JP5390355B2 - Optical deflection device - Google Patents

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本発明は、光の進行方向を変える光偏向を行う光偏向装置に関する。   The present invention relates to an optical deflection apparatus that performs optical deflection that changes the traveling direction of light.

車両のヘッドライト等における配光切り替え技術として、液晶光学素子を用いることが提案されている。   As a light distribution switching technique in a vehicle headlight or the like, it has been proposed to use a liquid crystal optical element.

特許文献1は、一対の基板の一方の内面にプリズムを形成した液晶セルを用いて、光偏向を行う技術を開示する。電圧オフ状態と電圧オン状態とを切り替えて、液晶層の屈折率を変化させることにより、光の進行方向を変える。しかし、特許文献1が開示する技術では、液晶セルへの入射光の、偏光方向が相互に直交する2つの偏光成分うち、一方の偏光成分しか偏向させない。   Patent Document 1 discloses a technique for performing light deflection using a liquid crystal cell in which a prism is formed on one inner surface of a pair of substrates. The light traveling direction is changed by switching the voltage off state and the voltage on state to change the refractive index of the liquid crystal layer. However, in the technique disclosed in Patent Document 1, only one of the two polarization components of which the polarization directions of the incident light to the liquid crystal cell are orthogonal to each other is deflected.

特許文献2は、偏光方向ごとに用意した2枚の液晶セルにより、両方の偏光成分を偏向させる技術を開示する。   Patent Document 2 discloses a technique for deflecting both polarization components by using two liquid crystal cells prepared for each polarization direction.

1枚の液晶セルで、入射光の両方の偏光成分を偏向させられる技術が望まれる。   A technique capable of deflecting both polarization components of incident light with a single liquid crystal cell is desired.

特開2006−147377号公報JP 2006-147377 A 特開2009−26641号公報JP 2009-26641 A

本発明の一目的は、1枚の液晶セルで、入射光の直交する両偏光成分に対して、光の進行方向を変える光偏向を行うことができる光偏向装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical deflecting device capable of performing light deflection for changing the traveling direction of light with respect to both polarization components orthogonal to incident light with a single liquid crystal cell.

本発明の一観点によれば、誘電率異方性が正で、カイラル剤が添加された液晶層と、相互に対向配置され、前記液晶層を挟持する第1及び第2の透明基板と、前記第1及び第2の透明基板の、前記液晶層側上方にそれぞれ形成され、前記液晶層に電圧を印加する第1及び第2の透明電極と、前記第1及び第2の透明基板の一方の、前記液晶層側上方に形成されたプリズム層と、前記第1及び第2の透明基板の前記液晶層側上方に形成された垂直配向膜とを有し、前記液晶層は、電圧オフによりフォーカルコニック状態を示し、電圧オンによりホメオトロピック状態を示す光偏向装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a liquid crystal layer having a positive dielectric anisotropy and having a chiral agent added thereto, first and second transparent substrates that are arranged to face each other and sandwich the liquid crystal layer, First and second transparent electrodes formed on the liquid crystal layer side above the first and second transparent substrates, respectively, for applying a voltage to the liquid crystal layer, and one of the first and second transparent substrates of the liquid crystal layer side formed above the prism layer, and a first and second vertical alignment before SL formed in the liquid crystal layer side above the transparent substrate film, the liquid crystal layer, the voltage-off It shows the focal conic state, the light deflecting apparatus according to the homeotropic state by the voltage on is provided by.

液晶層への電圧印加により、液晶層の屈折率を、フォーカルコニック状態の屈折率からホメオトロピック状態の屈折率に変化させて、プリズムによる光偏向方向を変えることができる。フォーカルコニック状態とホメオトロピック状態を用いることにより、基板法線方向からの入射光の直交する両偏光成分を偏向させることができる。   By applying a voltage to the liquid crystal layer, the refractive index of the liquid crystal layer can be changed from the refractive index in the focal conic state to the refractive index in the homeotropic state, thereby changing the light deflection direction by the prism. By using the focal conic state and the homeotropic state, both orthogonal polarization components of incident light from the normal direction of the substrate can be deflected.

図1は、本発明の第1実施例の光偏向液晶セルを概略的に示す厚さ方向断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view in the thickness direction schematically showing an optical deflection liquid crystal cell according to a first embodiment of the present invention. 図2は、プリズム層の概略斜視図、及びプリズムの断面形状の拡大図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of the prism layer and an enlarged view of a cross-sectional shape of the prism. 図3は、ガラス基板上のプリズム層の概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the prism layer on the glass substrate. 図4は、第1実施例の光偏向液晶セルの電圧オン時と電圧オフ時の写真である。FIG. 4 is a photograph of the light deflection liquid crystal cell of the first embodiment when the voltage is on and when the voltage is off. 図5は、応用例の照明装置を概略的に示す横方向断面図(上面断面図)である。FIG. 5 is a lateral cross-sectional view (top cross-sectional view) schematically showing a lighting device of an application example. 図6A及び図6Bは、それぞれ、電圧オン時と電圧オフ時の投影像を概略的に示すスケッチである。6A and 6B are sketches schematically showing projected images when the voltage is on and when the voltage is off, respectively. 図7は、第2実施例の光偏向液晶セルを概略的に示す厚さ方向断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view in the thickness direction schematically showing the light deflection liquid crystal cell of the second embodiment.

まず、本発明の第1実施例による光偏向液晶セルの構造及び作製方法について説明する。   First, the structure and manufacturing method of the light deflection liquid crystal cell according to the first embodiment of the present invention will be described.

図1は、第1実施例の光偏向液晶セルを概略的に示す厚さ方向断面図である。透明電極が形成された一対のガラス基板(透明電極2が形成されたガラス基板1、及び、透明電極12が形成されたガラス基板11)を用意した。ガラス基板1、11は、無アルカリガラスであり、厚さはそれぞれ0.7mmtである。透明電極2、12は、インジウムスズ酸化物(ITO)であり、厚さはそれぞれ150nmである。   FIG. 1 is a cross-sectional view in the thickness direction schematically showing the light deflection liquid crystal cell of the first embodiment. A pair of glass substrates on which a transparent electrode was formed (a glass substrate 1 on which a transparent electrode 2 was formed and a glass substrate 11 on which a transparent electrode 12 was formed) were prepared. The glass substrates 1 and 11 are non-alkali glass, and each has a thickness of 0.7 mm. The transparent electrodes 2 and 12 are indium tin oxide (ITO), and each has a thickness of 150 nm.

透明電極2、12は、所望の平面形状にパターニングされていることが望ましい。ITO膜は、例えば第二塩化鉄を用いたウエットエッチングや、レーザで不要なITO膜を除去する方法でパターニングできる。   The transparent electrodes 2 and 12 are preferably patterned in a desired planar shape. The ITO film can be patterned by, for example, wet etching using ferric chloride or a method of removing an unnecessary ITO film with a laser.

片側のガラス基板1の透明電極2上に、プリズム層3を形成した。プリズム層3は、ベース層3b上にプリズム3aが並んだ形状を有する。ベース層3bの厚さは、例えば2μm〜30μm程度である。   A prism layer 3 was formed on the transparent electrode 2 of the glass substrate 1 on one side. The prism layer 3 has a shape in which the prisms 3a are arranged on the base layer 3b. The base layer 3b has a thickness of about 2 μm to 30 μm, for example.

図2は、プリズム層3の概略斜視図、及びプリズム3aの断面形状の拡大図である。各プリズム3aは、頂角75°、底角が15°及び90°の三角柱状であり、複数のプリズム3aが、プリズム長さ方向と直交する方向(プリズム幅方向)に並んでいる。プリズム3aの高さは約5.2μmであり、プリズム3aの底辺の長さ(プリズムのピッチ)は20μmである。   FIG. 2 is a schematic perspective view of the prism layer 3 and an enlarged view of the cross-sectional shape of the prism 3a. Each prism 3a has a triangular prism shape with apex angles of 75 ° and base angles of 15 ° and 90 °, and a plurality of prisms 3a are arranged in a direction (prism width direction) perpendicular to the prism length direction. The height of the prism 3a is about 5.2 μm, and the length of the base of the prism 3a (prism pitch) is 20 μm.

プリズム層3の好適な材料について説明する。プリズム層3上に、後の工程で、ポリイミド等の垂直配向膜4が形成される。信頼性の高い垂直配向膜を形成するためには、160℃〜220℃程度(例えば180℃)の高温での熱処理を行うことが望ましい。そこで、高温の熱処理で特性が劣化しにくいプリズム材料が望まれる。   A suitable material for the prism layer 3 will be described. On the prism layer 3, a vertical alignment film 4 such as polyimide is formed in a later step. In order to form a highly reliable vertical alignment film, it is desirable to perform heat treatment at a high temperature of about 160 ° C. to 220 ° C. (for example, 180 ° C.). Therefore, a prism material whose characteristics are hardly deteriorated by high-temperature heat treatment is desired.

本願発明者は、複数のプリズム材料に対し、220℃で2時間ずつの熱処理を行い、熱処理前後での可視光領域の透過率の違いを評価した。その結果、アクリル系の紫外線(UV)硬化性樹脂が、短波長側でごく僅かに透過率の低下が見られるものの、ほぼ全可視波長域において熱処理前と同等の透過率を示し、特性(透過率)変化を少なくできることがわかった。なお、本明細書において、「特性(透過率)変化が少ない」とは、可視光領域(波長380nm〜780nm)での特性(透過率)変化が、熱処理前に比べて概ね2%以内である状態を示す。   The inventor of the present application performed heat treatment at 220 ° C. for 2 hours for a plurality of prism materials, and evaluated the difference in transmittance in the visible light region before and after the heat treatment. As a result, the acrylic ultraviolet (UV) curable resin showed a slight decrease in transmittance on the short wavelength side, but exhibited a transmittance equivalent to that before the heat treatment in almost all visible wavelength regions. Rate) change was found to be less. In the present specification, “there is little change in characteristics (transmittance)” means that the change in characteristics (transmittance) in the visible light region (wavelength 380 nm to 780 nm) is approximately within 2% compared to before heat treatment. Indicates the state.

アクリル系UV硬化性樹脂は、耐熱性だけでなく、ガラスへの密着性も優れていると共に、金属には密着しにくい(離型性が良い)という性質を有しており、実施例によるプリズム材料として好適であることがわかった。なお、エポキシ系の樹脂も耐熱性に優れており、プリズム材料として使用可能であると考えられる。また、ポリイミドも使用可能である。   The acrylic UV curable resin has not only heat resistance but also excellent adhesion to glass and has a property of being difficult to adhere to metal (good releasability). It was found to be suitable as a material. Epoxy resins are also excellent in heat resistance and are considered to be usable as prism materials. Polyimide can also be used.

図3は、ガラス基板1上のプリズム層3の概略平面図である。プリズム層3の作製方法について説明する。ガラス基板1の透明電極2上に、アクリル系UV硬化性樹脂3Rを滴下し、その上の所定位置に、プリズム層3の型が形成された金型(全体の大きさ:縦80mm×横80mm)を置き、厚手の石英部材などをガラス基板の裏側に配置して補強した状態でプレスを行った。UV硬化性樹脂3Rの滴下量は、プリズムの大きさ(プリズム形成領域の広さ)に合わせて調整した。   FIG. 3 is a schematic plan view of the prism layer 3 on the glass substrate 1. A method for producing the prism layer 3 will be described. On the transparent electrode 2 of the glass substrate 1, an acrylic UV curable resin 3R is dropped, and a mold in which a mold of the prism layer 3 is formed at a predetermined position (overall size: 80 mm long × 80 mm wide) ) And a thick quartz member or the like was placed on the back side of the glass substrate for reinforcement. The dripping amount of the UV curable resin 3R was adjusted according to the size of the prism (the width of the prism formation region).

