JP5093377B2 - Electron capture detector - Google Patents

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Description

本発明は、ガスクロマトグラフ用の電子捕獲検出器（Electron Capture Detector）に関する。   The present invention relates to an electron capture detector for a gas chromatograph.

ガスクロマトグラフ装置に用いる検出器の一つである電子捕獲検出器（以下、ＥＣＤ検出器という）は、電子親和性物質（ハロゲン化合物、ニトロ化合物等）の選択的検出に優れており、例えば、水に含まれる塩素系化合物の検出に用いられたり、ＰＣＢの検出に用いられたりする。
放射性同位元素の線源を陰極とし、棒状のコレクタ電極を陽極として封入した小容積のセル室内を試料ガスが貫流するように構成したＥＣＤ検出器が知られている（特許文献１参照）。 An electron capture detector (hereinafter referred to as an ECD detector), which is one of detectors used in a gas chromatograph apparatus, is excellent in selective detection of electron affinity substances (halogen compounds, nitro compounds, etc.). It is used for the detection of chlorine-based compounds contained in or for the detection of PCB.
There is known an ECD detector configured to allow a sample gas to flow through a small volume cell chamber in which a radioactive isotope radiation source is used as a cathode and a rod-shaped collector electrode is used as an anode (see Patent Document 1).

従来のＥＣＤ検出器の構造例を図３に示す。ＥＣＤ検出器２０は、セル室２３が形成され、その内側側壁に６３Ｎｉ等の放射性同位元素の線源２１が、塗布や蒸着により固着してある。なお、セル室２３は放射線が漏れないように密閉してある。
セル室２３の頂部２３ａに形成された挿入孔２３ｂから、棒状のコレクタ電極２２が挿入される。コレクタ電極２２は、先端がセル室内の中央付近でセル室底部２３ｄに向くようにして支持してある。挿入孔２３ｂには途中で分岐する排気流路２３ｃが形成してあり、セル室２３内のガスが排出される。 A structural example of a conventional ECD detector is shown in FIG. ECD detector 20 is the cell chamber 23 is formed, the source 21 of the radioisotope 63 Ni, etc. on the inner side walls, are fixed by coating or vapor deposition. The cell chamber 23 is sealed so that radiation does not leak.
A rod-like collector electrode 22 is inserted from an insertion hole 23 b formed in the top 23 a of the cell chamber 23. The collector electrode 22 is supported such that the tip thereof faces the cell chamber bottom 23d near the center of the cell chamber. The insertion hole 23b is formed with an exhaust passage 23c that branches in the middle, and the gas in the cell chamber 23 is discharged.

セル室２３の底部２３ｄには、カラム接続部２６と連通するガス導入孔２３ｅが形成してある。カラム接続部２６は、ガスクロマトグラフ用のカラム２７が接続されるとともに、メイクアップガス（Ｎ２ガス）を供給するメイクアップ流路２８が設けられている。カラム２７から流出する試料ガス（試料成分およびキャリアガス）とメイクアップガスとの混合ガス（被検ガスともいう）が、ガス導入孔２３ｅからセル室２３内に流入するようにしてある。 A gas introduction hole 23 e communicating with the column connection portion 26 is formed in the bottom 23 d of the cell chamber 23. The column connection portion 26 is connected to a gas chromatograph column 27 and is provided with a makeup flow path 28 for supplying makeup gas (N 2 gas). A mixed gas (also referred to as a test gas) of the sample gas (sample component and carrier gas) flowing out from the column 27 and the make-up gas flows into the cell chamber 23 from the gas introduction hole 23e.

上記構造のＥＣＤ検出器２０では、コレクタ電極２２の軸線と、ガス導入孔２３ｅの中心軸の延長線とが一致するように配置されているので、ガス導入孔２３ｅからセル室２３内に流入する被検ガスは、直接、コレクタ電極２２に向けて吹き付けられ、コレクタ電極２２に沿って電極表面に接触しながら上方に向かって流れ、コレクタ電極２２と同軸状に開口する排気流路２３ｃから排出される。したがって、被検ガス中に不要成分（高沸点物質等）が含まれていると、コレクタ電極２２は汚染されてしまう。   In the ECD detector 20 having the above-described structure, the collector electrode 22 is arranged so that the axis of the collector electrode 22 and the extension of the central axis of the gas introduction hole 23e coincide with each other, and therefore flows into the cell chamber 23 from the gas introduction hole 23e. The test gas is blown directly toward the collector electrode 22, flows upward while contacting the electrode surface along the collector electrode 22, and is discharged from the exhaust passage 23 c that opens coaxially with the collector electrode 22. The Therefore, when an unnecessary component (such as a high boiling point substance) is contained in the test gas, the collector electrode 22 is contaminated.

一般に、コレクタ電極が汚染されると、感度低下、ノイズ増加、ピーク異常等の障害が生じるので、洗浄する必要がある。しかし、放射線源を内蔵するＥＣＤ検出器の洗浄は、法規制もあり、その作業は時間、手間、費用を要する。そのため、できるだけコレクタ電極が汚染されにくい構造のＥＣＤ検出器が要望されている。   In general, when the collector electrode is contaminated, troubles such as a decrease in sensitivity, an increase in noise, an abnormal peak, and the like occur. However, the cleaning of the ECD detector with the built-in radiation source is restricted by laws and regulations, and the work requires time, labor, and expense. Therefore, an ECD detector having a structure in which the collector electrode is hardly contaminated as much as possible is desired.

そこで、ガス導入孔の中心線の延長線上から外れたオフセット位置に、コレクタ電極を配置するようにしたＥＣＤ検出器が提案されている（特許文献２）。
すなわち、図４に示すように、セル室２３底部のガス導入孔２３ｅの中心軸の延長線と、セル室２３内に向けて突設されたコレクタ電極２２とが交わることのない関係になるようにコレクタ電極２２を配置し、コレクタ電極２２には直接的に被検ガスが接触しにくくすることにより、汚染が少なくなるようにしている。 In view of this, an ECD detector has been proposed in which a collector electrode is arranged at an offset position deviating from an extension of the center line of the gas introduction hole (Patent Document 2).
That is, as shown in FIG. 4, the extension of the central axis of the gas introduction hole 23e at the bottom of the cell chamber 23 and the collector electrode 22 projecting into the cell chamber 23 do not intersect each other. The collector electrode 22 is disposed on the collector electrode 22 to make it difficult for the test gas to come into direct contact with the collector electrode 22 to reduce contamination.

特開平１１−１５３５７９号公報JP-A-11-153579 実用新案登録第３１２６８１９号公報Utility Model Registration No. 3126819

特許文献２に開示されているような、ガス導入孔の中心軸の延長上から外れたオフセット位置にコレクタ電極を配置するようにした構造のＥＣＤ検出器では、ガス導入孔からセル室内に流入する被検ガスが、直接、コレクタ電極に接触することがなくなる点で、コレクタ電極の軸線とガス導入孔の中心軸の延長線とが一致するように配置されているＥＣＤ検出器より、汚染されにくい構造になっている。
しかしながら、ガス導入孔からセル室内に流入したガスの流れは、乱流や拡散を伴うことから、一部がコレクタ電極に接触し、汚染が生じることになる。 In the ECD detector having a structure in which the collector electrode is arranged at an offset position deviated from the extension of the central axis of the gas introduction hole as disclosed in Patent Document 2, it flows into the cell chamber from the gas introduction hole. The test gas is less likely to be contaminated than the ECD detector arranged so that the axis of the collector electrode and the extension of the central axis of the gas introduction hole coincide with each other in that the test gas does not directly contact the collector electrode. It has a structure.
However, the flow of gas flowing into the cell chamber from the gas introduction hole is accompanied by turbulent flow and diffusion, so that part of the gas comes into contact with the collector electrode and contamination occurs.

そこで、本発明はこれまでのＥＣＤ検出器の構造よりも、さらにコレクタ電極の汚染が生じにくい構造のＥＣＤ検出器を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an ECD detector having a structure in which the collector electrode is less likely to be contaminated than the conventional ECD detector structure.

上記課題を解決するためになされた第一の発明のＥＣＤ検出器は、セル室の内壁に固着された放射性同位元素の線源と、セル室の頂部から挿入され、先端がセル室内に突き出した状態で支持される棒状のコレクタ電極と、セル室の底部に形成され、メイクアップガスをセル室内に流入するとともにガスクロマトグラフ用カラムの終端をセル室内に挿入するガス導入孔と、セル室内のガスを排出する排気口とを備えた電子捕獲検出器であって、セル室内に挿入されるカラムの軸線延長上に排気口が設けられるとともに、カラムの軸線延長上から外れたオフセット位置にコレクタ電極が取り付けられ、前記コレクタ電極は、セル室の頂部に設けた挿入孔を介してセル室内に挿入されるとともに、前記挿入孔にコレクタ電極表面を覆うパージガスを供給するためのパージガス供給流路を設けるようにした。 The ECD detector of the first invention made to solve the above-mentioned problems is inserted from the top of the cell chamber with the radioactive isotope radiation source fixed to the inner wall of the cell chamber, and the tip protrudes into the cell chamber. A rod-shaped collector electrode supported in a state; a gas introduction hole formed at the bottom of the cell chamber for flowing makeup gas into the cell chamber and inserting the end of the column for gas chromatography into the cell chamber; and a gas in the cell chamber And an exhaust port provided on the extension of the axial line of the column inserted into the cell chamber, and the collector electrode is disposed at an offset position off the axial extension of the column. attached, the collector electrode, while being inserted into the cell chamber through the insertion hole formed in the top of the cell chamber, a purge gas that covers the collector electrode surface in the insertion hole It was so that provided a purge gas supply passage for supplying.

また、上記課題を解決するためになされた第二の発明のＥＣＤ検出器は、セル室の内壁に固着された放射性同位元素の線源と、セル室の頂部から挿入され、先端がセル室内に突き出した状態で支持される棒状のコレクタ電極と、セル室の底部に形成され、ガスクロマトグラフ用カラムから流出する試料ガスとともにメイクアップガスをセル室内に流入するガス導入孔と、セル室内のガスを排出する排気口とを備えた電子捕獲検出器であって、ガス導入孔の中心軸の延長上に排気口が設けられるとともに、ガス導入孔の中心軸の延長上から外れたオフセット位置にコレクタ電極が取り付けられ、前記コレクタ電極は、セル室の頂部に設けた挿入孔を介してセル室内に挿入されるとともに、前記挿入孔にコレクタ電極表面を覆うパージガスを供給するためのパージガス供給流路を設けるようにした。 Further, an ECD detector according to a second aspect of the invention made to solve the above-mentioned problem is inserted from a radioisotope radiation source fixed to an inner wall of a cell chamber and a top portion of the cell chamber, and a tip is placed in the cell chamber. A rod-shaped collector electrode supported in a protruding state, a gas introduction hole formed at the bottom of the cell chamber, for allowing makeup gas to flow into the cell chamber together with the sample gas flowing out from the gas chromatograph column, and gas in the cell chamber An electron capture detector having an exhaust port for exhausting, wherein an exhaust port is provided on the extension of the central axis of the gas introduction hole, and the collector electrode is disposed at an offset position off the extension of the central axis of the gas introduction hole is attached, the collector electrode, while being inserted into the cell chamber through the insertion hole formed in the top of the cell chamber, supplying a purge gas to cover the collector electrode surface in the insertion hole Was so that provided a purge gas supply passage because.

第１の発明のＥＣＤ検出器によれば、カラムから流出する試料ガスはメイクアップガス１８と混合されて上方に向けて流れる。セル室の排気口は、カラムの軸線の延長上に設けられているので、被検ガスの流れはほぼまっすぐ排気口に向かうことになる。コレクタ電極は、カラムと排気口とを結ぶ線上から離れたオフセット位置にあるので、被検ガス中の汚染成分が、直接、吹き付けられることがなくなる。
また、第２の発明のＥＣＤ検出器によれば、試料ガスとメイクアップガスとの混合ガス（被検ガス）がガス導入孔からセル室内に流入し、上方に向けて流れる。セル室の排気口が、ガス導入孔の中心軸の延長上に設けられているので、被検ガスの流れはほぼまっすぐ排気口に向かうことになる。コレクタ電極は、ガス導入孔と排気口とを結ぶ線上から離れたオフセット位置にあるので、被検ガス中の汚染成分が、直接、吹き付けられることがなくなる。 According to the ECD detector of the first invention, the sample gas flowing out from the column is mixed with the makeup gas 18 and flows upward. Since the exhaust port of the cell chamber is provided on an extension of the axis of the column, the flow of the test gas is almost straight toward the exhaust port . Since the collector electrode is at an offset position away from the line connecting the column and the exhaust port, the contaminated component in the test gas is not directly sprayed.
Further, according to the ECD detector of the second invention, the mixed gas (test gas) of the sample gas and the makeup gas flows into the cell chamber from the gas introduction hole and flows upward. Since the exhaust port of the cell chamber is provided on the extension of the central axis of the gas introduction hole, the flow of the test gas is almost straight toward the exhaust port. Since the collector electrode is located at an offset position away from the line connecting the gas introduction hole and the exhaust port, the contamination component in the test gas is not directly sprayed.

また、カラム終端と排気口、または、ガス導入孔と排気口とが、直線上に配置されるので、被検ガスがほぼまっすぐ排気口に向かうスムーズな流れが形成され、コレクタ電極の汚染が低減できる。
さらに、コレクタ電極は、セル室の頂部に設けた挿入孔を介してセル室内に挿入されるとともに、挿入孔にコレクタ電極表面を覆うパージバスを供給するためのパージガス供給流路を設けたことにより、コレクタ電極表面を積極的にパージガスで覆うことにより、コレクタ電極の汚染をさらに低減することができる。 In addition, since the column end and exhaust port, or the gas introduction hole and exhaust port are arranged on a straight line, a smooth flow of the sample gas toward the exhaust port is formed, reducing the contamination of the collector electrode. it can.
Furthermore , the collector electrode is inserted into the cell chamber through an insertion hole provided at the top of the cell chamber, and a purge gas supply channel for supplying a purge bath covering the collector electrode surface to the insertion hole is provided . by covering with aggressively purge the collector electrode surface, Ru can be further reduce contamination of the collector electrode.

ここで、メイクアップガス流量をパージガス流量よりも多く供給するようにしてもよい。
本発明によれば、パージガスによって生じる被検ガスの流れの乱れを抑えることができる。 Here, the makeup gas flow rate may be supplied more than the purge gas flow rate.
According to the present invention, it is possible to suppress disturbance in the flow of the test gas caused by the purge gas.

上記発明において、排気口とガス導入孔とが、セル室の中心線に沿って設けられるようにしてもよい。
本発明によれば、セル内壁によって被検ガスの流れが乱れる影響を抑えることができる。 In the above invention, the exhaust port and the gas introduction hole may be provided along the center line of the cell chamber.
According to the present invention, it is possible to suppress the influence that the flow of the test gas is disturbed by the cell inner wall.

本発明の一実施形態であるＥＣＤ検出器の断面図である。It is sectional drawing of the ECD detector which is one Embodiment of this invention. 本発明の他の一実施形態であるＥＣＤ検出器の断面図である。It is sectional drawing of the ECD detector which is other one Embodiment of this invention. 従来のＥＣＤ検出器の断面図である。It is sectional drawing of the conventional ECD detector. 従来のＥＣＤ検出器の断面図である。It is sectional drawing of the conventional ECD detector.

以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments described below, and it goes without saying that various aspects are included without departing from the spirit of the present invention.

図１は、本発明の一実施形態であるＥＣＤ検出器の断面図である。
ＥＣＤ検出器１０は、密閉した円筒型のセル室１３が形成され、その内側側壁に放射性同位元素である６３Ｎｉの線源１１が、塗布や蒸着により固着してある。 FIG. 1 is a cross-sectional view of an ECD detector according to an embodiment of the present invention.
In the ECD detector 10, a sealed cylindrical cell chamber 13 is formed, and a 63 Ni radiation source 11 which is a radioisotope is fixed to the inner side wall thereof by coating or vapor deposition.

セル室１３の頂部１３ａの中央には、排気口１３ｆが形成してある。排気口１３ｆからは外部に通じる排気流路１３ｃを介してセル室１３内のガスが排出される。また、セル室１３の頂部１３ａの排気口１３ｆから偏心した位置に、棒状のコレクタ電極１２をセル室１３内に挿入するための挿入孔１３ｂが形成してある。
コレクタ電極１２は、先端をセル室底部１３ｄに向けて支持してある。挿入孔１３ｂには途中で合流するパージガス流路１３ｇが形成してある。パージガス流路１３ｇからは、コレクタ電極１２に沿ってこれを覆うようにＮ２ガスがセル室１３内に供給される。 An exhaust port 13 f is formed in the center of the top portion 13 a of the cell chamber 13. The gas in the cell chamber 13 is exhausted from the exhaust port 13f through the exhaust passage 13c communicating with the outside. An insertion hole 13 b for inserting the rod-shaped collector electrode 12 into the cell chamber 13 is formed at a position eccentric from the exhaust port 13 f of the top portion 13 a of the cell chamber 13.
The collector electrode 12 is supported with its tip directed toward the cell chamber bottom 13d. The insertion hole 13b is formed with a purge gas flow path 13g that joins in the middle. From the purge gas flow path 13g, N 2 gas is supplied into the cell chamber 13 along the collector electrode 12 so as to cover it.

セル室１３の底部１３ｄの中央には、カラム接続部１６と連通するガス導入孔１３ｅが形成してある。ガス導入孔１３ｅは、その中心軸が排気口１３ｆの中心軸に一致するようにしてある。
カラム接続部１６には、ガスクロマトグラフ用のカラム１７が接続され、カラム１７はガス導入孔１３ｅを貫通してカラム終端がセル室１３の下方に位置するようにしてある。カラム１７終端部分の軸線方向は、排気口１３ｆに向けられることになる。また、カラム接続部１６にはメイクアップガス（Ｎ２ガス）を供給するメイクアップ流路１８が設けられている。メイクアップ流路から供給されるメイクアップガスは、ガス導入孔１３ｅからカラム１７に沿ってセル室１３内に流入するようにしてある。なお、メイクアップガスの流量は、パージガスの流量より大きくなるようにしてセル室１３内での主な流れが、ガス導入孔１３ｅから排気口１３ｆに向かうようにする。そしてセル室１３内で、カラム１７から流出する試料ガス（試料成分およびキャリアガス）とメイクアップガスとの混合ガス（被検ガス）とが、排気口１３ｆに向けてスムーズに流れるようにしてある。 In the center of the bottom portion 13d of the cell chamber 13, a gas introduction hole 13e communicating with the column connection portion 16 is formed. The gas introduction hole 13e has a central axis that coincides with the central axis of the exhaust port 13f.
A column 17 for gas chromatography is connected to the column connection portion 16, and the column 17 passes through the gas introduction hole 13 e so that the column end is located below the cell chamber 13. The axial direction of the end portion of the column 17 is directed to the exhaust port 13f. Further, a makeup flow path 18 for supplying makeup gas (N 2 gas) is provided in the column connection portion 16. The makeup gas supplied from the makeup channel flows into the cell chamber 13 along the column 17 from the gas introduction hole 13e. The makeup gas flow rate is made larger than the purge gas flow rate so that the main flow in the cell chamber 13 is directed from the gas introduction hole 13e to the exhaust port 13f. In the cell chamber 13, the mixed gas (test gas) of the sample gas (sample component and carrier gas) flowing out from the column 17 and the make-up gas flows smoothly toward the exhaust port 13f. .

次に、ＥＣＤ検出器１０による動作について説明する。まず一般的な測定原理について説明する。メイクアップ流路１８からＮ２ガス（メイクアップガス）が供給され、ガス導入孔１３ｅからセル室１３内に流入すると、線源１１からのβ線によって一部が電離し、セル室１３内に電子が生成される。この電子は、コレクタ電極１２に引き寄せられるので、コレクタ電極１２と線源１１との間には定常電流が流れる。 Next, the operation by the ECD detector 10 will be described. First, a general measurement principle will be described. When N 2 gas (makeup gas) is supplied from the makeup flow path 18 and flows into the cell chamber 13 from the gas introduction hole 13 e, a part of the ionization is performed by β rays from the radiation source 11 and enters the cell chamber 13. Electrons are generated. Since these electrons are attracted to the collector electrode 12, a steady current flows between the collector electrode 12 and the radiation source 11.

カラム１７から流出する試料ガス（試料成分とキャリアガス（Ｎ２ガス））中に、電子親和性物質が存在すると、電子親和性物質は電子を取り込んで、負イオンを形成する。負イオンもコレクタ電極１２に引き寄せられるが、電子に比べて移動速度が遅いため、定常電流に変化が生じる。この変化量を信号として測定することにより、カラム１７から流出した電子親和性物質の濃度を求めることができる。 If an electron affinity substance is present in the sample gas (sample component and carrier gas (N 2 gas)) flowing out from the column 17, the electron affinity substance takes in electrons and forms negative ions. Although negative ions are also attracted to the collector electrode 12, since the moving speed is slower than that of electrons, the steady current changes. By measuring this change amount as a signal, the concentration of the electron affinity substance flowing out from the column 17 can be obtained.

ＥＣＤ検出器１０による上記測定において、セル室１３内に突き出したカラム１７終端から流出する試料ガスは、メイクアップガスと混合された被検ガスとなって上方に向けて流れる。セル室１３の排気口１３ｆが、カラム１７終端部分の軸線の延長線上に設けられているので、被検ガスの流れはほぼまっすぐ排気口１３ｆに向かうことになる。コレクタ電極１２は、カラム１７と排気口１３ｆとを結ぶ線上から離れたオフセット位置にあるので、被検ガス中の汚染成分が、直接、吹き付けられることがなくなる。さらに、コレクタ電極１２は、パージガス流路１３ｇから供給されるＮ２ガス（パージガス）の流れによってコレクタ電極表面が覆われるので、汚染成分の付着を積極的に阻止されるので、洗浄サイクルを大幅に長期化することができる。 In the measurement by the ECD detector 10, the sample gas flowing out from the end of the column 17 protruding into the cell chamber 13 flows upward as a test gas mixed with the makeup gas. Since the exhaust port 13f of the cell chamber 13 is provided on the extension of the axial line of the end portion of the column 17, the flow of the test gas is almost straight toward the exhaust port 13f. Since the collector electrode 12 is at an offset position away from the line connecting the column 17 and the exhaust port 13f, the contaminated component in the test gas is not directly sprayed. Further, the collector electrode 12 is covered with the surface of the collector electrode 12 by the flow of N 2 gas (purge gas) supplied from the purge gas flow path 13g, so that the contamination components are positively prevented from adhering. Can be prolonged.

なお、このような構成にしても、線源１１のβ線によってＮ２から放出される電子量は同じであり、コレクタに流れる初期定常電流は変わらず、信号の直線性に変化はなく、親電子性の化合物が電子を取り込むことによる変化を検出できる。 Even in such a configuration, the amount of electrons emitted from N 2 by the β ray of the radiation source 11 is the same, the initial steady-state current flowing through the collector does not change, the signal linearity does not change, and the parent A change caused by the electronic compound taking in electrons can be detected.

図２は、本発明の第二実施形態であるＥＣＤ検出器１０ａの構成を示す図である。図１と同じ構成部分については同符号を付すことにより、説明を省略する。本実施形態が図１の検出器と異なる点は、カラム１７がガス導入孔１３ｅを貫通せずに、カラム接続部１６にカラム終端が留まる点である。この場合、ガス導入孔１３ｅからは試料ガスとメイクアップガスとの混合ガスである被検ガスが流入することになる。
この場合も、コレクタ電極１２の先端をセル室１３内で少し深く挿入する程度の変更を行えば、ガスの流れは基本的には図１の場合と同様である。 FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an ECD detector 10a according to the second embodiment of the present invention. The same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The present embodiment is different from the detector of FIG. 1 in that the column terminal does not pass through the gas introduction hole 13e and the column terminal stays at the column connection portion 16. In this case, a test gas that is a mixed gas of the sample gas and the makeup gas flows from the gas introduction hole 13e.
Also in this case, the gas flow is basically the same as in FIG. 1 if the change is made so that the tip of the collector electrode 12 is inserted a little deeper in the cell chamber 13.

本発明のＥＣＤ検出器は、ガスクロマトグラフ装置用の検出器として利用することができる。   The ECD detector of the present invention can be used as a detector for a gas chromatograph apparatus.

１０、１０ａ ＥＣＤ検出器
１１ 線源
１２ コレクタ電極
１３ セル室
１３ａ セル室頂部
１３ｂ 挿入孔
１３ｃ 排気流路
１３ｄ セル室底部
１３ｅ ガス導入孔
１３ｆ 排気口
１３ｇ パージガス流路
１６ カラム接続部
１７ カラム 10, 10a ECD detector 11 Radiation source 12 Collector electrode 13 Cell chamber 13a Cell chamber top 13b Insertion hole 13c Exhaust flow path 13d Cell chamber bottom 13e Gas introduction hole 13f Exhaust port 13g Purge gas flow path 16 Column connection section 17 Column

Claims (4)

セル室の内壁に固着された放射性同位元素の線源と、
セル室の頂部から挿入され、先端がセル室内に突き出した状態で支持される棒状のコレクタ電極と、
セル室の底部に形成され、メイクアップガスをセル室内に流入するとともにガスクロマトグラフ用カラムの終端をセル室内に挿入するガス導入孔と、
セル室内のガスを排出する排気口とを備えた電子捕獲検出器であって、
セル室内に挿入されるカラムの軸線延長上に排気口が設けられるとともに、カラムの軸線延長上から外れたオフセット位置にコレクタ電極が取り付けられ、
前記コレクタ電極は、セル室の頂部に設けた挿入孔を介してセル室内に挿入されるとともに、前記挿入孔にコレクタ電極表面を覆うパージガスを供給するためのパージガス供給流路を設けたことを特徴とする電子捕獲検出器。 A radioactive isotope source fixed to the inner wall of the cell chamber;
A rod-like collector electrode inserted from the top of the cell chamber and supported in a state where the tip protrudes into the cell chamber;
A gas introduction hole formed at the bottom of the cell chamber for flowing makeup gas into the cell chamber and inserting the end of the column for gas chromatography into the cell chamber;
An electron capture detector having an exhaust port for discharging gas in the cell chamber,
An exhaust port is provided on the axial extension of the column inserted into the cell chamber, and a collector electrode is attached at an offset position off the axial extension of the column .
The collector electrode is inserted into the cell chamber through an insertion hole provided at the top of the cell chamber, and a purge gas supply channel for supplying purge gas covering the collector electrode surface to the insertion hole is provided. An electron capture detector. セル室の内壁に固着された放射性同位元素の線源と、
セル室の頂部から挿入され、先端がセル室内に突き出した状態で支持される棒状のコレクタ電極と、
セル室の底部に形成され、ガスクロマトグラフ用カラムから流出する試料ガスとともにメイクアップガスをセル室内に流入するガス導入孔と、
セル室内のガスを排出する排気口とを備えた電子捕獲検出器であって、
ガス導入孔の中心軸の延長上に排気口が設けられるとともに、ガス導入孔の中心軸の延長上から外れたオフセット位置にコレクタ電極が取り付けられ、
前記コレクタ電極は、セル室の頂部に設けた挿入孔を介してセル室内に挿入されるとともに、前記挿入孔にコレクタ電極表面を覆うパージガスを供給するためのパージガス供給流路を設けたことを特徴とする電子捕獲検出器。 A radioactive isotope source fixed to the inner wall of the cell chamber;
A rod-like collector electrode inserted from the top of the cell chamber and supported in a state where the tip protrudes into the cell chamber;
A gas introduction hole that is formed at the bottom of the cell chamber and flows the makeup gas into the cell chamber together with the sample gas flowing out from the gas chromatograph column;
An electron capture detector having an exhaust port for discharging gas in the cell chamber,
An exhaust port is provided on the extension of the central axis of the gas introduction hole, and a collector electrode is attached at an offset position deviated from the extension of the central axis of the gas introduction hole .
The collector electrode is inserted into the cell chamber through an insertion hole provided at the top of the cell chamber, and a purge gas supply channel for supplying purge gas covering the collector electrode surface to the insertion hole is provided. An electron capture detector. 前記メイクアップガス流量を前記パージガス流量よりも大きくする請求項１または請求項２に記載の電子捕獲検出器。 The electron capture detector according to claim 1 or 2 , wherein the makeup gas flow rate is larger than the purge gas flow rate. 前記排気口と前記ガス導入孔とは、セル室の中心線に沿って設けられる請求項１〜請求項３のいずれかに記載の電子捕獲検出器。 Wherein the exhaust port and the gas introduction hole, the electron capture detector according to any one of claims 1 to 3 provided along the center line of the cell chamber.
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