JP5270810B1 - Cover glass for electronic equipment, manufacturing method thereof, and manufacturing method of touch sensor module - Google Patents

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Abstract

本発明は、従来のディップ法による防汚コート面に比べて耐久性を著しく向上させることができる電子機器用カバーガラスを提供する。
本発明は、一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板1を備える電子機器用カバーガラス10であって、一対の主表面のうちの一方の主表面1Aには、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をこの順に行うガラス表面改質処理が施されてなるガラス被処理面が形成されている。該ガラス被処理面及び前記端面1Cには防汚コート層3が形成されている。
This invention provides the cover glass for electronic devices which can improve durability remarkably compared with the antifouling coating surface by the conventional dip method.
The present invention is an electronic device cover glass 10 including a glass substrate 1 having a pair of main surfaces and an end face adjacent to the pair of main surfaces, and is provided on one main surface 1A of the pair of main surfaces. A glass surface to be processed is formed by performing glass surface modification processing in which a planar plasma processing and a downstream plasma processing are performed in this order. An antifouling coating layer 3 is formed on the glass treated surface and the end surface 1C.

Description

本発明は、携帯電話機、携帯型ゲーム機、PDA(Personal Digital Assistant)、デジタルスティルカメラ、ビデオカメラ、またはスレートPC(Personal Computer)等の携帯機器の表示画面の保護、又は表示画面の保護部材に積層して設けられ更なる保護部材として用いられる電子機器用カバーガラス及びその製造方法、並びにタッチセンサモジュールの製造方法に関するものである。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a display screen protection for a portable device such as a mobile phone, a portable game machine, a PDA (Personal Digital Assistant), a digital still camera, a video camera, or a slate PC (Personal Computer), or a display screen protection member. The present invention relates to a cover glass for an electronic device that is provided in a stacked manner and used as a further protective member, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a touch sensor module.

従来、携帯電話機等の携帯機器の表示画面を保護するために、透明性に優れ且つ軽量なアクリル樹脂板が一般に用いられていた。近年、タッチパネル方式の携帯機器が主流を占めるようになり、このタッチパネル機能対応のため表示画面の強度向上が求められており、従来のアクリル樹脂材料に替わって、薄くても高い強度を有するガラス材料が多く使用されるようになってきている。さらに、ガラス材料は、従来のアクリル樹脂材料と比べると、機械的強度(耐加傷性、耐衝撃性)、表面平滑性、保護性(耐候性、防汚性)、見栄え・高級感など、いずれの点でも優位である。   Conventionally, in order to protect a display screen of a mobile device such as a mobile phone, an acrylic resin plate having excellent transparency and light weight has been generally used. In recent years, touch-panel portable devices have become the mainstream, and there is a need to improve the strength of the display screen in order to support this touch panel function. Instead of conventional acrylic resin materials, glass materials with high strength even though they are thin Are increasingly being used. Furthermore, compared to conventional acrylic resin materials, glass materials have mechanical strength (scratch resistance, impact resistance), surface smoothness, protective properties (weather resistance, antifouling properties), appearance and luxury, It is advantageous in any respect.

このようなガラス材料からなるカバーガラスは、概ね次のようなプロセスで製造されている。
シート状に成形されたガラス素材を機械加工(カッティング)あるいはエッチング加工等で所定の大きさに小片化し、カバーガラス用ガラス基板を作製する。
次に、このガラス基板に対して機械加工あるいはエッチング加工により、必要な孔明け加工や外周形状加工などを行う。
A cover glass made of such a glass material is generally manufactured by the following process.
The glass material formed into a sheet is cut into a predetermined size by machining (cutting) or etching, and a glass substrate for cover glass is produced.
Next, necessary drilling or outer peripheral shape processing is performed on the glass substrate by machining or etching.

次に、形状加工を終えたガラス基板に化学強化処理を行う。この化学強化処理とは、ガラス中のナトリウムNaをイオン半径の大きいカリウムKと交換させ、ガラス表面に圧縮応力層を形成する処理法である。カバーガラスは、衝撃、押圧が加わるため高い強度が必要である。
次いで、以上の化学強化処理を行ったガラス基板の表面に所望の印刷等を施す。
Next, a chemical strengthening process is performed on the glass substrate that has undergone the shape processing. This chemical strengthening treatment is a treatment method in which sodium Na + in glass is exchanged with potassium K + having a large ionic radius to form a compressive stress layer on the glass surface. The cover glass is required to have high strength because of impact and pressure.
Next, desired printing or the like is performed on the surface of the glass substrate subjected to the above chemical strengthening treatment.

こうして出来上がったカバーガラスは、携帯機器に組み込まれる。利用者がタッチパネル方式の携帯機器を使用する場合、その表示画面を指で直接触れて操作するため、表示画面を保護するカバーガラスに指紋等の汚れが付着しやすい。従って、カバーガラスに指紋等の汚れが付着するのを防止ないしは抑制し、あるいは指紋等の汚れが付着しても容易に拭き取れるようにすることが望ましい。そのため、カバーガラスの表面には、通常、防汚コーティング処理が施される。このような防汚コーティグ処理に関しては、例えば特許文献1に開示がある。   The cover glass thus completed is incorporated into a portable device. When a user uses a touch panel type portable device, the display screen is directly touched and operated, so that dirt such as fingerprints tends to adhere to the cover glass that protects the display screen. Therefore, it is desirable to prevent or suppress the dirt such as fingerprints from adhering to the cover glass, or to easily wipe off even if dirt such as fingerprints adheres. Therefore, the surface of the cover glass is usually subjected to an antifouling coating treatment. For example, Patent Document 1 discloses such antifouling coating treatment.

特表2011−510904号公報Special table 2011-510904 gazette

上記特許文献1には、蒸着法又は浸漬法により防汚コーティング処理を行う旨が開示されている。しかしながら、蒸着法又は浸漬法で防汚コーティング処理を行ったときに、ガラス基板の表面凹凸の表面性状などによっては、ガラス基板と防汚コート材料との密着性が不十分で、防汚コート層の所望の耐久性を得られない場合があった。   Patent Document 1 discloses that the antifouling coating treatment is performed by a vapor deposition method or an immersion method. However, when the antifouling coating treatment is performed by the vapor deposition method or the dipping method, the adhesion between the glass substrate and the antifouling coating material is insufficient depending on the surface roughness of the surface of the glass substrate, and the antifouling coating layer. In some cases, the desired durability could not be obtained.

これに加えて、防汚コーティング処理は、上記特許文献1に示すように蒸着法が一般的である。しかしながら、防汚コーティング処理に蒸着法を用いる場合には、成膜チャンバ内で1枚ずつ処理する必要があるため、生産性が悪く、結果的に製造コストも増加するという問題がある。
また、上記特許文献1には、ディップ法(浸漬法)による防汚コーティング処理も開示されている。しかしながら、特許文献1には開示されていないが、本発明者の検討によると、ディップ法によって形成された防汚コート面は、蒸着法によって形成された防汚コート面に比べて耐久性が劣るという問題のあることが判明した。
In addition to this, the antifouling coating treatment is generally performed by a vapor deposition method as shown in Patent Document 1 above. However, when the vapor deposition method is used for the antifouling coating process, it is necessary to perform the process one by one in the film forming chamber, so that there is a problem that the productivity is poor and the manufacturing cost is increased as a result.
Further, Patent Document 1 also discloses an antifouling coating treatment by a dip method (dipping method). However, although not disclosed in Patent Document 1, according to the study of the present inventor, the antifouling coating surface formed by the dip method is inferior in durability to the antifouling coating surface formed by the vapor deposition method. It turned out that there was a problem.

本発明はこのような従来の問題を解決すべくなされたものであって、その目的は、従来のディップ法による防汚コート面に比べて耐久性を著しく向上させることができる電子機器用カバーガラス及びその製造方法を提供することである。また、別の目的は、蒸着法による防汚コーティング処理に比べて生産性を向上させることができる電子機器用カバーガラス及びその製造方法を提供することである。さらに、別の目的は、防汚コート面の耐久性を向上させ、且つ透明導電層等の付着安定性を向上させたガラス基板を備えるタッチセンサモジュールの製造方法を提供することである。   The present invention has been made to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a cover glass for an electronic device that can remarkably improve the durability as compared with a conventional antifouling coating surface by a dip method. And a method of manufacturing the same. Another object is to provide an electronic device cover glass and a method for manufacturing the same, which can improve productivity as compared with an antifouling coating treatment by a vapor deposition method. Furthermore, another object is to provide a method for manufacturing a touch sensor module including a glass substrate with improved durability of the antifouling coating surface and improved adhesion stability of a transparent conductive layer or the like.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討したところ、防汚コート面の耐久性に関して、次のような内容が判明した。防汚コート処理が施されるガラス基板の表面性状に関して、ガラス基板表面の輪郭曲線のスキューネス(Rsk:歪度)が0から比較的離れている場合、ガラス基板表面の凹凸の形状の偏りが大きく、ガラス基板に塗布された防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性が低かった。そして、この付着安定性が防汚コート面の耐久性に影響していることが判明した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found the following contents regarding the durability of the antifouling coating surface. Regarding the surface properties of the glass substrate subjected to the antifouling coating treatment, when the skewness (Rsk: skewness) of the contour curve of the glass substrate surface is relatively far from 0, the unevenness of the unevenness of the glass substrate surface is large. The adhesion stability of the antifouling coating layer applied to the glass substrate to the glass substrate was low. And it became clear that this adhesion stability has influenced the durability of the antifouling coating surface.

そこで、本発明者が更に研究を重ねた結果、ガラス基板にプラナー方式プラズマ処理を施すことによって、ガラス基板表面の輪郭曲線のスキューネス(Rsk:歪度)が0へ近づくようにガラス基板表面が改質され、ガラス基板表面の凹凸の形状の偏りが小さくなることが確認された。この結果、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性が高まることが確認された。   Therefore, as a result of further research by the present inventors, the glass substrate surface is modified so that the skewness (Rsk: skewness) of the contour curve of the glass substrate surface approaches zero by performing a planar plasma treatment on the glass substrate. It was confirmed that the unevenness of the uneven shape on the surface of the glass substrate was reduced. As a result, it was confirmed that the adhesion stability of the antifouling coating layer to the glass substrate was increased.

しかしながら、プラナー方式プラズマ処理のみでは、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性が不十分であることも確認された。そこで、本発明者が更に研究を重ねた結果、プラナー方式プラズマ処理を施したガラス基板の表面にダウンストリーム方式のプラズマ処理を施すことで、ガラス基板の表面にOH基やCOOH基などの官能基が形成される。そして、この官能基と防汚コート材料との結合により、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性がより高まっているものと考えられる。   However, it was also confirmed that the adhesion stability of the antifouling coating layer to the glass substrate was insufficient only by the planar plasma treatment. Therefore, as a result of further research by the present inventors, functional groups such as OH groups and COOH groups are formed on the surface of the glass substrate by performing downstream plasma processing on the surface of the glass substrate subjected to planar plasma processing. Is formed. And it is thought that the adhesion stability with respect to the glass substrate of an antifouling coating layer is increasing more by the coupling | bonding of this functional group and antifouling coating material.

このように、本発明者は、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をその順に行うガラス表面改質処理をガラス基板に施すことにより、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性を十分に高めることができることを見出した。そして、本発明者は、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性を十分に高めることによって、防汚コート面の耐久性を向上させること、つまり、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
また、生産性の高いディップ法をコーティング処理方法に用いる場合であっても、防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性を十分に高めることができ、防汚コート面の耐久性を向上させることが可能な点を見出した。
As described above, the present inventor sufficiently adheres the antifouling coating layer to the glass substrate by performing the glass surface modification treatment for performing the planar plasma processing and the downstream plasma processing in that order on the glass substrate. I found that it can be enhanced. And the inventor found that the durability of the antifouling coating surface can be improved by sufficiently increasing the adhesion stability of the antifouling coating layer to the glass substrate, that is, the above problem can be solved, and the present invention It came to complete.
Moreover, even when a highly productive dip method is used for the coating method, the adhesion stability of the antifouling coating layer to the glass substrate can be sufficiently increased, and the durability of the antifouling coating surface can be improved. I found a possible point.

すなわち、本発明は以下の構成を有する。
(構成1)
一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備える電子機器用カバーガラスの製造方法であって、前記ガラス基板における一対の主表面のうちの一方の主表面に、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をその順に行うガラス表面改質処理を施し、ガラス被処理面を形成する工程と、前記ガラス被処理面を形成する工程の後に行われ、前記ガラス被処理面に対して防汚コート層を形成する工程とを含むことを特徴とする電子機器用カバーガラスの製造方法である。
That is, the present invention has the following configuration.
(Configuration 1)
A method of manufacturing a cover glass for an electronic device comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and an end surface adjacent to the pair of main surfaces, wherein one main surface of the pair of main surfaces of the glass substrate A glass surface modification treatment for performing a planar plasma treatment and a downstream plasma treatment in that order to form a glass treated surface, and a step of forming the glass treated surface, And a step of forming an antifouling coating layer on the treated surface.

