JP5196430B2 - Circuit forming component and manufacturing method thereof - Google Patents

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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

本発明は、筒形などの中空の立体形状を有する回路形成部品及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a circuit-forming component having a hollow three-dimensional shape such as a cylinder and a method for manufacturing the same.

筒形や球形など立体形状の絶縁基材の内周に回路形成をして立体回路板を製造する方法が検討されている。例えば、錫やハンダなどの低融点金属で球状に成形される成形体の表面に導電回路を形成し、この成形体を成形型の内周に空間を保った状態で装填した後に、この空間内に熱硬化性樹脂を充填して硬化させ、そして成形体とその外周の熱硬化性樹脂製硬化体とからなる熱硬化性樹脂成形体を成形型から取り出し、低融点金属の成形体を溶融除去することによって、球形の熱硬化性樹脂硬化体の内周に導電回路が転写して形成された立体回路板を製造する方法が提案されている(特許文献1参照)。   A method of manufacturing a three-dimensional circuit board by forming a circuit on the inner periphery of a three-dimensional insulating substrate such as a cylinder or a sphere has been studied. For example, a conductive circuit is formed on the surface of a molded body that is formed into a spherical shape with a low-melting-point metal such as tin or solder, and this molded body is loaded in a state where a space is maintained on the inner periphery of the mold, The thermosetting resin is filled and cured, and the thermosetting resin molded body composed of the molded body and the thermosetting resin cured body on the outer periphery thereof is taken out of the mold, and the low melting point metal molded body is melted and removed. Thus, a method of manufacturing a three-dimensional circuit board formed by transferring a conductive circuit to the inner periphery of a spherical thermosetting resin cured body has been proposed (see Patent Document 1).

特許文献1において、球状の成形体の表面に導電回路を形成するにあたっては、成形体の表面にレジスト膜を設け、フォトマスクを用いて露光すると共に現像して回路パターンに対応する部分のレジスト膜を除去した後、レジスト膜の除去部分に導電材を付着させることによって行なわれている。しかしこのようなフォトマスクを用いたパターニングの工程を経て導電回路の形成を行なう場合、工数が多くなって生産性に問題があると共に、筒型や球形などの三次元立体形状の表面に精度高く露光してパターニングすることは困難であり、精度高く導電回路を形成することが難しいという問題があった。   In Patent Document 1, when a conductive circuit is formed on the surface of a spherical molded body, a resist film is provided on the surface of the molded body, exposed using a photomask and developed, and the resist film corresponding to the circuit pattern is developed. Is removed, and then a conductive material is attached to the removed portion of the resist film. However, when forming a conductive circuit through a patterning process using such a photomask, there are problems in productivity due to increased man-hours and high accuracy on the surface of a three-dimensional solid shape such as a cylindrical shape or a spherical shape. It is difficult to expose and pattern, and there is a problem that it is difficult to form a conductive circuit with high accuracy.

一方、特許文献1のこのような課題を解決するために、筒形などの立体形状の絶縁基材の内面にレーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成することが提案されている(特許文献2参照)。この方法は、転写用成形体の表面に導電層を形成し、レーザ等の電磁波を照射して回路を形成し、回路形成した外側に絶縁基材を成形した後、転写用基材を除去するものであり、絶縁基材に回路を残した状態で転写用基材を除去することによって、筒形などの立体形状の絶縁基材の内周に回路形成することを可能としたものである。
特開平9−148712号公報 特開2006−49574号公報
On the other hand, in order to solve such a problem of Patent Document 1, it has been proposed to form a circuit on the inner surface of a three-dimensional insulating substrate such as a cylinder by a patterning method using an electromagnetic wave such as a laser (patent) Reference 2). In this method, a conductive layer is formed on the surface of a transfer molding, an electromagnetic wave such as a laser is irradiated to form a circuit, an insulating substrate is molded outside the circuit formed, and then the transfer substrate is removed. By removing the transfer substrate while leaving a circuit on the insulating substrate, a circuit can be formed on the inner periphery of a three-dimensional insulating substrate such as a cylinder.
JP-A-9-148712 JP 2006-49574 A

しかしながら、特許文献2に記載の手法において、転写用樹脂として、その実施例に記載のようなポリ乳酸樹脂を使用すると、アルカリ水溶液で溶解することが困難である。そのため、ポリエチレングリコールを10%程度配合して使用するが、回路形成工程において、特に湿式めっき工程において、転写用樹脂の一部が特定のめっき工程で溶け出してしまい、めっきが汚染されるという問題がある。   However, in the technique described in Patent Document 2, when a polylactic acid resin as described in the examples is used as a transfer resin, it is difficult to dissolve in an alkaline aqueous solution. For this reason, polyethylene glycol is used in an amount of about 10%. However, in the circuit formation process, particularly in the wet plating process, a part of the transfer resin melts in the specific plating process, and the plating is contaminated. There is.

また、耐熱性が高く、樹脂の流れ性が良い液晶性ポリマーを絶縁基材に使用すると、液晶性ポリマーは固化速度が速く、導電性回路との密着力が低く、転写できずに回路が剥離してしまう等の問題がある。   In addition, when a liquid crystalline polymer with high heat resistance and good resin flow is used for the insulating substrate, the liquid crystalline polymer has a high solidification speed, low adhesion to the conductive circuit, and the circuit peels off without being transferred. There are problems such as.

本発明は、上記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、筒形などの立体形状の絶縁基材の内周に、容易に且つ信頼性良く回路形成する方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method for easily and reliably forming a circuit on the inner periphery of a three-dimensional insulating substrate such as a cylinder.

即ち本発明は、ポリグリコール酸系樹脂成形品の表面に金属被覆を行い回路形成した成形品をインサート材として用い、エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーにてインサート成形し金属回路を液晶性ポリマーに転写させた後、ポリグリコール酸系樹脂を除去することを特徴とする回路形成部品の製造方法である。   That is, the present invention uses a molded article obtained by coating the surface of a polyglycolic acid-based resin molded article and forming a circuit as an insert material, insert molding with a liquid crystalline polymer to which an epoxy resin is added, and converting the metallic circuit into a liquid crystalline polymer. After the transfer, the method for producing a circuit forming component is characterized in that the polyglycolic acid resin is removed.

本発明によれば、筒形などの立体形状の絶縁基材の内周に、容易に且つ信頼性良く回路を形成することが可能である。本発明の回路形成部品は、マイクロアクチュエータ、マイクロ静電エンコーダ、マイクロ静電モータ、マイクロポンプなどの部品として使用することができる。   According to the present invention, it is possible to easily and reliably form a circuit on the inner periphery of a three-dimensional insulating base material such as a cylinder. The circuit forming component of the present invention can be used as a component such as a micro actuator, a micro electrostatic encoder, a micro electrostatic motor, or a micro pump.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に使用されるポリグリコール酸系樹脂は、下記一般式(3)で表されるグリコール酸繰り返し単位のみからなるグリコール酸の単独重合体、即ちポリグリコール酸(グリコール酸の2分子間環状エステルであるグリコリド(GL)の開環重合物を含む)に加えて、上記グリコール酸繰り返し単位を60重量%以上含むグリコール酸共重合体を含むものである。   The polyglycolic acid resin used in the present invention is a glycolic acid homopolymer consisting only of glycolic acid repeating units represented by the following general formula (3), that is, polyglycolic acid (a bimolecular cyclic ester of glycolic acid). And a glycolic acid copolymer containing 60% by weight or more of the above-mentioned glycolic acid repeating unit.

Figure 0005196430
Figure 0005196430

上記グリコリドのグリコール酸モノマーとともにグリコール酸共重合体を与えるコモノマーとしては、例えば、シュウ酸エチレン(即ち、1,4−ジオキサン−2,3−ジオン)、ラクチド類、ラクトン類(例えば、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、β−ピパロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等)、カーボネート類(例えば、トリメチレンカーボネート等)、エーテル類(例えば、1,3−ジオキサン等)、エーテルエステル類(例えば、ジオキサノン等)、アミド類(例えば、ε−カプロラクタム等)などの環状モノマー;乳酸、3−ヒドロキシプロパン酸、3−ヒドロキシブタン酸、4−ヒドロキシブタン酸、6−ヒドロキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸又はそのアルキルエステル;エチレングリコール、1,4−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類と、コハク酸、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸類又はそのアルキルエステル類との実質的に等モルの混合物;又はこれらの2種以上を挙げることができる。これらコモノマーは、その重合体を、上記グリコリドのグリコール酸モノマーとともに、グリコール酸共重合体を与えるための出発原料として用いることもできる。   Examples of the comonomer that gives a glycolic acid copolymer together with the glycolic acid monomer of glycolide include ethylene oxalate (that is, 1,4-dioxane-2,3-dione), lactides, and lactones (for example, β-pro Piolactone, β-butyrolactone, β-piparolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, β-methyl-δ-valerolactone, ε-caprolactone, etc.), carbonates (eg, trimethylene carbonate, etc.), ethers (eg, , 1,3-dioxane, etc.), cyclic esters such as ether esters (eg, dioxanone), amides (eg, ε-caprolactam, etc.); lactic acid, 3-hydroxypropanoic acid, 3-hydroxybutanoic acid, 4- Hydroxy, such as hydroxybutanoic acid and 6-hydroxycaproic acid A carboxylic acid or an alkyl ester thereof; a substantially equimolar mixture of an aliphatic diol such as ethylene glycol or 1,4-butanediol and an aliphatic dicarboxylic acid such as succinic acid or adipic acid or an alkyl ester thereof; Or 2 or more types of these can be mentioned. These comonomers can be used as a starting material for giving a glycolic acid copolymer together with the glycolic acid monomer of glycolide.

ポリグリコール酸系樹脂は、ヘキサフルオロイソプロパノール溶媒を用いるGPC測定における分子量(ポリメチルメタクリレート換算のMw(重量平均分子量))が1,000〜500,000の範囲であることが好ましい。分子量が高すぎると、本発明における回路形成部品の製造の際に除去が困難になり、分子量が低すぎると、成形が困難になるため適切な分子量を選ぶ必要がある。   The polyglycolic acid resin preferably has a molecular weight (Mw in terms of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight)) in the range of 1,000 to 500,000 in GPC measurement using a hexafluoroisopropanol solvent. If the molecular weight is too high, it becomes difficult to remove at the time of manufacturing the circuit-forming component in the present invention, and if the molecular weight is too low, molding becomes difficult, so an appropriate molecular weight needs to be selected.

本発明におけるポリグリコール酸系樹脂には、成形性や分解性、結晶性等を改善する目的で、無機系及び有機系の添加剤や他の分解性樹脂、水溶性樹脂を加えることもできる。   In the present invention, inorganic and organic additives, other decomposable resins and water-soluble resins can be added for the purpose of improving moldability, decomposability, crystallinity and the like.

本発明に用いるポリグリコール酸系樹脂成形品は、表面の結晶化度が5%以上であることが好ましい。ポリグリコール酸系樹脂は成形条件によって、結晶にも非晶にもなる樹脂であり、ポリグリコール酸系樹脂成形品表面が非晶であると、その上に形成する金属膜にクラック(ひび)が入ることがある。ポリグリコール酸系樹脂成形品表面の結晶化度が5%以上であると、クラック(ひび)が入らない安定した良好な金属膜を得ることができる。   The polyglycolic acid resin molded product used in the present invention preferably has a surface crystallinity of 5% or more. The polyglycolic acid resin is a resin that can be either crystalline or amorphous depending on the molding conditions. If the surface of the polyglycolic acid resin molded product is amorphous, there will be cracks in the metal film formed on it. May enter. When the crystallinity of the surface of the polyglycolic acid resin molded product is 5% or more, a stable and good metal film free from cracks can be obtained.

ポリグリコール酸系樹脂成形品表面の結晶化度を5%以上とするには、射出成形時に金型内で結晶化させる方法を用いることができる。例えば、ポリグリコール酸系樹脂成形品の射出成形条件を、比較的高温条件、樹脂温度230〜270℃、金型温度80〜130℃とすることで可能である。   In order to set the crystallinity of the surface of the polyglycolic acid resin molded article to 5% or more, a method of crystallizing in the mold at the time of injection molding can be used. For example, the injection molding conditions of the polyglycolic acid resin molded product can be set to relatively high temperature conditions, a resin temperature of 230 to 270 ° C., and a mold temperature of 80 to 130 ° C.

また、上記射出成形条件よりも低温で射出成形した成形品であっても、成形後、100〜130℃で20秒以上1時間以下の熱処理を施すことにより、表面の結晶化度5%以上を達成することができる。熱処理の手法としては、オーブン、熱風炉等を用いることができる。勿論、上記射出成形条件で射出成形した成形品に対して上記熱処理を施してもかまわない。   Moreover, even if it is a molded product injection-molded at a temperature lower than the above-mentioned injection molding conditions, by performing a heat treatment at 100 to 130 ° C. for 20 seconds to 1 hour after molding, the surface crystallinity is 5% or more. Can be achieved. As a heat treatment method, an oven, a hot stove, or the like can be used. Of course, the heat treatment may be applied to a molded product injection-molded under the injection molding conditions.

次に、このポリグリコール酸系樹脂表面に金属被覆を行う。金属被覆方法としては、常法の電気メッキ、化学メッキ、イオンプレーティング、スパッタ及び蒸着より選ばれる1又は2以上の方法を組み合わせることができる。   Next, metal coating is performed on the surface of the polyglycolic acid resin. As the metal coating method, one or more methods selected from conventional electroplating, chemical plating, ion plating, sputtering and vapor deposition can be combined.

次に、表面が金属被覆されたポリグリコール酸系樹脂成形品に対し、露光、レーザ、切削加工等の適当な方法で回路を形成する。   Next, a circuit is formed on the polyglycolic acid resin molded product whose surface is metal-coated by an appropriate method such as exposure, laser, or cutting.

次いで、この回路形成した成形品をインサート材として用い、エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーにてインサート成形を行う。   Next, the molded product formed with the circuit is used as an insert material, and insert molding is performed with a liquid crystalline polymer to which an epoxy resin is added.

本発明で用いる液晶性ポリマーとは、光学異方性溶融相を形成し得る性質を有する溶融加工性ポリマーを指す。異方性溶融相の性質は、直交偏光子を利用した慣用の偏光検査法により確認することが出来る。より具体的には、異方性溶融相の確認は、Leitz偏光顕微鏡を使用し、Leitzホットステージに載せた溶融試料を窒素雰囲気下で40倍の倍率で観察することにより実施できる。本発明に適用できる液晶性ポリマーは直交偏光子の間で検査したときに、たとえ溶融静止状態であっても偏光は通常透過し、光学的に異方性を示す。   The liquid crystalline polymer used in the present invention refers to a melt processable polymer having a property capable of forming an optically anisotropic molten phase. The property of the anisotropic molten phase can be confirmed by a conventional polarization inspection method using an orthogonal polarizer. More specifically, the anisotropic molten phase can be confirmed by using a Leitz polarizing microscope and observing a molten sample placed on a Leitz hot stage under a nitrogen atmosphere at a magnification of 40 times. When the liquid crystalline polymer applicable to the present invention is inspected between crossed polarizers, the polarized light is normally transmitted even in the molten stationary state, and optically anisotropic.

前記のような液晶性ポリマーとしては特に限定されないが、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドであることが好ましく、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドを同一分子鎖中に部分的に含むポリエステルもその範囲にある。これらは60℃でペンタフルオロフェノールに濃度0.1重量%で溶解したときに、好ましくは少なくとも約2.0dl/g、さらに好ましくは2.0〜10.0dl/gの対数粘度(I.V.)を有するものが使用される。   The liquid crystalline polymer as described above is not particularly limited, but is preferably an aromatic polyester or an aromatic polyester amide, and a polyester partially containing an aromatic polyester or an aromatic polyester amide in the same molecular chain. It is in. They preferably have a logarithmic viscosity (IV) of at least about 2.0 dl / g, more preferably 2.0-10.0 dl / g when dissolved in pentafluorophenol at 60 ° C. at a concentration of 0.1% by weight. .) Are used.

本発明に適用できる液晶性ポリマーとしての芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドとして特に好ましくは、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンの群から選ばれた少なくとも1種以上の化合物を構成成分として有する芳香族ポリエステル、芳香族ポリエステルアミドである。   The aromatic polyester or aromatic polyester amide as the liquid crystalline polymer applicable to the present invention is particularly preferably at least one compound selected from the group of aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic hydroxyamines, and aromatic diamines. Aromatic polyesters and aromatic polyester amides as constituent components.

