JP5218131B2 - Organic EL device - Google Patents

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Description

本発明は、低分子ホール輸送材料上に発光層を形成した有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子に関し、特に、車載用表示素子として適用すると好適である。   The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) element in which a light emitting layer is formed on a low molecular hole transport material, and is particularly suitable when applied as an on-vehicle display element.

従来、特許文献1、2において、ホール輸送層上もしくは陽極上に発光層を直接形成した構造の有機EL素子が開示されている。この有機EL素子では、ホール輸送層を高分子薄膜で構成すると共に、発光層を高分子蛍光体と電子供与性及び/又は電子受容性の有機化合物で構成している。また、特許文献3において、蒸着法で形成された低分子ホール輸送層と塗布法で形成された高分子発光層とを積層した構造が開示されている。   Conventionally, Patent Documents 1 and 2 disclose organic EL elements having a structure in which a light emitting layer is directly formed on a hole transport layer or an anode. In this organic EL element, the hole transport layer is composed of a polymer thin film, and the light-emitting layer is composed of a polymer phosphor and an electron-donating and / or electron-accepting organic compound. Patent Document 3 discloses a structure in which a low molecular hole transport layer formed by a vapor deposition method and a polymer light emitting layer formed by a coating method are stacked.

特開平09−59614号公報JP 09-59614 A 特許第4045691号公報Japanese Patent No. 4045691 特開2008−16336号公報JP 2008-16336 A

しかしながら、有機EL素子を車載用表示素子として適用する場合のように、有機EL素子が厳しい環境下で用いられる場合には、ホール輸送層を低分子材料で構成することが重要であり、特許文献1、2に記載の構造のように、ホール輸送層を高分子薄膜で構成することは好ましくない。高分子ホール輸送層がホールを輸送するメカニズムとしては、高分子材料が酸化⇒還元繰り返すことによりホール輸送が行われる。しかしながら酸化された高分子材料が必ず元に戻るわけではなく、酸化したときに別の反応物になってホール輸送層として機能しなくなる部分が発生することにより劣化すると考えられる。特に高分子ホール輸送層は低分子ホール輸送材料に比べてこの劣化が著しいと考えられ、高分子材料で構成したホール輸送層は耐久性に問題がある。   However, when the organic EL element is used in a harsh environment, such as when the organic EL element is applied as an in-vehicle display element, it is important to configure the hole transport layer with a low molecular material. As in the structures described in 1 and 2, it is not preferable to form the hole transport layer with a polymer thin film. As a mechanism for transporting holes by the polymer hole transport layer, hole transport is performed by repeating oxidation → reduction of the polymer material. However, the oxidized polymer material does not always return to its original state, and it is considered that the oxidized polymer material deteriorates due to the generation of a part that becomes another reactant when it is oxidized and does not function as a hole transport layer. In particular, the polymer hole transport layer is considered to be significantly deteriorated compared to the low molecular hole transport material, and the hole transport layer made of the polymer material has a problem in durability.

また、特許文献3では、ホール輸送層を低分子材料で構成していることから、耐久性の面では問題ないが、発光層を単なる高分子材料で構成した場合、ホール輸送層と発光層との界面が低分子材料と高分子材料の界面となるため、界面での膜密度等の物理状態の違いにより密着性が低く、キャリア注入性も低いという問題がある。   In Patent Document 3, since the hole transport layer is made of a low molecular material, there is no problem in terms of durability. However, when the light emitting layer is made of a simple polymer material, the hole transport layer, the light emitting layer, Since this interface becomes an interface between a low-molecular material and a high-molecular material, there is a problem that adhesion is low due to a difference in physical state such as film density at the interface, and carrier injection property is also low.

本発明は上記点に鑑みて、耐久性が高く、かつ、ホール輸送層と発光層との界面の密着性も高い有機EL素子を提供することを目的とする。   In view of the above points, an object of the present invention is to provide an organic EL element having high durability and high adhesion at the interface between a hole transport layer and a light emitting layer.

上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、低分子材料にて構成された低分子ホール輸送層(3)の表面に、該低分子ホール輸送層(3)の表面がエーテル化合物もしくは有機酸で表面処理されて形成された難溶化層(3a)を形成し、この難溶化層(3a)の上に、高分子材料と低分子材料の混合にて構成された発光層(4)を配置することを特徴としている。 In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, the surface of the low molecular hole transport layer (3) made of a low molecular material is formed on the surface of the low molecular hole transport layer (3) with an ether compound. Alternatively, a hardly soluble layer (3a) formed by surface treatment with an organic acid is formed, and a light emitting layer (4) composed of a mixture of a high molecular material and a low molecular material is formed on this hardly soluble layer (3a). ).

このように、低分子ホール輸送層(3)を用いることにより、耐久性を高くすることができる。そして、発光層(4)を高分子材料と低分子材料の混合にて構成しているため、高分子材料に加えられた低分子材料が立体障害の隙間を埋めるバインダーの役割をして高分子材料と低分子材料の絡まりを形成する。このために、低分子ホール輸送層(3)と発光層(4)との界面の密着性を高くすることができる。したがって、耐久性が高く、かつ、低分子ホール輸送層(3)と発光層(4)との界面の密着性も高い有機EL素子とすることができる。
さらに、低分子ホール輸送層(3)をエーテル化合物や有機酸にて表面処理することで形成した難溶化層(3a)により、低分子ホール輸送層(3)の構成材料が発光層(4)に溶け出すことを防止でき、素子特性の安定化および寿命向上が図れると共に、発光効率の低下の抑制が可能になるという効果も得ることができる。
Thus, durability can be made high by using a low molecular hole transport layer (3). Since the light emitting layer (4) is composed of a mixture of a high molecular material and a low molecular material, the low molecular material added to the high molecular material serves as a binder that fills the gap of steric hindrance. Forms entanglement between materials and low-molecular materials. For this reason, the adhesiveness of the interface of a low molecular hole transport layer (3) and a light emitting layer (4) can be made high. Therefore, an organic EL device having high durability and high adhesion at the interface between the low molecular hole transport layer (3) and the light emitting layer (4) can be obtained.
Furthermore, the low molecular hole transport layer (3) is formed by subjecting the low molecular hole transport layer (3) to a light emitting layer (4) by the poorly soluble layer (3a) formed by surface treatment with an ether compound or an organic acid. It is possible to prevent the element from being dissolved, to stabilize the element characteristics and improve the lifetime, and to obtain the effect that the reduction of the luminous efficiency can be suppressed.

請求項に記載の発明では、発光層(4)に含まれる低分子材料のHOMO-LUMOギャップが、該発光層(4)より放射される光の発光エネルギーよりも大きいことを特徴としている。 The invention according to claim 2 is characterized in that the HOMO-LUMO gap of the low molecular weight material contained in the light emitting layer (4) is larger than the light emission energy of the light emitted from the light emitting layer (4).

これにより、発光層(4)において放射された光が低分子材料で吸収されて効率が低下したり、低分子材料自体が発光して所望の色度からずれを起こしたりすることを防ぐことが可能となる。   This prevents the light emitted from the light emitting layer (4) from being absorbed by the low molecular material and reducing the efficiency, or preventing the low molecular material itself from emitting light and causing a deviation from the desired chromaticity. It becomes possible.

請求項に記載の発明では、発光層(4)に含まれる低分子材料が、該発光層(4)を構成する高分子材料と低分子材料の総量のうちの1重量%以上50重量%未満とされていることを特徴としている。 In the invention according to claim 3 , the low molecular weight material contained in the light emitting layer (4) is 1% by weight or more and 50% by weight of the total amount of the polymer material and the low molecular weight material constituting the light emitting layer (4). It is characterized by being less than.

このように、低分子材料の混合量を1重量%以上にすることで確実にバインダー効果を得ることができる。また、低分子材料の混合量を50重量%未満にすることで、加えられた低分子材料自体が消光サイトとして働いてしまうために効率が低下することを防止することができる。   Thus, the binder effect can be reliably obtained by setting the mixing amount of the low molecular weight material to 1% by weight or more. Moreover, since the added low molecular weight material itself works as a quenching site by making the mixing amount of the low molecular weight material less than 50% by weight, it is possible to prevent the efficiency from being lowered.

なお、このような発光層(4)に混合する低分子材料としては、請求項に記載したように、ホール輸送性材料や電子輸送性材料もしくは両方とすることができる。また、請求項に記載したように、発光層(4)にさらに発光性色素を添加しても良い。このように、発光層(4)に対して発光性色素を添加することで、より発光効率を高めたり演色性を高めたりすることも可能である。 In addition, as a low molecular material mixed with such a light emitting layer (4), as described in Claim 4 , it can be a hole transport material, an electron transport material, or both. Further, as described in claim 5 , a luminescent dye may be further added to the light emitting layer (4). Thus, by adding a luminescent pigment to the luminescent layer (4), it is possible to further increase the luminous efficiency and the color rendering.

また、請求項に記載したように、少なくとも低分子ホール輸送層(3)のうち、発光層(4)と接する部分が難溶化層(3a)になっていれば良く、それ以外の部分は低分子材料のみからなる層であれば良い。 In addition , as described in claim 6 , at least a portion of the low molecular hole transport layer (3) that contacts the light emitting layer (4) may be a hardly soluble layer (3a), and other portions may be Any layer composed only of a low molecular material may be used.

例えば、請求項に記載したように、エーテル化合物として、該エーテル化合物に含まれる炭素原子数が5以上15以下のものを用いることができる。具体的には、請求項に記載の発明のように、エーテル化合物が化学式1もしくは化学式2
(化1) R1−O−R2
(化2) R1−O−R2−O−R3
で示される化合物で、R1、R2、R3が炭素原子数2以上6以下のアルキル基であるものを用いることができる。
For example, as described in claim 7 , an ether compound having 5 to 15 carbon atoms contained in the ether compound can be used. Specifically, as in the invention according to claim 8 , the ether compound is represented by chemical formula 1 or chemical formula 2.
(Chemical formula 1) R1-O-R2
(Chemical Formula 2) R1-O-R2-O-R3
A compound represented by the above formula, wherein R1, R2, and R3 are alkyl groups having 2 to 6 carbon atoms can be used.

この場合、請求項に記載したように、エーテル化合物の沸点が50℃以上かつ250℃以下であると好ましい。沸点が50℃未満ではエーテル化合物がすぐ揮発してしまうため、十分な難溶化層(3a)を形成できない可能性があり、沸点が250℃より高いと表面処理を行った後余分なエーテル化合物を除去するのに長時間高温での処理が必要となり生産性が低下するためである。 In this case, as described in claim 9 , the boiling point of the ether compound is preferably 50 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. If the boiling point is less than 50 ° C., the ether compound will volatilize immediately, so there is a possibility that a sufficiently poorly soluble layer (3a) may not be formed. If the boiling point is higher than 250 ° C., an excess ether compound is removed after surface treatment. This is because the treatment at high temperature for a long time is required for removal, and the productivity is lowered.

