JP5261985B2 - Color filter polishing apparatus and polishing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、カラーフィルタの研磨方法に関するものであり、特に、樹脂ブラックマトリックスと着色画素との重なりにより生じる突起を研磨除去する際に、大サイズのガラス基板であっても、生産性を向上させ、より平坦化するカラーフィルタの研磨装置及び研磨方法に関する。 The present invention relates to a method for polishing a color filter, and in particular, improves the productivity even when a large-sized glass substrate is removed by polishing and removing protrusions caused by overlapping of a resin black matrix and colored pixels. The present invention relates to a color filter polishing apparatus and a polishing method for flattening.
図２は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した図であり、（ａ）平面図であり、（ｂ）は、図２（ａ）のＸ−Ｘ’線における側断面図である。図２（ａ）〜（ｂ）に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（１）上にブラックマトリックス（３１）、着色画素（３２）が形成されたものである。 FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a color filter used in a liquid crystal display device. FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a side taken along line XX ′ in FIG. It is sectional drawing. As shown in FIGS. 2A to 2B, the color filter used in the liquid crystal display device is one in which a black matrix (31) and a colored pixel (32) are formed on a glass substrate (1).
ブラックマトリックス（３１）は、遮光性を有し、開口部をマトリックス状に配置したものである。着色画素（３２）は、例えば、Ｒ（赤）色画素（３２ａ）と、Ｇ（緑）色画素（３２ｂ）と、Ｂ（青）色画素（３２ｃ）のフィルタ機能を有するものである。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。 The black matrix (31) is light-shielding and has openings arranged in a matrix. The colored pixel (32) has a filter function of, for example, an R (red) color pixel (32a), a G (green) color pixel (32b), and a B (blue) color pixel (32c). The black matrix determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device, making the image of the display device uniform and uniform. In addition, it has a function of making an image with improved contrast.
このブラックマトリックス（３１）は、ガラス基板（１）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜して、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチングと、そのエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯXなどの金属薄膜からなるブラックマトリックス（３１）に形成されたものである。 This black matrix (31) is formed by depositing a metal or metal compound such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrO x ) as a black matrix material in a thin film on a glass substrate (1). An etching resist pattern is formed on the formed thin film using, for example, a positive photoresist, and then an exposed portion of the formed metal thin film is etched, and then the etching resist pattern is stripped. And a black matrix (31) made of a metal thin film such as CrO x .
また、着色画素（３２）の形成は、このブラックマトリックス（３１）に形成されたガラス基板（１）上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。 In addition, the colored pixel (32) is formed by applying a coating film on the glass substrate (1) formed on the black matrix (31) using, for example, a negative photoresist in which pigments and other pigments are dispersed. And a method of forming colored pixels by exposing and developing the coating film is employed.
また、図３は、他のカラーフィルタの側断面図であり、ブラックマトリックスの材料として樹脂を用いた一例を示すものである。このカラーフィルタは、図２に示すカラーフィルタと同様に、ガラス基板（１）上にブラックマトリックス（５１）と、着色画素（３２ａ、３２ｂ、３２ｃ）が形成されたものである。このブラックマトリックス（５１）は、ガラス基板（１）上に、例えば、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成されたものであり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス（５１）と称している。 FIG. 3 is a side sectional view of another color filter, and shows an example in which a resin is used as a black matrix material. Similar to the color filter shown in FIG. 2, this color filter is obtained by forming a black matrix (51) and colored pixels (32a, 32b, 32c) on a glass substrate (1). The black matrix (51) is formed on the glass substrate (1) by, for example, a photolithography method using a black photosensitive resin for forming a black matrix, and the black matrix formed using the resin. Is referred to as a resin black matrix (51).
樹脂ブラックマトリックスは、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性が要望される場合などに採用されていた。 In order to suppress internal reflection in a liquid crystal display device that occurs when a metal such as chrome is used as a black matrix when using a high-brightness backlight such as a television, for example, When a low-reflection resin black matrix is desired, or in order to suppress the electric field disturbance in a liquid crystal display device when used in, for example, an IPS (In Plane Switching) method, high insulation is required. It was adopted in some cases.
カラーフィルタを面付けして大量に製造する際の、ガラス基板が、大サイズ化するに伴
い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなる。次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
As the glass substrate used for mass production with a color filter is increased in size, it is blacker than the black matrix, which uses a metal such as chromium as the black matrix material to form a thin film with a vacuum device. A resin black matrix formed by a photolithography method using a photosensitive resin is more advantageous in price. Gradually, the transition to resin black matrix is progressing.
