JP5347348B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoreceptor capable of achieving both high durability and enhanced image quality excellent in mechanical strength/abrasion resistance of its surface without adversely affecting the performance of the photoreceptor that has a photosensitive layer and a protective layer, successively layered on a conductive support, such as electrostatic charging property and sensitivity/residual potential, etc. <P>SOLUTION: In an electrophotographic photoreceptor that has a photosensitive layer and a protective layer successively layered on a conductive support, the protective layer contains a reaction-cured material of silsesquioxane represented by a general formula (I) wherein R represents an organic group that binds a reactive organic group and a 2-20C hydrocarbon group, a plurality of Rs being either the same or different, and n represents an integer of 2-20. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、電子写真感光体に関し、更に詳しくは複写機、レーザービームプリンタ、ファクシミリなどにおける電子写真プロセスに用いる電子写真感光体に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, and more particularly to an electrophotographic photosensitive member used in an electrophotographic process in a copying machine, a laser beam printer, a facsimile, or the like.

近年、電子写真プロセスを用いた情報処理システム機の発展には目覚ましいものがある。特に、情報をデジタル信号に変換して光によって情報記録を行うため電子写真感光体(以後、単に感光体ともいう)を用いたレーザープリンタやデジタル複写機は、そのプリント品質、信頼性において向上が著しい。これらの電子写真プロセスのレーザープリンタやデジタル複写機等に使用される感光体としては、有機系の感光材料を用いたものが、コスト、生産性及び無公害性等の理由から広く応用されている。   In recent years, there has been a remarkable development in information processing system machines using an electrophotographic process. In particular, laser printers and digital copiers that use electrophotographic photoreceptors (hereinafter also simply referred to as photoreceptors) for converting information into digital signals and recording information by light have improved print quality and reliability. It is remarkable. As photoconductors used in laser printers and digital copying machines for these electrophotographic processes, those using organic photosensitive materials are widely applied for reasons such as cost, productivity, and pollution-free property. .

しかし、有機系の感光体は、無機感光体と比較して、繰り返し使用によって膜削れが発生し易い。感光層の膜削れが進むと、感光体の帯電電位の低下や光感度の劣化、感光体の最外層の表面の傷などによる地汚れ、画像濃度低下或いは画質劣化が促進される傾向が強く、従来から感光層の耐磨耗性が大きな課題として挙げられていた。更に、近年では電子写真装置の高速化或いは装置の小型化に伴う感光体の小径化によって、感光体の高耐久化がより一層重要な課題となっている。   However, organic photoreceptors are more susceptible to film abrasion due to repeated use than inorganic photoreceptors. As film removal of the photosensitive layer progresses, there is a strong tendency to promote ground stain, image density reduction or image quality deterioration due to a decrease in charging potential or photosensitivity of the photosensitive member, scratches on the surface of the outermost layer of the photosensitive member, Conventionally, the abrasion resistance of the photosensitive layer has been cited as a major issue. Further, in recent years, with the increase in the speed of the electrophotographic apparatus or the reduction in the diameter of the photoreceptor accompanying the downsizing of the apparatus, it has become a more important issue to improve the durability of the photoreceptor.

一方、近年、市場の高画質化要求に伴い、トナーの微粒化が進められている。しかしながら、この様な微粒化したトナーは、クリーニング不良などを引き起こし易く、トナーフィルミングや融着などに起因した画像劣化の要因となっており、クリーニングはますます高精度を要求されている。   On the other hand, in recent years, with the demand for higher image quality in the market, the atomization of toner has been promoted. However, such atomized toner is liable to cause defective cleaning and the like, causing image deterioration due to toner filming and fusing, and cleaning is required to have higher accuracy.

又、装置の省スペース化に伴い、より簡略な装置構成を実現するためにも、ブレードによるクリーニングを採用するのが有利である。ブレードクリーニングは、板状のポリウレタンなどの弾性部材を感光体上母線方向に突き当てただけの簡単な構成をとる。しかし、この様な場合、感光体の最外層の磨耗を促進し耐久性の低下を起こしてしまう。これに対処するためには、感光体の最外層に摩擦力に耐え得る強度を付与することが有効であり、これまでに多くの検討がなされてきた。   In addition, with the space saving of the apparatus, it is advantageous to employ cleaning with a blade in order to realize a simpler apparatus configuration. The blade cleaning has a simple configuration in which an elastic member such as plate-like polyurethane is abutted in the direction of the bus on the photoreceptor. However, in such a case, the outermost layer of the photoconductor is accelerated and the durability is lowered. In order to cope with this, it is effective to give the outermost layer of the photoreceptor a strength that can withstand frictional force, and many studies have been made so far.

感光体は電子写真プロセスにおいて、帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電などの作用を反復して受けるため機能としては、高画質化及び耐久性とを両立させることが特に重要な課題となっている。特に耐磨耗性や耐傷性などの機械的強度は耐久寿命を決定する最大の要素である。   Since the photoreceptor is repeatedly subjected to the effects of charging, exposure, development, transfer, cleaning, charge removal, etc. in the electrophotographic process, it is particularly important to achieve both high image quality and durability as functions. ing. In particular, mechanical strength such as wear resistance and scratch resistance is the largest factor that determines the endurance life.

しかしながら、感光体の耐久性には、感光体の最外層の耐刷性が大きく影響する。通常、感光体が電子写真装置に搭載されて使用される際、感光体の最外層は、クリーニングブレード、帯電ローラなどの接触部材によって摺擦され、その一部が削り取られることを余儀なくされる。摺擦による感光体の最外層の削り取られた量、すなわち膜減り量が多いと、感光体の帯電保持能が低下し、画質が低下するという問題が生じる。このため、感光体の最外層には、上記の接触部材によって削り取られ難いこと、すなわち耐刷性に優れることが求められる。   However, the durability of the photoreceptor is greatly affected by the printing durability of the outermost layer of the photoreceptor. Usually, when the photoconductor is mounted and used in an electrophotographic apparatus, the outermost layer of the photoconductor is rubbed by a contact member such as a cleaning blade or a charging roller, and a part thereof is forced to be scraped off. If the amount of the outermost layer of the photoreceptor removed by rubbing, that is, the amount of film reduction is large, there arises a problem that the charge holding ability of the photoreceptor is lowered and the image quality is lowered. For this reason, the outermost layer of the photoreceptor is required to be hard to be scraped off by the contact member, that is, to have excellent printing durability.

感光体の高耐久化を実現するための手段として、感光層(電荷発生層及び電荷輸送層を含める)を表面保護層で被覆することが行われている。表面保護層に耐久性を付与する方法として、例えば硬化性樹脂を使用する方法がこれまでに検討されてきた。   As a means for realizing high durability of a photoreceptor, a photosensitive layer (including a charge generation layer and a charge transport layer) is covered with a surface protective layer. As a method for imparting durability to the surface protective layer, for example, a method using a curable resin has been studied.

例えば、感光体表面の保護層材料として反応性アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する放射線硬化型樹脂を用いた感光体が開示されている(特許文献1、特許文献2)。又、感光体の表面保護層が少なくとも放射線架橋剤と電荷輸送物質を含有すると共に、酸素濃度5%以下の雰囲気で放射線架橋する技術が知られている(特許文献3)。更に、導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸送層、保護層をこの順に積層してなる電子写真感光体において、保護層がパルス発光光源の光照射により反応硬化させた反応硬化膜で形成する技術が開示されている(特許文献4)。   For example, a photoconductor using a radiation curable resin having a reactive acryloyl group or methacryloyl group as a protective layer material on the surface of the photoconductor is disclosed (Patent Documents 1 and 2). In addition, a technique is known in which the surface protective layer of the photoreceptor contains at least a radiation crosslinking agent and a charge transport material, and radiation crosslinking is performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 5% or less (Patent Document 3). Furthermore, in an electrophotographic photosensitive member in which a charge generation layer, a charge transport layer, and a protective layer are laminated in this order on a conductive support, the protective layer is formed of a reaction-cured film that is reactively cured by light irradiation of a pulsed light source. (Patent Document 4).

しかしながら、この様に上記に示される様な硬化性バインダー樹脂を使用する場合、硬化時の有機光導電材料の反応劣化、未反応官能基や重合開始剤副成物などによる不純物準位の形成などにより、十分な光導電特性が得られない場合が多かった。又、耐磨耗性は向上するものの反応が十分でなく、感光体表面に近くなるほど未反応物質多くなるためトナー成分等のフィルミングを生じ易いものであった。   However, when using a curable binder resin as shown above, reaction deterioration of the organic photoconductive material during curing, formation of impurity levels due to unreacted functional groups and polymerization initiator by-products, etc. As a result, sufficient photoconductive properties could not be obtained. In addition, although the wear resistance is improved, the reaction is not sufficient, and the closer to the surface of the photoreceptor, the more unreacted substances increase, so that filming of toner components and the like is likely to occur.

又、他の方法として例えば、感光体表面層に架橋性オルガノポリシロキサン樹脂層を保護層として設けることが提案されている。   As another method, for example, it has been proposed to provide a crosslinkable organopolysiloxane resin layer as a protective layer on the surface layer of the photoreceptor.

しかしながら、この様な架橋性オルガノポリシロキサン樹脂層を設ける方法では、表面の機械的強度・耐磨耗性は従来の感光体に比べて大きくなるものの未だ十分ではない。又、感光体の帯電性、感度・残留電位等はかえって悪化してしまうことがあること、高温高湿下のような条件では画像流れを生じて鮮明な画像が得られなくなることが問題であった。   However, such a method of providing a crosslinkable organopolysiloxane resin layer is not sufficient, although the mechanical strength and abrasion resistance of the surface are larger than those of conventional photoreceptors. Another problem is that the chargeability, sensitivity, residual potential, etc. of the photoconductor may be deteriorated, and that under such conditions as high temperature and high humidity, image flow may occur and a clear image cannot be obtained. It was.

又、表面保護層を設けず、電荷輸送層の耐久性を向上する技術として少なくとも1つの電荷輸送成分と少なくとも1つのシラノールとを含む少なくとも1つの電荷輸送層を用いた技術が提案されているが、耐磨耗性と画質は不十分である(特許文献7)。   Further, as a technique for improving the durability of the charge transport layer without providing a surface protective layer, a technique using at least one charge transport layer containing at least one charge transport component and at least one silanol has been proposed. The abrasion resistance and image quality are insufficient (Patent Document 7).

上記状況から、導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した感光体の帯電性、感度・残留電位等の性能に悪影響を与えることなく、表面の機械的強度・耐磨耗性に優れた高耐久性と高画質化とを両立させた感光体の開発が望まれている。
特開2000−310871号公報 特開2001−125297号公報 特開2005−099188号公報 特開2008−076465号公報 特開平3−139655号公報 特開平5−40359号公報 特開2008−20912号公報
From the above situation, the mechanical strength and abrasion resistance of the surface can be obtained without adversely affecting the chargeability, sensitivity, residual potential, etc. of the photoreceptor in which the photosensitive layer and protective layer are sequentially laminated on the conductive support. Development of a photoconductor that achieves both excellent durability and high image quality has been desired.
JP 2000-310871 A JP 2001-125297 A JP 2005-099188 A JP 2008-076465 A1 Japanese Patent Laid-Open No. 3-139655 JP-A-5-40359 JP 2008-20912 A

本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した感光体の帯電性、感度・残留電位等の性能に悪影響を与えることなく、表面の機械的強度・耐磨耗性に優れた高耐久性と高画質化とを両立させた感光体を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to adversely affect the performance of the photosensitive member in which a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support, such as chargeability, sensitivity and residual potential. The present invention also provides a photoconductor that achieves both high durability and high image quality with excellent surface mechanical strength and wear resistance.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.

1.導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において、
前記保護層に下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンの反応硬化物または下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンの反応硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
1. In an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support,
A ladder-structured silsesquioxane reaction cured product represented by the following general formula (II) or a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), or (V) An electrophotographic photoreceptor comprising a reaction cured product of silsesquioxane .


(式中、R1は下記式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)のいずれかで表される基であり、tは1〜30の整数を表す。)(In the formula, R1 is a group represented by any of the following formula (13), formula (14), formula (15), formula (19), formula (20) and formula (22)), and t is 1 Represents an integer of ˜30.)

(式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)中のuは1〜19の整数を表す。式(22)中のX3およびX4はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X3とX4は同じであってもよい。)(U in Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (19), Formula (20), and Formula (22)) represents an integer of 1 to 19. X3 in Formula (22) and X4 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group, and X3 and X4 may be the same.)


(上記一般式(III )中のR2は下記式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)のいずれかで表される基であり、上記一般式(IV)および一般式(V)中のR2は下記式(25)および式(31)のいずれかで表される基である。)(R2 in the general formula (III) is a group represented by any one of the following formula (25), formula (26), formula (31), formula (32), and formula (36)). (IV) and R2 in the general formula (V) are groups represented by any of the following formulas (25) and (31).

(式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)中のvは1〜19の整数を表す。式(36)中のX5およびX6はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X5とX6は同じであってもよい。)(V in the formula (25), the formula (26), the formula (31), the formula (32), and the formula (36) represents an integer of 1 to 19. X5 and X6 in the formula (36) are methyl groups, It is an ethyl group or a phenyl group, and X5 and X6 may be the same.)

2.導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において、
前記保護層に下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンまたは下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンと、当該下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンまたは下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物との反応硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
2. In an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support,
A silsesquioxane having a ladder structure represented by the following general formula (II) or a silsesquioxane having a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), or (V) is provided in the protective layer. And a silsesquioxane having a ladder structure represented by the following general formula (II) or a silsesquioxane having a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), and (V): An electrophotographic photoreceptor comprising a reaction cured product with a compound having a reactive organic group.


(式中、R1は下記式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)のいずれかで表される基であり、tは1〜30の整数を表す。)(In the formula, R1 is a group represented by any of the following formula (13), formula (14), formula (15), formula (19), formula (20) and formula (22)), and t is 1 Represents an integer of ˜30.)

(式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)中のuは1〜19の整数を表す。式(22)中のX3およびX4はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X3とX4は同じであってもよい。)(U in Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (19), Formula (20), and Formula (22)) represents an integer of 1 to 19. X3 in Formula (22) and X4 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group, and X3 and X4 may be the same.)


(上記一般式(III )中のR2は下記式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)のいずれかで表される基であり、上記一般式(IV)および一般式(V)中のR2は下記式(25)および式(31)のいずれかで表される基である。)(R2 in the general formula (III) is a group represented by any one of the following formula (25), formula (26), formula (31), formula (32), and formula (36)). (IV) and R2 in the general formula (V) are groups represented by any of the following formulas (25) and (31).

(式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)中のvは1〜19の整数を表す。式(36)中のX5およびX6はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X5とX6は同じであってもよい。)(V in the formula (25), the formula (26), the formula (31), the formula (32), and the formula (36) represents an integer of 1 to 19. X5 and X6 in the formula (36) are methyl groups, It is an ethyl group or a phenyl group, and X5 and X6 may be the same.)

導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した感光体の帯電性、感度・残留電位等の性能に悪影響を与えることなく、表面の機械的強度・耐磨耗性に優れた高耐久性と高画質化とを両立させた感光体を提供することが出来た。   Highly superior surface mechanical strength and wear resistance without adversely affecting the performance of the photosensitive member, which has a photosensitive layer and a protective layer laminated on a conductive support, in order to avoid adverse effects on the charging performance, sensitivity and residual potential. We were able to provide a photoreceptor that has both durability and high image quality.

以下本発明について詳細に説明する。   The present invention will be described in detail below.

〔感光体の層構成〕
本発明の感光体は、導電性支持体上に、少なくとも感光層及び保護層を順次積層したもので、その層構成は、特に制限されるものではなく、具体的には、以下に示すような層構成を挙げることが出来る。
[Photosensitive layer structure]
The photoreceptor of the present invention is obtained by sequentially laminating at least a photosensitive layer and a protective layer on a conductive support. The layer structure is not particularly limited, and specifically, as shown below. A layer structure can be mentioned.

1)導電性支持体上に、感光層として電荷発生層と電荷輸送層、及び保護層を順次積層した層構成、
2)導電性支持体上に、感光層として電荷輸送材料と電荷発生材料とを含む単層、及び保護層を順次積層した層構成、
3)導電性支持体上に、中間層、感光層として電荷発生層と電荷輸送層、及び保護層を順次積層した層構成、
4)導電性支持体上に、中間層、感光層として電荷輸送材料と電荷発生材料とを含む単層、及び保護層を順次積層した層構成。
1) A layer structure in which a charge generation layer, a charge transport layer, and a protective layer are sequentially laminated as a photosensitive layer on a conductive support.
2) A layer structure in which a single layer containing a charge transport material and a charge generation material as a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support.
3) Layer structure in which a charge generation layer, a charge transport layer, and a protective layer are sequentially laminated as an intermediate layer and a photosensitive layer on a conductive support.
4) A layer structure in which an intermediate layer, a single layer containing a charge transport material and a charge generation material as a photosensitive layer, and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support.

本発明の感光体は、上記何れの層構成でもよいが、これらの中では、導電性支持体上に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層を設けて作製されるものが好ましい。   The photoreceptor of the present invention may have any of the above-described layer structures, but among these, those prepared by providing an intermediate layer, a charge generation layer, a charge transport layer, and a protective layer on a conductive support are preferable. .

〔保護層〕
感光体の保護層は、感光体が空気界面と接触する層である。
[Protective layer]
The protective layer of the photoreceptor is a layer in which the photoreceptor is in contact with the air interface.

本発明の感光体に係わる保護層は、下記一般式(I)で表されるシルセスキオキサンの反応硬化物を含有する。   The protective layer relating to the photoreceptor of the present invention contains a reaction cured product of silsesquioxane represented by the following general formula (I).

又、本発明の感光体に係わる保護層は、下記一般式(I)で表されるシルセスキオキサンと、前記シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物との反応硬化物を含有する。   The protective layer according to the photoreceptor of the present invention contains a reaction cured product of a silsesquioxane represented by the following general formula (I) and a compound having an organic group capable of reacting with the silsesquioxane. To do.

式中、Rは反応性有機基と炭化水素基とを結合した有機基を示し、炭化水素基の炭素数は、好ましくは1〜20の整数、特に好ましくは2〜10の整数である。炭素数をこの範囲にすることで、強度と可撓性を両立した機械的強度・耐磨耗性耐の高い膜を形成することが出来る。   In formula, R shows the organic group which combined the reactive organic group and the hydrocarbon group, Carbon number of a hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is an integer of 1-20, Most preferably, it is an integer of 2-10. By setting the number of carbons within this range, it is possible to form a film having high mechanical strength and high wear resistance that satisfies both strength and flexibility.

又、反応硬化物が架橋構造をとることで、機械的強度・耐磨耗性が向上するために、有機基Rは複数あることが好ましい。複数の有機基Rは、全て同一の有機基でもよいし、異なる有機基でもよい。   In addition, since the reaction cured product has a cross-linked structure, the mechanical strength and the wear resistance are improved. The plurality of organic groups R may all be the same organic group or different organic groups.

又、nは好ましくは2〜20の整数、特に好ましくは4〜16の整数である。この範囲にすることで、溶媒との相溶性を損なうことがないために、機械的強度・耐磨耗性と両立した塗工性に優れた均質な硬化膜を得ることが出来る。   N is preferably an integer of 2 to 20, particularly preferably an integer of 4 to 16. By setting the amount within this range, the compatibility with the solvent is not impaired, so that a homogeneous cured film excellent in coating properties compatible with mechanical strength and wear resistance can be obtained.

有機基Rの反応性有機基は、外部からの刺激によって加水分解反応や重合反応が起こり、周囲の有機基と化学的に結合する有機基を意味し、熱硬化性又は活性線硬化性の有機基が好ましい。反応性有機基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、3,4−エポキシシクロへキシル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でもアクリロイル基、メタクリロイル基が、架橋密度を高めることにより、機械的強度・耐磨耗性を向上することが出来るため特に好ましい。   The reactive organic group of the organic group R means an organic group that undergoes a hydrolysis reaction or a polymerization reaction by an external stimulus and is chemically bonded to the surrounding organic group, and is a thermosetting or active ray curable organic group. Groups are preferred. Examples of the reactive organic group include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, epoxy group, 3,4-epoxycyclohexyl group, oxetanyl group and the like. Among them, an acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable because the mechanical strength and wear resistance can be improved by increasing the crosslinking density.

又、有機基Rには、連結基としてエーテル基、シロキサン基を有することが好ましい。これらの連結基により、可撓性をコントロールすることで、塗膜の耐クラック性を高めることが出来る。有機基Rの具体的な構造を以下に示す。   The organic group R preferably has an ether group or a siloxane group as a linking group. By controlling the flexibility by these linking groups, the crack resistance of the coating film can be enhanced. The specific structure of the organic group R is shown below.

上記構造式の内、X1、X2は同じでも異なってもよく、メチル基、エチル基、フェニル基の何れかを示す。mは1〜20の整数を示す。   In the above structural formulas, X1 and X2 may be the same or different and each represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group. m shows the integer of 1-20.

上記構造式の内、(1)〜(6)は熱硬化性の有機基を示し、(7)〜(12)は活性線硬化性の有機基を示す。   Among the above structural formulas, (1) to (6) represent thermosetting organic groups, and (7) to (12) represent actinic radiation curable organic groups.

本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンは、下記一般式(II)で表すラダー構造のシルセスキオキサン、又は下記一般式(III)〜(VII)で表すケージ構造のシルセスキオキサンが好ましい。   The silsesquioxane relating to the photoreceptor of the present invention is a silsesquioxane having a ladder structure represented by the following general formula (II) or a silsesquioxane having a cage structure represented by the following general formulas (III) to (VII). preferable.

式中、R1は反応性有機基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、3,4−エポキシシクロへキシル基、オキセタニル基等)を有するエーテル結合及びシロキサン結合を有していてもよい炭素数2〜20の炭化水素基置換基を示す。複数のRは同じであってもよい。tは、1〜30で表される整数を示す。   In the formula, R1 has an ether bond and a siloxane bond having a reactive organic group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, epoxy group, 3,4-epoxycyclohexyl group, oxetanyl group, etc.). The C2-C20 hydrocarbon group substituent which may be good is shown. A plurality of R may be the same. t shows the integer represented by 1-30.

一般式(II)で示されるラダー構造のシルセスキオキサンの有するR1の具体的な構造式を以下に示す。   Specific structural formulas of R1 possessed by the silsesquioxane having a ladder structure represented by the general formula (II) are shown below.

上記構造式の内、X3、X4は同じであってもよく、メチル基、エチル基、フェニル基を示す。uは1〜19の整数を示す。   Among the above structural formulas, X3 and X4 may be the same and represent a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group. u represents an integer of 1 to 19.

上記構造式の内、(13)〜(24)は熱硬化性の有機基を示し、(19)〜(24)は活性線硬化性の有機基を示す。   Among the above structural formulas, (13) to (24) represent thermosetting organic groups, and (19) to (24) represent actinic radiation curable organic groups.

式中、R2は反応性有機基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、3,4−エポキシシクロへキシル基、オキセタニル基等)を有するエーテル結合、又は及びシロキサン結合を有していてもよい炭素数2〜20の炭化水素基置換基を示す。複数のR2は同じであってもよい。一般式(III)〜一般式(VII)で示されるケージ構造のシルセスキオキサンの有するR2の具体的な構造式を以下に示す。   In the formula, R2 has an ether bond having a reactive organic group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, epoxy group, 3,4-epoxycyclohexyl group, oxetanyl group, etc.) or a siloxane bond. An optionally substituted hydrocarbon group substituent having 2 to 20 carbon atoms is shown. Several R2 may be the same. Specific structural formulas of R2 possessed by the silsesquioxane having the cage structure represented by the general formulas (III) to (VII) are shown below.

上記構造式の内、X5、X6は同じであってもよく、メチル基、エチル基、フェニル基を示す。vは1〜19の整数を示す。   Among the above structural formulas, X5 and X6 may be the same and represent a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group. v represents an integer of 1 to 19.

上記構造式の内、(25)〜(30)は熱硬化性の有機基を示し、(31)〜(36)は活性線硬化性の有機基を示す。   Of the above structural formulas, (25) to (30) represent thermosetting organic groups, and (31) to (36) represent actinic radiation curable organic groups.

一般式(II)で表すラダー構造のシルセスキオキサン、一般式(III)〜(VII)で表すケージ構造のシルセスキオキサンは、単独又は混合物で使用することが可能である。   The ladder structure silsesquioxane represented by the general formula (II) and the cage structure silsesquioxane represented by the general formulas (III) to (VII) can be used alone or in a mixture.

尚、混合物で使用するとは、ラダー構造のシルセスキオキサンとケージ構造のシルセスキオキサンとの混合、又は、異なったケージ構造のシルセスキオキサンの混合等を意味する。但し、混合使用する場合は、光硬化性の反応性有機基を有するシルセスキオキサン同士、又は、熱硬化性の反応性有機基を有するシルセスキオキサン同士で混合することが反応を安定に行う面から好ましい。   The use in a mixture means a mixture of a silsesquioxane having a ladder structure and a silsesquioxane having a cage structure or a mixture of silsesquioxanes having different cage structures. However, when mixed and used, mixing with silsesquioxanes having photocurable reactive organic groups or silsesquioxanes having thermosetting reactive organic groups can stabilize the reaction. It is preferable in terms of performance.

混合使用する場合の混合比率は、使用するシルセスキオキサンの種類により異なるため一義的に規定することは困難である。必要とする保護膜の硬さに合わせ適宜決めることが出来る。次に、本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物に付き説明する。   The mixing ratio in the case of mixed use varies depending on the type of silsesquioxane to be used, so it is difficult to uniquely define it. It can be determined appropriately according to the required hardness of the protective film. Next, the compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane relating to the photoreceptor of the present invention will be described.

反応可能な有機基としては、活性線硬化性、熱硬化性であることが好ましい。活性線硬化性の有機基としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。これらの光硬化性の反応性有機基を有する化合物としては、例えばイソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)メタアクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類、モルホリン(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、N−ビニルカプロラクトン、スチレン等の単官能性ラジカル重合性化合物;トリメチロープロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート、ジアリルフマレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート等の多官能性ラジカル重合性化合物等が挙げられる。   The reactive organic group is preferably actinic ray curable or thermosetting. Examples of the actinic ray curable organic group include an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group. Examples of the compound having a photocurable reactive organic group include isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) methacrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy (Meth) acrylates such as propyl (meth) acrylate, (poly) propylene glycol mono (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylamides such as morpholine (meth) acrylamide, N-vinylcaprolactone, Monofunctional radically polymerizable compounds such as styrene; trimethylopropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol Cole (meth) acrylate, triethylene glycol (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di ( Examples thereof include polyfunctional radically polymerizable compounds such as (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, diallyl phthalate, diallyl fumarate, and ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate.

熱硬化性の有機基としては、エポキシ基、オキセタニル基、脂環式エポキシ基等が挙げられる。これらの反応性有機基を有する化合物としては、例えばビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールAD型エポキシ化合物、水素化ビスフェノールAや水素化ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加型ジグリシジルエーテル、脂肪族ジオール、トリオール類等の多価アルコール類から得られる多価グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等のアルキルモノグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、ビニルシクロヘキセンジオキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等の脂環式エポキシ化合物、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル等のビニルエーテル類等多官能熱重合性化合物等が挙げられる。   Examples of the thermosetting organic group include an epoxy group, an oxetanyl group, and an alicyclic epoxy group. Examples of these compounds having reactive organic groups include bisphenol F type epoxy compounds, bisphenol AD type epoxy compounds, hydrogenated bisphenol A and hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A propylene oxide addition type diglycidyl ether, Polyhydric glycidyl ethers obtained from polyhydric alcohols such as aliphatic diols and triols, alkyl monoglycidyl ethers such as butyl glycidyl ether, cyclohexene oxide, vinylcyclohexene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4 '-Epoxycyclohexanecarboxylate, alicyclic epoxy compounds such as di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, diethylene glycol divinyl ether, trie Glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether and dodecyl vinyl ether multifunctional heat polymerizable compound, and the like.

本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンは、シルセスキオキサン単独で用いることも出来るし、シルセスキオキサンと、シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物とを混合して用いることも出来る。   The silsesquioxane relating to the photoreceptor of the present invention can be used alone, or a mixture of silsesquioxane and a compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane is used. You can also

上記に示すシルセスキオキサンと反応可能な光硬化性又は熱硬化性の有機基を有する化合物と、本発明のシルセスキオキサンとを混合使用する場合の混合比率は、使用するシルセスキオキサンの種類及びシルセスキオキサンと反応可能な光硬化性又は熱硬化性の有機基を反応性有機基として有する化合物の種類や必要とする保護膜の硬さに合わせ適宜決めることが出来る。   The mixing ratio of the compound having a photocurable or thermosetting organic group capable of reacting with the silsesquioxane shown above and the silsesquioxane of the present invention is the silsesquioxane used. And the kind of the compound having a photocurable or thermosetting organic group capable of reacting with silsesquioxane as the reactive organic group and the required hardness of the protective film, can be appropriately determined.

保護層の形成方法としては、保護層形成用塗布液を浸漬塗布、或いは円形量規制型塗布、或いは浸漬塗布と円形量規制型塗布を組み合わせて感光層の上に塗膜を設けた後、使用した保護層形成用塗布液の種類に応じて光硬化処理、熱硬化処理を行うことにより作製することが出来るがこれに限定されるものではない。尚、円形量規制型塗布については例えば特開昭58−189061号公報に詳細に記載されている。   As a method for forming a protective layer, a coating solution for forming a protective layer is dip coated, or a circular amount regulation type coating, or a combination of dip coating and a circular amount regulation type coating is applied on a photosensitive layer and then used. Although it can produce by performing the photocuring process and the thermosetting process according to the kind of applied coating liquid for protective layer formation, it is not limited to this. The circular amount regulation type application is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-189061.

本発明の感光体を用いることで次の効果が挙げられる。
1.感光体の帯電性、感度、残留電位等の性能に悪影響を与えることなく、良質な画像を形成することが出来る。
2.特に高温高湿環境下における画像流れ等を発生することなく、良質な画像を形成することが出来る。
3.感光体表面の機械的強度を上ることで、クリーニング等による磨耗、傷付きを防止し、良質な画質を長い期間に渡って維持することが出来る。
The following effects can be obtained by using the photoreceptor of the present invention.
1. A high-quality image can be formed without adversely affecting the performance such as the chargeability, sensitivity, and residual potential of the photoreceptor.
2. In particular, a high-quality image can be formed without causing an image flow or the like in a high temperature and high humidity environment.
3. By increasing the mechanical strength of the surface of the photoreceptor, it is possible to prevent wear and scratches due to cleaning and the like, and to maintain a high quality image for a long period.

〔重合開始剤〕
本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンやシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物は、重合開始剤の存在下で反応硬化することが好ましい。重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルフォリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。
(Polymerization initiator)
The silsesquioxane or the compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane relating to the photoreceptor of the present invention is preferably reaction-cured in the presence of a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy- 2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-2 Acetophenone-based or ketal-based photopolymerization initiators such as morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one and 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, benzoin, benzoinmethyl Ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzo Benzoin ether photopolymerization initiators such as isopropyl ether, benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl ether, acrylated benzophenone, 1,4 -Benzophenone photopolymerization initiators such as benzoylbenzene, thioxanthone photopolymerization initiators such as 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone Is mentioned.

その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物が挙げられる。又、光重合促進効果を有するものを単独又は上記光重合開始剤と併用して用いることも出来る。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4′−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。   Other photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine Examples thereof include oxide, bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10-phenanthrene, acridine compound, triazine compound, and imidazole compound. Moreover, what has a photopolymerization acceleration effect can also be used individually or in combination with the said photoinitiator. Examples include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, (2-dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, and the like.

これらの重合開始剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性を有する総含有物100質量部に対し0.5〜40質量部、好ましくは1〜20質量部である。
〔反応硬化物〕
本発明では、保護層中に反応硬化物が含有されるものであるが、「反応硬化物」とは、熱又は紫外線や電子線等の活性線の照射により重合性化合物を重合させて形成される反応生成物のことである。反応硬化物は、シルセスキオキサンの反応及びシルセスキオキサンと反応可能な有機基との反応によって形成され、その反応は熱硬化でも活性線硬化でもよい。
These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Content of a polymerization initiator is 0.5-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total contents which have radical polymerizability, Preferably it is 1-20 mass parts.
(Reaction cured product)
In the present invention, a reaction cured product is contained in the protective layer, but the “reaction cured product” is formed by polymerizing a polymerizable compound by irradiation of heat or active rays such as ultraviolet rays and electron beams. Reaction product. The reaction cured product is formed by a reaction of silsesquioxane and a reaction with an organic group capable of reacting with silsesquioxane, and the reaction may be thermal curing or active ray curing.

活性線硬化の場合、本発明では、重合開始剤の存在下で本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンやシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物に活性線を照射してラジカルを発生して重合し、且つ分子間及び分子内で架橋反応による架橋結合を形成して硬化し、反応硬化物を生成する。活性線としては紫外線や電子線が好ましい。   In the case of actinic radiation curing, in the present invention, in the presence of a polymerization initiator, silsesquioxane related to the photoreceptor of the present invention or a compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane is irradiated with actinic radiation to generate radicals. To form a cross-linked bond between the molecules and within the molecule, and cure to form a reaction cured product. As the actinic ray, ultraviolet rays and electron beams are preferable.

紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm、好ましくは5〜100mJ/cmである。 As the ultraviolet light source, any light source that generates ultraviolet light can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 100 mJ / cm 2 .

電子線源としては、電子線照射装置に格別の制限はなく、一般にはこの様な電子線照射用の電子線加速機として、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。電子線照射の際の加速電圧は、100〜300kVであることが好ましく、吸収線量としては、0.5〜10Mradであることが好ましい。   As an electron beam source, there is no particular limitation on the electron beam irradiation device, and generally, an electron beam accelerator for such electron beam irradiation is a curtain beam type that is relatively inexpensive and can provide a large output. Used. The acceleration voltage at the time of electron beam irradiation is preferably 100 to 300 kV, and the absorbed dose is preferably 0.5 to 10 Mrad.

本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンやシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物は、塗布乾燥中又は後に活性線を照射するのがよい。必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜3分程度がよく、硬化性官能基を有する化合物の硬化効率又は作業効率の観点から1〜60秒がより好ましい。これら活性線照射部の照度は50〜1000mW/mであることが好ましい。 Silsesquioxane or a compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane relating to the photoreceptor of the present invention is preferably irradiated with actinic rays during or after coating and drying. The irradiation time for obtaining the necessary irradiation amount of active rays is preferably about 0.1 seconds to 3 minutes, and more preferably 1 to 60 seconds from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the compound having a curable functional group. . The illuminance of these active ray irradiators is preferably 50 to 1000 mW / m 2 .

活性線としては電子線より紫外線が使用し易く好ましい。   As an actinic ray, ultraviolet rays are preferred because they are easier to use than electron beams.

保護層は、上記本発明の感光体に係わるシルセスキオキサンやシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物の他に、必要に応じてフィラー、滑剤粒子等の粒子状添加剤及び酸化防止剤等を含有することが出来る。
(粒子状添加剤)
本発明に用いられる粒子状添加剤は、数平均一次粒径が3〜300nmのものが好ましい。特に好ましくは10〜200nmのものである。数平均一次粒径が、上記範囲の粒子は、塗布液中に均一に分散が出来るので、凝集粒子の形成や表面に大きな凹凸の発生を防止出来、該凝集粒子が電荷トラップとなって黒ポチや転写メモリーの発生、該大きな凹凸による黒ポチの発生がない良好なトナー画像を形成することが出来る。又、塗布液中で粒子が沈降しにくく、液の分散安定性にも優れる。本発明では、添加される粒子として、無機粒子や有機粒子とを含むことが出来る。
In addition to the silsesquioxane and the compound having an organic group capable of reacting with the silsesquioxane related to the photoreceptor of the present invention, the protective layer includes fillers, particulate additives such as lubricant particles, and oxidation as necessary. An inhibitor or the like can be contained.
(Particulate additive)
The particulate additive used in the present invention preferably has a number average primary particle size of 3 to 300 nm. Particularly preferred is 10 to 200 nm. Particles having a number average primary particle size in the above range can be uniformly dispersed in the coating solution, so that formation of aggregated particles and generation of large irregularities on the surface can be prevented, and the aggregated particles serve as charge traps and black spots. In addition, it is possible to form a good toner image without generation of transfer memory and generation of black spots due to the large unevenness. Further, the particles are less likely to settle in the coating solution, and the dispersion stability of the solution is also excellent. In the present invention, the particles to be added can include inorganic particles and organic particles.

無機粒子と有機粒子の割合は、無機粒子20〜80質量%が好ましく、30〜70質量がより好ましい。無機粒子としては、チタニア粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタン酸ストロンチウム粒子から選択されてなるものを挙げることが出来る。これらの中ではチタニア粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子が好ましい。   As for the ratio of an inorganic particle and an organic particle, 20-80 mass% of inorganic particles are preferable, and 30-70 mass is more preferable. Examples of the inorganic particles include those selected from titania particles, silica particles, alumina particles, and strontium titanate particles. Among these, titania particles, silica particles, and alumina particles are preferable.

無機粒子は、分散性向上と電子写真特性の安定性から表面処理したものが好ましい。例えば、有機溶剤や水に対して反応性有機ケイ素化合物を溶解又は懸濁させた液に無機粒子を添加し、この液を数分から1時間程度撹拌する。そして場合によっては該液に加熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥し、表面を有機ケイ素化合物で被覆した無機粒子を得る。尚、有機溶剤や水に対して無機粒子を分散させた懸濁液に反応性有機ケイ素化合物を添加しても構わない。   The inorganic particles are preferably surface-treated from the viewpoint of improving dispersibility and stability of electrophotographic characteristics. For example, inorganic particles are added to a solution obtained by dissolving or suspending a reactive organosilicon compound in an organic solvent or water, and the solution is stirred for several minutes to about 1 hour. And depending on the case, after heat-processing this liquid, it passes through processes, such as filtration, and is dried, and the inorganic particle which coat | covered the surface with the organosilicon compound is obtained. A reactive organosilicon compound may be added to a suspension in which inorganic particles are dispersed in an organic solvent or water.

保護層を形成するには、その構成成分である上記本発明の感光体に係わるシルセスキオキサン、シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物、重合開始剤及び酸化防止剤等を溶解する溶媒の選択も重要である。すなわち、これらの保護層塗布組成物に良溶媒(よく溶解する溶媒)を選択し、保護層の塗布溶媒に用いることが好ましい。例えば、テトラヒドロフラン(THF)、トルエン、各種ケトン類、エタノール、イソプロパノール、1−プロパノール等のアルコール類を用いることが好ましい。保護層の膜厚は、0.2〜10μmが好ましく、1.0〜7.0μmがより好ましい。   In order to form the protective layer, the constituent components, such as silsesquioxane related to the photoreceptor of the present invention, a compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane, a polymerization initiator and an antioxidant are dissolved. The selection of the solvent to be used is also important. That is, it is preferable to select a good solvent (a solvent that dissolves well) in these protective layer coating compositions and use it as a coating solvent for the protective layer. For example, it is preferable to use alcohols such as tetrahydrofuran (THF), toluene, various ketones, ethanol, isopropanol, and 1-propanol. The thickness of the protective layer is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 1.0 to 7.0 μm.

次に、本発明の感光体を構成する保護層以外の部材、各層について説明する。   Next, members other than the protective layer and each layer constituting the photoreceptor of the present invention will be described.

(導電性支持体)
ロール状感光体の導電性支持体としては、円筒状で、比抵抗が10Ωcm以下のものが好ましい。具体例として、切削加工後表面洗浄した円筒状アルミニウムを挙げることが出来る。
(Conductive support)
The conductive support for the roll-shaped photoreceptor is preferably cylindrical and has a specific resistance of 10 3 Ωcm or less. As a specific example, cylindrical aluminum whose surface has been cleaned after cutting can be mentioned.

ベルト状感光体の基体としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の表面にアルミニウム蒸着や、インジウム/スズ酸化物を形成したものが挙げられる。   Examples of the substrate of the belt-shaped photoreceptor include those in which aluminum vapor deposition or indium / tin oxide is formed on the surface of polyimide resin, polyester resin, polycarbonate resin or the like.

(中間層)
中間層は、バインダー、分散溶媒等から構成される中間層形成用塗布液を導電性基体上に塗布、乾燥して形成される。中間層のバインダーとしては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位の内の2つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら樹脂の中ではポリアミド樹脂が、繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく出来好ましい。又、電位特性向上や黒ポチ欠陥の低減、モアレの低減等の目的で、必要に応じて、中間層に酸化チタンや酸化亜鉛等のフィラーや酸化防止剤等の添加剤を添加することも出来る。
(Middle layer)
The intermediate layer is formed by applying and drying an intermediate layer forming coating solution composed of a binder, a dispersion solvent, and the like on a conductive substrate. Examples of the binder for the intermediate layer include polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl acetate resins, and copolymer resins containing two or more of these resin repeating units. Among these resins, a polyamide resin is preferable because it can reduce an increase in residual potential due to repeated use. In addition, for the purpose of improving potential characteristics, reducing black spot defects, reducing moire, etc., additives such as fillers and antioxidants such as titanium oxide and zinc oxide can be added to the intermediate layer as necessary. .

中間層形成用塗布液を作製する溶媒としては、必要に応じ添加する無機粒子を良好に分散し、ポリアミド樹脂を溶解するものが好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、t−ブタノール、sec−ブタノール等の炭素数2〜4のアルコール類が、ポリアミド樹脂の溶解性と塗布性能に優れ好ましい。これらの溶媒は全溶媒中に30質量%〜100質量%、好ましくは40質量%〜100質量%、更には50質量%〜100質量%が好ましい。前記溶媒と併用し、好ましい効果を得られる助溶媒としては、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。中間層の膜厚は、0.2μm〜40μmが好ましく、0.3μm〜20μmがより好ましい。   As the solvent for preparing the coating solution for forming the intermediate layer, a solvent in which the inorganic particles to be added as needed are well dispersed and the polyamide resin is dissolved is preferable. Specifically, alcohols having 2 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, t-butanol, sec-butanol are excellent in solubility and coating performance of polyamide resin. preferable. These solvents are 30% by mass to 100% by mass, preferably 40% by mass to 100% by mass, and more preferably 50% by mass to 100% by mass in the total solvent. Examples of co-solvents that can be used in combination with the above-mentioned solvent to obtain preferable effects include benzyl alcohol, toluene, methylene chloride, cyclohexanone, and tetrahydrofuran. The thickness of the intermediate layer is preferably 0.2 μm to 40 μm, and more preferably 0.3 μm to 20 μm.

(感光層)
感光層は、電荷発生機能と電荷輸送機能を1つの層に持たせた単層構造でもよいが、より好ましくは感光層の機能を電荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL)に分離した層構成をとるのがより好ましい。機能を分離した構成をとることにより繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御出来、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御し易い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層(CGL)、その上に電荷輸送層(CTL)の構成をとる。正帯電用の感光体では前記層構成の順が負帯電用感光体の場合の逆の構成をとる。好ましい感光層の層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体である。
(Photosensitive layer)
The photosensitive layer may have a single layer structure in which a charge generation function and a charge transport function are provided in one layer, but more preferably the function of the photosensitive layer is separated into a charge generation layer (CGL) and a charge transport layer (CTL). It is more preferable to take a layer structure. By adopting a configuration in which the functions are separated, it is possible to control an increase in residual potential due to repeated use, and to easily control other electrophotographic characteristics according to the purpose. In the negatively charged photoreceptor, a charge generation layer (CGL) is formed on the intermediate layer, and a charge transport layer (CTL) is formed thereon. In the positively charged photoreceptor, the order of the layer configuration is opposite to that in the negatively charged photoreceptor. A preferred layer structure of the photosensitive layer is a negatively charged photoreceptor having the function separation structure.

以下に機能分離負帯電感光体の感光層の各層について説明する。   Hereinafter, each layer of the photosensitive layer of the function-separated negatively charged photoreceptor will be described.

〈電荷発生層(CGL)〉
電荷発生層(CGL)には電荷発生物質(CGM)を含有する。その他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他添加剤を含有してもよい。電荷発生物質(CGM)としては公知の電荷発生物質(CGM)であるCuKα線によるX線回折においてブラッグ角(2θ±0.2)27.2°に最大回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニン、同2θが12.4°に最大ピークを有するベンズイミダゾールペリレン等のCGMは繰り返し使用に伴う劣化がほとんどなく、残留電位増加を小さくすることが出来る。
<Charge generation layer (CGL)>
The charge generation layer (CGL) contains a charge generation material (CGM). As other substances, a binder resin and other additives may be contained as necessary. As the charge generation material (CGM), oxytitanium phthalocyanine having a maximum diffraction peak at a Bragg angle (2θ ± 0.2) of 27.2 ° in X-ray diffraction by CuKα ray, which is a known charge generation material (CGM), 2θ However, CGM such as benzimidazole perylene, which has a maximum peak at 12.4 °, is hardly deteriorated by repeated use, and the increase in residual potential can be reduced.

電荷発生層(CGL)に電荷発生物質(CGM)の分散媒としてバインダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用いることが出来るが、最も好ましい樹脂としてはホルマール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂と電荷発生物質(CGM)との割合は、バインダー樹脂100質量部に対し電荷発生物質(CGM)20質量部〜600質量部が好ましい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さく出来る。電荷発生層(CGL)の膜厚は0.01〜2μmが好ましい。   When a binder is used as a dispersion medium for the charge generation material (CGM) in the charge generation layer (CGL), a known resin can be used as the binder, but the most preferable resins are formal resin, butyral resin, silicone resin, silicone. Examples include modified butyral resins and phenoxy resins. The ratio of the binder resin to the charge generation material (CGM) is preferably 20 to 600 parts by mass of the charge generation material (CGM) with respect to 100 parts by mass of the binder resin. By using these resins, the increase in residual potential associated with repeated use can be minimized. The thickness of the charge generation layer (CGL) is preferably 0.01 to 2 μm.

〈電荷輸送層(CTL)〉
電荷輸送層(CTL)には、電荷輸送物質(CTM)とバインダー樹脂とを含有する。その他の物質としては必要により酸化防止剤等の添加剤を添加して形成してもよい。
<Charge transport layer (CTL)>
The charge transport layer (CTL) contains a charge transport material (CTM) and a binder resin. Other substances may be formed by adding additives such as antioxidants as necessary.

電荷輸送物質(CTM)としては公知の電荷輸送物質(CTM)を用いることが出来る。例えばトリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物等を用いることが出来る。これら電荷輸送物質は通常、適当なバインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。   A known charge transport material (CTM) can be used as the charge transport material (CTM). For example, triphenylamine derivatives, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, butadiene compounds, and the like can be used. These charge transport materials are usually dissolved in a suitable binder resin to form a layer.

電荷輸送層(CTL)に用いられる樹脂としては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位の内の2つ以上を含む共重合体樹脂。又、これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。   Examples of the resin used for the charge transport layer (CTL) include polystyrene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, and polycarbonate. Resin, silicone resin, melamine resin, and copolymer resin containing two or more of the repeating units of these resins. In addition to these insulating resins, high molecular organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole can be used.

これら電荷輸送層(CTL)のバインダーとして最も好ましいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネート樹脂は電荷輸送物質(CTM)の分散性、電子写真特性を良好にすることにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸送物質(CTM)との割合は、バインダー樹脂100質量部に対し電荷輸送物質(CTM)10質量部〜200質量部が好ましい。   The most preferable binder for the charge transport layer (CTL) is a polycarbonate resin. The polycarbonate resin is most preferable in improving the dispersibility and electrophotographic characteristics of the charge transport material (CTM). The ratio between the binder resin and the charge transport material (CTM) is preferably 10 parts by mass to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

〔酸化防止剤〕
感光体の構成層には、酸化防止剤を適用すると、NOx等活性ガスの攻撃による影響を低減出来るため、高温高湿環境での画像流れの発生を抑制出来る。
〔Antioxidant〕
When an antioxidant is applied to the constituent layers of the photoconductor, the influence of attack of an active gas such as NOx can be reduced, so that occurrence of image flow in a high temperature and high humidity environment can be suppressed.

本発明に用いられる酸化防止剤とは、その代表的なものは感光体中ないしは感光体表面に存在する自動酸化性物質に対して、光、熱、放電等の条件下で酸素の作用を防止ないし、抑制する性質を有する物質である。詳しくは下記の化合物群が挙げられる。
(1)ラジカル連鎖禁止剤
フェノール系酸化防止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、ジアリルジアミン系酸化防止剤、ジアリルアミン系酸化防止剤、ハイドロキノン系酸化防止剤等が挙げられる。
(2)過酸化物分解剤
硫黄系酸化防止剤、チオエーテル類、燐酸系酸化防止剤、亜燐酸エステル類等が挙げられる。
The typical antioxidant used in the present invention is to prevent the action of oxygen on auto-oxidizing substances existing in the photoreceptor or on the photoreceptor surface under conditions of light, heat, discharge, etc. It is also a substance having a suppressing property. Specifically, the following compound groups can be mentioned.
(1) Radical chain inhibitor Phenolic antioxidants, hindered phenolic antioxidants, amine antioxidants, hindered amine antioxidants, diallyldiamine antioxidants, diallylamine antioxidants, hydroquinone antioxidants Agents and the like.
(2) Peroxide decomposing agent Sulfur-based antioxidants, thioethers, phosphoric acid-based antioxidants, phosphites and the like can be mentioned.

尚、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(ヒンダードフェノール構造を有する酸化防止剤)とは、フェノール性OH基ないしはフェノール性OHのアルコキシ化基のオルト位にかさ高い有機基を有する化合物であり、ヒンダードアミン系酸化防止剤(ヒンダードアミン構造を有する酸化防止剤)とはN原子近傍にかさ高い有機基を有する化合物である。かさ高い有機基としては分岐状アルキル基があり、例えばt−ブチル基が好ましい。   The hindered phenol antioxidant (antioxidant having a hindered phenol structure) is a compound having a bulky organic group at the ortho position of the phenolic OH group or the alkoxylated group of the phenolic OH. A system antioxidant (an antioxidant having a hindered amine structure) is a compound having a bulky organic group near the N atom. The bulky organic group includes a branched alkyl group, for example, a t-butyl group is preferable.

上記酸化防止剤の内では、(1)のラジカル連鎖禁止剤がよく、中でも、ヒンダードフェノール構造やヒンダードアミン構造を有する酸化防止剤は、重合開始剤からの発生ラジカル活性種と酸素との反応を防ぐため、発生ラジカル活性種を効果的に反応に寄与させることが出来、好ましい。   Among the above antioxidants, the radical chain inhibitor (1) is good, and among them, the antioxidant having a hindered phenol structure or a hindered amine structure reacts with the radical active species generated from the polymerization initiator and oxygen. In order to prevent this, the generated radical active species can be effectively contributed to the reaction, which is preferable.

又、2種以上のものを併用してもよく、例えば(1)のヒンダードフェノール系酸化防止剤と(2)のチオエーテル類の酸化防止剤との併用もよい。   Two or more types may be used in combination, for example, a combination of (1) a hindered phenol antioxidant and (2) a thioether antioxidant.

本発明に使用する酸化防止剤において、更に好ましいものとしては、分子中に上記ヒンダードアミン構造を有するものが画像ボケ防止や黒ポチ対策等の画質改善によく、別の態様として、ヒンダードフェノール構造単位とヒンダードアミン構造単位を分子内に含んでいるものも同様に好ましい。   In the antioxidant used in the present invention, more preferable is that the hindered amine structure in the molecule is good for image quality improvement such as image blur prevention and black spot countermeasures, and as another aspect, a hindered phenol structural unit. Those having hindered amine structural units in the molecule are also preferred.

(感光体の作製)
本発明の感光体に係る各層(中間層、感光層、電荷発生層、電荷輸送層、)の作製は、浸漬塗布、或いは円形量規制型塗布、或いは浸漬塗布と円形量規制型塗布を組み合わせて塗膜を設けて作製することが出来るがこれに限定されるものではない。尚、円形量規制型塗布については例えば特開昭58−189061号公報に詳細に記載されている。
(Production of photoconductor)
Each layer (intermediate layer, photosensitive layer, charge generation layer, charge transport layer) relating to the photoreceptor of the present invention is produced by dip coating, circular amount regulation type coating, or dip coating and round amount regulation type coating in combination. Although it can produce by providing a coating film, it is not limited to this. The circular amount regulation type application is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-189061.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、下記文中「部」とは「質量部」を表す。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following text, “part” means “part by mass”.

実施例1
(導電性支持体の準備)
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、十点表面粗さRzJIS=1.5(μm)、直径30mm、長さ360mmの導電性支持体を準備した。尚、十点表面粗さRzJISはJIS B 0601−2001に準じて測定した値を示す。
Example 1
(Preparation of conductive support)
The surface of the cylindrical aluminum support was cut to prepare a conductive support having a ten-point surface roughness RzJIS = 1.5 (μm), a diameter of 30 mm, and a length of 360 mm. The ten-point surface roughness RzJIS represents a value measured according to JIS B 0601-2001.

(中間層の形成)
下記組成の分散液を同じ混合溶媒にて二倍に希釈し、一夜静置後に濾過(フィルター;日本ポール社製リジメッシュ5μmフィルター使用)し、中間層塗布液を作製した。
(Formation of intermediate layer)
A dispersion having the following composition was diluted twice with the same mixed solvent, and allowed to stand overnight, followed by filtration (filter; using a lime mesh 5 μm filter manufactured by Nihon Pall) to prepare an intermediate layer coating solution.

ポリアミド樹脂CM8000(東レ社製) 1部
酸化チタンSMT500SAS(テイカ社製) 3部
メタノール 10部
分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式で10時間の分散を行った。
上記塗布液を用いて前記支持体上に、乾燥膜厚2μmとなるよう浸漬塗布法で塗布した。
Polyamide resin CM8000 (manufactured by Toray Industries, Inc.) 1 part Titanium oxide SMT500SAS (manufactured by Teika) 3 parts Methanol 10 parts Dispersion was carried out for 10 hours in a batch manner using a sand mill as a disperser.
It apply | coated by the dip coating method so that it might become a dry film thickness of 2 micrometers on the said support body using the said coating liquid.

(電荷発生層の形成)
電荷発生物質:チタニルフタロシアニン顔料(Cu−Kα特性X線回折スペクトル測定で、少なくとも27.3±0.2°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料) 20部
ポリビニルブチラール樹脂(#6000−C:電気化学工業社製) 10部
酢酸t−ブチル 700部
4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノン 300部
を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
(Formation of charge generation layer)
Charge generation material: titanyl phthalocyanine pigment (titanyl phthalocyanine pigment having a maximum diffraction peak at a position of at least 27.3 ± 0.2 ° as measured by Cu-Kα characteristic X-ray diffraction spectrum) 20 parts polyvinyl butyral resin (# 6000-C 10 parts t-butyl acetate 700 parts 4-methoxy-4-methyl-2-pentanone 300 parts were mixed and dispersed for 10 hours using a sand mill to prepare a charge generation layer coating solution. This coating solution was applied onto the intermediate layer by a dip coating method to form a charge generation layer having a dry film thickness of 0.3 μm.

(電荷輸送層の形成)
電荷輸送物質(4,4′−ジメチル−4′′−(β−フェニルスチリル)トリフェニルアミン) 25部
バインダー:ポリカーボネート(Z300:三菱ガス化学社製) 300部
酸化防止剤(Irganox1010:日本チバガイギー社製) 6部
THF 1600部
トルエン 400部
シリコーンオイル(KF−50:信越化学社製) 1部
を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。
(Formation of charge transport layer)
Charge transport material (4,4′-dimethyl-4 ″-(β-phenylstyryl) triphenylamine) 25 parts Binder: Polycarbonate (Z300: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company) 300 parts Antioxidant (Irganox 1010: Nippon Ciba-Geigy Corporation) 6 parts) THF 1600 parts Toluene 400 parts Silicone oil (KF-50: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1 part was mixed and dissolved to prepare a charge transport layer coating solution. This coating solution was applied onto the charge generation layer by a dip coating method to form a charge transport layer having a dry film thickness of 25 μm.

(保護層の形成)
(保護層塗布液1の調製)
シルセスキオキサン(例示化合物No.1、t=1) 3部
光重合開始剤:Irgacure369(チバ・ジャパン(株)製) 0.2部
溶剤:n−プロパノール 15部
上記成分を混合溶解して、保護層塗布液1を調製した。
(Formation of protective layer)
(Preparation of protective layer coating solution 1)
Silsesquioxane (Exemplary Compound No. 1, t = 1) 3 parts Photopolymerization initiator: Irgacure 369 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 0.2 part Solvent: n-propanol 15 parts A protective layer coating solution 1 was prepared.

準備した保護層塗布液1を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、Xenon社製パルス紫外線照射装置RC−500Bを用いて積算光量が10J/cmになるように光硬化を行い、保護層を形成し感光体を作製し、No.感光体1とした。 Using the prepared protective layer coating solution 1, the coating was applied on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, dried at 110 ° C. for 20 minutes, and integrated using a pulsed UV irradiation device RC-500B manufactured by Xenon. Photocuring was performed so that the amount of light was 10 J / cm 2 , a protective layer was formed, and a photoconductor was prepared. Photoconductor 1 was obtained.

実施例2〜9
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Examples 2-9
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

次いで、保護層の形成において、実施例1のシルセスキオキサンの種類、量及び保護層の紫外線硬化条件を表1に示す通りに代えた以外は、実施例1と同様にして感光体を作製しNo.感光体2〜9を作製した。   Next, in the formation of the protective layer, a photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and amount of silsesquioxane of Example 1 and the ultraviolet curing conditions of the protective layer were changed as shown in Table 1. No. Photoconductors 2 to 9 were prepared.

比較の感光体を次の条件で作製した。   A comparative photoreceptor was prepared under the following conditions.

比較例1
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Comparative Example 1
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

(比較保護層の形成)
(比較保護層塗布液1の調製)
M408(ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート 東亞合成社製) 1部
光重合開始剤:Irgacure369(チバ・ジャパン(株)製) 0.05部
溶剤:n−プロパノール 10部
上記成分を混合溶解して、比較保護層塗布液1を調製した。
(Formation of comparative protective layer)
(Preparation of comparative protective layer coating solution 1)
M408 (ditrimethylolpropane tetraacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1 part Photopolymerization initiator: Irgacure 369 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 0.05 part Solvent: n-propanol 10 parts A layer coating solution 1 was prepared.

準備した比較保護層塗布液1を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、Xenon社製パルス紫外線照射装置RC−500Bを用いて積算光量が10J/cmになるように光硬化を行い、比較感光体を作製しNo.比較感光体1とした。 Using the prepared comparative protective layer coating solution 1 and coating on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, drying at 110 ° C. for 20 minutes and using a pulsed UV irradiation device RC-500B manufactured by Xenon Photocuring was performed so that the integrated light amount was 10 J / cm 2 , and a comparative photoconductor was prepared. A comparative photoreceptor 1 was obtained.

実施例10
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Example 10
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

(保護層の形成)
(保護層塗布液10の調製)
シルセスキオキサン(例示化合物No.9、t=1) 3部
熱重合開始剤(過酸化ジベンゾイル、関東化学株式会社製) 0.2部
溶剤:n−プロパノール 15部
上記成分を混合溶解して、保護層塗布液10を調製した。
(Formation of protective layer)
(Preparation of protective layer coating solution 10)
Silsesquioxane (Exemplary Compound No. 9, t = 1) 3 parts Thermal polymerization initiator (dibenzoyl peroxide, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 0.2 part Solvent: n-propanol 15 parts The above components are mixed and dissolved. A protective layer coating solution 10 was prepared.

準備した保護層塗布液10を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、エスペック社製 OVEN PH−201にて120℃、90分の熱硬化を行い、保護層を形成し感光体を作製し、No.感光体10とした。   Using the prepared protective layer coating solution 10 and coating on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, drying at 110 ° C. for 20 minutes, and 120 ° C. for 90 minutes with OVEN PH-201 made by Espec And a protective layer is formed to produce a photoconductor. Photoconductor 10 was obtained.

実施例11〜18
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Examples 11-18
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

次いで、保護層の形成において、実施例10のシルセスキオキサンの種類、量及び保護層の熱硬化条件を表2に示す通りに代えた以外は、実施例10と同様にして感光体を作製し、No.感光体11〜18とした。   Next, in the formation of the protective layer, a photoconductor was prepared in the same manner as in Example 10 except that the type and amount of silsesquioxane of Example 10 and the thermosetting conditions of the protective layer were changed as shown in Table 2. No. Photoconductors 11 to 18 were used.

比較例2
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Comparative Example 2
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

(保護層の形成)
(比較保護層塗布液2の調製)
エピコート828(ジャパンエポキシレジン株式会社製) 1部
熱重合開始剤:アデカオプトンCP−66(旭電化工業(株)社製) 0.05部
溶剤:n−プロパノール 10部
上記成分を混合溶解して、比較保護層塗布液2を調製した。準備した比較保護層塗布液2を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、エスペック株式会社製 OVEN PH−201にて120℃、90分の熱硬化を行い、保護層を形成し感光体を作製し、No.比較感光体2とした。
(Formation of protective layer)
(Preparation of comparative protective layer coating solution 2)
Epicoat 828 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 1 part Thermal polymerization initiator: Adeka Opton CP-66 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.05 part Solvent: n-propanol 10 parts The above ingredients are mixed and dissolved. A comparative protective layer coating solution 2 was prepared. After using the prepared comparative protective layer coating solution 2 and coating on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, it was dried at 110 ° C. for 20 minutes, and 120 ° C. with OVEN PH-201 manufactured by Espec Corporation. A 90-minute thermosetting is performed to form a protective layer to produce a photoreceptor. A comparative photoreceptor 2 was obtained.



評価
準備した各感光体No.感光体1〜18、比較感光体1、2の耐久性と画質を評価するため、代表特性として保護層の硬さ、画像流れ、耐傷性、耐磨耗性に付き次に示す条件で評価し、評価ランクに従って評価した。結果を表3に示す。
Evaluation Each of the prepared photoreceptor Nos. In order to evaluate the durability and image quality of the photoconductors 1 to 18 and the comparative photoconductors 1 and 2, as representative characteristics, the hardness is evaluated as the protective layer, the image flow, the scratch resistance, and the wear resistance. Evaluation was performed according to the evaluation rank. The results are shown in Table 3.

(保護層の硬さ評価方法)
膜強度の評価は、各感光体について、Fischer Instrumens社製のフィッシャースコープ(登録商標)H100Cを用い、ビッカース圧子(四角錐圧子、角度136°)を設置し、押し込み速度0.4mN/sec、押し込み加重2mN、保持時間5秒、測定環境23℃、60%RHにてユニバーサル硬さ(HU)を測定した。
(Method for evaluating hardness of protective layer)
For evaluation of film strength, Fischer Instruments (registered trademark) H100C manufactured by Fischer Instruments was used for each photoconductor, a Vickers indenter (square pyramid indenter, angle 136 °) was installed, and the indentation speed was 0.4 mN / sec. Universal hardness (HU) was measured under a load of 2 mN, a holding time of 5 seconds, a measurement environment of 23 ° C., and 60% RH.

(画像流れの評価方法)
各感光体を、コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製複合機bizhubC352改造機に搭載し、高温、高湿環境(30℃、85%RH)でA4フルカラー画像(各色印字率1%)を連続1000枚プリントした。次いで、8時間静置した後で、印字率5%の文字画像をA4で10枚プリントを行い、下記基準で文字画像を目視にて評価した。
(Image flow evaluation method)
Each photoconductor was mounted on a Kizina Minolta Business Technologies Co., Ltd. bizhub C352 modified machine, and 1000 A4 full-color images (each color printing rate of 1%) were printed continuously in a high-temperature, high-humidity environment (30 ° C, 85% RH). . Next, after standing for 8 hours, 10 character images with a printing rate of 5% were printed at A4, and the character images were visually evaluated according to the following criteria.

画像流れの評価ランク
○:1〜10枚目まで画像流れなしで良好
△:1枚目で画像流れあるが、10枚目では消失し実用上問題なし
×:10枚目でも画像流れ発生
(耐傷性の評価方法)
各感光体を、コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製複合機bizhubC352改造機に搭載し、高温、高湿環境(30℃、85%RH)でA4フルカラー画像(各色印字率5%)を5万枚プリントした後、A3全面ハーフトーン画像を出力した。実写試験後に感光体表面の状態と、ハーフトーン画像を目視にて観察し、下記の評価ランクに従って耐傷性の評価を行った。
Evaluation rank of image flow: 1 to 10th image is good without image flow △: Image flow is at 1st image, but disappears at 10th image and has no practical problem ×: Image flow occurs even at 10th image (scratch resistance) Sex evaluation method)
Each photoconductor was mounted on a Kizina Minolta Business Technologies Co., Ltd. bizhub C352 modified machine, and 50,000 A4 full-color images (each color printing rate of 5%) were printed in a high-temperature, high-humidity environment (30 ° C, 85% RH). After that, an A3 full face halftone image was output. After the actual shooting test, the surface state of the photoreceptor and the halftone image were visually observed, and scratch resistance was evaluated according to the following evaluation rank.

○:感光体表面に目視で認められる目立った傷なし、ハーフトーン画像に感光体傷に対応する画像不良は認められない。   ◯: There is no noticeable scratch visually recognized on the surface of the photoreceptor, and no image defect corresponding to the photoreceptor scratch is recognized in the halftone image.

△:感光体表面に目視で軽微な傷が認められる。ハーフトーン画像に感光体傷に対応する画像不良は認められない。   Δ: Minor scratches are visually observed on the photoreceptor surface. In the halftone image, no image defect corresponding to the photoconductor scratch is recognized.

×:感光体表面に目視で明確な傷が認められる。ハーフトーン画像に感光体傷に対応する画像不良が認められる。   X: A clear flaw is visually recognized on the surface of the photoreceptor. An image defect corresponding to the photoconductor scratch is observed in the halftone image.

(耐磨耗性の評価方法)
各感光体を、コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製複合機bizhubC352改造機に搭載し、常温、常湿環境(23℃、60%RH)でA4フルカラー画像(各色印字率5%)を5万枚プリントし、プリント前後の感光体の膜厚測定から、保護層の磨耗量を算出し、耐磨耗性の指標とした。磨耗量が3.5μm以下を合格、3.5μmより大きいと不合格とした。尚、感光体の膜厚測定は、Fischer Instrumens社製のフィッシャースコープ(登録商標)mmsを用いた。
(Abrasion resistance evaluation method)
Each photoconductor is mounted on a Konica Minolta Business Technologies multifunction machine bizhub C352, and 50,000 A4 full-color images (each color printing rate of 5%) are printed at room temperature and humidity (23 ° C, 60% RH). From the measurement of the film thickness of the photoreceptor before and after printing, the amount of wear of the protective layer was calculated and used as an index of wear resistance. When the wear amount was 3.5 μm or less, it was accepted, and when it was larger than 3.5 μm, it was rejected. The film thickness of the photoconductor was measured using a Fischer Scope (registered trademark) mms manufactured by Fischer Instruments.

光硬化型のラダー構造のシルセスキオキサン化合物を使用して保護層を形成した感光体1〜3、ケージ構造のシルセスキオキサン化合物を使用して保護層を形成した感光体4〜7、ラダー構造のシルセスキオキサン化合物とケージ構造のシルセスキオキサン化合物とを混合使用して保護層を形成した感光体8、異なるケージ構造のシルセスキオキサン化合物を混合して使用して保護層を形成した感光体9は、何れも比較として光硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体1及び熱硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体2に比べ保護層の硬さ、画像流れ、耐傷性、耐磨耗性が優れていることを確認した。   Photoconductors 1 to 3 in which a protective layer is formed using a photocurable ladder structure silsesquioxane compound, photoconductors 4 to 7 in which a protective layer is formed using a cage structure silsesquioxane compound, Photoconductor 8 in which a protective layer is formed by mixing a silsesquioxane compound having a ladder structure and a silsesquioxane compound having a cage structure, and a protective layer using a mixture of silsesquioxane compounds having different cage structures. As a comparison, the photoconductor 9 having a protective layer is compared with the comparative photoconductor 1 in which a protective layer is formed using a photocurable resin and the comparative photoconductor 2 in which a protective layer is formed using a thermosetting resin. It was confirmed that the layer hardness, image flow, scratch resistance, and abrasion resistance were excellent.

又、熱硬化型のラダー構造のシルセスキオキサン化合物を使用して保護層を形成した感光体10〜12、ケージ構造のシルセスキオキサン化合物を使用して保護層を形成した感光体13〜16、ラダー構造のシルセスキオキサン化合物とケージ構造のシルセスキオキサン化合物とを混合使用して保護層を形成した感光体17、異なるケージ構造のシルセスキオキサン化合物を混合して使用して保護層を形成した感光体18は、何れも比較として光硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体1及び熱硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体2に比べ保護層の硬さ、画像流れ、耐傷性、耐磨耗性が優れていることを確認した。   Further, photoconductors 10 to 12 having a protective layer formed using a thermosetting ladder structure silsesquioxane compound, and photoconductors 13 to 13 having a protective layer formed using a silsesquioxane compound having a cage structure. 16. Ladder-structured silsesquioxane compound and cage-structured silsesquioxane compound are used to form a protective layer 17, and a mixture of different cage-structured silsesquioxane compounds is used. As a comparison, the photoconductor 18 having the protective layer formed thereon is compared with the comparative photoconductor 1 having a protective layer formed using a photocurable resin and the comparative photoconductor 2 having a protective layer formed using a thermosetting resin. In comparison, it was confirmed that the protective layer had excellent hardness, image flow, scratch resistance, and abrasion resistance.

以上のように、本発明の有効性が確認された。   As described above, the effectiveness of the present invention was confirmed.

実施例19
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Example 19
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

(保護層の形成)
(保護層塗布液19の調製)
シルセスキオキサン(例示化合物No.1、t=1) 2部
シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物 M402(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの35:65の混合物:東亜合成(株)製) 2部
光重合開始剤:Irgacure369(チバ・ジャパン(株)製) 0.05部
溶剤:n−プロパノール 10部
上記成分を混合溶解して、保護層塗布液19を調製した。
(Formation of protective layer)
(Preparation of protective layer coating solution 19)
Silsesquioxane (Exemplary Compound No. 1, t = 1) 2 parts Compound having organic group capable of reacting with silsesquioxane M402 (35:65 mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate: Toa Gosei Co., Ltd.) 2 parts Photopolymerization initiator: Irgacure 369 (Ciba Japan Co., Ltd.) 0.05 part Solvent: n-propanol 10 parts The above components are mixed and dissolved to prepare protective layer coating solution 19 did.

準備した保護層塗布液19を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、Xenon社製パルス紫外線照射装置RC−500Bを用いて積算光量が10J/cmになるように光硬化を行い、保護層を形成し感光体を作製し、No.感光体19とした。 Using the prepared protective layer coating solution 19, it was coated on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, dried at 110 ° C. for 20 minutes, and integrated using a pulsed UV irradiation apparatus RC-500B manufactured by Xenon. Photocuring was performed so that the amount of light was 10 J / cm 2 , a protective layer was formed, and a photoconductor was prepared. Photoconductor 19 was obtained.

実施例20〜27
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Examples 20-27
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

次いで、保護層の形成において、実施例19のシルセスキオキサンの種類、量、シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物の種類、量及び保護層の紫外線硬化条件を表4に示す通りに代えた以外は、実施例19と同様にして感光体を作製し、No.感光体20〜27を作製した。   Next, in the formation of the protective layer, Table 4 shows the type and amount of the silsesquioxane of Example 19, the type and amount of the compound having an organic group that can react with the silsesquioxane, and the ultraviolet curing conditions of the protective layer. A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 19 except that the procedure was changed as described above. Photoconductors 20 to 27 were produced.

実施例28
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Example 28
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

(保護層の形成)
(保護層塗布液28の調製)
シルセスキオキサン(例示化合物No.9、t=1) 2部
シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物 SR350(トリメチロールプロパントリメタクリレート:サートマー社製) 2部
熱重合開始剤:アデカオプトンCP−66(旭電化工業(株)社製) 0.05部
溶剤:n−プロパノール 10部
上記成分を混合溶解して、保護層塗布液28を調製した。
(Formation of protective layer)
(Preparation of protective layer coating solution 28)
Silsesquioxane (Exemplary Compound No. 9, t = 1) 2 parts Compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane SR350 (trimethylolpropane trimethacrylate: manufactured by Sartomer) 2 parts Thermal polymerization initiator: Adeka Opton CP-66 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.05 part Solvent: 10 parts of n-propanol The above components were mixed and dissolved to prepare protective layer coating solution 28.

準備した保護層塗布液28を使用し、電荷輸送層の上に円形量規制型塗布法で塗布した後、110℃で20分乾燥し、エスペック社製 OVEN PH−201にて120℃、90分の熱硬化を行い、保護層を形成し感光体を作製し、No.感光体28とした。   Using the prepared protective layer coating solution 28, coating on the charge transport layer by a circular amount-regulating coating method, drying at 110 ° C. for 20 minutes, and 120 ° C. for 90 minutes with OVEN PH-201 manufactured by Espec. And a protective layer is formed to produce a photoconductor. Photoconductor 28 was obtained.

28を作製した。   28 was produced.

実施例29〜36
電荷輸送層の形成までは、実施例1と同様に行った。
Examples 29-36
The process up to the formation of the charge transport layer was performed in the same manner as in Example 1.

次いで、保護層の形成において、実施例28のシルセスキオキサンの種類、量、シルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物の種類、量及び保護層の熱硬化条件を表5に示す通りに代えた以外は、実施例28と同様にして感光体を作製し、No.感光体29〜36とした。   Next, in the formation of the protective layer, Table 5 shows the type and amount of the silsesquioxane of Example 28, the type and amount of the compound having an organic group capable of reacting with silsesquioxane, and the thermosetting conditions of the protective layer. A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 28 except that the procedure was changed as described above. Photoconductors 29 to 36 were used.

評価
準備した感光体19〜35の耐久性と画質を評価するため、代表特性として保護層の硬さ、画像流れ、耐傷性、耐磨耗性に付き、感光体1〜18の評価と同様の条件で評価し、感光体1〜18と同じ評価ランクに従って評価した。結果を表6に示す。
Evaluation In order to evaluate the durability and image quality of the prepared photoconductors 19 to 35, the representative characteristics are the hardness of the protective layer, image flow, scratch resistance, and wear resistance, and are the same as the evaluation of the photoconductors 1 to 18. Evaluation was performed under conditions, and evaluation was performed according to the same evaluation rank as that of the photoconductors 1 to 18. The results are shown in Table 6.

光硬化型のシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物を使用し形成した保護層を有する感光体19〜27、熱硬化型のシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物を使用し形成した保護層を有する感光体28〜35は何れも比較としてシルセスキオキサンを用いずに光硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体1及び熱硬化型樹脂を使用して保護層を形成した比較感光体2に比べ保護層の硬さ、画像流れ、耐傷性、耐磨耗性が優れていることを確認した。   Photoconductors 19 to 27 having a protective layer formed using a compound having an organic group capable of reacting with a photocurable silsesquioxane, and a compound having an organic group capable of reacting with a thermosetting silsesquioxane. The photoconductors 28 to 35 having a protective layer formed by using the comparative photoconductor 1 and the thermosetting resin in which a protective layer is formed using a photocurable resin without using silsesquioxane for comparison. Thus, it was confirmed that the hardness, image flow, scratch resistance, and abrasion resistance of the protective layer were superior to those of the comparative photoreceptor 2 on which the protective layer was formed.

Claims (2)

導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において、
前記保護層に下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンの反応硬化物または下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンの反応硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。

(式中、R1は下記式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)のいずれかで表される基であり、tは1〜30の整数を表す。)

(式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)中のuは1〜19の整数を表す。式(22)中のX3およびX4はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X3とX4は同じであってもよい。)

(上記一般式(III )中のR2は下記式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)のいずれかで表される基であり、上記一般式(IV)および一般式(V)中のR2は下記式(25)および式(31)のいずれかで表される基である。)

(式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)中のvは1〜19の整数を表す。式(36)中のX5およびX6はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X5とX6は同じであってもよい。)
In an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support,
A ladder-structured silsesquioxane reaction cured product represented by the following general formula (II) or a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), or (V) An electrophotographic photoreceptor comprising a reaction cured product of silsesquioxane .

(In the formula, R1 is a group represented by any of the following formula (13), formula (14), formula (15), formula (19), formula (20) and formula (22)), and t is 1 Represents an integer of ˜30.)

(U in Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (19), Formula (20), and Formula (22)) represents an integer of 1 to 19. X3 in Formula (22) and X4 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group, and X3 and X4 may be the same.)

(R2 in the general formula (III) is a group represented by any one of the following formula (25), formula (26), formula (31), formula (32), and formula (36)). (IV) and R2 in the general formula (V) are groups represented by any of the following formulas (25) and (31).

(V in the formula (25), the formula (26), the formula (31), the formula (32), and the formula (36) represents an integer of 1 to 19. X5 and X6 in the formula (36) are methyl groups, It is an ethyl group or a phenyl group, and X5 and X6 may be the same.)
導電性支持体上に、感光層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において、
前記保護層に下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンまたは下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンと、当該下記一般式(II)で表されるラダー構造のシルセスキオキサンまたは下記一般式(III )、(IV)、(V)のいずれかで表されるケージ構造のシルセスキオキサンと反応可能な有機基を有する化合物との反応硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。

(式中、R1は下記式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)のいずれかで表される基であり、tは1〜30の整数を表す。)

(式(13)、式(14)、式(15)、式(19)、式(20)および式(22)中のuは1〜19の整数を表す。式(22)中のX3およびX4はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X3とX4は同じであってもよい。)

(上記一般式(III )中のR2は下記式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)のいずれかで表される基であり、上記一般式(IV)および一般式(V)中のR2は下記式(25)および式(31)のいずれかで表される基である。)

(式(25)、式(26)、式(31)、式(32)および式(36)中のvは1〜19の整数を表す。式(36)中のX5およびX6はメチル基、エチル基またはフェニル基であり、X5とX6は同じであってもよい。)
In an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer and a protective layer are sequentially laminated on a conductive support,
A silsesquioxane having a ladder structure represented by the following general formula (II) or a silsesquioxane having a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), or (V) is provided in the protective layer. And a silsesquioxane having a ladder structure represented by the following general formula (II) or a silsesquioxane having a cage structure represented by any of the following general formulas (III), (IV), and (V): An electrophotographic photoreceptor comprising a reaction cured product with a compound having a reactive organic group.

(In the formula, R1 is a group represented by any of the following formula (13), formula (14), formula (15), formula (19), formula (20) and formula (22)), and t is 1 Represents an integer of ˜30.)

(U in Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (19), Formula (20), and Formula (22)) represents an integer of 1 to 19. X3 in Formula (22) and X4 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group, and X3 and X4 may be the same.)

(R2 in the general formula (III) is a group represented by any one of the following formula (25), formula (26), formula (31), formula (32), and formula (36)). (IV) and R2 in the general formula (V) are groups represented by any of the following formulas (25) and (31).

(V in the formula (25), the formula (26), the formula (31), the formula (32), and the formula (36) represents an integer of 1 to 19. X5 and X6 in the formula (36) are methyl groups, It is an ethyl group or a phenyl group, and X5 and X6 may be the same.)
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