JP5416348B2 - Gas generation reactor having solid-gas separation function - Google Patents

Gas generation reactor having solid-gas separation function Download PDF

Info

Publication number
JP5416348B2
JP5416348B2 JP2007317995A JP2007317995A JP5416348B2 JP 5416348 B2 JP5416348 B2 JP 5416348B2 JP 2007317995 A JP2007317995 A JP 2007317995A JP 2007317995 A JP2007317995 A JP 2007317995A JP 5416348 B2 JP5416348 B2 JP 5416348B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
reaction
solid
raw material
reactor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007317995A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009136817A (en
Inventor
勝康 飯田
典彦 宮本
正明 久
英雄 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
I TECH COMPANY LIMITED
Original Assignee
I TECH COMPANY LIMITED
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by I TECH COMPANY LIMITED filed Critical I TECH COMPANY LIMITED
Priority to JP2007317995A priority Critical patent/JP5416348B2/en
Publication of JP2009136817A publication Critical patent/JP2009136817A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5416348B2 publication Critical patent/JP5416348B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、シリコンウエハーの切断に使用されたクーラント廃液の処理装置などに使用される固気分離機能を有するガス発生反応装置に関し、さらに詳しくは、金属成分とアルカリとの反応により生じるガスと、反応後に沈降させる残留固形物との干渉を防止して、反応後の固形物を系外へ効率よく排出しながら連続的に処理することができ、しかも装置全体をコンパクトに形成できる、固気分離機能を有するガス発生反応装置に関する。   The present invention relates to a gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function used in a coolant waste liquid treatment apparatus used for cutting a silicon wafer, and more specifically, a gas generated by a reaction between a metal component and an alkali, Solid-gas separation that prevents the interference with the residual solids settled after the reaction, enables continuous processing while efficiently discharging the solids after the reaction to the outside of the system, and allows the entire device to be compactly formed. The present invention relates to a gas generating reaction device having a function.

例えば、単結晶インゴットをマルチワイヤーソウで切断してシリコンウエハーを製造する場合、研削液として砥粒を分散させたクーラントが使用される。この使用された研削液の廃液からはクーラントが再生され、炭化珪素などの砥粒が回収されるが、この研削廃液にはシリコンの研削粉が含まれているため、このシリコン粒子を除去する必要がある。また、研削廃液からクーラントや砥粒を回収したあとの廃棄物は、これに含有する金属シリコンが水と反応して水素ガスを発生する虞があり、これを廃棄する場合はこの金属シリコンを無害化する必要がある。   For example, when a silicon wafer is manufactured by cutting a single crystal ingot with a multi-wire saw, a coolant in which abrasive grains are dispersed is used as a grinding liquid. The coolant is regenerated from the used grinding fluid waste, and abrasive grains such as silicon carbide are recovered. However, since this grinding waste contains silicon grinding powder, it is necessary to remove the silicon particles. There is. Also, the waste after recovering coolant and abrasive grains from the grinding waste liquid may cause hydrogen gas to react with the water contained in the metal silicon contained therein. When this is discarded, the metal silicon is harmless. It is necessary to make it.

従来、上記の研削廃液からシリコン粒子を除去する方法としては、アルカリに溶解させる方法が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。即ちこれらの従来技術では、反応槽体内の反応室に上記の研削廃液とアルカリ水溶液とが投入され、撹拌される。反応室内では、研削廃液に含まれる金属シリコンとアルカリとが反応し、ケイ酸塩を生成するとともに水素ガスを発生する。一方、この反応に関与しない砥粒は、アルカリの作用により反応液中で凝集が促進される。   Conventionally, as a method of removing silicon particles from the above grinding waste liquid, a method of dissolving in an alkali has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). That is, in these prior arts, the grinding waste liquid and the alkaline aqueous solution are charged into the reaction chamber in the reaction vessel and stirred. In the reaction chamber, metal silicon and alkali contained in the grinding waste liquid react to generate silicate and generate hydrogen gas. On the other hand, agglomeration of abrasive grains not involved in this reaction is promoted in the reaction solution by the action of alkali.

特開平11−48146号公報JP 11-48146 A 特開2005−349507号公報JP 2005-349507 A

上記の従来技術では、反応液が撹拌されているので、上記の凝集した固形物が沈降し難い。しかも上記の凝集した固形物は、反応室内で発生した水素ガスと干渉して上昇しようとする。このため、この凝集物を沈殿させて反応室から連続的に取り出すことが容易でなく、研削廃液とアルカリとを連続的に供給して反応残留物を連続的に排出する、いわゆる連続処理が容易でない。
また、上記の凝集物が上昇して液面を覆うと液面の泥状化が起こり、反応室内で発生した水素ガスの気泡がこの泥状化した液面で発泡現象を起こし、それが破裂した場合には、固形物を含む液体が飛散する問題がある。特にこの飛沫が水素ガスの排気路に付着すると、飛沫に含まれる固形物でその排気路が閉塞される虞もある。
In the above prior art, since the reaction solution is stirred, the agglomerated solid is difficult to settle. Moreover, the aggregated solid matter tends to rise by interfering with the hydrogen gas generated in the reaction chamber. For this reason, it is not easy to precipitate the agglomerate and continuously remove it from the reaction chamber, and so-called continuous processing is easy, in which grinding waste liquid and alkali are continuously supplied and reaction residue is continuously discharged. Not.
In addition, when the agglomerates rise and cover the liquid surface, the liquid surface becomes muddy, and hydrogen gas bubbles generated in the reaction chamber cause a foaming phenomenon on the muddy liquid surface, which bursts. In such a case, there is a problem that the liquid containing the solid matter is scattered. In particular, when the droplets adhere to the hydrogen gas exhaust passage, the exhaust passage may be blocked by solid matter contained in the splash.

本発明の技術的課題は上記の問題点を解消し、金属成分とアルカリとの反応により生じるガスと、反応後に沈降させる残留固形物との干渉を防止して、反応後の固形物を系外へ効率よく排出しながら連続的に処理することができ、しかも装置全体をコンパクトに形成できる、固気分離機能を有するガス発生反応装置を提供することにある。   The technical problem of the present invention is to solve the above-mentioned problems, prevent interference between the gas generated by the reaction between the metal component and the alkali and the residual solid that settles after the reaction, and remove the solid after the reaction outside the system. It is an object of the present invention to provide a gas generating reaction apparatus having a solid-gas separation function, which can be continuously processed while being discharged efficiently, and which can form the entire apparatus compactly.

本発明は上記の課題を解決するために、例えば、本発明の実施の形態を示す図1から図3に基づいて説明すると、次のように構成したものである。
即ち、本発明は固気分離機能を有するガス発生反応装置に関し、液中で金属成分を含む原料とアルカリとを反応させてガスを発生させる反応装置であって、上下方向に配置した筒状の反応器本体(40)とその反応器本体(40)の内部に配置したスクリュウ(41)とを備え、上記の反応器本体(40)は、上部に原料入口(43)とガス出口(54)とを開口するとともに、下部に液出口(60)を開口してあり、上記のスクリュウ(41)は、上下方向の軸部(51)とその周囲に固定した螺旋羽根(56)とを備え、この螺旋羽根(56)により上下方向へ延びる螺旋状の反応室(57)を上記の反応器本体(40)内に形成してあり、この反応室(57)に上記の原料入口(43)とガス出口(54)と液出口(60)とをそれぞれ連通させ、上記の原料は上記の原料入口から投入され、上記の反応室を下方の液出口側へ移動していき、その過程で上記のアルカリと反応して上記のガスを発生し、このガスが上記の螺旋羽根の下面に沿って螺旋状に上昇し上記のガス出口から排出され、上記の原料のうち反応に関与しない固形物や反応により生成した固形物からなる残留固形物が上記の螺旋羽根の上面に沿って上記の螺旋状の反応室内を下方へ案内され上記の液出口から排出されることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the present invention is described as follows, for example, based on FIGS. 1 to 3 showing an embodiment of the present invention.
That is, the present invention relates to a gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function, which is a reaction apparatus that generates a gas by reacting a raw material containing a metal component with an alkali in a liquid, and has a cylindrical shape arranged vertically. Reactor body (40) and a screw (41) arranged inside the reactor body (40), the reactor body (40), the raw material inlet (43) and gas outlet (54) at the top And the liquid outlet (60) is opened in the lower part, and the screw (41) includes a vertical shaft part (51) and a spiral blade (56) fixed around the shaft part (51), A spiral reaction chamber (57) extending in the vertical direction by the spiral blade (56) is formed in the reactor body (40), and the raw material inlet (43) and the reaction chamber (57) are formed in the reaction chamber (57). gas outlet (54) and a liquid outlet (60) and allowed to communicate with each said raw materials are fed through a raw material inlet of the, by moving the reaction chamber of the downward liquid outlet In the process, the gas reacts with the alkali to generate the gas, and the gas spirally rises along the lower surface of the spiral blade and is discharged from the gas outlet. The residual solids made of solids not involved in the reaction or produced by the reaction are guided down the spiral reaction chamber along the upper surface of the spiral blade and discharged from the liquid outlet. And

上記の金属成分を含む原料は上記の原料入口から投入され、螺旋状の反応室を下方の液出口側へ移動していき、その過程でアルカリと反応してガスを発生する。この反応により生じたガスは、上記の螺旋羽根の下面に沿って螺旋状に上昇し、上記のガス出口から排出される。上記の原料のうち、反応に関与しない固形物や反応により生成した固形物からなる残留固形物は、上記の螺旋羽根の上面に沿って、螺旋状の反応室内を下方へ案内され、反応室の下部に達すると反応液の一部とともに液出口から排出される。   The raw material containing the metal component is introduced from the raw material inlet, moves through the spiral reaction chamber to the lower liquid outlet, and reacts with alkali in the process to generate gas. The gas generated by this reaction rises spirally along the lower surface of the spiral blade and is discharged from the gas outlet. Among the above raw materials, the residual solids composed of solids not involved in the reaction or solids generated by the reaction are guided downward in the spiral reaction chamber along the upper surface of the spiral blade. When reaching the lower part, it is discharged from the liquid outlet together with a part of the reaction liquid.

上記の金属成分を含む原料は、粒状などのまま用いてもよい。しかしこの原料は、粉粒状などの固形物を液体中に分散させた、いわゆるスラリーであると、反応室に空気を流入させることなく原料を容易に投入できるので、アルカリとの反応で水素ガスが発生する場合には特に好ましい。この場合、上記のスラリーに増粘剤を添加しておくと、液体中で固形物が容易に沈殿せず、均一に分散した状態が維持されるので、このスラリー状の原料をチューブポンプやスラリーポンプ等で容易に且つ確実に送ることができるうえ、反応室内で金属成分とアルカリとが効率よく反応でき、好ましい。これらの増粘剤としては、上記の金属成分とアルカリとの反応や、反応生成物などに影響を与えないものが好ましく、具体的には、例えばカルボキシメチルセルロース等を挙げることができる。
また上記のアルカリは、水溶液の状態で上記の原料とともに上記の原料入口から投入してもよく、或いは別に開口した入口から投入することも可能であり、さらに前もって反応室内に収容しておくことも可能である。
You may use the raw material containing said metal component as a granular form. However, if this raw material is a so-called slurry in which solids such as powder are dispersed in a liquid, the raw material can be easily introduced without allowing air to flow into the reaction chamber. It is particularly preferred if it occurs. In this case, if a thickener is added to the above slurry, solids do not easily precipitate in the liquid, and the uniformly dispersed state is maintained. It is preferable because it can be easily and reliably sent by a pump or the like, and the metal component and the alkali can be reacted efficiently in the reaction chamber. As these thickeners, those which do not affect the reaction between the metal component and the alkali and the reaction products are preferable, and specific examples include carboxymethyl cellulose.
The alkali may be introduced from the raw material inlet in the form of an aqueous solution together with the raw material, or may be introduced from an inlet opened separately, and may be stored in the reaction chamber in advance. Is possible.

上記の金属成分は、アルカリと反応してガスを発生するものをいい、具体的には金属シリコンや金属アルミニウム、あるいは窒化アルミニウムなどを含むが、特定の成分に限定されない。
この金属成分を含む原料としては、例えばシリコンウエハーの切断などに使用される、クーラントに砥粒を分散させた研削液の廃液や、窒化アルミニウムを含有するアルミニウムドロスを用いることができるが、本発明に使用される原料はこれらに限定されるものではなく、例えば金属シリコンや金属アルミニウムの粉粒体などであってもよい。
The metal component mentioned above is a component that reacts with an alkali to generate gas, and specifically includes metal silicon, metal aluminum, aluminum nitride, or the like, but is not limited to a specific component.
As the raw material containing this metal component, for example, waste liquid of grinding liquid in which abrasive grains are dispersed in a coolant used for cutting silicon wafers, or aluminum dross containing aluminum nitride can be used. The raw materials used in the above are not limited to these, and may be, for example, metal silicon or metal aluminum powder.

また上記のアルカリは、例えば水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、またはそれらの混合物などを、必要に応じて適宜選択して使用することができ、その濃度についても特に限定されない。さらにこのアルカリは、他の様々な工程から排出された廃アルカリを使用することも可能である。   In addition, the alkali can be used by appropriately selecting, for example, sodium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, calcium hydroxide, potassium hydroxide, or a mixture thereof as necessary, and the concentration thereof is also particularly limited. Not. Further, as the alkali, waste alkali discharged from various other processes can be used.

上記のスクリュウは、この反応器本体に固定したものであってもよく、この場合は装置構造を簡略にでき、メンテナンスが容易であるうえ安価に実施できるので好ましい。
しかし上記のスクリュウは、反応器本体内で軸心回りに回転可能に支持してあってもよく、この場合は、スクリュウの回転により金属成分を含む原料を所望の速度で下方へ案内することができ、反応室内でのアルカリとの反応時間を制御できて好ましい。
The screw may be fixed to the reactor main body. In this case, the apparatus structure can be simplified, maintenance is easy, and it can be carried out at a low cost, which is preferable.
However, the above-mentioned screw may be supported so as to be rotatable around the axis in the reactor main body. In this case, the raw material containing the metal component can be guided downward at a desired speed by the rotation of the screw. The reaction time with the alkali in the reaction chamber can be controlled, which is preferable.

上記の金属成分とアルカリとの反応は、所定温度に加熱することで開始され迅速に進むが、反応が進むと発熱して反応液の温度が上昇する。このため、反応速度を制御するために、上記の反応器本体の周壁に沿った部位と上記の軸部の内部との少なくともいずれか一方に、上記の反応室内の温度を制御する温度調節手段を配置すると好ましい。この温度調節手段としては、具体的には、上記の周壁や上記の軸部に加熱手段を配置して、この加熱装置を制御できる温度調節手段で構成してもよく、或いは、上記の周壁に沿って形成したジャケット内や上記の軸部内へ、所定温度に制御された熱媒や冷媒を循環させる媒体循環手段で構成してもよく、これらは単独で或いは組み合わせて用いることができる。   The reaction between the metal component and the alkali is started by heating to a predetermined temperature and proceeds rapidly. However, when the reaction proceeds, heat is generated and the temperature of the reaction solution rises. For this reason, in order to control the reaction rate, at least one of the site along the peripheral wall of the reactor main body and the inside of the shaft portion is provided with a temperature adjusting means for controlling the temperature in the reaction chamber. Placement is preferred. As the temperature adjusting means, specifically, a heating means may be arranged on the peripheral wall or the shaft portion, and the temperature adjusting means may be configured to control the heating device. Alternatively, the temperature adjusting means may be arranged on the peripheral wall. A medium circulating means for circulating a heat medium or a refrigerant controlled at a predetermined temperature into the jacket formed along the shaft or the shaft portion may be used, and these may be used alone or in combination.

上記の反応室内の液面は、過剰に上昇すると上記のガス出口を閉塞する虞があり、従って反応室への原料の投入量や、反応室からの残留物の排出量を調整してこの液面を所定の範囲位置に制御する必要がある。この液面位置を検出するためには、反応器本体内に液面計を設けても良いが、上記の反応器本体の側方に液面制御槽を配置して、この液面制御槽の下部を上記の液出口に連通路を介して連通し、この液面制御層内の液面を検出するように構成すると、反応室内に配置する部材点数を少なくして反応器本体の構造を簡略にでき好ましい。   If the liquid level in the reaction chamber rises excessively, the gas outlet may be blocked. Therefore, the amount of raw material charged into the reaction chamber and the amount of residue discharged from the reaction chamber may be adjusted to adjust the liquid level. It is necessary to control the surface to a predetermined range position. In order to detect the liquid level position, a liquid level gauge may be provided in the reactor main body, but a liquid level control tank is disposed on the side of the reactor main body, and the liquid level control tank If the lower part is connected to the liquid outlet via the communication path and the liquid level in the liquid level control layer is detected, the number of members arranged in the reaction chamber is reduced and the structure of the reactor body is simplified. This is preferable.

上記の液出口へ接続される排液路は、残留固形物が付着し易いので、この排液路に洗浄水供給路を介して洗浄水タンクを接続すると、この付着した残留固形物を容易に洗い流すことができ、例えばこの排液路に付設された排液弁の開閉作動を良好に維持できるので好ましい。   Since the drainage path connected to the above liquid outlet is likely to have residual solids attached thereto, if a washing water tank is connected to the drainage path via the washing water supply path, the attached residual solids can be easily removed. This is preferable because it can be washed away and, for example, the opening / closing operation of the drain valve attached to the drain passage can be maintained satisfactorily.

上記の金属成分とアルカリとの反応で水素ガスが発生する場合、反応器本体内や配管内で水素と空気とが混合されないように配慮する必要がある。このため、上記の反応器本体内の上部に、ガス供給弁を介して加圧ガス供給路を接続してあると、水素ガス発生反応に先行して窒素ガスなどの加圧ガスを反応器本体内へ供給することにより反応器本体内および配管内に残留する空気を置換することができ、好ましい。さらにこの場合、反応終了後にこの加圧ガスを反応器本体内へ導入することで、反応室内の残留物を迅速に液出口から排出できる利点もある。   When hydrogen gas is generated by the reaction between the metal component and the alkali, it is necessary to consider that hydrogen and air are not mixed in the reactor main body or piping. Therefore, if a pressurized gas supply path is connected to the upper part of the reactor main body via a gas supply valve, a pressurized gas such as nitrogen gas is supplied to the reactor main body prior to the hydrogen gas generation reaction. It is preferable that the air remaining in the reactor main body and the piping can be replaced by supplying the gas into the reactor. Furthermore, in this case, there is also an advantage that the residue in the reaction chamber can be quickly discharged from the liquid outlet by introducing the pressurized gas into the reactor main body after the reaction is completed.

上記のガス出口から排出されるガスには、反応室内で生じた反応液のミストが含まれる場合がある。また反応室内で発泡が異常に多く生じて、この泡がガス出口から溢れ出る場合も考えられる。このため、反応器本体内の上部空間に、水を噴霧することが可能な消泡装置を配置すると、上記の異常発泡状態を用意に解消することができ、ガス出口からの泡の溢出を防止できて好ましい。   The gas discharged from the gas outlet may contain mist of the reaction solution generated in the reaction chamber. In addition, an abnormally large amount of foaming may occur in the reaction chamber, and this foam may overflow from the gas outlet. For this reason, if an anti-foaming device capable of spraying water is placed in the upper space inside the reactor body, the above abnormal foaming state can be easily eliminated, and the overflow of bubbles from the gas outlet is prevented. This is preferable.

本発明は上記のように構成され作用することから、次の効果を奏する。   Since the present invention is configured and operates as described above, the following effects can be obtained.

(1)非反応固形物や反応生成物などの残留固形物は、螺旋羽根の上面に沿って螺旋状に沈降していき、一方、反応により生じたガスは螺旋羽根の下面に沿って上昇していく。このため、上昇するガスと沈降する固形物とが互いに干渉することを防止でき、発生ガスによる固形物の上昇を防いで、凝集した固形物を良好に沈降させることができる。この結果、反応中も残留固形物を液出口から連続的に取り出すことができ、金属成分を含む原料を連続的に処理することができる。 (1) Residual solids such as non-reacted solids and reaction products settle spirally along the upper surface of the spiral blade, while the gas generated by the reaction rises along the lower surface of the spiral blade. To go. For this reason, it is possible to prevent the rising gas and the solid matter that settles from interfering with each other, prevent the solid matter from rising due to the generated gas, and satisfactorily settle the aggregated solid matter. As a result, the residual solid can be continuously taken out from the liquid outlet during the reaction, and the raw material containing the metal component can be continuously processed.

(2)しかも、液面が固形物で覆われることを防止できるので、固形物の凝集に伴い発生する液面の発泡化ならびに発泡化した液面の破裂を防止でき、反応液の飛散を防止して、飛沫の付着によりガス出口が閉塞される虞を低減することができる。 (2) Moreover, since the liquid surface can be prevented from being covered with a solid material, the liquid surface generated by the aggregation of the solid material can be prevented from foaming and the foamed liquid surface from rupturing, and the reaction liquid can be prevented from scattering. Thus, it is possible to reduce the possibility that the gas outlet is blocked due to the adhesion of the droplets.

(3)原料入口から投入された原料は、螺旋羽根に沿って螺旋状の反応室内を上方から下方へ案内されるので、入口から出口に向けて直線状に案内される場合に比べ、長い経路を移動することとなる。この結果、反応器本体の長さを短くしても、原料とアルカリとの反応時間を十分に確保できて効率よく反応させることができるうえ、装置全体をコンパクトに形成することができる。 (3) Since the raw material introduced from the raw material inlet is guided from the upper side to the lower side in the spiral reaction chamber along the spiral blade, the path is longer than the case where the raw material is guided linearly from the inlet to the outlet. Will be moved. As a result, even if the length of the reactor main body is shortened, a sufficient reaction time between the raw material and the alkali can be ensured and the reaction can be efficiently performed, and the entire apparatus can be formed compactly.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1と図2は本発明の第1実施形態を示し、図1は廃液処理装置の概略構成を示すフロー図であり、図2は固気分離機能を有するガス発生反応装置の縦断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 and 2 show a first embodiment of the present invention, FIG. 1 is a flow diagram showing a schematic configuration of a waste liquid treatment apparatus, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view of a gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function. is there.

図1に示す廃液処理装置(1)は、シリコンウエハーの切断などに使用された、クーラントに砥粒が分散した研削液の廃液を再生するために使用される。この廃液処理装置(1)は、固気分離機能を有するガス発生反応装置(2)を備えており、原料供給部(3)とアルカリ供給部(4)とが、それぞれ原料供給路(5)とアルカリ供給路(6)を介して上記のガス発生反応装置(2)の上部に接続してある。上記の原料供給部(3)は原料タンク(3a)と水タンク(3b)とを備え、この原料タンク(3a)内にスラリー状の研削廃液が収容される。また上記のアルカリ供給部(4)はアルカリタンク(4a)と水タンク(4b)を備え、このアルカリタンク(4a)内に所定濃度のアルカリ溶液、例えば水酸化ナトリウムの水溶液が収容される。上記の原料供給路(5)とアルカリ供給路(6)には、それぞれ供給ポンプ(7)と供給弁(8)とが付設してある。   A waste liquid treatment apparatus (1) shown in FIG. 1 is used to regenerate a waste liquid of a grinding liquid used for cutting a silicon wafer or the like in which abrasive grains are dispersed in a coolant. The waste liquid treatment apparatus (1) includes a gas generation reaction apparatus (2) having a solid-gas separation function, and a raw material supply section (3) and an alkali supply section (4) are respectively provided with a raw material supply path (5). And an alkali supply path (6) connected to the upper part of the gas generating reaction apparatus (2). The raw material supply unit (3) includes a raw material tank (3a) and a water tank (3b), and slurry-like grinding waste liquid is stored in the raw material tank (3a). The alkali supply unit (4) includes an alkali tank (4a) and a water tank (4b), and an alkali solution having a predetermined concentration, for example, an aqueous solution of sodium hydroxide, is accommodated in the alkali tank (4a). A supply pump (7) and a supply valve (8) are attached to the raw material supply path (5) and the alkali supply path (6), respectively.

上記の原料供給路(5)には、ガス供給弁(9)を介して加圧ガス供給路(10)が接続してあり、この加圧ガス供給路(10)を介して、窒素ガスタンク(11)から窒素ガスを上記のガス発生反応装置(2)内へ供給できるようにしてある。   The raw material supply path (5) is connected to a pressurized gas supply path (10) via a gas supply valve (9), and a nitrogen gas tank ( From 11), nitrogen gas can be supplied into the gas generating reactor (2).

また、上記のガス発生反応装置(2)の上端は、ガス排出路(12)を介して水素ガス貯溜タンク(13)に接続されている。このガス排出路(12)には、ガス発生反応装置(2)と水素ガス貯溜タンク(13)との間に、ミスト回収トラップ(15)とガス冷却器(16)とドレントラップ(17)と流量計(18)とが順に配置してある。上記のガス発生反応装置(2)内の上部空間には、発泡検知器(19)と消泡装置(20)の噴霧器(21)が配置してあり、この噴霧器(21)は水タンク(22)に接続してある。   The upper end of the gas generation reaction device (2) is connected to the hydrogen gas storage tank (13) via the gas discharge path (12). The gas discharge path (12) includes a mist recovery trap (15), a gas cooler (16), a drain trap (17), between the gas generation reactor (2) and the hydrogen gas storage tank (13). A flow meter (18) is arranged in order. In the upper space in the gas generating reaction device (2), the spray detector (21) of the foam detector (19) and the defoaming device (20) is arranged. The spray device (21) is a water tank (22 ).

上記のガス発生反応装置(2)の周囲には、温度調節手段(25)で制御される加熱装置(23)が設けてある。この加熱装置(23)は、ガス発生反応装置(2)内の温度を検出する温度センサ(26)の出力に基づき上記の温度調節手段(25)で制御され、これによりガス発生反応装置(2)内が所定温度に加熱される。   A heating device (23) controlled by a temperature adjusting means (25) is provided around the gas generating reaction device (2). The heating device (23) is controlled by the temperature adjusting means (25) based on the output of the temperature sensor (26) for detecting the temperature in the gas generating reaction device (2). The inside is heated to a predetermined temperature.

上記の固気分離機能を有するガス発生反応装置(2)の下部は、排液路(27)を介して液回収タンク(28)に接続してあり、この排液路(27)の中間部に、排液冷却器(29)と緩衝タンク(30)と排液弁(31)とが順に付設してある。この排液冷却器(29)と前記のガス冷却器(16)には、それぞれチラーユニット(32)から供給された冷媒が循環するようにしてある。
また上記の排液路(27)には、上記の排液弁(31)の上流側に、洗浄水供給路(33)を介して洗浄水タンク(34)が接続してあり、この洗浄水供給路(33)に洗浄水供給ポンプ(35)と洗浄水供給弁(36)が配置してある。
The lower part of the gas generation reactor (2) having the above-mentioned solid-gas separation function is connected to the liquid recovery tank (28) via the drainage path (27), and the middle part of the drainage path (27) Further, a drain cooler (29), a buffer tank (30), and a drain valve (31) are provided in this order. The refrigerant supplied from the chiller unit (32) is circulated through the drain cooler (29) and the gas cooler (16).
In addition, a washing water tank (34) is connected to the drainage passage (27) on the upstream side of the drainage valve (31) via a washing water supply passage (33). A washing water supply pump (35) and a washing water supply valve (36) are arranged in the supply path (33).

上記のガス発生反応装置(2)の側方には、液面制御槽(37)が配置してあり、この液面制御槽(37)の下部を固気分離機能を有するガス発生反応装置(2)の直下で上記の排液路(27)に、連通路(38)を介して連通してある。この液面制御槽(37)にはレベルセンサ(39)が付設してあり、この液面制御槽(37)内の液面を介して、ガス発生反応装置(2)内の液面が検出される。   A liquid level control tank (37) is disposed on the side of the gas generation reaction apparatus (2), and the lower part of the liquid level control tank (37) is a gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function ( Directly below 2), it communicates with the drainage channel (27) via the communication channel (38). A level sensor (39) is attached to the liquid level control tank (37), and the liquid level in the gas generation reactor (2) is detected through the liquid level in the liquid level control tank (37). Is done.

次に、上記の固気分離機能を有するガス発生反応装置(2)の具体的構造を、図1を参照しながら図2に基づいて説明する。
図2に示すように、このガス発生反応装置(2)は、略鉛直方向に配置した筒状の反応器本体(40)と、その反応器本体(40)の内部に配置したスクリュウ(41)とを備える。
上記の反応器本体(40)は、周壁(42)の上部に原料入口(43)と温度センサ装着孔(44)と圧力検出口(45)とが開口してあり、この原料入口(43)に前記の原料供給路(5)が接続され、この原料供給路(5)の下流部を介して上記のアルカリ供給路(6)と加圧ガス供給路(10)とが接続される。また上記の温度センサ装着孔(44)に前記の温度センサ(26)が装着され、圧力検出口(45)へ接続されたガス逃がし路(46)に、圧力検出装置(47)と安全装置(48)が付設されている。
Next, a specific structure of the gas generation reaction apparatus (2) having the above-mentioned solid-gas separation function will be described based on FIG. 2 with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, the gas generating reactor (2) includes a cylindrical reactor main body (40) arranged in a substantially vertical direction, and a screw (41) arranged inside the reactor main body (40). With.
The reactor body (40) has a raw material inlet (43), a temperature sensor mounting hole (44), and a pressure detection port (45) at the top of the peripheral wall (42), and this raw material inlet (43) The raw material supply path (5) is connected to the alkali supply path (6) and the pressurized gas supply path (10) via the downstream portion of the raw material supply path (5). The temperature sensor (26) is mounted in the temperature sensor mounting hole (44), and the pressure detection device (47) and the safety device (46) are connected to the gas escape path (46) connected to the pressure detection port (45). 48) is attached.

上記の反応器本体(40)の上端外面にはフランジ(50)が固設してあり、前記のスクリュウ(41)の軸部(51)に固設した取付フランジ(52)がこのフランジ(50)に、ガスケット(53)を介して固定してある。この取付フランジ(52)には、上記の反応器本体(40)内に臨ませてガス出口(54)が開口してあり、このガス出口(54)に前記のガス排出路(12)が接続してある。   A flange (50) is fixed to the outer surface of the upper end of the reactor main body (40), and a mounting flange (52) fixed to the shaft portion (51) of the screw (41) is a flange (50). ) Is fixed via a gasket (53). A gas outlet (54) is opened on the mounting flange (52) so as to face the reactor body (40), and the gas outlet (12) is connected to the gas outlet (54). It is.

上記の軸部(51)は、反応器本体(40)内で上下方向の軸心(55)に沿って配置され、この軸部(51)の周囲に螺旋羽根(56)が固定してあり、この螺旋羽根(56)により上記の反応器本体(40)内に上下方向へ延びる螺旋状の反応室(57)が形成してある。上記の原料入口(43)とガス出口(54)は、この反応室(57)に連通してある。   The shaft portion (51) is disposed along the vertical axis (55) in the reactor main body (40), and a spiral blade (56) is fixed around the shaft portion (51). The spiral blade (56) forms a spiral reaction chamber (57) extending vertically in the reactor main body (40). The raw material inlet (43) and the gas outlet (54) communicate with the reaction chamber (57).

上記の反応器本体(40)の周壁(42)の外側には、前記の加熱装置(23)が形成してあり、この加熱装置(23)が前記の温度調節手段(25)で制御される。また、上記の軸部(51)内には上下方向に延びる循環路(58)が形成してあり、この循環路(58)に冷却水(59)が循環される。そしてこの循環路(58)が、反応室(57)内の温度を制御する第2の温度調節手段(25)を構成している。   The heating device (23) is formed outside the peripheral wall (42) of the reactor main body (40), and the heating device (23) is controlled by the temperature adjusting means (25). . A circulation path (58) extending in the vertical direction is formed in the shaft portion (51), and the cooling water (59) is circulated through the circulation path (58). The circulation path (58) constitutes a second temperature adjusting means (25) for controlling the temperature in the reaction chamber (57).

上記の反応器本体(40)の下部には、上記の反応室(57)と連通する液出口(60)が開口してあり、この液出口(60)に前記の排液路(27)が接続される。   A liquid outlet (60) communicating with the reaction chamber (57) is opened at a lower portion of the reactor main body (40), and the drainage passage (27) is formed in the liquid outlet (60). Connected.

次に、上記の廃液処理装置を用いて研削廃液を処理する手順を説明する。
最初に、反応器本体(40)内および配管内の空気を例えば真空ポンプなどの排気装置(14)により排気したのち、上記の加圧ガス供給路(10)から反応器本体(40)内へ窒素ガス(61)を供給して、この反応器本体(40)やこれに接続された管路内に残留する空気を排除する。
次に、この反応器本体(40)の反応室(57)内へ、上記のアルカリタンク(4a)から所定量のアルカリ溶液(63)を注入し、所定温度、例えば80℃に加熱したのち、引き続いて反応室(57)内へ上記の原料タンク(3a)からスラリー状の研削廃液(62)を供給するとともに、アルカリタンク(4a)からアルカリ溶液(63)の供給を併せて実施する。
Next, a procedure for treating grinding waste liquid using the above-described waste liquid treatment apparatus will be described.
First, after exhausting the air in the reactor main body (40) and the piping by an exhaust device (14) such as a vacuum pump, the pressurized gas supply path (10) into the reactor main body (40). Nitrogen gas (61) is supplied to remove air remaining in the reactor main body (40) and the pipe connected thereto.
Next, a predetermined amount of the alkaline solution (63) is injected from the alkali tank (4a) into the reaction chamber (57) of the reactor body (40) and heated to a predetermined temperature, for example, 80 ° C. Subsequently, the slurry-like grinding waste liquid (62) is supplied from the raw material tank (3a) into the reaction chamber (57), and the alkali solution (63) is supplied from the alkali tank (4a).

上記の反応室(57)内で、上記の研削廃液とアルカリ溶液とが混合された反応液が上記の加熱装置(23)により、例えば80℃などの所定温度に加熱される。これにより、研削廃液に含まれる金属シリコンがアルカリと反応して溶解し、ケイ酸塩を生成するとともに水素ガス(64)を発生する。この水素ガス(64)は、螺旋羽根(56)の下面に沿って反応室(57)内を螺旋状に上昇し、上記のガス出口(54)からガス排出路(12)へ排出される。一方、研削廃液に含まれる砥粒などの、反応に関与しない固形物(65)は、アルカリ溶液の作用により凝集を起こしながら、上記の螺旋羽根(56)の上面に沿って反応室(57)内を下方へ沈降していき、反応室(57)の下部に達すると残留固形物として、反応液の一部とともに液出口(60)から排液路(27)へ排出される。   In the reaction chamber (57), the reaction liquid in which the grinding waste liquid and the alkaline solution are mixed is heated to a predetermined temperature such as 80 ° C. by the heating device (23). As a result, the metal silicon contained in the grinding waste liquid reacts with the alkali and dissolves to produce silicate and generate hydrogen gas (64). The hydrogen gas (64) spirally rises in the reaction chamber (57) along the lower surface of the spiral blade (56), and is discharged from the gas outlet (54) to the gas discharge path (12). On the other hand, solids (65) that are not involved in the reaction, such as abrasive grains contained in the grinding waste liquid, agglomerate due to the action of the alkaline solution, along the upper surface of the spiral blade (56), the reaction chamber (57) When it reaches the lower part of the reaction chamber (57), it is discharged as a residual solid together with a part of the reaction liquid from the liquid outlet (60) to the drainage path (27).

上記の反応により反応液の温度が上昇すると、前記の軸部(51)内の循環路(58)に冷却水(59)が循環され、反応室(57)内が所定温度に制御される。
またこの反応室(57)内の反応液の液面は、上記の液面制御槽(37)に付設したレベルセンサ(39)で検出され、原料供給部(3)やアルカリ供給部(4)からの供給量と排液路(27)からの排液量とを調整することで、所定範囲内の上下位置に制御される。
When the temperature of the reaction solution rises due to the above reaction, the cooling water (59) is circulated through the circulation path (58) in the shaft (51), and the inside of the reaction chamber (57) is controlled to a predetermined temperature.
The liquid level of the reaction liquid in the reaction chamber (57) is detected by a level sensor (39) attached to the liquid level control tank (37), and the raw material supply part (3) and alkali supply part (4). By adjusting the supply amount from the drainage and the drainage amount from the drainage channel (27), the vertical position within the predetermined range is controlled.

上記の反応により発生した水素ガス(64)は、上記の残留固形物との相互干渉の結果、発泡する場合がある。この泡状の水素ガスが前述の発泡検知器(19)により検出されると、反応室(57)の上部空間に設置された消泡装置(20)の噴霧器(21)から水がスプレーされることにより消泡される。   The hydrogen gas (64) generated by the reaction may foam as a result of mutual interference with the residual solid. When the foamed hydrogen gas is detected by the foam detector (19), water is sprayed from the sprayer (21) of the defoamer (20) installed in the upper space of the reaction chamber (57). Is defoamed.

上記のガス出口(54)からガス排出路(12)へ排出された水素ガスは、次いでミスト回収トラップ(15)に案内されてアルカリ成分を含んだミスト状の水分が除去される。このミストが除去された水素ガスは、ガス冷却器(16)で冷却されて含有する水蒸気が凝縮され、ドレントラップ(17)でその凝縮した水分が除去されたのち、圧力調整弁により一定圧力に調整されながら上記の水素ガス貯溜タンク(13)に案内され、貯溜される。このとき、ガス排出路(12)に設けた前記の流量計(18)により水素ガス発生量が計測され、その計測値に基づいて原料供給量やアルカリ供給量が調整されて、反応室(57)内での水素ガス発生量が安定化するように制御される。   The hydrogen gas discharged from the gas outlet (54) to the gas discharge passage (12) is then guided to the mist recovery trap (15) to remove mist-like water containing alkali components. The hydrogen gas from which the mist has been removed is cooled by a gas cooler (16) and condensed water vapor is condensed.After the condensed water is removed by a drain trap (17), the pressure is adjusted to a constant pressure by a pressure regulating valve. While being adjusted, the hydrogen gas is stored and guided to the hydrogen gas storage tank (13). At this time, the hydrogen gas generation amount is measured by the flow meter (18) provided in the gas discharge path (12), and the raw material supply amount and the alkali supply amount are adjusted based on the measured value, and the reaction chamber (57 ) Is controlled so as to stabilize the amount of hydrogen gas generated.

一方、上記の液出口(60)から排液路(27)へ排出された残留固形物と反応液は、排液冷却器(29)で冷却され、緩衝タンク(30)で残存する水素ガスが分離されたのち、液回収タンク(28)に収容される。この液回収タンク(28)に回収された残留固形物は、その後の処理工程で濾過や遠心分離などにより反応液と分離されるが、前記の研削排液に含まれていた金属シリコンは上記の反応で消費されるので、この残留固形物や反応液には、金属シリコンが殆ど残留しない。従ってこの残留固形物から砥粒が良好に再生され、反応液からクーラントが良好に再生される。   On the other hand, the residual solid matter and the reaction liquid discharged from the liquid outlet (60) to the drainage passage (27) are cooled by the drainage cooler (29), and the hydrogen gas remaining in the buffer tank (30) is reduced. After being separated, it is stored in the liquid recovery tank (28). The residual solid recovered in the liquid recovery tank (28) is separated from the reaction liquid by filtration, centrifugation, etc. in the subsequent processing step, but the metal silicon contained in the grinding waste liquid is Since it is consumed in the reaction, almost no metallic silicon remains in the residual solid or reaction solution. Accordingly, the abrasive grains are regenerated well from the residual solids, and the coolant is regenerated well from the reaction liquid.

上記の排液路(27)を流れる反応液は残留固形物を含むため、この排液路(27)を開閉する排液弁(31)の内部に、この残留固形物が付着する虞がある。そこで、この排液弁(31)の開閉の際には、前記の洗浄水タンク(34)から洗浄水供給路(33)を介して洗浄水が供給され、これにより残留固形物が排液弁(31)の内部へ付着せずに液回収タンク(28)へ円滑に案内される。なお、上記の排液弁(31)は、残留固形物に含まれる砥粒で早期に摩損しないように、セラミック製など耐摩耗性に優れた材料で形成すると好ましい。   Since the reaction liquid flowing through the drainage path (27) contains residual solids, the residual solids may adhere to the drainage valve (31) that opens and closes the drainage path (27). . Therefore, when the drain valve (31) is opened and closed, the cleaning water is supplied from the cleaning water tank (34) through the cleaning water supply passage (33), whereby the residual solids are discharged from the drain valve. The liquid is smoothly guided to the liquid recovery tank (28) without adhering to the inside of (31). The drain valve (31) is preferably formed of a material having excellent wear resistance such as ceramic so as not to be worn early by abrasive grains contained in the residual solid.

上記の第1実施形態では、1つのガス発生反応装置(2)を備えた廃液処理装置(1)について説明した。この場合、時間当たりの処理量を多くするため原料供給量を増加すると、反応室内での滞留時間が短くなり、反応効率が低下してガス発生反応装置から排出される未反応物が増加する。このため、反応効率を高く維持しながら処理量を多くするには、反応器本体を長く形成したり、大形化したりする必要がある。しかし本発明では、複数のガス発生反応装置を設けることで、反応効率を高く維持しながらしかも処理量を多くすることが可能である。   In the first embodiment, the waste liquid treatment apparatus (1) including one gas generation reaction apparatus (2) has been described. In this case, if the raw material supply amount is increased in order to increase the processing amount per hour, the residence time in the reaction chamber is shortened, the reaction efficiency is lowered, and the unreacted substances discharged from the gas generating reactor are increased. For this reason, in order to increase the throughput while maintaining high reaction efficiency, it is necessary to make the reactor body longer or to increase its size. However, in the present invention, by providing a plurality of gas generating reactors, it is possible to increase the throughput while maintaining high reaction efficiency.

上記の複数のガス発生反応装置は、これらを並列状に配置して、それぞれのガス発生反応装置に原料供給部を接続してもよく、或いは各ガス発生反応装置を直列状に配置して、最も上流側のガス発生反応装置にのみ原料供給部を接続してもよい。特に、この各ガス発生反応装置を直列状に配置した場合は、原料供給路など原料供給部の構造を簡略にできるうえ、上流側のガス発生反応装置での反応性に基づき、下流側のガス発生反応装置での反応を調整することで、例えば未反応残留物を低く抑えるなど、全体としての反応効率を制御することができ、好ましい。さらに本発明では、複数のガス発生反応装置を、並列状と直列状とを組み合わせて配置することも可能である。   The plurality of gas generating reactors may be arranged in parallel, and the raw material supply unit may be connected to each gas generating reactor, or each gas generating reactor is arranged in series, You may connect a raw material supply part only to the gas generating reaction apparatus of the most upstream side. In particular, when the gas generating reactors are arranged in series, the structure of the raw material supply section such as the raw material supply path can be simplified, and the downstream gas can be determined based on the reactivity in the upstream gas generating reactor. By adjusting the reaction in the generation reaction apparatus, the overall reaction efficiency can be controlled, for example, by suppressing unreacted residues to a low level, which is preferable. Furthermore, in this invention, it is also possible to arrange | position several gas generation reaction apparatuses combining the parallel form and the serial form.

図3は、本発明の第2実施形態を示す廃液処理装置の概略構成図である。この第2実施形態では、廃液処理装置(1)に4つのガス発生反応装置(2)が設けてあり、各ガス発生反応装置(2)は互いに直列状に配置してある。即ち、原料供給物(3)とアルカリ供給部(4)は、最も上流側のガス発生反応装置(2)の上部に接続してあり、下流側のガス発生反応装置(2)の上部は、それぞれ上流側のガス発生反応装置(2)の下部に送液路(24)を介して接続してある。そして、最も下流側のガス発生反応装置(2)の下部が、排液路(27)を介して液回収タンク(28)に接続してある。   FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a waste liquid treatment apparatus showing a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the waste gas treatment device (1) is provided with four gas generation reaction devices (2), and the gas generation reaction devices (2) are arranged in series with each other. That is, the raw material supply (3) and the alkali supply section (4) are connected to the upper part of the most upstream gas generation reaction apparatus (2), and the upper part of the downstream gas generation reaction apparatus (2) is Each is connected to the lower part of the upstream gas generation reactor (2) via a liquid feed path (24). The lowermost part of the gas generation reactor (2) on the most downstream side is connected to the liquid recovery tank (28) via the drainage passage (27).

上記の各ガス発生反応装置(2)内にはそれぞれ反応室(57)が形成してあり、この各反応室(57)の上方にガス収容空間(66)が設けてある。このそれぞれの反応室(57)とガス収容空間(66)とは、液戻し路(67)を介して互いに連通してある。そして各ガス発生反応装置(2)のガス収容空間(66)が、それぞれガス排出路(12)を介して水素ガス貯溜タンク(13)に接続してある。   A reaction chamber (57) is formed in each gas generating reaction device (2), and a gas storage space (66) is provided above each reaction chamber (57). Each of the reaction chambers (57) and the gas storage space (66) communicate with each other via a liquid return path (67). A gas storage space (66) of each gas generation reaction device (2) is connected to a hydrogen gas storage tank (13) via a gas discharge path (12).

上記の送液路(24)は、下流側にいくほど、ガス発生反応装置(2)の上部のうちの僅かに低い位置に接続してある。これは、特にスラリー状の原料に前記の増粘剤を加えて粘度を高めた場合など、上記の送液路(24)による配管抵抗が大きい場合に、下流側ほどガス発生反応装置(2)内での液面が低くなる傾向があり、これに適合させたものである。しかし本発明では、上記の配管抵抗に起因して、上流側のガス発生反応装置(2)で反応室(57)からガス収容空間(66)へ反応液が溢れ出る虞がなければ、上記の各送液路(24)を、各ガス発生反応装置(2)の略同じ高さ位置に接続してもよい。   The liquid feeding path (24) is connected to a slightly lower position in the upper part of the gas generating reaction apparatus (2) as it goes downstream. This is because, in particular, when the viscosity of the slurry-like raw material is increased by adding the above-mentioned thickener, when the pipe resistance due to the above-described liquid feeding path (24) is large, the gas generating reaction apparatus (2) becomes more downstream. There is a tendency that the liquid level in the inside tends to be low, and it is adapted to this. However, in the present invention, if there is no possibility that the reaction solution overflows from the reaction chamber (57) to the gas storage space (66) in the upstream gas generation reactor (2) due to the pipe resistance, You may connect each liquid sending path (24) to the substantially same height position of each gas generation reaction apparatus (2).

上記のガス発生反応装置(2)の下部には、それぞれ個別排液路(49)が接続してある。この個別排液路(49)は、通常の反応処理中は閉じてあり、異常が発生した際のメンテナンス時や、反応終了後の洗浄時などに開かれる。
なおこの第2実施形態では、上記のアルカリ供給部(4)を、最も上流側のガス発生反応装置(2)の上部に接続したが、本発明では必要に応じて、各ガス発生反応装置(2)の上部にそれぞれアルカリ供給部(4)を接続してもよい。
また、この第2実施形態では、4つのガス発生反応装置(2)を備える場合について説明したが、本発明ではこのガス発生反応装置は特定の配置数に限定されず、3つ以下であってもよいし、5つ以上であってもよい。
An individual drainage channel (49) is connected to the lower part of the gas generation reactor (2). The individual drainage channel (49) is closed during normal reaction processing, and is opened during maintenance when an abnormality occurs or during cleaning after completion of the reaction.
In the second embodiment, the alkali supply section (4) is connected to the upper part of the most upstream gas generation reaction apparatus (2). However, in the present invention, each gas generation reaction apparatus ( You may connect an alkali supply part (4) to the upper part of 2), respectively.
In the second embodiment, the case where the four gas generating reactors (2) are provided has been described. However, in the present invention, the number of gas generating reactors is not limited to a specific number, and the number is three or less. Or five or more.

次に、上記の廃液処理装置を用いた、研削廃液の処理手順について説明する。
上記の複数のガス発生反応装置(2)を備えた廃液処理装置(1)では、原料供給部(3)から供給されたスラリー状の原料(62)が、供給ポンプ(7)により、最も上流側のガス発生反応装置(2)へ供給される。このスラリー状の原料は、このガス発生反応装置(2)の反応室(57)内を通過したのち、上記の送液路(24)を経て残りの各ガス発生反応装置(2)へ上流側から下流側へ順に送られ、その内部を通過する。このとき、各ガス発生反応装置(2)は外部空間に対し保密状に構成してあるので、上流側のガス発生反応装置(2)の下部を下流側のガス発生反応装置(2)の上部に送液路(24)で接続するだけの簡単な構成で、スラリー状の原料が下流側のガス発生反応装置(2)へ確実に送られる。
Next, a processing procedure for grinding waste liquid using the above-described waste liquid treatment apparatus will be described.
In the waste liquid treatment apparatus (1) provided with the plurality of gas generation reaction apparatuses (2), the slurry-like raw material (62) supplied from the raw material supply section (3) is fed upstream by the supply pump (7). To the side gas generating reactor (2). The slurry-like raw material passes through the reaction chamber (57) of the gas generating reactor (2), and then upstream to the remaining gas generating reactors (2) via the liquid feeding path (24). Is sent to the downstream side in order and passes through the inside. At this time, since each gas generating reactor (2) is configured to be tightly sealed with respect to the external space, the lower part of the upstream gas generating reactor (2) is the upper part of the downstream gas generating reactor (2). The slurry-like raw material is reliably sent to the downstream gas generating reaction device (2) with a simple configuration that is simply connected to the gas supply passage (24).

上記の原料に含まれる金属成分は、各ガス発生反応装置(2)の反応室(57)内を通過する間に、前記のアルカリ供給部(3)から供給されたアルカリ(63)と反応し、これにより各反応室(57)内で水素ガスが発生する。この水素ガス(64)は、各ガス発生反応装置(2)のガス収容空間(66)からガス排出路(12)を経て前記の水素ガス貯溜タンク(13)に案内され、貯溜される。このとき、各ガス発生反応装置(2)内では、水素ガスの発泡等により反応室(57)から前記のガス収容空間(66)内へ反応液が溢れ出る場合がある。この場合は、上記の発泡が消泡されたのち、この溢れ出た反応液が上記の液戻し路(67)を経て反応室(57)内へ戻される。   The metal component contained in the raw material reacts with the alkali (63) supplied from the alkali supply unit (3) while passing through the reaction chamber (57) of each gas generating reactor (2). As a result, hydrogen gas is generated in each reaction chamber (57). The hydrogen gas (64) is guided and stored in the hydrogen gas storage tank (13) from the gas storage space (66) of each gas generation reaction device (2) through the gas discharge path (12). At this time, in each gas generating reactor (2), the reaction liquid may overflow from the reaction chamber (57) into the gas storage space (66) due to foaming of hydrogen gas or the like. In this case, after the foaming is eliminated, the overflowing reaction liquid is returned to the reaction chamber (57) through the liquid return path (67).

上記のスラリー状の原料に含まれる金属成分は、全てのガス発生反応装置(2)内を順に通過するため、アルカリと長時間に亘って接触する。この結果、原料供給部(3)からの供給量を増加させて処理量を多くしても、未反応物が殆どなくなるまで効率よく十分に反応する。そしてこの十分に反応した反応液は、最も下流側のガス発生反応装置(2)の下部から残留固形物(65)とともに排出され、排液路(27)を経て液回収タンク(28)に案内され収容される。その他の構成は前記の第1実施形態と同様であり、同様に作用するので説明を省略する。   Since the metal component contained in the slurry-like raw material sequentially passes through all the gas generation reactors (2), it comes into contact with the alkali for a long time. As a result, even if the supply amount from the raw material supply unit (3) is increased to increase the processing amount, it reacts efficiently and sufficiently until there is almost no unreacted material. The sufficiently reacted liquid is discharged together with the remaining solids (65) from the lowermost part of the gas generation reactor (2) on the most downstream side, and is guided to the liquid recovery tank (28) through the drainage path (27). Is housed. Other configurations are the same as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted because it operates in the same manner.

上記の各実施形態では、研削廃液を処理する場合について説明した。しかし本発明の固気分離機能を有するガス発生反応装置やこれを備えた処理装置は、クーラント等の再生だけでなく、例えばアルミ粒子などを原料とした水素ガス発生装置や、各種廃液の無害化処理装置としても使用することができる。これらの場合、上記の液回収タンクに回収された残留固形物には、アルカリと反応してガスを発生する金属成分が残存せず、或いは大幅に低減されているので、酸等を用いたpH調整を施したのちに安全に廃棄処理することができる。   In each of the above embodiments, the case where the grinding waste liquid is processed has been described. However, the gas generation reaction apparatus having the solid-gas separation function of the present invention and the processing apparatus equipped with the same are not only used for regeneration of the coolant, but also for example, a hydrogen gas generation apparatus using aluminum particles as a raw material, and detoxification of various waste liquids. It can also be used as a processing device. In these cases, the residual solid recovered in the liquid recovery tank does not have a metal component that reacts with alkali to generate gas, or has been greatly reduced. After making adjustments, it can be safely disposed of.

例えばアルミニウムドロスに含まれる窒化アルミニウムは、雨水と接触して反応するとアンモニアガスを発生する虞があり、そのまま埋立地に廃棄することができない問題がある。そこで、この問題を解決することを目的として、このアルミニウムドロスを原料とし、上記の処理装置をアルミニウムドロス無害化処理装置として用いることができる。   For example, aluminum nitride contained in aluminum dross has a problem that ammonia gas may be generated when it reacts in contact with rainwater and cannot be discarded as it is in a landfill. Therefore, in order to solve this problem, the aluminum dross can be used as a raw material, and the above-described treatment apparatus can be used as an aluminum dross detoxification treatment apparatus.

この場合、上記の反応室内にアルミニウムドロスとアルカリ溶液とが投入され、これにより反応室内で窒化アルミニウムとアルカリとが反応して、水酸化アルミニウムが生成され、アンモニアガスが発生する。このアンモニアガスはガス出口から排出されたのち、凝縮等の方法により液化アンモニア或いは濃アンモニア水などの様態で回収され、一方、上記の水酸化アルミニウムは、残留固形物として上記の液出口から反応液の一部とともに液回収タンクへ排出される。   In this case, aluminum dross and an alkaline solution are charged into the reaction chamber, whereby aluminum nitride and alkali react with each other in the reaction chamber to generate aluminum hydroxide and generate ammonia gas. After the ammonia gas is discharged from the gas outlet, it is recovered in a form such as liquefied ammonia or concentrated aqueous ammonia by a method such as condensation. On the other hand, the aluminum hydroxide is reacted as a residual solid from the liquid outlet. It is discharged together with a part of the liquid recovery tank.

上記の第1実施形態では、上記のスクリュウを反応器本体へ回転不能に固定した。しかし本発明では、このスクリュウを反応器本体内で軸心回りへ回転可能に支持してもよい。この場合には、スクリュウを高速で回転させると反応液が撹拌され、残留固形物の沈降が妨げられるので、このスクリュウは、沈殿物が過剰に巻上げられない程度に低速で回転させるのが好ましい。
このようにスクリュウを回転させると、固形物の移動速度、即ち反応室内での滞留時間を調整でき、金属成分が反応室内でアルカリと十分に反応するように制御することで、液出口からの未反応物の排出を低減して、反応効率をさらに高めることができる。
In said 1st Embodiment, said screw was fixed to the reactor main body so that rotation was impossible. However, in the present invention, this screw may be supported so as to be rotatable around the axis in the reactor main body. In this case, if the screw is rotated at a high speed, the reaction solution is stirred and the settling of the residual solid matter is hindered. Therefore, the screw is preferably rotated at a low speed so that the precipitate is not excessively wound.
When the screw is rotated in this manner, the moving speed of the solid substance, that is, the residence time in the reaction chamber can be adjusted, and the metal component can be controlled so that it sufficiently reacts with the alkali in the reaction chamber. The reaction efficiency can be further increased by reducing the discharge of the reactants.

上記の各実施形態で説明した固気分離機能を有するガス発生反応装置は、本発明の技術的思想を具体化するために例示したものであり、各部材の構造や配置などをこの実施形態のものに限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲内において種々の変更を加え得るものである。   The gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function described in each of the above embodiments is exemplified to embody the technical idea of the present invention, and the structure and arrangement of each member are shown in this embodiment. The present invention is not limited to this, and various modifications can be made within the scope of the claims of the present invention.

例えば上記の第1実施形態では、上記の反応器本体の周壁の外側に加熱装置を配置し、スクリュウの軸部内に設けた循環路に冷却水を循環させた。しかし本発明ではこれに代えて、上記の反応器本体の周壁の外側にジャケットを形成して、このジャケットに冷却水を循環させ、上記の軸部内に熱媒を循環させてもよい。また、ジャケットと軸部内の循環路のいずれか一方に、熱媒と冷媒とを切換え供給可能に構成して、他方を省略することも可能である。
また上記の各実施形態では、スラリー状の原料を使用したので、空気を混入させることなく反応室内へ原料を容易に供給できるが、本発明では、例えば水封機構などを用いて粒状の原料を反応器本体内へ供給するように構成してもよい。
これらの原料に含まれる金属成分やアルカリの種類、濃度などは、上記の各実施形態や特定の数値範囲に限定されないことは、いうまでもない。
For example, in the first embodiment, a heating device is arranged outside the peripheral wall of the reactor main body, and the cooling water is circulated through a circulation path provided in the shaft portion of the screw. However, in the present invention, instead of this, a jacket may be formed outside the peripheral wall of the reactor main body, the cooling water may be circulated through the jacket, and the heat medium may be circulated within the shaft portion. It is also possible to configure the heating medium and the refrigerant to be switched and supplied to either one of the jacket and the circulation path in the shaft portion, and to omit the other.
In each of the above embodiments, since the slurry-like raw material is used, the raw material can be easily supplied into the reaction chamber without mixing air, but in the present invention, for example, the granular raw material is added using a water sealing mechanism or the like. You may comprise so that it may supply in a reactor main body.
Needless to say, the types and concentrations of the metal components and alkalis contained in these raw materials are not limited to the above embodiments and specific numerical ranges.

本発明の固気分離機能を有するガス発生反応装置は、金属成分とアルカリとの反応により生じるガスと、反応後に沈降させる残留固形物との干渉を防止して、原料とアルカリとの反応効率を高く維持しながら連続的に処理することができ、しかも装置全体をコンパクトに形成できるので、半導体製造分野などから排出される廃棄物の再生処理や無害化処理のほか、これらの処理に伴い発生する水素ガス等の回収装置にも好適に用いられる。   The gas generating reaction apparatus having a solid-gas separation function of the present invention prevents the interference between the gas generated by the reaction between the metal component and the alkali and the residual solids settled after the reaction, thereby improving the reaction efficiency between the raw material and the alkali. It can be processed continuously while maintaining a high level, and the entire device can be made compact, so that waste generated from the semiconductor manufacturing field, etc. is generated along with recycling and detoxification. It is also suitably used for a recovery device for hydrogen gas or the like.

本発明の第1実施形態の、廃液処理装置の概略構成を示すフロー図である。It is a flowchart which shows schematic structure of the waste-liquid processing apparatus of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態の、固気分離機能を有するガス発生反応装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the gas generation reaction apparatus which has a solid-gas separation function of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態の、廃液処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the waste liquid processing apparatus of 2nd Embodiment of this invention.

1…処理装置(廃液処理装置)
2…固気分離機能を有するガス発生反応装置
10…加圧ガス供給路
11…窒素ガスタンク(ガス供給タンク)
20…消泡装置
25…温度調節手段
27…排液路
33…洗浄水供給路
34…洗浄水タンク
37…液面制御槽
40…反応器本体
41…スクリュウ
42…周壁
43…原料入口
54…ガス出口
55…軸心
56…螺旋羽根
57…反応室
60…液出口
1 ... Treatment device (waste liquid treatment device)
2 ... Gas generating reactor with solid-gas separation function
10 ... Pressurized gas supply path
11… Nitrogen gas tank (gas supply tank)
20 ... Defoaming device
25 ... Temperature adjustment means
27… Drainage path
33… Washing water supply channel
34… Washing water tank
37 ... Liquid level control tank
40 ... Reactor body
41 ... Screw
42 ... Surrounding wall
43 ... Raw material inlet
54… Gas outlet
55 ... axis
56 ... Spiral feather
57 ... Reaction chamber
60 ... Liquid outlet

Claims (10)

