JP5124942B2 - Metal complexes and devices - Google Patents

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本発明は、金属錯体および素子に関する。   The present invention relates to a metal complex and a device.

エレクトロルミネッセンス(EL)発光素子の発光層に用いる発光材料として、三重項励起状態からの発光を示す金属錯体が、知られている。   As a light emitting material used for a light emitting layer of an electroluminescence (EL) light emitting element, a metal complex that emits light from a triplet excited state is known.

三重項励起状態からの発光を示す金属錯体としては、配位子として2座配位子を有する金属錯体が知られている。(非特許文献1)   As a metal complex that exhibits light emission from a triplet excited state, a metal complex having a bidentate ligand as a ligand is known. (Non-Patent Document 1)

上記2座配位子を有する金属錯体の特性を改良等するために配位子として3座配位子および単座配位子を有する金属錯体が検討されている。(非特許文献2、3) In order to improve the properties of the metal complex having the bidentate ligand, metal complexes having a tridentate ligand and a monodentate ligand have been studied. (Non-Patent Documents 2 and 3)

APPLIED PHYSICS LETTERS、75,1、4,(1999)APPLIED PHYSICS LETTERS, 75, 1, 4, (1999) Organometallics 1998, 17, 3505-3511Organometallics 1998, 17, 3505-3511 Zeitschrift fuer Naturforschung (1964), 19b(8), 767-8.Zeitschrift fuer Naturforschung (1964), 19b (8), 767-8.

しかしながら、上記公知の、3座配位子および単座配位子を有する金属錯体は、その発光性能において未だ十分ではなかった。 However, the known metal complexes having a tridentate ligand and a monodentate ligand have not been sufficient in their light emission performance.

本発明の目的は、3座配位子と単座配位子を有し、十分な発光性能を示すことのできる金属錯体を提供するものである。   An object of the present invention is to provide a metal complex having a tridentate ligand and a monodentate ligand and capable of exhibiting sufficient light emission performance.

即ち本発明は、第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属と、単座配位子と、1個以上の芳香環を含みかつ当該芳香環構造内に3個の配位原子を含む3座配位子とを有する金属錯体であって、10℃以上で可視域に発光を示す金属錯体を提供するものである。 That is, the present invention includes a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au, and a lanthanoid, a monodentate ligand, one or more aromatic rings, and the aromatic ring structure. The present invention provides a metal complex having a tridentate ligand containing three coordinating atoms, and which emits light in the visible region at 10 ° C. or higher.

本発明の金属錯体は、単座配位子と3座配位子とを有し、十分な発光性能を示すことができる。 The metal complex of the present invention has a monodentate ligand and a tridentate ligand, and can exhibit sufficient light emission performance.


本発明の金属錯体が有する金属は第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属であり、その具体例としては、Sc、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Os、Ir、Au、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luが例としてあげられ、高効率を得るという観点から、Ru,Rh,W,Os,Ir,Au,Eu、Tbが好ましく、さらにW,Os,Ir,Auが好ましく、さらに好ましくはW,Auであり、Auが最も好ましい。
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The metal of the metal complex of the present invention is a metal selected from the transition metals of the fourth and fifth periods and W, Os, Ir, Au, and lanthanoid, and specific examples thereof include Sc, Ti, Cr, Mn, Fe , Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Hf, Ta, W, Os, Ir, Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are examples. From the viewpoint of obtaining high efficiency, Ru, Rh, W, Os, Ir, Au, Eu, and Tb are preferable. Further, W, Os, Ir and Au are preferable, W and Au are more preferable, and Au is most preferable.

本発明の金属錯体が有する単座配位子としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基、アミド基、酸イミド基、アミノ基、シリル基、カルボキシル基、複素環配位子、カルボニル配位子、アルケン配位子、アルキン配位子、アミン配位子、イミン配位子、イソニトリル配位子、ホスフィン配位子、ホスフィンオキシド配位子、ホスファイト配位子、エーテル配位子、スルホン配位子、スルホキシド配位子またはスルフィド配位子などが例として挙げられる。いずれの配位子もフッ素や塩素などのハロゲン原子が置換していても良い。 The monodentate ligand of the metal complex of the present invention includes a hydrogen atom, alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, acyl group, amide group, acid imide group, amino group, silyl group Group, carboxyl group, heterocyclic ligand, carbonyl ligand, alkene ligand, alkyne ligand, amine ligand, imine ligand, isonitrile ligand, phosphine ligand, phosphine oxide coordination Examples thereof include a child, a phosphite ligand, an ether ligand, a sulfone ligand, a sulfoxide ligand, or a sulfide ligand. Any ligand may be substituted by a halogen atom such as fluorine or chlorine.

アルキル基としては、直鎖、分岐または環状のいずれでもよい。炭素数は通常1〜10程度であり、好ましくは炭素数3〜10である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、 i−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基などが挙げられ、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基が好ましい。 The alkyl group may be linear, branched or cyclic. Carbon number is about 1-10 normally, Preferably it is C3-C10. Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl Group, nonyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, lauryl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, etc., and pentyl group Hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, decyl group and 3,7-dimethyloctyl group are preferred.

アルコキシ基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよい。炭素数は通常1〜10程度であり、好ましくは炭素数3〜10である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、 i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、メトキシメチルオキシ基、2−メトキシエチルオキシ基などが挙げられ、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基が好ましい。 The alkoxy group may be linear, branched or cyclic. Carbon number is about 1-10 normally, Preferably it is C3-C10. Specifically, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, Octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, perfluorobutoxy group, perfluorohexyl group, perfluorohexyl group Fluorooctyl group, methoxymethyloxy group, 2-methoxyethyloxy group, etc. are mentioned, and pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group preferable.

アルキルチオ基は、直鎖、分岐または環状のいずれでもよい。炭素数は通常1〜10程度であり、好ましくは炭素数3〜10である。具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、 i−プロピルチオ基、ブチルチオ基、 i−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7−ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基などが挙げられ、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、3,7−ジメチルオクチルチオ基が好ましい。 The alkylthio group may be linear, branched or cyclic. Carbon number is about 1-10 normally, Preferably it is C3-C10. Specifically, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, i-propylthio group, butylthio group, i-butylthio group, t-butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, cyclohexylthio group, heptylthio group, octylthio group, 2- Examples include ethylhexylthio group, nonylthio group, decylthio group, 3,7-dimethyloctylthio group, laurylthio group, trifluoromethylthio group and the like. Pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, 2-ethylhexylthio group, decylthio group, 3 , 7-dimethyloctylthio group is preferred.

アリール基は、炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは7〜48である。具体的には、フェニル基、C1〜C12アルコキシフェニル基(C1〜C12は、炭素数1〜12であることを示す。以下も同様である。)、C1〜C12アルキルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントラセニル基、2−アントラセニル基、9−アントラセニル基、ペンタフルオロフェニル基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル基、C1〜C12アルキルフェニル基が好ましい。ここに、アリール基とは、芳香族炭化水素から、水素原子1個を除いた原子団である。ここに芳香族炭化水素としては、縮合環をもつもの、独立したベンゼン環または縮合環2個以上が直接またはビニレン等の基を介して結合したものが含まれる。
1〜C12アルコキシとして具体的には、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、i−プロピルオキシ、ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、3,7−ジメチルオクチルオキシ、ラウリルオキシなどが例示される。
1〜C12アルキルフェニル基として具体的にはメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、プロピルフェニル基、メシチル基、メチルエチルフェニル基、i−プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、i−ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソアミルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基などが例示される。
The aryl group usually has about 6 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, a phenyl group, a C 1 to C 12 alkoxyphenyl group (C 1 to C 12 represents 1 to 12 carbon atoms, and the same shall apply hereinafter), C 1 to C 12 alkylphenyl. Groups, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthracenyl group, 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, pentafluorophenyl group, etc., and C 1 -C 12 alkoxyphenyl group, C 1 -C 12 Alkylphenyl groups are preferred. Here, the aryl group is an atomic group obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic hydrocarbon. Here, the aromatic hydrocarbon includes those having a condensed ring and those having two or more independent benzene rings or condensed rings bonded directly or via a group such as vinylene.
Specific examples of C 1 -C 12 alkoxy include methoxy, ethoxy, propyloxy, i-propyloxy, butoxy, i-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2 -Ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, 3,7-dimethyloctyloxy, lauryloxy and the like are exemplified.
C 1 -C 12 alkylphenyl group as specifically methylphenyl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, propylphenyl group, mesityl group, methylethylphenyl group, i- propylphenyl group, butylphenyl group, i- butyl Examples include phenyl group, t-butylphenyl group, pentylphenyl group, isoamylphenyl group, hexylphenyl group, heptylphenyl group, octylphenyl group, nonylphenyl group, decylphenyl group, dodecylphenyl group and the like.

アリールオキシ基としては、炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは7〜48である。具体的には、フェノキシ基、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェノキシ基、C1〜C12アルキルフェノキシ基が好ましい。
1〜C12アルコキシとして具体的には、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、i−プロピルオキシ、ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、3,7−ジメチルオクチルオキシ、ラウリルオキシなどが例示される。
1〜C12アルキルフェノキシ基として具体的にはメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、プロピルフェノキシ基、1,3,5−トリメチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、i−プロピルフェノキシ基、ブチルフェノキシ基、i−ブチルフェノキシ基、t−ブチルフェノキシ基、ペンチルフェノキシ基、イソアミルフェノキシ基、ヘキシルフェノキシ基、ヘプチルフェノキシ基、オクチルフェノキシ基、ノニルフェノキシ基、デシルフェノキシ基、ドデシルフェノキシ基などが例示される。
As an aryloxy group, carbon number is about 6-60 normally, Preferably it is 7-48. Specifically, a phenoxy group, C 1 -C 12 alkoxy phenoxy group, C 1 -C 12 alkylphenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, pentafluorophenyloxy group are exemplified, C 1 -C 12 alkoxy phenoxy group, C 1 -C 12 alkylphenoxy group are preferable.
Specific examples of C 1 -C 12 alkoxy include methoxy, ethoxy, propyloxy, i-propyloxy, butoxy, i-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2 -Ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, 3,7-dimethyloctyloxy, lauryloxy and the like are exemplified.
C 1 -C 12 alkylphenoxy such as methyl phenoxy groups as group, ethylphenoxy group, dimethylphenoxy group, propylphenoxy group, 1,3,5-methylphenoxy group, methylethylphenoxy group, i- propyl phenoxy group, Examples include butylphenoxy, i-butylphenoxy, t-butylphenoxy, pentylphenoxy, isoamylphenoxy, hexylphenoxy, heptylphenoxy, octylphenoxy, nonylphenoxy, decylphenoxy, dodecylphenoxy Is done.

アリールチオ基としては、炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、フェニルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニルチオ基、C1〜C12アルキルフェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニルチオ基、C1〜C12アルキルフェニルチオ基が好ましい。 As an arylthio group, carbon number is about 6-60 normally, Preferably it is C7-48. Specifically, a phenylthio group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl-thio group, C 1 -C 12 alkyl phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, pentafluorophenylthio group and the like, C 1 -C 12 alkoxy phenylthio group, C 1 -C 12 alkyl phenylthio group are preferable.

アシル基は、炭素数は通常2〜20程度であり、好ましくは炭素数2〜18である。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基などが例示される。 The acyl group usually has about 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 18 carbon atoms. Specific examples include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a benzoyl group, a trifluoroacetyl group, and a pentafluorobenzoyl group.

アミド基は、炭素数は通常2〜20程度であり、好ましくは炭素数2〜18である。具体的には、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基、などが例示される。   The amide group usually has about 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 18 carbon atoms. Specifically, formamide group, acetamide group, propioamide group, butyroamide group, benzamide group, trifluoroacetamide group, pentafluorobenzamide group, diformamide group, diacetamide group, dipropioamide group, dibutyroamide group, dibenzamide group, ditrifluoro Examples include an acetamide group and a dipentafluorobenzamide group.

酸イミド基としては、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を除いて得られる残基があげられ、通常炭素数2〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜48である。具体的には以下に示す基が例示される。

Figure 0005124942
The acid imide group includes a residue obtained by removing a hydrogen atom bonded to the nitrogen atom from an acid imide, and usually has about 2 to 60 carbon atoms, preferably 2 to 48 carbon atoms. Specific examples include the following groups.

Figure 0005124942

複素環配位子としては、0価でも1価でもよく、0価のものとしては例えば、2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン、2−(4−チオフェン−2−イル)ピリジン、2−(ベンゾチオフェン−2−イル)ピリジンなどが例示され、1価のものとしては例えば、フェニルピリジン、2-(パラフェニルフェニル)ピリジン、7−ブロモベンゾ[h]キノリン、2−(4−フェニルチオフェン−2−イル)ピリジン、2−フェニルベンゾオキサゾール、2-(パラフェニルフェニル)ベンゾオキサゾール、2−フェニルベンゾチアゾール、2−(パラフェニルフェニル)ベンゾチアゾールなどが例示される。
カルボニル配位子としては、一酸化炭素やアセトン、べンゾフェノンなどのケトン類、アセチルアセトン、アセナフトキノンなどのジケトン類、アセチルアセトナート、ジベンゾメチラート、テノイルトリフルオロアセトナートなどのアセトナート配位子などが例示される。
アルケン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセンまたはデセン等が挙げられる。
アルキン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、アセチレン、フェニルアセチレンまたはジフェニルアセチレン等が挙げられる。
アミン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、トリエチルアミンまたはトリブチルアミン等が挙げられる。
イミン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾフェノンイミンまたはメチルエチルケトンイミン等が挙げられる。
イソニトリル配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、t−ブチルイソニトリルまたはフェニルイソニトリル等が挙げられる。
ホスフィン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンまたはトリブチルホスフィン等が挙げられる。
ホスフィンオキシド配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、トリブチルホスフィンオキシドまたはトリフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
ホスファイト配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、トリフェニルホスファイト、トリトリルホスファイト、トリブチルホスファイトまたはトリエチルホスファイト等が挙げられる。
エーテル配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン等が挙げられる。
スルホン配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、ジメチルスルホンまたはジブチルスルホン等が挙げられる。
スルホキシド配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、ジメチルスルホキシドまたはジブチルスルホキシド等が挙げられる。
スルフィド配位子としては特に限定されるものではないが、例えば、エチルスルフィドまたはブチルスルフィド等が挙げられる。
The heterocyclic ligand may be zero-valent or monovalent, and examples of the zero-valent ligand include 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, 2- (4-thiophen-2-yl) pyridine, Examples include 2- (benzothiophen-2-yl) pyridine and the like, and monovalent ones include, for example, phenylpyridine, 2- (paraphenylphenyl) pyridine, 7-bromobenzo [h] quinoline, 2- (4-phenyl) Examples include thiophen-2-yl) pyridine, 2-phenylbenzoxazole, 2- (paraphenylphenyl) benzoxazole, 2-phenylbenzothiazole, 2- (paraphenylphenyl) benzothiazole and the like.
Carbonyl ligands include ketones such as carbon monoxide, acetone and benzophenone, diketones such as acetylacetone and acenaphthoquinone, acetonate ligands such as acetylacetonate, dibenzomethylate, and tenoyltrifluoroacetonate. Illustrated.
The alkene ligand is not particularly limited, and examples thereof include ethylene, propylene, butene, hexene, and decene.
Although it does not specifically limit as an alkyne ligand, For example, acetylene, phenyl acetylene, diphenyl acetylene, etc. are mentioned.
Although it does not specifically limit as an amine ligand, For example, a triethylamine, a tributylamine, etc. are mentioned.
The imine ligand is not particularly limited, and examples thereof include benzophenone imine and methyl ethyl ketone imine.
The isonitrile ligand is not particularly limited, and examples thereof include t-butyl isonitrile and phenyl isonitrile.
The phosphine ligand is not particularly limited, and examples thereof include triphenylphosphine, tolylphosphine, tricyclohexylphosphine, and tributylphosphine.
Although it does not specifically limit as a phosphine oxide ligand, For example, a tributyl phosphine oxide or a triphenyl phosphine oxide etc. are mentioned.
Although it does not specifically limit as a phosphite ligand, For example, a triphenyl phosphite, a tolyl phosphite, a tributyl phosphite, a triethyl phosphite etc. are mentioned.
The ether ligand is not particularly limited, and examples thereof include dimethyl ether, diethyl ether, and tetrahydrofuran.
The sulfone ligand is not particularly limited, and examples thereof include dimethyl sulfone and dibutyl sulfone.
The sulfoxide ligand is not particularly limited, and examples thereof include dimethyl sulfoxide and dibutyl sulfoxide.
The sulfide ligand is not particularly limited, and examples thereof include ethyl sulfide and butyl sulfide.

単座配位子としては、芳香環を有している(芳香環を有する単座配位子である)ことが好ましく、当該芳香環構造内(芳香環中)に、配位原子を含むことがより好ましく、さらには芳香環中の配位原子が炭素または窒素であるか、芳香環が縮合環であることが好ましい。 The monodentate ligand preferably has an aromatic ring (a monodentate ligand having an aromatic ring), and more preferably includes a coordination atom in the aromatic ring structure (in the aromatic ring). More preferably, the coordination atom in the aromatic ring is carbon or nitrogen, or the aromatic ring is a condensed ring.

発光効率の観点から、芳香環中の配位原子が炭素または窒素である単座配位子としては、下記式(S−1)に示される構造であることが好ましい。 From the viewpoint of luminous efficiency, the monodentate ligand in which the coordination atom in the aromatic ring is carbon or nitrogen is preferably a structure represented by the following formula (S-1).

Figure 0005124942

〔上記式(S−1)中、*は金属に配位している原子を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基またはシアノ基を示す。〕
Figure 0005124942

[In the above formula (S-1), * represents an atom coordinated to a metal, and R is independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, Arylalkyl group, arylalkoxy group, arylalkylthio group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, amino group, substituted amino group, silyl group, substituted silyl group, halogen atom, acyl group, acyloxy group, imine residue, amide group, An acid imide group, a monovalent heterocyclic group, a carboxyl group, a substituted carboxyl group or a cyano group is shown. ]

ここにアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基、アミド基、酸イミド基としては前記と同様の基を表す。 Here, the alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, acyl group, amide group, and acid imide group represent the same groups as described above.

