JP5320182B2 - Hybrid cured body and resin composition, and composite transparent sheet using them - Google Patents

Hybrid cured body and resin composition, and composite transparent sheet using them Download PDF

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本発明は、ハイブリッド硬化体及び樹脂組成物、並びに前記ハイブリッド硬化体又は樹脂組成物とフィラーとを複合化した複合透明シートに関する。   The present invention relates to a hybrid cured body and a resin composition, and a composite transparent sheet in which the hybrid cured body or resin composition and a filler are combined.

エポキシ樹脂は、硬化剤と組み合わせて、エポキシ樹脂組成物として使用されている。エポキシ樹脂組成物は作業性に優れ、当該樹脂組成物の硬化体は、耐熱性、電気特性、接着性や力学特性などに優れる。そのため、かかる硬化体は、各種の電気・電子部品、構造用材料、接着剤や塗料などの分野で広く使用されている。また、近年の電気・電子分野の発展に伴い、特に耐熱性の向上、着色の抑制、及び成形性に優れた硬化性樹脂が求められるようになってきている。   Epoxy resins are used as epoxy resin compositions in combination with curing agents. The epoxy resin composition is excellent in workability, and the cured product of the resin composition is excellent in heat resistance, electrical properties, adhesiveness, mechanical properties, and the like. Therefore, such a cured body is widely used in the fields of various electric / electronic parts, structural materials, adhesives and paints. Further, with the recent development of the electric / electronic field, a curable resin having improved heat resistance, suppression of coloring, and excellent moldability has been demanded.

また、近年、液晶表示素子や有機EL表示素子といった表示素子用の基板、カラーフィルター基板、タッチパネル用基板及び太陽電池基板に使用されているガラス基板を、割れにくく、フレキシブルで、比重が小さく、且つ軽量化の可能なプラスチック基板に代替しようという試みがなされている。例えば、エポキシ樹脂、酸無水物硬化剤及び硬化触媒を含むエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化体からなる液晶表示素子用透明樹脂基板(例えば、特許文献1〜2)が提案されている。しかしながら、これらの樹脂単独材料は、ガラス板に比べて線膨張率が高く、表示素子用基板の製造工程において反りやアルミ配線の断線などといった問題が生じ、これらの用途への使用は困難である。したがって、表示素子用基板、特にアクティブマトリックス表示素子用基板において求められる透明性や耐熱性などを満足し、且つ線膨張率の低いプラスチックシートが要求されている。   In recent years, glass substrates used for display element substrates such as liquid crystal display elements and organic EL display elements, color filter substrates, touch panel substrates, and solar cell substrates are difficult to break, flexible, and have a small specific gravity. Attempts have been made to replace plastic substrates that can be reduced in weight. For example, a transparent resin substrate for a liquid crystal display element (for example, Patent Documents 1 and 2) composed of a cured product obtained by curing an epoxy resin composition containing an epoxy resin, an acid anhydride curing agent, and a curing catalyst has been proposed. . However, these resin single materials have a higher coefficient of linear expansion than glass plates, causing problems such as warpage and disconnection of aluminum wiring in the manufacturing process of the display element substrate, and are difficult to use in these applications. . Accordingly, there is a demand for a plastic sheet that satisfies the transparency and heat resistance required for display element substrates, particularly active matrix display element substrates, and has a low coefficient of linear expansion.

エポキシ樹脂の耐熱性を向上させる方法としては、エポキシ樹脂中の官能基密度を上げることにより硬化体の架橋密度を増大させる方法や、樹脂骨格中に剛直な骨格を導入する方法などが挙げられる。しかしながら、このようなエポキシ樹脂自体の構造を利用した方法では、充分な向上効果が得られていない。   Examples of the method for improving the heat resistance of the epoxy resin include a method for increasing the crosslink density of the cured product by increasing the functional group density in the epoxy resin, and a method for introducing a rigid skeleton into the resin skeleton. However, a method using such a structure of the epoxy resin itself does not provide a sufficient improvement effect.

エポキシ樹脂自体の構造を改良する方法以外の耐熱性向上方法としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及び加水分解性アルコキシシランを脱アルコール反応させて得られるアルコキシ基を有するシラン変性エポキシ樹脂を使用する方法(例えば、特許文献3)が提案されている。しかしながら、脱アルコール反応のためには、エポキシ樹脂中の水酸基に対して過剰のアルコキシ基が必要となる。このため、樹脂組成物は多量のアルコキシ基を有することになる。アルコキシ基は空気中の水分(湿気など)と反応し、アルコールを副生物として生成するため、硬化時にボイド等の欠陥が生じやすく問題となる。また、硬化体においても、湿気により同様の反応が進行する可能性があり問題となる。さらに、アルコキシ基や、加水分解で生じたシラノール基が大量に存在する場合、縮合反応も併発することとなる。縮合反応が起こると、硬化収縮の程度が大きくなるため、歪みによりクラック等が生じやすいという問題もある。これらの問題は、加水分解反応や縮合反応の触媒となる酸系及び塩基系のエポキシ硬化剤を使用した場合に、特に顕著となる。   As a heat resistance improving method other than the method of improving the structure of the epoxy resin itself, a method of using a silane-modified epoxy resin having an alkoxy group obtained by dealcoholizing a bisphenol A type epoxy resin and a hydrolyzable alkoxysilane ( For example, Patent Document 3) has been proposed. However, for the dealcoholization reaction, an excess of alkoxy groups relative to the hydroxyl groups in the epoxy resin is required. For this reason, the resin composition has a large amount of alkoxy groups. Alkoxy groups react with moisture (such as moisture) in the air and produce alcohol as a by-product, which causes defects such as voids during curing. Also in the cured body, there is a possibility that a similar reaction may proceed due to moisture. Furthermore, when there are a large amount of alkoxy groups or silanol groups generated by hydrolysis, condensation reactions will also occur. When the condensation reaction occurs, the degree of cure shrinkage increases, and there is a problem that cracks and the like are likely to occur due to strain. These problems are particularly prominent when acid and base epoxy curing agents that serve as catalysts for hydrolysis and condensation reactions are used.

他方、残存アルコキシ基の少ないシリコーンを用いてエポキシ樹脂の耐熱性を向上させる方法(例えば、特許文献4、非特許文献1)も提案されている。しかしながら、これらの方法は、アミン系の硬化剤とエポキシ基との反応によってエポキシ樹脂中に生じた水酸基と、シリコーン中のシラノール基との相互作用を利用するものであり、アミン系の硬化剤が不可欠となる。だが、アミン系の硬化剤を使用した場合、硬化時の着色が避けられないという問題がある。   On the other hand, a method (for example, Patent Document 4 and Non-Patent Document 1) for improving the heat resistance of an epoxy resin using a silicone having a small residual alkoxy group has also been proposed. However, these methods utilize the interaction between the hydroxyl group generated in the epoxy resin by the reaction between the amine curing agent and the epoxy group and the silanol group in the silicone. Indispensable. However, when an amine-based curing agent is used, there is a problem that coloring during curing is unavoidable.

これに対し、着色を抑えるために光カチオン硬化剤を用いた、かご型シリカ及びエポキシ樹脂の組成物(例えば、特許文献5)も提案されている。しかしながら、当該文献は耐熱性について何らの言及も示唆もしていない。このように、副次的反応によるアルコールの生成、ボイドの問題、及び着色の問題を回避しつつ、エポキシ樹脂の耐熱性を向上させることのできる方法は存在していない。   On the other hand, a cage silica and epoxy resin composition (for example, Patent Document 5) using a photocationic curing agent to suppress coloring has also been proposed. However, the document does not mention or suggest any heat resistance. As described above, there is no method capable of improving the heat resistance of the epoxy resin while avoiding the generation of alcohol by side reactions, the problem of voids, and the problem of coloring.

樹脂シートの線膨張率を低減するためには、樹脂にガラス繊維などの無機フィラーを複合化することがよく行われている。しかしながら、通常、これらの樹脂と無機フィラーとの複合化によっては、透明な複合材料は得られない。その主な原因として、樹脂の屈折率及び無機フィラーの屈折率が異なるため、樹脂と無機フィラーとの界面で樹脂を透過した光が散乱してしまう点が挙げられる。かかる問題を解決するため、樹脂の屈折率と無機フィラーの屈折率とを一致させることにより透明化する方法(例えば、特許文献6〜9)が種々検討されている。   In order to reduce the linear expansion coefficient of the resin sheet, it is often performed to make an inorganic filler such as glass fiber in the resin. However, a transparent composite material cannot usually be obtained by combining these resins and inorganic fillers. The main cause is that the light transmitted through the resin is scattered at the interface between the resin and the inorganic filler because the refractive index of the resin and the refractive index of the inorganic filler are different. In order to solve such a problem, various methods (for example, Patent Documents 6 to 9) of making the resin transparent by matching the refractive index of the resin with the refractive index of the inorganic filler have been studied.

特開平6−337408号公報JP-A-6-337408 特開平7−120740号公報JP-A-7-120740 特開2001−59013号公報JP 2001-59013 A 特開2004−43696号公報JP 2004-43696 A 特開2004−189840号公報JP 2004-189840 A 特開平6−256604号公報JP-A-6-256604 特開平6−305077号公報JP-A-6-305077 特開2004−231934号公報JP 2004-231934 A 特開2004−51960号公報JP 2004-51960 A

Journal of Polymer Science: Part B: Polymer Physics, Vol.39, 1074-1084(2001) M.Ochi, R.Takahashi, (Phase structure and thermo-mechanical Properties of primary and tertiary amine-cured epoxy/silica hybrids,)Journal of Polymer Science: Part B: Polymer Physics, Vol.39, 1074-1084 (2001) M.Ochi, R.Takahashi, (Phase structure and thermo-mechanical Properties of primary and tertiary amine-cured epoxy / silica hybrids,)

しかしながら、上記の特許文献6〜9が開示した技術に基づいた場合、無機フィラーと共に透明複合材料の形成に用いられる樹脂は、耐熱性に劣り、ガラス転移温度以上で弾性率が低下する。そのため、加熱によってシートに膨張や変形が起こり、無機物層を積層する際に、安定して均一な積層構造を製造することが困難である。   However, when based on the technique disclosed in the above Patent Documents 6 to 9, the resin used for forming the transparent composite material together with the inorganic filler is inferior in heat resistance, and the elastic modulus is lowered at the glass transition temperature or higher. Therefore, expansion and deformation occur in the sheet by heating, and it is difficult to produce a stable and uniform laminated structure when the inorganic layer is laminated.

そこで、本発明は、耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れ、且つボイドやクラックといった欠陥のない硬化体、及び樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、耐熱性及び光学特性に優れ、線膨張率が低く、温度変化に伴う弾性率の変化が小さく、且つガラス基板を代替することができる、平滑な透明樹脂シートを提供することも目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a cured product and a resin composition that are excellent in heat resistance, transparency, adhesion, and stress relaxation properties, and have no defects such as voids and cracks. The present invention also provides a smooth transparent resin sheet that is excellent in heat resistance and optical properties, has a low coefficient of linear expansion, has a small change in elastic modulus with changes in temperature, and can replace a glass substrate. Also aimed.

本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ(Guiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズが50nm以下であり、且つ緩和指標1.2〜10を満たす、特定構造のシリコーンとエポキシ樹脂とのハイブリッド硬化体が、耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れることを見出した。さらに、前記特定構造のシリコーン及びエポキシ樹脂とフィラーとを複合化してなるシートは、線膨張係数が小さく、耐熱性、光学特性及び平滑性に優れることを見出し、本発明を完成した。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, the size of the phase separation structure determined by the Guiner plot of the scattering profile measured using the X-ray small angle scattering method (SAXS) is 50 nm or less, and satisfies the relaxation index of 1.2 to 10. It has been found that a hybrid cured product of silicone and epoxy resin having a specific structure is excellent in heat resistance, transparency, adhesion and stress relaxation. Furthermore, the present invention has been completed by finding that a sheet formed by combining silicone and epoxy resin having a specific structure and a filler has a low coefficient of linear expansion and excellent heat resistance, optical characteristics and smoothness.

即ち、本発明は以下の通りである。   That is, the present invention is as follows.

本発明の一態様は、(i)X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ(Guiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズ(Rg)が50nm以下であること、(ii)下記式(1):
(数1)
緩和指標=(200℃におけるT2)/(25℃におけるT2)・・・(1)
(式中、T2は固体H−NMRのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である)
で表される緩和指標が1.2〜10であること、及び(iii)黄色度(YI)が30以下であることを満足し、シリコーンを含有する、ハイブリッド硬化体である。
In one embodiment of the present invention, (i) the size (Rg) of a phase separation structure determined by a Guiner plot of a scattering profile measured using a small-angle X-ray scattering method (SAXS) is 50 nm or less, (Ii) Formula (1) below:
(Equation 1)
Relaxation index = (T2 at 200 ° C.) / (T2 at 25 ° C.) (1)
(In the formula, T2 is a relaxation time obtained by the solid echo method of solid state 1 H-NMR)
Is a hybrid cured product that contains silicone, satisfying that the relaxation index represented by the formula is 1.2 to 10 and (iii) the yellowness (YI) is 30 or less.

また、本発明の他の態様は、上記ハイブリッド硬化体の製造方法であって、(iv)反応性官能基を有するシリコーン及び、シリコーンとは異なる、エポキシ基を有する有機化合物を含有すること、並びに(v)エポキシ当量が100〜20,000g/eqであり、環式脂肪族エポキシ基を含有すること、を満足する樹脂組成物を、熱又はエネルギー線で硬化することを含む、ハイブリッド硬化体の製造方法である。   Another aspect of the present invention is a method for producing the above hybrid cured product, comprising (iv) a silicone having a reactive functional group and an organic compound having an epoxy group, which is different from silicone, and (V) An epoxy equivalent of 100 to 20,000 g / eq, containing a cycloaliphatic epoxy group, and curing the resin composition with heat or energy rays. It is a manufacturing method.

前記ハイブリッド硬化体の製造方法において、前記樹脂組成物は酸発生剤をさらに含有することが好ましい。   In the method for producing a hybrid cured product, the resin composition preferably further contains an acid generator.

前記ハイブリッド硬化体の製造方法において、下記式(2)で表される前記シリコーンの平均組成を有し、且つ下記式(3)で表される前記シリコーンの縮合率が30〜99%であることが好ましい。
(化1)
Si(OX)(4−a−b)/2・・・(2)
(数2)
縮合率=100×{(4−a−b)/(4−a)}・・・(3)
In the method for producing the hybrid cured body, the silicone has an average composition represented by the following formula (2), and the condensation ratio of the silicone represented by the following formula (3) is 30 to 99%. Is preferred.
(Chemical formula 1)
R 1 a Si (OX) b O (4-ab) / 2 (2)
(Equation 2)
Condensation rate = 100 × {(4-ab) / (4-a)} (3)

ここで、上記式中、Rは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基、又は水酸基を表し、a及びbはそれぞれ独立して0〜3の整数である。 Here, in the above formula, R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a and b are each independently an integer of 0 to 3. .

また、本発明のさらに他の態様は、上記樹脂組成物であって、(iv)反応性官能基を有するシリコーン及び、シリコーンとは異なる、エポキシ基を有する有機化合物を含有し、並びに(v)エポキシ当量が100〜20,000g/eqであり、環式脂肪族エポキシ基を有する、樹脂組成物である。   Still another embodiment of the present invention is the above resin composition, comprising (iv) a silicone having a reactive functional group and an organic compound having an epoxy group different from silicone, and (v) It is a resin composition having an epoxy equivalent of 100 to 20,000 g / eq and having a cycloaliphatic epoxy group.

前記樹脂組成物において、下記式(2)で表される前記シリコーンの平均組成を有し、且つ下記式(3)で表される前記シリコーンの縮合率は30〜99%であることが好ましい。
(化2)
Si(OX)(4−a−b)/2・・・(2)
(数3)
縮合率=100×{(4−a−b)/(4−a)}・・・(3)
The resin composition preferably has an average composition of the silicone represented by the following formula (2), and the condensation ratio of the silicone represented by the following formula (3) is 30 to 99%.
(Chemical formula 2)
R 1 a Si (OX) b O (4-ab) / 2 (2)
(Equation 3)
Condensation rate = 100 × {(4-ab) / (4-a)} (3)

ここで、上記式中、Rは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基又は水酸基を表し、a及びbはそれぞれ独立して0〜3の整数である。 Here, in the above formula, R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a and b are each independently an integer of 0 to 3.

また、本発明のさらに他の態様は、上記樹脂組成物の製造方法であって、下記式(4)で表されるD体の構造単位を5〜99mol%(D体の構造単位の比率)含むアルコキシシランを加水分解及び縮合してシリコーンを得、該シリコーンを有機化合物と混合することを含む、樹脂組成物の製造方法である。
(化3)
Si(OX)・・・(4)
Still another embodiment of the present invention is a method for producing the above resin composition, wherein the structural unit of D-form represented by the following formula (4) is 5-99 mol% (ratio of structural units of D-form). This is a method for producing a resin composition, comprising hydrolyzing and condensing an alkoxysilane containing to obtain a silicone, and mixing the silicone with an organic compound.
(Chemical formula 3)
R 1 R 2 Si (OX) 2 (4)

ここで、上記式中、R1及びRはそれぞれ独立して同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基又は水酸基を表す。なお、上記D体の構造単位の比率は、29Si−NMRの方法により求める。 Here, in the above formula, R 1 and R 2 each independently represent the same or different organic group, and OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group. In addition, the ratio of the structural unit of the said D body is calculated | required by the method of 29Si-NMR.

また、本発明のさらに他の態様は、上記ハイブリッド硬化体とフィラーとを含有する、複合透明シートである。   Moreover, the other aspect of this invention is a composite transparent sheet containing the said hybrid hardened | cured material and a filler.

また、本発明のさらに他の態様は、上記樹脂組成物とフィラーとを混合し、熱又はエネルギー線で硬化しながらシート状にプレスすることを含む、複合透明シートの製造方法である。   Yet another embodiment of the present invention is a method for producing a composite transparent sheet, comprising mixing the resin composition and a filler, and pressing the sheet into a sheet while curing with heat or energy rays.

前記複合透明シートの製造方法において、前記樹脂組成物は、酸発生剤をさらに含有することが好ましい。   In the method for producing the composite transparent sheet, it is preferable that the resin composition further contains an acid generator.

本発明によれば、耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れ、且つボイドやクラックといった欠陥のない硬化体及び樹脂組成物が得られる。また、耐熱性及び光学特性に優れ、線膨張率が低く、温度変化に伴う弾性率の変化が小さく、且つガラス基板を代替することが可能な、平滑な透明樹脂シートが得られる。   According to the present invention, a cured product and a resin composition that are excellent in heat resistance, transparency, adhesiveness, and stress relaxation properties and are free from defects such as voids and cracks can be obtained. In addition, a smooth transparent resin sheet that is excellent in heat resistance and optical properties, has a low coefficient of linear expansion, has a small change in elastic modulus accompanying a change in temperature, and can replace a glass substrate can be obtained.

ハイブリッド硬化体の小角X線散乱プロファイルを示すグラフである。It is a graph which shows the small angle X-ray scattering profile of a hybrid hardening body. 図1で示された小角X線散乱プロファイルのギニエ則に基づく、小角散乱プロファイルに対するギニエプロットの低角度部分の直線近似を示すグラフである。It is a graph which shows the linear approximation of the low angle part of the Guinier plot with respect to a small angle scattering profile based on the Guinier rule of the small angle X-ray scattering profile shown by FIG. 実施例14及び15並びに比較例8の樹脂シートの柔軟性に関する評価基準を示す概略図である。It is the schematic which shows the evaluation criteria regarding the softness | flexibility of the resin sheet of Examples 14 and 15 and the comparative example 8. FIG. (ハイブリッド)硬化体の動的粘弾性測定の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the dynamic viscoelasticity measurement of a (hybrid) hardening body. 線膨張係数の測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of a linear expansion coefficient. 比較例8のボイドの観察結果を示す光学顕微鏡写真である。10 is an optical micrograph showing the observation results of voids in Comparative Example 8.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施の形態」という)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. In addition, this invention is not restrict | limited to the following embodiment, In the range of the summary, various deformation | transformation can be implemented.

[第1の本実施の形態:ハイブリッド硬化体]   [First embodiment: Hybrid cured body]

第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、(i)X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ(Guiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズ(Rg)が50nm以下であること、(ii)下記式(1):
(数4)
緩和指標=(200℃におけるT2)/(25℃におけるT2)・・・(1)
(式中、T2は固体H−NMRのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である)
で表される緩和指標が1.2〜10であること、及び(iii)黄色度(YI)が30以下であることを満足し、シリコーンを含有する。
The hybrid cured body according to the first embodiment is (i) the size (Rg) of the phase separation structure determined by the Guiner plot of the scattering profile measured using the X-ray small angle scattering method (SAXS). Is 50 nm or less, (ii) the following formula (1):
(Equation 4)
Relaxation index = (T2 at 200 ° C.) / (T2 at 25 ° C.) (1)
(In the formula, T2 is a relaxation time obtained by the solid echo method of solid state 1 H-NMR)
And (iii) yellowness (YI) is 30 or less, and contains silicone.

本発明者らは、特定の測定法によって得られる相分離構造を満たし、特定の分子運動性の指標を有するハイブリッド硬化体が、応力緩和性に優れ、着色がなく、且つ耐熱性に優れるため、IC封止材、エポキシ樹脂系積層板、塗料、接着剤、及び電気・電子材料のコーティング剤などへの利用に最適であることを見出した。また、上記硬化体とフィラーと組み合わせた場合に、光学欠陥がなく、平滑性に優れ、割れ難く、耐熱性に優れ、且つ熱膨張の小さな複合透明シート(光学シート)が得られることを見出した。以下、第1の本実施の形態について具体的に説明する。   The present inventors satisfy a phase separation structure obtained by a specific measurement method, and a hybrid cured body having a specific molecular mobility index is excellent in stress relaxation, not colored, and excellent in heat resistance. It has been found that it is optimal for use in IC encapsulants, epoxy resin laminates, paints, adhesives, and coating agents for electrical and electronic materials. Moreover, when combined with the said hardening body and filler, it discovered that there was no optical defect, it was excellent in smoothness, it was hard to break, it was excellent in heat resistance, and a composite transparent sheet (optical sheet) with small thermal expansion was obtained. . Hereinafter, the first embodiment will be described in detail.

本実施の形態に係るハイブリッド硬化体(以下、単に「硬化体」ともいう)は、少なくともシリコーン及び有機化合物を含有する硬化体である。ここで、本明細書における「硬化体」とは、液状の樹脂組成物を架橋反応によって硬化されてなるものを意味する。架橋反応の種類は、以下に制限されないが、例えば、化学結合でもよいし、相互作用により擬似的に架橋を形成してもよい。ここで、本明細書における「シリコーン」とは、有機基(アルキル基及びアリール基などの非反応性基、並びに反応性有機官能基などの有機化合物からなる反応性官能基)を含有し、さらに、ケイ素原子に直接結合した水酸基(シラノール)を含有してもよい化合物を意味する。   The hybrid cured body (hereinafter also simply referred to as “cured body”) according to the present embodiment is a cured body containing at least silicone and an organic compound. Here, the “cured product” in the present specification means a product obtained by curing a liquid resin composition by a crosslinking reaction. The type of the cross-linking reaction is not limited to the following, but may be, for example, a chemical bond or a pseudo cross-link formed by interaction. Here, “silicone” in the present specification contains an organic group (a non-reactive group such as an alkyl group and an aryl group, and a reactive functional group composed of an organic compound such as a reactive organic functional group), and And a compound that may contain a hydroxyl group (silanol) directly bonded to a silicon atom.

本実施の形態におけるシリコーンの主鎖骨格に存在するシロキサン結合は、耐熱性に優れる点で有利である。また、シロキサン結合は、ミクロな運動性が良好なことから緩和性に優れ、さらに、シリコーンの主鎖骨格と側鎖とがミクロに相分離して有機基の運動を抑制することができる点でも有利である。さらに、前記シリコーンは、水素基(シラノール)を含有する場合、水素結合などによって一層緻密で強固な構造を作りやすくなるため、好適である。   The siloxane bond present in the main chain skeleton of silicone in this embodiment is advantageous in that it has excellent heat resistance. Siloxane bonds are also excellent in relaxation because they have good micro mobility, and the main chain skeleton and side chains of silicone can be phase-separated microscopically to suppress the movement of organic groups. It is advantageous. Further, when the silicone contains a hydrogen group (silanol), it is preferable because it becomes easier to form a denser and stronger structure by hydrogen bonding or the like.

本実施の形態において、樹脂組成物中のシリコーンの比率は、以下に制限されないが、1〜99質量%であることが好ましく、10〜95質量%であることがより好ましく、20〜85質量%であることがさらに好ましく、30〜80質量%であることがさらにより好ましい。上記した範囲内の場合、耐熱性を向上させることができるとともに、靭性に優れる。なお、本明細書における樹脂組成物に対するシリコーンの比率(以下、単に「シリコーン比率」ともいう。)は、29Si−NMRやGPCの結果を総合的に判断することによって算出できる。   In the present embodiment, the ratio of silicone in the resin composition is not limited to the following, but is preferably 1 to 99% by mass, more preferably 10 to 95% by mass, and 20 to 85% by mass. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 30-80 mass%. When it is within the above range, the heat resistance can be improved and the toughness is excellent. In addition, the ratio of silicone to the resin composition in the present specification (hereinafter also simply referred to as “silicone ratio”) can be calculated by comprehensively judging the results of 29Si-NMR and GPC.

また、本実施の形態において、硬化体中の無機成分の比率は、以下に制限されないが、1〜99質量%であることが好ましく、2〜75質量%であることがより好ましく、5〜50質量%であることがさらに好ましく、10〜25質量%であることがさらにより好ましい。なお、本明細書における無機成分の比率(以下、単に「無機比率」ともいう。)は、熱重量分析を用いて、樹脂組成物の質量に対する、有機化合物を完全に炭化させた後の質量の百分率で求めることができる。また、本明細書における「無機成分」とは、ケイ素以外のものも含む成分を意味する。   Moreover, in this Embodiment, although the ratio of the inorganic component in a hardening body is not restrict | limited to the following, It is preferable that it is 1-99 mass%, It is more preferable that it is 2-75 mass%, 5-50 It is more preferable that it is mass%, and it is still more preferable that it is 10-25 mass%. In addition, the ratio of the inorganic component in the present specification (hereinafter, also simply referred to as “inorganic ratio”) is the mass after the organic compound is completely carbonized with respect to the mass of the resin composition using thermogravimetric analysis. It can be obtained as a percentage. In addition, the “inorganic component” in this specification means a component including other than silicon.

シリコーンと有機化合物とは本質的に非相溶なものであり、これらを含有する硬化体は通常、相分離構造を形成する。ここで相分離構造とは、局所的に、シリコーン、又は有機化合物由来成分が存在していることを意味する。前記有機化合物由来成分の局在が顕著である場合、温度上昇に伴う分子運動によるガラス転移を示し、弾性率の低下を招く。これに対し、シリコーンと有機化合物との相分離を抑制し、有機成分の分子運動をシリコーンによって抑制することにより、かかる弾性率の低下を効果的に防ぐことができる。通常、相分離構造は透過型電子顕微鏡(TEM)等により直接観察することができる。しかし、直接観察による相分離構造のサイズと、有機化合物の耐熱性との間には、直接の相関性が認められない。これは、かかる観察結果が有機成分と無機成分との界面の状態を反映していないことが原因であると考えられる。   Silicone and organic compounds are essentially incompatible, and a cured product containing them usually forms a phase-separated structure. Here, the phase separation structure means that a component derived from silicone or an organic compound is locally present. When the localization of the organic compound-derived component is significant, it exhibits a glass transition due to molecular motion accompanying a temperature rise, leading to a decrease in elastic modulus. On the other hand, by suppressing the phase separation between the silicone and the organic compound and suppressing the molecular motion of the organic component with the silicone, it is possible to effectively prevent the decrease in the elastic modulus. Usually, the phase separation structure can be directly observed with a transmission electron microscope (TEM) or the like. However, no direct correlation is observed between the size of the phase separation structure by direct observation and the heat resistance of the organic compound. This is considered to be because the observation result does not reflect the state of the interface between the organic component and the inorganic component.

本発明者らは、X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイル(以下、「小角X線散乱プロファイル」ともいう。)のギニエ(Guiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズ(Rg)こそが、シリコーンと有機化合物との界面も含む相分離構造の情報を与え、結果的に、かかるRgが耐熱性と相関性があることを見出した。以下、小角X線散乱プロファイル及びRgについて詳細に説明する。   The present inventors have determined the size of a phase separation structure determined by a Guiner plot of a scattering profile (hereinafter, also referred to as “small angle X-ray scattering profile”) measured using an X-ray small angle scattering method (SAXS). It was found that (Rg) gave information on the phase separation structure including the interface between the silicone and the organic compound, and as a result, the Rg was correlated with heat resistance. Hereinafter, the small-angle X-ray scattering profile and Rg will be described in detail.

図1は、ハイブリッド硬化体の小角X線散乱プロファイルを示すグラフである。図1は、硬化体の小角X線散乱(SAXS)プロファイルであり、横軸のsは逆空間における散乱ベクトルの大きさを示しており、長さの逆数の次元を有する。さらに、sは波長(λ)及び回折角(θ)を用いた上で、s=2sinθ/λという関係式を満たす。また、縦軸は散乱強度を示す。   FIG. 1 is a graph showing a small-angle X-ray scattering profile of a hybrid cured body. FIG. 1 is a small-angle X-ray scattering (SAXS) profile of a cured product, where s on the horizontal axis indicates the magnitude of the scattering vector in the inverse space, and has a dimension of the reciprocal of the length. Furthermore, s satisfies the relational expression of s = 2 sin θ / λ using the wavelength (λ) and the diffraction angle (θ). The vertical axis indicates the scattering intensity.

図2は、図1で示された小角X線散乱プロファイルのギニエ則に基づく、小角散乱プロファイルに対するギニエプロットの低角度部分の直線近似を示すグラフである。図2は、図1において示されたSAXSプロファイルのギニエ則に基づき、小角散乱プロファイルに対するギニエプロットの低角度部分の直線近似を示している。それによって得られる直線の「傾き」及び「切片」から、相分離構造サイズを求めることができる。なお、散乱強度I(q)と相分離構造サイズ(慣性半径)Rgとの関係は、I(q)≒exp[-{Rg(2/3)}q2]という関係式を満たすものである。   FIG. 2 is a graph showing a linear approximation of the low angle portion of the Guinier plot for the small angle scattering profile based on the Guinier rule for the small angle X-ray scattering profile shown in FIG. FIG. 2 shows a linear approximation of the low angle portion of the Guinier plot for the small angle scattering profile based on the Guinier rule of the SAXS profile shown in FIG. The phase separation structure size can be obtained from the “slope” and “intercept” of the straight line obtained thereby. The relationship between the scattering intensity I (q) and the phase separation structure size (radius of inertia) Rg satisfies the relational expression I (q) ≈exp [− {Rg (2/3)} q2].

Rgは50nm以下であり、好ましくは30nm以下、より好ましくは20nm以下、さらに好ましくは10nm以下である。Rgが上記範囲内の場合、ハイブリッド硬化体の耐熱性が一層向上するため好ましい。   Rg is 50 nm or less, preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and still more preferably 10 nm or less. Rg within the above range is preferable because the heat resistance of the hybrid cured body is further improved.

ここで、本明細書における「ハイブリッド硬化体の耐熱性が優れる」とは、温度上昇に伴う弾性率の低下が小さいことを意味する。室温付近という低温の弾性率と加熱時の弾性率との差が小さい場合、硬化体を熱加工する時に精度良く加工できるため、好ましい。耐熱性を表す指標の一例として、動的粘弾性測定における貯蔵弾性率の温度依存性が挙げられる。例えば、下記式(5)で表される弾性率比が15以下であることが好ましく、12以下であることがより好ましく、9以下であることがさらに好ましく、6以下であることがさらにより好ましい。
(数5)
弾性率比=E0,25’/E0,250’・・・(5)
Here, “the heat resistance of the hybrid cured product is excellent” in the present specification means that the decrease in the elastic modulus accompanying the temperature increase is small. When the difference between the low-temperature elastic modulus near room temperature and the elastic modulus during heating is small, it is preferable because the cured body can be processed with high accuracy. As an example of an index representing heat resistance, temperature dependency of storage elastic modulus in dynamic viscoelasticity measurement can be mentioned. For example, the elastic modulus ratio represented by the following formula (5) is preferably 15 or less, more preferably 12 or less, further preferably 9 or less, and even more preferably 6 or less. .
(Equation 5)
Elastic modulus ratio = E0,25 ′ / E0,250 ′ (5)

上記式中、E0,25’は動的粘弾性測定による25℃における硬化体の貯蔵弾性率であり、E0,250’は動的粘弾性測定による250℃における硬化体の貯蔵弾性率である。   In the above formula, E0,25 'is the storage elastic modulus of the cured body at 25 ° C by dynamic viscoelasticity measurement, and E0,250' is the storage elastic modulus of the cured body at 250 ° C by dynamic viscoelasticity measurement.

また、耐熱性を表す指標の一例として、動的粘弾性測定における25〜250℃中のtanδの最高値が挙げられる。tanδは、0.075以下であることが好ましく、0.065以下であることがより好ましく、0.060以下であることがさらに好ましく、0.050以下であることがさらにより好ましい。   An example of an index representing heat resistance is the maximum value of tan δ in 25 to 250 ° C. in dynamic viscoelasticity measurement. tan δ is preferably 0.075 or less, more preferably 0.065 or less, further preferably 0.060 or less, and even more preferably 0.050 or less.

次に、本実施の形態における「緩和指標」とは、有機成分の分子運動性に関係するパラメーターであり、下記式(1)で表される。
(数6)
緩和指標=(200℃におけるT2)/(25℃におけるT2)・・・(1)
上記式中、T2は、固体H−NMRのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である。
Next, the “relaxation index” in the present embodiment is a parameter related to the molecular mobility of the organic component and is represented by the following formula (1).
(Equation 6)
Relaxation index = (T2 at 200 ° C.) / (T2 at 25 ° C.) (1)
In the above formula, T2 is a relaxation time obtained by the solid echo method of solid state 1 H-NMR.

ソリッドエコー法によって得られる緩和時間T2が短いほど、運動が遅い(例えば、高分子結晶やガラス状態など)ことを表している一方、T2が長いほど、運動性が良いことを表している。ソリッドエコー法は、デッドタイムを考慮すると、緩和時間の短い成分を測定するのに適している。本実施の形態において、緩和時間が複数測定される場合には、一番短い緩和時間をT2として採用することとする。緩和指標は1.2〜10であり、1.3〜9であることが好ましく、1.4〜7であることがより好ましく、1.5〜5であることがさらに好ましく、1.7〜3であることがさらにより好ましい。緩和指標が上記範囲内の場合、分子運動性に優れるため、硬化時や冷熱衝撃による歪みがかかりにくい。歪みがかかりにくいと、ボイドやクラックの発生などが殆ど生じないため好適である。また、緩和指標が上記範囲内の場合、ハイブリッド硬化体の耐熱性が向上し得る。さらに、運動性に優れる場合、粘度がより低くなり、応力緩和性に優れる。このように、本実施の形態に係る硬化体、及び後述する樹脂組成物は、上記範囲という特定の緩和指標を満たす場合、一層応力緩和性に優れる。   The shorter the relaxation time T2 obtained by the solid echo method, the slower the movement (for example, a polymer crystal or a glass state), while the longer T2, the better the mobility. The solid echo method is suitable for measuring a component having a short relaxation time in consideration of the dead time. In the present embodiment, when a plurality of relaxation times are measured, the shortest relaxation time is adopted as T2. The relaxation index is 1.2 to 10, preferably 1.3 to 9, more preferably 1.4 to 7, still more preferably 1.5 to 5, and 1.7 to Even more preferred is 3. When the relaxation index is within the above range, the molecular mobility is excellent, so that distortion due to curing or thermal shock is not easily applied. It is preferable that distortion is difficult to occur because voids and cracks hardly occur. Moreover, when the relaxation index is within the above range, the heat resistance of the hybrid cured product can be improved. Further, when the mobility is excellent, the viscosity is lower and the stress relaxation property is excellent. Thus, the cured body according to the present embodiment and the resin composition to be described later are further excellent in stress relaxation properties when satisfying a specific relaxation index of the above range.

本実施の形態における黄色度(YI)は、3mm厚のサンプルをコニカミノルタ(株)製のSPECTROPHOTOMETER CM−3600dを用いて測定して得られる値を意味する。YIは30以下であり、20以下であることが好ましく、12以下であることがより好ましく、8以下であることがさらに好ましく、5以下であることがさらにより好ましい。YIが上記範囲内の場合、着色している程に高いとは判定されない(換言すれば、透明性が高いと判定できる)。そのため、本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、多様な用途に使用できる。   The yellowness degree (YI) in the present embodiment means a value obtained by measuring a 3 mm thick sample using SPECTROTOPOMETER CM-3600d manufactured by Konica Minolta. YI is 30 or less, preferably 20 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 8 or less, and even more preferably 5 or less. When YI is within the above range, it is not determined to be so high that it is colored (in other words, it can be determined that the transparency is high). Therefore, the hybrid cured body according to the present embodiment can be used for various applications.

本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、耐湿性に優れていることが好ましい。本実施の形態において耐湿性は、硬化体を水中で100℃2時間加熱した後に、100℃真空乾燥を行い完全に水分を除去した後の外観の変化や重量変化で判断することができる。重量変化は20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、5%以下であることがさらに好ましく、3%以下であることがさらにより好ましい。   The hybrid cured body according to the present embodiment is preferably excellent in moisture resistance. In the present embodiment, the moisture resistance can be judged by a change in appearance and a change in weight after the cured body is heated in water at 100 ° C. for 2 hours and then vacuum-dried at 100 ° C. to completely remove moisture. The weight change is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less, and even more preferably 3% or less.

シリコーン中にアルコキシ基が存在すると、加水分解によってアルコールが遊離し得る。そのため、硬化体の下記式(6)で表されるアルコキシ比率が50%以下であることが好ましく、35%以下であることがより好ましく、20%以下であることがさらに好ましく、10%以下であることがさらにより好ましい。アルコキシ比率が上記範囲内の場合、耐湿性が良好となり、アルコールが殆ど遊離しないため、好適である。
(数7)
アルコキシ比率=(Si−O−Cの結合数)/(Si−O−Xの結合数)・・・(6)
上記式中、Siはケイ素原子、Oは酸素原子、Cは炭素原子、及びXは任意の原子をそれぞれ示す。
If alkoxy groups are present in the silicone, the alcohol can be liberated by hydrolysis. Therefore, the alkoxy ratio represented by the following formula (6) of the cured body is preferably 50% or less, more preferably 35% or less, further preferably 20% or less, and more preferably 10% or less. Even more preferably. When the alkoxy ratio is within the above range, moisture resistance is good and alcohol is hardly liberated, which is preferable.
(Equation 7)
Alkoxy ratio = (number of Si—O—C bonds) / (number of Si—O—X bonds) (6)
In the above formula, Si represents a silicon atom, O represents an oxygen atom, C represents a carbon atom, and X represents an arbitrary atom.

上記Si−O−C結合やSi−O−X結合の数は、NMR、IR及びNIRで測定することができ、本実施の形態ではそれらの中で最も高い測定値を採用する。換言すれば、NMR、IR及びNIRでそれぞれ結合数を測定し、その中で最も多い結合数(測定値)を採用するというものである。その理由は、NMR、IR、NIRのいずれの方法であってもほぼ同様の結果が一般には得られるが、一方で、他のピークと重なって測定しにくい場合もあり、重なったピークを差し引くと小さい値になる場合があるからである。そのため、測定の信頼度を極力高めるため、一番大きな値を採用するものである。   The number of Si—O—C bonds and Si—O—X bonds can be measured by NMR, IR, and NIR, and the highest measured value among them is adopted in this embodiment. In other words, the number of bonds is measured by NMR, IR, and NIR, respectively, and the largest number of bonds (measured value) is adopted. The reason is that almost the same results are generally obtained by any of the methods of NMR, IR, and NIR, but on the other hand, it may be difficult to measure by overlapping with other peaks. This is because the value may be small. Therefore, the largest value is adopted in order to increase the reliability of measurement as much as possible.

本実施の形態に係るハイブリッド硬化体の硬化方法は、以下に制限されないが、例えば、逐次重合型でもよく、連鎖重合型でもよい。また、単独の反応で硬化させてもよいし、複数の反応を組み合わせて硬化させてもよいが、少なくとも連鎖重合型の反応を用いることが好ましい。なぜなら、一般に、逐次重合よりも連鎖重合の方が速度が大きいため、連鎖重合の方が相分離を有意に抑制できる傾向にあるからである。中でも、酸素の影響を受けないという観点から、酸発生剤を用いたカチオン重合が好ましい。このように、本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、酸発生剤を使用した連鎖重合型の反応(さらに好ましくはカチオン重合)により硬化されたものであることがより好ましい。   The method for curing the hybrid cured body according to the present embodiment is not limited to the following, but may be, for example, a sequential polymerization type or a chain polymerization type. Further, it may be cured by a single reaction or may be cured by combining a plurality of reactions, but at least a chain polymerization type reaction is preferably used. This is because chain polymerization generally has a higher speed than sequential polymerization, and therefore chain polymerization tends to significantly suppress phase separation. Among these, cationic polymerization using an acid generator is preferable from the viewpoint of not being affected by oxygen. Thus, the hybrid cured body according to the present embodiment is more preferably cured by a chain polymerization type reaction (more preferably cationic polymerization) using an acid generator.

本明細書における「酸発生剤」とは、熱又はエネルギー線によりカチオン種を発生させて、重合を開始させる化合物を意味する。前記化合物としては、以下に制限されないが、例えば、第四級アンモニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、芳香族オニウム塩などの各種オニウム塩が挙げられる。これらは1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The “acid generator” in the present specification means a compound that initiates polymerization by generating cationic species by heat or energy rays. Examples of the compound include, but are not limited to, various onium salts such as a quaternary ammonium salt, a sulfonium salt, a phosphonium salt, and an aromatic onium salt. These may be used alone or in combination of two or more.

上記第四級アンモニウム塩としては、以下に制限されないが、例えば、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホフォフェート、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウム−p−トルエンスルホネート、N,N−ジメチル−N−ベンジルアニリニウムヘキサフルオロアンチモネート、N,N−ジメチル−N−ベンジルアニリニウムテトラフルオロボレート、N,N−ジメチル−N−ベンジルピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、N,N−ジエチル−N−ベンジルトリフルオロメタンスルホネート、N,N−ジメチル−N−(4−メトキシベンジル)ピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、及びN,N−ジエチル−N−(4−メトキシベンジル)トルイジニウムヘキサフルオロアンチモネートが挙げられる。   Examples of the quaternary ammonium salt include, but are not limited to, for example, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, tetraethylammonium tetrafluoroborate, tetraethylammonium-p -Toluenesulfonate, N, N-dimethyl-N-benzylanilinium hexafluoroantimonate, N, N-dimethyl-N-benzylanilinium tetrafluoroborate, N, N-dimethyl-N-benzylpyridinium hexafluoroantimonate, N, N-diethyl-N-benzyltrifluoromethanesulfonate, N, N-dimethyl-N- (4-methoxybenzyl) pyridinium hexafluoroan Moneto, and N, N- diethyl -N- (4- methoxybenzyl) preparative Luigi hexafluoroantimonate and the like.

上記スルホニウム塩としては、以下に制限されないが、例えば、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルシネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルシネート、及びジフェニル(4−フェニルチオフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアルシネートが挙げられる。   Examples of the sulfonium salt include, but are not limited to, for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluoroalcinate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium hexafluoroalcinate, And diphenyl (4-phenylthiophenyl) sulfonium hexafluoroarsinate.

上記ホスホニウム塩としては、以下に制限されないが、例えば、エチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、及びテトラブチルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートが挙げられる。   Examples of the phosphonium salt include, but are not limited to, ethyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate and tetrabutylphosphonium hexafluoroantimonate.

上記芳香族オニウム塩としては、以下に制限されないが、例えば、特公昭52−14277号公報、特公昭52−14278号公報、及び特公昭52−14279号公報に開示された化合物が挙げられる。   Examples of the aromatic onium salt include, but are not limited to, compounds disclosed in Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Publication No. 52-14278, and Japanese Patent Publication No. 52-14279.

本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、成形性向上の観点から、液状の樹脂組成物を、熱又はエネルギー線で硬化することによって得られることが好ましい。ここで、前記「液状」とは、流動性があることをいう。前記流動性の指標となる粘度としては、1〜1,000,000mPa・sであることが好ましく、1〜100,000mPa・sであることがより好ましく、1〜20,000mPa・sであることがさらに好ましく、1〜5,000mPa・sであることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、成形性が有意に向上するため好適である。なお、本明細書における「粘度」の測定は、E型粘度計を用いて行う。   The hybrid cured body according to the present embodiment is preferably obtained by curing a liquid resin composition with heat or energy rays from the viewpoint of improving moldability. Here, the “liquid” means fluidity. The viscosity serving as the fluidity index is preferably 1 to 1,000,000 mPa · s, more preferably 1 to 100,000 mPa · s, and 1 to 20,000 mPa · s. Is more preferable, and even more preferably 1 to 5,000 mPa · s. Within the above range, the moldability is significantly improved, which is preferable. The “viscosity” in this specification is measured using an E-type viscometer.

上記の熱又はエネルギー線による硬化は、有機化合物が架橋反応を起こしてもよく、シリコーンが架橋反応を起こしてもよく、両方の反応を起こしてもよい。相分離サイズをより小さくする観点から、有機化合物とシリコーンとが共に架橋反応を起こすことが好ましい。熱又はエネルギー線により、樹脂組成物中の官能基が架橋反応を起こしてもよいし、熱又はエネルギー線に反応する硬化剤を共存させてもよい。中でも、硬化体の構造をコントロールする観点から、熱又はエネルギー線に反応する硬化剤を使用することが好ましい。   In the above curing by heat or energy rays, the organic compound may cause a crosslinking reaction, the silicone may cause a crosslinking reaction, or both reactions may occur. From the viewpoint of further reducing the phase separation size, it is preferable that the organic compound and silicone both undergo a crosslinking reaction. The functional group in the resin composition may cause a crosslinking reaction by heat or energy rays, or a curing agent that reacts with heat or energy rays may coexist. Among these, from the viewpoint of controlling the structure of the cured body, it is preferable to use a curing agent that reacts with heat or energy rays.

熱で硬化する場合の温度は、以下に制限されないが、30〜300℃であることが好ましく、80〜250℃であることがより好ましく、120〜220℃であることがさらに好ましい。上記範囲内の場合、有機物の分解を防止できるとともに、硬化に要する時間を有意に短縮できる。一般に、エポキシ樹脂などの熱硬化においては、異常反応を抑制するために、低温からの段階的な温度上昇による硬化が採用され得る。しかし、本実施の形態においては、有機成分と無機成分との相分離を抑制する必要があるため、硬化速度が大きいほど好ましく、初発温度を高温にしておくことも好ましい。特に、後述するシリコーン中にシラノール基(反応性官能基の1種)が存在している場合には、脱水反応を一層進みやすくするという観点から、初期温度を、好ましくは100℃以上として、より好ましくは120℃以上として、硬化する。また、2種以上の反応性官能基が存在している場合には、反応を一層促進させる観点から、最も反応性の低い官能基が反応する温度以上に初期温度を設定することが好ましい。また、系内を均質に硬化させることで、相分離を抑制しやすくなる。なお、官能基の反応温度は示差走査熱量測定(DSC測定)によって求めることができる。   The temperature for curing with heat is not limited to the following, but is preferably 30 to 300 ° C, more preferably 80 to 250 ° C, and still more preferably 120 to 220 ° C. When it is within the above range, the decomposition of organic substances can be prevented and the time required for curing can be significantly shortened. In general, in thermosetting of an epoxy resin or the like, curing by a stepwise increase in temperature from a low temperature can be employed to suppress abnormal reactions. However, in the present embodiment, since it is necessary to suppress phase separation between the organic component and the inorganic component, it is preferable that the curing rate is high, and it is also preferable to set the initial temperature to a high temperature. In particular, when a silanol group (one type of reactive functional group) is present in the silicone described later, the initial temperature is preferably set to 100 ° C. or more from the viewpoint of facilitating the dehydration reaction. Preferably, it is cured at 120 ° C. or higher. In the case where two or more kinds of reactive functional groups are present, it is preferable to set the initial temperature above the temperature at which the functional group having the lowest reactivity reacts from the viewpoint of further promoting the reaction. Moreover, it becomes easy to suppress phase separation by uniformly curing the system. The reaction temperature of the functional group can be determined by differential scanning calorimetry (DSC measurement).

硬化時の雰囲気としては、以下に制限されないが、空気、窒素などの不活性ガス、及び真空が挙げられる。中でも、酸素による酸化反応を抑制する観点から、不活性ガス又は真空の雰囲気が好ましい。   The atmosphere at the time of curing is not limited to the following, but includes air, an inert gas such as nitrogen, and vacuum. Among these, an inert gas or a vacuum atmosphere is preferable from the viewpoint of suppressing the oxidation reaction by oxygen.

加熱方法としては、以下に制限されないが、熱風、赤外線や電磁波などが好適に利用できる。   Although it does not restrict | limit as a heating method below, a hot air, infrared rays, electromagnetic waves, etc. can be utilized suitably.

本実施の形態におけるエネルギー線とは、以下に制限されないが、例えば、紫外線、近紫外線、可視光線及び意近赤外線などの光、並びに電子線である。副反応が起こりにくいという観点から、エネルギー線の種類として、好ましくは光であり、より好ましくは紫外線である。   The energy rays in the present embodiment are not limited to the following, but are, for example, light such as ultraviolet rays, near ultraviolet rays, visible rays and near infrared rays, and electron beams. From the viewpoint that side reactions are unlikely to occur, the type of energy beam is preferably light, and more preferably ultraviolet light.

エネルギー線の発生源は、以下に制限されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、UVランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー、YAGレーザー、エキシマーレーザー、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源、及び電子線照射機などの各種の光源が挙げられる。   Sources of energy rays are not limited to the following, but for example, low pressure mercury lamp, medium pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, UV lamp, xenon lamp, carbon arc lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, argon ion Examples of the light source include laser, helium cadmium laser, helium neon laser, krypton ion laser, various semiconductor lasers, YAG laser, excimer laser, light emitting diode, CRT light source, plasma light source, and electron beam irradiator.

エネルギー線による硬化の手法は、特に制限されることはないが、通常、エネルギー線刺激により重合開始剤が分解することで重合開始種が発生し、対象物質の重合性官能基を重合するという経過を辿る。   The method of curing with energy rays is not particularly limited, but usually a process in which a polymerization initiator is generated due to decomposition of the polymerization initiator by energy ray stimulation and the polymerizable functional group of the target substance is polymerized. Follow.

エネルギー線による硬化に用いられる重合開始剤としては、以下に制限されないが、発生する活性種の相違により、下記の3つに大別できる。これらの重合開始剤は1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The polymerization initiator used for curing with energy rays is not limited to the following, but can be broadly classified into the following three types depending on the difference in the generated active species. These polymerization initiators may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

1.エネルギー線の照射によりラジカルを発生するもの。   1. Those that generate radicals when irradiated with energy rays.

2.エネルギー線の照射によりカチオンを発生するもの(エネルギー線が光である場合、光酸発生剤と呼ばれる)。   2. Those that generate cations when irradiated with energy rays (called photoacid generators when the energy rays are light).

3.エネルギー線の照射によりアニオンを発生するもの(エネルギー線が光である場合、光塩基発生剤と呼ばれる)。   3. Those that generate anions upon irradiation with energy rays (when the energy rays are light, they are called photobase generators).

エネルギー線による硬化に用いられる重合開始剤の具体例としては、以下に制限されないが、ベンゾイン類及びベンゾインアルキルエーテル類(ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等);アセトフェノン類(アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モノフォリノ−プロパン−1−オン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等);アントラキノン類(2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−アミノアントラキノン等);チオキサントン類(2,4−ジメチルチオサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等);ケタール類(アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等);ベンゾフェノン類(ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等);キサントン類;安息香酸エステル類(エチル4−ジメチルアミノベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート等);アミン類(トリエチルアミン、トリエタノールアミン等);並びに、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、アンモニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、アルソニウム塩化合物、スチボニウム塩化合物、オキソニウム塩化合物、セレノニウム塩化合物、及びスタンノニウム塩化合物が挙げられる。   Specific examples of the polymerization initiator used for curing with energy rays include, but are not limited to, benzoins and benzoin alkyl ethers (benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, etc.); acetophenones (acetophenone, 2 , 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl)- 2-monoforino-propan-1-one, N, N-dimethylaminoacetophenone, etc.); anthraquinones (2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 1-chloroa Thioxanthones (2,4-dimethylthiosantone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc.); ketals (acetophenone) Dimethyl ketals, benzyl dimethyl ketals, etc.); benzophenones (benzophenone, methylbenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, etc.); xanthones; benzoates (ethyl 4-dimethylaminobenzoate) 2- (dimethylamino) ethyl benzoate, etc.); amines (triethylamine, triethanolamine, etc.); and iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, ammonium Compounds, phosphonium salt compounds, arsonium salt compound, a stibonium salt compound, an oxonium salt compound, a selenonium salt compound, and stannonium salt compounds.

[第2の本実施の形態:樹脂組成物]   [Second Embodiment: Resin Composition]

第2の本実施の形態に係る樹脂組成物は、液状であって、熱又はエネルギー線により硬化され、上記第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体を生成するシリコーン含有のハイブリッド樹脂組成物と換言することができる。即ち、本実施の形態に係る樹脂組成物は、上記ハイブリッド硬化体の原料であり、樹脂組成物とハイブリッド硬化体とは、ほぼ共通の特徴を有する。本実施の形態に係る樹脂組成物は、硬化剤を含有してもよい。本実施の形態における硬化剤とは、前記樹脂組成物を硬化させるために用いられる物質であり、以下に制限されないが、例えば、酸無水物系化合物、酸発生剤、塩基発生剤、アミン系化合物、アミド系化合物、及びフェノール系化合物があり得る。着色性を低減する(透明性を向上する)観点から、酸発生剤又は酸無水物系化合物が好ましく、酸発生剤がより好ましい。これら硬化剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The resin composition according to the second embodiment is liquid, and is cured by heat or energy rays to form a silicone-containing hybrid resin composition that generates the hybrid cured body according to the first embodiment. In other words. That is, the resin composition according to the present embodiment is a raw material for the hybrid cured body, and the resin composition and the hybrid cured body have almost common characteristics. The resin composition according to the present embodiment may contain a curing agent. The curing agent in the present embodiment is a substance used for curing the resin composition, and is not limited to the following. For example, an acid anhydride compound, an acid generator, a base generator, and an amine compound , Amide compounds, and phenol compounds. From the viewpoint of reducing colorability (improving transparency), an acid generator or an acid anhydride compound is preferable, and an acid generator is more preferable. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

上記の酸無水物系化合物の中でも、反応性向上の観点から、カルボン酸無水物が好ましい。また、上記の酸無水物系化合物には脂環式酸無水物が含まれる。加熱時の着色をより少なくするという観点から、前記カルボン酸無水物の中でも脂環式カルボン酸無水物が好ましい。   Among the acid anhydride compounds, carboxylic acid anhydrides are preferable from the viewpoint of improving reactivity. The above acid anhydride compounds include alicyclic acid anhydrides. Among the carboxylic acid anhydrides, alicyclic carboxylic acid anhydrides are preferable from the viewpoint of reducing coloring during heating.

前記脂環式カルボン酸無水物の具体例としては、以下に制限されないが、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、3,4,5,6−テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸(存在比:70/30)、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、及びメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物/ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物が挙げられる。   Specific examples of the alicyclic carboxylic acid anhydride include, but are not limited to, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride 4-methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride (existence ratio: 70/30), 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid Anhydride / bicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride.

前記脂環式カルボン酸無水物以外の脂環式酸無水物の具体例としては、以下に制限されないが、テトラプロペニル無水コハク酸、オクテニルコハク酸無水物、無水フタル酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が挙げられる。   Specific examples of alicyclic acid anhydrides other than the alicyclic carboxylic acid anhydride include, but are not limited to, tetrapropenyl succinic anhydride, octenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride, trimellitic anhydride Examples include acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride.

また、上記の酸発生剤の具体例は、上述した通りである。一方、上記の塩基発生剤としては、以下に制限されないが、例えば、o−アシルオキシム、ベンゾイルオキシカルボニル誘導体、ベンゾイルカルバメート及びベンゾインカルバメート等の光活性のカルバメート、o−カルバモイルオキシム等のオキシムエステル化合物、第4級アンモニウムテトラフェニルホウ酸塩などのアンモニウム化合物、ベンゾイン化合物、ジメトキシベンジルウレタン化合物、オルソニトロベンジルウレタン化合物、芳香族系スルホンアミド、α−ラクタム、N−(2−アリールエテニル)アミド、N−置換4−(o−ニトロフェニル)ジヒドロキシピリジン、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピペリジン、
1、3−ビス(N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−4−ピペリジル)プロパン、N、N’−ビス(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)ジヘキシルアミン、並びにo−ベンジルカルボニル−N−(1−フェニルエチリデン)ヒドロキシルアミン等がある。
Specific examples of the acid generator are as described above. On the other hand, the base generator is not limited to the following. Ammonium compounds such as quaternary ammonium tetraphenylborate, benzoin compounds, dimethoxybenzyl urethane compounds, orthonitrobenzyl urethane compounds, aromatic sulfonamides, α-lactams, N- (2-arylethenyl) amides, N -Substituted 4- (o-nitrophenyl) dihydroxypyridine, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) piperidine,
1,3-bis (N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) -4-piperidyl) propane, N, N'-bis (2-nitrobenzyloxycarbonyl) dihexylamine, and o-benzylcarbonyl-N- (1 -Phenylethylidene) hydroxylamine and the like.

さらに、上記で列挙したもののさらなる具体例としては、以下に制限されないが、例えば、2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトフェノンN−シクロヘキシルカルバメ−ト、ニトロベンジルN−シクロヘキシルカルバメート、3,5−ジメトキシベンジルN−シクロヘキシルカルバメート、ジベンゾインイソホロンジカルバメート、1−(2−ニトロフェニル)エチル シクロヘキシルカーバメート、2,6−ジニトロベンジル シクロヘキシルカーバメート、1−(2,6−ジニトロフェニル)エチル シクロヘキシルカーバメート、1−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチルエチル シクロヘキシルカーバメート、1−ベンゾイル−1−フェニルメチル シクロヘキシルカーバメート、2−ベンゾイル−2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル シクロヘキシルカーバメート、1,2,3−ベンゼントリイル トリス(シクロヘキシルカーバメート)、2−ニトロベンジルカルバメート、2,5−ジニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、1,1−ジメチル−2−フェニルエチル−N−イソプロピルカーバメート、α−(シクロヘキシルカーバモイルオキシイミノ)−α−(4−メトキシフェニル)アセトニトリル、N−(シクロヘキシルカーバモイルオキシ)スクシンイミド、N−シクロヘキシル−2−ナフタレンスルホンアミド、N−シクロへキシルp−トルエンスルホンアミド、及びN−シクロヘキシル−4−メチルフェニルスルホンアミドが挙げられる。   Further specific examples of those listed above include, but are not limited to, for example, 2-hydroxy-2-phenylacetophenone N-cyclohexyl carbamate, nitrobenzyl N-cyclohexyl carbamate, 3,5-dimethoxybenzyl N-cyclohexyl carbamate, dibenzoin isophorone dicarbamate, 1- (2-nitrophenyl) ethyl cyclohexyl carbamate, 2,6-dinitrobenzyl cyclohexyl carbamate, 1- (2,6-dinitrophenyl) ethyl cyclohexyl carbamate, 1- (3 , 5-dimethoxyphenyl) -1-methylethyl cyclohexyl carbamate, 1-benzoyl-1-phenylmethyl cyclohexyl carbamate, 2-benzoyl-2-hydroxy-2-pheny Ruethyl cyclohexyl carbamate, 1,2,3-benzenetriyl tris (cyclohexyl carbamate), 2-nitrobenzyl carbamate, 2,5-dinitrobenzyl cyclohexyl carbamate, 1,1-dimethyl-2-phenylethyl-N-isopropyl carbamate, α- (cyclohexylcarbamoyloxyimino) -α- (4-methoxyphenyl) acetonitrile, N- (cyclohexylcarbamoyloxy) succinimide, N-cyclohexyl-2-naphthalenesulfonamide, N-cyclohexyl p-toluenesulfonamide And N-cyclohexyl-4-methylphenylsulfonamide.

さらに、上記した硬化剤のうち、アミン系化合物、アミド系化合物及びフェノール系化合物の具体例としては、以下に制限されないが、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、テトラエチレンペンタミン、ジメチルベンジルアミン、ケチミン化合物、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとから合成されるポリアミド樹脂、ビスフェノール類、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド化合物との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮合物、ビスメトキシメチルビフェニルとナフトール類又はフェノール類との縮合物、及びビフェノール類、並びにこれらの変性物、イミダゾール誘導体、3フッ化硼素−アミン錯体、及びグアニジン誘導体が挙げられる。   Further, among the above curing agents, specific examples of amine compounds, amide compounds and phenol compounds are not limited to the following, but include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, Tetraethylenepentamine, dimethylbenzylamine, ketimine compound, polyamide resin synthesized from dimer of linolenic acid and ethylenediamine, bisphenols, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxy Naphthalene etc.) and polycondensates of various aldehyde compounds, polymers of phenols and various diene compounds, polycondensation of phenols and aromatic dimethylol. Condensates of bismethoxymethyl biphenyl and naphthol or phenols, and biphenols, and modified products thereof, imidazole derivatives, boron trifluoride - amine complex, and include guanidine derivatives.

ここで、アミン系化合物を含有する硬化剤(以下、単に「アミン系硬化剤」という。)を用いる場合、アミン系化合物を相当な量使用するよりも微量だけ使用する方が好ましい。なぜなら、アミン系化合物を微量だけ使用すると、本実施の形態に係るハイブリッド硬化体の着色を効果的に避けることができるとともに、微量のアミン系化合物が硬化を補助及び促進することができるためである。なお、前記「微量」とは、上記の効果を十分に発揮させるという観点から、樹脂組成物中3,000ppm以下であることが好ましい。   Here, when a curing agent containing an amine compound (hereinafter, simply referred to as “amine curing agent”) is used, it is preferable to use a trace amount of the amine compound rather than a considerable amount. This is because, when only a small amount of an amine compound is used, coloring of the hybrid cured product according to the present embodiment can be effectively avoided, and a small amount of the amine compound can assist and accelerate curing. . The “trace amount” is preferably 3,000 ppm or less in the resin composition from the viewpoint of sufficiently exhibiting the above effects.

また、本実施の形態に係る樹脂組成物は、硬化促進剤を含有してもよい。前記硬化促進剤とは、硬化反応の促進を目的に使用される硬化触媒を意味し、1種単独で用いても、複2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記硬化促進剤は、特に制限されることはないが、反応性と加熱時の着色とのバランスの観点から、三級アミン類及びその塩を選択することが好ましい。   Moreover, the resin composition according to the present embodiment may contain a curing accelerator. The said hardening accelerator means the curing catalyst used for the purpose of acceleration | stimulation of hardening reaction, may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types. Although the said hardening accelerator is not restrict | limited in particular, It is preferable to select a tertiary amine and its salt from a viewpoint of the balance of reactivity and coloring at the time of a heating.

硬化促進剤の具体例としては、以下に制限されないが、下記のものが挙げられる。   Specific examples of the curing accelerator include, but are not limited to, the following.

1.三級アミン類として、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、及びトリエタノールアミン等が挙げられる。   1. Tertiary amines include benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine, and triethanolamine.

2.イミダゾール類として、2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1')〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1')〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、及び2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1')〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。   2. As imidazoles, 2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl 2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4 , 5-Di (hydroxymethyl) imidazole, 1- (2- Anoethyl) -2-phenyl-4,5-di [(2′-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) ) -2-Phenylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′) )] Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methyl Imidazolyl- (1 ′)] ethyl-s-triazine, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, and 2 4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- - (1 ')] isocyanuric acid adduct of ethyl -s- triazine.

3.有機リン系化合物として、ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、及び亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。   3. Examples of organophosphorus compounds include diphenylphosphine, triphenylphosphine, and triphenyl phosphite.

4.四級ホスホニウム塩類として、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、n−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、エチルトリフェニルホスホニウムアセテート、テトラ−n−ブチルホスホニウムo,o−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−n−ブチルホスホニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、及びテトラフェニルホスホニウムテトラッフェニルボレート等が挙げられる。   4). As quaternary phosphonium salts, benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide Id, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra-n-butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butyl Examples thereof include phosphonium tetraphenylborate and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate.

5.ジアザビシクロアルケン類として、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7及びその有機酸塩などが挙げられる。   5. Examples of the diazabicycloalkenes include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and organic acid salts thereof.

6.有機金属化合物として、オクチル酸亜鉛、アクチル酸錫、及びアルミニウムアセチルアセトン錯体などが挙げられる。   6). Examples of the organometallic compound include zinc octylate, tin actylate, and aluminum acetylacetone complex.

7.四級アンモニウム塩類として、テトラエチルアンモニウムブロマイド、及びテトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド等が挙げられる。   7). Examples of quaternary ammonium salts include tetraethylammonium bromide and tetra-n-butylammonium bromide.

8.金属ハロゲン化合物として、三フッ化ホウ素及びホウ酸トリフェニル等のホウ素化合物、塩化亜鉛、並びに塩化第二錫などが挙げられる。   8). Examples of the metal halogen compound include boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate, zinc chloride, and stannic chloride.

本実施の形態に係る樹脂組成物は、耐熱性に優れ、且つ均質な構造を形成しやすいという観点から、反応性官能基を有するシリコーンと、前記反応性官能基を有するシリコーンとは異なる、エポキシ基を有する有機化合物とを含有することが好ましい。反応性官能基を有するシリコーンとエポキシ基を有する有機化合物との質量組成比は、5:95〜99:1であることが好ましく、より好ましくは15:85〜95:5であり、さらに好ましくは20:80〜90:10であり、さらにより好ましくは30:70〜85:15である。上記範囲内の場合、樹脂組成物の耐熱性及び靭性が向上し得る。   The resin composition according to the present embodiment is excellent in heat resistance and has an epoxy which is different from a silicone having a reactive functional group and a silicone having the reactive functional group from the viewpoint of easily forming a homogeneous structure. It is preferable to contain an organic compound having a group. The mass composition ratio of the silicone having a reactive functional group and the organic compound having an epoxy group is preferably 5:95 to 99: 1, more preferably 15:85 to 95: 5, and still more preferably. It is 20: 80-90: 10, More preferably, it is 30: 70-85: 15. When it is within the above range, the heat resistance and toughness of the resin composition can be improved.

本実施の形態に係る樹脂組成物は、エポキシ当量が100〜20,000g/eqであることが好ましく、100〜10,000g/eqであることがより好ましく、100〜5,000g/eqであることがさらに好ましく、100〜2,000g/eqであることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、硬化速度が一層大きくなり得る。   The resin composition according to the present embodiment preferably has an epoxy equivalent of 100 to 20,000 g / eq, more preferably 100 to 10,000 g / eq, and 100 to 5,000 g / eq. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 100-2,000 g / eq. When it is within the above range, the curing rate can be further increased.

本実施の形態に係る樹脂組成物は、エポキシ基の中でも反応性が高いため、相分離サイズをより小さくできるという観点から、環式脂肪族エポキシ基を有することが好ましい。前記観点について詳細にいえば、以下の3点に分節できる。1点目として、硬化速度が速く、相分離が進行する前に相を固定できる点が挙げられる。2点目として、シリコーンがシラノール基を含有している場合に反応することができる点が挙げられる。3点目として、水の付加が起こりやすく、これによって生じる水酸基とシリコーン中のシラノール基とが水素結合することができる点が挙げられる。ここで、環式脂肪族エポキシ基とは、例えば脂肪族環とエポキシ環とから構成される多環式のエポキシ基であり、一般には、不飽和基を有する環状体をエポキシ化することによって得られる。環式脂肪族エポキシ基として、以下に制限されないが、例えば、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基、及びシクロペンテンオキサイド基が挙げられる。   Since the resin composition according to the present embodiment is highly reactive among epoxy groups, it preferably has a cycloaliphatic epoxy group from the viewpoint that the phase separation size can be further reduced. If it says in detail about the said viewpoint, it can segment into the following three points. The first point is that the curing rate is fast and the phase can be fixed before phase separation proceeds. The second point is that the silicone can react when it contains a silanol group. The third point is that water is likely to be added, and a hydroxyl group generated thereby can form a hydrogen bond with a silanol group in silicone. Here, the cycloaliphatic epoxy group is, for example, a polycyclic epoxy group composed of an aliphatic ring and an epoxy ring, and is generally obtained by epoxidizing a cyclic body having an unsaturated group. It is done. Examples of the cycloaliphatic epoxy group include, but are not limited to, a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, and a cyclopentene oxide group.

本実施の形態に係る樹脂組成物は、反応性官能基を有するシリコーン及びエポキシ基を有する有機化合物の少なくとも一方が環式脂肪族エポキシ基を有することが好ましい。だが、環式脂肪族エポキシ基以外のエポキシ基をさらに有していてもよい。かかるエポキシ基として、以下に制限されないが、例えば、グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、グリシジルアミン基、及び複素環式エポキシ基が挙げられる。全エポキシ基に対する環式脂肪族エポキシ基の割合は、10〜100mol%であることが好ましく、30〜100mol%であることがより好ましく、50〜100mol%であることがさらに好ましく、75〜100mol%であることがさらにより好ましい。   In the resin composition according to the present embodiment, it is preferable that at least one of silicone having a reactive functional group and an organic compound having an epoxy group has a cyclic aliphatic epoxy group. However, it may further have an epoxy group other than the cycloaliphatic epoxy group. Examples of such epoxy groups include, but are not limited to, glycidyl ether groups, glycidyl ester groups, glycidyl amine groups, and heterocyclic epoxy groups. The ratio of cycloaliphatic epoxy groups to all epoxy groups is preferably 10 to 100 mol%, more preferably 30 to 100 mol%, still more preferably 50 to 100 mol%, and 75 to 100 mol%. Even more preferably.

各種用途へ適用するにあたっては、樹脂組成物にポリオールを併用して使用することも可能である。そのようなポリオールとしては、分子中に2個以上のヒドロキシル基を有する化合物であれば、特に制限されず、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール等が挙げられる。   In applying to various uses, it is also possible to use a polyol in combination with the resin composition. Such a polyol is not particularly limited as long as it is a compound having two or more hydroxyl groups in the molecule. For example, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,2-hexanediol, 1 , 6-hexanediol and the like.

反応性官能基を有するシリコーンは、有機化合物との相溶性を向上させる観点から、ケイ素、酸素、炭素及び水素を構成元素とすることが好ましい。さらに、チタニウム、ジルコニウム、ゲルマニウム、アルミニウムやインジウム等の金属を更なる構成元素として含んでもよい。中でも、原料の種類が豊富であり、且つ構造設計の自由度が高いという観点から、シリコーンであることがより好ましい。反応性官能基としては、以下に制限されないが、例えば、環状エーテル基、ビニル基、メルカプト基、イソシアネート基、水酸基、カルボキシル基、及びアミノ基が挙げられる。また、前記反応性官能基として、以下に制限されないが、Si−OOCR(Rはアクリロキシ基、アセチル基、アセトキシ基、カルボキシル基、及びアジペート基など)、Si−NR(アミノ基)、Si−H、Si−O−Ph(フェノキシ基)、Si−O−N=C(オキシム基)、Si−N=C−O(アミド基)、Si−O−BO(ホウ酸塩)、Si−OSO−(スルフォネート基)、Si−O−PO(燐酸塩)、Si−PO(フォスファイト基)、Si−F、Si−Cl、Si−I、Si−Br、Si−C≡C、Si−(O−C)−N(シラシトン)、Si−NHCOO(カーバメート基)、Si−C(=CH)−COO−、並びにSi−NH−CO−NH(尿素基)も例示的に挙げられる。 The silicone having a reactive functional group preferably contains silicon, oxygen, carbon, and hydrogen as constituent elements from the viewpoint of improving compatibility with an organic compound. Further, a metal such as titanium, zirconium, germanium, aluminum or indium may be included as a further constituent element. Among these, silicone is more preferable from the viewpoint of abundant types of raw materials and a high degree of freedom in structural design. Examples of reactive functional groups include, but are not limited to, cyclic ether groups, vinyl groups, mercapto groups, isocyanate groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, and amino groups. Further, the reactive functional group is not limited to the following, but is Si-OOCR (R is acryloxy group, acetyl group, acetoxy group, carboxyl group, adipate group, etc.), Si-NR (amino group), Si-H. , Si—O—Ph (phenoxy group), Si—O—N═C (oxime group), Si—N═C—O (amide group), Si—O—BO 2 (borate), Si—OSO 2- (sulfonate group), Si—O—PO 3 (phosphate), Si—PO 3 (phosphite group), Si—F, Si—Cl, Si—I, Si—Br, Si—C≡C, Si— (O—C 2 H 4 ) 3 —N (silacytone), Si—NHCOO (carbamate group), Si—C (═CH 2 ) —COO—, and Si—NH—CO—NH (urea group) are also included. Illustratively.

上記の中でも、反応性が高いという観点から、環状エーテル基を有するシリコーンが好ましい。前記環状エーテル基とは、環状の炭化水素の炭素を酸素で置換したエーテルを有する有機基のことをいい、通常、3〜6員環の構造を有する環状エーテル基を意味する。中でも、環歪エネルギーが大きく且つ反応性が高いという観点から、3員環又は4員環の環状エーテル基が好ましく、3員環の環状エーテル基がより好ましく、3員環のエポキシ基がさらに好ましい。前記環状エーテル基としては、以下に制限されないが、例えば、β−グリシドキシエチル、γ−グリシドキシプロピル及びγ−グリシドキシブチル等の炭素数4以下のオキシグリシジル基が結合したグリシドキアルキル基、グリシジル基、並びにβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘプチル)エチル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチル基、及びβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ペンチル基などのオキシラン基を有する炭素数5〜8のシクロアルキル基で置換されたアルキル基が挙げられる。   Among the above, silicone having a cyclic ether group is preferable from the viewpoint of high reactivity. The cyclic ether group means an organic group having an ether in which carbon of a cyclic hydrocarbon is substituted with oxygen, and usually means a cyclic ether group having a 3-6 membered ring structure. Among them, from the viewpoint of high ring strain energy and high reactivity, a 3-membered or 4-membered cyclic ether group is preferable, a 3-membered cyclic ether group is more preferable, and a 3-membered epoxy group is more preferable. . Examples of the cyclic ether group include, but are not limited to, for example, glycidoxy bonded with oxyglycidyl groups having 4 or less carbon atoms such as β-glycidoxyethyl, γ-glycidoxypropyl, and γ-glycidoxybutyl. Alkyl group, glycidyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, β- (3,4-epoxycycloheptyl) ethyl group, β- ( C5-C8 cycloalkyl having an oxirane group such as 3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) butyl group, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl group And an alkyl group substituted with a group.

上記の中でも、原料を安価に入手しやすいという観点から、β−グリシドキシエチル基、γ−グリシドキシプロピル基及びβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基などの、C〜Cのアルキル基にオキシグリシジル基が結合したグリシドキシアルキル基及びオキシラン基を有するC〜Cのシクロアルキル基で置換された炭素数3以下のアルキル基が好ましい。 Among these, C 1 -C such as β-glycidoxyethyl group, γ-glycidoxypropyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group and the like from the viewpoint of easy availability of raw materials at low cost. C 5 -C 8 cycloalkylalkyl group having 3 or less carbon atoms substituted with groups having 3 glycidoxy group and an oxirane group-oxy glycidyl group is bonded to an alkyl group.

また、上記の反応性官能基を有するシリコーンは、シラノール基を有することが好ましい。前記シラノール基とは、Si原子に直接結合している水酸基を意味する。シラノール基は、金属などの表面と結合し、接着性に優れるため、好適である。加えて、シラノール基は、有機化合物と反応して架橋を形成し得る。これは、上記した第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体の耐熱性が向上し得るため、好適である。   Moreover, it is preferable that the silicone which has said reactive functional group has a silanol group. The silanol group means a hydroxyl group directly bonded to a Si atom. A silanol group is preferable because it binds to a surface of metal or the like and has excellent adhesion. In addition, silanol groups can react with organic compounds to form crosslinks. This is preferable because the heat resistance of the hybrid cured body according to the first embodiment described above can be improved.

シラノール基を有するシリコーンは、シラノール基の導入が容易であるという観点から、加水分解反応及び縮合反応によって合成されることが好ましい。さらに、反応が緩やかに進んで制御しやすいという観点から、アルコキシシランを原料として合成されることがより好ましい。   The silicone having a silanol group is preferably synthesized by a hydrolysis reaction and a condensation reaction from the viewpoint that introduction of the silanol group is easy. Furthermore, it is more preferable to synthesize alkoxysilane as a raw material from the viewpoint that the reaction proceeds slowly and is easy to control.

加水分解反応及び縮合反応の原料としてのシランは、下記式(7)で表すことができる。
(化4)
Si(OX)4−a・・・(7)
上記式中、Rは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基又は水酸基を表し、aは0〜3の整数である。)
Silane as a raw material for the hydrolysis reaction and the condensation reaction can be represented by the following formula (7).
(Chemical formula 4)
R 1 a Si (OX) 4-a (7)
In the above formula, R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a is an integer of 0 to 3. )

有機基を表すRとしては、特に制限されることはないが、上述の反応性官能基である有機基の他に、例えば、アリール基、水素原子やアルキル基が挙げられる。 R 1 representing the organic group is not particularly limited, and examples thereof include an aryl group, a hydrogen atom, and an alkyl group in addition to the organic group that is the reactive functional group described above.

上記アルキル基とは、以下に制限されないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、ブチル基(n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、sec−ブチル)、ペンチル基(n−ペンチル、i−ペンチル、ネオペンチル等)、ヘキシル基(n−ヘキシル、i−ヘキシル等)、ヘプチル(n−ヘプチル、i−ヘプチル等)、オクチル基(n−オクチル、i−オクチル、t−オクチル等)、ノニル(n−ノニル、i−ノニル等)、デシル基(n−デシル、i−デシル等)、及びドデシル基(n−ドデシル、i−ドデシル等)といった、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基をいう。中でも、無機成分の比率が低くなりすぎないという観点から、炭素数10以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基がより好ましい。また、これらの水素原子又は主鎖骨格の一部又は全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基及びフッ素などのハロゲン原子、メタクリル基、アクリル基、メルカプト基、アミノ基並びにヒドロキシル基よりなる群から選択された1種以上の基で置換されていてもよい。   Examples of the alkyl group include, but are not limited to, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, butyl group (n-butyl, i-butyl, t-butyl, sec-butyl), Pentyl group (n-pentyl, i-pentyl, neopentyl etc.), hexyl group (n-hexyl, i-hexyl etc.), heptyl (n-heptyl, i-heptyl etc.), octyl group (n-octyl, i-octyl etc.) , T-octyl etc.), nonyl (n-nonyl, i-nonyl etc.), decyl group (n-decyl, i-decyl etc.), and dodecyl group (n-dodecyl, i-dodecyl etc.) Or a branched alkyl group. Among these, from the viewpoint that the ratio of the inorganic component does not become too low, an alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group are preferred. Is more preferable. In addition, some or all of these hydrogen atoms or main chain skeletons are ether groups, ester groups, carbonyl groups, siloxane groups and halogen atoms such as fluorine, methacryl groups, acrylic groups, mercapto groups, amino groups and hydroxyl groups. It may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of

上記アリール基とは、芳香族炭化水素(単純芳香環又は多環芳香族炭化水素)から誘導された官能基又は置換基を意味する。アリール基としては、かかる意味に適合するものであれば、特に制限されることはないが、高次構造における立体障害を考慮すると、フェニル基やベンジル基が好ましいといえる。   The aryl group means a functional group or substituent derived from an aromatic hydrocarbon (simple aromatic ring or polycyclic aromatic hydrocarbon). The aryl group is not particularly limited as long as it fits this meaning, but a phenyl group or a benzyl group is preferable in consideration of steric hindrance in a higher order structure.

上記したOXの一選択肢である加水分解性基としては、以下に制限されないが、例えば、アルコキシ基、クロル基、アセトキシ基、イソプロペノキシ基、及びアミノ基が挙げられる。中でも、反応がマイルドで制御しやすいという観点から、アルコキシ基が好ましい。前記アルコキシ基の中でも、炭素数1〜8のアルコキシ基がより好ましく、さらに好ましくはメチル基及びエチル基である。   The hydrolyzable group which is one option of the above OX is not limited to the following, and examples thereof include an alkoxy group, a chloro group, an acetoxy group, an isopropenoxy group, and an amino group. Among these, an alkoxy group is preferable from the viewpoint that the reaction is mild and easy to control. Among the alkoxy groups, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.

上記アルコキシシランのうち、前記反応性官能基を有するシランの割合は、5〜100mol%であることが好ましく、10〜99mol%であることがより好ましく、20〜98mol%であることがさらに好ましく、30〜95mol%であることがさらにより好ましい。   Among the alkoxysilanes, the proportion of the silane having a reactive functional group is preferably 5 to 100 mol%, more preferably 10 to 99 mol%, still more preferably 20 to 98 mol%, More preferably, it is 30-95 mol%.

前記アルコキシシランとしては、以下に制限されないが、例えば、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(フェニル)ジエトキシシラン、2,3−エポキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、2,3−エポキシプロピル(フェニル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリメトキシシラン、2,3−エポキシプロピルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリメトキシ[3−(フェニルアミノ)プロピル]シラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メトキシジメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、ビス(2−クロロエトキシ)メチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、3−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシメチルシラン、メチルトリス(エチルメチルケトオキシム)シラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメトキシイソプロポキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、3−[ジメトキシ(メチル)シリル]プロパン−1−チオール、トリメトキシ(プロピル)シラン、(3−メルカプトプロピル)トリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メトキシルトリエトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメトキシルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イソシアン酸3−(トリエトキシシリル)プロピル、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、オクチルオキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルオキシトリメチルシラン、及びジエトキシドデシルメチルシランが挙げられる。また、テトラメトキシシラン及びテトラエトキシシラン、並びにそれらの部分縮合物も好適に使用できる。これらは、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the alkoxysilane include, but are not limited to, 3-glycidoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) diethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) dibutoxy Silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (phenyl) diethoxysilane, 2,3-epoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 2 , 3-epoxypropyl (phenyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltributoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimethoxysilane, 2 (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2,3-epoxypropyltrimethoxysilane, 2,3-epoxypropyltriethoxysilane, dimethoxymethylphenylsilane, diethoxymethylphenylsilane, phenyltriethoxysilane, trimethoxy [3- (phenylamino) propyl] silane, dimethoxydiphenylsilane, diphenyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethylethoxysilane, hydroxymethyltrimethylsilane, Methoxytrimethylsilane, methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, methoxydimethylvinylsilane, trimethoxyvinylsilane, bis ( -Chloroethoxy) methylsilane, ethoxytrimethylsilane, diethoxymethylsilane, ethyltriethoxysilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, ethoxydimethylvinylsilane, 3-chloropropyldimethoxymethylsilane, chloromethyldiethoxy Methylsilane, methyltris (ethylmethylketoxime) silane, trimethylpropoxysilane, trimethoxyisopropoxysilane, diethoxydimethylsilane, 3- [dimethoxy (methyl) silyl] propane-1-thiol, trimethoxy (propyl) silane, (3 -Mercaptopropyl) trimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, diethoxymethylvinylsilane, butoxytrimethylsilane, butyltrimethoxysilane, Methyltriethoxysilane, methoxyltriethoxysilane, triethoxyvinylsilane, diethoxydiethylsilane, dimethoxyldipropoxysilane, ethyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane 3-bromopropyltriethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, hexyloxytrimethylsilane, propyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 3-ureidopropyltriethoxysilane, methoxytripropyl Lan, dibutoxydimethylsilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, octyloxytrimethylsilane, pentyltriethoxysilane, 3- (2-aminoethylamino) propyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, 3-methacryl Examples include loxypropyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyloxytrimethylsilane, and diethoxydodecylmethylsilane. Further, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, and partial condensates thereof can also be suitably used. These may be used alone or in combination of two or more.

アルコキシシランを加水分解及び縮合することによって、シリコーンが得られるが、その時の反応温度は、特に制限されることはないが、好ましくは130℃以下、より好ましくは0〜120℃、さらに好ましくは0〜100℃である。上記範囲内の場合、樹脂組成物の変質を効果的に防止できる。また、加水分解及び縮合の反応時間は、特に制限されることはなく、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは1〜12時間である。上記範囲内の場合、未反応物質の残存量を効果的に少なくすることができる。   Silicone is obtained by hydrolysis and condensation of alkoxysilane, but the reaction temperature at that time is not particularly limited, but is preferably 130 ° C. or less, more preferably 0 to 120 ° C., and still more preferably 0. ~ 100 ° C. When it is within the above range, the resin composition can be effectively prevented from being altered. The reaction time for hydrolysis and condensation is not particularly limited, and is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 12 hours. When it is within the above range, the remaining amount of the unreacted substance can be effectively reduced.

加水分解及び縮合の際の水の添加量は、特に制限されることはないが、下記式(8)におけるOXに対して、1〜5,000mol%であることが好ましく、10〜500mol%であることがより好ましく、20〜200mol%であることがさらに好ましく、40〜80mol%であることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、反応が進行しやすくなるとともに、系内に水と反応する官能基があったとしても副反応の発生を防止でき、これにより脱水の際のエネルギーコストを効果的に低減させることができるため、好適である。
(化5)
Si(OX4−a・・・(8)
上記式中、Rは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の又は異なる加水分解性基又は水酸基を表し、aは0〜3の整数である。
The amount of water added during the hydrolysis and condensation, is not particularly limited, it is preferable that with respect to OX 2 in the formula (8), a 1~5,000mol%, 10~500mol% It is more preferable that it is 20-200 mol%, and it is still more preferable that it is 40-80 mol%. Within the above range, the reaction is likely to proceed, and even if there is a functional group that reacts with water in the system, the occurrence of side reactions can be prevented, thereby effectively reducing the energy cost during dehydration. This is preferable.
(Chemical formula 5)
R 1 a Si (OX 2 ) 4-a (8)
In the above formula, R 1 represents the same or different organic group, OX 2 represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a is an integer of 0 to 3.

加水分解反応及び縮合反応の際の水の添加方法は、特に制限されることはなく、一括で添加してもよいし、連続的に添加してもよい。また、大量に水を使用する場合には、水中へシラン等の原料を投入してもよい。   The method for adding water during the hydrolysis reaction and the condensation reaction is not particularly limited, and may be added all at once or continuously. When a large amount of water is used, a raw material such as silane may be introduced into the water.

水は、加水分解反応で消費され、縮合反応で生成される。これに伴い、系中の水量、及び加水分解で生成するアルコール等の濃度が変化するため、不均質な構造のシリコーンになる場合がある。このような状況を避ける観点から、加水分解反応及び縮合反応の速度に合わせて少量ずつ水を添加していくことが好ましい。加水分解によって生成するアルコール等は、系内に戻してもよいが、反応速度を大きくして生産性を上げる観点から、系外に除去することが好ましい。   Water is consumed in the hydrolysis reaction and produced in the condensation reaction. Along with this, the amount of water in the system and the concentration of alcohol generated by hydrolysis change, which may result in a heterogeneous structure of silicone. From the viewpoint of avoiding such a situation, it is preferable to add water little by little in accordance with the rate of hydrolysis reaction and condensation reaction. Alcohol or the like produced by hydrolysis may be returned to the system, but is preferably removed from the system from the viewpoint of increasing the reaction rate and increasing the productivity.

本実施の形態において、加水分解及び縮合は、無溶剤下でも、溶剤中でも行うことができる。反応温度を厳密にコントロールしたい場合には、溶剤を使用して還流下で反応させることが好ましい一方、反応速度をできるだけ上げたい場合には、無溶剤下で反応させることが好ましい。   In the present embodiment, hydrolysis and condensation can be performed in the absence of a solvent or in a solvent. When it is desired to strictly control the reaction temperature, the reaction is preferably carried out under reflux using a solvent. On the other hand, when the reaction rate is desired to be increased as much as possible, the reaction is preferably carried out without a solvent.

上記溶剤としては、シラン化合物に含まれる官能基に対して非活性である溶剤である限り、特に制限されない。よりランダムな構造のシリコーンを合成する場合には、使用するシラン化合物及びその加水分解物、並びに水を溶解させることのできる溶剤を用いることが好ましい。また、シリコーンの組成に偏りを持たせたい場合には、シラン化合物及びその加水分解物、並びに水のいずれかを溶解させず、相分離するような溶剤を用いてもよい。かかる溶剤として、以下に制限されないが、例えば、ヘキサン及びシクロヘキサン等の炭化水素系、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族系、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル系、並びにメタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール及びn−ブタノール等のアルコール系のものが挙げられる。   The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that is inactive with respect to the functional group contained in the silane compound. When synthesizing a silicone having a more random structure, it is preferable to use a silane compound to be used, a hydrolyzate thereof, and a solvent capable of dissolving water. Moreover, when it is desired to have a bias in the composition of the silicone, a solvent that does not dissolve any of the silane compound, the hydrolyzate thereof, and water, but phase-separates may be used. Examples of such solvents include, but are not limited to, hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, aromatics such as benzene, toluene and xylene, ethers such as dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and methanol, ethanol, butanol and isopropanol. And alcohols such as n-butanol.

溶剤の添加量としては、特に制限されることはないが、シラン化合物の合計量(質量換算)に対して、好ましくは20倍量以下、より好ましくは15倍量以下、さらに好ましくは10倍量以下である。上記範囲内の場合、分子量がより大きくなる傾向であり、エネルギーコストの観点からも好適である。   The amount of the solvent added is not particularly limited, but is preferably 20 times or less, more preferably 15 times or less, and even more preferably 10 times the total amount (in terms of mass) of the silane compound. It is as follows. When it is within the above range, the molecular weight tends to be larger, which is preferable from the viewpoint of energy cost.

本実施の形態においては、エポキシ基を有する有機化合物などの有機化合物を共存させた状態で反応を行うことが好ましい。即ち、上記シリコーンと前記有機化合物とを混合することにより、本実施の形態に係る樹脂組成物を製造することが好ましい。有機化合物や合成するシリコーンの粘度が高いために均質に混ぜることが困難である場合、両者の共存下で溶剤を使用して反応させた方が好ましい一方で、後から均質に混ぜることが可能である場合には、有機化合物は加えない状態で反応させた方が、反応速度が上がりやすいため好適である。特に、有機化合物に水酸基が存在する場合、シリコーンの加水分解反応及び縮合反応と競合して、有機化合物の水酸基とシリコーンとの間で縮合反応が起こり、Si−O−C結合が生成され得る。Si−O−C結合が残存する場合、耐湿性が低下するため、水酸基を有する化合物は共存させない方が好ましい。水酸基を有する化合物を共存させる必要がある場合には、水を添加してSi−O−C結合を完全に加水分解することが好ましい。   In the present embodiment, it is preferable to perform the reaction in the state where an organic compound such as an organic compound having an epoxy group coexists. That is, it is preferable to manufacture the resin composition according to the present embodiment by mixing the silicone and the organic compound. When it is difficult to mix homogeneously due to the high viscosity of the organic compound or silicone to be synthesized, it is preferable to react using a solvent in the presence of both, but it is possible to mix homogeneously later. In some cases, it is preferable to carry out the reaction without adding an organic compound because the reaction rate is likely to increase. In particular, when a hydroxyl group is present in the organic compound, a condensation reaction occurs between the hydroxyl group of the organic compound and the silicone in competition with the hydrolysis and condensation reaction of silicone, and a Si—O—C bond can be generated. When the Si—O—C bond remains, the moisture resistance decreases, so it is preferable not to allow a compound having a hydroxyl group to coexist. When a compound having a hydroxyl group needs to coexist, it is preferable to completely hydrolyze the Si—O—C bond by adding water.

本実施の形態においては、加水分解反応及び縮合反応に寄与する触媒を加えてもよい。前記触媒としては、従来公知の加水分解反応及び縮合反応を促進させるものであれば、以下に制限されないが、例えば、金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリウム、ホウ素、カドミウム、マンガン、ビスマス等)、有機金属(リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリウム、ホウ素、カドミウム、マンガン、ビスマス等の有機酸化物、有機酸塩、有機ハロゲン化物、アルコキシド等)、無機塩基(水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、有機塩基(アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウム等)、無機酸(塩酸、硫酸、硝酸など)、及び有機酸(酢酸、ギ酸、グリコール酸など)が挙げられる。上記の中でも、加水分解反応性が高く、且つ高次構造をコントロールしやすいという観点から、酸類及び有機金属が好ましく、より好ましくは有機酸、無機固体酸及び有機錫、さらに好ましくは錫の有機酸塩、及び無機固体酸である。   In the present embodiment, a catalyst that contributes to the hydrolysis reaction and the condensation reaction may be added. The catalyst is not limited to the following as long as it promotes a conventionally known hydrolysis reaction and condensation reaction. For example, metals (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, strontium, Zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, manganese, bismuth, etc., organic metals (lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, strontium , Zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, boron, cadmium, manganese, bismuth and other organic oxides, organic acid salts, organic halides, alkoxides, etc.), inorganic bases ( Magnesium oxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), organic base ( Ammonia, tetramethylammonium hydroxide, etc.), inorganic acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc.), and organic acids (acetic acid, formic acid, glycolic acid, etc.). Among these, acids and organic metals are preferable from the viewpoint of high hydrolysis reactivity and easy control of higher order structures, more preferably organic acids, inorganic solid acids and organic tins, and more preferably tin organic acids. Salts and inorganic solid acids.

これらの触媒は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、有機酸で反応させた後に、錫などの有機酸塩を加えて反応を加速してもよい。また、錫などの有機酸塩で反応させた後に、無機塩基で処理することも可能である。この場合の無機塩基としては、濾過などで簡便に除去できるという観点から、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム等の多価カチオンの水酸化物が好適である。最終的に無機塩基で処理することは、縮合率を容易に高めることができるため、好適である。一方、最初から無機塩基のみで反応させることは、加水分解反応がやや遅く進行し得るため、できれば避けることが好ましい。また、通常、塩基触媒による縮合は、平衡反応であって、エネルギー的に安定な構造に落ち着くため、高次構造をコントロールしにくい場合がある。予め他の触媒で反応させた後に無機塩基で短時間処理した場合、シロキサン結合の分解反応よりも縮合反応の方が優先的に進むため、最初の触媒で形成した高次構造を維持しながら縮合率を向上させることができ、好適である。   These catalysts may be used alone or in combination of two or more. For example, after reacting with an organic acid, an organic acid salt such as tin may be added to accelerate the reaction. It is also possible to treat with an inorganic base after reacting with an organic acid salt such as tin. As the inorganic base in this case, a hydroxide of a polyvalent cation such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide or barium hydroxide is preferable from the viewpoint that it can be easily removed by filtration or the like. The final treatment with an inorganic base is preferable because the condensation rate can be easily increased. On the other hand, it is preferable to avoid the reaction with only an inorganic base from the beginning if possible because the hydrolysis reaction can proceed somewhat slowly. In addition, the condensation with a base catalyst is usually an equilibrium reaction and settles into an energetically stable structure, so that it may be difficult to control the higher order structure. In the case of a short time treatment with an inorganic base after reacting with another catalyst in advance, the condensation reaction proceeds more preferentially than the decomposition reaction of the siloxane bond, so condensation is performed while maintaining the higher-order structure formed with the first catalyst. The rate can be improved, which is preferable.

上記の有機錫とは、錫原子に少なくとも一つの有機基が結合しているものを指す。その構造としては、モノ有機錫、ジ有機錫、トリ有機錫やテトラ有機錫などが挙げられ、中でも、反応を制御しやすい観点から、ジ有機錫が好ましい。また、加水分解及び縮合時のオキシラン環の開環を抑制でき、並びに樹脂組成物の分子量の制御が容易であるという観点から、前記有機錫の中でも有機錫カルボン酸塩が好ましい。   The above organic tin refers to one in which at least one organic group is bonded to a tin atom. Examples of the structure include monoorganotin, diorganotin, triorganotin, and tetraorganotin. Among them, diorganotin is preferable from the viewpoint of easily controlling the reaction. In addition, organic tin carboxylates are preferable among the organic tins from the viewpoints that the opening of the oxirane ring during hydrolysis and condensation can be suppressed and that the molecular weight of the resin composition is easily controlled.

前記有機錫としては、以下に制限されないが、例えば、四塩化錫、モノブチル錫トリクロライド、モノブチル錫オキサイド、モノオクチル錫トリクロライド、テトラn−オクチルチン、テトラn−ブチルチン、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジバーサテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫オキシラウレート、ジブチル錫ステアレート、ジブチル錫ジオレート、ジブチル錫・ケイ素エチル反応物、ジブチル錫塩とシリケートの化合物、ジオクチル錫塩とシリケートの化合物、ジブチル錫ビス(アセチルアセトネート)、ジブチル錫ビス(エチルマレート)、ジブチル錫ビス(ブチルマレート)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルマレート)、ジブチル錫ビス(ベンジルマレート)、ジブチル錫ビス(ステアリルマレート)、ジブチル錫ビス(オレイルマレート)、ジブチル錫マレート、ジブチル錫ビス(O−フェニルフェノキサイド)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(イソノニル3−メルカプトプロピオネート)、ジブチル錫ビス(イソオクチルチオグリコレート)、ジブチル錫ビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジオクチル錫オキサイド、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジドデシルメルカプト、ジオクチル錫バーサテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ビス(エチルマレート)、ジオクチル錫ビス(オクチルマレート)、ジオクチル錫マレート、ジオクチル錫ビス(イソオクチルチオグリコレート)、ジオクチル錫ビス(2−エチルヘキシルメルカプトアセテート)、ジブチル錫ジメトキサイド、ジブチル錫ジエトキサイド、ジブチル錫ジブトキサイド、ジオクチル錫ジメトキサイド、ジオクチル錫ジエトキサイド、ジオクチル錫ジブトキサイド、オクチル酸錫、及びステアリン酸錫が挙げられる。これらの中でも、反応を制御しやすいという観点から、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、及びジオクチル錫ジアセテートが好ましい。   Examples of the organic tin include, but are not limited to, for example, tin tetrachloride, monobutyltin trichloride, monobutyltin oxide, monooctyltin trichloride, tetra n-octyltin, tetra n-butyltin, dibutyltin oxide, dibutyltin dioxide. Acetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin diversate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxylaurate, dibutyltin stearate, dibutyltin dioleate, dibutyltin / silicon ethyl reactant, dibutyltin salt and silicate compound, dioctyltin salt and silicate Dibutyltin bis (acetylacetonate), dibutyltin bis (ethyl maleate), dibutyltin bis (butylmalate), dibutyltin bis (2-ethylhexylmalate), dibutyltin bis (benzylmaleate) G), dibutyltin bis (stearyl malate), dibutyltin bis (oleylmalate), dibutyltin malate, dibutyltin bis (O-phenylphenoxide), dibutyltin bis (2-ethylhexyl mercaptoacetate), dibutyltin bis (2-ethylhexyl mercaptopropionate), dibutyltin bis (isononyl 3-mercaptopropionate), dibutyltin bis (isooctylthioglycolate), dibutyltin bis (3-mercaptopropionate), dioctyltin oxide, Dioctyltin dilaurate, dioctyltin diacetate, dioctyltin dioctate, dioctyltin didodecylmercapto, dioctyltin versatate, dioctyltin distearate, dioctyltin bis (ethylmalate), dioctyltin bis ( Octylmalate), dioctyltin malate, dioctyltin bis (isooctylthioglycolate), dioctyltin bis (2-ethylhexyl mercaptoacetate), dibutyltin dimethoxide, dibutyltin diethoxide, dibutyltin dibutoxide, dioctyltin dimethoxide, dioctyltin diethoxide, dioctyl Examples include tin dibutoxide, tin octylate, and tin stearate. Of these, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, and dioctyltin diacetate are preferable from the viewpoint of easy control of the reaction.

上記固体酸触媒としては、以下に制限されないが、例えば、アンバーリスト15(商品名、オルガノ社製)、ダイヤイオンPK(商品名、三菱化学社製)及びピュロライトCT(商品名、ピュロライト社製)などのイオン交換樹脂、ナフィオン(商品名、デュポン社製)などのフッ化スルホン樹脂、活性白土、硫酸ジルコニア、並びにゼオライトが挙げられる。これらの中でも、価格面からは活性白土が好ましく、取り扱いやすさの面からはイオン交換樹脂が好ましい。前記固体酸触媒は、反応後に反応系から除去することができるため、好適に用いることができる。触媒を除去することにより、意図しない縮合反応を抑制することができる。前記固体酸触媒の除去方法としては、以下に制限されないが、例えば、減圧濾過、加圧濾過及び常圧濾過が挙げられる。   Examples of the solid acid catalyst include, but are not limited to, Amberlyst 15 (trade name, manufactured by Organo), Diaion PK (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical) and Purolite CT (trade name, manufactured by Purolite). Ion-exchange resins such as Nafion (trade name, manufactured by DuPont), activated clay, activated clay, zirconia sulfate, and zeolite. Among these, activated clay is preferable from the viewpoint of price, and ion exchange resin is preferable from the viewpoint of ease of handling. The solid acid catalyst can be preferably used because it can be removed from the reaction system after the reaction. By removing the catalyst, an unintended condensation reaction can be suppressed. The method for removing the solid acid catalyst is not limited to the following, and examples thereof include vacuum filtration, pressure filtration, and atmospheric pressure filtration.

上記の触媒の添加量は、特に制限されることはないが、シラン化合物に対して、0.0005〜50mol%であることが好ましく、0.001〜5mol%であることがより好ましく、0.005〜3mol%であることがさらに好ましく、0.01〜1mol%であることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、触媒を添加したことによる効果が十分に得られるとともに、反応のコントロールがより容易となり得る。   The amount of the catalyst added is not particularly limited, but is preferably 0.0005 to 50 mol%, more preferably 0.001 to 5 mol%, more preferably 0.001 mol% with respect to the silane compound. It is more preferable that it is 005-3 mol%, and it is still more preferable that it is 0.01-1 mol%. When it is within the above range, the effect of adding the catalyst can be sufficiently obtained, and the control of the reaction can be facilitated.

上記ハイブリッド硬化体の原料となる、本実施の形態に係る樹脂組成物に関し、アルコキシシランの加水分解及び縮合によって合成されるシリコーンの平均組成は、下記式(2)で表される。
(化6)
Si(OX)(4−a−b)/2・・・(2)
上記式中、Rは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基又は水酸基を表し、a及びbはそれぞれ独立して0〜3の整数である。)
Regarding the resin composition according to the present embodiment, which is a raw material of the hybrid cured product, the average composition of silicone synthesized by hydrolysis and condensation of alkoxysilane is represented by the following formula (2).
(Chemical formula 6)
R 1 a Si (OX) b O (4-ab) / 2 (2)
In the above formula, R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a and b are each independently an integer of 0 to 3. )

その際、前記シリコーンの縮合率は下記式(3)で表される。
(数8)
縮合率=100×{(4−a−b)/(4−a)}・・・(3)
At that time, the condensation rate of the silicone is represented by the following formula (3).
(Equation 8)
Condensation rate = 100 × {(4-ab) / (4-a)} (3)

式(3)で表されるシリコーンの縮合率は、30〜99%であることが好ましく、50〜98%であることがより好ましく、70〜97%であることがさらに好ましく、85〜96%であることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、加水分解性基やシラノール基の残存量を有意に少なくすることができるため、成形時におけるボイド等の発生を効果的に防止できる。加えて、シラノール基による接着力が有意に向上し得る。接着性の観点から、一般式(3)におけるOXのうち、水酸基(OH)である割合は30%以上であることが好ましく、45%以上であることがより好ましく、60%以上であることがさらに好ましく、75%以上であることがさらにより好ましい。   The condensation ratio of the silicone represented by the formula (3) is preferably 30 to 99%, more preferably 50 to 98%, still more preferably 70 to 97%, and 85 to 96%. Even more preferably. When the amount is within the above range, the remaining amount of hydrolyzable groups and silanol groups can be significantly reduced, so that generation of voids and the like during molding can be effectively prevented. In addition, the adhesive force due to silanol groups can be significantly improved. From the viewpoint of adhesiveness, the proportion of hydroxyl groups (OH) in OX in the general formula (3) is preferably 30% or more, more preferably 45% or more, and 60% or more. More preferably, it is still more preferably 75% or more.

また、上記ハイブリッド硬化体の原料となる、本実施の形態に係る樹脂組成物の製造に関し、下記式(4)で表されるD体の構造単位を、原料であるアルコキシシランの総量のうち、5〜99mol%含むことが好ましく、10〜95mol%含むことがより好ましく、20〜90mol%含むことがさらに好ましく、30〜90mol%含むことがさらにより好ましい。D体の構造単位は運動性に優れるため、粘度がより低く、応力緩和性に優れ、結果として硬化歪みを解消しやすい。特に運動性の観点から、Rはメチル基及びエチル基の少なくとも一方を含むことが好ましく、Rがメチル基を含むことがより好ましい。Rがメチル基のアルコキシシランの量は、全アルコキシシランのうち5〜70mol%であることが好ましく、5〜50mol%であることがより好ましく、5〜30mol%であることがさらに好ましい。
(化7)
Si(OX)・・・(4)
上記式中、R及びRは同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の又は異なる加水分解性基、又は水酸基を表す。
In addition, regarding the production of the resin composition according to the present embodiment, which is a raw material for the hybrid cured body, the structural unit of the D body represented by the following formula (4) is included in the total amount of the alkoxysilane that is the raw material. It is preferably 5 to 99 mol%, more preferably 10 to 95 mol%, still more preferably 20 to 90 mol%, still more preferably 30 to 90 mol%. Since the structural unit of the D body is excellent in mobility, the viscosity is lower, the stress relaxation property is excellent, and as a result, hardening strain is easily eliminated. In particular, from the viewpoint of mobility, R 1 R 2 preferably contains at least one of a methyl group and an ethyl group, and more preferably R 1 R 2 contains a methyl group. The amount of alkoxysilane in which R 1 R 2 is a methyl group is preferably 5 to 70 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, and further preferably 5 to 30 mol% of all alkoxysilanes. .
(Chemical formula 7)
R 1 R 2 Si (OX) 2 (4)
In the above formula, R 1 and R 2 represent the same or different organic groups, and OX represents the same or different hydrolyzable groups or hydroxyl groups.

このように、上記式(4)で表されるD体の構造単位を上記した範囲で含むアルコキシシランを加水分解及び縮合してシリコーンを得、かかるシリコーンを有機化合物と混合することが、本実施の形態に係る樹脂組成物を製造するに当たり、好適である。   Thus, it is possible to obtain a silicone by hydrolyzing and condensing an alkoxysilane containing the structural unit of D-form represented by the above formula (4) in the above-described range, and mixing this silicone with an organic compound. It is suitable for producing the resin composition according to the embodiment.

本実施の形態に係る樹脂組成物は、保存安定性に優れることが好ましい。本実施の形態における保存安定性とは、前記樹脂組成物を密閉容器中、60℃で72時間保存した場合の粘度変化で表される。前記保存安定性を表す、初期の粘度に対する72時間後の粘度の比は、0.90〜3.0であることが好ましく、0.95〜2.0であることがより好ましく、0.99〜1.5であることがさらに好ましく、1.0〜1.1であることがさらにより好ましい。上記範囲内の場合、低分子の遊離を効果的に抑制できる結果、揮発分量を有意に低減させることができ、加えて経時的な物性変化を防止できる。   The resin composition according to the present embodiment is preferably excellent in storage stability. The storage stability in the present embodiment is represented by a change in viscosity when the resin composition is stored in a sealed container at 60 ° C. for 72 hours. The ratio of the viscosity after 72 hours to the initial viscosity, which represents the storage stability, is preferably 0.90 to 3.0, more preferably 0.95 to 2.0, and 0.99. It is more preferable that it is -1.5, and it is still more preferable that it is 1.0-1.1. In the above range, as a result of effectively suppressing the release of low molecules, the amount of volatile components can be significantly reduced, and in addition, changes in physical properties over time can be prevented.

保存安定性を向上させる方法として、以下に制限されないが、第1に触媒を除去及び失活させる方法、第2にシラノールを封止する方法が考えられる。前記第1の方法として、固体触媒を用いた場合には濾過などの手段が有効である。酸触媒や塩基触媒を用いた場合には中和などの手段が有効である。また、触媒を活性炭などで吸着除去することも可能である。前記第2の方法として、シラノール基と反応する化合物であれば特に制限なく使用できるが、シラノールの封止後に加水分解されにくい基とすることが好ましい。例えば、アルコール類であれば高級アルコールの方が好ましく、また、3置換のケイ素化合物は好ましい。   The method for improving the storage stability is not limited to the following, but firstly, a method of removing and deactivating the catalyst, and secondly, a method of sealing silanol can be considered. As the first method, when a solid catalyst is used, means such as filtration is effective. When an acid catalyst or a base catalyst is used, a means such as neutralization is effective. It is also possible to adsorb and remove the catalyst with activated carbon or the like. As the second method, any compound that reacts with a silanol group can be used without particular limitation, but it is preferably a group that is not easily hydrolyzed after the silanol is sealed. For example, higher alcohols are preferable for alcohols, and trisubstituted silicon compounds are preferable.

前記3置換のケイ素化合物の置換基としては、以下に制限されないが、例えば、アルキル基及びアリール基、並びに各種の反応性基が挙げられる。具体的に説明すると、疎水性を高めたい場合にはアルキル基が好ましく、硬化前の有機化合物との相溶性を高めたい場合にはアリール基が好ましく、硬化時の相分離を抑制するためには有機化合物と反応し得る反応性基を導入するのが好ましい。   Although it does not restrict | limit to the following as a substituent of the said 3 substituted silicon compound, For example, an alkyl group, an aryl group, and various reactive groups are mentioned. Specifically, when it is desired to increase hydrophobicity, an alkyl group is preferable, and when it is desired to increase compatibility with an organic compound before curing, an aryl group is preferable, and in order to suppress phase separation during curing. It is preferable to introduce a reactive group capable of reacting with an organic compound.

3置換のケイ素化合物を導入する手段としては、以下に制限されないが、一般に、シリル化剤と呼ばれる化合物を好適に使用することができる。前記シリル化剤として、以下に制限されないが、例えば、トリメチルスルホキソニウムアイオダイド、2,2,2−トリフルオロ−1−トリメチルシロキシ−N−トリメチルシリルエタンイミン、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、トリメチルシリルジメチルアミン、トリメチルシリルジエチルアミン、N−メチル−N−トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルシラノール、及びメトキシトリメチルシランが挙げられる。前記シリル化剤は、トリメチルシリル基を導入するための化合物であるが、アリール基や反応性官能基を有する類似の化合物も同様に「シリル化剤」として使用できる。これらの化合物(試薬)は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。合成後のシリコーンをこれらの試薬で処理してもよいし、分子量を調整するために加水分解反応及び縮合反応の途中で使用してもよい。その際、加水分解反応及び縮合反応を促進するための触媒を使用してもよい。   The means for introducing a trisubstituted silicon compound is not limited to the following, but generally a compound called a silylating agent can be preferably used. Examples of the silylating agent include, but are not limited to, trimethylsulfoxonium iodide, 2,2,2-trifluoro-1-trimethylsiloxy-N-trimethylsilylethaneimine, N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide N-methyl-N-trimethylsilyltrifluoroacetamide, trimethylsilyldimethylamine, trimethylsilyldiethylamine, N-methyl-N-trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, hexamethyldisilazane, hexamethyldisiloxane, trimethylsilanol, and methoxytrimethylsilane Can be mentioned. The silylating agent is a compound for introducing a trimethylsilyl group, but a similar compound having an aryl group or a reactive functional group can also be used as the “silylating agent”. These compounds (reagents) may be used alone or in combination of two or more. The synthesized silicone may be treated with these reagents, or may be used during the hydrolysis reaction and condensation reaction in order to adjust the molecular weight. In that case, you may use the catalyst for promoting a hydrolysis reaction and a condensation reaction.

ここで、加水分解反応及び縮合反応の条件としては、以下に制限されないが、水や溶媒などを除去した後にこれらの反応を行うことが好ましい。水が存在している場合、3置換のケイ素化合物のシラノール体が不純物として生成する場合がある。溶媒が存在している場合、反応効率が低下する可能性がある。また、樹脂組成物が高粘度の場合には、反応試薬を過剰に用いてシリル化した後に、残存しているシリル化剤を回収することが好ましい。   Here, the conditions for the hydrolysis reaction and the condensation reaction are not limited to the following, but it is preferable to carry out these reactions after removing water or a solvent. When water is present, a silanol body of a trisubstituted silicon compound may be generated as an impurity. In the presence of a solvent, the reaction efficiency may decrease. When the resin composition has a high viscosity, it is preferable to recover the remaining silylating agent after silylation using an excessive amount of the reaction reagent.

反応性官能基としてエポキシ基を有する有機化合物は、以下に制限されないが、その分子内にオキシラン環を有していればよい。高度な架橋構造を形成するには、1分子中に2個以上のオキシラン環を含むことが好ましい。上記のエポキシ基を有する有機化合物は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせても用いてもよい。以下に制限されないが、例えば、架橋硬化反応によって得られるエポキシ樹脂、エポキシ基含有(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ基含有熱硬化型ポリイミド樹脂、エポキシ基含有ユリア樹脂、エポキシ基含有メラミン樹脂、及びエポキシ基含有不飽和ポリエステル樹脂が挙げられる。中でも、反応性が高く、且つ相分離構造を制御しやすいという観点から、エポキシ樹脂及びエポキシ基含有(メタ)アクリレート樹脂が好ましく、エポキシ樹脂がより好ましい。   Although the organic compound which has an epoxy group as a reactive functional group is not restrict | limited to the following, what is necessary is just to have an oxirane ring in the molecule | numerator. In order to form a highly crosslinked structure, it is preferable that two or more oxirane rings are contained in one molecule. The organic compound having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more. Although not limited to the following, for example, an epoxy resin obtained by a crosslinking curing reaction, an epoxy group-containing (meth) acrylate resin, an epoxy group-containing thermosetting polyimide resin, an epoxy group-containing urea resin, an epoxy group-containing melamine resin, and an epoxy group A contained unsaturated polyester resin is mentioned. Among these, from the viewpoint of high reactivity and easy control of the phase separation structure, an epoxy resin and an epoxy group-containing (meth) acrylate resin are preferable, and an epoxy resin is more preferable.

前記エポキシ樹脂におけるエポキシ当量は、100〜1,000g/eqであることが好ましく、より好ましくは100〜700g/eq、さらに好ましくは100〜500g/eqであり、さらにより好ましくは100〜300g/eqである。上記範囲内の場合、分子運動性に優れ、且つ硬化速度を増大させることができる。なお、前記エポキシ当量の測定方法は、後述する実施例で用いたものと同じ方法である。   The epoxy equivalent in the epoxy resin is preferably 100 to 1,000 g / eq, more preferably 100 to 700 g / eq, still more preferably 100 to 500 g / eq, and even more preferably 100 to 300 g / eq. It is. Within the above range, the molecular mobility is excellent and the curing rate can be increased. In addition, the measuring method of the said epoxy equivalent is the same method as what was used in the Example mentioned later.

また、前記エポキシ樹脂は、25℃における粘度が1,000,000mPa・s以下の液体であることが好ましく、より好ましくは100,000mPa・s以下の液体であり、さらに好ましくは10,000mPa・s以下の液体であり、さらにより好ましくは1,000mPa・s以下の液体である。上記範囲内の場合、製造条件の制限を回避できるため、製造がより容易となって好適である。   The epoxy resin is preferably a liquid having a viscosity at 25 ° C. of 1,000,000 mPa · s or less, more preferably 100,000 mPa · s or less, and still more preferably 10,000 mPa · s. The following liquid, and even more preferably a liquid of 1,000 mPa · s or less. When the amount is within the above range, it is possible to avoid the limitation of the manufacturing conditions, and it is preferable because the manufacturing becomes easier.

前記エポキシ樹脂の種類は、以下に制限されないが、例えば、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂の核水素化物、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、及びハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。中でも、容易に入手可能であり、且つ硬化体として良好な物性を付与できるという観点から、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、及び環式脂肪族エポキシ樹脂が好ましく、環式脂肪族エポキシ樹脂がより好ましい。また、これらのエポキシ樹脂は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The type of the epoxy resin is not limited to the following, for example, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound, a cyclic aliphatic epoxy resin, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, and an aromatic Examples thereof include a nuclear hydride of an aliphatic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, a glycidyl ester epoxy resin, a glycidyl amine epoxy resin, and an epoxy resin obtained by glycidylating a halogenated phenol. Among them, from the viewpoint of being easily available and imparting good physical properties as a cured product, a polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound and a cyclic aliphatic epoxy resin are preferable, and a cyclic aliphatic is preferable. An epoxy resin is more preferable. Moreover, these epoxy resins may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.

上記の環式脂肪族エポキシ樹脂とは、環式脂肪族エポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば特に制限されることはないが、例えば、シクロヘキセンオキサイド基、トリシクロデセンオキサイド基及びシクロペンテンオキサイド基などを有するエポキシ樹脂が挙げられる。なお、環式脂肪族エポキシ基については上述した通りである。環式脂肪族エポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、及び1,2,8,9−ジエポキシリモネンが挙げられる。   The cycloaliphatic epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having a cycloaliphatic epoxy group. For example, a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, a cyclopentene oxide group, etc. The epoxy resin which has is mentioned. The cycloaliphatic epoxy group is as described above. Examples of cycloaliphatic epoxy resins include, but are not limited to, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexylcarboxylate, vinylcyclohexene monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane. And 1,2,8,9-diepoxy limonene.

上記のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、特に制限されることはない。かかる多官能エポキシ樹脂の骨格としては、以下に制限されないが、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、2,6−ジ(t−ブチル)ハイドロキノン、ピロガロール、及びジイソプロピリデン等の骨格を有するフェノール類;1,1−ジ(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類;並びにフェノール化ポリブタジエンが挙げられる。上記の中でも、透明性と流動性に優れるタイプのものが多く市販され安価に入手可能であり、且つ硬化体とした時に耐冷熱衝撃性に優れるという観点から、ビスフェノールA骨格を有するフェノール類のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が好ましい。   The polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of the above polyphenol compound is not particularly limited. The skeleton of such a polyfunctional epoxy resin is not limited to the following, but examples include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol. F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol, dimethyl-4,4′-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1- Bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-t) -Butylphenol), trishydroxyphenyl Phenols having a skeleton such as tan, resorcinol, hydroquinone, 2,6-di (t-butyl) hydroquinone, pyrogallol, and diisopropylidene; having a fluorene skeleton such as 1,1-di (4-hydroxyphenyl) fluorene Phenols; and phenolic polybutadiene. Among the above, glycidyl of phenols having a bisphenol A skeleton from the viewpoint that many of the types excellent in transparency and fluidity are commercially available and are available at low cost and have excellent thermal shock resistance when cured. A polyfunctional epoxy resin which is an etherified product is preferred.

上記エポキシ樹脂として、上述したポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂を使用する場合の繰り返し単位は、以下に制限されないが、好ましくは50未満、より好ましくは0.001〜5、さらに好ましくは0.01〜2である。上記範囲内の場合、流動性が一層向上し、実用上有利となる。   As the epoxy resin, the repeating unit in the case of using the polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of the polyphenol compound described above is not limited to the following, but is preferably less than 50, more preferably 0.001 to 5, more preferably Is 0.01-2. When it is within the above range, the fluidity is further improved, which is practically advantageous.

上記ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、及びナフトール類などの各種フェノールを原料とするノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、並びにキシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、及びフルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂などの各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物が挙げられる。   Examples of the polyfunctional epoxy resin that is a glycidyl etherified product of the novolak resin include, but are not limited to, for example, phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and naphthol. Glycidyl etherified products of novolak resins made from various phenols such as thiols, and various types such as phenol novolac resins containing xylylene skeletons, phenol novolac resins containing dicyclopentadiene skeletons, phenol novolac resins containing biphenyl skeletons, and phenol novolac resins containing fluorene skeletons Examples thereof include glycidyl etherified products of novolak resins.

上記芳香族エポキシ樹脂の核水素化物としては、以下に制限されないが、例えば、フェノール化合物(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール等)のグリシジルエーテル化物、各種フェノール(フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール類など)の芳香環を核水素化したもの、及びノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物の核水素化物が挙げられる。   Examples of the nuclear hydride of the aromatic epoxy resin include, but are not limited to, glycidyl etherified products of phenol compounds (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, etc.), various phenols (phenol, Cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, naphthols, etc.) and the hydrogenated glycidyl ethers of novolak resins. .

上記脂肪族系エポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトール、及びキシリレングリコール誘導体などの多価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。   Examples of the aliphatic epoxy resin include, but are not limited to, polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, pentaerythritol, and xylylene glycol derivatives. Of glycidyl ethers.

上記複素環式エポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、イソシアヌル環及びヒダントイン環などの複素環を有する複素環式エポキシ樹脂が挙げられる。   Although it does not restrict | limit as said heterocyclic epoxy resin below, For example, the heterocyclic epoxy resin which has heterocyclic rings, such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring, is mentioned.

上記グリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、以下に制限されるものではなく、例えば、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、及びテトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ樹脂が挙げられる。   The glycidyl ester-based epoxy resin is not limited to the following, and examples thereof include epoxy resins made of carboxylic acids such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester and tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester.

上記グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、アニリン、トルイジン、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン誘導体、及びジアミノメチルベンゼン誘導体などのアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the glycidylamine epoxy resin include, but are not limited to, for example, epoxy resins obtained by glycidylating amines such as aniline, toluidine, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane derivative, and diaminomethylbenzene derivative. Is mentioned.

上記ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、ブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、及びクロル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリシジルエーテル化したエポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the epoxy resin obtained by glycidylating the halogenated phenols include, but are not limited to, for example, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolak, and chlorinated bisphenol. S and epoxy resins obtained by glycidyl etherification of halogenated phenols such as chlorinated bisphenol A can be mentioned.

本実施の形態に係る樹脂組成物(第2の本実施の形態)及びその硬化体(第1の本実施の形態)には、本実施の形態に所望の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、各種の有機樹脂、無機充填剤、レベリング剤、滑剤、界面活性剤、シリコーン系化合物、反応性希釈剤、非反応性希釈剤、酸化防止剤、及び光安定剤などを適宜添加することができる。その他、樹脂用の一般的な添加剤(可塑剤、難燃剤、安定剤、帯電防止剤、耐衝撃強化剤、発泡剤、抗菌・防カビ剤、導電性フィラー、防曇剤、架橋剤など)として市販されているものを、配合してもよい。   The resin composition (second embodiment) and its cured body (first embodiment) according to the present embodiment are used for the purpose within a range that does not impair the desired effect of the present embodiment. Appropriately add various organic resins, inorganic fillers, leveling agents, lubricants, surfactants, silicone compounds, reactive diluents, non-reactive diluents, antioxidants, light stabilizers, etc. Can do. Other general additives for resins (plasticizers, flame retardants, stabilizers, antistatic agents, impact resistance enhancers, foaming agents, antibacterial and antifungal agents, conductive fillers, antifogging agents, crosslinking agents, etc.) What is marketed as may be mix | blended.

ここで、上記有機樹脂としては、以下に制限されないが、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリイミド樹脂が挙げられる。中でも、反応性の高い有機基を有するものが有利であるという観点から、エポキシ樹脂が好ましい。   Here, the organic resin is not limited to the following, and examples thereof include an epoxy resin, an acrylic resin, a polyester resin, and a polyimide resin. Among these, an epoxy resin is preferable from the viewpoint that one having a highly reactive organic group is advantageous.

上記レベリング剤としては、以下に制限されないが、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート及び2−エチルヘキシルアクリレート等のアクリレート類からなる分子量4000〜12000のオリゴマー類、エポキシ化大豆脂肪酸、エポキシ化アビエチルアルコール、水添ひまし油、並びにチタン系カップリング剤が挙げられる。これらのレベリング剤は1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   Examples of the leveling agent include, but are not limited to, oligomers having a molecular weight of 4000 to 12000 made of acrylates such as ethyl acrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate, epoxidized soybean fatty acid, epoxidized abiethyl alcohol, and water. There are added castor oil and a titanium coupling agent. These leveling agents may be used alone or in combination of two or more.

上記無機充填剤としては、以下に制限されないが、例えば、シリカ類(溶融破砕シリカ、結晶破砕シリカ、球状シリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、沈降性シリカ等)シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、及び二硫化モリブデン等が挙げられる。中でも、好ましくはシリカ類、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、珪酸カルシウムである。硬化体の物性を考慮すると、より好ましくはシリカ類である。   Examples of the inorganic filler include, but are not limited to, silicas (fused crushed silica, crystal crushed silica, spherical silica, fumed silica, colloidal silica, precipitated silica, etc.) silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, Calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, calcium sulfate, mica, talc, clay, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, lithium aluminum silicate, zirconium silicate, titanic acid Examples include barium, glass fiber, carbon fiber, and molybdenum disulfide. Among these, silicas, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and calcium silicate are preferable. Considering the physical properties of the cured product, silicas are more preferable.

上記滑剤としては、以下に制限されないが、例えば、パラフィンワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス等の炭化水素系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸などの高級脂肪酸系滑剤、ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミド等の高級脂肪酸アミド系滑剤、硬化ひまし油、ブチルステアレート、エチレングリコールモノステアレート、ペンタエリスリトール(モノ−,ジ−,トリ−,又はテトラ−)ステアレート等の高級脂肪酸エステル系滑剤、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール等のアルコール系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リシノール酸、ナフテン酸などのマグネシウム、カルシウム、カドミウム、バリウム、亜鉛、鉛などの金属塩である金属石鹸類、カルナウバロウ、カンデリラロウ、ミツロウ、モンタンロウ等の天然ワックス類が挙げられる。これらの滑剤は1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   Examples of the lubricant include, but are not limited to, hydrocarbon lubricants such as paraffin wax, microwax, and polyethylene wax, and higher fatty acid systems such as lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, and behenic acid. Lubricants, stearylamide, palmitylamide, oleylamide, higher fatty acid amide type lubricants such as methylenebisstearoamide, ethylene bisstearamide, hydrogenated castor oil, butyl stearate, ethylene glycol monostearate, pentaerythritol (mono-, Higher fatty acid ester lubricants such as di-, tri-, or tetra-stearate, alcohol lubricants such as cetyl alcohol, stearyl alcohol, polyethylene glycol, polyglycerol, lauric acid, myristic acid, palmitic Natural waxes such as metal soaps such as magnesium, calcium, cadmium, barium, zinc and lead such as acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, ricinoleic acid and naphthenic acid, carnauba wax, candelilla wax, beeswax and montan wax Kind. These lubricants may be used alone or in combination of two or more.

上記界面活性剤とは、その分子中に溶媒に対して親和性を持たない疎水基と、溶媒に対して親和性を持つ親媒基(通常は親水基)とを有する両親媒性物質を意味する。また、その種類としては、以下に制限されないが、例えば、シリコーン系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤が挙げられる。界面活性剤は1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。   The above surfactant means an amphiphilic substance having a hydrophobic group having no affinity for the solvent in the molecule and an amphiphilic group (usually a hydrophilic group) having an affinity for the solvent. To do. In addition, the type is not limited to the following, and examples thereof include silicone surfactants and fluorine surfactants. Surfactants may be used alone or in combination of two or more.

上記シリコーン系化合物としては、以下に制限されないが、例えば、シリコーン樹脂、シリコーン縮合物、シリコーン部分縮合物、シリコーンオイル、シランカップリング剤、シリコーンオイル、ポリシロキサンが挙げられ、その両末端、片末端又は側鎖に有機基を導入して変性したものも含まれる。その変性の方法として、以下に制限されないが、例えば、アミノ変性、エポキシ変性、脂環式エポキシ変性、カルビノール変性、メタクリル変性、ポリエーテル変性、メルカプト変性、カルボキシル変性、フェノール変性、シラノール変性、ポリエーテル変性、ポリエーテル・メトキシ変性、及びジオール変性が挙げられる。   Examples of the silicone compound include, but are not limited to, silicone resins, silicone condensates, silicone partial condensates, silicone oils, silane coupling agents, silicone oils, and polysiloxanes. Or what modified | denatured by introduce | transducing an organic group into a side chain is also contained. Examples of the modification method include, but are not limited to, amino modification, epoxy modification, alicyclic epoxy modification, carbinol modification, methacryl modification, polyether modification, mercapto modification, carboxyl modification, phenol modification, silanol modification, poly Examples include ether modification, polyether methoxy modification, and diol modification.

上記反応性希釈剤としては、以下に制限されないが、例えば、アルキルグリシジルエーテル、アルキルフェノールのモノグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1、6―ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、アルカン酸グリシジルエステル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテルが挙げられる。一方、非反応性希釈剤としては、以下に制限されないが、例えば、ベンジルアルコール、ブチルジグリコール、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等の高沸点溶剤が挙げられる。   Examples of the reactive diluent include, but are not limited to, alkyl glycidyl ether, alkylphenol monoglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, alkanoic acid glycidyl ester, and ethylene glycol. Examples include diglycidyl ether and propylene glycol diglycidyl ether. On the other hand, examples of the non-reactive diluent include, but are not limited to, high boiling solvents such as benzyl alcohol, butyl diglycol, and propylene glycol monomethyl ether.

上記酸化防止剤としては、以下に制限されないが、例えば、トリフェニルホスフェート、及びフェニルイソデシルホスファイトなどの有機リン系酸化防止剤、ジステアリル−3,3’−チオジプロピネートなどの有機イオウ系酸化防止剤、並びに2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール等のフェノール系酸化防止剤が挙げられる。   Examples of the antioxidant include, but are not limited to, organic phosphorus-based antioxidants such as triphenyl phosphate and phenylisodecyl phosphite, and organic sulfur-based compounds such as distearyl-3,3′-thiodipropinate. Examples of the antioxidant include phenolic antioxidants such as 2,6-di-tert-butyl-p-cresol.

上記光安定剤としては、以下に制限されないが、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、シアノアクリルレート系、ニッケル系、及びトリアジン系などの紫外線吸収剤、並びにヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。   Examples of the light stabilizer include, but are not limited to, UV absorbers such as benzotriazole, benzophenone, salicylate, cyanoacrylate, nickel, and triazine, and hindered amine light stabilizers. It is done.

これまで説明してきたように、本実施の形態に係る樹脂組成物及びその硬化体は、耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れ、且つボイドやクラックといった欠陥のないという極めて有利な効果を発揮する。このような観点から、前記樹脂組成物及びその硬化体の用途としては、以下に制限されないが、例えば、電子材料(碍子類、交流変圧器、開閉機器等の注型及び回路ユニット、各種部品のパッケージ、IC・LED・半導体等の封止材、発電器、モーター等の回転機コイル、巻線含浸、プリント配線基板、絶縁ボード、中型碍子類、コイル類、コネクター、ターミナル、各種ケース類、電気部品類等)、塗料(防蝕塗料、メンテナンス、船舶塗装、耐蝕ライニング、自動車・家電製品用プライマー、飲料・ビール缶、外面ラッカー、押出チューブ塗装、一般防蝕塗装、メンテナンス途装、木工製品用ラッカー、自動車用電着プライマー、その他工業用電着塗装、飲料・ビール缶内面ラッカー、コイルコーティング、ドラム・缶内面塗装、耐酸ライニング、ワイヤーエナメル、絶縁塗料、自動車用プライマー、各種金属製品の美装兼防蝕塗装、パイプ内外面塗装、電気部品絶縁塗装等)、複合材料(化学プラント用パイプ・タンク類、航空機材、自動車部材、各種スポーツ用品、炭素繊維複合材料、アラミド繊維複合材料等)、土木建築材料(床材、舗装材、メンブレン、滑り止め兼薄層舗装、コンクリート打ち継ぎ・かさ上げ、アンカー埋め込み接着、プレキャストコンクリート接合、タイル接着、コンクリート構造物の亀裂補修、台座のグラウト・レベリング、上下水道施設の防蝕・防水塗装、タンク類の耐蝕積層ライニング、鉄構造物の防蝕塗装、建築物外壁のマスチック塗装等)、接着剤(金属・ガラス・陶磁器・セメントコンクリート・木材・プラスチック等の同種又は異種材質の接着剤、自動車・鉄道車両・航空機等の組み立て用接着剤、プレハブ用複合パネル製造用接着剤等:一液型、二液型、シートタイプを含む。)、航空機・自動車・プラスチック成形の治工具(プレス型、ストレッチドダイ、マッチドダイ等樹脂型、真空成形・ブロー成型用モールド、マスターモデル、鋳物用パターン、積層治工具、各種検査用治工具等)、改質剤・安定剤(繊維の樹脂加工、ポリ塩化ビニル用安定剤、合成ゴムへの添加剤等)等、封止剤(半導体用途、発光ダイオード(LED)の用途、液晶用途)が挙げられる。   As described so far, the resin composition and the cured product thereof according to the present embodiment are extremely advantageous in that they are excellent in heat resistance, transparency, adhesion, and stress relaxation properties and are free from defects such as voids and cracks. Demonstrate the effect. From such a viewpoint, the use of the resin composition and the cured product thereof is not limited to the following. For example, electronic materials (such as castings such as insulators, AC transformers, switchgears, circuit units, various parts) Packaging materials, sealing materials for ICs, LEDs, semiconductors, generators, rotating coils for motors, winding impregnation, printed wiring boards, insulation boards, medium-sized insulators, coils, connectors, terminals, various cases, electricity Parts), paint (corrosion resistant paint, maintenance, marine paint, corrosion resistant lining, primer for automobiles and home appliances, beverage / beer cans, outer surface lacquer, extruded tube paint, general corrosion resistant paint, maintenance halfway, lacquer for woodworking products, Automotive electrodeposition primer, other industrial electrodeposition coatings, beverage / beer can inner surface lacquer, coil coating, drum / can inner surface coating, acid resistance Inning, wire enamel, insulation paint, automotive primer, exterior and anticorrosion coating of various metal products, pipe interior and exterior coating, electrical component insulation coating, etc.), composite materials (chemical plant pipes and tanks, aircraft materials, automotive parts, etc.) , Various sporting goods, carbon fiber composite materials, aramid fiber composite materials, etc.), civil engineering and building materials (floor materials, paving materials, membranes, anti-slip / thin layer pavement, concrete jointing / uplifting, anchor embedded adhesion, precast concrete joining , Tile adhesion, crack repair of concrete structures, grouting and leveling of pedestals, anticorrosion and waterproofing of water and sewage facilities, corrosion resistant laminated lining of tanks, anticorrosion coating of iron structures, mastic coating of exterior walls of buildings, etc.), adhesion Agent (same or different of metal, glass, ceramics, cement concrete, wood, plastic, etc.) Adhesives of materials, adhesives for assembling automobiles, railway vehicles, aircraft, etc., adhesives for manufacturing prefabricated composite panels, etc .: including one-part, two-part, and sheet types), aircraft, automobile, plastic molding Jigs (resin molds such as press dies, stretched dies, matched dies, vacuum molding / blow molding molds, master models, casting patterns, laminated jigs, various inspection jigs, etc.), modifiers / stabilizers (fiber Resin processing, stabilizers for polyvinyl chloride, additives to synthetic rubber, etc.) and the like (semiconductor applications, light emitting diode (LED) applications, liquid crystal applications).

上記封止材とは、液体や気体等の物質(異物)が、部品の内部に入り込まないように封止するための材料のことをいう。前記物質(異物)には、温度、湿気やホコリ等の物理的衝撃なども含まれる。   The said sealing material means the material for sealing so that substances (foreign substances), such as a liquid and gas, may not enter the inside of components. The substance (foreign matter) includes physical impacts such as temperature, humidity and dust.

これらの用途において、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、イミド樹脂やガラス等からなる他の部材を併用してもよい。   In these applications, other members made of epoxy resin, silicone resin, epoxy silicone resin, acrylic resin, urethane resin, urea resin, imide resin, glass, or the like may be used in combination.

また、本実施の形態に係る樹脂組成物及びその硬化体は、半導体・LED周辺材料(レンズ材、基板材、ダイボンド材、チップコート材、積層板、光ファイバー、光導波路、光フィルター、電子部品用の接着剤、コート材、シール材、絶縁材、フォトレジスト、エンキャップ材、ポッティング材、光ディスクの光透過層や層間絶縁層、プリント配線板、積層板、導光板、反射防止膜等)等の用途にも利用できる。   In addition, the resin composition and the cured product thereof according to the present embodiment are semiconductor / LED peripheral materials (lens material, substrate material, die bond material, chip coating material, laminated plate, optical fiber, optical waveguide, optical filter, for electronic components) Adhesives, coating materials, sealing materials, insulating materials, photoresists, encap materials, potting materials, light transmission layers and interlayer insulating layers of optical disks, printed wiring boards, laminates, light guide plates, antireflection films, etc.) It can also be used for applications.

上記レンズ材の例としては、以下に制限されないが、光学機器用レンズ、自動車ランプ用レンズ、メガネレンズ、CD・DVD等のピックアップ用レンズ、及びプロジェクター用レンズが挙げられる。   Examples of the lens material include, but are not limited to, lenses for optical devices, automobile lamp lenses, eyeglass lenses, pickup lenses such as CD / DVD, and projector lenses.

LED封止材の用途としては、以下に制限されないが、ディスプレイ、電光表示板、信号機、ディスプレイのバックライト(有機ELディスプレイ、携帯電話、モバイルPC等)、自動車の内外装証明、イルミネーション、照明器具及び懐中電灯といった広い分野へ展開することができる。   The use of the LED sealing material is not limited to the following, but is a display, an electric display panel, a traffic light, a display backlight (organic EL display, mobile phone, mobile PC, etc.), automobile interior / exterior certification, illumination, lighting equipment And can be deployed in a wide range of fields such as flashlights.

本実施の形態に係る樹脂組成物及びその硬化体には、本実施の形態の効果を損なわない範囲で、他の物質が添加されてもよい。かような他の物質の例としては、以下に制限されないが、溶剤、油脂、油脂加工品、天然樹脂、合成樹脂、顔料、染料、色素、剥離剤、防腐剤、接着剤、脱臭剤、凝集剤、洗浄剤、脱臭剤、pH調整剤、感光材料、インク、電極、めっき液、触媒、樹脂改質剤、可塑剤、柔軟剤、農薬、殺虫剤、殺菌剤、医薬品原料、乳化剤・界面活性剤、防錆剤、金属化合物、フィラー、化粧品・医薬品原料、脱水剤、乾燥剤、不凍液、吸着剤、着色剤、ゴム、発泡剤、着色剤、研磨剤、離型剤、凝集剤、消泡剤、硬化剤、還元剤、フラックス剤、皮膜処理剤、鋳物原料、鉱物、酸・アルカリ、ショット剤、酸化防止剤、表面被覆剤、添加剤、酸化剤、火薬類、燃料、漂白剤、発光素子、香料、コンクリート、繊維(カーボンファイバー、アラミド繊維、ガラス繊維など)、ガラス、金属、賦形剤、崩壊剤、結合剤、流動化剤、ゲル化剤、安定剤、保存剤、緩衝剤、懸濁化剤、及び粘稠剤が挙げられる。   Other substances may be added to the resin composition and the cured body thereof according to the present embodiment as long as the effects of the present embodiment are not impaired. Examples of such other substances include, but are not limited to, solvents, oils and fats, processed oils, natural resins, synthetic resins, pigments, dyes, dyes, release agents, preservatives, adhesives, deodorizers, and agglomerates Agent, cleaning agent, deodorant, pH adjuster, photosensitive material, ink, electrode, plating solution, catalyst, resin modifier, plasticizer, softener, agricultural chemical, insecticide, fungicide, pharmaceutical raw material, emulsifier / surfactant Agent, rust preventive agent, metal compound, filler, cosmetics / pharmaceutical raw material, dehydrating agent, desiccant, antifreeze, adsorbent, colorant, rubber, foaming agent, colorant, abrasive, mold release agent, flocculant, defoaming agent Agent, curing agent, reducing agent, flux agent, film treatment agent, casting raw material, mineral, acid / alkali, shot agent, antioxidant, surface coating agent, additive, oxidizing agent, explosives, fuel, bleaching agent, light emission Element, fragrance, concrete, fiber (carbon fiber, aramid fiber, glass Cellulose fiber, etc.), glass, metal, excipients, disintegrants, binders, fluidizing agents, gelling agents, stabilizers, preservatives, buffering agents, suspending agents, and include thickeners.

[第3の本実施の形態:複合透明シート]   [Third Embodiment: Composite Transparent Sheet]

第3の本実施の形態に係る複合透明シートは、上記第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体とフィラーとを含有する。また、前記複合透明シートは、前記樹脂組成物とフィラーとを混合し、熱又はエネルギー線で硬化しながらシート状にプレスすることにより得られる。   The composite transparent sheet according to the third embodiment contains the hybrid cured body and the filler according to the first embodiment. Moreover, the said composite transparent sheet is obtained by mixing the said resin composition and a filler, and pressing to a sheet form, hardening with a heat | fever or an energy ray.

上記の硬化体及び樹脂組成物はそれぞれ、耐熱性及び成形性に優れるため、フィラーと複合化することによって、熱膨張率が低く、温度変化に伴う弾性率の変化が小さく、且つ平滑性に優れた複合透明シートが得られる。前記フィラーは、透明性向上の観点から、可視光波長よりも小さなフィラーであるか、又は可視光領域に吸収のないフィラーであることが好ましい。   Each of the cured product and the resin composition is excellent in heat resistance and moldability. Therefore, by compounding with a filler, the thermal expansion coefficient is low, the change in elastic modulus with temperature change is small, and the smoothness is excellent. A composite transparent sheet is obtained. From the viewpoint of improving transparency, the filler is preferably a filler having a wavelength smaller than the visible light wavelength or a filler having no absorption in the visible light region.

上記した本実施の形態の樹脂組成物は無機成分を含むため、フィラーを均質に分散させやすいという利点がある。したがって、本実施の形態に係る複合透明シートは、高度に複合化して形成されており、熱膨張率が低く、温度変化に伴う弾性率の変化が小さく、平滑性に優れ、光線透過率が高く、且つ面内の光学的物性のバラツキが少ないのである。   Since the resin composition of this Embodiment mentioned above contains an inorganic component, there exists an advantage that a filler is easy to disperse | distribute uniformly. Therefore, the composite transparent sheet according to the present embodiment is formed with a high degree of composite, has a low coefficient of thermal expansion, a small change in elastic modulus due to a temperature change, excellent smoothness, and a high light transmittance. In addition, there is little variation in the in-plane optical properties.

前記フィラーとしては、以下に制限されないが、例えば、炭素繊維、セルロース類、無機化合物及びガラスが挙げられる。中でも、耐熱性に優れるという観点から、無機化合物及びガラスが好ましく、ガラスがより好ましい。フィラーの形状としては、以下に制限されないが、例えば、粒子状、不定形、繊維状や網目状などから自由に選ぶことができる。また、シート平面の線膨張係数(後述)を低減する観点から、フィラーが連続相を形成することが好ましく、具体的には繊維状又は網目状の形状を用いることが好適である。これらのフィラーは1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記フィラーの含有量は、得られる複合透明シートに対して、1〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは30〜70質量%である。上記範囲内の場合、複合化による低線膨張化の効果が大きくなるとともに、成形性が有意に向上し得る。   Examples of the filler include, but are not limited to, carbon fibers, celluloses, inorganic compounds, and glass. Among these, from the viewpoint of excellent heat resistance, inorganic compounds and glass are preferable, and glass is more preferable. The shape of the filler is not limited to the following, but can be freely selected from, for example, a particulate shape, an indefinite shape, a fiber shape, and a mesh shape. Further, from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient (described later) of the sheet plane, the filler preferably forms a continuous phase, and specifically, a fibrous or network shape is preferably used. These fillers may be used alone or in combination of two or more. It is preferable that content of the said filler is 1-90 mass% with respect to the composite transparent sheet obtained, More preferably, it is 10-80 mass%, More preferably, it is 30-70 mass%. When it is within the above range, the effect of low linear expansion by compounding becomes large, and the moldability can be significantly improved.

上記無機化合物としては、以下に制限されないが、例えば、シリカ類(溶融破砕シリカ、結晶破砕シリカ、球状シリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、沈降性シリカ等)シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、及び二硫化モリブデンが挙げられる。好ましくは、シリカ類、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、及び珪酸カルシウムである。硬化体の物性を考慮すると、シリカ類がより好ましい。   Examples of the inorganic compound include, but are not limited to, silicas (fused crushed silica, crystal crushed silica, spherical silica, fumed silica, colloidal silica, precipitated silica, etc.) silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, carbonic acid Calcium, magnesium carbonate, barium sulfate, calcium sulfate, mica, talc, clay, aluminum oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, lithium aluminum silicate, zirconium silicate, barium titanate Glass fiber, carbon fiber, and molybdenum disulfide. Silicas, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and calcium silicate are preferable. Considering the physical properties of the cured product, silicas are more preferable.

上記ガラスフィラーとしては、以下に制限されないが、例えば、ガラス繊維、ガラスクロス、ガラス不織布、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ガラスパウダー、及びミドルガラスが挙げられる。中でも、線膨張係数(後述)の低減効果が一層高いという観点から、ガラス繊維、ガラスクロス、及びガラス不織布が好ましく、ガラスクロスがより好ましい。ガラスの種類としては、以下に制限されないが、例えば、Eガラス、Cガラス、Aガラス、Sガラス、Dガラス、NEガラス、Tガラス、及び石英ガラスが挙げられる。中でも、樹脂としての屈折率制御が容易で、且つ入手が容易であるという観点から、Sガラス、Tガラス及びNEガラスが好ましい。ガラスクロスの厚み、織り密度及び織り組織は、目的とするシリコーン・エポキシのハイブリッド系ガラスクロス複合体シートに応じて選択され得る。また、樹脂含浸性や表面凹凸を改良するという観点から、ガラスクロスの糸束を物理的に開繊することは好適且つ有効な手法である。   Examples of the glass filler include, but are not limited to, glass fiber, glass cloth, glass nonwoven fabric, glass beads, glass flakes, glass powder, and middle glass. Among these, glass fiber, glass cloth, and glass nonwoven fabric are preferable, and glass cloth is more preferable from the viewpoint that the effect of reducing the linear expansion coefficient (described later) is even higher. Although it does not restrict | limit to the kind of glass below, For example, E glass, C glass, A glass, S glass, D glass, NE glass, T glass, and quartz glass are mentioned. Among these, S glass, T glass, and NE glass are preferable from the viewpoint of easy control of the refractive index as a resin and easy availability. The thickness, weave density and texture of the glass cloth can be selected according to the intended silicone-epoxy hybrid glass cloth composite sheet. Further, from the viewpoint of improving resin impregnation property and surface unevenness, it is a preferable and effective technique to physically open the yarn bundle of the glass cloth.

フィラーの表面に、シランカップリング剤、各種界面活性剤、及び無機酸による洗浄などの処理を施すことは、フィラーと樹脂との界面における濡れ性、親和性及び密着性を高めることとなるため、好ましい。   Since the surface of the filler is treated with a silane coupling agent, various surfactants, and washing with an inorganic acid, the wettability, affinity, and adhesion at the interface between the filler and the resin are increased. preferable.

本実施の形態に係る複合透明シートは、その具体的な用途として表示素子用基板としての利用が考えられるために実用上の性能の一つとして透明性に優れることが好ましい。そのために、硬化体又は樹脂組成物とフィラーとの屈折率の差が可能な限り小さいことが好ましい。ここで屈折率とは、ナトリウムD線(波長589.2nm)を用いて測定された値(nD)が用いられる。前記硬化体又は樹脂組成物とフィラーとの屈折率の差は、0.02以下であることが好ましく、0.01以下であることがより好ましい。上記範囲内の場合、透明性が向上し得る。   Since the composite transparent sheet according to the present embodiment can be used as a display element substrate as its specific application, it is preferable that the composite transparent sheet is excellent in transparency as one of practical performances. Therefore, it is preferable that the difference in refractive index between the cured body or the resin composition and the filler is as small as possible. Here, as the refractive index, a value (nD) measured using sodium D-line (wavelength 589.2 nm) is used. The difference in refractive index between the cured body or resin composition and the filler is preferably 0.02 or less, and more preferably 0.01 or less. If it is within the above range, the transparency can be improved.

上記第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体のアッベ数は、シートの色収差を最小にするという観点から、40以上であることが好ましい。ここで、アッベ数と色収差との関係は、前記シートを構成する上記硬化体とフィラーとの屈折率の差によって生ずる光波長の分散性又は分光性に起因するものである。そして、色収差が大きいほどシートを通して見える像が「にじ色」になり表示基板としての性能を著しく低下させる。そこで、かかる色収差の程度の指標として、アッベ数が用いられる。アッベ数Vは下記式(9)によって表され、アッベ数が高い数値であるほど色収差が小さくなるという関係にある。
(数9)
アッベ数(V)=(nD−1)/(nF−nC)・・・(9)
上記式中、nD、nF及びnCは、材料の波長がそれぞれD−589.2nm、F−486.1nm及びC−656.3nmの光に対する屈折率である。
The Abbe number of the hybrid cured body according to the first embodiment is preferably 40 or more from the viewpoint of minimizing chromatic aberration of the sheet. Here, the relationship between the Abbe number and chromatic aberration is attributed to the dispersibility or spectral property of the light wavelength caused by the difference in refractive index between the cured body constituting the sheet and the filler. The larger the chromatic aberration is, the more the image seen through the sheet becomes “colored”, and the performance as a display substrate is remarkably deteriorated. Therefore, the Abbe number is used as an index of the degree of such chromatic aberration. The Abbe number V is expressed by the following formula (9), and has a relationship that the higher the Abbe number, the smaller the chromatic aberration.
(Equation 9)
Abbe number (V) = (nD-1) / (nF-nC) (9)
In the above formula, nD, nF, and nC are refractive indexes for light having a material wavelength of D-589.2 nm, F-486.1 nm, and C-656.3 nm, respectively.

上記のハイブリッド硬化体の屈折率やアッベ数を調整するためには、以下に制限されないが、有機化合物の構造を変えること、シリコーンの構造を変えること、分子体積を変えること、及び添加剤を加えることといった手段を組み合わせて実行することができる。特に、屈折率の高いガラスになるよう屈折率を調整するためには、チタンやジルコニウム等の高屈折微粒子を添加することが好ましく、また、チタンアルコキシドやジルコニウムアルコキシド等を使用してアルコキシシランと縮合させることも好ましい。   In order to adjust the refractive index and Abbe number of the above-mentioned hybrid cured product, it is not limited to the following, but the structure of the organic compound, the structure of the silicone, the molecular volume, and the additive are added. A combination of these means can be executed. In particular, in order to adjust the refractive index so as to obtain a glass having a high refractive index, it is preferable to add high refractive fine particles such as titanium and zirconium, and condensation with alkoxysilane using titanium alkoxide, zirconium alkoxide, etc. It is also preferable that

本実施の形態に係る複合透明シートが呈する透明性とは、可視光線の波長領域での光線透過率が60%以上であり、好ましくは80%以上であることを意味する。前記可視光線の波長領域とは、400〜800nmである。   The transparency exhibited by the composite transparent sheet according to the present embodiment means that the light transmittance in the wavelength region of visible light is 60% or more, preferably 80% or more. The wavelength region of the visible light is 400 to 800 nm.

上記複合透明シートは、耐熱性及び接着性に優れた硬化体と、フィラーとが高度に複合化されているため、一層高い耐熱性を有する。ここで、「複合透明シートの耐熱性」とは、動的粘弾性測定における貯蔵弾性率の変化が小さく、例えば、下記式(10)を満たすものを意味する。
(数10)
E1’25/E1’250≦1.8・・・(10)
上記式中、E1’25は動的粘弾性測定における25℃での透明樹脂シートの貯蔵弾性率を表し、E1’250は動的粘弾性測定における250℃での透明樹脂シートの貯蔵弾性率を表す。
The composite transparent sheet has higher heat resistance because a cured body excellent in heat resistance and adhesiveness and a filler are highly complexed. Here, “heat resistance of the composite transparent sheet” means that the change in the storage elastic modulus in the dynamic viscoelasticity measurement is small, for example, satisfying the following formula (10).
(Equation 10)
E1'25 / E1'250 ≦ 1.8 (10)
In the above formula, E1′25 represents the storage elastic modulus of the transparent resin sheet at 25 ° C. in the dynamic viscoelasticity measurement, and E1′250 represents the storage elastic modulus of the transparent resin sheet at 250 ° C in the dynamic viscoelasticity measurement. Represent.

上記透明樹脂シートの動的粘弾性が上記の関係式を満たすということは、温度変化によるシートの強度の低下が小さいことを示す。その結果、加熱によるシートの膨張や変形の度合いが小さくなる。   That the dynamic viscoelasticity of the transparent resin sheet satisfies the above relational expression indicates that the decrease in the strength of the sheet due to temperature change is small. As a result, the degree of expansion and deformation of the sheet due to heating is reduced.

本実施の形態に係る複合透明シートは、光学的欠陥を有さない、即ち光学特性に優れることが好ましい。前記光学的欠陥とは、一般にボイドと呼ばれる空隙や、屈折率の異なる異物のことをいう。ボイドの原因については、第1の原因として、硬化前の樹脂組成物とフィラーとを混ぜたときに混入する空気、第2の原因として、硬化時に発生するガス、そして第3の原因として、硬化時や温度サイクルを受けた時に生じる歪みが考えられる。第1の原因については、樹脂組成物とフィラーとを混合する時に温度を上げて低粘度化することや、真空脱泡を行うこと等の方法により低減することができる。第2の原因については、樹脂組成物中から余分な揮発分を除去しておくことや、ガスを発生する副次的反応を抑制すること等の方法により低減することができる。特に、シリコーン中にアルコキシ基が大量に残存する場合には、この第2の原因により発生するボイドが問題となり得るため、上記方法がとりわけ効果的である。第3の原因については、硬化時の温度条件や温度サイクルの条件を調整することや、樹脂中に応力緩和成分を導入すること等の方法により低減することができる。上記の硬化体や樹脂組成物は、上述した特定の緩和指標を満たす場合、一層応力緩和に優れる。そのため、前記複合透明シートはボイドを生じにくくなる。   The composite transparent sheet according to the present embodiment preferably has no optical defect, that is, has excellent optical characteristics. The optical defect means a void generally called a void or a foreign substance having a different refractive index. As for the cause of voids, the first cause is air mixed when the resin composition and the filler before curing are mixed, the second cause is a gas generated at the time of curing, and the third cause is curing. Distortions that occur when subjected to time or temperature cycles are considered. The first cause can be reduced by increasing the temperature when mixing the resin composition and the filler to lower the viscosity or performing vacuum defoaming. About a 2nd cause, it can reduce by methods, such as removing the excess volatile matter from a resin composition, or suppressing the side reaction which generate | occur | produces gas. In particular, when a large amount of alkoxy groups remain in the silicone, voids generated due to the second cause can be a problem, and thus the above method is particularly effective. The third cause can be reduced by adjusting the temperature condition during curing and the temperature cycle condition, or introducing a stress relaxation component in the resin. The above cured body and resin composition are further excellent in stress relaxation when the specific relaxation index described above is satisfied. Therefore, the composite transparent sheet is less likely to generate voids.

本実施の形態に係る透明樹脂シートは、線膨張係数が小さいことが好ましい。本実施の形態における「線膨張係数」とは、25〜250℃における平均の線膨張係数のことを指す。線膨張係数は、1〜40ppmであることが好ましく、1〜30ppmであることがより好ましく、1〜20ppmであることがさらに好ましく、1〜12ppmであることがさらにより好ましい。上記第1の本実施の形態に係るハイブリッド硬化体は、シリコーンを含有しつつ相分離を抑制しているため、フィラーとの界面が強固である。また、上記第2の本実施の形態に係る樹脂組成物は上述した特定の緩和指標を有し、樹脂組成物とフィラーとの界面を柔軟に変化させることができる。これらの特徴から、前記ハイブリッド硬化体は、フィラーと複合化した場合に、顕著に線膨張係数を低減できる。   The transparent resin sheet according to the present embodiment preferably has a small linear expansion coefficient. The “linear expansion coefficient” in the present embodiment refers to an average linear expansion coefficient at 25 to 250 ° C. The linear expansion coefficient is preferably 1 to 40 ppm, more preferably 1 to 30 ppm, further preferably 1 to 20 ppm, and even more preferably 1 to 12 ppm. The hybrid cured body according to the first embodiment has a strong interface with the filler because it contains silicone and suppresses phase separation. The resin composition according to the second embodiment has the specific relaxation index described above, and can flexibly change the interface between the resin composition and the filler. From these characteristics, when the hybrid cured product is combined with a filler, the linear expansion coefficient can be significantly reduced.

また、熱膨張係数はガラス転移温度の前後で急激に変化するのが通常であるが、ガラス転移温度を跨ぐような熱履歴が加わると、断線などの問題が起きやすくなってあまり好ましくない。前記複合透明シートのガラス転移温度前後での線膨張係数の差は、20ppm以下であることが好ましく、15ppm以下であることがより好ましく、10ppm以下であることがさらに好ましく、5ppm以下であることがさらにより好ましい。上記のハイブリッド硬化体は、熱による弾性率の変化が少なく、熱による熱膨張係数の変化も小さい傾向にあるため、好ましい。   In addition, the coefficient of thermal expansion usually changes rapidly before and after the glass transition temperature. However, if a thermal history that crosses the glass transition temperature is added, problems such as disconnection are likely to occur, which is not preferable. The difference in linear expansion coefficient before and after the glass transition temperature of the composite transparent sheet is preferably 20 ppm or less, more preferably 15 ppm or less, further preferably 10 ppm or less, and preferably 5 ppm or less. Even more preferred. The above-mentioned hybrid cured body is preferable because the change in elastic modulus due to heat is small and the change in thermal expansion coefficient due to heat tends to be small.

本実施の形態に係る複合透明シートを、回路基板や表示素子基板などとして用いる場合、これらの基板の厚さは、好ましくは5〜2,000μmであり、より好ましくは10〜1,000μmであり、さらに好ましくは15〜200μmであり、さらにより好ましくは15〜80μmである。かかる基板の厚さが上記範囲内の場合、平坦性に優れるとともに、ガラス基板などと比較して基板の軽量化を図ることができる。このように、前記複合透明シートは、ガラス基板を代替することのできるものである。   When the composite transparent sheet according to the present embodiment is used as a circuit board or a display element substrate, the thickness of these substrates is preferably 5 to 2,000 μm, more preferably 10 to 1,000 μm. More preferably, it is 15-200 micrometers, More preferably, it is 15-80 micrometers. When the thickness of the substrate is within the above range, the flatness is excellent, and the weight of the substrate can be reduced as compared with a glass substrate or the like. Thus, the composite transparent sheet can replace the glass substrate.

シートの加工の際には、耐クラック性も重要となる。上記のハイブリッド硬化体は上述した特定の緩和指標を有することから、熱だけでなく物理的な衝撃も緩和することができる。加えて、フィラーと硬化体との界面が強固であるため、結果的に、前記ハイブリッド硬化体は耐クラック性に極めて優れる。   Crack resistance is also important when processing sheets. Since the above-mentioned hybrid cured body has the specific relaxation index described above, not only heat but also physical impact can be reduced. In addition, since the interface between the filler and the cured body is strong, as a result, the hybrid cured body is extremely excellent in crack resistance.

液晶などの用途の場合、シートの複屈折も重要となる。シートの面内複屈折は5nm以下であることが好ましく、3nm以下であることがより好ましく、2nm以下であることがさらに好ましく、1nm以下であることがさらにより好ましい。硬化樹脂の場合、複屈折は応力に起因した歪みによって生じる。これに対し、上記ハイブリッド硬化体は応力緩和性に優れ、且つ歪みの程度が極めて小さいため、複屈折の発生を効果的に抑制できる。   For applications such as liquid crystals, the birefringence of the sheet is also important. The in-plane birefringence of the sheet is preferably 5 nm or less, more preferably 3 nm or less, still more preferably 2 nm or less, and even more preferably 1 nm or less. In the case of a cured resin, birefringence is caused by strain due to stress. On the other hand, since the hybrid cured product is excellent in stress relaxation and has a very small degree of distortion, the occurrence of birefringence can be effectively suppressed.

本実施の形態に係る複合透明シートの製造方法は、特に制限されることはないが、泡などの異物が少なく、且つ均一な成形体を得やすいという観点から、上記樹脂組成物とフィラーとを混合する工程と、樹脂を硬化する工程とを有することが好ましい。以下に制限されないが、例えば、樹脂組成物とフィラーとを直接混合し、必要な型に注型した後で架橋させる方法、樹脂組成物を溶剤に溶解し、フィラーを分散させ、キャストした後に架橋させる方法、及び樹脂組成物をガラスクロスやガラス不織布に含浸させた後に架橋させる方法が挙げられる。   The method for producing the composite transparent sheet according to the present embodiment is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining a uniform molded product with few foreign substances such as bubbles, the resin composition and the filler are used. It is preferable to have a step of mixing and a step of curing the resin. Although not limited to the following, for example, a method in which a resin composition and a filler are directly mixed and cast after being cast into a required mold, and the resin composition is dissolved in a solvent, the filler is dispersed, and after the casting is crosslinked And a method of crosslinking after impregnating a glass cloth or a glass nonwoven fabric with the resin composition.

また、場合によっては、樹脂組成物とフィラーとを混合し、熱又はエネルギー線で硬化しながらシート状にプレスすることによって、シート表面を平滑化することも好ましい。ここで、エポキシ基が存在する場合、一般に高温下では酸素による劣化が生じやすいため、プレス加工は真空下、又は酸素を有さない不活性ガス下で行うことが好ましい。   Moreover, depending on the case, it is also preferable to smooth the sheet | seat surface by mixing a resin composition and a filler and pressing into a sheet form, hardening with a heat | fever or an energy ray. Here, when an epoxy group is present, deterioration due to oxygen generally tends to occur at a high temperature. Therefore, it is preferable to perform the press working under a vacuum or an inert gas not containing oxygen.

また、本実施の形態に係る複合透明シートは、透明性に優れた各種の基板(表示素子用基板)に適用できる。その際、表面粗度を改善する目的、さらには組み立て工程における機械的又は化学的な損傷からの保護を目的として、前記基板の表面に、硬化性樹脂ワニスを塗布して硬化させた硬化皮膜を形成してもよい。前記硬化性樹脂ワニスとしては、以下に制限されないが、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びポリエステルアクリレート等のアクリル酸エステルを含有する光硬化性樹脂、o−クレゾールノボラック型及びビスフェノール型などのエポキシ樹脂、ウレタン、アクリル酸エステル及び不飽和ポリエステル等を含有する熱硬化性樹脂、並びに電子線硬化性樹脂が挙げられる。中でも、生産性などを向上させる観点から、光硬化性樹脂が好ましい。また、前記硬化皮膜は、実質的に透明で、光学的に等方性であることが好ましい。上記の基板に前記硬化皮膜を形成させる方法としては、以下に制限されないが、例えば、グラビアコート法、リバースロールコート法、及びキスロールコート法が挙げられる。また、必要に応じて、樹脂のコート層、水蒸気や酸素に対するガスバリア層、及び透明電極層などを上記複合透明シートに設けてもよい。   Further, the composite transparent sheet according to the present embodiment can be applied to various substrates (display element substrates) having excellent transparency. At that time, for the purpose of improving the surface roughness, and also for the purpose of protection from mechanical or chemical damage in the assembly process, a cured film obtained by applying and curing a curable resin varnish on the surface of the substrate is used. It may be formed. Examples of the curable resin varnish include, but are not limited to, photocurable resins containing acrylic esters such as epoxy acrylate, urethane acrylate and polyester acrylate, epoxy resins such as o-cresol novolac type and bisphenol type, Examples thereof include thermosetting resins containing urethane, acrylic acid esters and unsaturated polyesters, and electron beam curable resins. Among these, from the viewpoint of improving productivity and the like, a photocurable resin is preferable. The cured film is preferably substantially transparent and optically isotropic. The method for forming the cured film on the substrate is not limited to the following, and examples thereof include a gravure coating method, a reverse roll coating method, and a kiss roll coating method. If necessary, a resin coating layer, a gas barrier layer against water vapor or oxygen, a transparent electrode layer, and the like may be provided on the composite transparent sheet.

また、上記複合透明シートを製造するに際し、上述の通り、前記樹脂組成物は、着色性を低減する(透明性を向上する)観点から、酸発生剤をさらに含有することが好ましい。   Moreover, when manufacturing the said composite transparent sheet, as above-mentioned, it is preferable that the said resin composition further contains an acid generator from a viewpoint of reducing colorability (improving transparency).

以下、本実施の形態を実施例及び比較例によってさらに具体的に説明するが、本実施の形態はこれらの実施例のみに制限されるものではない。本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present embodiment is not limited to only these examples. The present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.

まず、実施例及び比較例における物性の評価を以下で説明する。   First, evaluation of physical properties in Examples and Comparative Examples will be described below.

[物性の評価]   [Evaluation of physical properties]

<X線小角散乱法(SAXS)を用いた相分離構造サイズの測定>   <Measurement of phase separation structure size using X-ray small angle scattering method (SAXS)>

X線小角散乱測定装置は、概略的にいえば、小角分解能を達成するためのブロックコリメータ光学系、空気散乱を排除する全真空チャンバー、及び検出器でダイレクトビーム位置とサンプル透過後のビーム強度とを同時に測定する半透過ビームストッパー等から一般的には構成される。しかし、測定対象物及びその性状、並びに測定対象のスケール等によって適宜、上記構成の取捨選択を行った。   The X-ray small angle scatter measurement apparatus generally includes a block collimator optical system for achieving a small angle resolution, an all-vacuum chamber that eliminates air scattering, and a direct beam position and a beam intensity after transmission through a detector. In general, it is composed of a semi-transmission beam stopper or the like that measures simultaneously. However, the above configuration was appropriately selected depending on the measurement object and its properties, the scale of the measurement object, and the like.

(測定とデータの扱い)   (Measurement and data handling)

測定対象とするサンプルに対してX線が散乱した強度は存在する電子密度全てを積分することにより得られ、下記式(11)で表される。
(数11)
・・・(11)
上記式中、qはθを散乱角度とすると散乱ベクトルであり、下記式(12)で表される。
(数12)
q=4πsin(θ/2)/λ・・・(12)
上記式(11)中、rは実空間での距離、δρは粒子などの相分離領域部分の密度、及びρaveは平均密度とする。サンプルを充填又は支持するキャピラリーや溶媒などは、X線を散乱する媒体となり得る。そのため、予め、前記キャピラリーや溶媒などをブランクとして測定し、吸収補正を行った後に散乱強度から差し引いた(即ち、上記式(11)における右辺第一項を差し引くことに相当する)。例えば、サンプル濃度が1質量%以下という希薄な系では、サンプルの相分離間相互作用は考えなくてよく、あたかも相分離成分のみが真空中に分散している状態とみなすことができるため、理想的な散乱プロファイルと比較した上での相分離構造(形状)に対する議論が可能となる。
The intensity at which X-rays are scattered with respect to the sample to be measured is obtained by integrating all the existing electron densities, and is represented by the following formula (11).
(Equation 11)
(11)
In the above formula, q is a scattering vector, where θ is the scattering angle, and is represented by the following formula (12).
(Equation 12)
q = 4πsin (θ / 2) / λ (12)
In the above formula (11), r is the distance in real space, δρ is the density of the phase separation region portion such as particles, and ρ ave is the average density. Capillaries or solvents that fill or support the sample can be a medium that scatters X-rays. Therefore, the capillary or solvent was measured in advance as a blank, and after performing absorption correction, it was subtracted from the scattering intensity (that is, equivalent to subtracting the first term on the right side in the above equation (11)). For example, in a dilute system with a sample concentration of 1% by mass or less, there is no need to consider the interaction between the phase separations of the sample, and it can be regarded as if only the phase separation components are dispersed in the vacuum. It becomes possible to discuss the phase separation structure (shape) in comparison with a typical scattering profile.

(ギニエの法則に基づくデータの解析方法)   (Data analysis method based on Guinier's law)

かかる方法を用いることにより、界面の情報を含んだ平均的な相分離構造の大きさを推定した。散乱体内部の密度が均一であると仮定し、形状(球体、ロッド状、板状など)を仮定し、且つ相分離構造が単分散であると仮定した。その上で、得られたデータ(散乱プロファイル)の低角度部分に対する線形直線近似を行った。具体的には、先に示した計算によって得られた散乱プロファイルに対してかかる解析方法を適用すると、近似された直線が得られ、その傾きから慣性半径(Rg)を計算した。実空間距離(r)と慣性半径(Rg)との間で、相分離構造が球体であると仮定した場合に、下記式(13)のような関係式が成り立つ。
(数13)
r=Rg×(5/3)1/2・・・(13)
By using this method, the average size of the phase separation structure including the interface information was estimated. The density inside the scatterer was assumed to be uniform, the shape (sphere, rod, plate, etc.) was assumed, and the phase separation structure was assumed to be monodisperse. Then, linear linear approximation was performed for the low-angle part of the obtained data (scattering profile). Specifically, when this analysis method is applied to the scattering profile obtained by the calculation described above, an approximated straight line is obtained, and the inertia radius (Rg) is calculated from the inclination. When it is assumed that the phase separation structure is a sphere between the real space distance (r) and the inertial radius (Rg), the following relational expression (13) is established.
(Equation 13)
r = Rg × (5/3) 1/2 (13)

<緩和時間の測定及び緩和指標の算出>   <Measurement of relaxation time and calculation of relaxation index>

H核の緩和時間の測定を以下の方法で行った。 The relaxation time of 1 H nuclei was measured by the following method.

JNM−MU25A核磁気共鳴装置(JEOL製)を用い、SolidEcho法のパルスを使用して、室温及び200℃における緩和時間T2を測定した。そして、上記の式(1)にT2の測定値をあてはめて、緩和指標を算出した。   Using a JNM-MU25A nuclear magnetic resonance apparatus (manufactured by JEOL), relaxation time T2 at room temperature and 200 ° C. was measured using a pulse of SolidEcho method. The relaxation index was calculated by applying the measured value of T2 to the above equation (1).

<エポキシ当量(WPE)>   <Epoxy equivalent (WPE)>

JIS K 7236:2001(エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方)に従って測定した。   It was measured according to JIS K 7236: 2001 (how to obtain epoxy equivalent of epoxy resin).

<ハイブリッド硬化体の動的粘弾性スペクトルの測定>   <Measurement of dynamic viscoelastic spectrum of hybrid cured product>

セイコーインスツルメント株式会社製EXSTAR6000を使用し、2mm厚のサンプルを、1分間に5℃の割合で−120℃から300℃まで温度を上昇させ、曲げモードで測定した。   Using an EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc., a 2 mm thick sample was measured at a rate of 5 ° C. per minute from −120 ° C. to 300 ° C. and measured in a bending mode.

<ハイブリッド硬化体の耐熱性>   <Heat resistance of hybrid cured product>

上述の通り、ハイブリッド硬化体の耐熱性の指標として、動的粘弾性測定における貯蔵弾性率の温度依存性が挙げられる。そこで、上記した式(5)で表される弾性率比を算出することにより、ハイブリッド硬化体の耐熱性を求めた。   As above-mentioned, the temperature dependence of the storage elastic modulus in a dynamic viscoelasticity measurement is mentioned as a heat resistant parameter | index of a hybrid hardening body. Therefore, the heat resistance of the hybrid cured body was determined by calculating the elastic modulus ratio represented by the above formula (5).

<黄色度(YI)>   <Yellowness (YI)>

YIは、3mm厚のサンプルをコニカミノルタ製のSPECTROPHOTOMETER CM−3600dを用いて測定した。その際、“ASTM D1925−70(1988):Test Method for Yellowness Index of Plastics”に準じて求めた。   YI was measured on a 3 mm thick sample using SPECTROPHOTOMETER CM-3600d manufactured by Konica Minolta. In that case, it calculated | required according to "ASTM D1925-70 (1988): Test Method for Yellowness Index of Plastics".

<屈折率の測定>   <Measurement of refractive index>

アタゴ社製のアッベ屈折率計DR−M2を用いて、23℃で589nmの屈折率を測定した。   A refractive index of 589 nm was measured at 23 ° C. using an Abbe refractometer DR-M2 manufactured by Atago Co., Ltd.

<複合透明シートの動的粘弾性スペクトルの測定>   <Measurement of dynamic viscoelastic spectrum of composite transparent sheet>

レオメトリック社製RSAIIを用いて、1分間に5℃の割合で20℃から300℃まで温度を上昇させ、シートサンプルの貯蔵弾性率E’を測定した。チャック間距離は20〜30mm、サンプル幅2〜4mm、測定周波数1Hz、歪み量は0.05%にし、引張りモードで測定した。   Using a rheometric RSAII, the temperature was increased from 20 ° C. to 300 ° C. at a rate of 5 ° C. per minute, and the storage elastic modulus E ′ of the sheet sample was measured. The distance between chucks was 20 to 30 mm, the sample width was 2 to 4 mm, the measurement frequency was 1 Hz, the strain amount was 0.05%, and the measurement was performed in the tensile mode.

<複合透明シートの線膨張係数の測定>   <Measurement of linear expansion coefficient of composite transparent sheet>

セイコーインスツルメンツ社製TMA/SS120を用いて、1分間に5℃の割合で30℃から330℃まで温度を上昇させ、線膨張率を測定した。チャック間の距離は10mm、サンプル幅2mm、荷重10gにし、引張りモードで測定した。下記式(14)に従い、50℃と300℃との間での平均のサンプル長さの変化率ΔLを線膨張係数とした。
(数14)
ΔL={(L300−L50)/L50}/(300−50)・・・(14)
上記式中、50℃でのサンプル長をL50、300℃でのサンプル長をL300とした。
Using TMA / SS120 manufactured by Seiko Instruments Inc., the temperature was increased from 30 ° C. to 330 ° C. at a rate of 5 ° C. per minute, and the linear expansion coefficient was measured. The distance between chucks was 10 mm, the sample width was 2 mm, and the load was 10 g. According to the following formula (14), the change rate ΔL of the average sample length between 50 ° C. and 300 ° C. was defined as the linear expansion coefficient.
(Equation 14)
ΔL = {(L300−L50) / L50} / (300−50) (14)
In the above formula, the sample length at 50 ° C. was L50, and the sample length at 300 ° C. was L300.

<全光線透過率の測定>   <Measurement of total light transmittance>

JIS K−7105に準拠して測定した。   It measured based on JIS K-7105.

<光学的欠陥(ボイド)の観察>   <Observation of optical defects>

マイクロスコープを用い、斜方から照明をあてて反射される散乱光を観察した。   Using a microscope, the scattered light reflected from the oblique direction was observed.

<柔軟性>   <Flexibility>

シートを折り曲げた感触を評価した。ここで、柔軟性の評価は、下記表4に示すように、○と×とで行っている。「○」は、シートの両端を持って曲げた時に全体としてきれいに曲がる場合の評価に相当し、「×」は、シートの両端を持って曲げた時に、局所的に端部で曲がるか、又は折れてクラックが発生する場合の評価に相当する。また、「○」や「×」といった、樹脂シートの柔軟性に関する評価基準を、図3として視覚的且つ概略的に示した。即ち、図3は、後述する実施例14及び15並びに比較例8の樹脂シートの柔軟性に関する評価基準を示す概略図である。   The feeling of folding the sheet was evaluated. Here, as shown in Table 4 below, the evaluation of flexibility is performed with ◯ and ×. “○” corresponds to the evaluation when the sheet is bent as a whole when it is bent with both ends of the sheet, and “X” indicates that the sheet is bent locally at the ends when it is bent with both ends of the sheet, or This corresponds to the evaluation in the case of breaking and cracking. Moreover, the evaluation criteria regarding the softness | flexibility of a resin sheet, such as "(circle)" and "x", were shown visually and schematically as FIG. That is, FIG. 3 is a schematic diagram showing evaluation criteria relating to the flexibility of the resin sheets of Examples 14 and 15 and Comparative Example 8 described later.

[原材料]   [raw materials]

次に、本発明に係る樹脂組成物を製造した「製造例」、並びに本発明に係るハイブリッド硬化体を製造した「実施例」、及びその対照区である「比較例」のそれぞれにおいて使用した原材料について、以下の1〜9で説明する。   Next, the raw material used in each of “Production Example” for producing the resin composition according to the present invention, “Example” for producing the hybrid cured product according to the present invention, and “Comparative Example” which is a control section thereof. Will be described in the following 1-9.

1.エポキシ樹脂   1. Epoxy resin

(1)エポキシ樹脂A:ポリ(ビスフェノールA−2−ヒドロキシプロピルエーテル)(以下、「BisA」という)   (1) Epoxy resin A: poly (bisphenol A-2-hydroxypropyl ether) (hereinafter referred to as “BisA”)

旭化成エポキシ株式会社製のAERを用いた。また、上記の方法により測定したエポキシ当量(WPE)及び粘度は、以下の通りであった。
・エポキシ当量(WPE):187g/eq
・粘度(25℃):14.3Pa・s
AER manufactured by Asahi Kasei Epoxy Corporation was used. Moreover, the epoxy equivalent (WPE) and viscosity measured by said method were as follows.
Epoxy equivalent (WPE): 187 g / eq
Viscosity (25 ° C.): 14.3 Pa · s

(2)エポキシ樹脂B:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(以下、「脂環エポ」という)   (2) Epoxy resin B: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexylcarboxylate (hereinafter referred to as "alicyclic epoch")

ダイセル化学工業株式会社製のセロキサイド2021Pを用いた。また、上記の方法により測定したエポキシ当量(WPE)及び粘度は、以下の通りであった。
・エポキシ当量(WPE):131g/eq
・粘度(25℃):227mPa・s
Ceroxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. was used. Moreover, the epoxy equivalent (WPE) and viscosity measured by said method were as follows.
Epoxy equivalent (WPE): 131 g / eq
Viscosity (25 ° C.): 227 mPa · s

(3)エポキシ樹脂C:水素化ポリ(ビスフェノールA−2−ヒドロキシプロピルエーテル)(以下、「水添BisA」という)   (3) Epoxy resin C: hydrogenated poly (bisphenol A-2-hydroxypropyl ether) (hereinafter referred to as “hydrogenated BisA”)

ジャパンエポキシレジン株式会社製のYX8000を用いた。また、上記の方法により測定したエポキシ当量(WPE)及び粘度は、以下の通りであった。
・エポキシ当量(WPE):205g/eq
・粘度(25℃):1,150mPa・s
YX8000 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. was used. Moreover, the epoxy equivalent (WPE) and viscosity measured by said method were as follows.
Epoxy equivalent (WPE): 205 g / eq
Viscosity (25 ° C.): 1,150 mPa · s

2.アルコキシシラン化合物   2. Alkoxysilane compounds

(1)アルコキシシラン化合物A:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(以下、「GPTMS」という)   (1) Alkoxysilane compound A: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “GPTMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−403を用いた。   KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(2)アルコキシシラン化合物B:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「ECETMS」という)   (2) Alkoxysilane compound B: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “ECETMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−303を用いた。   KBM-303 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(3)アルコキシシラン化合物C:3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン(以下、「GPMDMS」という)   (3) Alkoxysilane compound C: 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane (hereinafter referred to as “GPMDMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−402を用いた。   KBM-402 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(4)アルコキシシラン化合物D:フェニルトリメトキシシラン(以下、「PTMS」という)   (4) Alkoxysilane compound D: phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “PTMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−103を用いた。   KBM-103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(5)アルコキシシラン化合物E:ジフェニルジメトキシシラン(以下、「DPDMS」という)   (5) Alkoxysilane compound E: Diphenyldimethoxysilane (hereinafter referred to as “DPDMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−202SSを用いた。   KBM-202SS manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(6)アルコキシシラン化合物F:フェニルメチルジメトキシシラン(以下、「PMDMS」という)   (6) Alkoxysilane compound F: phenylmethyldimethoxysilane (hereinafter referred to as “PMDMS”)

アズマックス株式会社製のSIP6740を用いた。   SIP 6740 manufactured by Asmax Co., Ltd. was used.

(7)アルコキシシラン化合物G:ジメチルジメトキシシラン(以下、「DMDMS」という)   (7) Alkoxysilane compound G: Dimethyldimethoxysilane (hereinafter referred to as “DMDMS”)

信越化学工業株式会社製のKBM−22を用いた。   KBM-22 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(8)アルコキシシラン化合物H:テトラエトキシシラン(以下、「TEOS」という)   (8) Alkoxysilane compound H: tetraethoxysilane (hereinafter referred to as “TEOS”)

信越化学工業株式会社製のKBE−04を用いた。   KBE-04 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

3.溶剤   3. solvent

テトラヒドロフラン(安定剤不含タイプ、和光純薬工業株式会社製)を用いた(以下、「THF」という)。   Tetrahydrofuran (stabilizer-free type, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used (hereinafter referred to as “THF”).

4.加水分解用及び縮合用触媒   4). Hydrolysis and condensation catalysts

(1)ジブチル錫ジアセテート(商品名:ジブチルすずジアセタート、東京化成株式会社製)を用いた(以下、「DBTDA」という)。   (1) Dibutyltin diacetate (trade name: dibutyltin diacetate, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used (hereinafter referred to as “DBTDA”).

(2)酢酸として、和光純薬工業株式会社製のものを用いた。   (2) Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was used as acetic acid.

(3)固体酸触媒として、イオン交換樹脂(AMBERLYST 15DRY、オルガノ株式会社製)を用いた。   (3) An ion exchange resin (AMBERLYST 15DRY, manufactured by Organo Corporation) was used as the solid acid catalyst.

(4)水酸化バリウム(商品名:無水水酸化バリウム、和光純薬工業株式会社製)を用いた。   (4) Barium hydroxide (trade name: anhydrous barium hydroxide, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used.

(5)チタン触媒(Ti(OPr))(商品名:オルトチタン酸テトライソプロピル、東京化成株式会社製)を用いた。 (5) A titanium catalyst (Ti (OPr) 4 ) (trade name: tetraisopropyl orthotitanate, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used.

(6)ジブチル錫ジラウリレートとして、和光純薬工業株式会社製のものを用いた(以下、「DBTDL」という)。   (6) A product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was used as dibutyltin dilaurate (hereinafter referred to as “DBTDL”).

5.硬化剤   5. Hardener

(1)熱カチオン硬化剤(CP−77、株式会社ADEKA製)を用いた。   (1) A thermal cationic curing agent (CP-77, manufactured by ADEKA Corporation) was used.

(2)光カチオン硬化剤(SP−170株式会社ADEKA製)を用いた。   (2) A photocationic curing agent (SP-170 manufactured by ADEKA Corporation) was used.

(3)アミン硬化剤(4、4’―ジアミノジフェニルメタン、和光純薬工業株式会社製)を用いた(以下、「DDM」という)。   (3) An amine curing agent (4,4'-diaminodiphenylmethane, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used (hereinafter referred to as "DDM").

6.シリル化剤   6). Silylating agent

(1)トリメチルシラノール(LS−310、信越化学工業株式会社製)を用いた。   (1) Trimethylsilanol (LS-310, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used.

(2)ヘキサメチルジシラザン(Strem Chemicals Inc.社製)を用いた。   (2) Hexamethyldisilazane (Strem Chemicals Inc.) was used.

次に、樹脂組成物を製造した「製造例」について詳細に説明する。   Next, “Production Example” for producing the resin composition will be described in detail.

[製造例1]   [Production Example 1]

GPTMS 150g、PMDMS 142.5g、THF 146.3g及び水酸化バリウム 1.21gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、75gの水を一括で添加し、10時間還流を続けた。室温に冷却した後、水酸化バリウムを0.2μmのフィルターで濾過した。得られた濾液を80℃で5時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン1を得た。   150 g of GPTMS, 142.5 g of PMDMS, 146.3 g of THF and 1.21 g of barium hydroxide were placed in a flask containing a stirrer, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 75 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 10 hours. After cooling to room temperature, barium hydroxide was filtered through a 0.2 μm filter. The obtained filtrate was evaporated at 80 ° C. for 5 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 1.

[製造例2]   [Production Example 2]

GPTMS 75g、PMDMS 71.25g、THF 73.13g及びDBTDA 1.243gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、37.49gの水を一括で添加し、7時間還流を続けた。80℃で5時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン2を得た。   75 g of GPTMS, 71.25 g of PMDMS, 73.13 g of THF and 1.243 g of DBTDA were placed in a flask containing a stirrer, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 37.49 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 7 hours. Evaporation was performed at 80 ° C. for 5 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 2.

[製造例3]   [Production Example 3]

GPTMS 75g、PMDMS 71.25g、THF 73.13g及びDBTDA 1.243gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、37.49gの水を一括で添加し、7時間還流を続けた。水酸化バリウム0.909gを加えて、さらに20分間撹拌を続けた。室温に冷却した後、水酸化バリウムを0.2μmのフィルターで濾過した。得られた濾液を80℃で5時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン3を得た。   75 g of GPTMS, 71.25 g of PMDMS, 73.13 g of THF and 1.243 g of DBTDA were placed in a flask containing a stirrer, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 37.49 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 7 hours. 0.909 g of barium hydroxide was added and stirring was continued for another 20 minutes. After cooling to room temperature, barium hydroxide was filtered through a 0.2 μm filter. The obtained filtrate was evaporated at 80 ° C. for 5 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 3.

[製造例4]   [Production Example 4]

水酸化バリウムと同時に、20gのトリメチルシラノールを加えた点以外は、製造例3と同様の操作を行い、シリコーン4を得た。   Silicone 4 was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that 20 g of trimethylsilanol was added simultaneously with barium hydroxide.

[製造例5]   [Production Example 5]

GPTMS 150g、PMDMS 14.25g、イオン交換樹脂(AMBERLYST 15DRY)10g、及び水125gをフラスコに入れ、エバポレーターにセットした。オイルバスの温度を80℃とし、100kPaで生成するメタノールを留去しながら7時間反応させた後、イオン交換樹脂を濾過で除去した。得られた濾液を80℃で5時間エバポレートし、残ったメタノール及び水を除去して、シリコーン5を得た。   150 g of GPTMS, 14.25 g of PMDMS, 10 g of ion exchange resin (AMBERLYST 15DRY), and 125 g of water were placed in a flask and set in an evaporator. The temperature of the oil bath was set to 80 ° C., and the reaction was performed for 7 hours while distilling off methanol produced at 100 kPa, and then the ion exchange resin was removed by filtration. The obtained filtrate was evaporated at 80 ° C. for 5 hours, and the remaining methanol and water were removed to obtain silicone 5.

[製造例6]   [Production Example 6]

GPTMS 24.25g、PMDMS 23.00g及びエタノール22.76gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、0.1M塩酸5.05gを添加して加水分解反応を開始した。1.5時間後に反応溶液の29Si−NMRを測定し、加水分解反応が進行していることを確認した。予め、別の容器にTi(OPr) 10.75gを秤量し、同一の質量のエタノールを用いて希釈しておき、この希釈液を、加水分解後の溶液に20分間かけて室温でゆっくりと滴下し、そのまま室温で22時間攪拌した。エバポレーターを用いて、得られた液を室温で1.5時間濃縮して、シリコーン6を得た。 24.25 g of GPTMS, 23.00 g of PMDMS, and 22.76 g of ethanol were placed in a flask containing a stirring bar, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was uniformly mixed, 5.05 g of 0.1M hydrochloric acid was added to start the hydrolysis reaction. After 1.5 hours, 29Si-NMR of the reaction solution was measured to confirm that the hydrolysis reaction had progressed. In advance, 10.75 g of Ti (OPr) 4 was weighed in another container and diluted with the same mass of ethanol, and this diluted solution was slowly added to the hydrolyzed solution at room temperature over 20 minutes. The solution was added dropwise and stirred at room temperature for 22 hours. Using an evaporator, the resulting liquid was concentrated at room temperature for 1.5 hours to obtain silicone 6.

[製造例7]   [Production Example 7]

GPTMS 55g、PMDMS 52g、THF 53.5g及び酢酸0.31gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、22.86gの水を一括で添加し、7時間還流を続けた。その後、80℃で5時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン7を得た。   GPTMS 55g, PMDMS 52g, THF 53.5g and acetic acid 0.31g were put into a flask charged with a stirrer, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 22.86 g of water was added in one batch and continued to reflux for 7 hours. Then, it evaporated at 80 degreeC for 5 hours, the solvent, methanol, and water were removed, and the silicone 7 was obtained.

[製造例8]   [Production Example 8]

GPTMS 75g、PMDMS 71.25g及びDBTDA 1.243gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。32gの水を5時間かけて添加し、生成するメタノールを除去しながら反応を10時間続けた。さらに80℃で5時間エバポレートし、残ったメタノール及び水を除去した。その後、ヘキサメチルジシラザンを30g加えて、発生するアンモニアを除去しながら80℃で5時間反応させた。その後80℃で8時間エバポレートし、残ったヘキサメチルジシラザンを除去して、シリコーン8を得た。   75 g of GPTMS, 71.25 g of PMDMS, and 1.243 g of DBTDA were placed in a flask containing a stirrer, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. 32 g of water was added over 5 hours and the reaction was continued for 10 hours while removing the methanol formed. Further, the mixture was evaporated at 80 ° C. for 5 hours to remove the remaining methanol and water. Thereafter, 30 g of hexamethyldisilazane was added and reacted at 80 ° C. for 5 hours while removing the generated ammonia. Thereafter, the mixture was evaporated at 80 ° C. for 8 hours, and the remaining hexamethyldisilazane was removed to obtain silicone 8.

[製造例9]   [Production Example 9]

ECETMS 45g、DMDMS 13.12g及びDBTDA 0.92gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、9gの水を一括で添加し、4時間還流を続けた。室温まで冷却した後、脂環エポ41gを加え、均質になるまで撹拌した。その後80℃で2時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン9を得た。   45 g of ECETMS, 13.12 g of DMDMS, and 0.92 g of DBTDA were placed in a flask charged with a stir bar, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 9 g of water was added in one portion and refluxing was continued for 4 hours. After cooling to room temperature, 41 g of alicyclic epoch was added and stirred until homogeneous. Thereafter, the mixture was evaporated at 80 ° C. for 2 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 9.

[製造例10]   [Production Example 10]

GPTMS 205g、GPMDMS 9.61g、PTMS 58.7g、PMDMS 258g、TEOS 64.8g、脂環エポ408g、DBTDL 8.46g及びTHF 288gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、155gの水を一括で添加し、9時間還流を続けた。その後80℃で10時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン10を得た。   205 g of GPTMS, 9.61 g of GPDMMS, 58.7 g of PTMS, 258 g of PMDMS, 64.8 g of TEOS, 408 g of alicyclic epoch, 8.46 g of DBTDL, and 288 g of THF were placed in a flask charged with a stir bar and set in an oil bath. The mixture was stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 155 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 9 hours. Thereafter, the mixture was evaporated at 80 ° C. for 10 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 10.

[製造例11]   [Production Example 11]

ECETMS 38.73g、DPDMS 37.65g、DMDMS 29.16g、PMDMS 18.06g、DBTDA 1.14g及びTHF 62.16gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、20gの水を一括で添加し、9時間還流を続けた。その後、室温まで冷却し、脂環エポ54gを投入し、均質に混ぜた後、80℃で7時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン11を得た。   ECETMS 38.73g, DPDMS 37.65g, DMDMS 29.16g, PMDMS 18.06g, DBTDA 1.14g and THF 62.16g were put in a flask charged with a stir bar, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. did. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing started, 20 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 9 hours. Then, it cooled to room temperature, 54 g of alicyclic epoxies were thrown in, and it mixed uniformly, Then, it evaporated at 80 degreeC for 7 hours, the solvent, methanol, and water were removed, and the silicone 11 was obtained.

[製造例12]   [Production Example 12]

GPMDMS 50g、DBTDA 0.32g及びTHF 20gを、攪拌子を投入したフラスコに入れ、オイルバスにセットし、室温で混合攪拌した。溶液が均一に混合された後、オイルバスを80℃に加熱した。還流が始まった後、4gの水を一括で添加し、9時間還流を続けた。その後80℃で7時間エバポレートし、溶媒、メタノール及び水を除去して、シリコーン12を得た。   GPDMMS (50 g), DBTDA (0.32 g) and THF (20 g) were placed in a flask containing a stirring bar, set in an oil bath, and mixed and stirred at room temperature. After the solution was mixed uniformly, the oil bath was heated to 80 ° C. After refluxing began, 4 g of water was added in one batch and refluxing was continued for 9 hours. Thereafter, the mixture was evaporated at 80 ° C. for 7 hours, and the solvent, methanol and water were removed to obtain silicone 12.

以上の製造例1〜12により得られた各シリコーン(1〜12)の物性を下記表1に纏めた。
The physical properties of each silicone (1-12) obtained in the above Production Examples 1-12 are summarized in Table 1 below.

表1中、縮合率は、上述した式(3)を用いて得られた値である。また、保存安定性は、上述した通り、樹脂組成物を密閉容器中60℃で72時間保存した場合の粘度変化で表される。具体的には、上記保存安定性の値は、初期の粘度に対する72時間後の粘度の比である。また、D体の構造単位の比率は、29Si−NMRにより求めた。   In Table 1, the condensation rate is a value obtained using the above-described formula (3). The storage stability is represented by a change in viscosity when the resin composition is stored in a closed container at 60 ° C. for 72 hours as described above. Specifically, the storage stability value is the ratio of the viscosity after 72 hours to the initial viscosity. Moreover, the ratio of the structural unit of D body was calculated | required by 29Si-NMR.

次に、ハイブリッド硬化体を製造した実施例、及びその比較例について詳細に説明する。   Next, the Example which manufactured the hybrid hardening body and its comparative example are demonstrated in detail.

[実施例1〜8、12]   [Examples 1-8, 12]

下記表2に示したように、上記製造例1〜9で得られたシリコーンとエポキシ樹脂とを完全に混合させた。その際、シリコーンとエポキシ樹脂とが混ざりにくい場合には、THFに溶解させて混合した後にTHFを留去した。得られた樹脂組成物に所定の硬化剤を加えた(表2参照)。その後、型枠に流し込み、表2に示した所定の条件で硬化を行った。上記各実施例で得られたハイブリッド硬化体の物性を下記表3に示す。   As shown in Table 2 below, the silicone obtained in Production Examples 1 to 9 and the epoxy resin were mixed thoroughly. At that time, when it was difficult to mix the silicone and the epoxy resin, THF was distilled off after dissolving and mixing in THF. A predetermined curing agent was added to the obtained resin composition (see Table 2). Thereafter, it was poured into a mold and cured under predetermined conditions shown in Table 2. The physical properties of the hybrid cured product obtained in each of the above examples are shown in Table 3 below.

[実施例9〜11、13]   [Examples 9 to 11, 13]

上記表1に示したように、上記製造例9〜11で得られた「シリコーン」は、シリコーンとエポキシ樹脂とを含有しており、樹脂組成物といえる。そのため、改めて実施例の中でエポキシ樹脂は添加しなかった(表2参照)。前記樹脂組成物に所定の硬化剤を加えた(表2参照)。その後、型枠に流し込み、表2に示した所定の条件で硬化を行った。上記各実施例で得られたハイブリッド硬化体の物性を下記表3に示す。   As shown in Table 1 above, the “silicone” obtained in the above Production Examples 9 to 11 contains silicone and an epoxy resin and can be said to be a resin composition. Therefore, the epoxy resin was not added again in the examples (see Table 2). A predetermined curing agent was added to the resin composition (see Table 2). Thereafter, it was poured into a mold and cured under predetermined conditions shown in Table 2. The physical properties of the hybrid cured product obtained in each of the above examples are shown in Table 3 below.

[比較例1〜6]   [Comparative Examples 1-6]

比較例2、4及び6においては、下記表2に示したように、製造例(2、12)のシリコーンと、エポキシ樹脂とを完全に混合させた。混ざりにくい場合には、THFに溶解させて混合した後にTHFを留去した。一方、比較例1、3及び5においては、上記表1に示したように、そもそもシリコーンを用いていない。   In Comparative Examples 2, 4, and 6, as shown in Table 2 below, the silicone of Production Example (2, 12) and the epoxy resin were completely mixed. When it was difficult to mix, THF was distilled off after dissolving and mixing in THF. On the other hand, in Comparative Examples 1, 3, and 5, as shown in Table 1 above, silicone is not used in the first place.

得られた樹脂組成物(比較例2、4及び6)又はエポキシ樹脂(比較例1、3及び5)に所定の硬化剤を加えた(表2参照)。その後、型枠に流し込み、表2に示した所定の条件で硬化を行った。上記各比較例で得られた硬化体の物性を下記表3に示す。   A predetermined curing agent was added to the obtained resin composition (Comparative Examples 2, 4 and 6) or epoxy resin (Comparative Examples 1, 3 and 5) (see Table 2). Thereafter, it was poured into a mold and cured under predetermined conditions shown in Table 2. The physical properties of the cured products obtained in the above comparative examples are shown in Table 3 below.

比較例1は、脂環エポのみであり、耐熱性に劣っていることを確認した。また、緩和指標が小さく、硬化体の中にクラックが入っているものもあった。   Comparative Example 1 was only an alicyclic epoxy, and was confirmed to be inferior in heat resistance. Moreover, the relaxation index was small, and some cured bodies had cracks.

比較例2は、シリコーンとエポキシ樹脂との相分離構造のサイズ(Rg)が極めて大きいため、シリコーンによる耐熱性改善の効果が非常に小さいことを確認した。   In Comparative Example 2, since the size (Rg) of the phase separation structure between silicone and epoxy resin was extremely large, it was confirmed that the effect of improving heat resistance by silicone was very small.

比較例3は、BisAエポキシのみであり、耐熱性に劣ることを確認した。   Comparative Example 3 was only BisA epoxy, and was confirmed to be inferior in heat resistance.

比較例4は、アミン硬化であり、強く着色していることを確認した。また、脂環エポは、アミン系硬化剤と反応性が悪く、相分離しており耐熱性に劣ることも確認した。   Comparative Example 4 was amine curing and confirmed that it was strongly colored. It was also confirmed that the alicyclic epoxy had poor reactivity with the amine-based curing agent, phase-separated, and poor heat resistance.

比較例5は、水添BisAエポキシのみであり、耐熱性に劣ることを確認した。さらに、比較例2に比して、顕著に着色が目立つことも確認した。   Comparative Example 5 was only hydrogenated BisA epoxy, and was confirmed to be inferior in heat resistance. Furthermore, it was confirmed that coloring was conspicuous as compared with Comparative Example 2.

比較例6は、アミン硬化であり、顕著に着色していることを確認した。
Comparative Example 6 was amine curing and confirmed that it was markedly colored.

さらに、実施例9及び比較例1で得られた(ハイブリッド)硬化体の耐熱性を詳細に比較した。図4は、(ハイブリッド)硬化体の動的粘弾性測定の結果を示すグラフである。即ち、温度(横軸)に対する貯蔵弾性率E’(左縦軸)とtanδ(右縦軸)との関係を示した。図4より、高温領域において、実施例9の方がE’は安定して高く、tanδは安定して低い値を示しており、より耐熱性に優れていることが分かる。なお、比較例1では、高温領域において、E’が低下していき、tanδが急激に高くなることが分かる。   Furthermore, the heat resistance of the (hybrid) cured bodies obtained in Example 9 and Comparative Example 1 was compared in detail. FIG. 4 is a graph showing the results of dynamic viscoelasticity measurement of a (hybrid) cured body. That is, the relationship between the storage elastic modulus E ′ (left vertical axis) and tan δ (right vertical axis) with respect to temperature (horizontal axis) was shown. As can be seen from FIG. 4, in the high temperature region, E 'is more stable and higher in Example 9, and tan δ is stably lower in value. In Comparative Example 1, it can be seen that E ′ decreases and tan δ increases rapidly in the high temperature region.

[比較例7]   [Comparative Example 7]

10gのコンポセランE202C(荒川化学株式会社製)、及び1gのCP77を混合した。その後、真空脱泡を試みたところ、大量の泡が発生した。泡の発生が収まらないため、10分後に脱泡を停止し、型枠に流し込んで90℃で1時間、続いて180℃で1時間、続いて200℃で10分、硬化させた。結果として、メトキシ基の残量が多いため、泡の発生が激しく、測定に適した硬化体は得られなかった。   10 g of Composeran E202C (Arakawa Chemical Co., Ltd.) and 1 g of CP77 were mixed. Then, when a vacuum defoaming was attempted, a large amount of foam was generated. Defoaming was stopped after 10 minutes because the generation of foam did not stop, and the foam was poured into a mold and cured at 90 ° C. for 1 hour, then at 180 ° C. for 1 hour, and then at 200 ° C. for 10 minutes. As a result, since the remaining amount of methoxy groups was large, foaming was intense and a cured product suitable for measurement could not be obtained.

[実施例14、15]   [Examples 14 and 15]

実施例10(実施例14用)、実施例11(実施例15用)における樹脂組成物(硬化前の液状物)を、Tガラス系ガラスクロス(日東紡製;ガラス繊維径:5μm及び集束数:200本を、織密度:縦60本/25mm及び横46本/25mmで平織りして得た厚さ100μmのものを、開繊処理及びカチオン系シランカップリング処理したもの;屈折率1.520)にそれぞれ含浸させた。次に、これらを、プレス機内で圧力5MPaに維持しながら、150℃で1時間、続いて200℃で1時間、熱硬化した。前記熱硬化について説明すると、前記樹脂組成物に、実施例14では実施例10で用いた硬化剤、及び実施例15では実施例11で用いた硬化剤をそれぞれ加えた。その後、型枠に流し込み、上記の表2に示した該当条件で硬化を行った。このようにして、樹脂シート(複合透明シート)を得た。得られた樹脂シートはいずれも、厚さ100μmで、屈折率は1.524であり、透明であった。緩和指標のより大きな実施例11における樹脂組成物を使用した方が、線膨張係数が小さくなる傾向であった。樹脂シートの物性の測定結果を下記表4に示す。また、図5もかかる傾向を示している。   The resin composition (liquid material before curing) in Example 10 (for Example 14) and Example 11 (for Example 15) was converted into a T glass-based glass cloth (manufactured by Nittobo; glass fiber diameter: 5 μm and the number of focusings). : 200 woven fabrics obtained by plain weaving with a weaving density of 60/25 mm in length and 46/25 mm in width and 100 μm in thickness were subjected to fiber opening treatment and cationic silane coupling treatment; refractive index 1.520 ) Was impregnated respectively. Next, these were thermally cured at 150 ° C. for 1 hour and then at 200 ° C. for 1 hour while maintaining the pressure at 5 MPa in the press. The thermosetting will be described. The curing agent used in Example 10 in Example 14 and the curing agent used in Example 11 in Example 15 were added to the resin composition, respectively. Thereafter, it was poured into a mold and cured under the corresponding conditions shown in Table 2 above. In this way, a resin sheet (composite transparent sheet) was obtained. Each of the obtained resin sheets had a thickness of 100 μm, a refractive index of 1.524, and was transparent. The linear expansion coefficient tended to be smaller when the resin composition in Example 11 having a larger relaxation index was used. The measurement results of the physical properties of the resin sheet are shown in Table 4 below. FIG. 5 also shows this tendency.

図5は、複合透明シートの線膨張係数(TMA)の測定結果を示すグラフである。傾きが線膨張係数に相当する。図より、温度全域に亘って、実施例14の方が線膨張係数が小さくなる傾向であることが分かる。   FIG. 5 is a graph showing the measurement results of the linear expansion coefficient (TMA) of the composite transparent sheet. The slope corresponds to the linear expansion coefficient. From the figure, it can be seen that the linear expansion coefficient tends to be smaller in Example 14 over the entire temperature range.

[比較例8]   [Comparative Example 8]

比較例1で得られた樹脂組成物(硬化前の液状物)を用いて、実施例14と同様にして樹脂シートを得た。緩和指標が小さいため、成形時にボイドが発生し、外観が白っぽいことを確認した(図6)。樹脂シートの物性の測定結果を下記表4に示す。図6は、比較例8のボイドの観察結果を示す光学顕微鏡写真である。白く見える点がボイドを示す。なお、図6に示した尺度は、50.00μmである。   A resin sheet was obtained in the same manner as in Example 14 using the resin composition (liquid material before curing) obtained in Comparative Example 1. Since the relaxation index was small, voids were generated during molding, and it was confirmed that the appearance was whitish (FIG. 6). The measurement results of the physical properties of the resin sheet are shown in Table 4 below. FIG. 6 is an optical micrograph showing the observation results of the voids of Comparative Example 8. The dots that appear white indicate voids. The scale shown in FIG. 6 is 50.00 μm.

[比較例9]   [Comparative Example 9]

実施例9で得られた樹脂組成物(硬化前の液状物)を用いて、実施例14と同様にして樹脂シートを得た。屈折率が一致していないため、目視でガラスが見えて不透明であった。
Using the resin composition (liquid before curing) obtained in Example 9, a resin sheet was obtained in the same manner as in Example 14. Since the refractive indexes did not match, the glass was visible and opaque.

本発明に係る樹脂組成物及びそのハイブリッド硬化体は、例えば、電子材料(碍子類、交流変圧器、開閉機器等の注型及び回路ユニット、各種部品のパッケージ、IC・LED・半導体等の封止材、発電器、モーター等の回転機コイル、巻線含浸、プリント配線基板、絶縁ボード、中型碍子類、コイル類、コネクター、ターミナル、各種ケース類、電気部品類等)等に好適に用いることができる。   The resin composition and the hybrid cured product thereof according to the present invention include, for example, electronic materials (insulators, AC transformers, switchgear and other castings and circuit units, various component packages, ICs, LEDs, semiconductors, etc.) Materials, generators, motors and other rotating machine coils, winding impregnations, printed wiring boards, insulation boards, medium-sized insulators, coils, connectors, terminals, various cases, electrical components, etc.) it can.

本発明に係る複合透明シートは、透明性、耐熱性及び寸法安定性に優れるという特性を活かし、ガラス基板の代替品を中心として、広範囲な分野に適用できる。   The composite transparent sheet according to the present invention can be applied to a wide range of fields centering on substitutes for glass substrates, taking advantage of the properties of excellent transparency, heat resistance and dimensional stability.

即ち、プラスチックレンズ、アレイ基板、異方性導電膜、偏光フィルム、偏光板、光学フィルター、光学フィルム、車載用モニターパネル、電極基板、電子ペーパー、液晶表示素子用基板、有機EL表示素子用基板、カラーフィルター用基板、バックプレーン用基板、タッチパネル用基板、太陽電池基板の分野で好適に利用できる。より詳細には、プラスチック透過型回折格子用レンズ、マイクロレンズ、f−θレンズ、コリメーターレンズ、光電スイッチレンズ、撮影系・投影系レンズ、フレネルレンズ、リニアフレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズム板、フライアイレンズ、レンズアレイ、平凹レンズ、平凸レンズ、半球レンズ、シリンドリカルレンズ、シリンダーフレネルレンズ、非球面レンズ、非球面コンデンサーレンズ等、カラーフィルター、バンドパスフィルター、エタロンフィルター、コールドフィルター、ダイクロイックフィルター、紫外透過可視カットフィルター、紫外カット可視透過フィルター、バンドパスフィルター、誘電体多層膜型フィルター、NDフィルター、視感度フィルター、バンドストップフィルター、色温度変換フィルター、色補正フィルター、偏光フィルター、干渉フィルター、拡散フィルター、液晶ディスプレイ用カラーフィルター、密着型・完全密着型イメージセンサ・カバーガラス、縮小型イメージセンサ・カバーガラス、CCD、CMOSなど固体撮像素子のカバーガラス、コート付きカバーガラス、携帯電話用イメージセンサのカバーガラス、PDP封着・セラミックス封着封着用ガラス粉末、レーザーダイオード・カバーガラス、紫外反射可視透過ミラー、コールドミラー、ホットミラー、レーザーミラー、可視気体レーザー用ミラー、白色レーザー用ミラー、半導体レーザー用ミラー、YAGレーザー用ミラー、エキシマレーザー用ミラー、通信機器用全反射ミラー、UV反射ミラー、二波長全反射ミラー、金属膜ミラー、ハーフミラー、多層膜蒸着型ダイクロイックミラー、レーザーミラー、高精度平面ミラー、ダイクロイックミラー、レーザーミラー、ワイヤーグリッド偏光フィルム、ライトコントロールフィルム(覗き込み防止フィルム)、レーザーガードフィルム、偏光膜保護フィルム、偏光板表面保護フィルム、導光板、液晶ディスプレイ用位相差フィルム、FPC用フィルム、反射防止(AR/LR)フィルム、液晶ディスプレイ用拡散フィルム、透明導電性フィルム、液晶ディスプレイ用反射フィルム、ハードコートフィルム、偏光膜保護フィルム、視野角拡大フィルム、液晶配向フィルム、アンチグレア(AG)フィルム、AG/ARフィルム、液晶バックライト用反射フィルム、液晶ディスプレイ用反射フィルム、液晶ディスプレイ用位相差フィルム、反射フィルム、透明導電フィルム、輝度向上フィルム(反射型偏光板)、セラミック層の薄膜製造用のキャストフィルム、セラミック層の薄膜製造用のキャリアフィルム、電磁波遮断フィルム、近赤外線吸収・遮蔽フィルム、離型フィルム、粘着剤層の保護フィルム、帯電防止フィルム、防汚フィルム、光学補償フィルム、粘・接着テープの基材、視野角調整フィルム、ビームスプリッター、偏光ビームスプリッター、プレートタイプ誘電体ビームスプリッター、キューブタイプ誘電体ビームスプリッター、プレートタイプ偏光ビームスプリッター、キューブタイプ偏光ビームスプリッター、プレートタイプ無偏光ビームスプリッター、キューブタイプ無偏光ビームスプリッター、反射防止膜、通常・可視超低反射膜、無偏光反射防止膜、YAGレーザー用反射防止膜、エキシマレーザー用反射防止膜、光ファイバー用レンズ反射防止膜、通信機器用反射防止膜、フライアイレンズ反射防止膜、近赤超ワイド反射防止膜、液晶配向膜、多層膜偏光子、ワイヤーグリッド偏光子ホログラム素子、プラスチック光学素子、回折光学素子、リフレクター、ファインダー系プリズム、マイクロプリズム、多重干渉型分光素子、平面プリズム、リアスクリーン(リアプロジェクションテレビ用など)、フレネルレンチスクリーン、拡散層付きフレネルレンチスクリーン、低融点ガラス用プリフォーム、コネクター、光導波路、マルチステップ回折格子、ブレーズド及びレリーフ回折格子、サブ波長格子、透過型/反射型回折格子、マイクロキャピラリー、水晶波長板、吸収型偏光板、赤外線信号透過用窓材(色付き)、カバーガラス、シールドガラス、光学ウィンドウ、プリズム、拡散板、オプティカルフラットパネル、ストロボパネル、ドライフィルムレジスト基材、液晶ディスプレイ用プリズムシート、液晶バックライト用導光板、液晶ディスプレイ用拡散シート、プリズムシート(輝度向上フィルム)、保護拡散シート、エンボスキャリアテープ、バックグラインドテープ、ダイシングテープ、熱硬化性層間絶縁材料、転写層の基材、光学フィルム用保護材、LCDモジュール用表面保護材、円・楕円偏光板、集光材などに好適に用いることができる。   Namely, plastic lens, array substrate, anisotropic conductive film, polarizing film, polarizing plate, optical filter, optical film, vehicle monitor panel, electrode substrate, electronic paper, liquid crystal display device substrate, organic EL display device substrate, It can be suitably used in the fields of color filter substrates, backplane substrates, touch panel substrates, and solar cell substrates. More specifically, plastic transmissive diffraction grating lenses, micro lenses, f-θ lenses, collimator lenses, photoelectric switch lenses, imaging / projection lenses, Fresnel lenses, linear Fresnel lenses, lenticular lenses, prism plates, fly Eye lens, lens array, plano-concave lens, plano-convex lens, hemispherical lens, cylindrical lens, cylinder Fresnel lens, aspheric lens, aspheric condenser lens, color filter, bandpass filter, etalon filter, cold filter, dichroic filter, ultraviolet transmission Visible cut filter, ultraviolet cut visible transmission filter, band pass filter, dielectric multilayer filter, ND filter, visibility filter, band stop filter, color temperature conversion filter Color correction filter, polarizing filter, interference filter, diffusion filter, color filter for liquid crystal display, contact type / complete contact type image sensor / cover glass, reduction type image sensor / cover glass, cover glass for solid-state image sensor such as CCD, CMOS, Cover glass with coating, cover glass for image sensors for mobile phones, glass powder for PDP sealing / ceramics sealing sealing, laser diode / cover glass, UV reflection / visible transmission mirror, cold mirror, hot mirror, laser mirror, visible gas laser Mirror, mirror for white laser, mirror for semiconductor laser, mirror for YAG laser, mirror for excimer laser, total reflection mirror for communication equipment, UV reflection mirror, dual wavelength total reflection mirror, metal film mirror, half mirror, multilayer film steam Wearable dichroic mirror, laser mirror, high-precision flat mirror, dichroic mirror, laser mirror, wire grid polarizing film, light control film (peep prevention film), laser guard film, polarizing film protective film, polarizing plate surface protective film, lead Optical plate, retardation film for liquid crystal display, film for FPC, antireflection (AR / LR) film, diffusion film for liquid crystal display, transparent conductive film, reflective film for liquid crystal display, hard coat film, polarizing film protective film, viewing angle Magnifying film, liquid crystal alignment film, anti-glare (AG) film, AG / AR film, reflective film for liquid crystal backlight, reflective film for liquid crystal display, retardation film for liquid crystal display, reflective film, Bright conductive film, brightness enhancement film (reflection type polarizing plate), cast film for ceramic layer thin film production, carrier film for ceramic layer thin film production, electromagnetic wave shielding film, near infrared absorption / shielding film, release film, adhesive Agent layer protective film, antistatic film, antifouling film, optical compensation film, adhesive / adhesive tape substrate, viewing angle adjustment film, beam splitter, polarizing beam splitter, plate type dielectric beam splitter, cube type dielectric beam Splitter, Plate type polarizing beam splitter, Cube type polarizing beam splitter, Plate type non-polarizing beam splitter, Cube type non-polarizing beam splitter, Anti-reflective coating, Normal / Visible ultra-low reflection coating, Non-polarization anti-reflection coating, YAG laser Anti-reflection coating, anti-reflection coating for excimer laser, lens anti-reflection coating for optical fiber, anti-reflection coating for communication equipment, fly-eye lens anti-reflection coating, near-red ultra-wide anti-reflection coating, liquid crystal alignment film, multilayer polarizer, wire Grid polarizer hologram element, plastic optical element, diffractive optical element, reflector, finder system prism, micro prism, multiple interference type spectroscopic element, planar prism, rear screen (for rear projection TV etc.), Fresnel wrench screen, Fresnel with diffusion layer Wrench screen, low-melting glass preform, connector, optical waveguide, multi-step diffraction grating, blazed and relief diffraction grating, sub-wavelength grating, transmission / reflection diffraction grating, microcapillary, quartz wave plate, absorption polarizing plate, Infrared signal transmission window material (color ), Cover glass, shield glass, optical window, prism, diffusion plate, optical flat panel, strobe panel, dry film resist base material, prism sheet for liquid crystal display, light guide plate for liquid crystal backlight, diffusion sheet for liquid crystal display, prism Sheet (brightness enhancement film), protective diffusion sheet, embossed carrier tape, back grind tape, dicing tape, thermosetting interlayer insulation material, transfer layer substrate, optical film protective material, LCD module surface protective material, It can be suitably used for an elliptically polarizing plate, a condensing material and the like.

Claims (6)

シリコーンを含有する、ハイブリッド硬化体であって、
(i)X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ(G
uiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズ(Rg)が50nm以下であ
ること、
(ii)下記式(1):
(数1)
緩和指標=(200℃におけるT2)/(25℃におけるT2)・・・(1)
(式中、T2は固体1H−NMRのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である)
で表される緩和指標が1.2〜10であること、及び
(iii)黄色度(YI)が30以下であること、
を満足し、
(iv)〜(ix)を満足する液状の樹脂組成物を、熱又はエネルギー線で硬化することを含む製造方法により得られる、ハイブリッド硬化体。
(iv)反応性官能基を有するシリコーン及び、シリコーンとは異なる、エポキシ基を
有する有機化合物を含有すること、
(v)エポキシ当量が100〜20,000g/eqであり、環式脂肪族エポキシ基を含有すること、
(vi)前記反応性官能基を有するシリコーンと前記エポキシ基を有する有機化合物と
の質量組成比が15:85〜95:5であること、
(vii)前記反応性官能基を有するシリコーンが環状エーテル基を有するシリコーン
を含有すること、
(viii)酸発生剤をさらに含有すること
(ix)前記反応性官能基を有するシリコーンはシラノール基を有し、下記式(2)で表される前記シリコーンの平均組成を有し、且つ下記式(3)で表される前記シリコーンの縮合率が30〜99%であること。
(化1)
1 a Si(OX) b (4-a-b)/2 ・・・(2)
(数2)
縮合率=100×{(4−a−b)/(4−a)}・・・(3)
(ここで、上記式中、R 1 は同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基、又は水酸基を表し、a及びbはそれぞれ独立して0〜3の整数である。)
A hybrid cured product containing silicone,
(I) Guinier (G) of the scattering profile measured using the X-ray small angle scattering method (SAXS)
(uiner) The size (Rg) of the phase separation structure determined by plotting is 50 nm or less,
(Ii) Formula (1) below:
(Equation 1)
Relaxation index = (T2 at 200 ° C.) / (T2 at 25 ° C.) (1)
(Where T2 is the relaxation time obtained by the solid echo method of solid state 1 H-NMR)
That the relaxation index represented by the formula is 1.2 to 10, and (iii) the yellowness (YI) is 30 or less,
Satisfied,
A hybrid cured product obtained by a production method including curing a liquid resin composition satisfying (iv) to (ix) with heat or energy rays.
(Iv) containing a silicone having a reactive functional group and an organic compound having an epoxy group different from silicone;
(V) having an epoxy equivalent of 100 to 20,000 g / eq and containing a cycloaliphatic epoxy group;
(Vi) The mass composition ratio of the silicone having the reactive functional group and the organic compound having the epoxy group is 15:85 to 95: 5,
(Vii) the silicone having the reactive functional group contains a silicone having a cyclic ether group;
(Viii) further containing an acid generator ,
(Ix) The silicone having the reactive functional group has a silanol group, has an average composition of the silicone represented by the following formula (2), and condensation of the silicone represented by the following formula (3) The rate is 30-99%.
(Chemical formula 1)
R 1 a Si (OX) b O (4-ab) / 2 (2)
(Equation 2)
Condensation rate = 100 × {(4-ab) / (4-a)} (3)
(Wherein R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a and b are each independently an integer of 0 to 3) is there.)
前記シリコーンが、下記式(4)で表されるD体の構造単位を5〜99mol%含むアルコキシシランを加水分解及び縮合して得られるシリコーンを含む、請求項に記載のハイブリッド硬化体。
(化3)
12Si(OX)2・・・(4)
ここで、上記式中、R1及びR2はそれぞれ独立して同一の又は異なる有機基を表し、
OXは同一の若しくは異なる加水分解性基、又は水酸基を表す。
The silicone comprises a silicone obtained by alkoxysilane containing 5~99Mol% structural units of D-represented by the following formula (4) hydrolysis and condensation, the hybrid cured product according to claim 1.
(Chemical formula 3)
R 1 R 2 Si (OX) 2 (4)
Here, in the above formula, R 1 and R 2 each independently represent the same or different organic group,
OX represents the same or different hydrolyzable groups or hydroxyl groups.
請求項1に記載のハイブリッド硬化体とフィラーとを含有する、複合透明シート。   A composite transparent sheet comprising the hybrid cured product according to claim 1 and a filler. (iv)〜(ix)を満足する液状の樹脂組成物であって、
(iv)反応性官能基を有するシリコーン及び、シリコーンとは異なる、エポキシ基を
有する有機化合物を含有すること、
(v)エポキシ当量が100〜20,000g/eqであり、環式脂肪族エポキシ基を
含有すること、
(vi)前記反応性官能基を有するシリコーンと前記エポキシ基を有する有機化合物と
の質量組成比が15:85〜95:5であること、
(vii)前記反応性官能基を有するシリコーンが環状エーテル基を有するシリコーン
を含有すること、
(viii)酸発生剤をさらに含有すること、
(ix)前記反応性官能基を有するシリコーンはシラノール基を有し、下記式(2)で表される前記シリコーンの平均組成を有し、且つ下記式(3)で表される前記シリコーンの縮合率が30〜99%であること。
(化2)
1 a Si(OX) b (4-a-b)/2 ・・・(2)
(数3)
縮合率=100×{(4−a−b)/(4−a)}・・・(3)
(ここで、上記式中、R 1 は同一の又は異なる有機基を表し、OXは同一の若しくは異なる加水分解性基、又は水酸基を表し、a及びbはそれぞれ独立して0〜3の整数である。)
前記樹脂組成物を熱又はエネルギー線で硬化した硬化体が、
(i)X線小角散乱法(SAXS)を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ(G
uiner)プロットにより求められる相分離構造のサイズ(Rg)が50nm以下であ
ること、
(ii)下記式(1):
(数1)
緩和指標=(200℃におけるT2)/(25℃におけるT2)・・・(1)
(式中、T2は固体1H−NMRのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である)
で表される緩和指標が1.2〜10であること、及び
(iii)黄色度(YI)が30以下であること、
を満たす、樹脂組成物。
A liquid resin composition satisfying (iv) to (ix) ,
(Iv) containing a silicone having a reactive functional group and an organic compound having an epoxy group different from silicone;
(V) having an epoxy equivalent of 100 to 20,000 g / eq and containing a cycloaliphatic epoxy group;
(Vi) The mass composition ratio of the silicone having the reactive functional group and the organic compound having the epoxy group is 15:85 to 95: 5,
(Vii) the silicone having the reactive functional group contains a silicone having a cyclic ether group;
(Viii) further containing an acid generator,
(Ix) The silicone having the reactive functional group has a silanol group, has an average composition of the silicone represented by the following formula (2), and condensation of the silicone represented by the following formula (3) The rate is 30-99%.
(Chemical formula 2)
R 1 a Si (OX) b O (4-ab) / 2 (2)
(Equation 3)
Condensation rate = 100 × {(4-ab) / (4-a)} (3)
(Wherein R 1 represents the same or different organic group, OX represents the same or different hydrolyzable group or hydroxyl group, and a and b are each independently an integer of 0 to 3) is there.)
A cured product obtained by curing the resin composition with heat or energy rays,
(I) Guinier (G) of the scattering profile measured using the X-ray small angle scattering method (SAXS)
(uiner) The size (Rg) of the phase separation structure determined by plotting is 50 nm or less,
(Ii) Formula (1) below:
(Equation 1)
Relaxation index = (T2 at 200 ° C.) / (T2 at 25 ° C.) (1)
(Where T2 is the relaxation time obtained by the solid echo method of solid state 1 H-NMR)
That the relaxation index represented by the formula is 1.2 to 10, and (iii) the yellowness (YI) is 30 or less,
A resin composition satisfying
前記シリコーンが、下記式(4)で表されるD体の構造単位を5〜99mol%含むアルコキシシランを加水分解及び縮合して得られるシリコーンを含む、請求項4に記載の樹脂組成物。
(化3)
12Si(OX)2・・・(4)
ここで、上記式中、R1及びR2はそれぞれ独立して同一の又は異なる有機基を表し、
OXは同一の若しくは異なる加水分解性基、又は水酸基を表す。
The resin composition of Claim 4 in which the said silicone contains the silicone obtained by hydrolyzing and condensing the alkoxysilane which contains 5-99 mol% of D structural units represented by following formula (4).
(Chemical formula 3)
R 1 R 2 Si (OX) 2 (4)
Here, in the above formula, R 1 and R 2 each independently represent the same or different organic group,
OX represents the same or different hydrolyzable groups or hydroxyl groups.
請求項4又は5に記載の樹脂組成物とフィラーとを混合し、熱又はエネルギー線で硬化しながらシート状にプレスすることを含む、複合透明シートの製造方法。 A method for producing a composite transparent sheet, comprising mixing the resin composition according to claim 4 or 5 and a filler, and pressing into a sheet shape while being cured with heat or energy rays.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5891617B2 (en) * 2011-05-17 2016-03-23 三菱化学株式会社 Thermosetting resin composition, semiconductor device member, and semiconductor device using the same
JP6031739B2 (en) * 2011-09-08 2016-11-24 三菱化学株式会社 Thermosetting resin composition, semiconductor device member, and semiconductor device using the same
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JP2017110056A (en) * 2015-12-15 2017-06-22 日本電気硝子株式会社 Resin composition
CN117043267A (en) * 2021-04-08 2023-11-10 三键有限公司 Two-component curable resin composition and cured product thereof
EP4321587A1 (en) * 2021-04-08 2024-02-14 ThreeBond Co., Ltd. Two-part curable resin composition and cured product thereof
CN114957923B (en) * 2021-12-29 2023-08-18 江苏志纤复能科技有限公司 Vinyl organosilicon toughened and modified epoxy resin and preparation method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4453401B2 (en) * 2004-03-05 2010-04-21 日立電線株式会社 Heat-resistant optical material, optical waveguide, optical / electrical hybrid substrate, method for manufacturing heat-resistant optical material, optical waveguide manufacturing method, and optical / electrical hybrid substrate manufacturing method
DE102005002960A1 (en) * 2005-01-21 2006-08-03 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Composite composition for micro-patterned layers with high relaxivity, high chemical resistance and mechanical stability
JP4979963B2 (en) * 2006-03-10 2012-07-18 株式会社Adeka Curable composition for optical material and optical waveguide
JP2008266609A (en) * 2007-03-22 2008-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd Transparent resin composition and cured product thereof
CA2694273A1 (en) * 2007-07-25 2009-01-29 Lydall Solutech B.V. Hydrophilic membrane

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