JP5347882B2 - UV irradiation equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet irradiation apparatus capable of detecting the position of a cleaning brush in a noncontact manner without causing uneven ultraviolet irradiation. <P>SOLUTION: In the ultraviolet irradiation apparatus 1 for ultraviolet treatment of a fluid to be treated introduced into a treatment tank 2 by ultraviolet irradiation from a plurality of ultraviolet lamps 12 each inserted into a protective tube 10 and arranged at regular intervals around the center axis O of the treatment tank 2, a cleaning plate 21 is provided for cleaning the surface of the protective tube 10 of the ultraviolet lamp 12 while reciprocating along the center axis O. The cleaning plate 21 is provided with a metal rod 71 disposed at a position facing a closing flange 4 for closing the end face of the treatment tank 2, and the closing flange 4 is provided with a proximity sensor 60 for detecting the proximity of the metal rod 71 of the cleaning plate 21. The cleaning plate 21 is stopped on the basis of the detection of the metal rod 71 by the proximity sensor 60 when the cleaning plate 21 is moving toward the closing flange 4 provided with the proximity sensor 60. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、処理槽に流れ込む流体に紫外線照射処理を行う装置に係り、特に、処理槽の中に配置された紫外線ランプ清掃用のブラシの位置を検出する技術に関する。   The present invention relates to an apparatus for performing an ultraviolet irradiation process on a fluid flowing into a processing tank, and more particularly to a technique for detecting the position of a brush for cleaning an ultraviolet lamp arranged in the processing tank.

被処理流体が流れ込む筒状の処理槽に、該流体の流れ方向に沿って延びる管状の紫外線ランプを設置し、被処理流体中の微生物の殺滅、有機物の酸化分解、その他の有機物質の分解などを行う紫外線照射装置が知られている。かかる紫外線照射装置は、浄水場に設置されて原水の浄水処理に好適に用いられている。浄水場で用いられている紫外線照射装置においては、紫外線ランプの破損時に破片が流れ出ないようにすべく、紫外線ランプはランプ保護管に挿入されている。さらに、処理槽内には、ランプ保護管の表面を清掃する清掃ブラシが設けられており、この清掃ブラシをランプ保護管の長手方向に沿って1日に1〜数往復させてランプ保護管の表面に紫外光の透過を妨げる物質が堆積するのを防いでいる。   A tubular ultraviolet ray lamp that extends along the flow direction of the fluid is installed in a cylindrical treatment tank into which the fluid to be treated flows, killing microorganisms in the fluid to be treated, oxidative decomposition of organic matter, and decomposition of other organic substances Ultraviolet irradiation devices that perform such operations are known. Such an ultraviolet irradiation device is installed in a water purification plant and is suitably used for water purification treatment of raw water. In the ultraviolet irradiation device used in the water purification plant, the ultraviolet lamp is inserted into the lamp protection tube so that the fragments do not flow out when the ultraviolet lamp is damaged. Further, a cleaning brush for cleaning the surface of the lamp protection tube is provided in the treatment tank, and this cleaning brush is reciprocated once or several times a day along the longitudinal direction of the lamp protection tube. It prevents the deposition of substances that prevent the transmission of ultraviolet light on the surface.

ところで、清掃ブラシの往復移動制御には、少なくとも清掃ブラシが処理槽の端部に到達したことを検出する必要があるものの、処理槽内は流体によって加圧されているため、当該処理槽内にセンサを直接配置して清掃ブラシの位置を検出することは困難である。そこで従来では、ランプ保護管と同様な管体を処理槽の中に配置し、この管体の中に磁気センサを収めるとともに、検出対象である清掃ブラシに磁石を取り付け、処理槽の端部に設定した待機位置に清掃ブラシが到達したことを管体の中から磁気センサで検出する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   By the way, in order to control the reciprocating movement of the cleaning brush, it is necessary to detect that at least the cleaning brush has reached the end of the processing tank, but the inside of the processing tank is pressurized by the fluid. It is difficult to detect the position of the cleaning brush by directly arranging the sensor. Therefore, conventionally, a tube body similar to the lamp protection tube is arranged in the processing tank, and a magnetic sensor is housed in the tube body, and a magnet is attached to the cleaning brush to be detected, and is attached to the end of the processing tank. A technique has been proposed in which a magnetic sensor detects from a tubular body that a cleaning brush has reached a set standby position (see, for example, Patent Document 1).

特開2007−21434号公報JP 2007-21434 A

しかしながら、処理槽内に磁気センサを納めた管体を配置すると、被処理流体への紫外線照射にむらが生じる、という問題がある。詳述すると、紫外線照射装置では、円筒状の処理槽の中心軸に清掃ブラシを往復移動させるためのシャフトを配置し、このシャフトの周囲に等間隔に複数の紫外線ランプをランプ保護管に挿入して配置することで被処理流体に均等に紫外線を照射している。
これに対し、従来の構成では、いずれかのランプ保護管の位置に、磁気センサを納めた管体を配置しているため、紫外線ランプの配置の対称性が崩れ紫外線照射にむらが生じることになる。また、処理槽の中心軸上に、磁気センサを納める管体を配置することも考え得るが、そうすると、清掃ブラシを駆動するシャフトを、処理槽の中心からずれた位置に配置する必要があるため駆動機構が複雑になる、という問題がある。
However, when a tube containing a magnetic sensor is placed in the treatment tank, there is a problem that unevenness in ultraviolet irradiation of the fluid to be treated occurs. More specifically, in the ultraviolet irradiation device, a shaft for reciprocating the cleaning brush is disposed on the central axis of the cylindrical treatment tank, and a plurality of ultraviolet lamps are inserted into the lamp protection tube at equal intervals around the shaft. By arranging them, the treatment fluid is evenly irradiated with ultraviolet rays.
On the other hand, in the conventional configuration, since the tube body containing the magnetic sensor is arranged at any lamp protection tube position, the symmetry of the arrangement of the ultraviolet lamps collapses and unevenness in ultraviolet irradiation occurs. Become. In addition, it is conceivable to arrange a tube body that houses the magnetic sensor on the central axis of the processing tank, but then, the shaft that drives the cleaning brush needs to be disposed at a position that is shifted from the center of the processing tank. There is a problem that the drive mechanism becomes complicated.

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、紫外線の照射むらを生じることなく清掃ブラシの位置を非接触に検出することができる紫外線照射装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide an ultraviolet irradiation device that can detect the position of a cleaning brush in a non-contact manner without causing uneven irradiation of ultraviolet rays.

上記目的を達成するために、本発明は、処理槽の中心軸の周りに複数の紫外線ランプのそれぞれを保護管に挿入して等間隔に配置し、これらの紫外線ランプの紫外線照射により処理槽に注入した被処理流体を紫外線処理する紫外線照射装置において、前記中心軸に沿って往復移動し前記紫外線ランプの保護管の表面を清掃するクリーニングプレートを備え、前記クリーニングプレートには前記処理槽の端面を閉止する閉止フランジと対向する位置に被検出体を設け、前記閉止フランジには前記クリーニングプレートの被検出体の近接を検出する近接センサと、前記閉止フランジとの間の最小距離を規制する規制部材とを設け、前記クリーニングプレートが前記近接センサを設けた閉止フランジに向けて移動している時には前記近接センサによる前記被検出体の検出に基づいて前記クリーニングプレートを停止することを特徴とする。 In order to achieve the above object, according to the present invention, a plurality of ultraviolet lamps are inserted into a protective tube around the central axis of the treatment tank and arranged at equal intervals, and the ultraviolet rays of these ultraviolet lamps are irradiated to the treatment tank. In the ultraviolet irradiation apparatus that performs ultraviolet treatment on the injected fluid to be treated, the ultraviolet irradiation apparatus includes a cleaning plate that reciprocates along the central axis to clean the surface of the protective tube of the ultraviolet lamp, and the cleaning plate has an end face of the treatment tank. A detection member is provided at a position opposite to the closing flange to be closed, and a restriction member for restricting a minimum distance between a proximity sensor that detects the proximity of the detection object of the cleaning plate to the closing flange and the closing flange. the door is provided, in the proximity sensor when said cleaning plate is moving toward the blind flange provided with said proximity sensor Characterized by stopping the cleaning plate based on the detection of the detection object.

また上記目的を達成するために、本発明は、処理槽の中心軸の周りに複数の紫外線ランプのそれぞれを保護管に挿入して等間隔に配置し、これらの紫外線ランプの紫外線照射により処理槽に注入した被処理流体を紫外線処理する紫外線照射装置において、前記中心軸に沿って往復移動し前記紫外線ランプの保護管の表面を清掃するクリーニングプレートを備え、前記処理槽の周面には、前記クリーニングプレートの停止位置に相当する位置に、前記クリーニングプレートの近接を検出する近接センサを埋め込み固定し、前記クリーニングプレートには、前記処理槽の端面を閉止する閉止フランジとの間の最小距離を規制する規制部材を設け、前記近接センサによる前記クリーニングプレートの検出に基づいて前記クリーニングプレートの移動を停止することを特徴とする。 Further, in order to achieve the above object, the present invention is to insert a plurality of ultraviolet lamps around a central axis of the processing tank into a protective tube and arrange them at equal intervals, and by irradiating these ultraviolet lamps with ultraviolet rays, In the ultraviolet irradiation apparatus that performs ultraviolet treatment on the fluid to be treated injected into the substrate, the apparatus includes a cleaning plate that reciprocates along the central axis and cleans the surface of the protective tube of the ultraviolet lamp. A proximity sensor for detecting the proximity of the cleaning plate is embedded and fixed at a position corresponding to the stop position of the cleaning plate, and a minimum distance between the cleaning plate and a closing flange for closing the end face of the processing tank is regulated. the regulating member for providing movement of said cleaning plate based on the detection of the cleaning plate according to the proximity sensor Characterized in that it stop.

また本発明は、上記紫外線照射装置において、前記閉止フランジ、或いは、前記処理槽の周面に設けた取付孔に嵌め込み固定される樹脂製のセンサホルダーに前記近接センサを螺合させたことを特徴とする。   The present invention is also characterized in that, in the ultraviolet irradiation apparatus, the proximity sensor is screwed into a resin sensor holder that is fitted into and fixed to the closing flange or a mounting hole provided on a peripheral surface of the processing tank. And

本発明によれば、クリーニングプレートの被検出体を非接触に検出する近接センサを処理槽の端面を閉止する閉止フランジに設けたため、処理槽の中に紫外線ランプと並列させて近接センサを設けた従来の構成に比べ、紫外線の照射むらを生じることがなく、殺菌能力のむらを防止することができる。   According to the present invention, since the proximity sensor for detecting the object to be detected of the cleaning plate in a non-contact manner is provided in the closing flange for closing the end surface of the processing tank, the proximity sensor is provided in parallel with the ultraviolet lamp in the processing tank. Compared to the conventional configuration, there is no occurrence of uneven irradiation of ultraviolet rays, and uneven sterilization ability can be prevented.

本発明の第1実施形態に係る紫外線照射装置の正面図である。It is a front view of the ultraviolet irradiation device concerning a 1st embodiment of the present invention. 同紫外線照射装置の断面図である。It is sectional drawing of the same ultraviolet irradiation device. 同紫外線照射装置の平面図である。It is a top view of the ultraviolet irradiation device. クリーニングプレートの平面視図である。It is a top view of a cleaning plate. 閉止フランジに固定された近接センサユニットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the proximity sensor unit fixed to the closing flange. 第2実施形態に係る近接センサユニットを示す図である。It is a figure which shows the proximity sensor unit which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る紫外線照射装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the ultraviolet irradiation device which concerns on 3rd Embodiment. 図7の近接センサユニットを拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the proximity sensor unit of FIG.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
[第1実施形態]
図1は本実施形態に係る紫外線照射装置1の構成を示す正面図、図2は紫外線照射装置1の断面図、図3は紫外線照射装置1の平面図である。
紫外線照射装置1は、浄水場に設けられ、浄水処理後の浄水を殺菌(消毒)し、耐塩素性病原微生物を不活化する装置として用いられる。この紫外線照射装置1は、図1から図3に示すように、筐体の胴体部を構成する円筒状の処理槽2を有し、図示せぬ設置具により、処理槽2を立てた状態、または、水平に寝かせた状態で設置される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1 is a front view showing a configuration of an ultraviolet irradiation device 1 according to the present embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view of the ultraviolet irradiation device 1, and FIG. 3 is a plan view of the ultraviolet irradiation device 1.
The ultraviolet irradiation device 1 is provided in a water purification plant, and is used as a device that sterilizes (disinfects) purified water after water purification treatment and inactivates chlorine-resistant pathogenic microorganisms. As shown in FIG. 1 to FIG. 3, this ultraviolet irradiation device 1 has a cylindrical processing tank 2 that constitutes a body part of a housing, and a state in which the processing tank 2 is set up by an installation tool (not shown). Or it is installed in the state where it was laid down horizontally.