アリールアルキル基は、炭素数は通常7〜60程度であり、好ましくは7〜48である。具体的には、フェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキル基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル基が好ましい。 The arylalkyl group usually has about 7 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, phenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl group are preferable.

アリールアルコキシ基は、炭素数は通常7〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、フェニルブトキシ基、フェニルペンチロキシ基、フェニルヘキシロキシ基、フェニルヘプチロキシ基、フェニルオクチロキシ基などのフェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルコキシ基、1−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基、2−ナフチル−C1〜C12アルコキシ基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルコキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルコキシ基が好ましい。 The arylalkoxy group usually has about 7 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, phenyl-C 1 -C 12 alkoxy groups such as phenylmethoxy group, phenylethoxy group, phenylbutoxy group, phenylpentyloxy group, phenylhexyloxy group, phenylheptyloxy group, phenyloctyloxy group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkoxy group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkoxy groups, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkoxy groups, 2-naphthyl -C 1 ~ such as C 12 alkoxy groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkoxy group, a C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkoxy group are preferred.

アリールアルキルチオ基は、炭素数は通常7〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、フェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルチオ基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルチオ基が好ましい。 The arylalkylthio group usually has about 7 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, phenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylthio groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylthio group are preferable.

アリールアルケニル基は、炭素数は通常7〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、フェニル−C2〜C12アルケニル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C2〜C12アルケニル基、C1〜C12アルキルフェニル−C2〜C12アルケニル基、1−ナフチル−C2〜C12アルケニル基、2−ナフチル−C2〜C12アルケニル基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C2〜C12アルケニル基、C2〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルケニル基が好ましい。 The arylalkenyl group usually has about 7 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, phenyl -C 2 -C 12 alkenyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 2 -C 12 alkenyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 2 -C 12 alkenyl group, 1-naphthyl -C 2 -C 12 alkenyl group, 2-naphthyl -C 2 -C 12 alkenyl groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 2 -C 12 alkenyl group, C 2 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkenyl groups are preferred.

アリールアルキニル基は、炭素数は通常7〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、フェニル−C2〜C12アルキニル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C2〜C12アルキニル基、C1〜C12アルキルフェニル−C2〜C12アルキニル基、1−ナフチル−C2〜C12アルキニル基、2−ナフチル−C2〜C12アルキニル基などが例示され、C1〜C12アルコキシフェニル−C2〜C12アルキニル基、C1〜C12アルキルフェニル−C2〜C12アルキニル基が好ましい。 The arylalkynyl group usually has about 7 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, phenyl -C 2 -C 12 alkynyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 2 -C 12 alkynyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 2 -C 12 alkynyl group, 1-naphthyl -C 2 -C 12 alkynyl group, 2-naphthyl -C 2 -C 12 alkynyl groups and the like, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 2 -C 12 alkynyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 2 -C 12 alkynyl group are preferable.

置換アミノ基は、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基から選ばれる1または2個の基で置換されたアミノ基をいい、該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。炭素数は該置換基の炭素数を含めないで通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜48である。
具体的には、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、i−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、i−ブチルアミノ基、t−ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7−ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル)アミノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基フェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルアミノ基、ジ(C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、ジ(C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキル)アミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルアミノ基などが例示される。
The substituted amino group refers to an amino group substituted with one or two groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group or a monovalent heterocyclic group, and the alkyl group, aryl group, arylalkyl group or The monovalent heterocyclic group may have a substituent. Carbon number is about 1-60 normally without including carbon number of this substituent, Preferably it is C2-48.
Specifically, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, propylamino group, dipropylamino group, i-propylamino group, diisopropylamino group, butylamino group, i-butylamino group, t -Butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, cyclohexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, nonylamino group, decylamino group, 3,7-dimethyloctylamino group, laurylamino group, cyclopentylamino group, dicyclopentylamino group, cyclohexylamino group, dicyclohexylamino group, pyrrolidyl group, piperidyl group, ditrifluoromethylamino group, phenylamino group, diphenylamino group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl amino group, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl) amino groups, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, pentafluorophenylamino group, pyridylamino group, pyridazinylamino group , pyrimidylamino group, Pirajiruamino group, triazyl amino group phenyl -C 1 -C 12 alkylamino group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylamino group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 ~ C 12 alkylamino groups, di (C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino group, di (C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl) amino groups, 1-naphthyl - C 1 -C 12 alkylamino group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylamino groups.

置換シリル基は、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリル基をいい、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜48である。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。
具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ−i−プロピルシリル基、ジメチル−i−プロピリシリル基、ジエチル−i−プロピルシリル基、t−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリル基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリル基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが例示される。
The substituted silyl group means a silyl group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group or a monovalent heterocyclic group, and usually has about 1 to 60 carbon atoms. Yes, preferably 3 to 48 carbon atoms. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent.
Specifically, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, tripropylsilyl group, tri-i-propylsilyl group, dimethyl-i-propylsilyl group, diethyl-i-propylsilyl group, t-butylsilyldimethylsilyl group, pentyldimethyl Silyl group, hexyldimethylsilyl group, heptyldimethylsilyl group, octyldimethylsilyl group, 2-ethylhexyl-dimethylsilyl group, nonyldimethylsilyl group, decyldimethylsilyl group, 3,7-dimethyloctyl-dimethylsilyl group, lauryldimethylsilyl group, a phenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, 2-naphthyl C 1 -C 12 alkylsilyl group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, tri -p- Kishirirushiriru group, tribenzylsilyl group, diphenylmethylsilyl group, t- butyl diphenyl silyl group, Examples thereof include a dimethylphenylsilyl group.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示される。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アシルオキシ基は、炭素数は通常2〜20程度であり、好ましくは炭素数2〜18である。具体的には、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基などが例示される。   The acyloxy group usually has about 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 18 carbon atoms. Specific examples include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, and a pentafluorobenzoyloxy group.

イミン残基としては、イミン化合物( 分子内に、−N=C-を持つ有機化合物のことをいう。その例として、アルジミン、ケチミン及びこれらのN上の水素原子が、アルキル基等で置換された化合物があげられる)から水素原子1個を除いた残基があげられ、通常炭素数2〜20程度であり、好ましくは炭素数2〜18である。具体的には、以下の構造式で示される基などが例示される。

Figure 0005124942
The imine residue is an imine compound (refers to an organic compound having —N═C— in the molecule. Examples thereof include aldimine, ketimine, and a hydrogen atom on these N substituted with an alkyl group or the like. And a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound, usually having about 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 18 carbon atoms. Specific examples include groups represented by the following structural formulas.

Figure 0005124942

1価の複素環基とは、複素環化合物から水素原子1個を除いた残りの原子団をいい、炭素数は通常4〜60程度であり、好ましくは4〜20である。なお、複素環基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。ここに複素環化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素、硫黄、窒素、燐、硼素などのヘテロ原子を環内に含むものをいう。具体的には、チエニル基、C1〜C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1〜C12アルキルピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基などが例示され、チエニル基、C1〜C12アルキルチエニル基、ピリジル基、C1〜C12アルキルピリジル基が好ましい。 The monovalent heterocyclic group refers to a remaining atomic group obtained by removing one hydrogen atom from a heterocyclic compound, and usually has about 4 to 60 carbon atoms, preferably 4 to 20 carbon atoms. The carbon number of the heterocyclic group does not include the carbon number of the substituent. Here, the heterocyclic compound is an organic compound having a cyclic structure in which the elements constituting the ring include not only carbon atoms but also hetero atoms such as oxygen, sulfur, nitrogen, phosphorus, boron, etc. in the ring. Say. Specifically, a thienyl group, C 1 -C 12 alkyl thienyl group, a pyrrolyl group, a furyl group, a pyridyl group, C 1 -C 12 alkyl pyridyl group, piperidyl group, quinolyl group, isoquinolyl group and the like, a thienyl group , C 1 -C 12 alkyl thienyl group, a pyridyl group, a C 1 -C 12 alkyl pyridyl group are preferable.

置換カルボキシル基は、通常炭素数2〜60程度であり、好ましくは炭素数2〜48である。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基で置換されたカルボキシル基をいい、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、i−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシロキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシロキシカルボニル基、3,7−ジメチルオクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロエトキシカルボニル基、パーフルオロブトキシカルボニル基、パーフルオロヘキシルオキシカルボニル基、パーフルオロオクチルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、などが挙げられる。なお該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基または1価の複素環基は置換基を有していてもよい。置換カルボキシル基の炭素数には該置換基の炭素数は含まれない。
The substituted carboxyl group usually has about 2 to 60 carbon atoms, preferably 2 to 48 carbon atoms. A carboxyl group substituted with an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group or a monovalent heterocyclic group, which is a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an i-propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, an i-butoxy Carbonyl group, t-butoxycarbonyl group, pentyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, heptyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, nonyloxycarbonyl group, decyloxycarbonyl Group, 3,7-dimethyloctyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, trifluoromethoxycarbonyl group, pentafluoroethoxycarbonyl group, perfluorobutoxycarbonyl , Perfluorohexyloxy carbonyl group, perfluorooctyloxy carbonyl group, pyridyloxy carbonyl group, naphthoxycarbonyl group, pyridyloxycarbonyl group, and the like. The alkyl group, aryl group, arylalkyl group or monovalent heterocyclic group may have a substituent. The carbon number of the substituted carboxyl group does not include the carbon number of the substituent.

発光効率の観点から、縮合環である単座配位子としては、下記式(S−2)に示される構造であることが好ましい。 From the viewpoint of luminous efficiency, the monodentate ligand which is a condensed ring is preferably a structure represented by the following formula (S-2).


Figure 0005124942

〔上記式(S−2)中、*は金属に配位している原子を表し、Rは前記と同様の基を表す。〕
Figure 0005124942

[In the formula (S-2), * represents an atom coordinated to a metal, and R represents the same group as described above. ]

合成上の観点から、式(S−1)および(S−2)中、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることが好ましい。 From the viewpoint of synthesis, in the formulas (S-1) and (S-2), R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.

特に下記式(1)〜(3)で示される3座配位子が縮合環を含まない場合は、単座配位子が縮合環を有していることが好ましい。 In particular, when the tridentate ligand represented by the following formulas (1) to (3) does not contain a condensed ring, the monodentate ligand preferably has a condensed ring.

次に、三座配位子について説明する。本発明の金属錯体は、1個以上の芳香環を含みかつ環構造内に3個の配位原子を含む3座配位子を有する。
この3座配位子が1個の芳香環を含む場合は、この芳香環の環構造内に3個の配位原子を含み、2個の芳香環を含む場合は一方の環に1個の配位原子を含み、もう一方の環に2個の配位原子を含む。3座配位子が3個の芳香環を含む場合は、例えば、各々の環が1個の配位原子を含む。このとき、3座配位子が含む芳香環の数には、置換基に含まれる芳香環の数は含まない。
Next, the tridentate ligand will be described. The metal complex of the present invention has a tridentate ligand containing one or more aromatic rings and three coordinating atoms in the ring structure.
When this tridentate ligand contains one aromatic ring, it contains three coordinating atoms within the ring structure of this aromatic ring, and when it contains two aromatic rings, one ring per ring It contains a coordination atom and the other ring contains two coordination atoms. When the tridentate ligand contains three aromatic rings, for example, each ring contains one coordinating atom. At this time, the number of aromatic rings contained in the tridentate ligand does not include the number of aromatic rings contained in the substituent.

本発明の金属錯体が有する3座配位子が含む芳香環は置換基を有していてもよく、
該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基、シアノ基等があげられる。三座配位子の芳香環上に置換基が複数個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
The aromatic ring contained in the tridentate ligand of the metal complex of the present invention may have a substituent,
Examples of the substituent include a halogen atom, alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkoxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid Imido group, imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, substituted silyloxy group, substituted silylthio group, substituted silylamino group, monovalent heterocyclic group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, arylalkenyl group, arylalkynyl group , Substituted carboxyl group, cyano group and the like. When a plurality of substituents are present on the aromatic ring of the tridentate ligand, they may be the same or different.

ここに、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、1価の複素環基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基および置換カルボキシル基としては前記と同様の基である。 Here, halogen atom, alkyl group, alkoxy group, alkylthio group, aryl group, aryloxy group, arylthio group, arylalkyl group, arylalkoxy group, arylalkylthio group, acyl group, acyloxy group, amide group, acid imide group, The imine residue, substituted amino group, substituted silyl group, monovalent heterocyclic group, arylalkenyl group, arylalkynyl group and substituted carboxyl group are the same groups as described above.

置換シリルオキシ基は、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基または1価の複素環オキシ基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリルオキシ基をいい、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜48である。なお該アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルコキシ基または1価の複素環オキシ基は置換基を有していてもよい。
具体的には、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリプロピルシリルオキシ基、トリ−i−プロピルシリルオキシ基、ジメチル−i−プロピリシリルオキシ基、ジエチル−i−プロピルシリルオキシ基、t−ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリルオキシ基、ヘキシルジメチルシリルオキシ基、ヘプチルジメチルシリルオキシ基、オクチルジメチルシリルオキシ基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリルオキシ基、ノニルジメチルシリルオキシ基、デシルジメチルシリルオキシ基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリルオキシ基、ラウリルジメチルシリルオキシ基、フェニル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基などが例示される。
The substituted silyloxy group refers to a silyloxy group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkoxy group, an aryloxy group, an arylalkoxy group or a monovalent heterocyclic oxy group, and usually has 1 to 60 carbon atoms. About 3 to 48 carbon atoms. The alkoxy group, aryloxy group, arylalkoxy group or monovalent heterocyclic oxy group may have a substituent.
Specifically, trimethylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, tripropylsilyloxy group, tri-i-propylsilyloxy group, dimethyl-i-propylsilyloxy group, diethyl-i-propylsilyloxy group, t- Butylsilyldimethylsilyl group, pentyldimethylsilyloxy group, hexyldimethylsilyloxy group, heptyldimethylsilyloxy group, octyldimethylsilyloxy group, 2-ethylhexyl-dimethylsilyloxy group, nonyldimethylsilyloxy group, decyldimethylsilyloxy group , 3,7-dimethyl octyl - dimethyl silyl group, lauryl dimethyl silyloxy group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyl silyloxy groups, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkyl silyloxy groups, C 1 to C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkyl silyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl silyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkyl silyloxy group, phenyl -C 1 -C 12 alkyl Examples include dimethylsilyloxy group, triphenylsilyloxy group, tri-p-xylylsilyloxy group, tribenzylsilyloxy group, diphenylmethylsilyloxy group, t-butyldiphenylsilyloxy group, and dimethylphenylsilyloxy group. The

置換シリルチオ基は、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基または1価の複素環チオ基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリルチオ基をいい、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜48である。なお該アルコキシ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基または1価の複素環チオ基は置換基を有していてもよい。
具体的には、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリプロピルシリルチオ基、トリ−i−プロピルシリルチオ基、ジメチル−i−プロピリシリルチオ基、ジエチル−i−プロピルシリルチオ基、t−ブチルシリルジメチルシリルチオ基、ペンチルジメチルシリルチオ基、ヘキシルジメチルシリルチオ基、ヘプチルジメチルシリルチオ基、オクチルジメチルシリルチオ基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリルチオ基、ノニルジメチルシリルオチオ基、デシルジメチルシリルチオ基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリルチオ基、ラウリルジメチルシリルチオ基、フェニル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリルチオ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリルチオ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルチオ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルチオ基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、t−ブチルジフェニルシリルオチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基などが例示される。
The substituted silylthio group means a silylthio group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkylthio group, an arylthio group, an arylalkylthio group or a monovalent heterocyclic thio group, and usually has about 1 to 60 carbon atoms. And preferably has 3 to 48 carbon atoms. The alkoxy group, arylthio group, arylalkylthio group or monovalent heterocyclic thio group may have a substituent.
Specifically, trimethylsilylthio group, triethylsilylthio group, tripropylsilylthio group, tri-i-propylsilylthio group, dimethyl-i-propylsilylthio group, diethyl-i-propylsilylthio group, t-butyl Silyldimethylsilylthio group, pentyldimethylsilylthio group, hexyldimethylsilylthio group, heptyldimethylsilylthio group, octyldimethylsilylthio group, 2-ethylhexyl-dimethylsilylthio group, nonyldimethylsilylothio group, decyldimethylsilylthio group group, a 3,7-- dimethylsilylene group, a heteroarylthio group, lauryl dimethylsilylene thio group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyl silyloxy group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylsilylthio group, C 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 ~ 12 alkylsilylthio group, a 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilylthio group, a 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilylthio group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyl dimethylsilylene group, a heteroarylthio group, triphenyl Siri Examples include a ruthio group, a tri-p-xylylsilylthio group, a tribenzylsilylthio group, a diphenylmethylsilylthio group, a t-butyldiphenylsilylothio group, and a dimethylphenylsilylthio group.

置換シリルアミノ基は、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基または1価の複素環アミノ基から選ばれる1、2または3個の基で置換されたシリルアミノ基をいい、炭素数は通常1〜60程度であり、好ましくは炭素数3〜48である。なお該アルコキシ基、アリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基または1価の複素環アミノ基は置換基を有していてもよい。
具体的には、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリプロピルシリルアミノ基、トリ−i−プロピルシリルアミノ基、ジメチル−i−プロピリシリルアミノ基、ジエチル−i−プロピルシリルアミノ基、t−ブチルシリルジメチルシリルアミノ基、ペンチルジメチルシリルアミノ基、ヘキシルジメチルシリルアミノ基、ヘプチルジメチルシリルアミノ基、オクチルジメチルシリルアミノ基、2−エチルヘキシル−ジメチルシリルアミノ基、ノニルジメチルシリルオアミノ基、デシルジメチルシリルアミノ基、3,7−ジメチルオクチル−ジメチルシリルアミノ基、ラウリルジメチルシリルアミノ基、フェニル−C1〜C12アルキルシリルオキシ基、C1〜C12アルコキシフェニル−C1〜C12アルキルシリルアミノ基、C1〜C12アルキルフェニル−C1〜C12アルキルシリルアミノ基、1−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルアミノ基、2−ナフチル−C1〜C12アルキルシリルアミノ基、フェニル−C1〜C12アルキルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ−p−キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、t−ブチルジフェニルシリルオアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基などが例示される。
The substituted silylamino group means a silylamino group substituted with 1, 2 or 3 groups selected from an alkylamino group, an arylamino group, an arylalkylamino group or a monovalent heterocyclic amino group. It is about -60, Preferably it is C3-C48. The alkoxy group, arylamino group, arylalkylamino group or monovalent heterocyclic amino group may have a substituent.
Specifically, trimethylsilylamino group, triethylsilylamino group, tripropylsilylamino group, tri-i-propylsilylamino group, dimethyl-i-propylsilylamino group, diethyl-i-propylsilylamino group, t- Butylsilyldimethylsilylamino group, pentyldimethylsilylamino group, hexyldimethylsilylamino group, heptyldimethylsilylamino group, octyldimethylsilylamino group, 2-ethylhexyl-dimethylsilylamino group, nonyldimethylsilylamino group, decyldimethylsilyl amino group, a 3,7-- dimethylsilyl group, lauryl dimethylsilyl group, a phenyl -C 1 -C 12 alkyl silyloxy group, C 1 -C 12 alkoxyphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl amino group , 1 -C 12 alkylphenyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, 1-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, 2-naphthyl -C 1 -C 12 alkylsilyl group, a phenyl -C 1 ~ C 12 alkyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, tri -p- xylyl silyl group, tribenzylsilyl group, diphenylmethylsilyl amino group, t- butyl diphenyl silyl Oh amino group, a dimethylphenyl silyl amino group Etc. are exemplified.

ヘテロアリールオキシ基としては、炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは7〜48である。具体的には、チエニル基、C1〜C12アルコキシチエニル基、C1〜C12アルキルチエニル基、ピリジルオキシ基、ピリジルオキシ基、イソキノリルオキシ基などが例示され、C1〜C12アルコキシピリジル基、C1〜C12アルキルピリジル基が好ましい。
1〜C12アルコキシとして具体的には、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、i−プロピルオキシ、ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、3,7−ジメチルオクチルオキシ、ラウリルオキシなどが例示される。
1〜C12アルキルピリジルオキシ基として具体的にはメチルピリジルオキシ基、エチルピリジルオキシ基、ジメチルピリジルオキシ基、プロピルピリジルオキシ基、1,3,5−トリメチルピリジルオキシ基、メチルエチルピリジルオキシ基、i−プロピルピリジルオキシ基、ブチルピリジルオキシ基、i−ブチルピリジルオキシ基、t−ブチルピリジルオキシ基、ペンチルピリジルオキシ基、イソアミルピリジルオキシ基、ヘキシルピリジルオキシ基、ヘプチルピリジルオキシ基、オクチルピリジルオキシ基、ノニルピリジルオキシ基、デシルピリジルオキシ基、ドデシルピリジルオキシ基などが例示される。
As heteroaryloxy group, carbon number is about 6-60 normally, Preferably it is 7-48. Specifically, a thienyl group, C 1 -C 12 alkoxide Shichie alkenyl group, C 1 -C 12 alkyl thienyl group, a pyridyloxy group, a pyridyloxy group, etc. isoquinolyloxy group and the like, C 1 -C 12 alkoxy a pyridyl group, a C 1 -C 12 alkyl pyridyl group are preferable.
Specific examples of C 1 -C 12 alkoxy include methoxy, ethoxy, propyloxy, i-propyloxy, butoxy, i-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy, octyloxy, 2 -Ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, 3,7-dimethyloctyloxy, lauryloxy and the like are exemplified.
C 1 -C 12 alkyl pyridyl group as such as methyl pyridyl group, ethyl pyridyloxy group, dimethylpyridyl group, propyl pyridyloxy group, 1,3,5-trimethyl-pyridyl group, methyl ethyl pyridyl group I-propylpyridyloxy group, butylpyridyloxy group, i-butylpyridyloxy group, t-butylpyridyloxy group, pentylpyridyloxy group, isoamylpyridyloxy group, hexylpyridyloxy group, heptylpyridyloxy group, octylpyridyloxy group Group, nonylpyridyloxy group, decylpyridyloxy group, dodecylpyridyloxy group and the like.

ヘテロアリールチオ基としては、炭素数は通常6〜60程度であり、好ましくは炭素数7〜48である。具体的には、ピリジルチオ基、C1〜C12アルコキシピリジルチオ基、C1〜C12アルキルピリジルチオ基、イソキノリルチオ基などが例示され、C1〜C12アルコキシピリジルチオ基、C1〜C12アルキルピリジルチオ基が好ましい。 The heteroarylthio group usually has about 6 to 60 carbon atoms, preferably 7 to 48 carbon atoms. Specifically, pyridylthio, C 1 -C 12 alkoxy pyridylthio group, C 1 -C 12 alkylpyridylthio group, isoquinolylthio group and the like, C 1 -C 12 alkoxy pyridylthio group, C 1 -C 12 Alkylpyridylthio groups are preferred.

本発明の金属錯体としては、下記一般式(1)、(2)または(3)で表される構造と単座配位子とを有する金属錯体が好ましい。

Figure 0005124942

(1)

〔式中、Mは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属を表し、A環、B環およびC環はそれぞれ独立に芳香環を表し、各々の環構造内に存在しているX1、Y1およびZ1は、それぞれ独立に金属Mへの配位原子を表わす。fおよびgはそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルケニレン基または炭素数1〜6のアルキニレン基を表し、該アルキレン基、該アルケニレン基および該アルキニレン基の炭素原子がそれぞれ酸素原子または硫黄原子で置換されていてもよい。mおよびnはそれぞれ独立に0または1を表す。〕

Figure 0005124942

(2)

〔式中、Mは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属を表し、D環およびE環は、それぞれ独立に芳香環を表し、各々の環構造内に存在しているX2、Y2およびZ2は、それぞれ独立に金属Mへの配位原子を表わし、hは炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルケニレン基または炭素数1〜6のアルキニレン基を表し、該アルキレン基、該アルケニレン基および該アルキニレン基の炭素原子がそれぞれ酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよく、oは0または1を表す。〕

Figure 0005124942

(3)
〔式中、Mは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属を表し、F環は芳香環を表し、環構造内に存在するX3,Y3およびZ3は、それぞれ独立に金属Mへの配位原子を表わす。〕 As the metal complex of the present invention, a metal complex having a structure represented by the following general formula (1), (2) or (3) and a monodentate ligand is preferable.

Figure 0005124942

(1)

[Wherein, M represents a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au, and a lanthanoid, A ring, B ring and C ring each independently represent an aromatic ring, X 1 , Y 1 and Z 1 existing in the ring structure of each independently represent a coordination atom to the metal M. f and g each independently represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkynylene group having 1 to 6 carbon atoms, and the carbon atoms of the alkylene group, the alkenylene group and the alkynylene group Each may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom. m and n each independently represents 0 or 1. ]

Figure 0005124942

(2)

[Wherein, M represents a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au, and a lanthanoid, D ring and E ring each independently represent an aromatic ring, X 2 , Y 2 and Z 2 present in the structure each independently represent a coordination atom to the metal M, and h represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms, or Represents an alkynylene group having 1 to 6 carbon atoms, and the carbon atom of the alkylene group, the alkenylene group and the alkynylene group may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom, respectively, and o represents 0 or 1. ]

Figure 0005124942

(3)
[Wherein M represents a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au, and a lanthanoid, the F ring represents an aromatic ring, and X 3 , Y existing in the ring structure 3 and Z 3 each independently represent a coordination atom to the metal M. ]

上記式(1)におけるMは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属であり、その具体例としては、Sc、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Os、Ir、Au、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luが例としてあげられ、高効率を得るという観点から、Ru,Rh,W,Os,Ir,Au,Eu、Tbが好ましく、さらにW,Os,Ir,Auが好ましく、さらに好ましくはW,Auであり、Auが最も好ましい。   M in the above formula (1) is a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au and lanthanoid, and specific examples thereof include Sc, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Hf, Ta, W, Os, Ir, Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are examples. From the viewpoint of obtaining high efficiency, Ru, Rh, W, Os, Ir, Au, Eu, and Tb are preferable. W, Os, Ir and Au are preferable, W and Au are more preferable, and Au is most preferable.

上記式(1)におけるA環、B環およびC環はそれぞれ独立に芳香環を表す。
芳香環としては、芳香族炭化水素環、複素芳香環があげられる。芳香環は単環であっても、縮合環であってもよい。
In the above formula (1), A ring, B ring and C ring each independently represent an aromatic ring.
Examples of the aromatic ring include an aromatic hydrocarbon ring and a heteroaromatic ring. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring.

単環の芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼンがあげられる。
縮合環の芳香族炭化水素環としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン等があげられる。
単環の複素芳香環としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、キノリン等があげられる
縮合環の複素芳香環としては、例えば、キノキサリン、フェナントロリン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール等があげられる。
Examples of the monocyclic aromatic hydrocarbon ring include benzene.
Examples of the condensed aromatic hydrocarbon ring include naphthalene, anthracene, phenanthrene, and the like.
Examples of the monocyclic heteroaromatic ring include pyridine, pyrimidine, pyridazine, and quinoline. Examples of the condensed heteroaromatic ring include quinoxaline, phenanthroline, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, and dibenzosilole. .

式(1)において、A環のX1、B環のX2、C環のX3は、各々の環構造内に含まれる、金属(M)への配位原子である。
配位原子としては、炭素原子、窒素原子、酸素原子、珪素原子、硫黄原子、リン原子、ヒ素原子、セレン原子が挙げられ、炭素原子、窒素原子、酸素原子、珪素原子、硫黄原子、リン原子が好ましく、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子がさらに好ましい。
In formula (1), X 1 of the A ring, B X 2, C X 3 rings rings, are included within each ring structure is a coordinating atom to the metal (M).
Examples of the coordination atom include a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, an arsenic atom, and a selenium atom, and a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Are preferable, and a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom are more preferable.

B環の具体例として、芳香族炭化水素環としては以下のものがあげられる。

Figure 0005124942

〔上記中のRおよび*は前記と同様の意味を表す。〕
Specific examples of the B ring include the following aromatic hydrocarbon rings.

Figure 0005124942

[R and * in the above represent the same meaning as described above. ]

また、B環の具体例として、複素芳香環としては、以下のものが例示される(B13〜B62)。

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

〔上記式中 R、*は前記と同じ意味を表す。〕 Moreover, the following are illustrated as a heteroaromatic ring as a specific example of B ring (B13-B62).

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

[Wherein R and * represent the same meaning as described above. ]

A環、C環の具体例としては上記B環具体例のそれぞれの結合手のひとつが置換基Rに置換された基が例示される。 Specific examples of the A ring and the C ring include groups in which one of the bonds in each of the B ring specific examples is substituted with the substituent R.

式(1)において、mおよびnはそれぞれ独立に0または1を表し、fおよびgはそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルケニレン基または炭素数1〜6のアルキニレン基を表し、該アルキレン基、該アルケニレン基および該アルキニレン基の炭素原子がそれぞれ酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよい。 In Formula (1), m and n each independently represent 0 or 1, and f and g each independently represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkynylene group, and the carbon atom of the alkylene group, the alkenylene group and the alkynylene group may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom, respectively.

ここに、炭素数1〜6のアルキレン基としては、−CH2−、−C2H4−、−C3H6−、−C4H8−、があげられる。炭素原子(の一部)が酸素に置換されているものとしては、−OCH2−、−CH2OC2H4−、があげられ、炭素原子(の一部)が硫黄に置換されているものとしては、−SCH2−、−CH2SC2H4−、があげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms include —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —C 3 H 6 —, and —C 4 H 8 —. Examples of the carbon atom (part of which) is substituted with oxygen include —OCH 2 — and —CH 2 OC 2 H 4 —, and the carbon atom (part of) is substituted with sulfur. Examples thereof include —SCH 2 — and —CH 2 SC 2 H 4 —.

炭素数1〜6のアルケニレン基としては、−CH=CH−CH2−、−CH=CH−C2H4−、−CH2−CH=CH−C2H4−、があげられる。炭素原子(の一部)が酸素に置換されているものとしては−CH=CH−CH2O−があげられ、炭素原子(の一部)が硫黄に置換されているものとしては、−CH=CH−CH2S−があげられる。 Examples of the alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms include —CH═CH—CH 2 —, —CH═CH—C 2 H 4 —, and —CH 2 —CH═CH—C 2 H 4 —. An example in which (a part of) a carbon atom is substituted with oxygen is —CH═CH—CH 2 O—, and an example in which (a part of) a carbon atom is substituted with sulfur is —CH = CH-CH 2 S-.

炭素数1〜6のアルキニレン基としては−C≡C−CH2−、−C≡C−C2H4−、−CH2−C≡C−C2H4−があげられる。炭素原子(の一部)が酸素に置換されているものとしては−CH≡CH−CH2O−があげられ、炭素原子(の一部)が硫黄に置換されているものとしては、
−CH≡CH−CH2S−
があげられる。
Examples of the alkynylene group having 1 to 6 carbon atoms include —C≡C—CH 2 —, —C≡C—C 2 H 4 —, and —CH 2 —C≡C—C 2 H 4 —. Examples of the carbon atom (part of which) is substituted with oxygen include —CH≡CH—CH 2 O—, and the carbon atom (part of) of which is substituted with sulfur include
-CH≡CH-CH 2 S-
Can be given.

上記式(1)の3座配位子としては以下のものが例示される。

Figure 0005124942
The following are illustrated as a tridentate ligand of the said Formula (1).

Figure 0005124942


Figure 0005124942

Figure 0005124942


Figure 0005124942

Figure 0005124942


Figure 0005124942

Figure 0005124942


Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942


Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

〔上記式中 R、*は前記と同じ意味を表す。〕

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

[Wherein R and * represent the same meaning as described above. ]

合成上の観点から、A環、B環、C環は単環の芳香族炭化水素環または単環の複素環であることが好ましい。
From the viewpoint of synthesis, the A ring, the B ring, and the C ring are preferably monocyclic aromatic hydrocarbon rings or monocyclic heterocycles.

次に式(2)の構造を有する金属錯体について説明する。
式(2)において、Mは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属であり、その具体例としては、Sc、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Os、Ir、Au、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luが例としてあげられ、高効率を得るという観点から、Ru,Rh,W,Os,Ir,Au,Eu、Tbが好ましく、さらにW,Os,Ir,Auが好ましく、さらに好ましくはW,Auであり、Auが最も好ましい。
Next, the metal complex having the structure of the formula (2) will be described.
In the formula (2), M is a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au, and a lanthanoid. Specific examples thereof include Sc, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Hf, Ta, W, Os, Ir, Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are examples. From the viewpoint of obtaining high efficiency, Ru, Rh, W, Os, Ir, Au, Eu, and Tb are preferable. W, Os, Ir and Au are preferable, W and Au are more preferable, and Au is most preferable.

式(2)において、D環およびE環はそれぞれ独立に芳香環を表し、各々の環構造内に存在しているX2、Y2およびZ2は、それぞれ独立に金属Mへの配位原子を表わし、hは炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルケニレン基または炭素数1〜6のアルキニレン基を表し、該アルキレン基、該アルケニレン基および該アルキニレン基の炭素原子がそれぞれ酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよく、oは0または1を表す。
ここに、芳香環、炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルケニレン基または炭素数1〜6のアルキニレン基の定義、具体例は、式(1)におけるそれらの定義、具体例と同様である。
In the formula (2), the D ring and the E ring each independently represent an aromatic ring, and X 2 , Y 2, and Z 2 present in each ring structure are each independently a coordination atom to the metal M H represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkynylene group having 1 to 6 carbon atoms, and the carbon atoms of the alkylene group, the alkenylene group and the alkynylene group are respectively It may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom, and o represents 0 or 1.
Here, the definition and specific examples of the aromatic ring, the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, the alkenylene group having 1 to 6 carbon atoms or the alkynylene group having 1 to 6 carbon atoms are those definitions and specific examples in the formula (1). It is the same.

D環としては、以下のものが例示されるが、錯体の安定性の観点から、縮合環が好ましい。

Figure 0005124942

〔上記式中 R、*は前記と同じ意味を表す。〕 Examples of the D ring include the following, but a condensed ring is preferable from the viewpoint of the stability of the complex.

Figure 0005124942

[Wherein R and * represent the same meaning as described above. ]

E環の具体例としては、前記 B1〜B62のそれぞれの結合手のひとつが置換基Rに置換された基があげられ、合成上の観点から、E環は単環の芳香族炭化水素環または単環の複素環であることが好ましい。 Specific examples of the E ring include a group in which one of the above-mentioned bonds of B1 to B62 is substituted with a substituent R. From the viewpoint of synthesis, the E ring is a monocyclic aromatic hydrocarbon ring or A monocyclic heterocyclic ring is preferable.

上記式(2)の3座配位子としては以下のものが例示される。

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942
The following are illustrated as a tridentate ligand of the said Formula (2).

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

次に式(3)の構造を有する金属錯体について説明する
式(3)において、Mは第4および第5周期の遷移金属並びにW,Os、Ir、Auおよびランタノイドから選ばれる金属であり、その具体例としては、Sc、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Os、Ir、Au、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luが例としてあげられ、高効率を得るという観点から、Ru,Rh,W,Os,Ir,Au,Eu、Tbが好ましく、さらにW,Os,Ir,Auが好ましく、さらに好ましくはW,Auであり、Auが最も好ましい。
Next, the metal complex having the structure of formula (3) will be described. In formula (3), M is a transition metal of the fourth and fifth periods and a metal selected from W, Os, Ir, Au and lanthanoid, Specific examples include Sc, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Hf, Ta, W, Os, Ir , Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu are examples. From the viewpoint of obtaining high efficiency, Ru, Rh, W, Os, Ir, Au, Eu and Tb are preferred, W, Os, Ir and Au are more preferred, W and Au are more preferred, and Au is most preferred.

F環は芳香環を表し、
各々の環構造内に存在するX3,Y3およびZ3は、それぞれ独立に金属Mへの配位原子を表わす。
ここに、芳香環の定義、具体例は、式(1)におけるそれらの定義、具体例と同様である。
Ring F represents an aromatic ring,
X 3 , Y 3 and Z 3 present in each ring structure each independently represent a coordination atom to the metal M.
Here, definitions and specific examples of the aromatic ring are the same as those definitions and specific examples in the formula (1).

F環の具体例、すなわち上記式(3)の3座配位子としては、以下のものがあげられるが、錯体の安定性の観点から、縮合環が好ましい。   Specific examples of the F ring, that is, the tridentate ligand of the above formula (3) include the following, and a condensed ring is preferred from the viewpoint of the stability of the complex.


Figure 0005124942

上記式中R、*は前記と同じ意味を表す。
Figure 0005124942

In the above formula, R and * represent the same meaning as described above.

上記式(1)〜(3)の構造を有する金属錯体化合物は、3座配位子を2つ有していてもよいし、1つの3座配位子と単座配位子のほかに2座配位子を有していてもよい。
2座配位子としては、特に限定されるものではないが、例えばアルキル基やハロゲン原子で置換されていてもよいフェニルピリジン、フェナントロリン、フェニルキノリンや特表2003−515897に記載の2座配位子などが挙げられる。
The metal complex compound having the structure of the above formulas (1) to (3) may have two tridentate ligands, or two in addition to one tridentate ligand and a monodentate ligand. It may have a bidentate ligand.
The bidentate ligand is not particularly limited. For example, phenylpyridine, phenanthroline, phenylquinoline or bidentate coordination described in JP-T-2003-515897 which may be substituted with an alkyl group or a halogen atom. Child etc. are mentioned.

本発明の金属錯体からの発光は特に限定はされ無いが、MLCT励起状態(Metal to Ligand charge transfer励起状態)からの発光が含まれることが、高効率を得る点で好ましい。 The light emission from the metal complex of the present invention is not particularly limited, but it is preferable in view of obtaining high efficiency that light emission from an MLCT excited state (Metal to Ligand charge transfer excited state) is included.

本発明の金属錯体は10℃以上で可視域にフォトルミネッセンスを示すことが好ましく、10℃以上で可視域にエレクトロルミネッセンスを示すことがさらに好ましい。 The metal complex of the present invention preferably exhibits photoluminescence in the visible region at 10 ° C. or higher, and more preferably exhibits electroluminescence in the visible region at 10 ° C. or higher.

次に、本発明の金属錯体の合成法について説明する。
金属のハロゲン化物及びその水和物が安定に入手可能なものについては金属塩と配位子をアルコール等の適当な溶媒で加熱し、オルトメタル化反応に代表される脱HX(X=金属塩由来のハロゲンイオン)反応により中間体であるM(L1)(L2)の合成が可能である。ここでL1は上記記載の3座配位子を表し、L2は金属塩由来のハロゲンイオンを表す。例えば非特許文献3記載の方法が合成法として例示される。
同様の反応は金属ハライドだけでなく酢酸塩、硝酸塩、硫酸塩、過塩素酸塩など一般的な金属塩についても適用が可能である。
金属ハライドのオルトメタル化反応による中間体の合成方法の他に低原子価金属への配位子の酸化的付加による合成方法も可能である。即ち前記中間体M(L1)(L2)の金属イオンの価数nとすると(n-2)価の金属M’とL1-Zを用いた酸化的付加反応によりM(L1)(Z)を得る事が出来る。ここで金属M’にはホスフィンやカルボニルといった置換活性な配位子を有していても良く、Zは臭素やよう素など酸化的付加しやすい置換基を表し、L1上の金属と結合する位置に置換されているものとする。Zは前記L2と同様な置換活性な配位子であるので、得られたM’(L1)(Z)も本発明における中間体として用いる事が可能である。
原料のM(L1)(L2)を適当な有機溶媒中での配位子交換反応によりハロゲン配位子を前記単座配位子に変換することが可能である。ここに示したすべての反応は通常有機溶媒中で行われ、溶媒としては例えば例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ターシャリーブチルメチルエーテル、ジオキサン、などのエーテル系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、酢酸エチルエステル、プロピオン酸メチルエステル、などのエステル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、などのハロゲン系溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン系溶媒、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール系溶媒、などが用いられる。溶媒の使用量は、特に制限されないが、通常、原料である錯体類と配位子類の合計重量に対して通常重量比で10〜500倍程度である。
Next, a method for synthesizing the metal complex of the present invention will be described.
For metal halides and their hydrates that can be stably obtained, the metal salt and ligand are heated with an appropriate solvent such as alcohol to remove HX (X = metal salt represented by ortho metalation reaction). It is possible to synthesize M (L 1 ) (L 2 ), which is an intermediate, by a (halogen ion derived) reaction. Here, L 1 represents the tridentate ligand described above, and L 2 represents a halogen ion derived from a metal salt. For example, the method described in Non-Patent Document 3 is exemplified as the synthesis method.
The same reaction can be applied not only to metal halides but also to general metal salts such as acetates, nitrates, sulfates and perchlorates.
In addition to a method for synthesizing an intermediate by orthometalation of a metal halide, a synthesis method by oxidative addition of a ligand to a low-valent metal is also possible. That is, assuming that the valence n of the metal ion of the intermediate M (L 1 ) (L 2 ) is M (L 1 ) by an oxidative addition reaction using (n-2) -valent metal M ′ and L 1 -Z. (Z) can be obtained. Here, the metal M ′ may have a substitution active ligand such as phosphine or carbonyl, and Z represents a substituent that easily undergoes oxidative addition such as bromine or iodine, and binds to the metal on L 1. Assume that the position is replaced. Since Z is a substitution active ligand similar to L 2 , the obtained M ′ (L 1 ) (Z) can also be used as an intermediate in the present invention.
It is possible to convert a halogen ligand into the monodentate ligand by a ligand exchange reaction in a suitable organic solvent for the raw material M (L 1 ) (L 2 ). All the reactions shown here are usually carried out in an organic solvent. Examples of the solvent include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, tertiary butyl methyl ether and dioxane, hexane, cyclohexane, toluene and xylene. Hydrocarbon solvents, ester solvents such as ethyl acetate, propionic acid methyl ester, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, ketone solvents such as acetone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, Alcohol solvents such as ethanol, butanol, ethylene glycol, and glycerin are used. Although the usage-amount of a solvent is not restrict | limited in particular, Usually, it is about 10 to 500 times in a weight ratio with respect to the total weight of the complexes and ligands which are a raw material.

反応温度は、特に限定されないが、通常溶媒の融点から沸点の間で反応させることができ-78℃〜溶媒の沸点が好ましい。
反応時間は、特に限定されないが、通常30分間から30時間程度である。
Although reaction temperature is not specifically limited, Usually, it can be made to react between melting | fusing point of a solvent and a boiling point, -78 degreeC-the boiling point of a solvent is preferable.
The reaction time is not particularly limited, but is usually about 30 minutes to 30 hours.

合成操作としては、フラスコ内に溶媒を投入しこれを攪拌しながら、不活性ガス、例えば、窒素ガスやアルゴンガス、でバブリングなどにより脱気した後、錯体と配位子を投入する。攪拌しながら不活性ガス雰囲気下で配位子交換される温度まで昇温し、保温攪拌する。反応の終点は、TLCモニターや高速液体クロマトグラフィーにより原料の減少が停止することや、どちらかの原料の消失をもって決定することができる。   As a synthesis operation, a solvent is put into a flask and stirred, and deaerated by bubbling with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas, and then a complex and a ligand are added. While stirring, the temperature is raised to a temperature at which the ligand is exchanged in an inert gas atmosphere, and the mixture is kept warm. The end point of the reaction can be determined by stopping the decrease of the raw material by TLC monitor or high performance liquid chromatography or disappearance of either raw material.

反応混合液からの目的物の取り出しと精製については、錯体によって異なり、通常の錯体精製の手法が使われる。   Extraction and purification of the target product from the reaction mixture vary depending on the complex, and ordinary complex purification techniques are used.

例えば、錯体に対して貧溶媒である1規定の塩酸水溶液を投入し錯体を析出させ、これをろ過して取りこの固体をジクロロメタンやクロロホルムなどの有機溶媒に溶かす。この溶液をろ過して不溶物を除去し再度濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン溶出)により精製し、目的物の分画溶液を集め、例えば、メタノール(貧溶媒)を適当量加え、濃縮し目的物錯体を析出させ、これをろ過して乾燥させ錯体を得る。
化合物の同定・分析はCHN元素分析及びNMRにより行う事が出来る。
For example, a 1N aqueous hydrochloric acid solution, which is a poor solvent for the complex, is added to precipitate the complex, which is filtered off and this solid is dissolved in an organic solvent such as dichloromethane or chloroform. This solution is filtered to remove insolubles, concentrated again, and purified by silica gel column chromatography (elution with dichloromethane) .The fraction solution of the desired product is collected, and for example, an appropriate amount of methanol (poor solvent) is added and concentrated. The target complex is precipitated, filtered and dried to obtain the complex.
The compound can be identified and analyzed by CHN elemental analysis and NMR.

本発明の組成物は、上記本発明の金属錯体と有機化合物とを含む。 The composition of the present invention contains the metal complex of the present invention and an organic compound.

本発明の組成物は、例えばホスト化合物として他の有機化合物を混合したものを表し、ホスト化合物としては、これまで知られている、金属錯体燐光発光化合物用の低分子ホスト化合物や、高分子が挙げられる。
低分子ホスト化合物としては、具体的には、下記化合物を挙げることができる。
The composition of the present invention represents, for example, a mixture of other organic compounds as a host compound. Examples of the host compound include low molecular weight host compounds for metal complex phosphorescent compounds and polymers known so far. Can be mentioned.
Specific examples of the low molecular weight host compound include the following compounds.


Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

Figure 0005124942

また、ホスト化合物としては高分子も用いることができる。高分子としては、非共役系高分子、共役系高分子が挙げられる。非共役系高分子としては、ポリビニルカルバゾールなどが挙げられる。共役系高分子としては、主鎖に芳香環を含むポリマーが例として挙げられ、さらに具体的には下記の構造を含む高分子を挙げることができる。

Figure 0005124942
A polymer can also be used as the host compound. Examples of the polymer include non-conjugated polymers and conjugated polymers. Examples of the nonconjugated polymer include polyvinyl carbazole. Examples of the conjugated polymer include a polymer containing an aromatic ring in the main chain, and more specifically, a polymer containing the following structure.

Figure 0005124942

ホストとして用いる高分子は、上記構造を含む共重合体や、高分子組成物でもよい。 The polymer used as the host may be a copolymer containing the above structure or a polymer composition.

本発明の組成物に用いる高分子のポリスチレン換算の数平均分子量は103〜108が好ましく、さらに好ましくは104〜106である。ポリスチレン換算の重量平均分子量は103〜108であり、好ましくは5×104〜5×106である。
また、本発明の金属錯体は、高分子内に部分構造として組み込まれていてもよい。
即ち本発明は、上記本発明の金属錯体の構造を分子内に含む高分子金属錯体に関する。

金属錯体が組み込まれる高分子としては、本発明の組成物として用いる高分子として上記に記載した高分子が同様に例示される。
The number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer used in the composition of the present invention is preferably 10 3 to 10 8 , more preferably 10 4 to 10 6 . The weight average molecular weight in terms of polystyrene is 10 3 to 10 8 , preferably 5 × 10 4 to 5 × 10 6 .
Moreover, the metal complex of the present invention may be incorporated as a partial structure in the polymer.
That is, the present invention relates to a polymer metal complex containing in its molecule the structure of the metal complex of the present invention.

Examples of the polymer into which the metal complex is incorporated include the polymers described above as the polymer used as the composition of the present invention.

本発明の組成物中の金属錯体の量は、組み合わせる有機化合物種類や、最適化したい特性により異なるので、特に限定されないが、有機化合物の量を100重量部としたとき、通常0.01〜80重量部、好ましくは0.1〜60重量部である。また、金属錯体を2種類以上含んでいてもよい。 The amount of the metal complex in the composition of the present invention varies depending on the type of organic compound to be combined and the property to be optimized, and is not particularly limited. However, when the amount of the organic compound is 100 parts by weight, it is usually 0.01 to 80. Parts by weight, preferably 0.1 to 60 parts by weight. Two or more kinds of metal complexes may be included.

本発明の組成物は、さらに正孔輸送材料、電子輸送材料および発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料を含んでいてもよい。 The composition of the present invention may further contain at least one material selected from a hole transport material, an electron transport material and a light emitting material.

正孔輸送材料としては、芳香族アミン、カルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体など、これまで有機EL素子に正孔輸送材料として使われているようなものが挙げられ、 Examples of the hole transport material include aromatic amines, carbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and the like that have been used as hole transport materials in organic EL devices so far.

また電子輸送材料としては、同様にこれまで有機EL素子に電子輸送材料として使われているような、オキサジアゾール誘導体アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体などが挙げられる。 In addition, as an electron transport material, an oxadiazole derivative anthraquinodimethane or a derivative thereof, benzoquinone or a derivative thereof, naphthoquinone or a derivative thereof, anthraquinone or a derivative, which has been used as an electron transport material in an organic EL device until now. Derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, poly Examples include fluorene or a derivative thereof.

発光材料としては、公知のものが使用できる。低分子化合物では、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などを用いることができる。   A well-known thing can be used as a luminescent material. Examples of the low molecular weight compound include naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, polymethine dyes, xanthene dyes, coumarin dyes, cyanine dyes, 8-hydroxyquinoline or metal complexes of derivatives thereof, aromatic amines, and the like. , Tetraphenylcyclopentadiene or a derivative thereof, or tetraphenylbutadiene or a derivative thereof can be used.

インク組成物(例えば、印刷法等では溶液として用いられる)としては、少なくとも1種類の本発明の金属錯体または組成物が含有されていればよい。
該インク組成物は、本発明の金属錯体または組成物以外に、通常は溶媒を含み、また正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、安定剤、粘度および/または表面張力を調節するための添加剤、酸化防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。
該インク組成物中における本発明の金属錯体または組成物の割合は、溶媒を除いた該インク組成物の全重量に対して通常は20wt%〜100wt%であり、好ましくは40wt%〜100wt%である。
またインク組成物中の溶媒の割合は、該インク組成物の全重量に対して1wt%〜99.9wt%であり、好ましくは60wt%〜99.9wt%であり、さらに好ましく90wt%〜99.8wt%である。
該インク組成物の粘度は印刷法によって異なるが、25℃において0.5〜500mPa・sの範囲があげられ、1〜100mPa・sが好ましく、インクジェットプリント法などインク組成物が吐出装置を経由するもの場合には、吐出時の目づまりや飛行曲がりを防止するために粘度が25℃において1〜20mPa・sの範囲であることが好ましい。
As an ink composition (for example, used as a solution in a printing method or the like), it is sufficient that at least one metal complex or composition of the present invention is contained.
In addition to the metal complex or composition of the present invention, the ink composition usually contains a solvent, and controls the hole transport material, electron transport material, light emitting material, stabilizer, viscosity and / or surface tension. Additives such as additives and antioxidants may be included.
The ratio of the metal complex or the composition of the present invention in the ink composition is usually 20 wt% to 100 wt%, preferably 40 wt% to 100 wt%, based on the total weight of the ink composition excluding the solvent. is there.
The proportion of the solvent in the ink composition is 1 wt% to 99.9 wt%, preferably 60 wt% to 99.9 wt%, more preferably 90 wt% to 99.99 wt% with respect to the total weight of the ink composition. 8 wt%.
Although the viscosity of the ink composition varies depending on the printing method, the range is 0.5 to 500 mPa · s at 25 ° C., preferably 1 to 100 mPa · s. The ink composition such as the ink jet printing method passes through the ejection device. In the case of a thing, in order to prevent the clogging at the time of discharge and a flight bending, it is preferable that a viscosity is the range of 1-20 mPa * s in 25 degreeC.

インク組成物に用いる溶媒としては、本発明の金属錯体または組成物を溶解または均一に分散できるものが好ましい。該溶媒としてクロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルベンゾエート、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、ジエトキシメタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、1,2−ヘキサンジオール等の多価アルコールおよびその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が例示される。また、これらの有機溶媒は、単独で、または複数組み合わせて用いることができる。上記溶媒のうち、ベンゼン環を少なくとも1個以上含む構造を有し、かつ融点が0℃以下、沸点が100℃以上である有機溶媒を1種類以上含むことが好ましい。   As the solvent used in the ink composition, those capable of dissolving or uniformly dispersing the metal complex or the composition of the present invention are preferable. Chlorinated solvents such as chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, toluene, xylene, trimethylbenzene, Aromatic hydrocarbon solvents such as mesitylene, cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, aliphatic hydrocarbon solvents such as n-decane, acetone, Ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate, and ethyl cellosolve acetate, ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ether Polyhydric alcohols such as lenglycol monomethyl ether, dimethoxyethane, propylene glycol, diethoxymethane, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, 1,2-hexanediol and their derivatives, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, cyclohexanol, etc. Examples thereof include alcohol-based solvents, sulfoxide-based solvents such as dimethyl sulfoxide, and amide-based solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N, N-dimethylformamide. These organic solvents can be used alone or in combination. Of the above solvents, it is preferable to include one or more organic solvents having a structure containing at least one benzene ring, a melting point of 0 ° C. or lower, and a boiling point of 100 ° C. or higher.

溶媒の種類としては、本発明の金属錯体または組成物の有機溶媒への溶解性、成膜時の均一性、粘度特性等の観点から、芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒が好ましく、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メシチレン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、i−ブチルベンゼン、s−ブチルベンゼン、アニソール、エトキシベンゼン、1−メチルナフタレン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘキシルベンゼン、ビシクロヘキシル、シクロヘキセニルシクロヘキサノン、n−ヘプチルシクロヘキサン、n−ヘキシルシクロヘキサン、メチルベンゾエート、2−プロピルシクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、2−ノナノン、2−デカノン、ジシクロヘキシルケトンが好ましく、キシレン、アニソール、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン、ビシクロヘキシルメチルベンゾエートのうち少なくとも1種類を含むことがより好ましい。   Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and the like from the viewpoint of solubility in the organic solvent of the metal complex or composition of the present invention, uniformity during film formation, viscosity characteristics, and the like. Ester solvents and ketone solvents are preferred, and toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, trimethylbenzene, mesitylene, n-propylbenzene, i-propylbenzene, n-butylbenzene, i-butylbenzene, s-butylbenzene, anisole, Ethoxybenzene, 1-methylnaphthalene, cyclohexane, cyclohexanone, cyclohexylbenzene, bicyclohexyl, cyclohexenylcyclohexanone, n-heptylcyclohexane, n-hexylcyclohexane, methylbenzoate, 2-propylcyclohexanone, 2-heptanone, - heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, 2-nonanone, 2-decanone, dicyclohexyl ketone are preferred, xylene, anisole, mesitylene, cyclohexylbenzene, and it is more preferable to contain at least one of bicyclohexyl methyl benzoate.

インク組成物の溶媒の種類は、成膜性の観点や素子特性等の観点から、2種類以上であることが好ましく、2〜3種類であることがより好ましく、2種類であることがさらに好ましい。   The type of solvent in the ink composition is preferably two or more, more preferably two to three, and even more preferably two from the viewpoints of film formability and device characteristics. .

インク組成物に2種類の溶媒が含まれる場合、そのうちの1種類の溶媒は25℃において固体状態でもよい。成膜性の観点から、1種類の溶媒は沸点が180℃以上の溶媒であり、他の1種類の溶媒は沸点が180℃以下の溶媒であることが好ましく、1種類の溶媒は沸点が200℃以上の溶媒であり、他の1種類の溶媒は沸点が180℃以下の溶媒であることがより好ましい。また、粘度の観点から、2種類の溶媒ともに、60℃において0.2wt%以上の本発明の金属錯体または組成物が溶解することが好ましく、2種類の溶媒のうちの1種類の溶媒には、25℃において0.2wt%以上の本発明の金属錯体または組成物が溶解することが好ましい。   When the ink composition contains two types of solvents, one of the solvents may be in a solid state at 25 ° C. From the viewpoint of film formability, one type of solvent is preferably a solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher, and the other one type of solvent is preferably a solvent having a boiling point of 180 ° C. or lower. It is more preferable that the solvent is a solvent having a boiling point of 180 ° C. or lower. Further, from the viewpoint of viscosity, it is preferable that 0.2 wt% or more of the metal complex or composition of the present invention is dissolved at 60 ° C. in one of the two solvents. It is preferable that 0.2 wt% or more of the metal complex or composition of the present invention dissolves at 25 ° C.

インク組成物に3種類の溶媒が含まれる場合、そのうちの1〜2種類の溶媒は25℃において固体状態でもよい。成膜性の観点から、3種類の溶媒のうちの少なくとも1種類の溶媒は沸点が180℃以上の溶媒であり、少なくとも1種類の溶媒は沸点が180℃以下の溶媒であることが好ましく、3種類の溶媒のうちの少なくとも1種類の溶媒は沸点が200℃以上300℃以下の溶媒であり、少なくとも1種類の溶媒は沸点が180℃以下の溶媒であることがより好ましい。また、粘度の観点から、3種類の溶媒のうちの2種類の溶媒には、60℃において0.2wt%以上の本発明の金属錯体または組成物が溶解することが好ましく、3種類の溶媒のうちの1種類の溶媒には、25℃において0.2wt%以上の本発明の金属錯体または組成物が溶解することが好ましい。   When the ink composition contains three types of solvents, one or two of them may be in a solid state at 25 ° C. From the viewpoint of film formability, at least one of the three solvents is preferably a solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher, and at least one solvent is preferably a solvent having a boiling point of 180 ° C. or lower. At least one of the types of solvents is a solvent having a boiling point of 200 ° C. or more and 300 ° C. or less, and at least one of the solvents is more preferably a solvent having a boiling point of 180 ° C. or less. Further, from the viewpoint of viscosity, it is preferable that 0.2 wt% or more of the metal complex or the composition of the present invention is dissolved in two of the three solvents at 60 ° C. It is preferable that 0.2 wt% or more of the metal complex or composition of the present invention is dissolved in one kind of solvent at 25 ° C.

インク組成物に2種類以上の溶媒が含まれる場合、粘度および成膜性の観点から、最も沸点が高い溶媒が、インク組成物の全溶媒の重量の40〜90wt%であることが好ましく、50〜90wt%であることがより好ましく、65〜85wt%であることがさらに好ましい。   When the ink composition contains two or more kinds of solvents, the solvent having the highest boiling point is preferably 40 to 90 wt% of the total solvent weight of the ink composition from the viewpoint of viscosity and film formability. More preferably, it is -90 wt%, and it is further more preferable that it is 65-85 wt%.

本発明のインク組成物としては、粘度および成膜性の観点から、アニソールおよびビシクロヘキシルからなる組成物、アニソールおよびシクロヘキシルベンゼンからなる組成物、キシレンおよびビシクロヘキシルからなる組成物、キシレンおよびシクロヘキシルベンゼンからなる組成物、メシチレンおよびメチルベンゾエートからなる組成物が好ましい。   The ink composition of the present invention includes, from the viewpoint of viscosity and film formability, a composition composed of anisole and bicyclohexyl, a composition composed of anisole and cyclohexylbenzene, a composition composed of xylene and bicyclohexyl, and xylene and cyclohexylbenzene. A composition consisting of mesitylene and methyl benzoate is preferred.

本発明のインク組成物が含むことができる添加剤のなかで、
正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリピロールもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体があげられる。
電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体があげられる。
発光材料としては、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などがあげられる。
安定剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などがあげられる。
粘度および/または表面張力を調節するための添加剤としては、粘度を高めるための高分子量の高分子化合物(増粘剤)や貧溶媒、粘度を下げるための低分子量の化合物、表面張力を下げるための界面活性剤などを適宜組み合わせて使用すれば良い。
Among the additives that the ink composition of the present invention can contain,
As the hole transport material, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, a triphenyldiamine derivative, a polyaniline or Examples thereof include polythiophene or a derivative thereof, polypyrrole or a derivative thereof, poly (p-phenylenevinylene) or a derivative thereof, or poly (2,5-thienylenevinylene) or a derivative thereof.
Electron transport materials include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or its derivatives, benzoquinone or its derivatives, naphthoquinone or its derivatives, anthraquinone or its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane or its derivatives, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene Alternatively, a derivative thereof, a diphenoquinone derivative, or a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof, polyquinoline or a derivative thereof, polyquinoxaline or a derivative thereof, polyfluorene or a derivative thereof can be given.
Examples of the light-emitting material include naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, polymethine-based, xanthene-based, coumarin-based, cyanine-based pigments, 8-hydroxyquinoline or its metal complexes, aromatic amines, tetra Examples thereof include phenylcyclopentadiene or a derivative thereof, or tetraphenylbutadiene or a derivative thereof.
Examples of the stabilizer include phenolic antioxidants and phosphorus antioxidants.
Additives for adjusting viscosity and / or surface tension include high molecular weight compounds (thickeners) to increase viscosity, poor solvents, low molecular weight compounds to reduce viscosity, and surface tension to lower Therefore, the surfactants and the like may be used in appropriate combination.

前記の高分子量の高分子化合物としては、本発明の金属錯体または組成物と同じ溶媒に可溶性で、発光や電荷輸送を阻害しないものであれば良い。例えば、高分子量のポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、あるいは本発明の高分子化合物のうち分子量が大きいものなどを用いることができる。重量平均分子量が50万以上が好ましく、100万以上がより好ましい。貧溶媒を増粘剤として用いることもできる。すなわち、溶液中の固形分に対する貧溶媒を少量添加することで、粘度を高めることができる。この目的で貧溶媒を添加する場合、溶液中の固形分が析出しない範囲で、溶媒の種類と添加量を選択すれば良い。保存時の安定性も考慮すると、貧溶媒の量は、溶液全体に対して50wt%以下であることが好ましく、30wt%以下であることが更に好ましい。   The high molecular weight polymer compound may be any compound that is soluble in the same solvent as the metal complex or composition of the present invention and does not inhibit light emission or charge transport. For example, high molecular weight polystyrene, polymethyl methacrylate, or a polymer compound of the present invention having a high molecular weight can be used. The weight average molecular weight is preferably 500,000 or more, more preferably 1,000,000 or more. A poor solvent can also be used as a thickener. That is, the viscosity can be increased by adding a small amount of a poor solvent for the solid content in the solution. When a poor solvent is added for this purpose, the type and amount of the solvent may be selected as long as the solid content in the solution does not precipitate. Considering the stability during storage, the amount of the poor solvent is preferably 50 wt% or less, more preferably 30 wt% or less with respect to the entire solution.

酸化防止剤としては、本発明の金属錯体または組成物と同じ溶媒に可溶性で、発光や電荷輸送を阻害しないものであれば良く、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが例示される。酸化防止剤を用いることにより、本発明の金属錯体または組成物、溶媒の保存安定性を改善し得る。 The antioxidant is not particularly limited as long as it is soluble in the same solvent as the metal complex or composition of the present invention and does not inhibit light emission or charge transport, and examples thereof include phenol-based antioxidants and phosphorus-based antioxidants. . By using an antioxidant, the storage stability of the metal complex or composition of the present invention and the solvent can be improved.

本発明の金属錯体または組成物の溶媒への溶解性の観点から、溶媒の溶解度パラメータと、高分子化合物の溶解度パラメータとの差が10以下であることをが好ましく、7以下であることがより好ましい。   From the viewpoint of the solubility of the metal complex or composition of the present invention in a solvent, the difference between the solubility parameter of the solvent and the solubility parameter of the polymer compound is preferably 10 or less, more preferably 7 or less. preferable.

溶媒の溶解度パラメーターと本発明の金属錯体または組成物の溶解度パラメーターは、「溶剤ハンドブック(講談社刊、1976年)」に記載の方法で求めることができる。 The solubility parameter of the solvent and the solubility parameter of the metal complex or composition of the present invention can be determined by the method described in “Solvent Handbook (Kodansha, 1976)”.

インク組成物に含まれる本発明の金属錯体は、1種類でも2種類以上でもよく、素子特性等を損なわない範囲で本発明の金属錯体以外の高分子化合物を含んでいてもよい。   The metal complex of the present invention contained in the ink composition may be one type or two or more types, and may contain a polymer compound other than the metal complex of the present invention as long as device characteristics and the like are not impaired.

なお、本発明に用いる金属錯体は、発光材料として用いることができるだけでなく、有機半導体材料、光学材料、あるいはドーピングにより導電性材料として用いることもできる。 Note that the metal complex used in the present invention can be used not only as a light emitting material, but also as an organic semiconductor material, an optical material, or a conductive material by doping.

次に、本発明の素子について説明する。本発明の素子は、陽極および陰極からなる電極間に、本発明の金属錯体または本発明の組成物を含む層を有することを特徴とし、例えば、光電素子、発光素子として用いることができる。該素子が発光素子の場合は、本発明の金属錯体を含む層が、発光層であることが好ましい。   Next, the element of the present invention will be described. The element of the present invention is characterized by having a layer containing the metal complex of the present invention or the composition of the present invention between electrodes composed of an anode and a cathode, and can be used as, for example, a photoelectric element or a light emitting element. When the element is a light emitting element, the layer containing the metal complex of the present invention is preferably a light emitting layer.

また、本発明の発光素子としては、陽極および陰極からなる電極間に、さらに電荷輸送層または電荷阻止層を含んでいてもよい。電荷輸送層とは、正孔輸送層または電子輸送層を意味し、電荷阻止層とは、ホール阻止層または電子阻止層を意味する。陰極と発光層との間に、電子輸送層またはホール阻止層を設けた発光素子、陽極と発光層との間に、正孔輸送層または電子阻止層を設けた発光素子、陰極と発光層との間に、電子輸送層またはホール阻止層を設け、かつ陽極と発光層との間に、正孔輸送層または電子阻止層を設けた発光素子等が挙げられる。ここで、電子輸送層とホール阻止層は、「有機ELのすべて」162頁(城戸淳二著、日本実業出版)に記載されているように、同じ機能を持ち、たとえば電子輸送層とホール阻止層を構成する材料は同じものを用いることができ、材料の特性により、どちらかの機能がより強く反映される場合がある。正孔輸送層と電子阻止層も同様である。本発明の発光素子には、例えば特許文献(Journal of the SID 11/1,161−166,2003
)記載の素子構造が例に挙げられる。
また、上記少なくとも一方の電極と発光層との間に該電極に隣接して導電性高分子を含む層を設けた発光素子;少なくとも一方の電極と発光層との間に該電極に隣接して平均膜厚2nm以下のバッファー層を設けた発光素子が挙げられる
The light emitting device of the present invention may further include a charge transport layer or a charge blocking layer between electrodes composed of an anode and a cathode. The charge transport layer means a hole transport layer or an electron transport layer, and the charge blocking layer means a hole blocking layer or an electron blocking layer. A light emitting device in which an electron transport layer or a hole blocking layer is provided between a cathode and a light emitting layer, a light emitting device in which a hole transport layer or an electron blocking layer is provided between an anode and a light emitting layer, a cathode and a light emitting layer And a light-emitting element in which an electron transport layer or a hole blocking layer is provided between the anode and the light emitting layer, and a hole transport layer or an electron blocking layer is provided between the anode and the light emitting layer. Here, the electron transport layer and the hole blocking layer have the same function as described in “All about organic EL” page 162 (Koji Koji, Nihon Jitsugyo Shuppan), for example, the electron transport layer and the hole blocking layer. The same material can be used, and either function may be more strongly reflected depending on the characteristics of the material. The same applies to the hole transport layer and the electron blocking layer. Examples of the light-emitting element of the present invention include a patent document (Journal of the SID 11/1, 161-166, 2003).
An example of the element structure described in FIG.
A light emitting element provided with a layer containing a conductive polymer adjacent to the electrode between the at least one electrode and the light emitting layer; adjacent to the electrode between the at least one electrode and the light emitting layer Examples include a light emitting element provided with a buffer layer having an average film thickness of 2 nm or less.

具体的には、以下のa)〜d)の構造が例示される。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
Specifically, the following structures a) to d) are exemplified.
a) Anode / light emitting layer / cathode b) Anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode c) Anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode d) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (Here, / indicates that each layer is laminated adjacently. The same shall apply hereinafter.)

ここで、発光層とは、発光する機能を有する層、すなわち発光性薄膜であり、正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層であり、電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層である。なお、電子輸送層と正孔輸送層を総称して電荷輸送層と呼ぶ。
発光層、正孔輸送層、電子輸送層は、それぞれ独立に2層以上用いてもよい。
Here, the light emitting layer is a layer having a function of emitting light, that is, a light emitting thin film, the hole transporting layer is a layer having a function of transporting holes, and the electron transporting layer transports electrons. It is a layer having the function of The electron transport layer and the hole transport layer are collectively referred to as a charge transport layer.
Two or more light emitting layers, hole transport layers, and electron transport layers may be used independently.

また、電極に隣接して設けた電荷輸送層のうち、電極からの電荷注入効率を改善する機能を有し、素子の駆動電圧を下げる効果を有するものは、特に電荷注入層(正孔注入層、電子注入層)と一般に呼ばれることがある。   Further, among the charge transport layers provided adjacent to the electrodes, those having a function of improving the charge injection efficiency from the electrodes and having the effect of lowering the driving voltage of the element are particularly charge injection layers (hole injection layers). , An electron injection layer).

また、電極との密着性向上や電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して前記の電荷注入層又は膜厚2nm以下の絶縁層を設けてもよく、また、界面の密着性向上や混合の防止等のために電荷輸送層や発光層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。   In addition, in order to improve adhesion with the electrode or improve charge injection from the electrode, the charge injection layer or an insulating layer having a thickness of 2 nm or less may be provided adjacent to the electrode. In order to improve or prevent mixing, a thin buffer layer may be inserted at the interface between the charge transport layer and the light emitting layer.

さらに、電子を輸送し、かつ正孔を閉じ込めるために発光層との界面に正孔阻止層を挿入してもよい。   Further, a hole blocking layer may be inserted at the interface with the light emitting layer in order to transport electrons and confine holes.

積層する層の順番や数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができる。   The order and number of layers to be laminated, and the thickness of each layer can be appropriately used in consideration of light emission efficiency and element lifetime.

本発明において、電荷注入層(電子注入層、正孔注入層)を設けた発光素子としては、陰極に隣接して電荷注入層を設けた発光素子、陽極に隣接して電荷注入層を設けた発光素子が挙げられる。   In the present invention, as a light emitting device provided with a charge injection layer (electron injection layer, hole injection layer), a light emitting device provided with a charge injection layer adjacent to the cathode, and a charge injection layer provided adjacent to the anode. A light emitting element is mentioned.

例えば、具体的には、以下のe)〜p)の構造が挙げられる。
e)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
h)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
k)陽極/電荷注入層/発光層/電荷輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
n)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
For example, the following structures e) to p) are specifically mentioned.
e) Anode / charge injection layer / light emitting layer / cathode f) Anode / light emitting layer / charge injection layer / cathode g) Anode / charge injection layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode h) Anode / charge injection layer / hole Transport layer / light emitting layer / cathode i) anode / hole transport layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode j) anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / charge injection layer / cathode k) anode / charge Injection layer / light emitting layer / charge transport layer / cathode l) anode / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode m) anode / charge injection layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode n) anode / Charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / charge transport layer / cathode o) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode p) anode / charge injection layer / hole transport Layer / light emitting layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode

電荷注入層の具体的な例としては、導電性高分子を含む層、陽極と正孔輸送層との間に設けられ、陽極材料と正孔輸送層に含まれる正孔輸送材料との中間の値のイオン化ポテンシャルを有する材料を含む層、陰極と電子輸送層との間に設けられ、陰極材料と電子輸送層に含まれる電子輸送材料との中間の値の電子親和力を有する材料を含む層などが例示される。   Specific examples of the charge injection layer include a layer containing a conductive polymer, an anode and a hole transport layer provided between the anode material and the hole transport material included in the hole transport layer. A layer containing a material having an ionization potential of a value, a layer provided between a cathode and an electron transport layer, and a layer containing a material having an electron affinity of an intermediate value between the cathode material and the electron transport material contained in the electron transport layer, etc. Is exemplified.

上記電荷注入層が導電性高分子を含む層の場合、該導電性高分子の電気伝導度は、10-5S/cm以上103S/cm以下であることが好ましく、発光画素間のリーク電流を小さくするためには、10-5S/cm以上102S/cm以下がより好ましく、10-5S/cm以上101S/cm以下がさらに好ましい。 When the charge injection layer is a layer containing a conductive polymer, the electrical conductivity of the conductive polymer is preferably 10 −5 S / cm or more and 10 3 S / cm or less. in order to reduce the current, more preferably less 10 -5 S / cm or more and 10 2 S / cm, more preferably less 10 -5 S / cm or more and 10 1 S / cm.

通常は該導電性高分子の電気伝導度を10-5S/cm以上103S/cm以下とするために、該導電性高分子に適量のイオンをドープする。 Usually, in order to set the electric conductivity of the conductive polymer to 10 −5 S / cm or more and 10 3 S / cm or less, the conductive polymer is doped with an appropriate amount of ions.

ドープするイオンの種類は、正孔注入層であればアニオン、電子注入層であればカチオンである。アニオンの例としては、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンなどが例示され、カチオンの例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンなどが例示される。   The type of ions to be doped is an anion for the hole injection layer and a cation for the electron injection layer. Examples of anions include polystyrene sulfonate ions, alkylbenzene sulfonate ions, camphor sulfonate ions, and examples of cations include lithium ions, sodium ions, potassium ions, tetrabutylammonium ions, and the like.

電荷注入層の膜厚としては、例えば1nm〜100nmであり、2nm〜50nmが好ましい。   The thickness of the charge injection layer is, for example, 1 nm to 100 nm, and preferably 2 nm to 50 nm.

電荷注入層に用いる材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリアミノフェンおよびその誘導体、ポリピロールおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリチエニレンビニレンおよびその誘導体、ポリキノリンおよびその誘導体、ポリキノキサリンおよびその誘導体、芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン(銅フタロシアニンなど)、カーボンなどが例示される。   The material used for the charge injection layer may be appropriately selected in relation to the material of the electrode and the adjacent layer. Polyaniline and derivatives thereof, polyaminophen and derivatives thereof, polypyrrole and derivatives thereof, polyphenylene vinylene and derivatives thereof, polythienylene Examples include vinylene and its derivatives, polyquinoline and its derivatives, polyquinoxaline and its derivatives, conductive polymers such as polymers containing an aromatic amine structure in the main chain or side chain, metal phthalocyanines (such as copper phthalocyanine), carbon, etc. The

膜厚2nm以下の絶縁層は電荷注入を容易にする機能を有するものである。上記絶縁層の材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、有機絶縁材料等が挙げられる。膜厚2nm以下の絶縁層を設けた発光素子としては、陰極に隣接して膜厚2nm以下の絶縁層を設けた発光素子、陽極に隣接して膜厚2nm以下の絶縁層を設けた発光素子が挙げられる。   An insulating layer having a thickness of 2 nm or less has a function of facilitating charge injection. Examples of the material for the insulating layer include metal fluorides, metal oxides, and organic insulating materials. As a light emitting element provided with an insulating layer having a thickness of 2 nm or less, a light emitting element provided with an insulating layer having a thickness of 2 nm or less adjacent to the cathode, or a light emitting element provided with an insulating layer having a thickness of 2 nm or less adjacent to the anode Is mentioned.

具体的には、例えば、以下のq)〜ab)の構造が挙げられる。
q)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/陰極
r)陽極/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
s)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
t)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/陰極
u)陽極/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
v)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
w)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/陰極
x)陽極/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
y)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
z)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
aa)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
ab)陽極/膜厚2nm以下の絶縁層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/膜厚2nm以下の絶縁層/陰極
Specific examples include the following structures q) to ab).
q) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / cathode r) Anode / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode s) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / film thickness 2 nm Insulating layer / cathode t) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / cathode u) Anode / hole transporting layer / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode v) Anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode w) anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / electron transport layer / cathode x) anode / Light emitting layer / electron transport layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode y) anode / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / light emitting layer / electron transport layer / insulating layer with a thickness of 2 nm or less / cathode z) anode / film Insulating layer with a thickness of 2 nm or less / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode aa) anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport Layer / thickness 2nm or less of the insulating layer / cathode ab) anode / thickness 2nm or less of the insulating layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transporting layer / thickness 2nm or less of the insulating layer / cathode

正孔阻止層は、電子を輸送しかつ、陽極から輸送された正孔を閉じ込める働きを有するものであり、発光層の陰極側の界面に設けられ、発光層のイオン化ポテンシャルよりも大きなイオン化ポテンシャルを有する材料、例えば、バソクプロイン、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体などから構成される。   The hole blocking layer has a function of transporting electrons and confining holes transported from the anode, and is provided at an interface on the cathode side of the light emitting layer, and has an ionization potential larger than the ionization potential of the light emitting layer. For example, a metal complex of bathocuproine, 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof.

正孔阻止層の膜厚としては、例えば1nm〜100nmであり、2nm〜50nmが好ましい。   The film thickness of the hole blocking layer is, for example, 1 nm to 100 nm, and preferably 2 nm to 50 nm.

具体的には、例えば、以下のac)〜an)の構造が挙げられる。
ac)陽極/電荷注入層/発光層/正孔阻止層/陰極
ad)陽極/発光層/正孔阻止層/電荷注入層/陰極
ae)陽極/電荷注入層/発光層/正孔阻止層/電荷注入層/陰極
af)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/陰極
ag)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電荷注入層/陰極
ah)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電荷注入層/陰極
ai)陽極/電荷注入層/発光層/正孔阻止層/電荷輸送層/陰極
aj)陽極/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
ak)陽極/電荷注入層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
al)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電荷輸送層/陰極
am)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
an)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
Specifically, for example, the following structures ac) to an) are mentioned.
ac) anode / charge injection layer / light emitting layer / hole blocking layer / cathode ad) anode / light emitting layer / hole blocking layer / charge injection layer / cathode ae) anode / charge injection layer / light emitting layer / hole blocking layer / Charge injection layer / cathode af) anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / cathode ag) anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / charge injection layer / cathode ah ) Anode / charge injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / charge injection layer / cathode ai) anode / charge injection layer / light emitting layer / hole blocking layer / charge transport layer / cathode aj) anode / Light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode ak) anode / charge injection layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode al) anode / charge injection layer / Hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / charge transport layer / cathode am) anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer Charge injection layer / cathode an) anode / charge injection layer / hole transport layer / luminescent layer / hole blocking layer / electron transport layer / charge injection layer / cathode

本発明の発光素子を作製する際に、ホストを含めた発光材料を溶液から成膜する場合、この溶液を塗布後乾燥により溶媒を除去するだけでよく、また電荷輸送材料や発光材料を混合した場合においても同様な手法が適用でき、製造上非常に有利である。溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。印刷法等で製膜する場合は、上記インク組成物を用いて製膜することができる。またホストを含めた発光材料が比較的低分子の場合は、発光層を真空蒸着法を用いて製膜してもよい。   When the light emitting material including the host is formed into a film from the solution when the light emitting device of the present invention is produced, it is only necessary to remove the solvent by drying after applying the solution, and the charge transporting material and the light emitting material are mixed. In this case, the same technique can be applied, which is very advantageous in manufacturing. As a film forming method from a solution, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, Application methods such as a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method can be used. When the film is formed by a printing method or the like, it can be formed using the ink composition. In the case where the light emitting material including the host has a relatively low molecular weight, the light emitting layer may be formed using a vacuum deposition method.

本発明の発光素子においては、発光層に本発明の金属錯体または組成物以外の発光材料を混合して使用してもよい。また、本発明の発光素子においては、本発明以外の発光材料を含む発光層が、本発明の金属錯体または組成物を含む発光層と積層されていてもよい。   In the light emitting device of the present invention, a light emitting material other than the metal complex or composition of the present invention may be mixed and used in the light emitting layer. In the light emitting device of the present invention, a light emitting layer containing a light emitting material other than the present invention may be laminated with a light emitting layer containing the metal complex or composition of the present invention.

該発光材料としては、公知のものが使用できる。低分子化合物では、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などを用いることができる。   As the light emitting material, known materials can be used. Examples of the low molecular weight compound include naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, polymethine dyes, xanthene dyes, coumarin dyes, cyanine dyes, 8-hydroxyquinoline or metal complexes of derivatives thereof, aromatic amines, and the like. , Tetraphenylcyclopentadiene or a derivative thereof, or tetraphenylbutadiene or a derivative thereof can be used.

具体的には、例えば特開昭57−51781号、同59−194393号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能である。   Specifically, for example, known ones such as those described in JP-A-57-51781 and 59-194393 can be used.

本発明の発光素子が正孔輸送層を有する場合、使用される正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリアミノフェンもしくはその誘導体、ポリピロールもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体などが例示される。   When the light-emitting element of the present invention has a hole transport layer, the hole transport material used is polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, Pyrazoline derivative, arylamine derivative, stilbene derivative, triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polyaminophen or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivative thereof, or poly (2,5-thieni Lembinylene) or a derivative thereof is exemplified.

具体的には、該正孔輸送材料として、特開昭63−70257号公報、同63−175860号公報、特開平2−135359号公報、同2−135361号公報、同2−209988号公報、同3−37992号公報、同3−152184号公報に記載されているもの等が例示される。   Specifically, as the hole transport material, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-209998, Examples described in JP-A-3-37992 and JP-A-3-152184 are exemplified.

これらの中で、正孔輸送層に用いる正孔輸送材料として、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリアミノフェンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体等の高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。   Among these, as a hole transport material used for the hole transport layer, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, Preferred is a polymer hole transport material such as polyaminophen or a derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or a derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or a derivative thereof, more preferably polyvinyl carbazole or a derivative thereof. , Polysilane or a derivative thereof, and a polysiloxane derivative having an aromatic amine in the side chain or main chain. In the case of a low-molecular hole transport material, it is preferably used by being dispersed in a polymer binder.

ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体は、例えばビニルモノマーからカチオン重合またはラジカル重合によって得られる。   Polyvinylcarbazole or a derivative thereof is obtained, for example, from a vinyl monomer by cation polymerization or radical polymerization.

ポリシランもしくはその誘導体としては、ケミカル・レビュー(Chem.Rev.)第89巻、1359頁(1989年)、英国特許GB2300196号公開明細書に記載の化合物等が例示される。合成方法もこれらに記載の方法を用いることができるが、特にキッピング法が好適に用いられる。   Examples of polysilane or derivatives thereof include compounds described in Chem. Rev. 89, 1359 (1989) and GB 2300196 published specification. As the synthesis method, the methods described in these can be used, but the Kipping method is particularly preferably used.

ポリシロキサンもしくはその誘導体は、シロキサン骨格構造には正孔輸送性がほとんどないので、側鎖または主鎖に上記低分子正孔輸送材料の構造を有するものが好適に用いられる。特に正孔輸送性の芳香族アミンを側鎖または主鎖に有するものが例示される。   Since polysiloxane or a derivative thereof has almost no hole transporting property in the siloxane skeleton structure, those having the structure of the low molecular hole transporting material in the side chain or main chain are preferably used. Particularly, those having a hole transporting aromatic amine in the side chain or main chain are exemplified.

正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、低分子正孔輸送材料では、高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法が例示される。また、高分子正孔輸送材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。   Although there is no restriction | limiting in the film-forming method of a positive hole transport layer, In the low molecular hole transport material, the method by the film-forming from a mixed solution with a polymer binder is illustrated. In the case of a polymer hole transport material, a method of film formation from a solution is exemplified.

溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。   The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it can dissolve a hole transport material. Examples of the solvent include chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane; ether solvents such as tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, An ester solvent such as ethyl cellosolve acetate is exemplified.

溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。   Examples of film formation methods from solution include spin coating from solution, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen Coating methods such as a printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an inkjet printing method can be used.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサン等が例示される。   As the polymer binder to be mixed, those not extremely disturbing charge transport are preferable, and those showing no strong absorption against visible light are suitably used. Examples of the polymer binder include polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, and polysiloxane.

正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該正孔輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the hole transport layer differs depending on the material used, and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. However, at least a thickness that does not cause pinholes is required. If it is too thick, the driving voltage of the element becomes high, which is not preferable. Therefore, the film thickness of the hole transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

本発明の発光素子が電子輸送層を有する場合、使用される電子輸送材料としては公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体等が例示される。   When the light-emitting device of the present invention has an electron transport layer, known electron transport materials can be used, such as oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinones or derivatives thereof, naphthoquinones or derivatives thereof. , Anthraquinone or derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof Examples thereof include a derivative, polyfluorene or a derivative thereof.

具体的には、特開昭63−70257号公報、同63−175860号公報、特開平2−135359号公報、同2−135361号公報、同2−209988号公報、同3−37992号公報、同3−152184号公報に記載されているもの等が例示される。   Specifically, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, JP-A-2-135359, JP-A-2-135361, JP-A-2-20988, JP-A-3-37992, The thing etc. which are described in the same 3-152184 gazette are illustrated.

これらのうアミノキサジアゾール誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。   These aminoxadiazole derivatives, benzoquinone or derivatives thereof, anthraquinone or derivatives thereof, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof are preferred, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum, and polyquinoline are more preferable.

電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、または溶液もしくは溶融状態からの成膜による方法が、高分子電子輸送材料では溶液または溶融状態からの成膜による方法がそれぞれ例示される。溶液または溶融状態からの成膜時には、高分子バインダーを併用してもよい。   There are no particular restrictions on the method for forming the electron transport layer, but for low molecular weight electron transport materials, vacuum deposition from powder, or by film formation from a solution or molten state, and for polymer electron transport materials, solution or Each method is exemplified by film formation from a molten state. In film formation from a solution or a molten state, a polymer binder may be used in combination.

溶液からの成膜に用いる溶媒としては、電子輸送材料および/または高分子バインダーを溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。   The solvent used for film formation from a solution is not particularly limited as long as it can dissolve an electron transport material and / or a polymer binder. Examples of the solvent include chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane; ether solvents such as tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, An ester solvent such as ethyl cellosolve acetate is exemplified.

溶液または溶融状態からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法等の塗布法を用いることができる。   Examples of film formation methods from a solution or a molten state include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, and screen. Coating methods such as a printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an inkjet printing method can be used.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また、可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリアミノフェンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、またはポリシロキサンなどが例示される。   As the polymer binder to be mixed, those not extremely disturbing charge transport are preferable, and those not strongly absorbing visible light are suitably used. Examples of the polymer binder include poly (N-vinylcarbazole), polyaniline or a derivative thereof, polyaminophen or a derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or a derivative thereof, poly (2,5-thienylene vinylene) or a derivative thereof, Examples include polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, or polysiloxane.

電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the electron transport layer differs depending on the material used, and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. However, at least a thickness that does not cause pinholes is required. If the thickness is too thick, the driving voltage of the element increases, which is not preferable. Therefore, the thickness of the electron transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

本発明の発光素子を形成する基板は、電極を形成し、該高分子LEDの各層を形成する際に変化しないものであればよく、例えばガラス、プラスチック、高分子フィルム、シリコン基板などが例示される。不透明な基板の場合には、反対の電極が透明または半透明であることが好ましい。   The substrate for forming the light emitting device of the present invention may be any substrate as long as it forms an electrode and does not change when each layer of the polymer LED is formed. Examples thereof include glass, plastic, polymer film, and silicon substrate. The In the case of an opaque substrate, the opposite electrode is preferably transparent or translucent.

通常、陽極および陰極からなる電極のうち少なくとも一方が透明または半透明であり、陽極側が透明または半透明であることが好ましい。
該陽極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、およびそれらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等からなる導電性ガラスを用いて作成された膜(NESAなど)や、金、白金、銀、銅等が用いられ、ITO、インジウム・亜鉛・オキサイド、酸化スズが好ましい。作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリアミノフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
Usually, it is preferable that at least one of the electrodes composed of an anode and a cathode is transparent or translucent, and the anode side is transparent or translucent.
As the material of the anode, a conductive metal oxide film, a translucent metal thin film, or the like is used. Specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and a composite film made of conductive glass made of indium / tin / oxide (ITO), indium / zinc / oxide, etc. (NESA) Etc.), gold, platinum, silver, copper and the like are used, and ITO, indium / zinc / oxide, and tin oxide are preferable. Examples of the production method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, and the like. In addition, an organic transparent conductive film such as polyaniline or a derivative thereof, polyaminophen or a derivative thereof may be used as the anode.

陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。   The film thickness of the anode can be appropriately selected in consideration of light transmittance and electric conductivity, and is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, more preferably 50 nm to 500 nm. is there.

また、陽極上に、電荷注入を容易にするために、フタロシアニン誘導体、導電性高分子、カーボンなどからなる層、あるいは金属酸化物や金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けてもよい。   Further, in order to facilitate charge injection on the anode, a layer made of a phthalocyanine derivative, a conductive polymer, carbon or the like, or an average film thickness of 2 nm or less made of a metal oxide, a metal fluoride, an organic insulating material, or the like. A layer may be provided.

本発明の発光素子で用いる陰極の材料としては、仕事関数の小さい材料が好ましい。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、およびそれらのうち2つ以上の合金、あるいはそれらのうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1つ以上との合金、グラファイトまたはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。陰極を2層以上の積層構造としてもよい。   As a material for the cathode used in the light emitting device of the present invention, a material having a small work function is preferable. For example, metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, and their Two or more of these alloys, or an alloy of one or more of them and one or more of gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, graphite or graphite intercalation compound, etc. Is used. Examples of the alloy include magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-aluminum alloy, indium-silver alloy, lithium-aluminum alloy, lithium-magnesium alloy, lithium-indium alloy, calcium-aluminum alloy, and the like. The cathode may have a laminated structure of two or more layers.

陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。   The thickness of the cathode can be appropriately selected in consideration of electric conductivity and durability, but is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, and more preferably 50 nm to 500 nm.

陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が用いられる。また、陰極と有機物層との間に、導電性高分子からなる層、あるいは金属酸化物や金属フッ化物、有機絶縁材料等からなる平均膜厚2nm以下の層を設けても良く、陰極作製後、該発光素子を保護する保護層を装着していてもよい。該発光素子を長期安定的に用いるためには、素子を外部から保護するために、保護層および/または保護カバーを装着することが好ましい。   As a method for producing the cathode, a vacuum deposition method, a sputtering method, a laminating method in which a metal thin film is thermocompression bonded, or the like is used. Further, a layer made of a conductive polymer or a layer made of a metal oxide, metal fluoride, organic insulating material or the like having an average film thickness of 2 nm or less may be provided between the cathode and the organic layer. A protective layer for protecting the light emitting element may be attached. In order to use the light-emitting element stably for a long period of time, it is preferable to attach a protective layer and / or a protective cover in order to protect the element from the outside.

該保護層としては、高分子化合物、金属酸化物、金属フッ化物、金属ホウ化物などを用いることができる。また、保護カバーとしては、ガラス板、表面に低透水率処理を施したプラスチック板などを用いることができ、該カバーを熱効果樹脂や光硬化樹脂で素子基板と貼り合わせて密閉する方法が好適に用いられる。スペーサーを用いて空間を維持すれば、素子がキズつくのを防ぐことが容易である。該空間に窒素やアルゴンのような不活性なガスを封入すれば、陰極の酸化を防止することができ、さらに酸化バリウム等の乾燥剤を該空間内に設置することにより製造工程で吸着した水分が素子にタメージを与えるのを抑制することが容易となる。これらのうち、いずれか1つ以上の方策をとることが好ましい。   As the protective layer, a polymer compound, metal oxide, metal fluoride, metal boride and the like can be used. Further, as the protective cover, a glass plate, a plastic plate having a low water permeability treatment on the surface, or the like can be used, and a method of sealing the cover by bonding it to the element substrate with a heat effect resin or a photo-curing resin is preferable. Used for. If a space is maintained using a spacer, it is easy to prevent the element from being damaged. If an inert gas such as nitrogen or argon is sealed in the space, the cathode can be prevented from being oxidized, and moisture adsorbed in the manufacturing process by installing a desiccant such as barium oxide in the space. It becomes easy to suppress giving an image to an element. Among these, it is preferable to take any one or more measures.

本発明の金属錯体または組成物は、導電性材料または半導体材料としても使うことができる。上記に記載した発光素子の作製方法と同様の方法で、導電性薄膜または有機半導体薄膜を製膜、素子化することができ、該半導体薄膜は、電子移動度または正孔移動度のいずれか大きいほうが、10-5cm2/V/秒以上であることが好ましい。 The metal complex or composition of the present invention can also be used as a conductive material or a semiconductor material. A conductive thin film or an organic semiconductor thin film can be formed into an element by a method similar to the method for manufacturing a light-emitting element described above, and the semiconductor thin film has a higher electron mobility or hole mobility. Preferably, it is 10 −5 cm 2 / V / second or more.

また、該有機半導体薄膜は有機太陽電池や有機トランジスタに用いることができる。   The organic semiconductor thin film can be used for organic solar cells and organic transistors.

本発明の発光素子は、面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス、液晶表示装置のバックライトまたは照明に用いることができる。   The light emitting element of the present invention can be used for a planar light source, a segment display device, a dot matrix, a backlight or illumination of a liquid crystal display device.

本発明の発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にOn/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる発光材料を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは発光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動も可能であるし、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動しても良い。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。   In order to obtain planar light emission using the light emitting element of the present invention, the planar anode and cathode may be arranged so as to overlap each other. In addition, in order to obtain pattern-like light emission, a method of installing a mask provided with a pattern-like window on the surface of the planar light-emitting element, an organic material layer of a non-light-emitting portion is formed extremely thick and substantially non- There are a method of emitting light and a method of forming either one of the anode or the cathode or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging some electrodes so that they can be turned on / off independently, a segment type display element capable of displaying numbers, letters, simple symbols and the like can be obtained. Further, in order to obtain a dot matrix element, both the anode and the cathode may be formed in a stripe shape and arranged so as to be orthogonal to each other. Partial color display and multi-color display are possible by a method of separately coating a plurality of types of light emitting materials having different emission colors or a method using a color filter or a light emission conversion filter. The dot matrix element can be driven passively, or can be actively driven in combination with a TFT or the like. These display elements can be used as display devices for computers, televisions, mobile terminals, mobile phones, car navigation systems, video camera viewfinders, and the like.

さらに、前記面状の発光素子は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。
Furthermore, the planar light-emitting element is a self-luminous thin type, and can be suitably used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source or display device.

つぎに本発明の別の様態として、光電素子について説明する。
光電素子としては、たとえば光電変換素子があり、少なくとも一方が透明または半透明な二組の電極間に本発明の金属錯体または組成物を含む層を挟持させた素子や、基板上に製膜した本発明の高分子化合物または高分子組成物を含む層上に形成した櫛型電極を有する素子が例示される。特性を向上するために、フラーレンやカーボンナノチューブ等を混合してもよい。
光電変換素子の製造方法としては、特許第3146296号公報に記載の方法が例示される。具体的には、第一の電極を有する基板上に高分子薄膜を形成し、その上に第二の電極を形成する方法、基板上に形成した一組の櫛型電極の上に高分子薄膜を形成する方法が例示される。第一または第二の電極のうち一方が透明または半透明である。
高分子薄膜の形成方法やフラーレンやカーボンナノチューブを混合する方法については特に制限はないが、発光素子で例示したものが好適に利用できる。
Next, as another aspect of the present invention, a photoelectric element will be described.
As the photoelectric element, for example, there is a photoelectric conversion element, at least one of which is transparent or semitransparent, an element in which a layer containing the metal complex or composition of the present invention is sandwiched, or a film formed on a substrate Examples include a device having a comb-shaped electrode formed on a layer containing the polymer compound or polymer composition of the present invention. In order to improve the characteristics, fullerene, carbon nanotube, or the like may be mixed.
As a manufacturing method of a photoelectric conversion element, the method described in Japanese Patent No. 3146296 is exemplified. Specifically, a method of forming a polymer thin film on a substrate having a first electrode and forming a second electrode thereon, a polymer thin film on a pair of comb-shaped electrodes formed on the substrate The method of forming is illustrated. One of the first and second electrodes is transparent or translucent.
Although there is no restriction | limiting in particular about the formation method of a polymer thin film, and the method of mixing fullerene and a carbon nanotube, What was illustrated by the light emitting element can be utilized suitably.

以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples will be shown below for illustrating the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

ここで、ポリスチレン換算の数平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒として、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC:HLC−8220GPC、東ソー製もしくはSCL−10A、島津製作所製)により求めた。 Here, the number average molecular weight in terms of polystyrene was determined by gel permeation chromatography (GPC: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh or SCL-10A, manufactured by Shimadzu Corporation) using tetrahydrofuran as a solvent.

〔実施例1〕 化合物(M−2)の合成
アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコに水素化ナトリウム(60wt%in mineral oil,17mg,0.43mmol)を秤り取りヘキサンで洗浄してデカンテーションにより上澄を除いた。ここに脱水THF(20ml)、次いでカルバゾール(72mg,0.43mmol)を加え室温で30分撹拌した。目視で水素の発生が終了したことを確認し、化合物(M−1)(200mg,0.43mmol)を加えて室温で撹拌した。反応開始時には懸濁しているが1時間ほど経過するとオレンジ色の溶液となる。さらに室温で1時間程撹拌した後、溶媒を減圧留去し、得られた固体をクロロホルム(100ml)に溶解し、アルミナのショートカラムを通した。フラクションを減圧濃縮し、ヘキサンを適量加えて再結晶することにより赤色の粉状の化合物(M−2)を得た(216mg)。
1H−NMR(CD2Cl2,300MHz)δ6.80(d,2H)、7.12−7.39(m,8H)、7.54(d,2H)、7.68(d,2H)、7.73(d,2H)、8.08(t,1H)、8.24(d,2H).
MS(ESI−positive)m/z:594.1([M+H]+).


下記化合物(M−2)の0.8wt%クロロホルム溶液を石英板上に1500rpmで60秒間、スピンコートして薄膜を作製した。この薄膜の蛍光スペクトルを蛍光分光高度計(JOBINYVON−SPEX社製 Fluorolog)を用い、励起波長350nm、室温下でPL測定することにより、発光スペクトルにおいて575nmにピークを有するPL発光が観測された。

化合物(M−1)

Figure 0005124942

化合物(M−1)はOrganometallics;1998,17,3505−3511.記載の方法で合成した。


上記化合物(M−1)の0.8wt%クロロホルム溶液を石英板上に1600rpmで60秒間、スピンコートして薄膜を作製した。室温下でPL測定を行ったが発光スペクトルは観測できなかった。

化合物(M−2)
Figure 0005124942
Example 1 Synthesis of Compound (M-2) Sodium hydride (60 wt% in mineral oil, 17 mg, 0.43 mmol) was weighed into a 100 mL three-necked flask in an argon atmosphere, washed with hexane, and decanted. The supernatant was removed. To this was added dehydrated THF (20 ml) and then carbazole (72 mg, 0.43 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. After confirming that the generation of hydrogen was completed by visual observation, Compound (M-1) (200 mg, 0.43 mmol) was added and stirred at room temperature. Although it is suspended at the start of the reaction, it becomes an orange solution after about 1 hour. After further stirring at room temperature for about 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting solid was dissolved in chloroform (100 ml) and passed through a short column of alumina. The fraction was concentrated under reduced pressure, and an appropriate amount of hexane was added to recrystallize to obtain a red powdery compound (M-2) (216 mg).
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz) δ 6.80 (d, 2H), 7.12-7.39 (m, 8H), 7.54 (d, 2H), 7.68 (d, 2H) ), 7.73 (d, 2H), 8.08 (t, 1H), 8.24 (d, 2H).
MS (ESI-positive) m / z: 594.1 ([M + H] < +>).


A 0.8 wt% chloroform solution of the following compound (M-2) was spin-coated on a quartz plate at 1500 rpm for 60 seconds to produce a thin film. By measuring PL of the fluorescence spectrum of this thin film using a fluorescence spectrophotometer (Fluorolog manufactured by JOBINYVON-SPEX) at an excitation wavelength of 350 nm and room temperature, PL emission having a peak at 575 nm in the emission spectrum was observed.

Compound (M-1)
Figure 0005124942

Compound (M-1) is Organometallics; 1998, 17, 3505-3511. Synthesized by the method described.


A 0.8 wt% chloroform solution of the above compound (M-1) was spin-coated on a quartz plate at 1600 rpm for 60 seconds to produce a thin film. PL measurement was performed at room temperature, but no emission spectrum could be observed.

Compound (M-2)
Figure 0005124942

〔実施例2〕 化合物(M−3)の合成
ペンタフルオロフェニルマグネシウムブロミドはTHF中、アルゴン雰囲気でマグネシウムとブロモペンタフルロベンゼンを反応させることにより調整し、そのまま用いた。アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコに化合物(M−1)(400mg,0.86mmol)を秤り取り、脱水THF(40ml)を加えた。得られた懸濁液を水で冷却しながら、上記ペンタフルオロフェニルマグネシウムブロミドTHF溶液(1M,1.3ml,1.3mmol)をシリンジで滴下した。滴下後、室温で1時間撹拌すると無色の溶液となった。しばらく撹拌を続けた後溶媒を減圧留去し、クロロホルムに錯体を溶解してアルミナのショートカラムに通した。先に展開する黄色いフラクションと次に展開する無色のフラクションを分け、無色のフラクションより化合物(M−3)を得た(300mg)。
1H−NMR(CD2Cl2,300MHz)δ7.19(d,2H)、7.31−7.35(m,4H)、7.62(d,2H)、7.70(dd,2H)、8.01(dd,1H).


下記化合物(M−3)の0.8wt%クロロホルム溶液を石英板上に1600rpmで60秒間、スピンコートして薄膜を作製した。室温下でPL測定することにより、発光スペクトルにおいて479nmと510nmにピークを有するPL発光が観測された。

(化合物M−3)

Figure 0005124942
Example 2 Synthesis of Compound (M-3) Pentafluorophenyl magnesium bromide was prepared by reacting magnesium and bromopentafluorobenzene in THF in an argon atmosphere and used as it was. Under an argon atmosphere, the compound (M-1) (400 mg, 0.86 mmol) was weighed into a 100 mL three-necked flask, and dehydrated THF (40 ml) was added. While the obtained suspension was cooled with water, the pentafluorophenyl magnesium bromide THF solution (1M, 1.3 ml, 1.3 mmol) was added dropwise with a syringe. After dropping, the solution was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a colorless solution. After stirring for a while, the solvent was distilled off under reduced pressure, the complex was dissolved in chloroform and passed through a short column of alumina. The yellow fraction developed first and the colorless fraction developed next were separated, and the compound (M-3) was obtained from the colorless fraction (300 mg).
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz) δ 7.19 (d, 2H), 7.31-7.35 (m, 4H), 7.62 (d, 2H), 7.70 (dd, 2H) ), 8.01 (dd, 1H).


A 0.8 wt% chloroform solution of the following compound (M-3) was spin-coated on a quartz plate at 1600 rpm for 60 seconds to produce a thin film. By measuring PL at room temperature, PL emission having peaks at 479 nm and 510 nm in the emission spectrum was observed.

(Compound M-3)
Figure 0005124942

〔実施例3〕
下記化合物(M−4)に化合物(M−2)を2wt%添加した混合物の、0.8wt%クロロホルム溶液を調製した。
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリ(エチレンジオキシアミノフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(バイエル社、BaytronP)を用いてスピンコートにより80nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥した。次に、上記調製したクロロホルム溶液を用いてスピンコートにより3000rpmの回転速度で成膜した。膜厚は約100nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、LiFを約4nm、陰極として、カルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着して、EL素子を作製した。なお真空度が、1×10-4Pa以下に到達したのち、金属の蒸着を開始した。
得られた素子に室温で電圧を引加することにより、発光スペクトルにおいて575nmにピークを有するEL発光が得られた。なおEL特性はOLED TEST SYSTEM(東京システム開発社製)により測定した。

(化合物M−4)

Figure 0005124942
Example 3
A 0.8 wt% chloroform solution of a mixture obtained by adding 2 wt% of the compound (M-2) to the following compound (M-4) was prepared.
A glass substrate with an ITO film having a thickness of 150 nm formed by a sputtering method was formed into a film having a thickness of 80 nm by spin coating using a solution of poly (ethylenedioxyaminophene) / polystyrenesulfonic acid (Bayer, BaytronP), Dried for 10 minutes at 200 ° C. on a hot plate. Next, a film was formed at a rotational speed of 3000 rpm by spin coating using the prepared chloroform solution. The film thickness was about 100 nm. Further, this was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then LiF was deposited as a cathode buffer layer at about 4 nm, calcium was deposited as a cathode at about 5 nm, and then aluminum was deposited at about 80 nm to produce an EL device. After the degree of vacuum reached 1 × 10 −4 Pa or less, metal deposition was started.
By applying a voltage to the obtained device at room temperature, EL emission having a peak at 575 nm in the emission spectrum was obtained. The EL characteristics were measured by OLED TEST SYSTEM (manufactured by Tokyo System Development Co., Ltd.).

(Compound M-4)

Figure 0005124942

〔実施例4〕
化合物(M−4)に化合物(M−3)を2wt%添加した混合物の、0.8wt%クロロホルム溶液を調製し、これを用いて実施例3記載と同様にしてEL素子を作製した。
得られた素子に室温で電圧を引加することにより、発光スペクトルにおいて480および510nmにピークを有するEL発光が得られた。なおEL特性はOLED TEST SYSTEM(東京システム開発社製)により測定した。
Example 4
A 0.8 wt% chloroform solution of a mixture obtained by adding 2 wt% of the compound (M-3) to the compound (M-4) was prepared, and an EL device was produced in the same manner as described in Example 3 using this solution.
By applying voltage to the obtained device at room temperature, EL light emission having peaks at 480 and 510 nm in the emission spectrum was obtained. The EL characteristics were measured by OLED TEST SYSTEM (manufactured by Tokyo System Development Co., Ltd.).

〔実施例5〕
高分子化合物(P−1)に、化合物(M−3)を5wt%添加した混合物の、0.6wt%クロロホルム溶液を調製し、これを用いて実施例3記載と同様にしてEL素子を作製した。
得られた素子に室温で電圧を引加することにより、発光スペクトルにおいて580nmにピークを有するEL発光が得られた。なおEL特性はOLED TEST SYSTEM(東京システム開発社製)により測定した。
なお、高分子化合物(P−1)はEP1344788に記載の方法で合成した(ポリスチレン換算の数平均分子量は、Mn=1.1×105、重量平均分子量は、Mw=2.7×105)。

高分子化合物(P−1)

Figure 0005124942
Example 5
A 0.6 wt% chloroform solution of a mixture obtained by adding 5 wt% of the compound (M-3) to the polymer compound (P-1) is prepared, and an EL device is produced in the same manner as described in Example 3 using this solution. did.
By applying a voltage to the obtained device at room temperature, EL light emission having a peak at 580 nm in the emission spectrum was obtained. The EL characteristics were measured by OLED TEST SYSTEM (manufactured by Tokyo System Development Co., Ltd.).
The polymer compound (P-1) was synthesized by the method described in EP 1344788 (polystyrene equivalent number average molecular weight was Mn = 1.1 × 10 5 , and weight average molecular weight was Mw = 2.7 × 10 5. ).

Polymer compound (P-1)

Figure 0005124942

〔比較例1〕
高分子化合物(P−1)に、化合物(M−1)を5wt%添加した混合物の、0.6wt%THF溶液を調製した。
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(バイエル社、BaytronP)を用いてスピンコートにより80nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥した。次に、上記調製したTHF溶液を用いてスピンコートにより2000rpmの回転速度で成膜した。膜厚は約70nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、LiFを約4nm、陰極として、カルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着して、EL素子を作製した。なお真空度が、1×10-4Pa以下に到達したのち、金属の蒸着を開始した。得られた素子に電圧を20Vまで引加したが、化合物(M−1)からの発光は観測されなかった。
[Comparative Example 1]
A 0.6 wt% THF solution of a mixture obtained by adding 5 wt% of the compound (M-1) to the polymer compound (P-1) was prepared.
A glass substrate having an ITO film with a thickness of 150 nm formed by sputtering is used to form a film with a thickness of 80 nm by spin coating using a solution of poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid (Bayer, BaytronP). Dried on plate for 10 minutes at 200 ° C. Next, a film was formed at a rotational speed of 2000 rpm by spin coating using the prepared THF solution. The film thickness was about 70 nm. Further, this was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then LiF was deposited as a cathode buffer layer at about 4 nm, calcium was deposited as a cathode at about 5 nm, and then aluminum was deposited at about 80 nm to produce an EL device. After the degree of vacuum reached 1 × 10 −4 Pa or less, metal deposition was started. Although voltage was applied to the obtained device up to 20 V, light emission from the compound (M-1) was not observed.

〔実施例6〕 化合物(M−5)の合成
アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコに水素化ナトリウム(60wt%in mineral oil,87mg,2.17mmol)を秤り取りヘキサンで洗浄してデカンテーションにより上澄を除いた。ここに脱水THF(200ml)、次いで2,7−ジブロモカルバゾール(704mg,2.17mmol)を加え室温で30分撹拌した。目視で水素の発生が終了したことを確認し、化合物(M−1)(1.0g,2.17mmol)を加えて室温で撹拌した。反応開始時には懸濁しているが1時間ほど経過するとオレンジ色の溶液となる。さらに室温で1時間程撹拌した後、溶媒を減圧留去し、得られた固体をジクロロメタン(300ml)に溶解し、セライトろ過を行った。ヘキサンを適量加えて再結晶することにより化合物(M−5)を得た(1.3g)。
1H−NMR(CD2Cl2,300MHz)δ6.74(d,2H)、7.17(dd,2H)、7.32(m,4H)、7.68(m,6H)、8.09(dd,3H).
MS(ESI−positive)m/z:594.1([M+H]+).

化合物(M−5)

Figure 0005124942
Example 6 Synthesis of Compound (M-5) Sodium hydride (60 wt% in mineral oil, 87 mg, 2.17 mmol) was weighed into a 100 mL three-necked flask in an argon atmosphere, washed with hexane, and decanted. The supernatant was removed. Dehydrated THF (200 ml) and then 2,7-dibromocarbazole (704 mg, 2.17 mmol) were added thereto, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. After confirming that the generation of hydrogen was completed by visual observation, Compound (M-1) (1.0 g, 2.17 mmol) was added and stirred at room temperature. Although it is suspended at the start of the reaction, it becomes an orange solution after about 1 hour. Furthermore, after stirring at room temperature for about 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting solid was dissolved in dichloromethane (300 ml), followed by celite filtration. The compound (M-5) was obtained by recrystallizing an appropriate amount of hexane (1.3 g).
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz) δ 6.74 (d, 2H), 7.17 (dd, 2H), 7.32 (m, 4H), 7.68 (m, 6H), 8. 09 (dd, 3H).
MS (ESI-positive) m / z: 594.1 ([M + H] < +>).

Compound (M-5)

Figure 0005124942

〔実施例7〕 高分子化合物(P−2)の合成
上記化合物(M−5)25mg (0.033mmol)、2,7−ジブロモ−3,6−オクチルオキシジベンゾフラン 475mg(0.82mmol)、2,2‘−ビピリジル351mgとを反応容器に仕込んだ後、反応系内を窒素ガスで置換した。これに、あらかじめアルゴンガスでバブリングして、脱気したテトラヒドロフラン(脱水溶媒)35mlを加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}を630mg加え、室温で30分間攪拌した後、60℃で3.3時間反応した。なお、反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後、この溶液を冷却した後、メタノール15ml/イオン交換水15ml/25%アンモニア水2.5mlの混合溶液中にそそぎ込み、約2時間攪拌した。次に、生成した沈殿物を、ろ過することにより回収した。この沈殿物を減圧乾燥した後、トルエンに溶解した。この溶液を濾過し、不溶物を除去した後、この溶液を、アルミナを充填したカラムを通すことにより精製した。次にこの溶液を1規定塩酸、2.5%アンモニア水、イオン交換水で洗浄し、メタノール中にそそぎ込み、再沈して、生成した沈殿を回収した。この沈殿を減圧乾燥して、重合体(P−2)120mgを得た。
この重合体のポリスチレン換算数平均分子量は、2.6×104であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は4.5×104であった。
なお、2,7−ジブロモ−3,6−オクチルオキシジベンゾフランはEP1344788記載の方法で合成した。
[Example 7] Synthesis of polymer compound (P-2) 25 mg (0.033 mmol) of the above compound (M-5), 475 mg (0.82 mmol) of 2,7-dibromo-3,6-octyloxydibenzofuran, 2 , 2′-bipyridyl (351 mg) was charged into a reaction vessel, and the reaction system was replaced with nitrogen gas. To this, 35 ml of tetrahydrofuran (dehydrated solvent) deaerated previously by bubbling with argon gas was added. Next, 630 mg of bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } was added to this mixed solution, stirred at room temperature for 30 minutes, and then reacted at 60 ° C. for 3.3 hours. . The reaction was performed in a nitrogen gas atmosphere. After the reaction, this solution was cooled and then poured into a mixed solution of 15 ml of methanol / 15 ml of ion-exchanged water / 2.5 ml of 25% aqueous ammonia and stirred for about 2 hours. Next, the produced precipitate was recovered by filtration. This precipitate was dried under reduced pressure and then dissolved in toluene. The solution was filtered to remove insoluble matters, and then the solution was purified by passing through a column filled with alumina. Next, this solution was washed with 1N hydrochloric acid, 2.5% ammonia water, and ion exchange water, poured into methanol, re-precipitated, and the produced precipitate was recovered. This precipitate was dried under reduced pressure to obtain 120 mg of polymer (P-2).
This polymer had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 2.6 × 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 4.5 × 10 4 .
In addition, 2,7-dibromo-3,6-octyloxydibenzofuran was synthesized by the method described in EP 1344788.

〔実施例8〕 高分子化合物(P−3)の合成
上記化合物(M−5)50mg (0.067mmol)、2,7−ジブロモ−3,6−オクチルオキシジベンゾフラン 450mg(0.77mmol)、2,2‘−ビピリジル354mgとを反応容器に仕込んだ後、反応系内を窒素ガスで置換した。これに、あらかじめアルゴンガスでバブリングして、脱気したテトラヒドロフラン(脱水溶媒)35mlを加えた。次に、この混合溶液に、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0){Ni(COD)2}を623mg加え、室温で30分間攪拌した後、60℃で3.3時間反応した。なお、反応は、窒素ガス雰囲気中で行った。反応後、この溶液を冷却した後、メタノール15ml/イオン交換水15ml/25%アンモニア水2.5mlの混合溶液中にそそぎ込み、約2時間攪拌した。次に、生成した沈殿物を、ろ過することにより回収した。この沈殿物を減圧乾燥した後、トルエンに溶解した。この溶液を濾過し、不溶物を除去した後、この溶液を、アルミナを充填したカラムを通すことにより精製した。次にこの溶液を1規定塩酸、2.5%アンモニア水、イオン交換水で洗浄し、メタノール中にそそぎ込み、再沈して、生成した沈殿を回収した。この沈殿を減圧乾燥して、重合体(P−2)116mgを得た。
この重合体のポリスチレン換算数平均分子量は、3.0×104であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は4.8×104であった。
[Example 8] Synthesis of polymer compound (P-3) 50 mg (0.067 mmol) of the above compound (M-5), 450 mg (0.77 mmol) of 2,7-dibromo-3,6-octyloxydibenzofuran, 2 , 2′-bipyridyl (354 mg) was charged into the reaction vessel, and the reaction system was replaced with nitrogen gas. To this, 35 ml of tetrahydrofuran (dehydrated solvent) deaerated previously by bubbling with argon gas was added. Next, 623 mg of bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) {Ni (COD) 2 } was added to this mixed solution, stirred at room temperature for 30 minutes, and then reacted at 60 ° C. for 3.3 hours. . The reaction was performed in a nitrogen gas atmosphere. After the reaction, this solution was cooled and then poured into a mixed solution of 15 ml of methanol / 15 ml of ion-exchanged water / 2.5 ml of 25% aqueous ammonia and stirred for about 2 hours. Next, the produced precipitate was recovered by filtration. This precipitate was dried under reduced pressure and then dissolved in toluene. The solution was filtered to remove insoluble matters, and then the solution was purified by passing through a column filled with alumina. Next, this solution was washed with 1N hydrochloric acid, 2.5% ammonia water, and ion exchange water, poured into methanol, re-precipitated, and the produced precipitate was recovered. This precipitate was dried under reduced pressure to obtain 116 mg of polymer (P-2).
This polymer had a polystyrene-reduced number average molecular weight of 3.0 × 10 4 and a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 4.8 × 10 4 .

〔実施例9〕
高分子化合物(P−3)の2wt%トルエン溶液を調製した。
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(バイエル社、BaytronP)を用いてスピンコートにより80nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥した。次に、上記調製した高分子化合物(P−3)の2wt%トルエン溶液を用いてスピンコートにより600rpmの回転速度で成膜した。膜厚は約80nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、LiFを約4nm、陰極として、カルシウムを約5nm、次いでアルミニウムを約80nm蒸着して、EL素子を作製した。なお真空度が、1×10-4Pa以下に到達したのち、金属の蒸着を開始した。得られた素子に室温で電圧を引加することにより、発光スペクトルにおいて460nmにピークを有するEL発光が得られた。なおEL特性はOLED TEST SYSTEM(東京システム開発社製)により測定した。
Example 9
A 2 wt% toluene solution of the polymer compound (P-3) was prepared.
A glass substrate having an ITO film with a thickness of 150 nm formed by sputtering is used to form a film with a thickness of 80 nm by spin coating using a solution of poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid (Bayer, BaytronP). Dried on plate for 10 minutes at 200 ° C. Next, a film was formed at a rotational speed of 600 rpm by spin coating using a 2 wt% toluene solution of the polymer compound (P-3) prepared above. The film thickness was about 80 nm. Further, this was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 1 hour, and then LiF was deposited as a cathode buffer layer at about 4 nm, calcium was deposited as a cathode at about 5 nm, and then aluminum was deposited at about 80 nm to produce an EL device. After the degree of vacuum reached 1 × 10 −4 Pa or less, metal deposition was started. By applying a voltage to the obtained device at room temperature, EL emission having a peak at 460 nm in the emission spectrum was obtained. The EL characteristics were measured by OLED TEST SYSTEM (manufactured by Tokyo System Development Co., Ltd.).

〔実施例10〕
高分子化合物(P−3)を用いて、ホール電流が主として流れる素子を作製した。素子は次のようにして作製した。
スパッタ法により150nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸の溶液(バイエル社、BaytronP)を用いてスピンコートにより80nmの厚みで成膜し、ホットプレート上で200℃で10分間乾燥した。次に、高分子化合物(P−3)の1.7wt%トルエン溶液を用いてスピンコートにより2800rpmの回転速度で成膜した。膜厚は約80nmであった。さらに、これを減圧下80℃で1時間乾燥した後、陰極バッファー層として、Auを約100nm蒸着して、素子を作製した。なお真空度が、1×10-4Pa以下に到達したのち、金属の蒸着を開始した。
作製した素子に5Vおよび10Vの電圧を印加したときの電流密度は、各々2.0×10-5A/cm2、4.4×10-5A/cm2であった。電流密度の測定は、ピコアンメータ4140B(横河ヒューレットパッカード社製)を用いた。
Example 10
Using the polymer compound (P-3), a device in which a hole current mainly flows was produced. The element was produced as follows.
A glass substrate having an ITO film with a thickness of 150 nm formed by sputtering is used to form a film with a thickness of 80 nm by spin coating using a solution of poly (ethylenedioxythiophene) / polystyrene sulfonic acid (Bayer, BaytronP). Dried on plate for 10 minutes at 200 ° C. Next, a film was formed at a rotational speed of 2800 rpm by spin coating using a 1.7 wt% toluene solution of the polymer compound (P-3). The film thickness was about 80 nm. Furthermore, after drying this at 80 degreeC under pressure reduction for 1 hour, about 100 nm of Au was vapor-deposited as a cathode buffer layer, and the element was produced. After the degree of vacuum reached 1 × 10 −4 Pa or less, metal deposition was started.
The current densities when voltages of 5 V and 10 V were applied to the fabricated devices were 2.0 × 10 −5 A / cm 2 and 4.4 × 10 −5 A / cm 2 , respectively. The current density was measured using a Picoammeter 4140B (manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Company).

〔比較例2〕
比較のために、金属錯体構造を含まない、上記高分子化合物(P−1)を用いて、同様の素子を作製した。作製した素子に5V、10Vの電圧を印加したときの電流密度は、各々3.1×10-6A/cm2、8.7×10-6A/cm2で、高分子化合物(P−3)の方が良好なホール電流注入特性および輸送性を示した。
[Comparative Example 2]
For comparison, a similar device was produced using the above polymer compound (P-1) that does not contain a metal complex structure. The current densities when a voltage of 5 V or 10 V was applied to the fabricated devices were 3.1 × 10 −6 A / cm 2 and 8.7 × 10 −6 A / cm 2 , respectively. 3) showed better hole current injection characteristics and transportability.

Claims (22)

W、Os、IrおよびAuから選ばれる金属と、単座配位子と、1個以上の芳香環を含みかつ当該芳香環構造内に3個の配位原子を含む3座配位子とを有する金属錯体であって、10℃以上で可視域に発光を示し、
該単座配位子が下記に示される構造から選ばれる構造であり、
Figure 0005124942
〔上記式中、*は金属に配位している原子を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、1価の複素環基、カルボキシル基またはシアノ基を示す。〕
該3座配位子が下記に示される構造から選ばれる構造であることを特徴とする金属錯体。
Figure 0005124942
〔上記式中、Rおよび*は前記と同じ意味を表す。〕
It has a metal selected from W, Os, Ir and Au, a monodentate ligand, and a tridentate ligand containing one or more aromatic rings and containing three coordination atoms in the aromatic ring structure A metal complex that emits light in the visible region above 10 ° C,
A structure the single dentate ligand is selected structures or we shown below,
Figure 0005124942
[In the above formula , * represents an atom coordinated to a metal, and R is independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an arylalkyl group, an aryl group. alkoxy group, arylalkylthio group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, amino group, silyl group, Ha androgenic atom, an acyl group, an acyloxy group, a monovalent heterocyclic group, carboxyl Motoma other a cyano group. ]
A metal complex, wherein the tridentate ligand is a structure selected from the structures shown below.
Figure 0005124942
[Wherein R and * represent the same meaning as described above. ]
金属がWまたはAuであることを特徴とする請求項1に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 1, wherein the metal is W or Au. 請求項1または2に記載の金属錯体と有機化合物とを含む組成物。 A composition comprising the metal complex according to claim 1 or 2 and an organic compound. 有機化合物が共役系高分子であることを特徴とする請求項記載の組成物。 The composition according to claim 3, wherein the organic compound is a conjugated polymer. さらに正孔輸送材料、電子輸送材料および発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料を含むことを特徴とする請求項またはに記載の組成物。 The composition according to claim 3 or 4 , further comprising at least one material selected from a hole transport material, an electron transport material, and a light emitting material. 請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物の少なくとも1種類を含有することを特徴とするインク組成物。 An ink composition comprising at least one of the metal complex according to claim 1 or 2 or the composition according to any one of claims 3 to 5 . 2種類以上の有機溶媒を含有することを特徴とする請求項記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 6, comprising two or more organic solvents. 粘度が25℃において1〜100mPa・sであることを特徴とする請求項またはに記載のインク組成物。 The ink composition according to claim 6 or 7 , wherein the viscosity is 1 to 100 mPa · s at 25 ° C. 請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物を含有する発光性薄膜。 Light-emitting thin film comprising the composition of any one of metal complexes or claim 3-5 according to claim 1 or 2. 請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物を含有する導電性薄膜。 Conductive thin film comprising the composition of any of claims 1 or metal complex according to 2 or Claim 3-5. 請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物を含有する有機半導体薄膜。 An organic semiconductor thin film containing the metal complex according to claim 1 or 2 or the composition according to any one of claims 3 to 5 . 請求項11に記載の有機半導体薄膜を有することを特徴とする有機トランジスタ。 An organic transistor comprising the organic semiconductor thin film according to claim 11 . インクジェット法を用いることを特徴とする請求項12のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to any one of claims 9 to 12, wherein an inkjet method is used. 陽極および陰極からなる電極間に、請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物を含有する層を有することを特徴とする素子。 A device comprising a layer containing the metal complex according to claim 1 or 2 or the composition according to any one of claims 3 to 5 between electrodes comprising an anode and a cathode. 陽極および陰極からなる電極間に、さらに電荷輸送層または電荷阻止層を含むことを特徴とする請求項14記載の素子。 The device according to claim 14 , further comprising a charge transport layer or a charge blocking layer between the electrodes composed of an anode and a cathode. 陽極および陰極からなる電極間に、有機層を有し、該有機層が請求項1もしくは2に記載の金属錯体または請求項のいずれかに記載の組成物を含む発光層であることを特徴とする発光素子。 Between electrodes consisting of an anode and a cathode that has an organic layer, the organic layer is a light emitting layer comprising the composition of any of metal complexes or claim 3-5 according to claim 1 or 2 A light emitting device characterized by the above. 発光層がさらに正孔輸送材料、電子輸送材料および発光材料から選ばれる少なくとも1種類の材料を含むことを特徴とする請求項16記載の発光素子。 The light emitting device according to claim 16 , wherein the light emitting layer further contains at least one material selected from a hole transport material, an electron transport material and a light emitting material. 請求項16または17に記載の発光素子を用いたことを特徴とする面状光源。 Planar light source characterized by using the light-emitting device according to claim 16 or 17. 請求項16または17に記載の発光素子を用いたことを特徴とするセグメント表示装置。 Segment display device characterized by using the light-emitting device according to claim 16 or 17. 請求項16または17に記載の発光素子を用いたことを特徴とするドットマトリックス表示装置。 Dot matrix display device characterized by using the light-emitting device according to claim 16 or 17. 請求項16または17に記載の発光素子をバックライトとすることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device, characterized by a backlight light-emitting device according to claim 16 or 17. 請求項16または17に記載の発光素子を用いたことを特徴とする照明。 Illumination characterized by using the light-emitting device according to claim 16 or 17.
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EP2083457A4 (en) * 2006-11-14 2012-04-25 Idemitsu Kosan Co Organic thin film transistor and organic thin film light-emitting transistor
WO2008069061A1 (en) * 2006-12-04 2008-06-12 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Organic thin film transistor and organic thin film light emitting transistor
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JP5562657B2 (en) * 2009-01-23 2014-07-30 住友化学株式会社 Organic electroluminescence device
JP5522352B2 (en) * 2009-05-13 2014-06-18 独立行政法人日本原子力研究開発機構 Gold (I) complex salt, method for producing the same, method for identifying solvent, and luminescent liquid
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001236999A (en) * 2000-02-22 2001-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd Photoelectric transducer element and photocell
AU2003275645A1 (en) * 2002-11-01 2004-05-25 Japan Broadcasting Corporation Luminescents
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