JP5096272B2 - Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent - Google Patents
Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent Download PDFInfo
- Publication number
- JP5096272B2 JP5096272B2 JP2008231637A JP2008231637A JP5096272B2 JP 5096272 B2 JP5096272 B2 JP 5096272B2 JP 2008231637 A JP2008231637 A JP 2008231637A JP 2008231637 A JP2008231637 A JP 2008231637A JP 5096272 B2 JP5096272 B2 JP 5096272B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- epoxy resin
- curing agent
- vinyl ether
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08L61/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
- C08L61/12—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols with polyhydric phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
- C08G59/621—Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/02—Flame or fire retardant/resistant
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
本発明は、フェノール系硬化剤に関し、更に詳細にはエポキシ樹脂の硬化剤として用いられる新規なフェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物に関する。得られるエポキシ樹脂組成物は、電子材料用樹脂組成物およびコーティング剤等の種々の用途に使用することができる。 The present invention relates to a phenolic curing agent, and more particularly to a novel phenolic curing agent used as a curing agent for an epoxy resin and an epoxy resin composition using the same. The obtained epoxy resin composition can be used for various applications such as a resin composition for electronic materials and a coating agent.
エポキシ樹脂組成物は、その硬化に際して種々の硬化剤を使用されるが、硬化剤の種類により硬化物の性能が大きく異なることが知られており、当該エポキシ樹脂組成物の用途によって硬化剤が使い分けられている。なかでもフェノール系硬化剤は、接着性、耐水性、電気的性能等の物性バランスに優れており、電気・電子分野におけるエポキシ樹脂用の硬化剤として広く用いられている。 Various curing agents are used for curing the epoxy resin composition, but it is known that the performance of the cured product varies greatly depending on the type of the curing agent, and the curing agent is properly used depending on the use of the epoxy resin composition. It has been. Among these, phenolic curing agents are excellent in balance of physical properties such as adhesiveness, water resistance, and electrical performance, and are widely used as curing agents for epoxy resins in the electric / electronic field.
上記のフェノール系硬化剤の中でも、特にポリビニルフェノールは電気抵抗特性に優れていることが知られており、電子材料用樹脂組成物として種々の用途が検討されている(例えば、特許文献1、2など)。しかしながら、電子機器、通信機などの精密機器に装着されている回路は、近年ますます高速化、高密度化が進み、ポリビニルフェノールを硬化剤とするエポキシ樹脂組成物に対してもより高い性能が求められるようになっている。 Among the above-mentioned phenolic curing agents, polyvinylphenol is known to be particularly excellent in electric resistance characteristics, and various uses are being studied as a resin composition for electronic materials (for example, Patent Documents 1 and 2). Such). However, circuits installed in precision equipment such as electronic equipment and communication equipment have been increasingly faster and more dense in recent years, and have higher performance than epoxy resin compositions containing polyvinylphenol as a curing agent. It has come to be required.
たとえば、半導体パッケージや半導体素子の反りは、各構成部材の熱膨張率の差により生じるため、硬化温度を下げることが望まれている。しかし、ポリビニルフェノールはガラス転移温度が高いため、硬化までの溶融状態において被着面に十分追従する粘度に達するためにはある程度高い温度が必要であり、低温での硬化では接着性が不十分となるため硬化温度を下げることができなかった。 For example, warpage of a semiconductor package or a semiconductor element occurs due to a difference in coefficient of thermal expansion between the constituent members, and thus it is desired to lower the curing temperature. However, since polyvinyl phenol has a high glass transition temperature, a certain high temperature is required to reach a viscosity that sufficiently follows the adherend surface in the molten state until curing, and adhesiveness is insufficient for curing at low temperatures. Therefore, the curing temperature could not be lowered.
また、熱膨張率の差によって生じる応力を吸収緩和するために、硬化物の硬度および耐熱性を保持したまま低弾性率にすることが望まれているが、ポリビニルフェノールを硬化剤とするエポキシ樹脂組成物では、熱硬化時の三次元架橋により硬化物の弾性率が高くなり、各構成部材の熱膨張率の差に基づく歪を吸収することができなかった。 Moreover, in order to absorb and relieve the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient, it is desired to have a low elastic modulus while maintaining the hardness and heat resistance of the cured product. In the composition, the elastic modulus of the cured product was increased due to the three-dimensional crosslinking at the time of thermosetting, and the strain based on the difference in the coefficient of thermal expansion of each constituent member could not be absorbed.
一方、低温での流動性を高めて硬化温度を下げるためには、エポキシ樹脂組成物にガラス転移温度の低い熱可塑成分を添加するか、低分子量の成分を添加して流動性を向上させる必要がある。また、各構成部材の熱膨張率の差に基づく歪を吸収し、熱応力緩和特性を改善す方法として、エポキシ樹脂組成物にゴム成分を添加する手法が知られている。しかしながら、エポキシ樹脂組成物にガラス転移温度の低い熱可塑成分やゴム成分を添加すると、流動性や熱応力緩和特性を改善することができるものの、耐熱性が低下したり線膨張係数が大きくなることがあり、また、他成分との相溶性が低くなり、均一に混合せずに相分離を起こすことがあるなどの問題点があった。 On the other hand, in order to increase the fluidity at low temperature and lower the curing temperature, it is necessary to add a thermoplastic component having a low glass transition temperature to the epoxy resin composition or improve the fluidity by adding a component having a low molecular weight. There is. In addition, as a method for absorbing a strain based on a difference in thermal expansion coefficient of each constituent member and improving thermal stress relaxation characteristics, a method of adding a rubber component to an epoxy resin composition is known. However, adding a thermoplastic or rubber component having a low glass transition temperature to the epoxy resin composition can improve the fluidity and thermal stress relaxation properties, but the heat resistance is decreased and the linear expansion coefficient is increased. In addition, there is a problem that compatibility with other components is lowered and phase separation may occur without uniform mixing.
これに対し、特許文献3には、ビニルフェノール単位と、(メタ)アクリル酸エステル、1,3−ブタジエンまたはイソプレン等のガラス転移温度が0℃以下の重合体を与えるモノマー由来の繰返し単位とを有する共重合体を配合した熱硬化性樹脂組成物が、絶縁特性、耐熱性さらには熱衝撃性に優れた硬化物を与えることが示されている。しかしながら、(メタ)アクリレート単位を含む重合体は熱応力緩和性の向上効果は大きくなく、逆に耐水性、電気的特性が悪くなるという問題があり、また、1,3−ブタジエン等の繰り返し単位を含む共重合体は熱応力緩和上は向上するが、相溶性や基板密着性が悪くなるという問題があった。 On the other hand, Patent Document 3 includes a vinylphenol unit and a repeating unit derived from a monomer that gives a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower, such as (meth) acrylic acid ester, 1,3-butadiene, or isoprene. It has been shown that a thermosetting resin composition blended with a copolymer having a cured product excellent in insulating properties, heat resistance and thermal shock resistance. However, a polymer containing a (meth) acrylate unit has a problem that the effect of improving thermal stress relaxation is not large, and conversely, there is a problem that water resistance and electrical characteristics are deteriorated, and a repeating unit such as 1,3-butadiene is used. However, the copolymer containing the compound improves the thermal stress relaxation, but has a problem that the compatibility and the substrate adhesion deteriorate.
さらに、半導体パッケージ用封止材に用いる液状エポキシ樹脂組成物の場合には、クラックや反り、剥離を防止するため、多量の無機充填剤を配合することにより、エポキシ樹脂硬化物の線膨張率を小さくし、硬化収縮率を小さくすることが行われる。また、導電性接着剤、ダイボンディングペースト、異方導電ペーストの場合には、導電性を付与するため導電性充填剤をエポキシ樹脂に大量に配合する必要がある。このような、無機充填剤や導電性充填剤をエポキシ樹脂組成物に大量に配合するには、低粘度の樹脂バインダーを使用する必要がある。しかしながらポリビニルフェノールは一般に固体で提供されるため、液状またはペースト状で用いる場合には粘度が高くなり、塗布性や流し込みによる充填性が悪いという問題があった。 Furthermore, in the case of a liquid epoxy resin composition used for a semiconductor package encapsulant, in order to prevent cracking, warping, and peeling, by adding a large amount of inorganic filler, the linear expansion coefficient of the cured epoxy resin can be increased. It is performed to reduce the curing shrinkage rate. In the case of a conductive adhesive, a die bonding paste, and an anisotropic conductive paste, it is necessary to add a large amount of a conductive filler to the epoxy resin in order to impart conductivity. In order to mix such an inorganic filler or a conductive filler in a large amount with an epoxy resin composition, it is necessary to use a low-viscosity resin binder. However, since polyvinylphenol is generally provided as a solid, when used in a liquid or paste form, the viscosity becomes high, and there is a problem that coating property and filling property by pouring are poor.
