JP5330179B2 - Vacuum insulation - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum heat insulator, which can maintain an excellent heat-insulating effect without deterioration of gas barrier property during a manufacturing process. <P>SOLUTION: In the vacuum heat insulator 10, a packaging material 11 is formed using a laminated product including a base material and a gas barrier layer. The gas barrier layer is formed of a composition including a hydrolytic condensate of a compound (L) and a neutralized material of a polymer (X) containing carboxyl group or carboxylic anhydride group. The compound (L) includes a specific compound (A) containing M<SP>1</SP>(Al, Ti or Zr) coupled with hydrolytic characteristic group and a specific compound (B) containing Si coupled with hydrolytic characteristic group. The -COO-group of the polymer (X) is at least partially neutralized with divalent or more metal ions. The compound (B) of 80 mol% or more is composed of a compound represented by a predetermined formula. The ratio of [the mole number of M<SP>1</SP>of the compound (A)]/[the mole number of Si atom of the compound (B)] ranges from 0.1/99.9 to 35.0/65.0. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、真空断熱体に関し、たとえば、保温や保冷が必要な各種用途に使用可能な真空断熱体に関する。   The present invention relates to a vacuum heat insulator, and for example, relates to a vacuum heat insulator that can be used in various applications that require heat insulation and cold insulation.

従来から冷蔵庫用の断熱材や住宅断熱壁用の断熱パネルとして、ポリウレタンフォームからなる断熱体が使われてきた。近年、これに代わるより優れた材料として、ガスバリア性ラミネートフィルムと芯材とで構成される真空断熱体が用いられるようになった。それにともなって、真空断熱体の用途や使用条件も多様化してきており、真空断熱体に要求される性能レベルも上がっている。   Conventionally, a heat insulating material made of polyurethane foam has been used as a heat insulating material for a refrigerator or a heat insulating panel for a residential heat insulating wall. In recent years, vacuum insulators composed of a gas barrier laminate film and a core material have been used as a superior material instead of this. Along with this, the applications and usage conditions of vacuum insulators have also diversified, and the performance level required for vacuum insulators has increased.

ガスバリア性ラミネートフィルムと芯材とで構成される真空断熱体は、ポリウレタンフォームからなる従来の断熱体に比べて、薄型化および軽量化が可能であるという特徴を有する。近年、高効率な給湯システムとして普及の進んでいる自然冷媒ヒートポンプ給湯器では、電気料金の安価な夜間に湯を沸かし、貯湯タンクで保温するといった使われ方が一般的であり、貯湯タンクの設置容積が問題となることがあるが、薄型の真空断熱体を使用することによって、この問題を軽減することができる。   A vacuum heat insulating body composed of a gas barrier laminate film and a core material is characterized in that it can be made thinner and lighter than a conventional heat insulating body made of polyurethane foam. In recent years, natural refrigerant heat pump water heaters, which have become popular as high-efficiency hot water supply systems, are commonly used to boil hot water at low electricity prices at night and to keep warm in hot water storage tanks. Volume can be a problem, but this problem can be mitigated by using a thin vacuum insulator.

真空断熱体のガスバリア材としては主としてアルミニウム箔が用いられているが、アルミニウムは熱の良導体である。そのため、ラミネートフィルムのアルミニウム部分を熱が伝導する所謂ヒートブリッジが発生し、断熱性能が低下してしまうという課題があった。   Aluminum foil is mainly used as the gas barrier material of the vacuum heat insulator, but aluminum is a good conductor of heat. Therefore, a so-called heat bridge in which heat is conducted through the aluminum portion of the laminate film is generated, and there is a problem that the heat insulating performance is deteriorated.

ヒートブリッジの課題を解決する目的で、薄い金属層をガスバリア層とするガスバリア性フィルムや、金属酸化物からなるガスバリア層を用いたガスバリア性フィルムを用いた真空断熱体が提案されている。そのようなガスバリア性フィルムは、ポリエステルフィルムやエチレン−ビニルアルコール共重合体フィルムなどのフィルムの表面に、金属(アルミニウムなど)や金属酸化物(シリカやアルミナなど)を蒸着することによって得られる。たとえば、特許文献1に記載の真空断熱体には、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂からなるフィルムにアルミニウムを蒸着することによって得られるガスバリア性フィルムが用いられている。   For the purpose of solving the problem of heat bridge, a vacuum heat insulator using a gas barrier film using a thin metal layer as a gas barrier layer or a gas barrier film using a gas barrier layer made of a metal oxide has been proposed. Such a gas barrier film can be obtained by depositing a metal (such as aluminum) or a metal oxide (such as silica or alumina) on the surface of a film such as a polyester film or an ethylene-vinyl alcohol copolymer film. For example, a gas barrier film obtained by vapor-depositing aluminum on a film made of an ethylene-vinyl alcohol copolymer resin is used for the vacuum heat insulator described in Patent Document 1.

しかし、蒸着法によって得られる蒸着層にはピンホールが発生し易い。たとえば、ラミネートフィルムを製造する際や製品を輸送する際などに、蒸着層にピンホールが発生する場合がある。また、使用温度の変化による基材の膨張・収縮に蒸着層が対応できす、蒸着層にピンホールなどの欠陥が生じることがある。その結果、蒸着層をガスバリア層とする場合、ガスバリア性が低かったり、ガスバリア性が安定的に発現しなかったりする、といった問題が生じやすく、信頼性に課題があった。   However, pinholes are easily generated in the vapor deposition layer obtained by the vapor deposition method. For example, when manufacturing a laminate film or transporting a product, pinholes may occur in the deposited layer. In addition, defects such as pinholes may occur in the vapor deposition layer, which can cope with the expansion / contraction of the base material due to changes in use temperature. As a result, when the vapor deposition layer is used as a gas barrier layer, problems such as low gas barrier properties and unstable gas barrier properties are likely to occur, and there is a problem in reliability.

このような課題に対応するため、金属化合物(アルミナなど)からなる蒸着層の上に、樹脂および無機層状化合物とからなるガスバリア層が形成された積層体を用いた真空断熱体が提案されている(特許文献2)。しかし、ガスバリア性は依然として不充分であり、長期間にわたる充分な断熱効果の維持は達成されていない。   In order to cope with such a problem, a vacuum insulator using a laminate in which a gas barrier layer made of a resin and an inorganic layered compound is formed on a vapor deposition layer made of a metal compound (alumina or the like) has been proposed. (Patent Document 2). However, the gas barrier property is still insufficient, and the maintenance of a sufficient heat insulating effect over a long period of time has not been achieved.

上記課題を解決するために、検討を行った結果、本発明者らは、特定のガスバリア層をを真空断熱体の包装材として用いることによって、長期にわたってすぐれた断熱効果が維持されることを見出した(特許文献3)。そのガスバリア層は、金属アルコキシドの加水分解縮合物と、−COO−基を含有する重合体とを含む組成物からなるガスバリア層を、2価以上の金属イオンを含む溶液に浸漬することによって得られる。この処理によって、重合体中の−COO−基が中和される。   As a result of investigations to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that an excellent heat insulation effect can be maintained over a long period of time by using a specific gas barrier layer as a packaging material for a vacuum heat insulator. (Patent Document 3). The gas barrier layer is obtained by immersing a gas barrier layer composed of a composition containing a hydrolysis condensate of a metal alkoxide and a polymer containing a —COO— group in a solution containing a divalent or higher metal ion. . By this treatment, the —COO— group in the polymer is neutralized.

特開平10−122477号公報JP-A-10-122477 特開平11−257574号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-257574 特開2006−308086号公報JP 2006-308086 A

上記特許文献3の方法によれば、ガスバリア層の特性を飛躍的に向上させることが可能である。しかし、広汎な用途に応用するためには、製造工程におけるガスバリア性の低下がなく、さらに高いガスバリア性を長期間維持できるガスバリア性積層体が必要である。また、生産効率を改善するためには、ラミネートなどの加工時の寸法安定性やガスバリア性積層体の柔軟性を高めること、および、基材が本来有する力学的な物性にガスバリア性積層体の力学的物性を近づけること、が必要とされる。上記課題を解決するために検討を重ねた結果、本発明者らは、ガスバリア性および強度を維持したままガスバリア層を薄くすることによって、上記課題を解決できることを見出した。しかしながら、特許文献3に開示されているガスバリア層は、薄くすると指数関数的にガスバリア性が低下することがあった。   According to the method of Patent Document 3, it is possible to dramatically improve the characteristics of the gas barrier layer. However, in order to apply to a wide range of uses, there is a need for a gas barrier laminate capable of maintaining a higher gas barrier property for a long period without causing a decrease in gas barrier property in the production process. In addition, in order to improve production efficiency, the dimensional stability at the time of processing such as laminating and the flexibility of the gas barrier laminate are increased, and the mechanical properties of the gas barrier laminate are added to the mechanical properties inherent to the base material. It is necessary to bring close physical properties. As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by thinning the gas barrier layer while maintaining the gas barrier properties and strength. However, when the gas barrier layer disclosed in Patent Document 3 is thinned, the gas barrier property may decrease exponentially.

このような状況に鑑み、本発明の目的の1つは、ガスバリア性が製造工程で低下することなく、長期にわたってすぐれた断熱効果が維持される真空断熱体を提供することである。   In view of such a situation, one of the objects of the present invention is to provide a vacuum insulator that maintains an excellent heat insulating effect over a long period of time without deteriorating gas barrier properties in the production process.

上記目的を達成するために検討を重ねた結果、本発明者らは、特定の組成物を用いることによって優れたガスバリア層が得られることを見出した。さらに、このガスバリア層を含むガスバリア性積層体を真空断熱体の包装材に用いることによって、上記目的を達成できることを見出し、本発明の完成に至った。   As a result of repeated studies to achieve the above object, the present inventors have found that an excellent gas barrier layer can be obtained by using a specific composition. Furthermore, it discovered that the said objective can be achieved by using the gas-barrier laminated body containing this gas barrier layer for the packaging material of a vacuum heat insulating body, and came to completion of this invention.

すなわち、本発明の真空断熱体は、芯材と前記芯材を包装する包装材とを含み前記包装材内の空間部が真空状態である真空断熱体であって、前記包装材はガスバリア性積層体を含み、前記ガスバリア性積層体は、基材と前記基材に積層された少なくとも1つのガスバリア性を有する層とを含む。前記ガスバリア性を有する層は、加水分解性を有する特性基を含有する少なくとも1種の化合物(L)の加水分解縮合物と、カルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基を含有する重合体(X)の中和物とを含む組成物からなる。前記化合物(L)は、化合物(A)と、加水分解性を有する特性基が結合したSiを含有する化合物(B)とを含む。前記化合物(A)は、以下の式(I)で表される少なくとも1種の化合物である。
11 m1 n-m・・・(I)
[式(I)中、M1はAl、Ti、およびZrから選ばれるいずれか1つを表す。X1は、F、Cl、Br、I、OR1、R2COO、R3COCHCOR4、およびNO3から選ばれるいずれか1つを表す。Y1は、F、Cl、Br、I、OR5、R6COO、R7COCHCOR8、NO3およびR9から選ばれるいずれか1つを表す。R1、R2、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。R3、R4、R7、R8およびR9は、それぞれ独立にアルキル基を表す。nはM1の原子価と等しい。mは1〜nの整数を表す。]
That is, the vacuum heat insulating body of the present invention is a vacuum heat insulating body including a core material and a packaging material for wrapping the core material, and a space portion in the packaging material is in a vacuum state, and the packaging material is a gas barrier laminate. The gas barrier laminate includes a base material and at least one layer having gas barrier properties laminated on the base material. The layer having gas barrier property includes a hydrolysis condensate of at least one compound (L) containing a hydrolyzable characteristic group, and at least one functional group selected from a carboxyl group and a carboxylic anhydride group. It consists of a composition containing the neutralized material of polymer (X) to contain. The compound (L) includes a compound (A) and a compound (B) containing Si to which a hydrolyzable characteristic group is bonded. The compound (A) is at least one compound represented by the following formula (I).
M 1 X 1 m Y 1 nm (I)
[In Formula (I), M 1 represents any one selected from Al, Ti, and Zr. X 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 1 , R 2 COO, R 3 COCHCOR 4 , and NO 3 . Y 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 5 , R 6 COO, R 7 COCHCOR 8 , NO 3 and R 9 . R 1 , R 2 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 , R 4 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group. n is equal to the valence of M 1 . m represents an integer of 1 to n. ]

前記化合物(B)は、以下の式(II)で表される少なくとも1種の化合物を含む。
Si(OR10p11 4-p-q2 q・・・(II)
[式(II)中、R10はアルキル基を表す。R11はアルキル基、アラルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。X2はハロゲン原子を表す。pおよびqは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す。1≦p+q≦4である。]
The compound (B) includes at least one compound represented by the following formula (II).
Si (OR 10 ) p R 11 4-pq X 2 q (II)
[In the formula (II), R 10 represents an alkyl group. R 11 represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkenyl group. X 2 represents a halogen atom. p and q represent the integer of 0-4 each independently. 1 ≦ p + q ≦ 4. ]

前記重合体(X)の前記官能基に含まれる−COO−基の少なくとも一部が2価以上の金属イオンで中和されている。前記化合物(B)に占める前記式(II)で表される化合物の割合が80モル%以上である。前記組成物において、[前記化合物(A)に由来する前記M1原子のモル数]/[前記化合物(B)に由来するSi原子のモル数]の比が0.1/99.9〜35.0/65.0の範囲にある。 At least a part of the —COO— group contained in the functional group of the polymer (X) is neutralized with a divalent or higher valent metal ion. The proportion of the compound represented by the formula (II) in the compound (B) is 80 mol% or more. In the composition, a ratio of [number of moles of the M 1 atom derived from the compound (A)] / [number of moles of Si atom derived from the compound (B)] is 0.1 / 99.9 to 35. It is in the range of 0.0 / 65.0.

本発明で用いられるガスバリア性積層体は、ガスバリア層を薄くしても高いガスバリア性を示し、かつ優れた強靭性を有する。そのため、当該ガスバリア性積層体は、ガスバリア性積層体の製造中や取扱い中の衝撃などに影響されることなく、安定したガスバリア性能を発揮する。そのため、当該ガスバリア性積層体を用いて製造した本発明の真空断熱体は、当該真空断熱体の芯材を包装する包装材内の空間部の内部圧力を長期にわたって低く維持することが可能であるため、当該真空断熱体の熱伝導率を低く維持することができ、安定した高い断熱性能を発揮できる。   The gas barrier laminate used in the present invention exhibits high gas barrier properties even when the gas barrier layer is thinned, and has excellent toughness. Therefore, the gas barrier laminate exhibits stable gas barrier performance without being affected by an impact during manufacture or handling of the gas barrier laminate. Therefore, the vacuum heat insulating body of the present invention manufactured using the gas barrier laminate can maintain the internal pressure of the space portion in the packaging material for wrapping the core material of the vacuum heat insulating body for a long time. Therefore, the thermal conductivity of the vacuum heat insulator can be kept low, and stable high heat insulation performance can be exhibited.

また、本発明で用いられるガスバリア性積層体では、高い特性を維持したまま、ガスバリア層を薄くできるため、ガスバリア性積層体の機械的特性を基材フィルムの特性に近づけることが可能となる。そのため、本発明で用いられるガスバリア性積層体は、柔軟性や引張り強伸度などの力学的特性、および加工時の寸法安定性が優れている。   Further, in the gas barrier laminate used in the present invention, the gas barrier layer can be made thin while maintaining high characteristics, and therefore the mechanical properties of the gas barrier laminate can be brought close to those of the base film. Therefore, the gas barrier laminate used in the present invention is excellent in mechanical properties such as flexibility and tensile strength and elongation, and dimensional stability during processing.

また、金属や金属酸化物の蒸着層と本発明で用いられるガスバリア層とを併用した場合には、ガスバリア層が蒸着層を保護してピンホール等の欠陥の発生を抑制し、仮にピンホールが発生してもガスバリア層の高いガスバリア性によってピンホールの影響を小さくする。そのため、金属や金属酸化物の蒸着層と本発明で用いられるガスバリア層とを併用することによって、特性が特に優れる真空断熱体が得られる。   In addition, when the vapor deposition layer of metal or metal oxide and the gas barrier layer used in the present invention are used in combination, the gas barrier layer protects the vapor deposition layer and suppresses the occurrence of defects such as pinholes. Even if it occurs, the influence of the pinhole is reduced by the high gas barrier property of the gas barrier layer. Therefore, by using a vapor deposition layer of metal or metal oxide in combination with the gas barrier layer used in the present invention, a vacuum insulator having particularly excellent characteristics can be obtained.

本発明の真空断熱体について一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example about the vacuum heat insulating body of this invention. 本発明の真空断熱体について他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example about the vacuum heat insulating body of this invention.

以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明において特定の機能を発現する物質として具体的な化合物を例示する場合があるが、本発明はこれに限定されない。また、例示される材料は、特に記載がない限り、単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。   Embodiments of the present invention will be described below. In the following description, a specific compound may be exemplified as a substance that exhibits a specific function, but the present invention is not limited to this. In addition, the materials exemplified may be used alone or in combination unless otherwise specified.

本発明の真空断熱体は、芯材とその芯材を包装する包装材とを含む。該包装材内の空間部は真空状態にある。該包装材は、特定のガスバリア性積層体を含む。以下、そのガスバリア性積層体を「本発明のガスバリア性積層体」または単に「ガスバリア性積層体」と記すことがある。本発明のガスバリア性積層体は、基材と、その基材に積層された少なくとも1つの特定のガスバリア層(ガスバリア性を有する層)とを含む。以下、その特定のガスバリア層を「本発明のガスバリア層」または単に「ガスバリア層」と記すことがある。   The vacuum heat insulating body of the present invention includes a core material and a packaging material for packaging the core material. The space in the packaging material is in a vacuum state. The packaging material includes a specific gas barrier laminate. Hereinafter, the gas barrier laminate may be referred to as “the gas barrier laminate of the present invention” or simply “gas barrier laminate”. The gas barrier laminate of the present invention includes a substrate and at least one specific gas barrier layer (a layer having gas barrier properties) laminated on the substrate. Hereinafter, the specific gas barrier layer may be referred to as “the gas barrier layer of the present invention” or simply “the gas barrier layer”.

本発明の真空断熱体で用いられる包装材の構成は、本発明のガスバリア性積層体を含む限りにおいて制限はなく、真空断熱体の使用目的や製造方法に応じて決定される。包装材の一例は、本発明のガスバリア性積層体を熱融着することによって得られる包装材である。   The configuration of the packaging material used in the vacuum insulator of the present invention is not limited as long as it includes the gas barrier laminate of the present invention, and is determined according to the purpose of use of the vacuum insulator and the manufacturing method. An example of the packaging material is a packaging material obtained by heat-sealing the gas barrier laminate of the present invention.

本発明の真空断熱体では、包装材のすべてが本発明のガスバリア性積層体を用いて形成されてもよいし、包装材の一部がガスバリア性積層体以外の材料によって形成されていてもよい。一例では、包装材を展開したときの面積の50%以上、60%以上、70%以上、80%以上、90%以上、または100%には、本発明のガスバリア性積層体が用いられる。以下、本発明のガスバリア性積層体について詳細に説明する。   In the vacuum heat insulating body of the present invention, all of the packaging material may be formed using the gas barrier laminate of the present invention, or a part of the packaging material may be formed of a material other than the gas barrier laminate. . In one example, the gas barrier laminate of the present invention is used for 50% or more, 60% or more, 70% or more, 80% or more, 90% or more, or 100% of the area when the packaging material is developed. Hereinafter, the gas barrier laminate of the present invention will be described in detail.

[ガスバリア性積層体]
本発明で用いられるガスバリア性積層体は、基材と、基材に積層された少なくとも1つのガスバリア性を有する層とを含む。その層(本発明のガスバリア層)は、特定の組成物からなる。その組成物は、加水分解性を有する特性基を含有する少なくとも1種の化合物(L)の加水分解縮合物と、カルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基を含有する重合体(X)の中和物とを含む。化合物(L)は、加水分解性を有する特性基を含有する少なくとも1種の化合物であり、典型的には、加水分解性を有する特性基が結合した金属原子を含む少なくとも1種の化合物である。化合物(L)は、化合物(A)と、加水分解性を有する特性基が結合したSiを含有する化合物(B)とを含む。以下、重合体(X)に含まれる、カルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基を「官能基(F)」という場合がある。官能基(F)に含まれる−COO−基の少なくとも一部が2価以上の金属イオンで中和されている。別の観点では、官能基(F)に含まれる−COO−基が、2価以上の金属イオンと塩を構成している。
[Gas barrier laminate]
The gas barrier laminate used in the present invention includes a substrate and at least one layer having gas barrier properties laminated on the substrate. The layer (the gas barrier layer of the present invention) is made of a specific composition. The composition comprises a hydrolyzate condensate of at least one compound (L) containing a hydrolyzable characteristic group and at least one functional group selected from a carboxyl group and a carboxylic anhydride group. And a neutralized product of the combined (X). The compound (L) is at least one compound containing a hydrolyzable characteristic group, and is typically at least one compound containing a metal atom to which the hydrolyzable characteristic group is bonded. . The compound (L) includes a compound (A) and a compound (B) containing Si to which a hydrolyzable characteristic group is bonded. Hereinafter, at least one functional group selected from a carboxyl group and a carboxylic anhydride group contained in the polymer (X) may be referred to as “functional group (F)”. At least a part of the —COO— group contained in the functional group (F) is neutralized with a divalent or higher valent metal ion. From another viewpoint, the —COO— group contained in the functional group (F) constitutes a salt with a divalent or higher metal ion.

ガスバリア層は、基材の少なくとも一方の面に積層されている。ガスバリア層は、基材の片面のみに積層されてもよいし、基材の両面に積層されてもよい。本発明で用いられるガスバリア性積層体は、ガスバリア層以外の層を含んでもよい。   The gas barrier layer is laminated on at least one surface of the substrate. A gas barrier layer may be laminated | stacked only on the single side | surface of a base material, and may be laminated | stacked on both surfaces of a base material. The gas barrier laminate used in the present invention may include layers other than the gas barrier layer.

化合物(L)の加水分解縮合物および重合体(X)の中和物が組成物に占める割合は、たとえば50重量%以上、70重量%以上、80重量%以上、90重量%以上、95重量%以上、または98重量%以上である。   The proportion of the hydrolyzed condensate of compound (L) and the neutralized product of polymer (X) in the composition is, for example, 50% by weight, 70% by weight, 80% by weight, 90% by weight, 95% by weight. % Or more, or 98% by weight or more.

[加水分解縮合物]
ガスバリア層を構成する組成物は、化合物(L)の加水分解縮合物を含む。化合物(L)が加水分解されることによって、化合物(L)の特性基の少なくとも一部が水酸基に置換される。さらに、その加水分解物が縮合することによって、金属原子が酸素を介して結合された化合物が形成される。この縮合が繰り返されると、実質的に金属酸化物とみなしうる化合物となる。ここで、この加水分解・縮合が起こるためには、化合物(L)が加水分解性を有する特性基(官能基)を含有していることが重要である。それらの基が結合していない場合、加水分解・縮合反応が起こらないか極めて緩慢になるため、本発明の効果を得ることは困難である。なお、Siは、半金属元素に分類される場合があるが、この明細書では、Siを金属として説明する。
[Hydrolysis condensate]
The composition which comprises a gas barrier layer contains the hydrolysis-condensation product of a compound (L). By hydrolyzing the compound (L), at least a part of the characteristic group of the compound (L) is substituted with a hydroxyl group. Furthermore, the hydrolyzate condenses to form a compound in which metal atoms are bonded through oxygen. When this condensation is repeated, it becomes a compound that can be regarded as a metal oxide substantially. Here, in order for this hydrolysis and condensation to occur, it is important that the compound (L) contains a hydrolyzable characteristic group (functional group). When those groups are not bonded, hydrolysis / condensation reaction does not occur or becomes extremely slow, and it is difficult to obtain the effects of the present invention. Si may be classified as a metalloid element, but in this specification, Si is described as a metal.

該加水分解縮合物は、たとえば、公知のゾルゲル法で用いられる手法を用いて特定の原料から製造できる。該原料には、化合物(L)、化合物(L)が部分的に加水分解したもの、化合物(L)が完全に加水分解したもの、化合物(L)が部分的に加水分解・縮合したもの、化合物(L)が完全に加水分解しその一部が縮合したもの、あるいはこれらを組み合わせたものが用いられる。これらの原料は、公知の方法で製造してもよいし、市販されているものを用いてもよい。特に限定はないが、たとえば2〜10個程度の分子が加水分解・縮合することによって得られる縮合物を、原料として用いることができる。具体的には、たとえば、テトラメトキシシランを加水分解・縮合させて、2〜10量体の線状縮合物としたものを原料として用いることができる。   This hydrolysis-condensation product can be manufactured from a specific raw material using the method used by the well-known sol-gel method, for example. The raw materials include compound (L), compound (L) partially hydrolyzed, compound (L) completely hydrolyzed, compound (L) partially hydrolyzed / condensed, A compound in which the compound (L) is completely hydrolyzed and partly condensed, or a combination thereof is used. These raw materials may be produced by a known method, or commercially available ones may be used. Although there is no particular limitation, for example, a condensate obtained by hydrolysis and condensation of about 2 to 10 molecules can be used as a raw material. Specifically, for example, a material obtained by hydrolyzing and condensing tetramethoxysilane into a dimer to 10-mer linear condensate can be used as a raw material.

化合物(A)は、以下の式(I)で表される少なくとも1種の化合物である。
11 m1 n-m・・・(I)
[式(I)中、M1はAl、Ti、およびZrから選ばれるいずれか1つを表す。X1は、F、Cl、Br、I、OR1、R2COO、R3COCHCOR4、およびNO3から選ばれるいずれか1つを表す。Y1は、F、Cl、Br、I、OR5、R6COO、R7COCHCOR8、NO3およびR9から選ばれるいずれか1つを表す。R1、R2、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。R3、R4、R7、R8およびR9は、それぞれ独立にアルキル基を表す。nはM1の原子価と等しい。mは1〜nの整数を表す。]
Compound (A) is at least one compound represented by the following formula (I).
M 1 X 1 m Y 1 nm (I)
[In Formula (I), M 1 represents any one selected from Al, Ti, and Zr. X 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 1 , R 2 COO, R 3 COCHCOR 4 , and NO 3 . Y 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 5 , R 6 COO, R 7 COCHCOR 8 , NO 3 and R 9 . R 1 , R 2 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 , R 4 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group. n is equal to the valence of M 1 . m represents an integer of 1 to n. ]

1とY1とは、同じであってもよいし異なってもよい。M1は、得られるガスバリア性積層体のガスバリア性の観点から、Alであることが好ましい。X1は、加水分解性を有する基である。X1は、好ましくはCl、OR1、およびNO3から選ばれるいずれか1つであり、より好ましくはOR1である。Y1は、好ましくはCl、OR5、およびNO3から選ばれるいずれか1つであり、より好ましくはOR5である。 X 1 and Y 1 may be the same or different. M 1 is preferably Al from the viewpoint of gas barrier properties of the resulting gas barrier laminate. X 1 is a group having hydrolyzability. X 1 is preferably any one selected from Cl, OR 1 , and NO 3 , and more preferably OR 1 . Y 1 is preferably any one selected from Cl, OR 5 , and NO 3 , and more preferably OR 5 .

1、R2、R5およびR6に用いられるアルキル基の炭素数は、好ましくは1以上20以下であり、より好ましくは1以上10以下であり、たとえば1以上4以下である。R1およびR5は、好ましくはメチル基、エチル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基であり、特に好ましくはiso−プロピル基またはn−ブチル基である。R3、R4、R7、R8およびR9に用いられるアルキル基の炭素数は、好ましくは1以上4以下であり、より好ましくは1以上2以下である。R3、R4、R7およびR8は、好ましくはメチル基、エチル基である。R3COCHCOR4およびR7COCHCOR8は、そのカルボニル基の部分で原子M1に配位結合することができる。R9は、好ましくはメチル基、エチル基である。なお、R9は通常、官能基を有さない。式(I)において、[n−m]は、たとえば0または1であってもよい。 The carbon number of the alkyl group used for R 1 , R 2 , R 5 and R 6 is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, for example 1 or more and 4 or less. R 1 and R 5 are preferably a methyl group, an ethyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, or a t-butyl group, and particularly preferably an iso-propyl group or an n-butyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group used for R 3 , R 4 , R 7 , R 8 and R 9 is preferably 1 or more and 4 or less, more preferably 1 or more and 2 or less. R 3 , R 4 , R 7 and R 8 are preferably a methyl group or an ethyl group. R 3 COCHCOR 4 and R 7 COCHCOR 8 can be coordinated to atom M 1 at the carbonyl group. R 9 is preferably a methyl group or an ethyl group. R 9 usually does not have a functional group. In the formula (I), [nm] may be 0 or 1, for example.

