JP5204710B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等(以下、単に「基板」と称する)に処理を施す基板処理装置に関するもので、特に、基板の搬送処理の改良に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, etc. (hereinafter simply referred to as “substrate”). It relates to improvement of processing.

従来、基板搬送手順に関する情報を、(1)基本的なフロー情報と、(2)不使用予定の処理ユニットを示すオプション情報と、を組み合わせたデータ構造により表現するとともに、この基板搬送手順に関する情報に基づいて特定の処理ユニットを使用するか否かを決定する技術が知られている(例えば、特許文献1)。   Conventionally, information related to the substrate transfer procedure is expressed by a data structure that combines (1) basic flow information and (2) optional information indicating a processing unit that is not to be used. A technique for determining whether to use a specific processing unit based on the above is known (for example, Patent Document 1).

また、搬送順序を決定する情報に処理スキップ設定用の情報(フラグ)を付随させ、このフラグの値にしたがって対応する処理をスキップするか否かを判断する技術についても、従来より知られている(例えば、特許文献2)。   Further, a technique for adding processing skip setting information (flag) to information for determining the transport order and determining whether or not to skip the corresponding processing in accordance with the value of this flag is also known. (For example, patent document 2).

特開平09−312323号公報JP 09-31323 A 特開2005−123249号公報JP 2005-123249 A

ここで、特許文献1および2の基板処理装置において、各処理ユニットによる基板の処理手順、および基板搬送ユニットによる基板の搬送手順は、レシピデータ(基板の処理手順および処理条件に関する情報)に基づいて決定される。以下では、洗浄処理に続いて加熱処理を実行する旨が規定されているレシピデータを例に説明する。   Here, in the substrate processing apparatuses of Patent Documents 1 and 2, the substrate processing procedure by each processing unit and the substrate transport procedure by the substrate transport unit are based on recipe data (information on substrate processing procedures and processing conditions). It is determined. In the following, description will be given by taking, as an example, recipe data that specifies that a heating process is performed following a cleaning process.

このレシピデータに基づいて、既に洗浄ユニットにて洗浄処理が開始されている場合、制御部は、この洗浄処理が完了したか否かの確認処理を実行する。この確認処理は、例えば、洗浄ユニットからの洗浄完了制御信号の有無を調べることにより実行される。   If the cleaning process has already been started in the cleaning unit based on the recipe data, the control unit executes a confirmation process as to whether or not the cleaning process has been completed. This confirmation process is executed, for example, by checking the presence or absence of a cleaning completion control signal from the cleaning unit.

次に、洗浄処理が完了したことが確認されると、制御部は、基板搬送ユニットに対して、洗浄ユニットから基板を搬出させる。続いて、制御部は、基板搬送ユニットに対して、受け取った基板を加熱ユニットに搬入させる。そして、制御部は、加熱ユニットに対して、基板を加熱する処理を実行させる。   Next, when it is confirmed that the cleaning process is completed, the control unit causes the substrate transport unit to carry out the substrate from the cleaning unit. Subsequently, the control unit causes the substrate transport unit to carry the received substrate into the heating unit. And a control part performs the process which heats a board | substrate with respect to a heating unit.

このように、同一の制御部により基板処理および搬送処理が実行される場合、制御部は、レシピデータに格納されている各基板の処理手順を確認することによって、基板の搬送手順を決定することができる。   As described above, when the substrate processing and the transfer processing are executed by the same control unit, the control unit determines the substrate transfer procedure by checking the processing procedure of each substrate stored in the recipe data. Can do.

しかしながら、同一の制御部により管理される処理ユニットの台数が増加すると、場合によっては、その台数が制御部の処理能力を超え、単一の制御部により基板処理および搬送処理を制御することが困難になるという問題が生ずる。特に、基板搬送ユニットの周囲に処理ユニットを積層配置する場合、この問題が顕著となる。   However, when the number of processing units managed by the same control unit increases, in some cases, the number exceeds the processing capability of the control unit, and it is difficult to control substrate processing and transfer processing by a single control unit. Problem arises. In particular, this problem becomes significant when processing units are stacked around the substrate transport unit.

そこで、本発明では、基板の搬送処理を良好に実行できる基板処理装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can satisfactorily execute a substrate transfer process.

上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、基板処理装置であって、各々が、基板に対して処理を施す複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットのそれぞれとの間で、基板の受け渡しを行う基板搬送ユニットと、前記複数の処理ユニットのうちの少なくとも1つの処理ユニットで実行される基板処理を制御する第1制御部と、前記基板搬送ユニットにより実行される搬送処理を制御する第2制御部とを備え、前記複数の処理ユニットのうち、前記第1制御部により基板処理が制御される第1処理ユニットと、前記基板搬送ユニットと、の間で基板が受け渡される場合において、前記第1および第2制御部のうち受け渡し側のユニットに対応する制御部は、受け取り側のユニットに対応する制御部に、受け渡される基板に関する基板情報データを受け渡し、前記基板情報データは、各基板処理の条件に関するレシピ関連データと、各基板の処理手順を特定するための処理フローデータとを有しており、前記処理フローデータは、各々が、前記複数の処理ユニットと一対一に対応しており、対応する処理ユニットで実行される基板処理の順序を示す複数の順序データと、各々が、前記複数の処理ユニットと一対一に対応しており、対応する処理ユニットにおける基板の処理状況を示す複数の処理状況データとを有しており、前記第2制御部は、前記処理フローデータに含まれる前記複数の順序データおよび前記複数の処理状況データに基づいて、基板の搬送先となる処理ユニットを決定することを特徴とする。   In order to solve the above problems, the invention of claim 1 is a substrate processing apparatus, wherein each of a plurality of processing units for processing a substrate and each of the plurality of processing units, A substrate transfer unit that transfers a substrate, a first control unit that controls a substrate process executed by at least one of the plurality of processing units, and a transfer process executed by the substrate transfer unit A substrate is transferred between the first processing unit of which the substrate processing is controlled by the first control unit and the substrate transport unit among the plurality of processing units. The control unit corresponding to the delivery-side unit of the first and second control units is a board related to the substrate delivered to the control unit corresponding to the reception-side unit. The substrate information data includes recipe-related data regarding the conditions of each substrate processing, and processing flow data for specifying the processing procedure of each substrate, and each of the processing flow data includes The plurality of processing units have a one-to-one correspondence with the plurality of processing units, and a plurality of order data indicating the order of substrate processing performed in the corresponding processing units, and each of the plurality of processing units has a one-to-one correspondence And a plurality of processing status data indicating the processing status of the substrate in the corresponding processing unit, and the second control unit includes the plurality of order data and the plurality of processing statuses included in the processing flow data. A processing unit as a substrate transfer destination is determined based on the data.

また、請求項2の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記第2制御部は、各順序データの大小関係に基づいて、各処理ユニットに基板が搬送される順序を決定するとともに、着目する順序データが非処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットを基板の搬送先から除外し、着目する2以上の順序データのそれぞれが非処理定数以外の値となり、かつ、該2以上の順序データが互いに同一となる場合、該2以上の順序データに対応する処理ユニットのうちのいずれか1つに、基板を搬送させることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect, the second control unit determines the order in which the substrates are transported to each processing unit based on the magnitude relationship of the respective order data. In addition, when the target sequence data has the same value as the non-process constant, the processing unit corresponding to the sequence data is excluded from the substrate transfer destination, and each of the two or more target sequence data of interest is a value other than the non-process constant. When the two or more order data are the same, the substrate is transported to one of the processing units corresponding to the two or more order data.

また、請求項3の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記第2制御部は、予め定められた処理ユニットの処理順序と、各順序データの値と、に基づいて、各処理ユニットに基板が搬送される順序を決定するとともに、着目する順序データが非処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットを搬送先から除外し、着目する順序データが単独処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットに基板を搬送し、着目する2以上の順序データのそれぞれが非処理定数および前記単独処理定数以外の値となり、かつ、該2以上の順序データが互いに同一となる場合、該2以上の順序データに対応する処理ユニットのうちのいずれか1つに、基板を搬送させることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect, the second control unit is configured to determine each processing data based on a predetermined processing order of processing units and a value of each order data. When the order in which the substrates are transported to the processing unit is determined and the target order data has the same value as the non-processing constant, the processing unit corresponding to the order data is excluded from the transport destination, and the target order data is single. When the value is the same as the processing constant, the substrate is transferred to the processing unit corresponding to the order data, and each of the two or more order data items of interest has a value other than the non-processing constant and the single processing constant, and the 2 When the order data is the same as each other, the substrate is transported to any one of the processing units corresponding to the two or more order data.

また、請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理フローデータは、前記複数の処理状況データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置する第1データ列と、前記複数の順序データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置する第2データ列とを有することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to any one of the first to third aspects, the processing flow data includes the plurality of processing status data in an order based on the plurality of processing units. And a second data string in which the plurality of order data are continuously arranged in an order based on the plurality of processing units.

また、請求項5の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理フローデータは、対応する処理状況データおよび順序データを単位データとする場合、各単位データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置したものであることを特徴とする。   Further, in the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, the processing flow data includes each unit when the corresponding processing status data and order data are unit data. The data is continuously arranged in the order based on the plurality of processing units.

請求項1ないし請求項5に記載の発明によれば、第2制御部は、基板とともに受け渡される基板情報データの処理フローデータを参照することによって、各処理ユニットで実行される基板処理の順序、および、各処理ユニットにおける基板の処理状況、を把握することができる。   According to the first to fifth aspects of the present invention, the second control unit refers to the processing flow data of the substrate information data delivered together with the substrate, so that the order of the substrate processing executed in each processing unit is performed. And the processing status of the substrate in each processing unit.

これにより、第2制御部は、複数の処理ユニットで実行される各基板処理の履歴を管理することなく、各処理ユニットに基板を搬送する順序(基板搬送手順)を決定することができる。そのため、基板搬送手順を決定するための演算を簡略化することができ、演算コストを低減させることができる。   Thereby, the 2nd control part can determine the order (substrate conveyance procedure) which conveys a substrate to each processing unit, without managing the history of each substrate processing performed with a plurality of processing units. Therefore, the calculation for determining the substrate transfer procedure can be simplified, and the calculation cost can be reduced.

本発明の第1ないし第3の実施の形態における基板処理装置の構成の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a structure of the substrate processing apparatus in the 1st thru | or 3rd embodiment of this invention. 本発明の第1ないし第3の実施の形態における基板情報データのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the board | substrate information data in the 1st thru | or 3rd Embodiment of this invention. レシピテーブルのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of a recipe table. 第1の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the process flow data in 1st Embodiment. 図4における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data in FIG. 4, and order data. 第1の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the data structure of the process flow data in 1st Embodiment. 図6における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data and order data in FIG. 第1の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the process flow data in 1st Embodiment. 図8における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data and order data in FIG. 第2の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the process flow data in 2nd Embodiment. 図10における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data in FIG. 10, and order data. 第3の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the process flow data in 3rd Embodiment. 図12における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data and order data in FIG. 第3の実施の形態における処理フローデータのデータ構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the data structure of the process flow data in 3rd Embodiment. 図14における各処理状況データおよび順序データの値を示す図である。It is a figure which shows the value of each process status data and order data in FIG.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<1.第1の実施の形態>
<1.1.基板処理装置のハードウェア構成>
図1は、本発明の第1の実施の形態における基板処理装置1のハードウェア構成の一例を示す斜視図である。基板処理装置1は、レジスト塗布処理、熱処理(加熱または冷却処理)、および現像処理等の基板処理を実行する装置である。図1に示すように、基板処理装置1は、主として、ローダ10と、基板搬送ユニット20、40と、複数の制御部25、30、45、50と、アンローダ90と、複数の処理ユニットC00〜C15と、を備えている。
<1. First Embodiment>
<1.1. Hardware configuration of substrate processing apparatus>
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a hardware configuration of a substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus 1 is an apparatus that performs substrate processing such as resist coating processing, heat treatment (heating or cooling processing), and development processing. As shown in FIG. 1, the substrate processing apparatus 1 mainly includes a loader 10, substrate transfer units 20, 40, a plurality of control units 25, 30, 45, 50, an unloader 90, and a plurality of processing units C00 to C00. C15.

ここで、本実施の形態において基板処理部5とは、図1中の一点鎖線で示すように、複数の処理ユニットC00〜C15と、基板搬送ユニット20、40と、から構成される処理ユニット群を指すものとする。   Here, in the present embodiment, the substrate processing unit 5 is a processing unit group composed of a plurality of processing units C00 to C15 and substrate transport units 20 and 40, as indicated by a one-dot chain line in FIG. Shall be pointed to.

ローダ10は、図1に示すように、基板処理部5(より具体的には、処理ユニットC00)と並設されている。ローダ10は、カセット(不図示)から取り出された未処理の基板を1枚ずつ取り出すとともに、取り出された未処理基板を基板処理部5の処理ユニットC00に受け渡す。なお、未処理基板が収納されたカセットは、基板処理装置1外の搬送機構(例えば、AGV(Automatic Guided Vehicle):図示省略)によって、ローダ10に搬入されてもよい。   As shown in FIG. 1, the loader 10 is arranged in parallel with the substrate processing unit 5 (more specifically, the processing unit C00). The loader 10 takes out the unprocessed substrates taken out from the cassette (not shown) one by one, and delivers the taken-out unprocessed substrates to the processing unit C00 of the substrate processing unit 5. Note that the cassette in which the unprocessed substrates are stored may be carried into the loader 10 by a transport mechanism (for example, AGV (Automatic Guided Vehicle): not shown) outside the substrate processing apparatus 1.

基板搬送ユニット20は、いわゆる搬送ロボットであり、不図示の搬送アームを、(1)上下方向(略Z軸方向)に延びる旋回軸周りに回動させ、(2)上下方向に昇降させ、(3)水平面内(XY平面と略平行な面内)で伸縮させることができる。これにより、基板搬送ユニット20は、搬送アームに保持された基板を、各処理ユニットC00〜C08に受け渡し、各処理ユニットC00〜C08から受け取ることができる。   The substrate transfer unit 20 is a so-called transfer robot, and a transfer arm (not shown) is rotated around a turning axis extending in (1) the vertical direction (substantially Z-axis direction), and (2) is moved up and down in the vertical direction. 3) It can be expanded and contracted in a horizontal plane (in a plane substantially parallel to the XY plane). Thereby, the substrate transport unit 20 can transfer the substrate held by the transport arm to each of the processing units C00 to C08, and can receive the substrate from each of the processing units C00 to C08.