エポキシ樹脂組成物の粘度を下げる方法としては、例えば、溶剤に溶解してエポキシ樹脂組成物の粘度を調整する方法が知られている。しかしながら、多量の溶剤を使用すると、導電性ペースト等の用途では硬化加熱時の溶剤の抜け跡として硬化物中にボイドが発生し、接着強度、熱伝導性及び導電性の低下の原因となり信頼性の面から好ましくない。また、溶剤の蒸発により作業環境が悪化するという問題もある。更に、溶剤として反応性希釈剤を用いる方法も知られているが(例えば、特許文献4など)、反応性希釈剤は硬化時に体積収縮が起こるため、やはり多量の使用は好ましくないとされている。
従って本発明の課題は、従来のポリビニルフェノールを含むエポキシ樹脂組成物に比べて低い温度でも流動性を有し、低温での硬化が可能であり、さらに、得られる硬化物の耐熱性を損なうことなく、熱応力緩和特性を改善することが可能な、新規なエポキシ樹脂組成物を提供することにある。また、無溶剤またはより少ない溶剤量で、良好な塗布性及び充填性を有する低粘度のエポキシ樹脂組成物を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to have fluidity even at a lower temperature than conventional epoxy resin compositions containing polyvinylphenol, to be cured at a low temperature, and to impair the heat resistance of the resulting cured product. And providing a novel epoxy resin composition capable of improving the thermal stress relaxation characteristics. Another object of the present invention is to provide a low-viscosity epoxy resin composition having good coating properties and filling properties with no solvent or in a smaller amount of solvent.
本発明者らは、この課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のビニルフェノールとビニルエーテルとの共重合体をフェノール系硬化剤として用いることにより、上記課題を解決できることを見出し本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve this problem, the present inventors have found that the above problem can be solved by using a copolymer of a specific vinylphenol and vinyl ether as a phenolic curing agent, thereby completing the present invention. I let you.
すなわち本発明は、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられるフェノール系硬化剤であって、式(1)
す)
で示されるビニルフェノール単位(a)と、式(2)
たは分岐鎖のフルオロアルキル基、炭素数2〜6のアルコキシアルキル基、炭素数5
〜10のシクロアルキル基または次の基
の炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖または分岐
鎖のフルオロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはハロゲン原子によっ
て置換されたフェニル基である)
で表されるアリール基またはアリールアルキル基を表す]
で表されるビニルエーテル単位(b)を含み、1分子中にフェノール性水酸基を2以上有する共重合体であることを特徴とするフェノール系硬化剤である。
That is, this invention is a phenol type hardening | curing agent used as a hardening | curing agent of an epoxy resin, Comprising: Formula (1)
A vinylphenol unit (a) represented by formula (2)
To 10 cycloalkyl groups or
Represents an aryl group or an arylalkyl group represented by
A phenolic curing agent comprising a vinyl ether unit (b) represented by the formula (1) and a copolymer having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule.
また本発明は、前記のフェノール系硬化剤とエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物である。 Moreover, this invention is an epoxy resin composition containing the said phenol type hardening | curing agent and an epoxy resin.
エポキシ系樹脂に本発明のフェノール系硬化剤を配合することにより、従来のポリビニルフェノールを含むエポキシ樹脂組成物に比べて低い温度でも流動性を有し、低温での硬化が可能であり、さらに、硬化物の耐熱性を損なうことなく応力緩和性に優れた硬化物を与えることが可能な、エポキシ樹脂組成物を得ることができる。そしてこの、エポキシ樹脂組成物は、無溶剤またはより少ない溶剤量で、良好な塗布性及び充填性を有する低粘度のエポキシ樹脂組成物となる。 By blending the phenolic curing agent of the present invention with an epoxy resin, it has fluidity even at a lower temperature than conventional epoxy resin compositions containing polyvinylphenol, and can be cured at a low temperature. An epoxy resin composition capable of providing a cured product having excellent stress relaxation properties without impairing the heat resistance of the cured product can be obtained. And this epoxy resin composition turns into a low-viscosity epoxy resin composition which has favorable applicability | paintability and filling property with no solvent or less solvent amount.
従って、本発明のフェノール系硬化剤を配合したエポキシ樹脂組成物は、例えば、電子材料用樹脂組成物として好適に使用することができる。具体的には、プリント基板用プリプレグ用樹脂組成物、プリント基板用銅張り積層板用樹脂組成物、ビルドアッププリント基板の層間絶縁材料用コーティング剤、半導体の層間絶縁膜用樹脂組成物、電子部品の封止剤用樹脂組成物、半導体チップの封止剤用樹脂組成物、アンダーフィル用樹脂硬化物、レジストインキ、導電ペースト、電子部品収納用成形物用樹脂組成物および異方性導電膜用組成物等といった各種用途に用ることができる。 Therefore, the epoxy resin composition which mix | blended the phenol type hardening | curing agent of this invention can be used conveniently as a resin composition for electronic materials, for example. Specifically, a resin composition for a prepreg for a printed circuit board, a resin composition for a copper-clad laminate for a printed circuit board, a coating agent for an interlayer insulating material of a build-up printed circuit board, a resin composition for an interlayer insulating film of a semiconductor, an electronic component Resin composition for encapsulant, resin composition for encapsulant for semiconductor chip, cured resin for underfill, resist ink, conductive paste, resin composition for molded article for storing electronic parts and anisotropic conductive film It can be used for various applications such as compositions.
さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬度及び密着性に優れ、コーティング剤組成物、接着剤等の各種用途にも用いることができる。 Furthermore, the epoxy resin composition of this invention is excellent in hardness and adhesiveness, and can be used for various uses, such as a coating agent composition and an adhesive agent.
本発明のフェノール系硬化剤は上記一般式(1)で表されるビニルフェノール単位(a)と、上記一般式(2)で表されるビニルエーテル単位(b)を含み、1分子中にフェノール性水酸基を2以上有する共重合体である。 The phenolic curing agent of the present invention comprises a vinylphenol unit (a) represented by the above general formula (1) and a vinyl ether unit (b) represented by the above general formula (2), and is phenolic in one molecule. It is a copolymer having two or more hydroxyl groups.
一般式(1)において、R1で表される炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。 In the general formula (1), the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 1 includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. And isobutyl group.
また、一般式(2)におけるR2の定義において、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−アミル基、イソアミル基等が挙げられる。更に、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖のフルオロアルキル基としては、上記炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖のアルキル基の全部または一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基が挙げられ、その例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基などが挙げられる。 In the definition of R 2 in the general formula (2), the linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, sec- Examples thereof include a butyl group, a tert-butyl group, an isobutyl group, an n-amyl group, and an isoamyl group. Further, the linear or branched fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms is a fluoroalkyl in which all or part of the above-mentioned linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is substituted with fluorine. Examples thereof include trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and the like.
更にまた、炭素数2〜6のアルコキシアルキル基としては、メトキシ基メチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−テトラヒドロピラニル基、2−テトラヒドロフラニル基等が、炭素数5〜10のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、ビシクロ[2.2.2]オクチル基、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル基、アダマンチル基などがそれぞれ挙げられる。 Furthermore, examples of the alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms include methoxy group methyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 2-tetrahydrofuranyl group and the like. The cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms includes a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a bicyclo [2.2.1] heptyl group, a bicyclo [2.2.2] octyl group, and a tricyclo group. [5.2.1.0 2,6 ] decanyl group, adamantyl group and the like can be mentioned.
一方、基(3)で表される基のうちアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられ、アリールアルキル基としてはベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、フルオロベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基等が挙げられる。 On the other hand, among the groups represented by the group (3), examples of the aryl group include phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, and trifluoromethylphenyl group. Examples of the arylalkyl group include benzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, fluorobenzyl group, trifluoromethylbenzyl group and the like.
