JP5269299B2 - Method for producing stabilized polyacetal resin, stabilized polyacetal resin, composition and molded article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、不安定末端基を有するポリアセタール樹脂を、四級ホスホニウム塩からなる不安定末端分解処理剤の存在下に熱処理して、不安定末端基を低減させる安定化ポリアセタール樹脂の製造方法、得られた安定化ポリアセタール樹脂、その組成物及び成形体に関する。 The present invention provides a process for producing a stabilized polyacetal resin in which unstable end groups are reduced by heat-treating a polyacetal resin having unstable end groups in the presence of an unstable terminal decomposition treatment agent comprising a quaternary phosphonium salt. The present invention relates to a stabilized polyacetal resin, a composition thereof, and a molded body.
ポリアセタール樹脂は機械的性質、耐薬品性、摺動性等のバランスに優れ、且つ、その加工が容易であることにより、代表的なエンジニアリングプラスチックとして電気・電子部品、自動車部品、その他の各種機械部品等を中心として広く利用されている。
ポリアセタール樹脂にはホモポリマーとコポリマーがあり、前者はホルムアルデヒド又はその環状多量体を原料として、後者はホルムアルデヒド又はその環状多量体を主モノマーとして環状エーテル及び/又は環状ホルマールをコモノマーとして、触媒の存在下で重合して製造される。しかし、得られるポリアセタール樹脂は、一部の分子末端がヘミアセタール基やホルミル基であるため熱的に不安定であり、成形時に熱分解してホルムアルデヒドを発生し、環境上問題になる他、発生したホルムアルデヒドが成形中に酸化されて蟻酸となりポリアセタール樹脂を分解させたり、成形品が発泡したり、ガス抜けによるシルバーラインが発生したりする問題が生じる。
Polyacetal resin has excellent balance of mechanical properties, chemical resistance, slidability, etc. and is easy to process, so it is a representative engineering plastic such as electric / electronic parts, automobile parts, and other various machine parts. Etc. are widely used mainly.
Polyacetal resins include homopolymers and copolymers, the former using formaldehyde or its cyclic multimer as the raw material, the latter using formaldehyde or its cyclic multimer as the main monomer and cyclic ether and / or cyclic formal as the comonomer, in the presence of a catalyst. It is manufactured by polymerization. However, the resulting polyacetal resin is thermally unstable because some of its molecular ends are hemiacetal groups or formyl groups, and decomposes during molding to generate formaldehyde, which causes environmental problems. Formaldehyde is oxidized during molding to form formic acid, causing degradation of the polyacetal resin, foaming of the molded product, and silver lines due to outgassing.
このような熱的に不安定な末端基を有するポリアセタール樹脂を安定化する方法としては、末端をアセチル化、エーテル化、又はウレタン化する方法や、不安定末端基とそれに続く不安定末端部を分解・除去する方法等が知られており、コポリマーでは、不安定末端基を分解して安定化する方法が用いられている。
ポリアセタール樹脂の不安定末端基を分解して安定化する方法として各種の方法が知られている。
特公昭40−10435号公報には、不安定末端基を有する粗ポリアセタール樹脂を不溶性の媒体中で直接加熱処理する方法が開示されている(特許文献1参照)。
この方法では不安定な末端基の分解速度を上げるためにポリアセタール樹脂の融点に近い温度で操作しているが分解速度は十分なものではなく、分解処理に長時間を要するとともに、分解効率も不十分なものであった。
特開昭60−63216号公報には、粗ポリアセタール樹脂に安定剤及び/又はアルカリ性物質を添加して一旦溶融処理した後に、不溶性の媒体中、不均一系を保った状態で80℃以上で加熱処理する方法が開示されている(特許文献2参照)。
しかし、この方法では、溶融処理段階での不安定末端基の除去は不十分であり、残存する不安定末端基を不溶性媒体中での加熱処理によって十分に分解除去するためには長時間を要するという問題がある。また、特別な装置を必要とし、操作も煩雑になるという問題もある。
As a method for stabilizing such a polyacetal resin having a thermally unstable terminal group, a method of acetylating, etherifying, or urethanizing a terminal, or an unstable terminal group followed by an unstable terminal part may be used. A method of decomposing / removing is known, and for copolymers, a method of decomposing and stabilizing unstable end groups is used.
Various methods are known as methods for decomposing and stabilizing unstable terminal groups of polyacetal resins.
Japanese Patent Publication No. 40-10435 discloses a method in which a crude polyacetal resin having unstable terminal groups is directly heat-treated in an insoluble medium (see Patent Document 1).
This method is operated at a temperature close to the melting point of the polyacetal resin in order to increase the decomposition rate of unstable end groups, but the decomposition rate is not sufficient, the decomposition process takes a long time, and the decomposition efficiency is not good. It was enough.
In JP-A-60-63216, a stabilizer and / or an alkaline substance is added to a crude polyacetal resin and once melt-treated, and then heated at 80 ° C. or higher in an insoluble medium while maintaining a heterogeneous system. A method of processing is disclosed (see Patent Document 2).
However, in this method, removal of unstable terminal groups in the melt treatment stage is insufficient, and it takes a long time to sufficiently decompose and remove remaining unstable terminal groups by heat treatment in an insoluble medium. There is a problem. There is also a problem that a special device is required and the operation becomes complicated.
また、従来より、不安定末端基の分解を促進させるための分解処理剤として、アンモニア;トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリエタノールアミン等の脂肪族アミン;水酸化テトラブチルアンモニウム等の四級アンモニウム塩;アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、無機弱酸塩または有機酸塩等を使用し、その存在下に不安定末端部の分解を行うことは公知である。
特開昭57−55916号公報には、ルイス酸を重合触媒としてポリオキシメチレンホモポリマーと環状ホルマールを共重合して粗ポリアセタール共重合体を得る方法が開示されている。その中で、アミンや四級アンモニウム塩などの塩基性物質を加えて反応を終了した後、重合体を水などと共に加熱して、安定化ポリアセタール共重合体を得る方法が記載されている(特許文献3参照)。
しかし、この文献には、具体的な四級アンモニウム塩の例示は無く、その効果も示されていない。また、四級アンモニウム塩以外の物質は例示されていない。
特開昭59−159812号公報には、ルイス酸を重合触媒としてトリオキサンと環状エーテルを重合して粗ポリアセタール共重合体を得るトリオキサンの連続重合法が開示されている。その中で、ルイス酸をアミンや四級アンモニウム塩などの塩基性物質で中和・失活した後、重合体を水などと共に加熱して、重合体の不安定末端部を除去した安定化ポリアセタール共重合体を得る方法が記載されている(特許文献4参照)。
しかし、この文献にも、具体的な四級アンモニウム塩の例示は無く、その効果も示されていない。また、四級アンモニウム塩以外の物質は例示されていない。
Conventionally, as a decomposition treatment agent for promoting the decomposition of unstable terminal groups, ammonia; aliphatic amines such as triethylamine, tri-n-butylamine, and triethanolamine; quaternary ammonium such as tetrabutylammonium hydroxide It is known to use an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide, an inorganic weak acid salt, an organic acid salt, or the like, and decompose an unstable terminal portion in the presence thereof.
JP-A-57-55916 discloses a method of obtaining a crude polyacetal copolymer by copolymerizing a polyoxymethylene homopolymer and a cyclic formal using a Lewis acid as a polymerization catalyst. Among them, a method is described in which a basic substance such as an amine or a quaternary ammonium salt is added to terminate the reaction, and then the polymer is heated with water to obtain a stabilized polyacetal copolymer (patent) Reference 3).
However, this document does not exemplify a specific quaternary ammonium salt and does not show its effect. Moreover, substances other than quaternary ammonium salts are not exemplified.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-159812 discloses a continuous polymerization method of trioxane to obtain a crude polyacetal copolymer by polymerizing trioxane and a cyclic ether using a Lewis acid as a polymerization catalyst. Among them, Lewis acid was neutralized and deactivated with basic substances such as amines and quaternary ammonium salts, and then the polymer was heated with water to remove the unstable terminal portion of the polymer. A method for obtaining a copolymer is described (see Patent Document 4).
However, this document does not exemplify a specific quaternary ammonium salt and does not show its effect. Moreover, substances other than quaternary ammonium salts are not exemplified.
日本国特許第3087912号には、熱的に不安定な末端部を有するオキシメチレン共重合体を、一般式[R1R2R3R4N+]nX-nで表される特定の四級アンモニウム塩の存在下に熱処理するオキシメチレン共重合体の安定化方法が開示されている(特許文献5参照)。
しかしながら、この文献には、式によって特定される四級アンモニウム塩以外の物質は開示されていない。
In Japanese Patent No. 3087912, an oxymethylene copolymer having a thermally unstable terminal portion is represented by a specific formula represented by the general formula [R 1 R 2 R 3 R 4 N + ] n X -n. A method for stabilizing an oxymethylene copolymer that is heat-treated in the presence of a quaternary ammonium salt is disclosed (see Patent Document 5).
However, this document does not disclose substances other than the quaternary ammonium salt specified by the formula.
これらの、従来から知られた分解処理剤によれば、ポリアセタール樹脂の不安定末端基はかなり効率的に除去することができる。
しかしながら、これらの従来から知られた分解処理剤は三級アミン或いは四級アンモニウム塩に属する物質群であり、それ自体或いはその分解物がアミン臭(魚臭)を有する為、安定化処理工程においてアミン臭が生じたり、安定化処理したポリアセタール樹脂に好ましくないアミン臭(魚臭)が残存する等の問題が生じることがあった。
また最近は、ポリアセタール樹脂成形品から発生するホルムアルデヒドをより一層低減することが強く要求されており、このためには、基体となるポリアセタール樹脂の不安定末端基を極限まで低減させることが必要であるが、従来から知られた分解処理剤や処理方法では、このような高度の要求に応えることが難しく、分解効率に優れた新たな不安定末端分解処理剤と、それによる安定化ポリアセタール樹脂の製造が求められている。
According to these conventionally known decomposition treatment agents, the unstable end groups of the polyacetal resin can be removed fairly efficiently.
However, these conventionally known decomposition treatment agents are a group of substances belonging to tertiary amines or quaternary ammonium salts, and themselves or their decomposition products have an amine odor (fish odor). In some cases, an amine odor is generated, or an unfavorable amine odor (fish odor) remains in the stabilized polyacetal resin.
Recently, there has been a strong demand to further reduce formaldehyde generated from the molded product of polyacetal resin. To this end, it is necessary to reduce the unstable end groups of the polyacetal resin as a substrate to the limit. However, it is difficult to meet such high demands with the conventionally known decomposition treatment agents and treatment methods, and the production of new unstable terminal decomposition treatment agents with excellent decomposition efficiency and the production of stabilized polyacetal resins therewith. Is required.
本発明の目的は、ポリアセタール樹脂の不安定末端の分解効率に優れ、かつポリアセタール樹脂中にアミン臭を残存させることのない不安定末端分解処理剤を見出し、これを用いた安定化ポリアセタール樹脂の製造方法によって、不安定末端基が十分に低減され高度に安定化されたポリアセタール樹脂、その組成物及び成形品を提供することである。 An object of the present invention is to find an unstable terminal decomposition treatment agent that has excellent decomposition efficiency of unstable terminals of polyacetal resin and does not leave amine odor in the polyacetal resin, and production of stabilized polyacetal resin using the same The method is to provide a highly stabilized polyacetal resin, its composition and molded article with sufficiently reduced unstable end groups.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、ヘミアセタール基やホルミル基のような不安定末端基を有するポリアセタール樹脂を、四級ホスホニウム塩からなる不安定末端基分解処理剤の存在下に熱処理することにより、上記課題が解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems, the present inventor has made a polyacetal resin having an unstable terminal group such as a hemiacetal group or a formyl group, an unstable terminal group decomposition treatment comprising a quaternary phosphonium salt. It has been found that the above problems can be solved by heat treatment in the presence of an agent, and the present invention has been completed.
即ち、本発明は、不安定末端基を有するポリアセタール樹脂を、四級ホスホニウム塩からなる不安定末端分解処理剤の存在下に、熱処理して不安定末端基を低減させる安定化ポリアセタール樹脂の製造方法を提供する。
更に、これによって不安定末端基の低減された安定化ポリアセタール樹脂、樹脂組成物及び成形品を提供する。
That is, the present invention relates to a process for producing a stabilized polyacetal resin in which a polyacetal resin having an unstable terminal group is heat-treated in the presence of an unstable terminal decomposition treatment agent comprising a quaternary phosphonium salt to reduce the unstable terminal group. I will provide a.
Furthermore, this provides a stabilized polyacetal resin, a resin composition and a molded article with reduced unstable end groups.
本発明によれば、少量の四級ホスホニウム塩からなる不安定末端基分解処理剤によって、ポリアセタール樹脂の不安定末端基の残存量を十分に低下させることができる。また、本発明の不安定末端基分解処理剤は、アミン臭が無く、分解処理方法や設備に好ましくない制限が生じにくい。 According to the present invention, the residual amount of unstable terminal groups of the polyacetal resin can be sufficiently reduced by the unstable terminal group decomposition treatment agent comprising a small amount of quaternary phosphonium salt. In addition, the unstable end group decomposition treatment agent of the present invention does not have an amine odor, and it is difficult to cause undesirable restrictions on the decomposition treatment method and equipment.