プレスして1分以上放置し、UV硬化性樹脂を十分広げた後、ガラス基板1の裏側から紫外線を照射し、UV硬化性樹脂を硬化させた。紫外線の照射量は20J/cmとした。紫外線の照射量は、樹脂が硬化するように適宜設定すればよい。なお、ITOは紫外線を吸収するため、透明電極の膜厚が変われば紫外線照射量も変える必要があろう。なお、プリズム形成用の金型にはエア抜き用の微小な溝を形成してもよい。また、金型と基板とは真空中で重ね合わせてもよい。 After pressing and allowing to stand for 1 minute or longer, the UV curable resin was sufficiently spread, and then the ultraviolet light was irradiated from the back side of the glass substrate 1 to cure the UV curable resin. The irradiation amount of ultraviolet rays was 20 J / cm 2 . What is necessary is just to set suitably the irradiation amount of an ultraviolet-ray so that resin may harden | cure. In addition, since ITO absorbs ultraviolet rays, if the film thickness of the transparent electrode is changed, it is necessary to change the ultraviolet irradiation amount. Note that a minute groove for air bleeding may be formed on the prism forming die. Further, the mold and the substrate may be superposed in a vacuum.

次に、プリズム層3の形成されたガラス基板1を、洗浄機で洗浄した。アルカリ洗剤を用いたブラシ洗浄、純水洗浄、エアーブロー、UV照射、及び赤外(IR)乾燥を順に行った。洗浄方法はこれに限らず、高圧スプレー洗浄やプラズマ洗浄等を行うこともできる。   Next, the glass substrate 1 on which the prism layer 3 was formed was washed with a washing machine. Brush cleaning using an alkaline detergent, pure water cleaning, air blowing, UV irradiation, and infrared (IR) drying were sequentially performed. The cleaning method is not limited to this, and high-pressure spray cleaning, plasma cleaning, or the like can also be performed.

図1に戻って説明を続ける。もう一方のガラス基板11の透明電極12上に、ポリイミド等により垂直配向膜13を形成した。ここでは、日産化学製のSE−4811をフレキソ印刷で厚さ80nm形成して、180℃で1.5時間焼成を行った。   Returning to FIG. 1, the description will be continued. On the transparent electrode 12 of the other glass substrate 11, a vertical alignment film 13 was formed from polyimide or the like. Here, SE-4811 manufactured by Nissan Chemical Industries, Inc. was formed by flexographic printing to a thickness of 80 nm and baked at 180 ° C. for 1.5 hours.

また、ガラス基板1のプリズム層3上に、ポリイミド等により垂直配向膜4を形成した。ここでは、日産化学製のSE−4811をフレキソ印刷で厚さ80nm形成して、180℃で1.5時間焼成を行った。なお、垂直配向膜4、13の形成方法として、インクジェット、スピンコート、スリットコート、スリットアンドスピンコート等を用いることもできる。   A vertical alignment film 4 was formed on the prism layer 3 of the glass substrate 1 with polyimide or the like. Here, SE-4811 manufactured by Nissan Chemical Industries, Inc. was formed by flexographic printing to a thickness of 80 nm and baked at 180 ° C. for 1.5 hours. In addition, as a method for forming the vertical alignment films 4 and 13, ink jet, spin coating, slit coating, slit and spin coating, or the like can be used.

次に、プリズム層3側のガラス基板1上に、ギャップコントロール剤を2wt%〜5wt%含んだメインシール剤を形成した。形成方法として、スクリーン印刷やディスペンサが用いられる。プリズム3aの高さを含んだ(プリズムのベース層3bからの)液晶層15の厚さが、例えば10μm〜20μmとなるように、ギャップコントロール剤を選択した。   Next, a main sealant containing 2 wt% to 5 wt% of a gap control agent was formed on the glass substrate 1 on the prism layer 3 side. As a forming method, screen printing or a dispenser is used. The gap control agent was selected so that the thickness of the liquid crystal layer 15 (from the prism base layer 3b) including the height of the prism 3a was, for example, 10 μm to 20 μm.

ここでは、ギャップコントロール剤として径が30μmの積水化学製のプラスチックボールを選択し、これを三井化学製のシール剤ES−7500に4wt%添加して、メインシール剤16とした。   Here, a plastic ball made by Sekisui Chemical having a diameter of 30 μm was selected as a gap control agent, and 4 wt% was added to a sealing agent ES-7500 made by Mitsui Chemicals to make a main sealing agent 16.

もう一方のガラス基板11上には、ギャップコントロール剤14として径が17μmの積水化学製のプラスチックボールを、乾式のギャップ散布機を用いて散布した。   On the other glass substrate 11, Sekisui Chemical plastic balls having a diameter of 17 μm as a gap control agent 14 were dispersed using a dry gap spreader.

次に、両ガラス基板1、11の重ね合わせを行い、プレス機などで圧力を一定に加えた状態で熱処理することにより、メインシール剤を硬化させた。ここでは、150℃で3時間の熱処理を行った。   Next, both the glass substrates 1 and 11 were overlapped, and the main sealant was cured by heat treatment in a state where pressure was constantly applied by a press machine or the like. Here, heat treatment was performed at 150 ° C. for 3 hours.

