JP5337640B2 - 粒子状物質の捕集分布検出方法及びその装置 - Google Patents
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周波数が異なり且つ前記捕集装置に照射したときの透過率が互いに異なる複数の電磁波を、前記捕集装置に対して2以上の照射角度で照射し、該捕集装置を透過した該電磁波の強度を検出する検出工程と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定工程と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完工程と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完工程で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度毎の前記粒子状物質の捕集量を演算する演算工程と、
を行うことを特徴とする(請求項1)。
前記捕集装置を透過した電磁波の強度を検出する受信手段と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定手段と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完手段と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完手段で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度での前記粒子状物質の捕集量を演算する演算手段と、
を備えたことを特徴とする(請求項4)。
該フィルタを収容する収納容器と、
該収納容器に形成された入射窓から該フィルタに、周波数が異なり且つ該フィルタに照射したときの透過率が互いに異なる複数の電磁波を、前記捕集装置に対して2以上の照射角度で照射する照射手段と、
前記フィルタを透過した電磁波の強度を検出する受信手段と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前のフィルタを透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定手段と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完手段と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完手段で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前のフィルタを透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度での前記粒子状物質の捕集量を演算する演算手段と、
を備えたことを特徴とする(請求項6)。
先ず、図1、図2に示すように、新品のフィルタ1を試料台10に載置して、発信部20から10〜260GHzのミリ波を入力強度IBで照射した。試料台10を回転させることでフィルタ1を周方向に回転させながら、送信部20からミリ波を、フィルタ1の全周(360°)方向で等ピッチ(たとえば、0.5°毎)に照射する。そして受信部30によって、フィルタ1を直径方向に透過したミリ波の出力強度IAをそれぞれ測定する。入力強度IBに対する出力強度IAの比率(IA/IB)をもとめ、これをミリ波の透過率とする。
図5に、90GHzと110GHzのミリ波の透過率を測定した結果を示した。図5(a)は、90GHzのミリ波の透過率を示し、図5(b)は、110GHzのミリ波の透過率を示す。両図において、X軸は、フィルタ1に対する照射角度を示し、Y軸は、ミリ波の透過率を示す。フィルタ1に対する照射角度は、図4に示すように、フィルタのセル壁と平行である場合を基準角度(θ0)(θ=0°)としている。図5のX軸は、照射角度が0°の位置から図4の紙面上で時計周りに回転させる方向を「+」で、反時計方向に回転させる方向を「−」で示した。同図より、90GHzと110GHzとで、照射角度毎の透過率が相違していることがわかる。たとえば、角度0°付近では、90GHzのミリ波は60%を示すのに対して、110GHzのミリ波は5%以下と小さい。角度±23°付近では、90GHzのミリ波では5%以下と小さく、110GHzのミリ波では50%以上と大きい。このように、90GHzのミリ波と110GHzのミリ波とでは、透過率の大小が逆の関係にある。
また、90GHzと110GHzのミリ波の各照射角度毎の透過率が一定になるように、各照射角度毎に係数をもとめた。たとえば、図5の二点鎖線で示すように、透過率を50%にしようとするには、90GHzの角度0°付近での係数α1は0.8(=50%/60%)、110GHzの角度0°付近での係数β1は10以上(=50%/5%以下)となり、90GHzの角度23°付近での係数α2は10以上(=50%/5%以下)、110GHzの角度23°付近での係数β2は1以下(=50%/50%以上)となる。90GHzと110GHzの360°方向の各照射角度毎の係数α、βをもとめる。
次に、新品のフィルタ1に、PMを捕集させる。図2のS51、S52工程において、PMを捕集したフィルタ1に、90GHzと110GHzのミリ波を照射して透過率をそれぞれ測定する。すなわち、PMを捕集したフィルタ1を試料台10の上に載せて、発信部20から90GHzと110GHzのミリ波を入力強度IBで照射する。フィルタ1を周方向に回転させながら、送信部20からミリ波を、フィルタ1の全周(360°)方向で等ピッチ(たとえば、0.5°毎)に照射する。そして受信部30によって、フィルタ1を透過したミリ波の透過率ICをそれぞれ測定する。透過率ICは、発信部20から照射されてフィルタに入力された入力強度に対する、フィルタから出力されて受信部30で受信した出力強度の比率である。
各照射角度毎に、検出工程で検出された複数のミリ波の透過率IC(強度)のうち、透過率が大きいミリ波を採用する。例えば、照射角度が0°付近では、90GHzのミリ波の透過率が60%であり、110GHzのミリ波の透過率は5%以下であり、90GHzのミリ波の透過率が、110GHzのミリ波の透過率よりも大きいため、90GHzのミリ波を、PM捕集後のフィルタに照射したときの透過率ICを選択する。
S53工程、S54工程において、演算装置4により、各照射角度毎に、複数のミリ波の中で採用されたミリ波の透過率ICと、PM捕集前の新品のフィルタを透過したミリ波の透過率IAとの差(IC-IA)を求め、この差に、設定工程で設定された各照射角度毎の係数α、βを掛けて、補正透過率Dを得る。図6に示すように、PM が捕集されていないフィルタ1の補正基準透過率D0を例えば50%とする場合、PMが捕集されているフィルタ1の補正透過率Dは、図5の点線で示すように、50%よりも小さくなった。PM捕集量が多いほど補正基準透過率D0と補正透過率Dとの差が大きくなった。補正基準透過率D0と補正透過率Dとの差は、PMの捕集量に相関する。これにより、360°方向の各照射角度毎のPM捕集量の分布が求められる。なお、同じ仕様のDPF同士では、新品のDPFフィルタの計測は1度でまかなうことも可能である。
図2には、フィルタ1の径方向断面の中心を通る位置を示すが、図2におけるDPFの下端から上端まで、図2のY方向にフィルタ1を移動させながら、上記の設定、検出、補完及び演算の各工程を行い、各位置での全周(360°)方向のPM捕集量を求める。
S55工程において、演算工程で算出されたPM捕集量に関するデータを用いて、フィルタ1のコンピュータ断層映像の画像再構成を行う。具体的には、位置座標(X,Y,Z)=(Y方向の位置、照射角度、PM捕集量)に、逆フーリエ変換を行うことにより、フィルタ1のコンピュータ断層映像の画像再構成を行い、二次元断面画像情報を得る。
フィルタ1の軸方向(図2のZ方向)にフィルタ1を上下移動させながら、上記の設定、検出、補完、演算及び再構成の各工程を行い、三次元化した再生画像を作成する。
S56工程において、PM捕集量を表す二次元及び三次元画像は、ディスプレイなどの表示装置の画面に表示する。
Claims (6)
- 粒子状物質が捕集された捕集装置に対して外部から電磁波を照射することにより、捕集された該粒子状物質の該捕集装置内の捕集分布を検出する方法において、
周波数が異なり且つ前記捕集装置に照射したときの透過率が互いに異なる複数の電磁波を、前記捕集装置に対して2以上の照射角度で照射し、該捕集装置を透過した該電磁波の強度を検出する検出工程と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定工程と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完工程と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完工程で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度毎の前記粒子状物質の捕集量を演算する演算工程と、
を行うことを特徴とする粒子状物質の捕集量分布検出方法。 - 複数の前記電磁波は、前記照射角度毎に、前記捕集装置を透過する透過率が異なる周波数領域の中からから2以上選択されたものである請求項1記載の捕集量分布検出方法。
- 前記補完工程は、予め、各照射角度毎に、前記複数の電磁波の中で前記透過率の最も高い電磁波を選択する選択データを作成しておき、該選択データに基づいて前記複数の電磁波の強度の中から前記透過率の最も高い前記電磁波の強度を選択する請求項1又は請求項2に記載の捕集量分布検出方法。
- 粒子状物質が捕集された捕集装置の外部から該捕集装置に、周波数が異なり且つ前記捕集装置に照射したときの透過率が互いに異なる複数の電磁波を、前記捕集装置に対して2以上の照射角度で照射する照射手段と、
前記捕集装置を透過した電磁波の強度を検出する受信手段と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定手段と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完手段と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完手段で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前の捕集装置を透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度での前記粒子状物質の捕集量を演算する演算手段と、
を備えたことを特徴とする粒子状物質の捕集量分布検出装置。 - 前記照射手段で、前記捕集装置に対して360°のあらゆる方向から等ピッチで電磁波を照射し、前記演算手段で360°のあらゆる方向での前記粒子状物質の捕集量を演算する請求項4記載の捕集量分布検出装置。
- 排ガス流路に配置されカーボンを主とするPMを捕集するフィルタと、
該フィルタを収容する収納容器と、
該収納容器に形成された入射窓から該フィルタに、周波数が異なり且つ該フィルタに照射したときの透過率が互いに異なる複数の電磁波を、前記捕集装置に対して2以上の照射角度で照射する照射手段と、
前記フィルタを透過した電磁波の強度を検出する受信手段と、
前記2以上の照射角度に対して前記粒子状物質を捕集する前のフィルタを透過した電磁波の透過率が、該2以上の照射角度間で等しくなるように、該2以上の照射角度毎に前記複数の電磁波にそれぞれ係数を設定する設定手段と、
前記複数の電磁波のうちの少なくとも一つの電磁波の前記透過率が前記複数の電磁波のうちの他の電磁波の前記透過率よりも小さくなる角度領域で検出された前記電磁波の強度を、該他の電磁波の該角度領域で検出された前記電磁波の強度で補完する補完手段と、
前記2以上の照射角度毎に、前記補完手段で補完された前記電磁波の強度と、前記粒子状物質を捕集する前のフィルタを透過した電磁波の強度との差に、前記設定工程で設定された係数を掛けることにより、前記2以上の照射角度での前記粒子状物質の捕集量を演算する演算手段と、
を備えたことを特徴とする排ガス浄化装置。
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