JP5326253B2 - Method for producing polyimide film and aromatic polyimide - Google Patents

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本発明は、ポリイミド膜の製造方法、及び芳香族ポリイミドに関する。この芳香族ポリイミドは、写真複写機、レーザービームプリンター、ファクシミリ及びこれらの複合装置などの電子写真式画像形成装置に用いられるシームレスベルト、特に定着用、感光体基体用、中間転写用、紙搬送用、及び転写定着用等に使用されるシームレスベルトとして好適に用いることができる。   The present invention relates to a method for producing a polyimide film and an aromatic polyimide. This aromatic polyimide is a seamless belt used in electrophotographic image forming apparatuses such as photocopiers, laser beam printers, facsimiles and their combined devices, especially for fixing, for photoreceptor substrates, for intermediate transfer, for paper conveyance. And a seamless belt used for transfer fixing and the like.

芳香族ポリイミドは、耐熱性、耐薬品性、電気的特性、機械的強度などの特性が優れているので、電気・電子部品などに好適に用いられている。なかでも、特許文献1に記載されているように3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、s−BPDAと略記することもある)とパラフェニレンジアミン(以下、PPDと略記することもある)とを主成分とした芳香族ポリイミドは、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが特に優れていることから、それらの特性が要求されるフレキシブル基板や写真複写機などのシームレスベルトなどの用途で好適に用いられている。   Aromatic polyimide has excellent properties such as heat resistance, chemical resistance, electrical properties, and mechanical strength, and thus is suitably used for electrical and electronic parts. Among them, as described in Patent Document 1, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as s-BPDA) and paraphenylenediamine (hereinafter referred to as “s-BPDA”). Aromatic polyimides, which are mainly abbreviated as PPD), are particularly excellent in heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., so flexible substrates and photocopies that require these properties It is suitably used in applications such as seamless belts for machines.

特許文献2には、ピロメリット酸二無水物(以下PMDAと略記することもある)とPPDとを主成分としたポリイミド膜の製造方法において、ポリアミック酸の塗膜を熱処理するだけでは脆弱なポリイミド膜しか得られないことから、あらかじめ脱水縮合剤とイミド化触媒を含有する溶液中に浸漬した後で熱処理する方法が提案されている。
特許文献3には、シームレスベルトに好適に用いることができる長期耐久性が改良された芳香族ポリイミドを提案している。この芳香族ポリイミドはジアミン成分に3,4’−ジアミノジフェニルエーテルを含有したものである。
特許文献4には、接着層を設けて金属箔と貼り合わせたフレキシブル金属積層板用のポリイミドフィルムとして、テトラカルボン酸成分としてベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物ならびにPMDA、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとPPDとを用いたポリイミドフィルムを提案している。
特許文献5には、テトラカルボン酸成分としてs−BPDAとPMDA、ジアミン成分としてPPDとジアミノジフェニルスルホンとを主成分としたポリイミドからなるシームレスベルトが提案されている。
Patent Document 2 discloses a polyimide film that is brittle by simply heat-treating a polyamic acid coating film in a method for producing a polyimide film mainly composed of pyromellitic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as PMDA) and PPD. Since only a film can be obtained, a method has been proposed in which the film is immersed in a solution containing a dehydration condensing agent and an imidization catalyst and then heat-treated.
Patent Document 3 proposes an aromatic polyimide having improved long-term durability that can be suitably used for a seamless belt. This aromatic polyimide is a diamine component containing 3,4'-diaminodiphenyl ether.
In Patent Document 4, as a polyimide film for a flexible metal laminate having an adhesive layer and bonded to a metal foil, benzophenone tetracarboxylic dianhydride as a tetracarboxylic acid component and PMDA, 4,4′- as a diamine component are disclosed. A polyimide film using diaminodiphenyl ether and PPD is proposed.
Patent Document 5 proposes a seamless belt made of polyimide containing s-BPDA and PMDA as tetracarboxylic acid components and PPD and diaminodiphenyl sulfone as diamine components as main components.

特開昭55−7805号公報Japanese Patent Laid-Open No. 55-7805 特開2003−64196号公報JP 2003-64196 A 特開2006−307114号公報JP 2006-307114 A 特開2006−306972号公報JP 2006-306972 A 特開2006−206778号公報JP 2006-206778 A

s−BPDAとPPDとからなる芳香族ポリイミドは、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが特に優れている。しかしながら、s−BPDAとPPDとからなるポリアミック酸溶液組成物を用いて膜厚が厚いポリイミドシームレスベルトを成形しようとすると、加熱処理の過程で発泡が起こり易いなどの成形性(製膜性)に問題があり、耐熱性や機械的特性、寸法安定性などが良好なポリイミドシームレスベルトを容易に得ることができなかった。
したがって、本発明の目的は、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良されたポリイミド膜の製造方法、さらに耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良された芳香族ポリイミド、特に前記芳香族ポリイミドによって形成された膜厚が厚いポリイミド膜を提供することである。このポリイミド膜からなるシームレスベルトは、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良されているので、写真複写機、レーザービームプリンター、ファクシミリ及びこれらの複合装置などの電子写真式画像形成装置に用いられるシームレスベルト、特に定着用、感光体基体用、中間転写用、紙搬送用、及び転写定着用のシームレスベルトとして好適に用いることができる。
An aromatic polyimide composed of s-BPDA and PPD is particularly excellent in heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, and the like. However, when trying to mold a thick polyimide seamless belt using a polyamic acid solution composition composed of s-BPDA and PPD, the moldability (film forming property) such as foaming is likely to occur during the heat treatment. There was a problem, and it was not possible to easily obtain a polyimide seamless belt having good heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, and the like.
Therefore, the object of the present invention is excellent in heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., and further, a method for producing a polyimide film with improved moldability, heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc. Moreover, it is an object to provide an aromatic polyimide having improved moldability, particularly a thick polyimide film formed of the aromatic polyimide. This seamless belt made of polyimide film has excellent heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., and has improved moldability, so it can be used in electronic devices such as photocopiers, laser beam printers, facsimiles, and their combined devices. It can be suitably used as a seamless belt used in a photographic image forming apparatus, particularly as a seamless belt for fixing, a photoreceptor substrate, an intermediate transfer, a paper transport, and a transfer fixing.

本発明は、下記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸の溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を加熱処理することによって、膜厚が40μm超のポリイミド膜を発泡することなく得ることを特徴とするポリイミド膜の製造方法に関する。   The present invention foams a polyimide film having a film thickness of more than 40 μm by heat-treating a coating film formed by applying a polyamic acid solution composition comprising a repeating unit of the following chemical formula (1) to a substrate. The present invention relates to a method for producing a polyimide film characterized by being obtained without any problems.

Figure 0005326253
なお、前記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸において、A100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(2)で示される4価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(3)及び/又は(4)で示される4価のユニットであり、B100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(5)で示される2価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(6)で示される2価のユニットである。
Figure 0005326253
In addition, in the polyamic acid composed of the repeating unit of the chemical formula (1), 25 to 90 mol% in A100 mol% is a tetravalent unit represented by the following chemical formula (2), and 75 to 10 mol% is represented by the following chemical formula. It is a tetravalent unit represented by (3) and / or (4), and 25 to 90 mol% in B100 mol% is a divalent unit represented by the following chemical formula (5), and is 75 to 10 mol%. Is a divalent unit represented by the following chemical formula (6).

Figure 0005326253
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Figure 0005326253
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Figure 0005326253
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Figure 0005326253
Figure 0005326253

Figure 0005326253
(ここで、Rは、炭素数が1〜4のアルキル基又はヒドロキシル基である。)
また、本発明は、シームレスベルトを製造することを特徴とする前記ポリイミド膜の製造方法に関する。
Figure 0005326253
(Here, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group.)
The present invention also relates to a method for producing the polyimide film, wherein a seamless belt is produced.

また、本発明は下記化学式(7)の繰返し単位からなる芳香族ポリイミドに関する。   Moreover, this invention relates to the aromatic polyimide which consists of a repeating unit of following Chemical formula (7).

Figure 0005326253
なお、前記化学式(7)の繰返し単位からなる芳香族ポリイミドにおいて、A100モル%中の25〜90モル%が前記化学式(2)で示される4価のユニットであり、75〜10モル%が前記化学式(3)及び/又は(4)で示される4価のユニットであり、B100モル%中の25〜90モル%が前記化学式(5)で示される2価のユニットであり、75〜10モル%が前記化学式(6)で示される2価のユニットである。
Figure 0005326253
In addition, in the aromatic polyimide comprising the repeating unit of the chemical formula (7), 25 to 90 mol% in A100 mol% is a tetravalent unit represented by the chemical formula (2), and 75 to 10 mol% is the above It is a tetravalent unit represented by the chemical formula (3) and / or (4), and 25 to 90 mol% in 100 mol% of B is a divalent unit represented by the chemical formula (5), and 75 to 10 mol. % Is a divalent unit represented by the chemical formula (6).

また、本発明は、フィルムとしての引張り破断強度が300MPa以上であり且つ引張り弾性率が5GPa以上であることを特徴とする前記芳香族ポリイミドに関する。
また、本発明は、前記芳香族ポリイミドによって形成された膜厚が40μm超のポリイミド膜に関する。
The present invention also relates to the aromatic polyimide, wherein the film has a tensile breaking strength of 300 MPa or more and a tensile elastic modulus of 5 GPa or more.
The present invention also relates to a polyimide film formed of the aromatic polyimide and having a thickness of more than 40 μm.

さらに、本発明は、前記芳香族ポリイミドによって形成されたシームレスベルトに関する。   Furthermore, this invention relates to the seamless belt formed with the said aromatic polyimide.

本発明によって、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかもポリアミック酸の溶液組成物の溶液安定性が良好で且つ成形性が改良されたポリイミド膜の製造方法、さらに耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良された芳香族ポリイミド、特に前記芳香族ポリイミド膜によって形成された膜厚が厚いポリイミド膜を得ることができる。このポリイミド膜からなるシームレスベルトは、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良されているので、写真複写機、レーザービームプリンター、ファクシミリ及びこれらの複合装置などの電子写真式画像形成装置に用いられるシームレスベルト、特に定着用、感光体基体用、中間転写用、紙搬送用、及び転写定着用のシームレスベルトとして好適に用いることができる。   According to the present invention, there is provided a method for producing a polyimide film having excellent heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, and the like, and having good solution stability of a polyamic acid solution composition and improved moldability. It is possible to obtain an aromatic polyimide having excellent physical properties, dimensional stability and the like, and improved moldability, particularly a thick polyimide film formed by the aromatic polyimide film. This seamless belt made of polyimide film has excellent heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., and has improved moldability, so it can be used in electronic devices such as photocopiers, laser beam printers, facsimiles, and their combined devices. It can be suitably used as a seamless belt used in a photographic image forming apparatus, particularly as a seamless belt for fixing, a photoreceptor substrate, an intermediate transfer, a paper transport, and a transfer fixing.

本発明のポリイミド膜の製造方法は、前記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸の溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を加熱処理することによって、膜厚が40μm超のポリイミド膜を発泡することなく得ることを特徴とする。   In the method for producing a polyimide film of the present invention, a coating film formed by applying a polyamic acid solution composition comprising the repeating unit of the chemical formula (1) to a substrate is heat-treated, whereby the film thickness exceeds 40 μm. The polyimide film is obtained without foaming.

前記ポリアミック酸のテトラカルボン酸成分に起因する4価のユニットは、25〜90モル%好ましくは30〜80モル%が前記化学式(2)で示される対称性のビフェニル構造に基づく4価のユニットであり、75〜10モル%好ましくは70〜20モル%が前記化学式(3)で示される非対称性のビフェニル構造に基づく4価のユニット及び/又は前記化学式(4)で示されるフェニル構造に基づく4価のユニットであり、ジアミン成分に起因する2価のユニットは、25〜90モル%好ましくは30〜80モル%が前記化学式(5)で示されるフェニル構造に基づく2価のユニットであり、75〜10モル%好ましくは80〜20モル%が前記化学式(6)で示される特定の置換基を有するビフェニル構造に基づく2価のユニットである。   The tetravalent unit resulting from the tetracarboxylic acid component of the polyamic acid is a tetravalent unit based on the symmetrical biphenyl structure represented by the chemical formula (2) in an amount of 25 to 90 mol%, preferably 30 to 80 mol%. And 75 to 10 mol%, preferably 70 to 20 mol% is a tetravalent unit based on the asymmetric biphenyl structure represented by the chemical formula (3) and / or 4 based on the phenyl structure represented by the chemical formula (4). The divalent unit derived from the diamine component is a divalent unit based on the phenyl structure represented by 25 to 90 mol%, preferably 30 to 80 mol% of the chemical formula (5), 75 -10 mol%, preferably 80-20 mol% is a divalent unit based on a biphenyl structure having the specific substituent represented by the chemical formula (6). .

テトラカルボン酸成分が、前記化学式(2)で示される対称性のビフェニル構造に基づく4価のユニットが25〜90モル%の範囲外、すなわち前記化学式(3)及び/又は前記化学式(4)で示されるフェニル構造に基づく4価のユニットが10〜75モル%の範囲外になると、発泡が起こりやすくなるなど成形性が悪くなるし、優れた機械的特性を有するポリイミド膜を得ることも難しくなる。
また、ジアミン成分が、前記化学式(5)で示されるフェニル構造に基づく2価のユニットが25〜90モル%の範囲外、すなわち前記化学式(6)で示される特定の置換基を有するビフェニル構造に基づく2価のユニットが10〜75モル%の範囲外になると、発泡が起こりやすくなるなど成形性が悪くなるし、優れた機械的特性を有するポリイミド膜を得ることも難しくなる。
The tetracarboxylic acid component is a tetravalent unit based on the symmetrical biphenyl structure represented by the chemical formula (2) and is out of the range of 25 to 90 mol%, that is, in the chemical formula (3) and / or the chemical formula (4). When the tetravalent unit based on the phenyl structure shown is out of the range of 10 to 75 mol%, the foamability is likely to occur and the moldability is deteriorated, and it is difficult to obtain a polyimide film having excellent mechanical properties. .
Further, the diamine component has a biphenyl structure having a specific substituent represented by the chemical formula (6) in which the divalent unit based on the phenyl structure represented by the chemical formula (5) is outside the range of 25 to 90 mol%. If the divalent unit based is out of the range of 10 to 75 mol%, foaming is likely to occur and moldability is deteriorated, and it is difficult to obtain a polyimide film having excellent mechanical properties.

前記ポリアミック酸は、例えば有機溶媒中で、25〜90モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸類と、75〜10モル%の2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸類及び/又はピロメリット酸類とからなるテトラカルボン酸成分と、25〜90モル%のPPDと、75〜10モル%の下記化学式(8)で示されるジアミンとからなるジアミン成分とを、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とが略等モルとなるような割合で反応することによって好適に調製できる。
なお、テトラカルボン酸類とは、テトラカルボン酸、その酸二無水物、そのアルコールのエステル化物などのポリアミック酸のテトラカルボン酸成分を構成することができるものであり、特にテトラカルボン酸二無水物である。
The polyamic acid is, for example, 25 to 90 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid and 75 to 10 mol% of 2,3,3 ′, 4′-biphenyl in an organic solvent. A tetracarboxylic acid component composed of tetracarboxylic acids and / or pyromellitic acids, 25 to 90 mol% PPD, and 75 to 10 mol% of a diamine represented by the following chemical formula (8), It can be suitably prepared by reacting the tetracarboxylic acid component and the diamine component at a ratio such that they are approximately equimolar.
Tetracarboxylic acids are those that can constitute the tetracarboxylic acid component of polyamic acid such as tetracarboxylic acid, acid dianhydride, and esterified alcohol thereof, and in particular tetracarboxylic dianhydride. is there.

Figure 0005326253
(ここで、Rは、炭素数が1〜4のアルキル基(特にメチル基)又はヒドロキシル基である。)
Figure 0005326253
(Here, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (particularly a methyl group) or a hydroxyl group.)

化学式(8)のジアミンは、具体的には2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジプロピル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジプロピル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニルなどを例示することができる。   Specific examples of the diamine represented by the chemical formula (8) include 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, and 2,2′-diethyl-4. , 4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dipropyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dipropyl-4,4'-diamino Biphenyl, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl and the like can be exemplified.

前記ポリアミック酸の調製は、ポリアミック酸を調製する公知の方法や条件を好適に採用することができる。したがって特に限定するものではないが、例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、有機溶媒中、ポリイミド換算した固形分濃度が5〜50質量%程度になるような濃度で、ポリアミック酸のアミド結合とカルボキシル基とがイミド化するのを抑制するために、好ましくは100℃以下より好ましくは80℃以下の温度条件で0.1時間から数十時間撹拌しながら反応させて均一なポリアミック酸溶液をして得ることが好ましい。ポリイミド換算した固形分濃度が5質量%未満にすると多量の溶媒を使用するので経済的でなくなり、固形分濃度が50質量%を越えると高粘度になってハンドリング等が難しくなる傾向がある。   For the preparation of the polyamic acid, known methods and conditions for preparing the polyamic acid can be suitably employed. Therefore, although not particularly limited, for example, amide bond of polyamic acid at a concentration such that tetracarboxylic dianhydride and diamine are about 5 to 50% by mass in terms of polyimide in an organic solvent. In order to suppress the imidation of the carboxylic acid group and the carboxyl group, a uniform polyamic acid solution is obtained by reacting with stirring at a temperature of preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower for 0.1 to several tens of hours. It is preferable to obtain it. If the solid content concentration in terms of polyimide is less than 5% by mass, a large amount of solvent is used, which is not economical. If the solid content concentration exceeds 50% by mass, the viscosity tends to be high and handling tends to be difficult.

ポリアミック酸の調製に用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒を好適に用いることができる。例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クレゾール、N,N−ジメチルスルホキシド、N−メチルカプロラクタム、メチルトリグライム、メチルジグライム、スルホランなどの有機極性溶媒を好適に用いることができる。   A conventionally well-known organic solvent can be used suitably as an organic solvent used for preparation of polyamic acid. For example, organic compounds such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, cresol, N, N-dimethylsulfoxide, N-methylcaprolactam, methyltriglyme, methyldiglyme, sulfolane A polar solvent can be used suitably.

本発明で用いるポリアミック酸溶液組成物に含有されるポリアミック酸は、特に限定されるものではなく、低分子量のアミック酸オリゴマーでも高分子量化したポリアミック酸でもよい。すなわち、重量平均分子量が1000〜10000程度のアミック酸オリゴマーや重量平均分子量が10000〜300000程度のポリアミック酸でもよい。好ましくは10000〜300000のポリアミック酸である。なお、このポリアミック酸は溶液安定性が良好なものであるが、ポリマー成分の析出や溶液のゲル化が起こらなくて均一な溶液状態が保てる範囲内において、ポリアミック酸のアミド結合とカルボキシル基との一部がイミド化していても構わない。   The polyamic acid contained in the polyamic acid solution composition used in the present invention is not particularly limited, and may be a low molecular weight amic acid oligomer or a high molecular weight polyamic acid. That is, an amic acid oligomer having a weight average molecular weight of about 1000 to 10,000 or a polyamic acid having a weight average molecular weight of about 10,000 to 300,000 may be used. Preferably it is 10,000 to 300,000 polyamic acid. Although this polyamic acid has good solution stability, it does not cause precipitation of polymer components or gelation of the solution, and within a range where a uniform solution state can be maintained, the polyamic acid has an amide bond and a carboxyl group. A part may be imidized.

本発明で用いるポリアミック酸の溶液組成物は、ポリイミド前駆体である前記のポリアミック酸と、それを溶解する前述の混合溶媒以外に、微粉状シリカ、窒化ホウ素、アルミナ、カーボンブラックなどの微細な無機又は有機充填材を配合してもよく、また必要に応じて更に他の配合成分を配合しても構わない。他の配合成分としては、用途や要求性能に応じて決定されるが、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、染料や顔料などの着色剤、金属粉などの導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、カップリング剤、界面活性剤などを好適に配合することができる。これらの配合成分は、予め溶液組成物に配合してもよいし、使用に際して添加配合して用いても差し支えない。   The polyamic acid solution composition used in the present invention is a fine inorganic material such as finely divided silica, boron nitride, alumina, carbon black, in addition to the polyamic acid that is a polyimide precursor and the mixed solvent that dissolves the polyamic acid. Or an organic filler may be mix | blended and you may mix | blend another compounding component as needed. Other compounding ingredients are determined according to the application and required performance, but are colorants such as plasticizers, weathering agents, antioxidants, thermal stabilizers, lubricants, antistatic agents, brighteners, dyes and pigments. A conductive agent such as metal powder, a release agent, a surface treatment agent, a viscosity modifier, a coupling agent, a surfactant, and the like can be suitably blended. These blending components may be blended in advance with the solution composition, or may be added and blended when used.

なお、ポリアミック酸の溶液組成物に微細な充填材を配合すると、製膜工程における発泡の生成を抑制し易いので成形性(製膜性)の向上において有利になることがある。本発明のポリイミド膜の製造方法において、微細な充填材を配合したポリアミック酸の溶液組成物を用いると、充填材による発泡の抑制効果も相乗されて、成形性がより向上することがある。微細な充填材を配合しても前記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸を用いない場合には、成形性の向上が必ずしも十分でなく、膜厚や製膜条件が制限されたり、膜厚や製膜条件によって発泡を抑えきれなくなったりする。また製膜時に例えば膜がひび割れるなど他の問題が生じ易くなる。
本発明のポリイミド膜の製造方法は、前記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸の溶液組成物を用いるところに特徴がある。その結果、代表例として発泡で例示される成形性が改良されることを説明したのであって、その効果は必ずしも発泡の有無のみ限定されるものではない。製膜条件が限定されず、幅広い条件を採用できるようになり、ポリイミド膜のひび割れなどの問題が抑制され、さらに引裂き強度などの機械的物性が改良される。
If a fine filler is added to the polyamic acid solution composition, it is easy to suppress the formation of foam in the film-forming step, which may be advantageous in improving moldability (film-formability). In the method for producing a polyimide film of the present invention, when a polyamic acid solution composition containing a fine filler is used, the effect of suppressing foaming by the filler is also synergized, and the moldability may be further improved. Even if a fine filler is blended, if the polyamic acid composed of the repeating unit of the chemical formula (1) is not used, the moldability is not always improved sufficiently, and the film thickness and film forming conditions are limited. Depending on the thickness and film forming conditions, foaming may not be suppressed. Also, other problems such as cracking of the film are likely to occur during film formation.
The method for producing a polyimide film of the present invention is characterized in that a polyamic acid solution composition comprising the repeating unit of the chemical formula (1) is used. As a result, it has been explained that the moldability exemplified by foaming is improved as a representative example, and the effect is not necessarily limited only to the presence or absence of foaming. Film forming conditions are not limited, and a wide range of conditions can be adopted, problems such as cracks in the polyimide film are suppressed, and mechanical properties such as tear strength are improved.

本発明のポリイミド膜の製造方法は、前記ポリアミック酸の溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を基材上で加熱処理することによって、膜厚が40μmを越えるポリイミド膜を好適に得ることを特徴の一つとする。
本発明において、基材とは、表面にポリアミック酸を塗布して塗膜が形成できるものであり、液体及び気体を実質的に透過させることがない緻密構造を有したものであれば、形状や材質で特に限定されるものではない。通常のフィルムを製造する際に用いられるそれ自体公知のベルト、ロール、或いはシームレスベルトを製造する際に用いられる金型などのフィルム形成用基材、その表面にポリイミド膜を保護膜として形成する回路基板や電子部品、摺動部品などの表面に皮膜が形成される部品や製品、ポリイミド膜を形成して多層化フィルムを形成する際の一方のフィルムなどを好適に挙げることができる。
The method for producing a polyimide film of the present invention is preferably a polyimide film having a film thickness of more than 40 μm by heat-treating a coating film formed by applying the polyamic acid solution composition on a substrate. It is one of the characteristics to obtain.
In the present invention, the base material can form a coating film by applying polyamic acid on the surface, and if it has a dense structure that does not substantially transmit liquid and gas, The material is not particularly limited. A circuit for forming a polyimide film as a protective film on the surface of a film-forming substrate such as a mold used for producing a known belt, roll, or seamless belt, which is used for producing a normal film. Preferable examples include parts and products in which a film is formed on the surface, such as a substrate, an electronic part, and a sliding part, and one film when a polyimide film is formed to form a multilayer film.

基材上に塗膜を形成する塗布の方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法、インクジェット法、スクリーン印刷法、スリットコート法などのそれ自体公知の方法を適宜採用することができる。   As a coating method for forming a coating film on a substrate, for example, a method known per se such as a spray method, a roll coating method, a spin coating method, a bar coating method, an ink jet method, a screen printing method, a slit coating method, or the like is appropriately used. Can be adopted.

この基材上に塗布されて形成された塗膜は、例えば減圧下に比較的低温で加熱する方法で脱泡しても構わない。
基材上に塗布されて形成されたポリアミック酸溶液組成物からなる塗膜は、加熱処理することによって溶媒を除去し且つイミド化されてポリイミド膜が形成される。加熱処理は、いきなり高温で加熱処理するよりも最初に140℃以下の比較的低温で溶媒を除去し、次いで最高加熱処理温度まで温度を上げてイミド化する段階的な加熱処理が好適である。また、140℃以上で0.01〜30時間好ましくは0.01〜10時間より好ましくは0.01〜6時間の加熱処理を行って実質的にアミド酸基が残らないようにイミド化することが好適である。最高加熱処理温度は300〜600℃好ましくは350〜550℃より好ましくは380〜450℃の温度範囲とし、この温度範囲で0.01〜20時間好ましくは0.01〜6時間より好ましくは0.01〜5時間加熱処理することが好適である。このように段階的に温度を上げる加熱処理条件としては、例えば80℃で30分間、130℃で10分間、200℃で10分間、そして最後に400℃で10分間加熱処理する(但し、次の段階へは10分間で昇温する)加熱処理条件を例示することができる。
The coating film formed by coating on this substrate may be defoamed by a method of heating at a relatively low temperature under reduced pressure, for example.
The coating film made of the polyamic acid solution composition formed on the substrate is heat-treated to remove the solvent and imidized to form a polyimide film. The heat treatment is preferably a stepwise heat treatment in which the solvent is first removed at a relatively low temperature of 140 ° C. or lower and then the temperature is raised to the maximum heat treatment temperature to imidize rather than the heat treatment at a high temperature. Moreover, imidation is performed so that amidic acid groups do not substantially remain by performing a heat treatment at 140 ° C. or more for 0.01 to 30 hours, preferably 0.01 to 10 hours, more preferably 0.01 to 6 hours. Is preferred. The maximum heat treatment temperature is 300 to 600 ° C, preferably 350 to 550 ° C, more preferably 380 to 450 ° C. In this temperature range, 0.01 to 20 hours, preferably 0.01 to 6 hours, more preferably 0. It is preferable to perform heat treatment for 01 to 5 hours. As the heat treatment conditions for raising the temperature stepwise, for example, heat treatment is performed at 80 ° C. for 30 minutes, 130 ° C. for 10 minutes, 200 ° C. for 10 minutes, and finally 400 ° C. for 10 minutes (however, the following An example of the heat treatment condition is that the temperature is raised in 10 minutes to the stage).

本発明のポリイミド膜の製造方法によれば、極めて安定した製膜が可能になる。すなわち膜厚が40μmを越える場合であってもポリイミド膜を発泡やひび割れなどの製膜時の問題を生じることなしに得ることができる。すなわち、本発明のポリイミド膜の製造方法では、得られるポリイミド膜の膜厚が、40μm超、好ましくは45μm超、より好ましくは50μm超、さらに好ましくは55μm超であって、通常200μm以下、特に150μm以下である。40μm以下のポリイミド膜では成形性の改善効果が明確ではなくなる。またポリイミド膜の膜厚が200μmを越えると、成形性を十分に改善することは難しくなる。   According to the method for producing a polyimide film of the present invention, extremely stable film formation is possible. That is, even when the film thickness exceeds 40 μm, a polyimide film can be obtained without causing problems during film formation such as foaming and cracking. That is, in the method for producing a polyimide film of the present invention, the thickness of the obtained polyimide film is more than 40 μm, preferably more than 45 μm, more preferably more than 50 μm, still more preferably more than 55 μm, and usually 200 μm or less, particularly 150 μm. It is as follows. With a polyimide film of 40 μm or less, the effect of improving moldability is not clear. On the other hand, when the film thickness of the polyimide film exceeds 200 μm, it is difficult to sufficiently improve the moldability.

さらに、本発明のポリイミド膜の製造方法によれば、引張り破断強度が300MPa以上好ましくは350MPa以上より好ましくは400MPa以上であり、引張り破断伸度が30%以上であり、さらに引張り弾性率が5.0GPa以上好ましくは6.0GPa以上より好ましくは6.5GPa以上特に好ましくは7.0GPa以上の極めて高い機械的強度を有するポリイミド膜を好適に得ることができる。   Furthermore, according to the method for producing a polyimide film of the present invention, the tensile breaking strength is 300 MPa or more, preferably 350 MPa or more, more preferably 400 MPa or more, the tensile breaking elongation is 30% or more, and the tensile elastic modulus is 5. A polyimide film having an extremely high mechanical strength of 0 GPa or more, preferably 6.0 GPa or more, more preferably 6.5 GPa or more, and particularly preferably 7.0 GPa or more can be suitably obtained.

すなわち、本発明のポリイミド膜の製造方法は、前記のような耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れたポリイミド膜を、膜厚が厚い場合でも、成形条件が特に制限されることなく、効率よく、良好な表面状態で容易に得ることができる。このため、シームレスベルトにおいて好適に採用することができる。   That is, the method for producing a polyimide film of the present invention is not particularly limited in molding conditions even when the polyimide film is excellent in heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., even when the film thickness is large. Efficient and easy to obtain in a good surface state. For this reason, it can employ | adopt suitably in a seamless belt.

シームレスベルトは、基材として円筒状の金型の内周面或いは外周面を用い、金型を回転させながら製膜(成形)が行われる点を除いて、前述の製膜方法や製膜条件を好適に採用できる。ただし、シームレスベルトは通常膜厚がより厚く(通常の膜厚は40μm超、特に50〜150μm程度)更に充填材を比較的多く含有する場合が多いので、溶媒の乾燥除去をより長時間行う或いは加熱処理の時間や昇温速度をより長くゆっくりと行うなどの条件選定が好適である。   The seamless belt uses the inner peripheral surface or outer peripheral surface of a cylindrical mold as a base material, and the above-described film forming method and film forming conditions except that film formation (molding) is performed while rotating the mold. Can be suitably employed. However, the seamless belt usually has a larger film thickness (the normal film thickness is more than 40 μm, particularly about 50 to 150 μm) and often contains a relatively large amount of filler. It is preferable to select conditions such as performing the heat treatment time and the temperature raising rate longer and slowly.

またシームレスベルトは、その用途に応じて種々の充填材などが配合される。配合成分はポリアミック酸溶液に添加配合されることで好適に行われる。またポリアミック酸溶液を調製する際に反応前の溶液にあらかじめ配合しておいても構わない。
例えば、ポリイミド無端管状ベルトが複写機の定着ベルトとして用いられるときは、熱伝導性を向上させるためにシリカ、窒化ホウ素、アルミナなどが好適に配合される。また表面に付着するトナーの融着防止のためにベルト表面にポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のフッ素樹脂からなる非粘着性の層を積層しても構わない。
また、ポリイミド無端管状ベルトが複写機の転写ベルトとして用いられるときには、半導電性を付与するために微細なカーボンブラックなどが好適に配合される。
Moreover, various fillers etc. are mix | blended with a seamless belt according to the use. The blending component is suitably performed by adding and blending into the polyamic acid solution. Moreover, when preparing a polyamic acid solution, you may mix | blend with the solution before reaction previously.
For example, when a polyimide endless tubular belt is used as a fixing belt of a copying machine, silica, boron nitride, alumina, or the like is preferably blended in order to improve thermal conductivity. Further, in order to prevent the toner adhering to the surface from being fused, the belt surface is made of a non-fluorine resin such as polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer or tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer. An adhesive layer may be laminated.
Further, when a polyimide endless tubular belt is used as a transfer belt of a copying machine, fine carbon black or the like is suitably blended in order to impart semiconductivity.

以下実施例によって本願発明をさらに説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   The present invention will be further described below with reference to examples. In addition, this invention is not limited to a following example.

以下の例で使用した化合物の略号は以下のとおりである。
s−BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
a−BPDA:2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
PMDA:ピロメリット酸二無水物
PPD:パラフェニレンジアミン
ODA:4,4’−ジアミノジフェニルエーテル
m−TB:2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル
HAB:3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル
Abbreviations of the compounds used in the following examples are as follows.
s-BPDA: 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride a-BPDA: 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride PMDA: pyromellitic dianhydride PPD: paraphenylenediamine ODA: 4,4′-diaminodiphenyl ether m-TB: 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl HAB: 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl

以下の例で用いた測定方法について説明する。
(引張り破断強度の測定方法)
引張り試験機(オリエンテック社製RTC−1225A)を用いて、ASTM D882に準拠して測定した。
The measurement method used in the following examples will be described.
(Measurement method of tensile breaking strength)
It measured based on ASTM D882 using the tensile tester (Orientec RTC-1225A).

(引張り破断伸度の測定方法)
引張り試験機(オリエンテック社製RTC−1225A)を用いて、ASTM D882に準拠して測定した。
(Measurement method of tensile breaking elongation)
It measured based on ASTM D882 using the tensile tester (Orientec RTC-1225A).

(引張り弾性率の測定方法)
引張り試験機(オリエンテック社製RTC−1225A)を用いて、ASTM D882に準拠して測定した。
(Measurement method of tensile modulus)
It measured based on ASTM D882 using the tensile tester (Orientec RTC-1225A).

(溶液組成物の対数粘度)
対数粘度(ηinh)は、ポリアミック酸溶液をポリアミック酸濃度が0.5g/100ミリリットル溶媒となるようにN−メチル−2−ピロリドンに均一に溶解した溶液を調製し、その溶液と溶媒との溶液粘度を30℃で測定して次式で算出した。
(Log viscosity of solution composition)
The logarithmic viscosity (η inh ) was prepared by uniformly dissolving a polyamic acid solution in N-methyl-2-pyrrolidone so that the polyamic acid concentration was 0.5 g / 100 ml of solvent. The solution viscosity was measured at 30 ° C. and calculated by the following formula.

Figure 0005326253
Figure 0005326253

(固形分濃度)
ポリアミック酸溶液のポリイミド換算した固形分濃度は、ポリアミック酸溶液を350℃で30分間乾燥し、乾燥前の重量W1と乾燥後の重量W2とから次式によって求めた値である。
固形分濃度(重量%)={(W1−W2)/W1}×100
(Solid content concentration)
The solid content concentration in terms of polyimide of the polyamic acid solution is a value obtained by drying the polyamic acid solution at 350 ° C. for 30 minutes, and obtaining the weight W1 before drying and the weight W2 after drying by the following formula.
Solid content concentration (% by weight) = {(W1-W2) / W1} × 100

(溶液粘度)
トキメック社製E型粘度計を用いて30℃での溶液粘度を測定した。
(Solution viscosity)
The solution viscosity at 30 ° C. was measured using an E-type viscometer manufactured by Tokimec.

(溶液安定性)
ポリアミック酸溶液の溶液安定性は、モノマー濃度20%に調製したポリアミック酸溶液についてE型粘度計にて30℃で溶液粘度(回転粘度)の変化を測定することによって評価した。すなわち、調製直後のポリアミック酸溶液の溶液粘度をP1、30℃の雰囲気下で30日間放置後測定した溶液粘度をP2として、次式によって求めた溶液粘度の変化率が、±10%以下のものを○とし、±10%以上となったものを×とした。
変化率(%)={(P2−P1)/P1}×100
(Solution stability)
The solution stability of the polyamic acid solution was evaluated by measuring the change in the solution viscosity (rotational viscosity) at 30 ° C. with an E-type viscometer for the polyamic acid solution prepared at a monomer concentration of 20%. That is, the solution viscosity of the polyamic acid solution immediately after preparation is P1, and the solution viscosity measured after standing for 30 days in an atmosphere of 30 ° C. is P2. Was marked with ◯ and those with ± 10% or more were marked with ×.
Rate of change (%) = {(P2-P1) / P1} × 100

(シームレスベルトの状態観察)
目視によりシームレスベルトの状態を判断した。シームレスベルトの状態観察は、発泡または割れなどが全くないものを○、発泡または割れなどが全体の30%程度のものを△、これ以上発泡または割れているものを×とした。
(Seamless belt condition observation)
The state of the seamless belt was judged visually. In the observation of the state of the seamless belt, “O” indicates that there is no foaming or cracking, “Δ” indicates that the foaming or cracking is about 30% of the total, and “X” indicates that the foaming or cracking is further.

〔実施例1〕
(ポリアミック酸溶液組成物の合成)
攪拌機、窒素ガス導入・排出管を備えた内容積500mlのガラス製の反応容器に、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンの所定量を加え、これにPPDの20.45g(0.189モル)及びm−TBの10.03g(0.047モル)と、s−BPDAの55.62g(0.189モル)及びa−BPDAの13.90g(0.047モル)とを加え、50℃で10時間撹拌して、固形分濃度18.8重量%、溶液粘度4.9Pa・s、対数粘度0.61のポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液組成物の溶液安定性は○であった。
ポリアミック酸溶液組成物の特性等について結果を表1に示した。
[Example 1]
(Synthesis of polyamic acid solution composition)
A predetermined amount of N-methyl-2-pyrrolidone was added as a solvent to a glass reaction vessel having an internal volume of 500 ml equipped with a stirrer and a nitrogen gas introduction / discharge tube, and 20.45 g (0.189 mol) of PPD was added thereto. And m-TB (10.03 g, 0.047 mol), s-BPDA (55.62 g, 0.189 mol) and a-BPDA, 13.90 g (0.047 mol), and at 50 ° C. The mixture was stirred for 10 hours to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 18.8% by weight, a solution viscosity of 4.9 Pa · s, and a logarithmic viscosity of 0.61. The solution stability of this polyamic acid solution composition was good.
The results of the properties of the polyamic acid solution composition are shown in Table 1.

(ポリイミドシームレスベルトの製造)
内径300mm、長さ150mmのステンレス製の円筒金型の内側表面に、ポリアミック酸溶液組成物を回転数100rpmで回転させながら均一に塗布し、その後回転数が200rpmでこの塗膜を、120℃で60分間、150℃で30分間、200℃で10分間、250℃で10分間、次いで400℃で10分間加熱処理して、厚さが50μmのポリイミドシームレスベルトを形成した。このポリイミドシームレスベルトには発泡は見られなかった。
このポリイミドシームレスベルトの特性等について結果を表1に示した。
(Manufacture of polyimide seamless belt)
The polyamic acid solution composition was uniformly applied to the inner surface of a stainless steel cylindrical mold having an inner diameter of 300 mm and a length of 150 mm while rotating at a rotation speed of 100 rpm, and then this coating film at a rotation speed of 200 rpm was applied at 120 ° C. Heat treatment was performed for 60 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 10 minutes, 250 ° C. for 10 minutes, and then 400 ° C. for 10 minutes to form a polyimide seamless belt having a thickness of 50 μm. No foaming was observed in this polyimide seamless belt.
The results of the characteristics and the like of this polyimide seamless belt are shown in Table 1.

〔実施例2〜6〕
ポリアミック酸の組成を表1に示したものに変えたこと以外は実施例1と同様にしてポリアミック酸溶液組成物を調製した。
ポリアミック酸溶液組成物の特性等について結果を表1に示した。
[Examples 2 to 6]
A polyamic acid solution composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the polyamic acid was changed to that shown in Table 1.
The results of the properties of the polyamic acid solution composition are shown in Table 1.

ポリアミック酸溶液組成物を表1に示したものに変えたこと以外は実施例1と同様にしてポリイミドシームレスベルトの製造を行った。
得られたポリイミドシームレスベルトの特性等について結果を表1に示した。
A polyimide seamless belt was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution composition was changed to that shown in Table 1.
The results of the obtained polyimide seamless belt are shown in Table 1.

〔比較例1〜6〕
ポリアミック酸の組成を表1に示したものに変えたこと以外は実施例1と同様にしてポリアミック酸溶液組成物を調製した。
ポリアミック酸溶液組成物の特性等について結果を表2に示した。
[Comparative Examples 1-6]
A polyamic acid solution composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the polyamic acid was changed to that shown in Table 1.
The results of the characteristics of the polyamic acid solution composition are shown in Table 2.

ポリアミック酸溶液組成物を表1に示したものに変えたこと以外は実施例1と同様にしてポリイミドシームレスベルトの製造を行った。
得られたポリイミドシームレスベルトの特性等について結果を表2に示した。
A polyimide seamless belt was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution composition was changed to that shown in Table 1.
The results of the obtained polyimide seamless belt are shown in Table 2.

Figure 0005326253
Figure 0005326253

Figure 0005326253
Figure 0005326253

本発明によって、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良されたポリイミド膜の製造方法、さらに耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良された芳香族ポリイミド、特に前記芳香族ポリイミド膜によって形成された膜厚が厚いポリイミド膜を得ることができる。このポリイミド膜からなるシームレスベルトは、耐熱性、機械的特性、寸法安定性などが優れ、しかも成形性が改良されているので、写真複写機、レーザービームプリンター、ファクシミリ及びこれらの複合装置などの電子写真式画像形成装置に用いられるシームレスベルト、特に定着用、感光体基体用、中間転写用、紙搬送用、及び転写定着用のシームレスベルトとして好適に用いることができる。   According to the present invention, a method for producing a polyimide film having excellent heat resistance, mechanical properties, dimensional stability and the like, and improved moldability, heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., and moldability are also provided. It is possible to obtain an improved aromatic polyimide, in particular, a thick polyimide film formed by the aromatic polyimide film. This seamless belt made of polyimide film has excellent heat resistance, mechanical properties, dimensional stability, etc., and has improved moldability, so it can be used in electronic devices such as photocopiers, laser beam printers, facsimiles, and their combined devices. It can be suitably used as a seamless belt used in a photographic image forming apparatus, particularly as a seamless belt for fixing, a photoreceptor substrate, an intermediate transfer, a paper transport, and a transfer fixing.

Claims (5)

下記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸の溶液組成物を基材に塗布して形成された塗膜を加熱処理することによって、膜厚が40μm超のポリイミド膜を発泡することなく得ることを特徴とするポリイミド膜の製造方法。
Figure 0005326253
なお、前記化学式(1)の繰返し単位からなるポリアミック酸において、A100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(2)で示される4価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(3)で示される4価のユニットであり、B100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(5)で示される2価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(6)で示される2価のユニットである。
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
(ここで、Rは、炭素数が1〜4のアルキル基又はヒドロキシル基である。)
Obtaining a polyimide film having a film thickness of more than 40 μm without foaming by heating a coating film formed by applying a polyamic acid solution composition consisting of repeating units of the following chemical formula (1) to a substrate. A method for producing a polyimide film characterized by the following.
Figure 0005326253
In addition, in the polyamic acid composed of the repeating unit of the chemical formula (1), 25 to 90 mol% in A100 mol% is a tetravalent unit represented by the following chemical formula (2), and 75 to 10 mol% is represented by the following chemical formula. It is a tetravalent unit represented by (3) , 25 to 90 mol% in 100 mol% of B is a divalent unit represented by the following chemical formula (5), and 75 to 10 mol% is represented by the following chemical formula (6). Is a divalent unit.
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
(Here, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group.)
シームレスベルトを製造することを特徴とする請求項1に記載のポリイミド膜の製造方法。   The method for producing a polyimide film according to claim 1, wherein a seamless belt is produced. 下記化学式(7)の繰返し単位からなる芳香族ポリイミド。
Figure 0005326253
なお、前記化学式(7)の繰返し単位からなる芳香族ポリイミドにおいて、A100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(2)で示される4価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(3)で示される4価のユニットであり、B100モル%中の25〜90モル%が下記化学式(5)で示される2価のユニットであり、75〜10モル%が下記化学式(6)で示される2価のユニットである。
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
(ここで、Rは、炭素数が1〜4のアルキル基又はヒドロキシル基である。)
An aromatic polyimide comprising a repeating unit of the following chemical formula (7).
Figure 0005326253
Note that in the aromatic polyimide consisting of repeating units of formula (7), a tetravalent unit 25-90 mol% in A100 mol% is represented by the following chemical formula (2), 75-10 mol% below is a tetravalent unit represented by the chemical formula (3), a divalent unit 25-90 mol% in B100 mol% is represented by the following chemical formula (5), 75-10 mol% following chemical formula (6 ) Is a divalent unit.
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
Figure 0005326253
(Here, R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group.)
請求項3に記載の芳香族ポリイミドによって形成された膜厚が40μm超のポリイミド膜。 A polyimide film having a film thickness of more than 40 μm formed by the aromatic polyimide according to claim 3 . 請求項に記載のポリイミド膜からなるシームレスベルト。 A seamless belt comprising the polyimide film according to claim 4 .
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8886106B2 (en) * 2011-03-02 2014-11-11 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Intermediate transfer belt and method for producing the same
JP5931672B2 (en) * 2012-09-24 2016-06-08 新日鉄住金化学株式会社 Polyimide laminate and method for producing the same
JP6926393B2 (en) * 2016-03-03 2021-08-25 Hdマイクロシステムズ株式会社 Resin composition and polyimide resin film
CN106633058A (en) * 2016-12-30 2017-05-10 桂林电器科学研究院有限公司 Low-viscosity polyamide acid copolymer, preparation method of polyamide acid copolymer and polyimide film
US20190127529A1 (en) * 2017-11-02 2019-05-02 Honeywell International Inc. Polyimide for flexible displays, flexible displays, and methods for making flexible displays
CN113088076B (en) * 2019-12-23 2022-09-06 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 High-performance polyimide molding powder, preparation method and application thereof
CN114854011B (en) * 2022-05-27 2023-08-18 中化学科学技术研究有限公司 Polyamide acid solution, polyimide film and preparation method thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1180352A (en) * 1997-09-12 1999-03-26 Ube Ind Ltd Heat-resistant coating composition improved in its storage stability and polyimide membrane
JP2003128786A (en) * 2001-10-26 2003-05-08 Teijin Ltd Polyimide-amic acid ester copolymer, gel film, and method for producing them
JP4344935B2 (en) * 2004-06-16 2009-10-14 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
JP2006160974A (en) * 2004-12-10 2006-06-22 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide film
JP2006206778A (en) * 2005-01-28 2006-08-10 Ist:Kk Tubular polyimide resin product
JP5029003B2 (en) * 2006-10-17 2012-09-19 日立化成工業株式会社 Polyimide resin heat-resistant resin, seamless tubular body, coating film, coating plate and heat-resistant paint using this resin

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