JP5267725B2 - Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot - Google Patents
Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot Download PDFInfo
- Publication number
- JP5267725B2 JP5267725B2 JP2012286832A JP2012286832A JP5267725B2 JP 5267725 B2 JP5267725 B2 JP 5267725B2 JP 2012286832 A JP2012286832 A JP 2012286832A JP 2012286832 A JP2012286832 A JP 2012286832A JP 5267725 B2 JP5267725 B2 JP 5267725B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- arm portion
- arm
- storage cassette
- robot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基板搬送システム、基板処理システムおよび基板搬送ロボットに関し、特に、基板を異なる位置に搬送する基板搬送ロボットを備えた基板搬送システム、基板処理システムおよび基板搬送ロボットに関する。 The present invention relates to a substrate transfer system, a substrate processing system, and a substrate transfer robot, and more particularly to a substrate transfer system, a substrate processing system, and a substrate transfer robot provided with a substrate transfer robot for transferring a substrate to different positions.
従来、基板を異なる位置に搬送する基板搬送ロボットを備えた基板搬送システムが知られている(たとえば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate transfer system including a substrate transfer robot that transfers substrates to different positions is known (see, for example, Patent Document 1).
上記特許文献1には、ベース部材に対して水平面内で回動可能な下部アーム部材と、下部アーム部材に対して水平面内で回動可能な上部アーム部材と、上部アーム部材に対して水平面内で回動可能なハンド部材とを含むロボット(基板搬送ロボット)を備えた基板搬送システムが開示されている。この基板搬送システムのロボットは、基板を収納するカセット装置(第1装置)および基板に処理を施す処理装置(第2装置)に囲まれたロボット設置領域に配置されている。
しかしながら、上記特許文献1に記載の基板搬送システムでは、基板搬送システムのロボット設置領域を小さくするために、ロボットとカセット装置との間の距離を単純に小さくすると、ロボットが旋回時にカセット装置に接触してしまうという不都合がある。このため、上記特許文献1に記載の基板搬送システムでは、ロボットとカセット装置との間の距離を単純に小さくすることによってロボット設置領域を小さくすることができないので、基板搬送システムの小型化を図ることが困難であるという問題点がある。
However, in the substrate transfer system described in
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることが可能な基板搬送システム、基板処理システムおよび基板搬送ロボットを提供することである。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and one object of the present invention is to provide a substrate transfer system and a substrate processing system that can be reduced in size by reducing the robot installation area. And providing a substrate transfer robot.
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面における基板搬送システムは、第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に設置され、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットを備え、基板搬送ロボットは、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、ロボット設置領域は、第1装置側に設けられた第1壁部と、第2装置側に設けられるとともに第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、第1基板収納カセットは、第2基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、基板搬送ロボットは、第1アーム部の回動中心に近い第1基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えるように基板の搬送を行う一方、第1基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心から遠い第2基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えずに基板の搬送を行うように構成されている。 In order to achieve the above object, a substrate transfer system according to a first aspect of the present invention is installed in a robot installation area surrounded by a first device and a second device, and includes a hand unit that supports a substrate, and a hand unit. A substrate transfer robot including an arm unit for movement, and the substrate transfer robot rotates the arm unit and the hand unit in a horizontal plane from a first position in the first device to a second in the second device. The first apparatus includes a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette when viewed in plan. The robot installation area is an area surrounded by a first wall portion provided on the first device side and a second wall portion provided on the second device side and disposed so as to face the first wall portion. , and the arm portion, The first substrate storage cassette includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with a side end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is closer to the rotation center of the first arm portion than the second substrate storage cassette. When the substrate transport robot transports the substrate from the first substrate storage cassette close to the rotation center of the first arm portion, a part of the arm portion exceeds the second wall portion. While the substrate is transported, when the substrate is transported from the second substrate storage cassette that is farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette , a part of the arm portion exceeds the second wall portion. It is comprised so that a board | substrate may be conveyed without.
この発明の第1の局面による基板搬送システムでは、上記のように構成することによって、第2装置内に基板を搬送するための開口部を利用して基板搬送ロボットを旋回させることができるので、基板搬送ロボットの最小旋回領域に重ならないように第2装置を配置する場合に比べて、基板搬送ロボットと第2装置との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域をFFU(ファンフィルタユニット)などによりクリーンな状態に保つ必要がある場合には、本発明によりロボット設置領域を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。 In the substrate transport system according to the first aspect of the present invention, the substrate transport robot can be turned by utilizing the opening for transporting the substrate into the second apparatus by being configured as described above. The distance between the substrate transfer robot and the second device can be reduced compared to the case where the second device is arranged so as not to overlap the minimum turning area of the substrate transfer robot, and as a result, the robot installation area can be reduced. Thus, the size can be reduced. Further, when it is necessary to keep the robot installation area clean by using an FFU (fan filter unit) or the like, the robot installation area can be reduced by the present invention, so that the FFU can be downsized. Is more effective.
この発明の第2の局面における基板処理システムは、第1装置と、第2装置と、第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に配置され、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットとを備え、基板搬送ロボットは、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、ロボット設置領域は、第1装置側に設けられた第1壁部と、第2装置側に設けられるとともに第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、第1基板収納カセットは、第2基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、基板搬送ロボットは、第1アーム部の回動中心に近い第1基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えるように基板の搬送を行う一方、第1基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心から遠い第2基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えずに基板の搬送を行うように構成されている。 A substrate processing system according to a second aspect of the present invention includes a first device, a second device, a hand unit that is disposed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device, and supports the substrate, A substrate transfer robot including an arm unit for moving the unit, and the substrate transfer robot rotates the arm unit and the hand unit in a horizontal plane from the first position in the first device to the second device. The first apparatus includes a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette in plan view. The robot installation area is surrounded by a first wall portion provided on the first device side and a second wall portion provided on the second device side and arranged to face the first wall portion. and a region, the arm portion is being, The first substrate storage cassette includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with a side end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is closer to the rotation center of the first arm portion than the second substrate storage cassette. When the substrate transport robot transports the substrate from the first substrate storage cassette close to the rotation center of the first arm portion, a part of the arm portion exceeds the second wall portion. While the substrate is transported, when the substrate is transported from the second substrate storage cassette that is farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette , a part of the arm portion exceeds the second wall portion. It is comprised so that a board | substrate may be conveyed without.
この発明の第2の局面による基板処理システムでは、上記のように構成することによって、第2装置内に基板を搬送するための開口部を利用して基板搬送ロボットを旋回させることができるので、基板搬送ロボットの最小旋回領域に重ならないように第2装置を配置する場合に比べて、基板搬送ロボットと第2装置との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域をFFU(ファンフィルタユニット)などによりクリーンな状態に保つ必要がある場合には、本発明によりロボット設置領域を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。また、複数の装置を備える基板処理システムは、大型化し易いので、小型化を図ることが可能な本発明は有効である。
この発明の第3の局面における基板処理システムは、第1装置および第2装置に囲まれたロボット設置領域に設置され、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットを備え、基板搬送ロボットは、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第2装置側に設けられた開口部を介して第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、第1基板収納カセットは、第2基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、基板搬送ロボットは、第1アーム部の回動中心に近い第1基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が開口部内に侵入するように基板の搬送を行う一方、第1基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心から遠い第2基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が開口部内に侵入せずに基板の搬送を行うように構成されている。
この発明の第4の局面における基板搬送ロボットは、第1基板収納カセットと平面的に見て第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含む第1装置と、第2装置とに囲まれたロボット設置領域に設置された基板搬送ロボットであって、基板を支持するハンド部と、ハンド部を移動させるためのアーム部とを備え、アーム部およびハンド部を水平面内で回動させることによって、第1装置内の第1位置から第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、ロボット設置領域は、第1装置側に設けられた第1壁部と、第2装置側に設けられるとともに第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、第1基板収納カセットは、第2基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、第1アーム部の回動中心に近い第1基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えるように基板の搬送を行う一方、第1基板収納カセットよりも第1アーム部の回動中心から遠い第2基板収納カセットから基板を搬送する際には、アーム部の一部が第2壁部を超えずに基板の搬送を行うように構成されている。
In the substrate processing system according to the second aspect of the present invention, by configuring as described above, the substrate transport robot can be turned using the opening for transporting the substrate into the second apparatus. The distance between the substrate transfer robot and the second device can be reduced compared to the case where the second device is arranged so as not to overlap the minimum turning area of the substrate transfer robot, and as a result, the robot installation area can be reduced. Thus, the size can be reduced. Further, when it is necessary to keep the robot installation area clean by using an FFU (fan filter unit) or the like, the robot installation area can be reduced by the present invention, so that the FFU can be downsized. Is more effective. In addition, since the substrate processing system including a plurality of apparatuses is easily increased in size, the present invention capable of reducing the size is effective.
