JP5239628B2 - 連続鋳造鋳片の熱処理装置及び熱処理方法 - Google Patents
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(2)前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面の裏面に対向する面内には、鋳片幅方向に、不活性ガス吐出用のスリット口が設けられ、且つ、該スリット口につながる不活性ガスのスリット流路が鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満、チャンバー内側方向に傾斜して設置され、前記不活性ガスがチャンバー内側方向へ吐出されるようになっていることを特徴とする(1)に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
(4)前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部の先端側に、シャッター及びシャッターの開閉装置が設置されていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
(6)前記チャンバー内に、連続的に鋳片の表層を加熱溶融し、溶融部に添加元素を添加する鋳片の表層改質手段を設けたことを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
(8)前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面の裏面に対向する面内には、鋳片幅方向に、不活性ガス吐出用のスリット口を設置し、且つ、該スリット口から不活性ガスを鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満にチャンバー内側方向へ傾斜して吐出することを特徴とする(7)に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
(10)前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部の先端側に、シャッター及びシャッターの開閉装置を設置し、入口又は出口に鋳片が無い時はシャッターを閉じ、不活性ガスのチャンバー内からの流出を防止することを特徴とする(7)〜(9)のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
(12)前記チャンバー内において連続的に鋳片の表層を加熱溶融し、溶融部に添加元素を添加することによって、鋼鋳片を表層改質することを特徴とする(7)〜(11)のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
図6−1の(b)〜(c)、図6−2の(d)〜(f)において、 チャンバー4の入口及び出口にそれぞれ設けられたひさし部10のスリット口よりも先端側には、それぞれシャッター29a、29bが設置されている。これらのシャッターは、少なくとも上下および左右の4辺ひさし部により形成される開口部の全面を閉塞するに十分な大きさを有し、それぞれシャッター支持体30a、30bにより上下に昇降可能に支持されており、後述するシャッター駆動装置により昇降され、開口部を開閉するようなっている。なお、図6−1、図6−2ではシャッターは、開口部の全面を覆う一体の部材で構成しているが、上下に2分割した部材で構成し、それぞれ上下に昇降させて開閉するようにしてもよい。また、図6−1、図6−2の例では、シャッターは上下に昇降するようにしたが、開口部全体を覆う一体の部材で構成し、駆動装置により左右に開閉するようにしてもよく、さらには、シャッターを左右に2分割した部材で構成し、それぞれを左右に移動させてして開閉するようにしてもよい。
シャッターの開閉装置は、上記のシャッターの開閉を行うものであり、鋳片の端部をセンシングする入口側及び出口側のセンサー27a、27b、27c、27d(なお、図6−1、図6−2に示すように、センサー27aおよび27dは、シャッター29aおよび29bそれぞれの外側に、センサー27bおよび27cはシャッター29aおよび29bそれぞれの内側に設けられている)、シャッターを開閉するシャッター駆動装置(図示せず)、この駆動装置を制御するコントローラ28からなる。
鋳片の熱処理をしない待機時(図6−1の(a))には、入口側及び出口側のシャッターは両方とも閉としている。そして雰囲気ガス供給装置6と、シールガススリット口11からは、常時、雰囲気ガスおよびシールガス(不活性ガス)の供給を行っている。これにより、チャンバー4への外からの空気の侵入が抑えられ、チャンバ内の酸素濃度を低濃度に維持されている。
鋳片1が矢印の方向に進行し、チャンバー入口に接近したとき(図6−1の(b))、鋳片の端部をセンシングする入口側の外側のセンサー27aが鋳片1の先端部を検知する。その信号をコントローラー28に伝え、コントローラ28がよりシャッター29aを開ける信号をシャッター駆動装置に送り、これを駆動させてシャッター29aを開く。この開いた状態は、鋳片が移動し、鋳片の後端部を入口側の内側のセンサ27bが検知する図6−2(e)まで維持する。
チャンバー内を鋳片が処理を受けながら進行し、鋳片の端部をセンシングする出口側の内側のセンサー27cは鋳片の先端部を検知すると(図6−2の(c))、その信号をコントローラ28に伝え、コントローラ28がシャッター29bを開く信号をシャッター駆動装置に送り、これを駆動させてシャッター29bを開く。 さらに、鋳片がチャンバー内で処理を受けつつ進行し(このとき、入口側及び出口側のシャッターは開いた状態となっている)、鋳片の後端がチャンバー入口を通過するとき(図6−2の(e))、鋳片の端部をセンシングする入口側の内側のセンサー27bが鋳片の後端部がシャッターを通過したことを検知し、その信号をコントローラー28に伝え、コントローラ28が入口側のシャッター29aを閉じる信号をシャッター駆動装置に送り、これを駆動させてシャッター29aを閉じる。鋳片がさらに進行し、鋳片の後端がチャンバ出口を通過するとき(図6−2の(f))、鋳片の端部をセンシングする出口側の外側のセンサー27dが鋳片の後端部がシャッターを通過したことを検知し、その信号をコントローラ28に伝え、コントローラ28がシャッター29bを閉じる信号をシャッター駆動装置に送り、これを駆動させてシャッター29bを閉じるようになっている。これにより、雰囲気ガスの拡散を抑えつつ、効率的にチャンバ内の酸素濃度を低濃度に維持できる。
通常、鋳片の厚さや幅は多様に変化することが多く、このような多様なサイズの鋳片を処理する場合には、鋳片のサイズによっては鋳片と熱処理装置の入口及び出口のひさし部との間隙が大きくなり、処理装置内を所定の雰囲気に安定して維持することが困難になることがある。例えば、鋳片の厚さが通常よりも薄い場合は、ひさし部と鋳片の間に上下方向の大きな間隙が生じ、また、鋳片の幅が通常より狭い場合は、鋳片の側面と熱処理装置のひさし部との間に幅方向(鋳片幅方向)の大きな間隙が生ずることとなり、いずれの場合にも、この間隙から外の空気が侵入し、処理装置内を所定の雰囲気に安定して維持することが困難になる。
この実施形態は、このような鋳片の厚さや幅が変化する多様なサイズの鋳片を処理する場合においても、鋳片と熱処理装置のひさし部との間に形成される間隙をできるだけ小さくするようにするものである。
さらに、熱処理装置の上記加熱面側のひさし部と上記加熱面側のシールロールとの間、上記加熱面側のシールロールと上記加熱面の裏面側のシールロールとの間、及び上記加熱面の裏面側のシールロールと上記加熱面の裏面側のひさし部との間に、それぞれの間をシールする3つのシール体を設け、かつ上記加熱面側のシールロールと上記加熱面の裏面側のシールロールとの間をシールする上記シール体を、軸方向(鋳片幅方向)に2分割した2つのシール体で形成し、それぞれ軸方向(鋳片幅方向)移動可能に構成するものである。
なお、上述のように、上記加熱面側のひさし部と上記加熱面側のシールロールとの間のシール体を加熱面側のシール体、上記加熱面側のシールロールと上記加熱面の裏面側のシールロールとの間のシール体を可動シール体、上記加熱面の裏面側のシールロールと上記加熱面の裏面側のひさし部との間のシール体を加熱面の裏面側のシール体とも記載する。
図7(a)〜(c)において、熱処理装置の入口側及び出口側にはひさし部10が設けられ、入口側及び出口側のひさし部10と鋳片1との間において、鋳片の被加熱面とこの被加熱面に対向するひさし部(加熱面側のひさし部)との間、及び鋳片の被加熱面の裏面とこの裏面に対向するひさし部(加熱面の裏面側のひさし部)との間に、鋳片幅方向に回転軸を有する加熱面側のシールロール17および加熱面の裏面側のシールロール18が各々設けられている。各シールロールは、軸受を含むシールロール支持体19により回転自在に支持され、それぞれ加熱面側のひさし部及び加熱面の裏面側のひさし部に固定されている。なお、加熱面側のシールロール17は、加熱面側のひさし部にスプリングのダンパー20を介してシールロール支持体19により上下に移動可能に支持されており、熱処理により鋳片が熱変形した場合でも、シールロールが上下に移動して衝撃を吸収し、ひさし部に対して大きな衝撃がかからないようになっている。シールロール17、18は、シールロールと鋳片との上下方向の間隔が小さくなるようにその径や上下方向の設置位置を設定すれば良いが、通常5mm以下となるように設定するのが好ましい。なお、上述のように熱処理による変形を考慮して、加熱面側のシールロールをダンパーを介して加熱面側のひさし部に移動可能に支持することが好ましい。
また、シールロールの軸方向(鋳片の幅方向)の長さは、ひさし部の開口部の幅方向長さに近いものとし、ひさし部の両側面とロール側面との間隙を小さくすることが好ましい。
また、可動シール体23(23a,23b)は、上述の加熱面側のシール体21および加熱面の裏面側のシール体22と上下方向に間隔を有して配置されるとともに、左右のシール23a、23bの鋳片幅方向の一端部は、駆動軸25を介して可動シール体駆動装置24に連結、支持されており、可動シール体駆動装置24により鋳片幅方向(ロール軸方向)に移動可能に構成されている。
可動シール体23の左右2つのシール体23a、23bは、上記可動シール体駆動装置の駆動により、鋳片幅方向に相互に対向する方向に移動し、それぞれの他端部が熱処理装置の開口部の中央部で接触し、一体の可動シール体となるように構成される。これにより、加熱面側シールロール17と加熱面の裏面側シールロール18との上下方向の間をひさし部の両側面の間にわたってシールすることができる。
このように、可動のシール体23を設けることにより、処理する鋳片の幅が変化した場合、可動シール体23のシール体部材23a、23bを左右に移動させることにより、鋳片の側面とシール体部材の中央側端部との間隙を極めて小さく、例えば、鋳片の側面から5mmの位置に設置させるようにすることができ、隙間が小さくなり、開口面積を小さく抑えることができ、不活性ガスのチャンバー内からの流出を防止でき、酸素濃度を低濃度に維持できる。また、加熱面側シールロール、加熱面の裏面側シールロール、加熱面側のシール体、加熱面の裏面側のシール体により、鋳片の厚さの変動に対してもシール機能が強化される結果、活性ガスのチャンバー内からの流出を防止でき、酸素濃度を低濃度に維持できる。
また、本発明の熱処理装置の構造は、特に限定するものではなく、通常の熱処理装置、熱処理炉などと同様の構造とすることができる。例えば、鋼製の炉体とし、必要に応じてこの炉体に断熱・耐火材などを配置して断熱・耐火性能を付与したもの或いは、この炉体の水冷配管などを設けて冷却構造を組み込んだものとすることも可能である。
2 鋳片搬送ロール
3 雰囲気ボックス
4 チャンバー
5 加熱手段または加熱溶融改質手段
6 雰囲気ガス供給装置
7 加熱したまたは加熱溶融した鋳片表面
8 チャンバー入口
9 チャンバー出口
10 ひさし部
11 シールガススリット口
12 境界層
13 シールガス(不活性ガス)
14 雰囲気ガス
15 シールガスヘッダー
16 テーパー状
17 加熱面側のシールロール
18 加熱面の裏面側のシールロール
19 シールロール支持体
20 ダンパー
21 加熱面側のシール体
22 加熱面の裏面側のシール体
23、23a、23b 可動シール体
24 可動シール体駆動装置
25 駆動軸
27a、27b、27c、27d スラブ端をセンシングするセンサー
28 コントローラ
29a、29b シャッター
30a、30b シャッター支持体
H チャンバー出口ギャップ
H’ 境界層を考慮した実質的なチャンバー出口ギャップ
Claims (12)
- 鋳片の上面表層を加熱する加熱手段と、加熱された鋳片の酸化防止のために不活性ガスを供給する手段を備えたトンネル型のチャンバーによる連続鋳造鋳片の熱処理において、前記チャンバーの入口及び出口には、鋳片の面と対向する面を有するひさし部が設置され、前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面と鋳片の側面とに対向する面内には、鋳片幅方向と鋳片厚み方向に、不活性ガス吐出用のスリット口が設けられ、且つ、該スリット口につながる前記不活性ガスのスリット流路が鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満、チャンバー内側方向に傾斜して設置され、前記不活性ガスがチャンバー内側方向へ吐出されるようになっていることを特徴とする連続鋳造鋳片の熱処理装置。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面の裏面に対向する面内には、鋳片幅方向に、不活性ガス吐出用のスリット口が設けられ、且つ、該スリット口につながる不活性ガスのスリット流路が鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満、チャンバー内側方向に傾斜して設置され、前記不活性ガスがチャンバー内側方向へ吐出されるようになっていることを特徴とする請求項1に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側において、前記鋳片の被加熱面の裏面と、該裏面に対向するひさし部との間に、鋳片の幅方向に回転軸を有するシールロールが設置されていることを特徴とする請求項1に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のスリット口よりも先端側に、シャッター及びシャッターの開閉装置が設置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側において、前記鋳片の被加熱面と該被加熱面に対向するひさし部との間、及び前記鋳片の被加熱面の裏面と該裏面に対向するひさし部との間に、鋳片幅方向に回転軸を有するシールロールを設置し、さらに、加熱面側のひさし部と加熱面側のシールロールとの間部、加熱面側のシールロールと加熱面の裏面側のシールロールとの間部、および、加熱面の裏面側のシールロールと加熱面の裏面側のひさし部との間部に、それぞれシール体を設け、かつ、該加熱面側のシールロールと加熱面の裏面側のシールロールとの間部のシール体を鋳片幅方向に2分割して構成し、該2分割されたシール体を鋳片幅方向に移動可能としたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。但し、加熱面側とは鋳片の被加熱面の側、加熱面の裏面側とは鋳片の被加熱面の裏面側を指すものとする。
- 前記チャンバー内に、連続的に鋳片の表層を加熱溶融し、溶融部に添加元素を添加する鋳片の表層改質手段を設けたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理装置。
- 鋳片の表層を加熱し、前記加熱された鋳片表層の酸化防止のために不活性ガスを供給するトンネル型のチャンバーによる連続鋳造鋳片の熱処理方法において、前記チャンバーの入口及び出口に、鋳片の面と対向する面を有するひさし部を設置し、前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面と鋳片の側面とに対向する面内には、前記鋳片の幅方向と鋳片厚み方向に、不活性ガス吐出用のスリット口を設置し、且つ、該スリット口から不活性ガスを鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満、チャンバー内側方向へ傾斜して吐出することを特徴とする連続鋳造鋳片の熱処理方法。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側のひさし部の前記鋳片の被加熱面の裏面に対向する面内には、鋳片幅方向に、不活性ガス吐出用のスリット口を設置し、且つ、該スリット口から不活性ガスを鋳片の搬送方向に垂直な面から0度超、90度未満にチャンバー内側方向へ傾斜して吐出することを特徴とする請求項7に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側の前記鋳片の被加熱面の裏面と、該裏面に対向するひさし部との間に、鋳片幅方向に回転軸を有するシールロールを設置し、不活性ガスのチャンバー内からの流出を防止することを特徴とする請求項7又は8に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のスリット口よりも先端側に、シャッター及びシャッターの開閉装置を設置し、入口又は出口に鋳片が無い時はシャッターを閉じ、不活性ガスのチャンバー内からの流出を防止することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
- 前記チャンバーの入口及び出口に設置された前記ひさし部のうち、少なくとも出口側において、前記鋳片の被加熱面と該被加熱面に対向するひさし部との間、且つ、前記鋳片の被加熱面の裏面と該裏面に対向するひさし部との間に、鋳片幅方向に回転軸を有するロールを設置し、さらに、加熱面側のひさし部と加熱面側のロールとの間部、加熱面側のロールと加熱面の裏面側のロールとの間部、加熱面の裏面側のロールと加熱面の裏面側のひさし部との間部に、それぞれシール体を設け、かつ、該加熱面側のシールロールと加熱面の裏面側のシールロールとの間部のシール体を鋳片幅方向に2分割して構成し、鋳片の幅に対応して、加熱面側のロールと加熱面の裏面側のロール間部のシール体を鋳片の幅方向に移動させることにより鋳片の側面と該シール体との間の間隙を小さくし、不活性ガスのチャンバー内からの流出を防止することを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。但し、加熱面側とは鋳片の被加熱面の側、加熱面の裏面側とは鋳片の被加熱面の裏面側を指すものとする。
- 前記チャンバー内において連続的に鋳片の表層を加熱溶融し、溶融部に添加元素を添加することによって、鋼鋳片を表層改質することを特徴とする請求項7〜11のいずれか1項に記載の連続鋳造鋳片の熱処理方法。
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