JP5172901B2 - Transfer material set and transfer method using the transfer material set - Google Patents

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Description

本発明は複数の転写材よりなる転写材セット及びこの転写材セットを用いた転写方法に関する発明であって、具体的には、表面に微細な凹凸を有する面に転写するに際して、容易に転写層が剥離離脱しないように微細凹凸面に対して確実に嵌入しこれに密着することを容易に可能とする転写材セット及びこれを用いた転写方法に関する。   The present invention relates to a transfer material set composed of a plurality of transfer materials and a transfer method using the transfer material set. Specifically, when transferring to a surface having fine irregularities on the surface, a transfer layer is easily formed. The present invention relates to a transfer material set and a transfer method using the transfer material set that can be easily fitted into and closely attached to a fine uneven surface so as not to peel off.

近年、急速に各種電子機器が発展するのに伴い、それらの電子機器から発せられる電磁波が身体に対し何らかの障害を引き起こすのではないか、と問題視される傾向が増えている。そこでその対応策として電磁波シールドフィルムが開発され、また提案されている。   In recent years, with the rapid development of various electronic devices, there is an increasing tendency that electromagnetic waves emitted from these electronic devices may cause some damage to the body. Therefore, an electromagnetic shielding film has been developed and proposed as a countermeasure.

電磁波シールドフィルムの構成を簡単に説明すると、基材となるプラスチックフィルムの表面に、例えばメッキ等の手法により金属層をメッシュ状に積層した構成を有しているがここで金属層としては例えば銅などの導電性金属が広く用いられている。なお、メッシュ状とは、具体的には平面視で「田」の字状に金属層の筋が直交しており、また断面視で金属層による筋の部分が凸状となっている状態を指すものであり、また金属層による筋の間隔は略均等であるもの、を指すものであり、ここではそのような状態を想定して説明する。   The configuration of the electromagnetic wave shielding film will be briefly described. The metal layer has a configuration in which a metal layer is laminated in a mesh shape by a technique such as plating on the surface of a plastic film as a base material. Conductive metals such as are widely used. Note that the mesh shape specifically refers to a state in which the stripes of the metal layer are orthogonal to the shape of a “field” in a plan view and the stripes of the metal layer are convex in a sectional view. In addition, this indicates that the distance between the streaks of the metal layer is substantially equal, and here, description will be made assuming such a state.

電磁波シールドフィルムには、例えば昨今普及しているプラズマテレビの前面板に貼着することで、そこから生じる有害な電磁波を防御する、といった利用がなされている。またその外にも、例えばガラスの透視性をコントロールして室内が外から見えにくくするようにするために用いたり、暑い日射や熱の流入を遮るために用いたりすることも可能であり、さらにはガラスに貼着することでガラスが破損したときの破片飛散を防止する、ということにも用いられたりする。   The electromagnetic shielding film is used, for example, to protect against harmful electromagnetic waves generated by sticking it to a front panel of a plasma television that has recently become widespread. In addition, for example, it can be used to control the transparency of the glass so that the room is difficult to see from the outside, or it can be used to block hot sunlight and inflow of heat. Is also used to prevent debris scattering when the glass breaks by sticking to the glass.

このように、今や電磁波シールドフィルムはガラス面等の透明な面に対して貼着することで広く用いられる物品となっていると言っても過言ではない。   Thus, it is no exaggeration to say that the electromagnetic wave shielding film is now an article that is widely used by sticking to a transparent surface such as a glass surface.

しかしこのような利用をされるに伴い、電磁波シールドフィルムに特定な機能を付与することが望まれるようになってきた。   However, with such use, it has been desired to give a specific function to the electromagnetic wave shielding film.

例えば、電磁波シールドフィルムを窓に貼着することで、貼着後は効果的に電磁波を遮蔽できていたものの、電磁波シールドフィルムに傷が生じたり、また物品や人体などが接触することにより、電磁波を遮蔽する由来である金属層が剥離、脱落してしまい、時間が経過するにともない電磁波の遮蔽効果が低下する、という現象が生じる事がある。   For example, by attaching an electromagnetic wave shielding film to a window, the electromagnetic wave can be effectively shielded after being attached, but the electromagnetic wave shielding film is scratched or an article or a human body comes into contact with the electromagnetic wave. The metal layer, which is the origin of shielding, peels off and falls off, and the phenomenon that the shielding effect of electromagnetic waves decreases with time may occur.

このような現象を防止又は抑制するために、必要に応じて電磁波シールドフィルムの表面にハードコート層を積層することが考えられるが、その為の手法として、ハードコート層を所望の箇所に転写できる転写材や転写箔を利用することが挙げられる。   In order to prevent or suppress such a phenomenon, it is conceivable to laminate a hard coat layer on the surface of the electromagnetic wave shielding film as necessary. As a technique for this purpose, the hard coat layer can be transferred to a desired location. Use of a transfer material or a transfer foil can be mentioned.

例えば特許文献1に記載されたハードコート転写箔では、剥離性基材シート/硬質ハードコート層/軟質ハードコート層、という構成となっているが、このようにすることでハードコート層を積層することを所望する樹脂成形品において成型状態が急な絞り込みの箇所においては硬質ハードコート層部分にクラックが生じるが、その下層は軟質ハードコート層が存在しており、これは急な絞り込みの箇所であってもクラックを生じない、換言すれば急な絞り込み形状に追随することが可能なので、結果としてハードコート層にクラックが生じていない、即ちハードコート性という特定の機能を確実に付与できる、とするものである。   For example, the hard coat transfer foil described in Patent Document 1 has a configuration of peelable base sheet / hard hard coat layer / soft hard coat layer, and the hard coat layer is laminated in this manner. In the resin molded product that is desired, cracks occur in the hard hard coat layer at the place where the molding state is abruptly narrowed down, but the lower layer has a soft hard coat layer, which is the place of the sudden narrowing down. Even if there is no crack, in other words, because it is possible to follow a sharply narrowed shape, as a result, no crack is generated in the hard coat layer, that is, a specific function of hard coat properties can be reliably imparted. To do.

特開平3−130199号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-130199

しかしこのようなハードコート転写箔を前述の電磁波シールドフィルム表面に対し用いてハードコート層を転写しようとしても所望の通りには転写できず、問題である。この点に関し図2を参照しつつ説明をする。   However, even if an attempt is made to transfer the hard coat layer by using such a hard coat transfer foil on the surface of the electromagnetic wave shielding film, it cannot be transferred as desired. This point will be described with reference to FIG.

特許文献1に記載のハードコート層の最表面に、その厚みが25μmとなるように接着層を積層し、それを用いて電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写することを考えてみる。   Consider that an adhesive layer is laminated on the outermost surface of the hard coat layer described in Patent Document 1 so that its thickness is 25 μm, and that the hard coat layer is transferred to the surface of the electromagnetic wave shielding film using it.

電磁波シールドフィルム34表面にメッシュ状に設けられた金属層の筋は、具体的には製造メーカーにより、また目的に応じて種々の大きさが存在するが、ここでは側面視で高さが20μm、筋の平面視幅も同様に20μmであるものとする。   The metal layer streaks provided on the surface of the electromagnetic wave shielding film 34 in a mesh shape have various sizes, specifically depending on the manufacturer and according to the purpose. Here, the height is 20 μm in side view, Similarly, the planar view width of the muscle is assumed to be 20 μm.

電磁波シールドフィルム34表面の、メッシュ状金属層が設けられている側に対し接着層面33を接するようにハードコート転写箔30を貼着し、次いで基材フィルム31側から高圧力で圧力をかけると同時に220℃の熱を加える。そして最後に基材フィルム31を剥離して、機能性層32を接着層33を介して電磁波シールドフィルム34に転写、積層する熱転写作業を終了する。   When the hard coat transfer foil 30 is pasted so that the adhesive layer surface 33 is in contact with the side where the mesh-like metal layer is provided on the surface of the electromagnetic wave shielding film 34, and then a high pressure is applied from the base film 31 side. At the same time, heat at 220 ° C. is applied. Finally, the base film 31 is peeled off, and the thermal transfer operation for transferring and laminating the functional layer 32 to the electromagnetic wave shielding film 34 via the adhesive layer 33 is completed.

この作業を完了した後に、電磁波シールドフィルム表面にハードコート層が所望の通り貼着されているかどうかを観察すると、殆どの箇所で接着層がメッシュの間、即ち「田」の文字の空白部分、に所望の通りに嵌入していないことがわかった。つまり、接着層がメッシュ状金属層と、露出している基材フィルム表面部分と、双方に対し美麗に密着していない状態であることがわかった。そしてこの状態のままで実際にハードコート層を積層した電磁波シールドフィルムとして利用しようとしても、ハードコート層と電磁波シールドフィルムとの接着性を仲介する接着層が、電磁波シールドフィルムに対し密着していない以上、時間が経過するにともないハードコート層が剥離・脱落することは明白であり、即ちせっかくハードコート性という特定機能性を有する層を転写により積層しても、容易にこれが剥離・脱落することでその効果は継続しない、ということになってしまい、また事実そのようになってしまう。   After completing this work, when observing whether the hard coat layer is stuck on the surface of the electromagnetic wave shielding film as desired, the adhesive layer is between the meshes in most places, that is, the blank portion of the character of “da”, Was not inserted as desired. That is, it was found that the adhesive layer was not beautifully adhered to both the mesh metal layer and the exposed base film surface portion. And even if it is intended to be used as an electromagnetic shielding film in which a hard coat layer is actually laminated in this state, the adhesive layer that mediates the adhesion between the hard coat layer and the electromagnetic shielding film is not in close contact with the electromagnetic shielding film. As described above, it is obvious that the hard coat layer peels off as time passes. That is, even if a layer having a specific functionality of hard coat is laminated by transfer, it can be easily peeled off and dropped off. The effect will not continue, and in fact it will be.

その理由として次のようなことが考えられる。
まず一般的に耐久性が要求される接着層を用いる場合、ガラス転移温度(Tg)の高い熱可塑性樹脂を使用するのが一般的である。熱可塑性樹脂による接着層を有効に利用するには、転写時に与える熱により一度溶融し、これが後に固化することでその効果を発現するものであるが、当然、Tgが高くなるに従い、熱転写時に要する熱量は増加する。しかし熱量が増加すると、基材フィルムのTgをも超えてしまう事態も生じることが考えられ、実際に接着層の樹脂のTgが基材フィルムのTgを超えてしまうと、熱転写を実行しようとしても基材フィルムが破壊されてしまい、実用に供することができなくなる。また、この場合の熱量を与えるという行為についても、実際には接着層に直接熱量を与えるのではなく、基材フィルムと、その表面に積層されているハードコート層を通じて与えられるものであり、その結果十分な熱量が転写層に届かないことが考えられる。
The following can be considered as the reason.
First, when using an adhesive layer that generally requires durability, it is common to use a thermoplastic resin having a high glass transition temperature (Tg). In order to effectively use an adhesive layer made of a thermoplastic resin, it is melted once by heat applied at the time of transfer and solidifies later, and this effect is manifested. The amount of heat increases. However, if the amount of heat increases, it may happen that the Tg of the base film is exceeded. If the Tg of the resin of the adhesive layer actually exceeds the Tg of the base film, the thermal transfer may be executed. The base film is destroyed and cannot be put to practical use. In addition, in this case, the act of giving heat is not given directly to the adhesive layer, but is given through the base film and the hard coat layer laminated on the surface. As a result, a sufficient amount of heat may not reach the transfer layer.

そして十分な熱量が接着層に届かない状態で強引に熱転写を実行しても、本来であれば接着層が一度溶融し、溶融した接着層が「田」の文字の空白部分にしっかりと流れ込み、そしてその状態で固化することが望ましいものであるところ、十分な熱量が届かないため接着層の溶融も不十分であり、また不十分な状態で固化がなされるため、結果として接着層が十分にその効果を発揮できる状態には至らない、と考えられるのである。   And even if the heat transfer is forcibly executed in a state where a sufficient amount of heat does not reach the adhesive layer, the adhesive layer will melt once if it was originally, and the molten adhesive layer will flow firmly into the blank area of the `` field '' character, And it is desirable to solidify in that state, but because the sufficient amount of heat does not reach, the melting of the adhesive layer is also insufficient, and the solidification is performed in an insufficient state, so that the adhesive layer is sufficiently It is thought that the state where the effect can be exhibited is not reached.

一方、接着層に用いる樹脂のTgを低いものを選択することも可能であるが、この場合、仮に上記同様の作業により接着層が密着した状態に至ったとしても、Tgが低いために所望する耐久性を得ることは困難である。即ちTgの低い樹脂を接着層として用いることは好ましくない、と言える。   On the other hand, it is possible to select a resin having a low Tg used for the adhesive layer, but in this case, even if the adhesive layer comes into close contact by the same operation as described above, it is desirable because the Tg is low. It is difficult to obtain durability. That is, it can be said that it is not preferable to use a resin having a low Tg as the adhesive layer.

そして先に述べたようなハードコート層の電磁波シールドフィルムへの転写において接着層の望ましいTgは80℃以上であることが一般的であるが、この温度以上のTgを有する樹脂を接着層として用いると先に述べた追従性が不十分故に接着層が密着しない、という問題が生じ、またTgが80℃以下であると、耐久性に問題がある、という状態となってしまう。   In the transfer of the hard coat layer to the electromagnetic wave shielding film as described above, the desirable Tg of the adhesive layer is generally 80 ° C. or higher, but a resin having a Tg of this temperature or higher is used as the adhesive layer. If the Tg is 80 ° C. or lower, there is a problem in durability.

以上は、その表面がメッシュ状である電磁波シールドフィルムに対し転写をする、という観点からの説明であるが、それ以外にも、例えば電磁波シールドフィルム以外の何らかの機能性フィルムであって、表面がメッシュ状以外の形状、例えばその表面が一様に微細な凹凸を規則的に、又はランダムに設けてなる機能性フィルムの表面に対し何らかの特定機能層を転写法により積層しようとする場合、常に同様の問題が生じることが考えられるのであり、同様の場合において常に問題の解決が求められるところであった。   The above is an explanation from the viewpoint of transferring to an electromagnetic wave shielding film whose surface is mesh-like, but other than that, for example, any functional film other than an electromagnetic wave shielding film, the surface of which is a mesh When a specific functional layer is to be laminated by a transfer method on the surface of a functional film in which a shape other than the shape, for example, the surface thereof is uniformly or randomly provided with fine irregularities, is always the same. Problems can occur, and in the same case, there has always been a need to solve the problems.

そこで本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、Tgが80℃以上の樹脂を接着層として用いると同時に、被着体の表面におけるメッシュ部分や凹凸部分に対して十分に追従させることを可能とすることで、特定機能層の耐久性を確保した上で被着体表面に密着させることを可能とする転写材セット、及び該転写材セットを用いた転写方法を提供することである。   Therefore, the present invention has been made in view of such problems. The purpose of the present invention is to use a resin having a Tg of 80 ° C. or more as an adhesive layer, and at the same time, against a mesh portion or an uneven portion on the surface of the adherend. And a transfer method using the transfer material set that enables the specific function layer to be adhered to the adherend surface while ensuring the durability of the specific functional layer. Is to provide.

上記課題を解決するために、本願発明の請求項1に記載の発明は、第1基材フィルムの表面に熱可塑性樹脂による接着層を積層してなる第1転写材と、第2基材フィルムの表面に特定機能を発揮するための機能性層を積層してなる第2転写材と、よりなり、前記第1基材フィルムの厚みが50μm以下であり、前記接着層の厚みが50μm以下であり、前記第2基材フィルムの厚みが12μm以上125μm以下であり、前記接着層のガラス転移温度Tgが80℃以上であること、を特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention includes a first transfer material obtained by laminating an adhesive layer made of a thermoplastic resin on the surface of a first base film, and a second base film. And a second transfer material formed by laminating a functional layer for exhibiting a specific function on the surface of the substrate, wherein the first base film has a thickness of 50 μm or less and the adhesive layer has a thickness of 50 μm or less The thickness of the second base film is 12 μm or more and 125 μm or less, and the glass transition temperature Tg of the adhesive layer is 80 ° C. or more.

本願発明の請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の転写材セットであって、前記接着層が、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、又はポリアミド樹脂のいずれかもしくは複数を混合したものであること、を特徴とする。
Invention of Claim 2 of this invention is the transfer material set of Claim 1, Comprising: The said contact bonding layer is an acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinyl chloride vinyl acetate resin, a polyester resin, a polyurethane resin, Alternatively, any one or a plurality of polyamide resins are mixed.

本願発明の請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の転写材セットであって、前記機能性層が、ハードコート性、反射防止性、防指紋性、防汚性、帯電防止性、防眩性、または耐候性のいずれかもしくは複数であること、を特徴とする。
Invention of Claim 3 of this invention is a transfer material set of Claim 1 or Claim 2, Comprising: The said functional layer is hard-coat property, antireflection property, fingerprint resistance property, antifouling property Any one or more of antistatic property, antiglare property, and weather resistance.

本願発明の請求項4に記載の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の転写材セットであって、平面視で略メッシュ状に金属を積層してなり、かつ前記メッシュ状金属層の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、を特徴とする。
Invention of Claim 4 of this invention is a transfer material set of any one of Claim 1 thru | or 3, Comprising: A metal is laminated | stacked by the substantially mesh shape by planar view, and the said The surface of the mesh-like metal layer having a side view depth of 1 μm or more and 50 μm or less is a transfer target surface.

本願発明の請求項5に記載の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の転写材セットであって、表面に微細凹凸形状を有し、かつ前記微細凹凸形状の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、を特徴とする。
Invention of Claim 5 of this invention is a transfer material set of any one of Claim 1 thru | or 3, Comprising: It has a fine uneven | corrugated shape on the surface, and the side surface of the said fine uneven | corrugated shape A surface having a visual depth of 1 μm or more and 50 μm or less is a transfer target surface.

本願発明の請求項6に記載の転写法に関する発明は、請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載された転写材セットを用いてなる転写法であって、特定機能を付与する転写対象表面に対し、前記第1転写材を用いて前記接着層を転写した後、前記転写層の表面に対し前記第2転写材を用いて前記機能性層を積層してなること、を特徴とする。
The invention related to the transfer method according to claim 6 of the present invention is a transfer method using the transfer material set according to any one of claims 1 to 5, wherein the transfer imparts a specific function. After the adhesive layer is transferred to the target surface using the first transfer material, the functional layer is laminated to the surface of the transfer layer using the second transfer material. To do.

本願発明の請求項7に記載の転写法に関する発明は、請求項6に記載の転写法であって、前記転写対象表面が、平面視で略メッシュ状に金属を積層してなり、かつ前記メッシュ状金属層の側面視深さが1μm以上50μm以下であること、を特徴とする。
The invention related to the transfer method according to claim 7 of the present invention is the transfer method according to claim 6, wherein the surface to be transferred is formed by laminating metal in a substantially mesh shape in plan view, and the mesh The depth of the side view of the metal layer is 1 μm or more and 50 μm or less.

本願発明の請求項8に記載の転写法に関する発明は、請求項6に記載の転写法であって、前記転写対象表面に微細凹凸形状を有し、かつ前記微細凹凸形状の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、を特徴とする
The invention related to the transfer method according to claim 8 of the present invention is the transfer method according to claim 6, wherein the transfer target surface has a fine uneven shape, and a side view depth of the fine uneven shape is A surface having a thickness of 1 μm or more and 50 μm or less is a surface to be transferred.

以上のように、従来のハードコート転写箔においては、被着物の表面に略断面視で凹凸状の積層体がある場合にはハードコート層を被着物に密着させられなかったところ、本願発明に係る転写材セットであれば、二段階に分けて転写を行うこととしたので、まず最初に確実に接着層を密着、積層した後に、露出した接着層の表面に例えばハードコートや反射防止などの特定機能を付与するための機能性層を積層する、という構成とした。よって、従来の転写材では困難であったメッシュ状表面や微細凹凸表面を有する被着体表面に対し、本願発明に係る転写材セットであれば所望する特定機能層を最終的には確実に密着、積層させることが容易に可能となる。また本願発明に係る転写材セットを用いた転写方法を用いれば、所望する機能性層を所望する被着体表面に確実に、かつ耐久性を有した状態で積層させることが可能となる。   As described above, in the conventional hard coat transfer foil, when the surface of the adherend has a concavo-convex laminate in a substantially sectional view, the hard coat layer could not be adhered to the adherend. In such a transfer material set, since the transfer is performed in two stages, first, the adhesive layer is securely adhered and laminated first, and then the surface of the exposed adhesive layer, for example, hard coat or antireflection is used. It was set as the structure of laminating | stacking the functional layer for providing a specific function. Therefore, if the transfer material set according to the present invention is applied to the adherend surface having a mesh-like surface or fine uneven surface, which has been difficult with conventional transfer materials, the desired specific functional layer is finally adhered securely. , It can be easily laminated. Further, if the transfer method using the transfer material set according to the present invention is used, it is possible to reliably laminate the desired functional layer on the desired adherend surface in a durable state.

本実施の形態に係る転写材セットを用いた転写工程を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the transfer process using the transfer material set which concerns on this Embodiment. 従来の転写材を用いた転写工程を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the transfer process using the conventional transfer material. 実施例1を実施した後の密着状態を示す電子顕微鏡写真である。2 is an electron micrograph showing a close contact state after carrying out Example 1. FIG. 実施例2を実施した後の密着状態を示す電子顕微鏡写真である。6 is an electron micrograph showing a close contact state after carrying out Example 2. FIG. 比較例1を実施した後の密着状態を示す電子顕微鏡写真である。2 is an electron micrograph showing a close contact state after carrying out Comparative Example 1. FIG. 比較例2を実施した後の密着状態を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows the contact | adherence state after implementing Comparative Example 2.

以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずもこの実施の形態に限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below. The embodiment shown here is merely an example, and is not necessarily limited to this embodiment.

(実施の形態1)
本願発明に係る転写材セットについて第1の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る転写材セットは2つの転写材を一組として使用することを想定しているものであり、以下の説明においてはそれぞれ第1転写材、第2転写材、と称する。
(Embodiment 1)
A transfer material set according to the present invention will be described as a first embodiment.
The transfer material set according to the present embodiment assumes that two transfer materials are used as one set, and will be referred to as a first transfer material and a second transfer material, respectively, in the following description.

第1転写材は第1基材フィルムの表面に接着層を積層してなり、第2転写材は第2基材フィルムの表面に特定機能を発揮するための機能性層を積層してる構成を有している。   The first transfer material is formed by laminating an adhesive layer on the surface of the first base film, and the second transfer material is configured by laminating a functional layer for exhibiting a specific function on the surface of the second base film. Have.

以下、第1転写材から順次説明をしていく。
第1転写材の基材フィルム(第1基材フィルム)として、これは転写材に用いられる従来公知の種類のものであってよく、具体的にはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等のような公知のプラスチックフィルムであって、かつ転写材の支持体として好適に従来より用いられているものであればよい。第1基材フィルムの厚みは50μm以下のものであることが好ましく、本実施の形態においては厚みが25μmのPETフィルムであるものとする。厚みが50μm以下であることが好ましい理由は後述する。
Hereinafter, the first transfer material will be described in order.
As the base film (first base film) of the first transfer material, this may be a conventionally known type used for the transfer material, specifically, a known film such as a polyethylene terephthalate (PET) film. Any plastic film may be used as long as it is conventionally used as a support for a transfer material. The thickness of the first base film is preferably 50 μm or less, and in the present embodiment, it is a PET film having a thickness of 25 μm. The reason why the thickness is preferably 50 μm or less will be described later.

第1基材フィルムの表面に積層されている接着層は、本実施の形態にあっては熱可塑性樹脂であることが望ましく、より具体的には、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、又はポリアミド樹脂といった樹脂のいずれかもしくは複数を混合したものであること、を利用することが好適である。そして本実施の形態においてはアクリル系樹脂を用いることとする。アクリル系樹脂による接着層の厚みは50μm以下であることが好ましい。   In the present embodiment, the adhesive layer laminated on the surface of the first base film is preferably a thermoplastic resin, and more specifically, an acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, a polychloroacetic acid. It is preferable to use that one or a plurality of resins such as a vinyl resin, a polyester resin, a polyurethane resin, or a polyamide resin is mixed. In this embodiment, an acrylic resin is used. The thickness of the adhesive layer made of acrylic resin is preferably 50 μm or less.

また接着層のTgは80℃以上であることが好ましい。つまり最終的に転写工程が完了した後の転写層に対し高耐久性が求められる場合、接着層はある程度の硬質を有する必要があり、ある程度の硬質を呈するためには接着層のTgにある程度の高さが必要なものとなるからである。これらの材料が好ましいこと、厚み、及びTgに関しては後述する。接着層の積層方法についても特段制限するものではなく従来公知の一般的な方法であればよい。本実施の形態においてはウェットコーティングと称される手法であるものとする。   The Tg of the adhesive layer is preferably 80 ° C. or higher. That is, when high durability is required for the transfer layer after the transfer process is finally completed, the adhesive layer needs to have a certain degree of hardness, and in order to exhibit a certain degree of hardness, the Tg of the adhesive layer has a certain amount. This is because height is required. These materials are preferred, their thickness, and Tg will be described later. The method for laminating the adhesive layer is not particularly limited and may be any conventionally known general method. In this embodiment, it is assumed that this is a technique called wet coating.

次に第2転写材につき説明をする。
第2転写材の基材フィルム(第2基材フィルム)として、これも第1基材フィルム同様転写材に用いられる従来公知の種類のものであってよく、具体的にはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等のような公知のプラスチックフィルムであって、かつ転写材の支持体として好適に従来より用いられているものであればよい。好ましくは第2基材フィルムの厚みは12μm以上125μm以下のものであることが好ましく、本実施の形態においては厚みが50μmのPETフィルムであるものとする。厚みの範囲が上記の通りである理由は後述する。
Next, the second transfer material will be described.
As the base film (second base film) of the second transfer material, this may also be of a conventionally known type used for the transfer material like the first base film, specifically, polyethylene terephthalate (PET). Any known plastic film such as a film may be used as long as it is suitably used as a support for a transfer material. Preferably, the thickness of the second base film is preferably 12 μm or more and 125 μm or less, and in the present embodiment, it is a PET film having a thickness of 50 μm. The reason why the thickness range is as described above will be described later.