処理ユニットC00〜C08は、露光前処理として種々の基板処理を実行する。図1に示すように、各処理ユニットC00〜C08は、基板搬送ユニット20の周囲(より具体的には、ローダ10からアンローダ90に向かって(以下、単に、「基板搬送の下流側に向かって」とも称する)、基板搬送ユニット20の前後(略Y軸方向)および左右(略X軸方向))に配置されている。   The processing units C00 to C08 perform various substrate processing as pre-exposure processing. As shown in FIG. 1, the processing units C00 to C08 are arranged around the substrate transport unit 20 (more specifically, from the loader 10 toward the unloader 90 (hereinafter simply referred to as “downstream of substrate transport”). Are also arranged in front and rear (substantially Y-axis direction) and left and right (substantially X-axis direction) of the substrate transport unit 20.

処理ユニットC00は、いわゆる洗浄ユニットであり、基板処理部5に投入された基板を薬液およびリンス液(純水)により洗浄する。図1に示すように、処理ユニットC00は、基板搬送の下流側に向かって、基板搬送ユニット20の後方に配置されている。処理ユニットC00としては、受け渡された基板を1枚ずつ洗浄する洗浄ユニットが採用されてもよいし、受け渡された複数の基板をコンベア搬送しつつ同時に洗浄する洗浄ユニットが採用されてもよい。   The processing unit C00 is a so-called cleaning unit, and cleans the substrate put into the substrate processing unit 5 with a chemical solution and a rinse solution (pure water). As shown in FIG. 1, the processing unit C00 is disposed behind the substrate transport unit 20 toward the downstream side of the substrate transport. As the processing unit C00, a cleaning unit that cleans the transferred substrates one by one may be employed, or a cleaning unit that simultaneously cleans a plurality of transferred substrates while conveying the substrate may be employed. .

処理ユニットC01、C02のそれぞれは、基板を加熱する加熱ユニットであり、互いに同様なハードウェア構成を有している。処理ユニットC00で洗浄された基板が、処理ユニットC01、C02のいずれかに搬入され、かつ、加熱されると、基板に付着するリンス液は蒸発し、基板は加熱乾燥される。処理ユニットC03は、基板を冷却する冷却ユニットである。例えば、処理ユニットC03は、処理ユニットC01、C02で昇温された基板を冷却する。図1に示すように、処理ユニットC01〜C03は、基板搬送の下流側に向かって基板搬送ユニット20の左側に配置され、かつ、上からこの順番に積層されている。   Each of the processing units C01 and C02 is a heating unit for heating the substrate, and has the same hardware configuration as each other. When the substrate cleaned by the processing unit C00 is carried into one of the processing units C01 and C02 and heated, the rinse liquid adhering to the substrate evaporates and the substrate is heated and dried. The processing unit C03 is a cooling unit that cools the substrate. For example, the processing unit C03 cools the substrate heated by the processing units C01 and C02. As shown in FIG. 1, the processing units C01 to C03 are arranged on the left side of the substrate transport unit 20 toward the downstream side of the substrate transport, and are stacked in this order from the top.

処理ユニットC04は、基板にレジストを供給することによって、基板上にレジスト膜を形成する塗布ユニットである。また、処理ユニットC05は、いわゆる減圧乾燥ユニットであり、処理ユニットC04で基板表面に形成されたレジスト膜を予備乾燥する。図1に示すように、処理ユニットC04、C05は、基板搬送の下流側に向かって基板搬送ユニット20の右側に配置され、かつ、上からこの順番に積層されている。   The processing unit C04 is a coating unit that forms a resist film on the substrate by supplying the resist to the substrate. The processing unit C05 is a so-called reduced pressure drying unit, and pre-drys the resist film formed on the substrate surface by the processing unit C04. As shown in FIG. 1, the processing units C04 and C05 are arranged on the right side of the substrate transport unit 20 toward the downstream side of the substrate transport, and are stacked in this order from the top.

処理ユニットC06、C07のそれぞれは、基板を加熱する加熱ユニットであり、互いに同様なハードウェア構成を有している。レジスト塗布された基板が、処理ユニットC06、C07に搬入され、露光前の焼き締め処理(プリベーク処理)が実行されると、基板上に形成されたレジスト膜は固化する。処理ユニットC08は、基板を冷却する冷却ユニットである。例えば、処理ユニットC08は、処理ユニットC06、C07で加熱された基板を冷却する。図1に示すように、処理ユニットC06〜C08は、基板搬送の下流側に向かって基板搬送ユニット20の前方に配置され、かつ、上からこの順番に積層されている。   Each of the processing units C06 and C07 is a heating unit that heats the substrate, and has the same hardware configuration. When the resist-coated substrate is carried into the processing units C06 and C07 and a baking process (pre-bake process) before exposure is performed, the resist film formed on the substrate is solidified. The processing unit C08 is a cooling unit that cools the substrate. For example, the processing unit C08 cools the substrate heated by the processing units C06 and C07. As shown in FIG. 1, the processing units C06 to C08 are arranged in front of the substrate transport unit 20 toward the downstream side of the substrate transport, and are stacked in this order from the top.

制御部25(第2制御部)は、基板搬送ユニット20と電気的に接続されており、例えば、基板搬送ユニット20により実行される搬送処理を制御する。図1に示すように、制御部25は、主として、RAM(Random Access Memory)26と、ROM(Read Only Memory)27と、CPU(Central Processing Unit)29と、を有している。   The control unit 25 (second control unit) is electrically connected to the substrate transport unit 20 and controls, for example, transport processing executed by the substrate transport unit 20. As shown in FIG. 1, the control unit 25 mainly includes a RAM (Random Access Memory) 26, a ROM (Read Only Memory) 27, and a CPU (Central Processing Unit) 29.

RAM26は、例えば揮発性の記憶部により構成されており、CPU29の演算処理で使用されるデータを記憶する。基板搬送ユニット20と各処理ユニットC00〜C08との間で基板が受け渡されるとき、RAM26には、基板の受け渡しと略同期し、制御部25および制御部30の間で受け渡される基板情報データ60が、記憶される(図1参照)。また、基板搬送ユニット20により複数の基板が保持されている場合、RAM26には、複数の基板情報データ60が記憶されることになる。   The RAM 26 is constituted by, for example, a volatile storage unit, and stores data used in arithmetic processing of the CPU 29. When the substrate is transferred between the substrate transport unit 20 and each of the processing units C00 to C08, the RAM 26 is substantially synchronized with the transfer of the substrate, and the substrate information data transferred between the control unit 25 and the control unit 30. 60 is stored (see FIG. 1). In addition, when a plurality of substrates are held by the substrate transport unit 20, a plurality of substrate information data 60 is stored in the RAM 26.

ROM27は、いわゆる不揮発性の記憶部により構成されている。図1に示すように、ROM27には、例えばプログラム27aが記憶されている。なお、ROM27としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが採用されてもよい。   The ROM 27 includes a so-called nonvolatile storage unit. As shown in FIG. 1, the ROM 27 stores a program 27a, for example. The ROM 27 may be a flash memory that is a readable / writable nonvolatile memory.

CPU29は、ROM27のプログラム27aに従った動作制御やデータ演算を、所定のタイミングで実行する。例えば、CPU29は、各基板に対応する基板情報データ60に基づいて、各基板を次に搬送すべき処理ユニットを決定する。   The CPU 29 executes operation control and data calculation according to the program 27a of the ROM 27 at a predetermined timing. For example, the CPU 29 determines a processing unit that should next transport each substrate based on the substrate information data 60 corresponding to each substrate.

制御部30(第1制御部)は、各処理ユニットC00〜C08と電気的に接続されており、例えば、各処理ユニットC00〜C08で実行される基板処理を制御する。図1に示すように、制御部30は、主として、RAM31と、ROM32と、CPU34と、を有している。   The control unit 30 (first control unit) is electrically connected to the processing units C00 to C08 and controls, for example, the substrate processing executed in the processing units C00 to C08. As shown in FIG. 1, the control unit 30 mainly includes a RAM 31, a ROM 32, and a CPU 34.

RAM31は、RAM26と同様なハードウェア構成を有しており、CPU34の演算処理で使用されるデータを記憶する。例えば、処理ユニットC00〜C08と基板搬送ユニット20との間で基板が受け渡されるとき、RAM31には、基板の受け渡しと略同期し、制御部30および制御部25の間で受け渡される基板情報データ60が、記憶される(図1参照)。また、処理ユニットC00〜C08に複数の基板が滞在している場合、RAM31には、複数の基板情報データ60が記憶されることになる。   The RAM 31 has the same hardware configuration as that of the RAM 26 and stores data used in the arithmetic processing of the CPU 34. For example, when a substrate is transferred between the processing units C00 to C08 and the substrate transport unit 20, the substrate information is transferred to the RAM 31 between the control unit 30 and the control unit 25 substantially in synchronization with the transfer of the substrate. Data 60 is stored (see FIG. 1). Further, when a plurality of substrates stay in the processing units C00 to C08, the RAM 31 stores a plurality of substrate information data 60.

ここで、「処理ユニットC00〜C08に複数の基板が滞在している」とは、例えば、(1)処理ユニットC00〜C08のうちの2つの処理ユニットのそれぞれに、1枚ずつ基板が滞在している場合であっても良いし、(2)処理ユニットC00〜C08のうちの1つの処理ユニットに、2枚以上の基板が滞在している場合であっても良い。   Here, “a plurality of substrates stays in the processing units C00 to C08” means, for example, (1) that one substrate stays in each of two processing units of the processing units C00 to C08. Or (2) two or more substrates may stay in one of the processing units C00 to C08.

また、図1に示すように、RAM31には、複数のレシピを格納したレシピテーブル64aが、記憶されている。ここで、レシピとは、各処理ユニットC00〜C15で実行される各基板処理の条件(プロセスID)が格納されたデータであり、レシピテーブル64a の各レコード(行)に対応する。なお、レシピテーブル64aは、例えば、制御部30が起動する毎に、いわゆる大容量記憶部(例えば、ハードディスクドライブ:図示省略)からRAM31に転送されても良い。   As shown in FIG. 1, the RAM 31 stores a recipe table 64a storing a plurality of recipes. Here, the recipe is data in which conditions (process IDs) for each substrate processing executed by the processing units C00 to C15 are stored, and corresponds to each record (row) of the recipe table 64a. The recipe table 64a may be transferred from the so-called large capacity storage unit (for example, hard disk drive: not shown) to the RAM 31 every time the control unit 30 is activated.

ROM32は、ROM27と同様に、いわゆる不揮発性の記憶部により構成されている。図1に示すように、ROM32には、例えばプログラム32aが記憶されている。なお、ROM32としては、ROM27と同様に、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが採用されてもよい。   Similar to the ROM 27, the ROM 32 is configured by a so-called nonvolatile storage unit. As shown in FIG. 1, the ROM 32 stores a program 32a, for example. As the ROM 32, a flash memory that is a readable / writable non-volatile memory may be adopted as in the ROM 27.

CPU34は、ROM32のプログラム32aに従った動作制御やデータ演算を実行する。例えば、CPU34は、処理ユニットC04のレジスト塗布処理において実行されるレジストの液温制御や吐出制御を、所定のタイミングで実行する。   The CPU 34 performs operation control and data calculation in accordance with the program 32a in the ROM 32. For example, the CPU 34 performs resist liquid temperature control and discharge control executed in the resist coating process of the processing unit C04 at a predetermined timing.

基板搬送ユニット40は、基板搬送ユニット20と同様なハードウェア構成を有する搬送ロボットであり、不図示の搬送アームを、(1)上下方向に延びる旋回軸周りに回動させ、(2)上下方向に昇降させ、(3)水平面内で伸縮させることができる。これにより、基板搬送ユニット40は、搬送アームに保持された基板を、複数の処理ユニットC09〜C15のそれぞれとの間で、受け渡すことができる。   The substrate transfer unit 40 is a transfer robot having a hardware configuration similar to that of the substrate transfer unit 20, and (1) rotates a transfer arm (not shown) around a turning axis extending in the vertical direction, and (2) vertical direction. (3) can be expanded and contracted in a horizontal plane. Thereby, the substrate transport unit 40 can deliver the substrate held by the transport arm to each of the plurality of processing units C09 to C15.

処理ユニットC09は、露光前処理が完了した基板上のレジスト膜に対して、配線等の微細パターンを露光する露光ユニットである。図1に示すように、処理ユニットC09は、処理ユニットC00〜C08の後工程に位置する。また、図1に示すように、処理ユニットC09は、基板搬送の下流側に向かって、処理ユニットC08の前方、かつ、処理ユニットC10の後方に、配置されている。ここで、処理ユニットC08から処理ユニットC09へ基板を受け渡す動作は、処理ユニットC09の搬送ロボット(図示省略)により実行されてもよい。   The processing unit C09 is an exposure unit that exposes a fine pattern such as wiring to the resist film on the substrate on which the pre-exposure processing has been completed. As shown in FIG. 1, the processing unit C09 is located in a subsequent process of the processing units C00 to C08. Further, as shown in FIG. 1, the processing unit C09 is disposed in front of the processing unit C08 and behind the processing unit C10 toward the downstream side of substrate transport. Here, the operation of transferring the substrate from the processing unit C08 to the processing unit C09 may be executed by a transfer robot (not shown) of the processing unit C09.

処理ユニットC10〜C15は、露光後処理として種々の基板処理を実行する。図1に示すように、各処理ユニットC10〜C15は、基板搬送ユニット40の周囲(より具体的には、基板搬送の下流側に向かって、基板搬送ユニット40の前後および左右)に配置されている。   The processing units C10 to C15 perform various substrate processing as post-exposure processing. As shown in FIG. 1, the processing units C <b> 10 to C <b> 15 are arranged around the substrate transport unit 40 (more specifically, before and after the substrate transport unit 40 toward the downstream side of the substrate transport). Yes.

処理ユニットC10は、露光処理が完了した基板上のレジスト膜に対し、現像液を供給することによって、露光されたパターンを現像する現像ユニットである。また、処理ユニットC10は、基板にリンス液(純水)を供給することによって、基板に付着する現像液を洗い流す。図1に示すように、処理ユニットC10は、基板搬送の下流側に向かって、基板搬送ユニット40の後方に配置されている。   The processing unit C10 is a developing unit that develops the exposed pattern by supplying a developing solution to the resist film on the substrate on which the exposure processing has been completed. Further, the processing unit C10 supplies a rinsing liquid (pure water) to the substrate, thereby washing away the developer adhering to the substrate. As shown in FIG. 1, the processing unit C10 is disposed behind the substrate transport unit 40 toward the downstream side of the substrate transport.

