JP5388740B2 - Linear motor and stage device - Google Patents

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Description

本発明は、光学金型加工機や形状計測装置等の送り機構や、半導体露光装置等のXYステージあるいは精密位置決め装置に用いられるリニアモータ及びステージ装置に関するものである。   The present invention relates to a linear motor and a stage device used in a feed mechanism such as an optical die processing machine and a shape measuring device, an XY stage such as a semiconductor exposure device, or a precision positioning device.

光学金型加工機や形状計測装置あるいは半導体製造用の露光装置等においては、被加工物や被測定物等を高精度でしかも迅速に位置決めすることが要求される。そこで、位置決め精度と応答性にすぐれたリニアモータを駆動部とし、空気静圧軸受をガイドとするXYステージ等の開発が進んでいる。   In an optical die processing machine, a shape measuring apparatus, or an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor, it is required to position a workpiece or a measured object with high accuracy and speed. Therefore, development of an XY stage and the like using a linear motor excellent in positioning accuracy and responsiveness as a drive unit and an aerostatic bearing as a guide is progressing.

図6(a)は、一従来例によるXYステージ装置を示すもので、XY移動体103は、空気静圧軸受104を介してベース面101上をXY方向に移動できる構成になっている。Yリニアモータ105は、Xガイド106をY方向に移動させるための推進力を発生させる。これにより、箱形空気静圧軸受107を介して連結されているXY移動体103もY方向に移動する。X方向には、Xリニアモータ108の推進力により、直接XY移動体103をX方向に駆動している。   FIG. 6A shows an XY stage apparatus according to a conventional example, and the XY moving body 103 is configured to be able to move on the base surface 101 in the XY directions via an aerostatic bearing 104. The Y linear motor 105 generates a driving force for moving the X guide 106 in the Y direction. Thereby, the XY moving body 103 connected through the box-type static air bearing 107 also moves in the Y direction. In the X direction, the XY moving body 103 is directly driven in the X direction by the propulsive force of the X linear motor 108.

金型加工等における加工面の表面粗さを向上させるには、接触加工により発生する装置振動を抑えなければならない。このため、ステージ装置を制御しているリニアモータのサーボゲインを向上させ、外乱抑圧特性を向上させる必要がある。   In order to improve the surface roughness of the processing surface in die processing or the like, it is necessary to suppress the apparatus vibration generated by the contact processing. For this reason, it is necessary to improve the servo gain of the linear motor that controls the stage device and improve the disturbance suppression characteristics.

しかしながら、サーボゲインが向上するに従って、リニアモータの推進力が剛体モードを励振するようになる。特に、剛体モードの中でもピッチングモードが制御困難であり、リニアモータのサーボ特性におけるゲイン交差周波数はピッチングの周波数以下となり、これ以上サーボゲインを上げられなくなる。このため、外乱抑圧特性も向上できなくなる。   However, as the servo gain is improved, the propulsive force of the linear motor excites the rigid body mode. In particular, the pitching mode is difficult to control even in the rigid body mode, and the gain crossover frequency in the servo characteristics of the linear motor is lower than the pitching frequency, and the servo gain cannot be increased any more. For this reason, disturbance suppression characteristics cannot be improved.

