JP5262082B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路に係り、特に複数の動作周波数で動作する構成の半導体集積回路に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit configured to operate at a plurality of operating frequencies.

半導体集積回路は、様々な電子機器に搭載されている。ノートパソコンや携帯電話等に代表されるバッテリーで駆動される電子機器に搭載された半導体集積回路の場合、バッテリーによる駆動時間を少しでも伸ばすために低消費電力になるような回路設計が求められている。駆動時間を延ばすための対策として、半導体集積回路の用途に応じて別々の動作周波数で動作させるような回路設計手法が用いられている。ここで言う、別々の動作周波数で動作させるような回路設計手法とは、1つのクロックネットが複数の周波数で動作するように回路を設計する手法のことである。   Semiconductor integrated circuits are mounted on various electronic devices. In the case of a semiconductor integrated circuit mounted on an electronic device driven by a battery typified by a notebook computer or a mobile phone, a circuit design that requires low power consumption is required in order to extend the driving time by the battery as much as possible. Yes. As a measure for extending the driving time, a circuit design technique is employed in which the circuit is operated at different operating frequencies depending on the use of the semiconductor integrated circuit. Here, the circuit design technique for operating at different operating frequencies is a technique for designing a circuit so that one clock net operates at a plurality of frequencies.

例えば、電子機器において高速動作が要求されるアプリケーションを動作させる場合は、半導体集積回路を100MHzの周波数で動作させるが、通常のアプリケーションを動作させる場合は、半分の50MHzの周波数で動作させる。動作している回路部分が同じであれば、100MHzで動作させるより半分の50MHzで動作させた方が消費電力は小さくなる。このように、半導体集積回路の用途に応じて動作周波数を変えることで、バッテリーによる駆動時間を少しでも長くする工夫がされている。   For example, when an application that requires high-speed operation is operated in an electronic device, the semiconductor integrated circuit is operated at a frequency of 100 MHz. When an ordinary application is operated, the semiconductor integrated circuit is operated at a frequency of 50 MHz, which is half. If the operating circuit parts are the same, the power consumption is reduced by operating at 50 MHz, which is half of that at 100 MHz. In this way, a device has been devised to extend the driving time by the battery as much as possible by changing the operating frequency according to the application of the semiconductor integrated circuit.

1つのクロックネットが複数の動作周波数を有する半導体集積回路は、動作周波数毎にタイミング制約を満たす必要がある。通常、高い動作周波数の方がタイミング制約が厳しいため、高い動作周波数の条件で使用するセルの選択を行う。このため、低い動作周波数で見た場合、選択されたセルは過剰な駆動能力、即ち、性能を有するように見えることがある。   A semiconductor integrated circuit in which one clock net has a plurality of operating frequencies needs to satisfy timing constraints for each operating frequency. Usually, since the timing constraint is severer at the higher operating frequency, the cell to be used is selected under the condition of the higher operating frequency. Thus, when viewed at a low operating frequency, the selected cell may appear to have excessive drive capability, i.e. performance.

図1は複数の動作周波数を有するクロックネット1を示す図であり、図2は単一の動作周波数で動作するクロックネット2を示す図である。例えば、図1のクロックネット1は、100MHz又は50MHzの動作周波数で動作可能である。図1及び図2において、説明の便宜上、各セル11,12内に示された数字は、駆動能力の高さを任意単位で示し、数字が大きい程駆動能力が高い、即ち、消費電力が大きいものとする。   FIG. 1 is a diagram showing a clock net 1 having a plurality of operating frequencies, and FIG. 2 is a diagram showing a clock net 2 operating at a single operating frequency. For example, the clock net 1 in FIG. 1 can operate at an operating frequency of 100 MHz or 50 MHz. In FIG. 1 and FIG. 2, for convenience of explanation, the numbers shown in the cells 11 and 12 indicate the height of the driving capability in arbitrary units. The larger the number, the higher the driving capability, that is, the higher the power consumption. Shall.

図1及び図2に示すクロックネット1,2の構成自体は同じであるが、図1のクロックネット1で使用されているセル11と図2のクロックネット2で使用されているセル12とでは駆動能力が異なる。このため、動作周波数を同じ50MHzに設定しても、図1のクロックネット1の方がセル11の駆動能力が高い分、図2のクロックネット2より消費電力が大きい。この問題を回避するために、駆動能力(又は、性能)を変更できる機能を備えたセルを使用する様々な半導体集積回路が提案されている。   The configuration of the clock nets 1 and 2 shown in FIG. 1 and FIG. 2 is the same, but the cell 11 used in the clock net 1 in FIG. 1 and the cell 12 used in the clock net 2 in FIG. The driving ability is different. For this reason, even if the operating frequency is set to the same 50 MHz, the clock net 1 of FIG. 1 consumes more power than the clock net 2 of FIG. In order to avoid this problem, various semiconductor integrated circuits using a cell having a function capable of changing a driving capability (or performance) have been proposed.

駆動能力を変更できる機能を備えたセルは、大きく2つの型に分かれる。1つは同じ機能で駆動能力の異なるトランジスタ回路を複数用意し、制御端子に印加される制御信号により1つのトランジスタ回路を選択する排他型である。もう1つは同じ機能のトランジスタ回路(駆動能力は問わない)を複数用意し、1つのトランジスタ回路は常に動作させ、残りのトランジスタ回路は制御端子に印加される制御信号により必要な数だけトランジスタ回路を並列に接続して動作させる並列型である。   A cell having a function capable of changing the driving ability is roughly divided into two types. One is an exclusive type in which a plurality of transistor circuits having the same function and different driving capabilities are prepared, and one transistor circuit is selected by a control signal applied to a control terminal. The other is to prepare a plurality of transistor circuits having the same function (regardless of driving capability), one transistor circuit is always operated, and the remaining transistor circuits are as many as required by the control signal applied to the control terminal. Is a parallel type that operates by connecting them in parallel.

