JP5259354B2 - Photocurable resin and dispersant using the same - Google Patents

Photocurable resin and dispersant using the same Download PDF

Info

Publication number
JP5259354B2
JP5259354B2 JP2008297000A JP2008297000A JP5259354B2 JP 5259354 B2 JP5259354 B2 JP 5259354B2 JP 2008297000 A JP2008297000 A JP 2008297000A JP 2008297000 A JP2008297000 A JP 2008297000A JP 5259354 B2 JP5259354 B2 JP 5259354B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
photocurable resin
halogen atom
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008297000A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010121070A (en
Inventor
英之 横田
政秀 都築
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adeka Corp filed Critical Adeka Corp
Priority to JP2008297000A priority Critical patent/JP5259354B2/en
Publication of JP2010121070A publication Critical patent/JP2010121070A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5259354B2 publication Critical patent/JP5259354B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

本発明は、特定の構造を有する新規な光硬化性樹脂及びそれを用いた分散剤に関する。   The present invention relates to a novel photocurable resin having a specific structure and a dispersant using the same.

従来より、塗料、インキ等の分野において、顔料の分散性を向上させ、塗料等の貯蔵安定性や塗膜の光沢をあげるために各種分散剤が用いられている。例えば、特許文献1には、少なくとも一個の環窒素含有塩基性基を有する化合物に由来する分散剤が開示されており、特許文献2には、ポリイソシアネ−ト、アクリレ−ト化合物又はエポキシド化合物及び環状化合物との反応で得られる反応生成物からなる分散剤が開示されており、特許文献3には、分散剤として特定の分散樹脂を用いたカラーフィルター用レジスト組成物が開示されている。   Conventionally, in the fields of paints and inks, various dispersants have been used to improve the dispersibility of pigments and increase the storage stability of paints and the gloss of coating films. For example, Patent Document 1 discloses a dispersant derived from a compound having at least one ring nitrogen-containing basic group, and Patent Document 2 discloses a polyisocyanate, an acrylate compound, an epoxide compound, and a cyclic compound. A dispersant comprising a reaction product obtained by reaction with a compound is disclosed, and Patent Document 3 discloses a color filter resist composition using a specific dispersion resin as a dispersant.

また近年、分散剤自身に光硬化性を付与し、光硬化性バインダーとの相溶性、塗膜時の光硬化性、基材への密着性等を向上させる試みがなされている。特許文献4には、ポリウレタン樹脂系光硬化性被覆剤が開示されており、特許文献5には、(メタ)アクリレート化合物とモノアミン化合物とを反応させて得られる顔料分散剤が開示されているが、該被覆剤又は分散剤は、光硬化性又は密着性が十分ではなかった。   In recent years, attempts have been made to impart photocurability to the dispersant itself to improve compatibility with the photocurable binder, photocurability at the time of coating, adhesion to the substrate, and the like. Patent Document 4 discloses a polyurethane resin-based photocurable coating agent, and Patent Document 5 discloses a pigment dispersant obtained by reacting a (meth) acrylate compound with a monoamine compound. The coating agent or dispersant was not sufficiently photocurable or adhesive.

特開平4−210220号公報JP-A-4-210220 特表2000−506436号公報JP 2000-506436 A 特開平10−300919号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-300909 特開平11−80665号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-80665 特開2007−711号公報JP 2007-711 A

本発明は、高い分散性を持ち、塗膜時の光硬化性及び基材への密着性の高い分散剤を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a dispersant having high dispersibility, high photocurability during coating, and high adhesion to a substrate.

本発明は、ジイソシアネート化合物(A)に対し、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜5000の化合物(B)及び二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(C)を付加させた後、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れか(D)をマイケル付加させることによって得られ、SEC(Size Exclusion Chromatgraphy)で測定されるポリスチレン換算の質量平均分子量が1000〜50000である光硬化性樹脂を提供することにより、上記目的を達成したものである。 In the present invention, the diisocyanate compound (A) is a compound (B) having a number average molecular weight of 300 to 5000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule, and an adduct of a bifunctional epoxy compound and an unsaturated monobasic acid ( After addition of C), polystyrene-converted weight average molecular weight obtained by Michael addition of diethylamine, diethanolamine, dibutylamine or N-methylpiperazine (D) and measured by SEC (Size Exclusion Chromatography) The above object is achieved by providing a photo-curable resin having a molecular weight of 1000 to 50000 .

また、本発明は、上記光硬化性樹脂に、さらに多塩基酸酸無水物(E)をエステル化させて得られる光硬化性樹脂を提供するものである。   Moreover, this invention provides the photocurable resin obtained by esterifying a polybasic acid anhydride (E) further to the said photocurable resin.

また、本発明は、上記光硬化性樹脂を有効成分とする分散剤を提供することにより、上記目的を達成したものである。   Moreover, this invention achieves the said objective by providing the dispersing agent which uses the said photocurable resin as an active ingredient.

本発明の光硬化性樹脂は、優れた光硬化性を有しているため、該光硬化性樹脂を有効成分とする分散剤は、塗膜時の光硬化性及び光硬化後の基材への密着性が高い。   Since the photocurable resin of the present invention has excellent photocurability, the dispersant containing the photocurable resin as an active ingredient is applied to the photocured during coating and the substrate after photocuring. High adhesion.

以下、本発明の光硬化性樹脂及びそれを用いた分散剤について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。   Hereinafter, the photocurable resin of the present invention and a dispersant using the same will be described in detail based on preferred embodiments.

本発明の光硬化性樹脂は、ジイソシアネート化合物(A)に対し、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜5000の化合物(B)及び二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(C)を付加させた後、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れか(D)をマイケル付加させ、更に必要に応じ、多塩基酸酸無水物(E)をエステル化させることによって得られる。 The photocurable resin of the present invention is a compound (B) having a number average molecular weight of 300 to 5,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule, a bifunctional epoxy compound and an unsaturated monobasic compound with respect to the diisocyanate compound (A). After the acid adduct (C) is added , any one of diethylamine, diethanolamine, dibutylamine or N-methylpiperazine (D) is Michael-added, and if necessary, polybasic acid anhydride (E) is added. Obtained by esterification.

本発明の光硬化性樹脂を得るために使用されるジイソシアネート化合物(A)としては、例えば、1,2−エチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4,−トリメチル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1,12−ドデカンジイソシアネート、ω,ω′−ジイソシアナートジプロピルエーテル等の脂肪族ジイソシアネート;シクロブタン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、2,2−ジイソシアナート−1−メチル−シクロヘキサン、−2,6−ジイソシアナート−1−メチル−シクロヘキサン、イソホロジイソシアネート、2,5−ビス−(イソシアナートメチル)−8−メチル−1,4−メタノ−デカヒドロナフタレン、3,5−ビス−(イソシアナートメチル)−8−メチル−1,4−メタノ−デカヒドロナフタレン、1,5−ビス(イソシアナートメチル)−4,7−メタノ−ヘキサヒドロインダン、2,5−ビス(イソシアナートメチル)−4,7−メタノ−ヘキサヒドロインダン、1,6−ビス(イソシアナートメチル)−4,7−メタノ−ヘキサヒドロインダン、2,6−ビス(イソシアナートメチル)−4,7−メタノ−ヘキサヒドロインダン、1,5−、2,5−、1,6−及び2,6−ビス(イソシアナート)−4,7−メタノ−ヘキサヒドロインダン、ジシクロヘキシル−2,4′−及び4,4′−ジイソシアネート、2,4−及び2,6−ヘキサヒドロトリレンジイソシアネート、パーヒドロ−2,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、パーヒドロ−4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジ(イソシアナートシクロヘキシル)−メタン、3−イソシアナート−メチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート等の環状脂肪族ジイソシアネート;ω,ω′−ジイソシアナート−1,4−ジエチル−ベンゼン、1,3−フエニレンジイソシアネート、1,4−フエニレンジイソシアネート、4,4′−ジイソシアナート−ジフェニル、4,4′−ジイソシアナート−3,3′−ジクロロジフェニル、4,4′−ジイソシアナート−3,3′−ジメトキシ−ジフェニル、4,4′−ジイソシアナート−3,3′−ジメチル−ジフェニル、4,4′−ジイソシアナート−3,3′−ジフェニル−ジフェニル、2,4′−及び4,4′−ジイソシアナート−ジフェニルメタン、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレン−ジイソシアネート、N,N′−(4,4−ジメチル−3,3′−ジイソシアナートジフェニル)−ウレトジオン、m−キシリレン−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、2,4,4′−トリイソシアナート−ジフェニルエーテル、4,4′,4″−トリイソシアナートトリフェニルメタン、トリス(4−イソシアナートフェニル)−チオホスェート等の芳香族ジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the diisocyanate compound (A) used for obtaining the photocurable resin of the present invention include 1,2-ethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2 , 4-trimethyl-1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,4,4, -trimethyl-1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,12-dodecane diisocyanate, ω, ω'-diisocyanate dipropyl ether, etc. Aliphatic diisocyanate; cyclobutane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, 2,2-diisocyanate-1-methyl-cyclohexane, -2,6-diisocyanate -1-methyl-cyclohex Sun, isophorodiisocyanate, 2,5-bis- (isocyanatomethyl) -8-methyl-1,4-methano-decahydronaphthalene, 3,5-bis- (isocyanatomethyl) -8-methyl-1, 4-methano-decahydronaphthalene, 1,5-bis (isocyanatomethyl) -4,7-methano-hexahydroindane, 2,5-bis (isocyanatomethyl) -4,7-methano-hexahydroindane, 1,6-bis (isocyanatomethyl) -4,7-methano-hexahydroindane, 2,6-bis (isocyanatomethyl) -4,7-methano-hexahydroindane, 1,5-, 2,5 -, 1,6- and 2,6-bis (isocyanate) -4,7-methano-hexahydroindane, dicyclohexyl-2,4'- and 4,4'-diiso Anate, 2,4- and 2,6-hexahydrotolylene diisocyanate, perhydro-2,4'-diphenylmethane diisocyanate, perhydro-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-di (isocyanatocyclohexyl) -methane Cyclic aliphatic diisocyanates such as 3-isocyanate-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate; ω, ω'-diisocyanate-1,4-diethyl-benzene, 1,3-phenylene diisocyanate, 1 , 4-phenylene diisocyanate, 4,4'-diisocyanate-diphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dichlorodiphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethoxy -Diphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3 -Dimethyl-diphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-diphenyl-diphenyl, 2,4'- and 4,4'-diisocyanato-diphenylmethane, naphthalene-1,5-diisocyanate, 2, 4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, N, N '-(4,4-dimethyl-3,3'-diisocyanatodiphenyl) -uretodione, m-xylylene diisocyanate, diphenylmethane-2,4 '-Diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 2,4,4'-triisocyanate-diphenyl ether, 4,4', 4 "-triisocyanate triphenylmethane, tris (4-isocyanatophenyl)- And aromatic diisocyanates such as thiophosphate.

上記ジイソシアネート化合物(A)は、カルボジイミド変性、イソシアヌレート変性、ビウレット変性等の変性物の形で用いてもよく、各種のブロッキング剤によってブロックされたブロックイソシアネートの形で用いてもよい。   The diisocyanate compound (A) may be used in the form of a modified product such as carbodiimide modification, isocyanurate modification, biuret modification, or may be used in the form of a blocked isocyanate blocked with various blocking agents.

上記ジイソシアネート化合物(A)としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート及びイソホロンジイソシアネートが、得られる光硬化性樹脂の顔料への吸着性が高いので好ましい。   As the diisocyanate compound (A), tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and isophorone diisocyanate are preferable because adsorbability of the resulting photocurable resin to the pigment is high.

本発明の光硬化性樹脂を得るために使用される、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜5000の化合物(B)としては、ポリエーテルジオール類、ポリエステルジオール類、ポリエステルポリカーボネートジオール類、ポリカーボネートジオール類、ポリオレフィンジオール類、及びこれらの化合物の片末端水酸基が炭素原数1〜25のアルキル基でアルコキシ化されたもの等が挙げられ、これらは混合して使用されてもよい。   Examples of the compound (B) having a number average molecular weight of 300 to 5000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule used for obtaining the photocurable resin of the present invention include polyether diols, polyester diols, Examples include polyester polycarbonate diols, polycarbonate diols, polyolefin diols, and compounds in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms. Also good.

上記ポリエーテルジオール類としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等のエチレンオキサイド付加物;ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレンオキサイド付加物;低分子ポリオールのエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイド付加物、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。   Examples of the polyether diols include ethylene oxide adducts such as diethylene glycol and triethylene glycol; propylene oxide adducts such as dipropylene glycol and tripropylene glycol; ethylene oxide and / or propylene oxide adducts of low molecular polyols, Examples include polytetramethylene glycol.

