JP5109095B2 - Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk - Google Patents

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Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

磁気ディスク記憶装置等に使用される磁気ディスクの基板としてガラス基板が用いられている(例えば特許文献1)。このガラス基板は中央に円孔を有する円板状のものであり、Φ65mmの磁気ディスクでは長さ65mm間で1μmという高いレベルでの高低差(Peak to Valley)が求められている。一般的なガラス基板の製造方法をΦ65mmのガラス基板の製造を例に簡単に説明すると、ガラスの原料を調合して溶解した後、溶融ガラスを板状に成形し、冷却する。そして、冷却された板状ガラスを6000mm×1000mm程度の大きさに切断したもの(図1(a))を、比較的大きいサイズ例えば1000mm×1000mm程度(以下、1000mm角と呼ぶ。)のガラス素板にさらに切断する(図1(b))。続いて、このガラス素板を磁気ディスク基板より僅かに大きい、例えばΦ65mmの磁気ディスク用であれば75mm×75mm程度(以下、75mm角と呼ぶ。)のガラス板に切断し(図1(c))、その後、形状加工、ラッピング、ポリッシング等の工程を経て所望のガラス基板が製造される。   A glass substrate is used as a substrate of a magnetic disk used in a magnetic disk storage device or the like (for example, Patent Document 1). This glass substrate has a disk shape with a circular hole in the center, and a Φ65 mm magnetic disk is required to have a high level difference (Peak to Valley) of 1 μm between 65 mm lengths. A general method for producing a glass substrate will be briefly described by taking the production of a glass substrate having a diameter of 65 mm as an example. After preparing and melting glass raw materials, the molten glass is formed into a plate shape and cooled. A glass plate having a relatively large size, for example, about 1000 mm × 1000 mm (hereinafter, referred to as a 1000 mm square) is obtained by cutting the cooled plate glass into a size of about 6000 mm × 1000 mm (FIG. 1A). Further cut into a plate (FIG. 1B). Subsequently, this glass base plate is cut into a glass plate that is slightly larger than the magnetic disk substrate, for example, about 75 mm × 75 mm (hereinafter referred to as 75 mm square) for a Φ65 mm magnetic disk (FIG. 1C). Then, a desired glass substrate is manufactured through processes such as shape processing, lapping, and polishing.

かかる製造工程で製造された75mm角程度のガラス板の高低差が悪いと、最終製品の品質の悪化につながるおそれがある。そのため従来のガラス基板の製造工程においては、磁気ディスク基板より僅かに大きい75mm角のガラス板に切断した後、高低差の測定を行って測定結果をガラスの成形時の温度管理を行なうオペレータにフィードバックすることで、ガラス素板の高低差を調整している。   If the difference in height of a glass plate of about 75 mm square manufactured in such a manufacturing process is bad, the quality of the final product may be deteriorated. Therefore, in the conventional glass substrate manufacturing process, after cutting into a 75 mm square glass plate that is slightly larger than the magnetic disk substrate, the difference in height is measured and the measurement result is fed back to the operator who manages the temperature during glass molding. By doing so, the height difference of the glass base plate is adjusted.

このガラス板の高低差は、例えばMesa平坦度と呼ばれるパラメータで表わされる。測定は、ZYGO社製Mesa干渉計を用いて行なわれている。図2に示すように、Mesa干渉計10は、レーザダイオード光源11が2つの回折格子12を通して、入射角の異なる2つのビームによって試料を照射し、同じ格子が試料から反射された2つのビームを再結合させて干渉パターンを生成し、これをカメラアレイ13方向に向けることで、回折格子12が光源11の波長の約20倍の波長を効率的に生成し、これにより粗さや変形の大きい表面の測定を行うことを可能にするものである。   The height difference of the glass plate is represented by a parameter called Mesa flatness, for example. The measurement is performed using a Mesa interferometer manufactured by ZYGO. As shown in FIG. 2, in the Mesa interferometer 10, a laser diode light source 11 irradiates a sample with two beams having different incident angles through two diffraction gratings 12, and the same grating reflects two beams reflected from the sample. By recombining to generate an interference pattern and directing it toward the camera array 13, the diffraction grating 12 efficiently generates a wavelength about 20 times the wavelength of the light source 11, and thereby a surface having a large roughness and deformation. It is possible to perform the measurement.

また、Mesa干渉計10では、試料の測定中、回折格子の1つが圧電変換機(PZT)14で正確に移動され、この結果、基準波面と測定波面との間で一定の位相ずれが生じ、回折格子12が動く間、互いの干渉波面の位相ずれが90度になったときにデータが取得される。そして、所定のソフトウェアでこの位相データを解析することで、試料の表面形状が明らかとなる。   In the Mesa interferometer 10, one of the diffraction gratings is accurately moved by the piezoelectric transducer (PZT) 14 during measurement of the sample, and as a result, a constant phase shift occurs between the reference wavefront and the measurement wavefront, While the diffraction grating 12 is moving, data is acquired when the phase shift between the mutual interference wavefronts becomes 90 degrees. Then, by analyzing the phase data with predetermined software, the surface shape of the sample becomes clear.

