JP5179808B2 - New dibenzofluorene compounds - Google Patents
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Description
本発明は、優れた耐熱性や高屈折率を有し、樹脂原料などとして有用な新規なジベンゾフルオレン化合物、その製造方法および前記ジベンゾフルオレン化合物を重合成分とする樹脂に関する。 The present invention relates to a novel dibenzofluorene compound having excellent heat resistance and high refractive index and useful as a resin raw material, a method for producing the same, and a resin containing the dibenzofluorene compound as a polymerization component.
樹脂や樹脂原料において、熱的特性(耐熱性など)、光学的特性(高屈折率など)などの重要な特性を付与又は改善するため、樹脂の重合成分を選択したり、樹脂を改質可能な化合物を添加するなどの方法がとられている。例えば、フルオレン骨格(9,9−ビスフェニルフルオレン骨格など)を有する化合物は、屈折率、耐熱性などにおいて優れた機能を有することが知られている。このようなフルオレン骨格の優れた機能を樹脂に発現する方法としては、反応性基(ヒドロキシル基、アミノ基など)を有するフルオレン化合物、例えば、ビスフェノールフルオレン(BPF)、ビスクレゾールフルオレン(BCF)、ビスフェノキシエタノールフルオレン(BPEF)などを樹脂の構成成分として利用し、樹脂の骨格構造の一部にフルオレン骨格を導入する方法が一般的である。例えば、このようなフルオレン骨格を有する樹脂を用いた例として、特開2002−284864号公報(特許文献1)には、9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂で構成された成形材料が開示されている。また、特開2004−339499号公報(特許文献2)には、ビスフェノールフルオレン、ビスアミノフェニルフルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレンなどのフルオレン骨格を有する化合物を重合成分とする樹脂(ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール系樹脂、アニリン系樹脂など)と、添加剤とを含有する組成物が開示されている。 In resin and resin raw materials, resin polymerization components can be selected and the resin can be modified to give or improve important properties such as thermal properties (heat resistance, etc.) and optical properties (high refractive index, etc.) A method such as adding a compound is taken. For example, a compound having a fluorene skeleton (such as a 9,9-bisphenylfluorene skeleton) is known to have an excellent function in terms of refractive index, heat resistance, and the like. As a method for expressing such an excellent function of the fluorene skeleton in a resin, a fluorene compound having a reactive group (hydroxyl group, amino group, etc.), for example, bisphenol fluorene (BPF), biscresol fluorene (BCF), bis A general method is to use phenoxyethanol fluorene (BPEF) or the like as a constituent component of a resin and introduce a fluorene skeleton into a part of the skeleton structure of the resin. For example, as an example using such a resin having a fluorene skeleton, JP-A No. 2002-284864 (Patent Document 1) discloses a molding material composed of a polyester resin having a 9,9-bisphenylfluorene skeleton. It is disclosed. JP-A-2004-339499 (Patent Document 2) discloses a resin having a fluorene skeleton such as bisphenolfluorene, bisaminophenylfluorene, or bisphenoxyethanolfluorene as a polymerization component (polyester resin, polycarbonate resin, A urethane resin, an acrylic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, an epoxy resin, a vinyl ester resin, a phenol resin, an aniline resin, and the like) and an additive are disclosed.
また、特許第3440110号公報(特許文献3)には、下記一般式 Japanese Patent No. 3440110 (Patent Document 3) discloses the following general formula:
(式中、Xは、 (Where X is
を表わし、Arは各々独立に炭素数6〜12の無置換のアリール基を表わし、R1、R2、R3及びR4は各々独立にハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12の無置換のアリール基を表わし、a及びbは各々独立に0〜4の整数を表わし、c及びdは各々独立に0〜6の整数を表わし、Zは単結合、−O−、−CO−、−S−又は−SO2−を表わす。)で表されるビスフェノール誘導体が開示されている。 Each independently represents an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a carbon atom. Represents an unsubstituted aryl group of 6 to 12, a and b each independently represent an integer of 0 to 4, c and d each independently represents an integer of 0 to 6, Z represents a single bond, -O -, - CO -, - S- or -SO 2 - it represents. The bisphenol derivative represented by this is disclosed.
この文献には、前記ビスフェノール誘導体は、フェノール類とカルボニル化合物とを反応させて得られ、(i)フェノール類としては、o−フェニルフェノール、o−(4−メチルフェノール)等が挙げられ、o−フェニルフェノールが好適であること、(ii)カルボニル化合物としては、フルオレノン、アンスロン、ペンタセノン等が挙げられ、通常、フルオレノンが好適に用いられることが記載されている。 In this document, the bisphenol derivative is obtained by reacting a phenol with a carbonyl compound. (I) Examples of the phenol include o-phenylphenol and o- (4-methylphenol). -Phenylphenol is preferred, and (ii) carbonyl compounds include fluorenone, anthrone, pentacenone and the like, and it is usually described that fluorenone is preferably used.
このような状況の中、耐熱性、屈折率などにおいてさらに優れた材料の開発が求められている。
従って、本発明の目的は、優れた耐熱性、高屈折率などの特性を有する新規なジベンゾフルオレン化合物、その製造方法および前記化合物を重合成分とする樹脂を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel dibenzofluorene compound having characteristics such as excellent heat resistance and high refractive index, a production method thereof, and a resin containing the compound as a polymerization component.
本発明の他の目的は、反応性やハンドリング性に優れる新規なジベンゾフルオレン化合物、その製造方法および前記化合物を重合成分とする樹脂を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a novel dibenzofluorene compound having excellent reactivity and handling properties, a method for producing the same, and a resin containing the compound as a polymerization component.
本発明のさらに他の目的は、熱膨張性が低く、寸法精度が高い新規なジベンゾフルオレン化合物、その製造方法および前記化合物を重合成分とする樹脂を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a novel dibenzofluorene compound having low thermal expansibility and high dimensional accuracy, a method for producing the same, and a resin containing the compound as a polymerization component.
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ジベンゾフルオレン類(詳細には、2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類)の9位に、ヒドロキシル基などを有する芳香族炭化水素環(フェノール骨格、ナフトール骨格など)が2つ結合した新規なジベンゾフルオレン化合物が、優れた耐熱性、高屈折率、低線膨張性などの特性を有していることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that aromatic carbonization having a hydroxyl group or the like at the 9-position of dibenzofluorenes (specifically, 2,3: 6,7-dibenzofluorenes). A novel dibenzofluorene compound in which two hydrogen rings (phenol skeleton, naphthol skeleton, etc.) are bonded has been found to have excellent heat resistance, high refractive index, low linear expansion properties, etc. completed.
すなわち、本発明の新規な化合物(ジベンゾフルオレン化合物)は、下記式(1)で表される化合物である。 That is, the novel compound (dibenzofluorene compound) of the present invention is a compound represented by the following formula (1).
(式中、環Zは芳香族炭化水素環を示し、Eは酸素原子又は硫黄原子、R1およびR2は、同一又は異なって、シアノ基、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、R3は、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基、ヒドロキシアルキル基又はカルボキシル基を示し、R4はアルキレン基を示す。kは0〜2の整数、lは0〜3の整数、mは0以上の整数、nは0以上の整数、pは1以上の整数である。)
本発明の化合物は、前記式(1)において、環Zがベンゼン環であり、R3がアルキル基であり、かつmが0〜2であってもよい。このような化合物は、R3がアリール基(フェニル基など)であり、mが1以上(例えば、1)である化合物などに比べて、ハンドリング性を向上できる。また、反応性(詳細には、ヒドロキシル基又はメルカプト基の反応性)においても優れている。そのため、樹脂原料(例えば、ポリ(チオ)エステル系樹脂のポリオール成分又はポリチオール成分など)などとして適用しやすく、実用性が高い。
(In the formula, ring Z represents an aromatic hydrocarbon ring, E represents an oxygen atom or sulfur atom, R 1 and R 2 are the same or different, and are a cyano group, a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a carboxyl group. , Alkoxycarbonyl group, R 3 is hydrocarbon group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, substituted amino group, hydroxyalkyl R represents a group or a carboxyl group, R 4 represents an alkylene group, k is an integer of 0 to 2, l is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 or more, n is an integer of 0 or more, and p is 1 or more. (It is an integer.)
In the compound of the present invention, in the formula (1), ring Z may be a benzene ring, R 3 may be an alkyl group, and m may be 0 to 2. Such a compound can improve handling properties compared to a compound in which R 3 is an aryl group (such as a phenyl group) and m is 1 or more (for example, 1). It is also excellent in reactivity (specifically, reactivity of hydroxyl group or mercapto group). Therefore, it is easy to apply as a resin raw material (for example, a polyol component or a polythiol component of a poly (thio) ester-based resin) and has high practicality.
また、本発明の化合物は、前記式(1)において、環Zがナフタレン環である化合物であってもよい。このような化合物は、R3がアリール基(フェニル基など)であり、mが1以上(例えば、1)である化合物などに比べて、より一層耐熱性を向上できるとともに、熱膨張性又は線膨張性を低減できる。そのため、高い寸法安定性で、樹脂原料などとして用いることができる。 Further, the compound of the present invention may be a compound in which the ring Z is a naphthalene ring in the formula (1). Such a compound can further improve heat resistance as compared with a compound in which R 3 is an aryl group (such as a phenyl group), and m is 1 or more (for example, 1), and has a thermal expansion property or linearity. Expandability can be reduced. Therefore, it can be used as a resin raw material with high dimensional stability.
前記化合物は、代表的には、下記(i)〜(iii)のいずれかを充足する化合物であってもよい。 The compound may typically be a compound that satisfies any of the following (i) to (iii).
(i)前記式(1)において、環Zがベンゼン環であり、Eが酸素原子であり、mが0であり、R4がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10(例えば、0〜4)であり、pが1〜3(例えば、1〜2、特に1)である
(ii)式(1)において、環Zがベンゼン環であり、Eが酸素原子であり、R3がC1−4アルキル基(メチル基など)であり、mが1〜2であり、R4がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10(例えば、0〜4)であり、pが1〜3(例えば、1〜2、特に1)である
(iii)式(1)において、環Zがナフタレン環であり、Eが酸素原子であり、R4がC2−4アルキレン基であり、nが0〜10(例えば、0〜4)であり、pが1〜3(例えば、1〜2、特に1)である。
(I) In the formula (1), the ring Z is a benzene ring, E is an oxygen atom, m is 0, R 4 is a C 2-4 alkylene group, and n is 0 to 10 (for example, 0-4), and p is 1-3 (for example, 1-2, especially 1). (Ii) In formula (1), ring Z is a benzene ring, E is an oxygen atom, R 3 is a C 1-4 alkyl group (such as a methyl group), m is 1 to 2, R 4 is a C 2-4 alkylene group, and n is 0 to 10 (for example, 0 to 4). , P is 1 to 3 (for example, 1 to 2, particularly 1) (iii) In formula (1), ring Z is a naphthalene ring, E is an oxygen atom, and R 4 is C 2-4 alkylene. Group, n is 0 to 10 (for example, 0 to 4), and p is 1 to 3 (for example, 1 to 2, particularly 1).
特に、前記化合物は、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、および9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレンから選択された少なくとも1種であってもよい。 In particular, the compounds are 9,9-bis (hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (mono or diC 1-4 alkyl-hydroxyphenyl) -2,3: 6,7 dibenzo fluorene, 9,9-bis (hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo fluorene, 9,9-bis (hydroxy C 2-4 alkoxy - mono- or di-C 1-4 alkylphenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (hydroxynaphthyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, and 9,9-bis (hydroxyC 2- 4 alkoxy naphthyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene may be used.
また、特に、前記化合物は、9,9−ビス(メルカプトフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−メルカプトフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン、および9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレンから選択された少なくとも1種であってもよい。 In particular, the compound is 9,9-bis (mercaptophenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (mono or diC 1-4 alkyl-mercaptophenyl) -2, 3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxy-mono or di C 1-4 alkyl phenyl) -2,3: 6,7-dibenzo fluorene, 9,9-bis (mercaptomethyl naphthyl) -2,3: 6,7-dibenzo fluorene, and 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxynaphthyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene may be used.
本発明には、下記式(2)で表される化合物と、下記式(3)で表される化合物又はその誘導体とを反応させる工程(A)を少なくとも経て前記化合物を製造する方法も含まれる。 The present invention also includes a method for producing the compound through at least the step (A) of reacting the compound represented by the following formula (2) with the compound represented by the following formula (3) or a derivative thereof. .
(式中、Z、E、R1、R2、R3、R4、k、l、m、nおよびpは前記と同じ。)
本発明には、前記化合物を重合成分(すなわち、ポリオール成分又はポリチオール成分)とする樹脂も含まれる。このような樹脂において、前記化合物は、(i)前記式(1)においてEが酸素原子である化合物であるとき、ポリオール成分(例えば、ジオール成分)として、(ii)前記式(1)においてEが硫黄原子である化合物であるとき、ポリチオール成分(例えば、ジチオール成分)として用いることができる。すなわち、前記樹脂は、通常、前記化合物で構成された(又は前記化合物を少なくとも含む)ポリオール成分又はポリチオール成分を重合成分(又はモノマー)とする樹脂である。このような樹脂は、例えば、ポリ(チオ)エステル系樹脂、ポリ(チオ)カーボネート系樹脂、および(チオ)エポキシ樹脂から選択された樹脂であってもよい。
(In the formula, Z, E, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m, n and p are the same as above.)
The present invention includes a resin having the compound as a polymerization component (that is, a polyol component or a polythiol component). In such a resin, when the compound is (i) a compound in which E is an oxygen atom in the formula (1), as a polyol component (for example, a diol component), (ii) E in the formula (1) Can be used as a polythiol component (for example, a dithiol component). That is, the resin is usually a resin comprising a polyol component or a polythiol component composed of the compound (or at least including the compound) or a polythiol component as a polymerization component (or monomer). Such a resin may be, for example, a resin selected from a poly (thio) ester resin, a poly (thio) carbonate resin, and a (thio) epoxy resin.
代表的には、前記樹脂は、下記樹脂であってもよい。 Typically, the resin may be the following resin.
下記式(A1)で表されるエステルユニットを有するポリエステル樹脂。 A polyester resin having an ester unit represented by the following formula (A1).
(式中、A1はジカルボン酸成分(b)の残基を示し、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
下記式(A2)で表されるエーテルユニットを有するポリエーテル樹脂。
(In the formula, A 1 represents a residue of the dicarboxylic acid component (b), and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m, and n are the same as described above.)
A polyether resin having an ether unit represented by the following formula (A2).
(式中、A2は複数のハロゲン原子を有する化合物(C)の残基、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
下記式(A3)で表されるチオエーテルユニットを有するポリチオエーテル樹脂。
(In the formula, A 2 is a residue of compound (C) having a plurality of halogen atoms, and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as described above.)
A polythioether resin having a thioether unit represented by the following formula (A3).
(式中、A3は複数のハロゲン原子を有する化合物(D)の残基、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。) (Wherein A 3 is the residue of compound (D) having a plurality of halogen atoms, and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as above)
本発明の新規なジベンゾフルオレン化合物は、優れた耐熱性、高い屈折率などの特性を有している。特に、ジベンゾフルオレン類の9位に結合する芳香族炭化水素環の種類をベンゼン環やクレゾール環などとすることにより、反応性およびハンドリング性に優れたジベンゾフルオレン化合物とすることができる。また、前記芳香族炭化水素環をナフタレン環などの縮合芳香族炭化水素環とすることにより、さらに、熱膨張性が低く、寸法精度が高いジベンゾフルオレン化合物とすることができる。このような本発明のジベンゾフルオレン化合物は、樹脂成分などとして好適に用いることができる。 The novel dibenzofluorene compound of the present invention has properties such as excellent heat resistance and high refractive index. In particular, a dibenzofluorene compound excellent in reactivity and handling can be obtained by using a benzene ring or a cresol ring as the type of the aromatic hydrocarbon ring bonded to the 9-position of dibenzofluorenes. In addition, when the aromatic hydrocarbon ring is a condensed aromatic hydrocarbon ring such as a naphthalene ring, a dibenzofluorene compound having low thermal expansibility and high dimensional accuracy can be obtained. Such a dibenzofluorene compound of the present invention can be suitably used as a resin component or the like.
本発明の化合物(ジベンゾフルオレン化合物などということがある)は、ジベンゾフルオレン類(詳細には2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、単にジベンゾフルオレン、フルオレンなどということがある)の9位に、ヒドロキシル基又はメルカプト基を有する芳香族炭化水素環が置換した化合物であり、通常、下記式(1)で表される化合物であってもよい。 The compound of the present invention (sometimes referred to as a dibenzofluorene compound) is located at the 9th position of dibenzofluorenes (specifically, sometimes referred to as 2,3: 6,7-dibenzofluorenes, simply dibenzofluorene, fluorene, etc.). , A compound substituted by an aromatic hydrocarbon ring having a hydroxyl group or a mercapto group, and may be a compound represented by the following formula (1).
(式中、環Zは芳香族炭化水素環を示し、Eは酸素原子又は硫黄原子、R1、R2およびR3は同一又は異なって置換基を示し、R4はアルキレン基を示す。kは0〜2の整数、lは0〜3の整数、mは0以上の整数、nは0以上の整数、pは1以上の整数である。)
上記式(1)において、環Zで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環(詳細には、少なくともベンゼン環を含む縮合多環式炭化水素環)などが挙げられる。縮合多環式芳香族炭化水素環に対応する縮合多環式芳香族炭化水素としては、縮合二環式炭化水素(例えば、インデン、ナフタレンなどのC8−20縮合二環式炭化水素、好ましくはC10−16縮合二環式炭化水素)、縮合三環式炭化水素(例えば、アントラセン、フェナントレンなど)などの縮合二乃至四環式炭化水素などが挙げられる。好ましい縮合多環式炭化水素としては、縮合多環式芳香族炭化水素(ナフタレン、アントラセンなど)が挙げられ、特にナフタレンが好ましい。なお、ジベンゾフルオレン類の9位に置換する2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。
(In the formula, ring Z represents an aromatic hydrocarbon ring, E represents an oxygen atom or sulfur atom, R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and represent a substituent, and R 4 represents an alkylene group.) Is an integer of 0 to 2, l is an integer of 0 to 3, m is an integer of 0 or more, n is an integer of 0 or more, and p is an integer of 1 or more.)
In the above formula (1), examples of the aromatic hydrocarbon ring represented by ring Z include a benzene ring and a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring (specifically, a condensed polycyclic hydrocarbon ring containing at least a benzene ring). ) And the like. Examples of the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon corresponding to the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring include condensed bicyclic hydrocarbons (for example, C 8-20 condensed bicyclic hydrocarbons such as indene and naphthalene, preferably C 10-16 condensed bicyclic hydrocarbons) and condensed tricyclic hydrocarbons (for example, anthracene, phenanthrene, etc.) and the like, and the like. Preferable condensed polycyclic hydrocarbons include condensed polycyclic aromatic hydrocarbons (naphthalene, anthracene, etc.), and naphthalene is particularly preferable. The two rings Z substituted at the 9-position of dibenzofluorenes may be the same or different rings, and may usually be the same ring.
好ましい環Zには、ベンゼン環およびナフタレン環(特にベンゼン環)が含まれる。なお、環Zが、縮合多環式芳香族炭化水素環である場合、ジベンゾフルオレン類の9位に置換する環Zの置換位置は、特に限定されず、例えば、9位に置換するナフチル基は、1−ナフチル基、2−ナフチル基などであってもよい。 Preferred ring Z includes a benzene ring and a naphthalene ring (particularly a benzene ring). In addition, when the ring Z is a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, the substitution position of the ring Z substituted at the 9-position of dibenzofluorenes is not particularly limited. For example, the naphthyl group substituted at the 9-position is , 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like.
また、基R1および基R2で表される置換基としては、特に限定されず、例えば、シアノ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、メチロール基などのヒドロキシC1−4アルキル基)、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシカルボニル基など)、炭化水素基[例えば、アルキル基、アリール基(フェニル基などのC6−10アリール基)など]などであってもよく、特に、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基(例えば、C1−4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。なお、k又はlが複数(2以上)である場合、基R1又は基R2はそれぞれ互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、ジベンゾフルオレン(又はジベンゾフルオレン骨格)を構成する2つのベンゼン環に置換する基R1又は基R2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、ジベンゾフルオレンを構成するベンゼン環に対する基R1又は基R2の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数kおよびlは、それぞれ、0又は1、特に0である。なお、ジベンゾフルオレンを構成する2つのベンゼン環において、置換数k又はlは、それぞれ互いに同一又は異なっていてもよい。 Further, the substituent represented by the group R 1 and the group R 2 is not particularly limited, and for example, a cyano group, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), hydroxyalkyl group (for example , Hydroxy C 1-4 alkyl groups such as methylol groups), carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups (such as C 1-4 alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups), hydrocarbon groups [for example, alkyl groups, aryl groups (phenyl groups) C 6-10 aryl group such as, etc.], etc.], etc., in particular often an alkyl group. Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C 1-4 alkyl group, particularly a methyl group). . In addition, when k or l is plural (two or more), the group R 1 or the group R 2 may be different from each other or the same. Further, the group R 1 or the group R 2 substituted on two benzene rings constituting the dibenzofluorene (or dibenzofluorene skeleton) may be the same or different. Further, the bonding position (substitution position) of the group R 1 or the group R 2 with respect to the benzene ring constituting the dibenzofluorene is not particularly limited. Preferred substitution numbers k and l are each 0 or 1, in particular 0. In the two benzene rings constituting dibenzofluorene, the substitution number k or l may be the same or different from each other.
環Zに置換する置換基R3としては、例えば、不活性基又は非反応性基{例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などのC1−20アルキル基、好ましくはC1−8アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基[例えば、フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(又はトリル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基など)、ジメチルフェニル基(キシリル基)など)、ナフチル基などのC6−10アリール基、好ましくはC6−8アリール基、特にフェニル基など]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基などのC1−4アルコキシ基など)などのエーテル基;アシル基(アセチル基などのC1−6アシル基など);アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシカルボニル基など);ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子など);ニトロ基;シアノ基;置換アミノ基(ジアルキルアミノ基など)など}、ヒドロキシアルキル基(例えば、メチロール基などのヒドロキシC1−4アルキル基)、カルボキシル基などが挙げられる。 Examples of the substituent R 3 substituted on the ring Z include, for example, an inert group or a non-reactive group {for example, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an s-butyl group, C 1-20 alkyl groups such as t- butyl group, preferably a C 1-8 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group), a cycloalkyl group (cyclopentyl group, cyclohexylene, such as cyclohexyl group C 5- 10 cycloalkyl group, preferably C 5-8 cycloalkyl group, more preferably C 5-6 cycloalkyl group, etc., aryl group [for example, phenyl group, alkylphenyl group (methylphenyl group (or tolyl group, 2- methylphenyl group, 3-methylphenyl group), a dimethylphenyl group (xylyl)), C 6-10 aryl group such as a naphthyl group, The Mashiku C 6-8 aryl group, especially a phenyl group, a hydrocarbon group such as an aralkyl group (a benzyl group and C 6-10 aryl -C 1-4 alkyl group such as a phenethyl group); an alkoxy group (methoxy Ether groups such as C 1-4 alkoxy groups such as ethoxy groups, propoxy groups, n-butoxy groups, isobutoxy groups, t-butoxy groups); acyl groups (C 1-6 acyl groups such as acetyl groups) Alkoxycarbonyl group (C 1-4 alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group); halogen atom (fluorine atom, chlorine atom etc.); nitro group; cyano group; substituted amino group (dialkylamino group etc.)}, hydroxy alkyl group (e.g., hydroxy C 1-4 alkyl group such as a methylol group), and a carboxyl group
好ましい置換基R3は、アルキル基(例えば、C1−6アルキル基)などの炭化水素基、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)などであり、特に、C1−4アルキル基(特にメチル基)が好ましい。置換基R3は、同一の環Zにおいて、単独で又は2種以上組み合わせて置換していてもよい(すなわち、mが複数である場合、R3は同一又は異なっていてもよい)。また、異なる環Zに置換する置換基R3は互いに同一又は異なっていてもよく、通常、同一であってもよい。 Preferred substituents R 3 are hydrocarbon groups such as alkyl groups (for example, C 1-6 alkyl groups), alkoxy groups (C 1-4 alkoxy groups, etc.), and in particular, C 1-4 alkyl groups (particularly, A methyl group) is preferred. The substituent R 3 may be substituted alone or in combination of two or more in the same ring Z (that is, when m is plural, R 3 may be the same or different). Further, the substituents R 3 substituted on different rings Z may be the same or different from each other, and may usually be the same.
置換基R3の置換数mは、環Zの種類などに応じて適宜選択でき、特に限定されず、例えば、0〜8、好ましくは0〜6(例えば、1〜5)、さらに好ましくは0〜4程度であってもよい。特に、環Zが、ベンゼン環である場合には、置換数mは、例えば、0〜3、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0又は1である。また、環Zが、ナフタレン環などの縮合芳香族炭化水素環である場合、好ましい置換数mは、0〜8、好ましくは0〜4、さらに好ましくは0又は1、特に0であってもよい。なお、置換数mは、2つの環Zにおいて、同一又は異なっていてもよく、通常、同一である場合が多い。なお、置換基R3の置換位置は、特に限定されず、環Zに対する基−[(OR4)n−E−H]の置換位置に応じて適宜選択できる。例えば、環Zがベンゼン環である場合、フェニル基の2〜6位(例えば、3位、3,5−位など)の適当な位置に置換できる。 The substitution number m of the substituent R 3 can be appropriately selected according to the type of the ring Z and the like, and is not particularly limited. For example, 0 to 8, preferably 0 to 6 (for example, 1 to 5), and more preferably 0. It may be about ~ 4. In particular, when the ring Z is a benzene ring, the substitution number m is, for example, 0 to 3, preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1. Further, when the ring Z is a condensed aromatic hydrocarbon ring such as a naphthalene ring, the preferred substitution number m may be 0 to 8, preferably 0 to 4, more preferably 0 or 1, particularly 0. . The number of substitutions m may be the same or different in the two rings Z, and is usually the same in many cases. Incidentally, the substitution position of the substituent R 3 is not particularly limited, groups for Ring Z - can be appropriately selected depending on the substitution position of [(OR 4) n -E- H]. For example, when the ring Z is a benzene ring, it can be substituted at an appropriate position on the 2-6 position of the phenyl group (eg, 3-position, 3,5-position, etc.).
環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]において、基R4で表されるアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、C2−10アルキレン基(例えば、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基、ヘキシレン基などのC2−6アルキレン基)などが例示でき、特に、C2−4アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基などのC2−3アルキレン基)が好ましい。なお、R4は、同一の環Zにおいて、同一の又は異なるアルキレン基であってもよい(すなわち、nが複数である場合、R4は同一又は異なっていてもよい)。すなわち、nが2以上の場合、ポリアルコキシ(ポリオキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン基で構成されていてもよく、複数のオキシアルキレン基(例えば、オキシエチレン基とオキシプロピレン基など)で構成されていてもよい。通常、R3は同一の環Zにおいて、同一のアルキレン基であってもよい。また、R4は、異なる環Zにおいて、同一又は異なってもいてもよく、通常、同一であってもよい。 In the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on the ring Z, the alkylene group represented by the group R 4 is not particularly limited, but for example, a C 2-10 alkylene group (for example, an ethylene group) , Trimethylene group, propylene group, butane-1,2-diyl group, C 2-6 alkylene group such as hexylene group) and the like, in particular, C 2-4 alkylene group (particularly ethylene group, propylene group, etc.). C 2-3 alkylene group) is preferred. R 4 may be the same or different alkylene group in the same ring Z (that is, when n is plural, R 4 may be the same or different). That is, when n is 2 or more, the polyalkoxy (polyoxyalkylene) group may be composed of the same oxyalkylene group, and a plurality of oxyalkylene groups (for example, an oxyethylene group and an oxypropylene group). It may be configured. In general, R 3 may be the same alkylene group in the same ring Z. R 4 may be the same or different in different rings Z, and may usually be the same.
オキシアルキレン基(OR4)の数(付加モル数)nは、0〜15程度の範囲から選択でき、例えば、0〜12(例えば、1〜12)、好ましくは0〜8(例えば、1〜8)、さらに好ましくは0〜6(例えば、1〜6)、特に0〜4(例えば、1〜4)であってもよい。なお、置換数nは、異なる環Zにおいて、同一であっても、異なっていてもよい。また、2つの環Zにおいて、オキシアルキレン基の合計(n×2)は、0〜30程度の範囲から選択でき、例えば、0〜24(例えば、2〜20)、好ましくは0〜16(例えば、2〜14)、さらに好ましくは0〜12(例えば、2〜10)、特に0〜8(例えば、2〜8)であってもよい。 The number (addition mole number) n of oxyalkylene groups (OR 4 ) can be selected from a range of about 0 to 15, for example, 0 to 12 (for example, 1 to 12), preferably 0 to 8 (for example, 1 to 1). 8), more preferably 0 to 6 (for example, 1 to 6), particularly 0 to 4 (for example, 1 to 4). The number of substitutions n may be the same or different in different rings Z. In the two rings Z, the total of the oxyalkylene groups (n × 2) can be selected from the range of about 0 to 30, for example, 0 to 24 (for example, 2 to 20), preferably 0 to 16 (for example, 2 to 14), more preferably 0 to 12 (for example, 2 to 10), particularly 0 to 8 (for example, 2 to 8).