ポリアセタール樹脂
本発明に用いるポリアセタール樹脂は、その基本的な分子構造が特に限定されるものではなく、例えば、ホルムアルデヒド又はその環状三量体であるトリオキサン等の環状アセタールを主モノマーとし、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、スチレンオキシド、オキセタン、1,3−ジオキソラン、ジエチレングリコールホルマール、1,4−ブタンジオールホルマール、1,3,5−トリオキセパン、1,3−ジオキサン等の環状エーテル又は環状ホルマールをコモノマー成分として共重合してなるコポリマー、上記主モノマー及びコモノマーに更に1〜4個のグリシジル基を有する化合物(エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサメチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノール−A-ジグリシジルエーテル、グリセリンモノ〜トリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノ〜トリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールモノ〜テトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールモノ〜ヘキサグリシジルエーテル、(ポリ)エチレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)テトラメチレングリコールジグリシジルエーテルなど)等の多成分系モノマーを加えて共重合して得られる多元共重合体や分岐・架橋構造を有する多元共重合体(特にターポリマー)、他の重合体からなるブロック成分を導入したブロックコポリマー等、従来公知の全てのポリアセタール樹脂が包含されるが、好ましくはコポリマー又はターポリマーである。
トリオキサンを主モノマーとしてコポリマー或いはターポリマー等の多元共重合体を調製する場合、コモノマー成分の割合はトリオキサンに対し、好ましくは0.01〜20モル%、さらに好ましくは0.1〜18モル%である。
上記原料からポリアセタール樹脂を製造する場合の重合触媒としては、ルイス酸、プロトン酸、及びその金属塩、エステル又は無水物等のカチオン活性重合触媒等が挙げられる。ルイス酸としては、例えば、ホウ酸、スズ、チタン、リン、ヒ素及びアンチモンのハロゲン化物が挙げられ、具体的には三フッ化ホウ素、四塩化スズ、四塩化チタン、五フッ化リン、五塩化リン、五フッ化アンチモン及びその錯化合物又は塩が挙げられる。また、プロトン酸、及びその金属塩、エステルまたは無水物の具体例としては、パークロル酸、(無水)トリフルオロメタンスルホン酸などの(無水)パーフルオロアルカンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸メチルなどのパーフルオロアルカンスルホン酸エステル、トリフルオロメタンスルホン酸のスカンジウム塩、イットリウム塩、ランタン塩などのパーフルオロアルカンスルホン酸の希土類金属塩、ビス(アセチルアセトン)銅、トリス(アセチルアセトン)コバルトなどのβ−ジケトンの金属塩、トリメチルオキソニウムヘキサフルオロホスフェート、リンモリブデン酸、リンタングステン酸、シリコモリブデン酸、シリコタングステン酸などのヘテロポリ酸、イソポリモリブデン酸、イソポリタングステン酸、イソポリバナジウム酸などのイソポリ酸等が挙げられる。中でも、三フッ化ホウ素;三フッ化ホウ素水和物;酸素原子または硫黄原子を含む有機化合物と三フッ化ホウ素との配位錯化合物;トリフルオロメタンスルホン酸;及びヘテロポリ酸が好ましく、具体的には、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル、三フッ化ホウ素ジ−n−ブチルエーテル、トリフルオロメタンスルホン酸、リンモリブデン酸、リンタングステン酸を好適例として挙げることができる。
これらの重合触媒の使用量は、全モノマー成分(例えば、トリオキサンと環状エーテル)の合計量に対し好ましくは1×10-6〜1×10-1モル%、さらに好ましくは5×10-6〜1×10-2モル%である。
重合方法としては、特に制限はなく、バッチ式、連続式のいずれであってもよい。また、塊状重合、溶融重合、溶液重合、懸濁重合等が可能であるが、塊状重合が好ましい。
また、その分子量、或いは溶融粘度は、溶融成形可能なものであれば、何ら限定されるものではない。
上記の如き重合によって得られるポリアセタール樹脂は、その分子末端の一部に不安定な末端基を有するものとなり、かかる不安定末端基を効率的に分解除去する必要がある。
ここで、ポリアセタール樹脂の末端基特性、安定化機構などについて簡単に説明する。
ポリアセタール樹脂の不安定末端基とは、ヘミアセタール末端基(=ヘミホルマール基(-O-CH2OH))、ホルミル末端基(=ホルミルオキシ基(-OCHO))である。
また、安定末端基とはメトキシ基(−OCH3)等のアルコキシ基、ヒドロキシエチル基(-CH2CH2OH)、ヒドロキシブチル基(-CH2CH2CH2CH2OH)等の炭素数2以上のヒドロキシアルキル基である。
メトキシ基は、例えば重合段階で添加される分子量調整剤であるホルマール、代表的にはメチラール(=メチレンジメチルエーテル)により形成される。
炭素数2以上の末端ヒドロキシアルキル基は、コモノマーとして用いる環状エーテル又は環状ホルマールに由来し、以下のような過程で形成される。即ち、環状エーテル又は環状ホルマールに由来するオキシアルキレン基がオキシメチレン単位の繰返し中に挿入されたポリアセタール樹脂を重合した際に、まず、原料中の微量な水等により重合が停止して、ヘミアセタール末端基が生成する。ヘミアセタール末端基を有するポリアセタール樹脂を、トリエチルアミン水溶液のようなアルカリ性物質水溶液の存在下で加熱処理すると、不安定末端基が分解する。この分解が、末端から主鎖中へ向かって進行し、炭素数2以上のオキシアルキレン単位の部位に到達すると、その部位のオキシアルキレン単位はヒドロキシアルキル基の安定末端に変わる。
ポリアセタール樹脂に不安定末端基としてヘミアセタール末端基が多く残存すると、ポリアセタール樹脂に安定剤を配合してコンパウンドしたり、ポリアセタール樹脂を成形する時の加熱によりヘミアセタール末端基が分解し、そこから次々にオキシメチレン単位が脱離して、ホルムアルデヒドを発生する。
また、ホルミル末端基はヘミアセタール末端基よりも幾分安定な末端基ではあるが、ポリアセタール樹脂をコンパウンドしたり成形する際の加熱条件等が厳しくなるとその一部が分解してヘミアセタール末端基となり、上記のようにホルムアルデヒドを発生する。
Polyacetal resin The polyacetal resin used in the present invention is not particularly limited in its basic molecular structure. For example, the main monomer is cyclic acetal such as formaldehyde or trioxane, which is a cyclic trimer thereof, ethylene oxide, propylene oxide. , Styrene oxide, oxetane, 1,3-dioxolane, diethylene glycol formal, 1,4-butanediol formal, 1,3,5-trioxepane, 1,3-dioxane, etc. A copolymer having 1 to 4 glycidyl groups in addition to the above main monomer and comonomer (ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, 1,4-butane All diglycidyl ether, hexamethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol-A-diglycidyl ether, glycerin mono-triglycidyl ether, trimethylolpropane mono-triglycidyl ether, pentaerythritol mono-tetraglycidyl ether, dipentaerythritol mono-hexa Multi-component copolymer obtained by adding and copolymerizing multi-component monomers such as glycidyl ether, (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, (poly) tetramethylene glycol diglycidyl ether) All known polymers such as polymers, multi-component copolymers having branched / crosslinked structures (particularly terpolymers), and block copolymers introduced with block components composed of other polymers. While acetal resin is included, it is preferably a copolymer or terpolymer.
When a multi-component copolymer such as a copolymer or a terpolymer is prepared using trioxane as the main monomer, the proportion of the comonomer component is preferably 0.01 to 20 mol%, more preferably 0.1 to 18 mol%, based on trioxane.
Examples of the polymerization catalyst for producing a polyacetal resin from the above raw materials include Lewis active acids, protonic acids, and cationic active polymerization catalysts such as metal salts, esters or anhydrides thereof. Examples of the Lewis acid include boric acid, tin, titanium, phosphorus, arsenic and antimony halides. Specifically, boron trifluoride, tin tetrachloride, titanium tetrachloride, phosphorus pentafluoride, pentachloride. Examples thereof include phosphorus, antimony pentafluoride, and complex compounds or salts thereof. Specific examples of the protonic acid and its metal salt, ester or anhydride include perfluoroalkanesulfonic acid such as perchloric acid, (anhydrous) trifluoromethanesulfonic acid, and perfluorocarbon such as methyl trifluoromethanesulfonate. Alkanesulfonic acid esters, scandium salts of trifluoromethanesulfonic acid, rare earth metal salts of perfluoroalkanesulfonic acid such as yttrium salts and lanthanum salts, metal salts of β-diketones such as bis (acetylacetone) copper and tris (acetylacetone) cobalt, Heteropoly acids such as trimethyloxonium hexafluorophosphate, phosphomolybdic acid, phosphotungstic acid, silicomolybdic acid, silicotungstic acid, isopolymolybdic acid, isopolytungstic acid, isopolyva Etc. isopoly acids such as ethidium acid. Among them, boron trifluoride; boron trifluoride hydrate; coordination complex compound of organic compound containing oxygen atom or sulfur atom and boron trifluoride; trifluoromethanesulfonic acid; and heteropolyacid are preferable, specifically Preferable examples include boron trifluoride, boron trifluoride diethyl ether, boron trifluoride di-n-butyl ether, trifluoromethanesulfonic acid, phosphomolybdic acid, and phosphotungstic acid.
The amount of these polymerization catalysts used is preferably 1 × 10 −6 to 1 × 10 −1 mol%, more preferably 5 × 10 −6 to the total amount of all monomer components (for example, trioxane and cyclic ether). 1 × 10 −2 mol%.
There is no restriction | limiting in particular as a polymerization method, Any of a batch type and a continuous type may be sufficient. Further, bulk polymerization, melt polymerization, solution polymerization, suspension polymerization and the like are possible, but bulk polymerization is preferable.
Further, the molecular weight or melt viscosity is not limited as long as it can be melt-molded.
The polyacetal resin obtained by the polymerization as described above has an unstable terminal group at a part of its molecular terminal, and it is necessary to efficiently decompose and remove the unstable terminal group.
Here, the end group characteristics and the stabilization mechanism of the polyacetal resin will be briefly described.
The unstable end groups of the polyacetal resin are a hemiacetal end group (= hemiformal group (—O—CH 2 OH)) and a formyl end group (= formyloxy group (—OCHO)).
The stable end group is an alkoxy group such as a methoxy group (—OCH 3 ), a carbon number such as a hydroxyethyl group (—CH 2 CH 2 OH), a hydroxybutyl group (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH), etc. Two or more hydroxyalkyl groups.
The methoxy group is formed by, for example, formal, typically methylal (= methylene dimethyl ether), which is a molecular weight modifier added in the polymerization stage.
The terminal hydroxyalkyl group having 2 or more carbon atoms is derived from cyclic ether or cyclic formal used as a comonomer, and is formed in the following process. That is, when a polyacetal resin in which an oxyalkylene group derived from a cyclic ether or a cyclic formal is inserted in a repeating oxymethylene unit is polymerized, the polymerization is first stopped by a trace amount of water in the raw material, and the hemiacetal End groups are generated. When a polyacetal resin having a hemiacetal end group is heat-treated in the presence of an aqueous alkaline substance solution such as an aqueous triethylamine solution, unstable end groups are decomposed. When this decomposition proceeds from the terminal toward the main chain and reaches the site of the oxyalkylene unit having 2 or more carbon atoms, the oxyalkylene unit at that site is changed to the stable terminal of the hydroxyalkyl group.
If a large number of hemiacetal end groups remain as unstable end groups in the polyacetal resin, the polyacetal resin is compounded with a stabilizer, and the hemiacetal end groups are decomposed by heating when molding the polyacetal resin, and from there, one after another The oxymethylene unit is removed from the product to formaldehyde.
The formyl end group is a somewhat more stable end group than the hemiacetal end group. However, when the heating conditions for compounding or molding the polyacetal resin are severe, a part of the end group decomposes to become a hemiacetal end group. Generate formaldehyde as described above.
本発明は、上記の如き不安定末端基を有するポリアセタール樹脂を、後で詳述する不安定末端基分解処理剤の存在下に熱処理することにより不安定末端基を低減するものであり、これにより得られる安定化ポリアセタール樹脂は、ヘミアセタール末端基の含有量が、1.0mmol/kg以下、好ましくは0.9mmol/kg以下、さらに好ましくは0.8mmol/kg以下、特に好ましくは0.7mmol/kg以下である。
また、ホルミル末端基量は1.3mmol/kg以下が好ましく、さらに好ましくは1.2mmol/kg以下である。
また、本発明の安定化ポリアセタール樹脂の製造方法は、ポリアセタールホモポリマーに対しても適用可能である。
ポリアセタールホモポリマーは、例えば四級アンモニウム塩をアニオン重合開始剤としてホルムアルデヒドを重合させることにより得られ、その末端をアセチル化することにより安定化される。従って、基本的には安定なアセチル末端基を有するものとなるが、熱分解反応等により不安定末端基であるヘミアセタール末端基及びホルミル末端基も一部生成する。ポリアセタールホモポリマーが有するこの様な不安定末端基を分解し、安定化ポリアセタール樹脂を得るためにも、本発明で使用する四級ホスホニウム塩は有効である。
The present invention reduces the unstable terminal groups by heat-treating the polyacetal resin having the unstable terminal groups as described above in the presence of an unstable terminal group decomposition treatment agent described in detail later. The resulting stabilized polyacetal resin has a hemiacetal end group content of 1.0 mmol / kg or less, preferably 0.9 mmol / kg or less, more preferably 0.8 mmol / kg or less, particularly preferably 0.7 mmol / kg. kg or less.
Further, the formyl terminal group amount is preferably 1.3 mmol / kg or less, more preferably 1.2 mmol / kg or less.
Moreover, the manufacturing method of the stabilized polyacetal resin of this invention is applicable also to a polyacetal homopolymer.
The polyacetal homopolymer is obtained, for example, by polymerizing formaldehyde using a quaternary ammonium salt as an anionic polymerization initiator, and is stabilized by acetylating the terminal. Therefore, it basically has a stable acetyl end group, but a hemiacetal end group and a formyl end group, which are unstable end groups, are also partially generated by a thermal decomposition reaction or the like. The quaternary phosphonium salt used in the present invention is also effective for decomposing such unstable end groups of the polyacetal homopolymer to obtain a stabilized polyacetal resin.
不安定末端基分解処理剤
本発明において、ポリアセタール樹脂の不安定末端基を低減させるために用いる不安定末端分解処理剤(以下、誤解を生じない範囲で分解処理剤と略称する場合がある。)は、四級ホスホニウム塩であり、下記一般式(1)で示される四級ホスホニウム塩から選ばれるものが好ましい。
[R1R2R3R4P+]nYn- (1)
[上記式中、R1、R2、R3、R4は、各独立に、炭素数1〜20の炭化水素基を表し、該炭化水素基は直鎖又は分岐アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルアリール基である。炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基の種類としては水酸基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、ビニル基、アリル基、ヒドロキシアルキルオキシ基、ポリ(オキシアルキレン)基及びアルコキシアルキルオキシ基である。また、R1、R2、R3、R4は、互いに連結して複素環を形成していても良い。nは1以上の整数を表わす。Yn-は対アニオンである。n個の[R1R2R3R4P+]は互いに異なっていてもよい。]
ここで、Yn-の対アニオンは制限されないが、特に、好ましい対アニオンは、水酸イオン(OH−)、炭酸、有機炭酸、有機カルボン酸、有機スルホン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸、酸性アミド化合物、酸性エノール化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、酸性アゾール化合物、水素酸及びオキソ酸の酸残基である。
また、R1〜R4は、その少なくとも1つが、炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など)、炭素数1〜4のヒドロキシルアルキル基(ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキプロピル基、3−ヒドロキプロピル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基など)、炭素数4〜15のポリ(オキシアルキレン)基(ヒドロキシエチルオキシエチル基、ヒドロキシプロピルオキシプロピル基など)及び炭素数2〜10のアルコキシアルキル基(メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基など)から成る群から選ばれた少なくとも1種の有機基であることが好ましい。
四級ホスホニウム塩を構成する対アニオンの側面から見た場合、好ましい不安定末端分解処理剤としては、四級ホスホニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、有機炭酸塩[メチル炭酸塩、エチル炭酸塩、イソプロピル炭酸塩、n−ブチル炭酸塩などのモノアルキル炭酸塩、モノシクロアルキル炭酸塩、フェニル炭酸塩などのモノアリール炭酸塩、ベンジル炭酸塩などのモノラルキル炭酸塩など)、モノアラルキル炭酸塩など]、有機カルボン酸塩[ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、安息香酸塩、フタル酸塩、シュウ酸塩、グリコール酸塩、クエン酸塩及び酒石酸塩などのC1〜C20有機カルボン酸塩、ニトリロトリ酢酸塩、エチレンジアミンテトラ酢酸塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸塩、トリエチレンジアミンヘキサ酢酸塩、1,3−プロパンジアミンテトラ酢酸塩、グリコールエーテルジアミンテトラ酢酸塩、ジカルボキシメチルグルタミン酸塩、エチレンジアミンジコハク酸塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸塩、1,3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパンテトラ酢酸塩及びヒドロキシエチルイミノジ酢酸塩などのアミノカルボン酸塩、ポリ(メタ)アクリル酸塩及びオレフィン−ポリ(メタ)アクリル酸共重合体塩などのカルボキシル基含有不飽和モノマー(アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸など)を単独又は共重合して得られる高分子ポリカルボン酸塩など]、有機スルホン酸塩[メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩など]、有機ホスホン酸塩[メチルホスホン酸塩、エチルホスホン酸塩、フェニルホスホン酸塩など]、有機スルフィン酸塩[ジメチルホスフィン酸塩、ジエチルホスフィン酸塩、メチルエチルホスフィン酸塩、ジフェニルホスフィン酸塩など]、酸性アミド化合物塩[イソシアヌル酸塩、フタルイミド塩、ピロメリット酸ジイミド塩、ヒダントイン塩、5,5−ジメチルヒダントイン塩、アラントイン塩、バルビツール酸塩、アロキサン塩、グリコールウリル塩、ベンゾイミダゾロン塩、尿酸塩、ウラシル塩、チミン塩、サッカリン塩、アセスルファーム塩、ビストリフルオロメタンスルフォニルイミド塩など]、酸性エノール化合物塩[アセチルアセトン塩、ジアセチルアセトン塩、アセト酢酸メチル塩、アセト酢酸エチル塩などのβ−ジケトン化合物塩、デヒドロ酢酸塩、α−アセチル−γ−ブチロラクトン塩、1,3−シクロヘキサンジオン塩、ジメドン塩、メルドラム酸塩、スアリン酸塩、2,3−ジヒドロキシ−2−シクロペンテン−1−オン、(イソ)アスコルビン酸、コウジ酸など]、フェノール化合物塩[フェノール塩、ビフェノール塩、ビスフェノール−A塩、ヒンダードフェノール塩など]、アルコール化合物塩[メタノール塩(メトキシド)、エタノール塩(エトキシド)、エチレングリコール塩、プロピレングリコール塩、ブチレングリコール塩、グリセリン塩、ペンタエリスリトール塩など]、酸性アゾール化合物塩[プリン、テオフィリン、ベンゾイミダゾール塩、キサンチン塩、ヒポキサンチン塩、グアニン塩、1H−テトラゾール塩、5,5’−ビ−1H−テトラゾール塩、5−フェニル−1H−テトラゾール塩など]、水素酸塩[フッ酸塩、塩酸塩、臭酸塩、ヨウ化水素酸塩、四フッ化ホウ酸塩、六フッ化リン酸塩、テトラフェニルホウ酸など]、及びオキソ酸塩[硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩など]が挙げられる。
また、四級ホスホニウム塩を構成する四級ホスホニウムの側面から見た場合、好ましい不安定末端処理剤としては、アルキル基に置換基を有していても良いテトラアルキルホスホニウム塩、アリール基に置換基を有していても良いテトラアリールホスホニウム塩[テトラフェニルホスホニウム塩など]、アリール基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いトリアリールアルキルホスホニウム塩[トリフェニルメチルホスホニウム塩、トリフェニルエチルホスホニウム塩、トリフェニルプロピルホスホニウム塩、トリフェニルブチルホスホニウム塩、トリフェニル(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、アリール基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いジアリールジアルキルホスホニウム塩[ジフェニルジメチルホスホニウム塩、ジフェニルジエチルホスホニウム塩、ジフェニルジプロピルホスホニウム塩、ジフェニルジブチルホスホニウム塩、ジフェニルビス(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、アリール基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いモノアリールトリアルキルホスホニウム塩[フェニルトリメチルホスホニウム塩、フェニルトリエチルホスホニウム塩、フェニルトリプロピルホスホニウム塩、フェニルトリブチルホスホニウム塩、フェニルトリス(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、アラルキル基に置換基を有していても良いテトラアラルキルホスホニウム塩[テトラベンジルホスホニウム塩など]、アラルキル基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いトリアラルキルアルキルホスホニウム塩[トリベンジルメチルホスホニウム塩、トリベンジルエチルホスホニウム塩、トリベンジルプロピルホスホニウム塩、トリベンジルブチルホスホニウム塩、トリベンジル(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、アラルキル基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いジアラルキルジアルキルホスホニウム塩[ジベンジルジメチルホスホニウム塩、ジベンジルジエチルホスホニウム塩、ジベンジルジプロピルホスホニウム塩、ジベンジルジブチルホスホニウム塩、ジベンジルビス(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、アラルキル基及び/又はアルキル基に置換基を有していても良いモノアラルキルトリアルキルホスホニウム塩[ベンジルトリメチルホスホニウム塩、ベンジルトリエチルホスホニウム塩、ベンジルトリプロピルホスホニウム塩、ベンジルトリブチルホスホニウム塩、ベンジルトリス(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩など]、などが挙げられる。
具体的なテトラアルキルホスホニウム塩としては、テトラメチルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラn−プロピルホスホニウム塩、テトライソプロピルホスホニウム塩、テトラn−ブチルホスホニウム塩、テトライソブチルホスホニウム塩、テトラt−ブチルホスホニウム塩、メチレンビス(トリメチルホスホニウム)塩、エチレンビス(トリメチルホスホニウム)塩、1,4−ブチレンビス(トリメチルホスホニウム)塩、1,6−ヘキサメチレンビス(トリメチルホスホニウム)塩などが挙げられる。
アルキル基に置換基を有するテトラアルキルホスホニウム塩としては、少なくともヒドロキシアルキル基を有する(ヒドロキシアルキル)モノ〜トリアルキルホスホニウム塩又はテトラキス(ヒドロキシアルキル)ホスホニウム塩が特に好ましい。
具体的な(ヒドロキシアルキル)トリアルキルホスホニウム塩としては、(ヒドロキシメチル)トリメチルホスホニウム塩、(ヒドロキシメチル)トリエチルホスホニウム塩、(ヒドロキシメチル)トリn−プロピルホスホニウム塩、(ヒドロキシメチル)トリイソプロピルホスホニウム塩、(ヒドロキシメチル)トリn−ブチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリメチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリエチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリn−プロピルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリイソプロピルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリn−ブチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシプロピル)トリメチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシプロピル)トリエチルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシプロピル)トリn−プロピルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシプロピル)トリイソプロピルホスホニウム塩、(2−ヒドロキシプロピル)トリn−ブチルホスホニウム塩などが挙げられる。
具体的なビス(ヒドロキシアルキル)ジアルキルホスホニウム塩としては、ビス(ヒドロキメエチル)ジメチルホスホニウム塩、ビス(ヒドロキシメチル)ジエチルホスホニウム塩、ビス(ヒドロキシメチル)ジn−プロピルホスホニウム塩、ビス(ヒドロキシメチル)ジイソプロピルホスホニウム塩、ビス(ヒドロキシメチル)ジn−ブチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジエチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジn−プロピルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジイソプロピルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ジn−ブチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシプロピル)ジメチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシプロピル)ジエチルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシプロピル)ジn−プロピルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシプロピル)ジイソプロピルホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシプロピル)ジn−ブチルホスホニウム塩などが挙げられる。
具体的なトリス(ヒドロキシアルキル)モノアルキルホスホニウム塩としては、トリス(ヒドロキシメチル)メチルホスホニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)エチルホスホニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)n−プロピルホスホニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)イソプロピルホスホニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)n−ブチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)エチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)n−プロピルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソプロピルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)n−ブチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシプロピル)メチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシプロピル)エチルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシプロピル)n−プロピルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソプロピルホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシプロピル)n−ブチルホスホニウム塩などが挙げられる。
具体的なテトラキス(ヒドロキシアルキル)ホスホニウム塩としては、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩、テトラキス(2−ヒドロキシエチル)ホスホニウム塩、テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)ホスホニウム塩、トリス(2−ヒドロキシエチル)(2−ヒドロキシエチルオキシエチル)ホスホニウム塩、ビス(2−ヒドロキシエチル)ビス(2−ヒドロキシエチルオキシエチル)ホスホニウム塩、(2−ヒドロキシエチル)トリス(2−ヒドロキシエチルオキシエチル)ホスホニウム塩、テトラキス(2−ヒドロキシエチルオキシエチル)ホスホニウム塩、などが挙げられる。
尚、上記の(ヒドロキシアルキル)トリアルキルホスホニウム塩、ビス(ヒドロキシアルキル)ジアルキ塩及びテトラ(ヒドロキシアルキル)ホスホニウム塩のヒドロキシアルキル残基の一部又は全てが、アルキル化されたアルコキシアルキル基(例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、プロポキシプロピル基、ブトキシメチル基、ブトキシエチル基、ブトキシプロピル基、メトキシエチルオキシエチル基、エトキシエチルオキシエチル基など)を有する物質群も好ましい四級ホスホニウム塩として挙げられる。
さらに、好ましい不安定末端分解処理剤として、テトラアルキルホスホニウム、(ヒドロキシアルキル)トリアルキルホスホニウム、ビス(ヒドロキシアルキル)ジアルキルホスホニウム、トリス(ヒドロキシアルキル)モノアルキルホスホニウム及びテトラキス(ヒドロキシアルキル)ホスホニウムから成る群から選ばれた少なくとも一種の四級ホスホニウムの、水酸化物(OH−)、炭酸塩、炭酸水素塩、有機炭酸塩(特に、メチル炭酸塩、エチル炭酸塩)、有機カルボン酸塩(特に、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、ポリアクリル酸塩)、酸性アミド化合物塩(特に、イソシアヌル酸塩、フタルイミド塩)、酸性エノール化合物塩(特に、アセチルアセトン塩、アセト酢酸メチル塩、アセト酢酸エチル塩)、フェノール化合物塩(特に、ビスフェノール−A塩、ヒンダードフェノール塩)、アルコール化合物塩(特に、メタノール塩、エタノール塩)、水素酸塩(特に、塩酸塩)、及びオキソ酸塩(特に、ホウ酸塩)が挙げられる。
尚、これらの四級ホスホニウム塩は二種以上混合した複塩/錯塩として用いることもできる。
特に、好ましい不安定末端処理剤としては、これらの四級ホスホニウムの水酸化物及び/又はプロトン酸塩(有機炭酸塩、有機カルボン酸塩、酸性アミド化合物塩又はβ−ジケトン化合物塩等)が挙げられる。
Unstable terminal group decomposition treatment agent In the present invention, an unstable terminal decomposition treatment agent used for reducing unstable terminal groups of the polyacetal resin (hereinafter, may be abbreviated as a decomposition treatment agent within a range not causing misunderstanding). Is a quaternary phosphonium salt, preferably selected from quaternary phosphonium salts represented by the following general formula (1).
[R 1 R 2 R 3 R 4 P + ] n Y n- (1)
[In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrocarbon group is a linear or branched alkyl group, a cycloalkyl group, An aryl group, an aralkyl group, or an alkylaryl group. The hydrocarbon group may have a substituent, and the types of substituents are hydroxyl group, acyl group, acyloxy group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, amino group, amide group, vinyl group, allyl group. A hydroxyalkyloxy group, a poly (oxyalkylene) group and an alkoxyalkyloxy group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be connected to each other to form a heterocyclic ring. n represents an integer of 1 or more. Y n− is a counter anion. n [R 1 R 2 R 3 R 4 P + ] may be different from each other. ]
Here, the counter anion of Y n− is not limited, but particularly preferred counter anions include hydroxide ion (OH − ), carbonic acid, organic carbonic acid, organic carboxylic acid, organic sulfonic acid, organic phosphonic acid, organic phosphinic acid, Acid amide compounds, acidic enol compounds, phenolic compounds, alcohol compounds, acidic azole compounds, acid residues of hydrogen acid and oxo acid.
In addition, at least one of R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), a hydroxyl alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (hydroxymethyl group). , 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, etc., poly (oxyalkylene) group having 4 to 15 carbon atoms (hydroxyethyloxyethyl group, hydroxypropyloxypropyl group, etc.) And at least one organic group selected from the group consisting of an alkoxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms (methoxymethyl group, ethoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, etc.).
When viewed from the side of the counter anion constituting the quaternary phosphonium salt, preferred unstable terminal decomposition agents include quaternary phosphonium hydroxide, carbonate, bicarbonate, organic carbonate [methyl carbonate, ethyl Monoalkyl carbonates such as carbonate, isopropyl carbonate and n-butyl carbonate, monoaryl carbonates such as monocycloalkyl carbonate and phenyl carbonate, monoalkyl carbonates such as benzyl carbonate, etc.), monoaralkyl carbonate Salts, etc.], organic carboxylates [formate salts, acetates, propionates, benzoates, phthalates, oxalates, glycolates, citrates and tartrates such as C1-C20 organic carboxylates Nitrilotriacetate, ethylenediaminetetraacetate, diethylenetriaminepentaacetate, triethylenediaminehexaacetate, 1,3 Propanediaminetetraacetate, glycol etherdiaminetetraacetate, dicarboxymethylglutamate, ethylenediaminedisuccinate, hydroxyethylethylenediaminetriacetate, 1,3-diamino-2-hydroxypropanetetraacetate and hydroxyethyliminodi Carboxyl group-containing unsaturated monomers (acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, such as aminocarboxylates such as acetate, poly (meth) acrylate and olefin-poly (meth) acrylic acid copolymer salt, Polymer polycarboxylates obtained by homo- or copolymerization of itaconic acid, etc.], organic sulfonates [methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, ethanesulfonate, p-toluenesulfonate, etc. ], Organic phosphonate [ Til phosphonate, ethyl phosphonate, phenyl phosphonate, etc.], organic sulfinate [dimethyl phosphinate, diethyl phosphinate, methyl ethyl phosphinate, diphenyl phosphinate, etc.], acidic amide compound salt [isocyanuric] Acid salt, phthalimide salt, pyromellitic acid diimide salt, hydantoin salt, 5,5-dimethylhydantoin salt, allantoin salt, barbiturate salt, alloxan salt, glycoluril salt, benzimidazolone salt, urate salt, uracil salt, thymine Salts, saccharin salts, acesulfame salts, bistrifluoromethanesulfonylimide salts, etc.], acidic enol compound salts [β-diketone compound salts such as acetylacetone salt, diacetylacetone salt, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, dehydrovinegar Salt, [alpha] -acetyl- [gamma] -butyrolactone salt, 1,3-cyclohexanedione salt, dimedone salt, meldrumate, suarinate, 2,3-dihydroxy-2-cyclopenten-1-one, (iso) ascorbic acid, Kojic acid, etc.], phenol compound salt [phenol salt, biphenol salt, bisphenol-A salt, hindered phenol salt, etc.], alcohol compound salt [methanol salt (methoxide), ethanol salt (ethoxide), ethylene glycol salt, propylene glycol salt , Butylene glycol salt, glycerin salt, pentaerythritol salt, etc.], acidic azole compound salt [purine, theophylline, benzimidazole salt, xanthine salt, hypoxanthine salt, guanine salt, 1H-tetrazole salt, 5,5′-bi-1H -Tetrazole salt, 5- Phenyl-1H-tetrazole salt, etc.], hydronates [hydrofluoric acid salts, hydrochlorides, odorates, hydroiodides, tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, tetraphenylboric acid, etc.] And oxo acid salts [sulfate, nitrate, phosphate, borate, etc.].
In addition, when viewed from the side of the quaternary phosphonium constituting the quaternary phosphonium salt, a preferable unstable terminal treating agent includes a tetraalkylphosphonium salt which may have a substituent on the alkyl group, and a substituent on the aryl group. A tetraarylphosphonium salt [tetraphenylphosphonium salt, etc.] which may have a triarylalkylphosphonium salt [triphenylmethylphosphonium salt, triphenyl] which may have a substituent in the aryl group and / or alkyl group Ethylphosphonium salt, triphenylpropylphosphonium salt, triphenylbutylphosphonium salt, triphenyl (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.], aryl group and / or diaryl dialkylphosphonium salt which may have a substituent on the alkyl group [Diphenyl dimethyl Ruphosphonium salt, diphenyldiethylphosphonium salt, diphenyldipropylphosphonium salt, diphenyldibutylphosphonium salt, diphenylbis (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.], aryl group and / or alkyl group may have a substituent Monoaryltrialkylphosphonium salts [phenyltrimethylphosphonium salt, phenyltriethylphosphonium salt, phenyltripropylphosphonium salt, phenyltributylphosphonium salt, phenyltris (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.], having a substituent on the aralkyl group Tetraaralkyl phosphonium salt [tetrabenzylphosphonium salt etc.], triaralkyl alkyl phosphine optionally having a substituent on the aralkyl group and / or alkyl group. Substituents for phonium salts [tribenzylmethylphosphonium salt, tribenzylethylphosphonium salt, tribenzylpropylphosphonium salt, tribenzylbutylphosphonium salt, tribenzyl (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.], aralkyl groups and / or alkyl groups Diaralkyl dialkylphosphonium salts [dibenzyldimethylphosphonium salt, dibenzyldiethylphosphonium salt, dibenzyldipropylphosphonium salt, dibenzyldibutylphosphonium salt, dibenzylbis (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.] that may have, aralkyl Monoaralkyltrialkylphosphonium salt [benzyltrimethylphosphonium salt, benzyltriethylphosphonium salt, which may have a substituent in the group and / or alkyl group] Salt, benzyltripropylphosphonium salt, benzyltributylphosphonium salt, benzyltris (2-hydroxyethyl) phosphonium salt, etc.].
Specific tetraalkylphosphonium salts include tetramethylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetra n-propylphosphonium salt, tetraisopropylphosphonium salt, tetra n-butylphosphonium salt, tetraisobutylphosphonium salt, tetra-t-butylphosphonium salt, Examples include methylene bis (trimethylphosphonium) salt, ethylene bis (trimethylphosphonium) salt, 1,4-butylene bis (trimethylphosphonium) salt, 1,6-hexamethylene bis (trimethylphosphonium) salt, and the like.
The tetraalkylphosphonium salt having a substituent in the alkyl group is particularly preferably a (hydroxyalkyl) mono to trialkylphosphonium salt or tetrakis (hydroxyalkyl) phosphonium salt having at least a hydroxyalkyl group.
Specific (hydroxyalkyl) trialkylphosphonium salts include (hydroxymethyl) trimethylphosphonium salt, (hydroxymethyl) triethylphosphonium salt, (hydroxymethyl) tri-n-propylphosphonium salt, (hydroxymethyl) triisopropylphosphonium salt, (Hydroxymethyl) tri-n-butylphosphonium salt, (2-hydroxyethyl) trimethylphosphonium salt, (2-hydroxyethyl) triethylphosphonium salt, (2-hydroxyethyl) tri-n-propylphosphonium salt, (2-hydroxyethyl) Triisopropylphosphonium salt, (2-hydroxyethyl) tri n-butylphosphonium salt, (2-hydroxypropyl) trimethylphosphonium salt, (2-hydroxypropyl) triethyl Suhoniumu salts, (2-hydroxypropyl) tri n- propyl phosphonium salts, (2-hydroxypropyl) triisopropyl phosphonium salts, and the like (2-hydroxypropyl) tri n- butyl phosphonium salt.
Specific bis (hydroxyalkyl) dialkylphosphonium salts include bis (hydroxymethyl) dimethylphosphonium salt, bis (hydroxymethyl) diethylphosphonium salt, bis (hydroxymethyl) di n-propylphosphonium salt, bis (hydroxymethyl) Diisopropylphosphonium salt, bis (hydroxymethyl) di n-butylphosphonium salt, bis (2-hydroxyethyl) dimethylphosphonium salt, bis (2-hydroxyethyl) diethylphosphonium salt, bis (2-hydroxyethyl) di n-propylphosphonium Salt, bis (2-hydroxyethyl) diisopropylphosphonium salt, bis (2-hydroxyethyl) di n-butylphosphonium salt, bis (2-hydroxypropyl) dimethylphosphonium salt, bis (2- Rokishipuropiru) diethyl phosphonium salts, bis (2-hydroxypropyl) di- n- propyl phosphonium salts, bis (2-hydroxypropyl) diisopropyl phosphonium salts, bis (2-hydroxypropyl) such as di n- butyl phosphonium salts.
Specific tris (hydroxyalkyl) monoalkylphosphonium salts include tris (hydroxymethyl) methylphosphonium salt, tris (hydroxymethyl) ethylphosphonium salt, tris (hydroxymethyl) n-propylphosphonium salt, tris (hydroxymethyl) isopropyl. Phosphonium salt, tris (hydroxymethyl) n-butylphosphonium salt, tris (2-hydroxyethyl) methylphosphonium salt, tris (2-hydroxyethyl) ethylphosphonium salt, tris (2-hydroxyethyl) n-propylphosphonium salt, tris (2-hydroxyethyl) isopropylphosphonium salt, tris (2-hydroxyethyl) n-butylphosphonium salt, tris (2-hydroxypropyl) methylphosphonium salt, tris ( - hydroxypropyl) ethyl phosphonium salt, tris (2-hydroxypropyl) n- propyl phosphonium salt, tris (2-hydroxypropyl) isopropyl phosphonium salt, tris (2-hydroxypropyl) such as n- butyl phosphonium salts.
Specific tetrakis (hydroxyalkyl) phosphonium salts include tetrakis (hydroxymethyl) phosphonium salts, tetrakis (2-hydroxyethyl) phosphonium salts, tetrakis (2-hydroxypropyl) phosphonium salts, tris (2-hydroxyethyl) (2 -Hydroxyethyloxyethyl) phosphonium salt, bis (2-hydroxyethyl) bis (2-hydroxyethyloxyethyl) phosphonium salt, (2-hydroxyethyl) tris (2-hydroxyethyloxyethyl) phosphonium salt, tetrakis (2- Hydroxyethyloxyethyl) phosphonium salts, and the like.
In addition, an alkoxyalkyl group in which a part or all of the hydroxyalkyl residues in the above (hydroxyalkyl) trialkylphosphonium salt, bis (hydroxyalkyl) dialkyl salt and tetra (hydroxyalkyl) phosphonium salt are alkylated (for example, Methoxymethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxymethyl group, ethoxyethyl group, ethoxypropyl group, propoxymethyl group, propoxyethyl group, propoxypropyl group, butoxymethyl group, butoxyethyl group, butoxypropyl group, methoxyethyl Substance groups having an oxyethyl group, an ethoxyethyloxyethyl group, etc.) can also be mentioned as preferred quaternary phosphonium salts.
Further, preferred unstable terminal decomposition agents include tetraalkylphosphonium, (hydroxyalkyl) trialkylphosphonium, bis (hydroxyalkyl) dialkylphosphonium, tris (hydroxyalkyl) monoalkylphosphonium, and tetrakis (hydroxyalkyl) phosphonium. At least one quaternary phosphonium selected, hydroxide (OH − ), carbonate, bicarbonate, organic carbonate (especially methyl carbonate, ethyl carbonate), organic carboxylate (especially formate) , Acetate, propionate, polyacrylate), acid amide compound salt (especially isocyanurate, phthalimide salt), acid enol compound salt (especially acetylacetone salt, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate), Phenol compound salts (especially Bisphenol-A salt, hindered phenol salt), alcohol compound salt (especially methanol salt, ethanol salt), hydrogenate salt (especially hydrochloride salt), and oxo acid salt (especially borate salt).
In addition, these quaternary phosphonium salts can also be used as a double salt / complex salt in which two or more kinds are mixed.
Particularly preferable unstable end-treatment agents include hydroxides and / or protonic acid salts (organic carbonates, organic carboxylates, acidic amide compound salts, β-diketone compound salts, etc.) of these quaternary phosphoniums. It is done.
尚、ホスホベタイン類などの分子内ホスホニウム塩及び複素環式四級ホスホニウム塩も好ましい物質群として本発明に含まれる。 Intramolecular phosphonium salts such as phosphobetaines and heterocyclic quaternary phosphonium salts are also included in the present invention as a preferred substance group.
不安定末端基の処理方法
本発明の安定化ポリアセタール樹脂の製造方法は、前記で重合され不安定末端基を有するポリアセタール樹脂を上記分解処理剤の少なくとも1種の存在下に熱処理して、不安定末端基を低減させるものである。
ポリアセタール樹脂1kgに対する分解処理剤の添加量は、含まれる不安定末端基の種類と量、分解処理剤の種類、処理状態、処理条件(温度、時間、接触速度など)によるが、ポリアセタール樹脂の溶融状態で処理する場合には、四級ホスホニウム塩を与えるホスホニウムリン原子(P+)に換算して、0.005〜3.5mmol、好ましくは0.01〜3mmol、特に好ましくは0.05〜2mmolである。
なお、必要に応じて、従来公知の分解処理剤と併用することができる。
Method for treating unstable end group The method for producing a stabilized polyacetal resin according to the present invention comprises the step of heat-treating the polyacetal resin polymerized as described above and having an unstable end group in the presence of at least one of the above decomposition treatment agents. The end group is reduced.
The amount of decomposition treatment agent added to 1 kg of polyacetal resin depends on the type and amount of unstable end groups contained, the type of decomposition treatment agent, the treatment state, and treatment conditions (temperature, time, contact speed, etc.). When processing in a state, it is converted into a phosphonium phosphorus atom (P + ) that gives a quaternary phosphonium salt, 0.005 to 3.5 mmol, preferably 0.01 to 3 mmol, particularly preferably 0.05 to 2 mmol. It is.
In addition, it can use together with a conventionally well-known decomposition processing agent as needed.
加熱処理は、重合後のポリアセタール樹脂に残留している重合触媒を失活後、または、失活前に行ってもよいし、本発明以外の安定化処理を行ってもなお不安定末端基が残留しているポリアセタール樹脂に適用することも可能である。
重合触媒の失活を行う場合は、重合後のポリアセタール樹脂を、アンモニア、アルキルアミン等のアミン類、オニウム塩類[四級アンモニウム塩(水酸化コリン、コリンギ酸など)、本発明の四級ホスホニウム塩など]又はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の各水酸化物、無機酸塩、有機酸塩等の触媒失活剤の少なくとも一種を含む水溶液または有機溶媒中に投入し、スラリー状態で一般的には1分ないし6時間、静置ないし撹拌して行われる。触媒失活後のスラリーは濾過、洗浄により、未反応モノマーや触媒失活剤等を除去した後、そのまま、または乾燥して使用する。
また、上記アミン類等の蒸気とポリアセタール樹脂を接触させて重合触媒を失活させる方法や、ヒンダードアミン類、アミノトリアジン類、トリフェニルホスフィン、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等から選ばれた少なくとも1種とポリアセタール樹脂を混合、撹拌して触媒を失活させてもよい。
また、重合触媒の失活を行わない場合は、重合後のポリアセタール樹脂の融点以下の温度で、不活性ガス雰囲気下において加熱することによって、重合触媒が揮発低減されたポリアセタール樹脂を用いることもできる。重合触媒の失活や重合触媒の揮発低減処理は、重合後のポリアセタール樹脂を粉砕後、行ってもよい。
The heat treatment may be performed after deactivation of the polymerization catalyst remaining in the polyacetal resin after polymerization, or before deactivation, and the unstable end groups are still present even when a stabilization treatment other than the present invention is performed. It is also possible to apply to the remaining polyacetal resin.
When the polymerization catalyst is deactivated, the polyacetal resin after polymerization is converted to amines such as ammonia and alkylamine, onium salts [quaternary ammonium salts (such as choline hydroxide and cholinemate), and quaternary phosphonium salts of the present invention. Etc.] or an aqueous solution or an organic solvent containing at least one catalyst deactivator such as alkali metal or alkaline earth metal hydroxide, inorganic acid salt, or organic acid salt, and generally in a slurry state. It is carried out by standing or stirring for 1 minute to 6 hours. The slurry after deactivation of the catalyst is used as it is or after drying after removing unreacted monomers, catalyst deactivator and the like by filtration and washing.
Further, at least one selected from a method of deactivating a polymerization catalyst by bringing vapor such as amines into contact with a polyacetal resin, hindered amines, aminotriazines, triphenylphosphine, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, etc. And the polyacetal resin may be mixed and stirred to deactivate the catalyst.
When the polymerization catalyst is not deactivated, a polyacetal resin in which the polymerization catalyst is reduced in volatilization can be used by heating in an inert gas atmosphere at a temperature lower than the melting point of the polyacetal resin after polymerization. . The deactivation of the polymerization catalyst or the volatilization reduction treatment of the polymerization catalyst may be performed after pulverizing the polyacetal resin after polymerization.
本発明においてポリアセタール樹脂の不安定末端基の処理を行うにあたり、不安定末端基分解処理剤として前記の化合物を用いる以外は、従来の各種の処理方法やそれに応じた装置を選択することができる。
不安定末端基を分解処理する方法は、重合後触媒中和などの必要な処理を行った上で、分解処理剤による加熱分解処理が、ポリアセタール樹脂の溶融状態又はポリアセタール樹脂の溶媒スラリー状態で行われる。
In the present invention, when treating the unstable end group of the polyacetal resin, various conventional treatment methods and apparatuses corresponding thereto can be selected except that the above-mentioned compound is used as the unstable end group decomposition treatment agent.
In the method of decomposing the unstable terminal group, after performing necessary treatment such as catalyst neutralization after polymerization, the thermal decomposition treatment with the decomposition treatment agent is performed in the melt state of the polyacetal resin or the solvent slurry state of the polyacetal resin. Is called.
ポリアセタール樹脂の溶融状態で処理する方法は、例えば1軸もしくは2軸スクリュー押出機等により樹脂を溶融し、ポリアセタール樹脂の融点〜260℃、好ましくはポリアセタール樹脂の融点〜250℃で、樹脂滞留時間5秒〜30分、好ましくは20秒〜20分で処理する。上記処理条件の下限界未満では樹脂の安定化が不十分となり、上限界を超えると、樹脂の分解や着色が生ずる恐れがある。なお、分解処理剤の添加は、ポリアセタール樹脂の溶融前又は溶融後のいずれの段階で行ってもよく、その両方の段階で行ってもよい。また、添加する分解処理剤の添加量を分割し、多段で供給してもよい。
なお、溶融前のポリアセタール樹脂に分解処理剤を添加する方法としては、分解処理剤の水溶液、又はメタノール、エタノールなどの有機溶媒溶液やアルコール水溶液などを、不安定末端基を有する粗ポリアセタール樹脂に対して所定量、できるだけ均一に添加した後に混合する。混合には、水平円筒型、V型、リボン型、パドル型、高速流動型等の一般的な混合機を用いることができる。なお、混合物は乾燥処理を行わずそのまま溶融処理しても、加熱、減圧などにより溶媒を留去した後溶融処理してもよい。また、分解処理剤溶液を、押出機のフィード口及び/又は途中からインジェクションなどにより供給したりしてもよい。この際、分解処理剤溶液を、多段で分割供給してもよい。
また、上記溶液中に、樹脂を加えてスラリーとし、濾過、乾燥して樹脂に分解処理剤を付着させる方法で処理剤を添加することもできる。
また、ポリアセタール樹脂を溶融させた後に、分解処理剤を溶融状態のポリアセタール樹脂に添加する方法としては、上記分解処理剤と溶媒を別々にもしくは溶液にしてフィード及び/又はインジェクションすることができる。
溶融状態で分解処理する際に、必要に応じて、酸化防止剤(ヒンダードフェノール類、ヒンダードアミン類など)、分解促進剤[水;メタノール;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、モノ〜トリエタノールアミン、ジエチルエタノールアミンなどのアミン類;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属化合物;水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化コリン、水酸化(2−ヒドロキシエチル)トリエチルアンモニウム、またはそれらのプロトン酸塩(炭酸塩、重炭酸塩、塩酸塩等の無機酸塩;ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、ポリアクリル酸塩等の有機カルボン酸塩;メチル炭酸塩、エチル炭酸塩などの有機炭酸塩;フェノール化合物塩;フタルイミド塩、イソシアヌル酸塩、尿酸塩などの酸性アミド化合物塩;アセチルアセトン塩、アセト酢酸メチル塩、アセト酢酸エチル塩などのβ-ジケトン化合物塩など)の第四級アンモニウム化合物等]及び色相安定剤(オルトホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、酸化ホウ素、ホウ酸金属塩など)から選ばれた1種又は2種以上を、樹脂100重量部に対して各々0.001〜5重量部、好ましくは0.005〜2重量部添加してもよい。
不安定な末端部が分解除去されたポリアセタール樹脂は、分解して生じたホルムアルデヒド、未反応モノマー、オリゴマー、分解処理剤等を押出機のベント部より減圧下で除去され、冷却後、ストランドカット又はダイフェイスカットにより、ペレット化される。
The method of processing in the molten state of the polyacetal resin is, for example, melting the resin with a single-screw or twin-screw extruder or the like, the melting point of the polyacetal resin to 260 ° C., preferably the melting point of the polyacetal resin to 250 ° C., and the resin residence time 5 The treatment is performed for seconds to 30 minutes, preferably 20 seconds to 20 minutes. If the treatment conditions are less than the lower limit, the stabilization of the resin is insufficient, and if the treatment limits are exceeded, the resin may be decomposed or colored. The addition of the decomposition treatment agent may be performed at any stage before or after the polyacetal resin is melted, or may be performed at both stages. Moreover, the addition amount of the decomposition treatment agent to be added may be divided and supplied in multiple stages.
In addition, as a method of adding the decomposition treatment agent to the polyacetal resin before melting, an aqueous solution of the decomposition treatment agent, an organic solvent solution such as methanol or ethanol, or an alcohol aqueous solution is used with respect to the crude polyacetal resin having unstable terminal groups. Add the specified amount as uniformly as possible and mix. For mixing, a general mixer such as a horizontal cylindrical type, a V type, a ribbon type, a paddle type, or a high-speed flow type can be used. The mixture may be melted as it is without being dried, or may be melted after the solvent is distilled off by heating, decompression or the like. Further, the decomposition treatment agent solution may be supplied by injection or the like from the feed port of the extruder and / or midway. At this time, the decomposition treatment agent solution may be divided and supplied in multiple stages.
In addition, a treatment agent can be added by a method in which a resin is added to the solution to form a slurry, which is filtered and dried to attach the decomposition treatment agent to the resin.
In addition, as a method of adding the decomposition treatment agent to the molten polyacetal resin after melting the polyacetal resin, the decomposition treatment agent and the solvent can be fed and / or injected separately or as a solution.
When decomposed in the molten state, an antioxidant (hindered phenols, hindered amines, etc.), a decomposition accelerator [water; methanol; trimethylamine, triethylamine, tributylamine, mono-triethanolamine, diethyl as necessary. Amines such as ethanolamine; alkaline earth metal compounds such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium oxide; tetramethylammonium hydroxide, choline hydroxide, (2-hydroxyethyl) triethylammonium hydroxide, or protons thereof Acid salts (carbonates, bicarbonates, inorganic salts such as hydrochlorides; organic carboxylates such as formates, acetates, propionates, tartrates, citrates, polyacrylates; methyl carbonates, Organic carbonates such as ethyl carbonate; phenolic compound salts; phthalates Quaternary ammonium compounds of acid amide compound salts such as mid salt, isocyanurate and uric acid salt; β-diketone compound salts such as acetylacetone salt, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, etc.] and hue stabilizer ( 1 type or 2 types or more selected from orthoboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, boron oxide, boric acid metal salt, etc.) in an amount of 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0 0.005 to 2 parts by weight may be added.
The polyacetal resin from which the unstable terminal portion has been decomposed and removed is subjected to removal of formaldehyde, unreacted monomer, oligomer, decomposition treatment agent, etc. generated by decomposition under reduced pressure from the vent portion of the extruder, and after cooling, strand cut or Pelletized by die face cutting.
ポリアセタール樹脂のスラリー状態で行う場合は、分解処理剤の水、アルコール溶液、又はアルコール水溶液中に、ポリアセタール樹脂を加え、分解処理剤の樹脂に対する量が前記四級ホスホニウム塩を与えるホスホニウムリン原子(P+)に換算して、0.005〜35mmol、好ましくは0.01〜30mmol、特に好ましくは0.1〜25mmolとなるようにして、常圧又は加圧で加熱処理する。
スラリー濃度は、3〜70重量%、好ましくは5〜60重量%;加熱温度は、60℃以上、樹脂の融点未満、好ましくは80〜140℃;加熱時間は2分〜30時間、好ましくは20分〜20時間である。
処理後ポリアセタール樹脂は、濾過、洗浄により分解して生じたホルムアルデヒド、未反応モノマー、オリゴマー、分解処理剤等を除去され、溶融状態での処理と同様に乾燥後安定化ポリアセタール樹脂の製品となる。
When the polyacetal resin is used in a slurry state, the polyacetal resin is added to water, an alcohol solution, or an aqueous alcohol solution of the decomposition treatment agent, and the amount of the decomposition treatment agent relative to the resin is a phosphonium phosphorus atom that gives the quaternary phosphonium salt (P In terms of + ), the heat treatment is performed at normal pressure or under pressure so as to be 0.005 to 35 mmol, preferably 0.01 to 30 mmol, particularly preferably 0.1 to 25 mmol.
The slurry concentration is 3 to 70% by weight, preferably 5 to 60% by weight; the heating temperature is 60 ° C. or higher and lower than the melting point of the resin, preferably 80 to 140 ° C .; the heating time is 2 minutes to 30 hours, preferably 20 Min to 20 hours.
After the treatment, the polyacetal resin is freed of formaldehyde, unreacted monomers, oligomers, decomposition treatment agents, and the like produced by decomposition by filtration and washing, and becomes a product of a stabilized polyacetal resin after drying in the same manner as the treatment in the molten state.
また、本発明は、数平均分子量が5000以上であり、ヘミアセタール末端基量が1.0mmol/kg以下及び/又はホルミル末端基量が1.2mmol/kg以下である安定化ポリアセタール樹脂を提供するものである。
このように、不安定末端基の少ないポリアセタール樹脂は、従来にないものであり、ホルムアルデヒドの発生の大幅な低減や異臭の低減が求められる新規用途に使用可能である。
The present invention also provides a stabilized polyacetal resin having a number average molecular weight of 5000 or more, a hemiacetal end group amount of 1.0 mmol / kg or less and / or a formyl end group amount of 1.2 mmol / kg or less. Is.
Thus, a polyacetal resin with few unstable terminal groups is a thing which has not existed conventionally, and can be used for the new use in which the drastic reduction of generation | occurrence | production of formaldehyde and reduction of a bad smell are calculated | required.
得られた安定化ポリアセタール樹脂は、必要に応じて、その100重量部に対し、下記の添加剤など:
(a)酸化防止剤、ホルムアルデヒド捕捉剤、ギ酸捕捉剤、耐候安定剤、耐光安定剤、加工安定剤及び結晶核剤からなる群から選ばれた少なくとも1種を0.001〜5重量部、
(b)充填剤、補強剤、潤滑剤、摺動剤、導電剤、帯電防止剤、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、コアシェルポリマーからなる群から選ばれた少なくとも1種を0〜100重量部、及び
(c)着色剤を0〜5重量部
を加えて押出機等で混合されてポリアセタール樹脂組成物にした後、成形用に用いることができる。
捕捉剤、酸化防止剤、安定剤などの添加剤は、一般的には末端安定化処理後のポリアセタール樹脂に添加し、溶融混練してポリアセタール樹脂組成物を調製するのが好ましいが、重合反応、触媒失活化、末端安定化処理等の効率を阻害しない範囲であれば、原料モノマーやコモノマーに添加して重合に供したり、重合段階で添加することも可能であり、重合後の末端安定化処理に供する重合体に添加したり、末端安定化処理工程の任意の段階で添加することも可能である。
The resulting stabilized polyacetal resin, if necessary, with respect to 100 parts by weight thereof, the following additives:
(A) 0.001 to 5 parts by weight of at least one selected from the group consisting of an antioxidant, a formaldehyde scavenger, a formic acid scavenger, a weather resistance stabilizer, a light resistance stabilizer, a processing stabilizer and a crystal nucleating agent;
(B) 0 to 100 parts by weight of at least one selected from the group consisting of a filler, a reinforcing agent, a lubricant, a sliding agent, a conductive agent, an antistatic agent, a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, and a core-shell polymer; And (c) 0-5 parts by weight of a colorant is added and mixed with an extruder or the like to form a polyacetal resin composition, which can be used for molding.
Additives such as scavengers, antioxidants, and stabilizers are generally added to the polyacetal resin after terminal stabilization treatment, and are preferably melt-kneaded to prepare a polyacetal resin composition. As long as the efficiency of catalyst deactivation, terminal stabilization, etc. is not impaired, it can be added to the raw material monomer or comonomer for polymerization or added at the polymerization stage. It is also possible to add to the polymer to be subjected to the treatment or at any stage of the terminal stabilization treatment step.
詳述すると、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、上記酸化防止剤として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤及びイオウ系二次酸化防止剤からなる群から選ばれた少なくとも一種を、安定化ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜1重量部含有するのが好ましい。
ホルムアルデヒド捕捉剤としては、アミノトリアジン化合物、尿素化合物、グアニジン化合物、ヒドラジン化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アゾール化合物、アミド化合物、ポリアミド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂及びポリウレタン樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種を、安定化ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜2重量部含有するのが好ましい。
上記アミノトリアジン化合物としては、メラミン、ベンゾグアナミン、CTU−グアナミン、2,4-ジアミノ-6-(2’-メチルイミダゾリル-1’)-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-(2’-ウンデシルイミダゾリル-1’)-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-(2’-エチル-4’-メチルイミダゾリル-1’)-エチル-s-トリアジン、メラミン樹脂などが挙げられる。
上記尿素化合物としては、尿素、エチレン尿素、プロピレン尿素、グリコールウリル、パルビツル酸、尿酸、ベンゾイミダゾロン、ホルム窒素、ビウレット、ビウレア、ヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントイン、アラントイン、アラントイン塩(アラントインジヒドロキシアルミニウム、アラントインのアミノ酸塩等)などが挙げられる。
上記グアニジン化合物としては、シアノグアニジン、グリコシアミジン、クレアチニン等が挙げられる。
上記ヒドラジン化合物としては、ウラゾール、4−アミノウラゾール、ラウリン酸ヒドラジド、ステアリン酸ヒドラジド、12-ヒドロキシステアリン酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、エイコサン二酸ジヒドラジド、8,12-エイコサジエン二酸ジヒドラジド、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジヒドラジド、1,3-ビス(2-ヒドラジノカルボニルエチル)-5-イソプロピルヒダントイン、安息香酸ヒドラジド、α−ナフトエ酸ヒドラジド、β−ナフトエ酸ヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジヒドラジドなどが挙げられる。
アミノ酸化合物としては、α−アミノ酸、β−アミノ酸、γ−アミノ酸、δ−アミノ酸、芳香族アミノ酸などが挙げられる。α−アミノ酸としては、モノアミノモノカルボン酸類(グリシン、アラニン、バリン、ノルバリン、ロイシン、ノルロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、チロシン、ジヨードチロシン、スリナミン、トレオニン、セリン、プロリン、ヒドロキシプロリン、トリプトファン、メチオニン、シスチン、システイン、シトルリン、α−アミノ酪酸、ヘキサヒドロピコリン酸、テアニン、o−チロシン、m−チロシン、3,4−ジヒドロキシフェニルアラニンなど)、モノアミノジカルボン酸類(アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、ヘキサヒドロジピコリン酸、ヘキサヒドロキノリン酸など)、ジアミノモノカルボン酸類(リジン、ヒドロキシリジン、アルギニン、ヒスチジンなど)などが例示できる。β−アミノ酸、γ−アミノ酸、δ−アミノ酸としては、β−アラニン、β−アミノ酪酸、ヘキサヒドロシンコメロン酸、γ−アミノ酪酸、δ−アミノ−n−吉草酸などが例示できる。芳香族アミノ酸としては、o−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸などが例示できる。これらのアミノ酸類は、D−体、L−体、DL−体の何れであってもよく、さらに、カルボルキシル基が金属塩化(アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩など)、アミド化、ヒドラジド化、エステル化(メチルエステル、エチルエステルなど)されたアミノ酸誘導体も含まれる。
アミノアルコール化合物には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、2−アミノ−1−ブタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジオール、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンなどが挙げられる。
上記イミド化合物としては、スクシンイミド、フタルイミド、トリメリット酸イミド、ピロメリット酸ジイミドなどが挙げられる。
上記アゾール化合物としては、4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、ベンゾイミダゾール、グアニン、ベンゾトリアゾール、5−フェニル−1H−テトラゾールなどが挙げられる。
上記アミド化合物としては、マロンアミド、アジピン酸アミド、セバシン酸アミド、ドデカン二酸アミド、安息香酸アミド、アントラニルアミドなどのアミド化合物が挙げられる。
上記ポリアミド樹脂としては、ナイロン3、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン6−66−610、ナイロン6−66−610−12などのポリアミド樹脂などが挙げられる。
Specifically, the polyacetal resin composition of the present invention comprises a hindered phenolic antioxidant, a hindered amine antioxidant, a phosphorus secondary antioxidant, and a sulfur secondary antioxidant as the antioxidant. It is preferable to contain 0.01 to 1 part by weight of at least one selected from the group with respect to 100 parts by weight of the stabilized polyacetal resin.
The formaldehyde scavenger is selected from the group consisting of aminotriazine compounds, urea compounds, guanidine compounds, hydrazine compounds, amino acid compounds, amino alcohol compounds, imide compounds, azole compounds, amide compounds, polyamide resins, polyacrylamide resins and polyurethane resins. It is preferable to contain 0.01 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the stabilized polyacetal resin.
Examples of the aminotriazine compound include melamine, benzoguanamine, CTU-guanamine, 2,4-diamino-6- (2′-methylimidazolyl-1 ′)-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2 '-Undecylimidazolyl-1')-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-ethyl-4'-methylimidazolyl-1 ')-ethyl-s-triazine, melamine resin, etc. Can be mentioned.
Examples of the urea compound include urea, ethylene urea, propylene urea, glycoluril, parbituric acid, uric acid, benzoimidazolone, form nitrogen, biuret, biurea, hydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, allantoin, allantoin salt (allantoindihydroxyaluminum) And amino acid salts of allantoin).
Examples of the guanidine compound include cyanoguanidine, glycocyanidine, creatinine and the like.
Examples of the hydrazine compound include urazole, 4-aminourazole, lauric acid hydrazide, stearic acid hydrazide, 12-hydroxystearic acid hydrazide, adipic acid hydrazide, sebacic acid dihydrazide, dodecanedioic acid dihydrazide, eicosanedioic acid dihydrazide, 8,12. -Eicosadiene diacid dihydrazide, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid dihydrazide, 1,3-bis (2-hydrazinocarbonylethyl) -5-isopropylhydantoin, benzoic hydrazide, α-naphthoic acid hydrazide, β-naphthoic acid hydrazide, Examples thereof include isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dihydrazide.
Examples of amino acid compounds include α-amino acids, β-amino acids, γ-amino acids, δ-amino acids, aromatic amino acids, and the like. α-amino acids include monoamino monocarboxylic acids (glycine, alanine, valine, norvaline, leucine, norleucine, isoleucine, phenylalanine, tyrosine, diiodotyrosine, sulinamine, threonine, serine, proline, hydroxyproline, tryptophan, methionine, cystine. , Cysteine, citrulline, α-aminobutyric acid, hexahydropicolinic acid, theanine, o-tyrosine, m-tyrosine, 3,4-dihydroxyphenylalanine, etc., monoaminodicarboxylic acids (aspartic acid, glutamic acid, asparagine, glutamine, hexahydro) Examples thereof include dipicolinic acid and hexahydroquinolinic acid) and diaminomonocarboxylic acids (lysine, hydroxylysine, arginine, histidine and the like). Examples of the β-amino acid, γ-amino acid, and δ-amino acid include β-alanine, β-aminobutyric acid, hexahydrocincomeronic acid, γ-aminobutyric acid, and δ-amino-n-valeric acid. Examples of the aromatic amino acid include o-aminobenzoic acid, m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid and the like. These amino acids may be any of D-form, L-form and DL-form, and carboxyl group is metal chloride (alkali metal salt, alkaline earth metal salt etc.), amidation, hydrazide Also included are amino acid derivatives that are esterified (methyl ester, ethyl ester, etc.).
Amino alcohol compounds include monoethanolamine, diethanolamine, 2-amino-1-butanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 2-amino -2-ethyl-1,3-propanediol, tris (hydroxymethyl) aminomethane and the like.
Examples of the imide compound include succinimide, phthalimide, trimellitic imide, pyromellitic diimide and the like.
Examples of the azole compound include 4-amino-1,2,4-triazole, benzimidazole, guanine, benzotriazole, and 5-phenyl-1H-tetrazole.
Examples of the amide compound include amide compounds such as malonamide, adipic acid amide, sebacic acid amide, dodecanedioic acid amide, benzoic acid amide, and anthranilamide.
Examples of the polyamide resin include polyamide resins such as nylon 3, nylon 6, nylon 66, nylon 6-66-610, nylon 6-66-610-12, and the like.
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、ギ酸捕捉剤(耐熱安定剤)として、水酸基を有していてもよい脂肪酸金属塩、ポリ(メタ)アクリル酸(共)重合体金属塩、アミノカルボン酸金属塩、(イソ)シアヌル酸金属塩、ケイ酸金属塩(タルク、ゼオライトなど)、ハイドロタルサイト、水酸化マグネシウム及び酸化マグネシウムからなる群から選ばれる1種以上を、安定化ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.001〜1重量部含有するのが好ましい。
上記脂肪酸金属塩としては、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム、クエン酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウムなどが挙げられる。
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、加工安定剤として、炭素数12〜36の脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、ポリアルキレングリコール、ポリシロキサン及び低分子量ポリエチレンからなる群から選ばれた少なくとも1種を、安定化ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01〜1重量部含有するのが好ましい。
上記脂肪酸エステルとしてはエチレングリコールモノ〜ジステアレート、グリセリンモノ〜トリステアレート、ペンタエリスリトールモノ〜テトラステアレートなどが挙げられる。また、脂肪酸アミドとしては、エチレンビスステアリルアミドなどが挙げられる。
The polyacetal resin composition of the present invention is a fatty acid metal salt, poly (meth) acrylic acid (co) polymer metal salt, aminocarboxylic acid metal salt which may have a hydroxyl group as a formic acid scavenger (heat stabilizer). , (Iso) cyanuric acid metal salt, silicic acid metal salt (talc, zeolite, etc.), hydrotalcite, magnesium hydroxide and magnesium oxide, one or more selected from 100 parts by weight of stabilized polyacetal resin It is preferable to contain 0.001-1 weight part.
Examples of the fatty acid metal salt include calcium acetate, calcium propionate, calcium citrate, calcium stearate, calcium 12-hydroxystearate, magnesium stearate, zinc stearate, lithium stearate and the like.
The polyacetal resin composition of the present invention stabilizes at least one selected from the group consisting of a fatty acid ester having 12 to 36 carbon atoms, a fatty acid amide, a polyalkylene glycol, a polysiloxane, and a low molecular weight polyethylene as a processing stabilizer. It is preferable to contain 0.01-1 weight part with respect to 100 weight part of polyacetal resin.
Examples of the fatty acid ester include ethylene glycol mono-distearate, glycerin mono-tristearate, pentaerythritol mono-tetrastearate and the like. Examples of fatty acid amides include ethylene bisstearyl amide.
本発明の安定化ポリアセタール樹脂又はポリアセタール樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロー成形、プレス成形、ガスインジェクション成形または発泡成形などにより成形体とすることができる。
本発明の成形体は、(1)80℃で24時間、密閉空間で保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形体の表面積1cm2当り2μg以下、好ましくは0.001〜1.0μg、及び/又は(2)60℃、飽和湿度の密閉空間で3時間保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形体の表面積lcm2当り0.8μg以下、好ましくは0.001〜0.6μg以下である。
本発明の成形体は、自動車部品、電気・電子部品、OA機器部品、建材・配管部品、生活・化粧品用部品又は医用部品に用いられる。
The stabilized polyacetal resin or polyacetal resin composition of the present invention can be formed into a molded body by injection molding, extrusion molding, blow molding, press molding, gas injection molding or foam molding.
The molded body of the present invention is (1) when stored in a sealed space at 80 ° C. for 24 hours, the amount of generated formaldehyde is 2 μg or less, preferably 0.001 to 1.0 μg per 1 cm 2 of the surface area of the molded body, and / or (2) When stored in a sealed space of 60 ° C. and saturated humidity for 3 hours, the amount of formaldehyde generated is 0.8 μg or less, preferably 0.001 to 0.6 μg or less per 1 cm 2 of surface area of the molded body.
The molded article of the present invention is used for automobile parts, electrical / electronic parts, OA equipment parts, building materials / piping parts, daily / cosmetic parts, or medical parts.
(実施例)
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
製造実施例で品質指標とした〔安定化ポリアセタール樹脂の評価特性〕の測定方法及び実施例で品質指標とした〔安定化ポリアセタール樹脂組成物の評価特性〕の測定方法は以下の通りである。
(Example)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to this.
The measurement method of [evaluation characteristics of the stabilized polyacetal resin] used as a quality index in the production examples and the measurement method of [evaluation characteristics of the stabilized polyacetal resin composition] used as a quality index in the examples are as follows.
〔安定化ポリアセタール樹脂の評価特性の測定方法〕
1.ヘミアセタール末端基量及びホルミル末端基量
ポリアセタール共重合体をヘキサフルオロイソプロピルアルコール中に溶解し、N,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミドとピリジンを添加して反応させた後、風乾し、続いて40℃で減圧乾燥させることにより残留した溶媒および未反応物を除去した。得られた反応物を重水素化へキサフルオロイソプロピルアルコールを溶媒として濃度5重量%に溶解して、溶液をNMR用サンプル管に充填し、室温で、NMRスペクトルを測定した(特開2001−11143号公報参照)。
ヘミアセタール末端基量(mmol/kg)及びホルミル末端基量(mmol/kg)は、各々対応するNMR吸収ピークに基づき算出した。
NMR装置:Bruker(株)製、AVANCE400型FT−NMR
測定条件:パルスフリップアングル30゜、積算繰り返し時間10sec、積算回数128回
2.不安定末端量(末端の不安定部分の量)
ポリアセタール共重合体約1gを精秤し、水酸化カルシウム15mgと0.5体積%の水酸化アンモニウムを含む60体積%メタノール水溶液100mlとともに耐圧密閉容器に入れ、170℃で60分間加熱処理した後、冷却、開封して内溶液を取り出した。不安定な末端部分の分解によって生じ、溶液中に溶解したホルムアルデヒド量をJIS K0102、29.1項 アセチルアセトン吸光光度法で定量し、ポリアセタール共重合体に対する割合を重量%として算出した。
3.ポリアセタール共重合体の臭気(アミン臭)
ペレット状安定化ポリアセタール共重合体1gを密閉容器(容量20ml)に入れ、温度80℃で24時間、恒温槽内で加熱した後、開封した際のアミン臭を人の嗅覚で測定し、下記の規準にて評価した。
○:アミン臭が無い。
△:若干のアミン臭がする。
×:強いアミン臭がする。
[Method for measuring evaluation characteristics of stabilized polyacetal resin]
1. Hemiacetal end group amount and formyl end group amount Polyacetal copolymer was dissolved in hexafluoroisopropyl alcohol, reacted with N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide and pyridine, then air-dried, then The remaining solvent and unreacted substances were removed by drying at 40 ° C. under reduced pressure. The obtained reaction product was dissolved in deuterated hexafluoroisopropyl alcohol at a concentration of 5% by weight as a solvent, the solution was filled in an NMR sample tube, and an NMR spectrum was measured at room temperature (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-11143). Issue gazette).
The amount of hemiacetal end groups (mmol / kg) and formyl end groups (mmol / kg) were calculated based on the corresponding NMR absorption peaks.
NMR apparatus: Bruker, AVANCE400 type FT-NMR
Measurement conditions: Pulse flip angle 30 °, integration repetition time 10 sec, integration count 128 times Unstable end amount (amount of unstable part at the end)
About 1 g of a polyacetal copolymer was precisely weighed, placed in a pressure-resistant sealed container together with 100 ml of a 60 volume% methanol aqueous solution containing 15 mg of calcium hydroxide and 0.5 volume% ammonium hydroxide, and heat-treated at 170 ° C. for 60 minutes. The inner solution was taken out after cooling and opening. The amount of formaldehyde generated by the decomposition of the unstable terminal portion and dissolved in the solution was quantified by JIS K0102, 29.1 acetylacetone absorptiometry, and the ratio to the polyacetal copolymer was calculated as wt%.
3. Odor of polyacetal copolymer (amine odor)
1 g of the pelletized stabilized polyacetal copolymer was put in a sealed container (capacity 20 ml), heated in a thermostatic bath at a temperature of 80 ° C. for 24 hours, and then the amine odor when opened was measured by human olfaction. Evaluated by criteria.
○: There is no amine odor.
Δ: Some amine odor.
X: Strong amine odor.
〔安定化ポリアセタール樹脂組成物の評価特性の測定方法〕
1.湿式でのホルムアルデヒド発生量
容積1リットルのポリエチレン製瓶に蒸留水50mlを入れ、その蓋の内側に平板状試験片(100mm×40mm×2mm;総表面積85.6cm2)の2枚を吊下げて蓋を閉じることにより瓶を密閉する。これを温度60℃の恒温槽内に入れて3時間加温処理した後に恒温槽から取り出し、20℃で1時間静置する。
加温処理により試験片から放出され水に溶解したホルムアルデヒド量をJIS K0102、29.1項 アセチルアセトン吸光光度法で定量し、単位表面積当たりのホルムアルデヒド発生量(単位:μg/cm2)を算出する。
2.乾式でのホルムアルデヒド発生量
試験片(2mm×2mm×50mm)の10個(総表面積約40cm2)を容積20mlの容器に入れて密閉する。これを温度80℃の恒温槽内で24時間加熱処理した後、恒温槽から取り出して20℃で1時間放置し、その後、蒸留水5mlをシリンジで容器内に注入して、加熱処理により試験片から放出されたホルムアルデヒドを水に吸収させる。水に溶解したホルムアルデヒド量をJIS K0102、29.1項 アセチルアセトン吸光光度法で定量し、単位表面積当たりのホルムアルデヒド発生量(単位:μg/cm2)を算出する。
[Method for measuring evaluation characteristics of stabilized polyacetal resin composition]
1. Amount of formaldehyde generated by wet method 50ml of distilled water is placed in a polyethylene bottle with a volume of 1 liter, and two flat test pieces (100mm x 40mm x 2mm; total surface area 85.6cm 2 ) are hung inside the lid. Seal the bottle by closing the lid. This is placed in a constant temperature bath at a temperature of 60 ° C., heated for 3 hours, taken out of the constant temperature bath, and left at 20 ° C. for 1 hour.
The amount of formaldehyde released from the test piece by heating and dissolved in water is determined by JIS K0102, 29.1 acetylacetone spectrophotometry, and the amount of formaldehyde generated per unit surface area (unit: μg / cm 2 ) is calculated.
2. Formaldehyde generation amount in dry process Ten test pieces (total surface area of about 40 cm 2 ) of test pieces (2 mm × 2 mm × 50 mm) are placed in a 20 ml container and sealed. This was heat-treated in a thermostat at 80 ° C. for 24 hours, then taken out from the thermostat and left at 20 ° C. for 1 hour, and then 5 ml of distilled water was injected into the container with a syringe, and the test piece was heat-treated. Absorbs formaldehyde released from water into water. The amount of formaldehyde dissolved in water is determined by JIS K0102, item 29.1 acetylacetone absorptiometry, and the amount of formaldehyde generated per unit surface area (unit: μg / cm 2 ) is calculated.
〔安定化処理用の粗ポリアセタール共重合体(A)の調製〕
二つの円が一部重なった断面形状を有するとともに、外側に熱(冷)媒を通すジャケットを備えたバレルと、このバレル内部の長手方向において、それぞれ攪拌及び推進用パドルを備えた2本の回転軸とを有する連続式混合反応機を用いて、以下のように重合反応を行った。
ジャケットに80℃の温水を通し、2本の回転軸を100rpmの速度で回転させ、酸化防止剤として0.05重量%のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、コモノマーとして3.3重量%の1,3−ジオキソラン及び連鎖移動剤として700ppm(重量基準)のメチラールを含有するトリオキサンを連続的に反応機に供給するとともに、並行して三フッ化ホウ素・ジブチルエーテラートをシクロヘキサンに溶解させた溶液(1重量%濃度)を、全モノマー(トリオキサン及び1,3−ジオキソランの総量)に対して、三フッ化ホウ素として10ppm(重量基準)の濃度で連続添加して共重合を行った。次いで、反応機の吐出口より排出された粗ポリアセタール共重合体を、0.1重量%のトリエチルアミンを含有する水溶液に添加し、触媒を失活させた。この混合物を遠心分離処理、さらに乾燥して粗ポリアセタール共重合体(A)を得た。
粗ポリアセタール共重合体(A)は、ヘミアセタール末端基量が2.2mmol/kg、ホルミル末端基量が1.5mmol/kg、不安定末端量(末端不安定部分の量)が0.87重量%であった。
[Preparation of crude polyacetal copolymer (A) for stabilization treatment]
It has a cross-sectional shape in which two circles partially overlap each other, and a barrel provided with a jacket through which a heat (cooling) medium passes outside, and two barrels each provided with a stirring paddle and a propulsion paddle in the longitudinal direction inside the barrel. The polymerization reaction was performed as follows using a continuous mixing reactor having a rotating shaft.
Warm water at 80 ° C. was passed through the jacket, the two rotating shafts were rotated at a speed of 100 rpm, and 0.05% by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl) was used as an antioxidant. -4-hydroxyphenyl) propionate], trioxane containing 3.3% by weight of 1,3-dioxolane as comonomer and 700 ppm (by weight) of methylal as chain transfer agent are continuously fed to the reactor and in parallel Then, a solution of boron trifluoride / dibutyl etherate dissolved in cyclohexane (concentration of 1% by weight) is 10 ppm (weight) as boron trifluoride with respect to all monomers (total amount of trioxane and 1,3-dioxolane). Copolymerization was carried out with continuous addition at a standard) concentration. Subsequently, the crude polyacetal copolymer discharged from the discharge port of the reactor was added to an aqueous solution containing 0.1% by weight of triethylamine to deactivate the catalyst. The mixture was centrifuged and further dried to obtain a crude polyacetal copolymer (A).
The crude polyacetal copolymer (A) has a hemiacetal terminal group amount of 2.2 mmol / kg, a formyl terminal group amount of 1.5 mmol / kg, and an unstable terminal amount (amount of terminal unstable parts) of 0.87 weight. %Met.
以下、(1)安定化ポリアセタール樹脂の実施製造例及び比較製造例と、(2)安定化ポリアセタール樹脂を用いた組成物及びその成形品の実施例及び比較例とに分けて説明する。 Hereinafter, (1) Examples and comparative production examples of the stabilized polyacetal resin, and (2) Examples and comparative examples of the composition using the stabilized polyacetal resin and the molded product thereof will be described.
(1)安定化ポリアセタール樹脂の実施製造例及び比較製造例
[実施製造例1〜8]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、0.3重量部のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]と四級ホスホニウム塩を含む水溶液の2重量部を添加して均一に混合した。
なお、四級ホスホニウム塩を含む水溶液は、その2重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級ホスホニウム塩の添加量が、四級ホスホニウムのリン原子(P+)に換算して1.4mmolとなるように濃度調整したものである。
ついで、この混合物を1個の脱揮口付き2軸押出機(径30mm)に供給し、2.7kPa(20mmHg)のベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
(1) Examples of production and comparative production examples of stabilized polyacetal resins [Examples of Production Examples 1 to 8]
0.3 parts by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and four parts per 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A). 2 parts by weight of an aqueous solution containing a secondary phosphonium salt was added and mixed uniformly.
In addition, the aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt is converted into a phosphorus atom (P + ) of the quaternary phosphonium salt by adding 2 parts by weight of the quaternary phosphonium salt to 1 kg of the crude polyacetal copolymer. The concentration was adjusted to 1.4 mmol.
This mixture was then fed to a single twin screw extruder (diameter 30 mm) with a devolatilization port and volatile at a vent vacuum of 2.7 kPa (20 mmHg), a cylinder temperature of 200 ° C. and an average residence time of 300 seconds. The product was melt-kneaded while removing the product from the (vent) devolatilization port to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
[実施製造例9〜12]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、0.05重量部のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]と濃度調整した四級ホスホニウム塩を含む水溶液の2重量部を添加して均一に混合した。なお、四級ホスホニウム塩を含む水溶液は、その2重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級ホスホニウム塩の添加量が、四級ホスホニウムのリン原子(P+)に換算して0.7mmolとなるように濃度調整したものである。
ついで、この混合物を1個の脱揮口付き2軸押出機(径30mm)に供給した。押出機には、供給している粗ポリアセタール共重合体100重量部あたり0.5重量部の水を添加し、2.7kPaのベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
[Example Production Examples 9 to 12]
0.05 parts by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and a concentration with respect to 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A) 2 parts by weight of an aqueous solution containing the prepared quaternary phosphonium salt was added and mixed uniformly. In addition, the aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt is converted into a phosphorus atom (P + ) of the quaternary phosphonium salt by adding 2 parts by weight of the quaternary phosphonium salt to 1 kg of the crude polyacetal copolymer. The concentration is adjusted to 0.7 mmol.
Subsequently, this mixture was supplied to one twin screw extruder (diameter 30 mm) with a devolatilization port. In the extruder, 0.5 part by weight of water is added per 100 parts by weight of the supplied crude polyacetal copolymer, and the vent vacuum is 2.7 kPa, the cylinder temperature is 200 ° C., and the average residence time is 300 seconds. The mixture was melt-kneaded while removing volatiles from the (vent) devolatilization port to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
[実施製造例13]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、0.03重量部のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]と、濃度調整した四級ホスホニウム塩を含む水溶液の1重量部と、濃度調整した(2−ヒドロキシエチル)トリエチルアンモニウムホルメートを含む水溶液の1重量部とを添加して均一に混合した。なお、四級ホスホニウム塩を含む水溶液は、その1重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級ホスホニウム塩の添加量が、四級ホスホニウムのリン原子(P+)に換算して0.5mmolとなるように濃度調整したものであり、四級アンモニウム塩((2−ヒドロキシエチル)トリエチルアンモニウムホルメート)を含む水溶液は、その1重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級アンモニウム塩の添加量が、四級アンモニウムの窒素原子(N+)に換算して0.5mmolとなるように濃度調整したものである。
ついで、この混合物を1個の脱揮口付き2軸押出機(径30mm)に供給し、2.7kPa(20mmHg)のベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
[Example Production Example 13]
0.03 parts by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] with respect to 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A), 1 part by weight of an aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt whose concentration was adjusted and 1 part by weight of an aqueous solution containing a (2-hydroxyethyl) triethylammonium formate whose concentration was adjusted were added and mixed uniformly. In addition, the aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt is converted to the phosphorus atom (P + ) of the quaternary phosphonium salt by adding 1 part by weight of the quaternary phosphonium salt to 1 kg of the crude polyacetal copolymer. The aqueous solution containing a quaternary ammonium salt ((2-hydroxyethyl) triethylammonium formate) was added to 1 part by weight of the crude polyacetal copolymer. The concentration was adjusted so that the amount of quaternary ammonium salt added to 1 kg of coalescence was 0.5 mmol in terms of nitrogen atom (N + ) of quaternary ammonium.
This mixture was then fed to a single twin screw extruder (diameter 30 mm) with a devolatilization port and volatile at a vent vacuum of 2.7 kPa (20 mmHg), a cylinder temperature of 200 ° C. and an average residence time of 300 seconds. The product was melt-kneaded while removing the product from the (vent) devolatilization port to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
[実施製造例14]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、濃度調整した四級ホスホニウム塩を含む水溶液の1重量部を添加し、均一に混合して乾燥した。なお、四級ホスホニウム塩を含む水溶液は、その1重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級ホスホニウム塩の添加量が、四級ホスホニウムのリン原子(P+)に換算して3.0mmolとなるように濃度調整したものである。
ついで、この混合物を1個の脱揮口付き2軸押出機(径30mm)に供給した。押出機には、フィードしている粗ポリアセタール共重合体100重量部あたり0.5重量部の水を添加し、2.7kPaのベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
[Example Production Example 14]
1 part by weight of an aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt whose concentration was adjusted was added to 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A), uniformly mixed and dried. In addition, the aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt is converted to the phosphorus atom (P + ) of the quaternary phosphonium salt by adding 1 part by weight of the quaternary phosphonium salt to 1 kg of the crude polyacetal copolymer. The concentration was adjusted to 3.0 mmol.
Subsequently, this mixture was supplied to one twin screw extruder (diameter 30 mm) with a devolatilization port. In the extruder, 0.5 parts by weight of water is added per 100 parts by weight of the fed crude polyacetal copolymer, with a vent vacuum of 2.7 kPa, a cylinder temperature of 200 ° C., and an average residence time of 300 seconds. The mixture was melt-kneaded while removing volatiles from the (vent) devolatilization port to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
[実施製造例15]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、濃度調整した四級ホスホニウム塩を含む水溶液の1重量部を添加し、均一に混合して乾燥した。なお、四級ホスホニウム塩を含む水溶液は、その1重量部を添加することにより、粗ポリアセタール共重合体1kgに対する四級ホスホニウム塩の添加量が、四級ホスホニウムのリン原子(P+)に換算して2.0mmolとなるように濃度調整したものである。
ついで、この粗ポリアセタール共重合体100重量部に対して、0.3重量部のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、0.05重量部のナイロン6,6(平均粒子径:4μm)、0.1重量部のステアリン酸カルシウム、及び0.2重量部のエチレンビスステアリルアミドを更に添加・混合して、1個の脱揮口付き2軸押出機(径30mm)に供給した。押出機には、フィードしている粗ポリアセタール共重合体100重量部あたり0.5重量部の水を添加し、2.7kPaのベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
[Example Production Example 15]
1 part by weight of an aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt whose concentration was adjusted was added to 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A), uniformly mixed and dried. In addition, the aqueous solution containing a quaternary phosphonium salt is converted to the phosphorus atom (P + ) of the quaternary phosphonium salt by adding 1 part by weight of the quaternary phosphonium salt to 1 kg of the crude polyacetal copolymer. The concentration was adjusted to 2.0 mmol.
Subsequently, 0.3 parts by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer. 05 parts by weight of nylon 6,6 (average particle size: 4 μm), 0.1 parts by weight of calcium stearate, and 0.2 parts by weight of ethylene bisstearylamide were further added and mixed to form one devolatilization port It supplied to the twin screw extruder (diameter 30mm). In the extruder, 0.5 parts by weight of water is added per 100 parts by weight of the fed crude polyacetal copolymer, with a vent vacuum of 2.7 kPa, a cylinder temperature of 200 ° C., and an average residence time of 300 seconds. The mixture was melt-kneaded while removing volatiles from the (vent) devolatilization port to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
[比較製造例1]
上記粗ポリアセタール共重合体(A)100重量部に対して、0.3重量部のトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]と2重量部のトリエチルアミン水溶液(0.72重量%濃度:トリエチルアミン(TEAと略す)は、粗ポリアセタール共重合体1kg当たり3級アミン窒素に換算して1.4mmol)を添加して均一に混合した。
ついで、この混合物を前記の脱揮口付き2軸押出機に供給し、20mmHg(2.7kPa)のベント真空度、200℃のシリンダー温度、300秒の平均滞留時間で、揮発物を(ベント)脱揮口より除去しながら溶融混練し、ペレット状の安定化ポリアセタール共重合体を得た。結果を表1に示す。
[Comparative Production Example 1]
0.3 parts by weight of triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and 2 parts per 100 parts by weight of the crude polyacetal copolymer (A) A part by weight of an aqueous triethylamine solution (0.72 wt% concentration: triethylamine (abbreviated as TEA) is 1.4 mmol in terms of tertiary amine nitrogen per kg of the crude polyacetal copolymer) was added and mixed uniformly.
Next, this mixture was supplied to the above-described twin screw extruder with a devolatilization port, and the volatiles were vented at a vent vacuum of 20 mmHg (2.7 kPa), a cylinder temperature of 200 ° C., and an average residence time of 300 seconds. While being removed from the devolatilization port, the mixture was melt-kneaded to obtain a pelletized stabilized polyacetal copolymer. The results are shown in Table 1.
不安定末端分解処理剤として実施製造例で使用した四級ホスホニウム塩は以下の通りである。
(A−1):水酸化テトラエチルホスホニウム
(A−2):ギ酸のテトラエチルホスホニウム塩
(A−3):イソシアヌル酸のトリス(テトラエチルホスホニウム)塩
(A−4):水酸化テトラブチルホスホニウム
(A−5):ギ酸のテトラブチルホスホニウム塩
(A−6):酢酸のテトラブチルホスホニウム塩
(A−7):水酸化(2−ヒドロキシエチル)トリメチルホスホニウム
(A−8):ギ酸の(2−ヒドロキシエチル)トリメチルホスホニウム塩
(A−9):アセト酢酸エチルのテトラエチルホスホニウム塩
(A−10):テトラブチルホスホニウムテトラフェニルホスフェート
(A−11):アセチルアセトンのテトラブチルホスホニウム塩
(A−12):(カルボキシメチル)トリメチルホスホニウムハイドロキシド
The quaternary phosphonium salts used in the practical production examples as unstable terminal decomposition treatment agents are as follows.
(A-1): Tetraethylphosphonium hydroxide (A-2): Tetraethylphosphonium salt of formic acid (A-3): Tris (tetraethylphosphonium) salt of isocyanuric acid (A-4): Tetrabutylphosphonium hydroxide (A-) 5): Tetrabutylphosphonium salt of formic acid (A-6): Tetrabutylphosphonium salt of acetic acid (A-7): Hydroxylated (2-hydroxyethyl) trimethylphosphonium (A-8): (2-hydroxyethyl of formic acid ) Trimethylphosphonium salt (A-9): tetraethylphosphonium salt of ethyl acetoacetate (A-10): tetrabutylphosphonium tetraphenylphosphate (A-11): tetrabutylphosphonium salt of acetylacetone (A-12): (carboxymethyl) ) Trimethylphosphonium hydroxide
(2)実施例及び比較例(安定化ポリアセタール樹脂組成物及びその成形体)
[実施例1〜8]
上記の実施製造例で得られた各種安定化ポリアセタール共重合体に、ホルムアルデヒド捕捉剤、酸化防止剤、加工安定剤及び耐熱安定剤を表2に示す割合で混合し、これを1ヶ所に脱揮口を有する30mm径の2軸押出機により溶融混合して、ペレット状のポリアセタール樹脂組成物を調製した。このペレットを用いて、射出成形機により所定の試験片を成形し、前記の評価方法に従ってホルムアルデヒド発生量を測定した。結果を表2に示す。
(2) Examples and comparative examples (stabilized polyacetal resin compositions and molded articles thereof)
[Examples 1 to 8]
The various stabilized polyacetal copolymers obtained in the above production examples are mixed with formaldehyde scavengers, antioxidants, processing stabilizers and heat stabilizers in the proportions shown in Table 2, and devolatilized in one place. It melt-mixed with the 30-mm diameter twin-screw extruder which has an opening | mouth, and the pellet-shaped polyacetal resin composition was prepared. Using this pellet, a predetermined test piece was molded by an injection molding machine, and the amount of formaldehyde generated was measured according to the evaluation method. The results are shown in Table 2.
[比較例1]
前記比較製造例1で調製した安定化ポリアセタール共重合体(a-8)に、ホルムアルデヒド捕捉剤、酸化防止剤、加工安定剤及び耐熱安定剤を表2に示す割合で混合し、上記実施例と同様にして2軸押出機により溶融混合し、ペレット状のポリアセタール樹脂組成物を調製した。このペレットを用いて、射出成形機により所定の試験片を成形し、上記実施例と同様にして評価した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
The stabilized polyacetal copolymer (a-8) prepared in Comparative Production Example 1 was mixed with a formaldehyde scavenger, an antioxidant, a processing stabilizer and a heat stabilizer in the proportions shown in Table 2, and In the same manner, a polyacetal resin composition in the form of pellets was prepared by melt mixing with a twin screw extruder. Using this pellet, a predetermined test piece was molded by an injection molding machine and evaluated in the same manner as in the above examples. The results are shown in Table 2.
各実施例及び比較例で使用したポリアセタール共重合体、ホルムアルデヒド捕捉剤、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、加工安定剤、耐熱安定剤は以下の通りである。
なお、メルトインデックスは、ASTM−D1238に準じ、温度190℃、荷重2160gの条件下で測定した値であり、単位はg/10分である。
〔安定化ポリアセタール共重合体a〕
(a−1):実施製造例1で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.5mmol/kg、ホルミル末端基量=1.1mmol/kg、不安定末端基量=0.41重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−2):実施製造例2で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.5mmol/kg、ホルミル末端基量=1.2mmol/kg、不安定末端基量=0.47重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−3):実施製造例5で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.5mmol/kg、ホルミル末端基量=0.9mmol/kg、不安定末端基量=0.38重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−4):実施製造例8で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.4mmol/kg、ホルミル末端基量=0.6mmol/kg、不安定末端基量=0.27重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−5):実施製造例9で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.5mmol/kg、ホルミル末端基量=0.5mmol/kg、不安定末端基量=0.28重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−6):実施製造例13で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.3mmol/kg、ホルミル末端基量=0.2mmol/kg、不安定末端基量=0.15重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−7):実施製造例14で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=0.3mmol/kg、ホルミル末端基量=0.9mmol/kg、不安定末端基量=0.29重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−8):比較製造例1で調製した安定化ポリアセタール共重合体
[ヘミアセタール末端基量=1.7mmol/kg、ホルミル末端基量=1.4mmol/kg、不安定末端基量=0.74重量%、メルトインデックス=9g/10分]
〔ホルムアルデヒド捕捉剤b〕
(b−1):メラミン
(b−2):ベンゾグアナミン
(b−3):CTU−グアナミン[味の素ファインテクノ(株)製]
(b−4):アラントイン
(b−5):ビウレア
(b−6):セバシン酸ジヒドラジド
(b−7):ナイロン66[平均粒子径=3μm]
(b−8):セバシン酸ジヒドラジド
〔酸化防止剤c〕
(c−1):ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(c−2):トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
〔加工安定剤d〕
(d−1):エチレンビスステアリルアミド
(d−2):グリセリンモノステアレート
(d−3):エチレングリコールジステアレート
〔耐熱安定剤(有機カルボン酸金属塩、アルカリ土類金属塩)e〕
(e−1):12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム
(e−2):酸化マグネシウム
(e−3):クエン酸カルシウム
(e−4):ステアリン酸カルシウム
The polyacetal copolymers, formaldehyde scavengers, hindered phenol compounds, hindered amine compounds, processing stabilizers and heat stabilizers used in the examples and comparative examples are as follows.
The melt index is a value measured under conditions of a temperature of 190 ° C. and a load of 2160 g according to ASTM-D1238, and the unit is g / 10 minutes.
[Stabilized polyacetal copolymer a]
(A-1): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 1 [Hemiacetal end group amount = 0.5 mmol / kg, Formyl end group amount = 1.1 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .41 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-2): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 2 [Hemiacetal end group amount = 0.5 mmol / kg, Formyl end group amount = 1.2 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .47 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-3): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 5 [Hemiacetal end group amount = 0.5 mmol / kg, Formyl end group amount = 0.9 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .38 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-4): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 8 [Hemiacetal end group amount = 0.4 mmol / kg, Formyl end group amount = 0.6 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .27 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-5): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example 9 [Hemiacetal terminal group amount = 0.5 mmol / kg, Formyl terminal group amount = 0.5 mmol / kg, Unstable terminal group amount = 0 .28 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-6): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 13 [Hemiacetal end group amount = 0.3 mmol / kg, Formyl end group amount = 0.2 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .15 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
(A-7): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Example Production Example 14 [Hemiacetal end group amount = 0.3 mmol / kg, Formyl end group amount = 0.9 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .29% by weight, melt index = 9 g / 10 min]
(A-8): Stabilized polyacetal copolymer prepared in Comparative Production Example 1 [Hemiacetal end group amount = 1.7 mmol / kg, Formyl end group amount = 1.4 mmol / kg, Unstable end group amount = 0 .74 wt%, melt index = 9 g / 10 min]
[Formaldehyde scavenger b]
(B-1): Melamine (b-2): Benzoguanamine (b-3): CTU-guanamine [Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.]
(B-4): Allantoin (b-5): Biurea (b-6): Sebacic acid dihydrazide (b-7): Nylon 66 [average particle size = 3 μm]
(B-8): Sebacic acid dihydrazide [antioxidant c]
(C-1): Pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
(C-2): Triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate]
[Processing stabilizer d]
(D-1): Ethylene bisstearylamide (d-2): Glycerol monostearate
(D-3): ethylene glycol distearate [heat stabilizer (organic carboxylic acid metal salt, alkaline earth metal salt) e]
(E-1): 12-hydroxy calcium stearate (e-2): magnesium oxide (e-3): calcium citrate (e-4): calcium stearate
Claims (10)
不安定末端分解処理剤が、テトラアルキルホスホニウム、(ヒドロキシアルキル)トリアルキルホスホニウム、ビス(ヒドロキシアルキル)ジアルキルホスホニウム、トリス(ヒドロキシアルキル)モノアルキルホスホニウム及びテトラ(ヒドロキシアルキル)ホスホニウムから選ばれた少なくとも1種の四級ホスホニウムの、水酸化物、炭酸(水素)塩、有機炭酸塩、有機カルボン酸塩、有機ホスホン酸塩、有機ホスフィン酸塩、酸性アミド化合物塩、酸性エノール化合物塩、フェノール化合物塩、アルコール化合物塩、酸性アゾール化合物塩、及びそれらの複塩/錯塩から成る群から選ばれた少なくとも1種の四級ホスホニウム塩である安定化ポリアセタール樹脂の製造方法。 A method for producing a stabilized polyacetal resin in which a polyacetal resin having an unstable terminal group is heat-treated in the presence of an unstable terminal decomposition treatment agent comprising a quaternary phosphonium salt to reduce unstable terminal groups ,
The unstable terminal decomposition agent is at least one selected from tetraalkylphosphonium, (hydroxyalkyl) trialkylphosphonium, bis (hydroxyalkyl) dialkylphosphonium, tris (hydroxyalkyl) monoalkylphosphonium and tetra (hydroxyalkyl) phosphonium. Quaternary phosphonium, hydroxide, carbonate (hydrogen), organic carbonate, organic carboxylate, organic phosphonate, organic phosphinate, acidic amide compound salt, acidic enol compound salt, phenolic compound salt, alcohol A process for producing a stabilized polyacetal resin which is at least one quaternary phosphonium salt selected from the group consisting of compound salts, acidic azole compound salts, and double salts / complex salts thereof .
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