このようなエーテル化合物としては、請求項10に記載したように、例えば、エーテル化合物がジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテルのいずれかを挙げることができる。 As such an ether compound, as described in claim 10 , for example, the ether compound may be dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether. Either of these can be mentioned.

また、例えば、請求項11に記載したように、有機酸には、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物、ヒドロキシ化合物、チオール化合物、エノール化合物、もしくは有機リン酸化合物を用いることができる。 Further, for example, as described in claim 11 , a sulfonic acid compound, a carboxylic acid compound, a hydroxy compound, a thiol compound, an enol compound, or an organic phosphoric acid compound can be used as the organic acid.

また、請求項12に記載したように、難溶化層(3a)の膜厚が10nm以下であるのが好ましい。難溶化層(3a)は低分子ホール輸送層(3)と比べてホール移動度が低くなる。このため、難溶化層(3a)の膜厚が10nmよりも厚いと駆動電圧を増加させなければならない。したがって、難溶化層(3a)の膜厚を10nm以下にすると良い。 Moreover, as described in claim 12 , it is preferable that the film thickness of the hardly soluble layer (3a) is 10 nm or less. The poorly soluble layer (3a) has a lower hole mobility than the low molecular hole transport layer (3). For this reason, if the film thickness of the hardly soluble layer (3a) is thicker than 10 nm, the driving voltage must be increased. Therefore, the film thickness of the hardly soluble layer (3a) is preferably 10 nm or less.

また、請求項13に記載したように、低分子ホール輸送層(3)を構成する低分子材料のガラス転移点、ガラス転移点がない場合は融点が120℃以上であるのが好ましい。すなわち、発光層(4)を形成するための高分子材料塗布後に溶媒乾燥工程を行うとき、通常は120℃程度の加熱が行われるが、この加熱工程が低分子材料のガラス転移点を超えると低分子材料の凝集による界面荒さの増大や両者の混合などが起こって特性が悪化してしまう。このため、低分子ホール輸送層(3)の構成材料として、ガラス転移点が高分子材料塗布後の溶媒乾燥温度以上、すなわち120℃以上の材料を用いるのが好ましい。 Further, as described in claim 13 , when the low molecular weight material constituting the low molecular hole transport layer (3) has no glass transition point or glass transition point, the melting point is preferably 120 ° C. or higher. That is, when the solvent drying step is performed after application of the polymer material for forming the light emitting layer (4), heating at about 120 ° C. is usually performed, but when this heating step exceeds the glass transition point of the low molecular material. Increased surface roughness due to aggregation of low molecular weight materials or mixing of both causes deterioration of properties. For this reason, it is preferable to use a material having a glass transition point equal to or higher than the solvent drying temperature after application of the polymer material, that is, 120 ° C. or higher, as the constituent material of the low molecular hole transport layer (3).

また、請求項14に記載したように、低分子ホール輸送層(3)を構成する低分子材料の真空度1Pa時の昇華温度が300℃以上であると好ましい。昇華温度が300℃より低いと、10-5Pa以下の高真空下で蒸着膜を形成する場合に蒸着温度が200℃以下になり、蒸着速度を制御することが困難になって、均一な膜密度の蒸着膜を形成することができない。したがって、低分子ホール輸送層(3)の構成材料として、真空度1Pa時の昇華温度が300℃以上のものを用いると良い。 In addition, as described in claim 14 , the sublimation temperature of the low molecular material constituting the low molecular hole transport layer (3) at a vacuum degree of 1 Pa is preferably 300 ° C. or higher. When the sublimation temperature is lower than 300 ° C., the vapor deposition temperature becomes 200 ° C. or lower when the vapor deposition film is formed under a high vacuum of 10 −5 Pa or less, and it becomes difficult to control the vapor deposition rate. It is impossible to form a vapor-deposited film having a density. Therefore, it is preferable to use a material having a sublimation temperature of 300 ° C. or higher when the degree of vacuum is 1 Pa as the constituent material of the low molecular hole transport layer (3).

このような低分子ホール輸送層(3)の構成材料としては、請求項15に記載したように、低分子材料の中でもホール輸送性の高いトリフェニルアミン誘導体材料を用いると好ましい。 As a constituent material of such a low molecular hole transport layer (3), as described in claim 15 , it is preferable to use a triphenylamine derivative material having a high hole transport property among low molecular materials.

らに、請求項16に記載したように、特にスターバーストアミンは、薄膜にした場合に分子が配列しやすく耐溶剤性が向上するのでより難溶化が可能であり好ましい。 Et al is, as described in claim 16, starburst amines, especially since improved solvent resistance molecule is easily arranged when the film is capable of more hardly soluble preferable.

なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。   In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.

本発明の一実施形態で説明する有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element demonstrated by one Embodiment of this invention. 各実施例で製造した試料および比較例1の試料に対して調べた初期駆動電圧V0、輝度半減寿命LT50、およびダークスポット発生数Nをまとめた図表である。6 is a chart summarizing initial drive voltage V0, luminance half-life LT50, and dark spot generation number N examined for the samples manufactured in each example and the sample of Comparative Example 1; 実施例1と比較例1について最大発光効率をI0(cd/A)とした場合のI/I0の変化を調べた結果を示すグラフである。6 is a graph showing the results of examining the change in I / I 0 when the maximum light emission efficiency is I 0 (cd / A) for Example 1 and Comparative Example 1.

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or equivalent parts are denoted by the same reference numerals in the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本発明の実施形態に係る有機EL素子100の構成を示す概略断面図である。この図に示されるように、基板1の上に、ホール注入電極2、難溶化層3aを含む低分子ホール輸送層3、発光層4および電子注入電極5が順に積層され、さらにこれら各部が金属缶6によって覆われた構造により、本実施形態にかかる有機EL素子100が構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of an organic EL element 100 according to an embodiment of the present invention. As shown in this figure, a hole injection electrode 2, a low molecular hole transport layer 3 including a hardly soluble layer 3 a, a light emitting layer 4 and an electron injection electrode 5 are sequentially laminated on a substrate 1. The structure covered with the can 6 constitutes the organic EL element 100 according to the present embodiment.

このような構造の有機EL素子100は、例えば次のようにして製造される。まず、基板1の上にホール注入電極2を形成したのち、低分子ホール輸送層3を真空蒸着法により形成する。続いて、低分子ホール輸送層3の表面にエーテル化合物もしくは有機酸による表面処理を行うことにより、低分子ホール輸送層3のうち発光層4との界面となる表面に、低分子ホール輸送層3の構成材料とエーテル化合物もしくは有機酸が混合して構成された難溶化層3aを形成する。そして、発光層4を塗布法にて形成したのち、電子注入電極5を真空蒸着法にて形成する。最後に、乾燥窒素雰囲気中にて金属缶6の貼り合わせによる封止を行うことにより、図1に示す有機EL素子100が製造される。各工程間の搬送方法は特に限定されるものではないが、乾燥雰囲気中での搬送であることが望ましい。   The organic EL element 100 having such a structure is manufactured as follows, for example. First, after forming the hole injection electrode 2 on the substrate 1, the low molecular hole transport layer 3 is formed by a vacuum deposition method. Subsequently, the surface of the low molecular hole transport layer 3 is subjected to a surface treatment with an ether compound or an organic acid, so that the low molecular hole transport layer 3 is formed on the surface of the low molecular hole transport layer 3 serving as an interface with the light emitting layer 4. The slightly soluble layer 3a formed by mixing the constituent material and the ether compound or organic acid is formed. And after forming the light emitting layer 4 by the apply | coating method, the electron injection electrode 5 is formed by the vacuum evaporation method. Finally, the organic EL element 100 shown in FIG. 1 is manufactured by sealing by bonding the metal can 6 in a dry nitrogen atmosphere. Although the conveyance method between each process is not specifically limited, It is desirable that it is conveyance in a dry atmosphere.

なお、エーテル化合物もしくは有機酸による表面処理、発光層4の形成及び封止工程は限定されるものではないがグローブボックス等の乾燥不活性ガス雰囲気中で行われることが望ましい。また、封止方法は金属缶6による封止以外にも、ガラスもしくはバリア付きフィルムの貼り合わせによる封止やシリコン窒化膜などの薄膜を直接形成する薄膜封止手法など様々な封止手法が適用可能である。   The surface treatment with an ether compound or an organic acid, the formation of the light emitting layer 4 and the sealing step are not limited, but it is desirable to be performed in a dry inert gas atmosphere such as a glove box. In addition to sealing with a metal can 6, various sealing methods such as sealing by bonding of glass or a film with a barrier or thin film sealing method for directly forming a thin film such as a silicon nitride film can be applied. Is possible.

基板1は、例えば、透明なガラス、石英ガラス、バリア膜付きの樹脂基板や金属基板等よりなる電極基板で構成されている。   The substrate 1 is composed of, for example, an electrode substrate made of transparent glass, quartz glass, a resin substrate with a barrier film, a metal substrate, or the like.

ホール注入電極2は、透明または半透明の電極を形成することのできる任意の導電性物質にて形成されている。具体的には、酸化物として酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化亜鉛アルミニウム、酸化亜鉛ガリウム、酸化チタンニオブ等を使用することができる。ただし、それらのうちでも特にITOは、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性に優れていることなどの利点を有する好適な材料である。更に、アルミニウム、金、銀等の金属材料を蒸着して半透明の層を成膜する方法や、ポリアニリン等の有機半導体を用いる方法もあり、更にその他の方法を用いることも可能である。ホール注入電極2に対しては、必要に応じてエッチングによりパターニングを行っても良いし、UV処理やプラズマ処理などにより表面の活性化を行ってもよい。   The hole injection electrode 2 is formed of an arbitrary conductive material capable of forming a transparent or translucent electrode. Specifically, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, zinc aluminum oxide, zinc gallium oxide, niobium titanium oxide, or the like can be used as the oxide. However, among them, ITO is a suitable material having advantages such as low resistance, solvent resistance, and excellent transparency. Further, there are a method of depositing a metal material such as aluminum, gold and silver to form a translucent layer, a method of using an organic semiconductor such as polyaniline, and other methods can also be used. The hole injection electrode 2 may be patterned by etching as necessary, or the surface may be activated by UV treatment or plasma treatment.

低分子ホール輸送層3は、低分子材料の中でもホール輸送性の高いトリフェニルアミン誘導体材料であることが望ましい。発光層4を形成するための高分子材料塗布後に行われる溶媒乾燥工程において通常は120℃程度の加熱が行われるが、この加熱工程が低分子材料のガラス転移点を超えると低分子材料の凝集による界面荒さの増大や両者の混合などが起こって特性が悪化してしまうので、低分子材料のガラス転移点が高分子材料塗布後の溶媒乾燥温度以上、すなわち120℃以上の材料を低分子ホール輸送層3として用いるのが好ましい。また、低分子ホール輸送層3の構成材料は、真空度1Pa時において300℃以上であることが望ましい。昇華温度が300℃より低いと、10-5Pa以下の高真空下で蒸着膜を形成する場合に蒸着温度は200℃以下になり、蒸着速度を制御することが困難になるため、均一な膜密度の蒸着膜を形成することができないためである。これら条件を満たすものとして、例えば化学式3〜7に示す材料があげられる。 The low molecular hole transport layer 3 is desirably a triphenylamine derivative material having a high hole transport property among low molecular materials. In the solvent drying step performed after the application of the polymer material for forming the light emitting layer 4, heating is usually performed at about 120 ° C. When the heating step exceeds the glass transition point of the low molecular material, the aggregation of the low molecular material is performed. The surface roughness of the low molecular weight material will be deteriorated due to the increase in the roughness of the interface and the mixing of the two. Therefore, the low molecular weight material should have a glass transition point higher than the solvent drying temperature after coating the high molecular weight material, that is, 120 ° C or higher. It is preferable to use as the transport layer 3. The constituent material of the low molecular hole transport layer 3 is desirably 300 ° C. or higher at a vacuum degree of 1 Pa. If the sublimation temperature is lower than 300 ° C., the deposition temperature becomes 200 ° C. or less when the deposition film is formed under a high vacuum of 10 −5 Pa or less, and it becomes difficult to control the deposition rate. This is because a high-density vapor deposition film cannot be formed. As a material satisfying these conditions, for example, materials shown in chemical formulas 3 to 7 can be cited.

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化学式3は、N, N, N', N', N'', N''-Hexakis-(4'-methyl-biphenyl-4-yl)-benzene-1,3,5-triamine (分子量1119、ガラス転移点 観測されず、融点402℃)、化学式4は、N, N, N', N',-Tetrakis- (4'-methyl-biphenyl-4-yl)-N'',N'',-biskis-(4'-methyl-phenyl)benzene-1,3,5-triamine(分子量967、ガラス転移点180℃)、化学式5は、t-Bu-TBATA(N,N,N', N',N'',N''-Hexakis(4'-tert-butylbiphenyl -4-yl)-tris(4-aminophenyl)amine)(分子量1540、ガラス転移点203℃)、化学式6は、Spiro-1-TAD(2,2',7,7'-tetrakis(diphenylamino)spiro-9,9'-bifluorene)(分子量973、ガラス転移点133℃)、化学式7は、TBPB (N, N, N', N'-tetrakis(4-biphenyl)-4,4'-diaminobiphenyl) (分子量793、ガラス転移点131.8℃)を表している。なお、ここでは化学式3〜7に示されたトリフェニルアミン誘導体材料の具体例に挙げたが、これら具体例に限定されるものではない。このような低分子ホール輸送層3に関しては、例えば、真空中にて低分子材料を加熱蒸発させて薄膜を形成する真空蒸着法により形成することができる。
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Chemical formula 3 is N, N, N ′, N ′, N ″, N ″ -Hexakis- (4′-methyl-biphenyl-4-yl) -benzene-1,3,5-triamine (molecular weight 1119, Glass transition point not observed, melting point 402 ° C.), chemical formula 4 is N, N, N ′, N ′,-Tetrakis- (4′-methyl-biphenyl-4-yl) -N ″, N ″, -biskis- (4'-methyl-phenyl) benzene-1,3,5-triamine (molecular weight 967, glass transition temperature 180 ° C), chemical formula 5 is t-Bu-TBATA (N, N, N ', N' , N ″, N ″ -Hexakis (4′-tert-butylbiphenyl-4-yl) -tris (4-aminophenyl) amine) (molecular weight 1540, glass transition point 203 ° C.), chemical formula 6 is Spiro-1- TAD (2,2 ', 7,7'-tetrakis (diphenylamino) spiro-9,9'-bifluorene) (molecular weight 973, glass transition point 133 ° C), chemical formula 7 is TBPB (N, N, N', N '-tetrakis (4-biphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl) (molecular weight 793, glass transition point 131.8 ° C.). In addition, although it mentioned to the specific example of the triphenylamine derivative material shown by Chemical formula 3-7 here, it is not limited to these specific examples. Such a low molecular hole transport layer 3 can be formed by, for example, a vacuum deposition method in which a low molecular material is heated and evaporated in a vacuum to form a thin film.

低分子ホール輸送層3の形成手法として真空蒸着法を例に挙げたが、真空蒸着法以外にも、インクジェットや印刷やスピンコート等の塗布法、レーザー転写(LITI)法、気相成長法などを用いても構わない。ただし、有機EL素子の車載化のためには低分子ホール輸送層3の品質が重要であり、形成された膜の純度・密度・平坦性などを考えると最も高品質な膜が得られる真空蒸着法での形成が最も望ましい。さらに、形成された低分子ホール輸送層をさらに高品質化するために熱処理を行っても良い。   Although the vacuum vapor deposition method was mentioned as an example of the formation method of the low molecular hole transport layer 3, in addition to the vacuum vapor deposition method, a coating method such as ink jet, printing, spin coating, laser transfer (LITI) method, vapor phase growth method, etc. May be used. However, the quality of the low-molecular hole transport layer 3 is important for mounting an organic EL element on the vehicle, and vacuum deposition that provides the highest quality film is possible considering the purity, density, and flatness of the formed film. Formation by law is most desirable. Furthermore, heat treatment may be performed in order to further improve the quality of the formed low molecular hole transport layer.

なお、ここでは、低分子ホール輸送層3を単層ホール注入電極2の上に形成した場合について説明したが、必ずしも単層構造にする必要はない。例えば、最も発光層4側にエーテル化合物もしくは有機酸による処理効果の高い低分子ホール輸送層を配置すると共に、この下に、より低コストもしくはホール移動度のより高い低分子ホール輸送層を配置したり、ホール注入効率のより高いホール注入層を積層した構造としても良い。このような構造にすることで有機EL素子のさらなる低コスト化や駆動電圧低減が可能となる。また、トリフェニルアミン誘導体材料の中でも対称中心を有する材料、その中でも特にスターバーストアミンは、薄膜にした場合に分子が配列しやすく耐溶剤性が向上するのでより難溶化が可能であり好ましい。   Although the case where the low molecular hole transport layer 3 is formed on the single layer hole injection electrode 2 has been described here, it is not always necessary to have a single layer structure. For example, a low molecular hole transport layer having a high effect of treatment with an ether compound or an organic acid is disposed on the light emitting layer 4 side, and a low molecular hole transport layer having a lower cost or higher hole mobility is disposed under this layer. Alternatively, a structure in which a hole injection layer having higher hole injection efficiency is stacked may be used. With such a structure, the organic EL element can be further reduced in cost and drive voltage. Further, among triphenylamine derivative materials, materials having a center of symmetry, among them, starburst amine is particularly preferable because it can be more hardly solubilized because the molecules are easily arranged and the solvent resistance is improved.

難溶化層3aは、上述したように、低分子ホール輸送層3の表面にエーテル化合物もしくは有機酸による表面処理を行うことにより形成される。この難溶化層3aは、エーテル化合物による表面処理の場合にはエーテルとアミンとの分子間相互作用による比較的強固な結合を持ったもの、有機酸による表面処理の場合には酸−塩基反応による強固な結合を持ったものとして構成される。   As described above, the hardly soluble layer 3a is formed by performing a surface treatment with an ether compound or an organic acid on the surface of the low molecular hole transport layer 3. This poorly soluble layer 3a has a relatively strong bond due to intermolecular interaction between ether and amine in the case of surface treatment with an ether compound, and an acid-base reaction in the case of surface treatment with an organic acid. Configured as having a strong bond.

難溶化層3aを形成するための表面処理にエーテル化合物を用いる場合、そのエーテル化合物としては、含まれる炭素原子数が5以上15以下であることが望ましい。さらに、化学式1もしくは化学式2で示される化合物であって、R1、R2、R3が炭素原子数2以上6以下のアルキル基であることが望ましい。   When an ether compound is used for the surface treatment for forming the hardly soluble layer 3a, the ether compound preferably contains 5 to 15 carbon atoms. Furthermore, in the compound represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2, it is preferable that R1, R2, and R3 are alkyl groups having 2 to 6 carbon atoms.

(化1) R1−O−R2
(化2) R1−O−R2−O−R3
この条件を満たすエーテル化合物は、低分子ホール輸送層3の構成材料に対して高い分子間相互作用を示し、そのためこれにより処理された低分子ホール輸送層3の表面は高い溶媒難溶性を示す。また、エーテル化合物の沸点は50℃以上250℃以下であることが望ましい。沸点が50℃未満ではエーテル化合物がすぐ揮発してしまうため、十分な難溶化層3aを形成できない可能性があり、沸点が250℃より高いと表面処理を行った後余分なエーテル化合物を除去するのに長時間高温での処理が必要となり生産性が低下するためである。
(Chemical formula 1) R1-O-R2
(Chemical Formula 2) R1-O-R2-O-R3
An ether compound that satisfies this condition exhibits a high intermolecular interaction with the constituent material of the low molecular hole transport layer 3, and thus the surface of the low molecular hole transport layer 3 treated thereby exhibits a high solvent solubility. The boiling point of the ether compound is desirably 50 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. If the boiling point is less than 50 ° C., the ether compound is volatilized immediately, so that there is a possibility that a sufficiently poorly soluble layer 3a cannot be formed. If the boiling point is higher than 250 ° C., the excess ether compound is removed after the surface treatment. This is because the treatment at a high temperature for a long time is required and the productivity is lowered.

これらの条件を満たす具体例としてはジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル等が挙げられる。さらに具体的にはジプロピルエーテルとして1,1'-ジプロピルエーテル、ジ-iso-プロピルエーテル等、ジブチルエーテルとして1,1'-ジブチルエーテル、2,2'-ジブチルエーテル、ジ-tert-ブチルエーテル等、ジペンチルエーテルとして1,1'-ジペンチルエーテル、2,2'-ジペンチルエーテル、3,3'-ジペンチルエーテル等、ジヘキシルエーテルとして1,1'-ジヘキシルエーテル、2,2'-ジヘキシルエーテル、3,3'-ジヘキシルエーテル等、エチレングリコールジプロピルエーテルとしてエチレングリコール-1,1'-ジプロピルエーテル、エチレングリコールジ-iso-プロピルエーテル等、エチレングリコールジブチルエーテルとしてエチレングリコール-1,1'-ジブチルエーテル、エチレングリコール-2,2'-ジブチルエーテル、エチレングリコールジ-tert-ブチルエーテル等が挙げられる。   Specific examples satisfying these conditions include dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether and the like. More specifically, 1,1'-dipropyl ether, di-iso-propyl ether, etc. as dipropyl ether, 1,1'-dibutyl ether, 2,2'-dibutyl ether, di-tert-butyl ether as dibutyl ether 1,1,1′-dipentyl ether, 2,2′-dipentyl ether, 3,3′-dipentyl ether, etc. as dipentyl ether, 1,1′-dihexyl ether, 2,2′-dihexyl ether, 3 , 3'-dihexyl ether, etc., ethylene glycol-1,1'-dipropyl ether, ethylene glycol di-iso-propyl ether, etc., ethylene glycol 1,1'-diethylene, ethylene glycol dibutyl ether, etc. Butyl ether, ethylene glycol-2,2'-dibutyl ether, ethylene glycol di-tert-butyl ether, etc. The

また、難溶化層3aを形成するための表面処理に有機酸を用いる場合、その有機酸としては、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物、ヒドロキシ化合物、チオール化合物、エノール化合物、もしくは有機リン酸化合物が挙げられる。特に、酸性の強いスルホン酸化合物が望ましく、次にカルボン酸化合物、有機リン酸化合物が望ましい。具体的には、スルホン酸化合物としては、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、エタンスルホン酸が挙げられる。カルボン酸化合物としては、4−メチル安息香酸、酢酸、蟻酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が挙げられる。ヒドロキシ化合物としては、フェノール、ピクリン酸が挙げられる。チオール化合物としては、1−プロパンチオール、エノール化合物としてはペンタンジオン、有機リン酸化合物としてはビス(2−エチルヘキシル)フォスフェイトなどが挙げられる。   Moreover, when using an organic acid for the surface treatment for forming the poorly soluble layer 3a, the organic acid includes a sulfonic acid compound, a carboxylic acid compound, a hydroxy compound, a thiol compound, an enol compound, or an organic phosphoric acid compound. It is done. In particular, a highly acidic sulfonic acid compound is desirable, and then a carboxylic acid compound and an organic phosphoric acid compound are desirable. Specifically, examples of the sulfonic acid compound include benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and ethanesulfonic acid. Examples of the carboxylic acid compound include 4-methylbenzoic acid, acetic acid, formic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid. Examples of the hydroxy compound include phenol and picric acid. Examples of the thiol compound include 1-propanethiol, examples of the enol compound include pentanedione, and examples of the organic phosphate compound include bis (2-ethylhexyl) phosphate.

難溶化層3aを形成するためのエーテル化合物もしくは有機酸による低分子ホール輸送層3の表面処理方法としては、エーテル化合物もしくは有機酸を含む溶液をスピンコート法、ディップ法、スプレー法等で塗布する手法やエーテル化合物もしくは有機酸を含む蒸気中に曝す手法などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。ただし、量産性などを考慮すると前述の手法が望ましい。   As a surface treatment method of the low molecular hole transport layer 3 with an ether compound or an organic acid for forming the hardly soluble layer 3a, a solution containing an ether compound or an organic acid is applied by a spin coating method, a dip method, a spray method, or the like. Examples of the method include a method and a method of exposing to a vapor containing an ether compound or an organic acid, but the method is not limited thereto. However, the above-described method is desirable in consideration of mass productivity.

また、表面処理を行った後、表面に存在する余剰エーテル化合物もしくは余剰有機酸を除去するために、アルコールや炭化水素系溶媒で低分子ホール輸送層3の表面を洗浄するか低分子ホール輸送層3を加熱しても良い。このように、余剰エーテル化合物もしくは余剰有機酸を除去することも可能であるため、エーテル化合物もしくは有機酸を含む溶液の濃度やエーテル化合物もしくは有機酸の蒸気濃度は、低分子ホール輸送層3の材料の分子構造を変質させない限り、特に限定されない。また、エーテル化合物もしくは有機酸による表面処理を行った低分子ホール輸送層3上に発光層4を形成した後、加熱処理を行うことでエーテル化合物もしくは有機酸を揮発除去してもよい。加熱処理温度は低分子ホール輸送材料のガラス転移点以下、ガラス転移点がない場合は融点以下にすることが望ましい。これにより界面に残存する異種化合物であるエーテル化合物もしくは有機酸の量を減少させられるために、駆動電圧のさらなる低減や長寿命化が可能となる。但し、エーテル化合物もしくは有機酸を揮発させる場合に、低分子ホール輸送材料とエーテル化合物との間の反応性結合、もしくは、低分子ホール輸送材料と有機酸との酸−塩基反応による結合の一部が分解し難溶性が低下する場合があるため、効果を発現させるためには発光層塗布液溶媒への溶解度の低い低分子ホール輸送材料との組み合わせが望ましい。   In addition, after the surface treatment, the surface of the low molecular hole transport layer 3 is washed with an alcohol or a hydrocarbon solvent or the low molecular hole transport layer is removed in order to remove surplus ether compounds or surplus organic acids present on the surface. 3 may be heated. Thus, since it is also possible to remove excess ether compound or excess organic acid, the concentration of the solution containing the ether compound or organic acid or the vapor concentration of the ether compound or organic acid depends on the material of the low molecular hole transport layer 3. As long as the molecular structure is not altered, there is no particular limitation. Moreover, after forming the light emitting layer 4 on the low molecular hole transport layer 3 which has been surface-treated with an ether compound or an organic acid, the ether compound or the organic acid may be volatilized and removed by performing a heat treatment. The heat treatment temperature is desirably below the glass transition point of the low molecular hole transport material, and below the melting point when there is no glass transition point. As a result, the amount of the ether compound or organic acid, which is a different compound remaining at the interface, can be reduced, so that the driving voltage can be further reduced and the life can be extended. However, when the ether compound or organic acid is volatilized, a reactive bond between the low molecular hole transport material and the ether compound or a part of the bond by the acid-base reaction between the low molecular hole transport material and the organic acid. In order to exhibit the effect, a combination with a low molecular hole transport material having low solubility in the light emitting layer coating solution solvent is desirable.

さらに、難溶化効果をさらに強固なものにするために、熱処理を行っても良い。ただし、このときの熱処理温度や上述した余剰エーテル化合物もしくは余剰有機酸を除去するための加熱温度は、低分子ホール輸送層3を構成する低分子材料のガラス転移点以下、ガラス転移点がない場合は融点以下にすることが望ましい。   Furthermore, heat treatment may be performed in order to further strengthen the poorly soluble effect. However, the heat treatment temperature at this time and the heating temperature for removing the above-described excess ether compound or excess organic acid are equal to or lower than the glass transition point of the low-molecular material constituting the low-molecular hole transport layer 3, and there is no glass transition point. Is preferably below the melting point.

また、難溶化層3aの膜厚は、10nm以下が好ましい。これは、難溶化層3aは低分子ホール輸送層3と比べてホール移動度が低いためであり、難溶化層3aの膜厚が10nmよりも厚いと駆動電圧を増加させるためである。   Further, the film thickness of the hardly soluble layer 3a is preferably 10 nm or less. This is because the poorly soluble layer 3a has a lower hole mobility than the low molecular hole transport layer 3, and when the thickness of the hardly soluble layer 3a is greater than 10 nm, the driving voltage is increased.

発光層4は、高分子材料(高分子有機発光材料)と低分子材料との混合により構成されている。高分子材料としては、ポリフルオレン(PFO)系高分子、ポリフェニレンビニレン(PPV)系高分子、ポリビニルカルバゾール(PVK)系高分子などを用いることができ、蛍光性色素や燐光性色素を前記高分子やポリスチレン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等に分散させたもの等も用いることができる。これら高分子材料を、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルアニソール、ジメチルアニソール、テトラリン、安息香酸エチル、安息香酸メチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水などの単独または混合溶媒に低分子材料と共に溶解させて塗布液を調製し、その塗布液を使用した塗布法により発光層4を形成することができる。それら溶媒のうちでも特に、トルエン、キシレン、アニソール、メチルアニソール、ジメチルアニソール、テトラリン、安息香酸エチル、安息香酸メチル等の芳香族系溶媒は、高分子材料の溶解性が良く扱いも容易であることから、より好ましい溶媒である。   The light emitting layer 4 is composed of a mixture of a polymer material (polymer organic light emitting material) and a low molecular material. As the polymer material, a polyfluorene (PFO) polymer, a polyphenylene vinylene (PPV) polymer, a polyvinyl carbazole (PVK) polymer, or the like can be used, and a fluorescent dye or a phosphorescent dye can be used as the polymer. Also, those dispersed in polystyrene-based polymers, polythiophene-based polymers, polymethylmethacrylate-based polymers, and the like can be used. These polymer materials are, for example, toluene, xylene, acetone, anisole, methylanisole, dimethylanisole, tetralin, ethyl benzoate, methylbenzoate, methylethylketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, water The light-emitting layer 4 can be formed by a coating method using the coating solution prepared by dissolving together with a low molecular weight material alone or in a mixed solvent such as the above. Among these solvents, aromatic solvents such as toluene, xylene, anisole, methylanisole, dimethylanisole, tetralin, ethyl benzoate and methyl benzoate have high solubility of polymer materials and are easy to handle. Therefore, it is a more preferable solvent.

発光層4のうちの高分子材料を形成する際の塗布法としては、スピンコート法、インクジェット法、印刷法、ディップコート法、スプレー法等の手法を用いることができる。また、発光層4を塗布法で形成する際に溶媒を揮発させるために高温乾燥処理を行うが、この処理温度が低分子ホール輸送層材料のガラス転移点を超えると界面での両者の混合による特性の悪化などが起こってしまうため、低分子ホール輸送層3の構成材料のガラス転移点は一般的に用いられている乾燥温度である120℃以上であることが望ましい。   As a coating method for forming the polymer material in the light emitting layer 4, a spin coating method, an ink jet method, a printing method, a dip coating method, a spray method, or the like can be used. In addition, when the light emitting layer 4 is formed by a coating method, a high temperature drying process is performed to volatilize the solvent. When the processing temperature exceeds the glass transition point of the low molecular hole transport layer material, the mixture of both at the interface Since deterioration of characteristics occurs, it is desirable that the glass transition point of the constituent material of the low molecular hole transport layer 3 is 120 ° C. or higher, which is a commonly used drying temperature.

また、高分子材料に加える低分子材料としては、ホール輸送性材料や電子輸送性材料もしくは両方のいずれでも良い。但し、発光層4において放射された光が低分子材料で吸収されて効率が低下したり、低分子材料自体が発光して所望の色度からずれを起こしたりすることを防ぐために、発光層4に含まれる低分子材料のHOMO-LUMOギャップが発光層4より放射される光の発光エネルギーよりも大きいことが望ましい。例えば、ホール輸送性材料としては化学式8〜13に示される材料、電子輸送性材料としては化学式14〜20に示される材料が挙げられる。   Further, the low molecular material added to the polymer material may be either a hole transporting material, an electron transporting material, or both. However, in order to prevent the light emitted from the light emitting layer 4 from being absorbed by the low molecular material and reducing the efficiency, or the low molecular material itself to emit light and cause a deviation from the desired chromaticity, the light emitting layer 4 It is desirable that the HOMO-LUMO gap of the low molecular weight material contained in is larger than the light emission energy of the light emitted from the light emitting layer 4. For example, the hole transporting material includes a material represented by Chemical Formulas 8 to 13, and the electron transporting material includes a material represented by Chemical Formulas 14 to 20.

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化学式8は、NPB(N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine)、化学式9は、TPTE(N,N' -bis(4-diphenylamino-4'-biphenyl)-N,N'-diphenyl-4,4'-diaminobiphenyl)、化学式10は、TAPC(Di- [4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexane)、化学式11は、NTNPB(N,N'-di-phenyl-N,N'-di-[4-(N, N-di-tolyl-amino)phenyl]benzidine)、化学式12は、TCTA(4,4',4"-Tris(carbazol-9-yl)triphenylamine)、化学式13は、TAPA(Di-[4-(N,N-diphenyl-amino)-phenyl]adamantane)を表している。また、化学式14は、TPBi(2,2',2"-(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole))、化学式15は、Bphen(4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline)、化学式16は、OXD-7(1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl) 1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene)、化学式17は、PADN(2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene)、化学式18は、TAZ(3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole)、化学式19は、TPB3(1,3,5-Tri(pyren-1-yl)benzene)、化学式20は、TPBA(2,2'-Bi(9,10-diphenyl-anthracene))を表している。
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Formula 8 is NPB (N, N'-Bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine), and Formula 9 is TPTE (N, N'-bis (4-diphenylamino- 4'-biphenyl) -N, N'-diphenyl-4,4'-diaminobiphenyl), chemical formula 10 is TAPC (Di- [4- (N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexane), chemical formula 11 is NTNPB (N, N′-di-phenyl-N, N′-di- [4- (N, N-di-tolyl-amino) phenyl] benzidine), chemical formula 12 is TCTA (4,4 ′, 4 "-Tris (carbazol-9-yl) triphenylamine), chemical formula 13 represents TAPA (Di- [4- (N, N-diphenyl-amino) -phenyl] adamantane). Chemical formula 14 represents TPBi. (2,2 ', 2 "-(1,3,5-Benzinetriyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole)), chemical formula 15 is Bphen (4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline ), Chemical formula 16 is OXD-7 (1,3-Bis [2- (4-tert-butylphenyl) 1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene), and chemical formula 17 is PADN (2-phenyl- 9,10-di (naphthalen-2-yl) -anthracene), chemical formula 18 is TAZ (3- (4-Biphenylyl) -4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole), chemical formula 19 is TPB3 (1,3,5-Tri (pyren-1-yl) benzene), and chemical formula 20 is , TPBA (2,2′-Bi (9,10-diphenyl-anthracene)).

なお、ここでは化学式8〜13に示されたホール輸送性材料、もしくは、化学式14〜20で示された電子輸送性材料を具体例に挙げたが、これら具体例に限定されるものではない。また、このような低分子材料の混合量としては、発光層4を構成する高分子材料と低分子材料の総量のうちの1重量%以上あれば、確実にバインダー効果を得ることができる。ただし、低分子材料の混合量が50重量%以上になると、加えられた低分子材料自体が消光サイトとして働いてしまうために効率が低下する。このため、低分子材料を高分子材料に混合することによる効率低下現象が起こらないようにするために、好ましくは低分子材料の混合量を50重量%未満にすると良い。   In addition, although the hole transportable material shown by Chemical formula 8-13 or the electron transport material shown by Chemical formula 14-20 was mentioned as a specific example here, it is not limited to these specific examples. Further, if the mixing amount of such a low molecular material is 1% by weight or more of the total amount of the high molecular material and the low molecular material constituting the light emitting layer 4, the binder effect can be surely obtained. However, when the mixing amount of the low molecular weight material is 50% by weight or more, the added low molecular weight material itself works as a quenching site, so that the efficiency is lowered. For this reason, in order to prevent the efficiency reduction phenomenon caused by mixing the low molecular weight material with the high molecular weight material, the mixing amount of the low molecular weight material is preferably less than 50% by weight.

また、発光層4に含まれる低分子材料にホール輸送性材料や電子輸送性材料もしくは両方のいずれでも良いが、少なくともホール輸送性材料が含まれていることがより望ましい。ホール輸送性材料および電子輸送性材料のいずれでもバインダー効果による界面密着性向上による信頼性向上効果が期待できるが、ホール輸送性材料であればホール輸送層から発光層4へのホール注入性を向上させる効果も期待でき、より高効率化が可能となるためである。また、発光層4にさらに発光性色素を添加することで、より発光効率を高めたり演色性を高めたりすることも可能である。   Further, the low molecular material contained in the light emitting layer 4 may be either a hole transporting material or an electron transporting material or both, but it is more desirable that at least the hole transporting material is contained. Both hole transport material and electron transport material can be expected to improve the reliability by improving the interfacial adhesion due to the binder effect, but the hole transport material improves the hole injection property from the hole transport layer to the light emitting layer 4 This is because it can be expected to have a higher efficiency. Further, by further adding a luminescent dye to the light emitting layer 4, it is possible to further improve the light emission efficiency and the color rendering properties.

電子注入電極5は、例えば低仕事関数電極構造で構成される。電子注入電極5としては、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属とアルミニウム等の金属電極との積層、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物とアルミニウム等の金属電極との積層などを用いることができ、具体的にはAl/Ca、Al/Ba、Al/Li、Al/LiF、Al/CsF、Al/Ca/LiF、Al/BaOなどで構成される。   The electron injection electrode 5 has a low work function electrode structure, for example. As the electron injection electrode 5, an alkali metal or alkaline earth metal, a laminate of an alkali metal or alkaline earth metal and a metal electrode such as aluminum, or an alkali metal or alkaline earth metal halide and a metal electrode such as aluminum. For example, Al / Ca, Al / Ba, Al / Li, Al / LiF, Al / CsF, Al / Ca / LiF, and Al / BaO can be used.

このようにして、本実施形態にかかる有機EL素子100が構成、製造される。次に、このような有機EL素子100の作用および効果について説明する。   In this way, the organic EL element 100 according to this embodiment is configured and manufactured. Next, the operation and effect of such an organic EL element 100 will be described.

本実施形態にかかる有機EL素子100では、真空蒸着法で形成される低分子ホール輸送層3と高分子材料および低分子材料の混合により構成された発光層4との積層構造を採用している。すなわち、低分子ホール輸送層3の上に高分子材料からなる発光層4を配置した高分子/低分子積層型有機EL素子とし、発光層4を構成する高分子材料に低分子材料を混合した状態としている。このような構造とすることにより、以下の効果を得ることができる。   The organic EL element 100 according to the present embodiment employs a laminated structure of a low molecular hole transport layer 3 formed by a vacuum vapor deposition method and a light emitting layer 4 configured by mixing a high molecular material and a low molecular material. . That is, a polymer / low molecule stacked organic EL device in which a light emitting layer 4 made of a polymer material is disposed on the low molecular hole transport layer 3, and a low molecular material is mixed with the polymer material constituting the light emitting layer 4. State. By adopting such a structure, the following effects can be obtained.

ホール輸送層を低分子材料で構成した低分子型有機EL素子は、高温耐久性が高く長寿命な有機EL素子の形成が可能である反面、真空蒸着装置(真空蒸着チャンバー)が何台も連なった大型の装置が必要となり非常に高コストになってしまうという欠点がある。一方、ホール輸送層を高分子材料で構成した高分子型有機EL素子では、真空蒸着工程は陰極形成工程のみであり、それ以外は非真空プロセスを用いることができるので低コスト形成が可能であるが、その反面、PEDOT:PSSなどの高分子材料で構成されたホール輸送層の不安定さに起因した高温耐久性の低さ、短寿命、駆動に伴う電圧上昇といった問題が存在する。有機EL素子を車載用とする場合、特にセグメント表示素子として用いるには低コストで高温耐久性が高く長寿命な有機EL素子が必要であるため、このままでは双方共に用いることは困難である。   A low molecular weight organic EL device with a hole transport layer made of a low molecular weight material can be used to form organic EL devices that are durable at high temperatures and have a long lifetime, but a number of vacuum deposition devices (vacuum deposition chambers) are connected. However, there is a disadvantage that a very large apparatus is required and the cost becomes very high. On the other hand, in a polymer type organic EL device in which the hole transport layer is made of a polymer material, the vacuum deposition process is only a cathode formation process, and other than that, a non-vacuum process can be used, so that low cost formation is possible. On the other hand, however, there are problems such as low high-temperature durability, short life, and voltage increase due to driving due to instability of the hole transport layer composed of a polymer material such as PEDOT: PSS. When the organic EL element is used in a vehicle, it is difficult to use both of them as it is because a low-cost, high-temperature durability and long-life organic EL element is required particularly for use as a segment display element.

これに対し、本実施形態では、高分子型有機EL素子において問題となっているように高分子材料でホール輸送層を構成するのではなく、高温耐久性が高く安定した特性を有する真空蒸着法で形成された低分子材料のホール輸送層に置き換えている。すなわち、低分子ホール輸送層3の上に高分子材料を含む発光層4が配置された高分子/低分子積層型有機EL素子としている。このため、低分子有機EL素子のように、高温耐久性、寿命、駆動に伴う電圧上昇を改善することが可能となる。なお、低分子ホール輸送層3の形成および電子注入電極5の形成工程を真空蒸着工程にて行うことになるため、高分子型有機EL素子と比較すると低分子ホール輸送層3の形成のための真空蒸着工程が増えることになって若干製造コストが高くなる。しかしながら、全工程真空蒸着が必要な低分子型有機EL素子と比較すれば、本実施形態の製造手法の方が低コスト化を可能にできる。これにより、車載用表示素子として好適に用いることができる有機EL素子を形成することができる。   In contrast, in the present embodiment, the hole transport layer is not composed of a polymer material so as to be a problem in the polymer organic EL element, but a vacuum deposition method having high temperature durability and stable characteristics. It is replaced with a hole transport layer made of low molecular weight material. That is, a polymer / low molecule stacked organic EL element in which the light emitting layer 4 containing a polymer material is disposed on the low molecular hole transport layer 3 is formed. For this reason, like a low molecular organic EL element, it becomes possible to improve high temperature durability, lifetime, and voltage increase accompanying driving. In addition, since the formation process of the low molecular hole transport layer 3 and the formation process of the electron injection electrode 5 are performed in a vacuum deposition process, the formation of the low molecular hole transport layer 3 is smaller than that of the polymer organic EL element. The number of vacuum deposition steps will increase, resulting in a slightly higher manufacturing cost. However, the manufacturing method of the present embodiment can reduce the cost as compared with a low molecular organic EL element that requires vacuum evaporation in all steps. Thereby, the organic EL element which can be used suitably as a vehicle-mounted display element can be formed.

但し、このような高分子/低分子積層型有機EL素子は、低分子ホール輸送層3の上に高分子材料にて構成される発光層4が塗布法で形成されるため、低分子ホール輸送層3を構成する低分子材料が高分子材料を溶解した塗布液の溶媒に溶け出し、界面混合層が形成されるため発光効率が低下してしまうという問題が生じる。この問題を改善する手法として、低分子ホール輸送層3に難溶性材料を用いる手法、有機酸やエーテル化合物による表面処理によって難溶化層3aを形成することで表面難溶化を図る手法などが考えられる。これにより、低分子材料が塗布液の溶媒に溶け出して界面混合層が形成されることを抑制でき、素子特性の安定化および寿命向上が図れると共に、発光効率の低下の抑制が可能になるという効果が得られる。   However, in such a polymer / low molecule stacked organic EL element, the light emitting layer 4 made of a polymer material is formed on the low molecular hole transport layer 3 by a coating method, so that the low molecular hole transport is The low molecular weight material constituting the layer 3 is dissolved in the solvent of the coating solution in which the high molecular weight material is dissolved, and the interface mixed layer is formed, resulting in a problem that the light emission efficiency is lowered. As a technique for improving this problem, a technique using a poorly soluble material for the low molecular hole transport layer 3, a technique for forming a poorly soluble layer 3 a by surface treatment with an organic acid or an ether compound, and making the surface hardly soluble can be considered. . As a result, the low molecular weight material can be prevented from dissolving in the solvent of the coating solution to form an interfacial mixed layer, the device characteristics can be stabilized and the life can be improved, and the decrease in the luminous efficiency can be suppressed. An effect is obtained.

ところが、このような難溶化表面に高分子材料を積層させた構造では、高分子材料と低分子材料が互いに相分離した状態で積層されるために、高分子材料と低分子材料の絡まりが無い。さらに、高分子材料を溶媒に溶け易くするために導入されているアルキル基などが立体障害となって、密着性が低くキャリア注入性が低い界面となってしまう。このような界面では形成条件や材料を最適化してさらなる高信頼化・長寿命化を試みても、高分子/低分子界面特性律速のために特性を向上させることは困難である。このため、発光効率の低下を抑制できても、耐久性が高く、かつ、低分子ホール輸送層3と発光層4との界面の密着性も高い有機EL素子とすることはできなかった。   However, in such a structure in which a polymer material is laminated on a poorly soluble surface, the polymer material and the low molecular material are laminated in a state of being phase-separated from each other, so that there is no entanglement between the polymer material and the low molecular material. . Furthermore, an alkyl group or the like introduced to make the polymer material easily soluble in the solvent becomes a steric hindrance, resulting in an interface with low adhesion and low carrier injection. Even if the formation conditions and materials are optimized at such an interface to improve the reliability and prolong the life, it is difficult to improve the properties for controlling the properties of the polymer / low molecule interface. For this reason, even if it was possible to suppress a decrease in luminous efficiency, it was not possible to obtain an organic EL device having high durability and high adhesion at the interface between the low molecular hole transport layer 3 and the light emitting layer 4.

これに対して、本実施形態のように発光層4に高分子材料と低分子材料との混合を用いた高分子/低分子積層型有機EL素子は、高分子材料に加えられた低分子材料が立体障害の隙間を埋めるバインダーの役割をして高分子材料と低分子材料の絡まりを形成する。このために、低分子ホール輸送層3と発光層4との界面は、密着性が高く、キャリア注入性も高い界面となる。また、形成条件や材料の最適化によって更なる高信頼化・長寿命化を達成することも可能となる。さらに、高分子材料に加えられた低分子材料が高分子材料の結晶化を抑止するように働くために、発光層4を塗布形成後に従来よりも高い温度で乾燥させることが可能となり、膜中に残存する溶媒濃度を低下させることができ、更なる長寿命化が可能となる。また、高分子材料に添加する低分子材料の濃度を、上述の界面混合による効率低下濃度以下に調整することにより、効率低下のない界面構造とすることができる。   On the other hand, the polymer / low molecule stacked organic EL element using the mixture of the polymer material and the low molecular material for the light emitting layer 4 as in the present embodiment is a low molecular material added to the polymer material. Plays the role of a binder that fills the gap between steric hindrances and forms a entanglement between a high molecular material and a low molecular material. For this reason, the interface between the low molecular hole transport layer 3 and the light emitting layer 4 is an interface with high adhesion and high carrier injection properties. Further, it is possible to achieve higher reliability and longer life by optimizing the forming conditions and materials. Furthermore, since the low molecular weight material added to the high molecular weight material works to suppress the crystallization of the high molecular weight material, it becomes possible to dry the light emitting layer 4 at a higher temperature than before after forming the coating. Thus, the remaining solvent concentration can be reduced, and the life can be further extended. In addition, by adjusting the concentration of the low molecular material added to the polymer material to be equal to or less than the above-described efficiency reduction concentration due to the interfacial mixing, an interface structure with no efficiency reduction can be obtained.

そして、さらに本実施形態では、有機酸やエーテル化合物による表面処理によって難溶化層3aを形成することで表面難溶化を図ることと、発光層4に高分子材料と低分子材料との混合を用いることを組み合わせている。このため、有機酸やエーテル化合物による表面処理によって難溶化層3aを形成することで表面難溶化したときの効果を得つつ、この場合に発生する問題を解決できる。すなわち、難溶化層3aにより、低分子ホール輸送層3の構成材料が発光層4に溶け出すことを防止でき、素子特性の安定化および寿命向上が図れると共に、発光効率の低下の抑制が可能になるという効果を得つつ、さらに耐久性が高く、かつ、低分子ホール輸送層3と発光層4との界面の密着性も高い有機EL素子とすることが可能になる。   Further, in the present embodiment, the poorly soluble layer 3a is formed by surface treatment with an organic acid or an ether compound to make the hardly soluble surface, and the light emitting layer 4 is a mixture of a high molecular material and a low molecular material. Combine that. For this reason, the problem which arises in this case can be solved, obtaining the effect at the time of poorly surface-solubilizing by forming the poorly soluble layer 3a by surface treatment with an organic acid or an ether compound. That is, the hardly soluble layer 3a can prevent the constituent material of the low molecular hole transport layer 3 from being dissolved into the light emitting layer 4, thereby stabilizing the device characteristics and improving the lifetime, and suppressing the decrease in the light emission efficiency. It is possible to obtain an organic EL element having higher durability and high adhesion at the interface between the low molecular hole transport layer 3 and the light emitting layer 4.

以下、上記実施形態に対応した各種実施例について説明する。   Hereinafter, various examples corresponding to the above embodiment will be described.

(実施例1)
まず、基板1としてガラス基板を用い、このガラス基板上にホール注入電極2となるITO電極を150nm形成した。次に、低分子ホール輸送層3として、上述した化学式3で示されるN,N,N',N',N'',N''-Hexakis(4'-methyl-biphenyl-4-yl)-benzene-1,3,5-triamine(分子量1119、ガラス転移点観測されず、融点402℃)を真空蒸着法で60nm形成した。そして、このように基板1上に形成した低分子ホール輸送層3の表面を、1,1'-ジブチルエーテル溶液中に10分間浸漬させて塗布することで難溶化層3aを形成し、さらに180℃で熱処理を行った。
Example 1
First, a glass substrate was used as the substrate 1, and an ITO electrode serving as the hole injection electrode 2 was formed on the glass substrate to a thickness of 150 nm. Next, as the low molecular hole transport layer 3, N, N, N ′, N ′, N ″, N ″ -Hexakis (4′-methyl-biphenyl-4-yl)- Benzene-1,3,5-triamine (molecular weight 1119, glass transition point not observed, melting point 402 ° C.) was formed to 60 nm by vacuum deposition. Then, the surface of the low molecular hole transport layer 3 thus formed on the substrate 1 is dipped in a 1,1′-dibutyl ether solution for 10 minutes to be applied, thereby forming a hardly soluble layer 3a. Heat treatment was performed at 0 ° C.

続いて、この難溶化層3aの上に、アメリカンダイソース社製Poly[(9,9-dioctylfluorenyl-2, 7-diyl)-co-(1,4-benzo-[2,1',3]-thiadiazole)](ADS233YE)を精製して重量平均分子量約40000とした高分子材料と化学式9のTPTE(N,N'-bis(4-diphenylamino-4'-biphenyl)-N,N'-diphenyl-4,4'- diaminobiphenyl)で示されるホール輸送性低分子材料を重量混合比3:1(発光層4における低分子材料の濃度が25重量%)でキシレン溶媒に溶解させた塗布液を用いてスピンコート法で塗布したのち、120℃で乾燥させることにより発光層4を100nm形成した。   Subsequently, Poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2, 7-diyl) -co- (1,4-benzo- [2,1 ', 3]] manufactured by American Dye Source Co., Ltd. is formed on the hardly soluble layer 3a. -thiadiazole)] (ADS233YE) to a weight average molecular weight of about 40,000 and a polymer material of formula 9 and TPTE (N, N'-bis (4-diphenylamino-4'-biphenyl) -N, N'-diphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl) is used as a coating solution in which a hole transporting low molecular weight material is dissolved in a xylene solvent at a weight mixing ratio of 3: 1 (the concentration of the low molecular weight material in the light emitting layer 4 is 25% by weight). After applying by spin coating, the light emitting layer 4 was formed to 100 nm by drying at 120 ° C.

さらに、電子注入電極5として、Al/Ca電極を真空蒸着法で形成したのち、最後にグローブボックス中で金属缶6と素子が形成されたガラス基板とを光硬化樹脂で貼り合わせて作製素子を封止した試料を用意した。   Further, after forming an Al / Ca electrode as the electron injection electrode 5 by a vacuum deposition method, finally, the metal can 6 and the glass substrate on which the element is formed in the glove box are pasted together with a photo-curing resin, thereby producing a fabricated element. A sealed sample was prepared.

また、比較例1として、発光層4に低分子材料を加えなかったこと以外は本実施例1と同様の構成の試料を用意した。   As Comparative Example 1, a sample having the same configuration as that of Example 1 was prepared except that the low molecular weight material was not added to the light emitting layer 4.

そして、実施例1の試料および比較例1の試料における駆動電流密度が10mA/cm2の時の初期駆動電圧V0(V)、初期輝度2400cd/m2にて室温定電流駆動を行った場合の輝度半減寿命LT50(時間)、および輝度半減時の1cm2あたりのダークスポット発生数N(個)を調べた。その結果、実施例1では、V0=5.3、LT50=156、N=0となり、比較例1では、V0=7.3、LT50=16、N=18となった。 Then, when the driving current density in the sample of Example 1 and the sample of Comparative Example 1 is 10 mA / cm 2 , the room temperature constant current driving is performed at the initial driving voltage V0 (V) and the initial luminance of 2400 cd / m 2 . The luminance half life LT50 (hour) and the number N (number) of dark spots generated per 1 cm 2 when the luminance was reduced to half were examined. As a result, in Example 1, V0 = 5.3, LT50 = 156, and N = 0, and in Comparative Example 1, V0 = 7.3, LT50 = 16, and N = 18.

実施例1は比較例1と比べて初期駆動電圧V0が低下していることから、発光層4への低分子材料添加により高分子/低分子界面において密着性が高くなってキャリア注入性が向上したと言える。また、ダークスポットは高分子/低分子界面での剥離によって形成されると考えられるが、駆動寿命が劇的に改善されており、かつダークスポットも全く発生しなかったことから、密着性が高く安定な高分子/低分子界面が得られていると言える。   In Example 1, since the initial driving voltage V0 is lower than that in Comparative Example 1, the addition of a low molecular material to the light emitting layer 4 increases the adhesion at the polymer / low molecular interface and improves the carrier injection property. I can say that. In addition, dark spots are thought to be formed by peeling at the polymer / low molecular interface, but the drive life has been dramatically improved and no dark spots have been generated. It can be said that a stable polymer / low molecular interface is obtained.

このように、高分子材料と低分子材料の混合を発光層4に用いることで、密着性が高く安定でキャリア注入性の良い高分子/低分子界面が得られ、長寿命で信頼性の高い素子の形成が可能であることが判る。   Thus, by using a mixture of a high molecular material and a low molecular material for the light emitting layer 4, a high molecular / low molecular interface having high adhesion and stability and good carrier injection properties can be obtained, and has a long lifetime and high reliability. It can be seen that the element can be formed.

(実施例2)
本実施例では、実施例1とは異なる低分子材料、具体的には発光層4の低分子材料として化学式13のTAPA(Di-[4-(N,N-diphenyl-amino)-phenyl]adamantane)で表されるホール輸送性低分子材料を用いて、実施例1と同様の手法により有機EL素子100の試料を製造した。
(Example 2)
In this example, TAPA (Di- [4- (N, N-diphenyl-amino) -phenyl] adamantane of the chemical formula 13 is used as a low-molecular material different from Example 1, specifically, as the low-molecular material of the light-emitting layer 4. The sample of the organic EL element 100 was manufactured by the same method as in Example 1 using the hole transporting low molecular weight material represented by

そして、本実施例の試料について、実施例1と同様に、初期駆動電圧V0、輝度半減寿命LT50、およびダークスポット発生数Nを調べた。その結果、本実施例では、V0=6.2、LT50=73、N=0となった。   For the sample of this example, as in Example 1, the initial drive voltage V0, the luminance half life LT50, and the number N of dark spots generated were examined. As a result, in this example, V0 = 6.2, LT50 = 73, and N = 0.

このように、本実施例においても、比較例1と比べて初期駆動電圧V0が低下していることから、高分子/低分子界面において密着性が高くなってキャリア注入性が向上したと言える。また、駆動寿命も劇的に改善されており、かつダークスポットも全く発生しなかったことから、密着性が高く安定な高分子/低分子界面が得られていると言える。したがって、実施例1と同様の効果を得ることができる。   Thus, also in this example, since the initial driving voltage V0 is lower than that in Comparative Example 1, it can be said that the adhesion at the polymer / low molecule interface is increased and the carrier injection property is improved. In addition, the driving life was dramatically improved, and no dark spots were generated. Therefore, it can be said that a stable polymer / low molecular interface having high adhesion was obtained. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(実施例3)
本実施例では、実施例1とは異なる低分子材料、具体的には発光層4の低分子材料として化学式16のOXD-7(1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene)で表される電子輸送性低分子材料を用いて、実施例1と同様の手法により有機EL素子100の試料を製造した。
(Example 3)
In this example, OXD-7 (1,3-Bis [2- (4-tert-butylphenyl)-of the chemical formula 16 is used as a low-molecular material different from Example 1, specifically, as the low-molecular material of the light-emitting layer 4. A sample of the organic EL device 100 was manufactured in the same manner as in Example 1 using an electron transporting low molecular weight material represented by 1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene).

そして、本実施例の試料について、実施例1と同様に、初期駆動電圧V0、輝度半減寿命LT50、およびダークスポット発生数Nを調べた。その結果、本実施例では、V0=6.9、LT50=108、N=0となった。   For the sample of this example, as in Example 1, the initial drive voltage V0, the luminance half life LT50, and the number N of dark spots generated were examined. As a result, in this example, V0 = 6.9, LT50 = 108, and N = 0.

このように、本実施例においても、比較例1と比べて初期駆動電圧V0が低下していることから、高分子/低分子界面において密着性が高くなってキャリア注入性が向上したと言える。また、駆動寿命も劇的に改善されており、かつダークスポットも全く発生しなかったことから、密着性が高く安定な高分子/低分子界面が得られていると言える。したがって、実施例1と同様の効果を得ることができる。   Thus, also in this example, since the initial driving voltage V0 is lower than that in Comparative Example 1, it can be said that the adhesion at the polymer / low molecule interface is increased and the carrier injection property is improved. In addition, the driving life was dramatically improved, and no dark spots were generated. Therefore, it can be said that a stable polymer / low molecular interface having high adhesion was obtained. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(実施例4)
本実施例では、実施例1とは異なる低分子材料、具体的には発光層4の低分子材料として化学式9のTPTE(N,N'-bis(4-diphenylamino-4'-biphenyl)-N,N'-diphenyl-4,4'-diaminobiphenyl)で表されるホール輸送性低分子材料と化学式16のOXD-7(1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4- oxadiazo-5-yl]benzene)で表される電子輸送性低分子材料の混合を用い、ホール輸送性低分子材料と電子輸送性低分子材料の重量混合比を1:1とし、かつ、高分子材料と低分子材料の総量の重量混合比を3:1として、実施例1と同様の手法により有機EL素子100の試料を製造した。
Example 4
In this example, TPTE (N, N′-bis (4-diphenylamino-4′-biphenyl) -N of the formula 9 is used as a low molecular weight material different from that in Example 1, specifically, as the low molecular weight material of the light emitting layer 4. , N′-diphenyl-4,4′-diaminobiphenyl) and a OXD-7 (1,3-Bis [2- (4-tert-butylphenyl) -1,3 , 4-oxadiazo-5-yl] benzene), and the weight mixing ratio of the hole transporting low molecular weight material to the electron transporting low molecular weight material is 1: 1, and A sample of the organic EL element 100 was manufactured in the same manner as in Example 1 with the weight mixing ratio of the total amount of the high molecular material and the low molecular material set to 3: 1.

そして、本実施例の試料について、実施例1と同様に、初期駆動電圧V0、輝度半減寿命LT50、およびダークスポット発生数Nを調べた。その結果、本実施例では、V0=6.0、LT50=134、N=0となった。   For the sample of this example, as in Example 1, the initial drive voltage V0, the luminance half life LT50, and the number N of dark spots generated were examined. As a result, in this example, V0 = 6.0, LT50 = 134, and N = 0.

このように、本実施例においても、比較例1と比べて初期駆動電圧V0が低下していることから、高分子/低分子界面において密着性が高くなってキャリア注入性が向上したと言える。また、駆動寿命も劇的に改善されており、かつダークスポットも全く発生しなかったことから、密着性が高く安定な高分子/低分子界面が得られていることと言える。したがって、実施例1と同様の効果を得ることができる。   Thus, also in this example, since the initial driving voltage V0 is lower than that in Comparative Example 1, it can be said that the adhesion at the polymer / low molecule interface is increased and the carrier injection property is improved. In addition, since the driving life was dramatically improved and no dark spots were generated, it can be said that a stable polymer / low molecular interface with high adhesion was obtained. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(実施例1〜4についての考察)
図2は、上記各実施例で製造した試料および比較例1の試料に対して調べた初期駆動電圧V0、輝度半減寿命LT50、およびダークスポット発生数Nをまとめた図表である。この図表からも分かるように、各実施例すべてにおいて、比較例1と比較して、初期駆動電圧V0が低下していると共に、駆動寿命も向上している。また、ダークスポットも発生していない。このため、上記実施形態において説明したように、低分子ホール輸送層3の上に高分子材料が含まれる発光層4を配置した高分子/低分子積層型有機EL素子において、発光層4を高分子材料と低分子材料とを混合したもので構成することで、密着性が高く安定でキャリア注入性のよい高分子/低分子界面が得られ、耐久性が高く信頼性の高い有機EL素子とすることが可能となる。特に、ホール輸送性低分子材料を添加した場合に顕著に低下しており、低分子ホール輸送層3から発光層4へのホールの注入性の向上には、発光層4を構成する高分子材料にホール輸送性低分子材料を添加することが特に有効となる。
(Consideration about Examples 1-4)
FIG. 2 is a table summarizing the initial drive voltage V0, the luminance half-life LT50, and the number N of dark spots that were examined for the samples manufactured in the above examples and the sample of Comparative Example 1. As can be seen from this chart, in all of the examples, the initial drive voltage V0 is lowered and the drive life is also improved as compared with Comparative Example 1. Also, no dark spots are generated. For this reason, as described in the above embodiment, in the polymer / low-molecular stacked organic EL element in which the light-emitting layer 4 including the polymer material is disposed on the low-molecular hole transport layer 3, the light-emitting layer 4 is made high. By comprising a mixture of a molecular material and a low molecular material, a high molecular / low molecular interface with high adhesion and stability and good carrier injection properties can be obtained, and a highly durable and highly reliable organic EL device It becomes possible to do. In particular, when a hole transporting low molecular weight material is added, it is significantly reduced. For improving the hole injection property from the low molecular hole transporting layer 3 to the light emitting layer 4, the polymer material constituting the light emitting layer 4 is used. It is particularly effective to add a hole transporting low molecular weight material.

(実施例5)
本実施例は高分子材料に加えられた低分子材料による高温乾燥時の結晶化抑止効果を確認した例である。
(Example 5)
In this example, the effect of inhibiting crystallization during high-temperature drying by a low-molecular material added to a polymer material was confirmed.

本実施例では、発光層4に含まれる低分子材料として実施例1とは同じ材料を用いて発光層4を塗布したのち、発光層4を塗布した後の乾燥温度を180℃にして発光層4を乾燥させた。その他に関しては、実施例1と同様の手法により有機EL素子100の試料を製造した。   In this example, the light emitting layer 4 was applied using the same material as that of Example 1 as a low molecular material contained in the light emitting layer 4, and then the drying temperature after applying the light emitting layer 4 was set to 180 ° C. 4 was dried. Regarding the others, a sample of the organic EL element 100 was manufactured by the same method as in Example 1.

また、比較例2として、発光層4を塗布した後の乾燥温度を180℃にした以外は上記比較例1と同様の構成の試料を用意した。   Further, as Comparative Example 2, a sample having the same configuration as that of Comparative Example 1 was prepared except that the drying temperature after applying the light emitting layer 4 was 180 ° C.

実施例5および比較例2を初期輝度2400cd/m2にて室温定電流駆動した結果、実施例5では輝度半減寿命LT50が215時間で駆動中に短絡することはなかったのに対して、比較例2では半減寿命に達する前に20時間で素子が短絡して発光が得られなくなった。比較例2では高温乾燥による発光層4の結晶化が起こったために素子が短絡しやすくなったのに対して、実施例5では添加した低分子材料が高分子の結晶化を阻害するように働くために、高温乾燥を行っても結晶化せず短絡も起こらなかった。また、実施例5は実施例1よりも長寿命化しており、高温乾燥による膜中残存溶媒濃度の低下効果による長寿命化が確認された。 Example 5 and Comparative Example 2 were driven at a constant room temperature at an initial luminance of 2400 cd / m 2. As a result, in Example 5, the luminance half-life LT50 was not short-circuited during driving in 215 hours. In Example 2, the device was short-circuited in 20 hours before reaching the half-life, and light emission was not obtained. In Comparative Example 2, the light emitting layer 4 was crystallized by high temperature drying, and thus the device was easily short-circuited. In Example 5, the added low molecular weight material acts to inhibit polymer crystallization. Therefore, even if high temperature drying was performed, crystallization did not occur and no short circuit occurred. In addition, Example 5 has a longer lifetime than Example 1, and it was confirmed that the lifetime was extended due to the effect of reducing the residual solvent concentration in the film by high-temperature drying.

(実施例6)
本実施例では、高分子材料に加えられた低分子材料のHOMO-LUMOギャップが発光エネルギーよりも小さい場合について効率を調べた。具体的には、
本実施例では、発光層4に含まれる低分子材料として下記の化学式21で表されるフラーレンC60を用い、高分子材料と低分子材料との重量混合比を10:1として、実施例1と同様の手法により有機EL素子100の試料を製造した。
(Example 6)
In this example, the efficiency was examined when the HOMO-LUMO gap of the low molecular material added to the polymer material was smaller than the emission energy. In particular,
In this example, fullerene C 60 represented by the following chemical formula 21 is used as the low molecular material contained in the light emitting layer 4, and the weight mixing ratio of the polymer material and the low molecular material is 10: 1. A sample of the organic EL element 100 was manufactured by the same method as described above.

Figure 0005218131
化学式21で示されるフラーレンC60のHOMO-LUMOギャップは1.7eVと発光エネルギーよりも小さい。実施例1の単位電流密度当りの最大発光効率をI1(cd/A)、本実施例の最大発光効率をI6(cd/A)とした時のI6/I1の値は0.45となった。すなわち、HOMO-LUMOギャップの小さな材料を添加すると発光層4において放射された光が低分子材料で吸収されてしまうため効率が低下することがわかった。
Figure 0005218131
The HOMO-LUMO gap of fullerene C 60 represented by Chemical Formula 21 is 1.7 eV, which is smaller than the emission energy. The value of I6 / I1 was 0.45 when the maximum luminous efficiency per unit current density of Example 1 was I1 (cd / A) and the maximum luminous efficiency of this example was I6 (cd / A). . That is, it was found that when a material having a small HOMO-LUMO gap is added, the light emitted from the light emitting layer 4 is absorbed by the low molecular weight material, so that the efficiency is lowered.

このように、発光層4において放射された光が低分子材料で吸収されて効率が低下するため、実施例1等のように、発光層4に含まれる低分子材料のHOMO-LUMOギャップが発光層4より放射される光の発光エネルギーよりも大きいことが望ましいと言える。   Thus, since the light emitted from the light emitting layer 4 is absorbed by the low molecular material and the efficiency is lowered, the HOMO-LUMO gap of the low molecular material contained in the light emitting layer 4 emits light as in Example 1 and the like. It can be said that it is desirable that the emission energy of the light emitted from the layer 4 is larger.

(実施例7)
本実施例では、高分子材料に加えられた低分子材料の濃度を変化させた場合の影響について調べた。
(Example 7)
In this example, the effect of changing the concentration of the low molecular material added to the polymer material was examined.

具体的には、実施例1において発光層4における低分子材料の濃度を変化させた様々な試料を製造した。そして、それぞれの試料の最大発光効率をI(cd/A)、低分子材料濃度が0重量%である比較例1の最大発光効率をI0(cd/A)とした場合のI/I0の変化を調べた。その結果、図3に示すグラフが得られた。 Specifically, various samples in which the concentration of the low molecular material in the light emitting layer 4 was changed in Example 1 were manufactured. Then, the maximum luminous efficiency I (cd / A) of each sample, in the case where the maximum luminous efficiency of Comparative Example 1 low molecular weight material concentration is 0% by weight was I 0 (cd / A) I / I 0 I examined the changes. As a result, the graph shown in FIG. 3 was obtained.

この図に示されるように、1重量%以上で0重量%の時より効率が大きくなるが、50重量%以上では逆に0重量%の時より効率が小さくなったことから、1重量%以上50重量%未満の濃度が望ましいと言える。   As shown in this figure, the efficiency becomes larger at 1% by weight or more than at 0% by weight, but at 50% by weight or more, the efficiency becomes lower than at 0% by weight. It can be said that a concentration of less than 50% by weight is desirable.

(他の実施形態)
上記実施形態では、有機酸やエーテル化合物による表面処理によって難溶化層3aを形成することで表面難溶化を図りつつ、低分子ホール輸送層3の上に高分子材料と低分子材料の混合によって構成された発光層4を配置した構造としたが、これはより良い組み合わせを示したものである。このため、難溶化層3aを形成せずに、単に低分子ホール輸送層3の上に高分子材料と低分子材料の混合によって構成された発光層4を配置した構造としても良い。
(Other embodiments)
In the said embodiment, it comprises by mixing a high molecular material and a low molecular material on the low molecular hole transport layer 3, achieving surface insolubilization by forming the poorly soluble layer 3a by surface treatment by an organic acid or an ether compound. The structure in which the light emitting layer 4 is arranged is shown, which shows a better combination. For this reason, it is good also as a structure which has arrange | positioned the light emitting layer 4 comprised only by mixing the high molecular material and the low molecular material on the low molecular hole transport layer 3, without forming the sparingly soluble layer 3a.

1 基板
2 ホール注入電極
3 低分子ホール輸送層
3a 難溶化層
4 発光層
5 電子注入層
6 金属缶
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Hole injection electrode 3 Low molecular hole transport layer 3a Slightly soluble layer 4 Light emitting layer 5 Electron injection layer 6 Metal can

Claims (16)

電極基板(1)と、
前記電極基板(1)の上に形成されたホール注入電極(2)と、
前記ホール注入電極(2)の上に形成され、低分子材料にて構成された低分子ホール輸送層(3)と、
前記低分子ホール輸送層(3)の表面に、該低分子ホール輸送層(3)の表面がエーテル化合物もしくは有機酸で表面処理されて形成された難溶化層(3a)と、
前記難溶化層(3a)の上に形成され、高分子材料と低分子材料の混合にて構成された発光層(4)と、
前記発光層(4)の上に形成された電子注入電極(5)と、を有することを特徴とする有機EL素子。
An electrode substrate (1);
A hole injection electrode (2) formed on the electrode substrate (1);
A low molecular hole transport layer (3) formed on the hole injection electrode (2) and composed of a low molecular material;
A poorly soluble layer (3a) formed on the surface of the low molecular hole transport layer (3) by subjecting the surface of the low molecular hole transport layer (3) to a surface treatment with an ether compound or an organic acid;
A light emitting layer (4) formed on the hardly soluble layer (3a) and composed of a mixture of a high molecular material and a low molecular material;
And an electron injection electrode (5) formed on the light emitting layer (4).
前記発光層(4)に含まれる低分子材料のHOMO-LUMOギャップが、該発光層(4)より放射される光の発光エネルギーよりも大きいことを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。 2. The organic EL device according to claim 1 , wherein the HOMO-LUMO gap of the low molecular material contained in the light emitting layer is larger than the light emission energy of the light emitted from the light emitting layer. . 前記発光層(4)に含まれる前記低分子材料が、該発光層(4)を構成する前記高分子材料と前記低分子材料の総量のうちの1重量%以上50重量%未満とされていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 The low molecular material contained in the light emitting layer (4) is 1% by weight or more and less than 50% by weight of the total amount of the polymer material and the low molecular material constituting the light emitting layer (4). the organic EL device according to claim 1 or 2, characterized in that. 前記発光層(4)に含まれる前記低分子材料がホール輸送性材料や電子輸送性材料もしくは両方であることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1つに記載の有機EL素子。 The organic EL device according to any one of claims 1 to 3 , wherein the low molecular material contained in the light emitting layer (4) is a hole transport material, an electron transport material, or both. 前記発光層(4)にさらに発光性色素が添加されていることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1つに記載の有機EL素子。 The organic EL device according to any one of claims 1 to 4 , wherein a luminescent dye is further added to the light emitting layer (4). 前記低分子ホール輸送層(3)のうち、前記発光層(4)と接する部分は難溶化層(3a)になっており、それ以外の部分は前記低分子材料のみからなる層であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載の有機EL素子。 Of the low molecular hole transport layer (3), the part in contact with the light emitting layer (4) is a hardly soluble layer (3a), and the other part is a layer made of only the low molecular material. The organic EL device according to claim 1 , wherein the organic EL device is characterized in that: 前記エーテル化合物が該エーテル化合物に含まれる炭素原子数が5以上15以下であることを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。 The organic EL device according to claim 6 , wherein the ether compound has 5 to 15 carbon atoms in the ether compound. 前記エーテル化合物が化学式1もしくは化学式2
(化1) R1−O−R2
(化2) R1−O−R2−O−R3
で示される化合物で、R1、R2、R3が炭素原子数2以上6以下のアルキル基であることを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。
The ether compound is represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2
(Chemical formula 1) R1-O-R2
(Chemical Formula 2) R1-O-R2-O-R3
The organic EL device according to claim 7 , wherein R 1, R 2 and R 3 are alkyl groups having 2 to 6 carbon atoms.
前記エーテル化合物の沸点が50℃以上かつ250℃以下であることを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。 The organic EL device according to claim 8 , wherein the boiling point of the ether compound is 50 ° C or higher and 250 ° C or lower. 前記エーテル化合物がジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテルのいずれかであることを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。 The organic EL according to claim 9 , wherein the ether compound is any one of dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, dihexyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, and ethylene glycol dibutyl ether. element. 前記有機酸がスルホン酸化合物、カルボン酸化合物、ヒドロキシ化合物、チオール化合物、エノール化合物、もしくは有機リン酸化合物であることを特徴とする請求項に記載の有機EL素子。 The organic EL element according to claim 6 , wherein the organic acid is a sulfonic acid compound, a carboxylic acid compound, a hydroxy compound, a thiol compound, an enol compound, or an organic phosphoric acid compound. 前記難溶化層(3a)の膜厚が10nm以下であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1つに記載の有機EL素子。 The organic EL device according to any one of claims 1 to 11, wherein the thickness of the insoluble layer (3a) is 10nm or less. 前記低分子ホール輸送層(3)を構成する前記低分子材料のガラス転移点、ガラス転移点がない場合は融点が120℃以上であることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1つに記載の有機EL素子。 The low molecular hole transport layer (3) Glass transition point of the low-molecular material constituting the any one of claims 1 to 12 when there is no glass transition point, wherein the melting point of 120 ° C. or higher The organic EL element as described in. 前記低分子ホール輸送層(3)を構成する前記低分子材料の真空度1Pa時の昇華温度が300℃以上であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1つに記載の有機EL素子。 The organic EL according to any one of claims 1 to 13 , wherein a sublimation temperature of the low molecular material constituting the low molecular hole transport layer (3) at a vacuum degree of 1 Pa is 300 ° C or higher. element. 前記低分子ホール輸送層(3)を構成する前記低分子材料がトリフェニルアミン誘導体材料であることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1つに記載の有機EL素子。 The organic EL device according the to the low-molecular material constituting the low-molecular hole transport layer (3) is any one of claims 1 to 14, characterized in that a triphenylamine derivative material. 前記トリフェニルアミン誘導体材料がスターバーストアミンであることを特徴とする請求項15に記載の有機EL素子。 16. The organic EL device according to claim 15 , wherein the triphenylamine derivative material is starburst amine.
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