solution, mesitylene-pyridine solution,
It is preferable to use a mesitylene-lutidine solution.

【0049】[0049]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
ただし、本発明は、下記の実施例に制限されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.
However, the present invention is not limited to the following examples.

【0050】テトラヒドロフラン(THF)(脱水)、
キシレン(特級)、ピリジン(特級)、t−BuLi
(1.64Mペンタン溶液)、ベンゾイルクロリドは、
関東化学株式会社から購入したものを用いた。2,4,
6−トリメトキシブロモベンゼンは公知の方法により合
成し、2,4−ジメトキシブロモベンゼン、4−メトキ
シブロモベンゼン、1−ブロモナフタレンは、アルドリ
ッチ化学から購入した。その他の試薬も、市販品を購入
し、そのまま用いた。1H及び13C NMRスペクトルは、2
7℃の重クロロホルム溶液(実施例3のみ重アセトン)
を用いて、日本電子JEOL JNM LA-400 核磁気共鳴スペク
トル測定装置(400/100MHz)で測定した。シ
リカゲル分取薄層クロマトグラフィーは、Merck silica
gel 60PF254(Art 7747)を用いた。また、赤外吸収(IR)
の測定には、パーキンエルマージャパン1600分光FT/IR
200 赤外吸収スペクトル測定装置を用いた。
Tetrahydrofuran (THF) (dehydrated),
Xylene (special grade), pyridine (special grade), t-BuLi
(1.64M pentane solution), benzoyl chloride,
The one purchased from Kanto Chemical Co., Inc. was used. 2, 4,
6-Trimethoxybromobenzene was synthesized by a known method, and 2,4-dimethoxybromobenzene, 4-methoxybromobenzene and 1-bromonaphthalene were purchased from Aldrich Chemical. As for the other reagents, commercially available products were purchased and used as they were. 1 H and 13 C NMR spectra are 2
Deuterated chloroform solution at 7 ° C (heavy acetone only in Example 3)
Was measured with a JEOL JNM LA-400 nuclear magnetic resonance spectrum analyzer (400/100 MHz). Preparative thin layer chromatography on silica gel is Merck silica
gel 60PF254 (Art 7747) was used. Also, infrared absorption (IR)
PerkinElmer Japan 1600 spectroscopic FT / IR
A 200 infrared absorption spectrometer was used.

【0051】参考例1Reference Example 1

【化22】 アルゴン雰囲気下、1 L 3ツ口反応容器にて、Zn−Cu (3
9.2 g, 0.60 mol)とフェニルアセチレン(20.4 g, 0.20
mol)のジエチルエーテル溶液(400 mL)に、室温でトリク
ロロアセチルクロリド(44.6 mL, 0.40 mol)のジメトキ
シエタン溶液(125 mL)を2時間かけてゆっくり滴下し
た。30時間撹拌した後、反応混合物をセライトろ過し、
ヘキサン(200 mL)で洗浄した。ろ液を0.5 M 塩酸水溶液
で洗浄し、さらに5% 水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒を減圧
留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル = 8/2)を用いて精製し、ジク
ロロシクロブテノン(37.0 g, 87%)を得た。ジクロロシ
クロブテノン(10.1 g, 52.4 mmol) のベンゼン溶液 (60
mL) に室温にてエチレングリコール (4.4 mL, 79 mmo
l)とパラトルエンスルホン酸 (4.98g, 26.2 mmol)を加
え、加熱還流下30時間撹拌した。反応温度を室温にした
後、0 ℃にて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反
応を停止した。生成物を酢酸エチルで抽出した後、抽出
液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残査をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(ヘキサン/塩化メチレン/ジエチ
ルエーテル =90/5/5)を用いて精製し、アセタール (1
1.6 g, 86%)を得た。アルゴン雰囲気下、200 mL3ツ口反
応容器にて、2-ブロモプロペン(799 mg, 6.61 mmol)のE
t2O溶液(15 mL)に−78℃にてt-BuLi(1.54 M ペンタン溶
液, 7.15 mL, 11.7 mmol)を加え、1時間撹拌した。こ
の温度で、アセタール(1.14 g, 4.40mmol)のEt2O溶液(1
5 mL)を加えた。反応をpH7リン酸緩衝溶液を用いて停止
した後、生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。前記粗生成物
のTHF−H2O (5.0 mL−0.5 mL)溶液に0℃にてTFA (10.0
mL)を加えた。反応温度を室温に上げ、4時間撹拌した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止
した。生成物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩
水で洗浄、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。得ら
れた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/
酢酸エチル = 95/5)を用いて精製し、標題化合物(1.07
g, 92%)を得た。
[Chemical formula 22] Zn-Cu (3
9.2 g, 0.60 mol) and phenylacetylene (20.4 g, 0.20
A solution of trichloroacetyl chloride (44.6 mL, 0.40 mol) in dimethoxyethane (125 mL) was slowly added dropwise to a diethyl ether solution (400 mL) of (mol) in 2 hours at room temperature. After stirring for 30 hours, the reaction mixture was filtered through Celite,
It was washed with hexane (200 mL). The filtrate was washed with a 0.5 M aqueous hydrochloric acid solution, further washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution, and then dried using anhydrous sodium sulfate. The solvent was evaporated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel chromatography (hexane / ethyl acetate = 8/2) to give dichlorocyclobutenone (37.0 g, 87%). Dichlorocyclobutenone (10.1 g, 52.4 mmol) in benzene (60
mL) at room temperature with ethylene glycol (4.4 mL, 79 mmo
l) and p-toluenesulfonic acid (4.98 g, 26.2 mmol) were added, and the mixture was stirred with heating under reflux for 30 hr. After setting the reaction temperature to room temperature, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added at 0 ° C. to stop the reaction. After the product was extracted with ethyl acetate, the extract was washed with saturated saline and dried with anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel chromatography (hexane / methylene chloride / diethyl ether = 90/5/5), and the acetal (1
1.6 g, 86%) was obtained. In a 200 mL 3-neck reaction vessel under an argon atmosphere, 2-bromopropene (799 mg, 6.61 mmol) E was added.
t-BuLi (1.54 M pentane solution, 7.15 mL, 11.7 mmol) was added to the t 2 O solution (15 mL) at −78 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour. At this temperature, acetal (1.14 g, 4.40 mmol) in Et 2 O (1
5 mL) was added. After stopping the reaction with pH 7 phosphate buffer solution, the product was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. THF-H 2 O (5.0 mL -0.5 mL) with a solution to 0 ° C. TFA of the crude product (10.0
mL) was added. The reaction temperature was raised to room temperature and the mixture was stirred for 4 hours, and then saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to stop the reaction. The product was extracted with ethyl acetate, the extract was washed with saturated brine and dried over anhydrous sodium sulfate. The obtained residue is subjected to silica gel chromatography (hexane /
Purify using ethyl acetate = 95/5) to give the title compound (1.07
g, 92%).

【0052】下記に参考例1の反応スキームを示す。The reaction scheme of Reference Example 1 is shown below.

【化23】 ただし、上記反応スキーム中、ビニルリチウムはビニル
ブロミドとt-BuLiとのハロゲン-金属交換反応を用いて
発生させた。
[Chemical formula 23] However, in the above reaction scheme, vinyl lithium was generated using a halogen-metal exchange reaction between vinyl bromide and t-BuLi.

【化24】 [Chemical formula 24]

【0053】参考例2Reference Example 2

【化25】 参考例1と同様の手順で行った。ただし、2−ブロモプ
ロペンの代わりに、2−ブロモ−シス−2−ブテンを用
いた。
[Chemical 25] The procedure was the same as in Reference Example 1. However, 2-bromo-cis-2-butene was used instead of 2-bromopropene.

【0054】参考例3Reference Example 3

【化26】 参考例1と同様の手順で行った。ただし、フェニルアセ
チレンの代わりに、トリメチルシリルアセチレンを用い
た。また、2−ブロモプロペンの代わりに、2−ブロモ
−シス−2−ブテンを用いた。
[Chemical formula 26] The procedure was the same as in Reference Example 1. However, trimethylsilylacetylene was used instead of phenylacetylene. In addition, 2-bromo-cis-2-butene was used instead of 2-bromopropene.

【0055】参考例4Reference Example 4

【化27】 参考例1と同様の手順で行った。ただし、フェニルアセ
チレンの代わりに、1−ヘキシンを用いた。
[Chemical 27] The procedure was the same as in Reference Example 1. However, 1-hexyne was used instead of phenylacetylene.

【0056】実施例1Example 1

【化28】 アルゴン雰囲気下、50mL2ツ口反応容器にて、2,
4,6−トリメトキシブロモベンゼン(47.4mg、
0.192mmol)のTHF溶液(2mL)に−78
℃でt−BuLi(1.64Mペンタン溶液、0.22
mL、0.35mmol)を加え、1時間攪拌した。こ
の温度で、参考例1で得られた化合物(30.9mg、
0.141mmol)のTHF溶液(2.0mL)を加
え、5分間攪拌した後、ベンゾイルクロリド(29.8
mg、0.212mmol)のTHF溶液(0.5m
L)を加えた。反応温度を1時間かけて室温まで上げ、
さらに20分間攪拌した。水を用いて反応を停止したあ
と、酢酸エチル(10mL×3)で抽出し、溶媒を減圧
留去して、中間生成物を得た。アルゴン雰囲気下、30
mL1ツ口反応容器にて、中間生成物のキシレン−ピリ
ジン溶液(2.5mL−0.2mL)を26時間加熱還
流した。反応温度を室温にした後、2M HCL(20
mL)を加え、酢酸エチル(10mL×3)で抽出、溶
媒を減圧留去した後、得られた粗生成物をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=7
/3)で精製し、表題化合物(40.2mg、単離収率
77%(参考例1を基準))を得た。
[Chemical 28] Under an argon atmosphere, in a 50 mL 2-neck reaction vessel, 2.
4,6-trimethoxybromobenzene (47.4 mg,
-78 in a THF solution (2 mL) of 0.192 mmol).
T-BuLi (1.64M pentane solution, 0.22
(mL, 0.35 mmol) was added and stirred for 1 hour. At this temperature, the compound obtained in Reference Example 1 (30.9 mg,
0.141 mmol) in THF (2.0 mL) was added, and the mixture was stirred for 5 minutes, and then benzoyl chloride (29.8) was added.
mg, 0.212 mmol) in THF (0.5 m
L) was added. Raise the reaction temperature to room temperature over 1 hour,
Stir for another 20 minutes. After quenching the reaction with water, the mixture was extracted with ethyl acetate (10 mL × 3) and the solvent was evaporated under reduced pressure to give an intermediate product. 30 in an argon atmosphere
The xylene-pyridine solution (2.5 mL-0.2 mL) of the intermediate product was heated under reflux for 26 hours in a mL 1-neck reaction container. After setting the reaction temperature to room temperature, 2M HCL (20
mL) was added, the mixture was extracted with ethyl acetate (10 mL × 3), the solvent was evaporated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel preparative thin layer chromatography (hexane / ethyl acetate = 7).
/ 3) to give the title compound (40.2 mg, isolated yield 77% (based on Reference Example 1)).

【0057】1H NMR (CDCl3,δ)2.36 (s, 3H), 3.74
(s, 6H), 3.86 (s, 3H), 6.23 (s, 2H), 7.04 (d, 1H,
J =2.2 Hz), 7.11 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 7.32−7.51
(m, 5H);13 C NMR (CDCl3,δ)20.9, 55.3, 56.0, 90.8, 110.8, 1
27.1, 127.8, 130.0, 130.4, 131.0, 132.4,134.3, 13
5.5, 140.3, 140.6, 158.5, 161.1; IR (neat)2937, 2838, 1609, 1587, 1505, 1456, 1408,
1337, 1225, 1205, 1160, 1144,1128, 1058, 1036, 95
1, 866, 811, 768 cm-1; 元素分析 計算値 C22H21O3Cl: C, 71.64; H, 5.74. 実
測値: C, 71.54; H, 6.03。
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 2.36 (s, 3H), 3.74
(s, 6H), 3.86 (s, 3H), 6.23 (s, 2H), 7.04 (d, 1H,
J = 2.2 Hz), 7.11 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 7.32−7.51
(m, 5H); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) 20.9, 55.3, 56.0, 90.8, 110.8, 1
27.1, 127.8, 130.0, 130.4, 131.0, 132.4, 134.3, 13
5.5, 140.3, 140.6, 158.5, 161.1; IR (neat) 2937, 2838, 1609, 1587, 1505, 1456, 1408,
1337, 1225, 1205, 1160, 1144, 1128, 1058, 1036, 95
1, 866, 811, 768 cm -1 ; Calculated by elemental analysis C 22 H 21 O 3 Cl: C, 71.64; H, 5.74. Found: C, 71.54; H, 6.03.

【0058】下記に実施例1の反応スキームを示す。The reaction scheme of Example 1 is shown below.

【化29】 [Chemical 29]

【0059】実施例2Example 2

【化30】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、2,4,6−
トリメトキシブロモベンゼンの代わりに、2,4−ジメ
トキシブロモベンゼンを用いた。また、参考例1で得ら
れた化合物の代わりに、参考例2で得られた化合物を用
いた。また、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液
(2.5mL−0.2mL)を26時間加熱還流する代
わりに、中間生成物のメシチレン−ピリジン溶液(2.
5mL−0.2mL)を12時間加熱還流した。単離収
率51%(参考例2を基準)。
[Chemical 30] The procedure was similar to that in Example 1. However, 2, 4, 6-
2,4-Dimethoxybromobenzene was used instead of trimethoxybromobenzene. Further, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 2 was used. Further, instead of heating the intermediate product xylene-pyridine solution (2.5 mL-0.2 mL) under reflux for 26 hours, the intermediate product mesitylene-pyridine solution (2.
(5 mL-0.2 mL) was heated under reflux for 12 hours. Isolated yield 51% (reference example 2).

【0060】1H NMR (CDCl3,δ)2.00 (s, 3H), 2.32
(s, 3H), 3.72 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 6.69 (d, 1H,
J =2.9 Hz), 6.90 (dd, 1H, J1 = 2.9, J2 = 8.9 Hz),
6.94 (d, 1H, J = 8.9 Hz), 7.15 (s, 1H), 7.32−7.48
(m, 5H);13 C NMR (CDCl3,δ)17.4, 20.2, 55.7, 56.4, 112.4, 1
13.6, 116.6, 127.1, 127.8, 129.6, 129.7,129.9, 13
1.7, 134.9, 136.4, 137.7, 137.8, 140.3, 151.0, 15
3.6; IR (neat)2940, 2832, 1604, 1580, 1497, 1463, 1421,
1381, 1273, 1222, 1174, 1048,1027, 936, 880, 810,
768 cm-1
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 2.00 (s, 3H), 2.32
(s, 3H), 3.72 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 6.69 (d, 1H,
J = 2.9 Hz), 6.90 (dd, 1H, J 1 = 2.9, J 2 = 8.9 Hz),
6.94 (d, 1H, J = 8.9 Hz), 7.15 (s, 1H), 7.32−7.48
(m, 5H); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) 17.4, 20.2, 55.7, 56.4, 112.4, 1
13.6, 116.6, 127.1, 127.8, 129.6, 129.7,129.9, 13
1.7, 134.9, 136.4, 137.7, 137.8, 140.3, 151.0, 15
3.6; IR (neat) 2940, 2832, 1604, 1580, 1497, 1463, 1421,
1381, 1273, 1222, 1174, 1048,1027, 936, 880, 810,
768 cm -1 .

【0061】実施例3Example 3

【化31】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、2,4,6−
トリメトキシブロモベンゼンの代わりに、1−ブロモナ
フタレンを用いた。また、参考例1で得られた化合物の
代わりに、参考例2で得られた化合物を用いた。また、
中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.5mL−
0.2mL)を26時間加熱還流する代わりに、中間生
成物のメシチレン−ピリジン溶液(2.5mL−0.2
mL)を45時間加熱還流した。単離収率74%(参考
例2を基準)。
[Chemical 31] The procedure was similar to that in Example 1. However, 2, 4, 6-
1-Bromonaphthalene was used instead of trimethoxybromobenzene. Further, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 2 was used. Also,
Xylene-pyridine solution of intermediate product (2.5 mL-
Instead of heating (0.2 mL) under reflux for 26 hours, a mesitylene-pyridine solution of the intermediate product (2.5 mL-0.2
(mL) was heated to reflux for 45 hours. Isolation yield 74% (based on Reference Example 2).

【0062】1H NMR (アセトン-d6,δ)1.86 (s, 3H),
2.39 (s, 3H), 7.29−7.63 (m, 11H), 7.96−8.00 (m,
2H)。
1 H NMR (acetone-d 6 , δ) 1.86 (s, 3H),
2.39 (s, 3H), 7.29−7.63 (m, 11H), 7.96−8.00 (m,
2H).

【0063】実施例4Example 4

【化32】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、2,4,6−
トリメトキシブロモベンゼンの代わりに、4−メトキシ
ブロモベンゼンを用いた。また、参考例1で得られた化
合物の代わりに、参考例2で得られた化合物を用いた。
また、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.5m
L−0.2mL)を26時間加熱還流する代わりに、中
間生成物のメシチレン−ピリジン溶液(2.5mL−
0.2mL)を10時間加熱還流した。単離収率66%
(参考例2を基準)。
[Chemical 32] The procedure was similar to that in Example 1. However, 2, 4, 6-
4-methoxybromobenzene was used instead of trimethoxybromobenzene. Further, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 2 was used.
In addition, a xylene-pyridine solution of an intermediate product (2.5 m
L-0.2 mL) was heated under reflux for 26 hours, and a mesitylene-pyridine solution of the intermediate product (2.5 mL-
(0.2 mL) was heated under reflux for 10 hours. Isolation yield 66%
(Based on Reference Example 2).

【0064】1H NMR (CDCl3,δ)2.01 (s, 3H), 2.31
(s, 3H), 3.86 (s, 3H), 6.98 (d, 2H, J = 8.8 Hz),
7.13(d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.14 (s, 1H), 7.32−7.46
(m, 5H);13 C NMR (CDCl3,δ)17.9, 20.3, 55.2, 113.7, 127.2,
127.9, 129.6, 129.7, 130.5, 131.4, 132.6, 135.1, 1
36.4, 138.0, 140.3, 140.9, 158.6; IR (neat)3058, 2973, 2864, 1610, 1575, 1514, 1456,
1381, 1287, 1245, 1175, 1138,1115, 1074, 1037, 99
6, 926, 881, 835, 788 cm-1; 元素分析 計算値 C21H19OCl: C, 78.13; H, 5.93. 実測
値: C, 77.83; H, 6.04。
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 2.01 (s, 3H), 2.31
(s, 3H), 3.86 (s, 3H), 6.98 (d, 2H, J = 8.8 Hz),
7.13 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.14 (s, 1H), 7.32−7.46
(m, 5H); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) 17.9, 20.3, 55.2, 113.7, 127.2,
127.9, 129.6, 129.7, 130.5, 131.4, 132.6, 135.1, 1
36.4, 138.0, 140.3, 140.9, 158.6; IR (neat) 3058, 2973, 2864, 1610, 1575, 1514, 1456,
1381, 1287, 1245, 1175, 1138, 1115, 1074, 1037, 99
6, 926, 881, 835, 788 cm -1 ; Calculated by elemental analysis C 21 H 19 OCl: C, 78.13; H, 5.93. Found: C, 77.83; H, 6.04.

【0065】下記に実施例4の反応スキームを示す。The reaction scheme of Example 4 is shown below.

【化33】 [Chemical 33]

【0066】実施例5Example 5

【化34】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、2,4,6−
トリメトキシブロモベンゼンの代わりに、4−メトキシ
ブロモベンゼンを用いた。また、参考例1で得られた化
合物の代わりに、参考例3で得られた化合物を用いた。
また、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.5m
L−0.2mL)を26時間加熱還流する代わりに、中
間生成物のメシチレン−ピリジン溶液(2.5mL−
0.2mL)を10時間加熱還流した。単離収率82%
(参考例3を基準)。
[Chemical 34] The procedure was similar to that in Example 1. However, 2, 4, 6-
4-methoxybromobenzene was used instead of trimethoxybromobenzene. Further, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 3 was used.
In addition, a xylene-pyridine solution of an intermediate product (2.5 m
L-0.2 mL) was heated under reflux for 26 hours, and a mesitylene-pyridine solution of the intermediate product (2.5 mL-
(0.2 mL) was heated under reflux for 10 hours. 82% isolated yield
(Based on Reference Example 3).

【0067】1H NMR (CDCl3,δ)0.36 (s, 9H), 1.96
(s, 3H), 2.28 (s, 3H), 3.86 (s, 3H), 6.97 (d, 2H,
J =8.7 Hz), 7.09 (d, 2H, J = 8.7 Hz), 7.22 (s, 1
H);13 C NMR (CDCl3,δ)−0.49, 18.0, 20.3, 55.2, 113.6,
130.5, 132.5, 134.5, 135.5, 135.7, 138.3, 138.6,
140.2, 158.5; IR (neat)3037, 2953, 2835, 1611, 1574, 1514, 1456,
1360, 1289, 1245, 1174, 1106,1039, 937, 856, 839,
785, 756 cm-1; 元素分析 計算値 C18H23OClSi: C, 67.79; H, 7.27. 実
測値: C, 67.64; H, 7.41。
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 0.36 (s, 9H), 1.96
(s, 3H), 2.28 (s, 3H), 3.86 (s, 3H), 6.97 (d, 2H,
J = 8.7 Hz), 7.09 (d, 2H, J = 8.7 Hz), 7.22 (s, 1
H); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) −0.49, 18.0, 20.3, 55.2, 113.6,
130.5, 132.5, 134.5, 135.5, 135.7, 138.3, 138.6,
140.2, 158.5; IR (neat) 3037, 2953, 2835, 1611, 1574, 1514, 1456,
1360, 1289, 1245, 1174, 1106,1039, 937, 856, 839,
785, 756 cm -1 ; Calculated by elemental analysis C 18 H 23 OClSi: C, 67.79; H, 7.27. Found: C, 67.64; H, 7.41.

【0068】実施例6Example 6

【化35】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、参考例1で得
られた化合物の代わりに、参考例4で得られた化合物を
用いた。また、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液
(2.5mL−0.2mL)を26時間加熱還流する代
わりに、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.5
mL−0.2mL)を32時間加熱還流した。単離収率
54%(参考例4を基準)。
[Chemical 35] The procedure was similar to that in Example 1. However, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 4 was used. Also, instead of heating the intermediate product xylene-pyridine solution (2.5 mL-0.2 mL) under reflux for 26 hours, the intermediate product xylene-pyridine solution (2.5
(mL-0.2 mL) was heated under reflux for 32 hours. Isolation yield 54% (based on Reference Example 4).

【0069】1H NMR (CDCl3,δ)0.95 (t, 3H, J = 7.3
Hz), 1.38−1.67 (m, 4H), 2.31 (s, 3H), 2.74 (t, 2
H,J = 7.8 Hz), 3.71 (s, 6H), 3.86 (s, 3H), 6.22
(s, 2H), 6.87 (d, 1H, J =2.0 Hz), 7.00 (d, 1H, J =
2.0 Hz);13 C NMR (CDCl3,δ)14.0, 20.9, 22.7, 32.0, 34.0, 5
5.3, 56.0, 90.9, 111.2, 129.8, 130.8, 131.8, 133.
7, 135.2, 140.1, 158.4, 160.9; IR (neat)2999, 2958, 2859, 1610, 1587, 1504, 1466,
1413, 1337, 1225, 1205, 1157,1129, 1058, 1040, 95
1, 860, 811 cm-1; 元素分析 計算値 C20H25O3Cl: C, 68.86; H, 7.22. 実
測値: C, 69.11; H, 7.46。
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 0.95 (t, 3H, J = 7.3
Hz), 1.38-1.67 (m, 4H), 2.31 (s, 3H), 2.74 (t, 2
H, J = 7.8 Hz), 3.71 (s, 6H), 3.86 (s, 3H), 6.22
(s, 2H), 6.87 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.00 (d, 1H, J =
2.0 Hz); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) 14.0, 20.9, 22.7, 32.0, 34.0, 5
5.3, 56.0, 90.9, 111.2, 129.8, 130.8, 131.8, 133.
7, 135.2, 140.1, 158.4, 160.9; IR (neat) 2999, 2958, 2859, 1610, 1587, 1504, 1466,
1413, 1337, 1225, 1205, 1157, 1129, 1058, 1040, 95
1, 860, 811 cm -1 ; Calculated by elemental analysis C 20 H 25 O 3 Cl: C, 68.86; H, 7.22. Found: C, 69.11; H, 7.46.

【0070】下記に実施例6の反応スキームを示す。The reaction scheme of Example 6 is shown below.

【化36】 [Chemical 36]

【0071】実施例7Example 7

【化37】 実施例1と同様の手順で行った。ただし、2,4,6−
トリメトキシブロモベンゼンの代わりに、2、4−ジメ
チルブロモベンゼンを用いた。また、参考例1で得られ
た化合物の代わりに、参考例3で得られた化合物を用い
た。また、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.
5mL−0.2mL)を26時間加熱還流する代わり
に、中間生成物のキシレン−ピリジン溶液(2.5mL
−0.2mL)を18時間加熱還流した。単離収率54
%(参考例3を基準)。
[Chemical 37] The procedure was similar to that in Example 1. However, 2, 4, 6-
2,4-Dimethylbromobenzene was used instead of trimethoxybromobenzene. Further, instead of the compound obtained in Reference Example 1, the compound obtained in Reference Example 3 was used. In addition, a xylene-pyridine solution (2.
Instead of heating (5 mL-0.2 mL) under reflux for 26 hours, a solution of an intermediate product in xylene-pyridine (2.5 mL)
-0.2 mL) was heated to reflux for 18 hours. Isolated yield 54
% (Based on Reference Example 3).

【0072】1H NMR (CDCl3,δ)0.36 (s, 9H), 1.88
(s, 3H), 1.96 (s, 3H), 2.28 (s, 3H), 2.38 (s, 3H),
6.90 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.06 (d, 1H, J = 7.6 H
z), 7.10 (s, 1H), 7.22 (s,1H);13 C NMR (CDCl3,δ)−0.48, 17.4, 19.4, 20.2, 21.2,
126.6, 129.0, 130.6, 134.4, 135.5, 135.6, 135.8, 1
36.88, 136.92, 138.0, 138.2, 139.9; IR (neat)2951, 2921, 1614, 1574, 1503, 1456, 1357,
1288, 1249, 1147, 937, 840, 766 cm-1; 元素分析 計算値 C19H25ClSi: C, 72.00; H, 7.95. 実
測値: C, 71.88; H, 8.19。
1 H NMR (CDCl 3 , δ) 0.36 (s, 9H), 1.88
(s, 3H), 1.96 (s, 3H), 2.28 (s, 3H), 2.38 (s, 3H),
6.90 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.06 (d, 1H, J = 7.6 H
z), 7.10 (s, 1H), 7.22 (s, 1H); 13 C NMR (CDCl 3 , δ) −0.48, 17.4, 19.4, 20.2, 21.2,
126.6, 129.0, 130.6, 134.4, 135.5, 135.6, 135.8, 1
36.88, 136.92, 138.0, 138.2, 139.9; IR (neat) 2951, 2921, 1614, 1574, 1503, 1456, 1357,
1288, 1249, 1147, 937, 840, 766 cm -1 ; Elemental analysis calculated C 19 H 25 ClSi: C, 72.00; H, 7.95. Found: C, 71.88; H, 8.19.

【0073】下記に実施例7の反応スキームを示す。The reaction scheme of Example 7 is shown below.

【化38】 [Chemical 38]

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の方法により、軸周辺の立体障害
の大きい化合物を含め、様々な多置換2環式化合物を効
率的、かつ、簡便に得ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY By the method of the present invention, various polysubstituted bicyclic compounds including compounds having large steric hindrance around the axis can be obtained efficiently and easily.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1)で示される2環式化合物。 【化1】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基;
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1
式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキ
ル基を示す。);置換基を有していてもよいアリールチ
オ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよい
6〜C18アリール基を示す。);置換基を有していて
もよいアルキルスルホニル基(−SO23、式中、Y3
は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示
す。);置換基を有していてもよいアリールスルホニル
基(−SO24、式中、Y 4は置換基を有していてもよ
いC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又はハロ
ゲン原子であり、 ただし、R1及びR2は、互いに架橋してC4〜C10飽和
環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子
又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていて
もよく、かつ、置換基を有していてもよく、 A環は置換基を有していてもよい芳香環を示す。]
1. A bicyclic compound represented by the following formula (1): [Chemical 1] [In the formula, R1, R2, R3And RFourAre independent of each other
Standing, identical or different, with a hydrogen atom; having a substituent
May be C1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
Good C1~ C20Alkoxy group; even if it has a substituent
Good C6~ C20Aryloxy group; having a substituent
Optionally an amino group; a silyl group which may have a substituent;
Alkylthio group which may have a substituent (-SY1,
In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20Archi
Represents a radical. ); Aryl which may have a substituent
O group (-SY2, In the formula, Y2May have a substituent
C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Good alkylsulfonyl group (-SO2Y3, In the formula, Y3
Is C which may have a substituent1~ C20Indicates an alkyl group
You ); Arylsulfonyl which may have a substituent
Group (-SO2YFour, In the formula, Y FourMay have a substituent
I C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group; or halo
Gen atom, However, R1And R2Are cross-linked with each other and CFour~ CTenSaturation
It may form a ring or an unsaturated ring, and the ring is an oxygen source.
Child, sulfur atom, silicon atom, tin atom, germanium atom
Or a group represented by the formula -N (B)-(wherein B is a hydrogen atom)
Or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. ) Has been suspended
And may have a substituent, Ring A represents an aromatic ring which may have a substituent. ]
【請求項2】下記式 【化2】 [式中、A環は、請求項1記載と同義を示す。]で示さ
れる部分構造が、下記式 【化3】 [式中、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ互
いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を
有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有し
ていてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有して
いてもよいC6〜C 20アリールオキシ基;置換基を有し
ていてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリ
ル基;置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−S
1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20
アルキル基を示す。);置換基を有していてもよいアリ
ールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していて
もよいC6〜C18アリール基を示す。);置換基を有し
ていてもよいアルキルスルホニル基(−SO23、式
中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル
基を示す。);置換基を有していてもよいアリールスル
ホニル基(−SO24、式中、Y4は置換基を有してい
てもよいC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又
はハロゲン原子であり、 ただし、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、並び
に、R8及びR9は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C
10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸
素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム
原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素
原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されて
いてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。]であ
る請求項1記載の2環式化合物。
2. The following formula [Chemical 2] [In the formula, the ring A has the same meaning as in claim 1. ]
The partial structure is [Chemical 3] [In the formula, RFive, R6, R7, R8And R9Are each
Independently, the same or different, a hydrogen atom;
C which may have1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
May be C1~ C20Alkoxy group; having a substituent
May be C6~ C 20Aryloxy group; having a substituent
Optionally substituted amino group; optionally substituted silyl group
Group; an alkylthio group which may have a substituent (-S
Y1, In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20
Indicates an alkyl group. ); An ant optionally having a substituent
Group (-SY2, In the formula, Y2Has a substituent
Good C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Optionally alkylsulfonyl group (-SO2Y3,formula
Medium, Y3Is C which may have a substituent1~ C20Alkyl
Indicates a group. ); Arylsulu which may have a substituent
Honyl group (-SO2YFour, In the formula, YFourHas a substituent
May be C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group;
Is a halogen atom, However, RFiveAnd R6, R6And R7, R7And R8, Line
And R8And R9Are respectively cross-linked to CFour~ C
TenIt may form a saturated ring or an unsaturated ring, and the ring is an acid.
Elemental atom, sulfur atom, silicon atom, tin atom, germanium
An atom or a group represented by the formula -N (B)-(in the formula, B is hydrogen
Atom or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. ) Suspended by
It may be present and may have a substituent. ]
The bicyclic compound according to claim 1, wherein
【請求項3】R5、R6、R7、R8およびR9が、それぞ
れ互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換
基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を
有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;又は置換基
を有していてもよいアミノ基である請求項2に記載の2
環式化合物。
3. R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are independently of each other, the same or different, a hydrogen atom; a C 1 -C 20 hydrocarbon which may have a substituent. The group according to claim 2, which is a group; a C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent; or an amino group which may have a substituent.
Cyclic compound.
【請求項4】R1、R2、R3およびR4が、それぞれ互い
に独立し、同一または異なって、水素原子;C1〜C20
アルキル基;C6〜C18アリール基;C1〜C20アルコキ
シ基;置換基を有していてもよいシリル基;又はハロゲ
ン原子である請求項1〜3のいずれかに記載の2環式化
合物。
4. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently of the same or different and each is a hydrogen atom; C 1 -C 20
Alkyl group; C 6 -C 18 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy groups; bicyclic according to any of claims 1 to 3 or a halogen atom; an optionally substituted silyl group Compound.
【請求項5】下記式(2)で示されるシクロブテノン誘
導体と、 【化4】 [式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基;
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−SY1
式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキ
ル基を示す。);置換基を有していてもよいアリールチ
オ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよい
6〜C18アリール基を示す。);置換基を有していて
もよいアルキルスルホニル基(−SO23、式中、Y3
は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル基を示
す。);置換基を有していてもよいアリールスルホニル
基(−SO24、式中、Y 4は置換基を有していてもよ
いC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又はハロ
ゲン原子であり、 ただし、R1及びR2は、互いに架橋してC4〜C10飽和
環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素原子
又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されていて
もよく、かつ、置換基を有していてもよい。] 下記式(3)で示される環と 【化5】 [式中、A環は置換基を有していてもよい芳香環を示
し、Mは周期表第2族の金属のハロゲン化物、又は周期
表第1族の金属を示す。]を反応させ、反応混合物を得
る工程と、前記反応混合物を加熱還流する工程とを含む
ことを特徴とする下記式(1)に示される2環式化合物
の製造方法。 【化6】 [式中、R1、R2、R3、R4及びA環は、上記と同義を
示す。]
5. A cyclobutenone derivative represented by the following formula (2):
A conductor, [Chemical 4] [In the formula, R1, R2, R3And RFourAre independent of each other
Standing, identical or different, with a hydrogen atom; having a substituent
May be C1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
Good C1~ C20Alkoxy group; even if it has a substituent
Good C6~ C20Aryloxy group; having a substituent
Optionally an amino group; a silyl group which may have a substituent;
Alkylthio group which may have a substituent (-SY1,
In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20Archi
Represents a radical. ); Aryl which may have a substituent
O group (-SY2, In the formula, Y2May have a substituent
C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Good alkylsulfonyl group (-SO2Y3, In the formula, Y3
Is C which may have a substituent1~ C20Indicates an alkyl group
You ); Arylsulfonyl which may have a substituent
Group (-SO2YFour, In the formula, Y FourMay have a substituent
I C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group; or halo
Gen atom, However, R1And R2Are cross-linked with each other and CFour~ CTenSaturation
It may form a ring or an unsaturated ring, and the ring is an oxygen source.
Child, sulfur atom, silicon atom, tin atom, germanium atom
Or a group represented by the formula -N (B)-(wherein B is a hydrogen atom)
Or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. ) Has been suspended
And may have a substituent. ] A ring represented by the following formula (3) [Chemical 5] [In the formula, ring A represents an aromatic ring which may have a substituent.
Where M is a halide of a metal of Group 2 of the periodic table, or
Table 1 shows metals of Group 1. ] To react to obtain a reaction mixture
And heating the reaction mixture to reflux.
A bicyclic compound represented by the following formula (1), characterized in that
Manufacturing method. [Chemical 6] [In the formula, R1, R2, R3, RFourAnd A ring has the same meaning as above.
Show. ]
【請求項6】前記反応が、保護基付与剤存在下で行われ
ることを特徴とする請求項5記載の2環式化合物の製造
方法。
6. The method for producing a bicyclic compound according to claim 5, wherein the reaction is carried out in the presence of a protecting group-providing agent.
【請求項7】前記保護基付与剤が、エステル化剤、アシ
ル化剤、アルキル化剤又はシリル化剤である請求項6記
載の2環式化合物の製造方法。
7. The method for producing a bicyclic compound according to claim 6, wherein the protecting group-providing agent is an esterifying agent, an acylating agent, an alkylating agent or a silylating agent.
【請求項8】Mが、リチウム又はハロゲン化マグネシウ
ムである請求項5〜7のいずれかに記載の2環式化合物
の製造方法。
8. The method for producing a bicyclic compound according to claim 5, wherein M is lithium or magnesium halide.
【請求項9】下記式 【化7】 [式中、A環は、請求項5記載と同義を示す。]で示さ
れる部分構造が、下記式 【化8】 [式中、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ互
いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を
有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有し
ていてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有して
いてもよいC6〜C 20アリールオキシ基;置換基を有し
ていてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリ
ル基;置換基を有していてもよいアルキルチオ基(−S
1、式中、Y1は置換基を有していてもよいC1〜C20
アルキル基を示す。);置換基を有していてもよいアリ
ールチオ基(−SY2、式中、Y2は置換基を有していて
もよいC6〜C18アリール基を示す。);置換基を有し
ていてもよいアルキルスルホニル基(−SO23、式
中、Y3は置換基を有していてもよいC1〜C20アルキル
基を示す。);置換基を有していてもよいアリールスル
ホニル基(−SO24、式中、Y4は置換基を有してい
てもよいC6〜C18アリール基を示す。);水酸基;又
はハロゲン原子であり、 ただし、R5及びR6、R6及びR7、R7及びR8、並び
に、R8及びR9は、それぞれ、互いに架橋してC4〜C
10飽和環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸
素原子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム
原子又は式−N(B)−で示される基(式中、Bは水素
原子又はC1〜C10炭化水素基である。)で中断されて
いてもよく、かつ、置換基を有していてもよい。]であ
る請求項5〜8のいずれかに記載の2環式化合物の製造
方法。
9. The following formula [Chemical 7] [In the formula, the ring A has the same meaning as in claim 5. ]
The partial structure is [Chemical 8] [In the formula, RFive, R6, R7, R8And R9Are each
Independently, the same or different, a hydrogen atom;
C which may have1~ C20Hydrocarbon groups; having substituents
May be C1~ C20Alkoxy group; having a substituent
May be C6~ C 20Aryloxy group; having a substituent
Optionally substituted amino group; optionally substituted silyl group
Group; an alkylthio group which may have a substituent (-S
Y1, In the formula, Y1Is C which may have a substituent1~ C20
Indicates an alkyl group. ); An ant optionally having a substituent
Group (-SY2, In the formula, Y2Has a substituent
Good C6~ C18Indicates an aryl group. ); Having a substituent
Optionally alkylsulfonyl group (-SO2Y3,formula
Medium, Y3Is C which may have a substituent1~ C20Alkyl
Indicates a group. ); Arylsulu which may have a substituent
Honyl group (-SO2YFour, In the formula, YFourHas a substituent
May be C6~ C18Indicates an aryl group. ); Hydroxyl group;
Is a halogen atom, However, RFiveAnd R6, R6And R7, R7And R8, Line
And R8And R9Are respectively cross-linked to CFour~ C
TenIt may form a saturated ring or an unsaturated ring, and the ring is an acid.
Elemental atom, sulfur atom, silicon atom, tin atom, germanium
An atom or a group represented by the formula -N (B)-(in the formula, B is hydrogen
Atom or C1~ CTenIt is a hydrocarbon group. ) Suspended by
It may be present and may have a substituent. ]
The production of the bicyclic compound according to any one of claims 5 to 8.
Method.
【請求項10】R5、R6、R7、R8およびR9が、それ
ぞれ互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置
換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基
を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;又は置換
基を有していてもよいアミノ基である請求項9に記載の
2環式化合物の製造方法。
10. R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each independently of the same or different, a hydrogen atom; a C 1 -C 20 hydrocarbon which may have a substituent. The method for producing a bicyclic compound according to claim 9, wherein the group is a C 1 -C 20 alkoxy group which may have a substituent; or an amino group which may have a substituent.
【請求項11】R1、R2、R3およびR4が、それぞれ互
いに独立し、同一または異なって、水素原子;C1〜C
20アルキル基;C6〜C18アリール基;C1〜C20アルコ
キシ基;置換基を有していてもよいシリル基;又はハロ
ゲン原子である請求項5〜10のいずれかに記載の2環
式化合物の製造方法。
11. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently of the same or different and each is a hydrogen atom; C 1 -C
20 alkyl group; C 6 -C 18 aryl group; C 1 -C 20 alkoxy group; silyl group which may have a substituent; or halogen atom, 2 ring according to any one of claims 5 to 10. Method for producing formula compound.
JP2002061774A 2002-03-07 2002-03-07 Bicyclic compound and method for producing the same Expired - Fee Related JP4166024B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002061774A JP4166024B2 (en) 2002-03-07 2002-03-07 Bicyclic compound and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002061774A JP4166024B2 (en) 2002-03-07 2002-03-07 Bicyclic compound and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003261491A true JP2003261491A (en) 2003-09-16
JP4166024B2 JP4166024B2 (en) 2008-10-15

Family

ID=28670442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002061774A Expired - Fee Related JP4166024B2 (en) 2002-03-07 2002-03-07 Bicyclic compound and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4166024B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7456218B2 (en) 2003-12-25 2008-11-25 Takeda Pharmaceutical Company Limited 3-(4-benzyloxyphenyl) propanoic acid derivatives
US7732626B2 (en) 2006-06-27 2010-06-08 Takeda Pharmaceutical Company Limited Fused cyclic compounds

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7456218B2 (en) 2003-12-25 2008-11-25 Takeda Pharmaceutical Company Limited 3-(4-benzyloxyphenyl) propanoic acid derivatives
US7732626B2 (en) 2006-06-27 2010-06-08 Takeda Pharmaceutical Company Limited Fused cyclic compounds
US8088821B2 (en) 2006-06-27 2012-01-03 Takeda Pharmaceutical Company Limited Fused cyclic compounds
US8492430B2 (en) 2006-06-27 2013-07-23 Takeda Pharmaceutical Company Limited Fused cyclic compounds
US8598226B2 (en) 2006-06-27 2013-12-03 Takeda Pharmaceutical Company Limited Fused cyclic compounds

Also Published As

Publication number Publication date
JP4166024B2 (en) 2008-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5246699B2 (en) Method for producing fullerene derivative
WO2016041508A1 (en) Method for preparing oxazolidinone compound and intermediate thereof
JPH0791290B2 (en) 2-position substituted ergoline derivative, process for its preparation, therapeutic agent for psychosis and therapeutic agent for depressive state containing the same
JP2003261491A (en) Dicyclic compound and method for producing the same
JP4528968B2 (en) Method for producing phenolic compound
JP5577604B2 (en) Process for producing heteroacene derivative and tetrahaloterphenyl derivative
JP2004256497A (en) Polysubstituted polycyclic aromatic compound and method for producing the same
JPS61225183A (en) Manufacture of beta-carboline
JP5417597B2 (en) Method for producing benzene derivative and method for producing cyclohexene derivative useful therefor
JP4576533B2 (en) Process for producing phenolic compounds
JP2009249355A (en) Fluorinated fluorene derivative and method for producing the same
JP4787953B2 (en) Method for producing acenes
JP5454764B2 (en) Method for producing biaryl compounds
JP6344063B2 (en) Method for producing dithienobenzodithiophene derivative
CN108069977B (en) Synthetic method of fluoroalkyl-substituted pyrrole [1,2-a ] indole
JP7023177B2 (en) Method for Producing 9- (2-Substituted Phenyl) -9H-Carbazole
JP2007217341A (en) Method for producing benzene derivative
JPS6348273B2 (en)
JP2007217342A (en) Method for producing aniline and phenol compounds
US4178289A (en) Carbazole acetic acid derivatives
JP4169519B2 (en) Method for producing pyridine derivative
JP3495774B2 (en) Method for producing 1-hydroxyindoles
CA1083582A (en) Process for the preparation of halogenomethylene- indoxyls
JP2000007609A (en) Production of carboxylic acid derivative
JP2002097181A (en) Method for producing n-(vinylphenyl) carbazole analogue

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20031031

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040129

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041201

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080219

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080421

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080513

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20080722

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20080729

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees