JP5328287B2 - Electrophotographic image forming apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic image forming apparatus that has a developer carrier including Si-O bond and Si-C bond and suppressing a change in developing performance with time, and that stably forms a high quality electrophotographic image. <P>SOLUTION: The electrophotographic image forming apparatus applies a bias voltage between a photoreceptor and a developing roller and develops an electrostatic latent image with toner. The developing roller includes a surface layer having a predetermined layer thickness. The surface layer is formed from a film of silicon oxide containing a carbon atom chemically bonding with a silicon atom. The total of Si, O, C, and H atoms that are present are 90% or more relative to all atoms. The abundance ratio (O/Si) is 0.65 to 1.95. The abundance ratio (C/Si) in the surface of the surface layer is 0.05 to 0.70. In addition, the surface layer has a predetermined capacitance. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、電子写真画像形成装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic image forming apparatus.

従来の電子写真方式を用いたプリンタにおいては、その内部には現像装置が設置されており、画像は、帯電、潜像形成、現像、転写、転写残のクリーニング、定着のプロセスを経て形成される。現像装置は、電子写真感光体を備えており、かつクリーニング部、帯電部、潜像形成部、現像部及び転写部からなる。この現像装置で形成された感光体上の画像は転写部で記録材に転写される。続いて、画像が転写された記録材は、定着部に搬送されて加熱・加圧され、定着された記録画像として排出される。また、カラー画像の形成可能なプリンタとして、前記現像装置を複数個備え、複数色の画像を重ね合わせてカラー画像として排出されるカラープリンタが知られている。   In a conventional printer using an electrophotographic system, a developing device is installed inside, and an image is formed through processes of charging, latent image formation, development, transfer, residual transfer cleaning, and fixing. . The developing device includes an electrophotographic photosensitive member, and includes a cleaning unit, a charging unit, a latent image forming unit, a developing unit, and a transfer unit. The image on the photoconductor formed by this developing device is transferred to a recording material at a transfer portion. Subsequently, the recording material onto which the image has been transferred is conveyed to a fixing unit, heated and pressurized, and discharged as a fixed recorded image. As a printer capable of forming a color image, a color printer that includes a plurality of the developing devices and superimposes a plurality of color images and discharges them as a color image is known.

電子写真法における現像方式は主として一成分現像方式と二成分現像方式に分けられる。従来、これらのフルカラー画像を出力するには、二成分系現像剤が用いられてきた。しかし近年では、電子写真装置の軽量・小型化等を目的として、一成分現像方式を用いた現像装置を使用する場合も多くなってきている。   Development methods in electrophotography are mainly divided into a one-component development method and a two-component development method. Conventionally, two-component developers have been used to output these full-color images. However, in recent years, a developing device using a one-component developing system is often used for the purpose of reducing the weight and size of the electrophotographic apparatus.

一成分現像方式には、トナー中に磁性体を含有しない非磁性トナーと磁性体を含有する磁性トナーを用いる場合があるが、フルカラー画像に用いる場合には色再現性の点から磁性体を含まない非磁性一成分現像剤が用いられることが多い。   In the one-component development system, a non-magnetic toner containing no magnetic material and a magnetic toner containing a magnetic material may be used in the toner, but when using for a full color image, the magnetic material is included from the viewpoint of color reproducibility. Non-magnetic single component developers are often used.

一成分現像方式を用いた現像装置として、ジャンピング現像方式の現像装置が知られている。ジャンピング現像方式は、表面に薄層のトナー層が形成された現像剤担持体と感光ドラムとを当該トナー層の厚さ以上の間隙をもって対向させ、現像剤担持体と感光ドラムとの間に交流電圧成分を有するバイアス電圧を印加してそれらの間に電界を形成する。そして、トナーを現像剤担持体から感光ドラムに移行させて現像を行うものである。
従って、このような現像方式に用いる現像剤担持体の表面層の静電容量を制御することは、現像性能のより一層の向上を図るうえで重要である。具体的には、表面層の静電容量を小さくして時定数τを低下させることによって現像剤担持体の電気応答性を向上させることができる。
一方、当該表面層は、現像剤量規制ブレードや現像剤供給ローラと常時当接する現像剤担持体の摩耗を抑制するという役割を担っている。そのため、表面層には優れた機械的強度が求められている。そして、特許文献1は、機械的強度に優れた表面層としてSiO2薄膜の使用を提案している。
As a developing device using a one-component developing method, a jumping developing method developing device is known. In the jumping development method, a developer carrying member having a thin toner layer formed on the surface thereof and the photosensitive drum are opposed to each other with a gap larger than the thickness of the toner layer, and an AC is applied between the developer carrying member and the photosensitive drum. A bias voltage having a voltage component is applied to form an electric field therebetween. Then, development is performed by transferring the toner from the developer carrying member to the photosensitive drum.
Therefore, it is important to control the electrostatic capacity of the surface layer of the developer carrying member used in such a development system in order to further improve the development performance. Specifically, the electrical responsiveness of the developer carrying member can be improved by reducing the capacitance of the surface layer and reducing the time constant τ.
On the other hand, the surface layer plays a role of suppressing wear of the developer carrier that is always in contact with the developer amount regulating blade and the developer supply roller. Therefore, the surface layer is required to have excellent mechanical strength. Patent Document 1 proposes the use of a SiO 2 thin film as a surface layer having excellent mechanical strength.

特開平02−32380号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-32380

本発明者らが上記特許文献1の発明を検討したところ、SiO2薄膜からなる表面層は、比誘電率が高いため、上記した理由から必ずしもジャンピング現像方式に適した現像剤担持体とは言えないとの認識を得た。また、SiO2薄膜は、成膜条件によっては、強い内部応力を内包し、それに起因するひび割れが生じることがあった。 When the present inventors examined the invention of Patent Document 1, the surface layer made of the SiO 2 thin film has a high relative dielectric constant. Therefore, it can be said that it is not necessarily a developer carrier suitable for the jumping development system for the reasons described above. I got the recognition that it was not. In addition, the SiO 2 thin film includes a strong internal stress depending on the film forming conditions, and cracks resulting from the stress may occur.

本発明者らは、これまでの検討で、Si−O及びSi−Cの化学結合を有する酸化ケイ素膜は、SiO2膜と比較して低い比誘電率を有し、高い機械的強度を有し、且つ、良好な可撓性を有することからひび割れが生じにくいという特性を示すことを見出している。そこで、このような酸化ケイ素膜からなる表面層を備えた現像剤担持体のジャンピング現像方式への適用を試みた。その結果、初期性能は良好であるものの、電子写真画像の形成を繰り返したときの現像性能の低下が新たな課題として見出された。そして、この課題は、当該酸化ケイ素膜中のSi−C結合が、感光体と現像剤担持体との間で生じる放電によりSi−O結合に変化し、表面層の比誘電率が経時的に上昇していることに起因しているとの知見を得た。 In the previous studies, the present inventors have found that a silicon oxide film having a chemical bond of Si—O and Si—C has a lower relative dielectric constant and higher mechanical strength than an SiO 2 film. In addition, it has been found that since it has good flexibility, it exhibits the characteristic that cracks are unlikely to occur. Therefore, an attempt was made to apply the developer carrier having such a surface layer made of a silicon oxide film to a jumping development system. As a result, although the initial performance is good, a decrease in development performance when the formation of an electrophotographic image is repeated has been found as a new problem. The problem is that the Si—C bond in the silicon oxide film is changed to a Si—O bond by the discharge generated between the photoreceptor and the developer carrying member, and the relative dielectric constant of the surface layer changes over time. We obtained the knowledge that it was caused by the rise.

そこで、本発明の目的は、Si−O結合とSi−C結合とを含み、且つ、経時的な現像性能の変化を抑制した現像剤担持体を備え、高品質な電子写真画像を安定して形成することのできる電子写真画像形成装置の提供にある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a developer carrying body that includes Si—O bonds and Si—C bonds and suppresses changes in development performance over time, and stably produces high-quality electrophotographic images. The present invention provides an electrophotographic image forming apparatus that can be formed.

すなわち、本発明は、
感光体と、表面に現像剤を担持し該感光体に形成される静電潜像の現像領域に該現像剤を搬送する現像ローラとを有し、
該感光体と該現像ローラとの間に、交流電圧を含むバイアス電圧を印加し、該感光体に形成される静電潜像をトナーで現像する電子写真画像形成装置において、
該現像ローラは、50nm以上5000nm以下の膜厚を有する表面層を具備し、該表面層は、
ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含有する酸化ケイ素膜からなり、
高周波グロー放電発光表面分析法により測定したSi、O、C、Hの存在元素数の合計が全元素に対して90%以上であり、
ケイ素原子と化学結合を形成している酸素原子のケイ素原子に対する存在比(O/Si)が0.65以上1.95以下であり、
該表面層の表面における、ケイ素原子と化学結合している炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)が0.05以上0.70以下であり、且つ、
0.10pF以上10.0pF以下の静電容量を有していることを特徴とする電子写真画像形成装置である。
That is, the present invention
A photosensitive member, and a developing roller that carries the developer on the surface and conveys the developer to a developing region of an electrostatic latent image formed on the photosensitive member,
In an electrophotographic image forming apparatus that applies a bias voltage including an alternating voltage between the photoconductor and the developing roller and develops an electrostatic latent image formed on the photoconductor with toner.
The developing roller includes a surface layer having a film thickness of 50 nm or more and 5000 nm or less.
It consists of a silicon oxide film containing carbon atoms that are chemically bonded to silicon atoms,
The total number of existing elements of Si, O, C, and H measured by high-frequency glow discharge luminescence surface analysis is 90% or more with respect to all elements,
The abundance ratio (O / Si) of oxygen atoms forming chemical bonds with silicon atoms to silicon atoms is 0.65 or more and 1.95 or less,
The abundance ratio (C / Si) of carbon atoms chemically bonded to silicon atoms on the surface of the surface layer is from 0.05 to 0.70, and
An electrophotographic image forming apparatus having a capacitance of 0.10 pF to 10.0 pF.

本発明は、表面層が高耐久性と高い密着性を達成でき、かつ、トナーの離型性に優れているために、フィルミングの発生を抑制することが可能な電子写真画像形成装置を提供することが出来る。   The present invention provides an electrophotographic image forming apparatus capable of suppressing the occurrence of filming because the surface layer can achieve high durability and high adhesion and is excellent in toner releasability. I can do it.

また、静電容量を低く抑えた現像ローラを有するために、電気応答性に優れ、良質な画像が得られる電子写真画像形成装置を提供することが出来る。   Further, since the developing roller having a low electrostatic capacity is provided, it is possible to provide an electrophotographic image forming apparatus that is excellent in electrical responsiveness and capable of obtaining a high-quality image.

さらには、耐コロナ性に優れているため、長時間の使用においても画像特性に優れた電子写真画像形成装置を提供することが出来る。   Furthermore, since it is excellent in corona resistance, it is possible to provide an electrophotographic image forming apparatus excellent in image characteristics even when used for a long time.

以下、本発明の形態を説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。   Hereinafter, although the form of this invention is demonstrated, this invention is not limited by this.

本発明に係る電子写真画像形成装置は、感光体と、表面に現像剤を担持し該感光体に形成される静電潜像の現像領域に該現像剤を搬送する現像ローラとを有する。そして、該感光体と該現像ローラとの間に、交流電圧を含むバイアス電圧を印加し、該感光体に形成される静電潜像をトナーで現像するものである。   The electrophotographic image forming apparatus according to the present invention includes a photoconductor and a developing roller that carries a developer on the surface and conveys the developer to a developing area of an electrostatic latent image formed on the photoconductor. A bias voltage including an alternating voltage is applied between the photoconductor and the developing roller, and the electrostatic latent image formed on the photoconductor is developed with toner.

本発明における現像ローラの構成例を説明する断面図を図1及び図2に示す。   1 and 2 are cross-sectional views for explaining a configuration example of the developing roller in the present invention.

本発明の現像ローラは、図1のように、金属の如き導電性材料で形成される軸芯体11と、該軸芯体11の外周面に表面層13とを有する構成とすることができる。または、図2のように、金属の如き導電性材料で形成される軸芯体11と、該軸芯体11の外周面上に弾性層12と、該弾性層12の外周面に表面層13を有する構成とすることができる。   As shown in FIG. 1, the developing roller of the present invention can be configured to have a shaft core body 11 formed of a conductive material such as metal, and a surface layer 13 on the outer peripheral surface of the shaft core body 11. . Alternatively, as shown in FIG. 2, a shaft core 11 made of a conductive material such as a metal, an elastic layer 12 on the outer peripheral surface of the shaft core 11, and a surface layer 13 on the outer peripheral surface of the elastic layer 12. It can be set as the structure which has these.

(軸芯体)
前記軸芯体は、円柱状または中空円筒状であってもよく、金属以外の導電性材料で形成されたものでもよい。
(Shaft core)
The shaft core may be columnar or hollow cylindrical, or may be formed of a conductive material other than metal.

現像ローラは、一般的に、電気的なバイアスを印加又は接地されて使用される。そこで、軸芯体は、支持部材であると共に、導電材として少なくともその表面が導電性を有することが必要である。軸芯体の材料としては、弾性層又は表面層に所定の電圧を印加するに十分な導電性を有するものであれば特に限定されない。例えば、Al、Cu合金、SUSの如き金属又は合金、あるいは、Cr又はNiメッキを施した鉄や合成樹脂等を挙げることができる。電子写真画像形成装置に利用される現像ローラでは、軸芯体は、通常、外径Φ4mmからΦ10mmの範囲とするのが適当である。   The developing roller is generally used with an electrical bias applied or grounded. Therefore, the shaft core body is a support member, and it is necessary that at least the surface of the shaft body has conductivity as a conductive material. The material of the shaft core is not particularly limited as long as it has sufficient conductivity to apply a predetermined voltage to the elastic layer or the surface layer. For example, a metal or alloy such as Al, Cu alloy, SUS, or iron or synthetic resin plated with Cr or Ni can be used. In a developing roller used in an electrophotographic image forming apparatus, it is usually appropriate that the shaft core has an outer diameter of Φ4 mm to Φ10 mm.

(弾性層)
上述のように、本発明に係る現像ローラは、弾性層を有する構成とすることができる。
(Elastic layer)
As described above, the developing roller according to the present invention can be configured to have an elastic layer.

弾性層は、原料主成分としてゴム又は樹脂を用いた成型体である。つまり、弾性層の材料(以下、弾性層材料)は、主成分としてゴム又は樹脂を含む。   The elastic layer is a molded body using rubber or resin as a raw material main component. That is, the material of the elastic layer (hereinafter referred to as elastic layer material) contains rubber or resin as a main component.

主成分となり得るゴムは、種々のゴムを用いることができる。具体的には、以下のものが例として挙げられる。   Various rubbers can be used as the rubber that can be the main component. Specific examples include the following.

エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム(EPDM)、アクリルニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、クロロプレンゴム(CR)、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、ブタジエンゴム(BR)、NBRの水素化物、多硫化ゴム、ウレタンゴム。   Ethylene-propylene-diene copolymer rubber (EPDM), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), chloroprene rubber (CR), natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), styrene-butadiene rubber (SBR), fluorine rubber, Silicone rubber, epichlorohydrin rubber, butadiene rubber (BR), NBR hydride, polysulfide rubber, urethane rubber.

また、主成分となり得る樹脂は、主に熱可塑性樹脂である。具体的には、以下のものが例として挙げられる。   Resins that can be the main component are mainly thermoplastic resins. Specific examples include the following.

低密度ポリエチレン(LDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)の如きポリエチレン系樹脂;ポリプロピレン系樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリスチレン系樹脂;ABS樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートの如きポリエステル樹脂;フッ素樹脂;ポリアミド6、ポリアミド66、MXD6の如きポリアミド樹脂。   Polyethylene resins such as low density polyethylene (LDPE), high density polyethylene (HDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA); polypropylene resins; polycarbonate resins; polystyrene resins ABS resin; Polyester resin such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; Fluororesin; Polyamide resin such as polyamide 6, polyamide 66, MXD6;

そして、これらゴム及び樹脂は、単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。   And these rubber | gum and resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

さらに、本発明の現像ローラでは、弾性層自体に要求される機能に必要な、導電剤や非導電性充填剤のような成分を弾性層材料に適宜配合できる。また、ゴム又は樹脂成型体とする際に利用される各種添加剤成分、例えば、架橋剤、触媒又は分散促進剤等を弾性層材料に適宜配合できる。   Furthermore, in the developing roller of the present invention, components such as a conductive agent and a non-conductive filler necessary for the function required for the elastic layer itself can be appropriately blended in the elastic layer material. Further, various additive components used when forming a rubber or resin molded body, for example, a crosslinking agent, a catalyst, a dispersion accelerator and the like can be appropriately blended in the elastic layer material.

導電剤としては、イオン導電機構によるイオン導電性物質と、電子導電機構による導電付与剤があり、どちらか一方、あるいは併用することも可能である。   As the conductive agent, there are an ion conductive material based on an ion conductive mechanism and a conductivity imparting agent based on an electronic conductive mechanism, and either one or a combination thereof can be used.

電子導電機構による導電剤としては、以下のものが例として挙げられる。   Examples of the conductive agent based on the electronic conductive mechanism include the following.

カーボンブラック、グラファイトの如き炭素系物質;アルミニウム、銀、金、錫−鉛合金、銅―ニッケル合金の如き金属あるいは合金;酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム又は酸化銀の如き粒子に表面処理を行った導電性金属酸化物;各種フィラーに銅、ニッケル又は銀で導電性表面処理を施した物質。   Carbon-based materials such as carbon black and graphite; metals or alloys such as aluminum, silver, gold, tin-lead alloys, copper-nickel alloys; zinc oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide or oxide Conductive metal oxides obtained by surface treatment of particles such as silver; substances obtained by conducting surface treatment with copper, nickel or silver on various fillers.

また、イオン導電機構による導電付与剤としては、以下のものが例として挙げられる。   Moreover, the following are mentioned as an example of the electroconductivity imparting agent by an ion conduction mechanism.

LiCF3SO3、NaClO4、LaClO4、LiAsF6、LiBF4、NaSCN、KSCN、NaClの如き周期律表第1族金属の塩;NH4Cl、(NH42SO4、NH4NO3の如きアンモニウム塩;Ca(ClO42、Ba(ClO42の如き周期律表第2族金属の塩;これらの塩と1,4−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコールの如き多価アルコールやそれらの誘導体との錯体;これらの塩とエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルの如きモノオールとの錯体;第4級アンモニウム塩の如き陽イオン性界面活性剤;脂肪族スルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩の如き陰イオン性界面活性剤;ベタインの如き両性界面活性剤。 LiCF 3 SO 3, NaClO 4, LaClO 4, LiAsF 6, LiBF 4, NaSCN, KSCN, Group 1 metal salts periodic table, such as NaCl; NH 4 Cl, (NH 4) 2 SO 4, NH 4 NO 3 Ammonium salts such as: salts of Group 2 metals of the periodic table such as Ca (ClO 4 ) 2 , Ba (ClO 4 ) 2 ; these salts and 1,4-butanediol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, Complexes of polyhydric alcohols such as polypropylene glycol and their derivatives; complexes of these salts with monools such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monoethyl ether; Cations such as quaternary ammonium salts Anionic surfactants such as aliphatic sulfonates, alkyl sulfates and alkyl phosphates; amphoteric surfactants such as betaines.

これら導電剤は、単独で又は2種類以上を混合して使用することができる。   These conductive agents can be used alone or in admixture of two or more.

これらの導電剤のうち、カーボンブラック系の導電剤は、比較的安価かつ容易に入手でき、また、主成分のゴム又は樹脂材料の種類に依らず、良好な導電性を付与できるため、好適である。弾性層材料中に微粉末状の導電剤を分散させる手段としては、従来から利用される手段、例えば、ロールニーダー、バンバリーミキサー、又は2軸押し出し機等を適宜選択して利用すればよい。   Among these conductive agents, carbon black-based conductive agents are suitable because they can be obtained relatively inexpensively and easily, and good conductivity can be imparted regardless of the type of main component rubber or resin material. is there. As a means for dispersing the fine powdered conductive agent in the elastic layer material, a conventionally used means such as a roll kneader, a Banbury mixer, or a twin screw extruder may be appropriately selected and used.

充填剤及び増量剤としては、以下のものが例として挙げられる。   Examples of the filler and extender include the following.

シリカ、石英微粉末、ケイソウ土、酸化亜鉛、塩基性炭酸マグネシウム、活性炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、二酸化チタン、タルク、雲母粉末、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラス繊維、有機補強剤、有機充填剤。   Silica, quartz fine powder, diatomaceous earth, zinc oxide, basic magnesium carbonate, activated calcium carbonate, magnesium silicate, aluminum silicate, titanium dioxide, talc, mica powder, aluminum sulfate, calcium sulfate, barium sulfate, glass fiber, organic Reinforcing agent, organic filler.

これらの充填剤は表面を有機珪素化合物で処理して疎水化してもよい。   These fillers may be hydrophobized by treating the surface with an organosilicon compound.

酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等の如き高分子化合物に対して使用される公知のものを適宜選択して使用できる。   Antioxidants are used for polymer compounds such as hindered phenolic antioxidants, phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, amine antioxidants, sulfur antioxidants, and the like. Any known one can be selected and used.

加工助剤としては、公知の材料が使用可能である。具体的には、ステアリン酸、オレイン酸の如き脂肪酸、脂肪酸の金属塩やエステルが例として挙げられる。   A known material can be used as the processing aid. Specific examples include fatty acids such as stearic acid and oleic acid, and metal salts and esters of fatty acids.

例えば、弾性層をシリコーンゴムを主成分として作製する場合は、液状シリコーンゴムを主剤として用い、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンを架橋成分とし、白金系触媒を用いて、ゴム成分相互の架橋を図ることができる。   For example, when the elastic layer is made of silicone rubber as a main component, liquid silicone rubber is used as a main component, polyorganohydrogensiloxane is used as a cross-linking component, and a platinum-based catalyst is used to cross-link rubber components. it can.

弾性層の成形は、従来から知られている押出成形法や射出成形法によって可能であり、特に限定されるものではない。本発明に記載された特徴を有すれば特に限定されず、例えば弾性層を2層以上の構成とすることもできる。   The elastic layer can be formed by a conventionally known extrusion molding method or injection molding method, and is not particularly limited. If it has the characteristic described in this invention, it will not specifically limit, For example, an elastic layer can also be set as the structure of two or more layers.

(表面層)
表面層13は、下記(1)〜(6)の各要件を満たしている。
(1)ケイ素原子と化学結合を有している炭素原子を含有する酸化ケイ素膜からなる。
(2)高周波グロー放電発光表面分析法により測定したSi、O、C、Hの存在元素数の合計は、全元素に対して90%以上である。
(3)ケイ素原子と化学結合している存在比(O/Si)は、0.65以上1.95以下である。
(4)表面における、ケイ素原子と化学結合している炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)は、0.05以上0.70以下である。
(5)0.10pF以上10.0pF以下の静電容量を有している。
(6)膜厚が50nm以上5000nm以下である。
(Surface layer)
The surface layer 13 satisfies the following requirements (1) to (6).
(1) It consists of a silicon oxide film containing a carbon atom having a chemical bond with a silicon atom.
(2) The total number of existing elements of Si, O, C, and H measured by the high-frequency glow discharge luminescence surface analysis method is 90% or more with respect to all elements.
(3) The abundance ratio (O / Si) chemically bonded to the silicon atom is 0.65 or more and 1.95 or less.
(4) The abundance ratio (C / Si) of carbon atoms chemically bonded to silicon atoms on the surface is from 0.05 to 0.70.
(5) It has a capacitance of 0.10 pF to 10.0 pF.
(6) The film thickness is 50 nm or more and 5000 nm or less.

以下、各要件について順次説明する。   Hereinafter, each requirement will be sequentially described.

(1)表面層13は、ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含む酸化ケイ素膜からなることを前提とする。これにより、表面層13は、機械的強度に優れ、十分な可撓性を備え、且つ、ジャンピング現像に好適に用い得る静電容量を有し得る。   (1) It is assumed that the surface layer 13 is made of a silicon oxide film containing carbon atoms chemically bonded to silicon atoms. Thereby, the surface layer 13 is excellent in mechanical strength, has sufficient flexibility, and can have a capacitance that can be suitably used for jumping development.

(2)[全元素数に対する存在元素数]
表面層13を構成する酸化ケイ素膜は、Si、O、C及びHの存在比が、全元素に対して90.00%以上である。
(2) [Number of existing elements with respect to the total number of elements]
The silicon oxide film constituting the surface layer 13 has an abundance ratio of Si, O, C and H of 90.00% or more with respect to all elements.

なお、表面層中に含まれるSi、O、C及びHの存在元素数は以下の測定装置を用いて求めることができる。   In addition, the number of existing elements of Si, O, C, and H contained in the surface layer can be obtained using the following measuring device.

軽元素を含む全元素の存在比については、グロー放電発光分析装置「GD−PROFILER2型GD−OES」(商品名、堀場製作所社製)を用いて測定を行う。   The abundance ratio of all elements including light elements is measured using a glow discharge emission spectrometer “GD-PROFILER 2 type GD-OES” (trade name, manufactured by Horiba, Ltd.).

具体的には以下のような測定条件により、測定を行うことができる。
測定モード:パルススパッタ
アノード径(分析面積):直径φ4mm
放電電力:35W
Arガス圧:600Pa
Specifically, measurement can be performed under the following measurement conditions.
Measurement mode: Pulse sputtering Anode diameter (analysis area): Diameter φ4mm
Discharge power: 35W
Ar gas pressure: 600 Pa

(3)、(4)[(O/Si)、(C/Si)]
表面層13を構成する酸化ケイ素膜中のケイ素原子と化学結合している酸素原子のケイ素原子に対する存在比(O/Si)は、表面層13の全厚さ方向に亘り、0.65以上1.95以下である。
(3), (4) [(O / Si), (C / Si)]
The abundance ratio (O / Si) of oxygen atoms chemically bonded to silicon atoms in the silicon oxide film constituting the surface layer 13 to silicon atoms is 0.65 or more and 1 over the entire thickness direction of the surface layer 13. .95 or less.

(O/Si)が上記数値範囲内にあることにより、酸化ケイ素膜は、表面層13に実用上十分な耐磨耗性と可撓性との担持させるに必要十分な量のシロキサン結合を有することとなるためである。(O/Si)が、0.65未満である場合、表面層13が十分な耐磨耗性を有さず、また、表面がタック(粘着)性になりやすく、現像ローラとして使用する際、トナーへの離型性が低下し、フィルミングが発生しやすくなることがある。一方、(O/Si)が、1.95を超えた場合、酸化ケイ素膜自体が硬くなり、ヒビ割れが生じやすくなる。   When (O / Si) is within the above numerical range, the silicon oxide film has a sufficient amount of siloxane bonds necessary to support the surface layer 13 with practically sufficient wear resistance and flexibility. Because it will be. When (O / Si) is less than 0.65, the surface layer 13 does not have sufficient wear resistance, and the surface is likely to be tacky (adhesive). When used as a developing roller, In some cases, the releasability to toner is lowered and filming is likely to occur. On the other hand, when (O / Si) exceeds 1.95, the silicon oxide film itself becomes hard and cracks are likely to occur.

また、本発明における表面層の表面は、ケイ素原子と化学結合を形成している炭素原子の、ケイ素原子に対する存在比(C/Si)が0.05以上0.70以下である。また、0.05以上0.30以下であることが好ましい。   In the present invention, the surface layer has an abundance ratio (C / Si) of carbon atoms forming a chemical bond with silicon atoms to silicon atoms of 0.05 to 0.70. Moreover, it is preferable that they are 0.05 or more and 0.30 or less.

表面層13の表面における存在比(C/Si)が0.70より大きいと、長時間使用時に現像ローラの電気抵抗値が大きく変動し、使用開始時と現像装置寿命末期時とで画像濃度が大きく異なることがある。これは、ジャンピング現像方式において、現像ローラと電子写真感光体との間に生じる放電現象により、結合エネルギーの小さいSi−C結合が容易に切断され、他の元素(主に水素、酸素)が再結合し、組成が変化することに起因していると考えられる。C/Siが0.05より小さいと、膜が硬質化し、トナー規制部材の如き圧接部材との圧接により表面層にヒビ割れが発生し易くなる。また、弾性層上に表面層を形成した場合には、弾性層に含まれる低分子量物質の染み出しが発生し、圧接部材を汚染する原因となる。この低分子量物質の染み出しが圧接部材を汚染し、汚染部位にトナーが付着してしまうフィルミング、さらにこのフィルミングにより非印字部へのトナーの付着(かぶり)や印字部での濃度ムラが発生しやすくなる。   When the abundance ratio (C / Si) on the surface of the surface layer 13 is greater than 0.70, the electric resistance value of the developing roller greatly fluctuates when used for a long time, and the image density is different between the start of use and the end of the developing device life. It can be very different. This is because, in the jumping development method, due to a discharge phenomenon that occurs between the developing roller and the electrophotographic photosensitive member, the Si—C bond having a low binding energy is easily cut off, and other elements (mainly hydrogen and oxygen) are regenerated. It is thought that it is due to the bonding and the composition changing. If C / Si is less than 0.05, the film becomes hard and cracks are likely to occur in the surface layer due to pressure contact with a pressure contact member such as a toner regulating member. Further, when the surface layer is formed on the elastic layer, the low molecular weight substance contained in the elastic layer is oozed out, which causes the pressure contact member to be contaminated. The leakage of the low molecular weight substance contaminates the pressure contact member and causes the toner to adhere to the contaminated part. Further, the filming causes toner adhesion (fogging) to the non-printing part and density unevenness in the printing part. It tends to occur.

[化学結合状態及び存在比]
また、酸素原子及び炭素原子のケイ素原子に対する存在比とケイ素原子の化学結合状態については以下の測定装置を用いて求めた。
[Chemical bonding state and abundance ratio]
The abundance ratio of oxygen atoms and carbon atoms to silicon atoms and the chemical bonding state of silicon atoms were determined using the following measuring apparatus.

X線光電子分光装置「Quantum2000」(商品名、アルバック・ファイ株式会社製)は、X線光電子分光法により軽元素を除く全元素の原子比を測定することが可能である。そこで、X線源をAlKαとして、現像ローラの表面層の表面におけるケイ素の2p軌道、酸素及び炭素の1s軌道の結合エネルギーに起因するピークを測定する。それぞれのピークから各原子の化学結合状態および存在比(O/Si)及び(C/Si)を求める。   The X-ray photoelectron spectrometer “Quantum 2000” (trade name, manufactured by ULVAC-PHI Co., Ltd.) can measure the atomic ratio of all elements except light elements by X-ray photoelectron spectroscopy. Therefore, the peak due to the binding energy of the silicon 2p orbital and oxygen and carbon 1s orbitals on the surface of the surface layer of the developing roller is measured with AlKα as the X-ray source. The chemical bond state and abundance ratio (O / Si) and (C / Si) of each atom are determined from each peak.

なお、ここでケイ素および炭素のピークより求めた化学結合状態においては、炭素の化学結合状態はケイ素との結合のみしか確認されなかった。   Here, in the chemical bond state obtained from the silicon and carbon peaks, only the bond with silicon was confirmed as the chemical bond state of carbon.

また、酸素については、今回の膜自体が酸化ケイ素として形成されているため酸素はケイ素と結合している状態で存在しております。   As for oxygen, the film itself is formed as silicon oxide, so oxygen exists in a state of being bonded to silicon.

また、上記グロー放電発光分析装置とX線光電子分光装置は表面層をArプラズマにより表面層をスパッタリングしながら測定が行えるため、所望の深さでの測定が可能である。   The glow discharge emission spectrometer and the X-ray photoelectron spectrometer can perform measurement at a desired depth because the surface layer can be measured by sputtering the surface layer with Ar plasma.

(5)[静電容量]
表面層の静電容量は、0.10pF以上10.0pF以下である。静電容量が10.0pFより大きくなると、トナー追従性が低下したことによる画像ムラの現象が発生しやすい。これは、表面層の静電容量が大きくなると現像ローラの時定数が大きくなるために、現像ローラと感光体の間に直流電圧と交流電圧とを重畳した現像バイアスの応答性が低減するためと考えられる。
(5) [Capacitance]
The capacitance of the surface layer is 0.10 pF or more and 10.0 pF or less. If the capacitance is greater than 10.0 pF, image unevenness due to a decrease in toner followability tends to occur. This is because the time constant of the developing roller increases as the capacitance of the surface layer increases, so that the response of the developing bias in which a DC voltage and an AC voltage are superimposed between the developing roller and the photosensitive member is reduced. Conceivable.

この現象については、現像ローラに50Vの直流電圧を印加した際の電流値変化について図3に示した。本問題を解決するための手段としては、表面層の比誘電率を下げることにより、膜厚が同じであっても表面層の静電容量を下げることが可能である。表面層の比誘電率は、表面層中におけるケイ素原子と化学結合を有する炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)により調整することが可能である。すなわち、(C/Si)の値を大きくすることによって表面層の比誘電率を低下させることができる。ところで、表面層の(C/Si)の値が、全厚さに渡って0.05以上0.70以下であるような酸化ケイ素膜の比誘電率は概略2.5〜3.5程度と、比較的大きな値となる。そのため、表面層の静電容量を0.10pF以上10.0pFとすることは困難である。そこで、表面層の表面の(C/Si)の値を0.05以上0.70以下としつつ、表面層の静電容量を0.10pF以上10.0pF以下とするために、表面層の深さ方向に(C/Si)の値が大きくなるように傾斜させることが好ましい。即ち、酸化ケイ素膜を、現像ローラの長期電気安定性及び表面層の静電容量を鑑みて、上層側(表面側)は電気的に安定になるよう、炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)を低くする。その一方で、下層側は炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)を高くする。このようにして、酸化ケイ素膜の静電容量を上記の範囲内とすることが好ましい。   Regarding this phenomenon, the change in the current value when a DC voltage of 50 V is applied to the developing roller is shown in FIG. As means for solving this problem, it is possible to reduce the capacitance of the surface layer even if the film thickness is the same by reducing the relative dielectric constant of the surface layer. The relative dielectric constant of the surface layer can be adjusted by the abundance ratio (C / Si) of carbon atoms having chemical bonds with silicon atoms in the surface layer to silicon atoms. That is, the relative dielectric constant of the surface layer can be reduced by increasing the value of (C / Si). By the way, the relative dielectric constant of the silicon oxide film in which the value of (C / Si) of the surface layer is 0.05 or more and 0.70 or less over the entire thickness is approximately 2.5 to 3.5. A relatively large value. Therefore, it is difficult to set the capacitance of the surface layer to 0.10 pF or more and 10.0 pF. Therefore, in order to set the surface layer surface capacitance (C / Si) to 0.05 to 0.70 and the surface layer capacitance to 0.10 pF to 10.0 pF, the depth of the surface layer It is preferable to incline so that the value of (C / Si) increases in the vertical direction. That is, in view of the long-term electrical stability of the developing roller and the electrostatic capacity of the surface layer, the silicon oxide film has an abundance ratio of carbon atoms to silicon atoms (C) so that the upper layer side (surface side) is electrically stable. / Si) is lowered. On the other hand, the lower layer side increases the abundance ratio (C / Si) of carbon atoms to silicon atoms. In this way, it is preferable that the capacitance of the silicon oxide film be within the above range.

酸化ケイ素膜中の(C/Si)を表面から厚さ方向に増加させて静電容量を調整するには例えば以下の方法が挙げられる。即ち、酸化ケイ素膜をプラズマCVD法により製膜する場合には、チャンバー内に導入するヘキサメチルジシロキサンと酸素ガスとの混合ガス中の酸素ガスの割合を成膜初期には低く調整しておき、その後に混合ガス中の酸素ガスの割合を高める方法である。
そして、酸化ケイ素膜中における(C/Si)の傾斜の程度は、酸化ケイ素膜の厚さに応じて、当該酸化ケイ素膜の静電容量が0.10pF以上10.0pF以下となるように適宜調整すればよい。また、トルエンガスを適宜導入することによっても(C/Si)の値を調整することができる。
In order to adjust the capacitance by increasing (C / Si) in the silicon oxide film in the thickness direction from the surface, for example, the following method may be mentioned. That is, when a silicon oxide film is formed by the plasma CVD method, the ratio of oxygen gas in the mixed gas of hexamethyldisiloxane and oxygen gas introduced into the chamber is adjusted to be low at the initial stage of film formation. Thereafter, the ratio of oxygen gas in the mixed gas is increased.
The degree of inclination of (C / Si) in the silicon oxide film is appropriately determined so that the capacitance of the silicon oxide film is not less than 0.10 pF and not more than 10.0 pF according to the thickness of the silicon oxide film. Adjust it. The value of (C / Si) can also be adjusted by appropriately introducing toluene gas.

尚、後述する実施例では、表面層の静電容量は、図4に示す構成の測定装置に現像ローラを装着し、現像ローラを回転させず金属ローラに接触させて測定を行い、周方向に90°ずつを金属ローラに接触させ4点測定した。なお、印加電圧3V、測定周波数0.1Hz以上1MHz以下の条件で4点の平均値を本発明における表面層の静電容量とした。   In the examples described later, the electrostatic capacity of the surface layer is measured by attaching the developing roller to the measuring device having the configuration shown in FIG. 4 and contacting the metal roller without rotating the developing roller. Each 90 ° was brought into contact with a metal roller and measured at four points. In addition, the average value of 4 points | pieces was made into the electrostatic capacitance of the surface layer in this invention on the conditions of applied voltage 3V and measurement frequency 0.1Hz or more and 1MHz or less.

なお、図4中、1は現像ローラであり、402は円筒電極(金属ローラ)であり、403は誘電率測定システム(英国ソーラトロン社製1296型誘電率測定インターフェース、1260型インピダンスアナライザーを併用)である。
(6)[層厚]
表面層の層厚は、50nm以上5000nm以下である。また、表面層の層厚は300nm以上3000nm以下であることがより好ましい。表面層の層厚が50nmより薄いと、現像ローラの使用時の削れに対して有効な厚さとすることができない。層厚が5000nm超では、製造にかなりの時間を要し、製造中に弾性層が昇温し、弾性層が熱可塑性樹脂の如き融点の低い材料では成形時の形状を維持できない場合がある。そのため、現像ローラとして使用した際、得られた画像には濃度ムラが発生しやすくなる。
In FIG. 4, 1 is a developing roller, 402 is a cylindrical electrode (metal roller), and 403 is a dielectric constant measuring system (using a 1296 type dielectric constant measuring interface and 1260 type impedance analyzer manufactured by Solartron, UK). is there.
(6) [Layer thickness]
The layer thickness of the surface layer is 50 nm or more and 5000 nm or less. The layer thickness of the surface layer is more preferably 300 nm or more and 3000 nm or less. When the thickness of the surface layer is less than 50 nm, it is not possible to obtain a thickness effective for scraping when the developing roller is used. If the layer thickness exceeds 5000 nm, a considerable time is required for production, and the temperature of the elastic layer rises during the production, and the elastic layer may not be able to maintain the shape during molding with a material having a low melting point such as a thermoplastic resin. Therefore, when used as a developing roller, density unevenness tends to occur in the obtained image.

なお、表面層の層厚は、薄膜測定装置「F20−EXR」(商品名、FILMETRICS社製)を用いて、現像ローラの長手方向を端部より等間隔に3箇所、かつ周方向に等間隔に3箇所の合計9箇所を測定し、得られた値の平均値である。なお、測定時における炭素を含有する酸化ケイ素膜の屈折率を1.42と設定し、測定を行った。   The thickness of the surface layer is determined by using a thin film measuring apparatus “F20-EXR” (trade name, manufactured by FILMETRICS) at three locations at equal intervals in the longitudinal direction of the developing roller and at equal intervals in the circumferential direction. A total of nine places are measured and the average value of the obtained values. Note that the measurement was performed with the refractive index of the silicon oxide film containing carbon at the time of measurement set to 1.42.

また、本発明に係る表面層は、上述した各元素以外にも他の元素を含有してもよく、中でも膜の安定性から窒素および/またはフッ素を含有することがより好ましい。   The surface layer according to the present invention may contain other elements in addition to the above-described elements, and more preferably contains nitrogen and / or fluorine from the viewpoint of film stability.

表面層を形成する方法としては、例えば、以下のものが挙げられる。   Examples of the method for forming the surface layer include the following.

ディップコート、スプレーコート、ロールコート、リングコートの如き湿式コート法;真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングの物理的気相成長(PVD)法;プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDの如き化学的気相成長(CVD)法。   Wet coating methods such as dip coating, spray coating, roll coating, ring coating; physical vapor deposition (PVD) method of vacuum deposition, sputtering, ion plating; chemical vapor phase such as plasma CVD, thermal CVD, laser CVD Growth (CVD) method.

中でも、特に、弾性層と表面層(酸化ケイ素膜)との密着性が高く処理時間の短縮及び低処理温度、装置の簡便性、得られる表面層の均一性を考慮すると、プラズマCVD法がより好ましい。   Among these, the plasma CVD method is more suitable in consideration of the high adhesion between the elastic layer and the surface layer (silicon oxide film), considering the shortening of the processing time, the low processing temperature, the simplicity of the apparatus, and the uniformity of the surface layer to be obtained. preferable.

以下に、プラズマCVD法による表面層の形成方法の1例を示す。   Below, an example of the formation method of the surface layer by plasma CVD method is shown.

なお、図5は、このプラズマCVD法による表面層を形成する装置の模式図である。   FIG. 5 is a schematic view of an apparatus for forming a surface layer by this plasma CVD method.

本装置は、真空チャンバ41、平行に置かれた平板電極42、原料ガスボンベ及び原料液体タンク43、原料供給手段44、チャンバ内のガス排気手段45、高周波を供給する高周波供給電源46及び弾性ローラ48を回転するモータ47により構成されている。   The apparatus includes a vacuum chamber 41, a flat plate electrode 42, a raw material gas cylinder and a raw material liquid tank 43, a raw material supply means 44, a gas exhaust means 45 in the chamber, a high frequency supply power supply 46 for supplying a high frequency, and an elastic roller 48. The motor 47 is configured to rotate the motor.

図3に示した装置を用いて、以下のような手順により、炭素を含有する酸化ケイ素膜を有する現像ローラを製造することができる。   Using the apparatus shown in FIG. 3, a developing roller having a silicon oxide film containing carbon can be manufactured by the following procedure.

手順(1)平板電極42の間に軸芯体または軸芯体上に弾性層が形成された弾性ローラ48を設置し、得られる炭素を含有する酸化ケイ素膜が均一となるように、モータ47を駆動させて周方向に回転させる。   Procedure (1) A shaft core body or an elastic roller 48 having an elastic layer formed on the shaft core body is placed between the flat plate electrodes 42, and the motor 47 is made uniform so that the resulting silicon oxide film containing carbon is uniform. Is driven to rotate in the circumferential direction.

手順(2)排気手段により、真空チャンバ41内を1Pa以下にする。   Procedure (2) The inside of the vacuum chamber 41 is set to 1 Pa or less by the exhaust means.

手順(3)原料ガス導入口より原料ガスを導入し、平板電極42に高周波供給電源46により高周波電力を供給し、プラズマを発生させ、成膜を行う。   Procedure (3) A raw material gas is introduced from the raw material gas introduction port, high frequency power is supplied to the flat plate electrode 42 by a high frequency power supply 46, plasma is generated, and film formation is performed.

手順(4)所定時間経過した後、原料ガス及び高周波電力供給を停止し、真空チャンバ41内に空気又は窒素を大気圧まで導入(リーク)し、軸芯体または弾性ローラ48を取り出す。   Procedure (4) After a predetermined time has elapsed, the supply of the source gas and the high frequency power is stopped, air or nitrogen is introduced (leaked) into the vacuum chamber 41 to the atmospheric pressure, and the shaft core or the elastic roller 48 is taken out.

以上のような手順により炭素を含有する酸化ケイ素膜を有する現像ローラを製造することが可能である。なお、プラズマCVD処理される軸芯体または弾性ローラ48は、均一なプラズマ雰囲気下に置けるのであれば多数本を同時に処理してもよい。   It is possible to produce a developing roller having a silicon oxide film containing carbon by the procedure as described above. Note that a large number of shaft cores or elastic rollers 48 subjected to plasma CVD processing may be processed simultaneously as long as they can be placed in a uniform plasma atmosphere.

ここで、原料ガスとして、通常、ガス状の或いはガス状化した有機珪素化合物を、必要により炭化水素化合物とともに、不活性ガス、酸化性ガスの如き気体の共存下或いは不存在下に導入する。   Here, as the raw material gas, a gaseous or gasified organosilicon compound is usually introduced together with a hydrocarbon compound, if necessary, in the presence or absence of a gas such as an inert gas or an oxidizing gas.

なお、有機ケイ素化合物としては、以下のものが挙げられる。   Examples of the organosilicon compound include the following.

1、1、3、3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン。   1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, hexamethyldisilazane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, tetramethylsilane, diethylsilane , Propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane.

これらのうち、取扱い上の安全面から、1、1、3、3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルシランが好ましい。   Of these, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, and tetramethylsilane are preferable from the viewpoint of safety in handling.

シラン源としては、有機ケイ素化合物に限定されるものではなく、シラン、アミノシラン、シラザンも用いることができる。   The silane source is not limited to the organosilicon compound, and silane, aminosilane, and silazane can also be used.

なお、有機ケイ素化合物等がガス状であればそのまま使用し、常温で液体であれば加熱し気化させて不活性ガスにより搬送して、あるいは、不活性ガスにてバブリングして搬送して用いる。さらに常温で固体のものでは、加熱して気化させ、不活性ガスにより搬送して用いる。また、原料物質を減圧状態において、気化を促進させても良い。   If the organosilicon compound or the like is in a gaseous state, it is used as it is, and if it is liquid at room temperature, it is heated and vaporized and transported with an inert gas, or is bubbled with an inert gas and transported. Furthermore, in the case of a solid at room temperature, it is heated and vaporized, and is transported by an inert gas. Further, vaporization may be promoted in a reduced pressure state of the raw material.

なお、上記原料ガスとともに、又は原料ガスに加えて、真空チャンバ内へ、窒素含有ガス(N2O、N2、アンモニア)あるいは、酸素含有ガス(酸素、CO2、CO)を導入することも可能である。また、上記で使用できる不活性ガスとして、ヘリウム、アルゴンの如きガスが挙げられる。 A nitrogen-containing gas (N 2 O, N 2 , ammonia) or an oxygen-containing gas (oxygen, CO 2 , CO) may be introduced into the vacuum chamber together with or in addition to the source gas. Is possible. In addition, examples of the inert gas that can be used include gases such as helium and argon.

表面層におけるSi、O、C及びHの存在比率のコントロールは、導入する原料ガスの配合比、導入時の流量、供給する高周波電力により行うことが可能である。   The abundance ratio of Si, O, C, and H in the surface layer can be controlled by the mixing ratio of the raw material gas to be introduced, the flow rate at the time of introduction, and the supplied high frequency power.

また、湿式法により表面層を製造するには、無機高分子前駆体溶液と水酸基を有する高分子溶液の混合物を、弾性層上に均一に塗布した後、加熱あるいは紫外線照射の如き硬化手段を適用することができる。   In order to produce a surface layer by a wet method, a mixture of an inorganic polymer precursor solution and a polymer solution having a hydroxyl group is uniformly applied on the elastic layer, and then a curing means such as heating or ultraviolet irradiation is applied. can do.

ここで、表面層の原料混合物を弾性層上に塗布する前に、軸芯体または弾性層表面に、該混合物が上手く塗布できるように、紫外線照射や電子線照射、あるいはプラズマ処理の如き活性化処理を施しても良い。   Here, before applying the raw material mixture of the surface layer onto the elastic layer, activation such as ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, or plasma treatment is performed so that the mixture can be successfully applied to the shaft core or the elastic layer surface. Processing may be performed.

本発明の現像ローラは、複写機、ファクシミリ、プリンタの如き画像形成装置に現像ローラとして、また、プロセスカートリッジタイプの画像形成装置においてはプロセスカートリッジの現像ローラとして有用である。   The developing roller of the present invention is useful as a developing roller for an image forming apparatus such as a copying machine, a facsimile machine, or a printer, and as a developing roller for a process cartridge in an image forming apparatus of a process cartridge type.

本発明の現像ローラを搭載した現像装置の一例を図6に模式図と示した。この図6により以下説明する。   An example of a developing device equipped with the developing roller of the present invention is schematically shown in FIG. This will be described below with reference to FIG.

図6において、公知のプロセスにより形成された静電潜像を担持する静電潜像担持体としての電子写真感光体2は、矢印B方向に回転される。トナー容器であるホッパー3中には非磁性一成分トナー4を撹拌するための撹拌翼5が設けられている。   In FIG. 6, an electrophotographic photosensitive member 2 as an electrostatic latent image carrier that carries an electrostatic latent image formed by a known process is rotated in the direction of arrow B. In the hopper 3 which is a toner container, a stirring blade 5 for stirring the nonmagnetic one-component toner 4 is provided.

現像ローラ1にトナー4を供給し、かつ現像後の現像ローラ1の表面に存在するトナー4を剥ぎ取るためのトナー供給・剥ぎ取り部材6が現像ローラ1に当接している。トナー供給・剥ぎ取り部材である供給・剥ぎ取りローラ6が現像ローラ1と同じ方向(矢印C方向)に回転することにより、トナー供給・剥ぎ取りローラ6の表面は現像ローラ1の表面とカウンター方向に移動することになる。これにより、ホッパー3から供給された非磁性トナーを有する一成分非磁性トナーが現像ローラ1に供給される。   A toner supply / peeling member 6 for supplying the toner 4 to the developing roller 1 and stripping off the toner 4 existing on the surface of the developing roller 1 after development is in contact with the developing roller 1. When the supply / peeling roller 6 as a toner supply / peeling member rotates in the same direction as the developing roller 1 (arrow C direction), the surface of the toner supply / peeling roller 6 is counter to the surface of the developing roller 1 in the counter direction. Will be moved to. As a result, the one-component nonmagnetic toner having the nonmagnetic toner supplied from the hopper 3 is supplied to the developing roller 1.

現像ローラ1上に形成される非磁性一成分トナー4の薄層の厚みは、現像部における現像ローラ1と感光体2との間の現像領域Dにおける最近接距離よりも更に薄いことが好ましい。現像ローラ1には、これに担持された非磁性トナーを有する一成分非磁性トナー4を飛翔させるために、現像バイアス電源7により現像バイアス電圧が印加される。本発明においては、現像画像の濃度を高めるため或いは階調性を向上するために、現像ローラ1に交番バイアス電圧を印加して、現像部に向きが交互に反転する振動電界を形成している。この場合、上記画像部の電位と背景部の電位間の値を有する直流電圧成分が重畳された交番バイアス電圧を現像ローラ1に印加することが好ましい。   The thickness of the thin layer of the non-magnetic one-component toner 4 formed on the developing roller 1 is preferably thinner than the closest distance in the developing region D between the developing roller 1 and the photoreceptor 2 in the developing portion. A developing bias voltage is applied to the developing roller 1 by a developing bias power source 7 in order to cause the one-component nonmagnetic toner 4 having the nonmagnetic toner carried thereon to fly. In the present invention, in order to increase the density of the developed image or to improve the gradation, an alternating bias voltage is applied to the developing roller 1 to form an oscillating electric field whose direction is alternately reversed in the developing portion. . In this case, it is preferable that an alternating bias voltage on which a DC voltage component having a value between the potential of the image portion and the background portion is superimposed is applied to the developing roller 1.

交流電圧の波形としては、正弦波、矩形波、三角波等適宜使用可能である。また、直流電源を周期的にオン/オフすることによって形成されたパルス波であっても良い。このように交流電圧の波形としては周期的にその電圧値が変化するようなバイアスが使用できる。   As a waveform of the AC voltage, a sine wave, a rectangular wave, a triangular wave or the like can be used as appropriate. Further, it may be a pulse wave formed by periodically turning on / off a DC power source. In this way, a bias that periodically changes the voltage value can be used as the waveform of the AC voltage.

現像装置の現像部における現像ローラ1と感光体2との表面間の最近接距離は50〜400μmであることが好ましく、更に好ましくは120μm〜180μmであることが良い。最近接距離とは、現像剤ローラの表面に形成している表面層と感光体との距離が、概略最小値となる距離のことである。最近接距離が50μm未満の場合には、現像バイアスのリークによる白抜け画像が発生しやすくなる傾向がある。また、最近接距離が400μmを超える場合には、感光体上の潜像に対するトナーの追従性が低下する傾向があるために、解像性の低下、画像濃度の低下等の画質低下を招く場合がある。したがって、最近接距離をこの範囲内に制御することにより、現像バイアスのリークを抑制し、感光体上の潜像に対するトナーの追従性を向上させ、高画質を得ることができる。   The closest distance between the surfaces of the developing roller 1 and the photoreceptor 2 in the developing unit of the developing device is preferably 50 to 400 μm, more preferably 120 μm to 180 μm. The closest distance is a distance at which the distance between the surface layer formed on the surface of the developer roller and the photoconductor is approximately the minimum value. When the closest distance is less than 50 μm, there is a tendency that white-out images are likely to occur due to a developing bias leak. Further, when the closest distance exceeds 400 μm, the followability of the toner with respect to the latent image on the photosensitive member tends to be reduced, so that the image quality may be deteriorated such as a decrease in resolution and a decrease in image density. There is. Therefore, by controlling the closest distance within this range, it is possible to suppress the leakage of the developing bias, improve the followability of the toner to the latent image on the photoreceptor, and obtain high image quality.

更に、本発明に用いられる現像装置は、現像ローラと感光体間の最大電界強度が5.0×106V/m〜1.0×107V/mに制御されていることが特徴である。最大電界強度が5.0×106V/m未満である場合には、トナーの往復運動が低下し、飛散・カブリが発生しやすくなる。更に、現像力が小さいために画像濃度の低い画像となり易い。また、最大電界強度が1.0×107V/mを超える場合には、現像力が大き過ぎることによるカブリの増大や現像バイアスのリークによる白抜け等の画像欠陥を生じ易くなる。 Further, the developing device used in the present invention is characterized in that the maximum electric field strength between the developing roller and the photosensitive member is controlled to 5.0 × 10 6 V / m to 1.0 × 10 7 V / m. is there. When the maximum electric field strength is less than 5.0 × 10 6 V / m, the reciprocating motion of the toner is reduced, and scattering and fogging are likely to occur. Furthermore, since the developing power is small, an image having a low image density tends to be obtained. On the other hand, when the maximum electric field strength exceeds 1.0 × 10 7 V / m, image defects such as increased fog due to excessive development force and white spots due to leakage of development bias are likely to occur.

トナー供給・剥ぎ取り部材6としては、樹脂、ゴム、スポンジ等の弾性ローラ部材が好ましい。剥ぎ取り部材としては、弾性ローラに代えてベルト部材又はブラシ部材を用いることもできる。感光体2に現像移行されなかったトナーをトナー供給・剥ぎ取り部材6により、一旦現像ローラ表面から剥ぎ取ることにより、現像ローラ上における不動のトナーの発生を阻止し、トナーの帯電を均一化する。   The toner supply / peeling member 6 is preferably an elastic roller member such as resin, rubber or sponge. As the stripping member, a belt member or a brush member can be used instead of the elastic roller. The toner that has not been transferred to the photosensitive member 2 is once peeled off from the surface of the developing roller by the toner supply / peeling member 6, thereby preventing the generation of stationary toner on the developing roller and making the toner charge uniform. .

トナー供給・剥ぎ取り部材として弾性ローラからなる供給・剥ぎ取りローラ6を、現像ローラ1に対してカウンター方向(矢印C方向)に回転させる場合には、ローラ6の周速は、現像剤担持体5の周速100%に対して、20〜120%が好ましい。特には、30〜100%が好ましい。   When the supply / peeling roller 6 made of an elastic roller as the toner supply / peeling member is rotated in the counter direction (arrow C direction) with respect to the developing roller 1, the peripheral speed of the roller 6 is determined by the developer carrying member. 20 to 120% is preferable for a peripheral speed of 100%. In particular, 30 to 100% is preferable.

供給・剥ぎ取りローラ6の表面における回転方向が現像ローラの表面の回転方向と同(順)方向の場合は、トナー供給量の点から供給ローラの周速は、現像ローラ周速に対して100%〜300%が好ましく、101%〜200%であることがより好ましい。供給・剥ぎ取りローラ6の表面における回転方向は、現像剤担持体の表面における回転方向とカウンター方向に回転することが、剥ぎ取り性及び供給性の点でより好ましい。   When the rotation direction on the surface of the supply / peeling roller 6 is the same (forward) direction as the rotation direction of the surface of the developing roller, the peripheral speed of the supply roller is 100 with respect to the peripheral speed of the developing roller in terms of toner supply amount. % To 300% is preferable, and 101% to 200% is more preferable. The rotation direction on the surface of the supply / peeling roller 6 is more preferably rotated in the rotation direction on the surface of the developer carrying member and the counter direction from the viewpoint of stripping property and supply property.

現像ローラ1に対するトナー供給・剥ぎ取り部材6の侵入量は、0.5mm〜2.5mmであることが、トナーの供給及び剥ぎ取り性の点で好ましい。トナー供給・剥ぎ取り部材9の侵入量が0.5mm未満の場合には、剥ぎ取り不足によりゴーストが発生し易くなる傾向がある。また、侵入量が2.5mmを超える場合には、トナーにダメージを与える場合があり、トナー劣化により融着やカブリの原因となり易い傾向がある。   The amount of penetration of the toner supply / peeling member 6 into the developing roller 1 is preferably 0.5 mm to 2.5 mm from the viewpoint of toner supply and peelability. When the penetration amount of the toner supply / peeling member 9 is less than 0.5 mm, a ghost tends to occur due to insufficient peeling. Further, when the intrusion amount exceeds 2.5 mm, the toner may be damaged, and it tends to cause fusion and fogging due to toner deterioration.

図6の現像装置では、現像ローラ1上の非磁性一成分トナー4の層厚を規制する部材として、ウレタンゴム、シリコーンゴム等のゴム弾性を有する材料、或いはリン青銅、ステンレス銅の如き金属弾性を有する材料のトナー規制ブレード8を使用している。   In the developing device of FIG. 6, as a member for regulating the layer thickness of the non-magnetic one-component toner 4 on the developing roller 1, a material having rubber elasticity such as urethane rubber or silicone rubber, or a metal elasticity such as phosphor bronze or stainless copper. The toner regulating blade 8 made of a material having the above is used.

トナー規制ブレード8を現像ローラ1の回転方向と逆の姿勢で該現像ローラ1に圧接させることにより、現像ローラ1上に更に薄いトナー層を形成することができる。このトナー規制ブレード8としては、特に安定した規制力とトナーへの安定した(負)帯電付与性のために、安定した加圧力の得られるリン青銅板表面にポリアミドエラストマー(PAE)を貼り付けた構造のものを用いることが好ましい。ポリアミドエラストマー(PAE)としては、例えばポリアミドとポリエーテルの共重合体が挙げられる。   A thinner toner layer can be formed on the developing roller 1 by pressing the toner regulating blade 8 against the developing roller 1 in a posture opposite to the rotation direction of the developing roller 1. As the toner regulating blade 8, polyamide elastomer (PAE) is pasted on the surface of a phosphor bronze plate where a stable pressurizing force can be obtained particularly for a stable regulating force and a stable (negative) chargeability to the toner. It is preferable to use a structure. Examples of the polyamide elastomer (PAE) include a copolymer of polyamide and polyether.

現像ローラ1に対するトナー規制ブレード8の当接圧力は、線圧5g/cm〜50g/cmであることが、トナーの規制を安定化させ、トナー層厚を好適に調整することができる点で好ましい。   The contact pressure of the toner regulating blade 8 with respect to the developing roller 1 is preferably a linear pressure of 5 g / cm to 50 g / cm from the viewpoint that the regulation of the toner can be stabilized and the toner layer thickness can be suitably adjusted. .

トナー規制ブレード8の当接圧力が線圧5g/cm未満の場合には、トナーの規制が弱くなる傾向があり、カブリやトナーもれの原因となる場合がある。また、線圧50g/cmを超える場合には、トナーへのダメージが大きくなる傾向があり、トナー劣化や現像ローラ及びブレードへの融着の原因となる場合がある。   When the contact pressure of the toner regulating blade 8 is less than the linear pressure of 5 g / cm, the toner regulation tends to be weakened, which may cause fogging or toner leakage. On the other hand, when the linear pressure exceeds 50 g / cm, the damage to the toner tends to increase, which may cause toner deterioration and fusion to the developing roller and blade.

なお、現像方式として、上記に説明したようないわゆるジャンピング現像方式に限定されるわけではなく、接触現像方式の場合の電子写真画像形成装置に適用することも可能である。   The developing method is not limited to the so-called jumping developing method as described above, and can be applied to an electrophotographic image forming apparatus in a contact developing method.

次に本発明の現像ローラを搭載したカラー電子写真画像形成装置の一例を図7に模式図と示した。この図7により以下説明する。   Next, an example of a color electrophotographic image forming apparatus equipped with the developing roller of the present invention is schematically shown in FIG. This will be described below with reference to FIG.

図7の模式図に示すカラー電子写真画像形成装置は、イエローY、マゼンダM、シアンC及びブラックBKの色トナー毎に設けられた現像装置10(10a〜10d)をタンデム形式で有している。該現像装置10は、仕様は各色トナー特性に応じて少し差異があるものの、基本的構成において同じである。現像装置10には、矢印方向に回転する潜像担持体としての感光体2が設けられている。その周囲には、感光体2を一様に帯電するための帯電部材9、一様に帯電した感光体2にレーザー光10を照射して静電潜像を形成する露光手段、静電潜像を形成した感光体2にトナーを供給し静電潜像を現像するホッパー3が設けられている。更に、感光体2上のトナー像を、給紙ローラ22により供給され搬送ベルト23によって搬送される紙の如き記録媒体(転写材)24の裏面からバイアス電源25を印加して記録媒体24上に転写する転写ローラ26を有する転写部材が設けられている。搬送ベルト23は、駆動ローラ27、従動ローラ28及びテンションローラ29に懸架され、各画像形成部で形成されたトナー像を記録媒体24上に順次重畳して転写するように、画像形成部と同期して移動して記録媒体24を搬送するよう制御されている。なお、記録媒体24は、搬送ベルト23にさしかかる直前に設けられた吸着ローラ30の働きにより、搬送ベルト23に静電的に吸着されて、搬送されるようになっている。   The color electrophotographic image forming apparatus shown in the schematic diagram of FIG. 7 has a developing device 10 (10a to 10d) provided for each color toner of yellow Y, magenta M, cyan C, and black BK in a tandem format. . Although the specifications of the developing device 10 are slightly different depending on the characteristics of each color toner, the basic configuration is the same. The developing device 10 is provided with a photoreceptor 2 as a latent image carrier that rotates in the direction of the arrow. Around the periphery, a charging member 9 for uniformly charging the photoreceptor 2, exposure means for irradiating the uniformly charged photoreceptor 2 with a laser beam 10 to form an electrostatic latent image, an electrostatic latent image There is provided a hopper 3 for supplying toner to the photoconductor 2 on which the toner is formed and developing the electrostatic latent image. Further, a bias power supply 25 is applied to the toner image on the photoreceptor 2 from the back surface of a recording medium (transfer material) 24 such as paper supplied by a paper feed roller 22 and conveyed by a conveying belt 23 onto the recording medium 24. A transfer member having a transfer roller 26 for transferring is provided. The conveying belt 23 is suspended from the driving roller 27, the driven roller 28, and the tension roller 29, and is synchronized with the image forming unit so that the toner images formed in the respective image forming units are sequentially superimposed and transferred onto the recording medium 24. The recording medium 24 is controlled to move and transport the recording medium 24. The recording medium 24 is electrostatically attracted to the transport belt 23 and transported by the action of the suction roller 30 provided immediately before reaching the transport belt 23.

本発明の電子写真画像形成装置においては、感光体2と現像ローラ1は接触または近接して配置されており、それらは感光体2と現像ローラ1の接触もしくは近接箇所において同方向に回転している。   In the electrophotographic image forming apparatus of the present invention, the photoconductor 2 and the developing roller 1 are arranged in contact or close to each other, and they rotate in the same direction at the contact or close location of the photoconductor 2 and the developing roller 1. Yes.

更に、カラー電子写真画像形成装置には、記録媒体24上に重畳転写したトナー像を加熱などにより定着する定着装置31と、画像形成された記録媒体を装置外に排紙する搬送装置(図示せず)とが設けられている。なお、記録媒体24は剥離装置32の働きにより搬送ベルト23から剥がされて定着装置31に送られるようになっている。   Further, the color electrophotographic image forming apparatus includes a fixing device 31 that fixes the toner image superimposed and transferred onto the recording medium 24 by heating, and a conveying device (not shown) that discharges the image-formed recording medium to the outside of the apparatus. )). The recording medium 24 is peeled off from the conveying belt 23 by the action of the peeling device 32 and sent to the fixing device 31.

一方、現像装置10には感光体2上に転写されずに残存する転写残トナーを除去するクリーニングブレード33を有するクリーニング部材と、感光体から掻き取られたトナーを収納する廃トナー容器34とが設けられている。クリーニングされた感光体2は画像形成可能となって待機するようになっている。   On the other hand, the developing device 10 includes a cleaning member having a cleaning blade 33 that removes transfer residual toner that remains without being transferred onto the photoreceptor 2, and a waste toner container 34 that stores toner scraped off from the photoreceptor. Is provided. The cleaned photosensitive member 2 is on standby when an image can be formed.

なお、現像装置10は、着脱式のプロセスカートリッジとすることも可能である。   The developing device 10 can be a detachable process cartridge.

以下、実施例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited by this.

また、使用した試薬は、下記する他、特に明記しない限り、純度99.5%以上のものである。   The reagents used have a purity of 99.5% or more unless otherwise specified.

1)弾性層用ゴム原料
・液状シリコーンゴム:両末端ビニル基のジメチルポリシロキサン(ビニル基含有量0.15質量%)と両末端Si−H基のジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(Si原子に結合するH含有量0.30%)を使用した。なお、硬化触媒として塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体(0.5質量%)を使用した。
・オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名、AESジャパン株式会社製)
・オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−45」(商品名、AESジャパン株式会社製)
・LDPE「ノバテックLD LJ902」(商品名、日本ポリエチレン株式会社製)
・LDPE「ノバテックLD LJ802」(商品名、日本ポリエチレン株式会社製)
・EVA「エバフレックス EV45LX」(商品名、三井・デュポンポリケミカル株式会社製)
1) Rubber raw material for elastic layer and liquid silicone rubber: dimethylpolysiloxane having vinyl groups at both ends (vinyl group content 0.15% by mass) and dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer having both ends Si-H groups ( An H content of 0.30% bonded to Si atoms was used. In addition, the complex (0.5 mass%) of chloroplatinic acid and divinyltetramethyldisiloxane was used as a curing catalyst.
・ Olefin elastomer "Santoprene 8211-25" (trade name, manufactured by AES Japan Co., Ltd.)
・ Olefin elastomer "Santoprene 8211-45" (trade name, manufactured by AES Japan Co., Ltd.)
・ LDPE "Novatech LD LJ902" (trade name, manufactured by Nippon Polyethylene Corporation)
・ LDPE "NOVATEC LD LJ802" (trade name, manufactured by Nippon Polyethylene Corporation)
-EVA "Evaflex EV45LX" (trade name, manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.)

2)弾性層用その他成分
・石英粉末「Min−USil」(商品名、Pennsylvania Glass Sand社製)
・カーボンブラック「デンカブラック」(商品名、電気化学工業株式会社製、粉状品)
・MTカーボンブラック「サーマックスフローフォームN990」(商品名、CANCAB社製)
2) Other components for elastic layer, quartz powder “Min-USil” (trade name, manufactured by Pennsylvania Glass Sand)
・ Carbon black “Denka Black” (trade name, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., powdered product)
MT carbon black “Thermax Flow Foam N990” (trade name, manufactured by CANCAB)

製造例1(弾性ローラ1の製造)
両末端ビニル基のジメチルポリシロキサン(ビニル基含有量0.15質量%)100質量部に、充填剤として石英粉末「Min−USil」(商品名)7質量部及びカーボンブラック「デンカブラック」(商品名)10質量部を配合した。この配合物をプラネタリーミキサーを用いて混合脱泡し、液状シリコーンゴムのベース材料とした。このベース材料に、硬化触媒として塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体を0.5質量部配合し、A液とした。また、前記ベース材料に、両末端Si−H基のジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(Si原子に結合するH含有量0.30%)を1.5質量部配合し、B液とした。
Production Example 1 (Manufacture of elastic roller 1)
100 parts by mass of dimethylpolysiloxane having vinyl groups at both ends (vinyl group content 0.15% by mass), 7 parts by mass of quartz powder “Min-USil” (trade name) and carbon black “Denka Black” (product) Name) 10 parts by mass were blended. This blend was mixed and defoamed using a planetary mixer to obtain a liquid silicone rubber base material. To this base material, 0.5 part by mass of a complex of chloroplatinic acid and divinyltetramethyldisiloxane was blended as a curing catalyst to prepare a solution A. Also, 1.5 parts by mass of a dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer having both Si-H groups at both ends (H content of 0.30% bonded to Si atoms) is blended with the base material, did.

一方、円筒形金型の中心部に、表面をプライマー処理した直径6mm、長さ250mmのSUM材製円柱状軸芯体を配置したものを用意した。この金型に、上記A液及びB液をスタティックミキサーにより質量比1:1で混合したものを注入し、温度130℃で20分間、加熱硬化し、脱型を行った。さらに、温度200℃で4時間加熱して、長さ240mm、厚み3mmの弾性層を有する弾性ローラ1を得た。   On the other hand, a SUM material columnar shaft core having a diameter of 6 mm and a length of 250 mm arranged at the center of a cylindrical mold was prepared. A mixture of the A and B liquids mixed at a mass ratio of 1: 1 by a static mixer was poured into the mold, and the mold was heat-cured at a temperature of 130 ° C. for 20 minutes for demolding. Furthermore, it heated at 200 degreeC for 4 hours, and obtained the elastic roller 1 which has an elastic layer of length 240mm and thickness 3mm.

製造例2(弾性ローラ2の製造)
下記の材料を、直径φ30mm、L/D32の2軸押出機にてペレット化して樹脂組成物を得た。
・ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名):100質量部;
・MTカーボンブラック「サーマックスフローフォームN990」(商品名):40質量部。
この樹脂組成物を、クロスヘッド押出成形して、軸芯体(製造例1で使用したものと同じ)上に樹脂層を形成した。この樹脂層の端部を切断し、さらに樹脂層部分を回転砥石で研磨して、厚み3mmの弾性層を有する弾性ローラ2を得た。
Production Example 2 (Manufacture of elastic roller 2)
The following materials were pelletized with a twin screw extruder having a diameter of 30 mm and L / D32 to obtain a resin composition.
Polyolefin elastomer “Santoprene 8211-25” (trade name): 100 parts by mass;
MT carbon black “Thermax Flow Foam N990” (trade name): 40 parts by mass.
This resin composition was subjected to crosshead extrusion molding to form a resin layer on the shaft core (the same as that used in Production Example 1). The edge part of this resin layer was cut | disconnected, and also the resin layer part was grind | polished with the rotating grindstone, and the elastic roller 2 which has a 3 mm-thick elastic layer was obtained.

製造例3(弾性ローラ3の製造)
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−45」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ3を得た。
Production Example 3 (Production of elastic roller 3)
The elastic roller 3 was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that the olefin elastomer “Santoprene 8211-45” (trade name) was used instead of the polyolefin elastomer “Santoprene 8211-25” (trade name).

製造例4(弾性ローラ4の製造)
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、LDPE「ノバテックLD LJ902」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ4を得た。
Production Example 4 (Production of elastic roller 4)
An elastic roller 4 was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that LDPE “Novatech LD LJ902” (trade name) was used instead of the polyolefin elastomer “Santoprene 8211-25” (trade name).

製造例5(弾性ローラ5の製造)
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、LDPE「ノバテックLD LJ802」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ5を得た。
Production Example 5 (Production of elastic roller 5)
An elastic roller 5 was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that LDPE “Novatech LD LJ802” (trade name) was used instead of the polyolefin elastomer “Santoprene 8211-25” (trade name).

製造例6(弾性ローラ6の製造)
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)100質量部に代えて、EVA「エバフレックス EV45LX」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ6を得た。
Production Example 6 (Production of elastic roller 6)
An elastic roller 6 was obtained in the same manner as in Production Example 2, except that EVA “Evaflex EV45LX” (trade name) was used instead of 100 parts by mass of the polyolefin-based elastomer “Santoprene 8211-25” (trade name).

実施例1
外径12mmφに研削加工したアルミニウム製基体を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置したアルミニウム製基体48を10rpmで回転させて、550秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気8sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が53Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置したアルミニウム製基体を10rpmで回転させて、150秒間処理した。
Example 1
An aluminum substrate ground to an outer diameter of 12 mmφ was placed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, and then the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced as a source gas into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The aluminum substrate 48 placed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 550 seconds. Thereafter, a mixed gas of 8 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 53 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The aluminum substrate placed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 150 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の層厚を、薄膜測定装置「F20−EXR」(商品名)を用いて測定したところ、層厚は1508nmであった。なお、測定は現像ローラの長手方向等分された3箇所、かつ周方向等分された3箇所の合計9箇所で行い、得られた値の平均値を層厚とした。なお、測定時における炭素を含有する酸化ケイ素被膜の屈折率を1.42と設定し、測定を行った。   When the layer thickness of the surface layer of the obtained developing roller was measured using a thin film measuring apparatus “F20-EXR” (trade name), the layer thickness was 1508 nm. In addition, the measurement was performed at a total of nine places including three places equally divided in the longitudinal direction of the developing roller and three places equally divided in the circumferential direction, and the average value of the obtained values was defined as the layer thickness. The measurement was performed with the refractive index of the silicon oxide film containing carbon at the time of measurement set to 1.42.

次に現像ローラの表面層を高周波グロー放電発光表面分析装置により、全元素に対するSi、O、C、Hの存在元素数の合計を求めたところ94.7%であった。また、X線光電子分光装置により求めた表面層の表面における(O/Si)は1.48、(C/Si)は0.15であった。また、表面層の表面から1358nmの深さにおける(O/Si)は0.80、(C/Si)は1.20であった。   Next, the total number of Si, O, C, and H existing elements with respect to all the elements on the surface layer of the developing roller was determined by a high-frequency glow discharge luminescence surface analyzer, and found to be 94.7%. Moreover, (O / Si) in the surface of the surface layer calculated | required with the X ray photoelectron spectrometer was 1.48, and (C / Si) was 0.15. Further, (O / Si) at a depth of 1358 nm from the surface of the surface layer was 0.80, and (C / Si) was 1.20.

現像ローラの表面層の静電容量を誘電率測定システム(英国ソーラトロン社製1296型誘電率測定インターフェース、1260型インピダンスアナライザーを併用)により測定したところ、5.15であった。   The electrostatic capacity of the surface layer of the developing roller was measured by a dielectric constant measurement system (using a 1296 type dielectric constant measurement interface and 1260 type impedance analyzer manufactured by Solartron, UK), and found to be 5.15.

実施例2
製造例1の弾性ローラ1に、実施例1と同様の条件で処理を行った。
Example 2
The elastic roller 1 of Production Example 1 was processed under the same conditions as in Example 1.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1358nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1358 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例3
製造例1の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。その後、ヘキサメチルシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。
Example 3
After the elastic roller 1 of Production Example 1 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethylsiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethylsiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から681nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 681 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例4
製造例2の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が7Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、250秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。
Example 4
After the elastic roller 1 of Production Example 2 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 7 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 250 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から285nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 285 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例5
製造例2の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、900秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及びトルエン蒸気5sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が5Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。
Example 5
After the elastic roller 1 of Production Example 2 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced as a source gas into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied to the plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 900 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 5 sccm of toluene vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 5 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1635nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1635 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例6
製造例3の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、1000秒間処理した。その後、ヘキサメチルシロキサン蒸気30sccm及び酸素400sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が75Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、400秒間処理した。
Example 6
After the elastic roller 1 of Production Example 3 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 1000 seconds. Thereafter, a mixed gas of 30 sccm of hexamethylsiloxane vapor and 400 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 75 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied to the plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 400 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から2550nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 2550 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例7
製造例3の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が7Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、500秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccm及び酸素400sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が75Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、900秒間処理した。
Example 7
After the elastic roller 1 of Production Example 3 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 7 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 500 seconds. Thereafter, a mixed gas of 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 400 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 75 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 900 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から4500nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 4500 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例8
製造例4の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が6Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、750秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及びトルエン蒸気5sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が5Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、500秒間処理した。
Example 8
After the elastic roller 1 of Production Example 4 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor as a source gas was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 6 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 750 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 5 sccm of toluene vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 5 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 500 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1500nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1500 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例9
製造例4の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が6Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、600秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入しを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が57Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、500秒間処理した。
Example 9
After the elastic roller 1 of Production Example 4 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor as a source gas was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 6 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 600 seconds. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 57 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 500 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から2700nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 2700 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例10
製造例5の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、300秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、300Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、300秒間処理した。
Example 10
After the elastic roller 1 of Production Example 5 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 300 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 300 W was supplied to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 300 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から315nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 315 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例11
製造例5の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、500秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccm及び酸素400sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が75Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、100秒間処理した。
Example 11
After the elastic roller 1 of Production Example 5 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 500 seconds. Thereafter, a mixed gas of 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 400 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 75 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 100 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1200nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 1200 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例12
外径12mmφに研削加工したアルミニウム製基体を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置したアルミニウム製基体を10rpmで回転させて、225秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気8sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が53Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、75秒間処理した。
Example 12
An aluminum substrate ground to an outer diameter of 12 mmφ was placed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, and then the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced as a source gas into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The aluminum substrate placed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 225 seconds. Thereafter, a mixed gas of 8 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 53 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 75 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から596nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 596 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例13
製造例2の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、400秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が55Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、100秒間処理した。
Example 13
After the elastic roller 1 of Production Example 2 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced as a source gas into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 400 seconds. Thereafter, a mixed gas of 10 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 55 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 100 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から630nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 630 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例14
製造例6の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、30秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素300sccmの混合ガスをを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が54Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、20秒間処理した。
Example 14
After the elastic roller 1 of Production Example 6 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 30 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 54 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 20 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から47nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 47 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例15
製造例6の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が6Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、120秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が54Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、100秒間処理した。
Example 15
After the elastic roller 1 of Production Example 6 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 6 Pa. After the pressure became constant, power at a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied from a high-frequency power source to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 120 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 54 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 100 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から261nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 261 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例16
製造例1の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気50sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、900秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、300秒間処理した。
Example 16
After the elastic roller 1 of Production Example 1 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 50 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power at a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied from a high-frequency power source to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 900 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 300 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、最表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the outermost surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1440nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1440 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例17
製造例2の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、300秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及びトルエン蒸気5sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が5Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、100秒間処理した。
Example 17
After the elastic roller 1 of Production Example 2 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced as a source gas into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 13 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 300 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 5 sccm of toluene vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 5 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 100 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から570nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 570 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

実施例18
製造例3の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が7Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、250秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccm及び酸素400sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が75Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、150Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、250秒間処理した。
Example 18
After the elastic roller 1 of Production Example 3 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 7 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 250 seconds. Thereafter, a mixed gas of 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 400 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 75 Pa. From the high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 150 W was supplied to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 250 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、最表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the outermost surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1350nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1350 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例1
下記の材料を混合した混合液にMEK(メチルエチルケトン)を加えサンドミルで1時間分散した。
・ポリウレタンポリオールプレポリマー(商品名:タケラックTE5060、三井武田ケミカル社製):100質量部、
・イソシアネート(商品名:コロネート2521、日本ポリウレタン株式会社製):63質量部、
・カーボンブラック(商品名:MA100、三菱化学社製):20質量部、
・ウレタン粒子(商品名:C400、根上工業社製):20質量部。
Comparative Example 1
MEK (methyl ethyl ketone) was added to a mixed solution in which the following materials were mixed, and the mixture was dispersed with a sand mill for 1 hour.
Polyurethane polyol prepolymer (trade name: Takelac TE5060, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co.): 100 parts by mass
・ Isocyanate (trade name: Coronate 2521, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.): 63 parts by mass,
Carbon black (trade name: MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 20 parts by mass
-Urethane particles (trade name: C400, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.): 20 parts by mass.

分散後、さらにMEKを加え固形分20質量%〜30質量%の範囲で調整したものを表面層の原料液とした。この表面層の原料液中に、製造例1の弾性ローラを浸漬して、外表面を均一にコーティングした後、引上げて自然乾燥させた。次いで、140℃にて60分間加熱処理することで、コーティングされた表面層の原料の硬化を行ない、表面層が形成された現像ローラを得た。   After dispersion, MEK was further added to adjust the solid content in the range of 20% by mass to 30% by mass as a raw material liquid for the surface layer. The elastic roller of Production Example 1 was immersed in the raw material liquid for the surface layer to coat the outer surface uniformly, and then pulled up and dried naturally. Next, the raw material of the coated surface layer was cured by heat treatment at 140 ° C. for 60 minutes to obtain a developing roller on which the surface layer was formed.

得られた現像ローラの表面層の層厚は、表面層を含む現像ローラの断面試料を採取し、デジタルマイクロスコープ「VH―8000」(商品名、株式会社キーエンス製)にて観察した。得られた現像ローラの層厚は13μmであった。   The layer thickness of the surface layer of the developing roller obtained was obtained by taking a cross-sectional sample of the developing roller including the surface layer and observing with a digital microscope “VH-8000” (trade name, manufactured by Keyence Corporation). The layer thickness of the obtained developing roller was 13 μm.

また、現像ローラの表面層の静電容量を実施例1と同様に測定したところ、25.0であった。   Further, the electrostatic capacity of the surface layer of the developing roller was measured in the same manner as in Example 1 and found to be 25.0.

比較例2
製造例1の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が55Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、3300秒間処理した。
Comparative Example 2
After the elastic roller 1 of Production Example 1 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 55 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 3300 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から4455nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 4455 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例3
製造例1の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、600秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、300Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、600秒間処理した。
Comparative Example 3
After the elastic roller 1 of Production Example 1 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 600 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. After the pressure became constant, power at a frequency of 13.56 MHz and 300 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 600 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から585nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep portion of the surface layer are values at a depth of 585 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例4
製造例1の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が9Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、120Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccmおよび酸素400sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が72Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、200秒間処理した。
Comparative Example 4
After the elastic roller 1 of Production Example 1 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, 30 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber as a source gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 9 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 120 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds. Thereafter, a mixed gas of 10 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 400 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 72 Pa. From a high frequency power source, electric power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied to the plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 200 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1020nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1020 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例5
外径12mmφに研削加工したアルミニウム製基体にパーヒドロポリシラザン溶液(商品名:アクアミカNP110−5;AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社製)をディップ法により塗工した。その後、1昼夜風乾して、表面層が形成された現像ローラを得た。
Comparative Example 5
A perhydropolysilazane solution (trade name: Aquamica NP110-5; manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd.) was applied to an aluminum substrate ground to an outer diameter of 12 mmφ by a dip method. Then, the developing roller in which the surface layer was formed was obtained by air-drying for one day and night.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から1800nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 1800 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例6
製造例6の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が15Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、30Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、35秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が54Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、15秒間処理した。
Comparative Example 6
After the elastic roller 1 of Production Example 6 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 50 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 15 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 30 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 35 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 54 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and processed for 15 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から44nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 44 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例7
製造例2の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が9Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、600秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccmを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が3Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、600秒間処理した。
Comparative Example 7
After the elastic roller 1 of Production Example 2 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 20 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 30 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 9 Pa. After the pressure became constant, power with a frequency of 13.56 MHz and 200 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 600 seconds. Thereafter, 3 sccm of hexamethyldisiloxane vapor was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 3 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 600 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から342nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 342 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

比較例8
製造例3の弾性ローラ1を図5に示したプラズマCVD装置内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ内を1Paまで減圧にした。その後、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が55Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、3000秒間処理した。その後、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が54Paになるように調整した。高周波電源より、周波数13.56MHz、250Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内に設置した弾性ローラ1を10rpmで回転させて、2700秒間処理した。
Comparative Example 8
After the elastic roller 1 of Production Example 3 was installed in the plasma CVD apparatus shown in FIG. 5, the vacuum chamber was depressurized to 1 Pa using a vacuum pump. Thereafter, a mixed gas of 10 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber as a raw material gas, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 55 Pa. After the pressure became constant, power at a frequency of 13.56 MHz and 70 W was supplied from a high-frequency power source to the flat plate electrodes to generate plasma between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 3000 seconds. Thereafter, a mixed gas of 5 sccm of hexamethyldisiloxane vapor and 300 sccm of oxygen was introduced into the vacuum chamber, and the pressure in the vacuum chamber was adjusted to 54 Pa. Electric power with a frequency of 13.56 MHz and 250 W was supplied from a high-frequency power source to the plate electrodes, and plasma was generated between the electrodes. The elastic roller 1 installed in the vacuum chamber was rotated at 10 rpm and treated for 2700 seconds.

処理終了後電力供給を停止し、真空チャンバ内に残留している原料ガスを排気し、空気を真空チャンバ内に大気圧になるまで導入した。その後、表面層が形成された現像ローラを取り出した。   After the treatment, the power supply was stopped, the raw material gas remaining in the vacuum chamber was exhausted, and air was introduced into the vacuum chamber until atmospheric pressure was reached. Thereafter, the developing roller on which the surface layer was formed was taken out.

得られた現像ローラの表面層の各種物性について実施例1と同様にして測定した。   Various physical properties of the surface layer of the obtained developing roller were measured in the same manner as in Example 1.

なお、表面層の深部の(O/Si)と(C/Si)については、表面から4545nmの深さにおける値である。測定結果を表1に示す。   Note that (O / Si) and (C / Si) in the deep part of the surface layer are values at a depth of 4545 nm from the surface. The measurement results are shown in Table 1.

<実施例1〜18及び比較例1〜8に係る現像ローラの評価>
上記実施例1〜18及び比較例1〜8に係る現像ローラを、電子写真式レーザープリンタ(商品名:LBP−5000、キヤノン株式会社製)用のカートリッジに現像ローラとして組み込んだ。このカートリッジを用い、温度20℃、湿度50%RHの環境下で静電潜像をトナーで現像することにより画像出力した。その後、得られた画像を、評価項目(かぶり、濃度ムラ、文字品位、濃度安定性)について評価した。
<Evaluation of developing rollers according to Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 8>
The developing rollers according to Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 8 were incorporated as developing rollers in a cartridge for an electrophotographic laser printer (trade name: LBP-5000, manufactured by Canon Inc.). Using this cartridge, the electrostatic latent image was developed with toner in an environment of a temperature of 20 ° C. and a humidity of 50% RH to output an image. Thereafter, the obtained image was evaluated for evaluation items (fogging, density unevenness, character quality, density stability).

また、下記評価画像出力後の現像ローラの表面を観察し、評価項目(表面層のひび割れ、表面層上のフィルミングの有無、及び表面層の耐久性)について評価した。なお、ここで用いたレーザープリンタ「LBP−5000」は、A4縦出力用のマシンであり、記録メディアの出力スピード8ppmのものである。また、画像評価には、ブラックBKトナーを用いて初期ベタ黒画像及び「特殊ソフト・ファームウエア搭載ポータブル分光濃度計504」(商品名、X−Rite社製)測定による濃度0.7のハーフトーン画像を出力したものを使用した。さらに、1%印字による連続画像形成を行い、3000枚後にベタ黒画像及びベタ白画像を出力したものを用いた。   Moreover, the surface of the developing roller after the following evaluation image output was observed, and evaluation items (cracking of the surface layer, presence of filming on the surface layer, and durability of the surface layer) were evaluated. The laser printer “LBP-5000” used here is a machine for A4 vertical output, and has a recording medium output speed of 8 ppm. For image evaluation, an initial solid black image using black BK toner and a halftone with a density of 0.7 measured by “Portable spectral densitometer 504 with special software / firmware” (trade name, manufactured by X-Rite). An image output was used. Further, continuous image formation by 1% printing was performed, and a solid black image and a solid white image were output after 3000 sheets.

(かぶり)
3000枚後のベタ白画像を、フォトボルト反射濃度計「TC−6DS/A」(商品名、東京電色株式会社製)で反射濃度を測定し、非印字部分との差をかぶり(%)とし、下記基準で評価した。
A:1.5%未満。
B:1.5%以上3.0%未満。
C:3.0%以上。
(Cover)
The solid white image after 3000 sheets was measured for reflection density with a photovolt reflection densitometer “TC-6DS / A” (trade name, manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.), and the difference from the non-printed part was covered (%). And evaluated according to the following criteria.
A: Less than 1.5%.
B: 1.5% or more and less than 3.0%.
C: 3.0% or more.

(印字部の濃度ムラ)
初期ベタ黒画像及びハーフトーン画像について、濃度ムラを目視により観察し、下記基準で評価した。なお、濃度ムラはハーフトーン画像で最も見やすく、ベタ黒画像では比較的見やすい。
A:いずれの画像でも肉眼では確認されない。
B:ハーフトーン画像上で濃度ムラが見られるが、ベタ黒画像上では濃度ムラが見られない。
C:いずれの画像でも濃度ムラが見られる。
(Density unevenness in the printed part)
The initial solid black image and the halftone image were visually observed for density unevenness and evaluated according to the following criteria. It should be noted that density unevenness is most visible in a halftone image and relatively easy to see in a solid black image.
A: Any image is not confirmed with the naked eye.
B: Density unevenness is seen on the halftone image, but no density unevenness is seen on the solid black image.
C: Density unevenness is observed in any image.

(文字品位)
初期時に4ポイントの「電」文字画像を出力し、文字のカスレや飛び散りを目視評価し、下記基準にて画質を評価した。
A:倍率が10倍のルーペで見ても飛び散りのない鮮明な画像である。
B:若干飛び散りが見られるものの実用上問題ない。
C:飛び散り以外に文字のカスレが目立つ。
(Character quality)
A 4-point “electric” character image was output at the initial stage, and the character blurring and scattering were visually evaluated, and the image quality was evaluated according to the following criteria.
A: A clear image that does not scatter even when viewed with a magnifying glass having a magnification of 10 times.
B: Although there is some scattering, there is no practical problem.
C: Character blurring is noticeable in addition to scattering.

(濃度安定性)
初期及び3000枚後のベタ黒画像の濃度を「特殊ソフト・ファームウエア搭載ポータブル分光濃度計504」(商品名、X−Rite社製)を用いて測定し、下記の基準で評価を行った。
A:それぞれの濃度差が0.1未満である。
B:それぞれの濃度差が0.1以上0.2未満である。
C:それぞれの濃度差が0.2以上である。
(Concentration stability)
The density of the solid black image at the initial stage and after 3000 sheets was measured using “portable spectral densitometer 504 equipped with special software / firmware” (trade name, manufactured by X-Rite) and evaluated according to the following criteria.
A: Each density difference is less than 0.1.
B: Each density difference is 0.1 or more and less than 0.2.
C: Each density difference is 0.2 or more.

(表面層のヒビ割れ)
初期ベタ黒画像及びハーフトーン画像について、表面層のヒビ割れに起因するスジの発生を目視により確認し、以下の基準で判断した。
A:スジの発生がない。
B:スジが見られるものの、画像上でひび割れに起因するスジの発生が無い。
C:スジが見られ、画像としてもひび割れに起因するスジの発生がある。
(Surface cracks on the surface layer)
The initial solid black image and halftone image were visually checked for the occurrence of streaks due to cracks in the surface layer, and judged according to the following criteria.
A: No streak is generated.
B: Although streaks are observed, there are no streaks due to cracks on the image.
C: Streaks are observed, and there are streaks due to cracks in the image.

(表面層の耐久性)
全画像評価用画像の出力終了後、現像ローラの表面をデジタルマイクロスコープ「VH―8000」(商品名、株式会社キーエンス製)にて観察し、表面層の剥離及び削れが見られるか否かを確認し、以下の基準で判断した。
A:表面層の剥離及び削れがない。
B:表面層の剥離及び削れが若干見られるが、軽微である。
C:表面層の剥離及び削れが明らかにある。
(Durability of surface layer)
After the output of all the images for image evaluation, the surface of the developing roller is observed with a digital microscope “VH-8000” (trade name, manufactured by Keyence Corporation) to determine whether the surface layer is peeled off or scraped. Confirmed and judged according to the following criteria.
A: There is no peeling and scraping of the surface layer.
B: Peeling and scraping of the surface layer are slightly observed, but are slight.
C: The surface layer is clearly peeled and scraped.

(現像ローラ表面のトナー融着−フィルミング)
全画像評価用画像の出力終了後に、現像ローラの表面を観察し、現像ローラ表面へのトナーの融着、所謂フィルミングの発生状況と、最終の評価画像を観察から、フィルミングを以下の基準で評価した。
A:現像ローラ上にフィルミングなし。
B:画像には問題がなく、現像ローラ上に軽微にフィルミングが発生している。
C:現像ローラ上へのトナー付着の影響が画像にやや発生している。
(Developer roller surface toner fusion-filming)
After the output of all the images for image evaluation, the surface of the developing roller is observed, the toner is fused to the surface of the developing roller, so-called filming occurrence state, and the final evaluation image is observed. It was evaluated with.
A: No filming on the developing roller.
B: There is no problem with the image, and filming slightly occurs on the developing roller.
C: The image is slightly affected by toner adhesion on the developing roller.

また、実施例及び比較例で得られた現像ローラについて、さらに、以下の特性試験を行った。   Further, the following characteristic tests were conducted on the developing rollers obtained in the examples and comparative examples.

(現像ローラ染み出し性の試験)
現像ローラがトナー規制部材と圧接していることで生じる弾性体からの低分子量物質の染み出し性は下記のようにして試験した。
(Development roller exudation test)
The exuding property of the low molecular weight substance from the elastic body generated when the developing roller is in pressure contact with the toner regulating member was tested as follows.

現像ローラをプロセスカートリッジに組み込み、トナー規制部材と圧接させたまま温度40℃、湿度95%RHの環境下で30日間放置した。その後、放置後のプロセスカートリッジをレーザープリンタに組み込み、ベタ黒画像及びハーフトーン画像を出力した。その1枚目を目視により、及び染み出し性(弾性体からの染み出し物が感光体へ付着することによる画像への不具合の発生の有無)について下記の評価をした。
A:染み出し物に基づく画像の不具合はない。
B:染み出し物に基づく画像の不具合は見られるものの、画像上問題がない。
C:染み出し物に基づく画像の不具合が観察される。
The developing roller was incorporated into the process cartridge and left for 30 days in an environment of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 95% RH while being in pressure contact with the toner regulating member. Thereafter, the process cartridge after being left was incorporated into a laser printer, and a solid black image and a halftone image were output. The first sheet was visually evaluated and the following evaluation was made on the exuding property (whether or not the exudate from the elastic body adhered to the photoconductor caused the occurrence of defects).
A: There is no image defect based on the exudate.
B: Although there is an image defect based on the exudate, there is no image problem.
C: Image defect based on exudate is observed.

各現像ローラの分析評価結果を表1に、特性評価結果を表2にまとめて示した。   The analysis evaluation results for each developing roller are summarized in Table 1, and the characteristic evaluation results are summarized in Table 2.

Figure 0005328287
Figure 0005328287

Figure 0005328287
Figure 0005328287

現像ローラの1例の断面図である。It is sectional drawing of an example of a developing roller. 現像ローラの1例の断面図である。It is sectional drawing of an example of a developing roller. 現像ローラに電圧を印加した際の時間に対する電流値変化を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing a change in current value with respect to time when a voltage is applied to the developing roller. 表面層の静電容量を測定方法を説明する概略図である。It is the schematic explaining the measuring method of the electrostatic capacitance of a surface layer. プラズマCVD装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a plasma CVD apparatus. 本発明の現像装置の一実施形態を示す模式図である。1 is a schematic diagram illustrating an embodiment of a developing device of the present invention. 本発明の電子写真画像形成装置の一実施形態を示す模式図である。。1 is a schematic diagram showing an embodiment of an electrophotographic image forming apparatus of the present invention. .

符号の説明Explanation of symbols

1 現像ローラ
2 感光体
3 ホッパー
4 トナー
5 攪拌翼
6 トナー供給・剥ぎ取り部材
7 現像バイアス電源
8 トナー規制ブレード
9 帯電部材
10 現像装置
10a〜10d現像装置(各色用)
11 軸芯体
12 弾性層
13 表面層
14 表面層
21 レーザー光
22 給紙ローラ
23 搬送ベルト
24 記録媒体
25 バイアス電源
26 転写ローラ
27 駆動ローラ
28 従動ローラ
29 テンションローラ
30 吸着ローラ
31 定着装置
32 剥離装置
33 クリーニングブレード
34 廃トナー容器
41 真空チャンバ
42 平板電極
43 原料ガスボンベ及び原料液体タンク
44 原料供給手段
45 排気手段
46 高周波供給手段
47 モータ
48 軸芯体または軸心体上に弾性層が形成された弾性ローラ
402 円筒電極(金属ローラ)
403 誘電率測定システム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Developing roller 2 Photoconductor 3 Hopper 4 Toner 5 Stirring blade 6 Toner supply / peeling member 7 Developing bias power supply 8 Toner regulating blade 9 Charging member 10 Developing devices 10a to 10d (for each color)
11 Shaft Core 12 Elastic Layer 13 Surface Layer 14 Surface Layer 21 Laser Light 22 Feeding Roller 23 Conveying Belt 24 Recording Medium 25 Bias Power Supply 26 Transfer Roller 27 Drive Roller 28 Driven Roller 29 Tension Roller 30 Adsorption Roller 31 Fixing Device 32 Peeling Device 33 Cleaning blade 34 Waste toner container 41 Vacuum chamber 42 Flat electrode 43 Raw material gas cylinder and raw material liquid tank 44 Raw material supply means 45 Exhaust means 46 High frequency supply means 47 Motor 48 Elasticity in which an elastic layer is formed on the shaft core or shaft core Roller 402 Cylindrical electrode (metal roller)
403 Dielectric constant measurement system

Claims (4)

感光体と、表面に現像剤を担持し該感光体に形成される静電潜像の現像領域に該現像剤を搬送する現像ローラとを有し、
該感光体と該現像ローラとの間に、交流電圧を含むバイアス電圧を印加し、該感光体に形成される静電潜像をトナーで現像する電子写真画像形成装置において、
該現像ローラは、50nm以上5000nm以下の膜厚を有する表面層を具備し、該表面層は、
ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含有する酸化ケイ素膜からなり、
高周波グロー放電発光表面分析法により測定したSi、O、C、Hの存在元素数の合計が全元素に対して90%以上であり、
ケイ素原子と化学結合を形成している酸素原子のケイ素原子に対する存在比(O/Si)が0.65以上1.95以下であり、
該表面層の表面における、ケイ素原子と化学結合している炭素原子のケイ素原子に対する存在比(C/Si)が0.05以上0.70以下であり、且つ、
0.10pF以上10.0pF以下の静電容量を有していることを特徴とする電子写真画像形成装置。
A photosensitive member, and a developing roller that carries the developer on the surface and conveys the developer to a developing region of an electrostatic latent image formed on the photosensitive member,
In an electrophotographic image forming apparatus that applies a bias voltage including an alternating voltage between the photoconductor and the developing roller and develops an electrostatic latent image formed on the photoconductor with toner.
The developing roller includes a surface layer having a film thickness of 50 nm or more and 5000 nm or less.
It consists of a silicon oxide film containing carbon atoms that are chemically bonded to silicon atoms,
The total number of existing elements of Si, O, C, and H measured by high-frequency glow discharge luminescence surface analysis is 90% or more with respect to all elements,
The abundance ratio (O / Si) of oxygen atoms forming chemical bonds with silicon atoms to silicon atoms is 0.65 or more and 1.95 or less,
The abundance ratio (C / Si) of carbon atoms chemically bonded to silicon atoms on the surface of the surface layer is from 0.05 to 0.70, and
An electrophotographic image forming apparatus having a capacitance of 0.10 pF to 10.0 pF.
前記表面層の表面における、(C/Si)が、0.05以上0.30以下である請求項1に記載の電子写真画像形成装置。   2. The electrophotographic image forming apparatus according to claim 1, wherein (C / Si) on the surface of the surface layer is 0.05 or more and 0.30 or less. 前記表面層の層厚が300nm以上3000nm以下である請求項1または2に記載の電子写真画像形成装置。   3. The electrophotographic image forming apparatus according to claim 1, wherein the surface layer has a thickness of 300 nm to 3000 nm. 前記現像ローラと感光体との表面間の最近接距離が50〜400μmであり、かつ前記現像ローラと前記感光体との間の最大電界強度が5.0×106V/m〜1.0×107V/mである請求項1乃至3の何れかに記載の電子写真画像形成装置。 The closest distance between the surface of the developing roller and the photosensitive member is 50 to 400 μm, and the maximum electric field strength between the developing roller and the photosensitive member is 5.0 × 10 6 V / m to 1.0. The electrophotographic image forming apparatus according to claim 1, which is × 10 7 V / m.
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