JP5225716B2 - インドール誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
M. Bandini, A. Melloni, A. Umani-Ronchi、 オーガニック レター、2004年、第6巻、 3199−3202頁
下記一般式(I):
R1は、炭素数1〜4のアルキル基、2位が炭素数1〜4のアルキル基もしくはフェニル基で置換されているビニル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R2は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R3は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R4及びR5は、互いに同一又は異なって、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又はハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基で表されるインドール誘導体を合成する方法であって、
下記一般式(II):
で表されるインドール又はその置換体を、
3〜5d遷移元素又はインジウムを含有する触媒の存在下、マイクロ波照射により加熱しながら反応させることを特徴とするインドール誘導体の製造方法である。
下記式(1)で表される2級アルコール1.0mmol、下記式(2)で表されるNメチルインドール1.0mmol、及び塩化第2鉄0.03mmol(Nメチルインドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置(バイオタージ社製:バイオタージ イニシエーター、以下の実施例においても、同じ装置を使用した。)により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(3)で表されるインドール誘導体を収率98%で得た。
触媒を塩化第2鉄から、表1に示すものに変えた以外は、実施例1と同じ反応を行い、式(3)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表1に示す。
下記式(4)で表される2級アルコール1.0mmol、式(2)で表されるNメチルインドール1.0mmol、及び表2に示す触媒0.03mmol(Nメチルインドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(5)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表2に示す。
式(1)で表される2級アルコール1.0mmol、下記式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表3に示す触媒0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(7)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表3に示す。
下記式(8)で表される2級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表4に示す触媒0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(9)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表4に示す。
下記式(10)で表される2級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表5に示す触媒0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(11)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表5に示す。
下記式(12)で表される3級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表6に示す触媒0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(13)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表6に示す。
式(12)で表される3級アルコール1.0mmol、式(2)で表されるNメチルインドール1.0mmol、及び表7に示す触媒0.03mmol(Nメチルインドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、15分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(14)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表7に示す。
式(15)で表される3級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及びInBr3(触媒)0.03mmol(Nメチルインドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、20分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(16)で表されるインドール誘導体を収率95%で得た。
式(12)で表される3級アルコール1.0mmol、式(2)で表されるNメチルインドール1.1mmol、及び表8に示す触媒0.05mmol(Nメチルインドールに対して5mol%)を、反応容器に入れ、溶媒を用いずに混合し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、表8に示す時間、実施例22〜23の場合と同じ反応式で表される反応を行ったところ、式(14)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表8に示す。
式(4)で表される3級アルコール1.0mmol、式(2)で表されるNメチルインドール1.1mmol、及び塩化第2鉄(触媒)0.05mmol(Nメチルインドールに対して5mol%)を、反応容器に入れ、溶媒を用いずに混合し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に20分間加熱して、実施例7〜13の場合と同じ反応式で表される反応を行ったところ、式(5)で表されるインドール誘導体を収率82%で得た。
式(1)で表される2級アルコール1.1mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表9に示す触媒を表9に示す量(表中では、インドールに対するmol%で示す。)を、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、110℃に加熱して、表9に示す時間、実施例14〜15の場合と同じ反応式で表される反応を行ったところ、式(7)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表9に示す。
式(4)で表される2級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.0mmol、及び表10に示す触媒を表10に示す量(表中では、インドールに対するmol%で示す。)、反応容器に入れた2.5mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、表10に示す温度に加熱して、表10に示す時間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(17)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表10に示す。
下記式(18)で表される2級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.1mmol、及びInBr3(触媒)0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた3mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、100℃に加熱して、10分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(19)で表されるインドール誘導体を、収率95%以上で得た。
下記式(20)で表される2級アルコール1.0mmol、式(6)で表されるインドール1.1mmol、及びInBr3(触媒)0.03mmol(インドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた3mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、100℃に加熱して、10分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(21)で表されるインドール誘導体を、収率95%以上で得た。
式(20)で表される2級アルコール1.0mmol、式(2)で表されるNメチルインドール1.1mmol、及びInBr3(触媒)0.03mmol(Nメチルインドールに対して3mol%)を、反応容器に入れた3mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、100℃に加熱して、10分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(22)で表されるインドール誘導体を、収率95%以上で得た。
式(4)で表される2級アルコール1.0mmol、下記式(23)で表されるインドール化合物1.0mmol、及び表11に示す量(インドール化合物に対するmol%で示す。)のInBr3(触媒)を、反応容器中で、表11に示す溶媒の3mlに溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、表11に示す温度に加熱して、20分間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(24)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表11に示す。
式(8)で表される2級アルコール1.0mmol、下記式(25)で表されるインドール化合物1.0mmol、及び表12に示す量(インドール化合物に対するmol%で示す。)のInBr3(触媒)を、反応容器に入れた3mlのトルエン中に溶解し、マイクロ波をマイクロ波照射装置により照射し、表12に示す温度に加熱して、表12に示す時間、下記式で表される反応を行ったところ、下記式(26)で表されるインドール誘導体を得た。その収率を表12に示す。
Claims (5)
- 下記一般式(I):
(式中、
R1は、炭素数1〜4のアルキル基、2位が炭素数1〜4のアルキル基もしくはフェニル基で置換されているビニル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R2は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R3は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R4及びR5は、互いに同一又は異なって、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又はハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基を表す。)で表されるインドール誘導体を合成する方法であって、
下記一般式(II):
(式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。)
で表されるアルコールと、下記一般式(III):
(式中、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。)
で表されるインドール又はその置換体を、Zn(OTf) 2 、Sc(OTf) 3 、Cu(OTf) 2 及びIn(OTf) 3 (式中Tfは、−SO 2 −CF 3 を表す。)からなる群より選ばれる触媒の存在下、マイクロ波照射により、90℃〜110℃の範囲内に加熱しながら10分〜30分間反応させることを特徴とするインドール誘導体の製造方法。 - 下記一般式(I):
(式中、
R1は、炭素数1〜4のアルキル基、2位が炭素数1〜4のアルキル基もしくはフェニル基で置換されているビニル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R2は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R3は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R4及びR5は、互いに同一又は異なって、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又はハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されてもよいフェニル基を表す。)で表されるインドール誘導体を合成する方法であって、
下記一般式(II):
(式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。)
で表されるアルコールと、下記一般式(III):
(式中、R4及びR5は前記と同じ意味を表す。)
で表されるインドール又はその置換体を、鉄、スカンジウム、銅、インジウム、亜鉛、ルテニウム又はタンタルのハロゲン化物からなる群より選ばれる触媒を、前記インドール又はその置換体に対して1モル%〜5モル%存在させ、マイクロ波照射により、90℃〜110℃の範囲内に加熱しながら10分〜30分間反応させることを特徴とするインドール誘導体の製造方法。 - 鉄、スカンジウム、銅、インジウム、亜鉛、ルテニウム又はタンタルのハロゲン化物が、FeCl 3 、TaI 5 、RuCl 3 、InBr 3 、ZnBr 2 及びInCl 3 からなる群より選ばれることを特徴とする請求項2に記載のインドール誘導体の製造方法。
- R1は、炭素数1〜4のアルキル基、2位がフェニル基で置換されたビニル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、
R2は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表し、かつ
R3は、水素、炭素数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基もしくは炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表すことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のインドール誘導体の製造方法。 - R4及びR5は、互いに同一又は異なって、水素、メチル基又はフェニル基を表すことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のインドール誘導体の製造方法。
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