JP5347683B2 - Surface acoustic wave atomizer - Google Patents

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers

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Description

本発明は、弾性表面波を用いた霧化装置に関する。   The present invention relates to an atomization apparatus using surface acoustic waves.

弾性表面波は、通常、圧電材料などからなる基板上に設けた交差指電極（Interdigital Transducer：ＩＤＴ）に高周波電圧が印加されることによって、その基板表面に生成される。弾性表面波が伝搬している基板の表面に液体を供給すると、液体は弾性表面波のエネルギを受け取って振動しつつ流動し微小粒子となって飛翔する。従来、この現象により液体を霧化する弾性表面波霧化装置が知られている。   A surface acoustic wave is usually generated on the surface of a substrate by applying a high-frequency voltage to an interdigital transducer (IDT) provided on the substrate made of a piezoelectric material or the like. When a liquid is supplied to the surface of the substrate on which the surface acoustic wave is propagating, the liquid receives the energy of the surface acoustic wave and flows while vibrating to fly as fine particles. 2. Description of the Related Art Conventionally, surface acoustic wave atomizers that atomize a liquid by this phenomenon are known.

弾性表面波霧化装置において、安定した霧化を効率的に行うには、液体供給量と噴霧量とのバランスを良好に保つと共に、液体を基板上に薄く延ばすことが必要である。そこで、液体を基板上に薄く延ばすため、弾性表面波の伝搬面上を親水処理した霧化装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。   In order to efficiently perform stable atomization in the surface acoustic wave atomization apparatus, it is necessary to maintain a good balance between the liquid supply amount and the spray amount and to spread the liquid thinly on the substrate. Therefore, in order to extend the liquid thinly on the substrate, there has been proposed an atomization apparatus in which the surface of the surface acoustic wave is subjected to a hydrophilic treatment (see, for example, Patent Document 1).

特開平１１−１１４４６７号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-114467

しかしながら、特許文献１に記載の霧化装置は、基板上に液体を薄く延ばすことができるものの、弾性表面波伝搬面の全面を親水処理しているため、例えば、基板外に液体が漏れ、液体を損失すると共に落下した液体で装置周辺が汚損するというおそれがある。   However, although the atomization apparatus described in Patent Document 1 can extend the liquid thinly on the substrate, the entire surface of the surface acoustic wave propagation surface is subjected to hydrophilic treatment. There is a risk that the periphery of the apparatus may be soiled by the dropped liquid.

本発明は、上記問題を解決するためになされたもので、基板上に供給された液体を基板上に薄く延ばすことができ、なおかつ、基板外に漏れることなく液体を効率的に霧化することが可能な弾性表面波霧化装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problem, and the liquid supplied onto the substrate can be thinly spread on the substrate, and the liquid can be efficiently atomized without leaking out of the substrate. It is an object of the present invention to provide a surface acoustic wave atomization device capable of performing the above.

上記課題を解決するために、本発明は、弾性表面波を生成する基板部を備え、基板部に供給される液体を弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置であって、基板部表面には、周辺を残し中程に基板部の素地とは親水性の程度が異なる領域が形成されている構成とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention is a surface acoustic wave atomization device that includes a substrate unit that generates surface acoustic waves, and atomizes a liquid supplied to the substrate unit using surface acoustic waves. The surface is formed with a region having a different degree of hydrophilicity from the base of the substrate portion in the middle, leaving the periphery.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、親水性の程度が異なる領域が、基板部の素地とは親水性の程度が異なる複数の領域構成部により構成されていることが好ましい。   In the surface acoustic wave atomization device of the present invention, it is preferable that a region having a different degree of hydrophilicity is composed of a plurality of region constituent parts having a different degree of hydrophilicity from the substrate portion substrate.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、親水性の程度が異なる領域では複数の領域構成部の存在割合が変化していることが好ましい。   Further, in the surface acoustic wave atomization device of the present invention, it is preferable that the existence ratio of the plurality of region constituent portions is changed in regions having different degrees of hydrophilicity.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部が放射状に形成されていることが好ましい。   In the surface acoustic wave atomization device of the present invention, it is preferable that a plurality of region constituent parts are formed radially.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部が同心状に形成されていることが好ましい。   In the surface acoustic wave atomization device of the present invention, it is preferable that a plurality of region constituent parts are formed concentrically.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部の各々が隣接する領域構成部とは親水性の程度が異なるように形成されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the surface acoustic wave atomization apparatus of this invention is formed so that each of several area | region structure parts may differ in the degree of hydrophilicity from the area | region structure part which adjoins.

また、本発明の弾性表面波霧化装置において、領域構成部をパターニングにより形成することが好ましい。   In the surface acoustic wave atomization apparatus of the present invention, it is preferable to form the region constituent part by patterning.

本発明の弾性表面波霧化装置は、基板部表面には、周辺を残し中程に基板部の素地とは親水性の程度が異なる領域が形成されている構成とすることで、供給された液体を基板部に薄く延ばすことができ、なおかつ、液体の広がる範囲を限定することができるため、供給された液体が基板外に漏れることを防ぐことができる。   The surface acoustic wave atomization apparatus of the present invention is supplied by having a configuration in which a region having a hydrophilicity different from that of the substrate portion substrate is formed in the middle while leaving the periphery on the surface of the substrate portion. Since the liquid can be thinly extended to the substrate portion and the range in which the liquid spreads can be limited, the supplied liquid can be prevented from leaking out of the substrate.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、親水性の程度が異なる領域が、基板部の素地とは親水性の程度が異なる複数の領域構成部により構成されていることによって、領域内で親水性の程度を簡便に変化させることができる。   Further, the surface acoustic wave atomization device of the present invention is configured such that the region having a different degree of hydrophilicity is constituted by a plurality of region constituent units having different degrees of hydrophilicity from the substrate portion substrate. The degree of hydrophilicity can be easily changed.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、親水性の程度が異なる領域では複数の領域構成部の存在割合が変化していることによって、その存在割合の変化に沿って供給された液体を移動させるような力を働かせることができ液体を効率よく基板部に薄く延ばすことができる。   Further, the surface acoustic wave atomization device of the present invention is configured so that the liquid supplied along the change in the existence ratio is changed by changing the existence ratio of the plurality of area constituent parts in the areas having different hydrophilicity levels. A moving force can be applied, and the liquid can be efficiently thinly spread on the substrate portion.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部が放射状に形成されていることによって、形成した放射状の領域構成部に沿って供給した液体を薄く延ばすことができる。   Moreover, the surface acoustic wave atomization apparatus of this invention can extend thinly the liquid supplied along the formed radial area | region structure part because the several area | region structure part is formed radially.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部が同心状に形成されていることによって、形成した同心状領域構成部にて供給された液体は分裂しやすくなり基板部上に液体を薄く延ばすことができる。   Further, in the surface acoustic wave atomization device of the present invention, since the plurality of region constituent parts are formed concentrically, the liquid supplied in the formed concentric region constituent parts is likely to be split and the substrate part The liquid can be spread thinly.

また、本発明の弾性表面波霧化装置は、複数の領域構成部の各々が隣接する領域構成部とは親水性の程度が異なるように形成されていることによって、隣接する領域構成部にて供給された液体は細分化されやすくなり供給された液体を薄く延ばすことができる。   Further, the surface acoustic wave atomization device of the present invention is configured such that each of the plurality of region constituent parts is formed so as to have a different degree of hydrophilicity from the adjacent region constituent part. The supplied liquid is easily subdivided, and the supplied liquid can be thinly extended.

また、本発明の弾性表面波霧化装置において、領域構成部をパターニングにより形成することによって、基板部に精度よく親水性の程度が異なる領域構成部を形成することができる。   Moreover, in the surface acoustic wave atomization apparatus of the present invention, by forming the region constituent portion by patterning, it is possible to accurately form the region constituent portion having a different degree of hydrophilicity on the substrate portion.

本発明の第１の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図である。1 is a perspective view of a surface acoustic wave atomizer according to a first embodiment of the present invention. 接触角を説明するための対象物上の液滴の断面形状図である。It is sectional drawing of the droplet on the target object for demonstrating a contact angle. 本発明の第１の実施形態に係る他の例の弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus of the other example which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態に係る他の例の弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus of the other example which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第４の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第４の実施形態に係る他の例の弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus of the other example which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第５の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface acoustic wave atomization apparatus which concerns on the 5th Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を、図面を参照して説明する。   Hereinafter, a surface acoustic wave atomization apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

（第１の実施形態）
図１は第１の実施形態に係る弾性表面波霧化装置１を示す。 (First embodiment)
FIG. 1 shows a surface acoustic wave atomizer 1 according to a first embodiment.

弾性表面波霧化装置１は、基板部１２を備える。基板部１２は、高周波電圧の印加によって弾性表面波を励振する交差指電極１１を有する。そして、図示しない液体供給部によって基板部１２表面に供給される液体１３を基板部１２表面に生成される弾性表面波によって霧化する。以下、各構成を詳細に説明する。   The surface acoustic wave atomization apparatus 1 includes a substrate unit 12. The substrate unit 12 includes a cross finger electrode 11 that excites a surface acoustic wave by applying a high frequency voltage. Then, the liquid 13 supplied to the surface of the substrate unit 12 by a liquid supply unit (not shown) is atomized by the surface acoustic wave generated on the surface of the substrate unit 12. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

交差指電極１１は、それぞれ互いに異なる電極に属している櫛形電極１１ａ、１１ｂから構成されている。櫛形電極１１ａ、１１ｂの歯のそれぞれのピッチは励振する弾性表面波の波長の大きさに等しく、櫛形電極１１ａ、１１ｂを互いに噛み合わせて配置されている。   The cross finger electrode 11 includes comb-shaped electrodes 11a and 11b belonging to different electrodes. The pitches of the teeth of the comb-shaped electrodes 11a and 11b are equal to the wavelength of the surface acoustic wave to be excited, and the comb-shaped electrodes 11a and 11b are arranged to mesh with each other.

交差指電極１１が高周波電圧印加用の電源１４から高周波（例えば、ＭＨｚ帯）電圧を印加されることにより、交差指電極１１によって電気的エネルギが波の機械的エネルギに変換されて、基板部１２の表面にレイリー波と呼ばれる弾性表面波が励振される。励振された弾性表面波の振幅は、交差指電極１１に印加する電圧の大きさで決まる。また、励振された弾性表面波の波束の長さは、電圧の印加時間の長さに対応する。   When the cross finger electrode 11 is applied with a high frequency (for example, MHz band) voltage from a power supply 14 for applying a high frequency voltage, the cross finger electrode 11 converts electrical energy into mechanical energy of the wave, and the substrate portion 12. A surface acoustic wave called a Rayleigh wave is excited on the surface. The amplitude of the excited surface acoustic wave is determined by the magnitude of the voltage applied to the interdigitated electrode 11. Moreover, the length of the wave packet of the excited surface acoustic wave corresponds to the length of voltage application time.

交差指電極１１によって励振された弾性表面波は櫛形電極１１ａ、１１ｂの歯に垂直な方向（方向ｘ）に伝搬する。弾性表面波は、基板部１２の表面に存在する液体１３に対して、弾性表面波の伝搬方向に移動させるような力を及ぼす性質がある。   The surface acoustic wave excited by the interdigitated electrode 11 propagates in a direction (direction x) perpendicular to the teeth of the comb electrodes 11a and 11b. The surface acoustic wave has a property of exerting a force to move the liquid 13 existing on the surface of the substrate portion 12 in the propagation direction of the surface acoustic wave.

基板部１２は、例えば、ＬｉＮｂＯ3（ニオブ酸リチウム）のような圧電体からなる基板であり、平面視が長方形の板状である。また、基板部１２は、基板部１２の長手方向の一端側（図１の左方側）に交差指電極１１を備えている。 The substrate portion 12 is a substrate made of a piezoelectric material such as LiNbO 3 (lithium niobate), for example, and has a rectangular plate shape in plan view. In addition, the substrate part 12 includes a cross finger electrode 11 on one end side in the longitudinal direction of the substrate part 12 (left side in FIG. 1).

基板部１２表面には、基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ａが形成されている。領域３０ａは、基板部１２表面の周辺を残し中程に形成されている。そして、基板部１２の素地よりも親水性の大きな複数の領域構成部２１ａにより領域３０ａは構成されている。領域３０ａは、領域構成部２１ａを領域３０ａ内に有していればよく、図１では、基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域構成部２１ａと基板部１２そのもので基板部１２と親水性の程度が同じである基板領域部が存在することになる。   On the surface of the substrate portion 12, a region 30 a having a higher hydrophilicity than the base of the substrate portion 12 is formed. The region 30a is formed in the middle, leaving the periphery of the surface of the substrate part 12. And the area | region 30a is comprised by the some area structure part 21a with a larger hydrophilicity than the base material of the board | substrate part 12. As shown in FIG. The region 30a only needs to have the region constituting portion 21a in the region 30a. In FIG. 1, the region constituting portion 21a having a larger hydrophilicity than the base of the substrate portion 12 and the substrate portion 12 itself are hydrophilic to the substrate portion 12. There exists a substrate region portion having the same degree of property.

一般に親水性の程度は、対象物５１の接触角θを測定することにより求めることができる。接触角θとは図２で示すように、対象物５１に液体を滴下したときの、液滴５２の対象物５１表面との接線５３と対象物５１とのなす角度をいう。図２（ａ）のように接触角θが小さいほど親水性の程度は大きくなり、図２（ｂ）のように接触角θが大きいほど親水性の程度は小さくなる。また、一般に接触角θは、液体と対象物の馴染みやすさの指標として用いられる。接触角θが小さいときは液体と対象物は馴染みやすいといえ、接触角θが大きいときは液体と対象物は馴染みにくいといえる。   In general, the degree of hydrophilicity can be obtained by measuring the contact angle θ of the object 51. As shown in FIG. 2, the contact angle θ refers to an angle formed between the tangent line 53 of the droplet 52 and the surface of the object 51 and the object 51 when a liquid is dropped on the object 51. As shown in FIG. 2A, the degree of hydrophilicity increases as the contact angle θ decreases, and as the contact angle θ increases as shown in FIG. 2B, the degree of hydrophilicity decreases. In general, the contact angle θ is used as an index of the familiarity between the liquid and the object. When the contact angle θ is small, it can be said that the liquid and the object are easily adapted, and when the contact angle θ is large, the liquid and the object are not easily adapted.

また、領域３０ａには、基板部１２の長手方向の交差指電極１１が形成されている側から他端側に向けて、基板部１２に対しての領域構成部２１ａの存在割合が傾斜的に変化している。傾斜的に変化するとは、徐々に変化することをいい、例えば、基板部１２の長手方向距離に対して比例的に変化する場合や階段状に変化する場合のことをいう。   Further, in the region 30a, the proportion of the region constituting portion 21a with respect to the substrate portion 12 is inclined from the side where the cross finger electrodes 11 in the longitudinal direction of the substrate portion 12 are formed toward the other end side. It has changed. “To change in an inclined manner” means to change gradually, for example, to change in proportion to the longitudinal distance of the substrate portion 12 or to change in a stepped manner.

図１における領域構成部２１ａは、光官能層の成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離、洗浄の工程を経て、パターニングにより形成されている。パターニングにより形成されたひとつひとつの領域構成部２１ａは、形状が円状で大きさが略同等である。これらを基板部１２に対して疎密を変化させ配置することで、基板部１２に対しての領域構成部２１ａの存在割合を変化させている。   The region constituting portion 21a in FIG. 1 is formed by patterning through the steps of film formation of a photofunctional layer, resist application, exposure, development, etching, peeling, and washing. Each region constituting part 21a formed by patterning has a circular shape and is approximately the same in size. By arranging these with varying density with respect to the substrate part 12, the existence ratio of the region constituting part 21a to the substrate part 12 is changed.

図１では、領域構成部２１ａは、交差指電極１１から遠くなるにつれ基板部１２に対して疎に配置されている。これにより基板部１２の長手方向の交差指電極１１が形成されている側から他端側に向けて、基板部１２に対しての領域構成部２１ａの存在割合が傾斜的に小さくなっている。その結果、親水性の程度は、交差指電極１１から近いところでは大きく、交差指電極１１から遠くなるにつれて小さくなっている。   In FIG. 1, the region constituting unit 21 a is arranged sparsely with respect to the substrate unit 12 as the distance from the cross finger electrode 11 increases. As a result, the ratio of the region constituting portion 21a to the substrate portion 12 is gradually decreased from the side where the cross finger electrode 11 in the longitudinal direction of the substrate portion 12 is formed to the other end side. As a result, the degree of hydrophilicity is large near the cross finger electrode 11 and decreases as the distance from the cross finger electrode 11 increases.

液体供給部は、例えば、液体容器などのような液体供給手段を構成したものや、フェルト、紙、多孔質材料などからなる液体を含浸することができるものなどから構成される。このような液体供給部から基板部１２に液体１３が供給される。   The liquid supply unit includes, for example, a liquid supply unit such as a liquid container or a liquid impregnated liquid made of felt, paper, porous material, or the like. The liquid 13 is supplied from the liquid supply unit to the substrate unit 12.

基板部１２に領域３０ａが形成されていることで、領域３０ａに供給された液体１３（例えば、水のような親水性の大きな液体）は、基板部１２に広がりやすくなる。領域３０ａは基板部１２の素地よりも親水性の程度が大きいため、基板部１２に領域３０ａが形成されていないときと比べ、領域３０ａに供給された液体１３に働く表面張力は小さくなる。このため、液体１３は基板部１２に広がりやすくなり液体１３を基板部１２に薄く延ばすことができる。   Since the region 30 a is formed in the substrate part 12, the liquid 13 (for example, a highly hydrophilic liquid such as water) supplied to the region 30 a is easily spread on the substrate part 12. Since the region 30 a is more hydrophilic than the substrate 12, the surface tension acting on the liquid 13 supplied to the region 30 a is smaller than when the region 30 a is not formed on the substrate 12. For this reason, the liquid 13 is easily spread on the substrate portion 12, and the liquid 13 can be thinly extended on the substrate portion 12.

このように、液体１３が基板部１２に薄く延びると、液体１３表面から基板部１２までの距離が短くなる。このため、弾性表面波が液体１３表面にまで作用するようになり、液体１３全体に弾性表面波が作用しやすくなる。この結果、液体１３を効率的に霧化することができる。   Thus, when the liquid 13 extends thinly to the substrate portion 12, the distance from the surface of the liquid 13 to the substrate portion 12 is shortened. For this reason, the surface acoustic wave acts on the surface of the liquid 13 and the surface acoustic wave easily acts on the entire liquid 13. As a result, the liquid 13 can be atomized efficiently.

さらに、領域３０ａは、基板部１２表面において周辺を残し中程に形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなった液体１３の広がる範囲を限定することができる。このため、供給された液体１３が基板外に漏れることを防ぐことができる。よって、供給した液体１３を損失することなく効率的に霧化することができる。   Further, the region 30 a is formed in the middle leaving the periphery on the surface of the substrate portion 12, so that the range in which the liquid 13 that has become easy to spread on the substrate portion 12 can be limited. For this reason, it is possible to prevent the supplied liquid 13 from leaking out of the substrate. Therefore, the supplied liquid 13 can be efficiently atomized without loss.

また、基板部１２では領域構成部２１ａの基板部１２に対する存在割合が交差指電極１１に近づくにつれて傾斜的に大きくなっているため、交差指電極１１に向かって移動させるような力を液体１３に対して働かせることができる。液体１３が移動するにつれ領域構成部２１ａ上に存在する液体１３は徐々に基板部１２に広げられていくことになる。この結果、効率よく基板部１２に液体１３を薄く延ばすことができる。また、液体１３が弾性表面波から伝搬方向に力を受けたときでも、弾性表面波による力を相殺するような力を液体１３に働かせることができるため、液体１３の移動を防止することができる。   Further, in the substrate portion 12, the existence ratio of the region constituting portion 21 a to the substrate portion 12 increases in an inclined manner as it approaches the cross finger electrode 11. Can work against. As the liquid 13 moves, the liquid 13 existing on the region constituting part 21a is gradually spread on the substrate part 12. As a result, the liquid 13 can be efficiently thinly spread on the substrate portion 12. Further, even when the liquid 13 receives a force from the surface acoustic wave in the propagation direction, a force that cancels the force generated by the surface acoustic wave can be applied to the liquid 13, so that the liquid 13 can be prevented from moving. .

複数の領域構成部２１ａの配置方法を変更させることで、基板部１２に対する存在割合を簡便に変化させることができる。領域構成部２１ａは、図１のように交差指電極１１側から他端側に向かうにつれて基板部１２に対する領域構成部２１ａの存在割合を小さくなるように形成するだけではなく、例えば、図３のように基板部１２に対する領域構成部２１ａの存在割合を、基板部１２の中央を大きくし両側に向かうにつれて小さくするように形成してもよい。また、基板部１２で領域構成部２１ａの基板部１２に対しての存在割合がランダムに変化させていてもよい。このときは、液体１３は供給されたひとつの位置に留まらず動きやすくすることができる。   By changing the arrangement method of the plurality of region constituting units 21a, the existence ratio with respect to the substrate unit 12 can be easily changed. As shown in FIG. 1, the region constituting part 21a is not only formed so as to decrease the proportion of the region constituting part 21a with respect to the substrate part 12 from the cross finger electrode 11 side toward the other end side. In this way, the ratio of the region constituting portion 21a to the substrate portion 12 may be formed so as to increase as the center of the substrate portion 12 increases and toward both sides. Further, the presence ratio of the region constituting part 21a to the substrate part 12 in the substrate part 12 may be changed at random. At this time, the liquid 13 can be easily moved without staying at the supplied position.

また、親水性の程度が異なる領域構成部２１ａをパターニングにより形成することで、基板部１２に精度よく親水性の程度が異なる領域構成部２１ａを形成することができる。特に、簡便に基板部１２に対しての親水性の程度の異なる領域構成部２１ａの存在割合を変化させることができるため好ましい。   In addition, by forming the region constituting portion 21a having a different degree of hydrophilicity by patterning, the region constituting portion 21a having a different degree of hydrophilicity can be formed on the substrate portion 12 with high accuracy. In particular, it is preferable because the existence ratio of the region constituting portions 21a having different hydrophilicity with respect to the substrate portion 12 can be easily changed.

図１および図３では、領域構成部２１ａはそれぞれ形状が円で大きさが略同等のものを示したが、これに限られることなく、例えば、格子形状やひし形や三角形などのその他の形状であってもよいし、異なる大きさの領域構成部２１ａを設けてもよい。   In FIG. 1 and FIG. 3, the region constituting portions 21a are each circular in shape and substantially the same in size, but are not limited thereto, and may be other shapes such as a lattice shape, a rhombus, and a triangle. It may also be possible to provide the region constituent portions 21a having different sizes.

（第２の実施形態）
以下に述べる各実施形態は、上述した第１の実施形態と同様の構成については同一符号を付して詳しい説明を省略し、相違する構成について詳述する。 (Second Embodiment)
In the following embodiments, the same components as those in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, detailed description thereof will be omitted, and different configurations will be described in detail.

図４は第２の実施形態に係る弾性表面波霧化装置１を示す。   FIG. 4 shows a surface acoustic wave atomizer 1 according to the second embodiment.

弾性表面波霧化装置１の基板部１２に形成された基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｂの内側には、基板部１２の素地よりも親水性の大きな帯状の帯状領域構成部２１ｂが形成されている。このため、基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｂの内側には、基板部１２の素地よりも親水性の大きな帯状領域構成部２１ｂと基板部１２そのもので基板部１２と親水性の程度が同じである基板領域部が存在することになる。   Inside the region 30b having a larger hydrophilicity than the substrate of the substrate 12 formed on the substrate 12 of the surface acoustic wave atomizing device 1, a belt-shaped band-shaped region constituting unit having a larger hydrophilicity than the substrate of the substrate 12 is provided. 21b is formed. For this reason, inside the region 30b having a higher hydrophilicity than the base of the substrate portion 12, the belt-like region constituting portion 21b having a higher hydrophilicity than the base of the substrate portion 12 and the substrate portion 12 itself are hydrophilic to the substrate portion 12. There will be substrate region portions of the same degree.

帯状領域構成部２１ｂは、点１５を中心とした放射状に配置されている。点１５は弾性表面波霧化装置１の霧化対象である液体１３を供給する点である。また、帯状領域構成部２１ｂは、アルミニウムを真空蒸着することにより形成されている。   The band-shaped region constituent portions 21b are arranged radially with the point 15 as the center. Point 15 is a point at which the liquid 13 that is an atomization target of the surface acoustic wave atomizer 1 is supplied. Moreover, the strip | belt-shaped area | region structure part 21b is formed by vacuum-depositing aluminum.

基板部１２に形成された領域３０ｂに供給された液体１３（例えば、水のような親水性の大きな液体）は、基板部１２に領域３０ｂが形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなる。このため、液体１３を基板部１２に薄く延ばすことができる。   The liquid 13 (for example, a highly hydrophilic liquid such as water) supplied to the region 30b formed in the substrate unit 12 is easily spread to the substrate unit 12 because the region 30b is formed in the substrate unit 12. Become. For this reason, the liquid 13 can be thinly extended to the substrate part 12.

さらに、領域３０ｂは、基板部１２表面において周辺を残し中程に形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなった液体１３の広がる範囲を限定することができる。このため、供給された液体１３が基板外に漏れることを防ぐことができる。よって、供給した液体１３を損失することなく効率的に霧化することができる。   Further, the region 30b is formed in the middle leaving the periphery on the surface of the substrate part 12, so that the range in which the liquid 13 that has become easy to spread on the substrate part 12 can be limited. For this reason, it is possible to prevent the supplied liquid 13 from leaking out of the substrate. Therefore, the supplied liquid 13 can be efficiently atomized without loss.

また、帯状領域構成部２１ｂが基板部１２の素地よりも親水性が大きいため、供給された液体１３は帯状領域構成部２１ｂの方へ移動する。帯状領域構成部２１ｂは領域３０ｂの縁側に向けて放射状に形成されているため、点１５に供給された液体１３は、帯状領域構成部２１ｂに沿って広がりながら移動する。このため、液体１３を基板部１２に広がりやすくすることができる。   Further, since the band-shaped region constituting part 21b is more hydrophilic than the base of the substrate part 12, the supplied liquid 13 moves toward the band-like region constituting part 21b. Since the belt-like region constituting part 21b is formed radially toward the edge side of the region 30b, the liquid 13 supplied to the point 15 moves while spreading along the belt-like region constituting part 21b. For this reason, the liquid 13 can be easily spread on the substrate portion 12.

図４のように、点１５から放射状に帯状領域構成部２１ｂを設けると基板部１２全体に液体１３を効率よく薄く延ばすことができるため好ましい。   As shown in FIG. 4, it is preferable to provide the band-shaped region constituting portion 21 b radially from the point 15 because the liquid 13 can be efficiently and thinly extended over the entire substrate portion 12.

また、図４では四方向に伸びるように帯状領域構成部２１ｂを設けたものを示したが、これに限られることはなく、例えば、多数方向に伸びるように帯状領域構成部２１ｂを設けてもよい。   In addition, although FIG. 4 shows a configuration in which the band-like region constituting portion 21b is provided so as to extend in four directions, the present invention is not limited to this. For example, the belt-like region constituting portion 21b may be provided so as to extend in many directions. Good.

（第３の実施形態）
図５は第３の実施形態に係る弾性表面波霧化装置１を示す。 (Third embodiment)
FIG. 5 shows a surface acoustic wave atomizer 1 according to a third embodiment.

弾性表面波霧化装置１の基板部１２に形成された基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｃの内側には、点１５を中心とした同心状に基板部１２の素地よりも親水性の大きな同心状領域構成部２１ｃが設けられている。   Inside the region 30c having a higher hydrophilicity than the base of the substrate 12 formed on the substrate 12 of the surface acoustic wave atomizing device 1, it is more hydrophilic than the base of the substrate 12 concentrically around the point 15. A highly concentric region constituting portion 21c is provided.

同心状領域構成部２１ｃにおいて、点１５を含む同心状領域構成部２１ｃは円状となっており、点１５を含まない同心状領域構成部２１ｃは環状となっている。また、基板部１２には、同心状領域構成部２１ｃと交互になるように、基板部１２の素地よりも親水性の程度が大きく同心状領域構成部２１ｃとは親水性の程度が異なる同心状領域構成部２１ｄが設けられている。このため、基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｃの内側には、同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄが存在することになる。同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄはそれぞれアルミニウム、フッ素樹脂を真空蒸着することにより形成されている。   In the concentric region constituting portion 21c, the concentric region constituting portion 21c including the point 15 is circular, and the concentric region constituting portion 21c not including the point 15 is annular. Further, the substrate portion 12 is concentrically different from the concentric region constituting portion 21c in that the degree of hydrophilicity is larger than that of the substrate 12 so as to alternate with the concentric region constituting portion 21c. An area configuration unit 21d is provided. For this reason, the concentric area | region structure parts 21c and 21d exist inside the area | region 30c larger in hydrophilicity than the base material of the board | substrate part 12. FIG. The concentric region components 21c and 21d are formed by vacuum vapor deposition of aluminum and fluororesin, respectively.

基板部１２に形成された領域３０ｃに供給された液体（例えば、水のような親水性の大きな液体）は、基板部１２に領域３０ｃが形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなる。このため、液体を基板部１２に薄く延ばすことができる。   The liquid (for example, water having a high hydrophilicity such as water) supplied to the region 30 c formed in the substrate unit 12 is easily spread to the substrate unit 12 because the region 30 c is formed in the substrate unit 12. . For this reason, the liquid can be thinly spread on the substrate portion 12.

さらに、領域３０ｃは、基板部１２表面において周辺を残し中程に形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなった液体の広がる範囲を限定することができる。このため、供給された液体が基板外に漏れることを防ぐことができる。よって、供給した液体を損失することなく効率的に霧化することができる。   Further, the region 30c is formed in the middle with the periphery remaining on the surface of the substrate part 12, so that the range in which the liquid that has become easy to spread on the substrate part 12 can be limited. For this reason, it is possible to prevent the supplied liquid from leaking out of the substrate. Therefore, it can atomize efficiently, without losing the supplied liquid.

また、点１５に液体が供給されると、隣接する同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄそれぞれの液体に対する表面張力に差が生じるため、液体が一定の位置に留まらず移動しやすくなる。移動しやすくなった液体は、同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄにおいて分裂されることになる。   Further, when the liquid is supplied to the point 15, a difference occurs in the surface tension of the adjacent concentric region constituting portions 21 c and 21 d with respect to the liquid, so that the liquid does not stay at a fixed position but easily moves. The liquid that has become easy to move is split in the concentric region constituting portions 21c and 21d.

分裂された液体は、供給された直後の液体と比べひとつひとつの液体の大きさが小さくなり、液体表面から基板部１２までの距離が短くなる。このため、弾性表面波が液体表面まで作用しやすくなり、液体全体に弾性表面波が作用しやすくなる。この結果、液体を効率よく霧化することができる。また、同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄを数多く形成することにより、供給した液体が分裂する確率が増えひとつひとつの液体がより小さくなり霧化されやすくなる。   Each of the divided liquids is smaller in size than the liquid immediately after being supplied, and the distance from the liquid surface to the substrate portion 12 is shortened. For this reason, the surface acoustic wave easily acts on the liquid surface, and the surface acoustic wave easily acts on the entire liquid. As a result, the liquid can be efficiently atomized. In addition, by forming a large number of concentric region constituting portions 21c and 21d, the probability that the supplied liquid is split increases and each liquid becomes smaller and more easily atomized.

また、点１５を中心とし基板部１２の素地よりも親水性の大きな同心状領域構成部２１ｅは、図６のように間隔をもって設けられていてもよい。このとき、同心状領域構成部２１ｅは、基板領域部１２ａと交互に配置されることになる。同心状領域構成部２１ｅと基板領域部１２ａが交互に設けられている場合にも、隣接する同心状領域構成部２１ｅと基板領域部１２ａに供給された液体に働く表面張力に差が生じるため、供給された液体は分裂され霧化されやすくなる。   Moreover, the concentric area | region structure part 21e which has a hydrophilicity larger than the base of the board | substrate part 12 centering on the point 15 may be provided at intervals like FIG. At this time, the concentric region constituting portions 21e are alternately arranged with the substrate region portions 12a. Even when the concentric region constituting portion 21e and the substrate region portion 12a are alternately provided, a difference occurs in the surface tension acting on the liquid supplied to the adjacent concentric region constituting portion 21e and the substrate region portion 12a. The supplied liquid is easily split and atomized.

図５および図６では、同心状領域構成部２１ｃ、２１ｄ、２１ｅのそれぞれは親水性の程度が同一のものを示したが、これに限られることなく、親水性の程度がそれぞれで異なっていてもよい。   5 and 6, each of the concentric region constituting portions 21c, 21d, and 21e has the same degree of hydrophilicity. However, the degree of hydrophilicity is different without being limited thereto. Also good.

また、図５および図６では、基板部１２と親水性の程度が異なる領域構成部として形状が円の環状であるものを示したが、この形状に限られることなく、同心である形状であればよく、例えば、正方形の環状や長方形の環状などのその他の形状であってもよい。   In FIGS. 5 and 6, the region constituting portion having a hydrophilicity different from that of the substrate portion 12 is shown as having a circular shape. However, the shape is not limited to this shape, and may be a concentric shape. For example, other shapes such as a square ring or a rectangular ring may be used.

（第４の実施形態）
図７は第４の実施形態に係る弾性表面波霧化装置１を示す。 (Fourth embodiment)
FIG. 7 shows a surface acoustic wave atomizer 1 according to a fourth embodiment.

弾性表面波霧化装置１の基板部１２に形成された基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｄの内側には、基板部１２の素地よりも親水性の大きな格子状の格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇが基板部１２に敷き詰められたように形成されている。隣接する格子状領域構成部２１ｆと格子状領域構成部２１ｇとでは親水性の程度が異なっている。このため、基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｄの内側には、格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇが存在することになる。   A lattice-like lattice-like region having a hydrophilicity larger than that of the substrate 12 is disposed inside the region 30d having a larger hydrophilicity than the substrate of the substrate 12 formed on the substrate 12 of the surface acoustic wave atomizer 1. The constituent parts 21f and 21g are formed so as to be spread on the substrate part 12. The degree of hydrophilicity is different between the adjacent lattice region constituting portion 21f and the lattice region constituting portion 21g. For this reason, the lattice-like region constituting portions 21f and 21g are present inside the region 30d that is more hydrophilic than the substrate 12 base.

基板部１２に形成された領域３０ｄに供給された液体１３（例えば、水のような親水性の大きな液体）は、基板部１２に領域３０ｄが形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなる。このため、液体１３を基板部１２に薄く延ばすことができる。   The liquid 13 (for example, a highly hydrophilic liquid such as water) supplied to the region 30 d formed on the substrate unit 12 is easily spread on the substrate unit 12 because the region 30 d is formed on the substrate unit 12. Become. For this reason, the liquid 13 can be thinly extended to the substrate part 12.

さらに、領域３０ｄは、基板部１２表面において周辺を残し中程に形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなった液体１３の広がる範囲を限定することができる。このため、供給された液体１３が基板外に漏れることを防ぐことができる。よって、供給した液体１３を損失することなく効率的に霧化することができる。   Further, the region 30d is formed in the middle with the periphery remaining on the surface of the substrate part 12, so that the range in which the liquid 13 that has become easy to spread on the substrate part 12 can be limited. For this reason, it is possible to prevent the supplied liquid 13 from leaking out of the substrate. Therefore, the supplied liquid 13 can be efficiently atomized without loss.

また、図７のように、親水性の程度が異なる格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇを敷き詰められたように並んだ配置とすることで、隣接する格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇのそれぞれにおいて液体に対する表面張力に差が生じるため、液体が細分化される。このため、液体を効率よく霧化することができる。また、格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇを数多く形成することにより、供給した液体が細分化される確率が増えひとつひとつの液体の大きさがより小さくなり霧化されやすくなる。   In addition, as shown in FIG. 7, by arranging the lattice-like region constituting portions 21f and 21g having different hydrophilicity so as to be laid out, the liquid is formed in each of the adjacent lattice-like region constituting portions 21f and 21g. The liquid is subdivided because of the difference in surface tension against the liquid. For this reason, the liquid can be efficiently atomized. In addition, by forming a large number of the lattice-like region constituting parts 21f and 21g, the probability that the supplied liquid is subdivided increases, and the size of each liquid becomes smaller and is easily atomized.

また、図８のように基板部１２の素地よりも親水性の大きな格子状領域構成部２１ｈが間隔をもって設けられていてもよい。このとき、親水性の程度が異なる格子状領域構成部２１ｈと基板領域部１２ｂは交互に配置されることになる。   In addition, as shown in FIG. 8, grid-like region constituting portions 21 h that are more hydrophilic than the base of the substrate portion 12 may be provided at intervals. At this time, the lattice-shaped region constituting portions 21h and the substrate region portions 12b having different hydrophilicity levels are alternately arranged.

格子状領域構成部２１ｈと基板領域部１２ｂが交互に形成されている場合にも、隣接する格子状領域構成部２１ｈは基板領域部１２ｂに供給された液体に働く表面張力に差が生じるため、供給された液体は細分化され霧化されやすくなる。   Even in the case where the lattice region constituting portion 21h and the substrate region portion 12b are alternately formed, the adjacent lattice region constituting portion 21h has a difference in surface tension acting on the liquid supplied to the substrate region portion 12b. The supplied liquid is subdivided and easily atomized.

図７および図８では、格子状領域構成部２１ｆ、２１ｇ、２１ｈのそれぞれは親水性の程度が同一のものを示したが、これに限られることなく、親水性の程度がそれぞれで異なっていてもよい。   7 and 8, each of the lattice-like region constituting parts 21f, 21g, and 21h has the same degree of hydrophilicity, but is not limited to this, and the degree of hydrophilicity is different. Also good.

また、図７および図８では、格子領域構成部２１ｆ、２１ｇ、２１ｈのそれぞれの大きさは全て略同等であるが、これに限られることはなく、例えば、大きさが異なる格子領域構成部を配列してもよい。また、図７および図８では、基板部１２と親水性の程度が異なる領域構成部として形状は格子状であるものを示したが、例えば、ひし形や三角形などのその他の形状であってもよいし、異なる形状の領域構成部をランダムに設けてもよい。   In FIGS. 7 and 8, the sizes of the lattice region constituting parts 21f, 21g, and 21h are all substantially the same. However, the present invention is not limited to this. For example, the lattice region constituting parts having different sizes are provided. You may arrange. In FIGS. 7 and 8, the region constituting portion having a degree of hydrophilicity different from that of the substrate portion 12 is shown in a lattice shape, but may be other shapes such as a rhombus and a triangle. However, the region constituent portions having different shapes may be provided at random.

（第５の実施形態）
図９は第５の実施形態に係る弾性表面波霧化装置１を示す。 (Fifth embodiment)
FIG. 9 shows a surface acoustic wave atomizer 1 according to a fifth embodiment.

弾性表面波霧化装置１の基板部１２に形成された基板部１２の素地よりも親水性の大きな領域３０ｅでは、基板部１２の長手方向の交差指電極１１が形成されている側から他端側に向けて親水性の程度が傾斜的に徐々に小さくなっている。領域３０ｅは、蒸着材料であるアルミニウムとフッ素樹脂を真空蒸着する際に、それぞれの蒸着方向と蒸着時間を制御することにより形成されている。   In the region 30e having a larger hydrophilicity than the substrate 12 formed on the substrate 12 of the surface acoustic wave atomizing device 1, the other end from the side where the cross finger electrodes 11 in the longitudinal direction of the substrate 12 are formed. The degree of hydrophilicity gradually decreases toward the side. The region 30e is formed by controlling the respective vapor deposition direction and vapor deposition time when vacuum deposition is performed on aluminum and fluorine resin, which are vapor deposition materials.

基板部１２に形成された領域３０ｅに供給された液体１３（例えば、水のような親水性の大きな液体）は、基板部１２に領域３０ｅが形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなる。このため、液体１３を基板部１２に薄く延ばすことができる。   The liquid 13 (for example, a highly hydrophilic liquid such as water) supplied to the region 30e formed on the substrate unit 12 is easily spread to the substrate unit 12 because the region 30e is formed on the substrate unit 12. Become. For this reason, the liquid 13 can be thinly extended to the substrate part 12.

さらに、領域３０ｅは、基板部１２表面において周辺を残し中程に形成されていることで、基板部１２に広がりやすくなった液体１３の広がる範囲を限定することができる。このため、供給された液体１３が基板外に漏れることを防ぐことができる。よって、供給した液体１３を損失することなく効率的に霧化することができる。   Furthermore, since the region 30e is formed in the middle with the periphery remaining on the surface of the substrate part 12, the range in which the liquid 13 that has become easy to spread on the substrate part 12 can be limited. For this reason, it is possible to prevent the supplied liquid 13 from leaking out of the substrate. Therefore, the supplied liquid 13 can be efficiently atomized without loss.

また、図９のように、領域３０ｅにおいて基板部１２の長手方向の交差指電極１１が形成されている側から他端側に向けて親水性の程度が小さくなっているため、供給された液体は親水性の程度が大きい交差指電極１１の方へ移動することになる。液体が移動するにつれ領域３０ｅの親水性の程度が大きくなるため、液体は徐々に基板部１２に広げられていくことになる。このため、効率よく基板部１２に液体を薄く延ばすことができる。また、供給された液体１３が弾性表面波から伝搬方向に力を受けたときでも、弾性表面波による力を相殺するような力を液体１３に働かせることができるため、液体１３の移動を防止することができる。   Further, as shown in FIG. 9, since the degree of hydrophilicity decreases from the side where the cross finger electrode 11 in the longitudinal direction of the substrate portion 12 is formed in the region 30e toward the other end side, the supplied liquid Moves toward the cross finger electrode 11 having a high degree of hydrophilicity. As the liquid moves, the degree of hydrophilicity of the region 30 e increases, so that the liquid is gradually spread on the substrate portion 12. For this reason, it is possible to efficiently spread the liquid thinly on the substrate portion 12. Further, even when the supplied liquid 13 receives a force from the surface acoustic wave in the propagation direction, a force that cancels the force generated by the surface acoustic wave can be applied to the liquid 13, thereby preventing the liquid 13 from moving. be able to.

（他の実施形態）
上記各実施形態では、基板部１２の素地と親水性の程度が異なる領域構成部をアルミニウムなどで形成したが、例えば、その他の金、白金などのような金属からなる薄膜や、ポリエチレングリコールのような有機物からなる薄膜などで形成することもできる。また、基板部１２を脱酸素処理することや、基板部１２に金属イオンを注入することによりも形成することができる。 (Other embodiments)
In each of the above embodiments, the region constituting portion having a hydrophilicity different from that of the substrate 12 is formed of aluminum or the like. For example, other thin films made of metal such as gold or platinum, polyethylene glycol or the like is used. It can also be formed of a thin film made of an organic material. Further, it can also be formed by deoxidizing the substrate portion 12 or implanting metal ions into the substrate portion 12.

また、上記各実施形態では、基板部１２の素地と親水性の程度が異なる領域３０として親水性の大きな領域を基板部１２に形成したが、これに限られず、親水性の小さな領域を形成することも可能である。基板部１２の素地よりも親水性の小さな領域を形成することによって、霧化対象である液体が、例えば、トルエンやヘキサンなどの有機溶剤を含むときなどに、本実施形態にて述べた効果を得ることができる。つまり、基板部１２と親水性の程度が異なる領域３０は、供給する液体に対して馴染みのよい領域であればよい。   In each of the above embodiments, a region having a large hydrophilicity is formed in the substrate portion 12 as the region 30 having a different degree of hydrophilicity from the base of the substrate portion 12. However, the present invention is not limited to this, and a region having a small hydrophilicity is formed. It is also possible. By forming a region having a hydrophilicity smaller than that of the substrate 12, when the liquid to be atomized contains an organic solvent such as toluene or hexane, the effects described in the present embodiment are obtained. Can be obtained. That is, the region 30 having a degree of hydrophilicity different from that of the substrate unit 12 may be any region that is familiar to the liquid to be supplied.

また、上記各実施形態では、基板部１２はＬｉＮｂＯ3（ニオブ酸リチウム）のような圧電体からなる基板であったが、これに限られることなく、非圧電基板の表面に圧電薄膜、例えば、ＰＺＴ薄膜（鉛、ジルコニウム、チタン合金薄膜）を形成したものでもよい。このとき、非圧電基板の表面に形成された圧電体薄膜の表面部分において、弾性表面波が励振される。従って、基板部１２は、弾性表面波が励振される圧電体部分を表面に備えた基板であればよい。 In each of the above embodiments, the substrate portion 12 is a substrate made of a piezoelectric material such as LiNbO 3 (lithium niobate). However, the present invention is not limited to this, and a piezoelectric thin film, for example, A PZT thin film (lead, zirconium, titanium alloy thin film) may be formed. At this time, surface acoustic waves are excited in the surface portion of the piezoelectric thin film formed on the surface of the non-piezoelectric substrate. Therefore, the board | substrate part 12 should just be a board | substrate provided with the piezoelectric material part by which a surface acoustic wave is excited on the surface.

以上、各実施形態を説明したが、本発明は、上記構成に限られることなく発明の要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能である。   While the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above configuration, and various modifications can be made without changing the gist of the invention.

１ 弾性表面波霧化装置
１１ 交差指電極
１２ 基板部
１３ 液体
１４ 電源
１５ 点
３０ 親水性の程度が異なる領域
５１ 対象物
５２ 液滴
５３ 接線
ｘ 弾性表面波の伝搬方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Surface acoustic wave atomizer 11 Cross finger electrode 12 Substrate part 13 Liquid 14 Power supply 15 Points 30 Regions with different degrees of hydrophilicity 51 Object 52 Droplet 53 Tangent x Surface acoustic wave propagation direction

Claims (7)

弾性表面波を生成する基板部を備え、
前記基板部に供給される液体を弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置であって、
前記基板部表面には、周辺を残し中程に前記基板部の素地とは親水性の程度が異なる領域が形成されていることを特徴とする弾性表面波霧化装置。 A substrate unit that generates surface acoustic waves is provided.
A surface acoustic wave atomizing device for atomizing a liquid supplied to the substrate portion by surface acoustic waves,
The surface acoustic wave atomization device is characterized in that a region having a hydrophilicity different from that of the substrate portion is formed on the surface of the substrate portion, leaving a periphery. 前記領域は、前記基板部の素地とは親水性の程度が異なる複数の領域構成部により構成されていることを特徴とする請求項１に記載の弾性表面波霧化装置。   2. The surface acoustic wave atomization device according to claim 1, wherein the region is constituted by a plurality of region constituent portions having a degree of hydrophilicity different from that of the substrate portion. 前記領域では、前記複数の領域構成部の存在割合が変化していることを特徴とする請求項２に記載の弾性表面波霧化装置。   The surface acoustic wave atomization device according to claim 2, wherein an existence ratio of the plurality of region constituent portions is changed in the region. 前記複数の領域構成部は、放射状に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の弾性表面波霧化装置。   The surface acoustic wave atomization device according to claim 2, wherein the plurality of region constituent portions are formed in a radial shape. 前記複数の領域構成部は、同心状に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の弾性表面波霧化装置。   The surface acoustic wave atomization device according to claim 2, wherein the plurality of region components are formed concentrically. 前記複数の領域構成部の各々は、隣接する領域構成部とは親水性の程度が異なるように形成されていることを特徴とする請求項２に記載の弾性表面波霧化装置。   The surface acoustic wave atomization device according to claim 2, wherein each of the plurality of region constituent parts is formed to have a different degree of hydrophilicity from an adjacent region constituent part. 前記領域構成部をパターニングにより形成することを特徴とする請求項２乃至請求項６いずれかに記載の弾性表面波霧化装置の製造方法。 The method for manufacturing a surface acoustic wave atomization device according to any one of claims 2 to 6, wherein the region constituting portion is formed by patterning.
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