JP5216995B2 - ブロック共重合体からなるナノディスク - Google Patents
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Description
b)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
c)ラメラ層構造中で互いに隣接するS1間のファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程。
2)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
3)前記微粒子にOsO4、RuO4または式(III)
4)ラメラ層構造中で互いに隣接するS3間に生じるファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程
(12)S3がスチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、イソブチレン、クロロスチレン、εカプロラクトン、D−及び/又はL−乳酸、ジメチルシロキサン、ジアセチレンアセチレン及びこれらの誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成される1種のブロック又は2種以上のブロックの集合である、(11)に記載のナノディスクの製造方法。
本発明は、2分子のブロック共重合体が主鎖方向に直列してなる基本単位が平面方向に集合して形成されている、厚み1nm〜100nm、直径10nm〜5μmならびにアスペクト比が1以上であるナノディスクを提供する。
本発明は、上記で説明したナノディスクの製造方法も提供する。
b)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
c)ラメラ層中で互いに隣接するS1間のファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程。
2)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
3)前記微粒子にOsO4、RuO4または式(III)
4)ラメラ層中で互いに隣接するS3間に生じるファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程。
工程a):次式で表されるポリ(スチレン−ブロック−イソプレン)をテトラヒドロフラン(THF、安定剤含有、和光純薬工業製EP級)中に溶解させて、0.20mg/mLの濃度の高分子溶液を調製した。
Claims (10)
- 2分子のブロック共重合体が主鎖方向に直列してなる基本単位が平面方向に集合して形成されており、
厚み1nm〜100nm、直径10nm〜5μmならびにアスペクト比が1以上であり、
下記式(I)で表される構造を有する、
ナノディスク。
- S1がメチルメタクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、スチレンスルホン酸、N−イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、ビニルピリジン及びこれらの重合性誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成される1種のブロック又は2種以上のブロックであり、かつS2がスチレン、イソプレン、ブタジエン、ビスフェノールA、ポリイミド、エチレン、プロピレン、α−メチルスチレン、ビニルカルバゾール及びこれらの重合性誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成されるブロックである、請求項1に記載のナノディスク。
- S1がスチレン、イソプレン、ブタジエン、ビスフェノールA、ポリイミド、エチレン、プロピレン、α−メチルスチレン、ビニルカルバゾール及びこれらの誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成される1種のブロック又は2種以上のブロックであり、かつS2を構成するモノマー単位がメチルメタクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、スチレンスルホン酸、N−イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、ビニルピリジン及びこれらの誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成されるブロックである、請求項1に記載のナノディスク。
- 以下の工程a)〜c)を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のナノディスクの製造方法。
a)式S1−S2で表されるブロック共重合体と該ブロック共重合体に対する良溶媒とを含む高分子溶液に、該良溶媒と相溶する前記ブロック共重合体に対する貧溶媒を添加して混合溶液を調製する工程、ここでS1は1種のブロック又は2種以上のブロックの集合を表し、S2はS1とは異なるブロックを表す、
b)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
c)ラメラ層構造中で互いに隣接するS1間のファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程 - 2分子のブロック共重合体が主鎖方向に直列してなる基本単位が平面方向に集合して形成されており、
厚み1nm〜100nm、直径10nm〜5μmならびにアスペクト比が1以上であり、
下記式(II)で表される構造を有する、
ナノディスク。
- S3がスチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、イソブチレン、クロロスチレン、εカプロラクトン、D−及び/又はL−乳酸、ジメチルシロキサン、ジアセチレンアセチレン及びこれらの誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成されるブロックである、請求項5に記載のナノディスク。
- S4がイソプレンもしくはブタジエンから構成されるブロックである、請求項5に記載のナノディスク。
- 以下の工程1)〜4)を含む、請求項5に記載のナノディスクの製造方法。
1)式S3−S4で表されるブロック共重合体と該ブロック共重合体に対する良溶媒とを含む高分子溶液に、該良溶媒と相溶する前記ブロック共重合体に対する貧溶媒を添加して混合溶液を調製する工程、ここでS3は1種のブロック又は2種以上のブロックの集合を表し、S4は不飽和結合を有するモノマー単位からなるブロックを表し、
2)前記混合溶液から良溶媒を除去して前記ブロック共重合体からなるラメラ層構造を有する微粒子を形成させる工程、
3)前記微粒子にOsO4、RuO4または式(III)
4)ラメラ層構造中で互いに隣接するS3間に生じるファンデルワールス力を解消することのできる溶媒中に前記微粒子を置いて、ナノディスクを形成させる工程 - S3がスチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、イソブチレン、クロロスチレン、εカプロラクトン、D−及び/又はL−乳酸、ジメチルシロキサン、ジアセチレンアセチレン及びこれらの誘導体よりなる群から選ばれるモノマー単位から構成される1種のブロック又は2種以上のブロックの集合である、請求項8に記載のナノディスクの製造方法。
- S4がイソプレンもしくはブタジエンから構成されるブロックである、請求項8に記載のナノディスクの製造方法。
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