A substrate processing system according to a third aspect of the present invention is installed in a robot installation area surrounded by a first device and a second device, and includes a hand unit for supporting a substrate and an arm unit for moving the hand unit. The substrate transfer robot includes a substrate transfer robot including a substrate transfer robot. The substrate transfer robot rotates the arm unit and the hand unit in a horizontal plane from the first position in the first device through the opening provided on the second device side. The second apparatus is configured to transport the substrate to a second position in the two apparatuses, and the first apparatus is arranged to be different from the first substrate storage cassette and the first substrate storage cassette in a plan view. The first cassette storage cassette including the first cassette storage cassette and the first substrate storage cassette more than the second substrate storage cassette. 1 arm rotation Together is arranged at a position close to the center, the substrate transfer robot, in transporting the substrate from the first substrate storage cassette close to the center of rotation of the first arm portion, a portion of the arm portion is intruding into the opening When the substrate is transferred from the second substrate storage cassette that is farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette , a part of the arm portion is placed in the opening. The substrate is transported without entering.
A substrate transfer robot according to a fourth aspect of the present invention includes a first device including a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette when viewed in plan, A substrate transfer robot installed in a robot installation area surrounded by a second device, comprising a hand unit for supporting a substrate and an arm unit for moving the hand unit, wherein the arm unit and the hand unit are arranged in a horizontal plane. The substrate is transferred from the first position in the first device to the second position in the second device, and the robot installation area is provided on the first device side. The arm portion is a region surrounded by the wall portion and the second wall portion provided on the second device side and disposed so as to face the first wall portion, and the arm portion is a horizontal plane with one end portion as a rotation center. First configured to be rotatable within Comprise over arm portion, a first substrate storage cassette, together are located closer to the center of rotation of the first arm portion than the second substrate storage cassette, first near the center of rotation of the first arm portion When transporting a substrate from the substrate storage cassette, the substrate is transported so that a part of the arm portion exceeds the second wall portion, while being farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette. When the substrate is transported from the second substrate storage cassette, a part of the arm portion is configured to transport the substrate without exceeding the second wall portion.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(第1実施形態)
まず、図1〜図6を参照して、本発明の第1実施形態による基板処理システム100の構成について説明する。
(First embodiment)
First, the configuration of the
基板処理システム100は、図1および図2に示すように、基板110を搬送する基板搬送システム10と、処理装置20とを備えている。また、基板処理システム100は、基板搬送システム10により処理装置20に基板110を搬送するとともに、処理装置20により搬送された基板110に対して半導体デバイスの製造プロセスにおける処理を行うように構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
基板搬送システム10は、基板110を収容する基板収納装置11と、基板収納装置11および処理装置20の間で基板110を搬送する基板搬送ロボット12とを備えている。また、基板搬送システム10は、平面的に見て(上方から見て)、基板収納装置11の設置領域と、基板搬送ロボット12が設置される後述のロボット設置領域13とを合わせた大きさの外形形状(図1の破線で示した外形形状)を有している。ロボット設置領域13は、基板収納装置11の後述の前面壁111および処理装置20の背面壁201に囲まれた領域である。また、基板搬送システム10は、図示しないFFU(ファンフィルタユニット)をさらに備え、ロボット設置領域13内の空気をクリーンな状態に維持するように構成されている。なお、基板収納装置11は、本発明の「第1装置」の一例であり、処理装置20は、本発明の「第2装置」の一例である。
The
基板収納装置11は、SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格のFOUP(Front Open Unified Pod)に対応している。また、基板収納装置11は、図1および図2に示すように、基板搬送ロボット12および処理装置20が配置される側(X1方向側)に前面壁111を有している。前面壁111は、垂直面内に形成されている。また、基板収納装置11は、平面的に見て異なる位置に配置された4つのカセット11a〜11dを含んでいる。4つのカセット11a〜11dは、Y方向に隣接するように配列されている。また、4つのカセット11a〜11dは、図2に示すように、カセット支持台112上に設置されている。また、4つのカセット11a〜11dは、異なる高さ位置に複数の基板110を載置可能に構成されている。具体的には、4つのカセット11a〜11dは、上下方向に25段の載置位置を有し、最大25枚の基板110を積層して収納することが可能である。なお、前面壁111は、本発明の「第1壁部」の一例であり、4つのカセット11a〜11d内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例である。
The
基板搬送ロボット12は、図1〜図3に示すように、多関節ロボットである。具体的には、基板搬送ロボット12は、ベース部材121と、支持軸122と、第1アーム部123と、第2アーム部124と、ハンド部125と、基板搬送ロボット12の各部を制御する制御部126とを備えている。なお、第1アーム部123および第2アーム部124は、本発明の「アーム部」の一例である。
The
支持軸122は、ベース部材121により支持されている。また、支持軸122は、ベース部材121の上面に対して垂直方向に延びるように形成されている。また、支持軸122の上端部には、第1アーム部123の一方端部が接続されている。第1アーム部123は、支持軸122を回動軸として水平面内で回動可能に構成されている。また、第1アーム部123の他方端部には、第2アーム部124の一方端部が接続されている。第2アーム部124は、第1アーム部123に接続された一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成されている。また、第2アーム部124の他方端部には、ハンド部125が接続されている。ハンド部125は、第2アーム部124との接続部を回動中心として水平面内で回動可能に構成されている。また、ハンド部125は、基板110を下方から支持可能に構成されている。また、第1アーム部123および第2アーム部124は、リンク長が互いに略同じ大きさになるように形成されている。すなわち、図1に示すように、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の回動中心C2までの第1アーム部123のリンク長R1と、第2アーム部124の回動中心C2からハンド部125の回動中心C3までの第2アーム部124のリンク長R2とは略等しい。これにより、第1アーム部123および第2アーム部124のリンク長が互いに異なる場合に比べて、基板110を搬送する際の各部の動作制御が複雑になるのが抑制される。
The
また、基板搬送ロボット12は、支持軸122を上下移動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を一体的に上下移動させることが可能に構成されている。これにより、基板搬送ロボット12は、カセット11a〜11d内の異なる高さ位置に配置された全ての載置位置に対して基板110の搬出入を行うことが可能である。
Further, the
制御部126は、ハンド部125により基板110を搬送する際の各部の動作が予め教示されている。具体的には、制御部126は、4つのカセット11a〜11dのそれぞれに対する基板110の搬出入動作について、予め各部の動作が教示されている。これにより、基板搬送ロボット12は、後述の動作手順によって基板110の搬送動作を行う。
The
処理装置20は、図1および図2に示すように、基板搬送ロボット12および基板収納装置11が配置される側(X2方向側)に背面壁201を有している。背面壁201は、垂直面内に形成されている。また、背面壁201は、前面壁111に対向するように前面壁111に対して略平行に配置されている。また、背面壁201には、略矩形形状の開口部202が形成されている。開口部202は、図1に示すように、基板110を挿入可能な水平方向(Y方向)の開口幅Bを有している。また、開口部202は、図2に示すように、基板搬送ロボット12の第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125の高さ方向の移動範囲よりも大きい高さ方向(Z方向)の開口長さH1を有している。具体的には、開口部202は、カセット11a〜11dの25段の載置位置のうち、最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ位置から最も高い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ位置まで開放されている。なお、背面壁201は、本発明の「第2壁部」の一例である。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
ここで、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11内の基板110を開口部202を介して処理装置20内の載置位置に搬送するとともに、処理装置20内の基板110を基板収納装置11内の所定の載置位置に搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が開口部202を介して処理装置20内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の背面壁201までの距離よりも大きい。また、基板搬送ロボット12の最小旋回領域は、図4に示すように、ハンド部125により基板110を支持した状態で、かつ、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、第1アーム部123を水平面内で回動する場合に旋回に必要な領域である。なお、処理装置20内の載置位置は、本発明の「第2位置」の一例である。
Here, in the first embodiment, the
また、基板搬送ロボット12は、基準姿勢において、第1アーム部123の回動中心C1から第1アーム部123の最遠端までの第1距離と、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の最遠端までの第2距離と、第1アーム部123の回動中心C1からハンド部125に支持された基板110の最遠端までの第3距離とが互いに略同じ大きさになるように構成されている。また、これらの第1〜第3距離は、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rと同じ大きさであり、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から背面壁201までの距離よりも大きい。
In addition, the
また、基板搬送ロボット12は、図4に示すように、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置20内の載置位置に載置される基板110の中心から開口部202の略中心に向かって延びる直線L1上に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、基板収納装置11の前面壁111に面する位置に配置されている。より詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのY方向における略中央部に面する位置に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、処理装置20の背面壁201よりも基板収納装置11の前面壁111に近い位置に配置されている。また、基板搬送ロボット12および基板収納装置11は、カセット11a〜11dの扉部を開閉するための図示しないオープナ(開閉機構)により設定される所定の規制幅を隔てて配置されている。また、基板収納装置11および処理装置20の間の距離D(図1参照)は、ハンド部125の根元端部からハンド部125により支持する基板110の最遠端までの距離と、オープナの規制幅とを合わせた大きさよりも大きくなっている。
Further, as shown in FIG. 4, the
次に、第1実施形態による基板搬送システム10が基板搬送する際の動作手順について説明する。
Next, an operation procedure when the
まず、図5を参照して、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aの基板110を処理装置20内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、図5の右下に図示するように、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置20側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11aから引き出して待機姿勢をとる。その後、基板搬送ロボット12は、ハンド部125だけを回動させることによって基板110の中心110aが仮想線L2上に配置された第1中間姿勢をとる。仮想線L2は、平面的に見て、処理装置20の背面壁201に略平行な方向(Y方向)に延びる直線であり、前面壁111および背面壁201から略同じ距離に配置されている。また、基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢においては、処理装置20側に突出されていない。
First, with reference to FIG. 5, an operation for transporting the
基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢から、基板110の中心110aが仮想線L2上に沿って移動されるように基板110を搬送することによって、第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を開口部202を介して処理装置20内に突出させる。
The
その後、基板搬送ロボット12は、第2中間姿勢から、ハンド部125を回動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに折り畳まれた基準姿勢をとる。この際、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125は、長手方向が背面壁201に直交する方向(X方向)に沿って配置される。また、第1アーム部123および第2アーム部124の端部とハンド部125に支持された基板110の一部とは、開口部202を介して処理装置20内に突出されている。
Thereafter, the
そして、基板搬送ロボット12は、基準姿勢から、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳まれた状態で回動させることによって、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。つまり、第1アーム部123および第2アーム部124は、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20内の載置位置に向かう方向(X方向)に対して直交する方向(Y方向)の一方側(Y1方向側)に配置される。また、第3中間姿勢において、ハンド部125により支持された基板110の一部は、開口部202内に侵入されている。その後、基板搬送ロボット12は、第3中間姿勢から、ハンド部125を処理装置20の載置位置の方向(X1方向)に向かって直線移動させることによって基板110を処理装置20の載置位置に搬送する。
Then, the
上記のような動作により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく、基板110をカセット11aから処理装置20内の載置位置まで搬送することが可能である。また、処理装置20の載置位置からカセット11aに基板110を搬送する場合には、上記動作手順とは逆の手順により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく搬送可能である。また、Y方向において基板収納装置11の中心に対してカセット11aとは反対側に配置されたカセット11dの基板110を処理装置20の載置位置に搬送する場合には、上記カセット11aの場合と同様の動作手順で搬送可能である。なお、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、カセット11aおよび11dのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置する。
By the operation as described above, the
次に、図6を参照して、基板搬送ロボット12から近いカセット11bの基板110を処理装置20内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、図6の右下に図示するように、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置20側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11bから引き出して待機姿勢をとる。この状態で、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124の端部が開口部202を介して処理装置20側に突出している。その後、基板搬送ロボット12は、ハンド部125だけを回動させることによって搬送する基板110の中心110aが仮想線L2上に配置された第1中間姿勢をとる。
Next, with reference to FIG. 6, an operation of transporting the
基板搬送ロボット12は、第1中間姿勢から、基板110の中心110aが仮想線L2上に沿って移動されるように基板110を搬送することによって、第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を開口部202を介して処理装置20内に突出させる。すなわち、基板搬送ロボット12は、待機姿勢から第1中間姿勢を経て第2中間姿勢に至るまで、第1アーム部123および第2アーム部124の端部を処理装置20内に突出させている。
The
その後、基板搬送ロボット12は、第2中間姿勢から、ハンド部125を回動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに折り畳まれた基準姿勢をとる。この際、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125は、長手方向が背面壁201に直交する方向(X方向)に沿って配置される。また、第1アーム部123および第2アーム部124の端部とハンド部125に支持された基板110の一部とは、開口部202を介して処理装置20内に突出されている。
Thereafter, the
そして、基板搬送ロボット12は、上記カセット11aの場合と同様に、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。その後、基板搬送ロボット12は、第3中間姿勢から、ハンド部125を処理装置20の載置位置の方向(X1方向)に向かって直線移動させることによって基板110を処理装置20の載置位置に搬送する。
Then, as in the case of the
上記のような動作により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく、基板110をカセット11bから処理装置20内の載置位置まで搬送することが可能である。また、処理装置20の載置位置からカセット11bに基板110を搬送する場合には、上記動作手順とは逆の手順により、基板搬送ロボット12を基板収納装置11および処理装置20に接触させることなく搬送可能である。また、Y方向において基板収納装置11の中心に対してカセット11bとは反対側に配置されたカセット11cの基板110を処理装置20の載置位置に搬送する場合には、上記カセット11bの場合と同様の動作手順で搬送可能である。なお、第1実施形態では、基板搬送ロボット12は、カセット11bおよび11cのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1からY1方向側に延びるように配置する。すなわち、基板搬送ロボット12は、カセット11a〜11dのいずれの場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部123および第2アーム部124を第1アーム部123の回動中心C1から見て同じ方向側(Y1方向側)に配置する。
By the operation as described above, the
第1実施形態では、上記のように、処理装置20側に設けられた開口部202を介して基板収納装置11内の載置位置から処理装置20内の載置位置に基板110を搬送するとともに、ハンド部125により基板110を支持した状態の基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が開口部202を介して処理装置20内に突出するように基板搬送ロボット12を構成する。これによって、処理装置20内に基板110を搬送するための開口部202を利用して基板搬送ロボット12を旋回させることができるので、基板搬送ロボット12の最小旋回領域に重ならないように処理装置20を配置する場合に比べて、基板搬送ロボット12と処理装置20との間の距離を小さくすることができ、その結果、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。また、ロボット設置領域13をFFU(ファンフィルタユニット)によりクリーンな状態に保つ必要がある第1実施形態の場合には、本発明によりロボット設置領域13を小さくできることにより、FFUの小型化を図ることができるので、本発明がより有効である。また、複数の装置を備える第1実施形態の基板処理システム100は、大型化し易いので、小型化を図ることが可能な本発明は有効である。
In the first embodiment, as described above, the
また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202に面する位置に位置するとともに、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rが第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20までの距離よりも大きくなるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁を開口部202を介して容易に処理装置20内に突出させることができるので、容易に、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。
In the first embodiment, as described above, the rotation center C <b> 1 of the
また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、第1アーム部123の回動中心C1が背面壁201よりも前面壁111に近い位置に位置するとともに、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rが第1アーム部123の回動中心C1から背面壁201までの距離よりも大きくなるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12と背面壁201との距離を小さくしながら、基板搬送ロボット12と前面壁111との距離も小さくすることができるので、ロボット設置領域13をより小さくすることができ、その結果、より小型化を図ることができる。
In the first embodiment, as described above, the rotation center C1 of the
また、第1実施形態では、上記のように、ハンド部125により基板110を支持した状態で、かつ、平面的に見て、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、第1アーム部123の一方端部を回動中心C1として第1アーム部123を水平面内で回動する場合に最小旋回領域内で旋回するように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12に2つのアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)とハンド部125とを設けた場合でも、最小旋回領域が大きくなるのを抑制することができるので、ロボット設置領域13が大きくなるのを抑制することができる。
In the first embodiment, as described above, the
また、第1実施形態では、上記のように、基準姿勢において、第1アーム部123の回動中心C1から第1アーム部123の最遠端までの第1距離と、第1アーム部123の回動中心C1から第2アーム部124の最遠端までの第2距離と、第1アーム部123の回動中心C1からハンド部125に支持された基板110の最遠端までの第3距離とを互いに略同じ大きさになるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12の最小旋回領域が大きくなるのを抑制しながら、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を伸ばした状態の最大長さを大きくすることができるので、ロボット設置領域13が大きくなるのを抑制しながら、より広範囲に基板110を搬送することができる。
In the first embodiment, as described above, in the reference posture, the first distance from the rotation center C1 of the
また、第1実施形態では、上記のように、基板収納装置11の載置位置から処理装置20の載置位置に基板110を搬送する際に、第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、アーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を開口部202を介して処理装置20内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、折り畳む際にアーム部が処理装置側の領域に重なる場合にも、基板搬送ロボット12のアーム部を処理装置20に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。
In the first embodiment, as described above, when the
また、第1実施形態では、上記のように、平面的に見て、搬送する基板110の中心が処理装置20の背面壁201に略平行な仮想線L2に沿って移動するように第1アーム部123および第2アーム部124を互いに折り畳みながら、アーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を開口部202を介して処理装置20内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、処理装置20から一定距離を隔てた状態で基板110を移動することができるので、基板110を処理装置20に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。
In the first embodiment, as described above, the first arm is arranged such that the center of the
また、第1実施形態では、上記のように、ハンド部125を第2アーム部124に対して回動させることにより基板110の中心が仮想線L2上に配置された第1中間姿勢と、第1中間姿勢から基板110の中心が仮想線L2上に沿って移動されるとともに第1アーム部123および第2アーム部124が互いに折り畳まれた第2中間姿勢とを経て、処理装置20の載置位置に基板110を搬送するように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、ハンド部125のみを回動させて基板110の中心を容易に仮想線L2上に配置させることができるとともに、基板110の中心を仮想線L2上に沿って移動させて容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。
In the first embodiment, as described above, the first intermediate posture in which the center of the
また、第1実施形態では、上記のように、仮想線L2を、前面壁111および背面壁201から略同じ距離に配置する。このように構成すれば、前面壁111および背面壁201の両方から一定距離を隔てた状態で基板110を移動することができるので、基板110を前面壁111および背面壁201に接触させることなく、容易に第1アーム部123および第2アーム部124を折り畳むことができる。
In the first embodiment, as described above, the imaginary line L2 is disposed at substantially the same distance from the
また、第1実施形態では、上記のように、処理装置20の載置位置にいずれのカセット11a〜11dの基板110を搬送する場合でも、基板110の一部が開口部202内に侵入した状態において、第1アーム部123および第2アーム部124を、互いに折り畳まれた状態で、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の載置位置に向かう方向(X方向)に対して略直交する方向の一方側(Y1方向側)に延びるように配置した第3中間姿勢をとる。このように構成すれば、いずれの基板110を搬送する場合でも、第1アーム部123および第2アーム部124を同じ方向側に配置することができるので、たとえば、第1アーム部123および第2アーム部124を歯車を用いて回動させる場合に、バックラッシュによる基板搬送精度のばらつきを抑制することができる。
In the first embodiment, as described above, even when the
また、第1実施形態では、上記のように、開口部202を、基板収納装置11のカセット11a〜11dの最も低い位置に載置された基板110にアクセスする際のハンド部125およびアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)の配置位置に対応する高さ位置から基板収納装置11のカセット11a〜11dの最も高い位置に載置された基板110にアクセスする際のハンド部125およびアーム部の配置位置に対応する高さ位置まで開放する。このように構成すれば、基板搬送ロボット12により、カセット11a〜11dのいずれの高さに載置された基板110を搬送する場合でも、開口部202を利用して容易に基板搬送ロボット12を旋回させることができるので、カセット11a〜11d内に基板110を積層して収納する場合でも、基板処理システム100の小型化を図りながら、基板搬送ロボット12を処理装置20に接触させることなく容易に基板110を搬送することができる。
Further, in the first embodiment, as described above, the
(第2実施形態)
次に、図7を参照して、第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、上記第1実施形態とは異なり、上記第1実施形態の開口部202の開口長さH1よりも小さい高さ方向(Z方向)の開口長さH2を有する開口部202aを設ける場合について説明する。なお、第2実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. In the second embodiment, unlike the first embodiment, an
本発明の第2実施形態の基板処理システム200では、処理装置220の開口部202aは、図7に示すように、基板搬送ロボット12の第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125の高さ方向の移動範囲よりも小さい開口長さH2を有している。具体的には、開口部202aは、基板搬送ロボット12から近いカセット11b、11cの25段の載置位置のうち、最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボット12の配置位置に対応する高さ範囲が開放されている。なお、処理装置220は、本発明の「第2装置」の一例である。
In the
また、第2実施形態では、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのうち、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aおよび11dに対して、25段全ての載置位置に基板110を搬出入することが可能に構成されている。一方、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11の4つのカセット11a〜11dのうち、基板搬送ロボット12に近いカセット11bおよび11cに対して、25段全ての載置位置のうち最も低い載置位置にのみ基板110を搬出入することが可能である。なお、カセット11bおよび11c内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例であり、カセット11aおよび11d内の載置位置は、本発明の「第3位置」の一例である。
Further, in the second embodiment, the
次に、第2実施形態による基板搬送システム10が基板搬送する際の動作手順について説明する。
Next, an operation procedure when the
まず、図5を参照して、基板搬送ロボット12から遠いカセット11aの基板110を処理装置220内の載置位置に搬送する動作について説明する。基板搬送ロボット12は、上記第1実施形態と同様に、カセット11aの基板110の下方にハンド部125を移動して基板110を支持する。そして、基板搬送ロボット12は、ハンド部125を処理装置220側(X1方向側)に直線移動させることによって基板110をカセット11aから引き出して待機姿勢をとる。この際、基板搬送ロボット12は、処理装置220側に突出されていない。
First, with reference to FIG. 5, an operation for transporting the
ここで、第2実施形態では、基板搬送ロボット12は、待機姿勢の状態で、支持軸122を上下移動させることによって、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を開口部202aに対応する高さ位置まで移動する。これにより、基板搬送ロボット12は、それ以降の動作において、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125を開口部202aを介して処理装置220内に突出させることが可能である。また、待機姿勢以降の動作については、上記第1実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
Here, in the second embodiment, the
また、第2実施形態の基板搬送ロボット12により、基板搬送ロボット12から近いカセット11bおよび11cの最下段に載置された基板110を処理装置220内の載置位置に搬送する動作についても、上記第1実施形態と同様であるため、その説明を省略する。なお、第2実施形態の基板搬送ロボット12では、基板搬送ロボット12が処理装置220に接触してしまうため、基板搬送ロボット12から近いカセット11bおよび11cの最下段以外の載置位置の基板110を搬送することはできない。
The operation of transporting the
なお、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。 In addition, the other structure of 2nd Embodiment is the same as that of the said 1st Embodiment.
第2実施形態では、上記のように、開口部202aを、基板搬送ロボット12に近いカセット11b、11cに載置される基板110の高さ範囲に対応する高さ範囲で開放し、基板搬送ロボット12から遠いカセット11a、11dの載置位置にアクセスする際には、カセット11a、11dから基板110を引き出した後、ハンド部125およびアーム部(第1アーム部123および第2アーム部124)を高さ方向に移動してアーム部を開口部202aを介して処理装置220内に突出させるように基板搬送ロボット12を構成する。このように構成すれば、開口部202aの大きさが過度に大きくなるのを抑制しながら、ロボット設置領域13を小さくして小型化を図ることができる。また、開口部202aの大きさが過度に大きくなるのを抑制することによって、内部の空気がクリーンな状態に保たれるロボット設置領域13に開口部202aを介して異物が侵入するのを抑制することができる。
In the second embodiment, as described above, the
なお、第2実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。 The remaining effects of the second embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.
(第3実施形態)
次に、図8を参照して、第3実施形態について説明する。この第3実施形態では、基板収納装置11および処理装置20に囲まれた領域がロボット設置領域13である上記第1実施形態とは異なり、2つの処理装置20および320に囲まれた領域がロボット設置領域313である構成について説明する。なお、第3実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. In the third embodiment, unlike the first embodiment in which the area surrounded by the
本発明の第3実施形態の基板処理システム300では、図8に示すように、2つの処理装置20および320が互いにX方向に対向するように配置されている。また、処理装置320は、上記第1実施形態の処理装置20と同様の構成を有し、2つの処理装置20および320の間の中心線に対して対称に配置されている。具体的には、処理装置320は、処理装置20の背面壁201および開口部202のそれぞれに対応する前面壁301および開口部302を有している。なお、処理装置320は、本発明の「第1装置」の一例であり、前面壁301は、本発明の「第1壁部」の一例である。
In the
また、第3実施形態におけるロボット設置領域313は、処理装置20の背面壁201および処理装置320の前面壁301に囲まれた領域である。また、ロボット設置領域313には、基板搬送ロボット12が設置されている。また、基板搬送ロボット12は、2つの処理装置20および320の間で基板110を搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が処理装置20の開口部202を介して処理装置20内に突出する位置に配置されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が処理装置320の開口部302を介して処理装置320内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置20の背面壁201までの距離よりも大きく、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から処理装置320の前面壁301までの距離よりも大きい。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、360度旋回可能に構成されている。
The
また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1が開口部202および302の両方に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置20内の載置位置に載置される基板110の中心から開口部202の略中心に向かって延びる直線L1上に配置されている。また、第3実施形態では、2つの処理装置20および320と基板搬送ロボット12とは、直線L1が処理装置320内の載置位置の基板110の中心と処理装置320の開口部302の略中心とを通るように配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、2つの処理装置20および320から略同じ距離を隔てて配置されている。なお、処理装置320内の載置位置は、本発明の「第1位置」の一例である。
Further, the
なお、第3実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。 The remaining configuration of the third embodiment is similar to that of the aforementioned first embodiment.
第3実施形態では、上記のように、互いに対向して配置された2つの処理装置20および320に囲まれたロボット設置領域313に基板搬送ロボット12を設置する構成において、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が開口部202および302のそれぞれを介して処理装置20および320内に突出するように構成する。これによって、基板搬送ロボット12と一方の処理装置20との間の距離とともに、基板搬送ロボット12と他方の処理装置320との間の距離も小さくすることができるので、2つの処理装置20および320に囲まれたロボット設置領域313に基板搬送ロボット12を設置する場合でも、ロボット設置領域313を小さくして基板処理システム300の小型化を図ることができる。
In the third embodiment, as described above, in the configuration in which the
なお、第3実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。 The remaining effects of the third embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.
(第4実施形態)
次に、図9を参照して、第4実施形態について説明する。この第4実施形態では、上記第1実施形態とは異なり、第1アーム部123の回動中心C1から互いに略直交する方向に2つの載置位置を有する処理装置420を設ける構成について説明する。なお、第4実施形態では、上記第1実施形態と同じ構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, unlike the first embodiment, a configuration in which a
本発明の第4実施形態の基板処理システム400では、図9に示すように、処理装置420は、略L字形状の壁部401を有している。壁部401は、基板収納装置11の前面壁111に対して略平行に配置された背面壁401aと、前面壁111に対して略垂直に配置された側面壁401bとにより構成されている。また、背面壁401aには、略矩形形状の開口部402が形成されている。また、側面壁401bには、略矩形形状の開口部403が形成されている。なお、処理装置420は、本発明の「第2装置」の一例であり、背面壁401aは、本発明の「第2壁部」の一例である。
In the
また、第4実施形態におけるロボット設置領域413は、基板収納装置11の前面壁111および処理装置420の略L字形状の壁部401に囲まれた領域である。また、ロボット設置領域413には、基板搬送ロボット12が設置されている。また、基板搬送ロボット12は、基板収納装置11および処理装置420の2つの載置位置の間で基板110を搬送することが可能に構成されている。また、基板搬送ロボット12は、最小旋回領域の外縁が背面壁401aの開口部402および側面壁401bの開口部403を介して処理装置420内に突出する位置に配置されている。すなわち、基板搬送ロボット12の最小旋回半径Rは、第1アーム部123の回動中心C1から背面壁401aまでの距離よりも大きく、かつ、第1アーム部123の回動中心C1から側面壁401bまでの距離よりも大きい。なお、処理装置420の2つの載置位置は、本発明の「第2位置」の一例である。
The
また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1が開口部402および403の両方に面する位置に配置されるように構成されている。詳細には、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置420内の一方の載置位置に載置される基板110の中心から背面壁401aの開口部402の略中心に向かって延びる直線L3上に配置されている。また、第1アーム部123の回動中心C1は、平面的に見て、処理装置420内の他方の載置位置に載置される基板110の中心から側面壁401bの開口部403の略中心に向かって延びる直線L4上に配置されている。また、直線L3および直線L4は互いに略直交する。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123の回動中心C1から基板収納装置11の前面壁111までの距離が最小旋回半径Rよりも大きくなるように配置されている。また、基板搬送ロボット12は、第1アーム部123、第2アーム部124およびハンド部125が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、360度旋回可能に構成されている。
Further, the
なお、第4実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。 The remaining configuration of the fourth embodiment is similar to that of the aforementioned first embodiment.
第4実施形態では、上記のように、第1アーム部123の回動中心C1から互いに略直交する方向に2つの載置位置を有する処理装置420を設ける構成において、基板搬送ロボット12の最小旋回領域の外縁が背面壁401aの開口部402および側面壁401bの開口部403を介して処理装置420内に突出するように構成する。これによって、基板搬送ロボット12と背面壁401aとの間の距離、および、基板搬送ロボット12と側面壁401bとの間の距離の両方を小さくすることができるので、基板収納装置11の前面壁111と背面壁401aと背面壁401aに略直交する側面壁401bとに囲まれたロボット設置領域413を略直交する2方向(X方向およびY方向)において小さくすることができる。
In the fourth embodiment, as described above, in the configuration in which the
なお、第4実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。 The remaining effects of the fourth embodiment are similar to those of the aforementioned first embodiment.
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent.
たとえば、上記第1〜第4実施形態では、本発明の基板搬送ロボットの一例として、2つのアーム部(第1アーム部および第2アーム部)を備えた基板搬送ロボットを示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、アーム部を1つのみ備えた基板搬送ロボットであってもよいし、3つ以上のアーム部を備えた基板搬送ロボットであってもよい。 For example, in the first to fourth embodiments, the substrate transfer robot including the two arm portions (the first arm portion and the second arm portion) is shown as an example of the substrate transfer robot of the present invention. Is not limited to this. In the present invention, a substrate transfer robot having only one arm unit may be used, or a substrate transfer robot having three or more arm units may be used.
また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の基板搬送ロボットの一例として、1つのハンド部を備えた基板搬送ロボットを示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、図10に示すように、2つのハンド部を備えた基板搬送ロボット512であってもよいし、3つ以上のハンド部を備えた基板搬送ロボットであってもよい。
Moreover, in the said 1st-4th embodiment, although the board | substrate conveyance robot provided with one hand part was shown as an example of the board | substrate conveyance robot of this invention, this invention is not limited to this. In the present invention, as shown in FIG. 10, it may be a
また、上記第1実施形態では、本発明の仮想線を第1壁部および第2壁部から略同じ距離に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板搬送ロボットを第1中間姿勢から第2中間姿勢に移行させる際に基板搬送ロボットが第1壁部および第2壁部に干渉しなければ、仮想線を第1壁部および第2壁部のいずれか一方に近い位置に配置してもよい。 Moreover, in the said 1st Embodiment, although the example which arrange | positions the virtual line of this invention at the substantially the same distance from a 1st wall part and a 2nd wall part was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, when the substrate transfer robot does not interfere with the first wall portion and the second wall portion when the substrate transfer robot is shifted from the first intermediate posture to the second intermediate posture, the virtual line is displayed on the first wall portion and the second wall portion. You may arrange | position in the position near either one of 2 wall parts.
また、上記第1〜第4実施形態では、ロボット設置領域を互いに略平行に配置された前面壁(第1壁部)および背面壁(第2壁部)に囲まれた領域とする例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、互いに交差するように配置された第1壁部および第2壁部に囲まれた領域をロボット設置領域としてもよい。 Moreover, in the said 1st-4th embodiment, the robot installation area | region is shown as the area | region enclosed by the front wall (1st wall part) and back wall (2nd wall part) arrange | positioned substantially parallel mutually. However, the present invention is not limited to this. In the present invention, an area surrounded by the first wall part and the second wall part arranged so as to cross each other may be set as the robot installation area.
また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の第2装置の一例として、半導体デバイスの製造プロセスにおける処理装置を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば、次工程に基板を受け渡すための基板仮り置き装置など、半導体デバイスの製造プロセスにおける処理装置以外の第2装置であってもよい。 Moreover, in the said 1st-4th embodiment, although the processing apparatus in the manufacturing process of a semiconductor device was shown as an example of the 2nd apparatus of this invention, this invention is not limited to this. In the present invention, for example, a second apparatus other than the processing apparatus in the semiconductor device manufacturing process, such as a temporary substrate placement apparatus for delivering a substrate to the next process, may be used.
また、上記第1〜第4実施形態では、第1アーム部の回動中心を処理装置(第2装置)の載置位置に載置される基板の中心から開口部の略中心に向かって延びる直線上に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第1アーム部の回動中心は、開口部に面する位置に配置されていれば、第2装置に載置される基板の中心から開口部の略中心に向かって延びる直線上からずれた位置に配置されていてもよい。 In the first to fourth embodiments, the rotation center of the first arm portion extends from the center of the substrate placed at the placement position of the processing apparatus (second device) toward the approximate center of the opening. Although the example arrange | positioned on a straight line was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, the rotation center of the first arm portion is a straight line extending from the center of the substrate placed on the second device toward the approximate center of the opening if it is disposed at a position facing the opening. You may arrange | position in the position shifted | deviated from.
また、上記第1〜第4実施形態では、第1アーム部の回動中心から、第1アーム部の最遠端までの第1距離、第2アーム部の最遠端までの第2距離、および、ハンド部に支持された基板の最遠端までの第3距離が互いに略同じ大きさであり、これらの第1〜第3距離が第1アーム部の回動中心から背面壁(第2壁部)までの距離よりも大きい例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、第1〜第3距離の少なくともいずれか1つの距離が第1アーム部の回動中心から第2壁部までの距離よりも大きければよい。 In the first to fourth embodiments, the first distance from the rotation center of the first arm portion to the farthest end of the first arm portion, the second distance to the farthest end of the second arm portion, The third distances to the farthest end of the substrate supported by the hand part are substantially the same as each other, and these first to third distances are from the rotation center of the first arm part to the back wall (second Although the example larger than the distance to a wall part was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, it is sufficient that at least one of the first to third distances is larger than the distance from the rotation center of the first arm portion to the second wall portion.
また、上記第1〜第4実施形態では、本発明の開口部を第2装置としての処理装置の背面壁(第2壁部)に設ける例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、たとえば、第1壁部と開口部を有する第2壁部との両方を第1装置に設けてもよいし、第1装置および第2装置とは別個に第2壁部を設けて、この第2壁部に開口部を設けてもよい。 Moreover, although the said 1st-4th embodiment showed the example which provides the opening part of this invention in the back wall (2nd wall part) of the processing apparatus as a 2nd apparatus, this invention is not limited to this. . In the present invention, for example, both the first wall portion and the second wall portion having the opening may be provided in the first device, or the second wall portion is provided separately from the first device and the second device. Thus, an opening may be provided in the second wall portion.
また、上記第1および第2実施形態では、いずれのカセットから基板を搬送する場合でも、第3中間姿勢において、第1アーム部および第2アーム部を、第1アーム部の回動中心から一方側(Y1方向側)に配置する例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、基板の搬送時間をより短縮するために、第3中間姿勢において、第1アーム部および第2アーム部の配置の方向をカセットの位置毎に適宜変更してもよい。 In the first and second embodiments, the first arm portion and the second arm portion are moved from the center of rotation of the first arm portion to the first intermediate portion in the third intermediate position, regardless of the substrate transported from any cassette. Although the example arrange | positioned to the side (Y1 direction side) was shown, this invention is not limited to this. In the present invention, in order to further shorten the substrate transport time, in the third intermediate posture, the arrangement direction of the first arm portion and the second arm portion may be appropriately changed for each position of the cassette.
また、上記第2実施形態では、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cには最も低い位置にのみ基板を収納し、開口部の開口長さH2を、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cの最も低い載置位置にアクセスする際の基板搬送ロボットの配置位置に対応する高さにする例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、開口部が、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cに収納された基板にアクセスする際の基板搬送ロボットの配置位置に対応する高さを有していれば、基板搬送ロボットから近いカセット11b、11cに複数の基板を積層して収納してもよい。
In the second embodiment, the
10 基板搬送システム
11 基板収納装置(第1装置)
12 基板搬送ロボット
13、313、413 ロボット設置領域
20、220、420 処理装置(第2装置)
100、200、300、400 基板処理システム
110 基板
111、301 前面壁(第1壁部)
123 第1アーム部(アーム部)
124 第2アーム部(アーム部)
125 ハンド部
201、401a 背面壁(第2壁部)
202、202a、402、403 開口部
320 処理装置(第1装置)
C1 回動中心
L2 仮想線
10
12
100, 200, 300, 400
123 First arm part (arm part)
124 Second arm part (arm part)
125
202, 202a, 402, 403
C1 Center of rotation L2 Virtual line
Claims (19)
前記基板搬送ロボットは、前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、
前記第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て前記第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、
前記ロボット設置領域は、前記第1装置側に設けられた第1壁部と、前記第2装置側に設けられるとともに前記第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、前記第1基板収納カセットは、前記第2基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、前記基板搬送ロボットは、前記第1アーム部の回動中心に近い前記第1基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えるように前記基板の搬送を行う一方、前記第1基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心から遠い前記第2基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えずに前記基板の搬送を行うように構成されている、基板搬送システム。 A substrate transfer robot that is installed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device and includes a hand unit that supports the substrate and an arm unit for moving the hand unit;
The substrate transport robot is configured to transport a substrate from a first position in the first device to a second position in the second device by rotating the arm unit and the hand unit in a horizontal plane. And
The first device includes a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette in plan view,
The robot installation region is surrounded by a first wall portion provided on the first device side and a second wall portion provided on the second device side and disposed so as to face the first wall portion. Area,
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is more configured than the second substrate storage cassette. The substrate transfer robot is arranged at a position close to the rotation center of the first portion , and the substrate transfer robot moves the arm when transferring the substrate from the first substrate storage cassette close to the rotation center of the first arm portion. The substrate is transferred so that a part of the portion exceeds the second wall portion, while the substrate is moved from the second substrate storage cassette farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette. When transferring the substrate, the substrate transfer system is configured such that a part of the arm portion transfers the substrate without exceeding the second wall portion.
前記第1基板収納カセットは、前記開口部に面するように配置されているとともに、前記第2基板収納カセットは、前記開口部に面しないように配置されている、請求項1に記載の基板搬送システム。 The second wall has an opening;
Said first substrate storage cassettes are arranged so as to face the opening portion, the second substrate storage cassettes are arranged so as not to face the opening, the substrate according to claim 1 Conveying system.
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部と、一方端部が前記第1アーム部の他方端部に接続され、前記第1アーム部に対して水平面内で回動可能に構成された第2アーム部とをさらに含み、
前記基板搬送ロボットは、前記第1装置の第1位置から、前記ハンド部を前記第2アーム部に対して回動させることにより基板の中心が前記第2装置に略平行な方向に延びる直線上に配置された第1中間姿勢までの間において、前記基板搬送ロボットは、前記第1基板収納カセットから前記アーム部の一部が前記開口部内に侵入するように前記基板の搬送を行う一方、前記第2基板収納カセットから前記アーム部の一部が前記開口部内に侵入せずに前記基板の搬送を行うように構成されている、請求項1または2に記載の基板搬送システム。 The second wall has an opening;
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane around one end portion as a rotation center, and one end portion connected to the other end portion of the first arm portion, and the first arm And a second arm part configured to be rotatable in a horizontal plane with respect to the part,
The substrate transfer robot is configured so that the center of the substrate extends in a direction substantially parallel to the second device by rotating the hand unit with respect to the second arm unit from the first position of the first device. In the period up to the first intermediate position disposed in the substrate, the substrate transfer robot transfers the substrate so that a part of the arm portion enters the opening from the first substrate storage cassette, part of the arm portion from the second substrate storage cassette is configured to perform the conveyance of the substrate without entering into the opening, the substrate transfer system according to claim 1 or 2.
前記第2中間位置においては、前記基板搬送ロボットは、前記第1基板収納カセットおよび前記第2基板収納カセットのいずれの基板を搬送する場合でも、前記アーム部の一部が前記開口部内に侵入するように構成されている、請求項3に記載の基板搬送システム。 The substrate transfer robot moves from the first position of the first device along a straight line extending from the first intermediate posture and from the first intermediate posture to the center of the substrate extending in a direction substantially parallel to the second device. And is configured to transport the substrate to the second position of the second device through a second intermediate posture in which the first arm portion and the second arm portion are folded together.
In the second intermediate position, when the substrate transfer robot transfers any of the substrates of the first substrate storage cassette and the second substrate storage cassette, a part of the arm portion enters the opening. The substrate transfer system according to claim 3 , configured as described above.
前記第2壁部は、開口部を有し、
前記基板搬送ロボットは、平面的に見て、前記第1アーム部の回動中心が前記開口部に面する位置に位置するとともに、前記基板搬送ロボットの最小旋回半径が前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の基板搬送システム。 The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center,
The second wall has an opening;
The substrate transfer robot is located in a position where the center of rotation of the first arm portion faces the opening when viewed in plan, and the minimum turning radius of the substrate transfer robot is the rotation of the first arm portion. The board | substrate conveyance system of any one of Claims 1-6 comprised so that it may become larger than the distance from a moving center to the said 2nd apparatus.
前記ハンド部は、前記第2アーム部の他方端部に接続され、前記第2アーム部に対して水平面内で回動可能に構成され、
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部により基板を支持した状態で、かつ、平面的に見て、前記第1アーム部、前記第2アーム部および前記ハンド部が互いに重なるように折り畳まれた基準姿勢において、前記第1アーム部の一方端部を回動中心として前記第1アーム部を水平面内で回動する場合に前記最小旋回領域内で旋回するとともに、前記基準姿勢において、平面的に見て、前記第1アーム部の回動中心から、前記第1アーム部の最遠端までの第1距離、前記第2アーム部の最遠端までの第2距離、および、前記ハンド部により支持された基板の最遠端までの第3距離の少なくともいずれかの距離が前記第1アーム部の回動中心から前記第2装置までの距離よりも大きくなるように構成されている、請求項7または8に記載の基板搬送システム。 The arm part further includes a second arm part having one end connected to the other end of the first arm part and configured to be rotatable in a horizontal plane with respect to the first arm part,
The hand part is connected to the other end of the second arm part, and is configured to be rotatable in a horizontal plane with respect to the second arm part,
The substrate transport robot is in a state in which the substrate is supported by the hand unit and is folded so that the first arm unit, the second arm unit, and the hand unit overlap each other in plan view. When the first arm portion is rotated in the horizontal plane with the one end portion of the first arm portion as a rotation center, the first arm portion is swung in the minimum swivel region and is viewed in plan in the reference posture. A first distance from the center of rotation of the first arm portion to the farthest end of the first arm portion, a second distance to the farthest end of the second arm portion, and the hand portion. and at least one of the distance of the third distance to the farthest end of the substrate is configured to be larger than the distance from the center of rotation of the first arm portion to the second apparatus, according to claim 7 or board transportable described in 8 System.
前記第1装置には、異なる高さ位置に複数の基板が載置されており、
前記第2壁部は、開口部を有し、
前記開口部は、前記第1装置の最も低い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置から前記第1装置の最も高い位置に載置された基板を支持する際の前記ハンド部および前記アーム部の配置位置に対応する高さ位置まで開放されている、請求項1〜12のいずれか1項に記載の基板搬送システム。 The substrate transfer robot is configured to be able to move the hand unit and the arm unit in a height direction,
In the first device, a plurality of substrates are placed at different height positions,
The second wall has an opening;
The opening is located at the highest position of the first device from the height position corresponding to the arrangement position of the hand unit and the arm unit when supporting the substrate placed at the lowest position of the first device. the hand portion and the are open to a height position corresponding to the position of the arm portion, the substrate transfer system according to any one of claims 1 to 12, when supporting a substrate placed.
前記第3位置には、所定の高さ範囲に複数の基板が載置され、
前記第1位置には、前記第3位置よりも小さい高さ範囲に基板が載置され、
前記第2壁部は、開口部を有し、
前記開口部は、前記第1位置に載置される基板の高さ範囲に対応する高さ範囲で開放されており、
前記基板搬送ロボットは、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動可能であるとともに、前記第3位置の基板を搬送する際には、前記第1装置から基板を引き出した後、前記ハンド部および前記アーム部を高さ方向に移動して前記アーム部を前記開口部を介して前記第2装置内に突出させるように構成されている、請求項1〜13のいずれか1項に記載の基板搬送システム。 In addition to the first position, the first device can place a substrate on a third position farther from the substrate transport robot than the first position in plan view.
A plurality of substrates are placed in a predetermined height range at the third position,
A substrate is placed at a height range smaller than the third position at the first position,
The second wall has an opening;
The opening is opened in a height range corresponding to a height range of a substrate placed in the first position;
The substrate transfer robot is capable of moving the hand portion and the arm portion in the height direction, and when transferring the substrate at the third position, after pulling out the substrate from the first device, parts and by moving the arm portions in the height direction is constituted the arm portion so as to protrude into the second device through the opening, according to any one of claims 1 to 13 Substrate transfer system.
第2装置と、
前記第1装置および前記第2装置に囲まれたロボット設置領域に配置され、基板を支持するハンド部と、前記ハンド部を移動させるためのアーム部とを含む基板搬送ロボットとを備え、
前記基板搬送ロボットは、前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、
前記第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て前記第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、
前記ロボット設置領域は、前記第1装置側に設けられた第1壁部と、前記第2装置側に設けられるとともに前記第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、前記第1基板収納カセットは、前記第2基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、前記基板搬送ロボットは、前記第1アーム部の回動中心に近い前記第1基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えるように前記基板の搬送を行う一方、前記第1基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心から遠い前記第2基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えずに前記基板の搬送を行うように構成されている、基板処理システム。 A first device;
A second device;
A substrate transfer robot that is disposed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device and includes a hand unit that supports a substrate and an arm unit for moving the hand unit;
The substrate transport robot is configured to transport a substrate from a first position in the first device to a second position in the second device by rotating the arm unit and the hand unit in a horizontal plane. And
The first device includes a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette in plan view,
The robot installation region is surrounded by a first wall portion provided on the first device side and a second wall portion provided on the second device side and disposed so as to face the first wall portion. Area,
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is more configured than the second substrate storage cassette. The substrate transfer robot is arranged at a position close to the rotation center of the first portion , and the substrate transfer robot moves the arm when transferring the substrate from the first substrate storage cassette close to the rotation center of the first arm portion. The substrate is transferred so that a part of the portion exceeds the second wall portion, while the substrate is moved from the second substrate storage cassette farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette. The substrate processing system is configured such that when the substrate is transferred, a part of the arm portion transfers the substrate without exceeding the second wall portion.
前記第1基板収納カセットは、前記開口部に面するように配置されているとともに、前記第2基板収納カセットは、前記開口部に面しないように配置されている、請求項15に記載の基板処理システム。 The second wall has an opening;
Said first substrate storage cassettes are arranged so as to face the opening portion, the second substrate storage cassettes are arranged so as not to face the opening, the substrate according to claim 15 Processing system.
前記基板搬送ロボットは、前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第2装置側に設けられた開口部を介して前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、
前記第1装置は、第1基板収納カセットと、平面的に見て前記第1基板収納カセットとは異なる位置に配置された第2基板収納カセットとを含み、
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、前記第1基板収納カセットは、前記第2基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、前記基板搬送ロボットは、前記第1アーム部の回動中心に近い前記第1基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記開口部内に侵入するように前記基板の搬送を行う一方、前記第1基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心から遠い前記第2基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記開口部内に侵入せずに前記基板の搬送を行うように構成されている、基板搬送システム。 A substrate transfer robot that is installed in a robot installation area surrounded by the first device and the second device and includes a hand unit that supports the substrate and an arm unit for moving the hand unit;
The substrate transfer robot rotates the arm part and the hand part in a horizontal plane, thereby opening the second part from a first position in the first apparatus through an opening provided on the second apparatus side. Configured to transport the substrate to a second position in the apparatus;
The first device includes a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette in plan view,
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is more configured than the second substrate storage cassette. The substrate transfer robot is arranged at a position close to the rotation center of the first portion , and the substrate transfer robot moves the arm when transferring the substrate from the first substrate storage cassette close to the rotation center of the first arm portion. The substrate is transported so that a part of the portion enters the opening, and the substrate is removed from the second substrate storage cassette farther from the rotation center of the first arm portion than the first substrate storage cassette. A substrate transport system configured to transport the substrate without transporting a part of the arm portion into the opening when transporting.
基板を支持するハンド部と、
前記ハンド部を移動させるためのアーム部とを備え、
前記アーム部および前記ハンド部を水平面内で回動させることによって、前記第1装置内の第1位置から前記第2装置内の第2位置に基板を搬送するように構成され、
前記ロボット設置領域は、前記第1装置側に設けられた第1壁部と、前記第2装置側に設けられるとともに前記第1壁部に対向するように配置された第2壁部とに囲まれた領域であり、
前記アーム部は、一方端部を回動中心として水平面内で回動可能に構成された第1アーム部を含み、前記第1基板収納カセットは、前記第2基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心に近い位置に配置されているとともに、前記第1アーム部の回動中心に近い前記第1基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えるように前記基板の搬送を行う一方、前記第1基板収納カセットよりも前記第1アーム部の回動中心から遠い前記第2基板収納カセットから前記基板を搬送する際には、前記アーム部の一部が前記第2壁部を超えずに前記基板の搬送を行うように構成されている、基板搬送ロボット。 A robot installation area surrounded by a first device including a first substrate storage cassette and a second substrate storage cassette disposed at a position different from the first substrate storage cassette when viewed in plan, and a second device. An installed substrate transfer robot,
A hand portion for supporting the substrate;
An arm part for moving the hand part,
The substrate is transported from a first position in the first device to a second position in the second device by rotating the arm portion and the hand portion in a horizontal plane,
The robot installation region is surrounded by a first wall portion provided on the first device side and a second wall portion provided on the second device side and disposed so as to face the first wall portion. Area,
The arm portion includes a first arm portion configured to be rotatable in a horizontal plane with the one end portion as a rotation center, and the first substrate storage cassette is more configured than the second substrate storage cassette. When the substrate is transported from the first substrate storage cassette that is disposed at a position near the rotation center of the first arm portion and near the rotation center of the first arm portion, a part of the arm portion is When the substrate is transported beyond the second wall portion, the substrate is transported from the second substrate storage cassette that is farther from the center of rotation of the first arm portion than the first substrate storage cassette. A substrate transfer robot configured to transfer the substrate without a part of the arm portion exceeding the second wall portion.
前記第1基板収納カセットは、前記開口部に面するように配置されているとともに、前記第2基板収納カセットは、前記開口部に面しないように配置されている、請求項18に記載の基板搬送ロボット。 The second wall has an opening;
19. The substrate according to claim 18 , wherein the first substrate storage cassette is disposed so as to face the opening, and the second substrate storage cassette is disposed so as not to face the opening. Transport robot.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012286832A JP5267725B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010081636 | 2010-03-31 | ||
JP2010081636 | 2010-03-31 | ||
JP2012286832A JP5267725B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010267136A Division JP5316521B2 (en) | 2010-03-31 | 2010-11-30 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013058814A JP2013058814A (en) | 2013-03-28 |
JP5267725B2 true JP5267725B2 (en) | 2013-08-21 |
Family
ID=45043610
Family Applications (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010267136A Active JP5316521B2 (en) | 2010-03-31 | 2010-11-30 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286830A Active JP5382197B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286837A Active JP5267726B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286828A Active JP5265806B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286832A Active JP5267725B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2013091191A Pending JP2013150012A (en) | 2010-03-31 | 2013-04-24 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010267136A Active JP5316521B2 (en) | 2010-03-31 | 2010-11-30 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286830A Active JP5382197B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286837A Active JP5267726B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
JP2012286828A Active JP5265806B2 (en) | 2010-03-31 | 2012-12-28 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013091191A Pending JP2013150012A (en) | 2010-03-31 | 2013-04-24 | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (6) | JP5316521B2 (en) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5614417B2 (en) | 2012-01-05 | 2014-10-29 | 株式会社安川電機 | Transport system |
JP5569544B2 (en) | 2012-01-31 | 2014-08-13 | 株式会社安川電機 | Transfer robot |
JP5621796B2 (en) * | 2012-01-31 | 2014-11-12 | 株式会社安川電機 | Transport system |
JP5853991B2 (en) | 2013-05-22 | 2016-02-09 | 株式会社安川電機 | Substrate transfer robot, substrate transfer system, and substrate transfer method |
JP6509487B2 (en) * | 2013-08-09 | 2019-05-08 | 日本電産サンキョー株式会社 | Industrial robot |
CN107210258B (en) | 2015-03-25 | 2020-06-12 | 株式会社国际电气 | Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
JP6635888B2 (en) | 2016-07-14 | 2020-01-29 | 東京エレクトロン株式会社 | Plasma processing system |
JP7090469B2 (en) * | 2018-05-15 | 2022-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | Board processing equipment |
JP7356269B2 (en) * | 2019-07-01 | 2023-10-04 | 川崎重工業株式会社 | Robot control device, robot and robot system equipped with the same |
US11031269B2 (en) | 2019-08-22 | 2021-06-08 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate transport robot, substrate transport system, and substrate transport method |
WO2023188181A1 (en) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 平田機工株式会社 | Substrate transport system and transfer robot |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR950012969B1 (en) * | 1986-04-28 | 1995-10-24 | 배리언 어소시에이츠 인코포레이티드 | Modular wafer transport and processing system |
US6778258B2 (en) * | 2001-10-19 | 2004-08-17 | Asml Holding N.V. | Wafer handling system for use in lithography patterning |
JP4098338B2 (en) * | 2006-07-20 | 2008-06-11 | 川崎重工業株式会社 | Wafer transfer device and substrate transfer device |
JP4359640B2 (en) * | 2007-09-25 | 2009-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate transfer apparatus and downflow control method |
JP2010021460A (en) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | Wafer alignment device, and wafer conveyance device using the same |
JP2009152649A (en) * | 2009-04-07 | 2009-07-09 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Method of carrying wafer |
-
2010
- 2010-11-30 JP JP2010267136A patent/JP5316521B2/en active Active
-
2012
- 2012-12-28 JP JP2012286830A patent/JP5382197B2/en active Active
- 2012-12-28 JP JP2012286837A patent/JP5267726B2/en active Active
- 2012-12-28 JP JP2012286828A patent/JP5265806B2/en active Active
- 2012-12-28 JP JP2012286832A patent/JP5267725B2/en active Active
-
2013
- 2013-04-24 JP JP2013091191A patent/JP2013150012A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013065894A (en) | 2013-04-11 |
JP2013058814A (en) | 2013-03-28 |
JP5267726B2 (en) | 2013-08-21 |
JP5316521B2 (en) | 2013-10-16 |
JP5382197B2 (en) | 2014-01-08 |
JP5265806B2 (en) | 2013-08-14 |
JP2013065896A (en) | 2013-04-11 |
JP2013150012A (en) | 2013-08-01 |
JP2013065895A (en) | 2013-04-11 |
JP2011228627A (en) | 2011-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5267725B2 (en) | Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot | |
JP5519733B2 (en) | Transfer robot | |
US9570336B2 (en) | Substrate transfer system and substrate processing system | |
KR101669326B1 (en) | Substrate transfer robot, substrate transfer system and substrate transfer method | |
JP5553065B2 (en) | Substrate transfer hand and substrate transfer robot | |
KR101453189B1 (en) | Carrier device | |
JP6014982B2 (en) | Side load port, EFEM | |
JP2022031288A (en) | Transport system, transport method and transport device | |
JP5037551B2 (en) | Substrate replacement mechanism and substrate replacement method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130108 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20130108 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20130201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5267725 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |