JP5431787B2 - Light-transmitting electromagnetic wave shield laminate capable of bending and method for producing the same - Google Patents

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本発明は、産業装置、機械および電子機器などのカバーや筐体、自動車、車両、船舶、航空機、住宅、病院およびオフィスなどの窓材やカバーとして有用な曲げ加工性および耐衝撃性に優れた光透過型電磁波シールド積層体に関する。   The present invention is excellent in bending workability and impact resistance, which is useful as a window material and cover for industrial equipment, covers and casings of machinery and electronic equipment, automobiles, vehicles, ships, airplanes, houses, hospitals and offices. The present invention relates to a light transmissive electromagnetic wave shield laminate.

近年、パソコンや携帯電話、液晶やプラズマに代表されるフラットパネルディスプレイ、タッチパネル、カーナビゲーション、携帯情報端末などの電子機器や産業機械のモーターなどから発生する電磁波により、産業機械や電子機器の誤動作や通信障害を引き起こし大きな問題となっている。さらに、電磁波は人体に対しても悪影響を及ぼす可能性が指摘されており、いわゆる電磁波障害(以下、EMIという)を防止するため、各種電磁波シールド材による対策を講じている。   In recent years, electromagnetic waves generated from electronic devices such as personal computers, mobile phones, flat panel displays typified by liquid crystal and plasma, touch panels, car navigation systems, personal digital assistants, and motors of industrial machinery have caused malfunctions in industrial machinery and electronic devices. It causes a communication failure and is a big problem. Furthermore, it has been pointed out that electromagnetic waves may adversely affect the human body, and measures are taken with various electromagnetic shielding materials in order to prevent so-called electromagnetic interference (hereinafter referred to as EMI).

電磁波シールド材単体では十分な強度が得られないため、電磁波シールド材料を各種光透過型樹脂基材やガラス基材などで積層する方法が用いられる。安全性の観点から耐衝撃性や耐熱性に優れるポリカーボネート樹脂を基材とした光透過型電磁波シールド積層体が好ましいが、半導体製造装置などの産業装置、産業機械および各種電子機器などのカバーや筐体、自動車、車両、船舶、航空機、住宅、病院およびオフィスなどの窓材やカバーとして使用する場合、意匠性や安全性の観点から曲げ加工性が求められるケースが多い。しかしながら、ポリカーボネート樹脂は耐熱性が高いがゆえに、高温での曲げ加工条件を強いられるため、ニクロム線やハロゲンランプなどを熱源に用いた電気炉、ロットヒーターおよびセラミックヒーターなどの一般的な加熱方法では表裏面や面内温度分布により光透過型電磁波シールド積層体に反り、気泡、白化、剥離を生じるなどの問題を抱えている。さらにこれらの加熱方法を用いて光透過型電磁波シールド積層体を上下全面加熱した場合には、タワミや変形を生じるだけでなく、接着層に揺らぎが生じるため外観および視認性が著しく低下する問題を抱えている。また光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工技術は未だ開示されていない。   Since sufficient strength cannot be obtained with the electromagnetic wave shielding material alone, a method of laminating the electromagnetic wave shielding material with various light transmissive resin base materials or glass base materials is used. From the viewpoint of safety, a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate based on polycarbonate resin, which is excellent in impact resistance and heat resistance, is preferable, but covers and housings for industrial equipment such as semiconductor manufacturing equipment, industrial machinery, and various electronic equipment. When used as a window material or cover for bodies, automobiles, vehicles, ships, airplanes, houses, hospitals, offices, etc., bending workability is often required from the viewpoint of design and safety. However, because polycarbonate resin has high heat resistance, it is forced to bend at high temperatures, so in general heating methods such as electric furnaces, lot heaters and ceramic heaters using nichrome wire or halogen lamp as a heat source. Due to the front and back surfaces and the in-plane temperature distribution, the light transmission type electromagnetic wave shield laminate is warped, causing problems such as bubbles, whitening, and peeling. Further, when the light-transmitting electromagnetic wave shield laminate is heated up and down using these heating methods, not only will the wrinkles and deformation occur, but the adhesive layer will also fluctuate, resulting in a significant decrease in appearance and visibility. I have it. Moreover, the bending technique of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate has not been disclosed yet.

遠赤外線を加熱源とした熱可塑性樹脂シートの熱成形方法として特許文献1では、真空成形および圧空成形による熱成形方法が記載されているが、光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工に適用した場合、該積層体の片面からの遠赤外線ヒーターによる加熱のため、該積層体の上下の温度差により製品に反りを生じたり、残留ひずみにより積層体が剥離するなどの問題点がある。   As a thermoforming method of a thermoplastic resin sheet using a far infrared ray as a heat source, Patent Document 1 describes a thermoforming method by vacuum forming and pressure forming, but it was applied to bending a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate. In this case, there is a problem in that the product is warped due to a temperature difference between the upper and lower sides of the laminate and the laminate is peeled off due to residual strain due to heating by a far infrared heater from one side of the laminate.

合成樹脂積層板の曲げ加工方法として特許文献2では、ポリカーボネート樹脂基板とアクリル系樹脂板よりなる合成樹脂積層板の曲げ加工方法が記載されているが、ポリカーボネート樹脂板(150〜180℃)とアクリル系樹脂板(100〜130℃)の加熱温度が異なるため、該積層体の上下の温度差や材料の収縮率の違いにより製品に反りを生じたり、残留ひずみにより積層体が剥離するなどの問題点がある。   As a method for bending a synthetic resin laminate, Patent Document 2 describes a method for bending a synthetic resin laminate comprising a polycarbonate resin substrate and an acrylic resin plate. However, a polycarbonate resin plate (150 to 180 ° C.) and an acrylic resin are described. Since the heating temperature of the resin-based resin plate (100 to 130 ° C.) is different, the product is warped due to the difference in temperature between the upper and lower sides of the laminate or the shrinkage rate of the material, or the laminate is peeled off due to residual strain. There is a point.

合成樹脂積層板の曲げ加工方法として特許文献3では、メタクリル樹脂積層体の加熱方法として、ニクロム線ヒーター、赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーターなどのヒーターをメタクリル樹脂積層体の両面に配置する加熱方法が記載されているが、単純に全面加熱した場合には、タワミや変形を生じるだけでなく、接着層に揺らぎが生じるため外観および視認性が著しく低下するなどの問題点がある。   Patent Document 3 describes a heating method in which heaters such as a nichrome wire heater, an infrared heater, and a far-infrared heater are disposed on both surfaces of a methacrylic resin laminate as a method of bending a methacrylic resin laminate as a bending method of the synthetic resin laminate. However, when the entire surface is simply heated, there is a problem that not only the warp and the deformation are caused, but also the appearance and visibility are remarkably lowered because the adhesive layer is fluctuated.

ポリカーボネート積層体の曲げ加工方法として特許文献4では、湿気硬化型ホットメルト接着剤、熱可塑性ポリエステル樹脂接着剤または熱可塑性シラン変性樹脂接着剤を用いてポリカーボネート積層体を作製し、熱圧締して曲げ加工方法が記載されているが、これらの接着剤はポリカーボネート樹脂積層体の最適曲げ加工温度範囲140〜180℃において、接着層の劣化または分解による気泡、白化、剥離を生じるなどの問題点がある。
特開平11−188787号公報 特開平9−239936号公報 特開平6−312482号公報 特許第3994404号公報
In Patent Document 4, as a method for bending a polycarbonate laminate, a polycarbonate laminate is prepared using a moisture-curable hot melt adhesive, a thermoplastic polyester resin adhesive, or a thermoplastic silane-modified resin adhesive, and then hot-pressed. Although bending methods are described, these adhesives have problems such as bubbles, whitening, and peeling due to deterioration or decomposition of the adhesive layer in the optimum bending temperature range of the polycarbonate resin laminate 140 to 180 ° C. is there.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-188787 JP-A-9-239936 Japanese Patent Laid-Open No. 6-31482 Japanese Patent No. 3994404

本発明は、かかる従来技術の問題点を鑑み、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形および反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を提供することを目的とする。   In view of the problems of the prior art, the present invention provides a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate that is excellent in bending workability that minimizes fluctuation and residual distortion of an adhesive layer and does not cause deformation, warpage, or peeling. For the purpose.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、電磁波シールド層の片側または両側にポリカーボネート基材を積層してなる厚さ0.1mm〜30mmの積層体を遠赤外線ヒーター加熱装置により上下両側から放射加熱して曲げ加工する方法において、上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは曲げ加工部の加熱幅を(1)式に示す範囲で選択加熱し、表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することにより、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形および反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
加熱幅=2πR×(180°−X°)/360°×Y (1)
ここで、πは円周率、Rは曲率半径、Xは曲げ加工角度(内角)、Yは係数(1.35≦Y≦4.15)を示す。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have used a far-infrared heater heating device to raise and lower a laminate having a thickness of 0.1 mm to 30 mm obtained by laminating a polycarbonate substrate on one side or both sides of an electromagnetic wave shielding layer. In the method of bending by radiant heating from both sides, the upper heater heats the entire surface, and the lower heater selectively heats the bending width of the bent portion within the range shown in equation (1), and the surface temperature difference is controlled within 20 ° C. Bending the shield laminate heated to 140 ° C. to 185 ° C. into a curved surface having a curvature radius of 10 mm or more, thereby minimizing the fluctuation and residual distortion of the adhesive layer, and preventing bending, deformation and peeling. The present inventors have found that a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate having excellent properties can be obtained, and have completed the present invention.
Heating width = 2πR × (180 ° −X °) / 360 ° × Y (1)
Here, π is a circumference, R is a radius of curvature, X is a bending angle (inner angle), and Y is a coefficient (1.35 ≦ Y ≦ 4.15).

本発明の光透過型電磁波シールド積層体は、高温の曲げ加工条件においても、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形および反りや剥離を生じないため、良好な透明性または視界性と曲げ加工性を有する産業装置、機械および電子機器などのカバーや筐体、自動車、車両、船舶、航空機、住宅、病院およびオフィスの窓材やカバーなど優れた電磁波シールド性能、透明性または視界性、長期耐久性および曲げ加工性を同時に必要とする広範囲の電磁波シールド分野に使用される。   The light-transmitting electromagnetic wave shield laminate of the present invention has excellent transparency or visibility because it minimizes fluctuation and residual distortion of the adhesive layer even under high-temperature bending conditions and does not cause deformation, warping or peeling. Excellent electromagnetic shielding performance, transparency or visibility, such as covers and casings for industrial equipment, machinery and electronic equipment with bending workability, window materials and covers for automobiles, vehicles, ships, aircraft, houses, hospitals and offices It is used in a wide range of electromagnetic shielding fields that require long-term durability and bending workability at the same time.

電磁波シールド層の片側または両側にポリカーボネート基材を積層してなる2層以上の積層体を遠赤外線ヒーター加熱装置により上下両側から放射加熱して曲げ加工する方法において、上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは曲げ加工部の加熱幅を(1)式に示す範囲で選択加熱し、表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することを特徴とする厚さ0.1mm〜30mmの光透過型電磁波シールド積層体およびその製造方法に関する。   In a method of bending a laminate of two or more layers in which a polycarbonate base material is laminated on one side or both sides of an electromagnetic wave shielding layer by radiant heating from both the upper and lower sides with a far infrared heater heating device, the upper heater is heated entirely, The heater is a curved surface with a curvature radius of 10 mm or more when the heating width of the bent portion is selectively heated within the range shown in the formula (1) and the surface temperature difference is controlled within 20 ° C. and heated to 140 ° C. to 185 ° C. The present invention relates to a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate having a thickness of 0.1 mm to 30 mm and a method for producing the same.

本発明に記載の光透過型電磁波シールド積層体は、各種電子機器や機械、モーターなどから発生する電磁波の流入を防止する電磁波シールド層とポリカーボネート基材を含む2層以上の積層体から構成されており、場合によっては、耐衝撃性、耐擦傷性、耐侯性、耐水性、帯電防止性、防湿性、防曇性、反射防止性、防汚染性などの観点から電磁波シールド層の片面または両面に保護層を配置しても構わない。更に詳しくは、導電性化合物を用いた金属薄膜メッシュ、金属織物メッシュ、導電性繊維メッシュ、導電性印刷メッシュを電磁波シールド層とするすべての積層タイプの光透過型電磁波シールド積層体を示す。   The light transmission type electromagnetic wave shield laminate described in the present invention is composed of a laminate of two or more layers including an electromagnetic wave shield layer for preventing inflow of electromagnetic waves generated from various electronic devices, machines, motors, etc. and a polycarbonate substrate. Depending on the case, it may be applied to one or both sides of the electromagnetic shielding layer from the viewpoint of impact resistance, scratch resistance, weather resistance, water resistance, antistatic property, moisture resistance, antifogging property, antireflection property, antifouling property, etc. A protective layer may be disposed. More specifically, all laminated type light-transmitting electromagnetic wave shielding laminates using a metal thin film mesh, a metal woven mesh, a conductive fiber mesh, and a conductive printing mesh using a conductive compound as an electromagnetic shielding layer are shown.

電磁波シールド層の電磁波シールド性能は30デシベル以上の性能を有するものが好ましい。シールド性能が30デシベル以下では、電子機器から発生する電磁波の流出を完全に防ぐことが出来ず、他の機械や電子機器の誤動作や通信障害を生じる可能性があるばかりでなく、電子機器の外部から侵入する電磁波を防ぐことが出来ず、電子機器にダメージを与える可能性がある。   The electromagnetic wave shielding performance of the electromagnetic wave shielding layer is preferably 30 dB or more. If the shielding performance is 30 dB or less, it is not possible to completely prevent the leakage of electromagnetic waves generated from electronic devices, which may cause malfunctions and communication failures of other machines and electronic devices. Electromagnetic waves entering from the inside cannot be prevented, and there is a possibility of damaging the electronic equipment.

前記の電磁波シールド性能を達成するためには、電磁波シールド層の表面抵抗率(シート抵抗値)は10[Ω/□]以下であることが好ましい。より好ましくは1[Ω/□]以下であり、更に好ましくは0.1[Ω/□]以下であることが好ましい。   In order to achieve the electromagnetic wave shielding performance, the surface resistivity (sheet resistance value) of the electromagnetic wave shielding layer is preferably 10 [Ω / □] or less. More preferably, it is 1 [Ω / □] or less, and still more preferably 0.1 [Ω / □] or less.

電磁波シールド層を構成する導電性化合物は、導電性があれば特に制限は無いが、鉄、金、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ITO(酸化インジウム/酸化錫)、ZnO(酸化亜鉛)、錫、亜鉛、チタン、タングステン、ステンレスから選ばれた少なくとも1つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いることが出来る。経済的な観点から、銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ZnO(酸化亜鉛)、錫またはステンレスから選ばれた少なくとも1つ以上の金属成分を含有する導電性化合物を用いることが好ましい。   The conductive compound constituting the electromagnetic wave shielding layer is not particularly limited as long as it has conductivity, but iron, gold, silver, copper, aluminum, nickel, carbon, ITO (indium oxide / tin oxide), ZnO (zinc oxide) A metal compound containing at least one metal component selected from tin, zinc, titanium, tungsten, and stainless steel can be used. From an economical viewpoint, it is preferable to use a conductive compound containing at least one metal component selected from silver, copper, aluminum, nickel, carbon, ZnO (zinc oxide), tin, and stainless steel.

電磁波シールド層は、導電性化合物を用いた金属薄膜メッシュまたは導電性印刷メッシュである。金属薄膜メッシュの製法は特に制限はないが、例えば、光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面に銅、銀、アルミ、ITO(酸化インジウム/酸化錫) 、ZnO(酸化亜鉛)などの金属薄膜を蒸着やスパッタリングにより形成したもの、あるいはこれらの金属箔を接着剤により貼り合せた後、エッチングなどの手段でメッシュを形成する方法、メッキ触媒含有インキやペーストをグラビア印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷などにより塗布後、無電解メッキや電気メッキを施してメッシュを形成する方法、銅、銀、アルミなどの金属板を圧延加工して所定の厚さにした金属箔をパンチング加工してメッシュを形成する方法などが挙げられる。これらの金属薄膜メッシュは、耐水性、耐湿性、耐腐食性、防錆性、反射防止性の観点から、片面または両面に黒化処理を施しておくことが好ましい。金属薄膜メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅5〜200μm、厚さ0.01〜100μm、ピッチ100〜1000μmの範囲が好ましい。   The electromagnetic wave shielding layer is a metal thin film mesh or a conductive printing mesh using a conductive compound. The method for producing the metal thin film mesh is not particularly limited. For example, a metal such as copper, silver, aluminum, ITO (indium oxide / tin oxide), ZnO (zinc oxide) is formed on the surface of the light transmissive organic polymer material film or sheet. A thin film formed by vapor deposition or sputtering, or a method of forming a mesh by means such as etching after laminating these metal foils with an adhesive, gravure printing, ink jet printing, screen printing with plating catalyst-containing ink or paste After applying by electroless plating, electroless plating or electroplating is used to form a mesh, rolling a metal plate of copper, silver, aluminum, etc., and punching a metal foil to a predetermined thickness to form a mesh The method of doing is mentioned. These metal thin film meshes are preferably blackened on one side or both sides from the viewpoints of water resistance, moisture resistance, corrosion resistance, rust prevention, and antireflection. The metal thin film mesh preferably has a line width of 5 to 200 μm, a thickness of 0.01 to 100 μm, and a pitch of 100 to 1000 μm from the viewpoint of electromagnetic wave shielding performance and transparency.

金属薄膜メッシュを形成する金属箔用接着剤としては、特に制限は無く、透明性、耐水性、耐湿性、接着力の良好な公知の接着剤や粘着剤を使用することが出来る。
接着剤としては、公知の光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、ホットメルト型接着剤などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as an adhesive agent for metal foil which forms a metal thin film mesh, The well-known adhesive agent and adhesive agent with favorable transparency, water resistance, moisture resistance, and adhesive force can be used.
Examples of the adhesive include known photocurable adhesives, thermosetting adhesives, hot melt adhesives, and the like.

粘着剤としては、例えば、公知のアクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などの粘着剤を用いることが出来る。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物の粘着剤が最も好ましい。   Examples of the pressure-sensitive adhesive include pressure-sensitive adhesives such as known acrylic resin compositions, polyurethane-based resin compositions, polyester-based resin compositions, epoxy-based resin compositions, silicone-based resin compositions, and rubber-based resin compositions. I can do it. Among these, the pressure-sensitive adhesive of an acrylic resin composition having excellent transparency, water resistance, moisture resistance and adhesive strength is most preferable.

ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体樹脂組成物、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体樹脂組成物などのポリオレフィン系樹脂組成物、ポリスチレン系樹脂組成物、エチレン酢酸ビニル系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリアミド系樹脂組成物、ポリビニールエーテル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、ゴム系樹脂組成物などが挙げられる。これらの中で、透明性、耐水性、耐湿性および接着力の良好なアクリル系樹脂組成物のホットメルト型接着剤が最も好ましい。   Examples of hot melt adhesives include polyolefin resin compositions such as ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin compositions, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer resin compositions, and polystyrene resin compositions. , Ethylene vinyl acetate resin composition, vinyl acetate resin composition, acrylic resin composition, polyurethane resin composition, polyester resin composition, epoxy resin composition, polyester resin composition, polyamide resin Examples thereof include a composition, a polyvinyl ether resin composition, a silicone resin composition, and a rubber resin composition. Among these, a hot melt adhesive of an acrylic resin composition having excellent transparency, water resistance, moisture resistance and adhesive strength is most preferable.

熱硬化型接着剤としては、熱により重合するものであれば特に制限は無く、例えば、グリシジル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアヌレート基、アミノ基、アミド基等の官能基を持つ化合物が挙げられ、これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせても、使用することができる。例えば、エポキシ系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物、シリコーン系樹脂組成物、フェノール系樹脂組成物、熱硬化型ポリイミド系樹脂組成物、ポリウレタン系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、ユリア系樹脂組成物などが挙げられる。接着力および透明性の観点からエポキシアクリレート系樹脂組成物、ウレタンアクリレート系樹脂組成物、ポリエーテルアクリレート系樹脂組成物、ポリエステルアクリレート系樹脂組成物などのアクリル系樹脂組成物が好ましい。これらの熱硬化型接着剤は必要に応じて、2種以上併用することができる。また熱硬化型接着剤組成物には硬化剤を併用することが好ましい。硬化剤としては公知の硬化剤を使用することができ、イソシアネート系硬化剤、トリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、N − アミノテトラミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス( ジメチルアミノメチル) フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使用することができる。これらの硬化剤は単独で用いても良いし、2種以上混合して用いても良い。   The thermosetting adhesive is not particularly limited as long as it is polymerized by heat. For example, functional groups such as glycidyl group, acryloyl group, methacryloyl group, hydroxyl group, carboxyl group, isocyanurate group, amino group, amide group, etc. These compounds can be used alone or in combination of two or more. For example, epoxy resin composition, acrylic resin composition, silicone resin composition, phenol resin composition, thermosetting polyimide resin composition, polyurethane resin composition, polyester resin composition, melamine resin A composition, a urea-type resin composition, etc. are mentioned. From the viewpoint of adhesive strength and transparency, acrylic resin compositions such as epoxy acrylate resin compositions, urethane acrylate resin compositions, polyether acrylate resin compositions, and polyester acrylate resin compositions are preferred. These thermosetting adhesives can be used in combination of two or more as required. Moreover, it is preferable to use a curing agent in combination with the thermosetting adhesive composition. As the curing agent, known curing agents can be used, such as isocyanate curing agents, amines such as triethylenetetramine, xylenediamine, N-aminotetramine, diaminodiphenylmethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, and dodecyl anhydride. Acids, acid anhydrides such as pyromellitic anhydride and benzophenone tetracarboxylic anhydride, diaminodiphenylsulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, ethylmethylimidazole, and the like can be used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

光硬化型接着剤としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート系接着剤組成物、ポリエステル(メタ)アクリレート系接着剤組成物、エポキシ(メタ)アクリレート系接着剤組成物およびポリオール(メタ)アクリレート系接着剤組成物から選ばれた少なくともいずれか1種類以上の(メタ)アクリレート系接着剤組成であることが好ましく、この中でも耐水性、耐湿性、耐侯性、透明性および接着力の観点からウレタン(メタ)アクリレート系接着剤組成物が特に好ましい。
活性エネルギー線の照射による硬化性を有する光硬化型(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、硬化時間、安全性の面から特に好ましく、活性エネルギー線としては可視光線または紫外線が好ましい。
Examples of photocurable adhesives include urethane (meth) acrylate adhesive compositions, polyester (meth) acrylate adhesive compositions, epoxy (meth) acrylate adhesive compositions, and polyol (meth) acrylate adhesives. It is preferable that it is at least any one (meth) acrylate adhesive composition selected from the agent composition, and among these, urethane (meta) is preferred from the viewpoints of water resistance, moisture resistance, weather resistance, transparency and adhesive strength. ) Acrylate adhesive composition is particularly preferred.
The photocurable (meth) acrylate adhesive composition having curability by irradiation with active energy rays is particularly preferable from the viewpoints of curing time and safety, and visible light or ultraviolet rays are preferable as the active energy rays.

導電性印刷メッシュはいかなる製法で得られた導電性印刷メッシュでも使用することが出来、特に制限は無いが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、EVA系などの樹脂バインダーに混合したインキまたはペーストを用いて、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷などの方法により光透過型有機高分子材料のフィルムまたはシート表面にメッシュを形成する方法が挙げられる。導電性印刷メッシュは電磁波シールド性能および透明性の観点から、ライン幅10〜200μm、厚さ1〜100μm、ピッチ100〜1000μmの範囲が好ましい。   The conductive printing mesh can be used by any manufacturing method, and is not particularly limited. For example, metal particle compounds such as copper, silver, aluminum, nickel, carbon, etc., epoxy, urethane A mesh is formed on the surface of a light-transmitting organic polymer material film or sheet by a method such as screen printing, gravure printing, or offset printing, using an ink or paste mixed with a resin binder such as acrylic, acrylic or EVA. A method is mentioned. The conductive printing mesh preferably has a line width of 10 to 200 μm, a thickness of 1 to 100 μm, and a pitch of 100 to 1000 μm from the viewpoint of electromagnetic shielding performance and transparency.

金属薄膜メッシュおよび導電性印刷メッシュのフィルムまたはシート基材として用いる光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂などが挙げられる。   Examples of the light-transmitting organic polymer material used as a metal thin film mesh and conductive printing mesh film or sheet base material include polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, polyester resin, polyethersulfone resin, polyethylene naphthalate resin, and polystyrene. Resin, polyurethane resin, polyvinyl alcohol resin, polymethyl methacrylate resin, alicyclic polyolefin resin, light-transmitting polyimide resin, polyamide resin, acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polypropylene resin, polyethylene Resin etc. are mentioned.

これらの光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂およびポリエチレンテレフタレート樹脂が好ましい。   Among these light transmissive organic polymer materials, polycarbonate resin, polyester resin, and polyethylene terephthalate resin are particularly preferable from the viewpoints of transparency, impact resistance, and versatility.

金属織物メッシュはいかなる製法で得られた金属織物メッシュでも使用することが出来、特に制限は無いが、例えば、ステンレス、銅、銀、金、鉄などの金属線を編み込むことによりメッシュを形成する方法が挙げられる。メッシュサイズが小さく、金属線径が太い方が電磁波シールド性能は高くなるが、一方で視認性が低下するため、メッシュサイズは50〜300メッシュ、金属線径は10〜200μmの範囲が好ましい。尚、メッシュサイズとはテイラー標準ふるいで規定されているメッシュサイズを示す。   The metal woven mesh can be a metal woven mesh obtained by any manufacturing method, and is not particularly limited. For example, a method of forming a mesh by knitting metal wires such as stainless steel, copper, silver, gold, and iron. Is mentioned. The smaller the mesh size and the thicker the metal wire diameter, the higher the electromagnetic shielding performance. On the other hand, the visibility is lowered, and therefore the mesh size is preferably 50 to 300 mesh and the metal wire diameter is preferably 10 to 200 μm. The mesh size indicates a mesh size defined by the Taylor standard sieve.

導電性繊維メッシュはいかなる製法で得られた導電性繊維メッシュでも使用することが出来、特に制限は無いが、例えば、表面処理をしたポリエステルなどの合成繊維にニッケルや銅などの導電性金属化合物を無電解メッキし、更に黒化処理した導電性繊維メッシュなどが挙げられる。メッシュサイズは50〜300メッシュ、繊維径は10〜100μmの範囲が好ましい。   As the conductive fiber mesh, any conductive fiber mesh obtained by any manufacturing method can be used, and there is no particular limitation. For example, a conductive metal compound such as nickel or copper is added to a surface-treated synthetic fiber such as polyester. Examples thereof include a conductive fiber mesh subjected to electroless plating and further blackened. The mesh size is preferably 50 to 300 mesh and the fiber diameter is preferably 10 to 100 μm.

本発明の光透過型電磁波シールド積層体は、耐衝撃性、耐擦傷性、耐侯性、耐水性、帯電防止性、防湿性、防曇性、反射防止性、防汚染性などの観点から、電磁波シールド層の片側または両側に保護層を配置することが好ましい。保護層は視認可能で光を通す材料であれば、光透過型有機高分子材料からなるフィルムやシート材料でも構わないし、各種機能性を有する被膜でも構わない。   The light transmission type electromagnetic wave shielding laminate of the present invention is an electromagnetic wave from the viewpoint of impact resistance, scratch resistance, weather resistance, water resistance, antistatic property, moisture proofing, antifogging property, antireflection property, antifouling property, etc. It is preferable to arrange a protective layer on one side or both sides of the shield layer. As long as the protective layer is visible and allows light to pass through, the protective layer may be a film or sheet material made of a light-transmitting organic polymer material, or may be a film having various functionalities.

前記の光透過型有機高分子材料としては、特に限定は無く、視認可能で光を通す有機高分子材料であれば構わない。光透過型有機高分子材料には各種金属化合物、導電性化合物、有機性化合物、無機性化合物など接着、蒸着、塗布、印刷、加工した材料を包含する。光透過型有機高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、光透過型ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂などが挙げられる。   The light transmissive organic polymer material is not particularly limited as long as it is visible and allows light to pass through. The light transmissive organic polymer material includes various materials such as metal compounds, conductive compounds, organic compounds, and inorganic compounds that have been bonded, vapor-deposited, applied, printed, and processed. Examples of the light transmissive organic polymer material include polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, polyester resin, polyether sulfone resin, polyethylene naphthalate resin, polystyrene resin, polyurethane resin, polyvinyl alcohol resin, polymethyl methacrylate resin, and alicyclic ring. Examples thereof include a polyolefin resin, a light-transmitting polyimide resin, a polyamide resin, an acrylic resin, a polyacrylonitrile resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinylidene chloride resin, a polypropylene resin, and a polyethylene resin.

これらの光透過型有機高分子材料の中で、透明性や耐衝撃性および汎用性の観点から、特にポリカーボネート樹脂またはポリエチレンテレフタレート樹脂が好ましい。   Among these light transmissive organic polymer materials, polycarbonate resin or polyethylene terephthalate resin is particularly preferable from the viewpoints of transparency, impact resistance, and versatility.

前記の被膜としては、特に制限は無いが、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、1官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
The coating is not particularly limited, but is a silicone resin compound that is excellent in long-term durability and has a relatively high surface hardness, or an acrylic resin that can be processed relatively easily and has a good coating. A polyfunctional acrylic resin is preferred. The curing method of these films depends on the properties of the resin compound used, but it is preferable to select a thermosetting or photocurable resin in consideration of productivity and simplicity. As an example of the photocurable resin, there may be mentioned a resin composition in which a photopolymerization initiator is added as a curing catalyst to a resin composition composed of one or more monofunctional or polyfunctional acrylate monomers or oligomers. Examples of the thermosetting resin include polyorganosiloxane and cross-linked acrylic resins. Such a resin composition is commercially available as a hard coat agent, and may be appropriately selected in consideration of suitability with the coating line.
In addition to UV absorbers, light stabilizers, and antioxidants, these coatings can also contain various stabilizers such as organic solvents and anti-coloring agents, leveling agents, antifoaming agents, thickeners, and antistatic agents. A surfactant such as an antifogging agent may be added as appropriate.

本発明の光透過型電磁波シールド積層体は、そのシールド性能を十分に発揮させる目的や電磁波の漏洩を防止するために、適宜アースを設置することが好ましい。アースの設置方法としては、特に制限は無いが、例えば、銅、銀、アルミ、ニッケルなどの金属粒子化合物やカーボンなどをエポキシ系、ウレタン系、アクリル系、EVA系などの樹脂バインダーに混合した導電性ペーストを光透過型電磁波シールド積層体の端面外周に塗布する方法や光透過型電磁波シールド積層体の端面外周を導電性テープで被覆する方法、これらを併用する方法などが挙げられる。端面外周の70%以上に導電性ペーストまたはテープで被覆することが好ましい。   In the light transmission type electromagnetic wave shield laminate of the present invention, it is preferable to appropriately install a ground for the purpose of sufficiently exhibiting the shielding performance and to prevent leakage of electromagnetic waves. There are no particular restrictions on the method of installing the earth, but for example, a conductive material in which a metal particle compound such as copper, silver, aluminum, nickel or carbon is mixed with a resin binder such as epoxy, urethane, acrylic or EVA. Examples include a method of applying a conductive paste to the outer periphery of the end surface of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate, a method of coating the outer periphery of the end surface of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate with a conductive tape, and a method using these in combination. It is preferable to cover 70% or more of the outer periphery of the end surface with a conductive paste or tape.

本発明で使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、ウレタン(メタ)アクリレート系接着剤組成物、ポリエステル(メタ)アクリレート系接着剤組成物、エポキシ(メタ)アクリレート系接着剤組成物およびポリオール(メタ)アクリレート系接着剤組成物から選ばれた少なくともいずれか1種類以上の(メタ)アクリレート系接着剤組成であることが好ましく、ウレタン(メタ)アクリレート系接着剤組成物あることがさらに好ましい。   The (meth) acrylate-based adhesive composition used in the present invention includes a urethane (meth) acrylate-based adhesive composition, a polyester (meth) acrylate-based adhesive composition, an epoxy (meth) acrylate-based adhesive composition, and It is preferably at least any one (meth) acrylate-based adhesive composition selected from polyol (meth) acrylate-based adhesive compositions, and more preferably a urethane (meth) acrylate-based adhesive composition. .

本発明で使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、環境性やハンドリング性を考慮した場合、無溶剤型(メタ)アクリレート系接着剤組成物が好ましく、例えば光硬化型(メタ)アクリレート系接着剤組成物、熱硬化型(メタ)アクリレート系接着剤組成物、ホットメルト型(メタ)アクリレート系接着剤組成物などが挙げられる。この中でも活性エネルギー線の照射による硬化性を有する光硬化型(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、硬化時間、安全性の面から特に好ましく、活性エネルギー線としては可視光線または紫外線が好ましい。   The (meth) acrylate-based adhesive composition used in the present invention is preferably a solvent-free (meth) acrylate-based adhesive composition in consideration of environmental properties and handling properties, for example, photocurable (meth) acrylate. Examples thereof include a thermosetting adhesive composition, a thermosetting (meth) acrylate adhesive composition, and a hot melt (meth) acrylate adhesive composition. Among these, a photocurable (meth) acrylate adhesive composition having curability by irradiation with active energy rays is particularly preferred from the viewpoint of curing time and safety, and visible light or ultraviolet rays are preferred as the active energy rays.

本発明で使用される前記(A)(メタ)アクリレート系重合性モノマーとしては、特に限定はなく様々な(メタ)アクリレート系重合性モノマーを用いることができる。このような(メタ)アクリレート系重合性モノマーとしては、炭素数2から20の脂肪族アルコール、ジオールおよび多価アルコールのモノ、ジおよびポリ(メタ)アクリレート化合物や、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールで分岐された脂肪族エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合を含む炭素数30以下である末端ヒドロキシ化合物のポリ(メタ)アクリレート体や、それらの骨格中に脂環式化合物や芳香族化合物を有する化合物等が挙げることができる。具体的には、分子中に1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単官能(メタ)アクリレート系重合性モノマー〔以下、単官能(メタ)アクリレートモノマーという。〕、分子中に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する2官能(メタ)アクリレート系重合性モノマー〔以下、2官能(メタ)アクリレートモノマーという。〕および分子中に少なくとも3個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能(メタ)アクリレート系重合性モノマー〔以下、多官能(メタ)アクリレートモノマーという。〕が挙げられる。(メタ)アクリレートモノマーは1種または2種以上使用できる。   The (A) (meth) acrylate polymerizable monomer used in the present invention is not particularly limited, and various (meth) acrylate polymerizable monomers can be used. Such (meth) acrylate polymerizable monomers include mono-, di- and poly (meth) acrylate compounds of aliphatic alcohols having 2 to 20 carbon atoms, diols and polyhydric alcohols, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol. Poly (meth) acrylates of terminal hydroxy compounds having 30 or less carbon atoms including aliphatic ether bonds, ester bonds, carbonate bonds branched with polyhydric alcohols such as alicyclic compounds and aromatics in their skeletons Examples thereof include compounds having a group compound. Specifically, a monofunctional (meth) acrylate polymerizable monomer having one (meth) acryloyloxy group in the molecule [hereinafter referred to as a monofunctional (meth) acrylate monomer. ], Bifunctional (meth) acrylate polymerizable monomer having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule [hereinafter referred to as bifunctional (meth) acrylate monomer. ] And a polyfunctional (meth) acrylate polymerizable monomer having at least three (meth) acryloyloxy groups in the molecule [hereinafter referred to as a polyfunctional (meth) acrylate monomer. ]. One or more (meth) acrylate monomers can be used.

単官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートのほか、カルボキシル基含有の(メタ)アクリレートモノマーとして、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、N−(メタ)アクリロイルオキシ−N’,N’−ジカルボキシ−p−フェニレンジアミン、4−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメリット酸などが挙げられる。また、単官能(メタ)アクリレートモノマーには、N−ビニルピロリドンのようなビニル基含有モノマーおよび4−(メタ)アクリロイルアミノ−1−カルボキシメチルピペリジンのような(メタ)アクリロイルアミノ基含有モノマーが包含される。   Specific examples of monofunctional (meth) acrylate monomers include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy- 3-phenoxypropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, ethyl cal In addition to tall (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyl as a carboxyl group-containing (meth) acrylate monomer Oxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, N- (meth) acryloyloxy-N ′, N′— Examples include dicarboxy-p-phenylenediamine and 4- (meth) acryloyloxyethyl trimellitic acid. Monofunctional (meth) acrylate monomers include vinyl group-containing monomers such as N-vinylpyrrolidone and (meth) acryloylamino group-containing monomers such as 4- (meth) acryloylamino-1-carboxymethylpiperidine. Is done.

2官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、ポリオキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、ハロゲン置換アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、脂肪酸ポリオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAまたはビスフェノールFのアルキレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート類、ビスフェノールAまたはビスフェノールFのエポキシジ(メタ)アクリレート類等が代表的なものであるが、これらに限定されるものではなく種々のものが使用できる。2官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレートのほか、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル]メタン、水添ジシクロペンタジエニルジ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート類が挙げられる。   Bifunctional (meth) acrylate monomers include alkylene glycol di (meth) acrylates, polyoxyalkylene glycol di (meth) acrylates, halogen-substituted alkylene glycol di (meth) acrylates, di (meth) acrylates of fatty acid polyols, Typical examples include di (meth) acrylates of bisphenol A or bisphenol F alkylene oxide adducts, and epoxy di (meth) acrylates of bisphenol A or bisphenol F, but are not limited thereto. Things can be used. Specific examples of the bifunctional (meth) acrylate monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexane. Diol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, ditrimethylolpropane di ( (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Rudi (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (meth) Acryloyloxyethoxyethoxyphenyl] propane, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyethoxyethoxycyclohexyl] propane, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyethoxyethoxyphenyl] methane, hydrogenated dicyclo Examples include pentadienyl di (meth) acrylate and tris (hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate.

多官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3価以上の脂肪族ポリオールのポリ(メタ)アクリレートが代表的なものであり、そのほかに、3価以上のハロゲン置換ポリオールのポリ(メタ)アクリレート、グリセリンのアルキレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリス[(メタ)アクリロイルオキシエトキシエトキシ]プロパン、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート類が挙げられる。   Multifunctional (meth) acrylate monomers include glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Poly (meth) of trivalent or higher aliphatic polyols such as acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Acrylate is a typical example. In addition, poly (meth) acrylate of a trivalent or higher valent halogen-substituted polyol, tri ( T) acrylate, trimethylolpropane alkylene oxide adduct tri (meth) acrylate, 1,1,1-tris [(meth) acryloyloxyethoxyethoxy] propane, tris (hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylates Is mentioned.

本発明で使用される(B)(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、2官能以上の多官能ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー〔以下、多官能ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーという。〕、2官能以上の多官能ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー〔以下、多官能ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーという。〕、2官能以上の多官能エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー〔以下、多官能エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーという。〕、2官能以上の多官能ポリオール(メタ)アクリレートオリゴマー〔以下、多官能ポリオール(メタ)アクリレートオリゴマーという。〕などが挙げられる。(メタ)アクリレートオリゴマーは1種または2種以上使用できる。   The (B) (meth) acrylate oligomer used in the present invention is a bifunctional or higher polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer [hereinafter referred to as a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer. ] Bifunctional or higher polyfunctional polyester (meth) acrylate oligomer [hereinafter referred to as polyfunctional polyester (meth) acrylate oligomer]. ] Bifunctional or higher polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer [hereinafter referred to as polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer]. ] Bifunctional or higher polyfunctional polyol (meth) acrylate oligomer [hereinafter referred to as polyfunctional polyol (meth) acrylate oligomer]. And the like. One or more (meth) acrylate oligomers can be used.

多官能ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリオール類をポリイソシアネートと反応させて得られるイソシアネート化合物と1分子中に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基および水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーとのウレタン化反応生成物が挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーの中でも、耐水性、耐湿性、耐侯性および接着力に優れた脂環式炭化水素化合物を含有してなるウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーが好ましく。これらの中でもイソホロンジイソシアネートまたはジシクロヘキシルメタンジイソシアネートを原料として用いたウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーが好ましく、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートを原料として用いたウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーが特に好ましい。   As the polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer, an isocyanate compound obtained by reacting polyols with polyisocyanate, and a (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and hydroxyl group in one molecule; The urethanization reaction product of is mentioned. Among urethane (meth) acrylate oligomers, urethane (meth) acrylate oligomers containing an alicyclic hydrocarbon compound excellent in water resistance, moisture resistance, weather resistance and adhesive strength are preferred. Among these, urethane (meth) acrylate oligomers using isophorone diisocyanate or dicyclohexylmethane diisocyanate as a raw material are preferable, and urethane (meth) acrylate oligomers using dicyclohexylmethane diisocyanate as a raw material are particularly preferable.

ウレタン化反応に用いられる1分子中に少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基および水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and hydroxyl group in one molecule used for the urethanization reaction include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate is mentioned.

ウレタン化反応に用いられるポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、これらジイソシアネートのうち芳香族のイソシアネート類を水素添加して得られるジイソシアネート(例えば水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネートなどのジイソシアネート)、トリフェニルメタントリイソシアネート、ジメチレントリフェニルトリイソシアネートなどのジまたはトリのポリイソシアネート、あるいはジイソシアネートを多量化させて得られるポリイソシアネートが挙げられる。これらの中でも耐水性、耐湿性、耐侯性に優れたイソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが好ましく、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが特に好ましい。   Polyisocyanates used in the urethanization reaction include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and diisocyanates obtained by hydrogenating aromatic isocyanates among these diisocyanates. (For example, diisocyanates such as hydrogenated tolylene diisocyanate and hydrogenated xylylene diisocyanate), di- or tri-polyisocyanates such as triphenylmethane triisocyanate and dimethylene triphenyl triisocyanate, or polyisocyanates obtained by multiplying diisocyanates Is mentioned. Among these, isophorone diisocyanate and dicyclohexylmethane diisocyanate which are excellent in water resistance, moisture resistance and weather resistance are preferable, and dicyclohexylmethane diisocyanate is particularly preferable.

ウレタン化反応に用いられるポリオール類としては、一般的に芳香族、脂肪族および脂環式のポリオールのほか、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等が使用される。通常、脂肪族および脂環式のポリオールとしては、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブチリオン酸、グリセリン、水添ビスフェノールAなどが挙げられる。   As the polyols used for the urethanization reaction, generally, in addition to aromatic, aliphatic and alicyclic polyols, polyester polyols, polyether polyols and the like are used. Usually, aliphatic and alicyclic polyols include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, ethylene glycol, propylene glycol, trimethylol ethane, trimethylol propane, dimethylol heptane, diethylene Examples include methylol propionic acid, dimethylol butyric acid, glycerin, and hydrogenated bisphenol A.

ポリエステルポリオールとしては、前記のポリオール類と多塩基性カルボン酸(無水物)との脱水縮合反応により得られるものである。多塩基性カルボン酸の具体的な化合物としては(無水)コハク酸、アジピン酸、(無水)マレイン酸、(無水)トリメリット酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などが挙げられる。また、ポリエーテルポリオールとしてはポリアルキレングリコールのほか、前記ポリオールまたはフェノール類とアルキレンオキサイドとの反応により得られるポリオキシアルキレン変性ポリオールが挙げられる。   The polyester polyol is obtained by a dehydration condensation reaction between the above polyols and a polybasic carboxylic acid (anhydride). Specific compounds of polybasic carboxylic acids include (anhydrous) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) trimellitic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, Examples include terephthalic acid. In addition to the polyalkylene glycol, the polyether polyol includes a polyoxyalkylene-modified polyol obtained by a reaction of the polyol or phenols with an alkylene oxide.

ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーとしては、多くのものが市販され、容易に入手することができる。これらのウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーとしては、例えば、ビームセット575、ビームセット551B、ビームセット550B、ビームセット505A−6、ビームセット504H、ビームセット510、ビームセット502H、ビームセット575CB、ビームセット102(以上、荒川化学工業株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、フォトマー6008、フォトマー6210(以上、サンノプコ株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、NKオリゴU−4HA、NKオリゴU−108A、NKオリゴU−1084A、NKオリゴU−200AX、NKオリゴU−122A、NKオリゴU−340A、NKオリゴU―324A、NKオリゴUA−100、NKオリゴMA−6(以上、新中村化学工業株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、アロニックスM−1100、アロニックスM−1200、アロニックスM−1210、アロニックスM−1310、アロニックスM−1600、アロニックスM−1960(以上、東亞合成株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、AH−600、AT−606、UA−306H(以上、共栄社化学株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、カヤラッドUX−2201、カヤラッドUX−2301、カヤラッドUX−3204、カヤラッドUX−3301、カヤラッドUX−4101、カヤラッドUX−6101、カヤラッドUX−7101(以上、日本化薬株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、紫光UV−1700B、紫光UV−3000B、紫光UV−3300B、紫光UV−3520TL、紫光UV−3510TL紫光UV−6100B、紫光UV−6300B、紫光UV−7000B、紫光UV−7210B、紫光UV−7550B、紫光UV−2000B、紫光UV−2250TL、紫光UV−2010B、紫光UV−2580B、紫光UV−2700B(以上、日本合成化学工業株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、アートレジンUN−9000PEP、アートレジンUN−9200A、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−1255、アートレジンUN−5200、アートレジンUN−2111A、アートレジンUN−330、アートレジンUN−3320HA、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−3320HC、アートレジンUN−3320HSアートレジンUN−6060P(以上、根上工業株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、Laromer UA19T、Laromer LR8949、LaromerLR8987、LaromerLR8983(以上、BASF社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、ダイヤビーム UK6053、ダイヤビーム UK6055、ダイヤビーム UK6039、ダイヤビーム UK6038、ダイヤビーム UK6501、ダイヤビームUK6074、ダイヤビーム UK6097(以上、三菱レイヨン株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、Ebecryl254、Ebecryl264、Ebecryl265、Ebecryl1259、Ebecryl4866、Ebecryl1290K、Ebecryl5129、Ebecryl4833、Ebecryl2220(以上、ダイセル・ユー・シー・ビー株式会社製ウレタン(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)などをあげることができる。   Many urethane (meth) acrylate oligomers are commercially available and can be easily obtained. Examples of these urethane (meth) acrylate oligomers include a beam set 575, a beam set 551B, a beam set 550B, a beam set 505A-6, a beam set 504H, a beam set 510, a beam set 502H, a beam set 575CB, and a beam. Set 102 (above, trade name of urethane (meth) acrylate oligomer made by Arakawa Chemical Co., Ltd.), Photomer 6008, Photomer 6210 (above, trade name of urethane (meth) acrylate oligomer made by San Nopco), NK Oligo U-4HA, NK Oligo U-108A, NK Oligo U-1084A, NK Oligo U-200AX, NK Oligo U-122A, NK Oligo U-340A, NK Oligo U-324A, NK Oligo UA-100, NK Rigo MA-6 (above, trade name of urethane (meth) acrylate oligomer manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Aronix M-1100, Aronix M-1200, Aronix M-1210, Aronix M-1310, Aronix M- 1600, Aronix M-1960 (above, product name of urethane (meth) acrylate oligomer made by Toagosei Co., Ltd.), AH-600, AT-606, UA-306H (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. urethane (meth)) Acrylic oligomer trade name), Kayrad UX-2201, Kayarad UX-2301, Kayarad UX-3204, Kayarad UX-3301, Kayarad UX-4101, Kayarad UX-6101, Kayarad UX-7101 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Company made Tan (meth) acrylate oligomer trade name), purple light UV-1700B, purple light UV-3000B, purple light UV-3300B, purple light UV-3520TL, purple light UV-3510TL, purple light UV-6100B, purple light UV-6300B, purple light UV- 7000B, Violet UV-7210B, Violet UV-7550B, Violet UV-2000B, Violet UV-2250TL, Violet UV-2010B, Violet UV-2580B, Violet UV-2700B (above, Nippon Synthetic Chemical Industries Urethane (Meta) Trade name of acrylate oligomer), Art Resin UN-9000PEP, Art Resin UN-9200A, Art Resin UN-9000H, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-5200, Art Resin UN-2111A, Art Resin UN -330, Art Resin UN-3320HA, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-3320HC, Art Resin UN-3320HS Art Resin UN-6060P (above, trade names of urethane (meth) acrylate oligomers manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) ), Laromer UA19T, Laromer LR8949, Laromer LR8987, Laromer LR8983 (above, product names of urethane (meth) acrylate oligomers manufactured by BASF), Diabeam UK6053, Diabeam UK6055, Diabeam UK6039, Diamond Beam U60 Diamond Beam UK6074, Diamond Beam UK6097 (above, urethane (meth) acrylate manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Ebecryl 254, Ebecryl 264, Ebecryl 265, Ebecryl 1259, Ebecryl 4866, Ebecryl 1290K, Ebecryl 5129, Ebecryl 2283, Ebecryl 2283 ) Etc.

また、多官能ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリル酸、多塩基性カルボン酸(無水物)およびポリオールの脱水縮合反応により得られる。脱水縮合反応に用いられる多塩基性カルボン酸(無水物)としては(無水)コハク酸、アジピン酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、(無水)トリメリット酸、(無水)ピロメリット酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などが挙げられる。また、脱水縮合反応に用いられるポリオールとしては1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブチリオン酸、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。   The polyfunctional polyester (meth) acrylate oligomer is obtained by a dehydration condensation reaction of (meth) acrylic acid, polybasic carboxylic acid (anhydride) and polyol. Polybasic carboxylic acids (anhydrides) used in the dehydration condensation reaction include (anhydrous) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, and (anhydrous) pyromellitic. Acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc. are mentioned. The polyol used for the dehydration condensation reaction is 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, dimethylol heptane, dimethylol propionic acid, dimethylol butyrate. Examples include phosphonic acid, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like.

具体的には、アロニックスM−6100、アロニックスM−7100、アロニックスM−8030、アロニックスM−8060、アロニックスM−8530、アロニックスM−8050(以上、東亞合成株式会社製ポリエステル(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、Laromer PE44F、Laromer LR8907、Laromer PE55F、LaromerPE46T、Laromer LR8800(以上、BASF社製ポリエステル(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、Ebecryl80、Ebecryl 657、Ebecryl 800、Ebecryl 450、Ebecryl 1830、Ebecryl 584(以上、ダイセル・ユー・シー・ビー株式会社製ポリエステル(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、フォトマーRCC13−429、フォトマー 5018(以上、サンノプコ株式会社製ポリエステル(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)等があげられる。   Specifically, Aronix M-6100, Aronix M-7100, Aronix M-8030, Aronix M-8060, Aronix M-8530, Aronix M-8050 (above, polyester (meth) acrylate oligomers manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Trade name), Laromer PE44F, Laromer LR8907, Laromer PE55F, LaromerPE46T, Laromar LR8800 (named above, trade names of polyester (meth) acrylate oligomers manufactured by BASF), Ebecryl80, Ebecryl 8007, Ebecryl 8007 , Ebecryl 584 (polyester (meth) acrylic manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.) The trade name over the door system of oligomers), Photomer RCC13-429, Photomer 5018 (or more, San Nopco Co., Ltd. polyester (meth) trade name of the oligomer of the acrylate-based), and the like.

多官能エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、ポリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる。多官能エポキシ(メタ) アクリレート系オリゴマーとしては、特に限定はなく様々なエポキシ(メタ)アクリレート系オリゴマーを用いることができる。このようなエポキシ(メタ) アクリレート系オリゴマーは、エポキシ系オリゴマーに(メタ)アクリル酸を付加させた構造のもので、ビスフェノールA−エピクロルヒドリン型、変性ビスフェノールA型、アミン変性型、フェノールノボラック−エピクロルヒドリン型、脂肪族型、脂環型等がある。例えば、ポリグリシジルエーテルとしては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどが挙げられる。   A polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer is obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth) acrylic acid. The polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer is not particularly limited, and various epoxy (meth) acrylate oligomers can be used. Such an epoxy (meth) acrylate oligomer has a structure in which (meth) acrylic acid is added to an epoxy oligomer, and is a bisphenol A-epichlorohydrin type, a modified bisphenol A type, an amine modified type, a phenol novolak-epichlorohydrin type. , Aliphatic type and alicyclic type. For example, polyglycidyl ether includes ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, and the like.

具体的には、Laromer LR8986、Laromer LR8713、Laromer EA81(以上、BASF社製エポキシ(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、NKオリゴEA−6310、NKオリゴEA−1020、NKオリゴEMA−1020、NKオリゴEA−6320、NKオリゴEA−7440、NKオリゴEA−6340(以上、新中村化学工業株式会社製エポキシ(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)、Ebecryl3700、Ebecryl3200、Ebecryl600(以上、ダイセル・ユー・シー・ビー株式会社製エポキシ(メタ)アクリレート系のオリゴマーの商品名)等があげられる。   Specifically, Laromer LR8986, Laromer LR8713, Laromer EA81 (above, trade names of epoxy (meth) acrylate oligomers manufactured by BASF), NK Oligo EA-6310, NK Oligo EA-1020, NK Oligo EMA-1020, NK Oligo EA-6320, NK Oligo EA-7440, NK Oligo EA-6340 (above, trade names of epoxy (meth) acrylate oligomers manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Ebecryl 3700, Ebecryl 3200, Ebecryl 600 (above, Daicel And a product name of an epoxy (meth) acrylate oligomer produced by UCB Co., Ltd.).

本発明において使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、(C)アクリルアミド誘導体を含有することを特徴とする。前記(C)アクリルアミド誘導体を反応性モノマーとして(メタ)アクリレート系接着剤組成物に含有させることにより、耐湿性、耐水性、接着力、加工性および透明性が向上する。(C)アクリルアミド誘導体は、特に限定はなく様々なアクリルアミド誘導体を用いることができる。例えば、アルキルアクリルアミドおよび/またはアルキルメタアクリルアミドを挙げることが出来る。具体的にはアクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、アルキレンビスアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、4−アクリロモルホリンを挙げることが出来る。更に好ましくはジメチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、4−アクリロモルホリンが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。その含有量は通常1〜50重量%、好ましくは5〜30重量%である。   The (meth) acrylate adhesive composition used in the present invention is characterized by containing (C) an acrylamide derivative. By including the (C) acrylamide derivative as a reactive monomer in the (meth) acrylate adhesive composition, moisture resistance, water resistance, adhesive strength, workability and transparency are improved. (C) The acrylamide derivative is not particularly limited, and various acrylamide derivatives can be used. For example, alkyl acrylamide and / or alkyl methacrylamide can be mentioned. Specific examples include acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, diacetone methacrylamide, alkylene bisacrylamide, dimethyl acrylamide, diethyl acrylamide, isopropyl acrylamide, and 4-acrylomorpholine. More preferred are dimethylacrylamide, isopropylacrylamide, diethylacrylamide and 4-acrylomorpholine. These may be used alone or in combination of two or more. The content is usually 1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight.

本発明において使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、(D)シラン化合物を含有することを特徴とする。前記(D)シラン化合物は(メタ)アクリレート系接着剤組成物の接着促進剤として使用され、接着力の向上のみならず、耐湿性、耐水性、耐侯性および透明性を向上させる効果を有する。本発明で使用される(D)シラン化合物は特に限定はなく様々なシラン化合物を用いることができる。例えばアミノ官能性シラン、エポキシ官能性シラン、ビニル官能性シラン、メルカプト官能性シラン、メタクリレート官能性シラン、アクリルアミド官能性シラン、アクリレート官能性シランが挙げられ、これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。これらのシラン化合物の中でアミノ官能性シラン、エポキシ官能性シラン、ビニル官能性シラン、メルカプト官能性シランが特に好ましく、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン、(3−(2,3−エポキシプロポキシ)プロピル)トリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のビニルシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの中で(3−(2,3−エポキシプロポキシ)プロピル)トリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシランが好ましく、(3−(2,3−エポキシプロポキシ)プロピル)トリメトキシシランが特に好ましい。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。その含有量は通常0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%である。   The (meth) acrylate adhesive composition used in the present invention is characterized by containing (D) a silane compound. The (D) silane compound is used as an adhesion promoter for the (meth) acrylate-based adhesive composition, and has an effect of improving not only the adhesive strength but also moisture resistance, water resistance, weather resistance and transparency. The (D) silane compound used in the present invention is not particularly limited, and various silane compounds can be used. Examples include amino functional silanes, epoxy functional silanes, vinyl functional silanes, mercapto functional silanes, methacrylate functional silanes, acrylamide functional silanes, and acrylate functional silanes. You may use combining more than a kind. Among these silane compounds, amino-functional silane, epoxy-functional silane, vinyl-functional silane, and mercapto-functional silane are particularly preferable. For example, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- aminosilanes such as β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, (3- (2 , 3-epoxypropoxy) propyl) trimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, and other epoxy silanes , Vinyl tris (β-methoxyethoxy Ii) Vinylsilanes such as silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane. Among these, (3- (2,3-epoxypropoxy) propyl) trimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Epoxy silanes such as xylpropyltriethoxysilane are preferred, and (3- (2,3-epoxypropoxy) propyl) trimethoxysilane is particularly preferred. These may be used alone or in combination of two or more. Its content is usually 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

本発明において使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は、(E)有機リン化合物を含有することを特徴とする。前記(E)有機リン化合物は(メタ)アクリレート系接着剤組成物の金属化合物への接着促進剤として使用され、金属化合物への接着力の向上のみならず、耐湿性、耐水性を向上させる効果を有する。本発明で使用される(E)有機リン化合物は特に限定はないが、リン酸(メタ)アクリレートが特に好ましい。リン酸(メタ)アクリレートとしては、リン酸エステル骨格を有する(メタ)アクリレートであれば、モノエステル、ジエステルあるいはトリエステル等特に限定されず、例えば、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ブトキシ化リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性オクチルオキシ化リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。更に詳しくは、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェートなどが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。その含有量は通常0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%である。   The (meth) acrylate adhesive composition used in the present invention is characterized by containing (E) an organophosphorus compound. The (E) organophosphorus compound is used as an adhesion promoter to the metal compound of the (meth) acrylate-based adhesive composition, and not only improves adhesion to the metal compound, but also improves moisture resistance and water resistance. Have The (E) organophosphorus compound used in the present invention is not particularly limited, but phosphoric acid (meth) acrylate is particularly preferred. The phosphoric acid (meth) acrylate is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylate having a phosphate ester skeleton, such as an ethylene oxide-modified phenoxylated phosphoric acid (meth) acrylate or ethylene oxide. Modified butoxylated phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified octyloxylated phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid tri (meth) acrylate, and the like. More specifically, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] diphenyl phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, bis [2- (meta ) Acryloyloxyethyl] phosphate, bis [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Its content is usually 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

本発明で使用される光重合開始剤は、(メタ)アクリレート系接着剤組成物を重合硬化させ、その硬化速度を高める目的で使用される。本発明に使用されている光重合開始剤としては、一般に知られているものを使用することが出来る。例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、オリゴ[ 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン] 、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド3−メチルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ミヒラーズケトン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネート、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルベンゾイルホルメート、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントンなどが挙げられる。これらの中でより好ましくは、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、オリゴ[ 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン] 、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。その含有量は通常0.5〜20重量%、好ましくは1〜10重量%である。   The photopolymerization initiator used in the present invention is used for the purpose of polymerizing and curing the (meth) acrylate-based adhesive composition and increasing its curing rate. As the photopolymerization initiator used in the present invention, those generally known can be used. For example, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, oligo [2-hydroxy -2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone], bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide 3-methylacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone , Xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, benzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoin ethyl ether , Benzoinpropyl ether, Michler's ketone, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinate, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpen Le phosphine oxide, methyl benzoyl formate, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and the like. Among these, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone are more preferable. And oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone] and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide. These may be used alone or in combination of two or more. Its content is usually 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

光重合開始剤は、多くのものが市販され、容易に入手することができる。具体的には、イルガキュア184、イルガキュア261、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア500、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア907、イルガキュア1700、イルガキュア1800、イルガキュア1850、イルガキュア2959、イルガキュアCGI−403、ダロキュア953、ダロキュア1116、ダロキュア1173、ダロキュア1664、ダロキュア、2273ダロキュア4265(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)などが挙げられる。   Many photopolymerization initiators are commercially available and can be easily obtained. Specifically, Irgacure 184, Irgacure 261, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 500, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 907, Irgacure 1700, Irgacure 1800, Irgacure 1850, Irgacure 2959, Irgacure CGI-403, 1116, Darocur 1173, Darocur 1664, Darocur, 2273 Darocur 4265 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

本発明に使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物の重合開始剤には、熱重合開始剤を用いることも出来る。例えば、2,2‘−アゾビス(イソブチロニトリル)などのアゾ化合物、t−ブチルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシドおよび過酸化ベンゾイルおよび過酸化シクロヘキサノンなどの過酸化物から選択された開始剤が挙げられるが、熱重合開始剤であればこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。   A thermal polymerization initiator can also be used as the polymerization initiator of the (meth) acrylate adhesive composition used in the present invention. For example, initiators selected from azo compounds such as 2,2'-azobis (isobutyronitrile), hydroperoxides such as t-butyl hydroperoxide and peroxides such as benzoyl peroxide and cyclohexanone peroxide. However, the thermal polymerization initiator is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤に加えて、必要に応じて少なくとも1種類以上の光増感剤を(メタ)アクリレート系接着剤組成物に添加し、硬化時間や硬化状態を制御することが出来る。光増感剤はアミン化合物、尿素化合物、リン化合物、二トリル化合物、ベンゾイン化合物、カルボニル化合物、イオウ化合物、ナフタレン系化合物、縮合芳香族炭化水素およびそれらの混合物から選択することが出来る。具体例としては、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート、N−メチルジエタノールアミン等のアミン化合物、4−ジメチルアミノエチルベンゾエート、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンジル、ジアセチル、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4′−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、メチルアントラキノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイルギ酸メチル、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ)−プロペン−1、2,2 −ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のカルボニル化合物、ジフェニルジスルフィド、ジチオカルバメート等のイオウ化合物、α−クロルメチルナフタレン等のナフタレン系化合物、アントラセン等の縮合芳香族炭化水素、塩化鉄等の金属塩を挙げることが出来る。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。その含有量は通常0.1〜5重量%、好ましくは0.5〜3重量%である。上記の増感剤は(メタ)アクリレート系接着剤組成物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものが好ましい。   In addition to the photopolymerization initiator, if necessary, at least one photosensitizer can be added to the (meth) acrylate-based adhesive composition to control the curing time and the cured state. The photosensitizer can be selected from amine compounds, urea compounds, phosphorus compounds, nitrile compounds, benzoin compounds, carbonyl compounds, sulfur compounds, naphthalene compounds, condensed aromatic hydrocarbons, and mixtures thereof. Specific examples include amine compounds such as triethylamine, diethylaminoethyl methacrylate, N-methyldiethanolamine, 4-dimethylaminoethyl benzoate, 4-dimethylaminoisoamyl benzoate, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin octyl Benzoin compounds such as ether, benzyl, diacetyl, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, methylanthraquinone, acetophenone, benzophenone, benzoylformic acid Methyl, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methyl Ruthio) phenyl) -2-morpholino) -propene-1,2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and other carbonyl compounds, diphenyl disulfide, dithiocarbamate and other sulfur compounds, α-chloromethylnaphthalene and other naphthalene compounds, Examples thereof include condensed aromatic hydrocarbons such as anthracene and metal salts such as iron chloride. These may be used alone or in combination of two or more. Its content is usually 0.1 to 5% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight. The sensitizer described above is preferably one that is excellent in solubility in the (meth) acrylate-based adhesive composition and does not impair ultraviolet light transmittance.

本発明に使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は接着剤組成物自体の加水分解や酸化による老化防止、太陽光や風雨に曝される厳しい条件下での耐熱性、耐侯性などを向上する目的で、光安定剤や酸化防止剤を添加することが出来る。   The (meth) acrylate-based adhesive composition used in the present invention has anti-aging due to hydrolysis and oxidation of the adhesive composition itself, heat resistance and weather resistance under severe conditions exposed to sunlight and wind and rain, etc. For the purpose of improving, a light stabilizer and an antioxidant can be added.

ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、1−メチル−8−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2、6,6−テトラメチルピペリジン、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン等が挙げられる。
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔2,2’−チオビス(4−t−オクチルフェノレート)〕−2−エチルヘキシルアミンニッケル(II)、ニッケルコンプレックス−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、3級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、または1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール/トリデシルアルコールと1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
Examples of hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-tetramethyl Piperidine, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, triethylenediamine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9 , 9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane-2,4-dione.
Other nickel-based UV stabilizers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl-dithiocarbamate and the like can also be used. In particular, the hindered amine light stabilizer is preferably a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine, specifically, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl). -Sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, or A condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.

また、酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、テトラキス−〔メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー〕、3,9−ビス[1,1−ジ−メチル−2−〔β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−2,4,8,10−テトラオキオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が550以上のものが好ましい。
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)等を挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレン−ジホスホナイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト等が挙げられる。
Moreover, it is preferable to use a phenolic antioxidant, a thiol antioxidant and a phosphite antioxidant as the antioxidant. Examples of phenolic antioxidants include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t-). Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ,bird Tylene glycol bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [1,1-di-methyl-2- [β- (3-t-butyl) -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like. In particular, the phenolic antioxidant preferably has a molecular weight of 550 or more.
Examples of the thiol antioxidant include distearyl-3,3′-thiodipropionate and pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate). Examples of the phosphite antioxidant include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol. Diphosphite, bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.

これらの光安定剤や酸化防止剤は単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。特にヒンダードアミン系光安定剤とヒンダードフェノール系酸化防止剤の組み合わせが良く、その含有量は通常0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜3重量%である。上記の光安定剤および酸化防止剤は(メタ)アクリレート系接着剤組成物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものが好ましい。   These light stabilizers and antioxidants may be used alone or in combination of two or more. In particular, a combination of a hindered amine light stabilizer and a hindered phenol antioxidant is good, and its content is usually 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight. The light stabilizer and the antioxidant are preferably those that are excellent in solubility in the (meth) acrylate adhesive composition and do not inhibit ultraviolet light transmission.

本発明に使用される(メタ)アクリレート系接着剤組成物は太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することが出来る。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。   The (meth) acrylate-based adhesive composition used in the present invention may contain an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration due to sunlight or ultraviolet rays. Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, and triazine.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2ー(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2ー(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2ー(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、2−4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。
Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2- Hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetra And hydroxy-benzophenone.
As the benzotriazole ultraviolet absorber, 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole and the like.
Examples of the phenyl salicylate ultraviolet absorber include phenylsulcylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like. Examples of hindered amine ultraviolet absorbers include bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate.
Examples of triazine ultraviolet absorbers include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazi 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1 , 3,5-triazine and the like.

紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。   In addition to the above, the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy or the like. Furthermore, those that exhibit an effect when used in combination with an antioxidant, a colorant, or the like, or a light stabilizer that acts as a light energy conversion agent, called a quencher, can be used in combination. However, when using the above-mentioned ultraviolet absorber, it is necessary to select one in which the light absorption wavelength of the ultraviolet absorber does not overlap with the effective wavelength of the photopolymerization initiator. In the case of using a normal ultraviolet ray inhibitor, it is effective to use a photopolymerization initiator that generates radicals with visible light.

紫外線吸収剤の使用量は、0.1〜20重量%、好ましくは1〜15重量%、さらに好ましくは3〜10重量%である。20重量%よりも多いと密着性が悪くなり、0.1重量%より少ないと耐候性改良効果が小さい。   The usage-amount of a ultraviolet absorber is 0.1-20 weight%, Preferably it is 1-15 weight%, More preferably, it is 3-10 weight%. When the amount is more than 20% by weight, the adhesion is deteriorated.

本発明の(メタ)アクリレート系接着剤組成物には、さらに上記以外の各種添加剤を配合することが出来る。例えば、消泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、界面活性剤、保存安定剤、熱重合禁止剤、可塑剤、濡れ性改良剤、密着性付与剤、粘着付与剤などを必要に応じて配合することが出来る。   In the (meth) acrylate adhesive composition of the present invention, various additives other than those described above can be further blended. For example, antifoaming agents, leveling agents, antistatic agents, surfactants, storage stabilizers, thermal polymerization inhibitors, plasticizers, wettability improvers, adhesion promoters, tackifiers and the like are blended as necessary. I can do it.

本発明の(メタ)アクリレート系接着剤組成物を調製する方法としては、例えば(メタ)アクリレート系重合性オリゴマー、(メタ)アクリレート系重合性モノマー、(A)(メタ)アクリレートモノマー、(B)(メタ)アクリレートオリゴマー、(C)アクリルアミド誘導体、(D)シラン化合物、(E)有機リン化合物、開始剤、増感剤およびその他の添加剤などの各成分を仕込み、常温〜80℃で混合溶解して、必要に応じてフィルターなどでろ過を行い、所望の接着剤組成物を得る方法が挙げられる。ただし、接着剤組成物の調整方法は公知の方法を用いることが出来、上記方法に限定されるものではない。本発明の接着剤組成物は塗布性を考慮すると、25℃における粘度が1〜5000mPaとなるように、成分の配合比を適宜調整することが好ましい。   Examples of the method for preparing the (meth) acrylate-based adhesive composition of the present invention include (meth) acrylate-based polymerizable oligomers, (meth) acrylate-based polymerizable monomers, (A) (meth) acrylate monomers, and (B). Each component such as (meth) acrylate oligomer, (C) acrylamide derivative, (D) silane compound, (E) organophosphorus compound, initiator, sensitizer and other additives is charged and mixed and dissolved at room temperature to 80 ° C. And the method of filtering with a filter etc. as needed and obtaining a desired adhesive composition is mentioned. However, the adjustment method of an adhesive composition can use a well-known method, and is not limited to the said method. In consideration of applicability, the adhesive composition of the present invention preferably adjusts the compounding ratio of the components appropriately so that the viscosity at 25 ° C. is 1 to 5000 mPa.

本発明の(メタ)アクリレート系接着剤組成物を塗布するには、アプリケータによる塗布、ロールナイフコート法、ダイコーター法、ロールコート法、バーコート法、グラビアロールコート法、リバースロールコート法、ディッピング法、スプレー法、カーテンフロー法、スクリーンコート法等公知の方法を用いて塗布することが出来る。接着剤の膜厚は、2μm以上200μm以下であることが好ましい。   To apply the (meth) acrylate adhesive composition of the present invention, application by an applicator, roll knife coating method, die coater method, roll coating method, bar coating method, gravure roll coating method, reverse roll coating method, It can apply | coat using well-known methods, such as a dipping method, a spray method, a curtain flow method, and a screen coating method. The film thickness of the adhesive is preferably 2 μm or more and 200 μm or less.

本発明における(メタ)アクリレート系接着剤組成物の硬化に際しては、可視光線、紫外線(UV)および電子線(EB)を用いることが出来る。可視光線または紫外線が用いられるときは、光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン水銀灯、キセノンランプ、ガリウムランプ、メタルハライドランプ、石英ハロゲンランプ、タングステンランプ、紫外線蛍光灯、炭素アーク灯、無電極マイクロウエーブ方式紫外線ランプ等が好ましく用いられる。   In curing the (meth) acrylate adhesive composition in the present invention, visible light, ultraviolet (UV), and electron beam (EB) can be used. When visible light or ultraviolet light is used, examples of the light source include low-pressure mercury lamp, medium-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, xenon mercury lamp, xenon lamp, gallium lamp, metal halide lamp, quartz halogen lamp, tungsten lamp, and ultraviolet light. A fluorescent lamp, a carbon arc lamp, an electrodeless microwave ultraviolet lamp, etc. are preferably used.

本発明における光透過型電磁波シールド積層体を製造する具体的な方法としては、例えばポリカーボネート樹脂シートにフローコーターで所定の光硬化型接着剤を塗布し、ポリカーボネート樹脂フィルムを基材とする電磁波シールド層をラミネーターで気泡を含まないように積層した後、高圧水銀ランプを照射して接着剤を硬化させ積層体を製造する。3枚以上の積層を行う場合は、1層毎に接着剤を塗布して光を照射して複数層を積層しても構わないし、複数層の層間に接着層を設けた後に、一括して光を照射して接着剤層を硬化させて積層体を製造しても構わない。積層体の厚みは0.1〜30mmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜20mmの範囲である。   As a specific method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate in the present invention, for example, a predetermined photo-curing adhesive is applied to a polycarbonate resin sheet with a flow coater, and an electromagnetic wave shielding layer using a polycarbonate resin film as a base material. Are laminated with a laminator so as not to contain bubbles, and then irradiated with a high-pressure mercury lamp to cure the adhesive to produce a laminate. When laminating three or more sheets, a plurality of layers may be laminated by applying an adhesive to each layer and irradiating light, or after providing an adhesive layer between the layers, The laminate may be manufactured by irradiating light to cure the adhesive layer. The thickness of the laminate is preferably in the range of 0.1 to 30 mm, more preferably in the range of 0.1 to 20 mm.

本発明における光透過型電磁波シールド積層体の加熱源としては、放射波長が1μm以上の遠赤外線を用いたセラミックヒーター、ロッドヒーター、シースヒーターなど上下段に装備した遠赤外線ヒーター加熱装置を使用する。遠赤外線ヒーターは材料の分子振動を利用して加熱するため、従来技術のニクロム線やハロゲンランプなどを熱源に用いた電気炉、ロットヒーターおよびセラミックヒーターなどの一般的な加熱方法に比べて、表裏面や面内温度分布が著しく小さく、加熱ムラなく均一に加熱することが可能である。   As a heating source for the light-transmitting electromagnetic wave shield laminate in the present invention, a far-infrared heater heating device equipped in the upper and lower stages such as a ceramic heater, a rod heater, and a sheath heater using far infrared rays having a radiation wavelength of 1 μm or more is used. Since far-infrared heaters are heated using the molecular vibrations of the material, compared to conventional heating methods such as electric furnaces, lot heaters, and ceramic heaters that use conventional nichrome wires or halogen lamps as heat sources. The back surface and in-plane temperature distribution are extremely small, and it is possible to heat uniformly without uneven heating.

本発明で使用する遠赤外線ヒーター加熱装置は、上段遠赤外線ヒーターは全面加熱を行い、下段遠赤外線ヒーターを開口部のある金属板で囲い、金属板の開口幅を調整することにより光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工部分を選択加熱することが出来る。遠赤外線ヒーターを囲う金属板の材質はアルミニウム、鉄、銅、ステンレスまたは鋳物が好適である。   The far-infrared heater heating device used in the present invention is such that the upper far-infrared heater heats the entire surface, the lower far-infrared heater is surrounded by a metal plate with an opening, and the opening width of the metal plate is adjusted to adjust the light transmission type electromagnetic wave. The bent portion of the shield laminate can be selectively heated. The metal plate surrounding the far infrared heater is preferably aluminum, iron, copper, stainless steel or a casting.

本発明における光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工条件としては、遠赤外線ヒーター加熱装置により上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは該積層体の曲げ加工部分を選択加熱し、上下表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することにより、接着層の揺らぎと残留歪みを最小限に抑え、変形および反りや剥離を生じない曲げ加工性に優れた光透過型電磁波シールド積層体を得ることが出来る。下段ヒーターの曲げ加工部の加熱幅は(1)式により定義され、係数Yが1.35よりも小さいと加熱幅が不十分となるため、層剥離やスプリングバックが発生して所望の曲率半径を得られず、係数Yが4.15よりも大きいと加熱幅が広過ぎるため接着層に揺らぎを生じて外観および視認性が低下する。
加熱幅=2πR×(180°−X°)/360°×Y (1)
ここで、πは円周率、Rは曲率半径、Xは曲げ加工角度(内角)、Yは係数(1.35≦Y≦4.15)を示す。
上段ヒーターで該積層体を全面加熱することにより、下段ヒーターの選択加熱により生じる残留ひずみが緩和され、長期耐久性が向上して剥離現象が生じ難くなる。
積層体の上下表面温度差は20℃を超えると、熱膨張の差により反りが発生するため、剥離や接着層の揺らぎが発生して不良品となる。また応力ひずみが残留するため、長期使用時に剥離やひび割れなどの不具合を生じる。加熱温度は130℃より低いとポリカーボネート樹脂基材が十分に軟化しないため、スプリングバックが発生して所望の曲率半径を得られない。一方で加熱温度が190℃を超えると電磁波シールド層とポリカーボネート樹脂基材間の接着力が低下するため剥離が発生して不良品となる。さらに曲率半径が10mm未満になると湾曲がきつ過ぎるため、剥離が発生し易くなり不良品が発生する。
As bending conditions of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate in the present invention, the upper heater is heated entirely by a far infrared heater heating device, the lower heater selectively heats the bent portion of the laminate, and the upper and lower surface temperature difference is determined. The shield laminate heated to 140 ° C to 185 ° C controlled within 20 ° C is bent into a curved surface with a radius of curvature of 10mm or more, thereby minimizing fluctuations and residual strain of the adhesive layer, deformation, warping and peeling. It is possible to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate excellent in bending workability that does not cause the problem. The heating width of the bent portion of the lower heater is defined by the equation (1). If the coefficient Y is smaller than 1.35, the heating width becomes insufficient, so that delamination and springback occur and the desired radius of curvature occurs. If the coefficient Y is larger than 4.15, the heating width is too wide, and the adhesive layer fluctuates and the appearance and visibility deteriorate.
Heating width = 2πR × (180 ° −X °) / 360 ° × Y (1)
Here, π is a circumference, R is a radius of curvature, X is a bending angle (inner angle), and Y is a coefficient (1.35 ≦ Y ≦ 4.15).
By heating the entire surface of the laminate with the upper heater, the residual strain caused by the selective heating of the lower heater is alleviated, the long-term durability is improved, and the peeling phenomenon is less likely to occur.
If the difference in temperature between the upper and lower surfaces of the laminate exceeds 20 ° C., warpage occurs due to the difference in thermal expansion, and peeling or fluctuation of the adhesive layer occurs, resulting in a defective product. In addition, since stress strain remains, problems such as peeling and cracking occur during long-term use. When the heating temperature is lower than 130 ° C., the polycarbonate resin base material is not sufficiently softened, so that springback occurs and a desired radius of curvature cannot be obtained. On the other hand, when the heating temperature exceeds 190 ° C., the adhesive force between the electromagnetic wave shielding layer and the polycarbonate resin base material is lowered, so that peeling occurs and the product becomes defective. Further, when the radius of curvature is less than 10 mm, the curve is too tight, so that peeling easily occurs and a defective product is generated.

本発明における光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工方法としては、遠赤外線ヒーター加熱装置で該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは曲げ加工部分を選択加熱により所定の温度に加熱後、所定の曲率半径を得ることの出来る木型、金型などを用いて曲げ加工する方法や真空成形、プレス成形などが適用される。ただし、曲げ加工方法は前記記載の方法になんら限定されるものではない。   As a bending method of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate in the present invention, the upper heater is heated on the entire surface of the laminate with a far infrared heater heating device, and the lower heater is heated to a predetermined temperature by selective heating of the bent portion. Further, a bending method using a wood mold, a mold or the like that can obtain a predetermined radius of curvature, vacuum forming, press forming, or the like is applied. However, the bending method is not limited to the method described above.

本発明における光透過型電磁波シールド積層体は積層する光透過型有機高分子材料自体の加水分解や酸化による老化防止、紫外線による劣化防止、太陽光や風雨に曝される厳しい条件下での耐熱性、耐侯性などを向上する目的で、光透過型電磁波シールド積層体を構成する電磁波シールド層、保護層および接着剤層より選ばれた1つ以上の層に紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも1種類以上を含有させることが好ましい。光透過型電磁波シールド積層体を構成するすべての層に紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも1種類以上を含有することが好ましいが、紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤は高価なため、コストが高くなり、経済性に乏しい。費用対効果を考えた場合、光透過型電磁波シールド積層体の片面または両面に紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも1種類以上を含有してなる皮膜を形成することが好ましい。   The light-transmitting electromagnetic wave shield laminate in the present invention is resistant to aging due to hydrolysis and oxidation of the light-transmitting organic polymer material itself to be laminated, to prevent deterioration due to ultraviolet rays, and to withstand heat under severe conditions exposed to sunlight and wind and rain. In order to improve weather resistance and the like, one or more layers selected from an electromagnetic wave shielding layer, a protective layer and an adhesive layer constituting the light transmission type electromagnetic wave shielding laminate are provided with an ultraviolet absorber, a light stabilizer and an antioxidant. It is preferable to contain at least one of the agents. Although it is preferable that all the layers constituting the light transmission type electromagnetic wave shielding laminate include at least one of an ultraviolet absorber, a light stabilizer and an antioxidant, the ultraviolet absorber, the light stabilizer and the antioxidant are preferable. Since the agent is expensive, the cost is high and the economy is poor. In view of cost effectiveness, it is preferable to form a film containing at least one of an ultraviolet absorber, a light stabilizer and an antioxidant on one or both sides of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate. .

前記紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも1種類以上を含有してなる被膜としては、長期間の耐久性に優れ、かつ表面硬度が比較的高いシリコーン樹脂系化合物、または処理が比較的簡便でかつ良好な被膜が形成されるアクリル樹脂または多官能アクリル樹脂が好ましい。これら被膜の硬化方法は使用する樹脂化合物の性質によるが、生産性や簡便性を考慮した場合、熱硬化型または光硬化型樹脂を選択することが好ましい。光硬化型樹脂の一例としては、1官能あるいは多官能のアクリレートモノマーあるいはオリゴマーなどの単独あるいは複数からなる樹脂組成物に硬化触媒として光重合開始剤が加えられた樹脂組成物が挙げられる。熱硬化型樹脂としてはポリオルガノシロキサン系、架橋型アクリル系などのものが挙げられる。この様な樹脂組成物は、ハードコート剤として市販されており、被膜ラインとの適正を加味し、適宜選択すれば良い。
これらの被膜には前述した紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤のほか、必要に応じて、有機溶剤、着色防止剤などの各種安定剤やレベリング剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、防曇剤などの界面活性剤等を適宜添加してもよい。
As the coating film containing at least one of the ultraviolet absorber, light stabilizer and antioxidant, a silicone resin compound or treatment having excellent long-term durability and relatively high surface hardness However, an acrylic resin or a polyfunctional acrylic resin that is relatively simple and can form a good film is preferable. The curing method of these films depends on the properties of the resin compound used, but it is preferable to select a thermosetting or photocurable resin in consideration of productivity and simplicity. As an example of the photocurable resin, there may be mentioned a resin composition in which a photopolymerization initiator is added as a curing catalyst to a resin composition composed of one or more monofunctional or polyfunctional acrylate monomers or oligomers. Examples of the thermosetting resin include polyorganosiloxane and cross-linked acrylic resins. Such a resin composition is commercially available as a hard coat agent, and may be appropriately selected in consideration of suitability with the coating line.
In addition to the UV absorbers, light stabilizers, and antioxidants described above, these coatings include various stabilizers such as organic solvents and anti-coloring agents, leveling agents, antifoaming agents, thickeners, and charging agents as necessary. Surfactants such as an inhibitor and an antifogging agent may be added as appropriate.

また前記紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤の内、少なくとも1種類以上を含有してなる被膜は光透過型電磁波シールド積層体の基材との密着性を向上させるために、基材とアクリル樹脂を共押出しにより積層したアクリル樹脂層上に被膜を形成することもできる。   In addition, the coating film containing at least one of the ultraviolet absorber, the light stabilizer and the antioxidant is formed of a base material for improving the adhesion with the base material of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate. A film can also be formed on an acrylic resin layer in which acrylic resins are laminated by coextrusion.

光硬化型アクリル系樹脂化合物からなる被膜の一例としては、1,9−ノナンジオールジアクリレートまたはトリス(アクロキシエチル)イソシアヌレート20〜80重量%と共重合可能な他の化合物20〜80重量%とからなる光重合性化合物に対し、光重合開始剤を1〜10重量%を添加することを特徴とする紫外線硬化型樹脂被膜用組成物が挙げられる。   As an example of a film made of a photocurable acrylic resin compound, 20 to 80% by weight of another compound copolymerizable with 20 to 80% by weight of 1,9-nonanediol diacrylate or tris (acryloxyethyl) isocyanurate 1 to 10% by weight of a photopolymerization initiator is added to the photopolymerizable compound consisting of

本発明において、光透過型電磁波シールド積層体に被膜を塗布する方法は、刷毛、ロール、ディッピング、流し塗り、スプレー、ロールコーター、フローコーターなどが適用できる。熱硬化あるいは光硬化によって硬化した被膜層の厚さは1〜20μm、好ましくは2〜15μm、さらに好ましくは3〜12μmである。被膜層の厚さが1μm未満であると耐候性や表面硬度の改良効果が不十分になりやすく、逆に20μmを超えてもコスト的に不利で、耐衝撃性の低下を招くこともある。   In the present invention, brushes, rolls, dipping, flow coating, sprays, roll coaters, flow coaters, and the like can be applied as methods for applying a film to the light-transmitting electromagnetic wave shield laminate. The thickness of the coating layer cured by heat curing or photocuring is 1 to 20 μm, preferably 2 to 15 μm, and more preferably 3 to 12 μm. If the thickness of the coating layer is less than 1 μm, the effect of improving the weather resistance and the surface hardness tends to be insufficient, and conversely if it exceeds 20 μm, it is disadvantageous in cost and may cause a reduction in impact resistance.

以下、本発明について実施例、比較例によりその実施形態と効果について具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。実施例および比較例中に記載の評価結果は下記の試験方法にて測定した。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate the embodiment and effect concretely about this invention, this invention is not limited at all by these examples. The evaluation results described in the examples and comparative examples were measured by the following test methods.

(電磁波シールド性能試験)
電磁波シールド性能測定装置(アドバンテスト社製)を用いて100MHz〜1GHzの周波数範囲の電磁波シールド性能を測定した。
[電磁波シールド性能評価]
周波数100MHzと1GHzの電磁波シールド性能が30dB以上を示すものを合格(○)とし、30dB未満のものを不合格(×)とした。
(Electromagnetic wave shielding performance test)
The electromagnetic wave shielding performance in the frequency range of 100 MHz to 1 GHz was measured using an electromagnetic wave shielding performance measuring device (manufactured by Advantest).
[Evaluation of electromagnetic shielding performance]
Those having an electromagnetic wave shielding performance of frequencies of 100 MHz and 1 GHz of 30 dB or more were evaluated as pass (◯), and those less than 30 dB were determined as unacceptable (x).

(曲げ加工性試験)
電磁波シールド層(PCフィルム、PETフィルム)と保護層(PCシートまたはフィルム)を各種接着剤組成物で接着して、幅500mm、長さ500mmの試験片を作製した。各種ヒーター(遠赤外線ヒーター、電気炉加熱、ニクロム線棒ヒーター)を用いて試験片を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは所望の加熱幅に選択加熱して、試験片の表面温度が所定温度に達した後、所定の曲率半径の木型を用いて曲げ加工した。試験片の曲率半径と加工状況を目視にて評価した。
[外観評価]
○:外観異常なし
×:剥離、発泡、白化、反り、揺らぎのいずれかが発生
[試験片曲率半径評価]
○:金型の曲率半径に対して誤差10%以内
△:金型の曲率半径に対して誤差20%以内
×:金型の曲率半径に対して誤差20%以上または測定不可
(Bending workability test)
An electromagnetic wave shielding layer (PC film, PET film) and a protective layer (PC sheet or film) were bonded with various adhesive compositions to prepare a test piece having a width of 500 mm and a length of 500 mm. Using various heaters (far-infrared heater, electric furnace heating, nichrome wire rod heater), the upper stage heater is heated on the entire surface, the lower stage heater is selectively heated to the desired heating width, and the surface temperature of the test piece is a predetermined temperature. Then, bending was performed using a wooden pattern with a predetermined radius of curvature. The curvature radius and the processing state of the test piece were visually evaluated.
[Appearance evaluation]
○: No abnormality in appearance ×: Any of peeling, foaming, whitening, warping or fluctuation occurs
[Specimen radius of curvature evaluation]
○: Error within 10% relative to the radius of curvature of the mold △: Error within 20% relative to the radius of curvature of the mold ×: Error 20% or greater relative to the radius of curvature of the mold or measurement not possible

(接着剤調製方法)
(A)ウレタン(メタ)アクリレート系重合性オリゴマー30.0重量%、(B)(メタ)アクリレート系重合性モノマー40.0重量%、(C)アクリルアミド誘導体20.0重量%、(D)シラン化合物5.0重量%、(E)有機リン化合物1.0重量%、光重合開始剤4.0重量%を仕込み、60℃で1時間混合加熱して、所望の接着剤組成物を得た。
[接着剤組成物の各成分]
・ウレタン(メタ)アクリレート系重合性オリゴマー
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート由来の脂環式炭化水素化合物含有ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー
・(メタ)アクリレート系重合性モノマー
イソボニルアクリレート
・アクリルアミド誘導体
ジメチルアクリルアミド
・シラン化合物
(3−(2,3−エポキシプロポキシ)プロピル)トリメトキシシラン
・有機リン化合物
リン酸アクリレート
・光重合開始剤
Irgacure651
(Adhesive preparation method)
(A) Urethane (meth) acrylate polymerizable oligomer 30.0% by weight, (B) (meth) acrylate polymerizable monomer 40.0% by weight, (C) Acrylamide derivative 20.0% by weight, (D) Silane Compound 5.0% by weight, (E) organophosphorus compound 1.0% by weight, photopolymerization initiator 4.0% by weight were charged and mixed and heated at 60 ° C. for 1 hour to obtain a desired adhesive composition. .
[Each component of the adhesive composition]
・ Urethane (meth) acrylate polymerizable oligomers Urethane (meth) acrylate oligomers containing alicyclic hydrocarbon compounds derived from dicyclohexylmethane diisocyanate ・ (Meth) acrylate polymerizable monomers Isobornyl acrylate ・ acrylamide derivatives dimethylacrylamide ・ silane compounds ( 3- (2,3-epoxypropoxy) propyl) trimethoxysilane / organophosphorus compound phosphoric acid acrylate / photopolymerization initiator Irgacure 651

(光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法)
バーコーターで各種接着剤組成物を保護層(PCシートまたはフィルム)に塗布し、ラミネーターで電磁波シールド層(PCフィルム、PETフィルム)を脱泡しながら重ね合わせた。前記サンプルに高圧水銀ランプ(500W)を用いて90秒間照射し、照射量1J/cmで十分に硬化させた。また電磁波シールド層の両面に保護層を積層する場合も同様の方法で積層した。
各種評価用サンプルは恒温恒湿室(23℃、50%RH)で24時間静置後、幅500mm、長さ500mmにカットしたものをサンプルとして用いた。
[材料]
(電磁波シールド層)
各種導電性化合物を用いてメッシュ形成した表面抵抗値1[Ω/□]以下のPCフィルムまたはPETフィルム。
(導電性化合物メッシュ)
・AgC導電性印刷メッシュ
ライン100μm、ピッチ500μm、表面抵抗0.5Ω/□
・ 銅化合物薄膜メッシュ
ライン10μm、ピッチ300μm、表面抵抗0.1Ω/□
・ 銀化合物薄膜メッシュ
ライン10μm、ピッチ180μm、表面抵抗0.1Ω/□
(ベース基材)
・PCフィルム
MGCフィルシート社製ポリカーボネートフィルム(100〜200μm厚)
・PETフィルム
東洋紡社製易接着ポリエチレンテレフタレート(200μm厚)
(保護層)
・PCシート
MGCフィルシート社製ポリカーボネートシート(1.5mm〜20.0mm厚)
・PCフィルム
MGCフィルシート社製ポリカーボネートフィルム(100μm厚)
(Method for producing light transmissive electromagnetic wave shield laminate using light transmissive adhesive)
Various adhesive compositions were applied to the protective layer (PC sheet or film) with a bar coater, and the electromagnetic wave shielding layer (PC film, PET film) was superposed while defoaming with a laminator. The sample was irradiated for 90 seconds using a high-pressure mercury lamp (500 W) and sufficiently cured at an irradiation dose of 1 J / cm 2 . Further, when a protective layer was laminated on both sides of the electromagnetic wave shielding layer, the same method was used.
Samples for various evaluations were used as samples which were left to stand in a constant temperature and humidity chamber (23 ° C., 50% RH) for 24 hours and then cut to a width of 500 mm and a length of 500 mm.
[material]
(Electromagnetic wave shielding layer)
PC film or PET film having a surface resistance of 1 [Ω / □] or less formed by meshing using various conductive compounds.
(Conductive compound mesh)
・ AgC conductive printing mesh line 100μm, pitch 500μm, surface resistance 0.5Ω / □
・ Copper compound thin film mesh line 10μm, pitch 300μm, surface resistance 0.1Ω / □
・ Silver compound thin film mesh line 10μm, pitch 180μm, surface resistance 0.1Ω / □
(Base material)
・ PC film Polycarbonate film (100-200 μm thick) manufactured by MGC Phil Sheet
・ PET film Easy-to-adhere polyethylene terephthalate (200μm thickness) manufactured by Toyobo Co., Ltd.
(Protective layer)
・ PC sheet Polycarbonate sheet (1.5 mm to 20.0 mm thickness) manufactured by MGC Phil Sheet
・ PC film Polycarbonate film (100μm thickness) manufactured by MGC Phil Sheet

実施例1
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 1
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例2
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅32mm(係数Y=1.35)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 2
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 32 mm (coefficient Y = 1.35), and surface temperatures of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例3
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅50mm(係数Y=2.10)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 3
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the entire surface of the laminate is heated by the upper heater, and the lower heater is selectively heated by a heating width of 50 mm (coefficient Y = 2.10) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例4
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅100mm(係数Y=4.15)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 4
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated on the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 100 mm (coefficient Y = 4.15) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例5
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度130℃(上部)、130℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は29mmであった。
Example 5
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated on the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 130 ° C. (upper part) and 130 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good and the radius of curvature of the test piece was 29 mm.

実施例6
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度150℃(上部)、150℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は26mmであった。
Example 6
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the laminate is heated on the entire surface by the upper heater, and the lower heater is selectively heated at a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67), and the surface temperature is 150 ° C. (upper part), 150 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 26 mm.

実施例7
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度180℃(上部)、180℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 7
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated on the entire surface, and the lower layer heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67), and surface temperatures of 180 ° C. (upper part) and 180 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例8
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度170℃(上部)、150℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は26mmであった。
Example 8
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67), with surface temperatures of 170 ° C. (upper part) and 150 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 26 mm.

実施例9
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度170℃(上部)、160℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 9
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67), and surface temperatures of 170 ° C. (upper) and 160 ° C. (lower) As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例10
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅16mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は11mmであった。
Example 10
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper heater is heated on the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 16 mm (coefficient Y = 1.67), and surface temperatures of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the above “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the radius of curvature of the test piece was 11 mm.

実施例11
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム100μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCフィルム100μm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 11
Using the adhesive composition obtained from an electromagnetic wave shielding layer and a protective layer (PC film 100 μm thickness) of a copper compound thin film mesh (PC film 100 μm thickness), “light transmissive electromagnetic wave shielding lamination using a light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Body preparation method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例12
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート10.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅80mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径50mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は52mmであった。
Example 12
Using the adhesive composition obtained from an electromagnetic wave shielding layer and a protective layer (PC sheet 10.0 mm thickness) of a copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), “light transmissive electromagnetic waves using a light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower layer heater is selectively heated with a heating width of 80 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 50 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 52 mm.

実施例13
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート20.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅160mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径100mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は102mmであった。
Example 13
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 20.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmitting electromagnetic wave using the light transmitting adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the laminate is heated on the entire surface by the upper heater, and the lower heater is selectively heated at a heating width of 160 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 100 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the radius of curvature of the test piece was 102 mm.

実施例14
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と上下保護層(PCシート1.5mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は26mmであった。
Example 14
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the upper and lower protective layers (PC sheet 1.5 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmission type using the light transmission type adhesive” A sample was prepared according to “Electromagnetic wave shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 26 mm.

実施例15
銅化合物薄膜メッシュ(PETフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は26mmであった。
Example 15
Using the adhesive composition obtained from an electromagnetic wave shielding layer and a protective layer (PC sheet thickness: 3.0 mm) of a copper compound thin film mesh (PET film 200 μm thickness), the above “light transmitting electromagnetic wave using a light transmitting adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 26 mm.

実施例16
銀化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 16
Using the adhesive composition obtained from an electromagnetic wave shielding layer and a protective layer (PC sheet thickness: 3.0 mm) of a silver compound thin film mesh (PC film thickness: 200 μm), the “light transmission type electromagnetic wave using a light transmission type adhesive” is used. A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

実施例17
AgC導電性印刷メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は良好であり、試験片の曲率半径は25mmであった。
Example 17
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer of AgC conductive printing mesh (PC film thickness of 200 μm) and the protective layer (PC sheet thickness of 3.0 mm), “light transmission type using light transmission type adhesive” A sample was prepared according to “Electromagnetic wave shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold curvature radius of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was good, and the curvature radius of the test piece was 25 mm.

比較例1
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。電気炉を用いて該積層体を上下両側から全面加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は全体的に波打ち変形し、接着層に大きな揺らぎを生じた。
Comparative Example 1
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. The laminated body is heated from the upper and lower sides using an electric furnace, and the surface temperature is 165 ° C. (upper part), 165 ° C. (lower part), the surface temperature difference is 0 ° C., the wood curvature radius is 25 mm, and the wood bending angle is 125 °. As a result of evaluation according to the above-mentioned “bending workability test”, the entire appearance was undulated and a large fluctuation was generated in the adhesive layer.

比較例2
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。ニクロム線棒ヒーターを用いて該積層体を上下両側から全面加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は全体的に波打ち変形し、接着層に大きな揺らぎと一部が白化した。
Comparative Example 2
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. The laminate is heated from the upper and lower sides using a nichrome wire rod heater, and the surface temperature is 165 ° C. (upper part), 165 ° C. (lower part), the surface temperature difference is 0 ° C., the wood-type curvature radius is 25 mm, and the wood-type bending angle. As a result of evaluation according to the above-mentioned “bending workability test” at 125 °, the appearance was entirely wavy and a large fluctuation and a part of the adhesive layer were whitened.

比較例3
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上下両側から全面加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観に若干のタワミ変形が生じ、接着層に多少の揺らぎが生じた。
Comparative Example 3
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. The laminate is heated from the upper and lower sides using a far-infrared heater so that the surface temperature is 165 ° C. (upper part), 165 ° C. (lower part), the surface temperature difference is 0 ° C., the wood radius of curvature is 25 mm, and the wood bending angle is 125. As a result of evaluation according to the “bending workability test”, the appearance was slightly deformed and the adhesive layer was slightly fluctuated.

比較例4
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅30mm(係数Y=1.25)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、曲げ部分の一部が剥離した。
Comparative Example 4
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the laminate is heated on the entire surface by the upper heater, and the lower heater is selectively heated at a heating width of 30 mm (coefficient Y = 1.25) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the above “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, a part of the bent portion was peeled off.

比較例5
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅144mm(係数Y=6.00)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、接着層に大きな揺らぎが発生し、視認性が低下した。
Comparative Example 5
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the entire surface of the laminate is heated with the upper heater, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 144 mm (coefficient Y = 6.00), and the surface temperature is 165 ° C. (upper part), 165 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, a large fluctuation occurred in the adhesive layer, and the visibility was lowered.

比較例6
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を片側上部から加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、150℃(下部)、表面温度差10℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観に反りが生じた。
Comparative Example 6
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. The laminate is selectively heated from the upper part on one side with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) using a far infrared heater, and the surface temperature is 165 ° C. (upper part), 150 ° C. (lower part), the surface temperature difference is 10 ° C., As a result of evaluation according to the above-mentioned “bending workability test” with a wooden mold radius of curvature of 25 mm and a wooden mold bending angle of 125 °, the appearance was warped.

比較例7
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を片側下部から加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度148℃(上部)、165℃(下部)、表面温度差12℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観に反りが生じた。
Comparative Example 7
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. The laminate is selectively heated from the lower part on one side with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) using a far-infrared heater to obtain a surface temperature of 148 ° C. (upper part), 165 ° C. (lower part), a surface temperature difference of 12 ° C., As a result of evaluation according to the above-mentioned “bending workability test” with a wooden mold radius of curvature of 25 mm and a wooden mold bending angle of 125 °, the appearance was warped.

比較例8
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度190℃(上部)、190℃(下部)、表面温度差0℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観は変形し、接着層に大きな揺らぎを生じた。
Comparative Example 8
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67), and surface temperatures of 190 ° C. (upper part) and 190 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 0 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was deformed and a large fluctuation was generated in the adhesive layer.

比較例9
銅化合物薄膜メッシュ(PCフィルム200μm厚)の電磁波シールド層と保護層(PCシート3.0mm厚)を得られた接着剤組成物を用いて前記「光透過型接着剤を用いた光透過型電磁波シールド積層体作製方法」に従いサンプルを作製した。
各種評価を行った結果、前記「電磁波シールド性能試験」によるサンプルの電磁波シールド性能は良好であった。遠赤外線ヒーターを用いて該積層体を上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは加熱幅40mm(係数Y=1.67)で選択加熱して、表面温度165℃(上部)、140℃(下部)、表面温度差25℃、木型曲率半径25mm、木型曲げ加工角度125°として前記「曲げ加工性試験」に従い評価した結果、外観に反りを生じた。
Comparative Example 9
Using the adhesive composition obtained from the electromagnetic wave shielding layer and the protective layer (PC sheet 3.0 mm thickness) of the copper compound thin film mesh (PC film 200 μm thickness), the “light transmissive electromagnetic wave using the light transmissive adhesive” A sample was prepared according to “Shield laminate manufacturing method”.
As a result of various evaluations, the electromagnetic wave shielding performance of the sample by the “electromagnetic wave shielding performance test” was good. Using a far-infrared heater, the upper layer heater is heated over the entire surface of the laminate, and the lower heater is selectively heated with a heating width of 40 mm (coefficient Y = 1.67) to obtain a surface temperature of 165 ° C. (upper part) and 140 ° C. (lower part). As a result of evaluation according to the “bending workability test” with a surface temperature difference of 25 ° C., a wood mold radius of curvature of 25 mm, and a wood mold bending angle of 125 °, the appearance was warped.

Figure 0005431787
Figure 0005431787

Figure 0005431787
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Claims (17)

電磁波シールド層の片側または両側にポリカーボネート基材を積層してなる厚さ0.1mm〜30mmの積層体を遠赤外線ヒーター加熱装置により上下両側から放射加熱して曲げ加工する方法において、上段ヒーターは全面加熱し、下段ヒーターは曲げ加工部の加熱幅を(1)式に示す範囲で選択加熱することにより曲げ加工することを特徴とする光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。
加熱幅=2πR×(180°−X°)/360°×Y (1)
ここで、πは円周率、Rは曲率半径、Xは曲げ加工角度(内角)、Yは係数(1.35≦Y≦4.15)を示す。
In a method in which a laminate of a thickness of 0.1 mm to 30 mm formed by laminating a polycarbonate substrate on one side or both sides of an electromagnetic wave shield layer is radiated and heated from both the upper and lower sides with a far infrared heater heating device, The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate, wherein the lower heater is bent by selectively heating the heating width of the bending portion within a range represented by the formula (1).
Heating width = 2πR × (180 ° −X °) / 360 ° × Y (1)
Here, π is a circumference, R is a radius of curvature, X is a bending angle (inner angle), and Y is a coefficient (1.35 ≦ Y ≦ 4.15).
下段遠赤外線ヒーターを開口部のある金属板で囲い、金属板の開口幅を調整することにより、光透過型電磁波シールド積層体の曲げ加工部を選択的に放射加熱することを特徴とする請求項1記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The lower far infrared heater is surrounded by a metal plate having an opening, and the bending portion of the light transmission type electromagnetic wave shield laminate is selectively radiantly heated by adjusting the opening width of the metal plate. A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate according to 1. 下段遠赤外線ヒーターを囲う金属板の材質が、アルミニウム、鉄、銅、ステンレスまたは鋳物である請求項2記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 Lower far the material of the metal plate surrounding the infrared heater, aluminum, iron, copper, a manufacturing method of the light transmissive electromagnetic wave shielding laminate according to claim 2 Symbol placing a stainless steel or castings. 該積層体の表面温度差を20℃以内に制御して140℃〜185℃に加熱したシールド積層体を曲率半径10mm以上の曲面に曲げ加工することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The shield laminated body heated to 140 ° C to 185 ° C by controlling the surface temperature difference of the laminated body within 20 ° C is bent into a curved surface having a curvature radius of 10 mm or more . method for producing optically transparent electromagnetic wave shield laminate according to. 放射波長が1μm以上の遠赤外線ヒーターを用いて加熱することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate according to any one of claims 1 to 4 , wherein heating is performed using a far-infrared heater having a radiation wavelength of 1 µm or more. 電磁波シールド層の導電性化合物が銀、銅、アルミ、ニッケル、カーボン、ITO(酸化インジウム/酸化錫)、ZnO、錫、亜鉛、チタン、タングステンおよびステンレスから選ばれた1つ以上の金属成分を含有する金属化合物を用いる請求項1〜5のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The conductive compound of the electromagnetic wave shielding layer contains one or more metal components selected from silver, copper, aluminum, nickel, carbon, ITO (indium oxide / tin oxide), ZnO, tin, zinc, titanium, tungsten and stainless steel The manufacturing method of the light transmission type electromagnetic wave shield laminated body in any one of Claims 1-5 using the metal compound to perform. 電磁波シールド層の電磁波シールド性能が30デシベル以上である請求項1〜6のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the electromagnetic wave shielding layer has an electromagnetic wave shielding performance of 30 decibels or more. 電磁波シールド層が金属薄膜メッシュ、金属織物メッシュ、導電性繊維メッシュおよび導電性印刷メッシュから選ばれる1種である請求項1〜7のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the electromagnetic wave shielding layer is one selected from a metal thin film mesh, a metal woven mesh, a conductive fiber mesh, and a conductive printing mesh. 金属薄膜メッシュおよび導電性印刷メッシュのベース基材がポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、またはポリエステル樹脂である請求項8記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate according to claim 8, wherein the base substrate of the metal thin film mesh and the conductive printing mesh is a polycarbonate resin, a polyethylene terephthalate resin, or a polyester resin. (A)(メタ)アクリレートモノマー、(B)(メタ)アクリレートオリゴマーおよび(C)アクリルアミド誘導体と、(D)シラン化合物および/または(E)有機リン化合物を含有する曲げ加工性に優れた(メタ)アクリレート系接着剤組成物を用いて積層してなる請求項1〜9のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (A) (meth) acrylate monomer, (B) (meth) acrylate oligomer and (C) acrylamide derivative, and (D) silane compound and / or (E) organophosphorus compound, and excellent bending workability The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate according to any one of claims 1 to 9 , wherein the laminate is made by using an acrylate adhesive composition. (B)(メタ)アクリレートオリゴマーが、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーおよびポリオール(メタ)アクリレートオリゴマーから選ばれた少なくとも1種類以上の(メタ)アクリレートオリゴマーである請求項10記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (B) (meth) acrylate oligomer is at least one (meth) acrylate selected from urethane (meth) acrylate oligomer, polyester (meth) acrylate oligomer, epoxy (meth) acrylate oligomer and polyol (meth) acrylate oligomer The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate according to claim 10, which is an oligomer. (C)アクリルアミド誘導体が、アルキルアクリルアミドおよび/またはアルキルメタアクリルアミドである請求項10又は11記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (C) The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding laminate according to claim 10 or 11, wherein the acrylamide derivative is alkyl acrylamide and / or alkyl methacrylamide. (D)シラン化合物が、アミノ官能性シラン、エポキシ官能性シラン、ビニル官能性シラン、メルカプト官能性シラン、メタクリレート官能性シラン、アクリルアミド官能性シラン、アクリレート官能性シランより選ばれた1種類以上である請求項10〜12のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (D) The silane compound is at least one selected from amino functional silane, epoxy functional silane, vinyl functional silane, mercapto functional silane, methacrylate functional silane, acrylamide functional silane, and acrylate functional silane. The manufacturing method of the light transmission type electromagnetic wave shield laminated body in any one of Claims 10-12. (E)有機リン化合物が、リン酸アクリレート化合物である請求項10〜13のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 (E) The organic phosphorus compound is a phosphoric acid acrylate compound. The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate according to any one of claims 10 to 13. 電磁波シールド層の片側または両側に被膜を配置してなる請求項1〜14のいずれかに記載の光透過型電磁波シールド積層体の製造方法。 The method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shield laminate according to any one of claims 1 to 14, wherein a film is disposed on one side or both sides of the electromagnetic wave shield layer. 請求項1〜15いずれかに記載の方法で製造された光透過型電磁波シールド積層体。 The light transmissive electromagnetic wave shield laminated body manufactured by the method in any one of Claims 1-15. 電子機器カバー、筐体用シールド材料、車両用カバー、半導体製造装置カバー、または窓材用シールド材料に用いられる請求項16記載の光透過型電磁波シールド積層体。 The light transmission type electromagnetic wave shield laminate according to claim 16, which is used for an electronic device cover, a casing shielding material, a vehicle cover, a semiconductor manufacturing apparatus cover, or a window material shielding material.
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