また、環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]の置換数pは、1以上の整数であればよく、例えば、1〜8、好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜4、特に1〜3であってもよい。特に、環Zがベンゼン環である場合、pは、1〜4、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1〜2(特に1)であってもよい。なお、pは異なる環Zにおいて、同一又は異なっていてもよく、通常、同一であってもよい。 In addition, the substitution number p of the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on the ring Z may be an integer of 1 or more, for example, 1 to 8, preferably 1 to 5, and more preferably. It may be 1-4, especially 1-3. In particular, when ring Z is a benzene ring, p may be 1 to 4, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 (particularly 1). Note that p may be the same or different in different rings Z, and may usually be the same.
なお、基Eは酸素原子又は硫黄原子であるが、pが複数(2以上)である場合、同一の環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]において、Eは同一であっても、異なっていてもよい。また、2つの異なる環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]においても、Eは、同一であっても、異なっていてもよい。通常、いずれの場合においても、Eは同一(例えば、すべてのEが酸素原子)である場合が多い。 In addition, although group E is an oxygen atom or a sulfur atom, when p is plural (2 or more), in the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on the same ring Z, E is the same. Or different. In the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted with two different rings Z, E may be the same or different. Usually, in any case, E is often the same (for example, all E are oxygen atoms).
環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]の置換位置は、特に限定されず、pの数などに応じて、適宜選択できる。例えば、環Zに置換する基−[(OR4)n−E−H]の置換位置は、環Zがベンゼン環であるとき、ジベンゾフルオレン類の9位に置換するフェニル基の2〜6位のいずれであってもよい。特に、少なくともフェニル基の4位に基−[(OR4)n−E−H]が置換していてもよい。また、環Zがナフタレン環であるとき、基−[(OR4)n−E−H]は、ジベンゾフルオレン類に置換するナフチル基(1又は2−ナフチル基)の置換位置などに応じて、5〜8位のいずれか(例えば、5位、6位)が環Zに少なくとも置換していてもよい。特に、ジベンゾフルオレン類の9位に2−ナフチル基(β−ナフチル基)が置換している場合には、ナフチル基の6位に基−[(OR4)n−E−H]が置換している場合が多く、ジベンゾフルオレン類の9位に1−ナフチル基(α−ナフチル基)が置換している場合には、ナフチル基の5位又は8位(特に5位)に基−[(OR4)n−E−H]が置換している場合が多いようである。 The substitution position of the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on the ring Z is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the number of p and the like. For example, when the ring Z is a benzene ring, the substitution position of the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on the ring Z is the 2-6 position of the phenyl group substituted on the 9-position of dibenzofluorenes. Any of these may be used. In particular, at least the 4-position of the phenyl group may be substituted with a group-[(OR 4 ) n -EH]. Further, when the ring Z is a naphthalene ring, the group-[(OR 4 ) n -EH] depends on the substitution position of the naphthyl group (1 or 2-naphthyl group) substituted with dibenzofluorenes, etc. Any of the 5th to 8th positions (for example, the 5th and 6th positions) may be substituted at least with the ring Z. In particular, when a 2-naphthyl group (β-naphthyl group) is substituted at the 9-position of dibenzofluorenes, the group — [(OR 4 ) n -EH] is substituted at the 6-position of the naphthyl group. In many cases, when the 1-naphthyl group (α-naphthyl group) is substituted at the 9-position of the dibenzofluorenes, a group — [( OR 4 ) n -E-H] is often substituted.
代表的には、環Zに置換する基−[(OR4)n−EH]の置換位置は、(1)環Zがベンゼン環であり、pが1であるとき、ジベンゾフルオレン類の9位に置換するフェニル基の2〜6位(特に4位)であってもよく、(2)環Zがナフタレン環であり、pが1であるとき、ジベンゾフルオレン類の9位に置換するナフチル基(1−又は2−ナフチル基など)の置換位置などに応じて、5〜8位のいずれか(例えば、5位、6位など)に置換していてもよく、(3)環Zがベンゼン環であり、pが2であるとき、ジベンゾフルオレン類の9位に置換するフェニル基の2〜6位のうちの2つの置換位置(例えば、3位および4位;2位および4位;2位および5位など)であってもよく、(4)環Zがベンゼン環であり、pがいずれも3であるとき、ジベンゾフルオレン類の9位に置換するフェニル基の2〜6位のうちの3つの置換位置(例えば、2位、3位および4位;2位、4位および5位;3位、4位および5位;2位、4位および6位など)であってもよい。 Typically, the substitution position of the group-[(OR 4 ) n -EH] substituted on ring Z is (1) when ring Z is a benzene ring and p is 1, the 9-position of dibenzofluorenes 2 to 6 positions (particularly the 4 position) of the phenyl group to be substituted with (2) When ring Z is a naphthalene ring and p is 1, the naphthyl group to be substituted at the 9 position of dibenzofluorenes Depending on the substitution position of (1- or 2-naphthyl group, etc.), it may be substituted at any of 5-8 positions (for example, 5-position, 6-position, etc.), and (3) Ring Z is benzene. When p is 2 and p is 2, two substitution positions (for example, the 3-position and 4-position; 2-position and 4-position; (4) Ring Z is a benzene ring, and p is both 3 In some cases, 3 substitution positions (for example, 2nd, 3rd and 4th positions; 2nd, 4th and 5th positions; 3rd, 4th and 5th positions; 2nd, 4th and 6th positions).
具体的なヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物(前記式(1)においてEが酸素原子であるジベンゾフルオレン化合物)としては、2つのヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類など]、3つ以上のヒドロキシル基を有するベンゾフルオレン化合物{例えば、9,9−ビス(ポリヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス[ポリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)フェニル]−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(ポリヒドロキシナフチル)−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス[ポリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)ナフチル]−2,3:6,7−ジベンゾフルオレン類など}が含まれる。 As a specific dibenzofluorene compound having a hydroxyl group (dibenzofluorene compound in which E is an oxygen atom in the formula (1)), a dibenzofluorene compound having two hydroxyl groups [for example, 9,9-bis (hydroxyphenyl) ) -2,3: 6,7-dibenzofluorenes, 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorenes, 9,9-bis (hydroxynaphthyl)- 2,3: 6,7-dibenzofluorene, 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxynaphthyl) -2,3: 6,7-dibenzofluorene, etc.] benzofluorene having three or more hydroxyl groups Compounds {eg, 9,9-bis (polyhydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzofluore 9,9-bis [poly (hydroxy (poly) alkoxy) phenyl] -2,3: 6,7-dibenzofluorenes, 9,9-bis (polyhydroxynaphthyl) -2,3: 6,7- Dibenzofluorenes, 9,9-bis [poly (hydroxy (poly) alkoxy) naphthyl] -2,3: 6,7-dibenzofluorenes, etc.}.
なお、以下、ジベンゾフルオレン化合物において、「2,3:6,7−ジベンゾフルオレン」を、単に「ジベンゾフルオレン」という場合がある。 Hereinafter, in the dibenzofluorene compound, “2,3: 6,7-dibenzofluorene” may be simply referred to as “dibenzofluorene”.
9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがベンゼン環、nが0、Eが酸素原子、pが1である化合物)としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(3−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフェニル)ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)ジベンゾフルオレンなど]などが挙げられる。 Examples of 9,9-bis (hydroxyphenyl) dibenzofluorenes (compounds in which ring Z is a benzene ring, n is 0, E is an oxygen atom, and p is 1 in the formula (1)) include, for example, 9,9 -Bis (hydroxyphenyl) dibenzofluorene [9,9-bis (4-hydroxyphenyl) dibenzofluorene and the like], 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) dibenzofluorene [9,9-bis (4-hydroxy-3) -Methylphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (3-hydroxy-2-methylphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (4 -Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-2,6-dimethyl) Butylphenyl) 9,9-bis such dibenzofluorene (mono- or di-C 1-4 alkyl - hydroxyphenyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis (aryl - hydroxyphenyl) dibenzo fluorene [e.g., 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) dibenzofluorene, etc.].
9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがベンゼン環、nが1以上、Eが酸素原子、pが1である化合物)としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9−ビス[4−(2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)フェニル]ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど}、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシ−アルキルフェニル)ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−5−メチルフェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−エチルフェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)−3−メチルフェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)−3−メチルフェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−6アルキルフェニル)ジベンゾフルオレンなど}、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシ−アリールフェニル)ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−フェニルフェニル]ジベンゾフルオレンなど}などの9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがベンゼン環、nが1、Eが酸素原子、pが1である化合物)、およびこれらの化合物に対応し、前記式(1)においてnが2以上である9,9−ビス(ヒドロキシポリアルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン類{例えば、9,9−ビス{4−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ]フェニル}ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス[(ヒドロキシC2−4アルコキシ)C2−4アルコキシフェニル]ジベンゾフルオレン(n=2の化合物)など}などが挙げられる。 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxyphenyl) dibenzofluorenes (in the formula (1), ring Z is a benzene ring, n is 1 or more, E is an oxygen atom, and p is 1), For example, 9,9-bis (hydroxyalkoxyphenyl) dibenzofluorene {eg, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [4- (3-hydroxypropoxy) 9,9-bis (hydroxyC) such as phenyl] dibenzofluorene, 9-bis [4- (2-hydroxypropoxy) phenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [4- (4-hydroxybutoxy) phenyl] dibenzofluorene 2-4 alkoxyphenyl) dibenzofluorene and the like}, 9,9-bis (hydroxyalkoxy-a Ruylphenyl) dibenzofluorene {eg, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [2- (2-hydroxyethoxy) -5-methylphenyl Dibenzofluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-ethylphenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [4- (3-hydroxypropoxy) -3-methylphenyl] dibenzofluorene, 9 such as 9,9-bis [4- (4-hydroxybutoxy) -3-methylphenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] dibenzofluorene , 9-bis (hydroxy C 2-4 alkoxy - mono- or di-C 1-6 alkyl phenyl) dibenzofluorenyl 9,9-bis (hydroxyalkoxy-arylphenyl) dibenzofluorene {e.g., 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] dibenzofluorene}. -Bis (hydroxyalkoxyphenyl) dibenzofluorenes (in the formula (1), ring Z is a benzene ring, n is 1, E is an oxygen atom, p is 1), and these compounds, 9,9-bis (hydroxypolyalkoxyphenyl) dibenzofluorenes {for example, 9,9-bis {4- [2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy] phenyl} dibenzo, wherein n is 2 or more in formula (1) 9,9-bis fluorene [(hydroxy C 2-4 alkoxy) C 2-4 alkoxyphenyl] Jibenzofu (Compound of n = 2) Oren etc.} and the like.
9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがナフタレン環、nが0、Eが酸素原子、pが1である化合物)としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン類{例えば、9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシナフチル)]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[1−(6−ヒドロキシナフチル)]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[1−(5−ヒドロキシナフチル)]ジベンゾフルオレンなどの置換基を有していてもよい9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン}などが挙げられる。また、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがナフタレン環、nが1以上、Eが酸素原子、pが1である化合物)としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシナフチル)ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[6−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル)]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[1−(6−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル)]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[1−(5−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル)]ジベンゾフルオレンなどの置換基を有していてもよい9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレンなど}などが挙げられる。 Examples of 9,9-bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorenes (compounds in which the ring Z is a naphthalene ring, n is 0, E is an oxygen atom, and p is 1 in the formula (1)) include, for example, 9,9 -Bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorenes {for example, 9,9-bis [6- (2-hydroxynaphthyl)] dibenzofluorene, 9,9-bis [1- (6-hydroxynaphthyl)] dibenzofluorene, 9, 9,9-bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorene} which may have a substituent such as 9-bis [1- (5-hydroxynaphthyl)] dibenzofluorene}. Also, 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxynaphthyl) dibenzofluorenes (in the formula (1), ring Z is a naphthalene ring, n is 1 or more, E is an oxygen atom, and p is 1). Is, for example, 9,9-bis (hydroxyalkoxynaphthyl) dibenzofluorene {eg, 9,9-bis [6- (2- (2-hydroxyethoxy) naphthyl)] dibenzofluorene, 9,9-bis [1- Optionally having substituents such as (6- (2-hydroxyethoxy) naphthyl)] dibenzofluorene, 9,9-bis [1- (5- (2-hydroxyethoxy) naphthyl)] dibenzofluorene 9, 9-bis (hydroxyC 2-4 alkoxynaphthyl) dibenzofluorene etc.} and the like.
9,9−ビス(ポリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類としては、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類などが含まれる。9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがベンゼン環、nが0、Eが酸素原子、pが2又は3である化合物)としては、前記9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類に対応し、式(1)においてpが2又は3である化合物、例えば、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(3,5−ジヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(2,4,6−又は2,4,5−又は3,4,5−トリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど]が含まれる。 Examples of 9,9-bis (polyhydroxyphenyl) dibenzofluorenes include 9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) dibenzofluorenes. 9,9-bis (di- or trihydroxyphenyl) dibenzofluorenes (in the formula (1), ring Z is a benzene ring, n is 0, E is an oxygen atom, and p is 2 or 3) Compounds corresponding to the 9,9-bis (hydroxyphenyl) dibenzofluorenes, wherein p is 2 or 3 in the formula (1), such as 9,9-bis (dihydroxyphenyl) dibenzofluorene [9,9-bis (3,4-dihydroxyphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (3,5-dihydroxyphenyl) dibenzofluorene and the like], 9,9-bis (trihydroxyphenyl) dibenzofluorene [for example, 9,9-bis ( 2,4,6- or 2,4,5- or 3,4,5-trihydroxyphenyl) dibenzofluorene etc.].
9,9−ビス[ポリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン類としては、9,9−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン類などが含まれる。9,9−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがベンゼン環、nが1以上、Eが酸素原子、pが2又は3である化合物)としては、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン類に対応し、式(1)においてnが1以上である化合物、例えば、9,9−ビス[ジ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[3,4−又は3,5−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[3,4−ジ(2−又は3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス[ジ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン}、9,9−ビス[トリ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス[2,3,4−又は2,4,6−又は3,4,5−トリ(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス[トリ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン}、これらの化合物に対応し、前記式(1)においてnが2以上である9,9−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシポリアルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン類などが挙げられる。 The 9,9-bis [poly (hydroxy (poly) alkoxy) phenyl] dibenzofluorenes include 9,9-bis [di or tri (hydroxy (poly) alkoxy) phenyl] dibenzofluorenes. 9,9-bis [di or tri (hydroxy (poly) alkoxy) phenyl] dibenzofluorenes (in formula (1), ring Z is a benzene ring, n is 1 or more, E is an oxygen atom, p is 2 or 3 A compound corresponding to 9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) dibenzofluorenes, and a compound in which n is 1 or more in the formula (1), for example, 9,9-bis [di (hydroxy Alkoxy) phenyl] dibenzofluorene {eg, 9,9-bis [3,4- or 3,5-di (2-hydroxyethoxy) phenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [3,4-di (2- or 3-hydroxypropoxy) phenyl] 9,9-bis such dibenzofluorene [di (hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzo fluorene}, 9,9-bi Su [tri (hydroxyalkoxy) phenyl] dibenzofluorene {eg, 9,9-bis [2,3,4- or 2,4,6- or 3,4,5-tri (2-hydroxyethoxy) phenyl] dibenzo 9,9-bis fluorene [tri (hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzo fluorene}, corresponding to these compounds, the n in formula (1) is 2 or more 9,9-bis [di Or tri (hydroxypolyalkoxy) phenyl] dibenzofluorenes.
9,9−ビス(ポリヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン類(前記式(1)において、環Zがナフタレン環、nが0、Eが酸素原子、pが2以上である化合物)としては、前記9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレンなどが含まれる。また、9,9−ビス[ポリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)ナフチル]ジベンゾフルオレン類としては、前記9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレン類に対応する化合物、例えば、9,9−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)ナフチル]ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス[ジ又はトリ(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ)ナフチル]ジベンゾフルオレン類などが含まれる。 9,9-bis (polyhydroxynaphthyl) dibenzofluorenes (in the formula (1), ring Z is a naphthalene ring, n is 0, E is an oxygen atom, p is 2 or more), Compounds corresponding to 9-bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorenes, such as 9,9-bis (di or trihydroxynaphthyl) dibenzofluorene, are included. Moreover, as 9,9-bis [poly (hydroxy (poly) alkoxy) naphthyl] dibenzofluorenes, compounds corresponding to the 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxynaphthyl) dibenzofluorenes, for example, 9, such as 9-bis [di- or tri (hydroxy C 2-4 alkoxy) naphthyl] dibenzo fluorene such as 9,9-bis [di or tri (hydroxy (poly) alkoxy) naphthyl] dibenzo fluorenes include.
ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物のうち、好ましい2つのヒドロキシル基を有する化合物としては、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン]、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−アルキルフェニル)ジベンゾフルオレン{例えば、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルコキシ−アルキルフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)ジベンゾフルオレンなど]など}、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレンなど]などが挙げられる。 Among dibenzofluorene compounds having a hydroxyl group, preferred compounds having two hydroxyl groups include 9,9-bis (hydroxyphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) dibenzofluorene [for example, 9 , 9-bis (mono or diC 1-4 alkyl-hydroxyphenyl) dibenzofluorene], 9,9-bis (hydroxy (poly) C 2-4 alkoxyphenyl) dibenzofluorene [eg, 9,9-bis (hydroxy C 2-4 alkoxyphenyl) dibenzofluorene and the like], 9,9-bis (hydroxyC 2-4 alkoxy-alkylphenyl) dibenzofluorene {eg, 9,9-bis (hydroxy (poly) C 2-4 alkoxy-alkyl Phenyl) dibenzofluorene [ Example, 9,9-bis (hydroxy C 2-4 alkoxy - mono- or di-C 1-4 alkyl phenyl) dibenzo fluorene], etc.}, 9,9-bis (hydroxy naphthyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis ( Hydroxy (poly) C 2-4 alkoxynaphthyl) dibenzofluorene [eg, 9,9-bis (hydroxyC 2-4 alkoxynaphthyl) dibenzofluorene] and the like.
これらの2つのヒドロキシル基を有する化合物のうち、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレンなどのジベンゾフルオレン化合物は、環Zに未置換のフェニル基が置換したジベンゾフルオレン化合物などに比べて、ハンドリング性の点で有利である。また、分子の立体障害が少ないためか、反応性においても優れている。さらに、環Zにフェニル基が置換したジベンゾフルオレン化合物などに比べて製造しやすく、工業的にも有利である。 Among these compounds having two hydroxyl groups, dibenzofluorene compounds such as 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) dibenzofluorene are compared with dibenzofluorene compounds in which ring Z is substituted with an unsubstituted phenyl group. This is advantageous in terms of handling. In addition, the reactivity is also excellent because the steric hindrance of the molecule is small. Furthermore, it is easier to produce than a dibenzofluorene compound in which a ring Z is substituted with a phenyl group, which is industrially advantageous.
また、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレンなどの環Zがナフタレン環などの縮合芳香族炭化水素環であるジベンゾフルオレン化合物は、耐熱性に優れていることに加え、さらに高いレベルで熱膨張性を低減できるため好ましい。しかも、このような化合物は、高い屈折率も付与できる。 In addition, dibenzofluorene compounds in which a ring Z such as 9,9-bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorene is a condensed aromatic hydrocarbon ring such as a naphthalene ring are excellent in heat resistance and at a higher level. This is preferable because the expandability can be reduced. Moreover, such a compound can also impart a high refractive index.
また、代表的な3以上のヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物としては、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[ジ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[トリ(ヒドロキシC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレンなどが含まれる。 Typical dibenzofluorene compounds having 3 or more hydroxyl groups include 9,9-bis (dihydroxyphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (trihydroxyphenyl) dibenzofluorene, and 9,9-bis [di. (Hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzofluorene, 9,9-bis [tri (hydroxy C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzofluorene and the like are included.
また、具体的なメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物(前記式(1)においてEが硫黄原子であるジベンゾフルオレン化合物)としては、上記例示の前記Eが酸素原子であるジベンゾフルオレン化合物に対応し、前記酸素原子を硫黄原子に代えた化合物が挙げられる。このような化合物としては、例えば、9,9−ビス(メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン類[例えば、9,9−ビス(4−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス(メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン;9,9−ビス(4−メルカプト−3−メチルフェニル)ジベンゾフルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(メルカプト(ポリ)アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン類[例えば、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−6アルキルフェニル)ジベンゾフルオレン]、9,9−ビス(メルカプトナフチル)ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(メルカプト(ポリ)アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレン類などの2つのメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物;9,9−ビス(ポリメルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス[ポリ(メルカプト(ポリ)アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス(ポリメルカプトナフチル)ジベンゾフルオレン類、9,9−ビス[ポリ(メルカプト(ポリ)アルコキシ)ナフチル]ジベンゾフルオレン類などの3つ以上のメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物などが含まれる。 Further, the dibenzofluorene compound having a specific mercapto group (dibenzofluorene compound in which E is a sulfur atom in the formula (1)) corresponds to the dibenzofluorene compound in which E is an oxygen atom, The compound which replaced the oxygen atom with the sulfur atom is mentioned. Such compounds include, for example, 9,9-bis (mercaptophenyl) dibenzofluorenes [for example, 9,9-bis (mercaptophenyl) dibenzofluorene such as 9,9-bis (4-mercaptophenyl) dibenzofluorene. 9,9-bis (mono or diC 1-4 alkyl-mercaptophenyl) dibenzofluorene, etc.] such as 9,9-bis (4-mercapto-3-methylphenyl) dibenzofluorene], 9,9-bis (mercapto) (poly) alkoxyphenyl) dibenzo fluorenes [e.g., 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxyphenyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxy - mono- or di-C 1-6 alkyl Phenyl) dibenzofluorene], 9,9-bis (mercaptonaphthyl) ) Dibenzofluorene compounds having two mercapto groups such as dibenzofluorenes, 9,9-bis (mercapto (poly) alkoxynaphthyl) dibenzofluorenes; 9,9-bis (polymercaptophenyl) dibenzofluorenes, 9,9 -Bis [poly (mercapto (poly) alkoxy) phenyl] dibenzofluorenes, 9,9-bis (polymercaptonaphthyl) dibenzofluorenes, 9,9-bis [poly (mercapto (poly) alkoxy) naphthyl] dibenzofluorenes And dibenzofluorene compounds having three or more mercapto groups.
メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物のうち、好ましい2つのメルカプト基を有する化合物としては、9,9−ビス(メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(アルキル−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン]、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−アルキルフェニル)ジベンゾフルオレン[例えば、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−4アルキルフェニル)ジベンゾフルオレンなど]、9,9−ビス(メルカプトナフチル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシナフチル)ジベンゾフルオレンなどが挙げられる。 Among dibenzofluorene compounds having a mercapto group, preferred compounds having two mercapto groups include 9,9-bis (mercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (alkyl-mercaptophenyl) dibenzofluorene [for example, 9 , 9-bis (mono- or di-C 1-4 alkyl - mercapto phenyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxyphenyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxy - alkylphenyl) dibenzo fluorene [e.g., 9,9-bis (mercapto C 2-4 alkoxy - mono- or di-C 1-4 alkyl phenyl) dibenzo fluorene, 9,9-bis (mercaptomethyl naphthyl) dibenzo fluorene, 9 , 9-bis (mercapto C 2 4 alkoxy naphthyl) such as dibenzo fluorene and the like.
特に、2つのメルカプト基を有する化合物のうち、9,9−ビス(メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(アルキル−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトナフチル)ジベンゾフルオレンなどの特定のジベンゾフルオレン化合物は、前記と同様の理由により好適である。 Particularly, among compounds having two mercapto groups, 9,9-bis (mercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (alkyl-mercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (mercaptonaphthyl) dibenzofluorene, etc. The specific dibenzofluorene compound is suitable for the same reason as described above.
また、代表的な3以上のメルカプト基を有する化合物としては、9,9−ビス(ジメルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(トリメルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[ジ(メルカプトC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレン、9,9−ビス[トリ(メルカプトC2−4アルコキシ)フェニル]ジベンゾフルオレンなどが含まれる。 Typical compounds having three or more mercapto groups include 9,9-bis (dimercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (trimercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis [di ( mercapto C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzo fluorene, and the like 9,9-bis [tri (mercapto C 2-4 alkoxy) phenyl] dibenzo fluorene.
[ジベンゾフルオレン化合物の製造方法]
本発明のジベンゾフルオレン化合物の製造方法は、特に限定されないが、通常、ジベンゾフルオレン類に対応する化合物と、環Zに対応する化合物とを反応させる工程を経て製造できる。代表的には、本発明の化合物は、下記式(2)で表される化合物と、下記式(3)で表される化合物又はその誘導体とを反応させる工程(工程(A))を少なくとも経て製造することができる。
[Method for producing dibenzofluorene compound]
Although the manufacturing method of the dibenzofluorene compound of this invention is not specifically limited, Usually, it can manufacture through the process with which the compound corresponding to dibenzofluorene and the compound corresponding to the ring Z are made to react. Typically, the compound of the present invention undergoes at least a step of reacting a compound represented by the following formula (2) with a compound represented by the following formula (3) or a derivative thereof (step (A)). Can be manufactured.
(式中、Z、E、R1、R2、R3、R4、k、l、m、nおよびpは前記と同じ。)
上記式(2)で表される化合物は、前記式(1)で表される化合物においてジベンゾフルオレン類に対応する化合物(ジベンゾフルオレノン類)である。代表的なジベンゾフルオレノン類は、9−ジベンゾフルオレノン(詳細には、2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレノン)である。なお、使用するジベンゾフルオレノン類の純度は、特に限定されないが、通常、95重量%以上、好ましくは99重量%以上である。
(In the formula, Z, E, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m, n and p are the same as above.)
The compound represented by the above formula (2) is a compound (dibenzofluorenone) corresponding to dibenzofluorenes in the compound represented by the above formula (1). A typical dibenzofluorenone is 9-dibenzofluorenone (specifically 2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorenone). The purity of the dibenzofluorenones to be used is not particularly limited, but is usually 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more.
なお、ジベンゾフルオノン類は、市販品を用いてもよく、合成したものを使用してもよい。 As dibenzofluoronones, commercially available products may be used, or synthesized ones may be used.
ジベンゾフルオレノン類を製造する方法としては、例えば、(1)t−ブトキシドの存在下、2−ホルミルベンジルスルホン酸フェニルとベンズ[f]インデノンとを反応させる方法)(Synthesis 2006, No.15, 2556−2562に記載の方法)、(2)α,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレンと、2−シクロペンテン−1−オンとをヨウ化ナトリウムの存在下で反応させてベンズ[f]インダン−1−オンを得、得られたベンズ[f]インダン−1−オンをNBS(N−ブロモスクシンイミド)およびベンゾイルパーオキサイドの存在下で反応させ、ベンズ[f]インデン−1−オンを得、得られたベンズ[f]インデン−1−オンとα,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレンとをヨウ化ナトリウムの存在下で反応させる方法(Journal of Organic Chemistry, Vol.59,No.21,1994 6484−6486(1994)に記載の方法)などが挙げられる。 As a method for producing dibenzofluorenones, for example, (1) a method in which phenyl 2-formylbenzylsulfonate and benz [f] indenone are reacted in the presence of t-butoxide (Synthesis 2006, No. 15, 2556). -2562), (2) α, α, α ′, α′-tetrabromo-o-xylene and 2-cyclopenten-1-one are reacted in the presence of sodium iodide to produce a benz [f Indan-1-one was obtained, and the obtained benz [f] indan-1-one was reacted in the presence of NBS (N-bromosuccinimide) and benzoyl peroxide to obtain benz [f] inden-1-one. Obtained and obtained benz [f] inden-1-one and α, α, α ′, α′-tetrabromo-o-xylene were sodium iodide (The method described in Journal of Organic Chemistry, Vol. 59, No. 21, 1994 6484-6486 (1994)) and the like.
前記のように、前記式(1)で表される化合物は、前記式(2)で表される化合物と前記式(3)で表される化合物又はその誘導体とを反応させて得られるが、式(1)においてEが酸素原子である化合物を得る場合と、式(1)においてEが硫黄原子である化合物を得る場合とに分けて詳述する。 As described above, the compound represented by the formula (1) is obtained by reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (3) or a derivative thereof. The case where E is a compound in which E is an oxygen atom in formula (1) and the case where a compound in which E is a sulfur atom in formula (1) are obtained will be described in detail.