このようにして作製された空セルに、液晶を真空注入して、液晶層15を形成した。液晶注入後、注入口にエンドシール剤を塗布して封止した。封止後、120℃で1時間の熱処理を行い、液晶分子の配向状態を整えた。このようにして、第1実施例の光偏向液晶セルを作製した。なお、液晶層の形成方法は真空注入に限らず、例えばOne Drop Fill(ODF)法を用いてもよい。   A liquid crystal layer 15 was formed by vacuum-injecting liquid crystal into the empty cell thus prepared. After liquid crystal injection, an end sealant was applied to the injection port and sealed. After sealing, heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour to adjust the alignment state of the liquid crystal molecules. In this manner, the light deflection liquid crystal cell of the first example was manufactured. Note that the method for forming the liquid crystal layer is not limited to vacuum injection, and, for example, a One Drop Fill (ODF) method may be used.

実施例では、液晶として誘電率異方性Δεが正の大日本インキ化学工業製のもの(Δn=0.298)を用い、メルク社製のカイラル剤S−811を添加した。カイラル剤を母液晶に対し9.4wt%添加したときのカイラルピッチは、1μm程度であった。   In the examples, a product made by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. having a positive dielectric anisotropy Δε (Δn = 0.298) was used as the liquid crystal, and a chiral agent S-811 made by Merck was added. The chiral pitch when the chiral agent was added to the mother liquid crystal at 9.4 wt% was about 1 μm.

カイラル剤の添加濃度を変化させることにより、カイラルピッチは変えることができる(カイラル剤の添加濃度が低いほど、カイラルピッチは長くなる)。カイラルピッチが、1μm、2μm、3μm、5μm、及び9μmのサンプルを作製した。   The chiral pitch can be changed by changing the addition concentration of the chiral agent (the lower the addition concentration of the chiral agent, the longer the chiral pitch). Samples having a chiral pitch of 1 μm, 2 μm, 3 μm, 5 μm, and 9 μm were prepared.

実施例の液晶セルは、電圧オフ時、垂直配向膜とカイラル剤の作用により、ヘリカル軸が基板と平行なフォーカルコニック状態を示すと考えられる。電圧オフ時の光散乱の度合いは、カイラルピッチにより異なった。カイラルピッチ1μmでは、弱い散乱を示し、カイラルピッチ2μm以上では、ほとんど散乱が無くなった。   The liquid crystal cell of the example is considered to exhibit a focal conic state in which the helical axis is parallel to the substrate due to the action of the vertical alignment film and the chiral agent when the voltage is off. The degree of light scattering when the voltage was off varied depending on the chiral pitch. When the chiral pitch was 1 μm, weak scattering was exhibited, and when the chiral pitch was 2 μm or more, almost no scattering occurred.

フォーカルコニック状態のヘリカル軸は、基板と平行であるが、配向処理を実施しない垂直配向であるため、ヘリカル軸の方位は基板面内でランダムになる。従って、電圧オフ時、基板法線方向から見た液晶層の屈折率は、使用する液晶材料の常光線屈折率noと異常光線屈折率neの平均的な値(2no+ne)/3になる。   The helical axis in the focal conic state is parallel to the substrate, but is a vertical alignment that is not subjected to alignment treatment, and therefore the orientation of the helical axis is random in the substrate plane. Therefore, when the voltage is off, the refractive index of the liquid crystal layer viewed from the normal direction of the substrate is an average value (2no + ne) / 3 of the ordinary ray refractive index no and the extraordinary ray refractive index ne of the liquid crystal material used.

この値はごく微小領域では液晶分子はある方向を向いており偏光に対しそれぞれ異なった分子配向状態を持っているが、非常に短い周期(光の波長以下)でその分子方向が異なるため、液晶のダイレクタ(光の屈折率が出てくる大きさ)レベルではほぼ平均化され偏光による依存性はなくなる。   Although this value is very small, the liquid crystal molecules are oriented in a certain direction and have different molecular orientations with respect to the polarized light, but the liquid crystal molecules are different in a very short period (below the wavelength of light). At the level of the director (the magnitude with which the refractive index of light comes out), it is almost averaged and the dependence due to polarization disappears.

一方、充分な電圧の印加時は、正の誘電率異方性により、ほぼ全ての液晶分子が基板垂直方向に立ち上がったホメオトロピック状態を示すので、基板法線方向から見た液晶層の屈折率は、偏光に依存せずに常光線屈折率noとなる。ホメオトロピック状態は、透明な外観を示す。   On the other hand, when a sufficient voltage is applied, because of the positive dielectric anisotropy, almost all liquid crystal molecules show a homeotropic state in which they rise in the direction perpendicular to the substrate. Becomes an ordinary ray refractive index no without depending on polarization. The homeotropic state shows a transparent appearance.

実施例の液晶材料の常光線屈折率noは1.525であり、異常光線屈折率neは1.823である。従って、基板法線方向に進行する光の屈折率は、偏光方向に依らず、電圧オフ時のフォーカルコニック状態の液晶層で1.624となり、電圧オン時のホメオトロピック状態の液晶層で1.525となると見積もられる。また、実施例のプリズム材料の屈折率は、1.51である。   The ordinary light refractive index no of the liquid crystal material of the example is 1.525, and the extraordinary light refractive index ne is 1.823. Therefore, the refractive index of light traveling in the normal direction of the substrate is 1.624 in the liquid crystal layer in the focal conic state when the voltage is off, and 1. in the liquid crystal layer in the homeotropic state when the voltage is on, regardless of the polarization direction. 525 is estimated. The refractive index of the prism material of the example is 1.51.

実施例の液晶セルは、電圧オフ時には、液晶層とプリズム層の屈折率が異なるので、プリズムの作用で入射光を偏向する。一方、電圧オン時には、液晶層とプリズム層の屈折率がほぼ等しくなり、入射光をそのまま直進させる。   In the liquid crystal cell of the embodiment, when the voltage is off, the refractive index of the liquid crystal layer and that of the prism layer are different from each other. On the other hand, when the voltage is turned on, the refractive indexes of the liquid crystal layer and the prism layer become substantially equal, and the incident light travels straight.

図4は、第1実施例の光偏向液晶セル(カイラルピッチ2μmのサンプル)の電圧オン時の写真(上側)と電圧オフ時の写真(下側)を並べて示し、光偏向液晶セルを通して直線を観察している状態を示す。   FIG. 4 shows a photo when the voltage is turned on (upper side) and a photo when the voltage is turned off (lower side) of the light deflecting liquid crystal cell (sample having a chiral pitch of 2 μm) of the first embodiment, and a straight line is drawn through the light deflecting liquid crystal cell. Indicates the state of observation.

枠で示す領域内が、プリズムが形成され電圧オフ時にフォーカルコニック状態を示した部分である(以下の説明の評価対象部分)。この領域の上側は、プリズムが形成されていない部分であり、この領域の下側は、プリズムは形成されているが電圧オフ時にフォーカルコニック状態を示さずに散乱してしまった部分である(垂直配向による規制力が弱かったものと思われる)。   A region indicated by a frame is a portion where a prism is formed and a focal conic state is shown when the voltage is off (an evaluation target portion in the following description). The upper side of this region is a portion where no prism is formed, and the lower side of this region is a portion where a prism is formed but scattered without showing a focal conic state when the voltage is off (vertical). It seems that the regulation by the orientation was weak.)

図4の上側に示す電圧オン時は、光がそのまま直進透過するので、直線がそのまま観察されている。図4の下側に示す電圧オフ時は、プリズム形成部分で光が曲げられて像が横にずれている。電圧オフ時のフォーカルコニック状態に起因する像の散乱は見られるが、僅かである。   When the voltage shown in the upper side of FIG. 4 is on, light is transmitted straight as it is, and a straight line is observed as it is. When the voltage shown in the lower side of FIG. 4 is off, the light is bent at the prism forming portion and the image is shifted laterally. Scattering of the image due to the focal conic state when the voltage is off is seen but slight.

第1実施例の光偏向液晶セルを光源と組み合わせて、車両のヘッドライトを想定した応用例の照明装置を作製した。   The light deflecting liquid crystal cell of the first embodiment was combined with a light source to produce an illumination device of an application example assuming a vehicle headlight.

図5は、応用例の照明装置を概略的に示す横方向断面図(上面断面図)である。光源21として、高輝度放電(HID)ランプを用いた。光源21から放出された光線が、楕円型リフレクタ22で反射され、楕円型リフレクタ22の焦点に配置されたシェード23に集光される。シェード23を透過した光線が、レンズ24でほぼ平行光にされて、第1実施例の光偏向液晶セル25に入射する。光偏向液晶セル25を経て、照明装置から光が出射される。光偏向液晶セル25への印加電圧を、制御装置26が切り替える。   FIG. 5 is a lateral cross-sectional view (top cross-sectional view) schematically showing a lighting device of an application example. A high intensity discharge (HID) lamp was used as the light source 21. The light beam emitted from the light source 21 is reflected by the elliptical reflector 22 and condensed on the shade 23 disposed at the focal point of the elliptical reflector 22. The light beam that has passed through the shade 23 is converted into substantially parallel light by the lens 24 and enters the light deflection liquid crystal cell 25 of the first embodiment. Light is emitted from the illumination device via the light deflection liquid crystal cell 25. The control device 26 switches the voltage applied to the light deflection liquid crystal cell 25.

光偏向液晶セル25は、ヘッドライト正面から見て(地面に対して)プリズム長さ方向が水平になるようにセットされている。また、プリズム側が光源21側になるようにセットされている(なお、プリズム側を光源21と反対側にしても、光偏向作用は変わらない)。   The light deflection liquid crystal cell 25 is set so that the prism length direction is horizontal when viewed from the front of the headlight (with respect to the ground). Further, the prism side is set to be the light source 21 side (note that the light deflection action does not change even if the prism side is opposite to the light source 21).

カイラルピッチが1μm、2μm、3μm、5μm、及び9μmの光偏向液晶セルで、それぞれ応用例の照明装置を作製して、電圧オフ時及びオン時の投影像を観察した。まず、カイラルピッチ2μmのサンプルの観察結果について説明する。   Illumination devices of application examples were produced using light deflection liquid crystal cells with chiral pitches of 1 μm, 2 μm, 3 μm, 5 μm, and 9 μm, respectively, and the projected images when the voltage was off and on were observed. First, observation results of a sample with a chiral pitch of 2 μm will be described.

図6A及び図6Bは、それぞれ、電圧オン時と電圧オフ時の投影像を概略的に示すスケッチである。図6Aに示すように、充分な電圧(例えば20V)の電圧オン時に、きれいなカットオフパターンが投影されていた(ロービームに相当)。迷光など余分な方向には光は散っていなかった。   6A and 6B are sketches schematically showing projected images when the voltage is on and when the voltage is off, respectively. As shown in FIG. 6A, when a sufficient voltage (for example, 20 V) was turned on, a clean cut-off pattern was projected (corresponding to a low beam). Light was not scattered in extra directions such as stray light.

図6Bに示すように、電圧オフにより、投影像は、電圧オン時とほぼ同じ大きさのまま、上方向に3°程度移動した(ハイビームに相当)。電圧オン時のロービームと、電圧オフ時のハイビームとで、明るさは同程度であった。電圧オン時の投影像は残っておらず、光偏向液晶セルへの入射光はすべて偏向されていた。   As shown in FIG. 6B, when the voltage was turned off, the projected image moved approximately 3 ° upward (corresponding to a high beam) while maintaining almost the same size as when the voltage was turned on. The brightness was comparable between the low beam when the voltage was on and the high beam when the voltage was off. No projected image remained when the voltage was turned on, and all the incident light to the light deflecting liquid crystal cell was deflected.

なお、実施例の光偏向液晶セルでは、偏向角度が3°程度となったが、プリズム斜面の角度(底角)を変化させることにより、偏向角度を変えることができる。   In the optical deflection liquid crystal cell of the embodiment, the deflection angle is about 3 °, but the deflection angle can be changed by changing the angle of the prism slope (base angle).

なお、電圧を徐々に上げていく場合、投影像は、電圧オフ時の像から大きさを変えず連続的に移動するのではなく、途中は上下にやや広がり、充分高い電圧(20V以上・交流150Hz)で、ようやく同じ大きさでくっきり結像した。これは、基板上の透明電極と液晶層との間にプリズム層が介在しており、プリズム層は場所により厚さが異なるため、液晶層に実質的にかかる電圧(分圧)が場所により異なり、面内で屈折率の分布が生じるためと考えられる。   When the voltage is gradually increased, the projected image does not move continuously without changing the size from the image when the voltage is turned off, but spreads up and down slightly in the middle, and a sufficiently high voltage (20 V or higher / AC 150Hz), and finally the image was clearly imaged with the same size. This is because the prism layer is interposed between the transparent electrode on the substrate and the liquid crystal layer, and the prism layer has a different thickness depending on the location, so the voltage (partial pressure) applied to the liquid crystal layer varies depending on the location. This is probably because a refractive index distribution occurs in the plane.

なお、光偏向液晶セルをセットする向きを上下反転して、電圧オン時に相対的にハイビーム、電圧オフ時に相対的にロービームとすることもできる。なお、フェールセーフの観点からは、電圧オフ状態でロービームが保たれる方が望ましい。   Note that the direction in which the light deflecting liquid crystal cell is set can be inverted so that the beam is relatively high when the voltage is on and relatively low when the voltage is off. From the viewpoint of fail-safe, it is desirable that the low beam is maintained in the voltage off state.

一方、オフ時の散乱の影響を避けて、カットオフパターンをきれいに出すという観点からは、電圧オンでロービームとする方が望ましい。   On the other hand, from the viewpoint of avoiding the influence of scattering at the time of turning off and producing a clear cut-off pattern, it is desirable to use a low beam when the voltage is on.

次に、投影状態のカイラルピッチによる差について説明する。カイラルピッチ1μmでは、電圧オフ状態で弱い散乱が見られた。電圧印加により、投影像が移動するとともに、液晶セルの透明性が上がり、投影像のカットオフパターンが明瞭になった。   Next, the difference due to the chiral pitch in the projected state will be described. At a chiral pitch of 1 μm, weak scattering was seen in the voltage off state. By applying voltage, the projected image moved, the transparency of the liquid crystal cell increased, and the cut-off pattern of the projected image became clear.

カイラルピッチが3μm以上になると、電圧オフの状態で、部分的に投影像が曲げられていない部分が見られるようになった。このような部分は、カイラルピッチ3μmではごく一部であったが、カイラルピッチが5μmになると増え、カイラルピッチ9μmでは、曲げられていない部分の面積の方が大きくなった。これらの液晶セルにおいて、像が曲げられている部分は、電圧印加により移動したが、像が曲げられていなかった部分は、電圧を印加しても移動しなかった。   When the chiral pitch was 3 μm or more, a portion where the projected image was not partially bent was seen with the voltage off. Such a portion was very small when the chiral pitch was 3 μm, but increased when the chiral pitch was 5 μm, and when the chiral pitch was 9 μm, the area of the unbent portion was larger. In these liquid crystal cells, the portion where the image was bent moved by voltage application, but the portion where the image was not bent did not move even when voltage was applied.

カイラルピッチが長いほど、つまり、カイラル剤の濃度が低いほど、像が曲げられない部分が広くなることから、この現象について、以下のような原因が推測される。カイラルピッチが長くなるほど、カイラル剤が液晶分子の向きを捩る力が不足して、電圧オフ状態においても、液晶分子が垂直配向しやすくなると考えられる。つまり、像が曲げられていない部分は、電圧オフ時において既にホメオトロピック状態になっており、電圧を印加しても配向状態を変えないと推測される。   The longer the chiral pitch, that is, the lower the concentration of the chiral agent, the wider the portion where the image is not bent. Therefore, the following causes of this phenomenon are presumed. It is considered that the longer the chiral pitch, the less the force with which the chiral agent twists the direction of the liquid crystal molecules, and the easier the liquid crystal molecules are vertically aligned even in the voltage off state. That is, the portion where the image is not bent is already in a homeotropic state when the voltage is turned off, and it is presumed that the alignment state does not change even when a voltage is applied.

電圧オフ状態での良好な光偏向という観点からは、カイラルピッチは、1μm及び2μmが良く、3μmも可であり、5μmは部分不良を示し、9μmは不可であり、カイラルピッチが長いほど、電圧オフ時の光偏向が難しいといえる。一方、電圧オフ状態での散乱という観点からは、カイラルピッチが1μmで弱い散乱が生じ、2μm以上でほぼ散乱は無くなり、カイラルピッチが短いほど、散乱が大きいといえる。従って、これらの結果をまとめると、カイラルピッチは1μm以上5μm未満が好ましく、1μm以上3μm以下がさらに好ましいといえる。   From the viewpoint of good light deflection in the voltage off state, the chiral pitch is preferably 1 μm and 2 μm, 3 μm is acceptable, 5 μm indicates a partial failure, 9 μm is impossible, and the longer the chiral pitch, It can be said that it is difficult to deflect light when off. On the other hand, from the viewpoint of scattering in a voltage-off state, weak scattering occurs when the chiral pitch is 1 μm, almost no scattering occurs at 2 μm or more, and it can be said that the shorter the chiral pitch, the larger the scattering. Therefore, when these results are put together, it can be said that the chiral pitch is preferably 1 μm or more and less than 5 μm, more preferably 1 μm or more and 3 μm or less.

