JP5431734B2 - 光学的可変セキュリティ装置 - Google Patents
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Description
具体的には、プレートホルダが、3つの位置決めピン55−57を有していることが好ましい。3つの内の2つ55,56は横の面に設置されており、1つ57は縦の面に設置されている。各ピンは、H2レジストマスタ43のそれぞれの側面と点接触又は半径接触(radiused contact)している。そのようなシステムでは、投影されたH2物体がこれら3つの接触点又は規準点を空間的に参照する。
本発明の方法は、OICが光学的干渉リソグラフィ処理により作り出されているような場合にも容易に適合され得る。ここでは、透過性マスクが、レジスト、及び、2つの重なったレーザビームにより生成された光干渉パターンにより照射された結合体、と密接に接して配置されている。このアプローチは、一次のオーダの回折レリーフ又はゼロ次のオーダの回折レリーフの何れかを生成するために用い得る。
この誤った読みのH2レジストマスタ80A,80Bは、まず、銀で真空メッキされて導伝性にされ、次に、2つのニッケルマスタ83A,83B;84A,84B、及び続いてエンボスシム85A,85Bを連続して生み出しながら、図12に示す電気メッキの順序に従って処理される。ここで、我々は、エンボスシム85A,85Bを”正しい読み”のアートワークを備えているが、ポジ型レジストからなるH2マスタ80A、80Bの中に存在するものの共役である微小構造を有しているように生成する。事実上、エンボス細工は、微小構造の観点からは、より容易にエンボスされ且つ複製されるEICを作り出すネガ型のレジストからなるH2マスタにより生成されたものに等しい。
Claims (25)
- セキュリティ装置を形成する方法であって、
a)電気的な導伝層の上に未現像のフォトレジスト層を用意するステップと、
b)実際のレインボーホログラム画像を前記フォトレジスト層上に転写又は投射するために、中間伝送ホログラムを形成するために使用した参照ビームの共役によって、前記中間伝送ホログラムを照射することによって、光学的干渉を用いて第1の回折パターンを前記未現像のフォトレジスト層内に形成するステップと、
c)電子ビームリソグラフィを用いて第2の回折パターンを前記未現像のフォトレジスト層内に形成するステップと、
d)その後、上記フォトレジスト層を現像するステップと、
を有していることを特徴とする方法。 - ステップc)がステップb)の後に実行される請求項1に記載の方法。
- 前記電気的な導伝層がクロムを含んでいる請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第2の回折パターンが1つ又は複数の回折格子により定められる請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の回折パターンの複数の部分が、各部分に対応する前記回折格子の方向が連続的に変化しながら前記装置を横断して間隔をあけている請求項4に記載の方法。
- 前記部分が、線を定めている請求項5に記載の方法。
- 前記第2の回折パターンが、20−100μmの範囲にある幅を備えた1つ又は複数の線を定めている請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の回折パターンの部分が、前記第1の回折パターンの部分の間に間隔を空けて形成されている請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の回折パターンの部分の間の前記間隔が150μmよりも大きい幅を有する請求項8に記載の方法。
- 前記第2の回折パターンの部分が、英数字文字のような証印を定める請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記証印が5−50μmの範囲の高さを有している請求項10に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層がポジ型のフォトレジストである請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
- ステップc)は、前記電気的な導伝層が接地に接続されている間に実行される請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電気的な導伝層が前記フォトレジスト層の端まで延出している請求項1から13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電気的な導伝層が吸収性の反射防止被覆層として働く請求項1から14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電気的な導伝層は吸収性の反射防止被覆層が設けられている請求項1から14のいずれか一項に記載の方法。
- 更に、前記セキュリティ装置を用いてダイ又はシムを形成するステップを有する請求項1から16のいずれか一項に記載の方法。
- 前記セキュリティ装置から第1の転写を生み出し、前記第1の転写から第2の転写を生み出し、前記第2の転写から前記ダイ又はシムを生み出し、反対に読むアートワークを用いて、ステップb)及びc)を実行することを有している請求項17に記載の方法。
- 更に、前記セキュリティ装置に対応する表面レリーフ微小構造を基板において作り出すために、前記ダイ又はシムを前記基板に貼り付けるステップを有している請求項17又は18に記載の方法。
- 前記基板がラベルを有している請求項19に記載の方法。
- 更に、前記ラベルをセキュリティ書類又は物品に後で付着するステップを有している請求項20に記載の方法。
- 前記基板が、キャリア上に用意されており、セキュリティ書類又は物品に後で移動される請求項19に記載の方法。
- 前記基板が、セキュリティ書類又は物品を有している請求項19に記載の方法。
- 前記セキュリティ書類又は物品が、紙幣、小切手又はトラベラーズチェック、実物証明書、切手、債権、道路税支払証明書、収入印紙、安全ラベル、パスポート、又は証票、身分証明書及び同様のものを含む請求項20から23のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から16のいずれか一項に記載の方法により形成されたセキュリティ装置。
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US5413884A (en) * | 1992-12-14 | 1995-05-09 | American Telephone And Telegraph Company | Grating fabrication using electron beam lithography |
US6255038B1 (en) | 1996-06-10 | 2001-07-03 | Optical Switch Corporation | Process for modulating interferometric lithography patterns to record selected discrete patterns in photoresist |
GB9810399D0 (en) * | 1998-05-14 | 1998-07-15 | Rue De Int Ltd | Holographic security device |
EP1123215A1 (en) | 1998-09-08 | 2001-08-16 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Three-dimensional microstructure |
US7129006B2 (en) | 1999-07-30 | 2006-10-31 | Research Investment Network, Inc. | Optical data storage system and method |
JP4179533B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2008-11-12 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム回折格子複合体 |
DE10308328A1 (de) | 2003-02-26 | 2004-09-09 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines belichteten Substrats |
AT501356A1 (de) * | 2003-06-18 | 2006-08-15 | Hueck Folien Gmbh | Sicherheitselemente und sicherheitsmerkmale mit farbeffekten |
US20050088633A1 (en) * | 2003-10-24 | 2005-04-28 | Intel Corporation | Composite optical lithography method for patterning lines of unequal width |
DE102004009422A1 (de) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Metronic Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von diffraktiven Elementen auf Oberflächen |
WO2006077445A2 (en) * | 2005-01-21 | 2006-07-27 | Ver-Tec Security Systems Limited | Security coloured holograms |
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