処理ユニットC11、C12のそれぞれは、基板を加熱する加熱ユニットであり、互いに同様なハードウェア構成を有している。処理ユニットC10で現像および洗浄された基板が、処理ユニットC11、C12のいずれかに搬入され、加熱処理(ポストベーク処理)が実行されると、レジスト中の溶剤および水分が除去され、レジスト膜と基板との密着性が高められる。処理ユニットC13は、基板を冷却する冷却ユニットであり、例えば、処理ユニットC11、C12で昇温された基板を冷却する。図1に示すように、処理ユニットC11〜C13は、基板搬送の下流側に向かって基板搬送ユニット40の左側に配置され、かつ、上からこの順番に積層されている。   Each of the processing units C11 and C12 is a heating unit that heats the substrate, and has the same hardware configuration as each other. When the substrate developed and cleaned in the processing unit C10 is carried into one of the processing units C11 and C12 and heat treatment (post-bake processing) is performed, the solvent and moisture in the resist are removed, and the resist film and Adhesion with the substrate is improved. The processing unit C13 is a cooling unit that cools the substrate. For example, the processing unit C13 cools the substrate that has been heated by the processing units C11 and C12. As shown in FIG. 1, the processing units C11 to C13 are disposed on the left side of the substrate transport unit 40 toward the downstream side of the substrate transport, and are stacked in this order from the top.

処理ユニットC14は、基板表面に紫外線を照射することによって、基板に付着する有機物(例えば、現像処理後に基板に付着するレジスト残渣)を除去する除去ユニットである。図1に示すように、処理ユニットC14は、基板搬送の下流側に向かって、基板搬送ユニット40の左側に配置されている。   The processing unit C14 is a removal unit that removes organic substances adhering to the substrate (for example, resist residues adhering to the substrate after development processing) by irradiating the substrate surface with ultraviolet rays. As shown in FIG. 1, the processing unit C14 is arranged on the left side of the substrate transport unit 40 toward the downstream side of the substrate transport.

処理ユニットC15は、処理ユニットC00〜C14のうち、少なくとも1つの処理ユニットで実行された基板処理の良否を確認する検査ユニットである。図1に示すように、処理ユニットC15は、基板搬送の下流側に向かって、基板搬送ユニット40の前方に配置されている。   The processing unit C15 is an inspection unit that confirms the quality of the substrate processing performed by at least one processing unit among the processing units C00 to C14. As shown in FIG. 1, the processing unit C15 is disposed in front of the substrate transport unit 40 toward the downstream side of the substrate transport.

制御部45(第2制御部)は、基板搬送ユニット40と電気的に接続されており、例えば、基板搬送ユニット40により実行される搬送処理を制御する。図1に示すように、制御部45は、主として、RAM46と、ROM47と、CPU49と、を有している。   The control unit 45 (second control unit) is electrically connected to the substrate transfer unit 40 and controls, for example, transfer processing executed by the substrate transfer unit 40. As shown in FIG. 1, the control unit 45 mainly includes a RAM 46, a ROM 47, and a CPU 49.

RAM46は、RAM26と同様なハードウェア構成を有しており、CPU49の演算処理で使用されるデータを記憶する。例えば、基板搬送ユニット40と各処理ユニットC09〜C15との間で基板が受け渡されるとき、RAM46には、基板の受け渡しと略同期し、制御部50および制御部45の間で受け渡される基板情報データ60が、記憶される(図1参照)。また、基板搬送ユニット40により複数の基板が保持されている場合、RAM46には、複数の基板情報データ60が記憶されることになる。   The RAM 46 has a hardware configuration similar to that of the RAM 26, and stores data used in the arithmetic processing of the CPU 49. For example, when a substrate is transferred between the substrate transport unit 40 and each of the processing units C09 to C15, the substrate is transferred to the RAM 46 between the control unit 50 and the control unit 45 substantially in synchronization with the transfer of the substrate. Information data 60 is stored (see FIG. 1). In addition, when a plurality of substrates are held by the substrate transport unit 40, a plurality of substrate information data 60 is stored in the RAM 46.

ROM47は、ROM27と同様に、いわゆる不揮発性の記憶部により構成されている。図1に示すように、ROM47には、例えばプログラム47aが記憶されている。なお、ROM47としては、ROM27と同様に、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが採用されてもよい。   Similar to the ROM 27, the ROM 47 is configured by a so-called nonvolatile storage unit. As shown in FIG. 1, the ROM 47 stores, for example, a program 47a. As the ROM 47, a flash memory that is a readable / writable nonvolatile memory may be adopted as in the ROM 27.

CPU49は、ROM47のプログラム47aに従った動作制御やデータ演算を所定のタイミングで実行する。例えば、CPU49は、各基板に対応する基板情報データ60に基づいて、各基板を次に搬送すべき処理ユニットを決定する。   The CPU 49 executes operation control and data calculation according to the program 47a of the ROM 47 at a predetermined timing. For example, the CPU 49 determines a processing unit that should next transport each substrate based on the substrate information data 60 corresponding to each substrate.

制御部50(第1制御部)は、各処理ユニットC09〜C15と電気的に接続されており、例えば、各処理ユニットC09〜C15で実行される基板処理を制御する。図1に示すように、制御部50は、主として、RAM51と、ROM52と、CPU54と、を有している。   The control unit 50 (first control unit) is electrically connected to the processing units C09 to C15, and controls, for example, the substrate processing executed by the processing units C09 to C15. As shown in FIG. 1, the control unit 50 mainly includes a RAM 51, a ROM 52, and a CPU 54.

RAM51は、RAM26と同様なハードウェア構成を有しており、CPU54の演算処理で使用されるデータを記憶する。例えば、各処理ユニットC09〜C15と基板搬送ユニット40との間で基板が受け渡されるとき、RAM51には、基板の受け渡しと略同期し、制御部50および制御部45の間で受け渡される基板情報データ60が、記憶される(図1参照)。また、処理ユニットC09〜C15に複数の基板が滞在している場合、RAM51には、複数の基板情報データ60が記憶されることになる。   The RAM 51 has a hardware configuration similar to that of the RAM 26, and stores data used in the arithmetic processing of the CPU 54. For example, when a substrate is transferred between each of the processing units C09 to C15 and the substrate transport unit 40, the substrate is transferred to the RAM 51 between the control unit 50 and the control unit 45 substantially in synchronization with the transfer of the substrate. Information data 60 is stored (see FIG. 1). Further, when a plurality of substrates stays in the processing units C09 to C15, the RAM 51 stores a plurality of substrate information data 60.

また、図1に示すように、RAM51には、RAM31と同様に、複数のレシピを格納したレシピテーブル64aが、記憶されている。なお、レシピテーブル64aは、例えば、制御部50が起動する毎に、いわゆる大容量記憶部(例えば、ハードディスクドライブ:図示省略)からRAM51に転送されても良い。   As shown in FIG. 1, the RAM 51 stores a recipe table 64 a that stores a plurality of recipes, like the RAM 31. The recipe table 64a may be transferred to the RAM 51 from a so-called large-capacity storage unit (for example, hard disk drive: not shown) every time the control unit 50 is activated, for example.

ROM52は、ROM27と同様に、いわゆる不揮発性の記憶部により構成されている。図1に示すように、ROM52には、例えばプログラム52aが記憶されている。なお、ROM52としては、ROM27と同様に、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが採用されてもよい。   Similar to the ROM 27, the ROM 52 is configured by a so-called nonvolatile storage unit. As shown in FIG. 1, the ROM 52 stores, for example, a program 52a. As the ROM 52, a flash memory that is a readable / writable nonvolatile memory may be employed as in the ROM 27.

CPU54は、ROM52のプログラム52aに従った動作制御やデータ演算を実行する。例えば、CPU54は、処理ユニットC10の現像処理において実行される現像液の液温制御や吐出制御を、所定のタイミングで実行する。   The CPU 54 executes operation control and data calculation according to the program 52 a of the ROM 52. For example, the CPU 54 executes the developer temperature control and the discharge control executed in the developing process of the processing unit C10 at a predetermined timing.

アンローダ90は、図1に示すように、基板処理部5(より具体的には、処理ユニットC15)と並設されている。アンローダ90は、基板処理部5で処理された処理済み基板を受け取る。そして、受け取られた基板は、カセット(不図示)内の対応するスロットに収納される。   As shown in FIG. 1, the unloader 90 is arranged in parallel with the substrate processing unit 5 (more specifically, the processing unit C15). The unloader 90 receives the processed substrate processed by the substrate processing unit 5. The received substrate is stored in a corresponding slot in a cassette (not shown).

<1.2.基板情報データのデータ構造>
図2は、本実施の形態における基板情報データ60のデータ構造の一例を示す図である。図3は、レシピテーブル64aのデータ構造の一例を示す図である。ここでは、制御部25、30、45、50に記憶される基板情報データ60と、制御部30、50に記憶されるレシピテーブル64aと、のデータ構造について説明する。
<1.2. Data structure of board information data>
FIG. 2 is a diagram showing an example of the data structure of the substrate information data 60 in the present embodiment. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a data structure of the recipe table 64a. Here, the data structure of the board | substrate information data 60 memorize | stored in the control parts 25, 30, 45, and 50 and the recipe table 64a memorize | stored in the control parts 30 and 50 is demonstrated.

基板情報データ60は、処理ユニットC00〜C15と、基板搬送ユニット20、40と、の間で受け渡される基板に関する情報であり、各基板毎に生成される。また、基板情報データ60は、基板の受け渡しと略同期し、基板の受け渡し側のユニットに対応する制御部から、受け取り側のユニットに対応する制御部に、受け渡される。   The substrate information data 60 is information relating to a substrate delivered between the processing units C00 to C15 and the substrate transport units 20 and 40, and is generated for each substrate. Also, the board information data 60 is delivered from the control unit corresponding to the board delivery unit to the control unit corresponding to the reception unit substantially in synchronization with the board delivery.

例えば、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡される場合、対応する基板情報データ60は、受け渡し側の処理ユニットC00を制御する制御部30から、受け取り側の基板搬送ユニット20を制御する制御部25に、受け渡される。   For example, when a substrate is delivered from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the corresponding substrate information data 60 controls the receiving substrate transport unit 20 from the control unit 30 that controls the delivery processing unit C00. It is delivered to the control unit 25.

図2に示すように、基板情報データ60は、複数の特性データ(例えば、「基板ID」、「カセットNO」、「スロットNO」、「レシピID」、および「処理フローデータ」等)を有している。また、図2に示すように、各特性データは、対応する格納部61〜65に格納されている。   As shown in FIG. 2, the board information data 60 has a plurality of characteristic data (for example, “board ID”, “cassette NO”, “slot NO”, “recipe ID”, “processing flow data”, etc.). doing. Moreover, as shown in FIG. 2, each characteristic data is stored in the corresponding storage parts 61-65.

すなわち、基板ID格納部61には、各基板を一意に識別するためのデータ(基板識別データ)として「基板ID」(数値や文字列等により構成)が格納されている。また、カセットNO格納部62には、対応する基板が収納されていたカセットを特定するためのデータとして、「カセットNO」が格納されている。また、スロットNO格納部63には、カセット内における基板の収納場所(スロット)を特定するためのデータとして、「スロットNO」が格納されている。   That is, the board ID storage unit 61 stores “board ID” (configured by numerical values, character strings, etc.) as data (board identification data) for uniquely identifying each board. Further, “cassette NO” is stored in the cassette NO storage section 62 as data for specifying the cassette in which the corresponding substrate is stored. Further, “slot NO” is stored in the slot NO storage unit 63 as data for specifying the substrate storage location (slot) in the cassette.

また、レシピID格納部64には、各基板処理の条件(レシピ)に関するレシピ関連データとして、「レシピID」が格納されている。ここで、「レシピID」は、レシピテーブル64aに格納されている各レシピを識別するために使用される。なお、レシピテーブル64aのデータ構造については、後述する。   The recipe ID storage unit 64 stores “recipe ID” as recipe-related data regarding the conditions (recipe) of each substrate processing. Here, the “recipe ID” is used to identify each recipe stored in the recipe table 64a. The data structure of the recipe table 64a will be described later.

さらに、処理フロー格納部65には、各基板の処理手順を特定するためのデータとして、「処理フローデータ」が格納されている。なお、「処理フローデータ」のデータ構造については、後述する。   Further, “processing flow data” is stored in the processing flow storage unit 65 as data for specifying the processing procedure of each substrate. The data structure of “processing flow data” will be described later.

<1.3.レシピテーブルのデータ構造>
図3は、レシピテーブル64aのデータ構造の一例を示す図である。レシピテーブル64aは、複数のレシピを格納するデータベースであり、レシピテーブル64aの各行(レコード)がレシピに対応する。図3に示すように、レシピテーブル64aは、主として、「レシピID」、「洗浄処理」、「塗布処理」、「プリベーク」、「露光処理」、「現像処理」、および「ポストベーク」の各フィールド(列)を有している。なお、図示の都合上、図3のレシピテーブル64aには、一部の処理ユニット(処理ユニットC00、C04、C06、C07、C09〜C12)の基板処理の条件が記載されている。
<1.3. Recipe Table Data Structure>
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a data structure of the recipe table 64a. The recipe table 64a is a database that stores a plurality of recipes, and each row (record) of the recipe table 64a corresponds to a recipe. As shown in FIG. 3, the recipe table 64a mainly includes “recipe ID”, “cleaning process”, “application process”, “pre-bake”, “exposure process”, “development process”, and “post-bake”. It has fields (columns). For convenience of illustration, the recipe table 64a in FIG. 3 describes the substrate processing conditions of some processing units (processing units C00, C04, C06, C07, C09 to C12).

「レシピID」フィールドには、レシピテーブル64aに含まれる各レコードを一意に識別するための値(数値や文字列等)が格納されている。基板情報データ60のレシピID格納部64には、各レコードの「レシピID」の値のうち、いずれかが格納されている。   The “recipe ID” field stores a value (numerical value, character string, etc.) for uniquely identifying each record included in the recipe table 64a. One of the values of “recipe ID” of each record is stored in the recipe ID storage unit 64 of the substrate information data 60.

「洗浄処理」フィールドには、処理ユニットC00で実行される洗浄処理の条件を特定するプロセスID(数値)が、格納されている。また、「塗布処理」フィールドには、処理ユニットC04で実行されるレジスト塗布処理の条件を特定するプロセスIDが、格納されている。また、「プリベーク」フィールドには、処理ユニットC06、C07のいずれかで実行されるプリベーク処理(加熱処理)の条件を特定するプロセスIDが、格納されている。   In the “cleaning process” field, a process ID (numerical value) that specifies conditions for the cleaning process executed by the processing unit C00 is stored. The “application process” field stores a process ID for specifying the conditions of the resist application process executed in the processing unit C04. In the “pre-bake” field, a process ID that specifies the conditions of the pre-bake process (heating process) executed in any of the processing units C06 and C07 is stored.

また、「露光処理」フィールドには、処理ユニットC09で実行される露光処理の条件を特定するプロセスIDが、格納されている。また、「現像処理」フィールドには、処理ユニットC10で実行される現像処理の条件を特定するプロセスIDが、格納されている。さらに、「ポストベーク」フィールドには、処理ユニットC11、C12のいずれかで実行されるポストベーク処理(加熱処理)の条件を特定するプロセスIDが、格納されている。   In the “exposure process” field, a process ID for specifying the conditions of the exposure process executed by the processing unit C09 is stored. In the “development process” field, a process ID for specifying the conditions of the development process executed in the processing unit C10 is stored. Further, the “post-bake” field stores a process ID that specifies the conditions of the post-bake process (heating process) executed in one of the processing units C11 and C12.

ここで、「洗浄処理」、「塗布処理」、「プリベーク」、「露光処理」、「現像処理」、および「ポストベーク」の各フィールドに格納されるプロセスIDとは、対応する基板処理の条件が格納されたデータ(プロセスデータ)を一意に識別するための値である。各プロセスIDおよび各プロセスデータは、一対一に対応付けられている。したがって、制御部30、50は、プロセスIDを用いた検索処理を実行することによって、対応するプロセスデータを抽出し、対応する処理ユニットC00〜C15に対して所望の処理を実行させることができる。   Here, the process ID stored in each field of “cleaning process”, “coating process”, “pre-bake”, “exposure process”, “development process”, and “post-bake” refers to the conditions of the corresponding substrate process. Is a value for uniquely identifying stored data (process data). Each process ID and each process data are associated one to one. Accordingly, the control units 30 and 50 can extract the corresponding process data by executing the search process using the process ID, and cause the corresponding processing units C00 to C15 to execute a desired process.

なお、本実施の形態では、同種の基板処理、および異なった基板処理に関わらず、処理条件毎に異なったプロセスIDが割り当てられている。したがって、あるフィールドのプロセスIDは、他のフィールドに格納されることがない。例えば、「洗浄処理」=「1」となるプロセスIDが存在するため、他のフィールドには、プロセスIDが「1」となるものが存在しない。   In the present embodiment, different process IDs are assigned for each processing condition regardless of the same type of substrate processing and different substrate processing. Therefore, the process ID of a certain field is not stored in another field. For example, since there is a process ID with “cleaning process” = “1”, no other field has a process ID with “1”.

ただし、同種の基板処理において各処理条件が識別できれば十分なため、異なったフィールドで同一のプロセスIDが使用されてもよい。例えば、各フィールド毎に、「1」〜「30」までのいずれかのプロセスIDが格納されてもよい。   However, since it is sufficient to identify each processing condition in the same type of substrate processing, the same process ID may be used in different fields. For example, any process ID from “1” to “30” may be stored for each field.

<1.4.処理フローデータのデータ構造>
図4は、本実施の形態における処理フローデータ66aのデータ構造の一例を示す図である。また、図5は、処理フローデータ66aに格納されている処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式(テーブル状)にまとめた図である。
<1.4. Data structure of processing flow data>
FIG. 4 is a diagram showing an example of the data structure of the processing flow data 66a in the present embodiment. FIG. 5 is a diagram in which values of the processing status data and the order data stored in the processing flow data 66a are summarized in a table format (table form) for each processing unit C00 to C15.

ここで、処理フローデータ66aは、複数の処理状況データと、複数の順序データと、を有している。基板搬送ユニット20、40の搬送処理を制御する制御部25、45は、処理フローデータ66aに基づいて、各処理ユニットC00〜C15の搬送順序を決定する。   Here, the processing flow data 66a includes a plurality of processing status data and a plurality of order data. The control units 25 and 45 that control the transport processing of the substrate transport units 20 and 40 determine the transport order of the processing units C00 to C15 based on the processing flow data 66a.

また、図4に示すように、処理フローデータ66aは、複数のワードデータW00〜W04から構成されている。本実施の形態において、各ワードデータW00〜W04は、データ容量が16ビットのデータ列として構成されている。したがって、処理フローデータ66aは、80ビットのデータを格納することができる。   Further, as shown in FIG. 4, the processing flow data 66a is composed of a plurality of word data W00 to W04. In the present embodiment, each word data W00 to W04 is configured as a data string having a data capacity of 16 bits. Therefore, the processing flow data 66a can store 80-bit data.

なお、各ワードデータW00〜W04について、最下位のビット位置が符号D00に、最上位のビット位置が符号D15に、それぞれ対応している。また、以降の説明では、処理フローデータ66a、および後述する処理フローデータ66b、66c(図6ないし図9参照)を総称して、処理フローデータ66とも呼ぶ。   For each word data W00 to W04, the least significant bit position corresponds to the code D00, and the most significant bit position corresponds to the code D15. In the following description, the processing flow data 66a and processing flow data 66b and 66c (see FIGS. 6 to 9) described later are collectively referred to as processing flow data 66.

ワードデータW00は、各処理ユニットC00〜C15の処理状況データ(処理状況フラグ)を格納している。すなわち、ワードデータW00の各ビット位置D00〜D15には、各処理ユニットC00〜C15と一対一に対応しており、対応する処理ユニットにおける基板の処理状況(「処理済み」または「未処理」)を示す処理状況データ(1ビットデータ)が、格納されている。   The word data W00 stores processing status data (processing status flags) of the processing units C00 to C15. That is, each bit position D00 to D15 of the word data W00 has a one-to-one correspondence with each processing unit C00 to C15, and the processing status of the substrate in the corresponding processing unit (“processed” or “unprocessed”). Processing status data (1 bit data) indicating is stored.

ここで、処理状況データの値が「1」および「0」の場合、それぞれ対応する処理ユニットで実行される基板処理が「処理済み」および「未処理」であることを示す。したがって、ビット位置D00の値(=「1」)は、処理ユニットC00で基板処理(洗浄処理)が「処理済み」であることを示す。一方、ビット位置D13の値(=「0」)は、処理ユニットC13での基板処理(冷却処理)が「未処理」であることを示す。   Here, when the value of the processing status data is “1” and “0”, it indicates that the substrate processing executed in the corresponding processing unit is “processed” and “unprocessed”, respectively. Therefore, the value (= “1”) of the bit position D00 indicates that the substrate processing (cleaning processing) is “processed” in the processing unit C00. On the other hand, the value (= “0”) of the bit position D13 indicates that the substrate processing (cooling processing) in the processing unit C13 is “unprocessed”.

なお、対応する処理ユニットC00〜C15での処理が完了すると、制御部30、50は、対応する処理状況データに「1」を格納する。例えば、図4および図5において、処理ユニットC13での基板処理が完了すると、処理ユニットC13に対応(すなわち、処理ユニットC13を制御)する制御部30は、ワードデータW00のビット位置D13に「1」を格納する。   When the processing in the corresponding processing units C00 to C15 is completed, the control units 30 and 50 store “1” in the corresponding processing status data. For example, in FIGS. 4 and 5, when the substrate processing in the processing unit C13 is completed, the control unit 30 corresponding to the processing unit C13 (that is, controlling the processing unit C13) sets “1” to the bit position D13 of the word data W00. Is stored.

ワードデータW01〜W04は、複数(本実施の形態では、16個)の順序データを格納している。ここで、複数の順序データのそれぞれは、各処理ユニットC00〜C15と一対一に対応しており、対応する処理ユニットに搬送される順序(その結果、対応する処理ユニットで実行される基板処理の順序)を示す。   The word data W01 to W04 store a plurality (16 in the present embodiment) of order data. Here, each of the plurality of order data has a one-to-one correspondence with each of the processing units C00 to C15, and the order of conveyance to the corresponding processing unit (as a result of the substrate processing executed in the corresponding processing unit). Order).

図4に示すように、ワードデータW01において、(1)ビット位置D00〜D03、(2)ビット位置D04〜D07、(3)ビット位置D08〜D11、および(4)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータには、それぞれ処理ユニットC00〜C03の順序データが格納されている。   As shown in FIG. 4, in word data W01, (1) bit positions D00 to D03, (2) bit positions D04 to D07, (3) bit positions D08 to D11, and (4) bit positions D12 to D15. Each 4-bit data stores the order data of the processing units C00 to C03.

また、ワードデータW02において、(5)ビット位置D00〜D03、(6)ビット位置D04〜D07、(7)ビット位置D08〜D11、および(8)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータには、それぞれ処理ユニットC04〜C07の順序データが格納されている。   In the word data W02, 4 bits represented by (5) bit positions D00 to D03, (6) bit positions D04 to D07, (7) bit positions D08 to D11, and (8) bit positions D12 to D15. The data stores the order data of the processing units C04 to C07, respectively.

また、ワードデータW03において、(9)ビット位置D00〜D03、(10)ビット位置D04〜D07、(11)ビット位置D08〜D11、および(12)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータには、それぞれ処理ユニットC08〜C11の順序データが格納されている。   In the word data W03, (9) bit positions D00 to D03, (10) bit positions D04 to D07, (11) bit positions D08 to D11, and (12) bit positions D12 to D15. The data stores the order data of the processing units C08 to C11, respectively.

また、ワードデータW04において、(13)ビット位置D00〜D03、(14)ビット位置D04〜D07、(15)ビット位置D08〜D11、および(16)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータには、それぞれ処理ユニットC12〜C15の順序データが格納されている。   In the word data W04, (4) each represented by (13) bit positions D00 to D03, (14) bit positions D04 to D07, (15) bit positions D08 to D11, and (16) bit positions D12 to D15. The data stores order data of the processing units C12 to C15, respectively.

例えば、ワードデータW04のビット位置D04〜D07で示される値は、「11」である(図4参照)。したがって、処理フローデータ66aからは、処理ユニットC13の基板処理(冷却処理)の順序が第11番目であるということが、把握される。   For example, the value indicated by the bit positions D04 to D07 of the word data W04 is “11” (see FIG. 4). Therefore, it is understood from the processing flow data 66a that the order of the substrate processing (cooling processing) of the processing unit C13 is the eleventh.

このように、本実施の形態の処理フローデータ66は、図4に示すように、
(1)複数の処理状況データ(1ビットデータ)を、各処理ユニットC00〜C15に基づいた順番(例えば、各処理ユニットに付与された符号の順番)に連続して配置するワードデータW00(第1データ列)と、
(2)複数の順序データを、各処理ユニットC00〜C15に基づいた順番に連続して配置するワードデータW01〜W04(第2データ列)と、
を有している。
Thus, the processing flow data 66 of the present embodiment is as shown in FIG.
(1) Word data W00 (first data) in which a plurality of processing status data (1-bit data) is continuously arranged in an order based on each processing unit C00 to C15 (for example, the order of codes given to each processing unit). 1 data column)
(2) word data W01 to W04 (second data string) in which a plurality of order data are continuously arranged in the order based on the processing units C00 to C15;
have.

<1.5.処理フローデータによる基板の搬送手順>
図6は、処理フローデータ66bのデータ構造を示す図である。図7は、処理フローデータ66bにおける処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式にまとめた図である。図8は、処理フローデータ66cのデータ構造を示す図である。図9は、処理フローデータ66cにおける処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式にまとめた図である。
<1.5. Substrate transport procedure using processing flow data>
FIG. 6 is a diagram illustrating a data structure of the processing flow data 66b. FIG. 7 is a diagram in which the processing status data and the order data values in the processing flow data 66b are summarized in a table format for each processing unit C00 to C15. FIG. 8 is a diagram illustrating a data structure of the processing flow data 66c. FIG. 9 is a table in which values of the processing status data and the order data in the processing flow data 66c are tabulated for each processing unit C00 to C15.

ここで、本実施の形態において、基板搬送ユニット20、40の搬送処理を制御する制御部25、45は、受け渡された各基板の処理フローデータ66(66a〜66c)に、以下の規則A1〜A4を適用することによって、搬送先の処理ユニットC00〜C15を決定する。そこで、以下では、これら規則A1〜A4を説明するとともに、制御部25、45により実行される基板の搬送手順を説明する。   Here, in the present embodiment, the control units 25 and 45 that control the transfer processing of the substrate transfer units 20 and 40 include the following rule A1 in the processing flow data 66 (66a to 66c) of each transferred substrate. By applying ~ A4, the processing units C00 to C15 of the transport destination are determined. Therefore, in the following, the rules A1 to A4 will be described, and the substrate transfer procedure executed by the control units 25 and 45 will be described.

なお、処理フローデータ66b、66cは、規則A1〜A4の説明の便宜のために作成されたデータである。したがって、処理フローデータ66b、66cにより実行される処理手順は、実際の基板に施される処理手順と相違する場合がある。   The process flow data 66b and 66c are data created for the convenience of explanation of the rules A1 to A4. Therefore, the processing procedure executed by the processing flow data 66b and 66c may be different from the processing procedure performed on the actual substrate.

<1.5.1.規則A1>
制御部25、45は、各順序データの大小関係に基づいて、各処理ユニットC00〜C15に基板が搬送される順序を決定する。ここで、順序データの小さい順(昇順)に、基板が搬送される場合について検討する。基板は、順序データが最小値(=「1」)となる処理ユニットC00に、最初に搬送される。また、処理フローデータ66a(図4および図5参照)において、順序データの値が「5」となる処理ユニットC05の搬送順序は、処理ユニットC04(順序データ=「4」)の次となる。
<1.5.1. Rule A1>
The control units 25 and 45 determine the order in which the substrates are transported to the processing units C00 to C15 based on the magnitude relationship between the order data. Here, a case where substrates are transported in ascending order of the order data (ascending order) will be considered. The substrate is first transported to the processing unit C00 in which the order data has a minimum value (= “1”). In the processing flow data 66a (see FIGS. 4 and 5), the transport order of the processing unit C05 in which the order data value is “5” is next to the processing unit C04 (order data = “4”).

<1.5.2.規則A2>
また、着目する順序データの値が「0」となる場合、制御部25、45は、この順序データに対応する処理ユニットC00〜C15が搬送除外ユニットであると判断し、この搬送除外ユニットは基板の搬送先から除外される。例えば、処理フローデータ66b(図6および図7参照)において、処理ユニットC03の順序データには、「0」が格納されている。したがって、処理ユニットC03には基板が搬送されず、基板に対して処理(冷却処理)が施されない。
<1.5.2. Rule A2>
When the value of the order data to be noted is “0”, the control units 25 and 45 determine that the processing units C00 to C15 corresponding to the order data are transport exclusion units, and the transport exclusion unit is a substrate. Excluded from the destination. For example, in the processing flow data 66b (see FIGS. 6 and 7), “0” is stored in the order data of the processing unit C03. Accordingly, the substrate is not transported to the processing unit C03, and the substrate is not subjected to processing (cooling processing).

<1.5.3.規則A3>
また、着目する2以上の順序データの値が、「0」以外の値となり、かつ、この2以上の順序データの値が互いに同一となる場合、制御部25、45は、これら順序データに対応する処理ユニットC00〜C15のうちのいずれか1つに、基板を搬送させる。
<1.5.3. Rule A3>
In addition, when the values of two or more order data of interest are values other than “0” and the values of the two or more order data are the same, the control units 25 and 45 correspond to these order data. The substrate is transported to any one of the processing units C00 to C15.

例えば、処理フローデータ66a(図4および図5参照)において、処理ユニットC01、C02は、その順序データの値が互いに同一(いずれも「2」)である。したがって、制御部25は、処理ユニットC01、C02のうち、受け入れ可能なユニットに、基板を搬送させる。このように、同種の基板処理を実行可能な処理ユニットC01、C02は、搬送先として、いずれか1つを選択することができ、これら処理ユニットC01、C02のそれぞれは、択一的に選択可能な処理ユニット(以下、単に、「択一選択ユニット」とも呼ぶ)として使用される。   For example, in the processing flow data 66a (see FIGS. 4 and 5), the processing units C01 and C02 have the same order data value (both are “2”). Therefore, the control unit 25 causes the substrate to be transferred to an acceptable unit among the processing units C01 and C02. As described above, the processing units C01 and C02 capable of performing the same type of substrate processing can select any one as the transfer destination, and each of these processing units C01 and C02 can be alternatively selected. Used as a simple processing unit (hereinafter, also simply referred to as “alternative selection unit”).

また、処理フローデータ66aに示すように、処理ユニットC06、C07のそれぞれ、および処理ユニットC11、C12のそれぞれも、択一選択ユニットとして使用可能である。   Further, as shown in the processing flow data 66a, each of the processing units C06 and C07 and each of the processing units C11 and C12 can be used as an alternative selection unit.

なお、同種の基板処理を実行可能な複数の択一選択ユニットのうち、一部(1または2以上)の処理ユニットが、搬送先として明示的に設定される場合、対応する各順序データには、以下の値が設定される。すなわち、複数の択一選択ユニットのうち、搬送先から除外される(1または2以上の)処理ユニットの順序データには、「0」が格納される。一方、搬送先とされる(1または2以上の)処理ユニットの順序データには、「0」以外の同一値(すなわち、「1」〜「15」のうちのいずれかの値)が格納される。これにより、複数の択一選択ユニットのうち、順序データに「0」以外の同一値が格納された処理ユニットのみが、搬送先とされる。   In addition, when a part (one or two or more) of processing units among a plurality of alternative selection units that can execute the same type of substrate processing is explicitly set as a transport destination, each corresponding order data includes The following values are set. That is, “0” is stored in the order data of processing units (one or more) that are excluded from the transport destination among the plurality of alternative selection units. On the other hand, the same value other than “0” (that is, any value from “1” to “15”) is stored in the sequence data of the processing unit (one or more) as the transport destination. The Thereby, only the processing unit in which the same value other than “0” is stored in the order data among the plurality of alternative selection units is set as the transport destination.

例えば、処理フローデータ66b(図6および図7参照)に示すように、同種のポストベーク処理を実行可能な処理ユニット(択一選択ユニット)C11、C12について、処理ユニットC11の順序データには「0」が、処理ユニットC12の順序データには「7」が、それぞれ格納されている。そのため、択一選択ユニットC11、C12のうちの処理ユニットC12のみが、搬送先として選択される。   For example, as shown in the processing flow data 66b (see FIGS. 6 and 7), for the processing units (alternate selection units) C11 and C12 capable of executing the same type of post-bake processing, the order data of the processing unit C11 includes “ “0” and “7” are stored in the order data of the processing unit C12. Therefore, only the processing unit C12 of the alternative selection units C11 and C12 is selected as the transport destination.

<1.5.4.規則A4>
さらに、制御部25、45は、処理状況データの値が「0」以外となる処理ユニットC00〜C15のうち、最も優先順位の高いものを、搬送先とする。例えば、処理フローデータ66bに示すように、処理ユニットC10での基板処理が完了し、制御部50によりワードデータW00のビット位置D10に「1」が格納されるとともに、制御部50から制御部45に対応する基板情報データ60が受け渡されると、基板搬送ユニット40の制御部45は、処理ユニットC12を次の搬送先に設定する。
<1.5.4. Rule A4>
Furthermore, the control units 25 and 45 set the processing unit C00 to C15 whose processing status data value is other than “0” to the transport destination with the highest priority. For example, as shown in the processing flow data 66b, the substrate processing in the processing unit C10 is completed, and “1” is stored in the bit position D10 of the word data W00 by the control unit 50, and from the control unit 50 to the control unit 45. When the substrate information data 60 corresponding to is transferred, the control unit 45 of the substrate transport unit 40 sets the processing unit C12 as the next transport destination.

また同様に、処理フローデータ66aの場合には処理ユニットC11、C12のいずれかが、処理フローデータ66c(図8および図9参照)の場合には処理ユニットC13が、次の搬送先に設定される。   Similarly, in the case of the processing flow data 66a, one of the processing units C11 and C12 is set as the next transport destination, and in the case of the processing flow data 66c (see FIGS. 8 and 9), the processing unit C13 is set as the next transport destination. The

<1.5.5.規則A1〜A4による基板の搬送手順>
上述の規則A1〜A4が、処理フローデータ66aに適用されると、制御部25、45は、基板搬送ユニット20、40に対して、次の搬送処理を実行させる。
<1.5.5. Substrate transport procedure according to rules A1 to A4>
When the above rules A1 to A4 are applied to the process flow data 66a, the control units 25 and 45 cause the substrate transfer units 20 and 40 to execute the next transfer process.

すなわち、基板搬送ユニット20による基板搬送に先立って、基板は、ローダ10側から処理ユニットC00に搬入され、処理ユニットC00で洗浄処理が実行される。処理ユニットC00で洗浄処理が完了し、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡されると、基板搬送ユニット20は、受け取った基板を、処理ユニットC01、C02のいずれかに搬送した後、処理ユニットC03、C04、C05の順に搬送する。続いて、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC05から受け取った基板を、処理ユニットC06、C07のいずれかに搬送した後、処理ユニットC08に搬送する。   That is, prior to substrate transport by the substrate transport unit 20, the substrate is carried into the processing unit C00 from the loader 10 side, and cleaning processing is performed in the processing unit C00. When the cleaning process is completed in the processing unit C00 and the substrate is transferred from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the substrate transport unit 20 transports the received substrate to one of the processing units C01 and C02. The processing units C03, C04, and C05 are conveyed in this order. Subsequently, the substrate transport unit 20 transports the substrate received from the processing unit C05 to one of the processing units C06 and C07, and then transports the substrate to the processing unit C08.

一方、基板搬送ユニット40は、処理ユニットC08〜C10での基板処理が完了し、処理ユニットC10から受け取った基板を、処理ユニットC11、C12のいずれかに搬送した後、処理ユニットC13に搬送する。そして、処理ユニットC13での基板処理が完了すると、基板は、アンローダ90側に搬出される。   On the other hand, the substrate transport unit 40 completes the substrate processing in the processing units C08 to C10, transports the substrate received from the processing unit C10 to one of the processing units C11 and C12, and then transports the substrate to the processing unit C13. When the substrate processing in the processing unit C13 is completed, the substrate is carried out to the unloader 90 side.

また、上述の規則A1〜A4が、処理フローデータ66bに適用されると、制御部25、45は、基板搬送ユニット20、40に対して、次の搬送処理を実行させる。   When the above rules A1 to A4 are applied to the process flow data 66b, the control units 25 and 45 cause the substrate transfer units 20 and 40 to execute the next transfer process.

ここで、図6および図7に示すように、処理ユニットC01〜C03の順序データには、いずれも「0」が格納されており、処理ユニットC01〜C03は、基板の搬送先から除外されている。したがって、処理ユニットC00で洗浄処理が完了し、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡されると、基板搬送ユニット20は、受け取った基板を処理ユニットC04に搬送する。   Here, as shown in FIG. 6 and FIG. 7, “0” is stored in the order data of the processing units C01 to C03, and the processing units C01 to C03 are excluded from the substrate transport destination. Yes. Therefore, when the cleaning process is completed in the processing unit C00 and the substrate is transferred from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the substrate transport unit 20 transports the received substrate to the processing unit C04.

続いて、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC04から受け取った基板を、処理ユニットC05を経由させず、処理ユニットC06、C07のいずれかに搬送した後、処理ユニットC08に搬送する。   Subsequently, the substrate transport unit 20 transports the substrate received from the processing unit C04 to one of the processing units C06 and C07 without passing through the processing unit C05, and then transports the substrate to the processing unit C08.

ここで、処理フローデータ66bにおいて、択一選択ユニットとして使用可能な処理ユニットC11、C12のうちの処理ユニットC11の「順序データ」のみが「0」とされている。すなわち、処理フローデータ66bに基づいた処理手順では、択一選択ユニットC11、C12のうちの1つの処理ユニットC12が常に選択され、処理ユニットC11は基板の搬送先から除外されている。   Here, in the processing flow data 66b, only the “order data” of the processing unit C11 among the processing units C11 and C12 that can be used as the alternative selection unit is set to “0”. That is, in the processing procedure based on the processing flow data 66b, one processing unit C12 of the alternative selection units C11 and C12 is always selected, and the processing unit C11 is excluded from the substrate transport destination.

したがって、基板搬送ユニット40は、処理ユニットC08〜C10での基板処理が完了し、処理ユニットC10から受け取った基板を、処理ユニットC12に搬送する。そして、処理ユニットC12での基板処理が完了すると、基板は、アンローダ90側に搬出される。   Accordingly, the substrate transport unit 40 completes the substrate processing in the processing units C08 to C10, and transports the substrate received from the processing unit C10 to the processing unit C12. When the substrate processing in the processing unit C12 is completed, the substrate is carried out to the unloader 90 side.

なお、択一選択ユニットの台数が3以上となる場合において、少なくとも1つの処理ユニットの「順序データ」の値が「0」となるように処理フローデータ66が設定されてもよい。この場合、択一選択ユニットのうちの一部(一または複数)の処理ユニットが、選択される。   When the number of alternative selection units is 3 or more, the processing flow data 66 may be set so that the value of “order data” of at least one processing unit is “0”. In this case, some (one or more) processing units of the alternative selection units are selected.

さらに、上述の規則A1〜A4が、処理フローデータ66cに適用されると、制御部25、45は、基板搬送ユニット20、40に対して、次の搬送処理を実行させる。   Further, when the above rules A1 to A4 are applied to the process flow data 66c, the control units 25 and 45 cause the substrate transfer units 20 and 40 to execute the next transfer process.

ここで、図8および図9に示すように、処理ユニットC01、C02の順序データには「0」以外の同一値(=「3」)が格納されている。また、処理ユニットC03、C04、C05の順序データには、それぞれ「2」、「5」、「4」が格納されている。すなわち、処理ユニットC01〜C03において、各処理ユニットに基板が搬送される順番は、対応する符号の昇順(C01またはC02→C03)でなく、降順(C03→C01またはC02)となる。   Here, as shown in FIGS. 8 and 9, the same value (= “3”) other than “0” is stored in the order data of the processing units C01 and C02. Further, “2”, “5”, and “4” are stored in the order data of the processing units C03, C04, and C05, respectively. That is, in the processing units C01 to C03, the order in which the substrates are transferred to each processing unit is not the ascending order of the corresponding codes (C01 or C02 → C03) but the descending order (C03 → C01 or C02).

このように、本実施の形態の処理フローデータ66が使用され、基板搬送が実行される場合、基板搬送ユニット20、40は、予め各処理ユニットに割り付けられた搬送順序に限定されず、ランダムな順序で各処理ユニットに基板を搬送することができる。   As described above, when the processing flow data 66 of the present embodiment is used and substrate transport is performed, the substrate transport units 20 and 40 are not limited to the transport order assigned to each processing unit in advance, and are random. The substrate can be transferred to each processing unit in order.

したがって、処理ユニットC00で洗浄処理が完了し、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡されると、基板搬送ユニット20は、受け取った基板を、処理ユニットC03に搬送した後、処理ユニットC01、C02のいずれかに搬送する。また、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC01、C02のいずれかより受け取った基板を、処理ユニットC05、C04の順に搬送する。そして、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC06、C07のいずれかに搬送した後、処理ユニットC08に搬送する。   Therefore, when the cleaning process is completed in the processing unit C00 and the substrate is transferred from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the substrate transport unit 20 transports the received substrate to the processing unit C03, and then the processing unit C01. , C02. The substrate transport unit 20 transports the substrates received from either of the processing units C01 and C02 in the order of the processing units C05 and C04. Then, the substrate transport unit 20 is transported to one of the processing units C06 and C07, and then transported to the processing unit C08.

一方、基板搬送ユニット40は、処理フローデータ66aの場合と同様に、処理ユニットC08〜C10での基板処理が完了し、処理ユニットC10から受け取った基板を、処理ユニットC11、C12のいずれかに搬送した後、処理ユニットC13に搬送する。そして、処理ユニットC13での基板処理が完了すると、基板は、アンローダ90側に搬出される。   On the other hand, the substrate transport unit 40 completes the substrate processing in the processing units C08 to C10 and transports the substrate received from the processing unit C10 to one of the processing units C11 and C12, as in the case of the processing flow data 66a. After that, it is transported to the processing unit C13. When the substrate processing in the processing unit C13 is completed, the substrate is carried out to the unloader 90 side.

<1.6.第1の実施の形態の基板処理装置の利点>
以上のように、第1の実施の形態の制御部25、45(第2制御部)は、基板とともに受け渡される基板情報データ60の処理フローデータ66を参照することによって、各処理ユニットC00〜C15で実行される基板処理の順序、および、各処理ユニットC00〜C15における基板の処理状況(未処理または処理済み)、を把握することができる。
<1.6. Advantages of the substrate processing apparatus of the first embodiment>
As described above, the control units 25 and 45 (second control unit) according to the first embodiment refer to the processing flow data 66 of the substrate information data 60 delivered together with the substrates, and thereby each processing unit C00 to C00. The order of the substrate processing executed in C15 and the processing status (unprocessed or processed) of the substrates in the processing units C00 to C15 can be grasped.

すなわち、制御部25、45は、ワードデータW00に格納されている複数の処理状況データと、ワードデータW01〜W04に格納されている複数の順序データと、に基づいて、基板の搬送先となる処理ユニットC00〜C15を決定することができる。   That is, the control units 25 and 45 serve as substrate transport destinations based on the plurality of processing status data stored in the word data W00 and the plurality of order data stored in the word data W01 to W04. Processing units C00-C15 can be determined.

これにより、制御部25、45は、複数の処理ユニットC00〜C15で実行される各基板処理の履歴を管理することなく、処理フローデータ66に基づいて、各処理ユニットに基板を搬送する手順を決定することができる。そのため、第1の実施の形態の基板処理装置1は、基板搬送手順を決定するための演算を簡略化することができ、演算コストを低減することができる。   Thereby, the control parts 25 and 45 perform the procedure which conveys a board | substrate to each process unit based on the process flow data 66, without managing the log | history of each board | substrate process performed by several process units C00-C15. Can be determined. Therefore, the substrate processing apparatus 1 according to the first embodiment can simplify the calculation for determining the substrate transfer procedure, and can reduce the calculation cost.

<2.第2の実施の形態>
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態の板処理装置100は、第1の実施の形態の基板処理装置1と比較して、各制御部間で受け渡される基板情報データ(さらに言うと、処理フローデータ)のデータ構造が相違する点を除いては、第1の実施の形態と同様である。そこで、以下では、この相違点を中心に説明する。
<2. Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. Compared with the substrate processing apparatus 1 of the first embodiment, the plate processing apparatus 100 of the second embodiment is the substrate information data (more specifically, processing flow data) transferred between the control units. Except for the difference in data structure, this is the same as in the first embodiment. Therefore, in the following, this difference will be mainly described.

なお、以下の説明において、第1の実施の形態の基板処理装置1における構成要素と同様な構成要素については同一符号を付している。これら同一符号の構成要素は、第1の実施の形態において説明済みであるため、本実施形態では説明を省略する。   In the following description, the same reference numerals are given to the same constituent elements as those in the substrate processing apparatus 1 of the first embodiment. Since the components with the same reference numerals have already been described in the first embodiment, description thereof will be omitted in the present embodiment.

<2.1.処理フローデータのデータ構造>
図10は、本実施の形態における処理フローデータ166aのデータ構造の一例を示す図である。処理フローデータ166(166a)は、処理フローデータ66と同様に、各基板の処理手順を特定するデータである。図10に示すように、処理フローデータ166aは、複数のワードデータW11〜W14から構成されている。
<2.1. Data structure of processing flow data>
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a data structure of the processing flow data 166a in the present embodiment. The processing flow data 166 (166a) is data for specifying the processing procedure of each substrate, as with the processing flow data 66. As shown in FIG. 10, the process flow data 166a is composed of a plurality of word data W11 to W14.

ここで、各ワードデータW11〜W14は、第1の実施の形態の各ワードデータW00〜W04と同様に、データ容量が16ビットのデータ列として構成されている。したがって、処理フローデータ166aは、64ビットのデータを格納することができる。   Here, each of the word data W11 to W14 is configured as a data string having a data capacity of 16 bits similarly to the word data W00 to W04 of the first embodiment. Accordingly, the processing flow data 166a can store 64-bit data.

また、各ワードデータW11〜W14は、第1の実施の形態の各ワードデータW00〜W04と同様に、最下位のビット位置が符号D00に、最上位のビット位置が符号D15に、それぞれ対応する。   Similarly to the word data W00 to W04 in the first embodiment, the least significant bit position corresponds to the code D00 and the most significant bit position corresponds to the code D15 in the word data W11 to W14, respectively. .

ワードデータW11は、4つの単位データから構成されている。図10に示すように、ワードデータW11において、(1)ビット位置D00〜D03、(2)ビット位置D04〜D07、(3)ビット位置D08〜D11、および(4)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータが、それぞれ処理ユニットC00、C01、C02、C03の単位データに対応する。   The word data W11 is composed of four unit data. As shown in FIG. 10, in word data W11, (1) bit positions D00 to D03, (2) bit positions D04 to D07, (3) bit positions D08 to D11, and (4) bit positions D12 to D15. Each 4-bit data to be processed corresponds to unit data of the processing units C00, C01, C02, and C03.

また、ワードデータW11において、処理ユニットC00〜C03の各単位データは、1ビットの処理状況データと、3ビットの順序データと、から構成されている。例えば、処理ユニットC00の単位データは、ビット位置D00の処理状況データと、ビット位置D01〜D03の順序データと、から構成されている。このように、単位データを構成する処理状況データおよび順序データは、互いに同一の処理ユニットに対応している。   In the word data W11, each unit data of the processing units C00 to C03 is composed of 1-bit processing status data and 3-bit order data. For example, the unit data of the processing unit C00 is composed of processing status data at the bit position D00 and order data at the bit positions D01 to D03. As described above, the processing status data and the order data constituting the unit data correspond to the same processing unit.

また同様に、処理ユニットC01の単位データはビット位置D04の処理状況データとビット位置D05〜D07の順序データとから、処理ユニットC02の単位データはビット位置D08の処理状況データとビット位置D09〜D11の順序データとから、処理ユニットC03の単位データはビット位置D12の処理状況データとビット位置D13〜D15の順序データとから、それぞれ構成されている。   Similarly, the unit data of the processing unit C01 is the processing status data of the bit position D04 and the order data of the bit positions D05 to D07, and the unit data of the processing unit C02 is the processing status data of the bit position D08 and the bit positions D09 to D11. The unit data of the processing unit C03 is composed of the processing status data at the bit position D12 and the order data at the bit positions D13 to D15.

また、ワードデータW12は、ワードデータW11と同様に、4つの単位データから構成されている。図10に示すように、ワードデータW12において、(1)ビット位置D00〜D03、(2)ビット位置D04〜D07、(3)ビット位置D08〜D11、および(4)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータが、それぞれ処理ユニットC04、C05、C06、C07の単位データに対応する。   The word data W12 is composed of four unit data, like the word data W11. As shown in FIG. 10, in the word data W12, (1) bit positions D00 to D03, (2) bit positions D04 to D07, (3) bit positions D08 to D11, and (4) bit positions D12 to D15. Each 4-bit data to be processed corresponds to unit data of the processing units C04, C05, C06, and C07.

また、ワードデータW12において、処理ユニットC04の単位データはビット位置D00の処理状況データとビット位置D01〜D03の順序データとから、処理ユニットC05の単位データはビット位置D04の処理状況データとビット位置D05〜D07の順序データとから、処理ユニットC06の単位データはビット位置D08の処理状況データとビット位置D09〜D11の順序データとから、処理ユニットC07の単位データはビット位置D12の処理状況データとビット位置D13〜D15の順序データとから、それぞれ構成されている。   In the word data W12, the unit data of the processing unit C04 is the processing status data at the bit position D00 and the order data at the bit positions D01 to D03, and the unit data of the processing unit C05 is the processing status data at the bit position D04 and the bit position. From the order data of D05 to D07, the unit data of the processing unit C06 is the processing status data of the bit position D08 and the order data of the bit positions D09 to D11, and the unit data of the processing unit C07 is the processing status data of the bit position D12. It consists of order data of bit positions D13 to D15.

また、ワードデータW13は、ワードデータW11、W12と同様に、4つの単位データから構成されている。図10に示すように、ワードデータW13において、(1)ビット位置D00〜D03、(2)ビット位置D04〜D07、(3)ビット位置D08〜D11、および(4)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータが、それぞれ処理ユニットC08、C09、C10、C11の単位データに対応する。   The word data W13 is composed of four unit data, like the word data W11 and W12. As shown in FIG. 10, in word data W13, (1) bit positions D00 to D03, (2) bit positions D04 to D07, (3) bit positions D08 to D11, and (4) bit positions D12 to D15. Each 4-bit data corresponding to the unit data of the processing units C08, C09, C10, and C11, respectively.

また、ワードデータW13において、処理ユニットC08の単位データはビット位置D00の処理状況データとビット位置D01〜D03の順序データとから、処理ユニットC09の単位データはビット位置D04の処理状況データとビット位置D05〜D07の順序データとから、処理ユニットC10の単位データはビット位置D08の処理状況データとビット位置D09〜D11の順序データとから、処理ユニットC11の単位データはビット位置D12の処理状況データとビット位置D13〜D15の順序データとから、それぞれ構成されている。   In the word data W13, the unit data of the processing unit C08 is the processing status data at the bit position D00 and the order data at the bit positions D01 to D03, and the unit data of the processing unit C09 is the processing status data at the bit position D04 and the bit position. From the order data of D05 to D07, the unit data of the processing unit C10 is the processing status data of the bit position D08 and the order data of the bit positions D09 to D11, and the unit data of the processing unit C11 is the processing status data of the bit position D12. It consists of order data of bit positions D13 to D15.

さらに、ワードデータW14は、ワードデータW11、W12、W13と同様に、4つの単位データから構成されている。図10に示すように、ワードデータW14において、(1)ビット位置D00〜D03、(2)ビット位置D04〜D07、(3)ビット位置D08〜D11、および(4)ビット位置D12〜D15で表される各4ビットデータが、それぞれ処理ユニットC12、C13、C14、C15の単位データに対応する。   Further, the word data W14 is composed of four unit data, like the word data W11, W12, and W13. As shown in FIG. 10, in word data W14, (1) bit positions D00 to D03, (2) bit positions D04 to D07, (3) bit positions D08 to D11, and (4) bit positions D12 to D15. Each 4-bit data to be processed corresponds to unit data of the processing units C12, C13, C14, and C15.

また、ワードデータW14において、処理ユニットC08の単位データはビット位置D00の処理状況データとビット位置D01〜D03の順序データとから、処理ユニットC09の単位データはビット位置D04の処理状況データとビット位置D05〜D07の順序データとから、処理ユニットC10の単位データはビット位置D08の処理状況データとビット位置D09〜D11の順序データとから、処理ユニットC11の単位データはビット位置D12の処理状況データとビット位置D13〜D15の順序データとから、それぞれ構成されている。   In the word data W14, the unit data of the processing unit C08 is the processing status data at the bit position D00 and the order data at the bit positions D01 to D03, and the unit data of the processing unit C09 is the processing status data and the bit position at the bit position D04. From the order data of D05 to D07, the unit data of the processing unit C10 is the processing status data of the bit position D08 and the order data of the bit positions D09 to D11, and the unit data of the processing unit C11 is the processing status data of the bit position D12. It consists of order data of bit positions D13 to D15.

このように、本実施の形態の処理フローデータ166aは、図10に示すように、各単位データを、各処理ユニットC00〜C15の符号の順(符号の昇順)に連続して配置したものである。   As described above, the processing flow data 166a of the present embodiment is obtained by continuously arranging the unit data in the order of the codes of the processing units C00 to C15 (ascending order of the codes) as shown in FIG. is there.

ここで、本実施の形態の処理フローデータ166aと、第1の実施の形態の処理フローデータ66bと、を比較する。図11は、処理フローデータ166aにおける処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式(テーブル状)にまとめた図である。図6、図7、図10、および図11に示すように、処理フローデータ166aのデータ構造は、処理フローデータ66bのものと相違する。一方、両処理フローデータ66b、166aに格納されている各処理状況データおよび順序データの値は同一である。したがって、両処理フローデータ66b、166aに上述の規則A1〜A4が適用されると、両処理フローデータ66b、166aからは、同一の基板搬送手順が実行される。   Here, the processing flow data 166a of the present embodiment is compared with the processing flow data 66b of the first embodiment. FIG. 11 is a diagram in which values of the processing status data and the order data in the processing flow data 166a are summarized in a table format (table form) for each processing unit C00 to C15. As shown in FIGS. 6, 7, 10, and 11, the data structure of the processing flow data 166a is different from that of the processing flow data 66b. On the other hand, the values of the processing status data and the order data stored in both processing flow data 66b and 166a are the same. Therefore, when the above rules A1 to A4 are applied to both processing flow data 66b and 166a, the same substrate transport procedure is executed from both processing flow data 66b and 166a.

また、処理フローデータ166a(総データ容量:64ビット)のデータサイズは、処理フローデータ66(総データ容量:80ビット)のデータサイズより小さい。そのため、各制御部25、30、45、50間のデータ通信(送受信)量が低減され、各制御部25、30、45、50間で実行されるデータ通信の処理負荷が低減できる。   The data size of the processing flow data 166a (total data capacity: 64 bits) is smaller than the data size of the processing flow data 66 (total data capacity: 80 bits). Therefore, the amount of data communication (transmission / reception) between the control units 25, 30, 45, and 50 is reduced, and the processing load of data communication performed between the control units 25, 30, 45, and 50 can be reduced.

なお、上述のように、処理フローデータ166aにより実行される基板の搬送手順は、処理フローデータ66bにより実行される基板の搬送手順と同様なものとなり、第1の実施の形態で説明済みであるため、ここでは、説明を省略する。   As described above, the substrate transfer procedure executed by the process flow data 166a is the same as the substrate transfer procedure executed by the process flow data 66b, and has been described in the first embodiment. Therefore, the description is omitted here.

<2.2.第2の実施の形態の基板処理装置の利点>
以上のように、第2の実施の形態の基板処理装置100は、処理フローデータ166(166a)に基づいて、各処理ユニットC00〜C15に基板を搬送する手順を決定することができる。そのため、第2の実施の形態の基板処理装置100は、第1の実施の形態の基板処理装置1と同様に、基板搬送手順を決定するための演算を簡略化することができ、演算コストを低減することができる。
<2.2. Advantages of Substrate Processing Apparatus According to Second Embodiment>
As described above, the substrate processing apparatus 100 according to the second embodiment can determine a procedure for transporting a substrate to each of the processing units C00 to C15 based on the processing flow data 166 (166a). Therefore, similarly to the substrate processing apparatus 1 of the first embodiment, the substrate processing apparatus 100 of the second embodiment can simplify the calculation for determining the substrate transfer procedure and reduce the calculation cost. Can be reduced.

また、第2の実施の形態で使用される処理フローデータ166のデータサイズは、第1の実施の形態で使用される処理フローデータ66のデータサイズより小さい。そのため、各制御部25、30、45、50間で実行されるデータ通信の処理負荷が低減される。   Further, the data size of the processing flow data 166 used in the second embodiment is smaller than the data size of the processing flow data 66 used in the first embodiment. Therefore, the processing load of data communication executed between the control units 25, 30, 45, and 50 is reduced.

<3.第3の実施の形態>
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。第3の実施の形態の基板処理装置200は、第2の実施の形態の基板処理装置100と比較して、基板情報データ260の処理フローデータ266に格納される値と、搬送先の処理ユニットC00〜C15を決定する規則と、が異なる点を除いては、第2の実施の形態と同様である。そこで、以下では、この相違点を中心に説明する。
<3. Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described. Compared with the substrate processing apparatus 100 of the second embodiment, the substrate processing apparatus 200 of the third embodiment has a value stored in the processing flow data 266 of the substrate information data 260 and a transfer destination processing unit. The second embodiment is the same as the second embodiment except that the rule for determining C00 to C15 is different. Therefore, in the following, this difference will be mainly described.

なお、以下の説明において、第1および第2の実施の形態の基板処理装置1、100における構成要素と同様な構成要素については同一符号を付している。これら同一符号の構成要素は、第1および第2の実施の形態において説明済みであるため、本実施形態では説明を省略する。   In the following description, the same components as those in the substrate processing apparatuses 1 and 100 of the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals. Since the components with the same reference numerals have been described in the first and second embodiments, description thereof will be omitted in the present embodiment.

<3.1.処理フローデータによる基板の搬送手順>
図12は、本実施の形態における処理フローデータ266aのデータ構造を示す図である。図13は、処理フローデータ266aにおける処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式にまとめた図である。
<3.1. Substrate transport procedure using processing flow data>
FIG. 12 is a diagram showing a data structure of the processing flow data 266a in the present embodiment. FIG. 13 is a diagram in which the processing status data and the order data values in the processing flow data 266a are summarized in a table format for each processing unit C00 to C15.

また、図14は、本実施の形態における処理フローデータ266bのデータ構造を示す図である。図15は、処理フローデータ266bにおける処理状況データおよび順序データの値を、各処理ユニットC00〜C15毎に表形式にまとめた図である。   FIG. 14 is a diagram showing a data structure of the processing flow data 266b in the present embodiment. FIG. 15 is a table in which the values of the processing status data and the order data in the processing flow data 266b are tabulated for each processing unit C00 to C15.

ここで、本実施の形態において、基板搬送ユニット20、40の搬送処理を制御する制御部25、45は、受け渡された各基板の処理フローデータ266(266a、266b)に、以下の規則B1〜B5を適用することによって、搬送先の処理ユニットC00〜C15を決定する。そこで、以下では、これら規則B1〜B5を説明するとともに、制御部25、45により実行される基板の搬送手順を説明する。   Here, in the present embodiment, the control units 25 and 45 that control the transfer processing of the substrate transfer units 20 and 40 include the following rule B1 in the processing flow data 266 (266a and 266b) of each transferred substrate. By applying ~ B5, the processing units C00 to C15 of the transport destination are determined. Therefore, in the following, the rules B1 to B5 will be described, and the substrate transport procedure executed by the control units 25 and 45 will be described.

なお、図12および図14に示すように、処理フローデータ266は、第2の実施の形態の処理フローデータ166aと同様に、複数のワードデータW11〜W14から構成されている。また、処理フローデータ266は、第2の実施の形態の処理フローデータ166aと同様に、各単位データを各処理ユニットC00〜C15の符号の順(符号の昇順)に連続して配置したものである。   As shown in FIGS. 12 and 14, the processing flow data 266 is composed of a plurality of word data W11 to W14, like the processing flow data 166a of the second embodiment. Further, the processing flow data 266 is obtained by continuously arranging the unit data in the order of the codes of the processing units C00 to C15 (ascending order of the codes), like the processing flow data 166a of the second embodiment. is there.

<3.1.1.規則B1>
制御部25、45は、原則、予め定められた処理ユニットC00〜C15の処理順序に基づいて、各処理ユニットC00〜C15に基板を搬送させる。本実施の形態において、各処理ユニットC00〜C15には、付与された符号C00〜C15の順(例えば、符号の昇順)に、基板が搬送される。また、制御部25、45は、以下の規則B2〜B5に基づいて、予め定められた処理順序を修正し、各処理ユニットに基板が搬送される順序を決定する。
<3.1.1. Rule B1>
In principle, the control units 25 and 45 cause the processing units C00 to C15 to transport the substrates based on a predetermined processing order of the processing units C00 to C15. In the present embodiment, the substrates are transported to the processing units C00 to C15 in the order of the assigned codes C00 to C15 (for example, ascending order of the codes). In addition, the control units 25 and 45 correct the predetermined processing order based on the following rules B2 to B5, and determine the order in which the substrates are transported to each processing unit.

<3.1.2.規則B2>
着目する順序データの値が「0」となる場合、制御部25、45は、この順序データに対応する処理ユニットC00〜C15が搬送除外ユニットであると判断し、この搬送除外ユニットは基板の搬送先から除外される。例えば、処理フローデータ266b(図14および図15参照)において、処理ユニットC01〜C03の順序データには、いずれも「0」が格納されている。したがって、処理ユニットC00で基板処理された基板は、処理ユニットC01〜C03に搬送されず、処理ユニットC04に搬送される。
<3.1.2. Rule B2>
When the value of the target order data is “0”, the control units 25 and 45 determine that the processing units C00 to C15 corresponding to this order data are transport exclusion units, and the transport exclusion unit transports the substrate. Excluded first. For example, in the processing flow data 266b (see FIGS. 14 and 15), “0” is stored in the order data of the processing units C01 to C03. Therefore, the substrate processed by the processing unit C00 is not transferred to the processing units C01 to C03 but is transferred to the processing unit C04.

<3.1.3.規則B3>
また、着目する順序データの値が「1」となる場合、制御部25、45は、この順序データに対応する処理ユニットC00〜C15が常に基板の搬送対象となる必須処理ユニットであると判断し、この必須処理ユニットに基板を搬送させる。
<3.1.3. Rule B3>
When the value of the order data to be noted is “1”, the control units 25 and 45 determine that the processing units C00 to C15 corresponding to the order data are always indispensable processing units to be transported by the substrate. Then, the substrate is transported to this essential processing unit.

例えば、処理フローデータ266a(図12および図13参照)において、各処理ユニットC03〜C05の順序データには、いずれも「1」が格納されており、これら処理ユニットC03〜C05は、いずれも搬送対象となる。したがって、処理ユニットC03、C04、C05の搬送順序は、対応する符号の昇順(C03→C04→C05)となる。   For example, in the processing flow data 266a (see FIGS. 12 and 13), “1” is stored in the order data of the processing units C03 to C05, and these processing units C03 to C05 are all transported. It becomes a target. Therefore, the transport order of the processing units C03, C04, and C05 is the ascending order of the corresponding codes (C03 → C04 → C05).

<3.1.4.規則B4>
また、着目する2以上の順序データの値が、「0」および「1」以外の値となり、かつ、この2以上の順序データの値が互いに同一となる場合、制御部25、45は、これら順序データに対応する択一選択ユニットのうちのいずれか1つに、基板を搬送させる。
<3.1.4. Rule B4>
If the values of the two or more order data items of interest are values other than “0” and “1” and the two or more order data values are the same, the control units 25 and 45 The substrate is transported to any one of the alternative selection units corresponding to the order data.

例えば、処理フローデータ266a(図12および図13参照)において、処理ユニット(択一選択ユニット)C01、C02は、その順序データの値が互いに同一(いずれも「2」)である。したがって、制御部25は、処理ユニットC01、C02のうち受け入れ可能なユニットに、基板を搬送させる。   For example, in the processing flow data 266a (see FIGS. 12 and 13), the processing units (alternate selection units) C01 and C02 have the same value of the order data (both are “2”). Therefore, the control unit 25 causes the substrate to be transferred to an acceptable unit among the processing units C01 and C02.

また、処理フローデータ266aに示すように、処理ユニットC06、C07のそれぞれ、および処理ユニットC11、C12のそれぞれも、択一選択ユニットとして使用可能である。   Further, as shown in the processing flow data 266a, each of the processing units C06 and C07 and each of the processing units C11 and C12 can be used as an alternative selection unit.

なお、複数の択一選択ユニットのうち、一部(1または2以上)の処理ユニットが、搬送先として明示的に設定される場合、対応する各順序データに、以下の値が設定される。すなわち、複数の択一選択ユニットのうち、搬送先から除外される(1または2以上の)処理ユニットの順序データには、「0」が格納される。一方、搬送先とされる(1または2以上の)処理ユニットの順序データには、「0」および「1」以外の同一値(すなわち、「2」〜「7」のうちのいずれかの値)が格納される。これにより、複数の択一選択ユニットのうち、順序データに「0」および「1」以外の同一値が格納された処理ユニットのみが、搬送先とされる。   In addition, when some (one or two or more) processing units among a plurality of alternative selection units are explicitly set as transport destinations, the following values are set in the corresponding order data. That is, “0” is stored in the order data of processing units (one or more) that are excluded from the transport destination among the plurality of alternative selection units. On the other hand, the order data of the processing unit (one or more) as the transport destination includes the same value other than “0” and “1” (that is, any value from “2” to “7”). ) Is stored. Thereby, only the processing unit in which the same value other than “0” and “1” is stored in the order data among the plurality of alternative selection units is set as the transport destination.

例えば、処理フローデータ266b(図14および図15参照)に示すように、同一のポストベーク処理を実行可能な処理ユニット(択一選択ユニット)C11、C12について、処理ユニットC11の順序データには「0」が、処理ユニットC12の順序データには「3」が、それぞれ格納されている。そのため、択一選択ユニットC11、C12のうちの処理ユニットC12のみが、搬送先として選択される。   For example, as shown in the processing flow data 266b (see FIG. 14 and FIG. 15), for the processing units (alternate selection units) C11 and C12 that can execute the same post-bake processing, the order data of the processing unit C11 includes “ “0” and “3” are stored in the order data of the processing unit C12. Therefore, only the processing unit C12 of the alternative selection units C11 and C12 is selected as the transport destination.

<3.1.5.規則B5>
さらに、制御部25、45は、処理状況データの値が「0」となる処理ユニットC00〜C15のうち、最も優先順位の高いものを、搬送先とする。例えば、処理フローデータ266bに示すように、処理ユニットC10での基板処理が完了し、制御部50によりワードデータW13のビット位置D08に「1」が格納されるとともに、制御部50から制御部45に対応する基板情報データ60が受け渡されると、基板搬送ユニット40の制御部45は、処理ユニットC12を次の搬送先として設定する。
<3.1.5. Rule B5>
Furthermore, the control units 25 and 45 set the processing unit C00 to C15 having the processing status data value “0” as the transport destination with the highest priority. For example, as shown in the processing flow data 266b, the substrate processing in the processing unit C10 is completed, and the control unit 50 stores “1” in the bit position D08 of the word data W13. When the substrate information data 60 corresponding to is transferred, the control unit 45 of the substrate transport unit 40 sets the processing unit C12 as the next transport destination.

また同様に、処理フローデータ266aの場合には処理ユニットC11、C12のいずれかが、次の搬送先として設定される。   Similarly, in the case of the processing flow data 266a, one of the processing units C11 and C12 is set as the next transport destination.

<3.1.6.規則B1〜B5による基板の搬送手順>
上述の規則B1〜B5が、処理フローデータ266aに適用されると、制御部25、45は、基板搬送ユニット20、40に対して、次の搬送処理を実行させる。
<3.1.6. Substrate transport procedure according to rules B1 to B5>
When the above-described rules B1 to B5 are applied to the process flow data 266a, the control units 25 and 45 cause the substrate transfer units 20 and 40 to execute the next transfer process.

すなわち、基板搬送ユニット20による基板搬送に先立って、基板は、ローダ10側から処理ユニットC00に搬入され、処理ユニットC00で洗浄処理が実行される。処理ユニットC00で洗浄処理が完了し、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡されると、基板搬送ユニット20は、受け取った基板を、処理ユニットC01、C02のいずれかに搬送した後、処理ユニットC03、C04、C05の順に搬送する。続いて、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC05から受け取った基板を、処理ユニットC06、C07のいずれかに搬送した後、処理ユニットC08に搬送する。   That is, prior to substrate transport by the substrate transport unit 20, the substrate is carried into the processing unit C00 from the loader 10 side, and cleaning processing is performed in the processing unit C00. When the cleaning process is completed in the processing unit C00 and the substrate is transferred from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the substrate transport unit 20 transports the received substrate to one of the processing units C01 and C02. The processing units C03, C04, and C05 are conveyed in this order. Subsequently, the substrate transport unit 20 transports the substrate received from the processing unit C05 to one of the processing units C06 and C07, and then transports the substrate to the processing unit C08.

一方、基板搬送ユニット40は、処理ユニットC08〜C10での基板処理が完了し、処理ユニットC10から受け取った基板を、処理ユニットC11、C12のいずれかに搬送した後、処理ユニットC13に搬送する。そして、処理ユニットC13での基板処理が完了すると、基板は、アンローダ90側に搬出される。   On the other hand, the substrate transport unit 40 completes the substrate processing in the processing units C08 to C10, transports the substrate received from the processing unit C10 to one of the processing units C11 and C12, and then transports the substrate to the processing unit C13. When the substrate processing in the processing unit C13 is completed, the substrate is carried out to the unloader 90 side.

このように、処理フローデータ266aに上述の規則B1〜B5が適用されて実行される基板搬送手順と、第1の実施の形態の処理フローデータ66aに上述の規則A1〜A4が適用されて実行される基板搬送手順と、は、同一のものとなる。   As described above, the substrate transfer procedure executed by applying the above-described rules B1 to B5 to the process flow data 266a and the above-described rules A1 to A4 applied to the process flow data 66a of the first embodiment are executed. The substrate transfer procedure to be performed is the same.

また、上述の規則B1〜B5が、処理フローデータ266bに適用されると、制御部25、45は、基板搬送ユニット20、40に対して、次の搬送処理を実行させる。   Further, when the above-described rules B1 to B5 are applied to the process flow data 266b, the control units 25 and 45 cause the substrate transfer units 20 and 40 to execute the next transfer process.

ここで、図14および図15に示すように、処理ユニットC01〜C03の順序データには、いずれも「0」が格納されており、処理ユニットC01〜C03は、基板の搬送先から除外されている。したがって、処理ユニットC00で洗浄処理が完了し、処理ユニットC00から基板搬送ユニット20に基板が受け渡されると、基板搬送ユニット20は、受け取った基板を処理ユニットC04に搬送する。   Here, as shown in FIGS. 14 and 15, “0” is stored in the order data of the processing units C01 to C03, and the processing units C01 to C03 are excluded from the substrate transport destination. Yes. Therefore, when the cleaning process is completed in the processing unit C00 and the substrate is transferred from the processing unit C00 to the substrate transport unit 20, the substrate transport unit 20 transports the received substrate to the processing unit C04.

続いて、基板搬送ユニット20は、処理ユニットC04から受け取った基板を、処理ユニットC05を経由させず、処理ユニットC06、C07のいずれかに搬送した後、処理ユニットC08に搬送する。   Subsequently, the substrate transport unit 20 transports the substrate received from the processing unit C04 to one of the processing units C06 and C07 without passing through the processing unit C05, and then transports the substrate to the processing unit C08.

このように、処理フローデータ266bに上述の規則B1〜B5が適用されて実行される基板搬送手順と、第1の実施の形態の処理フローデータ66bに上述の規則A1〜A4が適用されて実行される基板搬送手順と、は、同一のものとなる。   As described above, the substrate transfer procedure executed by applying the above-described rules B1 to B5 to the process flow data 266b, and the above-described rules A1 to A4 applied to the process flow data 66b of the first embodiment. The substrate transfer procedure to be performed is the same.

ここで、処理フローデータ266bにおいて、択一選択ユニットとして使用可能な処理ユニットC11、C12のうちの処理ユニットC11の「順序データ」のみが「0」とされている。すなわち、処理フローデータ266bに基づいた処理手順では、択一選択ユニットC11、C12のうち処理ユニットC12が常に選択され、処理ユニットC11は基板の搬送先から除外されている。   Here, in the processing flow data 266b, only the “order data” of the processing unit C11 among the processing units C11 and C12 that can be used as the alternative selection unit is set to “0”. That is, in the processing procedure based on the processing flow data 266b, the processing unit C12 is always selected from the alternative selection units C11 and C12, and the processing unit C11 is excluded from the substrate transport destination.

したがって、基板搬送ユニット40は、処理ユニットC08〜C10での基板処理が完了し、処理ユニットC10から受け取った基板を、処理ユニットC12に搬送する。そして、処理ユニットC12での基板処理が完了すると、基板は、アンローダ90側に搬出される。   Accordingly, the substrate transport unit 40 completes the substrate processing in the processing units C08 to C10, and transports the substrate received from the processing unit C10 to the processing unit C12. When the substrate processing in the processing unit C12 is completed, the substrate is carried out to the unloader 90 side.

なお、択一選択ユニットの台数が3以上となる場合において、少なくとも1つの処理ユニットの「順序データ」の値が「0」となるように処理フローデータ266が設定されてもよい。この場合、択一選択ユニットのうちの一部(一または複数)の処理ユニットが、選択される。   When the number of alternative selection units is 3 or more, the processing flow data 266 may be set so that the value of “order data” of at least one processing unit is “0”. In this case, some (one or more) processing units of the alternative selection units are selected.

<3.2.第3の実施の形態の基板処理装置の利点>
以上のように、第3の実施の形態の基板処理装置200は、処理フローデータ266(266a、266b)に基づいて、各処理ユニットC01〜C15に基板を搬送する手順を決定することができる。そのため、第3の実施の形態の基板処理装置200は、第1および第2の実施の形態の基板処理装置1、100と同様に、基板搬送手順を決定するための演算を簡略化することができ、演算コストを低減することができる。
<3.2. Advantages of Substrate Processing Apparatus According to Third Embodiment>
As described above, the substrate processing apparatus 200 according to the third embodiment can determine a procedure for transporting a substrate to each of the processing units C01 to C15 based on the processing flow data 266 (266a, 266b). Therefore, the substrate processing apparatus 200 according to the third embodiment can simplify the calculation for determining the substrate transfer procedure, similarly to the substrate processing apparatuses 1 and 100 according to the first and second embodiments. This can reduce the calculation cost.

また、第3の実施の形態で使用される処理フローデータ266のデータサイズ(64ビット)は、第1の実施の形態で使用される処理フローデータ66のデータサイズ(80ビット)より小さい。そのため、各制御部25、30、45、50間で実行されるデータ通信の処理負荷が低減される。   The data size (64 bits) of the processing flow data 266 used in the third embodiment is smaller than the data size (80 bits) of the processing flow data 66 used in the first embodiment. Therefore, the processing load of data communication executed between the control units 25, 30, 45, and 50 is reduced.

<4.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<4. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.

(1)本実施の形態において、処理ユニットC00〜C08は制御部30により、処理ユニットC09〜C15は制御部50により、それぞれ制御されるものとして説明したがこれに限定されるものでない。例えば、処理ユニットC00〜C08が2以上の制御部30により制御されてもよいし、処理ユニットC09〜C15が2以上の制御部50により制御されてもよい。また、各処理ユニットC00〜C15毎に、専用の制御部30、50が設けられても良い。この場合、制御部30、50の総数は16台となる。   (1) In the present embodiment, the processing units C00 to C08 are controlled by the control unit 30 and the processing units C09 to C15 are controlled by the control unit 50. However, the present invention is not limited to this. For example, the processing units C00 to C08 may be controlled by two or more control units 30, and the processing units C09 to C15 may be controlled by two or more control units 50. In addition, dedicated control units 30 and 50 may be provided for each of the processing units C00 to C15. In this case, the total number of the control units 30 and 50 is 16.

このように、2以上の制御部30が使用される場合、各制御部30は処理ユニットC00〜C08のうちの少なくとも1つの処理ユニットで実行される基板処理を、各制御部50は処理ユニットC09〜C15のうちの少なくとも1つの処理ユニットを、それぞれ制御できればよい。   As described above, when two or more control units 30 are used, each control unit 30 performs substrate processing executed by at least one processing unit among the processing units C00 to C08, and each control unit 50 performs processing unit C09. It suffices that at least one processing unit among C15 can be controlled.

(2)また、第1ないし第3の実施の形態において、搬送除外ユニットの順序データは「0」であるものとして説明したが、搬送先除外を示す順序データの値は、これに限定されるものでない。   (2) In the first to third embodiments, the order data of the transport exclusion unit has been described as “0”. However, the value of the order data indicating the transport destination exclusion is limited to this. Not a thing.

例えば、順序データとして表すことができる値の範囲(第1の実施の形態の場合は「0」〜「15」の範囲、第2および第3の実施の形態の場合は「0」〜「7」の範囲(但し、順序データが符号なし変数であるものとする))のうち所定の値を非処理定数として予め定義する。そして、着目する順序データが非処理定数と同一値となる場合、この順序データに対応する処理ユニットC00〜C15が搬送先から除外されるようにしてもよい。すなわち、非処理定数の値は、「0」に限定されない。   For example, a range of values that can be expressed as order data (in the case of the first embodiment, a range of “0” to “15”, in the case of the second and third embodiments, “0” to “7”). ”(Provided that the order data is an unsigned variable)), a predetermined value is defined in advance as a non-processing constant. Then, when the order data to be noted has the same value as the non-processing constant, the processing units C00 to C15 corresponding to the order data may be excluded from the transport destination. That is, the value of the non-processing constant is not limited to “0”.

(3)また、第3の実施の形態において、必須処理ユニットの順序データは「1」であるものとして説明したが、必ず搬送対象となることを示す順序データの値は、これに限定されるものでない。   (3) In the third embodiment, the order data of the essential processing unit has been described as “1”. However, the value of the order data indicating that it is always a transfer target is limited to this. Not a thing.

例えば、順序データとして表すことができる値の範囲のうち、非処理定数以外の所定の値を単独処理定数として予め定義する。そして、着目する順序データが単独処理定数と同一値となる場合、この順序データに対応する処理ユニットC00〜C15が必ず基板の搬送対象とされるようにしてもよい。すなわち、単独処理定数の値は、「1」に限定されない。   For example, a predetermined value other than a non-processing constant among a range of values that can be expressed as order data is defined in advance as a single processing constant. When the order data to be focused on has the same value as the single processing constant, the processing units C00 to C15 corresponding to the order data may be necessarily transported. That is, the value of the single processing constant is not limited to “1”.

(4)また、第1および第2の実施の形態では、基板搬送ユニット20側の処理ユニットC00〜C08から、基板搬送ユニット40側の処理ユニットC09〜C15に、搬送された基板は、再度、基板搬送ユニット20側に搬送されないものとして説明したが、これに限定されるものでない。基板搬送ユニット40側に搬送された基板が再度、基板搬送ユニット20側に搬送されるように、各処理ユニットC00〜C15が構成され、かつ、このような基板搬送手順を実行できるように、処理フローデータ66、166の各順序データが設定されてもよい。   (4) In the first and second embodiments, the substrate transferred from the processing units C00 to C08 on the substrate transfer unit 20 side to the processing units C09 to C15 on the substrate transfer unit 40 side is again Although described as what is not conveyed by the board | substrate conveyance unit 20 side, it is not limited to this. The processing units C00 to C15 are configured so that the substrate transported to the substrate transport unit 40 side is transported again to the substrate transport unit 20 side, and processing is performed so that such a substrate transport procedure can be executed. Each order data of the flow data 66 and 166 may be set.

この場合、基板搬送ユニット20は、例えば、基板搬送ユニット40側の処理ユニットC11で処理された基板を、基板搬送ユニット20側の処理ユニットC03に搬送することができる。すなわち、基板搬送ユニット20、40は、各処理ユニットC00〜C15の配置によらず、ランダムの順序で基板を搬送することができる。   In this case, for example, the substrate transport unit 20 can transport the substrate processed by the processing unit C11 on the substrate transport unit 40 side to the processing unit C03 on the substrate transport unit 20 side. That is, the substrate transport units 20 and 40 can transport the substrates in a random order regardless of the arrangement of the processing units C00 to C15.

(5)さらに、第1、第2、および第3の実施の形態における順序データのデータサイズは、それぞれ4ビット、3ビット、および3ビットであるものとして説明したが、順序データのデータサイズは、これに限定されるものでなく、総処理ユニット数や択一選択ユニットの個数に応じて定められてもよい。   (5) Furthermore, although the data size of the order data in the first, second, and third embodiments has been described as 4 bits, 3 bits, and 3 bits, respectively, the data size of the order data is However, the present invention is not limited to this, and may be determined according to the total number of processing units or the number of alternative selection units.

1、100、200 基板処理装置
20、40 基板搬送ユニット
25、45 制御部(第2制御部)
30、50 制御部(第1制御部)
60、160、260 基板情報データ
66(66a〜66c)、166a、266(266a、266b) 処理フローデータ
C00〜C15 処理ユニット
W00〜W04、W11〜W14 ワードデータ
1, 100, 200 Substrate processing apparatus 20, 40 Substrate transport unit 25, 45 Control unit (second control unit)
30, 50 control unit (first control unit)
60, 160, 260 Substrate information data 66 (66a to 66c), 166a, 266 (266a, 266b) Processing flow data C00 to C15 Processing units W00 to W04, W11 to W14 Word data

Claims (5)

基板処理装置であって、
(a) 各々が、基板に対して処理を施す複数の処理ユニットと、
(b) 前記複数の処理ユニットのそれぞれとの間で、基板の受け渡しを行う基板搬送ユニットと、
(c) 前記複数の処理ユニットのうちの少なくとも1つの処理ユニットで実行される基板処理を制御する第1制御部と、
(d) 前記基板搬送ユニットにより実行される搬送処理を制御する第2制御部と、
を備え、
前記複数の処理ユニットのうち、前記第1制御部により基板処理が制御される第1処理ユニットと、前記基板搬送ユニットと、の間で基板が受け渡される場合において、前記第1および第2制御部のうち受け渡し側のユニットに対応する制御部は、受け取り側のユニットに対応する制御部に、受け渡される基板に関する基板情報データを受け渡し、
前記基板情報データは、
各基板処理の条件に関するレシピ関連データと、
各基板の処理手順を特定するための処理フローデータと
を有しており、
前記処理フローデータは、
各々が、前記複数の処理ユニットと一対一に対応しており、対応する処理ユニットで実行される基板処理の順序を示す複数の順序データと、
各々が、前記複数の処理ユニットと一対一に対応しており、対応する処理ユニットにおける基板の処理状況を示す複数の処理状況データと、
を有しており、
前記第2制御部は、前記処理フローデータに含まれる前記複数の順序データおよび前記複数の処理状況データに基づいて、基板の搬送先となる処理ユニットを決定することを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing apparatus,
(a) a plurality of processing units each for processing a substrate;
(b) a substrate transfer unit that transfers a substrate to and from each of the plurality of processing units;
(c) a first control unit that controls substrate processing executed in at least one processing unit of the plurality of processing units;
(d) a second control unit that controls a transfer process executed by the substrate transfer unit;
With
Among the plurality of processing units, when the substrate is transferred between the first processing unit whose substrate processing is controlled by the first control unit and the substrate transport unit, the first and second controls The control unit corresponding to the unit on the delivery side among the units delivers the substrate information data regarding the substrate to be delivered to the control unit corresponding to the unit on the reception side,
The board information data is
Recipe related data on the conditions of each substrate processing,
Process flow data for specifying the processing procedure of each substrate,
The processing flow data is
Each of the plurality of processing units has a one-to-one correspondence with the plurality of processing units, and a plurality of order data indicating the order of substrate processing performed in the corresponding processing units;
Each of the plurality of processing units has a one-to-one correspondence, and a plurality of processing status data indicating the processing status of the substrate in the corresponding processing unit;
Have
The substrate processing apparatus, wherein the second control unit determines a processing unit to be a substrate transfer destination based on the plurality of order data and the plurality of processing status data included in the processing flow data.
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第2制御部は、
i) 各順序データの大小関係に基づいて、各処理ユニットに基板が搬送される順序を決定するとともに、
ii) 着目する順序データが非処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットを基板の搬送先から除外し、
iii) 着目する2以上の順序データのそれぞれが非処理定数以外の値となり、かつ、該2以上の順序データが互いに同一となる場合、該2以上の順序データに対応する処理ユニットのうちのいずれか1つに、基板を搬送させることを特徴とする基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
The second controller is
i) Determine the order in which the substrates are transported to each processing unit based on the magnitude relationship of each order data,
ii) When the target sequence data has the same value as the non-process constant, exclude the processing unit corresponding to the sequence data from the substrate transport destination,
iii) When each of the two or more order data items of interest has a value other than a non-processing constant, and the two or more order data are the same as each other, any of the processing units corresponding to the two or more order data One of them is a substrate processing apparatus for transporting a substrate.
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第2制御部は、
i) 予め定められた処理ユニットの処理順序と、各順序データの値と、に基づいて、各処理ユニットに基板が搬送される順序を決定するとともに、
ii) 着目する順序データが非処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットを搬送先から除外し、
iii) 着目する順序データが単独処理定数と同一値となる場合、該順序データに対応する処理ユニットに基板を搬送し、
iv) 着目する2以上の順序データのそれぞれが非処理定数および前記単独処理定数以外の値となり、かつ、該2以上の順序データが互いに同一となる場合、該2以上の順序データに対応する処理ユニットのうちのいずれか1つに、基板を搬送させることを特徴とする基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
The second controller is
i) determining the order in which the substrates are transported to each processing unit based on the predetermined processing order of the processing units and the value of each order data;
ii) If the target sequence data has the same value as the non-processing constant, exclude the processing unit corresponding to the sequence data from the transport destination,
iii) When the target sequence data has the same value as the single processing constant, the substrate is transferred to the processing unit corresponding to the sequence data,
iv) Processing corresponding to two or more order data when each of the two or more order data of interest has a value other than a non-processing constant and the single processing constant, and the two or more order data are the same. A substrate processing apparatus, wherein a substrate is transferred to any one of the units.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理フローデータは、
前記複数の処理状況データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置する第1データ列と、
前記複数の順序データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置する第2データ列と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein:
The processing flow data is
A first data sequence in which the plurality of processing status data are continuously arranged in an order based on the plurality of processing units;
A second data sequence in which the plurality of order data are continuously arranged in an order based on the plurality of processing units;
A substrate processing apparatus comprising:
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理フローデータは、
対応する処理状況データおよび順序データを単位データとする場合、
各単位データを、前記複数の処理ユニットに基づいた順番に連続して配置したものであることを特徴とする基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein:
The processing flow data is
When the corresponding processing status data and sequence data are unit data,
A substrate processing apparatus, wherein each unit data is continuously arranged in an order based on the plurality of processing units.
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