(式(1)においてEが酸素原子である化合物の製造方法)
前記式(1)においてEが酸素原子である化合物は、前記式(2)で表される化合物(ジベンゾフルオレノン類)と、前記式(3)においてEが酸素原子である化合物(すなわち、下記式(3A)で表される化合物)とを反応させる工程(工程(A1))を経て得ることができる。
(Method for producing a compound in which E is an oxygen atom in formula (1))
The compound in which E is an oxygen atom in the formula (1) includes the compound represented by the formula (2) (dibenzofluorenones) and the compound in which E is an oxygen atom in the formula (3) (that is, the following formula It can be obtained through a step of reacting (compound represented by (3A)) (step (A1)).
(式中、Z、R3、R4、m、nおよびpは前記と同じ。)
上記式(3A)で表される化合物(ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素、ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物)は、前記式(1)において、ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素環に対応している。すなわち、式(3A)において、環Zは前記式(1)における環Zに対応しており、前記例示の芳香族炭化水素環(ベンゼン環、ナフタレン環)が挙げられる。また、前記式(3A)において、置換基R3、R4、m、nおよびpは前記と同じであり、好ましい態様なども同じである。
(In the formula, Z, R 3 , R 4 , m, n and p are the same as above.)
The compound represented by the above formula (3A) (aromatic hydrocarbon having a hydroxyl group, aromatic hydrocarbon compound having a hydroxyl group) corresponds to the aromatic hydrocarbon ring having a hydroxyl group in the formula (1). doing. That is, in the formula (3A), the ring Z corresponds to the ring Z in the formula (1), and examples thereof include the aromatic hydrocarbon rings exemplified above (benzene ring and naphthalene ring). In the formula (3A), the substituents R 3 , R 4 , m, n and p are the same as those described above, and the preferred embodiments are also the same.
前記式(3A)で表される化合物としては、(i)nが0である化合物と、(ii)nが1以上である化合物とに大別できる。 The compound represented by the formula (3A) can be roughly classified into (i) a compound in which n is 0 and (ii) a compound in which n is 1 or more.
(i)nが0である化合物
前記式(3A)においてnが0である代表的な化合物としては、環Zがベンゼン環である化合物、環Zがナフタレン環である化合物が挙げられる。
(I) Compound in which n is 0 As a typical compound in which n is 0 in the formula (3A), a compound in which the ring Z is a benzene ring and a compound in which the ring Z is a naphthalene ring are exemplified.
環Zがベンゼン環である化合物としては、フェノール類{例えば、フェノール、置換基を有するフェノール[例えば、アルキルフェノール(例えば、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノールなどのモノ又はジC1−4アルキル−フェノールなど)、シクロアルキルフェノール(例えば、2−シクロヘキシルフェノールなどのC5−8シクロアルキル−フェノール)、アリールフェノール(例えば、o−フェニルフェノールなどのC6−10アリール−フェノール)、アルコキシフェノール(o−メトキシフェノールなどのC1−4アルコキシ−フェノールなど)など]、ポリヒドロキシベンゼン類{例えば、ジヒドロキシベンゼン(カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン)、アルキル−ジヒドロキシベンゼン[ジヒドロキシトルエン、ジヒドロキシキシレンなどのモノ又はジC1−4アルキル−ジヒドロキシベンゼンなど]などのジヒドロキシベンゼン類;トリヒドロキシベンゼン(ヒドロキシヒドロキノン、フロログルシノールなど)などのトリヒドロキシベンゼン類など}などが挙げられる。 Examples of the compound in which ring Z is a benzene ring include phenols {for example, phenol, phenol having a substituent [for example, alkylphenol (for example, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-dimethylphenol, 2 , 5-dimethylphenol, mono- or di-C 1-4 alkyl-phenols such as 2,6-dimethylphenol), cycloalkylphenols (eg C 5-8 cycloalkyl-phenols such as 2-cyclohexylphenol), arylphenols (For example, C 6-10 aryl-phenol such as o-phenylphenol), alkoxyphenol (such as C 1-4 alkoxy-phenol such as o-methoxyphenol), etc.], polyhydroxybenzenes {for example, dihydroxybenzene (carbon Dihydroxybenzenes such as techol, resorcinol, hydroquinone), alkyl-dihydroxybenzene [mono- or di-C 1-4 alkyl-dihydroxybenzene, etc. such as dihydroxytoluene, dihydroxyxylene]; Etc.) and the like.
また、環Zがナフタレン環である化合物としては、ナフトール類{すなわち、式(3A)において環Zがナフタレン環、pが1である化合物、例えば、ナフトール(1−ナフトール、2−ナフトール)、置換基を有するナフトール[例えば、メチルナフトール、エチルナフトール、ジメチルナフトールなどのアルキルナフトール(例えば、C1−4アルキルナフトールなど)など]、アルコキシナフトール(例えば、エトキシナフトールなどのC1−4アルコキシナフトール)など}、これらのナフトール類(又はモノヒドロキシナフタレン類)に対応するポリヒドロキシナフタレン類(すなわち、式(3A)において環Zがナフタレン環、pが2以上である化合物、例えば、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、1,2,4−トリヒドロキシナフタレン、1,3,8−トリヒドロキシナフタレンなどのジ又はトリヒドロキシナフタレン類)などが挙げられる。 In addition, examples of the compound in which the ring Z is a naphthalene ring include naphthols {that is, a compound in which the ring Z is a naphthalene ring and p is 1 in the formula (3A), such as naphthol (1-naphthol, 2-naphthol), substituted Naphthol having a group [for example, alkyl naphthol such as methyl naphthol, ethyl naphthol and dimethyl naphthol (for example, C 1-4 alkyl naphthol)], alkoxy naphthol (for example, C 1-4 alkoxy naphthol such as ethoxy naphthol), etc. }, Polyhydroxynaphthalenes corresponding to these naphthols (or monohydroxynaphthalenes) (that is, compounds in which ring Z is a naphthalene ring and p is 2 or more in formula (3A), such as 1,3-dihydroxynaphthalene) 1,4-dihydroxynaphth 2,3-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 1,2,4- And di- or trihydroxynaphthalenes such as trihydroxynaphthalene and 1,3,8-trihydroxynaphthalene).
(i)nが1以上である化合物
前記式(3A)においてnが1以上である代表的な化合物としては、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類[例えば、アルキレングリコールモノフェニルエーテル(例えば、2−フェノキシエタノール(エチレングリコールモノフェニルエーテル)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、テトラメチレングリコールモノフェニルエーテルなどのC2−4アルキレングリコールモノフェニルエーテル)、アルキレングリコールモノアルキルフェニルエーテル(例えば、2−(2−メチルフェノキシ)エタノール、2−(2,6−ジメチルフェノキシ)エタノールなどのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC1−4アルキルフェニル)エーテル)、アルキレングリコールモノ(アリールフェニル)エーテル(例えば、エチレングリコールモノビフェニリルエーテル(エチレングリコールモノ(2−ビフェニリル)エーテルなど)などのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC6−10アリールフェニル)エーテル)、アルキレングリコールモノ(アルキル−アリールフェニル)エーテル(例えば、エチレングリコールモノ(3−メチル−2−ビフェニリル)エーテルなどのC2−4アルキレングリコールモノ(モノ又はジC1−4アルキル−モノ又はジC6−10アリール−フェニル)エーテル)など]などの前記式(3A)において、nおよびpがいずれも1であるアルコール類;ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル類[例えば、ジアルキレングリコールモノフェニルエーテル(例えば、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのジC2−4アルキレングリコールモノフェニルエーテル)など]などのpが1、nが2以上であるアルコール類;これらに対応し、nが3以上であるアルコール類;これらに対応し、環Zがナフタレン環であるアルコール類(アルキレングリコールモノナフチルエーテル類など);これらに対応し、pが2以上である化合物などが挙げられる。
(I) Compound in which n is 1 or more As a typical compound in which n is 1 or more in the formula (3A), alkylene glycol monophenyl ethers [for example, alkylene glycol monophenyl ether (for example, 2-phenoxyethanol (for example) Ethylene glycol monophenyl ether), propylene glycol monophenyl ether, C2-4 alkylene glycol monophenyl ether such as tetramethylene glycol monophenyl ether), alkylene glycol monoalkylphenyl ether (for example, 2- (2-methylphenoxy) ethanol) , C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 1-4 alkylphenyl) ether) such as 2- (2,6-dimethylphenoxy) ethanol, alkylene glycol mono (ali Ether phenyl) ether (for example, C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 6-10 arylphenyl) ether such as ethylene glycol monobiphenylyl ether (such as ethylene glycol mono (2-biphenylyl) ether)), alkylene glycol mono C 2-4 alkylene glycol mono (mono or di C 1-4 alkyl-mono or di C 6-10 aryl such as (alkyl-arylphenyl) ether (eg ethylene glycol mono (3-methyl-2-biphenylyl) ether) In the above formula (3A), such as -phenyl) ether), etc.] n and p are both 1; dialkylene glycol monophenyl ethers [eg dialkylene glycol monophenyl ether (eg Glycol monophenyl ether, alcohols p such dipropylene glycol di C 2-4 alkylene glycol monophenyl ether, such as monophenyl ether), etc.] is 1, n is 2 or more; response to these, n is 3 Corresponding to these, alcohols corresponding to these, wherein ring Z is a naphthalene ring (such as alkylene glycol mononaphthyl ethers); corresponding to these, compounds having p of 2 or more, and the like.
これらの前記式(3A)で表される化合物は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 These compounds represented by the formula (3A) may be used alone or in combination of two or more.
原料として使用する前記式(3A)で表される化合物(例えば、フェノール類、ナフトール類、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類など)の純度は特に限定されないが、通常、95重量%以上であり、好ましくは99重量%以上である。 The purity of the compound represented by the formula (3A) used as a raw material (for example, phenols, naphthols, alkylene glycol monophenyl ethers, etc.) is not particularly limited, but is usually 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more.
反応において、前記式(3A)で表される化合物(ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素)の割合(使用割合)は、前記式(2)で表される化合物(ジベンゾフルオレノン類)1モルに対して、例えば、2〜100モル(例えば、2.3〜80モル)、好ましくは2.5〜70モル(例えば、2.7〜60モル)、さらに好ましくは3〜50モル程度であってもよい。特に、酸触媒として後述の無機酸又は有機酸を用いる場合、前記式(3A)で表される化合物の割合は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば、2〜20モル、好ましくは2.2〜10モル、さらに好ましくは2.5〜5モル程度であってもよい。 In the reaction, the ratio (use ratio) of the compound represented by the formula (3A) (aromatic hydrocarbon having a hydroxyl group) is 1 mol of the compound represented by the formula (2) (dibenzofluorenones). For example, 2 to 100 mol (for example, 2.3 to 80 mol), preferably 2.5 to 70 mol (for example, 2.7 to 60 mol), and more preferably about 3 to 50 mol. Good. In particular, when an inorganic acid or organic acid described later is used as the acid catalyst, the ratio of the compound represented by the formula (3A) is, for example, 2 to 1 mol of the compound represented by the formula (2). It may be about 20 mol, preferably 2.2 to 10 mol, more preferably about 2.5 to 5 mol.
前記式(2)で表される化合物と前記式(3A)で表される化合物との反応(縮合反応)は、特に限定されないが、通常、酸触媒の存在下で行うことができる。酸触媒としては、無機酸[硫酸、塩化水素、塩酸(5〜36重量%、好ましくは20〜36重量%程度の塩化水素の水溶液など)、リン酸など]、有機酸[スルホン酸(メタンスルホン酸などのアルカンスルホン酸など)など]などが挙げられる。前記硫酸には、希硫酸(例えば、濃度30〜90重量%程度の硫酸)、濃硫酸(例えば、濃度90重量%以上の硫酸)、発煙硫酸などが含まれ、反応系において硫酸に転化可能であれば、硫酸前駆体として、三酸化硫黄を使用してもよい。通常、硫酸として、H2SO4換算で、80〜99重量%(例えば、85〜98重量%)、好ましくは90〜97.5重量%程度の硫酸(濃硫酸)を使用してもよい。 The reaction (condensation reaction) between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3A) is not particularly limited, but can usually be performed in the presence of an acid catalyst. Examples of the acid catalyst include inorganic acids [sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrochloric acid (5 to 36% by weight, preferably about 20 to 36% by weight aqueous hydrogen chloride solution), phosphoric acid and the like], organic acids [sulfonic acid (methanesulfone). And alkane sulfonic acids such as acids). The sulfuric acid includes dilute sulfuric acid (for example, sulfuric acid having a concentration of about 30 to 90% by weight), concentrated sulfuric acid (for example, sulfuric acid having a concentration of 90% by weight or more), fuming sulfuric acid, and the like, and can be converted into sulfuric acid in the reaction system. If present, sulfur trioxide may be used as the sulfuric acid precursor. Usually, as sulfuric acid, 80 to 99% by weight (for example, 85 to 98% by weight), preferably about 90 to 97.5% by weight sulfuric acid (concentrated sulfuric acid) may be used in terms of H 2 SO 4 .
また、酸触媒として固体酸を使用することもできる。固体酸としては、無機固体酸[金属化合物(SiO2、Al2O3、TiO2、Fe2O3、ZrO2、SnO2、V2O5などの酸化物、SiO2−Al2O3、SiO2−TiO2、TiO2−ZrO2、SiO2−ZrO2などの複合酸化物、ZnSなどの硫化物、CaSO4、Fe2(SO4)3、CuSO4、NiSO4、Al2(SO4)3、MnSO4、BaSO4、CoSO4、ZnSO4などの硫酸塩、P、Mo、V、W、Siなどの元素を含有するポリ酸(AlPO4、Tiのリン酸塩などのリン酸塩など)など);(NH4)2SO4などの非金属硫酸塩;粘土鉱物(酸性白土、モンモリロナイトなど);ゼオライト(酸性OH基を有するY型、X型、A型、ZSM5、モルデナイト、VIPI5、AlPO4−5、AlPO4−11など);カオリンなど]、有機固体酸(イオン交換樹脂など)などを例示できる。固体酸は、固体酸の種類に応じて多孔性又は非多孔性であってもよい。 Moreover, a solid acid can also be used as an acid catalyst. Examples of the solid acid include inorganic solid acids [metal compounds (SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Fe 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , V 2 O 5 and other oxides, SiO 2 —Al 2 O 3]. , SiO 2 —TiO 2 , TiO 2 —ZrO 2 , SiO 2 —ZrO 2 and other complex oxides, sulfides such as ZnS, CaSO 4 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , CuSO 4 , NiSO 4 , Al 2 ( SO 4 ) 3 , MnSO 4 , BaSO 4 , CoSO 4 , ZnSO 4 and other sulfates, P, Mo, V, W, Si and other polyacids (AlPO 4 , Ti phosphates, etc.) salts, etc.)); clay minerals (acid clay, montmorillonite and the like);; (NH 4) 2 SO 4 nonmetal sulfates such as zeolite (Y-type having an acidic OH group, X type, a type, ZSM , Mordenite, VIPI 5, AlPO 4 -5, including AlPO 4 -11); kaolin, etc.], can be exemplified an organic solid acid (such as ion-exchange resins). The solid acid may be porous or non-porous depending on the type of solid acid.
イオン交換樹脂としては、主に、強酸性陽イオン交換樹脂[例えば、スルホン酸基を有するイオン交換樹脂[スチレン−ジビニルベンゼンコポリマーなどの架橋ポリスチレンのスルホン化物、スルホン酸基(又は−CF2CF2SO3H基)を有する含フッ素樹脂(例えば、[2−(2−スルホテトラフルオロエトキシ)ヘキサフルオロプロポキシ]トリフルオロエチレンとテトラフルオロエチレンとのブロック共重合体(デュポン社製のナフィオン)などの含フッ素イオン交換樹脂など]など]、弱酸性陽イオン交換樹脂[例えば、カルボン酸基を有するイオン交換樹脂(メタクリル酸−ジビニルベンゼンコポリマーなど)など]などの陽イオン交換樹脂(酸型イオン交換樹脂)などを使用できる。また、分子内に臭素を導入した耐熱性のイオン交換樹脂も使用できる。これらの固体酸の中でも、陽イオン交換樹脂が好ましい。 The ion exchange resin mainly includes strong acid cation exchange resin [for example, ion exchange resin having sulfonic acid group [sulfonated product of crosslinked polystyrene such as styrene-divinylbenzene copolymer, sulfonic acid group (or —CF 2 CF 2]. A fluorine-containing resin having a SO 3 H group (for example, a block copolymer of [2- (2-sulfotetrafluoroethoxy) hexafluoropropoxy] trifluoroethylene and tetrafluoroethylene (Nafion manufactured by DuPont), etc. Fluorine-containing ion exchange resins, etc.], weak acid cation exchange resins [for example, ion exchange resins having a carboxylic acid group (methacrylic acid-divinylbenzene copolymer, etc.), etc.] ), Etc. In addition, heat resistance with bromine introduced into the molecule Can also be used in the ion exchange resin. Among these solid acid cation exchange resin is preferred.
イオン交換樹脂は、ゲル型イオン交換樹脂であってもよいが、通常、触媒活性の点より、ポーラス型イオン交換樹脂[ミクロポアーの他にマクロポアー(例えば、孔径が50〜1000Å程度の細孔)を有するイオン交換樹脂]が好ましい。ポーラス型イオン交換樹脂のうち、例えば、ジビニルベンゼンの比率(架橋度)の高いスチレン−ジビニルベンゼンコポリマーを基体としたイオン交換樹脂は、ハイポーラス樹脂と呼ばれる。ポーラス型イオン交換樹脂の多孔度は、通常、0.03〜0.6cm3/g程度であり、例えば、0.05〜0.55cm3/g、好ましくは0.1〜0.5cm3/g、さらに好ましくは0.15〜0.45cm3/g(特に0.2〜0.4cm3/g)程度であってもよい。イオン交換樹脂の窒素吸着比表面積は、通常、10〜90m2/g程度であり、例えば、15〜80m2/g、好ましくは20〜70m2/g、さらに好ましくは25〜60m2/g(特に30〜50m2/g)程度であってもよい。固体酸として、例えば、バイエル社製の「レバチットK2649」;オルガノ社製の「アンバーリスト31」、「アンバーリスト131」、「アンバーリスト121」;デュポン社製の「ナフィオン」などの市販のイオン交換樹脂を使用してもよい。 The ion exchange resin may be a gel type ion exchange resin, but usually, from the viewpoint of catalytic activity, a porous ion exchange resin [in addition to micropores, macropores (for example, pores having a pore diameter of about 50 to 1000 mm) are used. Having an ion exchange resin]. Among porous ion exchange resins, for example, an ion exchange resin based on a styrene-divinylbenzene copolymer having a high divinylbenzene ratio (crosslinking degree) is called a high porous resin. The porosity of the porous ion exchange resin is usually about 0.03 to 0.6 cm 3 / g, for example, 0.05 to 0.55 cm 3 / g, preferably 0.1 to 0.5 cm 3 / g. g, more preferably about 0.15 to 0.45 cm 3 / g (particularly 0.2 to 0.4 cm 3 / g). The nitrogen adsorption specific surface area of the ion exchange resin is usually about 10 to 90 m 2 / g, for example, 15 to 80 m 2 / g, preferably 20 to 70 m 2 / g, more preferably 25 to 60 m 2 / g ( In particular, it may be about 30 to 50 m 2 / g). Commercially available ion exchanges such as “Levacit K2649” manufactured by Bayer; “Amberlist 31”, “Amberlist 131”, “Amberlist 121” manufactured by Organo; “Nafion” manufactured by DuPont, etc. A resin may be used.
固体酸の形態は、特に制限はなく、膜状であってもよいが、通常、粒状であり、微粒状であってもよい。 There is no restriction | limiting in particular in the form of a solid acid, Although a film form may be sufficient, Usually, it is granular and fine particle may be sufficient.
酸触媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.
好ましい酸触媒には、触媒活性の点から硫酸が含まれる。特に、硫酸と後述のチオール類とを組み合わせると、簡便にかつ効率よく、残留硫黄分が少ない高純度のジベンゾフルオレン化合物を高収率で得ることができる。 Preferred acid catalysts include sulfuric acid from the viewpoint of catalytic activity. In particular, when sulfuric acid and thiols described below are combined, a high-purity dibenzofluorene compound with a low residual sulfur content can be obtained in a high yield simply and efficiently.
酸触媒の使用量は、酸触媒の種類に応じて選択でき、例えば、前記無機酸又は有機酸を使用する場合、ジベンゾフルオレノン類(前記式(2)で表される化合物)100重量部に対して、0.001〜1000重量部、好ましくは0.005〜300重量部、さらに好ましくは0.01〜100重量部程度であってもよい。特に、触媒として硫酸を使用する場合、硫酸(H2SO4換算)の使用量は、通常、ジベンゾフルオレノン類1重量部に対して、0.1〜30重量部(例えば、0.5〜25重量部)の範囲から選択でき、例えば、1〜20重量部、好ましくは3〜15重量部、さらに好ましくは5〜12重量部(例えば、7〜10重量部)程度であってもよい。また、式(3A)で表される化合物として、nが1以上である化合物(例えば、アルキレングリコールモノフェニルエーテル類)を使用する場合には、比較的多量の酸触媒、例えば、ジベンゾフルオレノン類(前記式(2)で表される化合物)100重量部に対して、1〜1000重量部、好ましくは3〜500重量部、さらに好ましくは5〜200重量部程度、通常10〜300重量部程度の酸触媒を使用してもよい。 The amount of the acid catalyst used can be selected according to the type of the acid catalyst. For example, when the inorganic acid or the organic acid is used, the amount of the dibenzofluorenone (the compound represented by the formula (2)) is 100 parts by weight. 0.001 to 1000 parts by weight, preferably 0.005 to 300 parts by weight, and more preferably about 0.01 to 100 parts by weight. In particular, when sulfuric acid is used as a catalyst, the amount of sulfuric acid (in terms of H 2 SO 4 ) is usually 0.1 to 30 parts by weight (eg 0.5 to 25 parts per 1 part by weight of dibenzofluorenones). For example, about 1 to 20 parts by weight, preferably about 3 to 15 parts by weight, and more preferably about 5 to 12 parts by weight (for example, 7 to 10 parts by weight). In addition, when a compound (for example, alkylene glycol monophenyl ethers) in which n is 1 or more is used as the compound represented by the formula (3A), a relatively large amount of an acid catalyst such as dibenzofluorenone ( 1 to 1000 parts by weight, preferably 3 to 500 parts by weight, more preferably about 5 to 200 parts by weight, and usually about 10 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound represented by the formula (2). An acid catalyst may be used.
縮合反応は、通常、酸触媒に加えて、助触媒としてのチオール類を併用して行ってもよい。チオール類と組み合わせることにより、縮合反応を有効に進行できる。チオール類としては、助触媒として機能する慣用のチオール類、例えば、メルカプトカルボン酸(チオ酢酸、β−メルカプトプロピオン酸、α−メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸、チオシュウ酸、メルカプトコハク酸、メルカプト安息香酸など)、アルキルメルカプタン(メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカプタン、n−ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのC1−16アルキルメルカプタン(特にC1−4アルキルメルカプタン)など)、アラルキルメルカプタン(ベンジルメルカプタンなど)又はこれらの塩などが挙げられる。塩としては、例えば、アルカリ金属塩(例えば、メチルメルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムなどのナトリウム塩など)が例示できる。これらのチオール類のうち、メルカプトC2−6カルボン酸(例えば、β−メルカプトプロピオン酸)が好ましい。チオール類は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 In general, the condensation reaction may be performed in combination with a thiol as a co-catalyst in addition to the acid catalyst. By combining with thiols, the condensation reaction can proceed effectively. Examples of thiols include conventional thiols that function as promoters, such as mercaptocarboxylic acid (thioacetic acid, β-mercaptopropionic acid, α-mercaptopropionic acid, thioglycolic acid, thiooxalic acid, mercaptosuccinic acid, mercaptobenzoic acid. Etc.), alkyl mercaptans (such as C 1-16 alkyl mercaptans (especially C 1-4 alkyl mercaptans) such as methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, isopropyl mercaptan, n-butyl mercaptan, dodecyl mercaptan), aralkyl mercaptans (benzyl mercaptan) Etc.) or a salt thereof. Examples of the salt include alkali metal salts (for example, sodium salts such as methyl mercaptan sodium and ethyl mercaptan sodium). Among these thiols, mercapto C 2-6 carboxylic acid (for example, β-mercaptopropionic acid) is preferable. Thiols can be used alone or in combination of two or more.
チオール類の使用量は、ジベンゾフルオレノン類(前記式(2)で表される化合物)1重量部に対して、0〜1重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.001〜0.8重量部、好ましくは0.005〜0.7重量部(例えば、0.01〜0.6重量部)、さらに好ましくは0.02〜0.5重量部程度であってもよく、通常0.001〜0.5重量部程度であってもよい。 The amount of thiols used can be selected from the range of about 0 to 1 part by weight with respect to 1 part by weight of dibenzofluorenones (compound represented by the formula (2)), for example, 0.001 to 0.8 Parts by weight, preferably 0.005 to 0.7 parts by weight (e.g., 0.01 to 0.6 parts by weight), more preferably about 0.02 to 0.5 parts by weight. It may be about 001 to 0.5 parts by weight.
また、チオール類の使用量は、酸触媒(無機酸又は有機酸)1重量部に対して、0〜50重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.1〜40重量部、好ましくは0.5〜30重量部、さらに好ましくは1〜20重量部程度であってもよい。特に、硫酸を使用する場合には、硫酸(H2SO4換算)1重量部に対して、チオール類0.001〜1重量部(例えば、0.03〜0.7重量部)、好ましくは0.05〜0.5重量部(例えば、0.05〜0.3重量部)、さらに好ましくは0.06〜0.1重量部(例えば、0.065〜0.09重量部)程度であってもよく、通常0.001〜0.1重量部程度であってもよい。 Moreover, the usage-amount of thiols can be selected from the range of about 0-50 weight part with respect to 1 weight part of acid catalysts (inorganic acid or organic acid), for example, 0.1-40 weight part, Preferably it is 0. It may be about 5 to 30 parts by weight, more preferably about 1 to 20 parts by weight. In particular, when sulfuric acid is used, 0.001 to 1 part by weight (for example, 0.03 to 0.7 part by weight) of thiols with respect to 1 part by weight of sulfuric acid (in terms of H 2 SO 4 ), preferably 0.05 to 0.5 parts by weight (for example, 0.05 to 0.3 parts by weight), more preferably 0.06 to 0.1 parts by weight (for example, 0.065 to 0.09 parts by weight) It may be about 0.001 to 0.1 parts by weight.
縮合反応は、溶媒の非存在下で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。溶媒(反応溶媒)は、前記酸触媒に対して非反応性で、かつジベンゾフルオレノン類および前記式(3A)で表される化合物を溶解可能であれば特に限定されず、幅広い範囲で使用できる。代表的な溶媒(有機溶媒)としては、エーテル系溶媒(ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など)、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類)、芳香族系溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アニソールなど)などが挙げられる。また、過剰の前記式(3A)で表される化合物を溶媒として使用してもよい。溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 The condensation reaction may be performed in the absence of a solvent or in a solvent. The solvent (reaction solvent) is not particularly limited as long as it is non-reactive with the acid catalyst and can dissolve the dibenzofluorenones and the compound represented by the formula (3A), and can be used in a wide range. Typical solvents (organic solvents) include ether solvents (dialkyl ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane), halogenated solvents (halogenated such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride). Hydrocarbons), aromatic solvents (aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, anisole and the like). An excess of the compound represented by the formula (3A) may be used as a solvent. The solvents may be used alone or in combination of two or more.
溶媒の使用量は、ジベンゾフルオレノン類1重量部に対して、0〜50重量部(例えば、0.5〜30重量部)程度の範囲から選択でき、例えば、1〜20重量部、好ましくは2〜15重量部、さらに好ましくは3〜10重量部程度であってもよい。 The usage-amount of a solvent can be selected from the range of about 0-50 weight part (for example, 0.5-30 weight part) with respect to 1 weight part of dibenzofluorenones, for example, 1-20 weight part, Preferably it is 2 It may be about -15 parts by weight, more preferably about 3-10 parts by weight.
縮合反応は、使用する原料や触媒などの種類に応じて異なるが、通常、10〜150℃、好ましくは20〜120℃、さらに好ましくは30〜80℃(例えば、40〜70℃)程度で行う場合が多い。また、反応時間は、原料の種類、反応温度や溶媒中の濃度などに応じて調整でき、例えば、30分〜48時間、通常、1〜20時間、好ましくは1〜10時間程度である。また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、常圧又は加圧下で行ってもよい。 The condensation reaction varies depending on the types of raw materials and catalysts used, but is usually 10 to 150 ° C., preferably 20 to 120 ° C., more preferably about 30 to 80 ° C. (for example, 40 to 70 ° C.). There are many cases. Moreover, reaction time can be adjusted according to the kind of raw material, reaction temperature, the density | concentration in a solvent, etc., for example, 30 minutes-48 hours, Usually, 1 to 20 hours, Preferably it is about 1 to 10 hours. The reaction may be performed with stirring, may be performed in air or in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), or may be performed at normal pressure or under pressure.
反応終了後の反応混合物には、通常、生成した前記式(1)で表される化合物以外に、未反応のジベンゾフルオレノン類、未反応のアルコール類、触媒(酸触媒、チオール類)、副反応生成物などが含まれている。そのため、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー、再沈殿などの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。例えば、慣用の方法(アルカリ水溶液を加えて中和する方法など)により酸触媒(およびチオール類)を除去したのち、晶析溶媒を添加して冷却して結晶化させ、次いで、濾過して分離することにより精製してもよい。 The reaction mixture after completion of the reaction usually contains unreacted dibenzofluorenones, unreacted alcohols, catalysts (acid catalysts, thiols), side reactions, in addition to the generated compound represented by the formula (1). Products etc. are included. Therefore, separation and purification can be performed by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, reprecipitation, or a combination of these. For example, after removing the acid catalyst (and thiols) by a conventional method (e.g., neutralizing by adding an aqueous alkali solution), adding a crystallization solvent, cooling to crystallize, and then separating by filtration You may refine by doing.
前記晶析溶媒としては、炭化水素類[脂肪族炭化水素(ヘキサン、ヘプタンなど)、脂環族炭化水素(シクロヘキサンなど)、芳香族炭化水素(トルエン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタンなど)など]、水、アルコール類[メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールなどの低級脂肪族アルコール(C1−3アルカノールなど)]、ケトン類[アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルプロピルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソプロピルケトンなどの低級脂肪族ケトン(C3−7ジアルキルケトンなど)、シクロヘキサノンなど]、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテルなど)、ニトリル類、セロソルブ類、アミド類(ジメチルホルムアミドなど)、スルホキシド類などが挙げられる。晶析溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、晶析溶媒の使用量は、特に限定されず、反応混合物(固形分換算)1重量部に対して、0.5〜50重量部、好ましくは1〜10重量部、さらに好ましくは1〜5重量部程度であってもよい。 Examples of the crystallization solvent include hydrocarbons [aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (dichloromethane, etc. ), Etc.], water, alcohols [lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol ( C1-3 alkanols, etc.)], ketones [acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, ethylpropyl ketone, di -n- propyl ketone, (such as C 3-7 dialkyl ketones) lower aliphatic ketones such as diisopropyl ketone, cyclohexanone, etc.], ethers (diethyl ether, and dialkyl ethers such as diisopropyl ether), nitriles, Cerro Lube, amides (dimethylformamide, etc.), and the like sulfoxides. The crystallization solvents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the usage-amount of a crystallization solvent is not specifically limited, It is 0.5-50 weight part with respect to 1 weight part of reaction mixtures (solid content conversion), Preferably it is 1-10 weight part, More preferably, it is 1-1 weight part. It may be about 5 parts by weight.
このような晶析操作は一回行ってもよく、複数回繰り返して行ってもよい。特に、前記縮合反応において、前記酸触媒(特に硫酸)とチオール類とを組み合わせると、簡便にかつ効率よく、しかも、一回の晶析操作(又は再結晶)であっても、低い残留硫黄濃度で[例えば、反応生成物(又は晶析物、精製物)全体に対する硫黄濃度が、硫黄Sの重量換算で30ppm以下(例えば、0〜25ppm)、好ましくは20ppm以下(例えば、1〜15ppm)、さらに好ましくは10ppm以下(例えば、2〜9ppm)で]、前記式(1)で表される化合物を得ることができる。 Such a crystallization operation may be performed once or may be repeated a plurality of times. In particular, when the acid catalyst (especially sulfuric acid) and thiols are combined in the condensation reaction, the residual sulfur concentration is simple and efficient, and even in a single crystallization operation (or recrystallization). [For example, the sulfur concentration relative to the entire reaction product (or crystallized product, purified product) is 30 ppm or less (for example, 0 to 25 ppm), preferably 20 ppm or less (for example, 1 to 15 ppm) in terms of the weight of sulfur S, More preferably, the compound represented by the formula (1) can be obtained at 10 ppm or less (for example, 2 to 9 ppm).
以上のような工程(工程(A1))により、前記式(1)において、Eが酸素原子である化合物を得ることができる。なお、前記式(1)において、Eが酸素原子であり、nが1以上である化合物は、前記工程(A1)において、式(3A)で表される化合物として、nが0である化合物を用いて、前記式(1)においてnが0である化合物を生成した後、生成した化合物(前記式(1)においてEが酸素原子、nが0である化合物)と、アルキレン基R4(又はオキシアルキレン基OR4)に対応する化合物とを反応させる工程(工程(B))を経て得ることもできる。 By the above process (process (A1)), a compound in which E is an oxygen atom in the formula (1) can be obtained. In the formula (1), a compound in which E is an oxygen atom and n is 1 or more is a compound in which n is 0 as the compound represented by the formula (3A) in the step (A1). And after producing a compound in which n is 0 in the formula (1), the produced compound (a compound in which E is an oxygen atom and n is 0 in the formula (1)) and an alkylene group R 4 (or It can also be obtained through a step of reacting a compound corresponding to the oxyalkylene group OR 4 ) (step (B)).
アルキレン基R4に対応する化合物としては、アルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシド、特にC2−3アルキレンオキシドなど)、アルキレンカーボネート(エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどのC2−4アルキレンカーボネート、特にC2−3アルキレンカーボネートなど)、ハロアルカノール(例えば、3−クロロプロパノールなどのハロC2−6アルカノールなど)などとの反応(又は付加)生成物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、アルキレンオキシド又はアルキレンカーボネートを反応させると、前記式(1)で表される化合物(nが0である化合物)のヒドロキシル基を介して(ポリ)オキシアルキレン単位を導入できる。アルキレンカーボネートを使用する場合、アルキレンカーボネートが付加したのち、脱炭酸反応が生じることにより、オキシアルキレン単位(アルコキシ単位)が導入される。 Examples of the compound corresponding to the alkylene group R 4 include alkylene oxide (C 2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide, particularly C 2-3 alkylene oxide) and alkylene carbonate (ethylene carbonate, propylene carbonate and butylene). C 2-4 alkylene carbonates such as carbonates, such as especially C 2-3 alkylene carbonate), halo alkanol (e.g., 3-reaction with a halo C 2-6 alkanol, etc.), such as chloropropanol (or addition) products such as Is mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more. When alkylene oxide or alkylene carbonate is reacted, a (poly) oxyalkylene unit can be introduced through the hydroxyl group of the compound represented by the formula (1) (a compound in which n is 0). When using an alkylene carbonate, an oxyalkylene unit (alkoxy unit) is introduced by decarboxylation after the addition of the alkylene carbonate.
(式(1)においてEが硫黄原子である化合物の製造方法)
前記式(1)においてEが硫黄原子である化合物は、前記式(2)で表される化合物(ジベンゾフルオレノン類)と、前記式(3)で表される化合物又はその誘導体とを反応させる工程(工程(A))を少なくとも経て得ることができる。
(Method for producing a compound in which E is a sulfur atom in formula (1))
The compound in which E is a sulfur atom in the formula (1) is a step of reacting the compound represented by the formula (2) (dibenzofluorenones) with the compound represented by the formula (3) or a derivative thereof. (Step (A)) can be obtained at least.
このような製造方法のうち、前記式(1)においてEが硫黄原子であり、かつnが0である化合物は、代表的には、(i)前記式(2)で表される化合物と前記式(3A)で表される化合物のうち、nが0である化合物とを反応させる工程(A1)、及びこの工程(A1)により得られた生成物(すなわち、前記式(1)において、Eが酸素原子であり、かつnが0である化合物)とN−置換チオカルバミン酸類とを反応させる工程(A2)を経て、(ii)前記式(2)で表される化合物と下記式(3B)で表される化合物とを反応させる工程(A3)を経て、又は(iii)前記式(2)で表される化合物と前記式(3C)で表される化合物とを反応させる工程(A4)、及びこの工程(A4)により得られた生成物のアミノ基をアゾ化し、硫酸アニオンを反応させ、加水分解する工程(A5)を経て製造できる。 Among such production methods, the compound in which E is a sulfur atom and n is 0 in the formula (1) is typically represented by (i) the compound represented by the formula (2) and the above A step (A1) of reacting a compound represented by formula (3A) with a compound in which n is 0, and a product obtained by this step (A1) (that is, in the formula (1), E Compound in which n is an oxygen atom and n is 0) and a step (A2) of reacting N-substituted thiocarbamic acids, (ii) the compound represented by the above formula (2) and the following formula (3B) Or (iii) reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (3C) (A4). And azotize the amino group of the product obtained by this step (A4) It is reacted with a sulfate anion can be produced through the step of hydrolyzing (A5).
(式中、Proは保護基を示し、Z、R3、mおよびpは前記と同じ。) (In the formula, Pro represents a protecting group, and Z, R 3 , m and p are the same as above.)
(式中、Z、R3、mおよびpは前記と同じ。)
(方法(i))
前記方法(i)において、工程(A1)は、前記式(1)においてEが酸素原子である化合物の製造方法の項に記載の方法と同様であり、好ましい反応条件なども同様である。
(In the formula, Z, R 3 , m and p are the same as above.)
(Method (i))
In the method (i), the step (A1) is the same as the method described in the method for producing a compound in which E is an oxygen atom in the formula (1), and preferable reaction conditions are also the same.
前記方法(i)において、N−置換チオカルバミン酸類としては、N−置換チオカルバミン酸[例えば、N−アルキル置換チオカルバミン酸(例えば、N−メチルカルバミン酸、N−エチルカルバミン酸、N,N−ジメチルカルバミン酸、N,N−ジエチルカルバミン酸などのN−モノ又はジC1−6アルキル−カルバミン酸、好ましくはN−ジC1−4アルキルカルバミン酸)など]、N−置換カルバミン酸誘導体[例えば、N−アルキル置換チオカルバモイルハライド(例えば、N,N−ジメチルチオカルバモイルクロライドなどのN−モノ又はジC1−6アルキル−チオカルバモイルハライド、好ましくはN−ジC1−4アルキル−チオカルバモイルハライド)などの前記N−置換チオカルバミン酸に対応するハロゲン化物など]などが挙げられる。これらのN−置換チオカルバミン酸類は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 In the method (i), N-substituted thiocarbamic acids include N-substituted thiocarbamic acids [for example, N-alkyl-substituted thiocarbamic acids (for example, N-methylcarbamic acid, N-ethylcarbamic acid, N, N- N-mono or diC 1-6 alkyl-carbamic acid such as dimethylcarbamic acid and N, N-diethylcarbamic acid, preferably N-diC 1-4 alkylcarbamic acid)], N-substituted carbamic acid derivatives [ For example, N-alkyl substituted thiocarbamoyl halides (eg N-mono or diC 1-6 alkyl-thiocarbamoyl halides such as N, N-dimethylthiocarbamoyl chloride, preferably N-diC 1-4 alkyl-thiocarbamoyl Halides corresponding to the N-substituted thiocarbamic acid such as halide)] And so on. These N-substituted thiocarbamic acids may be used alone or in combination of two or more.
工程(A2)において、反応は溶媒の存在下で行ってもよく、無溶媒下で行ってもよい。また、工程(A2)において、反応は、適当な触媒(例えば、アミン類(例えば、トリエチルアミンなどの第3級アミンなど)などの塩基触媒など)の存在下で行ってもよい。 In the step (A2), the reaction may be performed in the presence of a solvent or may be performed in the absence of a solvent. In step (A2), the reaction may be performed in the presence of a suitable catalyst (eg, a base catalyst such as an amine (eg, a tertiary amine such as triethylamine)).
このような工程(A2)により、通常、前記式(1)において、ヒドロキシル基の水素原子がN−置換チオカルボニル基に置換された化合物が得られる。そして、このような化合物を得たのち、さらに、高温(例えば、200〜350℃程度)で加熱し、加水分解処理することにより、目的生成物(前記式(1)においてEが硫黄原子、nが0である化合物)を得ることができる。なお、高温で加熱することにより、N−置換チオカルボニルオキシ基の熱転位が生じ、N−置換カルボニルチオ基が生成する。前記加水分解処理は、例えば、塩基(又はアルカリ、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属水酸化物など)の存在下で行ってもよい。また、加水分解処理時間は、2〜120分程度であってもよい。 By such a step (A2), a compound in which the hydrogen atom of the hydroxyl group is usually substituted with an N-substituted thiocarbonyl group in the formula (1) is obtained. And after obtaining such a compound, by heating at high temperature (for example, about 200-350 degreeC) and hydrolyzing, the target product (In said Formula (1), E is a sulfur atom, n Can be obtained. When heated at a high temperature, thermal rearrangement of the N-substituted thiocarbonyloxy group occurs and an N-substituted carbonylthio group is generated. The hydrolysis treatment may be performed, for example, in the presence of a base (or an alkali, for example, an alkali metal such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an alkaline earth metal hydroxide). The hydrolysis treatment time may be about 2 to 120 minutes.
(方法(ii))
前記方法(ii)において、式(3B)で表される化合物は、前記式(1)において、メルカプト基を有する芳香族炭化水素環(チオール)に対応している。式(3B)に対応するチオール(式(3B)においてProが水素原子である化合物)としては、モノチオフェノール類(例えば、チオフェノール、アルキル−チオフェノール(p−メチルチオフェノールなどのC1−4アルキル−メルカプトベンゼン)、チオナフトール類(1−チオナフトール、2−チオナフトール)など)、ポリチオフェノール類(例えば、1,2−ジメルカプトベンゼンなど)、ヒドロキシ−メルカプトベンゼン(p−メルカプトフェノールなど)などが含まれる。
(Method (ii))
In the method (ii), the compound represented by the formula (3B) corresponds to the aromatic hydrocarbon ring (thiol) having a mercapto group in the formula (1). Examples of the thiol corresponding to formula (3B) (compound in which Pro is a hydrogen atom in formula (3B)) include monothiophenols (for example, C 1-4 such as thiophenol and alkyl-thiophenol (p-methylthiophenol). Alkyl-mercaptobenzene), thionaphthols (1-thionaphthol, 2-thionaphthol, etc.), polythiophenols (eg, 1,2-dimercaptobenzene, etc.), hydroxy-mercaptobenzene (p-mercaptophenol, etc.) ) Etc. are included.
また、前記式(3B)において、保護基Proとしては、脱離可能な基であればよく、例えば、アルキル基[例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、クロロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基などの置換基を有していてもよいC1−6アルキル基(好ましくはC1−4アルキル基)など]、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニルなどのC1−6アルキルカルボニル基など)などが挙げられる。 In the formula (3B), the protecting group Pro may be any group that can be removed, such as an alkyl group [eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, chloromethyl group, A C 1-6 alkyl group (preferably a C 1-4 alkyl group) which may have a substituent such as 2-hydroxyethyl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, diphenylmethyl group, etc.], acyl group (For example, C 1-6 alkylcarbonyl groups such as acetyl and propionyl) and the like.
方法(ii)において、前記式(3B)で表される化合物の割合(使用割合)は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば、2〜10モル、好ましくは2.1〜7モル、さらに好ましくは2.5〜5モル程度であってもよい。 In the method (ii), the ratio (use ratio) of the compound represented by the formula (3B) is, for example, 2 to 10 mol, preferably 2 with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2). .About 1-7 mol, more preferably about 2.5-5 mol.
前記式(2)で表される化合物と前記式(3B)で表される化合物との反応は、常温下又は加温下で行ってもよい。反応温度は、例えば、30〜80℃程度であってもよく、また、反応時間は1〜8時間程度であってもよい。 The reaction between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3B) may be performed at room temperature or under heating. The reaction temperature may be, for example, about 30 to 80 ° C., and the reaction time may be about 1 to 8 hours.
反応後、得られた生成物から保護基Proを脱離(脱保護)することにより、目的生成物(前記式(1)においてEが硫黄原子、nが0である化合物)を得ることができる。脱離は、保護基の種類などに応じて、例えば、酸(例えば、塩酸、硫酸などの無機酸;トリフルオロ酢酸などの有機酸など)などの存在下で行うことができる。 After the reaction, by removing (deprotecting) the protecting group Pro from the obtained product, the desired product (a compound in which E is a sulfur atom and n is 0 in the formula (1)) can be obtained. . The elimination can be performed in the presence of an acid (for example, an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid; an organic acid such as trifluoroacetic acid) depending on the type of the protecting group.
(方法(iii))
前記方法(iii)において、式(3C)で表される化合物としては、アニリン類(例えば、アニリン、アルキル−アニリン(トルイジンなどのC1−4アルキル−アニリン)など)、ナフチルアミン類(1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン)など)、ポリアミノベンゼン類(例えば、ベンゼンジアミン、トルエンジアミンなど)、ポリアミノナフタレン類(例えば、ナフタレンジアミンなど)などが含まれる。
(Method (iii))
In the method (iii), examples of the compound represented by the formula (3C) include anilines (for example, aniline, alkyl-aniline (C 1-4 alkyl-aniline such as toluidine), etc.), naphthylamines (1-naphthylamine). , 2-naphthylamine, etc.), polyaminobenzenes (eg, benzenediamine, toluenediamine, etc.), polyaminonaphthalenes (eg, naphthalenediamine, etc.) and the like.
方法(iii)において、前記式(3C)で表される化合物の割合(使用割合)は、前記式(2)で表される化合物1モルに対して、例えば、2〜100モル(例えば、2.3〜80モル)、好ましくは2.5〜70モル(例えば、2.7〜60モル)、さらに好ましくは3〜50モル程度であってもよい。 In the method (iii), the ratio (use ratio) of the compound represented by the formula (3C) is, for example, 2 to 100 mol (for example, 2) with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2). .3 to 80 mol), preferably 2.5 to 70 mol (for example, 2.7 to 60 mol), more preferably about 3 to 50 mol.
工程(A4)において、反応は溶媒の存在下で行ってもよく、無溶媒下で行ってもよい。また、工程(A4)において、反応は、適当な触媒の存在下で行ってもよい。なお、前記式(2)で表される化合物と前記式(3C)で表される化合物との反応は、常温下又は加温下で行ってもよい。反応温度および反応時間は適宜選択してもよい。また、工程(A5)において、アゾ化は、例えば、亜硝酸金属塩(亜硝酸ナトリウムなど)を反応させることにより行うことができる。また、工程(A5)において、硫酸アニオンとしては、キサントゲン酸塩などが挙げられる。また、加水分解は、塩基(水酸化ナトリウムなどの金属水酸化物)などを用いて行うことができる。 In the step (A4), the reaction may be performed in the presence of a solvent or may be performed in the absence of a solvent. In step (A4), the reaction may be performed in the presence of a suitable catalyst. In addition, you may perform reaction of the compound represented by the said Formula (2), and the compound represented by the said Formula (3C) under normal temperature or a heating. You may select reaction temperature and reaction time suitably. In the step (A5), azotization can be performed, for example, by reacting a metal nitrite (such as sodium nitrite). In the step (A5), examples of the sulfate anion include xanthate. Hydrolysis can be performed using a base (metal hydroxide such as sodium hydroxide) or the like.
また、前記式(1)においてEが硫黄原子でありnが1以上である化合物は、前記式(1)においてEが酸素原子でありかつnが1以上である化合物のヒドロキシル基を、メルカプト基に置換(又は変換)することにより得ることができる。メルカプト基に置換する方法としては、例えば、前記式(1)においてEが硫黄原子でありnが1以上である化合物と、ハロゲン化剤(例えば、塩化チオニルなどのクロロ化剤)とを反応させ、前記化合物のヒドロキシル基をハロゲン化し、さらに、得られたハロゲン化物と硫化剤(例えば、硫化ナトリウムNa2Sなど)とを反応させる[さらに酸(硫酸など)などにより処理する]ことにより得ることができる。なお、前記式(1)においてEが酸素原子でありかつnが1以上である化合物は、前記の方法により得ることができる。 Further, in the formula (1), the compound in which E is a sulfur atom and n is 1 or more is obtained by converting a hydroxyl group of the compound in which E is an oxygen atom and n is 1 or more into a mercapto group. Can be obtained by substitution (or conversion). As a method for substitution with a mercapto group, for example, a compound in which E is a sulfur atom and n is 1 or more in the formula (1) is reacted with a halogenating agent (for example, a chlorinating agent such as thionyl chloride). Obtained by halogenating the hydroxyl group of the compound and further reacting the obtained halide with a sulfurizing agent (for example, sodium sulfide Na 2 S) [further treatment with an acid (sulfuric acid, etc.)] Can do. In addition, the compound in which E is an oxygen atom and n is 1 or more in the formula (1) can be obtained by the method described above.
なお、反応生成物(目的生成物)は、前記と同様の方法(晶析など)により分離精製してもよい。 The reaction product (target product) may be separated and purified by the same method as described above (crystallization, etc.).
なお、式(1)においてEが硫黄原子である化合物の製造方法は、特開2002−338540号公報に記載の方法を参照することもできる。 In addition, the manufacturing method of the compound whose E is a sulfur atom in Formula (1) can also refer to the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-338540.
[ジベンゾフルオレン化合物の用途]
本発明のジベンゾフルオレン化合物は、ジベンゾフルオレン骨格を有しているとともに、芳香族炭化水素骨格(ベンゼン骨格、ナフタレン骨格など)を有しており、種々の特性(光学特性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐薬品性、電気特性、機械特性、寸法安定性など)に優れており、種々の用途においてこれらの特性を向上又は改善するのに有用である。また、前記骨格により、高い屈折率も有している。さらに、前記のように、芳香族炭化水素骨格の種類を選択することにより、ハンドリング性や反応性をより一層改善したり、線膨張性の低減により寸法安定性を向上することもできる。このため、このようなジベンゾフルオレン化合物は、添加剤、樹脂原料(モノマーなど)などとして好適に用いることができ、前記のような優れた特性を効率よく付与するための化合物として用いることができる。
[Uses of dibenzofluorene compounds]
The dibenzofluorene compound of the present invention has a dibenzofluorene skeleton and an aromatic hydrocarbon skeleton (benzene skeleton, naphthalene skeleton, etc.), and has various properties (optical characteristics, heat resistance, water resistance, It has excellent moisture resistance, chemical resistance, electrical properties, mechanical properties, dimensional stability, etc.) and is useful for improving or improving these properties in various applications. Moreover, it has a high refractive index due to the skeleton. Furthermore, as described above, by selecting the type of the aromatic hydrocarbon skeleton, the handling property and the reactivity can be further improved, and the dimensional stability can be improved by reducing the linear expansion property. For this reason, such a dibenzofluorene compound can be used suitably as an additive, a resin raw material (monomer etc.), etc., and can be used as a compound for providing the above outstanding characteristics efficiently.
(添加剤用途および樹脂組成物)
添加剤としては、樹脂用添加剤(又は樹脂添加剤)、硬化剤(樹脂用硬化剤など)などが挙げられる。添加剤として用いる場合、樹脂および前記ジベンゾフルオレン化合物(例えば、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物)を含む樹脂組成物(熱可塑性樹脂組成物、熱又は光硬化性樹脂組成物)を構成できる。このような樹脂組成物において、樹脂としては、特に限定されず、幅広い範囲の樹脂(熱可塑性樹脂、熱又は光硬化性樹脂など)を使用できる。
(Additive use and resin composition)
Examples of the additive include a resin additive (or resin additive), a curing agent (such as a resin curing agent), and the like. When used as an additive, a resin composition (thermoplastic resin composition, thermal or photocurable resin composition) containing a resin and the dibenzofluorene compound (for example, a dibenzofluorene compound having a hydroxyl group) can be constituted. In such a resin composition, the resin is not particularly limited, and a wide range of resins (thermoplastic resin, heat or photocurable resin, etc.) can be used.
熱可塑性樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂、ハロゲン含有ビニル系樹脂(ポリ塩化ビニル、フッ化樹脂など)、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂[例えば、ポリアルキレンテレフタレート(ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリC2−4アルキレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートなど)、ポリエチレンナフタレートなどのポリアルキレンアリレート系樹脂、ポリアリレート系樹脂(例えば、芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸など)と芳香族ジオール(ビフェノール、ビスフェノールA、キシリレングリコール、これらのアルキレンオキシド付加体など)を重合成分として用いたポリアリレート系樹脂など)など]、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。熱可塑性樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 Examples of the thermoplastic resin include olefin resins, halogen-containing vinyl resins (polyvinyl chloride, fluororesins, etc.), acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, polyester resins [for example, polyalkylene terephthalate ( Poly C2-4 alkylene terephthalate such as polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, etc., polyalkylene arylate resin such as polyethylene naphthalate, polyarylate resin (for example, aromatic dicarboxylic acid ( Terephthalic acid) and aromatic diols (biphenol, bisphenol A, xylylene glycol, alkylene oxide adducts thereof) as polymerization components Arylate resins, etc.)], polyacetal resins, polyamide resins, polyphenylene ether resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyimide resins, polyether ketone resins, thermoplastic elastomers, and the like. The thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.
これらの熱可塑性樹脂のうち、芳香環(ベンゼン環など)を含有する熱可塑性樹脂、例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂(ビスフェノールA型ポリカーボネートなど)、芳香族ポリエステル系樹脂(前記ポリアルキレンアリレート系樹脂など)、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂などが好ましい。前記ジベンゾフルオレン化合物は、これらの芳香環含有樹脂との相溶性が高く、そのため、樹脂に対する分散性が高い。 Among these thermoplastic resins, a thermoplastic resin containing an aromatic ring (such as a benzene ring), for example, an aromatic polycarbonate resin (such as bisphenol A polycarbonate), an aromatic polyester resin (such as the polyalkylene arylate resin) ), Polysulfone resins, polyphenylene ether resins, polyphenylene sulfide resins and the like are preferable. The dibenzofluorene compound is highly compatible with these aromatic ring-containing resins, and therefore has high dispersibility in the resin.
また、熱硬化性樹脂(又は光硬化性樹脂)としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、アミノ樹脂(尿素樹脂、メラミン樹脂など)、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ケイ素系樹脂(シリコーン樹脂、ポリシランなど)、光重合性モノマー又はオリゴマー(例えば、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリレート系化合物)などが例示できる。熱硬化性樹脂は初期縮合物であってもよい。熱硬化性樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 Thermosetting resins (or photocurable resins) include phenolic resins, furan resins, amino resins (urea resins, melamine resins, etc.), unsaturated polyester resins, diallyl phthalate resins, epoxy resins, vinyl ester resins, polyurethanes. Resin, thermosetting polyimide resin, silicon resin (silicone resin, polysilane, etc.), photopolymerizable monomer or oligomer (for example, (meth) such as epoxy (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate) Examples thereof include acrylate compounds). The thermosetting resin may be an initial condensate. Thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more.
なお、熱硬化性樹脂とジベンゾフルオレン化合物とを組み合わせる場合、ジベンゾフルオレン化合物は硬化剤(又は硬化促進剤)として作用してもよい。前記樹脂のうち、ジベンゾフルオレン化合物[例えば、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物、特にフェノール性水酸基を有するジベンゾフルオレン化合物(式(1)においてEが酸素原子であり、nが0であるジベンゾフルオレン化合物)など]を硬化剤として用いることができる代表的な樹脂としては、エポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ系樹脂としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂(例えば、4,4−ビフェノール、2,2−ビフェノール、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールAなどのビスフェノール類とエピクロロヒドロリンとの反応物(縮合物)、特にビスフェノールA型エポキシ樹脂など)、ノボラック型エポキシ樹脂[フェノールノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型グリシジルエーテルなど)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(クレゾールノボラック型グリシジルエーテルなど)など]、アミン系エポキシ樹脂などが含まれる。エポキシ樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 In addition, when combining a thermosetting resin and a dibenzofluorene compound, a dibenzofluorene compound may act as a hardening | curing agent (or hardening accelerator). Among the resins, dibenzofluorene compounds [for example, dibenzofluorene compounds having a hydroxyl group, particularly dibenzofluorene compounds having a phenolic hydroxyl group (dibenzofluorene compound in which E is an oxygen atom and n is 0 in formula (1)) As a typical resin that can be used as a curing agent, an epoxy resin can be given. Epoxy resins include bisphenol-type epoxy resins (for example, reaction products (condensates) of bisphenols such as 4,4-biphenol, 2,2-biphenol, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol A with epichlorohydroline. Bisphenol A type epoxy resin, etc.), novolak type epoxy resin [phenol novolak type epoxy resin (phenol novolak type glycidyl ether, etc.), cresol novolac type epoxy resin (cresol novolac type glycidyl ether, etc.)], amine type epoxy resin, etc. Is included. Epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
ジベンゾフルオレン化合物の割合は、樹脂(特に、芳香環を有する熱可塑性樹脂などの熱可塑性樹脂)100重量部に対して、例えば、1〜700重量部、好ましくは50〜600重量部、さらに好ましくは100〜500重量部(例えば、200〜300重量部)程度であってもよい。また、ジベンゾフルオレン化合物を硬化剤として使用する場合、樹脂(エポキシ樹脂など)の官能基(又は硬化性官能基、例えば、エポキシ基)1当量に対して、ジベンゾフルオレン化合物の官能基(例えば、フェノール性水酸基などのヒドロキシル基)が、0.1〜4.0当量、好ましくは、0.3〜2.0当量、さらに好ましくは、0.5〜1.5当量となるように、両成分の割合を調整してもよい。 The proportion of the dibenzofluorene compound is, for example, 1 to 700 parts by weight, preferably 50 to 600 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of resin (particularly thermoplastic resin such as a thermoplastic resin having an aromatic ring). About 100-500 weight part (for example, 200-300 weight part) may be sufficient. Moreover, when using a dibenzofluorene compound as a hardening | curing agent, the functional group (for example, phenol) of 1 functional group (or curable functional group, for example, epoxy group) of resin (epoxy resin) with respect to 1 equivalent. Of hydroxyl groups such as a functional hydroxyl group) is 0.1 to 4.0 equivalents, preferably 0.3 to 2.0 equivalents, more preferably 0.5 to 1.5 equivalents. The proportion may be adjusted.
前記樹脂組成物は、用途に応じて種々の添加剤、例えば、充填剤、難燃剤、強化剤、可塑剤、重合開始剤、触媒、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤など)、離型剤、帯電防止剤、着色剤(染顔料)、消泡剤、レベリング剤、分散剤、流動調整剤、カーボン材料(カーボンブラック、黒鉛、カーボン繊維、活性炭、フラーレン、カーボンナノチューブなど)などを含んでいてもよい。これらの添加剤は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、前記樹脂組成物は、樹脂の種類などに応じて溶媒を含む組成物(コーティング組成物など)であってもよい。 The resin composition has various additives depending on applications, for example, fillers, flame retardants, reinforcing agents, plasticizers, polymerization initiators, catalysts, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, heat stabilizers, etc. ), Mold release agent, antistatic agent, colorant (dye / pigment), antifoaming agent, leveling agent, dispersant, flow regulator, carbon material (carbon black, graphite, carbon fiber, activated carbon, fullerene, carbon nanotube, etc.) Etc. may be included. These additives may be used alone or in combination of two or more. The resin composition may be a composition containing a solvent (such as a coating composition) depending on the type of resin.
(樹脂原料用途および樹脂)
本発明のジベンゾフルオレン化合物は、樹脂原料として用いることができる。例えば、本発明のジベンゾフルオレン化合物は、官能基として、複数のヒドロキシル基及び/又はメルカプト基を有しているため、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂のポリオール成分又はポリチオール成分として用いることができる。すなわち、本発明の樹脂は、前記ジベンゾフルオレン化合物(又はその誘導体)を重合成分(ポリオール成分又はポリチオール成分)とする樹脂である。詳細には、本発明の樹脂は、ポリオール成分又はポリチオール成分を重合成分とする樹脂において、前記ポリオール成分又はポリチオール成分の一部又は全部が前記ジベンゾフルオレン化合物(複数のヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物、複数のメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物)(又はその誘導体)で構成された樹脂である。
(Resin raw materials and resins)
The dibenzofluorene compound of the present invention can be used as a resin raw material. For example, since the dibenzofluorene compound of the present invention has a plurality of hydroxyl groups and / or mercapto groups as functional groups, it can be used as a polyol component or a polythiol component of a thermoplastic resin or a thermosetting resin. That is, the resin of the present invention is a resin having the dibenzofluorene compound (or a derivative thereof) as a polymerization component (polyol component or polythiol component). Specifically, the resin of the present invention is a resin having a polyol component or a polythiol component as a polymerization component, wherein a part or all of the polyol component or polythiol component is the dibenzofluorene compound (a dibenzofluorene compound having a plurality of hydroxyl groups, It is a resin composed of a dibenzofluorene compound having a plurality of mercapto groups) (or a derivative thereof).
このような樹脂としては、ジベンゾフルオレン化合物の官能基(ヒドロキシル基又はメルカプト基)の種類に応じて選択でき、種々の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂(又は光硬化性樹脂)が挙げられる。ポリオール成分(例えば、ジオール成分)を重合成分とする樹脂としては、熱可塑性樹脂[ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテル系樹脂(ポリエーテルエーテルケトンなど)など]、熱硬化性樹脂[例えば、不飽和ポリエステル系樹脂、熱硬化性ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂(ヒドロキシル基を有する前記ジベンゾフルオレン化合物のポリグリシジルエーテルなど)、ビニルエステル系樹脂、フェノール樹脂、ポリオールポリ(メタ)アクリレート(ヒドロキシル基を有する前記ジベンゾフルオレン化合物のポリ(メタ)アクリレート、又は前記ジベンゾフルオレン化合物と(メタ)アクリル酸又はその誘導体((メタ)アクリル酸ハライドなど)との反応物など)、ウレタン(メタ)アクリレート]など]などが挙げられる。 Such a resin can be selected according to the type of the functional group (hydroxyl group or mercapto group) of the dibenzofluorene compound, and includes various thermoplastic resins and thermosetting resins (or photocurable resins). Resins having a polyol component (for example, diol component) as a polymerization component include thermoplastic resins [polyester resins, polycarbonate resins, polyurethane resins, polyether resins (such as polyether ether ketone)], thermosetting resins, and the like. Resins [for example, unsaturated polyester resins, thermosetting polyurethane resins, epoxy resins (polyglycidyl ethers of the above-mentioned dibenzofluorene compounds having a hydroxyl group), vinyl ester resins, phenol resins, polyol poly (meth) acrylates ( Poly (meth) acrylate of the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group, or a reaction product of the dibenzofluorene compound and (meth) acrylic acid or a derivative thereof ((meth) acrylic acid halide), urethane (meth) a Relate]], and others.
また、ポリチオール成分(例えば、ジチオール成分)を重合成分とする樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂[ポリチオエステル系樹脂、ポリチオカーボネート系樹脂、ポリチオウレタン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリチオエーテル系樹脂など]、熱硬化性樹脂(例えば、熱硬化性ポリチオウレタン系樹脂、チオエポキシ樹脂、ポリチオールポリ(メタ)アクリレートなど]などが挙げられる。 Examples of the resin having a polythiol component (for example, a dithiol component) as a polymerization component include thermoplastic resins [polythioester resins, polythiocarbonate resins, polythiourethane resins, polysulfone resins, polythioether resins, for example. Etc.], thermosetting resins (for example, thermosetting polythiourethane resins, thioepoxy resins, polythiol poly (meth) acrylates, etc.).
これらの樹脂において、ポリオール成分又はポリチオール成分を構成する成分としての前記ジベンゾフルオレン化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 In these resins, the dibenzofluorene compound as a component constituting the polyol component or the polythiol component may be used alone or in combination of two or more.
なお、これらの樹脂(特に熱可塑性樹脂)において、ポリオール成分又はポリオール成分の少なくとも一部に、前記ジベンゾフルオレン化合物を使用すればよく、ポリオール成分又はポリチオール成分の一部又は全部を前記ジベンゾフルオレン化合物で構成してもよい。 In these resins (especially thermoplastic resins), the dibenzofluorene compound may be used for at least part of the polyol component or polyol component, and part or all of the polyol component or polythiol component may be replaced with the dibenzofluorene compound. It may be configured.
代表的な樹脂には、ポリ(チオ)エステル樹脂(ポリエステル樹脂、ポリチオエステル樹脂)、ポリ(チオ)エーテル樹脂、ポリ(チオ)カーボネート樹脂、(チオ)エポキシ樹脂などが含まれる。以下、代表的な樹脂について詳述する。 Typical resins include poly (thio) ester resins (polyester resins, polythioester resins), poly (thio) ether resins, poly (thio) carbonate resins, (thio) epoxy resins, and the like. Hereinafter, typical resins will be described in detail.
(ポリエステル樹脂)
ポリエステル樹脂は、例えば、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物で少なくとも構成されたジオール成分(a)と、ジカルボン酸成分(b)とを重合成分とするポリエステル樹脂である。このようなポリエステル系樹脂において、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物は、通常、前記式(1)においてEが酸素原子でありかつpが1である化合物、すなわち、下記式(a1)で表されるジベンゾフルオレン化合物(又はジオール成分(a1))であってもよい。
(Polyester resin)
The polyester resin is, for example, a polyester resin having a diol component (a) composed of at least a dibenzofluorene compound having a hydroxyl group and a dicarboxylic acid component (b) as polymerization components. In such a polyester-based resin, the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group is usually represented by the following formula (a1): a compound in which E is an oxygen atom and p is 1 in the formula (1). It may be a dibenzofluorene compound (or diol component (a1)).
(式中、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
上記式(a1)で表される化合物としては、前記例示の2つのヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(C1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)ジベンゾフルオレンなど]などが挙げられる。
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as above.)
Examples of the compound represented by the formula (a1) include dibenzofluorene compounds having two hydroxyl groups exemplified above [for example, 9,9-bis (hydroxyphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (C 1-4). Alkyl-hydroxyphenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (hydroxynaphthyl) dibenzofluorene, etc.].
なお、前記ポリエステル樹脂において、ジオール成分(a)は、ジベンゾフルオレン化合物(a1)で構成されている限り、他のジオール成分(ジベンゾフルオレン化合物(a1)以外のジオール成分)を含んでいてもよい。このような他のジオール成分(ジオール成分(a2))としては、例えば、アルカンジオール(エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,3−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールなどのC2−10アルカンジオール、好ましくはC2−6アルカンジオール、さらに好ましくはC2−4アルカンジオール)、ポリアルカンジオール(例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールなどのジ又はトリC2−4アルカンジオールなど)、シクロアルカンジオール(例えば、シクロヘキサンジオールなどのC5−8シクロアルカンジオール)、ジ(ヒドロキシアルキル)シクロアルカン(例えば、シクロペンタンジメタノール、シクロヘキサンジメタノールなどのジ(ヒドロキシC1−4アルキル)C5−8シクロアルカンなど)、ジヒドロキシアレーン(ハイドロキノン、レゾルシノールなど)、芳香脂肪族ジオール[1,4−ベンゼンジメタノール、1,3−ベンゼンジメタノールなどのジ(ヒドロキシC1−4アルキル)C6−10アレーンなど]、ビフェノール、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールAなどのビス(ヒドロキシフェニル)C1−10アルカンなど]、フルオレン骨格を有するジオール[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン;9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン;9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−フェニル)フルオレン;9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−6アルキルフェニル)フルオレン;9,9−ビス[6−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)ナフチル)]フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシC2−4アルコキシナフチル)フルオレンなど]などが挙げられる。他のジオール成分は単独で又は二種以上組み合わせてもよい。 In the polyester resin, the diol component (a) may contain another diol component (a diol component other than the dibenzofluorene compound (a1)) as long as it is composed of the dibenzofluorene compound (a1). Examples of such other diol components (diol component (a2)) include alkanediols (ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,2- C 2-10 alkanediols such as butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 1,3-pentanediol, neopentylglycol, preferably C2-6 alkane Diols, more preferably C 2-4 alkane diols), polyalkane diols (eg di- or tri-C 2-4 alkane diols such as diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol etc.), cycloalkane diols (eg cyclohexane diol) C 5-8 Sik, such as Alkanediol), di (hydroxyalkyl) cycloalkanes (e.g., cyclopentane dimethanol, cyclohexane dimethanol (hydroxy C 1-4 alkyl, such as dimethanol) C 5-8 cycloalkane, etc.), dihydroxy arene (hydroquinone, resorcinol, etc.) Araliphatic diol [di (hydroxy C 1-4 alkyl) C 6-10 arene etc. such as 1,4-benzenedimethanol, 1,3-benzenedimethanol], biphenol, bisphenol [eg bisphenol A etc. Bis (hydroxyphenyl) C 1-10 alkane and the like], diols having a fluorene skeleton [eg, 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene; -Screw (4 Hydroxy-3-methylphenyl) 9,9-bis fluorene (mono- or di-C 1-4 alkyl - hydroxyphenyl) fluorene; 9 such as 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene 9,9-bis (hydroxyC 2-4 alkoxy-phenyl) fluorene; 9,9-bis (hydroxyC 2-4 such as 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] fluorene 9,9-bis (hydroxyC 2-4 alkoxynaphthyl) such as alkoxy-mono or di-C 1-6 alkylphenyl) fluorene; 9,9-bis [6- (2- (2-hydroxyethoxy) naphthyl)] fluorene ) Fluorene etc.]. Other diol components may be used alone or in combination of two or more.
ジオール成分(a)において、ジベンゾフルオレン化合物(a1)の割合は、ジオール成分(a)全体に対して、例えば、30モル%以上(例えば、40〜100モル%程度)、好ましくは50モル%以上(例えば、60〜99モル%程度)、さらに好ましくは70モル%以上(例えば、80〜95モル%程度)であってもよく、通常90モル%以上(例えば、95モル%以上)であってもよい。 In the diol component (a), the proportion of the dibenzofluorene compound (a1) is, for example, 30 mol% or more (for example, about 40 to 100 mol%), preferably 50 mol% or more, based on the entire diol component (a). (For example, about 60 to 99 mol%), more preferably 70 mol% or more (for example, about 80 to 95 mol%), and usually 90 mol% or more (for example, 95 mol% or more), Also good.
なお、必要に応じて、ジオール成分に加えて、3以上のヒドロキシル基を有するポリオール成分[例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールなどのアルカンポリオール、フルオレン骨格を有するポリオール(ビスカテコールフルオレンなど)、3以上のヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物(例えば、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)−ジベンゾフルオレンなどの前記例示の化合物)など]を少量使用してもよい。 If necessary, in addition to the diol component, a polyol component having three or more hydroxyl groups [for example, alkane polyol such as glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, polyol having a fluorene skeleton (biscatechol) A small amount of a dibenzofluorene compound having 3 or more hydroxyl groups (for example, the above-mentioned exemplified compound such as 9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) -dibenzofluorene) and the like] may be used.
また、前記ポリエステル樹脂において、ジカルボン酸成分としては、例えば、アルカンジカルボン酸(アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸などのC2−20アルカン−ジカルボン酸、好ましくはC2−14アルカン−ジカルボン酸など)などの脂肪族ジカルボン酸;シクロアルカンジカルボン酸(シクロヘキサンジカルボン酸などのC5−10シクロアルカン−ジカルボン酸)、ジ又はトリシクロアルカンジカルボン酸(デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸など)などの脂環族ジカルボン酸;アレーンジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸などのC6−14アレーン−ジカルボン酸など)、ビフェニルジカルボン酸(2,2’−ビフェニルジカルボン酸など)、ジフェニルアルカンジカルボン酸(4,4’−ジフェニルメタンジカルボン酸、2,2−ジ(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンなどのジフェニルC1−10アルカンジカルボン酸)、ジフェニルケトンジカルボン酸(4,4′−ジフェニルケトンジカルボン酸など)、ジフェニルエーテルジカルボン酸(例えば、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸など)、フルオレン骨格を有するジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、これらの誘導体(ジカルボン酸ハライド、ジカルボン酸無水物、低級アルキルエステル(メチルエステル、エチルエステルなどのC1−4アルキルエステル、好ましくはC1−2アルキルエステルなど)など)などが挙げられる。これらのジカルボン酸成分は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 In the polyester resin, examples of the dicarboxylic acid component include alkanedicarboxylic acids (C 2-20 alkane-dicarboxylic acids such as adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, preferably C 2-14. Aliphatic dicarboxylic acids such as alkane-dicarboxylic acids; cycloalkane dicarboxylic acids (C 5-10 cycloalkane-dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid), di- or tricycloalkane dicarboxylic acids (decalin dicarboxylic acid, norbornane dicarboxylic acid), Alicyclic dicarboxylic acids such as adamantane dicarboxylic acid; arene dicarboxylic acids (terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, anthracene dicarboxylic acid, C 6-14 arene such as cement dicarboxylic acids - such as dicarboxylic acid), and biphenyl dicarboxylic acid (2,2'-biphenyl dicarboxylic acid), diphenyl alkane dicarboxylic acid (4,4'-diphenylmethane dicarboxylic acid, 2,2 Diphenyl C 1-10 alkane dicarboxylic acid such as di (4-carboxyphenyl) hexafluoropropane), diphenyl ketone dicarboxylic acid (such as 4,4′-diphenyl ketone dicarboxylic acid), diphenyl ether dicarboxylic acid (eg, 4,4′- such as diphenyl ether dicarboxylic acid), aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acids having a fluorene skeleton, derivatives (dicarboxylic acid halide, dicarboxylic acid anhydrides, lower alkyl esters (methyl ester, C 1-4 alkyl such as ethyl ester Ester, preferably such as C 1-2 alkyl esters), etc.) and the like. These dicarboxylic acid components may be used alone or in combination of two or more.
これらのジカルボン酸成分のうち、より一層高い耐熱性などの特性をポリエステル樹脂に付与するなどの目的においては、芳香族ジカルボン酸成分(芳香族ジカルボン酸又はその誘導体)が好ましい。特に、芳香族ジカルボン酸成分を、フルオレン骨格を有するジカルボン酸成分で構成すると、ポリエステル系樹脂において、耐熱性や屈折率などの特性をより一層向上できる。フルオレン骨格を有するジカルボン酸成分(b1)としては、フルオレン骨格を有する限り特に制限されないが、通常、下記式(b1A)で表されるジカルボン酸、下記式(b1A)で表されるジカルボン酸又はこれらの誘導体であってもよい。 Among these dicarboxylic acid components, an aromatic dicarboxylic acid component (aromatic dicarboxylic acid or a derivative thereof) is preferable for the purpose of imparting higher properties such as heat resistance to the polyester resin. In particular, when the aromatic dicarboxylic acid component is composed of a dicarboxylic acid component having a fluorene skeleton, characteristics such as heat resistance and refractive index can be further improved in the polyester resin. The dicarboxylic acid component (b1) having a fluorene skeleton is not particularly limited as long as it has a fluorene skeleton, but is usually a dicarboxylic acid represented by the following formula (b1A), a dicarboxylic acid represented by the following formula (b1A), or these Or a derivative thereof.
(式中、R5は置換基を示し、R6は置換基を有していてもよい二価の炭化水素基を示す。qは0〜4の整数である。) (In the formula, R 5 represents a substituent, and R 6 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent. Q is an integer of 0 to 4.)
(式中、R7およびR8は、同一又は異なって置換基を示す。rは0〜3の整数であり、sは0〜1の整数である。)
上記式(b1A)において、基R5で表される置換基としては、前記式(1)における置換基R1で例示した置換基と同様の基(例えば、アルキル基など)が挙げられる。異なるベンゼン環に置換する基R5は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、qが2以上である場合、基R5は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。好ましい置換数pは、0又は1、特に0である。なお、異なるベンゼン環に置換する基R5の置換数pは、異なっていてもよいが、通常、同一である。
(Wherein, R 7 and R 8, .r showing the same or different substituents is an integer of 0 to 3, s is an integer of 0-1.)
In the above formula (b1A), examples of the substituent represented by the group R 5 include groups similar to the substituents exemplified for the substituent R 1 in the formula (1) (for example, an alkyl group). The groups R 5 substituted on different benzene rings may be different from each other or the same. When q is 2 or more, the groups R 5 may be different or the same in the same benzene ring. The preferred substitution number p is 0 or 1, especially 0. Incidentally, the substitution number p of radicals R 5 to be substituted with different benzene rings may be different, but usually the same.
また、前記式(b1A)において、基R6で表される二価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基{例えば、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、トリメチレン基、プロピレン基、プロピリデン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ブタン−2−イリデン基、1,2−ジメチルエチレン基、ペンタメチレン基、ペンタン−2,3−ジイル基などのC1−8アルキレン基、好ましくはC1−4アルキレン基)、シクロアルキレン基(例えば、シクロへキシレン基、メチルシクロへキシレン基などのC5−10シクロアルキレン基、アルキレン−シクロアルキレン基[例えば、メチレン−シクロへキシレン基、エチレン−シクロへキシレン基、エチレン−メチルシクロへキシレン基、エチリデン−シクロへキシレン基などのC1−6アルキレン−C5−10シクロアルキレン基など}、芳香族炭化水素基{例えば、アリーレン基(フェニレン基、ナフタレンジイル基などのC6−10アリーレン基)、アルキレン(又はアルキリデン)−アリーレン基[例えば、メチレン−フェニレン基、エチレン−フェニレン基、エチレン−メチルフェニレン基、エチリデンフェニレン基などのC1−4アルキレン−C6−10アリーレン基、好ましくはC1−2アルキレン−フェニレン基]など}が例示できる。また、基R6で表される二価の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、前記式(1)における置換基R2で例示した置換基と同様の基(例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などの炭化水素基)が挙げられる。 In the formula (b1A), the divalent hydrocarbon group represented by the group R 6 includes an aliphatic hydrocarbon group {for example, an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, an ethylidene group, a trimethylene group, C 1-8 alkylene groups such as propylene group, propylidene group, tetramethylene group, ethylethylene group, butane-2-ylidene group, 1,2-dimethylethylene group, pentamethylene group, pentane-2,3-diyl group, Preferably a C 1-4 alkylene group), a cycloalkylene group (eg, a C 5-10 cycloalkylene group such as a cyclohexylene group, a methylcyclohexylene group, an alkylene-cycloalkylene group [eg, a methylene-cyclohexylene group, Ethylene-cyclohexylene, ethylene-methylcyclohexylene, ethylidene-cyclo C 1-6 alkylene such as xylene group-C 5-10 cycloalkylene group}, aromatic hydrocarbon group {eg, arylene group (C 6-10 arylene group such as phenylene group, naphthalenediyl group), alkylene (or Alkylidene) -arylene group [for example, C 1-4 alkylene-C 6-10 arylene group such as methylene-phenylene group, ethylene-phenylene group, ethylene-methylphenylene group, ethylidenephenylene group, preferably C 1-2 alkylene- The divalent hydrocarbon group represented by the group R 6 may have a substituent, for example, a substituent in the above formula (1). same groups as the substituents exemplified for group R 2 (e.g., an alkyl group, a cycloalkyl group, a hydrocarbon group such as an aryl group) And the like.
前記式(b1B)において、基R7で表される置換基としては、前記式(1)における置換基R1で例示した置換基と同様の基が挙げられる。異なるベンゼン環に置換する基R7は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、rが2以上である場合、基R7は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。好ましい置換数rは、0又は1、特に0である。なお、異なるベンゼン環に置換する基R7の置換数rは、異なっていてもよいが、通常、同一である。また、基R8で表される置換基としては、前記式(1)における置換基R3で例示した置換基と同様の基(例えば、アルキル基などの炭化水素基)が挙げられる。好ましい置換基R8には、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基などのC1−20アルキル基、好ましくはC1−12アルキル基)などが挙げられる。また、2つのsは同一又は異なっていてもよい。また、sがいずれも1である場合、2つの基R8は、同一又は異なっていてもよい。 In the formula (b1B), examples of the substituent represented by the group R 7 include the same groups as the substituents exemplified for the substituent R 1 in the formula (1). The groups R 7 substituted on different benzene rings may be different from each other or the same. When r is 2 or more, the groups R 7 may be different or the same in the same benzene ring. A preferred substitution number r is 0 or 1, in particular 0. The number of substitutions r of the groups R 7 substituted on different benzene rings may be different but is usually the same. As the substituent represented by groups R 8, the same groups as the substituents exemplified in the substituents R 3 in Formula (1) (e.g., a hydrocarbon group such as an alkyl group). Preferred substituents R 8 include alkyl groups (for example, C 1-20 alkyl groups such as methyl group and ethyl group, preferably C 1-12 alkyl groups). Two s may be the same or different. When both s is 1, the two groups R 8 may be the same or different.
代表的なフルオレン骨格を有するジカルボン酸成分(b1)としては、例えば、9,9−ビス(カルボキシアルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(カルボキシメチル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシエチル)フルオレン、9,9−ビス(1−カルボキシエチル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシ−1−シクロヘキシルエチル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシ−1−フェニルエチル)フルオレン、9,9−ビス(1−カルボキシプロピル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシプロピル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシ−1−メチルエチル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシ−1−メチルプロピル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシブチル)フルオレン、9,9−ビス(2−カルボキシ−1−メチルブチル)フルオレン、9,9−ビス(5−カルボキシペンチル)フルオレンなどのアルキル基に置換基(C1−4アルキル基、C5−8シクロアルキル基、C6−10アリール基など)を有していてもよい9,9−ビス(カルボキシ−C1−6アルキル)フルオレンなど]、9,9−ビス(カルボキシシクロアルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(4−カルボキシシクロヘキシル)フルオレン、9,9−ビス(1−カルボキシシクロヘキシル)フルオレンなどの置換基を有していてもよい9,9−ビス(カルボキシ−C5−8シクロアルキル)フルオレンなど]、9,9−ビス(カルボキシアリール)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレンなどの置換基を有していてもよい9,9−ビス(カルボキシ−C6−10アリール)フルオレンなど]、9,9−ビス(カルボキシアリール−アルキル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(4−カルボキシベンジル)フルオレンなどの置換基を有していてもよい9,9−ビス(カルボキシC6−10アリール−C1−4アルキル)フルオレンなど]、ジカルボキシフルオレン類[例えば、ジカルボキシフルオレン(例えば、2,7−ジカルボキシフルオレン(又はフルオレン−2,7−ジカルボン酸)など)、9,9−ジアルキル−ジカルボキシフルオレン(例えば、2,7−ジカルボキシ−9,9−ジメチルフルオレン(又は9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジカルボン酸)、2,7−ジカルボキシ−9,9−ジヘキシルフルオレン、2,7−ジカルボキシ−9,9−ジオクチルフルオレンなどの9,9−ジC1−20アルキル−ジカルボキシフルオレン、好ましくは9,9−ジC1−16アルキル−ジカルボキシフルオレン、さらに好ましくは9,9−ジC1−12アルキル−ジカルボキシフルオレンなど)などのフルオレンの9位に置換基を有するジカルボキシフルオレンなど]、これらの化合物にさらに置換基(アルコキシ基、アシル基など)が置換した化合物などが例示できる。 As the dicarboxylic acid component (b1) having a typical fluorene skeleton, for example, 9,9-bis (carboxyalkyl) fluorenes [for example, 9,9-bis (carboxymethyl) fluorene, 9,9-bis (2 -Carboxyethyl) fluorene, 9,9-bis (1-carboxyethyl) fluorene, 9,9-bis (2-carboxy-1-cyclohexylethyl) fluorene, 9,9-bis (2-carboxy-1-phenylethyl) ) Fluorene, 9,9-bis (1-carboxypropyl) fluorene, 9,9-bis (2-carboxypropyl) fluorene, 9,9-bis (2-carboxy-1-methylethyl) fluorene, 9,9- Bis (2-carboxy-1-methylpropyl) fluorene, 9,9-bis (2-carboxybutyl) fluorene 9,9-bis (2-carboxy-1-methylbutyl) fluorene, 9,9-bis (5-carboxypentyl) substituent alkyl groups such as fluorene (C 1-4 alkyl groups, C 5-8 cycloalkyl group 9,9-bis (carboxy-C 1-6 alkyl) fluorene and the like which may have a C 6-10 aryl group, etc.], 9,9-bis (carboxycycloalkyl) fluorenes [for example, 9 9,9-bis (carboxy-C 5-8 cycloalkyl) optionally having a substituent such as 9,9-bis (4-carboxycyclohexyl) fluorene, 9,9-bis (1-carboxycyclohexyl) fluorene Fluorene etc.], 9,9-bis (carboxyaryl) fluorenes [for example, 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene 9,9-bis (carboxy-C 6-10 aryl) fluorene etc. which may have any substituent], 9,9-bis (carboxyaryl-alkyl) fluorenes [for example, 9,9-bis ( 9,9-bis (carboxy C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl) fluorene etc. which may have a substituent such as 4-carboxybenzyl) fluorene], dicarboxyfluorenes [for example, dicarboxyfluorene (For example, 2,7-dicarboxyfluorene (or fluorene-2,7-dicarboxylic acid)), 9,9-dialkyl-dicarboxyfluorene (for example, 2,7-dicarboxy-9,9-dimethylfluorene ( Or 9,9-dimethylfluorene-2,7-dicarboxylic acid), 2,7-dicarboxy-9,9-dihexylfluoro Emissions, 2,7-dicarboxy-9,9-dioctyl fluorene such as 9,9-di-C 1-20 alkyl - dicarboxylate fluorene, preferably 9,9-C 1-16 alkyl - dicarboxylate fluorene, further Preferably, dicarboxyfluorene having a substituent at the 9-position of fluorene such as 9,9-diC 1-12 alkyl-dicarboxyfluorene, etc.], further substituted (alkoxy group, acyl group, etc.) on these compounds And the like can be exemplified.
なお、フルオレン骨格を有するジカルボン酸の誘導体としては、前記と同様の誘導体(ジカルボン酸ハライド、ジカルボン酸無水物、低級アルキルエステルなど)が挙げられる。 Examples of the dicarboxylic acid derivative having a fluorene skeleton include the same derivatives as described above (dicarboxylic acid halide, dicarboxylic acid anhydride, lower alkyl ester, etc.).
これらのフルオレン骨格を有するジカルボン酸成分(b1)は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。 These dicarboxylic acid components (b1) having a fluorene skeleton may be used alone or in combination of two or more.
ジカルボン酸成分(b)をフルオレン骨格を有するジカルボン酸成分(b1)で構成する場合、ジカルボン酸成分(b1)の割合は、ジカルボン酸成分(b)全体に対して、例えば、30モル%以上(例えば、40〜100モル%程度)、好ましくは50モル%以上(例えば、60〜99モル%程度)、さらに好ましくは70モル%以上(例えば、80〜95モル%程度)であってもよく、通常90モル%以上(例えば、95モル%以上)であってもよい。 When the dicarboxylic acid component (b) is composed of a dicarboxylic acid component (b1) having a fluorene skeleton, the proportion of the dicarboxylic acid component (b1) is, for example, 30 mol% or more (relative to the entire dicarboxylic acid component (b) ( For example, about 40 to 100 mol%), preferably 50 mol% or more (for example, about 60 to 99 mol%), more preferably 70 mol% or more (for example, about 80 to 95 mol%), Usually, it may be 90 mol% or more (for example, 95 mol% or more).
なお、必要に応じて、ジカルボン酸成分に加えて、3以上のカルボキシル基を有するポリカルボン酸(例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、フルオレン骨格を有するポリカルボン酸(例えば、特開2006−151833号公報に記載のフルオレンポリカルボン酸エステルに対応するポリカルボン酸など)など)を少量使用してもよい。 If necessary, in addition to the dicarboxylic acid component, a polycarboxylic acid having three or more carboxyl groups (for example, trimellitic acid, pyromellitic acid, polycarboxylic acid having a fluorene skeleton (for example, JP-A-2006-151833). A small amount of a polycarboxylic acid corresponding to the fluorene polycarboxylic acid ester described in the publication No.) may be used.
前記ポリエステル樹脂は、前記のように、前記ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物で少なくとも構成されたジオール成分(a)と、ジカルボン酸成分(b)とを重合成分とするポリエステル樹脂であり、通常、下記式(A1)で表されるエステルユニットを有するポリエステル樹脂である。 As described above, the polyester resin is a polyester resin having a diol component (a) composed of at least the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group and a dicarboxylic acid component (b) as polymerization components. It is a polyester resin having an ester unit represented by the formula (A1).
(式中、A1はジカルボン酸成分(b)の残基を示し、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
前記ポリエステル樹脂の重量平均分子量は、例えば、3000〜1000000程度の範囲から選択でき、例えば、5000〜800000、好ましくは8000〜600000、さらに好ましくは10000〜500000(例えば、30000〜500000)程度であってもよい。なお、上記、重量平均分子量は、ポリスチレンを基準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより評価した値であってもよい。
(In the formula, A 1 represents a residue of the dicarboxylic acid component (b), and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m, and n are the same as described above.)
The weight average molecular weight of the polyester resin can be selected from the range of, for example, about 3000 to 1000000, for example, about 5000 to 800000, preferably about 8000 to 600000, and more preferably about 10000 to 500000 (for example, 30000 to 500000). Also good. The weight average molecular weight may be a value evaluated by gel permeation chromatography based on polystyrene.
また、前記ポリエステル樹脂は、耐熱性に優れている。例えば、ポリエステル樹脂のガラス転移温度Tgは、180℃以上(例えば、180〜450℃程度)、好ましくは200〜400℃、さらに好ましくは210〜380℃程度であってもよい。 Moreover, the said polyester resin is excellent in heat resistance. For example, the glass transition temperature Tg of the polyester resin may be 180 ° C. or higher (for example, about 180 to 450 ° C.), preferably 200 to 400 ° C., more preferably about 210 to 380 ° C.
なお、前記ポリエステル樹脂は、前記ジオール成分(a)と前記ジカルボン酸成分(b)とを反応(縮合反応)させることにより得ることができる。縮合反応(重縮合反応)は、一般的なポリエステル樹脂の合成に用いられる方法、例えば、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法などを利用して製造できる。 In addition, the said polyester resin can be obtained by making the said diol component (a) and the said dicarboxylic acid component (b) react (condensation reaction). The condensation reaction (polycondensation reaction) can be produced by using a general polyester resin synthesis method, for example, a transesterification method, a melt polymerization method such as a direct polymerization method, a solution polymerization method or an interfacial polymerization method. .
反応において、ジオール成分(a)と、ジカルボン酸成分(b)との割合は、これら成分の当量比をベースに適宜選択できる。例えば、ジオール成分(a)の割合は、ジカルボン酸成分(b)1モルに対して、0.7〜1.5モル、好ましくは0.9〜1.1モル、さらに好ましくは0.95〜1.05モル程度であってもよく、通常約1モル程度である。 In the reaction, the proportion of the diol component (a) and the dicarboxylic acid component (b) can be appropriately selected based on the equivalent ratio of these components. For example, the ratio of the diol component (a) is 0.7 to 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.1 mol, more preferably 0.95 to 1 mol of the dicarboxylic acid component (b). It may be about 1.05 mol, and is usually about 1 mol.
反応(縮合反応、重合反応)は、溶媒の非存在下で行ってもよく、溶媒の存在下で行ってもよい。なお、溶媒は、反応温度において液体である成分であればよい。例えば、常温において固体であっても、反応温度において液状となる成分であってもよい。代表的な溶媒(有機溶媒)としては、エーテル系溶媒[ジフェニルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など]、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、トリクロロビフェニルなどのハロゲン化芳香族炭化水素類)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、複素環化合物(N−メチル−2−ピロリドンなど)、スルホン系溶媒(スルホラン、ジメチルスルホンなどの脂肪族スルホン、ジフェニルスルホンなどの芳香族スルホンなど)などが挙げられる。これらの溶媒のうち、ジフェニルエーテル、トリクロロビフェニルなどの高沸点溶媒[例えば、沸点が180℃以上(例えば、200〜500℃、好ましくは210〜450℃、さらに好ましくは220〜400℃程度)の溶媒など]が好ましい。前記溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。 The reaction (condensation reaction or polymerization reaction) may be performed in the absence of a solvent or in the presence of a solvent. The solvent may be any component that is liquid at the reaction temperature. For example, it may be a solid at room temperature or a liquid component at the reaction temperature. Typical solvents (organic solvents) include ether solvents (chain ethers such as diphenyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran), halogenated solvents (halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride). , Halogenated aromatic hydrocarbons such as trichlorobiphenyl), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.), heterocyclic compounds (N-methyl-2-pyrrolidone, etc.), sulfone solvents (sulfolane, dimethyl) Aliphatic sulfone such as sulfone, aromatic sulfone such as diphenyl sulfone) and the like. Among these solvents, high-boiling solvents such as diphenyl ether and trichlorobiphenyl [for example, solvents having a boiling point of 180 ° C. or higher (eg, 200 to 500 ° C., preferably 210 to 450 ° C., more preferably about 220 to 400 ° C.), etc. ] Is preferable. You may use the said solvent individually or in combination of 2 or more types.
反応(縮合反応、重合反応)は、触媒の存在下で行ってもよい。前記触媒としては、特に限定されず、例えば、金属水酸化物(水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属酸化物など)、金属炭酸塩(炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属炭酸塩など)、アミン類(例えば、イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類など)、ホスフィン類(トリフェニスホスフィンなど)、第4級アンモニウム塩(塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウムなどのハロゲン化テトラアルキルアンモニウム;塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなどの塩化ベンジルトリアルキルアンモニウムなど)、第四級ホスホニウム塩(塩化ベンジルトリフェニルホスホニウムなど)、アルミニウム化合物(トリアルキルアルミニウムなど)、ゲルマニウム化合物、スズ化合物(塩化スズ、スズカルボキシレート類など)、チタン化合物(チタンアルコキシドなど)などが例示できる。特に、第4級アンモニウム塩などを触媒として使用すると、前記ジオール成分及び前記ジカルボン酸の双方を効率よく活性化できる。触媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。 The reaction (condensation reaction, polymerization reaction) may be performed in the presence of a catalyst. The catalyst is not particularly limited, and examples thereof include metal hydroxides (such as alkali metal oxides such as sodium hydroxide), metal carbonates (such as alkali metals such as sodium carbonate or alkaline earth metal carbonates), and amines. (For example, imidazoles, benzotriazoles, etc.), phosphines (triphenisphosphine, etc.), quaternary ammonium salts (tetraalkylammonium halides such as tetraethylammonium chloride and tetraethylammonium bromide; benzyltrimethylammonium chloride, chloride) Benzyltriethylammonium chloride such as benzyltriethylammonium), quaternary phosphonium salts (such as benzyltriphenylphosphonium chloride), aluminum compounds (such as trialkylaluminum), germanium compounds , Tin compounds (tin chloride, tin carboxylates, etc.), titanium compounds (such as titanium alkoxide) can be exemplified. In particular, when a quaternary ammonium salt or the like is used as a catalyst, both the diol component and the dicarboxylic acid can be activated efficiently. You may use a catalyst individually or in combination of 2 or more types.
触媒の使用量は、触媒の種類に応じて調整でき、ジオール成分(a)及びジカルボン酸成分(b)の総量1モルに対して、0〜1モルの範囲から選択でき、例えば、0.0001〜0.5モル、通常、0.001〜0.3モル、好ましくは0.003〜0.2モル、さらに好ましくは0.005〜0.1モル程度であってもよい。 The usage-amount of a catalyst can be adjusted according to the kind of catalyst, can be selected from the range of 0-1 mol with respect to 1 mol of total amounts of a diol component (a) and a dicarboxylic acid component (b), for example, 0.0001 ˜0.5 mol, usually 0.001 to 0.3 mol, preferably 0.003 to 0.2 mol, and more preferably about 0.005 to 0.1 mol.
重合反応は、通常、加熱下で行ってもよく、例えば、120〜350℃、好ましくは140〜330℃、さらに好ましくは160〜300℃(例えば、170〜250℃)程度で行う場合が多い。加熱は、昇温及び/又は降温操作などを適宜利用してもよく、略一定の温度にて一段階で行ってもよく、異なる温度で複数段階の加熱を行ってもよい。なお、反応時間は、例えば、20分〜24時間、好ましくは30分〜18時間、さらに好ましくは1〜12時間(例えば、1〜6時間)程度であってもよい。 The polymerization reaction may be usually carried out under heating, for example, 120-350 ° C., preferably 140-330 ° C., more preferably 160-300 ° C. (for example, 170-250 ° C.). For the heating, a temperature raising and / or temperature lowering operation or the like may be used as appropriate, or may be performed in a single step at a substantially constant temperature, or a plurality of steps may be performed at different temperatures. The reaction time may be, for example, about 20 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 18 hours, and more preferably about 1 to 12 hours (for example, 1 to 6 hours).
反応は、空気中で行ってもよいが、不活性ガス(ヘリウム、窒素、アルゴンなど)の雰囲気下又は流通下で行ってもよい。また、反応は、常圧下、加圧下、又は減圧下で行ってもよい。例えば、反応は、加熱後、縮合反応により生成する成分(水、塩化水素など)を反応系外に除去しながら行うため減圧下で行ってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)などにより確認(又は追跡)できる。 The reaction may be performed in air, but may be performed in an atmosphere or flow of an inert gas (such as helium, nitrogen, argon). Further, the reaction may be performed under normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. For example, the reaction may be performed under reduced pressure since the reaction is performed while removing components (water, hydrogen chloride, etc.) generated by the condensation reaction from the reaction system. The progress of the reaction can be confirmed (or traced) by high performance liquid chromatography (HPLC), gas chromatography (GC) or the like.
なお、反応終了後、生成物であるポリエステル樹脂は、慣用の分離方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。 After completion of the reaction, the product polyester resin is separated by a conventional separation method such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these. It can be purified.
(ポリエーテル樹脂)
ポリエーテル樹脂は、例えば、前記ジオール成分(a)(すなわち、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物で少なくとも構成されたジオール成分(a))を重合成分とするポリエーテル樹脂である。このようなポリエーテル樹脂において、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物は、通常、前記式(1)においてEが酸素原子でありかつpが1である化合物(すなわち、前記式(a1)で表されるジベンゾフルオレン化合物(又はジオール成分(a1))であってもよい。そして、このようなポリエーテル系樹脂は、通常、前記ジオール成分(a)と、複数のハロゲン原子を有する化合物(C)とを重合成分とする樹脂である。
(Polyether resin)
The polyether resin is, for example, a polyether resin having the diol component (a) (that is, a diol component (a) composed at least of a dibenzofluorene compound having a hydroxyl group) as a polymerization component. In such a polyether resin, the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group is usually a compound in which E is an oxygen atom and p is 1 in the formula (1) (that is, represented by the formula (a1)). It may be a dibenzofluorene compound (or diol component (a1)), and such a polyether resin usually contains the diol component (a) and a compound (C) having a plurality of halogen atoms. Resin used as a polymerization component.
すなわち、ポリエーテル樹脂は、通常、下記式(A2)で表されるエーテルユニットを有するポリエーテル樹脂である。 That is, the polyether resin is usually a polyether resin having an ether unit represented by the following formula (A2).
(式中、A2は複数のハロゲン原子を有する化合物(C)の残基、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
複数のハロゲン原子を有する化合物(C)において、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの原子のうち、フッ素原子及び塩素原子などが好ましく、特にフッ素原子が好ましい。ハロゲン原子の個数は、適宜選択でき、例えば、2〜8個、好ましくは2〜6個、さらに好ましくは2〜4個程度であってもよい。通常、2つのハロゲン原子を有する化合物を用いる場合が多い。
(In the formula, A 2 is a residue of compound (C) having a plurality of halogen atoms, and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as described above.)
In the compound (C) having a plurality of halogen atoms, examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms. Of these atoms, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable, and a fluorine atom is particularly preferable. The number of halogen atoms can be selected as appropriate, and may be, for example, 2 to 8, preferably 2 to 6, and more preferably about 2 to 4. Usually, a compound having two halogen atoms is often used.
また、複数のハロゲン原子を有する化合物は、脂肪族骨格を有する化合物であってもよいが、特に、芳香族骨格(又は芳香環)を有する化合物であるのが好ましい。さらに、複数のハロゲン原子を有する化合物は、ケトン骨格やスルホン骨格を有していてもよい。なお、ケトン骨格を有する化合物を用いるとポリエーテルケトン系樹脂が得られ、スルホン骨格を有する化合物を用いるとポリエーテルスルホン系樹脂が得られる。 Further, the compound having a plurality of halogen atoms may be a compound having an aliphatic skeleton, but is particularly preferably a compound having an aromatic skeleton (or aromatic ring). Furthermore, the compound having a plurality of halogen atoms may have a ketone skeleton or a sulfone skeleton. When a compound having a ketone skeleton is used, a polyether ketone resin is obtained, and when a compound having a sulfone skeleton is used, a polyether sulfone resin is obtained.
代表的な複数のハロゲン原子を有する化合物としては、複数のハロゲン原子を有する芳香族ケトン系化合物、複数のハロゲン原子を有する芳香族エーテル系化合物、複数のハロゲン原子を有する芳香族スルホン系化合物[例えば、4,4’−ジフルオロジフェニルスルホンなどのジ(ハロアリール)スルホン(好ましくはジ(ハロC6−10アリール)スルホン)など]などが挙げられる。 Typical compounds having a plurality of halogen atoms include aromatic ketone compounds having a plurality of halogen atoms, aromatic ether compounds having a plurality of halogen atoms, and aromatic sulfone compounds having a plurality of halogen atoms [for example, , Di (haloaryl) sulfone such as 4,4′-difluorodiphenylsulfone (preferably di (haloC 6-10 aryl) sulfone) and the like].
前記芳香族ケトン系化合物としては、例えば、ビス(ハロアリールカルボニル)アレーン化合物[例えば、1,4−ジ(2−、3−又は4−フルオロベンゾイル)ベンゼン、5−t−ブチル−1,3−ジ(2−、3−又は4−フルオロベンゾイル)ベンゼン、1,5−ジ(4−フルオロベンゾイル)ナフタレン、1,5−ジ(4−フルオロベンゾイル)−2,6−ジメチルナフタレン、2,6−ジ(2−、3−、又は4−フルオロベンゾイル)ナフタレンなどのビス(フルオロアリールカルボニル)アレーン化合物(好ましくはビス(フルオロC6−10アリールカルボニル)C6−14アレーン化合物);これらのビス(フルオロアリールカルボニル)アレーン化合物に対応するビス(クロロアリールカルボニル)アレーン化合物、ビス(ブロモアリールカルボニル)アレーン化合物及びビス(ヨードアリールカルボニル)アレーン化合物など]、ビス(ハロアリールカルボニルアリール)エーテル化合物[例えば、4,4'−ビス(4−フルオロベンゾイル)ジフェニルエーテルなどのビス(フルオロアリールカルボニルアリール)エーテル化合物(好ましくはビス(フルオロC6−10アリールカルボニル−C6−10アリール)エーテル、さらに好ましくはビス(フルオロC6−10アリールカルボニルフェニル)エーテル);これらのビス(フルオロアリールカルボニルアリール)エーテル化合物に対応するビス(クロロアリールカルボニルアリール)エーテル化合物、ビス(ブロモアリールカルボニルアリール)エーテル化合物及びビス(ヨードアリールカルボニルアリール)エーテル化合物など]、これらのジケトン化合物に対応するトリ又はテトラケトン化合物などが挙げられる。 Examples of the aromatic ketone compounds include bis (haloarylcarbonyl) arene compounds [for example, 1,4-di (2-, 3- or 4-fluorobenzoyl) benzene, 5-t-butyl-1,3. -Di (2-, 3- or 4-fluorobenzoyl) benzene, 1,5-di (4-fluorobenzoyl) naphthalene, 1,5-di (4-fluorobenzoyl) -2,6-dimethylnaphthalene, 2, Bis (fluoroarylcarbonyl) arene compounds such as 6-di (2-, 3-, or 4-fluorobenzoyl) naphthalene (preferably bis (fluoroC 6-10 arylcarbonyl) C 6-14 arene compounds); Bis (chloroarylcarbonyl) arene compounds corresponding to bis (fluoroarylcarbonyl) arene compounds, bis Bromoarylcarbonyl) arene compounds and bis (iodoarylcarbonyl) arene compounds], bis (haloarylcarbonylaryl) ether compounds [for example, bis (fluoroarylcarbonyl such as 4,4′-bis (4-fluorobenzoyl) diphenyl ether Aryl) ether compounds (preferably bis (fluoroC 6-10 arylcarbonyl-C 6-10 aryl) ether, more preferably bis (fluoroC 6-10 arylcarbonylphenyl) ether); these bis (fluoroarylcarbonylaryl) ) Bis (chloroarylcarbonylaryl) ether compounds, bis (bromoarylcarbonylaryl) ether compounds and bis (iodoarylcarbonyl) corresponding to ether compounds Reel) ether compounds such as, tri- or Tetoraketon compounds corresponding to these diketone compounds, and the like.
前記芳香族エーテル系化合物としては、ジ(ハロアリール)エーテル化合物(例えば、4,4’−ジブロモジフェニルエーテルなどのジ(ハロC6−10アリール)エーテル化合物)、芳香族複素環化合物[例えば、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールなどの2つのハロアリール基が置換した5乃至6員芳香族複素環化合物]などが挙げられる。 Examples of the aromatic ether compounds include di (haloaryl) ether compounds (for example, di (halo C 6-10 aryl) ether compounds such as 4,4′-dibromodiphenyl ether), aromatic heterocyclic compounds [for example, 2, 5- to 6-membered aromatic heterocyclic compound substituted with two haloaryl groups such as 5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole] and the like.
複数のハロゲン原子を有する化合物は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、必要により、前記複数のハロゲン原子を有する化合物とともに、モノハロ化合物、例えば、フルオロメタン、フルオロエタン、クロロエタンなどのモノハロアルカン(モノハロC1−20アルカンなど)、フルオロベンゼン、クロロベンゼンなどのモノハロアレーン(モノハロC6−14アレーンなど)などを併用してもよい。なお、これらのモノハロ化合物が有するハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子に限らず、臭素原子、ヨウ素原子などであってもよい。 The compounds having a plurality of halogen atoms may be used alone or in combination of two or more. If necessary, together with the compound having a plurality of halogen atoms, monohalo compounds, for example, monohaloalkanes such as fluoromethane, fluoroethane, chloroethane (monohalo C 1-20 alkane etc.), monohaloarenes such as fluorobenzene, chlorobenzene, etc. (Such as monohalo C 6-14 arene) may be used in combination. In addition, the halogen atom which these monohalo compounds have is not limited to a fluorine atom or a chlorine atom, but may be a bromine atom or an iodine atom.
なお、複数のハロゲン原子を有する化合物は、市販品であってもよく、慣用の方法により合成したものを用いてもよい。ジケトン化合物の合成には、例えば、Ohno, M.; Takata, T.; Endo, T. Macromolecules, 27[12], 3447-3448(1994)、Ohno, M.; Takata, T.; Endo, T. J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 33[15], 2647-2655(1995)などを参照できる。 The compound having a plurality of halogen atoms may be a commercially available product, or a compound synthesized by a conventional method may be used. For synthesis of diketone compounds, for example, Ohno, M .; Takata, T .; Endo, T. Macromolecules, 27 [12], 3447-3448 (1994), Ohno, M .; Takata, T .; Endo, TJ Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 33 [15], 2647-2655 (1995) can be referred to.
前記ポリエーテル樹脂の重量平均分子量は、例えば、10000〜500000、好ましくは15000〜200000、さらに好ましくは20000〜100000程度であってもよい。なお、上記、重量平均分子量は、ポリスチレンを基準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより評価した値であってもよい。 The weight average molecular weight of the polyether resin may be, for example, 10,000 to 500,000, preferably 15,000 to 200,000, and more preferably about 20,000 to 100,000. The weight average molecular weight may be a value evaluated by gel permeation chromatography based on polystyrene.
前記ポリエーテル樹脂は、耐熱性に優れている。例えば、ポリエーテル樹脂のガラス転移温度Tgは、180℃以上(例えば、180〜450℃程度)、好ましくは200〜350℃、さらに好ましくは230〜340℃程度であってもよい。 The polyether resin is excellent in heat resistance. For example, the glass transition temperature Tg of the polyether resin may be 180 ° C. or higher (for example, about 180 to 450 ° C.), preferably 200 to 350 ° C., more preferably about 230 to 340 ° C.
ポリエーテル系樹脂は、前記複数のハロゲン原子を有する化合物と、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物(特にジオール成分(a))と、必要により他のモノマーとを重合させることにより得られる。 The polyether-based resin can be obtained by polymerizing the compound having a plurality of halogen atoms, a dibenzofluorene compound having a hydroxyl group (particularly, the diol component (a)) and, if necessary, another monomer.
複数のハロゲン原子を有する化合物と、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物(特にジオール成分(a))との割合は、ハロゲン原子を有する化合物のハロゲン原子とヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物のヒドロキシル基との当量比をベースに適宜選択できる。 The ratio of the compound having a plurality of halogen atoms and the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group (particularly the diol component (a)) is the ratio of the halogen atom of the compound having a halogen atom to the hydroxyl group of the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group. It can be suitably selected based on the equivalent ratio.
重合は、通常、加熱下で行う場合が多く、例えば、120〜350℃、好ましくは130〜330℃、さらに好ましくは140〜310℃程度の温度で行ってもよい。加熱は、昇温及び/又は降温操作などを適宜利用してもよく、略一定の温度にて一段階で行ってもよく、異なる温度で複数段階の加熱を行ってもよい。なお、反応時間は、例えば、30分〜48時間、好ましくは1〜24時間、さらに好ましくは1.5〜12時間程度であってもよい。 The polymerization is usually performed under heating in many cases. For example, the polymerization may be performed at a temperature of about 120 to 350 ° C, preferably about 130 to 330 ° C, and more preferably about 140 to 310 ° C. For the heating, a temperature raising and / or temperature lowering operation or the like may be used as appropriate, or may be performed in a single step at a substantially constant temperature, or a plurality of steps may be performed at different temperatures. The reaction time may be, for example, 30 minutes to 48 hours, preferably 1 to 24 hours, more preferably about 1.5 to 12 hours.
分子量分布幅が狭く、均一で高分子量のポリエーテル樹脂を得る場合には、二段階の加熱により重合を行うのが好ましい。二段階加熱において、一段階目の加熱温度は、例えば、120〜180℃、好ましくは125〜175℃、さらに好ましくは130〜170℃程度であってもよい。また、二段階目の加熱温度は、例えば、190〜350℃、好ましくは200〜330℃、さらに好ましくは210〜310℃程度であってもよい。なお、複数段階の加熱により重合を行う場合、後続の加熱温度への移行は連続的に行ってもよく、時間的間隔を置いて行ってもよい。なお、二段階加熱による重合反応では、一段階目及び二段階目の加熱時間は、それぞれ、例えば、30分〜24時間、好ましくは1〜12時間、さらに好ましくは1.5〜6時間程度の範囲から適宜選択できる。 In order to obtain a uniform and high molecular weight polyether resin having a narrow molecular weight distribution width, it is preferable to carry out the polymerization by two-stage heating. In the two-stage heating, the heating temperature in the first stage may be, for example, 120 to 180 ° C, preferably 125 to 175 ° C, more preferably about 130 to 170 ° C. The heating temperature at the second stage may be, for example, 190 to 350 ° C, preferably 200 to 330 ° C, and more preferably about 210 to 310 ° C. In addition, when superposing | polymerizing by several steps of heating, the transition to subsequent heating temperature may be performed continuously and you may carry out at intervals. In the polymerization reaction by two-stage heating, the heating time of the first stage and the second stage is, for example, about 30 minutes to 24 hours, preferably 1 to 12 hours, and more preferably about 1.5 to 6 hours. It can be suitably selected from the range.
重合反応には、塩基触媒を用いてもよい。このような塩基触媒としては、無機塩基、例えば、金属水酸化物(水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物など)、金属炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩;炭酸セシウムなどの希土類金属の炭酸塩など)などが挙げられる。これらの塩基触媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 A base catalyst may be used for the polymerization reaction. Examples of such base catalysts include inorganic bases such as metal hydroxides (alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide), metal carbonates (alkaline such as sodium carbonate, potassium carbonate, and calcium carbonate). Metal or alkaline earth metal carbonates; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate; rare earth metal carbonates such as cesium carbonate, etc.). These base catalysts can be used alone or in combination of two or more.
塩基触媒の割合は、ヒドロキシル基を有するジベンゾフルオレン化合物100重量部に対して、例えば、1〜1000重量部、好ましくは10〜700重量部、さらに好ましくは50〜500重量部程度であってもよい。 The proportion of the base catalyst may be, for example, about 1 to 1000 parts by weight, preferably about 10 to 700 parts by weight, and more preferably about 50 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dibenzofluorene compound having a hydroxyl group. .
重合反応は、溶媒の非存在下で行ってもよいが、溶媒(有機溶媒など)の存在下で行ってもよい。溶媒としては、前記と同様の溶媒などを使用できる。溶媒は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 The polymerization reaction may be performed in the absence of a solvent, but may be performed in the presence of a solvent (such as an organic solvent). As the solvent, the same solvents as described above can be used. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
反応は、空気中で行ってもよいが、不活性ガス(ヘリウム、窒素、アルゴンなど)の雰囲気下又は流通下で行ってもよい。また、反応は、常圧又は加圧下で行ってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)などにより確認(又は追跡)してもよい。 The reaction may be performed in air, but may be performed in an atmosphere or flow of an inert gas (such as helium, nitrogen, argon). Moreover, you may perform reaction under a normal pressure or pressurization. The progress of the reaction may be confirmed (or traced) by high performance liquid chromatography (HPLC), gas chromatography (GC) or the like.
なお、反応終了後、生成物であるポリエーテル樹脂は、慣用の分離方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。 After completion of the reaction, the product polyether resin can be separated by a conventional separation method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination means combining these. Separation and purification are possible.
(ポリチオエーテル樹脂)
ポリチオエーテル樹脂は、例えば、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物又はその誘導体で少なくとも構成されたジメルカプト成分を重合成分とするポリチオエーテル樹脂である。このようなポリチオエーテル樹脂において、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物は、通常、前記式(1)においてEが硫黄原子でありかつpが1である化合物すなわち、下記式(a2)で表されるジベンゾフルオレン化合物であってもよい。そして、このようなポリチオエーテル樹脂は、通常、前記ジメルカプト成分と、複数のハロゲン原子を有する化合物(D)とを重合成分として得られる樹脂である。
(Polythioether resin)
The polythioether resin is, for example, a polythioether resin containing a dimercapto component having at least a dibenzofluorene compound having a mercapto group or a derivative thereof as a polymerization component. In such a polythioether resin, a dibenzofluorene compound having a mercapto group is usually a compound in which E is a sulfur atom and p is 1 in the above formula (1), that is, a dibenzo represented by the following formula (a2) It may be a fluorene compound. Such a polythioether resin is usually a resin obtained by using the dimercapto component and a compound (D) having a plurality of halogen atoms as polymerization components.
(式中、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
上記式(a2)で表される化合物としては、前記例示の2つのメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物[例えば、9,9−ビス(メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(C1−4アルキル−メルカプトフェニル)ジベンゾフルオレン、9,9−ビス(メルカプトナフチル)ジベンゾフルオレンなど]などが挙げられる。
(In the formula, Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as above.)
Examples of the compound represented by the above formula (a2) include dibenzofluorene compounds having two mercapto groups exemplified above [for example, 9,9-bis (mercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (C 1-4). Alkyl-mercaptophenyl) dibenzofluorene, 9,9-bis (mercaptonaphthyl) dibenzofluorene, etc.].
また、前記誘導体としては、複数のハロゲン原子を有する化合物(D)と反応してポリチオエーテル樹脂を形成できる限り特に限定されず、例えば、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物のメルカプト基の水素原子が、N−置換カルボニル基(例えば、N,N−ジメチルカルボニル基などのN,N−ジアルキルカルボニル基)に置換された化合物などが挙げられる。なお、ジメルカプト成分は、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物又はその誘導体で構成されていればよく、他のジメルカプト成分[ジベンゾフルオレン化合物(a2)又はその誘導体以外のジメルカプト成分、例えば、ジベンゾフルオレン化合物(a2)でないフルオレン骨格を有するジメルカプト成分(9,9−ビス(4−メルカプトフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(メルカプトフェニル)フルオレン;9,9−ビス(4−メルカプト−3−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−メルカプトフェニル)フルオレン;9,9−ビス[4−(2−メルカプトエトキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−フェニル)フルオレン;9,9−ビス[4−(2−メルカプトエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレンなどの9,9−ビス(メルカプトC2−4アルコキシ−モノ又はジC1−6アルキルフェニル)フルオレンなど]を含んでいてもよい。 The derivative is not particularly limited as long as it can react with the compound (D) having a plurality of halogen atoms to form a polythioether resin. For example, a hydrogen atom of a mercapto group of a dibenzofluorene compound having a mercapto group is Examples thereof include compounds substituted with an N-substituted carbonyl group (for example, an N, N-dialkylcarbonyl group such as an N, N-dimethylcarbonyl group). In addition, the dimercapto component should just be comprised with the dibenzofluorene compound which has a mercapto group, or its derivative (s), other dimercapto components [Dimercapto components other than the dibenzofluorene compound (a2) or its derivative (s), for example, dibenzofluorene compound (a2) ) Dimercapto component having a fluorene skeleton (9,9-bis (mercaptophenyl) fluorene such as 9,9-bis (4-mercaptophenyl) fluorene; 9,9-bis (4-mercapto-3-methylphenyl) fluorene 9,9-bis (such as mono- or di-C 1-4 alkyl - mercapto phenyl) fluorene; 9,9-bis [4- (2-mercaptoethyl) phenyl] fluorene such as 9,9-bis (mercapto C 2 -4 alkoxy - phenyl) fluorene; 9 It includes - (mono- or di-C 1-6 alkylphenyl mercapto C 2-4 alkoxy) fluorene] 9- bis [4- (2-mercapto-ethoxy) -3-methyl-phenyl] 9,9-bis fluorene May be.
ジメルカプト成分において、ジベンゾフルオレン化合物(a2)又はその誘導体の割合は、ジメルカプト成分全体に対して、例えば、30モル%以上(例えば、40〜100モル%程度)、好ましくは50モル%以上(例えば、60〜99モル%程度)、さらに好ましくは70モル%以上(例えば、80〜95モル%程度)であってもよく、通常90モル%以上(例えば、95モル%以上)であってもよい。 In the dimercapto component, the ratio of the dibenzofluorene compound (a2) or a derivative thereof is, for example, 30 mol% or more (for example, about 40 to 100 mol%), preferably 50 mol% or more (for example, for the dimercapto component). About 60 to 99 mol%), more preferably 70 mol% or more (for example, about 80 to 95 mol%), and usually 90 mol% or more (for example, 95 mol% or more).
また、複数のハロゲン原子を有する化合物(D)としては、前記ポリエーテル樹脂の項で例示した化合物と同様の化合物を使用できる。複数のハロゲン原子を有する化合物は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。また、前記ポリエーテル樹脂の場合と同様に、必要により、前記複数のハロゲン原子を有する化合物とともに、モノハロ化合物などを併用してもよい。 Moreover, as the compound (D) having a plurality of halogen atoms, the same compounds as those exemplified in the section of the polyether resin can be used. The compounds having a plurality of halogen atoms may be used alone or in combination of two or more. Further, as in the case of the polyether resin, a monohalo compound or the like may be used in combination with the compound having a plurality of halogen atoms as necessary.
ポリチオエーテル系樹脂は、前記のように、通常、前記ジメルカプト成分と、複数のハロゲン原子を有する化合物(D)とを重合成分として得られる樹脂である。すなわち、ポリチオエーテル樹脂は、通常、下記式(A3)で表されるチオエーテルユニットを有するポリチオエーテル樹脂である。 As described above, the polythioether-based resin is usually a resin obtained by using the dimercapto component and the compound (D) having a plurality of halogen atoms as polymerization components. That is, the polythioether resin is usually a polythioether resin having a thioether unit represented by the following formula (A3).
(式中、A3は複数のハロゲン原子を有する化合物(D)の残基、Z、R1、R2、R3、R4、k、l、mおよびnは前記と同じ。)
前記ポリチオエーテル樹脂は、耐熱性に優れている。例えば、ポリチオエーテル樹脂のガラス転移温度Tgは、180℃以上(例えば、180〜450℃程度)、好ましくは200〜400℃、さらに好ましくは230〜350℃程度であってもよい。
(Wherein A 3 is the residue of compound (D) having a plurality of halogen atoms, and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, l, m and n are the same as above)
The polythioether resin is excellent in heat resistance. For example, the glass transition temperature Tg of the polythioether resin may be 180 ° C. or higher (for example, about 180 to 450 ° C.), preferably 200 to 400 ° C., more preferably about 230 to 350 ° C.
ポリチオエーテル系樹脂は、前記のように、前記複数のハロゲン原子を有する化合物(D)と、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物(特にジメルカプト成分)と、必要により他のモノマーとを重合させることにより得られる。複数のハロゲン原子を有する化合物と、メルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物との割合は、ハロゲン原子を有する化合物のハロゲン原子とメルカプト基を有するジベンゾフルオレン化合物のメルカプト基との当量比をベースに適宜選択できる。 As described above, the polythioether-based resin is obtained by polymerizing the compound (D) having a plurality of halogen atoms, a dibenzofluorene compound having a mercapto group (particularly a dimercapto component), and, if necessary, another monomer. It is done. The ratio of the compound having a plurality of halogen atoms and the dibenzofluorene compound having a mercapto group can be appropriately selected based on the equivalent ratio of the halogen atom of the compound having a halogen atom and the mercapto group of the dibenzofluorene compound having a mercapto group. .
前記重合反応は、触媒の存在下で行ってもよい。前記触媒としては、塩基触媒、酸触媒などが例示でき、通常、塩基触媒を使用することが多い。塩基触媒としては、金属水酸化物(水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属酸化物など)、金属炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属炭酸水素塩など)などの無機塩基;アミン類[例えば、第3級アミン類(N,N−ジメチルアニリンなどの芳香族第3級アミン、1−メチルイミダゾールなどの複素環式第3級アミン)など]、カルボン酸金属塩(酢酸ナトリウム、酢酸カルシウムなどの酢酸アルカリ金属又はアルカリ土類金属塩など)などの有機塩基などが例示できる。これの触媒のうち、金属炭酸塩、特に、炭酸セシウムなどのアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属炭酸塩などが好ましい。触媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。 The polymerization reaction may be performed in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include a base catalyst and an acid catalyst, and usually a base catalyst is often used. Base catalysts include metal hydroxides (alkali metal oxides such as sodium hydroxide), metal carbonates (alkali metals such as sodium carbonate, cesium carbonate, calcium carbonate, or alkaline earth metal carbonates, sodium hydrogen carbonate, etc. Inorganic bases such as alkali metal or alkaline earth metal hydrogen carbonates of amines; amines [for example, tertiary amines (aromatic tertiary amines such as N, N-dimethylaniline, 1-methylimidazole, etc.] Heterocyclic tertiary amines) and the like, and organic bases such as carboxylic acid metal salts (such as alkali metal acetates or alkaline earth metal salts such as sodium acetate and calcium acetate). Of these catalysts, metal carbonates, particularly alkali metal carbonates such as cesium carbonate, alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate, and the like are preferable. You may use a catalyst individually or in combination of 2 or more types.
触媒の使用量は、触媒の種類に応じて調整でき、ジメルカプト成分1モルに対して、0〜5モルの範囲から選択でき、例えば、0.001〜4.5モル、通常、0.01〜4モル、好ましくは0.01〜3.5モル、さらに好ましくは0.05〜3モル程度であってもよい。 The usage-amount of a catalyst can be adjusted according to the kind of catalyst, can be selected from the range of 0-5 mol with respect to 1 mol of dimercapto components, For example, 0.001-4.5 mol, Usually, 0.01- It may be about 4 mol, preferably 0.01 to 3.5 mol, more preferably about 0.05 to 3 mol.
重合反応は、溶媒の非存在下で行ってもよいが、通常、溶媒の存在下で行う場合が多い。溶媒は、特に限定されず、幅広い範囲で使用できる。代表的な溶媒(有機溶媒)としては、エーテル系溶媒(ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など)、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、複素環化合物(N−メチル−2−ピロリドンなど)、スルホン系溶媒(スルホラン、ジメチルスルホンなどの脂肪族スルホン、ジフェニルスルホンなどの芳香族スルホンなど)などが挙げられる。これらの溶媒のうち、特に、N−メチル−2−ピロリドンなどの複素環化合物;スルホラン、ジフェニルスルホンなどのスルホン系溶媒などの高沸点溶媒(例えば、沸点が180℃以上(例えば、200〜500℃、好ましくは210〜450℃、さらに好ましくは220〜400℃程度)の溶媒など)が好ましい。前記溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用してもよい。 The polymerization reaction may be performed in the absence of a solvent, but is usually performed in the presence of a solvent in many cases. The solvent is not particularly limited and can be used in a wide range. Typical solvents (organic solvents) include ether solvents (dialkyl ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane), halogenated solvents (halogenated such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride). Hydrocarbons), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, etc.), heterocyclic compounds (N-methyl-2-pyrrolidone, etc.), sulfone solvents (aliphatic sulfones such as sulfolane, dimethyl sulfone, diphenyl sulfone, etc.) And aromatic sulfones). Among these solvents, in particular, heterocyclic compounds such as N-methyl-2-pyrrolidone; high-boiling solvents such as sulfolane solvents such as sulfolane and diphenylsulfone (for example, boiling point of 180 ° C. or higher (for example, 200 to 500 ° C.) The solvent is preferably 210 to 450 ° C., more preferably about 220 to 400 ° C.). You may use the said solvent individually or in combination of 2 or more types.
溶媒の使用量は、前記ジメルカプト成分及び前記複数のハロゲン原子を有する化合物(D)の総量1重量部に対して、例えば、0.1〜30重量部(例えば、0.3〜20重量部)、好ましくは0.4〜10重量部、さらに好ましくは0.5〜5重量部程度であってもよい。 The amount of the solvent used is, for example, 0.1 to 30 parts by weight (for example, 0.3 to 20 parts by weight) with respect to 1 part by weight of the total amount of the dimercapto component and the compound (D) having a plurality of halogen atoms. The amount may preferably be about 0.4 to 10 parts by weight, more preferably about 0.5 to 5 parts by weight.
重合反応は、使用する成分触媒などの種類に応じて異なるが、通常、加熱下で行うことが多く、例えば、120〜350℃、好ましくは130〜330℃、さらに好ましくは140〜300℃(例えば、180〜270℃)程度で行う場合が多い。加熱は、昇温及び/又は降温操作などを適宜利用してもよく、略一定の温度にて一段階で行ってもよく、異なる温度で複数段階の加熱を行ってもよい。なお、反応時間は、例えば、30分〜48時間、好ましくは1〜24時間、さらに好ましくは1.5〜16時間(例えば、2〜10時間)程度であってもよい。 The polymerization reaction varies depending on the type of component catalyst used and the like, but is usually carried out under heating, for example, 120 to 350 ° C., preferably 130 to 330 ° C., more preferably 140 to 300 ° C. (for example, , 180-270 ° C.). For the heating, a temperature raising and / or temperature lowering operation or the like may be used as appropriate, or may be performed in a single step at a substantially constant temperature, or a plurality of steps may be performed at different temperatures. The reaction time may be, for example, about 30 minutes to 48 hours, preferably about 1 to 24 hours, and more preferably about 1.5 to 16 hours (for example, 2 to 10 hours).
分子量分布幅が狭く、均一で高分子量のポリチオエーテル樹脂を得る場合には、複数の工程で加熱して重合を行ってもよい。複数の加熱工程では、順次加熱温度を高くする場合が多い。なお、複数段階の加熱により重合を行う場合、後続の加熱温度への移行は連続的に行ってもよく、時間的間隔を置いて行ってもよい。なお、二段階加熱による重合反応では、一段階目及び二段階目の加熱時間は、それぞれ、例えば、30分〜24時間、好ましくは1〜12時間、さらに好ましくは1.5〜6時間程度の範囲から適宜選択できる。なお、反応は、攪拌しながら行ってもよい。 When obtaining a uniform and high molecular weight polythioether resin having a narrow molecular weight distribution width, polymerization may be carried out by heating in a plurality of steps. In a plurality of heating steps, the heating temperature is often increased sequentially. In addition, when superposing | polymerizing by several steps of heating, the transition to subsequent heating temperature may be performed continuously and you may carry out at intervals. In the polymerization reaction by two-stage heating, the heating time of the first stage and the second stage is, for example, about 30 minutes to 24 hours, preferably 1 to 12 hours, and more preferably about 1.5 to 6 hours. It can be suitably selected from the range. The reaction may be performed while stirring.
反応は、空気中で行ってもよいが、不活性ガス(ヘリウム、窒素、アルゴンなど)の雰囲気下又は流通下で行ってもよい。また、反応は、常圧又は加圧下で行ってもよい。なお、反応の進行は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)などにより確認(又は追跡)してもよい。 The reaction may be performed in air, but may be performed in an atmosphere or flow of an inert gas (such as helium, nitrogen, argon). Moreover, you may perform reaction under a normal pressure or pressurization. The progress of the reaction may be confirmed (or traced) by high performance liquid chromatography (HPLC), gas chromatography (GC) or the like.
なお、反応終了後、生成物であるポリチオエーテル樹脂は、慣用の分離方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。 After completion of the reaction, the product polythioether resin can be separated by a conventional separation method such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these. Separation and purification are possible.
本発明の新規なジベンゾフルオレン化合物は、高耐熱性、高屈折率などの優れた特性を有しており、樹脂添加剤、樹脂原料などとして好適に用いることができる。また、本発明のジベンゾフルオレン化合物は、低線膨張性を有しており、樹脂などに適用しても高い寸法精度で成形できる。さらに、本発明のジベンゾフルオレン化合物は、添加剤分散性にも優れ、各種添加剤を含む成形材料としても好適である。例えば、本発明の新規なジベンゾフルオレン化合物(又はジベンゾフルオレン化合物を重合成分とする樹脂)は、カーボンなどの添加剤を効率よく分散させることができる。そのため、樹脂などに適用すると、前記のような優れた特性を有するとともに、高強度又は高硬度を有する成形体(膜やフィルムなどを含む)を効率よく得ることができる。 The novel dibenzofluorene compound of the present invention has excellent properties such as high heat resistance and a high refractive index, and can be suitably used as a resin additive, a resin raw material, and the like. Further, the dibenzofluorene compound of the present invention has low linear expansion, and can be molded with high dimensional accuracy even when applied to a resin or the like. Furthermore, the dibenzofluorene compound of the present invention is excellent in additive dispersibility and is also suitable as a molding material containing various additives. For example, the novel dibenzofluorene compound of the present invention (or a resin containing a dibenzofluorene compound as a polymerization component) can efficiently disperse an additive such as carbon. Therefore, when applied to a resin or the like, it is possible to efficiently obtain a molded body (including a film and a film) having the above-described excellent characteristics and high strength or high hardness.
そのため、本発明の新規なジベンゾフルオレン化合物(又はジベンゾフルオレン化合物を重合成分とする樹脂、例えば、ポリエステル樹脂)は、光学レンズ、光学フィルム、光学シート、ピックアップレンズ、ホログラム、液晶用フィルム、有機EL(エレクトロルミネッセンス)用フィルムなどに好適に利用できる。また、本発明のジベンゾフルオレン化合物(又はジベンゾフルオレン化合物を重合成分とする樹脂)又はその成形体(例えば、機能発現剤(色素など)を含有する樹脂組成物およびその成形体)は、塗料、帯電防止材、帯電トレイ、導電シート、保護膜(電子機器、液晶部材などの保護膜など)、光ディスク、インクジェットプリンタ、デジタルペーパ、有機半導体レーザー、感熱記録材料、ホログラム記録材料、色素増感型太陽電池、EMIシールドフィルム、フォトクロミック材料、有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子、有機感光体、カラーフィルタ、摺動部材、自動車部品材料、航空・宇宙材料、キャリア輸送剤、インキ、接着剤、粘着剤、建材、内装材、樹脂充填材、着色ガラス、発光体、センサーなどに好適に利用できる。 Therefore, the novel dibenzofluorene compound of the present invention (or a resin containing a dibenzofluorene compound as a polymerization component, such as a polyester resin) is an optical lens, an optical film, an optical sheet, a pickup lens, a hologram, a liquid crystal film, an organic EL ( It can be suitably used for an electroluminescence film. In addition, the dibenzofluorene compound of the present invention (or a resin containing a dibenzofluorene compound as a polymerization component) or a molded product thereof (for example, a resin composition containing a function manifesting agent (pigment etc.) and a molded product thereof) Preventive materials, charging trays, conductive sheets, protective films (protective films for electronic devices, liquid crystal members, etc.), optical disks, inkjet printers, digital paper, organic semiconductor lasers, thermal recording materials, hologram recording materials, dye-sensitized solar cells , EMI shield film, photochromic material, organic EL (electroluminescence) element, organic photoreceptor, color filter, sliding member, automotive parts material, aerospace material, carrier transport agent, ink, adhesive, adhesive, building material, Suitable for interior materials, resin fillers, colored glass, light emitters, sensors, etc.
特に、本発明のジベンゾフルオレン化合物(又はジベンゾフルオレン化合物を重合成分とする樹脂)は、光学的特性に優れているため、光学用途の成形体(光学用成形体)を構成(又は形成)するのに有用である。このような光学用成形体としては、光学フィルムなどが挙げられる。光学フィルムとしては、偏光フィルム(及びそれを構成する偏光素子と偏光板保護フィルム)、位相差フィルム、配向膜(配向フィルム)、視野角拡大(補償)フィルム、拡散板(フィルム)、プリズムシート、導光板、輝度向上フィルム、近赤外吸収フィルム、反射フィルム、反射防止(AR)フィルム、反射低減(LR)フィルム、アンチグレア(AG)フィルム、透明導電(ITO)フィルム、異方導電性フィルム(ACF)、電磁波遮蔽(EMI)フィルム、電極基板用フィルム、カラーフィルタ基板用フィルム、バリアフィルム、カラーフィルタ層、ブラックマトリクス層、光学フィルム同士の接着層もしくは離型層などが挙げられる。とりわけ、前記フィルムは、機器のディスプレイに用いる光学フィルムとして有用である。このような前記光学フィルムを備えたディスプレイ用部材(又はディスプレイ)としては、具体的には、パーソナル・コンピュータのモニタ、テレビジョン、携帯電話、カー・ナビゲーション、タッチパネルなどのFPD装置(例えば、LCD、PDPなど)などが挙げられる。 In particular, since the dibenzofluorene compound of the present invention (or a resin containing a dibenzofluorene compound as a polymerization component) is excellent in optical properties, it forms (or forms) a molded product (optical molded product) for optical use. Useful for. Examples of such an optical molded body include an optical film. As an optical film, a polarizing film (and a polarizing element and a polarizing plate protective film constituting it), a retardation film, an alignment film (alignment film), a viewing angle expansion (compensation) film, a diffusion plate (film), a prism sheet, Light guide plate, brightness enhancement film, near infrared absorption film, reflection film, antireflection (AR) film, reflection reduction (LR) film, antiglare (AG) film, transparent conductive (ITO) film, anisotropic conductive film (ACF) ), Electromagnetic wave shielding (EMI) film, film for electrode substrate, film for color filter substrate, barrier film, color filter layer, black matrix layer, adhesive layer or release layer between optical films. In particular, the film is useful as an optical film for use in device displays. Specifically, as a display member (or display) provided with such an optical film, an FPD device (for example, LCD, etc.) such as a monitor of a personal computer, a television, a mobile phone, a car navigation, a touch panel, etc. PDP etc.).
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
なお、実施例において、化合物又はポリマーの特性は以下の方法により測定又は評価した。 In the examples, the properties of the compound or polymer were measured or evaluated by the following methods.
(1)分子量測定
ポリマーの重量平均分子量Mwは、溶出液としてクロロホルムを用い、30℃(流速0.085mL/分)の条件で、2本の連続した線状ポリスチレンゲルカラム(Tosoh TSKgel G5000HXL、G4000HXL)を備えたJASCO Gulliverにより、ポリスチレン標準で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定した。
(1) Molecular weight measurement The weight average molecular weight Mw of the polymer was 2 continuous linear polystyrene gel columns (Tosoh TSKgel G5000H XL ) under conditions of 30 ° C. (flow rate 0.085 mL / min) using chloroform as an eluent. Measured by gel permeation chromatography (GPC) on a polystyrene standard with a JASCO Gulliver equipped with G4000H XL ).
(2)ガラス転移温度(Tg)測定
示差走査熱量計(島津製作所(株)製、「DSC−60」)を用い、50mL/分の窒素流下、10℃/分の昇温条件で測定した。
(2) Glass transition temperature (Tg) measurement Using a differential scanning calorimeter (“DSC-60”, manufactured by Shimadzu Corporation), the glass transition temperature (Tg) was measured under a nitrogen flow of 50 mL / min and a temperature rising condition of 10 ° C./min.
(3)熱重量分析(TGA)
熱重量分析(TGA)は、島津製作所(株)製、「TGA−50」装置を用いて、窒素雰囲気下(Tdpa)及び空気雰囲気(Tdpb)(流量50ml/分)中、加熱速度10℃/分で行い、熱分解温度を測定した。
(3) Thermogravimetric analysis (TGA)
Thermogravimetric analysis (TGA) was performed at a heating rate of 10 ° C. in a nitrogen atmosphere (Tdpa) and an air atmosphere (Tdpb) (flow rate 50 ml / min) using a “TGA-50” apparatus manufactured by Shimadzu Corporation. The thermal decomposition temperature was measured in minutes.
(4)FT−IRスペクトル
FT−IRスペクトルは、JASCO製、FT−IR−230分光光度計によって記録した。
(4) FT-IR spectrum The FT-IR spectrum was recorded with the FT-IR-230 spectrophotometer made from JASCO.
(5)1H−NMRスペクトル
1H−NMRスペクトルは、内標準としてテトラメチルシランを用い、溶媒としてCDCl3を用いて、JEOL GTX−400分光計によって記録した。
(5) 1 H-NMR spectrum
1 H-NMR spectra were recorded on a JEOL GTX-400 spectrometer using tetramethylsilane as internal standard and CDCl 3 as solvent.
(6)MALDI−TOF−MASS
MALDI−TOF−MSスペクトルは、Shimadzu AXIMA−CFR質量分析計によって得た。
(6) MALDI-TOF-MASS
MALDI-TOF-MS spectra were obtained with a Shimadzu AXIMA-CFR mass spectrometer.
(7)屈折率測定
ポリマーを塩化メチルに溶解させ、0.2μmのメンブランフィルタにて不溶分を除去した後、スピンコーターにて1000〜3000rpmにて良く研磨したシリコン上に薄膜を製膜した後に、光学式薄膜測定装置F20(フィルメトリクス社製)にてλ=589nmおよびλ=632.4nmにおける屈折率を測定した。
(7) Refractive Index Measurement After dissolving the polymer in methyl chloride and removing insoluble matter with a 0.2 μm membrane filter, after forming a thin film on silicon well polished at 1000 to 3000 rpm with a spin coater The refractive indexes at λ = 589 nm and λ = 632.4 nm were measured with an optical thin film measuring apparatus F20 (manufactured by Filmetrics).
(合成例)
(1)ベンズ[f]インダン−1−オンの合成
α,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレン30.0g(0.0710mol)および2−シクロペンテン−1−オン5.83g(0.0710mol)を、270mLのDMF(ジメチルホルムアミド)に溶解させた。さらに、ヨウ化ナトリウム(69.7g、0.465mol)を添加し、得られた混合物を80℃まで加熱して一晩攪拌して反応させた。冷却した反応混合物を、氷水(500mL)に注ぎ、そして亜硫酸水素ナトリウム水溶液を徐々に添加することによってヨウ素に起因する褐色を除去した。ろ過によって、黄色沈殿を得、この沈殿物を95%エタノールから再結晶して、ベンズ[f]インダン−1−オンを収率35%で得た。融点は、144〜146℃であった。
(Synthesis example)
(1) Synthesis of benz [f] indan-1-one α, α, α ′, α′-tetrabromo-o-xylene 30.0 g (0.0710 mol) and 2-cyclopenten-1-one 5.83 g (0 0.0710 mol) was dissolved in 270 mL of DMF (dimethylformamide). Further, sodium iodide (69.7 g, 0.465 mol) was added, and the resulting mixture was heated to 80 ° C. and stirred overnight to react. The cooled reaction mixture was poured into ice water (500 mL) and the brown color due to iodine was removed by the slow addition of aqueous sodium bisulfite. Filtration gave a yellow precipitate that was recrystallized from 95% ethanol to give benz [f] indan-1-one in 35% yield. The melting point was 144-146 ° C.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ:2.79−2.82(t,2H),3.31−3.34(t,2H),7.48−8.33(m,6H)
反応式を下記に示す。
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ: 2.79-2.82 (t, 2H), 3.31-3.34 (t, 2H), 7.48-8.33 (m, 6H)
The reaction formula is shown below.
(2)2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレノンの合成
得られたベンズ[f]インダン−1−オン8.08g(0.0444mol)、NBS(N−ブロモスクシンイミド)8.68g(0.0596mol)、および過酸化ベンゾイル40mgを、120mLの乾燥CCl4中で2時間還流させた。還流後の溶液を冷却し、ろ過によってNBSを除去し、得られた粗生成物を次の工程に直接使用した。CCl4中の粗臭化生成物を氷浴にて冷却し、次いで7.72mL(5.64g、0.056mol)のトリエチルアミン(Et3N)をゆっくり添加した。得られた混合物を室温まで戻し、一晩攪拌した。その後、得られた沈澱を取り出し、減圧乾燥した。得られた乾燥物(ベンズ[f]インデン−1−オン)を、さらに精製することなく使用した。
(2) Synthesis of 2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorenone The resulting benz [f] indan-1-one 8.08 g (0.0444 mol), NBS (N-bromosuccinimide) 8.68 g ( 0.0596 mol), and 40 mg of benzoyl peroxide were refluxed in 120 mL of dry CCl 4 for 2 hours. The solution after reflux was cooled, NBS was removed by filtration, and the resulting crude product was used directly in the next step. The crude bromide product in CCl 4 was cooled in an ice bath and then 7.72 mL (5.64 g, 0.056 mol) triethylamine (Et 3 N) was added slowly. The resulting mixture was allowed to warm to room temperature and stirred overnight. Thereafter, the resulting precipitate was taken out and dried under reduced pressure. The resulting dried product (benz [f] inden-1-one) was used without further purification.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ:6.11−6.14(d,2H)、7.30−7.95(m,6H)
反応式を以下に示す。
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ: 6.11-6.14 (d, 2H), 7.30-7.95 (m, 6H)
The reaction formula is shown below.
そして、α,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレン18.72g(44.4mmol)および得られたベンズ[f]インデン−1−オン8.0g(44.4mmol)を350mLのDMFに溶解させた。ヨウ化ナトリウム43.6g(290.8mmol)を添加し、得られた混合物を80℃で一晩攪拌して反応させた。氷水中でこの反応を止め、亜硫酸水素ナトリウムで脱色した。得られた黄色沈澱をろ過し、氷酢酸から再結晶、次いでキシレンから再結晶し、昇華して淡黄色針状の2,3:6,7−ジベンゾフルオレノンを48%の収率で得た。融点は、270〜273℃であった。 Then, α, α, α ′, α′-tetrabromo-o-xylene 18.72 g (44.4 mmol) and the obtained benz [f] inden-1-one 8.0 g (44.4 mmol) were added to 350 mL of DMF. Dissolved in. 43.6 g (290.8 mmol) of sodium iodide was added, and the resulting mixture was reacted at 80 ° C. with stirring overnight. The reaction was stopped in ice water and decolorized with sodium bisulfite. The resulting yellow precipitate was filtered, recrystallized from glacial acetic acid, then recrystallized from xylene, and sublimated to give pale yellow needle-like 2,3: 6,7-dibenzofluorenone in 48% yield. The melting point was 270-273 ° C.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ:7.45−7.58(m,4H)、7.85−7.91(t,4H)、8.07(s,2H)、8.25(s,2H)
IR:1706.2cm−3
MALDI−TOF−MASS:280(M+)。
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.45-7.58 (m, 4H), 7.85-7.91 (t, 4H), 8.07 (s, 2H), 8.25 (S, 2H)
IR: 1706.2cm < -3 >
MALDI-TOF-MASS: 280 (M <+> ).
反応式を以下に示す。 The reaction formula is shown below.
(実施例1)
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレンの合成
攪拌機および還流冷却管を備えた150mLの丸底フラスコに、合成例で得た2,3:6,7−ジベンゾフルオレノン5.0g(0.017mol)を、溶融したフェノール7.2g(0.076mol)と共に充填した。30mLのCH2Cl2を加え、攪拌して溶解させた。次いで、0.15mLの3−メルカプトプロピオン酸および1.5mLのメタンスルホン酸をフラスコに添加した。50℃まで加熱し、8時間反応させた。室温まで冷却した後、反応混合物をろ過し、CH2Cl2で、次いで温水で洗浄した。洗浄後、得られた固体を回収し、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレンを65%の収率で得た。融点は、299〜301℃であった。
Example 1
Synthesis of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene In a 150 mL round bottom flask equipped with a stirrer and a reflux condenser, 2,3 obtained in the synthesis example : 5.0 g (0.017 mol) of 6,7-dibenzofluorenone was charged together with 7.2 g (0.076 mol) of molten phenol. 30 mL of CH 2 Cl 2 was added and dissolved by stirring. Then 0.15 mL of 3-mercaptopropionic acid and 1.5 mL of methanesulfonic acid were added to the flask. The mixture was heated to 50 ° C. and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered and washed with CH 2 Cl 2 and then warm water. After washing, the obtained solid was recovered, and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene was obtained in a yield of 65%. The melting point was 299-301 ° C.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ:6.64(d,J=8,4H)、7.07(d,J=8,4H)、7.34−7.42(m,4H)、7.73(d,J=8,2H)、7.76(s,2H)、7.91(d,J=8,2H)、8.37(s,2H)。 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ: 6.64 (d, J = 8, 4H), 7.07 (d, J = 8, 4H), 7.34-7.42 (m, 4H) 7.73 (d, J = 8, 2H), 7.76 (s, 2H), 7.91 (d, J = 8, 2H), 8.37 (s, 2H).
MALDI−TOF−MASS:451.7(M+)。 MALDI-TOF-MASS: 451.7 (M <+> ).
反応式を以下に示す。 The reaction formula is shown below.
(実施例2)
実施例1において、フェノール7.2g(0.076mol)に代えて、2−ナフトール10.9g(0.076mol)を使用したこと以外は、実施例1と同様に反応および回収し、9,9−ビス[6−(2−ヒドロキシナフチル)]−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレンを59%の収率で得た。融点は、315〜319℃であった。
(Example 2)
In Example 1, it reacted and collect | recovered similarly to Example 1 except having replaced with phenol 7.2g (0.076 mol), and having used 2-naphthol 10.9g (0.076 mol). -Bis [6- (2-hydroxynaphthyl)]-2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene was obtained in 59% yield. The melting point was 315 to 319 ° C.
MALDI−TOF−MASS:553.4(M+)
反応式を以下に示す。
MALDI-TOF-MASS: 553.4 (M + )
The reaction formula is shown below.
(実施例3)
ポリエステルの合成1
実施例1で得られた9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレン0.5631g(1.2mmol)および4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)[又はジ(4−クロロカルボニルフェニル)エーテル]0.3689g(1.2mmol)を、3mLのジフェニルエーテルに溶解させた混合物を、マグネチックスターラーおよび乾燥管を備えた100mlの2口丸底フラスコ中で、アルゴン流下にて、200℃で2時間加熱攪拌した。次いで、この反応混合物を400mLのメタノールに注ぎ、白色沈殿をろ過により回収し、ジフェニルエーテルを除去するためにメタノールおよび水で数回洗浄した。得られた粗ポリマーを、クロロホルム溶液からメタノール中に再沈殿することによって精製した。得られた沈殿をろ過し、メタノールで洗浄し、そして80℃、減圧下で24時間乾燥し、目的物(ポリエステル)を95%の収率で得た。得られたポリエステルの重量平均分子量は4.0×104、Tgは266.5℃、Tdpaは522.9℃、Tdpbは502.3℃であった。
(Example 3)
Polyester synthesis 1
0.5631 g (1.2 mmol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene obtained in Example 1 and 4,4′-oxybis (benzoyl chloride) ) [Or di (4-chlorocarbonylphenyl) ether] 0.3689 g (1.2 mmol) dissolved in 3 mL of diphenyl ether in a 100 ml 2-neck round bottom flask equipped with a magnetic stirrer and drying tube. The mixture was heated and stirred at 200 ° C. for 2 hours under an argon flow. The reaction mixture was then poured into 400 mL of methanol and the white precipitate was collected by filtration and washed several times with methanol and water to remove diphenyl ether. The resulting crude polymer was purified by reprecipitation from chloroform solution into methanol. The resulting precipitate was filtered, washed with methanol, and dried at 80 ° C. under reduced pressure for 24 hours to obtain the desired product (polyester) in a yield of 95%. The weight average molecular weight of the obtained polyester was 4.0 × 10 4 , Tg was 266.5 ° C., Tdpa was 522.9 ° C., and Tdpb was 502.3 ° C.
(実施例4)
ポリエステルの合成2
実施例3において、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)0.3689gに代えて、2,7−ジ(クロロカルボニル)−9,9−ジメチルフルオレンを0.383g(1.2mmol)使用したこと以外は、実施例3と同様にしてポリエステルを収率96%で得た。得られたポリエステルの重量平均分子量は13.1×104、Tgは298.1℃、Tdpaは506.1℃、Tdpbは482.7℃であった。
Example 4
Polyester synthesis 2
In Example 3, 0.383 g (1.2 mmol) of 2,7-di (chlorocarbonyl) -9,9-dimethylfluorene was used instead of 0.3689 g of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride). Except for the above, polyester was obtained in the same manner as in Example 3 with a yield of 96%. The weight average molecular weight of the obtained polyester was 13.1 × 10 4 , Tg was 298.1 ° C., Tdpa was 506.1 ° C., and Tdpb was 482.7 ° C.
(実施例5)
ポリエステルの合成3
実施例3において、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)0.3689gに代えて、2,2−ジ(4−クロロカルボニルフェニル)ヘキサフルオロプロパンを0.515g(1.2mmol)使用したこと以外は、実施例3と同様にしてポリエステルを収率93%で得た。得られたポリエステルの重量平均分子量は4.0×104、Tgは355.9℃、Tdpaは540.7℃、Tdpbは502.1℃であった。
(Example 5)
Polyester synthesis 3
In Example 3, instead of 0.3689 g of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride), 0.515 g (1.2 mmol) of 2,2-di (4-chlorocarbonylphenyl) hexafluoropropane was used. Obtained a polyester in a yield of 93% in the same manner as in Example 3. The weight average molecular weight of the obtained polyester was 4.0 × 10 4 , Tg was 355.9 ° C., Tdpa was 540.7 ° C., and Tdpb was 502.1 ° C.
(実施例6)
ポリエステルの合成4
実施例3において、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)0.3689gに代えて、2,7−ジ(クロロカルボニル)−9,9−ジn−オクチルフルオレンを0.618g(1.2mmol)使用したこと以外は、実施例3と同様にしてポリエステルを収率95%で得た。得られたポリエステルの重量平均分子量は42.9×104、Tgは216.3℃、Tdpaは430.7℃、Tdpbは368.3℃であった。
(Example 6)
Polyester synthesis 4
In Example 3, instead of 0.3689 g of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride), 0.618 g (1.2 mmol) of 2,7-di (chlorocarbonyl) -9,9-di n-octylfluorene was used. A polyester was obtained in a yield of 95% in the same manner as in Example 3 except that it was used. The weight average molecular weight of the obtained polyester was 42.9 × 10 4 , Tg was 216.3 ° C., Tdpa was 430.7 ° C., and Tdpb was 368.3 ° C.
(実施例7)
ポリエステルの合成5
実施例3において、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)0.3689gに代えて、1,3−ジ(クロロカルボニル)ベンゼン(イソフタル酸ジクロライド)を0.243g(1.2mmol)使用したこと以外は、実施例3と同様にしてポリエステルを収率98%で得た。得られたポリエステルの重量平均分子量は7.7×104、Tgは348.4℃、Tdpaは535.9℃、Tdpbは507.6℃であった。
(Example 7)
Polyester synthesis 5
In Example 3, instead of using 0.3489 g of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride), 0.243 g (1.2 mmol) of 1,3-di (chlorocarbonyl) benzene (isophthalic acid dichloride) was used. Produced a polyester in a yield of 98% in the same manner as in Example 3. The weight average molecular weight of the obtained polyester was 7.7 × 10 4 , Tg was 348.4 ° C., Tdpa was 535.9 ° C., and Tdpb was 507.6 ° C.
(実施例8)
ポリエーテルの合成1
アルゴン雰囲気下、実施例1で得られた9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレン0.6757g(1.5mmol)、炭酸カリウム0.4146g(3.0mmol)、および4mLのDMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)の混合物を、140℃で2時間攪拌して反応させた。その後、冷却した反応混合物に、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.3873g(1.5mmol)を添加し、非常に粘稠な溶液となるまで4〜6時間かけて、170℃まで徐々に加温した。そして、反応混合物を室温まで放冷したのち、さらに、DMAcを添加して希釈し、濾過により無機塩を除去した。次いで、無機塩を除去した後の反応混合物を、ゆっくりと300mLのメタノール中に注いだ。そして、沈殿物を水およびメタノールで洗浄した。洗浄後、回収したポリマーを100℃で24時間、減圧下で乾燥し、目的物(ポリエーテル)を収率93%で得た。得られたポリエーテルの重量平均分子量は56500、Tgは301.6℃、Tdpaは532.1℃、Tdpbは552℃、λ=589nmにおける屈折率は1.6921、λ=632.4nmにおける屈折率は1.6831であった。
(Example 8)
Synthesis of polyether 1
Under an argon atmosphere, 0.6757 g (1.5 mmol) of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene obtained in Example 1 and 0.4146 g of potassium carbonate (3.0 mmol) and a mixture of 4 mL of DMAc (N, N-dimethylacetamide) were reacted by stirring at 140 ° C. for 2 hours. Thereafter, 0.3873 g (1.5 mmol) of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole is added to the cooled reaction mixture until a very viscous solution is obtained. The temperature was gradually increased to 170 ° C. over 4 to 6 hours. The reaction mixture was allowed to cool to room temperature, further diluted with DMAc, and the inorganic salt was removed by filtration. The reaction mixture after removing the inorganic salt was then slowly poured into 300 mL of methanol. The precipitate was washed with water and methanol. After washing, the recovered polymer was dried under reduced pressure at 100 ° C. for 24 hours to obtain the desired product (polyether) in a yield of 93%. The obtained polyether had a weight average molecular weight of 56,500, Tg of 301.6 ° C., Tdpa of 532.1 ° C., Tdpb of 552 ° C., a refractive index at λ = 589 nm of 1.6921 and a refractive index at λ = 632.4 nm. Was 1.6831.
(実施例9)
ポリエーテルの合成2
実施例8において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.3873gに代えて、5−t−ブチル−1,3−ビス(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンを0.567g(1.5mmol)使用したこと以外は、実施例8と同様にしてポリエーテルを収率90%で得た。得られたポリエーテルの重量平均分子量は53500、Tgは258.6℃、Tdpaは550.6℃、Tdpbは564℃、λ=589nmにおける屈折率は1.6693、λ=632.4nmにおける屈折率は1.6611であった。
Example 9
Synthesis of polyether 2
In Example 8, instead of 0.3873 g of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 5-t-butyl-1,3-bis (4-fluorobenzoyl) A polyether was obtained in a yield of 90% in the same manner as in Example 8 except that 0.567 g (1.5 mmol) of benzene was used. The obtained polyether had a weight average molecular weight of 53,500, Tg of 258.6 ° C., Tdpa of 550.6 ° C., Tdpb of 564 ° C., refractive index at λ = 589 nm of 1.6693, refractive index at λ = 632.4 nm Was 1.6611.
(実施例10)
ポリエーテルの合成3
実施例8において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.3873gに代えて、1,4−ビス(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンを0.483g(1.5mmol)使用したこと以外は、実施例8と同様にしてポリエーテルを収率95%で得た。得られたポリエーテルの重量平均分子量は76600、Tgは271.5℃、Tdpaは533.8℃、Tdpbは536℃、λ=589nmにおける屈折率は1.6881、λ=632.4nmにおける屈折率は1.6737であった。
(Example 10)
Synthesis of polyether 3
In Example 8, instead of 0.3873 g of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 0.483 g of 1,4-bis (4-fluorobenzoyl) benzene ( 1.5 mmol) A polyether was obtained in a yield of 95% in the same manner as in Example 8 except that it was used. The weight average molecular weight of the obtained polyether was 76600, Tg was 271.5 ° C., Tdpa was 533.8 ° C., Tdpb was 536 ° C., the refractive index at λ = 589 nm was 1.6881, and the refractive index at λ = 632.4 nm. Was 1.6737.
(実施例11)
ポリエーテルの合成4
実施例8において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.3873gに代えて、4,4'−ビス(4−フルオロベンゾイル)ジフェニルエーテルを0.621g(1.5mmol)使用したこと以外は、実施例8と同様にしてポリエーテルを収率98%で得た。得られたポリエーテルの重量平均分子量は50000、Tgは254.9℃、Tdpaは580.1℃、Tdpbは580℃であった。
(Example 11)
Synthesis of polyether 4
In Example 8, instead of 0.3873 g of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 0.621 g of 4,4′-bis (4-fluorobenzoyl) diphenyl ether was used. (1.5 mmol) A polyether was obtained in a yield of 98% in the same manner as in Example 8 except that it was used. The obtained polyether had a weight average molecular weight of 50,000, Tg of 254.9 ° C., Tdpa of 580.1 ° C., and Tdpb of 580 ° C.
(実施例12)
ポリエーテルの合成5
実施例8において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.3873gに代えて、ジ(4−フルオロフェニル)スルホンを0.381g(1.5mmol)使用したこと以外は、実施例8と同様にしてポリエーテルを収率96%で得た。得られたポリエーテルの重量平均分子量は58700、Tdpaは570.0℃、Tdpbは522℃、λ=589nmにおける屈折率は1.6617、λ=632.4nmにおける屈折率は1.6917であった。
(Example 12)
Synthesis of polyether 5
In Example 8, instead of 0.3873 g of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 0.381 g (1.5 mmol) of di (4-fluorophenyl) sulfone was used. A polyether was obtained in a yield of 96% in the same manner as in Example 8 except that it was used. The weight average molecular weight of the obtained polyether was 58700, Tdpa was 570.0 ° C., Tdpb was 522 ° C., the refractive index at λ = 589 nm was 1.6617, and the refractive index at λ = 632.4 nm was 1.6917. .
(実施例13)
(1)ビス(N,N−ジメチル−O−チオカーバメート)の合成
水酸化カリウム1.68g(30.0mmol)を含む冷却メタノール50mLに、実施例1で得られた9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレンを6.53g(14.4mmol)添加し、0℃で1時間攪拌した。その後、N,N−ジメチルチオカルバモイルクロライド3.70g(30.0mmol)を添加し、60℃まで昇温し、この温度でさらに4時間攪拌し続けた。そして、濾過により白色の沈殿物を回収し、この沈殿物を冷却メタノール水溶液(メタノール/水=1/1(体積比))で洗浄した。さらに、白色沈殿物を、メタノールとクロロホルムの混合溶媒で再結晶し、白色結晶(ビス(N,N−ジメチル−O−チオカーバメート)、下記化合物)を収率90%(8.1g)で得た。なお、結晶の融点は269〜271℃であった。
(Example 13)
(1) Synthesis of bis (N, N-dimethyl-O-thiocarbamate) 9,9-bis (4) obtained in Example 1 was added to 50 mL of cooled methanol containing 1.68 g (30.0 mmol) of potassium hydroxide. -Hydroxyphenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene (6.53 g, 14.4 mmol) was added, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour. Thereafter, 3.70 g (30.0 mmol) of N, N-dimethylthiocarbamoyl chloride was added, the temperature was raised to 60 ° C., and stirring was continued at this temperature for another 4 hours. And white precipitate was collect | recovered by filtration and this precipitate was wash | cleaned by the cooling methanol aqueous solution (Methanol / water = 1/1 (volume ratio)). Further, the white precipitate was recrystallized with a mixed solvent of methanol and chloroform to obtain white crystals (bis (N, N-dimethyl-O-thiocarbamate), the following compound) in a yield of 90% (8.1 g). It was. The melting point of the crystals was 269 to 271 ° C.
1H−NMR(CDCl3)δ:3.23(s,6H),3.39(s,6H),6.94(d,J=8.8,4H),7.35(d,J=8.8,4H),7.40−7.47(m,4H),7.77(d,J=8,2H),7.85(s,2H),7.93(d,J=8,2H),8.37(s,2H)
MALDI−TOF−MS:625.7(M+)
反応式を以下に示す。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 3.23 (s, 6H), 3.39 (s, 6H), 6.94 (d, J = 8.8, 4H), 7.35 (d, J = 8.8, 4H), 7.40-7.47 (m, 4H), 7.77 (d, J = 8, 2H), 7.85 (s, 2H), 7.93 (d, J = 8, 2H), 8.37 (s, 2H)
MALDI-TOF-MS: 625.7 (M + )
The reaction formula is shown below.
(2)ビス(N,N−ジメチル−S−カーバメート)の合成
次に、得られた白色結晶6.0g(9.6mmol)およびジフェニルエーテル5mLの混合物を窒素注入口を備えた丸底フラスコに入れ、260℃で2時間加熱を続けた。室温に冷却した後、エーテル100mLを添加し、沈殿物を得た。濾過により白色の沈殿物を回収し、冷却したメタノール水溶液(メタノール/水(体積比)=1:1)で洗浄した。さらに、白色沈殿物を、メタノールとクロロホルムの混合溶媒で再結晶し、白色結晶(ビス(N,N−ジメチル−S−カーバメート)、下記化合物)を収率80%(4.7g)で得た。なお、結晶の融点は352〜354℃であった。
(2) Synthesis of bis (N, N-dimethyl-S-carbamate) Next, a mixture of 6.0 g (9.6 mmol) of the obtained white crystals and 5 mL of diphenyl ether was put in a round bottom flask equipped with a nitrogen inlet. And continued heating at 260 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, 100 mL of ether was added to obtain a precipitate. A white precipitate was collected by filtration and washed with a cooled aqueous methanol solution (methanol / water (volume ratio) = 1: 1). Further, the white precipitate was recrystallized with a mixed solvent of methanol and chloroform to obtain white crystals (bis (N, N-dimethyl-S-carbamate), the following compound) in a yield of 80% (4.7 g). . The melting point of the crystals was 352 to 354 ° C.
1H−NMR(CDCl3)δ:2.93(s,br,12H),7.27−7.41(m,12H),7.67(d,J=6.9,2H),7.73(s,2H),7.86(d,J=6.9,2H),8.28(s,2H)
反応式を以下に示す。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.93 (s, br, 12H), 7.27-7.41 (m, 12H), 7.67 (d, J = 6.9, 2H), 7 .73 (s, 2H), 7.86 (d, J = 6.9, 2H), 8.28 (s, 2H)
The reaction formula is shown below.
(3)9,9−ビス(4−メルカプトフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレンの合成
さらに、得られた白色結晶5.0g(8.0mmol)および水酸化カリウム4.48g(80.0mmol)を、冷却器およびアルゴンガス注入口を備えた50mLの三口フラスコに入れ、メタノール20mLを添加した。そして、アルゴン雰囲気下で、混合物を水酸化カリウムが完全に溶解するまで室温で攪拌し、その後、昇温して還流させた。さらに、フラスコに蒸留ピリジン10mLを添加し、8時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、溶液を濾過した。そして、濾過物を蒸留水300mLで希釈し、5%塩酸で酸性化した。生成した白色沈殿物を濾過により回収し、エタノールからの2回の再結晶により精製し、白色結晶(9,9−ビス(4−メルカプトフェニル)−2,3:6,7−ジベンゾ−9−フルオレン、下記化合物)を収率95%(3.7g)で得た。なお、結晶の融点は281〜283℃であった。
(3) Synthesis of 9,9-bis (4-mercaptophenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9-fluorene Further, 5.0 g (8.0 mmol) of the obtained white crystals and potassium hydroxide 4 .48 g (80.0 mmol) was placed in a 50 mL three-necked flask equipped with a condenser and an argon gas inlet, and 20 mL of methanol was added. And under argon atmosphere, the mixture was stirred at room temperature until potassium hydroxide was completely dissolved, and then heated to reflux. Further, 10 mL of distilled pyridine was added to the flask and stirred for 8 hours. Then, it cooled to room temperature and filtered the solution. The filtrate was diluted with 300 mL of distilled water and acidified with 5% hydrochloric acid. The resulting white precipitate was collected by filtration, purified by two recrystallizations from ethanol, and white crystals (9,9-bis (4-mercaptophenyl) -2,3: 6,7-dibenzo-9- Fluorene, the following compound) was obtained in a yield of 95% (3.7 g). The melting point of the crystals was 281 to 283 ° C.
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ:3.35(s,2H),7.11−7.24(m,8H),7.40−7.48(m,4H),7.74−7.76(m,4H),7.93(d,J=8,2H),8.34(s,2H)
MALDI−TOF−MASS:485.3(M+)
反応式を以下に示す。
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ: 3.35 (s, 2H), 7.11-7.24 (m, 8H), 7.40-7.48 (m, 4H), 7.74 −7.76 (m, 4H), 7.93 (d, J = 8, 2H), 8.34 (s, 2H)
MALDI-TOF-MASS: 485.3 (M + )
The reaction formula is shown below.
(実施例14)
ポリチオエーテルの合成1
実施例13で得られたビス(N,N−ジメチル−S−カーバメート)0.847g(0.300mmol)、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサゾール0.077g(0.300mmol)、炭酸セシウム0.048g(0.150mmol)、炭酸カルシウム0.09g(0.900mmol)、及びジフェニルスルホン0.9gをアルゴン流通下で30mLの二口丸底フラスコに仕込んだ。この混合液を200℃まで加温し、この温度で2時間保持した。その後、さらに、240℃まで昇温し、この温度で2時間保持した。得られた混合液を冷却し、酢酸0.5mLでクエンチしたのち、メタノールに注ぎ、白色粉状ポリマーの沈殿物を得た。沈殿物を濾過により回収し、メタノールで洗浄した。得られた粗ポリマーを、メタノール中で、クロロホルム溶液からの再沈殿により精製した。そして、濾過により回収したポリマーを、90℃で一晩中乾燥し、目的物(ポリチオエーテル)を収率90%以上で得た。得られたポリチオエーテルの重量平均分子量は33600、Tgは320.8℃、Tdpaは546.4℃、Tdpbは549℃であった。
(Example 14)
Synthesis of polythioether 1
0.847 g (0.300 mmol) of bis (N, N-dimethyl-S-carbamate) obtained in Example 13 and 0.077 g of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxazole (0.300 mmol), 0.048 g (0.150 mmol) of cesium carbonate, 0.09 g (0.900 mmol) of calcium carbonate, and 0.9 g of diphenylsulfone were charged into a 30 mL two-necked round bottom flask under argon flow. The mixture was warmed to 200 ° C. and held at this temperature for 2 hours. Thereafter, the temperature was further raised to 240 ° C. and kept at this temperature for 2 hours. The obtained mixed liquid was cooled and quenched with 0.5 mL of acetic acid, and then poured into methanol to obtain a white powdery polymer precipitate. The precipitate was collected by filtration and washed with methanol. The resulting crude polymer was purified by reprecipitation from a chloroform solution in methanol. And the polymer collect | recovered by filtration was dried at 90 degreeC overnight, and the target object (polythioether) was obtained with 90% or more of yield. The weight average molecular weight of the obtained polythioether was 33600, Tg was 320.8 ° C., Tdpa was 546.4 ° C., and Tdpb was 549 ° C.
(実施例15)
ポリチオエーテルの合成2
実施例14において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.077g(0.300mmol)に代えて、5−t−ブチル−1,3−ビス(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンを0.114g(0.300mmol)使用したこと以外は、実施例14と同様にしてポリチオエーテルを収率93%で得た。得られたポリチオエーテルの重量平均分子量は47000、Tgは247.5℃、Tdpaは513℃、Tdpbは526℃であった。
(Example 15)
Synthesis of polythioether 2
In Example 14, instead of 0.077 g (0.300 mmol) of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 5-t-butyl-1,3-bis ( A polythioether was obtained in a yield of 93% in the same manner as in Example 14 except that 0.114 g (0.300 mmol) of 4-fluorobenzoyl) benzene was used. The obtained polythioether had a weight average molecular weight of 47,000, Tg of 247.5 ° C., Tdpa of 513 ° C., and Tdpb of 526 ° C.
(実施例16)
ポリチオエーテルの合成3
実施例14において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.077g(0.300mmol)に代えて、1,4−ビス(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンを0.097g(0.300mmol)使用したこと以外は、実施例14と同様にしてポリチオエーテルを収率96%で得た。得られたポリチオエーテルの重量平均分子量は48300、Tgは262.2℃、Tdpaは560℃、Tdpbは572℃であった。
(Example 16)
Synthesis of polythioether 3
In Example 14, instead of 0.077 g (0.300 mmol) of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,4-bis (4-fluorobenzoyl) benzene Was obtained in the same manner as in Example 14 except that 0.097 g (0.300 mmol) was used. The weight average molecular weight of the obtained polythioether was 48300, Tg was 262.2 ° C., Tdpa was 560 ° C., and Tdpb was 572 ° C.
(実施例17)
ポリチオエーテルの合成4
実施例14において、2,5−ビス(4−フルオロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール0.077g(0.300mmol)に代えて、4,4'−ビス(4−フルオロベンゾイル)ジフェニルエーテルを0.124g(0.300mmol)使用したこと以外は、実施例14と同様にしてポリチオエーテルを収率93%で得た。得られたポリチオエーテルの重量平均分子量は62000、Tgは249.0℃、Tdpaは560.0℃、Tdpbは567℃であった。
(Example 17)
Synthesis of polythioether 4
In Example 14, instead of 0.077 g (0.300 mmol) of 2,5-bis (4-fluorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 4,4′-bis (4-fluorobenzoyl) A polythioether was obtained in a yield of 93% in the same manner as in Example 14 except that 0.124 g (0.300 mmol) of diphenyl ether was used. The obtained polythioether had a weight average molecular weight of 62,000, Tg of 249.0 ° C., Tdpa of 560.0 ° C., and Tdpb of 567 ° C.
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