JP5416447B2 - Novel organosilicon compound and composition containing the same - Google Patents
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- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 72
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 62
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 79
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 24
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 19
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 5
- -1 5 Chemical class 0.000 description 196
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 60
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 48
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 42
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 36
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 20
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 18
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 18
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 9
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 7
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 6
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 5
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- PVLNHYPAZWPHDM-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)boron Chemical compound [B]C1=CC=C(Cl)C=C1 PVLNHYPAZWPHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RVSLSGJUKZJRIW-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)boron Chemical compound [B]C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 RVSLSGJUKZJRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyridin-1-ium Chemical class CCCC[N+]1=CC=CC=C1 REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AZWDISHHPONIAX-UHFFFAOYSA-N 1-butylquinolin-1-ium Chemical class C1=CC=C2[N+](CCCC)=CC=CC2=C1 AZWDISHHPONIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OIDIRWZVUWCCCO-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyridin-1-ium Chemical class CC[N+]1=CC=CC=C1 OIDIRWZVUWCCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTQPKEOYPPMVGQ-UHFFFAOYSA-N 1-methylquinolin-1-ium Chemical class C1=CC=C2[N+](C)=CC=CC2=C1 RTQPKEOYPPMVGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWBGKXMWYNNSRH-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C1=CC=C(C=C1)[B] Chemical compound C(CCC)C1=CC=C(C=C1)[B] ZWBGKXMWYNNSRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEQIGVGWYNVQHM-UHFFFAOYSA-N C(CCC)C=1C=C(C=CC=1)[B] Chemical compound C(CCC)C=1C=C(C=CC=1)[B] VEQIGVGWYNVQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JTPHDBMUAITJHP-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OC=1C=C(C=CC1)[B] Chemical compound C(CCC)OC=1C=C(C=CC1)[B] JTPHDBMUAITJHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N N-methylpyridinium Chemical class C[N+]1=CC=CC=C1 PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- LCKNZCHKSVSFHH-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methoxypropan-2-yl)phenyl]boron Chemical compound [B]C1=CC(C(OC)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=CC(C(OC)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 LCKNZCHKSVSFHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 4
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003479 dental cement Substances 0.000 description 4
- 239000011350 dental composite resin Substances 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 4
- 210000000214 mouth Anatomy 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical class CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical class CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 4
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATTSZAWLFKAZTF-UHFFFAOYSA-N (3-nitrophenyl)boron Chemical compound [B]C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ATTSZAWLFKAZTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGGMQWSJXSNGDT-UHFFFAOYSA-N (4-fluorophenyl)boron Chemical compound [B]C1=CC=C(F)C=C1 YGGMQWSJXSNGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KCWWCWMGJOWTMY-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-5-phenyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)NC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 KCWWCWMGJOWTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBMDQVNFHVUOIB-UHFFFAOYSA-N 1-ethylquinolin-1-ium Chemical class C1=CC=C2[N+](CC)=CC=CC2=C1 CBMDQVNFHVUOIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QJYYGBXKGCHSTI-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C QJYYGBXKGCHSTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZKFOEDSYSPDTEB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1OC(=O)C=C ZKFOEDSYSPDTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XMULXKFGESYAEG-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-8-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC=2C(OC)=CC=CC=2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 XMULXKFGESYAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCPPILPKINBJDC-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCC(O[Si](OC)(OC)CCCCCCC)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCC(O[Si](OC)(OC)CCCCCCC)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O UCPPILPKINBJDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HWPDIBGCECPDNL-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OC1=CC=C(C=C1)[B] Chemical compound C(CCC)OC1=CC=C(C=C1)[B] HWPDIBGCECPDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNCFCJNBAMKOQT-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)[B] Chemical compound C(CCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)[B] XNCFCJNBAMKOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFUGBQFBWUBVSP-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCC)OC=1C=C(C=CC1)[B] Chemical compound C(CCCCCCC)OC=1C=C(C=CC1)[B] UFUGBQFBWUBVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AFJXJDKUWZPRQX-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]boron Chemical compound [B]C1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 AFJXJDKUWZPRQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 150000007656 barbituric acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 3
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 3
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical class C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTSKHUNLOQPIGN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC1C(=O)N(C)C(=O)N(C)C1=O OTSKHUNLOQPIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVSASNKOFCZVES-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CN1C(=O)CC(=O)N(C)C1=O VVSASNKOFCZVES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTLXPCBPYBNQNR-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyanthraquinone Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2O BTLXPCBPYBNQNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGOVHAJZSSODRY-UHFFFAOYSA-N 11-trimethoxysilylundecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C RGOVHAJZSSODRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZBVPPRIBFECNZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-phenylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=N1 IZBVPPRIBFECNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUVSRZCUMWZBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)-4-methylanilino]ethanol Chemical compound CC1=CC=C(N(CCO)CCO)C=C1 JUVSRZCUMWZBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHCSLCUESAXELX-UHFFFAOYSA-N 2-hex-5-enyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound C(O)C(CCCCC=C)(CO)CO XHCSLCUESAXELX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JZXVADSBLRIAIB-UHFFFAOYSA-N 2-pyrrolidin-2-ylethanol Chemical compound OCCC1CCCN1 JZXVADSBLRIAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTKIZIQFMHVTRJ-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCCCC1C(=O)NC(=O)NC1=O HTKIZIQFMHVTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCNRIKGRQSBQQB-UHFFFAOYSA-N 7-(dibutylamino)-3-[7-(dibutylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(CCCC)CCCC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CCCC)CCCC)=CC2=C1 RCNRIKGRQSBQQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTFAQGCBYAXPCR-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=O)COP(C2=CC=CC=C2)=O)C(=CC(=C1)C)C Chemical compound CC1=C(C(=O)COP(C2=CC=CC=C2)=O)C(=CC(=C1)C)C OTFAQGCBYAXPCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUBJBVLNMSTXBG-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=O)P(C2=CC=CC=C2)=O)C(=CC(=C1)C)C.[Na] Chemical compound CC1=C(C(=O)P(C2=CC=CC=C2)=O)C(=CC(=C1)C)C.[Na] BUBJBVLNMSTXBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPBNDGVRPOECEP-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[2-[2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]ethoxy]propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COCCOCC(O)COC(=O)C(C)=C YPBNDGVRPOECEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTUVHUQNCWFPHD-UHFFFAOYSA-M [3-[(3,4-dimethyl-9h-thioxanthen-2-yl)oxy]-2-hydroxypropyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC=CC=C2CC2=C1C(C)=C(C)C(OCC(O)C[N+](C)(C)C)=C2 XTUVHUQNCWFPHD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCLDCIFZZWPUIR-UHFFFAOYSA-N [Na].P(OC(C)=O)(OC)=O Chemical compound [Na].P(OC(C)=O)(OC)=O FCLDCIFZZWPUIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002928 artificial marble Substances 0.000 description 2
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005015 aryl alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 2
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000007794 irritation Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- WWYACYKHLMCNBG-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfinate Chemical compound [Na+].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])=O)C(C(C)C)=C1 WWYACYKHLMCNBG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KFZUDNZQQCWGKF-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfinate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 KFZUDNZQQCWGKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N tyrosine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=C(O)C=C1 OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Chemical group 0.000 description 2
- JLLAWIKMLAQZCZ-UHFFFAOYSA-N (2,6-dichlorophenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JLLAWIKMLAQZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethoxyphenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UILJLCFPJOIGLP-BYPYZUCNSA-N (2s)-2-(prop-2-enoylamino)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)C[C@@H](C(O)=O)NC(=O)C=C UILJLCFPJOIGLP-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- XFHQGYBXSCRMNT-JTQLQIEISA-N (2s)-3-phenyl-2-(prop-2-enoylamino)propanoic acid Chemical compound C=CC(=O)N[C@H](C(=O)O)CC1=CC=CC=C1 XFHQGYBXSCRMNT-JTQLQIEISA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTVWMWLQDABAOV-UHFFFAOYSA-N (3-bromo-4-phosphonooxybutyl) prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC(COP(O)(O)=O)Br RTVWMWLQDABAOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLKRGXCGFRXRNQ-SNAWJCMRSA-N (z)-3-carbonoperoxoyl-4,4-dimethylpent-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)/C=C(C(C)(C)C)\C(=O)OO BLKRGXCGFRXRNQ-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- ROZDMUUELHCVQC-ARJAWSKDSA-N (z)-4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)but-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)C=C ROZDMUUELHCVQC-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWVBGOXYNZLWRX-UHFFFAOYSA-M 1,1-dimethoxyethyl(methyl)phosphinate;1,3,5-tributyl-n-methyl-1,2,4-triazol-1-ium-4-amine Chemical compound COC(C)(OC)P(C)([O-])=O.CCCCC1=N[N+](CCCC)=C(CCCC)N1NC LWVBGOXYNZLWRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-tert-butylperoxypropan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)OOC(C)(C)C)=C1 UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFQAQKVFBFWVKQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-5-(2-methylpropyl)-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)CC1C(=O)N(C)C(=O)N(C)C1=O NFQAQKVFBFWVKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFMJBRXTRUGJC-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-5-phenyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(C)C(=O)N(C)C(=O)C1C1=CC=CC=C1 UGFMJBRXTRUGJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBQJKKPQBMSWEP-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1CC(=O)N(C=2C=CC=CC=2)C(=O)N1C1=CC=CC=C1 FBQJKKPQBMSWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLJFBCVJRLGCMY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trichloromethyl)-2H-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)N1CN=C(C(Cl)(Cl)Cl)N=C1 PLJFBCVJRLGCMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXFDRTBMEIJQRH-UHFFFAOYSA-N 1,5-diethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCC1C(=O)NC(=O)N(CC)C1=O RXFDRTBMEIJQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABBHRQKJNIVFT-UHFFFAOYSA-N 1,5-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC1C(=O)NC(=O)N(C)C1=O DABBHRQKJNIVFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDCZRMVMLOUHOO-UHFFFAOYSA-N 1-(2-prop-2-enoyloxyethyl)naphthalene-2,3,6-tricarboxylic acid Chemical compound C(C=C)(=O)OCCC1=C(C(=CC2=CC(=CC=C12)C(=O)O)C(=O)O)C(=O)O SDCZRMVMLOUHOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXTPIHZYOGDSLV-UHFFFAOYSA-N 1-bromoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Br CXTPIHZYOGDSLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSNOVYXXOZYRDG-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-5-hexyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1C(CCCCCC)C(=O)NC(=O)N1C1CCCCC1 MSNOVYXXOZYRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOMGRDIADBNCNU-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-5-methyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1C(C)C(=O)NC(=O)N1C1CCCCC1 NOMGRDIADBNCNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADMXJQOJLRCZDT-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-5-octyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCC)C(=O)NC(=O)N1C1CCCCC1 ADMXJQOJLRCZDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSNNOBIKEKJNPW-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-5-(2-methylpropyl)-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCN1C(=O)NC(=O)C(CC(C)C)C1=O GSNNOBIKEKJNPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXXXBVJBVHTTJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-5-methyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCN1C(=O)NC(=O)C(C)C1=O QPXXXBVJBVHTTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- CFKBCVIYTWDYRP-UHFFFAOYSA-N 10-phosphonooxydecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O CFKBCVIYTWDYRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTMDDSQESSRCTM-UHFFFAOYSA-N 10-phosphonooxydecyl prop-2-enoate Chemical compound OP(O)(=O)OCCCCCCCCCCOC(=O)C=C NTMDDSQESSRCTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C HGOUNPXIJSDIKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(C)(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C JPOUDZAPLMMUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCBBNTFYSLADTO-UHFFFAOYSA-N 2,3-Octanedione Chemical compound CCCCCC(=O)C(C)=O XCBBNTFYSLADTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRMGOGJWHPCFJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfinic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)=O)C(C)=C1 CGRMGOGJWHPCFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URJAUSYMVIZTHC-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(tribromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound BrC(Br)(Br)C1=NC(C(Br)(Br)Br)=NC(C(Br)(Br)Br)=N1 URJAUSYMVIZTHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJPKWNXRUDKBQT-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4,5-trimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=C(OC)C(OC)=CC(C=CC=2N=C(N=C(N=2)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)=C1 JJPKWNXRUDKBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroperoxy-2,5-dimethylhexane Chemical compound OOC(C)(C)CCC(C)(C)OO JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2C=CC=CC=2)=N1 DQMOHZLFVGYNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHCBFWPNQZFQAI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phosphonooxyphenyl)ethyl prop-2-enoate Chemical compound P(=O)(OC1=C(C=CC=C1)CCOC(C=C)=O)(O)O FHCBFWPNQZFQAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVGHIMFCFZAKIF-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethylanilino)ethanol Chemical compound CC1=CC=C(NCCO)C=C1C NVGHIMFCFZAKIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKTRUOJPSJPVOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(Br)=CC=2)=N1 UKTRUOJPSJPVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MPNIGZBDAMWHSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZIUQIJHFBCZBX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylsulfanylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 OZIUQIJHFBCZBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C=O DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)CO SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXSGEAJTVTRMV-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OCCNC(=O)C=C NUXSGEAJTVTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWRRLTREYNMJPY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]oxy]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)CCOC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 VWRRLTREYNMJPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYXCAMYGTZWTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]oxy]ethyl-ethylamino]ethanol Chemical compound OCCN(CC)CCOC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ULYXCAMYGTZWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTVAVVASDKWQLQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-hydroxyethyl(methyl)amino]ethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCCN(C)CCO FTVAVVASDKWQLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLDMOJRATBJDBV-UHFFFAOYSA-N 2-[3,5-ditert-butyl-n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(N(CCO)CCO)=CC(C(C)(C)C)=C1 HLDMOJRATBJDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFMADWRJVDIYMF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-ethyl-n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound CCC1=CC=C(N(CCO)CCO)C=C1 IFMADWRJVDIYMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEXYKOLCMBHVMG-UHFFFAOYSA-N 2-[4-tert-butyl-n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(N(CCO)CCO)C=C1 IEXYKOLCMBHVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEKHZPDUBLCUHN-UHFFFAOYSA-N 2-[[3,5,5-trimethyl-6-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxycarbonylamino]hexyl]carbamoyloxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)NCCC(C)CC(C)(C)CNC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C UEKHZPDUBLCUHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEWPRFSWNWKLHF-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCCN(CCO)CCO DEWPRFSWNWKLHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCHXXZUEOABJIB-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCCN(CCO)CCO YCHXXZUEOABJIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKFNBVMJTSYZDV-UHFFFAOYSA-N 2-[dodecyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(CCO)CCO NKFNBVMJTSYZDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHICZSRCJVGOGG-UHFFFAOYSA-N 2-[ethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]amino]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C BHICZSRCJVGOGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMKJXRBWMSKNQE-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)-3,5-di(propan-2-yl)anilino]ethanol Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(N(CCO)CCO)=C1 IMKJXRBWMSKNQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWQRYFYKHVZIDQ-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)-3,5-dimethylanilino]ethanol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(N(CCO)CCO)=C1 JWQRYFYKHVZIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMBRORBBHNMRDM-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)-4-propan-2-ylanilino]ethanol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N(CCO)CCO)C=C1 OMBRORBBHNMRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAMPJVJAALGMNG-UHFFFAOYSA-N 2-acetylbenzo[f]chromen-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(C=C(C(O3)=O)C(=O)C)=C3C=CC2=C1 UAMPJVJAALGMNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVRDWDXWGKCYTR-UHFFFAOYSA-N 2-amino-3-prop-2-enoylbenzoic acid Chemical compound NC1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(=O)C=C DVRDWDXWGKCYTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004174 2-benzimidazolyl group Chemical group [H]N1C(*)=NC2=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C12 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C#N IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASEUXRQULQEGGL-UHFFFAOYSA-N 2-decyl-2-prop-2-enoyloxypropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(C(O)=O)(C(O)=O)OC(=O)C=C ASEUXRQULQEGGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZUDZAJRBFRQLS-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O RZUDZAJRBFRQLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGZZAZYCLRYTNQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethoxycarbonyloxy 2-ethoxyethyl carbonate Chemical compound CCOCCOC(=O)OOC(=O)OCCOCC VGZZAZYCLRYTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2,4,4-trimethylpentane Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OO MIRQGKQPLPBZQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(C)C(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOTIJEQQGSMAIN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(tribromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Br)(Br)Br)=NC(C(Br)(Br)Br)=N1 GOTIJEQQGSMAIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CC IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZXYIWMZCIFNRB-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoate;tris(2-hydroxyethyl)azanium Chemical compound CC(=C)C(O)=O.OCCN(CCO)CCO WZXYIWMZCIFNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(=O)C(C)C RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTEVZRQIBGJEHG-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-1-yl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=N1 ZTEVZRQIBGJEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- DPEWGZYRIAXJOK-UHFFFAOYSA-N 2-nonyl-2-prop-2-enoyloxypropanedioic acid Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CCCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O DPEWGZYRIAXJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYYUOCGLIQVVIS-UHFFFAOYSA-N 2-octyl-2-prop-2-enoyloxypropanedioic acid Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O PYYUOCGLIQVVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACMLKANOGIVEPB-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-2H-chromene-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ACMLKANOGIVEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBNVXKBMPATGEM-UHFFFAOYSA-N 2-pentyl-2-prop-2-enoyloxypropanedioic acid Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CCCCC)(C(=O)O)C(=O)O CBNVXKBMPATGEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXTHWIZHGLNEPG-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C1=CC=CC=C1 ZXTHWIZHGLNEPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-yl 2,2-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCCCCC(C)(C)C(=O)OOC(C)(C)c1ccccc1 NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DOSGQNSHFPTAOA-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CCCC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DOSGQNSHFPTAOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- DNZPLHRZXUJATK-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-5-[[5-[2-(trifluoromethyl)phenyl]furan-2-yl]methyl]-1,3-diazinane-4,6-dione Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(O1)=CC=C1CC1C(=O)NC(=S)NC1=O DNZPLHRZXUJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEBFFMASUFIZKN-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxy-3,3,5-trimethylhexanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C(C(O)=O)OOC(C)(C)C VEBFFMASUFIZKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylhexanoyl 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOC(=O)CC(C)CC(C)(C)C KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIJRQSPKMCQFJU-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1 FIJRQSPKMCQFJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBVMVIVLISACX-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoyloxyethyl)naphthalene-1,2,6-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)c1ccc2c(C(O)=O)c(C(O)=O)c(CCOC(=O)C=C)cc2c1 IDBVMVIVLISACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZESABVBPAGIPJ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-methoxybenzoyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC2=CC=CC=C2OC1=O AZESABVBPAGIPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMDIBINSUKPEB-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(4-ethoxyphenyl)prop-2-enoyl]-7-methoxychromen-2-one Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1C=CC(=O)C1=CC2=CC=C(OC)C=C2OC1=O NJMDIBINSUKPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYKMRINTJPZLQB-UHFFFAOYSA-N 3-acetyl-7-(dimethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=C(C(C)=O)C(=O)OC2=CC(N(C)C)=CC=C21 MYKMRINTJPZLQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLTYHPZKRUHOQ-UHFFFAOYSA-N 3-amino-4-(2-butoxyethyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=C1OC(=O)C(N)=C2CCOCCCC POLTYHPZKRUHOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXSWLSMWLZZECK-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-bromochromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC(Br)=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 OXSWLSMWLZZECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIUIPOQYIBJROA-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-methoxychromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC(OC)=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 IIUIPOQYIBJROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZFUZACPHSNNEC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-nitrochromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 FZFUZACPHSNNEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWDONSBFIIUPQS-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-(dimethylamino)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DWDONSBFIIUPQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 3-benzoylchromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXXCIBALSKQCAE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutoxymethylbenzene Chemical compound CC(C)CCOCC1=CC=CC=C1 RXXCIBALSKQCAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- USOZWPKFAHDLQH-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enylsulfanyloxysulfanylprop-1-ene Chemical group C=CCSOSCC=C USOZWPKFAHDLQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTEUUUADXRPGAJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-prop-2-enoylbenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C(C(=O)C=C)=C1 JTEUUUADXRPGAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUUZAKLLHPPMFZ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-prop-2-enoyloxybenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C(OC(=O)C=C)=C1 FUUZAKLLHPPMFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRHHJNMASOIRDS-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybenzaldehyde Chemical compound CCOC1=CC=C(C=O)C=C1 JRHHJNMASOIRDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLQNCSLBKKYPET-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CCC1=CC=C(N(C)C)C=C1 KLQNCSLBKKYPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDOSDCQRPAABHW-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-propoxybutanoic acid Chemical compound CCCOC(=O)CCC(O)=O PDOSDCQRPAABHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJDILFZCXQHCRB-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 SJDILFZCXQHCRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVNHORPINPVWMI-UHFFFAOYSA-N 5-(4-methylpentan-2-yl)-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)CC(C)C1C(=O)NC(=O)NC1=O ZVNHORPINPVWMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGWPHDAPRAREAY-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-prop-2-enoyloxybenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(C(O)=O)=C1 FGWPHDAPRAREAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODSZSDRDEZFANY-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-1,3-diethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCCCC1C(=O)N(CC)C(=O)N(CC)C1=O ODSZSDRDEZFANY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVEQCIBLXRSYPH-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-1-cyclohexylbarbituric acid Chemical compound O=C1C(CCCC)C(=O)NC(=O)N1C1CCCCC1 DVEQCIBLXRSYPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RATSVJLVTJDKSI-UHFFFAOYSA-N 5-cyclohexyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1NC(=O)NC(=O)C1C1CCCCC1 RATSVJLVTJDKSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBKBYQJFJUEBR-UHFFFAOYSA-N 5-cyclohexyl-1,3-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(C)C(=O)N(C)C(=O)C1C1CCCCC1 ANBKBYQJFJUEBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTUYGYIHVPSHQF-UHFFFAOYSA-N 5-cyclopentyl-1,3-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(C)C(=O)N(C)C(=O)C1C1CCCC1 WTUYGYIHVPSHQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMTLDVACNZDTQL-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCC1C(=O)NC(=O)NC1=O FMTLDVACNZDTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBCQXNDNMOHQIU-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-1,3-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCC1C(=O)N(C)C(=O)N(C)C1=O QBCQXNDNMOHQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOMAEJQBTWAPAN-UHFFFAOYSA-N 5-methylbarbituric acid Chemical compound CC1C(=O)NC(=O)NC1=O GOMAEJQBTWAPAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFPIGNBQTXNNAG-UHFFFAOYSA-N 5-propan-2-yl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)C1C(=O)NC(=O)NC1=O GFPIGNBQTXNNAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWSXCQXSBNMGFC-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCCC1C(=O)NC(=O)NC1=O ZWSXCQXSBNMGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 6,7-dimethoxy-3,4-dihydronaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1CC(C(O)=O)=CC2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNLGHUTUQNFLSO-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonooxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound OP(O)(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C UNLGHUTUQNFLSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[7-(diethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(CC)CC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVCQMFUJJMHLHQ-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-3-[7-(dimethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(C)C)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(C)C)=CC2=C1 RVCQMFUJJMHLHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEEGNDSSWAOLFN-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 VEEGNDSSWAOLFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODRDTKMYQDXVGG-UHFFFAOYSA-N 8-methoxycoumarin Natural products C1=CC(=O)OC2=C1C=CC=C2OC ODRDTKMYQDXVGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOHNPPDEPNZGSW-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCC(CCCCC=C)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCC(CCCCC=C)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O JOHNPPDEPNZGSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQZIWOENHVJIS-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCC(CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCC(CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl)(COC(C(=C)C)=O)COC(C(=C)C)=O INQZIWOENHVJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YINJBJIDNHMFCT-UHFFFAOYSA-M C(C)(=O)CCCCCP([O-])=O.[Na+] Chemical compound C(C)(=O)CCCCCP([O-])=O.[Na+] YINJBJIDNHMFCT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IQABUVQOXCXLGY-UHFFFAOYSA-L C(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)C)C(C)C)S(=O)O.C(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)CC)S(=O)[O-].[Ca+2].C(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)CC)S(=O)[O-] Chemical compound C(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)C)C(C)C)S(=O)O.C(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)CC)S(=O)[O-].[Ca+2].C(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)CC)S(=O)[O-] IQABUVQOXCXLGY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ASDDUXWXFJWKRL-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)N.CP(OC(CC)(OC)OC)=O Chemical compound C(C)(C)N.CP(OC(CC)(OC)OC)=O ASDDUXWXFJWKRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNIWNWTWEWUOQK-UHFFFAOYSA-N C(CCCC)P(OC(CC)=O)=O.[Na] Chemical compound C(CCCC)P(OC(CC)=O)=O.[Na] NNIWNWTWEWUOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADDLYTSLTXEONX-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O.C(C=C)(=O)OC(C=C)=O Chemical compound C(CCCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O.C(C=C)(=O)OC(C=C)=O ADDLYTSLTXEONX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AROMMAFGVIQMGR-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O.C(C=C)(=O)N Chemical compound C(CCCCCCCCCC)(C(=O)O)C(=O)O.C(C=C)(=O)N AROMMAFGVIQMGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFVMIBAAPVTZMP-UHFFFAOYSA-N CC(=O)CCOP(O)O Chemical compound CC(=O)CCOP(O)O OFVMIBAAPVTZMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CC(C*C(*)=C)(C*C(*)=C)C*C(*)=*=N Chemical compound CC(C*C(*)=C)(C*C(*)=C)C*C(*)=*=N 0.000 description 1
- HQLJWZGLXGUBLN-UHFFFAOYSA-N CC(CP(=O)C(=O)c1c(C)ccc(C)c1C)CC(C)(C)C Chemical compound CC(CP(=O)C(=O)c1c(C)ccc(C)c1C)CC(C)(C)C HQLJWZGLXGUBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCBSQNWPJZARK-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=C(C(P(C2=CC=CC=C2)=O)=O)C(C)=C1.N Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(P(C2=CC=CC=C2)=O)=O)C(C)=C1.N HGCBSQNWPJZARK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZFUSSYBNKYIU-UHFFFAOYSA-N CCCC(=O)PC Chemical compound CCCC(=O)PC ZDZFUSSYBNKYIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVTXONSSCURDJI-UHFFFAOYSA-N CN(C1=CC(=CC(=C1)C)C)C.C(C)N(C1=CC=C(C=C1)C)CC Chemical compound CN(C1=CC(=CC(=C1)C)C)C.C(C)N(C1=CC=C(C=C1)C)CC CVTXONSSCURDJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N Methyl benzoate Natural products COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical class NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZCXCXDOGAEFQX-UHFFFAOYSA-N N-Acryloylglycine Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C=C LZCXCXDOGAEFQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N N-ethyldiethanolamine Chemical compound OCCN(CC)CCO AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOMWHKQNBAHOKT-UHFFFAOYSA-N P(OC(C1=CC=CC=C1)=O)(OC)=O Chemical compound P(OC(C1=CC=CC=C1)=O)(OC)=O YOMWHKQNBAHOKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMTBVFOWSHOQMT-UHFFFAOYSA-N P(OC)(OC(CC)=O)=O Chemical compound P(OC)(OC(CC)=O)=O MMTBVFOWSHOQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003436 Schotten-Baumann reaction Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical class [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006959 Williamson synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PRRGXULZOZTZDK-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-(2,5-dimethylphenyl)phosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound CC1=CC=C(C)C(P(=O)(C(=O)C=2C(=CC=CC=2Cl)Cl)C(=O)C=2C(=CC=CC=2Cl)Cl)=C1 PRRGXULZOZTZDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEDSKTISNTXEQI-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-(4-propylphenyl)phosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC=CC=1Cl)Cl)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl ZEDSKTISNTXEQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJCLWHSZGZEAS-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-naphthalen-1-ylphosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)P(=O)(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl YNJCLWHSZGZEAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNRISHWSPBDRTH-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-phenylphosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl DNRISHWSPBDRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTCAGYRXUCWHPV-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,5-dimethylphenyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C(=CC=C(C)C=1)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC ZTCAGYRXUCWHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QISAYNXDUCNISJ-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-phenylphosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC QISAYNXDUCNISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJHVGPHBIZTOHI-UHFFFAOYSA-N [2-(3-butoxyphenyl)phenyl]-diphenylborane Chemical compound CCCCOC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)B(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 WJHVGPHBIZTOHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOXDPXZDZKCTN-UHFFFAOYSA-N [2-(3-octoxyphenyl)phenyl]-diphenylborane Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)B(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 GNOXDPXZDZKCTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKNPUKLMZUVJTE-UHFFFAOYSA-N [2-(4-butoxyphenyl)phenyl]-diphenylborane Chemical compound C1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YKNPUKLMZUVJTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYIVTXYZCMNNJI-UHFFFAOYSA-N [2-(4-fluorophenyl)phenyl]-diphenylborane Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YYIVTXYZCMNNJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCSZKJOLHQJJED-UHFFFAOYSA-N [2-(4-nitrophenyl)phenyl]-diphenylborane Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZCSZKJOLHQJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKRLTUNIIDPMER-UHFFFAOYSA-N [2-[3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]phenyl]-diphenylborane Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(C(F)(F)F)=CC(C=2C(=CC=CC=2)B(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 PKRLTUNIIDPMER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZKSXMVCJJNNSM-UHFFFAOYSA-M [2-hydroxy-3-(1,3,4-trimethyl-9-oxothioxanthen-2-yl)oxypropyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=C(C)C(OCC(O)C[N+](C)(C)C)=C2C VZKSXMVCJJNNSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RJLSZDCSJABWGA-UHFFFAOYSA-M [2-hydroxy-3-(9-oxothioxanthen-2-yl)oxypropyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(OCC(O)C[N+](C)(C)C)=CC=C3SC2=C1 RJLSZDCSJABWGA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N [3-(7-acetyloxy-2-oxochromene-3-carbonyl)-2-oxochromen-7-yl] acetate Chemical compound C1=C(OC(C)=O)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC(=O)C)=CC2=C1 TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTIRRWWUJWYXTD-UHFFFAOYSA-N [K].CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [K].CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 YTIRRWWUJWYXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQIFTHGXIKHTCQ-UHFFFAOYSA-L [Li+].[Li+].OCP(=O)C(=O)CCC([O-])=O.OCP(=O)C(=O)CCC([O-])=O Chemical compound [Li+].[Li+].OCP(=O)C(=O)CCC([O-])=O.OCP(=O)C(=O)CCC([O-])=O HQIFTHGXIKHTCQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KJEDVTPLCJKZOV-UHFFFAOYSA-N [Li].COC(CCC(=O)P(=O)CO)=O.[Na] Chemical compound [Li].COC(CCC(=O)P(=O)CO)=O.[Na] KJEDVTPLCJKZOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTRVKBAJTGWDKN-UHFFFAOYSA-N [Na+].P(OC(C)(OCC)OCC)[O-] Chemical compound [Na+].P(OC(C)(OCC)OCC)[O-] LTRVKBAJTGWDKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCPISVXXQVURPO-UHFFFAOYSA-M [Na+].P(OC(C)=O)([O-])=O Chemical compound [Na+].P(OC(C)=O)([O-])=O VCPISVXXQVURPO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QMEZTEKFSDJOJV-UHFFFAOYSA-N [Na+].P(OC1(NCCCN1)C)[O-] Chemical compound [Na+].P(OC1(NCCCN1)C)[O-] QMEZTEKFSDJOJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMYLZZPARAMPMK-UHFFFAOYSA-M [Na+].[O-]P(=O)CC(C)=NNC(N)=S Chemical compound [Na+].[O-]P(=O)CC(C)=NNC(N)=S DMYLZZPARAMPMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IPOYPGIRJJXSDM-UHFFFAOYSA-N [Na].C(CCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C1=C(C=CC=C1)B(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [Na].C(CCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C1=C(C=CC=C1)B(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 IPOYPGIRJJXSDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRDXJOSKOYLXAG-UHFFFAOYSA-N [Na].COC(=O)CCC(=O)P(=O)CCCCCO Chemical compound [Na].COC(=O)CCC(=O)P(=O)CCCCCO FRDXJOSKOYLXAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXZQLZPJVMODBB-UHFFFAOYSA-N [Na].OCOP(=O)C(CCC(=O)OC)=O Chemical compound [Na].OCOP(=O)C(CCC(=O)OC)=O JXZQLZPJVMODBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAVXQSVQKLZLEF-UHFFFAOYSA-N [Na].P(OC(C)(OCC)OCC)OC Chemical compound [Na].P(OC(C)(OCC)OCC)OC NAVXQSVQKLZLEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIQSEUQPRAZRSM-UHFFFAOYSA-N [Na].P(OC)(OC(C(C)C)=O)=O Chemical compound [Na].P(OC)(OC(C(C)C)=O)=O UIQSEUQPRAZRSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRUCWMMOLVLBE-UHFFFAOYSA-N [Na].P(OC)(OC1(NCCCN1)C)=O Chemical compound [Na].P(OC)(OC1(NCCCN1)C)=O DQRUCWMMOLVLBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSDJEDRXESLUMD-UHFFFAOYSA-N [Na].P(OC)OC1(SCCN1)C Chemical compound [Na].P(OC)OC1(SCCN1)C YSDJEDRXESLUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHWDBJSOLILKBM-UHFFFAOYSA-N [Na].[PH2](OC(C)=O)=O Chemical compound [Na].[PH2](OC(C)=O)=O ZHWDBJSOLILKBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKZVZIXHGKUFD-UHFFFAOYSA-N [PH2](OCC(C)(OC)OC)=O.C(CCC)[N+]=1N=C(N(C1CCC)NCNCCCC)CCC Chemical compound [PH2](OCC(C)(OC)OC)=O.C(CCC)[N+]=1N=C(N(C1CCC)NCNCCCC)CCC OKKZVZIXHGKUFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXLHXKNDSMMKDL-UHFFFAOYSA-N [phenoxy-(2,4,6-trimethylbenzoyl)oxyphosphoryl] 2,4,6-trimethylbenzoate Chemical compound P(=O)(OC1=CC=CC=C1)(OC(C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=O)OC(C1=C(C=C(C=C1C)C)C)=O UXLHXKNDSMMKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N acenaphthoquinone Chemical compound C1=CC(C(C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECABVMKPMRCRZ-UHFFFAOYSA-M acetyl(methoxy)phosphinate Chemical compound COP([O-])(=O)C(C)=O QECABVMKPMRCRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005882 aldol condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- LIRCFGBNQPWVRY-UHFFFAOYSA-K aluminum;2-methyl-4-oxopyran-3-olate Chemical compound [Al+3].CC=1OC=CC(=O)C=1[O-].CC=1OC=CC(=O)C=1[O-].CC=1OC=CC(=O)C=1[O-] LIRCFGBNQPWVRY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229940125717 barbiturate Drugs 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N benzenecarbothioic s-acid Chemical compound SC(=O)C1=CC=CC=C1 UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M benzododecinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- OWRGUHUQWZGFDZ-UHFFFAOYSA-N butyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C OWRGUHUQWZGFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXIQXYOPGBXIEM-UHFFFAOYSA-N butyl 4,4-bis(tert-butylperoxy)pentanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)(OOC(C)(C)C)OOC(C)(C)C BXIQXYOPGBXIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VAWSWDPVUFTPQO-UHFFFAOYSA-N calcium strontium Chemical compound [Ca].[Sr] VAWSWDPVUFTPQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWKLZYHSINFKA-UHFFFAOYSA-L calcium;2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfinate Chemical compound [Ca+2].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])=O)C(C(C)C)=C1.CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])=O)C(C(C)C)=C1 ZDWKLZYHSINFKA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MGKWLBCLSKZROU-UHFFFAOYSA-L calcium;2,4,6-trimethylbenzenesulfinate Chemical compound [Ca+2].CC1=CC(C)=C(S([O-])=O)C(C)=C1.CC1=CC(C)=C(S([O-])=O)C(C)=C1 MGKWLBCLSKZROU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CQTBCRGSMDMCKL-UHFFFAOYSA-L calcium;benzenesulfinate Chemical compound [Ca+2].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CQTBCRGSMDMCKL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LDKSTCHEYCNPDS-UHFFFAOYSA-L carbon monoxide;dichloroplatinum Chemical compound O=C=[Pt](Cl)(Cl)=C=O LDKSTCHEYCNPDS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M cetalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- SVOAENZIOKPANY-CVBJKYQLSA-L copper;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O SVOAENZIOKPANY-CVBJKYQLSA-L 0.000 description 1
- QNZRVYCYEMYQMD-UHFFFAOYSA-N copper;pentane-2,4-dione Chemical compound [Cu].CC(=O)CC(C)=O QNZRVYCYEMYQMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004113 cyclononanyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N decane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCS VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002670 dental porcelain Substances 0.000 description 1
- 239000004851 dental resin Substances 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N dibutylstannane Chemical compound CCCC[SnH2]CCCC WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N dioctyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn]CCCCCCCC HGQSXVKHVMGQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIBMTBXKARQXFP-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,3,5,6-tetramethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C(=O)P(=O)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1C MIBMTBXKARQXFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- YGHIIBLLAKLTBT-UHFFFAOYSA-N ethyl 6-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylate Chemical compound COC1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)OCC)=CC2=C1 YGHIIBLLAKLTBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATXWFSDEXYKQST-UHFFFAOYSA-N ethyl 8-methoxy-2-oxochromene-3-carboxylate Chemical compound C1=CC(OC)=C2OC(=O)C(C(=O)OCC)=CC2=C1 ATXWFSDEXYKQST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N formylmethyl Chemical group [CH2]C=O FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N heptyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OC)(OC)OC VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIIALPBMIOVAHH-UHFFFAOYSA-N herniarin Chemical compound C1=CC(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 LIIALPBMIOVAHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHGVLAHJJNKSAW-UHFFFAOYSA-N herniarin Natural products C1CC(=O)OC2=CC(OC)=CC=C21 JHGVLAHJJNKSAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- KWWLHGLKLQKCCT-UHFFFAOYSA-N lithium;2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfinic acid Chemical compound [Li].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S(O)=O)C(C(C)C)=C1 KWWLHGLKLQKCCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFBCAFRNNFDRNG-UHFFFAOYSA-M lithium;2,4,6-triethylbenzenesulfinate Chemical compound [Li+].CCC1=CC(CC)=C(S([O-])=O)C(CC)=C1 XFBCAFRNNFDRNG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MIVOPSLBXCQIBW-UHFFFAOYSA-M lithium;2,4,6-trimethylbenzenesulfinate Chemical compound [Li+].CC1=CC(C)=C(S([O-])=O)C(C)=C1 MIVOPSLBXCQIBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MSUZXYWQEDRGFN-UHFFFAOYSA-M lithium;4-methylbenzenesulfinate Chemical compound [Li+].CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 MSUZXYWQEDRGFN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NVSKMOMNGUJKCL-UHFFFAOYSA-M lithium;benzenesulfinate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 NVSKMOMNGUJKCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKNDYQNNDRTHFP-UHFFFAOYSA-N n,n,3,4-tetramethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C)C(C)=C1 LKNDYQNNDRTHFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWOMTHDOJCARBY-UHFFFAOYSA-N n,n,3-trimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC(C)=C1 CWOMTHDOJCARBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYVGXEWAOAAJEU-UHFFFAOYSA-N n,n,4-trimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C)C=C1 GYVGXEWAOAAJEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJRUTYCVCLZWSR-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-propan-2-ylaniline Chemical compound CC(C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 MJRUTYCVCLZWSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LIINGNMKNRSOGW-UHFFFAOYSA-N oct-7-enal Chemical compound C=CCCCCCC=O LIINGNMKNRSOGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STJQOKAHOSROTH-UHFFFAOYSA-N oct-7-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCC=C STJQOKAHOSROTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- OGUCKKLSDGRKSH-UHFFFAOYSA-N oxalic acid oxovanadium Chemical compound [V].[O].C(C(=O)O)(=O)O OGUCKKLSDGRKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHHDXUNFNAZUGB-UHFFFAOYSA-N oxidovanadium(2+) Chemical compound [V+2]=O MHHDXUNFNAZUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFYJDHRWCNNYJQ-UHFFFAOYSA-N oxo-(3-oxo-3-phenylpropoxy)-(2,4,6-trimethylphenyl)phosphanium Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1[P+](=O)OCCC(=O)C1=CC=CC=C1 BFYJDHRWCNNYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N pentaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCO JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3-dione Chemical compound CCC(=O)C(C)=O TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- HPWMVNFJSFHJIW-UHFFFAOYSA-M potassium;2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfinate Chemical compound [K+].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])=O)C(C(C)C)=C1 HPWMVNFJSFHJIW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLZLDWFYQXFPSZ-UHFFFAOYSA-M potassium;2,4,6-triethylbenzenesulfinate Chemical compound [K+].CCC1=CC(CC)=C(S([O-])=O)C(CC)=C1 NLZLDWFYQXFPSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SCRWQCKSJIHKKV-UHFFFAOYSA-M potassium;2,4,6-trimethylbenzenesulfinate Chemical compound [K+].CC1=CC(C)=C(S([O-])=O)C(C)=C1 SCRWQCKSJIHKKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YVHWGMMGEAQQRT-UHFFFAOYSA-M potassium;4-methylbenzenesulfinate Chemical compound [K+].CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 YVHWGMMGEAQQRT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZSBNSVOXWMXLL-UHFFFAOYSA-M potassium;benzenesulfinate Chemical compound [K+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 LZSBNSVOXWMXLL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003139 primary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000003829 resin cement Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005619 secondary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPPQYORGOMWNMX-UHFFFAOYSA-L sodium phosphonate pentahydrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]P([O-])=O YPPQYORGOMWNMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VMMZJFAHOAKUQM-UHFFFAOYSA-N sodium;1,3,5-trimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione Chemical compound [Na].CC1C(=O)N(C)C(=O)N(C)C1=O VMMZJFAHOAKUQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFTILSBBLXWMQK-UHFFFAOYSA-M sodium;1-cyclohexyl-5-ethyl-4,6-dioxopyrimidin-2-olate Chemical compound [Na+].O=C1C(CC)C(=O)[N-]C(=O)N1C1CCCCC1 VFTILSBBLXWMQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KNHRGMOGYVTHPU-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,6-triethylbenzenesulfinate Chemical compound [Na+].CCC1=CC(CC)=C(S([O-])=O)C(CC)=C1 KNHRGMOGYVTHPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRBCNEIBDFNEES-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,6-trimethylbenzenesulfinate Chemical compound [Na+].CC1=CC(C)=C(S([O-])=O)C(C)=C1 GRBCNEIBDFNEES-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- AAWSDNAGOTWUPV-UHFFFAOYSA-N sulfanyloxyethene Chemical group SOC=C AAWSDNAGOTWUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-tert-butylperoxycarbonylbenzoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC(C)(C)C)=C1 JIYXDFNAPHIAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethaneperoxoate Chemical compound CC(=O)OOC(C)(C)C SWAXTRYEYUTSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003510 tertiary aliphatic amines Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRQHGWJPIZXDTA-UHFFFAOYSA-N trichloro(heptyl)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl SRQHGWJPIZXDTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940041260 vanadyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000352 vanadyl sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Dental Preparations (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は、新規有機珪素化合物、及び該化合物を含む組成物に関する。 The present invention relates to a novel organosilicon compound and a composition containing the compound.
有機珪素化合物は、無機物に対して反応性を有するシラノール基に変換可能な基と、有機物に対し反応性を有する重合性基を含有し、かつ有機物に対して親和性に富むスペーサーとしての有機基を1分子内に併せ持つ化合物である。有機珪素化合物は無機物と有機物との界面の接着助剤として作用するため、多くの複合材料に広く使われている。 The organosilicon compound contains a group that can be converted into a silanol group that is reactive with inorganic substances, and a polymerizable group that is reactive with organic substances, and is an organic group as a spacer that has a high affinity for organic substances. In a molecule. Organosilicon compounds are widely used in many composite materials because they act as adhesion aids at the interface between inorganic and organic materials.
近年、プラスチックの機械的強度や耐久性等の性質を改善するために、無機粒子を添加して複合材料とすることが一般的に知られており、このような複合材料は、導電材、記録材、摺動材、封止材、制振材、歯科・医科材料、断熱材等、様々な分野で応用されている。特に近年の歯科治療においては、コンポジットレジンやレジンセメントに代表されるような歯科修復材用の複合材料が多用されている。 In recent years, in order to improve the mechanical strength and durability of plastics, it is generally known to add inorganic particles to form a composite material. It is applied in various fields such as materials, sliding materials, sealing materials, damping materials, dental / medical materials, and heat insulating materials. In particular, in recent dental treatment, composite materials for dental restoration materials such as composite resins and resin cements are frequently used.
有機珪素化合物の使用によって無機粒子と有機物との接着性は向上し、複合材料の機械的強度は向上する。しかし、高温多湿な使用条件下では、時間と共に無機粒子と有機物間の有機珪素化合物は加水分解を受け、その結果、接着力が失われ、複合材料の強度が徐々に低下し、材料の耐久性が低いという課題がある。 By using the organosilicon compound, the adhesion between the inorganic particles and the organic substance is improved, and the mechanical strength of the composite material is improved. However, under high-temperature and high-humidity conditions, the organosilicon compound between inorganic particles and organic matter undergoes hydrolysis over time, resulting in the loss of adhesion, gradually reducing the strength of the composite material, and durability of the material. There is a problem that is low.
特に歯科分野においては、複合材料は口腔内で高温多湿な環境下にさらされるものであり、従来、有機珪素化合物には、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(以下、3MPSとする)が広く用いられている。該化合物で表面処理された粒子を用いた場合、時間の経過と共に吸水が進み、加水分解が進行しやすく、材料の耐久性が低いという課題がある。また、歯の代替として用いられるコンポジットレジンに該化合物で表面処理された粒子を用いた場合には、機械的強度は十分ではなく、さらなる強度の向上が求められている。 Particularly in the dental field, composite materials are exposed to high-temperature and high-humidity environments in the oral cavity. Conventionally, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as 3MPS) has been widely used as organosilicon compounds. It has been. When particles surface-treated with the compound are used, water absorption progresses with time, hydrolysis tends to proceed, and the durability of the material is low. Further, when particles surface-treated with the compound are used in a composite resin used as a substitute for teeth, the mechanical strength is not sufficient, and further improvement in strength is required.
材料の耐久性を向上させる方法としては、アルキル鎖長の長い有機珪素化合物を使用する方法(特許文献1)、フルオロアルキレン基を有する有機珪素化合物を使用する方法(特許文献2)が提案されている。また、材料の機械的強度を向上させる方法として、重合性単量体と重合可能な重合性基を複数有する有機珪素化合物を用いることにより、有機物と無機物の界面における接着性を強化する方法(特許文献3、非特許文献1)が提案されている。 As a method for improving the durability of the material, a method using an organosilicon compound having a long alkyl chain length (Patent Document 1) and a method using an organosilicon compound having a fluoroalkylene group (Patent Document 2) have been proposed. Yes. In addition, as a method for improving the mechanical strength of a material, a method for enhancing adhesion at the interface between an organic substance and an inorganic substance by using an organosilicon compound having a plurality of polymerizable groups capable of polymerizing with a polymerizable monomer (patent) Document 3 and Non-Patent Document 1) have been proposed.
しかしながら、特許文献1及び特許文献2に記載の方法を、歯科用修復材に適用した際には、機械的強度に改善の余地がある。特許文献3及び非特許文献1に記載の方法を歯科用修復材に適用した際には、耐水性が低く、材料の耐久性は不十分である。このように、従来技術では有機珪素化合物を使用した材料の耐久性及び機械的強度の両立は不十分であり、更なる改良の余地があった。 However, when the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 are applied to a dental restoration material, there is room for improvement in mechanical strength. When the methods described in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1 are applied to a dental restoration material, the water resistance is low and the durability of the material is insufficient. As described above, in the prior art, both durability and mechanical strength of the material using the organosilicon compound are insufficient, and there is room for further improvement.
そこで本発明は、高い接着性及び接着耐久性を与え、これにより複合材料に用いた際に高い機械的強度及び耐久性を与える新規な有機珪素化合物を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a novel organosilicon compound that gives high adhesion and durability, and thereby gives high mechanical strength and durability when used in a composite material.
本発明は、下記一般式(1)で表される、m個の重合性基を有する有機珪素化合物である。 The present invention is an organosilicon compound having m polymerizable groups represented by the following general formula (1).
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、(A)は存在しないか、又は−COO−、−OCO−、−CONH−、−O−、−S−、−CH2O−、−CH2S−、−C6H4O−、−C6H4COO−、及び−C6H4OCO−からなる群から選択される1種であり、mは2又は3であり、R4は置換基を有してもよい炭素数6〜40の炭化水素基であって、Si原子と重合性基とを、炭素原子が5個以上直列した鎖により結合しており、R5は加水分解可能な基であり、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、nは1〜3の整数である。) (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and (A) does not exist, Or —COO—, —OCO—, —CONH—, —O—, —S—, —CH 2 O—, —CH 2 S—, —C 6 H 4 O—, —C 6 H 4 COO—, and is one kind selected from the group consisting of -C 6 H 4 OCO-, m is 2 or 3, R 4 is a hydrocarbon group which may having 6 to 40 carbon atoms which may have a substituent , Si atoms and polymerizable groups are bonded by a chain in which 5 or more carbon atoms are connected in series, R 5 is a hydrolyzable group, and R 6 may have a substituent. -20 hydrocarbon groups, n is an integer of 1-3.)
R1及びR2は水素原子であり、R3は水素原子又はメチル基であることが好ましい。Aは、−COO−であることが好ましい。R4は、炭素数6〜40の炭化水素基であることが好ましい。 R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom, and R 3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. A is preferably —COO—. R 4 is preferably a hydrocarbon group having 6 to 40 carbon atoms.
本発明の有機珪素化合物は、下記一般式(2)で表される化合物であることが好ましい。 The organosilicon compound of the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (2).
(式中、R7〜R9はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、R10はアルコキシ基であり、kは3〜16の整数を示す。) (Wherein, R 7 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 10 is an alkoxy group, k is an integer of 3 to 16.)
本発明はまた、上記の有機珪素化合物で表面処理された無機粒子である。 The present invention also relates to inorganic particles surface-treated with the above organosilicon compound.
本発明はまた、上記の無機粒子、重合性単量体、及び重合開始剤を含む歯科用組成物である。 The present invention is also a dental composition comprising the above inorganic particles, a polymerizable monomer, and a polymerization initiator.
本発明はまた、上記の有機珪素化合物を含む歯科用組成物である。 The present invention is also a dental composition comprising the above organosilicon compound.
本発明の有機珪素化合物によれば、従来の有機珪素化合物よりも有機材料と無機充填剤又は無機基材などの無機材料との接着性、及び耐水性が向上し、複合材料の機械的特性、耐久性を改善することができる。よって、FRP、FRTP、エラストマー、塗料、接着剤、シーラント、レジンコンクリート、ファンドリー、封止剤、人造大理石、プラスチックマグネット、ゴムマグネット、磁気テープ、PCB、歯科修復材等の無機材料と有機材料を組み合わせた複合材料において有用であり、歯科修復材用の複合材料において特に有用である。 According to the organosilicon compound of the present invention, the adhesion between an organic material and an inorganic material such as an inorganic filler or an inorganic base material and water resistance are improved compared to conventional organosilicon compounds, and the mechanical properties of the composite material are improved. Durability can be improved. Therefore, inorganic and organic materials such as FRP, FRTP, elastomer, paint, adhesive, sealant, resin concrete, foundry, sealant, artificial marble, plastic magnet, rubber magnet, magnetic tape, PCB, dental restoration material, etc. It is useful in combined composite materials and is particularly useful in composite materials for dental restorations.
本発明者らは、上述の課題を解決するべく鋭意研究した結果、複数の重合性基と、少なくとも炭素原子が5個直列した鎖を与える炭素数6〜40の炭化水素基を有する上記一般式(1)で示される有機珪素化合物(以下、有機珪素化合物(I)ともいう)によって、無機物と有機物との接着力と接着耐久性を高くすることができ、機械的強度及び耐久性を両立する複合材料を提供することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above general formula has a plurality of polymerizable groups and a hydrocarbon group having 6 to 40 carbon atoms that gives a chain in which at least 5 carbon atoms are in series. With the organosilicon compound (hereinafter also referred to as organosilicon compound (I)) shown in (1), the adhesive strength and adhesion durability between the inorganic substance and the organic substance can be increased, and both mechanical strength and durability are achieved. The present inventors have found that a composite material can be provided and have completed the present invention.
本発明の有機珪素化合物(I)は、下記式で表されるm個(mは2又は3)の重合性基を有する。この重合性基によって、他の重合性単量体とのラジカル共重合が可能となる。また、重合性基が複数あることによって、ラジカル重合による架橋反応が可能となり、無機物と有機物との間に高い接着強度を与えることができ、複合材料に高い機械的強度を与えることができる。 The organosilicon compound (I) of the present invention has m (m is 2 or 3) polymerizable groups represented by the following formula. This polymerizable group enables radical copolymerization with other polymerizable monomers. In addition, since there are a plurality of polymerizable groups, a crosslinking reaction by radical polymerization is possible, a high adhesive strength can be provided between the inorganic material and the organic material, and a high mechanical strength can be provided to the composite material.
R1、R2及びR3はそれぞれ独立して水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基である。置換基を有してもよい炭化水素基としては、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基等が挙げられる。 R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group that may have a substituent include an alkyl group that may have a substituent, an alkenyl group that may have a substituent, an alkynyl group that may have a substituent, and a substituent. An aryl group that may have a group, an arylalkyl group that may have a substituent, an arylalkenyl group that may have a substituent, an arylalkynyl group that may have a substituent, and a substituent. And a cycloalkyl group that may be used.
ここで、本発明において、置換基を有してもよいアルキル基とは、直鎖又は分岐鎖のアルキル基が置換基を有していてもよいものであり、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。 Here, in the present invention, the alkyl group which may have a substituent is a linear or branched alkyl group which may have a substituent. As the alkyl group, for example, methyl Group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group Group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like.
本発明において、置換基を有してもよいアルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖のアルケニル基が置換基を有していてもよいものであり、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、メチルビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。 In the present invention, the alkenyl group which may have a substituent is a linear or branched alkenyl group which may have a substituent. Examples of the alkenyl group include a vinyl group and an allyl group. Group, methyl vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group and the like.
本発明において、置換基を有してもよいアルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖のアルキニル基が置換基を有していてもよいものであり、アルキニル基としては、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、1−エチル−2−プロピニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−3−ブチニル基、2−メチル−3−ブチニル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、1−エチル−2−ブチニル基、3−ヘキシニル基、1−メチル−2−ペンチニル基、1−メチル−3−ペンチニル基、4−メチル−1−ペンチニル基、3−メチル−1−ペンチニル基、5−ヘキシニル基、1−エチル−3−ブチニル基等が挙げられる。 In the present invention, the alkynyl group which may have a substituent is a linear or branched alkynyl group which may have a substituent. Examples of the alkynyl group include an ethynyl group, 1 -Propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 1-ethyl-2-propynyl group, 2-pentynyl Group, 3-pentynyl group, 1-methyl-2-butynyl group, 4-pentynyl group, 1-methyl-3-butynyl group, 2-methyl-3-butynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 1 -Ethyl-2-butynyl group, 3-hexynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 1-methyl-3-pentynyl group, 4-methyl-1-pentynyl group, 3-methyl-1-pentynyl group, 5 Hexynyl group, 1-ethyl-3-butynyl group.
本発明において、置換基を有してもよいアリール基とは、芳香族炭化水素基が置換基を有していてもよいものであり、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられる。 In the present invention, the aryl group that may have a substituent is an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group. Group, phenanthryl group and the like.
本発明において、置換基を有してもよいアリールアルキル基とは、アリール基によって置換された直鎖又は分岐鎖のアルキル基が置換基を有していてもよいものであり、アリールアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、トリチル基、1−ナフチルメチル基、2−(1−ナフチル)エチル基、2−(2−ナフチエチル基、3−(2−ナフチル)プロピル基等が挙げられる。 In the present invention, the arylalkyl group which may have a substituent is a group in which a linear or branched alkyl group substituted by an aryl group may have a substituent. Are, for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, trityl group, 1-naphthylmethyl group, 2- (1-naphthyl) ethyl group, 2- (2-naphthylethyl group, 3- (2-naphthyl) A propyl group etc. are mentioned.
本発明において、置換基を有してもよいアリールアルケニル基とは、アリール基によって置換された直鎖又は分岐鎖のアルケニル基が置換基を有していてもよいものであり、アリールアルケニル基としては、例えば、スチリル基等が挙げられる。 In the present invention, the arylalkenyl group which may have a substituent is a group in which a linear or branched alkenyl group substituted by an aryl group may have a substituent. Examples include styryl group.
本発明において、置換基を有してもよいアリールアルキニル基とは、アリール基によって置換された直鎖又は分岐鎖のアルキニル基が置換基を有していてもよいものであり、アリールアルキニル基としては、例えば、フェニルエチニル基等が挙げられる。 In the present invention, the arylalkynyl group which may have a substituent is a group in which a linear or branched alkynyl group substituted by an aryl group may have a substituent. Examples thereof include a phenylethynyl group.
本発明において、置換基を有してもよいシクロアルキル基とは、環状のアルキル基が置換基を有していてもよいものであり、シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプタニル基、シクロオクタニル基、シクロノナニル基、シクロデカニル基、シクロウンデカニル基、シクロドデカニル基等が挙げられる。 In the present invention, the cycloalkyl group which may have a substituent is a cyclic alkyl group which may have a substituent. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group and a cyclobutyl group. , Cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptanyl group, cyclooctanyl group, cyclononanyl group, cyclodecanyl group, cycloundecanyl group, cyclododecanyl group and the like.
R1、R2及びR3で示される炭化水素基が有する置換基の数及び種類は、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、例として、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。 The number and type of substituents possessed by the hydrocarbon group represented by R 1 , R 2 and R 3 are not particularly limited as long as the purpose of the present invention is not impaired, and examples thereof include a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, and a cyano group. And a nitro group.
R1及びR2は水素原子であることが好ましく、このことにより重合性に優れるという利点がある。また、R3が水素原子又はメチル基であることが好ましく、このことにより重合性に優れるという利点がある。特に、R1及びR2が水素原子であって、かつR3がメチル基である場合は、有機珪素化合物(I)が加水分解等の作用を受け重合性基が脱離した場合においても、生体に対する刺激性が小さいという利点を有する。 R 1 and R 2 are preferably hydrogen atoms, and this has the advantage of excellent polymerizability. R 3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and this has the advantage of excellent polymerizability. In particular, when R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 3 is a methyl group, even when the organosilicon compound (I) undergoes an action such as hydrolysis and the polymerizable group is eliminated, It has the advantage that the irritation to the living body is small.
(A)は任意の構成単位である。Aは、−COO−、−OCO−、−CONH−、−O−、−S−、−CH2O−、−CH2S−、−C6H4O−、−C6H4COO−、及び−C6H4OCO−からなる群より選択される1種であるが、ラジカル重合が容易である観点から、Aは−COO−、又は−CONH−であることが好ましく、−COO−であることがより好ましい。また、有機珪素化合物(I)が、特に加水分解への耐性が要求される実施態様に用いられる場合は、Aは−CH2O−、又は−CONH−であることが好ましい。 (A) is an arbitrary structural unit. A represents —COO—, —OCO—, —CONH—, —O—, —S—, —CH 2 O—, —CH 2 S—, —C 6 H 4 O—, —C 6 H 4 COO—. , And —C 6 H 4 OCO—, but from the viewpoint of easy radical polymerization, A is preferably —COO— or —CONH—, and —COO— It is more preferable that Further, when the organosilicon compound (I) is used in an embodiment in which resistance to hydrolysis is particularly required, A is preferably —CH 2 O— or —CONH—.
重合性基を具体的に見ると、重合性基の例としては、(メタ)アクリル基、(メタ)アクリルアミド基、ビニル(チオ)エーテル基、アリル(チオ)エーテル基、ビニルエステル基、スチリル基含有基等が挙げられる。これらの中でも、ラジカル重合が容易である観点から、(メタ)アクリル基、又は(メタ)アクリルアミド基が好ましい。有機珪素化合物(I)の製造の容易さの観点からは、重合性基としては(メタ)アクリル基が好ましい。また、本発明の有機珪素化合物(I)は好ましくは歯科用組成物の成分として用いられるが、口腔内は湿潤な環境であるため、加水分解などにより重合性基が脱離するおそれがある。前記加水分解への耐性を考慮した場合は、重合性基として、(メタ)アクリルアミド基を用いることがより好ましい。さらに、脱離した重合性基の生体への刺激性を考慮した場合は、特に、メタクリル基又はメタクリルアミド基を用いることが好ましい。 Specific examples of the polymerizable group include (meth) acryl group, (meth) acrylamide group, vinyl (thio) ether group, allyl (thio) ether group, vinyl ester group, and styryl group. A containing group. Among these, a (meth) acryl group or a (meth) acrylamide group is preferable from the viewpoint of easy radical polymerization. From the viewpoint of ease of production of the organosilicon compound (I), the polymerizable group is preferably a (meth) acryl group. The organosilicon compound (I) of the present invention is preferably used as a component of a dental composition. However, since the oral cavity is a moist environment, there is a possibility that a polymerizable group may be eliminated by hydrolysis or the like. When considering the resistance to hydrolysis, it is more preferable to use a (meth) acrylamide group as the polymerizable group. Furthermore, in consideration of the irritation to the living body of the detached polymerizable group, it is particularly preferable to use a methacryl group or a methacrylamide group.
mは、2又は3であり、被着体と化学的に相互作用する作用点を増やしたい場合は、mは3であることが好ましい。有機珪素化合物(I)が有するm個の重合性基は、同一であっても、上記定義の範囲内で異なっていてもよい。 m is 2 or 3, and m is preferably 3 when it is desired to increase the point of action that chemically interacts with the adherend. The m polymerizable groups possessed by the organosilicon compound (I) may be the same or different within the above definition.
R4は置換基を有してもよい炭素数6〜40の炭化水素基であり、Si原子と重合性基とを、炭素原子が5個以上直列した鎖により結合する。このように炭素数が6〜40でありかつ、Si原子と重合性基との間に炭素原子が5個以上直列した鎖が挿入されることによって、有機珪素化合物(I)のスペーサー部位に、十分な疎水性を与えることができる。 R 4 is a hydrocarbon group having 6 to 40 carbon atoms which may have a substituent, and binds a Si atom and a polymerizable group by a chain in which 5 or more carbon atoms are connected in series. Thus, by inserting a chain having 6 to 40 carbon atoms and having 5 or more carbon atoms in series between the Si atom and the polymerizable group, the spacer portion of the organosilicon compound (I) Sufficient hydrophobicity can be provided.
R4は、3〜4価の炭化水素基である。炭化水素基は、芳香環、2重結合、3重結合、脂肪族環を含んでいてもよい。従って、炭化水素基としては、例えば、アルカン、アルケン、アルキン、アレーンから、水素原子を3〜4個除いた基が挙げられる。炭化水素基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、環構造を含んでいてもよい。 R 4 is a trivalent to tetravalent hydrocarbon group. The hydrocarbon group may contain an aromatic ring, a double bond, a triple bond, or an aliphatic ring. Accordingly, examples of the hydrocarbon group include groups in which 3 to 4 hydrogen atoms have been removed from alkane, alkene, alkyne, and arene. The hydrocarbon group may be linear or branched, and may contain a ring structure.
本発明の有機珪素化合物(I)を有機物と無機材料の接着剤として用いる場合に、高接着を発現する機構については必ずしも明らかではない。高い接着力を得るためには、有機珪素化合物が、被着体と結合する際に規則正しく配列し、被着面に対して高密度に作用することが重要であると考えられている。前記化合物を規則正しく配列させるためには、スペーサーとして用いられる前記炭化水素基の選択が重要である。 In the case where the organosilicon compound (I) of the present invention is used as an adhesive between an organic material and an inorganic material, the mechanism for developing high adhesion is not always clear. In order to obtain a high adhesive force, it is considered important that the organosilicon compounds are regularly arranged when bonded to the adherend and act on the adherend surface with a high density. In order to regularly arrange the compounds, it is important to select the hydrocarbon group used as a spacer.
かかる観点からは、R4で示される炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であることが好ましく、飽和脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。接着性を向上させる観点からは、Si原子及び前記重合性基は、分子内においてある程度離れた位置にある方が好ましく、R4の炭素数の下限は、6以上であり、好ましくは8以上である。さらに、本発明の有機珪素化合物(I)の好適な使用態様は歯科用組成物であり、かかる用途に用いる場合、口腔内は湿潤な環境であるため、R4の炭素数の下限は、好ましくは7以上であり、特に好ましくは8以上である。R4の炭素数をかかる範囲に設定することで、化合物全体の疎水性が向上し、口腔内のような湿潤環境においても加水分解を受けにくくなり、長期間の材料の耐久性を維持できるようになる。一方、炭素数が40を超えるとスペーサーの自由度が大きくなり、無機材料表面に規則的に配列することが困難となる可能性があることから、炭素数の上限は40とし、好ましくは、35以下である。 From this viewpoint, the hydrocarbon group represented by R 4 is preferably an aliphatic hydrocarbon group, more preferably a saturated aliphatic hydrocarbon group. From the viewpoint of improving adhesiveness, the Si atom and the polymerizable group are preferably located at some distance in the molecule, and the lower limit of the carbon number of R 4 is 6 or more, preferably 8 or more. is there. Furthermore, the preferred use mode of the organosilicon compound (I) of the present invention is a dental composition. When used in such applications, the oral cavity is a moist environment, so the lower limit of the carbon number of R 4 is preferably Is 7 or more, particularly preferably 8 or more. By setting the carbon number of R 4 within such a range, the hydrophobicity of the entire compound is improved, it is less susceptible to hydrolysis even in a moist environment such as the oral cavity, and long-term durability of the material can be maintained. become. On the other hand, when the number of carbon atoms exceeds 40, the degree of freedom of the spacer increases, and it may be difficult to regularly arrange the spacers on the surface of the inorganic material. Therefore, the upper limit of the number of carbon atoms is 40, preferably 35 It is as follows.
また、上述のように有機珪素化合物(I)を歯科用組成物に用いる場合は、R4の炭素数を上述の範囲に設定することで、疎水性の重合性単量体との親和性が向上し、無機粒子の高密度充填が可能となる。その結果、コンポジットレジン等の歯科修復材の機械的強度及び耐久性を向上させることができる。 In addition, when the organosilicon compound (I) is used in a dental composition as described above, the affinity for the hydrophobic polymerizable monomer can be improved by setting the carbon number of R 4 in the above range. And high density packing of inorganic particles becomes possible. As a result, the mechanical strength and durability of a dental restoration material such as a composite resin can be improved.
R4で示される炭化水素基が有する置換基の数及び種類は、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、例として、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。R4は、疎水性及び合成の容易さの観点から、置換基を有していないことが好ましい。 The number and type of substituents possessed by the hydrocarbon group represented by R 4 are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and examples thereof include a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a cyano group, and a nitro group. It is done. R 4 preferably has no substituent from the viewpoint of hydrophobicity and ease of synthesis.
R5は加水分解可能な基であり、より具体的には加水分解によりOH基に変換可能な基である。R5の例としては、アルコキシ基、水素原子、ハロゲン原子等が挙げられ、これらのうちアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数1〜20のものが好ましく、炭素数1〜4のもの(例、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基)がより好ましい。 R 5 is a hydrolyzable group, more specifically a group that can be converted into an OH group by hydrolysis. Examples of R 5 include an alkoxy group, a hydrogen atom, a halogen atom and the like, and among these, an alkoxy group is preferable. The alkoxy group may be linear or branched, preferably having 1 to 20 carbon atoms, and having 1 to 4 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group). More preferred.
R6は、置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基としては、R1、R2及びR3について例示した炭化水素基と同様である。R6は、置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基であることが好ましく、メチル基、エチル基、又はフェニル基であることがより好ましい。 R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent include R 1 , R 2 and This is the same as the hydrocarbon group exemplified for R 3 . R 6 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group.
nは、1〜3の整数であり、従って、有機珪素化合物(I)は、少なくとも1つのR5を有する。このように必ずR5を有することによって、無機物との結合が可能となる。nは、好ましくは、3である。 n is an integer of 1 to 3, and thus the organosilicon compound (I) has at least one R 5 . Thus, by always having R 5 , it is possible to bond with an inorganic substance. n is preferably 3.
なお、R5又はR6は、複数個存在するが、複数個存在するものについて、それらは同一でも異なっていてもよい。 In addition, although there exist a plurality of R 5 or R 6 , those present in a plurality may be the same or different.
有機珪素化合物(I)は、最適には、下記式(2)で表される化合物である。 The organosilicon compound (I) is optimally a compound represented by the following formula (2).
式中、R7〜R9はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、R10はアルコキシ基であり、kは3〜16の整数を示す。kは4以上であることが好ましい。R10としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましい。 Wherein, R 7 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 10 is an alkoxy group, k is an integer of 3 to 16. k is preferably 4 or more. R 10 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
本発明の化合物(I)は公知方法を組み合わせることにより、製造することができる。一例としては、まず、重合性部位、スペーサー部位、有機珪素部位のもととなる化合物を用意する。重合性部位のもととなる化合物は、例えば、下記式(3)で表される重合性基(二重結合)と官能基Yを含む化合物(以下、重合性化合物(3)ともいう)である。 Compound (I) of the present invention can be produced by combining known methods. As an example, first, a compound serving as a base for a polymerizable site, a spacer site, and an organosilicon site is prepared. The compound that is the basis of the polymerizable site is, for example, a compound containing a polymerizable group (double bond) represented by the following formula (3) and a functional group Y (hereinafter also referred to as a polymerizable compound (3)). is there.
(式中、R1〜R3は前記と同義であり、Yは後述の官能基Zと反応可能な官能基である。) (In the formula, R 1 to R 3 are as defined above, and Y is a functional group capable of reacting with a functional group Z described later.)
スペーサー部位のもととなる化合物は、例えば、下記式(4)で表される二重結合及びm個の官能基Zを含む化合物(以下、スペーサー化合物(4)ともいう)である。 The compound serving as the basis of the spacer moiety is, for example, a compound containing a double bond represented by the following formula (4) and m functional groups Z (hereinafter also referred to as spacer compound (4)).
(式中、R4’は、置換基を有していてもよい炭素数4〜38の炭化水素基であり、Zは、前記Yと反応可能な官能基である。) (In the formula, R 4 ′ is an optionally substituted hydrocarbon group having 4 to 38 carbon atoms, and Z is a functional group capable of reacting with Y.)
有機珪素部位のもととなる化合物は、例えば、下記式(5)で表される有機シラン化合物である(以下、有機シラン化合物(5)ともいう)。 The compound which becomes the basis of the organosilicon site is, for example, an organosilane compound represented by the following formula (5) (hereinafter also referred to as organosilane compound (5)).
(式中、R5、R6、及びnは、前記と同義である。) (In the formula, R 5 , R 6 , and n are as defined above.)
ここで、官能基Y及び官能基Zは、これらの反応により−COO−、−OCO−、−CONH−、−O−、−S−、−CH2O−、−CH2S−、−C6H4O−、−C6H4COO−、又は−C6H4OCO−のいずれかの結合が生成するように選択する。これらの結合を生成させる方法は、当業者に周知である。例えば、−COO−結合を形成させる場合には、Yとして、−COOH又は−COClを選択し、Zとして−OHを選択し、公知方法に従いエステル化反応させればよい。また、例えば、−CONH−結合を形成させる場合には、Yとして−COOHを選択し、Zとして−NH2を選択し、公知方法に従い脱水縮合反応させればよい。また、例えば、−O−結合を形成させる場合には、X及びYの一方を、ハロゲン原子とし、他方を−ONaとしてエーテル化反応(Williamson合成)を行えばよい。また、例えば、−S−結合を形成させる場合には、X及びYの一方をハロゲン原子とし、他方を−SHとしてアルカリ条件下でカップリング反応させればよい。 Here, the functional group Y and the functional group Z are converted into —COO—, —OCO—, —CONH—, —O—, —S—, —CH 2 O—, —CH 2 S—, —C by these reactions. Selection is made such that either a 6 H 4 O—, —C 6 H 4 COO—, or —C 6 H 4 OCO— bond is formed. Methods for generating these bonds are well known to those skilled in the art. For example, when a —COO— bond is formed, —COOH or —COCl is selected as Y, —OH is selected as Z, and esterification may be performed according to a known method. Further, for example, when a —CONH— bond is formed, —COOH is selected as Y, —NH 2 is selected as Z, and a dehydration condensation reaction may be performed according to a known method. For example, in the case of forming an —O— bond, an etherification reaction (Williamson synthesis) may be performed with one of X and Y being a halogen atom and the other being —ONa. Further, for example, in the case of forming an —S— bond, one of X and Y may be a halogen atom and the other may be —SH, and a coupling reaction may be performed under alkaline conditions.
スペーサー化合物(4)の二重結合は、有機シラン化合物(5)のSi−Hと反応して結合する。当該反応は公知であり、公知方法に従い行うことができる。 The double bond of the spacer compound (4) reacts and bonds with Si-H of the organosilane compound (5). The said reaction is well-known and can be performed in accordance with a well-known method.
上記の化合物(3)〜(5)は、その多くが市販品として入手可能であり、公知方法に従い容易に合成することができる。そして、公知方法に従い、m当量の重合性化合物(3)、スペーサー化合物(4)、及び有機シラン化合物(5)を反応させることにより、有機珪素化合物(I)を製造することができる。重合性化合物(3)とスペーサー化合物(4)、及びスペーサー化合物(4)と有機シラン化合物(5)はいずれを先に反応させても構わない。また、上述の例では、スペーサー化合物(4)は、末端に二重結合を有しているが、末端以外に二重結合を有するスペーサー化合物を用いて、同様にしてスペーサー部位を形成することもできる。 Many of the above-mentioned compounds (3) to (5) are commercially available, and can be easily synthesized according to known methods. And according to a well-known method, organosilicon compound (I) can be manufactured by making m equivalent polymeric compound (3), spacer compound (4), and organosilane compound (5) react. Any of the polymerizable compound (3) and the spacer compound (4), and the spacer compound (4) and the organosilane compound (5) may be reacted first. Moreover, in the above-mentioned example, the spacer compound (4) has a double bond at the terminal, but it is also possible to form a spacer site in the same manner using a spacer compound having a double bond at the terminal. it can.
また、式(1)のAが存在しないときには、例えば、ジエン化合物と、有機シラン化合物(5)を公知方法に従い反応させることによって、有機珪素化合物(I)を製造することができる。 Moreover, when A of Formula (1) does not exist, an organosilicon compound (I) can be manufactured by making a diene compound and an organosilane compound (5) react according to a well-known method, for example.
本発明の有機珪素化合物(I)が、式(2)で表される化合物であった場合には、例えば、以下の方法により製造することができる。 When the organosilicon compound (I) of the present invention is a compound represented by the formula (2), it can be produced, for example, by the following method.
まず、下記式(6)で表されるアルケニルアルデヒド(以下、アルケニルアルデヒド(6)ともいう)を、アルカリ化合物の存在下、ホルムアルデヒドとアルドール縮合反応及びカニツアロ反応(すなわちメチロール化反応)させることによって下記式(7)で表されるトリメチロール化合物(以下、トリメチロール化合物(7)ともいう)を合成する。 First, an alkenyl aldehyde represented by the following formula (6) (hereinafter also referred to as alkenyl aldehyde (6)) is reacted with formaldehyde, an aldol condensation reaction and a cannula allo reaction (that is, a methylolation reaction) in the presence of an alkali compound. A trimethylol compound represented by the formula (7) (hereinafter also referred to as trimethylol compound (7)) is synthesized.
(式中、kは前記と同義である。) (Wherein k is as defined above.)
ホルムアルデヒドは通常、水溶液の形で用いられる。かかるホルムアルデヒド水溶液におけるホルムアルデヒドの濃度は特に制限されないが、入手容易な濃度5〜50重量%のホルムアルデヒド水溶液を用いることが有利である。ホルムアルデヒドの使用量はアルケニルアルデヒド(6)に対するモル比で5/1〜7/1の範囲内である。 Formaldehyde is usually used in the form of an aqueous solution. The concentration of formaldehyde in the aqueous formaldehyde solution is not particularly limited, but it is advantageous to use a formaldehyde aqueous solution having a concentration of 5 to 50% by weight that is easily available. The amount of formaldehyde used is in the range of 5/1 to 7/1 in molar ratio to alkenyl aldehyde (6).
アルカリ化合物としては、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物〔以下、アルカリ(土類)金属水酸化物と称する〕が使用でき、具体例として水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどが挙げられ、好ましくは水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。これらのアルカリ(土類)金属水酸化物の使用量は、アルケニルアルデヒド(6)1モルに対して通常1.1〜2.5グラム当量の範囲内、好ましくは1.3〜1.8グラム当量の範囲内である。アルカリ(土類)金属水酸化物は、通常、濃度50重量%以下の水溶液の形で用いることが操作上有利である。 As the alkali compound, alkali metal hydroxide or alkaline earth metal hydroxide (hereinafter referred to as alkali (earth) metal hydroxide) can be used, and specific examples include lithium hydroxide, sodium hydroxide, hydroxide. Examples include potassium, calcium hydroxide, barium hydroxide, and the like, preferably sodium hydroxide or potassium hydroxide. The amount of these alkali (earth) metal hydroxides used is usually within the range of 1.1 to 2.5 gram equivalent, preferably 1.3 to 1.8 gram per mole of alkenyl aldehyde (6). Within the equivalent range. The alkali (earth) metal hydroxide is usually advantageous in terms of operation when used in the form of an aqueous solution having a concentration of 50% by weight or less.
アルケニルアルデヒド(6)のメチロール化反応は、水性媒体中で行われる。媒体は、水のみでもよく、また少なくとも部分的に水と混和しうる有機溶媒と水との混合物でもよい。当該有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル;メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコールなどの低級アルコールなどが例示される。有機溶剤を、メチロール化反応混合液中におけるその濃度が20〜80重量%の範囲内になる量で使用することが好ましく、40〜60重量%の範囲内になる量で使用することがさらに好ましい。水は通常、使用するホルムアルデヒドの重量の約4〜100倍の範囲内の重量で使用される。 The methylolation reaction of alkenyl aldehyde (6) is carried out in an aqueous medium. The medium may be water alone or a mixture of water and an organic solvent that is at least partially miscible with water. Examples of the organic solvent include cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; lower alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and n-butyl alcohol. The organic solvent is preferably used in an amount such that its concentration in the methylolation reaction mixture is in the range of 20 to 80% by weight, more preferably in an amount in the range of 40 to 60% by weight. . Water is usually used at a weight in the range of about 4 to 100 times the weight of formaldehyde used.
メチロール化反応において採用される反応温度は通常約20〜100℃の範囲内、好ましくは約30〜70℃の範囲内である。メチロール化反応においては通常、アルケニルアルデヒド(6)に対して過剰量のホルムアルデヒドの低濃度の水性媒体溶液中に、アルカリ(土類)金属水酸化物の水溶液及びアルケニルアルデヒド(6)を、反応混合液のpH値が急変しないような速度で徐々に添加する方式を採用することが好ましい。 The reaction temperature employed in the methylolation reaction is usually in the range of about 20 to 100 ° C, preferably in the range of about 30 to 70 ° C. In a methylolation reaction, an aqueous solution of an alkali (earth) metal hydroxide and an alkenyl aldehyde (6) are usually mixed in a low concentration aqueous medium solution of formaldehyde with respect to the alkenyl aldehyde (6). It is preferable to adopt a method of gradually adding at a rate such that the pH value of the liquid does not change suddenly.
メチロール化反応は通常、アルケニルアルデヒド(6)及びアルカリ(土類)金属水酸化物に対して過剰量のホルムアルデヒドを使用して行われるので、かかるメチロール化反応によって得られる反応混合液は通常、トリメチロール化合物(7)、ジトリメチロール化合物(2分子のトリメチロール化合物がエーテル結合を介して結合している化合物)、ジメチロール化合物、ホルマール類などのアルケニルアルデヒド(6)に由来する反応生成物;アルカリ金属又はアルカリ土類金属のギ酸塩;未反応のホルムアルデヒド;水性媒体ならびに場合によって未反応のアルケニルアルデヒド(6)などを含んでいる。メチロール化によって得られる反応混合液中の未反応のホルムアルデヒドの大部分を除去するために、アルカリ(土類)金属水酸化物を反応混合液に添加し、反応混合液中のトリメチロール化合物(7)の結晶が析出しない温度(好ましくは60℃以上の温度)において処理することによってホルムアルデヒドの大部分をギ酸塩とメタノールに変換してもよい。この処理を実施した場合、さらに必要に応じてギ酸などの酸を反応混合液に添加することによって中和してもよい。 Since the methylolation reaction is usually carried out using an excess of formaldehyde relative to the alkenyl aldehyde (6) and the alkali (earth) metal hydroxide, the reaction mixture obtained by such a methylolation reaction is Reaction products derived from alkenyl aldehydes (6) such as methylol compounds (7), ditrimethylol compounds (compounds in which two molecules of trimethylol compounds are bonded via an ether bond), dimethylol compounds and formals; alkali metals Or an alkaline earth metal formate; unreacted formaldehyde; an aqueous medium and optionally unreacted alkenyl aldehyde (6). In order to remove most of the unreacted formaldehyde in the reaction mixture obtained by methylolation, an alkali (earth) metal hydroxide is added to the reaction mixture, and the trimethylol compound (7 ) May be converted to formate and methanol by treatment at a temperature at which crystals do not precipitate (preferably at a temperature of 60 ° C. or higher). When this treatment is carried out, it may be neutralized by adding an acid such as formic acid to the reaction mixture as necessary.
水性媒体として水及び有機溶媒からなる混合物を使用した場合には、上記のアルカリ(土類)金属水酸化物による処理又はそれと酸による処理を実施し又は実施せずして反応混合液を蒸留に付すことにより、有機溶媒の大部分又は全量を留去する。反応混合液は、かかる有機溶媒を全く又はほとんど含まない状態においてトリメチロール化合物(7)の結晶が実質的に析出しないような温度下に静置することにより、トリメチロール化合物(7)などのアルケニルアルデヒド(6)に由来する反応生成物を含む有機層と、水層とに層分離させる。反応混合液を静置する温度としては60℃以上の温度が好ましい。有機層からはトリメチロール化合物(7)を、晶析操作により、高純度に単離することができる。より具体的には、上述の反応生成物を含有する有機層に芳香族炭化水素を混合する操作により単離することができる。芳香族炭化水素としては特定に限定されないが、トリメチロール化合物(7)に対して温度依存性の極めて高い溶解度特性を有することから、炭素数6〜9の芳香族炭化水素が好ましく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、メシチレン等が例示される。芳香族炭化水素は、アルケニルアルデヒド(6)に由来する反応混合物に対する重量比で0.5/1〜50/1の範囲内、特に5/1〜20/1の範囲内の量で使用されることが好ましい。析出したトリメチロール化合物(7)の結晶は、ろ過などの常法に従って芳香族炭化水素から分離して得ることができる。 When a mixture of water and an organic solvent is used as an aqueous medium, the reaction mixture is distilled with or without the treatment with the alkali (earth) metal hydroxide or the treatment with acid. By attaching, most or all of the organic solvent is distilled off. The reaction mixture is allowed to stand at a temperature such that crystals of the trimethylol compound (7) do not substantially precipitate in a state of containing no or little of such organic solvent, whereby alkenyl such as trimethylol compound (7) is obtained. The organic layer containing the reaction product derived from the aldehyde (6) and the aqueous layer are separated. The temperature at which the reaction mixture is allowed to stand is preferably 60 ° C. or higher. From the organic layer, the trimethylol compound (7) can be isolated with high purity by a crystallization operation. More specifically, it can be isolated by an operation of mixing an aromatic hydrocarbon with the organic layer containing the above-mentioned reaction product. Although it does not specifically limit as an aromatic hydrocarbon, Since it has the solubility characteristic of extremely high temperature dependence with respect to a trimethylol compound (7), a C6-C9 aromatic hydrocarbon is preferable, for example, benzene , Toluene, xylene, ethylbenzene, propylbenzene, mesitylene and the like. The aromatic hydrocarbon is used in an amount in the range of 0.5 / 1 to 50/1, in particular in the range of 5/1 to 20/1, by weight ratio to the reaction mixture derived from alkenyl aldehyde (6). It is preferable. The crystals of the precipitated trimethylol compound (7) can be obtained by separating from the aromatic hydrocarbon according to a conventional method such as filtration.
次いで、このトリメチロール化合物(7)と下記式(8)で表される化合物とを、公知方法に従いエステル化させ、下記式(9)で表される化合物(以下、化合物(9)ともいう)を得る。 Next, the trimethylol compound (7) and a compound represented by the following formula (8) are esterified according to a known method, and a compound represented by the following formula (9) (hereinafter also referred to as compound (9)). Get.
(式中、R11は、水素原子又はメチル基であり、Xはヒドロキシル基又はハロゲン原子である。) (In the formula, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group, and X is a hydroxyl group or a halogen atom.)
(式中、R7〜R9及びkは、前記と同義である。) (Wherein R 7 to R 9 and k are as defined above.)
エステル化には、ショッテン−バウマン反応が好適である。この方法では、トリメチロール化合物(7)が均一に溶解している反応系に対して水酸化ナトリウム等を加えてpHをアルカリにし、これに式(8)においてXがハロゲン原子である酸ハライド(以下、酸ハライド(8)ともいう)を滴下する。滴下後に反応液を酸性にすることにより沈殿が生じ、この沈殿物を精製することにより化合物(9)が得られる。酸ハライド(8)とトリメチロール化合物(7)の使用量は特に限定されないが、トリメチロール化合物(7)1モルに対して酸ハライド(8)を0.5〜5.0モル用いることが好ましく、0.6〜4.0モル用いることがより好ましい。 For esterification, the Schotten-Baumann reaction is preferred. In this method, sodium hydroxide or the like is added to the reaction system in which the trimethylol compound (7) is uniformly dissolved to make the pH alkaline, and an acid halide (X) in formula (8) where X is a halogen atom ( Hereinafter, acid halide (8) is also added dropwise. After the dropwise addition, the reaction solution is acidified to cause precipitation, and the precipitate is purified to obtain compound (9). Although the usage-amount of an acid halide (8) and a trimethylol compound (7) is not specifically limited, It is preferable to use 0.5-5.0 mol of acid halides (8) with respect to 1 mol of trimethylol compounds (7). More preferably, 0.6 to 4.0 mol is used.
酸ハライド(8)とトリメチロール化合物(7)を反応させる際の反応温度は特に限定されない。好ましくは、トリメチロール化合物(7)を含む溶液を攪拌しながら、酸ハライド(8)を徐々に滴下する方法が採用される。酸ハライド(8)はニートで滴下してもよいし、溶媒で希釈してから滴下してもよい。滴下の際の温度は特に限定されないが、好ましくは−10〜10℃であり、より好ましくは−5〜5℃である。滴下終了後、反応が完結するまで攪拌を行うが、その際の反応温度は通常、10〜60℃の温度が採用され、好適には15〜45℃である。 The reaction temperature when the acid halide (8) and the trimethylol compound (7) are reacted is not particularly limited. Preferably, a method of gradually dropping the acid halide (8) while stirring a solution containing the trimethylol compound (7) is employed. The acid halide (8) may be added dropwise neat, or may be added dropwise after diluting with a solvent. Although the temperature at the time of dripping is not specifically limited, Preferably it is -10-10 degreeC, More preferably, it is -5-5 degreeC. After completion of the dropwise addition, stirring is performed until the reaction is completed. The reaction temperature at that time is usually 10 to 60 ° C., preferably 15 to 45 ° C.
酸ハライド(8)とトリメチロール化合物(7)を反応させる際の反応時間は特に限定されず、通常、1〜6時間であり、好適には2〜4時間である。また、本反応においては応系のpHの維持が重要であり、酸性条件下ではトリメチロール化合物(7)の反応性が低下するために、反応が進行しないおそれがあるため、本反応を実施する際には、反応系のpHは8〜9であることが好ましい。酸ハライド(8)の滴下や反応の進行に伴って、系内のpHは小さくなり酸性側にシフトするため、pHメーター等を用いて系内のpHを観測しながら、塩基性の溶液を添加して適宜反応系のpHを調整することが好ましい。塩基性の溶液としては特に限定されないが、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの溶液が好適に用いられる。 The reaction time when the acid halide (8) and the trimethylol compound (7) are reacted is not particularly limited, and is usually 1 to 6 hours, preferably 2 to 4 hours. In this reaction, it is important to maintain the pH of the reaction system. Since the reactivity of the trimethylol compound (7) decreases under acidic conditions, the reaction may not proceed. In this case, the pH of the reaction system is preferably 8-9. As the acid halide (8) is dropped and the reaction proceeds, the pH in the system decreases and shifts to the acidic side, so a basic solution is added while observing the pH in the system using a pH meter or the like. Thus, it is preferable to appropriately adjust the pH of the reaction system. Although it does not specifically limit as a basic solution, The solution of a triethylamine, sodium hydroxide, or potassium hydroxide is used suitably.
化合物(9)を、式(10)で表される有機シラン化合物(以下、有機シラン化合物(10)ともいう)と公知方法に従い反応させることによって、式(2)で表される有機珪素化合物を得ることができる。 By reacting compound (9) with an organic silane compound represented by formula (10) (hereinafter also referred to as organosilane compound (10)) according to a known method, an organosilicon compound represented by formula (2) is obtained. Can be obtained.
(式中、R10は、前記と同義である。) (Wherein R 10 has the same meaning as described above.)
有機シラン化合物(10)は、その多くが市販品として入手可能であり、トリクロロシランとアルキルアルコールとを反応させることによって製造することもできる。 Many of the organosilane compounds (10) are available as commercial products, and can also be produced by reacting trichlorosilane and alkyl alcohol.
具体的には、不飽和炭素−炭素結合を有する化合物(9)と有機シラン化合物(10)を、極性溶媒中でヒドロシリル化反応用触媒を添加することによりヒドロシリル化反応を進行させる。 Specifically, the hydrosilylation reaction of the compound (9) having an unsaturated carbon-carbon bond and the organosilane compound (10) is advanced by adding a catalyst for hydrosilylation reaction in a polar solvent.
このヒドロシリル化反応用触媒の添加量は限定されないが、化合物(9)と有機シラン化合物(10)との合計量に対して、この触媒中の金属原子が重量単位で0.1〜1000ppmとなる範囲内の量であればよく、さらには、これが0.1〜500ppmとなる範囲内の量であることが好ましい。 The addition amount of the catalyst for hydrosilylation reaction is not limited, but the metal atom in the catalyst is 0.1 to 1000 ppm by weight with respect to the total amount of the compound (9) and the organosilane compound (10). The amount may be within the range, and more preferably, the amount is within the range of 0.1 to 500 ppm.
このヒドロシリル化反応の温度は0〜100℃の範囲内であることが好ましく、特に、5〜70℃の範囲内であることが好ましい。有機シラン化合物(10)の使用量は化合物(9)に対するモル比で1.0〜3.0当量の範囲内であり、1.5〜2.0当量の範囲が好ましい。反応時間としては特に限定されるものではなく、5〜48時間、好適には12〜24時間である。 The temperature of the hydrosilylation reaction is preferably in the range of 0 to 100 ° C, and particularly preferably in the range of 5 to 70 ° C. The amount of the organic silane compound (10) used is in the range of 1.0 to 3.0 equivalents, preferably in the range of 1.5 to 2.0 equivalents, in terms of the molar ratio to the compound (9). The reaction time is not particularly limited, and is 5 to 48 hours, preferably 12 to 24 hours.
ヒドロシリル化反応用触媒の種類には特に制限はなく、例えば、白金触媒、ロジウム触媒(例えば、RhCl(PPh3 )3 、RhAl2 O3 )、ルテニウム触媒(例えば、RuCl3 )、イリジウム触媒(例えば、IrCl3 )、鉄触媒(例えば、FeCl3 )、アルミニウム触媒(例えば、AlCl3 )、パラジウム触媒(例えば、PdCl2 ・2H2 O)、ニッケル触媒(例えば、NiCl2 )、チタン触媒(例えば、TiCl4 )などが挙げられ、好ましくは白金触媒である。白金触媒は、担体上の白金金属、白金化合物及び白金錯体から選ばれる。白金化合物及び白金錯体は、塩化白金酸、塩化白金酸六水和物、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどの錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH2)2Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Ptp(ViMe2SiOSiMe2Vi)q、Pt[(MeViSiO)4]r)、(式中、Meはメチル基、Viはビニル基を表し、p、q、及びrは整数を表す。)、ジカルボニルジクロロ白金などを挙げることができる。 There are no particular limitations on the type of hydrosilylation catalyst, for example, platinum catalyst, rhodium catalyst (for example, RhCl (PPh 3 ) 3 , RhAl 2 O 3 ), ruthenium catalyst (for example, RuCl 3 ), iridium catalyst (for example, , IrCl 3 ), iron catalyst (eg, FeCl 3 ), aluminum catalyst (eg, AlCl 3 ), palladium catalyst (eg, PdCl 2 .2H 2 O), nickel catalyst (eg, NiCl 2 ), titanium catalyst (eg, TiCl 4 ) and the like, and platinum catalyst is preferable. The platinum catalyst is selected from platinum metal, platinum compounds and platinum complexes on a support. Platinum compounds and platinum complexes include chloroplatinic acid, chloroplatinic acid hexahydrate, chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone and other complexes, platinum-olefin complexes (for example, Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), A platinum-vinylsiloxane complex (for example, Pt p (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) q , Pt [(MeViSiO) 4 ] r ), wherein Me represents a methyl group, Vi represents a vinyl group, and p, q , And r represent integers), and dicarbonyldichloroplatinum.
あるいは、式(9)で表される化合物を、公知方法に従い、トリクロロシランと反応させ、さらにアルキルアルコールと反応させてもよい。 Alternatively, the compound represented by the formula (9) may be reacted with trichlorosilane and further with an alkyl alcohol according to a known method.
上述のような方法で得られる本発明の有機珪素化合物(I)は、単独で、例えば、無機材料の表面処理剤として用いることができ、他の成分と混合して組成物として用いることもできる。 The organosilicon compound (I) of the present invention obtained by the method as described above can be used alone, for example, as a surface treatment agent for inorganic materials, and can also be used as a composition by mixing with other components. .
そこで、本発明はまた、有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子である。有機珪素化合物(I)で無機粒子を表面処理する際には、有機珪素化合物のR5は、加水分解によってOH基となってシラノール基が生成し、このシラノール基が無機粒子の表面水酸基と反応して結合する。有機珪素化合物のR5が直接無機粒子の表面水酸基と反応して結合する場合もある。本発明の無機粒子においては、このようにして有機珪素化合物(I)が無機粒子に結合している。 Therefore, the present invention is also inorganic particles surface-treated with the organosilicon compound (I). When the inorganic particles are surface-treated with the organosilicon compound (I), R 5 of the organosilicon compound becomes an OH group by hydrolysis to produce a silanol group, and this silanol group reacts with the surface hydroxyl group of the inorganic particle. And combine. In some cases, R 5 of the organosilicon compound directly reacts with and binds to the surface hydroxyl groups of the inorganic particles. In the inorganic particles of the present invention, the organosilicon compound (I) is thus bonded to the inorganic particles.
無機粒子の素材としては、石英、シリカ、アルミナ、シリカ−チタニア、シリカ−チタニア−酸化バリウム、シリカ−ジルコニア、シリカ−アルミナ、ランタンガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダガラス、バリウムガラス、ストロンチウムガラス、ガラスセラミック、アルミノシリケートガラス、バリウムボロアルミノシリケートガラス、ストロンチウムボロアルミノシリケートガラス、フルオロアルミノシリケートガラス、カルシウムフルオロアルミノシリケートガラス、ストロンチウムフルオロアルミノシリケートガラス、バリウムフルオロアルミノシリケートガラス、ストロンチウムカルシウムフルオロアルミノシリケートガラス等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、二酸化珪素と、少なくとも一種の他の金属酸化物の凝集物としても用いることができる。また、例えば、微粒子シリカと重合性単量体とを混合して重合硬化させた後に粉砕して得られる複合無機粒子(有機修飾無機粒子)としてもよい。無機粒子の形状は特に限定されず、粒子の粒子径を適宜選択して使用することができる。得られる組成物のハンドリング性及び機械的強度などの観点から、前記無機粒子の平均粒子径は0.001〜50μmであることが好ましく、0.001〜10μmであることがより好ましい。 Inorganic particle materials include quartz, silica, alumina, silica-titania, silica-titania-barium oxide, silica-zirconia, silica-alumina, lanthanum glass, borosilicate glass, soda glass, barium glass, strontium glass, and glass ceramic. , Aluminosilicate glass, barium boroaluminosilicate glass, strontium boroaluminosilicate glass, fluoroaluminosilicate glass, calcium fluoroaluminosilicate glass, strontium fluoroaluminosilicate glass, barium fluoroaluminosilicate glass, strontium calcium fluoroaluminosilicate glass, etc. . These can be used alone or in admixture of two or more. It can also be used as an aggregate of silicon dioxide and at least one other metal oxide. Further, for example, composite inorganic particles (organic modified inorganic particles) obtained by mixing fine particles silica and a polymerizable monomer, polymerizing and curing them, and then pulverizing may be used. The shape of the inorganic particles is not particularly limited, and the particle diameter of the particles can be appropriately selected and used. From the viewpoint of handling properties and mechanical strength of the resulting composition, the average particle diameter of the inorganic particles is preferably 0.001 to 50 μm, and more preferably 0.001 to 10 μm.
無機粒子の形状としては、不定形粒子及び球状粒子が挙げられる。無機粒子を含む複合材料の機械的強度を向上させる観点からは、前記無機粒子として球状粒子を用いることが好ましい。さらに、前記球状粒子を歯科用コンポジットレジンに用いた場合に、表面滑沢性に優れたコンポジットレジンが得られるという利点もある。ここで球状粒子とは、走査型電子顕微鏡(以下、SEMと略す)で粒子の写真を撮り、その単位視野内に観察される粒子が丸みをおびており、その最大径に直交する方向の粒子径をその最大径で割った平均均斉度が0.6以上である粒子である。前記球状粒子の平均粒子径は好ましくは0.1〜5μmである。平均粒子径が0.1μm未満の場合、組成物中の球状粒子の充填率が低下し、機械的強度が低くなるおそれがある。一方、平均粒子径が5μmを超える場合、前記球状粒子の表面積が低下し、高い機械的強度を有する硬化体が得られないおそれがある。 Examples of the shape of the inorganic particles include amorphous particles and spherical particles. From the viewpoint of improving the mechanical strength of the composite material containing inorganic particles, it is preferable to use spherical particles as the inorganic particles. Furthermore, when the spherical particles are used in a dental composite resin, there is an advantage that a composite resin having excellent surface lubricity can be obtained. Here, the spherical particle is a particle diameter in a direction perpendicular to the maximum diameter of the particle observed in the unit field of view by taking a photograph of the particle with a scanning electron microscope (hereinafter abbreviated as SEM). Is a particle having an average uniformity divided by its maximum diameter of 0.6 or more. The average particle diameter of the spherical particles is preferably 0.1 to 5 μm. When the average particle diameter is less than 0.1 μm, the filling rate of the spherical particles in the composition is lowered, and the mechanical strength may be lowered. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 5 μm, the surface area of the spherical particles is decreased, and a cured body having high mechanical strength may not be obtained.
必要に応じて本発明の有機珪素化合物(I)と合わせて、公知のシランカップリング材等の表面処理剤を併用してもよい。かかる表面処理剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、11−メタクリロイルオキシウンデシルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 If necessary, a surface treatment agent such as a known silane coupling material may be used in combination with the organosilicon compound (I) of the present invention. Examples of the surface treatment agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltri (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 11-methacryloyloxyundecyltrimethoxysilane. , Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like.
無機粒子の有機珪素化合物(I)による表面処理の方法としては、有機珪素化合物(I)が無機粒子表面に吸着する方法であれば特に限定されず、例えば、無機粒子を混合槽で攪拌しつつ、有機珪素化合物(I)を溶媒にて希釈した溶液を噴霧し、攪拌を続けながら槽内で一定時間加熱乾燥する方法や、無機粒子及び有機珪素化合物(I)を溶媒中で攪拌混合させた後、加熱乾燥する方法等が挙げられる。 The surface treatment method of the inorganic particles with the organosilicon compound (I) is not particularly limited as long as the organosilicon compound (I) is adsorbed on the surface of the inorganic particles. For example, while stirring the inorganic particles in a mixing tank A method of spraying a solution obtained by diluting an organosilicon compound (I) with a solvent and heating and drying in a tank for a certain period of time while stirring, or stirring and mixing inorganic particles and an organosilicon compound (I) in a solvent Then, the method of heat-drying etc. are mentioned.
有機珪素化合物(I)による無機粒子の処理量は、処理前の無機粒子100重量部に対して、0.5〜60重量部が好ましく、1〜50重量部がより好ましい。 The treatment amount of the inorganic particles with the organosilicon compound (I) is preferably 0.5 to 60 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic particles before the treatment.
本発明の有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子は、疎水性の高いスペーサーを有しているため、有機物(特に重合性単量体)に対して親和性に富んでおり、また耐水性に優れている。また、複数の重合性基を有しているために、重合性単量体に対する反応性が高い。従って、本発明の無機粒子は、有機物との接着性及び接着耐久性が高く、本発明の無機粒子を用いた複合材料は、機械的強度及び耐久性に優れたものとなる。 Since the inorganic particles surface-treated with the organosilicon compound (I) of the present invention have a highly hydrophobic spacer, they have a high affinity for organic substances (particularly polymerizable monomers). Excellent water resistance. Moreover, since it has several polymeric group, the reactivity with respect to a polymerizable monomer is high. Therefore, the inorganic particles of the present invention have high adhesiveness and adhesion durability with organic matter, and the composite material using the inorganic particles of the present invention has excellent mechanical strength and durability.
また、本発明の有機珪素化合物(I)は、組成物として、また有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子として、高温多湿な条件下にさらされる用途に好適であり、特に歯科用途に好適である。 The organosilicon compound (I) of the present invention is suitable for applications exposed to high-temperature and high-humidity conditions as a composition and as inorganic particles surface-treated with the organosilicon compound (I). It is suitable for.
本発明の有機珪素化合物(I)を組成物(特に歯科用組成物)に用いる形態としては、第1の形態として、本発明の有機珪素化合物を(I)をそのまま重合性単量体として使用する形態が挙げられる。すなわち、本発明の有機珪素化合物(I)を含む組成物(特に歯科用組成物)である。次に、第2の形態として、有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子を含む組成物(特に歯科用組成物)が挙げられる。いずれの形態においても、組成物は、前記有機珪素化合物(I)と共重合可能な重合性単量体(II)を含むことが好ましい。さらに、組成物は、重合開始剤(III)を含むことが好ましく、重合開始剤(III)と重合促進剤(IV)を併用することがより好ましい。 As the first mode for using the organosilicon compound (I) of the present invention in a composition (particularly a dental composition), the organosilicon compound of the present invention is used as it is as a polymerizable monomer. The form to do is mentioned. That is, it is a composition (particularly a dental composition) containing the organosilicon compound (I) of the present invention. Next, as a 2nd form, the composition (especially dental composition) containing the inorganic particle surface-treated with the organosilicon compound (I) is mentioned. In any form, the composition preferably contains a polymerizable monomer (II) copolymerizable with the organosilicon compound (I). Further, the composition preferably contains a polymerization initiator (III), and more preferably used in combination with a polymerization initiator (III) and a polymerization accelerator (IV).
有機珪素化合物(I)と共重合可能な重合性単量体(II)としては、特に限定されないが、(メタ)アクリレート化合物又は(メタ)アクリルアミド化合物であることが好ましい。(メタ)アクリレート化合物及び(メタ)アクリルアミド化合物の具体例を以下に示す。 The polymerizable monomer (II) copolymerizable with the organosilicon compound (I) is not particularly limited, but is preferably a (meth) acrylate compound or a (meth) acrylamide compound. Specific examples of the (meth) acrylate compound and the (meth) acrylamide compound are shown below.
酸性基を持たない一官能性単量体の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2,3−ジブロモプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、10−ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、エリスリトールモノ(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2,4−ジヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシメチル−3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−(ジヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Examples of monofunctional monomers having no acidic group are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2,3-dibromopropyl (Meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 10-hydroxy Sil (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, erythritol mono (meth) acrylate, 2,3-dihydroxybutyl (meth) acrylate, 2,4-dihydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxymethyl-3-hydroxy Propyl (meth) acrylate, 2,2-bis (hydroxymethyl) -3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene Glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, pentaethylene glycol mono (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) Acrylamide, N, N-(dihydroxyethyl) (meth) acrylamide, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane such as acryloyloxy propyl trimethoxy silane.
また、分子内に1つのカルボキシル基又はその酸無水物基を有する一官能性単量体の例としては、(メタ)アクリル酸、N−(メタ)アクリロイルグリシン、N−(メタ)アクリロイルアスパラギン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンマレート、O−(メタ)アクリロイルチロシン、N−(メタ)アクリロイルチロシン、N−(メタ)アクリロイルフェニルアラニン、N−(メタ)アクリロイル−p−アミノ安息香酸、N−(メタ)アクリロイル−o−アミノ安息香酸、p−ビニル安息香酸、2−(メタ)アクリロイルオキシ安息香酸、3−(メタ)アクリロイルオキシ安息香酸、4−(メタ)アクリロイルオキシ安息香酸、N−(メタ)アクリロイル−5−アミノサリチル酸、N−(メタ)アクリロイル−4−アミノサリチル酸等及びこれらの酸無水物が挙げられ、これらの酸ハロゲン化物も使用できる。 Examples of monofunctional monomers having one carboxyl group or acid anhydride group in the molecule include (meth) acrylic acid, N- (meth) acryloylglycine, and N- (meth) acryloylaspartic acid. 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen succinate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen maleate, O- (meth) acryloyl tyrosine, N- (meta ) Acryloyl tyrosine, N- (meth) acryloylphenylalanine, N- (meth) acryloyl-p-aminobenzoic acid, N- (meth) acryloyl-o-aminobenzoic acid, p-vinylbenzoic acid, 2- (meth) acryloyl Oxybenzoic acid, 3- (meth) acryloyloxybenzoic acid 4- (meth) acryloyloxybenzoic acid, N- (meth) acryloyl-5-aminosalicylic acid, N- (meth) acryloyl-4-aminosalicylic acid and the like, and acid anhydrides thereof, and these acid halides Can also be used.
分子内に複数のカルボキシル基又はその酸無水物基を有する一官能性単量体の例としては、11−(メタ)アクリロイルオキシウンデカン−1,1−ジカルボン酸、10−(メタ)アクリロイルオキシデカン−1,1−ジカルボン酸、12−(メタ)アクリロイルオキシドデカン−1,1−ジカルボン酸、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキサン−1,1−ジカルボン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−3’−メタクリロイルオキシ−2’−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピルサクシネート、4−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメリテート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルトリメリテート、4−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルトリメリテート、4−(メタ)アクリロイルオキシデシルトリメリテート、6−(メタ)アクリロイルオキシエチルナフタレン−1,2,6−トリカルボン酸、6−(メタ)アクリロイルオキシエチルナフタレン−2,3,6−トリカルボン酸、4−(メタ)アクリロイルオキシエチルカルボニルプロピオノイル−1,8−ナフタル酸、4−(メタ)アクリロイルオキシエチルナフタレン−1,8−トリカルボン酸、9−(メタ)アクリロイルオキシノナン−1,1−ジカルボン酸、13−(メタ)アクリロイルオキシトリデカン−1,1−ジカルボン酸、11−(メタ)アクリルアミドウンデカン−1,1−ジカルボン酸及びこれらの酸無水物などが挙げられる。 Examples of monofunctional monomers having a plurality of carboxyl groups or acid anhydride groups in the molecule include 11- (meth) acryloyloxyundecane-1,1-dicarboxylic acid, 10- (meth) acryloyloxydecane -1,1-dicarboxylic acid, 12- (meth) acryloyl oxide decane-1,1-dicarboxylic acid, 6- (meth) acryloyloxyhexane-1,1-dicarboxylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl-3 '-Methacryloyloxy-2'-(3,4-dicarboxybenzoyloxy) propyl succinate, 4- (meth) acryloyloxyethyl trimellitate, 4- (meth) acryloyloxybutyl trimellitate, 4- (meth ) Acryloyloxyhexyl trimellitate, 4- (meth) acryloyloxydecylto Melitate, 6- (meth) acryloyloxyethylnaphthalene-1,2,6-tricarboxylic acid, 6- (meth) acryloyloxyethylnaphthalene-2,3,6-tricarboxylic acid, 4- (meth) acryloyloxyethylcarbonylpro Pionoyl-1,8-naphthalic acid, 4- (meth) acryloyloxyethylnaphthalene-1,8-tricarboxylic acid, 9- (meth) acryloyloxynonane-1,1-dicarboxylic acid, 13- (meth) acryloyloxy Examples include tridecane-1,1-dicarboxylic acid, 11- (meth) acrylamide undecane-1,1-dicarboxylic acid, and acid anhydrides thereof.
分子内にホスフィニルオキシ基又はホスホノオキシ基を有する一官能性単量体(一官能性ラジカル重合性酸性リン酸エステルと呼ぶことがある)の例としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルジハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルハイドロジェンフォスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルジハイドロジェンフォスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ブロモエチルハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリルアミドエチルジハイドロジェンフォスフェート等が挙げられる。 Examples of monofunctional monomers having a phosphinyloxy group or phosphonooxy group in the molecule (sometimes referred to as monofunctional radically polymerizable acidic phosphate ester) include 2- (meth) acryloyloxyethyldi Hydrogen phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethylphenyl hydrogen phosphate, 10- (meth) acryloyloxydecyl dihydrogen phosphate, 6- (meth) acryloyloxyhexyl dihydrogen phosphate, 2- ( And (meth) acryloyloxyethyl-2-bromoethyl hydrogen phosphate, 2- (meth) acrylamidoethyl dihydrogen phosphate, and the like.
その他の酸性基を有する一官能性単量体として、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、10−スルホデシル(メタ)アクリレート等の分子内にスルホン基を有する一官能性単量体などが挙げられる。 Other monofunctional monomers having an acidic group, such as 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 10-sulfodecyl (meth) acrylate, and other monofunctional monomers having a sulfone group in the molecule Etc.
二官能性単量体は、芳香族化合物系のものと、脂肪族化合物系のものとの大きく二つに分けられる。芳香族化合物系の二官能性単量体の例としては、2,2−ビス((メタ)アクリロイルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス〔4−(3−(メタ)アクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシフェニル〕プロパン(通称「Bis−GMA」)、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシテトラエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシフェニル)プロパン、2−(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)−2−(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン、2−(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)−2−(4−(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシフェニル)プロパン、2−(4−(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシフェニル)−2−(4−(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシイソプロポキシフェニル)プロパン、1,4−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ピロメリテートなどが挙げられる。 Bifunctional monomers are roughly divided into two types, aromatic compounds and aliphatic compounds. Examples of aromatic bifunctional monomers include 2,2-bis ((meth) acryloyloxyphenyl) propane, 2,2-bis [4- (3- (meth) acryloyloxy) -2. -Hydroxypropoxyphenyl] propane (commonly known as “Bis-GMA”), 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxypolyethoxyphenyl) Propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxytriethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) ) Acryloyloxytetraethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxypentaethoxyphene) ) Propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydipropoxyphenyl) propane, 2- (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) -2- (4- (meth) acryloyloxyethoxyphenyl) ) Propane, 2- (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) -2- (4- (meth) acryloyloxytriethoxyphenyl) propane, 2- (4- (meth) acryloyloxydipropoxyphenyl) -2 -(4- (meth) acryloyloxytriethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxypropoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyisopropoxyphenyl) Propane, 1,4-bis (2- (meth) acryloyloxye Le) pyromellitate and the like.
脂肪族化合物系の二官能性単量体の例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンビス(2−カルバモイルオキシエチル)ジメタクリレート(通称「UDMA」)、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ハイドロジェンホスフェート、ビス(6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル)ハイドロジェンフォスフェート、ビス(10−(メタ)アクリロイルオキシデシル)ハイドロジェンフォスフェート、ビス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−(1−ヒドロキシメチル)エチル}ハイドロジェンフォスフェート等が挙げられる。 Examples of aliphatic compound-based bifunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 1,2-bis (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 2,2,4-trimethylhexamethylenebis ( 2-ka Vamoyloxyethyl) dimethacrylate (commonly known as “UDMA”), bis [2- (meth) acryloyloxyethyl] hydrogen phosphate, bis (6- (meth) acryloyloxyhexyl) hydrogen phosphate, bis (10- ( And (meth) acryloyloxydecyl) hydrogen phosphate, bis {2- (meth) acryloyloxy- (1-hydroxymethyl) ethyl} hydrogen phosphate, and the like.
三官能性以上の単量体の例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、N,N−(2,2,4−トリメチルヘキサメチレン)ビス〔2−(アミノカルボキシ)プロパン−1,3−ジオール〕テトラメタクリレート、及び1,7−ジアクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラアクリロイルオキシメチル−4−オキシヘプタン等が挙げられる。 Examples of trifunctional or higher monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolmethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, N, N- (2,2 , 4-Trimethylhexamethylene) bis [2- (aminocarboxy) propane-1,3-diol] tetramethacrylate, and 1,7-diaacryloyloxy-2,2,6,6-tetraacryloyloxy Methyl-4-oxy-heptane, and the like.
上記(メタ)アクリレート化合物及び(メタ)アクリルアミド化合物は、単独で1種類のみ用いてもよく、複数種類を組み合わせて用いてもよい。また、(メタ)アクリレート化合物又は(メタ)アクリルアミド化合物とともに、α−シアノアクリル酸、α−ハロゲン化アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和有機酸のエステル類、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、モノ−N−ビニル誘導体、スチレン誘導体等の重合性単量体を必要に応じて併用してもよい。 The said (meth) acrylate compound and (meth) acrylamide compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types. In addition to (meth) acrylate compounds or (meth) acrylamide compounds, esters of unsaturated organic acids such as α-cyanoacrylic acid, α-halogenated acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, maleic acid, and itaconic acid , Vinyl esters, vinyl ethers, mono-N-vinyl derivatives, styrene derivatives and other polymerizable monomers may be used in combination as necessary.
本発明に用いられる重合開始剤(III)としては、一般工業界で使用されている重合開始剤から選択して使用でき、中でも歯科用途に用いられている重合開始剤が好ましく用いられる。特に、光重合及び化学重合の重合開始剤を、単独又は2種以上適宜組み合わせて使用される。 The polymerization initiator (III) used in the present invention can be selected from polymerization initiators used in the general industry, and among them, polymerization initiators used for dental applications are preferably used. In particular, polymerization initiators for photopolymerization and chemical polymerization are used alone or in combination of two or more.
本発明に用いられる重合開始剤(III)のうち光重合開始剤としては、(ビス)アシルホスフィンオキサイド類、水溶性アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類又はチオキサントン類の第4級アンモニウム塩、ケタール類、α−ジケトン類、クマリン類、アントラキノン類、ベンゾインアルキルエーテル化合物類、α−アミノケトン系化合物などが挙げられる。 Among the polymerization initiators (III) used in the present invention, as the photopolymerization initiator, (bis) acylphosphine oxides, water-soluble acylphosphine oxides, thioxanthones or quaternary ammonium salts of thioxanthones, ketals, Examples include α-diketones, coumarins, anthraquinones, benzoin alkyl ether compounds, α-aminoketone compounds, and the like.
上記光重合開始剤として用いられる(ビス)アシルホスフィンオキサイド類のうち、アシルフォスフィンオキサイド類としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,6−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,6−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルメトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,3,5,6−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジ−(2,6−ジメチルフェニル)ホスホネートなどが挙げられる。ビスアシルフォスフィンオキサイド類としては、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−4−プロピルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジクロロベンゾイル)−1−ナフチルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、(2,5,6−トリメチルベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。 Among the (bis) acylphosphine oxides used as the photopolymerization initiator, acylphosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, 2, 6-dichlorobenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylmethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, 2,3,5,6-tetramethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyldi -(2,6-dimethylphenyl) phosphonate and the like. Examples of bisacylphosphine oxides include bis- (2,6-dichlorobenzoyl) phenylphosphine oxide, bis- (2,6-dichlorobenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis- (2, 6-dichlorobenzoyl) -4-propylphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dichlorobenzoyl) -1-naphthylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) phenylphosphine oxide, bis- ( 2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis- (2,4,6- Trimethylbenzoyl) phenyl phosphite Oxide, and the like (2,5,6-trimethylbenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide.
上記光重合開始剤として用いられる水溶性アシルフォスフィンオキサイド類は、アシルフォスフィンオキサイド分子内にアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、ピリジニウムイオン又はアンモニウムイオンを有することが好ましい。例えば、水溶性アシルフォスフィンオキサイド類は、欧州特許第0009348号明細書又は特開昭57−197289号公報に開示されている方法により合成することができる。 The water-soluble acylphosphine oxides used as the photopolymerization initiator preferably have an alkali metal ion, alkaline earth metal ion, pyridinium ion, or ammonium ion in the acylphosphine oxide molecule. For example, water-soluble acylphosphine oxides can be synthesized by the method disclosed in European Patent No. 0009348 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-197289.
上記水溶性アシルフォスフィンオキサイド類の具体例としては、モノメチルアセチルフォスフォネート・ナトリウム、モノメチル(1−オキソプロピル)フォスフォネート・ナトリウム、モノメチルベンゾイルフォスフォネート・ナトリウム、モノメチル(1−オキソブチル)フォスフォネート・ナトリウム、モノメチル(2−メチル−1−オキソプロピル)フォスフォネート・ナトリウム、アセチルフォスフォネート・ナトリウム、モノメチルアセチルフォスフォネート・ナトリウム、アセチルメチルフォスフォネート・ナトリウム、メチル4−(ヒドロキシメトキシフォスフィニル)−4−オキソブタノエート・ナトリウム塩、メチル−4−オキソーフォスフォノブタノエート・モノナトリウ厶塩、アセチルフェニールフォスフィネート・ナトリウム塩、(1−オキソプロピル)ペンチルフォスフィネート・ナトリウム、メチル−4−(ヒドロキシペンチルフォスフィニル)−4−オキソブタノエート・ナトリウム塩、アセチルペンチルフォスフィネート・ナトリウム、アセチルエチルフォスフィネート・ナトリウム、メチル(1,1−ジメチル)メチルフォスフィネート・ナトリウム、(1,1−ジエトキシエチル)メチルフォスフィネート・ナトリウム、(1,1−ジエトキシエチル)メチルフォスフィネート・ナトリウム、メチル−4−(ヒドロキシメチルフォスフィニル)−4−オキソブタノエート・リチウム塩、4−(ヒドロキシメチルフォスフィニル)−4−オキソブタノイックアシッド・ジリチウム塩、メチル(2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2−メチル−1,3−チアゾリディン−2−イル)フォスフォナイト・ナトリウム塩、(2−メチルパーヒドロ−1,3−ディアジン−2−イル)フォスフォナイト・ナトリウム塩、アセチルフォスフィネート・ナトリウム塩、(1,1−ジエトキシエチル)フォスフォナイト・ナトリウム塩、(1,1−ジエトキシエチル)メチルフォスフォナイト・ナトリウム塩、メチル(2−メチルオキサチオラン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2,4,5−トリメチル−1,3−ジオキソラン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(1,1−プロポキシエチル)フォスフィネート・ナトリウム塩、(1−メトキシビニル)メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、(1−エチルチオビニル)メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2−メチルパーヒドロ−1,3−ジアジン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2−メチルパーヒドロ−1,3−チアジン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2−メチル−1,3−ジアゾリジン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(2−メチル−1,3−チアゾリジン−2−イル)フォスフィネート・ナトリウム塩、(2,2−ジシアノ−1−メチルエチニル)フォスフィネート・ナトリウム塩、アセチルメチルフォスフィネートオキシム・ナトリウ厶塩、アセチルメチルフォスフィネート−O−ベンジルオキシム・ナトリウム塩、1−[(N−エトキシイミノ)エチル]メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(1−フェニルイミノエチル)フォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(1−フェニルヒドラゾンエチル)フォスフィネート・ナトリウム塩、[1−(2,4−ジニトロフェニルヒドラゾノ)エチル]メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、アセチルメチルフォスフィネートセミカルバゾン・ナトリウム塩、(1−シアノ−1−ヒドロキシエチル)メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、(ジメトキシメチル)メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、フォーミルメチルフォスフィネート・ナトリウム塩、(1,1−ジメトキシプロピル)メチルフォスフィネート・ナトリウム塩、メチル(1−オキソプロピル)フォスフィネート・ナトリウム塩、(1,1−ジメトキシプロピル)メチルフォスフィネート・ドデシルグアニジン塩、(1,1−ジメトキシプロピル)メチルフォスフィネート・イソプロピルアミン塩、アセチルメチルフォスフィネートチオセミカルバゾン・ナトリウム塩、1,3,5−トリブチル−4−メチルアミノ−1,2,4−トリアゾリウム(1,1−ジメトキシエチル)−メチルフォスフィネート、1−ブチル−4−ブチルアミノメチルアミノ−3,5−ジプロピル−1,2,4−トリアゾリウム(1,1−ジメトキシエチル)−メチルフォスフィネート、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイドナトリウム塩、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイドカリウム塩、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイドのアンモニウム塩などが挙げられる。さらに、特開2000−159621号公報に記載されている化合物も挙げられる。 Specific examples of the water-soluble acyl phosphine oxides include monomethyl acetyl phosphonate / sodium, monomethyl (1-oxopropyl) phosphonate / sodium, monomethyl benzoyl phosphonate / sodium, monomethyl (1-oxobutyl) phosphine. Phosphonate sodium, monomethyl (2-methyl-1-oxopropyl) phosphonate sodium, acetyl phosphonate sodium, monomethyl acetyl phosphonate sodium, acetyl methyl phosphonate sodium, methyl 4- (hydroxy Methoxyphosphinyl) -4-oxobutanoate sodium salt, methyl-4-oxophosphonobutanoate mononatrium salt, acetyl phenyl phosphinate Sodium salt, (1-oxopropyl) pentylphosphinate sodium, methyl-4- (hydroxypentylphosphinyl) -4-oxobutanoate sodium salt, acetylpentylphosphinate sodium, acetylethylphosphite Nate sodium, methyl (1,1-dimethyl) methyl phosphinate sodium, (1,1-diethoxyethyl) methyl phosphinate sodium, (1,1-diethoxyethyl) methyl phosphinate sodium Methyl-4- (hydroxymethylphosphinyl) -4-oxobutanoate lithium salt, 4- (hydroxymethylphosphinyl) -4-oxobutanoic acid dilithium salt, methyl (2-methyl- 1,3-dioxolan-2-yl) Phosphinate sodium salt, methyl (2-methyl-1,3-thiazolidin-2-yl) phosphonite sodium salt, (2-methylperhydro-1,3-diazin-2-yl) phosphonite sodium Salt, acetyl phosphinate sodium salt, (1,1-diethoxyethyl) phosphonite sodium salt, (1,1-diethoxyethyl) methyl phosphonite sodium salt, methyl (2-methyloxathio) Lan-2-yl) phosphinate sodium salt, methyl (2,4,5-trimethyl-1,3-dioxolan-2-yl) phosphinate sodium salt, methyl (1,1-propoxyethyl) phos Finate sodium salt, (1-methoxyvinyl) methyl phosphinate sodium salt, (1-ethylthiovinyl) methyl phosphinate sodium salt, methyl (2-methylperhydro-1,3-diazin-2-yl) phosphonate sodium salt, methyl (2-methylperhydro-1, 3-thiazin-2-yl) phosphinate sodium salt, methyl (2-methyl-1,3-diazolidin-2-yl) phosphinate sodium salt, methyl (2-methyl-1,3-thiazolidine- 2-yl) phosphinate sodium salt, (2,2-dicyano-1-methylethynyl) phosphinate sodium salt, acetyl methyl phosphinate oxime natrium salt, acetyl methyl phosphinate-O-benzyl Oxime sodium salt, 1-[(N-ethoxyimino) ethyl] methyl phosphinate na Lithium salt, methyl (1-phenyliminoethyl) phosphinate sodium salt, methyl (1-phenylhydrazone ethyl) phosphinate sodium salt, [1- (2,4-dinitrophenylhydrazono) ethyl] methyl phos Finate sodium salt, acetyl methyl phosphinate semicarbazone sodium salt, (1-cyano-1-hydroxyethyl) methyl phosphinate sodium salt, (dimethoxymethyl) methyl phosphinate sodium salt, formyl Methyl phosphinate sodium salt, (1,1-dimethoxypropyl) methyl phosphinate sodium salt, methyl (1-oxopropyl) phosphinate sodium salt, (1,1-dimethoxypropyl) methyl phosphinate・ Dodeci Guanidine salt, (1,1-dimethoxypropyl) methylphosphinate-isopropylamine salt, acetylmethylphosphinate thiosemicarbazone sodium salt, 1,3,5-tributyl-4-methylamino-1,2, 4-triazolium (1,1-dimethoxyethyl) -methylphosphinate, 1-butyl-4-butylaminomethylamino-3,5-dipropyl-1,2,4-triazolium (1,1-dimethoxyethyl)- Methyl phosphinate, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide sodium salt, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide potassium salt, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide ammonium salt Etc. Furthermore, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-159621 is also mentioned.
これら(ビス)アシルフォスフィンオキサイド類及び水溶性アシルフォスフィンオキサイド類の中でも、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルメトキシフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド及び2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイドナトリウム塩が特に好ましい。 Among these (bis) acylphosphine oxides and water-soluble acylphosphine oxides, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylmethoxyphenylphosphine oxide, bis (2 , 4,6-Trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide sodium salt are particularly preferred.
上記光重合開始剤として用いられるチオキサントン類又はチオキサントン類の第4級アンモニウム塩としては、例えば、チオキサントン、2−クロルチオキサンセン−9−オン、2−ヒドロキシ−3−(9−オキシ−9H−チオキサンテン−4−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−プロパンアミニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(1−メチル−9−オキシ−9H−チオキサンテン−4−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−プロパンアミニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−プロパンアミニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−(1,3,4−トリメチル−9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロライドなどが使用できる。 Examples of thioxanthones or quaternary ammonium salts of thioxanthones used as the photopolymerization initiator include thioxanthone, 2-chlorothioxanthen-9-one, 2-hydroxy-3- (9-oxy-9H- Thioxanthen-4-yloxy) -N, N, N-trimethyl-propanaminium chloride, 2-hydroxy-3- (1-methyl-9-oxy-9H-thioxanthen-4-yloxy) -N, N, N-trimethyl-propanaminium chloride, 2-hydroxy-3- (9-oxo-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-propanaminium chloride, 2-hydroxy-3- ( 3,4-Dimethyl-9-oxo-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N, N, N-trime Ru-1-propaneaminium chloride, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanaminium chloride, 2-hydroxy -3- (1,3,4-trimethyl-9-oxo-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanaminium chloride and the like can be used.
これらチオキサントン類又はチオキサントン類の第4級アンモニウム塩の中でも、特に好適なチオキサントン類は、2−クロルチオキサンセン−9−オンであり、特に好適なチオキサントン類の第4級アンモニウ厶塩は、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロライドである。 Among these thioxanthones or quaternary ammonium salts of thioxanthones, a particularly preferred thioxanthone is 2-chlorothioxanthen-9-one, and a particularly preferred quaternary ammonium 厶 salt of thioxanthones is 2 -Hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9H-thioxanthen-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanaminium chloride.
上記光重合開始剤として用いられるケタール類の例としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等が挙げられる。 Examples of ketals used as the photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal and benzyl diethyl ketal.
上記光重合開始剤として用いられるα−ジケトン類としては、例えば、ジアセチル、ジベンジル、カンファーキノン、2,3−ペンタジオン、2,3−オクタジオン、9,10−フェナンスレンキノン、4,4’−オキシベンジル、アセナフテンキノン等が挙げられる。この中でも、可視光域に極大吸収波長を有している観点から、カンファーキノンが特に好ましい。 Examples of the α-diketone used as the photopolymerization initiator include diacetyl, dibenzyl, camphorquinone, 2,3-pentadione, 2,3-octadione, 9,10-phenanthrenequinone, 4,4′- Examples thereof include oxybenzyl and acenaphthenequinone. Among these, camphorquinone is particularly preferable from the viewpoint of having a maximum absorption wavelength in the visible light region.
上記光重合開始剤として用いられるクマリン化合物の例としては、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノ)クマリン、3−(4−メトキシベンゾイル)クマリン、3−チェノイルクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−6−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−8−メトキシクマリン、3−ベンゾイルクマリン、7−メトキシ−3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン、3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン、3−ベンゾイル−8−メトキシクマリン、3,5−カルボニルビス(7−メトキシクマリン)、3−ベンゾイル−6−ブロモクマリン、3,3’−カルボニルビスクマリン、3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイルベンゾ[f]クマリン、3−カルボキシクマリン、3−カルボキシ−7−メトキシクマリン、3−エトキシカルボニル−6−メトキシクマリン、3−エトキシカルボニル−8−メトキシクマリン、3−アセチルベンゾ[f]クマリン、7−メトキシ−3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン、3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン、3−ベンゾイル−8−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−6−ニトロクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、7−ジメチルアミノ−3−(4−メトキシベンゾイル)クマリン、7−ジエチルアミノ−3−(4−メトキシベンゾイル)クマリン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエチルアミノ)クマリン、7−メトキシ−3−(4−メトキシベンゾイル)クマリン、3−(4−ニトロベンゾイル)ベンゾ[f]クマリン、3−(4−エトキシシンナモイル)−7−メトキシクマリン、3−(4−ジメチルアミノシンナモイル)クマリン、3−(4−ジフェニルアミノシンナモイル)クマリン、3−[(3−ジメチルベンゾチアゾール−2−イリデン)アセチル]クマリン、3−[(1−メチルナフト[1,2−d]チアゾール−2−イリデン)アセチル]クマリン、3,3’−カルボニルビス(6−メトキシクマリン)、3,3’−カルボニルビス(7−アセトキシクマリン)、3,3’−カルボニルビス(7−ジメチルアミノクマリン)、3−(2−ベンゾチアゾイル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−(2−ベンゾチアゾイル)−7−(ジブチルアミノ)クマリン、3−(2−ベンゾイミダゾイル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−(2−ベンゾチアゾイル)−7−(ジオクチルアミノ)クマリン、3−アセチル−7−(ジメチルアミノ)クマリン、3,3’−カルボニルビス(7−ジブチルアミノクマリン)、3,3’−カルボニル−7−ジエチルアミノクマリン−7’−ビス(ブトキシエチル)アミノクマリン、10−[3−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]−1−オキソ−2−プロペニル]−2,3,6,7−1,1,7,7−テトラメチル1H,5H,11H−[1]ベンゾピラノ[6,7,8−ij]キノリジン−11−オン、10−(2−ベンゾチアゾイル)−2,3,6、7−テトラヒドロ−1,1,7,7−テトラメチル1H,5H,11H−[1]ベンゾピラノ[6,7,8−ij]キノリジン−11−オン等の特開平9−3109号公報、特開平10−245525号公報に記載されている化合物が挙げられる。 Examples of the coumarin compound used as the photopolymerization initiator include 3,3′-carbonylbis (7-diethylamino) coumarin, 3- (4-methoxybenzoyl) coumarin, 3-chenoylcoumarin, and 3-benzoyl-5. , 7-Dimethoxycoumarin, 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3-benzoyl-6-methoxycoumarin, 3-benzoyl-8-methoxycoumarin, 3-benzoylcoumarin, 7-methoxy-3- (p-nitrobenzoyl) Coumarin, 3- (p-nitrobenzoyl) coumarin, 3-benzoyl-8-methoxycoumarin, 3,5-carbonylbis (7-methoxycoumarin), 3-benzoyl-6-bromocoumarin, 3,3′-carbonylbiscuc Marine, 3-benzoyl-7-dimethylaminocoumarin, 3-benzoyl Nzo [f] coumarin, 3-carboxycoumarin, 3-carboxy-7-methoxycoumarin, 3-ethoxycarbonyl-6-methoxycoumarin, 3-ethoxycarbonyl-8-methoxycoumarin, 3-acetylbenzo [f] coumarin, 7-methoxy-3- (p-nitrobenzoyl) coumarin, 3- (p-nitrobenzoyl) coumarin, 3-benzoyl-8-methoxycoumarin, 3-benzoyl-6-nitrocoumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin , 7-dimethylamino-3- (4-methoxybenzoyl) coumarin, 7-diethylamino-3- (4-methoxybenzoyl) coumarin, 7-diethylamino-3- (4-diethylamino) coumarin, 7-methoxy-3- ( 4-methoxybenzoyl) coumarin, 3- (4-nitrobe) Zoyl) benzo [f] coumarin, 3- (4-ethoxycinnamoyl) -7-methoxycoumarin, 3- (4-dimethylaminocinnamoyl) coumarin, 3- (4-diphenylaminocinnamoyl) coumarin, 3- [ (3-Dimethylbenzothiazol-2-ylidene) acetyl] coumarin, 3-[(1-methylnaphtho [1,2-d] thiazol-2-ylidene) acetyl] coumarin, 3,3′-carbonylbis (6-methoxy) Coumarin), 3,3′-carbonylbis (7-acetoxycoumarin), 3,3′-carbonylbis (7-dimethylaminocoumarin), 3- (2-benzothiazoyl) -7- (diethylamino) coumarin, 3 -(2-Benzothiazoyl) -7- (dibutylamino) coumarin, 3- (2-benzimidazolyl) -7- (diethi Ruamino) coumarin, 3- (2-benzothiazoyl) -7- (dioctylamino) coumarin, 3-acetyl-7- (dimethylamino) coumarin, 3,3′-carbonylbis (7-dibutylaminocoumarin), 3 , 3'-carbonyl-7-diethylaminocoumarin-7'-bis (butoxyethyl) aminocoumarin, 10- [3- [4- (dimethylamino) phenyl] -1-oxo-2-propenyl] -2,3 6,7-1,1,7,7-tetramethyl 1H, 5H, 11H- [1] benzopyrano [6,7,8-ij] quinolizin-11-one, 10- (2-benzothiazoyl) -2 , 3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl 1H, 5H, 11H- [1] benzopyrano [6,7,8-ij] quinolidin-11-one, etc. 3109 JP, compounds described in JP-A-10-245525 can be cited.
上述のクマリン化合物の中でも、特に、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)及び3,3’−カルボニルビス(7−ジブチルアミノクマリン)が好適である。 Among the above-mentioned coumarin compounds, 3,3′-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin) and 3,3′-carbonylbis (7-dibutylaminocoumarin) are particularly preferable.
上記光重合開始剤として用いられるアントラキノン類の例としては、アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン、1−ブロモアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、1−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1−ヒドロキシアントラキノンなどが挙げられる。 Examples of the anthraquinones used as the photopolymerization initiator include anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 1-bromoanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 1-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1 -Hydroxyanthraquinone and the like.
上記光重合開始剤として用いられるベンゾインアルキルエーテル類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。 Examples of benzoin alkyl ethers used as the photopolymerization initiator include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.
上記光重合開始剤として用いられるα−アミノケトン類の例としては、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等が挙げられる。 Examples of α-aminoketones used as the photopolymerization initiator include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one.
これらの光重合開始剤の中でも、(ビス)アシルフォスフィンオキサイド類及びその塩、α−ジケトン類、及びクマリン化合物からなる群から選択される少なくとも1種を用いることが好ましい。これにより、可視及び近紫外領域での光硬化性に優れ、ハロゲンランプ、発光ダイオード(LED)、キセノンランプのいずれの光源を用いても十分な光硬化性を示す組成物が得られる。 Among these photopolymerization initiators, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of (bis) acylphosphine oxides and salts thereof, α-diketones, and coumarin compounds. As a result, a composition having excellent photocurability in the visible and near-ultraviolet regions and having sufficient photocurability can be obtained using any light source such as a halogen lamp, a light emitting diode (LED), or a xenon lamp.
本発明に用いられる重合開始剤(III)のうち化学重合開始剤としては、有機過酸化物が好ましく用いられる。上記の化学重合開始剤に使用される有機過酸化物は特に限定されず、公知のものを使用することができる。代表的な有機過酸化物としては、ケトンパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシケタール、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。 Of the polymerization initiator (III) used in the present invention, an organic peroxide is preferably used as the chemical polymerization initiator. The organic peroxide used for said chemical polymerization initiator is not specifically limited, A well-known thing can be used. Typical organic peroxides include ketone peroxide, hydroperoxide, diacyl peroxide, dialkyl peroxide, peroxyketal, peroxyester, peroxydicarbonate, and the like.
上記化学重合開始剤として用いられるケトンパーオキサイドとしては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド及びシクロヘキサノンパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of the ketone peroxide used as the chemical polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, and cyclohexanone peroxide.
上記化学重合開始剤として用いられるハイドロパーオキサイドとしては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド及び1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of the hydroperoxide used as the chemical polymerization initiator include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, and 1, 1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide and the like.
上記化学重合開始剤として用いられるジアシルパーオキサイドとしては、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド及びラウロイルパーオキサイド等が挙げられる。 Examples of the diacyl peroxide used as the chemical polymerization initiator include acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, benzoyl peroxide, decanoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, and 2,4-dichlorobenzoyl. Examples thereof include peroxide and lauroyl peroxide.
上記化学重合開始剤として用いられるジアルキルパーオキサイドとしては、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3−ヘキシン等が挙げられる。 Examples of the dialkyl peroxide used as the chemical polymerization initiator include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyl peroxide). Oxy) hexane, 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne and the like.
上記化学重合開始剤として用いられるパーオキシケタールとしては、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン及び4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレリックアシッド−n−ブチルエステル等が挙げられる。 Examples of the peroxyketal used as the chemical polymerization initiator include 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (t-butylperoxy) octane, 4,4-bis (t-butylperoxy) valeric acid-n-butyl ester, etc. Can be mentioned.
上記化学重合開始剤として用いられるパーオキシエステルとしては、α−クミルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、2,2,4−トリメチルペンチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタラート、t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート及びt−ブチルパーオキシマレリックアシッド等が挙げられる。 Peroxyesters used as the chemical polymerization initiator include α-cumylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 2,2,4-trimethylpentyl. Peroxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyisophthalate, di-t- Examples include butyl peroxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-3,3,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, and t-butylperoxymaleic acid. It is done.
上記化学重合開始剤として用いられるパーオキシジカーボネートとしては、ジ−3−メトキシパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート及びジアリルパーオキシジカーボネート等が挙げられる。 Examples of the peroxydicarbonate used as the chemical polymerization initiator include di-3-methoxyperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and diisopropyl. Examples include peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, and diallyl peroxydicarbonate.
これらの有機過酸化物の中でも、安全性、保存安定性及びラジカル生成能力の総合的なバランスから、ジアシルパーオキサイドが好ましく用いられ、その中でもベンゾイルパーオキサイドが特に好ましく用いられる。 Among these organic peroxides, diacyl peroxide is preferably used from the overall balance of safety, storage stability and radical generating ability, and benzoyl peroxide is particularly preferably used among them.
好ましい実施態様では、上述の重合開始剤(III)は重合促進剤(IV)と共に用いられる。本発明に用いられる重合促進剤(IV)としては、アミン類、スルフィン酸及びその塩、ボレート化合物、バルビツール酸誘導体、トリアジン化合物、銅化合物、スズ化合物、バナジウム化合物、ハロゲン化合物、アルデヒド類、チオール化合物などが挙げられる。 In a preferred embodiment, the above-mentioned polymerization initiator (III) is used together with a polymerization accelerator (IV). The polymerization accelerator (IV) used in the present invention includes amines, sulfinic acid and its salts, borate compounds, barbituric acid derivatives, triazine compounds, copper compounds, tin compounds, vanadium compounds, halogen compounds, aldehydes, thiols. Compound etc. are mentioned.
重合促進剤(IV)として用いられるアミン類は、脂肪族アミン及び芳香族アミンに分けられる。脂肪族アミンとしては、例えば、n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−オクチルアミン等の第1級脂肪族アミン;ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、N−メチルジエタノールアミン等の第2級脂肪族アミン;N−メチルエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、N−ラウリルジエタノールアミン、2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート、N−メチルジエタノールアミンジメタクリレート、N−エチルジエタノールアミンジメタクリレート、トリエタノールアミンモノメタクリレート、トリエタノールアミンジメタクリレート、トリエタノールアミントリメタクリレート、トリエタノールアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の第3級脂肪族アミンなどが挙げられる。これらの中でも、組成物の硬化性及び保存安定性の観点から、第3級脂肪族アミンが好ましく、その中でもN−メチルジエタノールアミン及びトリエタノールアミンがより好ましく用いられる。 The amines used as the polymerization accelerator (IV) are classified into aliphatic amines and aromatic amines. Examples of the aliphatic amine include primary aliphatic amines such as n-butylamine, n-hexylamine and n-octylamine; secondary aliphatic amines such as diisopropylamine, dibutylamine and N-methyldiethanolamine; N -Methylethanolamine, N-ethyldiethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, N-lauryldiethanolamine, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate, N-methyldiethanolamine dimethacrylate, N-ethyldiethanolamine dimethacrylate, triethanolamine monomethacrylate , Tertiary fats such as triethanolamine dimethacrylate, triethanolamine trimethacrylate, triethanolamine, trimethylamine, triethylamine, tributylamine Amine and the like. Among these, tertiary aliphatic amines are preferable from the viewpoint of curability and storage stability of the composition, and among them, N-methyldiethanolamine and triethanolamine are more preferably used.
また、芳香族アミンとしては、例えば、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3,5−ジメチルアニリン、N,N−ジ(2−ヒドロキシエチル)−p−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3,4−ジメチルアニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−4−エチルアニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−4−イソプロピルアニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−4−t−ブチルアニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3,5−ジ−イソプロピルアニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3,5−ジ−t−ブチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、N,N−ジメチル−m−トルイジン、N,N−ジエチル−p−トルイジン、N,N−ジメチル−3,5−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−3,4−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−4−エチルアニリン、N,N−ジメチル−4−イソプロピルアニリン、N,N−ジメチル−4−t−ブチルアニリン、N,N−ジメチル−3,5−ジ−t−ブチルアニリン、4−N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、4−N,N−ジメチルアミノ安息香酸メチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸n−ブトキシエチルエステル、4−N,N−ジメチルアミノ安息香酸2−(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、4−N,N−ジメチルアミノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル等が挙げられる。これらの中でも、組成物に優れた硬化性を付与できる観点から、N,N−ジ(2−ヒドロキシエチル)−p−トルイジン、4−N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸n−ブトキシエチルエステル及び4−N,N−ジメチルアミノベンゾフェノンからなる群から選択される少なくとも1種が好ましく用いられる。 Examples of the aromatic amine include N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3,5-dimethylaniline, N, N-di (2-hydroxyethyl) -p-toluidine, and N, N-bis. (2-hydroxyethyl) -3,4-dimethylaniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -4-ethylaniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -4-isopropylaniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -4-t-butylaniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3,5-di-isopropylaniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl)- 3,5-di-t-butylaniline, N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p-toluidine, N, N-dimethyl-m-toluidine, N, N-diethyl-p-toluidine N, N-dimethyl-3,5-dimethylaniline, N, N-dimethyl-3,4-dimethylaniline, N, N-dimethyl-4-ethylaniline, N, N-dimethyl-4-isopropylaniline, N , N-dimethyl-4-t-butylaniline, N, N-dimethyl-3,5-di-t-butylaniline, 4-N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, 4-N, N-dimethylamino Benzoic acid methyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid n-butoxyethyl ester, 4-N, N-dimethylaminobenzoic acid 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, 4-N, N-dimethylaminobenzophenone, 4- Examples include butyl dimethylaminobenzoate. Among these, N, N-di (2-hydroxyethyl) -p-toluidine, 4-N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N- from the viewpoint of imparting excellent curability to the composition. At least one selected from the group consisting of dimethylaminobenzoic acid n-butoxyethyl ester and 4-N, N-dimethylaminobenzophenone is preferably used.
重合促進剤(IV)として用いられるスルフィン酸及びその塩としては、例えば、p−トルエンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸ナトリウム、p−トルエンスルフィン酸カリウム、p−トルエンスルフィン酸リチウム、p−トルエンスルフィン酸カルシウム、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム、ベンゼンスルフィン酸カリウム、ベンゼンスルフィン酸リチウム、ベンゼンスルフィン酸カルシウム、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフィン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフィン酸ナトリウム、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフィン酸カリウム、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフィン酸リチウム、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフィン酸カルシウム、2,4,6−トリエチルベンゼンスルフィン酸、2,4,6−トリエチルベンゼンスルフィン酸ナトリウム、2,4,6−トリエチルベンゼンスルフィン酸カリウム、2,4,6−トリエチルベンゼンスルフィン酸リチウム、2,4,6−トリエチルベンゼンスルフィン酸カルシウム、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸ナトリウム、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸カリウム、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸リチウム、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸カルシウム等が挙げられ、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム、p−トルエンスルフィン酸ナトリウム、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルフィン酸ナトリウムが特に好ましい。 Examples of the sulfinic acid and its salt used as the polymerization accelerator (IV) include p-toluenesulfinic acid, sodium p-toluenesulfinate, potassium p-toluenesulfinate, lithium p-toluenesulfinate, p-toluenesulfine. Acid calcium, benzenesulfinic acid, sodium benzenesulfinate, potassium benzenesulfinate, lithium benzenesulfinate, calcium benzenesulfinate, 2,4,6-trimethylbenzenesulfinate, sodium 2,4,6-trimethylbenzenesulfinate, Potassium 2,4,6-trimethylbenzenesulfinate, lithium 2,4,6-trimethylbenzenesulfinate, calcium 2,4,6-trimethylbenzenesulfinate, 2,4,6-triethylben Sulfinic acid, sodium 2,4,6-triethylbenzenesulfinate, potassium 2,4,6-triethylbenzenesulfinate, lithium 2,4,6-triethylbenzenesulfinate, calcium 2,4,6-triethylbenzenesulfinate 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinic acid, sodium 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinate, potassium 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinate, 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinic acid Lithium, calcium 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinate, and the like. Sodium benzenesulfinate, sodium p-toluenesulfinate, sodium 2,4,6-triisopropylbenzenesulfinate are particularly preferable. .
重合促進剤(IV)として用いられるボレート化合物は、好ましくはアリールボレート化合物である。好適に使用されるアリールボレート化合物を具体的に例示すると、1分子中に1個のアリール基を有するボレート化合物として、トリアルキルフェニルホウ素、トリアルキル(p−クロロフェニル)ホウ素、トリアルキル(p−フロロフェニル)ホウ素、トリアルキル(3,5−ビストリフロロメチル)フェニルホウ素、トリアルキル[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、トリアルキル(p−ニトロフェニル)ホウ素、トリアルキル(m−ニトロフェニル)ホウ素、トリアルキル(p−ブチルフェニル)ホウ素、トリアルキル(m−ブチルフェニル)ホウ素、トリアルキル(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、トリアルキル(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、トリアルキル(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素及びトリアルキル(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素(アルキル基はn−ブチル基、n−オクチル基及びn−ドデシル基等からなる群から選択される少なくとも1種である)のナトリウム塩、リチウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、メチルピリジニウム塩、エチルピリジニウム塩、ブチルピリジニウム塩、メチルキノリニウム塩、エチルキノリニウム塩及びブチルキノリニウム塩等を挙げることができる。 The borate compound used as the polymerization accelerator (IV) is preferably an aryl borate compound. Specific examples of suitably used aryl borate compounds include trialkylphenyl boron, trialkyl (p-chlorophenyl) boron, trialkyl (p-fluoro) as borate compounds having one aryl group in one molecule. Phenyl) boron, trialkyl (3,5-bistrifluoromethyl) phenylboron, trialkyl [3,5-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methoxy-2-propyl) phenyl ] Boron, trialkyl (p-nitrophenyl) boron, trialkyl (m-nitrophenyl) boron, trialkyl (p-butylphenyl) boron, trialkyl (m-butylphenyl) boron, trialkyl (p-butyloxy) Phenyl) boron, trialkyl (m-butyloxyphenyl) boron, Alkyl (p-octyloxyphenyl) boron and trialkyl (m-octyloxyphenyl) boron (the alkyl group is at least one selected from the group consisting of n-butyl, n-octyl, n-dodecyl, etc.) A) sodium salt, lithium salt, potassium salt, magnesium salt, tetrabutylammonium salt, tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, methylpyridinium salt, ethylpyridinium salt, butylpyridinium salt, methylquinolinium salt, ethylquinori Examples thereof include a nium salt and a butyl quinolinium salt.
また、1分子中に2個のアリール基を有するボレート化合物としては、ジアルキルジフェニルホウ素、ジアルキルジ(p−クロロフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(p−フロロフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(3,5−ビストリフロロメチル)フェニルホウ素、ジアルキルジ[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、ジアルキルジ(p−ニトロフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(m−ニトロフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(p−ブチルフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(m−ブチルフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、ジアルキルジ(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素及びジアルキルジ(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素(アルキル基はn−ブチル基、n−オクチル基及びn−ドデシル基等からなる群から選択される少なくとも1種である)のナトリウム塩、リチウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、メチルピリジニウム塩、エチルピリジニウム塩、ブチルピリジニウム塩、メチルキノリニウム塩、エチルキノリニウム塩及びブチルキノリニウム塩等が挙げられる。 Examples of the borate compound having two aryl groups in one molecule include dialkyldiphenyl boron, dialkyldi (p-chlorophenyl) boron, dialkyldi (p-fluorophenyl) boron, and dialkyldi (3,5-bistrifluoromethyl) phenyl. Boron, dialkyldi [3,5-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methoxy-2-propyl) phenyl] boron, dialkyldi (p-nitrophenyl) boron, dialkyldi (m-nitro Phenyl) boron, dialkyldi (p-butylphenyl) boron, dialkyldi (m-butylphenyl) boron, dialkyldi (p-butyloxyphenyl) boron, dialkyldi (m-butyloxyphenyl) boron, dialkyldi (p-octyloxyphenyl) Boron and di Sodium salt, lithium salt, potassium salt of rualkyldi (m-octyloxyphenyl) boron (the alkyl group is at least one selected from the group consisting of n-butyl group, n-octyl group, n-dodecyl group, etc.) Magnesium salt, tetrabutylammonium salt, tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, methylpyridinium salt, ethylpyridinium salt, butylpyridinium salt, methylquinolinium salt, ethylquinolinium salt, butylquinolinium salt, etc. It is done.
さらに、1分子中に3個のアリール基を有するボレート化合物としては、モノアルキルトリフェニルホウ素、モノアルキルトリ(p−クロロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(p−フロロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(3,5−ビストリフロロメチル)フェニルホウ素、モノアルキルトリ[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、モノアルキルトリ(p−ニトロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(m−ニトロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(p−ブチルフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(m−ブチルフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、モノアルキルトリ(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素及びモノアルキルトリ(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素(アルキル基はn−ブチル基、n−オクチル基又はn−ドデシル基等から選択される1種である)のナトリウム塩、リチウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、メチルピリジニウム塩、エチルピリジニウム塩、ブチルピリジニウム塩、メチルキノリニウム塩、エチルキノリニウム塩、ブチルキノリニウム塩等が挙げられる。 Further, borate compounds having three aryl groups in one molecule include monoalkyltriphenylboron, monoalkyltri (p-chlorophenyl) boron, monoalkyltri (p-fluorophenyl) boron, monoalkyltri (3 , 5-Bistrifluoromethyl) phenyl boron, monoalkyltri [3,5-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methoxy-2-propyl) phenyl] boron, monoalkyltri ( p-nitrophenyl) boron, monoalkyltri (m-nitrophenyl) boron, monoalkyltri (p-butylphenyl) boron, monoalkyltri (m-butylphenyl) boron, monoalkyltri (p-butyloxyphenyl) Boron, monoalkyltri (m-butyloxyphenyl) boron, monoal Rutri (p-octyloxyphenyl) boron and monoalkyltri (m-octyloxyphenyl) boron (the alkyl group is one selected from n-butyl, n-octyl, n-dodecyl, etc.) Sodium salt, lithium salt, potassium salt, magnesium salt, tetrabutylammonium salt, tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, methylpyridinium salt, ethylpyridinium salt, butylpyridinium salt, methylquinolinium salt, ethylquinolinium salt, A butyl quinolinium salt etc. are mentioned.
さらに1分子中に4個のアリール基を有するボレート化合物としては、テトラフェニルホウ素、テトラキス(p−クロロフェニル)ホウ素、テトラキス(p−フロロフェニル)ホウ素、テトラキス(3,5−ビストリフロロメチル)フェニルホウ素、テトラキス[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフロロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、テトラキス(p−ニトロフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ニトロフェニル)ホウ素、テトラキス(p−ブチルフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ブチルフェニル)ホウ素、テトラキス(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素、(p−フロロフェニル)トリフェニルホウ素、(3,5−ビストリフロロメチル)フェニルトリフェニルホウ素、(p−ニトロフェニル)トリフェニルホウ素、(m−ブチルオキシフェニル)トリフェニルホウ素、(p−ブチルオキシフェニル)トリフェニルホウ素、(m−オクチルオキシフェニル)トリフェニルホウ素及び(p−オクチルオキシフェニル)トリフェニルホウ素のナトリウム塩、リチウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、メチルピリジニウム塩、エチルピリジニウム塩、ブチルピリジニウム塩、メチルキノリニウム塩、エチルキノリニウム塩及びブチルキノリニウム塩等が挙げられる。 Further, borate compounds having four aryl groups in one molecule include tetraphenyl boron, tetrakis (p-chlorophenyl) boron, tetrakis (p-fluorophenyl) boron, tetrakis (3,5-bistrifluoromethyl) phenylboron. Tetrakis [3,5-bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methoxy-2-propyl) phenyl] boron, tetrakis (p-nitrophenyl) boron, tetrakis (m-nitrophenyl) ) Boron, Tetrakis (p-butylphenyl) boron, Tetrakis (m-butylphenyl) boron, Tetrakis (p-butyloxyphenyl) boron, Tetrakis (m-butyloxyphenyl) boron, Tetrakis (p-octyloxyphenyl) boron , Tetrakis (m-octyloxyf Nyl) boron, (p-fluorophenyl) triphenylboron, (3,5-bistrifluoromethyl) phenyltriphenylboron, (p-nitrophenyl) triphenylboron, (m-butyloxyphenyl) triphenylboron, ( p-Butyloxyphenyl) triphenylboron, (m-octyloxyphenyl) triphenylboron and (p-octyloxyphenyl) triphenylboron sodium salt, lithium salt, potassium salt, magnesium salt, tetrabutylammonium salt, tetra Examples thereof include methylammonium salt, tetraethylammonium salt, methylpyridinium salt, ethylpyridinium salt, butylpyridinium salt, methylquinolinium salt, ethylquinolinium salt, and butylquinolinium salt.
これらアリールボレート化合物の中でも、保存安定性の観点から、1分子中に3個又は4個のアリール基を有するボレート化合物を用いることがより好ましい。また、これらアリールボレート化合物は1種又は2種以上を混合して用いることも可能である。 Among these aryl borate compounds, it is more preferable to use a borate compound having 3 or 4 aryl groups in one molecule from the viewpoint of storage stability. These aryl borate compounds may be used alone or in combination of two or more.
重合促進剤(IV)として用いられるバビツール酸誘導体としては、バルビツール酸、1,3−ジメチルバルビツール酸、1,3−ジフェニルバルビツール酸、1,5−ジメチルバルビツール酸、5−ブチルバルビツール酸、5−エチルバルビツール酸、5−イソプロピルバルビツール酸、5−シクロヘキシルバルビツール酸、1,3,5−トリメチルバルビツール酸、1,3−ジメチル−5−エチルバルビツール酸、1,3−ジメチル−n−ブチルバルビツール酸、1,3−ジメチル−5−イソブチルバルビツール酸、1,3−ジメチルバルビツール酸、1,3−ジメチル−5−シクロペンチルバルビツール酸、1,3−ジメチル−5−シクロヘキシルバルビツール酸、1,3−ジメチル−5−フェニルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−1−エチルバルビツール酸、1−ベンジル−5−フェニルバルビツール酸、5−メチルバルビツール酸、5−プロピルバルビツール酸、1,5−ジエチルバルビツール酸、1−エチル−5−メチルバルビツール酸、1−エチル−5−イソブチルバルビツール酸、1,3−ジエチル−5−ブチルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−メチルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−エチルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−オクチルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−ヘキシルバルビツール酸、5−ブチル−1−シクロヘキシルバルビツール酸、1−ベンジル−5−フェニルバルビツール酸及びチオバルビツール酸類、ならびにこれらの塩(特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属類が好ましい)が挙げられ、これらバルビツール酸類の塩としては、例えば、5−ブチルバルビツール酸ナトリウム、1,3,5−トリメチルバルビツール酸ナトリウム及び1−シクロヘキシル−5−エチルバルビツール酸ナトリウム等が例示される。 Examples of the barbituric acid derivative used as the polymerization accelerator (IV) include barbituric acid, 1,3-dimethylbarbituric acid, 1,3-diphenylbarbituric acid, 1,5-dimethylbarbituric acid, and 5-butylbarbituric acid. Tool acid, 5-ethylbarbituric acid, 5-isopropylbarbituric acid, 5-cyclohexylbarbituric acid, 1,3,5-trimethylbarbituric acid, 1,3-dimethyl-5-ethylbarbituric acid, 1, 3-dimethyl-n-butylbarbituric acid, 1,3-dimethyl-5-isobutylbarbituric acid, 1,3-dimethylbarbituric acid, 1,3-dimethyl-5-cyclopentylbarbituric acid, 1,3- Dimethyl-5-cyclohexyl barbituric acid, 1,3-dimethyl-5-phenylbarbituric acid, 1-cyclohexyl 1-ethylbarbituric acid, 1-benzyl-5-phenylbarbituric acid, 5-methylbarbituric acid, 5-propylbarbituric acid, 1,5-diethylbarbituric acid, 1-ethyl-5-methylbarbituric Acid, 1-ethyl-5-isobutylbarbituric acid, 1,3-diethyl-5-butylbarbituric acid, 1-cyclohexyl-5-methylbarbituric acid, 1-cyclohexyl-5-ethylbarbituric acid, 1- Cyclohexyl-5-octylbarbituric acid, 1-cyclohexyl-5-hexylbarbituric acid, 5-butyl-1-cyclohexylbarbituric acid, 1-benzyl-5-phenylbarbituric acid and thiobarbituric acids, and these Salts (especially preferred are alkali metals or alkaline earth metals), these Examples of the salt of barbituric acid include sodium 5-butyl barbiturate, sodium 1,3,5-trimethylbarbiturate and sodium 1-cyclohexyl-5-ethylbarbiturate.
特に好適なバルビツール酸誘導体としては、5−ブチルバルビツール酸、1,3,5−トリメチルバルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−エチルバルビツール酸、1−ベンジル−5−フェニルバルビツール酸、及びこれらバルビツール酸類のナトリウム塩が挙げられる。 Particularly preferred barbituric acid derivatives include 5-butyl barbituric acid, 1,3,5-trimethylbarbituric acid, 1-cyclohexyl-5-ethylbarbituric acid, 1-benzyl-5-phenylbarbituric acid, And sodium salts of these barbituric acids.
重合促進剤(IV)として用いられるトリアジン化合物としては、例えば、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,4−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブロモフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(p−メトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(o−メトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(p−ブトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4,5−トリメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(1−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−{N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ}エトキシ]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−{N−ヒドロキシエチル−N−エチルアミノ}エトキシ]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−{N−ヒドロキシエチル−N−メチルアミノ}エトキシ]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−{N,N−ジアリルアミノ}エトキシ]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が例示される。 Examples of the triazine compound used as the polymerization accelerator (IV) include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2 -Methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methylthiophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2,4-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-bromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2 -Styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (p-methoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (O-methoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (p-butoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-to Lyazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4,5-trimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (1-naphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-biphenylyl) -4,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- {N, N-bis (2-hydroxyethyl) amino} ethoxy] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- {N-hydroxyethyl-N-ethylamino} ethoxy] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- {N-hydroxyethyl-N-methylamino} ethoxy] -4 3,6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- {N, N- diallylamino} ethoxy] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and the like.
上記で例示したトリアジン化合物の中で特に好ましいものは、重合活性の点で2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジンであり、また保存安定性の点で、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、及び2−(4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンである。上記トリアジン化合物は1種又は2種以上を混合して用いても構わない。 Among the triazine compounds exemplified above, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine is particularly preferable from the viewpoint of polymerization activity, and 2-phenyl-4 is preferable from the viewpoint of storage stability. , 6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2- (4-biphenylyl) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine. You may use the said triazine compound 1 type or in mixture of 2 or more types.
重合促進剤(IV)として用いられる銅化合物としては、例えば、アセチルアセトン銅、酢酸第2銅、オレイン酸銅、塩化第2銅、臭化第2銅等が好適に用いられる。 As the copper compound used as the polymerization accelerator (IV), for example, acetylacetone copper, cupric acetate, copper oleate, cupric chloride, cupric bromide and the like are preferably used.
重合促進剤(IV)として用いられるスズ化合物としては、例えば、ジ−n−ブチル錫ジマレート、ジ−n−オクチル錫ジマレート、ジ−n−オクチル錫ジラウレート、ジ−n−ブチル錫ジラウレートなどが挙げられる。特に好適なスズ化合物は、ジ−n−オクチル錫ジラウレート及びジ−n−ブチル錫ジラウレートである。 Examples of the tin compound used as the polymerization accelerator (IV) include di-n-butyltin dimaleate, di-n-octyltin dimaleate, di-n-octyltin dilaurate, and di-n-butyltin dilaurate. It is done. Particularly suitable tin compounds are di-n-octyltin dilaurate and di-n-butyltin dilaurate.
重合促進剤(IV)として用いられるバナジウム化合物は、好ましくはIV価及び/又はV価のバナジウム化合物類である。IV価及び/又はV価のバナジウム化合物類としては、例えば、四酸化二バナジウム(IV)、酸化バナジウムアセチルアセトナート(IV)、シュウ酸バナジル(IV)、硫酸バナジル(IV)、オキソビス(1−フェニル−1,3−ブタンジオネート)バナジウム(IV)、ビス(マルトラート)オキソバナジウム(IV)、五酸化バナジウム(V)、メタバナジン酸ナトリウム(V)、メタバナジン酸アンモン(V)等の特開2003−96122号公報に記載されている化合物が挙げられる。 The vanadium compound used as the polymerization accelerator (IV) is preferably IV-valent and / or V-valent vanadium compounds. Examples of the IV-valent and / or V-valent vanadium compounds include divanadium tetroxide (IV), vanadium oxide acetylacetonate (IV), vanadyl oxalate (IV), vanadyl sulfate (IV), oxobis (1- Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2003, such as phenyl-1,3-butanedionate) vanadium (IV), bis (maltolate) oxovanadium (IV), vanadium pentoxide (V), sodium metavanadate (V), and ammonium metavanadate (V) The compound described in -96122 is mentioned.
重合促進剤(IV)として用いられるハロゲン化合物としては、例えば、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジルジメチルセチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロマイド等が好適に用いられる。 Examples of the halogen compound used as the polymerization accelerator (IV) include dilauryldimethylammonium chloride, lauryldimethylbenzylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, benzyldimethylcetylammonium chloride, dilauryldimethylammonium bromide and the like. Are preferably used.
重合促進剤(IV)として用いられるアルデヒド類としては、例えば、テレフタルアルデヒドやベンズアルデヒド誘導体などが挙げられる。ベンズアルデヒド誘導体としては、ジメチルアミノベンズアルデヒド、p−メチルオキシベンズアルデヒド、p−エチルオキシベンズアルデヒド、p−n−オクチルオキシベンズアルデヒドなどが挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点から、p−n−オクチルオキシベンズアルデヒドが好ましく用いられる。 Examples of aldehydes used as the polymerization accelerator (IV) include terephthalaldehyde and benzaldehyde derivatives. Examples of the benzaldehyde derivative include dimethylaminobenzaldehyde, p-methyloxybenzaldehyde, p-ethyloxybenzaldehyde, pn-octyloxybenzaldehyde and the like. Among these, pn-octyloxybenzaldehyde is preferably used from the viewpoint of curability.
重合促進剤(IV)として用いられるチオール化合物としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、デカンチオール、チオ安息香酸等が挙げられる。 Examples of the thiol compound used as the polymerization accelerator (IV) include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 2-mercaptobenzoxazole, decanethiol, and thiobenzoic acid.
有機珪素化合物をそのまま重合性単量体として用いる第1の形態において、前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の配合量比は特に限定されないが、好ましい実施態様では、前記(I)及び前記(II)の合計を100重量部とした場合に、配合量比は前記(I)1〜99重量部及び前記(II)1〜99重量部である。前記配合量比は、前記(I)2〜90重量部及び前記(II)10〜98重量部であることがより好ましく、前記(I)3〜80重量部及び前記(II)20〜97重量部であることがさらに好ましい。 In the first embodiment in which the organosilicon compound is used as the polymerizable monomer as it is, the compounding ratio of the compound (I) and the polymerizable monomer (II) is not particularly limited. When the total of I) and (II) is 100 parts by weight, the blending ratio is 1 to 99 parts by weight of (I) and 1 to 99 parts by weight of (II). The blending ratio is more preferably 2 to 90 parts by weight of (I) and 10 to 98 parts by weight of (II), 3 to 80 parts by weight of (I) and 20 to 97 parts of (II). More preferably, it is a part.
前記重合開始剤(III)の配合量は特に限定されない。得られる組成物の硬化性等の観点からは、前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の合計100重量部に対して、前記重合開始剤(III)が0.01〜15重量部配合されることが好ましく、0.03〜10重量部配合されることがより好ましい。 The blending amount of the polymerization initiator (III) is not particularly limited. From the viewpoint of curability and the like of the resulting composition, the polymerization initiator (III) is 0.01 to 15 with respect to a total of 100 parts by weight of the compound (I) and the polymerizable monomer (II). It is preferable to mix | blend a weight part, and it is more preferable to mix | blend 0.03-10 weight part.
前記重合促進剤(IV)の配合量は特に限定されない。得られる組成物の硬化性等の観点からは、前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の合計100重量部に対して、前記重合促進剤(IV)が0.01〜15重量部配合されることが好ましい。 The blending amount of the polymerization accelerator (IV) is not particularly limited. From the viewpoint of curability and the like of the resulting composition, the polymerization accelerator (IV) is 0.01 to 15 with respect to 100 parts by weight of the total of the compound (I) and the polymerizable monomer (II). It is preferable that a part by weight is blended.
有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子を用いる第2の態様では、重合性単量体(II)の使用量は、特に限定されない。前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の合計100重量部に対して、無機粒子が0.1〜2000重量部配合される。 In the second embodiment using the inorganic particles surface-treated with the organosilicon compound (I), the amount of the polymerizable monomer (II) used is not particularly limited. 0.1 to 2000 parts by weight of inorganic particles are added to 100 parts by weight of the total of the compound (I) and the polymerizable monomer (II).
前記重合開始剤(III)の配合量は特に限定されない。得られる組成物の硬化性等の観点からは、前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の合計100重量部に対して、前記重合開始剤(III)が0.01〜15重量部配合されることが好ましく、0.03〜10重量部配合されることがより好ましい。 The blending amount of the polymerization initiator (III) is not particularly limited. From the viewpoint of curability and the like of the resulting composition, the polymerization initiator (III) is 0.01 to 15 with respect to a total of 100 parts by weight of the compound (I) and the polymerizable monomer (II). It is preferable to mix | blend a weight part, and it is more preferable to mix | blend 0.03-10 weight part.
前記重合促進剤(IV)の配合量は特に限定されない。得られる組成物の硬化性等の観点からは、前記化合物(I)と前記重合性単量体(II)の合計100重量部に対して、前記重合促進剤(IV)が0.01〜15重量部配合されることが好ましい。 The blending amount of the polymerization accelerator (IV) is not particularly limited. From the viewpoint of curability and the like of the resulting composition, the polymerization accelerator (IV) is 0.01 to 15 with respect to 100 parts by weight of the total of the compound (I) and the polymerizable monomer (II). It is preferable that a part by weight is blended.
また組成物は、その具体的な実施態様によっては、溶媒(V)を含むことが好ましい。溶媒(V)としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン、トルエン、クロロホルム、酢酸エチル、酢酸ブチル等が挙げられる。これらの中でも、生体に対する安全性と勘案した場合、水、エタノール及びアセトンからなる群から選択される少なくとも1種が好ましく用いられる。 Moreover, it is preferable that a composition contains the solvent (V) depending on the specific embodiment. Examples of the solvent (V) include water, methanol, ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, hexane, toluene, chloroform, ethyl acetate, butyl acetate and the like. Among these, at least one selected from the group consisting of water, ethanol and acetone is preferably used in view of safety with respect to the living body.
また組成物は、有機粒子又は有機−無機複合粒子を含んでいてもよい。有機粒子の素材としては、例えばポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、架橋型ポリメタクリル酸メチル、架橋型ポリメタクリル酸エチル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上の混合物として用いることができる。有機粒子の形状は特に限定されず、粒子の粒子径を適宜選択して使用することができる。得られる組成物のハンドリング性及び機械的強度などの観点から、前記有機粒子の平均粒子径は0.001〜50μmであることが好ましく、0.001〜10μmであることがより好ましい。 The composition may contain organic particles or organic-inorganic composite particles. Examples of the organic particle material include polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl methacrylate copolymer, cross-linked polymethyl methacrylate, cross-linked polyethyl methacrylate, polyamide, polyvinyl chloride, and polystyrene. Chloroprene rubber, nitrile rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-styrene-butadiene copolymer, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Can be used as a mixture. The shape of the organic particles is not particularly limited, and the particle diameter of the particles can be appropriately selected and used. From the viewpoints of handleability and mechanical strength of the resulting composition, the average particle diameter of the organic particles is preferably 0.001 to 50 μm, and more preferably 0.001 to 10 μm.
有機−無機複合粒子とは、上述の無機粒子にモノマー化合物を予め添加し、ペースト状にした後に重合させ、粉砕することにより得られるものである。前記有機−無機複合粒子としては、例えば、TMPT粒子(トリメチロールプロパンメタクリレートとシリカ粒子を混和、重合させた後に粉砕したもの)などを用いることができる。前記有機−無機複合粒子の形状は特に限定されず、粒子の粒子径を適宜選択して使用することができる。得られる組成物のハンドリング性及び機械的強度などの観点から、前記有機−無機複合粒子の平均粒子径は0.001〜50μmであることが好ましく、0.001〜10μmであることがより好ましい。 The organic-inorganic composite particles are obtained by adding a monomer compound to the above-mentioned inorganic particles in advance, forming a paste, polymerizing, and pulverizing. Examples of the organic-inorganic composite particles include TMPT particles (trimethylolpropane methacrylate and silica particles mixed and polymerized and then pulverized). The shape of the organic-inorganic composite particles is not particularly limited, and the particle diameter of the particles can be appropriately selected and used. From the viewpoint of handling properties and mechanical strength of the resulting composition, the average particle diameter of the organic-inorganic composite particles is preferably 0.001 to 50 μm, and more preferably 0.001 to 10 μm.
この他、組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲でpH調整剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、増粘剤、着色剤、抗菌剤、香料等を配合してもよい。 In addition, the composition may contain a pH adjuster, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a thickener, a colorant, an antibacterial agent, a fragrance, and the like as long as the effects of the present invention are not impaired.
第1の態様の組成物は、特に、ジルコニア、アルミナ等のセラミックス材料及びグラスファイバーに対して優れた接着強さを発現する歯科用接着性組成物及びプライマーとして好適に用いられる。当該接着性組成物は、高い接着性と接着耐久性を有する。当該歯科用接着性組成物は(I)、(II)、(III)、(IV)、及び(V)を含む組成物であることが好ましく、通常量の上述の無機粒子、有機粒子、又は有機−無機複合粒子をさらに含んでいてもよい。 The composition of the first aspect is particularly suitably used as a dental adhesive composition and a primer that exhibit excellent adhesive strength to ceramic materials such as zirconia and alumina and glass fiber. The adhesive composition has high adhesiveness and adhesion durability. The dental adhesive composition is preferably a composition comprising (I), (II), (III), (IV), and (V), and a normal amount of the above-mentioned inorganic particles, organic particles, or Organic-inorganic composite particles may further be included.
第2の態様の組成物は、特に、歯科用の、プライマー、ボンディング材、コンポジットレジン、セメント、小窩裂溝填塞材、義歯床用レジン等として用いることができ、中でも、歯科修復材、特に、コンポジットレジン、又はセメントとして好適に用いられる。当該歯科修復材は、高い機械的強度と耐久性を示す。このとき、組成物は、有機珪素化合物(I)で表面処理された無機粒子、(II)、(III)、(IV)、及び(V)を含む組成物であることが好ましい。 The composition of the second aspect can be used as a primer, a bonding material, a composite resin, a cement, a foveal fissure filling material, a denture base resin, and the like, especially for dental use. , Composite resin, or cement. The dental restorative material exhibits high mechanical strength and durability. At this time, the composition is preferably a composition containing inorganic particles (II), (III), (IV), and (V) surface-treated with the organosilicon compound (I).
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples.
合成例1
[トリメチロール−6−ヘプテンの合成]
3L三口フラスコに、12wt%ホルムアルデヒド水溶液909g(3.64mol)を加え、次いでTHF(テトラヒドロフラン)909gを加え、激しく撹拌しながら、7−オクテン−1−アール126g(1.00mol)、40wt%NaOH水溶液120g(1.20mol)を、同時に別々の滴下ロートから5時間かけて滴下した。この間、内温は35℃を保った。滴下終了後、35℃で3時間撹拌した後、還流下で6時間撹拌した。反応終了後、室温で静置して二層に分離させた。上層を取り、ロータリーエバポレーターを用いてTHFを減圧留去した。トルエン500mlを加えて、再度エバポレーターにてトルエンを減圧留去し、共沸脱水した。トルエンを少量添加して静置し、93.4gのトリメチロール−6−ヘプテンを取得した。
Synthesis example 1
[Synthesis of trimethylol-6-heptene]
To a 3 L three-necked flask, 909 g (3.64 mol) of 12 wt% formaldehyde aqueous solution was added, then 909 g of THF (tetrahydrofuran) was added, and while stirring vigorously, 7-octen-1-al 126 g (1.00 mol), 40 wt% NaOH aqueous solution. 120 g (1.20 mol) was simultaneously added dropwise from separate dropping funnels over 5 hours. During this time, the internal temperature was maintained at 35 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 35 ° C. for 3 hours and then stirred under reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the mixture was allowed to stand at room temperature and separated into two layers. The upper layer was taken and THF was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator. Toluene (500 ml) was added, and toluene was distilled off again under reduced pressure using an evaporator, followed by azeotropic dehydration. A small amount of toluene was added and allowed to stand to obtain 93.4 g of trimethylol-6-heptene.
[トリス(メタクリロイルオキシメチル)−6−ヘプテン合成]
2L三口フラスコに上述の方法により得られたトリメチロール−6−ヘプテン40.4g(0.22mol)にクロロホルム400mlを加え、攪拌し溶解させた後、トリエチルアミン153ml(5当量)及びMEHQ(ハイドロキノンモノメチルエーテル)0.05gを順に加え氷浴で内温が10℃以下になるまで冷却した。滴下ロートを用いてメタクリル酸クロライド75ml(3.5当量)を2時間かけて滴下した。滴下の際には反応系の内温を10℃以下に保った。室温で2時間攪拌後、アミン塩を濾過により除去した。クロロホルムに対して3容量倍の蒸留水で3回洗浄し、得られた下層に硫酸マグネシウムを添加して脱水を行った。脱水後、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホルムを減圧除去することで、粗トリス(メタクリロイルオキシメチル)−6−ヘプテン(以下、6−TMHと略す)を得た。粗6−TMHのうち、30.0gをシリカゲルカラムにより精製し(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)、6−TMH19.5gを得た(GC純度;84.7%、net量;16.5g、40.6mmol)。
[Tris (methacryloyloxymethyl) -6-heptene synthesis]
After adding 400 ml of chloroform to 40.4 g (0.22 mol) of trimethylol-6-heptene obtained by the above method in a 2 L three-necked flask, stirring and dissolving, 153 ml (5 equivalents) of triethylamine and MEHQ (hydroquinone monomethyl ether) ) 0.05 g was added in order, and the mixture was cooled in an ice bath until the internal temperature became 10 ° C. or lower. Using a dropping funnel, 75 ml (3.5 equivalents) of methacrylic acid chloride was added dropwise over 2 hours. During the dropping, the internal temperature of the reaction system was kept at 10 ° C. or lower. After stirring at room temperature for 2 hours, the amine salt was removed by filtration. Washing was performed 3 times with 3 volumes of distilled water with respect to chloroform, and magnesium sulfate was added to the resulting lower layer for dehydration. After dehydration, chloroform was removed under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain crude tris (methacryloyloxymethyl) -6-heptene (hereinafter abbreviated as 6-TMH). Of crude 6-TMH, 30.0 g was purified by a silica gel column (hexane: ethyl acetate = 9: 1) to obtain 19.5 g of 6-TMH (GC purity: 84.7%, net amount: 16.5 g). 40.6 mmol).
[トリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリクロロシランの合成]
25mlの3つ口フラスコに6−TMH6.0g(16.7mmol)及びMEHQ0.01gを加え、さらに1%塩化白金酸6水和物/無水THF溶液1.0ml(白金17.4μmol)を加えた。トリクロロシラン3.3ml(2.0当量)を氷浴下で添加し、室温で18時間攪拌した。原料と生成物のGC面積比が一定になったところで反応を停止した(反応時間18時間)。得られた反応液を次工程に供した。
[Synthesis of Tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrichlorosilane]
To a 25 ml three-necked flask, 6.0 g (16.7 mmol) of 6-TMH and 0.01 g of MEHQ were added, and 1.0 ml of 1% chloroplatinic acid hexahydrate / anhydrous THF solution (platinum 17.4 μmol) was further added. . 3.3 ml (2.0 equivalents) of trichlorosilane was added in an ice bath and stirred at room temperature for 18 hours. The reaction was stopped when the GC area ratio of the raw material to the product became constant (reaction time 18 hours). The obtained reaction solution was subjected to the next step.
[トリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリメトキシシランの合成]
200ml三口フラスコに予め硫酸マグネシウムにより脱水したメタノール16ml、トリエチルアミン21mlを加え、内温5℃まで冷却した。上述の方法で得られたトリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリクロロシラン溶液を、内温15℃以下に保ちながら20分かけて滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌した。ロータリーエバポレーターを用いて、溶媒を半分程度留去した。ジイソプロピルエーテル20mlで抽出し、得られた抽出液をろ過した。MEHQ20mgを加えた後、エバポレーターで溶媒を除去し、針状結晶を含むオイルとして粗トリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリメトキシシランを得た。
[Synthesis of Tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrimethoxysilane]
To a 200 ml three-necked flask, 16 ml of methanol dehydrated in advance with magnesium sulfate and 21 ml of triethylamine were added and cooled to an internal temperature of 5 ° C. The tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrichlorosilane solution obtained by the above method was added dropwise over 20 minutes while maintaining the internal temperature at 15 ° C. or lower. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. About half of the solvent was distilled off using a rotary evaporator. Extraction was performed with 20 ml of diisopropyl ether, and the resulting extract was filtered. After adding 20 mg of MEHQ, the solvent was removed by an evaporator to obtain crude tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrimethoxysilane as an oil containing needle crystals.
上記方法により得られたトリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリメトキシシラン(本発明の有機珪素化合物(I))の1H−NMRスペクトル(300MHz、CDCl3)を測定したところ、化学シフトδ(ppm)は、以下のとおりであった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3、TMS)δ=0.60(t,2H)、1.2(m,10H)、1.9(s,9H)、3.5(s,9H)、4.1(s,6H)、5.5(s,3H)、6.0(s,3H).
When 1 H-NMR spectrum (300 MHz, CDCl 3 ) of tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrimethoxysilane (organosilicon compound (I) of the present invention) obtained by the above method was measured, chemical shift δ (ppm) Was as follows.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 , TMS) δ = 0.60 (t, 2H), 1.2 (m, 10H), 1.9 (s, 9H), 3.5 (s, 9H), 4.1 (s, 6H), 5.5 (s, 3H), 6.0 (s, 3H).
以下で用いる略記号は次の通りである。 Abbreviations used below are as follows.
[有機珪素化合物]
7−TMHS:トリス(メタクリロイルオキシメチル)ヘプチルトリメトキシシラン
3−MPS:3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン
11−MUS:11−メタクリロイルオキシウンデシルトリメトキシシラン
UDMS:3−[(1,3(2)―ジメタクリロイルオキシプロピル)−2(3)−オキシカルボニルアミド]プロピルトリエトキシシラン
[Organic silicon compounds]
7-TMHS: Tris (methacryloyloxymethyl) heptyltrimethoxysilane 3-MPS: 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane 11-MUS: 11-methacryloyloxyundecyltrimethoxysilane UDMS: 3-[(1,3 (2 ) -Dimethacryloyloxypropyl) -2 (3) -oxycarbonylamido] propyltriethoxysilane
[酸性基含有重合性単量体]
MDP:10−メタクリロイルオキシデシルジハイドロジェンフォスフェート
MDPは蒸留により脱水したものを用いた。
[Acid group-containing polymerizable monomer]
MDP: 10-methacryloyloxydecyl dihydrogen phosphate MDP used was dehydrated by distillation.
[架橋性を有する重合性単量体]
Bis−GMA:2,2−ビス〔4−(3−メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシフェニル〕プロパン
3G:1,2−ビス(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン
[Polymerizable monomer having crosslinkability]
Bis-GMA: 2,2-bis [4- (3-methacryloyloxy) -2-hydroxypropoxyphenyl] propane 3G: 1,2-bis (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropoxy) ethane
[第1級アルコール]
アルコールは市販のエタノールを蒸留脱水して用いた。
[Primary alcohol]
As the alcohol, commercially available ethanol was distilled and dehydrated.
[光重合開始剤]
TMDPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド
CQ:カンファーキノン
[Photopolymerization initiator]
TMDPO: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide CQ: camphorquinone
[アミン類]
アミン:N,N−ジメチルアミノ安息香酸n−ブトキシエチルエステル
[Amines]
Amine: N, N-dimethylaminobenzoic acid n-butoxyethyl ester
[重合禁止剤]
BHT:ブチルヒドロキシトルエン
[Polymerization inhibitor]
BHT: Butylhydroxytoluene
[重合性単量体組成物(1)の調製]
Bis−GMA 75重量部
3G 25重量部
CQ 0.3重量部
TMDPO 0.1重量部
アミン 0.5重量部
BHT 0.05重量部
[Preparation of polymerizable monomer composition (1)]
Bis-GMA 75 parts by weight 3G 25 parts by weight CQ 0.3 part by weight TMDPO 0.1 part by weight Amine 0.5 part by weight BHT 0.05 part by weight
[無機粒子(a−1)の調製]
バリウムガラス「RaySolb E−3000」(Specialty Glass社製)を振動ボールミルで粉砕し、体積中位粒径2.5μm、0.2〜50μmの粒子径を有する粒子数の割合が99体積%の不定形の無機粒子微粉末を得た。得られた平均粒子径2.5μmの不定形無機粒子100g、7−TMHS2.0g、及びトルエン200mlを三口フラスコに入れ、2時間、室温下で攪拌した。トルエンを減圧下で留去した後、40℃で16時間真空乾燥を行い、さらに90℃で3時間加熱し、平均粒子径2.5μmの無機粒子(a−1)を得た。
[Preparation of inorganic particles (a-1)]
Barium glass “RaySolb E-3000” (specialty glass) was pulverized with a vibration ball mill, and the volume ratio of particles having a volume median particle size of 2.5 μm and a particle size of 0.2 to 50 μm was 99% by volume. A regular inorganic particle fine powder was obtained. 100 g of amorphous inorganic particles having an average particle diameter of 2.5 μm, 2.0 g of 7-TMHS, and 200 ml of toluene were placed in a three-necked flask and stirred at room temperature for 2 hours. Toluene was distilled off under reduced pressure, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 16 hours and further heating at 90 ° C. for 3 hours to obtain inorganic particles (a-1) having an average particle size of 2.5 μm.
[無機粒子(a−2)の調製]
バリウムガラス「RaySolb E−3000」(Specialty Glass社製)を振動ボールミルで粉砕し、体積中位粒径2.5μm、0.2〜50μmの粒子径を有する粒子数の割合が99体積%の不定形の無機粒子微粉末を得た。得られた平均粒子径2.5μmの不定形無機粒子100g、3−MPS2.0g、及びトルエン200mlを三口フラスコに入れ、2時間、室温下で攪拌した。トルエンを減圧下で留去した後、40℃で16時間真空乾燥を行い、さらに90℃で3時間加熱し、平均粒子径2.5μmの無機粒子(a−2)を得た。
[Preparation of inorganic particles (a-2)]
Barium glass “RaySolb E-3000” (specialty glass) was pulverized with a vibration ball mill, and the volume ratio of particles having a volume median particle size of 2.5 μm and a particle size of 0.2 to 50 μm was 99% by volume. A regular inorganic particle fine powder was obtained. 100 g of amorphous inorganic particles having an average particle size of 2.5 μm, 2.0 g of 3-MPS, and 200 ml of toluene were placed in a three-necked flask and stirred at room temperature for 2 hours. Toluene was distilled off under reduced pressure, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 16 hours and further heating at 90 ° C. for 3 hours to obtain inorganic particles (a-2) having an average particle size of 2.5 μm.
[無機粒子(a−3)の調製]
バリウムガラス「RaySolb E−3000」(Specialty Glass社製)を振動ボールミルで粉砕し、体積中位粒径2.5μm、0.2から50μmの粒子径を有する粒子数の割合が99体積%の不定形の無機粒子微粉末を得た。得られた平均粒子径2.5μmの不定形無機粒子100g、11−MUS2.0g、及びトルエン200mlを三口フラスコに入れ、2時間、室温下で攪拌した。トルエンを減圧下で留去した後、40℃で16時間真空乾燥を行い、さらに90℃で3時間加熱し、平均粒子径2.5μmの無機粒子(a−3)を得た。
[Preparation of inorganic particles (a-3)]
Barium glass “RaySolb E-3000” (made by Specialty Glass) was pulverized with a vibrating ball mill, and the volume ratio of particles having a median particle size of 2.5 μm and a particle size of 0.2 to 50 μm was 99% by volume. A regular inorganic particle fine powder was obtained. 100 g of amorphous inorganic particles having an average particle size of 2.5 μm, 2.0 g of 11-MUS, and 200 ml of toluene were placed in a three-necked flask and stirred at room temperature for 2 hours. Toluene was distilled off under reduced pressure, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 16 hours and further heating at 90 ° C. for 3 hours to obtain inorganic particles (a-3) having an average particle size of 2.5 μm.
[無機粒子(a−4)の調製]
バリウムガラス「RaySolb E−3000」(Specialty Glass社製)を振動ボールミルで粉砕し、体積中位粒径2.5μm、0.2から50μmの粒子径を有する粒子数の割合が99体積%の不定形の無機粒子微粉末を得た。得られた平均粒子径2.5μmの不定形無機粒子100g、UDMS2.0g、及びトルエン200mlを三口フラスコに入れ、2時間、室温下で攪拌した。トルエンを減圧下で留去した後、40℃で16時間真空乾燥を行い、さらに90℃で3時間加熱し、平均粒子径2.5μmの無機粒子(a−4)を得た。
[Preparation of inorganic particles (a-4)]
Barium glass “RaySolb E-3000” (made by Specialty Glass) was pulverized with a vibrating ball mill, and the volume ratio of particles having a median particle size of 2.5 μm and a particle size of 0.2 to 50 μm was 99% by volume. A regular inorganic particle fine powder was obtained. 100 g of amorphous inorganic particles having an average particle size of 2.5 μm, 2.0 g of UDMS, and 200 ml of toluene were placed in a three-necked flask and stirred at room temperature for 2 hours. Toluene was distilled off under reduced pressure, followed by vacuum drying at 40 ° C. for 16 hours and further heating at 90 ° C. for 3 hours to obtain inorganic particles (a-4) having an average particle size of 2.5 μm.
[無機粒子(b−1)の調製]
平均粒子径0.02μmの略球状微細粒子フィラー(「Ar130」シリカ、日本アエロジル社製)100g、11−MUS40g、及びトルエン610mlをフラスコに入れ、20分間、30℃で激しく攪拌した。トルエンを30℃、減圧下で留去した後、真空乾燥を行い、平均粒子径0.02μmの無機粒子(b−1)を得た。
[Preparation of inorganic particles (b-1)]
100 g of substantially spherical fine particle filler (“Ar130” silica, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) having an average particle diameter of 0.02 μm, 40 g of 11-MUS, and 610 ml of toluene were placed in a flask and vigorously stirred at 30 ° C. for 20 minutes. Toluene was distilled off at 30 ° C. under reduced pressure, followed by vacuum drying to obtain inorganic particles (b-1) having an average particle size of 0.02 μm.
[歯科用接着性組成物の製造例]
表1に示す重合性単量体及び蒸留エタノールを室温下で混合し、実施例1及び比較例1〜3の歯科用接着性組成物を得た。
[Production Example of Dental Adhesive Composition]
The polymerizable monomer and distilled ethanol shown in Table 1 were mixed at room temperature to obtain dental adhesive compositions of Example 1 and Comparative Examples 1 to 3.
[歯科用コンポジットレジンの製造例]
表2に示す無機粒子及び上記した重合性単量体組成物(1)を混合し、実施例2及び比較例4〜6のペースト状の歯科用コンポジットレジンを調製した。
[Production example of dental composite resin]
The inorganic particles shown in Table 2 and the polymerizable monomer composition (1) described above were mixed to prepare paste-like dental composite resins of Example 2 and Comparative Examples 4-6.
[接着強さの測定]
歯科用陶材ブロック(VITA社製、商品名「ビタ セレイ」)を#1000シリコン・カーバイド紙(日本研紙社製)で平滑に研磨し、超音波洗浄した後、表面の水を歯科用エアーシリンジを用いて吹き飛ばし、被着面とした。被着面に接着性組成物を小筆ブラシを用いて塗布し、歯科用エアーシリンジを用いて薄く延ばした。このときエタノールを十分に揮発させた。次いで、被着面に、直径5mmの丸穴を有する厚さ150μmの粘着テープを貼着し、その丸穴に歯科用コンポジットレジン(クラレメディカル社製、商品名「AP−X」)を充填し、離型フィルム(クラレ社製、商品名「エバール」)を被せた後、その離型フィルムの上にスライドグラスを載置して押し付け、歯科用光照射器(モリタ社製、商品名「JETLITE3000」)を用いて20秒間光照射して硬化させた。次いで、この硬化面に対して、歯科用レジンセメント(クラレメディカル社製、商品名「パナビア21」)を用いて直径7mm、長さ1.5cmのステンレス製の円柱棒の一方の端面を接着してサンプルとした。
[Measurement of adhesive strength]
A dental porcelain block (made by VITA, trade name “Vita Serei”) is polished smoothly with # 1000 silicon carbide paper (made by Nihon Kenshi Co., Ltd.), ultrasonically cleaned, and then the surface water is used as dental air. It was blown off using a syringe to obtain an adherend surface. The adhesive composition was applied to the adherend surface using a small brush and spread thinly using a dental air syringe. At this time, ethanol was sufficiently volatilized. Next, a 150 μm thick adhesive tape having a 5 mm diameter round hole is attached to the surface to be adhered, and a dental composite resin (trade name “AP-X” manufactured by Kuraray Medical Co., Ltd.) is filled in the round hole. After applying a release film (Kuraray Co., Ltd., trade name “EVAL”), a slide glass was placed on the release film and pressed, and a dental light irradiator (Morita, trade name “JETLITE 3000”) was applied. )) For 20 seconds to cure. Next, one end face of a stainless steel cylindrical rod having a diameter of 7 mm and a length of 1.5 cm was bonded to the cured surface using a dental resin cement (trade name “Panavia 21” manufactured by Kuraray Medical Co., Ltd.). Sample.
接着後、当該サンプルを30分間室温で静置した後、蒸留水に浸漬した。得られた蒸留水に浸漬したサンプルを、37℃に保持した恒温器内に24時間静置することで、接着試験供試サンプルを作製した。接着試験供試サンプルは全部で5個作製した。耐久性試験として蒸留水中に50℃で2週間、50℃で4週間保存後の評価も実施した。 After bonding, the sample was allowed to stand at room temperature for 30 minutes and then immersed in distilled water. The sample immersed in the distilled water was allowed to stand for 24 hours in a thermostat maintained at 37 ° C., thereby preparing a sample for adhesion test. A total of five samples for adhesion test were prepared. As a durability test, evaluation after storage in distilled water at 50 ° C. for 2 weeks and at 50 ° C. for 4 weeks was also performed.
上記の5個の接着試験供試サンプルの引張接着強度を、万能試験機(株式会社島津製作所製)にてクロスヘッドスピードを2mm/分に設定して測定し、平均値を接着強さ(引張接着強度)とした。 Tensile bond strength of the above five adhesion test samples was measured with a universal testing machine (manufactured by Shimadzu Corporation) with the crosshead speed set to 2 mm / min, and the average value was determined as the bond strength (tensile Adhesive strength).
[曲げ強さ測定]
ペーストをステンレス製の金型(寸法2mm×2mm×25mm)に充填後、上下をスライドガラスで圧接し、歯科用技工用光照射器(モリタ製、アルファーライトII)で両面から各2分間ずつ光を照射して硬化させた。各実施例及び比較例について、硬化物を5本ずつ作製し、硬化物は、金型から取り出した後、37℃の蒸留水中に24時間保存した。耐久性試験として蒸留水中に50℃で2週間保存後の評価も実施した。
[Bending strength measurement]
After filling the paste into a stainless steel mold (dimensions 2 mm x 2 mm x 25 mm), press the top and bottom with glass slides, and light for 2 minutes each from both sides with a dental laboratory light irradiator (Morita, Alpha Light II) Was cured by irradiation. About each Example and the comparative example, 5 hardened | cured material was produced for every one, and after taking out from the metal mold | die, the hardened | cured material was preserve | saved for 24 hours at 37 degreeC distilled water. As a durability test, evaluation was also conducted after storage in distilled water at 50 ° C. for 2 weeks.
インストロン万能試験機を用いて、スパン:20mm、クロスヘッドスピード:1mm/分の条件下で曲げ強度を測定し、各試験片の測定値の平均値を算出し、曲げ強度とした。 Using an Instron universal testing machine, the bending strength was measured under the conditions of span: 20 mm and crosshead speed: 1 mm / min, and the average value of the measured values of each test piece was calculated to obtain the bending strength.
表1に示すように、実施例1の組成物を用いた場合、高い初期接着を示した。さらに、実施例1は50℃で2週間及び50℃で4週間保存後においても高い接着力を維持しており、耐久性に優れていた。一方、比較例1は50℃で2週間及び50℃で4週間保存後において接着力は低下しており、これは材料が吸水し、有機珪素化合物の加水分解が進んだためと考えられる。比較例2は50℃で2週間及び50℃で4週間保存後においても初期の接着力を維持しており、耐久性には優れているものの、接着強さは実施例1と比較すると十分ではなかった。比較例3は初期の接着強さは比較例1及び2と比較して高く、これは重合性基を2つ有しており、樹脂との界面接着強度が向上したことに起因していると考えられる。しかし、50℃で2週間及び50℃で4週間保存後において比較例3の接着強さは著しく低下しており、これは比較例3の組成物は親水性の高い有機珪素化合物を使用しており、その結果、材料の吸水が進み、加水分解が急速に進んだためと考えられる。 As shown in Table 1, when the composition of Example 1 was used, high initial adhesion was exhibited. Furthermore, Example 1 maintained high adhesive force even after storage at 50 ° C. for 2 weeks and at 50 ° C. for 4 weeks, and was excellent in durability. On the other hand, in Comparative Example 1, the adhesive strength decreased after storage at 50 ° C. for 2 weeks and at 50 ° C. for 4 weeks, which is probably because the material absorbed water and the hydrolysis of the organosilicon compound proceeded. Comparative Example 2 maintains the initial adhesive strength even after storage at 50 ° C. for 2 weeks and at 50 ° C. for 4 weeks, and is excellent in durability, but the adhesive strength is not sufficient as compared with Example 1. There wasn't. In Comparative Example 3, the initial adhesive strength is higher than those in Comparative Examples 1 and 2, and this is due to the fact that the adhesive strength with the resin is improved by having two polymerizable groups. Conceivable. However, after 2 weeks of storage at 50 ° C. and 4 weeks at 50 ° C., the adhesive strength of Comparative Example 3 was significantly reduced. This is because the composition of Comparative Example 3 uses a highly hydrophilic organosilicon compound. As a result, the water absorption of the material has progressed, and it is considered that the hydrolysis has progressed rapidly.
表2に示すように、実施例2の組成物を用いた場合、初期の曲げ強さは高く、50℃で2週間保存後も強度の低下は20%未満であり、優れた耐久性を示した。比較例4の組成物を用いた場合、50℃で2週間保存後の強度は大きく低下しており、これは吸水により有機珪素化合物の加水分解が進んだためと考えられる。比較例5は50℃で2週間保存後の強度低下は30%と比較的少ないが、初期の強度及び耐久性共に、実施例2と比較すると十分ではない。比較例6の組成物を用いた場合、初期の強度は実施例2と同等に高いものであった。これは重合性基を2つ有しており、樹脂との界面接着が強化され、その結果、材料の強度が向上したためと考えられる。しかし、50℃で2週間保存後の強度は37℃で1日保存後と比較して著しく低下した。これは比較例6の組成物は親水性の高い有機珪素化合物で処理された無機粒子を使用しており、材料の吸水性が高く、加水分解が急速に進んだためと考えられる。 As shown in Table 2, when the composition of Example 2 was used, the initial bending strength was high, and the decrease in strength was less than 20% even after storage at 50 ° C. for 2 weeks, indicating excellent durability. It was. When the composition of Comparative Example 4 was used, the strength after storage at 50 ° C. for 2 weeks was greatly reduced, which is thought to be due to the hydrolysis of the organosilicon compound by water absorption. In Comparative Example 5, the strength decrease after storage at 50 ° C. for 2 weeks is relatively small at 30%, but the initial strength and durability are not sufficient as compared with Example 2. When the composition of Comparative Example 6 was used, the initial strength was as high as that of Example 2. This is because it has two polymerizable groups, and the interfacial adhesion with the resin is strengthened, and as a result, the strength of the material is improved. However, the strength after storage at 50 ° C. for 2 weeks was remarkably reduced as compared to after storage at 37 ° C. for 1 day. This is presumably because the composition of Comparative Example 6 uses inorganic particles treated with a highly hydrophilic organosilicon compound, the material has high water absorption, and hydrolysis progressed rapidly.
本発明の有機珪素化合物は、FRP、FRTP、エラストマー、塗料、接着剤、シーラント、レジンコンクリート、ファンドリー、封止剤、人造大理石、プラスチックマグネット、ゴムマグネット、磁気テープ、PCB、歯科修復材等の無機材料と有機材料を組み合わせた複合材料において有用であり、歯科修復材用の複合材料において特に有用である。 The organosilicon compound of the present invention includes FRP, FRTP, elastomer, paint, adhesive, sealant, resin concrete, foundry, sealant, artificial marble, plastic magnet, rubber magnet, magnetic tape, PCB, dental restoration material, etc. It is useful in a composite material combining an inorganic material and an organic material, and is particularly useful in a composite material for a dental restoration material.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009076695A JP5416447B2 (en) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | Novel organosilicon compound and composition containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009076695A JP5416447B2 (en) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | Novel organosilicon compound and composition containing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010229054A JP2010229054A (en) | 2010-10-14 |
JP5416447B2 true JP5416447B2 (en) | 2014-02-12 |
Family
ID=43045208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009076695A Active JP5416447B2 (en) | 2009-03-26 | 2009-03-26 | Novel organosilicon compound and composition containing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5416447B2 (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012203267A1 (en) * | 2012-03-01 | 2013-09-05 | Wacker Chemie Ag | Organosilicon compounds and their use for the production of hydrophilic surfaces |
CN104271623B (en) * | 2012-04-10 | 2016-11-02 | 阿克马法国公司 | Siliceous (methyl) acrylate compounds |
JP6443741B2 (en) * | 2014-12-12 | 2018-12-26 | 川崎化成工業株式会社 | Photo radical polymerization initiator |
JP6333211B2 (en) * | 2015-04-23 | 2018-05-30 | 信越化学工業株式会社 | Silicone for ophthalmic device manufacturing |
US10115586B2 (en) * | 2016-05-08 | 2018-10-30 | Tokyo Electron Limited | Method for depositing a planarization layer using polymerization chemical vapor deposition |
JP6771324B2 (en) * | 2016-06-30 | 2020-10-21 | クラレノリタケデンタル株式会社 | Organic Silicon Compound and Dental Restoration Composition |
US10975229B2 (en) | 2018-03-30 | 2021-04-13 | Kabushiki Kaisha Shofu | Silane coupling compounds and medical and/or dental curable compositions comprising the same |
CN112771057A (en) | 2018-09-28 | 2021-05-07 | 株式会社松风 | Diisocyanate-based radical-polymerizable silane coupling compound having urethane bond |
JP7537902B2 (en) | 2020-03-27 | 2024-08-21 | 株式会社松風 | Method for synthesizing silane coupling agent requiring hydrosilylation using end-capping precious metal-supported silicon dioxide and dental hardenable composition using the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3162878B2 (en) * | 1993-06-23 | 2001-05-08 | カネボウ株式会社 | Silicone cinnamic acid derivatives, UV absorbers and skin external preparations |
-
2009
- 2009-03-26 JP JP2009076695A patent/JP5416447B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010229054A (en) | 2010-10-14 |
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