以上説明したように、液晶セル内部にプリズム層を設け、フォーカルコニック状態とホメオトロピック状態とを電圧で切り替えることにより、液晶層の屈折率を変化させて、光の進行方向を変える光偏向セルとして機能させられる。フォーカルコニック状態とホメオトロピック状態を用いることにより、基板法線方向からの入射光の偏光方向に依らずに、光偏向を行うことができる。   As described above, the prism layer is provided inside the liquid crystal cell, and the refractive index of the liquid crystal layer is changed by changing the refractive index of the liquid crystal layer by switching the focal conic state and the homeotropic state with a voltage. Made to work. By using the focal conic state and the homeotropic state, light deflection can be performed regardless of the polarization direction of incident light from the normal direction of the substrate.

なお、応用例として、上下方向に光偏向を行う照明装置について説明したが、プリズム長さ方向を変えることにより、偏向方向を変えることができる。例えば、左右方向の光偏向を行いたい場合は、光偏向液晶セルを、ヘッドライト正面から見て(地面に対して)プリズム長さ方向が垂直になるようにセットすればよい。   As an application example, an illumination device that deflects light in the vertical direction has been described. However, the deflection direction can be changed by changing the prism length direction. For example, when light deflection in the left-right direction is desired, the light deflection liquid crystal cell may be set so that the prism length direction is perpendicular to the headlight (when viewed from the ground).

なお、実施例の光偏向液晶セルは、車両のヘッドライト以外にも、各種照明装置に応用することができる。光源として、HID以外にも、発光ダイオード(LED)、電界放出型(FE)光源、蛍光灯等を用いることができる。   In addition, the light deflection liquid crystal cell of an Example can be applied to various illuminating devices besides the vehicle headlight. In addition to HID, a light emitting diode (LED), a field emission (FE) light source, a fluorescent lamp, or the like can be used as the light source.

次に、第2実施例の光偏向液晶セルについて説明する。   Next, the light deflection liquid crystal cell of the second embodiment will be described.

図7は 第2実施例の光偏向液晶セルを概略的に示す厚さ方向断面図である。以下、第1実施例との違いについて説明する。第2実施例では、プリズム層3側のガラス基板31に、透明電極が形成されておらず、プリズム層3がガラス基板31上に直接形成される。プリズム層3は、第1実施例と同様にして形成できる。   FIG. 7 is a cross-sectional view in the thickness direction schematically showing the light deflection liquid crystal cell of the second embodiment. Hereinafter, differences from the first embodiment will be described. In the second embodiment, the transparent electrode is not formed on the glass substrate 31 on the prism layer 3 side, and the prism layer 3 is formed directly on the glass substrate 31. The prism layer 3 can be formed in the same manner as in the first embodiment.

第2実施例では、プリズム層3の(液晶層側)上方に、透明電極32を形成する。まず、プリズム層3を形成したガラス基板31を、第1実施例と同様にして洗浄する。透明電極32(ITO膜)の密着性を向上させるため、プリズム層3上にSiO膜33を形成することができる。SiO膜33は、例えば、基板温度を80℃とし、スパッタリング(交流放電)で、厚さ50nm形成する。 In the second embodiment, the transparent electrode 32 is formed above the prism layer 3 (on the liquid crystal layer side). First, the glass substrate 31 on which the prism layer 3 is formed is cleaned in the same manner as in the first embodiment. In order to improve the adhesion of the transparent electrode 32 (ITO film), a SiO 2 film 33 can be formed on the prism layer 3. For example, the SiO 2 film 33 is formed to a thickness of 50 nm by sputtering (AC discharge) at a substrate temperature of 80 ° C.

次に、SiO膜33上に、例えば、基板温度を100℃とし、スパッタリング(交流放電)で、厚さ100nmのITO膜を形成して、透明電極32とする。SUSマスク、高温耐熱テープ等で不要部分をマスクすることにより、所望の部分に選択的にITO膜を成膜することができる。なお、成膜方法として、スパッタリングの他に、真空蒸着、イオンビーム法、化学気相堆積(CVD)等を用いることもできる。 Next, an ITO film having a thickness of 100 nm is formed on the SiO 2 film 33 by sputtering (AC discharge) at a substrate temperature of 100 ° C., for example, to form the transparent electrode 32. By masking unnecessary portions with a SUS mask, high-temperature heat-resistant tape or the like, an ITO film can be selectively formed on a desired portion. In addition to sputtering, vacuum deposition, ion beam method, chemical vapor deposition (CVD), or the like can be used as a film forming method.

次に、透明電極32を形成したガラス基板31を、洗浄機で洗浄する。例えば、アルカリ洗剤を用いたブラシ洗浄、純水洗浄、エアーブロー、UV照射、及び赤外(IR)乾燥を順に行う。洗浄方法はこれに限らず、高圧スプレー洗浄やプラズマ洗浄等を行うこともできる。   Next, the glass substrate 31 on which the transparent electrode 32 is formed is washed with a washing machine. For example, brush cleaning using an alkaline detergent, pure water cleaning, air blowing, UV irradiation, and infrared (IR) drying are sequentially performed. The cleaning method is not limited to this, and high-pressure spray cleaning, plasma cleaning, or the like can also be performed.

次に、透明電極32上に、ポリイミド等により垂直配向膜4を形成する。例えば、日産化学製のSE−4811をフレキソ印刷で厚さ80nm形成して、180℃で1.5時間焼成を行う。なお、垂直配向膜4の形成方法として、インクジェット、スピンコート、スリットコート、スリットアンドスピンコート等を用いることもできる。   Next, the vertical alignment film 4 is formed on the transparent electrode 32 using polyimide or the like. For example, Nissan Chemical Industries SE-4811 is formed by flexographic printing to a thickness of 80 nm and baked at 180 ° C. for 1.5 hours. In addition, as a method for forming the vertical alignment film 4, ink jet, spin coating, slit coating, slit and spin coating, or the like can be used.

第1実施例と同様に、対向側のガラス基板11は、透明電極12が形成されたものであり、透明電極12上に垂直配向膜13を形成する。そして、第1実施例と同様に、両基板11、31を重ねて空セルを形成し、液晶層15を形成して、第2実施例の光偏向液晶セルを作製する。   Similar to the first embodiment, the glass substrate 11 on the opposite side has a transparent electrode 12 formed thereon, and a vertical alignment film 13 is formed on the transparent electrode 12. Then, similarly to the first embodiment, the substrates 11 and 31 are overlapped to form an empty cell, and the liquid crystal layer 15 is formed to produce the light deflection liquid crystal cell of the second embodiment.

液晶層15は、第1実施例と同様なものであり、電圧によりフォーカルコニック状態とホメオトロピック状態とが切り替わる。プリズム側透明電極を、プリズム(液晶層側)上方に形成した第2実施例の光偏向液晶セルでも、第1実施例と同様に、光偏向を行うことができる。   The liquid crystal layer 15 is the same as that of the first embodiment, and the focal conic state and the homeotropic state are switched depending on the voltage. In the light deflection liquid crystal cell of the second embodiment in which the prism side transparent electrode is formed above the prism (liquid crystal layer side), light deflection can be performed as in the first embodiment.

第2実施例では、プリズム側透明電極と液晶層との間にプリズム層が介在しない。これにより、プリズム層厚さの面内分布に起因した、屈折率の面内分布が低減すると考えられ、電圧を連続的に変えたとき、投影像が形状を変えずに移動することが期待される。また、投影像移動に要する駆動電圧の低下が期待される。   In the second embodiment, no prism layer is interposed between the prism-side transparent electrode and the liquid crystal layer. This is considered to reduce the in-plane distribution of the refractive index due to the in-plane distribution of the prism layer thickness, and when the voltage is continuously changed, the projected image is expected to move without changing the shape. The In addition, a decrease in drive voltage required for moving the projected image is expected.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

1、11、31 ガラス基板
2、12、32 透明電極
3 プリズム層
3a プリズム
3b ベース層
4、13 垂直配向膜
14 ギャップコントロール剤
15 液晶層
16 メインシール剤
33 SiO
21 HIDランプ
22 楕円型リフレクタ
23 シェード
24 レンズ
25 光偏向液晶セル
26 制御装置
1, 11, 31 Glass substrate 2, 12, 32 Transparent electrode 3 Prism layer 3a Prism 3b Base layer 4, 13 Vertical alignment film 14 Gap control agent 15 Liquid crystal layer 16 Main sealant 33 SiO 2 film 21 HID lamp 22 Elliptical reflector 23 Shade 24 Lens 25 Light deflection liquid crystal cell 26 Control device

Claims (5)

誘電率異方性が正で、カイラル剤が添加された液晶層と、
相互に対向配置され、前記液晶層を挟持する第1及び第2の透明基板と、
前記第1及び第2の透明基板の、前記液晶層側上方にそれぞれ形成され、前記液晶層に電圧を印加する第1及び第2の透明電極と、
前記第1及び第2の透明基板の一方の、前記液晶層側上方に形成されたプリズム層と、
前記第1及び第2の透明基板の前記液晶層側上方に形成された垂直配向膜と
を有し、
前記液晶層は、電圧オフによりフォーカルコニック状態を示し、電圧オンによりホメオトロピック状態を示す光偏向装置。
A liquid crystal layer having a positive dielectric anisotropy and a chiral agent added thereto;
First and second transparent substrates disposed opposite to each other and sandwiching the liquid crystal layer;
First and second transparent electrodes formed on the liquid crystal layer side above the first and second transparent substrates, respectively, for applying a voltage to the liquid crystal layer;
One of the first and second transparent substrates, a prism layer formed above the liquid crystal layer side;
And a vertical alignment film formed before Symbol liquid crystal layer side above the first and second transparent substrates,
The liquid crystal layer, shows a focal conic state by voltage off, the optical deflection apparatus showing the homeotropic state by the voltage on.
前記プリズム層は、アクリル系UV硬化性樹脂を材料とする請求項に記載の光偏向装置。 The light deflection apparatus according to claim 1 , wherein the prism layer is made of an acrylic UV curable resin. 前記液晶層におけるカイラルピッチが、1μm以上5μm未満の範囲である請求項1または2に記載の光偏向装置。 Chiral pitch in the liquid crystal layer is, the optical deflecting device of claim 1 or 2 in the range of less than 1 [mu] m 5 [mu] m. 前記第1及び第2の透明電極のうち、前記プリズム層側の電極は、前記プリズム層の前記液晶層側上方に形成され、前記プリズム層側基板の前記垂直配向膜は、前記プリズム層の前記液晶層側上方に形成された電極上に形成されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の光偏向装置。 Of the first and second transparent electrodes, the prism layer side electrode is formed above the prism layer on the liquid crystal layer side , and the prism layer side substrate has the vertical alignment film on the prism layer. The light deflection apparatus according to claim 1 , wherein the light deflection apparatus is formed on an electrode formed above the liquid crystal layer . さらに、前記液晶層に光を入射させる光源を有する請求項1〜のいずれか1項に記載の光偏向装置。
Further, the optical deflecting device according to any one of claims 1 to 4 having a light source to be incident light to the liquid crystal layer.
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