第2基材フィルムの表面に積層されてる機能性層とは、例えば耐擦傷性を付与するためのハードコート性や、外光反射を防止するための反射防止性を発現するための層であり、これも従来公知のものであればよい。例えばハードコート性を付与することを目的とするのであれば、機能性層としては活性エネルギー線硬化性組成物、例えば(メタ)アクリロイル基を3個以上有する(メタ)アクリレート化合物であって、例えばジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びアルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、などが挙げられる。これらの多官能(メタ)アクリレートは単独で用いてもまたは2種類以上混合して用いてもよい。   The functional layer laminated on the surface of the second base film is, for example, a layer for expressing hard coat properties for imparting scratch resistance and antireflection properties for preventing external light reflection. This may be any conventionally known one. For example, if the purpose is to impart hard coat properties, the functional layer is an active energy ray-curable composition, for example, a (meth) acrylate compound having 3 or more (meth) acryloyl groups, for example, Ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, Examples include caprolactone-modified tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate. These polyfunctional (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

機能性層の目的、例えば反射防止性や機能性を付与するのであれば、それらを付与できる従来公知の材料を用いればよい。当然、この機能性層とは単一のものである必要はなく、1層でハードコート性と反射防止性とを付与させることが可能な材料を用いれば良いし、又はハードコート性を呈するハードコート層と、反射防止性を呈する反射防止層と、をそれぞれ別途積層することとしても構わない。これらの層の積層方法については従来周知の手法であって構わないし、層の厚みについては機能性層が所望の機能を十分に発揮することが可能なだけの最低限の厚みを有していればよい。   If the purpose of the functional layer, such as antireflection or functionality, is imparted, a conventionally known material capable of imparting them may be used. Of course, this functional layer does not need to be a single layer, and a material capable of imparting hard coat properties and antireflection properties to one layer may be used, or a hard layer exhibiting hard coat properties. The coat layer and the antireflection layer exhibiting antireflection properties may be separately laminated. The method for laminating these layers may be a conventionally well-known method, and the thickness of the layer may be a minimum thickness that allows the functional layer to sufficiently exhibit a desired function. That's fine.

本実施の形態では、機能性層はハードコート性を付与する為の層であり(以下「ハードコート層」とする。)、(メタ)アクリロイル基を3個以上有する(メタ)アクリレート化合物により構成されるものとする。なおハードコート層の積層方法としては特に限定されないが例えば、流延法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、ダイレクトグラビア法、キスグラビアリバース法、スリットリバース法が挙げられる。厚みとしては1〜10μm、であるものとする。なお先に述べたように、本実施の形態に係る機能性層が呈する機能はハードコートに限定されるものではなく、例えば防指紋性、防汚性、帯電防止性、防眩性、耐候性などであっても構わないことを断っておく。   In the present embodiment, the functional layer is a layer for imparting hard coat properties (hereinafter referred to as “hard coat layer”), and is composed of a (meth) acrylate compound having three or more (meth) acryloyl groups. Shall be. The method for laminating the hard coat layer is not particularly limited. For example, the casting method, roller coating method, bar coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, flow coating method, curtain coating method, direct gravure method. Method, kiss gravure reverse method, and slit reverse method. The thickness is 1 to 10 μm. As described above, the function exhibited by the functional layer according to the present embodiment is not limited to the hard coat. For example, fingerprint resistance, antifouling property, antistatic property, antiglare property, weather resistance, etc. I refuse to be okay.

なお、以上説明した第1転写材及び第2転写材において、第1基材フィルム及び第2基材フィルムは剥離性を有したものであるとよいが、場合によってはそれぞれの基材フィルムに接着層や機能性層を積層する前に剥離性を付与するための剥離層を設けてあっても構わないが、ここではこれ以上の詳述は省略する。   In the first transfer material and the second transfer material described above, the first base film and the second base film may be peelable, but in some cases, they are bonded to the respective base films. A release layer for imparting peelability may be provided before laminating the layers and functional layers, but further details are omitted here.

本願発明においては、以上説明した第1転写材及び第2転写材からなる転写材セットを用いて機能性層を被着物表面に対し積層するのであるが、機能性層をハードコート層とし、また被着体を先に例示した電磁波シールドフィルムとして、積層方法につき図面を参照しつつ説明をする。   In the present invention, the functional layer is laminated on the surface of the adherend using the transfer material set composed of the first transfer material and the second transfer material described above. The functional layer is a hard coat layer. As the electromagnetic wave shielding film exemplified above for the adherend, the lamination method will be described with reference to the drawings.

以下の説明及び図1において、第1転写材10は、厚みが25μmのPETフィルムを第1基材フィルム1とし、その表面に、厚みが25μmであるアクリル樹脂による接着層2が積層されており、接着層2のTgは100℃であるものとする。第2転写材20は、厚みが50μmのPETフィルムを第2基材フィルム3とし、その表面に厚みが30μmの活性エネルギー線硬化性組成物によるハードコート層4が積層されているものとする。電磁波シールドフィルム5は、その表面にメッシュ状の金属層が設けられており、金属層の筋の平面視における幅及び側面視における凸状の高さは、いずれも20μmであるものとする。   In the following description and FIG. 1, the first transfer material 10 has a PET film having a thickness of 25 μm as the first base film 1, and an adhesive layer 2 made of acrylic resin having a thickness of 25 μm is laminated on the surface thereof. The Tg of the adhesive layer 2 is 100 ° C. The second transfer material 20 is a PET film having a thickness of 50 μm as the second base film 3, and a hard coat layer 4 made of an active energy ray-curable composition having a thickness of 30 μm is laminated on the surface thereof. The electromagnetic shielding film 5 is provided with a mesh-like metal layer on the surface thereof, and the width of the metal layer stripe in plan view and the convex height in side view are both 20 μm.

尚、以下の説明において転写対象となる平面にはメッシュ状金属層が設けられているものとしているが、本実施の形態にかかる転写材セットはメッシュ状金属層のみならず、その表面に微細凹凸が一面に規則的又はランダムに設けられている場合であっても同様に作用することを予め断っておく。   In the following description, it is assumed that a mesh-like metal layer is provided on a plane to be transferred, but the transfer material set according to the present embodiment is not only a mesh-like metal layer, but also has fine irregularities on its surface. Even if it is a case where it is provided regularly or randomly on one side, it is refused in advance that it acts similarly.

まず最初に、電磁波シールドフィルム5の金属層積層面側に、第1転写材10の接着層2側を接してこれを配置する。次いで第1転写材10の第1基材フィルム1側から加熱すると同時に加圧する。即ち熱転写工程を行う。この際の加圧の度合いについては高圧であり、また加熱する温度は220℃とする。   First, the adhesive layer 2 side of the first transfer material 10 is brought into contact with the metal layer lamination surface side of the electromagnetic wave shielding film 5 and disposed. Subsequently, it heats from the 1st base film 1 side of the 1st transfer material 10, and it pressurizes simultaneously. That is, a thermal transfer process is performed. The degree of pressurization at this time is high pressure, and the heating temperature is 220 ° C.

熱転写工程が終了すると、電磁波シールドフィルム5に貼着した第1転写材10の第1基材フィルム1のみを剥離する。このようにして電磁波シールドフィルム5のメッシュ状面に対し接着層2が嵌入した状態で積層される。   When the thermal transfer process is completed, only the first base film 1 of the first transfer material 10 adhered to the electromagnetic wave shielding film 5 is peeled off. Thus, it laminates | stacks in the state which the contact bonding layer 2 inserted with respect to the mesh-shaped surface of the electromagnetic wave shielding film 5. FIG.

この状態のまま、次に電磁波シールドフィルム5表面の接着層2に対し、第2転写材20のハードコート層4側を接してこれを配置する。次いで第2転写材20の第2基材フィルム3側から加熱すると同時に加圧する。即ち、再び熱転写工程を行う。この熱転写も先のものと同様であり、高熱高圧により実施されるものとする。   In this state, the hard coat layer 4 side of the second transfer material 20 is then brought into contact with the adhesive layer 2 on the surface of the electromagnetic wave shielding film 5 and disposed. Next, the second transfer material 20 is heated from the second base film 3 side and simultaneously pressurized. That is, the thermal transfer process is performed again. This thermal transfer is similar to the previous one, and is performed by high heat and high pressure.

熱転写工程が終了すると、電磁波シールドフィルム5表面の接着層2に貼着した状態の第2転写材20の第2基材フィルム3のみを剥離するのであるが、例えばこの第2基材フィルム3を全体の保護フィルムとしておき、実際に使用する直前になって初めて剥離する、という用い方をしても構わない。   When the thermal transfer process is completed, only the second base film 3 of the second transfer material 20 in a state of being attached to the adhesive layer 2 on the surface of the electromagnetic wave shielding film 5 is peeled off. For example, the second base film 3 is removed. It may be used as a whole protective film and peeled off only immediately before actual use.

このようにして、最終的には電磁波シールドフィルム表面に接着層を介してハードコート層が積層された状態が完成するのである。   Thus, the state where the hard coat layer is finally laminated on the surface of the electromagnetic wave shielding film via the adhesive layer is completed.

以上の工程を踏まえて、さらに本実施の形態に係る転写材セットにつき説明をする。
本実施の形態において第1基材フィルムの厚みは50μm以下のものであることが好ましいとしたが、これは上述した熱転写工程を実行するにあたり、第1転写材に対し第1基材フィルム側から与える高熱による熱量が十分に接着層に届く必要があり、つまり第1基材フィルムが必要以上に厚いものであれば、第1基材フィルム側から高熱を与えてもそれが接着層に届く頃には接着層が必要とする熱量に至らないことが想定されるからである。ここで想定した事例では接着層のTgは100℃であり、つまり熱転写の加熱時において接着層に100℃の熱量が到達しなければならないのであるが、これが確実に到達するために第1基材フィルムは必要以上に厚いものであってはならないと言える。
Based on the above steps, the transfer material set according to the present embodiment will be further described.
In the present embodiment, the thickness of the first base film is preferably 50 μm or less. This is because the first transfer film is subjected to the above-described thermal transfer process from the first base film side. The amount of heat given by the high heat needs to reach the adhesive layer sufficiently, that is, if the first base film is thicker than necessary, it will reach the adhesive layer even if high heat is applied from the first base film side. This is because it is assumed that the amount of heat required for the adhesive layer is not reached. In the case assumed here, the Tg of the adhesive layer is 100 ° C., that is, the amount of heat of 100 ° C. must reach the adhesive layer at the time of heating by thermal transfer. It can be said that the film should not be thicker than necessary.

一方で、第1基材フィルムの厚みにかかわらず接着層に対し必要な熱量を与えるならば、さらに高温度により高熱を第1基材フィルム側から与えることになるが、そうすると今度は第1基材フィルムが高熱・高温度故に溶融等の破損が生じることもまた自然に想到するところである。   On the other hand, if the necessary amount of heat is applied to the adhesive layer regardless of the thickness of the first base film, higher heat is applied from the first base film side at a higher temperature. Naturally, it is also conceived that the material film breaks due to high heat and high temperature.

つまり第1基材フィルムが高分子樹脂フィルムである以上、必要以上に高熱・高温度での熱転写工程を行うことが出来ないのは自明と言えることであり、一方それならば基材としてガラス板等を用いるのであれば、実際の転写工程における自由度が著しく失われるのもまた自明のことと言える。   In other words, as long as the first base film is a polymer resin film, it is obvious that it is not possible to perform a heat transfer process at a higher temperature and temperature than necessary. It is also obvious that the degree of freedom in the actual transfer process is remarkably lost.

そして同様の理由により、第1基材フィルム表面に接着層以外の層、例えばハードコート層などの機能性層を積層することが好ましくない、といえるのである。これは先に述べた通り、仮に第1基材フィルムと接着層以外にハードコート層等の機能性層を積層した状態であれば、それがそのまま確実に接着層が被着物表面に嵌着するのであればよいが、接着層のTgが高いものであるが故に、一気に転写作業を行うことは出来ないのである。   For the same reason, it can be said that it is not preferable to laminate a layer other than the adhesive layer, for example, a functional layer such as a hard coat layer, on the surface of the first base film. As described above, if the functional layer such as the hard coat layer is laminated in addition to the first base film and the adhesive layer, the adhesive layer is securely attached to the adherend surface as it is. However, since the Tg of the adhesive layer is high, the transfer operation cannot be performed at once.

そして発明者が鋭意研究を重ねた結果、通常の熱転写を行う際の高圧高温度に耐えうるものであり、なおかつ接着層のTgが高いものであっても必要十分な熱量を伝播することが可能な第1基材フィルムの厚みとして50μmが上限であることを見いだしたものであり、故に本実施の形態では第1基材フィルムの厚みは50μm以下であることが好ましい、としているのである。   As a result of extensive research by the inventor, it can withstand high pressure and high temperature during normal thermal transfer, and can transmit a necessary and sufficient amount of heat even if the adhesive layer has a high Tg. It is found that the upper limit of the thickness of the first base film is 50 μm, and therefore, in the present embodiment, the thickness of the first base film is preferably 50 μm or less.

ちなみに、これ以下の薄さのPETフィルムとして、25μmのものが広く流通することより、ここでの説明では第1基材フィルムの厚みを25μmとしているのであるが、かならずしもこの厚みに限定するものではないことを述べておく。   By the way, as a PET film with a thickness of less than 25 μm, the thickness of the first base film is 25 μm in the description here because it is widely distributed. However, it is not necessarily limited to this thickness. Let me state that there is nothing.

また接着層の厚みについても、もはや先述したと同様、与えられた熱量を十分に消化してしっかり、一度溶融してメッシュ状面の中に嵌入・嵌着しなければならない、という目的を達するための好適な厚みが30μm以下であることを発明者が見いだしたものであり、また実際に流通する電磁波シールドフィルムにあってはメッシュを形成する金属層の側面視凸部の高さがだいたい30μm以下であることより、本実施の形態において接着層の厚みを30μm以下としているのである。当然、凸部の高さが30μmを超えるようであれば、接着層の機能を発揮するためにはかかる凸部全部が覆われなければならないので、これに応じて接着層の厚みを調整すればよい。ただし調整するに際して、確実に熱転写時にこれが溶融しなければならない点には十分配慮が必要であることは言うまでもない。   As for the thickness of the adhesive layer, as described above, in order to achieve the purpose of fully digesting the given amount of heat, firmly melting it, and then melting it into the mesh surface. The inventor has found that a preferable thickness of the metal layer is 30 μm or less, and in the case of an actually circulating electromagnetic wave shielding film, the height of the convex portion in the side view of the metal layer forming the mesh is about 30 μm or less. Therefore, in this embodiment, the thickness of the adhesive layer is set to 30 μm or less. Of course, if the height of the convex portion exceeds 30 μm, all the convex portions must be covered in order to exert the function of the adhesive layer, so if the thickness of the adhesive layer is adjusted accordingly Good. However, it goes without saying that in the adjustment, sufficient consideration must be given to the fact that it must melt during thermal transfer.

このような理由により、本実施の形態においては第1転写材を用いて電磁波シールドフィルム表面に確実に即ち空隙を生じることなく接着層が接着されるのである。   For this reason, in the present embodiment, the first transfer material is used to securely bond the adhesive layer to the surface of the electromagnetic wave shielding film without generating a gap.

また第2転写材については、もはや接着層までが確実に積層された電磁波シールドフィルムに対し特定機能を付与するための機能性層の転写を行うだけでよいので、特段その厚みに厳しい制限を課する必要はないが、一般的にどのような機能性層であってもこれを積層する第2基材フィルムの厚みは、機能性層の積層時において第2基材フィルムが破損しないためには12μm以上の厚みが必要であり、また熱転写を行うに際して確実に熱が機能性層に届くための厚みの上限が125μmであるため、本実施の形態にあってはその厚みは12μm以上125μm以下であることが好ましいとしているのである。   In addition, for the second transfer material, it is only necessary to transfer the functional layer for imparting a specific function to the electromagnetic wave shielding film in which the adhesive layer is surely laminated. However, the thickness of the second base film for laminating any functional layer is generally set so that the second base film is not damaged when the functional layer is laminated. A thickness of 12 μm or more is necessary, and the upper limit of the thickness for ensuring that heat reaches the functional layer when performing thermal transfer is 125 μm. Therefore, in this embodiment, the thickness is 12 μm or more and 125 μm or less. It is said that it is preferable.

なお、機能性層については、その機能が十分に発揮される厚みを有していれば良く、また被着物との関係を考慮した厚みとすればよく、特段の制限を課するものではないことを断っておく。   It should be noted that the functional layer only needs to have a thickness that allows its function to be sufficiently exerted, and may be a thickness that takes into account the relationship with the adherend, and does not impose any particular restrictions. I refuse.

本実施の形態に係る転写材セットを用いて上記の転写方法を実行することにより、例えば電磁波シールドフィルムのように、その表面に微細な凸部を有したメッシュ状の表面に対しであっても、高硬度、即ちTgの高い樹脂による接着層を確実に嵌入・嵌着させ、即ち耐久性の高い、層間密着力を確実に長期間維持できる接着層を得る事が出来、またかかる接着層の上に別途転写材を用いてハードコートなどの所望する特定機能層を積層することで、最終的に一枚の転写材では困難な被着物表面に対してであっても、層間密着力を確保できた転写を実行することが可能となるのである。   By executing the above transfer method using the transfer material set according to the present embodiment, even for a mesh-like surface having fine convex portions on its surface, such as an electromagnetic wave shielding film. In addition, it is possible to obtain an adhesive layer having a high hardness, that is, a resin having a high Tg, which can be securely inserted and fitted, that is, a highly durable adhesive layer that can maintain the interlayer adhesion for a long period of time. By laminating a specific functional layer such as a hard coat using a separate transfer material on the top, interlaminar adhesion is ensured even on the adherend surface, which is ultimately difficult with a single transfer material. It is possible to execute the transfer that has been completed.

尚、メッシュ状以外の形状、即ち微細凹凸が設けられた平面に対しても同様に確実に転写を実行することが出来るのであるが、ここでは詳細な説明は省略する。   It should be noted that the transfer can be reliably performed in a similar manner to a shape other than the mesh shape, that is, a plane provided with fine irregularities, but detailed description thereof is omitted here.

さらに本願発明を説明するために、以下のように転写材セット及び転写材を作成し、それぞれの転写後の状態について調べた。   In order to further explain the present invention, a transfer material set and a transfer material were prepared as follows, and the state after each transfer was examined.

(実施例1)
第1転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み25μm)/アクリル樹脂(厚み25μm)
第2転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み50μm)/活性エネルギー線硬化性組成物(厚み5μm)
そしてこれら2枚の転写材からなる転写材セットを用いて、電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写した。
Example 1
The first transfer material was configured as follows.
PET film (thickness 25 μm) / acrylic resin (thickness 25 μm)
The second transfer material was configured as follows.
PET film (thickness 50 μm) / active energy ray curable composition (thickness 5 μm)
And the hard-coat layer was transcribe | transferred on the electromagnetic wave shield film surface using the transfer material set which consists of these 2 transfer materials.

(実施例2)
第1転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み25μm)/アクリル樹脂(厚み30μm)
第2転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み50μm)/活性エネルギー線硬化性組成物層(厚み5μm)
そしてこれら2枚の転写材からなる転写材セットを用いて、電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写した。
(Example 2)
The first transfer material was configured as follows.
PET film (thickness 25 μm) / acrylic resin (thickness 30 μm)
The second transfer material was configured as follows.
PET film (thickness 50 μm) / active energy ray-curable composition layer (thickness 5 μm)
And the hard-coat layer was transcribe | transferred on the electromagnetic wave shield film surface using the transfer material set which consists of these 2 transfer materials.

(比較例1)
転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み50μm)/活性エネルギー線硬化性組成物層(厚み5μm)/アクリル樹脂(厚み25μm)
この転写材を用いて、電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写した。
(Comparative Example 1)
The transfer material was constructed as follows.
PET film (thickness 50 μm) / active energy ray-curable composition layer (thickness 5 μm) / acrylic resin (thickness 25 μm)
Using this transfer material, the hard coat layer was transferred to the surface of the electromagnetic wave shielding film.

(比較例2)
転写材を次のように構成した。
PETフィルム(厚み50μm)/活性エネルギー線硬化性組成物層(厚み5μm)/アクリル樹脂(厚み30μm)
この転写材を用いて、電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写した。
(Comparative Example 2)
The transfer material was constructed as follows.
PET film (thickness 50 μm) / active energy ray-curable composition layer (thickness 5 μm) / acrylic resin (thickness 30 μm)
Using this transfer material, the hard coat layer was transferred to the surface of the electromagnetic wave shielding film.

ここで被着物として用いた電磁波シールドフィルムは、表面に銅線によるメッシュ状凸部が形成されており、該凸部の略高さは20μmであるものを用いた。
またここで行った転写はすべて同一条件の熱転写であり、加熱温度は260℃、圧力はきわめて高圧、であるものとした。
Here, the electromagnetic wave shielding film used as the adherend was formed with a mesh-like convex portion formed of copper wire on the surface, and the approximate height of the convex portion was 20 μm.
All the transfer performed here was thermal transfer under the same conditions, and the heating temperature was 260 ° C. and the pressure was extremely high.

転写後の状態を顕微鏡で観察した。その写真を図3〜図6に示す。   The state after transfer was observed with a microscope. The photographs are shown in FIGS.

実施例1及び実施例2による転写結果は、図3及び図4に見られるように、特に何の問題もなくメッシュ状の凹部に嵌入していることがわかる。   As can be seen from FIGS. 3 and 4, the transfer results according to Example 1 and Example 2 are fitted into the mesh-shaped recess without any particular problem.

一方、比較例1及び比較例2による転写結果は、図5及び図6に見られるように、メッシュ状の凹部の中央付近に泡状の空間が生じていることがわかる。そしてこの空間が層間密着力を低下させる原因となるのである。   On the other hand, the transfer results of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 show that a bubble-like space is generated in the vicinity of the center of the mesh-like recess as seen in FIGS. This space causes a decrease in interlayer adhesion.

このように、実施例による転写工程後の転写物は密着性が良好であり、一方比較例による転写工程後の転写物は密着性が好適ではない、ということが明白にわかる。   Thus, it can be clearly seen that the transfer product after the transfer process according to the example has good adhesion, while the transfer product after the transfer process according to the comparative example does not have good adhesion.

本願発明に係る転写材セットであれば、従来の転写材では確実に層間密着力を確保することができなかった表面に微細な凹凸を有する被着体に対してであっても、確実に所望する機能性層を転写することが出来るので、例えば電磁波シールドフィルム表面にハードコート層を転写する、等の行為に対し特に有用である。   With the transfer material set according to the present invention, it is surely desired even for an adherend having fine irregularities on the surface, which could not ensure interlayer adhesion with the conventional transfer material. Since the functional layer to be transferred can be transferred, it is particularly useful for actions such as transferring the hard coat layer to the surface of the electromagnetic wave shielding film.

10 第1転写材
1 第1基材フィルム
2 接着層
20 第2転写材
3 第2基材フィルム
4 機能性層
5 電磁波シールドフィルム
30 従来の転写材
31 基材フィルム
32 機能性層
33 接着層
34 電磁波シールドフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st transfer material 1 1st base film 2 Adhesion layer 20 2nd transfer material 3 2nd base film 4 Functional layer 5 Electromagnetic wave shield film 30 Conventional transfer material 31 Base film 32 Functional layer 33 Adhesion layer 34 Electromagnetic shielding film

Claims (8)

第1基材フィルムの表面に熱可塑性樹脂による接着層を積層してなる第1転写材と、
第2基材フィルムの表面に特定機能を発揮するための機能性層を積層してなる第2転写材と、
よりなり、
前記第1基材フィルムの厚みが50μm以下であり、
前記接着層の厚みが50μm以下であり、
前記第2基材フィルムの厚みが12μm以上125μm以下であり、
前記接着層のガラス転移温度Tgが80℃以上であること、
を特徴とする、転写材セット。
A first transfer material formed by laminating an adhesive layer made of a thermoplastic resin on the surface of the first base film;
A second transfer material formed by laminating a functional layer for exhibiting a specific function on the surface of the second base film;
And
The thickness of the first base film is 50 μm or less,
The adhesive layer has a thickness of 50 μm or less,
The thickness of the second base film is 12 μm or more and 125 μm or less,
The glass transition temperature Tg of the adhesive layer is 80 ° C. or higher,
A transfer material set featuring:
請求項1に記載の転写材セットであって、
前記接着層が、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、又はポリアミド樹脂のいずれかもしくは複数を混合したものであること、
を特徴とする、転写材セット。
The transfer material set according to claim 1,
The adhesive layer is a mixture of one or more of acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl chloride vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, or polyamide resin;
A transfer material set featuring:
請求項1又は請求項2に記載の転写材セットであって、
前記機能性層が、ハードコート性、反射防止性、防指紋性、防汚性、帯電防止性、防眩性、または耐候性のいずれかもしくは複数であること、
を特徴とする、転写材セット。
The transfer material set according to claim 1 or 2,
The functional layer is one or a plurality of hard coat properties, antireflection properties, fingerprint resistance properties, antifouling properties, antistatic properties, antiglare properties, and weather resistance properties,
A transfer material set featuring:
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の転写材セットであって、
平面視で略メッシュ状に金属を積層してなり、かつ前記メッシュ状金属層の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、
を特徴とする、転写材セット。
The transfer material set according to any one of claims 1 to 3,
A surface obtained by laminating a metal in a substantially mesh shape in plan view, and a side view depth of the mesh metal layer being 1 μm or more and 50 μm or less is a transfer target surface;
A transfer material set featuring:
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の転写材セットであって、
表面に微細凹凸形状を有し、かつ前記微細凹凸形状の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、
を特徴とする、転写材セット。
The transfer material set according to any one of claims 1 to 3,
A surface having a fine uneven shape on the surface and having a side view depth of the fine uneven shape of 1 μm or more and 50 μm or less is a transfer target surface;
A transfer material set featuring:
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載された転写材セットを用いてなる転写法であって、
特定機能を付与する転写対象表面に対し、
前記第1転写材を用いて前記接着層を転写した後、
前記転写層の表面に対し前記第2転写材を用いて前記機能性層を積層してなること、
を特徴とする、転写法。
A transfer method using the transfer material set according to any one of claims 1 to 5,
For the transfer target surface that gives a specific function,
After transferring the adhesive layer using the first transfer material,
The functional layer is laminated on the surface of the transfer layer using the second transfer material,
A transfer method characterized by
請求項6に記載の転写法であって、
前記転写対象表面が、平面視で略メッシュ状に金属を積層してなり、かつ前記メッシュ状金属層の側面視深さが1μm以上50μm以下であること、
を特徴とする、転写法。
The transfer method according to claim 6,
The transfer target surface is formed by laminating a metal in a substantially mesh shape in a plan view, and a side view depth of the mesh metal layer is 1 μm or more and 50 μm or less,
A transfer method characterized by
請求項6に記載の転写法であって、
前記転写対象表面に微細凹凸形状を有し、かつ前記微細凹凸形状の側面視深さが1μm以上50μm以下である面が転写対象表面であること、
を特徴とする、転写法。
The transfer method according to claim 6,
The transfer target surface has a fine uneven shape, and the side surface depth of the fine uneven shape is 1 μm or more and 50 μm or less is the transfer target surface,
A transfer method characterized by
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