このような共重合体は、前記一般式(1)で表されるビニルフェノール単位(a)を誘導しうるビニルフェノール系単量体またはその水酸基を保護した単量体と、前記一般式(2)で表されるビニルエーテル単位(b)を誘導しうるビニルエーテル系単量体を共重合することにより得られる。 Such a copolymer includes a vinylphenol monomer capable of deriving the vinylphenol unit (a) represented by the general formula (1) or a monomer protecting the hydroxyl group thereof, and the general formula (2). It is obtained by copolymerizing a vinyl ether monomer capable of deriving the vinyl ether unit (b) represented by
ビニルフェノール単位(a)を誘導しうるビニルフェノール系単量体としては、例えば、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノール、m−イソプロペニルフェノール、o−イソプロペニルフェノール等が挙げられる。この中でもp−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノール、m−イソプロペニルフェノールが好ましく用いられる。 Examples of the vinylphenol monomer capable of deriving the vinylphenol unit (a) include p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, o-hydroxystyrene, p-isopropenylphenol, m-isopropenylphenol, o- Examples include isopropenylphenol. Of these, p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-isopropenylphenol, and m-isopropenylphenol are preferably used.
また、これらの水酸基を保護した単量体としては、例えば、p−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−エトキシスチレン、m−エトキシスチレン、p−プロポキシスチレン、m−プロポキシスチレン、p−イソプロポキシスチレン、m−イソプロポキシスチレン、p−n−ブトキシスチレン、m−n−ブトキシスチレン、p−イソブトキシスチレン、m−イソブトキシスチレン、p−tert−ブトキシスチレン、m−tert−ブトキシスチレン等のアルコキシスチレン類;p−メトキシメトキシスチレン、m−メトキシメトキシスチレン、p−(1−エトキシエトキシ)スチレン、m−(1−エトキシエトキ)シスチレン、p−(2−テトラヒドロピラニル)オキシスチレン、m−(2−テトラヒドロピラニル)オキシスチレン等のアルコキシアルキルオキシスチレン類;p−アセトキシスチレン、m−アセトキシスチレン、p−tert−ブチルカルボニルオキシスチレン、m−tert−ブチルカルボニルオキシスチレン等のアルカノイルオキシスチレン類;p−メトキシカルボニルオキシスチレン、m−メトキシカルボニルオキシスチレン、p−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン、m−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン等のアルコキシカルボニルオキシスチレン類;p−tert−ブトキシカルボニルメチルオキシスチレン、m−tert−ブトキシカルボニルオキシメチルスチレン等のアルコキシカルボニルアルキルオキシスチレン類;p−トリメチルシリルオキシスチレン、m−トリメチルシリルオキシスチレン、p−tert−ブチルジメチルシリルオキシスチレン、m−tert−ブチルジメチルシリルオキシスチレン等のアルキルシリルオキシスチレン類等が挙げられる。この中でも、p−tert−ブトキシスチレン、m−tert−ブトキシスチレン、p−アセトキシスチレン、m−アセトキシスチレン等が好ましく用いられる。 Examples of monomers that protect these hydroxyl groups include p-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-ethoxystyrene, m-ethoxystyrene, p-propoxystyrene, m-propoxystyrene, and p-isopropoxy. Alkoxy such as styrene, m-isopropoxystyrene, pn-butoxystyrene, mn-butoxystyrene, p-isobutoxystyrene, m-isobutoxystyrene, p-tert-butoxystyrene, m-tert-butoxystyrene Styrenes; p-methoxymethoxystyrene, m-methoxymethoxystyrene, p- (1-ethoxyethoxy) styrene, m- (1-ethoxyethoxy) sistyrene, p- (2-tetrahydropyranyl) oxystyrene, m- (2 -Tetrahydropyranyl) oxystyrene Alkoxyalkyloxystyrenes such as p-acetoxystyrene, m-acetoxystyrene, p-tert-butylcarbonyloxystyrene, alkanoyloxystyrenes such as m-tert-butylcarbonyloxystyrene; p-methoxycarbonyloxystyrene, m Alkoxycarbonyloxystyrenes such as -methoxycarbonyloxystyrene, p-tert-butoxycarbonyloxystyrene, m-tert-butoxycarbonyloxystyrene; p-tert-butoxycarbonylmethyloxystyrene, m-tert-butoxycarbonyloxymethylstyrene Alkoxycarbonylalkyloxystyrenes such as p-trimethylsilyloxystyrene, m-trimethylsilyloxystyrene, p-tert Butyldimethylsilyloxy styrene, alkylsilyloxy styrenes such as m-tert-butyldimethylsilyloxy styrene. Among these, p-tert-butoxystyrene, m-tert-butoxystyrene, p-acetoxystyrene, m-acetoxystyrene and the like are preferably used.
一方、ビニルエーテル単位(b)を誘導しうるビニルエーテル系単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、sec−ブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、n−アミルビニルエーテル、イソアミルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;トリフルオロメチルビニルエーテル、ペンタフルオロエチルビニルエーテル、2,2,2−トリフルオロエチルビニルエーテル等のフルオロアルキルビニルエーテル類;2−メトキシエチルビニルエーテル、2−エトキシエチルビニルエーテル、2−テトラヒドロピラニルビニルエーテル、2−テトラヒドロフラニルビニルエーテル等のアルコキシアルキルビニルエーテル類;シクロペンチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘプチルビニルエーテル、シクロオクチルビニルエーテル、2−ビシクロ[2.2.1]ヘプチルビニルエーテル、2−ビシクロ[2.2.2]オクチルビニルエーテル、8−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニルビニルエーテル、1−アダマンチルビニルエーテル、2−アダマンチルビニルエーテル等のシクロアルキルビニルエーテル類;フェニルビニルエーテル、4−メチルフェニルビニルエーテル、4−トリフルオロメチルフェニルビニルエーテル、4−フルオロフェニルビニルエーテル等のアリールビニルエーテル類;ベンジルビニルエーテル、4−フルオロベンジルビニルエーテル等のアリールアルキルビニルエーテル類等が挙げられる。この中でも特に、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、sec−ブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、n−アミルビニルエーテル、イソアミルビニルエーテル等の低級アルキルビニルエーテル類を好ましく用いることができる。 On the other hand, examples of the vinyl ether monomer capable of deriving the vinyl ether unit (b) include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, sec-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether. Alkyl vinyl ethers such as n-amyl vinyl ether and isoamyl vinyl ether; fluoroalkyl vinyl ethers such as trifluoromethyl vinyl ether, pentafluoroethyl vinyl ether and 2,2,2-trifluoroethyl vinyl ether; 2-methoxyethyl vinyl ether and 2-ethoxy Ethyl vinyl ether, 2-tetrahydropyranyl vinyl ether, 2-tetrahydrofuranyl vinyl ether Alkoxypentyl vinyl ethers such as cyclopentyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cycloheptyl vinyl ether, cyclooctyl vinyl ether, 2-bicyclo [2.2.1] heptyl vinyl ether, 2-bicyclo [2.2.2] octyl vinyl ether, 8-tricyclo [5.2.1.0 2.6 ] cycloalkyl vinyl ethers such as decanyl vinyl ether, 1-adamantyl vinyl ether, 2-adamantyl vinyl ether; phenyl vinyl ether, 4-methylphenyl vinyl ether, 4-trifluoromethylphenyl vinyl ether, 4 -Aryl vinyl ethers such as fluorophenyl vinyl ether; arylalkyl vinyl ethers such as benzyl vinyl ether and 4-fluorobenzyl vinyl ether Ethers, and the like. Of these, lower alkyl vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, sec-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, n-amyl vinyl ether, and isoamyl vinyl ether are preferably used. be able to.
これらのビニルフェノール系単量体、その水酸基を保護した単量体及びビニルエーテル系単量体は、それぞれ1種を単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて使用しても良い。 These vinylphenol monomers, monomers protecting the hydroxyl groups, and vinyl ether monomers may be used alone or in combination of two or more.
本発明のフェノール系硬化剤を構成する共重合体において、得られる硬化物の特性を効果的に発現させるためには、繰り返し単位(a)と繰り返し単位(b)が各々ブロックを形成していることが好ましく、特にビニルフェノール単位(a)をAセグメントとし、ビニルエーテル単位(b)をBセグメントとするABA型トリブロックを形成していることが好ましいい。 In the copolymer constituting the phenolic curing agent of the present invention, the repeating unit (a) and the repeating unit (b) each form a block in order to effectively express the properties of the resulting cured product. In particular, it is preferable to form an ABA type triblock having the vinylphenol unit (a) as the A segment and the vinyl ether unit (b) as the B segment.
また、低粘度化のためには、共重合体に含まれる繰り返し単位(a)と繰り返し単位(b)の組成比(モル比)が1/99〜10/90であることが好ましく、3/97〜7/93であることがより好ましく、また、共重合体の50℃における粘度は100000mPa・s以下が好ましく、60000mPa・s以下がより好ましい。 In order to reduce the viscosity, the composition ratio (molar ratio) of the repeating unit (a) and the repeating unit (b) contained in the copolymer is preferably 1/99 to 10/90. It is more preferably 97 to 7/93, and the viscosity at 50 ° C. of the copolymer is preferably 100,000 mPa · s or less, and more preferably 60000 mPa · s or less.
本発明の共重合体を製造するための重合方法は特に限定されないが、例えば、ラジカル重合、(リビング)カチオン重合などが挙げられ、得られる共重合体の分子構造や組成比の制御などを考慮すると、リビングカチオン重合が好ましい。 Although the polymerization method for producing the copolymer of the present invention is not particularly limited, for example, radical polymerization, (living) cationic polymerization, etc. can be mentioned, and control of the molecular structure and composition ratio of the obtained copolymer is considered. Then, living cationic polymerization is preferable.
例えば、本発明の最も好ましい実施形態である、ビニルフェノール単位(a)をAセグメントとし、ビニルエーテル単位(b)をBセグメントとするABA型トリブロック共重合体は、二官能開始剤、ルイス酸及び溶媒の存在下に前記のビニルエーテル系単量体をリビングカチオン重合させ、次いで、前記のビニルフェノール系単量体またはその水酸基を保護した単量体を添加してリビングカチオン重合させ、必要により脱保護処理を行うことにより得ることができる。 For example, the most preferred embodiment of the present invention, an ABA type triblock copolymer having a vinylphenol unit (a) as an A segment and a vinyl ether unit (b) as a B segment, includes a bifunctional initiator, a Lewis acid, and The above vinyl ether monomer is subjected to living cationic polymerization in the presence of a solvent, and then the above vinyl phenol monomer or a monomer protecting its hydroxyl group is added to carry out living cationic polymerization. It can be obtained by performing processing.
上記において使用される二官能開始剤としては、下式(4)
(式中、R4は炭素数1〜10のアルキレン基を表し、R5は水素原子または炭素数1
〜4のアルキル基を表す)
で表される構造を有するものを用いることができる。
As the bifunctional initiator used in the above, the following formula (4)
(In the formula, R 4 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom.
Represents an alkyl group of ~ 4)
What has the structure represented by these can be used.
上記式(4)においてR4で表される炭素数1〜10のアルキレン基の具体的な例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、シクロへキシレン基などが挙げられる。また、R5の定義における炭素数1〜4のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基などが挙げられる。 Specific examples of the alkylene group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 4 in the above formula (4) include methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, hepta Examples include methylene group, octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group, cyclohexylene group and the like. Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the definition of R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an isobutyl group. Etc.
式(4)で表される化合物の具体的な例としては、1,1−ビス(1−アセトキシメトキシ)メタン、1,2−ビス(1−アセトキシメトキシ)エタン、1,3−ビス(1−アセトキシメトキシ)プロパン、1,4−ビス(1−アセトキシメトキシ)エタン、1,2−ビス(1−アセトキシメトキシ)ブタン、1,5−ビス(1−アセトキシメトキシ)エタン、1,2−ビス(1−アセトキシメトキシ)ペンタン、1,6−ビス(1−アセトキシメトキシ)ヘキサン、1,7−ビス(1−アセトキシメトキシ)ヘプタン、1,8−ビス(1−アセトキシメトキシ)オクタン、1,9−ビス(1−アセトキシメトキシ)ノナン、1,10−ビス(1−アセトキシメトキシ)デカン、1,1−ビス(1−アセトキシエトキシ)メタン、1,2−ビス(1−アセトキシエトキシ)エタン、1,3−ビス(1−アセトキシエトキシ)プロパン、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)ブタン、1,5−ビス(1−アセトキシエトキシ)ペンタン、1,6−ビス(1−アセトキシエトキシ)ヘキサン、1,7−ビス(1−アセトキシエトキシ)ヘプタン、1,8−ビス(1−アセトキシエトキシ)オクタン、1,9−ビス(1−アセトキシエトキシ)ノナン、1,10−ビス(1−アセトキシエトキシ)デカン、1,4−ビス(1−アセトキシメトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)シクロヘキサンなどが挙げられる。なかでも、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)ブタン、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)シクロヘキサン等が好ましく用いられる。これらの化合物は、1,4−ブタンジオールジビニルテーテルまたは1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテルに酢酸を付加させることにより得られる。 Specific examples of the compound represented by the formula (4) include 1,1-bis (1-acetoxymethoxy) methane, 1,2-bis (1-acetoxymethoxy) ethane, 1,3-bis (1 -Acetoxymethoxy) propane, 1,4-bis (1-acetoxymethoxy) ethane, 1,2-bis (1-acetoxymethoxy) butane, 1,5-bis (1-acetoxymethoxy) ethane, 1,2-bis (1-acetoxymethoxy) pentane, 1,6-bis (1-acetoxymethoxy) hexane, 1,7-bis (1-acetoxymethoxy) heptane, 1,8-bis (1-acetoxymethoxy) octane, 1,9 -Bis (1-acetoxymethoxy) nonane, 1,10-bis (1-acetoxymethoxy) decane, 1,1-bis (1-acetoxyethoxy) methane, 1,2-bis (1-acetoxy) Toxi) ethane, 1,3-bis (1-acetoxyethoxy) propane, 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) butane, 1,5-bis (1-acetoxyethoxy) pentane, 1,6-bis (1 -Acetoxyethoxy) hexane, 1,7-bis (1-acetoxyethoxy) heptane, 1,8-bis (1-acetoxyethoxy) octane, 1,9-bis (1-acetoxyethoxy) nonane, 1,10-bis (1-acetoxyethoxy) decane, 1,4-bis (1-acetoxymethoxy) cyclohexane, 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) cyclohexane and the like. Of these, 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) butane, 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) cyclohexane and the like are preferably used. These compounds can be obtained by adding acetic acid to 1,4-butanediol divinyl ether or 1,4-cyclohexanediol divinyl ether.
前記ABA型トリブロック共重合体の製造における、二官能開始剤の添加量には特に制限はなく、目的とする共重合体の分子量により適宜決定される。 There is no restriction | limiting in particular in the addition amount of a bifunctional initiator in manufacture of the said ABA type | mold triblock copolymer, It determines suitably with the molecular weight of the target copolymer.
また、ABA型トリブロック共重合体の製造において用いられるルイス酸としては、ビニルエーテル系単量体のカチオン重合に一般的に用いられるルイス酸を特に制限なく使用することができる。具体的には、例えば、Et1.5AlCl1.5等の有機金属ハロゲン化物、TiCl4、TiBr4、BCl3、BF3、BF3・OEt2、SnCl2、SnCl4、SbCl5、SbF5、WCl6、TaCl5、VCl5、FeCl3、ZnBr2、AlCl3、AlBr3等の金属ハロゲン化物を好適に使用することができる。 In addition, as the Lewis acid used in the production of the ABA type triblock copolymer, a Lewis acid generally used for cationic polymerization of vinyl ether monomers can be used without particular limitation. Specifically, for example, organometallic halides such as Et 1.5 AlCl 1.5 , TiCl 4 , TiBr 4 , BCl 3 , BF 3 , BF 3 .OEt 2 , SnCl 2 , SnCl 4 , SbCl 5 , SbF 5 , WCl 6 , TaCl 5 , VCl 5 , FeCl 3 , ZnBr 2 , AlCl 3 , AlBr 3, and other metal halides can be preferably used.
このルイス酸の使用量は、特に限定されないが、使用するビニルエーテル系単量体の重合特性あるいは重合濃度等を考慮して設定することができる。通常はビニルエーテル系単量体に対して0.1〜100モル%で使用することができ、好ましくは1〜50モル%の範囲で使用することができる。 The amount of the Lewis acid used is not particularly limited, but can be set in consideration of the polymerization characteristics or the polymerization concentration of the vinyl ether monomer used. Usually, it can be used at 0.1 to 100 mol%, preferably 1 to 50 mol%, relative to the vinyl ether monomer.