特開2008−103061号公報JP 2008-103061 A

しかしながら、このMesa干渉計を用いた測定では、2回の切断工程、即ち、1000mm角のガラス素板に切断する工程と、75mm角のガラス板に切断する工程と、を経た後に行なわれるため、ガラスの成形時等の温度管理等にフィードバックするのに時間を要し、その間に製造されるガラス素板に測定結果を反映できないという問題があった。   However, the measurement using this Mesa interferometer is performed after two cutting steps, that is, a step of cutting into a 1000 mm square glass base plate and a step of cutting into a 75 mm square glass plate, There is a problem that it takes time to feed back to temperature management or the like at the time of glass forming, and the measurement result cannot be reflected on the glass base plate manufactured during that time.

通常、1000mm角のガラス素板に切断する工程は、原料を調合して溶解した後、板状に成形した板状ガラスを冷却する製造装置を用いた一連の処理でなされるが、75mm角のガラス板に切断する工程は、1000mm角のガラス素板を一度採板し、他の製造装置又は製造施設で行なわれることが一般的であり、Mesa平坦度の測定結果をガラスの成形時の温度管理にフィードバックするためには、多くの時間を要していた。   Usually, the process of cutting into a 1000 mm square glass base plate is performed by a series of processes using a manufacturing apparatus that cools the plate glass formed into a plate shape after preparing and melting the raw materials. The process of cutting into a glass plate is generally performed once by taking a 1000 mm square glass base plate and using another manufacturing apparatus or manufacturing facility. The measurement result of Mesa flatness is the temperature at the time of glass molding. It took a lot of time to give feedback to management.

そこで、本発明は、生産性の高いガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of a glass substrate with high productivity.

本発明は、以下の態様を提供するものである。
(1)溶融ガラスを板状ガラスに成形し、それを冷却する成形工程と、冷却された前記板状ガラスを切断してガラス素板とする第1切断工程と、前記ガラス素板を切断してガラス板とする第2切断工程と、前記ガラス板を所望の形状に加工する形状加工工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
第1切断工程と第2切断工程との間に、前記ガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(2)前記抜き取り検査工程は、前記ガラス素板の対向する2辺を支持し一方の主表面とセンサ間の距離を測定した後、他方の主表面とセンサ間の距離を測定し、前記ガラス素板の自重によるたわみを相殺することでガラス素板のたわみを求めることを特徴とする(1)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(3)前記抜き取り検査工程における前記ガラス素板のたわみを成形工程にフィードバックする(1)または(2)の磁気ディスクガラス基板の製造方法。
(4)前記ガラス素板のたわみと前記ガラス板の高低差との相関関係を予め測定し、
前記抜き取り検査工程は、前記相関関係に基づいて抜き取り検査を行なうことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の磁気ディスクガラス基板の製造方法。
The present invention provides the following aspects.
(1) Forming molten glass into sheet glass, cooling it, first cutting step of cutting the cooled sheet glass into a glass base, and cutting the glass base A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising: a second cutting step for forming a glass plate; and a shape processing step for processing the glass plate into a desired shape,
The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which has a sampling inspection process which measures the bending of the said glass base plate between a 1st cutting process and a 2nd cutting process.
(2) In the sampling inspection process, after measuring the distance between one main surface and the sensor while supporting two opposing sides of the glass base plate, the distance between the other main surface and the sensor is measured, and the glass The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to (1), wherein the deflection of the glass base plate is obtained by offsetting the deflection due to the weight of the base plate.
(3) The method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to (1) or (2), wherein the deflection of the glass base plate in the sampling inspection step is fed back to the forming step.
(4) Preliminarily measure the correlation between the deflection of the glass base plate and the difference in height of the glass plate,
In the sampling inspection step, a sampling inspection is performed based on the correlation, and the method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to any one of (1) to (3).

本発明は、従来、全く関連性がないと考えられていた数ミクロンメートル単位の磁気ディスク用ガラス基板の高低差と、数百ミクロンメートル〜数ミリメートル単位のガラス素板のたわみにはある相関関係があるという発見および仮説に基づいてなされたものである。   In the present invention, there is a correlation between the difference in height of a glass substrate for a magnetic disk in units of several microns, which has been considered to be completely unrelated, and the deflection of a glass base plate in units of hundreds of microns to several millimeters. It was made based on the discovery and hypothesis that there is.

本発明の(1)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、第1切断工程と第2切断工程との間に、ガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査工程を有するので、抜き取り検査の結果をフィードバックしてガラス素板の成形工程に測定結果を反映させるまでの時間を短縮することができる。これによりガラス基板の生産性を向上させることができる。   According to the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk described in (1) of the present invention, since there is a sampling inspection step for measuring the deflection of the glass base plate between the first cutting step and the second cutting step, It is possible to shorten the time until the result of the sampling inspection is fed back and the measurement result is reflected in the forming process of the glass base plate. Thereby, productivity of a glass substrate can be improved.