上記ポリエステルジオール類としては、低分子ジオール類と、その化学量論量より少ない量の二価カルボン酸又はそのエステル、無水物、ハライド等のエステル形成性誘導体及び/又はラクトン類又はその加水分解開環して得られるヒドロキシカルボン酸との直接エステル化反応及び/又はエステル交換反応により得られるものが挙げられる。   Examples of the polyester diols include low-molecular diols, divalent carboxylic acids in an amount less than the stoichiometric amount, or ester-forming derivatives such as esters, anhydrides, halides, and / or lactones or hydrolyzed derivatives thereof. Examples thereof include those obtained by direct esterification and / or transesterification with a hydroxycarboxylic acid obtained by ring.

上記低分子ジオール類としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、3,5−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール等の脂肪族ジオール;シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール等の脂環式ジオール;キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコールが挙げられる。   Examples of the low molecular diols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, and 2-butyl-2- Ethyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-2,4-pentanediol, 2,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1 , 5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 3,5-heptanediol 1,8-octanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol Aliphatic diols such as 1,10-decanediol; cyclohexanedimethanol, alicyclic diols such as cyclohexanediol; xylylene glycol, aromatic glycols such as bishydroxyethoxybenzene.

上記二価カルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、ドデカン二酸、2−メチルコハク酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、3−メチルペンタン二酸、2−メチルオクタン二酸、3,8−ジメチルデカン二酸、3,7−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸類が挙げられ、上記エステル形成性誘導体としては、これらの二価カルボン酸の酸無水物、該二価カルボン酸クロライド等のハライド;該二価カルボン酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、アミルエステル等の低級脂肪族エステルが挙げられ、これらは混合して使用されてもよい。   Examples of the divalent carboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, dodecanedioic acid, and 2-methylsuccinic acid. Acid, 2-methyladipic acid, 3-methyladipic acid, 3-methylpentanedioic acid, 2-methyloctanedioic acid, 3,8-dimethyldecanedioic acid, 3,7-dimethyldecanedioic acid, hydrogenated dimer acid Aliphatic dicarboxylic acids such as dimer acid; aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and naphthalenedicarboxylic acid; and alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid. , Anhydrides of these divalent carboxylic acids, halides such as the divalent carboxylic acid chlorides; Methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, include lower aliphatic esters such as amyl esters, these may also be mixed.

上記ラクトン類としては、γ−カプロラクトン、δ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、ジメチル−ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−ブチロラクトン等のラクトン類が挙げられる。   Examples of the lactones include lactones such as γ-caprolactone, δ-caprolactone, ε-caprolactone, dimethyl-ε-caprolactone, δ-valerolactone, γ-valerolactone, and γ-butyrolactone.

上記ポリエステルポリカーボネートジオール類としては、ジオール、二価カルボン酸及びジアルキルカーボネート、アルキレンカーボネート、ジアリールカーボネート等のカーボネート化合物を同時に反応させて得られたもの、あらかじめ合成したポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールをカーボネート化合物と反応させて得られたもの、或いはあらかじめ合成したポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールをポリオール及びポリカルボン酸と反応させて得られたもの等を挙げることができる。   Examples of the polyester polycarbonate diols include those obtained by simultaneously reacting diols, divalent carboxylic acids and carbonate compounds such as dialkyl carbonates, alkylene carbonates, diaryl carbonates, etc., polyester polyols synthesized in advance and polycarbonate polyols reacted with carbonate compounds. And those obtained by reacting polyester polyol and polycarbonate polyol synthesized in advance with polyol and polycarboxylic acid.

上記ポリカーボネートジオール類としては、ポリ(1,6−ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレン)カーボネート等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate diols include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate.

上記ポリオレフィンジオール類としては、ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。   Examples of the polyolefin diols include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, and hydrogenated polyisoprene glycol.

上記同一分子内に水酸基を1個又は2個有する化合物(B)としては、特にポリエーテルジオール類及び/又はポリエステルジオール類が、溶媒との親和性がよく、光硬化性樹脂の分散性が向上するため好ましい。同一分子内に水酸基を1個又は2個有する化合物の数平均分子量は300〜5000、好ましくは500〜3000である。   As the compound (B) having one or two hydroxyl groups in the same molecule, particularly polyether diols and / or polyester diols have good affinity with a solvent, and the dispersibility of the photocurable resin is improved. Therefore, it is preferable. The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is 300 to 5,000, preferably 500 to 3,000.

本発明の光硬化性樹脂は、(C)成分として、二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物を使用するThe photocurable resin of the present invention, as the component (C), using a bifunctional epoxy compound and an adduct of an unsaturated monobasic acid.

上記二官能エポキシ化合物としては、例えば、二価アルコール又はそのアルキレンオキシド付加物のジグリシジルエーテル、二塩基酸のジグリシジルエステル、シクロヘキセン環若しくはシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキシド、又はシクロペンテンオキシド含有化合物等を用いることができ、具体的には以下の化合物を挙げることができる。   Examples of the bifunctional epoxy compound are obtained by epoxidizing a diglycidyl ether of a dihydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, a diglycidyl ester of a dibasic acid, a cyclohexene ring or a cyclopentene ring-containing compound with an oxidizing agent. Cyclohexene oxide, a cyclopentene oxide-containing compound, or the like can be used, and specific examples include the following compounds.

すなわち、ビスフェノールM型エポキシ樹脂、ビスフェノールP型エポキシ樹脂、下記一般式(I)で表されるエポキシ樹脂等のビスフェノールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;該ビスフェノールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を水添して得られる水添ビスフェノール型ジグリシジルエーテル;エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,3−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,2−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジオールジグリシジルエーテル、1,10−デカンジオールジグリシジルエーテル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル等の脂肪族二価アルコールのグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、イソプロピリデンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、1,2−エポキシ−2−エポキシエチルシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのニ塩基酸のグリシジルエステル;N,N−ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等が挙げられる。   That is, bisphenol diglycidyl ether type epoxy resin such as bisphenol M type epoxy resin, bisphenol P type epoxy resin, epoxy resin represented by the following general formula (I); obtained by hydrogenating the bisphenol diglycidyl ether type epoxy resin Hydrogenated bisphenol type diglycidyl ether; ethylene glycol diglycidyl ether, 1,3-propylene glycol diglycidyl ether, 1,2-propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexane Diol diglycidyl ether, 1,8-octanediol diglycidyl ether, 1,10-decanediol diglycidyl ether, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol diglycidyl ether, die Lenglycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, hexaethylene glycol diglycidyl ether, glycidyl ether of aliphatic dihydric alcohols such as 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether; phenol novolac Type epoxy compounds, biphenyl novolac type epoxy compounds, cresol novolac type epoxy compounds, bisphenol A novolac type epoxy compounds, dicyclopentadiene novolac type epoxy compounds and the like novolac type epoxy compounds; 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3 , 4-Epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl -3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4 -Epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), isopropylidenebis (3,4-epoxycyclohexane ), Alicyclic epoxy compounds such as dicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane; diglycidyl phthalate Steric, glycidyl esters of dibasic acids such as tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid glycidyl ester; glycidyl amines such as N, N-diglycidyl aniline; complex such as 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin Cyclic epoxy compounds; dioxide compounds such as dicyclopentadiene dioxide; naphthalene-type epoxy compounds, triphenylmethane-type epoxy compounds, dicyclopentadiene-type epoxy compounds, and the like.

Figure 0005259354
(式中、Mは直接結合、炭素原子数1〜4のアルキリデン基、脂環式炭化水素基、O、S、SO2、SS、SO、CO、OCO又は下記[化2]で表される群から選ばれる置換基を表し、上記アルキリデン基はハロゲン原子で置換されていてもよく、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R1及びR2は、連結して環構造を形成していてもよく、nは0又は1〜10の整数である。)
Figure 0005259354
(In the formula, M is represented by a direct bond, an alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group, O, S, SO 2 , SS, SO, CO, OCO, or the following [Chemical Formula 2]. Represents a substituent selected from the group, wherein the alkylidene group may be substituted with a halogen atom, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. Represents an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and R 1 and R 2 are And may be linked to form a ring structure, and n is 0 or an integer of 1 to 10.)

Figure 0005259354
(式中、Q及びBは、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基若しくは炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を表し、Z及びEは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、A及びDは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数2〜20の複素環基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基中のメチレン基は、不飽和結合、−O−又は−S−で中断されていてもよく、A及びDは、A同士、D同士又はAとDで環を形成していてもよく、その環は芳香環でもよく、R3は水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、pは0〜5の数を表し、kは0〜5の数を表し、aは0〜4の数を表し、dは0〜4の数を表す。)
Figure 0005259354
(In the formula, Q and B are each independently a hydrogen atom, a phenyl group which may be substituted with a C 1-10 alkyl group or a C 1-10 alkoxy group or a C 3 carbon atom. Represents a cycloalkyl group having 10 to 10 carbon atoms, and Z and E each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a halogen atom. Represents an atom, and the alkyl group, the alkoxy group and the alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and A and D each independently have 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Alkyl groups, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, arylalkyl groups having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms Represents a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a halogen atom, and the methylene group in the alkyl group, aryl group and arylalkyl group is an unsaturated bond, -O- or- A and D may be interrupted by S-, A and D may form a ring between A, D or A and D, the ring may be an aromatic ring, and R 3 is a hydrogen atom, a carbon atom Represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or a halogen atom, wherein the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group are substituted with a halogen atom. And p represents a number from 0 to 5, k represents a number from 0 to 5, a represents a number from 0 to 4, and d represents a number from 0 to 4.)

上記一般式(I)において、Mで表わされる炭素原子数1〜4のアルキリデン基としては、メチリデン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン等が挙げられ、脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等のシクロアルカン基や、シクロプロペニル、シクロブテニル、、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル等のシクロアルケン基が挙げられる。   In the general formula (I), examples of the alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms represented by M include methylidene, ethylidene, propylidene, butylidene, and the like, and examples of the alicyclic hydrocarbon group include cyclopropyl, cyclobutyl, Examples include cycloalkane groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl, and cycloalkene groups such as cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl, cycloheptenyl, and cyclooctenyl.

1及びR2で表わされる炭素原子数1〜5のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、t−アミル等が挙げられ、炭素原子数1〜8のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、炭素原子数2〜5のアルケニル基としては、エテニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル等が挙げられ、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。R1及びR2が連結して形成していてもよい環構造としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環、ラクタム環等の5〜7員環及びナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、アセナフテン環、インダン環、テトラリン環等の縮合環が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, s-butyl, t-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, t-amyl and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include methyloxy, ethyloxy, isopropyloxy, propyloxy, butyloxy, pentyloxy, isopentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy and the like. Examples of the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms include ethenyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, pentenyl and the like, and examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the ring structure that R 1 and R 2 may be formed by linking include cyclopentane ring, cyclohexane ring, cyclopentene ring, benzene ring, piperidine ring, morpholine ring, lactone ring, and lactam ring. Examples thereof include condensed rings such as rings and naphthalene rings, anthracene rings, fluorene rings, acenaphthene rings, indane rings, and tetralin rings.

上記[化2]で表される群から選ばれる置換基において、Q及びBで表わされるフェニル基を置換していてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、t−ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル等が挙げられ、Q及びBで表わされるフェニル基を置換していてもよい炭素原子数1〜10のアルコキシ基としては、R1及びR2で表わされる炭素原子数1〜8のアルコキシ基として例示したものと同様の基の他、ノニルオキシ、デシルオキシ等が挙げられ、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。 In the substituent selected from the group represented by [Chemical Formula 2], the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with the phenyl group represented by Q and B includes methyl, ethyl, propyl, Isopropyl, butyl, s-butyl, t-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, isoheptyl, t-heptyl, n-octyl, isooctyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, n-nonyl, n- decyl and the like, and the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted phenyl group represented by Q and B, having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 and R 2 In addition to the same groups as those exemplified as the alkoxy group, nonyloxy, decyloxy and the like can be mentioned, and examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms include , Cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl and the like.

Z及びEで表わされる炭素原子数1〜10のアルキル基としては、Q及びBで表わされるフェニル基を置換していてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基として例示したものと同様の基が挙げられ、炭素原子数1〜10のアルコキシ基としては、Q及びBで表わされるフェニル基を置換していてもよい炭素原子数1〜10のアルコキシ基として例示したものと同様の基が挙げられ、炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、Q及びBで表わされる炭素原子数2〜5のアルケニル基として例示したものと同様の基の他に、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネリル、デセニル等が挙げられ、ハロゲン原子としては、Q及びBで表わされるハロゲン原子として例示したものと同様の基が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Z and E are the same as those exemplified as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with the phenyl group represented by Q and B. Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms include the same groups as those exemplified as the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with the phenyl group represented by Q and B. As the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, in addition to the groups similar to those exemplified as the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms represented by Q and B, hexenyl, heptenyl, octenyl, nonenyl, decenyl Examples of the halogen atom include the same groups as those exemplified as the halogen atom represented by Q and B.

A及びDで表わされる、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基としては、Q及びBで表わされる炭素原子数1〜10のアルキル基として例示したものと同様の基の他、ハロゲン原子で置換されたものとして、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、モノフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、テトラフルオロエチル、トリフルオロエチル、ジフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ヘキサフルオロプロピル、ペンタフルオロプロピル、テトラフルオロプロピル、トリフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられ、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、1−アントリル、1−フェナントリル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、3−フルオレニル、9−フルオレニル、1−テトラヒドロナフチル、2−テトラヒドロナフチル、1−アセナフテニル、1−インダニル、2−インダニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−t−ブチルフェニル、2,5−ジ−t−ブチルフェニル、2,6−ジ−t−ブチルフェニル、2,4−ジ−t−ペンチルフェニル、2,5−ジ−t−アミルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニル、4−クロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、4−トリクロロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、パーフルオロフェニル等が挙げられ、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、4−クロロフェニルメチル、ベンジルオキシ基、1−ナフチルメトキシ基、2−ナフチルメトキシ基、1−アントリルメトキシ等が挙げられ、ハロゲン原子で置換されていてもよい複素環基としては、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等が挙げられ、ハロゲン原子としては、Q及びBで表わされるハロゲン原子として例示したものと同様の基が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom represented by A and D are the same as those exemplified as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Q and B. In addition to groups, those substituted with halogen atoms include trifluoromethyl, difluoromethyl, monofluoromethyl, pentafluoroethyl, tetrafluoroethyl, trifluoroethyl, difluoroethyl, heptafluoropropyl, hexafluoropropyl, pentafluoropropyl , Tetrafluoropropyl, trifluoropropyl, perfluorobutyl and the like. Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1- Anthryl, 1-phenanthryl, o-tolyl, -Tolyl, p-tolyl, 3-fluorenyl, 9-fluorenyl, 1-tetrahydronaphthyl, 2-tetrahydronaphthyl, 1-acenaphthenyl, 1-indanyl, 2-indanyl, 4-vinylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-isopropyl Phenyl, 4-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 4-t-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-di-t-butylphenyl, 2,5- Di-t-butylphenyl, 2,6-di-t-butylphenyl, 2 4-di-t-pentylphenyl, 2,5-di-t-amylphenyl, biphenyl, 2,4,5-trimethylphenyl, 4-chlorophenyl, 3,4-dichlorophenyl, 4-trichloromethylphenyl, 4-tri Examples of the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include benzyl, phenethyl, 2-phenylpropyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, and the like. Examples include a styryl, cinnamyl, 4-chlorophenylmethyl, benzyloxy group, 1-naphthylmethoxy group, 2-naphthylmethoxy group, 1-anthrylmethoxy, and the like, and examples of the heterocyclic group optionally substituted with a halogen atom include Pyrrolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, piperazi , Piperidyl, pyranyl, pyrazolyl, triazyl, pyrrolidyl, quinolyl, isoquinolyl, imidazolyl, benzoimidazolyl, triazolyl, furyl, furanyl, benzofuranyl, thienyl, thiophenyl, benzothiophenyl, thiadiazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, oxazolyl, benzoxazolyl, isothiazolyl , Isoxazolyl, indolyl, urolidyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, 2-pyrrolidinon-1-yl, 2-piperidone-1-yl, 2,4-dioxyimidazolidin-3-yl, 2,4-dioxyoxazolidine -3-yl and the like, and examples of the halogen atom include the same groups as those exemplified as the halogen atom represented by Q and B.

3で表わされる炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基及びハロゲン原子としては、上記一般式(I)の説明で例示した基がそれぞれ挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 3 are exemplified in the description of the general formula (I). Each of the above groups.

A同士、D同士又はAとDで形成していてもよい環構造としては、上記一般式(I)の説明で例示した基が挙げられる。   Examples of the ring structure that may be formed between A, D, or A and D include the groups exemplified in the description of the general formula (I).

上記二官能エポキシ化合物としては市販のものを用いることもでき、例えば、NC−3000、AK−601、GAN、GOT(日本化薬社製)、アデカレジンEP−4000、アデカレジンEP−4003S、アデカレジンEP−4080、アデカレジンEP−4085、アデカレジンEP−4088、アデカレジンEP−4100、アデカレジンEP−4900、アデカレジンED−505、アデカレジンED−506、アデカレジンKRM−2110、アデカレジンKRM−2199、アデカレジンKRM−2720(ADEKA社製)、R−508、R−531、R−710(三井化学社製)、エピコート190P、エピコート191P、エピコート604、エピコート801、エピコート828、エピコート871、エピコート872、エピコート1031、エピコートRXE15、エピコートYX−4000、エピコートYDE−205、エピコートYDE−305(ジャパンエポキシレジン社製)、スミエポキシELM−120、スミエポキシELM−434(住友化学社製)、デナコールEM−150、デナコールEX−201、デナコールEX−211、デナコールEX−212、デナコールEX−313、デナコールEX−314、デナコールEX−322、デナコールEX−411、デナコールEX−421、デナコールEX−512、デナコールEX−521、デナコールEX−614、デナコールEX−711、デナコールEX−721、デナコールEX−731、デナコールEX−811、デナコールEX−821、デナコールEX−850、デナコールEX−851、デナコールEX−911、(ナガセケムテックス社製)、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト3002、エポライト4000、エポライトFR−1500、エポライトM−1230、エポライトEHDG−L(共栄社化学社製)、SB−20(岡村製油社製)、エピクロン720(大日本インキ化学社製)、UVR−6100、UVR−6105、UVR−6110、UVR−6200、UVR−6228(ユニオン・カーバイド社製)、セロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、セロキサイド3000、エポリードHD300、EHPE−3150、ETHB、エポブレンド(ダイセル化学社製)、PY−306、0163、DY−022(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、サントートST0000、エポトートYD−011、エポトートYD−115、エポトートYD−127、エポトートYD−134、エポトートYD−172、エポトートYD−6020、エポトートYD−716、エポトートYD−7011R、エポトートYD−901、エポトートYDPN−638、エポトートYH−300、ネオトートPG−202、ネオトートPG−207(東都化成社製)、エピオールE−100、エピオールE−400、エピオールE−1000、エピオールNPG−100(日油社製)、フルオレン系エポキシ化合物BPF−G、BCF−G、BPEF−G(大阪ガス社製)等が挙げられる。   A commercially available thing can also be used as said bifunctional epoxy compound, for example, NC-3000, AK-601, GAN, GOT (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Adeka Resin EP-4000, Adeka Resin EP-4003S, Adeka Resin EP- 4080, Adeka Resin EP-4085, Adeka Resin EP-4088, Adeka Resin EP-4100, Adeka Resin EP-4900, Adeka Resin ED-505, Adeka Resin ED-506, Adeka Resin KRM-2110, Adeka Resin KRM-2199, manufactured by Adeka Resin KRM-2720 (Adeka Resin KRM-2720A ), R-508, R-531, R-710 (Mitsui Chemicals), Epicoat 190P, Epicoat 191P, Epicoat 604, Epicoat 801, Epicoat 828, Epicoat 871, Epicoat 8 2, Epicoat 1031, Epicoat RXE15, Epicoat YX-4000, Epicoat YDE-205, Epicoat YDE-305 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Sumiepoxy ELM-120, Sumiepoxy ELM-434 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Denacol EM-150 , Denacol EX-201, Denacol EX-211, Denacol EX-212, Denacol EX-313, Denacol EX-314, Denacol EX-322, Denacol EX-411, Denacol EX-512, Denacol EX-512, Denacol EX-521 , Denacol EX-614, Denacol EX-711, Denacol EX-721, Denacol EX-731, Denacol EX-811, Denacol EX-821, Denacol EX-850, Denaco Le EX-851, Denacol EX-911 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), Epolite 70P, Epolite 200P, Epolite 400P, Epolite 40E, Epolite 100E, Epolite 200E, Epolite 400E, Epolite 80MF, Epolite 100MF, Epolite 1500NP, Epolite 1500 , Epolite 3002, Epolite 4000, Epolite FR-1500, Epolite M-1230, Epolite EHDG-L (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), SB-20 (manufactured by Okamura Oil Co., Ltd.), Epiklon 720 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), UVR -6100, UVR-6105, UVR-6110, UVR-6200, UVR-6228 (manufactured by Union Carbide), Celoxide 2021, Celoxide 2021P, Celoxai 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, Celoxide 3000, Epolide HD300, EHPE-3150, ETHB, Epoblend (Daicel Chemicals), PY-306, 0163, DY-022 (Ciba Specialty Chemicals), Santo Tote ST0000, Epototo YD-011, Epototo YD-115, Epototo YD-127, Epototo YD-134, Epototo YD-172, Epototo YD-6020, Epototo YD-716, Epototo YD-7011R, Epototo YD-901, Epoto YDP 638, Epototo YH-300, Neototo PG-202, Neototo PG-207 (manufactured by Toto Kasei), Epiol E-100, Epiol E-400, Epiol E-10 0, (manufactured by NOF Corporation) EPIOL NPG-100, fluorene epoxy compound BPF-G, BCF-G, BPEF-G (manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.).

上記二官能エポキシ化合物としては、上記一般式(I)で表わされる化合物が好ましく、上記一般式(I)において、Mが上記[化2]で表されるもの、特に下記一般式(II)、(III)若しくは(IV)で表わされるもの、下記一般式(V)で表わされるもの、又はフルオレン系エポキシ化合物BPF−G、BCF−G、BPEF−G(大阪ガス社製)が、得られる光硬化性樹脂の分散性が向上するのでより好ましい。   As the bifunctional epoxy compound, a compound represented by the above general formula (I) is preferable. In the above general formula (I), M is represented by the above [Chemical Formula 2], particularly the following general formula (II), Light obtained from (III) or (IV), represented by the following general formula (V), or fluorene-based epoxy compounds BPF-G, BCF-G, BPEF-G (manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.) It is more preferable because the dispersibility of the curable resin is improved.

Figure 0005259354
(式中、R1、R2、Q、Z、n及びpは、上記一般式(I)と同じである。)
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 , Q, Z, n and p are the same as those in the general formula (I).)

Figure 0005259354
(式中、R1、R2及びnは、上記一般式(I)と同じである。)
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as those in the general formula (I).)

Figure 0005259354
(式中、R1、R2、A、D、a、d及びnは、上記一般式(I)と同じである。)
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 , A, D, a, d and n are the same as those in the general formula (I).)

Figure 0005259354
(式中、R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R4及びR5は、連結して環構造を形成していてもよく、nは、上記一般式(I)と同じである。)
Figure 0005259354
(Wherein R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or a halogen atom) Represents an atom, and the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, R 4 and R 5 may be linked to form a ring structure, Same as formula (I).)

上記一般式(V)において、R4及びR5で表わされる炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基及びハロゲン原子としては、上記一般式(I)の説明で例示した基がそれぞれ挙げられる。 In the general formula (V), examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by R 4 and R 5 include And groups exemplified in the description of the general formula (I).

上記不飽和一塩基酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート又は1個のカルボキシル基と2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the unsaturated monobasic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, hydroxyethyl methacrylate / malate, hydroxyethyl acrylate / malate, hydroxypropyl methacrylate / malate, hydroxypropyl acrylate / malate, dicyclo Examples thereof include pentadiene malate or a bifunctional (meth) acrylate having one carboxyl group and two (meth) acryloyl groups.

上記1個のカルボキシル基と2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレートは、例えば1分子中に1個のヒドロキシル基と2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレートと二塩基酸無水物又はカルボン酸を反応させることによって得ることができる。   The bifunctional (meth) acrylate having one carboxyl group and two (meth) acryloyl groups is, for example, a bifunctional (meta) having one hydroxyl group and two (meth) acryloyl groups in one molecule. ) It can be obtained by reacting an acrylate with a dibasic acid anhydride or a carboxylic acid.

上記1個のカルボキシル基と2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレートとしては、下記の化合物No.1又はNo.2を挙げることができる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate having one carboxyl group and two (meth) acryloyl groups include the following compound Nos. 1 or No. 2 can be mentioned.

Figure 0005259354
Figure 0005259354

Figure 0005259354
Figure 0005259354

上記不飽和一塩基酸としては、アクリル酸又はメタクリル酸が入手しやすいため好ましい。   As the unsaturated monobasic acid, acrylic acid or methacrylic acid is preferable because it is easily available.

本発明の光硬化性樹脂は、(D)成分として、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れかを使用する。 The photocurable resin of the present invention, as the component (D), using diethylamine, diethanolamine, either of dibutylamine or N- methylpiperazine.

記(D)成分の導入量は、得られる光硬化性樹脂のアミン価で1〜100mgKOH/gの範囲に制御するのが好ましく、5〜95mgKOH/gの範囲に制御するのがより好ましい。アミン価が上記範囲外であると、分散能力が低下する傾向がある。 Introduction amount of the above SL component (D) is preferably controlled to a range of 1~100mgKOH / g Amine Value of the resulting photocurable resin, it is more preferable to control the range of 5~95mgKOH / g. When the amine value is out of the above range, the dispersion ability tends to be lowered.

本発明の光硬化性樹脂を得るために必要に応じ使用される、多塩基酸無水物(E)としては、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、2,2’−3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’−4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。これらの中でも、コハク酸無水物、トリメリット酸無水物及びヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。   As the polybasic acid anhydride (E) used as necessary to obtain the photocurable resin of the present invention, succinic acid anhydride, maleic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride 2,2'-3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, 3,3'-4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimelli Tate, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 5- (2, 5-Dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarbo Acid anhydride, trialkyl tetrahydrophthalic anhydride - maleic acid adduct, dodecenyl succinic anhydride, and anhydride and methyl high Mick acid. Among these, succinic anhydride, trimellitic anhydride and hexahydrophthalic anhydride are preferable.

本発明の光硬化性樹脂は、ジイソシアネート化合物(A)のイソシアネート基1個に対し、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜5000の化合物(B)の水酸基を0.02〜0.5個及び二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(C)の水酸基を0.5〜0.98個の比率で付加させた後、二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(C)のエチレン性不飽和基1個に対し、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れか(D)の活性水素を0.01〜0.4個の比率でマイケル付加させることによって得られる。但し、反応に寄与する化合物(B)の水酸基及び化合物(C)の水酸基の合計は、化合物(A)のイソシアネート基と同じである。また、更に、残存する水酸基1個に対し、多塩基酸無水物(E)の無水物構造が0.1〜1.0個の比率でエステル化させることもできる。 The photocurable resin of the present invention has a hydroxyl group of a compound (B) having a number average molecular weight of 300 to 5,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to one isocyanate group of the diisocyanate compound (A). after hydroxyl group was added in 0.5 to 0.98 or a ratio of 02 to 0.5 pieces and bifunctional epoxy compound and an unsaturated adduct of a monobasic acid (C), bifunctional epoxy compounds and unsaturated mono A ratio of 0.01 to 0.4 active hydrogen of either (D) of diethylamine, diethanolamine, dibutylamine or N-methylpiperazine per one ethylenically unsaturated group of the adduct of basic acid (C) Can be obtained by adding Michael. However, the total of the hydroxyl group of the compound (B) and the hydroxyl group of the compound (C) contributing to the reaction is the same as the isocyanate group of the compound (A). Furthermore, the polybasic acid anhydride (E) can be esterified at a ratio of 0.1 to 1.0 with respect to one remaining hydroxyl group.

本発明の光硬化性樹脂において、SEC(Size Exclusion Chromatgraphy)で測定されるポリスチレン換算の質量平均分子量は1000〜50000である。質量平均分子量が1000以下では分散性及び分散安定性が得られず、50000以上では溶解性が低下し、分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。   In the photocurable resin of the present invention, the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by SEC (Size Exclusion Chromatography) is 1000 to 50000. When the mass average molecular weight is 1000 or less, dispersibility and dispersion stability cannot be obtained. When the mass average molecular weight is 50000 or more, the solubility is lowered, and the dispersibility is inferior and the reaction is difficult to control.

本発明の光硬化性樹脂を得る反応には、触媒として通常のウレタン化反応触媒を用いることができる。該ウレタン化反応触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクトエート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン,ペンタメチルジプロピレントリアミン,テトラメチルグアニジン等の3級アミン系、トリエチレンジアミン,ジメチルピペラジン,メチルエチルピペラジン,メチルモルホリン,ジメチルアミノエチルモルホリン,ジメチルイミダゾール等の環状アミン系等が挙げられる。   In the reaction for obtaining the photocurable resin of the present invention, a normal urethanization reaction catalyst can be used as a catalyst. Examples of the urethanization reaction catalyst include tin series such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, dibutyltin diacetate, dibutyltin thiocarboxylate, dibutyltin maleate, dioctyltin thiocarboxylate, stannous octoate, Iron such as iron acetylacetonate and ferric chloride, tertiary amine such as triethylamine, pentamethyldiethylenetriamine, pentamethyldipropylenetriamine and tetramethylguanidine, triethylenediamine, dimethylpiperazine, methylethylpiperazine, methylmorpholine, dimethyl Examples thereof include cyclic amines such as aminoethylmorpholine and dimethylimidazole.

本発明の光硬化性樹脂を得る反応には、必要に応じて適宜溶媒を用いることができる。該溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、イソ−又はn−プロパノール、イソ−又はn−ブタノール、アミルアルコール、アセトンアルコール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコールメチルアセテート等のエーテルエステル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;テレピン油、D−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油;ミネラルスピリット、スワゾール#310(コスモ松山石油(株))、ソルベッソ#100(エクソン化学(株))等のパラフィン系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒;カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、水等が挙げられ、これらの溶媒は1種又は2種以上の混合溶媒として使用することができる。   In the reaction for obtaining the photocurable resin of the present invention, a solvent can be appropriately used as necessary. Examples of the solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and isophorone; ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, Ether solvents such as 1,2-diethoxyethane, dipropylene glycol dimethyl ether; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid-n-propyl, isopropyl acetate, n-butyl acetate; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol Cellosolve solvents such as monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cellosolve acetate; methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- Is an alcohol solvent such as n-butanol, amyl alcohol, and acetone alcohol; an ether ester solvent such as ethylene glycol monomethyl acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, and propylene glycol methyl acetate; a BTX solvent such as benzene, toluene, and xylene; Aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane, octane and cyclohexane; terpene hydrocarbon oils such as turpentine oil, D-limonene and pinene; mineral spirits, swazol # 310 (Cosmo Matsuyama Oil Co., Ltd.), Solvesso # 100 ( Paraffin solvents such as Exxon Chemical Co., Ltd .; Halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane; Halogens such as chlorobenzene Aromatic hydrocarbon solvents; aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide; carbitol solvents, aniline, triethylamine, pyridine, acetic acid, acetonitrile, carbon disulfide, water, etc. These solvents can be used as one or a mixture of two or more.

本発明の光硬化性樹脂は、例えば、下記[化9]の反応式で示される方法によって製造することができる。
先ず、(A)成分であるジイソシアネート化合物(1)に、(B)成分である、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する化合物(2)及び(C)成分である、二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(3)を付加させる。(A)成分への(B)成分及び(C)成分の付加反応は、常法に従って行なうことができるが、好ましくは、60〜90℃で1〜10時間反応させる。
次に、(D)成分である、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れか(4)をマイケル付加させる。(D)成分のマイケル付加反応は、常法に従って行なうことができるが、好ましくは、20〜50℃で1〜10時間反応させる。
続いて、(E)成分である、多塩基酸無水物(5)をエステル化反応させて、光硬化性樹脂である化合物(6)を得る。(E)成分のエステル化反応は、常法に従って行なうことができるが、好ましくは、20〜50℃で1〜10時間反応を行なう。
The photocurable resin of the present invention can be produced by, for example, a method represented by the following reaction formula [Chemical 9].
First, the diisocyanate compound (1) which is the component (A), the compound (2) which is the component (B), the compound (2) which has one or two hydroxyl groups in the same molecule, and the bifunctional epoxy compound which is the component (C) And an adduct (3) of an unsaturated monobasic acid . The addition reaction of the component (B) and the component (C) to the component (A) can be performed according to a conventional method, but is preferably performed at 60 to 90 ° C. for 1 to 10 hours.
Next, Michael (4), which is component (D), diethylamine, diethanolamine, dibutylamine or N-methylpiperazine is added. The Michael addition reaction of component (D) can be carried out according to a conventional method, but is preferably performed at 20 to 50 ° C. for 1 to 10 hours.
Subsequently, the polybasic acid anhydride (5) which is the component (E) is esterified to obtain a compound (6) which is a photocurable resin. The esterification reaction of component (E) can be carried out according to a conventional method, but is preferably carried out at 20 to 50 ° C. for 1 to 10 hours.

Figure 0005259354
(式中、Xは二官能エポキシ化合物の残基を表し、Yはジイソシアネート化合物の残基を表し、R11は水素原子又はメチル基を表し、Rc及びRdは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、Rc及びRdは連結して環構造を形成していてもよく、Ra及びRbは、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数6〜20のアリール基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Ra及びRbは連結して環構造を形成していてもよく、s及びtは、それぞれ0〜1000の数であり、s+tの和は2以上である。)
Figure 0005259354
(In the formula, X represents a residue of a bifunctional epoxy compound, Y represents a residue of a diisocyanate compound, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R c and R d each independently represent carbon. Represents an alkyl group having 1 to 5 atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, and R c and R d may be linked to form a ring structure. , R a and R b are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents an aryl group or a halogen atom of ˜20, the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and R a and R b may be linked to form a ring structure; , S and t are each a number from 0 to 1000; (The sum of s + t is 2 or more.)

以上説明した本発明の光硬化性樹脂は、オフセットインキ、グラビアインキ、インクジェットインキ等の各種インキ、塗料、化粧品、接着剤、導電性付与剤、導電紙、樹脂の顔料、電子写真材料、充填剤、補強剤、コーティング材料、電池材料、電極材料、電子材料、静電気防止材料、電磁波シールド材料、ケーブル半導電体、面状発熱体、吸着剤、触媒、プラスチック又はゴムの改質剤、潤滑剤、非線形光学材料、繊維、カーボンナノチューブ、メッキ、各種記録媒体、封止剤等の広範な用途に使用することができる。

次に、本発明の光硬化性樹脂を分散剤として用いた顔料組成物について説明する。
The photo-curable resin of the present invention described above includes various inks such as offset ink, gravure ink, inkjet ink, paint, cosmetics, adhesive, conductivity imparting agent, conductive paper, resin pigment, electrophotographic material, filler. , Reinforcing agent, coating material, battery material, electrode material, electronic material, antistatic material, electromagnetic wave shielding material, cable semi-conductor, planar heating element, adsorbent, catalyst, plastic or rubber modifier, lubricant, It can be used for a wide range of applications such as nonlinear optical materials, fibers, carbon nanotubes, plating, various recording media, and sealants.

Next, the pigment composition using the photocurable resin of the present invention as a dispersant will be described.

本発明の光硬化性樹脂は、分散剤として、顔料及びバインダー樹脂と共に溶媒に分散して、顔料組成物として用いることができる。顔料組成物において、分散剤としての光硬化性樹脂の含有量は、顔料組成物に占める全固形分中、30〜90質量%が好ましく、40〜60質量%がより好ましい。   The photocurable resin of the present invention can be used as a pigment composition by dispersing in a solvent together with a pigment and a binder resin as a dispersant. In the pigment composition, the content of the photocurable resin as a dispersant is preferably 30 to 90% by mass, and more preferably 40 to 60% by mass in the total solid content in the pigment composition.

上記顔料としては、例えば、ニトロソ化合物、ニトロ化合物、過酸化物、ジ過酸化物、キサンテン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、クマリン化合物、フタロシアニン化合物、イソインドリノン化合物、イソインドリン化合物、キナクリドン化合物、アンタンスロン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、ジケトピロロピロール化合物、チオインジゴ化合物、ジオキサジン化合物、トリフェニルメタン化合物、キノフタロン化合物、ナフタレンテトラカルボン酸;アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物;レーキ顔料、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン;疎水性樹脂;酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ、アルミナ等の金属酸化物;層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン等の有機又は無機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、あるいは複数を混合して用いることができる。
上記顔料組成物において、顔料の含有量は、顔料組成物に占める全固形分中、10〜80質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましい。
Examples of the pigment include nitroso compounds, nitro compounds, peroxides, diperoxides, xanthene compounds, quinoline compounds, anthraquinone compounds, coumarin compounds, phthalocyanine compounds, isoindolinone compounds, isoindoline compounds, quinacridone compounds, anthanthrones. Compound, perinone compound, perylene compound, diketopyrrolopyrrole compound, thioindigo compound, dioxazine compound, triphenylmethane compound, quinophthalone compound, naphthalenetetracarboxylic acid; azo dye, metal complex compound of cyanine dye; lake pigment, activated carbon, carbon fiber , Carbon nanotube, carbon microcoil, carbon nanohorn, carbon aerogel, fullerene; hydrophobic resin; chromium oxide, nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, acid Metal oxides such as titanium, zinc oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica, and alumina; layered clay minerals, miloli blue, calcium carbonate, magnesium carbonate, cobalt-based, manganese-based, talc, kaolin, ferrocyanide, various metal sulfates Organic or inorganic pigments such as sulfide, selenide, phosphate ultramarine blue, bitumen, ultramarine, cerulean blue, pyridiane, emerald green and the like can be used. These pigments can be used alone or in combination.
In the pigment composition, the content of the pigment is preferably 10 to 80% by mass, and more preferably 30 to 70% by mass in the total solid content in the pigment composition.

上記顔料としては、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、ピグメントレッド1、2、3、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48、49、88、90、97、112、119、122、123、144、149、166、168、169、170、171、177、179、180、184、185、192、200、202、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、254;ピグメントオレンジ13、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、65、71;ピグメントイエロ−1、3、12、13、14、16、17、20、24、55、60、73、81、83、86、93、95、97、98、100、109、110、113、114、117、120、125、126、127、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、166、168、175、180、185;ピグメントグリ−ン7、10、36;ピグメントブル−15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:5、15:6、22、24、56、60、61、62、64;ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40、50等が挙げられる。   A commercial item can also be used as said pigment. Examples of commercially available products include Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123. 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228 , 240, 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; Pigment Yellow-1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 13, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; pigment green 7, 10, 36; Pigment Bull-15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 5, 15: 6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 etc. are mentioned.

上記バインダー樹脂としては、特に制限されず、インキ、塗料、コーティング材料、ソルダーレジスト等に通常用いられるバインダーを用いることができる。このようなバインダー樹脂としては、例えば、本発明の光硬化性樹脂以外の光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、アルカリ可溶性樹脂、アクリル樹脂、可溶性ナイロン及び高分子ラテックス、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、石油樹脂、マレイン酸樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、環状(脂環式又は芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタン、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、スチレン共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル等を用いることができる。
上記顔料組成物において、上記バインダー樹脂の含有量は、顔料組成物に占める全固形分中、1〜70質量%が好ましく、3〜30質量%がより好ましい。
The binder resin is not particularly limited, and binders usually used for inks, paints, coating materials, solder resists and the like can be used. Examples of such a binder resin include a photocurable resin other than the photocurable resin of the present invention, a thermosetting resin, an alkali-soluble resin, an acrylic resin, a soluble nylon and a polymer latex, a melamine resin, a phenol resin, and an epoxy. Resin, diallyl phthalate resin, petroleum resin, maleic acid resin, phenol resin, alkyd resin, silicone resin, fluororesin, polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol, gelatin, casein, starch , Cellulose derivatives, natural polymer materials such as alginic acid, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyvinyl chloride, styrene copolymer, polystyrene, polycarbonate, polyamide, polyester, etc. .
In the pigment composition, the content of the binder resin is preferably 1 to 70% by mass and more preferably 3 to 30% by mass in the total solid content in the pigment composition.

上記溶媒としては、通常、上記の各成分を分散し得る溶媒であれば特に制限はないが、例えば、上記光硬化性樹脂を得る反応における溶媒として例示したものを用いることができ、これらの溶媒は1種又は2種以上の混合溶媒として用いることができる。
上記顔料組成物において、上記溶媒の含有量は、顔料組成物に占める全固形分が0.1〜30質量%であるように調製するとよい。
The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that can disperse each of the above-mentioned components. For example, those exemplified as the solvent in the reaction for obtaining the photocurable resin can be used. Can be used as one or two or more mixed solvents.
In the pigment composition, the content of the solvent may be adjusted so that the total solid content in the pigment composition is 0.1 to 30% by mass.

上記顔料組成物には、光重合開始剤を用いることができる。   A photopolymerization initiator can be used for the pigment composition.

上記光重合開始剤としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、1−ヒドロキシ−1−ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、1−ベンジル−1−ジメチルアミノ−1−(4'−モルホリノベンゾイル)プロパン、2−モルホリル−2−(4'−メチルメルカプト)ベンゾイルプロパン、チオキサントン、1−クロル−4−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−ベンゾイルプロパン、2−ヒドロキシ−2−(4'−イソプロピル)ベンゾイルプロパン、4−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、4−フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、1,7−ビス(9'−アクリジニル)ヘプタン、9−n−ブチル−3,6−ビス(2'−モルホリノイソブチロイル)カルバゾール、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、p−メトキシフェニル−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ナフチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、9−フェニルアクリジン、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、チオキサントン/アミン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、並びに特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、特開2005−97141号公報、特表2006−516246号公報、特許第3860170号公報、特許第3798008号公報、WO2006/018973号公報に記載の化合物等が挙げられる。これらの中でも、下記一般式(a)又は(c)で表される化合物が好ましい。   As the photopolymerization initiator, conventionally known compounds can be used. For example, benzoyl peroxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile, benzophenone, phenylbiphenyl ketone, 1-hydroxy-1- Benzoylcyclohexane, benzyl, benzyldimethyl ketal, 1-benzyl-1-dimethylamino-1- (4′-morpholinobenzoyl) propane, 2-morpholy-2- (4′-methylmercapto) benzoylpropane, thioxanthone, 1-chloro -4-propoxythioxanthone, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, ethyl anthraquinone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzoin butyl ether, 2-hydroxy-2-benzoylpropane, 2-hydroxy-2- ( '-Isopropyl) benzoylpropane, 4-butylbenzoyltrichloromethane, 4-phenoxybenzoyldichloromethane, methyl benzoylformate, 1,7-bis (9'-acridinyl) heptane, 9-n-butyl-3,6-bis (2 '-Morpholinoisobutyroyl) carbazole, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-naphthyl-4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) ) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 9-phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, thioxanthone / amine, bis ( 2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, as well as JP 2000-80068, JP 2001-233842, JP 2005-97141, JP 2006-516246, JP 3860170. No. 3, Japanese Patent No. 3798008, and compounds described in WO 2006/018873. Among these, the compound represented by the following general formula (a) or (c) is preferable.

Figure 0005259354
(式中、R71、R72及びR73は、それぞれ独立して、R、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアリールアルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、また、R及びR’は一緒になって環を形成していてもよく、R74は、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R75は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又は下記一般式(b)で表される置換基を表し、gは0〜4の整数であり、gが2以上の時、複数のR74は異なる基でもよい。)
Figure 0005259354
(Wherein R 71 , R 72 and R 73 each independently represents R, OR, COR, SR, CONRR ′ or CN, and R and R ′ are an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group or Represents a heterocyclic group, which may be substituted with a halogen atom and / or a heterocyclic group, of which the alkylene part of the alkyl group and arylalkyl group is an unsaturated bond, ether bond, thioether bond, ester bond R and R ′ may be combined together to form a ring, R 74 represents a halogen atom or an alkyl group, R 75 represents a hydrogen atom, a halogen atom, An alkyl group or a substituent represented by the following general formula (b) is represented, g is an integer of 0 to 4, and when g is 2 or more, a plurality of R 74 may be different groups.

Figure 0005259354
(式中、環Mはシクロアルカン環、芳香環又は複素環を表し、R76はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Y71は酸素原子、硫黄原子又はセレン原子を表し、Z71は炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、hは0〜4の整数であり、hが2以上の時、複数のX73は異なる基でもよい。)
Figure 0005259354
(In the formula, ring M represents a cycloalkane ring, an aromatic ring or a heterocyclic ring, R 76 represents a halogen atom or an alkyl group, Y 71 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, and Z 71 represents the number of carbon atoms. 1 represents an alkylene group of 1 to 5, h is an integer of 0 to 4, and when h is 2 or more, the plurality of X 73 may be different groups.

Figure 0005259354
(式中、R6及びR7は、それぞれ独立して、R21、OR21、COR21、SR21、CONR2223又はCNを表し、R21、R22及びR23は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環基の水素原子は、更にOR31、COR31、SR31、NR3233、CONR3233、−NR32−OR33、−NCOR32−OCOR33、−C(=N−OR31)−R32、−C(=N−OCOR31)−R32、CN、ハロゲン原子、−CR31=CR3233、−CO−CR31=CR3233、カルボキシル基又はエポキシ基で置換されていてもよく、R31、R32及びR33は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、上記R21、R22、R23、R31、R32及びR33で表される置換基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により1〜5回中断されていてもよく、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖があってもよく、環状アルキルであってもよく、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合であってもよく、また、R22とR23及びR32とR33は、それぞれ一緒になって環を形成していてもよい。R3及びR4は、それぞれ独立して、R21、OR21、SR21、COR21、CONR2223、NR22COR21、OCOR21、COOR21、SCOR21、OCSR21、COSR21、CSOR21、CN、ハロゲン原子又は水酸基を表し、a及びbは、それぞれ独立して、0〜4である。X1は、直接結合又はCOを表し、X2は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR4142、CO、NR43又はPR44を表し、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立して、R21、OR21、COR21、SR21、CONR2223又はCNを表し、R8は、−X2−を介して隣接するベンゼン環の炭素原子の1つと結合して環構造を形成していてもよく、あるいはR8とR9が一緒になって環を形成していてもよく、R41、R43及びR44は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。)
Figure 0005259354
(In the formula, R 6 and R 7 each independently represent R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , CONR 22 R 23 or CN, and R 21 , R 22 and R 23 are each independently A hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, Group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group are further represented by OR 31 , COR 31 , SR 31 , NR 32 R 33 , CONR 32 R 33 , —NR 32 —OR 33 , —NCOR 32 —OCOR 33. , -C (= N-OR 31 ) -R 32, -C (= N-OCOR 31) -R 32, CN, halogen atom, -CR 31 = CR 32 R 33 , -CO-CR 31 = CR 32 R 33 , optionally substituted with a carboxyl group or an epoxy group, R 31 , R 32 and R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a carbon atom. The methylene group of the alkylene part of the substituent represented by the formula 2 to 20 and represented by R 21 , R 22 , R 23 , R 31 , R 32 and R 33 is an unsaturated bond, an ether bond, It may be interrupted 1 to 5 times by a thioether bond, an ester bond, a thioester bond, an amide bond or a urethane bond, and the alkyl part of the substituent may have a branched side chain or a cyclic alkyl, The alkyl terminal of the substituent may be an unsaturated bond, and R 22 and R 23 and R 32 and R 33 may be combined to form a ring, R 3 and R 4. Are each independently R 21 , OR 21 , SR 21 , COR 21 , CONR 22 R 23 , NR 22 COR 21 , OCOR 21 , COOR 21 , SCOR 21 , OCSR 21 , COSR 21 , CSOR 21 , CN, halogen atom or hydroxyl group, a and b are Each independently represents 0 to 4. X 1 represents a direct bond or CO, and X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, CR 41 R 42 , CO, NR 43 or PR 44 . , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represents R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , CONR 22 R 23 or CN, and R 8 represents —X 2 — May be bonded to one of the adjacent carbon atoms of the benzene ring to form a ring structure, or R 8 and R 9 may be combined to form a ring, and R 41 , R 43 and R 44 are each independently a one benzene ring adjacent one It may form a ring turned. )

上記顔料組成物には、さらにエチレン性不飽和モノマー、連鎖移動剤、界面活性剤等を併用することができる。   The pigment composition may further contain an ethylenically unsaturated monomer, a chain transfer agent, a surfactant, and the like.

上記エチレン性不飽和結合モノマーとしては、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸N−オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸亜鉛、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート等が挙げられる。   Examples of the ethylenically unsaturated bond monomer include: 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobutyl acrylate, N-octyl acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, stearyl acrylate, acrylic acid Methoxyethyl, dimethylaminoethyl acrylate, zinc acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, butyl methacrylate, methacrylic acid Tertiary butyl, cyclohexyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, penta Risuri tall tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, tricyclodecane dimethylol diacrylate and the like.

上記連鎖移動剤としては、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル(4−メチルチオ)フェニルエーテル、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物が挙げられる。   Examples of the chain transfer agent include thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3 -Mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, dodecyl (4-methylthio) phenyl ether, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto- 2-butanol, mercapto Enol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 2-mercaptobenzothiazole, mercaptoacetic acid, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopro Mercapto compounds such as pionate), disulfide compounds obtained by oxidizing the mercapto compound, iodinated alkyls such as iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc. Compounds.

上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。   Examples of the surfactant include fluorine surfactants such as perfluoroalkyl phosphates and perfluoroalkyl carboxylates, anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates, and alkyl sulfates, and higher amines. Cationic surfactants such as halogenates and quaternary ammonium salts, nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters and fatty acid monoglycerides, amphoteric surfactants, silicone surfactants Surfactants such as agents can be used, and these may be used in combination.

上記顔料組成物には、さらに熱可塑性有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該熱可塑性有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸−メチルメタクリレート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル等が挙げられる。   By using a thermoplastic organic polymer in the pigment composition, the properties of the cured product can be improved. Examples of the thermoplastic organic polymer include polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, poly (meth) acrylic acid, styrene- (meth) acrylic acid copolymer, (meth) acrylic acid- Examples include methyl methacrylate copolymer, polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, and saturated polyester.

上記顔料組成物には、必要に応じて、粘度調整剤、pH調整剤、表面張力調整剤、増粘剤、チクソ性付与剤、レベリング剤、消泡剤、密着性付与剤、アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、第三ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤、触媒、滑剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤、シランカップリング剤、キレート剤、保湿剤、浸透剤、防黴剤、防錆剤、防腐剤、乾燥防止剤、速乾剤、定着剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、難燃剤、滑剤、加工助剤、アンチブロッキング剤、電解質、触媒、他の分散剤等を併用することができる。   In the above pigment composition, if necessary, a viscosity modifier, a pH adjuster, a surface tension modifier, a thickener, a thixotropic agent, a leveling agent, an antifoaming agent, an adhesion promoter, anisole, hydroquinone, Thermal polymerization inhibitors such as pyrocatechol, tert-butylcatechol, phenothiazine, catalysts, lubricants, plasticizers, adhesion promoters, fillers, silane coupling agents, chelating agents, moisturizers, penetrants, antifungal agents, rust prevention Agent, preservative, anti-drying agent, quick-drying agent, fixing agent, antioxidant, UV absorber, heat stabilizer, flame retardant, lubricant, processing aid, anti-blocking agent, electrolyte, catalyst, other dispersants, etc. Can be used in combination.

本発明の光硬化性樹脂を分散剤として用い、上記顔料を分散または粉砕する方法としては、乳鉢、ビーズミル、プラストミル、ボールミル、振動ボールミル、ローラーミル、ロッドミル、チューブミル、コニカルミル、ハイスイングボールミル、ピン型ミル、ハンマーミル、ナイフハンマーミル、アトリションミル、ジェットミル、カウンタージェットミル、スパイラルジェットミル、ジェットマイザー、マイクロナイザー、ナノマイザー、マジャックミル、マイクロアトマイザー、ミクロンミル、ロータリーカッター、衝撃粉砕型ミル、圧縮せん断型ミル、ヘンシェルミキサー等を用いる方法が挙げられる。   The method of dispersing or pulverizing the pigment using the photocurable resin of the present invention as a dispersant includes mortar, bead mill, plast mill, ball mill, vibration ball mill, roller mill, rod mill, tube mill, conical mill, high swing ball mill, pin Die mill, Hammer mill, Knife hammer mill, Attrition mill, Jet mill, Counter jet mill, Spiral jet mill, Jet mizer, Micronizer, Nanomizer, Macjack mill, Micro atomizer, Micron mill, Rotary cutter, Impact grinding mold mill And a method using a compression shear type mill, a Henschel mixer and the like.

上記顔料樹脂組成物は、スピンコーター、スリットコーター、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用される。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。   The pigment resin composition is applied onto a support substrate such as metal, paper, or plastic by a known means such as a spin coater, slit coater, roll coater, curtain coater, various printing, or dipping. Moreover, after once applying on support bases, such as a film, it can also transfer on another support base | substrate, There is no restriction | limiting in the application method.

本発明の光硬化性樹脂は、塗料や接着剤、成型材等として使用することもできる。塗料や接着剤として使用する場合、基材に光硬化性樹脂を含む組成物を塗布した後、光を照射して硬化させる。また成型材として使用する場合、光硬化性樹脂を空間部を有する型に流し込み、その後光を照射して硬化させる。硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長240〜410nmの光を発光するものを用いることができ、例えば、超高圧水銀灯、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。活性光の照射量及び照射時間等の照射条件は、使用する光硬化性樹脂及び用途に応じて、適宜設定することができる。   The photocurable resin of the present invention can also be used as a paint, an adhesive, a molding material or the like. When used as a paint or an adhesive, a composition containing a photocurable resin is applied to a substrate and then cured by irradiation with light. Moreover, when using as a molding material, photocurable resin is poured into the type | mold which has a space part, and light is then irradiated and hardened. As a light source of active light used for curing, a light source that emits light having a wavelength of 240 to 410 nm can be used. For example, an ultrahigh pressure mercury lamp, a mercury vapor arc lamp, a carbon arc lamp, a xenon arc lamp, a metal halide lamp Etc. can be used. Irradiation conditions such as the irradiation amount of the active light and the irradiation time can be appropriately set according to the photocurable resin used and the application.

以下、実施例及び評価例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and an evaluation example are given and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not restrict | limited to these Examples.

[実施例1]光硬化性樹脂No.1の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した1L四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物としてビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量231)75.0g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸23.8g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.273g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.585g及び、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート65.9gを仕込み、90℃で1時間、100℃で1時間、110℃で1時間及び120℃で14時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販の数平均分子量1000のポリエチレングリコールモノメチルエーテル(日油社製ユニオックスM−1000)55.6g、(A)成分として2,4−トリレンジイソシアナート28.6g、ジブチルスズジラウレート0.182g及び、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート206gを加えて、70℃で2時間撹拌した。さらに、室温まで冷却し、(D)成分としてジエチルアミン3.57gを加えて室温で2時間撹拌し、(E)成分として無水コハク酸1.63gを加えて40℃で5時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.1を得た(Mw=11500、Mn=5300,アミン価(固形分)15mgKOH/g,酸価(固形分)5mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.1は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.17個及び(C)成分の水酸基を0.83個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.15個の比率でマイケル付加させ、更に、残存する水酸基1個に対し、多塩基酸無水物(E)の酸無水物構造が0.1個の比率でエステル化させた構造を有している。
[Example 1] Photocurable resin No. 1 Production of 1 Into a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, a reflux condenser, and a thermometer, 75.0 g of a bisphenolfluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 231) as a bifunctional epoxy compound, unsaturated monobasic acid 23.8 g of acrylic acid, 0.273 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 0.585 g of tetrabutylammonium chloride and 65.9 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, (C) component was manufactured by stirring at 90 ° C. for 1 hour, at 100 ° C. for 1 hour, at 110 ° C. for 1 hour and at 120 ° C. for 14 hours. After cooling to room temperature, 55.6 g of polyethylene glycol monomethyl ether having a number average molecular weight of 1000 (NOF M-1000 manufactured by NOF Corporation) as component (B), 2,4-tolylene diisocyanate 28 as component (A) .6 g, dibutyltin dilaurate 0.182 g and propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate 206 g were added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, the mixture was cooled to room temperature, 3.57 g of diethylamine was added as component (D) and stirred at room temperature for 2 hours. 1.63 g of succinic anhydride was added as component (E) and stirred at 40 ° C. for 5 hours, and then propylene glycol. -1-monomethyl ether-2-acetate solution as a target, photocurable resin No. 1 (Mw = 11500, Mn = 5300, amine value (solid content) 15 mgKOH / g, acid value (solid content) 5 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. 1 is obtained by adding 0.17 hydroxyl groups of the component (B) and 0.83 hydroxyl groups of the component (C) to one isocyanate group of the component (A), and then adding the component (C). The active hydrogen of component (D) is added by Michael at a ratio of 0.15 to one ethylenically unsaturated group, and the acid of polybasic acid anhydride (E) is added to one remaining hydroxyl group. The anhydride structure has a structure esterified at a ratio of 0.1.

[実施例2]光硬化性樹脂No.2の製造
<ステップ1>1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)インダンの合成
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した2L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で1−インダノン200g及びフェノール855gを仕込み、硫酸59.4g、続いて3−メルカプトプロピオン酸16.1gを40℃以下でゆっくり滴下した。滴下後55℃で20時間撹拌し、酢酸エチル300g及び48質量%水酸化ナトリウム水溶液50.4gを加えて中和し、析出した結晶をろ過して粗生成物224gを得た。この粗生成物を酢酸エチル1450gに溶解し、5質量%酢酸アンモニウム水溶液500gで有機層がpH4〜5になるまで洗浄し、分液した有機層に無水硫酸マグネシウム50gを加えて乾燥した。溶媒を留去し、トルエン400gを加えて晶析した。得られた結晶をトルエンで分散洗浄後40℃で真空乾燥し、135gの1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)インダンを白色結晶として得た(収率29.5%)。
[Example 2] Photocurable resin No. 2 <Step 1> Synthesis of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) indane In a 2 L four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, a reflux condenser, and a thermometer, 1- 200 g of indanone and 855 g of phenol were charged, and 59.4 g of sulfuric acid was added dropwise slowly at 40 ° C. or lower, followed by 16.1 g of 3-mercaptopropionic acid. After dropping, the mixture was stirred at 55 ° C. for 20 hours, neutralized by adding 300 g of ethyl acetate and 50.4 g of 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and the precipitated crystals were filtered to obtain 224 g of a crude product. This crude product was dissolved in 1450 g of ethyl acetate, washed with 500 g of 5% by mass aqueous ammonium acetate solution until the organic layer had a pH of 4 to 5, and 50 g of anhydrous magnesium sulfate was added to the separated organic layer and dried. The solvent was distilled off, and 400 g of toluene was added for crystallization. The obtained crystals were dispersed and washed with toluene and vacuum dried at 40 ° C. to obtain 135 g of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) indane as white crystals (yield 29.5%).

<ステップ2>1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダンの合成
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した2L四つ口フラスコに、窒素雰囲気下でステップ1で得られた1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)インダン29.2g及びエピクロルヒドリン142gを仕込み、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド0.412gを加えて74℃で14時間撹拌した。続いて60℃まで降温し、13000Paの減圧下で48質量%水酸化ナトリウム水溶液16.1gを滴下し、水と共沸してくるエピクロロヒドリンを系内に戻しながら2.5時間撹拌した。水の共沸が無くなった時点で徐々に昇温しながら減圧していき、120℃で2時間エピクロロヒドリンの留去を行った。常圧に戻し、トルエン205gを加えて3回水洗した。油水分離した有機層に48質量%水酸化ナトリウム水溶液3.99g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド0.412g及び水0.870gを加え、80℃で2.5時間撹拌した。室温まで冷却し、10質量%リン酸二水素ナトリウム水溶液0.692gを加えて中和し、3回水洗を行った。油水分離して得られた有機層をセライトでろ過し、溶媒を留去して、36.6gの1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダンを淡黄色粘調物として得た(収率92%、エポキシ当量212)。
<Step 2> Synthesis of 1,1-bis [4- (2,3-epoxypropyloxy) phenyl] indane Into a 2 L four-necked flask equipped with a stirrer, nitrogen introduction tube, reflux condenser and thermometer, nitrogen was added. Under the atmosphere, 29.2 g of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) indane obtained in Step 1 and 142 g of epichlorohydrin were added, 0.412 g of benzyltriethylammonium chloride was added, and the mixture was stirred at 74 ° C. for 14 hours. Subsequently, the temperature was lowered to 60 ° C., 16.1 g of a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise under a reduced pressure of 13000 Pa, and the mixture was stirred for 2.5 hours while returning epichlorohydrin azeotropic with water into the system. . When water azeotropy disappeared, the pressure was gradually reduced while raising the temperature, and epichlorohydrin was distilled off at 120 ° C. for 2 hours. The pressure was returned to normal pressure, and 205 g of toluene was added and washed with water three times. To the organic layer separated into oil and water were added 3.99 g of a 48% by mass aqueous sodium hydroxide solution, 0.412 g of benzyltriethylammonium chloride and 0.870 g of water, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. The mixture was cooled to room temperature, neutralized by adding 0.692 g of a 10% by mass aqueous sodium dihydrogen phosphate solution, and washed with water three times. The organic layer obtained by oil-water separation was filtered through celite, the solvent was distilled off, and 36.6 g of 1,1-bis [4- (2,3-epoxypropyloxy) phenyl] indane was converted to a pale yellow viscous product. Obtained as a preparation (yield 92%, epoxy equivalent 212).

<ステップ3>光硬化性樹脂No.2の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した500mL四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物としてステップ2で得られた1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダン30.0g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸10.4g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.120g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.256g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート26.9gを仕込み、90℃で1時間、105℃で1時間及び120℃で17時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販の数平均分子量1000のポリプロピレングリコールモノメチルエーテル22.9g、(A)成分として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート12.0g、ジブチルスズジラウレート0.076g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート65.3gを加えて、70℃で2時間撹拌した。さらに室温まで冷却し、(D)成分としてジエタノールアミン2.83gを加えて、室温で2時間撹拌し、(E)成分として無水コハク酸5.39gを加えて40℃で5時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.2を得た(Mw=5400、Mn=3100,アミン価(固形分)20mgKOH/g,酸価(固形分)40mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.2は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.24個及び(C)成分の水酸基を0.76個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.19個の比率でマイケル付加させ、更に、残存する水酸基1個に対し、多塩基酸無水物(E)の酸無水物構造が0.81個の比率でエステル化させた構造を有している。
<Step 3> Photocurable resin No. Production of 2 Into a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, a reflux condenser, and a thermometer, 1,1-bis [4- (2,3- Epoxypropyloxy) phenyl] indane 30.0 g, 10.4 g acrylic acid as unsaturated monobasic acid, 0.120 g 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 0.256 g tetrabutylammonium chloride and propylene glycol Component (C) was prepared by charging 26.9 g of -1-monomethyl ether-2-acetate and stirring at 90 ° C. for 1 hour, 105 ° C. for 1 hour and 120 ° C. for 17 hours. Cooled to room temperature, 22.9 g of commercially available polypropylene glycol monomethyl ether having a number average molecular weight of 1000 as component (B), 12.0 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate as component (A), 0.076 g of dibutyltin dilaurate and propylene 65.3 g of glycol-1-monomethyl ether-2-acetate was added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, the mixture was cooled to room temperature, 2.83 g of diethanolamine was added as component (D) and stirred at room temperature for 2 hours, 5.39 g of succinic anhydride was added as component (E), and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours. -1-monomethyl ether-2-acetate solution as a target, photocurable resin No. 2 (Mw = 5400, Mn = 3100, amine value (solid content) 20 mgKOH / g, acid value (solid content) 40 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. (2) is the addition of 0.24 hydroxyl groups of component (B) and 0.76 hydroxyl groups of component (C) to one isocyanate group of component (A), and then component (C) The active hydrogen of component (D) is added by Michael at a ratio of 0.19 to one ethylenically unsaturated group, and the acid of polybasic acid anhydride (E) is added to one remaining hydroxyl group. The anhydride structure has a structure esterified at a ratio of 0.81.

[実施例3]光硬化性樹脂No.3の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した500mL四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物として1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕−1−(4−ビフェニリル)−1−シクロヘキシルメタン(エポキシ当量279)33.0g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸6.22g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.082g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.153g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート10.5gを仕込み、90℃で1時間、100℃で1時間、110℃で1時間及び120℃で17時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販の数平均分子量1000のエチレングリコール/プロピレングリコール共重合物のモノメチルエーテル16.9g、(A)成分としてイソホロンジイソシアナート8.34g、ジブチルスズジラウレート0.055g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート62.9gを加え、70℃で2時間撹拌した。さらに室温まで冷却し、(D)成分としてN−メチルピペラジン0.986gを加えて室温で2時間撹拌し、(E)成分として無水テトラヒドロフタル酸1.50gを加えて、40℃で5時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.3を得た(Mw=13400、Mn=6500,アミン価(固形分)20mgKOH/g,酸価(固形分)10mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.3は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.23個及び(C)成分の水酸基を0.77個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.08個の比率でマイケル付加させ、更に、残存する水酸基1個に対し、多塩基酸無水物(E)の酸無水物構造が0.16個の比率でエステル化させた構造を有している。
[Example 3] Photocurable resin no. 3. Preparation of 1,1-bis [4- (2,3-epoxypropyloxy) phenyl] as a bifunctional epoxy compound in a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer -1- (4-biphenylyl) -1-cyclohexylmethane (epoxy equivalent 279) 33.0 g, acrylic acid 6.22 g as unsaturated monobasic acid, 2,6-di-t-butyl-p-cresol 0.082 g , 0.153 g of tetrabutylammonium chloride and 10.5 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate were added and stirred at 90 ° C. for 1 hour, 100 ° C. for 1 hour, 110 ° C. for 1 hour and 120 ° C. for 17 hours. (C) component was manufactured. Cooled to room temperature, 16.9 g of a commercially available ethylene glycol / propylene glycol copolymer having a number average molecular weight of 1000 as component (B), 8.34 g of isophorone diisocyanate as component (A), 0.055 g of dibutyltin dilaurate And 62.9 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate was added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. The mixture was further cooled to room temperature, 0.986 g of N-methylpiperazine was added as component (D) and stirred at room temperature for 2 hours, 1.50 g of tetrahydrophthalic anhydride was added as component (E), and stirred at 40 ° C. for 5 hours. Thereafter, as a propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate solution, a target photocurable resin No. 3 (Mw = 13400, Mn = 6500, amine value (solid content) 20 mgKOH / g, acid value (solid content) 10 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. 3 is obtained by adding 0.23 hydroxyl groups of the component (B) and 0.77 hydroxyl groups of the component (C) to one isocyanate group of the component (A), and then adding the component (C). The active hydrogen of component (D) is Michael-added at a ratio of 0.08 to one ethylenically unsaturated group, and the acid of polybasic acid anhydride (E) is added to one remaining hydroxyl group. The anhydride structure has a structure esterified at a ratio of 0.16.

[実施例4]光硬化性樹脂No.4の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した1L四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量186)75.0g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸29.6、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.321g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.728g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート69.8gを仕込み、120℃で16時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販の数平均分子量2000のエチレングリコール/プロピレングリコール共重合物のモノメチルエーテル69.7g、(A)成分として2,4−トリレンジイソシアナート26.0g、ジブチルスズジラウレート0.201g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート231gを加え、70℃で2時間撹拌した。さらに室温まで冷却し、(D)成分としてN−メチルピペラジン3.59gを加えて室温で2時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.4を得た(Mw=9500、Mn=5200,アミン価(固形分)20mgKOH/g,酸価(固形分)0mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.4は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.12個及び(C)成分の水酸基を0.88個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.09個の比率でマイケル付加させた構造を有している。
[Example 4] Photocurable resin no. Production of 4 Into a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 75.0 g of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 186) as a bifunctional epoxy compound, unsaturated monobasic acid As an acrylic acid 29.6, 2,6-di-t-butyl-p-cresol 0.321 g, tetrabutylammonium chloride 0.728 g and propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate 69.8 g, (C) component was manufactured by stirring at 0 degreeC for 16 hours. After cooling to room temperature, 69.7 g of a commercially available ethylene glycol / propylene glycol copolymer having a number average molecular weight of 2000 as component (B), 26.0 g of 2,4-tolylene diisocyanate as component (A), dibutyltin 0.201 g of dilaurate and 231 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate were added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, the mixture was cooled to room temperature, 3.59 g of N-methylpiperazine was added as a component (D), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, and the target photocurable resin No. was obtained as a propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate solution. . 4 (Mw = 9500, Mn = 5200, amine value (solid content) 20 mgKOH / g, acid value (solid content) 0 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. 4 is obtained by adding 0.12 hydroxyl groups of the component (B) and 0.88 hydroxyl groups of the component (C) to one isocyanate group of the component (A), and then adding the component (C). The active hydrogen of component (D) is Michael-added at a ratio of 0.09 to one ethylenically unsaturated group.

[実施例5]光硬化性樹脂No.5の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した500mL四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物としてテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量194)50g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸18.9g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.209g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.465g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート46.0gを仕込み、90℃で1時間、100℃で1時間、110℃で1時間及び120℃で17時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販のアクリル酸2−ヒドロキシエチルのカプロラクトン5mol付加物32.7g、(A)成分として2,4−トリレンジイソシアナート15.7g、ジブチルスズジラウレート0.118g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート130gを加え、70℃で2時間撹拌した。さらに室温まで冷却し、(D)成分としてN−メチルピペラジン6.30gを加えて室温で2時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.5を得た(Mw=4700、Mn=2700,アミン価(固形分)60mgKOH/g,酸価(固形分)0mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.5は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.27個及び(C)成分の水酸基を0.73個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.24個の比率でマイケル付加させた構造を有している。
[Example 5] Photocurable resin no. Production of 5 In a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 50 g of tetramethylbiphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 194) as a bifunctional epoxy compound, as an unsaturated monobasic acid Acrylic acid 18.9 g, 2,6-di-t-butyl-p-cresol 0.209 g, tetrabutylammonium chloride 0.465 g and propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate 46.0 g were charged at 90 ° C. The mixture was stirred for 1 hour at 100 ° C for 1 hour, 110 ° C for 1 hour, and 120 ° C for 17 hours to prepare component (C). After cooling to room temperature, 32.7 g of a commercially available 2-hydroxyethyl acrylate caprolactone 5 mol adduct as component (B), 15.7 g of 2,4-tolylene diisocyanate as component (A), 0.118 g of dibutyltin dilaurate and 130 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate was added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, the mixture was cooled to room temperature, 6.30 g of N-methylpiperazine was added as component (D), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, and the target photocurable resin No. was obtained as a propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate solution. . 5 (Mw = 4700, Mn = 2700, amine value (solid content) 60 mgKOH / g, acid value (solid content) 0 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. 5 is obtained by adding 0.27 hydroxyl groups of the component (B) and 0.73 hydroxyl groups of the component (C) to one isocyanate group of the component (A), and then adding the component (C). The active hydrogen of component (D) is Michael-added at a ratio of 0.24 to one ethylenically unsaturated group.

[実施例6]光硬化性樹脂No.6の製造
撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した1L四つ口フラスコに、二官能エポキシ化合物としてビナフトール型エポキシ樹脂(エポキシ当量199)30.0g、不飽和一塩基酸としてアクリル酸11.1g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.124g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.272g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート27.4gを仕込み、120℃で16時間撹拌して(C)成分を製造した。室温まで冷却し、(B)成分として市販の数平均分子量1000のエチレングリコール/プロピレングリコール共重合物のモノメチルエーテル19.6g、(A)成分として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート17.6g、ジブチルスズジラウレート0.078g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート118gを加え、70℃で2時間撹拌した。さらに室温まで冷却し、(D)成分としてジブチルアミン3.62gを加えて室温で2時間撹拌し、(E)成分として無水ヘキサヒドロフタル酸2.10gを加えて40℃で5時間撹拌後、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物である光硬化性樹脂No.6を得た(Mw=22000、Mn=8200,アミン価(固形分)20mgKOH/g,酸価(固形分)10mgKOH/g)。
尚、光硬化性樹脂No.6は、(A)成分のイソシアネート基1個に対し、(B)成分の水酸基を0.14個及び(C)成分の水酸基を0.86個の比率で付加させた後、(C)成分のエチレン性不飽和基1個に対し、(D)成分の活性水素を0.19個の比率でマイケル付加させ、更に、残存する水酸基1個に対し、多塩基酸無水物(E)の酸無水物構造が0.46個の比率でエステル化させた構造を有している。
[Example 6] Photocurable resin No. 6 Production of 6 Into a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, nitrogen introduction tube, reflux condenser and thermometer, 30.0 g of binaphthol type epoxy resin (epoxy equivalent 199) as a bifunctional epoxy compound, as unsaturated monobasic acid Charged 11.1 g of acrylic acid, 0.124 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 0.272 g of tetrabutylammonium chloride and 27.4 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, 120 ° C. And stirred for 16 hours to prepare component (C). After cooling to room temperature, 19.6 g of a commercially available ethylene glycol / propylene glycol copolymer having a number average molecular weight of 1000 as component (B), 17.6 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate as component (A), 0.078 g of dibutyltin dilaurate and 118 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate were added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. Further, the mixture was cooled to room temperature, 3.62 g of dibutylamine was added as component (D) and stirred at room temperature for 2 hours, and 2.10 g of hexahydrophthalic anhydride was added as component (E) and stirred at 40 ° C. for 5 hours. Photocurable resin No. 1 which is the target product as a propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate solution. 6 (Mw = 22000, Mn = 8200, amine value (solid content) 20 mgKOH / g, acid value (solid content) 10 mgKOH / g).
In addition, photocurable resin No. 6 is obtained by adding 0.14 hydroxyl groups of the component (B) and 0.86 hydroxyl groups of the component (C) to one isocyanate group of the component (A) and then adding the component (C). The active hydrogen of component (D) is added by Michael at a ratio of 0.19 to one ethylenically unsaturated group, and the acid of polybasic acid anhydride (E) is added to one remaining hydroxyl group. The anhydride structure has a structure esterified at a ratio of 0.46.

[評価例1〜6]
実施例1〜6で得られた光硬化性樹脂No.1〜No.6の評価を以下のようにして行った。
<分散性評価>
[表1]に示す顔料10gに対し、上記実施例1〜6で得られた光硬化性樹脂No.1〜No.6(固形分換算)をそれぞれ7.5g加え、さらに32.5gのプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテートを加えた。得られた分散液の質量は50gであった。撹拌機によりプレミキシングを行った後、遊星式撹拌装置により20〜45℃の範囲で15分間分散処理を行った。ビーズは0.1mmΦのジルコニアビーズを50g加えた。フィルターによりビーズと分散液を分離し、顔料組成物No.1〜No.6をそれぞれ得た。
分散性評価は、目視により分散性を観察することにより行なった。均一に分散してスラリー溶液を得たものを○、凝集がおこり沈降したものやゲル化したものを×とした。結果を[表1]に示す。
<光硬化性評価>
下記の配合により塗工液を調整し、得られた塗工液をアルミ基板にバーコーターで約1μmの厚さに塗布した。70℃で15分間乾燥した後、日本分光社製分光照射装置CT−25CPにより光源として超高圧水銀ランプを用いて露光し、ついでメチルエチルケトンに30秒浸漬後、キシレンによりリンスし、365nmにおける分光感度を測定した。感度は、365nmにおいて硬化に必要な最小の硬化エネルギーを、アルミ板上に残った硬化膜段数と365nmの射出光量より求めた。結果を[表1]に示す。
(配合)
顔料組成物No.1〜No.6 50.00部
ポリエーテルアクリレート(新中村化学工業社製「A−400」) 3.80部
ポリウレタンアクリレート(根上工業社製「UN−9000PEP」) 1.90部
光重合開始剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製「Irg−907」)
1.10部
レベリング剤(ビックケミー社製「BYK−323」) 0.01部
プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート 43.19部
<密着性評価>
上記で調製した塗工液それぞれを、PETフィルム(東洋紡社製A4300)にバーコーターで約1μmの厚さに塗布した。70℃で15分間乾燥した後、コンベア型紫外線照射機を使用して180mJ/cmとなるよう紫外線を照射し塗工物を得た。密着性は、ニチバン社製セロハン粘着テープで貼って剥がし、剥がれの度合いを目視で観察し、塗膜の剥がれがほとんどなかったものを○、塗膜が一部剥がれたものを△、塗膜の大部分が剥がれたものを×とした。結果を[表1]に示す。
[Evaluation Examples 1 to 6]
Photocurable resin No. obtained in Examples 1-6. 1-No. Evaluation of 6 was performed as follows.
<Dispersibility evaluation>
With respect to 10 g of the pigment shown in [Table 1], the photocurable resin Nos. Obtained in Examples 1 to 6 above. 1-No. 6 (in terms of solid content) was added in an amount of 7.5 g, and 32.5 g of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate was further added. The mass of the obtained dispersion was 50 g. After premixing with a stirrer, dispersion treatment was performed for 15 minutes in the range of 20 to 45 ° C. with a planetary stirrer. As beads, 50 g of 0.1 mmφ zirconia beads were added. The beads and the dispersion liquid were separated by a filter, and the pigment composition No. 1-No. 6 were obtained respectively.
Dispersibility evaluation was performed by observing dispersibility visually. A sample obtained by uniformly dispersing to obtain a slurry solution was indicated by ○, and a product obtained by agglomeration and sedimentation or by gelation was indicated by ×. The results are shown in [Table 1].
<Photocurability evaluation>
The coating solution was adjusted by the following composition, and the obtained coating solution was applied to an aluminum substrate with a bar coater to a thickness of about 1 μm. After drying at 70 ° C. for 15 minutes, exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source with a spectral irradiation device CT-25CP manufactured by JASCO Corporation, followed by immersion in methyl ethyl ketone for 30 seconds and rinsing with xylene to obtain a spectral sensitivity at 365 nm. It was measured. For the sensitivity, the minimum curing energy required for curing at 365 nm was determined from the number of cured film steps remaining on the aluminum plate and the amount of emitted light at 365 nm. The results are shown in [Table 1].
(Combination)
Pigment composition No. 1-No. 6 50.00 parts polyether acrylate (Shin Nakamura Chemical "A-400") 3.80 parts polyurethane acrylate (Negami Kogyo "UN-9000 PEP") 1.90 parts photopolymerization initiator (Ciba Special) "Irg-907" manufactured by Tea Chemicals)
1.10 parts leveling agent ("BYK-323" manufactured by Big Chemie) 0.01 parts propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate 43.19 parts <Adhesion evaluation>
Each of the coating solutions prepared above was applied to a PET film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a bar coater to a thickness of about 1 μm. After drying at 70 ° C. for 15 minutes, an ultraviolet ray was irradiated using a conveyor type ultraviolet ray irradiator to obtain 180 mJ / cm 2 to obtain a coated product. Adhesion is applied with a cellophane adhesive tape manufactured by Nichiban Co., Ltd., and the degree of peeling is visually observed. What peeled most was set as x. The results are shown in [Table 1].

[比較評価例1〜3]
上記光硬化性樹脂No.1〜No.3を加えない以外は、上記評価例1〜3と同様の操作を行った。結果を[表1]に示す。
[Comparative Evaluation Examples 1 to 3]
The above-mentioned photocurable resin No. 1-No. Except not adding 3, operation similar to the said evaluation examples 1-3 was performed. The results are shown in [Table 1].

[比較評価例4〜7]
上記光硬化性樹脂No.4〜No.6に代えて[表1]に示す市販の分散剤を加えた以外は、上記評価例4〜6と同様の操作を行った。結果を[表1]に示す。
[Comparative Evaluation Examples 4 to 7]
The above-mentioned photocurable resin No. 4-No. The same operations as in Evaluation Examples 4 to 6 were performed except that the commercially available dispersant shown in [Table 1] was added instead of 6. The results are shown in [Table 1].

Figure 0005259354
Figure 0005259354

[表1]の結果より、以下のことが明らかである。本発明の光硬化性樹脂を用いた顔料組成物は、市販の分散剤を用いた顔料組成物と同等の分散性を持つ。また、本発明の光硬化性樹脂を用いた顔料組成物から得られる塗工液は、市販の分散剤を用いた顔料組成物から得られる塗工液に比べて、塗膜時の光硬化性及び光硬化後の基材への密着性が高い。   From the results of [Table 1], the following is clear. The pigment composition using the photocurable resin of the present invention has the same dispersibility as the pigment composition using a commercially available dispersant. In addition, the coating liquid obtained from the pigment composition using the photocurable resin of the present invention is more photocurable at the time of coating than the coating liquid obtained from the pigment composition using a commercially available dispersant. And the adhesiveness to the base material after photocuring is high.

Claims (8)

ジイソシアネート化合物(A)に対し、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜5000の化合物(B)及び二官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の付加物(C)を付加させた後、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジブチルアミン又はN−メチルピペラジンの何れか(D)をマイケル付加させることによって得られ、SEC(Size Exclusion Chromatgraphy)で測定されるポリスチレン換算の質量平均分子量が1000〜50000である光硬化性樹脂。 To the diisocyanate compound (A), a compound (B) having a number average molecular weight of 300 to 5000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule and an adduct (C) of a bifunctional epoxy compound and an unsaturated monobasic acid are added. Then , any one of diethylamine, diethanolamine, dibutylamine, or N-methylpiperazine (D) is added by Michael , and the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by SEC (Size Exclusion Chromatography) is 1,000 to 50,000. A photo-curing resin. 上記二官能エポキシ化合物が、下記一般式(I)で表される化合物である請求項記載の光硬化性樹脂。
Figure 0005259354
(式中、Mは直接結合、炭素原子数1〜4のアルキリデン基、脂環式炭化水素基、O、S、SO2、SS、SO、CO、OCO又は下記[化2]で表される群から選ばれる置換基を表し、上記アルキリデン基はハロゲン原子で置換されていてもよく、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R1及びR2は、連結して環構造を形成していてもよく、nは0又は1〜10の整数である。)
Figure 0005259354
(式中、Q及びBは、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基若しくは炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を表し、Z及びEは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、A及びDは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数2〜20の複素環基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基中のメチレン基は、不飽和結合、−O−又は−S−で中断されていてもよく、A及びDは、A同士、D同士又はAとDで環を形成していてもよく、その環は芳香環でもよく、R3は水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、pは0〜5の数を表し、kは0〜5の数を表し、aは0〜4の数を表し、dは0〜4の数を表す。)
It said difunctional epoxy compound is represented by the following general formula (I) is a compound represented by Claim 1, wherein the photocurable resin.
Figure 0005259354
(In the formula, M is represented by a direct bond, an alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group, O, S, SO 2 , SS, SO, CO, OCO, or the following [Chemical Formula 2]. Represents a substituent selected from the group, wherein the alkylidene group may be substituted with a halogen atom, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. Represents an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or a halogen atom, and the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and R 1 and R 2 are And may be linked to form a ring structure, and n is 0 or an integer of 1 to 10.)
Figure 0005259354
(In the formula, Q and B are each independently a hydrogen atom, a phenyl group which may be substituted with a C 1-10 alkyl group or a C 1-10 alkoxy group or a C 3 carbon atom. Represents a cycloalkyl group having 10 to 10 carbon atoms, and Z and E each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a halogen atom. Represents an atom, and the alkyl group, the alkoxy group and the alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and A and D each independently have 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Alkyl groups, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, arylalkyl groups having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms Represents a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or a halogen atom, and the methylene group in the alkyl group, aryl group and arylalkyl group is an unsaturated bond, -O- or- A and D may be interrupted by S-, A and D may form a ring between A, D or A and D, the ring may be an aromatic ring, and R 3 is a hydrogen atom, a carbon atom Represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or a halogen atom, wherein the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group are substituted with a halogen atom. And p represents a number from 0 to 5, k represents a number from 0 to 5, a represents a number from 0 to 4, and d represents a number from 0 to 4.)
上記二官能エポキシ化合物が、下記一般式(II)で表される化合物である請求項記載の光硬化性樹脂。
Figure 0005259354
(式中、R1、R2、Q、Z、n及びpは、上記一般式(I)と同じである。)
Said difunctional epoxy compound is represented by the following general formula (II) is a compound represented by Claim 1, wherein the photocurable resin.
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 , Q, Z, n and p are the same as those in the general formula (I).)
上記二官能エポキシ化合物が、下記一般式(III)で表される化合物である請求項記載の光硬化性樹脂。
Figure 0005259354
(式中、R1、R2及びnは、上記一般式(I)と同じである。)
Said difunctional epoxy compound is represented by the following general formula (III) is a compound represented by Claim 1, wherein the photocurable resin.
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as those in the general formula (I).)
上記二官能エポキシ化合物が、下記一般式(IV)で表される化合物である請求項記載の光硬化性樹脂。
Figure 0005259354
(式中、R1、R2、A、D、a、d及びnは、上記一般式(I)と同じである。)
It said difunctional epoxy compound is represented by the following general formula (IV) is a compound represented by Claim 1, wherein the photocurable resin.
Figure 0005259354
(In the formula, R 1 , R 2 , A, D, a, d and n are the same as those in the general formula (I).)
上記二官能エポキシ化合物が、下記一般式(V)で表される化合物である請求項記載の光硬化性樹脂。
Figure 0005259354
(式中、R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、R4及びR5は、連結して環構造を形成していてもよく、nは、上記一般式(I)と同じである。)
It said difunctional epoxy compound is represented by the following general formula (V) is a compound represented by Claim 1, wherein the photocurable resin.
Figure 0005259354
(Wherein R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or a halogen atom) Represents an atom, and the alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, R 4 and R 5 may be linked to form a ring structure, Same as formula (I).)
請求項1〜の何れか1項に記載の光硬化性樹脂に、さらに多塩基酸無水物(E)をエステル化させて得られる光硬化性樹脂。 Claim 1 photocurable resin according to any one of 6, further multi salt Motosan anhydride (E) esterified allowed to obtained photocurable resin. 請求項1〜の何れか1項に記載の光硬化性樹脂を有効成分とする分散剤。 Dispersing agent comprising as an active ingredient the photocurable resin according to any one of claims 1-7.
JP2008297000A 2008-11-20 2008-11-20 Photocurable resin and dispersant using the same Active JP5259354B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008297000A JP5259354B2 (en) 2008-11-20 2008-11-20 Photocurable resin and dispersant using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008297000A JP5259354B2 (en) 2008-11-20 2008-11-20 Photocurable resin and dispersant using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010121070A JP2010121070A (en) 2010-06-03
JP5259354B2 true JP5259354B2 (en) 2013-08-07

Family

ID=42322680

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008297000A Active JP5259354B2 (en) 2008-11-20 2008-11-20 Photocurable resin and dispersant using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5259354B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5698072B2 (en) * 2011-05-18 2015-04-08 株式会社Adeka Epoxy compound and polymerizable composition containing the same
JP6052873B2 (en) * 2012-12-25 2016-12-27 株式会社Adeka Photo-curable composition for nanoimprint
JP6420666B2 (en) * 2015-01-07 2018-11-07 株式会社Adeka Colorant dispersion, coloring composition and color filter

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3922757B2 (en) * 1997-04-24 2007-05-30 三菱化学株式会社 Resist composition for color filter

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010121070A (en) 2010-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12013637B2 (en) Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing same
JP6423215B2 (en) Photocurable composition
WO2019088055A1 (en) Compound, composition, cured object, and production method for cured object
JP2007332045A (en) Hexaarylbiimidazole compound and photopolymerizable composition containing the compound
CN112189007A (en) Carbamoyloxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition each containing same
WO2018159265A1 (en) Polymerizable composition and photosensitive composition for black column spacer
WO2021125132A1 (en) Carbamoyl oxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition containing said compound
JPWO2018235665A1 (en) Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix, and photosensitive composition for black column spacer
JPWO2018235664A1 (en) Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix, and photosensitive composition for black column spacer
JP5259354B2 (en) Photocurable resin and dispersant using the same
TWI798206B (en) Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
TW201437242A (en) Active energy beam-curable resin composition, colored spacer for display device and black matrix using the same
JP6294689B2 (en) Photocurable composition
CN102199273B (en) Light-solidified resin and dispersing agent using same
WO2020241529A1 (en) Carbamoyl oxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition containing said compound
JP2019183020A (en) Polymerizable composition, black matrix photosensitive composition, and color filter
TWI491631B (en) A photohardenable resin and a dispersant using the same
KR20110105930A (en) Photocurable resin and dispersing agent using the same
CN113302180A (en) Carbamoyloxime compound, and polymerization initiator and polymerizable composition each containing same
JP6621643B2 (en) Oxime ester compound and polymerization initiator containing the compound
JP4583271B2 (en) Colored alkali-developable photosensitive resin composition and color filter using the same
WO2019013112A1 (en) Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing said compound
JP6509534B2 (en) Composition, adhesive and optical film
JP5550814B2 (en) Β-diketone compound having carbazolyl group and photopolymerization initiator using the compound
JP2023180374A (en) Composition, adhesive, method for producing cured product, cured product and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110929

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130424

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5259354

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151