JP5339198B2 - Embossing device, backup roll, method of manufacturing processed product, and method of manufacturing backup roll - Google Patents

Embossing device, backup roll, method of manufacturing processed product, and method of manufacturing backup roll Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an embossing apparatus forming a concavo-convex pattern on a substrate, specifically forming a concavo-convex pattern on a substrate efficiently with a high rate of operation. <P>SOLUTION: The embossing apparatus 10 includes an emboss roll 20 having an emboss mold surface 25 having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern 55 to be formed on the substrate 50 and a backup roll 30 arranged so as to face the emboss roll and pressing the substrate between the emboss roll and the backup roll. The backup roll has a core member 32 and a front layer 34 formed on the core member and facing the emboss mold surface of the emboss roll. The front layer has a base layer 34 containing a resin 36 and a plating layer 38 formed on the base layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置に関する。   The present invention relates to an embossing device that forms an uneven pattern on an original fabric, and more particularly to an embossing device that can efficiently form an uneven pattern on an original fabric at a high operating rate.

また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に用いられるバックアップロールに係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することを可能にするバックアップロールに関する。   The present invention also relates to a backup roll used in an embossing device that forms an uneven pattern on an original fabric, and more particularly to a backup roll that enables an uneven pattern to be efficiently formed on an original fabric at a high operating rate.

さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and more particularly to a manufacturing method for a processed product capable of manufacturing a processed product efficiently at a high operating rate.

さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に用いられるバックアップロールの製造方法に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することを可能にするバックアップロールの製造方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing a backup roll used in an embossing apparatus for forming a concavo-convex pattern on a raw fabric, and in particular, a backup that enables a concavo-convex pattern to be efficiently formed on a raw fabric at a high operating rate. The present invention relates to a roll manufacturing method.

今般、例えば特許文献1に示すように、エンボス加工は広く普及した加工方法となっている。特許文献1には、原反にエンボス加工を施すことにより、離型紙(加工品)を製造する方法が開示されている。この離型紙は、合皮製品、化粧シート、内装材等のシート状材料を作製するための型紙として用いられる。   Recently, as shown in Patent Document 1, for example, embossing is a widely used processing method. Patent Document 1 discloses a method for producing a release paper (processed product) by embossing an original fabric. This release paper is used as a paper pattern for producing sheet-like materials such as synthetic leather products, decorative sheets, and interior materials.

一般的に、原反のような比較的に薄い被加工体にエンボス加工を施す場合、エンボス加工に用いられるエンボス装置は、エンボス型面を有したエンボスロールと、エンボスロールに対向して配置されたバックアップロールと、を備えている。   In general, when embossing a relatively thin workpiece such as a raw fabric, an embossing device used for embossing is disposed so as to face an embossing roll having an embossing surface and an embossing roll. Backup rolls.

特開2002−205311号公報JP 2002-205311 A

エンボス型面によって押圧されるようになるバックアップロールの表層部は、エンボス型面上に形成された凹凸形状に対応して変形可能であり、かつ、少なくとも一時的に変形状態を維持することができるように構成されていることが好ましい。このようなバックアップロールによれば、原反に対してエンボス加工を施す前に、エンボスロールおよびバックアップロールを空運転(空転)しておくことによって、エンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状をバックアップロールの表層部に形成することができる。バックアップロールにメス型が作製されていれば、加工圧を大幅に上昇させることなく、原反に凹凸形状を精度良く転写することができるようになる。   The surface layer portion of the backup roll that is pressed by the embossing mold surface can be deformed corresponding to the uneven shape formed on the embossing mold surface, and can maintain the deformed state at least temporarily. It is preferable that it is comprised. According to such a backup roll, the embossing roll and the backup roll are idled (i.e., idling) before embossing the original fabric, so that the uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface is obtained. It can be formed on the surface layer of the backup roll. If a female mold is formed on the backup roll, the concavo-convex shape can be accurately transferred to the original without significantly increasing the processing pressure.

ところで、バックアップロールの表層部の材料として弾性変形しにくい材料、例えば金属を用いた場合、空運転によってバックアップロールにメス型を形成することができない。金属製のバックアップロールの表層部に凹凸形状を形成するには、エッチングによるパターニング等の複雑な処理を表層部に施さなければならなくなる。一方、バックアップロールの表層部の材料として弾性変形しやすい材料、例えば樹脂を用いた場合、バックアップロールの表層部に微細な凹凸形状を維持することができない。   By the way, when a material that is not easily elastically deformed, for example, a metal, is used as the material of the surface layer portion of the backup roll, a female mold cannot be formed on the backup roll by the idle operation. In order to form a concavo-convex shape on the surface layer portion of a metal backup roll, it is necessary to perform complicated processing such as patterning by etching on the surface layer portion. On the other hand, when a material that is easily elastically deformed, for example, a resin, is used as the material of the surface layer portion of the backup roll, it is impossible to maintain a fine uneven shape on the surface layer portion of the backup roll.

このような点を考慮して、紙や羊毛等の繊維を押し固めてなる表層部を有したペーパーロールがバックアップロールとして用いられている。しかしながら、ペーパーロールを用いた場合であっても、バックアップロールに予め形成された凹凸形状は、加工時間の経過にともなって次第に平坦化されていく。バックアップロールの凹凸形状が平坦化されると、原反に転写される凹凸柄も平坦化してしまう。   In consideration of such points, a paper roll having a surface layer portion formed by pressing and compacting fibers such as paper and wool is used as a backup roll. However, even when a paper roll is used, the concavo-convex shape formed in advance on the backup roll is gradually flattened as the processing time elapses. When the uneven shape of the backup roll is flattened, the uneven pattern transferred to the original fabric is also flattened.

この不都合を回避するためには、エンボス加工を中断して、エンボスロールおよびバックアップロールを空運転し、バックアップロールの表層部に凹凸形状を再形成(型入れ)しなければならない。   In order to avoid this inconvenience, the embossing must be interrupted, the embossing roll and the backup roll must be idled, and the concavo-convex shape must be re-formed (molded) on the surface layer portion of the backup roll.

また、バックアップロールの表層部への型入れの必要性を判断するためには、エンボス加工を施された加工品の品質を都度確認することも必要となる。しかしながら、加工品の検査は、凹凸柄が複雑であれば、極めて煩雑となり、長時間(例えば1時間)を要する。このため、現実の生産においては、エンボス加工を施された加工品の品質を現場で確認することなく、安全を見て、早目に、例えば3〜4時間おきに定期的に型入れ作業を行うようにすることもある。   Further, in order to determine the necessity of putting the backup roll into the surface layer portion, it is necessary to check the quality of the processed product that has been embossed each time. However, the inspection of the processed product is extremely complicated if the concavo-convex pattern is complicated, and requires a long time (for example, 1 hour). For this reason, in actual production, without checking the quality of the embossed work product on-site, look at the safety and perform mold insertion work regularly, for example, every 3 to 4 hours. Sometimes it is done.

すなわち、現状では、エンボス型面に対応した凹凸形状を空運転で形成され得るバックアップロールを有したエンボス装置を、優れた稼働率で稼働させ、原反に凹凸柄を形成して十分な生産効率で加工品を製造することができていない。本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供することを目的とする。また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に用いられるバックアップロールであって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することを可能にするバックアップロールを提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、とりわけ、効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に用いられるバックアップロールの製造方法であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することを可能にするバックアップロールの製造方法を提供することを目的とする。   In other words, at present, an embossing device having a backup roll that can be formed in an uneven shape corresponding to the embossed mold surface by idle operation is operated at an excellent operating rate, and a sufficient uneven production pattern is formed by forming an uneven pattern on the original fabric. It is not possible to manufacture processed products. The present invention has been made in consideration of the above points, and is an embossing device that forms a concavo-convex pattern on an original fabric, and in particular, efficiently forms an concavo-convex pattern on an original fabric at a high operating rate. It is an object of the present invention to provide an embossing device that can perform such a process. In addition, the present invention is a backup roll used in an embossing device for forming an uneven pattern on an original fabric, and in particular, a backup roll that enables an uneven pattern to be efficiently formed on an original fabric at a high operating rate. The purpose is to provide. Furthermore, the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and in particular, an object of the present invention is to provide a manufacturing method for a processed product capable of manufacturing a processed product efficiently. And Furthermore, the present invention is a method for manufacturing a backup roll used in an embossing apparatus for forming an uneven pattern on an original fabric, and particularly enables an uneven pattern to be efficiently formed on an original fabric at a high operating rate. It aims at providing the manufacturing method of a backup roll.

本発明によるエンボス装置は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有するエンボス型面を、有するエンボスロールと、前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、を備え、前記バックアップロールは、心部材と、前記心部材上に設けられ、前記エンボスロールの前記エンボス型面と対面する表層部と、を有し、前記表層部は、樹脂を含む基部層と、前記基部層上に形成されためっき層と、を有することを特徴とする。   An embossing device according to the present invention is an embossing device for forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and an embossing roll having an embossed mold surface having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed on the original fabric, and the embossing roll And a backup roll that presses the original fabric with the embossing roll, and the backup roll is provided on the core member and the embossing roll. A surface layer portion facing the embossed mold surface, and the surface layer portion includes a base layer containing a resin and a plating layer formed on the base layer.

本発明によるバックアップロールは、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置のエンボスロールに対向して配置されるバックアップロールであって、心部材と、心部材上に設けられた表層部であって、前記エンボスロールに形成されたエンボス型面と対面する表層部と、を備え、前記表層部は、樹脂を含む基部層と、前記基部層上に形成されためっき層と、を有することを特徴とする。   The backup roll according to the present invention is a backup roll disposed opposite to an embossing roll of an embossing device that forms an uneven pattern on the original fabric, and is a core member and a surface layer portion provided on the core member, A surface layer portion facing the embossing mold surface formed on the embossing roll, wherein the surface layer portion includes a base layer containing a resin and a plating layer formed on the base layer. To do.

本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記基部層の前記樹脂は導電性を有し、前記めっき層は、電解めっきにより前記基部層の前記導電性樹脂上に形成された層であるようにしてもよい。   In the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the resin of the base layer has conductivity, and the plating layer is formed on the conductive resin of the base layer by electrolytic plating. It may be a layer.

また、本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記基部層の前記樹脂は、硬化処理を施された反応硬化性の樹脂であるようにしてもよい。   Further, in the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the resin of the base layer may be a reaction curable resin subjected to a curing treatment.

さらに、本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記基部層は、前記樹脂中に分散された金属粒子をさらに含むようにしてもよい。このような本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記めっき層は、前記金属粒子をめっきの核として電解めっきにより前記基部層の前記導電性樹脂上に形成された層であるようにしてもよい。   Furthermore, in the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the base layer may further include metal particles dispersed in the resin. In the backup roll of the embossing apparatus according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the plating layer is a layer formed on the conductive resin of the base layer by electrolytic plating using the metal particles as the core of plating. There may be.

さらに、本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記金属粒子は、20μm以上400μm以下の平均粒径を有していてもよい。このような本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記表層部内で前記金属粒子が占める体積割合は、60%以上90%以下であるようにしてもよい。また、このような本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記金属粒子は、アルミニウム、銅、鉄、または、これらの合金であるようにしてもよい。さらに、本発明によるエンボス装置のバックアップロールまたは本発明によるバックアップロールにおいて、前記バックアップロールの前記表層部には、前記エンボス型面の前記凹凸形状に対応した凹凸形状が形成されていてもよい。   Furthermore, in the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the metal particles may have an average particle size of 20 μm or more and 400 μm or less. In the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the volume ratio occupied by the metal particles in the surface layer portion may be 60% or more and 90% or less. In the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the metal particles may be aluminum, copper, iron, or an alloy thereof. Furthermore, in the backup roll of the embossing device according to the present invention or the backup roll according to the present invention, the surface layer portion of the backup roll may be formed with an uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface.

本発明による加工品の製造方法は、上述した本発明によるいずれかのエンボス装置を用い、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、前記エンボスロールと、前記基部層を形成された前記心部材と、を空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状を、前記前記基部層に形成する工程と、凹凸形状を形成された前記基部層上にめっき層を形成して、前記バックアップロールを得る工程と、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記原反に凹凸柄を形成する工程と、を備えることを特徴とする。   A method for manufacturing a processed product according to the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric using any one of the embossing devices according to the present invention described above, wherein the embossing roll and the base The core member formed with a layer is idled, and a step of forming a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the embossing mold surface of the embossing roll on the base layer, and the base portion having the concavo-convex shape formed thereon Forming a plating layer on the layer to obtain the backup roll, and rotating the embossing roll and the backup roll in a state where the original fabric is sandwiched therebetween, and forming an uneven pattern on the original fabric; It is characterized by providing.

本発明によるバックアップロールの製造方法は、上述したいずれかの本発明によるバックアップロールを製造する製造方法であって、前記エンボスロールと、前記基部層を形成された前記心部材と、を空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状を、前記基部層に形成する工程と、凹凸形状を形成された前記基部層上にめっき層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。   A method for manufacturing a backup roll according to the present invention is a manufacturing method for manufacturing any one of the above-described backup rolls according to the present invention, wherein the embossing roll and the core member on which the base layer is formed are idled. A step of forming an uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossing mold surface of the embossing roll on the base layer, and a step of forming a plating layer on the base layer on which the uneven shape is formed. Features.

本発明による加工品を製造する方法または本発明によるバックアップロールを製造する方法において、前記基部層の前記樹脂は導電性を有し、前記めっき工程において、前記めっき層は電解めっきにより前記基部層の導電性樹脂上に形成されるようにしてもよい。   In the method for producing a processed product according to the present invention or the method for producing a backup roll according to the present invention, the resin of the base layer has conductivity, and in the plating step, the plating layer is formed by electroplating of the base layer. It may be formed on a conductive resin.

また、本発明による加工品を製造する方法または本発明によるバックアップロールを製造する方法において、前記基部層の前記樹脂は反応硬化性の樹脂であり、前記製造方法は、前記空運転工程後に実施される工程であって、凹凸形状を形成された前記基部層の前記反応硬化性の樹脂を硬化させる硬化工程を、さらに備えるようにしてもよい。   Further, in the method for producing a processed product according to the present invention or the method for producing a backup roll according to the present invention, the resin of the base layer is a reactive curable resin, and the production method is performed after the empty operation step. And a curing step of curing the reactive curable resin of the base layer on which the concavo-convex shape is formed.

さらに、本発明による加工品を製造する方法または本発明によるバックアップロールを製造する方法において、前記基部層は、前記樹脂中に分散された金属粒子をさらに含んでいるようにしてもよい。   Furthermore, in the method for producing a processed product according to the present invention or the method for producing a backup roll according to the present invention, the base layer may further include metal particles dispersed in the resin.

本発明による第1のロール基材は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置のエンボスロールに対向して配置されるバックアップロールを作製するための基材であって、心部材と、心部材上に設けられた基部層と、を備え、前記基部層は導電性樹脂を含むことを特徴とする。   A first roll base material according to the present invention is a base material for producing a backup roll disposed to face an embossing roll of an embossing device that forms a concavo-convex pattern on a raw fabric, and includes a core member and a core member A base layer provided on the base layer, wherein the base layer includes a conductive resin.

本発明による第2のロール基材は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置のエンボスロールに対向して配置されるバックアップロールを作製するための基材であって、心部材と、心部材上に設けられた基部層と、を備え、前記基部層は前記樹脂中に分散された金属粒子をさらに含むことを特徴とする。   A second roll base material according to the present invention is a base material for producing a backup roll disposed to face an embossing roll of an embossing device that forms a concavo-convex pattern on an original fabric, and includes a core member and a core member A base layer provided on the base layer, wherein the base layer further includes metal particles dispersed in the resin.

本発明によれば、優れた効率で原反にエンボス加工を行うことができる。これにより、加工費用を低下させることも可能となる。   According to the present invention, it is possible to emboss an original fabric with excellent efficiency. As a result, the processing cost can be reduced.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であり、エンボス装置、エンボス装置に組み込まれたバックアップロール、および、エンボス装置による加工品の製造方法を示す斜視図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention, and is a perspective view showing an embossing device, a backup roll incorporated in the embossing device, and a method of manufacturing a processed product using the embossing device. 図2は、バックアップロールを示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the backup roll. 図3は、空運転工程を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the idling operation process. 図4は、硬化工程を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining the curing process. 図5は、めっき工程を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the plating process. 図6は、エンボス加工工程を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the embossing process. 図7は、空運転工程におけるバックアップロールの基部層の推定され得る変形プロセスを説明するための断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a deformation process that can be estimated for the base layer of the backup roll in the idling operation process. 図8は、空運転工程におけるバックアップロールの基部層の推定され得る変形プロセスを説明するための断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a deformation process that can be estimated for the base layer of the backup roll in the idling operation process. 図9は、空運転工程におけるバックアップロールの基部層の推定され得る変形プロセスを説明するための断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a deformation process that can be estimated for the base layer of the backup roll in the idling operation process.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

図1乃至図9は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうちまず、図1および図2を参照して、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造するエンボス装置について説明する。ここで、図1は、エンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を説明するための斜視図である。また、図2は、エンボス装置のバックアップロールを示す断面図である。   1 to 9 are diagrams for explaining an embodiment according to the present invention. First of all, an embossing apparatus for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Here, FIG. 1 is a perspective view for explaining an embossing device and a method of manufacturing a processed product using the embossing device. Moreover, FIG. 2 is sectional drawing which shows the backup roll of an embossing apparatus.

図1に示すように、エンボス装置10は、エンボスロール20と、エンボスロール20に対向して配置され、エンボスロール20との間で原反50を圧するようになるバックアップロール30と、を備えている。また、エンボス装置10は、エンボスロール20およびバックアップロール30の間に向けて原反50を供給する原反供給装置(図示せず)をさらに備えている。   As shown in FIG. 1, the embossing device 10 includes an embossing roll 20 and a backup roll 30 that is arranged to face the embossing roll 20 and presses the raw fabric 50 between the embossing roll 20. Yes. The embossing device 10 further includes a raw material supply device (not shown) that supplies the raw material 50 between the embossing roll 20 and the backup roll 30.

図1に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール30は、それぞれ、円柱状または円筒状に形成されている。エンボスロール20およびバックアップロール30は、それぞれの外周面が対向するように配置されている。また、エンボスロール20およびバックアップロール30は、それぞれの中心軸線L1,L2が平行となるように配置されている。エンボスロール20およびバックアップロール30は、それぞれの中心軸線L1,L2を中心として回転可能となっている。   As shown in FIG. 1, the embossing roll 20 and the backup roll 30 are each formed in a columnar shape or a cylindrical shape. The embossing roll 20 and the backup roll 30 are disposed so that their outer peripheral surfaces face each other. Further, the embossing roll 20 and the backup roll 30 are arranged so that the central axes L1 and L2 thereof are parallel to each other. The embossing roll 20 and the backup roll 30 are rotatable around their respective central axes L1 and L2.

また、エンボス装置10は、図示しない制御装置をさらに備えている。制御装置は、エンボスロール20の回転駆動機構、バックアップロール30の回転駆動機構および原反供給装置に接続されている。そして、制御装置は、エンボスロール20の回転、バックアップロール30の回転、原反50の供給等を制御するように構成されている。   The embossing device 10 further includes a control device (not shown). The control device is connected to the rotation drive mechanism of the embossing roll 20, the rotation drive mechanism of the backup roll 30, and the original fabric supply device. And a control apparatus is comprised so that rotation of the embossing roll 20, rotation of the backup roll 30, supply of the raw fabric 50, etc. may be controlled.

エンボスロール20は、その外周面上に形成された凹凸形状を含むエンボス型面25を有している。エンボス型面25は、図1に示すように、原反供給装置から供給される原反50に当接するようになる。図1に示すように、エンボス型面25は、原反50に形成すべき凹凸柄55に対応した凹凸形状を有している。エンボス型面25の凹凸形状は、製造される加工品の用途等に応じ、種々の粗さや深さを含んだ凹凸形状として構成される。一例として、製造されるべき加工品60が合成皮革用の離型紙(型紙)である場合には、エンボス型面25の凹凸形状は、原反50に皮模様を付与し得るように構成される。エンボスロール20は、エンボス型面25を含むその全体を、銅や鉄等の金属によって構成され得る。   The embossing roll 20 has the embossing type | mold surface 25 containing the uneven | corrugated shape formed on the outer peripheral surface. As shown in FIG. 1, the embossing mold surface 25 comes into contact with the original fabric 50 supplied from the original fabric supply device. As shown in FIG. 1, the embossed mold surface 25 has an uneven shape corresponding to the uneven pattern 55 to be formed on the original fabric 50. The concavo-convex shape of the embossed mold surface 25 is configured as an concavo-convex shape including various roughnesses and depths depending on the use of the processed product to be manufactured. As an example, when the processed product 60 to be manufactured is a release paper (pattern paper) for synthetic leather, the concavo-convex shape of the embossed mold surface 25 is configured to give a leather pattern to the original fabric 50. . The entire embossing roll 20 including the embossing mold surface 25 can be made of a metal such as copper or iron.

次に、エンボスロール20に対向して配置されたバックアップロール30について説明する。バックアップロール30は、エンボスロール20と略同一の外径、例えば200mm〜400mmの外径を有している。バックアップロール30は、エンボスロール20と同期して、エンボスロール20の周速度と略同一の周速度で回転することができるように構成されている。   Next, the backup roll 30 disposed to face the embossing roll 20 will be described. The backup roll 30 has substantially the same outer diameter as the embossing roll 20, for example, an outer diameter of 200 mm to 400 mm. The backup roll 30 is configured to be able to rotate at a circumferential speed substantially the same as the circumferential speed of the embossing roll 20 in synchronization with the embossing roll 20.

図1に示すように、バックアップロール30は、円柱状または円筒状に形成された心部材32と、心部材32上に形成された表層部33と、を有している。心部材32は、表層部33を安定して支持することができるように構成されている。具体的には、心部材32は、例えば鉄や銅等の高剛性の金属により、円柱状または円筒状に形成されている。   As shown in FIG. 1, the backup roll 30 includes a core member 32 formed in a columnar shape or a cylindrical shape, and a surface layer portion 33 formed on the core member 32. The core member 32 is configured to stably support the surface layer portion 33. Specifically, the core member 32 is formed in a columnar shape or a cylindrical shape from a highly rigid metal such as iron or copper.

図1に示すように、表層部33は、エンボスロール20のエンボス型面25と対面している。表層部33には、エンボス型面25の凹凸形状に対応した凹凸形状が形成されている。図2に示すように、表層部33は、心部材32上に設けられた基部層34と、基部層34上に形成されためっき層38と、を有している。   As shown in FIG. 1, the surface layer portion 33 faces the embossing mold surface 25 of the embossing roll 20. The surface layer portion 33 is formed with an uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface 25. As shown in FIG. 2, the surface layer portion 33 includes a base layer 34 provided on the core member 32 and a plating layer 38 formed on the base layer 34.

図2に示すように、基部層34は、樹脂36と、樹脂36中に分散された金属粒子35と、を含んでいる。樹脂36は、多数の金属粒子35の間を埋めるバインダー樹脂として機能し、多数の金属粒子35を保持している。基部層34の厚みは、適宜設定することができる。一例として、合成皮革用の離型紙を加工品60として作製する場合には、基部層34の厚みを5mm以上10mm以下とすることができる。   As shown in FIG. 2, the base layer 34 includes a resin 36 and metal particles 35 dispersed in the resin 36. The resin 36 functions as a binder resin that fills the space between the large number of metal particles 35 and holds the large number of metal particles 35. The thickness of the base layer 34 can be set as appropriate. As an example, when a release paper for synthetic leather is produced as the processed product 60, the thickness of the base layer 34 can be 5 mm or more and 10 mm or less.

本実施の形態において、樹脂36は、導電性を有する導電性樹脂からなっている。そして、この樹脂36は、めっき層38を電解めっきにより形成する際のめっきの核として機能する。このような樹脂36としては、銀ペーストや、導電性フィラーを含んだ樹脂が例示される。   In the present embodiment, the resin 36 is made of a conductive resin having conductivity. The resin 36 functions as a plating nucleus when the plating layer 38 is formed by electrolytic plating. Examples of such a resin 36 include a silver paste and a resin containing a conductive filler.

また本実施の形態において、樹脂36は、反応硬化性樹脂として形成されている。ここで、反応硬化性樹脂とは、反応させることにより硬化する樹脂のことであり、典型的な例としては、熱に反応して硬化する熱硬化性樹脂、光に反応して硬化する光反応性樹脂等が挙げられる。また、光反応性樹脂としては、電子線を照射されると反応を開始して硬化する電子線硬化型樹脂や、紫外線を照射されると反応を開始して硬化する紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。本変形例において、反応硬化性樹脂の硬化形態は、特に限定されず、適宜選択され得る。一例として、以下の説明においては、樹脂36が熱硬化性樹脂なる例を説明する。後述するように、樹脂36が反応硬化性樹脂である場合、表層部33(基部層34)に凹凸形状を形成した後に、この樹脂36を硬化させることにより、表層部33(基部層34)の平坦化を防止し、表層部33(基部層34)に形成された凹凸形状を効果的に維持することが可能となる。   In the present embodiment, the resin 36 is formed as a reactive curable resin. Here, the reaction curable resin is a resin that cures by reacting, and typical examples include a thermosetting resin that cures in response to heat and a photoreaction that cures in response to light. Resin etc. are mentioned. In addition, as the photoreactive resin, ionization of an electron beam curable resin that starts and cures when irradiated with an electron beam, or an ultraviolet curable resin that initiates and cures when irradiated with ultraviolet light. A radiation curable resin is mentioned. In this modification, the curing form of the reaction curable resin is not particularly limited and may be appropriately selected. As an example, in the following description, an example in which the resin 36 is a thermosetting resin will be described. As will be described later, when the resin 36 is a reactive curable resin, after forming an uneven shape on the surface layer portion 33 (base layer 34), the resin 36 is cured to thereby form the surface layer portion 33 (base layer 34). Flattening can be prevented, and the uneven shape formed in the surface layer portion 33 (base layer 34) can be effectively maintained.

金属粒子35をなす材料としては、種々の金属を選択することができ、一例として、アルミニウム、銅、鉄、または、これらの合金を用いることができる。なお、樹脂36をなす材料の強度と、金属粒子35をなす材料の強度と、が大きく異なっていることが好ましい。この場合、後述するように、金属粒子を塑性変形させて形成された表層部33(基部層34)の凹凸形状を、樹脂36の復元力等に抗して、効果的に維持することができる。   Various materials can be selected as the material forming the metal particles 35. As an example, aluminum, copper, iron, or an alloy thereof can be used. The strength of the material forming the resin 36 and the strength of the material forming the metal particles 35 are preferably greatly different. In this case, as will be described later, the uneven shape of the surface layer portion 33 (base layer 34) formed by plastic deformation of metal particles can be effectively maintained against the restoring force of the resin 36 and the like. .

また、多数の金属粒子35の平均粒径は、例えばエンボス型面25の凹凸形状に対応して、種々の値に設定され得る。一例として、合成皮革用の離型紙を加工品60として作製する場合には、多数の金属粒子35の平均粒径を、20μm以上400μm以下とすることができる。この場合、後に詳述する作用効果が極めて有効に発揮されることを期待することができる。なお、金属粒子35の形状は、球形状である必要はなく、例えば線状等の種々の形状に設定され得る。   In addition, the average particle diameter of the large number of metal particles 35 can be set to various values, for example, corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface 25. As an example, when a release paper for synthetic leather is produced as the processed product 60, the average particle diameter of a large number of metal particles 35 can be 20 μm or more and 400 μm or less. In this case, it can be expected that the effects described in detail later will be exhibited extremely effectively. In addition, the shape of the metal particle 35 does not need to be spherical, and can be set to various shapes such as a linear shape.

さらに、基部層34において、金属粒子35と樹脂36とは、種々の配合比で配合され得る。例えば、アルミニウム、銅、鉄、または、これらの合金からなる金属粒子35と、PETまたはこれと同程度の強度を有する樹脂からなる樹脂36と、を用い、エンボス加工装置10によって合成皮革用の離型紙を加工品60として作製する場合には、金属粒子35と樹脂36とを、6:4〜9:1の体積比率で配合することができる。言い換えると、基部層34内で金属粒子35が占める体積割合を、例えば60%以上90%以下とすることができる。この場合、後に詳述する作用効果が極めて有効に発揮されることを期待することができる。   Furthermore, in the base layer 34, the metal particles 35 and the resin 36 can be blended at various blending ratios. For example, a metal particle 35 made of aluminum, copper, iron, or an alloy thereof, and a resin 36 made of PET or a resin having the same degree of strength are used. When the pattern paper is produced as the processed product 60, the metal particles 35 and the resin 36 can be blended at a volume ratio of 6: 4 to 9: 1. In other words, the volume ratio of the metal particles 35 in the base layer 34 can be set to 60% or more and 90% or less, for example. In this case, it can be expected that the effects described in detail later will be exhibited extremely effectively.

なお、本実施の形態において、金属粒子35は、めっき層38を形成する際に電解めっきの核としても機能し得る。そして、一定の厚みを有しためっき層38を形成する観点から、金属粒子35の平均粒径を小さくするとともに、多量の金属粒子35がバインダー樹脂36中にむらなく分散されていることが好ましい。   In the present embodiment, the metal particles 35 can also function as a nucleus of electrolytic plating when forming the plating layer 38. From the viewpoint of forming the plating layer 38 having a certain thickness, it is preferable that the average particle diameter of the metal particles 35 is reduced and a large amount of the metal particles 35 are uniformly dispersed in the binder resin 36.

めっき層38は、基部層34上を被覆するように形成される。本実施の形態において、めっき層38は、電解めっきにより形成された銅、ニッケル、クロム等からなる金属層として形成されている。めっき層38は、基部層34の凹凸形状を損なうことがないように、基部層34の凹凸形状に沿って略一定の厚みで形成されている。めっき層38は、表層部33(基部層34)の平坦化を防止して、表層部33(基部層34)に形成された凹凸形状を効果的に維持するように機能する。この機能を有効に発揮するため、一例として合成皮革用の離型紙を加工品60として作製する場合、めっき層38の厚みを5μm以上12μm以下とすることができる。   The plating layer 38 is formed so as to cover the base layer 34. In the present embodiment, the plating layer 38 is formed as a metal layer made of copper, nickel, chromium or the like formed by electrolytic plating. The plating layer 38 is formed with a substantially constant thickness along the uneven shape of the base layer 34 so as not to impair the uneven shape of the base layer 34. The plating layer 38 functions to prevent the surface layer portion 33 (base layer 34) from being flattened and to effectively maintain the uneven shape formed on the surface layer portion 33 (base layer 34). In order to effectively exhibit this function, as an example, when a release paper for synthetic leather is produced as the processed product 60, the thickness of the plating layer 38 can be set to 5 μm or more and 12 μm or less.

次に、エンボス装置10を準備するとともに準備されたエンボス装置10を用いて原反50に凹凸柄55を形成し、加工品60を製造する方法の一例について説明する。以下に説明する方法は、バックアップロール30を形成するための心部材32と基部層34とからなるロール基材49を準備する工程と、ロール基材49をエンボスロール20とともに空運転させる空運転工程(図3参照)と、空運転工程後に実施される工程であって、基部層34の樹脂36を硬化させる硬化工程(図3参照)と、硬化工程後に実施される工程であって、原反50に凹凸柄55を形成するエンボス加工工程(図5参照)と、を含んでいる。   Next, an example of a method for manufacturing the processed product 60 by preparing the embossing device 10 and forming the uneven pattern 55 on the original fabric 50 using the prepared embossing device 10 will be described. The method described below includes a step of preparing a roll base material 49 including a core member 32 and a base layer 34 for forming the backup roll 30, and an empty operation step of causing the roll base material 49 to idle with the embossing roll 20. (See FIG. 3), a step performed after the idling operation step, a curing step (see FIG. 3) for curing the resin 36 of the base layer 34, and a step performed after the curing step, The embossing process (refer FIG. 5) which forms the uneven | corrugated pattern 55 in 50 is included.

まず、ロール基材49を準備する工程から説明する。心部材32と、心部材32上に設けられた基部層34と、からなるロール基材49が準備される。一具体例として、以下のようにして基部層34が心部材32に形成されることによって、ロール基材49が準備され得る。まず、樹脂36と、金属粒子35と、を含んだ樹脂溶液が、種々のコテーィング法を用いて、心部材32上にコテーィングされる。次に、ベーク処理によって、心部材32上の樹脂溶液から溶媒が除去される。   First, the process of preparing the roll base material 49 will be described. A roll base 49 comprising a core member 32 and a base layer 34 provided on the core member 32 is prepared. As one specific example, the roll base 49 can be prepared by forming the base layer 34 on the core member 32 as follows. First, a resin solution containing the resin 36 and the metal particles 35 is coated on the core member 32 using various coating methods. Next, the solvent is removed from the resin solution on the core member 32 by baking.

次に、空運転工程では、図3に示すようにして、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)が空運転させられる。ここで、「空運転(空転)」とは、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)との間に原反50が供給されることなく、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)が回転させられることである。この空運転中、エンボスロール20のエンボス型面25がロール基材49(バックアップロール30)の外周面に当接し、エンボス型面25の凹凸形状の凸部25aがロール基材49(バックアップロール30)の外周面を押圧するようになる。このとき、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)の位置関係は、原反50に対して実際にエンボス加工を行う場合におけるエンボスロール20およびバックアップロール30の位置関係と概ね同様の条件に設定されていることが好ましい。   Next, in the idling operation step, as shown in FIG. 3, the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) are idling. Here, “idle operation (idling)” means that the raw fabric 50 is not supplied between the embossing roll 20 and the roll base 49 (backup roll 30), and the embossing roll 20 and the roll base 49 (backup). The roll 30) is rotated. During this idling operation, the embossing mold surface 25 of the embossing roll 20 comes into contact with the outer peripheral surface of the roll base material 49 (backup roll 30), and the concavo-convex convex portions 25a of the embossing mold surface 25 become the roll base material 49 (backup roll 30). ) Will be pressed. At this time, the positional relationship between the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) is substantially the same as the positional relationship between the embossing roll 20 and the backup roll 30 when embossing is actually performed on the original fabric 50. It is preferable that it is set to.

この空運転工程では、エンボス型面25に形成された凹凸形状が、ロール基材49(バックアップロール30)の基部層(外周面)34へしだいに転写されていく。本件発明者らが実験を行ったところ、金属粒子35と樹脂36とを有する基部層34が用いられている本実施の形態の態様によれば、エンボス型面25の凹凸形状を基部層34へ優れた転写効率で転写可能であることが確認された。本実施の形態によるバックアップロール30の基部層34に凹凸形状を精度良く転写することが可能となるメカニズムは明らかではないが、以下に、主に図7乃至図9を参照して、現時点で考えられ得る転写メカニズムについて説明する。ただし、本件発明は以下のメカニズムに限定されるものではない。   In this idling process, the uneven shape formed on the embossed mold surface 25 is gradually transferred to the base layer (outer peripheral surface) 34 of the roll base material 49 (backup roll 30). When the inventors conducted experiments, according to the embodiment of the present embodiment in which the base layer 34 having the metal particles 35 and the resin 36 is used, the uneven shape of the embossed mold surface 25 is changed to the base layer 34. It was confirmed that transfer was possible with excellent transfer efficiency. Although the mechanism that makes it possible to accurately transfer the concavo-convex shape to the base layer 34 of the backup roll 30 according to the present embodiment is not clear, it will be considered below with reference mainly to FIGS. A possible transfer mechanism will be described. However, the present invention is not limited to the following mechanism.

エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)を空運転させるとともに、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)を互いに向けて押圧した場合、図7に示すように、まず、エンボスロール20のエンボス型面25が、その凹凸形状の凸部25aにおいて、ロール基材49(バックアップロール30)の基部層34に接触し当該基部層34を押圧するようになる。すなわち、ロール基材49(バックアップロール30)の基部層34には、大きな圧力が局所的に加えられるようになる。エンボス型面25の凸部25aによって基部層34が押圧されると、当該凸部25aの近傍において、まず弾性変形しやすい樹脂36が流動して基部層34がわずかに変形することが予想される。   When the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) are idled and the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) are pressed toward each other, as shown in FIG. The embossed mold surface 25 of the roll 20 comes into contact with and presses the base layer 34 of the roll base material 49 (backup roll 30) at the concave and convex portion 25 a. That is, a large pressure is locally applied to the base layer 34 of the roll base material 49 (backup roll 30). When the base layer 34 is pressed by the convex portion 25a of the embossed mold surface 25, it is expected that the resin 36 that is easily elastically deformed first flows in the vicinity of the convex portion 25a and the base layer 34 is slightly deformed. .

そして、エンボスロール20およびロール基材49(バックアップロール30)が互いに向けてさらに強く押圧されると、最終的には、樹脂36が変形するだけでなく、局所的な大きな圧力により、エンボス型面25の凸部25aの周囲で金属粒子35が塑性変形するようになる。ここで、金属粒子35は微細な粒子として構成されていることから、すなわち、形状的な要因から、金属粒子全体としての剛性はエンボス型面25からの局所的な圧力によって塑性変形する程度となり得る。したがって、図8に示すように、エンボス型面25の凸部25aが基部層34内に入り込んでくるとともに、金属粒子35がエンボス型面25の凸部25aの形状に精確に追従して変形し得るものと推測される。   When the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) are further strongly pressed toward each other, the embossing surface is not only deformed finally but also due to a large local pressure. The metal particles 35 are plastically deformed around the 25 convex portions 25a. Here, since the metal particles 35 are configured as fine particles, that is, due to shape factors, the rigidity of the metal particles as a whole can be plastically deformed by local pressure from the embossing mold surface 25. . Therefore, as shown in FIG. 8, the convex portion 25a of the embossing mold surface 25 enters the base layer 34, and the metal particles 35 are accurately deformed following the shape of the convex portion 25a of the embossing mold surface 25. Presumed to be gained.

また、金属粒子35が塑性変形すると、金属粒子35よりも変形しやすい樹脂36は、樹脂36の変形が弾性変形であるか塑性変形であるかに依らず、塑性変形した金属粒子35によって変形された状態に保たれるようになる。この結果、図9に示すように、エンボス型面25がロール基材49(バックアップロール30)の基部層34から離間した後においても、エンボス型面25の凹凸形状の凸部25aに対応した凹部34bがバックアップロール30の基部層34に残留するようになる。   Further, when the metal particles 35 are plastically deformed, the resin 36 that is more easily deformed than the metal particles 35 is deformed by the plastically deformed metal particles 35 regardless of whether the deformation of the resin 36 is elastic deformation or plastic deformation. It will be kept in the state. As a result, as shown in FIG. 9, even after the embossing mold surface 25 is separated from the base layer 34 of the roll base material 49 (backup roll 30), the recess corresponding to the concavo-convex projection 25a of the embossing mold surface 25. 34 b remains on the base layer 34 of the backup roll 30.

このようにして、エンボスロール20とロール基材49(バックアップロール30)とを空運転させることにより、エンボス型面25の凹凸形状がバックアップロール30の基部層34に精度良く転写され、エンボス型面25の凹凸形状(オス型)に対応した凹凸形状(メス型)が基部層34に精度良く形成されるようになるものと考えられる。   In this way, by causing the embossing roll 20 and the roll base material 49 (backup roll 30) to run idle, the uneven shape of the embossing mold surface 25 is accurately transferred to the base layer 34 of the backup roll 30, and the embossing mold surface. It is considered that an uneven shape (female type) corresponding to 25 uneven shapes (male type) is formed on the base layer 34 with high accuracy.

以上のような空運転工程は、ロール基材49(バックアップロール30)の基部層34の変形が概ね飽和し、ロール基材49(バックアップロール30)の基部層34が略一定の形状を保つようになるまで実施される。   In the idling process as described above, the deformation of the base layer 34 of the roll base material 49 (backup roll 30) is substantially saturated, and the base layer 34 of the roll base material 49 (backup roll 30) is maintained in a substantially constant shape. It is carried out until.

次に、凹凸形状を形成された基部層34の反応硬化性樹脂36を硬化させる。具体的な硬化方法は、樹脂36の硬化特性に応じて適宜選択される。上述したように、樹脂36が熱硬化性樹脂からなる場合には、図4に示すように、加熱装置42を用いて樹脂36を加熱することにより、樹脂36を硬化させることができる。このようにして、空転工程で凹凸形状を形成された状態で、基部層34の樹脂36が硬化される。この結果、基部層34の樹脂36に残留応力が溜まっていたとしても、基部層34の凹凸形状がより安定して維持されるようになる。   Next, the reaction curable resin 36 of the base layer 34 formed with the uneven shape is cured. A specific curing method is appropriately selected according to the curing characteristics of the resin 36. As described above, when the resin 36 is made of a thermosetting resin, the resin 36 can be cured by heating the resin 36 using the heating device 42 as shown in FIG. In this manner, the resin 36 of the base layer 34 is cured in a state in which the uneven shape is formed in the idling process. As a result, even if residual stress is accumulated in the resin 36 of the base layer 34, the uneven shape of the base layer 34 is more stably maintained.

その後、凹凸形状が形成された基部層34上にめっき層38を形成する。具体的な方法としては、めっき層を形成するための種々の方法が適宜選択される。本実施の形態においては、図5に示すように、めっき槽44に基部層34を浸漬し、電解めっきによりめっき層38を基部層34上に形成している。この際、基部層34の導電性樹脂36および金属粒子35が、共に、電解めっきの核として機能する。めっき層38は略一定の厚みで形成され、これにより、基部層34とめっき層38とからなる表層部33の表面には、基部層34に形成された凹凸形状がそのまま残留するようになる。そして、このようにして形成された金属からなるめっき層38は、通常、凹凸形状を基部層34に形成する際における基部層34の樹脂36と比較して、高強度となる。したがって、このめっき層38によれば、樹脂36の復元力等に抗して、表層部33の凹凸形状を効果的に維持することができる。また、基部層34に形成された凹凸形状がめっき層38によって補強されることから、エンボス加工工程において表層部33に外力が加えられた際に、表層部33の凹凸形状を効果的に維持することができるようになる。   Thereafter, a plating layer 38 is formed on the base layer 34 on which the uneven shape is formed. As a specific method, various methods for forming the plating layer are appropriately selected. In the present embodiment, as shown in FIG. 5, the base layer 34 is immersed in a plating tank 44, and the plating layer 38 is formed on the base layer 34 by electrolytic plating. At this time, both the conductive resin 36 and the metal particles 35 of the base layer 34 function as the core of electrolytic plating. The plating layer 38 is formed with a substantially constant thickness, whereby the uneven shape formed in the base layer 34 remains as it is on the surface of the surface layer portion 33 composed of the base layer 34 and the plating layer 38. The plated layer 38 made of the metal thus formed generally has higher strength than the resin 36 of the base layer 34 when the uneven shape is formed on the base layer 34. Therefore, according to the plated layer 38, the uneven shape of the surface layer portion 33 can be effectively maintained against the restoring force of the resin 36 and the like. Moreover, since the uneven | corrugated shape formed in the base layer 34 is reinforced by the plating layer 38, when external force is applied to the surface layer part 33 in an embossing process, the uneven | corrugated shape of the surface layer part 33 is maintained effectively. Will be able to.

以上のようにして心部材32と基部層34とからなるロール基材49に凹凸形状を転写するとともにめっき層38を形成することにより、心部材32と凹凸形状を有する表層部33とからなるバックアップロールが形成される。   As described above, the uneven shape is transferred to the roll base 49 composed of the core member 32 and the base layer 34 and the plating layer 38 is formed, thereby forming the backup composed of the core member 32 and the surface layer portion 33 having the uneven shape. A roll is formed.

次に、エンボス加工工程について説明する。この工程では、図4に示すように、エンボスロール20およびバックアップロール30を回転させたままの状態で、原反50が、エンボスロール20およびバックアップロール30との間に原反供給装置(図示せず)から供給される。この結果、エンボスロール20のエンボス型面25に形成された凹凸形状およびバックアップロール30の基部層34に形成された凹凸形状に対応した凹凸柄55が原反50に形成され、帯状に延びる加工品80が連続的に作製されていく。   Next, the embossing process will be described. In this step, as shown in FIG. 4, the raw fabric 50 is placed between the embossing roll 20 and the backup roll 30 while the embossing roll 20 and the backup roll 30 are rotated (not shown). )). As a result, a concavo-convex pattern 55 corresponding to the concavo-convex shape formed on the embossing mold surface 25 of the embossing roll 20 and the concavo-convex shape formed on the base layer 34 of the backup roll 30 is formed on the original fabric 50 and is processed into a strip shape. 80 is produced continuously.

なお、原反50は、例えば、紙、より具体的には、80g/m2〜200g/m2程度の坪量を有したクラフト紙から構成され得る。原反50の厚みは、数百μm、より具体的には25μm〜500μm程度とすることができる。 Incidentally, raw 50 is, for example, paper, and more specifically, may be composed of kraft paper having a 80g / m 2 ~200g / m 2 about basis weight. The thickness of the original fabric 50 can be several hundreds of micrometers, more specifically, about 25 to 500 μm.

ところで、エンボス加工工程では、エンボスロール20およびバックアップロール30の間に、ある程度の厚みを有した原反50が位置している。したがって、バックアップロール30の外周面(表層部33)にエンボスロール20のエンボス型面25からエンボス工程中に付加される圧力は、空運転工程時にロール基材49の外周面(基部層34)に付加される圧力よりも、平均化されている。すなわち、バックアップロール30(ロール基材)の外周面が受ける圧力分布は、エンボス加工工程時と空運転工程時とでは異なっている。このため、従来のエンボス装置を用いた場合、エンボス加工工程が進行していくにつれて、空運転工程中にエンボス型面の凹凸形状に対応してバックアップロールの外周面に形成された凹凸形状は、しだいに平坦化されてなだらかになってしまっていた。そして、メス型として機能するバックアップロールの外周面の凹凸形状の平坦化にともなって、原反に予定した凹凸柄を精度良く転写することができない、といった不都合が生じていた。この不都合を回避するためには、エンボス加工工程を頻繁に中断し、空運転工程を頻繁に行って、バックアップロールの外周面へ凹凸形状を再形成(型入れ)しなければならない。   By the way, in the embossing process, an original fabric 50 having a certain thickness is located between the embossing roll 20 and the backup roll 30. Therefore, the pressure applied during the embossing process from the embossing mold surface 25 of the embossing roll 20 to the outer peripheral surface (surface layer part 33) of the backup roll 30 is applied to the outer peripheral surface (base layer 34) of the roll base 49 during the idling operation process. It is averaged over the pressure applied. That is, the pressure distribution received by the outer peripheral surface of the backup roll 30 (roll base material) is different between the embossing process and the idling process. For this reason, when using the conventional embossing device, as the embossing process proceeds, the uneven shape formed on the outer peripheral surface of the backup roll corresponding to the uneven shape of the embossing mold surface during the idle operation step is It was gradually flattened and smoothed. Then, along with the flattening of the concave and convex shape on the outer peripheral surface of the backup roll functioning as a female mold, there has been a problem that the concave and convex pattern planned on the original fabric cannot be accurately transferred. In order to avoid this inconvenience, the embossing process must be interrupted frequently, the idle operation process must be frequently performed, and the uneven shape must be re-formed (molded) on the outer peripheral surface of the backup roll.

一方、本実施の形態においては、以下のようにして、エンボス加工中におけるバックアップロールの外周面の平坦化を防止し、凹凸形状を維持することができるようになる。この結果、エンボス加工工程の経過時間に依らず、原反50に凹凸柄55をより精度良く形成して、加工品60を連続的に製造していくことができる。   On the other hand, in the present embodiment, it is possible to prevent the outer peripheral surface of the backup roll from being flattened during embossing and maintain the uneven shape as follows. As a result, regardless of the elapsed time of the embossing process, it is possible to form the concavo-convex pattern 55 on the original fabric 50 with higher accuracy and continuously manufacture the processed product 60.

まず、本実施の形態においては、空運転工程後に金属からなるめっき層38が形成されている。このめっき層38によって補強されることから、空運転工程時に外力を受けていたロール基材49の外周面と比較して、エンボス加工工程時に外力を受けるバックアップロール30の外周面は、略同一の凹凸形状を有するとともに高い硬度(強度)を有するようになっている。このため、基部層34の凹凸形状を補強するように形成された高強度のめっき層38によれば、表層部33の凹凸形状がエンボス加工工程中に平坦化することを防止し、表層部33の凹凸形状を効果的に維持することができる。この結果、エンボス加工工程中、原反50に凹凸柄55を精度良く形成して、加工品60を連続的に製造していくことができる。   First, in the present embodiment, a plating layer 38 made of metal is formed after the idle operation process. Since it is reinforced by the plating layer 38, the outer peripheral surface of the backup roll 30 receiving external force during the embossing process is substantially the same as the outer peripheral surface of the roll base material 49 receiving external force during the idle operation process. It has an uneven shape and a high hardness (strength). For this reason, according to the high-strength plating layer 38 formed so as to reinforce the uneven shape of the base layer 34, the uneven shape of the surface layer portion 33 is prevented from being flattened during the embossing process, and the surface layer portion 33 is prevented. The uneven shape can be effectively maintained. As a result, during the embossing process, the concavo-convex pattern 55 can be accurately formed on the original fabric 50, and the processed product 60 can be continuously manufactured.

また、空運転によって凹凸形状を形成された基部層34の樹脂36は、空運転工程後に、反応硬化させられている。したがって、表層部34は、凹凸形状を付与される際に低強度となっており、エンボス加工を行っている際に高強度となっている。このため、空運転において精度良く形成された基部層34の凹凸形状を、エンボス加工工程中に効果的に維持することができる。   In addition, the resin 36 of the base layer 34 having the irregular shape formed by the idling operation is reactively cured after the idling operation step. Therefore, the surface layer portion 34 has a low strength when the uneven shape is given, and has a high strength when the embossing is performed. For this reason, the uneven | corrugated shape of the base layer 34 formed accurately in the idling operation can be effectively maintained during the embossing process.

さらに、基部層34は金属粒子35と反応硬化性樹脂36とを有している。そして、基部層34内で凹部34bに位置する金属粒子35は、空運転工程において大きな力を受け、塑性変形し得る。一方、エンボス加工工程では、エンボスロール20とバックアップロール30との間に原反50が介在する。このため、バックアップロール30が凹部34b近傍においてエンボス加工工程中に受ける力は、空運転工程中よりも小さくなる。したがって、表層部33の凹部34b近傍における凹凸形状を安定して維持することができる。   Further, the base layer 34 includes metal particles 35 and a reaction curable resin 36. And the metal particle 35 located in the recessed part 34b in the base layer 34 receives a big force in an empty driving | running | working process, and can be plastically deformed. On the other hand, in the embossing process, an original fabric 50 is interposed between the embossing roll 20 and the backup roll 30. For this reason, the force that the backup roll 30 receives during the embossing process in the vicinity of the recess 34b is smaller than that during the idle operation process. Therefore, the uneven shape in the vicinity of the concave portion 34b of the surface layer portion 33 can be stably maintained.

なお、バックアップロール30が凸部34a近傍においてエンボス加工工程中に受ける力は、空運転工程中よりも大きくなる。しかしながら、上述したように、めっき層38の形成と、基部層34の樹脂36の反応硬化と、によって、表層部34の強度、空運転工程時よりもエンボス加工工程時において増強されている。したがって、表層部33の凹部34b近傍においても凹凸形状を安定して維持することができる。   Note that the force that the backup roll 30 receives during the embossing process in the vicinity of the convex portion 34a is larger than that during the idle operation process. However, as described above, due to the formation of the plating layer 38 and the reaction hardening of the resin 36 of the base layer 34, the strength of the surface layer 34 is enhanced during the embossing process than during the idle operation process. Therefore, the uneven shape can be stably maintained even in the vicinity of the concave portion 34 b of the surface layer portion 33.

以上のような本実施の形態によれば、バックアップロール30の表層部33は、基部層34に含まれる樹脂36よりも高強度の材料からなる金属めっき層38を有している。そして、この金属めっき層38によれば、基部層34の樹脂36の復元力および原反50を介して加えられる力に抗して、表層部33の凹凸形状をエンボス加工中に維持することができる。   According to the present embodiment as described above, the surface layer portion 33 of the backup roll 30 has the metal plating layer 38 made of a material having higher strength than the resin 36 included in the base layer 34. And according to this metal plating layer 38, the uneven | corrugated shape of the surface layer part 33 can be maintained during embossing against the restoring force of the resin 36 of the base layer 34, and the force applied via the raw fabric 50. it can.

また、バックアップロール30の基部層34は、複数の金属粒子35と、金属粒子35間に設けられた樹脂36と、を含んでいる。このため、エンボスロール20とバックアップロール30とを空運転させることによって、エンボスロール20のエンボス型面25に形成された凹凸形状を、バックアップロール30の基部層34へ精度良く転写することができる。また、凹凸形状の作製時に金属粒子を塑性変形させることにより、基部層34中の樹脂36のその後の変形が拘束されるようになる。   The base layer 34 of the backup roll 30 includes a plurality of metal particles 35 and a resin 36 provided between the metal particles 35. For this reason, by causing the embossing roll 20 and the backup roll 30 to idle, the uneven shape formed on the embossing mold surface 25 of the embossing roll 20 can be accurately transferred to the base layer 34 of the backup roll 30. In addition, by deforming the metal particles plastically during the production of the concavo-convex shape, subsequent deformation of the resin 36 in the base layer 34 is constrained.

さらに、本実施の形態によれば、この状態で、反応硬化性の樹脂36が硬化される。これにより、基部層34に形成された凹凸形状がエンボス加工工程中に平坦化してしまうことを効果的に抑制することが可能となる。   Furthermore, according to the present embodiment, the reaction curable resin 36 is cured in this state. Thereby, it becomes possible to effectively suppress the uneven shape formed in the base layer 34 from being flattened during the embossing process.

これらのことから、バックアップロール30への型入れを頻繁に行うことなく、凹凸柄55を原反50に形成していくことができる。すなわち、バックアップロール30の型入れにともなった不必要なエンボス装置10の稼働停止を回避し、エンボス装置10を高い稼働率で稼働させて、優れた加工効率で原反50にエンボス加工を施していくことができる。また、形成されていく凹凸柄55を検査することによってバックアップロール30への型入れが必要な状況を検出する、といった煩雑な作業を省くことも可能となる。さらに、作製された加工品60は、高精度で一定の凹凸柄55を有するようになる。   From these things, the uneven | corrugated pattern 55 can be formed in the original fabric 50, without performing mold insertion to the backup roll 30 frequently. That is, unnecessary operation stop of the embossing device 10 due to the insertion of the backup roll 30 is avoided, the embossing device 10 is operated at a high operating rate, and the raw fabric 50 is embossed with excellent processing efficiency. I can go. In addition, it is possible to omit a complicated operation such as detecting a situation in which it is necessary to mold the backup roll 30 by inspecting the uneven pattern 55 to be formed. Further, the manufactured processed product 60 has a certain uneven pattern 55 with high accuracy.

なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。   Various modifications can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention.

例えば、上述した実施の形態において、合成皮革用の離型紙を加工品60として製造する例を挙げたが、これに限られず、その他の用途に用いられる加工品60を製造することも当然に可能である。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the release paper for synthetic leather is manufactured as the processed product 60 has been described. However, the present invention is not limited thereto, and it is naturally possible to manufacture the processed product 60 used for other purposes. It is.

また、上述した実施の形態において、基部層34の樹脂36が反応硬化性樹脂である例を示したが、これに限られない。樹脂36が反応硬化性でない樹脂から形成されていてもよい。このような変形例においても、めっき層38により、表層部38の凹凸形状をエンボス加工中に維持すること期待することができる。   In the above-described embodiment, the example in which the resin 36 of the base layer 34 is a reactive curable resin has been described, but the present invention is not limited thereto. The resin 36 may be formed from a resin that is not reactively curable. Also in such a modification, it can be expected that the uneven shape of the surface layer portion 38 is maintained during the embossing by the plating layer 38.

さらに、上述した実施の形態において、基部層34が金属粒子35を含む例を示したが、これに限られず、基部層34が金属粒子35を含まず、例えば樹脂36のみから形成されるようにしてもよい。このような変形例においても、めっき層38により、表層部38の凹凸形状をエンボス加工中に維持すること期待することができる。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the base layer 34 includes the metal particles 35 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the base layer 34 does not include the metal particles 35 and is formed only from the resin 36, for example. May be. Also in such a modification, it can be expected that the uneven shape of the surface layer portion 38 is maintained during the embossing by the plating layer 38.

さらに、上述した実施の形態において、基部層34の樹脂36が導電性である例を示したが、これに限られず、樹脂36が非導電性であってもよい。このような変形例においても、樹脂36の金属粒子をめっきの核として、めっき層38を電解めっきにより形成することができる。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the resin 36 of the base layer 34 is conductive has been described. However, the present invention is not limited thereto, and the resin 36 may be nonconductive. Also in such a modification, the plating layer 38 can be formed by electrolytic plating using the metal particles of the resin 36 as the core of the plating.

さらに、上述した実施の形態において、めっき層38が電解めっきにより形成される例を示したが、これに限られず、例えば、めっき層38が無電解めっきにより形成されてもよい。   Furthermore, although the example in which the plating layer 38 is formed by electrolytic plating has been described in the above-described embodiment, the present invention is not limited to this, and the plating layer 38 may be formed by electroless plating, for example.

さらに、上述した実施の形態において、空運転工程後に、硬化工程が実施され、さらにその後に、めっき工程が実施される例を示したが、これに限られない。例えば、めっき工程後に硬化工程が実施されるようにしてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, an example in which the curing process is performed after the idling operation process and the plating process is performed thereafter is shown, but the present invention is not limited thereto. For example, a curing process may be performed after the plating process.

実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する。   The present invention will be described in more detail with reference to examples.

実施例に係るバックアップロールと、比較例に係るバックアップロールと、を準備し、これらの二つのバックアップロールをエンボス装置に組み込んだ。各エンボス装置には、互いに同一のエンボス型面を有したエンボスロールをそれぞれ組み込んだ。エンボスロールと、実施例に係るバックアップロールと、比較例に係るバックアップロールと、について以下に説明する。   The backup roll according to the example and the backup roll according to the comparative example were prepared, and these two backup rolls were incorporated into the embossing device. Each embossing device incorporated an embossing roll having the same embossing mold surface. The embossing roll, the backup roll according to the example, and the backup roll according to the comparative example will be described below.

二つのエンボス装置を用いて、原反に凹凸柄を形成して加工品を作製した。二つのエンボス装置について、エンボスロールのエンボス型面からバックアップロールの表層部への凹凸形状の転写効率と、30,000mの長さの加工品を作製した場合におけるエンボス装置の稼働率と、を比較した。   Using two embossing devices, an uneven pattern was formed on the original fabric to produce a processed product. Comparing the transfer efficiency of the concavo-convex shape from the embossing mold surface of the embossing roll to the surface layer part of the backup roll, and the operation rate of the embossing apparatus when producing a processed product with a length of 30,000 m did.

〔エンボスロール〕
合成皮革用の離型紙を加工品として製造するためのエンボスロールを用いた。エンボスロールのエンボス型面上の複数箇所において、JISB0601:2001に準拠し、表面粗さを測定したところ、以下のようになった。
[Emboss roll]
An embossing roll for producing a release paper for synthetic leather as a processed product was used. When the surface roughness was measured in accordance with JISB0601: 2001 at a plurality of locations on the embossing mold surface of the embossing roll, the results were as follows.

Ra:10μm以上20μm以下
Rz:20μm以上100μm以下
Rmax:500μm以下
Ra: 10 μm to 20 μm Rz: 20 μm to 100 μm Rmax: 500 μm or less

エンボスロールの外径は300mm程度であった。   The outer diameter of the embossing roll was about 300 mm.

〔実施例に係るバックアップロール〕
上述した実施の形態と同様に、心部材と、心部材上に設けられた表層部と、を有するバックアップロールを用いた。このバックアップロールの作製は、アルミニウム製の金属粒子と、金属粒子を結合するための樹脂と、から構成された基部層を有するロール基材を用いた。基部層の樹脂は、導電性および熱硬化性を有する熱硬化性銀ペーストとした。実施例に係るバックアップロールは、上述の実施の形態と同様に、ロール基材に対し、以下に説明する空運転工程を実施するとともに、その後に熱硬化性樹脂を硬化させる工程、さらに、電解めっきによりめっき層を形成する工程を施すことにより、準備した。したがって、得られたバックアップロールの表層部は、基部層と、基部層上に形成されためっき層と、を有するようにした。
[Backup Roll According to Example]
Similar to the above-described embodiment, a backup roll having a core member and a surface layer portion provided on the core member was used. The production of this backup roll used a roll base material having a base layer composed of aluminum metal particles and a resin for bonding the metal particles. The resin of the base layer was a thermosetting silver paste having conductivity and thermosetting. The backup roll according to the example, similarly to the above-described embodiment, performs a blank operation step described below on the roll base material, and then a step of curing the thermosetting resin, and further electroplating It prepared by giving the process of forming a plating layer by. Therefore, the surface layer portion of the obtained backup roll has a base layer and a plating layer formed on the base layer.

金属粒子の平均粒径は、300μm程度であった。金属粒子と反応硬化性樹脂との体積比率は、7:3であった。表層部の厚みは、7mm程度であった。また、めっき層をなす材料はクロムとし、めっき層の厚みは10μmとした。バックアップロールの外径は300mm程度であった。   The average particle size of the metal particles was about 300 μm. The volume ratio between the metal particles and the reaction curable resin was 7: 3. The thickness of the surface layer portion was about 7 mm. The material forming the plating layer was chromium, and the thickness of the plating layer was 10 μm. The outer diameter of the backup roll was about 300 mm.

〔比較例に係るバックアップロール〕
心部材と、心部材上に設けられた表層部と、を有するバックアップロールを用いた。ただし、表層部は、紙や羊毛等の繊維を押し固めて構成されていた。
[Backup roll according to comparative example]
A backup roll having a core member and a surface layer portion provided on the core member was used. However, the surface layer portion was configured by pressing and solidifying fibers such as paper and wool.

比較例に係るバックアップロールは、表層部の構成を除けば、実施例に係るバックアップロールと同様の構成とした。   The backup roll according to the comparative example has the same configuration as the backup roll according to the example except for the configuration of the surface layer.

〔転写効率の比較〕
各エンボス装置における空運転工程は、線圧100kg/cm程度で、エンボスロールとバックアップロールとを互いに向けて押圧しながら実施した。目視で判断したところ、空運転工程中のニップ幅は1cm〜5cmであった。空運転工程は、バックアップロールの外表面(実施例に係るバックアップロールについてはロール基材の基部層、比較例に係るバックアップロールについては表層部)が略一定の形状を有するようになるまで行った。結果として、実施例に係るバックアップロールおよび比較例に係るバックアップロールのいずれに対しても、一時間半程度の空運転を実施した。その後、実施例に係るバックアップロールについては、ロール基材の基部層を加熱して基部層の熱硬化性樹脂を硬化反応させ、さらに、ロール基材の基部層上に電解めっきによりめっき層を形成した。
[Comparison of transfer efficiency]
The idling operation step in each embossing device was performed at a linear pressure of about 100 kg / cm while pressing the embossing roll and the backup roll toward each other. Judging by visual observation, the nip width during the idling process was 1 cm to 5 cm. The idling operation was performed until the outer surface of the backup roll (the base layer of the roll base material for the backup roll according to the example and the surface layer part for the backup roll according to the comparative example) has a substantially constant shape. . As a result, an idle operation of about one and a half hours was performed for both the backup roll according to the example and the backup roll according to the comparative example. Then, for the backup roll according to the example, the base layer of the roll base material is heated to cause the thermosetting resin of the base layer to undergo a curing reaction, and further, a plating layer is formed on the base layer of the roll base material by electrolytic plating. did.

各バックアップロールについて、表層部に形成された凹凸形状の算術平均粗さRaを、JISB0601:2001に準拠して測定した。   About each backup roll, arithmetic mean roughness Ra of the uneven | corrugated shape formed in the surface layer part was measured based on JISB0601: 2001.

比較例に係るバックアップロールについては、表層部で測定された算術平均粗さは、エンボスロールのエンボス型面の対応する位置において測定された算術平均粗さから35%程度低下していた。   About the backup roll which concerns on a comparative example, the arithmetic mean roughness measured by the surface layer part fell about 35% from the arithmetic mean roughness measured in the position corresponding to the embossing type | mold surface of an embossing roll.

一方、実施例に係るバックアップロールについては、表層部で測定された算術平均粗さは、エンボスロールのエンボス型面の対応する位置において測定された算術平均粗さから11%程度だけ低下していた。すなわち、実施例に係るバックアップロールの表層部には、エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸形状が極めて精度良く転写されていた。なお、実施例に係るバックアップロールの表層部の粗さの測定は、空運転後に表層部を加熱して表層部の熱硬化性樹脂を硬化させ、さらに、電解めっきにより基部層上にめっき層を形成した後に、実施した。   On the other hand, for the backup roll according to the example, the arithmetic average roughness measured at the surface layer portion was reduced by about 11% from the arithmetic average roughness measured at the corresponding position of the embossing mold surface of the embossing roll. . In other words, the uneven shape formed on the embossing surface of the embossing roll was transferred to the surface layer portion of the backup roll according to the example with extremely high accuracy. The roughness of the surface layer portion of the backup roll according to the example is measured by heating the surface layer portion after the idling operation to cure the thermosetting resin of the surface layer portion, and further applying a plating layer on the base layer by electrolytic plating. Performed after formation.

〔稼働率の比較〕
以上のようにして準備されたバックアップロールを組み込んだエンボス装置により、原反に凹凸柄を転写して加工品(合成皮革用の離型紙)を作製した。エンボス装置によるエンボス加工工程中、原反に形成された凹凸柄の品質を適宜検査し、凹凸柄が一般的な水準の品質規格外となるまで平坦化していないかを確認しながら、30,000mの長さの原反に対して凹凸柄を形成し、30,000m分の加工品を製造した。なお、凹凸柄の平坦化が確認された場合には、エンボス加工工程を中止して上述した空運転を行い、バックアップロールの表層部への型入れ(凹凸形状の再形成)を実施することとした。エンボスロールの回転速度、および、エンボスロールと同一の周速度で回転するバックアップロールの回転速度は、実施例に係るバックアップロールを用いる場合と、比較例に係るバックアップロールを用いる場合と、で同一とした。
[Comparison of operating rates]
By using an embossing apparatus incorporating the backup roll prepared as described above, the concavo-convex pattern was transferred to the original fabric to produce a processed product (release paper for synthetic leather). During the embossing process by the embossing device, the quality of the concavo-convex pattern formed on the original fabric is appropriately inspected, and it is confirmed that the concavo-convex pattern is not flattened until it falls outside the general standard of quality standards. A concavo-convex pattern was formed on the original fabric of a length of 30,000 to produce a processed product for 30,000 m. In addition, when the uneven pattern is confirmed to be flat, the embossing process is stopped and the above-described blanking operation is performed, and the mold is put into the surface layer portion of the backup roll (reforming the uneven shape). did. The rotational speed of the embossing roll and the rotational speed of the backup roll rotating at the same peripheral speed as the embossing roll are the same when using the backup roll according to the example and when using the backup roll according to the comparative example. did.

比較例に係るバックアップロールを用いた場合、3〜4時間程度に一回の割合で、一回あたり一時間半を要する空運転(型入れ)を行う必要が生じた。一方、実施例に係るバックアップロールを用いた場合、30,000mの長さの原反を加工する間、空運転(型入れ)を行う必要は生じなかった。すなわち、30,000mの長さの原反を加工した後に確認したところ、バックアップロールの表層部に形成された凹凸形状はほとんど平坦化されていなかった。   When the backup roll according to the comparative example was used, it was necessary to perform an idle operation (molding) that required one and a half hours per time at a rate of once every 3 to 4 hours. On the other hand, when the backup roll according to the example was used, it was not necessary to perform idling (molding) while processing a 30,000 m long original fabric. That is, as a result of checking after processing a 30,000 m length of the original fabric, the uneven shape formed on the surface layer portion of the backup roll was hardly flattened.

結果として、実施例に係るバックアップロールを用いたエンボス装置においては、空運転工程、硬化工程およびめっき層形成工程を一度行った後に30,000mの長さの原反を加工する場合、言い換えると、30,000mの加工品を製造する場合、稼働率は100%となった。一方、比較例に係るバックアップロールを用いたエンボス装置においては、空運転工程を一度行った後に30,000mの長さの原反を加工する場合、稼働率は、空運転工程を途中に頻繁に行う必要が生じたため、70%程度となった。   As a result, in the embossing apparatus using the backup roll according to the embodiment, when processing the raw material having a length of 30,000 m after performing the empty operation process, the curing process and the plating layer forming process once, in other words, When manufacturing a processed product of 30,000 m, the operating rate was 100%. On the other hand, in the embossing device using the backup roll according to the comparative example, when the raw material having a length of 30,000 m is processed after the empty operation process is performed once, the operation rate is frequently increased during the empty operation process. Since it was necessary to carry out, it became about 70%.

また、1,500mの長さの原反を加工した後に、バックアップロールの表面粗さを測定し、エンボス加工前に測定された表面粗さと比較した。実施例に係るバックアップロールについては、1,500mの長さの原反を加工した後に計測された表層部の算術平均粗さが、加工前に計測された粗さと同一であった。一方、比較例に係るバックアップロールについては、1,500mの長さの原反を加工した後に計測された表層部の算術平均粗さが、加工前に計測された粗さから7%程度も低下していた。   Moreover, after processing the raw material of a length of 1,500 m, the surface roughness of the backup roll was measured and compared with the surface roughness measured before embossing. About the backup roll which concerns on an Example, the arithmetic mean roughness of the surface layer part measured after processing the raw material of a length of 1,500 m was the same as the roughness measured before processing. On the other hand, for the backup roll according to the comparative example, the arithmetic average roughness of the surface layer portion measured after processing a 1,500 m long raw fabric is reduced by about 7% from the roughness measured before processing. Was.

10 エンボス装置
20 エンボスロール
25 エンボス型面
30 バックアップロール
32 心部材
33 表層部
34 基部層
35 金属粒子
36 樹脂
38 めっき層
49 ロール基材
50 原反
55 凹凸柄
60 加工品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Embossing device 20 Embossing roll 25 Embossing type | mold surface 30 Backup roll 32 Core member 33 Surface layer part 34 Base part layer 35 Metal particle 36 Resin 38 Plating layer 49 Roll base material 50 Original fabric 55 Uneven pattern 60 Processed goods

Claims (10)

原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、
前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有するエンボス型面を、有するエンボスロールと、
前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、を備え、
前記バックアップロールは、心部材と、前記心部材上に設けられ、前記エンボスロールの前記エンボス型面と対面する表層部と、を有し、
前記表層部は、樹脂を含む基部層と、前記基部層上に形成されためっき層と、を有する
ことを特徴とするエンボス装置。
An embossing device for forming an uneven pattern on a raw fabric,
An embossing roll having an embossed mold surface having an uneven shape corresponding to the uneven pattern to be formed on the original fabric;
A backup roll that is disposed opposite the embossing roll and that presses the original fabric with the embossing roll; and
The backup roll has a core member, and a surface layer portion provided on the core member and facing the embossing mold surface of the emboss roll,
The embossing device, wherein the surface layer portion includes a base layer containing a resin and a plating layer formed on the base layer.
前記基部層の前記樹脂は導電性を有し、
前記めっき層は、電解めっきにより前記基部層の前記導電性樹脂上に形成された層である
ことを特徴とする請求項1に記載のエンボス装置。
The resin of the base layer has electrical conductivity;
The embossing apparatus according to claim 1, wherein the plating layer is a layer formed on the conductive resin of the base layer by electrolytic plating.
前記基部層の前記樹脂は、硬化処理を施された反応硬化性の樹脂である
ことを特徴とする請求項1または2に記載のエンボス装置。
The embossing apparatus according to claim 1, wherein the resin of the base layer is a reaction curable resin subjected to a curing process.
前記基部層は、前記樹脂中に分散された金属粒子をさらに含む
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のエンボス装置。
The embossing device according to claim 1, wherein the base layer further includes metal particles dispersed in the resin.
原反に凹凸柄を形成するエンボス装置のエンボスロールに対向して配置されるバックアップロールであって、
心部材と、
心部材上に設けられた表層部であって、前記エンボスロールに形成されたエンボス型面と対面する表層部と、を備え、
前記表層部は、樹脂を含む基部層と、前記基部層上に形成されためっき層と、を有する
ことを特徴とするバックアップロール。
A backup roll arranged opposite to an embossing roll of an embossing device that forms an uneven pattern on the original fabric,
A core member;
A surface layer portion provided on the core member, the surface layer portion facing the embossing mold surface formed on the embossing roll, and
The said surface layer part has a base layer containing resin, and the plating layer formed on the said base layer, The backup roll characterized by the above-mentioned.
請求項1に記載されたエンボス装置を用い、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、
前記エンボスロールと、前記基部層を形成された前記心部材と、を空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状を、前記前記基部層に形成する工程と、
凹凸形状を形成された前記基部層上にめっき層を形成して、前記バックアップロールを得る工程と、
前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記原反に凹凸柄を形成する工程と、を備える
ことを特徴とする製造方法。
A manufacturing method for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric using the embossing device according to claim 1,
A step of idling the embossing roll and the core member on which the base layer is formed, and forming a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the embossing mold surface of the embossing roll on the base layer;
Forming a plating layer on the base layer formed with an uneven shape to obtain the backup roll; and
And a step of rotating the embossing roll and the backup roll while sandwiching the original fabric to form an uneven pattern on the original fabric.
前記基部層の前記樹脂は導電性を有し、
前記めっき工程において、前記めっき層は電解めっきにより前記基部層の導電性樹脂上に形成される
ことを特徴とする請求項6に記載の製造方法。
The resin of the base layer has electrical conductivity;
The method according to claim 6, wherein in the plating step, the plating layer is formed on the conductive resin of the base layer by electrolytic plating.
前記基部層の前記樹脂は反応硬化性の樹脂であり、
前記製造方法は、前記空運転工程後に実施される工程であって、凹凸形状を形成された前記基部層の前記反応硬化性の樹脂を硬化させる硬化工程を、さらに備える
ことを特徴とする請求項6または7に記載の製造方法。
The resin of the base layer is a reaction curable resin;
The said manufacturing method is a process implemented after the said empty driving process, Comprising: The hardening process which hardens the said reaction hardening resin of the above-mentioned base layer in which concavo-convex shape was formed is further provided. 8. The production method according to 6 or 7.
前記基部層は、前記樹脂中に分散された金属粒子をさらに含んでいる
ことを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
The manufacturing method according to claim 6, wherein the base layer further includes metal particles dispersed in the resin.
請求項5に記載されたバックアップロールを製造する製造方法であって、
前記エンボスロールと、前記基部層を形成された前記心部材と、を空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状を、前記基部層に形成する工程と、
凹凸形状を形成された前記基部層上にめっき層を形成する工程と、を備える
ことを特徴とする製造方法。
A manufacturing method for manufacturing the backup roll according to claim 5,
A step of idling the embossing roll and the core member on which the base layer is formed, and forming a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the embossing mold surface of the embossing roll on the base layer;
And a step of forming a plating layer on the base layer on which the concavo-convex shape is formed.
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