化合物(A)の具体例には、塩化アルミニウム、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリノルマルプロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリノルマルブトキシド、アルミニウムトリt−ブトキシド、アルミニウムトリアセテート、アルミニウムアセチルアセトネート、硝酸アルミニウム等のアルミニウム化合物;チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシド、チタンテトラ(2−エチルヘキソキシド)、チタンテトラメトキシド、チタンアセチルアセトネート、チタンエチルアセトアセテート等のチタン化合物;ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、等のジルコニウム化合物が含まれる。化合物(A)の好ましい例には、アルミニウムトリイソプロポキシドおよびアルミニウムトリノルマルブトキシドが含まれる。   Specific examples of the compound (A) include aluminum chloride, aluminum triethoxide, aluminum trinormal propoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum trinormal butoxide, aluminum tri-t-butoxide, aluminum triacetate, aluminum acetylacetonate, nitric acid Aluminum compounds such as aluminum; titanium compounds such as titanium tetraisopropoxide, titanium tetranormal butoxide, titanium tetra (2-ethylhexoxide), titanium tetramethoxide, titanium acetylacetonate, titanium ethylacetoacetate; zirconium tetranormal Zirconium compounds such as propoxide, zirconium tetrabutoxide, zirconium tetraacetylacetonate and the like are included. Preferable examples of compound (A) include aluminum triisopropoxide and aluminum trinormal butoxide.

化合物(B)は、加水分解性を有する特性基が結合したSiを含有する少なくとも1種のSi化合物である。化合物(B)は、以下の式(II)で表される少なくとも1種の化合物を含む。
Si(OR10p11 4-p-q2 q・・・(II)
[式(II)中、R10はアルキル基を表す。R11はアルキル基、アラルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。X2はハロゲン原子を表す。pおよびqは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す。1≦p+q≦4である。]
The compound (B) is at least one Si compound containing Si to which a hydrolyzable characteristic group is bonded. The compound (B) includes at least one compound represented by the following formula (II).
Si (OR 10 ) p R 11 4-pq X 2 q (II)
[In the formula (II), R 10 represents an alkyl group. R 11 represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkenyl group. X 2 represents a halogen atom. p and q represent the integer of 0-4 each independently. 1 ≦ p + q ≦ 4. ]

10が表すアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基などが挙げられ、好ましくは、メチル基またはエチル基である。X2が表すハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、塩素原子が好ましい。R11が表すアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−オクチル基などが挙げられ、アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、トリチル基などが挙げられる。また、R11が表すアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基などが挙げられ、アルケニル基としては、例えばビニル基、アリル基などが挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 10 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and the like, preferably a methyl group or an ethyl group. Examples of the halogen atom represented by X 2 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is preferable. Examples of the alkyl group represented by R 11 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and an n-octyl group. As the aralkyl group, For example, benzyl group, phenethyl group, trityl group and the like can be mentioned. In addition, examples of the aryl group represented by R 11 include a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a mesityl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group and an allyl group.

式(II)で表される化合物(B)の具体例には、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、クロロトリエトキシシラン、ジクロロジメトキシシラン、ジクロロジエトキシシラン、トリクロロメトキシシラン、トリクロロエトキシシラン、およびビニルトリクロロシランが含まれる。式(II)で表される化合物(B)の好ましい例には、テトラメトキシシランおよびテトラエトキシシランが含まれる。   Specific examples of the compound (B) represented by the formula (II) include tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, phenyltri Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, chlorotrimethoxysilane, chlorotriethoxysilane, dichlorodimethoxysilane, dichlorodiethoxysilane, trichloromethoxysilane, trichloroethoxysilane, and vinyltrichlorosilane are included. Preferred examples of the compound (B) represented by the formula (II) include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.

化合物(B)は、式(II)で表される化合物に加えて、以下の式(III)で表される少なくとも1種の化合物を更に含んでもよい。式(III)で表される化合物を含有させることによって、製造工程や使用条件下におけるガスバリア性の低下が、更に小さくなる。
Si(OR12r3 s3 4-r-s・・・(III)
[式(III)中、R12はアルキル基を表す。X3はハロゲン原子を表す。Z3は、カルボキシル基との反応性を有する官能基で置換されたアルキル基を表す。rおよびsは、それぞれ独立に0〜3の整数を表す。1≦r+s≦3である。]
Compound (B) may further contain at least one compound represented by the following formula (III) in addition to the compound represented by formula (II). By containing the compound represented by the formula (III), the reduction in gas barrier properties under the production process and use conditions is further reduced.
Si (OR 12 ) r X 3 s Z 3 4-rs (III)
[In the formula (III), R 12 represents an alkyl group. X 3 represents a halogen atom. Z 3 represents an alkyl group substituted with a functional group having reactivity with a carboxyl group. r and s each independently represent an integer of 0 to 3. 1 ≦ r + s ≦ 3. ]

12が表すアルキル基としては例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基などが挙げられ、好ましくは、メチル基またはエチル基である。X3が表すハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、塩素原子が好ましい。Z3が有する、カルボキシル基との反応性を有する官能基としては、エポキシ基、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、メルカプト基、イソシアネート基、ウレイド基、オキサゾリン基またはカルボジイミド基などが挙げられる。これらの中でも、得られるガスバリア性積層体の高温高湿条件下でのガスバリア性、透明性などの外観の変化が特に少なくなる観点から、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基またはハロゲン原子が好ましく、例えばエポキシ基、アミノ基およびイソシアネート基から選ばれる少なくとも1種を用いてもよい。このような官能基で置換されるアルキル基としては、R12について例示したものが挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and the like, and preferably a methyl group or an ethyl group. Examples of the halogen atom represented by X 3 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is preferable. Examples of the functional group having reactivity with a carboxyl group that Z 3 has include an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, an oxazoline group, and a carbodiimide group. Among these, an epoxy group, an amino group, an isocyanate group, a ureido group, or a halogen atom is present from the viewpoint of particularly reducing changes in appearance such as gas barrier properties and transparency under high temperature and high humidity conditions of the obtained gas barrier laminate. Preferably, for example, at least one selected from an epoxy group, an amino group, and an isocyanate group may be used. Examples of the alkyl group substituted with such a functional group include those exemplified for R 12 .

式(III)で表される化合物の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリクロロシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリクロロシラン、γ−ブロモプロピルトリメトキシシラン、γ−ブロモプロピルトリエトキシシラン、γ−ブロモプロピルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリクロロシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリクロロシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリクロロシランが含まれる。式(III)で表される化合物の好ましい例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランが含まれる。   Specific examples of the compound represented by the formula (III) include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrichlorosilane, γ-aminopropyltrisilane. Methoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrichlorosilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrichlorosilane, γ-bromopropyltrimethoxysilane, γ -Bromopropyltriethoxysilane, γ-bromopropyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrichlorosilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane , .Gamma. isocyanatopropyltriethoxysilane, .gamma. isocyanate propyl trichlorosilane, .gamma.-ureidopropyltrimethoxysilane, .gamma.-ureidopropyltriethoxysilane include .gamma. ureidopropyltrimethoxysilane trichlorosilane. Preferred examples of the compound represented by the formula (III) include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, and γ-chloropropyltriethoxysilane. , Γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxysilane.

本発明者らは、化合物(A)と化合物(B)とを含む化合物(L)の加水分解縮合物を用いることによって、得られるガスバリア性積層体が、優れたガスバリア性を有することを見出した。更に驚くべきことに、ガスバリア性積層体において、前記したように、従来はガスバリア層を薄くするとガスバリア性が指数関数的に低下して優れたガスバリア性を維持することができなかったが、化合物(L)の加水分解縮合物を用いることによって、ガスバリア層を薄くしても高いガスバリア性を維持することを新たに見出した。   The present inventors have found that by using a hydrolysis condensate of compound (L) containing compound (A) and compound (B), the resulting gas barrier laminate has excellent gas barrier properties. . Furthermore, surprisingly, in the gas barrier laminate, as described above, when the gas barrier layer is thinned, the gas barrier property is decreased exponentially and the excellent gas barrier property cannot be maintained. It was newly found that by using the hydrolysis condensate of L), a high gas barrier property can be maintained even if the gas barrier layer is thinned.

化合物(B)が式(II)の化合物のみからなる場合、および化合物(B)が式(III)の化合物を含む場合のいずれの場合においても、[化合物(A)に由来するM1原子のモル数]/[化合物(B)に由来するSi原子のモル数]の比は、0.1/99.9〜35.0/65.0(たとえば0.1/99.9〜30.0/70.0、さらには0.1/99.9〜29.9/70.1)の範囲にある必要がある。上記モル比がこの範囲にある場合に前記したような優れたガスバリア性を示すガスバリア性積層体が得られる。M1とSiとの合計に占めるM1の比が0.1モル%より低いと耐湿性が低下し、高温恒湿条件下でのガスバリア性が低下し、また、外観不良が発生することがある。また、その比が35モル%より高いと、ガスバリア性が低下するという問題がある。更にガスバリア性がより良好となる観点から、[化合物(A)に由来するM1原子のモル数]/[化合物(B)に由来するSi原子のモル数]の比は、好ましくは1.2/98.8〜30.0/70.0の範囲にあり、より好ましくは1.9/98.1〜30.0/70.0の範囲にあり、さらに好ましくは2.8/97.2〜30.0/70.0の範囲にある。上記比は、0.5/99.5〜30.0/70.0の範囲、1.5/98.5〜20.0/80.0の範囲、または2.5/97.5〜10.0/90.0の範囲にあってもよい。 In any case where the compound (B) is composed only of the compound of the formula (II) and the compound (B) contains the compound of the formula (III), [the M 1 atom derived from the compound (A) The ratio of [number of moles] / [number of moles of Si atoms derived from compound (B)] is 0.1 / 99.9 to 35.0 / 65.0 (for example, 0.1 / 99.9 to 30.0). /70.0, or 0.1 / 99.9 to 29.9 / 70.1). When the molar ratio is in this range, a gas barrier laminate exhibiting excellent gas barrier properties as described above can be obtained. If the ratio of M 1 to the total of M 1 and Si is lower than 0.1 mol%, the moisture resistance is lowered, the gas barrier property under high temperature and humidity conditions is lowered, and the appearance may be deteriorated. is there. Moreover, when the ratio is higher than 35 mol%, there is a problem that the gas barrier property is lowered. Further, from the viewpoint of better gas barrier properties, the ratio of [number of moles of M 1 atom derived from compound (A)] / [number of moles of Si atom derived from compound (B)] is preferably 1.2. /98.8 to 30.0 / 70.0, more preferably 1.9 / 98.1 to 30.0 / 70.0, and even more preferably 2.8 / 97.2. It is in the range of ~ 30.0 / 70.0. The ratio is in the range of 0.5 / 99.5 to 30.0 / 70.0, in the range of 1.5 / 98.5 to 20.0 / 80.0, or 2.5 / 97.5 to 10 It may be in the range of 0.0 / 90.0.

本発明者らは、化合物(A)および式(II)で表される化合物に加えて、式(III)で表される化合物を更に含む化合物(L)の加水分解縮合物を用いることによって、高温高湿条件下においてもガスバリア性積層体が更に優れたガスバリア性を示すことを見出した。   The present inventors use, in addition to the compound represented by the compound (A) and the formula (II), a hydrolysis condensate of the compound (L) further comprising a compound represented by the formula (III), It has been found that even under high temperature and high humidity conditions, the gas barrier laminate exhibits further excellent gas barrier properties.

化合物(B)が式(III)で表される化合物を含む場合は更に以下の条件を満たすことが好ましい。すなわち[式(II)で表される化合物に由来するSiのモル数]/[式(III)で表される化合物に由来するSiのモル数]の比が、99.5/0.5〜80.0/20.0の範囲にあることが好ましい。この比が、99.5/0.5よりも大きいと、得られるガスバリア性積層体の、高温高湿条件下におけるガスバリア性が低下する場合がある。また、この比が80/20よりも小さいと、得られるガスバリア性積層体のガスバリア性が低下する場合がある。また、この比は、ガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となる観点から、98.0/2.0〜89.9/10.1の範囲にあることがより好ましい。   In the case where the compound (B) contains a compound represented by the formula (III), it is preferable that the following conditions are further satisfied. That is, the ratio of [number of moles of Si derived from the compound represented by formula (II)] / [number of moles of Si derived from the compound represented by formula (III)] was 99.5 / 0.5 to It is preferably in the range of 80.0 / 20.0. When this ratio is larger than 99.5 / 0.5, the gas barrier property of the resulting gas barrier laminate may be lowered under high temperature and high humidity conditions. Moreover, when this ratio is smaller than 80/20, the gas barrier property of the gas barrier laminate obtained may deteriorate. Further, this ratio is more preferably in the range of 98.0 / 2.0 to 89.9 / 10.1 from the viewpoint of improving the gas barrier properties of the gas barrier laminate.

化合物(L)に占める、化合物(A)および化合物(B)の割合の合計は、たとえば80モル%以上100モル%以下であり、90モル%以上、95モル%以上、98モル%以上、99モル%以上、または100モル%であってもよい。   The total ratio of the compound (A) and the compound (B) in the compound (L) is, for example, 80 mol% or more and 100 mol% or less, 90 mol% or more, 95 mol% or more, 98 mol% or more, 99 It may be mol% or more, or 100 mol%.

化合物(B)(化合物(L)であるSi化合物)に占める式(II)で表される化合物の割合は、80モル%以上100モル%以下であり、たとえば90モル%以上、95モル%以上、98モル%以上、または100モル%であってもよい。一例では、化合物(B)は、式(II)で表される化合物のみからなり、他の一例では、化合物(B)は、式(II)で表される化合物および式(III)で表される化合物のみからなる。   The proportion of the compound represented by the formula (II) in the compound (B) (Si compound as the compound (L)) is 80 mol% or more and 100 mol% or less, for example, 90 mol% or more, 95 mol% or more. 98 mol% or more, or 100 mol%. In one example, the compound (B) consists only of the compound represented by the formula (II), and in another example, the compound (B) is represented by the compound represented by the formula (II) and the formula (III). It consists only of a compound.

化合物(L)の加水分解縮合物において縮合される分子の数は、加水分解・縮合を行う際の条件によって制御できる。たとえば、縮合される分子の数は、水の量、触媒の種類や濃度、加水分解縮合を行う温度などによって制御できる。   The number of molecules condensed in the hydrolyzed condensate of compound (L) can be controlled by the conditions for performing hydrolysis and condensation. For example, the number of molecules to be condensed can be controlled by the amount of water, the type and concentration of the catalyst, the temperature at which hydrolysis condensation is performed, and the like.

ガスバリア層を構成する組成物は、ガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となるため、[化合物(L)に由来する無機成分の重量]/[化合物(L)に由来する有機成分の重量と重合体(X)に由来する有機成分の重量との合計]の比が20.0/80.0〜80.0/20.0の範囲にあることが好ましく、30.5/69.5〜70/30の範囲にあることがより好ましい。   Since the gas barrier property of the composition constituting the gas barrier layer becomes better, [weight of inorganic component derived from compound (L)] / [weight of organic component derived from compound (L)] The ratio of the “total with the weight of the organic component derived from the polymer (X)” is preferably in the range of 20.0 / 80.0 to 80.0 / 20.0, and 30.5 / 69.5 More preferably, it is in the range of 70/30.

化合物(L)に由来する無機成分の重量は、該組成物を調製する際に使用する原料の重量から算出することができる。すなわち、化合物(L)、化合物(L)が部分的に加水分解したもの、化合物(L)が完全に加水分解したもの、化合物(L)が部分的に加水分解縮合したもの、化合物(L)が完全に加水分解しその一部が縮合したもの、あるいはこれらを組み合わせたものなどが完全に加水分解・縮合して金属酸化物になったと仮定し、その金属酸化物の重量を化合物(L)に由来する無機成分の重量とみなす。   The weight of the inorganic component derived from the compound (L) can be calculated from the weight of the raw material used when preparing the composition. That is, compound (L), compound (L) partially hydrolyzed, compound (L) completely hydrolyzed, compound (L) partially hydrolyzed, compound (L) Assuming that the product is completely hydrolyzed and partly condensed, or a combination of these, is completely hydrolyzed and condensed into a metal oxide, and the weight of the metal oxide is calculated as compound (L). It is regarded as the weight of the inorganic component derived from.

金属酸化物の重量の算出をより具体的に説明すると、式(I)で表される化合物(A)がR9を含まない場合、それが完全に加水分解・縮合したときには、組成式が、M1n/2で表される化合物となる。また、式(I)で表される化合物(A)がR9を含む場合、それが完全に加水分解・縮合したときには、組成式が、M1m/29 n-mで表される化合物となる。この化合物のうちM1m/2の部分が金属酸化物である。R9については、化合物(L)に由来する有機成分とする。また、化合物(B)についても同様に算出する。このとき、R11、Z3については、化合物(L)に由来する有機成分とする。上記金属酸化物の重量を、後述する工程(i)の終了までに加えた有効成分の重量で割り、その値を100倍した値が、この明細書における加水分解縮合物の含有率(%)である。ここで、有効成分の重量とは、後述する工程(i)の終了までに加えた全ての成分の重量から、上述した化合物(L)が金属酸化物に変化する過程で発生する化合物や溶剤といった揮発成分の重量を除いた重量である。 More specifically describing the calculation of the weight of the metal oxide, when the compound (A) represented by the formula (I) does not contain R 9 , when it is completely hydrolyzed and condensed, the composition formula is This is a compound represented by M 1 On / 2 . In addition, when the compound (A) represented by the formula (I) contains R 9 , when it is completely hydrolyzed / condensed, the compound represented by the formula M 1 O m / 2 R 9 nm It becomes. Of this compound, the M 1 O m / 2 portion is a metal oxide. R 9 is an organic component derived from the compound (L). Moreover, it calculates similarly about a compound (B). At this time, R 11 and Z 3 are organic components derived from the compound (L). The value obtained by dividing the weight of the metal oxide by the weight of the active ingredient added until the end of the step (i) described later and multiplying the value by 100 is the content (%) of the hydrolysis condensate in this specification. It is. Here, the weight of the active ingredient refers to a compound or solvent generated in the process in which the above-described compound (L) is converted into a metal oxide from the weight of all the ingredients added until the end of the step (i) described later. This is the weight excluding the weight of volatile components.

なお、金属イオンを含まないイオン(たとえばアンモニウムイオン)によって重合体(X)が中和されている場合、そのイオン(たとえばアンモニウムイオン)の重量も、重合体(X)に由来する有機成分の重量に加えられる。   When the polymer (X) is neutralized by ions not containing metal ions (for example, ammonium ions), the weight of the ions (for example, ammonium ions) is also the weight of the organic component derived from the polymer (X). Added to.

[カルボン酸含有重合体(重合体(X))]
ガスバリア層を構成する組成物は、カルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基を含有する重合体の中和物を含む。その重合体を、以下、「カルボン酸含有重合体」という場合がある。カルボン酸含有重合体の中和物は、カルボン酸含有重合体の官能基に含まれる−COO−基の少なくとも一部を2価以上の金属イオンで中和することによって得られる。カルボン酸含有重合体は、重合体1分子中に、2個以上のカルボキシル基または1個以上のカルボン酸無水物基を有する。具体的には、アクリル酸単位、メタクリル酸単位、マレイン酸単位、イタコン酸単位などの、カルボキシル基を1個以上有する構成単位を重合体1分子中に2個以上含有する重合体を用いることができる。また、無水マレイン酸単位や無水フタル酸単位などのカルボン酸無水物の構造を有する構成単位を含有する重合体を用いることもできる。カルボキシル基を1個以上有する構成単位および/またはカルボン酸無水物の構造を有する構成単位(以下、両者をまとめて「カルボン酸含有単位(G)」という場合がある)は、1種類または2種類以上がカルボン酸含有重合体に含まれていてもよい。
[Carboxylic acid-containing polymer (polymer (X))]
The composition constituting the gas barrier layer includes a neutralized product of a polymer containing at least one functional group selected from a carboxyl group and a carboxylic anhydride group. Hereinafter, the polymer may be referred to as “carboxylic acid-containing polymer”. The neutralized product of the carboxylic acid-containing polymer can be obtained by neutralizing at least a part of the —COO— group contained in the functional group of the carboxylic acid-containing polymer with a divalent or higher metal ion. The carboxylic acid-containing polymer has two or more carboxyl groups or one or more carboxylic anhydride groups in one polymer molecule. Specifically, a polymer containing two or more structural units having one or more carboxyl groups such as an acrylic acid unit, a methacrylic acid unit, a maleic acid unit, and an itaconic acid unit in one molecule of the polymer is used. it can. Moreover, the polymer containing the structural unit which has the structure of carboxylic anhydrides, such as a maleic anhydride unit and a phthalic anhydride unit, can also be used. One type or two types of structural units having one or more carboxyl groups and / or structural units having a structure of carboxylic anhydride (hereinafter, these may be collectively referred to as “carboxylic acid-containing units (G)”) The above may be contained in the carboxylic acid-containing polymer.

また、カルボン酸含有重合体の全構成単位に占めるカルボン酸含有単位(G)の含有率を10モル%以上とすることによって、ガスバリア性が良好なガスバリア性積層体が得られる。この含有率は、20モル%以上であることがより好ましく、40モル%以上であることがさらに好ましく、70モル%以上であることが特に好ましい。なお、カルボン酸含有重合体が、カルボキシル基を1個以上含有する構成単位と、カルボン酸無水物の構造を有する構成単位の両方を含む場合、両者の合計が上記の範囲であればよい。   Moreover, the gas barrier property laminated body with favorable gas barrier property is obtained by making the content rate of the carboxylic acid content unit (G) which occupies for all the structural units of a carboxylic acid containing polymer into 10 mol% or more. The content is more preferably 20 mol% or more, further preferably 40 mol% or more, and particularly preferably 70 mol% or more. In addition, when a carboxylic acid containing polymer contains both the structural unit which contains 1 or more of carboxyl groups, and the structural unit which has a structure of a carboxylic anhydride, the sum total of both should just be said range.

カルボン酸含有重合体が含有していてもよい、カルボン酸含有単位(G)以外の他の構成単位は、特に限定されないが、アクリル酸メチル単位、メタクリル酸メチル単位、アクリル酸エチル単位、メタクリル酸エチル単位、アクリル酸ブチル単位、メタクリル酸ブチル単位等の(メタ)アクリル酸エステル類から誘導される構成単位;ギ酸ビニル単位、酢酸ビニル単位などのビニルエステル類から誘導される構成単位;スチレン単位、p−スチレンスルホン酸単位;エチレン単位、プロピレン単位、イソブチレン単位などのオレフィン類から誘導される構成単位などから選ばれる1種類以上の構成単位を挙げることができる。カルボン酸含有重合体が、2種以上の構成単位を含有する場合、該カルボン酸含有重合体は、交互共重合体の形態、ランダム共重合体の形態、ブロック共重合体の形態、さらにはテーパー型の共重合体の形態のいずれであってもよい。   Other structural units other than the carboxylic acid-containing unit (G) that may be contained in the carboxylic acid-containing polymer are not particularly limited, but are methyl acrylate units, methyl methacrylate units, ethyl acrylate units, methacrylic acid. Structural units derived from (meth) acrylic esters such as ethyl units, butyl acrylate units and butyl methacrylate units; structural units derived from vinyl esters such as vinyl formate units and vinyl acetate units; styrene units, One or more structural units selected from p-styrene sulfonic acid units; structural units derived from olefins such as ethylene units, propylene units, and isobutylene units. When the carboxylic acid-containing polymer contains two or more structural units, the carboxylic acid-containing polymer is in the form of an alternating copolymer, a random copolymer, a block copolymer, or a taper. It may be in the form of a type copolymer.

カルボン酸含有重合体の具体例としては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(アクリル酸/メタクリル酸)を挙げることができる。カルボン酸含有重合体は、ポリアクリル酸およびポリメタクリル酸から選ばれる少なくとも1種の重合体であってもよい。また、上記したカルボン酸含有単位(G)以外の他の構成単位を含有する場合の具体例としては、エチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイン酸交互共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体のケン化物などが挙げられる。   Specific examples of the carboxylic acid-containing polymer include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and poly (acrylic acid / methacrylic acid). The carboxylic acid-containing polymer may be at least one polymer selected from polyacrylic acid and polymethacrylic acid. Specific examples in the case of containing other structural units other than the above-described carboxylic acid-containing unit (G) include ethylene-maleic anhydride copolymers, styrene-maleic anhydride copolymers, and isobutylene-maleic anhydride. Examples thereof include an alternating copolymer, an ethylene-acrylic acid copolymer, and a saponified ethylene-ethyl acrylate copolymer.

カルボン酸含有重合体の分子量は特に制限されないが、得られるガスバリア性積層体のガスバリア性が優れる点、および落下衝撃強さなどの力学的物性が優れる点から、数平均分子量が5,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましく、20,000以上であることがさらに好ましい。カルボン酸含有重合体の数平均分子量の上限は特に制限がないが、一般的には1,500,000以下である。   The molecular weight of the carboxylic acid-containing polymer is not particularly limited, but the number average molecular weight is 5,000 or more from the viewpoint of excellent gas barrier properties of the resulting gas barrier laminate and excellent mechanical properties such as drop impact strength. Preferably, it is preferably 10,000 or more, and more preferably 20,000 or more. The upper limit of the number average molecular weight of the carboxylic acid-containing polymer is not particularly limited, but is generally 1,500,000 or less.

また、カルボン酸含有重合体の分子量分布も特に制限されるものではないが、ガスバリア性積層体のヘイズなどの表面外観、および後述する溶液(U)の貯蔵安定性などが良好となる観点から、カルボン酸含有重合体の重量平均分子量/数平均分子量の比で表される分子量分布は1〜6の範囲であることが好ましく、1〜5の範囲であることがより好ましく、1〜4の範囲であることがさらに好ましい。   Further, although the molecular weight distribution of the carboxylic acid-containing polymer is not particularly limited, from the viewpoint of improving the surface appearance such as haze of the gas barrier laminate and the storage stability of the solution (U) described later, The molecular weight distribution represented by the weight average molecular weight / number average molecular weight ratio of the carboxylic acid-containing polymer is preferably in the range of 1-6, more preferably in the range of 1-5, and in the range of 1-4. More preferably.

[中和(イオン化)]
カルボン酸含有重合体の中和物は、カルボン酸含有重合体のカルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基(官能基(F))の少なくとも一部を2価以上の金属イオンで中和することによって得られる。換言すれば、この重合体は、2価以上の金属イオンで中和されたカルボキシル基を含む。
[Neutralization (ionization)]
The neutralized product of the carboxylic acid-containing polymer is a divalent or higher-valent metal having at least a part of at least one functional group (functional group (F)) selected from the carboxyl group and carboxylic anhydride group of the carboxylic acid-containing polymer. Obtained by neutralization with ions. In other words, this polymer contains a carboxyl group neutralized with a divalent or higher metal ion.

官能基(F)を中和する金属イオンは2価以上であることが重要である。官能基(F)が未中和または1価のイオンのみによって中和されている場合には、良好なガスバリア性を有する積層体が得られない。2価以上の金属イオンの具体例としてはカルシウムイオン、マグネシウムイオン、2価の鉄イオン、3価の鉄イオン、亜鉛イオン、2価の銅イオン、鉛イオン、2価の水銀イオン、バリウムイオン、ニッケルイオン、ジルコニウムイオン、アルミニウムイオン、チタンイオンなどを挙げることができる。たとえば、2価以上の金属イオンは、カルシウムイオン、マグネシウムイオン、バリウムイオン、亜鉛イオン、鉄イオンおよびアルミニウムイオンからなる群より選ばれる少なくとも1つのイオンであってもよい。   It is important that the metal ion neutralizing the functional group (F) is divalent or higher. When the functional group (F) is not neutralized or neutralized only by monovalent ions, a laminate having good gas barrier properties cannot be obtained. Specific examples of divalent or higher metal ions include calcium ions, magnesium ions, divalent iron ions, trivalent iron ions, zinc ions, divalent copper ions, lead ions, divalent mercury ions, barium ions, A nickel ion, a zirconium ion, an aluminum ion, a titanium ion, etc. can be mentioned. For example, the divalent or higher valent metal ion may be at least one ion selected from the group consisting of calcium ion, magnesium ion, barium ion, zinc ion, iron ion and aluminum ion.

カルボン酸含有重合体の官能基(F)に含まれる−COO−基は、たとえば10モル%以上(たとえば15モル%以上)が2価以上の金属イオンで中和されている。カルボン酸含有重合体中のカルボキシル基および/またはカルボン酸無水物基が2価以上の金属イオンで中和されることによって、ガスバリア性積層体が良好なガスバリア性を示す。   For example, 10 mol% or more (for example, 15 mol% or more) of the —COO— group contained in the functional group (F) of the carboxylic acid-containing polymer is neutralized with a divalent or more metal ion. When the carboxyl group and / or carboxylic anhydride group in the carboxylic acid-containing polymer is neutralized with a divalent or higher metal ion, the gas barrier laminate exhibits good gas barrier properties.

なお、カルボン酸無水物基は、−COO−基を2つ含んでいるとみなす。すなわち、aモルのカルボキシル基とbモルのカルボン酸無水物基とが存在する場合、それに含まれる−COO−基は、全体で(a+2b)モルである。官能基(F)に含まれる−COO−基のうち、2価以上の金属イオンで中和されている割合は、好ましくは60モル%以上100モル%以下であり、より好ましくは70モル%以上であり、さらに好ましくは80モル%以上である。中和されている割合を高めることによって、より高いガスバリア性を実現できる。   Note that the carboxylic anhydride group is considered to contain two —COO— groups. That is, when there are a moles of carboxyl groups and b moles of carboxylic anhydride groups, the total number of —COO— groups contained is (a + 2b) moles. The proportion of the -COO- group contained in the functional group (F) that is neutralized with a divalent or higher metal ion is preferably 60 mol% or more and 100 mol% or less, more preferably 70 mol% or more. More preferably, it is 80 mol% or more. By increasing the proportion of neutralization, higher gas barrier properties can be realized.

官能基(F)の中和度(イオン化度)は、ガスバリア性積層体の赤外吸収スペクトルをATR法(全反射測定法)で測定するか、または、ガスバリア性積層体からガスバリア層をかきとり、その赤外吸収スペクトルをKBr法で測定することによって求めることができる。また、蛍光X線測定によるイオン化に用いた金属元素の蛍光X線強度の値によっても求めることが出来る。   The degree of neutralization (ionization degree) of the functional group (F) is determined by measuring the infrared absorption spectrum of the gas barrier laminate by the ATR method (total reflection measurement method) or scraping the gas barrier layer from the gas barrier laminate, The infrared absorption spectrum can be obtained by measuring by the KBr method. It can also be obtained from the value of the fluorescent X-ray intensity of the metal element used for ionization by fluorescent X-ray measurement.

赤外吸収スペクトルでは中和前(イオン化前)のカルボキシル基またはカルボン酸無水物基のC=O伸縮振動に帰属されるピークは1600cm-1〜1850cm-1の範囲に観察され、中和(イオン化)された後のカルボキシル基のC=O伸縮振動は1500cm-1〜1600cm-1の範囲に観察されるため、赤外吸収スペクトルにおいて両者を分離して評価することができる。具体的には、それぞれの範囲における最大の吸光度からその比を求め、予め作成した検量線を用いてガスバリア性積層体におけるガスバリア層を構成する重合体のイオン化度を算出することができる。なお、検量線は、中和度が異なる複数の標準サンプルについて赤外吸収スペクトルを測定することによって作成できる。 The infrared absorption spectrum peak attributed to C = O stretching vibration of the carboxyl group or carboxylic anhydride group before the neutralization (ionization front) is observed in the range of 1600cm -1 ~1850cm -1, neutralization (ionization ), The C═O stretching vibration of the carboxyl group is observed in the range of 1500 cm −1 to 1600 cm −1 , so that both can be separated and evaluated in the infrared absorption spectrum. Specifically, the ratio is obtained from the maximum absorbance in each range, and the ionization degree of the polymer constituting the gas barrier layer in the gas barrier laminate can be calculated using a calibration curve prepared in advance. A calibration curve can be created by measuring infrared absorption spectra for a plurality of standard samples having different degrees of neutralization.

ガスバリア層の膜厚が1μm以下であり、かつ基材がエステル結合を含む場合、ATR法による赤外吸収スペクトルでは基材のエステル結合のピークが検出され、ガスバリア層を構成するカルボン酸含有重合体(=重合体(X))の−COO−のピークと重なるため、イオン化度を正確に求めることができない。そこで、膜厚1μm以下のガスバリア層を構成する重合体(X)のイオン化度は、蛍光X線測定の結果に基づいて算出する。   When the film thickness of the gas barrier layer is 1 μm or less and the substrate contains an ester bond, the ester bond peak of the substrate is detected in the infrared absorption spectrum by the ATR method, and the carboxylic acid-containing polymer constituting the gas barrier layer Since it overlaps with the —COO— peak of (= polymer (X)), the degree of ionization cannot be determined accurately. Therefore, the ionization degree of the polymer (X) constituting the gas barrier layer having a thickness of 1 μm or less is calculated based on the result of the fluorescent X-ray measurement.

具体的には、エステル結合を含まない基材上に積層したガスバリア層を構成する重合体(X)のイオン化度を、赤外吸収スペクトルによって測定する。次に、イオン化度が測定された積層体について、蛍光X線測定によって、イオン化に用いた金属元素の蛍光X線強度を求める。続いて、イオン化度のみが異なる積層体について同様の測定を実施する。イオン化度と、イオン化に用いた金属元素の蛍光X線強度との相関を求め、検量線を作成する。そして、エステル結合を含む基材を用いたガスバリア性積層体について蛍光X線測定を行い、イオン化に用いた金属元素の蛍光X線強度から、上記検量線に基づいてイオン化度を求める。   Specifically, the ionization degree of the polymer (X) constituting the gas barrier layer laminated on the substrate not containing an ester bond is measured by an infrared absorption spectrum. Next, the fluorescence X-ray intensity of the metal element used for ionization is determined by fluorescent X-ray measurement for the laminate in which the degree of ionization is measured. Then, the same measurement is implemented about the laminated body from which only an ionization degree differs. A correlation between the degree of ionization and the fluorescent X-ray intensity of the metal element used for ionization is obtained, and a calibration curve is created. And X-ray fluorescence measurement is performed about the gas-barrier laminated body using the base material containing an ester bond, and an ionization degree is calculated | required based on the said calibration curve from the fluorescence X-ray intensity of the metal element used for ionization.

[化合物(P)]
ガスバリア層を構成する組成物は、2つ以上のアミノ基を含有する化合物(P)を含んでもよい。化合物(P)は、化合物(L)および重合体(X)とは異なる化合物である。化合物(P)をさらに含む場合、前記重合体(X)の官能基(F)に含まれる−COO−基の少なくとも一部が、化合物(P)によって中和および/または反応されている状態となる。化合物(P)として、アルキレンジアミン類、ポリアルキレンポリアミン類、脂環族ポリアミン類、芳香族ポリアミン類、ポリビニルアミン類等を用いることができるが、ガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となる観点から、アルキレンジアミンが好ましい。
[Compound (P)]
The composition constituting the gas barrier layer may contain a compound (P) containing two or more amino groups. Compound (P) is a compound different from compound (L) and polymer (X). When the compound (P) is further included, at least a part of the —COO— group contained in the functional group (F) of the polymer (X) is neutralized and / or reacted with the compound (P); Become. As the compound (P), alkylene diamines, polyalkylene polyamines, alicyclic polyamines, aromatic polyamines, polyvinylamines, and the like can be used, but the gas barrier property of the gas barrier laminate is improved. Therefore, alkylene diamine is preferable.

化合物(P)の具体例としては、ヒドラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルメタン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、キシリレンジアミン、キトサン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン等が挙げられる。ガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となる観点から、好ましくはエチレンジアミン、プロピレンジアミン、キトサンである。   Specific examples of the compound (P) include hydrazine, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylmethane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane. , Xylylenediamine, chitosan, polyallylamine, polyvinylamine and the like. From the viewpoint of improving the gas barrier properties of the gas barrier laminate, ethylenediamine, propylenediamine, and chitosan are preferable.

[化合物(P)に含まれるアミノ基]/[カルボン酸含有重合体の官能基に含まれる−COO−基]のモル比は、ガスバリア性積層体の高温高湿条件下での特性がより良好となる観点から、0.2/100〜20/100の範囲にあることが好ましく、0.5/100〜15/100の範囲にあることがより好ましく、1/100〜10/100の範囲にあることが特に好ましい。   The molar ratio of [amino group contained in compound (P)] / [-COO-group contained in functional group of carboxylic acid-containing polymer] has better characteristics under high temperature and high humidity conditions of the gas barrier laminate. From the viewpoint of becoming, it is preferably in the range of 0.2 / 100 to 20/100, more preferably in the range of 0.5 / 100 to 15/100, and in the range of 1/100 to 10/100. It is particularly preferred.

化合物(P)をカルボン酸含有重合体に添加する際に、化合物(P)を予め酸で中和しておいてもよい。中和に用いられる酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、炭酸などが挙げられる。得られるガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となる観点から、塩酸、酢酸、炭酸を用いるのが好ましい。   When adding the compound (P) to the carboxylic acid-containing polymer, the compound (P) may be neutralized with an acid in advance. Examples of the acid used for neutralization include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, and carbonic acid. From the viewpoint of better gas barrier properties of the resulting gas barrier laminate, it is preferable to use hydrochloric acid, acetic acid, and carbonic acid.

[化合物Q]
ガスバリア層を構成する組成物は、2つ以上の水酸基を含有する化合物(Q)を含んでもよい。化合物(Q)をさらに含む場合、前記重合体(X)の官能基(F)に含まれる−COO−基の少なくとも一部が、化合物(Q)によって反応してエステル結合を形成している状態となる。この構成によれば、ガスバリア性積層体の、伸長後のガスバリア性が向上する。より具体的には、化合物(Q)を添加することによって、ガスバリア性積層体が伸長されてもガスバリア層がダメージを受けにくくなる。その結果、伸長された後でも高いガスバリア性が保持される。たとえば、ラミネートなどの加工時のテンションによる伸長などが起きた後の状態においても、ガスバリア性積層体のガスバリア性が低下しにくくなる。
[Compound Q]
The composition constituting the gas barrier layer may contain a compound (Q) containing two or more hydroxyl groups. When the compound (Q) is further included, at least a part of the —COO— group contained in the functional group (F) of the polymer (X) reacts with the compound (Q) to form an ester bond. It becomes. According to this configuration, the gas barrier property after elongation of the gas barrier laminate is improved. More specifically, by adding the compound (Q), the gas barrier layer is hardly damaged even when the gas barrier laminate is elongated. As a result, high gas barrier properties are maintained even after being stretched. For example, the gas barrier property of the gas barrier laminate is not easily lowered even after elongation due to tension during processing such as lamination.

化合物(Q)は、化合物(L)および重合体(X)とは異なる化合物である。化合物(Q)には、低分子量の化合物および高分子量の化合物が含まれる。化合物(Q)の好ましい例には、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルの部分けん化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリエチレングリコール、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、でんぷんなどの多糖類、でんぷんなどの多糖類から誘導される多糖類誘導体、といった高分子化合物が含まれる。   Compound (Q) is a compound different from compound (L) and polymer (X). The compound (Q) includes a low molecular weight compound and a high molecular weight compound. Preferred examples of the compound (Q) include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyethylene glycol, polyhydroxyethyl (meth) acrylate, polysaccharides such as starch, and starches. Polymer compounds such as polysaccharide derivatives derived from saccharides are included.

また、ガスバリア層を構成する組成物は、所望により、本発明の効果を損なわない範囲内において、炭酸塩、塩酸塩、硝酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸塩、ホウ酸塩、アルミン酸塩のような無機酸金属塩;シュウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、ステアリン酸塩のような有機酸金属塩;アルミニウムアセチルアセトナートのようなアセチルアセトナート金属錯体、チタノセンなどのシクロペンタジエニル金属錯体、シアノ金属錯体等の金属錯体;層状粘土化合物、架橋剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤等を含有していてもよい。また、ガスバリア層を構成する組成物は、金属酸化物の微粉末やシリカ微粉末などを含有していてもよい。   Further, the composition constituting the gas barrier layer may be carbonate, hydrochloride, nitrate, hydrogen carbonate, sulfate, hydrogen sulfate, phosphate, boric acid within the range not impairing the effects of the present invention. Salts, inorganic acid metal salts such as aluminate; organic acid metal salts such as oxalate, acetate, tartrate, stearate; acetylacetonate metal complexes such as aluminum acetylacetonate, titanocene, etc. Metal complexes such as cyclopentadienyl metal complexes and cyano metal complexes; layered clay compounds, crosslinking agents, plasticizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants and the like may be contained. The composition constituting the gas barrier layer may contain a metal oxide fine powder, a silica fine powder, and the like.

[基材]
本発明のガスバリア性積層体に用いられる基材としては、熱可塑性樹脂フィルムや熱硬化性樹脂フィルムを用いることができる。中でも熱可塑性樹脂フィルムは、真空断熱体に用いられるガスバリア性積層体の基材として有用である。また、ガスバリア性をさらに高める観点から、基材として、ガスバリア性樹脂フィルムを用いることもできる。なお、基材は、複数の材料からなる多層構成のものであってもよい。
[Base material]
As a base material used for the gas barrier laminate of the present invention, a thermoplastic resin film or a thermosetting resin film can be used. Among these, a thermoplastic resin film is useful as a base material for a gas barrier laminate used for a vacuum heat insulator. Further, from the viewpoint of further enhancing the gas barrier property, a gas barrier resin film can also be used as the substrate. In addition, the base material may have a multilayer structure composed of a plurality of materials.

熱可塑性樹脂フィルムとしては、たとえば、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートやこれらの共重合体などのポリエステル系樹脂;ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド12などのポリアミド系樹脂;ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリアリレート、再生セルロース、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、アイオノマー樹脂等を成形加工したフィルムを挙げることができる。真空断熱体に用いられる積層体の基材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド6、またはポリアミド66からなるフィルムが好ましい。熱可塑性樹脂フィルムは、無延伸のフィルム、延伸されたフィルムのいずれでもよいが、成形加工性の観点から延伸されたフィルムが好ましい。   Examples of the thermoplastic resin film include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate and copolymers thereof; polyamide 6, polyamide 66, Polyamide resins such as polyamide 12; polystyrene, poly (meth) acrylate, polyacrylonitrile, polyvinyl acetate, polycarbonate, polyarylate, regenerated cellulose, polyimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone And a film obtained by molding an ionomer resin or the like. As the base material of the laminate used for the vacuum insulator, a film made of polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyamide 6 or polyamide 66 is preferable. The thermoplastic resin film may be either an unstretched film or a stretched film, but a stretched film is preferred from the viewpoint of moldability.

上記ガスバリア性樹脂フィルムの材料としては、たとえば、エチレン−ビニルアルコール共重合体、またはポリ塩化ビニリデンが挙げられ、それらの樹脂をフィルム化したシートをガスバリア性樹脂フィルムとして使用できる。ガスバリア性樹脂フィルムの好ましい一例は、延伸されたエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる。すなわち、基材の好ましい一例は、エチレン−ビニルアルコール共重合体からなる。エチレン−ビニルアルコール共重合体からなる基材とガスバリア層との間には、無機層(たとえばアルミニウム原子を含む無機層)が配置されていてもよい。   Examples of the material for the gas barrier resin film include an ethylene-vinyl alcohol copolymer or polyvinylidene chloride, and a sheet obtained by forming the resin into a film can be used as the gas barrier resin film. A preferred example of the gas barrier resin film is made of a stretched ethylene-vinyl alcohol copolymer. That is, a preferred example of the substrate is made of an ethylene-vinyl alcohol copolymer. An inorganic layer (for example, an inorganic layer containing aluminum atoms) may be disposed between the base material made of an ethylene-vinyl alcohol copolymer and the gas barrier layer.

また、ガスバリア性積層体は、基材とガスバリア層との間に配置された接着層(H)をさらに含んでもよい。この構成によれば、基材とガスバリア層との接着性を高めることができる。接着性樹脂からなる接着層(H)は、基材の表面を公知のアンカーコーティング剤で処理するか、基材の表面に公知の接着剤を塗工することで形成できる。様々な接着性樹脂について検討した結果、ウレタン結合を含有し、窒素原子(ウレタン結合の窒素原子)が樹脂全体に占める割合が0.5〜12重量%の範囲である接着性樹脂が好ましいことが見出された。そのような接着性樹脂を用いることによって、基材とガスバリア層との接着性を特に高めることができる。基材とガスバリア層とを接着層(H)を介して強く接着することによって、ガスバリア性積層体に対して印刷やラミネートなどの加工を施す際に、ガスバリア性や外観が悪化することを抑制できる。接着性樹脂に含まれる窒素原子(ウレタン結合の窒素原子)の含有率は、2〜11重量%の範囲にあることがより好ましく、3〜8重量%の範囲にあることがさらに好ましい。   Further, the gas barrier laminate may further include an adhesive layer (H) disposed between the base material and the gas barrier layer. According to this structure, the adhesiveness of a base material and a gas barrier layer can be improved. The adhesive layer (H) made of an adhesive resin can be formed by treating the surface of the substrate with a known anchor coating agent or applying a known adhesive to the surface of the substrate. As a result of examining various adhesive resins, it is preferable that an adhesive resin containing a urethane bond and having a nitrogen atom (a nitrogen atom of the urethane bond) occupying the entire resin is in a range of 0.5 to 12% by weight. It was found. By using such an adhesive resin, the adhesion between the substrate and the gas barrier layer can be particularly enhanced. By strongly bonding the base material and the gas barrier layer through the adhesive layer (H), it is possible to suppress deterioration of the gas barrier property and appearance when the gas barrier laminate is subjected to processing such as printing or lamination. . The content of nitrogen atoms (urethane bond nitrogen atoms) contained in the adhesive resin is more preferably in the range of 2 to 11% by weight, and still more preferably in the range of 3 to 8% by weight.

ウレタン結合を含有する接着性樹脂としては、ポリイソシアネート成分とポリオール成分とを混合し反応させる二液反応型ポリウレタン系接着剤が好ましい。   As the adhesive resin containing a urethane bond, a two-component reactive polyurethane adhesive in which a polyisocyanate component and a polyol component are mixed and reacted is preferable.

接着層(H)を厚くすることによってガスバリア性積層体の強度を高めることができる。しかし、接着層(H)を厚くしすぎると、外観が悪化する。接着層(H)の厚さは、0.03μm〜0.18μmの範囲にあることが好ましい。この構成によれば、ガスバリア性積層体に対してラミネートなどの加工を施す際に、ガスバリア性や外観が悪化することを抑制でき、さらに、ガスバリア性積層体を用いた真空断熱体の落下強度を高めることができる。接着層(H)の厚さは、0.04μm〜0.14μmの範囲にあることがより好ましく、0.05μm〜0.10μmの範囲にあることがさらに好ましい。   By increasing the thickness of the adhesive layer (H), the strength of the gas barrier laminate can be increased. However, when the adhesive layer (H) is too thick, the appearance deteriorates. The thickness of the adhesive layer (H) is preferably in the range of 0.03 μm to 0.18 μm. According to this configuration, when processing such as lamination is performed on the gas barrier laminate, it is possible to suppress deterioration of the gas barrier property and appearance, and further, the drop strength of the vacuum insulator using the gas barrier laminate can be reduced. Can be increased. The thickness of the adhesive layer (H) is more preferably in the range of 0.04 μm to 0.14 μm, and still more preferably in the range of 0.05 μm to 0.10 μm.

本発明で用いられるガスバリア性積層体では、積層体に含まれるガスバリア層の厚さの合計が、1.0μm以下であることが好ましく、たとえば0.9μm以下である。ガスバリア層を薄くすることによって、ラミネートなどの加工時におけるガスバリア性積層体の寸法変化を低く抑えることができる。また、ガスバリア層を薄くすることによって、ガスバリア性積層体の柔軟性が増し、ガスバリア性積層体の力学的特性を、基材に用いているフィルム自体の力学的特性に近づけることができる。ガスバリア層の1層の厚さは、ガスバリア性積層体のガスバリア性が良好となる観点から、0.05μm以上(たとえば0.15μm以上)であることが好ましい。また、ガスバリア層の合計の厚さは0.1μm以上(たとえば0.2μm以上)であることがさらに好ましい。ガスバリア層の厚さは、ガスバリア層の形成に用いられる溶液の濃度や、塗工方法によって制御できる。   In the gas barrier laminate used in the present invention, the total thickness of the gas barrier layers contained in the laminate is preferably 1.0 μm or less, for example 0.9 μm or less. By making the gas barrier layer thin, the dimensional change of the gas barrier laminate during processing such as laminating can be kept low. Further, by making the gas barrier layer thin, the flexibility of the gas barrier laminate is increased, and the mechanical properties of the gas barrier laminate can be brought close to the mechanical properties of the film itself used for the substrate. The thickness of one gas barrier layer is preferably 0.05 μm or more (for example, 0.15 μm or more) from the viewpoint of improving the gas barrier property of the gas barrier laminate. Further, the total thickness of the gas barrier layer is more preferably 0.1 μm or more (for example, 0.2 μm or more). The thickness of the gas barrier layer can be controlled by the concentration of the solution used for forming the gas barrier layer and the coating method.

また、本発明の積層体は、基材とガスバリア層との間に、無機物からなる層(以下、「無機層」という場合がある)を含んでもよい。高い断熱性能を有する真空断熱体を得る観点から、基材とガスバリア層との間に無機層が配置されていることが好ましい。無機層は、金属や無機酸化物などの無機物で形成できる。無機層は、蒸着法などの気相成膜法で形成できる。   In addition, the laminate of the present invention may include a layer made of an inorganic material (hereinafter sometimes referred to as “inorganic layer”) between the base material and the gas barrier layer. From the viewpoint of obtaining a vacuum heat insulator having high heat insulation performance, an inorganic layer is preferably disposed between the substrate and the gas barrier layer. The inorganic layer can be formed of an inorganic material such as a metal or an inorganic oxide. The inorganic layer can be formed by a vapor deposition method such as a vapor deposition method.

無機層を構成する無機物は、酸素や水蒸気などに対するガスバリア性を有するものであればよい。たとえば、アルミニウムなどの金属、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸窒化珪素、酸化マグネシウム、酸化錫、またはそれらの混合物といった無機酸化物で無機層を形成できる。これらの中でも、アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウムは、酸素や水蒸気などのガスに対するバリア性が優れる観点から好ましく用いることができる。好ましい一例では、無機層がアルミニウム原子を含む。   The inorganic substance which comprises an inorganic layer should just have a gas barrier property with respect to oxygen, water vapor | steam, etc. For example, the inorganic layer can be formed using a metal such as aluminum, an inorganic oxide such as aluminum oxide, silicon oxide, silicon oxynitride, magnesium oxide, tin oxide, or a mixture thereof. Among these, aluminum, aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide can be preferably used from the viewpoint of excellent barrier properties against gases such as oxygen and water vapor. In a preferred example, the inorganic layer contains aluminum atoms.

無機層の好ましい厚さは、無機層を構成する無機物の種類によって異なるが、通常、2nm〜500nmの範囲である。この範囲で、ガスバリア性積層体のガスバリア性や機械的物性が良好となる厚さを選択すればよい。無機層の厚さが2nm未満である場合、酸素や水蒸気などのガスに対する無機層のバリア性の発現に再現性がなく、充分なガスバリア性を発現しない場合がある。無機層の厚さが500nmを超える場合は、ガスバリア性積層体を引っ張ったり屈曲させたりした場合に無機層のガスバリア性が低下し易くなる。無機層の厚さは、好ましくは5〜200nmの範囲であり、さらに好ましくは10〜100nmの範囲である。   Although the preferable thickness of an inorganic layer changes with kinds of inorganic substance which comprises an inorganic layer, it is the range of 2 nm-500 nm normally. Within this range, a thickness that provides good gas barrier properties and mechanical properties of the gas barrier laminate may be selected. When the thickness of the inorganic layer is less than 2 nm, the development of the barrier property of the inorganic layer with respect to gases such as oxygen and water vapor is not reproducible, and the sufficient gas barrier property may not be exhibited. When the thickness of the inorganic layer exceeds 500 nm, the gas barrier property of the inorganic layer tends to be lowered when the gas barrier laminate is pulled or bent. The thickness of the inorganic layer is preferably in the range of 5 to 200 nm, more preferably in the range of 10 to 100 nm.

無機層は、基材上に無機酸化物を堆積させることによって形成できる。形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長法(CVD)などを挙げることができる。これらの中でも、真空蒸着法は、生産性の観点から好ましく用いられる。真空蒸着を行う際の加熱方法としては、電子線加熱方式、抵抗加熱方式および誘導加熱方式のいずれかが好ましい。また、無機層と基材との密着性および無機層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着してもよい。また、無機層の透明性を上げるために、蒸着の際、酸素ガスなどを吹き込んで反応を生じさせる反応蒸着法を採用してもよい。   The inorganic layer can be formed by depositing an inorganic oxide on the substrate. Examples of the forming method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method (CVD), and the like. Among these, the vacuum evaporation method is preferably used from the viewpoint of productivity. As a heating method in performing vacuum deposition, any of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method is preferable. Moreover, in order to improve the adhesiveness of an inorganic layer and a base material, and the denseness of an inorganic layer, you may vapor-deposit using a plasma assist method or an ion beam assist method. Moreover, in order to raise the transparency of an inorganic layer, you may employ | adopt the reactive vapor deposition method which blows in oxygen gas etc. and produces a reaction in the case of vapor deposition.

本発明のガスバリア性積層体は、基材および本発明のガスバリア層以外の層を含んでもよい。たとえば、本発明のガスバリア性積層体は、ポリオレフィン層、ガスバリア性樹脂層、ポリアミド層、およびポリエステル層などの層を含んでもよい。本発明のガスバリア性積層体の層構成の例には、以下の構成が含まれる。なお、以下では、基材と本発明のガスバリア層とを含む多層膜を「ガスバリア性多層膜」という場合がある。そのガスバリア性多層膜も、本発明のガスバリア性積層体の1種である。
(1)ガスバリア性多層膜/ポリオレフィン層(以下「PO層」という場合がある)、
(2)ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(3)ガスバリア性多層膜/ポリアミド層/PO層、
(4)ポリアミド層/ガスバリア性多層膜/PO層、
(5)ポリアミド層/ガスバリア性多層膜/ポリエステル層/PO層、
(6)ガスバリア性多層膜/ポリアミド層/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(7)ポリアミド層/ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(8)ガスバリア性多層膜/ポリエステル層/PO層、
(9)ポリエステル層/ガスバリア性多層膜/PO層、
(10)ガスバリア性多層膜/ポリエステル層/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(11)ポリエステル層/ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(12)PO層/ガスバリア性多層膜/PO層、
(13)PO層/ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(14)PO層/ガスバリア性多層膜/ポリアミド層/PO層、
(15)PO層/ポリアミド層/ガスバリア性多層膜/PO層、
(16)PO層/ガスバリア性多層膜/ポリアミド層/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(17)PO層/ポリアミド層/ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(18)PO層/ガスバリア性多層膜/ポリエステル層/PO層、
(19)PO層/ポリエステル層/ガスバリア性多層膜/PO層、
(20)PO層/ガスバリア性多層膜/ポリエステル層/ガスバリア性樹脂層/PO層、
(21)PO層/ポリエステル層/ガスバリア性多層膜/ガスバリア性樹脂層/PO層。
The gas barrier laminate of the present invention may include layers other than the base material and the gas barrier layer of the present invention. For example, the gas barrier laminate of the present invention may include layers such as a polyolefin layer, a gas barrier resin layer, a polyamide layer, and a polyester layer. Examples of the layer configuration of the gas barrier laminate of the present invention include the following configurations. Hereinafter, the multilayer film including the base material and the gas barrier layer of the present invention may be referred to as “gas barrier multilayer film”. The gas barrier multilayer film is also a kind of the gas barrier laminate of the present invention.
(1) Gas barrier multilayer film / polyolefin layer (hereinafter sometimes referred to as “PO layer”),
(2) Gas barrier multilayer film / gas barrier resin layer / PO layer,
(3) Gas barrier multilayer film / polyamide layer / PO layer,
(4) Polyamide layer / gas barrier multilayer film / PO layer,
(5) Polyamide layer / Gas barrier multilayer film / Polyester layer / PO layer,
(6) Gas barrier multilayer film / polyamide layer / gas barrier resin layer / PO layer,
(7) Polyamide layer / Gas barrier multilayer film / Gas barrier resin layer / PO layer,
(8) Gas barrier multilayer film / polyester layer / PO layer,
(9) Polyester layer / gas barrier multilayer film / PO layer,
(10) Gas barrier multilayer film / polyester layer / gas barrier resin layer / PO layer,
(11) Polyester layer / Gas barrier multilayer film / Gas barrier resin layer / PO layer,
(12) PO layer / gas barrier multilayer film / PO layer,
(13) PO layer / gas barrier multilayer film / gas barrier resin layer / PO layer,
(14) PO layer / gas barrier multilayer film / polyamide layer / PO layer,
(15) PO layer / polyamide layer / gas barrier multilayer film / PO layer,
(16) PO layer / gas barrier multilayer film / polyamide layer / gas barrier resin layer / PO layer,
(17) PO layer / polyamide layer / gas barrier multilayer film / gas barrier resin layer / PO layer,
(18) PO layer / gas barrier multilayer film / polyester layer / PO layer,
(19) PO layer / polyester layer / gas barrier multilayer film / PO layer,
(20) PO layer / gas barrier multilayer film / polyester layer / gas barrier resin layer / PO layer,
(21) PO layer / polyester layer / gas barrier multilayer film / gas barrier resin layer / PO layer.

層と層との間には接着層を配置してもよい。ポリオレフィン層(PO層)、ポリアミド層、ポリエステル層、およびガスバリア性樹脂層について、以下に説明する。   An adhesive layer may be disposed between the layers. The polyolefin layer (PO layer), polyamide layer, polyester layer, and gas barrier resin layer will be described below.

上記ポリオレフィン層は、ヒートシール層として用いることが可能である。ポリオレフィン層としては、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、エチレンーαオレフィン共重合体、アイオノマー、エチレンーアクリル酸共重合体、エチレンーアクリル酸メチル共重合体、エチレンーメタクリル酸共重合体、エチレンープロピレン共重合体等の樹脂、またはそれらを2種以上混合した樹脂からなる層を用いてもよい。また、それらの樹脂をフィルム化したシートを用いてもよい。好ましいポリオレフィン層は、低密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレンからなる層、またはそれらの樹脂をフィルム化したシートである。ポリオレフィン層は、より好ましくは、直鎖状(線状)低密度ポリエチレンまたはポリプロピレンからなる。これらのポリオレフィン層は、延伸または無延伸のいずれでもよいが、ガスバリア性積層体を包装材にしたときに内側となる表面に配置されるポリオレフィン層は、ヒートシール強度の観点から、無延伸であることが好ましい。したがって、ガスバリア性積層体を包装材にしたときに内側となる表面に配置されるポリオレフィン層は、無延伸低密度ポリエチレン、無延伸直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、または無延伸ポリプロピレンからなることが最も好ましい。   The polyolefin layer can be used as a heat seal layer. The polyolefin layer includes low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-α olefin copolymer, ionomer, ethylene-acrylic acid. A layer made of a resin such as a copolymer, an ethylene-methyl acrylate copolymer, an ethylene-methacrylic acid copolymer, an ethylene-propylene copolymer, or a mixture of two or more thereof may be used. Moreover, you may use the sheet | seat which made those resin into a film. A preferred polyolefin layer is a layer made of low-density polyethylene, linear (linear) low-density polyethylene, high-density polyethylene, or polypropylene, or a sheet obtained by filming these resins. The polyolefin layer is more preferably made of linear (linear) low density polyethylene or polypropylene. These polyolefin layers may be either stretched or unstretched, but the polyolefin layer disposed on the inner surface when the gas barrier laminate is used as a packaging material is unstretched from the viewpoint of heat seal strength. It is preferable. Therefore, the polyolefin layer disposed on the inner surface when the gas barrier laminate is used as a packaging material is made of unstretched low-density polyethylene, unstretched linear (linear) low-density polyethylene, or unstretched polypropylene. Most preferred.

上記ポリオレフィン層の厚さに特に限定はないが、機械的強靱性、耐衝撃性、耐突き刺し性等の観点から、10μm〜200μmの範囲にあることが好ましく、20μm〜150μmの範囲にあることがより好ましい。   The thickness of the polyolefin layer is not particularly limited, but from the viewpoint of mechanical toughness, impact resistance, puncture resistance, etc., it is preferably in the range of 10 μm to 200 μm, and in the range of 20 μm to 150 μm. More preferred.

上記ポリアミド層としては、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン612、およびナイロンMXD6樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂を押し出して得られるフィルムを用いることができる。これらのポリアミド層は、延伸または無延伸のいずれであってもよい。好ましいポリアミド層としては、ナイロン6またはナイロン66からなるフィルム(たとえば一軸または二軸延伸フィルム)が挙げられる。   As the polyamide layer, a film obtained by extruding at least one resin selected from nylon 6, nylon 66, nylon 11, nylon 12, nylon 610, nylon 612, and nylon MXD6 resin can be used. These polyamide layers may be either stretched or unstretched. A preferred polyamide layer includes a film made of nylon 6 or nylon 66 (for example, a uniaxial or biaxially stretched film).

上記ポリアミド層の厚さに特に限定はないが、機械的強靱性、耐衝撃性、耐突き刺し性等の観点から、5μm〜200μmの範囲にあることが好ましく、5μm〜100μmの範囲にあることがより好ましい。   The thickness of the polyamide layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 μm to 200 μm from the viewpoint of mechanical toughness, impact resistance, puncture resistance, and the like, and may be in the range of 5 μm to 100 μm. More preferred.

上記ポリエステル層としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、およびポリブチレンナフタレートから選ばれる少なくとも1種の樹脂を押し出して得られるフィルムを用いることができる。これらのポリエステル層は、延伸または無延伸のいずれでもよい。好ましいポリエステル層は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートをフィルム化、または延伸して得られるシートである。ポリエステル層の片面または両面には、金属(たとえばアルミニウム)や金属酸化物(たとえば酸化アルミニウムや酸化ケイ素)からなる蒸着層が設けられていてもよい。金属や金属酸化物の蒸着方法としては、後述する方法と同様の方法を用いることができる。   As the polyester layer, a film obtained by extruding at least one resin selected from polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polybutylene naphthalate can be used. These polyester layers may be stretched or unstretched. A preferred polyester layer is a sheet obtained by forming or stretching polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. A vapor deposition layer made of a metal (for example, aluminum) or a metal oxide (for example, aluminum oxide or silicon oxide) may be provided on one side or both sides of the polyester layer. As a method for vapor deposition of metal or metal oxide, the same method as described later can be used.

上記ポリエステル層の厚さに特に限定はないが、機械的強靱性、耐衝撃性、耐突き刺し性等の観点から、5μm〜200μmの範囲にあることが好ましく、5μm〜100μmの範囲にあることがより好ましい。   The thickness of the polyester layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 μm to 200 μm from the viewpoint of mechanical toughness, impact resistance, puncture resistance, and the like, and may be in the range of 5 μm to 100 μm. More preferred.

上記ガスバリア性樹脂層としては、エチレン−ビニルアルコール共重合体またはポリ塩化ビニリデンといった樹脂からなる層、またはそれらの樹脂をフィルム化したシートを使用できる。ガスバリア性樹脂層は、延伸されたエチレン−ビニルアルコール共重合体からなることが好ましい。ガスバリア性樹脂層の片面または両面には、金属(たとえばアルミニウム)や金属酸化物(たとえば酸化アルミニウムや酸化ケイ素)からなる蒸着層が設けられていてもよい。金属や金属酸化物の蒸着方法としては、後述する方法と同様の方法を用いることができる。   As the gas barrier resin layer, a layer made of a resin such as ethylene-vinyl alcohol copolymer or polyvinylidene chloride, or a sheet obtained by forming a film of these resins can be used. The gas barrier resin layer is preferably made of a stretched ethylene-vinyl alcohol copolymer. A vapor deposition layer made of a metal (for example, aluminum) or a metal oxide (for example, aluminum oxide or silicon oxide) may be provided on one surface or both surfaces of the gas barrier resin layer. As a method for vapor deposition of metal or metal oxide, the same method as described later can be used.

ガスバリア性多層膜、ポリオレフィン層、ポリアミド層、ポリエステル層、およびガスバリア性樹脂層は、ドライラミネーション法、ウエットラミネーション法、ホットメルトラミネーション法等の周知の方法によって他の層と貼り合わせてもよい。たとえば、無延伸ポリオレフィンフィルム、延伸ポリオレフィンフィルム、無延伸ポリアミドフィルム、延伸ポリアミドフィルムと他の層(フィルム)とを貼り合わせてもよい。また、周知のTダイ押出し法等によって、他の層(フィルム)上に、ポリオレフィン層やポリアミド層を形成してもよい。また、必要に応じて各層の間に、接着層を配置してもよい。接着層は、アンカーコート剤、接着剤、接着性樹脂などを用いて形成される。   The gas barrier multilayer film, the polyolefin layer, the polyamide layer, the polyester layer, and the gas barrier resin layer may be bonded to other layers by a known method such as a dry lamination method, a wet lamination method, or a hot melt lamination method. For example, an unstretched polyolefin film, a stretched polyolefin film, an unstretched polyamide film, a stretched polyamide film, and another layer (film) may be bonded together. Further, a polyolefin layer or a polyamide layer may be formed on another layer (film) by a known T-die extrusion method or the like. Moreover, you may arrange | position an adhesive layer between each layer as needed. The adhesive layer is formed using an anchor coat agent, an adhesive, an adhesive resin, or the like.

また、必要に応じて、不飽和脂肪酸などの酸素吸収剤や、合成ゼオライト、シリカ粉末、アルミナ粉末、水酸化リチウム粉末、水酸化バリウム粉末などの水分吸着剤を使用してもよい。酸素吸収剤および水分吸収剤は、ガスバリア性積層体の各層に含ませてもよいし、芯材と併用して使用してもよい。また、これらは、芯材として使用することもできる。   Moreover, you may use oxygen absorbents, such as an unsaturated fatty acid, and moisture adsorption agents, such as a synthetic zeolite, a silica powder, an alumina powder, a lithium hydroxide powder, a barium hydroxide powder, as needed. The oxygen absorbent and the moisture absorbent may be included in each layer of the gas barrier laminate, or may be used in combination with the core material. Moreover, these can also be used as a core material.

本発明の真空断熱体に使用される芯材は、断熱性を有するものである限り特に制限はない。たとえば、芯材として、パーライト粉末、シリカ粉末、沈降シリカ粉末、ケイソウ土、ケイ酸カルシウム、ガラスウール、ロックウール、および樹脂の発泡体(たとえばスチレンフォームやウレタンフォーム)などが例示できる。また、芯材として、樹脂や無機材料製の中空容器や、ハニカム状構造体などを使用してもよい。   The core material used for the vacuum heat insulating body of the present invention is not particularly limited as long as it has heat insulating properties. Examples of the core material include pearlite powder, silica powder, precipitated silica powder, diatomaceous earth, calcium silicate, glass wool, rock wool, and resin foam (for example, styrene foam and urethane foam). Further, a hollow container made of resin or inorganic material, a honeycomb structure, or the like may be used as the core material.

粉体を芯材として用いた場合の真空断熱体の一例を図1に示す。図1の真空断熱体は、包装材11と、包装材11に包装された粉体12とを含む。また、板状の発泡体を芯材として用いた場合の真空断熱体の一例を図2に示す。図2の真空断熱体20は、包装材11と、包装材11に包装された発泡体22とを含む。   An example of a vacuum heat insulator when powder is used as a core is shown in FIG. 1 includes a packaging material 11 and a powder 12 packaged in the packaging material 11. Moreover, an example of the vacuum heat insulating body at the time of using a plate-shaped foam as a core material is shown in FIG. The vacuum heat insulating body 20 in FIG. 2 includes a packaging material 11 and a foam 22 packaged in the packaging material 11.

本発明の真空断熱体においては、包装材内の空間部は真空状態にある。ここでいう真空状態とは必ずしも絶対的な真空状態を意味せず、包装材内の空間部の圧力が大気圧より充分に低いことを示す。内部圧力は、必要な性能と製造の容易さなどから決定されるが、通常、断熱性能を発揮させるためには2kPa(約15Torr)以下である。本発明の真空断熱体の断熱効果を充分に発現させるためには、包装材内部圧力は200Pa(約1.5Torr)以下であることが好ましく、20Pa以下であることがより好ましく、2Pa以下であることがさらに好ましい。包装材内の空間部の圧力の下限に限定はないが、圧力は0.001Pa〜2KPaの範囲にあってもよい。   In the vacuum heat insulating body of the present invention, the space in the packaging material is in a vacuum state. A vacuum state here does not necessarily mean an absolute vacuum state, but shows that the pressure of the space part in a packaging material is fully lower than atmospheric pressure. The internal pressure is determined based on required performance, ease of manufacture, and the like, but is usually 2 kPa (about 15 Torr) or less in order to exhibit heat insulation performance. In order to sufficiently exhibit the heat insulating effect of the vacuum heat insulating body of the present invention, the internal pressure of the packaging material is preferably 200 Pa (about 1.5 Torr) or less, more preferably 20 Pa or less, and 2 Pa or less. More preferably. Although there is no limitation in the minimum of the pressure of the space part in a packaging material, a pressure may exist in the range of 0.001 Pa-2 KPa.

本発明の真空断熱体は、通常行なわれている方法によって製造できる。使用目的等に応じ、任意の形状および大きさの真空断熱体を形成できる。例えば、以下の第1〜第3の方法によって本発明の真空断熱体を製造できる。第1の方法では、まず、少なくとも一方の表面にシール層が配置された2枚のガスバリア性積層体を用意する。その2枚のガスバリア性積層体を、各々のヒートシール層が包装材の内側となるように重ね合わせ、任意の3辺をヒートシールする。次に、包装材の内部に芯材を充填する。次に、包装材の内部の空間を真空状態にし、そのままの状態で最後の辺をヒートシールする。このようにして真空断熱体が得られる。第2の方法では、まず、1枚のガスバリア性積層体をヒートシ−ル層が包装材の内側となるように折り曲げ、任意の2辺をヒートシールする。次に、包装材の内部に芯材を充填する。次に、包装材の内部の空間を真空状態にし、そのままの状態で最後の辺をヒートシールする。このようにして真空断熱体が得られる。第3の方法では、まず、2枚のガスバリア性積層体で芯材を挟むか、または1枚のガスバリア性積層体を折り曲げるようにして芯材を挟む。次に、ガスバリア性積層体が重なっている周縁部を、真空排気口を残してヒートシールする。次に、包装材の内部の空間を真空状態にし、そのままの状態で真空排気口をヒートシールする。このようにして真空断熱体が得られる。   The vacuum heat insulating body of the present invention can be manufactured by a usual method. A vacuum heat insulator having an arbitrary shape and size can be formed according to the purpose of use. For example, the vacuum heat insulating body of the present invention can be manufactured by the following first to third methods. In the first method, first, two gas barrier laminates having a seal layer disposed on at least one surface are prepared. The two gas barrier laminates are superposed so that each heat seal layer is inside the packaging material, and any three sides are heat sealed. Next, the core material is filled into the packaging material. Next, the space inside the packaging material is evacuated, and the last side is heat-sealed as it is. In this way, a vacuum insulator is obtained. In the second method, first, one gas barrier laminate is folded so that the heat seal layer is inside the packaging material, and any two sides are heat sealed. Next, the core material is filled into the packaging material. Next, the space inside the packaging material is evacuated, and the last side is heat-sealed as it is. In this way, a vacuum insulator is obtained. In the third method, first, the core material is sandwiched between two gas barrier laminates, or the core material is sandwiched by bending one gas barrier laminate. Next, the peripheral edge where the gas barrier laminate is overlapped is heat-sealed leaving a vacuum exhaust port. Next, the space inside the packaging material is evacuated, and the vacuum exhaust port is heat-sealed as it is. In this way, a vacuum insulator is obtained.

ガスバリア層の微細構造は特に限定されるものではないが、ガスバリア層が以下に記載する微細構造を有する場合には、ガスバリア性積層体を伸長した際におけるガスバリア性の低下などが抑えられるため好ましい。好ましい微細構造としては、海相(α)および島相(β)からなる海島構造である。島相(β)は、海相(α)に比べて、化合物(L)の加水分解縮合物の割合が高い領域である。   The fine structure of the gas barrier layer is not particularly limited. However, when the gas barrier layer has the fine structure described below, it is preferable because a decrease in gas barrier properties when the gas barrier laminate is stretched can be suppressed. A preferable fine structure is a sea-island structure composed of a sea phase (α) and an island phase (β). The island phase (β) is a region where the ratio of the hydrolysis condensate of the compound (L) is higher than that of the sea phase (α).

海相(α)と島相(β)とは、それぞれ、さらに微細構造を有することが好ましい。たとえば、海相(α)は、主にカルボン酸含有重合体の中和物からなる海相(α1)と、主に化合物(L)の加水分解縮合物からなる島相(α2)とによって構成される海島構造をさらに形成していてもよい。また、島相(β)は、主にカルボン酸含有重合体の中和物からなる海相(β1)と、主に化合物(L)の加水分解縮合物からなる島相(β2)とによって構成される海島構造をさらに形成していてもよい。島相(β)中における[島相(β2)/海相(β1)]の比率(体積比)は、海相(α)中における[島相(α2)/海相(α1)]の比率よりも大きいことが好ましい。島相(β)の径は、好ましくは30nm〜1200nmの範囲であり、より好ましくは50〜500nmの範囲であり、さらに好ましくは50nm〜400nmの範囲である。島相(α2)および島相(β2)の径は、好ましくは50nm以下であり、より好ましくは30nm以下であり、さらに好ましくは20nm以下である。   Each of the sea phase (α) and the island phase (β) preferably further has a fine structure. For example, the sea phase (α) is composed of a sea phase (α1) mainly composed of a neutralized product of a carboxylic acid-containing polymer and an island phase (α2) mainly composed of a hydrolysis condensate of the compound (L). The sea island structure to be formed may be further formed. The island phase (β) is composed of a sea phase (β1) mainly composed of a neutralized product of a carboxylic acid-containing polymer and an island phase (β2) mainly composed of a hydrolysis condensate of the compound (L). The sea island structure to be formed may be further formed. The ratio (volume ratio) of [island phase (β2) / sea phase (β1)] in the island phase (β) is the ratio of [island phase (α2) / sea phase (α1)] in the sea phase (α). Is preferably larger. The diameter of the island phase (β) is preferably in the range of 30 nm to 1200 nm, more preferably in the range of 50 to 500 nm, and still more preferably in the range of 50 nm to 400 nm. The diameter of the island phase (α2) and the island phase (β2) is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and even more preferably 20 nm or less.

上記のような構造を得るためには、化合物(L)とカルボン酸含有重合体との架橋反応に優先して、化合物(L)の適切な加水分解縮合が起こる必要がある。そのために、特定の化合物(L)をカルボン酸含有重合体と適切な比率で使用する、化合物(L)をカルボン酸含有重合体と混合する前に予め加水分解縮合させておく、適切な加水分解縮合触媒を使用する、などの方法を取るなどの方法が採用できる。   In order to obtain the structure as described above, it is necessary that the appropriate hydrolysis condensation of the compound (L) occurs in preference to the crosslinking reaction between the compound (L) and the carboxylic acid-containing polymer. For this purpose, the specific compound (L) is used in an appropriate ratio with the carboxylic acid-containing polymer, and the compound (L) is preliminarily hydrolyzed and condensed before mixing with the carboxylic acid-containing polymer. A method such as using a condensation catalyst can be employed.

また、特定の製造条件を選択すると、化合物(L)の加水分解縮合物の割合が高い領域がガスバリア層の表面に層状に形成されることが見出された。以下、ガスバリア層表面に形成された化合物(L)の加水分解縮合物の層を「スキン層」ということがある。スキン層が形成されることによって、ガスバリア層表面の耐水性、耐湿性が向上する。化合物(L)の加水分解縮合物からなるスキン層は、疎水的な特性をガスバリア層表面に付与し、水に濡れた状態のガスバリア層同士を重ねてもそれらが膠着しない特性をガスバリア性積層体に付与する。製造条件によって、ガスバリア層のスキン層の有無、あるいは形成されるスキン層の状態が異なる。鋭意検討した結果、本発明者らは、ガスバリア層と水との接触角と、好ましいスキン層との間に相関があり、その接触角が以下の条件を満たすときに、好ましいスキン層が形成されることを見出した。ガスバリア層と水との接触角が20°未満のときはスキン層の形成が不十分なことがある。この場合、ガスバリア層の表面が水分によって膨潤しやすくなり、水に濡れた状態で積層体同士を重ねておくと、まれにそれらが膠着する場合がある。また、接触角が20°以上のときはスキン層形成が十分であり、ガスバリア層の表面は水分によって膨潤しないため、膠着は起きない。ガスバリア層と水との接触角は好ましくは、24°以上であり、さらに好ましくは26°以上である。また、接触角が65゜より大きいとスキン層が厚くなりすぎ、ガスバリア性積層体の透明性が低下する。したがって、接触角は65゜以下であることが好ましく、60゜以下であることがより好ましく、58゜以下であることがさらに好ましい。   Moreover, when specific manufacturing conditions were selected, it was found that a region where the ratio of the hydrolysis condensate of compound (L) is high is formed in a layered manner on the surface of the gas barrier layer. Hereinafter, the layer of the hydrolytic condensate of compound (L) formed on the surface of the gas barrier layer may be referred to as “skin layer”. By forming the skin layer, the water resistance and moisture resistance of the gas barrier layer surface are improved. The skin layer made of the hydrolyzed condensate of compound (L) has a characteristic that the hydrophobic property is imparted to the surface of the gas barrier layer, and the gas barrier layer does not stick even when the gas barrier layers wet with water are stacked. To grant. The presence or absence of the skin layer of the gas barrier layer or the state of the formed skin layer varies depending on the production conditions. As a result of intensive studies, the present inventors have found that there is a correlation between the contact angle between the gas barrier layer and water and the preferred skin layer, and the preferred skin layer is formed when the contact angle satisfies the following conditions. I found out. When the contact angle between the gas barrier layer and water is less than 20 °, the formation of the skin layer may be insufficient. In this case, the surface of the gas barrier layer is likely to swell with moisture, and if the laminates are stacked in a wet state, they may rarely stick together. Further, when the contact angle is 20 ° or more, the skin layer is sufficiently formed, and the surface of the gas barrier layer does not swell with moisture, so that no sticking occurs. The contact angle between the gas barrier layer and water is preferably 24 ° or more, and more preferably 26 ° or more. On the other hand, when the contact angle is larger than 65 °, the skin layer becomes too thick and the transparency of the gas barrier laminate is lowered. Therefore, the contact angle is preferably 65 ° or less, more preferably 60 ° or less, and still more preferably 58 ° or less.

[ガスバリア性積層体の製造方法]
以下、本発明で用いられるガスバリア性積層体を製造するための方法について説明する。この方法によれば、ガスバリア性積層体を容易に製造できる。この製造方法に用いられる材料、および積層体の構成は、上述したものと同様であるので、重複する部分については説明を省略する場合がある。
[Method for producing gas barrier laminate]
Hereinafter, a method for producing the gas barrier laminate used in the present invention will be described. According to this method, a gas barrier laminate can be easily produced. Since the materials used in this manufacturing method and the configuration of the laminate are the same as those described above, description of overlapping portions may be omitted.

本発明の製造方法は、工程(i)および(ii)を含む。   The production method of the present invention includes steps (i) and (ii).

工程(i)は、加水分解性を有する特性基を含有する化合物(L)の加水分解縮合物と、重合体(X)とを含む組成物からなる層を基材上に形成する工程である。その層は、基材上に直接形成されるか、または他の層を介して基材上に形成される。化合物(L)は、化合物(A)と化合物(B)とを含む。なお、化合物(L)に、カルボキシル基を含有する分子量が100以下の化合物(D)を添加することによって、化合物(L)の加水分解、縮合の反応性を制御でき、これから得られるガスバリア性積層体のガスバリア性が良好となる。化合物(D)の詳細は後述する。   Step (i) is a step of forming, on a substrate, a layer made of a composition containing a hydrolysis condensate of compound (L) containing a hydrolyzable characteristic group and polymer (X). . The layer is formed directly on the substrate or is formed on the substrate via another layer. Compound (L) includes compound (A) and compound (B). It should be noted that the reactivity of hydrolysis and condensation of the compound (L) can be controlled by adding the compound (D) having a carboxyl group-containing molecular weight of 100 or less to the compound (L). The gas barrier property of the body is improved. Details of the compound (D) will be described later.

化合物(A)および化合物(B)、およびそれらの化合物の割合については、ガスバリア層を構成する組成物について説明したものと同様である。   About a compound (A) and a compound (B), and the ratio of those compounds, it is the same as that of what was demonstrated about the composition which comprises a gas barrier layer.

次の工程(ii)は、2価以上の金属イオンを含む溶液に、工程(i)で形成された層を接触させる工程である(以下、この工程をイオン化工程という場合がある)。たとえば、形成した層に2価以上の金属イオンを含む溶液を吹きつけたり、基材と基材上の層とをともに2価以上の金属イオンを含む溶液に浸漬したりすることによって行うことができる。工程(ii)によって、重合体(X)の官能基(F)に含まれる−COO−基の少なくとも一部が中和される。   The next step (ii) is a step of bringing the layer formed in step (i) into contact with a solution containing divalent or higher-valent metal ions (hereinafter, this step may be referred to as an ionization step). For example, it can be performed by spraying a solution containing divalent or higher metal ions on the formed layer, or immersing both the base material and the layer on the base material in a solution containing divalent or higher metal ions. . By step (ii), at least a part of the —COO— group contained in the functional group (F) of the polymer (X) is neutralized.

以下、工程(i)について詳細に説明する。なお、加水分解縮合していない化合物(L)とカルボン酸含有重合体とを混合すると、両者が反応してしまって溶液(U)の塗布が困難になることがある。そのため、工程(i)は、
(i−a)化合物(A)および化合物(A)の部分加水分解縮合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、カルボキシル基を含有し分子量が100以下である化合物(D)と、を含む溶液(S)を調製する工程と、
(i−b)化合物(B)および化合物(B)の部分加水分解縮合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と溶液(S)とを混合することによって溶液(T)を調製する工程と、
(i−c)溶液(T)中において、化合物(A)と化合物(B)とを含む複数の化合物(L)の加水分解縮合物(オリゴマー(V))を形成する工程と、
(i−d)上記(i−c)の工程を経た溶液(T)と重合体(X)とを混合することによって溶液(U)を調製する工程と、
(i−e)溶液(U)を基材に塗工して乾燥させることによって層を形成する工程と、を含むことが極めて好ましい。
Hereinafter, step (i) will be described in detail. In addition, when the compound (L) which is not hydrolytically condensed and a carboxylic acid containing polymer are mixed, both may react and it may become difficult to apply | coat a solution (U). Therefore, step (i)
(Ia) a solution comprising at least one compound selected from the compound (A) and a partial hydrolysis condensate of the compound (A), and a compound (D) containing a carboxyl group and having a molecular weight of 100 or less Preparing (S);
(Ib) preparing a solution (T) by mixing the solution (S) with at least one compound selected from the compound (B) and a partially hydrolyzed condensate of the compound (B);
(Ic) forming a hydrolysis condensate (oligomer (V)) of a plurality of compounds (L) containing the compound (A) and the compound (B) in the solution (T);
(Id) a step of preparing a solution (U) by mixing the solution (T) having undergone the step (ic) and the polymer (X);
(Ie) including a step of forming a layer by applying the solution (U) to a substrate and drying it.

化合物(L)を加水分解縮合させたオリゴマー(V)は、より具体的には、化合物(L)が部分的に加水分解したもの、化合物(L)が完全に加水分解したもの、化合物(L)が部分的に加水分解縮合したもの、および化合物(L)が完全に加水分解しその一部が縮合したものから選ばれる少なくとも1つの金属元素含有化合物である。以下、そのような金属元素含有化合物を、「化合物(L)系成分」という場合がある。以下、工程(i−a)、工程(i−b)、工程(i−c)、工程(i−d)および工程(i−e)について、より具体的に説明する。   More specifically, the oligomer (V) obtained by hydrolyzing and condensing the compound (L) includes a compound (L) partially hydrolyzed, a compound (L) completely hydrolyzed, a compound (L ) Is partially hydrolyzed and condensed, and compound (L) is at least one metal element-containing compound selected from completely hydrolyzed and partially condensed. Hereinafter, such a metal element-containing compound may be referred to as “compound (L) -based component”. Hereinafter, the step (ia), the step (ib), the step (ic), the step (id), and the step (ie) will be described more specifically.

工程(i−a)は、化合物(L)を構成する化合物(A)を特定の条件下で加水分解、縮合させる工程である。化合物(A)、酸触媒、水および必要に応じて有機溶媒を含む反応系中において、化合物(A)を加水分解、縮合させることが好ましい。具体的には、公知のゾルゲル法で用いられている手法を適用できる。加水分解、縮合をさせる際には反応を制御するためにカルボキシル基を含有し分子量が100以下である化合物(D)(以下、単に化合物(D)と称する場合がある)を添加することが極めて好ましく、かかる化合物(D)を添加することによって、化合物(A)を加水分解、縮合させる工程でゲル化を抑制することができる。   Step (ia) is a step of hydrolyzing and condensing the compound (A) constituting the compound (L) under specific conditions. It is preferable to hydrolyze and condense the compound (A) in a reaction system containing the compound (A), an acid catalyst, water and, if necessary, an organic solvent. Specifically, a technique used in a known sol-gel method can be applied. When hydrolyzing and condensing, it is extremely important to add a compound (D) containing a carboxyl group and having a molecular weight of 100 or less (hereinafter sometimes simply referred to as compound (D)) in order to control the reaction. Preferably, by adding the compound (D), gelation can be suppressed in the step of hydrolyzing and condensing the compound (A).

化合物(D)は、化合物(A)、化合物(A)が部分的に加水分解したもの、化合物(A)が完全に加水分解したもの、化合物(A)が部分的に加水分解縮合したもの、および化合物(A)が完全に加水分解しその一部が縮合したものから選ばれる少なくとも1つが含まれる金属元素含有化合物(以下、この金属元素含有化合物を、「化合物(A)系成分」という場合がある。)に添加し、化合物(D)が化合物(A)系成分に作用することで、前記効果が発現する。化合物(D)の添加方法としては、化合物(A)系成分が加水分解縮合反応によってゲル化する前に添加する方法であれば特に制限されるものではないが、好ましい方法として以下の方法を挙げることができる。まず、化合物(D)と水、必要に応じて有機溶媒を混合し化合物(D)の水溶液を調製し、続いて前記化合物(D)の水溶液を化合物(A)系成分に添加することによって、化合物(A)系成分に化合物(D)が作用した溶液(S)を得ることができる。化合物(D)と混合する水の使用量には制限はないが、高濃度で均一な溶液(S)を得る観点から、[水のモル数]/[化合物(D)のモル数]の比は、25/1〜300/1の範囲にあることが好ましく、50/1〜200/1の範囲にあることがより好ましく、75/1〜150/1の範囲にあることがさらに好ましい。   Compound (D) is compound (A), compound (A) partially hydrolyzed, compound (A) completely hydrolyzed, compound (A) partially hydrolyzed and condensed, And a metal element-containing compound containing at least one compound selected from those in which the compound (A) is completely hydrolyzed and partially condensed (hereinafter, this metal element-containing compound is referred to as “compound (A) component”). And the compound (D) acts on the compound (A) system component, the above-mentioned effect is exhibited. The method for adding the compound (D) is not particularly limited as long as the compound (A) is added before the component of the compound (A) is gelled by the hydrolysis condensation reaction. be able to. First, compound (D), water, and an organic solvent as necessary are mixed to prepare an aqueous solution of compound (D). Subsequently, an aqueous solution of compound (D) is added to the compound (A) system component, A solution (S) in which the compound (D) acts on the compound (A) component can be obtained. Although there is no restriction | limiting in the usage-amount of the water mixed with a compound (D), From the viewpoint of obtaining a uniform solution (S) with a high concentration, ratio of [number of moles of water] / [number of moles of compound (D)] Is preferably in the range of 25/1 to 300/1, more preferably in the range of 50/1 to 200/1, and even more preferably in the range of 75/1 to 150/1.

化合物(D)の使用量に関して、化合物(A)の反応制御およびガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好となる観点から、[化合物(D)のモル数]/[化合物(A)のモル数]の比は、0.25/1〜30/1の範囲にあることが好ましく、0.5/1〜20/1の範囲にあることがより好ましく、0.75/1〜10/1の範囲にあることがさらに好ましい。   From the viewpoint of improving the reaction control of the compound (A) and the gas barrier property of the gas barrier laminate with respect to the amount of the compound (D) used, [number of moles of the compound (D)] / [number of moles of the compound (A)] ] Is preferably in the range of 0.25 / 1 to 30/1, more preferably in the range of 0.5 / 1 to 20/1, and 0.75 / 1 to 10/1. More preferably, it is in the range.

化合物(D)は、カルボキシル基を含有し分子量が100以下である化合物であれば特に制限されない。化合物(A)と重合体(X)の官能基(F)との反応率が高まり、ガスバリア性積層体の耐熱水性およびガスバリア性が良好となる観点から、化合物(D)として、酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸などを挙げることができ、酢酸が最も好ましい。   The compound (D) is not particularly limited as long as it is a compound containing a carboxyl group and having a molecular weight of 100 or less. From the viewpoint of increasing the reaction rate between the compound (A) and the functional group (F) of the polymer (X) and improving the hot water resistance and gas barrier properties of the gas barrier laminate, acetic acid and propionic acid are used as the compound (D). And hexanoic acid, and acetic acid is most preferred.

工程(i−b)では、溶液(T)を調製する。具体的には、例えば、化合物(L)の構成成分である化合物(B)に、溶液(S)および必要に応じて有機溶媒を加え、その後、酸触媒、水および必要に応じて有機溶媒を添加する方法により溶液(T)を調製することができる。   In step (ib), a solution (T) is prepared. Specifically, for example, a solution (S) and an organic solvent as necessary are added to the compound (B) which is a constituent component of the compound (L), and then an acid catalyst, water and an organic solvent as needed are added. The solution (T) can be prepared by the method of adding.

工程(i−c)では、たとえば、化合物(A)系成分、化合物(B)、酸触媒、水、および必要に応じて有機溶媒を含む反応系中において、加水分解、縮合反応を行わせる。この手法には、公知のゾルゲル法で用いられている手法を適用できる。これにより、化合物(A)系成分、化合物(B)、化合物(B)が部分的に加水分解したもの、化合物(B)が完全に加水分解したもの、化合物(B)が部分的に加水分解縮合したもの、および化合物(B)が完全に加水分解しその一部が縮合したものから選ばれる少なくとも1つが含まれる金属元素含有化合物の溶液を得ることができる。   In the step (ic), hydrolysis and condensation are performed in a reaction system containing, for example, the compound (A) -based component, the compound (B), the acid catalyst, water, and, if necessary, an organic solvent. A technique used in a known sol-gel method can be applied to this technique. Thereby, compound (A) system component, compound (B), compound (B) partially hydrolyzed, compound (B) completely hydrolyzed, compound (B) partially hydrolyzed A solution of the metal element-containing compound containing at least one selected from the condensed product and the compound (B) which is completely hydrolyzed and partially condensed can be obtained.

このような工程で反応を行うことによって、オリゴマー(V)調製時のゲルの発生を防止でき、更に、オリゴマー(V)の反応性を制御できる。そのため、オリゴマー(V)と重合体(X)とを混合した際のゲル化を防ぐことができる。   By carrying out the reaction in such a step, the generation of gel during the preparation of the oligomer (V) can be prevented, and further the reactivity of the oligomer (V) can be controlled. Therefore, gelatinization at the time of mixing oligomer (V) and polymer (X) can be prevented.

工程(i−a)および工程(i−b)で用いる酸触媒としては、公知の酸を用いることができ、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、p−トルエンスルホン酸、安息香酸、酢酸、乳酸、酪酸、炭酸、シュウ酸、マレイン酸等を用いることができる。その中でも塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、乳酸、酪酸が特に好ましい。酸触媒の好ましい使用量は、使用する酸の種類によって異なるが、化合物(L)の金属原子1モルに対して、1×10-5〜10モルの範囲にあることが好ましく、1×10-4〜5モルの範囲にあることがより好ましく、5×10-4〜1モルの範囲にあることがさらに好ましい。酸触媒の使用量がこの範囲にある場合、ガスバリア性が高いガスバリア性積層体が得られる。 As the acid catalyst used in step (ia) and step (ib), a known acid can be used. For example, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, p-toluenesulfonic acid, benzoic acid, acetic acid, lactic acid, Butyric acid, carbonic acid, oxalic acid, maleic acid and the like can be used. Of these, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, lactic acid and butyric acid are particularly preferred. Preferred amount of acid catalyst may vary depending on the type of acid used, the metal atom to 1 mol of the compound (L), is preferably in the range of 1 × 10 -5 to 10 mol, 1 × 10 - It is more preferably in the range of 4 to 5 mol, and further preferably in the range of 5 × 10 −4 to 1 mol. When the amount of the acid catalyst used is within this range, a gas barrier laminate having a high gas barrier property can be obtained.

また、工程(i−a)および工程(i−b)で用いる水の使用量は、化合物(L)の種類によって異なるが、化合物(L)の加水分解性を有する特性基1当量に対して、0.05〜10当量の範囲であることが好ましく、0.1〜5当量の範囲であることがより好ましく、0.2〜3当量の範囲であることがさらに好ましい。水の使用量がこの範囲にある場合、得られるガスバリア性積層体のガスバリア性が特に優れる。なお、工程(i−a)および工程(i−b)において、塩酸のように水を含有する成分を使用する場合には、その成分によって導入される水の量も考慮して水の使用量を決定することが好ましい。   Moreover, although the usage-amount of the water used by process (ia) and process (ib) changes with kinds of compound (L), with respect to 1 equivalent of characteristic groups which have the hydrolyzability of compound (L). The range is preferably 0.05 to 10 equivalents, more preferably 0.1 to 5 equivalents, and still more preferably 0.2 to 3 equivalents. When the amount of water used is in this range, the gas barrier property of the resulting gas barrier laminate is particularly excellent. In addition, in the step (ia) and the step (ib), when a component containing water such as hydrochloric acid is used, the amount of water used is also taken into account the amount of water introduced by the component. Is preferably determined.

さらに、工程(i−a)および工程(i−b)においては、必要に応じて有機溶媒を使用してもよい。使用される有機溶媒は化合物(L)が溶解する溶媒であれば特に限定されない。たとえば、有機溶媒として、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ノルマルプロパノール等のアルコール類が好適に用いられ、化合物(L)が含有するアルコキシ基と同種の分子構造(アルコキシ成分)を有するアルコールがより好適に用いられる。具体的には、テトラメトキシシランに対してはメタノールが好ましく、テトラエトキシシランに対してはエタノールが好ましい。有機溶媒の使用量は、特に限定されないが、化合物(L)の濃度が1〜90重量%、より好ましくは10〜80重量%、さらに好ましくは10〜60重量%となる量であることが好ましい。   Furthermore, in the step (ia) and the step (ib), an organic solvent may be used as necessary. The organic solvent used will not be specifically limited if it is a solvent in which compound (L) dissolves. For example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, and normal propanol are preferably used as the organic solvent, and alcohols having the same molecular structure (alkoxy component) as the alkoxy group contained in the compound (L) are more preferably used. It is done. Specifically, methanol is preferred for tetramethoxysilane and ethanol is preferred for tetraethoxysilane. The amount of the organic solvent to be used is not particularly limited, but it is preferable that the concentration of the compound (L) is 1 to 90% by weight, more preferably 10 to 80% by weight, and still more preferably 10 to 60% by weight. .

工程(i−a)、工程(i−b)および工程(i−c)において、反応系中において化合物(L)の加水分解、縮合を行う際に、反応系の温度は必ずしも限定されるものではないが、通常2〜100℃の範囲であり、好ましくは4〜60℃の範囲であり、さらに好ましくは6〜50℃の範囲である。反応時間は酸触媒の量、種類等の反応条件に応じて相違するが、通常0.01〜60時間の範囲であり、好ましくは0.1〜12時間の範囲であり、より好ましくは0.1〜6時間の範囲である。また、反応は、空気、二酸化炭素、窒素、アルゴンなどの各種気体の雰囲気下で行なうことができる。   In step (ia), step (ib), and step (ic), the temperature of the reaction system is necessarily limited when the compound (L) is hydrolyzed or condensed in the reaction system. However, it is usually in the range of 2 to 100 ° C, preferably in the range of 4 to 60 ° C, and more preferably in the range of 6 to 50 ° C. The reaction time varies depending on the reaction conditions such as the amount and type of the acid catalyst, but is usually in the range of 0.01 to 60 hours, preferably in the range of 0.1 to 12 hours, more preferably 0.8. The range is 1 to 6 hours. The reaction can be performed in an atmosphere of various gases such as air, carbon dioxide, nitrogen, and argon.

工程(i−d)は、工程(i−c)で得られたオリゴマー(V)を含む溶液(T)と、カルボン酸含有重合体(=重合体(X))と混合して溶液(U)を調製する工程である。溶液(U)は、溶液(T)、カルボン酸含有重合体、ならびに必要に応じて水および有機溶剤を用いて調製することができる。たとえば、カルボン酸含有重合体を溶解させた溶液に、溶液(T)を添加して混合する方法を採用できる。また、溶液(T)に、カルボン酸含有重合体を水または有機溶媒に溶解させた溶液を添加して混合する方法も採用できる。いずれの方法においても、添加する溶液(T)またはカルボン酸含有重合体を溶解させた溶液は、一度に添加しても良いし、分割して添加しても良い。   In the step (id), the solution (T) containing the oligomer (V) obtained in the step (ic) and the carboxylic acid-containing polymer (= polymer (X)) are mixed to form a solution (U ). The solution (U) can be prepared using the solution (T), the carboxylic acid-containing polymer, and, if necessary, water and an organic solvent. For example, a method of adding and mixing the solution (T) to a solution in which the carboxylic acid-containing polymer is dissolved can be employed. Moreover, the method of adding and mixing the solution which dissolved the carboxylic acid containing polymer in water or the organic solvent to the solution (T) is also employable. In any method, the solution (T) to be added or the solution in which the carboxylic acid-containing polymer is dissolved may be added at once, or may be added in divided portions.

工程(i−d)におけるカルボン酸含有重合体を溶解させた溶液は以下の方法により調整できる。使用する溶媒は、カルボン酸含有重合体の種類に応じて選択すればよい。たとえば、ポリアクリル酸やポリメタクリル酸などの水溶性重合体の場合には、水が好適である。イソブチレン−無水マレイン酸共重合体やスチレン−無水マレイン酸共重合体などの重合体の場合には、アンモニア、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ性物質を含有する水が好適である。また、カルボン酸含有重合体の溶解の妨げにならない限り、メタノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、n−ブチルセロソルブ等のグリコール誘導体;グリセリン;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンなどを併用することも可能である。   The solution in which the carboxylic acid-containing polymer in step (id) is dissolved can be prepared by the following method. What is necessary is just to select the solvent to be used according to the kind of carboxylic acid containing polymer. For example, in the case of a water-soluble polymer such as polyacrylic acid or polymethacrylic acid, water is suitable. In the case of a polymer such as an isobutylene-maleic anhydride copolymer or a styrene-maleic anhydride copolymer, water containing an alkaline substance such as ammonia, sodium hydroxide, or potassium hydroxide is preferred. In addition, alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and trioxane; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, as long as the dissolution of the carboxylic acid-containing polymer is not hindered Glycol derivatives such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, n-butyl cellosolve; glycerin; acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, dimethoxyethane and the like can be used in combination.

溶液(U)に含まれるカルボン酸含有重合体においては、官能基(F)に含まれる−COO−基の一部(たとえば0.1〜10モル%)が1価のイオンによって中和されていてもよい。1価イオンによる官能基(F)の中和度は、得られるガスバリア性積層体の透明性が良好となる観点から、0.5〜5モル%の範囲にあることがより好ましく、0.7〜3モル%の範囲にあることがさらに好ましい。1価のイオンとしては、たとえば、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオンなどが挙げられ、アンモニウムイオンが好ましい。   In the carboxylic acid-containing polymer contained in the solution (U), a part of the —COO— group (eg, 0.1 to 10 mol%) contained in the functional group (F) is neutralized by monovalent ions. May be. The degree of neutralization of the functional group (F) by monovalent ions is more preferably in the range of 0.5 to 5 mol% from the viewpoint of improving the transparency of the resulting gas barrier laminate. More preferably, it is in the range of ˜3 mol%. Examples of monovalent ions include ammonium ions, pyridinium ions, sodium ions, potassium ions, and lithium ions, with ammonium ions being preferred.

溶液(U)の固形分濃度は、溶液(U)の保存安定性、および溶液(U)の基材に対する塗工性の観点から、3重量%〜20重量%の範囲にあることが好ましく、4重量%〜15重量%の範囲にあることがより好ましく、5重量%〜12重量%の範囲にあることがさらに好ましい。   The solid content concentration of the solution (U) is preferably in the range of 3% by weight to 20% by weight from the viewpoint of the storage stability of the solution (U) and the coating property of the solution (U) on the base material. It is more preferably in the range of 4% to 15% by weight, and still more preferably in the range of 5% to 12% by weight.

溶液(U)の保存安定性、および得られるガスバリア性積層体のガスバリア性の観点から、溶液(U)のpHは1.0〜7.0の範囲にあることが好ましく、1.0〜6.0の範囲にあることがより好ましく、1.5〜4.0の範囲にあることがさらに好ましい。   From the viewpoint of the storage stability of the solution (U) and the gas barrier properties of the resulting gas barrier laminate, the pH of the solution (U) is preferably in the range of 1.0 to 7.0, 1.0 to 6 More preferably, it is in the range of 0.0, and more preferably in the range of 1.5 to 4.0.

溶液(U)のpHは、公知の方法で調整でき、たとえば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢酸、酪酸、硫酸アンモニウム等の酸性化合物や水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリメチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の塩基性化合物を添加することによって調整できる。このとき、溶液中に1価の陽イオンをもたらす塩基性化合物を用いると、カルボン酸含有重合体のカルボキシル基および/またはカルボン酸無水物基の一部を1価のイオンで中和することができるという効果が得られる。   The pH of the solution (U) can be adjusted by a known method, for example, acidic compounds such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, butyric acid, ammonium sulfate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, trimethylamine, pyridine, It can adjust by adding basic compounds, such as sodium carbonate and sodium acetate. At this time, if a basic compound that provides a monovalent cation is used in the solution, a part of the carboxyl group and / or carboxylic anhydride group of the carboxylic acid-containing polymer may be neutralized with a monovalent ion. The effect that it can be obtained.

工程(i−e)について説明する。工程(i−d)で調製される溶液(U)は、時間の経過とともに状態が変化し、最終的にはゲル状の組成物となる。溶液(U)がゲル状になるまでの時間は、溶液(U)の組成に依存する。基材に溶液(U)を安定的に塗工するためには、溶液(U)は、長時間にわたってその粘度が安定し、その後、徐々に粘度上昇するようなものであることが好ましい。溶液(U)は、化合物(L)系成分の全量を添加した時を基準として、25℃で2日間静置した後においても、ブルックフィールド粘度計(B型粘度計:60rpm)で測定した粘度が1N・s/m2以下(より好ましくは0.5N・s/m2以下で、特に好ましくは0.2N・s/m2以下)となるように組成を調整することが好ましい。また、溶液(U)は、25℃で10日間静置した後においても、その粘度が1N・s/m2以下(より好ましくは0.1N・s/m2以下で、特に好ましくは0.05N・s/m2以下)となるように組成を調整することがより好ましい。また、溶液(U)は、50℃で10日間静置した後においても、その粘度が1N・s/m2以下(より好ましくは0.1N・s/m2以下で、特に好ましくは0.05N・s/m2以下)となるように組成を調整することがさらに好ましい。溶液(U)の粘度が上記の範囲にある場合、貯蔵安定性に優れるとともに、得られるガスバリア性積層体のガスバリア性がより良好になることが多い。 The step (ie) will be described. The state of the solution (U) prepared in the step (id) changes with time, and finally becomes a gel-like composition. The time until the solution (U) becomes gelled depends on the composition of the solution (U). In order to stably apply the solution (U) to the substrate, it is preferable that the solution (U) has a stable viscosity over a long period of time and then gradually increases in viscosity. The solution (U) was measured with a Brookfield viscometer (B-type viscometer: 60 rpm) even after standing at 25 ° C. for 2 days, based on the total amount of the compound (L) component. Is preferably adjusted to be 1 N · s / m 2 or less (more preferably 0.5 N · s / m 2 or less, particularly preferably 0.2 N · s / m 2 or less). The solution (U) has a viscosity of 1 N · s / m 2 or less (more preferably 0.1 N · s / m 2 or less, particularly preferably 0. It is more preferable to adjust the composition so as to be 05 N · s / m 2 or less. The solution (U) has a viscosity of 1 N · s / m 2 or less (more preferably 0.1 N · s / m 2 or less, particularly preferably 0. More preferably, the composition is adjusted to be 05 N · s / m 2 or less. When the viscosity of the solution (U) is in the above range, the storage stability is excellent and the gas barrier property of the obtained gas barrier laminate is often improved.

溶液(U)の粘度が上記範囲内になるように調整するには、例えば、固形分の濃度を調整する、pHを調整する、カルボキシメチルセルロース、でんぷん、ベントナイト、トラガカントゴム、ステアリン酸塩、アルギン酸塩、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールなどの粘度調節剤を添加するといった方法を用いることができる。   In order to adjust the viscosity of the solution (U) to be within the above range, for example, adjusting the concentration of solids, adjusting pH, carboxymethylcellulose, starch, bentonite, tragacanth gum, stearate, alginate, A method of adding a viscosity modifier such as methanol, ethanol, n-propanol, or isopropanol can be used.

また、基材への溶液(U)の塗工を容易にするために、溶液(U)の安定性が阻害されない範囲で、溶液(U)に均一に混合することができる有機溶剤を添加してもよい。添加可能な有機溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール;テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルビニルケトン、メチルイソプロピルケトン等のケトン;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、n−ブチルセロソルブ等のグリコール誘導体;グリセリン;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタンなどが挙げられる。   In addition, in order to facilitate the application of the solution (U) to the base material, an organic solvent that can be uniformly mixed with the solution (U) is added so long as the stability of the solution (U) is not hindered. May be. Examples of organic solvents that can be added include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and trioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl vinyl ketone, and methyl isopropyl ketone; ethylene glycol, Glycols such as propylene glycol; glycol derivatives such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, n-butyl cellosolve; glycerin; acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, dimethoxyethane and the like.

また、溶液(U)は、所望により、本発明の効果を損なわない範囲内において、炭酸塩、塩酸塩、硝酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸塩、ホウ酸塩、アルミン酸塩のような無機酸金属塩;シュウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、ステアリン酸塩のような有機酸金属塩;アルミニウムアセチルアセトナートのようなアセチルアセトナート金属錯体、チタノセンなどのシクロペンタジエニル金属錯体、シアノ金属錯体等の金属錯体;層状粘土化合物、架橋剤、上述したアミノ基を二つ以上含む化合物(P)、上述した水酸基を二つ以上含む化合物(Q)、及びそれ以外の高分子化合物、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤等を含んでいてもよい。また、溶液(U)は、金属酸化物の微粉末やシリカ微粉末などを含んでいてもよい。   In addition, the solution (U) may be carbonate, hydrochloride, nitrate, hydrogen carbonate, sulfate, hydrogen sulfate, phosphate, borate, alumina as long as it does not impair the effects of the present invention. Inorganic acid metal salts such as acid salts; organic acid metal salts such as oxalate, acetate, tartrate and stearate; acetylacetonate metal complexes such as aluminum acetylacetonate; cyclopentadiene such as titanocene Metal complexes such as enyl metal complexes and cyano metal complexes; layered clay compounds, crosslinking agents, compounds containing two or more amino groups as described above (P), compounds containing two or more hydroxyl groups as described above (Q), and other It may contain a polymer compound, a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a flame retardant and the like. The solution (U) may contain fine metal oxide powder or fine silica powder.

工程(i−d)で調製された溶液(U)は、工程(i−e)において基材の少なくとも一方の面に塗工される。溶液(U)を塗工する前に、基材の表面を公知のアンカーコーティング剤で処理するか、基材の表面に公知の接着剤を塗布してもよい。溶液(U)を基材に塗工する方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。好ましい方法としては、たとえば、キャスト法、ディッピング法、ロールコーティング法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、リバースコート法、スプレーコート法、キスコート法、ダイコート法、メタリングバーコート法、チャンバードクター併用コート法、カーテンコート法などが挙げられる。   The solution (U) prepared in the step (id) is applied to at least one surface of the substrate in the step (ie). Before applying the solution (U), the surface of the substrate may be treated with a known anchor coating agent, or a known adhesive may be applied to the surface of the substrate. The method for applying the solution (U) to the substrate is not particularly limited, and a known method can be used. Preferred methods include, for example, a casting method, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a screen printing method, a reverse coating method, a spray coating method, a kiss coating method, a die coating method, a metering bar coating method, and a chamber doctor combined coating method. And curtain coating method.

工程(i−e)で溶液(U)を基材上に塗工した後、溶液(U)に含まれる溶媒を除去することによって、イオン化工程前の積層体(積層体(I))が得られる。溶媒の除去の方法は特に制限がなく、公知の方法を適用できる。具体的には、熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法などの方法を単独で、または組み合わせて適用できる。乾燥温度は、基材の流動開始温度よりも15〜20℃以上低く、かつカルボン酸含有重合体の熱分解開始温度よりも15〜20℃以上低い温度であれば特に制限されない。乾燥温度は、70℃〜200℃の範囲にあることが好ましく、80〜180℃の範囲にあることがより好ましく、90〜160℃の範囲にあることがさらに好ましい。溶媒の除去は、常圧下または減圧下のいずれで実施してもよい。   After the solution (U) is applied on the substrate in the step (ie), the solvent contained in the solution (U) is removed to obtain a laminate (laminate (I)) before the ionization step. It is done. The method for removing the solvent is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, methods such as a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, and a microwave heating method can be applied alone or in combination. A drying temperature will not be restrict | limited especially if it is 15-20 degreeC or more lower than the flow start temperature of a base material, and 15-20 degreeC or more lower than the thermal decomposition start temperature of a carboxylic acid containing polymer. The drying temperature is preferably in the range of 70 ° C to 200 ° C, more preferably in the range of 80 to 180 ° C, and further preferably in the range of 90 to 160 ° C. The removal of the solvent may be carried out under normal pressure or reduced pressure.

本発明で用いられるガスバリア性積層体では、ガスバリア層の表面に、化合物(L)の加水分解性縮合物からなるスキン層が形成されていることが好ましい。また、前記したように、スキン層が厚くなりすぎることは、ガスバリア性積層体の透明性が低下するために好ましくない。適度の厚さを有するスキン層を形成する方法について、以下に記載する。本発明者らが鋭意検討した結果によれば、スキン層の形成の有無、およびスキン層の形成の状態は、化合物(L)の加水分解性縮合物の反応度、化合物(L)の組成、溶液(U)に使用されている溶媒、溶液(U)を基材に塗工した後の溶液(U)の乾燥される速度などに依存する。例えば、ガスバリア層表面に対する水の接触角を測定し、接触角が前記した所定の範囲より小さい場合には、工程(i−a)、工程(i−c)の反応時間を長くすることで、接触角を大きくすること(すなわち適切なスキン層を形成すること)が可能である。逆に接触角が前記した所定の範囲より大きい場合には、工程(i−a)、工程(i−c)の反応時間を短くすることによって、接触角を小さくすることが可能である。   In the gas barrier laminate used in the present invention, a skin layer made of a hydrolyzable condensate of compound (L) is preferably formed on the surface of the gas barrier layer. Further, as described above, it is not preferable that the skin layer becomes too thick because the transparency of the gas barrier laminate is lowered. A method for forming a skin layer having an appropriate thickness will be described below. According to the results of intensive studies by the present inventors, the presence or absence of the skin layer and the state of the skin layer formation are determined by the reactivity of the hydrolyzable condensate of the compound (L), the composition of the compound (L), It depends on the solvent used in the solution (U), the drying speed of the solution (U) after the solution (U) is applied to the substrate, and the like. For example, when the contact angle of water with respect to the gas barrier layer surface is measured and the contact angle is smaller than the above-described predetermined range, the reaction time of the step (ia) and the step (ic) is increased. It is possible to increase the contact angle (that is, to form an appropriate skin layer). On the other hand, when the contact angle is larger than the predetermined range, it is possible to reduce the contact angle by shortening the reaction time of the step (ia) and the step (ic).

工程(ii)によって、上記の工程によって得られる積層体(I)を2価以上の金属イオンを含む溶液(以下、「溶液(IW)」という場合がある)に接触させること(イオン化工程)によって、ガスバリア性積層体(積層体(II))が得られる。なお、イオン化工程は、本発明の効果を損なわない限り、どのような段階で行ってもよい。   By bringing the laminate (I) obtained by the above step into contact with a solution containing metal ions having a valence of 2 or more (hereinafter sometimes referred to as “solution (IW)”) by the step (ii) (ionization step). A gas barrier laminate (laminate (II)) is obtained. The ionization process may be performed at any stage as long as the effects of the present invention are not impaired.

溶液(IW)は、溶解によって2価以上の金属イオンを放出する化合物(多価金属化合物)を、溶媒に溶解させることによって調製できる。溶液(IW)を調製する際に使用する溶媒としては、水を使用することが望ましいが、水と混和しうる有機溶媒と水との混合物であってもよい。そのような有機溶媒としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール;テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルビニルケトン、メチルイソプロピルケトン等のケトン;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、n−ブチルセロソルブ等のグリコール誘導体;グリセリン;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメトキシエタン等の有機溶媒を挙げることができる。   The solution (IW) can be prepared by dissolving, in a solvent, a compound that releases a divalent or higher valent metal ion (polyvalent metal compound) upon dissolution. As a solvent used in preparing the solution (IW), it is desirable to use water, but it may be a mixture of an organic solvent miscible with water and water. Examples of such organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and trioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl vinyl ketone, and methyl isopropyl ketone; ethylene glycol, propylene glycol Glycols such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and n-butyl cellosolve; glycerin; organic solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, sulfolane, and dimethoxyethane.

多価金属化合物としては、本発明で用いられるガスバリア性積層体に関して例示した金属イオン(すなわち2価以上の金属イオン)を放出する化合物を用いることができる。たとえば、酢酸カルシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、塩化カルシウム、硝酸カルシウム、炭酸カルシウム、酢酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、塩化マグネシウム、炭酸マグネシム、酢酸鉄(II)、塩化鉄(II)、酢酸鉄(III)、塩化鉄(III)、酢酸亜鉛、塩化亜鉛、酢酸銅(II)、酢酸銅(III)、酢酸鉛、酢酸水銀(II)、酢酸バリウム、酢酸ジルコニウム、塩化バリウム、硫酸バリウム、硫酸ニッケル、硫酸鉛、塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硫酸アルミニウム、カリウムミョウバン(KAl(SO42)、硫酸チタン(IV)などを用いることができる。多価金属化合物は、1種類のみを用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。好ましい多価金属化合物としては、酢酸カルシウム、水酸化カルシウム、酢酸マグネシウム、酢酸亜鉛が挙げられる。なお、これらの多価金属化合物は、水和物の形態で用いてもよい。 As the polyvalent metal compound, compounds capable of releasing the metal ions exemplified for the gas barrier laminate used in the present invention (that is, divalent or higher metal ions) can be used. For example, calcium acetate, calcium hydroxide, barium hydroxide, calcium chloride, calcium nitrate, calcium carbonate, magnesium acetate, magnesium hydroxide, magnesium chloride, magnesium carbonate, iron (II) acetate, iron (II) chloride, iron acetate ( III), iron chloride (III), zinc acetate, zinc chloride, copper acetate (II), copper acetate (III), lead acetate, mercury acetate (II), barium acetate, zirconium acetate, barium chloride, barium sulfate, nickel sulfate Lead sulfate, zirconium chloride, zirconium nitrate, aluminum sulfate, potassium alum (KAl (SO 4 ) 2 ), titanium (IV) sulfate, and the like can be used. Only one type of polyvalent metal compound may be used, or two or more types may be used in combination. Preferred polyvalent metal compounds include calcium acetate, calcium hydroxide, magnesium acetate, and zinc acetate. In addition, you may use these polyvalent metal compounds in the form of a hydrate.

溶液(IW)における多価金属化合物の濃度は、特に制限されないが、好ましくは5×10-4重量%〜50重量%の範囲にあり、より好ましくは1×10-2重量%〜30重量%の範囲にあり、さらに好ましくは1重量%〜20重量%の範囲にある。 The concentration of the polyvalent metal compound in the solution (IW) is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 × 10 −4 wt% to 50 wt%, more preferably 1 × 10 −2 wt% to 30 wt%. More preferably, it is in the range of 1 to 20% by weight.

溶液(IW)に積層体(I)を接触させる際において、溶液(IW)の温度は、特に制限されないが、温度が高いほどカルボキシル基含有重合体のイオン化速度が速い。その温度は、たとえば30〜140℃の範囲にあり、好ましくは40℃〜120℃の範囲にあり、さらに好ましくは50℃〜100℃の範囲にある。   When the laminate (I) is brought into contact with the solution (IW), the temperature of the solution (IW) is not particularly limited, but the higher the temperature, the faster the ionization rate of the carboxyl group-containing polymer. The temperature is, for example, in the range of 30 to 140 ° C, preferably in the range of 40 ° C to 120 ° C, and more preferably in the range of 50 ° C to 100 ° C.

溶液(IW)に積層体(I)を接触させた後、その積層体に残留した溶媒を除去することが望ましい。溶媒の除去の方法は、特に制限がなく、公知の方法を適用できる。具体的には、熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法といった乾燥法を単独で、または2種以上を組み合わせて適用できる。溶媒の除去を行う温度は、基材の流動開始温度よりも15〜20℃以上低く、かつカルボン酸含有重合体の熱分解開始温度よりも15〜20℃以上低い温度であれば特に制限されない。乾燥温度は、好ましくは40〜200℃の範囲にあり、より好ましくは60〜150℃の範囲にあり、さらに好ましくは80〜130℃の範囲にある。溶媒の除去は、常圧下または減圧下のいずれで実施してもよい。   It is desirable to remove the solvent remaining in the laminate after contacting the laminate (I) with the solution (IW). The method for removing the solvent is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, drying methods such as a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, and a microwave heating method can be applied singly or in combination of two or more. The temperature at which the solvent is removed is not particularly limited as long as it is 15 to 20 ° C. or more lower than the flow start temperature of the substrate and 15 to 20 ° C. or lower than the thermal decomposition start temperature of the carboxylic acid-containing polymer. The drying temperature is preferably in the range of 40 to 200 ° C, more preferably in the range of 60 to 150 ° C, and still more preferably in the range of 80 to 130 ° C. The removal of the solvent may be carried out under normal pressure or reduced pressure.

また、ガスバリア性積層体の表面の外観を損なわないためには、溶媒の除去を行う前または後に、積層体の表面に付着した過剰の多価金属化合物を除去することが好ましい。多価金属化合物を除去する方法としては、多価金属化合物が溶解していく溶剤を用いた洗浄が好ましい。多価金属化合物が溶解していく溶剤としては、溶液(IW)に用いることができる溶媒を用いることができ、溶液(IW)の溶媒と同一のものを用いることが好ましい。   In order not to impair the appearance of the surface of the gas barrier laminate, it is preferable to remove excess polyvalent metal compound adhering to the surface of the laminate before or after removing the solvent. As a method for removing the polyvalent metal compound, washing using a solvent in which the polyvalent metal compound dissolves is preferable. As the solvent in which the polyvalent metal compound dissolves, a solvent that can be used for the solution (IW) can be used, and the same solvent as the solvent for the solution (IW) is preferably used.

本発明の製造方法では、工程(i)ののちであって工程(ii)の前および/または後に、工程(i)で形成された層を120〜240℃の温度で熱処理する工程をさらに含んでもよい。すなわち、積層体(I)または(II)に対して熱処理を施してもよい。熱処理は、塗工された溶液(U)の溶媒の除去がほぼ終了した後であれば、どの段階で行ってもよいが、イオン化工程を行う前の積層体(すなわち積層体(I))を熱処理することによって、表面の外観が良好なガスバリア性積層体が得られる。熱処理の温度は、好ましくは120℃〜240℃の範囲にあり、より好ましくは140〜240℃の範囲にあり、さらに好ましくは160℃〜220℃の範囲にある。熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下などで実施することができる。   The production method of the present invention further includes a step of heat-treating the layer formed in step (i) at a temperature of 120 to 240 ° C. after step (i) and before and / or after step (ii). But you can. That is, you may heat-process with respect to laminated body (I) or (II). The heat treatment may be performed at any stage as long as the removal of the solvent of the coated solution (U) is almost completed, but the layered product (that is, the layered product (I)) before the ionization step is performed. By performing the heat treatment, a gas barrier laminate having a good surface appearance can be obtained. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 120 ° C to 240 ° C, more preferably in the range of 140 to 240 ° C, and still more preferably in the range of 160 ° C to 220 ° C. The heat treatment can be performed in air, under a nitrogen atmosphere, under an argon atmosphere, or the like.

また、本発明の製造方法では、積層体(I)または(II)に、紫外線を照射してもよい。紫外線照射は、塗工された溶液(U)の溶媒の除去がほぼ終了した後であれば、いつ行ってもよい。その方法は、特に限定されず、公知の方法を適用できる。照射する紫外線の波長は、170〜250nmの範囲にあることが好ましく、170〜190nmの範囲及び/又は230〜250nmの範囲にあることがより好ましい。また、紫外線照射に代えて、電子線やγ線などの放射線の照射を行ってもよい。   In the production method of the present invention, the laminate (I) or (II) may be irradiated with ultraviolet rays. The ultraviolet irradiation may be performed any time after the removal of the solvent of the coated solution (U) is almost completed. The method is not particularly limited, and a known method can be applied. The wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated is preferably in the range of 170 to 250 nm, more preferably in the range of 170 to 190 nm and / or in the range of 230 to 250 nm. Further, instead of ultraviolet irradiation, radiation such as an electron beam or γ-ray may be irradiated.

熱処理と紫外線照射は、どちらか一方のみを行ってもよいし、両者を併用してもよい。熱処理及び/又は紫外線照射を行うことによって、積層体のガスバリア性能がより高度に発現する場合がある。   Only one of heat treatment and ultraviolet irradiation may be performed, or both may be used in combination. By performing heat treatment and / or ultraviolet irradiation, the gas barrier performance of the laminate may be expressed to a higher degree.

基材とガスバリア層との間に接着層(H)を配置するために、溶液(U)の塗工前に、基材の表面に処理(アンカーコーティング剤による処理、または接着剤の塗布)を施してもよい。その場合、工程(i)(溶液(U)の塗工)の後であって上記熱処理および工程(ii)(イオン化工程)の前に、溶液(U)が塗工された基材を、比較的低温下に長時間放置する熟成処理を行うことが好ましい。熟成処理の温度は、30〜200℃の範囲にあることが好ましく、30〜150℃の範囲にあることがより好ましく、30〜120℃の範囲にあることがさらに好ましい。熟成処理の時間は、0.5〜10日の範囲にあることが好ましく、1〜7日の範囲にあることがより好ましく、1〜5日の範囲にあることがさらに好ましい。このような熟成処理を行うことによって、基材とガスバリア層との間の接着力がより強固となる。この熟成処理ののちに、さらに上記熱処理(120℃〜240℃の熱処理)を行うことが好ましい。   In order to dispose the adhesive layer (H) between the base material and the gas barrier layer, a treatment (treatment with an anchor coating agent or application of an adhesive) is performed on the surface of the base material before application of the solution (U). You may give it. In that case, after the step (i) (application of the solution (U)) and before the heat treatment and the step (ii) (ionization step), the substrate coated with the solution (U) is compared. It is preferable to perform an aging treatment that is allowed to stand at a low temperature for a long time. The temperature of the aging treatment is preferably in the range of 30 to 200 ° C, more preferably in the range of 30 to 150 ° C, and further preferably in the range of 30 to 120 ° C. The aging time is preferably in the range of 0.5 to 10 days, more preferably in the range of 1 to 7 days, and still more preferably in the range of 1 to 5 days. By performing such an aging treatment, the adhesive force between the base material and the gas barrier layer becomes stronger. After the aging treatment, it is preferable to perform the above heat treatment (heat treatment at 120 ° C. to 240 ° C.).

本発明の真空断熱体は、長期にわたって高い断熱効果を維持し、保冷や保温等の断熱が必要な各種用途に使用できる。具体的には、本発明の真空断熱体は、冷蔵庫、冷凍庫、炊飯器、車両天井部、バッテリー、冷凍船、冷蔵船、保温コンテナー、冷凍用ショーケース、保冷用ショーケース、携帯クーラー、乾燥機、恒温槽、料理用保温ケース、自動販売機、給湯設備、建材(壁部、天井部、屋根裏部、床部)、熱水・冷却水・低温流体などの配管・導管、衣料、寝具などの各種用途の真空断熱体として使用できる。   The vacuum heat insulating body of the present invention maintains a high heat insulating effect over a long period of time and can be used for various applications that require heat insulation such as cold insulation and heat insulation. Specifically, the vacuum insulator of the present invention includes a refrigerator, a freezer, a rice cooker, a vehicle ceiling, a battery, a freezer ship, a refrigerated ship, a heat insulation container, a freezer showcase, a cold showcase, a portable cooler, and a dryer. , Thermostatic baths, cooking insulation cases, vending machines, hot water supply facilities, building materials (walls, ceilings, attics, floors), piping / conduit for hot water / cooling water / cold fluid, clothing, bedding, etc. It can be used as a vacuum insulator for various applications.

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されない。なお、以下の実施例において積層体の層構成を表記する際に、物質名のみを表記し、「層」の表記を省略することがある。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples, when describing the layer structure of the laminate, only the substance name may be described, and the “layer” may be omitted.

[ガスバリア性積層体の作製および評価]
以下で述べるガスバリア性積層体を作製して評価した。評価は、以下の(1)〜(5)の方法で行った。
[Production and evaluation of gas barrier laminates]
The gas barrier laminate described below was prepared and evaluated. Evaluation was performed by the following methods (1) to (5).

(1)接触角
積層体を温度20℃、湿度65%RHの条件下に24時間調湿を行った。その後、自動接触角計(協和界面科学製、DM500)を用いて、温度20℃、湿度65%RHの条件で2μLの水をガスバリア層上に滴下した。そして、日本工業規格(JIS)−R3257に準拠した方法で、ガスバリア層と水との接触角を測定した。
(1) Contact angle The laminate was conditioned for 24 hours under conditions of a temperature of 20 ° C and a humidity of 65% RH. Thereafter, 2 μL of water was dropped onto the gas barrier layer using an automatic contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science, DM500) under conditions of a temperature of 20 ° C. and a humidity of 65% RH. And the contact angle of a gas barrier layer and water was measured by the method based on Japanese Industrial Standard (JIS) -R3257.

(2)引っ張り強伸度、ヤング率
積層体を温度23℃、湿度50%RHの条件下で24時間調湿を行った。その後、積層体を、MD方向およびTD方向に対して15cm×15mmに切り出した。切り出した積層体について、温度23℃、湿度50%RHの条件で、JIS−K7127に準拠した方法によって、引っ張り強伸度およびヤング率を測定した。
(2) Tensile strength and elongation, Young's modulus The laminate was conditioned for 24 hours under conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH. Thereafter, the laminate was cut into 15 cm × 15 mm with respect to the MD direction and the TD direction. About the cut-out laminated body, tensile strength and Young's modulus were measured by the method based on JIS-K7127 on the conditions of temperature 23 degreeC and humidity 50% RH.

(3)乾熱収縮率
積層体を10cm×10cmに切り出し、MDおよびTDにおける長さをノギスで測定した。この積層体を、乾燥機中において80℃で5分間加熱し、加熱後のMDおよびTDにおける長さを測定した。そして、以下の式から乾熱収縮率(%)を測定した。
乾熱収縮率(%)=(lb−la)×100/lb
[式中、lbは加熱前の長さを表す。laは加熱後の長さを表す。]
(3) Dry heat shrinkage The laminate was cut into 10 cm × 10 cm, and the length in MD and TD was measured with calipers. This laminate was heated in a dryer at 80 ° C. for 5 minutes, and the length in MD and TD after heating was measured. And the dry heat shrinkage rate (%) was measured from the following formula.
Dry heat shrinkage (%) = (l b −l a ) × 100 / l b
[Wherein lb represents a length before heating. l a represents the length after heating. ]

(4)金属イオンによるカルボキシル基の中和度(イオン化度)
[FT−IRによるイオン化度の算出]
数平均分子量150,000のポリアクリル酸を蒸留水に溶解し、所定量の水酸化ナトリウムでカルボキシル基を中和した。得られたポリアクリル酸の中和物の水溶液を、基材上に、イオン化度の測定の対象となる積層体のガスバリア層と同じ厚さになるようにコートし、乾燥させた。基材には、2液型のアンカーコート剤(三井武田ケミカル株式会社製、タケラック626(商品名)およびタケネートA50(商品名)、以下「AC」と略記することがある)を表面にコートした延伸ポリアミドフィルム(ユニチカ株式会社製、エンブレム ON−BC(商品名)、厚さ15μm、以下「OPA」と略記することがある)を用いた。このようにして、カルボキシル基の中和度が、0、25、50、75、80、90モル%の標準サンプル[積層体(ポリアクリル酸の中和物からなる層/AC/OPA)]を作製した。これらのサンプルについて、フーリエ変換赤外分光光度計(Perkin Elmer製、Spectrum One)を用いて、ATR(全反射測定)のモードで、赤外吸収スペクトルを測定した。そして、ポリアクリル酸の中和物からなる層に含まれるC=O伸縮振動に対応する2つのピーク、すなわち、1600cm-1〜1850cm-1の範囲に観察されるピークと1500cm-1〜1600cm-1の範囲に観察されるピークとについて、吸光度の最大値の比を算出した。そして、算出した比と、各標準サンプルのイオン化度とを用いて検量線1を作成した。
(4) Degree of neutralization of carboxyl groups with metal ions (degree of ionization)
[Calculation of ionization degree by FT-IR]
Polyacrylic acid having a number average molecular weight of 150,000 was dissolved in distilled water, and the carboxyl group was neutralized with a predetermined amount of sodium hydroxide. The obtained aqueous solution of neutralized polyacrylic acid was coated on a substrate so as to have the same thickness as the gas barrier layer of the laminate to be measured for ionization degree, and dried. The substrate was coated on the surface with a two-component anchor coating agent (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takelac 626 (trade name) and Takenate A50 (trade name), hereinafter abbreviated as “AC”). A stretched polyamide film (manufactured by Unitika Ltd., Emblem ON-BC (trade name), thickness 15 μm, hereinafter sometimes abbreviated as “OPA”) was used. In this way, a standard sample [laminated body (layer made of neutralized polyacrylic acid / AC / OPA)] having a carboxyl group neutralization degree of 0, 25, 50, 75, 80, and 90 mol% was prepared. Produced. About these samples, the infrared absorption spectrum was measured in the mode of ATR (total reflection measurement) using the Fourier-transform infrared spectrophotometer (The product made from Perkin Elmer, Spectrum One). The two peaks corresponding to the C = O stretching vibration in the layer consisting of neutralized product of polyacrylic acid, i.e., a peak observed in the range of 1600cm -1 ~1850cm -1 and 1500cm -1 ~1600cm - The ratio of the maximum absorbance was calculated for the peak observed in the range of 1 . And the calibration curve 1 was created using the calculated ratio and the ionization degree of each standard sample.

基材として延伸ポリアミドフィルム(OPA)を用いた積層体について、フーリエ変換赤外分光光度計(Perkin Elmer製、Spectrum One)を用いて、ATR(全反射測定)のモードで、ガスバリア層に含まれるC=O伸縮振動のピークを観察した。イオン化前のカルボン酸含有重合体のカルボキシル基のC=O伸縮振動に帰属されるピークは、1600cm-1〜1850cm-1の範囲に観察された。また、イオン化された後のカルボキシル基のC=O伸縮振動は1500cm-1〜1600cm-1の範囲に観察された。そして、それぞれの範囲における最大の吸光度からその比を算出し、その比と上記検量線1とを用いてイオン化度を求めた。 A laminate using a stretched polyamide film (OPA) as a base material is included in the gas barrier layer in a mode of ATR (total reflection measurement) using a Fourier transform infrared spectrophotometer (manufactured by Perkin Elmer, Spectrum One). The peak of C = O stretching vibration was observed. Peak attributed to C = O stretching vibration of the carboxyl group of the ionization front of a carboxylic acid-containing polymer, was observed in the range of 1600cm -1 ~1850cm -1. Furthermore, C = O stretching vibration of the carboxyl group after being ionized was observed in the range of 1500cm -1 ~1600cm -1. Then, the ratio was calculated from the maximum absorbance in each range, and the degree of ionization was determined using the ratio and the calibration curve 1.

[蛍光X線によるイオン化度の算出]
基材として前述したOPAを用いた積層体について、FT−IRの測定よりイオン化度の異なる標準サンプルを作製した。具体的には、イオン化度(イオン:カルシウムイオン)が0〜100モル%間で約10モル%ずつ異なる11種類の標準サンプルを作製した。各々のサンプルについて、波長分散型蛍光X線装置(株式会社リガク製、ZSXminiII)を用いて、カルシウム元素の蛍光X線強度を測定し、予めFT−IRで測定したイオン化度から検量線2を作成した。得られた検量線2を用いて、各種条件で作製した積層体のカルシウムイオン化度を算出した。
[Calculation of ionization degree by fluorescent X-ray]
About the laminated body using OPA mentioned above as a base material, the standard sample from which the degree of ionization differs was measured from the measurement of FT-IR. Specifically, eleven types of standard samples having different degrees of ionization (ions: calcium ions) of about 10 mol% between 0 to 100 mol% were prepared. For each sample, the fluorescence X-ray intensity of calcium element was measured using a wavelength dispersion type fluorescent X-ray apparatus (manufactured by Rigaku Corporation, ZSXmini II), and a calibration curve 2 was created from the degree of ionization measured in advance by FT-IR. did. Using the obtained calibration curve 2, the degree of calcium ionization of the laminate produced under various conditions was calculated.

他の金属イオン(マグネシウムイオンや亜鉛イオン等)でイオン化する場合に関しても、上記と同様の方法で検量線2を作成し、イオン化度を算出した。   Also in the case of ionization with other metal ions (magnesium ion, zinc ion, etc.), the calibration curve 2 was created by the same method as described above, and the degree of ionization was calculated.

OPA以外の基材を用いた積層体(PETなど)についても、蛍光X線強度測定により得られた検量線2を用いて、イオン化度を算出した。   For a laminate (such as PET) using a substrate other than OPA, the degree of ionization was calculated using the calibration curve 2 obtained by fluorescent X-ray intensity measurement.

(5)加水分解縮合物および重合体(X)の重量
上述した方法によって、化合物(L)に由来する無機成分の重量、および、化合物(L)に由来する有機成分の重量と重合体(X)に由来する有機成分の重量との合計を算出した。
(5) Weight of hydrolysis condensate and polymer (X) By the above-described method, the weight of the inorganic component derived from the compound (L) and the weight of the organic component derived from the compound (L) and the polymer (X ) And the total weight of the organic components derived from it were calculated.

<積層体(1)>
数平均分子量150,000のポリアクリル酸(PAA)を蒸留水で溶解し、水溶液中の固形分濃度が13重量%であるPAA水溶液を得た。続いて、このPAA水溶液に、13%アンモニア水溶液を加え、PAAのカルボキシル基の1モル%を中和して、PAAの部分中和水溶液を得た。
<Laminated body (1)>
Polyacrylic acid (PAA) having a number average molecular weight of 150,000 was dissolved in distilled water to obtain a PAA aqueous solution having a solid content concentration of 13% by weight in the aqueous solution. Subsequently, 13% ammonia aqueous solution was added to this PAA aqueous solution to neutralize 1 mol% of the carboxyl group of PAA, thereby obtaining a partially neutralized aqueous solution of PAA.

また酢酸60重量部と蒸留水1800重量部を混合し、この酢酸水溶液にアルミニウムイソプロポキシド(AIP)204重量部(AIP/酢酸/蒸留水=1/1/100(モル比))を撹拌しながら加え、その後80℃で1時間加熱することで濃度が9.88重量%のAIP水溶液(S1)を得た。   Further, 60 parts by weight of acetic acid and 1800 parts by weight of distilled water were mixed, and 204 parts by weight of aluminum isopropoxide (AIP) (AIP / acetic acid / distilled water = 1/1/100 (molar ratio)) was stirred into this acetic acid aqueous solution. And then heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain an AIP aqueous solution (S1) having a concentration of 9.88% by weight.

続いて、Al/Siのモル比が1.2/98.8、[テトラメトキシシラン(TMOS)およびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が40.2/59.8となるように混合液(U1)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに上記9.88重量%のAIP水溶液(S1)を8.5重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部を加え、10℃で1時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T1)を得た。続いて、混合液(T1)を、蒸留水425重量部およびメタノール222重量部で希釈した後、攪拌しながら上記PAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)228重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U1)を得た。   Subsequently, the molar ratio of Al / Si was 1.2 / 98.8, and the weight ratio of [inorganic component derived from tetramethoxysilane (TMOS) and AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 40.2 / A mixed solution (U1) was prepared so as to be 59.8. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 8.5 parts by weight of the above 9.88% by weight AIP aqueous solution (S1) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS would be 1.95 molar equivalents, and hydrolysis and condensation reactions were carried out at 10 ° C. for 1 hour. And a mixed solution (T1) was obtained. Subsequently, after diluting the mixed solution (T1) with 425 parts by weight of distilled water and 222 parts by weight of methanol, 228 parts by weight of an aqueous solution of a partially neutralized product of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. As a result, a mixed solution (U1) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

一方、酢酸エチル67重量部に溶解させた2液型のアンカーコート剤(三井武田ケミカル株式会社製:タケラックA−626(商品名)1重量部およびタケネートA−50(商品名)2重量部)を、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製、ルミラーP60(商品名)、厚さ12μm、以下「PET」と略記することがある)上に塗工し、乾燥させることによってアンカーコート層を有する基材(AC(0.1μm)/PET(12μm))を作製した。この基材のアンカーコート層上に、乾燥後の厚さが0.4μmとなるようにバーコータによって混合液(U1)をコートし120℃で5分間乾燥した。続いて、同様の手順で基材の反対側の面にも塗工を行った。得られた積層体を、40℃で3日間エージングを行なった。次に、乾燥機を用い180℃で5分間、積層体に熱処理を施した。次に、積層体を、2重量%の酢酸カルシウム水溶液(85℃)に12秒浸漬し、その後、110℃で1分乾燥を行った。このようにして、ガスバリア層(0.4μm)/AC(0.1μm)/PET(12μm)/AC(0.1μm)/ガスバリア層(0.4μm)という構造を有する積層体(1)を得た。   On the other hand, a two-component anchor coating agent dissolved in 67 parts by weight of ethyl acetate (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd .: Takelac A-626 (trade name) 1 part by weight and Takenate A-50 (trade name) 2 parts by weight) Is coated on a stretched polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror P60 (trade name), thickness 12 μm, hereinafter sometimes abbreviated as “PET”), and dried to form a base having an anchor coat layer. A material (AC (0.1 μm) / PET (12 μm)) was prepared. The mixed solution (U1) was coated on the anchor coat layer of the base material with a bar coater so that the thickness after drying was 0.4 μm, and dried at 120 ° C. for 5 minutes. Subsequently, coating was also performed on the opposite surface of the substrate in the same procedure. The obtained laminate was aged at 40 ° C. for 3 days. Next, the laminate was heat-treated at 180 ° C. for 5 minutes using a dryer. Next, the laminate was immersed in a 2% by weight calcium acetate aqueous solution (85 ° C.) for 12 seconds, and then dried at 110 ° C. for 1 minute. In this way, a laminate (1) having a structure of gas barrier layer (0.4 μm) / AC (0.1 μm) / PET (12 μm) / AC (0.1 μm) / gas barrier layer (0.4 μm) is obtained. It was.

<積層体(2)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そして、Al/Siのモル比が30.1/69.9、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が25.5/74.5となるように混合液(U2)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%のAIP水溶液(S2)を293重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で1時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T2)を得た。続いて、得られた混合液(T2)を蒸留水850重量部、メタノール405重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)607重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U2)を得た。
<Laminated body (2)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 30.1 / 69.9, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 25.5 / 74.5. A mixed solution (U2) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 293 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S2) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 1 hour. And a liquid mixture (T2) was obtained. Subsequently, after diluting the obtained mixed liquid (T2) with 850 parts by weight of distilled water and 405 parts by weight of methanol, 607 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. As a result, a mixed solution (U2) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U2)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(2)を得た。   Using the mixed solution (U2), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (2).

<積層体(3)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そして、反応時間のみを変えて、混合液(U3)を調製した。
<Laminated body (3)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). And only the reaction time was changed and the liquid mixture (U3) was prepared.

具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%のAIP水溶液(S3)を8.5重量部加えた。続いて、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部を加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T3)を得た。続いて、混合液(T3)を、蒸留水425重量部およびメタノール222重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)228重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U3)を得た。混合液(U3)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い積層体(3)を得た。   Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 8.5 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S3) was added thereto. Subsequently, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalents, and hydrolysis and condensation reactions were carried out at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T3) was obtained. Subsequently, after the mixture (T3) was diluted with 425 parts by weight of distilled water and 222 parts by weight of methanol, 228 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U3) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained. Using the mixed solution (U3), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (3).

<積層体(4)>
AIPをチタンテトライソプロポキシド(TIP)に変更し、混合液(U4)を調製した。具体的には、酢酸1200重量部と蒸留水1800重量部を混合し、この酢酸水溶液にTIP284重量部(TIP/酢酸/蒸留水=1/20/100(モル比))を撹拌しながら加え、その後80℃で1時間加熱することで濃度が8.6重量%のTIP水溶液(S4)を得た。続いて、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これにTIP水溶液(S4)を13.5重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T4)を得た。続いて、積層体(1)と同様の組成および方法で、固形分濃度5重量%の混合液(U4)を得た。
<Laminated body (4)>
AIP was changed to titanium tetraisopropoxide (TIP) to prepare a mixed solution (U4). Specifically, 1200 parts by weight of acetic acid and 1800 parts by weight of distilled water were mixed, and 284 parts by weight of TIP (TIP / acetic acid / distilled water = 1/20/100 (molar ratio)) was added to this aqueous acetic acid solution with stirring. Then, a TIP aqueous solution (S4) having a concentration of 8.6% by weight was obtained by heating at 80 ° C. for 1 hour. Subsequently, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 13.5 parts by weight of TIP aqueous solution (S4) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T4) was obtained. Then, the liquid mixture (U4) with a solid content concentration of 5 weight% was obtained with the composition and method similar to the laminated body (1).

混合液(U4)を用いて、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、および乾燥を行い、積層体(4)を得た。   Using the mixed solution (U4), coating, heat treatment, ionization, and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (4).

<積層体(5)>
AIPをジルコニウムテトライソプロポキシド(ZIP)に変更し、混合液(U5)を調製した。具体的には、酢酸1200重量部と蒸留水1800重量部を混合し、この酢酸水溶液にZIP327重量部(ZIP/酢酸/蒸留水=1/20/100(モル比))を撹拌しながら加え、その後80℃で1時間加熱することで濃度が9.8重量%のZIP水溶液(S5)を得た。次に、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに上記9.8重量%ZIP水溶液(S5)を13.6重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T5)を得た。続いて、積層体(1)と同様の組成および方法で固形分濃度5重量%の混合液(U5)を得た。
<Laminated body (5)>
AIP was changed to zirconium tetraisopropoxide (ZIP) to prepare a mixed solution (U5). Specifically, 1200 parts by weight of acetic acid and 1800 parts by weight of distilled water were mixed, and 327 parts by weight of ZIP (ZIP / acetic acid / distilled water = 1/20/100 (molar ratio)) was added to this aqueous acetic acid solution with stirring. Thereafter, the mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a 9.8 wt% aqueous ZIP solution (S5). Next, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 13.6 parts by weight of the 9.8% by weight ZIP aqueous solution (S5) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T5) was obtained. Subsequently, a mixed liquid (U5) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained by the same composition and method as those of the laminate (1).

混合液(U5)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(5)を得た。   Using the mixed solution (U5), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (5).

<積層体(6)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そして[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が30.2/69.8となるようにした以外は積層体(3)と同様の仕込み比で、混合液(U6)を調製した。具体的には、まず、積層体(3)で得られた混合液(T3)と同様の組成および方法で混合液(T6)を調製した。この混合液(T6)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U6)を得た。
<Laminated body (6)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). And with the same charging ratio as the laminate (3) except that the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 30.2 / 69.8, A mixed solution (U6) was prepared. Specifically, first, a mixed solution (T6) was prepared by the same composition and method as the mixed solution (T3) obtained from the laminate (3). After diluting this mixed solution (T6) with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, 354 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration: 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U6) having a concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U6)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(6)を得た。   Using the mixed solution (U6), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (6).

<積層体(7)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が1.9/98.1となるようにした以外は積層体(6)と同様の仕込み比で混合液(U7)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S7)を13.2重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T7)を得た。続いて、積層体(6)と同様の組成および方法で固形分濃度が5重量%の混合液(U7)を得た。
<Laminated body (7)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). And the liquid mixture (U7) was prepared by the preparation ratio similar to a laminated body (6) except having made it the molar ratio of Al / Si becoming 1.9 / 98.1. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 13.2 parts by weight of the 9.88 wt% AIP aqueous solution (S7) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T7) was obtained. Then, the liquid mixture (U7) whose solid content concentration is 5 weight% with the composition and method similar to a laminated body (6) was obtained.

混合液(U7)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(7)を得た。   Using the mixed solution (U7), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (7).

<積層体(8)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が2.8/97.2となるようにした以外は積層体(6)と同様の仕込み比で混合液(U8)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S8)を19.8重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T8)を得た。続いて、積層体(6)と同様の組成、方法で固形分濃度が5重量%の混合液(U8)を得た。
<Laminated body (8)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). And the liquid mixture (U8) was prepared by the preparation ratio similar to a laminated body (6) except having made it the molar ratio of Al / Si becoming 2.8 / 97.2. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 19.8 parts by weight of the 9.88 wt% AIP aqueous solution (S8) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T8) was obtained. Then, the liquid mixture (U8) whose solid content concentration is 5 weight% with the composition and method similar to a laminated body (6) was obtained.

混合液(U8)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(8)を得た。   Using the mixed solution (U8), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (8).

<積層体(9)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そして積層体(2)と同様の仕込み比、すなわちAl/Siのモル比が30/70、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が25.5/74.5となるように混合液(U9)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S9)を293重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T9)を得た。続いて、得られた混合液(T9)を蒸留水850重量部、メタノール405重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)607重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U9)を得た。
<Laminated body (9)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The same charging ratio as that of the laminate (2), that is, the molar ratio of Al / Si was 30/70, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 25.5. A mixed solution (U9) was prepared so as to be /74.5. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 293 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S9) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T9) was obtained. Subsequently, after diluting the obtained mixed liquid (T9) with 850 parts by weight of distilled water and 405 parts by weight of methanol, 607 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. As a result, a mixed solution (U9) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U9)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(9)を得た。   Using the mixed solution (U9), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (9).

<積層体(10)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が0.1/99.9、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が80.0/20.0となるように混合液(U10)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S10)を0.7重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T10)を得た。続いて、混合液(T10)を、蒸留水212重量部およびメタノール131重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)38重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U10)を得た。
<Laminated body (10)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 0.1 / 99.9, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 80.0 / 20.0. A mixed solution (U10) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 0.7 part by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S10) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T10) was obtained. Subsequently, after the mixed liquid (T10) was diluted with 212 parts by weight of distilled water and 131 parts by weight of methanol, 38 parts by weight of an aqueous solution of PAA partially neutralized (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A mixed solution (U10) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U10)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(10)を得た。   Using the mixed solution (U10), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (10).

<積層体(11)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が29.9/70.1、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が36.9/63.1となるように混合液(U11)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S11)を290重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T11)を得た。続いて、混合液(T11)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U11)を得た。
<Laminated body (11)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 29.9 / 70.1, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 36.9 / 63.1. A mixed solution (U11) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 290 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S11) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T11) was obtained. Subsequently, after the mixture (T11) was diluted with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, 354 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U11) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U11)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(11)を得た。   Using the mixed solution (U11), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (11).

<積層体(12)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が0.1/99.9、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が70.0/30.0となるように混合液(U12)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S12)を0.7重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T12)を得た。続いて、混合液(T12)を、蒸留水243重量部およびメタノール144重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)65重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U12)を得た。
<Laminated body (12)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 0.1 / 99.9, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 70.0 / 30.0. A mixed solution (U12) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 0.7 part by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S12) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T12) was obtained. Subsequently, after the mixture (T12) was diluted with 243 parts by weight of distilled water and 144 parts by weight of methanol, 65 parts by weight of an aqueous solution (partial concentration 13% by weight) of a partially neutralized product of PAA was rapidly added while stirring. A mixed solution (U12) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U12)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(12)を得た。   Using the mixed solution (U12), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (12).

<積層体(13)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が3.0/97.0、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が20.0/80.0となるように混合液(U13)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S13)20.8重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T13)を得た。続いて、混合液(T13)を、蒸留水868重量部およびメタノール412重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)623重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U13)を得た。
<Laminated body (13)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 3.0 / 97.0, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 20.0 / 80.0. A mixed solution (U13) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 20.8 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S13) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T13) was obtained. Subsequently, after the mixture (T13) was diluted with 868 parts by weight of distilled water and 412 parts by weight of methanol, 623 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U13) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U13)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(13)を得た。   Using the mixed solution (U13), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (13).

<積層体(14)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が3.0/97.0、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が80.0/20.0となるように混合液(U14)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S14)21.0重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T14)を得た。続いて、混合液(T14)を、蒸留水214重量部およびメタノール132重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)39重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U14)を得た。
<Laminated body (14)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 3.0 / 97.0 and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 80.0 / 20.0. A mixed solution (U14) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 21.0 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S14) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T14) was obtained. Subsequently, after the mixture (T14) was diluted with 214 parts by weight of distilled water and 132 parts by weight of methanol, 39 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U14) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U14)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(14)を得た。   Using the mixed solution (U14), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (14).

<積層体(15)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が3.0/97.0、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が70.0/30.0となるように混合液(U15)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S15)21.1重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T15)を得た。続いて、混合液(T15)を、蒸留水245重量部およびメタノール145重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)67重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U15)を得た。
<Laminated body (15)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 3.0 / 97.0, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 70.0 / 30.0. A mixed solution (U15) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 21.1 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S15) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T15) was obtained. Subsequently, after diluting the mixed solution (T15) with 245 parts by weight of distilled water and 145 parts by weight of methanol, 67 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U15) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U15)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(15)を得た。   Using the mixed solution (U15), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (15).

<積層体(16)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が2.9/97.1、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が10.2/89.8となるように混合液(U16)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S16)20.3重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T16)を得た。続いて、混合液(T16)を、蒸留水1700重量部およびメタノール769重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)1366重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U13)を得た。
<Laminated body (16)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 2.9 / 97.1, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 10.2 / 89.8. A mixed solution (U16) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 20.3 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S16) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T16) was obtained. Subsequently, after the mixture (T16) was diluted with 1700 parts by weight of distilled water and 769 parts by weight of methanol, 1366 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U13) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U16)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(16)を得た。   Using the mixed solution (U16), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (16).

<積層体(17)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。そしてAl/Siのモル比が3.0/97.0、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が90.2/9.8となるように混合液(U17)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S17)21.3重量部加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T17)を得た。続いて、混合液(T17)を、蒸留水189重量部およびメタノール121重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)17重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U17)を得た。
<Laminated body (17)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). The molar ratio of Al / Si is 3.0 / 97.0, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] is 90.2 / 9.8. A mixed solution (U17) was prepared. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 21.3 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S17) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T17) was obtained. Subsequently, after the mixed solution (T17) was diluted with 189 parts by weight of distilled water and 121 parts by weight of methanol, 17 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U17) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U17)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(17)を得た。   Using the mixed solution (U17), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (17).

<積層体(18)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。続いて、TMOS/γ−グリシドキシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMOS)のモル比が99.5/0.5、Al/Siのモル比が2.8/97.2、[TMOS、AIPおよびGPTMOSに由来する無機成分]/[GPTMOSの有機成分とPAAの部分中和物]の重量比が30.5/69.5となるように混合液(U18)を調製した。具体的には、まず、TMOS49.6重量部、GPTMOS0.4重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに積層体(1)と同様の方法で調製した9.88重量%AIP水溶液(S18)を19.6重量部加えた。さらに、TMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T18)を得た。続いて、混合液(T18)を、蒸留水566重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながら、PAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)352重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U18)を得た。
<Laminated body (18)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). Subsequently, the molar ratio of TMOS / γ-glycidoxydoxypropyltrimethoxysilane (GPTMOS) was 99.5 / 0.5, the molar ratio of Al / Si was 2.8 / 97.2, [TMOS, AIP and A mixed solution (U18) was prepared so that the weight ratio of [inorganic component derived from GPTMOS] / [partially neutralized product of organic component of GPTMOS and PAA] was 30.5 / 69.5. Specifically, first, 49.6 parts by weight of TMOS and 0.4 part by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S18) prepared by the same method as that for the laminate (1). 19.6 parts by weight) was added. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalent, and the mixture was hydrolyzed at 10 ° C. for 5 hours. Decomposition | disassembly and condensation reaction were performed and the liquid mixture (T18) was obtained. Subsequently, after the mixed liquid (T18) was diluted with 566 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, 352 parts by weight of an aqueous solution of a partially neutralized product of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. As a result, a mixed solution (U18) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U18)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(18)を得た。   Using the mixed solution (U18), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (18).

<積層体(19)>
TMOS/GPTMOSのモル比が80.0/20.0となるようにした以外は積層体(18)と同様の仕込み比で混合液(U19)を得た。具体的には、まず、TMOS36.0重量部、GPTMOS14.0重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S19)を19.8重量部加えた。さらに、TMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.0重量部と0.1Nの塩酸7.4重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T19)を得た。続いて、混合液(T19)を、蒸留水520重量部およびメタノール302重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)267重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U19)を得た。
<Laminated body (19)>
A mixed liquid (U19) was obtained with the same charging ratio as that of the laminate (18) except that the molar ratio of TMOS / GPTMOS was 80.0 / 20.0. Specifically, first, 36.0 parts by weight of TMOS and 14.0 parts by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 19.8 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S19) was added thereto. Further, 3.0 parts by weight of distilled water and 7.4 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalents, and water was added at 10 ° C. for 5 hours. Decomposition and condensation reaction were performed to obtain a mixed solution (T19). Subsequently, after the mixed liquid (T19) was diluted with 520 parts by weight of distilled water and 302 parts by weight of methanol, 267 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U19) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U19)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(19)を得た。   Using the mixed solution (U19), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (19).

<積層体(20)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。続いて、TMOS/GPTMOSのモル比が89.9/10.1、Al/Siのモル比が3.1/96.9、[TMOS、AIPおよびGPTMOSに由来する無機成分]/[GPTMOSの有機成分とPAAの部分中和物]の重量比が31.5/68.5となるように混合液(U20)を調製した。具体的には、まず、TMOS42.6重量部、GPTMOS7.4重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S20)を20.6重量部加えた。さらに、TMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.2重量部と0.1Nの塩酸7.8重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T20)を得た。続いて、混合液(T20)を、蒸留水542重量部およびメタノール302重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)293重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U20)を得た。
<Laminated body (20)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). Subsequently, the molar ratio of TMOS / GPTMOS is 89.9 / 10.1, the molar ratio of Al / Si is 3.1 / 96.9, [inorganic components derived from TMOS, AIP and GPTMOS] / [organic of GPTMOS] The mixed solution (U20) was prepared so that the weight ratio of the component and the partially neutralized product of PAA was 31.5 / 68.5. Specifically, first, 42.6 parts by weight of TMOS and 7.4 parts by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 20.6 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S20) was added thereto. Further, 3.2 parts by weight of distilled water and 7.8 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalents, and water was added at 10 ° C. for 5 hours. Decomposition | disassembly and condensation reaction were performed and the liquid mixture (T20) was obtained. Subsequently, after diluting the mixed liquid (T20) with 542 parts by weight of distilled water and 302 parts by weight of methanol, 293 parts by weight of an aqueous solution of a partially neutralized product of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A mixed liquid (U20) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U20)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(20)を得た。   Using the mixed solution (U20), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (20).

<積層体(21)>
TMOSとGPTMOSのモル比が98.0/2.0となるようにした以外は積層体(18)と同様の仕込み比で混合液(U21)を得た。具体的には、まず、TMOS48.5重量部、GPTMOS1.5重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S21)を19.2重量部加えた。さらに、TMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.1重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T21)を得た。続いて、混合液(T21)を、蒸留水562重量部およびメタノール285重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)345重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U21)を得た。
<Laminated body (21)>
A mixed liquid (U21) was obtained with the same charging ratio as that of the laminate (18) except that the molar ratio of TMOS to GPTMOS was 98.0 / 2.0. Specifically, first, 48.5 parts by weight of TMOS and 1.5 parts by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 19.2 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S21) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.1 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalent, and the mixture was hydrolyzed at 10 ° C. for 5 hours. Decomposition and condensation reaction were performed to obtain a mixed solution (T21). Subsequently, after the mixed liquid (T21) was diluted with 562 parts by weight of distilled water and 285 parts by weight of methanol, 345 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U21) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U21)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(21)を得た。   Using the mixed solution (U21), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (21).

<積層体(22)>
TMOS/GPTMOSのモル比が99.9/0.1となるようにした以外は積層体(18)と同様の仕込み比で混合液(U22)を得た。具体的には、まず、TMOS49.9重量部、GPTMOS0.1重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S22)を21.0重量部加えた。さらに、TMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.1重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T22)を得た。続いて、混合液(T22)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U22)を得た。
<Laminated body (22)>
A mixed liquid (U22) was obtained with the same charging ratio as that of the laminate (18) except that the molar ratio of TMOS / GPTMOS was 99.9 / 0.1. Specifically, first, 49.9 parts by weight of TMOS and 0.1 part by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 21.0 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S22) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.1 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalent, and the mixture was hydrolyzed at 10 ° C. for 5 hours. Decomposition | disassembly and condensation reaction were performed and the liquid mixture (T22) was obtained. Subsequently, after diluting the mixed solution (T22) with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, 354 parts by weight of an aqueous solution (concentration 13% by weight) of a partially neutralized product of PAA was rapidly added. A mixed solution (U22) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U22)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(22)を得た。   Using the mixed solution (U22), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (22).

<積層体(23)>
TMOS/GPTMOSのモル比が70.0/30.0となるようにした以外は積層体(18)と同様の仕込み比で混合液(U23)を得た。具体的には、まず、TMOS30.0重量部、GPTMOS20.0重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S23)を17.9重量部加えた。さらにTMOSおよびGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を2.9重量部と0.1Nの塩酸7.0重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T23)を得た。続いて、混合液(T23)を、蒸留水500重量部およびメタノール310重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)229重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U23)を得た。
<Laminated body (23)>
A mixed liquid (U23) was obtained at the same charging ratio as that of the laminate (18) except that the molar ratio of TMOS / GPTMOS was 70.0 / 30.0. Specifically, first, 30.0 parts by weight of TMOS and 20.0 parts by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 17.9 parts by weight of a 9.88% by weight AIP aqueous solution (S23) was added thereto. Further, 2.9 parts by weight of distilled water and 7.0 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis was carried out at 10 ° C. for 5 hours. Then, a condensation reaction was performed to obtain a mixed solution (T23). Subsequently, after the mixed solution (T23) was diluted with 500 parts by weight of distilled water and 310 parts by weight of methanol, 229 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U23) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U23)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(23)を得た。   Using the mixed solution (U23), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (23).

<積層体(24)>
積層体(24)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U24)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体を作製した。この積層体を、0.1重量%の酢酸カルシウム水溶液(85℃)に12秒間浸漬してイオン化した後、積層体(1)と同様に乾燥を行い、積層体(24)を得た。
<Laminated body (24)>
For the production of the laminate (24), a mixture (U24) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. Moreover, the laminated body was produced by performing the coating and the heat treatment in the same manner as the laminated body (1). This laminate was ionized by immersing it in a 0.1% by weight aqueous calcium acetate solution (85 ° C.) for 12 seconds, and then dried in the same manner as the laminate (1) to obtain a laminate (24).

<積層体(25)>
積層体(25)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U25)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体を作製した。この積層体を、0.2重量%の酢酸カルシウム水溶液(85℃)に6秒間浸漬してイオン化した後、積層体(1)と同様に乾燥を行い、積層体(25)を得た。
<Laminated body (25)>
For the production of the laminate (25), a mixture (U25) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. Moreover, the laminated body was produced by performing the coating and the heat treatment in the same manner as the laminated body (1). This laminate was ionized by immersion in a 0.2 wt% calcium acetate aqueous solution (85 ° C.) for 6 seconds, and then dried in the same manner as the laminate (1) to obtain a laminate (25).

<積層体(26)>
積層体(26)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U26)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体を作製した。この積層体を、0.2重量%の酢酸カルシウム水溶液(85℃)に12秒間浸漬してイオン化した後、積層体(1)と同様に乾燥を行い、積層体(26)を得た。
<Laminated body (26)>
For the production of the laminate (26), a mixture (U26) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. Moreover, the laminated body was produced by performing the coating and the heat treatment in the same manner as the laminated body (1). This laminate was ionized by immersion in a 0.2 wt% calcium acetate aqueous solution (85 ° C.) for 12 seconds, and then dried in the same manner as the laminate (1) to obtain a laminate (26).

<積層体(27)>
積層体(27)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U27)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体を作製した。この積層体を、2重量%の酢酸マグネシウム水溶液(85℃)に12秒間浸漬してイオン化した後、積層体(1)と同様に乾燥を行い、積層体(27)を得た。
<Laminated body (27)>
For the production of the laminate (27), a mixed solution (U27) obtained by the same composition and method as the mixed solution (U21) obtained from the laminate (21) was used. Moreover, the laminated body was produced by performing the coating and the heat treatment in the same manner as the laminated body (1). This laminate was ionized by immersing it in a 2% by weight aqueous magnesium acetate solution (85 ° C.) for 12 seconds, and then dried in the same manner as the laminate (1) to obtain a laminate (27).

<積層体(28)>
積層体(28)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U28)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体を得た。この積層体を、2重量%の酢酸亜鉛水溶液(85℃)に12秒間浸漬してイオン化した後、積層体(1)と同様に乾燥を行い、積層体(28)を得た。
<Laminated body (28)>
For the production of the laminate (28), a mixture (U28) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. In addition, a laminate was obtained by performing coating and heat treatment in the same manner as the laminate (1). This laminate was ionized by immersing in a 2% by weight zinc acetate aqueous solution (85 ° C.) for 12 seconds, and then dried in the same manner as the laminate (1) to obtain a laminate (28).

<積層体(29)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。一方、エチレンジアミン(EDA)/HClのモル比が1/2となるようにEDAを1N塩酸に溶解させ、EDA塩酸塩水溶液を得た。[EDAのアミノ基]/[PAAのカルボキシル基]の当量比が1.9/100となるようにEDA塩酸塩水溶液を加えた以外は、積層体(7)と同様の仕込み比で、混合液(U29)を調製した。具体的には、まず、積層体(7)の混合液(T7)と同様の組成および方法で調製した混合液(T29)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、更にEDA塩酸塩水溶液12.7重量部を加え、固形分濃度5重量%の混合液(U29)を得た。
<Laminated body (29)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). On the other hand, EDA was dissolved in 1N hydrochloric acid so that the molar ratio of ethylenediamine (EDA) / HCl was 1/2 to obtain an aqueous EDA hydrochloride solution. The mixed solution was prepared in the same ratio as in the laminate (7) except that the EDA hydrochloride aqueous solution was added so that the equivalent ratio of [amino group of EDA] / [carboxyl group of PAA] was 1.9 / 100. (U29) was prepared. Specifically, first, the mixture (T29) prepared by the same composition and method as the mixture (T7) of the laminate (7) was diluted with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, and then stirred. While adding 354 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight), 12.7 parts by weight of an EDA hydrochloride aqueous solution was further added, and a mixed solution (U29) having a solid content concentration of 5% by weight was added. Obtained.

混合液(U29)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(29)を得た。   Using the mixed solution (U29), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (29).

<積層体(30)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。一方、濃度が10重量%となるようにポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA117、以下「PVA」と略記する場合がある)を蒸留水に加え、85℃で3時間加熱することによってPVA水溶液を得た。
<Laminated body (30)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). On the other hand, polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA117, hereinafter sometimes abbreviated as “PVA”) is added to distilled water so that the concentration becomes 10% by weight, and the PVA aqueous solution is heated at 85 ° C. for 3 hours. Obtained.

そのPVA水溶液を、[PVAの水酸基]/[PAAのカルボキシル基]の当量比が18.2/100となるように加えた以外は積層体(7)と同様の仕込み比で、混合液(U27)を得た。具体的には、まず、積層体(7)の混合液(T7)と同様の組成および方法で調製した混合液(T30)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、更に上記10重量%PVA水溶液51重量部を加え、固形分濃度5重量%の混合液(U30)を得た。   The mixed solution (U27) was prepared by adding the PVA aqueous solution at the same charging ratio as that of the laminate (7) except that the equivalent ratio of [hydroxyl group of PVA] / [carboxyl group of PAA] was 18.2 / 100. ) Specifically, first, a mixed solution (T30) prepared by the same composition and method as the mixed solution (T7) of the laminate (7) was diluted with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, and then stirred. While rapidly adding 354 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight), and further adding 51 parts by weight of the 10% by weight PVA aqueous solution, a mixed solution (U30) having a solid content concentration of 5% by weight was added. Obtained.

混合液(U30)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(30)を得た。   Using the mixed solution (U30), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (30).

<積層体(31)>
AIP水溶液調製時の酸をプロピオン酸にした以外は、積層体(21)と同様の仕込み比で混合液(U31)を調製した。具体的には、プロピオン酸74重量部と蒸留水1800重量部を混合した後、このプロピオン酸水溶液にAIP204重量部(AIP/プロピオン酸/蒸留水=1/1/100(モル比))を撹拌しながら加え、その後80℃で1時間加熱することで濃度が9.82重量%のAIP水溶液(S31)を得た。このAIP水溶液(S31)を用いた以外は積層体(18)の混合液(U21)と同様の組成および方法で、混合液(U31)を得た。
<Laminated body (31)>
A mixed solution (U31) was prepared at the same charging ratio as that of the laminate (21) except that the acid at the time of preparing the AIP aqueous solution was propionic acid. Specifically, after mixing 74 parts by weight of propionic acid and 1800 parts by weight of distilled water, 204 parts by weight of AIP (AIP / propionic acid / distilled water = 1/1/100 (molar ratio)) is stirred in this aqueous propionic acid solution. And then heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain an AIP aqueous solution (S31) having a concentration of 9.82% by weight. A mixed liquid (U31) was obtained by the same composition and method as the mixed liquid (U21) of the laminate (18) except that this AIP aqueous solution (S31) was used.

混合液(U31)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(31)を得た。   Using the mixed solution (U31), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (31).

<積層体(32)>
AIP水溶液調製時の酸をヘキサン酸にした以外は、積層体(21)と同様の仕込み比で混合液(U32)を調製した。具体的には、ヘキサン酸116重量部と蒸留水1800重量部を混合した後、このヘキサン酸水溶液にAIP204重量部(AIP/ヘキサン酸/蒸留水=1/1/100(モル比))を撹拌しながら加え、その後80℃で1時間加熱することで濃度が9.62重量%のAIP水溶液(S32)を得た。このAIP水溶液(S32)を用いた以外は積層体(21)の混合液(U21)と同様の組成および方法で、混合液(U32)を得た。
<Laminated body (32)>
A mixed solution (U32) was prepared at the same charging ratio as that of the laminate (21) except that the acid at the time of preparing the AIP aqueous solution was hexanoic acid. Specifically, after 116 parts by weight of hexanoic acid and 1800 parts by weight of distilled water were mixed, 204 parts by weight of AIP (AIP / hexanoic acid / distilled water = 1/1/100 (molar ratio)) was stirred into this aqueous hexanoic acid solution. And then heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain an AIP aqueous solution (S32) having a concentration of 9.62% by weight. A mixed liquid (U32) was obtained by the same composition and method as the mixed liquid (U21) of the laminate (21) except that this AIP aqueous solution (S32) was used.

混合液(U32)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(32)を得た。   Using the mixed solution (U32), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (32).

<積層体(33)>
積層体(33)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U33)を使用した。基材の片面のみにガスバリア層を形成したこと以外は積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(33)を得た。
<Laminated body (33)>
For the production of the laminate (33), a mixture (U33) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. Except that the gas barrier layer was formed only on one side of the substrate, coating, heat treatment, ionization and drying were carried out in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (33).

<積層体(34)>
積層体(34)の作製には、積層体(8)で得られた混合液(U8)と同様の組成および方法で得た混合液(U34)を使用した。また、基材を延伸ポリアミドフィルム(OPA)にした以外は積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(34)を得た。
<Laminated body (34)>
For the production of the laminate (34), a mixed solution (U34) obtained by the same composition and method as the mixed solution (U8) obtained from the laminate (8) was used. Further, except that the base material was a stretched polyamide film (OPA), coating, heat treatment, ionization and drying were carried out in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (34).

<積層体(35)>
積層体(35)では、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U35)を使用した。また、積層体(34)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(35)を得た。
<Laminated body (35)>
In the laminated body (35), a mixed liquid (U35) obtained by the same composition and method as the mixed liquid (U21) obtained in the laminated body (21) was used. In addition, coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (34) to obtain a laminate (35).

<積層体(36)>
積層体(36)では、積層体(8)で得られた混合液(U8)と同様の組成および方法で得た混合液(U36)を使用した。また、積層体(34)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(36)を得た。
<Laminated body (36)>
In the laminated body (36), a mixed liquid (U36) obtained by the same composition and method as the mixed liquid (U8) obtained in the laminated body (8) was used. In addition, coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (34) to obtain a laminate (36).

<積層体(37)>
積層体(37)は、基材を変えたことを除いて積層体(35)と同様の条件で作製した。積層体(37)の作製では、積層体(35)の基材の代わりに、無機層(アルミニウム蒸着層)が積層された基材を用いた。具体的には、アルミニウム蒸着層が形成された延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レフィルム加工株式会社製、VM−PET(商品名)、厚さ12μm、以下「蒸着PET」と略記することがある)を用いた。
<Laminated body (37)>
The laminate (37) was produced under the same conditions as the laminate (35) except that the substrate was changed. In preparation of a laminated body (37), the base material with which the inorganic layer (aluminum vapor deposition layer) was laminated | stacked was used instead of the base material of a laminated body (35). Specifically, a stretched polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd., VM-PET (trade name), thickness 12 μm, hereinafter may be abbreviated as “deposition PET”) is used. It was.

<積層体(38)>
積層体(38)は、基材を変えたことを除いて積層体(35)と同様の条件で作製した。積層体(38)の作製では、積層体(35)の基材の代わりに、無機層(アルミニウム蒸着層)が積層された基材を用いた。具体的には、アルミニウム蒸着層が形成された二軸延伸エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム(株式会社クラレ製、VM−XL(商品名)、厚さ12μm、以下「蒸着EVOH」と略記することがある)を用いた。
<Laminated body (38)>
The laminate (38) was produced under the same conditions as the laminate (35) except that the substrate was changed. In the production of the laminate (38), a substrate on which an inorganic layer (aluminum vapor deposition layer) was laminated was used instead of the substrate of the laminate (35). Specifically, a biaxially stretched ethylene-vinyl alcohol copolymer film (a product of Kuraray Co., Ltd., VM-XL (trade name), thickness 12 μm, hereinafter abbreviated as “deposition EVOH”) on which an aluminum deposition layer is formed. Used).

<積層体(39)>
積層体(39)の作製では、TMOS/GPTMOSのモル比が89.9/10.1、[TMOSとGPTMOSに由来する無機成分]/[GPTMOSの有機成分とPAAの部分中和物]の重量比が31.5/68.5となるように、混合液(T39)を調製した。具体的には、まず、TMOS46重量部およびGPTMOS8重量部を、メタノール50重量部に溶解した。これにTMOSとGPTMOSの合計に対する水の割合が1.95モル当量でpHが2以下となるよう、蒸留水3.2重量部と0.1Nの塩酸7.8重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T39)を得た。
<Laminated body (39)>
In the production of the laminate (39), the molar ratio of TMOS / GPTMOS was 89.9 / 10.1, [inorganic component derived from TMOS and GPTMOS] / [partial neutralized product of organic component of GPTMOS and PAA]. A mixed solution (T39) was prepared so that the ratio was 31.5 / 68.5. Specifically, first, 46 parts by weight of TMOS and 8 parts by weight of GPTMOS were dissolved in 50 parts by weight of methanol. To this was added 3.2 parts by weight of distilled water and 7.8 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid so that the ratio of water to the total of TMOS and GPTMOS was 1.95 molar equivalent and the pH was 2 or less. The mixture was subjected to hydrolysis and condensation reaction for 5 hours to obtain a mixed solution (T39).

続いて、PAAの部分中和物水溶液を、積層体(1)と同様に調製した。次に、混合液(T36)を蒸留水61重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)308重量部を速やかに添加し、固形分濃度13重量%の混合液(U39)を得た。   Subsequently, a partially neutralized aqueous solution of PAA was prepared in the same manner as in the laminate (1). Next, after diluting the mixed liquid (T36) with 61 parts by weight of distilled water, 308 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring to obtain a solid content concentration of 13% by weight. A liquid mixture (U39) was obtained.

一方、酢酸エチル67重量部に溶解させた2液型のアンカーコート剤(三井武田ケミカル株式会社製:タケラックA−626(商品名)1重量部およびタケネートA−50(商品名)2重量部)を、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(上述した「PET」)上にコートし、乾燥させることによってアンカーコート層を有する基材(AC(0.1μm)/PET(12μm))を作製した。この基材のアンカーコート層上に、乾燥後の厚さが1.0μmとなるようにバーコータによって混合液(U39)をコートし120℃で5分間乾燥した。同様の手順で、基材の両面にコートを行い、積層体を得た。この積層体を、40℃で3日間エージングを行なった。続いて、積層体に対して、乾燥機を用い180℃で5分間熱処理を施した。次に、積層体を、2重量%の酢酸カルシウム水溶液(85℃)に12秒間浸漬した後、50℃で5分乾燥を行った。このようにして、ガスバリア層(1.0μm)/AC(0.1μm)/PET(12μm)/AC(0.1μm)/ガスバリア層(1.0μm)という構造を有する積層体(39)を得た。   On the other hand, a two-component anchor coating agent dissolved in 67 parts by weight of ethyl acetate (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd .: Takelac A-626 (trade name) 1 part by weight and Takenate A-50 (trade name) 2 parts by weight) Was coated on a stretched polyethylene terephthalate film (“PET” described above) and dried to prepare a substrate (AC (0.1 μm) / PET (12 μm)) having an anchor coat layer. On the anchor coat layer of this substrate, the mixed solution (U39) was coated with a bar coater so that the thickness after drying was 1.0 μm, and dried at 120 ° C. for 5 minutes. In the same procedure, both sides of the substrate were coated to obtain a laminate. This laminate was aged at 40 ° C. for 3 days. Subsequently, the laminate was heat-treated at 180 ° C. for 5 minutes using a dryer. Next, the laminate was immersed in a 2% by weight calcium acetate aqueous solution (85 ° C.) for 12 seconds and then dried at 50 ° C. for 5 minutes. In this way, a laminate (39) having a structure of gas barrier layer (1.0 μm) / AC (0.1 μm) / PET (12 μm) / AC (0.1 μm) / gas barrier layer (1.0 μm) is obtained. It was.

<積層体(40)>
積層体(40)の作製には、積層体(39)で得られた混合液(U39)と同様の組成および方法で得た混合液(U40)を使用した。また、基材をOPAにした以外は、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化乾燥を行い、積層体(40)を得た。
<Laminated body (40)>
For the production of the laminate (40), a mixed solution (U40) obtained by the same composition and method as the mixed solution (U39) obtained from the laminate (39) was used. Also, except that the base material was OPA, coating, heat treatment and ionization drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (40).

<積層体(41)>
固形分濃度を5重量%にした以外は、積層体(39)と同様に混合液(U41)を得た。まず、積層体(39)の混合液(T39)と同様の組成および方法で調製した混合液(T41)を蒸留水542重量部、メタノール293重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)308重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U41)を得た。
<Laminated body (41)>
A mixed solution (U41) was obtained in the same manner as in the laminate (39) except that the solid content concentration was changed to 5% by weight. First, after the liquid mixture (T41) prepared by the same composition and method as the liquid mixture (T39) of the laminate (39) was diluted with 542 parts by weight of distilled water and 293 parts by weight of methanol, 308 parts by weight of an aqueous solution of a Japanese product (concentration 13% by weight) was quickly added to obtain a mixed solution (U41) having a solid content concentration of 5% by weight.

混合液(U41)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い積層体(41)を得た。   Using the mixed solution (U41), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (41).

<積層体(42)>
積層体(42)の作製には、積層体(41)で得られた混合液(U41)と同様の組成および方法で得た混合液(U42)を使用した。また、積層体(34)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(42)を得た。
<Laminated body (42)>
For the production of the laminate (42), a mixed solution (U42) obtained by the same composition and method as the mixed solution (U41) obtained from the laminate (41) was used. In addition, coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (34) to obtain a laminate (42).

<積層体(43)>
PAAの部分中和物水溶液およびAIP水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。TMOS、GPTMOSは加えずに[AIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が1.0/99.0となるように、混合液(U43)を調製した。具体的には、9.88重量%AIP水溶液(S43)2.1重量部に、PAAの部分中和物水溶液(濃度5重量%)100重量部を速やかに添加し、混合液(U43)を得た。
<Laminated body (43)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA and an AIP aqueous solution were prepared in the same manner as in the laminate (1). A liquid mixture (U43) was prepared so that the weight ratio of [inorganic component derived from AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 1.0 / 99.0 without adding TMOS and GPTMOS. Specifically, 100 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 5% by weight) is quickly added to 2.1 parts by weight of the 9.88% by weight AIP aqueous solution (S43), and the mixed solution (U43) is added. Obtained.

混合液(U43)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(43)を得た。   Using the mixed solution (U43), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (43).

<積層体(44)>
PAAの部分中和物水溶液は、積層体(1)と同様に調製した。[チタンラクテートに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が0.9/99.1となるように混合液(U44)を調製した。具体的には、チタンラクテートのイソプロピルアルコール溶液(濃度10重量%)1.6重量部を、PAAの部分中和物の水溶液(濃度5重量%)100重量部に添加し、混合液(U44)を得た。
<Laminated body (44)>
A partially neutralized aqueous solution of PAA was prepared in the same manner as in the laminate (1). A mixed solution (U44) was prepared so that the weight ratio of [inorganic component derived from titanium lactate] / [partially neutralized product of PAA] was 0.9 / 99.1. Specifically, 1.6 parts by weight of an isopropyl alcohol solution of titanium lactate (concentration 10% by weight) is added to 100 parts by weight of an aqueous solution of partially neutralized PAA (concentration 5% by weight), and a mixed solution (U44) Got.

混合液(U44)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い、積層体(44)を得た。   Using the mixed solution (U44), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (44).

<積層体(45)>
Al/Siのモル比が40.4/59.6、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が40.3/59.7となるようにした以外は積層体(3)と同様の仕込み比で、混合液(U45)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S45)461重量部を加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T45)を得た。続いて、混合液(T45)を、蒸留水567重量部およびメタノール283重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)354重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U45)を得た。
<Laminated body (45)>
The molar ratio of Al / Si was 40.4 / 59.6, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 40.3 / 59.7. A mixed solution (U45) was prepared with the same charging ratio as in the laminate (3) except for the above. Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 461 parts by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S45) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. To obtain a mixed solution (T45). Subsequently, after the mixed solution (T45) was diluted with 567 parts by weight of distilled water and 283 parts by weight of methanol, 354 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U45) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U45)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い積層体(45)を得た。   Using the mixed solution (U45), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (45).

<積層体(46)>
Al/Siのモル比が0.06/99.94、[TMOSおよびAIPに由来する無機成分]/[PAAの部分中和物]の重量比が70.0/30.0となるようにした以外は積層体(3)と同様の仕込み比で、混合液(U46)を調製した。具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液(S46)0.4重量部を加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で5時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T46)を得た。続いて、混合液(T46)を蒸留水243重量部、メタノール144重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物水溶液(濃度13重量%)65重量部を速やかに添加し、固形分濃度5重量%の混合液(U46)を得た。
<Laminated body (46)>
The molar ratio of Al / Si was 0.06 / 99.94, and the weight ratio of [inorganic component derived from TMOS and AIP] / [partially neutralized product of PAA] was 70.0 / 30.0. Except for the above, a mixed solution (U46) was prepared at the same charging ratio as in the laminate (3). Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 0.4 part by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S46) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 5 hours. And a liquid mixture (T46) was obtained. Subsequently, the mixed liquid (T46) was diluted with 243 parts by weight of distilled water and 144 parts by weight of methanol, and then 65 parts by weight of a partially neutralized aqueous solution of PAA (concentration 13% by weight) was rapidly added while stirring. A mixed solution (U46) having a partial concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U46)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い積層体(46)を得た。   Using the mixed solution (U46), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (46).

<積層体(47)>
積層体(46)と同様の仕込み比で、反応時間のみを変えて、混合液(U47)を調製した。
<Laminated body (47)>
A mixed solution (U47) was prepared by changing the reaction time only at the same charging ratio as in the laminate (46).

具体的には、まず、TMOS50重量部をメタノール50重量部に溶解し、これに9.88重量%AIP水溶液0.4重量部(S47)を加えた。さらに、TMOSに対する水の割合が1.95モル当量となるよう蒸留水を3.3重量部と0.1Nの塩酸8.2重量部とを加え、10℃で1時間、加水分解および縮合反応を行い、混合液(T47)を得た。続いて、混合液(T47)を蒸留水243重量部、メタノール144重量部で希釈した後、攪拌しながらPAAの部分中和物の水溶液(濃度13重量%)65重量部を速やかに添加し、固形分濃度が5重量%の混合液(U47)を得た。   Specifically, first, 50 parts by weight of TMOS was dissolved in 50 parts by weight of methanol, and 0.4 part by weight of a 9.88 wt% AIP aqueous solution (S47) was added thereto. Further, 3.3 parts by weight of distilled water and 8.2 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid were added so that the ratio of water to TMOS was 1.95 molar equivalent, and hydrolysis and condensation reaction was performed at 10 ° C. for 1 hour. And a mixed solution (T47) was obtained. Subsequently, after the mixed liquid (T47) was diluted with 243 parts by weight of distilled water and 144 parts by weight of methanol, 65 parts by weight of an aqueous solution (partial concentration 13% by weight) of a partially neutralized PAA was rapidly added while stirring. A liquid mixture (U47) having a solid content concentration of 5% by weight was obtained.

混合液(U47)を用い、積層体(1)と同様にコート、熱処理、イオン化、乾燥を行い積層体(47)を得た。   Using the mixed solution (U47), coating, heat treatment, ionization and drying were performed in the same manner as in the laminate (1) to obtain a laminate (47).

<積層体(48)>
積層体(48)の作製には、積層体(21)で得られた混合液(U21)と同様の組成および方法で得た混合液(U48)を使用した。また、積層体(1)と同様にコートおよび熱処理を行って積層体(48)を作製した。
<Laminated body (48)>
For the production of the laminate (48), a mixture (U48) obtained by the same composition and method as the mixture (U21) obtained from the laminate (21) was used. In addition, coating and heat treatment were performed in the same manner as in the laminate (1) to produce a laminate (48).

[積層体の評価結果]
作製した積層体を、上述した方法によって評価した。なお、積層体(37)と(38)についての評価は行わなかった。また、積層体の基材として用いた、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET)および延伸ポリアミドフィルム(OPA)について、積層体と同様の評価を行った。積層体の作製条件を表1に示す。
[Evaluation results of laminate]
The produced laminate was evaluated by the method described above. The laminates (37) and (38) were not evaluated. The stretched polyethylene terephthalate film (PET) and stretched polyamide film (OPA) used as the substrate of the laminate were evaluated in the same manner as the laminate. The production conditions for the laminate are shown in Table 1.

Figure 0005330179
Figure 0005330179

積層体および基材の評価結果を表2に示す。   Table 2 shows the evaluation results of the laminate and the substrate.

Figure 0005330179
Figure 0005330179

積層体(39)のガスバリア層の合計の厚さは2.0μmである。このようにガスバリア層の合計の厚さが厚い(たとえば1.0μmより大きい)と、積層体の物理的特性が、基材(PET)の物理的特性とは大きく異なり、加工性が低下してしまう。そのため、ガスバリア層を厚くすると、生産性が低下してしまうという問題が生じる。一方、積層体(1)〜(33)のように、ガスバリア層の合計の厚さが薄い積層体は、基材(PET)に近い物理的特性を示し、加工性が良好である。そのため、生産性よく真空断熱体を製造するためには、ガスバリア層の合計の厚さを薄く(たとえば1.0μm以下)することが重要である。   The total thickness of the gas barrier layers of the laminate (39) is 2.0 μm. Thus, when the total thickness of the gas barrier layer is large (for example, larger than 1.0 μm), the physical properties of the laminate are greatly different from the physical properties of the base material (PET), and the workability is reduced. End up. Therefore, when the gas barrier layer is made thick, there arises a problem that productivity is lowered. On the other hand, a laminate having a thin total gas barrier layer, such as laminates (1) to (33), exhibits physical properties close to that of the base material (PET) and has good workability. Therefore, in order to produce a vacuum heat insulator with high productivity, it is important to reduce the total thickness of the gas barrier layer (for example, 1.0 μm or less).

[真空断熱体の作製および評価]   [Production and evaluation of vacuum insulation]

<実施例1>
厚さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(東セロ株式会社製トーセロCP RXC−18。以下、「CPP」と略記することがある)の片面と、厚さ15μmの延伸ポリアミドフィルム(ユニチカ株式会社製エンブレム(OPA))の片面のそれぞれに接着剤を塗布した。そして、OPA層/接着剤層/積層体(9)/接着剤層/CPP層、という構成となるように、CPPフィルム、OPAフィルム、および積層体(9)をラミネートすることによって、ラミネート体を得た。
<Example 1>
One side of a 60 μm-thick unstretched polypropylene film (Tosero CP RXC-18 manufactured by Tosero Co., Ltd .; hereinafter sometimes abbreviated as “CPP”), and a 15 μm-thick stretched polyamide film (Unita Co., Ltd. emblem (OPA An adhesive was applied to each of one side of)). Then, by laminating the CPP film, the OPA film, and the laminate (9) so as to have a configuration of OPA layer / adhesive layer / laminate (9) / adhesive layer / CPP layer, the laminate is obtained. Obtained.

そのラミネート体を裁断し、サイズが70cm×30cmであるラミネート体を2枚得た。その2枚のラミネート体をCPP層同士が内面となるように重ね合わせ、3方を10mm幅でヒートシールして3方袋を作製した。次に、3方袋の開口部から断熱性の芯材を充填し、真空包装機(Frimark GmbH製VAC−STAR 2500型)を用いて、温度20℃で内部圧力10Paの状態で3方袋を密封することによって、実施例1の真空断熱体を得た。断熱性の芯材には、120℃の雰囲気下で4時間乾燥したシリカ微粉末を用いた。得られた真空断熱体を40℃、15%RHで360日間放置した後、ピラニー真空計を用いて真空断熱体の内部の圧力を測定した。   The laminate was cut to obtain two laminates having a size of 70 cm × 30 cm. The two laminates were overlapped so that the CPP layers were the inner surfaces, and the three sides were heat-sealed with a width of 10 mm to produce a three-sided bag. Next, a heat insulating core material is filled from the opening of the three-sided bag, and the three-sided bag is placed at a temperature of 20 ° C. and an internal pressure of 10 Pa using a vacuum packaging machine (VAC-STAR 2500 type manufactured by Frimark GmbH). The vacuum insulator of Example 1 was obtained by sealing. Silica fine powder dried for 4 hours in an atmosphere at 120 ° C. was used as the heat insulating core material. The obtained vacuum insulator was allowed to stand at 40 ° C. and 15% RH for 360 days, and then the pressure inside the vacuum insulator was measured using a Pirani vacuum gauge.

<実施例2〜12>
積層体(9)の代わりに積層体(8)、(12)〜(18)、(21)、(37)、または(38)を使用したことを除いて実施例1と同様にして、実施例2〜12の真空断熱体を作製した。この真空断熱体を40℃、15%RHで360日間放置した後、ピラニー真空計を用いて真空断熱体の内部の圧力を測定した。
<Examples 2 to 12>
The same as in Example 1 except that the laminate (8), (12) to (18), (21), (37), or (38) was used instead of the laminate (9). The vacuum insulators of Examples 2-12 were prepared. The vacuum insulator was allowed to stand at 40 ° C. and 15% RH for 360 days, and then the pressure inside the vacuum insulator was measured using a Pirani vacuum gauge.

<参考例1>
積層体(9)の代わりに積層体(39)を使用したことを除いて実施例1と同様にして、参考例1の真空断熱体を作製した。この真空断熱体を40℃、15%RHで360日間放置した後、ピラニー真空計を用いて真空断熱体の内部の圧力を測定した。
<Reference Example 1>
A vacuum heat insulator of Reference Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminate (39) was used instead of the laminate (9). The vacuum insulator was allowed to stand at 40 ° C. and 15% RH for 360 days, and then the pressure inside the vacuum insulator was measured using a Pirani vacuum gauge.

<比較例1〜3>
積層体(9)の代わりに積層体(45)〜(47)を使用したことを除いて実施例1と同様にして、比較例1〜3の真空断熱体を作製した。この真空断熱体を40℃、15%RHで360日間放置した後、ピラニー真空計を用いて真空断熱体の内部の圧力を測定した。
<Comparative Examples 1-3>
Vacuum heat insulators of Comparative Examples 1 to 3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the laminates (45) to (47) were used instead of the laminate (9). The vacuum insulator was allowed to stand at 40 ° C. and 15% RH for 360 days, and then the pressure inside the vacuum insulator was measured using a Pirani vacuum gauge.

実施例および比較例の真空断熱体の評価結果を表3に示す。   Table 3 shows the evaluation results of the vacuum insulators of the examples and comparative examples.

Figure 0005330179
Figure 0005330179

実施例の真空断熱体は、40℃、15%RHで360日間の保存試験後においても高い真空度を維持することができた。   The vacuum insulators of the examples were able to maintain a high degree of vacuum even after a storage test for 360 days at 40 ° C. and 15% RH.

また、実施例10〜12から、基材に無機蒸着層を積層すること、および、基材にガスバリア性樹脂フィルムを使用することによって、より高い真空度を維持できることが示された。   Moreover, Examples 10-12 showed that a higher vacuum degree can be maintained by laminating an inorganic vapor deposition layer on a base material and using a gas barrier resin film on the base material.

以上のように、本発明のガスバリア層を用いた真空断熱体は、長期にわたって優れた特性を示した。   As described above, the vacuum insulator using the gas barrier layer of the present invention exhibited excellent characteristics over a long period of time.

本発明は、保冷や保温が必要な各種用途に使用することができる真空断熱体に利用できる。本発明の真空断熱体は、長期間にわたって断熱効果を保持できる。そのため、本発明の真空断熱体は、冷蔵庫、給湯設備および炊飯器などの家電製品用の断熱材、壁部、天井部、屋根裏部および床部などに用いられる住宅用断熱材、車両屋根材、自動販売機などの断熱パネルなどに利用できる。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized for the vacuum heat insulating body which can be used for the various uses which need cold preservation and heat insulation. The vacuum heat insulating body of the present invention can maintain a heat insulating effect over a long period of time. Therefore, the vacuum heat insulating body of the present invention is a heat insulating material for household appliances such as a refrigerator, a hot water supply facility and a rice cooker, a heat insulating material for a house used for a wall portion, a ceiling portion, an attic portion and a floor portion, a vehicle roof material, It can be used for insulation panels such as vending machines.

10、20 真空断熱体
11 包装材
12 粉体
13 発泡体
10, 20 Vacuum insulator 11 Packaging material 12 Powder 13 Foam

Claims (9)

芯材と前記芯材を包装する包装材とを含み前記包装材内の空間部が真空状態である真空断熱体であって、
前記包装材はガスバリア性積層体を含み、
前記ガスバリア性積層体は、基材と前記基材に積層された少なくとも1つのガスバリア性を有する層とを含み、
前記ガスバリア性を有する層は、加水分解性を有する特性基を含有する少なくとも1種の化合物(L)の加水分解縮合物と、カルボキシル基およびカルボン酸無水物基から選ばれる少なくとも1つの官能基を含有する重合体(X)の中和物とを含む組成物からなり、
前記化合物(L)は、化合物(A)と、加水分解性を有する特性基が結合したSiを含有する化合物(B)とを含み、
前記化合物(A)は、以下の式(I)で表される少なくとも1種の化合物であり、
11 m1 n-m・・・(I)
[式(I)中、M1はAl、Ti、およびZrから選ばれるいずれか1つを表す。X1は、F、Cl、Br、I、OR1、R2COO、R3COCHCOR4、およびNO3から選ばれるいずれか1つを表す。Y1は、F、Cl、Br、I、OR5、R6COO、R7COCHCOR8、NO3およびR9から選ばれるいずれか1つを表す。R1、R2、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。R3、R4、R7、R8およびR9は、それぞれ独立にアルキル基を表す。nはM1の原子価と等しい。mは1〜nの整数を表す。]
前記化合物(B)は、以下の式(II)で表される少なくとも1種の化合物を含み、
Si(OR10p11 4-p-q2 q・・・(II)
[式(II)中、R10はアルキル基を表す。R11はアルキル基、アラルキル基、アリール基またはアルケニル基を表す。X2はハロゲン原子を表す。pおよびqは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す。1≦p+q≦4である。]
前記重合体(X)の前記官能基に含まれる−COO−基の少なくとも一部が2価以上の金属イオンで中和されており、
前記化合物(B)に占める前記式(II)で表される化合物の割合が80モル%以上であり、
前記組成物において、[前記化合物(A)に由来する前記M1原子のモル数]/[前記化合物(B)に由来するSi原子のモル数]の比が0.1/99.9〜35.0/65.0の範囲にある、真空断熱体。
A vacuum insulator including a core material and a packaging material for packaging the core material, wherein the space in the packaging material is in a vacuum state,
The packaging material includes a gas barrier laminate,
The gas barrier laminate includes a substrate and at least one gas barrier layer laminated on the substrate,
The layer having gas barrier property includes a hydrolysis condensate of at least one compound (L) containing a hydrolyzable characteristic group, and at least one functional group selected from a carboxyl group and a carboxylic anhydride group. Comprising a neutralized product of the polymer (X) contained,
The compound (L) includes a compound (A) and a compound (B) containing Si to which a hydrolyzable characteristic group is bonded,
The compound (A) is at least one compound represented by the following formula (I):
M 1 X 1 m Y 1 nm (I)
[In Formula (I), M 1 represents any one selected from Al, Ti, and Zr. X 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 1 , R 2 COO, R 3 COCHCOR 4 , and NO 3 . Y 1 represents any one selected from F, Cl, Br, I, OR 5 , R 6 COO, R 7 COCHCOR 8 , NO 3 and R 9 . R 1 , R 2 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 , R 4 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group. n is equal to the valence of M 1 . m represents an integer of 1 to n. ]
The compound (B) includes at least one compound represented by the following formula (II):
Si (OR 10 ) p R 11 4-pq X 2 q (II)
[In the formula (II), R 10 represents an alkyl group. R 11 represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkenyl group. X 2 represents a halogen atom. p and q represent the integer of 0-4 each independently. 1 ≦ p + q ≦ 4. ]
At least a part of —COO— group contained in the functional group of the polymer (X) is neutralized with a divalent or higher metal ion,
The proportion of the compound represented by the formula (II) in the compound (B) is 80 mol% or more,
In the composition, a ratio of [number of moles of the M 1 atom derived from the compound (A)] / [number of moles of Si atom derived from the compound (B)] is 0.1 / 99.9 to 35. Vacuum insulator in the range of 0.0 / 65.0.
前記化合物(B)は、以下の式(III)で表される少なくとも1種の化合物をさらに含み、
Si(OR12r3 s3 4-r-s・・・(III)
[式(III)中、R12はアルキル基を表す。X3はハロゲン原子を表す。Z3は、カルボキシル基との反応性を有する官能基で置換されたアルキル基を表す。rおよびsは、それぞれ独立に0〜3の整数を表す。1≦r+s≦3である。]
[前記式(II)で表される化合物に由来するSi原子のモル数]/[前記式(III)で表される化合物に由来するSi原子のモル数]の比が、99.5/0.5〜80.0/20.0の範囲にある、請求項1に記載の真空断熱体。
The compound (B) further includes at least one compound represented by the following formula (III):
Si (OR 12 ) r X 3 s Z 3 4-rs (III)
[In the formula (III), R 12 represents an alkyl group. X 3 represents a halogen atom. Z 3 represents an alkyl group substituted with a functional group having reactivity with a carboxyl group. r and s each independently represent an integer of 0 to 3. 1 ≦ r + s ≦ 3. ]
The ratio [number of moles of Si atoms derived from the compound represented by the formula (II)] / [number of moles of Si atoms derived from the compound represented by the formula (III)] was 99.5 / 0. The vacuum insulator according to claim 1, which is in a range of 5 to 80.0 / 20.0.
前記M1がAlである、請求項1または2に記載の真空断熱体。 The vacuum heat insulating body according to claim 1 or 2, wherein the M 1 is Al. [前記化合物(L)に由来する無機成分の重量]/[前記化合物(L)に由来する有機成分の重量と前記重合体(X)に由来する有機成分の重量との合計]の比が、20.0/80.0〜80.0/20.0の範囲にある、請求項1〜3のいずれか1項に記載の真空断熱体。   The ratio of [weight of inorganic component derived from the compound (L)] / [total weight of organic component derived from the compound (L) and weight of organic component derived from the polymer (X)] is: The vacuum heat insulating body of any one of Claims 1-3 which exists in the range of 20.0 / 80.0-80.0 / 20.0. [前記化合物(L)に由来する無機成分の重量]/[前記化合物(L)に由来する有機成分の重量と前記重合体(X)に由来する有機成分の重量との合計]の比が、30.5/69.5〜70.0/30.0の範囲にある、請求項1〜3のいずれか1項に記載の真空断熱体。   The ratio of [weight of inorganic component derived from the compound (L)] / [total weight of organic component derived from the compound (L) and weight of organic component derived from the polymer (X)] is: The vacuum heat insulating body of any one of Claims 1-3 which exists in the range of 30.5 / 69.5-70.0 / 30.0. 前記基材と前記ガスバリア性を有する層との間に、蒸着法によって形成された無機層が配置されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の真空断熱体。   The vacuum heat insulating body of any one of Claims 1-5 by which the inorganic layer formed by the vapor deposition method is arrange | positioned between the said base material and the said layer which has the said gas barrier property. 前記無機層がアルミニウム原子を含む、請求項6に記載の真空断熱体。   The vacuum insulator according to claim 6, wherein the inorganic layer contains aluminum atoms. 前記基材がエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる、請求項6または7に記載の真空断熱体。   The vacuum insulator according to claim 6 or 7, wherein the substrate is made of an ethylene-vinyl alcohol copolymer. 前記少なくとも1つのガスバリア性を有する層の厚さの合計が1μm以下である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の真空断熱体。   The vacuum heat insulating body of any one of Claims 1-8 whose sum total of the thickness of the layer which has the said at least 1 gas-barrier property is 1 micrometer or less.
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