そこで、図6(b)に示すように、ステージの装置振動を取り除く振動減衰機構を取り付けた減衰機構付ステージが提案されている(特許文献1参照)。これは、コイル201とヨーク202からなる可動子と、磁石203とヨーク204からなる固定子とを備えたリニアモータによって駆動されるステージ上板210に、絶縁体の移動プレート211を取り付けて、容器212の中に挿入された減衰機構を有する。容器212の内側両サイドの側壁には、陽極213と陰極214を取り付け、その中に電気粘性流体215を入れている。移動プレート211は、陽極213及び陰極214のそれぞれと0.5mm以下の僅かな間隔を隔てた状態で移動する。この構成により、容器212と移動プレート211の間に減衰力を発生させ、ステージ振動を取り除くことができる。   Therefore, as shown in FIG. 6B, a stage with a damping mechanism has been proposed in which a vibration damping mechanism for removing the apparatus vibration of the stage is attached (see Patent Document 1). This is because an insulator moving plate 211 is attached to a stage upper plate 210 that is driven by a linear motor having a mover composed of a coil 201 and a yoke 202 and a stator composed of a magnet 203 and a yoke 204. A damping mechanism inserted in 212; An anode 213 and a cathode 214 are attached to the side walls on both inner sides of the container 212, and an electrorheological fluid 215 is placed therein. The moving plate 211 moves with a slight gap of 0.5 mm or less from each of the anode 213 and the cathode 214. With this configuration, it is possible to generate a damping force between the container 212 and the moving plate 211 and remove the stage vibration.

特開2001−311789号公報JP 2001-311789 A

しかしながら従来技術では、ステージ装置に減衰機構を別途付加しているため、装置が大型化し重量が増大する。これにより、ステージ装置の剛体モード周波数が低下しサーボゲインを下げざるを得なくなり、サーボによる外乱抑圧特性が低下する。   However, in the prior art, since a damping mechanism is separately added to the stage apparatus, the apparatus becomes larger and the weight increases. As a result, the rigid body mode frequency of the stage device is lowered and the servo gain must be lowered, and the disturbance suppression characteristic by the servo is lowered.

また、減衰機構による減衰力ベクトルとリニアモータの推進力ベクトルの延長線上にステージ重心が存在しないため、ステージ駆動時にピッチング等ステージ剛体モードを励振してしまう。これにより、さらにサーボゲインが低下し、外乱抑圧特性が悪化する。   Further, since the center of gravity of the stage does not exist on the extension line of the damping force vector by the damping mechanism and the propulsive force vector of the linear motor, the stage rigid body mode such as pitching is excited when the stage is driven. As a result, the servo gain is further reduced, and the disturbance suppression characteristic is deteriorated.

本発明は、装置の大型化を解消するとともに外乱抑圧特性の低下を回避できる減衰機構を備えたリニアモータ及びステージ装置を提供することを目的とするものである。   It is an object of the present invention to provide a linear motor and a stage apparatus having a damping mechanism that can eliminate the increase in size of the apparatus and avoid a decrease in disturbance suppression characteristics.

上記目的を達成するため、本発明のステージ装置は、ベースと、前記ベースに固定された、コイルを備えた固定子と、前記ベース上を移動可能である、前記コイルに対向する磁石を備えた可動子と、前記コイルに電流を供給し、前記可動子に推進力を発生させる電流供給手段と、前記可動子の、前記ベース側の端部において、前記ベース又は前記固定子と前記可動子との間に形成された間隙に粘性流体を保持する第1の減衰機構と、前記可動子の、前記ベース側と反対側の端部において、前記可動子と前記固定子との間に形成された間隙に粘性流体を保持する第2の減衰機構と、を有し、前記第1及び前記第2の減衰機構によって、前記可動子の両端部にそれぞれ減衰力を発生させることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a stage apparatus of the present invention includes a base, a stator that is fixed to the base and includes a coil, and a magnet that is movable on the base and faces the coil. A mover, current supply means for supplying a current to the coil and generating a propulsive force to the mover, and at the end of the mover on the base side, the base or the stator and the mover, A first damping mechanism for holding a viscous fluid in a gap formed between the movable element and an end portion of the movable element opposite to the base side, and formed between the movable element and the stator. And a second damping mechanism for holding the viscous fluid in the gap, and the first and second damping mechanisms respectively generate damping forces at both ends of the mover.

リニアモータを構成する可動子と固定子間と、可動子とベース間等に粘性流体を挟み込むことで減衰機構を構成するものであるため、装置の大型化を解消できる。   Since the damping mechanism is configured by sandwiching the viscous fluid between the mover and the stator constituting the linear motor and between the mover and the base, the increase in size of the apparatus can be eliminated.

