JP5320663B2 - Substrate processing system - Google Patents
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本発明は、カラーフィルタの露光工程において、マスクのセット間違えおよび処理基板の取り違えを防止できるようにする、マスクの照合方法及びマスク照合システムに関する。 The present invention relates to a mask verification method and a mask verification system that can prevent a mistake in setting a mask and a mistake in processing substrates in a color filter exposure process.
従来、例えばカラーフィルタ製造工程においては、所望のパターンを基板に転写させる為にマスクが使用されている。 Conventionally, for example, in a color filter manufacturing process, a mask is used to transfer a desired pattern onto a substrate.
露光工程においては、まず使用指示を受けた所定の遮光パターンを有する露光用マスクを露光機にセットし基板に対しパターン露光を行う。 In the exposure step, first, an exposure mask having a predetermined light-shielding pattern that has been instructed to use is set in an exposure machine, and pattern exposure is performed on the substrate.
セットしたマスクが、使用指示されたものと同一であるかの確認は、作業者が目視確認により照合することで行っており、それにより露光工程での誤作業を防止している。 Whether the set mask is the same as the one instructed to use is checked by the operator by visual confirmation, thereby preventing erroneous work in the exposure process.
しかしながら、前記確認は作業員による目視作業であるため、確認ミスが発生することがあり、また確認を忘れてしまうこともあり、その結果、製造指示と異なったまま製造を開始してしまう問題点があった。 However, since the confirmation is a visual operation by an operator, a confirmation error may occur, and the confirmation may be forgotten, and as a result, the production starts with a difference from the production instruction. was there.
使用指示されたマスクと異なるマスクで製造をすることは、当然のことながら不良製品を製造することとなり、時間、資材ともに多大な無駄を発生させることとなる。結果として製造コストの上昇に繋がってしまっていた。 Manufacturing with a mask different from the mask instructed to use naturally produces a defective product, which causes a great waste of time and materials. As a result, the manufacturing cost was increased.
一方、マスクのパターンを転写する処理基板についても、作業者の手動運用における基板の取り違えやロット中に異なる種類の基板が混入することがあり、当然のことながら不良製造の発生要因となっていた。 On the other hand, with regard to the processing substrate to which the mask pattern is transferred, the substrate may be mistaken in the manual operation of the operator or different types of substrates may be mixed in the lot, which is naturally a cause of defective manufacturing. .
処理基板一枚一枚の目視確認は運用的には難しく、混載確認をするための基板の自動チェック方法が望まれていた。更に、使用指示されたマスクと、実際にセットされているマスクと、処理基板の組み合わせが製造指示の通りかどうかをチェックする方法が必要とされていた。 Visual confirmation of each processed substrate is difficult in terms of operation, and an automatic substrate check method for confirming mixed loading has been desired. Furthermore, there is a need for a method for checking whether the combination of a mask instructed to use, a mask that is actually set, and a processing substrate is in accordance with the manufacturing instructions.
一方、近年では多品種少量生産や短納期化が進み、客先からの受注情報を迅速に生産に反映するニーズが高まっている。その為、生産日程作成も生産工場内で行うのでなく、より営業部門に近い部署で行う必要が出てきている。 On the other hand, in recent years, high-mix low-volume production and short delivery have progressed, and there is an increasing need for promptly reflecting customer order information in production. For this reason, it is necessary to create a production schedule in a department closer to the sales department rather than in the production factory.
それにより、生産日程計画に関わる情報を生産工場から離れた場所で入力し、その情報に基づき生産工場が適宜生産に関わる資材を選択し、生産を実行する仕組みへの対応が望まれている。同時に、工場側の稼動状況や、生産品目の情報をより直接的に生産工場から離れた部門でも知りたいというニーズも高まってきている。 Accordingly, it is desired to respond to a mechanism in which information related to the production schedule is input at a location away from the production factory, and the production factory appropriately selects materials related to production based on the information and performs production. At the same time, there is an increasing need to know the operation status of the factory and information on the production items more directly in the department away from the production factory.
特許文献1には、フォトマスクにバーコードを設け、そのバーコードを読み取ることでフォトマスクを間違える誤作業を防ぐようにしたフォトマスクの提案がされている。しかしその作業は単に工程内での誤作業の防止に留まり、それらの情報を関連の他部門と共有化されることは示されていない。
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、製造指示情報に基づくマスク情報を通信ネットワークを介して通信し、そのマスク情報と、マスクを装置にセットする際にマスクに付与されている例えば二次元コードなどのマスク識別コードを読み取って、両者を自動的に照合をかけ、かつ処理基板に付与されている例えば二次元コードなどの基板識別コードを読み取って処理基板に対する使用マスクの照合をかけることで、作業者の作業工数の削減を図るとともに、作業者の誤作業をなくしてマスクのセット間違いおよび基板の取り違えを防止し、同時に実際に使われるマスク情報を通信ネットワークで直接的に把握できるマスク照合方法及び照合システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems. Mask information based on manufacturing instruction information is communicated via a communication network, and the mask information is assigned to the mask when the mask is set in the apparatus. A mask identification code such as a two-dimensional code is read, the two are automatically verified, and a mask used for the processing substrate is read by reading a substrate identification code such as a two-dimensional code attached to the processing substrate. In addition to reducing the number of man-hours required by the operator, the operator can avoid mistakes in setting the mask and prevent mistakes in the setting of the board. At the same time, the mask information actually used is directly transmitted via the communication network. An object of the present invention is to provide a mask collation method and a collation system that can be grasped automatically.
また本発明では、照合が得られなかった場合に作業者に通知することで、製造の開始を禁止させ、製造指示と異なった誤作業をより確実に防止できるものとなる。 Further, in the present invention, when the collation is not obtained, the operator is notified, so that the start of manufacturing is prohibited, and erroneous work different from the manufacturing instruction can be prevented more reliably.
上記の目的を達成するために、本発明では、以下のような手段を講じる。 In order to achieve the above object, the present invention takes the following measures.
すなわち、請求項1の発明は、カラーフィルタ製造の露光工程にて用いる基板処理システムであって、
1)製造指示情報に基づき使用するマスク情報を記憶する段階と、
2)識別コード読み取り装置によって露光機にセットしたマスクの識別コード情報を取得する段階と、
3)前記マスク情報と前記マスク識別コード情報を照合し、照合結果に異常があった場合は、工程を進めずに作業者に対して照合異常通知を行う段階と、
4)異常でない場合は、識別コード読み取り装置によって露光機にセットした基板の識別コードを取得する段階と、
5)前記基板の識別コードと前記マスクの識別コード情報を照合し、照合結果に異常があった場合は、工程を進めずに作業者に対して照合異常通知を行う段階と、
6)異常でない場合は、前記露光機にて露光を行う段階と、
7)前記照合結果が発生すると、その内容を随時、情報記憶媒体に送信、保存する段階を、実行する処理装置を備えることを特徴とする基板処理システムである。
That is, a first aspect of the invention, there is provided a substrate processing system using by the color filter manufacturing exposure step,
1) a step of mask information remembers that used on the basis of production instruction information,
2) a step of obtaining the identification code information of the mask that was set in an exposure apparatus by the identification code reader,
3) Before Symbol collates mask information and the mask identification code information, if there is an abnormality in checking result, and performing a matching abnormality notification to the operator without promoting step,
4) If not abnormal, obtaining an identification code of the substrate set on the exposure machine by the identification code reader ;
5) Collating the identification code of the substrate with the identification code information of the mask , and if there is an abnormality in the collation result, notifying the worker of the collation abnormality without proceeding with the process;
6) If not abnormal, and performing exposure by the exposure device,
When 7) before Symbol verification result is generated, the contents from time to time, transmitted to the information storage medium, the step of storing a substrate processing system, characterized in that it comprises a processing device executing.
本発明の基板処理システムによれば、生産に使用されるマスク情報が生産部門に通信を介して提供され、そのマスクが正しく使われているかの情報を生産部門からの遠隔の他部門でも確認ができる。また、マスクと処理基板に管理情報を記憶する識別コードを備え、しかもその管理情報を自動的に読み出し、使用すべきマスクと基板の組み合わせの照合が行える。このため、目視確認不足による不良品の製造を防止することが可能となる。 According to the substrate processing system of the present invention, mask information used for production is provided to the production department via communication, and information on whether the mask is used correctly can be confirmed even in other departments remote from the production department. it can. In addition, an identification code for storing management information on the mask and the processing substrate is provided, and the management information is automatically read out so that the combination of the mask and the substrate to be used can be verified. For this reason, it becomes possible to prevent the manufacture of defective products due to insufficient visual confirmation.
一方、作業者は照合結果が異常であった場合、異常の通知を受け取ることができる。これによって、作業者は、目視の確認ミスによる不良製造の進行を防止することが可能となる。 On the other hand, when the collation result is abnormal, the worker can receive an abnormality notification. As a result, the operator can prevent the progress of defective manufacturing due to a visual confirmation error.
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本発明に関わるマスク照合方法を適用したマスク照合システムが適用されるネットワーク構成を示す概念図である。 FIG. 1 is a conceptual diagram showing a network configuration to which a mask matching system to which a mask matching method according to the present invention is applied is applied.
すなわち、本発明に係わるマスク照合方法を適用したマスク照合システムは、たとえばインターネット等の通信ネットワーク10を介して製造指示情報管理データベース1およびマスク照合処理装置2に接続をし、識別コード読み取り装置5を備えている。
That is, a mask verification system to which the mask verification method according to the present invention is applied is connected to the manufacturing instruction
また図2および図3に示したように、マスク20や処理基板22は例えば二次元コードのようなマスク識別コード21または基板識別コード23を、それぞれ備えている。
2 and 3, each of the
露光工程において作業指示が出され、露光機にマスクをセットした後、製造が始まるま
での場合の例を図4に示すフローチャートで説明する。
An example of a case where a work instruction is issued in the exposure process, a mask is set in the exposure machine, and manufacturing starts will be described with reference to a flowchart shown in FIG.
所定のカラーフィルタの製造指示情報が選択されると、露光工程で使用されるマスクが決まり、そのなかの使用マスク指示(S1)に基づき、製造指示情報管理データベース1から使用マスク情報が選択、出力され、マスク照合処理装置2に送信される(S2)。
When manufacturing instruction information for a predetermined color filter is selected, a mask to be used in the exposure process is determined, and based on the used mask instruction (S1), the used mask information is selected and output from the manufacturing instruction
次に、作業者が露光機にマスクをセットする(S3)と、マスクに付与されている前記マスク識別コード21を、読み取り装置5を用いて読み取り(S4)、マスク識別コード情報を検出する。そして、そのマスク識別コード情報をマスク照合処理装置2に送信する(S5)。
Next, when an operator sets a mask on the exposure machine (S3), the
次に、マスク照合処理装置2では、このマスク識別コード情報と、使用マスク情報とが照合される。そして、照合の結果、照合が異常でない場合(S7:No)には、製造が許可され(S8)、異常と判定された場合(S7:Yes)には、製造は許可されず、作業者に異常報告がなされ(S9)、S3の処理に戻る。
Next, in the mask
図5のフローチャートを使って、マスクのセット終了後の動作を説明する。 The operation after the mask setting is completed will be described with reference to the flowchart of FIG.
露光処理段階において、処理基板が露光工程前まで進み(S11)処理基板が露光機にセットされると(S12)、処理基板に付与されている基板識別コードを、読み取り装置5を用いて読み取り(S13)、基板識別コード情報を検出する。そしてその基板識別コード情報をマスク照合処理装置2に送信する(S14)。 In the exposure processing stage, the processing substrate advances to before the exposure process (S11). When the processing substrate is set in the exposure machine (S12), the substrate identification code given to the processing substrate is read using the reading device 5 ( S13), substrate identification code information is detected. Then, the board identification code information is transmitted to the mask verification processing device 2 (S14).
次に、マスク照合処理装置2では、この基板識別コード情報と、使用マスク情報とが照合される。そして、照合の結果、照合が異常でない場合(S16:No)には、露光処理が開始され(S17)、異常と判定された場合(S16:Yes)には、製造は許可されず、作業者に異常報告がなされ(S18)、処理基板の再確認と再セットが促される。
Next, in the mask
マスクおよび処理基板の照合結果は必要に応じて、通信ネットワーク10を介して製造指示情報管理データベース1に転送することが可能である。またそのようにしておけば、コンピュータ端末6等で、参照でき、実際の工程で使用されたマスクおよび処理基板の情報や、製造の進捗具合を遠隔の場所からも確認することが出来る。
The verification result of the mask and the processed substrate can be transferred to the manufacturing instruction
1・・・製造指示情報管理データベース
2・・・照合処理装置
5・・・識別コード読み取り装置
6・・・コンピュータ端末
10,11・・・通信ネットワーク
20・・・マスク
21・・・マスク識別コード
22・・・基板
23・・・基板識別コード
DESCRIPTION OF
Claims (1)
1)製造指示情報に基づき使用するマスク情報を記憶する段階と、
2)識別コード読み取り装置によって露光機にセットしたマスクの識別コード情報を取得する段階と、
3)前記マスク情報と前記マスク識別コード情報を照合し、照合結果に異常があった場合は、工程を進めずに作業者に対して照合異常通知を行う段階と、
4)異常でない場合は、識別コード読み取り装置によって露光機にセットした基板の識別コードを取得する段階と、
5)前記基板の識別コードと前記マスクの識別コード情報を照合し、照合結果に異常があった場合は、工程を進めずに作業者に対して照合異常通知を行う段階と、
6)異常でない場合は、前記露光機にて露光を行う段階と、
7)前記照合結果が発生すると、その内容を随時、情報記憶媒体に送信、保存する段階を、実行する処理装置を備えることを特徴とする基板処理システム。 The substrate processing system used in the color filter manufacturing exposure step,
1) a step of mask information remembers that used on the basis of production instruction information,
2) a step of obtaining the identification code information of the mask that was set in an exposure apparatus by the identification code reader,
3) Before Symbol collates mask information and the mask identification code information, if there is an abnormality in checking result, and performing a matching abnormality notification to the operator without promoting step,
4) If not abnormal, obtaining an identification code of the substrate set on the exposure machine by the identification code reader ;
5) Collating the identification code of the substrate with the identification code information of the mask , and if there is an abnormality in the collation result, notifying the worker of the collation abnormality without proceeding with the process;
6) If not abnormal, and performing exposure by the exposure device,
When 7) before Symbol verification result is generated, the substrate processing system, characterized in that it comprises the contents from time to time, transmitted to the information storage medium, the step of storing, the processing device executing.
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