図3は排他型のセル構造15を概念的に示す図であり、図4は並列型のセル構造16を概念的に示す図である。図3において、21は制御端子、22,23は駆動能力の異なるトランジスタ回路から1つを選択する回路、24は同じ機能で駆動能力の異なるトランジスタ回路である。又、図4において、31は制御端子、32,33は希望の駆動能力を得るために必要な分だけトランジスタ回路を接続する回路、34は同じ機能で駆動能力は問わないトランジスタ回路である。ここでは、説明の便宜上、トランジスタ回路34の駆動能力が「1」であるものとする。   FIG. 3 is a diagram conceptually showing the exclusive cell structure 15, and FIG. 4 is a diagram conceptually showing the parallel cell structure 16. In FIG. 3, 21 is a control terminal, 22 and 23 are circuits for selecting one from transistor circuits having different driving capabilities, and 24 is a transistor circuit having the same function and different driving capabilities. In FIG. 4, 31 is a control terminal, 32 and 33 are circuits for connecting transistor circuits as much as necessary to obtain a desired drive capability, and 34 is a transistor circuit having the same function and having no drive capability. Here, for convenience of explanation, it is assumed that the driving capability of the transistor circuit 34 is “1”.

排他型のセル構造は、例えば特許文献1、特許文献2等にて提案されている。又、並列型のセル構造は、例えば特許文献3、特許文献4等にて提案されている。
特開2005−318363号公報 特開平9−91056号公報 特開2003−318723号公報 特開昭63−80622号公報
An exclusive cell structure is proposed in, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, and the like. A parallel type cell structure is proposed in, for example, Patent Document 3 and Patent Document 4.
JP 2005-318363 A JP-A-9-91056 JP 2003-318723 A JP-A-63-80622

排他型のセル構造は、機能が同じで駆動能力の異なる複数のトランジスタ回路を備えているため、回路規模が並列型のセル構造と比べて大きくなってしまう。   Since the exclusive cell structure includes a plurality of transistor circuits having the same function and different driving capabilities, the circuit scale becomes larger than that of the parallel cell structure.

又、排他型のセル構造及び並列型のセル構造では、いずれも専用の制御端子が必要であった。   Further, in both the exclusive cell structure and the parallel cell structure, a dedicated control terminal is required.

更に、従来の排他型のセル構造及び並列型のセル構造の場合、いずれも使用していないトランジスタ回路にも常に電源配線から電圧は印加されているため、トランジスタ回路がたとえオフ状態であっても、電源配線から印加されている電圧のためにソース・ドレイン間に電位差が生じてリーク電流が流れてしまう。1つのセルにおけるリーク電流は非常に小さいが、半導体集積回路の回路規模によっては総リーク電流が無視できない大きさになってしまう。リーク電流による電力消費は、特に携帯機器の場合、バッテリー駆動時間を短くする原因となってしまう。   Further, in the case of the conventional exclusive cell structure and parallel cell structure, voltage is always applied from the power supply wiring to the transistor circuit that is not used, so even if the transistor circuit is in the off state. Because of the voltage applied from the power supply wiring, a potential difference is generated between the source and the drain, and a leak current flows. Although the leakage current in one cell is very small, the total leakage current becomes a non-negligible magnitude depending on the circuit scale of the semiconductor integrated circuit. The power consumption due to the leakage current becomes a cause of shortening the battery driving time particularly in the case of a portable device.

そこで、本発明は、比較的小さな回路規模で、且つ、専用の制御端子を設けることなく低消費電力を実現可能な半導体集積回路を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that can realize low power consumption with a relatively small circuit scale and without providing a dedicated control terminal.

上記の課題は、入力端子及び出力端子を有し、複数の動作周波数で動作する半導体集積回路であって、該入力端子と該出力端子との間に並列接続された第1の論理回路及び第2の論理回路と、該第2の論理回路と該出力端子との間に接続された第1の導通制御回路とを備え、該第1の論理回路は常に第1の電源系統からの動作電圧を印加され、該第2の論理回路は該動作周波数に応じて第2の電源系統からの動作電圧又は接地電圧を印加され、該第1の導通制御回路は該第2の電源系統からの電圧に応じて導通し、該第2の電源系統からの電圧により、該第2の論理回路内の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行うことを特徴とする半導体集積回路に関する。   The above-described problem is a semiconductor integrated circuit having an input terminal and an output terminal and operating at a plurality of operating frequencies, wherein the first logic circuit and the first logic circuit connected in parallel between the input terminal and the output terminal 2, and a first conduction control circuit connected between the second logic circuit and the output terminal, the first logic circuit always operating voltage from the first power supply system The second logic circuit is applied with an operating voltage or a ground voltage from a second power supply system according to the operating frequency, and the first conduction control circuit is supplied with a voltage from the second power supply system. The semiconductor integrated circuit is characterized in that the operation state and leakage current of some of the transistors in the second logic circuit are controlled by the voltage from the second power supply system.

本発明によれば、比較的小さな回路規模で、且つ、専用の制御端子を設けることなく低消費電力を実現可能な半導体集積回路を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize a semiconductor integrated circuit capable of realizing low power consumption with a relatively small circuit scale and without providing a dedicated control terminal.

本発明では、半導体集積回路内のトランジスタ回路を、動作周波数に応じて必要な分だけ並列に動作させる並列型のセル構造又はマクロ構造にする。セル構造又はマクロ構造内の電源を複数の電源系統に分け、1つの電源系統には常に動作電圧を印加し、残りの電源系統には動作周波数に応じて動作電圧又は接地電圧を印加する。ただし、電圧が接地電圧になることによりトランジスタ回路の一部が非動作状態になってもセル構造又はマクロ構造の機能自体は変化がないようにする。   In the present invention, the transistor circuit in the semiconductor integrated circuit has a parallel cell structure or macro structure that operates in parallel as much as necessary according to the operating frequency. The power supply in the cell structure or the macro structure is divided into a plurality of power supply systems, and an operation voltage is always applied to one power supply system, and an operation voltage or a ground voltage is applied to the remaining power supply systems according to the operation frequency. However, the function of the cell structure or the macro structure is not changed even when a part of the transistor circuit becomes non-operating because the voltage becomes the ground voltage.

更に、常に動作電圧が印加されているトランジスタ回路部と、動作周波数に応じて動作電圧又は接地電圧が印加されるトランジスタ回路部との間で不要なリーク電流が流れないように、これらのトランジスタ回路部の間に、動作周波数に応じて動作電圧又は接地電圧が印加される電源ネットを制御信号とする、導通制御回路を設ける。この導通制御回路は、セル構造又はマクロ構造内の入力部と出力部、或いは、出力部のみに設ける。   Further, in order to prevent unnecessary leakage current from flowing between the transistor circuit section to which the operating voltage is constantly applied and the transistor circuit section to which the operating voltage or the ground voltage is applied according to the operating frequency, these transistor circuits. A conduction control circuit using a power supply net to which an operating voltage or a ground voltage is applied according to the operating frequency as a control signal is provided between the units. This conduction control circuit is provided only in the input part and output part in the cell structure or macro structure, or only in the output part.

導通制御回路をセル構造又はマクロ構造内の出力部のみに設けた場合、回路規模を小さくすることができるが、入力部が導通しているため、トランジスタのゲート酸化膜をトンネル効果で突き抜けて電流が流れることにより生じるゲートリーク電流が僅かながら発生する可能性がある。このゲートリーク電流は、特に微細テクノロジでは顕著となる。   When the conduction control circuit is provided only at the output part in the cell structure or macro structure, the circuit scale can be reduced. However, since the input part is conductive, the gate oxide film of the transistor penetrates through the tunnel effect and the current flows. There is a possibility that a small amount of gate leakage current is generated due to the flow of. This gate leakage current is particularly noticeable in a fine technology.

一方、導通制御回路をセル構造又はマクロ構造内の入力部と出力部の両方に設けた場合、回路規模は前者の場合よりは大きくなるが、ゲートリーク電流の発生は抑制可能となる。   On the other hand, when the conduction control circuit is provided in both the input part and the output part in the cell structure or the macro structure, the circuit scale becomes larger than that in the former case, but the generation of the gate leakage current can be suppressed.

図5は、本発明の第1実施例の要部を示す回路図である。図5は、インバータ機能を有し、2つの電源系統を有する半導体集積回路のセル構造(又は、マクロ構造)35−1を示す。本実施例及び後述する各実施例では、説明の便宜上、半導体集積回路は、1つのクロックネットが複数の動作周波数で動作する構成の半導体集積回路であるものとする。このセル構造35−1は、入力端子37、インバータ回路部41,42、導通制御回路43及び出力端子38を有する。図5のセル構造35−1では、インバータ回路部41は図示の如く接続された3個のPチャネルトランジスタと3個のNチャネルトランジスタを有し、インバータ回路42は図示の如く接続された4個のPチャネルトランジスタと4個のNチャネルトランジスタを有するが、各インバータ回路部41,42を構成するトランジスタの数、種類及び接続はこれに限定されるものではない。インバータ回路部41は電源系統VDD1に接続されており、インバータ回路部42は電源系統VDD2に接続されている。電源系統VDD1は、セル構造35−1に常に動作電圧VDDをVDD1として印加する。一方、電源系統VDD2は、半導体集積回路の動作周波数に応じてセル構造35−1に動作電圧VDD又は接地電圧GNDをVDD2として印加する。   FIG. 5 is a circuit diagram showing the main part of the first embodiment of the present invention. FIG. 5 shows a cell structure (or macro structure) 35-1 of a semiconductor integrated circuit having an inverter function and having two power supply systems. In this embodiment and each embodiment described later, for convenience of explanation, it is assumed that the semiconductor integrated circuit is a semiconductor integrated circuit having a configuration in which one clock net operates at a plurality of operating frequencies. This cell structure 35-1 has an input terminal 37, inverter circuit portions 41 and 42, a conduction control circuit 43, and an output terminal 38. In the cell structure 35-1 of FIG. 5, the inverter circuit section 41 has three P-channel transistors and three N-channel transistors connected as shown in the figure, and the inverter circuit 42 has four pieces connected as shown in the figure. The P-channel transistors and the four N-channel transistors are included, but the number, type, and connection of the transistors constituting each of the inverter circuit portions 41 and 42 are not limited to this. The inverter circuit unit 41 is connected to the power supply system VDD1, and the inverter circuit unit 42 is connected to the power supply system VDD2. The power supply system VDD1 always applies the operating voltage VDD as VDD1 to the cell structure 35-1. On the other hand, the power supply system VDD2 applies the operating voltage VDD or the ground voltage GND to the cell structure 35-1 as VDD2 in accordance with the operating frequency of the semiconductor integrated circuit.

インバータ回路部41とインバータ回路部42の間には、電源系統VDD2からの電圧を制御信号とする導通制御回路43が、セル構造35−1内の入力部と出力部に設けられている。この導通制御回路43は、電源系統VDD2からの電圧VDD2と、電圧VDD2の反転電圧であるVDD2*(VDD2バー)により制御される。電圧VDD2*は、電源系統VDD1のインバータセル44に電圧VDD2を入力することで得られる。電圧VDD2*を生成するインバータセル44は、セル構造35−1の一部を構成する必要はない。これは、導通制御回路43に対する制御信号は、実際には複数のセル構造に対して同時に入力されるため、電圧VDD2*を生成するインバータセル44は半導体集積回路内で最低1つ設けられていれば良いからである。つまり、インバータセル44は、セル構造35−1内に設けられていても、セル構造35−1外に設けられていても良い。   Between the inverter circuit unit 41 and the inverter circuit unit 42, a conduction control circuit 43 using a voltage from the power supply system VDD2 as a control signal is provided in the input unit and the output unit in the cell structure 35-1. The conduction control circuit 43 is controlled by the voltage VDD2 from the power supply system VDD2 and VDD2 * (VDD2 bar) which is an inverted voltage of the voltage VDD2. The voltage VDD2 * is obtained by inputting the voltage VDD2 to the inverter cell 44 of the power supply system VDD1. The inverter cell 44 that generates the voltage VDD2 * does not need to form part of the cell structure 35-1. This is because the control signal for the continuity control circuit 43 is actually input simultaneously to a plurality of cell structures, so that at least one inverter cell 44 for generating the voltage VDD2 * is provided in the semiconductor integrated circuit. Because it is good. That is, the inverter cell 44 may be provided inside the cell structure 35-1, or may be provided outside the cell structure 35-1.

電源系統VDD2は、半導体集積回路を高い動作周波数で動作させる時には動作電圧VDDを印加し、低い動作周波数で動作させる時には接地電圧GNDを印加する。高い動作周波数及び低い動作周波数は、特定の周波数に限定されるものではなく、高い動作周波数が低い動作周波数と比較して高い周波数関係にあれば良い。半導体集積回路を高い動作周波数で動作させる時には電源系統VDD2が動作電圧VDDを印加するため、インバータ回路部42が動作状態になる。又、動作電圧VDDを印加することで、導通制御回路43が導通状態になる。これにより、セル構造35−1内のトランジスタが全て動作状態となり、7個のPチャネルトランジスタ及び7個のNチャネルトランジスタが並列に接続されたインバータセルが構成される。半導体集積回路を低い動作周波数で動作させる時は、電源系統VDD2が接地電圧GNDを印加するため、インバータ回路部42が非動作状態になる。   The power supply system VDD2 applies the operating voltage VDD when operating the semiconductor integrated circuit at a high operating frequency, and applies the ground voltage GND when operating the semiconductor integrated circuit at a low operating frequency. The high operating frequency and the low operating frequency are not limited to a specific frequency, and the high operating frequency only needs to be higher than the low operating frequency. When the semiconductor integrated circuit is operated at a high operating frequency, the power supply system VDD2 applies the operating voltage VDD, so that the inverter circuit unit 42 is in an operating state. Further, the conduction control circuit 43 becomes conductive by applying the operating voltage VDD. Thereby, all the transistors in the cell structure 35-1 are in an operating state, and an inverter cell in which seven P-channel transistors and seven N-channel transistors are connected in parallel is configured. When the semiconductor integrated circuit is operated at a low operating frequency, the power supply system VDD2 applies the ground voltage GND, so that the inverter circuit unit 42 becomes non-operating.

インバータ回路部42に接地電圧GNDを印加することで、トランジスタのゲートがどのような状態であっても、トランジスタのソース・ドレイン間に電位差がないため、ソース−ドレイン間にリーク電流は発生しない。又、電源系統VDD2から接地電圧GNDをセル構造35−1に印加することで、導通制御回路は43非導通状態になる。これによりセル内のトランジスタ回路部41のみが動作状態となり、3個のPチャネルトランジスタ及び3個のNチャネルトランジスタが並列に接続されたインバータセルが構成される。   By applying the ground voltage GND to the inverter circuit portion 42, no potential difference is generated between the source and drain of the transistor because there is no potential difference between the source and drain of the transistor regardless of the state of the gate of the transistor. Further, by applying the ground voltage GND from the power supply system VDD2 to the cell structure 35-1, the conduction control circuit 43 is turned off. As a result, only the transistor circuit section 41 in the cell is in an operating state, and an inverter cell in which three P-channel transistors and three N-channel transistors are connected in parallel is configured.

図6は、本発明の第2実施例の要部を示す回路図である。図6は、インバータ機能を有し、3つの電源系統を有する半導体集積回路のセル構造35−2を示す。図6中、図5と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。このセル構造35−2は、入力端子37、インバータ回路部41,42,51、導通制御回路43,53及び出力端子38を有する。   FIG. 6 is a circuit diagram showing the main part of the second embodiment of the present invention. FIG. 6 shows a cell structure 35-2 of a semiconductor integrated circuit having an inverter function and having three power supply systems. In FIG. 6, the same parts as those in FIG. This cell structure 35-2 has an input terminal 37, inverter circuit portions 41, 42, 51, conduction control circuits 43, 53 and an output terminal 38.

インバータ回路部51は電源系統VDD3に接続されている。電源系統VDD3は、半導体集積回路の動作周波数に応じてセル構造35−2に動作電圧VDD又は接地電圧GNDをVDD3として印加する。図6のセル構造35−2では、インバータ回路部51は図示の如く接続された4個のPチャネルトランジスタと4個のNチャネルトランジスタを有するが、各インバータ回路部41,42,51を構成するトランジスタの数、種類及び接続は、図6に示すものに限定されるものではない。   The inverter circuit unit 51 is connected to the power supply system VDD3. The power supply system VDD3 applies the operating voltage VDD or the ground voltage GND as VDD3 to the cell structure 35-2 according to the operating frequency of the semiconductor integrated circuit. In the cell structure 35-2 of FIG. 6, the inverter circuit unit 51 has four P-channel transistors and four N-channel transistors connected as shown in the figure, and each inverter circuit unit 41, 42, 51 is configured. The number, type, and connection of the transistors are not limited to those shown in FIG.

インバータ回路部41とインバータ回路部51の間には、電源系統VDD3からの電圧を制御信号とする導通制御回路53が、セル構造35−2内の入力部と出力部に設けられている。この導通制御回路53は、電源系統VDD3からの電圧VDD3と、電圧VDD3の反転電圧であるVDD3*(VDD3バー)により制御される。電圧VDD3*は、例えば電源系統VDD1のインバータセル(図示せず)に電圧VDD3を入力することで得られる。電圧VDD3*を生成するインバータセルは、図5に示すインバータセル44の場合と同様に、セル構造35−2の一部を構成する必要はなく、又、電圧VDD3*を生成するインバータセルは半導体集積回路内で最低1つ設けられていれば良い。   Between the inverter circuit unit 41 and the inverter circuit unit 51, a conduction control circuit 53 using a voltage from the power supply system VDD3 as a control signal is provided at an input unit and an output unit in the cell structure 35-2. The conduction control circuit 53 is controlled by the voltage VDD3 from the power supply system VDD3 and VDD3 * (VDD3 bar) which is an inverted voltage of the voltage VDD3. The voltage VDD3 * is obtained, for example, by inputting the voltage VDD3 to an inverter cell (not shown) of the power supply system VDD1. As in the case of the inverter cell 44 shown in FIG. 5, the inverter cell that generates the voltage VDD3 * does not need to form part of the cell structure 35-2, and the inverter cell that generates the voltage VDD3 * is a semiconductor. It is sufficient that at least one is provided in the integrated circuit.

このように、電源系統が3つの場合でも、セル構造の基本的な構成は図5の電源系統が2つの場合と同様であり、本発明は電源系統が4つ以上の場合にも同様にして適用可能であることは言うまでもない。   Thus, even when there are three power supply systems, the basic structure of the cell structure is the same as in the case of two power supply systems in FIG. 5, and the present invention is similarly applied when there are four or more power supply systems. Needless to say, it is applicable.

図7は、本発明の第3実施例の要部を示す回路図である。図7は、2入力NAND機能を有し、2つの電源系統を有するセル構造35−3を示す。このセル構造35−3は、入力端子71,72、NAND回路部61,62、導通制御回路63及び出力端子73を有する。図7のセル構造35−3では、NAND回路部61は図示の如く接続された2個のPチャネルトランジスタと2個のNチャネルトランジスタを有し、NAND回路部62は図示の如く接続された6個のPチャネルトランジスタと6個のNチャネルトランジスタを有するが、各NAND回路部61,62を構成するトランジスタの数、種類及び接続は、図7に示すものに限定されるものではない。   FIG. 7 is a circuit diagram showing the main part of the third embodiment of the present invention. FIG. 7 shows a cell structure 35-3 having a 2-input NAND function and having two power supply systems. The cell structure 35-3 includes input terminals 71 and 72, NAND circuit portions 61 and 62, a conduction control circuit 63, and an output terminal 73. In the cell structure 35-3 of FIG. 7, the NAND circuit section 61 has two P-channel transistors and two N-channel transistors connected as illustrated, and the NAND circuit section 62 is connected as illustrated. Although the P-channel transistor and the six N-channel transistors are provided, the number, type, and connection of the transistors constituting each NAND circuit portion 61 and 62 are not limited to those shown in FIG.

NAND回路部61は電源系統VDD1に接続されており、NAND回路部62は電源系統VDD2に接続されている。電源系統VDD1は、セル構造35−3に常に動作電圧VDDをVDD1として印加する。一方、電源系統VDD2は、半導体集積回路の動作周波数に応じてセル構造35−3に動作電圧VDD又は接地電圧GNDをVDD2として印加する。   The NAND circuit unit 61 is connected to the power supply system VDD1, and the NAND circuit unit 62 is connected to the power supply system VDD2. The power supply system VDD1 always applies the operating voltage VDD as VDD1 to the cell structure 35-3. On the other hand, the power supply system VDD2 applies the operating voltage VDD or the ground voltage GND as VDD2 to the cell structure 35-3 according to the operating frequency of the semiconductor integrated circuit.

NAND回路部61とNAND回路部62の間には、電源系統VDD2からの電圧を制御信号とする導通制御回路63が、セル構造35−3内の入力部と出力部に設けられている。この導通制御回路63は、電源系統VDD2からの電圧VDD2と、電圧VDD2の反転電圧であるVDD2*(VDD2バー)により制御される。電圧VDD2*は、電源系統VDD1のインバータセル(図示せず)に電圧VDD2を入力することで得られる。電圧VDD2*を生成するインバータセルは、図5に示すインバータセル44の場合と同様に、セル構造35−3の一部を構成する必要はなく、半導体集積回路内で最低1つ設けられていれば良い。   Between the NAND circuit unit 61 and the NAND circuit unit 62, a conduction control circuit 63 using a voltage from the power supply system VDD2 as a control signal is provided in the input unit and the output unit in the cell structure 35-3. The conduction control circuit 63 is controlled by the voltage VDD2 from the power supply system VDD2 and VDD2 * (VDD2 bar) which is an inverted voltage of the voltage VDD2. The voltage VDD2 * is obtained by inputting the voltage VDD2 to an inverter cell (not shown) of the power supply system VDD1. As in the case of the inverter cell 44 shown in FIG. 5, the inverter cell that generates the voltage VDD2 * does not need to form a part of the cell structure 35-3, and at least one inverter cell is provided in the semiconductor integrated circuit. It ’s fine.

このように、図7に示す如き2入力NAND回路の場合でも、セル構造の基本的な構成は図5のインバータ回路で構成されたセル構造の場合と同様であり、本発明は2入力NAND回路以外のAND回路、OR回路、NOR回路等の組み合わせ回路、フリップフロップ回路等の順序回路等にも同様に適用可能であることは言うまでもない。   Thus, even in the case of the 2-input NAND circuit as shown in FIG. 7, the basic configuration of the cell structure is the same as that of the cell structure configured by the inverter circuit of FIG. 5, and the present invention is a 2-input NAND circuit. Needless to say, the present invention can be similarly applied to other combination circuits such as AND circuits, OR circuits, NOR circuits, and sequential circuits such as flip-flop circuits.

図8は、本発明の第4実施例の要部を示す回路図である。図8は、2入力NAND機能を有し、2つの電源系統を有するセル構造35−4を示す。このセル構造35−4は、入力端子91,92、2入力NAND回路及びインバータ(2入力AND)回路部80、インバータ回路部81,82、導通制御回路83及び出力端子93を有する。図8のセル構造35−4では、2入力NAND回路及びインバータ回路部80は図示の如く接続された3個のPチャネルトランジスタと3個のNチャネルトランジスタを有し、インバータ回路部81は図示の如く接続された1個のPチャネルトランジスタと1個のNチャネルトランジスタを有し、インバータ回路部82は図示の如く接続された3個のPチャネルトランジスタと3個のNチャネルトランジスタを有するが、各回路部80,81,82を構成するトランジスタの数、種類及び接続は、図8に示すものに限定されるものではない。   FIG. 8 is a circuit diagram showing the main part of the fourth embodiment of the present invention. FIG. 8 shows a cell structure 35-4 having a 2-input NAND function and having two power supply systems. The cell structure 35-4 includes input terminals 91 and 92, a two-input NAND circuit and inverter (two-input AND) circuit unit 80, inverter circuit units 81 and 82, a conduction control circuit 83, and an output terminal 93. In the cell structure 35-4 of FIG. 8, the 2-input NAND circuit and the inverter circuit unit 80 have three P-channel transistors and three N-channel transistors connected as illustrated, and the inverter circuit unit 81 is illustrated. The inverter circuit section 82 has three P-channel transistors and three N-channel transistors connected as shown in the figure, each having one P-channel transistor and one N-channel transistor connected as shown. The number, type, and connection of the transistors constituting the circuit units 80, 81, and 82 are not limited to those shown in FIG.

2入力NAND及びインバータ回路部80と、インバータ回路部81とは電源系統VDD1に接続されており、インバータ回路部82は電源系統VDD2に接続されている。電源系統VDD1は、セル構造35−4に常に動作電圧VDDをVDD1として印加する。一方、電源系統VDD2は、半導体集積回路の動作周波数に応じてセル構造35−4に動作電圧VDD又は接地電圧GNDをVDD2として印加する。   The 2-input NAND / inverter circuit unit 80 and the inverter circuit unit 81 are connected to the power supply system VDD1, and the inverter circuit unit 82 is connected to the power supply system VDD2. The power supply system VDD1 always applies the operating voltage VDD as VDD1 to the cell structure 35-4. On the other hand, the power supply system VDD2 applies the operating voltage VDD or the ground voltage GND as VDD2 to the cell structure 35-4 according to the operating frequency of the semiconductor integrated circuit.

インバータ回路部81とインバータ回路部82の間には、電源系統VDD2からの電圧を制御信号とする導通制御回路83が、セル構造35−4内でインバータ回路81,82により構成されるバッファ回路の入力部と出力部に設けられている。この導通制御回路83は、電源系統VDD2からの電圧VDD2と、電圧VDD2の反転電圧であるVDD2*(VDD2バー)により制御される。電圧VDD2*は、例えば電源系統VDD1のインバータセル(図示せず)に電圧VDD2を入力することで得られる。電圧VDD2*を生成するインバータセルは、図5に示すインバータセル44の場合と同様に、セル構造35−4の一部を構成する必要はなく、又、電圧VDD2*を生成するインバータセルは半導体集積回路内で最低1つ設けられていれば良い。   Between the inverter circuit unit 81 and the inverter circuit unit 82, a conduction control circuit 83 using the voltage from the power supply system VDD2 as a control signal is a buffer circuit configured by the inverter circuits 81 and 82 in the cell structure 35-4. It is provided in the input part and the output part. The conduction control circuit 83 is controlled by the voltage VDD2 from the power supply system VDD2 and VDD2 * (VDD2 bar) which is an inverted voltage of the voltage VDD2. The voltage VDD2 * is obtained, for example, by inputting the voltage VDD2 to an inverter cell (not shown) of the power supply system VDD1. As in the case of the inverter cell 44 shown in FIG. 5, the inverter cell that generates the voltage VDD2 * does not need to form part of the cell structure 35-4, and the inverter cell that generates the voltage VDD2 * is a semiconductor. It is sufficient that at least one is provided in the integrated circuit.

一般的に、機能が同じで駆動能力が異なるセル構造は、図9に示す例のように、基本回路部分は同じで最終段のバッファのみ駆動能力を変えている場合が多い。図9は、同じ機能で駆動能力の異なるセル構造の一例を説明する図である。図9において、説明の便宜上、各セル内に示された数字は、駆動能力の高さを任意単位で示し、数字が大きい程駆動能力が高い、即ち、消費電力が大きいものとする。図9において、上側のセル構造も下側のセル構造もNAND回路である。上側のセル構造の場合、NAND回路は同じ構成を有するが、出力段のバッファの駆動能力は異なる。又、下側のセル構造の場合、AND回路は同じ構成を有するが、出力段のインバータの駆動能力は異なる。このようにセル構造の機能が損なわれない範囲で、セル構造内の回路の一部だけに本発明のセル構造を適用することも可能である。   In general, cell structures having the same function but different driving capabilities often have the same basic circuit portion and different driving capabilities only in the final stage buffer, as in the example shown in FIG. FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a cell structure having the same function but different driving ability. In FIG. 9, for convenience of explanation, the numbers shown in each cell indicate the height of the driving capability in arbitrary units, and the larger the number, the higher the driving capability, that is, the higher the power consumption. In FIG. 9, both the upper cell structure and the lower cell structure are NAND circuits. In the case of the upper cell structure, the NAND circuits have the same configuration, but the output stage buffers have different driving capabilities. In the case of the lower cell structure, the AND circuit has the same configuration, but the drive capability of the inverter in the output stage is different. As described above, the cell structure of the present invention can be applied only to a part of the circuit in the cell structure as long as the function of the cell structure is not impaired.

上記各実施例によれば、電源から半導体集積回路に印加される電圧自体を導通制御回路の制御信号として用いているため、専用の制御端子を設ける必要がない。又、低い動作周波数で半導体集積回路を動作させる時、使用していないトランジスタ回路の電源系統から接地電圧を印加するため、ソース・ドレイン間のリーク電流の発生を抑制可能となる。これにより、低い動作周波数で半導体集積回路を動作させる時は、駆動能力を変更できる機能を備えた従来のセル構造よりも低消費電力を実現可能となる。   According to each of the embodiments described above, the voltage itself applied from the power source to the semiconductor integrated circuit is used as the control signal of the conduction control circuit, so there is no need to provide a dedicated control terminal. Further, when the semiconductor integrated circuit is operated at a low operating frequency, the ground voltage is applied from the power supply system of the transistor circuit that is not used, so that the generation of a leakage current between the source and the drain can be suppressed. As a result, when the semiconductor integrated circuit is operated at a low operating frequency, it is possible to realize lower power consumption than the conventional cell structure having a function capable of changing the driving capability.

上記各実施例において、導通制御回路をセル構造(又は、マクロ構造)内の出力部のみに設けるようにしても良い。この場合、回路規模を小さくすることができるが、入力部が導通しているため、トランジスタのゲート酸化膜をトンネル効果で突き抜けて電流が流れることにより生じるゲートリーク電流が僅かながら発生する可能性がある。このゲートリーク電流は、特に微細テクノロジでは顕著となる。一方、導通制御回路をセル構造(又は、マクロ構造)内の入力部と出力部の両方に設けた場合、回路規模は前者の場合よりは大きくなるが、ゲートリーク電流の発生は抑制可能となる。従って、導通制御回路をセル構造の出力部のみに設けるか否かは、半導体集積回路の用途に応じて選定すれば良い。   In each of the above embodiments, the conduction control circuit may be provided only in the output section in the cell structure (or macro structure). In this case, the circuit scale can be reduced, but since the input portion is conductive, there is a possibility that a small amount of gate leakage current is generated due to the current flowing through the gate oxide film of the transistor through the tunnel effect. is there. This gate leakage current is particularly noticeable in a fine technology. On the other hand, when the conduction control circuit is provided in both the input part and the output part in the cell structure (or macro structure), the circuit scale becomes larger than in the former case, but the generation of the gate leakage current can be suppressed. . Accordingly, whether or not the conduction control circuit is provided only in the output portion of the cell structure may be selected according to the application of the semiconductor integrated circuit.

尚、本発明は、以下に付記する発明をも包含するものである。
(付記1)
入力端子及び出力端子を有し、複数の動作周波数で動作する半導体集積回路であって、
該入力端子と該出力端子との間に並列接続された第1の論理回路及び第2の論理回路と、
該第2の論理回路と該出力端子との間に接続された第1の導通制御回路とを備え、
該第1の論理回路は常に第1の電源系統からの動作電圧を印加され、
該第2の論理回路は該動作周波数に応じて第2の電源系統からの動作電圧又は接地電圧を印加され、
該第1の導通制御回路は該第2の電源系統からの電圧に応じて導通し、
該第2の電源系統からの電圧により、該第2の論理回路内の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行うことを特徴とする、半導体集積回路。
(付記2)
該入力端子と該第2の論理回路との間に接続され、該第2の電源系統からの電圧に応じて導通する第2の導通制御回路を更に備え、
該第2の電源系統からの電圧により、該第2の論理回路内の他の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行うことを特徴とする、付記1記載の半導体集積回路。
(付記3)
該入力端子は1つであり、該第1及び第2の論理回路はインバータ回路であり、該出力端子は1つであることを特徴とする、付記1又は2記載の半導体集積回路。
(付記4)
該入力端子は複数あり、該第1及び第2の論理回路はNAND回路であり、該出力端子は1つであることを特徴とする、付記1又は2記載の半導体集積回路。
(付記5)
該入力端子と該出力端子との間に、該第1及び第2の論理回路と並列接続された第3の論理回路と、
該第3の論理回路と該出力端子との間に接続された第2の導通制御回路とを備え、
該第3の論理回路は該動作周波数に応じて第3の電源系統からの動作電圧又は接地電圧を印加され、
該第2の導通制御回路は該第3の電源系統からの電圧に応じて導通し、
該第3の電源系統からの電圧により、該第3の論理回路内の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行うことを特徴とする、付記1記載の半導体集積回路。
(付記6)
該入力端子と該第2の論理回路との間に接続され、該第2の電源系統からの電圧に応じて導通する第3の導通制御回路と、
該入力端子と該第3の論理回路との間に接続され、該第3の電源系統からの電圧に応じて導通する第4の導通制御回路とを更に備え、
該第2の電源系統からの電圧により、該第2の論理回路内の他の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行い、
該第3の電源系統からの電圧により、該第3の論理回路内の他の一部のトランジスタの動作状態及びリーク電流の制御を行うことを特徴とする、付記5記載の半導体集積回路。
(付記7)
該入力端子と該第1の論理回路との間に設けられた第3の論理回路を更に備え、
該第3の論理回路は常に該第1の電源系統からの動作電圧を印加されることを特徴とする、付記1記載の半導体集積回路。
In addition, this invention also includes the invention attached to the following.
(Appendix 1)
A semiconductor integrated circuit having an input terminal and an output terminal and operating at a plurality of operating frequencies,
A first logic circuit and a second logic circuit connected in parallel between the input terminal and the output terminal;
A first conduction control circuit connected between the second logic circuit and the output terminal;
The first logic circuit is always applied with an operating voltage from the first power supply system,
The second logic circuit is applied with an operating voltage or a ground voltage from a second power supply system according to the operating frequency,
The first conduction control circuit conducts according to the voltage from the second power supply system,
A semiconductor integrated circuit, wherein the operation state and leakage current of some of the transistors in the second logic circuit are controlled by a voltage from the second power supply system.
(Appendix 2)
A second conduction control circuit connected between the input terminal and the second logic circuit and conducting in accordance with a voltage from the second power supply system;
The semiconductor integrated circuit according to appendix 1, wherein the operation state and leakage current of some other transistors in the second logic circuit are controlled by a voltage from the second power supply system.
(Appendix 3)
3. The semiconductor integrated circuit according to appendix 1 or 2, wherein the number of input terminals is one, the first and second logic circuits are inverter circuits, and the number of output terminals is one.
(Appendix 4)
3. The semiconductor integrated circuit according to appendix 1 or 2, wherein there are a plurality of input terminals, the first and second logic circuits are NAND circuits, and the output terminal is one.
(Appendix 5)
A third logic circuit connected in parallel with the first and second logic circuits between the input terminal and the output terminal;
A second conduction control circuit connected between the third logic circuit and the output terminal;
The third logic circuit is applied with an operating voltage or a ground voltage from a third power supply system according to the operating frequency,
The second conduction control circuit conducts according to the voltage from the third power supply system,
The semiconductor integrated circuit according to appendix 1, wherein the operation state and leakage current of some transistors in the third logic circuit are controlled by a voltage from the third power supply system.
(Appendix 6)
A third conduction control circuit connected between the input terminal and the second logic circuit and conducting in accordance with a voltage from the second power supply system;
A fourth conduction control circuit connected between the input terminal and the third logic circuit and conducting in accordance with a voltage from the third power supply system;
The operation state and leakage current of some other transistors in the second logic circuit are controlled by the voltage from the second power supply system,
6. The semiconductor integrated circuit according to appendix 5, wherein the operation state and leakage current of some other transistors in the third logic circuit are controlled by a voltage from the third power supply system.
(Appendix 7)
A third logic circuit provided between the input terminal and the first logic circuit;
The semiconductor integrated circuit according to appendix 1, wherein the third logic circuit is always applied with an operating voltage from the first power supply system.

以上、本発明を実施例により説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能であることは言うまでもない。   While the present invention has been described with reference to the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements can be made within the scope of the present invention.

複数の動作周波数を有するクロックネットを示す図である。It is a figure which shows the clock net which has a several operating frequency. 単一の動作周波数で動作するクロックネットを示す図である。It is a figure which shows the clock net which operate | moves with a single operating frequency. 排他型のセル構造を概念的に示す図である。It is a figure which shows an exclusive cell structure notionally. 並列型のセル構造を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally a parallel type cell structure. 本発明の第1実施例の要部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the principal part of 1st Example of this invention. 本発明の第2実施例の要部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the principal part of 2nd Example of this invention. 本発明の第3実施例の要部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the principal part of 3rd Example of this invention. 本発明の第4実施例の要部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the principal part of 4th Example of this invention. 同じ機能で駆動能力の異なるセル構造の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the cell structure from which the drive capability differs with the same function.

符号の説明Explanation of symbols

35−1〜35−4 セル構造
37,71,72,91,92 入力端子
38,73,93 出力端子
41,42,51,81,82 インバータ回路
43,53,63,83 導通制御回路
80 NAND及びインバータ回路
35-1 to 35-4 Cell structure 37, 71, 72, 91, 92 Input terminals 38, 73, 93 Output terminals 41, 42, 51, 81, 82 Inverter circuits 43, 53, 63, 83 Conduction control circuit 80 NAND And inverter circuit

Claims (5)

入力端子及び出力端子を有する半導体集積回路であって、
前記入力端子と前記出力端子との間に並列接続された第1の論理回路及び第2の論理回路と、
前記第2の論理回路と前記出力端子との間に接続された第1の導通制御回路と
前記第1の論理回路の電源端子に動作電圧を印加する第1の電源系統と、
前記第2の論理回路の電源端子に動作電圧又は接地電圧を印加する第2の電源系統とを備え、
前記第1の導通制御回路は、前記第2の電源系統からの動作電圧に応じて導通し、前記第2の電源系統からの接地電圧に応じて非導通となり、
前記第2の電源系統は、前記第2の論理回路の電源端子に、前記半導体集積回路が第1の動作周波数で動作する場合には前記動作電圧を印加し、前記半導体集積回路が前記第1の動作周波数よりも低い第2の動作周波数で動作する場合には前記接地電圧を印加することを特徴とする、半導体集積回路。
A semiconductor integrated circuit to have a input terminal and an output terminal,
A first logic circuit and a second logic circuit connected in parallel between the output terminal and the input terminal,
A first conduction control circuit connected between said second logic circuit and the output terminal,
A first power supply system for applying an operating voltage to a power supply terminal of the first logic circuit;
A second power supply system for applying an operating voltage or a ground voltage to the power supply terminal of the second logic circuit ;
It said first conduction control circuit is rendered conductive in response to the operating voltage from the second power supply system, becomes non-conductive in response to the ground voltage from the second power supply system,
The second power supply lines, the power supply terminal of the second logic circuit, the semiconductor integrated circuit is the operating voltage is applied in the case of operating at a first operating frequency, said semiconductor integrated circuit is the first A semiconductor integrated circuit, wherein the ground voltage is applied when operating at a second operating frequency lower than the operating frequency .
前記入力端子と前記第2の論理回路との間に接続され、前記第2の電源系統からの動作電圧に応じて導通し、前記第2の電源系統からの接地電圧に応じて非導通となる第2の導通制御回路を更に備えことを特徴とする、請求項1記載の半導体集積回路。 It is connected between the input terminal and the second logic circuit, rendered conductive in response to the operating voltage from the second power supply system, a non-conductive in response to the ground voltage from the second power supply system wherein the Ru further comprising a second conduction control circuit, the semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein. 前記入力端子と前記出力端子との間に、前記第1及び第2の論理回路と並列接続された第3の論理回路と、
前記第3の論理回路と前記出力端子との間に接続された第2の導通制御回路と
前記第3の論理回路の電源端子に動作電圧又は接地電圧を印加する第3の電源系統とを備え、
前記第2の導通制御回路は、前記第3の電源系統からの動作電圧に応じて導通し、前記第3の電源系統からの接地電圧に応じて非導通となり、
前記第3の電源系統は、前記第3の論理回路の電源端子に、前記半導体集積回路が前記第1の動作周波数で動作する場合には前記動作電圧を印加し、前記半導体集積回路が前記第1の動作周波数よりも低い前記第2の動作周波数で動作する場合には前記接地電圧を印加することを特徴とする、請求項1記載の半導体集積回路。
Between the output terminal and the input terminal, a third logic circuit which is connected in parallel with said first and second logic circuits,
A second conduction control circuit connected between said output terminal said third logic circuit,
A third power supply system for applying an operating voltage or a ground voltage to the power supply terminal of the third logic circuit ;
It said second conduction control circuit is rendered conductive in response to the operating voltage from said third power supply system, becomes non-conductive in response to the ground voltage from the third power supply system,
Said third power supply lines, the power supply terminal of said third logic circuit, when the semiconductor integrated circuit operates at the first operating frequency by applying the operating voltage, the semiconductor integrated circuit is the first 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the ground voltage is applied when the second operating frequency is lower than the first operating frequency .
前記入力端子と前記第2の論理回路との間に接続され、前記第2の電源系統からの動作電圧に応じて導通し、前記第2の電源系統からの接地電圧に応じて非導通となる第3の導通制御回路と、
前記入力端子と前記第3の論理回路との間に接続され、前記第3の電源系統からの動作電圧に応じて導通し、前記第3の電源系統からの接地電圧に応じて非導通となる第4の導通制御回路とを更に備えことを特徴とする、請求項3記載の半導体集積回路。
It is connected between the input terminal and the second logic circuit, rendered conductive in response to the operating voltage from the second power supply system, a non-conductive in response to the ground voltage from the second power supply system A third conduction control circuit;
Is connected between the input terminal third logic circuit, rendered conductive in response to the operating voltage from said third power supply system, a non-conductive in response to the ground voltage from the third power supply system wherein the Ru further comprising a fourth conduction control circuit, the semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein.
前記入力端子と前記第1の論理回路との間に設けられた第3の論理回路を更に備え、
前記第3の論理回路は前記第1の電源系統からの動作電圧を印加されることを特徴とする、請求項1記載の半導体集積回路。
Further comprising a third logic circuit which is provided between the input terminal and the first logic circuit,
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein an operating voltage from the first power supply system is applied to the third logic circuit.
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