更に、溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;プロパン、n−ブタン、イソブタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、デカン、ヘキサデカン、イソペンタン、n−ヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒;塩化エチレン、塩化メチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒;テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル類溶媒が挙げられる。これらの溶媒の中でも、トルエン、塩化メチレン、THFが好適に使用される。これらの溶媒は、単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせで用いても良い。 Furthermore, as a solvent, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene; propane, n-butane, isobutane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, isooctane, decane, hexadecane, isopentane Aliphatic hydrocarbon solvents such as n-hexane; Halogenated hydrocarbon solvents such as ethylene chloride, methylene chloride, carbon tetrachloride; Ethers such as tetrahydrofuran (THF), dioxane, diethyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol diethyl ether A solvent is mentioned. Among these solvents, toluene, methylene chloride, and THF are preferably used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
前記ABA型トリブロック共重合体の重合反応では、反応容器に溶媒、ビニルエーテル系単量体、二官能開始剤、ルイス酸を順次投入し、先ずはじめにビニルエーテル単位(b)を含むセグメントBが合成される。次いで、ビニルエーテル系単量体の転換が終了した時点でビニルフェノール系単量体(もしくその水酸基が保護された単量体)を添加し、必要であれば更にルイス酸を追加し、継続して重合反応を進めることにより、ビニルエーテル単位(b)からなるセグメントBの両末端に(保護された)ビニルフェノール単位(a)からなるセグメントAが合成される。 In the polymerization reaction of the ABA type triblock copolymer, a solvent, a vinyl ether monomer, a bifunctional initiator, and a Lewis acid are sequentially added to a reaction vessel, and a segment B containing a vinyl ether unit (b) is synthesized first. The Next, when the conversion of the vinyl ether monomer is completed, a vinyl phenol monomer (or a monomer whose hydroxyl group is protected) is added, and if necessary, a Lewis acid is further added and continued. By proceeding with the polymerization reaction, a segment A composed of (protected) vinylphenol units (a) is synthesized at both ends of the segment B composed of vinyl ether units (b).
上記重合反応の重合条件は、使用するルイス酸、二官能開始剤、単量体及び溶媒等の種類により異なるが、重合温度は、通常−80℃〜150℃の範囲内が好ましく、−78℃〜80℃の範囲内がより好ましい。また、重合時間は、通常は2時間から100時間の範囲である。 The polymerization conditions for the above polymerization reaction vary depending on the kind of Lewis acid, bifunctional initiator, monomer, solvent, etc. used, but the polymerization temperature is usually preferably in the range of -80 ° C to 150 ° C, and -78 ° C. A range of -80 ° C is more preferable. The polymerization time is usually in the range of 2 hours to 100 hours.
上記のようにして調製された共重合物からの脱保護は、例えば溶媒中、塩酸、硫酸などの酸触媒下で、反応温度50〜150℃、反応時間1〜30時間反応させることにより行うことができる。 Deprotection from the copolymer prepared as described above is carried out, for example, by reacting in a solvent in an acid catalyst such as hydrochloric acid or sulfuric acid at a reaction temperature of 50 to 150 ° C. for a reaction time of 1 to 30 hours. Can do.
一方、本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記フェノール系硬化剤とエポキシ樹脂を必須成分として含むものである。使用されるエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノール類、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒドとの重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮合物、ビフェノール類、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられ、一般に市販されているものを用途に応じて適宜使用することができる。 On the other hand, the epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned phenolic curing agent and epoxy resin as essential components. Specific examples of the epoxy resin used include polycondensates of bisphenols, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and various aldehydes, phenols and various dienes. Polymers with compounds, polycondensates of phenols and aromatic dimethylol, glycidyl ether epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, glycidyl ester epoxys glycidylated biphenols, alcohols, etc. Resins and the like can be mentioned, and those that are generally available on the market can be appropriately used depending on the application.
たとえば本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体パッケージ用封止材に用いる液状エポキシ樹脂組成物や、導電性接着剤、ダイボンディングペースト、異方導電ペースト等の用途に用いる場合は、常温で液状のエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。常温で液状のものでない場合は溶剤を必要とするが、溶剤は気泡の原因となり硬化物の接着強度、熱伝導率を低下させてしまうので好ましくない。なお、本明細書中において、常温で液状のエポキシ樹脂とは、常温で液体状の物の他、例えば常温で固形のものでも常温で液状のエポキシ樹脂と混合することで常温で安定して液状を示すものも含む。 For example, a liquid epoxy resin composition that uses the epoxy resin composition of the present invention as a sealing material for semiconductor packages, a conductive adhesive, a die bonding paste, an anisotropic conductive paste, etc. It is preferable to use a resin. If it is not liquid at room temperature, a solvent is required, but the solvent causes bubbles and lowers the adhesive strength and thermal conductivity of the cured product, which is not preferable. In this specification, the epoxy resin that is liquid at room temperature is a liquid that is stable at room temperature by mixing it with a liquid epoxy resin at room temperature, even if it is solid at room temperature, for example. Including those indicating.
上記の常温で液状のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールADジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートやビニルシクロヘキセンジエポキサイド等の脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル、ビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ヘキサヒドロ無水フタル酸のジグリシジルエーテル等の多塩基酸のポリグリシジルエステル等を挙げることができる。エポキシ樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the epoxy resin that is liquid at room temperature include bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl ether, naphthalenediol diglycidyl ether, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl. -3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, alicyclic epoxy resins such as vinylcyclohexene diepoxide, diglycidyl ether of bisphenol A ethylene oxide adduct, diglycidyl ether of bisphenol A propylene oxide adduct, cyclohexanedimethanol di Polybasic acid polyglycerides such as glycidyl ether, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol, diglycidyl ether of hexahydrophthalic anhydride A lysidyl ester etc. can be mentioned. An epoxy resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
エポキシ樹脂とフェノール系硬化剤の配合比としては、所定の効果が得られる限り特に限定されるものではないが、通常、エポキシ樹脂100質量部に対してフェノール系硬化剤が50〜200質量部である。 The compounding ratio of the epoxy resin and the phenolic curing agent is not particularly limited as long as a predetermined effect can be obtained. Usually, the phenolic curing agent is 50 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. is there.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、本発明のフェノール系硬化剤のほかに、性能を損なわない範囲で他の硬化剤を使用することができる。硬化剤としてはアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノ−ル系化合物などが使用できる。用いうる硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ビスフェノール類、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒドとの重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮合物、ビフェノール類及びこれらの変性物、オキシスチレン化合物やその重合物等が挙げられる。 In addition to the phenolic curing agent of the present invention, other curing agents can be used in the epoxy resin composition of the present invention as long as the performance is not impaired. As the curing agent, an amine compound, an acid anhydride compound, an amide compound, a phenol compound, or the like can be used. Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, triethylene anhydride. Mellitic acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, bisphenols, phenols (phenol, alkyl substituted) Polymerization of phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) with various aldehydes, phenols and various diene compounds , Polycondensates of phenols with aromatic dimethylol, biphenols and modified products thereof, hydroxystyrene compound or polymers thereof and the like.
また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、硬化促進剤を併用してもよい。硬化促進剤の具体例としては2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾ−ル類;2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類;トリフェニルホスフィン等のホスフィン類、オクチル酸スズなどの金属化合物などが挙げられる。硬化促進剤はエポキシ樹脂100質量部に対して通常0.01〜15質量部が必要に応じ用いられる。 Moreover, you may use together a hardening accelerator with the epoxy resin composition of this invention. Specific examples of the curing accelerator include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole; 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza-bicyclo ( Tertiary amines such as 5,4,0) undecene-7; phosphines such as triphenylphosphine; metal compounds such as tin octylate; As for a hardening accelerator, 0.01-15 mass parts is normally used as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins.
本発明のエポキシ樹脂に含まれるエポキシ樹脂及び本発明のフェノール系硬化剤が常温で液状の場合は、溶剤を用いることは必須ではないが、粘度や塗布性等を調節するために必要に応じて溶剤を配合してもよい。溶剤としては、例えばアルコール系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤、脂肪酸系溶剤等公知のものが使用される。具体的には、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘキサノン、2−ヘプタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の有機溶剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 When the epoxy resin contained in the epoxy resin of the present invention and the phenolic curing agent of the present invention are liquid at room temperature, it is not essential to use a solvent, but as necessary to adjust the viscosity, coating properties, etc. You may mix | blend a solvent. Examples of the solvent include known solvents such as alcohol solvents, ester solvents, ether solvents, ketone solvents, hydrocarbon solvents, and fatty acid solvents. Specifically, for example, toluene, xylene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, 2-heptanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, butyl carbitol, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, propylene glycol Examples of the organic solvent include monomethyl ether acetate and triethylene glycol monobutyl ether, but are not limited thereto.
さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてシリカ、アルミナ、タルク、銀粉末等の充填材やシランカップリング剤、離型剤、顔料等の種々の配合剤を添加することができる。 Furthermore, it is possible to add various compounding agents such as fillers such as silica, alumina, talc and silver powder, silane coupling agents, mold release agents and pigments to the epoxy resin composition of the present invention. it can.
本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化条件は特に制限されるものではないが、硬化物の用途に応じて、例えば50〜200℃の温度で、10分〜48時間程度加熱し、組成物を硬化させることができる。また、硬化を十分に進行させたり、気泡の発生を防止するために二段階で加熱することもでき、例えば、第一段階では、50〜150℃の温度で10分〜10時間程度加熱し、さらに100〜200℃の温度で、30分〜12時間程度加熱して硬化させることもできる。実用的には、生産性や得られる硬化物物性等を考慮して硬化温度と硬化時間が決定される。 Although the curing conditions of the epoxy resin composition of the present invention are not particularly limited, the composition is cured by heating, for example, at a temperature of 50 to 200 ° C. for about 10 minutes to 48 hours, depending on the use of the cured product. Can be made. Moreover, in order to fully advance hardening or to prevent generation | occurrence | production of a bubble, it can also heat in two steps, for example, in a 1st step, it heats at the temperature of 50-150 degreeC for about 10 minutes-10 hours, Furthermore, it can be cured by heating at a temperature of 100 to 200 ° C. for about 30 minutes to 12 hours. Practically, the curing temperature and the curing time are determined in consideration of productivity, physical properties of the obtained cured product, and the like.
以下に合成例、実施例、比較例および試験例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれら実施例等に何ら限定されるものではない。なお、合成例において得られた共重合体の物性評価は以下の方法により行った。 The present invention will be further described below with reference to synthesis examples, examples, comparative examples and test examples, but the present invention is not limited to these examples. The physical properties of the copolymers obtained in the synthesis examples were evaluated by the following methods.
平均共重合組成:
13C−NMRの測定結果から求めた。
重量平均分子量Mw及び分子量分布Mw/Mn:
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により標準ポリスチレン
検量線から求めた[RI検出器;カラムはShodex社製KF−801+KF
−805L;溶離液はテトラヒドロフラン]。
粘度測定:
ブロックフィールド型回転粘度計により測定した。
Average copolymer composition:
It calculated | required from the measurement result of < 13 > C-NMR.
Weight average molecular weight Mw and molecular weight distribution Mw / Mn:
Obtained from standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography (GPC) method [RI detector; column is Shodex KF-801 + KF
-805L; eluent is tetrahydrofuran].
Viscosity measurement:
Measured with a block field rotational viscometer.
合 成 例 1
p−イソプロペニルフェノール/エチルビニルエーテル/p−イソプロペニル
フェノール系トリブロックポリマー(共重合体1)の製造:
Synthesis example 1
p-isopropenylphenol / ethyl vinyl ether / p-isopropenyl
Production of phenolic triblock polymer (copolymer 1):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内にエチルビニルエーテル(以下、「EVE」と記載する)252.6g、酢酸エチル280g、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)ブタン9.4gおよびトルエン2640gを入れ、系内温度が0℃に達したところでEt1.5AlCl1.5の0.91モル(以下Mと記載する)/Lトルエン溶液68mlを加えて重合を開始した。EVEの転化率を時分割にガスクロマトグラフィー(GC)を用いてモニタリングし、EVEモノマーの転換が終了した時点でp−イソプロペニルフェノール(以下、「PIPP」と記載する)21.2gを反応溶液に添加し、更に反応を続けた。 A glass container with a three-way stopcock was prepared, and after substituting with argon, it was heated in an argon atmosphere to remove adsorbed water in the glass container. 252.6 g of ethyl vinyl ether (hereinafter referred to as “EVE”), 280 g of ethyl acetate, 9.4 g of 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) butane and 2640 g of toluene are placed in a container, and the system temperature is 0 ° C. Then, 68 ml of 0.91 mol (hereinafter referred to as M) / L toluene solution of Et 1.5 AlCl 1.5 was added to initiate polymerization. The conversion rate of EVE was monitored in a time-sharing manner using gas chromatography (GC). When the conversion of EVE monomer was completed, 21.2 g of p-isopropenylphenol (hereinafter referred to as “PIPP”) was added to the reaction solution. The reaction was continued further.
PIPP添加後、2.5時間、5時間を経過した時点で、SnCl4の0.5M/Lトルエン溶液をそれぞれ4ml、2ml加えた。PIPP添加後5.5時間後に反応を終了した。重合反応系内に1M/LのNH3メタノール溶液を100ml加えて反応を停止し、反応混合物溶液に酸化アルミニウム4質量%を加え、24時間攪拌して触媒を吸着除去し、孔径0.1μmのフィルターで酸化アルミニウムを除去した。このろ液をエバポレーターで減圧濃縮し、PIPP/EVE/PIPP系トリブロックポリマー(共重合体1)を得た。 When 2.5 hours and 5 hours had elapsed after the addition of PIPP, 4 ml and 2 ml of a 0.5 M / L toluene solution of SnCl 4 were added, respectively. The reaction was completed 5.5 hours after the addition of PIPP. 100 ml of 1 M / L NH 3 methanol solution was added to the polymerization reaction system to stop the reaction, 4% by mass of aluminum oxide was added to the reaction mixture solution, and the mixture was stirred for 24 hours to adsorb and remove the catalyst, and the pore size was 0.1 μm. Aluminum oxide was removed with a filter. The filtrate was concentrated under reduced pressure using an evaporator to obtain a PIPP / EVE / PIPP triblock polymer (copolymer 1).
得られた共重合体1の平均組成はPIPP/EVE=4.3/95.7であった。また、重量分子量Mwは17800、数平均分子量Mnは13300であり、分子量分布Mw/Mnは1.34であった。更に、50℃における粘度は52400mPa・sであった。 The average composition of the obtained copolymer 1 was PIPP / EVE = 4.3 / 95.7. The weight molecular weight Mw was 17,800, the number average molecular weight Mn was 13300, and the molecular weight distribution Mw / Mn was 1.34. Furthermore, the viscosity in 50 degreeC was 52400 mPa * s.
合 成 例 2
p−イソプロペニルフェノール/エチルビニルエーテル/p−イソプロペニル
フェノール系トリブロックポリマー(共重合体2)の製造:
Synthesis example 2
p-isopropenylphenol / ethyl vinyl ether / p-isopropenyl
Production of phenolic triblock polymer (copolymer 2):
三方活栓をつけたガラス容器を準備し、アルゴン置換後、アルゴン雰囲気下で加熱してガラス容器内の吸着水を除いた。容器内にEVE252.6g、酢酸エチル280g、1,4−ビス(1−アセトキシエトキシ)ブタン9.4gおよびトルエン2640gを入れ、系内温度が0℃に達したところでEt1.5AlCl1.5の0.91M/Lトルエン溶液68mlを加えて重合を開始した。EVEの転化率を時分割にガスクロマトグラフィー(GC)を用いてモニタリングし、EVEモノマーの転換が終了した時点でPIPP)28.4gを反応溶液に添加し、更に反応を続けた。 A glass container with a three-way stopcock was prepared, and after substituting with argon, it was heated in an argon atmosphere to remove adsorbed water in the glass container. 252.6 g of EVE, 280 g of ethyl acetate, 9.4 g of 1,4-bis (1-acetoxyethoxy) butane and 2640 g of toluene were placed in the container, and when the system temperature reached 0 ° C., Et 1.5 AlCl 1.5 Polymerization was initiated by adding 68 ml of 0.91 M / L toluene solution. The EVE conversion was monitored in a time-sharing manner using gas chromatography (GC), and 28.4 g of PIPP) was added to the reaction solution when the conversion of the EVE monomer was completed, and the reaction was continued.
