JP5110678B2 - 磁気研磨方法 - Google Patents

磁気研磨方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5110678B2
JP5110678B2 JP2006139754A JP2006139754A JP5110678B2 JP 5110678 B2 JP5110678 B2 JP 5110678B2 JP 2006139754 A JP2006139754 A JP 2006139754A JP 2006139754 A JP2006139754 A JP 2006139754A JP 5110678 B2 JP5110678 B2 JP 5110678B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
magnetic
sample
magnetic field
cooling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006139754A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007307664A (ja
Inventor
輝久 中村
玲 花村
慶太 山本
良夫 松尾
敏隆 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FDK Corp
Original Assignee
FDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FDK Corp filed Critical FDK Corp
Priority to JP2006139754A priority Critical patent/JP5110678B2/ja
Publication of JP2007307664A publication Critical patent/JP2007307664A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5110678B2 publication Critical patent/JP5110678B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、研磨対象との間に磁気研磨液を存在させて流体研磨を行う磁気研磨方法に関するもので、より具体的には、比較的に軟質性の部材、例えばABS樹脂やアクリル樹脂などの樹脂部材の表面を鏡面に研磨するため、研磨条件についての改良に関する。
ABS樹脂やアクリル樹脂などから形成した樹脂部材について、その表面を極めて平滑な鏡面に仕上げたいことがある。例えば樹脂製品の成形型を試作する際は、所望形状の試作品をまずは削り出し加工により形成して評価を行っている。このとき、削り出した試作品の表面にはツール痕が多数残ってしまうため、ツール痕はできるだけなくして平滑に仕上げて評価を行いたいという要求がある。例えば透明な樹脂製品では、削り出した試作品についても透明性が高いことが望ましく、ツール痕が多数残った表面では評価試験に際して不都合が多い。また、アクリル樹脂などは透明な表面に傷や加工を一度でも施すと光沢が失われてしまい、鏡面に磨くことには困難となる。そしてABS樹脂などでは、さらに柔らかい樹脂なので光沢を得ること自体が非常に難しい。
アクリル樹脂部材の研磨に関しては、例えば特許文献1〜3などに見られるような研磨技術の提案がある。特許文献2によると、軟質性のアクリル部材(研磨対象)に対して砥粒を混在させて研磨スラリとし、これを容器に入れて攪拌を行う。この研磨工程は冷却条件下で行い、研磨スラリは砥粒の他に水酸化ナトリウムや界面括性剤を含み、pHが10以上のアルカリ性のものとし、攪拌は3日から10日間行うことにより表面の粗い点を除去することができると述べている。
特表2001−504042号公報 特表2002−534280号公報 特表2003−525761号公報
しかしながら、従来の鏡面研磨の技術では以下に示すような問題がある。上記した特許文献2など、研磨スラリ内で攪拌して表面を仕上げる方法は、研磨に多大な時間がかかり、このためコストが高くなってしまう。
アクリル樹脂部材の研磨が難しい理由としては、軟質性の材質で非常に柔らかいため容易に傷つきやすく、また樹脂製品にあっては一般に凹凸部位を多数有した複雑な立体形状となるため、研磨表面に力がかかる従来の一般的な研磨方法では十分な磨き研磨が行えないという問題がある。
この発明は上記した課題を解決するもので、その目的は、非接触の研磨となる磁気研磨を行うことにより、比較的に軟質性の部材であっても表面の磨き研磨を容易に行うことができ、複雑な表面形状に対して良好に研磨でき、長時間の研磨は必要としなく適正な鏡面に仕上げることができる磁気研磨方法を提供することにある。
上記した目的を達成するために、本発明に係る磁気研磨方法は、樹脂部材からなる研磨対象に対して研磨バイトを非接触に対面させ、周辺に存在させた磁気研磨液を連動することにより流体研磨を行う磁気研磨方法であって、研磨バイトには磁場を発生する磁場発生源を設けて駆動手段と連係させ、研磨対象に対しては冷却手段を連係させ、磁気研磨液には砥粒を混合しておき、冷却手段を起動することにより研磨対象を収縮させて緻密にし、前記冷却手段により冷却した状態で駆動手段を起動することにより研磨バイトには所定の運動動作を行わせ、磁場発生源の磁場により磁気研磨液に時間的に定常的あるいは変動的な磁場を加えて流体研磨を行うようにした。
したがって本発明では、研磨対象は冷却手段により所定の低温度に冷やすので、収縮して緻密になりその分は強度が一時的に増す。このため、磁気研磨により磨き研磨を十分に行うことができ、ツール痕が残らない平滑な鏡面に仕上げることができる。
また磁気研磨に際しては、冷却手段による冷却の設定は常温よりも低い温度とし、そして磁気研磨液の凝固点よりも高い温度とするとよい。冷却手段による冷却の設定は、前記研磨対象におけるガラス転移温度(Tg)以下で、かつ前記磁気研磨液の凝固点よりも高い温度としてもよい。
ここで、磁気研磨液の凝固点よりも高い温度とするのは、磁気研磨液が液体の状態を保持する必要があるためである。また、常温よりも低い温度するのは、研磨対象を冷却することで上述した作用効果を発揮させるためである。好ましくは最適条件として1℃であり、効果が期待できる範囲では、10℃以下である。
本発明に係る磁気研磨方法では、研磨対象を所定の低温度に冷やすので強度が一時的に増し、このため、磁気研磨により平滑な鏡面に仕上げることができる。すなわち、非接触の研磨となる磁気研磨を行うことにより、比較的に軟質性の部材であっても表面の磨き研磨を容易に行うことができる。そして、非接触で研磨が行える磁気研磨の特徴として、複雑な表面形状に対して良好に研磨でき、長時間の研磨は必要としないものであり、その結果、軟質性の樹脂部材について適正な鏡面に仕上げることができる。
図1は本発明の好適な一実施の形態を示している。本実施の形態において、磁気研磨を行う構成には研磨対象(試料1)を冷却するための冷却装置2を備える。試料1は冷却装置2上に固定し、その試料1に対して研磨バイト3が非接触に対面する配置とする。さらに、試料1との間に磁気研磨液4を存在させて当該磁気研磨液4には砥粒を混合しておき、冷却装置2を起動することにより試料1は所定の低温度に冷却し、駆動手段を起動することにより研磨バイト3には所定の運動動作を行わせ、磁気研磨液4に生成した磁気クラスタにより流体研磨を行うようになっている。
磁気研磨液4は非磁性の砥粒を含有し、具体的には、動粘度0.01〜100mm/s程度の水やケロシン等の分散媒中に、粒子径1〜80μmの強磁性粒子を10〜95wt%分散させた流体に対して、粒子径10〜50nmの球形マグネタイト粒子が、電気絶縁性を有する水やケロシン等の分散媒に一様に分散した流体を5〜90wt%混合した複合流体に、粒子径0.01〜100μmの非磁性の砥粒を混合し、さらに増粘剤としてαセルロースなどの繊維状物質あるいはポリビニルアルコール等の樹脂を5〜90wt%混合している。この磁気研磨液4は試料1と研磨バイト3との狭間へ供給手段により供給するようになっている。
試料1については、ABS樹脂やアクリル樹脂などの比較的に柔らかい樹脂部材を想定している。
冷却装置2は、例えばペルチェ素子を用いた構成を採り、組み付けてある温度センサ20により温度を検出し、その検出信号を取り込んだ温度コントローラ21により所定の温度に制御する構成になっている。試料1の冷却温度は常温よりも低い温度に設定すればよいが、磁気研磨液4の凝固点よりも高い温度とする。また、試料1の冷却温度は磁気研磨液4の凝固点よりも高い温度とし、試料1におけるガラス転移温度(Tg)以下としてもよい。
研磨バイト3は、先端に永久磁石30を設けて磁場の発生源としている。磁場発生源としては永久磁石30に限らなく、例えば電磁石なども好ましく適用でき、磁気研磨液4に対して磁界を作用し得るものであればよい。磁場の発生は時間的に定常的である必要はなく、時間的に変動的な磁場を発生させることもよい。
駆動手段は、少なくともx軸,y軸について多軸制御の機能を有するものとし、当該駆動手段を起動することにより研磨バイト3には所定に移動する運動動作を行わせる。駆動手段としては例えばNC工作機を用いればよく、ボール盤,旋盤,NC旋盤,フライス盤などの回転軸(チャック部)に研磨バイト3の軸部を取り付けし、着脱を行うようにする。
研磨バイト3の運動動作は、例えば図2に示すように試料1の表面に関してくまなく走査する動作とする。このとき、研磨バイト3の周辺には磁気研磨液4を供給し、研磨バイト3には当該軸方向において正逆反転する回転動作を行わせる。あるいは所定に振動させる振動動作を行わせることもよい。
すなわち、本発明に係る磁気研磨においては、まず冷却装置2に試料1を固定し、その試料1に対して研磨バイト3の位置関係を初期設定し、冷却装置2を起動することにより試料1は所定の低温に冷却する。そして、磁気研磨液4の供給を開始するとともに、駆動手段を起動して研磨バイト3を運動動作させ、磁気研磨液4を攪拌状態にする。
研磨バイト3と試料1との間には磁気研磨液4が存在し、当該磁気研磨液4は非磁性の砥粒を含み、永久磁石30により磁気研磨液4に時間的に定常的あるいは変動的な磁場が加わると磁気クラスタが生成する。つまり、磁気研磨液中の強磁性粒子(例えば鉄粒子),マグネタイト粒子が、磁気吸引力により多数凝集して磁気クラス夕となる。磁気クラス夕は、磁束に沿うので試料1に対立して針状に多数が立ち並び、これにより磁気研磨液中に存在する砥粒が試料1の表面に押えつけられる。このとき、研磨バイト3と試料1とは相対運動することから、砥粒は試料1の表面上を接触しつつ運動して切削(研削)を行う。
このように、試料1は冷却装置2により所定の低温度に冷やすので、収縮して緻密になりその分は強度が一時的に増す。このため、磁気研磨により磨き研磨を十分に行うことができ、ツール痕が残らない平滑な鏡面に仕上げることができる。
すなわち、非接触の研磨となる磁気研磨を行うことにより、比較的に軟質性の部材であっても表面の磨き研磨を容易に行うことができる。そして、非接触で研磨が行える磁気研磨の特徴として、複雑な表面形状に対して良好に研磨でき、長時間の研磨は必要としないものであり、その結果、軟質性の樹脂部材について適正な鏡面に仕上げることができる。もちろん、磁気クラスタによる研磨なので研磨対象(試料1)に大きな応力をかけることなく研磨が行える。
図1に示す磁気研磨のための構成により試料の研磨を行った。つまり、本発明の効果を実証するため、所定の研磨条件において試料の研磨を行い、その試料について表面粗さRa(算術平均粗さ),Ry(最大粗さ)を評価した。
磁気研磨液は表1に示す組成とし、試料1の冷却温度は常温よりも低い温度に設定すればよいが、ここでは約1℃に設定した。
Figure 0005110678
その結果、表面粗さRa,Ryは、
Ra=0.072μm
Ry=0.465μm
という値を得た。なお、研磨を行う前のRa,Ryは、
Ra=0.653μm
Ry=4.701μm
であり、図3は表面粗さの測定結果を示すグラフ図である。
ここに本発明に係る磁気研磨にあっては、柔らかい樹脂部材であっても良好に研磨が行えて適正な鏡面が得られることを確認した。
本発明では柔らかい樹脂部材の磨き研磨ができることから、樹脂デザイン部品の鏡面研磨や透明樹脂などを用いた透明度を必要とするデザイン部品の研磨をおこなうことに有効である。
本発明の好適な一実施の形態を示す側面図である。 研磨バイトの運動動作の一例を示す斜視図である。 表面粗さの測定結果を示すグラフ図である。
符号の説明
1 試料(研磨対象)
2 冷却装置
20 温度センサ
21 温度コントローラ
3 研磨バイト
30 永久磁石
4 磁気研磨液

Claims (1)

  1. 樹脂部材からなる研磨対象に対して研磨バイトを非接触に対面させ、周辺に存在させた磁気研磨液を連動することにより流体研磨を行う磁気研磨方法であって、
    前記研磨バイトには磁場を発生する磁場発生源を設けて駆動手段と連係させ、前記研磨対象に対しては冷却手段を連係させ、前記磁気研磨液には砥粒を混合しておき、前記冷却手段を起動することにより前記研磨対象を収縮させて緻密にし、前記冷却手段により冷却した状態で前記駆動手段を起動することにより前記研磨バイトには所定の運動動作を行わせ、前記磁場発生源の磁場により前記磁気研磨液に時間的に定常的あるいは変動的な磁場を加えて流体研磨を行うことを特徴とする磁気研磨方法。
JP2006139754A 2006-05-19 2006-05-19 磁気研磨方法 Expired - Fee Related JP5110678B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006139754A JP5110678B2 (ja) 2006-05-19 2006-05-19 磁気研磨方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006139754A JP5110678B2 (ja) 2006-05-19 2006-05-19 磁気研磨方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007307664A JP2007307664A (ja) 2007-11-29
JP5110678B2 true JP5110678B2 (ja) 2012-12-26

Family

ID=38840967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006139754A Expired - Fee Related JP5110678B2 (ja) 2006-05-19 2006-05-19 磁気研磨方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5110678B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009255274A (ja) * 2008-03-26 2009-11-05 Fuji Xerox Co Ltd 樹脂製外装材の表面の再生方法、及びそれを利用して表面が再生された樹脂製外装材を備える事務機器
KR101932413B1 (ko) * 2017-08-29 2018-12-27 인하대학교 산학협력단 표면광택 생성장치

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000107996A (ja) * 1998-07-30 2000-04-18 Japan Science & Technology Corp 磁気異方性工具を用いた表面処理方法およびその装置
JP2006082213A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Fdk Corp 削り加工と鏡面研磨の方法および削り加工・鏡面研磨装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007307664A (ja) 2007-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bedi et al. Magnetorheological methods for nanofinishing–a review
JPH0777704B2 (ja) 微小研磨方法
JP2007021660A (ja) 複雑形状体の鏡面研磨方法および鏡面研磨装置
JP2006224227A (ja) 磁気研磨方法
Mutalib et al. Magnetorheological finishing on metal surface: A review
CN102091975A (zh) 一种模具自由曲面的磁流变抛光方法
JP2007167968A (ja) 鏡面研磨方法および鏡面研磨装置
JP5110678B2 (ja) 磁気研磨方法
Sun et al. Investigation on magnetorheological shear thickening finishing (MSTF) with radially slotted magnetic pole for free-form surface
CN107378648A (zh) 一种基于磁流变效应的工件局部高精度抛光装置
JP2007296598A (ja) 磁気研磨方法およびウェハ研磨装置
JP2007098541A (ja) 研磨工具及び研磨方法
JP2007167969A (ja) スクラッチ加工方法およびその加工装置
Saraswathamma Magnetorheological finishing: a review
Wu et al. Nano-precision polishing of CVD SiC using MCF (magnetic compound fluid) slurry
JP5025275B2 (ja) 研磨バイト
JP2006082213A (ja) 削り加工と鏡面研磨の方法および削り加工・鏡面研磨装置
JP2008254106A (ja) ペースト材料
JP5499414B2 (ja) 変動磁場を利用した粒子分散型混合機能性流体の形状復元力の増大方法とこれを利用した研磨装置および研磨法
Soffie et al. The morphological and surface roughness of magnetorheological polished AISI 6010 surface
Shimada et al. A new float-polishing technique with large clearance utilising magnetic compound fluid
Feng et al. Polishing investigation on zirconia ceramics using magnetic compound fluid slurry
Wang et al. Nano-precision polishing of oxygen-free copper using mcf (magnetic compound fluid) slurry
CN207155394U (zh) 一种基于磁流变效应的工件局部高精度抛光装置
Khan et al. Experimental investigations on the effect of relative particle sizes of abrasive and iron powder in polishing fluid composition for ball end MR finishing of copper

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090303

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110428

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110512

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120124

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120314

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121004

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121005

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees