JP5291649B2 - Resin particles - Google Patents
Resin particles Download PDFInfo
- Publication number
- JP5291649B2 JP5291649B2 JP2010061135A JP2010061135A JP5291649B2 JP 5291649 B2 JP5291649 B2 JP 5291649B2 JP 2010061135 A JP2010061135 A JP 2010061135A JP 2010061135 A JP2010061135 A JP 2010061135A JP 5291649 B2 JP5291649 B2 JP 5291649B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- crystalline
- acid
- meth
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
Description
本発明は、樹脂粒子に関する。 The present invention relates to resin particles.
従来より低エネルギーで樹脂粒子を定着する技術が望まれている。そのため、より低温で定着し得る樹脂粒子の要求が強い。
樹脂粒子の定着温度を低くする手段として、樹脂のガラス転移点を低くする技術が一般的に行われている。しかし、ガラス転移点をあまりに低くし過ぎると、粒子の凝集(ブロッキング)が起り易く、また、定着表面の樹脂粒子の保存性が悪くなるため、実用上50℃が下限である。樹脂をバインダーとして用いる場合、このガラス転移点は樹脂の設計ポイントであり、ガラス転移点を下げる方法では、今以上に低温定着可能な樹脂粒子を得ることはできなかった。
ブロッキング防止、低温定着性の両立の手段として、結晶性樹脂を樹脂として用いる方法が古くから知られている。しかし、溶融時の弾性不足により定着悪化が起こる問題があった。
また、ブロッキング防止、低温定着性の両立の手段として、溶融懸濁法等を用い、シェルをもつ樹脂粒子が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、低温定着を維持しながら、良好な耐ブロッキング性を得るためには、以上の技術ではまだ不十分である。
A technique for fixing resin particles with lower energy than before has been desired. Therefore, there is a strong demand for resin particles that can be fixed at a lower temperature.
As a means for lowering the fixing temperature of the resin particles, a technique for lowering the glass transition point of the resin is generally performed. However, if the glass transition point is too low, particle aggregation (blocking) tends to occur, and the preservability of the resin particles on the fixing surface is deteriorated, so 50 ° C. is practically the lower limit. When a resin is used as a binder, this glass transition point is a design point of the resin, and it has not been possible to obtain resin particles that can be fixed at a lower temperature than before by the method of lowering the glass transition point.
As a means for achieving both blocking prevention and low-temperature fixability, a method using a crystalline resin as a resin has been known for a long time. However, there has been a problem that fixing deterioration occurs due to insufficient elasticity at the time of melting.
Further, as means for achieving both blocking prevention and low-temperature fixability, resin particles having a shell using a melt suspension method or the like have been proposed (for example, see Patent Document 1). However, the above techniques are still insufficient to obtain good blocking resistance while maintaining low temperature fixing.
本発明は、上記従来技術の問題点を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、低温定着性及び耐ブロッキング性に優れた樹脂粒子を提供することを目的とする。 The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art. That is, an object of the present invention is to provide resin particles having excellent low-temperature fixability and blocking resistance.
上記課題は、以下の本発明により達成される。
本発明は、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する樹脂粒子(I)であって、結晶性樹脂(A)の融解熱の最大ピーク温度(TaA)が40〜100℃、軟化温度とTaAの比(軟化温度/TaA)が0.8〜1.55であり、非結晶性樹脂(B)の融解熱の最大ピーク温度(TaB)が35〜100℃であり、結晶性樹脂(A)が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、およびそれらの複合樹脂から選ばれる樹脂であって、結晶性樹脂(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)とで構成されるブロック樹脂である場合の(A)中の(b)の割合が50重量%以上であり、かつ樹脂粒子(I)が以下の条件を満たすことを特徴とする樹脂粒子である。
〔条件1〕 G’(TaI+20)=1×102〜5×105[Pa]
〔条件2〕 G”(TaI+20)=1×102〜5×105[Pa]
[G’:貯蔵弾性率(Pa)、G”:損失弾性率(Pa)、TaI:樹脂粒
子(I)の融解熱の最大ピーク温度(℃)]
The above-mentioned subject is achieved by the following present invention.
The present invention is a resin particle (I) containing a crystalline resin (A) and an amorphous resin (B), wherein the maximum peak temperature (TaA) of heat of fusion of the crystalline resin (A) is 40-100. ° C, the ratio of softening temperature to TaA (softening temperature / TaA) is 0.8 to 1.55, and the maximum peak temperature (TaB) of the heat of fusion of the amorphous resin (B) is 35 to 100 ° C. The crystalline resin (A) is a resin selected from a polyester resin, a polyurethane resin, and a composite resin thereof, and the crystalline resin (A) includes a crystalline part (b) and an amorphous part (c). The resin particles are characterized in that the proportion of (b) in (A) in the case of a block resin is 50% by weight or more, and the resin particles (I) satisfy the following conditions.
[Condition 1] G ′ (TaI + 20) = 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa]
[Condition 2] G ″ (TaI + 20) = 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa]
[G ′: storage elastic modulus (Pa), G ″: loss elastic modulus (Pa), TaI: resin particle
Maximum peak temperature of melting heat of child (I) (° C.)]
本発明により、低温定着性及び耐ブロッキング性に共に優れた樹脂粒子を提供することができる。また、帯電特性も良好である。 According to the present invention, resin particles excellent in both low-temperature fixability and blocking resistance can be provided. Also, the charging characteristics are good.
以下、本発明の樹脂粒子(I)を詳細に説明する。
樹脂粒子(I)は、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する。
本発明において、「結晶性」とは、軟化温度と融解熱の最大ピーク温度(Ta)との比(軟化温度/Ta)が0.8〜1.55であり、示差走査熱量測定(DSC)において、階段状の吸熱量変化ではなく、明確な吸熱ピークを有することを指す。また、「非結晶性」とは、軟化温度と融解熱の最大ピーク温度との比(軟化温度/Ta)が1.55より大きいことを指す。
尚、樹脂が結晶性樹脂と非結晶性樹脂のブロック体であっても、示差走査熱量測定(DSC)において、明確な吸熱ピークを有し、軟化温度と融解熱の最大ピーク温度(Ta)との比が0.8〜1.55である場合は、これも結晶性樹脂とする。
Hereinafter, the resin particles (I) of the present invention will be described in detail.
The resin particles (I) contain a crystalline resin (A) and an amorphous resin (B).
In the present invention, “crystallinity” means that the ratio (softening temperature / Ta) between the softening temperature and the maximum peak temperature (Ta) of the heat of fusion is 0.8 to 1.55, and differential scanning calorimetry (DSC) In FIG. 4, it indicates that the endothermic amount does not change stepwise but has a clear endothermic peak. “Non-crystalline” means that the ratio (softening temperature / Ta) between the softening temperature and the maximum peak heat of fusion (softening temperature / Ta) is greater than 1.55.
Even if the resin is a block body of a crystalline resin and an amorphous resin, the differential scanning calorimetry (DSC) has a clear endothermic peak, and the softening temperature and the maximum peak temperature (Ta) of the heat of fusion When the ratio is 0.8 to 1.55, this is also a crystalline resin.
本発明における融解熱の最大ピーク温度(Ta)、および軟化温度は、次のように測定される値である。
<融解熱の最大ピーク温度(Ta)>
示差走査熱量計{DSC、たとえば、セイコー電子工業社製、DSC210}を用いて、測定試料を常温(25℃)から0℃まで0.5℃/分の速度で降温し、昇温速度20℃/分で昇温して吸発熱変化を測定して、「吸発熱量」と「温度」とのグラフを描き、吸発熱量の最大ピークに対応する温度を融解熱の最大ピーク温度(Ta)とする。
なお、Taの測定試料は、予め(Ta’−7)℃で6時間保管された試料を用いる。ここで(Ta’)は、試料を常温(25℃)から10℃まで0.5℃/分の速度で降温し、上記方法でDSC測定を行い、このとき観測される20℃〜100℃にある吸熱ピーク温度とする。複数ある場合は最も吸熱量が大きいピークの温度を(Ta’)とする。
また、上記方法で吸熱ピークのない試料は、後述する方法で測定されるガラス転移点(Tg)を、(Ta)および(Ta’)と見なす。
The maximum peak temperature (Ta) of the heat of fusion and the softening temperature in the present invention are values measured as follows.
<Maximum peak temperature of melting heat (Ta)>
Using a differential scanning calorimeter {DSC, for example, DSC210, manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.], the measurement sample is cooled from room temperature (25 ° C) to 0 ° C at a rate of 0.5 ° C / min, and the temperature rising rate is 20 ° C. Measure the endothermic change by raising the temperature at a minute / minute, draw a graph of "endothermic amount" and "temperature", and set the temperature corresponding to the maximum peak of endothermic amount as the maximum peak temperature of melting heat (Ta) And
As a sample for measuring Ta, a sample previously stored at (Ta′-7) ° C. for 6 hours is used. Here, (Ta ′) is a temperature drop of the sample from room temperature (25 ° C.) to 10 ° C. at a rate of 0.5 ° C./min, and DSC measurement is performed by the above method. A certain endothermic peak temperature is assumed. When there are a plurality of peaks, the peak temperature with the largest endothermic amount is defined as (Ta ′).
Moreover, the sample which does not have an endothermic peak by the said method considers the glass transition point (Tg) measured by the method mentioned later as (Ta) and (Ta ').
<軟化温度>
損失弾性率G”=106.5(Pa)になる温度を軟化温度とする。G”は動的粘弾性測定装置(Rheometric Scientific社製 動的粘弾性測定装置 RDS−2)から周波数1Hz条件下で測定することによって求められる。
測定試料は、測定装置の冶具にセットした後、(Ta+30)℃〔Taは測定対象の融解熱の最大ピーク温度〕まで昇温して冶具に密着させてから、(Ta+30)℃から(Ta−30)℃まで0.5℃/分の速度で降温し、(Ta−30)℃で1時間静置し、次いで(Ta−10)℃まで0.5℃/分の速度で昇温し、さらに(Ta−10)℃で1時間静置し、十分に結晶化を進行させたのち、これを用いて測定を行う。測定温度範囲は0℃〜200℃で、この温度間の樹脂の溶融粘弾性を測定することによって、軟化温度を求めることができる。
<Softening temperature>
The temperature at which the loss elastic modulus G "= 10 6.5 (Pa) is set as the softening temperature. G" is obtained from a dynamic viscoelasticity measuring device (dynamic viscoelasticity measuring device RDS-2 manufactured by Rheometric Scientific) under a frequency of 1 Hz. It is obtained by measuring.
After setting the measurement sample on the jig of the measurement apparatus, the temperature was raised to (Ta + 30) ° C. [Ta is the maximum peak temperature of the heat of fusion of the object to be measured] and brought into close contact with the jig, and from (Ta + 30) ° C. 30) Decrease in temperature at a rate of 0.5 ° C./min to 30 ° C., allow to stand at (Ta-30) ° C. for 1 hour, then increase to (Ta-10) ° C. at a rate of 0.5 ° C./min. Further, the sample is allowed to stand at (Ta-10) ° C. for 1 hour to sufficiently advance crystallization, and then measurement is performed using this. The measurement temperature range is 0 ° C. to 200 ° C., and the softening temperature can be determined by measuring the melt viscoelasticity of the resin between these temperatures.
本発明の樹脂粒子(I)は、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を各々1種以上、合計で2種類以上の樹脂を含有する樹脂粒子であり、耐熱保存性の観点から、樹脂粒子(I)中の結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)とが完全には相溶していないことが好ましい。そのため、樹脂粒子(I)のDSCによる吸発熱量測定において結晶性樹脂(A)由来の吸熱ピークを有することが好しく、この際の結晶性樹脂由来の吸熱量Pが
P≧Q×[(I)中の樹脂中の結晶性樹脂(A)の%]×0.5/100
が好ましい。より好ましくは、
P≧Q×[(I)中の樹脂中の結晶性樹脂(A)の%]×0.65/100、
さらに好ましくは、
P≧Q×[(I)中の樹脂中の結晶性樹脂(A)の%]×0.8/100
である。
P:樹脂粒子(I)の結晶性樹脂(A)由来の吸熱量、Q:結晶性樹脂(A)単体の吸熱量
なお、上記および以下において、%は、特に断りのない限り重量%を意味する。
The resin particles (I) of the present invention are resin particles containing one or more crystalline resins (A) and non-crystalline resins (B), respectively, and a total of two or more types of resins. Therefore, it is preferable that the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) in the resin particles (I) are not completely compatible. Therefore, it is preferable to have an endothermic peak derived from the crystalline resin (A) in the measurement of the endothermic amount by DSC of the resin particles (I). At this time, the endothermic amount P derived from the crystalline resin is P ≧ Q × [( I)% of crystalline resin (A) in resin] × 0.5 / 100
Is preferred. More preferably,
P ≧ Q × [% of crystalline resin (A) in resin in (I)] × 0.65 / 100,
More preferably,
P ≧ Q × [% of crystalline resin (A) in resin in (I)] × 0.8 / 100
It is.
P: endothermic amount derived from the crystalline resin (A) of the resin particles (I), Q: endothermic amount of the crystalline resin (A) alone In the above and below, “%” means “% by weight” unless otherwise specified. To do.
本発明の樹脂粒子(I)に使用される結晶性樹脂(A)は、1種でも2種類以上を併用しても構わないが、併用する2種類以上の結晶性樹脂を溶融混合または有機溶剤(u)等によって溶解混合し、冷却または溶剤除去によって再び混合樹脂を取り出した際に、混合樹脂も結晶性を有することが好ましい。また、各結晶性樹脂の融点差の最大温度が10℃以下であることが好ましく、より好ましくは7℃以下、更に好ましくは5℃以下である。 The crystalline resin (A) used in the resin particles (I) of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, two or more crystalline resins used in combination may be melt-mixed or an organic solvent. When the mixed resin is dissolved and mixed by (u) or the like, and the mixed resin is taken out again by cooling or solvent removal, the mixed resin also preferably has crystallinity. Moreover, it is preferable that the maximum temperature of the melting | fusing point difference of each crystalline resin is 10 degrees C or less, More preferably, it is 7 degrees C or less, More preferably, it is 5 degrees C or less.
本発明の樹脂粒子(I)に使用される非結晶性樹脂(B)は、1種でも2種類以上を併用しても構わないが、併用する2種類以上の非結晶性樹脂を溶融混合または有機溶剤(u)等によって溶解混合し、冷却または溶剤除去によって再び混合樹脂を取り出した際に、混合樹脂が相溶し、ガラス転移点を1つのみ有することが好ましい。 The amorphous resin (B) used in the resin particles (I) of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, two or more of the amorphous resins used in combination may be melt-mixed or When the mixed resin is dissolved and mixed with an organic solvent (u) or the like and the mixed resin is taken out again by cooling or solvent removal, the mixed resin is preferably compatible and has only one glass transition point.
結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)の重量比率(A)/(B)は、0.05以上4未満が好ましく、より好ましくは0.07以上3.5以下、さらに好ましくは0.08以上3以下である。重量比率(A)/(B)が0.05以上であると、後に説明する樹脂粒子(I)の損失弾性率G”(TaI+20)が5×105[Pa]以下となりやすく、そのため低温側で定着可能な粘性になり、低温での定着性が良好である。また、重量比率(A)/(B)が4未満であると、後に説明する貯蔵弾性率G’(TaI+20)が1×102[Pa]以上になりやすい。そのため弾性不足により定着悪化が起きにくく、定着温度領域が広くなる。 The weight ratio (A) / (B) of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) is preferably 0.05 or more and less than 4, more preferably 0.07 or more and 3.5 or less, and still more preferably 0.08 or more and 3 or less. When the weight ratio (A) / (B) is 0.05 or more, the loss elastic modulus G ″ (TaI + 20) of a resin particle (I) described later tends to be 5 × 10 5 [Pa] or less, and therefore the low temperature side When the weight ratio (A) / (B) is less than 4, the storage elastic modulus G ′ (TaI + 20) described later is 1 ×. 10 2 [Pa] or more, and therefore, the fixing temperature is not easily deteriorated due to insufficient elasticity, and the fixing temperature range is widened.
樹脂粒子(I)中の結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)の合計含有量は、50%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上である。50%以上であると、後に説明する損失弾性率G”(TaI+20)が5×105[Pa]以下になりやすく、低温側で定着可能な粘性になり、低温での定着性が良好である。 The total content of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) in the resin particles (I) is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and further preferably 70% or more. If it is 50% or more, the loss elastic modulus G ″ (TaI + 20) described later tends to be 5 × 10 5 [Pa] or less, the viscosity becomes fixable on the low temperature side, and the fixability at low temperature is good. .
本発明の樹脂粒子(I)は、耐熱保存性の観点から、その融解熱の最大ピーク温度(TaI)が40〜100℃の範囲であるのが好ましく、さらに好ましくは43〜80℃、とくに好ましくは45〜70℃である。 The resin particles (I) of the present invention preferably have a maximum heat of fusion (TaI) in the range of 40 to 100 ° C., more preferably 43 to 80 ° C., particularly preferably from the viewpoint of heat-resistant storage stability. Is 45-70 degreeC.
樹脂粒子(I)の粘弾性特性において、(TaI+20)℃〔TaIは(I)の融解熱の最大ピーク温度〕の貯蔵弾性率G’は、1×102〜5×105[Pa]の範囲〔条件1〕であり、好ましくは2×102〜3×105[Pa]である。
(TaI+20)℃におけるG’が1×102Pa未満であると、弾性不足により定着悪化が起きやすく、定着温度領域が狭くなる。また5×105[Pa]を超えると低温側で定着可能な粘性になりにくく、低温での定着性が悪化する。
本発明において、動的粘弾性測定値(貯蔵弾性率G’、損失弾性率G”)は、Rheometric Scientific社製 動的粘弾性測定装置 RDS−2を用い周波数1Hz条件下で測定される。
測定試料は、測定装置の冶具にセットした後、(Ta+30)℃〔Taは測定対象の融解熱の最大ピーク温度〕まで昇温して冶具に密着させてから、(Ta+30)℃から(Ta−30)℃まで0.5℃/分の速度で降温し、(Ta−30)℃で1時間静置し、次いで(Ta−10)℃まで0.5℃/分の速度で昇温し、さらに(Ta−10)℃で1時間静置し、十分に結晶化を進行させたのち、これを用いて測定を行う。測定温度範囲は30℃〜200℃で、この温度間の樹脂の溶融粘弾性を測定することによって、温度−G’、温度−G”の曲線として得ることができる。
〔条件1〕を満たす樹脂粒子(I)は、樹脂粒子(I)を構成する樹脂中の結晶性成分の比率を調整することや樹脂分子量を調整すること等により得ることができる。例えば、結晶性樹脂(A)の使用比率を増加させたり、また使用する結晶性樹脂(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)のブロック樹脂の場合、結晶性部(b)の比率や結晶性成分の比率を増加させると、G’(TaI+20)の値は小さくなる。結晶性成分としては、直鎖構造を有するポリオール、ポリカルボン酸、ポリイソシアネート等が挙げられる。また樹脂分子量を低下させることでもG’(TaI+20)の値は小さくなる。
In the viscoelastic characteristics of the resin particles (I), the storage elastic modulus G ′ at (TaI + 20) ° C. [TaI is the maximum peak temperature of heat of fusion of (I)] is 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa]. The range is [Condition 1], preferably 2 × 10 2 to 3 × 10 5 [Pa].
When G ′ at (TaI + 20) ° C. is less than 1 × 10 2 Pa, fixing deterioration is likely to occur due to insufficient elasticity, and the fixing temperature region becomes narrow. On the other hand, if it exceeds 5 × 10 5 [Pa], it becomes difficult for the viscosity to be fixed on the low temperature side, and the fixing property at low temperature is deteriorated.
In the present invention, the dynamic viscoelasticity measurement values (storage elastic modulus G ′, loss elastic modulus G ″) are measured under a frequency of 1 Hz using a dynamic viscoelasticity measuring device RDS-2 manufactured by Rheometric Scientific.
After setting the measurement sample on the jig of the measurement apparatus, the temperature was raised to (Ta + 30) ° C. [Ta is the maximum peak temperature of the heat of fusion of the object to be measured] and brought into close contact with the jig, and from (Ta + 30) ° C. 30) Decrease in temperature at a rate of 0.5 ° C./min to 30 ° C., allow to stand at (Ta-30) ° C. for 1 hour, then increase to (Ta-10) ° C. at a rate of 0.5 ° C./min. Further, the sample is allowed to stand at (Ta-10) ° C. for 1 hour to sufficiently advance crystallization, and then measurement is performed using this. The measurement temperature range is 30 ° C. to 200 ° C., and by measuring the melt viscoelasticity of the resin between these temperatures, it can be obtained as temperature-G ′ and temperature-G ″ curves.
The resin particles (I) satisfying [Condition 1] can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the resin constituting the resin particles (I), adjusting the resin molecular weight, or the like. For example, when the use ratio of the crystalline resin (A) is increased, or when the crystalline resin (A) to be used is a block resin of a crystalline part (b) and an amorphous part (c), the crystalline part ( Increasing the ratio of b) or the ratio of the crystalline component decreases the value of G ′ (TaI + 20). Examples of the crystalline component include polyols having a linear structure, polycarboxylic acids, polyisocyanates, and the like. Also, the value of G ′ (TaI + 20) is decreased by decreasing the resin molecular weight.
また、樹脂粒子(I)の粘弾性特性において、(TaI+20)℃〔TaIは(I)の融解熱の最大ピーク温度〕の損失弾性率G”は、1×102〜5×105[Pa]の範囲〔条件2〕であり、好ましくは5×102〜3×105[Pa]である。
(TaI+20)℃におけるG”が5×105Paを超えると、トナー粒子としたとき、低温定着時でコールドオフセットが起きやすくなり、低温定着性が悪化する。また1×102[Pa]未満であると、低温定着時でもホットオフセットが起き、定着温度領域が狭くなる。
〔条件2〕を満たす樹脂粒子(I)は、樹脂粒子(I)を構成する樹脂中の結晶性成分の比率を調整すること等により得ることができる。例えば、結晶性樹脂(A)の比率を増加させたり、また使用する結晶性樹脂(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)のブロック樹脂の場合、結晶性部(b)の比率や結晶性成分の比率を増加させると、G”(TaI+20)の値は小さくなる。結晶性成分としては、直鎖構造を有するポリオール、ポリカルボン酸、ポリイソシアネート等が挙げられる。
Further, in the viscoelastic properties of the resin particles (I), the loss elastic modulus G ″ at (TaI + 20) ° C. [TaI is the maximum peak temperature of the melting heat of (I)] is 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa ] [Condition 2], preferably 5 × 10 2 to 3 × 10 5 [Pa].
When G ″ at (TaI + 20) ° C. exceeds 5 × 10 5 Pa, cold offset is likely to occur during low-temperature fixing when toner particles are used, and the low-temperature fixing property deteriorates. Also, less than 1 × 10 2 [Pa]. If this is the case, hot offset occurs even at low temperature fixing, and the fixing temperature region becomes narrow.
The resin particles (I) satisfying [Condition 2] can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the resin constituting the resin particles (I). For example, when the ratio of the crystalline resin (A) is increased, or when the crystalline resin (A) to be used is a block resin of a crystalline part (b) and an amorphous part (c), the crystalline part (b ) And the ratio of the crystalline component decrease the value of G ″ (TaI + 20). Examples of the crystalline component include polyols having a linear structure, polycarboxylic acids, and polyisocyanates.
また、樹脂粒子(I)の(TaI+30)℃における損失弾性率G”と、(TaI+70)℃における損失弾性率G”の比〔G”(TaI+30)/G”(TaI+70)〕が、0.05〜50であることが好ましく、0.1〜40がさらに好ましく、0.5〜30がとくに好ましい〔TaIは(I)の融解熱の最大ピーク温度〕。
樹脂粒子(I)の〔G”(TaI+30)/G”(TaI+70)〕が0.05〜50であるとき、樹脂粒子(I)の弾性が維持され、定着温度領域の低温側、高温側で同等の定着性を得ることができる。
上記のG”の比の条件を満たす樹脂粒子(I)は、樹脂粒子(I)を構成する樹脂中の結晶性成分の比率や結晶性部(b)の分子量を調整すること等により得ることができる。例えば、結晶性部(b)の比率や結晶性成分の比率を増加させると、〔G”(TaI+30)/G”(TaI+70)〕の値は小さくなる。また、結晶性部(b)の分子量を増加させると〔G”(TaI+30)/G”(TaI+70)〕の値は小さくなる。結晶性成分としては、直鎖構造を有するポリオール、ポリイソシアネート等が挙げられる。
Further, the ratio [G ″ (TaI + 30) / G ″ (TaI + 70)] of the loss elastic modulus G ″ at (TaI + 30) ° C. and the loss elastic modulus G ″ at (TaI + 70) ° C. of the resin particle (I) is 0.05. It is preferably ˜50, more preferably 0.1 to 40, and particularly preferably 0.5 to 30 [TaI is the maximum peak temperature of the heat of fusion of (I)].
When [G ″ (TaI + 30) / G ″ (TaI + 70)] of the resin particle (I) is 0.05 to 50, the elasticity of the resin particle (I) is maintained, and the low temperature side and the high temperature side of the fixing temperature region are maintained. Equivalent fixability can be obtained.
The resin particles (I) satisfying the above G ″ ratio can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the resin constituting the resin particles (I) and the molecular weight of the crystalline part (b). For example, when the ratio of the crystalline part (b) or the ratio of the crystalline component is increased, the value of [G ″ (TaI + 30) / G ″ (TaI + 70)] decreases. When the molecular weight is increased, the value of [G ″ (TaI + 30) / G ″ (TaI + 70)] decreases. Examples of the crystalline component include polyols and polyisocyanates having a linear structure.
本発明の樹脂粒子(I)は結晶性樹脂(A)を含有する。
尚、樹脂が結晶性樹脂と非結晶性樹脂のブロック体であっても、示差走査熱量測定(DSC)において、明確な吸熱ピークを有し、(軟化温度/融解熱の最大ピーク温度)が0.8〜1.55ある場合は、これも結晶性樹脂とする。
The resin particles (I) of the present invention contain a crystalline resin (A).
Even if the resin is a block body of a crystalline resin and an amorphous resin, it has a clear endothermic peak in differential scanning calorimetry (DSC), and (softening temperature / maximum peak temperature of heat of fusion) is 0. When there is .8 to 1.55, this is also a crystalline resin.
結晶性樹脂(A)は、耐熱保存性の観点から、その融解熱の最大ピーク温度(TaA)が40〜100℃の範囲である必要があり、好ましくは45〜85℃、さらに好ましくは50〜70℃である。 From the viewpoint of heat-resistant storage stability, the crystalline resin (A) needs to have a maximum peak heat temperature (TaA) in the range of 40 to 100 ° C, preferably 45 to 85 ° C, more preferably 50 to 50 ° C. 70 ° C.
結晶性樹脂(A)の軟化温度と融解熱の最大ピーク温度(TaA)との比(軟化温度/TaA)は、0.8〜1.55であり、好ましくは0.85〜1.2、さらに好ましくは0.9〜1.15である。0.8〜1.55の範囲外であると、耐熱保存性と低温定着性の両立が困難になる。 The ratio (softening temperature / TaA) between the softening temperature of the crystalline resin (A) and the maximum peak temperature (TaA) of heat of fusion is 0.8 to 1.55, preferably 0.85 to 1.2, More preferably, it is 0.9-1.15. If it is outside the range of 0.8 to 1.55, it is difficult to achieve both heat-resistant storage stability and low-temperature fixability.
結晶性樹脂(A)の粘弾性特性において、(TaA+20)℃〔TaAは(A)の融解熱の最大ピーク温度〕の貯蔵弾性率G’は、50〜1×106[Pa]の範囲〔条件3〕であることが好ましく、さらに好ましくは1×102〜5×105[Pa]である。
(TaA+20)℃におけるG’が50Pa以上であると、弾性不足による定着悪化が起きにくく、定着温度領域が広くなる。
〔条件3〕を満たす結晶性樹脂(A)は、(A)を構成する組成中の結晶性成分の比率を調整すること等により得ることができる。例えば結晶性部(b)の比率や結晶性成分の比率を増加させると、G’(TaA+20)の値は小さくなる。結晶性成分としては、直鎖構造を有するポリオール、ポリイソシアネート等が挙げられる。
In the viscoelastic characteristics of the crystalline resin (A), the storage elastic modulus G ′ at (TaA + 20) ° C. [TaA is the maximum peak temperature of heat of fusion of (A)] is in the range of 50 to 1 × 10 6 [Pa]. Condition 3] is preferable, and 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa] is more preferable.
When G ′ at (TaA + 20) ° C. is 50 Pa or more, fixing deterioration due to insufficient elasticity hardly occurs, and the fixing temperature range is widened.
The crystalline resin (A) satisfying [Condition 3] can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the composition constituting (A). For example, when the ratio of the crystalline part (b) or the ratio of the crystalline component is increased, the value of G ′ (TaA + 20) decreases. Examples of the crystalline component include polyols having a linear structure, polyisocyanates, and the like.
結晶性樹脂(A)の溶融開始温度(X)は、(TaA±30)℃の温度範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは(TaA±20)℃の温度範囲内、とくに好ましくは(TaA±15)℃の温度範囲内である〔TaAは(A)の融解熱の最大ピーク温度〕。
(X)は、具体的には30〜100℃が好ましく、さらに好ましくは40〜80℃である。
溶融開始温度(X)は、次のようにして測定される値である。
<溶融開始温度>
降下式フローテスター{たとえば、(株)島津製作所製、CFT−500D}を用いて、1gの測定試料を昇温速度6℃/分で加熱しながら、プランジャーにより1.96MPaの荷重を与え、直径1mm、長さ1mmのノズルから押し出して、「プランジャー降下量(流れ値)」と「温度」とのグラフを描き、試料の熱膨張によるピストンのわずかな上昇が行われた後、再びピストンが明らかに下降し始める点の温度をグラフから読み取り、この値を溶融開始温度とする。
The melting start temperature (X) of the crystalline resin (A) is preferably within the temperature range of (TaA ± 30) ° C., more preferably within the temperature range of (TaA ± 20) ° C., particularly preferably (TaA Within the temperature range of ± 15) ° C. [TaA is the maximum peak temperature of the heat of fusion of (A)].
Specifically, (X) is preferably 30 to 100 ° C, more preferably 40 to 80 ° C.
The melting start temperature (X) is a value measured as follows.
<Melting start temperature>
Using a descending flow tester {for example, CFT-500D, manufactured by Shimadzu Corporation), a load of 1.96 MPa was applied by a plunger while heating a measurement sample of 1 g at a heating rate of 6 ° C./min. After extruding from a nozzle with a diameter of 1 mm and a length of 1 mm, draw a graph of “plunger descent amount (flow value)” and “temperature”, and after a slight increase of the piston due to thermal expansion of the sample, the piston again Is read from the graph, and this value is taken as the melting start temperature.
また、結晶性樹脂(A)は、損失弾性率G”[Pa]と溶融開始温度(X)[℃]に関して、以下の〔条件4〕を満たすことが好ましく、〔条件4−2〕を満たすことがさらに好ましく、〔条件4−3〕を満たすことがとくに好ましい。
〔条件4〕|logG”(X)−logG”(X+20)|>2.0
〔条件4−2〕|logG”(X)−logG”(X+20)|>2.5
〔条件4−3〕|logG”(X)−logG”(X+15)|>2.5
結晶性樹脂(A)の溶融開始温度(X)が上記範囲内であり、かつ〔条件4〕を満たすと、樹脂の低粘性化速度が速く、トナー粒子としたとき、定着温度領域の低温側、高温側で同等の画質を得ることができる。また、溶融開始から定着可能粘性に至るまでが速く、優れた低温定着性を得るのに有利である。〔条件4〕は、どれだけ早く、少ない熱で定着できるかという、樹脂のシャープメルト性の指標であり、実験的に求めたものである。
溶融開始温度(X)の好ましい範囲、および〔条件4〕を満たす結晶性樹脂(A)は、(A)を構成する組成中の結晶性成分の比率を調整すること等により得ることができる。例えば、結晶性成分の比率を大きくすると、(TaA)と(X)の温度差が小さくなる。
The crystalline resin (A) preferably satisfies the following [Condition 4] with respect to the loss elastic modulus G ″ [Pa] and the melting start temperature (X) [° C.], and satisfies [Condition 4-2]. Is more preferable, and it is particularly preferable to satisfy [Condition 4-3].
[Condition 4] | logG ″ (X) −logG ″ (X + 20) |> 2.0
[Condition 4-2] | logG ″ (X) −logG ″ (X + 20) |> 2.5
[Condition 4-3] | logG ″ (X) −logG ″ (X + 15) |> 2.5
When the melting start temperature (X) of the crystalline resin (A) is within the above range and [Condition 4] is satisfied, the resin has a low viscosity-decreasing rate. The same image quality can be obtained on the high temperature side. Moreover, the process from the start of melting to the fixable viscosity is fast, which is advantageous for obtaining excellent low-temperature fixability. [Condition 4] is an index of the sharp melt property of the resin, which indicates how fast it can be fixed with less heat, and is obtained experimentally.
The crystalline resin (A) satisfying the preferable range of the melting start temperature (X) and [Condition 4] can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the composition constituting (A). For example, when the ratio of the crystalline component is increased, the temperature difference between (TaA) and (X) is decreased.
また結晶性樹脂(A)の粘弾性特性において、(TaA+30)℃の損失弾性率G”と(TaA+70)℃の損失弾性率G”の比〔G”(TaA+30)/G”(TaA+70)〕が0.05〜50であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10である〔TaA:(A)の融解熱の最大ピーク温度〕。
損失弾性率の比が上記の範囲で維持されることによって、定着温度領域の低温側、高温側で同等の光沢性を得ることができる。
上記のG”の比の条件を満たす結晶性樹脂(A)は、(A)を構成する組成中の結晶性成分の比率や結晶性部(b)の分子量を調整すること等により得ることができる。例えば、結晶性部(b)の比率や結晶性成分の比率を増加させると、〔G”(TaA+30)/G”(TaA+70)〕の値は小さくなる。また結晶性部(b)の分子量を増加させると〔G”(TaA+30)/G”(TaA+70)〕の値は小さくなる。結晶性成分としては、直鎖構造を有するポリオール、ポリイソシアネート等が挙げられる。
Further, in the viscoelastic property of the crystalline resin (A), the ratio of the loss elastic modulus G ″ at (TaA + 30) ° C. to the loss elastic modulus G ″ at (TaA + 70) ° C. [G ″ (TaA + 30) / G ″ (TaA + 70)] It is preferably 0.05 to 50, more preferably 0.1 to 10 [TaA: maximum peak temperature of heat of fusion of (A)].
By maintaining the ratio of the loss elastic modulus within the above range, the same glossiness can be obtained on the low temperature side and the high temperature side of the fixing temperature region.
The crystalline resin (A) satisfying the above G ″ ratio can be obtained by adjusting the ratio of the crystalline component in the composition constituting (A) and the molecular weight of the crystalline part (b). For example, when the ratio of the crystalline part (b) or the ratio of the crystalline component is increased, the value of [G ″ (TaA + 30) / G ″ (TaA + 70)] decreases. When the molecular weight is increased, the value of [G ″ (TaA + 30) / G ″ (TaA + 70)] decreases. Examples of the crystalline component include polyols having a linear structure, polyisocyanates, and the like.
結晶性樹脂(A)は、結晶性部(b)のみで構成されても、結晶性部(b)と非結晶性部(c)とをもつブロック樹脂で構成されても、結晶性を有していれば構わないが、定着性の観点から、(b)と(c)とで構成されるブロック樹脂であることが好ましい。
また、ブロック樹脂であると耐久性に優れる。
The crystalline resin (A) has crystallinity regardless of whether it is composed of only the crystalline part (b) or a block resin having the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c). However, from the viewpoint of fixability, a block resin composed of (b) and (c) is preferable.
In addition, the block resin is excellent in durability.
以下、結晶性樹脂(A)として好ましい樹脂である、結晶性部(b)と非結晶性部(c)で構成されるブロック樹脂について詳述する。
ブロック樹脂の場合、(c)のガラス転移点(Tg)は、耐熱保存性の観点から、好ましくは40〜250℃、さらに好ましくは50〜240℃、とくに好ましくは60〜230℃、最も好ましくは65〜180℃である。また、(c)の軟化温度は、好ましくは100〜300℃、さらに好ましくは110〜290℃、とくに好ましくは120〜280℃である。
Hereinafter, a block resin composed of a crystalline part (b) and an amorphous part (c), which is a preferred resin as the crystalline resin (A), will be described in detail.
In the case of a block resin, the glass transition point (Tg) of (c) is preferably 40 to 250 ° C., more preferably 50 to 240 ° C., particularly preferably 60 to 230 ° C., most preferably from the viewpoint of heat-resistant storage stability. 65 to 180 ° C. The softening temperature of (c) is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 110 to 290 ° C, and particularly preferably 120 to 280 ° C.
なお、ガラス転移点(Tg)は、以下の方法で測定される値である。
<ガラス転移点(Tg)>
ガラス転移点は非結晶性樹脂に特有の物性であり、融解熱の最大ピーク温度とは区別される。そして、前記の融解熱の最大ピーク温度(Ta)の測定において、「吸発熱量」と「温度」とのグラフの最大ピーク温度以下でのベースラインの延長線と、最大ピークの立ち上がり部分から最大ピークの頂点までの最大傾斜を示す接線との交点に対応する温度をガラス転移点とする。
The glass transition point (Tg) is a value measured by the following method.
<Glass transition point (Tg)>
The glass transition point is a physical property unique to an amorphous resin and is distinguished from the maximum peak temperature of heat of fusion. In the measurement of the maximum peak temperature (Ta) of the heat of fusion, the maximum of the baseline extension line below the maximum peak temperature in the graph of “endothermic heat generation” and “temperature” and the maximum peak rising portion The temperature corresponding to the intersection point with the tangent indicating the maximum inclination to the peak apex is defined as the glass transition point.
結晶性樹脂(A)の重量平均分子量(以下、Mwと記載)は、定着の観点から5000〜100000が好ましく、さらに好ましくは6000〜80000、特に好ましくは8000〜50000である。
(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)をもつブロック樹脂の場合、(b)のMwは、2000〜80000が好ましく、さらに好ましくは4000〜60000、特に好ましくは6000〜30000である。
(c)のMwは、500〜50000が好ましく、さらに好ましくは750〜20000であり、特に好ましくは1000〜10000である。
なお、本発明において、樹脂の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフイー(GPC)を用いて以下の条件で測定される。
装置(一例) :東ソー(株)製 HLC−8120
カラム(一例):TSK GEL GMH6 2本 〔東ソー(株)製〕
測定温度 :40℃
試料溶液 :0.25%のTHF溶液
溶液注入量 :100μL
検出装置 :屈折率検出器
基準物質 :東ソー製 標準ポリスチレン(TSKstandard POLY STYRENE)12点(分子量 500 1050 2800 5970 9100 18100 37900 96400
190000 355000 1090000 2890000)
The weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) of the crystalline resin (A) is preferably 5000 to 100,000, more preferably 6000 to 80000, and particularly preferably 8000 to 50000 from the viewpoint of fixing.
When (A) is a block resin having a crystalline part (b) and an amorphous part (c), the Mw of (b) is preferably 2000 to 80000, more preferably 4000 to 60000, and particularly preferably 6000 to 60000. 30000.
As for Mw of (c), 500-50000 are preferable, More preferably, it is 750-20000, Most preferably, it is 1000-10000.
In the present invention, the molecular weight of the resin is measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC).
Device (example): HLC-8120 manufactured by Tosoh Corporation
Column (example): TSK GEL GMH6 2 [Tosoh Corporation]
Measurement temperature: 40 ° C
Sample solution: 0.25% THF solution Solution injection amount: 100 μL
Detection device: Refractive index detector Reference material: TOSANDO standard polystyrene (TSK standard POLY STYRENE) 12 points (molecular weight 500 1050 2800 5970 9100 18100 37900 96400
190000 355000 1090000 2890000)
結晶性樹脂(A)が、結晶性部(b)と非結晶性部(c)とで構成されるブロック樹脂である場合、結晶性部(b)が結晶性樹脂(A)中に占める割合は、50%以上が好ましく、より好ましくは60〜98%、さらに好ましくは63〜96%である。(b)の割合が50%以上であると、結晶性樹脂(A)の結晶性が損なわれず、低温定着性がより良好である。 When the crystalline resin (A) is a block resin composed of a crystalline part (b) and an amorphous part (c), the proportion of the crystalline part (b) in the crystalline resin (A) Is preferably 50% or more, more preferably 60 to 98%, and still more preferably 63 to 96%. When the proportion of (b) is 50% or more, the crystallinity of the crystalline resin (A) is not impaired, and the low-temperature fixability is better.
結晶性樹脂(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)とで構成されるブロック樹脂である場合、(b)と(c)とが下記の形式で線状に結合された両末端が(b)の樹脂であり、{−(c)−(b)}の単位の繰り返し数の平均値nが0.9〜3.5であることが好ましく、さらに好ましくはn=0.95〜2.5、とくに好ましくはn=1.0〜1.5である。
(b){−(c)−(b)}n
上記式は、具体的には、結晶性部(b)と非結晶性部(c)とが、(b)〔n=0〕、(b)−(c)−(b)〔n=1〕、(b)−(c)−(b)−(c)−(b)〔n=2〕、(b)−(c)−(b)−(c)−(b)−(c)−(b)〔n=3〕等の形式で線状に結合された樹脂、およびこれらの混合物〔n=0のみからなるものを除く〕を意味する。
nが3.5以下であると、結晶性樹脂(A)の結晶性が損なわれない。またnが0.9以上であると(A)の溶融後の弾性が良好であり、トナー粒子とした時、定着時にホットオフセットが発生しにくく、定着温度領域がより広くなる。なお、nは原料の使用量〔(b)と(c)のモル比〕から求めた計算値である。また、結晶性樹脂(A)の結晶化度の観点から(A)の両末端は結晶性部(b)であることが好ましい。
なお、両末端が非結晶性部(c)である場合は、結晶化度が落ちるため、結晶性樹脂(A)に結晶性を持たせるために、(A)中の結晶性部(b)の比率を75%以上にするのが好ましい。
When the crystalline resin (A) is a block resin composed of a crystalline part (b) and an amorphous part (c), (b) and (c) are linearly bonded in the following format. It is preferable that both ends are the resin of (b), and the average value n of the number of repeating units of {-(c)-(b)} is 0.9 to 3.5, more preferably n = 0.95 to 2.5, particularly preferably n = 1.0 to 1.5.
(B) {-(c)-(b)} n
Specifically, the above formula shows that the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c) are (b) [n = 0], (b)-(c)-(b) [n = 1 ], (B)-(c)-(b)-(c)-(b) [n = 2], (b)-(c)-(b)-(c)-(b)-(c) -(B) means a resin linearly bonded in the form of [n = 3] or the like, and a mixture thereof (excluding those consisting only of n = 0).
When n is 3.5 or less, the crystallinity of the crystalline resin (A) is not impaired. Further, when n is 0.9 or more, the elasticity after melting of (A) is good, and when toner particles are used, hot offset hardly occurs during fixing, and the fixing temperature range becomes wider. Note that n is a calculated value obtained from the amount of raw material used [molar ratio of (b) to (c)]. Further, from the viewpoint of the crystallinity of the crystalline resin (A), it is preferable that both ends of (A) are crystalline parts (b).
When both ends are non-crystalline parts (c), the degree of crystallinity is lowered, so that the crystalline part (b) in (A) is used in order to give the crystalline resin (A) crystallinity. The ratio is preferably 75% or more.
結晶性部(b)に用いられる樹脂について説明する。
結晶性部(b)に用いられる樹脂は、結晶性を有していれば特に制限はない。耐熱保存性の観点から融点が40〜100℃の範囲(より好ましくは50〜70℃の範囲)であることが好ましい。
本発明において、融点は融解熱の最大ピーク温度(Ta)と同様、示差走査熱量計{たとえば、セイコー電子工業社製、DSC210}で測定される。
The resin used for the crystalline part (b) will be described.
The resin used for the crystalline part (b) is not particularly limited as long as it has crystallinity. From the viewpoint of heat-resistant storage stability, the melting point is preferably in the range of 40 to 100 ° C (more preferably in the range of 50 to 70 ° C).
In the present invention, the melting point is measured with a differential scanning calorimeter {for example, DSC210, manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) similarly to the maximum peak temperature (Ta) of heat of fusion.
結晶性部(b)は結晶性を有していれば特に制限はなく、複合樹脂であってもかまわない。その中でもポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、およびそれらの複合樹脂が好ましく、特に直鎖ポリエステル樹脂およびそれを含む複合樹脂が好ましい。 The crystalline part (b) is not particularly limited as long as it has crystallinity, and may be a composite resin. Among these, polyester resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyamide resins, polyether resins, and composite resins thereof are preferable, and linear polyester resins and composite resins containing the same are particularly preferable.
(b)として用いるポリエステル樹脂は、アルコール(ジオール)成分と酸(ジカルボン酸)成分とから合成される重縮合ポリエステル樹脂であることが、結晶性の点から好ましい。ただし、必要に応じて3官能以上のアルコール成分や酸成分を用いてもよい。なお、ポリエステル樹脂としては、重縮合ポリエステル樹脂以外に、ラクトン開環重合物およびポリヒドロキシカルボン酸も同様に好ましい。
また、ポリウレタン樹脂としては、アルコール(ジオール)成分とイソシアネート(ジイソシアネート)成分とから合成されるポリウレタン樹脂等が挙げられる。ただし、必要に応じて3官能以上のアルコール成分やイソシアネート成分を用いてもよい。
ポリアミド樹脂としては、アミン(ジアミン)成分と酸(ジカルボン酸)成分とから合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。ただし、必要に応じて3官能以上のアミン成分や酸成分を用いてもよい。
ポリウレア樹脂としては、アミン(ジアミン)成分とイソシアネート(ジイソシアネート)成分とから合成されるポリウレア樹脂等が挙げられる。ただし、必要に応じて3官能以上のアミン成分やイソシアネート成分を用いてもよい。
以降の説明において、まず、これら結晶性重縮合ポリエステル樹脂、結晶性ポリウレタン樹脂、結晶性ポリアミド樹脂、結晶性ポリウレア樹脂に用いられるジオール成分、ジカルボン酸成分、ジイソシアネート成分、およびジアミン成分(それぞれ3官能以上のものを含む)についてそれぞれ示す。
The polyester resin used as (b) is preferably a polycondensed polyester resin synthesized from an alcohol (diol) component and an acid (dicarboxylic acid) component from the viewpoint of crystallinity. However, a tri- or higher functional alcohol component or acid component may be used as necessary. As the polyester resin, in addition to the polycondensation polyester resin, a lactone ring-opening polymer and a polyhydroxycarboxylic acid are also preferable.
Examples of the polyurethane resin include a polyurethane resin synthesized from an alcohol (diol) component and an isocyanate (diisocyanate) component. However, a tri- or higher functional alcohol component or isocyanate component may be used as necessary.
Examples of the polyamide resin include a polyamide resin synthesized from an amine (diamine) component and an acid (dicarboxylic acid) component. However, a trifunctional or higher functional amine component or acid component may be used as necessary.
Examples of the polyurea resin include a polyurea resin synthesized from an amine (diamine) component and an isocyanate (diisocyanate) component. However, a trifunctional or higher functional amine component or isocyanate component may be used as necessary.
In the following description, first, a diol component, a dicarboxylic acid component, a diisocyanate component, and a diamine component (each having three or more functional groups) used for the crystalline polycondensation polyester resin, the crystalline polyurethane resin, the crystalline polyamide resin, and the crystalline polyurea resin. Each of them).
[ジオール成分]
ジオール成分としては、脂肪族ジオールが好ましく、炭素数が2〜36の範囲であることが好ましい。また直鎖型脂肪族ジオールがより好ましい。
脂肪族ジオールが分岐型では、ポリエステル樹脂の結晶性が低下し、融点が降下するため、耐ブロッキング性、画像保存性、及び、低温定着性が悪化してしまう場合がある。また、炭素数が36を超えると、実用上の材料の入手が困難な場合がある。
[Diol component]
As a diol component, an aliphatic diol is preferable, and it is preferable that it is C2-C36. A linear aliphatic diol is more preferred.
When the aliphatic diol is branched, the crystallinity of the polyester resin is lowered and the melting point is lowered, so that blocking resistance, image storage stability, and low-temperature fixability may be deteriorated. On the other hand, when the number of carbon atoms exceeds 36, it may be difficult to obtain practical materials.
ジオール成分は、直鎖型脂肪族ジオールの含有量が使用ジオール成分の80モル%以上であることが好ましく、より好ましくは90モル%以上である。80モル%以上では、ポリエステル樹脂の結晶性が向上し、融点が上昇するため、耐ブロッキング性、及び低温定着性がより良好となる。 The content of the linear aliphatic diol in the diol component is preferably 80 mol% or more of the diol component used, and more preferably 90 mol% or more. If it is 80 mol% or more, the crystallinity of the polyester resin is improved and the melting point is increased, so that the blocking resistance and the low-temperature fixability are improved.
直鎖型脂肪族ジオールとしては、具体的には、例えば、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,11−ウンデカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,13−トリデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、1,18−オクタデカンジオール、1,20−エイコサンジオールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうち、入手容易性を考慮するとエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオールが好ましい。 Specific examples of the linear aliphatic diol include ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and 1,7. -Heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,11-undecanediol, 1,12-dodecanediol, 1,13-tridecanediol, 1,14 -Tetradecanediol, 1,18-octadecanediol, 1,20-eicosanediol and the like are exemplified, but not limited thereto. Among these, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, and 1,10-decanediol are preferable in view of availability.
その他必要に応じて使用されるジオールとしては、炭素数2〜36の上記以外の脂肪族ジオール(1,2−プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、デカンジオール、ドデカンジオール、テトラデカンジオール、ネオペンチルグリコール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオールなど);炭素数4〜36のアルキレンエーテルグリコール(ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコールなど);炭素数4〜36の脂環式ジオール(1,4−シクロヘキサンジメタノール、水素添加ビスフェノールAなど);上記脂環式ジオールのアルキレンオキサイド(以下AOと略記する)〔エチレンオキサイド(以下EOと略記する)、プロピレンオキサイド(以下POと略記する)、ブチレンオキサイド(以下BOと略記する)など〕付加物(付加モル数1〜30);ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSなど)のAO(EO、PO、BOなど)付加物(付加モル数2〜30);ポリラクトンジオール(ポリε−カプロラクトンジオールなど);およびポリブタジエンジオールなどが挙げられる。 Other diols used as necessary include aliphatic diols other than those having 2 to 36 carbon atoms (1,2-propylene glycol, butanediol, hexanediol, octanediol, decanediol, dodecanediol, tetradecanediol, Neopentyl glycol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, etc .; C4-C36 alkylene ether glycol (diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene ether glycol) C 4 -36 alicyclic diol (1,4-cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, etc.); alkylene oxide of the alicyclic diol (hereinafter abbreviated as AO) [Ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), butylene oxide (hereinafter abbreviated as BO)] adducts (addition mole number 1-30); bisphenols (bisphenol A) , Bisphenol F, bisphenol S, etc.) AO (EO, PO, BO, etc.) adduct (added mole number 2-30); polylactone diol (poly ε-caprolactone diol, etc.); and polybutadiene diol.
さらにその他必要に応じて使用されるジオールとしては、上記のヒドロキシル基以外の官能基を有しないジオール以外に、他の官能基を有するジオールを用いてもよい。官能基を有するジオールとしては、カルボキシル基を有するジオール、スルホン酸基もしくはスルファミン酸基を有するジオール、およびこれらの塩等が挙げられる。
カルボキシル基を有するジオールとしては、ジアルキロールアルカン酸[C6〜24のもの、例えば2,2−ジメチロールプロピオン酸(DMPA)、2,2−ジメチロールブタン酸、2,2−ジメチロールヘプタン酸、2,2−ジメチロールオクタン酸など]が挙げられる。
スルホン酸基もしくはスルファミン酸基を有するジオールとしては、スルファミン酸ジオール[N,N−ビス(2−ヒドロキシアルキル)スルファミン酸(アルキル基のC1〜6)またはそのAO付加物(AOとしてはEOまたはPOなど、AOの付加モル数1〜6):例えばN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)スルファミン酸およびN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)スルファミン酸PO2モル付加物など];ビス(2−ヒドロキシエチル)ホスフェートなどが挙げられる。
これらの中和塩基を有するジオールの中和塩基としては、例えば炭素数3〜30の3級アミン(トリエチルアミンなど)および/またはアルカリ金属(ナトリウム塩など)が挙げられる。
これらのうち好ましいものは、炭素数2〜12のアルキレングリコール、カルボキシル基を有するジオール、ビスフェノール類のAO付加物、およびこれらの併用である。
Furthermore, as a diol used as necessary, a diol having another functional group may be used in addition to the diol having no functional group other than the above hydroxyl group. Examples of the diol having a functional group include a diol having a carboxyl group, a diol having a sulfonic acid group or a sulfamic acid group, and salts thereof.
Diols having a carboxyl group include dialkylol alkanoic acids [things of C6-24, such as 2,2-dimethylolpropionic acid (DMPA), 2,2-dimethylolbutanoic acid, 2,2-dimethylolheptanoic acid. 2,2-dimethylol octanoic acid, etc.].
Examples of the diol having a sulfonic acid group or a sulfamic acid group include a sulfamic acid diol [N, N-bis (2-hydroxyalkyl) sulfamic acid (C1-6 of alkyl group) or an AO adduct thereof (EO as EO or PO). AO addition mole number 1 to 6): for example, N, N-bis (2-hydroxyethyl) sulfamic acid and N, N-bis (2-hydroxyethyl) sulfamic acid PO2 molar adduct, etc.]; bis (2 -Hydroxyethyl) phosphate and the like.
Examples of the neutralizing base of the diol having these neutralizing bases include tertiary amines having 3 to 30 carbon atoms (such as triethylamine) and / or alkali metals (such as sodium salts).
Among these, preferred are alkylene glycols having 2 to 12 carbon atoms, diols having a carboxyl group, AO adducts of bisphenols, and combinations thereof.
必要により用いられる3〜8価またはそれ以上のポリオールとしては、炭素数3〜36の3〜8価またはそれ以上の多価脂肪族アルコール(アルカンポリオールおよびその分子内もしくは分子間脱水物、例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビタン、およびポリグリセリン;糖類およびその誘導体、例えばショ糖、およびメチルグルコシド);トリスフェノール類(トリスフェノールPAなど)のAO付加物(付加モル数2〜30);ノボラック樹脂(フェノールノボラック、クレゾールノボラックなど)のAO付加物(付加モル数2〜30);アクリルポリオール[ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと他のビニルモノマーの共重合物など];などが挙げられる。
これらのうち好ましいものは、3〜8価またはそれ以上の多価脂肪族アルコールおよびノボラック樹脂のAO付加物であり、さらに好ましいものはノボラック樹脂のAO付加物である。
Examples of the polyol having 3 to 8 valences or more used as necessary include 3 to 8 or more polyhydric aliphatic alcohols having 3 to 36 carbon atoms (alkane polyols and intramolecular or intermolecular dehydrates thereof such as glycerin. , Trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, sorbitan, and polyglycerol; sugars and derivatives thereof such as sucrose and methylglucoside; and AO adducts (addition moles) of trisphenols (such as trisphenol PA) 2-30); AO addition product (addition mole number 2-30) of novolak resin (phenol novolak, cresol novolak, etc.); acrylic polyol [copolymer of hydroxyethyl (meth) acrylate and other vinyl monomer, etc.]; Etc. That.
Among these, preferred are trivalent to octavalent or higher polyhydric aliphatic alcohols and novolak resin AO adducts, and more preferred are novolak resin AO adducts.
[ジカルボン酸成分]
ジカルボン酸成分としては、種々のジカルボン酸が挙げられるが、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸が好ましく、脂肪族ジカルボン酸は直鎖型のカルボン酸がより好ましい。
[Dicarboxylic acid component]
Examples of the dicarboxylic acid component include various dicarboxylic acids, but aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids are preferable, and the aliphatic dicarboxylic acids are more preferably linear carboxylic acids.
ジカルボン酸としては、炭素数4〜36のアルカンジカルボン酸(コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸、オクタデカンジカルボン酸、デシルコハク酸など);炭素数6〜40の脂環式ジカルボン酸〔ダイマー酸(2量化リノール酸)など〕、炭素数4〜36のアルケンジカルボン酸(ドデセニルコハク酸、ペンタデセニルコハク酸、オクタデセニルコハク酸などのアルケニルコハク酸、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸など);炭素数8〜36の芳香族ジカルボン酸(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、t−ブチルイソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸など)などが挙げられる。
必要により用いる3〜6価またはそれ以上のポリカルボン酸としては、炭素数9〜20の芳香族ポリカルボン酸(トリメリット酸、ピロメリット酸など)などが挙げられる。
なお、ジカルボン酸または3〜6価またはそれ以上のポリカルボン酸としては、上述のものの酸無水物または炭素数1〜4の低級アルキルエステル(メチルエステル、エチルエステル、イソプロピルエステルなど)を用いてもよい。
これらジカルボン酸の中では、脂肪族ジカルボン酸(特に直鎖型のカルボン酸)を単独で用いるのが特に好ましいが、脂肪族ジカルボン酸と共に芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、t−ブチルイソフタル酸、および、これらの低級アルキルエステル類が好ましい。)を共重合したものも同様に好ましい。芳香族ジカルボン酸の共重合量としては20モル%以下が好ましい。
ジカルボン酸成分としては、主には上記のカルボン酸が挙げられるが、この限りではない。これらのうち、結晶性や入手容易性を考慮すると、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、テレフタル酸、およびイソフタル酸が好ましい。
Examples of dicarboxylic acids include alkane dicarboxylic acids having 4 to 36 carbon atoms (succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, dodecanedicarboxylic acid, octadecanedicarboxylic acid, decylsuccinic acid, etc.); alicyclic dicarboxylic acids having 6 to 40 carbon atoms. Acid [dimer acid (dimerized linoleic acid), etc.], alkenedicarboxylic acid having 4 to 36 carbon atoms (alkenyl succinic acid such as dodecenyl succinic acid, pentadecenyl succinic acid, octadecenyl succinic acid, maleic acid, fumaric acid) C8-36 aromatic dicarboxylic acid (phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, t-butylisophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, etc.) Etc.
Examples of the tri- or hexavalent or higher polycarboxylic acid used as necessary include C9-C20 aromatic polycarboxylic acids (trimellitic acid, pyromellitic acid, and the like).
In addition, as the dicarboxylic acid or the polycarboxylic acid having 3 to 6 valences or more, the above acid anhydrides or lower alkyl esters having 1 to 4 carbon atoms (methyl ester, ethyl ester, isopropyl ester, etc.) may be used. Good.
Among these dicarboxylic acids, it is particularly preferable to use an aliphatic dicarboxylic acid (especially a straight-chain carboxylic acid) alone, but an aromatic dicarboxylic acid (terephthalic acid, isophthalic acid, t-butylisophthalic acid) together with the aliphatic dicarboxylic acid. Those obtained by copolymerizing acids and their lower alkyl esters are also preferred. The copolymerization amount of the aromatic dicarboxylic acid is preferably 20 mol% or less.
Examples of the dicarboxylic acid component include, but are not limited to, the above carboxylic acids. Of these, adipic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid are preferable in consideration of crystallinity and availability.
[ジイソシアネート成分]
ジイソシアネートとしては、炭素数(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20の芳香族ジイソシアネート、炭素数2〜18の脂肪族ジイソシアネート、炭素数4〜15の脂環式ジイソシアネート、炭素数8〜15の芳香脂肪族ジイソシアネートおよびこれらのジイソシアネートの変性物(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基、オキサゾリドン基含有変性物など)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。また、必要により、3価以上のポリイソシアネートを併用してもよい。
[Diisocyanate component]
Examples of the diisocyanate include C6-C20 aromatic diisocyanate, C2-C18 aliphatic diisocyanate, C4-C15 alicyclic diisocyanate, and C8. To 15 araliphatic diisocyanates and modified products of these diisocyanates (urethane groups, carbodiimide groups, allophanate groups, urea groups, burette groups, uretdione groups, uretoimine groups, isocyanurate groups, oxazolidone group-containing modified products) and the like The mixture of 2 or more types of these is mentioned. Moreover, you may use together polyisocyanate more than trivalence as needed.
上記芳香族ジイソシアネートの具体例(3価以上のポリイソシアネートを含む)としては、1,3−および/または1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−および/または2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、2,4’−および/または4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、粗製MDI[粗製ジアミノフェニルメタン〔ホルムアルデヒドと芳香族アミン(アニリン)またはその混合物との縮合生成物;ジアミノジフェニルメタンと少量(たとえば5〜20%)の3官能以上のポリアミンとの混合物〕のホスゲン化物:ポリアリルポリイソシアネート(PAPI)]、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート、m−およびp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートなどが挙げられる。
上記脂肪族ジイソシアネートの具体例(3価以上のポリイソシアネートを含む)としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。
上記脂環式ジイソシアネートの具体例としては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート、2,5−および/または2,6−ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、m−および/またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などが挙げられる。
また、上記ジイソシアネートの変性物には、ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基、オキサゾリドン基含有変性物などが挙げられる。
具体的には、変性MDI(ウレタン変性MDI、カルボジイミド変性MDI、トリヒドロカルビルホスフェート変性MDIなど)、ウレタン変性TDIなどのジイソシアネートの変性物およびこれらの2種以上の混合物[たとえば変性MDIとウレタン変性TDI(イソシアネート含有プレポリマー)との併用]が含まれる。
これらのうちで好ましいものは6〜15の芳香族ジイソシアネート、炭素数4〜12の脂肪族ジイソシアネート、および炭素数4〜15の脂環式ジイソシアネートであり、とくに好ましいものはTDI、MDI、HDI、水添MDI、およびIPDIである。
Specific examples of the aromatic diisocyanate (including tri- or higher polyisocyanates) include 1,3- and / or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and / or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI). ), Crude TDI, 2,4′- and / or 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), crude MDI [crude diaminophenylmethane [condensation product of formaldehyde with an aromatic amine (aniline) or mixtures thereof; diamino A mixture of diphenylmethane and a small amount (for example, 5 to 20%) of a trifunctional or higher polyamine] phosgenation product: polyallyl polyisocyanate (PAPI)], 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4 ′, 4 ″ -tri Phenylmethane triisocyanate, m- and p-isocyanate Such as preparative phenylsulfonyl isocyanate.
Specific examples of the aliphatic diisocyanate (including triisocyanate or higher polyisocyanate) include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 2, 2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2,6-diisocyanatomethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2 , 6-diisocyanatohexanoate and the like.
Specific examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis (2- And isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate, 2,5- and / or 2,6-norbornane diisocyanate.
Specific examples of the araliphatic diisocyanate include m- and / or p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like.
Examples of the modified diisocyanate include urethane group, carbodiimide group, allophanate group, urea group, burette group, uretdione group, uretoimine group, isocyanurate group, and oxazolidone group-containing modified product.
Specifically, modified MDI (urethane modified MDI, carbodiimide modified MDI, trihydrocarbyl phosphate modified MDI, etc.), modified products of diisocyanates such as urethane modified TDI, and mixtures of two or more thereof (for example, modified MDI and urethane modified TDI ( In combination with an isocyanate-containing prepolymer).
Of these, preferred are aromatic diisocyanates having 6 to 15 carbon atoms, aliphatic diisocyanates having 4 to 12 carbon atoms, and alicyclic diisocyanates having 4 to 15 carbon atoms, and particularly preferred are TDI, MDI, HDI, water. Attached MDI and IPDI.
[ジアミン成分]
ジアミン(必要により用いられる3価以上のポリアミンを含む)の例として、脂肪族ジアミン類(C2〜C18)としては、〔1〕脂肪族ジアミン{C2〜C6 アルキレンジアミン(エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど)、ポリアルキレン(C2〜C6)ジアミン〔ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン,トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンなど〕};〔2〕これらのアルキル(C1〜C4)またはヒドロキシアルキル(C2〜C4)置換体〔ジアルキル(C1〜C3)アミノプロピルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサメチレンジアミン、メチルイミノビスプロピルアミンなど〕;〔3〕脂環または複素環含有脂肪族ジアミン{脂環式ジアミン(C4〜C15)〔1,3−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、4,4´−メチレンジシクロヘキサンジアミン(水添メチレンジアニリン)など〕、複素環式ジアミン(C4〜C15)〔ピペラジン、N−アミノエチルピペラジン、1,4−ジアミノエチルピペラジン、1,4ビス(2−アミノ−2−メチルプロピル)ピペラジン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなど〕;〔4〕芳香環含有脂肪族アミン類(C8〜C15)(キシリレンジアミン、テトラクロル−p−キシリレンジアミンなど)、等が挙げられる。
[Diamine component]
Examples of diamines (including trivalent or higher polyamines used as necessary) include aliphatic diamines (C2 to C18): [1] aliphatic diamines {C2 to C6 alkylenediamines (ethylenediamine, propylenediamine, trimethylene) Diamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, etc.), polyalkylene (C2 to C6) diamine [diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, etc.]} [2] These alkyl (C1 to C4) or hydroxyalkyl (C2 to C4) substitutes [dialkyl (C1 to C3) aminopropylamine, trimethylhexamethylenediamine, aminoethylethanol; Amine, 2,5-dimethyl-2,5-hexamethylenediamine, methyliminobispropylamine, etc.]; [3] Alicyclic or heterocyclic-containing aliphatic diamine {alicyclic diamine (C4 to C15) [1,3 -Diaminocyclohexane, isophoronediamine, mensendiamine, 4,4'-methylenedicyclohexanediamine (hydrogenated methylenedianiline), etc.], heterocyclic diamine (C4-C15) [piperazine, N-aminoethylpiperazine, 1, 4-diaminoethylpiperazine, 1,4bis (2-amino-2-methylpropyl) piperazine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] Undecane etc.]; [4] Aromatic ring-containing aliphatic amines (C8 to C15) (xylylenediamine, tetrachloro-p-) Siri diamine, etc.), and the like.
芳香族ジアミン類(C6〜C20)としては、〔1〕非置換芳香族ジアミン〔1,2−、1,3−および1,4−フェニレンジアミン、2,4´−および4,4´−ジフェニルメタンジアミン、クルードジフェニルメタンジアミン(ポリフェニルポリメチレンポリアミン)、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、チオジアニリン、ビス(3,4−ジアミノフェニル)スルホン、2,6−ジアミノピリジン、m−アミノベンジルアミン、トリフェニルメタン−4,4´,4”−トリアミン、ナフチレンジアミンなど;〔2〕核置換アルキル基〔メチル,エチル,n−およびi−プロピル、ブチルなどのC1〜C4アルキル基)を有する芳香族ジアミン、たとえば2,4−および2,6−トリレンジアミン、クルードトリレンジアミン、ジエチルトリレンジアミン、4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチルジフェニルメタン、4,4´−ビス(o−トルイジン)、ジアニシジン、ジアミノジトリルスルホン、1,3−ジメチル−2,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジメチル−2,6−ジアミノベンゼン、1,4−ジイソプロピル−2,5−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノメシチレン、1−メチル−3,5−ジエチル−2,4−ジアミノベンゼン、2,3−ジメチル−1,4−ジアミノナフタレン、2,6−ジメチル−1,5−ジアミノナフタレン、3,3´,5,5´−テトラメチルベンジジン、3,3´,5,5´−テトラメチル−4,4´−ジアミノジフェニルメタン、3,5−ジエチル−3´−メチル−2´,4−ジアミノジフェニルメタン、3,3´−ジエチル−2,2´−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチルジフェニルメタン、3,3´,5,5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノベンゾフェノン、3,3´,5,5´−テトラエチル−4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、3,3´,5,5´−テトライソプロピル−4,4´−ジアミノジフェニルスルホンなど〕、およびこれらの異性体の種々の割合の混合物;〔3〕核置換電子吸引基(Cl,Br,I,Fなどのハロゲン;メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基;ニトロ基など)を有する芳香族ジアミン〔メチレンビス−o−クロロアニリン、4−クロロ−o−フェニレンジアミン、2−クロル−1,4−フェニレンジアミン、3−アミノ−4−クロロアニリン、4−ブロモ−1,3−フェニレンジアミン、2,5−ジクロル−1,4−フェニレンジアミン、5−ニトロ−1,3−フェニレンジアミン、3−ジメトキシ−4−アミノアニリン;4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチル−5,5´−ジブロモ−ジフェニルメタン、3,3´−ジクロロベンジジン、3,3´−ジメトキシベンジジン、ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)オキシド、ビス(4−アミノ−2−クロロフェニル)プロパン、ビス(4−アミノ−2−クロロフェニル)スルホン、ビス(4−アミノ−3−メトキシフェニル)デカン、ビス(4−アミノフェニル)スルフイド、ビス(4−アミノフェニル)テルリド、ビス(4−アミノフェニル)セレニド、ビス(4−アミノ−3−メトキシフェニル)ジスルフイド、4,4´−メチレンビス(2−ヨードアニリン)、4,4´−メチレンビス(2−ブロモアニリン)、4,4´−メチレンビス(2−フルオロアニリン)、4−アミノフェニル−2−クロロアニリンなど〕;〔4〕2級アミノ基を有する芳香族ジアミン〔上記〔1〕〜〔3〕の芳香族ジアミンの−NH2の一部または全部が−NH−R´(R´はアルキル基たとえばメチル,エチルなどの低級アルキル基)で置き換ったもの〕〔4,4´−ジ(メチルアミノ)ジフェニルメタン、1−メチル−2−メチルアミノ−4−アミノベンゼンなど〕が挙げられる。 As aromatic diamines (C6-C20), [1] unsubstituted aromatic diamine [1,2-, 1,3- and 1,4-phenylenediamine, 2,4′- and 4,4′-diphenylmethane Diamine, crude diphenylmethanediamine (polyphenylpolymethylenepolyamine), diaminodiphenylsulfone, benzidine, thiodianiline, bis (3,4-diaminophenyl) sulfone, 2,6-diaminopyridine, m-aminobenzylamine, triphenylmethane-4 , 4 ', 4 "-triamine, naphthylenediamine, etc .; [2] aromatic diamines having a nucleus-substituted alkyl group [C1-C4 alkyl group such as methyl, ethyl, n- and i-propyl, butyl, etc.], for example 2 , 4- and 2,6-tolylenediamine, crude tolylenediamine, die Rutorylenediamine, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-bis (o-toluidine), dianisidine, diaminoditolylsulfone, 1,3-dimethyl-2,4-diaminobenzene 1,3-dimethyl-2,6-diaminobenzene, 1,4-diisopropyl-2,5-diaminobenzene, 2,4-diaminomesitylene, 1-methyl-3,5-diethyl-2,4-diaminobenzene 2,3-dimethyl-1,4-diaminonaphthalene, 2,6-dimethyl-1,5-diaminonaphthalene, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbenzidine, 3,3 ′, 5,5 ′ -Tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,5-diethyl-3'-methyl-2 ', 4-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethyl-2,2 -Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5,5'-tetraethyl -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, etc.), and mixtures of these isomers in various proportions; [3] nuclear substitution Aromatic diamines having an electron withdrawing group (halogen such as Cl, Br, I, F; alkoxy group such as methoxy and ethoxy; nitro group) [methylenebis-o-chloroaniline, 4-chloro-o-phenylenediamine, 2 -Chlor-1,4-phenylenediamine, 3-amino-4-chloroaniline, 4-bromo-1,3-phenylenediamine, 2,5 Dichloro-1,4-phenylenediamine, 5-nitro-1,3-phenylenediamine, 3-dimethoxy-4-aminoaniline; 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl-5,5′-dibromo- Diphenylmethane, 3,3'-dichlorobenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, bis (4-amino-3-chlorophenyl) oxide, bis (4-amino-2-chlorophenyl) propane, bis (4-amino-2- Chlorophenyl) sulfone, bis (4-amino-3-methoxyphenyl) decane, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (4-aminophenyl) telluride, bis (4-aminophenyl) selenide, bis (4-amino-) 3-methoxyphenyl) disulfide, 4,4'-methylenebis (2-iodoaniline), 4,4'-methyl Bis (2-bromoaniline), 4,4′-methylenebis (2-fluoroaniline), 4-aminophenyl-2-chloroaniline, etc.]; [4] aromatic diamine having a secondary amino group [above [1] To [3] wherein a part or all of —NH 2 of the aromatic diamine is replaced by —NH—R ′ (R ′ is an alkyl group such as a lower alkyl group such as methyl or ethyl)] [4, 4 '-Di (methylamino) diphenylmethane, 1-methyl-2-methylamino-4-aminobenzene, etc.].
ジアミン成分としては、これらの他、ポリアミドポリアミン〔ジカルボン酸(ダイマー酸など)と過剰の(酸1モル当り2モル以上の)ポリアミン類(上記アルキレンジアミン,ポリアルキレンポリアミンなど)との縮合により得られる低分子量ポリアミドポリアミンなど〕、ポリエーテルポリアミン〔ポリエーテルポリオール(ポリアルキレングリコールなど)のシアノエチル化物の水素化物など〕等が挙げられる。 In addition to these, the diamine component can be obtained by condensation of polyamide polyamine [dicarboxylic acid (dimer acid etc.) and excess (more than 2 mol per mole of acid) polyamine (alkylenediamine, polyalkylenepolyamine etc.). Low molecular weight polyamide polyamine, etc.], polyether polyamine [hydride of cyanoethylated polyether polyol (polyalkylene glycol, etc.), etc.].
結晶性ポリエステル樹脂のうち、ラクトン開環重合物は、例えば、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンなどの炭素数3〜12のモノラクトン(環中のエステル基数1個)等のラクトン類を金属酸化物、有機金属化合物などの触媒を用いて、開環重合させることにより得ることができる。これらのうち、好ましいラクトンは、結晶性の観点からε−カプロラクトンである。
開始剤として、グリコールを用いると、末端にヒドロキシル基を有するラクトン開環重合物が得られる。例えば、上記ラクトン類とエチレングリコール、ジエチレングリコール等の前記ジオール成分を触媒の存在下で反応させることにより得ることができる。触媒としては、有機スズ化合物、有機チタン化合物、有機ハロゲン化スズ化合物等が一般的であり、0.1〜5000ppm程度の割合で添加して、100〜230℃で、好ましくは不活性雰囲気下に重合させることによって、ラクトン開環重合物を得ることができる。ラクトン開環重合物は、その末端を例えばカルボキシル基になるように変性したものであってもよい。ラクトン開環重合物は、結晶性の高い熱可塑性脂肪族ポリエステル樹脂である。ラクトン開環重合物は、市販品を用いてもよく、例えば、ダイセル株式会社製のPLACCELシリーズのH1P、H4、H5、H7など(いずれも、融点=約60℃、Tg=約−60℃の高結晶性ポリカプロラクトン)が挙げられる。
Among crystalline polyester resins, lactone ring-opening polymerization products are monolactones having 3 to 12 carbon atoms such as β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone (the number of ester groups in the ring). Lactones such as one) can be obtained by ring-opening polymerization using a catalyst such as a metal oxide or an organometallic compound. Of these, a preferred lactone is ε-caprolactone from the viewpoint of crystallinity.
When glycol is used as the initiator, a lactone ring-opening polymer having a hydroxyl group at the terminal is obtained. For example, it can be obtained by reacting the lactone with the diol component such as ethylene glycol or diethylene glycol in the presence of a catalyst. As the catalyst, an organic tin compound, an organic titanium compound, an organic tin halide compound, and the like are common, added at a rate of about 0.1 to 5000 ppm, and preferably at 100 to 230 ° C., preferably in an inert atmosphere. By polymerizing, a lactone ring-opening polymer can be obtained. The lactone ring-opening polymer may be modified at its terminal so as to be, for example, a carboxyl group. The lactone ring-opening polymer is a thermoplastic aliphatic polyester resin having high crystallinity. As the lactone ring-opening polymer, commercially available products may be used. For example, H1P, H4, H5, H7 of PLACEL series manufactured by Daicel Corporation (all of which melting point = about 60 ° C., Tg = about −60 ° C. Highly crystalline polycaprolactone).
結晶性ポリエステル樹脂のうち、ポリヒドロキシカルボン酸は、グリコール酸、乳酸(L体、D体、ラセミ体)等のヒドロキシカルボン酸を直接脱水縮合することで得られるが、グリコリド、ラクチド(L体、D体、ラセミ体)などのヒドロキシカルボン酸の2分子間もしくは3分子間脱水縮合物に相当する炭素数4〜12の環状エステル(環中のエステル基数2〜3個)を金属酸化物、有機金属化合物などの触媒を用いて、開環重合する方が分子量の調整の観点から好ましい。これらのうち、好ましい環状エステルは、結晶性の観点からL−ラクチド、およびD−ラクチドである。
開始剤として、グリコールを用いると、末端にヒドロキシル基を有するポリヒドロキシカルボン酸骨格が得られる。例えば、上記環状エステルとエチレングリコール、ジエチレングリコール等の前記ジオール成分を触媒の存在下で反応させることにより得ることができる。触媒としては、有機スズ化合物、有機チタン化合物、有機ハロゲン化スズ化合物等が一般的であり、0.1〜5000ppm程度の割合で添加して、100〜230℃で、好ましくは不活性雰囲気下に重合させることによって、ポリヒドロキシカルボン酸を得ることができる。ポリヒドロキシカルボン酸は、その末端を例えばカルボキシル基になるように変性したものであってもよい。
Among crystalline polyester resins, polyhydroxycarboxylic acid can be obtained by directly dehydrating and condensing hydroxycarboxylic acid such as glycolic acid and lactic acid (L-form, D-form, racemic form), but glycolide, lactide (L-form, A cyclic ester having 4 to 12 carbon atoms (2 to 3 ester groups in the ring) corresponding to a dehydration condensate between two or three molecules of a hydroxycarboxylic acid such as D-form or racemate) as a metal oxide or organic Ring-opening polymerization using a catalyst such as a metal compound is preferable from the viewpoint of adjusting the molecular weight. Among these, preferred cyclic esters are L-lactide and D-lactide from the viewpoint of crystallinity.
When glycol is used as an initiator, a polyhydroxycarboxylic acid skeleton having a hydroxyl group at the terminal is obtained. For example, the cyclic ester can be obtained by reacting the diol component such as ethylene glycol or diethylene glycol in the presence of a catalyst. As the catalyst, an organic tin compound, an organic titanium compound, an organic tin halide compound, and the like are common, added at a rate of about 0.1 to 5000 ppm, and preferably at 100 to 230 ° C., preferably in an inert atmosphere. A polyhydroxycarboxylic acid can be obtained by polymerization. The polyhydroxycarboxylic acid may have a terminal modified so as to be, for example, a carboxyl group.
ポリエーテル樹脂としては、結晶性ポリオキシアルキレンポリオール等が挙げられる。
結晶性ポリオキシアルキレンポリオールの製造方法としては特に限定されず、従来より公知のいずれの方法でもよい。
例えば、キラル体のAOを、通常AOの重合で使用される触媒で開環重合させる方法(例えば、Journal of the American Chemical Society、1956年、第78巻、第18号、p.4787−4792 に記載)や、安価なラセミ体のAOを立体的に嵩高い特殊な化学構造の錯体を触媒として用いて、開環重合させる方法が知られている。
特殊な錯体を用いる方法としては、ランタノイド錯体と有機アルミニウムを接触させた化合物を触媒として用いる方法(例えば、特開平11−12353号公報に記載)やバイメタルμ−オキソアルコキサイドとヒドロキシル化合物をあらかじめ反応させる方法(例えば、特表2001−521957号公報に記載)等が知られている。
また、非常にアイソタクティシティーの高いポリオキシアルキレンポリオールを得る方法として、サレン錯体を触媒として用いる方法(例えば、Journal of the American Chemical Society、2005年、第127巻、第33号、p.11566−11567 に記載)が知られている。
Examples of the polyether resin include crystalline polyoxyalkylene polyols.
The method for producing the crystalline polyoxyalkylene polyol is not particularly limited, and any conventionally known method may be used.
For example, a method of ring-opening polymerization of a chiral AO with a catalyst usually used in polymerization of AO (for example, Journal of the American Chemical Society, 1956, Vol. 78, No. 18, p. 4787-4792) And a method of ring-opening polymerization of inexpensive racemic AO using a sterically bulky complex having a special chemical structure as a catalyst.
As a method using a special complex, a method in which a compound obtained by contacting a lanthanoid complex and an organoaluminum is used as a catalyst (for example, described in JP-A No. 11-12353), or bimetal μ-oxoalkoxide and a hydroxyl compound are previously used. A reaction method (for example, described in JP-T-2001-521957) is known.
Further, as a method for obtaining a polyoxyalkylene polyol having a very high isotacticity, a method using a salen complex as a catalyst (for example, Journal of the American Chemical Society, 2005, Vol. 127, No. 33, p. 11566-). 11567) is known.
例えば、キラル体のAOを用い、その開環重合時に、開始剤として、グリコールまたは水を用いると、末端にヒドロキシル基を有するアイソタクティシティが50%以上であるポリオキシアルキレングリコールが得られる。アイソタクティシティが50%以上であるポリオキシアルキレングリコールは、その末端を例えば、カルボキシル基になるように変性したものであってもよい。なお、アイソタクティシティが50%以上であると、通常結晶性となる。
上記グリコールとしては、前記ジオール成分等が挙げられ、カルボキシ変性するのに用いるカルボン酸としては、前記ジカルボン酸成分等が挙げられる
For example, when a chiral AO is used and glycol or water is used as an initiator during the ring-opening polymerization, a polyoxyalkylene glycol having a hydroxyl group at the terminal and having an isotacticity of 50% or more is obtained. The polyoxyalkylene glycol having an isotacticity of 50% or more may be modified such that its terminal is, for example, a carboxyl group. If the isotacticity is 50% or more, the crystallinity is usually obtained.
Examples of the glycol include the diol component, and examples of the carboxylic acid used for carboxy modification include the dicarboxylic acid component.
結晶性ポリオキシアルキレンポリオールの製造に用いるAOとしては、炭素数3〜9のものが挙げられ、例えば以下の化合物が挙げられる。
炭素数3のAO[PO、1−クロロオキセタン、2−クロロオキセタン、1,2−ジクロロオキセタン、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン];炭素数4のAO[1,2−BO、メチルグリシジルエーテル];炭素数5のAO[1,2−ペンチレンオキサイド、2,3−ペンチレンオキサイド、3−メチル−1,2−ブチレンオキサイド];炭素数6のAO[シクロヘキセンオキサイド、1,2−へキシレンオキサイド、3−メチル−1,2−ペンチレンオキサイド、2,3−ヘキシレンオキサイド、4−メチル−2,3−ペンチレンオキサイド、アリルグリシジルエーテル];炭素数7のAO[1,2−へプチレンオキサイド];炭素数8のAO[スチレンオキサイド];炭素数9のAO[フェニルグリシジルエーテル]等である。
As AO used for manufacture of crystalline polyoxyalkylene polyol, a C3-C9 thing is mentioned, For example, the following compounds are mentioned.
C3 AO [PO, 1-chlorooxetane, 2-chlorooxetane, 1,2-dichlorooxetane, epichlorohydrin, epibromohydrin]; C4 AO [1,2-BO, methylglycidyl ether]; C5 AO [1,2-pentylene oxide, 2,3-pentylene oxide, 3-methyl-1,2-butylene oxide]; C6 AO [cyclohexene oxide, 1,2-hexylene oxide , 3-methyl-1,2-pentylene oxide, 2,3-hexylene oxide, 4-methyl-2,3-pentylene oxide, allyl glycidyl ether]; AO [1,2-heptyl having 7 carbon atoms] Ren oxide]; AO having 8 carbon atoms [styrene oxide]; AO having 9 carbon atoms [phenyl glycidyl ether] and the like.
これらのAOのうち、PO、1,2−BO、スチレンオキサイドおよびシクロへキセンオキサイドが好ましい。さらに好ましくはPO、1,2−BOおよびシクロへキセンオキサイドである。重合速度の観点から、最も好ましくはPOである。
これらのAOは、単独で、または、2種類以上を使用することができる。
Of these AOs, PO, 1,2-BO, styrene oxide and cyclohexene oxide are preferred. More preferred are PO, 1,2-BO and cyclohexene oxide. From the viewpoint of the polymerization rate, PO is most preferable.
These AOs can be used alone or in combination of two or more.
結晶性ポリオキシアルキレンポリオールのアイソタクティシティは、得られる結晶性ポリエーテル樹脂の高シャープメルト性と耐ブロッキング性の観点から70%以上が好ましく、さらに好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、最も好ましくは95%以上である。 The isotacticity of the crystalline polyoxyalkylene polyol is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, more preferably 90% or more from the viewpoint of high sharp melt property and blocking resistance of the obtained crystalline polyether resin. Most preferably, it is 95% or more.
アイソタクティシティーは、Macromolecules、vol.35、No.6、2389−2392頁(2002年)に記載の方法で算出することができ、以下のようにして求める。
測定試料約30mgを直径5mmの13C−NMR用試料管に秤量し、約0.5mlの重水素化溶剤を加えて溶解させ、分析用試料とする。ここで重水素化溶剤は、重水素化クロロホルム、重水素化トルエン、重水素化ジメチルスルホキシド、重水素化ジメチルホルムアミド等であり、試料を溶解させることのできる溶剤を適宜選択する。
Isotacticity is described in Macromolecules, vol. 35, no. 6, 2389-2392 (2002), and can be calculated as follows.
About 30 mg of a measurement sample is weighed into a 13 C-NMR sample tube having a diameter of 5 mm, and about 0.5 ml of deuterated solvent is added and dissolved to obtain an analysis sample. Here, the deuterated solvent is deuterated chloroform, deuterated toluene, deuterated dimethyl sulfoxide, deuterated dimethylformamide, or the like, and a solvent capable of dissolving the sample is appropriately selected.
13C−NMRの3種類のメチン基由来の信号は、それぞれシンジオタクチック値(S)75.1ppm付近とヘテロタクチック値(H)75.3ppm付近とアイソタクチック値(I)75.5ppm付近に観測される。アイソタクティシティーを次の計算式(1)により算出する。
アイソタクティシティー(%)=[I/(I+S+H)]×100 (1)
但し、式中、Iはアイソタクチック信号の積分値;Sはシンジオタクチック信号の積分値;Hはヘテロタクチック信号の積分値である。
13 C-NMR signals derived from three types of methine groups are syndiotactic value (S) in the vicinity of 75.1 ppm, heterotactic value (H) in the vicinity of 75.3 ppm, and isotactic value (I) in 75.5 ppm. Observed nearby. Isotacticity is calculated by the following calculation formula (1).
Isotacticity (%) = [I / (I + S + H)] × 100 (1)
Where I is the integrated value of the isotactic signal; S is the integrated value of the syndiotactic signal; and H is the integrated value of the heterotactic signal.
結晶性樹脂(A)が結晶性部(b)と非結晶性部(c)をもつブロックポリマーの場合、非結晶性部(c)の形成に用いられる樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、ビニル樹脂(ポリスチレン、スチレンアクリル系ポリマー等)、エポキシ樹脂等が挙げられるが、その限りではない。
ただし、前記結晶性部(b)の形成に用いられる樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂であることが好ましいので、加熱時に相溶することを考慮すると、非結晶性部(c)の形成に用いられる樹脂もポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂およびそれらの複合樹脂であることが好ましい。さらに好ましくはポリウレタン樹脂およびポリエステル樹脂である。
When the crystalline resin (A) is a block polymer having a crystalline part (b) and an amorphous part (c), the resin used for forming the amorphous part (c) includes a polyester resin, a polyurethane resin, Polyurea resin, polyamide resin, polyether resin, vinyl resin (polystyrene, styrene acrylic polymer, etc.), epoxy resin and the like can be mentioned, but not limited thereto.
However, the resin used for forming the crystalline part (b) is preferably a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurea resin, a polyamide resin, or a polyether resin. The resin used for forming the crystalline part (c) is also preferably a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurea resin, a polyamide resin, a polyether resin, and a composite resin thereof. More preferred are polyurethane resins and polyester resins.
これらの非結晶性樹脂の組成は、前記結晶性部(b)と同様のものが挙げられ、使用するモノマーも、前記ジオール成分、前記ジカルボン酸成分、前記ジイソシアネート成分、前記ジアミン成分、および前記AOが具体例として挙げられ、非結晶性樹脂となるものであれば、いかなる組合せでも構わない。 The composition of these non-crystalline resins is the same as that of the crystalline part (b), and the monomers used are the diol component, the dicarboxylic acid component, the diisocyanate component, the diamine component, and the AO. As a specific example, any combination may be used as long as it becomes an amorphous resin.
[ブロックポリマーの製法]
結晶性部(b)と非結晶性部(c)とで構成されるブロックポリマーは、それぞれの末端官能基の反応性を考慮して結合剤の使用、非使用を選択し、また使用の際は末端官能基にあった結合剤種を選択し、(b)と(c)を結合させ、ブロックポリマーとすることが出来る。
結合剤を使わない場合、必要により加熱減圧しつつ、(b)を形成する樹脂の末端官能基と(c)を形成する樹脂の末端官能基の反応を進める。特に酸とアルコールとの反応や酸とアミンとの反応の場合、片方の樹脂の酸価が高く、もう一方の樹脂の水酸基価やアミン価が高い場合、反応がスムーズに進行する。反応温度は180℃〜230℃で行うのが好ましい。
結合剤を使う場合は、種々の結合剤が使用できる。多価カルボン酸、多価アルコール、多価イソシアネート、多官能エポキシ、酸無水物等を用いて、脱水反応や、付加反応を行うことで得られる。
多価カルボン酸および酸無水物としては、前記ジカルボン酸成分と同様のものが挙げられる。多価アルコールとしては、前記ジオール成分と同様のものが挙げられる。多価イソシアネートとしては、前記ジイソシアネート成分と同様のものが挙げられる。多官能エポキシとしては、ビスフェノールA型および−F型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、水添ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールAまたは−FのAO付加体のジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAのAO付加体のジグリシジルエーテル、ジオール(エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコール等)の各ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジおよび/またはトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリおよび/またはテトラグリシジルエーテル、ソルビトールヘプタおよび/またはヘキサグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエン・フェノール付加型グリシジルエーテル、メチレンビス(2,7−ジヒドロキシナフタレン)テトラグリシジルエーテル、1,6−ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
[Production method of block polymer]
For the block polymer composed of the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c), the use or non-use of a binder is selected in consideration of the reactivity of each terminal functional group. Can select a binder type suitable for the terminal functional group and bond (b) and (c) to form a block polymer.
When the binder is not used, the reaction between the terminal functional group of the resin forming (b) and the terminal functional group of the resin forming (c) is advanced while heating and decompressing as necessary. In particular, in the case of a reaction between an acid and an alcohol or a reaction between an acid and an amine, the reaction proceeds smoothly when the acid value of one resin is high and the hydroxyl value or amine value of the other resin is high. The reaction temperature is preferably 180 ° C to 230 ° C.
When a binder is used, various binders can be used. It can be obtained by performing a dehydration reaction or an addition reaction using polyvalent carboxylic acid, polyhydric alcohol, polyvalent isocyanate, polyfunctional epoxy, acid anhydride or the like.
Examples of the polyvalent carboxylic acid and acid anhydride include those similar to the dicarboxylic acid component. Examples of the polyhydric alcohol include those similar to the diol component. Examples of the polyvalent isocyanate include those similar to the diisocyanate component. As the polyfunctional epoxy, bisphenol A type and -F type epoxy compounds, phenol novolac type epoxy compounds, cresol novolac type epoxy compounds, hydrogenated bisphenol A type epoxy compounds, diglycidyl ethers of AO adducts of bisphenol A or -F, Diglycidyl ether and triol of diglycidyl ether and diol (ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, butanediol, hexanediol, cyclohexanedimethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) of AO adduct of hydrogenated bisphenol A Propane di and / or triglycidyl ether, pentaerythritol tri and / or tetraglycidyl ether, sorbitol hepta And / or hexaglycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, dicyclopentadiene / phenol addition type glycidyl ether, methylene bis (2,7-dihydroxynaphthalene) tetraglycidyl ether, 1,6-dihydroxynaphthalenediglycidyl ether, polybutadiene diglycidyl ether, etc. Is mentioned.
(b)と(c)を結合させる方法のうち、脱水反応の例としては、結晶性部(b)、非結晶性部(c)とも両末端アルコール樹脂で、これらを結合剤(例えば多価カルボン酸)で結合する反応が挙げられる。この場合、例えば、無溶剤下、反応温度180℃〜230℃で反応し、ブロックポリマーが得られる。
付加反応の例としては、結晶性部(b)、非結晶性部(c)とも末端に水酸基を有する樹脂であり、これらを結合剤(例えば多価イソシアネート)で結合する反応や、また結晶性部(b)、非結晶性部(c)の片方が末端に水酸基を有する樹脂で、もう一方が末端にイソシアネート基を有する樹脂の場合、結合剤を用いずにこれらを結合する反応が挙げられる。この場合、例えば、結晶性部(b)、非結晶性部(c)ともに溶解可能な溶剤に溶解させ、これに必要であるなら結合剤を投入し、反応温度80℃〜150℃で反応し、ブロックポリマーが得られる。
Among the methods for bonding (b) and (c), as an example of the dehydration reaction, both the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c) are alcohol resins at both ends, and these are combined with a binder (for example, polyvalent). Reaction which couple | bonds with carboxylic acid) is mentioned. In this case, for example, the reaction is performed at a reaction temperature of 180 to 230 ° C. in the absence of a solvent to obtain a block polymer.
Examples of the addition reaction include a resin having a hydroxyl group at both ends of the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c), a reaction in which these are bonded with a binder (for example, polyvalent isocyanate), and crystalline In the case where one of the part (b) and the non-crystalline part (c) is a resin having a hydroxyl group at the terminal and the other is a resin having an isocyanate group at the terminal, there is a reaction of bonding them without using a binder. . In this case, for example, both the crystalline part (b) and the non-crystalline part (c) are dissolved in a soluble solvent, and if necessary, a binder is added and reacted at a reaction temperature of 80 ° C. to 150 ° C. A block polymer is obtained.
結晶性樹脂(A)としては、上記のブロックポリマーが好ましいが、非結晶性部(c)を有さず、結晶性部(b)のみからなる樹脂を用いることもできる。
結晶性部のみからなる(A)の組成としては、前記の結晶性部(b)と同様のもの、および結晶性ビニル樹脂が挙げられる。
結晶性ビニル樹脂としては、結晶性基を有するビニルモノマー(m)と、必要により結晶性基を有しないビニルモノマー(n)を構成単位として有するものが好ましい。
As the crystalline resin (A), the above block polymer is preferable, but a resin having only the crystalline part (b) without the amorphous part (c) can also be used.
Examples of the composition of (A) consisting only of the crystalline part include the same as the crystalline part (b) and a crystalline vinyl resin.
As a crystalline vinyl resin, what has a vinyl monomer (m) which has a crystalline group, and the vinyl monomer (n) which does not have a crystalline group as a structural unit if necessary is preferable.
ビニルモノマー(m)としては、アルキル基の炭素数が12〜50の直鎖アルキル(メタ)アクリレート(m1)(炭素数12〜50の直鎖アルキル基が結晶性基である)、および前記結晶性部(b)の単位を有するビニルモノマー(m2)等が挙げられる。
結晶性ビニル樹脂としては、ビニルモノマー(m)として、アルキル基の炭素数が12〜50(好ましくは16〜30)の直鎖アルキル(メタ)アクリレート(m1)を含有するものがさらに好ましい。
(m1)としては、各アルキル基がいずれも直鎖状の、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート、およびベヘニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
なお、本発明において、アルキル(メタ)アクリレートとは、アルキルアクリレートおよび/またはアルキルメタアクリレートを意味し、以下同様の記載法を用いる。
Examples of the vinyl monomer (m) include linear alkyl (meth) acrylate (m1) having 12 to 50 carbon atoms in the alkyl group (the linear alkyl group having 12 to 50 carbon atoms is a crystalline group), and the crystal And vinyl monomer (m2) having a unit of the sex part (b).
As a crystalline vinyl resin, what contains linear alkyl (meth) acrylate (m1) whose carbon number of an alkyl group is 12-50 (preferably 16-30) as a vinyl monomer (m) is further more preferable.
Examples of (m1) include linear lauryl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, eicosyl (meth) acrylate, and behenyl (meth) acrylate, each of which is linear. It is done.
In the present invention, alkyl (meth) acrylate means alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate, and the same description method is used hereinafter.
結晶性部(b)の単位を有するビニルモノマー(m2)において、結晶性部(b)の単位をビニルモノマーに導入する方法は、それぞれの末端官能基の反応性を考慮して、結合剤(カップリング剤)を使用するかしないかを選択し、また使用する場合は、末端官能基にあった結合剤を選択し、結晶性部(b)とビニルモノマーを結合させ、結晶性部(b)の単位を有するビニルモノマー(m2)とすることができる。 In the vinyl monomer (m2) having a unit of the crystalline part (b), the method of introducing the unit of the crystalline part (b) into the vinyl monomer takes into account the reactivity of each terminal functional group, and the binder ( (Coupling agent) is used or not, and when it is used, the binder suitable for the terminal functional group is selected, and the crystalline part (b) is bonded to the vinyl monomer, and the crystalline part (b ) Units of vinyl monomer (m2).
結晶性部(b)の単位を有するビニルモノマー(m2)の作成時に結合剤を使わない場合、必要により加熱減圧しつつ、結晶性部(b)の末端官能基とビニルモノマーの末端官能基の反応を進める。特に末端の官能基がカルボキシル基と水酸基との反応や、カルボキシル基とアミノ基との反応の場合、片方の樹脂の酸価が高く、もう一方の樹脂の水酸基価やアミン価が高い場合、反応がスムーズに進行する。反応温度は180℃〜230℃で行うのが好ましい。 When a binder is not used when producing the vinyl monomer (m2) having the unit of the crystalline part (b), the terminal functional group of the crystalline part (b) and the terminal functional group of the vinyl monomer are heated and decompressed as necessary. Advance the reaction. Especially when the terminal functional group is a reaction between a carboxyl group and a hydroxyl group, or a reaction between a carboxyl group and an amino group, if the acid value of one resin is high and the hydroxyl value or amine value of the other resin is high, Progresses smoothly. The reaction temperature is preferably 180 ° C to 230 ° C.
結合剤を使う場合は、末端の官能基の種類に合わせて、種々の結合剤が使用できる。
結合剤の具体例、および結合剤を用いたビニルモノマー(m2)の作製法としては、前記のブロックポリマーの製法と同様の方法が挙げられる。
When using a binder, various binders can be used according to the kind of the functional group at the terminal.
Specific examples of the binder and a method for producing the vinyl monomer (m2) using the binder include the same methods as those for producing the block polymer.
結晶性基を有しないビニルモノマー(n)としては、特に限定されず、結晶性基を有するビニルモノマー(m)以外のビニル樹脂の製造に通常用いられる分子量が1000以下のビニルモノマー(n1)、および前記非結晶性部(c)の単位を有するビニルモノマー(n2)等が挙げられる。 The vinyl monomer (n) having no crystalline group is not particularly limited, and a vinyl monomer (n1) having a molecular weight of 1000 or less, which is usually used for the production of vinyl resins other than the vinyl monomer (m) having a crystalline group, And a vinyl monomer (n2) having a unit of the non-crystalline part (c).
上記ビニルモノマー(n1)としては、スチレン類、(メタ)アクリルモノマー、カルボキシル基含有ビニルモノマー、他のビニルエステルモノマー、および脂肪族炭化水素系ビニルモノマー等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。 Examples of the vinyl monomer (n1) include styrenes, (meth) acrylic monomers, carboxyl group-containing vinyl monomers, other vinyl ester monomers, and aliphatic hydrocarbon vinyl monomers. Also good.
スチレン類としては、スチレン、アルキル基の炭素数が1〜3のアルキルスチレン〔例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン〕などが挙げられ、好ましくはスチレンである。 Examples of styrenes include styrene and alkyl styrene having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms [for example, α-methyl styrene, p-methyl styrene], and styrene is preferable.
(メタ)アクリルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1〜11のアルキル(メタ)アクリレートおよびアルキル基の炭素数が12〜18の分岐アルキル(メタ)アクリレート〔例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート〕、アルキル基の炭素数1〜11のヒドロキシルアルキル(メタ)アクリレート〔例えば、ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート〕、アルキル基の炭素数が1〜11のアルキルアミノ基含有(メタ)アクリレート〔例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート〕、およびニトリル基含有ビニルモノマー〔例えば、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル〕などが挙げられる。
カルボキシル基含有ビニルモノマーとしては、モノカルボン酸〔炭素数3〜15、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸〕、ジカルボン酸〔炭素数4〜15、例えば、(無水)マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸〕、ジカルボン酸モノエステル〔上記ジカルボン酸のモノアルキル(炭素数1〜18)エステル、例えば、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、イタコン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸モノアルキルエステル〕などが挙げられる。
(Meth) acrylic monomers include alkyl (meth) acrylates having 1 to 11 carbon atoms in the alkyl group and branched alkyl (meth) acrylates having 12 to 18 carbon atoms in the alkyl group [for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (Meth) acrylates, butyl (meth) acrylates, 2-ethylhexyl (meth) acrylates], alkyl groups having 1 to 11 carbon atoms hydroxylalkyl (meth) acrylates [for example, hydroxylethyl (meth) acrylates], alkyl group carbons Alkylamino group-containing (meth) acrylates having a number of 1 to 11 [for example, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate], and nitrile group-containing vinyl monomers [for example, acrylonitrile, methacrylonitrile And the like.
Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include monocarboxylic acids [having 3 to 15 carbon atoms such as (meth) acrylic acid, crotonic acid and cinnamic acid], dicarboxylic acids [having 4 to 15 carbon atoms such as (anhydrous) maleic acid, Fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid], dicarboxylic acid monoester [monoalkyl (carbon number 1 to 18) ester of the above dicarboxylic acid, for example, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, itaconic acid monoalkyl ester, Citraconic acid monoalkyl ester] and the like.
他のビニルエステルモノマーとしては、脂肪族ビニルエステル〔炭素数4〜15、たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、イソプロペニルアセテート〕、不飽和カルボン酸多価(2〜3価またはそれ以上)アルコールエステル〔炭素数8〜50、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート〕、芳香族ビニルエステル〔炭素数9〜15、例えば、メチル−4−ビニルベンゾエート〕などが挙げられる。
脂肪族炭化水素系ビニルモノマーとしてはオレフィン〔炭素数2〜10、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、オクテン〕、ジエン(炭素数4〜10、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,6−ヘキサジエン〕などが挙げられる。
これら(b1)の中で好ましくは、(メタ)アクリルモノマー、およびカルボキシル基含有ビニルモノマーである。
Other vinyl ester monomers include aliphatic vinyl esters [4 to 15 carbon atoms, such as vinyl acetate, vinyl propionate, isopropenyl acetate], unsaturated carboxylic acid polyvalent (2 to 3 or more) alcohol esters [ C8-50, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,6 hexanediol diacrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate], aromatic vinyl ester [carbon number 9 to 15, for example, methyl-4-vinylbenzoate] and the like.
Aliphatic hydrocarbon vinyl monomers include olefins [2-10 carbon atoms such as ethylene, propylene, butene, octene], dienes (4-10 carbon atoms such as butadiene, isoprene, 1,6-hexadiene) and the like. Can be mentioned.
Among these (b1), (meth) acrylic monomers and carboxyl group-containing vinyl monomers are preferable.
非結晶性部(c)の単位を有するビニルモノマー(n2)において、非結晶性部(c)の単位をビニルモノマーに導入する方法は、前記の結晶性部(b)の単位を有するビニルモノマー(m2)において、結晶性部(b)の単位をビニルモノマーに導入する方法と同様の方法が挙げられる。 In the vinyl monomer (n2) having the unit of the non-crystalline part (c), the method of introducing the unit of the non-crystalline part (c) into the vinyl monomer is the same as the vinyl monomer having the unit of the crystalline part (b). In (m2), a method similar to the method of introducing the unit of the crystalline part (b) into the vinyl monomer can be mentioned.
結晶性基を有するビニルモノマー(m)の構成単位が結晶性ビニル樹脂中に占める割合は、30%以上が好ましく、さらに好ましくは35〜95%であり、特に好ましくは40〜90%である。この範囲であるとビニル樹脂の結晶性が損なわれず、耐熱保存安定性が良好である。また(m)中のアルキル基の炭素数が12〜50の直鎖アルキル(メタ)アクリレート(m1)の含有量は、好ましくは30〜100%、さらに好ましくは40〜80%である。
これらのビニルモノマーを公知の方法で重合させることにより、結晶性ビニル樹脂が得られる。
The proportion of the structural unit of the vinyl monomer (m) having a crystalline group in the crystalline vinyl resin is preferably 30% or more, more preferably 35 to 95%, and particularly preferably 40 to 90%. Within this range, the crystallinity of the vinyl resin is not impaired and the heat resistant storage stability is good. Further, the content of the linear alkyl (meth) acrylate (m1) having 12 to 50 carbon atoms in the alkyl group in (m) is preferably 30 to 100%, more preferably 40 to 80%.
A crystalline vinyl resin is obtained by polymerizing these vinyl monomers by a known method.
本発明の樹脂粒子(I)は、結晶性樹脂(A)と共に非結晶性樹脂(B)を含有する。
尚、樹脂が結晶性樹脂と非結晶性樹脂のブロック体であっても、示差走査熱量測定(DSC)において、(軟化温度/融解熱の最大ピーク温度)が1.55より大きい場合は、これも非結晶性樹脂とする。
The resin particles (I) of the present invention contain an amorphous resin (B) together with a crystalline resin (A).
Even if the resin is a block body of crystalline resin and non-crystalline resin, if (softening temperature / maximum peak temperature of heat of fusion) is greater than 1.55 in differential scanning calorimetry (DSC), Is also an amorphous resin.
非結晶性樹脂(B)は、耐熱保存性の観点から、その融解熱の最大ピーク温度(TaB)が35〜100℃の範囲である。(TaB)は、好ましくは40〜85℃、さらに好ましくは45〜80℃である。 From the viewpoint of heat-resistant storage stability, the amorphous resin (B) has a maximum peak temperature (TaB) of melting heat in the range of 35 to 100 ° C. (TaB) is preferably 40 to 85 ° C, more preferably 45 to 80 ° C.
非結晶性樹脂(B)のMwは、好ましくは400〜500万、さらに好ましくは1,000〜500,000である。
非結晶性樹脂(B)の数平均分子量(以下、Mnと記載)およびMwは、用途によって好ましい範囲に適宜調整すればよい。
例えば、樹脂粒子(I)をスラッシュ成形用樹脂、粉体塗料として用いる場合、(B)のMnは、好ましくは2000〜50万、さらに好ましくは4000〜20万であり、MWは、好ましくは4000〜100万、さらに好ましくは8000〜40万である。
液晶ディスプレイ等の電子部品製造用スペーサー、電子測定機の標準粒子として用いる場合、(B)のMnは、好ましくは2万〜1000万、さらに好ましくは4万〜200万であり、MWは、好ましくは4万〜1000万、さらに好ましくは8万〜200万である。る。
電子写真、静電記録、静電印刷などに使用されるトナーとして用いる場合、(B)のMnは、好ましくは1000〜500万、さらに好ましくは2000〜50万であり、MWは、好ましくは2000〜500万、さらに好ましくは4000〜50万である。
The Mw of the amorphous resin (B) is preferably 4 to 5 million, more preferably 1,000 to 500,000.
The number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and Mw of the amorphous resin (B) may be appropriately adjusted within a preferable range depending on the application.
For example, when the resin particle (I) is used as a slush molding resin or powder coating, the Mn of (B) is preferably 2000 to 500,000, more preferably 4000 to 200,000, and the MW is preferably 4000. ˜1 million, more preferably 8000 to 400,000.
When used as a spacer for manufacturing electronic parts such as liquid crystal displays and standard particles for electronic measuring machines, Mn in (B) is preferably 20,000 to 10,000,000, more preferably 40,000 to 2,000,000, and MW is preferably Is 40,000 to 10,000,000, more preferably 80,000 to 2,000,000. The
When used as a toner used in electrophotography, electrostatic recording, electrostatic printing, etc., the Mn of (B) is preferably 1000 to 5 million, more preferably 2000 to 500,000, and the MW is preferably 2000. ˜5 million, more preferably 4,000 to 500,000.
非結晶性樹脂(B)の形成に用いられる樹脂としては、上記非結晶性部(c)と同様、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、ビニル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、その限りではない。
ただし、前記結晶性部(b)の形成に用いられる樹脂が、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂であることが好ましいので、加熱時に相溶することを考慮すると、非結晶性樹脂(B)の形成に用いられる樹脂もポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、およびそれらの複合樹脂であることが好ましい。さらに好ましくはポリエステル樹脂およびポリウレタン樹脂である。
As the resin used for forming the amorphous resin (B), polyester resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyamide resin, polyether resin, vinyl resin, epoxy resin, and the like are the same as the amorphous part (c). But not necessarily.
However, the resin used for forming the crystalline part (b) is preferably a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurea resin, a polyamide resin, or a polyether resin. The resin used for forming the crystalline resin (B) is also preferably a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurea resin, a polyamide resin, a polyether resin, and a composite resin thereof. More preferred are polyester resins and polyurethane resins.
これらの非結晶性樹脂(B)の組成は、前記結晶性部(b)と同様のものが挙げられ、使用するモノマーも、前記ジオール成分、前記ジカルボン酸成分、前記ジイソシアネート成分、前記ジアミン成分、および前記AOが具体例として挙げられ、非結晶性樹脂となるものであれば、いかなる組合せでも構わない。 The composition of these non-crystalline resins (B) is the same as that of the crystalline part (b), and the monomers used are the diol component, the dicarboxylic acid component, the diisocyanate component, the diamine component, The AO is given as a specific example, and any combination may be used as long as it becomes an amorphous resin.
結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)とのSP値(SP値の計算方法はPolymer Engineering and Science,Feburuary,1974,Vol.14,No.2 P.147〜154による)の差ΔSPは、0.2〜2.5[(cal/cm3)1/2、以下同じ。]であることが好ましく、より好ましくは0.4〜2.4、さらに好ましくは0.5〜2.3である。ΔSPが0.2以上の場合、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)とが相溶しにくい。そのため、(A)と(B)との相溶により、樹脂粒子(I)のG’(TaI+20)が1×102[Pa]未満となり、その結果弾性不足により定着悪化が起き、定着温度領域が狭くなる恐れがない。 Difference in SP value between crystalline resin (A) and amorphous resin (B) (SP value calculation method is based on Polymer Engineering and Science, February, 1974, Vol. 14, No. 2 P. 147-154) ΔSP is 0.2 to 2.5 [(cal / cm 3 ) 1/2 , and so on. It is preferable that it is 0.4-2.4, More preferably, it is 0.5-2.3. When ΔSP is 0.2 or more, the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) are hardly compatible. Therefore, due to the compatibility of (A) and (B), G ′ (TaI + 20) of the resin particles (I) becomes less than 1 × 10 2 [Pa], and as a result, fixing deterioration occurs due to insufficient elasticity, and the fixing temperature region There is no fear of narrowing.
本発明の結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する樹脂粒子(I)は、どのような方法で作製されても構わない。樹脂粒子(I)を作製する方法の例として、下記の(1)、(2)などが挙げられるがこれらに限られものではない。
(1) 結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を溶融混練した後に粉砕する方法。
(2) 結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)との混合物(O1)、または(A)と(B)を有機溶剤(u)〔例えば酢酸エチル、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン〕に分散もしくは溶解した有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)を、それらと相溶することのない媒体(例えば水、n−デカン、液体二酸化炭素など)中に分散し、媒体中で(A)と(B)を含有する樹脂粒子(I)を形成させ、得られた樹脂粒子(I)を含む懸濁液から必要により脱有機溶剤し、さらに媒体を取り除く方法。
The resin particles (I) containing the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) of the present invention may be produced by any method. Examples of the method for producing the resin particles (I) include the following (1) and (2), but are not limited thereto.
(1) A method in which the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) are melt-kneaded and then pulverized.
(2) Mixture (O1) of crystalline resin (A) and non-crystalline resin (B), or (A) and (B) with organic solvent (u) [eg ethyl acetate, methyl ethyl ketone (MEK), acetone] The organic solvent (u) solution or dispersion liquid (O2) dispersed or dissolved in is dispersed in a medium that is not compatible with them (for example, water, n-decane, liquid carbon dioxide, etc.), and in the medium ( A method of forming resin particles (I) containing A) and (B), removing a solvent from the suspension containing the obtained resin particles (I) as necessary, and further removing the medium.
樹脂(A)と(B)の有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)に用いる有機溶剤(u)は、(A)と(B)を常温もしくは加熱下で溶解しうる溶剤であればとくに限定されず、具体的には、上記および後述のものが例示される。好ましいものは(A)と(B)の種類によって異なるが、(A)および(B)とのSP値差が3以下であるのが好適である。また、樹脂粒子(I)の粒径均一性の観点からは、(A)および(B)を溶解させるが、樹脂(d)を含有する粒子(D)を溶解・膨潤させにくい溶剤が好ましい。 The organic solvent (u) used in the organic solvent (u) solution or dispersion (O2) of the resins (A) and (B) is a solvent that can dissolve (A) and (B) at room temperature or under heating. It does not specifically limit, Specifically, the thing of the above-mentioned and below-mentioned is illustrated. What is preferable differs depending on the types of (A) and (B), but the SP value difference between (A) and (B) is preferably 3 or less. Further, from the viewpoint of particle size uniformity of the resin particles (I), a solvent that dissolves (A) and (B) but hardly dissolves and swells the particles (D) containing the resin (d) is preferable.
結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)との有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)を作製する際、有機溶剤(u)に溶解または分散した結晶性樹脂(A)と有機溶剤(u)に分散した非結晶性樹脂(B)とを混合することが好ましい。 When preparing an organic solvent (u) solution or dispersion (O2) of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B), the crystalline resin (A) dissolved or dispersed in the organic solvent (u) It is preferable to mix the amorphous resin (B) dispersed in the organic solvent (u).
本発明の樹脂粒子(I)は、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)とが相分離していることが好ましく、そのため上記の樹脂粒子の作製法(1)、(2)を比較すると、作製法(2)の方が好ましい。また作製法(2)に用いる結晶性樹脂(A)は、有機溶剤(u)中に樹脂粒子として分散されることがより好ましい。さらに、(A)と(B)の混合物(O1)またはその有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)を媒体中に分散させる際に、媒体中に以下に述べる粒子(D)をあらかじめ分散させておくことが好ましい。発生する(A)と(B)を含有する油滴に粒子(D)が吸着し、油滴が安定しやすくなるためである。 In the resin particles (I) of the present invention, it is preferable that the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B) are phase-separated. Therefore, the above-described methods (1) and (2) for producing the resin particles Is preferable to the manufacturing method (2). The crystalline resin (A) used in the production method (2) is more preferably dispersed as resin particles in the organic solvent (u). Further, when the mixture (O1) of (A) and (B) or the organic solvent (u) solution or dispersion (O2) thereof is dispersed in the medium, the particles (D) described below are dispersed in the medium in advance. It is preferable to keep it. This is because the particles (D) are adsorbed to the generated oil droplets containing (A) and (B), and the oil droplets are easily stabilized.
上記の粒子化方法で使用される粒子(D)は、上記媒体中で微粒子を形成することができ、また結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する油滴に吸着するものであれば素材は何でも構わない。そのため粒子(D)を形成する材料は、樹脂(d)であっても無機化合物(e)であっても構わない。
粒子(D)を形成する樹脂(d)としてはビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ケイ素樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、アニリン樹脂、アイオノマー樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。(d)としては、上記樹脂の2種以上を併用しても差し支えない。
無機化合物(e)としては、シリカ、アルミナ、チタニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸三カルシウム等が挙げられ、2種以上併用してもよい。
これらうち好ましいのは、低温定着性の観点から、炭酸カルシウム、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、エポキシ樹脂およびそれらの併用である。より好ましくは、最終的に粒子(D)を簡単に取り除くことができる炭酸カルシウム、または結晶性樹脂に設計しやすいビニル樹脂、ポリエステル樹脂、およびポリウレタン樹脂である。とくに好ましくは、付加共重合させるモノマーの一部として、結晶性であるアルキル基の炭素数が8〜50であるアルキル(メタ)アクリレート(d1)およびパーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)の構成単位を導入しやすいという観点からビニル樹脂である。ビニル樹脂以外の樹脂として、(d1)および(d2)の構成単位を持つビニル重合体を合成した後、エステル化、アミド化などの反応を行うか、または、ビニル基を有する上記のビニル樹脂以外の樹脂と(d1)および(d2)とを共重合して得られる樹脂もとくに好ましい。
The particles (D) used in the above-mentioned particle formation method can form fine particles in the medium, and are adsorbed to oil droplets containing the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). Any material can be used. Therefore, the material forming the particles (D) may be the resin (d) or the inorganic compound (e).
The resin (d) forming the particles (D) includes vinyl resin, polyurethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, silicon resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, aniline resin, ionomer resin, polycarbonate. Examples thereof include resins. As (d), two or more of the above resins may be used in combination.
Examples of the inorganic compound (e) include silica, alumina, titania, calcium carbonate, magnesium carbonate, tricalcium phosphate and the like, and two or more kinds may be used in combination.
Of these, calcium carbonate, vinyl resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyurea resin, epoxy resin, and combinations thereof are preferable from the viewpoint of low-temperature fixability. More preferred are calcium carbonate from which particles (D) can be easily removed finally, or vinyl resin, polyester resin, and polyurethane resin that can be easily designed as a crystalline resin. Particularly preferably, the alkyl (meth) acrylate (d1) and the perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate (d2) in which the crystalline alkyl group has 8 to 50 carbon atoms are used as part of the monomer for addition copolymerization. ) Is a vinyl resin from the viewpoint of easy introduction of structural units. As a resin other than the vinyl resin, after synthesizing a vinyl polymer having the structural units (d1) and (d2), a reaction such as esterification or amidation is performed, or other than the above vinyl resins having a vinyl group A resin obtained by copolymerizing (d1) and (d2) with the above resin is also particularly preferred.
以下、好ましい樹脂である、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂およびエポキシ樹脂につき、詳細に説明する。 Hereinafter, vinyl resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyurea resin and epoxy resin, which are preferable resins, will be described in detail.
ビニル樹脂は、ビニルモノマーを単独重合または共重合したポリマーであり、構成単位にアルキル基の炭素数が8〜50であるアルキル(メタ)アクリレート(d1)およびパーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)のビニルモノマーが構成単位に導入されたものが特に好ましい。 The vinyl resin is a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization of a vinyl monomer, and an alkyl (meth) acrylate (d1) and a perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate having an alkyl group having 8 to 50 carbon atoms as a structural unit. Those in which the vinyl monomer (d2) is introduced into the structural unit are particularly preferred.
アルキル基の炭素数が8〜50であるアルキル(メタ)アクリレート(d1)およびパーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)を含有することで高温高湿下での保存安定性が向上する。さらに(d2)を含有することで本発明の樹脂粒子(I)の高温高湿下での帯電性も向上する。
アルキル基の炭素数が8〜50であるアルキル(メタ)アクリレート(d1)は、直鎖もしくは分岐のアルキル基を有するものであり、具体例としては、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、および2−デシルテトラデシル(メタ)アクリレートが挙げられる。(d1)は単独のモノマーでも複数のモノマーを併用してもよい。これらの中で好ましいのは、ベヘニル(メタ)アクリレートである。
樹脂(d)中の(d1)の構成単位の含有量は、好ましくは30〜90%、さらに好ましくは40〜90%、とくに好ましくは50〜80%である。(d1)の含有量が30%以上であると、結晶性を持ちシャープメルトすることで保存安定性と低温定着性に優れ、高温高湿下での帯電特性が良好となる。
パーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)としては、パーフルオロアルキル基の炭素数が2〜12の偶数が好ましく、(アルキル)の部分の炭素数は0〜3が好ましい。具体例としては、(2−パーフルオロエチル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレートである。
これらのうちさらに好ましいものは、帯電性の観点から、(2−パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレートである。
パーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)は単独のモノマーでも複数のモノマーを併用してもよい。
なお、上記(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよび/またはメタアクリレートを意味し、以下同様の記載方法を用いる。
樹脂(d)中の(d2)の構成単位の含有量は、好ましくは0.001〜30%、さらに好ましくは0.05〜25%、特に好ましくは0.01〜10%、最も好ましくは0.1〜5%である。(d2)の含有量が0.001%以上であると、高温高湿下での帯電特性が良好である。
(d)中の(d1)と(d2)以外のモノマーの構成単位の含有量は、好ましくは50%以下、特に好ましくは30%以下である。(d1)と(d2)以外のモノマーの含有量が50%以下であると結晶化度が上がり、保存安定性が良好となる。
Storage stability under high temperature and high humidity is improved by containing alkyl (meth) acrylate (d1) and perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate (d2) having 8 to 50 carbon atoms in the alkyl group. . Further, by containing (d2), the chargeability of the resin particles (I) of the present invention under high temperature and high humidity is also improved.
The alkyl (meth) acrylate (d1) having 8 to 50 carbon atoms in the alkyl group has a linear or branched alkyl group. Specific examples thereof include 2-ethylhexyl (meth) acrylate and dodecyl (meta). ) Acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, eicosyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate, and 2-decyltetradecyl (meth) acrylate. (D1) may be a single monomer or a combination of plural monomers. Among these, behenyl (meth) acrylate is preferable.
The content of the structural unit (d1) in the resin (d) is preferably 30 to 90%, more preferably 40 to 90%, and particularly preferably 50 to 80%. When the content of (d1) is 30% or more, it has crystallinity and is sharp-melted, so that it has excellent storage stability and low-temperature fixability, and good charging characteristics under high temperature and high humidity.
The perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate (d2) is preferably an even number having 2 to 12 carbon atoms in the perfluoroalkyl group, and preferably 0 to 3 carbon atoms in the (alkyl) portion. Specific examples include (2-perfluoroethyl) ethyl (meth) acrylate, (2-perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, (2-perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, (2-perfluorooctyl). ) Ethyl (meth) acrylate, (2-perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, and (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate.
Of these, more preferred are (2-perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, (2-perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, and (2-perfluorodecyl) ethyl (meta) from the viewpoint of chargeability. ) Acrylate, (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate.
Perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate (d2) may be a single monomer or a combination of a plurality of monomers.
In addition, the said (meth) acrylate means an acrylate and / or a methacrylate, and the same description method is used hereafter.
The content of the structural unit (d2) in the resin (d) is preferably 0.001 to 30%, more preferably 0.05 to 25%, particularly preferably 0.01 to 10%, and most preferably 0. .1-5%. When the content of (d2) is 0.001% or more, the charging characteristics under high temperature and high humidity are good.
The content of constituent units of monomers other than (d1) and (d2) in (d) is preferably 50% or less, particularly preferably 30% or less. When the content of the monomer other than (d1) and (d2) is 50% or less, the crystallinity is increased and the storage stability is improved.
アルキル基の炭素数が8〜50であるアルキル(メタ)アクリレート(d1)およびパーフルオロアルキル(アルキル)(メタ)アクリレート(d2)以外のビニルモノマーとしては、下記(1)〜(10)が挙げられる。 Examples of vinyl monomers other than alkyl (meth) acrylate (d1) and perfluoroalkyl (alkyl) (meth) acrylate (d2) having an alkyl group with 8 to 50 carbon atoms include the following (1) to (10). It is done.
(1)ビニル炭化水素:
(1−1)脂肪族ビニル炭化水素:アルケン類、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン、前記以外のα−オレフィン等;アルカジエン類、例えばブタジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、1,7−オクタジエン。
(1−2)脂環式ビニル炭化水素:モノ−もしくはジ−シクロアルケンおよびアルカジエン類、例えばシクロヘキセン、(ジ)シクロペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテン等;テルペン類、例えばピネン、リモネン、インデン等。
(1−3)芳香族ビニル炭化水素:スチレンおよびそのハイドロカルビル(アルキル、シクロアルキル、アラルキルおよび/またはアルケニル)置換体、例えばα−メチルスチレン、ビニルトルエン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼン等;およびビニルナフタレン。
(1) Vinyl hydrocarbon:
(1-1) Aliphatic vinyl hydrocarbons: alkenes such as ethylene, propylene, butene, isobutylene, pentene, heptene, diisobutylene, octene, dodecene, octadecene, other α-olefins, etc .; alkadienes such as butadiene, Isoprene, 1,4-pentadiene, 1,6-hexadiene, 1,7-octadiene.
(1-2) Alicyclic vinyl hydrocarbons: mono- or di-cycloalkenes and alkadienes such as cyclohexene, (di) cyclopentadiene, vinylcyclohexene, ethylidenebicycloheptene, etc .; terpenes such as pinene, limonene, indene etc.
(1-3) Aromatic vinyl hydrocarbons: Styrene and its hydrocarbyl (alkyl, cycloalkyl, aralkyl and / or alkenyl) substitution products such as α-methylstyrene, vinyltoluene, 2,4-dimethylstyrene, ethylstyrene , Isopropyl styrene, butyl styrene, phenyl styrene, cyclohexyl styrene, benzyl styrene, crotyl benzene, divinyl benzene, divinyl toluene, divinyl xylene, trivinyl benzene, etc .; and vinyl naphthalene.
(2)カルボキシル基含有ビニルモノマーおよびその金属塩:
炭素数3〜30の不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸ならびにその無水物およびそのモノアルキル(炭素数1〜8)エステル、例えば(メタ)アクリル酸、(無水)マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエーテル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル、桂皮酸等のカルボキシル基含有ビニルモノマー。なお、上記(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸および/またはメタアクリル酸を意味し、以下同様の記載法を用いる。モノアルキル(炭素数1〜24)エステルを構成するアルキル鎖は、耐加水分解性を向上させるという観点から、分岐構造を持つものが好ましい。
(2) Carboxyl group-containing vinyl monomer and metal salt thereof:
C3-C30 unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids and anhydrides thereof and monoalkyl (carbon number 1-8) esters thereof such as (meth) acrylic acid, (anhydrous) maleic acid, monoalkyl maleate Carboxylic group-containing vinyl monomers such as esters, fumaric acid, fumaric acid monoalkyl esters, crotonic acid, itaconic acid, itaconic acid monoalkyl esters, itaconic acid glycol monoether, citraconic acid, citraconic acid monoalkyl esters, and cinnamic acid. In addition, the said (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid, and the same description method is used hereafter. From the viewpoint of improving hydrolysis resistance, the alkyl chain constituting the monoalkyl (C1-24) ester preferably has a branched structure.
(3)スルホン基含有ビニルモノマー、ビニル系硫酸モノエステル化物およびこれらの塩:
炭素数2〜14のアルケンスルホン酸、例えばビニルスルホン酸、(メタ)アリルスルホン酸、メチルビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸;およびその炭素数2〜24のアルキル誘導体、例えばα−メチルスチレンスルホン酸等;スルホ(ヒドロキシ)アルキル−(メタ)アクリレートもしくは(メタ)アクリルアミド、例えば、スルホプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロキシプロピルスルホン酸、2−(メタ)アクリロイルアミノ−2,2−ジメチルエタンスルホン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエタンスルホン酸、3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、アルキル(炭素数3〜18)アリルスルホコハク酸、ポリ(n=2〜30)オキシアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレン:単独、ランダム、ブロックでもよい)モノ(メタ)アクリレートの硫酸エステル[ポリ(n=5〜15)オキシプロピレンモノメタクリレート硫酸エステル等]、ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル硫酸エステル、および下記一般式(1−1)〜(1−3)で示される硫酸エステルもしくはスルホン酸基含有モノマー;ならびそれらの塩等。
(3) Sulfonic group-containing vinyl monomer, vinyl sulfate monoester product and salts thereof:
Alkene sulfonic acids having 2 to 14 carbon atoms such as vinyl sulfonic acid, (meth) allyl sulfonic acid, methyl vinyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid; and alkyl derivatives having 2 to 24 carbon atoms such as α-methyl styrene sulfonic acid Sulfo (hydroxy) alkyl- (meth) acrylate or (meth) acrylamide, such as sulfopropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloxypropylsulfonic acid, 2- (meth) acryloylamino-2 , 2-dimethylethanesulfonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethanesulfonic acid, 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 3- (Meth) acrylamide-2- Droxypropanesulfonic acid, alkyl (C3-18) allylsulfosuccinic acid, poly (n = 2-30) oxyalkylene (ethylene, propylene, butylene: single, random or block) sulfuric acid of mono (meth) acrylate Esters [poly (n = 5-15) oxypropylene monomethacrylate sulfate, etc.], polyoxyethylene polycyclic phenyl ether sulfate, and sulfates represented by the following general formulas (1-1) to (1-3) or Sulfonic acid group-containing monomers; and salts thereof.
O−(AO)nSO3H
|
CH2=CHCH2−OCH2CHCH2O−Ar−R (1−1)
CH=CH−CH3
|
R−Ar−O−(AO)nSO3H (1−2)
CH2COOR’
|
HO3SCHCOOCH2CH(OH)CH2OCH2CH=CH2 (1−3)
(式中、Rは炭素数1〜15のアルキル基、Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nが複数の場合同一でも異なっていてもよく、異なる場合はランダムでもブロックでもよい。Arはベンゼン環を示し、nは1〜50の整数を示し、R’はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜15のアルキル基を示す。)
O- (AO) nSO 3 H
|
CH 2 = CHCH 2 -OCH 2 CHCH 2 O-Ar-R (1-1)
CH = CH-CH 3
|
R-Ar-O- (AO) nSO 3 H (1-2)
CH 2 COOR '
|
HO 3 SCHCOOCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CH═CH 2 (1-3)
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, A represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and when n is plural, they may be the same or different, and when they are different, they may be random or block. Ar represents a benzene ring, n represents an integer of 1 to 50, and R ′ represents an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom.
(4)燐酸基含有ビニルモノマーおよびその塩:
(メタ)アクリロイルオキシアルキル(C1〜C24)燐酸モノエステル、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリロイルホスフェート、フェニル−2−アクリロイロキシエチルホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシアルキル(炭素数1〜24)ホスホン酸類、例えば2−アクリロイルオキシエチルホスホン酸。
(4) Phosphoric acid group-containing vinyl monomer and salt thereof:
(Meth) acryloyloxyalkyl (C1 to C24) phosphoric acid monoester, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acryloyl phosphate, phenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, (meth) acryloyloxyalkyl (C1-24) Phosphonic acids, such as 2-acryloyloxyethylphosphonic acid.
なお、上記(2)〜(4)の塩としては、金属塩、アンモニウム塩、およびアミン塩(4級アンモニウム塩を含む)が挙げられる。金属塩を形成する金属としては、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Zn、Ba、Zr、Ca、Mg、Na、およびK等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属塩、およびアミン塩であり、さらに好ましくは、ナトリウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、炭素数3〜20の3級モノアミンおよびジアミンの塩である。 Examples of the salts (2) to (4) include metal salts, ammonium salts, and amine salts (including quaternary ammonium salts). Examples of the metal forming the metal salt include Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Zn, Ba, Zr, Ca, Mg, Na, and K. Alkali metal salts and amine salts are preferred, and sodium salts, magnesium salts, aluminum salts, tertiary monoamines having 3 to 20 carbon atoms, and diamine salts are more preferred.
(5)ヒドロキシル基含有ビニルモノマー:
ヒドロキシスチレン、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アリルアルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコール、1−ブテン−3−オール、2−ブテン−1−オール、2−ブテン−1,4−ジオール、プロパルギルアルコール、2−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、庶糖アリルエーテル等
(5) Hydroxyl group-containing vinyl monomer:
Hydroxystyrene, N-methylol (meth) acrylamide, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, (meth) allyl alcohol, crotyl alcohol, isocrotyl alcohol, 1- Buten-3-ol, 2-buten-1-ol, 2-butene-1,4-diol, propargyl alcohol, 2-hydroxyethylpropenyl ether, sucrose allyl ether, etc.
(6)含窒素ビニルモノマー:
(6−1)アミノ基含有ビニルモノマー:アミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、N−アミノエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アリルアミン、モルホリノエチル(メタ)アクリレート、4ービニルピリジン、2ービニルピリジン、クロチルアミン、N,N−ジメチルアミノスチレン、メチルα−アセトアミノアクリレート、ビニルイミダゾール、N−ビニルピロール、N−ビニルチオピロリドン、N−アリールフェニレンジアミン、アミノカルバゾール、アミノチアゾール、アミノインドール、アミノピロール、アミノイミダゾール、アミノメルカプトチアゾール、これらの塩等
(6−2)アミド基含有ビニルモノマー:(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチレン−ビス(メタ)アクリルアミド、桂皮酸アミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジベンジルアクリルアミド、メタクリルホルムアミド、N−メチルN−ビニルアセトアミド、N−ビニルピロリドン等
(6−3)ニトリル基含有ビニルモノマー:(メタ)アクリロニトリル、シアノスチレン、シアノアクリレート等
(6−4)4級アンモニウムカチオン基含有ビニルモノマー:ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジアリルアミン等の3級アミン基含有ビニルモノマーの4級化物(メチルクロライド、ジメチル硫酸、ベンジルクロライド、ジメチルカーボネート等の4級化剤を用いて4級化したもの)
(6−5)ニトロ基含有ビニルモノマー:ニトロスチレン等
(6) Nitrogen-containing vinyl monomer:
(6-1) Amino group-containing vinyl monomer: aminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, N-aminoethyl (meth) acrylamide, ( (Meth) allylamine, morpholinoethyl (meth) acrylate, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, crotylamine, N, N-dimethylaminostyrene, methyl α-acetaminoacrylate, vinylimidazole, N-vinylpyrrole, N-vinylthiopyrrolidone, N- Arylphenylenediamine, aminocarbazole, aminothiazole, aminoindole, aminopyrrole, aminoimidazole, aminomercaptothiazole, salts thereof, etc. (6-2) Amido group Vinyl monomers: (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-butyl acrylamide, diacetone acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N′-methylene-bis (meth) acrylamide, cinnamic amide N, N-dimethylacrylamide, N, N-dibenzylacrylamide, methacrylformamide, N-methyl N-vinylacetamide, N-vinylpyrrolidone, etc. (6-3) Nitrile group-containing vinyl monomers: (meth) acrylonitrile, cyanostyrene (6-4) Quaternary ammonium cation group-containing vinyl monomers: dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, die Ruaminoechiru (meth) acrylamide, quaternized product of tertiary amine group-containing vinyl monomers such as diallylamine (methyl chloride, dimethyl sulfate, benzyl chloride, which was quaternized with quaternizing agents such as dimethyl carbonate)
(6-5) Nitro group-containing vinyl monomer: nitrostyrene, etc.
(7)エポキシ基含有ビニルモノマー:
グルシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、p−ビニルフェニルフェニルオキサイド等
(7) Epoxy group-containing vinyl monomer:
Glucidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, p-vinylphenylphenyl oxide, etc.
(8)(d2)以外のハロゲン元素含有ビニルモノマー:
塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、アリルクロライド、クロルスチレン、ブロムスチレン、ジクロルスチレン、クロロメチルスチレン、テトラフルオロスチレン、クロロプレン等
(8) Halogen element-containing vinyl monomers other than (d2):
Vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride, allyl chloride, chlorostyrene, bromostyrene, dichlorostyrene, chloromethylstyrene, tetrafluorostyrene, chloroprene, etc.
(9)(d1)および(d2)以外のビニルエステル、ビニル(チオ)エーテル、ビニルケトン、ビニルスルホン類:
(9−1)ビニルエステル、例えばビニルブチレート、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、ビニルメタクリレート、メチル4−ビニルベンゾエート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ビニルメトキシアセテート、ビニルベンゾエート、エチルα−エトキシアクリレート、炭素数1〜7のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等]、ジアルキルフマレート(フマル酸ジアルキルエステル)(2個のアルキル基は、炭素数2〜8の、直鎖、分枝鎖もしくは脂環式の基である)、ジアルキルマレエート(マレイン酸ジアルキルエステル)(2個のアルキル基は、炭素数2〜8の、直鎖、分枝鎖もしくは脂環式の基である)、ポリ(メタ)アリロキシアルカン類[ジアリロキシエタン、トリアリロキシエタン、テトラアリロキシエタン、テトラアリロキシプロパン、テトラアリロキシブタン、テトラメタアリロキシエタン等]等、ポリアルキレングリコール鎖を有するビニルモノマー[ポリエチレングリコール〔Mn300〕モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(Mn500)モノアクリレート、メチルアルコールEO10モル付加物(メタ)アクリレート、ラウリルアルコールEO30モル付加物(メタ)アクリレート等]、ポリ(メタ)アクリレート類[多価アルコール類のポリ(メタ)アクリレート:エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等]等。
(9−2)ビニル(チオ)エーテル、例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルブチルエーテル、ビニル2−エチルヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニル2−メトキシエチルエーテル、メトキシブタジエン、ビニル2−ブトキシエチルエーテル、3,4−ジヒドロ1,2−ピラン、2−ブトキシ−2’−ビニロキシジエチルエーテル、ビニル2−エチルメルカプトエチルエーテル、アセトキシスチレン、フェノキシスチレン等
(9−3)ビニルケトン、例えばビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルフェニルケトン;
ビニルスルホン、例えばジビニルサルファイド、p−ビニルジフェニルサルファイド、ビニルエチルサルファイド、ビニルエチルスルフォン、ジビニルスルフォン、ジビニルスルフォキサイド等
(9) Vinyl esters other than (d1) and (d2), vinyl (thio) ethers, vinyl ketones, vinyl sulfones:
(9-1) Vinyl esters such as vinyl butyrate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, diallyl phthalate, diallyl adipate, isopropenyl acetate, vinyl methacrylate, methyl 4-vinyl benzoate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl ( (Meth) acrylate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, ethyl α-ethoxy acrylate, alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate Butyl (meth) acrylate, etc.], dialkyl fumarate (dialkyl fumarate ester) (two alkyl groups are linear, branched or alicyclic having 2 to 8 carbon atoms) Dialkyl maleate (dialkyl maleate) (two alkyl groups are linear, branched or alicyclic groups having 2 to 8 carbon atoms), poly (meth) Vinyl monomers having a polyalkylene glycol chain such as aryloxyalkanes [diallyloxyethane, triaryloxyethane, tetraallyloxyethane, tetraallyloxypropane, tetraallyloxybutane, tetrametaallyloxyethane, etc.] [polyethylene glycol [Mn300] mono (meth) acrylate, polypropylene glycol (Mn500) monoacrylate, methyl alcohol EO 10 mol adduct (meth) acrylate, lauryl alcohol EO 30 mol adduct (meth) acrylate, etc.], poly (meth) acrylates [multivalent Alcohol poly ( Meth) acrylate: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, etc.].
(9-2) Vinyl (thio) ether, such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl propyl ether, vinyl butyl ether, vinyl 2-ethylhexyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl 2-methoxyethyl ether, methoxy butadiene, vinyl 2- Butoxyethyl ether, 3,4-dihydro1,2-pyran, 2-butoxy-2′-vinyloxydiethyl ether, vinyl 2-ethylmercaptoethyl ether, acetoxystyrene, phenoxystyrene, etc. (9-3) Vinyl ketones such as vinyl Methyl ketone, vinyl ethyl ketone, vinyl phenyl ketone;
Vinyl sulfone, such as divinyl sulfide, p-vinyl diphenyl sulfide, vinyl ethyl sulfide, vinyl ethyl sulfone, divinyl sulfone, divinyl sulfoxide, etc.
(10)その他のビニルモノマー:
イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート等
(10) Other vinyl monomers:
Isocyanatoethyl (meth) acrylate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, etc.
ビニルモノマーの共重合体としては、上記(1)〜(10)または(d1)、(d2)の任意のモノマー同士を、2元またはそれ以上の個数で、任意の割合で共重合したポリマーが挙げられるが、例えば(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−アクリロニトリル共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−無水マレイン酸共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−(メタ)アクリル酸共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−スチレン共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、(2−パーフルオロドデシル)エチル(メタ)アクリレート−ベヘニル(メタ)アクリレート−アクリロニトリル−無水マレイン−(メタ)アクリル酸エステル酸−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体等が挙げられる。 As the copolymer of the vinyl monomer, a polymer obtained by copolymerizing any one of the above (1) to (10) or (d1) and (d2) with a binary number or more in an arbitrary ratio. Examples include (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate copolymer, (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate- (meth) acrylic. Acid ester copolymer, (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, (2-perfluorododecyl) ethyl ( (Meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate-acrylonitrile copolymer, (2-perfluoro Dodecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate-maleic anhydride copolymer, (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid copolymer, 2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate-styrene copolymer, (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer Examples thereof include (2-perfluorododecyl) ethyl (meth) acrylate-behenyl (meth) acrylate-acrylonitrile-maleic anhydride- (meth) acrylic acid ester acid-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer.
なお、たとえば本発明の樹脂粒子(I)が水系媒体中で作製される場合、樹脂(d)が水中で粒子(D)を形成する必要があり、水に完全に溶解していないことが必要である。そのため、ビニル樹脂が共重合体である場合には、ビニル樹脂を構成する疎水性モノマーと親水性モノマーの比率は、選ばれるモノマーの種類によるが、一般に疎水性モノマーが10%以上であることが好ましく、20%以上であることがより好ましい。疎水性モノマーの比率が、10%未満になるとビニル樹脂が水溶性になり、(I)の粒径均一性が損なわれる場合がある。ここで、親水性モノマーとは水に任意の割合で溶解するモノマーをいい、疎水性モノマーとは、それ以外のモノマー(基本的に水に混和しないモノマー)をいう。 For example, when the resin particles (I) of the present invention are produced in an aqueous medium, the resin (d) needs to form the particles (D) in water and must not be completely dissolved in water. It is. Therefore, when the vinyl resin is a copolymer, the ratio of the hydrophobic monomer and the hydrophilic monomer constituting the vinyl resin depends on the type of monomer selected, but generally the hydrophobic monomer may be 10% or more. Preferably, it is 20% or more. When the ratio of the hydrophobic monomer is less than 10%, the vinyl resin becomes water-soluble, and the particle size uniformity of (I) may be impaired. Here, the hydrophilic monomer means a monomer that dissolves in water at an arbitrary ratio, and the hydrophobic monomer means another monomer (a monomer that is basically not miscible with water).
また、ビニル樹脂との他の樹脂との複合として、ヒドロキシル基含有ビニルモノマーを構成単位に含むビニル樹脂とヒドロキシル基をもつポリエステル樹脂やアミンをもつポリウレタン樹脂とをジイソシアネートでウレタン化して得られる複合樹脂であってもよい。 In addition, a composite resin obtained by urethanizing a vinyl resin containing a hydroxyl group-containing vinyl monomer as a structural unit with a polyester resin having a hydroxyl group or a polyurethane resin having an amine as a composite with a vinyl resin and another resin It may be.
樹脂(d)として用いるポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂は媒体中で粒子(D)を形成することができ、また結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)の油滴に吸着するものであればどのような組成であっても構わない。構成するモノマー例としては、前記載のモノマーが挙げられる。 The polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin and polyurea resin used as the resin (d) can form particles (D) in the medium, and oil droplets of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). Any composition may be used as long as it adsorbs to the surface. Examples of the constituent monomer include the monomers described above.
樹脂(d)として用いるエポキシ樹脂としては、ポリエポキシドの開環重合物、ポリエポキシドと活性水素含有化合物{水、ポリオール[前記ジオール成分等]、前記ジカルボン酸成分、前記ジアミン成分、ポリチオール等}との重付加物、またはポリエポキシドとジカルボン成分の酸無水物との硬化物などが挙げられる。 Examples of the epoxy resin used as the resin (d) include polyepoxide ring-opening polymer, polyepoxide and active hydrogen-containing compound {water, polyol [the diol component, etc.], dicarboxylic acid component, diamine component, polythiol, etc.} Examples include adducts or cured products of polyepoxides and acid anhydrides of dicarboxylic components.
上記ポリチオールとしては、炭素数2〜36のアルカンジチオール(エチレンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオールなど)等が挙げられる。
上記ポリエポキシドは、分子中に2個以上のエポキシ基を有していれば、特に限定されない。ポリエポキシドとして好ましいものは、硬化物の機械的性質の観点から分子中にエポキシ基を2〜6個有するものである。ポリエポキシドのエポキシ当量(エポキシ基1個当たりの分子量)は、好ましくは65〜1000であり、さらに好ましくは90〜500である。エポキシ当量が1000以下であると、架橋構造が密になり硬化物の耐水性、耐薬品性、機械的強度等の物性が向上し、一方、エポキシ当量が65以上のものを合成するのは容易である。
Examples of the polythiol include alkanedithiol having 2 to 36 carbon atoms (ethylene dithiol, 1,4-butanedithiol, 1,6-hexanedithiol, etc.) and the like.
The polyepoxide is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in the molecule. A thing preferable as a polyepoxide has 2-6 epoxy groups in a molecule | numerator from a viewpoint of the mechanical property of hardened | cured material. The epoxy equivalent (molecular weight per epoxy group) of the polyepoxide is preferably 65 to 1000, and more preferably 90 to 500. When the epoxy equivalent is 1000 or less, the crosslinked structure becomes dense, and the physical properties such as water resistance, chemical resistance and mechanical strength of the cured product are improved. On the other hand, it is easy to synthesize an epoxy equivalent of 65 or more. It is.
ポリエポキシドの例としては、芳香族ポリエポキシ化合物、複素環ポリエポキシ化合物、脂環族ポリエポキシ化合物あるいは脂肪族ポリエポキシ化合物が挙げられる。芳香族ポリエポキシ化合物としては、多価フェノール類のグリシジルエーテル体およびグリシジルエステル体、グリシジル芳香族ポリアミン、並びに、アミノフェノールのグリシジル化物等が挙げられる。多価フェノールのグリシジルエーテル体としては、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールBジグリシジルエーテル、ビスフェノールADジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ハロゲン化ビスフェノールAジグリシジル、テトラクロロビスフェノールAジグリシジルエーテル、カテキンジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ピロガロールトリグリシジルエーテル、1,5−ジヒドロキシナフタリンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、テトラメチルビフェニルジグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフチルクレゾールトリグリシジルエーテル、トリス(ヒドロキシフェニル)メタントリグリシジルエーテル、ジナフチルトリオールトリグリシジルエーテル、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンテトラグリシジルエーテル、p−グリシジルフェニルジメチルトリールビスフェノールAグリシジルエーテル、トリスメチル−tret−ブチル−ブチルヒドロキシメタントリグリシジルエーテル、9,9’−ビス(4−ヒドキシフェニル)フロオレンジグリシジルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾールグリシジルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニルグリシジルエーテル、ビス(ジヒドロキシナフタレン)テトラグリシジルエーテル、フェノールまたはクレゾールノボラック樹脂のグリシジルエーテル体、リモネンフェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル体、ビスフェノールA2モルとエピクロロヒドリン3モルの反応から得られるジグリシジルエーテル体、フェノールとグリオキザール、グルタールアルデヒド、またはホルムアルデヒドの縮合反応によって得られるポリフェノールのポリグリシジルエーテル体、およびレゾルシンとアセトンの縮合反応によって得られるポリフェノールのポリグリシジルエーテル体等が挙げられる。多価フェノールのグリシジルエステル体としては、フタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル等が挙げられる。グリシジル芳香族ポリアミンとしては、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルキシリレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルジフェニルメタンジアミン等が挙げられる。さらに、芳香族ポリエポキシ化合物として、P−アミノフェノールのトリグリシジルエーテル、トリレンジイソシアネートまたはジフェニルメタンジイソシアネートとグリシドールの付加反応によって得られるジグリシジルウレタン化合物、前記2反応物にポリオールも反応させて得られるグリシジル基含有ポリウレタン(プレ)ポリマーおよびビスフェノールAのAO(EOまたはPO)付加物のジグリシジルエーテル体も含む。複素環ポリエポキシ化合物としては、トリスグリシジルメラミンが挙げられる;脂環族ポリエポキシ化合物としては、ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネンジオキシド、ジシクロペンタジエンジオキシド、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、エチレングリコールビスエポキシジシクロペンチルエール、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、およびビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)ブチルアミン、ダイマー酸ジグリシジルエステル等が挙げられる。また、脂環族ポリエポキシ化合物としては、前記芳香族ポリエポキシ化合物の核水添化物も含む;脂肪族ポリエポキシ化合物としては、多価脂肪族アルコールのポリグリシジルエーテル体、多価脂肪酸のポリグリシジルエステル体、およびグリシジル脂肪族アミンが挙げられる。多価脂肪族アルコールのポリグリシジルエーテル体としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルおよびポリグリセロールンポリグリシジルエーテル等が挙げられる。多価脂肪酸のポリグリシジルエステル体としては、ジグリシジルオキサレート、ジグリシジルマレート、ジグリシジルスクシネート、ジグリシジルグルタレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルピメレート等が挙げられる。グリシジル脂肪族アミンとしては、N,N,N’,N’−テトラグリシジルヘキサメチレンジアミンが挙げられる。また、脂肪族ポリエポキシ化合物としては、ジグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートの(共)重合体も含む。これらのうち、好ましいのは、脂肪族ポリエポキシ化合物および芳香族ポリエポキシ化合物である。ポリエポキシドは、2種以上併用しても差し支えない。 Examples of the polyepoxide include aromatic polyepoxy compounds, heterocyclic polyepoxy compounds, alicyclic polyepoxy compounds, and aliphatic polyepoxy compounds. Examples of aromatic polyepoxy compounds include glycidyl ethers and glycidyl ethers of polyhydric phenols, glycidyl aromatic polyamines, and glycidylated products of aminophenols. Examples of glycidyl ethers of polyphenols include bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol B diglycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, halogenated bisphenol A diglycidyl, and tetrachlorobisphenol A. Diglycidyl ether, catechin diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, pyrogallol triglycidyl ether, 1,5-dihydroxynaphthalene diglycidyl ether, dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, octachloro-4,4'-dihydroxybiphenyldi Glycidyl ether, tetramethylbiphenyl diglycidyl ester Ter, dihydroxynaphthylcresol triglycidyl ether, tris (hydroxyphenyl) methane triglycidyl ether, dinaphthyltriol triglycidyl ether, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethanetetraglycidyl ether, p-glycidylphenyldimethyltolylbisphenol A glycidyl ether, trismethyl -Tret-butyl-butylhydroxymethane triglycidyl ether, 9,9'-bis (4-hydroxyphenyl) furorange glycidyl ether, 4,4'-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol glycidyl ether, 4 , 4′-oxybis (1,4-phenylethyl) phenylglycidyl ether, bis (dihydroxynaphthalene) tetraglycidyl ether, Of glycol ether of enolic or cresol novolak resin, glycidyl ether of limonene phenol novolak resin, diglycidyl ether obtained from the reaction of 2 mol of bisphenol A and 3 mol of epichlorohydrin, phenol and glyoxal, glutaraldehyde, or formaldehyde Examples thereof include polyglycidyl ethers of polyphenols obtained by condensation reactions, polyglycidyl ethers of polyphenols obtained by condensation reactions of resorcin and acetone, and the like. Examples of the glycidyl ester of polyhydric phenol include diglycidyl phthalate, diglycidyl isophthalate, and diglycidyl terephthalate. Examples of the glycidyl aromatic polyamine include N, N-diglycidylaniline, N, N, N ′, N′-tetraglycidylxylylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiphenylmethanediamine and the like. Furthermore, as an aromatic polyepoxy compound, triglycidyl ether of P-aminophenol, diglycidyl urethane compound obtained by addition reaction of tolylene diisocyanate or diphenylmethane diisocyanate and glycidol, glycidyl obtained by reacting polyol with the above two reactants Also included are diglycidyl ethers of AO (EO or PO) adducts of group-containing polyurethane (pre) polymers and bisphenol A. Heterocyclic polyepoxy compounds include trisglycidyl melamine; alicyclic polyepoxy compounds include vinylcyclohexene dioxide, limonene dioxide, dicyclopentadiene dioxide, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, Ethylene glycol bisepoxy dicyclopentyl ale, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) Examples include adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) butylamine, dimer acid diglycidyl ester, and the like. The alicyclic polyepoxy compound also includes a hydrogenated product of the aromatic polyepoxy compound; examples of the aliphatic polyepoxy compound include polyglycidyl ethers of polyhydric aliphatic alcohols and polyglycidyl polyhydric fatty acids. Examples include ester bodies and glycidyl aliphatic amines. Polyglycidyl ethers of polyhydric aliphatic alcohols include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tetramethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol Diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether and polyglycerol polyglycidyl ether Can be mentioned. Examples of polyglycidyl ester of polyvalent fatty acid include diglycidyl oxalate, diglycidyl malate, diglycidyl succinate, diglycidyl glutarate, diglycidyl adipate, diglycidyl pimelate and the like. Examples of the glycidyl aliphatic amine include N, N, N ′, N′-tetraglycidylhexamethylenediamine. The aliphatic polyepoxy compound also includes a (co) polymer of diglycidyl ether and glycidyl (meth) acrylate. Of these, preferred are aliphatic polyepoxy compounds and aromatic polyepoxy compounds. Two or more polyepoxides may be used in combination.
粒子(D)に用いる樹脂(d)の融解熱の最大ピーク温度(Tad)は、樹脂粒子(I)の粒径均一性、粉体流動性、保存時の耐熱性、耐ストレス性の観点から、好ましくは0℃〜300℃、さらに好ましくは20℃〜250℃、とくに好ましくは40℃〜200℃である。樹脂(d)の(Tad)が媒体中で樹脂分散体を作成する温度より低いと、合一を防止したり、分裂を防止したりする効果が小さくなり、粒径の均一性を高める効果が小さくなる。 The maximum peak temperature (Tad) of the heat of fusion of the resin (d) used for the particles (D) is from the viewpoint of the particle size uniformity, powder flowability, heat resistance during storage, and stress resistance of the resin particles (I). The temperature is preferably 0 ° C to 300 ° C, more preferably 20 ° C to 250 ° C, and particularly preferably 40 ° C to 200 ° C. If the (Tad) of the resin (d) is lower than the temperature at which the resin dispersion is produced in the medium, the effect of preventing coalescence or preventing splitting is reduced, and the effect of increasing the uniformity of the particle diameter is obtained. Get smaller.
粒子(D)が水や分散時に用いる有機溶剤(u)に対してに対して、溶解したり、膨潤したりするのを低減する観点から、樹脂(d)の分子量、SP値、結晶性、架橋点間分子量等を適宜調整するのが好ましい。 From the viewpoint of reducing dissolution or swelling of the particles (D) with respect to water or the organic solvent (u) used at the time of dispersion, the molecular weight, SP value, crystallinity, It is preferable to appropriately adjust the molecular weight between cross-linking points.
樹脂(d)のMnは、好ましくは200〜500万、さらに好ましくは2000〜500000である。SP値は、好ましくは7〜18、さらに好ましくは8〜14である。樹脂(d)の融点(DSCにて測定)は、好ましくは50℃以上、さらに好ましくは80℃以上である。また、樹脂粒子(I)の、耐熱性、耐水性、耐薬品性、粒径の均一性等を向上させたい場合には、樹脂(d)に架橋構造を導入させても良い。かかる架橋構造は、共有結合性、配位結合性、イオン結合性、水素結合性等、いずれの架橋形態であってもよい。樹脂(d)に架橋構造を導入する場合の架橋点間分子量は、好ましくは30以上、さらに好ましくは50以上である。 The Mn of the resin (d) is preferably 2 to 5 million, more preferably 2000 to 500000. The SP value is preferably 7 to 18, and more preferably 8 to 14. The melting point (measured by DSC) of the resin (d) is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher. When it is desired to improve the heat resistance, water resistance, chemical resistance, particle size uniformity, etc. of the resin particles (I), a crosslinked structure may be introduced into the resin (d). Such a cross-linked structure may be any cross-linked form such as covalent bond, coordinate bond, ionic bond, hydrogen bond, and the like. The molecular weight between crosslinking points when a crosslinked structure is introduced into the resin (d) is preferably 30 or more, and more preferably 50 or more.
樹脂(d)を粒子(D)が媒体中に分散された分散液とする方法は、特に限定されないが、以下の〔1〕〜〔8〕が挙げられる。
〔1〕ビニル樹脂の場合において、モノマーを出発原料として、懸濁重合法、乳化重合法、シード重合法または分散重合法等の重合反応により、直接、粒子(D)の分散液を製造する方法。
〔2〕ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の重付加あるいは縮合系樹脂の場合において、前駆体(モノマー、オリゴマー等)またはその溶剤溶液を適当な分散剤存在下で媒体中に分散させ、その後に加熱したり、硬化剤を加えたりして硬化させて粒子(D)の分散液を製造する方法。
〔3〕ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の重付加あるいは縮合系樹脂の場合において、前駆体(モノマー、オリゴマー等)またはその溶剤溶液(液体であることが好ましい。加熱により液状化してもよい)中に適当な乳化剤を溶解させた後、媒体を加えて転相乳化する方法。
〔4〕あらかじめ重合反応(付加重合、開環重合、重付加、付加縮合、縮合重合等いずれの重合反応様式であってもよい。以下の本項の重合反応についても同様。)により作成した樹脂を機械回転式またはジェット式等の微粉砕機を用いて粉砕し、次いで、分球するすることによって樹脂粒子を得た後、適当な分散剤存在下で媒体中に分散させる方法。
〔5〕あらかじめ重合反応により作成した樹脂を溶剤に溶解した樹脂溶液を霧状に噴霧することにより樹脂粒子を得た後、該樹脂粒子を適当な分散剤存在下で媒体中に分散させる方法。
〔6〕あらかじめ重合反応により作成した樹脂を溶剤に溶解した樹脂溶液に貧溶剤を添加するか、またはあらかじめ溶剤に加熱溶解した樹脂溶液を冷却することにより樹脂粒子を析出させ、次いで、溶剤を除去して樹脂粒子を得た後、該樹脂粒子を適当な分散剤存在下で媒体中に分散させる方法。
〔7〕あらかじめ重合反応により作成した樹脂を溶剤に溶解した樹脂溶液を、適当な分散剤存在下で媒体中に分散させ、これを加熱または減圧等によって溶剤を除去する方法。
〔8〕あらかじめ重合反応により作成した樹脂を溶剤に溶解した樹脂溶液中に適当な乳化剤を溶解させた後、媒体を加えて転相乳化する方法。
Although the method of making resin (d) into the dispersion liquid by which particle | grains (D) were disperse | distributed in a medium is not specifically limited, The following [1]-[8] is mentioned.
[1] A method of directly producing a dispersion of particles (D) in the case of a vinyl resin, using a monomer as a starting material, and a polymerization reaction such as a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a seed polymerization method or a dispersion polymerization method .
[2] In the case of polyaddition or condensation resin such as polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, etc., a precursor (monomer, oligomer, etc.) or a solvent solution thereof is dispersed in a medium in the presence of an appropriate dispersant, and then A method for producing a dispersion of particles (D) by heating to a temperature or adding a curing agent to cure.
[3] In the case of polyaddition or condensation resin such as polyester resin, polyurethane resin, and epoxy resin, a precursor (monomer, oligomer, etc.) or a solvent solution thereof (preferably liquid) may be liquefied by heating. ) A suitable emulsifier is dissolved therein, and then a medium is added to carry out phase inversion emulsification.
[4] A resin prepared in advance by a polymerization reaction (any polymerization reaction mode such as addition polymerization, ring-opening polymerization, polyaddition, addition condensation, condensation polymerization, etc. The same applies to the polymerization reaction in the following section). The resin particles are obtained by pulverizing using a mechanical rotary type or jet type fine pulverizer and then spheroidizing, and then dispersing in a medium in the presence of an appropriate dispersant.
[5] A method of obtaining resin particles by spraying a resin solution prepared by previously dissolving a resin prepared by a polymerization reaction in a solvent in a mist, and then dispersing the resin particles in a medium in the presence of an appropriate dispersant.
[6] Add a poor solvent to a resin solution prepared by dissolving a resin prepared in advance in a solvent, or cool a resin solution previously dissolved in a solvent to precipitate resin particles, and then remove the solvent. Then, after obtaining resin particles, the resin particles are dispersed in a medium in the presence of an appropriate dispersant.
[7] A method in which a resin solution in which a resin prepared by a polymerization reaction is dissolved in a solvent is dispersed in a medium in the presence of an appropriate dispersant, and the solvent is removed by heating or decompression.
[8] A method in which a suitable emulsifier is dissolved in a resin solution prepared by previously dissolving a resin prepared by a polymerization reaction in a solvent, and then a medium is added to perform phase inversion emulsification.
上記〔1〕〜〔8〕の方法において、併用する乳化剤または分散剤としては、公知の界面活性剤(s)、水溶性ポリマー(t)等を用いることができる。また、乳化または分散の助剤として有機溶剤(u)、可塑剤(v)等を併用することができる。
界面活性剤(s)としては、特に限定されず、アニオン界面活性剤(s−1)、カチオン界面活性剤(s−2)、両性界面活性剤(s−3)、非イオン界面活性剤(s−4)などが挙げられる。界面活性剤(s)は2種以上の界面活性剤を併用したものであってもよい。
In the above methods [1] to [8], as the emulsifier or dispersant used in combination, a known surfactant (s), water-soluble polymer (t) and the like can be used. Moreover, an organic solvent (u), a plasticizer (v), etc. can be used together as an auxiliary agent for emulsification or dispersion.
It does not specifically limit as surfactant (s), Anionic surfactant (s-1), Cationic surfactant (s-2), Amphoteric surfactant (s-3), Nonionic surfactant ( s-4). The surfactant (s) may be a combination of two or more surfactants.
アニオン界面活性剤(s−1)としては、カルボン酸またはその塩、硫酸エステル塩、カルボキシメチル化物の塩、スルホン酸塩およびリン酸エステル塩等が用いられる。
加物などの無機酸塩または有機酸塩が挙げられる。
カチオン界面活性剤(s−2)としては、第4級アンモニウム塩型界面活性剤およびアミン塩型界面活性剤等が使用できる。
両性界面活性剤(s−3)としては、カルボン酸塩型両性界面活性剤、硫酸エステル塩型両性界面活性剤、スルホン酸塩型両性界面活性剤およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤などが使用できる。
非イオン界面活性剤(s−4)としては、AO付加型非イオン界面活性剤および多価アルコ−ル型非イオン界面活性剤などが使用できる。
これらの界面活性剤(s)の具体例としては、特開2002−284881号公報に記載のもの等が挙げられる。
As the anionic surfactant (s-1), a carboxylic acid or a salt thereof, a sulfate ester salt, a salt of a carboxymethylated product, a sulfonate salt, a phosphate ester salt, or the like is used.
Examples thereof include inorganic acid salts or organic acid salts such as additives.
As the cationic surfactant (s-2), a quaternary ammonium salt type surfactant, an amine salt type surfactant and the like can be used.
Examples of the amphoteric surfactant (s-3) include a carboxylate type amphoteric surfactant, a sulfate ester type amphoteric surfactant, a sulfonate type amphoteric surfactant and a phosphate ester type amphoteric surfactant. Can be used.
As the nonionic surfactant (s-4), an AO addition type nonionic surfactant and a polyvalent alcohol type nonionic surfactant can be used.
Specific examples of these surfactants (s) include those described in JP-A-2002-284881.
水溶性ポリマー(t)としては、セルロース系化合物(例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびそれらのケン化物など)、ゼラチン、デンプン、デキストリン、アラビアゴム、キチン、キトサン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、ポリアクリルアミド、アクリル酸(塩)含有ポリマー(ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸カリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリアクリル酸の水酸化ナトリウム部分中和物、アクリル酸ナトリウム−アクリル酸エステル共重合体)、スチレン−無水マレイン酸共重合体の水酸化ナトリウム(部分)中和物、水溶性ポリウレタン(ポリエチレングリコール、ポリカプロラクトンジオール等とポリイソシアネートの反応生成物等)などが挙げられる。 Examples of the water-soluble polymer (t) include cellulose compounds (for example, methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose and saponified products thereof), gelatin, starch, dextrin, gum arabic, chitin , Chitosan, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, polyethyleneimine, polyacrylamide, acrylic acid (salt) -containing polymer (sodium polyacrylate, potassium polyacrylate, ammonium polyacrylate, in the sodium hydroxide part of polyacrylic acid) Sodium hydroxide, acrylic acid ester copolymer), styrene-maleic anhydride copolymer sodium hydroxide Beam (partial) neutralization product, water-soluble polyurethane (polyethylene glycol, reaction products of polycaprolactone diol with polyisocyanate and the like) and the like.
本発明に用いる有機溶剤(u)は、乳化分散の際に必要に応じて媒体中に加えても、被乳化分散体中[前記の結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含む油相(O2)中]に加えても良い。
有機溶剤(u)の具体例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶剤;n−ヘキサン、n−ヘプタン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水素溶剤;塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、メチレンジクロライド、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレンなどのハロゲン溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエステルまたはエステルエーテル溶剤;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ−n−ブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン溶剤;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、2−エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド溶剤;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド溶剤、N−メチルピロリドンなどの複素環式化合物溶剤、ならびにこれらの2種以上の混合溶剤が挙げられる。
The organic solvent (u) used in the present invention may be added to the medium to be emulsified and dispersed in the emulsified dispersion [the crystalline resin (A) and the non-crystalline resin (B) as described above]. It may be added to the containing oil phase (O2)].
Specific examples of the organic solvent (u) include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetralin; aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as n-hexane, n-heptane, mineral spirit and cyclohexane; Halogen solvents such as methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, methylene dichloride, carbon tetrachloride, trichloroethylene, perchloroethylene; esters or esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methoxybutyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate Ether solvents; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl , Ketone solvents such as di-n-butyl ketone and cyclohexanone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, 2-ethylhexyl alcohol and benzyl alcohol; dimethylformamide; Examples include amide solvents such as dimethylacetamide; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; heterocyclic compound solvents such as N-methylpyrrolidone; and mixed solvents of two or more of these.
可塑剤(v)は、乳化分散の際に必要に応じて媒体中に加えても、被乳化分散体中[結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含む油相(O2)中]に加えても良い。
可塑剤(V)としては、何ら限定されず、以下のものが例示される。
(v1)フタル酸エステル[フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジイソデシル等];
(v2)脂肪族2塩基酸エステル[アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸−2−エチルヘキシル等];
(v3)トリメリット酸エステル[トリメリット酸トリ−2−エチルヘキシル、トリメリット酸トリオクチル等];
(v4)燐酸エステル[リン酸トリエチル、リン酸トリ−2−エチルヘキシル、リン酸トリクレジール等];
(v5)脂肪酸エステル[オレイン酸ブチル等];
(v6)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
Even if the plasticizer (v) is added to the medium as needed during the emulsification dispersion, the emulsified dispersion [the oil phase (O2) containing the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B)] It may be added to [Medium].
As a plasticizer (V), it is not limited at all, The following are illustrated.
(V1) Phthalates [dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, etc.];
(V2) Aliphatic dibasic acid ester [di-2-ethylhexyl adipate, 2-ethylhexyl sebacate, etc.];
(V3) trimellitic acid ester [tri-2-ethylhexyl trimellitic acid, trioctyl trimellitic acid, etc.];
(V4) Phosphate ester [triethyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tricresyl phosphate, etc.];
(V5) fatty acid ester [butyl oleate and the like];
(V6) and a mixture of two or more of these.
粒子(D)の粒径は、通常、樹脂粒子(I)から粒子(D)を除いた結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する樹脂粒子(I0)の粒径よりも小さく、粒径均一性の観点から、粒径比[粒子(D)の体積平均粒径]/[樹脂粒子(I)の体積平均粒径]の値が0.001〜0.3の範囲であるのが好ましい。かかる粒径比が、0.3より小さいと(D)が(I0)の表面に効率よく吸着するため、得られる(I)の粒度分布が狭くなる傾向がある。 The particle size of the particles (D) is usually from the particle size of the resin particles (I0) containing the crystalline resin (A) obtained by removing the particles (D) from the resin particles (I) and the amorphous resin (B). From the viewpoint of particle size uniformity, the value of the particle size ratio [volume average particle size of particles (D)] / [volume average particle size of resin particles (I)] is in the range of 0.001 to 0.3. Is preferred. When the particle size ratio is smaller than 0.3, (D) is efficiently adsorbed on the surface of (I0), so that the obtained particle size distribution of (I) tends to be narrow.
粒子(D)の体積平均粒径は、所望の粒径の樹脂粒子(I)を得るのに適した粒径になるように、上記粒径比の範囲で適宜調整することができる。粒子(D)の体積平均粒径は、一般的には、0.0005〜30μmが好ましい。さらに好ましくは0.01〜20μm、とくに好ましくは0.02〜10μmである。ただし、例えば、体積平均粒径1μmの樹脂粒子(I)を得たい場合には、好ましくは0.0005〜0.3μm、特に好ましくは0.001〜0.2μmの範囲、10μmの樹脂粒子(I)を得た場合には、好ましくは0.005〜3μm、特に好ましくは0.05〜2μm、100μmの樹脂粒子(I)を得たい場合には、好ましくは0.05〜30μm、特に好ましくは0.1〜20μmである。なお、体積平均粒径は、レーザー式粒度分布測定装置LA−920(堀場製作所製)やマルチサイザーIII(コールター社製)で測定できる。 The volume average particle diameter of the particles (D) can be appropriately adjusted within the above range of the particle diameter ratio so as to be a particle diameter suitable for obtaining the resin particles (I) having a desired particle diameter. The volume average particle diameter of the particles (D) is generally preferably 0.0005 to 30 μm. More preferably, it is 0.01-20 micrometers, Most preferably, it is 0.02-10 micrometers. However, for example, when it is desired to obtain resin particles (I) having a volume average particle diameter of 1 μm, the range is preferably 0.0005 to 0.3 μm, particularly preferably 0.001 to 0.2 μm, and 10 μm resin particles ( In the case of obtaining I), preferably 0.005 to 3 μm, particularly preferably 0.05 to 2 μm, and 100 μm of resin particles (I) are preferably 0.05 to 30 μm, particularly preferably. Is 0.1-20 μm. The volume average particle size can be measured with a laser type particle size distribution analyzer LA-920 (manufactured by Horiba) or Multisizer III (manufactured by Coulter).
前記の本発明の樹脂粒子(I)の好ましい作製法(2)においては、粒子(D)を用いる場合、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)との混合物(O1)(溶融し液状化して用いるのが好ましい)と樹脂(d)および/または無機化合物(e)を含有する粒子(D)の(O1)と相溶しない媒体分散液(W)とを混合し、(W)中に(O1)を分散させ、分散液(W)中で(A)と(B)とを含有する樹脂粒子(I0)を形成させて、(I0)の表面に(D)が付着した樹脂粒子(I)の分散体(X)を得る。
または、(A)と(B)との有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)と樹脂(d)および/または無機化合物(e)を含有する粒子(D)の(O2)と相溶しない媒体分散液(W)とを混合し、(W)中に(O2)を分散させ、分散液(W)中で(A)と(B)とを含有する樹脂粒子(I0)を形成させて、(I0)の表面に(D)が付着した樹脂粒子(I)の分散体(X)を得る。
In the preferable production method (2) of the resin particle (I) of the present invention, when the particle (D) is used, a mixture (O1) (melt) of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). And a liquid dispersion (W) that is incompatible with (O1) of the particles (D) containing the resin (d) and / or the inorganic compound (e), and (W ), (O1) was dispersed, and resin particles (I0) containing (A) and (B) were formed in the dispersion (W), and (D) adhered to the surface of (I0). A dispersion (X) of resin particles (I) is obtained.
Alternatively, the organic solvent (u) solution or dispersion (O2) of (A) and (B) is compatible with (O2) of the particles (D) containing the resin (d) and / or the inorganic compound (e). (O2) is dispersed in (W), and resin particles (I0) containing (A) and (B) are formed in the dispersion (W). Thus, a dispersion (X) of resin particles (I) having (D) attached to the surface of (I0) is obtained.
結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)合計100部に対する、粒子(D)の媒体分散液(W)の使用量は、好ましくは50〜2000部、さらに好ましくは100〜1000部である。50部以上では(A)および(B)の分散状態が良好である。2000部以下であると経済的である。上記および以下において、部は重量部を意味する。 The amount of the medium dispersion liquid (W) of the particles (D) is preferably 50 to 2000 parts, more preferably 100 to 1000 parts with respect to 100 parts in total of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). is there. If it is 50 parts or more, the dispersed state of (A) and (B) is good. It is economical that it is 2000 parts or less. Above and below, parts mean parts by weight.
樹脂(A)と(B)との混合物(O1)もしくはその有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)を分散液(W)中に分散させる場合には、分散装置を用いることができる。
使用する分散装置としては、一般に乳化機、分散機として市販されているものであればとくに限定されず、例えば、ホモジナイザー(IKA社製)、ポリトロン(キネマティカ社製)、TKオートホモミキサー(特殊機化工業社製)等のバッチ式乳化機、エバラマイルダー(荏原製作所社製)、TKフィルミックス、TKパイプラインホモミキサー(特殊機化工業社製)、コロイドミル(神鋼パンテック社製)、スラッシャー、トリゴナル湿式微粉砕機(三井三池化工機社製)、キャピトロン(ユーロテック社製)、ファインフローミル(太平洋機工社製)等の連続式乳化機、マイクロフルイダイザー(みずほ工業社製)、ナノマイザー(ナノマイザー社製)、APVガウリン(ガウリン社製)等の高圧乳化機、膜乳化機(冷化工業社製)等の膜乳化機、バイブロミキサー(冷化工業社製)等の振動式乳化機、超音波ホモジナイザー(ブランソン社製)等の超音波乳化機等が挙げられる。このうち粒径の均一化の観点で好ましいものは、APVガウリン、ホモジナイザー、TKオートホモミキサー、エバラマイルダー、TKフィルミックス、TKパイプラインホモミキサーが挙げられる。
In the case where the mixture (O1) of the resins (A) and (B) or the organic solvent (u) solution or dispersion (O2) thereof is dispersed in the dispersion (W), a dispersion device can be used.
The dispersing apparatus to be used is not particularly limited as long as it is generally marketed as an emulsifier or a dispersing machine. For example, a homogenizer (manufactured by IKA), polytron (manufactured by Kinematica), TK auto homomixer (special machine) Batch type emulsifier such as Ebara Milder (manufactured by Ebara Seisakusho), TK Fillmix, TK Pipeline Homomixer (made by Special Machine Industries), colloid mill (made by Shinko Pantech), Continuous emulsifiers such as slasher, trigonal wet pulverizer (manufactured by Mitsui Miike Chemical Co., Ltd.), Captron (manufactured by Eurotech), fine flow mill (manufactured by Taiheiyo Kiko Co., Ltd.), microfluidizer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.), High pressure emulsifiers such as Nanomizer (made by Nanomizer), APV Gaurin (made by Gaurin), membrane emulsifier (made by Chilling Industries Co., Ltd.), etc. Membrane emulsification machine, Vibro Mixer (Hiyaka Kogyo) vibrating emulsifier such as, ultrasonic emulsifier such as an ultrasonic homogenizer (manufactured by Branson Co., Ltd.). Among these, APV Gaurin, homogenizer, TK auto homomixer, Ebara milder, TK fill mix, and TK pipeline homomixer are preferable from the viewpoint of uniform particle size.
樹脂(A)と(B)との混合物(O1)もしくはその有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)の粘度は、粒径均一性の観点から、好ましくは10〜5万mPa・s(B型粘度計で測定)、さらに好ましくは100〜1万mPa・sである。
分散時の温度としては、好ましくは0〜150℃(加圧下)、さらに好ましくは5〜98℃である。分散体の粘度が高い場合は、高温にして粘度を上記好ましい範囲まで低下させて、乳化分散を行うのが好ましい。
The viscosity of the mixture (O1) of the resin (A) and (B) or the organic solvent (u) solution or dispersion (O2) thereof is preferably from 10 to 50,000 mPa · s (from the viewpoint of particle size uniformity. (Measured with a B-type viscometer), more preferably 100 to 10,000 mPa · s.
The temperature at the time of dispersion is preferably 0 to 150 ° C. (under pressure), more preferably 5 to 98 ° C. When the viscosity of the dispersion is high, it is preferable to carry out emulsification dispersion by lowering the viscosity to the above preferred range by increasing the temperature.
本発明の樹脂粒子(I)は、樹脂粒子(I)の分散体(X)から有機溶剤(u)と媒体を除去することにより得られる。
分散体(X)から有機溶剤(u)と媒体を除去する方法としては、
〔1〕樹脂分散体を減圧下または常圧下で乾燥する方法
〔2〕遠心分離器、スパクラフィルター、フィルタープレスなどにより固液分離し、得られた粉末を乾燥する方法
〔3〕樹脂分散体を凍結させて乾燥させる方法(いわゆる凍結乾燥)
等が例示される。
上記〔1〕、〔2〕において、得られた粉末を乾燥する際、流動層式乾燥機、減圧乾燥機、循風乾燥機など公知の設備を用いて行うことができる。
また、必要に応じ、風力分級器などを用いて分級し、所定の粒度分布とすることもできる。
The resin particles (I) of the present invention can be obtained by removing the organic solvent (u) and the medium from the dispersion (X) of the resin particles (I).
As a method of removing the organic solvent (u) and the medium from the dispersion (X),
[1] A method of drying a resin dispersion under reduced pressure or normal pressure [2] A method of solid-liquid separation with a centrifuge, a spacula filter, a filter press, etc., and drying the resulting powder [3] A resin dispersion Method of freezing and drying (so-called freeze drying)
Etc. are exemplified.
In the above [1] and [2], when the obtained powder is dried, it can be performed using a known facility such as a fluidized bed dryer, a vacuum dryer, or a circulating dryer.
Moreover, it can classify | classify using a wind classifier etc. as needed, and can also be set as predetermined particle size distribution.
結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)とを含有する樹脂粒子(I)〔(I0)および/または粒子(D)を含む〕中に、添加剤(顔料、充填剤、帯電防止剤、着色剤、離型剤、荷電制御剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ブロッキング防止剤、耐熱安定剤、難燃剤など)を混合しても差し支えない。(I0)または(D)中に添加剤を添加する方法としては、媒体中で樹脂粒子(I)を含有する分散体(X)を形成させる際に混合してもよいが、あらかじめ結晶性樹脂(A)、非結晶性樹脂(B)、それらの有機溶剤(u)溶液もしくは分散液(O2)、または樹脂(d)と添加剤を混合した後、媒体中にその混合物を加えて分散させた方がより好ましい。
また、添加剤は、必ずしも、媒体中で樹脂粒子(I)を形成させる時に混合しておく必要はなく、粒子を形成せしめた後、添加してもよい。たとえば、着色剤を含まない粒子を形成させた後、公知の染着の方法で着色剤を添加したり、有機溶剤(u)および/または可塑剤(v)とともに上記添加剤を含浸させることもできる。
In resin particles (I) [including (I0) and / or particles (D)] containing a crystalline resin (A) and an amorphous resin (B), additives (pigments, fillers, antistatic agents) Agents, coloring agents, mold release agents, charge control agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, antiblocking agents, heat stabilizers, flame retardants, etc.) may be mixed. As a method of adding an additive into (I0) or (D), the dispersion (X) containing the resin particles (I) may be mixed in a medium, but it may be mixed in advance. After mixing (A), amorphous resin (B), their organic solvent (u) solution or dispersion (O2), or resin (d) and an additive, the mixture is added and dispersed in the medium. Is more preferable.
Further, the additive is not necessarily mixed when forming the resin particles (I) in the medium, and may be added after the particles are formed. For example, after forming particles containing no colorant, a colorant may be added by a known dyeing method, or the additive may be impregnated with the organic solvent (u) and / or the plasticizer (v). it can.
粒径均一性から、樹脂粒子(I)の[体積平均粒径/個数平均粒径]の値は、1.0〜1.4であるのが好ましく、1.0〜1.2であるのがさらに好ましい。
(I)の体積平均粒径は、用途により異なるが、一般的には0.1〜300μmが好ましい。上限は、さらに好ましくは250μm、特に好ましくは200μm、最も好ましくは50μmであり、下限は、さらに好ましくは0.5μm、特に好ましくは1μmである。
なお、体積平均粒径および個数平均粒径は、マルチサイザーIII(コールター社製)で同時に測定することができる。
From the particle size uniformity, the value of [volume average particle size / number average particle size] of the resin particles (I) is preferably 1.0 to 1.4, more preferably 1.0 to 1.2. Is more preferable.
The volume average particle size of (I) varies depending on the use, but is generally preferably 0.1 to 300 μm. The upper limit is more preferably 250 μm, particularly preferably 200 μm, most preferably 50 μm, and the lower limit is further preferably 0.5 μm, particularly preferably 1 μm.
The volume average particle size and the number average particle size can be measured simultaneously with Multisizer III (manufactured by Coulter).
本発明の樹脂粒子(I)は、塗料用添加剤、接着剤用添加剤、化粧品用添加剤、紙塗工用添加剤、スラッシュ成形用樹脂、粉体塗料、電子部品製造用スペーサー、触媒用担体、電子写真トナー用母体粒子、静電記録トナー用母体粒子、静電印刷トナー用母体粒子、電子測定機器の標準粒子、電子ペーパー用粒子、医療診断用担体、クロマトグラフ充填剤、電気粘性流体用粒子等各種用途に使用できる。
例えば、結晶性樹脂(A)および非結晶性樹脂(B)と着色剤とを混合させ、また必要により、荷電制御剤、離型剤及び流動化剤等を含有させることでトナー用樹脂粒子として使用できる。
The resin particles (I) of the present invention are paint additives, adhesive additives, cosmetic additives, paper coating additives, slush molding resins, powder coatings, electronic component manufacturing spacers, and catalysts. Carrier, electrophotographic toner base particle, electrostatic recording toner base particle, electrostatic printing toner base particle, electronic measuring instrument standard particle, electronic paper particle, medical diagnostic carrier, chromatographic filler, electrorheological fluid It can be used for various applications such as particles.
For example, the crystalline resin (A) and the non-crystalline resin (B) and a colorant are mixed, and if necessary, a charge control agent, a release agent, a fluidizing agent, and the like are contained as toner resin particles. Can be used.
着色剤としては、トナー用着色剤として使用されている染料、顔料等のすべてを使用することができる。具体的には、カーボンブラック、鉄黒、スーダンブラックSM、ファーストイエローG、ベンジジンイエロー、ソルベントイエロー(21,77,114など)、ピグメントイエロー(12,14,17,83など)、インドファーストオレンジ、イルガシンレッド、パラニトアニリンレッド、トルイジンレッド、ソルベントレッド(17,49,128,5,13,22,48・2など)、ディスパースレッド、カーミンFB、ピグメントオレンジR、レーキレッド2G、ローダミンFB、ローダミンBレーキ、メチルバイオレットBレーキ、フタロシアニンブルー、ソルベントブルー(25,94,60,15・3など)、ピグメントブルー、ブリリアントグリーン、フタロシアニングリーン、オイルイエローGG、カヤセットYG、オラゾールブラウンBおよびオイルピンクOP等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。また、必要により磁性粉(鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性金属の粉末もしくはマグネタイト、ヘマタイト、フェライト等の化合物)を着色剤としての機能を兼ねて含有させることができる。 着色剤の含有量は、結晶性樹脂(A)と非結晶性樹脂(B)を含有する樹脂100部に対して、好ましくは0.1〜40部、さらに好ましくは0.5〜10部である。なお、磁性粉を用いる場合は、好ましくは20〜150部、さらに好ましくは40〜120部である。 As the colorant, all of dyes and pigments used as toner colorants can be used. Specifically, carbon black, iron black, Sudan black SM, first yellow G, benzidine yellow, solvent yellow (21, 77, 114, etc.), pigment yellow (12, 14, 17, 83, etc.), Indian first orange, Irgasin Red, Paranitaniline Red, Toluidine Red, Solvent Red (17, 49, 128, 5, 13, 22, 48, 2 etc.), Disperse Red, Carmine FB, Pigment Orange R, Lake Red 2G, Rhodamine FB, Rhodamine B lake, methyl violet B lake, phthalocyanine blue, solvent blue (25, 94, 60, 15.3, etc.), pigment blue, brilliant green, phthalocyanine green, oil yellow GG, Kayaset YG, o Mentioned tetrazole brown B and oil pink OP etc. These may be used alone or in admixture of two or more thereof. Further, if necessary, magnetic powder (a powder of a ferromagnetic metal such as iron, cobalt, nickel, or a compound such as magnetite, hematite, ferrite) can also be included as a colorant. The content of the colorant is preferably 0.1 to 40 parts, more preferably 0.5 to 10 parts, with respect to 100 parts of the resin containing the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). is there. In addition, when using magnetic powder, Preferably it is 20-150 parts, More preferably, it is 40-120 parts.
離型剤としては、軟化温度が50〜170℃のものが好ましく、ポリオレフィンワックス、天然ワックス(例えばカルナウバワックス、モンタンワックス、パラフィンワックスおよびライスワックスなど)、炭素数30〜50の脂肪族アルコール(例えばトリアコンタノールなど)、炭素数30〜50の脂肪酸(例えばトリアコンタンカルボン酸など)およびこれらの混合物等が挙げられる。ポリオレフィンワックスとしては、オレフィン(例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブチレン、1−ヘキセン、1−ドデセン、1−オクタデセンおよびこれらの混合物等)の(共)重合体[(共)重合により得られるものおよび熱減成型ポリオレフィンを含む]、オレフィンの(共)重合体の酸素および/またはオゾンによる酸化物、オレフィンの(共)重合体のマレイン酸変性物[例えばマレイン酸およびその誘導体(無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノブチルおよびマレイン酸ジメチル等)変性物]、オレフィンと不飽和カルボン酸[(メタ)アクリル酸、イタコン酸および無水マレイン酸等]および/または不飽和カルボン酸アルキルエステル[(メタ)アクリル酸アルキル(アルキルの炭素数1〜18)エステルおよびマレイン酸アルキル(アルキルの炭素数1〜18)エステル等]等との共重合体、およびポリメチレン(例えばサゾールワックス等のフィシャートロプシュワックスなど)、脂肪酸金属塩(ステアリン酸カルシウムなど)、脂肪酸エステル(ベヘニン酸ベヘニルなど)が挙げられる。 As the release agent, those having a softening temperature of 50 to 170 ° C. are preferable, and polyolefin wax, natural wax (for example, carnauba wax, montan wax, paraffin wax and rice wax), aliphatic alcohol having 30 to 50 carbon atoms ( For example, triacontanol and the like, fatty acids having 30 to 50 carbon atoms (e.g., triacontanecarboxylic acid and the like), and mixtures thereof. Polyolefin waxes include (co) polymers [obtained by (co) polymerization] of olefins (for example, ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-hexene, 1-dodecene, 1-octadecene, and mixtures thereof). And olefin (co) polymer oxides with oxygen and / or ozone, maleic acid modifications of olefin (co) polymers [eg maleic acid and its derivatives (maleic anhydride, Modified products such as monomethyl maleate, monobutyl maleate and dimethyl maleate), olefins and unsaturated carboxylic acids [such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic anhydride] and / or unsaturated carboxylic acid alkyl esters [(meta ) Alkyl acrylate (alkyl 1 to 1 carbon atoms) 8) Copolymers with esters and alkyl maleates (alkyl esters having 1 to 18 carbon atoms), etc., and polymethylene (such as Fischer-Tropsch wax such as sazol wax), fatty acid metal salts (such as calcium stearate), Fatty acid ester (behenyl behenate etc.) is mentioned.
荷電制御剤としては、ニグロシン染料、3級アミンを側鎖として含有するトリフェニルメタン系染料、4級アンモニウム塩、ポリアミン樹脂、イミダゾール誘導体、4級アンモニウム塩基含有ポリマー、含金属アゾ染料、銅フタロシアニン染料、サリチル酸金属塩、ベンジル酸のホウ素錯体、スルホン酸基含有ポリマー、含フッ素系ポリマー、ハロゲン置換芳香環含有ポリマー、サリチル酸のアルキル誘導体の金属錯体、セチルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。 As charge control agents, nigrosine dyes, triphenylmethane dyes containing tertiary amines as side chains, quaternary ammonium salts, polyamine resins, imidazole derivatives, quaternary ammonium base-containing polymers, metal-containing azo dyes, copper phthalocyanine dyes , Salicylic acid metal salts, boron complexes of benzylic acid, sulfonic acid group-containing polymers, fluorine-containing polymers, halogen-substituted aromatic ring-containing polymers, metal complexes of salicylic acid alkyl derivatives, cetyltrimethylammonium bromide, and the like.
流動化剤としては、コロイダルシリカ、アルミナ粉末、酸化チタン粉末、炭酸カルシウム粉末、チタン酸バリウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、ケイ砂、クレー、雲母、ケイ灰石、ケイソウ土、酸化クロム、酸化セリウム、ベンガラ、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、炭酸バリウム等が挙げられる。 As a fluidizing agent, colloidal silica, alumina powder, titanium oxide powder, calcium carbonate powder, barium titanate, magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate, zinc oxide, silica sand, clay, mica, wollastonite, Examples thereof include diatomaceous earth, chromium oxide, cerium oxide, bengara, antimony trioxide, magnesium oxide, zirconium oxide, barium sulfate, and barium carbonate.
トナー用樹脂粒子とする場合の組成比は、樹脂粒子(I)の重量に基づき結晶性樹脂(A)および非結晶性樹脂(B)の合計が、好ましくは30〜97%、さらに好ましくは40〜95%、とくに好ましくは45〜92%;着色剤が、好ましくは0.05〜60%、さらに好ましくは0.1〜55%、とくに好ましくは0.5〜50%;添加剤のうち、離型剤が、好ましくは0〜30%、さらに好ましくは0.5〜20%、とくに好ましくは1〜10%;荷電制御剤が、好ましくは0〜20%、さらに好ましくは0.1〜10%、とくに好ましくは0.5〜7.5%;流動化剤が、好ましくは0〜10%、さらに好ましくは0〜5%、とくに好ましくは0.1〜4%である。また、添加剤の合計含有量は、好ましくは3〜70%、さらに好ましくは4〜58%、とくに好ましくは5〜50%である。樹脂粒子の組成比が上記の範囲であることで帯電性が良好なものを容易に得ることができる。 The composition ratio of the toner resin particles is preferably 30 to 97%, more preferably 40%, based on the weight of the resin particles (I), the total of the crystalline resin (A) and the amorphous resin (B). ~ 95%, particularly preferably 45 to 92%; the colorant is preferably 0.05 to 60%, more preferably 0.1 to 55%, particularly preferably 0.5 to 50%; The release agent is preferably 0-30%, more preferably 0.5-20%, particularly preferably 1-10%; the charge control agent is preferably 0-20%, more preferably 0.1-10. %, Particularly preferably 0.5 to 7.5%; the fluidizing agent is preferably 0 to 10%, more preferably 0 to 5%, particularly preferably 0.1 to 4%. The total content of additives is preferably 3 to 70%, more preferably 4 to 58%, and particularly preferably 5 to 50%. When the composition ratio of the resin particles is in the above range, a resin having good chargeability can be easily obtained.
トナー用に用いる場合、樹脂粒子(I)は、必要に応じて、キャリアー粒子{鉄粉、ガラスビーズ、ニッケル粉、フェライト、マグネタイト及び樹脂(アクリル樹脂及びシリコーン樹脂等)により表面をコーティングしたフェライト等}と混合して、電気的潜像の現像剤として用いることができる。また、キャリアー粒子のかわりに、帯電ブレード等と摩擦させて、電気的潜像を形成させることもできる。
そして、電気的潜像は、公知の熱ロール定着方法等によって、支持体(紙及びポリエステルフィルム等)に定着される。
When used for toner, the resin particles (I) are, if necessary, carrier particles {iron powder, glass beads, nickel powder, ferrite, magnetite, and ferrite whose surface is coated with resin (acrylic resin, silicone resin, etc.) } Can be used as a developer of an electric latent image. Further, instead of the carrier particles, an electric latent image can be formed by friction with a charging blade or the like.
The electric latent image is fixed on a support (paper, polyester film, etc.) by a known hot roll fixing method or the like.
以下実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be further described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
製造例1(非結晶性部cの製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応容器中に、ビスフェノールA・EO2モル付加物74部、イソフタル酸32部および縮合触媒としてジブチルチンオキサイド1部を入れ、常圧で230℃で5時間反応し、さらに10〜15mmHgの減圧で2時間反応した。次いで、180℃まで冷却し、常圧密閉下で2時間反応後取り出し、室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、非結晶性重縮合ポリエステル樹脂[非結晶性部c1]を得た。[非結晶性部c1]のMwは5500、水酸基価は41であった。
Production Example 1 (Production of amorphous part c)
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, and a nitrogen introduction tube, 74 parts of bisphenol A · EO 2 molar adduct, 32 parts of isophthalic acid and 1 part of dibutyltin oxide as a condensation catalyst were placed at 230 ° C. under normal pressure. The reaction was continued for 2 hours, and further under reduced pressure of 10 to 15 mmHg for 2 hours. Subsequently, it cooled to 180 degreeC, took out after reaction for 2 hours under normal pressure sealing, cooled to room temperature, grind | pulverized and granulated, and obtained the amorphous polycondensation polyester resin [amorphous part c1]. [Non-crystalline part c1] had a Mw of 5500 and a hydroxyl value of 41.
製造例2(結晶性部b兼結晶性樹脂Aの製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応槽中に、セバシン酸159部、アジピン酸11部、1,4−ブタンジオール108部、および縮合触媒としてチタニウムジヒドロキシビス(トリエタノールアミネート)0.5部を入れ、180℃で窒素気流下に、生成する水を留去しながら8時間反応させた。次いで225℃まで徐々に昇温しながら、窒素気流下に、生成する水および1,4−ブタンジオールを留去しながら4時間反応させ、さらに5〜20mmHgの減圧下に反応させ、Mwがおよそ10000になった時点で取り出した。取り出した樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、結晶性重縮合ポリエステル樹脂[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]を得た。[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]のTaAは57℃、軟化温度は59℃、Mwは11000、水酸基価は30であった。
Production Example 2 (Production of crystalline part b and crystalline resin A)
In a reactor equipped with a condenser, stirrer and nitrogen inlet tube, 159 parts sebacic acid, 11 parts adipic acid, 108 parts 1,4-butanediol, and titanium dihydroxybis (triethanolamate) 0 as condensation catalyst .5 parts was added and reacted at 180 ° C. under a nitrogen stream for 8 hours while distilling off generated water. Next, while gradually raising the temperature to 225 ° C., the reaction is carried out for 4 hours while distilling off the generated water and 1,4-butanediol under a nitrogen stream, and the reaction is further carried out under a reduced pressure of 5 to 20 mmHg. When it became 10,000, it took out. The taken-out resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a crystalline polycondensed polyester resin [crystalline resin A1 / crystalline part b1]. [Crystalline resin A1 / crystalline part b1] had a TaA of 57 ° C., a softening temperature of 59 ° C., an Mw of 11000, and a hydroxyl value of 30.
製造例3(結晶性部b兼結晶性樹脂Aの製造)
攪拌装置および脱水装置のついた反応容器に、1,4−ブタンジオール2部、ε−カプロラクトン650部、ジブチルチンオキサイド2部を投入し、常圧、窒素雰囲気下、150℃で10時間反応を行った。さらに得られた樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、ラクトン開環重合物である結晶性ポリエステル樹脂[結晶性樹脂A2・結晶性部b2]を得た。[結晶性樹脂A2・結晶性部b2]のTaAは60℃、軟化温度は67℃、Mwは6000、水酸基価は50であった。
Production Example 3 (Production of crystalline part b and crystalline resin A)
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a dehydrator, 2 parts of 1,4-butanediol, 650 parts of ε-caprolactone, and 2 parts of dibutyltin oxide are added, and the reaction is carried out at 150 ° C. for 10 hours under normal pressure and nitrogen atmosphere. went. Further, the obtained resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a crystalline polyester resin [crystalline resin A2 / crystalline part b2] which is a lactone ring-opening polymer. [Crystalline resin A2 / crystalline part b2] had a TaA of 60 ° C., a softening temperature of 67 ° C., an Mw of 6000, and a hydroxyl value of 50.
製造例4(結晶性樹脂Aの製造)
攪拌装置および脱水装置のついた反応容器に、テレフタル酸420部、イソフタル酸180部、1,5−ペンタンジオール400部、ジブチルチンオキサイド2部を投入し、常圧、230℃で5時間脱水反応を行った後、0.5kPaの減圧下で5時間脱水反応を行った。さらに得られた樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、結晶性重縮合ポリエステル樹脂[結晶性樹脂A3]を得た。[結晶性樹脂A3]のTaAは85℃、軟化温度は100℃、Mwは9000、水酸基価は28であった。
Production Example 4 (Production of crystalline resin A)
A reaction vessel equipped with a stirrer and a dehydrator is charged with 420 parts of terephthalic acid, 180 parts of isophthalic acid, 400 parts of 1,5-pentanediol, and 2 parts of dibutyltin oxide, and dehydrated at normal pressure and 230 ° C. for 5 hours. Then, dehydration reaction was performed for 5 hours under a reduced pressure of 0.5 kPa. Further, the obtained resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a crystalline polycondensed polyester resin [crystalline resin A3]. [Crystalline Resin A3] had a TaA of 85 ° C., a softening temperature of 100 ° C., an Mw of 9000, and a hydroxyl value of 28.
製造例5(結晶性樹脂Aの製造)
攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート44部およびMEK100部を仕込んだ。この溶液にシクロヘキサンジメタノール32部を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この末端にイソシアネート基を有する非結晶性ポリウレタン樹脂[非結晶性部c2]の溶液を、MEK140部に[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]140部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[結晶性樹脂A4]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[結晶性樹脂A4]のTaAは55℃、軟化温度は59℃、Mwは28000であった。
Production Example 5 (Production of crystalline resin A)
A reaction vessel equipped with a stir bar and a thermometer was charged with 44 parts of tolylene diisocyanate and 100 parts of MEK. This solution was charged with 32 parts of cyclohexanedimethanol and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Next, a solution of the non-crystalline polyurethane resin having an isocyanate group at the end [non-crystalline part c2] is added to a solution in which 140 parts of [crystalline resin A1 / crystalline part b1] are dissolved in 140 parts of MEK. And a reaction at 80 ° C. for 4 hours to obtain a MEK solution of [crystalline resin A4] composed of a crystalline part and an amorphous part. After removal of the solvent, [Crystalline Resin A4] had a TaA of 55 ° C., a softening temperature of 59 ° C., and an Mw of 28000.
製造例6(結晶性樹脂Aの製造)
攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート44部およびMEK100部を仕込んだ。この溶液にシクロヘキサンジメタノール32部を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この末端にイソシアネート基を有する非結晶性ポリウレタン樹脂[非結晶性部c2]の溶液を、MEK140部に[結晶性樹脂A2・結晶性部b2]140部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[結晶性樹脂A5]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[結晶性樹脂A5]のTaAは58℃、軟化温度は61℃、Mwは21000であった。
Production Example 6 (Production of crystalline resin A)
A reaction vessel equipped with a stir bar and a thermometer was charged with 44 parts of tolylene diisocyanate and 100 parts of MEK. This solution was charged with 32 parts of cyclohexanedimethanol and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Next, a solution of the non-crystalline polyurethane resin having an isocyanate group at the terminal [non-crystalline part c2] is added to a solution in which 140 parts of [crystalline resin A2 / crystalline part b2] are dissolved in 140 parts of MEK. And a reaction at 80 ° C. for 4 hours to obtain a MEK solution of [crystalline resin A5] composed of a crystalline part and an amorphous part. After removing the solvent, [Crystalline Resin A5] had TaA of 58 ° C., a softening temperature of 61 ° C., and Mw of 21000.
製造例7(結晶性樹脂Aの製造)
攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート43部およびMEK100部を仕込んだ。この溶液にシクロヘキサンジメタノール33部を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この末端にイソシアネート基を有する非結晶性ポリウレタン樹脂[非結晶性部c3]の溶液を、MEK140部に[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]140部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[結晶性樹脂A6]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[結晶性樹脂A6]のTaAは57℃、軟化温度は59℃、Mwは26000であった。
Production Example 7 (Production of crystalline resin A)
A reaction vessel equipped with a stir bar and a thermometer was charged with 43 parts of tolylene diisocyanate and 100 parts of MEK. This solution was charged with 33 parts of cyclohexanedimethanol and allowed to react at 80 ° C. for 2 hours. Next, a solution of an amorphous polyurethane resin having an isocyanate group at the end [amorphous part c3] is added to a solution in which 140 parts of [crystalline resin A1 / crystalline part b1] are dissolved in 140 parts of MEK. And a reaction at 80 ° C. for 4 hours to obtain a MEK solution of [crystalline resin A6] composed of a crystalline part and an amorphous part. After removal of the solvent, [Crystalline Resin A6] had a TaA of 57 ° C., a softening temperature of 59 ° C., and an Mw of 26000.
製造例8(結晶性樹脂Aの製造)
攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート38部およびMEK100部を仕込んだ。この溶液にシクロヘキサンジメタノール27部を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この末端にイソシアネート基を有する非結晶性ポリウレタン樹脂[非結晶性部c4]の溶液を、MEK140部に[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]151部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[結晶性樹脂A7]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[結晶性樹脂A7]のTaAは52℃、軟化温度は59℃、Mwは30000であった。
Production Example 8 (Production of crystalline resin A)
A reaction vessel equipped with a stir bar and a thermometer was charged with 38 parts of tolylene diisocyanate and 100 parts of MEK. This solution was charged with 27 parts of cyclohexanedimethanol and allowed to react at 80 ° C. for 2 hours. Next, a solution of the non-crystalline polyurethane resin [non-crystalline part c4] having an isocyanate group at the terminal is added to a solution in which 151 parts of [crystalline resin A1 / crystalline part b1] are dissolved in 140 parts of MEK. And a reaction at 80 ° C. for 4 hours to obtain a MEK solution of [crystalline resin A7] composed of a crystalline part and an amorphous part. After removing the solvent, [Crystalline Resin A7] had a TaA of 52 ° C., a softening temperature of 59 ° C., and an Mw of 30000.
製造例9(結晶性樹脂Aの製造)
次に攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート10部およびMEK30部を仕込んだ。この溶液にMEK45部に[非結晶性部c1]68部を溶かした溶液を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この溶液を、MEK135部に[結晶性樹脂A1・結晶性部b1]133部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[結晶性樹脂A8]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[結晶性樹脂A8]のTaAは55℃、軟化温度は57℃、Mwは27000であった。
Production Example 9 (Production of crystalline resin A)
Next, 10 parts of tolylene diisocyanate and 30 parts of MEK were charged into a reaction vessel equipped with a stirring bar and a thermometer. A solution prepared by dissolving 68 parts of [noncrystalline part c1] in 45 parts of MEK was added to this solution and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Next, this solution is added to a solution in which 133 parts of [crystalline resin A1 / crystalline part b1] are dissolved in 135 parts of MEK and reacted at 80 ° C. for 4 hours. A MEK solution of [crystalline resin A8] constituted was obtained. After removing the solvent, [crystalline resin A8] had a TaA of 55 ° C., a softening temperature of 57 ° C., and an Mw of 27,000.
比較製造例1(比較用結晶性樹脂A’の製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応槽中に、セバシン酸100部、アジピン酸52部と1,4−ブタンジオール64部、1,3−プロピレングリコール60部および縮合触媒としてチタニウムジヒドロキシビス(トリエタノールアミネート)1部を入れ、を仕込み、180℃で窒素気流下に、生成する水を留去しながら8時間反応させた。次いで210℃まで徐々に昇温しながら、窒素気流下に、生成する水および1,4−ブタンジオール、1,3−プロピレングリコールを留去しながら2時間反応させ、さらに5〜20mmHgの減圧下に反応させ、Mwがおよそ5000になった時点で取り出した。取り出した樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、結晶性重縮合ポリエステル樹脂[比較用結晶性樹脂A’9・結晶性部b’1]を得た。[比較用結晶性樹脂A’9・結晶性部b’1]のTaは28℃、軟化温度は33℃、Mwは5000、水酸基価は83であった。
Comparative Production Example 1 (Production of Comparative Crystalline Resin A ′)
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer and a nitrogen introduction tube, 100 parts of sebacic acid, 52 parts of adipic acid and 64 parts of 1,4-butanediol, 60 parts of 1,3-propylene glycol and titanium dihydroxy as a condensation catalyst 1 part of bis (triethanolaminate) was added, and the mixture was charged and reacted at 180 ° C. under a nitrogen stream for 8 hours while distilling off the generated water. Next, while gradually raising the temperature to 210 ° C., the reaction was carried out for 2 hours while distilling off the generated water, 1,4-butanediol and 1,3-propylene glycol under a nitrogen stream, and further under reduced pressure of 5 to 20 mmHg. It was taken out when Mw became about 5000. The taken-out resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a crystalline polycondensed polyester resin [Comparative crystalline resin A′9 / crystalline part b′1]. [Comparative crystalline resin A′9 / crystalline part b′1] had a Ta of 28 ° C., a softening temperature of 33 ° C., an Mw of 5000, and a hydroxyl value of 83.
比較製造例2(比較用結晶性樹脂A’の製造)
攪拌装置および脱水装置のついた反応容器に、テレフタル酸250部、アジピン酸290部、1,6−ヘキサンジオール460部、および縮合触媒としてジブチルチンオキサイド2部を入れ、常圧で230℃で5時間脱水反応を行った後、0.5kPaの減圧下で5時間脱水反応を行った。さらに得られた樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、結晶性重縮合ポリエステル樹脂[比較用結晶性樹脂A’10]を得た。[比較用結晶性樹脂A’10]は、Mwは7000、Taは105℃、軟化温度は115℃、水酸基価35であった。
Comparative Production Example 2 (Production of Comparative Crystalline Resin A ′)
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a dehydrator, 250 parts of terephthalic acid, 290 parts of adipic acid, 460 parts of 1,6-hexanediol, and 2 parts of dibutyltin oxide as a condensation catalyst were placed at 230 ° C. under normal pressure. After the time dehydration reaction, the dehydration reaction was performed under a reduced pressure of 0.5 kPa for 5 hours. Further, the obtained resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a crystalline polycondensed polyester resin [crystalline resin for comparison A′10]. [Comparative crystalline resin A′10] had Mw of 7000, Ta of 105 ° C., softening temperature of 115 ° C., and hydroxyl value of 35.
比較製造例3(比較用結晶性樹脂A’の製造)
攪拌棒および温度計をセットした反応容器に、トリレンジイソシアネート59部およびMEK80部を仕込んだ。この溶液にシクロヘキサンジメタノール46部を仕込み80℃で2時間反応させた。次に、この末端にイソシアネート基を有する非結晶性ポリウレタン樹脂[非結晶性部c’1]の溶液を、MEK95部に[比較用結晶性樹脂A’9・結晶性部b’1]95部を溶解させた溶液へ投入し、80℃で4時間反応して、結晶性部と非結晶性部で構成される[比較用結晶性樹脂A’11]のMEK溶液を得た。溶剤を除いた後の[比較用結晶性樹脂A’11]のTaは68℃、軟化温度は85℃、Mwは26000であった。
Comparative Production Example 3 (Production of Comparative Crystalline Resin A ′)
A reaction vessel equipped with a stir bar and a thermometer was charged with 59 parts of tolylene diisocyanate and 80 parts of MEK. This solution was charged with 46 parts of cyclohexanedimethanol and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Next, a solution of the non-crystalline polyurethane resin having an isocyanate group at the terminal [non-crystalline part c′1] is added to 95 parts of MEK 95 parts [crystalline resin A′9 for comparison / crystalline part b′1] 95 parts. Was added to the solution in which the solution was dissolved and reacted at 80 ° C. for 4 hours to obtain a MEK solution of [crystalline resin for comparison A′11] composed of a crystalline part and an amorphous part. [Comparative crystalline resin A′11] after removing the solvent had Ta of 68 ° C., softening temperature of 85 ° C., and Mw of 26000.
製造例10(非結晶性樹脂Bの製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応容器中に、ビスフェノールA・PO2モル付加物67部、ビスフェノールA・PO3モル付加物700部、テレフタル酸260部および縮合触媒としてジブチルチンオキサイド1部を入れ、常圧で230℃で5時間反応し、さらに10〜15mmHgの減圧で2時間反応した。次いで、180℃まで冷却し、無水トリメリット酸24部を加え、常圧密閉下で2時間反応後取り出し、室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、非結晶性重縮合ポリエステル樹脂[非結晶性樹脂B1]を得た。[非結晶性樹脂B1]のMwは5500、TaBは52℃であった。
Production Example 10 (Production of Amorphous Resin B)
In a reaction vessel equipped with a condenser, a stirrer and a nitrogen introduction tube, 67 parts of bisphenol A / PO2 molar adduct, 700 parts of bisphenol A / PO3 molar adduct, 260 parts of terephthalic acid and 1 part of dibutyltin oxide as a condensation catalyst The mixture was reacted at 230 ° C. for 5 hours at normal pressure, and further reacted for 2 hours at a reduced pressure of 10 to 15 mmHg. Next, the mixture was cooled to 180 ° C., 24 parts of trimellitic anhydride was added, the reaction was taken out for 2 hours under normal pressure sealing, and the mixture was taken out, cooled to room temperature, pulverized and granulated, and non-crystalline polycondensed polyester resin [non-crystalline resin B1] was obtained. [Amorphous resin B1] had an Mw of 5500 and TaB of 52 ° C.
製造例11(非結晶性樹脂Bの製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応槽中に、1,2−プロピレングリコール701部(18.8モル)、テレフタル酸ジメチルエステル716部(7.5モル)、アジピン酸180部(2.5モル)、および縮合触媒としてテレフタル酸チタン3部を入れ、180℃で窒素気流下に、生成するメタノールを留去しながら8時間反応させた。次いで230℃まで徐々に昇温しながら、窒素気流下に、生成する1,2−プロピレングリコール、水を留去しながら4時間反応させ、さらに5〜20mmHgの減圧下に反応させ、軟化温度が150℃になった時点で取り出した。回収された1,2−プロピレングリコールは316部(8.5モル)であった。取り出した樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、非結晶性重縮合ポリエステル樹脂[非結晶性樹脂B2]を得た。[非結晶性樹脂B2]のTaBは48℃、Mwは10000であった。
なお、( )内のモル数は、相対的なモル比(モル部)を意味する(以下同様)。
Production Example 11 (Production of Amorphous Resin B)
In a reaction vessel equipped with a condenser, a stirrer, and a nitrogen inlet tube, 701 parts (1,8 mol) of 1,2-propylene glycol, 716 parts (7.5 mol) of dimethyl terephthalate, 180 parts of adipic acid ( 2.5 mol), and 3 parts of titanium terephthalate as a condensation catalyst were allowed to react at 180 ° C. for 8 hours while distilling off the produced methanol under a nitrogen stream. Next, while gradually raising the temperature to 230 ° C., the reaction is carried out for 4 hours while distilling off 1,2-propylene glycol and water produced under a nitrogen stream, and further the reaction is carried out under a reduced pressure of 5 to 20 mmHg. When it reached 150 ° C., it was taken out. The recovered 1,2-propylene glycol was 316 parts (8.5 mol). The taken-out resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain a non-crystalline polycondensed polyester resin [non-crystalline resin B2]. [Amorphous resin B2] had TaB of 48 ° C. and Mw of 10,000.
In addition, the number of moles in () means a relative molar ratio (mole part) (the same applies hereinafter).
比較製造例4(比較用非結晶性樹脂B’の製造)
冷却管、撹拌機および窒素導入管の付いた反応槽中に、1,2−プロピレングリコール701部(18.8モル)、テレフタル酸ジメチルエステル286部(3.0モル)、アジピン酸432部(6.0モル)、および縮合触媒としてテレフタル酸チタン3部を入れ、180℃で窒素気流下に、生成するメタノールを留去しながら8時間反応させた。次いで230℃まで徐々に昇温しながら、窒素気流下に、生成する1,2−プロピレングリコール、水を留去しながら4時間反応させ、さらに5〜20mmHgの減圧下に反応させ、軟化温度が90℃になった時点で取り出した。回収された1,2−プロピレングリコールは316部(8.5モル)であった。取り出した樹脂を室温まで冷却後、粉砕し粒子化し、非結晶性重縮合ポリエステル樹脂[比較用非結晶性樹脂B’3]を得た。[比較用非結晶性樹脂B’3]のTaは28℃、Mwは11000であった。
Comparative Production Example 4 (Production of comparative non-crystalline resin B ′)
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer and a nitrogen introduction tube, 701 parts (1,8.8 mol) of 1,2-propylene glycol, 286 parts (3.0 mol) of dimethyl terephthalate, 432 parts of adipic acid ( 6.0 mol), and 3 parts of titanium terephthalate as a condensation catalyst were added and reacted at 180 ° C. for 8 hours while distilling off the produced methanol under a nitrogen stream. Next, while gradually raising the temperature to 230 ° C., the reaction is carried out for 4 hours while distilling off 1,2-propylene glycol and water produced under a nitrogen stream, and further the reaction is carried out under a reduced pressure of 5 to 20 mmHg. When it reached 90 ° C., it was taken out. The recovered 1,2-propylene glycol was 316 parts (8.5 mol). The taken-out resin was cooled to room temperature and then pulverized into particles to obtain an amorphous polycondensed polyester resin [non-crystalline resin for comparison B′3]. [Comparative Amorphous Resin B′3] had a Ta of 28 ° C. and an Mw of 11,000.
製造例12(着色剤分散液の製造)
ビーカー内に銅フタロシアニン20部と着色剤分散剤(ソルスパーズ28000;アビシア株式会社製)4部、および酢酸エチル76部を入れ、攪拌して均一分散させた後、ビーズミルによって銅フタロシアニンを微分散して、[着色剤分散液1]を得た。[着色剤分散液1]をLA−920で測定した体積平均粒径は0.3μmであった。
Production Example 12 (Production of Colorant Dispersion)
In a beaker, 20 parts of copper phthalocyanine, 4 parts of a colorant dispersant (Solspers 28000; manufactured by Avicia Co., Ltd.) and 76 parts of ethyl acetate were stirred and uniformly dispersed. [Colorant dispersion 1] was obtained. The volume average particle diameter of [Colorant Dispersion Liquid 1] measured by LA-920 was 0.3 μm.
製造例13(変性ワックスの製造)
温度計および撹拌機の付いたオートクレーブ反応槽中に、キシレン454部、低分子量ポリエチレン(三洋化成工業(株)製 サンワックス LEL−400:軟化温度128℃)150部を投入し、窒素置換後170℃に昇温して十分溶解し、スチレン595部、メタクリル酸メチル255部、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート34部およびキシレン119部の混合溶液を170℃で3時間で滴下して重合し、さらにこの温度で30分間保持した。次いで脱溶剤を行い、[変性ワックス 1]を得た。[変性ワックス 1]のグラフト鎖のSP値は 10.35(cal/cm3)1/2、Mnは1870、Mwは5190、Tgは56.9℃であった。
Production Example 13 (Production of modified wax)
In an autoclave reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer, 454 parts of xylene and 150 parts of low molecular weight polyethylene (Sanwa Kasei Kogyo Co., Ltd. sun wax LEL-400: softening temperature 128 ° C.) were added, and after nitrogen substitution, 170 parts were obtained. The temperature was raised to 0 ° C. and dissolved sufficiently, and a mixed solution of 595 parts of styrene, 255 parts of methyl methacrylate, 34 parts of di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate and 119 parts of xylene was added dropwise at 170 ° C. over 3 hours for polymerization. And kept at this temperature for 30 minutes. Next, the solvent was removed to obtain [modified wax 1]. The SP value of the graft chain of [modified wax 1] was 10.35 (cal / cm 3 ) 1/2 , Mn was 1870, Mw was 5190, and Tg was 56.9 ° C.
製造例14(ワックス分散液の製造)
温度計および撹拌機の付いた反応容器中に、パラフィンワックス(融点73℃)10部、[変性ワックス1]1部、酢酸エチル33部を投入し、78℃に加熱して充分溶解し、1時間で30℃まで冷却を行いワックスを微粒子状に晶析させ、さらにウルトラビスコミル(アイメックス製)で湿式粉砕し、[ワックス分散液1]を得た。
Production Example 14 (Production of wax dispersion)
In a reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer, 10 parts of paraffin wax (melting point: 73 ° C.), 1 part of [modified wax 1] and 33 parts of ethyl acetate are added, heated to 78 ° C. and sufficiently dissolved. After cooling to 30 ° C. over time, the wax was crystallized into fine particles and further wet-pulverized with Ultraviscomyl (manufactured by IMEX) to obtain [Wax Dispersion 1].
製造例15(結晶性樹脂分散液の製造)
温度計および撹拌機の付いた反応容器中に、[結晶性樹脂A1]10部、MEK5部および酢酸エチル5部を入れ、78℃まで加温し攪拌して均一分散させ、78℃に加熱して充分溶解し、1時間で30℃まで冷却を行い[結晶性樹脂A1]を微粒子状に晶析させ、さらにウルトラビスコミル(アイメックス製)で湿式粉砕し、[結晶性樹脂分散液A1]を得た。
Production Example 15 (Production of crystalline resin dispersion)
In a reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer, 10 parts of [Crystalline Resin A1], 5 parts of MEK and 5 parts of ethyl acetate are heated to 78 ° C., stirred and uniformly dispersed, and heated to 78 ° C. Then, the solution is cooled to 30 ° C. in 1 hour to crystallize [Crystalline Resin A1] into fine particles, and then wet pulverized with Ultraviscomyl (manufactured by IMEX). Obtained.
製造例16(結晶性樹脂分散液の製造)
[結晶性樹脂A1]の代わりに、[結晶性樹脂A2]〜[結晶性樹脂A8]を各々用いる以外は製造例15と同様にして、[結晶性樹脂分散液A2]〜[結晶性樹脂分散液A8]を得た。
Production Example 16 (Production of crystalline resin dispersion)
Instead of [Crystalline Resin A1], [Crystalline Resin A2] to [Crystalline Resin A8] are used in the same manner as in Production Example 15, except that [Crystalline Resin Dispersion A2] to [Crystalline Resin Dispersion] are used. Liquid A8] was obtained.
比較製造例5(比較用結晶性樹脂分散液の製造)
[結晶性樹脂A1]の代わりに、[比較用結晶性樹脂A’9]〜[比較用結晶性樹脂A’11]を各々用いる以外は製造例15と同様にして、[比較用結晶性樹脂分散液A’9]〜[比較用結晶性樹脂分散液A’11]を得た。
Comparative Production Example 5 (Production of comparative crystalline resin dispersion)
Instead of [Crystalline Resin A1], [Comparative Crystalline Resin A′9] to [Comparative Crystalline Resin A′11] are used in the same manner as in Production Example 15, except that [Comparative Crystalline Resin A1] is used. Dispersions A′9] to [Crystalline resin dispersion A′11 for comparison] were obtained.
製造例17(非結晶性樹脂溶液の製造)
温度計および撹拌機の付いた反応容器中に、[非結晶性樹脂B1]10部、MEK5部および酢酸エチル5部を入れ、70℃まで加温し攪拌して均一分散させ、さらに室温まで冷やして[非結晶性樹脂溶液B1]を得た。
Production Example 17 (Production of amorphous resin solution)
In a reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer, 10 parts of [Amorphous Resin B1], 5 parts of MEK and 5 parts of ethyl acetate are added, heated to 70 ° C., stirred and uniformly dispersed, and further cooled to room temperature. [Amorphous resin solution B1] was obtained.
製造例18(非結晶性樹脂溶液の製造)
[非結晶性樹脂B1]の代わりに、[非結晶性樹脂B2]を用いる以外は製造例17と同様にして、[非結晶性樹脂溶液B2]を得た。
Production Example 18 (Production of amorphous resin solution)
[Amorphous resin solution B2] was obtained in the same manner as in Production Example 17, except that [Amorphous resin B2] was used instead of [Amorphous resin B1].
比較製造例6(比較用非結晶性樹脂溶液の製造)
[非結晶性樹脂B1]の代わりに、[比較用非結晶性樹脂B’3]を用いる以外は製造例17と同様にして、[比較用非結晶性樹脂溶液B’3]を得た。
Comparative Production Example 6 (Production of comparative non-crystalline resin solution)
[Comparative Amorphous Resin B′3] was obtained in the same manner as in Production Example 17 except that [Comparative Amorphous Resin B′3] was used instead of [Amorphous Resin B1].
製造例19<樹脂(d)の製造>
撹拌装置、加熱冷却装置、温度計、滴下ロート、および窒素吹き込み管を備えた反応容器に、トルエン500部を仕込み、別のガラス製ビーカーに、トルエン350部、ベヘニルアクリレート(炭素数22個の直鎖アルキル基を有するアルコールのアクリレートプレンマーVA(日本油脂製))120部、メタクリル酸メチル22.5部、(2−パーフルオロデシル)エチルアクリレート(和光純薬製)7.5部、AIBN(アゾビスイソブチロニトリル)10部を仕込み、20℃で撹拌、混合して単量体溶液を調製し、滴下ロートに仕込んだ。反応容器の気相部の窒素置換を行った後に密閉下80℃で2時間かけて単量体溶液を滴下し、滴下終了から2時間、85℃で熟成した後、トルエンを130℃で3時間減圧除去して、結晶性樹脂(d−1)を得た。この樹脂の結晶化度は60%、融点は60℃、Mnは8000であった。
Production Example 19 <Production of Resin (d)>
A reaction vessel equipped with a stirrer, heating / cooling device, thermometer, dropping funnel, and nitrogen blowing tube was charged with 500 parts of toluene, and another glass beaker was charged with 350 parts of toluene and behenyl acrylate (22 carbon atoms directly). 120 parts of an alcohol acrylate premer VA (manufactured by NOF Corporation)), 22.5 parts of methyl methacrylate, 7.5 parts of (2-perfluorodecyl) ethyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), AIBN ( Azobisisobutyronitrile) 10 parts was charged, stirred and mixed at 20 ° C. to prepare a monomer solution, and charged into a dropping funnel. After substituting the gas phase portion of the reaction vessel with nitrogen, the monomer solution was added dropwise at 80 ° C. over 2 hours in a sealed state, and after aging at 85 ° C. for 2 hours from the end of the addition, toluene was added at 130 ° C. for 3 hours. After removing under reduced pressure, a crystalline resin (d-1) was obtained. The crystallinity of this resin was 60%, the melting point was 60 ° C., and Mn was 8,000.
製造例20<粒子(D)の非水系分散液(W)の調製>
ノルマルヘキサン700部、結晶性樹脂(d−1)300部を混合した後、ビーズミル(ダイノーミルマルチラボ:シンマルエンタープライゼス製)で粒径0.3mmのジルコニアビーズを用いて粉砕を行い、乳白色の微粒子分散液[微粒子分散液W1]を得た。この分散液の体積平均粒径は0.4μmであった。
Production Example 20 <Preparation of Nonaqueous Dispersion (W) of Particle (D)>
After mixing 700 parts of normal hexane and 300 parts of crystalline resin (d-1), pulverization was performed using zirconia beads having a particle diameter of 0.3 mm in a bead mill (Dynomill Multilab: manufactured by Shinmaru Enterprises). A milky white fine particle dispersion [fine particle dispersion W1] was obtained. The volume average particle size of this dispersion was 0.4 μm.
製造例21(粒子(D)の水性分散液(W)の製造)
アクリル酸−マレイン酸共重合体(Mn:10000)で被覆された炭酸カルシウム(平均粒径:0.18μm) 60部と、平均重合度800〜900、エーテル化度0.70〜0.80のカルボキシルメチルセルロース 2部及び、イオン交換水 238部をエバラマイルダーで25℃で5時間分散することにより[微粒子分散液W2]を得た。
Production Example 21 (Production of aqueous dispersion (W) of particles (D))
60 parts of calcium carbonate (average particle size: 0.18 μm) coated with an acrylic acid-maleic acid copolymer (Mn: 10000), an average degree of polymerization of 800 to 900, and an etherification degree of 0.70 to 0.80 [Particulate dispersion W2] was obtained by dispersing 2 parts of carboxymethyl cellulose and 238 parts of ion-exchanged water with an Ebara milder at 25 ° C. for 5 hours.
実施例1
ビーカー内に[結晶性樹脂分散液A1]10部、[非結晶性樹脂溶液B1]50部、[ワックス分散液1]27部、および[着色剤分散液1]10部を入れ、50℃にてTK式ホモミキサーで8,000rpmで撹拌し、均一に溶解、分散させて[樹脂溶液1]を得た。
ビーカー内にイオン交換水97部、[微粒子分散液W2]30.5部、カルボキシメチルセルロースナトリウム1部を入れ均一に溶解した。ついで25℃で、TK式ホモミキサーを10,000rpmに撹拌しながら、[樹脂溶液1]75部を投入し2分間撹拌した。ついでこの混合液を撹拌棒および温度計付のコルベンに移し、昇温して35℃で濃度が0.5%以下となるまで酢酸エチルおよびMEKを留去し、樹脂粒子の水性樹脂分散体(X1)を得た。次いで、水性樹脂分散体(X1)に塩酸水溶液を加えPH=1.5にした後、水酸化ナトリウム水溶液を加えPH=9.0にし、また塩酸水溶液を加えPH=4.5にした後、1時間攪拌した。さらにこれを室温まで冷ました後、濾別し、40℃×18時間乾燥を行い、マルチサイザーIIIによる(以下同じ)体積平均粒径が6.3μmの樹脂粒子(I−1)を得た。
Example 1
In a beaker, 10 parts of [Crystalline resin dispersion A1], 50 parts of [Amorphous resin solution B1], 27 parts of [Wax dispersion 1] and 10 parts of [Colorant dispersion 1] are placed at 50 ° C. Then, the mixture was stirred at 8,000 rpm with a TK homomixer and uniformly dissolved and dispersed to obtain [resin solution 1].
In a beaker, 97 parts of ion-exchanged water, 30.5 parts of [fine particle dispersion W2] and 1 part of sodium carboxymethylcellulose were uniformly dissolved. Then, at 25 ° C., 75 parts of [resin solution 1] was added and stirred for 2 minutes while stirring the TK homomixer at 10,000 rpm. Subsequently, this mixed liquid was transferred to a Kolben equipped with a stir bar and a thermometer, and the temperature was raised and ethyl acetate and MEK were distilled off at 35 ° C. until the concentration became 0.5% or less. X1) was obtained. Next, an aqueous hydrochloric acid solution was added to the aqueous resin dispersion (X1) to PH = 1.5, then an aqueous sodium hydroxide solution was added to PH = 9.0, and an aqueous hydrochloric acid solution was added to PH = 4.5. Stir for 1 hour. This was further cooled to room temperature, filtered, and dried at 40 ° C. for 18 hours to obtain resin particles (I-1) having a volume average particle size of 6.3 μm by Multisizer III (hereinafter the same).
実施例2〜10
[樹脂溶液1]の代わりに、下記表1に記載の部数を用いて[樹脂溶液2]〜[樹脂溶液10]を各々製造し、それを用いる以外は実施例1と同様にして、体積平均粒径が6.1〜6.3μmの樹脂粒子(I−2)〜(I−10)を得た。
Examples 2-10
Instead of [Resin Solution 1], [Resin Solution 2] to [Resin Solution 10] were produced using the number of parts shown in Table 1 below, and the volume average was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used. Resin particles (I-2) to (I-10) having a particle diameter of 6.1 to 6.3 μm were obtained.
実施例11
ビーカー内にノルマルデカン120部、[微粒子分散液W1]45部を投入し、ホモミキサー(プライミクス社製)で回転数16000rpmで10秒混合した後、撹拌下に[樹脂溶液1]270部を一気に投入し、1分間分散して分散体を得た。さらにその分散体をエバポレータで40℃、0.01MPaで脱溶剤、続いて濾別、乾燥を行うことで系中の溶剤を除去し、体積平均粒径が6.1μmの樹脂粒子(I−11)を得た。
Example 11
Into a beaker, 120 parts of normal decane and 45 parts of [fine particle dispersion W1] were added and mixed with a homomixer (manufactured by Primix) for 10 seconds at a rotational speed of 16000 rpm. The dispersion was obtained by dispersing for 1 minute. Further, the dispersion was desolvated with an evaporator at 40 ° C. and 0.01 MPa, followed by filtration and drying to remove the solvent in the system, and resin particles (I-11 having a volume average particle diameter of 6.1 μm). )
比較例1〜6
[樹脂溶液1]の代わりに、下記表1に記載の部数を用いて[比較用樹脂溶液1’]〜[比較用樹脂溶液6’]を各々製造し、それを用いる以外は実施例1と同様にして、体積平均粒径が6.1〜6.3μmの比較の樹脂粒子(I’−12)〜(I’−17)を得た。
Comparative Examples 1-6
Instead of [Resin Solution 1], [Comparative Resin Solution 1 ′] to [Comparative Resin Solution 6 ′] were produced using the number of parts shown in Table 1 below, and Example 1 was used except that it was used. Similarly, comparative resin particles (I′-12) to (I′-17) having a volume average particle diameter of 6.1 to 6.3 μm were obtained.
物性測定例
本発明の樹脂粒子(I−1)〜(I−11)、および比較の樹脂粒子(I’−12)〜(I’−17)それぞれの、定着性(最低定着温度)、耐熱保存安定性、および帯電特性を以下に記載の方法で測定した。その結果を表2および表3に示す。
また、実施例1〜11、および比較例1〜6で使用した、結晶性樹脂Aおよび非結晶性樹脂Bをそれぞれ分析した結果を表2および表3に示す。
Measurement Example of Physical Properties Fixing property (minimum fixing temperature) and heat resistance of resin particles (I-1) to (I-11) of the present invention and comparative resin particles (I′-12) to (I′-17), respectively. Storage stability and charging characteristics were measured by the methods described below. The results are shown in Tables 2 and 3.
Tables 2 and 3 show the results of analyzing the crystalline resin A and the amorphous resin B used in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6, respectively.
〔最低定着温度(MFT)〕
樹脂粒子にアエロジルR972(日本アエロジル社製)を1.0%添加し、よく混ぜて均一にした後、この粉体を紙面上に0.6mg/cm2となるよう均一に載せる(このとき粉体を紙面に載せる方法は、熱定着機を外したプリンターを用いる(上記の重量密度で粉体を均一に載せることができるのであれば他の方法を用いてもよい)。この紙を加圧ローラーに定着速度(加熱ローラ周速)213mm/sec、定着圧力(加圧ローラ圧)5kg/cm2の条件で通した時のMFT(最低定着温度)を測定した。MFTが100℃未満であると定着性が非常に良好であると判断される。また、MFT欄が“×”は定着領域なしである。
[Minimum fixing temperature (MFT)]
After adding 1.0% Aerosil R972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) to the resin particles and mixing well, the powder is uniformly placed on the paper surface so as to be 0.6 mg / cm 2 (at this time As a method for placing the body on the paper surface, a printer from which the heat fixing machine is removed is used (other methods may be used as long as the powder can be placed uniformly at the above-mentioned weight density). The MFT (minimum fixing temperature) was measured when passing through a roller under the conditions of a fixing speed (heating roller peripheral speed) of 213 mm / sec and a fixing pressure (pressure roller pressure) of 5 kg / cm 2. In the MFT column, “x” indicates that there is no fixing area.
〔耐熱保存安定性〕
50℃に温調された乾燥機に樹脂粒子を15時間静置し、ブロッキングの程度により下記の基準で評価した。
○ : ブロッキングが発生しない。
△ : ブロッキングが発生するが、力を加えると容易に分散する。
× : ブロッキングが発生し、力を加えても分散しない。
[Heat resistant storage stability]
Resin particles were allowed to stand for 15 hours in a dryer controlled to 50 ° C., and evaluated according to the following criteria based on the degree of blocking.
○: Blocking does not occur.
Δ: Blocking occurs, but disperses easily when force is applied.
X: Blocking occurs and does not disperse even when force is applied.
〔帯電特性〕
50ccの共栓付ガラス瓶に、樹脂粒子0.5g、鉄粉(日本鉄粉株式会社製「F−150」)10gを精秤し、共栓をして23℃、50%RHの雰囲気下でターブラシェーカミキサー(ウイリー・ア・バショッフェン社製)にセットし、回転数90rpmで2分攪拌する。攪拌後の混合粉体0.2gを目開き20μmステンレス金網がセットされたブローオフ粉体帯電量測定装置(京セラケミカル株式会社製TB−203)に装填し、ブロー圧10KPa,吸引圧5KPaの条件で、残存鉄粉の帯電量を測定し、定法により樹脂粒子の帯電量を算出した。なお、トナー用としてはマイナス帯電量が高いほど帯電特性が優れており、−25μC/g以下であれば帯電特性が良好であると判断される。
(Charging characteristics)
In a 50 cc glass bottle with a stopper, 0.5 g of resin particles and 10 g of iron powder (“F-150” manufactured by Nippon Iron Powder Co., Ltd.) are precisely weighed, stoppered and placed in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH. Set in a turbula shaker mixer (manufactured by Willy a Baschofen) and stir for 2 minutes at 90 rpm. 0.2 g of the mixed powder after stirring was loaded into a blow-off powder charge measuring device (TB-203, manufactured by Kyocera Chemical Co., Ltd.) in which a 20 μm stainless wire mesh was set, and the blow pressure was 10 KPa and the suction pressure was 5 KPa. Then, the charge amount of the residual iron powder was measured, and the charge amount of the resin particles was calculated by a conventional method. For toner, the higher the negative charge amount, the better the charging characteristics. If it is −25 μC / g or less, it is judged that the charging characteristics are good.
表2および表3に示したように、本発明の樹脂粒子(実施例1〜11)は、比較例の樹脂粒子と比べて、MFTと耐熱保存安定性が共に優れるという点で、いずれも著しく良好な結果が得られた。 As shown in Tables 2 and 3, the resin particles of the present invention (Examples 1 to 11) are both markedly superior in both MFT and heat-resistant storage stability as compared with the resin particles of Comparative Examples. Good results were obtained.
本発明の樹脂粒子は定着性に優れ、また粒度分布がシャープで、帯電性にも優れる。そのため用途としては、塗料用添加剤、接着剤用添加剤、化粧品用添加剤、紙塗工用添加剤、スラッシュ成形用樹脂、粉体塗料、電子部品製造用スペーサー、触媒用担体、電子写真トナー用母体粒子、静電記録トナー用母体粒子、静電印刷トナー用母体粒子、電子測定機器の標準粒子、電子ペーパー用粒子、医療診断用担体、クロマトグラフ充填剤、電気粘性流体用粒子等として有用である。 The resin particles of the present invention have excellent fixability, a sharp particle size distribution, and excellent chargeability. For this purpose, coating additives, adhesive additives, cosmetic additives, paper coating additives, slush molding resins, powder coatings, spacers for manufacturing electronic components, catalyst carriers, electrophotographic toners Useful as base particles for electrostatic recording, base particles for electrostatic recording toner, base particles for electrostatic printing toner, standard particles for electronic measuring instruments, particles for electronic paper, medical diagnostic carrier, chromatographic filler, particles for electrorheological fluid, etc. It is.
Claims (6)
〔条件1〕 G’(TaI+20)=1×102〜5×105[Pa]
〔条件2〕 G”(TaI+20)=1×102〜5×105[Pa]
[G’:貯蔵弾性率(Pa)、G”:損失弾性率(Pa)、TaI:樹脂粒
子(I)の融解熱の最大ピーク温度(℃)] Resin particles (I) containing a crystalline resin (A) and an amorphous resin (B), the maximum peak temperature (TaA) of melting heat of the crystalline resin (A) is 40 to 100 ° C., the softening temperature To TaA (softening temperature / TaA) is 0.8 to 1.55, the maximum peak temperature (TaB) of heat of fusion of the amorphous resin (B) is 35 to 100 ° C., and the crystalline resin ( A) is a resin selected from polyester resins, polyurethane resins, and composite resins thereof, and the crystalline resin (A) is composed of a crystalline part (b) and an amorphous part (c). Resin particles characterized in that the proportion of (b) in (A) in the case of resin is 50% by weight or more, and the resin particles (I) satisfy the following conditions.
[Condition 1] G ′ (TaI + 20) = 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa]
[Condition 2] G ″ (TaI + 20) = 1 × 10 2 to 5 × 10 5 [Pa]
[G ′: storage elastic modulus (Pa), G ″: loss elastic modulus (Pa), TaI: resin particle
Maximum peak temperature of melting heat of child (I) (° C.)]
〔条件3〕 G’(TaA+20)=50〜1×106[Pa]
〔条件4〕 |LogG”(X)−LogG”(X+20)|>2.0
[G’:貯蔵弾性率(Pa)、G”:損失弾性率(Pa)、TaA:結晶性
樹脂(A)の融解熱の最大ピーク温度(℃)]] The resin particle according to any one of claims 1 to 3, wherein the melting start temperature (X) of the crystalline resin (A) is within a temperature range of (TaA ± 30) ° C, and (A) satisfies the following condition.
[Condition 3] G ′ (TaA + 20) = 50 to 1 × 10 6 [Pa]
[Condition 4] | LogG ″ (X) −LogG ″ (X + 20) |> 2.0
[G ′: storage elastic modulus (Pa), G ″: loss elastic modulus (Pa), TaA: crystallinity
Maximum peak temperature of heat of fusion of resin (A) (° C.)]]
(b){−(c)−(b)}n The crystalline resin (A) is a resin in which a crystalline part (b) and an amorphous part (c) are linearly bonded in the following format, and n is 0.9 to 3.5: 5. The resin particle according to 5.
(B) {-(c)-(b)} n
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010061135A JP5291649B2 (en) | 2009-03-17 | 2010-03-17 | Resin particles |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009065207 | 2009-03-17 | ||
JP2009065207 | 2009-03-17 | ||
JP2009291859 | 2009-12-24 | ||
JP2009291859 | 2009-12-24 | ||
JP2010061135A JP5291649B2 (en) | 2009-03-17 | 2010-03-17 | Resin particles |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011148963A JP2011148963A (en) | 2011-08-04 |
JP5291649B2 true JP5291649B2 (en) | 2013-09-18 |
Family
ID=44536255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010061135A Active JP5291649B2 (en) | 2009-03-17 | 2010-03-17 | Resin particles |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5291649B2 (en) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6086291B2 (en) * | 2011-12-15 | 2017-03-01 | 株式会社リコー | Toner, developer, and toner production method |
JP5948854B2 (en) * | 2011-12-20 | 2016-07-06 | 株式会社リコー | Electrophotographic developer, image forming apparatus, and process cartridge |
JP6236797B2 (en) * | 2012-03-28 | 2017-11-29 | 株式会社リコー | Toner manufacturing method, developer manufacturing method, and image forming method |
WO2013190828A1 (en) * | 2012-06-22 | 2013-12-27 | キヤノン株式会社 | Toner |
KR20150023755A (en) * | 2012-06-22 | 2015-03-05 | 캐논 가부시끼가이샤 | Toner |
US9176406B2 (en) | 2012-08-17 | 2015-11-03 | Ricoh Company, Ltd. | Toner, development agent, image forming apparatus, and process cartridge |
JP2014048638A (en) * | 2012-09-04 | 2014-03-17 | Ricoh Co Ltd | Toner, developer, and image forming apparatus |
JP2014048576A (en) * | 2012-09-03 | 2014-03-17 | Ricoh Co Ltd | Toner for electrostatic charge image development, and image forming apparatus |
JP2014052559A (en) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Ricoh Co Ltd | Toner, developer using the toner, and image forming apparatus |
JP2014071291A (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Ricoh Co Ltd | Toner, developer, and image forming apparatus |
JP2014112191A (en) * | 2012-11-01 | 2014-06-19 | Ricoh Co Ltd | Carrier for developer, toner, developer, developing device, container with developer inside, and image forming apparatus |
JP6260124B2 (en) * | 2013-07-03 | 2018-01-17 | 株式会社リコー | Toner for electrophotography |
JP2015078352A (en) * | 2013-09-12 | 2015-04-23 | 三洋化成工業株式会社 | Resin particle |
JP6279895B2 (en) * | 2013-11-07 | 2018-02-14 | 三洋化成工業株式会社 | Toner binder and toner composition |
JP6679865B2 (en) * | 2015-09-25 | 2020-04-15 | 富士ゼロックス株式会社 | Glittering toner, electrostatic image developer, toner cartridge, process cartridge, image forming apparatus, and image forming method |
JP7118834B2 (en) * | 2017-09-27 | 2022-08-16 | 三洋化成工業株式会社 | Toner binder and resin particles |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3135133B2 (en) * | 1991-03-25 | 2001-02-13 | 東京インキ株式会社 | Fine powder resin and its manufacturing method |
JP4175122B2 (en) * | 2003-01-22 | 2008-11-05 | セイコーエプソン株式会社 | Toner manufacturing method and toner |
JP4928851B2 (en) * | 2006-03-14 | 2012-05-09 | 株式会社リコー | Toner for developing electrostatic image and image forming apparatus using the toner for developing electrostatic image |
JP5467714B2 (en) * | 2007-08-08 | 2014-04-09 | テクノポリマー株式会社 | Laser-sinterable powder and shaped product thereof |
JP5005730B2 (en) * | 2008-05-23 | 2012-08-22 | 三洋化成工業株式会社 | Resin particles and method for producing the same |
-
2010
- 2010-03-17 JP JP2010061135A patent/JP5291649B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011148963A (en) | 2011-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5291649B2 (en) | Resin particles | |
JP5237902B2 (en) | Crystalline resin particles | |
JP5027842B2 (en) | Toner binder and toner | |
KR100837646B1 (en) | Resin Particle | |
JP5763497B2 (en) | Toner binder and toner composition | |
JP5742412B2 (en) | Toner for electrostatic image formation and resin for toner | |
JP6121855B2 (en) | Method for producing resin particles | |
JP2011138120A (en) | Toner | |
JP2006154686A (en) | Polyester resin for toner, toner composition and resin particles | |
JP2010090355A (en) | Resin particles | |
JP2013156475A (en) | Toner for electrostatic image formation and developer | |
JP2007238954A (en) | Resin particles | |
JP2011237790A (en) | Resin particle and producing method for the same | |
JP4976237B2 (en) | Resin particle and method for producing resin particle | |
JP2006307195A (en) | Resin particle | |
JP2019074761A (en) | Method for manufacturing toner and toner | |
JP2011144358A (en) | Resin particle | |
JP2012012481A (en) | Method for producing resin particle, the resultant resin particle, and electrophotographic toner using the same | |
JP4504937B2 (en) | Toner binder | |
JP5705505B2 (en) | Resin particles | |
JP2015078352A (en) | Resin particle | |
JP5101208B2 (en) | Resin particle and method for producing resin particle | |
JP4976228B2 (en) | Resin particle and method for producing resin particle | |
JP5442384B2 (en) | Crystalline resin particles | |
JP4964834B2 (en) | Resin particles |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130604 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5291649 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |