JP5181066B2 - Orientation control film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alignment control film having high sensitivity to exposure. <P>SOLUTION: In the alignment control film including polyimide and a precursor of the polyimide, the polyimide and the precursor of the polyimide contain a cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride derivative represented by chemical formula (1) and aromatic diamine as raw materials, and are provided with alignment control power by optical alignment treatment. (Where, at least one of Z<SP POS="POST">1</SP>to Z<SP POS="POST">4</SP>is a substituent represented by -NR<SB POS="POST">2</SB>, -SR, -OH, -COR, -(CH<SB POS="POST">2</SB>)<SB POS="POST">n</SB>-COOR, -CN or -NO<SB POS="POST">2</SB>(R is each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms, and n is an integer of 0-2.), and each of others is a hydrogen atom.) <P>COPYRIGHT: (C)2012,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、配向制御膜に関する。   The present invention relates to an alignment control film.

従来技術として、特許文献1には高電圧保持率および低焼き付き性の液晶配向剤を提供することを課題とし、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体ならびに1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,6−ビス(メチルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、イソホロンまたはこれらのジアミンのアルキル置換体を、テトラカルボン酸二無水物ならびにジアミン化合物の少なくとも一部として得られたポリアミック酸、そのイミド化重合体あるいはその他のイミド化重合体との混合物からなり、アミック酸結合単位の割合が5〜80%である液晶配向剤の提供について開示がされている。特許文献1に開示された液晶配向剤は、ラビング配向処理によって配向規制力が付与されるものである。   As a conventional technique, Patent Document 1 has an object to provide a liquid crystal aligning agent having a high voltage holding ratio and a low image sticking property, and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative and 1,4- Diaminocyclohexane, bicyclo [2.2.1] heptane-2,6-bis (methylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, isophorone, or alkyl substituents of these diamines are converted to tetracarboxylic dianhydrides. Of a liquid crystal aligning agent comprising a mixture of a polyamic acid obtained as at least part of a product and a diamine compound, an imidized polymer thereof, or a mixture with other imidized polymers, wherein the proportion of amic acid bond units is 5 to 80%. The provision is disclosed. The liquid crystal aligning agent disclosed in Patent Document 1 is provided with alignment regulating force by rubbing alignment treatment.

特開2009−48174号公報JP 2009-48174 A

しかしながら、ラビング配向処理は有機被膜と布とを物理的に擦りあわせる工程を含むため、形成された配向膜の表面に不要な削りカスが発生してしまうことがある。削りカスは表示装置の表示不良を発生させる原因となるため、ラビング配向処理に変わり得るクリーンな配向処理方法、例えば光配向処理方法の確立が必要とされる。   However, since the rubbing alignment treatment includes a step of physically rubbing the organic film and the cloth, unnecessary scraps may be generated on the surface of the formed alignment film. Since the shavings cause a display defect of the display device, it is necessary to establish a clean alignment processing method that can be changed to the rubbing alignment processing, for example, a photo alignment processing method.

光配向処理は、基板表面に形成された有機被膜の表面にほぼ直線に偏光した光を照射することによって配向規制力を有機被膜の表面に付与する方法であり、照射される光のエネルギーを有効に利用するためにも液晶配向剤には、露光に対する感度の高いものが用いられることが必要とされる。   Photo-alignment treatment is a method of imparting alignment regulating force to the surface of the organic coating by irradiating the surface of the organic coating formed on the substrate surface with light that is polarized almost linearly. In order to use it, it is necessary to use a liquid crystal aligning agent having high sensitivity to exposure.

本発明の目的は、露光に対する感度の高い配向制御膜を提供することを目的とする。また、本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかにする。   An object of the present invention is to provide an alignment control film having high sensitivity to exposure. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本発明に係る液晶表示装置は、少なくとも一方が透明な一対の基板と、前記一対の基板間に配置された液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に形成され、前記液晶層に電界を印加するための電極群と、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に配置された配向制御膜を含む液晶表示装置において、前記配向制御膜は、ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体からなり、前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体と、芳香族ジアミンと、を含み、前記配向制御膜は光配向処理によって配向規制力が付与されていることを特徴とする。   A liquid crystal display device according to the present invention is formed on at least one substrate of a pair of substrates, at least one of which is transparent, a liquid crystal layer disposed between the pair of substrates, and an electric field applied to the liquid crystal layer. In the liquid crystal display device including an electrode group for applying a voltage and an alignment control film disposed on at least one of the pair of substrates, the alignment control film is made of polyimide and a precursor of the polyimide, and the polyimide The polyimide precursor includes a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the following chemical formula (1) and an aromatic diamine as raw materials, and the alignment control film is imparted with an alignment regulating force by a photoalignment treatment. It is characterized by being.

Figure 0005181066
(但し、ZからZのうち少なくとも一つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子である。)
Figure 0005181066
(However, at least one of Z 1 to Z 4 is a substituent represented by —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN or —NO 2 (R is And each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2.), and the others are hydrogen atoms.)

また、前記芳香族ジアミンは下記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち少なくとも一種を含むこととしてもよい。   The aromatic diamine may contain at least one aromatic diamine selected from the group of compounds represented by the following chemical formulas (101) to (110).

Figure 0005181066
(但し、Xはそれぞれ独立に、次に示すいずれかの構造である。:−CH−、−CO−、−O−、−NH−、−CO−NH−、−S−、−SO−、−SO−)
Figure 0005181066
(Wherein, X is independently, is any of the structures shown below: -. CH 2 -, - CO -, - O -, - NH -, - CO-NH -, - S -, - SO- , —SO 2 —)

また、前記芳香族ジアミンは前記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち異なる二種以上を含む、こととしてもよい。   The aromatic diamine may include two or more different aromatic diamines selected from the group of compounds represented by the chemical formulas (101) to (110).

また、前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体の原料として用いられるテトラカルボン酸二無水物は、前記化学式(1)に示される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を、70モル%以上100モル%以下の割合で含有する、こととしてもよい。   The tetracarboxylic dianhydride used as a raw material for the polyimide and the polyimide precursor is a 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the chemical formula (1). It is good also as containing in the ratio of mol% or more and 100 mol% or less.

さらに、本発明に係る液晶表示装置は、前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(2)に示される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を更に含むこととしてもよい。   Furthermore, in the liquid crystal display device according to the present invention, the polyimide and the polyimide precursor further include a 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the following chemical formula (2) as a raw material. It is good as well.

Figure 0005181066
(但し、YからYのうち少なくとも一つはメチル基またはメトキシ基であり、その他は水素原子である。)
Figure 0005181066
(However, at least one of Y 1 to Y 4 is a methyl group or a methoxy group, and the other is a hydrogen atom.)

本発明に係る液晶表示装置における、前記ポリイミドの前駆体は、アルキル基の炭素数が1から4のポリアミド酸アルキルエステルを含むこととしてもよい。また、前記電極群は前記一対の基板のうちいずれか一方にのみ形成されていることとしてもよい。また、前記液晶層のプレチルト角が1度以下であることとしてもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the polyimide precursor may include a polyamic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The electrode group may be formed on only one of the pair of substrates. The pretilt angle of the liquid crystal layer may be 1 degree or less.

また、前記化学式(1)中の、ZからZのうち少なくとも二つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子であることとしてもよい。 In the chemical formula (1), at least two of Z 1 to Z 4 are —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN, or —NO 2. (R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2), and the others may be hydrogen atoms.

また、前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、置換された置換基の数が異なる二種以上の化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を原料として含むこととしてもよい。   Further, the polyimide and the polyimide precursor may contain, as a raw material, a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by two or more chemical formulas (1) having different numbers of substituted substituents.

本発明により、露光に対する感度の高い配向制御膜を提供することができる。   According to the present invention, an alignment control film having high sensitivity to exposure can be provided.

実施例1に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。4 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施例1に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。3 is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration near one pixel of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 図2Bは図2Aに示す2B線に沿った断面図である。FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line 2B shown in FIG. 2A. 図2Cは図2Aに示す2C線に沿った断面図である。2C is a cross-sectional view taken along line 2C shown in FIG. 2A. 実施例2に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of a liquid crystal display device according to Example 2. FIG. 実施例2に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。6 is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration near one pixel of a liquid crystal display device according to Example 2. FIG. 図4Aに示す4B線に沿った断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line 4B shown in FIG. 4A. 図4Aに示す4C線に沿った断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line 4C shown in FIG. 4A. 実施例3に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of a liquid crystal display device according to Example 3. FIG. 実施例4に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of a liquid crystal display device according to Example 4. FIG. 実施例5に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。6 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of a liquid crystal display device according to Example 5. FIG. 実施例5に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration near one pixel of a liquid crystal display device according to Example 5.

ラビング配向法の問題点を解決するラビングレス配向法として光照射による光配向法が提案、検討されているが、実用上以下のような問題点を抱えている。ポリビニルシンナメート等に代表される高分子側鎖に光反応性基を導入した高分子材料系では、配向の熱安定性が十分ではなく実用性の面ではまだ十分な信頼性が得られてはいない。   As a rubbing-less alignment method for solving the problems of the rubbing alignment method, a photo-alignment method by light irradiation has been proposed and studied, but has the following problems in practice. In the polymer material system in which a photoreactive group is introduced into a polymer side chain represented by polyvinyl cinnamate, the thermal stability of orientation is not sufficient, and sufficient reliability is still obtained in terms of practicality. Not in.

また、この場合、液晶の配向を発現させる構造部位が高分子の側鎖部分であると考えられることから、液晶分子をより均一に配向させ、かつ、より強い配向を得る上では必ずしも好ましいとは言えない。   Further, in this case, since the structural site that develops the alignment of the liquid crystal is considered to be a side chain portion of the polymer, it is not necessarily preferable for aligning the liquid crystal molecules more uniformly and obtaining a stronger alignment. I can not say.

また、低分子の二色性色素を高分子中に分散した場合には、液晶を配向させる色素自体が低分子であり、実用的な観点からみて熱的又は光に対する信頼性の面で課題が残されている。   In addition, when a low-molecular dichroic dye is dispersed in a polymer, the dye itself for aligning liquid crystals is a low-molecular substance, and there is a problem in terms of thermal or light reliability from a practical viewpoint. It is left.

シクロブタン系ポリイミドの光分解を利用した光配向法は配向の安定性が高く有用な方法であるが、近年、配向の安定性に対する要求がますます高まってきており、従来のシクロブタン系ポリイミド材料では、その要求レベルを満たせなくなってきている。またシクロブタン系ポリイミドは光反応に多量の光量を必要とするため、製造上スループットが低いという問題がある。   The photo-alignment method using photodecomposition of cyclobutane-based polyimide is a useful method with high alignment stability, but in recent years, there has been an increasing demand for stability of alignment. In conventional cyclobutane-based polyimide materials, It has become impossible to meet the required level. In addition, cyclobutane-based polyimide requires a large amount of light for the photoreaction, and thus has a problem of low production throughput.

本発明の目的は、露光に対する感度の高い配向制御膜を備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。それによって、配向処理の製造マージンが狭いという問題を解決し、初期配向方向の変動による表示不良の発生を低減し、かつ、安定な液晶配向を実現し、コントラスト比を高めた高品位な画質を有する液晶表示装置を提供する。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device including an alignment control film having high sensitivity to exposure. This solves the problem that the manufacturing margin of the alignment process is narrow, reduces the occurrence of display defects due to fluctuations in the initial alignment direction, realizes stable liquid crystal alignment, and achieves high-quality image quality with an increased contrast ratio. A liquid crystal display device is provided.

本発明に係る液晶表示装置における配向制御膜は、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体からなり、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体および芳香族ジアミンを含み、前記配向制御膜は光配向処理によって配向規制力が付与されていることを特徴とする。   The alignment control film in the liquid crystal display device according to the present invention comprises a polyimide and a polyimide precursor, and the polyimide and the polyimide precursor are cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivatives and aromatic compounds represented by the following chemical formula (1) as raw materials. The alignment control film is provided with an alignment regulating force by a photo-alignment treatment.

Figure 0005181066
(但し、ZからZのうち少なくとも一つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子である。)
Figure 0005181066
(However, at least one of Z 1 to Z 4 is a substituent represented by —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN or —NO 2 (R is And each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2.), and the others are hydrogen atoms.)

また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から3のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から2のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくはメチル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。   R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may independently be a hydrogen atom or a methyl group, and n may be an integer from 0 to 2.

本発明による配向制御膜を構成するポリイミドおよびその前駆体の原料となる化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体は、例えば下記化学式(B−1)から(B−18)で示される化合物群Bに示すものである。これら化合物群Bで示される化合物は単に一例を示すもので、これらに限定されるものではない。   The cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the chemical formula (1) used as a raw material for the polyimide constituting the alignment control film according to the present invention and its precursor is represented by the following chemical formulas (B-1) to (B-18), for example. It is shown in the compound group B shown. The compounds shown in the compound group B are merely examples, and are not limited thereto.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

Figure 0005181066
(但し、化合物群Bに示される化合物中のR1はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1から4のアルキル基であり、nは0から2の整数である。)
Figure 0005181066
(However, R 1 in the compounds shown in the compound group B is each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2.)

上記化合物群Bの中でも、(B−1)(B−2)(B−3) (B−4) (B−5) (B−6) (B−7) (B−8)は光反応性が高く、特に(B−1)(B−2)(B−3)は非常に光反応性が高いため特に有効である。   Among the above compound group B, (B-1) (B-2) (B-3) (B-4) (B-5) (B-6) (B-7) (B-8) are photoreactions. In particular, (B-1), (B-2), and (B-3) are particularly effective because of their very high photoreactivity.

すなわち、上記化学式(1)で示される化合物において、ZからZのうち少なくとも一つは、−NRに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基。)であり、その他は水素原子であることは好適である。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から3のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から2のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくはメチル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。 That is, in the compound represented by the chemical formula (1), at least one of Z 1 to Z 4 is a substituent represented by —NR 2 (R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It is preferable that the others are hydrogen atoms. R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may independently be a hydrogen atom or a methyl group, and n may be an integer from 0 to 2.

また、上記化学式(1)で示される化合物において、ZからZのうち少なくとも一つは、−NHRに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基。)であり、その他は水素原子であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から3のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から2のアルキル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。また、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくはメチル基、nは0から2の整数であることとしてもよい。 In the compound represented by the chemical formula (1), at least one of Z 1 to Z 4 is a substituent represented by —NHR (R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) Others may be hydrogen atoms. R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may be independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and n may be an integer of 0 to 2. R may independently be a hydrogen atom or a methyl group, and n may be an integer from 0 to 2.

また、上記化学式(1)で示される化合物において、ZからZのうち少なくとも一つは、−NHに示す置換基であり、その他は水素原子であることとしてもよい。 In the compound represented by the chemical formula (1), at least one of Z 1 to Z 4 may be a substituent represented by —NH 2 , and the other may be a hydrogen atom.

また、本発明に係る表示装置における配向制御膜を構成するポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(2)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を化合物群Bに加えて更に含むことは好適である。   Moreover, the polyimide which comprises the orientation control film in the display apparatus which concerns on this invention, and the precursor of the said polyimide add the cyclobutane tetracarboxylic dianhydride derivative shown by following Chemical formula (2) as a raw material to the compound group B further. Inclusion is preferred.

Figure 0005181066
(但し、化学式(2)中のYからYのうち少なくとも一つはメチル基またはメトキシ基であり、その他は水素原子である。)
Figure 0005181066
(However, at least one of Y 1 to Y 4 in chemical formula (2) is a methyl group or a methoxy group, and the other is a hydrogen atom.)

また、化学式(2)中のYからYのうち少なくとも二つはメチル基またはメトキシ基であり、その他は水素原子であることとしてもよい。また、化学式(2)中のYからYのうち少なくとも一つはメチル基であり、その他は水素原子またはメトキシ基であることとしてもよい。また、化学式(2)中のYからYのうち少なくとも二つはメチル基であり、その他は水素原子またはメトキシ基であることとしてもよい。 In addition, at least two of Y 1 to Y 4 in the chemical formula (2) may be a methyl group or a methoxy group, and the other may be a hydrogen atom. In addition, at least one of Y 1 to Y 4 in the chemical formula (2) may be a methyl group, and the other may be a hydrogen atom or a methoxy group. In addition, at least two of Y 1 to Y 4 in the chemical formula (2) may be methyl groups, and the others may be hydrogen atoms or methoxy groups.

化学式(2)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体の具体的な一例を下記化学式(C−1)から(C−6)で示される化合物群Cに示す。化合物群Cに示された化合物は単に一例を示すもので、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the chemical formula (2) are shown in the compound group C represented by the following chemical formulas (C-1) to (C-6). The compounds shown in Compound Group C are merely examples, and are not limited thereto.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

上記化合物群Cに示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を含むことにより液晶配向安定性が高まるため特に有効である。   The inclusion of the cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative shown in the compound group C is particularly effective because the liquid crystal alignment stability is increased.

また、本発明に係る表示装置における配向制御膜を構成するポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち少なくとも一種を含むことは好適である。   Moreover, the polyimide which comprises the orientation control film in the display apparatus which concerns on this invention, and the precursor of the said polyimide are at least among the aromatic diamines selected from the compound group shown by following Chemical formula (101) to (110) as a raw material. It is preferable to include one kind.

Figure 0005181066
(但し、Xはそれぞれ独立に、次に示すいずれかの構造である。:−CH−、−CO−、−O−、−NH−、−CO−NH−、−S−、−SO−、−SO−)
Figure 0005181066
(Wherein, X is independently, is any of the structures shown below: -. CH 2 -, - CO -, - O -, - NH -, - CO-NH -, - S -, - SO- , —SO 2 —)

本発明による配向制御膜を構成するポリイミドおよびその前駆体の原料となる芳香族ジアミンの具体的な構造例を下記化学式(A−1)から(A−67)で示される化合物群Aに示す。これら構造は具体的な化学構造の一例を示すもので、これら構造に限定されるものではない。   Specific structural examples of the polyimide constituting the alignment control film according to the present invention and the aromatic diamine which is a raw material of the precursor thereof are shown in the compound group A represented by the following chemical formulas (A-1) to (A-67). These structures show examples of specific chemical structures, and are not limited to these structures.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

Figure 0005181066
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Figure 0005181066
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Figure 0005181066
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Figure 0005181066
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上記化合物群Aの中でも(A−1)(A−4)(A−8)(A−19)(A−21)(A−22)(A−28)(A−29)(A−30)(A−32)(A−47)(A−53)は液晶配向性が良好であるため、特に好ましい。   Among the compound groups A, (A-1) (A-4) (A-8) (A-19) (A-21) (A-22) (A-28) (A-29) (A-30) ) (A-32), (A-47) and (A-53) are particularly preferred because of their good liquid crystal alignment.

また、本発明による配向制御膜を構成するポリイミドの前駆体はポリアミド酸およびポリアミド酸アルキルエステルであることを特徴とする。下記技術文献1に記載されているように、ポリアミド酸は、有機溶媒中でジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物とを攪拌、重合させることにより得られる。   The polyimide precursor constituting the alignment control film according to the present invention is a polyamic acid and a polyamic acid alkyl ester. As described in the following technical document 1, the polyamic acid is obtained by stirring and polymerizing a diamine compound and tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent.

技術文献1:日本ポリイミド研究会編 最新ポリイミド 株式会社エヌ・ティー・エス発行(2002)   Technical Literature 1: Japan Polyimide Study Group Latest Polyimide Co., Ltd. Issued by NTS Corporation (2002)

具体的には、ジアミン化合物をNMPなどの極性アミド系溶媒に溶解させる。この溶液中にジアミン化合物とほぼ等モルのテトラカルボン酸二無水物を加えて室温下で攪拌すると、テトラカルボン酸二無水物の溶解とともにジアミン化合物との間で開環付加重合反応が進行し、高分子量のポリアミド酸が得られる。またポリアミド酸エステルの場合は、テトラカルボン酸二無水物にアルコールを反応させて得られるジエステルジカルボン酸に塩化チオニルなどの塩素化試薬を反応させ、高反応性のジエステルジカルボン酸クロリドを得る。これにジアミン化合物を反応、重縮合させることによりポリアミド酸アルキルエステルが得られる。   Specifically, the diamine compound is dissolved in a polar amide solvent such as NMP. When approximately equimolar tetracarboxylic dianhydride and diamine compound are added to this solution and stirred at room temperature, the ring-opening addition polymerization reaction proceeds with the diamine compound as the tetracarboxylic dianhydride dissolves, A high molecular weight polyamic acid is obtained. In the case of polyamic acid ester, diester dicarboxylic acid obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride with alcohol is reacted with chlorinating reagent such as thionyl chloride to obtain highly reactive diester dicarboxylic acid chloride. A polyamic acid alkyl ester is obtained by reacting and polycondensing the diamine compound with this.

このとき、ジアミン化合物およびテトラカルボン酸二無水物の原料を複数種混合させることにより、一つの高分子鎖に複数の化学種が重合された共重合高分子を得ることができる。   At this time, a copolymer polymer in which a plurality of chemical species are polymerized in one polymer chain can be obtained by mixing a plurality of raw materials of diamine compound and tetracarboxylic dianhydride.

上記化合物群Aに示すような芳香族ジアミン成分を複数種混合させることにより、生成したポリイミドの吸収波長域が広くなるため、照射する光源のスペクトルを有効に活用でき有効である。   By mixing plural kinds of aromatic diamine components as shown in the above compound group A, the absorption wavelength range of the produced polyimide is widened, so that the spectrum of the irradiating light source can be effectively utilized and effective.

すなわち、本発明による配向制御膜を構成するポリイミドおよびその前駆体は、芳香族ジアミンは前記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち異なる二種以上を含むことは好適である。   That is, the polyimide and its precursor constituting the alignment control film according to the present invention include two or more different aromatic diamines selected from the group of compounds represented by the chemical formulas (101) to (110). Inclusion is preferred.

また、本発明による配向制御膜を構成するポリイミド前駆体の原料として用いられるジアミンは、化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち少なくとも一種を50モル%から100モル%含むことは好ましく、また、70モル%から100モル%含むことはさらに好ましく、80モル%から100モル%含むことは特に好ましい。このような構成とすることにより、光反応性が高くなり、また液晶の配向安定性が向上する。   The diamine used as a raw material for the polyimide precursor constituting the alignment control film according to the present invention is 50 mol% of at least one aromatic diamine selected from the compound group represented by the chemical formulas (101) to (110). From 100 mol% to 100 mol%, more preferably from 70 mol% to 100 mol%, and particularly preferably from 80 mol% to 100 mol%. By adopting such a configuration, the photoreactivity is increased and the alignment stability of the liquid crystal is improved.

また、本発明による配向制御膜を構成するポリイミドおよびその前駆体は、その原料として化学式(1)で示され、また化合物群Bで例示されるようなシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体のうち少なくとも一種を70モル%から100モル%含むことは好ましく、また、80モル%から100モル%含むことはさらに好ましく、90モル%から100モル%含むことは特に好ましい。このような構成とすることにより、光反応性が高くなり、また液晶の配向安定性が向上する。   In addition, the polyimide constituting the alignment control film according to the present invention and its precursor are represented by the chemical formula (1) as the raw material, and at least of the cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivatives as exemplified by the compound group B It is preferable to contain 70 mol% to 100 mol%, more preferably 80 mol% to 100 mol%, and particularly preferably 90 mol% to 100 mol%. By adopting such a configuration, the photoreactivity is increased and the alignment stability of the liquid crystal is improved.

また、化学式(1)中のZからZのうち複数の置換基が、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOで示される置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)である場合には、光反応性がさらに高くなり、また液晶の配向安定性が向上する。 In addition, a plurality of substituents among Z 1 to Z 4 in the chemical formula (1) are —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN, or —NO 2 . In the case of the substituents shown (R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2), the photoreactivity is further increased, and the alignment stability of the liquid crystal is improved. Improves.

すなわち、化学式(1)中の、ZからZのうち少なくとも二つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子であることは好適である。 That is, at least two of Z 1 to Z 4 in the chemical formula (1) are —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN, or —NO 2 . It is preferable that each of the substituents is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and n is an integer of 0 to 2, and the others are hydrogen atoms.

また、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基が(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)化学式(1)中に多く置換されるほど光反応性が高くなり、また液晶の配向安定性が向上するため好ましい。 In addition, a substituent represented by —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN, or —NO 2 (R is independently a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 4). Alkyl group, n is an integer of 0 to 2.) The more substituted in the chemical formula (1), the higher the photoreactivity and the better the alignment stability of the liquid crystal.

ところで、化学式(1)で示され、また化合物群Bで例示されるような構造のシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体が単体で用いられた場合、ジアミンとの開環付加重合反応性の低い構造であると開環付加重合反応が十分に進まず、高分子量体が得られない場合がある。   By the way, when a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative having a structure represented by the chemical formula (1) and exemplified in the compound group B is used alone, a structure having low ring-opening addition polymerization reactivity with a diamine. In such a case, the ring-opening addition polymerization reaction may not proceed sufficiently and a high molecular weight product may not be obtained.

これは、開環付加重合反応の反応条件によっても異なるため一概にはいえないが、例えばシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体の構造中に含まれる置換基の数および種類の組合せによって、開環付加重合反応が十分に進まないためと考えられる。   Although this is not unclear because it varies depending on the reaction conditions of the ring-opening addition polymerization reaction, for example, depending on the combination of the number and type of substituents contained in the structure of the cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative, ring-opening addition This is probably because the polymerization reaction does not proceed sufficiently.

開環付加重合反応が十分に進まないと、形成されるポリイミドおよびその前駆体の分子量が低くなり成膜性が悪化し、ひいては膜表面にムラができてしまうという問題が生じる可能性がある。しかしながら、上述の問題は、芳香族ジアミンとの開環付加重合反応性の異なるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を複数種混合させて用いることにより、十分に分子量の高いポリイミドおよびポリイミドの前駆体が得られる。   If the ring-opening addition polymerization reaction does not proceed sufficiently, the molecular weight of the formed polyimide and its precursor may be lowered, resulting in poor film formability, and as a result, there may be a problem that unevenness occurs on the film surface. However, the above problem is that a sufficiently high molecular weight polyimide and polyimide precursor can be obtained by using a mixture of a plurality of cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivatives having different ring-opening addition polymerization reactivity with an aromatic diamine. can get.

例えば、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、置換基の数が異なる二種以上の化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を原料として含むことは好適である。ポリイミドおよびポリイミドの前駆体が、置換基の数が異なる二種以上の化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を原料として含むことによって、光反応性、および液晶の配向安定性の高い配向制御膜を形成することができる。   For example, it is preferable that the polyimide and the polyimide precursor contain, as a raw material, a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by two or more chemical formulas (1) having different numbers of substituents. The polyimide and the polyimide precursor contain cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivatives represented by chemical formula (1) having different numbers of substituents as raw materials, so that photoreactivity and liquid crystal orientation stability A high orientation control film can be formed.

例えば、ポリイミドおよびポリイミドの前駆体は、原料として、一つの置換基を有する化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体(ZからZのうち1つが−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基であり、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数である。)と、2、3又は4つの置換基を有する化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体(ZからZのうち1つが−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基であり、Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数である。)と、を含むことは光反応性、および液晶の配向安定性の高い配向制御膜を形成することができる。 For example, as a raw material, a polyimide and a polyimide precursor are cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivatives represented by chemical formula (1) having one substituent (one of Z 1 to Z 4 is —NR 2 , —SR , —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN or —NO 2 , wherein R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is 0 to 2), and a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by chemical formula (1) having 2, 3 or 4 substituents (one of Z 1 to Z 4 is —NR 2 , —SR , -OH, -COR, - (CH 2) n -COOR, a substituent shown in -CN or -NO 2, alkyl groups R each independently represent a hydrogen atom or a C 1 -C 4, n is 0 An integer of al 2.) And, include a can form a photoreactive, and liquid crystal alignment stability with high alignment control film.

本発明による配向制御膜を構成するポリイミドはその前駆体であるポリアミド酸またはポリアミド酸エステルを加熱または化学イミド化によりイミド化反応を進行させることにより得られることを特徴とする。なお、ポリイミド前駆体は複数種混合されていても良く、例えばポリアミド酸とポリアミド酸エステルが混合されたものであっても良い。   The polyimide constituting the alignment control film according to the present invention is characterized in that it is obtained by advancing an imidation reaction by heating or chemical imidation of a precursor polyamic acid or polyamic acid ester. A plurality of polyimide precursors may be mixed, for example, a mixture of polyamic acid and polyamic acid ester may be used.

また、この際イミド化反応は必ずしも100%進行している必要は無く、全体の50%から100%進行していることが好ましく、より好ましくは60%から95%であり、さらに好ましくは70%から90%である。イミド化反応の進行度が高いほど、光配向性が良く、液晶の配向安定性が高いが、あまり高すぎると配向制御膜の比抵抗が高くなり、電気特性上好ましくない。   In this case, the imidization reaction does not necessarily have to proceed 100%, preferably 50% to 100% of the whole, more preferably 60% to 95%, and even more preferably 70%. To 90%. The higher the degree of progress of the imidization reaction, the better the photo-alignment and the higher the stability of alignment of the liquid crystal.

本発明による配向制御膜は比抵抗の低い材料をブレンドして用いることができる。このとき配向制御膜の比抵抗を低下させることができ、焼きつきが起こりにくくなるため有効である。比抵抗値の低い材料とは、ポリイミドおよびその前駆体に混合される電気伝導度の高い他のポリマーであってもよいし、また、ポリイミドおよびその前駆体の原料に、炭素数2以上の側鎖成分を持たない芳香族ジアミンを用いてもよい。   The alignment control film according to the present invention can be used by blending a material having a low specific resistance. At this time, the specific resistance of the orientation control film can be reduced, and it is effective because seizure hardly occurs. The material having a low specific resistance value may be another polymer having high electrical conductivity mixed with polyimide and its precursor, or the raw material of polyimide and its precursor may have a carbon number of 2 or more. An aromatic diamine having no chain component may be used.

また配向制御膜を構成するポリイミドの分子量は高い方が望ましく、ポリアミド酸アルキルエステルはポリアミド酸のような加熱時の低分子量化が起こらないため、液晶の配向安定性が高くなりより好ましい。   In addition, it is desirable that the molecular weight of the polyimide constituting the alignment control film is high, and polyamic acid alkyl ester is more preferable because it does not cause a decrease in molecular weight upon heating, unlike polyamic acid, and thus the alignment stability of liquid crystal is increased.

シクロブタン系ポリイミドに光を照射すると、シクロブタンの環構造が開裂し、マレイミド末端が生成する光分解反応が生じる。この光分解反応の反応速度が速いほど、より少ない光量で反応が進むため、製造上のスループットが早くなるという利点がある。   When the cyclobutane-based polyimide is irradiated with light, the ring structure of cyclobutane is cleaved, and a photodecomposition reaction in which a maleimide terminal is generated occurs. The higher the reaction rate of this photodecomposition reaction, the more the reaction proceeds with a smaller amount of light.

しかし従来のシクロブタン系ポリイミドの光反応効率は低く、製造工程上不十分であるという課題があった。発明者らは、シクロブタン環にある種の置換基を導入した際、光分解反応が非常に早く進むことを見出した。本発明によるシクロブタン系ポリイミドは光反応効率が非常に高いため、スループットが早く、また配向安定性にも優れるという特徴を有する。   However, the conventional cyclobutane polyimide has a low photoreaction efficiency and is insufficient in the production process. The inventors have found that the photolysis reaction proceeds very quickly when certain substituents are introduced into the cyclobutane ring. The cyclobutane-based polyimide according to the present invention has the characteristics that the photoreaction efficiency is very high, so that the throughput is fast and the alignment stability is also excellent.

以下、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に説明する。これら実施例に用いた本発明による配向制御膜はその一例を示したもので、その他の構造についても同様の効果が確認されている。なお、以下では、薄膜トランジスタ等のアクティブ素子を形成した基板をアクティブマトリクス基板という。また、その対向基板にカラーフィルタを有する場合は、これをカラーフィルタ基板ともいう。また、本発明において、目標として望ましいコントラストは500:1以上であり、目標とする残像が解消される時間は5分以内が望ましい。なお、残像の解消される時間は下記の実施例において定義される方法にて決定される。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. An example of the alignment control film according to the present invention used in these examples is shown, and similar effects have been confirmed for other structures. Hereinafter, a substrate on which an active element such as a thin film transistor is formed is referred to as an active matrix substrate. In addition, when the counter substrate has a color filter, this is also referred to as a color filter substrate. In the present invention, the desired contrast as a target is 500: 1 or more, and the time required for eliminating the target afterimage is preferably within 5 minutes. The time for eliminating the afterimage is determined by a method defined in the following embodiment.

[実施例1]
図1は、実施例1に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。また、図2は、実施例1に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。図2A実施例1に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。図2Bは図2Aに示す2B線に沿った断面図である。図2Cは図2Aに示す2C線に沿った断面図である。また、図1は、図2Aに示す2B線に沿った断面の一部に対応する。
[Example 1]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the first embodiment. FIG. 2 is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration in the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 2A is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration in the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to Example 1. FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line 2B shown in FIG. 2A. 2C is a cross-sectional view taken along line 2C shown in FIG. 2A. FIG. 1 corresponds to a part of a cross section taken along line 2B shown in FIG. 2A.

なお、図2Bと図2Cは、要部構成を強調して模式的に示すもので、図2Aの2B線と2C線の切断部に1対1で対応しない。例えば、図2Bでは半導体膜116は図示せず、図2Cではコモン電極103とコモン配線120を接続するスルーホール118は1箇所のみを代表して示してある。   2B and FIG. 2C schematically show the configuration of the main part, and do not correspond one-to-one to the cut portions of the 2B line and the 2C line in FIG. 2A. For example, in FIG. 2B, the semiconductor film 116 is not shown, and in FIG. 2C, only one through hole 118 that connects the common electrode 103 and the common wiring 120 is shown.

本実施例では、アクティブマトリクス基板としてのガラス基板101上には、Cr(クロム)からなる走査配線(ゲート電極)104及び共通電極配線(コモン配線)120が配置され、このゲート電極104及びコモン配線120を覆うように窒化シリコンからなるゲート絶縁膜107が形成されている。   In this embodiment, a scanning wiring (gate electrode) 104 and a common electrode wiring (common wiring) 120 made of Cr (chromium) are arranged on a glass substrate 101 as an active matrix substrate. A gate insulating film 107 made of silicon nitride is formed so as to cover 120.

また、ゲート電極104上には、ゲート絶縁膜107を介してアモルファスシリコン又はポリシリコンからなる半導体膜116が配置され、アクティブ素子として薄膜トランジスタ(TFT)115の能動層として機能するようにされている。また、半導体膜116のパターンの一部に重畳するようにCr・Mo(クロム・モリブデン)よりなる信号配線(ドレイン電極)106と画素電極(ソース電極)105が配置され、これら全てを被覆するように窒化シリコンよりなる保護絶縁膜108が形成されている。   A semiconductor film 116 made of amorphous silicon or polysilicon is disposed on the gate electrode 104 through a gate insulating film 107 so as to function as an active layer of a thin film transistor (TFT) 115 as an active element. In addition, a signal wiring (drain electrode) 106 and a pixel electrode (source electrode) 105 made of Cr / Mo (chromium / molybdenum) are arranged so as to overlap a part of the pattern of the semiconductor film 116 and cover all of them. A protective insulating film 108 made of silicon nitride is formed.

また、図2Cに示すように、ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108を貫通して形成されたスルーホール118を介してコモン配線120に接続するコモン電極103がオーバーコート層(有機保護膜)112上に配置されている。また、図2Aに示すように、平面的には1画素の領域において、その画素電極105に対向するように、コモン配線120からスルーホール118を介して引き出されているコモン電極103が形成されている。   In addition, as shown in FIG. 2C, the common electrode 103 connected to the common wiring 120 through the through hole 118 formed through the gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 is an overcoat layer (organic protective film) 112. Is placed on top. As shown in FIG. 2A, the common electrode 103 led out from the common wiring 120 through the through hole 118 is formed so as to face the pixel electrode 105 in the area of one pixel in plan view. Yes.

本実施例においては、画素電極105は、有機保護膜112の下層の保護絶縁膜108のさらに下層に配置され、有機保護膜112上に共通電極103が配置された構成となっている。これらの複数の画素電極105と共通電極103とに挟まれた領域で、1画素が構成される構造となっている。また、以上のように構成した単位画素をマトリクス状に配置したアクティブマトリクス基板の表面、すなわち、共通電極103が形成された有機保護膜112上には配向制御膜109が形成されている。   In this embodiment, the pixel electrode 105 is arranged in a lower layer of the protective insulating film 108 below the organic protective film 112, and the common electrode 103 is arranged on the organic protective film 112. One pixel is configured in a region sandwiched between the plurality of pixel electrodes 105 and the common electrode 103. An alignment control film 109 is formed on the surface of the active matrix substrate in which the unit pixels configured as described above are arranged in a matrix, that is, on the organic protective film 112 on which the common electrode 103 is formed.

一方、図1に示すように、対向基板を構成するガラス基板102には、カラーフィルタ層111が遮光膜(ブラックマトリクス)113で画素毎に区切られて配置され、また、カラーフィルタ層111及び遮光膜113上は、透明な絶縁性材料からなる有機保護膜112で覆われている。さらに、その有機保護膜112上にも配向制御膜109が形成されてカラーフィルタ基板を構成している。   On the other hand, as shown in FIG. 1, a color filter layer 111 is arranged on a glass substrate 102 constituting a counter substrate so as to be divided for each pixel by a light shielding film (black matrix) 113. The film 113 is covered with an organic protective film 112 made of a transparent insulating material. Further, an alignment control film 109 is also formed on the organic protective film 112 to constitute a color filter substrate.

これらの配向制御膜109は、高圧水銀ランプを光源とし、石英板を積層したパイル偏光子を用いて取り出される紫外線の直線偏光照射により液晶配向能が付与されている。   These alignment control films 109 are provided with liquid crystal alignment capability by irradiation with ultraviolet linearly polarized light extracted using a pile polarizer with a quartz plate laminated using a high-pressure mercury lamp as a light source.

アクティブマトリクス基板を構成するガラス基板101とカラーフィルタ基板を構成するガラス基板102とが、配向制御膜109の面で対向配置され、これらの間に液晶分子110aで構成される液晶層(液晶組成物層)110bが配置される。また、アクティブマトリクス基板を構成するガラス基板101及びカラーフィルタ基板を構成するガラス基板102の外側の面のそれぞれには、偏光板114が形成されている。   A glass substrate 101 constituting an active matrix substrate and a glass substrate 102 constituting a color filter substrate are arranged to face each other on the surface of the alignment control film 109, and a liquid crystal layer (liquid crystal composition) composed of liquid crystal molecules 110a therebetween. Layer) 110b is disposed. A polarizing plate 114 is formed on each of the outer surfaces of the glass substrate 101 constituting the active matrix substrate and the glass substrate 102 constituting the color filter substrate.

以上のようにして、薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置(TFT液晶表示装置)が構成される。このTFT液晶表示装置では、液晶組成物層110bを構成する液晶分子110aは、電界無印加時には対向配置されているガラス基板101,102面にほぼ平行に配向された状態となり、光配向処理で規定された初期配向方向に向いた状態でホモジニアス配向している。   As described above, an active matrix liquid crystal display device (TFT liquid crystal display device) using a thin film transistor (TFT) is configured. In this TFT liquid crystal display device, the liquid crystal molecules 110a constituting the liquid crystal composition layer 110b are aligned in substantially parallel to the surfaces of the glass substrates 101 and 102 that are arranged to face each other when no electric field is applied. Homogeneous alignment is performed in a state of being directed to the initial alignment direction.

ここで、ゲート電極104に電圧を印加してTFT115をオンにすると、画素電極105と共通電極103の間の電位差により液晶組成物層110bに電界117が印加され、液晶組成物層110bが持つ誘電異方性と電界との相互作用により液晶組成物層110bを構成する液晶分子110aは電界方向にその向きを変える。このとき液晶組成物層110bの屈折異方性と偏光板114の作用により液晶表示装置の光透過率を変化させ表示を行うことができる。   Here, when a voltage is applied to the gate electrode 104 to turn on the TFT 115, an electric field 117 is applied to the liquid crystal composition layer 110b due to a potential difference between the pixel electrode 105 and the common electrode 103, and the dielectric property of the liquid crystal composition layer 110b. The liquid crystal molecules 110a constituting the liquid crystal composition layer 110b change its direction to the electric field direction by the interaction between the anisotropy and the electric field. At this time, display can be performed by changing the light transmittance of the liquid crystal display device by the refractive anisotropy of the liquid crystal composition layer 110 b and the action of the polarizing plate 114.

また、有機保護膜112は、絶縁性、透明性に優れるアクリル系樹脂、エポキシアクリル系樹脂又はポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂を用いればよい。また、有機保護膜112として光硬化性の透明な樹脂を用いてもよいし、ポリシロキサン系の樹脂など無機系の材料を用いてもよい。さらには、有機保護膜112が配向制御膜109を兼ねるものであってもよい。   The organic protective film 112 may be made of a thermosetting resin such as an acrylic resin, an epoxy acrylic resin, or a polyimide resin that is excellent in insulation and transparency. In addition, a photocurable transparent resin may be used as the organic protective film 112, or an inorganic material such as a polysiloxane resin may be used. Furthermore, the organic protective film 112 may also serve as the alignment control film 109.

以上のように、本実施例によれば、配向制御膜109の液晶配向制御能をバフ布で直接摩擦するラビング配向処理ではなく、非接触の光配向法を用いることにより、電極近傍に局所的な配向の乱れがなく、表示領域全面に渡り均一な配向を付与することが可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the liquid crystal alignment control ability of the alignment control film 109 is not a rubbing alignment process by directly rubbing with a buff cloth, but a non-contact photo-alignment method is used. Therefore, uniform alignment can be imparted over the entire display area.

一般的に、IPS方式においては、従来のTN方式に代表される縦電界方式と異なり基板面との界面チルトが原理的に必要なく、界面チルト角が小さいほど視角特性が良いことが知られており、光配向制御膜においても小さい界面チルト角が望ましく、特に、1度以下にすることにより、液晶表示装置の視角による色変化、明度変化を大幅に抑制することが出来るため、効果的である。   In general, in the IPS system, unlike the vertical electric field system represented by the conventional TN system, the interface tilt with the substrate surface is not necessary in principle, and it is known that the viewing angle characteristics are better as the interface tilt angle is smaller. In addition, a small interface tilt angle is desirable also in the photo-alignment control film, and in particular, by setting it to 1 degree or less, it is effective because the color change and brightness change due to the viewing angle of the liquid crystal display device can be greatly suppressed. .

次に、本実施例の液晶表示装置の製造方法として、液晶配向制御膜のラビングレス配向法を用いた配向制御膜の形成について説明する。本実施例による配向制御膜の形成工程のフローは、以下(1)から(4)のようになる。
(1)配向制御膜の塗膜・形成(表示領域全面にわたり均一な塗膜を形成する)
(2)配向制御膜のイミド化焼成(ワニス溶剤の除去と耐熱性の高いポリイミド化を促進する)
(3)偏光照射による液晶配向能付与(表示領域に均一な配向能を付与する)
(4)(加熱、赤外線照射、遠赤外線照射、電子線照射、放射線照射)による配向能の促進・安定化
Next, formation of an alignment control film using a rubbing-less alignment method for a liquid crystal alignment control film will be described as a method for manufacturing the liquid crystal display device of this embodiment. The flow of the alignment control film forming process according to this embodiment is as follows (1) to (4).
(1) Coating / formation of orientation control film (forms a uniform coating over the entire display area)
(2) Imidization firing of orientation control film (promotes removal of varnish solvent and high heat resistance polyimide)
(3) Liquid crystal alignment ability imparted by polarized irradiation (uniform orientation ability is imparted to the display area)
(4) Promotion / stabilization of alignment ability by (heating, infrared irradiation, far infrared irradiation, electron beam irradiation, radiation irradiation)

以上の4段階のプロセスを介して配向制御膜を形成するが、上記(1)から(4)のプロセスの順番に限定されるものではなく、以下(a)(b)のような場合には更なる効果が期待される。
(a)上記(3)(4)を時間的に重なるように処理することにより液晶配向能付与を加速し架橋反応などを誘起することで、更に効果的に配向制御膜を形成することが可能となる。
(b)上記(4)の加熱、赤外線照射、遠赤外線照射などを用いる場合には、上記(2)(3)(4)を時間的にオーバーラップさせることにより、上記(4)のプロセスが上記(2)のイミド化プロセスを兼ねることも可能となり、短時間に配向制御膜の形成が可能となる。
The alignment control film is formed through the above four-stage process, but is not limited to the order of the above processes (1) to (4). In the following cases (a) and (b) Further effects are expected.
(A) By processing the above (3) and (4) so as to overlap in time, the alignment control film can be formed more effectively by accelerating the provision of liquid crystal alignment ability and inducing a crosslinking reaction. It becomes.
(B) When heating (4) above, infrared irradiation, far-infrared irradiation, etc. are used, the above process (4) can be achieved by temporally overlapping (2), (3) and (4). It is also possible to serve as the imidization process (2), and an alignment control film can be formed in a short time.

次に、本実施例の具体的な製造方法について説明する。アクティブマトリクス基板を構成するガラス基板101及びカラーフィルタ基板を構成するガラス基板102として、厚みが0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いる。ガラス基板101に形成する薄膜トランジスタ115は、画素電極(ソース電極)105、信号配線(ドレイン電極)106、走査配線(ゲート電極)104及びアモルファスシリコン116から構成される。   Next, a specific manufacturing method of this embodiment will be described. As the glass substrate 101 constituting the active matrix substrate and the glass substrate 102 constituting the color filter substrate, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm and a polished surface is used. A thin film transistor 115 formed on the glass substrate 101 includes a pixel electrode (source electrode) 105, a signal wiring (drain electrode) 106, a scanning wiring (gate electrode) 104, and amorphous silicon 116.

走査配線104、共通電極配線120、信号配線106及び画素電極105は、全てクロム膜をパターニングして形成し、画素電極105と共通電極103との間隔は7μmとした。なお、共通電極103と画素電極105については、低抵抗でパターニングの容易なクロム膜を使用したが、ITO膜を使用することで透明電極を構成して、より高い輝度特性を達成することも可能である。   The scanning wiring 104, the common electrode wiring 120, the signal wiring 106, and the pixel electrode 105 were all formed by patterning a chromium film, and the distance between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 was 7 μm. For the common electrode 103 and the pixel electrode 105, a chromium film having a low resistance and easy patterning is used. However, a transparent electrode can be formed by using an ITO film to achieve higher luminance characteristics. It is.

ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108は窒化珪素からなり、膜厚はそれぞれ0.3μmとした。その上にはアクリル系樹脂を塗布し、220℃、1時間の加熱処理により透明で絶縁性のある有機保護膜112を形成した。   The gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 were made of silicon nitride, and the film thicknesses were each 0.3 μm. An acrylic resin was applied thereon, and a transparent and insulating organic protective film 112 was formed by heat treatment at 220 ° C. for 1 hour.

次に、フォトリソグラフィ、エッチング処理により、図2Cに示すように、共通電極配線120までスルーホール118を形成し、共通電極配線120と接続する共通電極103をパターニングして形成した。   Next, as shown in FIG. 2C, through holes 118 were formed up to the common electrode wiring 120 by photolithography and etching, and the common electrode 103 connected to the common electrode wiring 120 was formed by patterning.

その結果、単位画素(1画素)内では、図2Aに示すように、画素電極105が3本の共通電極103の間に配置されている構成となり、画素数は1024×3(R、G、Bに対応)本の信号配線106と、768本の走査配線104とから構成される1024×3×768個とするアクティブマトリクス基板を形成した。   As a result, in the unit pixel (one pixel), as shown in FIG. 2A, the pixel electrode 105 is arranged between the three common electrodes 103, and the number of pixels is 1024 × 3 (R, G, (Corresponding to B) An active matrix substrate having 1024 × 3 × 768 pieces composed of signal wirings 106 and 768 scanning wirings 104 was formed.

本実施例において、配向制御膜109として、下記表1に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸1から5を合成し、これら配向制御膜を用いて5台の液晶表示装置を作製した。ポリアミド酸を、樹脂分濃度5重量%、DMAC60重量%、γブチロラクトン20重量%、ブチルセロソルブ15重量%のワニスに調製し、アクティブマトリクス基板の上に印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約80%、膜厚約110nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸からなる配向制御膜109を形成した。   In this example, as the orientation control film 109, various polyamic acids 1 to 5 synthesized with the raw material compositions shown in Table 1 below were synthesized, and five liquid crystal display devices were produced using these orientation control films. Polyamic acid was prepared as a varnish having a resin concentration of 5% by weight, DMAC 60% by weight, γ-butyrolactone 20% by weight, and butyl cellosolve 15% by weight, printed on an active matrix substrate, imidized by heat treatment, and an imidization rate of about An orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid with a thickness of about 110 nm and 80% was formed.

Figure 0005181066
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同様に、ITOを成膜したもう一方のガラス基板102の表面にも同様のポリアミド酸アミドワニスを印刷形成し、イミド化率約80%、約110nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸からなる配向制御膜109を形成した。その表面に液晶配向能を付与するために、偏光UV(紫外線)光を配向制御膜109に照射した。光源には高圧水銀ランプを用い、干渉フィルタを介して、240nm〜320nmの範囲のUV光を取り出し、石英基板を積層したパイル偏光子を用いて偏光比約10:1の直線偏光とし、1.5J/cmの照射エネルギーで照射した。その結果、配向制御膜表面の液晶分子の配向方向は、照射した偏光UVの偏光方向に対し、直交方向であることがわかった。 Similarly, the same polyamic acid amide varnish is printed on the surface of the other glass substrate 102 on which ITO is formed, and an orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid having an imidization ratio of about 80% and about 110 nm is formed. Formed. In order to impart liquid crystal alignment ability to the surface, the alignment control film 109 was irradiated with polarized UV (ultraviolet) light. A high-pressure mercury lamp is used as a light source, UV light in the range of 240 nm to 320 nm is extracted through an interference filter, and is converted into linearly polarized light with a polarization ratio of about 10: 1 using a pile polarizer with a quartz substrate laminated. Irradiation was performed with an irradiation energy of 5 J / cm 2 . As a result, it was found that the alignment direction of the liquid crystal molecules on the surface of the alignment control film was orthogonal to the polarization direction of the irradiated polarized UV light.

次に、これらの2枚のガラス基板101、102をそれぞれの液晶配向能を有する配向制御膜109を有する表面を相対向させて、分散させた球形のポリマービーズからなるスペーサを介在させ、周辺部にシ−ル剤を塗布し、液晶表示装置となる液晶表示パネル(以下「セル」ともいう。)を組み立てた。2枚のガラス基板101、102の液晶配向方向は互いにほぼ並行とした。このセルに、誘電異方性Δεが正で、その値が10.2(1kHz、20℃)であり、屈折率異方性Δnが0.075(波長590nm、20℃)、ねじれ弾性定数K2が7.0pN、ネマティック−等方相転移温度T(N−I)が約76℃のネマティック液晶組成物Aを真空で注入し、紫外線硬化型樹脂からなる封止材で封止した。液晶層の厚み(ギャップ)は4.2μmの液晶パネルを製作した。   Next, these two glass substrates 101 and 102 are opposed to each other with the surface having the alignment control film 109 having the liquid crystal alignment ability, and spacers made of dispersed spherical polymer beads are interposed therebetween, and the peripheral portion. A sealant was applied to the liquid crystal display panel, and a liquid crystal display panel (hereinafter also referred to as “cell”) to be a liquid crystal display device was assembled. The liquid crystal alignment directions of the two glass substrates 101 and 102 were substantially parallel to each other. This cell has a positive dielectric anisotropy Δε, a value of 10.2 (1 kHz, 20 ° C.), a refractive index anisotropy Δn of 0.075 (wavelength 590 nm, 20 ° C.), and a torsional elastic constant K2. Was 7.0 pN and nematic liquid crystal composition A having a nematic-isotropic phase transition temperature T (N-I) of about 76 ° C. was injected in a vacuum and sealed with a sealing material made of an ultraviolet curable resin. A liquid crystal panel having a liquid crystal layer thickness (gap) of 4.2 μm was produced.