また、2つの減衰機構の減衰力の合力とリニアモータの推進力の作用点を一致させて、ステージ重心に合わせることで、ピッチング等の外乱抑圧特性を向上させることができる。   Also, by matching the resultant force of the damping force of the two damping mechanisms and the point of action of the propulsive force of the linear motor to match the center of gravity of the stage, it is possible to improve disturbance suppression characteristics such as pitching.

実施例1によるステージ装置を示すもので、(a)はその平面図、(b)は(a)のAーA線から見た断面図である。The stage apparatus by Example 1 is shown, (a) is the top view, (b) is sectional drawing seen from the AA line of (a). 図1(a)に示す装置を矢印Bの方向から見た断面図である。It is sectional drawing which looked at the apparatus shown to Fig.1 (a) from the direction of arrow B. FIG. 実施例1による振動低減効果を示すグラフである。6 is a graph showing a vibration reduction effect according to Example 1. サーボゲイン向上効果を示すグラフである。It is a graph which shows the servo gain improvement effect. 実施例2によるステージ装置を示すもので、(a)はリニアモータの内部を示す断面図、(b)は側面図である。The stage apparatus by Example 2 is shown, (a) is sectional drawing which shows the inside of a linear motor, (b) is a side view. 従来技術を説明する図である。It is a figure explaining a prior art.

図1及び図2は実施例1によるステージ装置に係るものである。図1(a)に示すように、本実施例によるステージ装置は、ベース1にガイド2が固定され、ステージ3は、エアベアリング4を介してベース上をガイド2に倣い移動可能である。ステージ3を駆動するためにリニアモータ5が2つ取り付けられている。図1(b)に断面で示すように、各リニアモータ5は、ヨーク6に固定された磁石7を有する可動子と、ベース1に固定されたコイル固定部材8に保持されたコイル9を有する固定子と、を備える。電流供給手段からコイル9に供給される電流を、コイル9に対向する磁石7の磁束に交差させることで、ステージ3の移動方向にローレンツ力を発生し、ステージ3を駆動する。   1 and 2 relate to a stage apparatus according to the first embodiment. As shown in FIG. 1A, in the stage apparatus according to the present embodiment, a guide 2 is fixed to a base 1, and the stage 3 can move along the guide 2 on the base via an air bearing 4. Two linear motors 5 are attached to drive the stage 3. As shown in cross section in FIG. 1B, each linear motor 5 has a mover having a magnet 7 fixed to a yoke 6 and a coil 9 held by a coil fixing member 8 fixed to the base 1. And a stator. The Lorentz force is generated in the moving direction of the stage 3 by driving the current supplied to the coil 9 from the current supply means with the magnetic flux of the magnet 7 facing the coil 9 to drive the stage 3.

各リニアモータ5には、可動子の上下両端部に、それぞれ減衰機構が取り付けられている。1つめは、可動子の、ベース側と反対側の端部を構成する上部ヨーク10の下面と、固定子を構成するコイル固定部材8の上に取り付けられた保持部材11との間に形成された数10μmの間隙に粘性流体を保持した減衰機構(第2の減衰機構)である。図2に示すように、保持部材11はコイル固定部材8のなかでも、磁束が実質的に通過しない領域8aに配置されている。   Each linear motor 5 is provided with a damping mechanism at each of the upper and lower ends of the mover. The first is formed between the lower surface of the upper yoke 10 constituting the end of the mover opposite to the base side and the holding member 11 attached on the coil fixing member 8 constituting the stator. This is a damping mechanism (second damping mechanism) in which a viscous fluid is held in a gap of several tens of μm. As shown in FIG. 2, the holding member 11 is disposed in the region 8 a where the magnetic flux does not substantially pass among the coil fixing members 8.