(構成2)
前記防汚コート層を形成する工程では、前記ガラス基板全体を防汚コート材に浸漬することにより、前記ガラス被処理面を含む前記ガラス基板の外面全体に防汚コート層を形成することを特徴とする構成1に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法である。
(構成3)
前記一対の主表面のうちの他方の主表面に形成された前記防汚コート層に、表面の水の接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施し、防汚コート改質層を形成する工程を有することを特徴とする構成1又は2に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法である。
(Configuration 2)
In the step of forming the antifouling coating layer, the antifouling coating layer is formed on the entire outer surface of the glass substrate including the glass treated surface by immersing the entire glass substrate in an antifouling coating material. It is a manufacturing method of the cover glass for electronic devices of the structure 1.
(Configuration 3)
The antifouling coat layer formed on the other main surface of the pair of main surfaces is subjected to an antifouling coat surface modification treatment that reduces the contact angle of water on the surface, and the antifouling coat modification is performed. It is a manufacturing method of the cover glass for electronic devices of the structure 1 or 2 characterized by including the process of forming a layer.

(構成4)
前記ガラス被処理面を形成する工程の前に行われ、前記ガラス基板に印刷を施す工程をさらに含むことを特徴とする構成1乃至3のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスの製造方法である。
(構成5)
前記印刷が施されるまで前記ガラス基板表面における印刷領域の変質を保護するための印刷領域保護層を前記ガラス基板表面に前記印刷を施す前に設け、前記印刷を施す際に前記印刷領域保護層の表面の水の接触角を低下させるために改質、又は除去することを特徴とする構成4に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法である。
(Configuration 4)
The method for manufacturing a cover glass for an electronic device according to any one of configurations 1 to 3, further comprising a step of performing printing on the glass substrate, which is performed before the step of forming the glass processing surface. is there.
(Configuration 5)
A printing region protection layer for protecting the alteration of the printing region on the surface of the glass substrate until the printing is performed is provided before the printing is performed on the surface of the glass substrate, and the printing region protection layer is provided when the printing is performed. The method for producing a cover glass for an electronic device according to Configuration 4, wherein the surface is modified or removed in order to reduce the contact angle of water on the surface.

(構成6)
前記印刷を施す際に前記ガラス基板に対する印刷機あるいはその治具との接触を保護するための接触保護層を前記ガラス基板に予め設けることを特徴とする構成4又は5に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法である。
(Configuration 6)
The electronic device cover according to Configuration 4 or 5, wherein when the printing is performed, a contact protection layer for protecting the glass substrate from contact with a printing machine or a jig thereof is provided in advance on the glass substrate. It is a manufacturing method of glass.

(構成7)
一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備える電子機器用カバーガラスであって、前記一対の主表面のうちの一方の主表面のRskは、0±0.3であり、前記一方の主表面には、防汚コート層が形成されており、前記防汚コート層の表面に対して、#0000のスチールウールを面圧1kg/cmで2000回摺動した場合に、前記防汚コート層の表面における水の接触角が105度以上であることを特徴とする電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 7)
A cover glass for an electronic device comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and an end surface adjacent to the pair of main surfaces, wherein Rsk of one main surface of the pair of main surfaces is 0 ± 0. 3 and an antifouling coating layer is formed on the one main surface, and # 0000 steel wool is slid 2000 times at a surface pressure of 1 kg / cm 2 on the surface of the antifouling coating layer. A cover glass for electronic equipment, wherein when contacted, the contact angle of water on the surface of the antifouling coating layer is 105 degrees or more.

(構成8)
前記防汚コート層は、前記ガラス基板の表面に付着する付着領域と、該付着領域の表面に配置された流動領域とを有することを特徴とする構成7に記載の電子機器用カバーガラスである。
(構成9)
前記防汚コート層の厚さに対する前記付着領域の厚さの割合が40%〜70%であることを特徴とする構成8に記載の電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 8)
The antifouling coating layer is a cover glass for an electronic device according to Configuration 7, wherein the antifouling coating layer has an adhesion region attached to the surface of the glass substrate and a flow region disposed on the surface of the adhesion region. .
(Configuration 9)
The cover glass for an electronic device according to Configuration 8, wherein a ratio of the thickness of the adhesion region to the thickness of the antifouling coating layer is 40% to 70%.

(構成10)
前記一対の主表面のうちの他方の主表面には、前記防汚コート層に表面の水の接触角を低下させるための防汚コート面改質処理を施してなる防汚コート改質層が形成されており、前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面における水の接触角は、110度〜120度の範囲内であり、前記他方の主表面に形成された前記防汚コート改質層の前記ガラス基板とは反対側の表面における水の接触角は、20度以下であることを特徴とする構成7乃至9のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 10)
On the other main surface of the pair of main surfaces, there is an antifouling coat modified layer formed by subjecting the antifouling coat layer to an antifouling coat surface modifying treatment for reducing the contact angle of water on the surface. The contact angle of water on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 110 to 120 degrees, and the other The contact angle of water on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating modified layer formed on the main surface is 20 degrees or less, according to any one of configurations 7 to 9, It is a cover glass for electronic equipment.

(構成11)
前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面におけるヘキサデカンの接触角は、60度〜70度の範囲内であり、前記他方の主表面に形成された前記防汚コート改質層の前記ガラス基板とは反対側の表面におけるヘキサデカンの接触角は、10度〜20度の範囲内であることを特徴とする構成10に記載の電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 11)
The contact angle of hexadecane on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 60 degrees to 70 degrees, and is formed on the other main surface. The cover glass for electronic equipment according to Configuration 10, wherein the contact angle of hexadecane on the surface of the antifouling coat modified layer opposite to the glass substrate is in the range of 10 to 20 degrees. It is.

(構成12)
前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面における動摩擦係数は、0.1〜0.3の範囲内であることを特徴とする構成7乃至11のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスである。
(構成13)
前記防汚コート層は、末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含有するフッ素系樹脂材料からなることを特徴とする構成7乃至12のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 12)
The dynamic friction coefficient on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 0.1 to 0.3. It is the cover glass for electronic devices in any one of.
(Configuration 13)
13. The electronic device cover glass according to any one of Structures 7 to 12, wherein the antifouling coating layer is made of a fluorine-based resin material containing a perfluoropolyether compound having a hydroxyl group at a terminal group.

(構成14)
前記防汚コート層は、重量平均分子量が2000〜5000のフッ素系樹脂材料からなることを特徴とする構成7乃至13のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスである。
(構成15)
前記ガラス基板は、化学強化されたアルミノシリケートガラスからなることを特徴とする構成7乃至14のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスである。
(Configuration 14)
The said antifouling coating layer is a cover glass for an electronic device according to any one of configurations 7 to 13, wherein the antifouling coating layer is made of a fluorine-based resin material having a weight average molecular weight of 2000 to 5000.
(Configuration 15)
The glass substrate is a cover glass for an electronic device according to any one of Structures 7 to 14, wherein the glass substrate is made of chemically strengthened aluminosilicate glass.

(構成16)
一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備え、利用者の操作を検出するためのタッチセンサモジュールの製造方法であって、前記ガラス基板における一対の主表面のうちの一方の主表面に、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をその順に行うガラス表面改質処理を施したことによるガラス被処理面が形成され、前記ガラス被処理面を含む前記ガラス基板の外面全体に、防汚コート層が形成された前記ガラス基板に対して、前記一対の主表面のうちの他方の主表面に、前記防汚コート層に表面の水の接触角を低下させる防汚コート面改質処理を施してなる防汚コート改質層を形成する工程と、前記防汚コート改質層の外面に、絶縁層及び透明導電層の少なくともいずれか一方を形成する工程とを含むことを特徴とするタッチセンサモジュールの製造方法である。
(Configuration 16)
A method for manufacturing a touch sensor module, comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and end faces adjacent to the pair of main surfaces, wherein the operation of the touch sensor module is detected. One of the main surfaces is formed with a glass surface to be treated by performing a glass surface modification treatment in the order of a planar plasma treatment and a downstream plasma treatment, and the glass includes the glass treated surface. With respect to the glass substrate having an antifouling coating layer formed on the entire outer surface of the substrate, a contact angle of water on the surface of the antifouling coating layer is reduced on the other main surface of the pair of main surfaces. A step of forming an antifouling coat modified layer formed by subjecting the antifouling coat surface modification treatment, and forming at least one of an insulating layer and a transparent conductive layer on the outer surface of the antifouling coat modifying layer; It is a manufacturing method of the touch sensor module which comprises the step of.

本発明によれば、従来のディップ法による防汚コート面に比べて耐久性を著しく向上させることができる電子機器用カバーガラス及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、蒸着法による防汚コーティング処理に比べて生産性を向上させることができる電子機器用カバーガラス及びその製造方法を提供することができる。
さらに、本発明によれば、防汚コート面の耐久性を向上させ、且つ透明導電層等の付着安定性を向上させたガラス基板を備えるタッチセンサモジュールの製造方法を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the cover glass for electronic devices which can improve durability remarkably compared with the antifouling coating surface by the conventional dip method, and its manufacturing method can be provided.
Moreover, according to this invention, the cover glass for electronic devices which can improve productivity compared with the antifouling coating process by a vapor deposition method, and its manufacturing method can be provided.
Furthermore, according to this invention, the manufacturing method of a touch sensor module provided with the glass substrate which improved durability of the antifouling coating surface and improved adhesion stability, such as a transparent conductive layer, can be provided.

本発明に係る電子機器用カバーガラスの一実施の形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the cover glass for electronic devices which concerns on this invention. 本発明に係る電子機器用カバーガラスの製造方法のフローチャートである。It is a flowchart of the manufacturing method of the cover glass for electronic devices which concerns on this invention. 本発明に係る電子機器用カバーガラスの製造方法を工程順に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of the cover glass for electronic devices which concerns on this invention in process order. カバーガラス用ガラス基板の形状の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the shape of the glass substrate for cover glasses.

以下、本発明の実施の形態を詳述するが、ここでは主に、電子機器用カバーガラスの一実施の形態である携帯機器用カバーガラスについて説明する。
図1は、本発明に係る電子機器用カバーガラスの一実施の形態である携帯機器用カバーガラスの一実施の形態を示す概略断面図である。
図1に示す本発明の一実施の形態によると、本発明に係る携帯機器用カバーガラス10は、平板状のガラス基板1を備えている。ガラス基板1は、表裏一対の主表面1A,1Bと、該一対の主表面と隣り合う端面1Cとを有している。前記一対の主表面のうちの一方の主表面1Aには、ガラス表面改質処理が施されたことによるガラス被処理面が形成されている。そして、前記ガラス被処理面及び前記端面1Cには、防汚コート層3が形成されている。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. Here, a cover glass for portable equipment, which is an embodiment of a cover glass for electronic equipment, will be mainly described.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a cover glass for portable equipment which is an embodiment of the cover glass for electronic equipment according to the present invention.
According to one embodiment of the present invention shown in FIG. 1, a cover glass 10 for a portable device according to the present invention includes a flat glass substrate 1. The glass substrate 1 has a pair of front and back main surfaces 1A and 1B and an end face 1C adjacent to the pair of main surfaces. On one main surface 1A of the pair of main surfaces, a glass surface to be processed is formed by performing glass surface modification treatment. And the antifouling coating layer 3 is formed in the said glass to-be-processed surface and the said end surface 1C.

本発明における特徴的な構成の一つは、上記一方の主表面1Aにはガラス被処理面が形成されており、このガラス被処理面は、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をこの順に行うガラス表面改質処理が施されることにより形成されていることである。   One of the characteristic configurations in the present invention is that a glass processing surface is formed on the one main surface 1A, and the glass processing surface is subjected to planar plasma processing and downstream plasma processing in this order. It is formed by performing the glass surface modification process to be performed.

本発明に係る携帯機器用カバーガラス10において、上述のガラス表面改質処理が施されガラス被処理面が形成されている上記一方の主表面1Aには、上記防汚コート層3が形成されている。かかる構成により、たとえば従来の特に表面処理等をガラス基板に施さずにディップ法により形成した防汚コート層と比べて、防汚コート材のガラス基板に対する付着安定性が改善され、防汚コート面の耐久性が著しく向上する。後でも説明するように、防汚コート材としてはフッ素系樹脂材料が好ましく用いられる。しかしながら、このフッ素系樹脂材料をディップ法でガラス基板に塗布した場合、ガラス基板に対する付着安定性が特に悪い。このため、このようなフッ素系樹脂材料を防汚コート材として用いてディップ法でガラス基板に塗布する場合にも、ガラス基板に対する付着安定性を改善し、防汚コート面の耐久性を著しく向上させることができる本発明は特に好適である。
なお、上記プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をこの順に行うガラス表面改質処理の詳細は後述する。
In the cover glass 10 for a portable device according to the present invention, the antifouling coating layer 3 is formed on the one main surface 1A on which the glass surface modification treatment is performed and the glass treated surface is formed. Yes. With this configuration, for example, the adhesion stability of the antifouling coating material to the glass substrate is improved as compared with a conventional antifouling coating layer formed by the dip method without performing surface treatment or the like on the glass substrate, for example. Durability is significantly improved. As will be described later, a fluorine-based resin material is preferably used as the antifouling coating material. However, when this fluororesin material is applied to a glass substrate by a dip method, the adhesion stability to the glass substrate is particularly bad. For this reason, even when such a fluororesin material is used as an antifouling coating material and applied to a glass substrate by the dip method, the adhesion stability to the glass substrate is improved and the durability of the antifouling coating surface is remarkably improved. The present invention which can be made is particularly suitable.
The details of the glass surface modification treatment in which the planar plasma treatment and the downstream plasma treatment are performed in this order will be described later.

ここで、上記防汚コート層3の材料について説明する。利用者がタッチパネル操作方式の携帯機器を使用する場合、その表示画面を指で直接触れて操作するため、表示画面に指紋等の汚れが付着しやすい。従って、表示画面に指紋等の汚れが付着するのを防止ないしは抑制し、あるいは指紋等の汚れが付着しても容易に拭き取れるようにすることが望ましい。そのためには、上記防汚コート層3の材料として、指で直接触れても(押しても)指紋等の汚れが付着するのを防止ないしは抑制し、あるいは指紋等の汚れが付着しても拭き取り易くする防汚性を有する材料を選択することが好適である。また、透明性に優れていることも重要である。本発明においては、良好な防汚性を有し、さらに透明性にも優れている材料として、たとえばフッ素系樹脂材料(例えば末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物など)などの表面エネルギーを低下させる材料が好ましく挙げられる。   Here, the material of the antifouling coating layer 3 will be described. When a user uses a touch panel operation type portable device, the display screen is directly touched with a finger to operate, and thus a fingerprint or the like is likely to adhere to the display screen. Therefore, it is desirable to prevent or suppress the fingerprints and the like from adhering to the display screen, or to easily wipe off even if the fingerprints and the like are attached. For that purpose, as a material of the antifouling coating layer 3, even if it is directly touched (pressed) with a finger, it prevents or suppresses dirt such as fingerprints from being attached or easily wipes off even if dirt such as fingerprints adheres. It is preferable to select a material having antifouling properties. It is also important to have excellent transparency. In the present invention, the surface energy of a fluorine resin material (for example, a perfluoropolyether compound having a hydroxyl group at a terminal group) is used as a material having good antifouling properties and excellent transparency. A material for lowering is preferred.

また、ガラス基板1における前記一対の主表面のうちの他方の主表面1Bには、前記防汚コート層3に、表面の水に対する接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施したことによる防汚コート改質層3aが形成されている。   Further, the other main surface 1B of the pair of main surfaces in the glass substrate 1 is subjected to an antifouling coat surface modification process which is a process for reducing the contact angle of the surface with water on the antifouling coat layer 3. The antifouling coat modified layer 3a is formed by applying.

上記ガラス被処理面が形成された一方の主表面1A及び前記端面1Cには、防汚コート層3が形成されるが、例えばディップ法によりガラス基板全体を防汚コート材に浸漬させることにより防汚コート層3を形成する場合、上記他方の主表面1Bにも防汚コート層が形成されることになる。図1の携帯機器用カバーガラス10の場合、通常、防汚コート面の耐久性を向上させたガラス基板1の上記主表面1A側を携帯機器の外側に、ガラス基板1の他方の主表面1B側を携帯機器の内側にそれぞれ向けて組み込まれる。   An antifouling coating layer 3 is formed on one main surface 1A and the end surface 1C on which the glass treated surface is formed. For example, the entire glass substrate is immersed in the antifouling coating material by dipping. In the case of forming the dirty coating layer 3, the anti-staining coating layer is also formed on the other main surface 1B. In the case of the cover glass 10 for a portable device in FIG. 1, the main surface 1A side of the glass substrate 1 whose durability of the antifouling coating surface is improved is usually outside the portable device, and the other main surface 1B of the glass substrate 1 is used. It is assembled with the side facing the inside of the mobile device.

ここで、ガラス基板1の主表面1B側に、(必要に応じて絶縁層を介して)透明導電層を形成して、ガラス基板1と透明導電層とによって、利用者の操作に応じた信号を生成可能なタッチセンサモジュールとすることもできる。この場合、ガラス基板1の上記主表面1B側に例えばフッ素系樹脂材料からなる防汚コート層3が形成されていると、その防汚コート層3の外面においては、上記絶縁層や透明導電層の付着安定性が悪い。このため、防汚コート層3の外面に上記絶縁層や透明導電層を形成することが困難であり、タッチセンサモジュールを構成することができない。   Here, a transparent conductive layer is formed on the main surface 1B side of the glass substrate 1 (via an insulating layer if necessary), and a signal corresponding to the user's operation is provided by the glass substrate 1 and the transparent conductive layer. Can be made as a touch sensor module. In this case, when the antifouling coating layer 3 made of, for example, a fluorine resin material is formed on the main surface 1B side of the glass substrate 1, the insulating layer or the transparent conductive layer is formed on the outer surface of the antifouling coating layer 3. The adhesion stability of is poor. For this reason, it is difficult to form the insulating layer and the transparent conductive layer on the outer surface of the antifouling coating layer 3, and a touch sensor module cannot be formed.

本発明においては、ガラス基板1における上記他方の主表面1Bには、前記防汚コート層3に、表面の水に対する接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施したことによる防汚コート改質層3aを形成することで、その外面に形成する絶縁層、透明導電層の付着安定性を向上させることができる。このような防汚コート面改質処理としては、例えばプラナー方式によるヘリウム(He)プラズマ曝露処理または紫外線照射処理などの方法が挙げられる。   In the present invention, the other main surface 1B of the glass substrate 1 is subjected to the antifouling coat surface modification treatment, which is a treatment for reducing the contact angle of the surface with water, on the antifouling coating layer 3. By forming the antifouling coat modifying layer 3a, the adhesion stability of the insulating layer and the transparent conductive layer formed on the outer surface thereof can be improved. Examples of the antifouling coating surface modification treatment include methods such as a helium (He) plasma exposure treatment or an ultraviolet irradiation treatment by a planar method.

本発明に係る携帯機器用カバーガラス10においては、上記ガラス基板1の一方の主表面1Aに形成された前記防汚コート層3の表面(ガラス基板1とは反対側の表面)における水の接触角は、110度〜120度の範囲内であり、油、例えばヘキサデカンの接触角は、60度〜70度の範囲内であることが好ましい。水または油に対する接触角が上記の範囲内であることにより、指で直接触れても(押しても)指紋等の汚れが付着するのを防止ないしは抑制し、あるいは指紋等の汚れが付着しても拭き取り易くする良好な防汚性を発揮する。なお、上記の接触角は、防汚コート層形成後の初期接触角であるが、本発明では、上記のとおり、ガラス基板1の主表面1Aに形成された防汚コート層3の耐久性を向上できるため、たとえば後述の実施例で説明するスチールウールの摺動による耐久性試験を行っても、接触角の低下は少なく、良好な防汚性を維持することができる。   In the cover glass 10 for a portable device according to the present invention, water contact on the surface of the antifouling coating layer 3 formed on one main surface 1A of the glass substrate 1 (the surface opposite to the glass substrate 1). The angle is in the range of 110 degrees to 120 degrees, and the contact angle of the oil, for example hexadecane, is preferably in the range of 60 degrees to 70 degrees. When the contact angle with water or oil is within the above range, even if it is directly touched (pressed) with a finger, it prevents or suppresses fingerprints and other dirt from being deposited, or fingerprints and other dirt are adhered. Demonstrates good antifouling property that facilitates wiping. The contact angle is an initial contact angle after the antifouling coating layer is formed. In the present invention, as described above, the durability of the antifouling coating layer 3 formed on the main surface 1A of the glass substrate 1 is improved. For example, even if a durability test by sliding steel wool described in the examples described later is performed, the contact angle is hardly lowered and good antifouling property can be maintained.

また、本発明における携帯機器用カバーガラス10においては、上記ガラス基板1の他方の主表面1Bに形成された前記防汚コート改質層3aの表面(ガラス基板1とは反対側の表面)における水の接触角は、20度以下であり、油、例えばヘキサデカンの接触角は、10度〜20度の範囲内であることが好ましい。水または油に対する接触角が上記の範囲内であることにより、防汚コート改質層3aの外面に前述の絶縁層や透明導電層を形成した場合の付着安定性を向上できる。
なお、本発明において、上記接触角は、22±2℃の雰囲気下で測定した値である。
Moreover, in the cover glass 10 for portable devices in this invention, in the surface (surface on the opposite side to the glass substrate 1) of the said antifouling coat modification layer 3a formed in the other main surface 1B of the said glass substrate 1. The contact angle of water is 20 degrees or less, and the contact angle of oil such as hexadecane is preferably in the range of 10 degrees to 20 degrees. When the contact angle with respect to water or oil is within the above range, adhesion stability when the above-described insulating layer or transparent conductive layer is formed on the outer surface of the antifouling coating modified layer 3a can be improved.
In the present invention, the contact angle is a value measured in an atmosphere of 22 ± 2 ° C.

また、本発明における携帯機器用カバーガラス10においては、上記ガラス基板1の一方の主表面1Aに形成された前記防汚コート層3の表面(ガラス基板1とは反対側の表面)における動摩擦係数は、0.1〜0.3の範囲内であり、または静摩擦係数は、0.2〜0.4の範囲内であることが好ましい。防汚コート層3の表面の動摩擦係数または静摩擦係数が上記の範囲内であることにより、防汚コート面の滑りが良く、指で触れたときの手触り感が良好であるため、本発明のカバーガラスを備えた携帯機器においては、利用者による例えばタッチパネルの操作性が良好である。   Moreover, in the cover glass 10 for portable devices in this invention, the dynamic friction coefficient in the surface (surface on the opposite side to the glass substrate 1) of the said antifouling coating layer 3 formed in one main surface 1A of the said glass substrate 1 is demonstrated. Is preferably in the range of 0.1 to 0.3, or the static friction coefficient is preferably in the range of 0.2 to 0.4. Since the surface of the antifouling coating layer 3 has a dynamic friction coefficient or a static friction coefficient within the above range, the antifouling coating surface is slippery and has a good feeling when touched with a finger. In a portable device provided with glass, the operability of a touch panel, for example, by a user is good.

本発明においては、上記ガラス基板1を構成するガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとすることが好ましい。このようなアルミノシリケートガラスからなるガラス基板は、化学強化後の強度が高く、携帯機器用カバーガラスには好適である。このようなアルミノシリケートガラスとしては、例えば、SiO2が58〜75重量%、Al23が4〜20重量%、Li2Oが0〜10重量%、Na2Oが4〜20重量%を主成分として含有するアルミノシリケートガラスを用いることができる。In the present invention, the glass constituting the glass substrate 1 is preferably amorphous aluminosilicate glass. A glass substrate made of such an aluminosilicate glass has a high strength after chemical strengthening and is suitable for a cover glass for portable devices. As such an aluminosilicate glass, for example, SiO 2 is 58 to 75 wt%, Al 2 O 3 is 4 to 20 wt%, Li 2 O is 0 to 10 wt%, and Na 2 O is 4 to 20 wt%. An aluminosilicate glass containing as a main component can be used.

上記ガラス基板1の厚さは、最近の携帯機器の薄型化・軽量化のマーケットニーズに応える観点から例えば0.3mm〜1.5mm程度の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは0.5mm〜0.7mm程度の範囲である。   The thickness of the glass substrate 1 is preferably in the range of, for example, about 0.3 mm to 1.5 mm, and more preferably 0.5 mm to 1.5 mm from the viewpoint of meeting the recent market needs for thinner and lighter portable devices. The range is about 0.7 mm.

次に、以上説明したような本発明に係る電子機器用カバーガラスの一実施の形態である携帯機器用カバーガラスの製造方法について説明する。
図2は、本発明に係る携帯機器用カバーガラスの製造方法のフローチャートであり、図3は、本発明に係る携帯機器用カバーガラスの製造方法を工程順に示す概略断面図である。
本発明に係る携帯機器用カバーガラスは、以下に説明するようなプロセスで製造される。
Next, the manufacturing method of the cover glass for portable devices which is one Embodiment of the cover glass for electronic devices which concerns on this invention which was demonstrated above is demonstrated.
FIG. 2 is a flowchart of a method for manufacturing a cover glass for a portable device according to the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the method for manufacturing the cover glass for a portable device according to the present invention in the order of steps.
The cover glass for portable devices according to the present invention is manufactured by a process as described below.

[ガラス基板作製(ステップS0)]
通常、大きなサイズの板ガラスを機械加工等により所定の大きさにカッティング(小片化)し、カバーガラス用のガラス基板1を作製する。
例えば、ダウンドロー法やフロート法等で製造された厚さが例えば0.5mm程度の板ガラスを多数枚(例えば数十枚程度)積層(ラミネート)し、ガラス用カッターを用いて所定の大きさの小片に切断する。このように、積層状態のものを一度に切断加工すると、次の形状加工工程においても積層状態の小片を一度に形状加工できるので、生産上有利である。小片の大きさは、製品のカバーガラスの大きさに外周形状加工に必要なマージンを加えた大きさを考慮して決定する。
ここで、外形形状加工については、積層状態の切断加工に代えて、シート状ガラス素材を1枚ずつ加工してもよい。また、外形形状加工には、機械加工以外の手段として、エッチング法を適用してもよい。
[Glass substrate production (step S0)]
Usually, a large glass plate is cut into a predetermined size by machining or the like to produce a glass substrate 1 for a cover glass.
For example, a large number (for example, about several tens) of sheet glass having a thickness of, for example, about 0.5 mm manufactured by the downdraw method or the float method is laminated (laminated), and a predetermined size is obtained using a glass cutter. Cut into small pieces. As described above, if the laminated state is cut at a time, the laminated pieces can be shaped at the same time in the next shape processing step, which is advantageous in production. The size of the small piece is determined in consideration of the size of the cover glass of the product plus the margin necessary for processing the outer peripheral shape.
Here, regarding the outer shape processing, instead of the cutting processing in the laminated state, the sheet-like glass material may be processed one by one. In addition, an etching method may be applied to the outer shape processing as a means other than machining.

なお、上記ガラス基板1のガラス組成は前記のとおりである。また、ガラス基板1の厚さは、前記のとおり、最近の携帯機器の薄型化・軽量化のマーケットニーズに応える観点から例えば0.3mm〜1.5mm程度の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは0.5mm〜0.7mm程度の範囲である。   The glass composition of the glass substrate 1 is as described above. In addition, as described above, the thickness of the glass substrate 1 is preferably in the range of, for example, about 0.3 mm to 1.5 mm, more preferably from the viewpoint of meeting the recent market needs for thinning and lightening portable devices. Is in the range of about 0.5 mm to 0.7 mm.

次に、この所定の大きさの小片に加工されたガラス基板1に対して機械加工あるいはエッチング加工により、必要な孔明け加工や外周形状加工などを行う。
図4はガラス基板の形状の一例を示す平面図である。図4に示す例では、ガラス基板1は、外周端面1a、切り欠き1b、耳孔1c、およびキー操作孔1dが形成されている。このような孔明け加工および外周形状加工をサンドブラスト等で機械加工してもよいし、あるいはエッチング加工により、これら孔明け加工および外周形状加工を一括処理することもできる。特に複雑な形状加工にはエッチング加工が有利である。また、加工形状に応じて機械加工とエッチング加工を併用してもよい。さらに、エッチング加工の際の溶解パターンを適宜設定することにより、シート状ガラス素材を小片化し、この小片化と同工程で、小片を図4に示すガラス基板1の形状となるようにしてもよい。
Next, necessary drilling processing, outer peripheral shape processing, and the like are performed on the glass substrate 1 processed into small pieces of a predetermined size by machining or etching.
FIG. 4 is a plan view showing an example of the shape of the glass substrate. In the example shown in FIG. 4, the glass substrate 1 has an outer peripheral end face 1a, a notch 1b, an ear hole 1c, and a key operation hole 1d. Such drilling and outer peripheral shape processing may be machined by sandblasting or the like, or these drilling processing and outer peripheral shape processing may be collectively performed by etching. In particular, etching is advantageous for complex shape processing. Moreover, you may use together machining and an etching process according to a process shape. Furthermore, the sheet-like glass material may be made into small pieces by appropriately setting the dissolution pattern during the etching process, and in the same process as this small piece, the small pieces may have the shape of the glass substrate 1 shown in FIG. .

次に、形状加工を終えたガラス基板1に対して化学強化処理を行う。
化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏300度以上500度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。化学強化処理とは、溶融させた化学強化塩とガラス基板とを接触させることにより、化学強化塩中の相対的に大きな原子半径のアルカリ金属元素と、ガラス基板中の相対的に小さな原子半径のアルカリ金属元素とをイオン交換し、ガラス基板の表層に該イオン半径の大きなアルカリ金属元素を浸透させ、ガラス基板の表面に圧縮応力を生じさせる処理のことである。化学強化塩としては、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどのアルカリ金属硝酸を好ましく用いることができる。化学強化処理されたガラス基板は強度が向上し耐衝撃性に優れているので、衝撃、押圧が加わり高い強度が必要な携帯機器に用いられるカバーガラスには好適である。
Next, a chemical strengthening process is performed on the glass substrate 1 that has undergone the shape processing.
As a method of chemical strengthening treatment, for example, a low temperature ion exchange method in which ion exchange is performed in a temperature range that does not exceed the temperature of the glass transition point, for example, a temperature of 300 ° C. to 500 ° C. is preferable. The chemical strengthening treatment is a process in which a molten chemical strengthening salt is brought into contact with a glass substrate, whereby an alkali metal element having a relatively large atomic radius in the chemical strengthening salt and a relatively small atomic radius in the glass substrate. This is a treatment in which an alkali metal element is ion-exchanged, an alkali metal element having a large ion radius is permeated into the surface layer of the glass substrate, and compressive stress is generated on the surface of the glass substrate. As the chemical strengthening salt, alkali metal nitric acid such as potassium nitrate or sodium nitrate can be preferably used. A chemically strengthened glass substrate is improved in strength and excellent in impact resistance, and thus is suitable for a cover glass used for a portable device that requires impact and pressure and requires high strength.

次に、以上の化学強化処理を行ったガラス基板の表面に印刷を施す(印刷工程)。例えば、印刷パターンとしては、携帯電話機のカバーガラスの例を挙げると、社名や製品名のロゴ、タッチパネル等のアイコン、各種センサー窓、画面周りの縁取り、裏面の押さえパターンなど、少なくとも2層、多いものでは例えば8層構成といった多色多層構造を必要とする。カバーガラスの印刷方式の一例としては、スクリーン印刷である。   Next, printing is performed on the surface of the glass substrate subjected to the above chemical strengthening treatment (printing step). For example, as an example of a cover glass for a mobile phone, there are at least two layers such as a company name or a product name logo, an icon such as a touch panel, various sensor windows, a border around the screen, and a pressing pattern on the back surface. For example, a multi-color multilayer structure such as an eight-layer structure is required. One example of the cover glass printing method is screen printing.

なお、印刷工程での印刷品質を上げるために、具体的には空気等との接触によるガラス基板の被印刷箇所における変質(やけ)を抑制するために、印刷領域保護層として防汚コートを予め施してもよい。また、この印刷工程においては、ガラス基板を印刷機の治具へ装填し、また治具から取り外すといった作業を印刷回数に応じて繰り返すことになるため、ガラス基板1の裏面や端面が治具と何度も接触することによるガラス基板1の傷の発生を防止するための接触保護層として防汚コートを予め施してもよい。但し、印刷に支障がないように、印刷面側の防汚コート層を印刷工程の際に除去または、該防汚コート層の表面の水の接触角を低下させるために改質処理を行うことが望ましい。   In addition, in order to improve the printing quality in the printing process, specifically, in order to suppress the deterioration (discoloration) in the printing portion of the glass substrate due to contact with air or the like, an antifouling coat is previously provided as a printing region protective layer. You may give it. Further, in this printing process, the operation of loading the glass substrate into the jig of the printing machine and removing it from the jig is repeated according to the number of times of printing. An antifouling coat may be applied in advance as a contact protective layer for preventing the glass substrate 1 from being damaged due to repeated contact. However, to prevent printing, the antifouling coating layer on the printing surface side is removed during the printing process, or a modification treatment is performed to reduce the contact angle of water on the surface of the antifouling coating layer. Is desirable.

[ガラス表面改質処理(ステップS1)]
次に、上記のようにして作製したガラス基板1(図3(a)参照)に対して、ガラス表面改質処理を行う。通常、ガラス基板1の表面に形成した印刷面側は携帯機器の内側に向けて搭載されるため、この印刷面とは反対側の、つまり携帯機器の外側に向けて露出するガラス基板表面に対してガラス表面改質処理を行う。図2及び図3においては、印刷層の記載を省略しているが、たとえばガラス基板1の他方の主表面1B側に印刷層が形成されており、一方の主表面1Aにはガラス被処理面2が形成されている(図3(b)参照)。このガラス被処理面2は、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をこの順に行うガラス表面改質処理を施すことにより形成される。
[Glass surface modification treatment (step S1)]
Next, a glass surface modification treatment is performed on the glass substrate 1 (see FIG. 3A) produced as described above. Usually, since the printing surface formed on the surface of the glass substrate 1 is mounted toward the inside of the portable device, the surface opposite to the printing surface, that is, the glass substrate surface exposed toward the outside of the portable device. Glass surface modification treatment. In FIG. 2 and FIG. 3, although the description of the printing layer is omitted, for example, the printing layer is formed on the other main surface 1B side of the glass substrate 1, and the glass surface to be treated is provided on the one main surface 1A. 2 is formed (see FIG. 3B). The glass surface 2 is formed by performing a glass surface modification process in which a planar plasma process and a downstream plasma process are performed in this order.

上記プラナー方式プラズマ処理とは、ある間隔で2枚の放電電極を有し、その間隔内に被処理基板を装着し、プラズマを発生させて処理を行う形態である。この場合、プラズマ発生に使用するガスとしては、例えばHe、Ar又はN等を用いる。2枚の電極間にプラズマ発生に必要な電圧を印加し、プラズマ空間で電離されたイオンがこの空間内にて加速され、被処理基板表面に衝突する。これにより、ガラス基板表面の輪郭曲線のスキューネス(Rsk:歪度)が0へ近づくようにガラス基板表面が改質され、ガラス基板表面の凹凸の形状の偏りが小さくなる。ここで、Rskは、0±0.3の範囲が好ましく、0±0.15の範囲がより好ましい。The planar plasma processing is a mode in which two discharge electrodes are provided at a certain interval, a substrate to be processed is mounted within the interval, and plasma is generated to perform the processing. In this case, for example, He, Ar, N 2 or the like is used as a gas used for plasma generation. A voltage necessary for plasma generation is applied between the two electrodes, and ions ionized in the plasma space are accelerated in this space and collide with the surface of the substrate to be processed. Thereby, the glass substrate surface is modified so that the skewness (Rsk: skewness) of the contour curve on the glass substrate surface approaches 0, and the unevenness of the uneven shape on the glass substrate surface is reduced. Here, Rsk is preferably in the range of 0 ± 0.3, more preferably in the range of 0 ± 0.15.

また、ダウンストリーム方式プラズマ処理とは、被処理基板へのガスの供給路を挟むように対向配置された2枚の電極間にプラズマ発生に必要な電圧を印加し、プラズマ化したガスを被処理基板に照射供給して処理を行う形態である。励起ガスを被処理基板表面に照射することで、基板表面に例えば水酸基やカルボキシル基等の官能基を形成し、基板表面の改質を行う。また、基板表面の有機汚染物の除去にも使用できる。この場合に使用するガスとしては、例えばNと、O又は空気との混合ガス等を用いる。In addition, the downstream type plasma processing means that a voltage required for plasma generation is applied between two electrodes arranged opposite to each other so as to sandwich a gas supply path to a substrate to be processed, and the plasmaized gas is processed. In this mode, the substrate is irradiated and supplied for processing. By irradiating the surface of the substrate to be processed with an excitation gas, a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group is formed on the substrate surface, and the substrate surface is modified. It can also be used to remove organic contaminants on the substrate surface. As a gas used in this case, for example, a mixed gas of N 2 and O 2 or air is used.

本発明においては、ガラス表面改質処理として、上記プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をこの順に行うことで、上記ガラス被処理面2を形成することが重要である。かかるガラス表面改質処理を行うことにより、たとえば従来の特に表面処理等をガラス基板に施さずにディップ法により形成した防汚コート層と比べて、防汚コート材のガラス基板に対する付着安定性が改善され、防汚コート面の耐久性を著しく向上させることができる。ガラス表面に塗布する防汚コート材としてはフッ素系樹脂材料が好ましく用いられる。しかしながら、このフッ素系樹脂材料をディップ法でガラス基板に塗布した場合、ガラス基板に対する付着安定性が特に悪い。このため、このようなフッ素系樹脂材料を防汚コート材として用いてディップ法でガラス基板に塗布する場合にも、ガラス基板に対する付着安定性を改善し、防汚コート面の耐久性を著しく向上させることができる。   In the present invention, it is important to form the glass treated surface 2 by performing the planar plasma treatment and the downstream plasma treatment in this order as the glass surface modification treatment. By performing such a glass surface modification treatment, for example, the adhesion stability of the antifouling coating material to the glass substrate is higher than that of a conventional antifouling coating layer formed by the dip method without particularly performing a surface treatment or the like on the glass substrate. The durability of the antifouling coating surface can be remarkably improved. As the antifouling coating material applied to the glass surface, a fluorine resin material is preferably used. However, when this fluororesin material is applied to a glass substrate by a dip method, the adhesion stability to the glass substrate is particularly bad. For this reason, even when such a fluororesin material is used as an antifouling coating material and applied to a glass substrate by the dip method, the adhesion stability to the glass substrate is improved and the durability of the antifouling coating surface is remarkably improved. Can be made.

本発明においては、上記プラナー方式プラズマ処理の場合、使用する反応ガスはHe,Ar又はNが好ましく、Heがより好ましい。また、使用する反応ガスの種類によっても多少異なるが、使用電力は、200〜500Wの範囲が好ましく、300〜400Wがより好ましい。また、処理時間は、10〜250秒の範囲で処理を行うことが好ましく、30〜90秒がより好ましい。一方、上記ダウンストリーム方式プラズマ処理の場合、使用する反応ガスは、不活性ガスと空気又はOとの混合ガスが好ましく、Nと空気との混合ガスがより好ましい。また、使用する反応ガスの種類によっても多少異なるが、使用電力は、400〜1200Wの範囲が好ましく、600〜1000Wの範囲がより好ましい。また、処理時間としては、5〜60秒の範囲で処理を行うことが好適であり、10〜15秒の範囲で処理を行うことがより好適である。In the present invention, in the case of the planar plasma treatment, the reaction gas used is preferably He, Ar or N 2 , and more preferably He. Moreover, although it changes somewhat according to the kind of reaction gas to be used, as for the electric power used, the range of 200-500W is preferable and 300-400W is more preferable. The treatment time is preferably 10 to 250 seconds, more preferably 30 to 90 seconds. On the other hand, in the case of the downstream plasma treatment, the reaction gas used is preferably a mixed gas of an inert gas and air or O 2, and more preferably a mixed gas of N 2 and air. Moreover, although it changes somewhat depending on the kind of reaction gas to be used, the power used is preferably in the range of 400 to 1200 W, more preferably in the range of 600 to 1000 W. Moreover, as processing time, it is suitable to process in the range of 5 to 60 seconds, and it is more suitable to process in the range of 10 to 15 seconds.

本発明においては、ガラス表面改質処理として、上記プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理の両処理を行うが、この2つの処理の順序としては、上記のとおり最初に上記プラナー方式プラズマ処理を行い、続いて上記ダウンストリーム方式プラズマ処理を行う。これによって、ガラス表面形状を変化させ、その上で、ガラス表面に官能基が生成され、本発明の作用効果が発揮されるので好ましい。   In the present invention, as the glass surface modification treatment, both the planar plasma treatment and the downstream plasma treatment are performed. As the order of these two treatments, the planar plasma treatment is first performed as described above. Followed by the downstream plasma treatment. Thereby, the glass surface shape is changed, and further, a functional group is generated on the glass surface, and the effects of the present invention are exhibited, which is preferable.

[防汚コート層形成(ステップS2)]
次に、上記のようにして、一方の主表面1Aに対してガラス表面改質処理を行い、ガラス被処理面を形成したガラス基板1に防汚コート層3を形成する(図3(c)参照)。
本発明においては、上記防汚コート層3は例えばディップ法によって塗布形成することが好ましい。ディップ法は、適当な溶媒中に防汚コート材として例えば上記フッ素系樹脂を主成分として含有する塗布液中に上記ガラス基板1全体を浸漬させ、これを取り出して乾燥することによって行われる。このディップ法によれば、真空成膜装置を用いなくても、上記ガラス基板1の全面に均一な膜厚の防汚コート層3を形成することができる。
[Anti-fouling coating layer formation (step S2)]
Next, as described above, the glass surface modification treatment is performed on one main surface 1A, and the antifouling coating layer 3 is formed on the glass substrate 1 on which the glass treated surface is formed (FIG. 3C). reference).
In the present invention, the antifouling coating layer 3 is preferably formed by coating, for example, by a dip method. The dip method is performed by immersing the entire glass substrate 1 in a coating solution containing, for example, the fluororesin as a main component in an appropriate solvent as an antifouling coating material, and taking it out and drying it. According to this dip method, the antifouling coating layer 3 having a uniform film thickness can be formed on the entire surface of the glass substrate 1 without using a vacuum film forming apparatus.

上記防汚コート層3の塗布膜厚は、特に制約されないが、例えば0.3nm〜30nmの範囲であることが好ましい。膜厚が0.3nm未満であると、耐久性が不足し、防汚機能が十分に発揮されない恐れがある。一方、膜厚が30nmを超えると、透明性が低下するので携帯機器の要請に沿わなくなる。   The coating thickness of the antifouling coating layer 3 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.3 nm to 30 nm, for example. When the film thickness is less than 0.3 nm, the durability is insufficient and the antifouling function may not be sufficiently exhibited. On the other hand, when the film thickness exceeds 30 nm, the transparency is lowered, so that it does not comply with the demand for portable devices.

上記のとおり、携帯機器の表示パネルに組み込んだ際に、携帯機器の表側に露出するガラス基板1の主表面1Aには本発明のガラス表面改質処理による被処理面が形成されており、上記ディップ法によって形成された防汚コート層3の付着安定性が改善されるので、従来のディップ法による防汚コート面に比べて耐久性を著しく向上させることができる。   As described above, the main surface 1A of the glass substrate 1 exposed on the front side of the portable device when incorporated in the display panel of the portable device is formed with a surface to be treated by the glass surface modification treatment of the present invention. Since the adhesion stability of the antifouling coating layer 3 formed by the dip method is improved, the durability can be remarkably improved as compared with the antifouling coating surface by the conventional dip method.

これに加えて、カバーガラスに対して外力が加わった際に、防汚コート層によってガラス基板表面への衝撃が緩和され、脆性材料であるガラスの強度低下の要因となるクラックがガラス基板に生じにくくなることから、カバーガラスの機械的強度を向上させることができる。つまり、化学強化されたガラス基板に防汚コート層を形成することによって、カバーガラスとしての機械的強度をより一層向上させることができる。   In addition to this, when an external force is applied to the cover glass, the antifouling coating layer alleviates the impact on the glass substrate surface, causing cracks in the glass substrate that cause a reduction in the strength of the brittle material glass. Since it becomes difficult, the mechanical strength of the cover glass can be improved. That is, the mechanical strength as the cover glass can be further improved by forming the antifouling coating layer on the chemically strengthened glass substrate.

ところで、上記防汚コート層は、ガラス基板の表面に付着する付着領域と、付着領域の表面に配置された流動領域とを有する。付着領域は、コーティング材料の分子がガラス基板の表面にある水酸基やカルボキシル基等の官能基と強固に結合した領域である。流動領域は、コーティング材料同士の分子鎖が絡み合って状態を維持している領域である。付着領域と流動領域とは、組成が同じであり、顕微鏡写真などによる外観上は差異がない。ただし流動領域は溶剤に溶けやすく、付着領域は溶剤では容易には溶解しない。したがって、付着領域は溶剤に浸漬(例えばHFEに1分間浸漬)した際に残存する領域であり、流動領域は溶剤に浸漬させた際に溶解する領域として識別することができる。付着領域及び流動領域の膜厚は、例えばFiveLab社製エリプソメータMARY−102により測定することができる。   By the way, the antifouling coating layer has an adhesion region that adheres to the surface of the glass substrate and a flow region that is disposed on the surface of the adhesion region. The adhesion region is a region where molecules of the coating material are firmly bonded to a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group on the surface of the glass substrate. The flow region is a region where the molecular chains of the coating materials are intertwined to maintain the state. The adhesion region and the flow region have the same composition, and there is no difference in appearance by a micrograph or the like. However, the flow region is easily dissolved in the solvent, and the adhesion region is not easily dissolved in the solvent. Therefore, the adhesion region is a region that remains when immersed in a solvent (for example, immersed in HFE for 1 minute), and the flow region can be identified as a region that dissolves when immersed in a solvent. The film thickness of the adhesion region and the flow region can be measured by, for example, an ellipsometer MARY-102 manufactured by FiveLab.

ここで、前記防汚コート層の厚さに対する付着領域の厚さの割合が40%〜70%であることが好ましい範囲である。付着領域の厚さの割合が40%未満であると、耐久性を発揮できなくなるためである。また付着領域の厚さの割合が70%より多くなると、滑り性を発揮できなくなるためである。さらに40%〜70%であれば、耐久性と滑り性をよりよく発揮することができる。また、付着領域の厚さの割合を40%〜70%として耐久性と滑り性をよりよく発揮するために、重量平均分子量が2000〜5000のフッ素系樹脂材料をコーティング材料として用いることがより好ましい。
この付着領域の厚さを調整するためには、具体的には、ベーク処理、紫外線照射処理、減圧による真空度調整処理などを行うことができる。
Here, the ratio of the thickness of the adhesion region to the thickness of the antifouling coating layer is preferably 40% to 70%. This is because if the thickness ratio of the adhesion region is less than 40%, the durability cannot be exhibited. Further, if the ratio of the thickness of the adhesion region is more than 70%, the slipperiness cannot be exhibited. Furthermore, if it is 40%-70%, durability and slipperiness can be exhibited better. Moreover, in order to better exhibit durability and slipperiness by setting the thickness ratio of the adhesion region to 40% to 70%, it is more preferable to use a fluorine-based resin material having a weight average molecular weight of 2000 to 5000 as a coating material. .
In order to adjust the thickness of the adhesion region, specifically, a baking process, an ultraviolet irradiation process, a vacuum degree adjusting process using a reduced pressure, or the like can be performed.

ベーク処理においては、恒温炉の中で溶媒の蒸発温度以上の温度で加熱することにより、防汚コート層を乾燥させることができる。加熱温度は、120℃〜180℃が好ましい。加熱時間は、30分〜1時間が好ましい。ここで加熱温度を高くするほど、また加熱時間を長くするほど、流動領域の厚さを減少させることができる。これとともに、熱によって、付着領域を構成するコーティング材料の分子とガラス基板の表面との結合が促進され、付着領域を拡大させることができる。   In the baking treatment, the antifouling coating layer can be dried by heating at a temperature equal to or higher than the evaporation temperature of the solvent in a constant temperature oven. The heating temperature is preferably 120 ° C to 180 ° C. The heating time is preferably 30 minutes to 1 hour. Here, the higher the heating temperature and the longer the heating time, the more the thickness of the flow region can be reduced. At the same time, the bonding between the molecules of the coating material constituting the adhesion region and the surface of the glass substrate is promoted by heat, and the adhesion region can be enlarged.

また、紫外線照射処理において、紫外線としては、その波長150から400ナノメートルの紫外線が好ましい。また、紫外線の光源としては例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、又は超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また紫外線の光源の照度は、300[cmW/cm]程度とすることができる。紫外線の照度を高くするほど、また照射時間を長くするほど、流動領域の厚さを減少させることができる。また、紫外線照射処理において、雰囲気温度を調整し、加熱処理を同時に施しても良い。これにより、付着領域を拡大させることができる。In the ultraviolet irradiation treatment, ultraviolet rays having a wavelength of 150 to 400 nanometers are preferable. Further, as the ultraviolet light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, or an ultrahigh-pressure mercury lamp can be used. The illuminance of the ultraviolet light source can be about 300 [cmW / cm 2 ]. The higher the illuminance of the ultraviolet light and the longer the irradiation time, the more the thickness of the flow region can be reduced. Further, in the ultraviolet irradiation treatment, the atmospheric temperature may be adjusted and the heat treatment may be performed simultaneously. Thereby, an adhesion area | region can be expanded.

また、真空度調整処理においては、溶媒の蒸気圧未満の気圧となるように真空度を調整することにより溶媒を蒸発させることができる。真空度を高くする(気圧を低くする)ほど、また処理時間を長くするほど、流動領域の厚さを減少させることができる。また、真空度調整処理において、雰囲気温度を調整し、加熱処理を同時に施しても良い。これにより、付着領域の拡大させることができる。   In the vacuum degree adjustment process, the solvent can be evaporated by adjusting the degree of vacuum so that the pressure is lower than the vapor pressure of the solvent. The higher the degree of vacuum (lowering the atmospheric pressure) and the longer the processing time, the more the thickness of the flow region can be reduced. Further, in the vacuum degree adjustment process, the atmospheric temperature may be adjusted and the heat treatment may be performed simultaneously. Thereby, an adhesion area | region can be expanded.

[防汚コート面改質処理(ステップS3)]
次に、上記ガラス基板1における他方の主表面1Bに形成された防汚コート層3に、表面の水の接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施し、防汚コート改質層3aを形成する(図3(d)参照)。
[Anti-fouling coating surface modification treatment (step S3)]
Next, the antifouling coat layer 3 formed on the other main surface 1B of the glass substrate 1 is subjected to an antifouling coat surface modification process which is a process for reducing the contact angle of water on the surface, thereby improving the antifouling coat. A quality layer 3a is formed (see FIG. 3D).

上記ガラス被処理面が形成された一方の主表面1A及び前記端面1Cには、防汚コート層3が形成されるが、例えばディップ法によりガラス基板全体を防汚コート材に浸漬させることにより防汚コート層3を形成する場合、上記他方の主表面1Bにも防汚コート層が形成されることになる。ここで、携帯機器の内側に向けて組み込まれるガラス基板1の主表面1B側に、例えば絶縁層、透明導電層の少なくともいずれかを形成して、携帯機器の利用者の操作を検出するためのタッチセンサモジュールとする場合がある。このような場合、本発明では、ガラス基板1における上記他方の主表面1Bに形成された前記防汚コート層3に、表面の水の接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施したことによる防汚コート改質層3aを形成することで、その外面に形成する絶縁層、透明導電層の付着安定性を向上させることができる。また、上記防汚コート改質層3aが形成されることで、ガラス基板1の上記主表面1Bに絶縁層や透明導電層が直接形成される場合よりも、これらの層の付着安定性が向上するという効果も得られる。   An antifouling coating layer 3 is formed on one main surface 1A and the end surface 1C on which the glass treated surface is formed. For example, the entire glass substrate is immersed in the antifouling coating material by dipping. In the case of forming the dirty coating layer 3, the anti-staining coating layer is also formed on the other main surface 1B. Here, for example, at least one of an insulating layer and a transparent conductive layer is formed on the main surface 1B side of the glass substrate 1 incorporated toward the inside of the mobile device, and the operation of the user of the mobile device is detected. A touch sensor module may be used. In such a case, in the present invention, the antifouling coating surface modification treatment is a treatment for reducing the contact angle of water on the surface of the antifouling coating layer 3 formed on the other main surface 1B of the glass substrate 1. By forming the antifouling coat modified layer 3a by applying the above, it is possible to improve the adhesion stability of the insulating layer and the transparent conductive layer formed on the outer surface thereof. Further, the formation of the antifouling coating modified layer 3a improves the adhesion stability of these layers as compared with the case where an insulating layer or a transparent conductive layer is directly formed on the main surface 1B of the glass substrate 1. The effect of doing is also acquired.

このような防汚コート面改質処理としては、例えばプラナー方式によるヘリウム(He)プラズマ曝露処理または紫外線照射処理などの方法が好ましく挙げられる。紫外線照射を行う場合の照射エネルギー、照射量(照射時間)などの条件、またプラズマ曝露処理する場合のプラズマエネルギー、処理時間などの条件に関しては、好ましい条件を適宜選択して実施することができる。これら紫外線照射条件またはプラズマ曝露処理条件によって、防汚コート層3に形成される防汚コート改質層3aの深さ方向における厚さを調整することは可能である。   As such antifouling coating surface modification treatment, for example, a method such as helium (He) plasma exposure treatment or ultraviolet irradiation treatment by a planar method is preferably exemplified. Regarding conditions such as irradiation energy and irradiation amount (irradiation time) when performing ultraviolet irradiation, and conditions such as plasma energy and processing time when performing plasma exposure treatment, preferable conditions can be selected as appropriate. It is possible to adjust the thickness in the depth direction of the antifouling coat modified layer 3a formed on the antifouling coat layer 3 by these ultraviolet irradiation conditions or plasma exposure treatment conditions.

なお、上記透明導電層は、ガラス基板1の主表面1Bに形成された防汚コート改質層3aの外面に沿って所定の厚さをもって形成される。この透明導電層の「所定の厚さ」とは、スパッタリング法により成膜される場合には、例えば100nm以下であり、印刷法により成膜される場合には、バインダーとなる透明樹脂を含めて1000nm以下である。   The transparent conductive layer is formed with a predetermined thickness along the outer surface of the antifouling coat modifying layer 3a formed on the main surface 1B of the glass substrate 1. The “predetermined thickness” of the transparent conductive layer is, for example, 100 nm or less when formed by a sputtering method, and includes a transparent resin serving as a binder when formed by a printing method. 1000 nm or less.

具体的には、上記防汚コート改質層3aの外面にスパッタリング法等を用いて透明導電層、例えばITO(Indium Tin Oxide)膜を成膜し、フォトリソグラフィ技術、またはYAG(Yttrium Aluminum Garnet)の基本波やCOレーザ等によるレーザパターニング技術を用いて透明導電層を所望のパターン形状に加工することにより形成される。また、接続部(金属配線)は、ガラス基板の印刷領域の表面にスパッタリング法等を用いて金属製の導電物質を成膜することにより金属膜を形成し、フォトリソグラフィ技術等を用いて金属膜を所望のパターン形状に加工することにより形成される。Specifically, a transparent conductive layer, for example, an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed on the outer surface of the antifouling coating modified layer 3a using a sputtering method or the like, and is applied to a photolithography technique or YAG (Yttrium Aluminum Garnet). These are formed by processing the transparent conductive layer into a desired pattern shape using a laser patterning technique using a fundamental wave or a CO 2 laser. In addition, the connection part (metal wiring) is formed by forming a metal conductive material on the surface of the printing region of the glass substrate by using a sputtering method or the like, and using a photolithography technique or the like to form the metal film. Is formed into a desired pattern shape.

また、上記防汚コート改質層3aの表面と透明導電層との間、上記防汚コート改質層3aの表面と接続部(金属配線)との間には、それぞれ必要に応じて絶縁層が形成される。この絶縁層は、透明性を有する絶縁性物質、例えば、SiO等の無機材料を用いて形成されることが好ましい。また、絶縁層は、例えばスパッタリング法等を用いて、厚さ50〜1000Å程度に形成されることが好ましい。
以上のようにして本実施の形態の携帯機器用カバーガラス10は製造され、携帯機器に組み込まれる。
Further, an insulating layer may be provided between the surface of the antifouling coat modified layer 3a and the transparent conductive layer, and between the surface of the antifouling coat modified layer 3a and the connection portion (metal wiring), as necessary. Is formed. This insulating layer is preferably formed using an insulating material having transparency, for example, an inorganic material such as SiO 2 . The insulating layer is preferably formed to a thickness of about 50 to 1000 mm using, for example, a sputtering method.
As described above, the cover glass 10 for a mobile device according to the present embodiment is manufactured and incorporated into the mobile device.

また、本発明は、タッチセンサモジュールの製造方法についても提供するものである。すなわち、一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備え、利用者の操作を検出するためのタッチセンサモジュールの製造方法であって、前記ガラス基板における一対の主表面のうちの一方の主表面に、ガラス表面改質処理を施したことによるガラス被処理面が形成され、前記ガラス被処理面には、防汚コート層が形成された前記ガラス基板に対して、前記一対の主表面のうちの他方の主表面に、前記防汚コート層に表面の水の接触角を低下させる防汚コート面改質処理を施してなる防汚コート改質層を形成する工程と、前記防汚コート改質層の外面に、絶縁層及び透明導電層の少なくともいずれか一方を形成する工程とを含むことを特徴とするタッチセンサモジュールの製造方法である。   The present invention also provides a method for manufacturing a touch sensor module. That is, a touch sensor module manufacturing method for detecting a user's operation, comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and end faces adjacent to the pair of main surfaces, One main surface of the main surfaces is formed with a glass-treated surface by performing a glass surface modification treatment, and the glass-treated surface has an antifouling coating layer formed on the glass substrate. An antifouling coat reforming layer is formed on the other main surface of the pair of main surfaces by subjecting the antifouling coating layer to an antifouling coating surface modification treatment that reduces the contact angle of water on the surface. And a step of forming at least one of an insulating layer and a transparent conductive layer on the outer surface of the antifouling coating modified layer.

本発明のタッチセンサモジュールの製造方法によれば、防汚コート面の耐久性を向上させ、且つ透明導電層等の付着安定性を向上させたガラス基板を備えるタッチセンサモジュールが得られる。
なお、以上の実施の形態では、浸漬法により防汚コーティング処理を行う場合を説明したが、本発明では、防汚コーティング処理方法は浸漬法に限定するものではなく、例えばスピンコート法、スプレー法、蒸着法、刷毛塗り法などにも適用することができる。
According to the method for manufacturing a touch sensor module of the present invention, a touch sensor module including a glass substrate with improved durability of an antifouling coating surface and improved adhesion stability of a transparent conductive layer or the like can be obtained.
In the above embodiment, the case where the antifouling coating treatment is performed by the dipping method has been described. However, in the present invention, the antifouling coating treatment method is not limited to the dipping method, and for example, a spin coating method or a spray method. It can also be applied to vapor deposition, brush coating, and the like.

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。ここでは、本発明に係る電子機器用カバーガラスの一実施の形態である携帯機器用カバーガラスの実施例を説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
以下の(1)ガラス基板作製工程、(2)ガラス表面改質処理工程、(3)防汚コート層形成工程、(4)防汚コート面改質処理工程、を経て本実施例の携帯機器用カバーガラスを製造した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Here, the Example of the cover glass for portable devices which is one Embodiment of the cover glass for electronic devices which concerns on this invention is demonstrated. In addition, this invention is not limited to a following example.
Example 1
The portable device of the present embodiment is subjected to the following (1) glass substrate manufacturing step, (2) glass surface modification treatment step, (3) antifouling coating layer forming step, and (4) antifouling coating surface modification treatment step. A cover glass was manufactured.

(1)ガラス基板作製工程
まず、ダウンドロー法やフロート法で製造されたアルミノシリゲートガラスからなる厚さ0.5mmの板ガラスから所定の大きさに切り出してカバーガラス用のガラス基板を作製した。このアルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:4〜20重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を含有する化学強化用ガラスを使用した。
次に、砥石(小開口径加工用)等を用いて上記ガラス基板に孔を空けると共に、例えば前述の図4に示すような外周端面の形状加工を施した。
(1) Glass substrate production process First, a glass substrate for a cover glass was produced by cutting out a predetermined size from a 0.5 mm thick plate glass made of an aluminosilicate glass produced by a downdraw method or a float method. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 4~20 wt%, Li 2 O: 3~10 wt%, Na 2 O: 4~13 chemical containing wt% Tempered glass was used.
Next, a hole was made in the glass substrate using a grindstone (for small opening diameter processing) or the like, and shape processing of the outer peripheral end face as shown in FIG. 4 was performed, for example.

次に、上記形状加工を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合した化学強化液を用意し、この化学強化溶液を380℃に加熱し、上記形状加工後の洗浄・乾燥済みのガラス基板を約4時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたガラス基板を硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。   Next, chemical strengthening was performed on the glass substrate after the shape processing. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution in which potassium nitrate and sodium nitrate are mixed is prepared, this chemical strengthening solution is heated to 380 ° C., and the cleaned and dried glass substrate after the above shape processing is immersed for about 4 hours. Was done. The glass substrate after chemical strengthening was sequentially immersed in each of washing tanks of sulfuric acid, neutral detergent, pure water, pure water, IPA, and IPA (steam drying), ultrasonically cleaned, and dried.

上記化学強化処理を行ったガラス基板に対して、その他方の主表面に印刷工程を実施した。すなわち、スクリーン印刷によって所定の印刷層(インキ層)を形成した。
こうして、ガラス基板を作製した。
The printing process was implemented on the other main surface with respect to the glass substrate which performed the said chemical strengthening process. That is, a predetermined printing layer (ink layer) was formed by screen printing.
Thus, a glass substrate was produced.

(2)ガラス表面改質処理工程
上記で作製したガラス基板の印刷面とは反対側の主表面に対して、ガラス表面改質処理を行った。
具体的には、まず最初に、以下の条件でプラナー方式によるプラズマ処理を行った。
・反応ガス:He
・使用電力:300W
・処理時間:180秒
続いて、以下の条件でダウンストリーム方式によるプラズマ処理を行った。
・反応ガス:N(流量80リットル/分)+空気(流量80リットル/分)
・使用電力:800W
・処理時間:13秒
(2) Glass surface modification treatment step A glass surface modification treatment was performed on the main surface opposite to the printed surface of the glass substrate produced above.
Specifically, first, plasma treatment by a planar method was performed under the following conditions.
・ Reaction gas: He
・ Power consumption: 300W
Processing time: 180 seconds Subsequently, plasma processing was performed by the downstream method under the following conditions.
Reaction gas: N 2 (flow rate 80 liters / minute) + air (flow rate 80 liters / minute)
・ Power consumption: 800W
・ Processing time: 13 seconds

(3)防汚コート層形成工程
フッ素系樹脂(信越化学工業社製(商品名)KY100シリーズ)を溶剤で適当な濃度に調整した塗布液(液温25℃)を用いてディップ法により、上記ガラス表面改質処理を終えたガラス基板の全面に上記フッ素系樹脂からなる防汚コート層を塗布し、100℃で熱風乾燥した。防汚コート層の塗布膜厚は10nmとした。この防汚コート層の膜厚は、FiveLab社製エリプソメ−タMARY−102による測定値である。
上記ガラス表面改質処理を行ったガラス基板主表面に形成された防汚コート層表面における水に対する接触角(初期接触角)は115度であった。なお、接触角はJIS R3257に従って、協和界面科学社製の接触角計DM−501を使用して測定した。
(3) Antifouling coating layer forming step The above-mentioned coating solution (liquid temperature: 25 ° C.) prepared by adjusting the fluororesin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (trade name) KY100 series) to an appropriate concentration with a solvent by the dipping method The antifouling coating layer made of the fluororesin was applied to the entire surface of the glass substrate after the glass surface modification treatment, and dried with hot air at 100 ° C. The coating thickness of the antifouling coating layer was 10 nm. The film thickness of the antifouling coating layer is a value measured by an ellipsometer MARY-102 manufactured by FiveLab.
The contact angle (initial contact angle) with respect to water on the surface of the antifouling coating layer formed on the main surface of the glass substrate subjected to the glass surface modification treatment was 115 degrees. The contact angle was measured according to JIS R3257 using a contact angle meter DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science.

(4)防汚コート面改質処理工程
上記ガラス基板の印刷面側に形成された防汚コート層に対して、以下の条件でプラナー方式によるプラズマ処理を行った。
・反応ガス:He
・印加電圧:300W
・処理時間:5秒
上記プラズマ処理前の防汚コート層表面における水に対する接触角は115度であったが、上記プラズマ処理直後の接触角は20度以下に下がった。
(4) Antifouling coating surface modification treatment step The antifouling coating layer formed on the printed surface side of the glass substrate was subjected to plasma treatment by a planar method under the following conditions.
・ Reaction gas: He
・ Applied voltage: 300W
Treatment time: 5 seconds Although the contact angle with water on the surface of the antifouling coating layer before the plasma treatment was 115 degrees, the contact angle immediately after the plasma treatment was lowered to 20 degrees or less.

こうして本実施例のカバーガラスを完成した。
得られたカバーガラスについて、防汚コート層表面の静摩擦係数及び動摩擦係数をそれぞれ測定したところ、静摩擦係数は0.35であり、動摩擦係数は0.21であった。この測定条件は、荷重50gf、摺動速度50mm/秒、摺動距離50mm、先端表面材質がポリエチレンであり先端形状が湾曲状の摺動子を用いた。
Thus, the cover glass of this example was completed.
About the obtained cover glass, when the static friction coefficient and dynamic friction coefficient of the antifouling coating layer surface were measured, the static friction coefficient was 0.35 and the dynamic friction coefficient was 0.21. As the measurement conditions, a load having a load of 50 gf, a sliding speed of 50 mm / second, a sliding distance of 50 mm, a tip surface material of polyethylene, and a tip having a curved shape was used.

さらに、得られたカバーガラスについて、主表面の表面粗さRa,Rq、歪度Rsk、及び尖度Rkuをそれぞれ測定した。なお、これらのパラメータは、JIS B0601:2001により規定されるパラメータである。例えば、これらのパラメータは、日本Veeco社製走査型プローブ顕微鏡(原子間力顕微鏡;AFM)ナノスコープで計測し、表面粗さRaについては、JIS R1683:2007で規定される方法で算出できる。本実施例においては、1μm×1μm角の測定エリアにおいて、512×128ピクセルの解像度で測定したときの値を用いることができる。この測定結果を表1に示す。なお、表1では、プラナー方式をP方式と記載し、ダウンストリーム方式をD方式と記載する。   Furthermore, about the obtained cover glass, surface roughness Ra of the main surface, Rq, skewness Rsk, and kurtosis Rku were measured, respectively. Note that these parameters are parameters defined by JIS B0601: 2001. For example, these parameters are measured with a scanning probe microscope (Atomic Force Microscope; AFM) nanoscope manufactured by Japan Veeco, and the surface roughness Ra can be calculated by a method defined in JIS R1683: 2007. In this embodiment, a value measured at a resolution of 512 × 128 pixels in a measurement area of 1 μm × 1 μm square can be used. The measurement results are shown in Table 1. In Table 1, the planar method is described as P method, and the downstream method is described as D method.

Figure 0005270810
Figure 0005270810

また、得られたカバーガラスの防汚コート層表面、つまり上記ガラス表面改質処理を行ったガラス基板主表面に形成された防汚コート層表面に対して、スチールウール(#0000)を荷重1kg(面圧1kg/cm)で摺動させ、防汚コート層表面における水に対する接触角の変動を検査した。この測定結果を表2に示す。本実施例のカバーガラスでは、2000回摺動後の接触角は110度以上を確保しており、初期接触角(115度)からの低下は小さく、防汚コート面の耐久性を著しく向上できることが確認できた。In addition, steel wool (# 0000) is applied to the surface of the antifouling coat layer of the obtained cover glass, that is, the surface of the antifouling coat layer formed on the glass substrate main surface subjected to the glass surface modification treatment, with a load of 1 kg. The surface was slid at (surface pressure 1 kg / cm 2 ), and the change in contact angle with water on the surface of the antifouling coating layer was examined. The measurement results are shown in Table 2. In the cover glass of this example, the contact angle after sliding 2000 times is ensured to be 110 degrees or more, the decrease from the initial contact angle (115 degrees) is small, and the durability of the antifouling coated surface can be remarkably improved. Was confirmed.

Figure 0005270810
Figure 0005270810

(実施例2)
実施例1の(2)ガラス表面改質処理工程において、プラナー方式のプラズマ処理時間を60秒としたこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを製造した。
得られたカバーガラスの防汚コート層表面について、実施例1と同様に、表面粗さ等のパラメータと接触角とを測定した。これらの結果を表1,2に示す。本実施例のカバーガラスでは、2000回摺動後の接触角は105度以上を確保しており、本実施例においても防汚コート面の耐久性を向上できることが確認できた。
(Example 2)
A cover glass was manufactured in the same manner as in Example 1 except that in the (2) glass surface modification treatment step of Example 1, the planar plasma treatment time was set to 60 seconds.
For the antifouling coat layer surface of the obtained cover glass, parameters such as surface roughness and contact angle were measured in the same manner as in Example 1. These results are shown in Tables 1 and 2. In the cover glass of this example, the contact angle after sliding 2000 times was ensured to be 105 degrees or more, and it was confirmed that the durability of the antifouling coating surface can be improved also in this example.

(実施例3)
実施例1の(2)ガラス表面改質処理工程において、プラナー方式のプラズマ処理時間を30秒としたこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを製造した。
得られたカバーガラスの防汚コート層表面について、実施例1と同様に、表面粗さ等のパラメータと接触角とを測定した。これらの結果を表1,2に示す。本実施例のカバーガラスでは、2000回摺動後の接触角は105度以上を確保しており、本実施例においても防汚コート面の耐久性を向上できることが確認できた。
(Example 3)
A cover glass was produced in the same manner as in Example 1 except that in the (2) glass surface modification treatment step of Example 1, the planar plasma treatment time was 30 seconds.
For the antifouling coat layer surface of the obtained cover glass, parameters such as surface roughness and contact angle were measured in the same manner as in Example 1. These results are shown in Tables 1 and 2. In the cover glass of this example, the contact angle after sliding 2000 times was ensured to be 105 degrees or more, and it was confirmed that the durability of the antifouling coating surface can be improved also in this example.

(比較例1)
実施例1の(2)ガラス表面改質処理工程を省いたこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを製造した。
得られたカバーガラスの防汚コート層表面について、実施例1と同様に、接触角を測定した。この結果を表2に示す。本比較例のカバーガラスでは、1000回摺動後の接触角は100度以下に低下していた。つまり、本発明のガラス表面改質処理を行わずに防汚コート層を形成しても防汚コート面の耐久性が十分に得られないことが確認できた。
(Comparative Example 1)
A cover glass was produced in the same manner as in Example 1 except that (2) the glass surface modification treatment step in Example 1 was omitted.
The contact angle was measured in the same manner as in Example 1 on the surface of the antifouling coating layer of the obtained cover glass. The results are shown in Table 2. In the cover glass of this comparative example, the contact angle after sliding 1000 times was reduced to 100 degrees or less. That is, it was confirmed that the durability of the antifouling coating surface could not be sufficiently obtained even if the antifouling coating layer was formed without performing the glass surface modification treatment of the present invention.

(比較例2)
実施例1の(2)ガラス表面改質処理工程におけるダウンストリーム方式のプラズマ処理を省いたこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを製造した。
得られたカバーガラスの防汚コート層表面について、実施例1と同様に、接触角を測定した。この結果を表2に示す。本比較例のカバーガラスでは、1000回摺動後の接触角は105度以下に低下し、2000回摺動後の接触角は100度以下に低下していた。つまり、本発明のガラス表面改質処理を行わずに防汚コート層を形成しても防汚コート面の耐久性が十分に得られないことが確認できた。
(Comparative Example 2)
A cover glass was produced in the same manner as in Example 1 except that the downstream plasma treatment in the (2) glass surface modification treatment step of Example 1 was omitted.
The contact angle was measured in the same manner as in Example 1 on the surface of the antifouling coating layer of the obtained cover glass. The results are shown in Table 2. In the cover glass of this comparative example, the contact angle after 1000 times of sliding decreased to 105 degrees or less, and the contact angle after 2000 times of sliding decreased to 100 degrees or less. That is, it was confirmed that the durability of the antifouling coating surface could not be sufficiently obtained even if the antifouling coating layer was formed without performing the glass surface modification treatment of the present invention.

(比較例3)
実施例1の(2)ガラス表面改質処理工程におけるプラナー方式のプラズマ処理を省いたこと以外は、実施例1と同様にしてカバーガラスを製造した。
得られたカバーガラスの防汚コート層表面について、実施例1と同様に、表面粗さ等のパラメータと接触角とを測定した。これらの結果を表1、表2に示す。本比較例のカバーガラスでは、1000回摺動後の接触角は100度以下に低下していた。つまり、本発明のガラス表面改質処理を行わずに防汚コート層を形成しても防汚コート面の耐久性が十分に得られないことが確認できた。
(Comparative Example 3)
A cover glass was produced in the same manner as in Example 1 except that the planar plasma treatment in the (2) glass surface modification treatment step of Example 1 was omitted.
For the antifouling coat layer surface of the obtained cover glass, parameters such as surface roughness and contact angle were measured in the same manner as in Example 1. These results are shown in Tables 1 and 2. In the cover glass of this comparative example, the contact angle after sliding 1000 times was reduced to 100 degrees or less. That is, it was confirmed that the durability of the antifouling coating surface could not be sufficiently obtained even if the antifouling coating layer was formed without performing the glass surface modification treatment of the present invention.

以上のように、実施例1〜3においては、ガラス基板表面の輪郭曲線のRskが0へ近づくように、また、ガラス基板表面の輪郭曲線のRkuが減少するようにガラス基板表面が改質され、ガラス基板表面の凹凸の形状の偏りが小さくなることが確認された。そして、プラナー方式プラズマ処理を施したガラス基板の表面に更にダウンストリーム方式プラズマ処理を施したガラス基板表面においては、ディップ法によって塗布された防汚コート層のガラス基板に対する付着安定性がより一層高まり、2方式のプラズマ処理を施さない場合(比較例1〜3)に対して、防汚コート面の耐久性が向上できることが確認できた。
また、上記実施例1〜3における防汚コート層の厚さに対する付着領域の厚さの割合について前記の方法で測定したところ、40%〜70%の範囲であった。
As described above, in Examples 1 to 3, the glass substrate surface is modified so that Rsk of the contour curve on the glass substrate surface approaches 0 and Rku of the contour curve on the glass substrate surface decreases. It was confirmed that the unevenness of the uneven shape on the surface of the glass substrate was reduced. In addition, on the surface of the glass substrate that has undergone the downstream plasma treatment on the surface of the glass substrate that has undergone the planar plasma treatment, the adhesion stability of the antifouling coating layer applied by the dip method to the glass substrate is further enhanced. It was confirmed that the durability of the antifouling coating surface could be improved as compared with the case where the two-type plasma treatment was not performed (Comparative Examples 1 to 3).
Moreover, when it measured by the said method about the ratio of the thickness of the adhesion area | region with respect to the thickness of the antifouling coating layer in the said Examples 1-3, it was the range of 40%-70%.

(実施例4)
次に、実施例1で作製したガラス基板における防汚コート層改質面に、SiOを主成分とする絶縁層をスパッタリング法により形成した。次に、上記絶縁層の表面に、透明電極膜を形成した。具体的には透明電極膜はITO(Indium Tin Oxide)膜をスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ技術を用いて上記透明電極膜を所望のパターン形状に加工し形成した。また、金属配線はスパッタリング法を用いて導電物質を成膜し、フォトリソグラフィ技術により導電物質膜を所望のパターン形状に加工し、タッチセンサモジュールを製造した。
本実施例のタッチセンサモジュールは、上記絶縁層および透明電極膜とカバーガラス表面との付着性は良好であり、タッチセンサモジュールとしての所望の機能を充たすものであった。
Example 4
Next, an insulating layer mainly composed of SiO 2 was formed on the antifouling coating layer modified surface of the glass substrate produced in Example 1 by a sputtering method. Next, a transparent electrode film was formed on the surface of the insulating layer. Specifically, the transparent electrode film was formed by forming an ITO (Indium Tin Oxide) film by a sputtering method and processing the transparent electrode film into a desired pattern shape using a photolithography technique. In addition, a conductive material was formed into a metal wiring by a sputtering method, and the conductive material film was processed into a desired pattern shape by a photolithography technique to manufacture a touch sensor module.
The touch sensor module of this example had good adhesion between the insulating layer and the transparent electrode film and the cover glass surface, and fulfilled a desired function as a touch sensor module.

(比較例4)
実施例1において、ガラス表面改質処理を施した表面と反対の表面の防汚コート層に、プラナー方式によるプラズマ処理((4)防汚コート面改質処理)を行わずに、実施例4と同様にしてタッチセンサモジュールの製造を試みた。しかしながら、本比較例では絶縁層および透明電極膜とカバーガラス表面との付着性が悪く、絶縁層および透明電極膜の一部がカバーガラス表面に付着せずに成膜できず、タッチセンサモジュールを製造することができなかった。
(Comparative Example 4)
In Example 1, the antifouling coating layer on the surface opposite to the surface subjected to the glass surface modification treatment was not subjected to plasma treatment ((4) antifouling coating surface modification treatment) by the planar method, but Example 4 Attempts were made to manufacture a touch sensor module in the same manner. However, in this comparative example, the adhesion between the insulating layer and the transparent electrode film and the cover glass surface is poor, and a part of the insulating layer and the transparent electrode film cannot be deposited without adhering to the cover glass surface. Could not be manufactured.

1 カバーガラス用ガラス基板
1A,1B ガラス基板の主表面
1C ガラス基板の端面
2 ガラス被処理面
3 防汚コート層
3a 防汚コート改質層
10 携帯機器用カバーガラス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate for cover glasses 1A, 1B Main surface of glass substrate 1C End surface of glass substrate 2 Glass treated surface 3 Antifouling coating layer 3a Antifouling coating modification layer 10 Cover glass for portable devices

Claims (16)

一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備える電子機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記ガラス基板における一対の主表面のうちの一方の主表面に、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をその順に行うガラス表面改質処理を施し、ガラス被処理面を形成する工程と、
前記ガラス被処理面を形成する工程の後に行われ、前記ガラス被処理面に対して防汚コート層を形成する工程と
を含むことを特徴とする電子機器用カバーガラスの製造方法。
A method for producing a cover glass for an electronic device comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and an end surface adjacent to the pair of main surfaces,
A step of forming a glass surface to be treated by subjecting one main surface of the pair of main surfaces of the glass substrate to a glass surface modification treatment in order of a planar plasma treatment and a downstream plasma treatment,
A method for producing a cover glass for an electronic device, comprising: a step of forming an antifouling coating layer on the glass treated surface after the step of forming the glass treated surface.
前記防汚コート層を形成する工程では、前記ガラス基板全体を防汚コート材に浸漬することにより、前記ガラス被処理面を含む前記ガラス基板の外面全体に防汚コート層を形成することを特徴とする請求項1に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法。   In the step of forming the antifouling coating layer, the antifouling coating layer is formed on the entire outer surface of the glass substrate including the glass treated surface by immersing the entire glass substrate in an antifouling coating material. The manufacturing method of the cover glass for electronic devices of Claim 1. 前記一対の主表面のうちの他方の主表面に形成された前記防汚コート層に、表面の水の接触角を低下させる処理である防汚コート面改質処理を施し、防汚コート改質層を形成する工程を有することを特徴とする請求項2に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法。   The antifouling coat layer formed on the other main surface of the pair of main surfaces is subjected to an antifouling coat surface modification treatment that reduces the contact angle of water on the surface, and the antifouling coat modification is performed. The method for producing a cover glass for an electronic device according to claim 2, further comprising a step of forming a layer. 前記ガラス被処理面を形成する工程の前に行われ、前記ガラス基板に印刷を施す工程をさらに含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子機器用カバーガラスの製造方法。   The method for producing a cover glass for an electronic device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a step of performing printing on the glass substrate before the step of forming the glass surface. . 前記印刷が施されるまで前記ガラス基板表面における印刷領域の変質を保護するための印刷領域保護層を前記ガラス基板表面に前記印刷を施す前に設け、前記印刷を施す際に前記印刷領域保護層の表面の水の接触角を低下させるために改質、又は除去することを特徴とする請求項4に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法。   A printing region protection layer for protecting the alteration of the printing region on the surface of the glass substrate until the printing is performed is provided before the printing is performed on the surface of the glass substrate, and the printing region protection layer is provided when the printing is performed. The method for producing a cover glass for an electronic device according to claim 4, wherein the contact glass is modified or removed in order to reduce the contact angle of water on the surface of the electronic device. 前記印刷を施す際に前記ガラス基板に対する印刷機あるいはその治具との接触を保護するための接触保護層を前記ガラス基板に予め設けることを特徴とする請求項4又は5に記載の電子機器用カバーガラスの製造方法。   6. The electronic device according to claim 4, wherein a contact protective layer for protecting the glass substrate from contact with a printing machine or a jig thereof is provided in advance on the glass substrate when the printing is performed. Manufacturing method of cover glass. 一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備える電子機器用カバーガラスであって、
前記一対の主表面のうちの一方の主表面のRskは、0±0.3であり、
前記一方の主表面には、防汚コート層が形成されており、
前記防汚コート層の表面に対して、#0000のスチールウールを面圧1kg/cmで2000回摺動した場合に、前記防汚コート層の表面における水の接触角が105度以上であることを特徴とする電子機器用カバーガラス。
A cover glass for an electronic device comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and an end surface adjacent to the pair of main surfaces,
Rsk of one main surface of the pair of main surfaces is 0 ± 0.3,
An antifouling coating layer is formed on the one main surface,
When # 0000 steel wool is slid 2000 times with a surface pressure of 1 kg / cm 2 against the surface of the antifouling coating layer, the contact angle of water on the surface of the antifouling coating layer is 105 ° or more. The cover glass for electronic devices characterized by the above-mentioned.
前記防汚コート層は、前記ガラス基板の表面に付着する付着領域と、該付着領域の表面に配置された流動領域とを有することを特徴とする請求項7に記載の電子機器用カバーガラス。   8. The cover glass for an electronic device according to claim 7, wherein the antifouling coating layer has an adhesion region attached to the surface of the glass substrate and a flow region disposed on the surface of the adhesion region. 前記防汚コート層の厚さに対する前記付着領域の厚さの割合が40%〜70%であることを特徴とする請求項8に記載の電子機器用カバーガラス。   The cover glass for an electronic device according to claim 8, wherein a ratio of the thickness of the adhesion region to the thickness of the antifouling coating layer is 40% to 70%. 前記一対の主表面のうちの他方の主表面には、前記防汚コート層に表面の水の接触角を低下させるための防汚コート面改質処理を施してなる防汚コート改質層が形成されており、
前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面における水の接触角は、110度〜120度の範囲内であり、前記他方の主表面に形成された前記防汚コート改質層の前記ガラス基板とは反対側の表面における水の接触角は、20度以下であることを特徴とする請求項7乃至9のいずれかに記載の電子機器用カバーガラス。
On the other main surface of the pair of main surfaces, there is an antifouling coat modified layer formed by subjecting the antifouling coat layer to an antifouling coat surface modifying treatment for reducing the contact angle of water on the surface. Formed,
The contact angle of water on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 110 degrees to 120 degrees, and is formed on the other main surface. The electronic device cover according to any one of claims 7 to 9, wherein a contact angle of water on a surface of the antifouling coating modified layer opposite to the glass substrate is 20 degrees or less. Glass.
前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面におけるヘキサデカンの接触角は、60度〜70度の範囲内であり、前記他方の主表面に形成された前記防汚コート改質層の前記ガラス基板とは反対側の表面におけるヘキサデカンの接触角は、10度〜20度の範囲内であることを特徴とする請求項10に記載の電子機器用カバーガラス。   The contact angle of hexadecane on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 60 degrees to 70 degrees, and is formed on the other main surface. 11. The electronic device cover according to claim 10, wherein a contact angle of hexadecane on a surface of the antifouling coating modified layer opposite to the glass substrate is in a range of 10 degrees to 20 degrees. Glass. 前記一方の主表面に形成された前記防汚コート層の前記ガラス基板とは反対側の表面における動摩擦係数は、0.1〜0.3の範囲内であることを特徴とする請求項7乃至11のいずれかに記載の電子機器用カバーガラス。   The dynamic friction coefficient on the surface opposite to the glass substrate of the antifouling coating layer formed on the one main surface is in the range of 0.1 to 0.3. The cover glass for electronic devices in any one of 11. 前記防汚コート層は、末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含有するフッ素系樹脂材料からなることを特徴とする請求項7乃至12のいずれかに記載の電子機器用カバーガラス。   The cover glass for an electronic device according to any one of claims 7 to 12, wherein the antifouling coating layer is made of a fluororesin material containing a perfluoropolyether compound having a hydroxyl group at a terminal group. 前記防汚コート層は、重量平均分子量が2000〜5000のフッ素系樹脂材料からなることを特徴とする請求項7乃至13のいずれかに記載の電子機器用カバーガラス。   The cover glass for an electronic device according to any one of claims 7 to 13, wherein the antifouling coating layer is made of a fluorine resin material having a weight average molecular weight of 2000 to 5000. 前記ガラス基板は、化学強化されたアルミノシリケートガラスからなることを特徴とする請求項7乃至14のいずれかに記載の電子機器用カバーガラス。   15. The cover glass for an electronic device according to claim 7, wherein the glass substrate is made of chemically strengthened aluminosilicate glass. 一対の主表面と、該一対の主表面と隣り合う端面とを有するガラス基板を備え、利用者の操作を検出するためのタッチセンサモジュールの製造方法であって、
前記ガラス基板における一対の主表面のうちの一方の主表面に、プラナー方式プラズマ処理及びダウンストリーム方式プラズマ処理をその順に行うガラス表面改質処理を施したことによるガラス被処理面が形成され、前記ガラス被処理面を含む前記ガラス基板の外面全体に、防汚コート層が形成された前記ガラス基板に対して、
前記一対の主表面のうちの他方の主表面に、前記防汚コート層に表面の水の接触角を低下させる防汚コート面改質処理を施してなる防汚コート改質層を形成する工程と、
前記防汚コート改質層の外面に、絶縁層及び透明導電層の少なくともいずれか一方を形成する工程と
を含むことを特徴とするタッチセンサモジュールの製造方法。

A method of manufacturing a touch sensor module, comprising a glass substrate having a pair of main surfaces and an end surface adjacent to the pair of main surfaces,
On one main surface of the pair of main surfaces in the glass substrate, a glass surface to be processed is formed by performing a glass surface modification treatment for performing a planar plasma treatment and a downstream plasma treatment in that order, For the glass substrate on which the antifouling coating layer is formed on the entire outer surface of the glass substrate including the glass treated surface,
A step of forming an antifouling coat reforming layer formed on the other main surface of the pair of main surfaces by subjecting the antifouling coating layer to an antifouling coating surface modification treatment for reducing the contact angle of water on the surface. When,
And a step of forming at least one of an insulating layer and a transparent conductive layer on the outer surface of the antifouling coat modifying layer.

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