JP5309930B2 - Drawing data creation program, drawing data creation method, drawing data creation device, drawing system - Google Patents

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JP5309930B2 JP2008305181A JP2008305181A JP5309930B2 JP 5309930 B2 JP5309930 B2 JP 5309930B2 JP 2008305181 A JP2008305181 A JP 2008305181A JP 2008305181 A JP2008305181 A JP 2008305181A JP 5309930 B2 JP5309930 B2 JP 5309930B2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a program, method and device for creating drawing data, improving throughput by reducing the data volume of drawing data and a creation time and a drawing time of the drawing data, and a drawing system. <P>SOLUTION: A pattern figure Z of design data Da is decomposed into figure units of drawing units; with respect to each line segment of a closed figure defined by a plurality of line segments and a plurality of vertexes, width provision having a predetermined width in the vertical direction to the line segment is carried out outside or inside the closed figure; a region inside the region of the width provision is set as an inner part or a first pattern region; whether each line segment of the closed figure is an overlapping line segment overlapping another adjacent closed figure or non-overlapping line segment without overlapping it is determined; and an outline part or a second pattern region is set by attaching information related to whether the width provision is carried out in the vertical direction of the line segment depending on whether the line segment is the overlapping one or the non-overlapping one. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、微細パターン形成に用いられる描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムに関するものである。   The present invention relates to a drawing data creation program, a drawing data creation method, a drawing data creation device, and a drawing system used for forming a fine pattern.

従来、半導体素子やMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)等の微細パターン形成に用いられ、電子線描画やレーザ描画等を行う描画装置では、主に描画データ上、パターン図形の外郭を線分と頂点とで表現し、その線分の始点と終点が必ず一致するように定義している。そして、その線分に囲まれた内側を1つの描画領域として、パターン描画する方法が主である。
また、このような描画データを得るために、一般的に、パターンの設計が完了した後に出力されるGDSII等の設計データを入力として、マスクレイヤーのデータを作成させるための論理演算処理や、ウエハプロセスのために必要となるOPCパターン、ダミーパターン等の図形発生処理、さらには、マスク作成のためのサイジング処理等、多くの図形データ処理を行う必要があり、その処理負荷は、増大している。
しかも、半導体素子等のパターンサイズの高集積化、微細化は、日々進んでおり、描画用のデータ量自体も非常に大きくなってきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a drawing apparatus that is used for forming a fine pattern such as a semiconductor element or MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) and performs electron beam drawing or laser drawing, the outline of a pattern figure is mainly divided into line segments and vertices on drawing data. It is defined so that the start point and end point of the line segment must match. Then, a pattern drawing method is mainly used with the inside surrounded by the line segment as one drawing region.
In order to obtain such drawing data, generally, logical operation processing for creating mask layer data by using design data such as GDSII output after pattern design is completed, and wafer processing, It is necessary to perform many graphic data processing such as OPC pattern and dummy pattern generation processing required for the process, and sizing processing for mask creation, and the processing load is increasing. .
Moreover, high integration and miniaturization of pattern sizes of semiconductor elements and the like are progressing day by day, and the amount of data for drawing itself has become very large.

近年は、マスクの種類によっては、構造の複雑化や描画スループット改善のため、1枚のマスクを作成するために、複数回の描画、複数回のプロセスを行うことが必要な場合もあり、そのためのパターン分離、分割等の処理と、その結果である複数回描画用のそれぞれ別の描画データが必要になる等、処理負荷やデータハンドリングの煩雑さ等が増大している。
このため、描画精度を低下させることなく、高い生産性を維持するための描画方法が様々に提案されている(例えば、特許文献1〜3参照)。
上記の特許文献1〜3に記載された描画方法は、いずれも、パターンの輪郭部とその内側部とを異なる別々の領域と捉え、輪郭部のみのパターンの描画データと、内側部のみのパターンの描画データとをそれぞれ作成し、それぞれのパターンを別々に描画するという手法を用いている。例えば、描画データの輪郭部のみのパターンは、微小スポットの電子線描画に優れた高精度の描画装置で描画し、内側部のみのパターンは、スループットの高い可変成形電子線描画装置やレーザ描画装置を用いて、ショットの当たり寸法を大きくして描画する等により、描画精度とスループットの両立を図っている。
特開平10−209000号公報 特許第2854674号公報 特開2003−195511号公報
In recent years, depending on the type of mask, it may be necessary to perform multiple drawing and multiple processes in order to create a single mask in order to increase the complexity of the structure and improve the drawing throughput. The processing load, the complexity of data handling, and the like are increasing, such as the need for processing such as pattern separation and division, and separate drawing data for drawing a plurality of times as a result.
For this reason, various drawing methods for maintaining high productivity without reducing drawing accuracy have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
In any of the drawing methods described in Patent Documents 1 to 3, the pattern contour portion and the inner portion thereof are regarded as different separate areas, the pattern drawing data of the contour portion only, and the pattern of the inner portion only. The drawing data is created, and each pattern is drawn separately. For example, a pattern only in the contour part of the drawing data is drawn by a high-precision drawing apparatus excellent in electron beam drawing of a minute spot, and a pattern only in the inner part is a variable shaped electron beam drawing apparatus or laser drawing apparatus with high throughput. The drawing accuracy is increased and the throughput is achieved by drawing with a larger shot hit size.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-209000 Japanese Patent No. 2854674 JP 2003-195511 A

しかしながら、特許文献1〜3に記載された従来の方法は、輪郭部のパターンと内側部のパターンとを別々のパターンとして捉え、それぞれ別の描画データとして作成され、描画も別々に行うものである。そのため、描画データの作成時間が増大して作業負荷が増え、描画データのデータ量も増え、描画時間も増大し、生産性が低下するという問題があった。   However, the conventional methods described in Patent Documents 1 to 3 capture the contour pattern and the inner pattern as separate patterns, are created as separate drawing data, and perform drawing separately. . For this reason, there is a problem that the creation time of drawing data is increased, the work load is increased, the amount of drawing data is increased, the drawing time is increased, and the productivity is lowered.

本発明の課題は、電子線やレーザを用いる描画用の描画データのデータ量を軽減し、描画データの作成時間や描画時間を短縮して、スループットの向上を図ることができる描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムを提供することである。   An object of the present invention is to reduce a data amount of drawing data for drawing using an electron beam or a laser, reduce a drawing data creation time or drawing time, and improve a throughput, a drawing data creation program, To provide a drawing data creation method, a drawing data creation device, and a drawing system.

本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
1の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ(30)を、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段(131,S202〜S204)と、前記閉図形の内側へ所定の寸法の幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段(132,S205)と、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段(333,S206,S214)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段(334,S215,S216)と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段(334,S217,S219)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段(15,S221)と、として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラムである。
2の発明は、の発明の描画データ作成プログラムにおいて、前記第2描画領域情報付与手段(334)では、前記非重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与すること(S218)、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
The present invention solves the above problems by the following means. In addition, in order to make an understanding easy, although the code | symbol corresponding to embodiment of this invention is attached | subjected and demonstrated, it is not limited to this.
A first invention is a drawing data creation program for creating drawing data from design data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on drawing data, the computer (30) including the design data (Da) pattern figure (Z) is decomposed into a plurality of drawing unit figures, and a closed figure defining means for defining the outer circumference of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices ( 131, S202 to S204), width information accepting means (132, S205) for accepting input of width information for performing a width of a predetermined dimension to the inside of the closed figure, and the width to the inside of the closed figure A first drawing area that performs widthing in the vertical direction based on the information and assigns information for setting an area inside the area to be widened as a first drawing area to the line segment Report giving means (333, S206, S214) and overlapping line segment determining means (334, 34) for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment. S215, S216) and information for setting the width to the inside of the closed figure based on the width information and setting the area to be widened as the second drawing area for the overlapping line segment The second drawing area information assigning means (334, S217, S219) is associated with each line segment and the information set as the first drawing area assigned to each line segment, and each overlapping line segment and each overlapping line are associated with each other. min in association with information to be set as the applied second drawing area, wherein the drawing data output means for be included in the drawing data output (15, S221), to function as a drawing de Is a data creation program.
The second invention is the drawing data creation program of the first invention, the in the second drawing area information adding means (334), wherein for non-overlapping segments, not performed width with the inside of the closed figures Is a drawing data creation program characterized by giving the information (S218).

3の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ(10,30)を、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段(131,S102〜S104,S202〜S204)と、前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段(132,S105,332,S205)と、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域よりも内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段(132,S106,333,S206,S208)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段(133,134,S107,S108,334,S209,S210)と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段(134,S110,334,S212,S213)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報と、前記非重複線分及び前記非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを、前記描画データ(Db,Dc)に含ませて出力する描画データ出力手段(15,S113,S221)と、として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラムである。
4の発明は、の発明の描画データ作成プログラムにおいて、前記第2描画領域情報付与手段(134,334)では、前記重複線分に対して、前記閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与すること(S109,S211)、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
5の発明は、2又はの発明の描画データ作成プログラムにおいて、前記第2描画領域情報付与手段(133,134,334)では、前記非重複線分に付与される幅付けする情報が、前記重複線分に付与される幅付けする情報よりも優先されること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
A third invention is a drawing data creation program for creating drawing data from design data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on drawing data, the computer (10, 30), A closed figure definition that decomposes the pattern figure (Z) of the design data (Da) into a plurality of drawing unit figures and defines the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices. Means (131, S102 to S104, S202 to S204), width information accepting means (132, S105, 332, S205) for accepting input of width information for width outward of the closed figure, and outside of the closed figure to perform a wide with the vertical direction of the line segment on the basis of the width with information, the information for setting a region inside the region to be the width with a first drawing area First drawing area information assigning means (132, S106, 333, S206, S208) assigned to the line segment, and the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure, or a non-overlapping line Overlapping line segment determination means (133, 134, S107, S108, 334, S209, S210) for determining whether the line is a minute, and the non-overlapping line segment to the outside of the closed figure based on the width information. A second drawing area information giving means (134, S110, 334, S212, S213) for giving a width and giving information for setting the widened area as a second drawing area; and each line segment and each line segment and information that is set as the first drawing area assigned to the information to be set as the non-overlapping segments, and wherein the second drawing area assigned to non-overlapping segments, the drawing data (Db, D Drawing data output means (15) included in the outputs, S113, S221) and a drawing data creation program for causing to function as.
A fourth invention, the drawing data creation program of the third aspect of the present invention, in the second drawing area information providing means (134,334), with respect to the overlapping line, perform the width with the outside of the closed figures This is a drawing data creation program characterized by giving information that there is no information (S109, S211).
A fifth invention, in the drawing data creation program of the second or fourth invention, the in the second drawing area information providing means (133,134,334), information to be attached width is applied to the non-overlapping segments Is a drawing data creation program characterized in that it is prioritized over the information to be given to the overlapping line segments.

6の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、コンピュータ(30)を、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段(131,S202〜S204)と、前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段(332,S205)と、前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理手段とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理手段として機能させ、前記内側処理手段を、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段(333,S206,S214)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段(334,S215,216)と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段(334,S217,S219)と、前記各線分及び前記各線分に付与された第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段(15,S221)として機能させ、前記外側処理手段を、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定するを、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段(333,S206,S208)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段(334,S209,S210)と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段(334,S212,S213)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段(15,S221)として機能させること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。 A sixth invention is a drawing data creation program for creating drawing data from design data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on drawing data, the computer (30) comprising the design data (Da) pattern figure (Z) is decomposed into a plurality of drawing unit figures, and a closed figure defining means for defining the outer circumference of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices ( 131, S202 to S204), width information accepting means (332, S205) for accepting the input of width information for performing the inside or outside of the closed figure, and the width information to the inside of the closed figure. In the case of the input of the width information, the inner processing means is used, and in the case where the information input to the receiving means is the input of the width information to the outside, it functions as the outer processing means. The inner processing means performs a width in the vertical direction of the line segment on the inner side of the closed figure based on the width information, and sets an area inside the area to be widened as a first drawing area. First drawing area information adding means (333, S206, S214) for assigning information to the line segment, and whether the line segment is an overlapping line segment that overlaps with another adjacent closed figure, or a non-overlapping line segment The overlapping line segment determining means (334, S215, 216) for determining whether or not the overlapping line segment is subjected to a width to the inside of the closed figure based on the width information and the width is increased. a second drawing area information providing means for providing the information for setting the area as a second drawing area (334, S217, S219), and information to be set as a first drawing area assigned to the line segment and the line segment Association, each said duplicate Min and in association with the information to be set as the second drawing area assigned to each overlapping segment, to function as the drawing data output means for outputting be included in the drawing data (15, S221), said outer processing means To the outside of the closed figure in the vertical direction based on the width information, and set the area inside the area to be widened as a first drawing area , First drawing area information assigning means (333, S206, S208) to be given to the minute and whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment is determined. Overlapping line segment determination means (334, S209, S210) and the non-overlapping line segment are subjected to a width to the outside of the closed figure based on the width information, and the region to be widened is second Information to set as drawing area Second non-overlapping line segments that associate the second drawing area information assigning means (334, S212, S213) for giving information with each line segment and the information set as the first drawing area given to each line segment. And the drawing data output means (15, S221) for associating with the information set as the second drawing area given to each of the non-overlapping line segments and outputting it in the drawing data. Is a drawing data creation program.

7の発明は、1から6までのいずれかの発明の描画データ作成プログラムにおいて、前記幅付け情報の幅寸法は、可変であること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
8の発明は、1から7までのいずれかの発明の描画データ作成プログラムにおいて、前記閉図形定義手段(131)では、前記設計データのパターン図形を隣接する2つの前記描画基本図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
A seventh aspect of the drawing data creation program of the invention of any one of the first to sixth, a width dimension of the width with information is drawing data creation program characterized, is variable.
An eighth aspect of the invention, the drawing data creation program of the invention of any one of the first to seventh, wherein the closed figure definition means (131), two of said drawing basic figures adjacent the pattern shape of the design data A drawing data creation program characterized by decomposing so that overlapping sides have equal lengths.

9の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程(S202〜S204)と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程(S205)と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の内側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程(S206,S214)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程(S215,S216)と、前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程(S217,S219)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データ(Dc)に含ませて出力する描画データ出力工程(S221)と、を備えることを特徴とする描画データ作成方法である。 A ninth invention is a drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data, wherein the pattern data of the design data (Da) (Z) is divided into a plurality of drawing unit graphics, and a closed figure defining step (S202 to S204) for defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices; Based on the width information receiving step (S205) for receiving the input of the width information for width inward of the closed graphic defined in the closed graphic defining step, and the width information input in the width information receiving step , Information is added to the line segment to set the area inside the closed figure in the vertical direction of the line segment and to set the area inside the area to be widened as the first drawing area First drawing area information providing step (S206, S214), and overlapping line segment determination step for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment (S215, S216) and information for setting the width of the overlapped line segment to the inside of the closed figure based on the width information and setting the area to be widened as a second drawing area The second drawing area information assigning step (S217, S219) to be performed, the line segments and the information set as the first drawing area assigned to the line segments, and the overlapping line segments and the overlapping line segments. A drawing data output step (S221) for associating with the information to be set as the second drawing area assigned to the image and outputting it in the drawing data (Dc). so That.

10の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程(S102〜S104,S202〜S204)と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程(S205)と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の外側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程(S106,S206,S208)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程(S107,S108,S209,S210)と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程(S110,S212,S213)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報と、前記非重複線分及び前記非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを前記描画データ(Db,Dc)に含ませて出力する描画データ出力工程(S113,S221)と、を備えることを特徴とする描画データ作成方法である。 A tenth aspect of the present invention is a drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data, the pattern data of the design data (Da) (Z) is decomposed into a plurality of drawing unit graphics, and a closed figure defining step (S102 to S104, S202 to S202) is defined as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices. S204), a width information receiving step (S205) for receiving an input of width information to be extended outside the closed graphic defined in the closed graphic defining step, and the width input inputted in the width information receiving step Based on the information, a width is applied to the outside of the closed figure in the vertical direction of the line segment, and an area inside the area to be widened is set as a first drawing area. A first drawing area information adding step (S106, S206, S208) for giving information to the line segment, and whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure, or a non-overlapping line segment The overlapping line segment determination step (S107, S108, S209, S210) for determining whether or not the non-overlapping line segment is subjected to a width to the outside of the closed figure based on the width information, and the width second drawing area information providing step of imparting information to set a region to be attached as the second drawing area (S110, S212, S213) and, set as the granted to each line segment and the line segment of the first drawing area A drawing data output step (S113) in which the non-overlapping line segment and the information set as the second drawing region assigned to the non-overlapping line segment are included in the drawing data (Db, Dc) and output. , And 221), a drawing data creation method characterized in that it comprises a.

11の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ(Da)のパターン図形(Z)を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程(S202〜S204)と、前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを設定する幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程(S205)と、前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理工程とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程(S207)とを備え、前記内側処理工程は、前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の範囲を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程(S206,S214)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程(S215,S216)と、前記各重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を、前記重複線分に対して付与する第2描画領域情報付与工程(S217,S219)と、前記各線分及び前記線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データ(Db)に含ませて出力する描画データ出力工程(S221)を有し、前記外側処理工程は、前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程(S206,S208)と、前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程(S209,S210)と、前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程(S212,S213)と、前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データ(Dc)に含ませて出力する描画データ出力工程(S221)とを有すること、を特徴とする描画データ作成方法である。 An eleventh aspect of the present invention is a drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data, the pattern data of the design data (Da) (Z) is divided into a plurality of drawing unit graphics, and a closed figure defining step (S202 to S204) for defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices; A width information receiving step (S205) for receiving an input of width information for setting a width to the inside or outside of the closed graphic defined in the closed graphic defining step, and the width input inputted in the width information receiving step When the information is input of width information to the inside of the closed figure, it is an inner processing step, and the information input to the receiving means is the input of width information to the outside. A width direction determination step (S207) as an outer processing step, and the inner processing step widths the inside of the closed figure in the vertical direction of the line segment based on the width information. A first drawing area information providing step (S206, S214) for giving information for setting a range inside the area to be widened as the first drawing area to the line segment, and the line segment is adjacent An overlapping line segment determining step (S215, S216) for determining whether it is an overlapping line segment overlapping with another closed figure to be performed or a non-overlapping line segment, and the inside of the closed figure for each overlapping line segment A second drawing area information adding step (S217, S219) for assigning information for setting the widened area as a second drawing area to the overlapping line segments, and each line segment and The first drawing assigned to the line segment Associating the information to be set as a range, the associating information to be set as each overlapping segment and the second drawing area assigned to each overlapping segment, and outputs the included in the drawing data (Db) A drawing data output step (S221), wherein the outside processing step performs a width in the vertical direction of the line segment based on the width information to the outside of the closed figure; A first drawing area information adding step (S206, S208) for assigning information for setting an inner area as a first drawing area to the line segment, and an overlapping line in which the line segment overlaps with another adjacent closed figure Overlapping line segment determination step (S209, S210) for determining whether the segment is a non-overlapping line segment or a non-overlapping line segment, and the non-overlapping line segment is widened to the outside of the closed figure based on the width information. And the area to be widened A second drawing area information adding step (S212, S213) for giving information for setting a region as a second drawing area is associated with each line segment and information set as the first drawing area given to each line segment. A drawing data output step of associating each non-overlapping line segment and the information set as the second drawing area assigned to each non-overlapping line segment in the drawing data (Dc) for output (S221) The drawing data creation method is characterized by having

12の発明は、描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成装置であって、設計データ(Da)を入力する設計データ入力部(11)と、1から8までのいずれかの発明の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部(14)と、前記描画データ作成プログラムを実行する制御部(13,33)と、前記描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部(12)と、描画データを出力する描画データ出力部(15)と、を備えることを特徴とする描画データ作成装置(10,30)である。
13の発明は、1からまでのいずれかの発明の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部(14)と、前記描画データ作成プログラムを実行する制御部(13,33)と、前記描画データ作成プログラムによって作成された描画データ(Db,Dc)に基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に第1描画領域及び第2描画領域を描画する機能を有する描画部(20)と、を備える描画システムである。
14の発明は、12の発明の描画データ作成装置(10,30)と、前記描画データ(Db,Dc)に基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に第1描画領域及び第2描画領域を描画する機能を有する描画部を備える描画装置(20)と、を備える描画システムである。
A twelfth aspect of the present invention is a drawing data creation device for creating the drawing data of a drawing device that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from the design data, wherein the design data (Da) is input. data input unit (11), a storage unit for storing the drawing data creation program of the invention of any one of the first to eighth (14), the control unit for executing the drawing data creation program and (13, 33) A drawing data creation device (10), comprising: an operation input unit (12) for inputting an instruction necessary for executing the drawing data creation program; and a drawing data output unit (15) for outputting drawing data. , 30).
A thirteenth invention, the storage unit for storing the drawing data creation program of the invention of any one of the first to eighth (14), the control unit for executing the drawing data creation program and (13, 33), wherein A drawing unit (20) having a function of drawing the first drawing area and the second drawing area on the substrate using an electron beam or a laser based on the drawing data (Db, Dc) created by the drawing data creation program; , A drawing system comprising:
The fourteenth invention is based on the drawing data creation device (10, 30) of the twelfth invention and the drawing data (Db, Dc), and the first drawing region and the first drawing on the substrate using an electron beam or a laser. And a drawing apparatus (20) including a drawing unit having a function of drawing two drawing areas.

15の発明は、13又は14の発明の描画システムにおいて、前記描画データ(Db,Dc)に基づいて前記第1描画領域を描画する機能を有する第1描画部と、前記描画データに基づいて前記第2描画領域を描画する機能を有する第2描画部とを備えること、を特徴とする描画システムである。
16の発明は、13から15までのいずれかの発明の描画システムにおいて、前記第2描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、前記第1の描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいこと、を特徴とする描画システムである。
Fifteenth aspect based on the thirteenth or fourteenth drawing system of the present invention, the drawing data (Db, Dc) a first drawing unit having a function to draw the first drawing area based on, on the drawing data And a second drawing unit having a function of drawing the second drawing area based on the drawing system.
A sixteenth invention is the drawing system of any one of the thirteenth to fifteenth, the irradiation area of the electron beam or laser drawing the second drawing area is an electron beam to draw the first drawing area Or it is a drawing system characterized by being smaller than the irradiation area of the laser.

本発明によれば、以下の効果を奏することができる。
(1)本発明による描画データの作成プログラムは、コンピュータを、閉図形の内側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行い、幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の内側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段として機能させるので、描画データ上に、第1描画領域と第2描画領域の2つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。
According to the present invention, the following effects can be obtained.
(1) The drawing data creation program according to the present invention performs the widthing of the computer in the vertical direction of the line segment based on the width information to the inside of the closed figure, and sets the area inside the area to be widened. First drawing area information providing means for assigning information set as one drawing area to a line segment, and whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment The overlapping line segment determination means for determining, and the overlapping line segment are provided with information for performing the width inward of the closed figure based on the width information and setting the area to be widened as the second drawing area Since it functions as the two drawing area information adding means, two drawing areas of the first drawing area and the second drawing area can be set on the drawing data. Therefore, there is no need to create different drawing data for each drawing area, and the load on the computer for drawing data creation can be reduced.

(2)本発明による描画データの作成プログラムは、コンピュータを、閉図形の外側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行い、幅付けされる領域よりも内側の領域を第1描画領域とする情報を、線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、非重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の外側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段として機能させるので、描画データ上に、第1描画領域と第2描画領域の2つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。 (2) The drawing data creation program according to the present invention causes the computer to width outside the closed figure in the vertical direction of the line segment based on the width information, and to create an area inside the area to be widened. First drawing area information providing means for assigning information to be a first drawing area to a line segment, and whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment The overlapping line segment determining means for determining and the non-overlapping line segment are provided with information for performing a width outside the closed figure based on the width information and setting the area to be widened as the second drawing area. Since it functions as the second drawing area information giving means, two drawing areas, the first drawing area and the second drawing area, can be set on the drawing data. Therefore, there is no need to create different drawing data for each drawing area, and the load on the computer for drawing data creation can be reduced.

(3)閉図形の内側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行うとき、第2描画領域設定手段では、コンピュータが、非重複線分に対して、閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与し、非重複線分の幅付けに関する情報は、前記重複線分の幅付けに関する情報よりも優先されるので、幅付けされるべき領域が幅付けしないという情報によって描画されないことによって生じるパターンの断線を防止できる。
(4)閉図形の外側へ、幅付け情報に基づいて線分の垂直方向に幅付けを行うとき、第2描画領域情報付与手段では、コンピュータが、重複線分に対して、閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与し、非重複線分の幅付けに関する情報は、重複線分の幅付けに関する情報よりも優先されるので、描画領域の重複を解消でき、スループットの向上や、多重露光による描画パターンの変形防止を図ることができる。
(3) When performing the width in the vertical direction of the line segment based on the width information to the inside of the closed figure, the second drawing area setting means allows the computer to The information regarding the width of the non-overlapping line segment is given priority over the information regarding the width of the overlapping line segment. The disconnection of the pattern caused by not being drawn by information can be prevented.
(4) When performing the width in the vertical direction of the line segment based on the width information to the outside of the closed figure, the second drawing area information providing means allows the computer to outside the closed figure with respect to the overlapping line segment. Information on non-overlapping line segments is given priority over information on overlapping line segment widths, so it is possible to eliminate overlapping drawing areas and improve throughput. Further, it is possible to prevent the deformation of the drawing pattern due to multiple exposure.

(5)コンピュータを、幅情報受け付け手段において入力された幅付け情報が、閉図形の内側へ幅付けを行う情報である場合には、内側処理手段とし、受け付け手段に入力された情報が、閉図形の外側へ幅付けを行う情報である場合には、外側処理手段として機能させるので、アンダーサイジング、オーバーサイジングのいずれかを行う場合であっても、効率よく描画データを作成することができる。 (5) When the width information input by the width information receiving means is information for performing width inward of the closed figure, the computer is used as an inner processing means, and the information input to the receiving means is closed. In the case of the information for performing the width expansion to the outside of the figure, it is made to function as the outside processing means, so that even if undersizing or oversizing is performed, drawing data can be created efficiently.

(6)幅付け情報の幅寸法は、可変であるので、幅寸法の変更が容易であり、適宜所望する寸法で幅付けを容易に行うことができる。
(7)閉図形定義手段では、設計データのパターン図形を隣接する2つの描画単位の図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解するので、設計データのパターン図形が複雑な形状であっても、幅付け処理が複雑化することなく、容易に行える。
(6) Since the width dimension of the width information is variable, it is easy to change the width dimension, and the width can be easily set as desired.
(7) Since the closed graphic definition means disassembles the pattern figure of the design data so that the lengths of overlapping sides of two adjacent drawing unit figures are equal, the pattern figure of the design data has a complicated shape. However, it can be easily performed without complicating the width increasing process.

(8)本発明による描画データ作成方法は、第1描画領域を設定する情報を線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、閉図形の各線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、重複しない非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の内側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程とを備えるので、描画データ上に、第1描画領域と第2描画領域の2つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。 (8) The drawing data creation method according to the present invention includes a first drawing area information providing step for assigning information for setting a first drawing area to a line segment, and each line segment of a closed figure overlaps with another adjacent closed figure. The overlapping line segment determination step to determine whether it is an overlapping line segment or a non-overlapping non-overlapping line segment, and for the overlapping line segment, width is applied to the inside of the closed figure based on the width information, and the width And a second drawing area information adding step for giving information for setting the attached area as the second drawing area, so that two drawing areas of the first drawing area and the second drawing area can be set on the drawing data. . Therefore, there is no need to create different drawing data for each drawing area, and the load on the computer for drawing data creation can be reduced.

(9)本発明による描画データ作成方法は、第1描画領域を設定する情報を線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、閉図形の各線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、重複しない非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、非重複線分に対して、幅付け情報に基づいて閉図形の外側へ幅付けを行い、幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程とを備えるので、描画データ上に、第1描画領域と第2描画領域の2つの描画領域を設定できる。従って、描画領域毎に異なる描画データを作成する必要がなく、描画データ作成にかかるコンピュータの負荷を低減できる。 (9) The drawing data creation method according to the present invention includes a first drawing area information adding step for assigning information for setting a first drawing area to a line segment, and each line segment of a closed graphic overlaps with another adjacent closed graphic The overlapping line segment determining step for determining whether the overlapping line segment is a non-overlapping non-overlapping line segment, and for non-overlapping line segment, based on the width information, width is spread outside the closed figure, Since there is provided a second drawing area information adding step for giving information for setting the area to be widened as the second drawing area, two drawing areas of the first drawing area and the second drawing area are set on the drawing data. it can. Therefore, there is no need to create different drawing data for each drawing area, and the load on the computer for drawing data creation can be reduced.

(10)本発明による描画データ作成方法は、受け付け工程において入力された幅付け情報が、閉図形の内側への幅付け情報である場合には、内側処理工程とし、受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報である場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程を備えるので、オーバーサイジングやアンダーサイジングを行う場合に、容易に幅付け方向を適宜選択することができる。 (10) In the drawing data creation method according to the present invention, when the width information input in the receiving step is the width information to the inside of the closed graphic, the information is input to the receiving means as the inner processing step. However, in the case of the outward width information, a width direction determination step as an outer processing step is provided, so that when performing oversizing and undersizing, the width direction can be easily selected as appropriate. .

(11)本発明による描画データ作成装置は、本発明による描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、描画データ作成プログラムを実行する制御部と、描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部と、描画データを出力する描画データ出力部とを備えるので、描画データを容易に作成することができる。 (11) A drawing data creation apparatus according to the present invention inputs a storage unit that stores a drawing data creation program according to the present invention, a control unit that executes the drawing data creation program, and an instruction necessary for executing the drawing data creation program. Since the operation input unit and the drawing data output unit for outputting the drawing data are provided, the drawing data can be easily created.

(12)本発明による描画システムは、本発明による描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、描画データ作成プログラムを実行する制御部と、描画データ作成プログラムによって作成された描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に所定のパターンを描画する機能を有する描画部とを備えるので、描画データを容易に作成することができ、かつ、高精度でありながらスループット高い描画を行うことができる。
(13)本発明による描画システムは、本発明による描画データ作成装置と、描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に所定のパターンを描画する機能を有する描画部を備える描画装置とを備えるので、描画データを容易に作成することができ、かつ、高精度でありながらスループット高い描画を行うことができる。
(12) A drawing system according to the present invention includes a storage unit that stores a drawing data creation program according to the present invention, a control unit that executes the drawing data creation program, and electronic data based on the drawing data created by the drawing data creation program. And a drawing unit having a function of drawing a predetermined pattern on a substrate using a line or a laser, drawing data can be easily created, and drawing can be performed with high accuracy and high throughput. it can.
(13) A drawing system according to the present invention includes a drawing data creation device according to the present invention and a drawing device having a drawing unit having a function of drawing a predetermined pattern on a substrate using an electron beam or a laser based on the drawing data. Therefore, drawing data can be easily created, and drawing with high throughput can be performed with high accuracy.

(14)描画データに基づいて第1描画領域を描画する機能を有する第1描画部と、描画データに基づいて第2描画領域を描画する機能を有する第2描画部とを備えるので、描画領域毎に描画する電子線又はレーザの照射面積や強度等を使い分けることができ、スループットの向上を図ることができる。
(15)第2描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、第1の描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいので、輪郭部分となる第2描画領域を高精細に描画し、輪郭部分より内側の第1描画領域を低精細に描画するといった描き分けを行うことができ、精度の高い描画を行いながら、スループットの向上を図ることができる。
(14) Since the first drawing unit having a function of drawing the first drawing region based on the drawing data and the second drawing unit having a function of drawing the second drawing region based on the drawing data are provided, the drawing region The irradiation area and intensity of the electron beam or laser to be drawn every time can be properly used, and the throughput can be improved.
(15) Since the irradiation area of the electron beam or laser that draws the second drawing area is smaller than the irradiation area of the electron beam or laser that draws the first drawing area, the second drawing area serving as the contour portion is made highly precise. Drawing and drawing can be performed such that the first drawing area inside the contour portion is drawn with low definition, and throughput can be improved while drawing with high accuracy.

以下、図面等を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、図1を含め以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Each figure shown below including FIG. 1 is a diagram schematically shown, and the size and shape of each part are appropriately exaggerated for easy understanding.

(第1実施形態)
図1は、第1実施形態の描画システムを示すブロック図である。
図2は、第1実施形態における描画データの流れを説明する図である。
本実施形態の描画システムは、電子計算機10と、描画装置20とを備えている。そして、本実施形態の描画システムでは、図2に示すように、電子計算機10が、設計データDaから描画データDbを作成し、描画装置20が、その描画データDbの情報に基づいて、高精細で描画する領域及び低精細で描画する領域のそれぞれのパターンを認識し、それぞれの領域を照射面積の異なる電子線又はレーザで描画する。
図1に示すように、電子計算機10は、設計データDaから描画データDbを作成する描画データ作成装置である。この電子計算機10は、設計データ入力部11、操作入力部12、制御部13、記憶部14、描画データ出力部15等を備えている。
なお、本発明におけるコンピュータとは、記憶装置、制御部等を備えた情報処理装置をいい、電子計算機10は、記憶部14、制御部13等を備えた情報処理装置であり、本発明のコンピュータの概念に含まれる。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram illustrating a drawing system according to the first embodiment.
FIG. 2 is a diagram for explaining the flow of drawing data in the first embodiment.
The drawing system of this embodiment includes an electronic computer 10 and a drawing device 20. In the drawing system of the present embodiment, as shown in FIG. 2, the electronic computer 10 creates drawing data Db from the design data Da, and the drawing apparatus 20 performs high definition based on the information of the drawing data Db. Recognize the respective patterns of the region to be drawn with and the region to be drawn with low definition, and draw each region with an electron beam or a laser having a different irradiation area.
As shown in FIG. 1, the electronic computer 10 is a drawing data creation device that creates drawing data Db from design data Da. The electronic computer 10 includes a design data input unit 11, an operation input unit 12, a control unit 13, a storage unit 14, a drawing data output unit 15, and the like.
The computer in the present invention refers to an information processing apparatus including a storage device, a control unit, and the like. The electronic computer 10 is an information processing apparatus including a storage unit 14, a control unit 13, and the like, and the computer of the present invention. Included in the concept.

設計データ入力部11は、描画データDbを作成する基となる設計データDaを電子計算機10へ入力する。本実施形態の設計データ入力部11は、ハードディスクから情報(設計データ)を読み込んで入力するが、これに限らず、例えば、CD−ROMやDVD等の外部の情報記憶媒体からの情報(設計データ)を読み込み可能としてもよい。
操作入力部12は、描画データDbの作成に伴う各種処理の指示や、必要な数値等を入力する部分である。操作入力部12は、例えばキーボードである。
制御部13は、CPU等から構成され、操作入力部12の入力や、設計データ入力部11から入力された設計データDaを基に、描画データDbを作成するための様々な演算や、処理を行う。この制御部13は、閉図形定義部131、輪郭部設定部132、重複線分抽出部133、幅付け情報設定部134、フォーマット変換部135等を備えている。
The design data input unit 11 inputs design data Da, which is a basis for creating the drawing data Db, to the electronic computer 10. The design data input unit 11 of the present embodiment reads and inputs information (design data) from the hard disk, but is not limited to this, for example, information (design data) from an external information storage medium such as a CD-ROM or DVD. ) May be readable.
The operation input unit 12 is a part for inputting instructions of various processes accompanying creation of the drawing data Db, necessary numerical values, and the like. The operation input unit 12 is, for example, a keyboard.
The control unit 13 includes a CPU and the like, and performs various operations and processes for creating the drawing data Db based on the input of the operation input unit 12 and the design data Da input from the design data input unit 11. Do. The control unit 13 includes a closed figure definition unit 131, an outline setting unit 132, an overlapping line segment extraction unit 133, a width information setting unit 134, a format conversion unit 135, and the like.

閉図形定義部131は、設計データの多角形のパターン図形を、三角形又は四角形の描画基本図形に分解し、その個々の描画基本図形を、頂点と線分からなる閉図形として定義する。
輪郭部設定部132は、操作入力部12で入力された幅情報により、個々の閉図形の線分に対して垂直な方向に所定の幅を有する輪郭部を定義する。
重複線分抽出部133は、閉図形の個々の線分について、その線分が隣接する閉図形の線分と重複しているか否かを判別し、重複する線分を抽出する。
幅付け情報設定部134は、閉図形の個々の線分について、その線分が重複する線分であるか否かに応じて、幅付けの有無に関する情報をその線分に付与する。
フォーマット変換部135は、上述の様々な定義や情報を含む描画データのフォーマットを、描画装置が認識可能なフォーマットに変換する。
The closed figure defining unit 131 decomposes the polygon pattern figure of the design data into triangular or quadrangular drawing basic figures, and defines each drawing basic figure as a closed figure composed of vertices and line segments.
The contour setting unit 132 defines a contour having a predetermined width in a direction perpendicular to the line segment of each closed figure based on the width information input by the operation input unit 12.
The overlapping line segment extracting unit 133 determines, for each line segment of the closed graphic, whether or not the line segment overlaps the line segment of the adjacent closed graphic, and extracts the overlapping line segment.
The width information setting unit 134 assigns information about the presence / absence of width to each line segment in accordance with whether or not each line segment of the closed graphic is an overlapping line segment.
The format conversion unit 135 converts the format of the drawing data including the various definitions and information described above into a format that can be recognized by the drawing apparatus.

記憶部14は、設計データDaを基に描画データDbを作成するための描画データ作成プログラムを記憶したり、制御部13が行う処理により発生したデータ等を順次記憶したりするメモリである。
描画データ出力部15は、制御部により作成された描画データを、出力する部分である。この描画データ出力部15は、ハードディスクへ情報(描画データ)を出力する。なお、描画データ出力部15は、例えば、CD−ROMやDVD等の外部の情報記録媒体へ描情報を出力可能としてもよい。
The storage unit 14 is a memory that stores a drawing data creation program for creating the drawing data Db based on the design data Da, and sequentially stores data generated by the processing performed by the control unit 13.
The drawing data output unit 15 is a part that outputs the drawing data created by the control unit. The drawing data output unit 15 outputs information (drawing data) to the hard disk. The drawing data output unit 15 may output drawing information to an external information recording medium such as a CD-ROM or DVD.

次に、描画装置20は、入力された描画データDbに基づいて、不図示の基板上に電子線又はレーザを照射して所定のパターンを描画する機能を有するもの(描画部)であり、半導体素子等のパターン形成等に利用される。本実施形態の描画装置20は、描画データ入力部21、描画操作入力部22、描画制御部23、描画記憶部24、発光部25を備えた可変成形電子線描画装置である。
描画データ入力部21は、電子計算機10により作成された描画データDbを、描画装置20に入力する部分であり、例えば、ハードディスクから情報(描画データ)を読み込んで入力する。なお、描画データ入力部21は、CD−ROMやDVD等の外部の情報記録媒体から情報を読み込み可能としてもよい。
描画操作入力部22は、描画装置20の操作に伴う各種処理の指示や、必要な数値等を入力する部分であり、例えば、キーボード等を用いることができる。
描画制御部23は、入力された描画データDbに基づいて、描画する部分を認識し、発光部25の発光や駆動を制御する部分である。
描画記憶部24は、描画データDbを一次的に記憶したり、描画制御部23の描画に関するプログラムを記憶したりするメモリである。
発光部25は、電子線又はレーザを基板上に照射する部分であり、電子線又はレーザを照射する不図示のヘッドと、所定のパターンを描画するためにヘッドを駆動する不図示の駆動部とを備えている。本実施形態の発光部25は、描画制御部23からの指示により、照射する電子線のビーム径の大きさを適宜調節可能である。
Next, the drawing device 20 is a device (drawing unit) having a function of drawing a predetermined pattern by irradiating an electron beam or a laser on a substrate (not shown) based on the inputted drawing data Db. It is used for pattern formation of elements and the like. The drawing apparatus 20 of this embodiment is a variable shaped electron beam drawing apparatus including a drawing data input unit 21, a drawing operation input unit 22, a drawing control unit 23, a drawing storage unit 24, and a light emitting unit 25.
The drawing data input unit 21 is a part that inputs the drawing data Db created by the electronic computer 10 to the drawing device 20. For example, the drawing data input unit 21 reads and inputs information (drawing data) from a hard disk. The drawing data input unit 21 may be capable of reading information from an external information recording medium such as a CD-ROM or DVD.
The drawing operation input unit 22 is a part for inputting various processing instructions accompanying the operation of the drawing apparatus 20 and necessary numerical values. For example, a keyboard or the like can be used.
The drawing control unit 23 is a part that recognizes a drawing part based on the inputted drawing data Db and controls light emission and driving of the light emitting unit 25.
The drawing storage unit 24 is a memory that temporarily stores the drawing data Db and stores a program related to drawing by the drawing control unit 23.
The light emitting unit 25 is a part that irradiates the substrate with an electron beam or a laser, a head (not shown) that irradiates the electron beam or laser, and a driving unit (not shown) that drives the head to draw a predetermined pattern. It has. The light emitting unit 25 of the present embodiment can appropriately adjust the beam diameter of the electron beam to be irradiated according to an instruction from the drawing control unit 23.

図3は、第1実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を説明するフローチャートである。図4は、第1実施形態の描画データ作成方法を説明する図である。
第1実施形態の描画データの作成方法について説明する。本実施形態では、設計データDaのパターン図形Zに対して、パターン図形Zの外側に外周に沿って所定の幅を有する輪郭部と輪郭部の内側の領域である内側部(パターン図形Zと同一の領域)との2つの領域とを描画領域として定義し、輪郭部を高精細に、内側部を輪郭部に比べて低精細で描画する際の描画データを作成する。つまり、本実施形態では、オーバーサイジングしながら輪郭付近とその内側の領域との描き分けを行う場合の描画データの作成方法を例に挙げて説明する。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a drawing data creation method and a drawing method according to the first embodiment. FIG. 4 is a diagram for explaining a drawing data creation method according to the first embodiment.
A method for creating drawing data according to the first embodiment will be described. In the present embodiment, with respect to the pattern figure Z of the design data Da, the outline part having a predetermined width along the outer periphery of the pattern figure Z and the inner part (the same as the pattern figure Z) that is the area inside the outline part. Are defined as drawing regions, and drawing data for drawing the contour portion with high definition and drawing the inner portion with lower definition than the contour portion is created. That is, in the present embodiment, a description will be given by taking as an example a method for creating drawing data in the case where drawing is performed separately between the vicinity of the contour and the inner region while oversizing.

本実施形態の描画データ作成方法は、ステップ(以下、単にSと記載する)101からS113を有し、描画方法は、S114からS116を有する。
まず、本実施形態の描画データ作成方法を説明する。
S101では、ユーザの操作により、電子計算機10の設計データ入力部11に、設計データDaが入力される。
フォトマスクの設計データDaは、一般的に、レイアウトデータを多角形で表現したGDSIIデータが用いられる場合が多いが、これ以外のデータ形式を用いてもよい。
なお、理解を容易にするために、本実施形態の設計データDaに表現される描画したいパターン図形Zは、矩形として説明する(図4(a)参照)。
The drawing data creation method of this embodiment includes steps (hereinafter simply referred to as S) 101 to S113, and the drawing method includes S114 to S116.
First, the drawing data creation method of this embodiment will be described.
In S101, design data Da is input to the design data input unit 11 of the electronic computer 10 by a user operation.
The photomask design data Da is generally GDSII data in which layout data is expressed in polygons in many cases, but other data formats may be used.
In order to facilitate understanding, the pattern figure Z to be drawn expressed in the design data Da of this embodiment will be described as a rectangle (see FIG. 4A).

次に、S102では、閉図形定義部131は、入力された設計データDaのパターン図形に多角形が存在するか否かを判断する。多角形が存在する場合は、S103へ進み、存在しない場合は、S104へ進む。
S103では、設計データDaのパターン図形中の多角形を、三角形又は四角形の描画単位の図形(描画基本図形)に分解する。本実施形態では、2つの隣接する四角形に分解している(図4(b)参照)。
S104では、閉図形定義部131が、個々の描画基本図形の外周を、線分と点で表現した閉図形として定義する。本実施形態では、設計データDaのパターン図形は、破線で示される8つの線分(ab,bc,cd,da,ef,fg,gh,he)と、黒丸で示される6つの点((Xa,Ya)〜(Xd,Yd),(Xe,Ye)〜(Xh,Yh))で表現される2つの閉図形として定義される。
Next, in S102, the closed figure defining unit 131 determines whether or not a polygon exists in the pattern figure of the input design data Da. If a polygon exists, the process proceeds to S103, and if not, the process proceeds to S104.
In S103, the polygon in the pattern figure of the design data Da is decomposed into a figure (drawing basic figure) in a drawing unit of a triangle or a quadrangle. In this embodiment, it is disassembled into two adjacent squares (see FIG. 4B).
In S104, the closed figure defining unit 131 defines the outer periphery of each drawing basic figure as a closed figure expressed by line segments and points. In the present embodiment, the pattern figure of the design data Da includes eight line segments (ab, bc, cd, da, ef, fg, gh, he) indicated by broken lines and six points ((Xa , Ya) to (Xd, Yd), (Xe, Ye) to (Xh, Yh)).

S105では、制御部13は、操作入力部12の操作に応じて、後述のS106で定義する輪郭部A1,A2の幅の寸法の数値等の幅情報を入力する。ここで、幅情報とは、幅の寸法や、線分を基準として閉図形に対して内側へ幅付けして輪郭部を形成するのか、外側へ幅付けして輪郭部を形成するのか等の情報をいう。本実施形態では、幅の寸法をW1とし、各線分を基準として閉図形の外側へ幅付けして輪郭部を形成する。幅W1は、線分に対して垂直方向の寸法である。
S106では、輪郭部設定部132が、閉図形を構成する個々の線分について、その線分を基準として幅W1の帯状の輪郭部A1,A2を設定する(図4(d)参照)。また、輪郭部A1,A2より内側となる領域を内側部B1,B2として設定する(図4(e)参照)。
本実施形態では、閉図形が隣接しているため、輪郭部A1,A2が重複している領域O1,O2や、本来の設計データのパターン図形Zにおいて、その外周ではない領域P1,P2にも輪郭部が定義される(図5(c)参照)。
S107では、重複線分抽出部133が、個々の閉図形の各線分について、隣接する閉図形の線分と重複する線分を抽出する。本実施形態では、線分bcと線分heが重複する線分に該当し、抽出される。
In S <b> 105, the control unit 13 inputs width information such as numerical values of the width dimensions of contour portions A <b> 1 and A <b> 2 defined in S <b> 106 to be described later in accordance with the operation of the operation input unit 12. Here, the width information refers to the width dimension, whether the width is inwardly formed with respect to the closed figure based on the line segment, or the contour portion is formed by extending the width outward, etc. Information. In the present embodiment, the width is W1, and the outline is formed by extending the width outward from the closed figure with reference to each line segment. The width W1 is a dimension perpendicular to the line segment.
In S <b> 106, the contour setting unit 132 sets the strip-shaped contours A <b> 1 and A <b> 2 having the width W <b> 1 with reference to each line segment constituting the closed figure (see FIG. 4D). Moreover, the area | region inside the outline part A1, A2 is set as inner part B1, B2 (refer FIG.4 (e)).
In the present embodiment, since the closed figures are adjacent to each other, the areas O1 and O2 where the contour portions A1 and A2 overlap, and the areas P1 and P2 that are not the outer periphery of the pattern figure Z of the original design data are also included. A contour portion is defined (see FIG. 5C).
In S107, the overlapping line segment extraction unit 133 extracts, for each line segment of each closed figure, a line segment that overlaps with the line segment of the adjacent closed figure. In the present embodiment, the line segment bc and the line segment he correspond to the overlapping line segments and are extracted.

S108では、幅付け情報設定部134が、閉図形を構成する個々の線分に関して、その線分が重複する線分(以下、重複線分という)であるか、重複しない線分(以下、非重複線分という)であるかを判別する。重複する線分であれば、S109へ進み、重複しない線分であれば、S110へ進む。
S109では、幅付け情報設定部134が、重複線分であると判定された線分に対して、その垂直方向には幅付けをしない、という情報を付与する。本実施形態では、線分bc,heは、重複線分であるので(S108:Yes)、線分bc,heには幅付けをしないという情報が付与される(S109)。従って、線分bc,heの垂直方向には幅付けをしない、という情報が付与され、領域C1,C2(線分bc,heの垂直方向に幅付けされる領域、図4(f)参照)は、輪郭部として設定されない。
なお、本実施形態では、線分に対する幅付けの有無に関する情報は、フラグとして付与される。「flag=0」というフラグが設定された場合、その線分の垂直方向には幅付けしないものとする。
In S108, the width information setting unit 134 determines whether each line segment constituting the closed figure is a line segment that overlaps (hereinafter referred to as an overlap line segment) or a line segment that does not overlap (hereinafter referred to as a non-overlapping line segment). Whether it is an overlapping line segment). If the line segment overlaps, the process proceeds to S109, and if the line segment does not overlap, the process proceeds to S110.
In S <b> 109, the width information setting unit 134 assigns information indicating that no width is given in the vertical direction to the line segment determined to be an overlapping line segment. In the present embodiment, since the line segments bc and he are overlapping line segments (S108: Yes), information indicating that no width is added is given to the line segments bc and he (S109). Accordingly, information that no width is given in the vertical direction of the line segments bc and he is given, and areas C1 and C2 (areas that are widened in the vertical direction of the line segments bc and he, see FIG. 4F). Is not set as a contour.
In the present embodiment, information regarding the presence / absence of the width of the line segment is given as a flag. When the flag “flag = 0” is set, no width is set in the vertical direction of the line segment.

S110では、幅付け情報設定部134が、非重複線分であると判定された線分に対して、その垂直方向へ幅付けを行う、という情報を付与する。
本実施形態では、線分ab,cd,da,ef,fg,ghが、非重複線分であるので(S108:No)、線分ab,cd,da,ef,fg,ghに対して、その垂直方向へ幅付けを行う、という情報を付与が付与される。本実施形態では、線分に対する幅付けの有無に関する情報は、フラグとして付与され、「flag=1」というフラグが設定された場合、その線分の垂直方向には幅付けを行うものとする。従って、非重複線分ab,cd,da,ef,fg,ghについては、輪郭部設定部132が定義した幅付け(輪郭部)が維持される形態となる。
なお、本実施形態では、S108〜S110において、輪郭部を設定するために各線分に付与される情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報より優先される。従って、幅付けするという情報が、幅付けしないという情報よりも優先される。
In S <b> 110, the width information setting unit 134 gives information indicating that the line segment determined to be a non-overlapping line segment is to be width-oriented in the vertical direction.
In the present embodiment, since the line segments ab, cd, da, ef, fg, and gh are non-overlapping line segments (S108: No), for the line segments ab, cd, da, ef, fg, and gh, Giving information that the width is set in the vertical direction. In the present embodiment, the information regarding the presence / absence of the width of the line segment is given as a flag, and when the flag “flag = 1” is set, the width is assumed to be vertical in the line segment. Therefore, the non-overlapping line segments ab, cd, da, ef, fg, and gh are maintained in the width (contour) defined by the contour setting unit 132.
In this embodiment, in S108 to S110, the information given to each line segment for setting the contour is the width information given to the non-overlapping line segments, and the width information given to the non-overlapping line segments. Priority is given to information. Therefore, the information that the width is given has priority over the information that the width is not given.

S111では、幅付け情報設定部134が、すべての線分に対して幅付け情報を設定する処理が完了したかを判断する。すべての線分に幅付け情報の設定が完了していれば、S112へ進む。完了していなければ、S108へ進み、幅付け情報が設定されていない線分に関して、S108以降の処理を行う。
上述のS108〜S111を行うことにより、輪郭部D(D1,D2)(図4(D)参照)が設定される。
S112では、フォーマット変換部135が、上述の処理に基づく情報や定義を含む描画データを、描画装置20が認識可能なフォーマットに変換して、描画データDbとする。このとき、描画データDbには、閉図形の定義、各線分とそれに付与された内側部を設定する情報、各重複線分,各非重複線分とそれに付与された各重複線分,各非重複線分に付与された輪郭部を設定する情報が、それぞれ、関連付けられた状態で含まれている。これにより、描画装置20は、1つの描画データDbから、輪郭部D(図4(g)参照)と、輪郭部の内側の領域である内側部B(B1,B2)(図4(e)参照)との2つの領域を認識可能となる。
S113では、操作入力部12の操作等により、描画データ出力部15から、作成された描画データDbを出力する。このとき、描画データDbを、ハードディスクへ出力してもよいし、CD−R等の各種記憶媒体に出力して書き込んでもよいし、電子計算機10と描画装置20とを信号、電気ケーブル等のラインでつなぎ、情報記憶媒体等を通すことなく、描画装置20へ直接出力してもよい。
In S111, the width information setting unit 134 determines whether the processing for setting the width information for all the line segments has been completed. If the setting of the width information is completed for all the line segments, the process proceeds to S112. If not completed, the process proceeds to S108, and the processes after S108 are performed for the line segment for which no width information is set.
By performing S108 to S111 described above, the contour portion D (D1, D2) (see FIG. 4D) is set.
In S112, the format conversion unit 135 converts the drawing data including information and definitions based on the above-described processing into a format that can be recognized by the drawing apparatus 20, and sets the drawing data Db. At this time, the drawing data Db includes the definition of the closed figure, information for setting each line segment and the inner portion attached thereto, each overlapping line segment, each non-overlapping line segment, and each overlapping line segment provided thereto, Information for setting the contour portion assigned to the overlapping line segment is included in an associated state. As a result, the drawing apparatus 20 uses, from one drawing data Db, a contour portion D (see FIG. 4G) and an inner portion B (B1, B2) that is a region inside the contour portion (FIG. 4E). 2) can be recognized.
In S113, the created drawing data Db is output from the drawing data output unit 15 by the operation of the operation input unit 12 or the like. At this time, the drawing data Db may be output to a hard disk, may be output and written to various storage media such as a CD-R, and the electronic computer 10 and the drawing device 20 are connected to a line such as a signal or an electric cable. And may be output directly to the drawing apparatus 20 without passing through an information storage medium or the like.

S114では、ユーザの操作により、電子計算機10によって作成された描画データDbが描画装置20の描画データ入力部21へ入力される。
S115では、描画操作入力部22からの指示により、入力された描画データDbに基づいて、描画制御部23が、描画する2つの領域を認識する。本実施形態では、描画操作入力部22からの指示に応じて輪郭部D(図4(g)参照)、内側部B(図4(e)参照)のいずれかを認識する。
S116では、発光部25が、描画制御部23が認識した領域を描画する。このとき、描画操作入力部22の入力に応じて、描画制御部23が、輪郭部Dは、小さなビーム径によって高精度に描画し、内側部Bは、輪郭部Dより大きなビーム径によって描画するように発光部25に指示し、発光部25のヘッドの発光の強度等を制御する。発光部25は、描画制御部23からの指示により、輪郭部Dを小さなビーム径によって高精度に描画し、内側部Bを輪郭部Dより大きなビーム径によって描画する。
In S <b> 114, the drawing data Db created by the electronic computer 10 is input to the drawing data input unit 21 of the drawing device 20 by a user operation.
In S115, in accordance with an instruction from the drawing operation input unit 22, the drawing control unit 23 recognizes two areas to be drawn based on the input drawing data Db. In the present embodiment, either the contour portion D (see FIG. 4G) or the inner portion B (see FIG. 4E) is recognized in accordance with an instruction from the drawing operation input unit 22.
In S116, the light emitting unit 25 draws the area recognized by the drawing control unit 23. At this time, in response to an input from the drawing operation input unit 22, the drawing control unit 23 draws the contour portion D with a small beam diameter with high accuracy, and the inner portion B draws with a larger beam diameter than the contour portion D. Thus, the light emitting unit 25 is instructed to control the light emission intensity of the head of the light emitting unit 25 and the like. In response to an instruction from the drawing control unit 23, the light emitting unit 25 draws the contour portion D with a small beam diameter with high accuracy, and draws the inner portion B with a larger beam diameter than the contour portion D.

よって、本実施形態によれば、閉図形の各線分に対して、幅付けの有無の情報を与えることにより、1つの描画データDbでありながら、描画装置20が輪郭部Dと内側部Bとの2つの領域を認識することが可能となる。従って、描画領域毎に描画データを作成する必要がなくなり、描画データ作成のデータ処理に関して電子計算機にかかる負荷を軽減することができる。   Therefore, according to the present embodiment, by giving information on the presence / absence of width for each line segment of the closed figure, the drawing apparatus 20 can generate the contour portion D, the inner portion B, and the one drawing data Db. These two areas can be recognized. Therefore, it is not necessary to create drawing data for each drawing area, and the load on the electronic computer regarding data processing for drawing data creation can be reduced.

ここで、閉図形の個々の線分に幅付け情報を設定しない場合を考える。
図5は、線分に対して幅付け情報を設定しない場合の問題点を説明する図である。
図5に示すように、描画基本図形が隣接する場合、2つの閉図形において重複する線分bc,heが存在する(図5(a)参照)。
そのため、仮に、各線分に対して一律に閉図形の外側に幅付けして輪郭部A12,A22として定義する場合には、本来の設計データDaのパターン図形では輪郭部に相当しない内側部B12,B22である領域P1,P2や、輪郭部が重複する領域O1,O2が発生する。
この領域P1,P2は、設計データDaのパターン図形において、そのパターン図形Zの外周よりも内側の領域であり、高精度に描画する必要がない。しかし、このまま描画装置により描画した場合には、描画装置20は、この領域P1,P2を輪郭部と認識して高精度に描画することになり、スループットの低下を招く。また、領域P1,P2は、内側部B12、B22(図5(b)参照)と重複しており、領域O1,O2は、輪郭部が重複している領域である。つまり、これらの領域は、描画領域が重複しているので、多重露光することとなり、スループットの低下に加えて、多重露光による描画パターンの変形等が生じる。
Here, let us consider a case where no width information is set for each line segment of a closed figure.
FIG. 5 is a diagram for explaining a problem that occurs when width information is not set for a line segment.
As shown in FIG. 5, when drawing basic figures are adjacent to each other, there are overlapping line segments bc and he in two closed figures (see FIG. 5A).
Therefore, if each line segment is uniformly widened outside the closed figure and defined as contour parts A12, A22, the inner part B12, which does not correspond to the outline part in the original pattern figure of the design data Da, Areas P1 and P2, which are B22, and areas O1 and O2 in which the outlines overlap are generated.
The areas P1 and P2 are areas inside the outer periphery of the pattern figure Z in the pattern figure of the design data Da, and do not need to be drawn with high accuracy. However, when drawing is performed by the drawing apparatus as it is, the drawing apparatus 20 recognizes the regions P1 and P2 as the outline portions and draws with high accuracy, resulting in a decrease in throughput. The regions P1 and P2 overlap with the inner portions B12 and B22 (see FIG. 5B), and the regions O1 and O2 are regions where the contour portions overlap. That is, since these areas have overlapping drawing areas, they are subjected to multiple exposure, and in addition to a decrease in throughput, deformation of a drawing pattern due to multiple exposure occurs.

これに対して、本実施形態によれば、高精度で描画する必要のない閉図形の内側は、輪郭部とならないように、幅付け情報によってその部分の幅付け(図4(f)に示す領域C1,C2)を行わないこととでき、スループットの向上や作業時間の短縮、消費電力の低減等を図ることができる。
そして、本実施形態によれば、重複する描画領域が発生しないので、多重露光となる領域が発生せず、スループットの向上等や作業時間の短縮、消費電力の低減等に加えて、多重露光による描画パターンの変形を防止することができる。
On the other hand, according to the present embodiment, the inside of a closed figure that does not need to be drawn with high accuracy is not subjected to a contour portion, so that the width of the portion is shown by the width information (shown in FIG. 4F). Regions C1 and C2) can be omitted, and throughput can be improved, working time can be shortened, and power consumption can be reduced.
In addition, according to the present embodiment, since there are no overlapping drawing regions, there is no region for multiple exposure, and in addition to improvement of throughput, reduction of work time, reduction of power consumption, etc., multiple exposure is performed. Deformation of the drawing pattern can be prevented.

(第2実施形態)
第2実施形態の描画システムは、輪郭部と内側部との描き分けを行わず、オーバーサイジング又はアンダーサイジングを行うという点が、第1実施形態とは異なる以外は、第1実施形態の描画システムと略同様の形態である。そこで、上述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
図6は、第2実施形態の描画システムを示すブロック図である。図7は、第2実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。
第2実施形態の描画システムは、電子計算機30と描画装置20とを備えている。第2実施形態の描画システムでは、オーバーサイジング又はアンダーサイジングを行い、設計データDaのパターン図形よりも、パターン図形を太らせた(拡大した)パターン図形又は細らせた(縮小した)パターン図形を描画装置20に認識させる描画データDcを電子計算機30が作成し、その描画データDcに基づいて、描画装置20が不図示の基板上に太らせたパターン図形を描画する。
(Second Embodiment)
The drawing system of the second embodiment is different from the first embodiment in that oversizing or undersizing is not performed, but the outline part and the inner part are not separately drawn. And substantially the same form. Therefore, parts having the same functions as those in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals or the same reference numerals at the end, and repeated description is appropriately omitted.
FIG. 6 is a block diagram illustrating a drawing system according to the second embodiment. FIG. 7 is a diagram for explaining the flow of drawing data in the drawing system of the second embodiment.
The drawing system according to the second embodiment includes an electronic computer 30 and a drawing device 20. In the drawing system of the second embodiment, oversizing or undersizing is performed, and a pattern figure obtained by making the pattern figure thicker (enlarged) or made thinner (reduced) than the pattern figure of the design data Da. Drawing data Dc to be recognized by the drawing apparatus 20 is created by the electronic computer 30, and based on the drawing data Dc, the drawing apparatus 20 draws a pattern figure that is fattened on a substrate (not shown).

電子計算機30は、設計データ入力部11、操作入力部12、制御部33、記憶部14、描画データ出力部15を備える。
制御部33は、閉図形定義部131、サイジング領域設定部332、第1パターン領域設定部333、第2パターン領域設定部334、フォーマット変換部135等を備え、描画データ作成のための様々な演算や処理を行う。
サイジング領域設定部332は、操作入力部12から入力されたサイジング情報に基づいて、各閉図形に対するサイジング領域を定義する。本実施形態のサイジング情報は、設計データDaのパターン図形に対して、どの程度太らせるのか又は細らせるのかという情報、すなわち、オーバーサイジング又はアンダーサイジングの量(すなわち、太らせる又は細らせる寸法)と、その方向(すなわち、閉図形の外側へ又は内側への幅付けであること)とを示す情報をいう。
The electronic computer 30 includes a design data input unit 11, an operation input unit 12, a control unit 33, a storage unit 14, and a drawing data output unit 15.
The control unit 33 includes a closed figure definition unit 131, a sizing region setting unit 332, a first pattern region setting unit 333, a second pattern region setting unit 334, a format conversion unit 135, and the like, and performs various calculations for creating drawing data. And do some processing.
The sizing area setting unit 332 defines a sizing area for each closed figure based on the sizing information input from the operation input unit 12. The sizing information of the present embodiment is information on how thick or thin the pattern figure of the design data Da is, that is, the amount of oversizing or undersizing (that is, the size to be thickened or thinned). ) And the direction (that is, the width to the outside or the inside of the closed figure).

第1パターン領域設定部333は、描画領域となる第1パターン領域を設定する。第1パターン領域とは、サイジング領域設定部332により定義されたサイジング領域の内側の領域として定義される第1描画領域(図9(e)に示す領域F、図10(e)に示す領域J参照)である。
第2パターン領域設定部334は、重複線分抽出部335と幅付け情報設定部336とを有し、描画領域となる第2パターン領域を設定する。第2パターン領域とは、後述する重複線分抽出部335及び幅付け情報設定部336によって各線分に付与された情報によって設定される第2描画領域(図9(g)に示す領域H、図10(g)に示す領域L参照)である。
重複線分抽出部335は、閉図形の個々の線分の中から、隣接する閉図形の線分と重複している線分を抽出する。
幅付け情報設定部336は、個々の線分に対し、重複する線分であるか重複しない線分であるかを判定し、その結果に応じてその線分に対して幅付けに関する情報を付与する。
The first pattern area setting unit 333 sets a first pattern area that becomes a drawing area. The first pattern area is a first drawing area defined as an area inside the sizing area defined by the sizing area setting unit 332 (an area F shown in FIG. 9E and an area J shown in FIG. 10E). Reference).
The second pattern region setting unit 334 includes an overlapping line segment extraction unit 335 and a width information setting unit 336, and sets a second pattern region that becomes a drawing region. The second pattern region is a second drawing region (region H shown in FIG. 9G), which is set by information given to each line segment by an overlapping line segment extraction unit 335 and a width information setting unit 336, which will be described later. 10 (g), see region L).
The overlapping line segment extraction unit 335 extracts a line segment that overlaps the line segment of the adjacent closed graphic from the individual line segments of the closed graphic.
The width information setting unit 336 determines whether each line segment is an overlapping line segment or a non-overlapping line segment, and gives information about the width to the line segment according to the result. To do.

(オーバーサイジング)
図8は、第2実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を示すフローチャートである。図9は、第2実施形態の描画データ作成方法(オーバーサイジング)を説明する図である。
まず、本実施形態においてオーバーサイジングを行う場合を説明する。オーバーサイジングを行う描画データ作成方法は、S201〜S213,S220,S221を有する。
S201〜S204は、第1実施形態に示したS101〜S104と同様の処理を行っている(図9(a)〜(c)参照)。
S205では、操作入力部12からサイジング情報を入力する。ここでは、設計データDaのパターン図形Zに対して寸法W2だけ太らせてオーバーサイジングした描画領域を得るために、個々の線分に対して幅寸法W2だけ外側へ幅付けしてサイジング領域とするという情報を操作入力部12から入力する。
(Oversizing)
FIG. 8 is a flowchart illustrating a drawing data creation method and a drawing method according to the second embodiment. FIG. 9 is a diagram illustrating a drawing data creation method (oversizing) according to the second embodiment.
First, a case where oversizing is performed in the present embodiment will be described. The drawing data creation method for performing oversizing includes S201 to S213, S220, and S221.
S201 to S204 perform the same processing as S101 to S104 shown in the first embodiment (see FIGS. 9A to 9C).
In S205, sizing information is input from the operation input unit 12. Here, in order to obtain an oversized drawing area by thickening the pattern figure Z of the design data Da by the dimension W2, each line segment is widened outward by the width dimension W2 to form a sizing area. Is input from the operation input unit 12.

S206では、サイジング領域設定部332が、個々の閉図形に対して、サイジング領域を定義する。ここではオーバーサイジングを行うので、サイジング領域設定部332は、個々の線分に対して外側へ幅寸法W2で幅付けしたサイジング領域E1,E2を設定する(図9(d)参照)。
S207では、サイジング領域設定部332が、入力されたサイジング情報からオーバーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのかを判断する。オーバーサイジングであればS208へ進み、アンダーサイジングであればS214へ進む。ここでは、オーバーサイジングを行うので、S208へ進む。アンダーサイジングを行う場合については後述する。
In S206, the sizing area setting unit 332 defines a sizing area for each closed figure. Here, since oversizing is performed, the sizing area setting unit 332 sets sizing areas E1 and E2 that are widened to the outside by the width dimension W2 for each line segment (see FIG. 9D).
In S207, the sizing area setting unit 332 determines whether to perform oversizing or undersizing from the input sizing information. If oversizing, the process proceeds to S208, and if undersizing, the process proceeds to S214. Since oversizing is performed here, the process proceeds to S208. The case of undersizing will be described later.

S208では、第1パターン領域設定部333が、サイジング領域E1,E2の内側を、第1パターン領域F(F1,F2)として設定する。ここでは、オーバーサイジングを行うので、個々の閉図形で定義される領域(描画基本図形)を描画領域である第1パターン領域F(F1,F2)であると設定する(図9(e)参照)
S209では、重複線分抽出部335が、個々の閉図形において、隣接する閉図形の線分と重複する重複線分を抽出する。本実施形態では、線分bc,heが該当し、抽出される。
S210では、幅付け情報設定部336が、個々の線分が重複線分であるか否かを判定する。重複線分であれば、S211へ進み、非重複線分であればS212へ進む。
S211では、幅付け情報設定部336が、重複線分に対して、その線分の垂直方向へは幅付けしないという情報を付与し、S213へ進む。本実施形態では、線分bc,heに対して、幅付けしないという情報をフラグ(flag=0)等を用いて付与する。
S212では、幅付け情報設定部336が、非重複線分に対して、その線分の垂直方向へ幅付けするという情報を付与し、S213へ進む。本実施形態では、線分ab,cd,da,ef,fg,ghに対して、幅付けするという情報をフラグ(flag=1)等を用いて付与する。
なお、S210〜S212において、第2パターン領域の設定のために各線分に付与される情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報よりも優先される。従って、幅付けするという情報(flag=1)が、幅付けしない(flag=0)という情報よりも優先される。
In S208, the first pattern region setting unit 333 sets the inside of the sizing regions E1, E2 as the first pattern region F (F1, F2). Here, since oversizing is performed, the area (drawing basic figure) defined by each closed figure is set as the first pattern area F (F1, F2) which is the drawing area (see FIG. 9E). )
In S209, the overlapping line segment extraction unit 335 extracts, in each closed graphic, an overlapping line segment that overlaps the line segment of the adjacent closed graphic. In the present embodiment, the line segments bc and he correspond and are extracted.
In S210, the width information setting unit 336 determines whether each line segment is an overlapping line segment. If it is an overlapping line segment, the process proceeds to S211. If it is a non-overlapping line segment, the process proceeds to S212.
In S211, the width information setting unit 336 gives information that the overlapping line segment is not width-oriented in the vertical direction, and the process proceeds to S213. In the present embodiment, information indicating that no width is given to the line segments bc and he using a flag (flag = 0) or the like.
In S212, the width information setting unit 336 gives information indicating that the non-overlapping line segment is to be widthwise in the vertical direction, and the process proceeds to S213. In the present embodiment, the information indicating the width is given to the line segments ab, cd, da, ef, fg, and gh using a flag (flag = 1) or the like.
Note that in S210 to S212, the information given to each line segment for setting the second pattern region is that the width information given to the non-overlapping line segments is more than the width information given to the overlapping line segments. have priority. Therefore, the information indicating that the width is set (flag = 1) is given priority over the information indicating that the width is not set (flag = 0).

S213では、幅付け情報設定部336が、すべての線分に対して幅付け情報の設定が完了しているかを判断する。完了している場合には、S220へ進み、完了していない場合は、S210へ進み、幅付け情報が付与されていない線分に対して、S210以降の処理を行う。
S209〜S213の処理を行うことにより、一様に幅付けしてオーバーサイジングを行った場合に、幅付けが不要な領域G1,G2(図9(f)参照)への幅付けを削除することができる。そして、オーバーサイジングにより新しく設定された描画領域である第2パターン領域H(H1,H2)を定義できる(図9(g)参照)。
S220では、フォーマット変換部135が、上述に処理により付与された情報や定義を含む描画データを、描画装置20が認識可能なフォーマットへ変換する。このとき、描画データDcには、各線分とそれに付与された第1パターン領域を設定する情報、各重複線分,各非重複線分とそれに付与された各重複線分,各非重複線分に付与された第2パターン領域を設定する情報とが、それぞれ関連付けられた状態で含まれている。
S221では、描画データ出力部15が、描画データDcを出力する。
In S213, the width information setting unit 336 determines whether the width information has been set for all the line segments. If it has been completed, the process proceeds to S220. If it has not been completed, the process proceeds to S210, and the processes after S210 are performed on the line segment to which no width information is assigned.
By performing the processing of S209 to S213, when oversizing is performed with uniform widths, the widths of the regions G1 and G2 (see FIG. 9F) that do not need to be widened are deleted. Can do. Then, the second pattern area H (H1, H2), which is a drawing area newly set by oversizing, can be defined (see FIG. 9G).
In S220, the format conversion unit 135 converts the drawing data including the information and the definition given by the above processing into a format that can be recognized by the drawing apparatus 20. At this time, the drawing data Dc includes information for setting each line segment and the first pattern area assigned thereto, each overlapping line segment, each non-overlapping line segment, each overlapping line segment provided thereto, and each non-overlapping line segment. And the information for setting the second pattern area assigned to is included in an associated state.
In S221, the drawing data output unit 15 outputs the drawing data Dc.

(アンダーサイジング)
図10は、第2実施形態の描画データ作成方法(アンダーサイジング)を説明する図である。
アンダーサイジングを行う描画データ作成方法は、S201〜S207、S214〜S219,S220,S221を有する。アンダーサイジングを行う場合も、オーバーサイジングを行う場合と同様に、S201〜S204は、第1実施形態に示したS101〜S104と同様の処理を行っている(図10(a)〜(c)参照)。
図8に示すS205で、操作入力部12からサイジング情報を入力する。アンダーサイジングを行う場合には、設計データDaのパターン図形に対して寸法W3だけ細らせてアンダーサイジングした描画領域を得るために、個々の線分に対して寸法W3だけ内側へ幅付けしてサイジング領域とするという情報を操作入力部12から入力する。
S206では、サイジング領域設定部332が、個々の閉図形に対して、サイジング領域を設定する。本実施形態では、閉図形の個々の線分に対して内側に幅寸法W3だけ幅付けして帯状のサイジング領域I1,I2(図10の(d)参照)を設定する。なお、アンダーサイジングを行う場合、このサイジング領域I1,I2は非描画領域である。
(Undersizing)
FIG. 10 is a diagram for explaining a drawing data creation method (undersizing) according to the second embodiment.
The drawing data creation method for performing undersizing includes S201 to S207, S214 to S219, S220, and S221. Even when undersizing is performed, as in the case of oversizing, S201 to S204 perform the same processing as S101 to S104 shown in the first embodiment (see FIGS. 10A to 10C). ).
In S205 shown in FIG. 8, sizing information is input from the operation input unit 12. In the case of undersizing, in order to obtain an undersized drawing area by thinning the pattern figure of the design data Da by the dimension W3, the line segment is widened inward by the dimension W3. Information indicating the sizing area is input from the operation input unit 12.
In S206, the sizing area setting unit 332 sets a sizing area for each closed figure. In the present embodiment, the band-shaped sizing regions I1 and I2 (see FIG. 10D) are set by adding the width dimension W3 to the inside of each line segment of the closed figure. When undersizing is performed, the sizing areas I1 and I2 are non-drawing areas.

S207では、サイジング領域設定部332が、アンダーサイジングを行うのか、オーバーサイジングを行うのかを、入力されたサイジング情報から判断する。ここではアンダーサイジングを行うので、S214へ進む。
S214では、第1パターン領域設定部333が、サイジング領域設定部332で設定されたサイジング領域より内側の領域を、第1パターン領域として定義する。ここでは、アンダーサイジングを行うので、サイジング領域I1,I2(図10(d)参照)の内側となる領域J1,J2(図10(e)参照)を、第1パターン領域Jとして定義する。
In S207, the sizing area setting unit 332 determines whether to perform undersizing or oversizing from the input sizing information. Since undersizing is performed here, the process proceeds to S214.
In S214, the first pattern region setting unit 333 defines a region inside the sizing region set by the sizing region setting unit 332 as the first pattern region. Here, since undersizing is performed, the regions J1 and J2 (see FIG. 10E) inside the sizing regions I1 and I2 (see FIG. 10D) are defined as the first pattern region J.

S215では、第2パターン領域設定部334の重複線分抽出部335が、閉図形の個々の線分のうち、隣接する閉図形の線分と重複している重複線分を抽出する。本実施形態では、線分bc,heが重複線分に該当し、抽出される。
S216では、第2パターン領域設定部334の幅付け情報設定部336が、個々の線分に対して、その線分が重複線分であるか否かを判別する。重複線分であると判定した場合はS217へ進み、非重複線分でないと判定した場合には、S218へ進む。
S217では、幅付け情報設定部336が、重複線分であると判定された線分に対して、その線分の垂直方向に幅付けするという情報を付与する。本実施形態では、線分bc,heに対して、その線分の垂直方向に幅付けするという情報をフラグ(flag=1)等で設定する。
In S215, the overlapping line segment extraction unit 335 of the second pattern region setting unit 334 extracts the overlapping line segment that overlaps with the line segment of the adjacent closed graphic among the individual line segments of the closed graphic. In the present embodiment, the line segments bc and he correspond to overlapping line segments and are extracted.
In S216, the width information setting unit 336 of the second pattern region setting unit 334 determines whether or not each line segment is an overlapping line segment. If it is determined that it is an overlapping line segment, the process proceeds to S217. If it is determined that it is not a non-overlapping line segment, the process proceeds to S218.
In S <b> 217, the width information setting unit 336 gives information that a line segment determined to be an overlapping line segment is to be expanded in the vertical direction of the line segment. In the present embodiment, information indicating that the line segments bc and he have a width in the vertical direction is set by a flag (flag = 1) or the like.

S218では、幅付け情報設定部336が、非重複線分であると判定された線分に対して、その線分の垂直方向に対して幅付けしないという情報を付与する。本実施形態では、線分ab,cd,da,ef,fg,ghが、非重複線分と判定され、これらの線分に対して、幅付けしないという情報をフラグ(flag=0)等を用いて設定する。
S219では、幅付け情報設定部336が、すべての線分に対して幅付け情報を付与したか否かを判断する。すべての線分に対して幅付け情報が付与されていればS220へ進む。付与されていない線分が存在する場合には、S216へ進み、その線分に対してS216以降の処理を行う。
なお、本実施形態では、S216〜S218において第2パターン領域を設定するために各線分に付与される幅付け情報は、非重複線分に付与される幅付け情報が、重複線分に付与される幅付け情報より優先される。従って、幅付けしないという情報(flag=0)が、幅付けするという情報(flag=1)よりも優先される。
In S <b> 218, the width information setting unit 336 gives information that the line segment determined to be a non-overlapping line segment is not to be given a width in the vertical direction of the line segment. In this embodiment, the line segments ab, cd, da, ef, fg, and gh are determined as non-overlapping line segments, and information indicating that no width is given to these line segments is set with a flag (flag = 0) or the like. Use to set.
In S219, the width information setting unit 336 determines whether or not width information has been assigned to all line segments. If width information is given to all line segments, the process proceeds to S220. If there is a line segment that has not been given, the process proceeds to S216, and the processes after S216 are performed on the line segment.
In this embodiment, the width information given to each line segment in order to set the second pattern area in S216 to S218 is the same as the width information given to the non-overlapping line segment. Overrides the width information. Therefore, the information that the width is not set (flag = 0) is given priority over the information that the width is set (flag = 1).

上述のS215〜S219を行うことにより、第2パターン領域L(L1,L2)が定義される(図10の(g)参照)。
ここで仮に、閉図形の線分に対して一律に閉図形の内側へ幅付けしたサイジング領域を定義して、アンダーサイジングを行う場合には、個々の第1パターン領域J1,J2間には、隙間(スリット)Kが生じる場合がある(図10(f)参照)。この状態のまま描画装置20によって第1パターン領域Jを描画すると、隙間K部分が描画されないので、パターン図形が断線した状態で描画されてしまう。第2パターン領域Lは、幅付け情報を付与することにより、第1パターン領域J(J1,J2)域間の隙間Kとなる領域に、描画領域として定義されるので、そのようなパターンの断線を防止できる。
By performing the above-described S215 to S219, the second pattern region L (L1, L2) is defined (see (g) of FIG. 10).
Here, if a sizing area that is uniformly widened to the inside of the closed figure with respect to the line segment of the closed figure is defined and undersizing is performed, between the individual first pattern areas J1 and J2, A gap (slit) K may occur (see FIG. 10F). If the first pattern area J is drawn by the drawing device 20 in this state, the gap K portion is not drawn, so that the pattern figure is drawn in a disconnected state. Since the second pattern area L is defined as a drawing area in the area that becomes the gap K between the first pattern areas J (J1, J2) by giving the width information, disconnection of such a pattern. Can be prevented.

S220では、フォーマット変換部135が、上述に処理により付与された情報や定義を含む描画データを、描画装置20が認識可能なフォーマットへ変換する。このとき、描画データDcには、各線分とそれに付与された第1パターン領域を設定する情報、各重複線分,各非重複線分とそれに付与された各重複線分,各非重複線分に付与された第2パターン領域を設定する情報とが、それぞれ関連付けられた状態で含まれている。
S221では、描画データ出力部15が、描画データDcを出力する。
In S220, the format conversion unit 135 converts the drawing data including the information and the definition given by the above processing into a format that can be recognized by the drawing apparatus 20. At this time, the drawing data Dc includes information for setting each line segment and the first pattern area assigned thereto, each overlapping line segment, each non-overlapping line segment, each overlapping line segment provided thereto, and each non-overlapping line segment. And the information for setting the second pattern area assigned to is included in an associated state.
In S221, the drawing data output unit 15 outputs the drawing data Dc.

(描画方法)
次に、描画方法について説明する。本実施形態の描画方法は、S222〜S224を有する。
S222では、ユーザの操作等により、描画装置20の描画データ入力部21が、作成された描画データDcを描画制御部23へ入力する。
S223では、描画制御部23が、描画データDcに基づいて、第1パターン領域と第2パターン領域とを認識する。本実施形態では、オーバーサイジングを行う場合、描画制御部23は、第1パターン領域F(図9(e)参照)と第2パターン領域H(図9(g)参照)とを描画領域として認識する。一方、アンダーサイジングを行う場合、描画制御部23は、第1パターン領域J(図10(e)参照)と第2パターン領域L(図10(g)参照)とを、描画領域として認識する。
(Drawing method)
Next, a drawing method will be described. The drawing method of the present embodiment includes S222 to S224.
In S <b> 222, the drawing data input unit 21 of the drawing device 20 inputs the created drawing data Dc to the drawing control unit 23 by a user operation or the like.
In S223, the drawing control unit 23 recognizes the first pattern region and the second pattern region based on the drawing data Dc. In the present embodiment, when oversizing is performed, the drawing control unit 23 recognizes the first pattern region F (see FIG. 9E) and the second pattern region H (see FIG. 9G) as the drawing region. To do. On the other hand, when performing undersizing, the drawing control unit 23 recognizes the first pattern region J (see FIG. 10E) and the second pattern region L (see FIG. 10G) as the drawing region.

S221では、発光部25が、描画制御部23の指示に基づいて、第1パターン領域及び第2パターン領域からなる描画領域を描画する。
本実施形態では、発光部25は、オーバーサイジングを行う場合、第1パターン領域F及び第2パターン領域Hからなる描画領域を描画し、アンダーサイジングを行う場合、第1パターン領域J及び第2パターン領域Lからなる描画領域を描画する。このとき、照射する電子線のビーム径は、描画操作入力部22から入力された指示に従い、適宜調節される。また、発光部25は、第1パターン領域及び第2パターン領域からなる領域(領域F,H又は領域J,L)を一度に描画してもよいし、第1パターン領域(領域F,J)と第2パターン領域(領域H,L)とを別々に描画してもよい。
In step S <b> 221, the light emitting unit 25 draws a drawing area including the first pattern area and the second pattern area based on an instruction from the drawing control unit 23.
In the present embodiment, the light emitting unit 25 draws a drawing area composed of the first pattern area F and the second pattern area H when performing oversizing, and the first pattern area J and the second pattern when performing undersizing. A drawing area composed of the area L is drawn. At this time, the beam diameter of the irradiated electron beam is appropriately adjusted according to the instruction input from the drawing operation input unit 22. Further, the light emitting unit 25 may draw a region (region F, H or region J, L) composed of the first pattern region and the second pattern region at a time, or the first pattern region (region F, J). And the second pattern region (regions H and L) may be drawn separately.

本実施形態によれば、1つの描画データDcから、描画装置20に対して第1パターン領域及び第2パターン領域の2つの描画領域を認識させることができる。従って、描画領域である第1パターン領域F,J、第2パターン領域H,L毎に、それぞれの描画データを作成する必要がなく、電子計算機30にかかる描画データDc作成の負荷を低減できる。
また、オーバーサイジングを行う場合には、重複する描画領域が発生しないので、多重露光による変形を防止でき、かつ、スループットを向上することができる。
さらに、アンダーサイジングを行う場合には、一律に基本図形の内側に非描画領域を設定してアンダーサイジングを行った場合に生じるスリット(隙間K)を防止でき、パターン図形の断線を防止できる。
According to the present embodiment, it is possible to cause the drawing apparatus 20 to recognize two drawing areas of the first pattern area and the second pattern area from one drawing data Dc. Therefore, it is not necessary to create each drawing data for each of the first pattern areas F and J and the second pattern areas H and L, which are drawing areas, and the load of creating the drawing data Dc applied to the electronic computer 30 can be reduced.
In addition, when oversizing is performed, overlapping drawing regions do not occur, so that deformation due to multiple exposure can be prevented and throughput can be improved.
Further, when undersizing is performed, it is possible to prevent a slit (gap K) generated when undersizing is performed by setting a non-drawing area uniformly inside the basic figure, and it is possible to prevent disconnection of the pattern figure.

(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
(1)第1実施形態において、描画装置20として、ビーム径の大きさを適宜調節可能な1つのヘッドを備える可変成形電子線描画装置を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、照射面積の異なる2つのヘッドを備える1つの描画装置によって、輪郭部Dを高精度に描画し、内側部Bを輪郭部Dに比べてラフに描画してもよい。また、例えば、輪郭部Dは照射面積の小さい微小スポットの電子線を照射する描画装置で描画し、内側部Bは、照射面積の大きいレーザを照射する描画装置で描画するといったように、照射面積の異なる2台の描画装置を用いて描画してもよい。
なお、各実施形態中に示した描画装置20としては、リソグラフィ用描画装置であれば特に限定されず、例えば、スポットビーム電子線描画装置、可変成形電子線描画装置、マルチビーム電子線描画装置、レーザ描画装置等を用いてもよい。
(Deformation)
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications and changes are possible, and these are also within the scope of the present invention.
(1) In the first embodiment, as the drawing apparatus 20, a variable shaped electron beam drawing apparatus including one head capable of appropriately adjusting the beam diameter has been described as an example. The outline portion D may be drawn with high accuracy and the inner portion B may be drawn more roughly than the outline portion D by a single drawing apparatus including two heads having different irradiation areas. In addition, for example, the contour portion D is drawn by a drawing device that irradiates an electron beam of a small spot having a small irradiation area, and the inner portion B is drawn by a drawing device that irradiates a laser having a large irradiation area. The drawing may be performed using two drawing apparatuses having different values.
The drawing apparatus 20 shown in each embodiment is not particularly limited as long as it is a lithography drawing apparatus. For example, a spot beam electron beam drawing apparatus, a variable shaped electron beam drawing apparatus, a multi-beam electron beam drawing apparatus, A laser drawing apparatus or the like may be used.

(2)各実施形態において、幅付けの寸法は、所定の値W1,W2,W3である例を示したが、これに限らず、幅付けの寸法は、可変としてもよい。この場合、例えば、入力される幅情報では、幅付けの寸法は、変数xで表現され、描画装置の操作入力部から入力した値で適宜設定されるものとしてもよい。このような形態とすれば、幅付けの寸法の変更が容易となり、例えば、サイジングや高精細描画と低精細描画の描き分けを行う場合等に、試作時の描画の状態を確認した後、サイジング領域や輪郭部の寸法を変化させて再度描画するといった処理を複雑な工程を経ることなく簡便に行うことができる。 (2) In each embodiment, the example in which the width dimension is the predetermined values W1, W2, and W3 is shown, but the present invention is not limited thereto, and the width dimension may be variable. In this case, for example, in the input width information, the width dimension may be represented by a variable x, and may be appropriately set with a value input from the operation input unit of the drawing apparatus. With such a configuration, it is easy to change the width dimension. For example, when performing sizing or drawing of high-definition drawing and low-definition drawing separately, after confirming the drawing state at the time of prototyping, sizing A process of changing the size of the region and the contour and redrawing can be easily performed without going through a complicated process.

(3)各実施形態において、フォトマスクを用いたフォトリソグラフィ用のマスク製作における描画データ作成プログラム、描画データ作成方法、描画データ作成装置、描画システムについて説明したが、これに限らず、ウエハ基板への電子線やレーザ光のによる描画等のその他のリソグラフィ技術にも適用できる。 (3) In each of the embodiments, a drawing data creation program, a drawing data creation method, a drawing data creation device, and a drawing system in photolithography mask production using a photomask have been described. The present invention can also be applied to other lithography techniques such as drawing with an electron beam or a laser beam.

(4)各実施形態において、隣接する描画基本図形が接する辺の長さが等しい(閉図形の重複する線分bcと線分heの長さが等しい)例を示して説明した。しかし、接する辺(重複する線分)の長さが異なる基本図形(閉図形)が生じる可能性がある。
図11は、変形形態の描画データ作成方法を説明する図である。
図11(a)に示すような設計パターンのパターン図形Z1では、描画データ作成プログラムにおいて、描画基本図形に分解された場合に、図11(b)に示すように、隣接する描画基本図形の接する辺の長さが異なる場合がある。
このとき、1つの方法としては、そのような辺が生じなくなるまで、さらに描画基本図形に分解し、閉図形を定義する(図11(c)参照)という処理を行う。そうすることにより、以降は、上述の第1実施形態及び第2実施形態に示した処理を行うことができる。
(4) In each embodiment, the length of the side where the adjacent drawing basic figure touches is the same (the length of the overlapping line segment bc and the line segment he of the closed graphic is equal). However, there is a possibility that a basic figure (closed figure) having different lengths of adjacent sides (overlapping line segments) may be generated.
FIG. 11 is a diagram illustrating a modified drawing data creation method.
In the pattern figure Z1 of the design pattern as shown in FIG. 11A, when the drawing data creation program is decomposed into the drawing basic figure, as shown in FIG. 11B, the adjacent drawing basic figure comes into contact. The length of the sides may be different.
At this time, as one method, a process of further decomposing into a drawing basic graphic and defining a closed graphic (see FIG. 11C) is performed until such a side no longer occurs. By doing so, the processes shown in the first and second embodiments described above can be performed thereafter.

また、もう1つの方法としては、隣接する描画基本図形の接する辺の長さが異なる状態のまま閉図形を定義し(図11(d)参照)、サイジング領域又は輪郭部M1,M2を定義した後に、短い方の線分の末端から外側又は内側に幅付け境界点を設ける。図11では、オーバーサイジングを行う場合を例に挙げて説明するが、図11(e)に示すように、幅付け境界点qを設けて、線分hcを線分hqと線分qcとに分解する。
そして、それぞれの線分に対して、幅付け情報を付与する。図11に示す例では、2つの辺の交点に相当する点h(Xh,Yh)と境界点qとを結ぶ線分hqには、幅付けしないという情報を付与する。他の線分に対しては、第2実施形態に示すように、重複する線分であれば、幅付けしないという情報を付与し、重複しない線分であれば幅付けするという情報を付与することにより、第2パターン領域N(N1,N2)を設定する。
このように新たに線分上に境界点を設けて、その境界点により線分を新たに定義して、その線分に対して幅付け情報を付与することにより、重複して描画する領域が生じることを防止でき、スループットの向上や多重露光による変形の防止等の効果が得られる。
As another method, a closed figure is defined while the lengths of adjacent sides of adjacent drawing basic figures are different (see FIG. 11D), and sizing areas or contour portions M1 and M2 are defined. Later, a width boundary point is provided outside or inside from the end of the shorter line segment. In FIG. 11, a case where oversizing is performed will be described as an example. As shown in FIG. 11E, a width boundary point q is provided, and the line segment hc is changed into a line segment hq and a line segment qc. Decompose.
Then, width information is given to each line segment. In the example illustrated in FIG. 11, information indicating that no width is given is given to a line segment hq connecting a point h (Xh, Yh) corresponding to the intersection of two sides and a boundary point q. For other line segments, as shown in the second embodiment, information indicating that the line segment is not widened is given if it is an overlapping line segment, and information that the line width is given if it is a non-overlapping line segment is given. Thus, the second pattern region N (N1, N2) is set.
In this way, by newly providing a boundary point on the line segment, by newly defining the line segment by the boundary point, and adding width information to the line segment, an overlapping drawing area can be obtained. It is possible to prevent the occurrence, and effects such as improvement of throughput and prevention of deformation due to multiple exposure can be obtained.

(5)各実施形態において、電子計算機10,30は、描画装置20とは別体である例を示したが、これに限らず、例えば、電子計算機が描画装置内に設けられていてもよい。 (5) In each embodiment, although the computer 10 and 30 showed the example which is a different body from the drawing apparatus 20, it is not restricted to this, For example, the electronic computer may be provided in the drawing apparatus. .

(6)第1実施形態において、線分を基準として閉図形の外側へ幅付けして輪郭部を設定する例を示したが、これに限らず、線分を基準として内側へ幅付けして輪郭部を定義してもよい。この場合、重複する線分か否かに応じて幅付けの有無に関する情報を付与する等の処理は行わず、個々の線分に対して一律に幅付けを行って輪郭部と内側部とを定義してよい。 (6) In the first embodiment, an example is shown in which the outline is set outside the closed figure by using the line segment as a reference. An outline may be defined. In this case, processing such as providing information on the presence or absence of width depending on whether or not there is an overlapping line segment is not performed, and the width is uniformly applied to each line segment, and the contour portion and the inner portion are separated. May be defined.

(7)第2実施形態において、S208で、制御部33がオーバーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのか、アンダーサイジングを行うのかをサイジング情報から判断し、それぞれの場合に応じた処理を行う例を示したが、これに限らず、例えば、そのような判断を行わず、アンダーサイジングのみを行う、又は、アンダーサイジングのみを行うものとしてもよい。
なお、本実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は以上説明した各実施形態によって限定されることはない。
(7) In the second embodiment, in S208, the control unit 33 determines whether to perform oversizing, undersizing, or undersizing from the sizing information, and performs processing according to each case. However, the present invention is not limited to this. For example, such determination may not be performed, and only undersizing may be performed, or only undersizing may be performed.
In addition, although this embodiment and modification can also be used in combination as appropriate, detailed description is abbreviate | omitted. Further, the present invention is not limited by the embodiments described above.

第1実施形態の描画システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the drawing system of 1st Embodiment. 第1実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。It is a figure explaining the flow of the drawing data in the drawing system of 1st Embodiment. 第1実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the drawing data creation method and drawing method of 1st Embodiment. 第1実施形態の描画データ作成方法を説明する図である。It is a figure explaining the drawing data creation method of 1st Embodiment. 線分に対して幅付け情報を設定しない場合の問題点を説明する図である。It is a figure explaining the problem when not setting widthing information with respect to a line segment. 第2実施形態の描画システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the drawing system of 2nd Embodiment. 第2実施形態の描画システムにおける描画データの流れを説明する図である。It is a figure explaining the flow of the drawing data in the drawing system of 2nd Embodiment. 第2実施形態の描画データ作成方法及び描画方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the drawing data creation method and drawing method of 2nd Embodiment. 第2実施形態の描画データ作成方法(オーバーサイジング)を説明する図である。It is a figure explaining the drawing data creation method (oversizing) of 2nd Embodiment. 第2実施形態の描画データ作成方法(アンダーサイジング)を説明する図である。It is a figure explaining the drawing data creation method (undersizing) of 2nd Embodiment. 変形形態の描画データ作成方法を説明する図である。It is a figure explaining the drawing data creation method of a deformation | transformation form.

符号の説明Explanation of symbols

10,30 電子計算機
11 設計データ入力部
12 操作入力部
13,33 制御部
131 閉図形定義部
132 輪郭部設定部
133,335 重複線分抽出部
134,336 幅付け情報設定部
333 第1パターン領域設定部
334 第2パターン領域設定部
14 記憶部
15 描画データ出力部
20 描画装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,30 Computer 11 Design data input part 12 Operation input part 13,33 Control part 131 Closed figure definition part 132 Contour part setting part 133,335 Overlapping line segment extraction part 134,336 Width information setting part 333 1st pattern area | region Setting unit 334 Second pattern area setting unit 14 Storage unit 15 Drawing data output unit 20 Drawing device

Claims (16)

描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の内側へ所定の寸法の幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分と前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段と、
として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラム。
A drawing data creation program for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
Computer
A closed figure defining means for decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure represented by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
Width information receiving means for receiving input of width information for performing width of a predetermined dimension inside the closed figure;
Information on the inside of the closed figure is given a width in the vertical direction of the line segment based on the width information and the area inside the area to be widened is set as a first drawing area. First drawing area information giving means for giving to
An overlapping line segment determining means for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
The second drawing area information is added to the overlapping line segment to give information for setting the area to be widened as a second drawing area by applying a width to the inside of the closed figure based on the width information. Means,
Associating each line segment with information set as the first drawing area given to each line segment, and setting each overlapping line segment and information set as the second drawing area given to each overlapping line segment A drawing data output means for associating and outputting the drawing data included in the drawing data;
A drawing data creation program characterized by functioning as
請求項1に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第2描画領域情報付与手段では、前記非重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行わないという情報を付与すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
In the drawing data creation program according to claim 1,
In the second drawing area information providing unit, the non-overlapping line segment is provided with information that no width is given to the inside of the closed figure,
A drawing data creation program characterized by
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域よりも内側の領域を第1描画領域とする情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段と、
として機能させることを特徴とする描画データ作成プログラム。
A drawing data creation program for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
Computer
A closed figure defining means for decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure represented by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
Width information receiving means for receiving an input of width information for width outward of the closed figure;
Information on the outside of the closed figure in the vertical direction based on the width information in the vertical direction of the line segment and the area inside the area to be widened as a first drawing area is the line segment. First drawing area information giving means for giving to
An overlapping line segment determining means for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
Second drawing area information that gives information for setting a width of the non-overlapping line segment as a second drawing area by applying a width to the outside of the closed figure based on the width information. Granting means;
Information that sets each line segment and the information set as the first drawing area given to each line segment, and sets the second drawing area given to each non-overlapping line segment and each non-overlapping line segment And drawing data output means for including the drawing data for output.
A drawing data creation program characterized by functioning as
請求項3に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第2描画領域情報付与手段では、前記重複線分に対して、前記閉図形の外側へ幅付けを行わないという情報を付与すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
In the drawing data creation program according to claim 3,
In the second drawing area information giving means, giving information that the overlapping line segment is not widened outside the closed figure,
A drawing data creation program characterized by
請求項2又は請求項4に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記第2描画領域情報付与手段では、前記非重複線分に付与される幅付けする情報が、前記重複線分に付与される幅付けする情報よりも優先されること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
In the drawing data creation program according to claim 2 or claim 4,
In the second drawing area information providing means, information with width is applied to the non-overlapping line segment, it is preferred over information with width is applied to the overlapping line segment,
A drawing data creation program characterized by
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成プログラムであって、
コンピュータを、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義手段と、
前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを行う幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け手段と、
前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理手段とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理手段として機能させ、
前記内側処理手段を、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段と、
前記各線分と前記各線分に付与され前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段として機能させ、
前記外側処理手段を、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域とする情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与手段と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定手段と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与手段と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力手段として機能させること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
A drawing data creation program for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
Computer
A closed figure defining means for decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure represented by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
Width information receiving means for receiving input of width information for performing width to the inside or outside of the closed figure;
When the width information is input of width information inside the closed figure, it is an inner processing means, and when the information input to the reception means is input of width information outside, , Function as an outer processing means,
The inner processing means;
Information on the inside of the closed figure is given a width in the vertical direction of the line segment based on the width information and the area inside the area to be widened is set as a first drawing area. First drawing area information giving means for giving to
An overlapping line segment determining means for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
The second drawing area information is added to the overlapping line segment to give information for setting the area to be widened as a second drawing area by applying a width to the inside of the closed figure based on the width information. Means,
The line segments are associated with the information assigned to the line segments and set as the first drawing area , and the overlapping line segments and the information set as the second drawing area assigned to the overlapping line segments are associated with each other. And functioning as a drawing data output means for outputting in the drawing data.
The outer processing means;
Based on the width information, a width is applied to the outside of the closed figure in the vertical direction of the line segment. First drawing area information giving means for giving,
An overlapping line segment determining means for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
Second drawing area information that gives information for setting a width of the non-overlapping line segment as a second drawing area by applying a width to the outside of the closed figure based on the width information. Granting means;
Information set as the second drawing area assigned to each non-overlapping line segment and each non-overlapping line segment in association with each line segment and information set as the first drawing area given to each line segment And functioning as a drawing data output means for outputting by including in the drawing data,
A drawing data creation program characterized by
請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記幅付け情報の幅寸法は、可変であること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
In the drawing data creation program according to any one of claims 1 to 6,
The width dimension of the width information is variable.
A drawing data creation program characterized by
請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
前記閉図形定義手段では、設計データのパターン図形を、隣接する2つの描画単位の図形の重複する辺の長さが等しくなるように分解することを、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
In the drawing data creation program according to any one of claims 1 to 7,
In the closed figure defining means, the pattern figure of the design data is decomposed so that the lengths of overlapping sides of two adjacent drawing unit figures are equal.
A drawing data creation program characterized by
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の内側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程と、
前記各線分と前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程と、
を備えることを特徴とする描画データ作成方法。
A drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
A closed figure defining step of decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
A width information receiving step for receiving an input of width information to width the inside of the closed graphic defined in the closed graphic defining step;
Based on the width information input in the width information receiving step, a width is applied to the inside of the closed figure in the vertical direction of the line segment, and an area inside the area to be widened is a first drawing area. A first drawing area information giving step for giving information to be set as the line segment,
An overlapping line segment determination step for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
The second drawing area information is added to the overlapping line segment to give information for setting the area to be widened as a second drawing area by applying a width to the inside of the closed figure based on the width information. Process,
Associating each line segment with the information set as the first drawing area given to each line segment, and setting the second drawing area given to each overlapping line segment and each overlapping line segment. A drawing data output step of associating and outputting the drawing data included in the drawing data;
A drawing data creation method comprising:
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の外側へ幅付けする幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報に基づいて、前記閉図形の外側へ前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程と、
を備えることを特徴とする描画データ作成方法。
A drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
A closed figure defining step of decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
A width information receiving step for receiving an input of width information to be widened outside the closed graphic defined in the closed graphic defining step;
Based on the width information input in the width information receiving step, a width is formed in the vertical direction of the line segment to the outside of the closed figure, and an area inside the area to be widened is a first drawing area. A first drawing area information giving step for giving information to be set as the line segment,
An overlapping line segment determination step for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
Second drawing area information that gives information for setting a width of the non-overlapping line segment as a second drawing area by applying a width to the outside of the closed figure based on the width information. Granting process;
Information set as the second drawing area assigned to each non-overlapping line segment and each non-overlapping line segment in association with each line segment and information set as the first drawing area given to each line segment And a drawing data output step for outputting the image data by including it in the drawing data;
A drawing data creation method comprising:
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データのパターン図形を複数の描画単位の図形に分解し、前記描画単位の図形の外周を複数の線分と複数の頂点とで表現した閉図形として定義する閉図形定義工程と、
前記閉図形定義工程において定義された前記閉図形の内側又は外側へ幅付けを設定する幅付け情報の入力を受け付ける幅情報受け付け工程と、
前記幅情報受け付け工程において入力された前記幅付け情報が、前記閉図形の内側への幅付け情報の入力の場合には、内側処理工程とし、前記受け付け手段に入力された情報が、外側への幅付け情報の入力の場合には、外側処理工程とする幅付け方向判定工程とを備え、
前記内側処理工程は、
前記閉図形の内側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の範囲を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記各重複線分に対して、前記閉図形の内側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を、前記重複線分に対して付与する第2描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各重複線分及び前記各重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程とを有し、
前記外側処理工程は、
前記閉図形の外側へ、前記幅付け情報に基づいて前記線分の垂直方向に幅付けを行い、前記幅付けされる領域より内側の領域を第1描画領域として設定する情報を、前記線分に付与する第1描画領域情報付与工程と、
前記線分が、隣接する他の閉図形と重複する重複線分であるか、非重複線分であるか判定する重複線分判定工程と、
前記非重複線分に対して、前記幅付け情報に基づいて前記閉図形の外側へ幅付けを行い、前記幅付けされる領域を第2描画領域として設定する情報を付与する第2描画領域情報付与工程と、
前記各線分及び前記各線分に付与された前記第1描画領域として設定する情報とを関連付け、前記各非重複線分及び前記各非重複線分に付与された前記第2描画領域として設定する情報とを関連付けて、前記描画データに含ませて出力する描画データ出力工程とを有すること、
を特徴とする描画データ作成方法。
A drawing data creation method for creating the drawing data of a drawing apparatus that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
A closed figure defining step of decomposing the pattern figure of the design data into a plurality of drawing unit figures and defining the outer periphery of the drawing unit figure as a closed figure expressed by a plurality of line segments and a plurality of vertices;
A width information receiving step for receiving an input of width information for setting width to the inside or outside of the closed figure defined in the closed figure defining step;
When the width information input in the width information receiving step is an input of width information to the inside of the closed figure, it is an inner processing step, and the information input to the receiving means In the case of the input of width information, it comprises a width direction determination step as an outer processing step,
The inner processing step includes
Information for setting a range inside the closed figure as a first drawing area by performing a width in the vertical direction of the line segment based on the width information and setting the range inside the area to be widened as the first drawing area. A first drawing area information providing step to be applied to
An overlapping line segment determination step for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
A second drawing area for giving information to the overlapping line segment to give information for setting the width of the overlapping line segment as a second drawing area for the overlapping line segment. Information provision process;
Information associated with each line segment and the information set as the first drawing area assigned to each line segment, and information set as the second drawing area assigned to each overlapping line segment and each overlapping line segment. A drawing data output step for associating and outputting the drawing data included in the drawing data;
The outer processing step includes
Information that sets the area inside the area to be widened as the first drawing area by performing the width in the vertical direction of the line segment on the outside of the closed figure based on the width information. A first drawing area information providing step to be applied to
An overlapping line segment determination step for determining whether the line segment is an overlapping line segment overlapping with another adjacent closed figure or a non-overlapping line segment;
Second drawing area information that gives information for setting a width of the non-overlapping line segment as a second drawing area by applying a width to the outside of the closed figure based on the width information. Granting process;
Information set as the second drawing area assigned to each non-overlapping line segment and each non-overlapping line segment in association with each line segment and information set as the first drawing area given to each line segment And having a drawing data output step of outputting the drawing data included in the drawing data,
Drawing data creation method characterized by the above.
描画データに基づいて電子線又はレーザを用いて描画を行う描画装置の前記描画データを設計データから作成する描画データ作成装置であって、
設計データを入力する設計データ入力部と、
請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、
前記描画データ作成プログラムを実行する制御部と、
前記描画データ作成プログラムの実行に必要な指示を入力する操作入力部と、
描画データを出力する描画データ出力部と、
を備えることを特徴とする描画データ作成装置。
A drawing data creation device for creating the drawing data of a drawing device that performs drawing using an electron beam or a laser based on the drawing data from design data,
A design data input unit for inputting design data;
A storage unit that stores the drawing data creation program according to any one of claims 1 to 8,
A control unit that executes the drawing data creation program;
An operation input unit for inputting instructions necessary for executing the drawing data creation program;
A drawing data output unit for outputting drawing data;
A drawing data creating apparatus comprising:
請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、
前記描画データ作成プログラムを実行する制御部と、
前記描画データ作成プログラムによって作成された描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に前記第1描画領域及び前記第2描画領域を描画する機能を有する描画部と、
を備える描画システム。
A storage unit that stores the drawing data creation program according to any one of claims 1 to 8,
A control unit that executes the drawing data creation program;
A drawing unit having a function of drawing the first drawing region and the second drawing region on a substrate using an electron beam or a laser based on the drawing data created by the drawing data creation program;
A drawing system comprising:
請求項12に記載の描画データ作成装置と、
前記描画データに基づいて、電子線又はレーザを用いて基板上に前記第1描画領域及び前記第2描画領域を描画する機能を有する描画部を備える描画装置と、
を備える描画システム。
The drawing data creation device according to claim 12,
A drawing apparatus comprising a drawing unit having a function of drawing the first drawing area and the second drawing area on a substrate using an electron beam or a laser based on the drawing data;
A drawing system comprising:
請求項13又は請求項14に記載の描画システムにおいて、
前記描画データに基づいて前記第1描画領域を描画する機能を有する第1描画部と、前記描画データに基づいて前記第2描画領域を描画する機能を有する第2描画部とを備えること、
を特徴とする描画システム。
The drawing system according to claim 13 or 14,
A first drawing unit having a function of drawing the first drawing region based on the drawing data, and a second drawing unit having a function of drawing the second drawing region based on the drawing data;
A drawing system characterized by
請求項13から請求項15までのいずれか1項に記載の描画システムにおいて、
前記第2描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積は、前記第1描画領域を描画する電子線又はレーザの照射面積より小さいこと、
を特徴とする描画システム。
The drawing system according to any one of claims 13 to 15,
The electron beam or laser irradiation area for drawing the second drawing region is smaller than the electron beam or laser irradiation area for drawing the first drawing region;
A drawing system characterized by
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