2つめは、リニアモータ5の可動子のベース側の端部を構成するヨーク6の下面に取り付けられた減衰用プレート12と、ベース1と一体である保持部材13のと間に数10μmの間隙を設け、粘性流体を保持した減衰機構(第1の減衰機構)である。粘性流体には1000CS程度の動粘度を有するシリコンオイルを用いている。こうすることで、ステージ3が接触加工による加工力を受けても、振動を2つの減衰機構で吸収することができる。   The second is a gap of several tens of μm between the damping plate 12 attached to the lower surface of the yoke 6 that constitutes the base side end of the mover of the linear motor 5 and the holding member 13 that is integral with the base 1. Is a damping mechanism (first damping mechanism) that holds viscous fluid. As the viscous fluid, silicon oil having a kinematic viscosity of about 1000 CS is used. By doing so, even if the stage 3 receives a processing force due to contact processing, the vibration can be absorbed by the two damping mechanisms.

なお、保持部材11はコイル固定部材8と、保持部材13はベース1と、また、減衰用プレート12はヨーク6とそれぞれ一体化することで、さらなる省スペース化、軽量化が可能であり、軽量化により、減衰機構の追加による重量増は実質的に無くなる。   The holding member 11 is integrated with the coil fixing member 8, the holding member 13 is integrated with the base 1, and the damping plate 12 is integrated with the yoke 6, so that further space saving and weight reduction are possible. Therefore, the weight increase due to the addition of the damping mechanism is substantially eliminated.

上記の減衰機構による効果を図3を用いて説明する。これはステージ振動を計測したもので、図3(a)に示すように、減衰機構が無い場合は、ステージ振動は4.5nmP−Pであるが、(b)に示すように、減衰機構を追加することでステージ振動は2.3nmP−Pに低減されている。   The effect of the above damping mechanism will be described with reference to FIG. This is a measurement of stage vibration. As shown in FIG. 3A, when there is no damping mechanism, the stage vibration is 4.5 nm PP, but as shown in FIG. In addition, the stage vibration is reduced to 2.3 nm PP.

図1(a)に示すように、ステージ3の重心Gは中心部にあり、(b)に示すように、ステージ重心Gと同じ高さにローレンツ力による推進力Raが発生するように各リニアモータ5を取り付けている。このため、2つのリニアモータ5による推進力Raの合力Rの作用点とステージ重心Gを一致させることができる。   As shown in FIG. 1 (a), the center of gravity G of the stage 3 is at the center, and as shown in FIG. 1 (b), the linear force is generated so that the propulsive force Ra by Lorentz force is generated at the same height as the stage center of gravity G. A motor 5 is attached. Therefore, the point of action of the resultant force R of the propulsive force Ra by the two linear motors 5 and the stage center of gravity G can be matched.

各リニアモータ5には2つの減衰機構が取り付けられている。上方の減衰機構で発生される減衰力をDa、下方の減衰機構で発生される減衰力をDbとし、それぞれのステージ重心Gからの高さをL1、L2とすると、減衰力Da、Db及びL1、L2は以下の関係式を満たす。
L1×Da=L2×Db
Each linear motor 5 is provided with two damping mechanisms. If the damping force generated by the upper damping mechanism is Da, the damping force generated by the lower damping mechanism is Db, and the height from the center of gravity G of each stage is L1 and L2, the damping forces Da, Db and L1 , L2 satisfies the following relational expression.
L1 × Da = L2 × Db

これにより、図2に示すように、減衰力Daと減衰力Dbの合力の高さをステージ重心Gの高さに合わせることができる。また、2つのリニアモータ5にある4つの減衰機構で発生する4つの減衰力の合力Dの作用点と、ステージ重心Gと、各リニアモータ5の推進力Raの合力Rの作用点とを一致させることができる。その結果、サーボゲイン向上の妨げとなるピッチングなどの剛体モードの励振を防ぐことができ、サーボゲインの向上が可能になり、ステージ3の外乱抑圧特性を向上できる。   Thereby, as shown in FIG. 2, the height of the resultant force of the damping force Da and the damping force Db can be matched with the height of the stage gravity center G. Also, the point of action of the resultant force D of the four damping forces generated by the four damping mechanisms in the two linear motors 5, the stage center of gravity G, and the point of action of the resultant force R of the propulsive force Ra of each linear motor 5 coincide. Can be made. As a result, excitation of a rigid body mode such as pitching that hinders the servo gain improvement can be prevented, the servo gain can be improved, and the disturbance suppression characteristics of the stage 3 can be improved.

図4は、上記の関係式に従って減衰機構を追加した場合のサーボ特性(開ループ特性)を示すグラフである。減衰機構なしの場合と比較して減衰機構ありの場合の方がゲインが高いことが分かる。数値としては、ゲイン交差周波数(ゲインが0dBとなる周波数)が減衰機構なしの場合では100Hzであるが、減衰機構を適切に追加することで150Hzに増大している。これにより最低動剛性は2倍程度増大する。   FIG. 4 is a graph showing servo characteristics (open loop characteristics) when a damping mechanism is added according to the above relational expression. It can be seen that the gain is higher in the case with the damping mechanism than in the case without the damping mechanism. As a numerical value, the gain crossover frequency (frequency at which the gain becomes 0 dB) is 100 Hz in the case where there is no attenuation mechanism, but increases to 150 Hz by appropriately adding the attenuation mechanism. As a result, the minimum dynamic rigidity is increased about twice.

例えば、光学素子金型加工時の被加工物の振動が半分になるので、従来では表面粗さPV20nm程度であったものが、その半分の10nmに低減できる。   For example, since the vibration of the workpiece at the time of processing the optical element mold is halved, the conventional surface roughness PV of about 20 nm can be reduced to half that of 10 nm.

本実施例によれば、光学素子金型加工装置、形状計測装置、半導体露光装置等のXYステージあるいは精密位置決め装置において、減衰機構による装置の大型化及び外乱抑圧特性の低下を解消することができる。   According to the present embodiment, in an XY stage or precision positioning device such as an optical element mold processing device, a shape measuring device, a semiconductor exposure device, etc., it is possible to eliminate the increase in size of the device due to the attenuation mechanism and the decrease in disturbance suppression characteristics. .

図5は実施例2によるステージ装置に係るものである。本実施例は、コイル固定部材8の上面と、可動子の上部ヨーク10の間の間隙に粘性流体を挟んだ第2の減衰機構と、コイル固定部材8の下面と可動子のヨーク6の底壁内面との間の間隙に粘性流体を挟んだ第1の減衰機構を用いた点のみが実施例1と異なる。実施例1の保持部材11、13は省略されている。固定子のコイル固定部材8の上下の、磁束が実質的に通過しない領域8aに粘性流体を塗布(保持)し、これらの面と、可動子の上部ヨーク10及びヨーク6の底面間に数10μmの間隙を保つことで減衰機構を構成している。こうすることで、ステージが接触加工による加工力を受けても振動を2つの減衰機構で吸収することができる。   FIG. 5 relates to a stage apparatus according to the second embodiment. In the present embodiment, the second damping mechanism in which a viscous fluid is sandwiched between the upper surface of the coil fixing member 8 and the upper yoke 10 of the mover, the lower surface of the coil fixing member 8 and the bottom of the yoke 6 of the mover. The only difference from the first embodiment is the use of a first damping mechanism in which a viscous fluid is sandwiched in the gap between the wall inner surface. The holding members 11 and 13 of Example 1 are omitted. Viscous fluid is applied (held) to the upper and lower regions 8a of the stator coil fixing member 8 where the magnetic flux does not substantially pass. The damping mechanism is configured by maintaining the gap. By doing so, vibration can be absorbed by the two damping mechanisms even when the stage receives a processing force due to contact processing.

各リニアモータ5は、ヨーク6に取り付けられた磁石7による磁束と、コイル固定部材8に固定されたコイル9に流れる電流が交差することで推進力Raを発生する。この推進力Raにより、ヨーク6、上部ヨーク10、磁石7からなる可動子は、コイル固定部材8に沿って直進する。このとき上下の減衰機構では減衰力Da、Dbが発生する。減衰力Da、Dbの作用点の距離L1、L2と、減衰力Da、Dbの関係は実施例1と同様である。   Each linear motor 5 generates a propulsive force Ra when the magnetic flux generated by the magnet 7 attached to the yoke 6 intersects with the current flowing through the coil 9 fixed to the coil fixing member 8. Due to this propulsive force Ra, the mover comprising the yoke 6, the upper yoke 10 and the magnet 7 advances straight along the coil fixing member 8. At this time, damping forces Da and Db are generated in the upper and lower damping mechanisms. The relationship between the distances L1 and L2 of the points of action of the damping forces Da and Db and the damping forces Da and Db is the same as in the first embodiment.

実施例1に比べて、重量を増やすことなく微小振動の除振が可能であり、さらに、ベース1に保持部材13を取り付ける必要がないため、より一層省スペースで設計自由度を高めることができる。   Compared to the first embodiment, it is possible to remove minute vibrations without increasing the weight, and since it is not necessary to attach the holding member 13 to the base 1, it is possible to further increase the degree of freedom in design with further space saving. .

リニアモータと空気静圧軸受の組み合わせで構成されるXYステージや、工具スピンドルなどの送り装置に広く適用され、光学素子金型加工装置、形状計測装置、半導体露光装置等の加工計測精度を向上させることができる。   Widely applied to XY stages composed of a combination of linear motors and aerostatic bearings and tool spindles, etc., to improve processing measurement accuracy of optical element mold processing devices, shape measuring devices, semiconductor exposure devices, etc. be able to.

1 ベース
2 ガイド
3 ステージ
4 エアベアリング
5 リニアモータ
6 ヨーク
7 磁石
8 コイル固定部材
9 コイル
10 上部ヨーク
11、13 保持部材
12 減衰用プレート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Guide 3 Stage 4 Air bearing 5 Linear motor 6 Yoke 7 Magnet 8 Coil fixing member 9 Coil 10 Upper yoke 11, 13 Holding member 12 Damping plate

Claims (3)

ベースと、
前記ベースに固定された、コイルを備えた固定子と、
前記ベース上を移動可能である、前記コイルに対向する磁石を備えた可動子と、
前記コイルに電流を供給し、前記可動子に推進力を発生させる電流供給手段と、
前記可動子の、前記ベース側の端部において、前記ベース又は前記固定子と前記可動子との間に形成された間隙に粘性流体を保持する第1の減衰機構と、
前記可動子の、前記ベース側と反対側の端部において、前記可動子と前記固定子との間に形成された間隙に粘性流体を保持する第2の減衰機構と、を有し、
前記第1及び前記第2の減衰機構によって、前記可動子の両端部にそれぞれ減衰力を発生させることを特徴とするリニアモータ。
Base and
A stator with a coil fixed to the base;
A mover comprising a magnet facing the coil, movable on the base;
Current supply means for supplying a current to the coil and generating a driving force for the mover;
A first damping mechanism that holds viscous fluid in a gap formed between the base or the stator and the mover at an end of the mover on the base side;
A second damping mechanism for holding a viscous fluid in a gap formed between the mover and the stator at an end of the mover opposite to the base side;
A linear motor characterized in that a damping force is generated at each end of the mover by the first and second damping mechanisms.
前記推進力の作用点に、前記第1及び前記第2の減衰機構による前記減衰力の合力の作用点が一致するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ。   2. The linear motor according to claim 1, wherein an application point of the resultant force of the damping force by the first and second damping mechanisms coincides with an application point of the propulsion force. 請求項1又は2に記載のリニアモータと、
前記リニアモータによって前記ベース上を移動するステージと、を有することを特徴とするステージ装置。
The linear motor according to claim 1 or 2,
And a stage that moves on the base by the linear motor.
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