液中で金属成分を含む原料とアルカリとを反応させてガスを発生させる反応装置であって、
上下方向に配置した筒状の反応器本体(40)とその反応器本体(40)の内部に配置したスクリュウ(41)とを備え、
上記の反応器本体(40)は、上部に原料入口(43)とガス出口(54)とを開口するとともに、下部に液出口(60)を開口してあり、
上記のスクリュウ(41)は、上下方向の軸部(51)とその周囲に固定した螺旋羽根(56)とを備え、この螺旋羽根(56)により上下方向へ延びる螺旋状の反応室(57)を上記の反応器本体(40)内に形成してあり、
この反応室(57)に上記の原料入口(43)とガス出口(54)と液出口(60)とをそれぞれ連通させ
上記の原料は上記の原料入口から投入され、上記の反応室を下方の液出口側へ移動していき、その過程で上記のアルカリと反応して上記のガスを発生し、このガスが上記の螺旋羽根の下面に沿って螺旋状に上昇し上記のガス出口から排出され、上記の原料のうち反応に関与しない固形物や反応により生成した固形物からなる残留固形物が上記の螺旋羽根の上面に沿って上記の螺旋状の反応室内を下方へ案内され上記の液出口から排出されることを特徴とする、固気分離機能を有するガス発生反応装置。
A reaction apparatus for generating a gas by reacting a raw material containing a metal component with an alkali in a liquid,
A cylindrical reactor body (40) arranged in the vertical direction and a screw (41) arranged inside the reactor body (40),
The reactor body (40) has a raw material inlet (43) and a gas outlet (54) opened at the top and a liquid outlet (60) opened at the bottom,
The screw (41) includes a vertical shaft portion (51) and a spiral blade (56) fixed around the shaft portion (51), and a spiral reaction chamber (57) extending in the vertical direction by the spiral blade (56). Is formed in the reactor body (40).
The raw material inlet (43), the gas outlet (54) and the liquid outlet (60) are communicated with the reaction chamber (57), respectively .
The raw material is introduced from the raw material inlet, and the reaction chamber is moved to the lower liquid outlet side. In the process, the raw material reacts with the alkali to generate the gas. The upper surface of the spiral blade is a solid residue that is spirally raised along the lower surface of the spiral blade and is discharged from the gas outlet and is made up of the solid material that is not involved in the reaction and the solid material generated by the reaction. A gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function, wherein the gas is guided downward in the spiral reaction chamber and discharged from the liquid outlet .
上記のスクリュウ(41)が反応器本体(40)内に固定してある、請求項1に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The gas generating reaction device having a solid-gas separation function according to claim 1, wherein the screw (41) is fixed in the reactor main body (40). 上記のスクリュウ(41)が反応器本体(40)内で軸心(55)回りへ回転可能に支持してある、請求項1に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The gas generating reaction apparatus having a solid-gas separation function according to claim 1, wherein the screw (41) is rotatably supported around an axis (55) in the reactor main body (40). 上記の反応器本体(40)の周壁(42)に沿った部位と上記の軸部(51)の内部との少なくともいずれか一方に、上記の反応室(57)内の温度を制御する温度調節手段(25)を配置した、請求項1から3のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   Temperature control for controlling the temperature in the reaction chamber (57) on at least one of the site along the peripheral wall (42) of the reactor body (40) and the inside of the shaft portion (51) The gas generating reaction apparatus having a solid-gas separation function according to any one of claims 1 to 3, wherein means (25) is arranged. 上記の反応器本体(40)の側方に液面制御槽(37)を配置して、この液面制御槽(37)の下部を上記の液出口(60)に連通した、請求項1から4のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The liquid level control tank (37) is disposed on the side of the reactor main body (40), and the lower part of the liquid level control tank (37) communicates with the liquid outlet (60). 5. A gas generating reaction apparatus having a solid-gas separation function according to any one of 4 above. 上記の液出口(60)へ接続される排液路(27)に、洗浄水供給路(33)を介して洗浄水タンク(34)を接続した、請求項1から5のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The washing water tank (34) is connected to the drainage passage (27) connected to the liquid outlet (60) via the washing water supply passage (33), according to any one of claims 1 to 5. A gas generation reaction apparatus having the solid-gas separation function. 上記の反応器本体(40)内の上部に、加圧ガス供給路(10)を介してガス供給タンク(11)を接続した、請求項1から6のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The solid-gas separation according to any one of claims 1 to 6, wherein a gas supply tank (11) is connected to an upper portion of the reactor main body (40) via a pressurized gas supply path (10). A gas generating reactor having a function. 上記の反応器本体(40)内の上部空間に、水を噴霧できる消泡装置(20)を配置した、請求項1から7のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The gas generation reaction having a solid-gas separation function according to any one of claims 1 to 7, wherein a defoaming device (20) capable of spraying water is disposed in an upper space in the reactor main body (40). apparatus. 上記の原料が、シリコンウエハーの切断などに使用される、クーラントに砥粒を分散させた研削液の廃液である、請求項1から8のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The gas having a solid-gas separation function according to any one of claims 1 to 8, wherein the raw material is a waste liquid of a grinding liquid in which abrasive grains are dispersed in a coolant used for cutting a silicon wafer or the like. Generation reactor. 上記の原料が、窒化アルミニウムを含有するアルミニウムドロスである、請求項1から8のいずれか1項に記載の固気分離機能を有するガス発生反応装置。   The gas generation reaction apparatus having a solid-gas separation function according to any one of claims 1 to 8, wherein the raw material is aluminum dross containing aluminum nitride.
JP2007317995A 2007-12-10 2007-12-10 Gas generation reactor having solid-gas separation function Active JP5416348B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007317995A JP5416348B2 (en) 2007-12-10 2007-12-10 Gas generation reactor having solid-gas separation function

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007317995A JP5416348B2 (en) 2007-12-10 2007-12-10 Gas generation reactor having solid-gas separation function

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009136817A JP2009136817A (en) 2009-06-25
JP5416348B2 true JP5416348B2 (en) 2014-02-12

Family

ID=40868027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007317995A Active JP5416348B2 (en) 2007-12-10 2007-12-10 Gas generation reactor having solid-gas separation function

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5416348B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5056798B2 (en) 2009-06-08 2012-10-24 日本電気株式会社 Determination device, fingerprint input device, determination method, and determination program
KR101145806B1 (en) * 2010-05-07 2012-05-16 한국과학기술원 containment vessel cooling system using the gas generation reaction
CN107605724B (en) * 2017-08-23 2018-10-26 哈尔滨工程大学 A kind of wide in range medium three screw pump
CN113927484A (en) * 2021-11-04 2022-01-14 浙江翎天科技有限公司 Grinding machine grinding fluid circulation decontamination system of recycling

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS591708Y2 (en) * 1979-05-22 1984-01-18 株式会社 大石機械製作所 Grinding fluid purification device
JP3961637B2 (en) * 1997-08-07 2007-08-22 三原菱重エンジニアリング株式会社 Abrasive recovery method
JP3371116B2 (en) * 2000-03-31 2003-01-27 株式会社イーアンドイー Wire saw abrasive slurry reuse system
JP2005349507A (en) * 2004-06-09 2005-12-22 Naoetsu Electronics Co Ltd Coolant recycling device and waste slurry recycling system, as well as waste coolant recycling method and waste slurry recycling method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009136817A (en) 2009-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10370276B2 (en) Near-zero-release treatment system and method for high concentrated organic wastewater
JP5416348B2 (en) Gas generation reactor having solid-gas separation function
KR100481256B1 (en) Apparatus and method for point-of-use treatment of effluent gas streams
RU2278077C1 (en) Method of production of hydrogen and aluminum oxides or hydroxides and the device for the method realization
AU2008359683B2 (en) Method and apparatus for temperature control in a reactor vessel
JP4722776B2 (en) Wastewater treatment method and apparatus
JP2008264763A (en) Decomposition apparatus
AU2002328206B2 (en) Method and apparatus for heating a slurry to a predetermined temperature
CN113140345A (en) Integrated Po removal and oxygen control device and Po removal method
JP6962917B2 (en) Method of transferring mixed-phase liquid and equipment for it
US3990820A (en) Apparatus for discharging hot liquid material from a pressure vessel
US20190270061A1 (en) Catalyst dumping spool assembly
JP5066633B1 (en) By-product slaked lime discharging device
JP2000140613A (en) Solid-gas reactor
CN218944726U (en) Integrated continuous treatment device for removing dust and explosion-proof acid gas
JP5066632B2 (en) By-product slaked lime discharging device
JP4601644B2 (en) Crystallization reactor and crystallization reaction method
CN220657453U (en) Neutralization reaction kettle
CN220460078U (en) Chlorosilane slag slurry treatment device
CN107364867A (en) A kind of multifunctional C SiClx purification reaction device
JP2007320793A (en) Method for producing aluminum hydroxide and apparatus therefor
JP2023037689A (en) Detoxification facility and detoxification method of exhaust gas containing hydrogen sulfide
JP2020044462A (en) Pressure control discharge mechanism from high pressure apparatus
CA2162642A1 (en) Method and device for delivering hot, aggressive media
JP4628013B2 (en) Fluorine-containing water treatment apparatus and treatment method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101126

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121010

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131029

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5416348

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250