処理槽2は、例えばステンレス鋼から形成され、その上端の開口3が閉止フランジ4により閉塞されている。処理槽2の下端の開口5には入水口フランジ7が接続され、また、処理槽2の上端側の周面に導出ポート8が配設されている。上記入水口フランジ7には、浄水処理後の浄水を処理槽2に導水するパイプが接続されており、このパイプ及び入水口フランジ7を通じて、殺菌前の浄水が所定の流量(或いは流圧)を保ちながら処理槽2内に導入され、その流圧によって処理槽2内を上方に向かい導出ポート8から吐出される。   The processing tank 2 is made of, for example, stainless steel, and the opening 3 at the upper end thereof is closed by a closing flange 4. A water inlet flange 7 is connected to the opening 5 at the lower end of the treatment tank 2, and a lead-out port 8 is disposed on the peripheral surface on the upper end side of the treatment tank 2. The water inlet flange 7 is connected to a pipe for introducing purified water after the water purification treatment to the treatment tank 2, and the purified water before sterilization has a predetermined flow rate (or flow pressure) through the pipe and the water inlet flange 7. The liquid is introduced into the processing tank 2 while being maintained, and is discharged upward from the outlet port 8 through the processing tank 2 by the fluid pressure.

この処理槽2には、図2及び図3に示すように、紫外線ランプ12(後述)が挿入される細長い円筒状の保護管10が設けられている。保護管10は、処理槽2の下端に設けた支持具9に下端部が固定されるとともに上端部が閉止フランジ4に貫挿した支持金具13に支持されて、処理槽2内の流圧に耐え得る強度で保持される。保護管10は、紫外線の透過性が良い石英ガラスから形成されており、その表面がフッ素系樹脂で被覆されている。このフッ素系樹脂の被覆により破損時に破片が飛び散らないようになされている。また保護管10の被覆にフッ素系樹脂を使用することで、紫外線による被覆の劣化が防止される。   As shown in FIGS. 2 and 3, the treatment tank 2 is provided with an elongated cylindrical protective tube 10 into which an ultraviolet lamp 12 (described later) is inserted. The protective tube 10 is supported by a support fitting 13 having a lower end fixed to a support 9 provided at the lower end of the processing tank 2 and an upper end inserted through the closing flange 4, so that the flow pressure in the processing tank 2 is increased. Holds with enough strength to withstand. The protective tube 10 is made of quartz glass having good ultraviolet transmittance, and its surface is covered with a fluorine-based resin. The coating of the fluororesin prevents the fragments from scattering at the time of breakage. In addition, by using a fluorine-based resin for covering the protective tube 10, deterioration of the coating due to ultraviolet rays is prevented.

処理槽2内には、6本の保護管10が設けられ、これらの保護管10は、図3に示すように、処理槽2の中心軸Oを中心とした円周P上に等間隔に配置されている。保護管10のそれぞれには、処理槽2の下端から上端まで(少なくとも導出ポート8を超えた位置まで)延びる直管型の紫外線ランプ12が挿入され固定されている。なお、保護管10の数は6本でなくとも良い。   Six protective tubes 10 are provided in the treatment tank 2, and these protective tubes 10 are equally spaced on a circumference P around the central axis O of the treatment tank 2 as shown in FIG. 3. Has been placed. A straight tube type ultraviolet lamp 12 extending from the lower end to the upper end of the treatment tank 2 (at least to a position beyond the outlet port 8) is inserted and fixed in each of the protective tubes 10. The number of protective tubes 10 need not be six.

そして紫外線ランプ12がそれぞれ紫外線を放射することで、処理槽2の中を入水口フランジ7から導出ポート8に向かって流れる浄水(被処理流体)が紫外線の照射を受けて殺菌される。このとき、紫外線ランプ12が処理槽2の下端から導出ポート8を超えた位置まで延びることで、入水口フランジ7から導出ポート8に至る流路の全範囲にわたって紫外線が照射され、装置の殺菌能力が高められている。さらに、処理槽2には、紫外線ランプ12が処理槽2の中心軸Oの周りに均等に配置されているため、処理槽2を流れる浄水には、照射むらが無く均一に紫外線が照射され、これにより、処理槽2内で殺菌能力にむらが生じるのが防止されている。   Then, each of the ultraviolet lamps 12 emits ultraviolet rays, so that purified water (fluid to be treated) flowing through the treatment tank 2 from the water inlet flange 7 toward the outlet port 8 is irradiated with ultraviolet rays and sterilized. At this time, the ultraviolet lamp 12 extends from the lower end of the treatment tank 2 to a position beyond the outlet port 8, so that ultraviolet rays are irradiated over the entire flow path from the water inlet flange 7 to the outlet port 8, and the sterilizing ability of the apparatus. Has been increased. Furthermore, since the ultraviolet ray lamp 12 is uniformly arranged around the central axis O of the treatment tank 2 in the treatment tank 2, the purified water flowing through the treatment tank 2 is uniformly irradiated with ultraviolet rays without irradiation unevenness, As a result, unevenness in the sterilization ability in the treatment tank 2 is prevented.

処理槽2の外周面には、図3及び図4に示すように、3つの計測用ポート14が等間隔に配置されている。計測用ポート14のそれぞれには、紫外線強度を検出する紫外線センサユニット16(図2、図4)が設けられており、これら3つの紫外線センサユニット16で処理槽2の内部の紫外線強度が計測されている。作業者等は、計測結果に基づいて紫外線ランプ12の放射強度低下を判断し、紫外線ランプ12の交換を行うこととなる。   As shown in FIGS. 3 and 4, three measurement ports 14 are arranged at equal intervals on the outer peripheral surface of the processing tank 2. Each of the measurement ports 14 is provided with an ultraviolet sensor unit 16 (FIGS. 2 and 4) for detecting ultraviolet intensity, and the ultraviolet intensity inside the processing tank 2 is measured by these three ultraviolet sensor units 16. ing. The operator or the like determines a decrease in the radiation intensity of the ultraviolet lamp 12 based on the measurement result, and replaces the ultraviolet lamp 12.

ところで、紫外線ランプ12を収容した保護管10の表面にスケール等の汚れが付着し保護管10の紫外線透過率が低下すると、これに伴い紫外線照射装置1の殺菌能力も低下する。そこで、紫外線照射装置1には、保護管10の表面を清掃する清掃機構20が設けられており、この清掃機構20によって、例えば1日に1〜複数回の頻度で定期的に保護管10の表面の清掃が行われる。
清掃機構20は、図2に示すように、処理槽2の中に配置されたクリーニングプレート21と、このクリーニングプレート21を処理槽2の中で往復移動させる駆動機構22とを備えている。
By the way, when dirt such as scale adheres to the surface of the protective tube 10 containing the ultraviolet lamp 12 and the ultraviolet transmittance of the protective tube 10 decreases, the sterilizing ability of the ultraviolet irradiation device 1 also decreases. Therefore, the ultraviolet irradiation device 1 is provided with a cleaning mechanism 20 that cleans the surface of the protective tube 10. By the cleaning mechanism 20, for example, the protective tube 10 is periodically removed at a frequency of one to several times a day. The surface is cleaned.
As shown in FIG. 2, the cleaning mechanism 20 includes a cleaning plate 21 disposed in the processing tank 2 and a drive mechanism 22 that reciprocates the cleaning plate 21 in the processing tank 2.

図4は、図2のA−A断面を示す図であってクリーニングプレート21を平面視した図である。
クリーニングプレート21は、図4に示すように、保護管10の外径と同程度の内径を有し、当該保護管10が挿入される環状のクリーニングブラシ(清掃ブラシ)24と、このクリーニングブラシ24を固定するケース体としてのブラシサポート26と、これらブラシサポート26を処理槽2の中心軸Oの周りに等間隔に同一高さで支持する支持フレーム28とを備えて構成されている。
FIG. 4 is a diagram showing a cross section taken along the line AA in FIG.
As shown in FIG. 4, the cleaning plate 21 has an inner diameter approximately the same as the outer diameter of the protective tube 10, and an annular cleaning brush (cleaning brush) 24 into which the protective tube 10 is inserted, and the cleaning brush 24. And a support frame 28 that supports the brush support 26 at the same height around the central axis O of the processing tank 2 at the same height.

駆動機構22は、図2に示すように、処理槽2の中心軸O上に延びるボールネジ30と、このボールネジ30に螺合しクリーニングプレート21が連結されたボールネジナット32と、中心軸Oの周りに等間隔に配置され上下に延びる3本のガイドシャフト33と、閉止フランジ4の上に配置されたモータ34と、このモータ34の回転駆動力をボールネジ30に伝達して回転させる伝達機構36とを備えている。
上記支持フレーム28は、各ブラシサポート26を固定し、また、ガイドシャフト33を受けるシャフト軸受33Aが設けられたリング状フレーム28Aと、ボールネジナット32から放射状に延びてリング状フレーム28Aを支持する複数本の支持棒28Bとで構成されている。これらリング状フレーム28Aと支持棒28Bとの間に隙間があることで、支持フレーム28に加わる流圧が抑えられている。
As shown in FIG. 2, the drive mechanism 22 includes a ball screw 30 extending on the central axis O of the processing tank 2, a ball screw nut 32 screwed into the ball screw 30 and connected to the cleaning plate 21, and a central axis O. Three guide shafts 33 arranged at equal intervals and extending vertically, a motor 34 disposed on the closing flange 4, and a transmission mechanism 36 for transmitting the rotational driving force of the motor 34 to the ball screw 30 for rotation. It has.
The support frame 28 fixes each brush support 26, and also has a ring-shaped frame 28A provided with a shaft bearing 33A for receiving the guide shaft 33, and a plurality of supports that support the ring-shaped frame 28A by extending radially from the ball screw nut 32. It is comprised with the support rod 28B of a book. Since there is a gap between the ring-shaped frame 28A and the support rod 28B, the fluid pressure applied to the support frame 28 is suppressed.

そして、モータ34によってボールネジ30が回転駆動されると、このボールネジ30にボールネジナット32によって連結されたクリーニングプレート21が処理槽2内をガイドシャフト33でガイドされながら上下に移動する。そして、このクリーニングプレート21の移動に伴って各クリーニングブラシ24が保護管10の外周表面を払拭することで、当該保護管10の清掃が行われることになる。   When the ball screw 30 is rotationally driven by the motor 34, the cleaning plate 21 connected to the ball screw 30 by the ball screw nut 32 moves up and down while being guided by the guide shaft 33 in the processing tank 2. Then, as the cleaning plate 21 moves, each cleaning brush 24 wipes the outer peripheral surface of the protective tube 10 so that the protective tube 10 is cleaned.

上記クリーニングプレート21は、非清掃時には、影を生じさせないようにすべく、処理槽2の上端近傍であって、少なくとも導出ポート8の外側(導出ポート8と閉止フランジ4との間)で待機する。そして、保護管10の清掃時には、モータ34がボールネジ30を回転させることで、クリーニングプレート21が処理槽2の中を移動する。このとき、モータ34の駆動制御は、図1に示す制御回路40の指示に基づいて行われる。   The cleaning plate 21 waits at least outside the outlet port 8 (between the outlet port 8 and the closing flange 4) in the vicinity of the upper end of the processing tank 2 so as not to cause a shadow during non-cleaning. . When cleaning the protective tube 10, the motor 34 rotates the ball screw 30 so that the cleaning plate 21 moves in the processing tank 2. At this time, drive control of the motor 34 is performed based on an instruction of the control circuit 40 shown in FIG.

制御回路40は、モータ34を駆動するモータ駆動回路41を備え、また、モータ34の回転速度と、クリーニングプレート21が待機位置から処理槽2の下端部に到達するまでの時間との関係を規定した到達時間データ42を予め記憶している。そして、制御回路40は、毎日或いは所定日数おきに、所定の清掃開始時刻になると、モータ34を駆動してクリーニングプレート21を待機位置から移動開始させるとともに、上記到達時間データ42及びモータ34の回転速度に基づいて、クリーニングプレート21が下端位置に到達するタイミングを算出する。そして、制御回路40は、クリーニングプレート21が下端位置に到達したタイミングでモータ34を停止し、逆回転させ下端位置から待機位置に向けてクリーニングプレート21を移動させる。なお、クリーニングプレート21が待機位置から処理槽2の下端部に到達するまでのモータ34の回転数に基づいて、クリーニングプレート21が処理槽2の下端に到達するタイミングを算出しても良い。   The control circuit 40 includes a motor drive circuit 41 that drives the motor 34, and defines the relationship between the rotational speed of the motor 34 and the time until the cleaning plate 21 reaches the lower end of the processing tank 2 from the standby position. The arrival time data 42 is stored in advance. The control circuit 40 drives the motor 34 to start moving the cleaning plate 21 from the standby position every day or every predetermined number of days, and the arrival time data 42 and the rotation of the motor 34 are rotated. Based on the speed, the timing at which the cleaning plate 21 reaches the lower end position is calculated. Then, the control circuit 40 stops the motor 34 at the timing when the cleaning plate 21 reaches the lower end position, reversely rotates it, and moves the cleaning plate 21 from the lower end position toward the standby position. The timing at which the cleaning plate 21 reaches the lower end of the processing tank 2 may be calculated based on the number of rotations of the motor 34 until the cleaning plate 21 reaches the lower end of the processing tank 2 from the standby position.

クリーニングプレート21の待機位置への到達は、上記到達時間データ42に基づく制御ではなく、近接センサユニット50によって検出することとし、到達時間データ42に基づく位置制御に誤差が生じたとしても、毎回、決まった待機位置にクリーニングプレート21を復帰させることができる。上記近接センサユニット50は、図3に示すように、処理槽2の閉止フランジ4に設けられており、この近接センサユニット50の構造について以下に詳述する。   The arrival of the cleaning plate 21 at the standby position is detected not by the control based on the arrival time data 42 but by the proximity sensor unit 50. Even if an error occurs in the position control based on the arrival time data 42, every time, The cleaning plate 21 can be returned to a fixed standby position. As shown in FIG. 3, the proximity sensor unit 50 is provided on the closing flange 4 of the processing tank 2, and the structure of the proximity sensor unit 50 will be described in detail below.

図5は、閉止フランジ4に固定された近接センサユニット50の構造を示す図である。
閉止フランジ4には、貫通孔としてのセンサ取付孔51が設けられており、このセンサ取付孔51に近接センサユニット50が嵌め込み固定されている。近接センサユニット50は、大別すると、センサホルダー53と近接センサ60とを備えている。
センサホルダー53は、近接センサ60を閉止フランジ4内に保持する部材であり、下面53Aが閉止フランジ4の下面4Aと面一になる程度の深さの胴部53Bを有した有底筒状の部材であり、上記センサ取付孔51に嵌め込まれ、開口縁部53Cが閉止フランジ4の上面にボルト締めされた押さえ金具で固定されている。またセンサ取付孔51の周面には、浄水の浸みだしを防止するパッキン57が設けられている。
FIG. 5 is a view showing the structure of the proximity sensor unit 50 fixed to the closing flange 4.
A sensor mounting hole 51 as a through hole is provided in the closing flange 4, and the proximity sensor unit 50 is fitted and fixed in the sensor mounting hole 51. The proximity sensor unit 50 is roughly provided with a sensor holder 53 and a proximity sensor 60.
The sensor holder 53 is a member that holds the proximity sensor 60 in the closing flange 4, and has a bottomed cylindrical shape having a trunk portion 53 </ b> B having a depth such that the lower surface 53 </ b> A is flush with the lower surface 4 </ b> A of the closing flange 4. It is a member and is fitted in the sensor mounting hole 51, and the opening edge 53C is fixed to the upper surface of the closing flange 4 with a pressing metal fitting bolted. Further, a packing 57 for preventing the permeation of purified water is provided on the peripheral surface of the sensor mounting hole 51.

センサホルダー53は、近接センサ60の検出感度を阻害しないように硬質樹脂で形成され、また、紫外線による劣化を防止すべく下面4Aにはフッ素系樹脂による被覆処理が施されている。また、センサホルダー53の内周面54には雌ねじが切られており、この雌ねじに螺合する雄ネジが周面に切られた胴部60Aを有する近接センサ60が胴部53Bにねじ込み固定されている。このように近接センサ60を螺合構造によりセンサホルダー53に固定することで、センサホルダー53の下面53Aを、近接センサ60の感度を阻害しない程度に薄くした結果、水圧に耐えられなくなっても、胴部53Bに強固に結合された近接センサ60によって下面53Aの耐圧が補われることとなる。なお、センサホルダー53にフッ素系樹脂による被覆処理を施す構成に代えて、当該センサホルダー53自体をフッ素系樹脂で形成してもよい。   The sensor holder 53 is formed of a hard resin so as not to disturb the detection sensitivity of the proximity sensor 60, and the lower surface 4A is coated with a fluorine-based resin to prevent deterioration due to ultraviolet rays. Further, a female thread is cut on the inner peripheral surface 54 of the sensor holder 53, and a proximity sensor 60 having a trunk portion 60A in which a male screw screwed into the female screw is cut on the peripheral surface is screwed and fixed to the trunk portion 53B. ing. In this way, by fixing the proximity sensor 60 to the sensor holder 53 with a screwing structure, the lower surface 53A of the sensor holder 53 is thinned to such an extent that the sensitivity of the proximity sensor 60 is not hindered. The proximity sensor 60 that is firmly coupled to the body portion 53B supplements the pressure resistance of the lower surface 53A. Instead of the configuration in which the sensor holder 53 is coated with a fluorine resin, the sensor holder 53 itself may be formed of a fluorine resin.

近接センサ60は、非接触でクリーニングプレート21が近づいたことを検出するセンサであり、電磁誘導を利用した高周波発振型のセンサが好適に用いられる。詳述すると、近接センサ60は、内蔵の検出コイル(不図示)により高周波磁界を発生しており、また、クリーニングプレート21には、近接センサ60と対向する位置に被検出棒である金属棒71が近接センサ60に向けてロックナット72を用いて立設されている。近接センサ60の検出コイルが発生する高周波磁界にクリーニングプレート21の金属棒71が接近した場合、この接近に伴い近接センサ60の検出コイルに誘導電流が生じ、当該検出コイルのインピーダンスが変化することで発振が停止し、これによりクリーニングプレート21の近接が検出される。   The proximity sensor 60 is a sensor that detects that the cleaning plate 21 has approached without contact, and a high-frequency oscillation type sensor that uses electromagnetic induction is preferably used. More specifically, the proximity sensor 60 generates a high-frequency magnetic field by a built-in detection coil (not shown), and the cleaning plate 21 has a metal rod 71 that is a detection rod at a position facing the proximity sensor 60. Is set up with a lock nut 72 toward the proximity sensor 60. When the metal rod 71 of the cleaning plate 21 approaches the high-frequency magnetic field generated by the detection coil of the proximity sensor 60, an induced current is generated in the detection coil of the proximity sensor 60 and the impedance of the detection coil changes due to this approach. Oscillation stops, and the proximity of the cleaning plate 21 is thereby detected.

本実施形態の近接センサ60には、検出コイルを内蔵した胴部60Aの側面が金属でおおわれた、いわゆるシールドタイプのセンサが用いられており、金属の塊である閉止フランジ4に埋め込んで使用できるようになっている。なお、近接センサ60には、シールドタイプに限らず、検出コイルを内蔵した胴部60Aの側面が金属で覆われていない、いわゆる非シールドタイプのセンサを用いることもできる。ただし、この場合には、周囲金属の影響を受けやすいため、センサホルダー53の胴部53bを深くして、近接センサ60の底面60Bが閉止フランジ4の下面4Aから処理槽2内に突出させることが好ましい。   The proximity sensor 60 of the present embodiment uses a so-called shield type sensor in which the side surface of the body portion 60A including the detection coil is covered with metal, and can be used by being embedded in the closing flange 4 that is a lump of metal. It is like that. Note that the proximity sensor 60 is not limited to the shield type, and a so-called non-shield type sensor in which the side surface of the body portion 60A including the detection coil is not covered with metal can also be used. However, in this case, since it is easily affected by surrounding metal, the body portion 53b of the sensor holder 53 is deepened so that the bottom surface 60B of the proximity sensor 60 protrudes from the lower surface 4A of the closing flange 4 into the processing tank 2. Is preferred.

近接センサ60は、金属棒71の近接を検出したときの位置がクリーニングプレート21の待機位置となるように、近接センサ60の感度及び金属棒71の長さが予め規定されている。そして、近接センサ60が金属棒71の接近を検出した場合には、検出信号を制御回路40に出力し、この検出信号に基づいて、制御回路40がクリーニングプレート21の待機位置への復帰を検知してモータ駆動回路41を停止させ、クリーニングプレート21による清掃を終了することとなる。   In the proximity sensor 60, the sensitivity of the proximity sensor 60 and the length of the metal bar 71 are defined in advance so that the position when the proximity of the metal bar 71 is detected becomes the standby position of the cleaning plate 21. When the proximity sensor 60 detects the approach of the metal rod 71, it outputs a detection signal to the control circuit 40, and the control circuit 40 detects the return of the cleaning plate 21 to the standby position based on this detection signal. Then, the motor drive circuit 41 is stopped and the cleaning by the cleaning plate 21 is finished.

また図5に示すように、閉止フランジ4の下面4Aには、メカストッパー65が設けられている。メカストッパー65は、当該閉止フランジ4の下面4Aからクリーニングプレート21に向かって所定長さだけ伸びる棒状部材であり、これにより、閉止フランジ4とクリーニングプレート21の間の最小距離が規制され、クリーニングプレート21が待機位置を超えて閉止フランジ4に衝突することが防止される。   As shown in FIG. 5, a mechanical stopper 65 is provided on the lower surface 4 </ b> A of the closing flange 4. The mechanical stopper 65 is a rod-shaped member that extends from the lower surface 4A of the closing flange 4 toward the cleaning plate 21 by a predetermined length, whereby the minimum distance between the closing flange 4 and the cleaning plate 21 is restricted, and the cleaning plate 21 is prevented from colliding with the closing flange 4 beyond the standby position.

このように、本実施形態によれば、クリーニングプレート21に処理槽2の端面を閉止する閉止フランジ4と対向する位置に金属棒71を立設し、閉止フランジ4にはクリーニングプレート21の金属棒71の近接を検出する近接センサ60を設け、クリーニングプレート21が近接センサ60を設けた閉止フランジ4に向けて移動している時には、この近接センサ60による金属棒71の検出に基づいてクリーニングプレート21を停止する構成とした。
この構成により、処理槽2内に、紫外線ランプ12と並んで近接センサ60を設ける必要がないため、紫外線の照射むらを生じることがなく、殺菌能力のむらを防止することができる。さらに、クリーニングプレート21を駆動するためのボールネジ30を処理槽2の中心軸Oに配置できるため、駆動機構が複雑になることもない。
Thus, according to the present embodiment, the metal rod 71 is erected on the cleaning plate 21 at a position facing the closing flange 4 that closes the end surface of the processing tank 2, and the metal rod of the cleaning plate 21 is disposed on the closing flange 4. When the proximity sensor 60 for detecting the proximity of 71 is provided and the cleaning plate 21 is moving toward the closing flange 4 provided with the proximity sensor 60, the cleaning plate 21 is detected based on the detection of the metal rod 71 by the proximity sensor 60. Is configured to stop.
With this configuration, it is not necessary to provide the proximity sensor 60 in the processing tank 2 along with the ultraviolet lamp 12, so that uneven irradiation of ultraviolet rays does not occur and uneven sterilization ability can be prevented. Furthermore, since the ball screw 30 for driving the cleaning plate 21 can be disposed on the central axis O of the processing tank 2, the driving mechanism is not complicated.

また本実施形態によれば、閉止フランジ4とクリーニングプレート21の間の最小距離を規制するメカストッパー65を設ける構成としたため、クリーニングプレート21が待機位置を超えて閉止フランジ4に衝突することを防止できる。   Further, according to the present embodiment, since the mechanical stopper 65 that restricts the minimum distance between the closing flange 4 and the cleaning plate 21 is provided, the cleaning plate 21 is prevented from colliding with the closing flange 4 beyond the standby position. it can.

また本実施形態によれば、閉止フランジ4に設けたセンサ取付孔51に嵌め込み固定される樹脂製のセンサホルダー53に近接センサ60を螺合させる構成としたため、センサホルダー53の下面53Aを、近接センサ60の感度を阻害しない程度に薄くした結果、水圧に耐えられなくなっても、センサホルダー53に強固に結合された近接センサ60によって下面53Aの耐圧を補うことができる。   According to the present embodiment, since the proximity sensor 60 is screwed into the resin sensor holder 53 that is fitted and fixed in the sensor mounting hole 51 provided in the closing flange 4, the lower surface 53A of the sensor holder 53 is placed in proximity. As a result of reducing the sensitivity of the sensor 60 to such an extent that the sensitivity of the sensor 60 is not impaired, the withstand pressure of the lower surface 53A can be compensated for by the proximity sensor 60 firmly coupled to the sensor holder 53 even if the sensor 60 cannot withstand the water pressure.

[第2実施形態]
第1実施形態では、近接センサ60の閉止フランジ4への固定構造において、有底筒状の樹脂製のセンサホルダー53を用いた。これに対して、本実施形態では、金属製のセンサホルダーを用いる場合を説明する。
図6は、本実施形態に係る近接センサユニット150を示す図である。なお、同図において、第1実施形態と同様な部材は、同一の符号を付して説明を省略する。また、本実施形態では、第1実施形態で説明したメカストッパー65がクリーニングプレート21に設けられている。
[Second Embodiment]
In the first embodiment, in the structure for fixing the proximity sensor 60 to the closing flange 4, the bottomed cylindrical resin sensor holder 53 is used. On the other hand, this embodiment demonstrates the case where a metal sensor holder is used.
FIG. 6 is a diagram illustrating the proximity sensor unit 150 according to the present embodiment. In addition, in the same figure, the same member as 1st Embodiment attaches | subjects the same code | symbol, and abbreviate | omits description. In the present embodiment, the mechanical stopper 65 described in the first embodiment is provided on the cleaning plate 21.

この図に示すように、近接センサユニット150は、金属製の両端が開口した筒状のセンサホルダー153と、上記近接センサ60とを備えている。
閉止フランジ4のセンサ取付孔151には、下面4A側の開口にセンサホルダー153を受けて脱落を防止する片部4Bが形成されており、この片部4Bとセンサホルダー153の間には水密を維持するOリング154が設けられている。
センサホルダー153は、閉止フランジ4のセンサ取付孔151の内周面に切られたネジ山と螺合するネジ山が外周面に切られ、センサ取付孔151に螺合しロックナット156で閉止フランジ4に強固に締結される。近接センサ60はセンサホルダー153に螺合してロックナット157で強固に締結され、これにより、近接センサ60が閉止フランジ4に固定される。このとき、センサホルダー153及び近接センサ60の底面には、例えばフッ素樹脂シートなどの紫外線による劣化が少ない防水シート158が設けられており、近接センサ60とセンサホルダー153との間からの浸水が防止されている。
As shown in this figure, the proximity sensor unit 150 includes a cylindrical sensor holder 153 having both ends opened by metal and the proximity sensor 60.
The sensor mounting hole 151 of the closing flange 4 is formed with a piece 4B that receives the sensor holder 153 at the opening on the lower surface 4A side to prevent the drop off, and the piece 4B and the sensor holder 153 are watertight. An O-ring 154 to maintain is provided.
The sensor holder 153 is threaded into the outer peripheral surface of a thread that is screwed into the inner peripheral surface of the sensor mounting hole 151 of the closing flange 4, and is screwed into the sensor mounting hole 151, and is locked by a lock nut 156. 4 is firmly fastened. The proximity sensor 60 is screwed into the sensor holder 153 and is firmly fastened by a lock nut 157, whereby the proximity sensor 60 is fixed to the closing flange 4. At this time, on the bottom surfaces of the sensor holder 153 and the proximity sensor 60, a waterproof sheet 158 that is less deteriorated by ultraviolet rays, such as a fluororesin sheet, is provided to prevent water from entering between the proximity sensor 60 and the sensor holder 153. Has been.

本実施形態によれば、底部が開口した筒状のセンサホルダー153に近接センサ60を固定するため、クリーニングプレート21の金属棒71を高感度で検出することができる。   According to this embodiment, since the proximity sensor 60 is fixed to the cylindrical sensor holder 153 whose bottom is opened, the metal rod 71 of the cleaning plate 21 can be detected with high sensitivity.

[第3実施形態]
第1及び第2実施形態では、処理槽2の端面を閉止する閉止フランジ4に近接センサ60を設ける構成を例示した。これに対し、本実施形態では、近接センサ60を処理槽2の周面に設ける構成を説明する。
図7は、本実施形態に係る紫外線照射装置200の構成を示す図である。なお、同図において第1及び第2実施形態で説明した部材については同一の符号を付して、その説明を省略する。
この図に示すように、本実施形態の紫外線照射装置200においては、浄水を処理槽2に導入する導入ポート202が処理槽2の外周面の下端側に、また、第1実施形態で説明した導出ポート8が上端側に設けられており、これら導入ポート202と導出ポート8の間をクリーニングプレート21が往復移動して流路に位置する保護管10の表面を清掃する。
また、処理槽2の外周面には、導出ポート8及び導入ポート202のそれぞれの位置、すなわち、クリーニングプレート21の待機位置及び往復の折返位置に、クリーニングプレート21の近接を検出する近接センサユニット250が嵌め込み固定されている。
[Third Embodiment]
In 1st and 2nd embodiment, the structure which provides the proximity sensor 60 in the closing flange 4 which closes the end surface of the process tank 2 was illustrated. On the other hand, in this embodiment, the structure which provides the proximity sensor 60 in the surrounding surface of the processing tank 2 is demonstrated.
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of the ultraviolet irradiation apparatus 200 according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member demonstrated in 1st and 2nd embodiment in the figure, and the description is abbreviate | omitted.
As shown in this figure, in the ultraviolet irradiation device 200 of the present embodiment, the introduction port 202 for introducing purified water into the treatment tank 2 is described on the lower end side of the outer peripheral surface of the treatment tank 2 and in the first embodiment. The lead-out port 8 is provided on the upper end side, and the cleaning plate 21 reciprocates between the introduction port 202 and the lead-out port 8 to clean the surface of the protective tube 10 positioned in the flow path.
Further, on the outer peripheral surface of the processing tank 2, a proximity sensor unit 250 that detects the proximity of the cleaning plate 21 to the respective positions of the outlet port 8 and the introduction port 202, that is, the standby position of the cleaning plate 21 and the reciprocating return position. Is fitted and fixed.

図8は、図7に示す近接センサユニット250の拡大図である。
この図に示すように、処理槽2の外周面(側面)には、取付用筒体280が溶接されており、取付用筒体280に、近接センサユニット250が取り付けられ、固定されている。近接センサユニット250は、第1実施形態と同様な有底筒状の硬質樹脂製のセンサホルダー253と、第1及び第2実施形態で説明した近接センサ60とを備えている。
センサホルダー253は、周面にOリング279が設けられた取付用筒体280に嵌挿され、ロックナット282で締め付け固定された補強スリーブ284で脱落不能に押さえられる。そして、このセンサホルダー253に近接センサ60が螺合して固定され、これにより、近接センサ60が処理槽2の外周面に強固に固定される。
FIG. 8 is an enlarged view of the proximity sensor unit 250 shown in FIG.
As shown in this figure, a mounting cylinder 280 is welded to the outer peripheral surface (side surface) of the processing tank 2, and the proximity sensor unit 250 is attached and fixed to the mounting cylinder 280. The proximity sensor unit 250 includes a bottomed cylindrical hard resin sensor holder 253 similar to that of the first embodiment, and the proximity sensor 60 described in the first and second embodiments.
The sensor holder 253 is inserted into a mounting cylinder 280 having an O-ring 279 provided on the peripheral surface, and is pressed so as not to fall off by a reinforcing sleeve 284 fastened and fixed by a lock nut 282. Then, the proximity sensor 60 is screwed and fixed to the sensor holder 253, whereby the proximity sensor 60 is firmly fixed to the outer peripheral surface of the processing tank 2.

かかる構成の下、保護管10の清掃時にクリーニングプレート21が近接センサ60の横(水平位置)に位置したときに、該近接センサ60から検出信号が制御回路40に出力される。これにより、制御回路40は、クリーニングプレート21が待機位置及び折返位置に位置したことを検知して、クリーニングプレート21を停止させる、といった制御を行う。   Under this configuration, when the cleaning plate 21 is positioned beside the proximity sensor 60 (horizontal position) during cleaning of the protective tube 10, a detection signal is output from the proximity sensor 60 to the control circuit 40. Thereby, the control circuit 40 performs control such that the cleaning plate 21 is stopped by detecting that the cleaning plate 21 is located at the standby position and the folding position.

このように、本実施形態によれば、近接センサ60を処理槽2の外周面に設けたため、第1及び第2実施形態と同様に、処理槽2内に紫外線ランプ12と並列させて近接センサ60を設けた従来の構成に比べ、紫外線の照射むらを生じることがなく、殺菌能力のむらを防止することができる。さらに、クリーニングプレート21を駆動するためのボールネジ30を処理槽2の中心軸Oに配置できるため、駆動機構が複雑になることもない。   Thus, according to this embodiment, since the proximity sensor 60 is provided on the outer peripheral surface of the processing tank 2, the proximity sensor is arranged in parallel with the ultraviolet lamp 12 in the processing tank 2 as in the first and second embodiments. Compared with the conventional structure provided with 60, uneven irradiation of ultraviolet rays does not occur, and uneven sterilization ability can be prevented. Furthermore, since the ball screw 30 for driving the cleaning plate 21 can be disposed on the central axis O of the processing tank 2, the driving mechanism is not complicated.

なお、上述した第1〜第3実施形態は、あくまでも本発明の一態様を示すものであり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で任意に変形及び応用が可能である。
例えば、第1実施形態において、第3実施形態で説明した近接センサユニット250をクリーニングプレート21の折返位置に相当する処理槽2の外周面に設け、この近接センサユニット250の検出に基づいて、クリーニングプレート21を折返位置で停止し、折り返す構成としてもよい。
また、本発明において、流体は液体に限られるものでないことは勿論である。
The first to third embodiments described above show only one aspect of the present invention, and can be arbitrarily modified and applied without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the first embodiment, the proximity sensor unit 250 described in the third embodiment is provided on the outer peripheral surface of the processing tank 2 corresponding to the folding position of the cleaning plate 21, and cleaning is performed based on the detection of the proximity sensor unit 250. The plate 21 may be stopped at the folding position and folded.
Of course, in the present invention, the fluid is not limited to a liquid.

1、200 紫外線照射装置
2 処理槽
4 閉止フランジ
8 導出ポート
10 保護管
12 紫外線ランプ
20 清掃機構
21 クリーニングプレート
22 駆動機構
24 クリーニングブラシ(清掃ブラシ)
28 支持フレーム
30 ボールネジ
34 モータ
40 制御回路
41 モータ駆動回路
42 到達時間データ
50、150、250 近接センサユニット
51、151 センサ取付孔
53、153、253 センサホルダー
60 近接センサ
65 メカストッパー(規制部材)
71 金属棒(被検出体)
202 導入ポート
O 中心軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,200 Ultraviolet irradiation apparatus 2 Processing tank 4 Closing flange 8 Derivation port 10 Protection tube 12 Ultraviolet lamp 20 Cleaning mechanism 21 Cleaning plate 22 Drive mechanism 24 Cleaning brush (cleaning brush)
28 Support frame 30 Ball screw 34 Motor 40 Control circuit 41 Motor drive circuit 42 Arrival time data 50, 150, 250 Proximity sensor unit 51, 151 Sensor mounting hole 53, 153, 253 Sensor holder 60 Proximity sensor 65 Mechanical stopper (regulating member)
71 Metal rod (Detected object)
202 Introduction port O Center axis

Claims (3)

処理槽の中心軸の周りに複数の紫外線ランプのそれぞれを保護管に挿入して等間隔に配置し、これらの紫外線ランプの紫外線照射により処理槽に注入した被処理流体を紫外線処理する紫外線照射装置において、
前記中心軸に沿って往復移動し前記紫外線ランプの保護管の表面を清掃するクリーニングプレートを備え、
前記クリーニングプレートには前記処理槽の端面を閉止する閉止フランジと対向する位置に被検出体を設け、前記閉止フランジには前記クリーニングプレートの被検出体の近接を検出する近接センサと、前記閉止フランジとの間の最小距離を規制する規制部材とを設け
前記クリーニングプレートが前記近接センサを設けた閉止フランジに向けて移動している時には前記近接センサによる前記被検出体の検出に基づいて前記クリーニングプレートを停止することを特徴とする紫外線照射装置。
An ultraviolet irradiation device that inserts a plurality of ultraviolet lamps around the central axis of the treatment tank into a protective tube and arranges them at equal intervals, and ultraviolet-treats the fluid to be treated injected into the treatment tank by the ultraviolet irradiation of these ultraviolet lamps. In
A cleaning plate that reciprocates along the central axis and cleans the surface of the protective tube of the ultraviolet lamp;
The cleaning plate is provided with a detection object at a position facing a closing flange that closes an end surface of the processing tank, the proximity flange detects a proximity of the detection object of the cleaning plate, and the closing flange And a regulating member that regulates the minimum distance between
An ultraviolet irradiation apparatus, wherein when the cleaning plate is moving toward a closing flange provided with the proximity sensor, the cleaning plate is stopped based on detection of the detected object by the proximity sensor.
処理槽の中心軸の周りに複数の紫外線ランプのそれぞれを保護管に挿入して等間隔に配置し、これらの紫外線ランプの紫外線照射により処理槽に注入した被処理流体を紫外線処理する紫外線照射装置において、
前記中心軸に沿って往復移動し前記紫外線ランプの保護管の表面を清掃するクリーニングプレートを備え、
前記処理槽の周面には、前記クリーニングプレートの停止位置に相当する位置に、前記クリーニングプレートの近接を検出する近接センサを埋め込み固定し、前記クリーニングプレートには、前記処理槽の端面を閉止する閉止フランジとの間の最小距離を規制する規制部材を設け、前記近接センサによる前記クリーニングプレートの検出に基づいて前記クリーニングプレートの移動を停止することを特徴とする紫外線照射装置。
An ultraviolet irradiation device that inserts a plurality of ultraviolet lamps around the central axis of the treatment tank into a protective tube and arranges them at equal intervals, and ultraviolet-treats the fluid to be treated injected into the treatment tank by the ultraviolet irradiation of these ultraviolet lamps. In
A cleaning plate that reciprocates along the central axis and cleans the surface of the protective tube of the ultraviolet lamp;
A proximity sensor for detecting the proximity of the cleaning plate is embedded and fixed on the peripheral surface of the processing tank at a position corresponding to the stop position of the cleaning plate, and the end surface of the processing tank is closed on the cleaning plate. An ultraviolet irradiating device, characterized in that a restricting member for restricting a minimum distance from the closing flange is provided, and movement of the cleaning plate is stopped based on detection of the cleaning plate by the proximity sensor.
前記閉止フランジ、或いは、前記処理槽の周面に設けた取付孔に嵌め込み固定される樹脂製のセンサホルダーに前記近接センサを螺合させたことを特徴とする請求項1又は2に記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet ray according to claim 1 or 2, wherein the proximity sensor is screwed into a resin sensor holder that is fitted and fixed in an attachment hole provided in a peripheral surface of the closing flange or the processing tank. Irradiation device.
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