より具体的には、
(1)主として芳香族ヒドロキシカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上からなるポリエステル;
(2)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオールおよびその誘導体の少なくとも1種又は2種以上、とからなるポリエステル;
(3)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンおよびその誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上、とからなるポリエステルアミド;
(4)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンおよびその誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸およびその誘導体の1種又は2種以上と、(d)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオールおよびその誘導体の少なくとも1種又は2種以上、とからなるポリエステルアミドなどが挙げられる。さらに上記の構成成分に必要に応じ分子量調整剤を併用してもよい。
More specifically,
(1) A polyester mainly composed of one or more aromatic hydroxycarboxylic acids and derivatives thereof;
(2) mainly (a) one or more of aromatic hydroxycarboxylic acids and derivatives thereof; and (b) one or more of aromatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids and derivatives thereof; c) Polyester comprising at least one or more of aromatic diol, alicyclic diol, aliphatic diol and derivatives thereof;
(3) mainly (a) one or more aromatic hydroxycarboxylic acids and derivatives thereof; (b) one or more aromatic hydroxyamines, aromatic diamines and derivatives thereof; and (c). A polyesteramide comprising one or more of aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid and derivatives thereof;
(4) mainly (a) one or more aromatic hydroxycarboxylic acids and derivatives thereof; (b) one or more aromatic hydroxyamines, aromatic diamines and derivatives thereof; and (c). One or more of aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid and derivatives thereof; and (d) at least one or more of aromatic diol, alicyclic diol, aliphatic diol and derivatives thereof, and The polyesteramide which consists of, etc. are mentioned. Furthermore, you may use a molecular weight modifier together with said structural component as needed.

本発明に適用できる前記液晶性ポリマーを構成する具体的化合物の好ましい例としては、p−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等の芳香族ヒドロキシカルボン酸、2,6−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノン、レゾルシン、下記一般式(I)および下記一般式(II)で表される化合物等の芳香族ジオール;テレフタル酸、イソフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸および下記一般式(III)で表される化合物等の芳香族ジカルボン酸;p−アミノフェノール、p−フェニレンジアミン等の芳香族アミン類が挙げられる。   Preferable examples of specific compounds constituting the liquid crystalline polymer applicable to the present invention include p-hydroxybenzoic acid, aromatic hydroxycarboxylic acids such as 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 2,6-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 4,4′-dihydroxybiphenyl, hydroquinone, resorcin, aromatic diols such as compounds represented by the following general formula (I) and the following general formula (II); terephthalic acid, isophthalic acid, 4 , 4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acids such as compounds represented by the following general formula (III); aromatic amines such as p-aminophenol and p-phenylenediamine Can be mentioned.

Figure 0005196430
Figure 0005196430

(但し、X :アルキレン(C1〜C4)、アルキリデン、-O- 、-SO-、-SO- 、-S-、-CO-より選ばれる基、Y :-(CH)-(n =1〜4)、-O(CH)O-(n =1〜4)より選ばれる基)
本発明が適用される特に好ましい液晶性ポリマーとしては、p−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸を主構成単位成分とする芳香族ポリエステルである。
(However, X: alkylene (C1 -C4), alkylidene, -O-, -SO -, - SO 2 -, -S -, - CO- than group selected, Y :-( CH 2) n - (n = 1~4), - O (CH 2) n O- (n = 1~4) from the group selected)
Particularly preferred liquid crystalline polymers to which the present invention is applied are aromatic polyesters containing p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid as main structural unit components.

また、液晶性ポリマーとしては、融点が330℃以下のものを使用するのが好ましい。融点が330℃を超える液晶性ポリマーを用いると、成形時の樹脂温度を340℃以上にする必要が生じ、添加したエポキシ樹脂が分解を興し、成形時にガス発生が急激に多くなり、金属膜との密着を阻害する場合がある。融点が330℃以下の液晶性ポリマーを用いると、液晶性ポリマーと金属膜との安定した密着力を得ることができる。なお、融点の測定は、示差走査熱量分析装置(パーキンエルマー社製DSC7)にて、20℃/分の昇温条件で測定した。   As the liquid crystalline polymer, it is preferable to use a polymer having a melting point of 330 ° C. or lower. If a liquid crystalline polymer with a melting point exceeding 330 ° C is used, the resin temperature during molding must be 340 ° C or higher, the added epoxy resin will decompose, and gas generation will rapidly increase during molding, May interfere with the adhesion. When a liquid crystalline polymer having a melting point of 330 ° C. or lower is used, a stable adhesion between the liquid crystalline polymer and the metal film can be obtained. The melting point was measured with a differential scanning calorimeter (DSC7 manufactured by Perkin Elmer Co., Ltd.) under a temperature rising condition of 20 ° C./min.

液晶性ポリマーに添加されるエポキシ樹脂としては、前記一般式(1)又は(2)で表されるものが好ましい。このようなエポキシ樹脂は液晶性ポリマーとの分散性が良く、金属膜との安定した密着力を得ることができる。前記一般式(1)及び(2)中、Rで表される炭素原子数1〜3のアルキリデン基としては、メチレン、エチリデン、2,2’−プロピリデン等の基が挙げられ、R及びRで表される炭素原子数1〜5のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が挙げられる。 As an epoxy resin added to a liquid crystalline polymer, what is represented by the said General formula (1) or (2) is preferable. Such an epoxy resin has good dispersibility with the liquid crystalline polymer and can obtain a stable adhesion to the metal film. In the general formulas (1) and (2), examples of the alkylidene group having 1 to 3 carbon atoms represented by R include groups such as methylene, ethylidene, and 2,2′-propylidene, and R 1 and R Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by 2 include groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl.

又、nは0.1〜30、好ましくは1〜15の実数である。Xは水素原子又はグリシジル基を示すが、Xの20〜100%がグリシジル基でなければならず、特に25〜100%がグリシジル基であることが好ましい。ここで、nで表される実数及びXに占めるグリシジル基の比率(以下、再エポキシ化率という)は、いずれも平均値を表すものである。nが0.1未満である場合あるいはXのグリシジル基比率が20%未満の場合には、三官能以上の多官能エポキシ化合物の含有量が少なくなるため好ましくない。nが30を超えると高粘度となり、作業性が悪くなり好ましくない。   N is a real number of 0.1 to 30, preferably 1 to 15. X represents a hydrogen atom or a glycidyl group, and 20 to 100% of X must be a glycidyl group, and particularly preferably 25 to 100% is a glycidyl group. Here, the real number represented by n and the ratio of the glycidyl group in X (hereinafter referred to as re-epoxidation rate) both represent average values. When n is less than 0.1 or when the glycidyl group ratio of X is less than 20%, the content of the trifunctional or higher polyfunctional epoxy compound is decreased, which is not preferable. When n exceeds 30, the viscosity becomes high, and workability deteriorates, which is not preferable.