樹脂ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスのように、膜厚１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜では高濃度を得ることはできず、例えば、０．５μｍ〜５．０μｍ程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。樹脂ブラックマトリックスの膜厚が厚くなると、図３に示すように、樹脂ブラックマトリックス（５１）上にその周縁部を重ねて形成された着色画素（３２）は、周縁部が樹脂ブラックマトリックス（５１）上にて突起（５３）となる。この突起（５３）は、カラーフィルタの表面を凹凸のあるものとし、平坦性を悪化させる。このような突起（５３）のある、表面の平坦性が悪化したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、突起の影響によって液晶分子の配向が乱され、表示ムラなど表示品質を低下させることになる。 The resin black matrix cannot obtain a high concentration in a thin film with a film thickness of about 100 nm to 200 nm, like a black matrix using a metal such as chromium, and for example, has a thickness of about 0.5 μm to 5.0 μm. To obtain the necessary high concentration. When the film thickness of the resin black matrix is increased, as shown in FIG. 3, the colored pixel (32) formed by overlapping the peripheral portion on the resin black matrix (51) has a peripheral portion of the resin black matrix (51). It becomes a protrusion (53) on the top. This protrusion (53) makes the surface of the color filter uneven, and deteriorates flatness. When a color filter having such a protrusion (53) and having a deteriorated surface flatness is used in a liquid crystal display device, the alignment of liquid crystal molecules is disturbed by the influence of the protrusion, and display quality such as display unevenness is deteriorated. .
このようなカラーフィルタ表面の突起（５３）を除去する、或いは液晶分子の配向に影響のない程度にまで突起の高さを低くするための、カラーフィルタ表面の突起を除去する研磨方法を説明する。 A polishing method for removing such protrusions (53) on the surface of the color filter or removing protrusions on the surface of the color filter to reduce the height of the protrusions to such an extent that the alignment of the liquid crystal molecules is not affected will be described. .
図４は、カラーフィルタの研磨方法において用いられる研磨装置の一例の概念を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＸ−Ｘ’線での側断面図である。 FIG. 4 is a plan view showing a concept of an example of a polishing apparatus used in the color filter polishing method, and FIG. 4B is a side sectional view taken along line X-X ′ in FIG.
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、この研磨装置（１０）は、研磨液供給ノズル（１１）が設けられた研磨液供給部と、矩形の研磨ヘッド（１２）が設けられた研磨部（３）とで構成されている。矩形の研磨ヘッド（１２）は、研磨ヘッド（１２）を回動する円運動軸と、その上部で一体的に連結されている。ガラス基板を搬送するコロコンベアが、図中、左方の前工程（着色画素を形成する工程）から右方の後工程（水洗工程）へと、研磨装置の研磨液供給部（２）と研磨部（３）を貫いて設けられている。図４の一例では、下定盤は、ガラス基板の着脱が容易な多孔質定盤とし、研磨ヘッド（１２）の下支えとなっている。 As shown in FIGS. 4A and 4B, the polishing apparatus (10) is provided with a polishing liquid supply unit provided with a polishing liquid supply nozzle (11) and a rectangular polishing head (12). It comprises a polishing part (3). The rectangular polishing head (12) is integrally connected to a circular motion axis for rotating the polishing head (12) at the upper part thereof. The roller conveyor that conveys the glass substrate moves from the left front process (colored pixel forming process) to the right rear process (water washing process) in the figure, and the polishing liquid supply unit (2) of the polishing apparatus and the polishing It is provided through the part (3). In the example of FIG. 4, the lower surface plate is a porous surface plate on which a glass substrate can be easily attached and detached, and serves as a support for the polishing head (12).
ガラス基板（３０）は、白太矢印で示すように、左方の前工程から搬送され、コロコンベアで搬送されながら研磨液供給部（２）において、研磨液供給ノズル（１１）から研磨液が供給され、研磨部（３）において、研磨ヘッド（１２）のガラス基板（３０）面への接触回動によってカラーフィルタ面が平坦化され、右方の後工程（水洗工程）へと搬送される。 The glass substrate (30) is conveyed from the previous process on the left side as indicated by the white arrow, and the polishing liquid is supplied from the polishing liquid supply nozzle (11) in the polishing liquid supply unit (2) while being conveyed by the roller conveyor. In the polishing section (3), the color filter surface is flattened by the contact rotation of the polishing head (12) with respect to the glass substrate (30) surface and conveyed to the right rear process (water washing process). .
図４（ｂ）は、カラーフィルタの研磨方法において用いられる研磨装置の側断面図である。図４（ｂ）に示すように、ガラス基板（３０）は、図中、左方の前工程（着色画素を形成する工程）からコンベアによって搬送される。水供給ノズルによって、搬送ベルトコンベア上には水が供給されている。搬送ベルト上に載置されるカラーフィルタ基板（３０）は、搬送ベルト上の水の界面張力によって、搬送ベルト上に固定された状態になる。 FIG. 4B is a sectional side view of a polishing apparatus used in the color filter polishing method. As shown in FIG.4 (b), a glass substrate (30) is conveyed by the conveyor from the left front process (process which forms a colored pixel) in the figure. Water is supplied onto the conveyor belt conveyor by the water supply nozzle. The color filter substrate (30) placed on the conveyor belt is fixed on the conveyor belt by the interfacial tension of water on the conveyor belt.
研磨液供給ノズル（１１）から研磨液の供給を受けたガラス基板（３０）は、搬送ベルトコンベアを介した下定盤上で、研磨ヘッド（１２）の接触回動によってカラーフィルタ面が平坦化され、右方の後工程（水洗工程）へとコロコンベアによって搬送される。前記研磨ヘッドの接触回動とは、研磨パットは基板に平行に、研磨パットの状態を維持したまま、研磨パッド全体を円運動する研磨方法である。 The glass substrate (30) supplied with the polishing liquid from the polishing liquid supply nozzle (11) has its color filter surface flattened by the contact rotation of the polishing head (12) on the lower surface plate via the conveyor belt conveyor. It is conveyed by the roller conveyor to the right rear process (water washing process). The contact rotation of the polishing head is a polishing method in which the polishing pad moves in a circular motion on the entire polishing pad while maintaining the state of the polishing pad parallel to the substrate.
従来のカラーフィルタの研磨方法は、矩形の研磨ヘッドをカラーフィルタ面に接触させ
、回動させることにより平坦化する方法である。研磨ヘッドを回動による研磨方法では、研磨時のカラーフィルタの搬送方向に対して直交する方向に研磨ムラが発生する問題がある。液晶表示装置では表示ムラなど表示品質を低下させることになる。
A conventional color filter polishing method is a method in which a rectangular polishing head is brought into contact with the color filter surface and is flattened by rotating. In the polishing method by rotating the polishing head, there is a problem that uneven polishing occurs in a direction perpendicular to the conveyance direction of the color filter during polishing. In the liquid crystal display device, display quality such as display unevenness is deteriorated.
図５を参照に、研磨ヘッドの接触回動と研磨ムラについて説明する。ガラス基板は、基板搬送方向へ水平搬送しながら、研磨ヘッドは、円運動の回動してカラーフィルタ面を研磨しており、この円運動の１サイクルの研磨時、研磨ヘッドの回転方向が逆向きとなるエリアがある。例えば、図５（ａ１）〜（ａ３）及び（ｂ１）〜（ｂ３）は、１サイクル間の研磨パッドの位置移動を説明する平面図である。（ａ１）〜（ａ３）は、ガラス基板の搬送方向と研磨ヘッドの研磨方向が逆方向となる。一方図５（ｂ１）〜（ｂ３）は、研磨ヘッドの研磨方向と基板搬送方向が同方向となる。そのため、（ａ１）〜（ａ３）の逆方向は、その研磨量が多くなり、（ｂ１）〜（ｂ３）の同方向では、相対速度がダウンし、研磨量が少なくなる。この場合、研磨後のガラス基板では、研磨ヘッドと平行する方向、すなわち前半部では研磨量が多く、後半では、研磨量が減少する１サイクルとなる。そのため、基板搬送方向と平行する方向に、研磨量に差ができ、一定ピッチのムラとして可視化される。 With reference to FIG. 5, the contact rotation of the polishing head and the polishing unevenness will be described. While the glass substrate is horizontally transported in the substrate transport direction, the polishing head is rotated in a circular motion to polish the color filter surface, and the rotation direction of the polishing head is reversed during polishing for one cycle of the circular motion. There is an area to face. For example, FIGS. 5 (a1) to (a3) and (b1) to (b3) are plan views illustrating the positional movement of the polishing pad during one cycle. In (a1) to (a3), the conveying direction of the glass substrate and the polishing direction of the polishing head are opposite. On the other hand, in FIGS. 5B1 to 5B3, the polishing direction of the polishing head and the substrate transport direction are the same direction. Therefore, in the reverse direction of (a1) to (a3), the amount of polishing increases, and in the same direction of (b1) to (b3), the relative speed decreases and the amount of polishing decreases. In this case, the polished glass substrate has one cycle in which the polishing amount is large in the direction parallel to the polishing head, that is, in the first half and the polishing amount is decreased in the second half. Therefore, there is a difference in the polishing amount in the direction parallel to the substrate transport direction, which is visualized as unevenness of a constant pitch.
以下に公知文献を記す。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次形成され、樹脂ブラックマトリックスの端部上に突起を有するカラーフィルタの突起を研磨除去する際に、研磨ムラの発生がないカラーフィルタの研磨方法を提供することである。 The present invention has been made to solve the above problems, and a resin black matrix and colored pixels are sequentially formed on a glass substrate, and the protrusions of the color filter having protrusions on the ends of the resin black matrix are polished and removed. It is an object of the present invention to provide a method for polishing a color filter that does not cause polishing unevenness.
本発明の請求項１に係る発明は、液晶表示装置用のカラーフィルタの製造に用いる研磨装置であって、
カラーフィルタ面に接触させ、
基板面と平行に回動する矩形の研磨ヘッドを複数台、カラーフィルタ搬送方向に対して直交方向へずらして配置し、２番目以降の研磨ヘッドの研磨を開始する位置を、１つの研磨ヘッドで研磨する際に発生するムラピッチ範囲内で基板搬送方向に対して均等にずらしたことを特徴とするカラーフィルタの研磨装置である。
The invention according to
Contact the color filter surface,
A plurality of rectangular polishing heads that rotate in parallel with the substrate surface are arranged so as to be shifted in a direction orthogonal to the color filter conveyance direction, and the position at which polishing of the second and subsequent polishing heads is started is performed by one polishing head. A color filter polishing apparatus, wherein the color filter polishing apparatus is uniformly shifted with respect to a substrate transport direction within a range of uneven pitch generated when polishing .
本発明の請求項２に係る発明は、研磨されるカラーフィルタ面を上向きにしてカラーフィルタを水平搬送しながら、
研磨部に前置きして設けられた研磨液供給部にて研磨液をカラーフィルタ面に供給し、
研磨部にて基板搬送方向と直交する方向に配置した矩形の研磨ヘッドをカラーフィルタ面に接触させ、基板面と平行に回動させることによりカラーフィルタ面を平坦化するカラーフィルタの研磨方法において、
複数台の矩形の研磨ヘッドを使用し、基板搬送方向と直交する方向にずらして配置した各矩形の研磨ヘッドをカラーフィルタ面に接触させ、カラーフィルタ面と平行に回動させることによりカラーフィルタ面を平坦化を行い、
２番目以降の研磨ヘッドの研磨を開始する位置を、１つの研磨ヘッドで研磨する際に発生するムラピッチ範囲内で基板搬送方向に対して均等にずらしていることを特徴とするカラーフィルタの研磨方法である。
The invention according to claim 2 of the present invention is to horizontally convey the color filter with the color filter surface to be polished facing upward,
Supply the polishing liquid to the color filter surface at the polishing liquid supply section provided in front of the polishing section,
In the polishing method of the color filter, the rectangular polishing head arranged in the direction orthogonal to the substrate transport direction in the polishing unit is brought into contact with the color filter surface, and the color filter surface is flattened by rotating in parallel with the substrate surface.
Using a plurality of rectangular polishing heads, each rectangle polishing heads arranged shifted in a direction perpendicular to the substrate conveying direction is brought into contact with the color filter surface, the color filter surface by parallel turning with the color filter surface Flatten the
The position for starting the grinding of the second and subsequent polishing head, a polishing method of a color filter, characterized that you have staggered evenly to the substrate conveying direction within Murapitchi range that occurs when polishing a single polishing head It is.
本発明のカラーフィルタの研磨方法は、研磨されるカラーフィルタ面を上向きにしてカラーフィルタを水平搬送し、研磨部に前置きして設けられた研磨液供給部にて研磨液をカ
ラーフィルタ面に供給し、研磨部にて複数台の矩形の研磨ヘッドを使用し、各研磨ヘッドの研磨を開始する位置をずらしたことにより、基板搬送方向の研磨ムラのピッチを狭くし、研磨ムラの可視化を防ぐことで研磨ムラが消去できる、研磨作業の生産性を向上させたカラーフィルタの研磨方法を提供することができる。
The color filter polishing method of the present invention is such that the color filter surface to be polished faces upward, the color filter is horizontally conveyed, and the polishing liquid is supplied to the color filter surface by a polishing liquid supply section provided in front of the polishing section. In addition, by using a plurality of rectangular polishing heads in the polishing unit and shifting the polishing start position of each polishing head, the pitch of the polishing unevenness in the substrate transport direction is narrowed to prevent the polishing unevenness from being visualized. Thus, it is possible to provide a polishing method for a color filter that can eliminate uneven polishing and improve the productivity of polishing work.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
図１は、本発明のカラーフィルタの研磨方法を説明する図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、正面断面図であり、（ｃ）は、側断面図である。 1A and 1B are diagrams for explaining a polishing method for a color filter of the present invention. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a front sectional view, and FIG. 1C is a side sectional view. .
本発明のカラーフィルタの研磨装置は、液晶表示装置用のカラーフィルタの製造に用いる研磨装置で、研磨液供給部と、洗浄及び乾燥部との間に、配置した研磨部より構成される装置である。 The color filter polishing apparatus of the present invention is a polishing apparatus used for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device, and is an apparatus constituted by a polishing unit disposed between a polishing liquid supply unit and a cleaning and drying unit. is there.
本発明のカラーフィルタの研磨装置研磨部は、矩形の研磨ヘッドが複数台、例えば３台研磨ヘッド１２ａ、１２ｂ、１２ｃを基板搬送方向へ配置し、矩形の研磨ヘッドがカラーフィルタ面に接触させ、基板面と平行に回動させることによりカラーフィルタ面を平坦化するカラーフィルタの研磨装置である。
In the polishing unit of the color filter of the present invention, a plurality of rectangular polishing heads, for example, three polishing
各矩形の研磨ヘッド１２ｂは、基準の研磨ヘッド１２ａとの研磨を開始する位置をずらすため研磨を開始する（研磨ヘッドの回転を開始する）位置をずらしたカラーフィルタの研磨装置である。
Each
複数の研磨ヘッド間の前記ずらし量は、一台目の研磨ヘッド１２ａの研磨開始位置を基準位置とし、二台目以降は、
Ｚｉ ＝ Ｐ（Ｋｉ−１）／ｎ ――――式１
Ｚｉ：研磨ヘッドｉ番目のずらし量（単位ｍｍ）
Ｐ：ピッチ距離（単位ｍｍ）
ｎ：研磨パッドの台数
Ｋｉ：ｉ番目の研磨ヘッド（ｉ＝１，２，３，）
Ｋ1＝１，Ｋ2＝２，Ｋ3＝３
式１を用いて、そのずらし量を算出し、そのずらし量の位置で２番目の研磨ヘッド１２ｂが研磨を開始し、次いで、３番目の研磨ヘッド１２ｃを式１から算出し研磨開始位置を設定したカラーフィルタの研磨装置である。つまり、２番目以降の研磨ヘッドの研磨を開始する位置を、１つの研磨ヘッドで発生するムラピッチ範囲内で基板搬送方向に対して均等にずらす。
The shift amount between the plurality of polishing heads is based on the polishing start position of the
Zi = P (Ki-1) / n ――――
Zi: i-th shift amount of the polishing head (unit: mm)
P: Pitch distance (unit: mm)
n: number of polishing pads Ki: i-th polishing head (i = 1, 2, 3,)
K 1 = 1, K 2 = 2, K 3 = 3
The shift amount is calculated using
カラーフィルタの研磨では、樹脂膜、すなわち、粘弾性のある膜を研磨する際には、その粘弾性の程度によるが、研磨ヘッドが剛体板と弾性体の複合構造であると、更に良好な、すなわち、研磨が面内で更に均一な結果が得られる。研磨ヘッドの構造例は、研磨ヘッドの上部が剛体板、下部が弾性体の組み合わせとするとよい。 In the polishing of the color filter, when polishing a resin film, that is, a viscoelastic film, depending on the degree of the viscoelasticity, the polishing head is more preferably a composite structure of a rigid plate and an elastic body. That is, a more uniform result can be obtained in the in-plane polishing. As an example of the structure of the polishing head, the upper part of the polishing head is preferably a combination of a rigid plate and the lower part is a combination of elastic bodies.
また、本発明による研磨方法においては、ガラス基板（カラーフィルタ）（１）の水平搬送の速度が、０．１〜２０ｍ／分であると良好に適用できる。また、研磨ヘッドのガラス基板（カラーフィルタ）（１）面への接触回転動の速度が、５〜１０００ｒｐｍであると良好に適用できる。 In the polishing method according to the present invention, the glass substrate (color filter) (1) can be suitably applied when the horizontal conveyance speed is 0.1 to 20 m / min. Moreover, it can be satisfactorily applied when the speed of contact rotation of the polishing head to the glass substrate (color filter) (1) surface is 5 to 1000 rpm.
１…ガラス基板
２…研磨液供給部
３…研磨部
１０…研磨装置
１１…研磨液供給ノズル
１２…矩形の研磨ヘッド
１２ａ…矩形の研磨ヘッド
１２ｂ…矩形の研磨ヘッド
１２ｃ…矩形の研磨ヘッド
１５…水供給ノズル
２２…剛体板
２３…弾性体
３０…ガラス基板（カラーフィルタ）
３１…ブラックマトリックス
３２…着色画素
３２ａ…Ｒ色画素
３２ｂ…Ｇ色画素
３２ｃ…Ｂ色画素
５１…樹脂ブラックマトリックス
５３…突起
７０…カラーフィルタ
DESCRIPTION OF
31 ...
Claims (2)
カラーフィルタ面に接触させ、
基板面と平行に回動する矩形の研磨ヘッドを複数台、カラーフィルタ搬送方向に対して直交方向へずらして配置し、２番目以降の研磨ヘッドの研磨を開始する位置を、１つの研磨ヘッドで研磨する際に発生するムラピッチ範囲内で基板搬送方向に対して均等にずらしたことを特徴とするカラーフィルタの研磨装置。 A polishing apparatus used for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device,
Contact the color filter surface,
A plurality of rectangular polishing heads that rotate in parallel with the substrate surface are arranged so as to be shifted in a direction orthogonal to the color filter conveyance direction, and the position at which polishing of the second and subsequent polishing heads is started is performed by one polishing head. A color filter polishing apparatus, wherein the color filter polishing apparatus is uniformly shifted with respect to a substrate transport direction within a range of uneven pitches generated during polishing.
研磨部に前置きして設けられた研磨液供給部にて研磨液をカラーフィルタ面に供給し、
研磨部にて基板搬送方向と直交する方向に配置した矩形の研磨ヘッドをカラーフィルタ面に接触させ、基板面と平行に回動させることによりカラーフィルタ面を平坦化するカラーフィルタの研磨方法において、
複数台の矩形の研磨ヘッドを使用し、基板搬送方向と直交する方向にずらして配置した各矩形の研磨ヘッドをカラーフィルタ面に接触させ、カラーフィルタ面と平行に回動させることによりカラーフィルタ面を平坦化を行い、
２番目以降の研磨ヘッドの研磨を開始する位置を、１つの研磨ヘッドで研磨する際に発生するムラピッチ範囲内で基板搬送方向に対して均等にずらしていることを特徴とするカラーフィルタの研磨方法。 While horizontally transporting the color filter with the color filter surface to be polished facing upward,
Supply the polishing liquid to the color filter surface at the polishing liquid supply section provided in front of the polishing section,
In the polishing method of the color filter, the rectangular polishing head arranged in the direction orthogonal to the substrate transport direction in the polishing unit is brought into contact with the color filter surface, and the color filter surface is flattened by rotating in parallel with the substrate surface.
Using a plurality of rectangular polishing heads, each rectangle polishing heads arranged shifted in a direction perpendicular to the substrate conveying direction is brought into contact with the color filter surface, the color filter surface by parallel turning with the color filter surface Flatten the
The position for starting the grinding of the second and subsequent polishing head, a polishing method of a color filter, characterized that you have staggered evenly to the substrate conveying direction within Murapitchi range that occurs when polishing a single polishing head .
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