この液晶表示パネルのリタデーション(Δn・d)は、約0.31μmとなる。Δn・dは0.2μm≦Δn・d≦0.5μmの範囲が望ましく、この範囲を超えると白表示が色づいてしまうなどの問題がある。また、このパネルに用いた配向制御膜と液晶組成物とが同等のものを用いてホモジニアス配向の液晶表示パネルを作製し、クリスタルローテーション法を用いて液晶のプレチルト角を測定したところ約0.2度を示した。この液晶表示パネルを2枚の偏光板114で挾み、一方の偏光板の偏光透過軸を上記の液晶配向方向とほぼ平行とし、他方をそれに直交するように配置した。その後、駆動回路、バックライトなどを接続してモジュール化し、アクティブマトリクス型の液晶表示装置を得た。本実施例では、低電圧で暗表示、高電圧で明表示となるノーマリークローズ特性とした。   The retardation (Δn · d) of this liquid crystal display panel is about 0.31 μm. Δn · d is preferably in a range of 0.2 μm ≦ Δn · d ≦ 0.5 μm. If this range is exceeded, there is a problem that white display is colored. Further, a homogeneous alignment liquid crystal display panel was prepared using the same alignment control film and liquid crystal composition used in this panel, and the pretilt angle of the liquid crystal was measured using a crystal rotation method. Showed the degree. This liquid crystal display panel was sandwiched between two polarizing plates 114, and the polarizing transmission axis of one polarizing plate was set substantially parallel to the liquid crystal alignment direction, and the other was arranged so as to be orthogonal thereto. Thereafter, a drive circuit, a backlight, and the like were connected to form a module, and an active matrix liquid crystal display device was obtained. In this embodiment, the normally closed characteristic is such that dark display is performed at a low voltage and bright display is performed at a high voltage.

次に、本実施例による5台の液晶表示装置の表示品位を評価したところ、コントラスト比500対1の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角が確認された。ジアミン化合物(A−1)(A−19)(A−21)を用いた液晶表示装置のコントラスト比は600:1を超え、特に良好な表示品位であった。   Next, when the display quality of the five liquid crystal display devices according to this example was evaluated, a high-quality display with a contrast ratio of 500 to 1 was confirmed, and a wide viewing angle during halftone display was confirmed. The contrast ratio of the liquid crystal display device using the diamine compound (A-1) (A-19) (A-21) exceeded 600: 1, and the display quality was particularly good.

また、本実施例による5台の液晶表示装置の画像の焼き付け、残像を定量的に測定するため、ホトダイオードを組合せたオシロスコープを用いて評価した。まず、画面上に最大輝度でウインドウパターンを10時間表示し、その後、残像が最も目立つ中間調表示、ここでは、輝度が最大輝度の10%となるように全面を切り換え、ウインドウパターンのエッジ部のパターンが消えるまでの時間を残像緩和時間として評価した。ただし、ここで許容される残像緩和時間は5分以下である。その結果、使用温度範囲(0℃〜50℃)において残像の緩和時間は5分以下であり、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、高い表示特性が得られた。   In addition, in order to quantitatively measure image printing and afterimages of the five liquid crystal display devices according to this example, evaluation was performed using an oscilloscope combined with a photodiode. First, the window pattern is displayed on the screen at the maximum luminance for 10 hours, and then the halftone display in which the afterimage is most noticeable. Here, the entire surface is switched so that the luminance is 10% of the maximum luminance, and the edge of the window pattern is displayed. The time until the pattern disappeared was evaluated as the afterimage relaxation time. However, the afterimage relaxation time allowed here is 5 minutes or less. As a result, in the operating temperature range (0 ° C. to 50 ° C.), the afterimage relaxation time is 5 minutes or less, and even in visual image quality afterimage inspection, there is no image burn-in and display unevenness due to afterimage, and high display characteristics. was gotten.

[比較例1]
配向制御膜1から5において、その原料であるテトラカルボン酸二無水物をテトラカルボン酸二無水物として同様の液晶表示装置を作製したところ、実施例1と同等の表示特性を示すのに照射エネルギー6J/cm以上を必要とした。
[Comparative Example 1]
In the alignment control films 1 to 5, when the same liquid crystal display device was produced by using tetracarboxylic dianhydride as a raw material for the alignment control films 1 to 5, the irradiation energy exhibited the same display characteristics as in Example 1. 6 J / cm 2 or more was required.

[実施例2]
図3は、実施例2に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。図4Aは、実施例2に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図である。図4Bは図4Aに示す4B線に沿った断面図である。図4Cは図4Aに示す4C線に沿った断面図である。
[Example 2]
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the second embodiment. FIG. 4A is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration in the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the second embodiment. FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line 4B shown in FIG. 4A. FIG. 4C is a cross-sectional view taken along line 4C shown in FIG. 4A.

また、図4は、本実施例による液晶表示装置の1画素付近の構成を説明するアクティブマトリクス基板の模式図であり、図4Aは平面図、図4Bは図4Aに示す4B線に沿った断面図、図4Cは図4Aの4C線に沿った断面図を示す。また、図3は図4Aに示す4B線に沿った断面の一部に対応する。   4A and 4B are schematic views of an active matrix substrate for explaining the configuration of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 4A is a plan view, and FIG. 4B is a cross section taken along line 4B shown in FIG. 4C shows a cross-sectional view along line 4C in FIG. 4A. 3 corresponds to a part of a cross section taken along line 4B shown in FIG. 4A.

なお、図4Bと図4Cは、要部構成を強調して模式的に示すもので、図4Aの4B線と4C線の切断部に1対1で対応しない。例えば、図4Bでは半導体膜116は図示していない。   4B and FIG. 4C schematically show the main part configuration with emphasis, and do not correspond one-to-one with the cut portions of the 4B line and the 4C line in FIG. 4A. For example, the semiconductor film 116 is not shown in FIG. 4B.

本実施例では、アクティブマトリクス基板を構成するガラス基板101上には、Crよりなるゲート電極104及び共通電極配線120が配置され、ゲート電極104と共通電極配線120を覆うように窒化シリコンからなるゲート絶縁膜107が形成されている。また、ゲート電極104上には、ゲート絶縁膜107を介してアモルファスシリコン又はポリシリコンからなる半導体膜116が配置され、アクティブ素子である薄膜トランジスタ115の能動層として機能するようにされている。   In the present embodiment, a gate electrode 104 made of Cr and a common electrode wiring 120 are arranged on a glass substrate 101 constituting an active matrix substrate, and a gate made of silicon nitride so as to cover the gate electrode 104 and the common electrode wiring 120. An insulating film 107 is formed. A semiconductor film 116 made of amorphous silicon or polysilicon is disposed over the gate electrode 104 with a gate insulating film 107 interposed therebetween, and functions as an active layer of the thin film transistor 115 which is an active element.

また、半導体膜116のパターンの一部に重畳するようにクロム・モリブデンよりなるドレイン電極106とソース電極(画素電極)105が配置され、これら全てを被覆するように窒化シリコンよりなる保護絶縁膜108が形成されている。この保護絶縁膜108上には、有機保護膜112が配置されている。この有機保護膜112は、例えば、アクリル樹脂などの透明な材料から構成する。また、画素電極105はITO(In:Sn)などの透明電極から構成されている。共通電極103は、ゲート絶縁膜107、保護絶縁膜108及び有機保護膜112を貫通するスルーホール118を介して、共通電極配線120に接続している。 Further, a drain electrode 106 made of chromium / molybdenum and a source electrode (pixel electrode) 105 are arranged so as to overlap a part of the pattern of the semiconductor film 116, and a protective insulating film 108 made of silicon nitride is formed so as to cover all of them. Is formed. An organic protective film 112 is disposed on the protective insulating film 108. The organic protective film 112 is made of a transparent material such as an acrylic resin, for example. The pixel electrode 105 is composed of a transparent electrode such as ITO (In 2 O 3 : Sn). The common electrode 103 is connected to the common electrode wiring 120 through a through hole 118 that penetrates the gate insulating film 107, the protective insulating film 108, and the organic protective film 112.

液晶を駆動する電界を与える場合に、画素電極105と対をなす共通電極103は、平面的に1画素の領域を囲うように形成されている。また、この共通電極103は、有機保護膜112の上に配置されている。そして、この共通電極103は、上部から見たときに下層に配置しているドレイン電極106、走査配線104及び能動素子である薄膜トランジスタ115を隠すように配置され、半導体膜116を遮光する遮光層を兼ねている。   When an electric field for driving the liquid crystal is applied, the common electrode 103 that forms a pair with the pixel electrode 105 is formed so as to surround a region of one pixel in plan view. The common electrode 103 is disposed on the organic protective film 112. The common electrode 103 is disposed so as to hide the drain electrode 106, the scanning wiring 104, and the thin film transistor 115 which is an active element when viewed from above, and includes a light shielding layer that shields the semiconductor film 116 from light. Also serves as.

以上のように構成した単位画素(1画素)をマトリクス状に配置したアクティブマトリクス基板を構成するガラス基板101の表面、すなわち、有機保護膜112上及びその上に形成された共通電極103の上には、配向制御膜109が形成されている。一方、対向基板を構成するガラス基板102にも、カラーフィルタ層111の上に形成される有機保護膜112の上には、配向制御膜109が形成されている。   On the surface of the glass substrate 101 constituting the active matrix substrate in which the unit pixels (one pixel) configured as described above are arranged in a matrix, that is, on the organic protective film 112 and the common electrode 103 formed thereon. The alignment control film 109 is formed. On the other hand, the alignment control film 109 is also formed on the organic protective film 112 formed on the color filter layer 111 on the glass substrate 102 constituting the counter substrate.

ここで、実施例1と同様に、高圧水銀ランプを光源とし、石英板を積層したパイル偏光子を用いて取り出される紫外線の直線偏光照射により、これらの配向制御膜109に液晶配向能が付与されている。   Here, in the same manner as in Example 1, the alignment control film 109 is provided with liquid crystal alignment ability by irradiation with ultraviolet linearly polarized light extracted using a pile polarizer having a quartz plate laminated using a high-pressure mercury lamp as a light source. ing.

そして、ガラス基板101と対向ガラス基板102が、配向制御膜109の形成面で対向配置され、これらの間に液晶分子110aで構成された液晶組成物層110bが配置される。また、ガラス基板101及び対向ガラス基板102の外側の面のそれぞれには偏光板114が形成されている。   And the glass substrate 101 and the opposing glass substrate 102 are opposingly arranged by the formation surface of the alignment control film 109, and the liquid crystal composition layer 110b comprised by the liquid crystal molecule 110a is arrange | positioned among these. A polarizing plate 114 is formed on each of the outer surfaces of the glass substrate 101 and the counter glass substrate 102.

このように、本実施例においても、先に述べた実施例1と同様に、画素電極105は、有機保護膜112及び保護絶縁膜108の下層に配置され、画素電極105と有機保護膜112との上に共通電極103が配置された構成となっている。また、共通電極103の電気抵抗が十分低い場合には、この共通電極103は、最下層に形成されている共通電極配線120も兼ねることができる。その際には、最下層に配置している共通電極配線120の形成及びそれに伴うスルーホール118の加工を省くことができる。   As described above, also in this embodiment, the pixel electrode 105 is disposed under the organic protective film 112 and the protective insulating film 108 as in the first embodiment described above. The common electrode 103 is arranged on the top. Further, when the electric resistance of the common electrode 103 is sufficiently low, the common electrode 103 can also serve as the common electrode wiring 120 formed in the lowermost layer. In that case, the formation of the common electrode wiring 120 arranged in the lowermost layer and the processing of the through hole 118 associated therewith can be omitted.

本実施例では、図4Aに示すように、格子状に形成された共通電極103に囲まれた領域で1画素が構成され、画素電極105と合わせて1画素を4つの領域に分割するように配置されている。また、画素電極105及びそれと対向する共通電極103がお互いに平行に配置されたジグザグな屈曲構造からなり、1画素が2つ以上の複数の副画素を形成している。これにより面内での色調変化を相殺する構造となっている。   In this embodiment, as shown in FIG. 4A, one pixel is formed by a region surrounded by a common electrode 103 formed in a lattice shape, and one pixel is divided into four regions together with the pixel electrode 105. Has been placed. In addition, the pixel electrode 105 and the common electrode 103 facing the pixel electrode 105 have a zigzag bent structure in which the pixel electrode 105 and the common electrode 103 are arranged in parallel with each other, and one pixel forms two or more subpixels. As a result, the color tone change in the plane is offset.

次に、本実施例による液晶表示装置の製造方法について説明する。ガラス基板101及び102としては、厚みが0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いる。薄膜トランジスタ115は、画素電極(ソース電極)105、信号配線(ドレイン電極)106、走査配線(ゲート電極)104及びアモルファスシリコン116から構成される。走査配線104は、アルミニウム膜をパターニングし、共通電極配線120及び信号配線106は、クロム膜をパターニングし、画素電極105は、ITO膜をパターニングし、図4Aに示すように、走査配線104以外は、ジグザグに屈曲した電極配線パターンに形成した。その際、屈曲の角度は10度に設定した。ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108は窒化珪素からなり、膜厚はそれぞれ0.3μmとした。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to this embodiment will be described. As the glass substrates 101 and 102, glass substrates having a thickness of 0.7 mm and polished surfaces are used. The thin film transistor 115 includes a pixel electrode (source electrode) 105, a signal wiring (drain electrode) 106, a scanning wiring (gate electrode) 104, and amorphous silicon 116. The scanning wiring 104 is patterned with an aluminum film, the common electrode wiring 120 and the signal wiring 106 are patterned with a chrome film, and the pixel electrode 105 is patterned with an ITO film. As shown in FIG. The electrode wiring pattern was bent in a zigzag pattern. At that time, the angle of bending was set to 10 degrees. The gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 were made of silicon nitride, and the film thicknesses were each 0.3 μm.

次に、フォトリソグラフィ法とエッチング処理により、図4Cに示すように、共通電極配線120まで約10μm径の円筒状にスルーホール118を形成し、その上にはアクリル系樹脂を塗布し、220℃、で1時間の加熱処理により透明で絶縁性のある誘電率約4の有機保護膜112を約1μm厚に形成した。この有機保護膜112により表示領域の画素電極105の段差起因の凹凸を平坦化し、また、隣接する画素間のカラーフィルタ層111の境界部分の段差凹凸を平坦化した。   Next, as shown in FIG. 4C, through holes 118 are formed in a cylindrical shape having a diameter of about 10 μm up to the common electrode wiring 120 by photolithography and etching, and an acrylic resin is applied on the through holes 118 at 220 ° C. The organic protective film 112 having a dielectric constant of about 4 having a dielectric constant of about 4 was formed to a thickness of about 1 μm by heat treatment for 1 hour. The organic protective film 112 flattened the unevenness due to the step of the pixel electrode 105 in the display region, and flattened the unevenness of the step at the boundary portion of the color filter layer 111 between adjacent pixels.

その後、約7μm径にスルーホール118を再度エッチング処理し、その上から共通電極配線120と接続する共通電極103を、ITO膜をパターニングして形成した。その際、画素電極105と共通電極103との間隔は7μmとした。さらに、この共通電極103は、信号配線106、走査配線104及び薄膜トランジスタ115の上部を覆い画素を囲むように格子状に形成し、遮光層を兼ねるようにした。   Thereafter, the through-hole 118 was etched again to a diameter of about 7 μm, and the common electrode 103 connected to the common electrode wiring 120 was formed by patterning the ITO film thereon. At that time, the distance between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 was set to 7 μm. Further, the common electrode 103 is formed in a lattice shape so as to cover the upper part of the signal wiring 106, the scanning wiring 104, and the thin film transistor 115 so as to surround the pixel, and also serves as a light shielding layer.

その結果、単位画素内では図4Aに示すように、画素電極105が3本の共通電極103の間に配置されている構成となり、画素数は1024×3(R、G、Bに対応)本の信号配線106と、768本の走査配線104とから構成される1024×3×768個とするアクティブマトリクス基板が得られた。   As a result, in the unit pixel, as shown in FIG. 4A, the pixel electrode 105 is arranged between the three common electrodes 103, and the number of pixels is 1024 × 3 (corresponding to R, G, B). As a result, an active matrix substrate having 1024 × 3 × 768 pieces of the signal wirings 106 and 768 scanning wirings 104 was obtained.

本実施例において、配向制御膜109として、下記表2に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸t-ブチルエステル1から3を合成し、これら配向制御膜を用いて3台の液晶表示装置を作製した。ポリアミド酸t-ブチルエステルを、樹脂分濃度5重量%、DMAC60重量%、γブチロラクトン20重量%、ブチルセロソルブ15重量%のワニスに調製し、アクティブマトリクス基板の上に印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約90%、膜厚約120nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸t-ブチルエステルからなる配向制御膜109を形成した。   In this example, as the alignment control film 109, various polyamic acid t-butyl esters 1 to 3 synthesized with the raw material composition shown in Table 2 below were synthesized, and three liquid crystal display devices were formed using these alignment control films. Produced. Polyamic acid t-butyl ester was prepared into a varnish having a resin concentration of 5% by weight, DMAC 60% by weight, γ-butyrolactone 20% by weight, and butyl cellosolve 15% by weight. An orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid t-butyl ester having an imidization ratio of about 90% and a film thickness of about 120 nm was formed.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

その配向処理方法は、実施例1と同様の偏光UVを1.5J/cmの照射エネルギーで照射した。 As the alignment treatment method, the same polarized UV as in Example 1 was irradiated with an irradiation energy of 1.5 J / cm 2 .

次に、これらの2枚のガラス基板101、102をそれぞれの配向制御膜を有する表面を相対向させて、分散させた球形のポリマービーズからなるスペーサを介在させて、周辺部にシール剤を塗布し、液晶表示パネルを組み立てた。2枚のガラス基板101、102の液晶配向方向は互いにほぼ並行とした。   Next, a sealant is applied to the peripheral portion of these two glass substrates 101 and 102 with the surfaces having the respective orientation control films facing each other and interposing spacers made of dispersed spherical polymer beads. The liquid crystal display panel was assembled. The liquid crystal alignment directions of the two glass substrates 101 and 102 were substantially parallel to each other.

この液晶表示パネルに誘電異方性Δεが正でその値が10.2(1kHz、20℃)であり、屈折率異方性Δnが0.075(波長590nm、20℃)、ねじれ弾性定数K2が7.0pN、ネマティック−等方相転移温度T(N−I)が約76℃のネマティック液晶組成物Aを真空で注入し、紫外線硬化型樹脂からなる封止材で封止した。液晶層の厚み(ギャップ)は4.2μmの液晶パネルを製作した。このパネルのリタデーション(Δnd)は、約0.31μmとなる。   This liquid crystal display panel has a positive dielectric anisotropy Δε and a value of 10.2 (1 kHz, 20 ° C.), a refractive index anisotropy Δn of 0.075 (wavelength 590 nm, 20 ° C.), and a torsional elastic constant K2. Was 7.0 pN and nematic liquid crystal composition A having a nematic-isotropic phase transition temperature T (N-I) of about 76 ° C. was injected in a vacuum and sealed with a sealing material made of an ultraviolet curable resin. A liquid crystal panel having a liquid crystal layer thickness (gap) of 4.2 μm was produced. The retardation (Δnd) of this panel is about 0.31 μm.

また、この液晶表示パネルに用いた配向制御膜と液晶組成物とが同等のものを用いてホモジニアス配向の液晶表示パネルを作製し、クリスタルローテーション法を用いて液晶のプレチルト角を測定したところ約0.2度を示した。このパネルを2枚の偏光板114で挾み、一方の偏光板の偏光透過軸を上記の液晶配向方向とほぼ平行とし、他方をそれに直交するように配置した。その後、駆動回路、バックライトなどを接続してモジュール化し、アクティブマトリクス型の液晶表示装置を得た。本実施例では、低電圧で暗表示、高電圧で明表示となるノーマリークローズ特性とした。   Further, a homogeneous alignment liquid crystal display panel was prepared using the same alignment control film and liquid crystal composition used in this liquid crystal display panel, and the pretilt angle of the liquid crystal was measured by using the crystal rotation method. . Showed 2 degrees. This panel was sandwiched between two polarizing plates 114, and the polarizing transmission axis of one polarizing plate was made substantially parallel to the liquid crystal alignment direction, and the other was arranged so as to be orthogonal thereto. Thereafter, a drive circuit, a backlight, and the like were connected to form a module, and an active matrix liquid crystal display device was obtained. In this embodiment, the normally closed characteristic is such that dark display is performed at a low voltage and bright display is performed at a high voltage.

次に、本実施例による3台の液晶表示装置の表示品位を評価したところ、実施例1の液晶表示装置に比べて開口率が高く、コントラスト比500:1の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角も確認された。ジアミン化合物(A-1)(A-19)を60モル%以上含む液晶表示装置のコントラスト比は600:1を超え、特に良好な表示品位であった。また、実施例1と同様にして、この液晶表示装置の画像の焼き付け、残像の緩和時間を定量評価したところ、0℃〜50℃の使用温度範囲において残像の緩和時間は5分以下であり、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、実施例1と同等の高い表示特性が得られた。   Next, when the display quality of the three liquid crystal display devices according to this example was evaluated, a high-quality display with a high aperture ratio and a contrast ratio of 500: 1 was confirmed as compared with the liquid crystal display device of example 1. In addition, a wide viewing angle during halftone display was also confirmed. The contrast ratio of the liquid crystal display device containing 60 mol% or more of the diamine compounds (A-1) and (A-19) exceeded 600: 1, and the display quality was particularly good. Further, in the same manner as in Example 1, when the image printing and afterimage relaxation time of this liquid crystal display device were quantitatively evaluated, the afterimage relaxation time was 5 minutes or less in the operating temperature range of 0 ° C to 50 ° C. Even in visual image quality afterimage inspection, no image burning or display unevenness due to afterimage was observed, and high display characteristics equivalent to those of Example 1 were obtained.

[実施例3]
図5は、実施例3に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。図中、前記した各実施例の図面と同一符号は同一機能部分に対応する。図5に示すように、本実施例では、保護絶縁膜108の下層に配置した画素電極105を、スルーホール118を介して有機保護膜112上に引き上げて共通電極103と同層に配置した。この構成とした場合には、液晶を駆動する電圧をさらに低減することが可能である。
[Example 3]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the third embodiment. In the drawing, the same reference numerals as those in the drawings of the respective embodiments described above correspond to the same functional parts. As shown in FIG. 5, in this embodiment, the pixel electrode 105 disposed under the protective insulating film 108 is pulled up on the organic protective film 112 through the through hole 118 and disposed in the same layer as the common electrode 103. In this configuration, the voltage for driving the liquid crystal can be further reduced.

以上のように構成されたTFT液晶表示装置では、電界無印加時には、液晶組成物層110bを構成する液晶分子110aは対向配置されているガラス基板101と102の面にほぼ平行な状態となり、光配向処理で規定された初期配向方向に向いた状態でホモジニアス配向している。ここで、ゲート電極104に電圧を印加して薄膜トランジスタ115をオンにすると、画素電極105と共通電極103との間の電位差により液晶組成物層110bに電界117が印加され、液晶組成物が持つ誘電異方性と電界との相互作用により液晶分子110aは電界方向にその向きを変える。このとき液晶組成物層110bの屈折異方性と偏光板114の作用により液晶表示装置の光透過率を変化させ表示を行うことができる。   In the TFT liquid crystal display device configured as described above, when no electric field is applied, the liquid crystal molecules 110a constituting the liquid crystal composition layer 110b are in a state substantially parallel to the surfaces of the glass substrates 101 and 102 that are arranged to face each other. Homogenous alignment is performed in a state in which the initial alignment direction defined by the alignment treatment is directed. Here, when a voltage is applied to the gate electrode 104 to turn on the thin film transistor 115, an electric field 117 is applied to the liquid crystal composition layer 110 b due to a potential difference between the pixel electrode 105 and the common electrode 103, and the dielectric property of the liquid crystal composition. Due to the interaction between the anisotropy and the electric field, the liquid crystal molecule 110a changes its direction in the electric field direction. At this time, display can be performed by changing the light transmittance of the liquid crystal display device by the refractive anisotropy of the liquid crystal composition layer 110 b and the action of the polarizing plate 114.

以下、本実施例による液晶表示装置の製造方法について説明する。ガラス基板101と102としては、厚みが0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いる。薄膜トランジスタ115は、画素電極(ソース電極)105、信号配線(ドレイン電極)106、走査配線(ゲート電極)104及びアモルファスシリコン116から構成される。走査配線104はアルミニウム膜をパターニングし、共通電極配線120、信号配線106及び画素電極105はクロム膜をパターニングして形成した。ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108は窒化珪素からなり、膜厚はそれぞれ0.3μmとした。その上にアクリル系樹脂を塗布し、220℃、1時間の加熱処理により透明で絶縁性のある誘電率約4の有機保護膜112を約1.0μm厚に形成した。この有機保護膜112により表示領域の画素電極105の段差起因の凹凸を平坦化し、また、隣接する画素間の段差凹凸を平坦化した。   Hereinafter, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to this embodiment will be described. As the glass substrates 101 and 102, glass substrates having a thickness of 0.7 mm and polished surfaces are used. The thin film transistor 115 includes a pixel electrode (source electrode) 105, a signal wiring (drain electrode) 106, a scanning wiring (gate electrode) 104, and amorphous silicon 116. The scanning wiring 104 was formed by patterning an aluminum film, and the common electrode wiring 120, the signal wiring 106, and the pixel electrode 105 were formed by patterning a chromium film. The gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 were made of silicon nitride, and the film thicknesses were each 0.3 μm. An acrylic resin was applied thereon, and a transparent and insulating organic protective film 112 having a dielectric constant of about 4 was formed to a thickness of about 1.0 μm by heat treatment at 220 ° C. for 1 hour. The organic protective film 112 flattened the unevenness due to the step of the pixel electrode 105 in the display area, and flattened the unevenness between the adjacent pixels.

次に、フォトリソグラフィ法とエッチング処理により、図5に示すように、ソース電極105まで約10μm径の円筒状にスルーホール118を形成し、その上からソース電極105と接続する画素電極105を、ITO膜をパターニングして形成した。また、共通電極配線120についても約10μm径の円筒状にスルーホールを形成し、その上からITO膜をパターニングして共通電極103を形成した。その際、画素電極105と共通電極103との間隔は7μmとし、走査配線104以外は、ジグザグに屈曲した電極配線パターンに形成した。その際、屈曲の角度は10度に設定した。さらに、この共通電極103は信号配線106、走査配線104及び薄膜トランジスタ115の上部を覆い画素を囲むように格子状に形成し、遮光層を兼ねるようにした。   Next, as shown in FIG. 5, through holes 118 are formed in a cylindrical shape with a diameter of about 10 μm up to the source electrode 105 by photolithography and etching, and the pixel electrode 105 connected to the source electrode 105 is formed thereon. An ITO film was formed by patterning. The common electrode wiring 120 was also formed with a through hole in a cylindrical shape with a diameter of about 10 μm, and the ITO film was patterned thereon to form the common electrode 103. At that time, the interval between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 was set to 7 μm, and the electrode wiring pattern other than the scanning wiring 104 was formed in a zigzag bent electrode wiring pattern. At that time, the angle of bending was set to 10 degrees. Further, the common electrode 103 is formed in a lattice shape so as to cover the upper portion of the signal wiring 106, the scanning wiring 104, and the thin film transistor 115 so as to surround the pixel, and also serves as a light shielding layer.

その結果、単位画素内に2種類のスルーホールが形成されている以外は、実施例2とほぼ同様に、画素電極105が3本の共通電極103の間に配置されている構成となり、画素数は1024×3(R、G、Bに対応)本の信号配線106と、768本の走査配線104とから構成される1024×3×768個とするアクティブマトリクス基板を形成した。   As a result, except that two types of through holes are formed in the unit pixel, the pixel electrode 105 is arranged between the three common electrodes 103 in substantially the same manner as in the second embodiment. Formed 1024 × 3 × 768 (corresponding to R, G, B) signal wirings 106 and 768 scanning wirings 104 to form 1024 × 3 × 768 active matrix substrates.

以上のように、画素構造と、用いる配向制御膜以外は、実施例2と同様として、図5に示すように、液晶表示装置を作製した。   As described above, a liquid crystal display device was manufactured as shown in FIG. 5 in the same manner as in Example 2 except for the pixel structure and the alignment control film to be used.

本実施例において、配向制御膜109として、下記表3に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸エチルエステル1から3を合成し、これら配向制御膜を用いて3台の液晶表示装置を作製した。ポリアミド酸エチルエステルを、樹脂分濃度5重量%、DMAC60重量%、γブチロラクトン20重量%、ブチルセロソルブ15重量%のワニスに調製し、アクティブマトリクス基板の上に印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約80%、膜厚約140nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸エチルエステルからなる配向制御膜109を形成した。   In this example, as the orientation control film 109, various polyamic acid ethyl esters 1 to 3 synthesized with the raw material composition shown in Table 3 below were synthesized, and three liquid crystal display devices were produced using these orientation control films. . Polyamide acid ethyl ester was prepared into a varnish of 5% by weight of resin content, 60% by weight of DMAC, 20% by weight of γ-butyrolactone and 15% by weight of butyl cellosolve, printed on an active matrix substrate, imidized by heat treatment, and imidized. An orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid ethyl ester having a rate of about 80% and a film thickness of about 140 nm was formed.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

その配向処理方法は、実施例1と同様の偏光UVを1.5J/cmの照射エネルギーで照射した。 As the alignment treatment method, the same polarized UV as in Example 1 was irradiated with an irradiation energy of 1.5 J / cm 2 .

次に、本実施例による3台の液晶表示装置の表示品位を評価したところ、実施例1の液晶表示装置と同等の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角も確認された。また、実施例1と同様にして、本実施例による液晶表示装置の画像の焼き付け、残像の緩和時間を定量評価したところ、残像の緩和時間は5分以下であり、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、高い表示特性が得られた。   Next, when the display quality of the three liquid crystal display devices according to this example was evaluated, a high-quality display equivalent to that of the liquid crystal display device of Example 1 was confirmed, and a wide viewing angle at the time of halftone display was also obtained. confirmed. Further, in the same manner as in Example 1, when the image printing and afterimage relaxation time of the liquid crystal display device according to this example were quantitatively evaluated, the afterimage relaxation time was 5 minutes or less, and even in visual image quality afterimage inspection. No image unevenness due to image burning or afterimage was observed, and high display characteristics were obtained.

図5に示すように、TFT115に直接接続されている画素電極105が基板最表面に形成され、その上には薄い配向制御膜109が形成される場合には、通常のラビング配向処理を行うと摩擦による帯電が発生し、場合によっては表面近傍の画素電極を介してTFT115がダメージを受けることがある。このような場合は、本実施例のようなラビングレスの光配向処理が非常に有効である。   As shown in FIG. 5, when the pixel electrode 105 directly connected to the TFT 115 is formed on the uppermost surface of the substrate and the thin alignment control film 109 is formed thereon, the normal rubbing alignment process is performed. Charging due to friction occurs, and in some cases, the TFT 115 may be damaged via the pixel electrode near the surface. In such a case, the rubbing-less photo-alignment treatment as in this embodiment is very effective.

[実施例4]
図6は、実施例4に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。図中、前記した各実施例の図面と同一符号は同一機能部分に対応する。本実施例では、電極などによる段差が大きい構造となっている。図6において、薄膜トランジスタ115のゲート電極104と共通電極103とを同層に形成し、共通電極103と画素電極105による電界117によって、液晶分子110aはその電界方向に向きを変える。
[Example 4]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment. In the drawing, the same reference numerals as those in the drawings of the respective embodiments described above correspond to the same functional parts. In this embodiment, a structure having a large step due to an electrode or the like is employed. In FIG. 6, the gate electrode 104 and the common electrode 103 of the thin film transistor 115 are formed in the same layer, and the liquid crystal molecules 110 a change the direction of the electric field due to the electric field 117 generated by the common electrode 103 and the pixel electrode 105.

また、上記した各実施例においては、1つの画素における共通電極103と画素電極105から構成される表示領域は、複数組設けることが可能である。このように、複数組設けることによって、1つの画素が大きい場合でも、画素電極105と共通電極103との間の距離を短くできるので、液晶を駆動させるために印加する電圧を小さくできる。   Further, in each of the above-described embodiments, a plurality of display areas each including the common electrode 103 and the pixel electrode 105 in one pixel can be provided. In this manner, by providing a plurality of sets, even when one pixel is large, the distance between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 can be shortened, so that the voltage applied to drive the liquid crystal can be reduced.

また、上記した各実施例においては、画素電極と共通電極の少なくとも一方を構成する透明導電膜の材料としては、特に制限はないが、加工の容易さ、信頼性の高さ等を考慮して、インジウム・チン・オキサイド(ITO)のようなチタン酸化物にイオンドープされた透明導電膜又はイオンドープされた亜鉛酸化物を用いるのが望ましい。   In each of the embodiments described above, the material of the transparent conductive film constituting at least one of the pixel electrode and the common electrode is not particularly limited, but considering the ease of processing, high reliability, and the like. It is desirable to use a transparent conductive film ion-doped with titanium oxide such as indium tin oxide (ITO) or ion-doped zinc oxide.

本実施例による液晶表示装置の製造方法において、ガラス基板101と102としては、厚みが0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いる。薄膜トランジスタ115は画素電極(ソース電極)105、信号配線(ドレイン電極)106、走査配線(ゲート電極)104及びアモルファスシリコン116から構成される。走査配線104、共通電極配線120、信号配線106、画素電極105及び共通電極103は、全てクロム膜をパターニングして形成し、画素電極105と共通電極103との間隔は7μmとした。ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108は窒化珪素からなり、膜厚はそれぞれ0.3μmとした。   In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment, glass substrates 101 and 102 are glass substrates having a thickness of 0.7 mm and polished surfaces. The thin film transistor 115 includes a pixel electrode (source electrode) 105, a signal wiring (drain electrode) 106, a scanning wiring (gate electrode) 104, and amorphous silicon 116. The scanning wiring 104, the common electrode wiring 120, the signal wiring 106, the pixel electrode 105, and the common electrode 103 were all formed by patterning a chromium film, and the distance between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 was 7 μm. The gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 were made of silicon nitride, and the film thicknesses were each 0.3 μm.

本実施例において、配向制御膜109として、下記表4に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸1から5を合成し、これら配向制御膜を用いて5台の液晶表示装置を作製した。ポリアミド酸を、樹脂分濃度5重量%、DMAC60重量%、γブチロラクトン20重量%、ブチルセロソルブ15重量%のワニスに調製し、アクティブマトリクス基板の上に印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約80%、膜厚約110nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸からなる配向制御膜109を形成した。   In this example, as the orientation control film 109, various polyamic acids 1 to 5 synthesized with the raw material compositions shown in Table 4 below were synthesized, and five liquid crystal display devices were produced using these orientation control films. Polyamic acid was prepared as a varnish having a resin concentration of 5% by weight, DMAC 60% by weight, γ-butyrolactone 20% by weight, and butyl cellosolve 15% by weight, printed on an active matrix substrate, imidized by heat treatment, and an imidization rate of about An orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid with a thickness of about 110 nm and 80% was formed.

Figure 0005181066
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その配向処理方法は、実施例1と同様の偏光UVを1.5J/cmの照射エネルギーで照射した。その結果、画素数は1024×3(R、G、Bに対応)本の信号配線106と、768本の走査配線104とから構成される1024×3×768個とするアクティブマトリクス基板を形成した。 As the alignment treatment method, the same polarized UV as in Example 1 was irradiated with an irradiation energy of 1.5 J / cm 2 . As a result, an active matrix substrate having 1024 × 3 × 768 pixels composed of 1024 × 3 (corresponding to R, G, and B) signal wirings 106 and 768 scanning wirings 104 was formed. .

以上のように、画素構造以外は実施例1と同様として、図6に示す本実施例の液晶表示装置を作製した。   As described above, the liquid crystal display device of this example shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as Example 1 except for the pixel structure.

次に、本実施例による3台の液晶表示装置の表示品位を評価したところ、実施例1の液晶表示装置と同等の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角も確認された。ジアミン化合物(A−22)(A−53)を用いた液晶表示装置のコントラスト比は600:1を超え、特に良好な表示品位であった。また、実施例1と同様にして、本実施例による液晶表示装置の画像の焼き付け、残像の緩和時間を定量評価したところ、残像の緩和時間は5分以下であり、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、高い表示特性が得られた。   Next, when the display quality of the three liquid crystal display devices according to this example was evaluated, a high-quality display equivalent to that of the liquid crystal display device of Example 1 was confirmed, and a wide viewing angle at the time of halftone display was also obtained. confirmed. The contrast ratio of the liquid crystal display device using the diamine compound (A-22) (A-53) exceeded 600: 1, and the display quality was particularly good. Further, in the same manner as in Example 1, when the image printing and afterimage relaxation time of the liquid crystal display device according to this example were quantitatively evaluated, the afterimage relaxation time was 5 minutes or less, and even in visual image quality afterimage inspection. No image unevenness due to image burning or afterimage was observed, and high display characteristics were obtained.

[実施例5]
図7は、実施例5に係る液晶表示装置の1画素付近の模式断面図である。図中、前記した各実施例の図面と同一符号は同一機能部分に対応する。本実施例において、画素電極105と共通電極103は、ITOにより形成されており、共通電極103は画素のほぼ全体を覆うベタ電極で構成されている。本構成により電極上も透過部として利用することができ、開口率を向上することができる。また、電極間隔を短くすることができ、電界を効率よく液晶に印加できる。
[Example 5]
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment. In the drawing, the same reference numerals as those in the drawings of the respective embodiments described above correspond to the same functional parts. In this embodiment, the pixel electrode 105 and the common electrode 103 are made of ITO, and the common electrode 103 is a solid electrode that covers almost the entire pixel. With this configuration, the electrode can be used as a transmission portion, and the aperture ratio can be improved. In addition, the distance between the electrodes can be shortened, and an electric field can be efficiently applied to the liquid crystal.

図8は、実施例5に係る液晶表示装置の1画素付近の構成を示すアクティブマトリクス基板の模式平面図であり、薄膜トランジスタ115、共通電極103、画素電極105、信号配線106の構造を示す。   FIG. 8 is a schematic plan view of an active matrix substrate showing a configuration in the vicinity of one pixel of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment, and shows the structure of the thin film transistor 115, the common electrode 103, the pixel electrode 105, and the signal wiring 106.

本実施例による液晶表示装置の製造方法において、ガラス基板101としては、厚みが0.7mmで表面を研磨したガラス基板を用いる。ガラス基板101上には、共通電極103、画素電極105、信号配線106及び走査配線104の短絡を防止するためのゲート絶縁膜107と、薄膜トランジスタ115、画素電極105及び信号配線106を保護する保護絶縁膜108を形成してTFT基板とする。   In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to this example, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm and a polished surface is used as the glass substrate 101. On the glass substrate 101, a gate insulating film 107 for preventing a short circuit between the common electrode 103, the pixel electrode 105, the signal wiring 106, and the scanning wiring 104, and protective insulation for protecting the thin film transistor 115, the pixel electrode 105, and the signal wiring 106. A film 108 is formed to form a TFT substrate.

薄膜トランジスタ115は、画素電極(ソース電極)105、信号配線(ドレイン電極)106、走査配線(ゲート電極)104及びアモルファスシリコン116から構成される。走査配線(ゲート電極)104はアルミニウム膜をパターニングし、信号配線(ドレイン電極)106はクロム膜をパターニングし、そして共通電極103と画素電極105とはITOをパターニングして形成する。   The thin film transistor 115 includes a pixel electrode (source electrode) 105, a signal wiring (drain electrode) 106, a scanning wiring (gate electrode) 104, and amorphous silicon 116. The scanning wiring (gate electrode) 104 is formed by patterning an aluminum film, the signal wiring (drain electrode) 106 is formed by patterning a chromium film, and the common electrode 103 and the pixel electrode 105 are formed by patterning ITO.

ゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108は窒化珪素からなり、膜厚はそれぞれ0.2μmと0.3μmとした。容量素子は画素電極105と共通電極103でゲート絶縁膜107と保護絶縁膜108を挟む構造として形成する。   The gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 were made of silicon nitride, and the film thicknesses were 0.2 μm and 0.3 μm, respectively. The capacitor is formed to have a structure in which the gate insulating film 107 and the protective insulating film 108 are sandwiched between the pixel electrode 105 and the common electrode 103.

画素電極105は、ベタ形状の共通電極103の上層に重畳する形で配置されている。画素数は1024×3(R,G,Bに対応)本の信号配線106と、768本の走査配線104とから構成される1024×3×768個とする。   The pixel electrode 105 is arranged so as to overlap the upper layer of the solid-shaped common electrode 103. The number of pixels is 1024 × 3 × 768 including 1024 × 3 (corresponding to R, G, and B) signal wirings 106 and 768 scanning wirings 104.

ガラス基板102上には、実施例1と同様に、ブラックマトリクス113付きカラーフィルタ層111を形成し、対向カラーフィルタ基板とした。   On the glass substrate 102, the color filter layer 111 with the black matrix 113 was formed similarly to Example 1, and it was set as the counter color filter substrate.

本実施例において、配向制御膜109として、下記表5に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸メチルエステル1から5を合成し、これら配向制御膜を用いて3台の液晶表示装置を作製した。ポリアミド酸メチルエステルを、樹脂分濃度5重量%、DMAC60重量%、γブチロラクトン20重量%、ブチルセロソルブ15重量%のワニスに調製し、アクティブマトリクス基板の上に印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約70%、膜厚約130nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸メチルエステルからなる配向制御膜109を形成した。   In this example, as the orientation control film 109, various polyamic acid methyl esters 1 to 5 synthesized with the raw material compositions shown in Table 5 below were synthesized, and three liquid crystal display devices were produced using these orientation control films. . Polyamide acid methyl ester was prepared into a varnish with a resin concentration of 5% by weight, DMAC 60% by weight, γ-butyrolactone 20% by weight, and butyl cellosolve 15% by weight. An orientation control film 109 made of dense polyimide and polyamic acid methyl ester having a rate of about 70% and a film thickness of about 130 nm was formed.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

同様に、ITOを成膜したもう一方のガラス基板102の表面にも同様のポリアミド酸エチルエステルワニスを印刷形成して熱処理によりイミド化し、イミド化率約80%、約110nmの緻密なポリイミド及びポリアミド酸メチルエステルからなる配向制御膜109を形成した。   Similarly, the same polyamic acid ethyl ester varnish is printed on the surface of the other glass substrate 102 on which ITO is formed and imidized by heat treatment, and an imidization ratio of about 80% and a dense polyimide and polyamide of about 110 nm are used. An alignment control film 109 made of acid methyl ester was formed.

その配向処理方法は、実施例1と同様の偏光UVを1.5J/cmの照射エネルギーで照射した。 As the alignment treatment method, the same polarized UV as in Example 1 was irradiated with an irradiation energy of 1.5 J / cm 2 .

TFT基板及びカラーフィルタ基板における配向制御膜109の配向方向は互いにほぼ平行とした。これらの基板間に平均粒径が4μmのポリマービーズをスペーサとして分散し、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に液晶分子110aを挟み込んだ。液晶分子110aは、実施例1と同じ液晶組成物Aを用いた。   The alignment directions of the alignment control film 109 on the TFT substrate and the color filter substrate are substantially parallel to each other. Polymer beads having an average particle diameter of 4 μm were dispersed as spacers between these substrates, and liquid crystal molecules 110a were sandwiched between the TFT substrate and the color filter substrate. The same liquid crystal composition A as in Example 1 was used as the liquid crystal molecules 110a.

TFT基板とカラーフィルタ基板とを挟む2枚の偏光板114はクロスニコルに配置した。そして、低電圧で暗状態となり、高電圧で明状態をとるノーマリークローズ特性を採用した。   The two polarizing plates 114 sandwiching the TFT substrate and the color filter substrate were arranged in crossed Nicols. A normally closed characteristic is adopted in which a dark state is obtained at a low voltage and a bright state is obtained at a high voltage.

次に、本実施例による液晶表示装置の表示品位を評価したところ、実施例1の液晶表示装置に比べて開口率が高く、コントラスト比700:1の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角も確認された。また、実施例1と同様にして、この液晶表示装置の画像の焼き付け、残像の緩和時間を定量評価したところ、0℃〜50℃の使用温度範囲において残像の緩和時間は5分以内であり、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、実施例1と同等の高い表示特性が得られた。   Next, when the display quality of the liquid crystal display device according to the present example was evaluated, an aperture ratio was higher than that of the liquid crystal display device of example 1, and a high-quality display with a contrast ratio of 700: 1 was confirmed. A wide viewing angle was also confirmed during the tonal display. Further, in the same manner as in Example 1, when the image printing and afterimage relaxation time of this liquid crystal display device were quantitatively evaluated, the afterimage relaxation time was within 5 minutes in the operating temperature range of 0 ° C to 50 ° C. Even in visual image quality afterimage inspection, no image burning or display unevenness due to afterimage was observed, and high display characteristics equivalent to those of Example 1 were obtained.

[実施例6]
本実施例では、配向制御膜109として下記表6に示される原料組成で合成した各種ポリアミド酸メチルエステルを用いた他は実施例5と同様にして液晶表示装置を作成した。
[Example 6]
In this example, a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 5 except that various polyamic acid methyl esters synthesized with raw material compositions shown in Table 6 below were used as the alignment control film 109.

Figure 0005181066
Figure 0005181066

次に、本実施例による液晶表示装置の表示品位を評価したところ、実施例1の液晶表示装置に比べて開口率が高く、コントラスト比800:1の高品位な表示が確認されるとともに、中間調表示時における広視野角も確認された。また、実施例1と同様にして、この液晶表示装置の画像の焼き付け、残像の緩和時間を定量評価したところ、0℃〜50℃の使用温度範囲において残像の緩和時間は2分以内であり、実施例7と比較して高い液晶配向安定性を示した。また、目視による画質残像検査においても、画像の焼き付け、残像による表示むらも一切見られず、実施例1と同等の高い表示特性が得られた。   Next, when the display quality of the liquid crystal display device according to the present example was evaluated, an aperture ratio was higher than that of the liquid crystal display device of example 1, and a high-quality display with a contrast ratio of 800: 1 was confirmed. A wide viewing angle was also confirmed during the tonal display. Further, in the same manner as in Example 1, when the image printing and afterimage relaxation time of this liquid crystal display device were quantitatively evaluated, the afterimage relaxation time was within 2 minutes in the operating temperature range of 0 ° C to 50 ° C. Compared with Example 7, the liquid crystal alignment stability was high. Further, in visual image quality afterimage inspection, no image burn-in and display unevenness due to afterimage were observed, and high display characteristics equivalent to those in Example 1 were obtained.

101,102 ガラス基板、103 共通電極(コモン電極)、104 走査配線(ゲート電極)、105 画素電極(ソース電極)、106 信号配線(ドレイン電極)、107 ゲート絶縁膜、108 保護絶縁膜、109 配向制御膜、110a 液晶分子、110b 液晶組成物層(液晶層)、111 カラーフィルタ層、112 有機保護膜(オーバーコート層)、113 遮光膜(ブラックマトリクス)、114 偏光板、115 薄層トランジスタ(TFT)、116 半導体膜(アモルファスシリコン又はポリシリコン)、117 電界(電界方向)、118 スルーホール、120 共通電極配線(コモン配線)。   101, 102 glass substrate, 103 common electrode (common electrode), 104 scanning wiring (gate electrode), 105 pixel electrode (source electrode), 106 signal wiring (drain electrode), 107 gate insulating film, 108 protective insulating film, 109 orientation Control film, 110a liquid crystal molecule, 110b liquid crystal composition layer (liquid crystal layer), 111 color filter layer, 112 organic protective film (overcoat layer), 113 light shielding film (black matrix), 114 polarizing plate, 115 thin layer transistor (TFT) ), 116 Semiconductor film (amorphous silicon or polysilicon), 117 electric field (electric field direction), 118 through hole, 120 common electrode wiring (common wiring).

Claims (8)

ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体からなり、
前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体および芳香族ジアミンを含み、
光配向処理によって液晶分子の配向規制力が付与されている、ことを特徴とする液晶配向制御膜。
Figure 0005181066
(但し、ZからZのうち少なくとも一つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子である。)
Consisting of polyimide and a precursor of said polyimide,
The polyimide and the polyimide precursor include a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the following chemical formula (1) and an aromatic diamine as raw materials,
A liquid crystal alignment control film characterized by being provided with alignment regulating force of liquid crystal molecules by photo-alignment treatment.
Figure 0005181066
(However, at least one of Z 1 to Z 4 is a substituent represented by —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN or —NO 2 (R is And each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2.), and the others are hydrogen atoms.)
前記芳香族ジアミンは下記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち少なくとも一種を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の液晶配向制御膜。
Figure 0005181066
(但し、Xはそれぞれ独立に、次に示すいずれかの構造である。:−CH−、−CO−、−O−、−NH−、−CO−NH−、−S−、−SO−、−SO−)
2. The liquid crystal alignment control film according to claim 1, wherein the aromatic diamine contains at least one aromatic diamine selected from a group of compounds represented by the following chemical formulas (101) to (110).
Figure 0005181066
(Wherein, X is independently, is any of the structures shown below: -. CH 2 -, - CO -, - O -, - NH -, - CO-NH -, - S -, - SO- , —SO 2 —)
前記芳香族ジアミンは前記化学式(101)から(110)に示される化合物群より選択される芳香族ジアミンのうち異なる二種以上を含む、ことを特徴とする請求項2に記載の液晶配向制御膜。 The liquid crystal alignment control film according to claim 2, wherein the aromatic diamine includes two or more different aromatic diamines selected from the group of compounds represented by the chemical formulas (101) to (110). . 前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体の原料として用いられるテトラカルボン酸二無水物は、前記化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を、70モル%以上100モル%以下の割合で含有する、ことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の液晶配向制御膜。 The tetracarboxylic dianhydride used as a raw material for the polyimide and the polyimide precursor is a cyclobutane tetracarboxylic dianhydride derivative represented by the chemical formula (1) at a ratio of 70 mol% to 100 mol%. The liquid crystal alignment control film according to claim 1, wherein the liquid crystal alignment control film is contained. 前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、原料として下記化学式(2)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の液晶配向制御膜。
Figure 0005181066
(但し、YからYのうち少なくとも一つはメチル基またはメトキシ基であり、その他は水素原子である。)
4. The liquid crystal according to claim 1, wherein the polyimide and the polyimide precursor further include a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by the following chemical formula (2) as a raw material. Orientation control film.
Figure 0005181066
(However, at least one of Y 1 to Y 4 is a methyl group or a methoxy group, and the other is a hydrogen atom.)
前記ポリイミドの前駆体は、アルキル基の炭素数が1から4のポリアミド酸アルキルエステルを含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶配向制御膜。 The liquid crystal alignment control film according to claim 1, wherein the polyimide precursor includes a polyamic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. 前記化学式(1)中の、ZからZのうち少なくとも二つは、−NR、−SR、−OH、−COR、−(CH−COOR、−CNまたは−NOに示す置換基(Rはそれぞれ独立に水素原子もしくは炭素数1から4のアルキル基、nは0から2の整数。)であり、その他は水素原子である、ことを特徴とする請求項1乃至6いずれか一項に記載の液晶配向制御膜。 At least two of Z 1 to Z 4 in the chemical formula (1) are represented by —NR 2 , —SR, —OH, —COR, — (CH 2 ) n —COOR, —CN, or —NO 2 . The substituents (R is independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 0 to 2), and the others are hydrogen atoms. A liquid crystal alignment control film according to claim 1. 前記ポリイミドおよび前記ポリイミドの前駆体は、前記置換基の数が異なる二種以上の化学式(1)に示されるシクロブタンテトラカルボン酸二無水物誘導体を原料として含む、
ことを特徴とする請求項1乃至7いずれか一項に記載の液晶配向制御膜。
The polyimide and the polyimide precursor include, as a raw material, a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride derivative represented by two or more chemical formulas (1) having different numbers of substituents.
The liquid crystal alignment control film according to claim 1, wherein:
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