前記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂において、好ましいものはRがメチレン基又は2,2’−プロピリデン基であり、p及びqが共に0であり、nが1〜15の実数のものである。   In the epoxy resin represented by the general formula (1), preferable are those in which R is a methylene group or 2,2′-propylidene group, p and q are both 0, and n is a real number of 1 to 15. It is.

又、前記一般式(2)で表されるエポキシ樹脂において、好ましいものはr及びsが共に0であり、nが1〜15の実数のものである。   In the epoxy resin represented by the general formula (2), preferred are those in which r and s are both 0 and n is a real number of 1 to 15.

本発明に用いられる前記一般式(1)又は(2)で表されるエポキシ樹脂は、その製造方法により制限されるものではないが、例えば、下記一般式(4)又は(5)で表される汎用のビスフェノール系エポキシ樹脂とエピクロルヒドリンとを重合して製造することができる。   Although the epoxy resin represented by the general formula (1) or (2) used in the present invention is not limited by the production method, for example, it is represented by the following general formula (4) or (5). It can be produced by polymerizing a general-purpose bisphenol-based epoxy resin and epichlorohydrin.

Figure 0005196430
Figure 0005196430

(式中、n、R、R、R、p、q、r及びsは、前記一般式(1)及び(2)中のn、R、R、R、p、q、r及びsと同じである。)
本発明において、エポキシ樹脂の添加量は重要であり、少ないと液晶性ポリマーと金属回路との十分な密着が得られず、ポリグリコール酸系樹脂を除去する際に、液晶性ポリマーから金属回路が剥離してしまう問題が発生する。また、逆に多すぎると成形時のガス発生が多くなり、液晶性ポリマーと金属回路との密着を阻害してしまう問題が発生する。そのため、エポキシ樹脂の添加量は液晶性ポリマー100重量部に対し1〜10重量部である。
(Wherein, n, R, R 1, R 2, p, q, r and s, n in the general formula (1) and (2), R, R 1 , R 2, p, q, r And s.)
In the present invention, the addition amount of the epoxy resin is important. If the amount is small, sufficient adhesion between the liquid crystalline polymer and the metal circuit cannot be obtained, and the metal circuit is removed from the liquid crystalline polymer when the polyglycolic acid resin is removed. The problem of peeling occurs. On the other hand, if the amount is too large, gas generation at the time of molding increases, which causes a problem of inhibiting the adhesion between the liquid crystalline polymer and the metal circuit. Therefore, the addition amount of the epoxy resin is 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the liquid crystalline polymer.

また、液晶性ポリマーには、使用目的に応じて各種の公知の繊維状、粉粒状、板状の無機の充填剤を配合することができる。繊維状充填剤としてはガラス繊維、炭素繊維、カーボンナノチューブ、チタン酸カリウム繊維等の無機質繊維状物質が挙げられ、粉粒状充填剤としてはカーボンブラック、フラーレン、黒鉛、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ミルドガラスファイバー、ガラスバルーン、ガラス粉、タルク、ウォラストナイトの如き硅酸塩、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナの如き金属の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムの如き金属の炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムの如き金属の硫酸塩等が挙げられ、板状充填剤としてはマイカ、ガラスフレーク、各種の金属箔等が挙げられる。   Moreover, various well-known fibrous, granular, and plate-like inorganic fillers can be blended with the liquid crystalline polymer according to the purpose of use. Examples of fibrous fillers include inorganic fibrous materials such as glass fibers, carbon fibers, carbon nanotubes, and potassium titanate fibers, and granular fillers include carbon black, fullerene, graphite, silica, quartz powder, glass beads, Milled glass fiber, glass balloon, glass powder, talc, wollastonite such as oxalate, titanium oxide, zinc oxide, metal oxide such as alumina, calcium carbonate, magnesium carbonate such as magnesium carbonate, calcium sulfate, Examples thereof include metal sulfates such as barium sulfate, and examples of the plate-like filler include mica, glass flakes and various metal foils.

これらの無機充填剤は一種又は二種以上併用することが出来る。   These inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more.

上記の通り、回路形成した成形品をインサート材として用い、エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーにてインサート成形を行い、金属回路を液晶性ポリマーに転写させた後、ポリグリコール酸系樹脂を除去する。これにより、絶縁基材の内周に回路形成した回路形成部品が出来上がる。   As described above, the molded product with the circuit formed is used as an insert material, insert molding is performed with a liquid crystalline polymer to which an epoxy resin is added, the metal circuit is transferred to the liquid crystalline polymer, and then the polyglycolic acid resin is removed. . Thereby, the circuit formation component which formed the circuit in the inner periphery of the insulating base material is completed.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

以下の実施例で使用した材料・成形方法等は以下の通りである。
・ポリグリコール酸系樹脂
ジャケット構造を有し、密閉可能な容器内に、グリコリド((株)クレハ製、不純物含量:グリコール酸30ppm、グリコール酸二量体230ppm、水分42ppm)を355kg加え、容器を密閉し、攪拌しながらジャケットにスチームを循環させ、100℃になるまで加熱して内容物を溶融し、均一な溶液とした。この溶液内に、攪拌しながら二塩化スズ二水和物10.7g及び1−ドデシルアルコール1220gを加えた。
The materials and molding methods used in the following examples are as follows.
-Polyglycolic acid-based resin In a sealable container, 355 kg of glycolide (manufactured by Kureha Co., Ltd., impurity content: glycolic acid 30 ppm, glycolic acid dimer 230 ppm, moisture 42 ppm) is added, and the container is The mixture was sealed, and steam was circulated through the jacket while stirring, and the contents were melted by heating to 100 ° C. to obtain a uniform solution. To this solution, 10.7 g of tin dichloride dihydrate and 1220 g of 1-dodecyl alcohol were added with stirring.

内容物の温度を100℃に保持したまま、内径24mmの金属(SUS304)製管を複数有する重合装置に移した。この装置は、管が設置してある本体部と上板からなり、本体部と上板のいずれもジャケット構造を備えてなり、このジャケット部に熱媒体油を循環する構造になっている。内容物を各管内に移送したら、直ちに上板を取り付けた。   While maintaining the temperature of the contents at 100 ° C., the contents were transferred to a polymerization apparatus having a plurality of metal (SUS304) tubes having an inner diameter of 24 mm. This apparatus is composed of a main body portion on which a pipe is installed and an upper plate, and both the main body portion and the upper plate have a jacket structure, and heat medium oil is circulated through the jacket portion. As soon as the contents were transferred into each tube, an upper plate was attached.

この本体部及び上板のジャケット部に170℃熱媒体油を循環させ、7時間保持した。7時間後、熱媒体油を室温まで冷却した後、上板を取り外し、本体部を縦方向に回転させることによって、生成ポリグリコール酸の塊状物を取り出した。この塊状物を、粉砕機により粉砕し、120℃で一晩乾燥し、ポリグリコール酸粉砕品を得た。   A heat medium oil of 170 ° C. was circulated through the main body portion and the jacket portion of the upper plate and held for 7 hours. After 7 hours, the heat transfer oil was cooled to room temperature, and then the upper plate was removed, and the body part was rotated in the vertical direction to take out the mass of the produced polyglycolic acid. This lump was pulverized by a pulverizer and dried overnight at 120 ° C. to obtain a polyglycolic acid pulverized product.

このポリグリコール酸粉砕品に熱安定剤として、モノ−およびジ−ステアリルアシッドホスフェートのほぼ等モル混合物((株)ADEKA製「アデカスタブAX−71」)をポリグリコール酸粉砕品に対して300ppmの割合で添加し混合したものを、二軸押出機を用いて押出し、ポリグリコール酸樹脂ペレットを得た。得られたポリグリコール酸樹脂ペレットを窒素雰囲気の乾燥機内で、200℃で9時間熱処理した。   In this polyglycolic acid pulverized product, an approximately equimolar mixture of mono- and di-stearyl acid phosphates (“ADEKA STAB AX-71” manufactured by ADEKA Co., Ltd.) at a ratio of 300 ppm with respect to the pulverized polyglycolic acid product. The product added and mixed in was extruded using a twin screw extruder to obtain polyglycolic acid resin pellets. The obtained polyglycolic acid resin pellets were heat-treated at 200 ° C. for 9 hours in a dryer in a nitrogen atmosphere.

このようにして得られたポリグリコール酸樹脂を以下の実施例で用いた。
・エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマー
液晶性ポリマー(ポリプラスチックス(株)製ベクトラC950;融点325℃)100重量部に下記エポキシ樹脂5重量部及びガラスファイバー25重量部を添加し、二軸押出機((株)日本製鋼所製TEX30α型)を用いて330℃にて混練しペレット化したものを用いた。
(エポキシ樹脂)
還流装置、攪拌装置、減圧装置及び滴下装置を備えたフラスコ中に、ビスフェノールA系エポキシ樹脂(前記一般式(4)において、n=2.1、p=q=0、Rが2,2’−プロピリデン基のもの)47.5重量部、エピクロルヒドリン95重量部及びテトラメチルアンモニウムクロライド0.2重量部を仕込み、上記滴下装置中に水酸化ナトリウム9.5重量部を48重量%水溶液として入れておく。この水酸化ナトリウム水溶液を還流下50〜60℃の内部温度で80torrで2時間かけて滴下し、同時に水を共沸蒸留により除去した。その後、更に2時間反応させ、冷却、濾過し、溶媒を蒸発除去して、目的のエポキシ樹脂(再エポキシ化率=87%、軟化点40℃)を得た。
[回路形成部品の製造]
以下、図1の手順により回路形成部品を製造した。
The polyglycolic acid resin thus obtained was used in the following examples.
・ Liquid crystal polymer with epoxy resin added 5 parts by weight of the following epoxy resin and 25 parts by weight of glass fiber are added to 100 parts by weight of liquid crystal polymer (Polyplastics Vectra C950; melting point 325 ° C.) and biaxial extrusion is performed. Using a machine (Tex30α type, manufactured by Nippon Steel Works, Ltd.), kneaded at 330 ° C. and pelletized.
(Epoxy resin)
In a flask equipped with a reflux apparatus, a stirring apparatus, a decompression apparatus, and a dropping apparatus, a bisphenol A-based epoxy resin (in the general formula (4), n = 2.1, p = q = 0, R is 2,2 ′ -Propyridene group) 47.5 parts by weight, epichlorohydrin 95 parts by weight and tetramethylammonium chloride 0.2 parts by weight were charged, and 9.5 parts by weight of sodium hydroxide was added as a 48% by weight aqueous solution in the dropping apparatus. deep. This aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 80 torr at an internal temperature of 50 to 60 ° C. over 2 hours under reflux, and at the same time, water was removed by azeotropic distillation. Thereafter, the mixture was further reacted for 2 hours, cooled, filtered, and the solvent was removed by evaporation to obtain the desired epoxy resin (re-epoxidation rate = 87%, softening point 40 ° C.).
[Manufacture of circuit forming parts]
In the following, circuit-formed components were manufactured according to the procedure shown in FIG.

先ず、図1(a)に示すような、三次元立体表面を外面に有する円柱状成形品をポリグリコール酸系樹脂から、射出成形機を用いて、樹脂温度260℃、金型温度120℃で成形した。得られたポリグリコール酸系樹脂成形品表面の結晶化度は5%以上(約15%)であった。   First, as shown in FIG. 1 (a), a cylindrical molded article having a three-dimensional solid surface on the outer surface is made from a polyglycolic acid resin using an injection molding machine at a resin temperature of 260 ° C. and a mold temperature of 120 ° C. Molded. The crystallinity of the surface of the obtained polyglycolic acid resin molded product was 5% or more (about 15%).

尚、結晶化度は以下のようにして測定した。
(結晶化度測定法)
ポリグリコール酸系樹脂成形品の表面を切削し試験片とした。四塩化炭素および1,2−ジクロロエタンを用いて比重液を調製し、密度勾配配管法によって23℃における上記試験片の密度Dを測定した。得られた密度D、ポリグリコール酸の結晶密度D1=1.69g/cm、非晶密度D2=1.51g/cmから次式によって結晶化度(%)を算出した。
The crystallinity was measured as follows.
(Crystallinity measurement method)
The surface of the polyglycolic acid resin molded product was cut into a test piece. A specific gravity solution was prepared using carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane, and the density D of the test piece at 23 ° C. was measured by a density gradient piping method. From the obtained density D, polyglycolic acid crystal density D1 = 1.69 g / cm 3 , and amorphous density D2 = 1.51 g / cm 3 , the degree of crystallinity (%) was calculated by the following formula.

結晶化度(%)=(D−D2)/(D1−D2)×100
次いで、図1(b)に示すように、ポリグリコール酸系樹脂成形品1の外周表面に金属皮膜2を形成した。金属皮膜2の形成はスパッタリング等のDVD法で行った。金属として銅をサブミクロンの厚みに形成した。
Crystallinity (%) = (D−D2) / (D1−D2) × 100
Next, as shown in FIG. 1B, a metal film 2 was formed on the outer peripheral surface of the polyglycolic acid resin molded product 1. The metal film 2 was formed by a DVD method such as sputtering. Copper as a metal was formed to a thickness of submicron.

上記のようにポリグリコール酸系樹脂成形品1の外周表面に金属皮膜2を形成した後、外側から金属皮膜2に電磁波を照射した。電磁波としては、波長532nmのYAG−SHGや波長355nmのYAG−THGなどのレーザを用いることができる。このように金属皮膜2に電磁波を照射することによって、図1(c)に示すように、電磁波が照射された部分の金属を除去し、回路パターンを形成することができる。電磁波は回路パターンを形成する端の外形に沿って走査して、回路部と非回路部を電気的に縁切りし、電気めっきで回路部に通電して金属皮膜を厚く形成し(図1(d)参照)。その後に全体にサブミクロンの厚みの金属皮膜を除去(ライトエッチング)し、回路形成を行った。   After forming the metal film 2 on the outer peripheral surface of the polyglycolic acid resin molded article 1 as described above, the metal film 2 was irradiated with electromagnetic waves from the outside. As the electromagnetic wave, a laser such as YAG-SHG having a wavelength of 532 nm or YAG-THG having a wavelength of 355 nm can be used. By irradiating the metal film 2 with electromagnetic waves in this way, as shown in FIG. 1 (c), the portion of the metal irradiated with the electromagnetic waves can be removed and a circuit pattern can be formed. The electromagnetic wave scans along the outer shape of the edge forming the circuit pattern, electrically cuts the circuit portion and the non-circuit portion, and energizes the circuit portion by electroplating to form a thick metal film (FIG. 1 (d )reference). Thereafter, a metal film having a thickness of submicron was removed (light etching) to form a circuit.

このようにポリグリコール酸系樹脂成形品1の外面に回路パターンによって回路を形成した後、図1(e)に示すように、ポリグリコール酸系樹脂成形品1の外面に全周に亘ってエポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマー3を成形して積層した。エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマー3の成形は、ポリグリコール酸系樹脂成形品1をインサート材として金型内にセットし、金型の内周とポリグリコール酸系樹脂成形品1の外周の隙間に樹脂を充填するインサート成形することによって行った。   After forming a circuit with a circuit pattern on the outer surface of the polyglycolic acid resin molded article 1 in this way, as shown in FIG. 1 (e), an epoxy is formed on the outer surface of the polyglycolic acid resin molded article 1 over the entire circumference. The liquid crystalline polymer 3 to which the resin was added was molded and laminated. Molding of the liquid crystalline polymer 3 to which the epoxy resin is added is performed by setting the polyglycolic acid resin molded product 1 in the mold as an insert material, and the gap between the inner periphery of the mold and the outer periphery of the polyglycolic acid resin molded product 1 It was performed by insert molding in which the resin was filled.

上記のように、エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーを成形することにより、回路を液晶性ポリマーに転写させることができる。   As described above, the circuit can be transferred to the liquid crystalline polymer by molding the liquid crystalline polymer to which the epoxy resin is added.

この後、液晶性ポリマー3の内側からポリグリコール酸系樹脂成形品1を除去することによって、図1(f)に示すように、ポリグリコール酸系樹脂成形品1から液晶性ポリマー3の内周に転写されて回路が形成された回路形成部品4を得ることができた。   Thereafter, by removing the polyglycolic acid resin molded product 1 from the inside of the liquid crystalline polymer 3, as shown in FIG. 1 (f), the inner circumference of the liquid crystalline polymer 3 from the polyglycolic acid resin molded product 1 is obtained. The circuit forming component 4 in which the circuit was formed by being transferred to was obtained.

ポリグリコール酸系樹脂成形品1の除去は、80℃の5%水酸化ナトリウム水溶液に回路形成部品4を浸漬し、溶解除去することにより行った。この場合、60分でポリグリコール酸系樹脂成形品が完全に除去できた。因みに、ポリグリコール酸系樹脂の変わりにポリ乳酸樹脂を用いた以外は上記実施例と全く同様にして、回路形成部品4を得た場合は、80℃の5%水酸化ナトリウム水溶液に5時間浸漬してもポリ乳酸樹脂は溶解除去できなかった。   The removal of the polyglycolic acid-based resin molded article 1 was performed by immersing the circuit-forming component 4 in a 5% aqueous sodium hydroxide solution at 80 ° C. and removing it by dissolution. In this case, the polyglycolic acid resin molded product could be completely removed in 60 minutes. Incidentally, when the circuit forming component 4 was obtained in the same manner as in the above example except that a polylactic acid resin was used instead of the polyglycolic acid resin, it was immersed in a 5% sodium hydroxide aqueous solution at 80 ° C. for 5 hours. Even so, the polylactic acid resin could not be dissolved and removed.

本発明の実施形態の一例の各工程を示すものであり、(a)乃至(f)はそれぞれ側面断面図である。Each process of an example of embodiment of this invention is shown, (a) thru | or (f) is side sectional drawing, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

1 ポリグリコール酸系樹脂成形品
2 金属皮膜
3 液晶性ポリマー
4 回路形成部品
1 Polyglycolic acid resin molded product 2 Metal film 3 Liquid crystalline polymer 4 Circuit forming component

Claims (8)

ポリグリコール酸系樹脂成形品の表面に金属被覆を行い回路形成した成形品をインサート材として用い、エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーにてインサート成形し金属回路を液晶性ポリマーに転写させた後、ポリグリコール酸系樹脂を除去することを特徴とする回路形成部品の製造方法であって、
前記ポリグリコール酸系樹脂が、下記繰り返し単位(3)で表されるグリコール酸繰り返し単位からなるグリコール酸の単独重合体を含むものであり、
Figure 0005196430
前記ポリグリコール酸系樹脂成形品が、表面の結晶化度が5%以上のものであり、
前記エポキシ樹脂が、下記一般式(1)又は(2)で表されるものである回路形成部品の製造方法。
Figure 0005196430
(式中、nは0.1〜30の実数であり、Rは単結合又は炭素原子数1〜3のアルキリデン基
であり、R 1 及びR 2 は独立して炭素原子数1〜5のアルキル基であり、p及びqは独立して0又は1〜4の整数であり、r及びsは独立して0又は1〜3の整数である。Xは水素原子又はグリシジル基を示すが、Xの20%以上はグリシジル基である。)
After using a molded product with a metal coating on the surface of a polyglycolic acid resin molded product and forming a circuit as an insert material, insert molding with a liquid crystalline polymer to which an epoxy resin has been added and transferring the metal circuit to the liquid crystalline polymer, A method for producing a circuit-forming component, comprising removing a polyglycolic acid-based resin ,
The polyglycolic acid-based resin includes a glycolic acid homopolymer composed of a glycolic acid repeating unit represented by the following repeating unit (3):
Figure 0005196430
The polyglycolic acid resin molded product has a surface crystallinity of 5% or more,
A method for producing a circuit-forming component, wherein the epoxy resin is represented by the following general formula (1) or (2).
Figure 0005196430
(In the formula, n is a real number of 0.1 to 30, and R is a single bond or an alkylidene group having 1 to 3 carbon atoms.
R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, p and q are independently 0 or an integer of 1 to 4, and r and s are independently 0 or It is an integer of 1-3. X represents a hydrogen atom or a glycidyl group, but 20% or more of X is a glycidyl group. )
前記エポキシ樹脂を添加した液晶性ポリマーが、液晶ポリマー100重量部に対してエポキシ樹脂1〜10重量部を含有するものである請求項1記載の回路形成部品の製造方法。 The method for producing a circuit forming component according to claim 1, wherein the liquid crystalline polymer to which the epoxy resin is added contains 1 to 10 parts by weight of the epoxy resin with respect to 100 parts by weight of the liquid crystal polymer . ポリグリコール酸系樹脂成形品の射出成形条件が、樹脂温度230〜270℃、金型温度80〜130℃である請求項1又は2記載の回路形成部品の製造方法。   The method for producing a circuit-forming component according to claim 1 or 2, wherein the injection molding conditions of the polyglycolic acid resin molded product are a resin temperature of 230 to 270 ° C and a mold temperature of 80 to 130 ° C. ポリグリコール酸系樹脂成形品が、100〜130℃で20秒以上1時間以下の熱処理が施されたものである請求項1〜3の何れか1項記載の回路形成部品の製造方法。   The method for producing a circuit-formed component according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyglycolic acid-based resin molded product is heat-treated at 100 to 130 ° C for 20 seconds to 1 hour. ポリグリコール酸系樹脂を、アルカリ水溶液又は高温水蒸気により分解除去する請求項1〜4の何れか1項記載の回路形成部品の製造方法。   The method for producing a circuit-forming component according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyglycolic acid-based resin is decomposed and removed with an alkaline aqueous solution or high-temperature steam. 金属被覆が、電気メッキ、化学メッキ、イオンプレーティング、スパッタ及び蒸着より選ばれる1又は2以上の方法により行われる請求項1〜5の何れか1項記載の回路形成部品の製造方法。   The method for producing a circuit forming component according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal coating is performed by one or more methods selected from electroplating, chemical plating, ion plating, sputtering and vapor deposition. 融点が330℃以下の液晶性ポリマーを用いる請求項1〜6の何れか1項記載の回路形成部品の製造方法。   The method for producing a circuit-forming component according to any one of claims 1 to 6, wherein a liquid crystalline polymer having a melting point of 330 ° C or lower is used. 請求項1〜の何れか1項記載の方法で製造された回路形成部品。 Circuit formed parts produced in any one of claims method according to claim 1-7.
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