本発明の(2)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、簡易な方法でガラス素板の自重によるたわみの影響を排除して、本来ガラス素板が有しているガラス素板のたわみを測定することができる。   According to the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk described in (2) of the present invention, the influence of the deflection due to the weight of the glass base plate is eliminated by a simple method, and the glass base plate originally possessed by the glass base plate is eliminated. The deflection of the board can be measured.

本発明の(3)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス素板のたわみを成形工程にフィードバックすることでたわみの少ないガラス素板の成形に役立てることができる。   According to the method for producing a glass substrate for a magnetic disk described in (3) of the present invention, the glass base plate can be used for forming a glass base plate with less deflection by feeding back the glass base plate deflection to the forming step.

本発明の(4)に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス素板のたわみとガラス板の高低差との相関関係を予め測定することで、様々な種類のガラスに応用することができる。   According to the method for producing a glass substrate for a magnetic disk described in (4) of the present invention, it is applied to various types of glass by measuring in advance the correlation between the deflection of the glass base plate and the height difference of the glass plate. can do.

(a)はガラス製造装置から流れてきた板状ガラスを6000mm×1000mm程度に切断したものの模式図であり、(b)は(a)の板状ガラスを1000mm角に切断したガラス素板の模式図であり、(c)は(b)のガラス素板を75mm角に切断したガラス板の模式図である。(A) is the schematic diagram of what cut | disconnected the plate-like glass which flowed from the glass manufacturing apparatus to about 6000 mm x 1000 mm, (b) is the model of the glass base plate which cut | disconnected the plate-like glass of (a) into 1000 mm square. It is a figure, (c) is a schematic diagram of the glass plate which cut | disconnected the glass base plate of (b) at 75 mm square. Mesa干渉計の原理を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the principle of a Mesa interferometer. ガラスの製造フローを説明するフロー図である。It is a flowchart explaining the manufacture flow of glass. ガラス製造装置の模式図である。It is a schematic diagram of a glass manufacturing apparatus. 75mmのガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the Mesa flatness of a 75 mm glass plate, and the deflection | deviation of a 1000 mm square glass base plate. 75mmのガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the Mesa flatness of a 75 mm glass plate, and the deflection | deviation of a 1000 mm square glass base plate. 1000mm角のガラス素板から得られた5枚の75mm角のガラス板のMesa平坦度の平均値とその1000mm角のガラス素板のたわみとの関係をプロットしたグラフである。It is the graph which plotted the relationship between the average value of the Mesa flatness of the five 75 mm square glass plates obtained from the 1000 mm square glass base plate, and the deflection | deviation of the 1000 mm square glass base plate. (a)(b)は図6の理論値を算出する過程を説明する説明図である。(A) (b) is explanatory drawing explaining the process which calculates the theoretical value of FIG.

以下、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図3は、本発明に係る一実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を示すフローチャートである。   Hereinafter, an embodiment of a method for producing a glass substrate for a magnetic disk of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 3 is a flowchart showing a method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to an embodiment of the present invention.

本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板(以下、ガラス基板と呼ぶ。)の製造方法は、図3に示すように、典型的に原料調合工程(S1)と、溶解工程(S2)と、成形工程(S3)と、第1切断工程(S4)と、抜き取り検査工程(S5)と、第2切断工程(S6)と、形状加工工程(S7)と、ラッピング工程(S8)と、研磨工程(S9)と、を備える。   As shown in FIG. 3, the method for producing a magnetic disk glass substrate (hereinafter referred to as a glass substrate) of this embodiment typically comprises a raw material preparation step (S1), a melting step (S2), and a forming step. (S3), first cutting step (S4), sampling inspection step (S5), second cutting step (S6), shape processing step (S7), lapping step (S8), and polishing step (S9) And).

原料調合工程(S1)は、所定のガラス原料を調合する工程であり、その後、溶解工程(S2)、成形工程(S3)が図4に示すガラス製造装置20で行なわれる。溶解工程(S2)は、原料投入口から投入されたガラス原料を溶解槽21で溶解する工程である。成形工程(S3)は、フロートバス22で錫の上にガラスリボンを浮かべることで一定の幅と厚みに成形し、冷却ゾーン23でゆっくりと冷やすことで内部に歪みをつくらないように板状ガラスを形成する工程である。   The raw material preparation step (S1) is a step of preparing a predetermined glass raw material, and thereafter, the melting step (S2) and the forming step (S3) are performed by the glass manufacturing apparatus 20 shown in FIG. The melting step (S2) is a step of melting the glass raw material charged from the raw material charging port in the melting tank 21. In the forming step (S3), a glass ribbon is floated on tin with a float bath 22 to form a fixed width and thickness, and slowly cooled in a cooling zone 23 so as not to cause distortion inside the plate glass. Is a step of forming.

フロートバス22では、ガラスの上方空間が複数の領域に分割されておりオペレーターが各領域に設けられたヒーター24の温度を管理することでガラスリボン(板状ガラス)の幅や厚み、たわみ等が制御される。このようにして成形された板状ガラスは、第1切断工程(S4)で、先ず、6000mm×1000mm程度に切断され、さらに1000mm角のガラス素板に切断される。6000mm×1000mm程度の板状ガラスは、流れ方向から見て凹凸が発生しやすい。ここでは、典型的な例として図1(a)に示すように、6000mm×1000mm程度の板状ガラスが流れ方向から見て上方に凸となるようなたわみを有する場合を用いて説明する。なお、たわみの形状はこれに限定されるものではなく、また、たわみがほとんどない場合もあることは言うまでもない。本発明において「たわみ」とは冷却、切断されて得られたガラス素板の形状(反り)をいい、重力の影響を排斥したものである。   In the float bath 22, the upper space of the glass is divided into a plurality of regions, and the operator manages the temperature of the heater 24 provided in each region, so that the width, thickness, deflection, etc. of the glass ribbon (sheet glass) can be reduced. Be controlled. In the first cutting step (S4), the sheet glass thus formed is first cut to about 6000 mm × 1000 mm, and further cut into a 1000 mm square glass base plate. The plate glass of about 6000 mm × 1000 mm is likely to be uneven as viewed from the flow direction. Here, as a typical example, as shown in FIG. 1A, a description will be given using a case where a plate glass of about 6000 mm × 1000 mm has a deflection that is convex upward when viewed from the flow direction. Note that the shape of the deflection is not limited to this, and it is needless to say that there may be almost no deflection. In the present invention, “deflection” refers to the shape (warp) of a glass base plate obtained by cooling and cutting, and excludes the influence of gravity.

第1切断工程(S4)で1000mm角に切断されたガラス素板(図1(b))も同様に上方に凸となるようなたわみを有する。なお、以下の説明において便宜上、凸となる側を表面、凹となる側を裏面と呼ぶ。   The glass base plate (FIG. 1 (b)) cut to 1000 mm square in the first cutting step (S4) also has a deflection that is convex upward. In the following description, for convenience, the convex side is referred to as the front surface, and the concave side is referred to as the back surface.

続いて第1切断工程(S4)で切断されたガラスは、抜き取り検査工程(S5)にて、例えば100枚〜1000枚に1枚の割合で抜き取り検査が行なわれる。抜き取り検査工程(S5)では、1000mm角のガラス素板のたわみが測定される。   Subsequently, the glass cut in the first cutting step (S4) is subjected to a sampling inspection in a sampling inspection step (S5) at a rate of, for example, 100 to 1000 sheets. In the sampling inspection step (S5), the deflection of the 1000 mm square glass base plate is measured.

第2切断工程(S6)は、1000mm角のガラス素板を75mm角のガラス板に切断する工程である。   The second cutting step (S6) is a step of cutting a 1000 mm square glass base plate into a 75 mm square glass plate.

形状加工工程(S7)は、75mm角のガラス板の中央に貫通孔(内孔)を形成し、φ65mmの円形のガラスに加工する切り出し工程と、切り出した円形のガラスのエッジに面取り処理を施す面取り工程と、内周および外周を鏡面に研磨する端面研磨工程と、を含む。   In the shape processing step (S7), a through-hole (inner hole) is formed in the center of a 75 mm square glass plate and processed into a circular glass of φ65 mm, and the edge of the cut-out circular glass is chamfered. A chamfering step and an end surface polishing step of polishing the inner periphery and outer periphery to a mirror surface.

ラッピング工程(S8)では、例えば両面加工装置でアルミナ砥粒、ジルコニア砥粒、炭化珪素砥粒、ダイヤモンド砥粒のいずれかを含有する水を主たる分散媒とするスラリーを供給しながら研削し、研磨工程(S9)では、両面加工装置で例えばCeO砥粒を水
に分散させたセリアスラリーを供給しながらガラス基板の主表面を研磨処理することで、ラッピング工程において板状ガラスの主表面に形成されていた微細な凹凸形状を低減させ鏡面化された主表面を得ることができる。なお、ラッピング工程(S8)及び研磨工程(S9)は、これに限定されず公知の方法が採用されうる。
In the lapping step (S8), for example, grinding is performed while supplying a slurry containing water as a main dispersion medium containing any one of alumina abrasive grains, zirconia abrasive grains, silicon carbide abrasive grains, and diamond abrasive grains with a double-sided processing apparatus. In the step (S9), the main surface of the glass substrate is polished on the main surface of the sheet glass in the lapping step by supplying a ceria slurry in which, for example, CeO 2 abrasive grains are dispersed in water with a double-sided processing device. It is possible to obtain a mirror-finished main surface by reducing the fine uneven shape. In addition, a lapping process (S8) and a grinding | polishing process (S9) are not limited to this, A well-known method can be employ | adopted.

なお、磁気ディスク用ガラス基板としては、リチウムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、アルミノリチウムシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ソーダタイムガラス、ホウ珪酸ガラス等が使用され、好ましくはアルミノシリケートガラスが使用される。   As the glass substrate for magnetic disk, lithium silicate glass, aluminosilicate glass, aluminolithium silicate glass, aluminoborosilicate glass, soda time glass, borosilicate glass, etc. are used, and preferably aluminosilicate glass is used.

次に、本発明の特徴である抜き取り検査工程(S5)について詳細に説明する。
抜き取り検査工程(S5)で行なわれるたわみ測定は、1000mm角のガラス素板の対向する両側の2辺を支持し、このガラス素板の略中央に配置されたレーザ変位センサにより、変位センサからガラス素板の裏面までの距離が測定される。続いて、このガラス素板を裏返して変位センサからガラス素板の表面までの距離が測定される。このとき、1000mm角のガラス素板には、ガラス素板のたわみに加えて自重によるたわみが発生しており、表面測定時と裏面測定時の自重によるたわみを相殺することでガラス素板のたわみが求められる。即ち、求めるたわみW、自重が作用しない場合の変位センサから裏面までの距離A、自重が作用しない場合の変位センサから表面までの距離B、自重を考慮した場合の変位センサから裏面までの距離a、自重を考慮した場合の変位センサから表面までの距離bとすると、求めるたわみWは以下の式1となる。
Next, the sampling inspection process (S5), which is a feature of the present invention, will be described in detail.
The deflection measurement performed in the sampling inspection step (S5) is performed by supporting two sides on opposite sides of a 1000 mm square glass base plate, and using a laser displacement sensor disposed substantially in the center of the glass base plate, The distance to the back of the base plate is measured. Subsequently, the glass base plate is turned over, and the distance from the displacement sensor to the surface of the glass base plate is measured. At this time, the glass base plate of 1000 mm square has a deflection due to its own weight in addition to the deflection of the glass base plate, and the deflection of the glass base plate is canceled by offsetting the deflection due to its own weight during the front surface measurement and the back surface measurement. Is required. That is, the calculated deflection W, the distance A from the displacement sensor to the back surface when the dead weight does not act, the distance B from the displacement sensor to the front surface when the dead weight does not act, the distance a from the displacement sensor to the back surface when the dead weight is considered When the distance b from the displacement sensor to the surface in consideration of its own weight is taken, the calculated deflection W is expressed by the following formula 1.

Figure 0005109095
Figure 0005109095

ここで、従来行なわれていたMesa干渉計を用いた75mm角のガラス板のMesa平坦度と抜き取り検査工程(S5)における1000mm角のガラス素板のたわみとの関係について検討する。   Here, the relationship between the Mesa flatness of a 75 mm square glass plate using a conventional Mesa interferometer and the deflection of the 1000 mm square glass base plate in the sampling inspection step (S5) will be examined.

図5及び図6はMesa干渉計を用いた75mm角のガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの関係を示すグラフであり、図5は比較的高低差が良好なガラス素板の場合であり、図6は比較的高低差が悪いガラス素板の場合である。Mesa平坦度は、Mesa干渉計(ZYGO Mesa 製品番号:99−32−66055)を用いて測定したものであり、たわみ測定はキーエンス社製変位センサLK−G85用いて上述したたわみ測定で測定したものである。ガラス板はアルカリ−アルミノ−シリケートガラスであり、その厚みは約0.1mmである。   5 and 6 are graphs showing the relationship between the Mesa flatness of a 75 mm square glass plate using a Mesa interferometer and the deflection of a 1000 mm square glass base plate, and FIG. 5 is a glass with a relatively good height difference. FIG. 6 shows a case of a glass base plate having a relatively low height difference. The Mesa flatness is measured using a Mesa interferometer (ZYGO Mesa product number: 99-32-66055), and the deflection is measured by the above-described deflection measurement using a displacement sensor LK-G85 manufactured by Keyence Corporation. It is. The glass plate is alkali-alumino-silicate glass, and its thickness is about 0.1 mm.

図中、A、B、C、D、E、Fは図1(a)に示す6000mm×1000mm程度のガラス素板を1000mm角程度のガラス素板に切断したものに左から順に番号を付したものである。また、A1、A2、A3、A4、A5は、1000mm角のガラス素板Aを75mm角のガラス素板に切断したものの中から左からランダムに5つとりだして左から順に番号を付したものである。そして、そのMesa平坦度と、それぞれの1000mm角のガラス素板Aの中央でのガラス素板のたわみが図中に記されている。なお、B、C、D、E、Fも同様である。   In the figure, A, B, C, D, E, and F are numbered sequentially from the left to the glass base plate of about 6000 mm × 1000 mm shown in FIG. Is. In addition, A1, A2, A3, A4, and A5 are obtained by randomly extracting five from the left from a 1000 mm square glass base plate A cut into a 75 mm square glass base plate and numbering them sequentially from the left. is there. The Mesa flatness and the deflection of the glass base plate at the center of each 1000 mm square glass base plate A are shown in the figure. The same applies to B, C, D, E, and F.

図5及び図6からわかるように、75mm角のガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとはおおむね一致する結果が得られた。また、図5と図6を比較して、1000mm角のガラス素板のたわみが大きくなる(悪化)とMesa平坦度も悪化することが確認できた。この結果により、数ミクロンメートル単位の磁気ディスク用ガラス基板の高低差と、数百ミクロンメートル〜数ミリメートル単位のガラス素板のたわみにはある相関関係があるという仮説が正しいことが実証された。   As can be seen from FIGS. 5 and 6, the Mesa flatness of the 75 mm square glass plate and the deflection of the 1000 mm square glass base plate were almost the same. Further, comparing FIG. 5 and FIG. 6, it was confirmed that when the deflection of the 1000 mm square glass base plate is increased (deteriorated), the Mesa flatness is also deteriorated. This result proves that the hypothesis that there is a certain correlation between the height difference of the glass substrate for magnetic disks in units of several microns and the deflection of the glass base plate in units of hundreds of microns to several millimeters is correct.

従来は、数ミクロンメートル単位の磁気ディスク用ガラス基板の高低差と、数百ミクロンメートル〜数ミリメートル単位のガラス素板のたわみには、数百倍のオーダーの違いがあり、さらに1000mm角のガラス素板を75mm角のガラス板に切断する際にガラス素板のたわみが開放されると考えられていたことから、磁気ディスク用ガラス基板の高低差とガラス素板のたわみには相関関係があるはずがないと思われていた。しかしながら、発明者の鋭意検討の結果、図5及び図6の測定結果からわかるように、磁気ディスク用ガラス基板の高低差とガラス素板のたわみには相関関係があるという知見が得られ、本発明に至ったものである。   Conventionally, there is a difference in the order of several hundred times between the difference in height of a glass substrate for magnetic disks in units of several microns and the deflection of a glass base plate in units of hundreds of microns to several millimeters. Since it was thought that the deflection of the glass base plate was released when the base plate was cut into a 75 mm square glass plate, there was a correlation between the height difference of the glass substrate for magnetic disks and the deflection of the glass base plate. I thought it was impossible. However, as a result of inventor's diligent study, as can be seen from the measurement results of FIGS. 5 and 6, the knowledge that there is a correlation between the height difference of the glass substrate for magnetic disks and the deflection of the glass base plate was obtained. Invented.

図7は、75mm角のガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの関係をプロットしたグラフである。Mesa平坦度は、1000mm角のガラス素板から得られた5枚の75mm角のガラス板のMesa平坦度の平均値である。なお、図中○(実測1)と□(実測2)は測定の日時が異なるものである。また、図中の点線は、75mm角のガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの理論値を示すものである。   FIG. 7 is a graph plotting the relationship between the Mesa flatness of a 75 mm square glass plate and the deflection of a 1000 mm square glass base plate. The Mesa flatness is an average value of the Mesa flatness of five 75 mm square glass plates obtained from a 1000 mm square glass base plate. In the figure, ○ (actual measurement 1) and □ (actual measurement 2) have different measurement dates and times. Moreover, the dotted line in a figure shows the theoretical value of the Mesa flatness of a 75 mm square glass plate, and the bending of a 1000 mm square glass base plate.

ここで理論値の算出方法について図8(a)及び(b)を用いて説明する。
図8(a)に示すように、1000mm角のガラス素板が半径rの円弧状に反っていると仮定し、ガラス素板の板幅をT、たわみをWとすると、半径rは三平方の定理より式2で表わすことができる。
Here, a theoretical value calculation method will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 8A, assuming that a 1000 mm square glass base plate is warped in an arc shape with a radius r, and assuming that the plate width of the glass base plate is T and the deflection is W, the radius r is three squares. From the theorem, it can be expressed by Equation 2.

Figure 0005109095
Figure 0005109095

一方、図8(b)に示すように、1000mm角のガラス素板を75mmのガラス板に切り出した場合、形状が維持されると仮定すると曲率半径rが同じとなる。ガラス板の板幅をt、Mesa平坦度をFとすると、半径rは三平方の定理より式3で表わすことができる。   On the other hand, as shown in FIG. 8B, when a 1000 mm square glass base plate is cut into a 75 mm glass plate, assuming that the shape is maintained, the radius of curvature r is the same. When the plate width of the glass plate is t and the Mesa flatness is F, the radius r can be expressed by Equation 3 from the three-square theorem.

Figure 0005109095
Figure 0005109095

式2及び式3により、式4が得られる。   Equation 4 is obtained by Equation 2 and Equation 3.

Figure 0005109095
Figure 0005109095

ここで、{W+(T/2)}/2WをB、(t/2)をCとおくと、式4は式5
で表わされ、これをMesa平坦度Fについて解くと式6で表わされる。
Here, if {W 2 + (T / 2) 2 } / 2W is B and (t / 2) 2 is C, Formula 4 is Formula 5
When this is solved for the Mesa flatness F, it is expressed by Equation 6.

Figure 0005109095
Figure 0005109095

Figure 0005109095
Figure 0005109095

題意よりF=B−(B−C)1/2となり、ここでたわみWを0.1mm、ガラス素
板の板幅Tを1000mm、ガラス板の板幅tを75mmの時、Mesa平坦度Fは0.56μmとなる。
F = B− (B 2 −C) 1/2 according to the subject matter, when the deflection W is 0.1 mm, the plate width T of the glass base plate is 1000 mm, and the plate width t of the glass plate is 75 mm, the Mesa flatness F is 0.56 μm.

このように算出した理論値と実測値とを比較すると、数ミクロンメートル単位の磁気ディスク用ガラス基板の高低差と、数百ミクロンメートル〜数ミリメートル単位のガラス素板のたわみには数百倍の差異が存在するが、数百倍の差異があるもの同士を比較した割に理論値と実測値に大きな差異がないことが確認された。これにより、1000mm角のガラス素板のたわみと75mm角のMesa平坦度との間に相関関係があることが、理論的にも確認された。なお、算出した理論値と実測値の乖離は切断により開放された応力によりたわみの一部が元に戻ったものと推測される。   Comparing the theoretical value calculated in this way with the actual measurement value, the difference in height of the glass substrate for magnetic disks in units of several micrometers and the deflection of the glass base plate in units of hundreds of micrometers to several millimeters is several hundred times. Although there is a difference, it was confirmed that there was no big difference between the theoretical value and the actual measurement value compared to the difference of several hundred times. Thus, it was theoretically confirmed that there is a correlation between the deflection of the 1000 mm square glass base plate and the 75 mm square Mesa flatness. Note that the difference between the calculated theoretical value and the actually measured value is assumed to be that part of the deflection is restored due to the stress released by cutting.

従って、予め1000mm角のガラス素板のたわみと75mm角のMesa平坦度との相関関係を求めておき、第1切断工程(S4)の後、第2切断工程(S6)より前に1000mm角に切断したガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査を行なうことにより、ガラスの成形時の温度管理に素早くフィードバックすることができる。これにより、従来のように2回の切断工程を経た場合と比べて、生産性を向上させることができる。   Accordingly, the correlation between the deflection of the 1000 mm square glass base plate and the 75 mm square Mesa flatness is obtained in advance, and after the first cutting step (S4), before the second cutting step (S6), the 1000 mm square is obtained. By performing a sampling inspection to measure the deflection of the cut glass base plate, it is possible to quickly feed back to the temperature control at the time of glass forming. Thereby, productivity can be improved compared with the case where it passed through two cutting processes like the past.

例えば、1000mm角のガラス素板のたわみと75mm角のMesa平坦度との間に図7に示すグラフのような相関関係があるとすると、75mm角のMesa平坦度を6μm以下にするためには、1000mm角のガラス素板のたわみを0.3mm以下にすればよい。従って、抜き取り検査の結果1000mm角のガラス素板のたわみが0.3mmを超えた場合に、成形工程のオペレータに1000mm角のガラス素板のたわみを知らせることで、フロートバス中のそのガラス素板を通過した領域周辺のヒーターの温度を経験則等に従って温度管理することができ、たわみの少ないガラス素板の成形に役立てることができる。   For example, if there is a correlation as shown in the graph of FIG. 7 between the deflection of a 1000 mm square glass base plate and the 75 mm square Mesa flatness, in order to reduce the 75 mm square Mesa flatness to 6 μm or less, The deflection of the 1000 mm square glass base plate may be 0.3 mm or less. Therefore, if the deflection of the 1000 mm square glass base plate exceeds 0.3 mm as a result of the sampling inspection, the glass base plate in the float bath is notified by notifying the operator of the molding process of the deflection of the 1000 mm square glass base plate. The temperature of the heater around the region that has passed through can be controlled in accordance with empirical rules, etc., and can be used for forming a glass base plate with less deflection.

また、図7に示すグラフから、75mm角のガラス板のMesa平坦度と1000mm角のガラス素板のたわみとの間の関係を例えばW=25Fとして、W=25Fを基準に許容幅を設定し、その範囲外にあるときに成形工程のオペレータに1000mm角のガラス素板のたわみを知らせることで、たわみの少ないガラス素板の成形に役立てるようにしてもよい。   Also, from the graph shown in FIG. 7, the relationship between the Mesa flatness of the 75 mm square glass plate and the deflection of the 1000 mm square glass base plate is, for example, W = 25F, and the allowable width is set based on W = 25F. When the thickness is out of the range, the operator of the forming process may be notified of the deflection of the 1000 mm square glass base plate, which may be used for forming the glass base plate with less deflection.

以上説明したように、本実施形態の製造方法によれば、板状ガラスを切断して1000mm角のガラス素板とする第1切断工程(S4)と、1000mm角のガラス素板をφ65mmの磁気ディスクガラス基板より僅かに大きい複数の75mm角のガラス板に切断する第2切断工程(S6)より前に、1000mm角のガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査工程(S5)を行なうことにより、抜き取り検査工程(S5)の結果をガラスの成形時の温度管理に早急にフィードバックすることができる。   As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the first cutting step (S4) for cutting the plate glass to form a 1000 mm square glass base plate, and the 1000 mm square glass base plate with a φ65 mm magnetic plate. By performing a sampling inspection step (S5) for measuring the deflection of a 1000 mm square glass base plate before the second cutting step (S6) for cutting into a plurality of 75 mm square glass plates slightly larger than the disk glass substrate, The result of the sampling inspection step (S5) can be immediately fed back to the temperature management during glass forming.

また、抜き取り検査工程(S5)は、ガラス素板の対向する2辺を支持し一方の主表面とセンサ間の距離を測定した後、他方の主表面とセンサ間の距離を測定し、ガラス素板の自重によるたわみを相殺することでガラス素板のたわみを求めることにより、簡易な方法でガラス素板の自重によるたわみの影響を排除して、本来ガラス素板が有しているガラス素板のたわみを測定することができる。なお、たわみ測定は、本実施形態の測定方法に限らず任意の方法を採用することができる。例えば、上記実施形態では、ガラス素板の両面を測定したが、一方の主表面の距離のみを測定し、得られた測定値から予め計算された自重によるたわみ量を差し引いてもよい。また、光学的に三次元画像を取り込んでたわみ量を測定してもよい。   In the sampling inspection step (S5), the opposing two sides of the glass base plate are supported and the distance between one main surface and the sensor is measured, and then the distance between the other main surface and the sensor is measured. By calculating the deflection of the glass base plate by offsetting the deflection due to the weight of the plate, the influence of the deflection due to the self weight of the glass base plate is eliminated by a simple method. Can be measured. Note that the deflection measurement is not limited to the measurement method of the present embodiment, and any method can be employed. For example, in the said embodiment, although both surfaces of the glass base plate were measured, only the distance of one main surface may be measured, and the deflection amount by the dead weight calculated beforehand may be subtracted from the obtained measured value. Alternatively, the amount of deflection may be measured by optically capturing a three-dimensional image.

また、抜き取り検査工程(S5)におけるガラス素板のたわみを成形工程にフィードバックすることで、たわみの少ないガラス素板の成形に役立てることができる。   Further, by feeding back the deflection of the glass base plate in the sampling inspection step (S5) to the molding step, it can be used for molding of the glass base plate with less deflection.

また、ガラス素板のたわみとガラス板の高低差との相関関係を予め測定し、抜き取り検査工程(S5)は、この相関関係に基づいて抜き取り検査を行なうことにより、様々な種類のガラスに応用することができる。   In addition, the correlation between the deflection of the glass base plate and the height difference of the glass plate is measured in advance, and the sampling inspection step (S5) is applied to various types of glass by performing a sampling inspection based on this correlation. can do.

なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施し得るものである。
例えば、上記実施形態では例えばノートブックパソコン等に用いられるΦ65mmのガラス基板の製造を例に説明したが、これに限らず、ポータブルMP3プレーヤなどに用いられるφ48mmの1.8インチ基板等、任意のサイズのガラス基板に適用することができる。
The present invention is not limited to the embodiment described above, and can be implemented in various forms without departing from the gist of the present invention.
For example, in the embodiment described above, the manufacture of a Φ65 mm glass substrate used for, for example, a notebook personal computer has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. It can be applied to a size glass substrate.

また、本実施形態は、フロート法によるガラス成形を例に説明したが、これに限らずダウンドロー法にも適用することができる。   Moreover, although this embodiment demonstrated the glass shaping | molding by the float method to an example, it can apply not only to this but to a downdraw method.

10 Mesa干渉計
11 レーザダイオード光源
12 回折格子
13 カメラアレイ
14 圧電変換機
20 ガラス製造装置
21 溶解槽
22 フロートバス
23 冷却ゾーン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mesa interferometer 11 Laser diode light source 12 Diffraction grating 13 Camera array 14 Piezoelectric transducer 20 Glass manufacturing apparatus 21 Dissolution tank 22 Float bath 23 Cooling zone

Claims (3)

溶融ガラスを板状ガラスに成形し、それを冷却する成形工程と、冷却された前記板状ガラスを切断してガラス素板とする第1切断工程と、前記ガラス素板を切断してガラス板とする第2切断工程と、前記ガラス板を所望の形状に加工する形状加工工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
第1切断工程と第2切断工程との間に、前記ガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査工程を有し、
前記抜き取り検査工程は、前記ガラス素板の対向する2辺を支持し一方の主表面とセンサ間の距離を測定した後、他方の主表面とセンサ間の距離を測定し、前記ガラス素板の自重によるたわみを相殺することでガラス素板のたわみを求めることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Forming a molten glass into a sheet glass and cooling the glass; a first cutting step of cutting the cooled sheet glass to form a glass base; and cutting the glass base to a glass plate A method for producing a glass substrate for a magnetic disk having a second cutting step and a shape processing step of processing the glass plate into a desired shape,
Between the first cutting step and the second cutting step, it has a sampling inspection step for measuring the deflection of the glass base plate,
The sampling inspection step supports two opposing sides of the glass base plate and measures the distance between one main surface and the sensor, then measures the distance between the other main surface and the sensor, A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein the deflection of the glass base plate is obtained by offsetting the deflection due to its own weight.
前記抜き取り検査工程における前記ガラス素板のたわみを成形工程にフィードバックする請求項1に記載の磁気ディスクガラス基板の製造方法。   The method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to claim 1, wherein the deflection of the glass base plate in the sampling inspection process is fed back to the forming process. 前記ガラス素板のたわみと前記ガラス板の高低差との相関関係を予め測定し、
前記抜き取り検査工程は、前記相関関係に基づいて抜き取り検査を行なうことを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスクガラス基板の製造方法。
Measure in advance the correlation between the deflection of the glass base plate and the difference in height of the glass plate,
3. The method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to claim 1, wherein the sampling inspection step performs a sampling inspection based on the correlation.
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