JP5441533B2 - Planar actuator - Google Patents

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Description

本発明は、一対のトーションバーによって支持される可動部を揺動させるプレーナ型アクチュエータに関する。   The present invention relates to a planar actuator that swings a movable part supported by a pair of torsion bars.

従来、上記プレーナ型アクチュエータを用いるデバイスとして、特許文献1に開示されるガルバノミラーがある。このガルバノミラーでは、トーションバーに歪ゲージ(ピエゾ抵抗素子)を形成し、該歪ゲージの抵抗値変化を測定して、ミラー面(可動部)の傾斜角度を制御している。   Conventionally, there is a galvanometer mirror disclosed in Patent Document 1 as a device using the planar actuator. In this galvanometer mirror, a strain gauge (piezoresistive element) is formed on a torsion bar, and a change in the resistance value of the strain gauge is measured to control the tilt angle of the mirror surface (movable part).

特開平5−119280号公報JP-A-5-119280

ところで、前記トーションバーの幅は、共振周波数の要求などから決定される場合があるが、前述のようにトーションバーにピエゾ抵抗素子を形成させる構成では、ピエゾ抵抗素子及び該ピエゾ抵抗素子の配線によって前記トーションバーの最小幅が制約され、共振周波数の要求を満たす幅に設定できなくなる場合があった。また、トーションバーでは主にせん断力が発生するため、トーションバーにピエゾ抵抗素子を設ける場合、ピエゾ抵抗素子の抵抗値の変化が小さく、高い検出精度を得ることが難しいという問題があった。   By the way, the width of the torsion bar may be determined based on the requirement of the resonance frequency. However, in the configuration in which the piezoresistive element is formed on the torsion bar as described above, the piezoresistive element and the wiring of the piezoresistive element are used. In some cases, the minimum width of the torsion bar is limited, and it may not be possible to set the width to satisfy the resonance frequency requirement. Further, since a shearing force is mainly generated in the torsion bar, when a piezoresistive element is provided in the torsion bar, there is a problem that a change in the resistance value of the piezoresistive element is small and it is difficult to obtain high detection accuracy.

本発明は上記問題点に着目してなされたものであり、ピエゾ抵抗素子によってトーションバーの幅が制約されることがなく、かつ、可動部の揺動に伴ってピエゾ抵抗素子の抵抗値を大きく変化させて、高い検出精度が得られるプレーナ型アクチュエータを提供することを目的とする。   The present invention has been made paying attention to the above problems, and the width of the torsion bar is not restricted by the piezoresistive element, and the resistance value of the piezoresistive element increases as the movable part swings. An object of the present invention is to provide a planar actuator that can be changed to obtain high detection accuracy.

このため、請求項1に係る発明は、枠状の固定部と、前記固定部の内側に、一対のトーションバーを介して揺動可能に支持された可動部と、前記可動部を揺動させる駆動手段と、前記固定部の前記トーションバーが接続される部分に配置した一対のピエゾ抵抗素子と、前記一対のピエゾ抵抗素子に接続されてブリッジ回路を構成する外部の一対の固定抵抗素子と、を備える構成とした。 For this reason, the invention according to claim 1 is a frame-shaped fixed portion, a movable portion supported inside the fixed portion so as to be swingable via a pair of torsion bars, and swinging the movable portion. Driving means; a pair of piezoresistive elements arranged in a portion to which the torsion bar of the fixed part is connected; and a pair of external fixed resistance elements connected to the pair of piezoresistive elements to form a bridge circuit; It was set as the structure provided with.

かかる構成では、固定部のトーションバーが接続される部分に、可動部の揺動に伴って応力が発生すると、この応力が、ピエゾ抵抗素子の抵抗値を変化させるので、前記ピエゾ抵抗素子の抵抗値の変化に基づき、可動部の揺動が検出される。前記ピエゾ抵抗素子は固定部に配置されるため、ピエゾ抵抗素子やその配線によってトーションバーの幅が制約されることが回避され、また、可動部の揺動に伴って固定部に発生する応力は引張・圧縮応力が主になるため、ピエゾ抵抗素子の抵抗値変化を、トーションバーにピエゾ抵抗素子を設ける場合よりも大きくできる。
また、可動部の揺動に伴って一方のピエゾ抵抗素子に圧縮応力が加わると、他方のピエゾ抵抗素子には引張応力が加わるように構成でき、抵抗値の変化をブリッジ回路によって検出する場合に、高いブリッジ出力(出力電圧)を得ることができる。
更に、プレーナ型アクチュエータに対して可動部の揺動検出のために設けられる一対のピエゾ抵抗素子に対して、外部の一対の固定抵抗素子を接続することで、ピエゾ抵抗素子の抵抗値変化に応じた出力を発生するブリッジ回路が構成されるので、プレーナ型アクチュエータにおける抵抗素子の配置及び該抵抗素子のための配線の引き回しが簡略化される。
In such a configuration, when stress is generated in the portion where the torsion bar of the fixed portion is connected as the movable portion swings, the stress changes the resistance value of the piezoresistive element. Based on the change in value, the swing of the movable part is detected. Since the piezoresistive element is arranged in the fixed part, it is avoided that the width of the torsion bar is restricted by the piezoresistive element and its wiring, and the stress generated in the fixed part due to the swinging of the movable part is Since the tensile and compressive stress is mainly used, the change in the resistance value of the piezoresistive element can be made larger than when the piezoresistive element is provided on the torsion bar.
In addition, when compressive stress is applied to one piezoresistive element as the movable part swings, it can be configured such that tensile stress is applied to the other piezoresistive element, and when a change in resistance value is detected by a bridge circuit High bridge output (output voltage) can be obtained.
Furthermore, by connecting a pair of external fixed resistance elements to a pair of piezoresistive elements provided for detecting the swing of the movable part with respect to the planar type actuator, the resistance value of the piezoresistive elements can be changed. Therefore, the arrangement of the resistance element in the planar actuator and the wiring of the resistance element are simplified.

請求項1の構成において、請求項2のように、前記固定部の前記トーションバーが接続される部分に、前記固定部の他の部分よりも薄い薄肉部を形成するとよい。この場合、前記固定部のトーションバーが接続される部分が薄肉に形成されることで、ピエゾ抵抗素子の配置部分における剛性が低下し、可動部の揺動に伴うトーションバーのねじれが固定部に伝わり易くなり、より広範囲に引張・圧縮応力を発生させることができ、この引張・圧縮応力の発生域にピエゾ抵抗素子を配置することで、大きな抵抗値変化を発生させることができる。   In the configuration of claim 1, as in claim 2, it is preferable to form a thin portion thinner than other portions of the fixed portion at a portion of the fixed portion to which the torsion bar is connected. In this case, since the portion to which the torsion bar of the fixed portion is connected is formed thin, the rigidity of the portion where the piezoresistive element is disposed is lowered, and the torsion bar twist due to the swinging of the movable portion is applied to the fixed portion. It becomes easy to transmit, and a tensile / compressive stress can be generated in a wider range. By arranging the piezoresistive element in the region where the tensile / compressive stress is generated, a large resistance value change can be generated.

上記請求項1又は2の構成においては、請求項4のように、前記固定部の一方のトーションバーが接続される部分と他方のトーションバーが接続される部分とにそれぞれ一対のピエゾ抵抗素子を配置することができる。この場合、4個のピエゾ抵抗素子の抵抗値が、可動部の揺動に応じてそれぞれ変化し、例えばこれらのピエゾ抵抗素子でブリッジ回路を構成することで、高いブリッジ出力(出力電圧)を得ることができる。 In the configuration of the first or second aspect , as in the fourth aspect, a pair of piezoresistive elements are respectively provided in a portion to which one torsion bar of the fixed portion is connected and a portion to which the other torsion bar is connected. Can be arranged . In this case, the resistance values of the four piezoresistive elements change according to the swinging of the movable part, and a high bridge output (output voltage) is obtained by configuring a bridge circuit with these piezoresistive elements, for example. be able to.

上記請求項1〜3のいずれか1つに記載の構成において、請求項のように、前記一対のピエゾ抵抗素子が、前記固定部に形成される拡散導通部を介して接続される構成とすることができる。この場合、例えば駆動手段のアルミニウム配線などを避けて、一対のピエゾ抵抗素子の間を接続することができ、配線の引き回しを簡略化できる。 The configuration according to any one of claims 1 to 3 , wherein, as in claim 4 , the pair of piezoresistive elements are connected via a diffusion conduction portion formed in the fixed portion; Can In this case, for example, the aluminum wiring of the driving means can be avoided and the pair of piezoresistive elements can be connected, and the wiring can be simplified.

かかるプレーナ型アクチュエータによれば、ピエゾ抵抗素子を固定部に配置するので、トーションバーの幅がピエゾ抵抗素子によって制約されることがなく、トーションバーの幅を固有振動数などの要求に応じた値に設定できるようになると共に、トーションバーでは主にせん断力が発生するのに対し、固定部では主に引張・圧縮応力が発生するから、この引張・圧縮応力によってピエゾ抵抗素子の抵抗値を大きく変化させて、高い検出精度を得ることができる。   According to such a planar actuator, since the piezoresistive element is arranged in the fixed portion, the width of the torsion bar is not restricted by the piezoresistive element, and the width of the torsion bar is a value according to a request such as a natural frequency. While the torsion bar mainly generates shearing force, the fixed part mainly generates tensile / compressive stress. The tensile / compressive stress increases the resistance value of the piezoresistive element. It can be changed to obtain high detection accuracy.

本発明の第1実施形態に係るプレーナ型アクチュエータを示す平面図The top view which shows the planar type actuator which concerns on 1st Embodiment of this invention. 同上第1実施形態におけるブリッジ回路を示す回路図The circuit diagram which shows the bridge circuit in 1st Embodiment same as the above. 同上第1実施形態における拡散導通部を示す断面図Sectional drawing which shows the diffusion conduction | electrical_connection part in 1st Embodiment same as the above. 同上第1実施形態におけるピエゾ抵抗素子・配線・電気端子を示す部分拡大図Partial enlarged view showing the piezoresistive element, wiring, and electrical terminal in the first embodiment. 同上第1実施形態における配線パターンの別の例を示す部分拡大図Partial enlarged view showing another example of the wiring pattern in the first embodiment 同上第1実施形態におけるピエゾ抵抗素子の製造工程を示す図The figure which shows the manufacturing process of the piezoresistive element in 1st Embodiment same as the above. 本発明の第2実施形態に係るプレーナ型アクチュエータを示す図であり、(a)は部分平面図、(b)はA−A断面図It is a figure which shows the planar type actuator which concerns on 2nd Embodiment of this invention, (a) is a fragmentary top view, (b) is AA sectional drawing. 本発明の第3実施形態に係るプレーナ型アクチュエータを示す平面図The top view which shows the planar type actuator which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 同上第3実施形態におけるブリッジ回路を示す回路図The circuit diagram which shows the bridge circuit in 3rd Embodiment same as the above. 同上第3実施形態における制御ユニット側の回路構成を示す回路図The circuit diagram which shows the circuit structure by the side of the control unit in 3rd Embodiment same as the above. 本発明の第4実施形態に係るプレーナ型アクチュエータを示す平面図The top view which shows the planar type actuator which concerns on 4th Embodiment of this invention. 同上第4実施形態における制御ユニット側の回路構成を示す回路図The circuit diagram which shows the circuit structure by the side of the control unit in 4th Embodiment same as the above. 本発明の第5実施形態に係るプレーナ型アクチュエータを示す平面図The top view which shows the planar type actuator which concerns on 5th Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明に係るプレーナ型アクチュエータの第1実施形態を示す。図1に示すプレーナ型アクチュエータは、半導体製造技術を利用して製造したMEMS(micro electro mechanical system)デバイスであり、電磁駆動式のアクチュエータである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first embodiment of a planar actuator according to the present invention. The planar actuator shown in FIG. 1 is a micro electro mechanical system (MEMS) device manufactured using semiconductor manufacturing technology, and is an electromagnetically driven actuator.

図1において、このアクチュエータ1は、枠状の固定部2と、一対のトーションバー3a,3bと、可動部4とを備え、前記可動部4は、前記一対のトーションバー3a,3bを介して前記固定部2の開口部に揺動可能に支持される。前記固定部2、トーションバー3a,3b及び可動部4は、半導体基板を用いて一体に形成される。具体的には、例えば、Si単結晶基板をKOH水溶液による結晶軸異方性エッチングを行うことによって、前記トーションバー3a,3b及び可動部4が形成される。   In FIG. 1, the actuator 1 includes a frame-shaped fixed portion 2, a pair of torsion bars 3a and 3b, and a movable portion 4. The movable portion 4 is interposed via the pair of torsion bars 3a and 3b. It is supported by the opening of the fixed part 2 in a swingable manner. The fixed portion 2, the torsion bars 3a and 3b, and the movable portion 4 are integrally formed using a semiconductor substrate. Specifically, for example, the torsion bars 3a and 3b and the movable portion 4 are formed by performing crystal axis anisotropic etching on a Si single crystal substrate with a KOH aqueous solution.

前記可動部4の周縁部には、通電時に磁界を発生する駆動コイル5が形成され、該駆動コイル5は、トーションバー3a,3b上に形成されるアルミニウム配線6a,6bを介し、固定部2に形成された一対の電極端子7a,7bに電気的に接続される。前記電極端子7a,7bは、図外の駆動回路(制御ユニット)の電極端子に対し、例えばワイヤーボンディング等により電気的に接続される。   A drive coil 5 that generates a magnetic field when energized is formed at the periphery of the movable part 4, and the drive coil 5 is fixed to the fixed part 2 via aluminum wirings 6 a and 6 b formed on the torsion bars 3 a and 3 b. Are electrically connected to a pair of electrode terminals 7a and 7b. The electrode terminals 7a and 7b are electrically connected to electrode terminals of a drive circuit (control unit) (not shown) by, for example, wire bonding.

また、トーションバー3a,3bの軸方向と平行な可動部4の対辺部と対面する固定部2の外方には、トーションバー3a,3bの軸方向と平行な可動部4の対辺部の駆動コイル5部分に静磁界を作用させる静磁界発生手段である一対の永久磁石8,8が、互いに反対磁極を対向して配置されている。尚、永久磁石8,8は、可動部に対してローレンツ力が働く磁場を生じるように配置すればよく、図1に示した配置の他、例えば特開平7−175005号公報に開示されるように、対をなす永久磁石を上下に配置する構成とすることができ、また、特開2004−206043号公報に開示されるように、トーションバーの軸方向に対して略直角でかつ可動部に対して略平行な外部磁界成分を発生するように、永久磁石を配置する構成などであってもよく、更には、永久磁石8,8に代えて電磁石を用いることもできる。上記駆動コイル5と永久磁石8,8(電磁石)とによって、アクチュエータ1の駆動手段が構成される。   Further, on the outside of the fixed part 2 facing the opposite side of the movable part 4 parallel to the axial direction of the torsion bars 3a and 3b, the opposite side of the movable part 4 is driven parallel to the axial direction of the torsion bars 3a and 3b. A pair of permanent magnets 8 and 8 serving as a static magnetic field generating means for applying a static magnetic field to the coil 5 portion are disposed so that opposite magnetic poles face each other. The permanent magnets 8 and 8 may be arranged so as to generate a magnetic field in which Lorentz force acts on the movable part. In addition to the arrangement shown in FIG. 1, for example, disclosed in JP-A-7-175005. Further, a pair of permanent magnets can be arranged vertically, and as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-206043, substantially perpendicular to the axial direction of the torsion bar and on the movable part Alternatively, a configuration in which a permanent magnet is arranged so as to generate an external magnetic field component substantially parallel to the magnetic field component may be used. Furthermore, an electromagnet may be used instead of the permanent magnets 8 and 8. The drive coil 5 and the permanent magnets 8 and 8 (electromagnets) constitute a drive means for the actuator 1.

そして、前記駆動コイル5に電流を供給すると、永久磁石8,8によって発生する静磁界が、トーションバー3a,3bの軸方向と平行な可動部4の対辺部を流れる駆動コイル5の電流に作用することで、駆動コイル5にローレンツ力を発生させ、上記可動部4を、前記トーションバー3a,3bを中心に揺動させる。ここで、前記トーションバー3a,3bと可動部4の固有振動数に略等しい周波数の電流が駆動コイル5に供給されると、可動部4はこの周波数で共振し、効率よく揺動することになる。   When a current is supplied to the drive coil 5, the static magnetic field generated by the permanent magnets 8 and 8 acts on the current of the drive coil 5 flowing through the opposite side of the movable part 4 parallel to the axial direction of the torsion bars 3a and 3b. As a result, a Lorentz force is generated in the drive coil 5, and the movable part 4 is swung around the torsion bars 3a and 3b. Here, when a current having a frequency substantially equal to the natural frequency of the torsion bars 3a and 3b and the movable portion 4 is supplied to the drive coil 5, the movable portion 4 resonates at this frequency and efficiently swings. Become.

尚、駆動手段は、前記駆動コイル5と永久磁石8,8とによって構成される電磁式のものに限定されず、例えば、特開平5−119280号公報に開示されるように、可動部4の裏面と対向する基板上に設けられた電極に電圧を印加することで、前記裏面側との間で静電力を作用させる駆動手段であってもよい。また、例えば、前記可動部4に反射ミラーを設けることで、前記アクチュエータ1は、レーザプリンタのスキャナや、投影型のディスプレイのスキャナ等として用いられる。   The drive means is not limited to an electromagnetic type constituted by the drive coil 5 and the permanent magnets 8 and 8, and for example, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-119280, It may be a drive unit that applies an electrostatic force to the back surface side by applying a voltage to an electrode provided on the substrate facing the back surface. Further, for example, by providing a reflection mirror on the movable portion 4, the actuator 1 can be used as a scanner for a laser printer, a scanner for a projection display, or the like.

前記アクチュエータ1の固定部2には、可動部4の揺動(振動)を検出するための揺動検出手段としての4個のピエゾ抵抗素子10a〜10dが配置されている。前記4個のピエゾ抵抗素子10a〜10dは、固定部2のトーションバー3aが接続される部分、及び、固定部2のトーションバー3bが接続される部分に、それぞれ2個を一組として配置される。前記トーションバー3a側に設けられる一対のピエゾ抵抗素子10a,10b、及び、前記トーションバー3b側に設けられる一対のピエゾ抵抗素子10c,10dは、固定部4のトーションバー3a,3b寄りの可動部4の揺動によって引張・圧縮応力が発生する領域に、トーションバー3a,3bの軸を挟んで、トーションバー3a,3bの幅方向に離間して対向配置される。   In the fixed portion 2 of the actuator 1, four piezoresistive elements 10a to 10d are disposed as swing detection means for detecting the swing (vibration) of the movable portion 4. The four piezoresistive elements 10a to 10d are arranged as a pair, respectively, in a portion to which the torsion bar 3a of the fixed portion 2 is connected and a portion to which the torsion bar 3b of the fixed portion 2 is connected. The The pair of piezoresistive elements 10a and 10b provided on the torsion bar 3a side and the pair of piezoresistive elements 10c and 10d provided on the torsion bar 3b side are movable parts of the fixed part 4 near the torsion bars 3a and 3b. 4 are arranged opposite to each other in a region where tensile / compressive stress is generated by swinging 4 with the shafts of the torsion bars 3a and 3b being sandwiched in the width direction of the torsion bars 3a and 3b.

前記トーションバー3a,3bが接続される固定部2の1辺には、前記駆動コイル5用の電極端子7a,7bと共に、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10d用の電極端子11a〜11fが配置されており、前記電極端子7a,7b及び電極端子11a〜11fは、固定部2の端縁に沿って略直線的に並べられる。
尚、図1に示す実施形態では、前記電極端子7a,7b及び電極端子11a〜11fを略直線的に並べたが、直線的に並べる構成に限定されるものではなく、また、並び方向での電極端子の設置間隔も適宜設定することができる。
On one side of the fixed portion 2 to which the torsion bars 3a and 3b are connected, electrode terminals 11a to 11f for the piezoresistive elements 10a to 10d are arranged together with electrode terminals 7a and 7b for the drive coil 5. The electrode terminals 7 a and 7 b and the electrode terminals 11 a to 11 f are arranged substantially linearly along the edge of the fixed portion 2.
In the embodiment shown in FIG. 1, the electrode terminals 7a and 7b and the electrode terminals 11a to 11f are arranged substantially linearly, but the arrangement is not limited to the linear arrangement, and the arrangement in the arrangement direction is also not limited. The installation interval of the electrode terminals can also be set as appropriate.

前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極と、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極とは、固定部2において相互に接続され、ピエゾ抵抗素子10a(10c)の他方の電極は、アルミニウム配線12a(12c)によって前記電極端子11a(11c)に接続され、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の他方の電極は、アルミニウム配線12b(12d)によって前記電極端子11b(11d)に接続される。また、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極と、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極とは、前記駆動コイル5のアルミニウム配線6a,6bを避けるために、後で詳細に説明するように、拡散導通部13a,13bを介して電気的に接続されるが、この拡散導通部13a,13bの中間部と前記電気端子11e,11fとが、アルミニウム配線14a,14bによって接続される。   One electrode of the piezoresistive element 10a (10c) and one electrode of the piezoresistive element 10b (10d) are connected to each other at the fixed portion 2, and the other electrode of the piezoresistive element 10a (10c) is An aluminum wiring 12a (12c) is connected to the electrode terminal 11a (11c), and the other electrode of the piezoresistive element 10b (10d) is connected to the electrode terminal 11b (11d) by an aluminum wiring 12b (12d). Further, one electrode of the piezoresistive element 10a (10c) and one electrode of the piezoresistive element 10b (10d) will be described in detail later in order to avoid the aluminum wirings 6a and 6b of the drive coil 5. In this way, electrical connection is made through diffusion conduction portions 13a and 13b, and intermediate portions of the diffusion conduction portions 13a and 13b and the electrical terminals 11e and 11f are connected by aluminum wirings 14a and 14b. .

そして、図外の制御ユニットの電気端子と前記電気端子11a〜11fとが、例えばワイヤーボンディング等により電気的に接続されることで、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dが、図2に示すようにブリッジ回路を構成し、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dの抵抗値変化を、前記ブリッジ回路の出力変化に基づいて検出するようになっており、前記電気端子11e,11fは、ブリッジ出力(V)を取り出すための端子となる。   The electrical terminals of the control unit (not shown) and the electrical terminals 11a to 11f are electrically connected by, for example, wire bonding, so that the piezoresistive elements 10a to 10d are bridged as shown in FIG. A circuit is configured to detect a change in resistance value of the piezoresistive elements 10a to 10d based on an output change of the bridge circuit, and the electrical terminals 11e and 11f take out a bridge output (V). Terminal.

即ち、図2に示すように、電気端子11a,11dを接続することで、ピエゾ抵抗素子10a,10dを直列に接続し、また、電気端子11b,11cを接続することで、ピエゾ抵抗素子10b,10cを直列に接続し、更に、電気端子11a,11dの接続部と、電気端子11b,11cの接続部に対して電源Voを接続し、前記ピエゾ抵抗素子10cとピエゾ抵抗素子10dとの間の電位と、ピエゾ抵抗素子10aとピエゾ抵抗素子10bとの間の電位との差を、電気端子11e,11f間の電位差として取り出すようになっている。そして、前記制御ユニットでは、前記ブリッジ回路の出力から前記可動部4の揺動を検出し、該検出結果に基づいて駆動コイル4への通電制御を行う。   That is, as shown in FIG. 2, the piezoresistive elements 10a and 10d are connected in series by connecting the electric terminals 11a and 11d, and the piezoresistive elements 10b and 10c are connected by connecting the electric terminals 11b and 11c. 10c is connected in series, and further, a power source Vo is connected to the connecting portion of the electric terminals 11a and 11d and the connecting portion of the electric terminals 11b and 11c, and between the piezoresistive element 10c and the piezoresistive element 10d. The difference between the potential and the potential between the piezoresistive element 10a and the piezoresistive element 10b is taken out as a potential difference between the electrical terminals 11e and 11f. Then, the control unit detects the swing of the movable portion 4 from the output of the bridge circuit, and performs energization control to the drive coil 4 based on the detection result.

ところで、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)とピエゾ抵抗素子10b(10d)との間には、駆動コイル5用のアルミニウム配線6a(6b)が延設されるため、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極と、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極とをアルミニウム配線で接続させようとすると、アルミニウム配線6a,6bと同一面上に配線することになるため、アルミニウム配線6a,6b及び電極端子7a,7bを避けるように大きく迂回させて配線させる必要が生じ、配線構造が複雑化してしまう。   Incidentally, since the aluminum wiring 6a (6b) for the drive coil 5 is extended between the piezoresistive element 10a (10c) and the piezoresistive element 10b (10d), the piezoresistive element 10a (10c) is provided. If one of the electrodes and one electrode of the piezoresistive element 10b (10d) are to be connected by an aluminum wiring, they are wired on the same plane as the aluminum wirings 6a and 6b. In addition, the wiring structure needs to be greatly diverted so as to avoid the electrode terminals 7a and 7b, and the wiring structure becomes complicated.

そこで、本実施形態では、半導体基板材料中に不純物を拡散させて形成される拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bを、アルミニウム配線6a,6bの下層にトーションバー3a,3bの幅方向に沿って延設させ、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極と、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極とを、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bを介して接続させるようにしている。即ち、アルミニウム配線6a,6bに対して基板の厚さ方向に逃げて設置される拡散導通部13a,13bを設けることで、アルミニウム配線6a,6bを横断する方向で、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極と、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極とを接続できるようにしてあり、これによって、ピエゾ抵抗素子同士の接続を短い距離で行える。   Therefore, in the present embodiment, diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b formed by diffusing impurities in the semiconductor substrate material are provided below the aluminum wirings 6a and 6b along the width direction of the torsion bars 3a and 3b. So that one electrode of the piezoresistive element 10a (10c) and one electrode of the piezoresistive element 10b (10d) are connected via the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b. I have to. That is, by providing diffusion conduction portions 13a and 13b that are installed to escape from the aluminum wirings 6a and 6b in the thickness direction of the substrate, the piezoresistive elements 10a (10c) are arranged in a direction transverse to the aluminum wirings 6a and 6b. ) And one electrode of the piezoresistive element 10b (10d) can be connected to each other, whereby the piezoresistive elements can be connected at a short distance.

詳細には、図3に示すように、半導体基板(シリコン基板)21の上に絶縁膜(シリコン酸化膜)22が皮膜され、この絶縁膜22の表面に前記アルミニウム配線6a,6bが設けられ、このアルミニウム配線6a,6b直下の半導体基板(シリコン基板)21に対して不純物を拡散させて、アルミニウム配線6a,6bの延設方向と直交する方向に延設される拡散導通部13a,13bを形成する。   Specifically, as shown in FIG. 3, an insulating film (silicon oxide film) 22 is coated on a semiconductor substrate (silicon substrate) 21, and the aluminum wirings 6a and 6b are provided on the surface of the insulating film 22. Impurities are diffused in the semiconductor substrate (silicon substrate) 21 immediately below the aluminum wirings 6a and 6b to form diffusion conduction portions 13a and 13b extending in a direction perpendicular to the extending direction of the aluminum wirings 6a and 6b. To do.

ここで、拡散導通部13a,13bの長さは、アルミニウム配線6a,6bの幅よりも長くなるように形成され、かつ、拡散導通部13a,13bの一端は、アルミニウム配線6a,6bのピエゾ抵抗素子10a,10c側の側縁よりもピエゾ抵抗素子10a,10cにより近い位置まで延設され、拡散導通部13a,13bの他端は、アルミニウム配線6a,6bのピエゾ抵抗素子10b,10d側の側縁よりもピエゾ抵抗素子10b,10dにより近い位置まで延設される。そして、図4に示すように、拡散導通部13a,13bの一端と、ピエゾ抵抗素子10a,10cの一方の電極とを、アルミニウム配線15a,15bで接続し、拡散導通部13a,13bの他端と、ピエゾ抵抗素子10b,10dの一方の電極とを、アルミニウム配線16a,16bで接続する。   Here, the lengths of the diffusion conducting portions 13a and 13b are formed to be longer than the widths of the aluminum wirings 6a and 6b, and one ends of the diffusion conducting portions 13a and 13b are connected to the piezoresistors of the aluminum wirings 6a and 6b. Extending to a position closer to the piezoresistive elements 10a, 10c than the side edges on the elements 10a, 10c side, the other ends of the diffusion conducting portions 13a, 13b are on the piezoresistive elements 10b, 10d side of the aluminum wirings 6a, 6b. It extends to a position closer to the piezoresistive elements 10b and 10d than the edge. Then, as shown in FIG. 4, one end of the diffusion conducting portions 13a and 13b and one electrode of the piezoresistive elements 10a and 10c are connected by aluminum wirings 15a and 15b, and the other end of the diffusion conducting portions 13a and 13b. Are connected to one electrode of the piezoresistive elements 10b and 10d by aluminum wirings 16a and 16b.

前述のように、ブリッジ出力の取り出しのために、前記拡散導通部13a,13bと、前記電気端子11e,11fとが接続されるが、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの抵抗によってブリッジ回路の抵抗値に偏りを生じないように、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの中間点(電気抵抗が略半分になる点)と電気端子11e,11fとを接続させている。そして、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの中間点(電気抵抗が略半分になる点)と電気端子11e,11fとの接続を可能にするため、少なくとも前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bが設けられる部分での前記アルミニウム配線6a,6bの延設位置を、トーションバー3a,3bの幅中心に対してずらしている。   As described above, the diffusion conduction parts 13a and 13b and the electrical terminals 11e and 11f are connected to take out the bridge output, but the bridge is formed by the resistance of the diffusion conduction parts (diffusion resistors) 13a and 13b. In order to prevent the resistance value of the circuit from being biased, an intermediate point (a point at which the electric resistance is substantially halved) between the diffusion conducting portions (diffusion resistors) 13a and 13b and the electric terminals 11e and 11f are connected. Then, at least the diffusion conduction portion (diffusion resistance) in order to enable connection between the intermediate point (the point at which the electric resistance is approximately half) between the diffusion conduction portions (diffusion resistance) 13a and 13b and the electric terminals 11e and 11f. The extending positions of the aluminum wirings 6a and 6b in the portions where the 13a and 13b are provided are shifted with respect to the width centers of the torsion bars 3a and 3b.

換言すれば、ピエゾ抵抗素子10a(10c)とピエゾ抵抗素子10b(10d)、及び、拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bは、トーションバー3a,3bの幅方向の中心軸に対して略線対称に配置されるのに対し、少なくとも前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bが設けられる部分での前記アルミニウム配線6a,6bの設置位置は、前記中心軸よりもピエゾ抵抗素子10a(10c)側或いはピエゾ抵抗素子10b(10d)側にずらしてある。これにより、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの中間点(電気抵抗が略半分になる点)と、前記アルミニウム配線6a,6bとが重なることがなく、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの中間点(電気抵抗が略半分になる点)と電気端子11e,11fとのアルミニウム配線14a,14bによる接続を可能にしている。   In other words, the piezoresistive element 10a (10c), the piezoresistive element 10b (10d), and the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b are substantially lined with respect to the central axis in the width direction of the torsion bars 3a and 3b. Whereas the aluminum wirings 6a and 6b are installed at least at the portions where the diffusion conducting portions (diffusion resistors) 13a and 13b are provided, the piezoresistive elements 10a (10c) are arranged more than the central axis. Or to the piezoresistive element 10b (10d) side. Thereby, the intermediate point of the diffusion conduction parts (diffusion resistance) 13a, 13b (the point where the electric resistance is substantially halved) does not overlap the aluminum wirings 6a, 6b, and the diffusion conduction part (diffusion resistance). It is possible to connect the intermediate point 13a, 13b (the point at which the electric resistance is substantially halved) and the electric terminals 11e, 11f by the aluminum wirings 14a, 14b.

図5は、図4の前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bを用いずに、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)とピエゾ抵抗素子10b(10d)との直列接続を可能にする配線パターンを示す。
図5に示す例では、前記アルミニウム配線6a(6b)は、トーションバー3a(3b)の略幅中心において直線的に延設され、固定部2の端縁に配置される電極端子7a(7b)に接続される。
FIG. 5 shows a wiring pattern that allows the piezoresistive element 10a (10c) and the piezoresistive element 10b (10d) to be connected in series without using the diffusion conducting portions (diffusion resistors) 13a and 13b of FIG. Show.
In the example shown in FIG. 5, the aluminum wiring 6 a (6 b) extends linearly at the approximate width center of the torsion bar 3 a (3 b) and is arranged at the edge of the fixing portion 2. Connected to.

一方、ピエゾ抵抗素子10a(10c)の一方の電極(可動部4から遠い側の電極)は、略直線的に延設されるアルミニウム配線12a(12c)によって前記電極端子11a(11c)に接続され、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の一方の電極(可動部4から遠い側の電極)は、アルミニウム配線12b(12d)によって前記電極端子11b(11d)に接続される。
前記電極端子11a(11c)と前記電極端子7a(7b)との間には、ピエゾ抵抗素子10a(10c)とピエゾ抵抗素子10b(10d)との間の電位を取り出すための電極端子11e(11f)が配置されている。
On the other hand, one electrode (electrode far from the movable portion 4) of the piezoresistive element 10a (10c) is connected to the electrode terminal 11a (11c) by an aluminum wiring 12a (12c) extending substantially linearly. One electrode (electrode far from the movable portion 4) of the piezoresistive element 10b (10d) is connected to the electrode terminal 11b (11d) by an aluminum wiring 12b (12d).
Between the electrode terminal 11a (11c) and the electrode terminal 7a (7b), an electrode terminal 11e (11f) for taking out a potential between the piezoresistive element 10a (10c) and the piezoresistive element 10b (10d). ) Is arranged.

そして、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)の他方の電極(可動部4に近い側の電極)は、アルミニウム配線18a(18c)によって電極端子11e(11f)に接続され、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の他方の電極(可動部4に近い側の電極)は、アルミニウム配線18b(18d)によって電極端子11e(11f)に接続される。
ここで、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の他方の電極(可動部4に近い側の電極)と前記電極端子11e(11f)とを最短距離で接続させようとしても、その間に、アルミニウム配線6a(6b)が延設されており、最短距離で接続させることができない。
The other electrode of the piezoresistive element 10a (10c) (the electrode closer to the movable portion 4) is connected to the electrode terminal 11e (11f) by the aluminum wiring 18a (18c), and the piezoresistive element 10b (10d) The other electrode (the electrode closer to the movable portion 4) is connected to the electrode terminal 11e (11f) by the aluminum wiring 18b (18d).
Here, even if the other electrode (the electrode closer to the movable portion 4) of the piezoresistive element 10b (10d) and the electrode terminal 11e (11f) are to be connected at the shortest distance, the aluminum wiring 6a ( 6b) is extended and cannot be connected at the shortest distance.

そこで、前記アルミニウム配線18(18d)は、電極端子11e(11f)に一端が接続され、固定部2の端縁と電気端子11e(11f)及び電気端子7a(7b)と挟まれる領域を、前記電極端子11b(11d)に向けて延設され、更に、前記電気端子7a(7b)と電極端子11b(11d)とで挟まれる領域を可動部4に向けて延設されて、前記ピエゾ抵抗素子10b(10d)の他方の電極(可動部4に近い側の電極)に接続される。
即ち、ピエゾ抵抗素子10b(10d)の他方の電極(可動部4に近い側の電極)と、電極端子11e(11f)とを、前記アルミニウム配線6a(6b)及び電極端子7a(7b)を迂回して接続させるようにしてある。
Therefore, one end of the aluminum wiring 18 (18d) is connected to the electrode terminal 11e (11f), and a region sandwiched between the edge of the fixing portion 2 and the electrical terminal 11e (11f) and the electrical terminal 7a (7b) An area extending between the electrode terminal 11b (11d) and the electric terminal 7a (7b) and the electrode terminal 11b (11d) is extended toward the movable portion 4, and the piezoresistive element 10b (10d) is connected to the other electrode (the electrode closer to the movable portion 4).
That is, the other electrode (electrode closer to the movable portion 4) of the piezoresistive element 10b (10d) and the electrode terminal 11e (11f) bypass the aluminum wiring 6a (6b) and the electrode terminal 7a (7b). To connect.

上記の配線パターンでは、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bを用いないで、前記ピエゾ抵抗素子10a(10c)とピエゾ抵抗素子10b(10d)との直列接続を行えるから、配線を容易に行え、また、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bによる抵抗値の偏りがないので、可動部4の揺動(振動)を高精度に検出できる。
尚、本実施形態では、前述のようにアルミ配線を用いるが、アルミ配線に限定するものではなく、導電性を有する材料を配線材料として適宜選択できる。
In the above wiring pattern, the piezoresistive element 10a (10c) and the piezoresistive element 10b (10d) can be connected in series without using the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b, so that wiring can be easily performed. Moreover, since there is no bias in resistance value due to the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b, the swing (vibration) of the movable portion 4 can be detected with high accuracy.
In the present embodiment, the aluminum wiring is used as described above. However, the present invention is not limited to the aluminum wiring, and a conductive material can be appropriately selected as the wiring material.

図6は、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dの形成方法を示す。まず、図6(a)に示す2枚の単結晶シリコンウェハ21a,21cの間に熱酸化膜層21bを挟んで接合したSOI(Silicon On Insulator)ウェハ(半導体基板)21表面に、図6(b)に示すように、例えば、酸化炉などを用いてシリコン酸化膜22を被膜する。その後、図6(c)に示すように、固定部2のトーションバー3a,3bの接続部分に、イオン注入または熱拡散によりピエゾ抵抗素子10a〜10dを形成する。   FIG. 6 shows a method of forming the piezoresistive elements 10a to 10d. First, on the surface of an SOI (Silicon On Insulator) wafer (semiconductor substrate) 21 which is joined by sandwiching a thermal oxide film layer 21b between two single crystal silicon wafers 21a and 21c shown in FIG. As shown in b), for example, the silicon oxide film 22 is coated using an oxidation furnace or the like. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the piezoresistive elements 10a to 10d are formed at the connection portions of the torsion bars 3a and 3b of the fixed portion 2 by ion implantation or thermal diffusion.

このピエゾ抵抗素子10a〜10dの形成手段としては、例えば、単結晶シリコンウェハ21aがn型単結晶シリコン材料で形成されている場合には、n型単結晶シリコン材料に、例えば、不純物を添加してp型領域を形成するようにしてもよいし、別工程でp型単結晶シリコン材料を作成しておき、このp型単結晶シリコン材料を固定部2に貼り付けて形成するようにしてもよい。また、単結晶シリコンウェハ21aがp型単結晶シリコン材料で形成されている場合にも、同様の手段によりピエゾ抵抗素子10a〜10dを形成すればよい。   As a means for forming the piezoresistive elements 10a to 10d, for example, when the single crystal silicon wafer 21a is formed of an n-type single crystal silicon material, for example, an impurity is added to the n-type single crystal silicon material. The p-type region may be formed, or a p-type single crystal silicon material may be prepared in a separate process, and the p-type single crystal silicon material may be attached to the fixing portion 2 to be formed. Good. Also, when the single crystal silicon wafer 21a is formed of a p-type single crystal silicon material, the piezoresistive elements 10a to 10d may be formed by the same means.

次いで、図6(d)に示すように、ピエゾ抵抗素子10a〜10dの表面に、例えば、酸化炉などを用いてシリコン酸化膜22を形成する。その後、図6(e)に示すように、電極取出し用コンタクト部分以外の部分をマスクし、シリコン酸化膜22のエッチングを行い、コンタクト23を形成する。そして、図6(f)に示すように、ピエゾ抵抗素子10a〜10dの電極及び電極端子に相当する部分以外をマスクし、アルミニウムエッチングを行い、ピエゾ抵抗素子10a〜10dの電極と電極端子11a〜11dとを接続するアルミニウム配線12a〜12dを形成する。次いで、図6(g)に示すように、アルミニウム配線12a〜12dを保護するため、例えば、感光性ポリイミドなどの絶縁膜24で被覆する。   Next, as shown in FIG. 6D, a silicon oxide film 22 is formed on the surface of the piezoresistive elements 10a to 10d using, for example, an oxidation furnace. Thereafter, as shown in FIG. 6E, the silicon oxide film 22 is etched by masking portions other than the electrode lead-out contact portion, thereby forming the contact 23. Then, as shown in FIG. 6 (f), portions other than those corresponding to the electrodes and electrode terminals of the piezoresistive elements 10a to 10d are masked, aluminum etching is performed, and the electrodes of the piezoresistive elements 10a to 10d and the electrode terminals 11a to 11a. Aluminum wirings 12a to 12d are formed to connect 11d. Next, as shown in FIG. 6G, for example, the aluminum wirings 12a to 12d are covered with an insulating film 24 such as photosensitive polyimide.

尚、拡散導通部13a,13bは、図6に示すピエゾ抵抗素子10a〜10dの形成工程において同時並行に形成され、図4に示す配線パターンにおける拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bの中間点と電気端子11e,11fとを接続させるアルミニウム配線14a,14bも、アルミニウム配線12a〜12dと同様にして形成される。   The diffusion conduction portions 13a and 13b are formed at the same time in the process of forming the piezoresistive elements 10a to 10d shown in FIG. 6, and are intermediate points between the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b in the wiring pattern shown in FIG. The aluminum wirings 14a and 14b that connect the electrical terminals 11e and 11f are also formed in the same manner as the aluminum wirings 12a to 12d.

上記第1実施形態のプレーナ型アクチュエータ1によると、前記固定部2のトーションバー3a,3bの接続部には、可動部4の揺動に応じて引張・圧縮応力が発生し、この引張・圧縮応力の発生領域にトーションバー3a,3bの軸を挟んでピエゾ抵抗素子10a,10b及びピエゾ抵抗素子10c,10dが配置されるので、例えば、ピエゾ抵抗素子10a,10cに引張応力が加わる場合、トーションバー3a,3bの軸を挟んで対向するピエゾ抵抗素子10b,10dには圧縮応力が加わる。   According to the planar actuator 1 of the first embodiment, a tensile / compressive stress is generated in the connecting portion of the torsion bars 3a and 3b of the fixed portion 2 in accordance with the swinging of the movable portion 4, and this tensile / compressive stress is generated. Since the piezoresistive elements 10a and 10b and the piezoresistive elements 10c and 10d are arranged in the stress generation region with the axes of the torsion bars 3a and 3b interposed therebetween, for example, when tensile stress is applied to the piezoresistive elements 10a and 10c Compressive stress is applied to the piezoresistive elements 10b and 10d facing each other across the axes of the bars 3a and 3b.

前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dが、例えばp型拡散抵抗により形成されている場合、引張応力が加わるピエゾ抵抗素子10a,10cの抵抗値は増加し、圧縮応力が加わるピエゾ抵抗素子10b,10dの抵抗値は減少し、前記図2のブリッジ回路の出力電圧V(V=Va−Vb)の値は負になる。逆に、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dが、p型拡散抵抗により形成されている場合に、可動部4の傾き方向が切り替わって、ピエゾ抵抗素子10a,10cに圧縮応力が加わると、ピエゾ抵抗素子10a,10cの抵抗値は減少し、ピエゾ抵抗素子10b,10dに引張応力が加わると、ピエゾ抵抗素子10b,10dの抵抗値は増加し、前記図2のブリッジ回路の出力電圧V(V=Va−Vb)の値は正になる。   When the piezoresistive elements 10a to 10d are formed of, for example, p-type diffusion resistors, the resistance values of the piezoresistive elements 10a and 10c to which tensile stress is applied increase, and the resistances of the piezoresistive elements 10b and 10d to which compressive stress is applied. The value decreases, and the value of the output voltage V (V = Va−Vb) of the bridge circuit of FIG. 2 becomes negative. On the contrary, when the piezoresistive elements 10a to 10d are formed of p-type diffused resistors, the piezoresistive elements 10a and 10c are subjected to compressive stress when the tilt direction of the movable portion 4 is switched. The resistance values of 10a and 10c decrease. When tensile stress is applied to the piezoresistive elements 10b and 10d, the resistance values of the piezoresistive elements 10b and 10d increase, and the output voltage V (V = Va) of the bridge circuit of FIG. The value of -Vb) is positive.

従って、前記ブリッジ回路の出力電圧Vの正負から、可動部4の傾き方向を判断でき、また、電圧値から傾斜角を検出することができ、これらの検出結果に基づいて前記駆動コイル5への通電がフィードバック制御される。ここで、前記ピエゾ抵抗素子10a〜10dは、トーションバー3a,3bではなく固定部2に配置されるから、ピエゾ抵抗素子10a〜10d及びその配線によってトーションバー3a,3bの幅が制約されることがなく、トーションバー3a,3bの幅を固有振動数の要求などに応じた最適値に設定できる。   Therefore, the inclination direction of the movable part 4 can be determined from the positive / negative of the output voltage V of the bridge circuit, and the inclination angle can be detected from the voltage value. The energization is feedback controlled. Here, since the piezoresistive elements 10a to 10d are arranged not in the torsion bars 3a and 3b but in the fixed portion 2, the width of the torsion bars 3a and 3b is restricted by the piezoresistive elements 10a to 10d and their wirings. The width of the torsion bars 3a and 3b can be set to an optimum value according to the request for the natural frequency.

また、可動部4の揺動に伴ってトーションバー3a,3bでは主にせん断力が発生するため、前記ブリッジ回路を構成するピエゾ抵抗素子10a〜10dをトーションバー3a,3bに配置した場合、可動部4の揺動によるピエゾ抵抗素子10a〜10dの抵抗値変化が小さく、高いブリッジ出力を得ることが難しい。これに対し、上記第1実施形態のように、固定部2のトーションバー3a,3bが接続される部分にピエゾ抵抗素子10a〜10dを配置する構成であれば、固定部2において可動部4の揺動に伴い主に引張・圧縮応力が発生し、一対のピエゾ抵抗素子10a,10b(10c,10d)の一方に引張応力が加わり、他方に圧縮応力が加わって、大きな抵抗値差を生じさせるので、高いブリッジ出力を得て、可動部4の揺動状態の検出を高精度に行える。   Further, since the shearing force is mainly generated in the torsion bars 3a and 3b with the swinging of the movable part 4, the piezoresistive elements 10a to 10d constituting the bridge circuit are movable when the torsion bars 3a and 3b are arranged. The change in resistance value of the piezoresistive elements 10a to 10d due to the swing of the portion 4 is small, and it is difficult to obtain a high bridge output. On the other hand, as in the first embodiment, if the piezoresistive elements 10a to 10d are arranged in the portion where the torsion bars 3a and 3b of the fixed portion 2 are connected, the movable portion 4 of the fixed portion 2 Tensile / compressive stress is mainly generated along with the oscillation, and tensile stress is applied to one of the pair of piezoresistive elements 10a and 10b (10c and 10d), and compressive stress is applied to the other, resulting in a large resistance difference. Therefore, a high bridge output can be obtained and the swinging state of the movable part 4 can be detected with high accuracy.

また、ブリッジ回路を構成するためのピエゾ抵抗素子10a,10b(10c,10d)間の接続を、前記拡散導通部(拡散抵抗)13a,13bを介して行わせることで、アルミニウム配線6a,6bの設置部分を大きく迂回して、ピエゾ抵抗素子10a,10b(10c,10d)間の接続するためのアルミニウム配線を設ける必要がなく、固定部2における配線の引き回しを簡略化できる。   Further, the connection between the piezoresistive elements 10a and 10b (10c and 10d) for constituting the bridge circuit is performed via the diffusion conduction portions (diffusion resistors) 13a and 13b, so that the aluminum wirings 6a and 6b are connected. There is no need to provide an aluminum wiring for largely connecting the piezoresistive elements 10a, 10b (10c, 10d) by bypassing the installation portion, and the wiring of the fixed portion 2 can be simplified.

上記のように、ピエゾ抵抗素子10a〜10dは、可動部4の揺動に伴って固定部2に発生する引張・圧縮応力によって抵抗値が変化し、抵抗値が変化することでブリッジ出力が変化して、可動部4の揺動が検出される。従って、トーションバー3a,3bが接続される固定部2に、可動部4の揺動に伴い引張・圧縮応力を発生させる必要があるが、例えば、トーションバー3a,3bを細く形成して固有振動数を低くする場合、固定部2における引張・圧縮応力の発生域が狭くなり、また、発生する引張・圧縮応力が小さくなってしまう場合がある。   As described above, the resistance values of the piezoresistive elements 10a to 10d change due to the tensile / compressive stress generated in the fixed portion 2 as the movable portion 4 swings, and the bridge output changes as the resistance value changes. Thus, the swing of the movable part 4 is detected. Accordingly, it is necessary to generate a tensile / compressive stress in the fixed portion 2 to which the torsion bars 3a and 3b are connected as the movable portion 4 is swung. For example, the torsion bars 3a and 3b are formed to be thin and the natural vibration is generated. When the number is lowered, the generation region of the tensile / compressive stress in the fixed portion 2 is narrowed, and the generated tensile / compressive stress may be reduced.

ここで、前記固定部2のトーションバー3a,3bが接続される部分に、前記固定部2の他の部分よりも薄い薄肉部を形成することで、引張・圧縮応力の発生領域の拡大、発生する引張・圧縮応力の増大を図ることができ、前記薄肉部を形成した第2実施形態を以下に説明する。   Here, by forming a thin part thinner than the other part of the fixing part 2 at the part to which the torsion bars 3a and 3b of the fixing part 2 are connected, the generation area of the tensile / compressive stress is expanded and generated. A second embodiment in which the tensile and compressive stress can be increased and the thin portion is formed will be described below.

図7は、前記薄肉部を設けた第2実施形態を示す。尚、図7(a),(b)は、アクチュエータ1の片側半分(トーションバー3a側)を示すが、薄肉部は、固定部2のトーションバー3aが接続される部分と、トーションバー3bが接続される部分との双方に、同様にして設けられているものとする。また、図7に示すプレーナ型アクチュエータ1は、薄肉部31を備えること以外は、第1実施形態と同様であり、同一要素には同一符号を付して、詳細な説明を省略する。   FIG. 7 shows a second embodiment in which the thin portion is provided. FIGS. 7A and 7B show one half of the actuator 1 (the torsion bar 3a side), but the thin portion has a portion to which the torsion bar 3a of the fixed portion 2 is connected and a torsion bar 3b. It is assumed that they are provided in the same manner on both the connected parts. Further, the planar actuator 1 shown in FIG. 7 is the same as that of the first embodiment except that the thin portion 31 is provided. The same elements are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図7に示す第2実施形態のアクチュエータ1において、固定部2の厚さDは、D1に設定されているが、固定部2のトーションバー3a,3bが接続される部分での厚さDを、トーションバー3a,3b及び可動部4と同じ厚さであり、前記D1よりも小さいD2(D2<D1)に設定し、薄肉部31を設けてある。   In the actuator 1 of the second embodiment shown in FIG. 7, the thickness D of the fixed portion 2 is set to D1, but the thickness D at the portion where the torsion bars 3a and 3b of the fixed portion 2 are connected is set. The torsion bars 3a and 3b and the movable part 4 have the same thickness as the D2 (D2 <D1) smaller than the D1, and the thin part 31 is provided.

アクチュエータ1の製造工程においては、シリコン基板21の支持基板32を、シリコン基板21下面の絶縁層まで異方性エッチングして除去することで、トーションバー3a,3b及び可動部4がシリコン基板21の厚さD2に形成され、固定部2は、シリコン基板21と支持基板32とが積層された厚さD1に形成される。ここで、前記異方性エッチングにおいて固定部2のトーションバー3a,3bが接続される部分の所定領域についても支持基板31を除去することで、トーションバー3a,3b及び可動部4と同じ厚さD2の領域、即ち、薄肉部31が固定部2に設けられる。   In the manufacturing process of the actuator 1, the torsion bars 3 a and 3 b and the movable portion 4 are formed on the silicon substrate 21 by removing the support substrate 32 of the silicon substrate 21 by anisotropic etching to the insulating layer on the lower surface of the silicon substrate 21. The fixed portion 2 is formed to a thickness D1 in which the silicon substrate 21 and the support substrate 32 are stacked. Here, in the anisotropic etching, the support substrate 31 is also removed from a predetermined region of a portion where the torsion bars 3a and 3b of the fixed part 2 are connected, so that the same thickness as the torsion bars 3a and 3b and the movable part 4 is obtained. A region D <b> 2, that is, a thin portion 31 is provided in the fixed portion 2.

前記薄肉部31(厚さD2の領域)は、図7(a)に示すように、トーションバー3a,3bの幅方向において、トーションバー3a,3bの幅W1よりも広く、固定部2の全幅FWよりも狭く、また、トーションバー3a,3bの軸方向において固定部2の枠幅W2よりも狭く、トーションバー3a,3bの幅方向の中心軸に対して略対称に設けられている。そして、前記薄肉部31に、ピエゾ抵抗素子10a〜10dを配置し、薄肉部31に発生する引張・圧縮応力によってピエゾ抵抗素子10a〜10dの抵抗値が変化するようにしてある。   As shown in FIG. 7A, the thin portion 31 (region of thickness D2) is wider than the width W1 of the torsion bars 3a and 3b in the width direction of the torsion bars 3a and 3b, and is the entire width of the fixed portion 2. It is narrower than the FW and narrower than the frame width W2 of the fixed portion 2 in the axial direction of the torsion bars 3a and 3b, and is provided substantially symmetrically with respect to the central axis in the width direction of the torsion bars 3a and 3b. And the piezoresistive elements 10a to 10d are arranged in the thin part 31, and the resistance values of the piezoresistive elements 10a to 10d are changed by the tensile / compressive stress generated in the thin part 31.

上記のように薄肉部31を設ければ、該薄肉部31の剛性が低くなることで、可動部4の揺動に伴うトーションバー3a,3bのねじれが固定部2に伝わり易くなり、固定部2のより広範囲に強い引張・圧縮応力を発生させることができ、この引張・圧縮応力の発生域にピエゾ抵抗素子10a〜10dを配置することで、大きな抵抗値変化を発生させることができる。   If the thin portion 31 is provided as described above, the rigidity of the thin portion 31 is lowered, so that the torsion of the torsion bars 3a and 3b accompanying the swing of the movable portion 4 is easily transmitted to the fixed portion 2, and the fixed portion 2 can generate a strong tensile / compressive stress in a wider range, and by arranging the piezoresistive elements 10a to 10d in a region where the tensile / compressive stress is generated, a large change in resistance value can be generated.

前記薄肉部31は、トーションバー3a,3bのねじれに起因する固定部2の応力分布を考慮した上で、ピエゾ抵抗素子10a〜10dのそれぞれについて、局所的でなく所定の範囲で応力が分布するように形成すればよい。例えば、ピエゾ抵抗素子10a〜10dの所定の範囲で応力が分布するように、ピエゾ抵抗素子10a〜10dのそれぞれを、薄肉部31と他の部分とに跨るように配置してもよいが、ピエゾ抵抗素子10a〜10dの全部分を薄肉部31に配置することが好ましい。
尚、薄肉部31の厚さD2は、固定部2の他の部分の厚さD1よりも薄ければよく、トーションバー3a,3bよりも厚く又は薄く形成することができる。また、薄肉部31を、トーションバー3a,3bの軸方向と平行な固定部2の両側方端面2a,2bの一方から他方にかけて連続して形成することができる。
In consideration of the stress distribution of the fixed portion 2 caused by the torsion of the torsion bars 3a and 3b, the thin-walled portion 31 distributes stress in a predetermined range rather than locally for each of the piezoresistive elements 10a to 10d. What is necessary is just to form. For example, each of the piezoresistive elements 10a to 10d may be disposed so as to straddle the thin portion 31 and the other part so that the stress is distributed in a predetermined range of the piezoresistive elements 10a to 10d. It is preferable to arrange all the resistance elements 10 a to 10 d in the thin portion 31.
In addition, the thickness D2 of the thin part 31 should just be thinner than the thickness D1 of the other part of the fixing | fixed part 2, and can be formed thicker or thinner than the torsion bars 3a and 3b. Moreover, the thin part 31 can be continuously formed from one side to the other of the side end faces 2a, 2b of the fixing part 2 parallel to the axial direction of the torsion bars 3a, 3b.

上記第1,第2実施形態では、固定部2のトーションバー3aが接続される部分に、ピエゾ抵抗素子10a,10bを配置し、固定部2のトーションバー3bが接続される部分に、ピエゾ抵抗素子10c,10dを配置し、これら4個のピエゾ抵抗素子10a〜10dでブリッジ回路を構成したが、トーションバー3a側とトーションバー3b側とのいずれか一方にのみ2個のピエゾ抵抗素子10を配置し、この2個のピエゾ抵抗素子10と、2個の固定抵抗素子とでブリッジ回路を構成し、該ブリッジ回路でピエゾ抵抗素子10の抵抗値変化を検出させることができる。   In the first and second embodiments, the piezoresistive elements 10a and 10b are disposed in the portion where the torsion bar 3a of the fixed portion 2 is connected, and the piezoresistor is disposed in the portion where the torsion bar 3b of the fixed portion 2 is connected. The elements 10c and 10d are arranged, and the bridge circuit is configured by the four piezoresistive elements 10a to 10d. However, the two piezoresistive elements 10 are provided only on either the torsion bar 3a side or the torsion bar 3b side. The two piezoresistive elements 10 and the two fixed resistance elements constitute a bridge circuit, and the bridge circuit can detect a change in the resistance value of the piezoresistive element 10.

図8は、固定部2に対して2個のピエゾ抵抗素子10と2個の固定抵抗素子とを配置した第3実施形態を示す。図8において、固定部2のトーションバー3aが接続される部分に、一対のピエゾ抵抗素子10a,10bが配置され、固定部2のトーションバー3bが接続される部分には、ピエゾ抵抗素子は配置されない。尚、固定部2のトーションバー3aが接続される部分にはピエゾ抵抗素子を配置せずに、固定部2のトーションバー3bが接続される部分にピエゾ抵抗素子を配置する構成であってもよい。   FIG. 8 shows a third embodiment in which two piezoresistive elements 10 and two fixed resistive elements are arranged with respect to the fixed portion 2. In FIG. 8, a pair of piezoresistive elements 10a and 10b are arranged at a portion where the torsion bar 3a of the fixed portion 2 is connected, and a piezoresistive element is arranged at a portion where the torsion bar 3b of the fixed portion 2 is connected. Not. In addition, the structure which arrange | positions a piezoresistive element in the part to which the torsion bar 3b of the fixing | fixed part 2 is connected not to arrange | position the piezoresistive element in the part to which the torsion bar 3a of the fixing | fixed part 2 is connected may be sufficient. .

前記ピエゾ抵抗素子10a,10bは、第1実施形態と同様に、拡散導通部13aを介して電気的に接続され、この拡散導通部13aの中間部と電気端子11eとが、アルミニウム配線14aによって接続される。また、ピエゾ抵抗素子10a,10bを挟んで2個の固定抵抗素子41a,41bを、固定部2に配置してあり、ピエゾ抵抗素子10aの拡散導通部13aが接続される側とは逆側の電極と固定抵抗素子41aの一方の電極とがアルミニウム配線44aによって接続され、ピエゾ抵抗素子10bの拡散導通部13aが接続される側とは逆側の電極と固定抵抗素子41bの一方の電極とがアルミニウム配線44bによって接続される。   As in the first embodiment, the piezoresistive elements 10a and 10b are electrically connected via a diffusion conduction portion 13a, and an intermediate portion of the diffusion conduction portion 13a and an electrical terminal 11e are connected by an aluminum wiring 14a. Is done. In addition, two fixed resistance elements 41a and 41b are arranged in the fixed portion 2 with the piezoresistive elements 10a and 10b interposed therebetween, and the opposite side of the piezoresistive element 10a to the side where the diffusion conduction portion 13a is connected. The electrode and one electrode of the fixed resistance element 41a are connected by the aluminum wiring 44a, and the electrode on the opposite side to the side where the diffusion conduction part 13a of the piezoresistive element 10b is connected and one electrode of the fixed resistance element 41b are connected. They are connected by aluminum wiring 44b.

また、固定抵抗素子41aの他方の電極と電気端子42aとがアルミニウム配線45aによって接続され、固定抵抗素子41bの一方の電極と電気端子42bとがアルミニウム配線45bによって接続される。更に、前記アルミニウム配線44aの途中と電気端子43aとがアルミニウム配線46aによって接続され、前記アルミニウム配線44bの途中と電気端子43bとがアルミニウム配線46bによって接続されている。   The other electrode of fixed resistance element 41a and electrical terminal 42a are connected by aluminum wiring 45a, and one electrode of fixed resistance element 41b and electrical terminal 42b are connected by aluminum wiring 45b. Further, the middle of the aluminum wiring 44a and the electrical terminal 43a are connected by an aluminum wiring 46a, and the middle of the aluminum wiring 44b and the electrical terminal 43b are connected by an aluminum wiring 46b.

電気端子7a,11e,42a,42b,43a,43bは、固定部2の端縁に沿って直線的に配置されている。そして、制御ユニット81の電気端子と前記電気端子11e,42a,42b,43a,43bとが、例えばワイヤーボンディング等により電気的に接続されることで、前記ピエゾ抵抗素子10a,10b及び固定抵抗素子41a,41bは、図9に示すようなブリッジ回路を構成する。   The electric terminals 7 a, 11 e, 42 a, 42 b, 43 a, 43 b are linearly arranged along the edge of the fixed part 2. The electrical terminals of the control unit 81 and the electrical terminals 11e, 42a, 42b, 43a, 43b are electrically connected by, for example, wire bonding, so that the piezoresistive elements 10a, 10b and the fixed resistive element 41a are connected. , 41b constitute a bridge circuit as shown in FIG.

具体的には、図9に示すように、前記電気端子42a,42b相互を接続することで、前記ピエゾ抵抗素子10a,10b及び固定抵抗素子41a,41bがブリッジ回路を形成し、該ブリッジ回路に対する電源供給は、電気端子43a,43bを電源Voに接続することでなされ、ブリッジ出力は、電気端子42a,42bの接続部と電気端子11eとの電位差として取り出される。   Specifically, as shown in FIG. 9, by connecting the electrical terminals 42a and 42b, the piezoresistive elements 10a and 10b and the fixed resistive elements 41a and 41b form a bridge circuit. The power is supplied by connecting the electric terminals 43a and 43b to the power supply Vo, and the bridge output is taken out as a potential difference between the connecting portion of the electric terminals 42a and 42b and the electric terminal 11e.

図10は、前記ブリッジ回路を構成するための前記制御ユニット81における回路を示すものであり、制御ユニット81には、前記電気端子42a,43a,11e,43b,42bに対応する5個の電気端子82a〜82eが設けられており、アクチュエータ1側の電気端子42a,43a,11e,43b,42bと、制御ユニット81側の電気端子82a〜82eとが、それぞれがワイヤーボンディング83により電気的に接続される。   FIG. 10 shows a circuit in the control unit 81 for constituting the bridge circuit. The control unit 81 has five electric terminals corresponding to the electric terminals 42a, 43a, 11e, 43b, and 42b. 82a to 82e are provided, and the electric terminals 42a, 43a, 11e, 43b, and 42b on the actuator 1 side and the electric terminals 82a to 82e on the control unit 81 side are electrically connected by wire bonding 83, respectively. The

そして、制御ユニット81内では、電気端子82aと電気端子82eとが配線84によって電気的に接続され、電気端子82bと電気端子82dとが配線85によって接続され、前記配線85途中に電源Voが介装される。また、配線84の電圧と、電気端子82cとの電位差が、出力電圧V(ブリッジ出力)として検出され、該出力電圧Vに基づいて可動部4の揺動位置(揺動角度)が検出されるようになっている。但し、ブリッジ回路の構成を図9,10のものに限定するものではなく、例えば、前記ピエゾ抵抗素子10a,10bの接続部を電源供給部とすることができる。   In the control unit 81, the electrical terminal 82a and the electrical terminal 82e are electrically connected by the wiring 84, the electrical terminal 82b and the electrical terminal 82d are connected by the wiring 85, and the power source Vo is interposed in the middle of the wiring 85. Be dressed. Further, the potential difference between the voltage of the wiring 84 and the electric terminal 82c is detected as the output voltage V (bridge output), and the swing position (swing angle) of the movable portion 4 is detected based on the output voltage V. It is like that. However, the configuration of the bridge circuit is not limited to that shown in FIGS. 9 and 10. For example, the connection portion of the piezoresistive elements 10 a and 10 b can be used as a power supply portion.

上記第3実施形態によると、ブリッジ回路を構成する抵抗素子が、固定部2の1辺に集めて配置されるから、固定部2の両端にそれぞれピエゾ抵抗素子10が配置され、これらのピエゾ抵抗素子10a〜10dによってブリッジ回路を構成する場合に比べて、抵抗素子間の接続を容易に行える。但し、図9のように、2個のピエゾ抵抗素子10a,10bと2個の固定抵抗素子41a,41bとでブリッジ回路を構成した場合よりも、図2に示したように、4個のピエゾ抵抗素子10a〜10dでブリッジ回路を構成した方が、大きなブリッジ出力(出力電圧V)を得ることができる。   According to the third embodiment, since the resistance elements constituting the bridge circuit are gathered and arranged on one side of the fixed portion 2, the piezoresistive elements 10 are arranged at both ends of the fixed portion 2, respectively. Compared with the case where the bridge circuit is configured by the elements 10a to 10d, the connection between the resistance elements can be easily performed. However, as shown in FIG. 2, four piezoresistive elements 10a and 10b and two fixed resistive elements 41a and 41b are used, as shown in FIG. A larger bridge output (output voltage V) can be obtained by configuring the bridge circuit with the resistance elements 10a to 10d.

尚、前記固定抵抗素子41a,41bは、可動部4の揺動による抵抗値変化がないか、又は、可動部4の揺動に伴う抵抗値変化が、揺動検出に用いることができるほどには大きくない抵抗素子であり、可動部4の揺動に対して抵抗値の変化が小さい(零を含む)という特性は、可動部4の揺動に伴う応力を受けない場所への配置によって得られるものであっても良いし、ピエゾ効果(圧電効果)を有しない組成の抵抗で実現されるものであってもよい。   The fixed resistance elements 41a and 41b do not change in resistance value due to the swing of the movable part 4, or the resistance value change accompanying the swing of the movable part 4 can be used for swing detection. Is a resistance element that is not large, and the characteristic that the change in resistance value is small (including zero) with respect to the swinging of the movable part 4 is obtained by the arrangement in a place where the stress due to the swinging of the movable part 4 is not received. Or may be realized by a resistor having a composition that does not have a piezo effect (piezoelectric effect).

また、図1の構成におけるトーションバー3b側のセンサデバイス、即ち、ピエゾ抵抗素子10c,10d、電気端子11c,11d、アルミニウム配線12c,12dを無くして、図11の第4実施形態に示すように、トーションバー3a側にのみピエゾ抵抗素子10a,10bを備える構成とし、該ピエゾ抵抗素子10a,10bと制御ユニット81側(外部)に備えられた固定抵抗素子41a,41bでブリッジ回路を構成させることができる。   Further, the sensor device on the torsion bar 3b side in the configuration of FIG. 1, that is, the piezoresistive elements 10c and 10d, the electric terminals 11c and 11d, and the aluminum wirings 12c and 12d are eliminated, as shown in the fourth embodiment of FIG. The piezoresistive elements 10a and 10b are provided only on the torsion bar 3a side, and the piezoresistive elements 10a and 10b and the fixed resistive elements 41a and 41b provided on the control unit 81 side (external) form a bridge circuit. Can do.

図12は、前記第4実施形態において、前記ブリッジ回路を構成するための前記制御ユニット81における回路を示すものであり、制御ユニット81には、アクチュエータ1側の電気端子43a,11e,43bに対応する3個の電気端子82f〜82hが設けられており、アクチュエータ1側の電気端子43a,11e,43bと、制御ユニット81側の電気端子43a,11e,43bとがそれぞれがワイヤーボンディング83により電気的に接続される。   FIG. 12 shows a circuit in the control unit 81 for configuring the bridge circuit in the fourth embodiment. The control unit 81 corresponds to the electric terminals 43a, 11e, 43b on the actuator 1 side. The electrical terminals 43a, 11e, 43b on the actuator 1 side and the electrical terminals 43a, 11e, 43b on the control unit 81 side are electrically connected by wire bonding 83, respectively. Connected to.

そして、制御ユニット81内では、電気端子82fと電気端子82hとが、途中に電源Voが介装される配線87によって電気的に接続され、前記電源Voに対して並列に、固定抵抗素子41a,41bの直列回路が接続されている。また、固定抵抗素子41aと固定抵抗素子41bとの間の端子電圧と、電気端子82gの電圧、即ち、ピエゾ抵抗素子10aとピエゾ抵抗素子10bとの間の端子電圧との電位差が、出力電圧V(ブリッジ出力)として検出されるようになっている。上記第4実施形態によると、アクチュエータ1側(固定部2)に形成される抵抗素子の数が減り、アクチュエータ1の構成を簡略化できる。   In the control unit 81, the electric terminal 82f and the electric terminal 82h are electrically connected by a wiring 87 with a power supply Vo interposed in the middle thereof, and in parallel with the power supply Vo, the fixed resistance elements 41a, 41a, A series circuit 41b is connected. Further, the potential difference between the terminal voltage between the fixed resistance element 41a and the fixed resistance element 41b and the voltage at the electrical terminal 82g, that is, the terminal voltage between the piezoresistance element 10a and the piezoresistance element 10b is the output voltage V. (Bridge output) is detected. According to the fourth embodiment, the number of resistance elements formed on the actuator 1 side (fixed portion 2) is reduced, and the configuration of the actuator 1 can be simplified.

前記図11に示した第4実施形態では、2個のピエゾ抵抗素子10a,10bを、固定部2のトーションバー3a側に、トーションバー3aの軸を挟んで対向配置させたが、2個のピエゾ抵抗素子10のうちの1個を、固定部2のトーションバー3aが接続される部分に配置し、残る1個を、固定部2のトーションバー3bが接続される部分に配置することができる。図13は、固定部2のトーションバー3aが接続される部分に、1個のピエゾ抵抗素子10aを配置し、固定部2のトーションバー3bが接続される部分に、1個のピエゾ抵抗素子10dを配置した、第5実施形態を示す。   In the fourth embodiment shown in FIG. 11, the two piezoresistive elements 10a and 10b are disposed opposite to the torsion bar 3a side of the fixed portion 2 with the axis of the torsion bar 3a interposed therebetween. One of the piezoresistive elements 10 can be disposed in a portion where the torsion bar 3a of the fixed portion 2 is connected, and the remaining one can be disposed in a portion where the torsion bar 3b of the fixed portion 2 is connected. . In FIG. 13, one piezoresistive element 10 a is arranged at a portion where the torsion bar 3 a of the fixed portion 2 is connected, and one piezoresistive element 10 d is disposed at a portion where the torsion bar 3 b of the fixed portion 2 is connected. The 5th Embodiment which has arranged is shown.

この第5実施形態において、前記ピエゾ抵抗素子10aは、トーションバー3a,3bの軸よりも一方側に偏った位置に配置され、逆に、ピエゾ抵抗素子10dは、トーションバー3a,3bの軸よりも他方側に偏った位置に配置され、ピエゾ抵抗素子10aが可動部4の揺動に伴って圧縮応力(引張応力)を受ける場合には、ピエゾ抵抗素子10dは引張応力(圧縮応力)を受けるようにしてある。   In the fifth embodiment, the piezoresistive element 10a is arranged at a position deviated to one side of the axis of the torsion bars 3a, 3b, and conversely, the piezoresistive element 10d is arranged from the axis of the torsion bars 3a, 3b. Are also arranged at a position biased to the other side, and when the piezoresistive element 10a receives compressive stress (tensile stress) as the movable part 4 swings, the piezoresistive element 10d receives tensile stress (compressive stress). It is like that.

そして、ピエゾ抵抗素子10aの一方の電極は、アルミニウム配線12aを介して電気端子11aに接続され、ピエゾ抵抗素子10aの他方の電極は、アルミニウム配線48aを介して電気端子47aに電気的に接続されている。また、ピエゾ抵抗素子10bの一方の電極は、アルミニウム配線12dを介して電気端子11dに接続され、ピエゾ抵抗素子10dの他方の電極は、アルミニウム配線48dを介して電気端子47dに電気的に接続されている。ここで、第4実施形態と同様に、前記2個のピエゾ抵抗素子10a,10dは、制御ユニット81側(外部)に備えられている2個の固定抵抗41a,41bに接続されることで、ブリッジ回路を構成し、ピエゾ抵抗素子10a,10dの抵抗値変化に応じた出力電圧が検出される。   One electrode of the piezoresistive element 10a is connected to the electric terminal 11a via the aluminum wiring 12a, and the other electrode of the piezoresistive element 10a is electrically connected to the electric terminal 47a via the aluminum wiring 48a. ing. One electrode of the piezoresistive element 10b is connected to the electric terminal 11d via the aluminum wiring 12d, and the other electrode of the piezoresistive element 10d is electrically connected to the electric terminal 47d via the aluminum wiring 48d. ing. Here, as in the fourth embodiment, the two piezoresistive elements 10a and 10d are connected to the two fixed resistors 41a and 41b provided on the control unit 81 side (external), A bridge circuit is configured, and an output voltage corresponding to a change in resistance value of the piezoresistive elements 10a and 10d is detected.

上記第5実施形態では、ピエゾ抵抗素子10a,10d相互をアクチュエータ1上では接続しないので、駆動コイル5用のアルミニウム配線6a,6bに対して立体的に交差させて、ピエゾ抵抗素子10a,10d間を接続する配線(拡散導通部13a,13b)を設ける必要がなく、アクチュエータ1における配線構成を簡略化できる。また、ピエゾ抵抗素子10aが可動部4の揺動に伴って圧縮応力(引張応力)を受ける場合には、ピエゾ抵抗素子10dは引張応力(圧縮応力)を受けるようにしてあり、可動部4の揺動に対する抵抗値変化の方向が異なるから、必要充分な出力電圧を得ることが可能である。   In the fifth embodiment, since the piezoresistive elements 10a and 10d are not connected to each other on the actuator 1, the piezoresistive elements 10a and 10d are three-dimensionally intersected with the aluminum wirings 6a and 6b for the drive coil 5. There is no need to provide wiring (diffusion conducting portions 13a, 13b) for connecting the actuator 1 and the wiring configuration in the actuator 1 can be simplified. Further, when the piezoresistive element 10a receives compressive stress (tensile stress) as the movable part 4 swings, the piezoresistive element 10d receives tensile stress (compressive stress). Since the direction of the resistance value change with respect to the oscillation is different, a necessary and sufficient output voltage can be obtained.

尚、第3〜第5実施形態において、第2実施形態のように、薄肉部31を設けることができる。また、図1,図7,図8,図11,図13に示した実施形態のプレーナ型アクチュエータ1の全体を可動部として、前記トーションバー3a,3bの軸方向に直交する方向に揺動可能に、トーションバーを介して固定部に支持し、前記可動部4を前記トーションバー3a,3bの軸回りに揺動させると共に、前記トーションバー3a,3bの軸方向と直交する軸回りにアクチュエータ全体を揺動させる構成とすることができる。そして、上記のプレーナ型アクチュエータにおいて、2重に設けられる固定部のそれぞれについて、トーションバーが接続される部分に、ピエゾ抵抗素子を配置させることができる。   In the third to fifth embodiments, the thin portion 31 can be provided as in the second embodiment. Further, the entire planar actuator 1 of the embodiment shown in FIGS. 1, 7, 8, 11, and 13 can be swung in a direction perpendicular to the axial direction of the torsion bars 3a and 3b, with the entire portion being a movable portion. The movable part 4 is supported by a fixed part via a torsion bar, and the movable part 4 is swung around the axes of the torsion bars 3a and 3b, and the entire actuator is rotated around an axis perpendicular to the axial direction of the torsion bars 3a and 3b. Can be made to swing. In the planar actuator described above, a piezoresistive element can be disposed at a portion to which the torsion bar is connected for each of the double fixing portions.

また、上記各実施形態では、ピエゾ抵抗素子10の向きを、ピエゾ抵抗素子10の電極が図1などにおける左右方向に並ぶ向きとしたが、ピエゾ抵抗素子10の向きは、電極が図1などにおける上下方向に並ぶ向きとすることができ、更に、ピエゾ抵抗素子10の電極の並び方向が斜めであってもよく、引張・圧縮応力を受けて抵抗値を変化させるのに最適な向きに設定できる。   Further, in each of the above embodiments, the direction of the piezoresistive element 10 is the direction in which the electrodes of the piezoresistive element 10 are arranged in the horizontal direction in FIG. 1 and the like. The orientation of the piezoresistive elements 10 may be oblique, and the orientation of the electrodes may be set to the optimum orientation for changing the resistance value under tensile / compressive stress. .

1 プレーナ型アクチュエータ
2 固定部
3a,3b トーションバー
4 可動部
5 駆動コイル
8 永久磁石
10a〜10d ピエゾ抵抗素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Planar type actuator 2 Fixed part 3a, 3b Torsion bar 4 Movable part 5 Drive coil 8 Permanent magnet 10a-10d Piezoresistive element

Claims (4)

枠状の固定部と、
前記固定部の内側に、一対のトーションバーを介して揺動可能に支持された可動部と、
前記可動部を揺動させる駆動手段と、
前記固定部の前記トーションバーが接続される部分に配置した一対のピエゾ抵抗素子と
前記一対のピエゾ抵抗素子に接続されてブリッジ回路を構成する外部の一対の固定抵抗素子と、
を備えたことを特徴とするプレーナ型アクチュエータ。
A frame-shaped fixing part;
Inside the fixed part, a movable part supported so as to be swingable via a pair of torsion bars;
Driving means for swinging the movable part;
A pair of piezoresistive elements disposed at a portion of the fixed portion to which the torsion bar is connected ;
A pair of external fixed resistance elements connected to the pair of piezoresistive elements to form a bridge circuit;
A planar actuator characterized by comprising:
前記固定部の前記トーションバーが接続される部分に、前記固定部の他の部分よりも薄い薄肉部を形成したことを特徴とする請求項1記載のプレーナ型アクチュエータ。   The planar actuator according to claim 1, wherein a thin portion thinner than other portions of the fixed portion is formed in a portion of the fixed portion to which the torsion bar is connected. 前記固定部の一方のトーションバーが接続される部分と他方のトーションバーが接続される部分とにそれぞれ一対のピエゾ抵抗素子を配置したことを特徴とする請求項1又は2記載のプレーナ型アクチュエータ。 3. The planar actuator according to claim 1, wherein a pair of piezoresistive elements are arranged in a portion to which one torsion bar of the fixed portion is connected and a portion to which the other torsion bar is connected . 前記一対のピエゾ抵抗素子が、前記固定部に形成される拡散導通部を介して接続されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のプレーナ型アクチュエータ。 The planar actuator according to any one of claims 1 to 3, wherein the pair of piezoresistive elements are connected via a diffusion conduction portion formed in the fixed portion .
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