JP5280117B2 - Wafer holding jig and wafer processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウェーハを保持するウェーハ保持治具、及びそれを備えたウェーハ処理装置に関する。 The present invention relates to a wafer holding jig for holding a wafer and a wafer processing apparatus including the same.
シリコンウェーハは、インゴットから、スライス、面取り、ラッピング又は両頭研削、エッチング、鏡面研磨、洗浄等の各工程を経て作製される。これら各工程において、或いは、各工程間においては、処理対象のウェーハがウェーハ保持治具により保持されて、所定の処理、搬送等がされる。また、これら工程間や、工程後において、ウェーハをウェーハ保持治具により保持して外観検査等の検査が行われることもある。 A silicon wafer is produced from an ingot through processes such as slicing, chamfering, lapping or double-head grinding, etching, mirror polishing, and cleaning. In each of these steps or between the steps, a wafer to be processed is held by a wafer holding jig and is subjected to predetermined processing, conveyance, and the like. Further, between these processes and after the process, inspection such as appearance inspection may be performed by holding the wafer with a wafer holding jig.
ウェーハ保持治具としては、例えば、ウェーハの表面又は裏面に接触してウェーハを保持するものが知られている。このようなウェーハ保持治具によると、ウェーハの表面又は裏面に接触するので、表面又は裏面にキズを発生させたり、或いは汚れを付着させたりする虞がある。 As a wafer holding jig, for example, a tool for holding a wafer in contact with the front or back surface of the wafer is known. According to such a wafer holding jig, since it comes into contact with the front surface or the back surface of the wafer, there is a possibility that scratches may be generated on the front surface or the back surface, or dirt may be attached.
これに対して、ウェーハの外周を保持することにより、ウェーハの表面又は裏面へのキズの発生を防止することのできるウェーハ保持具が知られている(例えば、特許文献1)。 On the other hand, there is known a wafer holder capable of preventing generation of scratches on the front surface or the back surface of the wafer by holding the outer periphery of the wafer (for example, Patent Document 1).
特許文献1に記載されたウェーハ保持具によると、ウェーハの表面又は裏面へのキズの発生を防止することができる。しかしながら、ウェーハを保持するための保持体を円弧状に移動させる必要があり、その際には、保持体がウェーハの外周の広範囲を擦ることとなり、ウェーハにキズをつけてしまう虞がある。また、保持体がウェーハの外周を擦ることにより、ウェーハの一部が剥がれてウェーハの平面上に付着してしまう虞もある。 According to the wafer holder described in Patent Document 1, it is possible to prevent generation of scratches on the front surface or the back surface of the wafer. However, it is necessary to move the holding body for holding the wafer in an arc shape. In this case, the holding body rubs over a wide area on the outer periphery of the wafer, which may damage the wafer. Further, when the holding body rubs the outer periphery of the wafer, a part of the wafer may be peeled off and adhere to the plane of the wafer.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、ウェーハを保持する際に、ウェーハに対する損傷の発生を抑えることのできる技術を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique capable of suppressing the occurrence of damage to a wafer when holding the wafer.
上記目的達成のため、本発明の第1の観点に係るウェーハ保持治具は、ウェーハを保持するウェーハ保持治具であって、ウェーハの外周の一部を保持可能なウェーハ保持溝が形成されたウェーハ保持体を複数有し、ウェーハ保持体が複数連結された保持体列を有し、保持体列の複数の第1のウェーハ保持体が、その隣の第2のウェーハ保持体に対してウェーハを保持する側に屈曲することにより、ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持可能な状態となる。係るウェーハ保持治具によると、ウェーハ保持体を、その隣のウェーハ保持体に対してウェーハを保持する側に屈曲することにより、ウェーハを保持することができるので、ウェーハを保持する際に外周を擦ることを防止することができる。 To achieve the above object, the wafer holding jig according to the first aspect of the present invention is a wafer holding jig for holding a wafer, and a wafer holding groove capable of holding a part of the outer periphery of the wafer is formed. There are a plurality of wafer holders, a plurality of wafer holders connected to each other, and a plurality of first wafer holders in the holder row with respect to a second wafer holder adjacent thereto. By bending to the side that holds the wafer, the outer periphery of the wafer can be held in a wider range than the half circumference. According to the wafer holding jig, the wafer holder can be held by bending the wafer holder to the side holding the wafer with respect to the adjacent wafer holder. Rubbing can be prevented.
上記ウェーハ保持治具において、少なくとも1以上の第1のウェーハ保持体と、第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第1の平面同士が平面接触することにより、第1のウェーハ保持体と第2のウェーハ保持体との屈曲状態を規定可能であるようにしてもよい。係るウェーハ保持治具によると、第1の平面同士を平面接触させることによりウェーハ保持体の屈曲状態を適切に規定することができ、ウェーハへの無駄な力の発生を低減することができる。 In the wafer holding jig, at least a part of the first planes of the at least one first wafer holder and the second wafer holder are in plane contact with each other, whereby the first wafer holder is obtained. And the bent state of the second wafer holder may be defined. According to such a wafer holding jig, the bent state of the wafer holder can be properly defined by bringing the first planes into plane contact with each other, and generation of useless force on the wafer can be reduced.
また、上記ウェーハ保持治具において、第1のウェーハ保持体と、第2のウェーハ保持体とは、回動可能に接続されていてもよい。係るウェーハ保持治具によると、ウェーハ保持体同士を直接連結させることができるとともに、適切にウェーハ保持体を回転させることができる。 In the wafer holding jig, the first wafer holding body and the second wafer holding body may be rotatably connected. According to such a wafer holding jig, the wafer holders can be directly connected to each other, and the wafer holders can be appropriately rotated.
また、上記ウェーハ保持治具において、少なくとも1以上の第1のウェーハ保持体と、第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第1の平面同士が平面接触するように、第1又は第2のウェーハ保持体の一方を他方に引っ張るための第1の引張部材を更に有するようにしてもよい。係る構成によると、第1の引張部材によりウェーハ保持体同士を引っ張って、ウェーハ保持体を隣のウェーハ保持体に対して屈曲させることができる。 Further, in the wafer holding jig, the first or first of the at least one first wafer holder and the second wafer holder may be in contact with each other so that at least a part of the first planes are in plane contact with each other. A first tensile member for pulling one of the two wafer holders to the other may be further included. According to such a configuration, the wafer holding bodies can be bent with respect to the adjacent wafer holding bodies by pulling the wafer holding bodies with the first tension member.
また、上記ウェーハ保持治具において、第1及び第2のウェーハ保持体は、ウェーハ保持溝が直線状に伸びて形成されており、少なくとも1以上の第1のウェーハ保持体と、第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第2の平面同士が平面接触することにより、双方のウェーハ保持溝が一直線上に並ぶように規定可能であるようにしてもよい。係るウェーハ保持治具によると、第2の平面同士を平面接触させることによりウェーハ保持体のウェーハ保持溝を一直線上に並ぶようにすることができる。このため、例えば、ウェーハ保持体を屈曲させる前に、ウェーハを位置すべき所定の位置に容易に配置することができる。 In the wafer holding jig, the first and second wafer holders are formed by extending wafer holding grooves in a straight line, and include at least one or more first wafer holders and a second wafer. It may be possible to define that both of the wafer holding grooves are aligned in a straight line when at least a part of the second flat surfaces with the holding body are in plane contact with each other. According to such a wafer holding jig, the wafer holding grooves of the wafer holder can be arranged in a straight line by bringing the second planes into plane contact with each other. For this reason, for example, before bending a wafer holder, a wafer can be easily arranged at a predetermined position where it should be located.
また、上記ウェーハ保持治具において、少なくとも1以上の第1のウェーハ保持体と、第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第2の平面同士が平面接触するように、第1又は第2のウェーハ保持体の一方を他方に引っ張るための第2の引張部材を更に有するようにしてもよい。係る構成によると、第2の引張部材によりウェーハ保持体同士を引っ張って、ウェーハ保持体と隣のウェーハ保持体とのウェーハ保持溝を容易に一直線上に並べることができる。 Further, in the wafer holding jig, the first or second first plane or the second wafer holder may be in contact with each other so that at least a part of the second planes are in plane contact with each other. A second tension member for pulling one of the two wafer holders to the other may be further included. According to this configuration, the wafer holding bodies can be easily aligned in a straight line by pulling the wafer holding bodies together by the second tension member.
また、上記ウェーハ保持治具において、保持体列の一端側の複数のウェーハ保持体と、他端側の複数のウェーハ保持体とは、ウェーハ保持溝が直線状に伸びて形成されており、一端側の複数のウェーハ保持体と、他端側の複数のウェーハ保持体とは、ウェーハの直径と略同じ幅の間隔を持って、互いのウェーハ保持溝が平行となるように規定可能であるようにしてもよい。係るウェーハ保持治具によると、保持対象のウェーハを、これら両端のウェーハ保持体にはさまれる位置に容易に配置することができ、その後、ウェーハを適切に保持することができる。 In the wafer holding jig, the plurality of wafer holders on one end side of the holder row and the plurality of wafer holders on the other end side are formed by extending wafer holding grooves in a straight line. The plurality of wafer holders on the side and the plurality of wafer holders on the other end side can be defined so that the wafer holding grooves are parallel to each other with an interval of approximately the same width as the diameter of the wafer. It may be. According to such a wafer holding jig, the wafer to be held can be easily arranged at a position sandwiched between the wafer holders at both ends, and then the wafer can be appropriately held.
また、上記ウェーハ保持治具において、ウェーハ保持体は、ウェーハを保持する側の最外面が、ウェーハを保持した際にウェーハの中心に対して凹状となるように形成されていてもよい。係るウェーハ保持治具によると、ウェーハ保持体のウェーハを保持する側の最外面が、ウェーハを保持した際にウェーハの中心に対して凹状となっているので、ウェーハを表面又は裏面から観察することのできる領域を広くすることができる。 In the wafer holding jig, the wafer holder may be formed such that the outermost surface on the side holding the wafer is concave with respect to the center of the wafer when the wafer is held. According to such a wafer holding jig, the outermost surface on the side of holding the wafer of the wafer holder is concave with respect to the center of the wafer when the wafer is held. Can be widened.
上記目的達成のため、本発明の第2の観点に係るウェーハ処理装置は、ウェーハを保持するウェーハ保持治具を備え、ウェーハ保持治具により保持したウェーハに関する所定の処理を実行するウェーハ処理装置であって、ウェーハ保持治具を移動させる駆動部を更に備え、ウェーハ保持治具は、ウェーハの外周の一部を保持可能なウェーハ保持溝が形成されたウェーハ保持体を複数有し、ウェーハ保持体が複数連結された保持体列を有し、保持体列の複数の第1のウェーハ保持体が、その隣の第2のウェーハ保持体に対してウェーハを保持する側に屈曲することにより、ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持可能な状態となる。 In order to achieve the above object, a wafer processing apparatus according to a second aspect of the present invention is a wafer processing apparatus that includes a wafer holding jig for holding a wafer and that performs a predetermined process on the wafer held by the wafer holding jig. The wafer holding jig further includes a drive unit for moving the wafer holding jig, and the wafer holding jig includes a plurality of wafer holding bodies in which wafer holding grooves capable of holding a part of the outer periphery of the wafer are formed, and the wafer holding body A plurality of first wafer holders in the holder row are bent toward the side holding the wafer with respect to the second wafer holder adjacent thereto, thereby the wafer It becomes a state which can hold | maintain the outer periphery of this in a part wider than a half periphery.
本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている諸要素及びその組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The embodiments described below do not limit the invention according to the claims, and all the elements and combinations described in the embodiments are essential for the solution of the invention. Is not limited.
まず、本発明の一実施形態に係るウェーハ処理装置について説明する。 First, a wafer processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.
図1は、本発明の一実施形態に係るウェーハ処理装置の構成図であり、図2は、本発明の一実施形態に係る被連結ウェーハ保持体の構成図である。図1は、ウェーハ処理装置の上面外略図であり、図2Aは、ウェーハを開放する状態(開放状態)における被連結ウェーハ保持体の一部の斜視図であり、図2Bは、被連結ウェーハ保持体の略中央における横断面図である。 FIG. 1 is a configuration diagram of a wafer processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration diagram of a connected wafer holder according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic top view of a wafer processing apparatus, FIG. 2A is a perspective view of a part of a connected wafer holder in a state where the wafer is opened (open state), and FIG. It is a transverse cross section in the approximate center of a body.
ウェーハ処理装置1は、例えば、ウェーハWを観察する処理におけるウェーハWの姿勢を変更させるために用いられる。ウェーハ処理装置1は、ウェーハWを保持するウェーハ保持治具3と、ウェーハ保持治具3を保持して駆動制御する駆動制御部2とを有する。駆動制御部2は、ウェーハ保持治具3によるウェーハWの保持動作や開放動作を制御する。具体的には、駆動制御部2は、ワイヤ調整部22に対してワイヤ20、21の巻き取り及び引き出しを制御する。また、駆動制御部2は、ウェーハ保持治具3の直線移動、ウェーハWの平面に平行な面内での回転移動、ウェーハWの平面と平行な面上の軸を中心とした回転移動等を制御する。ウェーハ保持治具3は、駆動制御部2に接続される基部ウェーハ保持体10(ウェーハ保持体の一例)と、基部ウェーハ保持体10に連結される複数の被連結ウェーハ保持体12(ウェーハ保持体の一例)と、被連結ウェーハ保持体12を回動移動等させるとともに連結させるための保持用ワイヤ20及び開放用ワイヤ21と、保持用ワイヤ20及び開放用ワイヤ21の巻き取り、又は引き出しを行うワイヤ調整部22とを有する。
The wafer processing apparatus 1 is used, for example, to change the posture of the wafer W in the process of observing the wafer W. The wafer processing apparatus 1 includes a
基部ウェーハ保持体10は、保持対象のウェーハWの中心Woを通る面での断面が略V字状のウェーハ保持溝11を有する。ウェーハ保持溝11は、ウェーハWの外周に沿うように、ウェーハ中心Woを中心とする中心角が180度以下となる円弧状に形成されている。また、基部ウェーハ保持体10には、複数(例えば、3つ)の被連結ウェーハ保持体12が2組連結されており、2組の複数の被連結ウェーハ保持体12と、基部ウェーハ保持体10とによって、保持体列が形成されている。また、基部ウェーハ保持体10においては、被連結ウェーハ保持体12とワイヤ調整部22との間の保持ワイヤ20及び開放ワイヤ21の経路が形成されている。
The
被連結ウェーハ保持体12は、所定の長手方向に伸びる形状をしており、図2Bに示すように、ウェーハWを保持する側に略V字状のウェーハ保持溝13が形成されている。ウェーハ保持溝13は、図2Aに示すように長手方向に直線状に伸びている。被連結ウェーハ保持体12の基部ウェーハ保持体10側(基部側という)には、長手方向に略垂直な平面である基部側面18が形成されている。一方、被連結ウェーハ保持体12の先端側には、屈曲時規定面16と、開放時規定面17とが形成されている。なお、保持体列の最先端部分となる2つの被連結ウェーハ保持体12aにおいては、屈曲時規定面16及び開放時規定面17に代えて、最先端の被連結ウェーハ保持体12(12a)同士が、ウェーハ保持時に、平面接触することのできる最先端側面19(図1参照)が形成されている。
The
屈曲時規定面16は、ウェーハWを保持する側(ウェーハ保持側)に傾斜した平面として形成されている。屈曲時規定面16の傾斜は、屈曲時規定面16が、隣に連結される被連結ウェーハ保持体12の基部側面18と平面接触すると、隣の被連結ウェーハ保持体12のウェーハ保持溝13の一部が保持対象のウェーハWの外周と接触可能な位置にくるように形成されている。開放時規定面17は、被連結ウェーハ保持体12の長手方向と略垂直な平面に形成されている。この開放時規定面17によると、隣に連結される被連結ウェーハ保持体12の基部側面18と平面接触すると、被連結ウェーハ保持体12と、隣の被連結ウェーハ保持体12とのウェーハ保持溝13とが、略一直線上に並ぶようになる。
The bending
本実施形態では、各先端側(図1の右の先端側と左の先端側)の複数(例えば、3つ)の被連結ウェーハ保持体12のウェーハ保持溝13が略一直線上に並ぶようになっており、更に、各先端側のウェーハ保持溝13が、ウェーハWの略直径の幅を隔てて平行に並ぶようになっている。被連結ウェーハ保持体12の内部のウェーハ保持側には、長手方向に伸びる2組の貫通孔14が形成され、ウェーハ保持側から離れた内部にも、長手方向に伸びる2組の貫通孔15が形成されている。貫通孔14は、屈曲時規定面16を貫通する位置に形成され、貫通孔15は、開放時規定面17を貫通する位置に形成されている。
In the present embodiment, the
貫通孔14には、保持用ワイヤ20が通され、貫通孔15には、開放用ワイヤ21が通されるようになっている。本実施形態では、保持用ワイヤ20は、左右のそれぞれのウェーハ保持体の組毎に、ワイヤ調整部22から基部ウェーハ保持体10を通り、基部側の被連結ウェーハ保持体12から順番に一方の貫通孔14を通り、最先端の被連結ウェーハ保持体12(12a)の最先端に至り、更に、最先端の被連結ウェーハ保持体12の他方の貫通孔14を通り、最先端側の被連結ウェーハ保持体12から順番に他方の貫通孔14を通り、基部ウェーハ保持体10を通り、ワイヤ調整部22に至るようになっている。
The holding
また、開放用ワイヤ21は、ワイヤ調整部22から基部ウェーハ保持体10を通り、基部側の被連結ウェーハ保持体12から順番に一方の貫通孔15を通り、最先端の被連結ウェーハ保持体12(12a)の最先端に至り、更に、最先端の被連結ウェーハ保持体12の他方の貫通孔15を通り、最先端側の被連結ウェーハ保持体12から順番に他方の貫通孔15を通り、基部ウェーハ保持体10を通り、ワイヤ調整部22に至るようになっている。このように、保持用ワイヤ20及び開放用ワイヤ21が各被連結ウェーハ保持体12を通されているので、これら被連結ウェーハ保持体12が連結されることとなる。
Further, the
このような構成により、開放用ワイヤ21を自由に引き出せるようにした状態で、被連結ウェーハ保持体12の両方(2本)の保持用ワイヤ20を巻き取るようにすると、ワイヤ調整部22から最先端の被連結ウェーハ保持体12までの保持用ワイヤ20の長さが短くなるので、先端側の被連結ウェーハ保持体12の基部側面18と、基部側の被連結ウェーハ保持体12の屈曲時規定面16とが面接触するようになり、先端側の被連結ウェーハ保持体12が、その隣の基部側の被連結ウェーハ保持体12に対してウェーハ保持側に屈曲することとなる。なお、面接触すると、それ以上屈曲することがないので、ウェーハWに対して更なる負荷が加えられることがない。
With such a configuration, when both the (two) holding
一方、保持用ワイヤ20を自由に引き出せるようにした状態で、被連結ウェーハ保持体12の両方(2本)の開放用ワイヤ21を巻き取るようにすると、ワイヤ供給部22から最先端の被連結ウェーハ保持体12までの開放用ワイヤ21の長さが短くなるので、先端側の被連結ウェーハ保持体12の基部側面18と、基部側の被連結ウェーハ保持体12の開放時規定面17とが面接触するようになり、先端側の被連結ウェーハ保持体12が、その隣の基部側の被連結ウェーハ保持体12に対して直線上に並ぶようになる。
On the other hand, when both the (two)
次に、ウェーハ処理装置1による処理について説明する。 Next, processing by the wafer processing apparatus 1 will be described.
まず、駆動制御部2がワイヤ調整部22を制御することにより、基部ウェーハ保持体10に連結された左側の組及び右側の組の複数の被連結ウェーハ保持体12を図1に示すような開放状態とする。すなわち、駆動制御部2がワイヤ調整部22により、保持用ワイヤ20を自由にした状態で、開放用ワイヤ21を巻き取ることにより、各組の複数の被連結ウェーハ保持体12をそれぞれのウェーハ保持溝13が直線上に並ぶようにし、各組同士のウェーハ保持溝13がウェーハWの直径と略同じ幅を持って平行になるようにする。
First, the drive control unit 2 controls the
次いで、駆動制御部2がウェーハ保持治具3を、所定の位置に載置されている保持対象のウェーハWに対して、ウェーハ保持治具3の開放側(図1の上側)を向けて略直線的に移動させる。これにより、保持対象のウェーハWが、ウェーハ保持治具3の被連結ウェーハ保持体12の直線上に並ぶウェーハ保持溝13に沿って、基部ウェーハ保持体10のウェーハ保持溝11に接触する位置までくることとなる。なお、この処理においては、ウェーハWは、ウェーハ保持溝13とは、ウェーハWの外周のごく限られた狭い範囲(例えば、図1ではウェーハWの左右の最先端部分の近傍の範囲)しか接触する可能性がないので、ウェーハWに対するキズの発生を低減することができる。このため、ウェーハWから剥がれた異物がウェーハWへ付着することも低減することができる。
Next, the drive control unit 2 moves the
次いで、駆動制御部2が、ワイヤ調整部22を制御することにより、複数の被連結ウェーハ保持体12を図1に示す保持状態にする。すなわち、駆動制御部2がワイヤ調整部22により、開放用ワイヤ21を自由にした状態で、保持用ワイヤ20を巻き取ることにより、先端側の被連結ウェーハ保持体12の基部側面18と、基部側の被連結ウェーハ保持体12の屈曲時規定面16とを面接触させて、先端側の被連結ウェーハ保持体12が、その隣の基部側の被連結ウェーハ保持体12に対してウェーハ保持側に屈曲させて、保持対象のウェーハWの広範囲にな部分おいて、ウェーハ保持体12のウェーハ保持溝13がウェーハWの外周に接触するようにする。この後、保持用ワイヤ20を固定しておくことにより、ウェーハWを保持した状態を維持することができる。
Next, the drive control unit 2 controls the
次いで、駆動制御部2が、ウェーハ保持治具3を移動、回転等させることにより、例えば、ウェーハWの外観検査等の所定の処理を実行可能にする。なお、所定の処理後においては、ウェーハWを載置すべき所定の位置にウェーハ保持治具3を搬送させ、複数の被連結ウェーハ保持体12を開放状態とし、ウェーハ保持治具3を後退させることにより、ウェーハWを所定の位置に載置させることができる。
Next, the drive control unit 2 moves, rotates, etc. the
次に、ウェーハ処理装置の第1変形例について説明する。 Next, a first modification of the wafer processing apparatus will be described.
図3は、本発明の第1変形例に係るウェーハ処理装置の構成図であり、図4は、本発明の第1変形例に係る被連結ウェーハ保持体の構成図である。 FIG. 3 is a block diagram of a wafer processing apparatus according to a first modification of the present invention, and FIG. 4 is a block diagram of a connected wafer holder according to the first modification of the present invention.
第1変形例に係るウェーハ処理装置1は、図1に示すウェーハ処理装置1のウェーハ保持治具3に代えてウェーハ保持治具31を備えるようにしたものであり、具体的には、被連結ウェーハ保持体12を、被連結ウェーハ保持体32に代えたものである。なお、被連結ウェーハ保持体12と同様な機能部分については、同様な符号を付すこととし、ここでは、差異を中心に説明する。
The wafer processing apparatus 1 according to the first modified example includes a
被連結ウェーハ保持体32には、最先端の被連結ウェーハ保持体32aと、最も基部側の被連結ウェーハ保持体32cと、中間部分の被連結ウェーハ保持体32bとの3つの種類がある。なお、右側の組の被連結ウェーハ保持体31と左側の組の被連結ウェーハ保持体31とは、線対称の形状となる。
There are three types of connected wafer holders 32: the most advanced
被連結ウェーハ保持体32bは、先端側に、ウェーハWの平面に垂直な方向(図3では、奥行き方向)の軸を中心とする部分円柱(中心角が360度以下の円柱)形状の2つの先端側連結部33を有し、基部側に、ウェーハWの平面に垂直な方向(図3では、奥行き方向)の軸を中心とする部分円柱(中心角が360度以下の円柱)形状の基部側連結部35を有する。先端側連結部33と基部側連結部35の略中心には、連結するためのピン部材を挿入するための連結孔34、36が穿設されている。また、被連結ウェーハ保持体32bは、先端側の前記2つの先端側連結部33の間に、隣の被連結ウェーハ保持体32の基部側連結部35と回動可能に接触する曲面が形成された連結対応部38を有し、基部側に、隣の被連結ウェーハ保持体32の2つの先端側連結部33を回動可能に接触する曲面が形成された連結対応部37を有する。
The
2つの被連結ウェーハ保持体32を連結した場合には、連結している部分においては、2つの先端側連結部33の一方の平面と、基部側連結部35の2つの平面とが接触するようになっている。この様な構成によって、基部側の被連結ウェーハ保持体12により、先端側の被連結ウェーハ保持体12が支持されることとなり、先端側の被連結ウェーハ保持体12がウェーハWの重み等によりたわむことを適切に防止することができる。また、それぞれの連結孔34,36には、ピン部材が挿入されており、被連結ウェーハ保持体32がピン部材を中心に回動可能となっている。
When the two
最先端の被連結ウェーハ保持体32aは、中間部分の被連結ウェーハ保持体32bにおいて、先端側の構成が図1に示す先端側の被連結ウェーハ保持体12aと同様になっている。また、基部側の被連結ウェーハ保持体32cは、中間部分の被連結ウェーハ保持体32bにおいて、基部側の構成が図1に示す基部側の被連結ウェーハ保持体12cと同様になっている。
The most advanced
次に、本発明の第2変形例に係るウェーハ処理装置1を説明する。 Next, a wafer processing apparatus 1 according to a second modification of the present invention will be described.
図5は、本発明の第2変形例に係るウェーハ処理装置の構成図である。 FIG. 5 is a configuration diagram of a wafer processing apparatus according to a second modification of the present invention.
第2変形例に係るウェーハ処理装置1は、図1に示すウェーハ処理装置1のウェーハ保持治具3に代えてウェーハ保持治具41を備えるようにしたものであり、具体的には、被連結ウェーハ保持体12を、被連結ウェーハ保持体42に代えたものである。なお、被連結ウェーハ保持体12と同様な機能部分については、同様な符号を付すこととし、ここでは、差異を中心に説明する。
The wafer processing apparatus 1 according to the second modification is provided with a
被連結ウェーハ保持体42は、被連結ウェーハ保持体12において、ウェーハWを保持した際に、所定のウェーハ観察方向(図1の図面手前方向又は、奥行き方向)から、ウェーハWの平面(表面又は裏面)を塞ぐ部分、すなわち、ウェーハ保持側面の最外部を、ウェーハ保持側面43に示すようにウェーハWの中心Woに対して凹状(例えば、ウェーハWを保持する際のウェーハWの同心円状)となるように形成することにより、ウェーハ観察方向からウェーハWの平面を塞ぐ部分の面積を減少させている。ここで、図5の領域Rが、図1に比してウェーハWの平面を塞ぐ部分が減少した領域を示している。この結果、ウェーハWの平面をより広範囲に観察することができる。
When the wafer W is held by the
以上、本発明を実施形態に基づいて説明したが、本発明は上述した実施形態に限られず、他の様々な態様に適用可能である。例えば、上記実施形態において、保持用ワイヤ20と、開放用ワイヤ21との2系統のワイヤを備えるようにしていたが、本発明はこれに限られず、例えば、保持用ワイヤ20のみを備えるようにしてもよい。この場合においては、保持用ワイヤ20の一部を最先端の被連結ウェーハ保持体12に固定するようにし、ウェーハ保持時には、保持用ワイヤ20を巻き取り、開放時には、保持用ワイヤ20を引き出すことにより、被連結ウェーハ保持体12をウェーハ保持側から遠ざかるように回動させるようにすればよい。ここで、ワイヤとしては、伸縮、たわみが起こり難い材質のものを使用するようにしてもよい。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, this invention is not restricted to embodiment mentioned above, It can apply to other various aspects. For example, in the above-described embodiment, the two wires of the holding
また、上記実施形態では、基部ウェーハ保持体10に対して2組の被連結ウェーハ保持体を備えるようにしていたが、一組の被連結ウェーハ保持体のみを備えるようにしてもよい。また、上記実施形態では、被連結ウェーハ保持体として、一組に3個備えるようにしていたが、本発明はこれに限られず、各組の被連結ウェーハ保持体の個数は任意の数であってよい。なお、被連結ウェーハ保持体の個数は、例えば、被連結ウェーハ保持体の材質や、保持対象のウェーハの加重等を考慮して決定すればよい。例えば、被連結ウェーハ保持体の数を増やすと、ウェーハを保持する箇所を増加させることができ、各箇所でのウェーハに係る加重を抑えることができるので、各箇所での荷重を抑えることを考慮する場合には、被連結ウェーハ保持体12の数を増やすようにすればよい。
In the above embodiment, two sets of connected wafer holders are provided for the
また、上記実施形態では、開放状態において、基部ウェーハ保持部10に接続された2組の複数の被連結ウェーハ保持部12のウェーハ保持溝13がウェーハWの直径と同じ幅を持って平行となるようにしていたが、本発明はこれに限られず、各組同士のウェーハ保持溝13の幅が平行でなくても、ウェーハWを基部ウェーハ保持部10のウェーハ保持溝11に保持させるようにすることができればよい。また、上記実施形態では、被連結ウェーハ保持体12と、基部ウェーハ保持体10とにより、ウェーハWの略全周に分布して保持するようにしていたが、半周よりも広い範囲に分布した部分により保持するようにしてもよく、要は、ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持するようにすればよい。
Further, in the above embodiment, in the open state, the
また、上記実施形態では、先端部分が単に接触するようにしていたが、例えば、一方の組の最先端部分と、他方の組の最先端部分とがかみ合うようにしてもよい。このようにすると、より確実にウェーハを保持することができる。また、上記実施形態では、各ワイヤを最先端の被連結ウェーハ保持部で折り返してワイヤ調整部22にまで至るようにしていたが、本発明はこれに限られず、最先端の被連結ウェーハ保持体において、ワイヤを固定させるようにしてもよい。また、ワイヤによりウェーハ保持体を引っ張るようにしていたが、ワイヤに限られず、板状の部材であってもよく、要は、引っ張ることのできる引張部材であればよい。
In the above embodiment, the tip portion is simply in contact, but for example, the most advanced portion of one set may be engaged with the most advanced portion of the other set. In this way, the wafer can be held more reliably. Further, in the above embodiment, each wire is folded back at the most advanced connected wafer holding part to reach the
1、 ウェーハ処理装置、2 駆動制御部、3,31,41 ウェーハ保持治具、10 基部ウェーハ保持体、11 ウェーハ保持溝、12,32,42 被連結ウェーハ保持体、13 ウェーハ保持溝、14、15 貫通孔、16 屈曲時規定面、17 開放時規定面、18 基部側面、19 最先端側面、20 保持用ワイヤ、21 開放用ワイヤ、22 ワイヤ調整部、32 被連結ウェーハ保持面、33 先端側連結部、34 連結孔、35 基部側連結部、36 連結孔、37,38 連結対応部、43 ウェーハ保持側面、W ウェーハ、We ウェーハ外周面取面。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, Wafer processing apparatus, 2 Drive control part, 3, 31, 41 Wafer holding jig, 10 Base wafer holder, 11 Wafer holding groove, 12, 32, 42 Connected wafer holder, 13 Wafer holding groove, 14, 15 through-holes, 16 defining surfaces when bent, 17 defining surfaces when opened, 18 base side surfaces, 19 cutting-edge side surfaces, 20 holding wires, 21 opening wires, 22 wire adjusting units, 32 connected wafer holding surfaces, 33 distal end sides Connection part, 34 Connection hole, 35 Base side connection part, 36 Connection hole, 37, 38 Connection corresponding part, 43 Wafer holding side surface, W wafer, We Wafer peripheral chamfering surface.
Claims (10)
前記ウェーハの外周の一部を保持可能なウェーハ保持溝が形成されたウェーハ保持体を複数有し、
前記ウェーハ保持体が複数連結された保持体列を有し、
前記保持体列の複数の第1の前記ウェーハ保持体が、その隣の第2の前記ウェーハ保持体に対して前記ウェーハを保持する側に屈曲することにより、前記ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持可能な状態となり、
少なくとも1以上の前記第1のウェーハ保持体と、前記第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第1の平面同士が平面接触することにより、前記第1のウェーハ保持体と前記第2のウェーハ保持体との屈曲状態を規定可能である
ウェーハ保持治具。 A wafer holding jig for holding a wafer,
A plurality of wafer holders formed with wafer holding grooves capable of holding a part of the outer periphery of the wafer;
A plurality of wafer holders connected to each other;
The plurality of first wafer holders in the holder row are bent toward the side holding the wafer with respect to the second wafer holder adjacent to the plurality of wafer holders, thereby making the outer circumference of the wafer wider than a half circumference. It becomes a state that can be held in the part,
At least a part of the first planes of the at least one first wafer holder and the second wafer holder are in plane contact with each other, so that the first wafer holder and the second wafer plane are in contact with each other. A wafer holding jig capable of defining a bent state with the wafer holder.
請求項1に記載のウェーハ保持治具。 The at least one of the first wafer holding body and the second wafer holding body are in contact with each other so that at least a part of the first planes are in plane contact with each other. The wafer holding jig according to claim 1, further comprising a first tension member for pulling one to the other.
請求項2に記載のウェーハ保持治具。 The wafer holding jig according to claim 2, wherein the first wafer holding body and the second wafer holding body are directly connected so as to be rotatable.
少なくとも1以上の前記第1のウェーハ保持体と、前記第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第2の平面同士が平面接触することにより、双方の前記ウェーハ保持溝が一直線上に並ぶように規定可能である
請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のウェーハ保持治具。 The first and second wafer holders are formed such that the wafer holding grooves extend linearly,
At least a part of the second planes of the at least one first wafer holder and the second wafer holder are in plane contact with each other, so that both the wafer holding grooves are aligned. The wafer holding jig according to claim 1, wherein the wafer holding jig can be defined as follows.
請求項4に記載のウェーハ保持治具。 The at least one of the first wafer holding body and the second wafer holding body are in contact with each other so that at least some of the second planes are in plane contact with each other. The wafer holding jig according to claim 4, further comprising a second tension member for pulling one to the other.
前記一端側の複数の前記ウェーハ保持体と、前記他端側の複数の前記ウェーハ保持体とは、前記ウェーハの直径と略同じ幅の間隔を持って、互いの前記ウェーハ保持溝が平行となるように規定可能である
請求項4又は請求項5に記載のウェーハ保持治具。 The plurality of wafer holders on one end side of the holder row and the plurality of wafer holders on the other end side are formed by extending the wafer holding grooves linearly,
The plurality of wafer holders on the one end side and the plurality of wafer holders on the other end side have intervals substantially the same as the diameter of the wafer, and the wafer holding grooves are parallel to each other. The wafer holding jig according to claim 4 or 5, which can be defined as follows.
請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のウェーハ保持治具。 7. The wafer holding body according to claim 1, wherein the outermost surface on the side holding the wafer is formed so as to be concave with respect to the center of the wafer when the wafer is held. The wafer holding jig according to one item.
請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のウェーハ保持治具。 The plurality of first wafer holders in the holder row are bent toward the side holding the wafer with respect to the second wafer holder adjacent thereto, thereby enclosing the entire circumference of the wafer. The wafer holding jig according to any one of claims 1 to 7, wherein the wafer can be held.
前記ウェーハの外周の一部を保持可能なウェーハ保持溝が形成されたウェーハ保持体を複数有し、
前記ウェーハ保持体が複数連結された保持体列を有し、
前記保持体列の複数の第1の前記ウェーハ保持体が、その隣の第2の前記ウェーハ保持体に対して前記ウェーハを保持する側に屈曲することにより、前記ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持可能な状態となり、
前記第1及び第2のウェーハ保持体は、前記ウェーハ保持溝が直線状に伸びて形成されており、
少なくとも1以上の前記第1のウェーハ保持体と、前記第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第2の平面同士が平面接触することにより、双方の前記ウェーハ保持溝が一直線上に並ぶように規定可能である
ウェーハ保持治具。 A wafer holding jig for holding a wafer,
A plurality of wafer holders formed with wafer holding grooves capable of holding a part of the outer periphery of the wafer;
A plurality of wafer holders connected to each other;
The plurality of first wafer holders in the holder row are bent toward the side holding the wafer with respect to the second wafer holder adjacent to the plurality of wafer holders, thereby making the outer circumference of the wafer wider than a half circumference. It becomes a state that can be held in the part,
The first and second wafer holders are formed such that the wafer holding grooves extend linearly,
At least a part of the second planes of the at least one first wafer holder and the second wafer holder are in plane contact with each other, so that both the wafer holding grooves are aligned. Wafer holding jig that can be specified as follows.
前記ウェーハ保持治具を移動させる駆動部を更に備え、
前記ウェーハ保持治具は、
前記ウェーハの外周の一部を保持可能なウェーハ保持溝が形成されたウェーハ保持体を複数有し、
前記ウェーハ保持体が複数連結された保持体列を有し、
前記保持体列の複数の第1の前記ウェーハ保持体が、その隣の第2の前記ウェーハ保持体に対して前記ウェーハを保持する側に屈曲することにより、前記ウェーハの外周を半周よりも広範囲な部分において保持可能な状態となり、
少なくとも1以上の前記第1のウェーハ保持体と、前記第2のウェーハ保持体との、少なくとも一部の第1の平面同士が平面接触することにより、前記第1のウェーハ保持体と前記第2のウェーハ保持体との屈曲状態を規定可能である
ウェーハ処理装置。
A wafer processing apparatus comprising a wafer holding jig for holding a wafer, and performing a predetermined process on the wafer held by the wafer holding jig,
A drive unit for moving the wafer holding jig;
The wafer holding jig is
A plurality of wafer holders formed with wafer holding grooves capable of holding a part of the outer periphery of the wafer;
A plurality of wafer holders connected to each other;
The plurality of first wafer holders in the holder row are bent toward the side holding the wafer with respect to the second wafer holder adjacent to the plurality of wafer holders, thereby making the outer circumference of the wafer wider than a half circumference. It becomes a state that can be held in the part,
At least a part of the first planes of the at least one first wafer holder and the second wafer holder are in plane contact with each other, so that the first wafer holder and the second wafer plane are in contact with each other. Wafer processing apparatus capable of prescribing a bent state with a wafer holder.
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