PIPP添加後、2.5時間を経過した時点で、SnCl4の0.5M/Lトルエン溶液を14ml加えた。PIPP添加後6時間後に反応を終了した。重合反応系内に1M/LのNH3メタノール溶液を100ml加えて反応を停止し、反応混合物溶液に酸化アルミニウム4質量%を加え、24時間攪拌して触媒を吸着除去し、孔径0.1μmのフィルターで酸化アルミニウムを除去した。このろ液をエバポレーターで減圧濃縮し、PIPP/EVE/PIPP系トリブロックポリマー(共重合体2)を得た。 When 2.5 hours had elapsed after the addition of PIPP, 14 ml of a 0.5 M / L toluene solution of SnCl 4 was added. The reaction was terminated 6 hours after the addition of PIPP. 100 ml of 1 M / L NH 3 methanol solution was added to the polymerization reaction system to stop the reaction, 4% by mass of aluminum oxide was added to the reaction mixture solution, and the mixture was stirred for 24 hours to adsorb and remove the catalyst, and the pore size was 0.1 μm. Aluminum oxide was removed with a filter. The filtrate was concentrated under reduced pressure using an evaporator to obtain a PIPP / EVE / PIPP triblock polymer (copolymer 2).
得られた共重合体2の平均組成はPIPP/EVE=5.7/94.3であった。また、重量分子量Mwは12800、数平均分子量Mnは10400であり、分子量分布Mw/Mnは1.23であった。更に、50℃における粘度は36000mPa・sであった。 The average composition of the obtained copolymer 2 was PIPP / EVE = 5.7 / 94.3. The weight molecular weight Mw was 12800, the number average molecular weight Mn was 10400, and the molecular weight distribution Mw / Mn was 1.23. Furthermore, the viscosity in 50 degreeC was 36000 mPa * s.
実 施 例 1
エポキシ樹脂としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(EPICLON850s;DIC製)100質量部およびフェノール系硬化剤として合成例1で製造した共重合体1、66質量部を混合し、エポキシ樹脂組成物(1a)を得た。
Example 1
100 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin (EPICLON 850s; manufactured by DIC) as an epoxy resin and 66 parts by mass of the copolymer 1 produced in Synthesis Example 1 as a phenolic curing agent are mixed to obtain an epoxy resin composition (1a). It was.
次に、このエポキシ樹脂組成物(1a)に対し、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール(和光純薬製)1質量部と、溶剤としてテトラヒドロフラン70質量部を加えてエポキシ樹脂組成物(1b)とし、SUS304板上に塗布し、乾燥器中、150℃で2時間、180℃で5時間加熱処理して硬化物を得た。 Next, 1 part by mass of 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) as a curing accelerator and 70 parts by mass of tetrahydrofuran as a solvent are added to the epoxy resin composition (1a), and the epoxy resin composition is added. (1b), applied onto a SUS304 plate, and heat-treated in a dryer at 150 ° C. for 2 hours and at 180 ° C. for 5 hours to obtain a cured product.
実 施 例 2
実施例1において、フェノール系硬化剤として合成例2で製造した重合体2を用いた以外は実施例1と同様にして、エポキシ樹脂組成物(2a)及び(2b)を得た。
Example 2
In Example 1, epoxy resin compositions (2a) and (2b) were obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymer 2 produced in Synthesis Example 2 was used as the phenolic curing agent.
比 較 例 1
実施例1において、フェノール系硬化剤として、ポリビニルフェノール樹脂(マルカリンカ− S−2;丸善石油化学(株)製)を用いた以外は実施例1と同様にして、エポキシ樹脂組成物(3a)及び(3b)を得た。
Comparative Example 1
In Example 1, the epoxy resin composition (3a) and the epoxy resin composition (3a) were used in the same manner as in Example 1 except that polyvinyl phenol resin (Marcarinka-S-2; manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) was used as the phenolic curing agent. (3b) was obtained.
試 験 例 1
実施例1、実施例2および比較例1で得たエポキシ樹脂組成物(1a)、(2a)および(3a)について、50℃及び150℃の粘度をブロックフィールド型回転粘度計により測定した。この結果を表1に示す。
Test example 1
For the epoxy resin compositions (1a), (2a) and (3a) obtained in Example 1, Example 2 and Comparative Example 1, the viscosities at 50 ° C. and 150 ° C. were measured with a block field type rotational viscometer. The results are shown in Table 1.
表1より明らかなように、本発明によるフェノール系硬化剤を用いた実施例1及び2のエポキシ樹脂組成物(1a)および(2a)は、ポリビニルフェノールを用いた比較例1のエポキシ樹脂組成物(3a)と比較して50℃における粘度が低く、充填剤を使用しない場合には無溶剤で使用可能であり、又充填剤を使用する場合においても溶剤量を少なくすることが可能である。 As is apparent from Table 1, the epoxy resin compositions (1a) and (2a) of Examples 1 and 2 using the phenolic curing agent according to the present invention are the epoxy resin compositions of Comparative Example 1 using polyvinylphenol. Compared with (3a), the viscosity at 50 ° C. is low. When no filler is used, it can be used without a solvent, and when a filler is used, the amount of solvent can be reduced.
また、比較例1では150℃におけるエポキシ組成物(3a)の粘度が300mPa・sを超えているのに対し、実施例1及び2のエポキシ組成物(1a)および(2a)では100mPa・s未満の低い値を示しており、硬化までの溶融状態においても、より低い温度で被着面に十分追従する低粘度に達することが示される。したがってより低い温度での硬化においても、被着面との密着性に優れた硬化物が得られることが示唆される。 In Comparative Example 1, the viscosity of the epoxy composition (3a) at 150 ° C. exceeds 300 mPa · s, whereas in the epoxy compositions (1a) and (2a) of Examples 1 and 2, it is less than 100 mPa · s. This indicates that a low viscosity that sufficiently follows the adherend surface at a lower temperature is reached even in a molten state until curing. Therefore, it is suggested that a cured product having excellent adhesion to the adherend surface can be obtained even at a lower temperature.
試 験 例 2
実施例1、実施例2および比較例1において、それぞれエポキシ樹脂組成物(1b)、(2b)および(3b)より得られた硬化物について、以下の特性について評価を行った。この結果を表2に示す。
Test example 2
In Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, the following characteristics were evaluated for the cured products obtained from the epoxy resin compositions (1b), (2b), and (3b), respectively. The results are shown in Table 2.
< 特性および測定方法 >
ガラス転移温度:
パーキンエルマー社製 Pyris 1 DSC(入力補償型)、昇温速度10℃/
minで測定
5%重量減少温度:
パーキンエルマー社製 Pyris 1 TGA、昇温速度10℃/minで測定
硬度試験:
機械法による鉛筆硬度試験により評価
密着試験:
碁盤目テープ法により評価
<Characteristics and measurement method>
Glass-transition temperature:
Pyris 1 DSC (input compensation type) manufactured by PerkinElmer, Inc.
Measured in min 5% weight loss temperature:
Perkin Elmer Pyris 1 TGA, measured at a heating rate of 10 ° C./min Hardness test:
Evaluated by mechanical pencil hardness test Adhesion test:
Evaluation by cross-cut tape method
また、表2から明らかなように、実施例1および2のエポキシ樹脂組成物(1b)および(2b)から得られる硬化物は、室温以下にビニルエーテル単位由来のガラス転移点が存在し、ビニルエーテル単位に由来する相が硬化物中で微細に相分離していることが示される。その為、硬化物の弾性率が低下して硬化物の熱応力緩和特性を改善することができる。 Further, as apparent from Table 2, the cured products obtained from the epoxy resin compositions (1b) and (2b) of Examples 1 and 2 have a glass transition point derived from vinyl ether units below room temperature, and vinyl ether units It is shown that the phase derived from is phase-separated finely in the cured product. Therefore, the elasticity modulus of hardened | cured material falls and the thermal stress relaxation characteristic of hardened | cured material can be improved.
一方、硬化物の高温下の弾性率変化は、エポキシ樹脂とビニルフェノール単位との架橋物に由来する相によって支配されるが、実施例1および2のエポキシ樹脂組成物(1b)および(2b)で得られた硬化物の、室温より高い温度でのガラス転移温度及び5%重量減少温度は、ポリビニルフェノールを用いた比較例1のエポキシ樹脂組成物(3b)で得られた硬化物と比較して、同程度もしくはやや低い程度であり、実用上遜色の無い高耐熱性を有している。また、硬度及び密着性にも優れており、電気・電子分野及びコーティング剤組成物等の用途において好適に用いることができる。 On the other hand, the change in elastic modulus at high temperature of the cured product is governed by the phase derived from the cross-linked product of the epoxy resin and the vinylphenol unit, but the epoxy resin compositions (1b) and (2b) of Examples 1 and 2 The glass transition temperature and the 5% weight loss temperature of the cured product obtained at the temperature higher than room temperature are compared with the cured product obtained from the epoxy resin composition (3b) of Comparative Example 1 using polyvinylphenol. The heat resistance is comparable or slightly lower and practically inferior in heat resistance. Moreover, it is excellent also in hardness and adhesiveness, and can be suitably used in applications such as electric / electronic fields and coating agent compositions.
実 施 例 3〜6、比 較 例 2〜3
表3に示す配合で実施例1と同様に樹脂組成物(4b)ないし(9b)を調製し、その硬化物物性を測定した。この結果を表3に示す。
Examples 3-6, Comparative Examples 2-3
Resin compositions (4b) to (9b) were prepared in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table 3, and the properties of the cured products were measured. The results are shown in Table 3.
表3より明らかなように、エポキシ樹脂を変えたエポキシ樹脂組成物(エポキシ樹脂組成物(4b)および(5b))でも、また、本発明の重合物とポリビニルフェノールを併用したエポキシ樹脂(エポキシ樹脂組成物(6b)および(7b))でも、実施例1および2のエポキシ樹脂(1b)および(2b)とほぼ同様な硬化物が得られた。 As is apparent from Table 3, the epoxy resin composition (epoxy resin compositions (4b) and (5b)) in which the epoxy resin is changed is also an epoxy resin (epoxy resin) in which the polymer of the present invention and polyvinylphenol are used in combination. Also in the compositions (6b) and (7b), cured products almost similar to the epoxy resins (1b) and (2b) of Examples 1 and 2 were obtained.
本発明のポリビニルフェノール系硬化剤を配合したエポキシ樹脂組成物は、従来のポリビニルフェノールを含むエポキシ樹脂組成物に比べ、低い温度でも流動性を有し、低温での硬化が可能である。また、このものは、無溶剤またはより少ない溶剤量で、良好な塗布性及び充填性を有するものである。しかも、得られる硬化物は耐熱性の良いものでありながら、熱応力緩和特性を改善することが可能なものである。 The epoxy resin composition containing the polyvinylphenol curing agent of the present invention has fluidity even at a low temperature and can be cured at a low temperature as compared with an epoxy resin composition containing a conventional polyvinylphenol. Moreover, this thing has favorable application | coating property and a filling property with no solvent or less solvent amount. Moreover, the cured product obtained can improve the thermal stress relaxation characteristics while having good heat resistance.
従って本発明のポリビニルフェノール系硬化剤およびこれを配合したエポキシ樹脂組成物は、電気・電子分野及びコーティング剤組成物等の用途において有利に用いることができるものである。
Therefore, the polyvinyl phenol-based curing agent and the epoxy resin composition containing the same according to the present invention can be advantageously used in applications such as electric / electronic fields and coating agent compositions.
Claims (5)
す)
で示されるビニルフェノール単位(a)と、式(2)
たは分岐鎖のフルオロアルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル基または次の基
の炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖または分岐
鎖のフルオロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基またはハロゲン原子によっ
て置換されたフェニル基である)
で表されるアリール基またはアリールアルキル基を表す]
で表されるビニルエーテル単位(b)を含み、1分子中にフェノール性水酸基を2以上有する共重合体であることを特徴とするフェノール系硬化剤。 A phenolic curing agent used as a curing agent for an epoxy resin, which has the formula (1)
A vinylphenol unit (a) represented by formula (2)
Represents an aryl group or an arylalkyl group represented by
A phenolic curing agent comprising a vinyl ether unit (b) represented by the formula (2) and having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule.
The epoxy resin composition containing the phenol type hardening | curing agent and epoxy resin in any one of Claims 1-4.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008231637A JP5096272B2 (en) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent |
KR1020090068006A KR101404176B1 (en) | 2008-09-10 | 2009-07-24 | Phenolic hardener and epoxy resin composition using the phenolic hardener |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008231637A JP5096272B2 (en) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010065108A JP2010065108A (en) | 2010-03-25 |
JP5096272B2 true JP5096272B2 (en) | 2012-12-12 |
Family
ID=42180500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008231637A Active JP5096272B2 (en) | 2008-09-10 | 2008-09-10 | Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5096272B2 (en) |
KR (1) | KR101404176B1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013175546A (en) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Dexerials Corp | Underfill material, and method of manufacturing semiconductor device using the same |
JP5788859B2 (en) * | 2012-12-28 | 2015-10-07 | 株式会社島津製作所 | Scattered X-ray removal grid |
KR102655862B1 (en) * | 2023-11-15 | 2024-04-09 | 영농조합법인 에듀팜 | Temperature-sensitive color-changeable resin composition |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63269147A (en) * | 1987-04-27 | 1988-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JP3078060B2 (en) * | 1991-10-25 | 2000-08-21 | 積水化学工業株式会社 | Star block copolymer and method for producing the same |
JPH0756336A (en) * | 1993-06-07 | 1995-03-03 | Ajinomoto Co Inc | Resin composition |
JPH1180221A (en) * | 1997-09-08 | 1999-03-26 | Kuraray Co Ltd | Production of polymer |
JP2001247656A (en) * | 2000-03-08 | 2001-09-11 | Jsr Corp | Thermosetting resin composition and its cured item |
JP4120267B2 (en) * | 2002-05-24 | 2008-07-16 | 東ソー株式会社 | Narrowly dispersible oxystyrene copolymer and process for producing the same |
WO2009008252A1 (en) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Aba triblock copolymer and process for producing the same |
-
2008
- 2008-09-10 JP JP2008231637A patent/JP5096272B2/en active Active
-
2009
- 2009-07-24 KR KR1020090068006A patent/KR101404176B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010065108A (en) | 2010-03-25 |
KR101404176B1 (en) | 2014-06-05 |
KR20100030567A (en) | 2010-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3736611B2 (en) | Flip chip type semiconductor device sealing material and flip chip type semiconductor device | |
Pascault et al. | General concepts about epoxy polymers | |
EP3127933B1 (en) | Heat-curable epoxy resin composition | |
JP6952773B2 (en) | Image display device encapsulant and image display device encapsulation sheet | |
CN108699321B (en) | Toughened epoxy resin composition | |
TW201215624A (en) | Copolymers | |
JP2020045446A (en) | Thermosetting resin composition | |
KR101507933B1 (en) | Epoxy resin composition and molded object | |
JP5096272B2 (en) | Phenolic curing agent and epoxy resin composition using the phenolic curing agent | |
JP4651774B2 (en) | Aromatic oligomer, phenol resin composition containing the same, epoxy resin composition and cured product thereof | |
JP7473014B2 (en) | Epoxy resin composition, cured product thereof and laminate | |
JP5219662B2 (en) | Insulating composition and insulating sheet containing the same | |
TW201219439A (en) | Epoxy resin composition and hardener | |
JP4926709B2 (en) | Thermosetting resin composition, sealant for optical element and cured product | |
EP3257898B1 (en) | Epoxy resin composition | |
JP2000007891A (en) | New liquid epoxy resin composition, its cured product and semiconductor sealing device | |
KR20190141772A (en) | Image display device sealing material and image display device sealing sheet | |
JP2013221120A (en) | Epoxy resin composition and cured product obtained by curing the same | |
WO2002100951A1 (en) | Thermosetting resin composition | |
JPH0539409A (en) | Epoxy resin composition | |
JP6135175B2 (en) | Multifunctional epoxy resin composition, curable epoxy resin composition and cured product | |
JP2013006972A (en) | Epoxy resin composition, and cured material obtained by curing the same | |
JP4747551B2 (en) | Epoxy resin, epoxy resin composition, cured product thereof, and method for producing epoxy resin | |
JPH09249794A (en) | Liquid epoxy resin composition for sealing electronic component and cured product thereof | |
JP4401478B2 (en) | Novel aromatic oligomer, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120710 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120920 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5096272 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150928 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |